JP2014059161A - Electrophoretic test tool and manufacturing method for the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophoretic test tool allowing a highly accurate and reliable electrophoresis.SOLUTION: An electrophoretic test tool includes a gel that has pH gradient. The gel includes a plurality of main regions, a connection region located between the two adjoining main regions, and a buffer zone located between the adjoining main regions and the connection region. The pH gradient of the main regions is gentler than pH gradient of the connection region, and pH gradient of the buffer zone is gentler than pH gradient of the main regions.

Description

本発明は、電気泳動用試験具およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an electrophoresis test device and a method for manufacturing the same.

電気泳動法は、溶液またはこれに浸漬した親水性の支持体などの媒体に電圧をかけることによって、該媒体中の荷電物質がその電荷に応じて電界中を移動する現象を利用した分離分析法である。特に、媒体としてゲルを用いる電気泳動(ゲル電気泳動法)は、タンパク質および核酸のような生体高分子を分離する手法として、生化学、分子生物学などの生命科学分野や臨床検査の分野などにおいて広く利用されている。   Electrophoresis is a separation analysis method that utilizes a phenomenon in which a charged substance in a medium moves in an electric field according to the electric charge when a voltage is applied to the medium such as a solution or a hydrophilic support immersed in the medium. It is. In particular, electrophoresis using gel as a medium (gel electrophoresis) is a technique for separating biopolymers such as proteins and nucleic acids, in the fields of life science such as biochemistry and molecular biology, and in the field of clinical testing. Widely used.

タンパク質の電気泳動法には、主として、タンパク質の大きさ(分子量)により分離する方法と、電荷(等電点)により分離する方法とがある。分子量による分離には、ポリアクリルアミドゲルを用いて、ドデシル硫酸ナトリウム(SDS)の存在下で行う電気泳動(SDS-PAGE法)が広く利用されている。SDS-PAGE法では、タンパク質は一定の割合でSDSと結合してその電荷密度が一定となり、この状態でタンパク質が網目状構造を有するポリアクリルアミド中を移動することで、タンパク質は分子ふるい効果により、その分子量に応じて分離される。   There are mainly two methods for protein electrophoresis: separation based on protein size (molecular weight) and separation based on charge (isoelectric point). For separation by molecular weight, electrophoresis (SDS-PAGE method) using polyacrylamide gel in the presence of sodium dodecyl sulfate (SDS) is widely used. In the SDS-PAGE method, protein binds to SDS at a certain rate and its charge density becomes constant.In this state, the protein moves through the polyacrylamide having a network structure. It is separated according to its molecular weight.

等電点による分離には、pH勾配の存在下で行う電気泳動(等電点電気泳動法)が利用されている。等電点電気泳動法では、pH勾配中で、タンパク質が自身の等電点と等しいpHの位置に集まることによって、タンパク質が分離される。等電点電気泳動法の媒体として、従来は両性担体が用いられていたが、近年では、通電中にpH勾配が崩れることのない固定化pH勾配(Immobilized pH Gradient:IPG)ゲルがよく用いられている。   For separation by isoelectric point, electrophoresis (isoelectric focusing method) performed in the presence of a pH gradient is used. In isoelectric focusing, proteins are separated by gathering at a pH position equal to their isoelectric point in a pH gradient. In the past, amphoteric carriers have been used as the medium for isoelectric focusing, but in recent years, immobilized pH gradient (IPG) gels that do not collapse the pH gradient during energization are often used. ing.

近年では、生物が有する全タンパク質の構造および機能を網羅的に解析することを目的とするプロテオーム解析の一環として、前記の2つの電気泳動法を組み合わせた二次元電気泳動法が利用されている。二次元電気泳動法では、一次元目に等電点電気泳動が行われ、続く二次元目にSDS-PAGEが行われる。これにより、数千種類ものタンパク質を高い分解能で一挙に分離することが可能となった。   In recent years, a two-dimensional electrophoresis method combining the two electrophoresis methods has been used as part of proteome analysis for the purpose of comprehensively analyzing the structure and function of all proteins of an organism. In the two-dimensional electrophoresis method, isoelectric focusing is performed in the first dimension, and SDS-PAGE is performed in the subsequent second dimension. This has enabled thousands of proteins to be separated at once with high resolution.

このように、ゲル電気泳動法はタンパク質などの生体高分子の分離分析に不可欠な手法であるが、いずれの電気泳動法においても分析の精度および再現性は、用いるゲルの品質によるところが大きい。したがって、当該分野においては、分解能の高いゲルを搭載した電気泳動用試験具を安定して製造可能な技術の開発が望まれている。   As described above, gel electrophoresis is an indispensable technique for separation and analysis of biopolymers such as proteins, but in any electrophoresis method, the accuracy and reproducibility of the analysis largely depend on the quality of the gel used. Therefore, in this field, it is desired to develop a technique capable of stably producing an electrophoretic test device equipped with a high-resolution gel.

例えば、特許文献1には、濃度が異なる2種類のゲル原液を撹拌槽で混合し、その混合液をゲル容器内へ底部から導入してゲル化(重合)させることによりpH勾配を有するゲルシートを作製する方法が開示されている。この場合、ゲル容器内へ導入する混合液中の各ゲル原液の割合を変化させることによって、所定のpH勾配を有するSDS-PAGE用ゲルシートが得られる。   For example, Patent Document 1 discloses a gel sheet having a pH gradient by mixing two types of gel stock solutions having different concentrations in a stirring tank, and introducing the mixed solution into a gel container from the bottom to cause gelation (polymerization). A method of making is disclosed. In this case, an SDS-PAGE gel sheet having a predetermined pH gradient can be obtained by changing the ratio of each gel stock solution in the mixed solution to be introduced into the gel container.

また、プレート上にモノマー溶液を塗布するゲルプレート製造方法(インクジェット法)が特許文献2に開示されている。この場合、プレート上に液たまりを形成し、pHが異なる2種類のモノマー溶液を混合比率を変化させながら混合して液たまりに塗布する。その後、重合開始剤を塗布して塗布膜をゲル化させることにより、所定のpH勾配を有する等電点電気泳動用のゲルプレートが得られる。   Further, Patent Document 2 discloses a gel plate manufacturing method (inkjet method) in which a monomer solution is applied on a plate. In this case, a liquid pool is formed on the plate, and two types of monomer solutions having different pH are mixed and applied to the liquid pool while changing the mixing ratio. Then, the gel plate for isoelectric focusing which has a predetermined pH gradient is obtained by apply | coating a polymerization initiator and gelatinizing a coating film.

また、特定のpH領域の精度を高めたゲルが特許文献3に開示されている。この場合、線形pH勾配を有するゲルを個別に3種類以上作製し、3種類のゲルをpHバッファを含まないゲルで接合し一体化することにより、精度の高い線形のpH勾配を3箇所以上有する電気泳動用ゲルとして製造していると考えられる。   Moreover, the gel which raised the precision of a specific pH area is disclosed by patent document 3. FIG. In this case, three or more types of gels having a linear pH gradient are individually prepared, and three types of gels are joined and integrated with a gel not containing a pH buffer, thereby having three or more highly accurate linear pH gradients. It is thought that it is manufactured as a gel for electrophoresis.

特開昭62−167459号公報Japanese Patent Laid-Open No. Sho 62-167659 特開2012−2739号公報JP 2012-2739 A US2008/0289963A1US2008 / 0289963A1

特許文献3のゲルを用いた電気泳動では、pH勾配を有するゲルとpHバッファを含まない接合ゲルとの界面がタンパク質の泳動障壁となるため、ゲル全体に亘ってタンパク質の移動が困難になり分析効率が低下すると予想される。
また、特許文献3の場合、3種類のpH領域を形成するための3種類のグラジェントメイカーを用いてゲルを製造することも考えられる。この場合、1種類のグラジェントメイカーからpHの異なる2種類のゲル原液をゲル容器内へ導入し、続いてpHバッファを含まないモノマーをゲル容器内へ導入し、その後、残り2種類のグラジェントメイカーについても同様に操作して、3種類のpH勾配を有するゲル部分およびこれらの間に配置されたpHバッフを含まない接合ゲル部分からなる電気泳動用ゲルを製造することができる。このゲルでは、前記のようなタンパク質の泳動障壁の問題が低減されると思われるが、接合ゲル部分の領域長さの調整を、弁の切り替えタイミングと送液ポンプの動作のみで行わなければならず、理想的なpH勾配となるようにpH領域およびpH位置を高精度に制御することは困難である。
In the electrophoresis using the gel of Patent Document 3, the interface between the gel having a pH gradient and the bonded gel not containing the pH buffer becomes a protein migration barrier, so that it is difficult to move the protein throughout the gel. Efficiency is expected to decline.
In the case of Patent Document 3, it is also conceivable to produce a gel using three types of gradient makers for forming three types of pH regions. In this case, two types of gel stock solutions having different pH values are introduced into a gel container from one type of gradient maker, and then a monomer that does not contain a pH buffer is introduced into the gel container, and then the remaining two types of gradients are introduced. It can operate similarly about a maker and can manufacture the gel for electrophoresis which consists of the gel part which has three types of pH gradient, and the joining gel part which does not contain the pH buff arrange | positioned among these. This gel seems to reduce the problem of protein migration barrier as described above, but the region length of the bonded gel must be adjusted only by the valve switching timing and the operation of the liquid feed pump. However, it is difficult to control the pH region and the pH position with high accuracy so as to obtain an ideal pH gradient.

