JP2014065944A - Glass article carrying device - Google Patents

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Toshimasa Kanai
敏正 金井
Tomohito Fujimoto
智史 藤本
Nobuhiro Mori
伸広 森
Takeshi Tsuchiya
武史 土谷
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass article carrying device in which, upon forming a transparent conductive film on the glass article by performing a thermal CVD method against the glass article under a heating condition, failure of raw material gas spraying is avoided by suppressing position deviation of the glass article due to raw material gas spraying, and a transparent conductive film of uniform thickness on the surface of the glass article is formed.SOLUTION: In a glass article carrying device 100, a glass article 1 on a loading section 10 is carried while Chemical Vapor Deposition (CVD) is performed by spraying a raw material gas to the glass article 1 under a heating condition. The loading section 10 is finished to have a surface roughness rougher than that of the glass article 1.

Description

本発明は、加熱条件下で載置部に載置したガラス物品に原料ガスを吹き付けて化学気相蒸着(CVD)を行いながらガラス物品を搬送するガラス物品搬送装置に関する。   The present invention relates to a glass article conveying apparatus that conveys a glass article while performing chemical vapor deposition (CVD) by spraying a raw material gas on a glass article placed on a placing section under heating conditions.

太陽電池パネルや熱線反射ガラスに利用されるガラス物品は、表面に透明導電膜(スズドープ酸化インジウム(ITO)膜、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)膜等)を形成している。ガラス物品への透明導電膜の形成(成膜)は、例えば、CVD装置を使用し、熱CVD法により実施される。   Glass articles used for solar cell panels and heat ray reflective glass have a transparent conductive film (such as a tin-doped indium oxide (ITO) film or a fluorine-doped tin oxide (FTO) film) formed on the surface. Formation (film formation) of the transparent conductive film on the glass article is performed by, for example, a thermal CVD method using a CVD apparatus.

熱CVD法では、セッターと呼ばれる載置部に成膜対象のガラス物品を載置し、これをCVD装置の反応炉に搬送する。反応炉の内部は透明導電膜が結晶可能な温度に加熱されており、この加熱条件下でガラス物品に原料ガスを吹き付けることにより、ガラス物品の表面に透明導電膜の結晶を形成している。   In the thermal CVD method, a glass article to be deposited is placed on a placement portion called a setter, and this is conveyed to a reaction furnace of a CVD apparatus. The inside of the reaction furnace is heated to a temperature at which the transparent conductive film can be crystallized, and a crystal of the transparent conductive film is formed on the surface of the glass article by blowing a raw material gas onto the glass article under this heating condition.

熱CVD法によりガラス物品への成膜を行うにあたっては、形成される透明導電膜の膜厚をできるだけ均一にすることが求められている。特に近年は、光学部品等の高性能化に伴い、透明導電膜に許容される膜厚ムラのレベルが大変厳しくなっている。ここで、載置部に載置したガラス物品を加熱する際に、ガラス物品の上面と下面との間に温度差が生じると、ガラス物品に反りが生じ、ガラス物品の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することが困難となる問題があった。   In forming a film on a glass article by a thermal CVD method, it is required to make the film thickness of the formed transparent conductive film as uniform as possible. In particular, in recent years, the level of film thickness unevenness allowed in a transparent conductive film has become very severe with the improvement in performance of optical components and the like. Here, when the glass article placed on the placement part is heated, if a temperature difference occurs between the upper surface and the lower surface of the glass article, the glass article is warped, and the surface of the glass article has a uniform thickness. There was a problem that it was difficult to form a transparent conductive film.

特許文献1の成膜装置では、成膜炉内にベルトコンベアのベルトの一部を支持する底壁面を有しており、底壁面を含む外壁面が加熱される構成となっている。さらに、ベルトは、断面が略楕円の扁平形状に形成された金属線をメッシュ状に編んでいることから、ベルトは成膜炉の底壁面と面接触することとなり、底壁面から効率よくベルトに対して熱が伝達される。その結果、ガラス物品の上面と下面との間に温度差が生じることが抑えられ、ガラス物品の反りを防止している。   In the film forming apparatus of Patent Document 1, the film forming furnace has a bottom wall surface that supports a part of the belt of the belt conveyor, and the outer wall surface including the bottom wall surface is heated. Furthermore, since the belt is knitted in a mesh shape with a metal wire formed in a flat shape with a substantially elliptical cross section, the belt comes into surface contact with the bottom wall surface of the film forming furnace, so that the belt can be efficiently transferred from the bottom wall surface. Heat is transferred to it. As a result, the occurrence of a temperature difference between the upper surface and the lower surface of the glass article is suppressed, and the warpage of the glass article is prevented.

特開2001−7031号公報JP 2001-7031 A

しかしながら、特許文献1の成膜装置に使用されるベルトコンベアのベルトは、その構造上、ガラス物品に吹き付けた透明導電膜の原料ガスが成膜炉の底壁面と金属線のメッシュ状のベルトの間に入り込み、吹き付けた原料ガスの圧力でガラス物品に位置ずれを生じさせる可能性がある。ガラス物品に位置ずれが発生すると、ガラス物品の表面に原料ガスを一様に吹き付けることができなくなり、その結果、ガラス物品に形成する透明導電膜に膜厚ムラが生じる虞がある。   However, the belt of the belt conveyor used in the film forming apparatus of Patent Document 1 has a structure in which the raw material gas of the transparent conductive film sprayed on the glass article is a mesh-shaped belt of the bottom wall of the film forming furnace and the metal wire. There is a possibility that the glass article is displaced due to the pressure of the raw material gas that has entered and sprayed. When the position shift occurs in the glass article, the raw material gas cannot be sprayed uniformly on the surface of the glass article, and as a result, there is a possibility that the film thickness unevenness occurs in the transparent conductive film formed on the glass article.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、加熱条件下でガラス物品に対して熱CVD法(以下、「CVD処理」とする。)を行うことにより、当該ガラス物品上に透明導電膜を成膜するにあたり、原料ガスの吹き付けによるガラス物品の位置ずれを抑制して原料ガスの吹き付け不良を防止し、ガラス物品の表面に均一な厚さの透明導電膜を形成することを可能とするガラス物品搬送装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and is transparent on a glass article by performing a thermal CVD method (hereinafter referred to as “CVD process”) on the glass article under heating conditions. When depositing a conductive film, it is possible to prevent misalignment of the raw material gas by spraying the raw material gas and prevent a defective spray of the raw material gas, and to form a transparent conductive film with a uniform thickness on the surface of the glass article An object of the present invention is to provide a glass article conveying apparatus.

上記課題を解決するための本発明に係るガラス物品搬送装置の特徴構成は、
加熱条件下で載置部に載置したガラス物品に原料ガスを吹き付けて化学気相蒸着(CVD)を行いながら搬送するガラス物品搬送装置であって、
前記載置部は、前記ガラス物品より粗い表面粗さに仕上げられていることにある。
The characteristic configuration of the glass article conveying apparatus according to the present invention for solving the above problems is as follows:
A glass article conveying device that conveys while performing chemical vapor deposition (CVD) by spraying a raw material gas on a glass article placed on a placing section under heating conditions,
The said mounting part exists in finishing the surface roughness rougher than the said glass article.

本構成のガラス物品搬送装置は、載置部がガラス物品より粗い表面粗さに仕上げられていることから、ガラス物品と載置部との間に一定以上の摩擦力が作用し、ガラス物品は最初に載置部に載置した場所に留まり易い。その結果、ガラス物品に原料ガスが吹き付けられても、ガラス物品の位置ずれが起こり難くなる。従って、本構成のガラス物品搬送装置では、原料ガスの吹き付け不良が防止され、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することが可能となる。   In the glass article conveying apparatus of this configuration, since the mounting portion is finished to have a rougher surface roughness than the glass article, a certain level of frictional force acts between the glass article and the mounting portion, and the glass article It is easy to stay at the place where it was first placed on the placement part. As a result, even if the source gas is sprayed onto the glass article, the glass article is less likely to be displaced. Therefore, in the glass article conveying apparatus of this configuration, the failure to blow the raw material gas is prevented, and a film having a uniform thickness can be formed on the surface of the glass article.

