JP2014057935A - Exhaust purification method - Google Patents
Exhaust purification method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014057935A JP2014057935A JP2012205537A JP2012205537A JP2014057935A JP 2014057935 A JP2014057935 A JP 2014057935A JP 2012205537 A JP2012205537 A JP 2012205537A JP 2012205537 A JP2012205537 A JP 2012205537A JP 2014057935 A JP2014057935 A JP 2014057935A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust
- gas
- solvent
- liquid particles
- atmosphere gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
Description
本発明は、加熱によって気化する溶媒を含んだ材料を加熱処理する際に、熱処理装置内で気化した溶媒を含んだ雰囲気ガスを装置外に排出する経路上で、排気雰囲気ガス中から溶媒を除去し排気雰囲気ガスを浄化する排気浄化方法に関するものである。 The present invention removes the solvent from the exhaust atmosphere gas on the path for discharging the atmosphere gas containing the solvent vaporized in the heat treatment apparatus when the material containing the solvent vaporized by heating is heat-treated. The present invention relates to an exhaust purification method for purifying exhaust atmosphere gas.
近年、さまざまな工業製品若しくは家電の組み立て製造工程、又は、それらの製品の構成部品となる各種電子部品、各種の電池、若しくは、基板などのデバイス製造工程においても、各種の機能を持ったペースト状の材料を塗布し、各種熱処理装置によって、加熱処理が行われている。各種熱処理装置の例としては、乾燥炉、焼成炉、キュア炉、又は、電子部品の実装工程などではんだ付けに使用されるリフロー炉などが挙げられる。それぞれのペースト状の材料には、最終的に製品に必要とされる固形分などに加え、それらを各種の基板又は基材などに塗工するために、水又は有機溶剤など、それぞれの目的又は必要に応じて各種の溶剤が混入され、粘度調整又は性能調整が施されている。 In recent years, in the manufacturing process of various industrial products or home appliances, or in the manufacturing process of various electronic components, various batteries, or substrates that are components of those products, pastes having various functions The material is applied, and heat treatment is performed by various heat treatment apparatuses. Examples of various heat treatment apparatuses include a drying furnace, a firing furnace, a curing furnace, a reflow furnace used for soldering in an electronic component mounting process, and the like. In addition to the solids and the like that are ultimately required for the product, each paste-like material has its respective purpose, such as water or an organic solvent, in order to apply them to various substrates or substrates. Various solvents are mixed as necessary, and viscosity adjustment or performance adjustment is performed.
それらの溶媒は、熱処理装置における加熱工程で気化、及び、脱媒の工程を経て、ペースト上の材料から装置内に放出される。これにより、連続的に加熱処理がなされる場合には、連続的に装置内に溶媒が気化して放出され、その結果、装置内雰囲気ガスにおける溶媒濃度が上がり、様々な不具合につながる可能性がある。例えば、装置内雰囲気ガス中の溶媒濃度が高くなるにつれて、装置内温度での雰囲気ガス中に存在可能な溶媒の量が飽和状態に近づくことで乾燥が困難になり、又は、爆発性を有する溶媒の場合は、飽和蒸気圧まで達していなくても、気化溶媒濃度の爆発限界を超えてしまう可能性もある。そのために、装置外から外気を定期的又は連続的に装置内に供給したり、窒素ガス又はその他の雰囲気ガスが必要な場合には、それらの雰囲気ガスを装置外から供給し、さらに、同時に溶媒濃度が上昇した装置内の雰囲気ガスを装置外に放出する手段が採られる。 These solvents are released from the material on the paste into the apparatus through vaporization and removal processes in the heating process in the heat treatment apparatus. As a result, when the heat treatment is continuously performed, the solvent is continuously vaporized and released in the apparatus, and as a result, the solvent concentration in the atmospheric gas in the apparatus may increase, leading to various problems. is there. For example, as the solvent concentration in the atmospheric gas in the apparatus increases, drying becomes difficult because the amount of solvent that can exist in the atmospheric gas at the apparatus temperature approaches a saturated state, or the solvent has explosive properties. In this case, even if the saturated vapor pressure is not reached, the explosion limit of the vaporized solvent concentration may be exceeded. Therefore, when external air is supplied from the outside of the apparatus regularly or continuously, or when nitrogen gas or other atmospheric gases are required, these atmospheric gases are supplied from outside the apparatus, and at the same time, the solvent A means for releasing the atmospheric gas in the apparatus whose concentration has increased to the outside of the apparatus is adopted.