本発明は、このような課題を鑑みてなされたものであり、高精度かつ信頼性の高い電気泳動を行うことができる電気泳動用試験具、およびこの試験具を容易に製造できる製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and provides an electrophoresis test device capable of performing electrophoresis with high accuracy and high reliability, and a manufacturing method capable of easily manufacturing the test device. The purpose is to do.

かくして、本発明によれば、pH勾配を有するゲルを備え、
前記ゲルは、複数の主要領域と、隣接する2つの前記主要領域の間に配置された接続領域と、隣接する前記主要領域と前記接続領域との間に配置された緩衝領域とを備え、
前記主要領域のpH勾配は前記接続領域のpH勾配よりも緩やかであり、前記緩衝領域のpH勾配は前記主要領域のpH勾配よりも緩やかである電気泳動用試験具が提供される。
Thus, according to the present invention, comprising a gel having a pH gradient,
The gel includes a plurality of main regions, a connection region disposed between two adjacent main regions, and a buffer region disposed between the adjacent main regions and the connection region,
An electrophoretic test device is provided in which the pH gradient of the main region is gentler than the pH gradient of the connection region, and the pH gradient of the buffer region is gentler than the pH gradient of the main region.

また、本発明の別の観点によれば、基材上にゲル材料を塗布し液たまりを形成するゲル材料塗布工程と、該ゲル材料塗布工程後の前記液たまり上にpH緩衝溶液を塗布するpH緩衝溶液塗布工程と、該pH緩衝溶液塗布工程後の塗布膜をゲル化するゲル化工程とを含み、
前記pH緩衝溶液塗布工程において、基材上の塗布領域は、複数の主要領域と、隣接する2つの前記主要領域の間に位置する接続領域と、隣接する前記主要領域と前記接続領域との間に位置する緩衝領域とを形成すべき領域に区分されており、
前記主要領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量を連続的に緩やかに変化させながらpH緩衝溶液を塗布し、
前記接続領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも高くなるようにpH緩衝溶液を塗布し、
前記緩衝領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも低くなるようにpH緩衝溶液を塗布する電気泳動用試験具の製造方法が提供される。
According to another aspect of the present invention, a gel material application step for applying a gel material on a base material to form a liquid pool, and a pH buffer solution is applied to the liquid pool after the gel material application step. a pH buffer solution coating step, and a gelation step of gelling the coating film after the pH buffer solution coating step,
In the pH buffer solution application step, the application region on the substrate includes a plurality of main regions, a connection region located between two adjacent main regions, and between the adjacent main region and the connection region. Is divided into areas to be formed with a buffer area located at
In the region where the main region is to be formed, the pH buffer solution is applied while continuously and gently changing the coating amount per unit area of the pH buffer solution,
In the region where the connection region is to be formed, the pH buffer solution is applied so that the rate of change of the coating amount per unit area of the pH buffer solution is higher than the rate of change in the main region,
In the region where the buffer region is to be formed, manufacture of a test device for electrophoresis in which the pH buffer solution is applied so that the rate of change of the coating amount per unit area of the pH buffer solution is lower than the rate of change in the main region A method is provided.

本発明の電気泳動用試験具は、例えば、pH4〜10のゲルを用いて、pH5〜6の領域に検出される第1のタンパク質とpH8〜9に検出される第2のタンパク質を同時に分析する場合のように、異なる複数の領域において分析精度を高めることが要求されるタンパク質の電気泳動に好適であり、高精度かつ信頼性の高い分析結果を得ることができる。この場合、pH5〜6の部分とpH8〜9の部分を主要領域として急激なpH勾配の変動点がない緩やかなpH勾配で形成し、接続領域は分析精度を必要としないので急激なpH勾配を形成することができる。
このようにすることで、ゲルの電気泳動方向における、測定に不要な接合領域の長さを短くし、測定に必要な主要領域を長くすることができる。この結果、本発明の電気泳動用試験具におけるゲルの全長が、従来品のゲルの全長と同じであれば、本発明の方がpH勾配を従来よりも緩やかに形成することができ、分析精度が向上する。また、主要領域と接続領域の間にpH勾配が最も小さい緩衝領域が設けられているため、主要領域のpH勾配が接続領域に影響を受け難くなり、分析精度がより一層向上する。
The electrophoresis test device of the present invention simultaneously analyzes, for example, a first protein detected in a pH 5-6 region and a second protein detected in a pH 8-9 using a pH 4-10 gel. As in the case, it is suitable for electrophoresis of proteins that require analysis accuracy to be improved in a plurality of different regions, and an analysis result with high accuracy and high reliability can be obtained. In this case, the pH 5-6 portion and the pH 8-9 portion are formed as a main region with a gradual pH gradient that does not have a sharp pH gradient fluctuation point, and the connecting region does not require analysis accuracy. Can be formed.
By doing in this way, the length of the junction area | region unnecessary for a measurement in the electrophoresis direction of a gel can be shortened, and the main area | region required for a measurement can be lengthened. As a result, if the total length of the gel in the electrophoretic test device of the present invention is the same as the total length of the gel of the conventional product, the present invention can form a pH gradient more slowly than the conventional, and the analytical accuracy Will improve. In addition, since the buffer region having the smallest pH gradient is provided between the main region and the connection region, the pH gradient of the main region is hardly affected by the connection region, and the analysis accuracy is further improved.

本発明の電気泳動用試験具の製造方法は、急激なpH勾配の変動点がない緩やかなpH勾配を有する主要領域と、急激に変化するpH勾配を有する接続領域の間に、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が主要領域における変化率よりも低くなるようにpH緩衝溶液を塗布して緩衝領域を形成する。これにより、主要領域のpH勾配が接続領域の急激に変化するpH勾配の影響を受け難くなり、緩やかで理想的なpH勾配を主要領域に容易に形成することができる。
また、本発明の製造方法によれば、同一のpH緩衝溶液塗布工程で、液たまりにおける主要領域、接続領域および緩衝領域を形成すべき領域にpH緩衝溶液を塗布してゲルを形成するため、換言すると、異質なゲルとゲルの間に境界が形成されるということがないため、電気泳動時のタンパク質の移動がスムーズであり、分析効率が低下するということがない。
The method for producing an electrophoresis test device according to the present invention comprises a pH buffer solution between a main region having a gradual pH gradient without a sharp pH gradient fluctuation point and a connection region having a rapidly changing pH gradient. The buffer region is formed by applying the pH buffer solution so that the change rate of the coating amount per unit area is lower than the change rate in the main region. As a result, the pH gradient of the main region is not easily affected by the pH gradient that changes rapidly in the connection region, and a gentle and ideal pH gradient can be easily formed in the main region.
Further, according to the production method of the present invention, in the same pH buffer solution application step, in order to form a gel by applying the pH buffer solution to the main region, the connection region, and the region where the buffer region should be formed in the puddle, In other words, since no boundary is formed between different gels, the protein moves smoothly during electrophoresis, and analysis efficiency does not decrease.

本発明の実施形態1の等電点電気泳動用試験具の使用可能な状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which can use the test device for isoelectric focusing of Embodiment 1 of this invention. 図1(A)の等電点電気泳動用試験具におけるゲル層を乾燥した後の保存可能な状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which can be preserve | saved after drying the gel layer in the test device for isoelectric focusings of FIG. 1 (A). 実施形態1の電気泳動用試験具およびその製造方法を説明する概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating an electrophoresis test device and a manufacturing method thereof according to Embodiment 1. 図2の部分拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2. 実施形態1の電気泳動用試験具を製造することができる装置を示す構成図である。It is a block diagram which shows the apparatus which can manufacture the test device for electrophoresis of Embodiment 1. FIG. 図4の製造装置におけるインクジェットヘッドを下方から見た概略底面図である。It is the schematic bottom view which looked at the inkjet head in the manufacturing apparatus of FIG. 4 from the downward direction. 図4の製造装置におけるインクジェットヘッドのノズル孔群を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the nozzle hole group of the inkjet head in the manufacturing apparatus of FIG. 図4の製造装置を用いて基材へ酸性モノマー溶液を塗布する状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which apply | coats an acidic monomer solution to a base material using the manufacturing apparatus of FIG. 図7(A)から引き続いて基材へ塩基性モノマー溶液を塗布する状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which apply | coats a basic monomer solution to a base material continuously from FIG. 7 (A). 図7(B)から引き続いて基材へ重合開始剤を塗布する状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which applies a polymerization initiator to a base material continuously from FIG. 7 (B). 図4の製造装置によるゲル材料液の塗布が終了した状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which the application | coating of the gel material liquid by the manufacturing apparatus of FIG. 4 was complete | finished.