本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部と前記ガラス物品とが同じ材料で構成されていることが好ましい。
In the glass article conveying apparatus according to the present invention,
It is preferable that the mounting portion and the glass article are made of the same material.

ガラス物品とガラス物品を載置する載置部とが異なる材料で構成されている場合、ガラス物品に原料ガスを吹き付けてCVD処理を行うと、載置部に由来する微細粒子が原料ガスに混入し、形成した膜やガラス物品にコンタミネーションが発生する虞がある。コンタミネーションは、膜やガラス物品の性能や品質を低下させることになる。これに対して、本構成のガラス物品搬送装置は、載置部とガラス物品とが同じ材料で構成されていることから、そもそも微細粒子(ガラス粉)が発生し難い。仮に載置部から微細粒子(ガラス粉)が発生し、これが原料ガスに混入しても、ガラスは熱的及び化学的に安定であるため、膜の性能及び品質への影響は小さい。また、ガラス物品に同じ材料からなる微細粒子(ガラス粉)が付着しても、ガラス物品の性能や品質にはほとんど影響がない。   When the glass article and the placement part on which the glass article is placed are made of different materials, when the raw material gas is sprayed onto the glass article and CVD processing is performed, fine particles derived from the placement part are mixed into the raw material gas. However, there is a risk of contamination occurring in the formed film or glass article. Contamination reduces the performance and quality of the film and glass article. On the other hand, in the glass article conveying apparatus of this configuration, since the placement unit and the glass article are made of the same material, fine particles (glass powder) are hardly generated in the first place. Even if fine particles (glass powder) are generated from the mounting portion and mixed into the raw material gas, the glass is thermally and chemically stable, so the influence on the performance and quality of the film is small. Moreover, even if fine particles (glass powder) made of the same material adhere to the glass article, the performance and quality of the glass article are hardly affected.

本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部は、1mm〜10mmの厚みを有する板状体で構成されていることが好ましい。
In the glass article conveying apparatus according to the present invention,
It is preferable that the mounting portion is composed of a plate-like body having a thickness of 1 mm to 10 mm.

本構成のガラス物品搬送装置は、載置部が板状体であり、1mm〜10mmの十分な厚みを有していることから、載置部が搬送時に反ることは無い。また、予備加熱後、ガラス物品に膜を形成する際にガラス物品に低温の原料ガスを吹き付けても、載置部は十分な厚みに由来する大きな保有熱を有していることから、載置部の温度を均等に維持することができる。従って、載置部からガラス物品に対して熱が均等に伝達されるため、ガラス物品の温度を一定に維持することができる。これにより、ガラス物品の反りを防ぐことができ、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することができる。   In the glass article conveying apparatus of this configuration, the placing portion is a plate-like body and has a sufficient thickness of 1 mm to 10 mm, so that the placing portion does not warp during transportation. In addition, after forming the film on the glass article after preheating, even if low temperature source gas is sprayed on the glass article, the placement part has a large retained heat derived from a sufficient thickness. The temperature of the part can be maintained evenly. Therefore, since heat is uniformly transmitted from the placing portion to the glass article, the temperature of the glass article can be kept constant. Thereby, the curvature of a glass article can be prevented and the film | membrane of uniform thickness can be formed on the surface of a glass article.

本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部の表面粗さは、Ra値で0.1μm〜1.0μmであることが好ましい。
In the glass article conveying apparatus according to the present invention,
The surface roughness of the mounting portion is preferably 0.1 μm to 1.0 μm in terms of Ra value.

本構成のガラス物品搬送装置は、載置部の表面粗さがRa値で0.1μm〜1.0μmであることから、ガラス物品と載置部との間に十分な摩擦力が作用し、原料ガスの吹き付けによるガラス物品の位置ずれを確実に抑制することができる。従って、本構成のガラス物品搬送装置では、原料ガスの吹き付け不良が防止され、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することが可能となる。   In the glass article conveying apparatus of the present configuration, since the surface roughness of the placing portion is 0.1 μm to 1.0 μm in terms of Ra value, a sufficient frictional force acts between the glass article and the placing portion, The positional deviation of the glass article due to the blowing of the raw material gas can be reliably suppressed. Therefore, in the glass article conveying apparatus of this configuration, the failure to blow the raw material gas is prevented, and a film having a uniform thickness can be formed on the surface of the glass article.

本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部は、再利用可能又は交換可能に構成されていることが好ましい。
In the glass article conveying apparatus according to the present invention,
It is preferable that the mounting portion is configured to be reusable or replaceable.

本構成のガラス物品搬送装置は、載置部が再利用可能又は交換可能に構成されていることから、載置部を繰り返し使用することが可能となり、経済的である。また、長期間の使用により載置部が破損したとしても、載置部を交換するだけでガラス物品のCVD処理を容易に再開することができる。   The glass article transport apparatus having this configuration is economical because the placement unit is configured to be reusable or replaceable, so that the placement unit can be used repeatedly. Moreover, even if the placement unit is damaged due to long-term use, the CVD treatment of the glass article can be easily resumed by simply replacing the placement unit.

本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記載置部は、30〜750℃において、−10〜10×10−7/℃の平均線熱膨張係数を有する結晶化ガラス板で構成されていることが好ましい。
In the glass article conveying apparatus according to the present invention,
It is preferable that the above-mentioned mounting part is composed of a crystallized glass plate having an average linear thermal expansion coefficient of −10 to 10 × 10 −7 / ° C. at 30 to 750 ° C.

本構成のガラス物品搬送装置は、載置部が、30〜750℃において、−10〜10×10−7/℃の平均線熱膨張係数を有する結晶化ガラス板で構成されていることから、常温時だけでなく加熱時においても載置部に反りが発生しない。このため、ガラス物品は載置部に常に密着するように接触し、ガラス物品に対して熱を均一に伝達することができる。従って、ガラス物品に反りが生じることはなく、また、原料ガスの吹き付け不良が防止されるため、ガラス物品の表面に均一な厚みの膜を形成することが可能となる。 Since the glass article conveying apparatus of the present configuration is composed of a crystallized glass plate having an average linear thermal expansion coefficient of −10 to 10 × 10 −7 / ° C. at 30 to 750 ° C., Warpage does not occur in the mounting part not only at room temperature but also during heating. For this reason, a glass article contacts so that it may always adhere to a mounting part, and heat can be uniformly transmitted with respect to a glass article. Accordingly, the glass article is not warped, and the raw material gas is prevented from being poorly blown, so that a film having a uniform thickness can be formed on the surface of the glass article.

本発明に係るガラス物品搬送装置において、
前記結晶化ガラス板は、主結晶構造としてβ−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を含有することが好ましい。
In the glass article conveying apparatus according to the present invention,
The crystallized glass plate preferably contains β-quartz solid solution or β-spodumene solid solution as a main crystal structure.

本構成のガラス物品搬送装置は、載置部の結晶化ガラス板が主結晶構造としてβ−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を含有することから、耐熱性及び耐久性に優れており、加熱条件下でCVD処理を行うガラス物品の載置部として好適に利用することができる。   The glass article conveying apparatus of this configuration is excellent in heat resistance and durability because the crystallized glass plate of the mounting portion contains β-quartz solid solution or β-spodumene solid solution as the main crystal structure, and under heating conditions And can be suitably used as a placement portion for a glass article to be subjected to CVD treatment.

図1は、ガラス物品搬送装置の全体構成図である。FIG. 1 is an overall configuration diagram of a glass article conveying apparatus. 図2は、ガラス物品搬送装置の要部構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a main part of the glass article conveying apparatus. 図3は、ガラス物品搬送装置の成膜部におけるガラス物品の動きを示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing the movement of the glass article in the film forming unit of the glass article conveying apparatus. 図4は、ガラス物品搬送装置の載置部の別実施形態を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing another embodiment of the placing portion of the glass article transporting apparatus.