図7は雰囲気ガスの供給と排気とを説明する図である。送風ブロア119で外気を熱処理装置101の内部に供給する。熱処理装置101内で気化する溶媒を含んだ装置内の雰囲気ガスの一部を排気ブロア107で装置外に排出する。ただし、装置外に排気する雰囲気ガスに含有されている溶媒は、有害なものもあり、環境に与える影響が懸念されるものもある。そこで、装置外に排出される排気雰囲気ガスに含まれる溶媒による大気汚染などの環境への影響、又は、作業者に対する健康影響を除外するために、排気雰囲気ガスから必要に応じて溶媒を除去する方法として、例えば特許文献1の方式が知られている。
FIG. 7 is a diagram for explaining the supply and exhaust of the atmospheric gas. Outside air is supplied into the
図8は特許文献1の説明図である。この特許文献1においては、熱処理装置101内から排出される溶媒を含んだ排気雰囲気ガスを装置内排気ダクト20に連通して配置されている冷却器21によって冷却する。このように構成することで、装置内雰囲気ガス中の溶媒を液化凝集させて、装置外排気ダクト22によって、さらに下流側に連通して配置されているミストコレクタ23で捕捉する。このようにすることで、排気雰囲気ガスを浄化し、浄化された雰囲気ガスを装置外に排出することが出来る。
FIG. 8 is an explanatory diagram of Patent Document 1. In FIG. In Patent Document 1, an exhaust atmosphere gas containing a solvent exhausted from the inside of the
しかしながら、前記特許文献1の構成では、排気中の溶媒を冷却器によって冷却して溶媒を液化、及び、凝集することから、熱処理装置内雰囲気ガスを高温に加熱するために用いられた膨大なエネルギーを、冷却器での冷却工程で奪い、また、冷却器そのものでも冷却するためのエネルギーを消費するといった問題がある。 However, in the configuration of Patent Document 1, the solvent in the exhaust gas is cooled by a cooler to liquefy and agglomerate the solvent. Therefore, enormous energy used to heat the atmosphere gas in the heat treatment apparatus to a high temperature. In the cooling process in the cooler, there is a problem that energy for cooling the cooler itself is consumed.
本発明は、このような点に鑑み、熱処理装置から排出される加熱によって気化した溶媒を含む排気雰囲気ガスを排気の過程で冷却することなく、排気雰囲気ガス中に含まれる溶媒を除去し、排気雰囲気ガスを浄化する排気浄化方法を提供することを目的とする。 In view of such a point, the present invention removes the solvent contained in the exhaust atmosphere gas without cooling the exhaust atmosphere gas containing the solvent vaporized by heating discharged from the heat treatment apparatus in the course of exhaust, and exhausts the exhaust gas. An object of the present invention is to provide an exhaust purification method for purifying atmospheric gas.
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。 In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.
本発明の1つの態様にかかる排気浄化方法は、熱処理装置において、溶媒を含んだ材料の加熱によって溶媒を気化し、前記気化した溶媒を含みかつ前記熱処理装置内から排出される排気雰囲気ガスを浄化する方法であって、
前記熱処理装置に連通する排気ダクトにより、前記気化した溶媒を含んだ雰囲気ガスを熱処理装置外に排気し、
前記排気ダクトに連結された混合部で、前記熱処理装置から前記排気ダクトを介して排出された前記排気雰囲気ガスと、液体粒子供給装置から供給されかつ排気雰囲気ガス温度以上に加熱された液体粒子とを混合して混合雰囲気ガスを形成し、
前記排気雰囲気ガスと前記液体粒子とが混合された前記混合雰囲気ガスを遠心分離装置で遠心分離にかけて、前記排気雰囲気ガス中から前記溶媒を吸着した液体粒子を遠心分離して、前記遠心分離装置から排出される排気雰囲気ガスから、前記溶媒及び前記液体粒子を除去し、浄化する。
An exhaust purification method according to one aspect of the present invention includes a heat treatment apparatus, wherein a solvent is vaporized by heating a material containing a solvent, and the exhaust atmosphere gas containing the vaporized solvent and exhausted from the heat treatment apparatus is purified. A way to
Exhaust gas containing the vaporized solvent is exhausted out of the heat treatment apparatus by an exhaust duct communicating with the heat treatment apparatus,
In the mixing section connected to the exhaust duct, the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment device through the exhaust duct, and the liquid particles supplied from the liquid particle supply device and heated to the exhaust atmosphere gas temperature or higher To form a mixed atmosphere gas,
From the centrifugal separator, the mixed atmospheric gas in which the exhaust atmospheric gas and the liquid particles are mixed is centrifuged by a centrifugal separator, and the liquid particles adsorbing the solvent from the exhaust atmospheric gas are centrifuged. The solvent and the liquid particles are removed from the exhaust gas exhausted and purified.
