JP2014057935A - Exhaust purification method - Google Patents

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Koichi Nagai
耕一 永井
Tomoyasu Murakami
友康 村上
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exhaust purification method which removes a solvent contained in an exhaust atmosphere gas and purifies the exhaust atmosphere gas without cooling the exhaust atmosphere gas, which is exhausted from a heat treatment device and contains the solvent evaporated by heating, in an exhaust process.SOLUTION: In an exhaust purification method, liquid particles 11 generated by a liquid particle supply device 3 are supplied to an exhaust atmosphere gas exhausted by an exhaust duct 2. The liquid particles approach, contact, and cohere with a solvent 10 evaporated in the exhaust atmosphere gas in a mixing part 4. The liquid particles capture the solvent thereinto by repeating the above-mentioned process and the particles and the solvent are removed by a centrifugal separator 5 to purify the exhaust atmosphere gas.

Description

本発明は、加熱によって気化する溶媒を含んだ材料を加熱処理する際に、熱処理装置内で気化した溶媒を含んだ雰囲気ガスを装置外に排出する経路上で、排気雰囲気ガス中から溶媒を除去し排気雰囲気ガスを浄化する排気浄化方法に関するものである。   The present invention removes the solvent from the exhaust atmosphere gas on the path for discharging the atmosphere gas containing the solvent vaporized in the heat treatment apparatus when the material containing the solvent vaporized by heating is heat-treated. The present invention relates to an exhaust purification method for purifying exhaust atmosphere gas.

近年、さまざまな工業製品若しくは家電の組み立て製造工程、又は、それらの製品の構成部品となる各種電子部品、各種の電池、若しくは、基板などのデバイス製造工程においても、各種の機能を持ったペースト状の材料を塗布し、各種熱処理装置によって、加熱処理が行われている。各種熱処理装置の例としては、乾燥炉、焼成炉、キュア炉、又は、電子部品の実装工程などではんだ付けに使用されるリフロー炉などが挙げられる。それぞれのペースト状の材料には、最終的に製品に必要とされる固形分などに加え、それらを各種の基板又は基材などに塗工するために、水又は有機溶剤など、それぞれの目的又は必要に応じて各種の溶剤が混入され、粘度調整又は性能調整が施されている。   In recent years, in the manufacturing process of various industrial products or home appliances, or in the manufacturing process of various electronic components, various batteries, or substrates that are components of those products, pastes having various functions The material is applied, and heat treatment is performed by various heat treatment apparatuses. Examples of various heat treatment apparatuses include a drying furnace, a firing furnace, a curing furnace, a reflow furnace used for soldering in an electronic component mounting process, and the like. In addition to the solids and the like that are ultimately required for the product, each paste-like material has its respective purpose, such as water or an organic solvent, in order to apply them to various substrates or substrates. Various solvents are mixed as necessary, and viscosity adjustment or performance adjustment is performed.

それらの溶媒は、熱処理装置における加熱工程で気化、及び、脱媒の工程を経て、ペースト上の材料から装置内に放出される。これにより、連続的に加熱処理がなされる場合には、連続的に装置内に溶媒が気化して放出され、その結果、装置内雰囲気ガスにおける溶媒濃度が上がり、様々な不具合につながる可能性がある。例えば、装置内雰囲気ガス中の溶媒濃度が高くなるにつれて、装置内温度での雰囲気ガス中に存在可能な溶媒の量が飽和状態に近づくことで乾燥が困難になり、又は、爆発性を有する溶媒の場合は、飽和蒸気圧まで達していなくても、気化溶媒濃度の爆発限界を超えてしまう可能性もある。そのために、装置外から外気を定期的又は連続的に装置内に供給したり、窒素ガス又はその他の雰囲気ガスが必要な場合には、それらの雰囲気ガスを装置外から供給し、さらに、同時に溶媒濃度が上昇した装置内の雰囲気ガスを装置外に放出する手段が採られる。   These solvents are released from the material on the paste into the apparatus through vaporization and removal processes in the heating process in the heat treatment apparatus. As a result, when the heat treatment is continuously performed, the solvent is continuously vaporized and released in the apparatus, and as a result, the solvent concentration in the atmospheric gas in the apparatus may increase, leading to various problems. is there. For example, as the solvent concentration in the atmospheric gas in the apparatus increases, drying becomes difficult because the amount of solvent that can exist in the atmospheric gas at the apparatus temperature approaches a saturated state, or the solvent has explosive properties. In this case, even if the saturated vapor pressure is not reached, the explosion limit of the vaporized solvent concentration may be exceeded. Therefore, when external air is supplied from the outside of the apparatus regularly or continuously, or when nitrogen gas or other atmospheric gases are required, these atmospheric gases are supplied from outside the apparatus, and at the same time, the solvent A means for releasing the atmospheric gas in the apparatus whose concentration has increased to the outside of the apparatus is adopted.

図7は雰囲気ガスの供給と排気とを説明する図である。送風ブロア119で外気を熱処理装置101の内部に供給する。熱処理装置101内で気化する溶媒を含んだ装置内の雰囲気ガスの一部を排気ブロア107で装置外に排出する。ただし、装置外に排気する雰囲気ガスに含有されている溶媒は、有害なものもあり、環境に与える影響が懸念されるものもある。そこで、装置外に排出される排気雰囲気ガスに含まれる溶媒による大気汚染などの環境への影響、又は、作業者に対する健康影響を除外するために、排気雰囲気ガスから必要に応じて溶媒を除去する方法として、例えば特許文献1の方式が知られている。   FIG. 7 is a diagram for explaining the supply and exhaust of the atmospheric gas. Outside air is supplied into the heat treatment apparatus 101 by the blower 119. A part of the atmospheric gas in the apparatus containing the solvent vaporized in the heat treatment apparatus 101 is discharged out of the apparatus by the exhaust blower 107. However, some of the solvents contained in the atmospheric gas exhausted outside the apparatus are harmful, and there are also concerns about the impact on the environment. Therefore, the solvent is removed from the exhaust atmosphere gas as necessary in order to exclude environmental influences such as air pollution caused by the solvent contained in the exhaust atmosphere gas discharged outside the apparatus or health effects on workers. As a method, for example, the method of Patent Document 1 is known.