以下、本発明のガラス物品搬送装置に関する実施形態を図1〜4に基づいて説明する。ただし、本発明は、以下に説明する実施形態や図面に記載される構成に限定されることを意図しない。   Hereinafter, an embodiment relating to a glass article conveying device of the present invention will be described with reference to FIGS. However, the present invention is not intended to be limited to the configurations described in the embodiments and drawings described below.

<ガラス物品搬送装置の全体構成>
図1は、ガラス物品搬送装置100の全体構成図である。ガラス物品搬送装置100は、ガラス物品1に対してCVD処理を行うことにより、ガラス物品1の表面に膜を形成するために使用される。ガラス物品1としては、例えば、太陽電池パネル用のガラス基板、熱線反射ガラス用のガラス板等が挙げられる。膜としては、スズドープ酸化インジウム(ITO)膜、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)膜等の透明導電膜や熱線反射膜などが挙げられる。本発明のガラス物品搬送装置100は、ガラス物品1の表面に透明導電膜を形成するものであるが、CVD処理で形成可能な膜であれば、他の種類の膜の形成に適用することも可能である。図2は、ガラス物品搬送装置100の要部構成図であり、後述するガラス物品搬送装置100の成膜部7を示している。図2は、図1の点線で囲まれた部分を拡大したものである。
<Overall configuration of glass article conveying apparatus>
FIG. 1 is an overall configuration diagram of the glass article conveying apparatus 100. The glass article conveying apparatus 100 is used to form a film on the surface of the glass article 1 by performing a CVD process on the glass article 1. Examples of the glass article 1 include a glass substrate for a solar battery panel and a glass plate for heat ray reflective glass. Examples of the film include a transparent conductive film such as a tin-doped indium oxide (ITO) film and a fluorine-doped tin oxide (FTO) film, a heat ray reflective film, and the like. The glass article conveying apparatus 100 of the present invention forms a transparent conductive film on the surface of the glass article 1, but can be applied to the formation of other types of films as long as it can be formed by a CVD process. Is possible. FIG. 2 is a main part configuration diagram of the glass article transport apparatus 100 and shows a film forming unit 7 of the glass article transport apparatus 100 described later. FIG. 2 is an enlarged view of a portion surrounded by a dotted line in FIG.

ガラス物品搬送装置100は、ガラス物品1の表面に透明導電膜を形成する成膜室2と、成膜室2の内部を通過するようにガラス物品1を搬送する搬送手段3とを備えている。ガラス物品1の搬送方向は、図1中の矢印Dの方向である。なお、実際の操業においては、ガラス物品1を搬送方向Dにおいて多少前後に移動させる場合がある。従って、搬送方向Dは、全体的に見てガラス物品1が移動する方向とする。成膜室2には、搬送方向Dから見て、搬送手段3の上流側端部にガラス物品1を搬入するための搬入部4が設けられ、下流側端部にCVD処理の終えたガラス物品1を搬出するための搬出部5が設けられる。さらに、成膜室2には、搬入部4から搬出部5に向かって、ガラス物品1を所定温度に加熱する予備加熱部6と、所定温度に加熱されたガラス物品1の表面にCVD処理を行って透明導電膜を形成する成膜部7と、成膜されたガラス物品1を所定温度まで冷却する冷却部8とが順に配設されている。   The glass article conveying apparatus 100 includes a film forming chamber 2 that forms a transparent conductive film on the surface of the glass article 1 and a conveying means 3 that conveys the glass article 1 so as to pass through the inside of the film forming chamber 2. . The conveyance direction of the glass article 1 is the direction of the arrow D in FIG. In actual operation, the glass article 1 may be moved back and forth somewhat in the transport direction D. Therefore, the conveyance direction D is a direction in which the glass article 1 moves as a whole. The film forming chamber 2 is provided with a loading portion 4 for loading the glass article 1 at the upstream end of the conveying means 3 when viewed from the conveying direction D, and the glass article having undergone the CVD process at the downstream end. An unloading unit 5 for unloading 1 is provided. Further, in the film forming chamber 2, the preheating unit 6 that heats the glass article 1 to a predetermined temperature from the carry-in part 4 toward the carry-out part 5, and a CVD process are performed on the surface of the glass article 1 heated to the predetermined temperature. A film forming unit 7 for forming a transparent conductive film and a cooling unit 8 for cooling the formed glass article 1 to a predetermined temperature are sequentially arranged.

搬送手段3は、複数のローラ9を備えており、載置部10上に載置されたガラス物品1を搬入部4から搬出部5に向けて搬送する。搬送手段3の搬送速度は、50mm/分〜10000mm/分の範囲で調整可能である。複数のローラ9は、成膜室2の予備加熱部6から冷却部8に亘って、ガラス物品1の搬送方向Dと直交する方向に水平に配置されている。隣接するローラ9は、載置部10の全長より十分に短い離間距離で、同一間隔で離間されており、載置部10を搬入部4から搬出部5に向けて安定した状態で水平に移動させることができる。ローラ9は、棒状又は円筒状をなし、成膜室2の外部からモーター(図示せず)によって同一の速度で同一方向に回転駆動可能に構成されている。ローラ9には、シリカローラを好適に利用することができる。シリカローラは耐熱性を有しており、構成成分がガラス質であり、化学的にも安定であることから、CVD処理を行う際の透明導電膜に対するコンタミネーションの影響が少ない。   The transport unit 3 includes a plurality of rollers 9 and transports the glass article 1 placed on the placement unit 10 from the carry-in unit 4 toward the carry-out unit 5. The conveyance speed of the conveyance means 3 can be adjusted in the range of 50 mm / min to 10000 mm / min. The plurality of rollers 9 are horizontally disposed in a direction orthogonal to the conveyance direction D of the glass article 1 from the preheating unit 6 to the cooling unit 8 in the film forming chamber 2. The adjacent rollers 9 are spaced apart at the same interval with a separation distance sufficiently shorter than the entire length of the placement unit 10, and the placement unit 10 moves horizontally in a stable state from the carry-in unit 4 to the carry-out unit 5. Can be made. The roller 9 has a rod shape or a cylindrical shape, and is configured to be rotationally driven in the same direction at the same speed by a motor (not shown) from the outside of the film forming chamber 2. As the roller 9, a silica roller can be preferably used. Since the silica roller has heat resistance, its constituent components are glassy, and it is chemically stable, there is little influence of contamination on the transparent conductive film during the CVD process.

ガラス物品搬送装置100には、ガラス物品1を載置し、成膜室2内を移動させるための載置部10が備えられている。載置部10は、平面視で矩形状の板状体をなし、複数のローラ9によりその下面が支持された状態で成膜室2の搬入部4に配置され、ローラ9が回転することにより成膜室2の搬入部4から搬出部5に向かって搬送される。載置部10のサイズは、搬送方向Dから見て、幅(搬送方向Dと直交する方向)が850〜1500mm、長さ(搬送方向Dと平行な方向)が1300〜2500mmに形成される。載置部10のサイズは、載置するガラス物品1のサイズより大きくなるように選択される。載置部10の詳細については後述する。   The glass article conveying apparatus 100 is provided with a placing section 10 for placing the glass article 1 and moving the film forming chamber 2. The placement unit 10 is formed in a rectangular plate shape in plan view, and is disposed in the carry-in unit 4 of the film formation chamber 2 with its lower surface supported by a plurality of rollers 9, and the roller 9 rotates. The film is transferred from the carry-in section 4 of the film forming chamber 2 toward the carry-out section 5. The size of the placement unit 10 is formed such that, when viewed from the conveyance direction D, the width (direction perpendicular to the conveyance direction D) is 850 to 1500 mm, and the length (direction parallel to the conveyance direction D) is 1300 to 2500 mm. The size of the placement unit 10 is selected to be larger than the size of the glass article 1 to be placed. Details of the placement unit 10 will be described later.