以上のように、本発明の排気浄化方法によれば、加熱を行う熱処理装置から排出される排気雰囲気ガスに含まれる気化した溶媒を除去する場合においても、排気雰囲気ガスを冷却することなく、浄化した雰囲気ガスを熱処理装置外に排気、又は、熱処理装置内に循環することが可能となる。 As described above, according to the exhaust purification method of the present invention, even when removing the vaporized solvent contained in the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment apparatus that performs heating, the exhaust atmosphere gas is purified without cooling. It is possible to exhaust the atmospheric gas out of the heat treatment apparatus or to circulate it in the heat treatment apparatus.
以下本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態における排気浄化方法を実施する排気浄化装置の説明図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is an explanatory diagram of an exhaust gas purification apparatus that performs an exhaust gas purification method according to a first embodiment of the present invention.
排気浄化装置40は、排気ダクト2と、液体粒子供給装置3と、混合部4と、遠心分離装置5とを備えて構成されている。排気ダクト2は、一端が熱処理装置1に連通しかつ他端が混合部4に連通して配置されている。液体粒子供給装置3は、混合部4の一端に連通して配置されている。遠心分離装置5は混合部4の他端に連通して配置されている。遠心分離装置5の下流側には排気ブロア7が配置されていてもよい。
The
熱処理装置1は、焼成炉、乾燥炉、キュア炉、又は、リフロー炉など、加熱処理を行う炉である。熱処理装置1では、加熱対象の各種材料又は部材に応じた加熱を実施し、加熱により、熱処理装置内の雰囲気ガス(雰囲気ガス)中に溶媒が気化する。気化した溶媒を含む装置内雰囲気ガスの一部は、排気ダクト2を介して混合部4に導かれる。
The heat treatment apparatus 1 is a furnace that performs heat treatment, such as a firing furnace, a drying furnace, a curing furnace, or a reflow furnace. The heat treatment apparatus 1 performs heating according to various materials or members to be heated, and the solvent evaporates in the atmosphere gas (atmosphere gas) in the heat treatment apparatus by the heating. A part of the atmospheric gas in the apparatus including the evaporated solvent is guided to the mixing unit 4 through the
ここで、この排気ダクト2の経路とは別の経路上には、液体粒子供給装置3が配置されている。この液体粒子供給装置3で、少なくとも排気された雰囲気ガス(排気雰囲気ガス)の温度以上の温度に加熱された液体粒子を含む高温の雰囲気ガスを、混合部4内に供給する。液体粒子供給装置3から液体粒子を含む高温の雰囲気ガスを供給するとき、混合部4に限らず、混合部4に近い排気ダクト2内に供給してもよい。液体粒子供給装置3では、排気雰囲気ガス温度以上に液体粒子を加熱することにより、排気雰囲気ガスに液体粒子が供給されて混合された際に、雰囲気ガスの温度により液体粒子が蒸発又は気化することを極力防ぐことができる。
Here, the liquid
なお、このとき、熱処理装置1から排出された排気雰囲気ガスの水の分圧が、飽和蒸気圧に達していない場合は、供給した高温の液体粒子の一部が蒸発、又は、気化する。その結果、排気雰囲気ガスと液体粒子の混合雰囲気ガスとが水の飽和蒸気圧に達した後は、混合気体中の液体粒子は液体のままの状態で雰囲気ガス中に存在する。混合部4では、排気雰囲気ガスの流線に対して略垂直の流線で液体粒子を含んだ高温雰囲気ガスを供給するために乱流となり、排気雰囲気ガスと液体粒子を含んだ高温雰囲気ガスとが攪拌される。混合部4で攪拌されることによって、排気雰囲気ガスに含まれる溶媒と液体粒子とは互いに接近、接触、及び、凝集を繰り返す。 At this time, when the partial pressure of the water of the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment apparatus 1 does not reach the saturated vapor pressure, some of the supplied high-temperature liquid particles are evaporated or vaporized. As a result, after the exhaust atmosphere gas and the mixed atmosphere gas of liquid particles reach the saturated vapor pressure of water, the liquid particles in the mixed gas exist in the atmosphere gas in a liquid state. In the mixing unit 4, a turbulent flow is provided to supply the high-temperature atmospheric gas containing liquid particles in a stream line substantially perpendicular to the flow line of the exhaust atmospheric gas. Is stirred. By stirring in the mixing unit 4, the solvent and the liquid particles contained in the exhaust atmosphere gas repeat approach, contact, and aggregation with each other.