図8は特許文献1の説明図である。この特許文献1においては、熱処理装置101内から排出される溶媒を含んだ排気雰囲気ガスを装置内排気ダクト20に連通して配置されている冷却器21によって冷却する。このように構成することで、装置内雰囲気ガス中の溶媒を液化凝集させて、装置外排気ダクト22によって、さらに下流側に連通して配置されているミストコレクタ23で捕捉する。このようにすることで、排気雰囲気ガスを浄化し、浄化された雰囲気ガスを装置外に排出することが出来る。   FIG. 8 is an explanatory diagram of Patent Document 1. In FIG. In Patent Document 1, an exhaust atmosphere gas containing a solvent exhausted from the inside of the heat treatment apparatus 101 is cooled by a cooler 21 arranged in communication with the in-apparatus exhaust duct 20. With this configuration, the solvent in the atmospheric gas inside the apparatus is liquefied and aggregated, and is captured by the mist collector 23 arranged to communicate further downstream with the exhaust duct 22 outside the apparatus. By doing in this way, exhaust atmosphere gas can be purified and the purified atmosphere gas can be discharged out of the apparatus.

特開2004−301373号公報JP 2004-301373 A

しかしながら、前記特許文献1の構成では、排気中の溶媒を冷却器によって冷却して溶媒を液化、及び、凝集することから、熱処理装置内雰囲気ガスを高温に加熱するために用いられた膨大なエネルギーを、冷却器での冷却工程で奪い、また、冷却器そのものでも冷却するためのエネルギーを消費するといった問題がある。   However, in the configuration of Patent Document 1, the solvent in the exhaust gas is cooled by a cooler to liquefy and agglomerate the solvent. Therefore, enormous energy used to heat the atmosphere gas in the heat treatment apparatus to a high temperature. In the cooling process in the cooler, there is a problem that energy for cooling the cooler itself is consumed.

本発明は、このような点に鑑み、熱処理装置から排出される加熱によって気化した溶媒を含む排気雰囲気ガスを排気の過程で冷却することなく、排気雰囲気ガス中に含まれる溶媒を除去し、排気雰囲気ガスを浄化する排気浄化方法を提供することを目的とする。   In view of such a point, the present invention removes the solvent contained in the exhaust atmosphere gas without cooling the exhaust atmosphere gas containing the solvent vaporized by heating discharged from the heat treatment apparatus in the course of exhaust, and exhausts the exhaust gas. An object of the present invention is to provide an exhaust purification method for purifying atmospheric gas.

上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。   In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.

本発明の1つの態様にかかる排気浄化方法は、熱処理装置において、溶媒を含んだ材料の加熱によって溶媒を気化し、前記気化した溶媒を含みかつ前記熱処理装置内から排出される排気雰囲気ガスを浄化する方法であって、
前記熱処理装置に連通する排気ダクトにより、前記気化した溶媒を含んだ雰囲気ガスを熱処理装置外に排気し、
前記排気ダクトに連結された混合部で、前記熱処理装置から前記排気ダクトを介して排出された前記排気雰囲気ガスと、液体粒子供給装置から供給されかつ排気雰囲気ガス温度以上に加熱された液体粒子とを混合して混合雰囲気ガスを形成し、
前記排気雰囲気ガスと前記液体粒子とが混合された前記混合雰囲気ガスを遠心分離装置で遠心分離にかけて、前記排気雰囲気ガス中から前記溶媒を吸着した液体粒子を遠心分離して、前記遠心分離装置から排出される排気雰囲気ガスから、前記溶媒及び前記液体粒子を除去し、浄化する。
An exhaust purification method according to one aspect of the present invention includes a heat treatment apparatus, wherein a solvent is vaporized by heating a material containing a solvent, and the exhaust atmosphere gas containing the vaporized solvent and exhausted from the heat treatment apparatus is purified. A way to
Exhaust gas containing the vaporized solvent is exhausted out of the heat treatment apparatus by an exhaust duct communicating with the heat treatment apparatus,
In the mixing section connected to the exhaust duct, the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment device through the exhaust duct, and the liquid particles supplied from the liquid particle supply device and heated to the exhaust atmosphere gas temperature or higher To form a mixed atmosphere gas,
From the centrifugal separator, the mixed atmospheric gas in which the exhaust atmospheric gas and the liquid particles are mixed is centrifuged by a centrifugal separator, and the liquid particles adsorbing the solvent from the exhaust atmospheric gas are centrifuged. The solvent and the liquid particles are removed from the exhaust gas exhausted and purified.

以上のように、本発明の排気浄化方法によれば、加熱を行う熱処理装置から排出される排気雰囲気ガスに含まれる気化した溶媒を除去する場合においても、排気雰囲気ガスを冷却することなく、浄化した雰囲気ガスを熱処理装置外に排気、又は、熱処理装置内に循環することが可能となる。   As described above, according to the exhaust purification method of the present invention, even when removing the vaporized solvent contained in the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment apparatus that performs heating, the exhaust atmosphere gas is purified without cooling. It is possible to exhaust the atmospheric gas out of the heat treatment apparatus or to circulate it in the heat treatment apparatus.