予備加熱部6は、加熱手段として、電熱ヒーター11a(11)を備えている。電熱ヒーター11aは、熱源に燃焼ガス等を使用しないため、ガラス物品1へのコンタミネーションの混入を抑えることができる。予備加熱部6の内部温度は、電熱ヒーター11aの出力を制御することにより、所定温度(例えば、300〜500℃)に維持される。電熱ヒーター11aは、予備加熱部6の内部では搬送手段3の上方及び下方に設けられており、搬送される載置部10上のガラス物品1の上方及び下方から万遍なく加熱を行うことができる。ガラス物品1は、予備加熱部6を通過する間に上記所定温度付近まで加熱され、後段の成膜部7に搬送される。   The preheating unit 6 includes an electric heater 11a (11) as a heating means. Since the electric heater 11a does not use combustion gas or the like as a heat source, contamination of the glass article 1 can be suppressed. The internal temperature of the preheating unit 6 is maintained at a predetermined temperature (for example, 300 to 500 ° C.) by controlling the output of the electric heater 11a. The electric heater 11a is provided above and below the conveying means 3 inside the preheating unit 6, and can be uniformly heated from above and below the glass article 1 on the loading unit 10 to be conveyed. it can. The glass article 1 is heated to the vicinity of the predetermined temperature while passing through the preheating unit 6 and conveyed to the film forming unit 7 at the subsequent stage.

成膜部7には、ガラス物品1の表面に透明導電膜を形成するための原料ガスを吹き付けるガス噴射部12(第一ガス噴射部12a及び第二ガス噴射部12b)と、成膜部7の内部温度を所定温度(例えば、450〜630℃)に維持するための電熱ヒーター11b(11)とが設けられている。第一ガス噴射部12a及び第二ガス噴射部12bは、夫々の下方を通過するガラス物品1の表面に原料ガスを吹き付けて原料ガスを反応させるCVD処理を行うことにより、ガラス物品1の表面に200〜1000nmの厚みを有する透明導電膜を形成する。ガス噴射部12の夫々には、供給された原料ガスを下方に向けて吹き出す噴射口13が設けられ、噴射口13の搬送方向Dの上流側及び下流側には残留した原料ガスを吸引して成膜室2から排出する一対の排気口14が設けられている。噴射口13及び排気口14は、ガラス物品1の搬送方向Dと直交する方向に延在するように設けられている。図2中の矢印に示すように、噴射口13から噴射された原料ガスは、ガラス物品1の表面に到達した後、両側に分かれてガラス物品1の表面に略平行な層流を形成しながら反応し、ガラス物品1の表面に透明導電膜を形成する。未反応の原料ガス及び副生成物のガスは、排気口14に吸い込まれてガラス物品搬送装置100の外部に排出される。これにより、ガラス物品1の幅方向(搬送方向Dと直交する方向)において、均一な厚みの透明導電膜を形成することができる。第一ガス噴射部12a及び第二ガス噴射部12bの夫々の噴射口13からの原料ガスの噴射量は、55L/分〜550L/分に調整可能である。成膜部7の内部では、電熱ヒーター11bは搬送手段3の下方に配置され、載置部10上のガラス物品1を下方から加熱し、上記所定温度に維持している。なお、本実施形態では、ガス噴射部12として、第一ガス噴射部12a及び第二ガス噴射部12bにより二段階でCVD処理を行っているが、単一のガス噴射部12を設けて一段階でCVD処理を行うものであってもよく、あるいは、ガス噴射部12を三箇所以上設けて三段階以上でCVD処理を行うようにしても構わない。ガス噴射部12を複数箇所設ける場合、夫々のガス噴射部12から噴射する原料ガスの種類を異ならせることで、ガラス物品1の上に複層の薄膜を形成することも可能となる。   The film forming unit 7 includes a gas injection unit 12 (first gas injection unit 12a and second gas injection unit 12b) that sprays a raw material gas for forming a transparent conductive film on the surface of the glass article 1, and a film formation unit 7 And an electric heater 11b (11) for maintaining the internal temperature at a predetermined temperature (for example, 450 to 630 ° C.). The 1st gas injection part 12a and the 2nd gas injection part 12b spray the raw material gas on the surface of the glass article 1 which passes under each, and perform the CVD process which makes the raw material gas react, and thereby on the surface of the glass article 1 A transparent conductive film having a thickness of 200 to 1000 nm is formed. Each of the gas injection units 12 is provided with an injection port 13 for blowing the supplied source gas downward, and sucks the remaining source gas on the upstream side and the downstream side in the transport direction D of the injection port 13. A pair of exhaust ports 14 for discharging from the film forming chamber 2 are provided. The injection port 13 and the exhaust port 14 are provided so as to extend in a direction orthogonal to the conveyance direction D of the glass article 1. As shown by the arrows in FIG. 2, the raw material gas injected from the injection port 13 reaches the surface of the glass article 1 and then splits into both sides to form a laminar flow substantially parallel to the surface of the glass article 1. It reacts to form a transparent conductive film on the surface of the glass article 1. Unreacted raw material gas and by-product gas are sucked into the exhaust port 14 and discharged to the outside of the glass article conveying apparatus 100. Thereby, in the width direction (direction orthogonal to the conveyance direction D) of the glass article 1, a transparent conductive film having a uniform thickness can be formed. The injection amount of the raw material gas from the respective injection ports 13 of the first gas injection unit 12a and the second gas injection unit 12b can be adjusted to 55 L / min to 550 L / min. Inside the film forming unit 7, the electric heater 11 b is disposed below the conveying unit 3, and the glass article 1 on the mounting unit 10 is heated from below and maintained at the predetermined temperature. In the present embodiment, as the gas injection unit 12, the first gas injection unit 12a and the second gas injection unit 12b perform the CVD process in two stages. However, the single gas injection unit 12 is provided for one stage. Alternatively, the CVD process may be performed, or three or more gas injection units 12 may be provided to perform the CVD process in three or more stages. When providing the gas injection part 12 in multiple places, it becomes possible to form a multilayer thin film on the glass article 1 by making the kind of the raw material gas injected from each gas injection part 12 different.

ガラス物品1にCVD処理を行うための原料ガスは、スズ原料及びフッ素原料に酸化剤として水やエタノール等を添加し、これを150〜200℃程度で加熱して気化させたものが使用される。スズ原料としては、例えば、ジメチルジクロロスズ(DMTC)、モノブチルトリクロロスズ(MBTC)、四塩化スズ(SnCl)が挙げられる。フッ素原料としては、例えば、トリフルオロ酢酸(TFA)、フッ化水素(HF)、フッ化アンモニウム(NHF)が挙げられる。 As the raw material gas for performing the CVD treatment on the glass article 1, a gas obtained by adding water, ethanol or the like as an oxidizing agent to the tin raw material and the fluorine raw material and heating and vaporizing them at about 150 to 200 ° C. is used. . Examples of the tin raw material include dimethyldichlorotin (DMTC), monobutyltrichlorotin (MBTC), and tin tetrachloride (SnCl 4 ). Examples of the fluorine raw material include trifluoroacetic acid (TFA), hydrogen fluoride (HF), and ammonium fluoride (NH 4 F).

冷却部8は、冷却手段15を備える。成膜部7で表面に透明導電膜が形成されたガラス物品1は、冷却手段15からの冷気(冷風)を受けて所定温度(例えば、室温〜50℃)まで冷却される。冷却手段15としては、冷媒を通過させる冷却管が用いられるが、空冷ファンを用いることもできる。なお、冷却部8の全長(すなわち、冷却時間)を十分に確保できる場合は、冷却手段15を設けずに自然冷却によってガラス物品1の冷却を行うことも可能である。   The cooling unit 8 includes a cooling unit 15. The glass article 1 having a transparent conductive film formed on the surface thereof in the film forming unit 7 is cooled to a predetermined temperature (for example, room temperature to 50 ° C.) by receiving cold air (cold air) from the cooling means 15. As the cooling means 15, a cooling pipe through which a refrigerant passes is used, but an air cooling fan can also be used. In addition, when the full length (namely, cooling time) of the cooling part 8 can fully be ensured, it is also possible to cool the glass article 1 by natural cooling without providing the cooling means 15.