混合部4の下流側には、例えばサイクロン方式に代表される遠心分離装置5が連通している。この遠心分離装置5に排気雰囲気ガスを送り込むことにより、排気雰囲気ガス中の溶媒を吸着及び凝集した液体粒子が、排気雰囲気ガス中から遠心分離されて、除去、回収されてドレン6から排出される。溶媒が除去されて浄化された排気雰囲気ガスは、下流に連通している排気ブロア7側に排出され、排気ブロア7によって装置外に排出される。
A
図2は、排気雰囲気ガス中の溶媒10と液体粒子11、もしくは液体粒子11同士の凝集の過程を説明する図である。図2の(a)は、排気ダクト3内の排気雰囲気ガス中で蒸発、又は、気化している溶媒10の状態を示している。また、図2の(b)は、液体粒子供給装置2から排気雰囲気ガスに供給されかつ排気雰囲気ガス温度以上の温度に加熱された液体粒子11の状態を示している。図2の(c)は、(a)の排気雰囲気ガス中に(b)の液体粒子11を供給した後の混合部4で、又は、(a)の排気雰囲気ガス中に(b)の液体粒子11を供給する混合部4で、溶媒10と液体粒子11とがファンデルワールス力12によって接近、接触、及び、凝集する過程を示している。図2の(d)は、混合部4で、この凝集を繰り返すことにより徐々に質量が増して、液体粒子11の粒径が凝集前よりも大きくなった液体粒子11Aの状態を示している。
FIG. 2 is a diagram illustrating a process of aggregation of the solvent 10 and the
図3に、図2の第1実施形態の変形例として、排気雰囲気ガスに液体粒子11を供給する以前の段階で、液体粒子11を帯電させる場合について説明する。
FIG. 3 illustrates a case where the
図3では、図3の(c)で、図3の(b)の液体粒子11を図3の(a)の溶媒10を含む雰囲気ガスと混合する前に、液体粒子11に対して、例えばコロナ放電電極13と高圧電源14とによって電荷15を与えている。そして、液体粒子11を帯電した状態にしてから、帯電した液体粒子11を混合部4に供給する(図3の(c)参照)。これにより、図3の(c)及び図3の(d)では、ファンデルワールス力12に加えて、帯電した電荷15によるクーロン力も加わることで、ファンデルワールス力12+クーロン力16の両方が働き、ファンデルワールス力12のみの場合に比較して、凝集を促進することが出来る。
In FIG. 3, before mixing the
なお、ダストの回収などの分野で、除去したい粉体にコロナ放電で電荷を直接与えて帯電させ、逆電荷の電極で帯電したダストを回収する方式も知られている。しかし、気化した溶剤を含む排気雰囲気ガス中に、コロナ放電などの手段によって帯電をさせる場合、例えば溶剤が有機溶剤などの場合は、引火、又は、爆発の危険性を有する溶剤については、気化した状態に対して放電することによる引火、又は、爆発事故の可能性がある。そのため、第1実施形態では、気化した溶剤に電荷を与えて帯電させるのではなく、爆発の危険性の無い液体粒子、例えば、水の液体粒子11に対して電荷10を与えて帯電させる方式を採る。
In the field of dust recovery and the like, there is also known a method in which dust to be removed is charged by directly applying a charge to the powder to be removed by corona discharge and charged with a reverse-charged electrode. However, when the exhaust gas containing the vaporized solvent is charged by means such as corona discharge, for example, when the solvent is an organic solvent, the solvent having the risk of ignition or explosion has been vaporized. There is a possibility of ignition or explosion by discharging to the state. Therefore, in the first embodiment, instead of charging the vaporized solvent and charging it, a method of charging the liquid particles having no danger of explosion, for example, the
なお、供給する液体粒子11の状態については、各設定温度において液体粒子11が存在する状態、つまり、雰囲気ガス中に含まれる水蒸気の量は飽和蒸気圧まで到達している状態である。そのため、混合部4で混合された混合雰囲気ガスの水蒸気圧が、その温度での飽和水蒸気圧に達していない場合は、混合雰囲気ガスの温度での飽和水蒸気圧に達するまで混合した液体粒子11の一部が蒸発し、飽和水蒸気圧に達した時点で残留している液体粒子11を浄化に用いることになる。一方で、排気雰囲気ガス温度より液体粒子11の温度が高い設定で、しかも、排気雰囲気ガスの水蒸気の分圧が飽和水蒸気に達している場合は、混合雰囲気ガスの温度は液体粒子11の温度よりも低下するために飽和蒸気圧も低下し、混合雰囲気ガスに含まれる水蒸気は水蒸気として存在できずに液化、つまり液体粒子化する。このため、供給した液体粒子11の量が減ることはない。どちらの場合も、混合後に液体として存在している液体粒子11によって、排気の浄化が行われることになる。なお、排気ダクト2及び混合部4については、それぞれの中を通過する排気雰囲気ガスが外気温度の熱伝達によって冷却されると液化が進むために、液体粒子11を用いた浄化の機能として不都合はない。しかしながら、過度の冷却による過剰の液化によって排気ダクト2内及び混合部4内の腐食などの影響が出る可能性がある。そのため、第1実施形態においては、炉内雰囲気ガスの排気及び循環の工程全体にわたって、排気雰囲気ガスの温度を高温に維持するため、断熱材でそれぞれの装置又は部材を覆って外気と熱遮断するなど、断熱処理が施されていることが望ましい。