本発明の第1実施形態における排気浄化方法の説明図Explanatory drawing of the exhaust gas purification method in 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態における排気浄化方法の凝集の過程の説明図Explanatory drawing of the process of aggregation of the exhaust gas purification method in 1st Embodiment of this invention 本発明の第1実施形態における排気浄化方法の帯電による凝集の過程の説明図Explanatory drawing of the process of aggregation by the charge of the exhaust gas purification method in 1st Embodiment of this invention 第1実施形態における排気浄化方法の混合部の状態説明図State explanatory drawing of the mixing part of the exhaust gas purification method in the first embodiment 第1実施形態における排気浄化方法の混合部の状態説明図State explanatory drawing of the mixing part of the exhaust gas purification method in the first embodiment 本発明の第2実施形態における排気浄化方法の説明図Explanatory drawing of the exhaust gas purification method in 2nd Embodiment of this invention. 従来の供給、排気を示す説明図Explanatory drawing showing conventional supply and exhaust 従来の排気浄化装置の説明図Explanatory drawing of a conventional exhaust purification device

以下本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態における排気浄化方法を実施する排気浄化装置の説明図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is an explanatory diagram of an exhaust gas purification apparatus that performs an exhaust gas purification method according to a first embodiment of the present invention.

排気浄化装置40は、排気ダクト2と、液体粒子供給装置3と、混合部4と、遠心分離装置5とを備えて構成されている。排気ダクト2は、一端が熱処理装置1に連通しかつ他端が混合部4に連通して配置されている。液体粒子供給装置3は、混合部4の一端に連通して配置されている。遠心分離装置5は混合部4の他端に連通して配置されている。遠心分離装置5の下流側には排気ブロア7が配置されていてもよい。   The exhaust purification device 40 includes an exhaust duct 2, a liquid particle supply device 3, a mixing unit 4, and a centrifugal separator 5. One end of the exhaust duct 2 communicates with the heat treatment apparatus 1 and the other end communicates with the mixing unit 4. The liquid particle supply device 3 is disposed in communication with one end of the mixing unit 4. The centrifugal separator 5 is disposed in communication with the other end of the mixing unit 4. An exhaust blower 7 may be disposed on the downstream side of the centrifugal separator 5.

熱処理装置1は、焼成炉、乾燥炉、キュア炉、又は、リフロー炉など、加熱処理を行う炉である。熱処理装置1では、加熱対象の各種材料又は部材に応じた加熱を実施し、加熱により、熱処理装置内の雰囲気ガス(雰囲気ガス)中に溶媒が気化する。気化した溶媒を含む装置内雰囲気ガスの一部は、排気ダクト2を介して混合部4に導かれる。   The heat treatment apparatus 1 is a furnace that performs heat treatment, such as a firing furnace, a drying furnace, a curing furnace, or a reflow furnace. The heat treatment apparatus 1 performs heating according to various materials or members to be heated, and the solvent evaporates in the atmosphere gas (atmosphere gas) in the heat treatment apparatus by the heating. A part of the atmospheric gas in the apparatus including the evaporated solvent is guided to the mixing unit 4 through the exhaust duct 2.

ここで、この排気ダクト2の経路とは別の経路上には、液体粒子供給装置3が配置されている。この液体粒子供給装置3で、少なくとも排気された雰囲気ガス(排気雰囲気ガス)の温度以上の温度に加熱された液体粒子を含む高温の雰囲気ガスを、混合部4内に供給する。液体粒子供給装置3から液体粒子を含む高温の雰囲気ガスを供給するとき、混合部4に限らず、混合部4に近い排気ダクト2内に供給してもよい。液体粒子供給装置3では、排気雰囲気ガス温度以上に液体粒子を加熱することにより、排気雰囲気ガスに液体粒子が供給されて混合された際に、雰囲気ガスの温度により液体粒子が蒸発又は気化することを極力防ぐことができる。   Here, the liquid particle supply device 3 is disposed on a route different from the route of the exhaust duct 2. With this liquid particle supply device 3, a high-temperature atmospheric gas containing liquid particles heated to a temperature equal to or higher than the temperature of the exhausted atmospheric gas (exhaust atmospheric gas) is supplied into the mixing unit 4. When supplying high-temperature atmospheric gas containing liquid particles from the liquid particle supply device 3, the gas may be supplied not only to the mixing unit 4 but also into the exhaust duct 2 close to the mixing unit 4. In the liquid particle supply device 3, by heating the liquid particles to the exhaust gas temperature or higher, when the liquid particles are supplied to the exhaust gas and mixed, the liquid particles are evaporated or vaporized depending on the temperature of the gas. Can be prevented as much as possible.

なお、このとき、熱処理装置1から排出された排気雰囲気ガスの水の分圧が、飽和蒸気圧に達していない場合は、供給した高温の液体粒子の一部が蒸発、又は、気化する。その結果、排気雰囲気ガスと液体粒子の混合雰囲気ガスとが水の飽和蒸気圧に達した後は、混合気体中の液体粒子は液体のままの状態で雰囲気ガス中に存在する。混合部4では、排気雰囲気ガスの流線に対して略垂直の流線で液体粒子を含んだ高温雰囲気ガスを供給するために乱流となり、排気雰囲気ガスと液体粒子を含んだ高温雰囲気ガスとが攪拌される。混合部4で攪拌されることによって、排気雰囲気ガスに含まれる溶媒と液体粒子とは互いに接近、接触、及び、凝集を繰り返す。   At this time, when the partial pressure of the water of the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment apparatus 1 does not reach the saturated vapor pressure, some of the supplied high-temperature liquid particles are evaporated or vaporized. As a result, after the exhaust atmosphere gas and the mixed atmosphere gas of liquid particles reach the saturated vapor pressure of water, the liquid particles in the mixed gas exist in the atmosphere gas in a liquid state. In the mixing unit 4, a turbulent flow is provided to supply the high-temperature atmospheric gas containing liquid particles in a stream line substantially perpendicular to the flow line of the exhaust atmospheric gas. Is stirred. By stirring in the mixing unit 4, the solvent and the liquid particles contained in the exhaust atmosphere gas repeat approach, contact, and aggregation with each other.

