JP2014057964A - 紫外線照射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理液の流入口15及び流出口16が設けられた容器14と、この容器14内に配置され,紫外線透過性を有する保護管17と、この保護管17内の挿入された紫外線ランプ20と、前記保護管17の内面,外面の少なくともいずれか一方に被覆されたFEP膜19とを具備し、前記FEP膜19と接する前記保護管17の面が、サンドブラスト処理,ケミカルエッチング処理,プラズマ処理,旋盤による切削加工のいずれかにより形成された凹凸面であることを特徴とする紫外線照射装置。
【選択図】図1
Description
(1) 本発明に係る紫外線照射装置は、上述したように、容器と、紫外線透過性を有する保護管と、この保護管内の紫外線ランプと、保護管の内面,外面の少なくともいずれか一方に被覆されたふっ素樹脂膜とを具備し、ふっ素樹脂膜と接する前記保護管の面が凹凸面であることを特徴とする。
図5〜図8より石英ガラス層に形成される凹凸面は、凹凸面の凸部の角度が鋭角でかつ高さが低い方が好ましい。具体的には、上記(2)のように、凹凸面が十点平均粗さ23.2μm以下に粗面化処理されていることが好ましい。
(5) 上記(1)において、ふっ素樹脂膜の結晶化度は40〜50%であることが好ましい。ここで、結晶化度がこれ以上大きいと、成膜性が悪くなる。
(実施形態)
本発明に係る紫外線照射装置について図1及び図2(A),(B)を参照して説明する。ここで、図1は本発明の実施形態に係る紫外線照射装置の全体を示す概略図である。図2は図1の要部を部分的に拡大して示す断面図であり、図2(A)は図1の横断面図、図2(B)は図2(A)の保護管及びふっ素樹脂膜の境界部を拡大して示す断面図である。
−(dC/dt)=φ×ε×C×反応槽内平均紫外線照度 …(1)
但し、φは残留塩素の量子収率、εは残留塩素のモル吸光係数、Cは処理水の残留塩素濃度である。
−log(C/C0)=φ×ε×反応槽内平均紫外線照度×平均滞留時間 …(2)
但し、C0は原水の残留塩素濃度を示す。
反応速度定数k[sec−1]=φ×ε×反応槽内平均紫外線照度 …(3)
なお、φ及びεは水質によって一定であり、ブラストスリーブの拡散光を含めた透過率が大きいほど反応槽内平均紫外線照度も大きくなるため、反応速度定数の比は各ブラストスリーブの紫外線透過率の比と一致する。分解試験は、図3の概略的なフロー図に沿って行う。また、上記残留塩素分解率は、FEPをコーティングしたランプスリーブ(φ30mm×長さ1050mm,両切)を用いて、紫外線透過性を塩素分解試験により確認した。
Claims (3)
- 被処理液の流入口及び流出口が設けられた容器と、この容器内に配置され,紫外線透過性を有する保護管と、この保護管内の挿入された紫外線ランプと、前記保護管の内面,外面の少なくともいずれか一方に被覆されたふっ素樹脂膜とを具備し、
前記ふっ素樹脂膜と接する前記保護管の面が、サンドブラスト処理,ケミカルエッチング処理,プラズマ処理,旋盤による切削加工のいずれかにより形成された凹凸面であることを特徴とする紫外線照射装置。 - 前記保護管の凹凸面は、十点平均粗さが23.2μm以下に粗面化処理されていることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置。
- 前記保護管は石英ガラス製であり、前記ふっ素樹脂膜は四ふっ化エチレン−六ふっ化プロピレン共重合樹脂製であることを特徴とする請求項1乃至2いずれか一記載の紫外線照射装置。
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