The state of the supplied
また、一般的には、ミストのサイズによって、気体内でのミストの挙動が決定される。 In general, the behavior of mist in the gas is determined by the size of the mist.
(1)ミストサイズ粒径3μm未満の場合
粒子の質量が無視でき、流速が遅いほど粒子は慣性の影響を受けることなくブラウン運動をするので、粒子は流線に沿った均一な運動は行わない。
(2)ミストサイズ粒径3〜20μmの場合
慣性、拡散の影響が無視できる範囲において、粒子の中心は流体の流線に沿って移動する。
(1) When the mist size is less than 3 μm The mass of the particle can be ignored, and the slower the flow rate, the more the particle moves without being affected by inertia, so the particle does not move uniformly along the streamline. .
(2) In the case of a mist size particle size of 3 to 20 μm In the range where the influence of inertia and diffusion can be ignored, the center of the particle moves along the fluid streamline.
(3)ミストサイズ粒径20μmより大きい場合
慣性力が大きく、流線が曲げられた場合には、粒子はその慣性力によって直進する。
(3) When the mist size particle size is larger than 20 μm When the inertial force is large and the streamline is bent, the particles go straight by the inertial force.
以上より、混合部4で排気に含まれる、気化している溶媒10との接近、接触、及び、凝集の工程を考慮すると、液体粒子11が粒径3μm未満のミストの場合、流線に沿った均一な運動は行わず、ブラウン運動をする。このため、接近、接触、及び、凝集の工程の最初の「接近、接触」の機会が得られるが、粒子の質量が無視できる範囲では、下流側の遠心分離装置5における分離、及び、回収工程において分離されずに、さらに下流の排気ブロア7にまで到達してしまう恐れがある。一方、液体粒子11が粒径20μmを越えるサイズでは、初期の供給時点から液体粒子11の慣性力が大きいために、混合部4においても運動の直進性が高く、十分に混合されにくいために溶媒10との接触の可能性が低下し、液体粒子11同士の接触も発生しにくい。よって、気体中での接触機会又は遠心分離装置5での分離回収工程を考慮した場合、液体粒子11のサイズは粒径3〜20μmの間のサイズが望ましい。
From the above, considering the steps of approaching, contacting, and agglomerating with the vaporized solvent 10 contained in the exhaust gas in the mixing unit 4, when the
混合部4における溶媒10と液体粒子11との接触機会の向上のために、液体粒子11の供給は、排気ダクト2内の排気雰囲気ガスの流線に対して平行ではなく、180度未満の角度を与えた状態で供給することが望ましい。図4は、排気雰囲気ガスの流線42に対して液体粒子供給装置3から供給する液体粒子11の流線43を略垂直方向(ほぼ90度)になるように供給した場合の説明図である。混合部4内の排気雰囲気ガスに対して液体粒子11を加えると、双方の流線42,43が交差及び衝突することによって、混合部4内で乱流17が発生する。すると、その乱流17の中で、溶媒10と液体粒子11との接触、又は、液体粒子11同士の接触が発生する。この場合、乱流17を発生させて接触機会を増加するためには、液体粒子11を供給する際の流速が、排気雰囲気ガスを供給する際の流速と同等以上であることが望ましい。
In order to improve the contact opportunity between the solvent 10 and the
もしくは、図5のように、混合部4の中に攪拌部18を付与することで、積極的に乱流を発生させて、混合雰囲気ガスを攪拌、混合する方法も好適である。攪拌部18は、複数枚の円板を回転軸に所定間隔で配置し、所定方向に回転させることにより、雰囲気ガスに乱流を発生させるものであり、攪拌部18に限らず、公知の攪拌部材又は装置を使用することができる。 第1実施形態によれば、加熱を行う熱処理装置1から排出される排気雰囲気ガスに含まれる気化した溶媒10を除去する場合においても、排気雰囲気ガスを冷却することなく、浄化した雰囲気ガスを熱処理装置外に排気することが可能となる。また、排気ダクト2で排出される排気雰囲気ガスに、液体粒子供給装置3によって発生する液体粒子11を供給し、混合部4内で、排気雰囲気ガス中の気化した溶媒10と液体粒子11とが接近、接触、凝集を繰り返すことにより、溶媒10を液体粒子11に捕捉する。これにより、質量が小さくそのままでは排気雰囲気ガス中から遠心分離方式で除去することができない気化した溶媒10を、遠心分離装置5で効率的に除去、浄化することができる。