混合部4の下流側には、例えばサイクロン方式に代表される遠心分離装置5が連通している。この遠心分離装置5に排気雰囲気ガスを送り込むことにより、排気雰囲気ガス中の溶媒を吸着及び凝集した液体粒子が、排気雰囲気ガス中から遠心分離されて、除去、回収されてドレン6から排出される。溶媒が除去されて浄化された排気雰囲気ガスは、下流に連通している排気ブロア7側に排出され、排気ブロア7によって装置外に排出される。   A centrifugal separator 5 typified by a cyclone system, for example, communicates with the downstream side of the mixing unit 4. By sending the exhaust atmosphere gas into the centrifugal separator 5, the liquid particles that have adsorbed and aggregated the solvent in the exhaust atmosphere gas are centrifuged from the exhaust atmosphere gas, removed, recovered, and discharged from the drain 6. . The exhaust atmosphere gas purified by removing the solvent is discharged to the exhaust blower 7 communicating with the downstream, and is discharged outside the apparatus by the exhaust blower 7.

図2は、排気雰囲気ガス中の溶媒10と液体粒子11、もしくは液体粒子11同士の凝集の過程を説明する図である。図2の(a)は、排気ダクト3内の排気雰囲気ガス中で蒸発、又は、気化している溶媒10の状態を示している。また、図2の(b)は、液体粒子供給装置2から排気雰囲気ガスに供給されかつ排気雰囲気ガス温度以上の温度に加熱された液体粒子11の状態を示している。図2の(c)は、(a)の排気雰囲気ガス中に(b)の液体粒子11を供給した後の混合部4で、又は、(a)の排気雰囲気ガス中に(b)の液体粒子11を供給する混合部4で、溶媒10と液体粒子11とがファンデルワールス力12によって接近、接触、及び、凝集する過程を示している。図2の(d)は、混合部4で、この凝集を繰り返すことにより徐々に質量が増して、液体粒子11の粒径が凝集前よりも大きくなった液体粒子11Aの状態を示している。   FIG. 2 is a diagram illustrating a process of aggregation of the solvent 10 and the liquid particles 11 or the liquid particles 11 in the exhaust atmosphere gas. FIG. 2A shows the state of the solvent 10 that is evaporated or vaporized in the exhaust atmosphere gas in the exhaust duct 3. FIG. 2B shows the state of the liquid particles 11 supplied from the liquid particle supply device 2 to the exhaust atmosphere gas and heated to a temperature equal to or higher than the exhaust atmosphere gas temperature. (C) of FIG. 2 is the liquid of (b) in the mixing part 4 after supplying the liquid particle 11 of (b) in the exhaust atmosphere gas of (a), or in the exhaust atmosphere gas of (a). A process in which the solvent 10 and the liquid particles 11 approach, contact, and agglomerate by the van der Waals force 12 in the mixing unit 4 that supplies the particles 11 is shown. FIG. 2D shows a state of the liquid particle 11A in which the mass is gradually increased by repeating this aggregation in the mixing unit 4 and the particle size of the liquid particle 11 is larger than that before the aggregation.

図3に、図2の第1実施形態の変形例として、排気雰囲気ガスに液体粒子11を供給する以前の段階で、液体粒子11を帯電させる場合について説明する。   FIG. 3 illustrates a case where the liquid particles 11 are charged at a stage before the liquid particles 11 are supplied to the exhaust atmosphere gas, as a modification of the first embodiment of FIG.

図3では、図3の(c)で、図3の(b)の液体粒子11を図3の(a)の溶媒10を含む雰囲気ガスと混合する前に、液体粒子11に対して、例えばコロナ放電電極13と高圧電源14とによって電荷15を与えている。そして、液体粒子11を帯電した状態にしてから、帯電した液体粒子11を混合部4に供給する(図3の(c)参照)。これにより、図3の(c)及び図3の(d)では、ファンデルワールス力12に加えて、帯電した電荷15によるクーロン力も加わることで、ファンデルワールス力12+クーロン力16の両方が働き、ファンデルワールス力12のみの場合に比較して、凝集を促進することが出来る。   In FIG. 3, before mixing the liquid particles 11 of FIG. 3 (b) with the atmospheric gas containing the solvent 10 of FIG. 3 (a) in FIG. A charge 15 is given by the corona discharge electrode 13 and the high voltage power source 14. And after making the liquid particle 11 into the charged state, the charged liquid particle 11 is supplied to the mixing part 4 (refer FIG.3 (c)). Accordingly, in FIG. 3C and FIG. 3D, in addition to the van der Waals force 12, the Coulomb force due to the charged electric charge 15 is also applied, so that both the van der Waals force 12 and the coulomb force 16 work. Compared with the case of van der Waals force 12 alone, aggregation can be promoted.

なお、ダストの回収などの分野で、除去したい粉体にコロナ放電で電荷を直接与えて帯電させ、逆電荷の電極で帯電したダストを回収する方式も知られている。しかし、気化した溶剤を含む排気雰囲気ガス中に、コロナ放電などの手段によって帯電をさせる場合、例えば溶剤が有機溶剤などの場合は、引火、又は、爆発の危険性を有する溶剤については、気化した状態に対して放電することによる引火、又は、爆発事故の可能性がある。そのため、第1実施形態では、気化した溶剤に電荷を与えて帯電させるのではなく、爆発の危険性の無い液体粒子、例えば、水の液体粒子11に対して電荷10を与えて帯電させる方式を採る。   In the field of dust recovery and the like, there is also known a method in which dust to be removed is charged by directly applying a charge to the powder to be removed by corona discharge and charged with a reverse-charged electrode. However, when the exhaust gas containing the vaporized solvent is charged by means such as corona discharge, for example, when the solvent is an organic solvent, the solvent having the risk of ignition or explosion has been vaporized. There is a possibility of ignition or explosion by discharging to the state. Therefore, in the first embodiment, instead of charging the vaporized solvent and charging it, a method of charging the liquid particles having no danger of explosion, for example, the liquid particles 11 of water by charging 10 is used. take.