<載置部の構造>
本発明のガラス物品搬送装置100に使用する載置部10は、加熱条件下で行われるCVD処理に適するように構成される。初めに、ガラス物品1の成膜時における載置部10とガラス物品1との関係について説明する。図3は、ガラス物品搬送装置100の成膜部7におけるガラス物品1の動きを示す説明図である。図3(a)は、搬送手段3が停止状態にある場合にガラス物品1の端部1aに原料ガスが吹き付けられたときの状態を示している。図3(b)は、搬送手段3を前後に動作させた場合にガラス物品1が搬送方向Dに対して前後に移動したときの状態を示している。図中、点線の矢印dはガラス物品1の移動方向を示し、点線で示したガラス物品1は移動後のガラス物品1の位置を示す。
<Structure of mounting part>
The mounting part 10 used for the glass article conveying apparatus 100 of this invention is comprised so that it may be suitable for the CVD process performed on heating conditions. First, the relationship between the placement unit 10 and the glass article 1 when the glass article 1 is formed will be described. FIG. 3 is an explanatory view showing the movement of the glass article 1 in the film forming unit 7 of the glass article conveying apparatus 100. FIG. 3A shows a state when the raw material gas is sprayed on the end portion 1a of the glass article 1 when the conveying means 3 is in a stopped state. FIG. 3B shows a state where the glass article 1 moves back and forth with respect to the transport direction D when the transport means 3 is operated back and forth. In the drawing, a dotted arrow d indicates the moving direction of the glass article 1, and the glass article 1 indicated by a dotted line indicates the position of the glass article 1 after the movement.

載置部10は、平面視で矩形状の板状体に形成され、その表面(上面)にガラス物品1が載置され、成膜室2の搬入部4から搬送手段3のローラ9によって搬出部5まで搬送される。ガラス物品1は、成膜部7において透明導電膜が形成されるが、ガラス物品1の成膜状態に応じて、ガラス物品1の搬送速度を遅くして原料ガスを吹き付けたり、搬送方向Dと逆方向に移動させて原料ガスを吹き付けたり、又は搬送を一時停止して原料ガスを吹き付けたりして、ガラス物品1の表面に均一な厚みの透明導電膜が形成されるように、搬送手段3の動作が制御される。   The placement unit 10 is formed in a rectangular plate-like body in plan view, the glass article 1 is placed on the surface (upper surface) thereof, and is carried out from the carry-in unit 4 of the film forming chamber 2 by the rollers 9 of the conveyance unit 3. It is conveyed to part 5. In the glass article 1, a transparent conductive film is formed in the film forming unit 7. Depending on the film formation state of the glass article 1, the glass article 1 is slowed in the conveyance speed and sprayed with raw material gas, or in the conveyance direction D. The conveying means 3 is formed so that a transparent conductive film having a uniform thickness is formed on the surface of the glass article 1 by moving in the reverse direction and spraying the source gas, or by temporarily stopping the conveyance and spraying the source gas. Is controlled.

ガラス物品1に透明導電膜を形成する際に、例えば、図3(a)に示すように、搬送手段3の搬送を停止してガラス物品1の表面に成膜を行う場合、ガス噴射部12から噴射された原料ガスがガラス物品1の搬送方向Dの端部1aに吹き付けられ、その圧力によりガラス物品1が載置部10上を水平方向に移動し、位置ずれが生じる場合がある。また、図3(b)に示すように、均一な厚みに成膜するために搬送手段3を搬送方向Dの前後方向に動作させた場合、載置部10上のガラス物品1に慣性力が作用し、ガラス物品1が載置部10を上滑りして位置ずれが生じる場合がある。このように、載置部10の上でガラス物品1が意図しない動きをすることにより、ガラス物品1に対して原料ガスがうまく吹き付けられず(すなわち、吹き付け不良が発生し)、透明導電膜の膜厚にムラが生じることがある。   When the transparent conductive film is formed on the glass article 1, for example, as shown in FIG. 3A, when the film is formed on the surface of the glass article 1 by stopping the conveyance of the conveyance means 3, the gas injection unit 12. May be sprayed onto the end portion 1a in the conveyance direction D of the glass article 1, and the pressure may cause the glass article 1 to move in the horizontal direction on the placement unit 10 to cause positional displacement. In addition, as shown in FIG. 3B, when the transport unit 3 is operated in the front-rear direction of the transport direction D in order to form a film with a uniform thickness, inertial force is applied to the glass article 1 on the placement unit 10. In some cases, the glass article 1 slides up on the placement unit 10 to cause displacement. As described above, when the glass article 1 moves unintentionally on the placement unit 10, the raw material gas is not sprayed well on the glass article 1 (that is, a spraying failure occurs), and the transparent conductive film Unevenness may occur in the film thickness.

そこで、本発明では、載置部10の表面がガラス物品1より粗い表面粗さを有するように仕上げられている。これにより、載置部10は、ガラス物品1の端部1aに原料ガスを吹き付けた場合や、載置部10を搬送方向Dの前後方向に移動させた場合であっても、ガラス物品1と載置部10との間に一定以上の摩擦力が作用するため、ガラス物品1は最初に載置部10に載置した場所に留まり易いものとなる。このように、載置部10をガラス物品1より粗い表面粗さに仕上げておけば、ガラス物品1の位置ずれが起こり難く、原料ガスの吹き付け不良が防止され、ガラス物品1の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することができる。   Therefore, in the present invention, the surface of the mounting portion 10 is finished to have a rougher surface roughness than the glass article 1. Thereby, even if the mounting part 10 is a case where source gas is sprayed on the edge part 1a of the glass article 1, or the mounting part 10 is moved to the front-back direction of the conveyance direction D, the glass article 1 and Since a certain or more frictional force acts between the mounting part 10, the glass article 1 tends to stay at the place where the glass article 1 is first mounted on the mounting part 10. Thus, if the mounting part 10 is finished to have a rougher surface roughness than the glass article 1, the glass article 1 is less likely to be misaligned, a raw material gas spray failure is prevented, and the surface of the glass article 1 is uniform. A transparent conductive film having a thickness can be formed.