<電気泳動用試験具について>
本発明の電気泳動用試験具は、pH勾配を有するゲルを備える。
前記ゲルは、複数の主要領域と、隣接する2つの前記主要領域の間に配置された接続領域と、隣接する前記主要領域と前記接続領域との間に配置された緩衝領域とを備える。
前記主要領域のpH勾配は前記接続領域のpH勾配よりも緩やかであり、前記緩衝領域のpH勾配は前記主要領域のpH勾配よりも緩やかである。
<About electrophoresis test equipment>
The test device for electrophoresis of the present invention includes a gel having a pH gradient.
The gel includes a plurality of main regions, a connection region disposed between two adjacent main regions, and a buffer region disposed between the adjacent main regions and the connection regions.
The pH gradient of the main region is gentler than the pH gradient of the connection region, and the pH gradient of the buffer region is gentler than the pH gradient of the main region.

本発明の電気泳動用試験具は、次のように構成されてもよい。
(1)前記緩衝領域におけるpH勾配は、前記主要領域のpH勾配の2分の1以下の勾配であってもよく、略ゼロ(勾配のないフラットなpH)であること望ましい。ここで、pH勾配は、X方向の単位距離当たりのpH値変化量で求めることができる。
pHバッファの混入条件(キャスト法)や塗布量条件(IJ法)が急激に変化した後にpHバッファの量を安定させるには、しばらく一定の混入状態および塗布量状態を維持して安定を待つことが望ましく、すなわちpH勾配が略ゼロの領域を設けることが望ましい。
また、他の効果として、pH領域の位置ずれを防止できる点が挙げられる。すなわち、例えば、主要領域がpH5〜6である場合に、主要領域両端の緩衝領域のpHをそれぞれpH5とpH6にすれば、主要領域の両端をそれぞれ確実にpH5とpH6にすることができる。この結果、主要領域のpH勾配の位置ずれを防止し、分析精度を向上させることができる。
The test device for electrophoresis of the present invention may be configured as follows.
(1) The pH gradient in the buffer region may be a half or less of the pH gradient in the main region, and is preferably substantially zero (flat pH without a gradient). Here, the pH gradient can be obtained from the amount of change in pH value per unit distance in the X direction.
To stabilize the pH buffer amount after abrupt changes in pH buffer mixing conditions (cast method) and coating amount conditions (IJ method), wait for stabilization while maintaining a constant mixing state and coating amount state for a while. That is, it is desirable to provide a region where the pH gradient is substantially zero.
Another effect is that it is possible to prevent displacement in the pH region. That is, for example, when the pH of the main region is 5 to 6, if the pH of the buffer region at both ends of the main region is set to pH 5 and pH 6, respectively, both ends of the main region can be reliably set to pH 5 and pH 6, respectively. As a result, it is possible to prevent the positional shift of the pH gradient in the main region and improve the analysis accuracy.

(2)前記ゲルの電気泳動方向における前記緩衝領域の長さは、隣接する前記主要領域および前記接続領域の長さよりも短くてもよい。この場合、緩衝領域の長さは主要領域に対する接続領域の影響を緩和できる程度であればよく、基本的に短くてもよい。 (2) The length of the buffer region in the electrophoresis direction of the gel may be shorter than the length of the adjacent main region and the connection region. In this case, the length of the buffer region is not limited as long as the influence of the connection region on the main region can be reduced, and may be basically short.

(3)主要領域は実質的な測定領域であるため、主要領域のpH勾配が線形な勾配であることが望ましい。 (3) Since the main region is a substantial measurement region, it is desirable that the pH gradient of the main region is a linear gradient.

(4)接続領域は実質的な測定領域ではないため、接続領域のpH勾配が非線形な勾配であってもよい。 (4) Since the connection region is not a substantial measurement region, the pH gradient of the connection region may be a non-linear gradient.

電気泳動用試験具の基材の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、細長プレート、所定形状に成型したチップ等が挙げられる。基材の材料としては、電気泳動用試験具の基材としての機能が発揮できるものであれば特に限定されず、例えば、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)等の樹脂、アルミナ、低温同時焼成セラミック等のセラミックスなどが挙げられる。また、基材が疎水性材料からなる場合、基材におけるゲル層が形成される面を親水性処理してもよく、これにより基材に対する後述のモノマー溶液の濡れ性が向上し、モノマー溶液がゲル化したゲル層と基材との密着性が向上する。親水性処理としては、硫酸を用いたニトロ化、硝酸を用いたスルホン化、酸素プラズマ処理等が挙げられる。   The form of the base material of the electrophoresis test device is not particularly limited, and examples thereof include an elongated plate and a chip molded into a predetermined shape. The material of the base material is not particularly limited as long as it can function as a base material for a test device for electrophoresis. For example, glass such as quartz glass and non-alkali glass, polyethylene terephthalate (PET), polymethacryl Examples thereof include resins such as acid methyl resin (PMMA), ceramics such as alumina, and low-temperature co-fired ceramic. Further, when the substrate is made of a hydrophobic material, the surface of the substrate on which the gel layer is formed may be subjected to a hydrophilic treatment, thereby improving the wettability of the monomer solution described below with respect to the substrate, and the monomer solution Adhesion between the gelled gel layer and the substrate is improved. Examples of the hydrophilic treatment include nitration using sulfuric acid, sulfonation using nitric acid, oxygen plasma treatment and the like.

電気泳動用試験具のゲル層の材料は、電気泳動用試験具のゲル層としての機能が発揮できるものであれば特に限定されず、例えば、一般的なポリアクリルアミドゲルの材料としては、アクリルアミド(モノマー)、ビスアクリルアミド(架橋剤)、pH調整材料(pHバッファ)、テトラメチルエチレンジアミン(TEMED:重合促進剤)、重合開始剤および純水が挙げられる。重合開始剤として、モノマーを熱重合させる場合は過硫酸アンモニウム(APS)、過酸化ベンゾイル等の熱重合開始剤を用いることができ、モノマーを光重合させる場合はリボフラビン類、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アゾイソブチロニトリル類等の光重合開始剤を用いることができる。   The material of the gel layer of the electrophoresis test device is not particularly limited as long as it can function as the gel layer of the electrophoresis test device. For example, as a general polyacrylamide gel material, acrylamide ( Monomer), bisacrylamide (crosslinking agent), pH adjusting material (pH buffer), tetramethylethylenediamine (TEMED: polymerization accelerator), polymerization initiator and pure water. As a polymerization initiator, when the monomer is thermally polymerized, a thermal polymerization initiator such as ammonium persulfate (APS) or benzoyl peroxide can be used. When the monomer is photopolymerized, riboflavins, 2,2-dimethoxy-2 -Photopolymerization initiators such as acetophenones such as phenylacetophenone, benzophenones, and azoisobutyronitrile can be used.

本発明において、ゲル層は、基材上にゲル材料液の液たまりを形成し、その液たまり上にpH緩衝溶液を塗布しゲル化させることにより形成される。この際、液たまりとしては、予め重合開始剤を添加したモノマー溶液(重合開始剤入りゲル材料液)を用いる場合と、重合開始剤以外の架橋剤、重合促進剤等を混合したモノマー溶液(重合開始剤を含まないゲル材料液)を用いる場合と、重合開始剤を用いる場合とを包含する。   In the present invention, the gel layer is formed by forming a puddle of a gel material solution on a base material, and applying a pH buffer solution on the puddle to cause gelation. At this time, as a liquid pool, a monomer solution (a gel material solution containing a polymerization initiator) to which a polymerization initiator is added in advance and a monomer solution (polymerization) in which a crosslinking agent other than the polymerization initiator, a polymerization accelerator, and the like are mixed are used. A case where a gel material liquid not containing an initiator) is used, and a case where a polymerization initiator is used.

よって、本発明において、「ゲル材料液」とは、特に言及がない限り、予め重合開始剤を添加したゲル材料液、重合開始剤を含まないゲル材料液、および重合開始剤の全てを意味する。以下、「予め重合開始剤を添加したゲル材料液」を「重合開始剤入りゲル材料液」という場合があり、「重合開始剤を含まないゲル材料液」を「モノマー溶液」という場合がある。   Therefore, in the present invention, “gel material liquid” means all of a gel material liquid to which a polymerization initiator has been added in advance, a gel material liquid not containing a polymerization initiator, and a polymerization initiator, unless otherwise specified. . Hereinafter, “a gel material solution to which a polymerization initiator has been added in advance” may be referred to as “a gel material solution containing a polymerization initiator”, and “a gel material solution that does not include a polymerization initiator” may be referred to as a “monomer solution”.

<電気泳動用試験具の製造方法について>
本発明の電気泳動用試験具は、基材上にゲル材料を塗布し塗布膜を形成するゲル材料塗布工程と、該ゲル材料塗布工程後の前記塗布膜上にpH緩衝溶液を塗布するpH緩衝溶液塗布工程と、該pH緩衝溶液塗布工程後の塗布膜をゲル化するゲル化工程とを含む。
前記pH緩衝溶液塗布工程において、基材上の塗布領域は、複数の主要領域と、隣接する2つの前記主要領域の間に位置する接続領域と、隣接する前記主要領域と前記接続領域との間に位置する緩衝領域とを形成すべき領域に区分されている。
前記主要領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量を連続的に緩やかに変化させながらpH緩衝溶液を塗布する。
前記接続領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも高くなるようにpH緩衝溶液を塗布する。
前記緩衝領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも低くなるようにpH緩衝溶液を塗布する。
<About the manufacturing method of the electrophoresis test device>
The electrophoretic test device of the present invention includes a gel material application step in which a gel material is applied onto a substrate to form a coating film, and a pH buffer solution in which a pH buffer solution is applied onto the coating film after the gel material application step. A solution coating step and a gelation step of gelling the coating film after the pH buffer solution coating step.
In the pH buffer solution application step, the application region on the substrate includes a plurality of main regions, a connection region located between two adjacent main regions, and between the adjacent main region and the connection region. And a buffer region located in the region to be formed.
In the region where the main region is to be formed, the pH buffer solution is applied while continuously and gently changing the coating amount per unit area of the pH buffer solution.
In the region where the connection region is to be formed, the pH buffer solution is applied so that the change rate of the coating amount per unit area of the pH buffer solution is higher than the change rate in the main region.
In the region where the buffer region is to be formed, the pH buffer solution is applied so that the change rate of the coating amount per unit area of the pH buffer solution is lower than the change rate in the main region.