なお、供給する液体粒子11の状態については、各設定温度において液体粒子11が存在する状態、つまり、雰囲気ガス中に含まれる水蒸気の量は飽和蒸気圧まで到達している状態である。そのため、混合部4で混合された混合雰囲気ガスの水蒸気圧が、その温度での飽和水蒸気圧に達していない場合は、混合雰囲気ガスの温度での飽和水蒸気圧に達するまで混合した液体粒子11の一部が蒸発し、飽和水蒸気圧に達した時点で残留している液体粒子11を浄化に用いることになる。一方で、排気雰囲気ガス温度より液体粒子11の温度が高い設定で、しかも、排気雰囲気ガスの水蒸気の分圧が飽和水蒸気に達している場合は、混合雰囲気ガスの温度は液体粒子11の温度よりも低下するために飽和蒸気圧も低下し、混合雰囲気ガスに含まれる水蒸気は水蒸気として存在できずに液化、つまり液体粒子化する。このため、供給した液体粒子11の量が減ることはない。どちらの場合も、混合後に液体として存在している液体粒子11によって、排気の浄化が行われることになる。なお、排気ダクト2及び混合部4については、それぞれの中を通過する排気雰囲気ガスが外気温度の熱伝達によって冷却されると液化が進むために、液体粒子11を用いた浄化の機能として不都合はない。しかしながら、過度の冷却による過剰の液化によって排気ダクト2内及び混合部4内の腐食などの影響が出る可能性がある。そのため、第1実施形態においては、炉内雰囲気ガスの排気及び循環の工程全体にわたって、排気雰囲気ガスの温度を高温に維持するため、断熱材でそれぞれの装置又は部材を覆って外気と熱遮断するなど、断熱処理が施されていることが望ましい。   The state of the supplied liquid particles 11 is a state where the liquid particles 11 are present at each set temperature, that is, a state where the amount of water vapor contained in the atmospheric gas has reached the saturated vapor pressure. Therefore, when the water vapor pressure of the mixed atmosphere gas mixed in the mixing unit 4 does not reach the saturated water vapor pressure at that temperature, the liquid particles 11 mixed until the saturated water vapor pressure at the temperature of the mixed atmospheric gas is reached. The liquid particles 11 remaining when a part of the water vapor evaporates and reaches the saturated water vapor pressure are used for purification. On the other hand, when the temperature of the liquid particles 11 is higher than the temperature of the exhaust gas and the partial pressure of the water vapor of the exhaust gas reaches the saturated water vapor, the temperature of the mixed gas is higher than the temperature of the liquid particles 11. Accordingly, the saturated vapor pressure also decreases, and the water vapor contained in the mixed atmosphere gas cannot be present as water vapor, but is liquefied, that is, liquid particles. For this reason, the amount of the supplied liquid particles 11 does not decrease. In either case, the exhaust gas is purified by the liquid particles 11 existing as a liquid after mixing. Note that the exhaust duct 2 and the mixing unit 4 are inconvenient as a purification function using the liquid particles 11 because the liquefaction proceeds when the exhaust atmosphere gas passing through each of them is cooled by heat transfer at the outside air temperature. Absent. However, excessive liquefaction due to excessive cooling may affect corrosion in the exhaust duct 2 and the mixing unit 4. Therefore, in the first embodiment, in order to maintain the temperature of the exhaust atmosphere gas at a high temperature throughout the entire process of exhausting and circulating the atmosphere gas in the furnace, the respective devices or members are covered with a heat insulating material to block heat from the outside air. It is desirable that heat insulation treatment is applied.

また、一般的には、ミストのサイズによって、気体内でのミストの挙動が決定される。   In general, the behavior of mist in the gas is determined by the size of the mist.

(1)ミストサイズ粒径3μm未満の場合
粒子の質量が無視でき、流速が遅いほど粒子は慣性の影響を受けることなくブラウン運動をするので、粒子は流線に沿った均一な運動は行わない。
(2)ミストサイズ粒径3〜20μmの場合
慣性、拡散の影響が無視できる範囲において、粒子の中心は流体の流線に沿って移動する。
(1) When the mist size is less than 3 μm The mass of the particle can be ignored, and the slower the flow rate, the more the particle moves without being affected by inertia, so the particle does not move uniformly along the streamline. .
(2) In the case of a mist size particle size of 3 to 20 μm In the range where the influence of inertia and diffusion can be ignored, the center of the particle moves along the fluid streamline.

(3)ミストサイズ粒径20μmより大きい場合
慣性力が大きく、流線が曲げられた場合には、粒子はその慣性力によって直進する。
(3) When the mist size particle size is larger than 20 μm When the inertial force is large and the streamline is bent, the particles go straight by the inertial force.

以上より、混合部4で排気に含まれる、気化している溶媒10との接近、接触、及び、凝集の工程を考慮すると、液体粒子11が粒径3μm未満のミストの場合、流線に沿った均一な運動は行わず、ブラウン運動をする。このため、接近、接触、及び、凝集の工程の最初の「接近、接触」の機会が得られるが、粒子の質量が無視できる範囲では、下流側の遠心分離装置5における分離、及び、回収工程において分離されずに、さらに下流の排気ブロア7にまで到達してしまう恐れがある。一方、液体粒子11が粒径20μmを越えるサイズでは、初期の供給時点から液体粒子11の慣性力が大きいために、混合部4においても運動の直進性が高く、十分に混合されにくいために溶媒10との接触の可能性が低下し、液体粒子11同士の接触も発生しにくい。よって、気体中での接触機会又は遠心分離装置5での分離回収工程を考慮した場合、液体粒子11のサイズは粒径3〜20μmの間のサイズが望ましい。   From the above, considering the steps of approaching, contacting, and agglomerating with the vaporized solvent 10 contained in the exhaust gas in the mixing unit 4, when the liquid particle 11 is a mist having a particle size of less than 3 μm, it follows the streamline. Do not perform uniform movement, but use Brownian movement. For this reason, the opportunity of the first “approach, contact” of the approach, contact, and agglomeration process is obtained, but in the range where the mass of the particles can be ignored, the separation and recovery process in the downstream centrifugal separator 5 is performed. There is a risk of reaching the exhaust blower 7 further downstream without being separated. On the other hand, when the size of the liquid particles 11 exceeds 20 μm, since the inertial force of the liquid particles 11 is large from the initial supply time point, the movement of the liquid particles 11 is also high in the mixing unit 4 and it is difficult to mix sufficiently. The possibility of contact with 10 is reduced, and contact between the liquid particles 11 is less likely to occur. Therefore, when the contact opportunity in gas or the separation / recovery process in the centrifugal separator 5 is taken into consideration, the size of the liquid particles 11 is preferably a particle size of 3 to 20 μm.