Alternatively, as shown in FIG. 5, a method in which the turbulent flow is positively generated by providing the stirring
さらに、混合部4は、気化した溶媒10を含む排気雰囲気ガスの流線42と液体粒子11の流線43とが交差するように構成するので、混合された雰囲気ガスの流れを乱流とし、溶媒10と液体粒子11、又は液体粒子11同士の接近、接触、及び、凝集を促進することができる。
Furthermore, since the mixing unit 4 is configured so that the
また、混合部4に攪拌部18を備える場合には、攪拌部18で発生させる乱流により、前記排気雰囲気ガスと前記液体粒子とを混合させることができて、排気雰囲気ガス中の気化した溶媒10と液体粒子11、及び液体粒子11同士の接近及び接触を促進することができる。
When the mixing unit 4 includes the stirring
(第2実施形態)
図6は、本発明の第2実施形態における排気浄化装置41で排気浄化方法を実施する例である。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is an example in which an exhaust purification method is implemented by the
遠心分離装置5と加熱処理装置1とを連通させるダクト8と、ダクト8の上流側すなわち遠心分離装置側に配置された循環ブロア9とをさらに備えている。
It further includes a duct 8 for allowing the
ダクト8は、その外面が断熱材8aで覆われて、断熱材8aによって外気と熱遮断されている状態で、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを、加熱処理装置1に戻すようにしている。循環ブロア9は、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを、強制的に、加熱処理装置1に戻すことにより、循環を促進させるようにしている。
The duct 8 is configured so that the exhaust atmosphere gas discharged from the
この第2実施形態は、浄化した排気雰囲気ガスを熱処理装置1の外部に排出するのではなく、装置1内に循環して戻す事例である。より具体的には、溶媒10が除去されて浄化された排気雰囲気ガスは、下流に連通している循環ブロア9側に排出される。循環ブロア9の駆動により、ダクト8を介して雰囲気ガスが、再び、熱処理装置1内に導入される。このようにして、遠心分離装置5から排出される浄化した排気雰囲気ガスを装置外に排出せずに、ダクト8を介して熱処理装置1内に循環するようにしている。このように構成する場合は、積極的な加熱を行わない限りは、熱処理装置1から下流に行くに従って排気雰囲気ガスの温度は低下するために、排気雰囲気ガス中に含まれる水蒸気の分圧は常に飽和蒸気圧の状態を維持し続ける。したがって、熱処理装置1で再加熱されて再び排気される場合にも、水蒸気は常に高い分圧を維持しており、混合部4で液体粒子発生装置3から液体粒子11を供給する際に、液体粒子11の気化する量を抑制することが出来る。また、循環の経路全体にわたって断熱材8aによって熱遮断を行う場合には、熱処理装置1に循環する際に、再度、熱処理装置1の炉内温度に温度上昇させるためのエネルギーを必要とせずに、熱処理装置1の消費エネルギーを抑制することができる。
The second embodiment is an example in which the purified exhaust gas is not exhausted to the outside of the heat treatment apparatus 1 but is circulated back into the apparatus 1. More specifically, the exhaust atmosphere gas purified by removing the solvent 10 is discharged to the
第2実施形態によれば、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを、断熱材8aによって外気と熱遮断されているダクト8で、加熱処理装置1に循環させることができる。よって、遠心分離装置5から排出される排気雰囲気ガスを加熱処理装置1にに循環するためのダクト8は、その排気雰囲気ガス循環の全工程において外部雰囲気ガスと熱の授受を行わないように断熱材8aによって熱遮断され、循環する排気雰囲気ガスの温度を低下させずに維持することができる。
According to the second embodiment, the exhaust atmosphere gas discharged from the
なお、第1又は第2実施形態において、液体粒子供給装置15については、高温の液体粒子11を発生させるために熱処理装置1の壁面から廃棄している放散熱を利用することで、さらに消費エネルギーを抑制することが出来る。
In the first or second embodiment, the liquid
なお、上記様々な実施形態又は変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。 In addition, it can be made to show the effect which each has by combining arbitrary embodiment or modification of the said various embodiment or modification suitably.