本発明において、基材上にゲル材料液を塗布する方法は特に限定されず、基材上面の所定領域にゲル材料液を塗布できるものであればよく、例えば、ピペッター、ディスペンサー、インクジェット装置等が挙げられる。これらの中でも、高精度に微小液滴を吐出して基材に付着させるインクジェットヘッドを備えたインクジェット装置を用いることが好ましい。インクジェットヘッドを用いれば、細長い基材の所定領域にも高精度かつ定量的に微小液滴を塗布することができるため、得ようとするゲル層の形成領域、膜厚、pH勾配および濃度勾配等を容易かつ高精度に制御することができる。   In the present invention, the method for applying the gel material liquid on the substrate is not particularly limited, and any method can be used as long as the gel material liquid can be applied to a predetermined region on the upper surface of the substrate. Can be mentioned. Among these, it is preferable to use an ink jet apparatus provided with an ink jet head that discharges fine droplets with high accuracy and adheres them to a substrate. If an inkjet head is used, minute droplets can be applied to a predetermined area of an elongated base material with high accuracy and quantitatively. Therefore, the formation area of the gel layer to be obtained, the film thickness, the pH gradient, the concentration gradient, etc. Can be controlled easily and with high accuracy.

以下、図面を参照しながら本発明の電気泳動用試験具およびその製造方法の実施形態を詳説する。なお、本発明は実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of an electrophoretic test device and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiment.

(実施形態1)
図1(A)は本発明の実施形態1の等電点電気泳動用試験具の使用可能な状態を示す斜視図であり、図1(B)は図1(A)の等電点電気泳動用試験具におけるゲル層を乾燥した後の保存可能な状態を示す斜視図である。また、図2は実施形態1の電気泳動用試験具およびその製造方法を説明する概念図であり、図3は図2の部分拡大図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 (A) is a perspective view showing a usable state of the isoelectric focusing test device of Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 1 (B) is the isoelectric focusing of FIG. 1 (A). It is a perspective view which shows the state which can be preserve | saved after drying the gel layer in a test tool. FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating the electrophoresis test device and the manufacturing method thereof according to Embodiment 1, and FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG.

図1(A)に示す電気泳動用試験具GP1は、基材S上に蒲鉾状のゲル層G1が形成されたものである。このゲル層G1は、緩やかな凸曲面となった上面(基材と反対側の面)を有すると共に、電気泳動方向である長手方向(以下、「X方向」という)にpH勾配を有している。X方向と直交する方向が基材Sの幅方向(以下、「Y方向」という)である。このゲル層G1を含水率5%以下に乾燥させることにより、ゲル層G1が乾燥して乾燥膜D1となった図1(B)に示す等電点電気泳動用試験具GPD1が得られる。 An electrophoretic test device GP 1 shown in FIG. 1A is obtained by forming a bowl-shaped gel layer G 1 on a substrate S. The gel layer G 1 has a gently convex curved upper surface (surface opposite to the substrate) and a pH gradient in the longitudinal direction (hereinafter referred to as “X direction”) that is the electrophoresis direction. ing. The direction orthogonal to the X direction is the width direction of the substrate S (hereinafter referred to as “Y direction”). When the gel layer G 1 is dried to a moisture content of 5% or less, the gel layer G 1 is dried to form a dry film D 1. The isoelectric focusing test device GPD 1 shown in FIG. can get.

本発明において、ゲル層G1の長さおよび幅は、基材Sの長さおよび幅と同じである。基材Sの長さおよび幅は特に限定されないが、一例としては、長さは50〜250mm程度であり、幅は0.5〜5mm程度である。ゲル層G1の厚さは特に限定されないが、例えば、195〜1010μm程度である。
このゲル層G1を乾燥した乾燥膜D1の厚さは100μm以下に収縮するが、長さおよび幅はほとんど変化しない。
In the present invention, the length and width of the gel layer G 1 are the same as the length and width of the substrate S. The length and width of the substrate S are not particularly limited, but as an example, the length is about 50 to 250 mm, and the width is about 0.5 to 5 mm. The thickness of the gel layer G 1 is not particularly limited, for example, about 195~1010Myuemu.
The thickness of the dry film D 1 obtained by drying the gel layer G 1 shrinks to 100 μm or less, but the length and width hardly change.

図2は上段、中段および下段から構成されている。図2の上段は、後述するゲル製造時に用いる2種類のpH緩衝溶液である酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液の塗布量の変化を面積で示している。図2の中段は、酸性モノマー溶液(細線)と塩基性モノマー溶液(太線)の塗布量の変化を線グラフで示している。図2の下段は、ゲル層G1のX方向位置におけるpHを線グラフで示している。 FIG. 2 includes an upper stage, a middle stage, and a lower stage. The upper part of FIG. 2 shows, in terms of area, changes in the coating amounts of an acidic monomer solution and a basic monomer solution, which are two types of pH buffer solutions used at the time of gel production described later. The middle part of FIG. 2 shows a change in the coating amount of the acidic monomer solution (thin line) and the basic monomer solution (thick line) in a line graph. The lower part of FIG. 2 shows the pH at the position in the X direction of the gel layer G 1 with a line graph.

また、図2では、基材Sの一端S1から他端S2に向かって塗布領域が領域A〜Kに区分され、各領域に応じて酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液の塗布量が制御されることを示している。ここで、領域C、FおよびIは後述する第1〜3主要領域を形成すべき領域に相当し、領域A、B、D、E、G、H、JおよびKは後述する緩衝領域および接続領域を形成すべき領域に相当する。さらに詳しく説明すると、領域Aの酸性側と領域Bの塩基性側が緩衝領域を形成すべき領域でありかつ残部が接続領域であり、領域Dの酸性側と領域Eの塩基性側が緩衝領域を形成すべき領域でありかつ残部が接続領域であり、領域Gの酸性側と領域Hの塩基性側が緩衝領域を形成すべき領域でありかつ残部が接続領域であり、領域Jの酸性側と領域Kの塩基性側が緩衝領域を形成すべき領域でありかつ残部が接続領域である。 In FIG. 2, the application region is divided into regions A to K from one end S 1 to the other end S 2 of the substrate S, and the application amount of the acidic monomer solution and the basic monomer solution is controlled according to each region. It is shown that. Here, regions C, F and I correspond to regions where first to third main regions to be described later are to be formed, and regions A, B, D, E, G, H, J and K are buffer regions and connections which will be described later. This corresponds to a region where a region is to be formed. More specifically, the acidic side of region A and the basic side of region B are regions where a buffer region should be formed, and the remainder is a connection region, and the acidic side of region D and the basic side of region E form a buffer region The remaining area is the connection area, the acidic side of the area G and the basic side of the area H are the areas where the buffer area is to be formed and the remaining area is the connection area, the acidic side of the area J and the area K The basic side is a region where a buffer region is to be formed, and the remainder is a connection region.

図1(A)と図2と図3に示すように、このゲル層G1は、X方向に所定pH範囲のpH勾配を有している。実施形態1では、例えば、ゲル層G1がpH3〜10の範囲を含むpH勾配を有する場合を例示している。具体的には、このゲル層G1は、pH3.35〜4.75の第1主要領域と、pH5.45〜6.15の第2主要領域と、pH7.9〜9.65の第3主要領域とを有すると共に、各主要領域の両側に配置された緩衝領域および接続領域とを有している。この具体例のゲル層G1は、具体的には、後述に記載の方法により形成することができる。
なお、図3では、第2主要領域およびその両側に配置された緩衝領域および接続領域のみ示しているが、第1主要領域の両側および第3主要領域の両側にも同様に緩衝領域および接続領域が配置されている。
As shown in FIG. 1 (A), FIG. 2 and FIG. 3, the gel layer G 1 has a pH gradient in a predetermined pH range in the X direction. In the first embodiment, for example, a gel layer G 1 is illustrates a case where a pH gradient with the range of the pH 3-10. Specifically, the gel layer G 1 has a first main region having a pH of 3.35 to 4.75, a second main region having a pH of 5.45 to 6.15, and a third main region having a pH of 7.9 to 9.65. And a buffer region and a connection region disposed on both sides of each main region. Specifically, the gel layer G1 of this specific example can be formed by the method described later.
FIG. 3 shows only the second main region and the buffer regions and connection regions arranged on both sides of the second main region. Similarly, the buffer regions and connection regions are also provided on both sides of the first main region and both sides of the third main region. Is arranged.