混合部4における溶媒10と液体粒子11との接触機会の向上のために、液体粒子11の供給は、排気ダクト2内の排気雰囲気ガスの流線に対して平行ではなく、180度未満の角度を与えた状態で供給することが望ましい。図4は、排気雰囲気ガスの流線42に対して液体粒子供給装置3から供給する液体粒子11の流線43を略垂直方向(ほぼ90度)になるように供給した場合の説明図である。混合部4内の排気雰囲気ガスに対して液体粒子11を加えると、双方の流線42,43が交差及び衝突することによって、混合部4内で乱流17が発生する。すると、その乱流17の中で、溶媒10と液体粒子11との接触、又は、液体粒子11同士の接触が発生する。この場合、乱流17を発生させて接触機会を増加するためには、液体粒子11を供給する際の流速が、排気雰囲気ガスを供給する際の流速と同等以上であることが望ましい。   In order to improve the contact opportunity between the solvent 10 and the liquid particles 11 in the mixing unit 4, the supply of the liquid particles 11 is not parallel to the flow line of the exhaust atmosphere gas in the exhaust duct 2, but an angle of less than 180 degrees. It is desirable to supply in the state given. FIG. 4 is an explanatory diagram when the flow lines 43 of the liquid particles 11 supplied from the liquid particle supply device 3 are supplied in a substantially vertical direction (approximately 90 degrees) with respect to the flow lines 42 of the exhaust atmosphere gas. . When the liquid particles 11 are added to the exhaust atmosphere gas in the mixing unit 4, the turbulent flow 17 is generated in the mixing unit 4 by intersecting and colliding both stream lines 42 and 43. Then, in the turbulent flow 17, contact between the solvent 10 and the liquid particles 11 or contact between the liquid particles 11 occurs. In this case, in order to generate the turbulent flow 17 and increase the contact opportunity, it is desirable that the flow rate when supplying the liquid particles 11 is equal to or higher than the flow rate when supplying the exhaust atmosphere gas.

もしくは、図5のように、混合部4の中に攪拌部18を付与することで、積極的に乱流を発生させて、混合雰囲気ガスを攪拌、混合する方法も好適である。攪拌部18は、複数枚の円板を回転軸に所定間隔で配置し、所定方向に回転させることにより、雰囲気ガスに乱流を発生させるものであり、攪拌部18に限らず、公知の攪拌部材又は装置を使用することができる。 第1実施形態によれば、加熱を行う熱処理装置1から排出される排気雰囲気ガスに含まれる気化した溶媒10を除去する場合においても、排気雰囲気ガスを冷却することなく、浄化した雰囲気ガスを熱処理装置外に排気することが可能となる。また、排気ダクト2で排出される排気雰囲気ガスに、液体粒子供給装置3によって発生する液体粒子11を供給し、混合部4内で、排気雰囲気ガス中の気化した溶媒10と液体粒子11とが接近、接触、凝集を繰り返すことにより、溶媒10を液体粒子11に捕捉する。これにより、質量が小さくそのままでは排気雰囲気ガス中から遠心分離方式で除去することができない気化した溶媒10を、遠心分離装置5で効率的に除去、浄化することができる。   Alternatively, as shown in FIG. 5, a method in which the turbulent flow is positively generated by providing the stirring unit 18 in the mixing unit 4 to stir and mix the mixed atmosphere gas is also suitable. The stirring unit 18 is configured to generate a turbulent flow in the atmospheric gas by arranging a plurality of discs at predetermined intervals on a rotation shaft and rotating in a predetermined direction. A member or device can be used. According to the first embodiment, even when removing the vaporized solvent 10 contained in the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment apparatus 1 that performs heating, the purified atmosphere gas is heat treated without cooling the exhaust atmosphere gas. It becomes possible to exhaust outside the apparatus. Further, liquid particles 11 generated by the liquid particle supply device 3 are supplied to the exhaust atmosphere gas discharged from the exhaust duct 2, and the vaporized solvent 10 and the liquid particles 11 in the exhaust atmosphere gas are mixed in the mixing unit 4. The solvent 10 is captured by the liquid particles 11 by repeating the approach, contact, and aggregation. As a result, the evaporated solvent 10 that cannot be removed from the exhaust gas by the centrifugal separation method with a small mass can be efficiently removed and purified by the centrifugal separator 5.

さらに、混合部4は、気化した溶媒10を含む排気雰囲気ガスの流線42と液体粒子11の流線43とが交差するように構成するので、混合された雰囲気ガスの流れを乱流とし、溶媒10と液体粒子11、又は液体粒子11同士の接近、接触、及び、凝集を促進することができる。   Furthermore, since the mixing unit 4 is configured so that the stream line 42 of the exhaust atmosphere gas containing the vaporized solvent 10 and the stream line 43 of the liquid particles 11 intersect, the flow of the mixed atmosphere gas is turbulent, The approach, contact, and aggregation between the solvent 10 and the liquid particles 11 or between the liquid particles 11 can be promoted.

また、混合部4に攪拌部18を備える場合には、攪拌部18で発生させる乱流により、前記排気雰囲気ガスと前記液体粒子とを混合させることができて、排気雰囲気ガス中の気化した溶媒10と液体粒子11、及び液体粒子11同士の接近及び接触を促進することができる。   When the mixing unit 4 includes the stirring unit 18, the exhaust atmosphere gas and the liquid particles can be mixed by the turbulent flow generated in the stirring unit 18, and the vaporized solvent in the exhaust atmosphere gas can be mixed. 10 and the liquid particles 11 and the approach and contact between the liquid particles 11 can be promoted.