本発明の排気浄化方法は、排気雰囲気ガスに含まれる溶媒を、排気雰囲気ガスを冷却することなく浄化することが可能となるため、消費エネルギー又は雰囲気ガス使用量の少ない排気浄化方法として、工業製品若しくは家電製品の製造工程、又は、各種電子部品の製造工程における乾燥炉、焼成炉、キュア炉、若しくは、リフロー炉などの各種熱処理を行う熱処理装置に適用できる。 Since the exhaust purification method of the present invention can purify the solvent contained in the exhaust atmosphere gas without cooling the exhaust atmosphere gas, the industrial product is an exhaust purification method that consumes less energy or uses less atmospheric gas. Or it can apply to the heat processing apparatus which performs various heat processings, such as a drying furnace in a manufacturing process of household appliances, or a manufacturing process of various electronic components, a baking furnace, a curing furnace, or a reflow furnace.
1.熱処理装置
2.排気ダクト
3.液体粒子供給装置
4.混合部
5.遠心分離装置
6.ドレン
7.排気ブロア
8.ダクト
8a.断熱材
9.循環ブロア
10.溶媒
11.液体粒子
11A.凝集前よりも粒径が大きくなった液体粒子
12.ファンデルワールス力
13.コロナ放電電極
14.高圧電源
15.電荷
16.ファンデルワールス力+クーロン力
17. 乱流
18.撹拌部
19.送風ブロア
20. 装置内排気ダクト
21.冷却器
22.炉外排気ダクト
23.ミストコレクタ
40,41.排気浄化装置
1.
Claims (6)
前記熱処理装置に連通する排気ダクトにより、前記気化した溶媒を含んだ雰囲気ガスを熱処理装置外に排気し、
前記排気ダクトに連結された混合部で、前記熱処理装置から前記排気ダクトを介して排出された前記排気雰囲気ガスと、液体粒子供給装置から供給されかつ排気雰囲気ガス温度以上に加熱された液体粒子とを混合して混合雰囲気ガスを形成し、
前記排気雰囲気ガスと前記液体粒子とが混合された前記混合雰囲気ガスを遠心分離装置で遠心分離にかけて、前記排気雰囲気ガス中から前記溶媒を吸着した液体粒子を遠心分離して、前記遠心分離装置から排出される排気雰囲気ガスから、前記溶媒及び前記液体粒子を除去し、浄化する、雰囲気ガスの排気浄化方法。 In the heat treatment apparatus, the solvent is vaporized by heating the material containing the solvent, and the exhaust gas containing the vaporized solvent and exhausted from the heat treatment apparatus is purified.