実施形態1のゲル層G1では、電気泳動によってタンパク質が第1主要領域(pH3.35〜4.75)と第2主要領域(pH5.45〜6.15)と第3主要領域(pH7.9〜9.65)で高精度に分離できるよう、比較的広い範囲に設けられた各主要領域のpH勾配が緩やかな線形で形成されている(図2の下段参照)。そのため、実施形態1のゲル層G1では、第1主要領域の酸性側、第1主要領域と第2主要領域の間、第2主要領域と第3主要領域の間、および第3主要領域の塩基性側といった狭い領域(緩衝領域および接続領域)では、タンパク質の高精度な分離を期待していないが、これらの領域にもタンパク質は分離する。 In the gel layer G 1 of the first embodiment, the proteins are separated by electrophoresis into a first main region (pH 3.35 to 4.75), a second main region (pH 5.45 to 6.15), and a third main region (pH 7.9 to 9.65). The pH gradient of each main region provided in a relatively wide range is formed in a gentle linear shape (see the lower part of FIG. 2). Therefore, the gel layer G 1 of the first embodiment, the acidic side of the first main region, between the first main region to the second main region, between the second main region and the third main region, and the third primary regions In a narrow region (buffer region and connection region) such as the basic side, high-precision separation of the protein is not expected, but the protein is also separated in these regions.

実施形態1のゲル層G1の特徴的な構造は、前記のように詳細に分析したいpH領域(主要領域)を複数に区分した点と、それらの間の急激にpHが変化する接続領域の酸性側と塩基性側に緩衝領域を配置した点である。この緩衝領域のpHは、隣接する主要領域の端部のpHと同等に設定されている。ここで、緩衝領域の意義について説明する。 The characteristic structure of the gel layer G 1 of Embodiment 1 is that the pH region (main region) to be analyzed in detail is divided into a plurality of points as described above, and the connection region where the pH changes rapidly between them. This is the point that buffer regions are arranged on the acidic side and the basic side. The pH of the buffer region is set to be equal to the pH at the end of the adjacent main region. Here, the significance of the buffer region will be described.

第2主要領域の酸性側に緩衝領域が設けられていない場合、第2主要領域の酸性側端部と第1主要領域の塩基性側端部の間のpHの落差は大きいため、第2主要領域の酸性側端部が設定したpH値よりも酸性を示す。また、第2主要領域の塩基性側に緩衝領域が設けられていない場合、第2主要領域の塩基性側端部と第3主要領域の酸性側端部の間のpHの落差は大きいため、第2主要領域の塩基性側端部が設定したpH値よりも塩基性を示す。これによって、第2主要領域の酸性側端部と塩基性側端部のpH勾配が急になり、第2主要領域のX方向の長さが短くなる。この結果、第2主要領域の酸性側端部および塩基性側端部でのタンパク質の分離精度が低下する。   When the buffer region is not provided on the acidic side of the second main region, the difference in pH between the acidic side end of the second main region and the basic side end of the first main region is large. The acidic side end of the region is more acidic than the set pH value. In addition, when the buffer region is not provided on the basic side of the second main region, the pH drop between the basic side end of the second main region and the acidic side end of the third main region is large, The basic side end of the second main region is more basic than the set pH value. As a result, the pH gradient between the acidic side end and the basic side end of the second main region becomes steep, and the length of the second main region in the X direction becomes short. As a result, the protein separation accuracy at the acidic side end and the basic side end of the second main region is lowered.

このように、主要領域の酸性側端部が設定したpH値よりも酸性を示し、塩基性側端部が設定したpH値よりも塩基性を示す原因は、ゲル製造時において、基材S上に塗布されたゲル材料液がゲル化するまでの間にpHバッファが拡散することによる。特に、pH値が大きく変化する境界付近では、酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液の塗布量が急激に変化するため、pHバッファが拡散し易い。
そこで、本発明では、主要領域の酸性側と塩基性側に、この主要領域の酸性側端部および塩基性側端部のpHと同等のpHを有する緩衝領域を設けることにより、接続領域の急なpH変化の影響が主要領域に直接及ぼさないようにしている。これにより、主要領域には設定したX方向の長さ範囲に亘って緩やかなpH勾配が形成される。この結果、主要領域の酸性側端部および塩基性側端部でのタンパク質の分離精度が低下しない。
As described above, the cause that the acidic side end of the main region is more acidic than the set pH value and the basic side end is more basic than the set pH value is that the base S This is because the pH buffer diffuses before the gel material liquid applied to the gel is gelled. In particular, in the vicinity of the boundary where the pH value changes greatly, the coating amount of the acidic monomer solution and the basic monomer solution changes rapidly, so that the pH buffer is likely to diffuse.
Therefore, in the present invention, a buffer region having a pH equivalent to the pH of the acidic side end and the basic side end of the main region is provided on the acidic side and the basic side of the main region, so In this way, the influence of the pH change is prevented from directly affecting the main region. Thereby, a gentle pH gradient is formed in the main region over the set length range in the X direction. As a result, the protein separation accuracy at the acidic side end and the basic side end of the main region does not decrease.

次に、図1(A)に示す試験具GP1を製造することができる装置について説明し、その後でこの装置を用いて試験具GP1を製造する方法について説明する。 Next, an apparatus capable of manufacturing the test tool GP 1 shown in FIG. 1A will be described, and then a method of manufacturing the test tool GP 1 using this apparatus will be described.

図4は実施形態1の電気泳動用試験具を製造することができる装置を示す構成図である。この試験具製造装置は、基材Sがセットされるステージ10と、塗布部としてのインクジェット装置30と、ステージ10を直線方向に移動させる移動機構40と、これらを収納する密閉可能なケース50と、図示しない制御部とを備える。なお、ケース50には図示しない開閉扉が設けられている。   FIG. 4 is a configuration diagram showing an apparatus capable of manufacturing the electrophoresis test device of the first embodiment. This test device manufacturing apparatus includes a stage 10 on which a base material S is set, an ink jet apparatus 30 as an application unit, a moving mechanism 40 that moves the stage 10 in a linear direction, and a sealable case 50 that houses these. And a control unit (not shown). The case 50 is provided with an opening / closing door (not shown).

移動機構40は、ステージ10を支持する支持台40aを有し、この支持台40aが図示しないリニアガイド機構によって直線方向に往復移動可能とされている。
図4において、実線で示された支持台40aは待機位置にあり、塗布工程において2点鎖線で示された位置まで支持台40a、ステージ10および基材Sは直進する。これにより、ステージ10上にセットされた基材Sは、後述する第1〜第3インクジェットヘッド31b、32b、33bの真下を通過する。
The moving mechanism 40 includes a support base 40a that supports the stage 10, and the support base 40a can be reciprocated in a linear direction by a linear guide mechanism (not shown).
In FIG. 4, the support base 40a indicated by the solid line is in the standby position, and the support base 40a, the stage 10 and the substrate S travel straight to the position indicated by the two-dot chain line in the coating process. Thereby, the base material S set on the stage 10 passes just below the 1st-3rd inkjet heads 31b, 32b, and 33b mentioned later.

インクジェット装置30は、酸性溶液吐出部31と、塩基性溶液吐出部32と、重合開始剤吐出部33と、負圧調整部34とを備える。
酸性溶液吐出部31は、酸性モノマー溶液Aを貯蔵する第1タンク31aと、第1インクジェットヘッド31bと、第1タンク31aから第1インクジェットヘッド31bへ酸性モノマー溶液Aを送る第1パイプ31cとを有し、水頭差を利用して第1タンク31aから第1インクジェットヘッド31bへ酸性モノマー溶液Aが供給されるように構成されている。なお、酸性モノマー溶液Aは、1種以上のpHバッファによって所定pH(例えば、pH2〜7)に設定されている。
The ink jet device 30 includes an acidic solution discharge unit 31, a basic solution discharge unit 32, a polymerization initiator discharge unit 33, and a negative pressure adjustment unit 34.
The acidic solution discharge unit 31 includes a first tank 31a that stores the acidic monomer solution A, a first inkjet head 31b, and a first pipe 31c that sends the acidic monomer solution A from the first tank 31a to the first inkjet head 31b. And the acidic monomer solution A is supplied from the first tank 31a to the first inkjet head 31b using the water head difference. The acidic monomer solution A is set to a predetermined pH (for example, pH 2 to 7) by one or more kinds of pH buffers.

塩基性溶液吐出部32は、塩基性溶液Bを貯蔵する第2タンク32aと、第2インクジェットヘッド32bと、第2タンク32aから第2インクジェットヘッド32bへ塩基性溶液Bを送る第2パイプ32cとを有し、水頭差を利用して第2タンク32aから第2インクジェットヘッド32bへ塩基性モノマー溶液Bが供給されるように構成されている。なお、塩基性モノマー溶液Bは、1種以上のpHバッファによって所定pH(例えば、pH7〜12)に設定されている。   The basic solution discharge unit 32 includes a second tank 32a that stores the basic solution B, a second inkjet head 32b, and a second pipe 32c that sends the basic solution B from the second tank 32a to the second inkjet head 32b. And the basic monomer solution B is supplied from the second tank 32a to the second inkjet head 32b using the water head difference. The basic monomer solution B is set to a predetermined pH (for example, pH 7 to 12) by one or more kinds of pH buffers.