(第2実施形態)
図6は、本発明の第2実施形態における排気浄化装置41で排気浄化方法を実施する例である。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is an example in which an exhaust purification method is implemented by the exhaust purification device 41 in the second embodiment of the present invention.

遠心分離装置5と加熱処理装置1とを連通させるダクト8と、ダクト8の上流側すなわち遠心分離装置側に配置された循環ブロア9とをさらに備えている。   It further includes a duct 8 for allowing the centrifugal separator 5 and the heat treatment apparatus 1 to communicate with each other, and a circulation blower 9 disposed on the upstream side of the duct 8, that is, on the centrifugal separator side.

ダクト8は、その外面が断熱材8aで覆われて、断熱材8aによって外気と熱遮断されている状態で、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを、加熱処理装置1に戻すようにしている。循環ブロア9は、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを、強制的に、加熱処理装置1に戻すことにより、循環を促進させるようにしている。   The duct 8 is configured so that the exhaust atmosphere gas discharged from the centrifugal separator 5 is returned to the heat treatment apparatus 1 in a state where the outer surface of the duct 8 is covered with the heat insulating material 8a and is thermally insulated from the outside air by the heat insulating material 8a. ing. The circulation blower 9 promotes the circulation by forcibly returning the exhaust atmosphere gas discharged from the centrifugal separator 5 to the heat treatment apparatus 1.

この第2実施形態は、浄化した排気雰囲気ガスを熱処理装置1の外部に排出するのではなく、装置1内に循環して戻す事例である。より具体的には、溶媒10が除去されて浄化された排気雰囲気ガスは、下流に連通している循環ブロア9側に排出される。循環ブロア9の駆動により、ダクト8を介して雰囲気ガスが、再び、熱処理装置1内に導入される。このようにして、遠心分離装置5から排出される浄化した排気雰囲気ガスを装置外に排出せずに、ダクト8を介して熱処理装置1内に循環するようにしている。このように構成する場合は、積極的な加熱を行わない限りは、熱処理装置1から下流に行くに従って排気雰囲気ガスの温度は低下するために、排気雰囲気ガス中に含まれる水蒸気の分圧は常に飽和蒸気圧の状態を維持し続ける。したがって、熱処理装置1で再加熱されて再び排気される場合にも、水蒸気は常に高い分圧を維持しており、混合部4で液体粒子発生装置3から液体粒子11を供給する際に、液体粒子11の気化する量を抑制することが出来る。また、循環の経路全体にわたって断熱材8aによって熱遮断を行う場合には、熱処理装置1に循環する際に、再度、熱処理装置1の炉内温度に温度上昇させるためのエネルギーを必要とせずに、熱処理装置1の消費エネルギーを抑制することができる。   The second embodiment is an example in which the purified exhaust gas is not exhausted to the outside of the heat treatment apparatus 1 but is circulated back into the apparatus 1. More specifically, the exhaust atmosphere gas purified by removing the solvent 10 is discharged to the circulation blower 9 side communicating downstream. By driving the circulation blower 9, the atmospheric gas is again introduced into the heat treatment apparatus 1 through the duct 8. In this way, the purified exhaust atmosphere gas discharged from the centrifugal separator 5 is circulated into the heat treatment apparatus 1 through the duct 8 without being discharged outside the apparatus. In such a configuration, unless the active heating is performed, the temperature of the exhaust atmosphere gas decreases as it goes downstream from the heat treatment apparatus 1, and therefore the partial pressure of water vapor contained in the exhaust atmosphere gas is always constant. Continue to maintain saturated vapor pressure. Therefore, even when reheated by the heat treatment apparatus 1 and exhausted again, the water vapor always maintains a high partial pressure, and when the liquid particles 11 are supplied from the liquid particle generator 3 by the mixing unit 4, The amount of vaporized particles 11 can be suppressed. Further, when heat insulation is performed by the heat insulating material 8a over the entire circulation path, when circulating to the heat treatment apparatus 1, energy for raising the temperature to the furnace temperature of the heat treatment apparatus 1 again is not required. The energy consumption of the heat treatment apparatus 1 can be suppressed.

第2実施形態によれば、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを、断熱材8aによって外気と熱遮断されているダクト8で、加熱処理装置1に循環させることができる。よって、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを加熱処理装置1にに循環するためのダクト8は、その排気雰囲気ガス循環の全工程において外部雰囲気ガスと熱の授受を行わないように断熱材8aによって熱遮断され、循環する排気雰囲気ガスの温度を低下させずに維持することができる。   According to the second embodiment, the exhaust atmosphere gas discharged from the centrifugal separator 5 can be circulated to the heat treatment apparatus 1 through the duct 8 that is thermally insulated from the outside air by the heat insulating material 8a. Therefore, the duct 8 for circulating the exhaust atmosphere gas discharged from the centrifugal separator 5 to the heat treatment apparatus 1 is insulated so as not to exchange heat with the external atmosphere gas in all steps of the exhaust atmosphere gas circulation. The heat is cut off by the material 8a, and the temperature of the circulating exhaust gas can be maintained without lowering.

なお、第1又は第2実施形態において、液体粒子供給装置15については、高温の液体粒子11を発生させるために熱処理装置1の壁面から廃棄している放散熱を利用することで、さらに消費エネルギーを抑制することが出来る。   In the first or second embodiment, the liquid particle supply device 15 further consumes energy by using the dissipated heat discarded from the wall surface of the heat treatment device 1 to generate the high temperature liquid particles 11. Can be suppressed.

なお、上記様々な実施形態又は変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。   In addition, it can be made to show the effect which each has by combining arbitrary embodiment or modification of the said various embodiment or modification suitably.