載置部10の表面粗さは、Ra値が0.1μm〜1.0μmの範囲であることが好ましい。ここで、ガラス物品1の表面粗さRaは、JIS B 0601に規定された算術平均粗さであって、測定カットオフ値が0.8mm、測定長が4mmの条件で測定した場合の値で示されている。CVD処理の対象となるガラス物品1は、通常、表面粗さRa値が0.1nm〜0.3μmの範囲にあるため、載置部10の表面粗さはガラス物品1の表面粗さより粗く仕上げられていればよいが、Ra値で0.1μm〜1.0μmの範囲とすることにより、ガラス物品1と載置部10との間に十分な摩擦力が作用し、原料ガスの吹き付けによるガラス物品1の位置ずれを確実に抑制することができる。載置部10の好ましい表面粗さRa値は0.4μm〜1.0μmであり、より好ましい表面粗さRa値は0.5〜1.0μmである。表面粗さRa値が0.1μmより低いと、ガラス物品1と載置部10との間に十分な摩擦力が作用しないためガラス物品1の位置ずれを有効に抑制することができない。また、ガラス物品搬送装置100から搬出されたガラス物品1と載置部10とが密着して分離できなくなる虞がある。表面粗さRa値が1.0μmを超えると、ガラス物品1と載置部10との間に微細な隙間が発生するため、原料ガスがガラス物品1の裏面側に回り込んでしまう虞がある。また、ガラス物品1を載置部10に載置する際に、ガラス物品1の位置合わせ等によりガラス物品1が載置部10に対して摺動することがあり、この場合、載置部10の表面粗さRa値が1.0μmを超えていると、ガラス物品1に擦り傷がつく虞がある。   As for the surface roughness of the mounting part 10, it is preferable that Ra value is the range of 0.1 micrometer-1.0 micrometer. Here, the surface roughness Ra of the glass article 1 is an arithmetic average roughness defined in JIS B 0601, and is a value when measured under the conditions of a measurement cutoff value of 0.8 mm and a measurement length of 4 mm. It is shown. Since the glass article 1 to be subjected to the CVD process usually has a surface roughness Ra value in the range of 0.1 nm to 0.3 μm, the surface roughness of the mounting portion 10 is finished to be rougher than the surface roughness of the glass article 1. However, when the Ra value is in the range of 0.1 μm to 1.0 μm, a sufficient frictional force acts between the glass article 1 and the mounting portion 10, and the glass is formed by spraying the raw material gas. The positional deviation of the article 1 can be reliably suppressed. A preferable surface roughness Ra value of the mounting portion 10 is 0.4 μm to 1.0 μm, and a more preferable surface roughness Ra value is 0.5 to 1.0 μm. When the surface roughness Ra value is lower than 0.1 μm, a sufficient frictional force does not act between the glass article 1 and the placement portion 10, so that the displacement of the glass article 1 cannot be effectively suppressed. In addition, there is a possibility that the glass article 1 carried out from the glass article conveying apparatus 100 and the placement unit 10 are in close contact and cannot be separated. If the surface roughness Ra value exceeds 1.0 μm, a fine gap is generated between the glass article 1 and the mounting portion 10, and thus the source gas may wrap around the back side of the glass article 1. . Further, when the glass article 1 is placed on the placement unit 10, the glass article 1 may slide with respect to the placement unit 10 due to the positioning of the glass article 1, and in this case, the placement unit 10. If the surface roughness Ra value exceeds 1.0 μm, the glass article 1 may be scratched.

載置部10は、CVD処理を行うガラス物品1と同じ材料で構成されていることが好ましい。載置部10の材料とガラス物品1の材料とが異なる場合、例えば、載置部10を金属材料で構成し、ガラス物品1が結晶化ガラス基板である場合、結晶化ガラス基板に原料ガスを吹き付けてCVD処理を行うと、載置部10の金属材料に由来する金属の微細粒子が原料ガスと混合し、結晶化ガラス基板上に形成する透明導電膜やガラス物品1にコンタミネーションが発生する虞がある。コンタミネーションは透明導電膜やガラス物品1の性能や品質を低下させることになる。そこで、本実施形態では、載置部10の材料として、ガラス物品1と同じ材料を使用している。すなわち、載置部10は、結晶化ガラス板で構成されている。結晶化ガラスは熱的及び化学的に安定であることから、微細粒子が飛散し難い。仮に原料ガスの吹き付け時に載置部10から結晶化ガラスの微細粒子が発生し、これが原料ガスと混合しても、この微細粒子はガラス物品1(結晶化ガラス基板)と同じ材料であるため、透明導電膜の性能及び品質への影響は小さい。また、ガラス物品1に同じ材料からなる微細粒子(ガラス粉)が付着しても、ガラス物品1の性能や品質にはほとんど影響がない。   The placement unit 10 is preferably made of the same material as the glass article 1 that performs the CVD process. When the material of the mounting part 10 and the material of the glass article 1 are different, for example, when the mounting part 10 is made of a metal material and the glass article 1 is a crystallized glass substrate, the source gas is supplied to the crystallized glass substrate. When the CVD process is performed by spraying, metal fine particles derived from the metal material of the mounting portion 10 are mixed with the raw material gas, and contamination occurs in the transparent conductive film and the glass article 1 formed on the crystallized glass substrate. There is a fear. Contamination deteriorates the performance and quality of the transparent conductive film and the glass article 1. Therefore, in the present embodiment, the same material as that of the glass article 1 is used as the material of the placement unit 10. That is, the mounting part 10 is formed of a crystallized glass plate. Since crystallized glass is thermally and chemically stable, it is difficult for fine particles to scatter. Temporarily, fine particles of crystallized glass are generated from the mounting portion 10 when the raw material gas is sprayed, and even if this is mixed with the raw material gas, the fine particles are the same material as the glass article 1 (crystallized glass substrate). The influence on the performance and quality of the transparent conductive film is small. Further, even if fine particles (glass powder) made of the same material adhere to the glass article 1, the performance and quality of the glass article 1 are hardly affected.

載置部10を構成する結晶化ガラス板の厚みは、1mm〜10mmとすることが好ましい。載置部10の厚みを1mmより小さくすると、載置するガラス物品1の重みと加熱によって載置部10に反りが生じ易くなる。載置部10の厚みを10mmより大きくすると、載置部10を所定の温度まで昇温させるのに時間を要することになる。載置部10を上記厚み範囲とすることにより、搬送時において載置部10に反りが生じることは無い。また、予備加熱後、ガラス物品1に透明導電膜を形成する際に、高温状態(500〜600℃)にあるガラス物品1に対してガス噴射部12から低温(200〜300℃)の原料ガスを吹き付けても、載置部は十分な厚みに由来する大きな保有熱を有していることから、載置部10の温度を均等に維持することができる。従って、載置部10からガラス物品1に対して熱が均等に伝達されるため、ガラス物品1の温度を一定に維持することができる。これにより、ガラス物品1の反りを防ぐことができ、ガラス物品1の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することができる。   It is preferable that the thickness of the crystallized glass plate constituting the mounting portion 10 is 1 mm to 10 mm. When the thickness of the mounting part 10 is smaller than 1 mm, the mounting part 10 is likely to warp due to the weight and heating of the glass article 1 to be mounted. If the thickness of the mounting part 10 is larger than 10 mm, it takes time to raise the temperature of the mounting part 10 to a predetermined temperature. By setting the mounting portion 10 in the above thickness range, the mounting portion 10 is not warped during conveyance. In addition, when the transparent conductive film is formed on the glass article 1 after the preheating, the raw material gas at a low temperature (200 to 300 ° C.) is supplied from the gas injection unit 12 to the glass article 1 in a high temperature state (500 to 600 ° C.). Even if sprayed, since the mounting part has a large retained heat derived from a sufficient thickness, the temperature of the mounting part 10 can be maintained evenly. Therefore, since heat is uniformly transmitted from the mounting portion 10 to the glass article 1, the temperature of the glass article 1 can be kept constant. Thereby, the curvature of the glass article 1 can be prevented and the transparent conductive film of uniform thickness can be formed on the surface of the glass article 1.

載置部10を構成する結晶化ガラス板は、CVD処理を繰り返すことによりその表面が劣化したり、原料ガス成分が付着することがあるが、載置部10を結晶化ガラス板で構成した場合、再生が容易となる。結晶化ガラス板の再生は、結晶化ガラス板の表面を研磨することにより行われる。劣化した結晶化ガラス板の表面を研磨すると、フレッシュな結晶化ガラス板の面が露出し、載置部10として再利用することが可能となる。なお、劣化が進行した結晶化ガラス板については、未使用の結晶化ガラス板に交換することが可能である。載置部10は、再利用可能又は交換可能に構成されていることから、載置部10を繰り返し使用することが可能となり、経済的である。また、長期間の使用により載置部10が破損したとしても、載置部10を交換するだけでガラス物品1のCVD処理を容易に再開することができる。   The crystallized glass plate that constitutes the placement unit 10 may have its surface deteriorated or the source gas component may adhere due to repeated CVD treatment, but the placement unit 10 is constituted by a crystallized glass plate. Playback becomes easy. The regeneration of the crystallized glass plate is performed by polishing the surface of the crystallized glass plate. When the surface of the deteriorated crystallized glass plate is polished, the surface of the fresh crystallized glass plate is exposed and can be reused as the mounting portion 10. In addition, about the crystallized glass plate which deterioration progressed, it is possible to replace | exchange for an unused crystallized glass plate. Since the mounting unit 10 is configured to be reusable or replaceable, the mounting unit 10 can be used repeatedly, which is economical. Moreover, even if the mounting part 10 is damaged due to long-term use, the CVD treatment of the glass article 1 can be easily restarted only by replacing the mounting part 10.