重合開始剤吐出部33は、重合開始剤Cを貯蔵する第3タンク33aと、第3インクジェットヘッド33bと、第3タンク33aから第3インクジェットヘッド33bへ重合開始剤Cを送る第3パイプ33cとを有し、水頭差を利用して第3タンク33aから第3インクジェットヘッド33bへ重合開始剤Cが供給されるように構成されている。   The polymerization initiator discharge unit 33 includes a third tank 33a that stores the polymerization initiator C, a third inkjet head 33b, and a third pipe 33c that sends the polymerization initiator C from the third tank 33a to the third inkjet head 33b. And the polymerization initiator C is supplied from the third tank 33a to the third inkjet head 33b using the water head difference.

第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bとしては、サーマルジェット方式、ピエゾジェット方式、静電駆動方式等が挙げられるが、インクジェット装置30における各液(酸性モノマー溶液A、塩基性モノマー溶液B、重合開始剤C)を冷却する場合は、各液に熱を加えるサーマルジェット方式を用いず、ピエゾジェット方式または静電駆動方式を用いることが望ましい。   Examples of the first to third ink jet heads 31b to 33b include a thermal jet method, a piezo jet method, an electrostatic drive method, and the like, but each liquid in the ink jet device 30 (an acidic monomer solution A, a basic monomer solution B, a polymerization). When the initiator C) is cooled, it is desirable to use a piezo jet method or an electrostatic drive method without using a thermal jet method for applying heat to each liquid.

負圧調整部34は、第1〜第3タンク31a〜33aとパイプ35〜37にて接続されており、第1から第3のタンク内の気圧を管理し、第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bのノズル孔H(図6参照)から液が垂れ落ちない所定の圧力となるよう、第1〜第3タンク31a〜33a内を大気圧より低い所定圧で一定になるように調整する。   The negative pressure adjusting unit 34 is connected to the first to third tanks 31a to 33a by pipes 35 to 37, manages the atmospheric pressure in the first to third tanks, and the first to third inkjet heads 31b. The insides of the first to third tanks 31a to 33a are adjusted to be constant at a predetermined pressure lower than the atmospheric pressure so that the liquid does not spill from the nozzle holes H (see FIG. 6) of .about.33b.

第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bは一体化されて1組の吐出ヘッドユニットUが構成されており、この吐出ヘッドユニットUは図示しない固定部材にて固定されている。そして、図5に示すように、この基材Sの移動軌跡E上に、第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bは一列で配置されているが、ヘッド配置順はこの順番に限定されない。なお、実施形態1の場合、基材Sの移動方向の上流側から第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bの順で配置されている。   The first to third ink jet heads 31b to 33b are integrated to form a set of ejection head units U, and the ejection head units U are fixed by a fixing member (not shown). And as shown in FIG. 5, although the 1st-3rd inkjet heads 31b-33b are arrange | positioned in a line on the movement locus | trajectory E of this base material S, the head arrangement | positioning order is not limited to this order. In the case of the first embodiment, the first to third inkjet heads 31b to 33b are arranged in this order from the upstream side in the moving direction of the substrate S.

また、図5と図6に示すように、基材Sの移動軌跡Eと対向する第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bの下面には、移動軌跡Eの方向と直交する方向に複数のノズル孔Hが1列で設けられている。すなわち、1列のノズル孔群HGが、移動軌跡Eの方向と直交する方向に、かつ移動軌跡Eの幅を超える長さで延びている。ノズル孔径Dおよびノズル孔間隔Pは特に限定されないが、ノズル孔Hの径は10〜100μm程度が適当であり、ノズル孔間隔Pは100〜200μm程度が適当である。なお、ノズル列が直線状に配置されている場合、ヘッド向きを傾けることで見掛け上、ノズル孔間隔を狭くする方法も使用できる。また、第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bにおいて、ノズル孔群HGは2列以上の複数列で設けられていてもよい。   Further, as shown in FIGS. 5 and 6, a plurality of nozzles are arranged on the lower surface of the first to third inkjet heads 31 b to 33 b facing the movement locus E of the substrate S in a direction orthogonal to the direction of the movement locus E. The holes H are provided in one row. That is, the nozzle hole group HG in one row extends in a direction orthogonal to the direction of the movement locus E and with a length exceeding the width of the movement locus E. Although the nozzle hole diameter D and the nozzle hole interval P are not particularly limited, the diameter of the nozzle hole H is suitably about 10 to 100 μm, and the nozzle hole interval P is suitably about 100 to 200 μm. When the nozzle rows are arranged in a straight line, it is possible to use a method of apparently narrowing the nozzle hole interval by tilting the head direction. In the first to third ink jet heads 31b to 33b, the nozzle hole group HG may be provided in a plurality of rows of two or more.

次に、前記構成を有する試験具製造装置を用いて試験具GP1を製造する方法の一例について説明する。
先ず、図4に示すように、待機位置にあるステージ10上に細長い矩形の基材Sをセットする。この基材S上には予め液たまりL0が形成されている。なお、液たまりL0としては、モノマーを純水で希釈したモノマー溶液が用いられ、このモノマー溶液中に架橋剤および重合促進剤が添加されていてもよい。
Next, an example of a method for manufacturing the test tool GP 1 using the test tool manufacturing apparatus having the above-described configuration will be described.
First, as shown in FIG. 4, an elongated rectangular base material S is set on the stage 10 in the standby position. On the base material S, a liquid pool L0 is formed in advance. As the liquid pool L0, a monomer solution obtained by diluting a monomer with pure water is used, and a crosslinking agent and a polymerization accelerator may be added to the monomer solution.

次に、所定のプログラムに基づく常温大気圧下での塗布工程が行われる。すなわち、図7(A)、(B)および図8(A)、(B)に示すように、移動機構40により支持台40aが矢印M方向に断続的に移動すると共に、第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bから微小液滴La、Lb、Lcが断続的に吐出して、液たまりL0上に塗布膜L3が形成される。   Next, the coating process under normal temperature and atmospheric pressure based on a predetermined program is performed. That is, as shown in FIGS. 7A and 7B and FIGS. 8A and 8B, the support base 40a is intermittently moved in the direction of the arrow M by the moving mechanism 40, and the first to third directions. Minute droplets La, Lb, and Lc are intermittently ejected from the ink jet heads 31b to 33b, and the coating film L3 is formed on the liquid pool L0.

詳しく説明すると、図7(A)に示すように、基材Sの一端S1がインクジェット装置30の第1インクジェットヘッド31bのノズル孔群HGの真下位置まで移動したところで、第1インクジェットヘッド31bから酸性モノマー溶液の微小液滴Laが吐出されて液たまりL0上に塗布される。これにより、図7(B)に示すように、液たまりL0と酸性モノマー溶液との混合液の塗布膜L1が基材Sの一端S1側に形成される。 More specifically, as shown in FIG. 7A, when one end S 1 of the substrate S moves to a position directly below the nozzle hole group HG of the first inkjet head 31b of the inkjet apparatus 30, the first inkjet head 31b A small droplet La of the acidic monomer solution is discharged and applied onto the liquid pool L0. Thus, as shown in FIG. 7 (B), the coating film L1 of the mixed liquid of liquid pool L0 and an acidic monomer solution is formed at one end S 1 side of the substrate S.

この場合、ステージ10上に微小液滴Laが吐出されないように、第1インクジェットヘッド31bにおけるノズル孔群HGのうちから微小液滴Laを吐出するノズル孔Hが選択されており、これについては第2および第3インクジェットヘッド32b、33bでも同様である。また、第1インクジェットヘッド31bから基材S上に吐出される微小液滴Laの単位面積当たりの塗布量は、基材Sが所定距離ずつ断続的に移動する毎に(所定の吐出間隔毎に)所定量に制御されるが、これについて詳しくは後述する。   In this case, the nozzle hole H that discharges the micro droplet La is selected from the nozzle hole group HG in the first inkjet head 31b so that the micro droplet La is not discharged onto the stage 10. The same applies to the second and third inkjet heads 32b and 33b. Further, the coating amount per unit area of the fine droplets La discharged from the first inkjet head 31b onto the substrate S is changed every time the substrate S moves intermittently by a predetermined distance (at predetermined discharge intervals). The amount is controlled to a predetermined amount, which will be described in detail later.

そして、基材Sの一端S1が第2インクジェットヘッド32bのノズル孔群HGの真下位置まで移動したところで、第2インクジェットヘッド32bから塩基性モノマー溶液の微小液滴Lbが吐出されて塗布膜L1上に塗布される。これにより、図8(A)に示すように、塗布膜L1と塩基性モノマー溶液との混合液の塗布膜L2が基材Sの一端S1側に形成される。この場合も、第2インクジェットヘッド32bから吐出される微小液滴Lbの単位面積当たりの塗布量は、基材Sが所定距離ずつ断続的に移動する毎に(所定の吐出間隔毎に)所定量に制御されるが、これについて詳しくは後述する。 When one end S 1 of the substrate S moves to a position just below the nozzle hole group HG of the second inkjet head 32b, a micro droplet Lb of the basic monomer solution is discharged from the second inkjet head 32b, and the coating film L1. It is applied on top. Thus, as shown in FIG. 8 (A), the coating film L2 of the liquid mixture of coating film L1 and the basic monomer solution is formed at one end S 1 side of the substrate S. Also in this case, the coating amount per unit area of the micro droplets Lb ejected from the second inkjet head 32b is a predetermined amount every time the substrate S is intermittently moved by a predetermined distance (at a predetermined ejection interval). This will be described in detail later.