本発明の排気浄化方法は、排気雰囲気ガスに含まれる溶媒を、排気雰囲気ガスを冷却することなく浄化することが可能となるため、消費エネルギー又は雰囲気ガス使用量の少ない排気浄化方法として、工業製品若しくは家電製品の製造工程、又は、各種電子部品の製造工程における乾燥炉、焼成炉、キュア炉、若しくは、リフロー炉などの各種熱処理を行う熱処理装置に適用できる。   Since the exhaust purification method of the present invention can purify the solvent contained in the exhaust atmosphere gas without cooling the exhaust atmosphere gas, the industrial product is an exhaust purification method that consumes less energy or uses less atmospheric gas. Or it can apply to the heat processing apparatus which performs various heat processings, such as a drying furnace in a manufacturing process of household appliances, or a manufacturing process of various electronic components, a baking furnace, a curing furnace, or a reflow furnace.

1.熱処理装置
2.排気ダクト
3.液体粒子供給装置
4.混合部
5.遠心分離装置
6.ドレン
7.排気ブロア
8.ダクト
8a.断熱材
9.循環ブロア
10.溶媒
11.液体粒子
11A.凝集前よりも粒径が大きくなった液体粒子
12.ファンデルワールス力
13.コロナ放電電極
14.高圧電源
15.電荷
16.ファンデルワールス力+クーロン力
17. 乱流
18.撹拌部
19.送風ブロア
20. 装置内排気ダクト
21.冷却器
22.炉外排気ダクト
23.ミストコレクタ
40,41.排気浄化装置
1. Heat treatment apparatus 2. Exhaust duct 3. Liquid particle supply device Mixing section 5. Centrifugal device 6. Drain Exhaust blower 8. Duct 8a. Insulation material 9. Circulating blower 10. Solvent 11. Liquid particles 11A. 11. Liquid particles having a larger particle size than before aggregation Van der Waals force 13. Corona discharge electrode 14. High voltage power supply 15. Charge 16. Van der Waals force + Coulomb force 17. Turbulence 18. Stirring section 19. Blower blower 20. In-device exhaust duct 21. Cooler 22. Furnace exhaust duct 23. Mist collector 40,41. Exhaust purification device

Claims (6)

熱処理装置内において、溶媒を含んだ材料の加熱によって溶媒を気化し、前記気化した溶媒を含みかつ前記熱処理装置内から排出される排気雰囲気ガスを浄化する方法であって、
前記熱処理装置に連通する排気ダクトにより、前記気化した溶媒を含んだ雰囲気ガスを熱処理装置外に排気し、
前記排気ダクトに連結された混合部で、前記熱処理装置から前記排気ダクトを介して排出された前記排気雰囲気ガスと、液体粒子供給装置から供給されかつ排気雰囲気ガス温度以上に加熱された液体粒子とを混合して混合雰囲気ガスを形成し、
前記排気雰囲気ガスと前記液体粒子とが混合された前記混合雰囲気ガスを遠心分離装置で遠心分離にかけて、前記排気雰囲気ガス中から前記溶媒を吸着した液体粒子を遠心分離して、前記遠心分離装置から排出される排気雰囲気ガスから、前記溶媒及び前記液体粒子を除去し、浄化する、雰囲気ガスの排気浄化方法。
In the heat treatment apparatus, the solvent is vaporized by heating the material containing the solvent, and the exhaust gas containing the vaporized solvent and exhausted from the heat treatment apparatus is purified.
Exhaust gas containing the vaporized solvent is exhausted out of the heat treatment apparatus by an exhaust duct communicating with the heat treatment apparatus,
In the mixing section connected to the exhaust duct, the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment device through the exhaust duct, and the liquid particles supplied from the liquid particle supply device and heated to the exhaust atmosphere gas temperature or higher To form a mixed atmosphere gas,
From the centrifugal separator, the mixed atmospheric gas in which the exhaust atmospheric gas and the liquid particles are mixed is centrifuged by a centrifugal separator, and the liquid particles adsorbing the solvent from the exhaust atmospheric gas are centrifuged. An exhaust gas purifying method for an atmospheric gas, wherein the solvent and the liquid particles are removed from the exhausted exhaust gas and purified.
前記液体粒子供給装置から供給する前記液体粒子を前記排気ダクト又は前記混合部内に供給する際に、前記排気雰囲気ガスに前記液体粒子を供給する以前の段階で、前記液体粒子を帯電させる、請求項1に記載の雰囲気ガスの排気浄化方法。   The liquid particles are charged at a stage before the liquid particles are supplied to the exhaust atmosphere gas when the liquid particles supplied from the liquid particle supply device are supplied into the exhaust duct or the mixing unit. 2. The exhaust gas purifying method of atmosphere gas according to 1. 前記混合部は、前記排気雰囲気ガスの流線と前記液体粒子の流線が交差するように混合させる、請求項1又は2に記載の雰囲気ガスの排気浄化方法。   The exhaust gas purification method according to claim 1, wherein the mixing unit performs mixing so that a streamline of the exhaust atmosphere gas and a streamline of the liquid particles intersect. 前記混合部は、攪拌部で発生させる乱流により、前記排気雰囲気ガスと前記液体粒子とを混合させる、請求項1に記載の雰囲気ガスの排気浄化方法。   The exhaust gas purification method according to claim 1, wherein the mixing unit mixes the exhaust atmospheric gas and the liquid particles by turbulent flow generated in a stirring unit. 前記遠心分離装置から排出される浄化した前記排気雰囲気ガスを前記熱処理装置内に循環する、請求項1〜4のいずれか1つに記載の排気浄化方法。   The exhaust purification method according to any one of claims 1 to 4, wherein the purified exhaust atmosphere gas discharged from the centrifugal separator is circulated in the heat treatment apparatus. 前記遠心分離装置から排出される前記排気雰囲気ガスを、断熱材によって外気と熱遮断されているダクトで、前記加熱処理装置に循環させる、請求項5に記載の排気浄化方法。   The exhaust purification method according to claim 5, wherein the exhaust atmosphere gas discharged from the centrifugal separator is circulated to the heat treatment apparatus through a duct that is thermally insulated from outside air by a heat insulating material.
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