載置部10を構成する結晶化ガラス板は、30〜750℃において、−10〜10×10−7/℃の平均線熱膨張係数を有することが好ましい。ガラス物品搬送装置100の成膜室2の内部は、500〜600℃の高温温度となっている。そこで、本実施形態では、載置部10に上記平均線熱膨張係数を有する耐熱結晶化ガラス板が使用される。耐熱結晶化ガラス板を使用すれば、常温時だけでなく加熱時においても載置部10に反りが発生しない。このため、ガラス物品1は載置部10に常に密着するように接触し、ガラス物品1に対して熱を均一に伝達することができる。従って、ガラス物品1に反りが生じることはなく、また、原料ガスの吹き付け不良が防止されるため、ガラス物品1の表面に均一な厚みの透明導電膜を形成することが可能となる。 It is preferable that the crystallized glass plate which comprises the mounting part 10 has an average linear thermal expansion coefficient of -10-10x10 < -7 > / degreeC in 30-750 degreeC. The inside of the film forming chamber 2 of the glass article conveying apparatus 100 is at a high temperature of 500 to 600 ° C. Therefore, in the present embodiment, a heat-resistant crystallized glass plate having the above-described average linear thermal expansion coefficient is used for the mounting portion 10. If the heat-resistant crystallized glass plate is used, the mounting portion 10 is not warped not only at room temperature but also during heating. For this reason, the glass article 1 is in contact with the placement unit 10 so as to be always in close contact, and heat can be uniformly transmitted to the glass article 1. Accordingly, the glass article 1 is not warped, and the raw material gas is prevented from being poorly blown, so that a transparent conductive film having a uniform thickness can be formed on the surface of the glass article 1.

載置部10を構成する結晶化ガラス板は、β−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を主結晶として析出させた結晶化ガラスからなる板状体であることが好ましい。この結晶化ガラス板は、耐熱性及び耐久性に優れており、加熱条件下でCVD処理を行うガラス物品1を載置する載置部10として好適に利用することができる。なお、β−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を主結晶とする結晶化ガラス板は、ロールアウト法により製造されるものであり、通常10mm以下の厚みに成型される。また、β−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を主結晶とする結晶化ガラス板は、研削や研磨等の加工がし易いため、上述した再生処理を容易に行うことができる。   The crystallized glass plate constituting the mounting part 10 is preferably a plate-like body made of crystallized glass in which a β-quartz solid solution or a β-spodumene solid solution is precipitated as a main crystal. This crystallized glass plate is excellent in heat resistance and durability, and can be suitably used as a placement portion 10 on which a glass article 1 that performs CVD treatment under heating conditions is placed. In addition, the crystallized glass plate which uses a β-quartz solid solution or a β-spodumene solid solution as a main crystal is manufactured by a roll-out method, and is usually molded to a thickness of 10 mm or less. In addition, a crystallized glass plate having a β-quartz solid solution or a β-spodumene solid solution as a main crystal is easily processed such as grinding and polishing, and thus the above-described regeneration treatment can be easily performed.

次に、実施例として、本発明のガラス物品搬送装置を用いて実施した透明導電膜を有するガラス基板の製造試験例を以下に説明する。製造試験は、異なる載置部(実施例及び比較例)を用いて同一のガラス基板に対してCVD処理を行い、ガラス基板上の傷の有無、透明導電膜の膜厚の均一性、及びコンタミネーションの発生について評価した。   Next, as an example, a production test example of a glass substrate having a transparent conductive film carried out by using the glass article conveying apparatus of the present invention will be described below. In the production test, the same glass substrate is subjected to CVD using different placement parts (Examples and Comparative Examples), the presence or absence of scratches on the glass substrate, the uniformity of the film thickness of the transparent conductive film, and contamination. The occurrence of nations was evaluated.

<実施例>
ガラス基板を載置する載置部として、結晶化ガラス(日本電気硝子株式会社製の耐熱結晶化ガラス:商品名「ネオセラム(登録商標)N−0」)からなる厚み5mmの結晶化ガラス板を使用した。結晶化ガラス板の上面を研磨機でラッピングし、結晶化ガラス板の表面粗さをRa値で0.5μm〜0.6μmに仕上げた。
<比較例>
ガラス基板を載置する載置部として、ステンレス製の金属板を使用した。この金属板の表面粗さは、Ra値で0.1μm〜0.3μmであった。
<試験方法>
夫々の載置部に厚さ4.0mmの結晶化ガラス板状体からなるガラス基板を載置し、反応温度600℃でCVD処理を実施し、ガラス基板の表面に透明導電膜を形成した。透明導電膜を形成した夫々のガラス基板について、裏面の傷の有無、透明導電膜の膜厚の均一性、及びコンタミネーションの有無について評価した。ガラス基板の裏面の傷の有無の確認は、蛍光灯程度の明るさの下で、目視により行った。透明導電膜の膜厚は、電子顕微鏡(SEM)による断面観察により測定した。コンタミネーションの有無については、エネルギー分散型X線分析装置(EDX)により、組成分析を行うことにより確認した。
<試験結果>
実施例1の結晶化ガラス板を用いた載置部では、載置されたガラス基板の裏面に傷が認められず、略均一な膜厚の透明導電膜を形成することができ、コンタミネーションの発生も認められなかった。これに対して、比較例1のステンレス製の金属板を用いた載置部では、ガラス基板の裏面に傷が生じ、透明導電膜の膜厚の均一性についても実施例1と比較して劣っていた。また、ステンレス鋼に由来するとみられる鉄成分のコンタミネーションが認められた。
<Example>
A crystallized glass plate having a thickness of 5 mm made of crystallized glass (heat-resistant crystallized glass manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd .: trade name “Neoceram (registered trademark) N-0”) is used as a mounting part for mounting the glass substrate. used. The upper surface of the crystallized glass plate was lapped with a polishing machine, and the surface roughness of the crystallized glass plate was finished to Ra value of 0.5 μm to 0.6 μm.
<Comparative example>
A stainless steel metal plate was used as a placement portion for placing the glass substrate. The surface roughness of this metal plate was 0.1 μm to 0.3 μm in terms of Ra value.
<Test method>
A glass substrate made of a crystallized glass plate having a thickness of 4.0 mm was placed on each placement portion, and a CVD process was performed at a reaction temperature of 600 ° C. to form a transparent conductive film on the surface of the glass substrate. About each glass substrate in which the transparent conductive film was formed, the presence or absence of the damage | wound of a back surface, the uniformity of the film thickness of a transparent conductive film, and the presence or absence of contamination were evaluated. The presence or absence of scratches on the back surface of the glass substrate was visually confirmed under the brightness of a fluorescent lamp. The film thickness of the transparent conductive film was measured by cross-sectional observation with an electron microscope (SEM). The presence or absence of contamination was confirmed by performing composition analysis with an energy dispersive X-ray analyzer (EDX).
<Test results>
In the mounting part using the crystallized glass plate of Example 1, scratches are not recognized on the back surface of the mounted glass substrate, and a transparent conductive film having a substantially uniform film thickness can be formed. There was no occurrence. On the other hand, in the mounting part using the stainless steel metal plate of Comparative Example 1, scratches occurred on the back surface of the glass substrate, and the uniformity of the film thickness of the transparent conductive film was inferior to that of Example 1. It was. Moreover, the contamination of the iron component considered to originate in stainless steel was recognized.