そして、基材Sの一端S1が第3インクジェットヘッド33bのノズル孔群HGの真下位置まで移動したところで、第3インクジェットヘッド33bから重合開始剤の微小液滴Lcが吐出されて塗布膜L2上に塗布される。これにより、塗布膜L2と重合開始剤との混合液の塗布膜L3(図8(B)参照)が基材Sの一端S1側に形成され、このようにして基材Sの一端S1側から他端S2側に向かって連続的に塗布膜L3が形成されていく。そして、基材Sの他端S2が第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bを順次通過した時点で、図8(B)に示すように、第1〜第3インクジェットヘッド31b〜33bからの液滴吐出が順次停止する。 Then, when one end S 1 of the substrate S moves to a position just below the nozzle hole group HG of the third inkjet head 33b, a minute droplet Lc of the polymerization initiator is discharged from the third inkjet head 33b, and on the coating film L2. To be applied. Thus, the coating film L2 and the polymerization initiator mixture coating film with L3 (FIG. 8 (B) refer) is formed at one end S 1 side of the substrate S, one end S 1 of the thus substrate S continuously coated film L3 toward the other end S 2 side is gradually formed from the side. Then, when the other end S 2 of the substrate S is sequentially passed through the first to third ink jet head 31B~33b, as shown in FIG. 8 (B), from the first to third ink jet head 31B~33b Droplet discharge stops sequentially.

次に、図2を参照しながら酸性モノマー溶液と塩基性モノマー溶液の塗布量制御について説明する。
図2に示すように、酸性モノマー溶液は基材Sの一端S1から他端S2に向かうにつれて塗布量が減少するよう制御され、塩基性モノマー溶液は基材Sの一端S1から他端S2に向かうにつれて塗布量が増加するよう制御される。
詳しく説明すると、基材S上の領域Aにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は100%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は0%で一定である。
領域Bにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約95%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は約5%で一定である。
Next, the application amount control of the acidic monomer solution and the basic monomer solution will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 2, the acidic monomer solution is controlled so that the coating amount decreases as it goes from one end S 1 of the substrate S to the other end S 2 , and the basic monomer solution is the other end from the one end S 1 of the substrate S. the coating amount is controlled so as to increase toward the S 2.
More specifically, in the region A on the substrate S, the application amount of the acidic monomer solution is constant at 100%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at 0%.
In region B, the application amount of the acidic monomer solution is constant at about 95%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at about 5%.

領域Cにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約95〜75%の範囲で連続的に減少し、塩基性モノマー溶液の塗布量は約5〜25%の範囲で連続的に増加する。
領域Dにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約75%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は約25%で一定である。
領域Eにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約65%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は約35%で一定である。
In region C, the coating amount of the acidic monomer solution continuously decreases in the range of about 95 to 75%, and the coating amount of the basic monomer solution continuously increases in the range of about 5 to 25%.
In region D, the application amount of the acidic monomer solution is constant at about 75%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at about 25%.
In the region E, the application amount of the acidic monomer solution is constant at about 65%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at about 35%.

領域Fにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約65〜55%の範囲で連続的に減少し、塩基性モノマー溶液の塗布量は約35〜45%の範囲で連続的に増加する。
領域Gにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約55%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は約45%で一定である。
領域Hにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約30%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は約70%で一定である。
In the region F, the application amount of the acidic monomer solution continuously decreases in the range of about 65 to 55%, and the application amount of the basic monomer solution continuously increases in the range of about 35 to 45%.
In the region G, the application amount of the acidic monomer solution is constant at about 55%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at about 45%.
In the region H, the application amount of the acidic monomer solution is constant at about 30%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at about 70%.

領域Iにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約30〜5%の範囲で連続的に減少し、塩基性モノマー溶液の塗布量は約70〜95%の範囲で連続的に増加する。
領域Jにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は約5%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は約95%で一定である。
領域Kにおいて、酸性モノマー溶液の塗布量は0%で一定であり、塩基性モノマー溶液の塗布量は100%で一定である。
In region I, the coating amount of the acidic monomer solution continuously decreases in the range of about 30 to 5%, and the coating amount of the basic monomer solution continuously increases in the range of about 70 to 95%.
In the region J, the application amount of the acidic monomer solution is constant at about 5%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at about 95%.
In the region K, the application amount of the acidic monomer solution is constant at 0%, and the application amount of the basic monomer solution is constant at 100%.

つまり、主要領域を形成すべき領域C、F、Iにおいては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量を連続的に緩やかに変化させながらpH緩衝溶液を塗布する。
また、緩衝領域を形成すべき領域A、B、D、E、G、H、J、Kの酸性側と塩基性側においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも低くなるようにpH緩衝溶液を塗布する。
また、接続領域を形成すべき領域AとBの中間部、領域DとEの中間部、領域GとHの中間部、および領域JとKの中間部においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも高くなるようにpH緩衝溶液を塗布する(図3参照)。
ここで、「pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率」とは、pH勾配の度合いを意味する。
That is, in the regions C, F, and I where the main regions are to be formed, the pH buffer solution is applied while continuously and gently changing the coating amount per unit area of the pH buffer solution.
Further, on the acidic side and the basic side of the regions A, B, D, E, G, H, J, and K where the buffer region is to be formed, the rate of change in the coating amount per unit area of the pH buffer solution is the main factor. The pH buffer solution is applied so as to be lower than the rate of change in the area.
Further, in the intermediate part of the regions A and B, the intermediate part of the regions D and E, the intermediate part of the regions G and H, and the intermediate part of the regions J and K to form the connection region, The pH buffer solution is applied so that the rate of change in the amount of coating is higher than the rate of change in the main region (see FIG. 3).
Here, “the rate of change of the coating amount per unit area of the pH buffer solution” means the degree of pH gradient.

このような塗布量制御により、塗布工程後の塗布膜L3においては、図2の下段にしめすようなpH勾配となる。なお、このような塗布工程における試験具製造装置の一連の動作は、所定のプログラムに基づいて制御部が各駆動部を制御することにより行われる。
その後、支持台40aが待機位置まで戻り、塗布工程が終了する。
By such coating amount control, the coating film L3 after the coating process has a pH gradient as shown in the lower part of FIG. In addition, a series of operation | movement of the test device manufacturing apparatus in such an application | coating process is performed when a control part controls each drive part based on a predetermined program.
Thereafter, the support base 40a returns to the standby position, and the coating process is completed.

塗布工程後、ケース50の扉を開けて基材Sを取り出し、ゲル化工程用のケース内に収納し、そのケース内で塗布膜L3のゲル化工程を常温下で行う。なお、常温下でのゲル化完了までには3〜5時間程度の時間を要する。ゲル化完了後は、図1(A)に示すように、四方の端部に丸みを有する蒲鉾形のゲル層G1が基材S上に形成された等電点電気泳動用試験具GP1が得られる。 After the coating process, the door of the case 50 is opened, the base material S is taken out and stored in the case for the gelation process, and the gelation process of the coating film L3 is performed at room temperature in the case. In addition, it takes about 3 to 5 hours to complete the gelation at room temperature. After completion of the gelation, the isoelectric focusing test device GP 1 in which a bowl-shaped gel layer G 1 having rounded corners on the four ends is formed on the substrate S as shown in FIG. 1 (A). Is obtained.

次に、得られた電気泳動用試験具GP1のゲル層G1を乾燥することにより、図1(B)に示す完成品としての本発明の電気泳動用試験具GPD1が得られる。この乾燥工程において、ゲル層G1を乾燥する方法は特に限定されず、例えば、ゲル層G1をヒータにて加熱する、あるいはゲル層G1に熱風を吹き付けて乾燥する方法が挙げられる。さらに、乾燥工程後に、乾燥膜D1を−20℃以下に冷却する冷却工程を行ってもよい。あるいは、乾燥工程および冷却工程の代わりに、フリーズドライ工程を行ってもよい。 Next, by drying the gel layer G 1 of the obtained electrophoretic test device GP 1 , the electrophoretic test device GPD 1 of the present invention as a finished product shown in FIG. 1B is obtained. In this drying step, the method of drying the gel layer G 1 is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating the gel layer G 1 with a heater or blowing hot air to the gel layer G 1 for drying. Further, after the drying step, the dry film D 1 may be carried out cooling step of cooling the -20 ° C. or less. Or you may perform a freeze-dry process instead of a drying process and a cooling process.

(実施形態2)
実施形態1では、重合開始剤として過硫酸アンモニウム(APS)、過酸化ベンゾイル等の熱重合開始剤を用いて、モノマーを熱重合させてゲル化する場合を例示した。一方、実施形態2では重合開始剤としてリボフラビン類、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アゾイソブチロニトリル類等の光重合開始剤を用いて、モノマーを光重合させてゲル化する。
(Embodiment 2)
In Embodiment 1, the case where a monomer is thermally polymerized and gelled by using a thermal polymerization initiator such as ammonium persulfate (APS) or benzoyl peroxide as a polymerization initiator is illustrated. On the other hand, in Embodiment 2, photopolymerization initiators such as riboflavins, acetophenones such as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, benzophenones, and azoisobutyronitrile are used as polymerization initiators. Polymerize to gel.