〔別実施形態〕
本発明のガラス物品製造装置100に用いられる載置部10は、上記実施形態で説明した構成以外にも様々な形態を採用することが可能である。図4は、ガラス物品搬送装置100の載置部10の別実施形態を示す説明図である。別実施形態の載置部10について、以下の〔1〕〜〔4〕を例示する。
[Another embodiment]
The mounting unit 10 used in the glass article manufacturing apparatus 100 of the present invention can adopt various forms other than the configuration described in the above embodiment. FIG. 4 is an explanatory view showing another embodiment of the placement unit 10 of the glass article transport apparatus 100. The following [1]-[4] are illustrated about the mounting part 10 of another embodiment.

〔1〕図4(a)は、ガラス物品1が実質的に載置される領域のみについて、表面粗さをガラス物品1より粗く仕上げた載置部10を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品1を点線で示してある。表面粗さを粗くした領域と、それ以外の領域とでは光の反射率が異なるため、肉眼で容易に区別することができる。従って、作業者は、ガラス物品1の載置箇所を視認することにより、ガラス物品1の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。また、ガラス物品1の下方には表面粗さを粗くした領域が存在するため、ガラス物品1の位置ずれも抑制される。 [1] FIG. 4 (a) shows the placement unit 10 in which the surface roughness is finished rougher than that of the glass article 1 only in the region where the glass article 1 is substantially placed. In the same figure, the area | region which roughened surface roughness is shown with the oblique line, and the glass article 1 is shown with the dotted line. Since the reflectance of light is different between a region with a rough surface and a region other than that, it can be easily distinguished with the naked eye. Therefore, the operator can accurately and easily position the glass article 1 by visually recognizing the place where the glass article 1 is placed. Moreover, since the area | region which roughened surface roughness exists under the glass article 1, the position shift of the glass article 1 is also suppressed.

〔2〕図4(b)は、搬送方向Dにおけるガラス物品1の幅に相当する全体領域について、表面粗さをガラス物品1より粗く仕上げた載置部10を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品1を点線で示してある。この場合、搬送方向Dに原料ガスの圧力や慣性力が大きく作用しても、ガラス物品1の位置ずれを確実に抑制することができる。また、作業者は目視によって表面粗さを粗くした領域の間にガラス物品1を載置することにより、ガラス物品1の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。 [2] FIG. 4 (b) shows the mounting unit 10 whose surface roughness is finished to be rougher than that of the glass article 1 in the entire region corresponding to the width of the glass article 1 in the transport direction D. In the same figure, the area | region which roughened surface roughness is shown with the oblique line, and the glass article 1 is shown with the dotted line. In this case, even if the pressure of the raw material gas and the inertial force act greatly in the transport direction D, the positional deviation of the glass article 1 can be reliably suppressed. In addition, the operator can accurately and easily position the glass article 1 by placing the glass article 1 between the areas whose surface roughness is increased by visual observation.

〔3〕図4(c)は、搬送方向Dにおけるガラス物品1の両端部に相当する領域について、表面粗さをガラス物品1より粗く仕上げた載置部10を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品1を点線で示してある。この場合、搬送方向Dに原料ガスの圧力や慣性力が作用しても、ガラス物品1の位置ずれを抑制することができる。また、作業者は目視によって表面粗さを粗くした二つの領域に合わせてガラス物品1を載置することにより、ガラス物品1の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。 [3] FIG. 4 (c) shows the placement unit 10 in which the surface roughness of the region corresponding to both ends of the glass article 1 in the transport direction D is finished to be rougher than that of the glass article 1. In the same figure, the area | region which roughened surface roughness is shown with the oblique line, and the glass article 1 is shown with the dotted line. In this case, even if the pressure of the raw material gas or the inertial force acts in the transport direction D, the position shift of the glass article 1 can be suppressed. Further, the operator can accurately and easily position the glass article 1 by placing the glass article 1 in accordance with the two areas whose surface roughness is increased by visual observation.

〔4〕図4(d)は、搬送方向Dにおけるガラス物品1の幅に相当する全体領域、及び搬送方向Dに直交する方向におけるガラス物品1の長さに相当する全体領域について、表面粗さをガラス物品1より粗く仕上げた載置部10を示している。同図では、表面粗さを粗くした領域を斜線で示し、ガラス物品1を点線で示してある。この場合、搬送方向Dに原料ガスの圧力や慣性力が大きく作用しても、ガラス物品1の位置ずれを確実に抑制することができるとともに、搬送方向Dに直交する方向でも不測の位置ずれを確実に抑制することができる。また、作業者は目視によって表面粗さを粗くした領域の間にガラス物品1を載置することにより、ガラス物品1の位置決めを正確且つ容易に行うことができる。 [4] FIG. 4D shows the surface roughness of the entire region corresponding to the width of the glass article 1 in the transport direction D and the entire region corresponding to the length of the glass article 1 in the direction orthogonal to the transport direction D. The mounting part 10 which finished more roughly than the glass article 1 is shown. In the same figure, the area | region which roughened surface roughness is shown with the oblique line, and the glass article 1 is shown with the dotted line. In this case, even if the pressure or inertial force of the raw material gas acts greatly in the transport direction D, the positional deviation of the glass article 1 can be reliably suppressed, and an unexpected positional deviation can be caused in the direction orthogonal to the transport direction D. It can be surely suppressed. In addition, the operator can accurately and easily position the glass article 1 by placing the glass article 1 between the areas whose surface roughness is increased by visual observation.

本発明のガラス物品搬送装置は、太陽電池パネルや熱線反射ガラスに利用されるガラス物品へのCVD処理において利用可能である。   The glass article conveying apparatus of the present invention can be used in a CVD process for glass articles used for solar cell panels and heat ray reflective glass.

1 ガラス物品
10 載置部
100 ガラス物品搬送装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass article 10 Mounting part 100 Glass article conveyance apparatus

Claims (7)

加熱条件下で載置部に載置したガラス物品に原料ガスを吹き付けて化学気相蒸着(CVD)を行いながら搬送するガラス物品搬送装置であって、
前記載置部は、前記ガラス物品より粗い表面粗さに仕上げられているガラス物品搬送装置。
A glass article conveying device that conveys while performing chemical vapor deposition (CVD) by spraying a raw material gas on a glass article placed on a placing section under heating conditions,
The glass article conveying apparatus in which the placement section is finished to have a rougher surface roughness than the glass article.
前記載置部と前記ガラス物品とが同じ材料で構成されている請求項1に記載のガラス物品搬送装置。   The glass article conveying apparatus according to claim 1, wherein the placement unit and the glass article are made of the same material. 前記載置部は、1mm〜10mmの厚みを有する板状体で構成されている請求項1又は2に記載のガラス物品搬送装置。   The glass article conveying apparatus according to claim 1 or 2, wherein the placement section is configured by a plate-like body having a thickness of 1 mm to 10 mm. 前記載置部の表面粗さは、Ra値で0.1μm〜1.0μmである請求項1〜3の何れか一項に記載のガラス物品搬送装置。   The glass article conveying apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the surface roughness of the mounting portion is 0.1 µm to 1.0 µm in terms of Ra value. 前記載置部は、再利用可能又は交換可能に構成されている請求項1〜4の何れか一項に記載のガラス物品搬送装置。   The glass article conveying apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the placing section is configured to be reusable or replaceable. 前記載置部は、30〜750℃において、−10〜10×10−7/℃の平均線熱膨張係数を有する結晶化ガラス板で構成されている請求項1〜5の何れか一項に記載のガラス物品搬送装置。 The said mounting part is comprised in the crystallized glass plate which has an average linear thermal expansion coefficient of -10-10x10 < -7 > / degreeC in 30-750 degreeC. The glass article conveying apparatus as described. 前記結晶化ガラス板は、主結晶構造としてβ−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を含有する請求項6に記載のガラス物品搬送装置。   The said crystallized glass board is a glass article conveyance apparatus of Claim 6 containing (beta) -quartz solid solution or (beta) -spodumene solid solution as a main crystal structure.
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