実施形態2の場合、例えば、図4で説明した電気泳動用試験具の製造装置において、吐出ヘッドユニットUの基材搬送方向(矢印M1方向)の下流側に図示しない光照射器を設け、基材S上の塗布膜に光を照射することによりゲル化させる。この光照射器は、所定波長の光(例えば、200〜600nm程度)を所定光量で照射することができ、その照射光波長は使用する光重合開始剤の種類に応じて適切に設定される。また、光照射器は、基板上の塗布膜の一部または全体を照射できるものであればよい。   In the case of the second embodiment, for example, in the apparatus for manufacturing an electrophoretic test device described with reference to FIG. 4, a light irradiator (not shown) is provided on the downstream side in the substrate transport direction (arrow M1 direction) of the ejection head unit U. The coating film on the material S is gelled by irradiating light. This light irradiator can irradiate light of a predetermined wavelength (for example, about 200 to 600 nm) with a predetermined light amount, and the irradiation light wavelength is appropriately set according to the type of the photopolymerization initiator to be used. Further, the light irradiator only needs to irradiate a part or the whole of the coating film on the substrate.

実施形態2の電気泳動用試験具の製造方法は、実施形態1(図7(A)〜図8(B)での説明)と同様にして基板上に塗布膜を形成した後、基板を光照射器側へ移動させて塗布膜上に光を照射してゲル化させる。このとき、光照射器が塗布膜の一部に光を照射するタイプのものである場合は、基板を一端側から他端側へ移動させながら塗布膜上に光を照射する。光照射器が塗布膜全体に光を照射するタイプのものである場合は、基板を光照射器の真下に移動させた後、基板を静止させた状態で塗布膜上に光を照射する。   In the manufacturing method of the electrophoresis test device of the second embodiment, a coating film is formed on a substrate in the same manner as in the first embodiment (explained in FIGS. 7A to 8B), and then the substrate is optically irradiated. Move to the irradiator side and irradiate the coating film with light to gel. At this time, when the light irradiator is of a type that irradiates a part of the coating film, the coating film is irradiated with light while moving the substrate from one end side to the other end side. When the light irradiator is of a type that irradiates light to the entire coating film, the substrate is moved directly below the light irradiator, and then the light is irradiated onto the coating film while the substrate is stationary.

(他の実施形態)
1.実施形態1では、第1〜第3主要領域を有するゲルを製造する場合を例示したが、主要領域の数は2つでもよく、あるいは4つ以上でもよい。
(Other embodiments)
1. In Embodiment 1, although the case where the gel which has the 1st-3rd main region was manufactured was illustrated, the number of main regions may be two, or four or more.

2.実施形態1では、塗布工程において、基材上に常温状態の塗布膜を形成する場合を例示したが、ペルチェ素子やタンク冷却部を備えた装置を用い、基材上に冷却下で塗布膜を形成してもよい。また、実施形態1では、塗布工程において大気下で塗布膜を形成する場合を例示したが、窒素雰囲気下で塗布膜を形成してもよい。 2. In the first embodiment, the case where a coating film in a room temperature state is formed on the base material in the coating step is exemplified. However, the coating film is formed on the base material under cooling using an apparatus including a Peltier element and a tank cooling unit. It may be formed. In the first embodiment, the case where the coating film is formed in the air in the coating process is illustrated, but the coating film may be formed in a nitrogen atmosphere.

3.実施形態1では、モノマー溶液と重合開始剤を個別に基材上へ塗布する場合を例示したが、重合開始剤入りゲル材料液を基材上へ塗布して液たまりL0を形成してもよい。この場合、塗布工程中に重合開始剤入りゲル材料液のゲル化が進行しないよう、冷却状態の重合開始剤入りゲル材料液が用いられる。それに加え、基材を冷却してもよい。 3. In the first embodiment, the case where the monomer solution and the polymerization initiator are individually applied onto the substrate is exemplified, but the gel material solution containing the polymerization initiator may be applied onto the substrate to form the liquid pool L0. . In this case, a gel material solution containing a polymerization initiator in a cooled state is used so that gelation of the gel material solution containing a polymerization initiator does not proceed during the coating process. In addition, the substrate may be cooled.

4.実施形態1では、吐出ヘッドユニットUの下を基材Sが1度通過することにより塗布膜L3が形成される場合を例示したが、基材Sを1往復以上移動させて塗布膜L3を形成してもよい。この場合、重合開始剤の塗布時期を、例えば、毎回の移動時、所定回の移動時、あるいは最後の移動時に設定することができる。 4). In the first embodiment, the case where the coating film L3 is formed by passing the substrate S once under the discharge head unit U is illustrated. However, the coating film L3 is formed by moving the substrate S one or more times. May be. In this case, the application timing of the polymerization initiator can be set, for example, at every movement, at a predetermined movement, or at the last movement.

1 乾燥膜
GP1 使用可能な状態となった等電点電気泳動用試験具(ゲルプレート)
GPD1 保存可能な状態となった等電点電気泳動用試験具
1 ゲル層
S 基材
A〜K 領域
D 1 dry film GP 1 isoelectric focusing test device (gel plate) ready for use
Test device for isoelectric focusing which can be stored in GPD 1 G 1 gel layer S base material A to K region

Claims (6)

pH勾配を有するゲルを備え、
前記ゲルは、複数の主要領域と、隣接する2つの前記主要領域の間に配置された接続領域と、隣接する前記主要領域と前記接続領域との間に配置された緩衝領域とを備え、
前記主要領域のpH勾配は前記接続領域のpH勾配よりも緩やかであり、前記緩衝領域のpH勾配は前記主要領域のpH勾配よりも緩やかであることを特徴とする電気泳動用試験具。
comprising a gel having a pH gradient;
The gel includes a plurality of main regions, a connection region disposed between two adjacent main regions, and a buffer region disposed between the adjacent main regions and the connection region,
The electrophoresis test device according to claim 1, wherein the pH gradient of the main region is gentler than the pH gradient of the connection region, and the pH gradient of the buffer region is gentler than the pH gradient of the main region.
前記緩衝領域におけるpH勾配は、前記主要領域のpH勾配の2分の1以下の勾配である請求項1記載の電気泳動用試験具。   The electrophoresis test device according to claim 1, wherein the pH gradient in the buffer region is a half or less of the pH gradient in the main region. 前記ゲルの電気泳動方向における前記緩衝領域の長さは、隣接する前記主要領域および前記接続領域の長さよりも短い請求項1または2に記載の電気泳動用試験具。   The test device for electrophoresis according to claim 1 or 2, wherein a length of the buffer region in the electrophoresis direction of the gel is shorter than a length of the adjacent main region and the connection region. 前記主要領域のpH勾配が線形な勾配である請求項1〜3のいずれか1つに記載の電気泳動用試験具。   The electrophoresis test device according to claim 1, wherein the pH gradient of the main region is a linear gradient. 前記接続領域のpH勾配が非線形な勾配である請求項1〜4のいずれか1つに記載の電気泳動用試験具。   The electrophoresis test device according to claim 1, wherein the pH gradient of the connection region is a non-linear gradient. 基材上にゲル材料を塗布し液たまりを形成するゲル材料塗布工程と、該ゲル材料塗布工程後の前記液たまり上にpH緩衝溶液を塗布するpH緩衝溶液塗布工程と、該pH緩衝溶液塗布工程後の塗布膜をゲル化するゲル化工程とを含み、
前記pH緩衝溶液塗布工程において、基材上の塗布領域は、複数の主要領域と、隣接する2つの前記主要領域の間に位置する接続領域と、隣接する前記主要領域と前記接続領域との間に位置する緩衝領域とを形成すべき領域に区分されており、
前記主要領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量を連続的に緩やかに変化させながらpH緩衝溶液を塗布し、
前記接続領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも高くなるようにpH緩衝溶液を塗布し、
前記緩衝領域を形成すべき領域においては、pH緩衝溶液の単位面積あたりの塗布量の変化率が前記主要領域における変化率よりも低くなるようにpH緩衝溶液を塗布することを特徴とする電気泳動用試験具の製造方法。
A gel material application step of applying a gel material on a substrate to form a liquid pool, a pH buffer solution application step of applying a pH buffer solution onto the liquid pool after the gel material application step, and the pH buffer solution application Including a gelling step of gelling the coating film after the step,
In the pH buffer solution application step, the application region on the substrate includes a plurality of main regions, a connection region located between two adjacent main regions, and between the adjacent main region and the connection region. Is divided into areas to be formed with a buffer area located at
In the region where the main region is to be formed, the pH buffer solution is applied while continuously and gently changing the coating amount per unit area of the pH buffer solution,
In the region where the connection region is to be formed, the pH buffer solution is applied so that the rate of change of the coating amount per unit area of the pH buffer solution is higher than the rate of change in the main region,
In the region where the buffer region is to be formed, electrophoresis is characterized in that the pH buffer solution is applied so that the rate of change of the coating amount per unit area of the pH buffer solution is lower than the rate of change in the main region. Of manufacturing test equipment.
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