Exhaust gas containing the vaporized solvent is exhausted out of the heat treatment apparatus by an exhaust duct communicating with the heat treatment apparatus,
In the mixing section connected to the exhaust duct, the exhaust atmosphere gas discharged from the heat treatment device through the exhaust duct, and the liquid particles supplied from the liquid particle supply device and heated to the exhaust atmosphere gas temperature or higher To form a mixed atmosphere gas,
From the centrifugal separator, the mixed atmospheric gas in which the exhaust atmospheric gas and the liquid particles are mixed is centrifuged by a centrifugal separator, and the liquid particles adsorbing the solvent from the exhaust atmospheric gas are centrifuged. An exhaust gas purifying method for an atmospheric gas, wherein the solvent and the liquid particles are removed from the exhausted exhaust gas and purified.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012205537A JP2014057935A (en) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | Exhaust purification method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012205537A JP2014057935A (en) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | Exhaust purification method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014057935A true JP2014057935A (en) | 2014-04-03 |
Family
ID=50614922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012205537A Pending JP2014057935A (en) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | Exhaust purification method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014057935A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170099758A (en) * | 2016-02-24 | 2017-09-01 | 파나소닉 주식회사 | Solvent separation method, solvent separation apparatus and solvent separation system |
US10040025B2 (en) | 2015-04-24 | 2018-08-07 | Panasonic Corporation | Solvent separator and heat treatment apparatus |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5112382A (en) * | 1974-07-18 | 1976-01-30 | Daigen Kagaku Kogyo Kabushikig | Ekitaino kanetsu oyobi noshuku shujin mataha gasunokyushujokyotono tayotonishosareru tamokutekisochi |
JPS52117879A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-03 | Shell Sekyu | Method and apparatus for recovering solvent vapor from gas mixed with solvent vapor |
JPS5378975A (en) * | 1976-12-23 | 1978-07-12 | Takasago Thermal Engineering | Combustion exhaust gas purifying apparatus |
JPS58501269A (en) * | 1981-08-14 | 1983-08-04 | ロ−マン ゲ−エムベ−ハ− ウント コ− カ−ゲ− | Method and apparatus for removing impurities from a gas stream containing solvent vapor |
JPH10113525A (en) * | 1996-10-11 | 1998-05-06 | Geochto:Kk | Method and apparatus for cleaning air |
JP2003172130A (en) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Juon Medical System:Kk | Device for removing harmful component in gas |
JP2004301373A (en) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Ngk Insulators Ltd | Drying furnace |
JP2007069194A (en) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Masuki Takasu | Method and apparatus for removing minute particle |
JP2008168290A (en) * | 2006-12-11 | 2008-07-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Recovery method and recovery apparatus of water- soluble solvent |
WO2009006703A1 (en) * | 2007-07-12 | 2009-01-15 | Indigo Technologies Group Pty Ltd | Reverse flow reactor |
JP2010234335A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Honke Matsuura Shuzojo:Kk | Deodorizing apparatus |
JP2010249353A (en) * | 2009-04-13 | 2010-11-04 | Panasonic Corp | Solvent gas treatment device |
JP2010537803A (en) * | 2007-08-28 | 2010-12-09 | アルファ ラヴァル ツムバ アクチボラゲット | Centrifuge and method for purifying gas |
JP2011078928A (en) * | 2009-10-08 | 2011-04-21 | Kobayashi Yumiko | Exhaust gas treatment apparatus and method for concentrating volatile organic compound and the like |
JP2012152691A (en) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Rinnai Corp | Dust collector |
-
2012
- 2012-09-19 JP JP2012205537A patent/JP2014057935A/en active Pending
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5112382A (en) * | 1974-07-18 | 1976-01-30 | Daigen Kagaku Kogyo Kabushikig | Ekitaino kanetsu oyobi noshuku shujin mataha gasunokyushujokyotono tayotonishosareru tamokutekisochi |
JPS52117879A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-03 | Shell Sekyu | Method and apparatus for recovering solvent vapor from gas mixed with solvent vapor |
JPS5378975A (en) * | 1976-12-23 | 1978-07-12 | Takasago Thermal Engineering | Combustion exhaust gas purifying apparatus |
JPS58501269A (en) * | 1981-08-14 | 1983-08-04 | ロ−マン ゲ−エムベ−ハ− ウント コ− カ−ゲ− | Method and apparatus for removing impurities from a gas stream containing solvent vapor |
JPH10113525A (en) * | 1996-10-11 | 1998-05-06 | Geochto:Kk | Method and apparatus for cleaning air |
JP2003172130A (en) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Juon Medical System:Kk | Device for removing harmful component in gas |
JP2004301373A (en) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Ngk Insulators Ltd | Drying furnace |
JP2007069194A (en) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Masuki Takasu | Method and apparatus for removing minute particle |
JP2008168290A (en) * | 2006-12-11 | 2008-07-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Recovery method and recovery apparatus of water- soluble solvent |
WO2009006703A1 (en) * | 2007-07-12 | 2009-01-15 | Indigo Technologies Group Pty Ltd | Reverse flow reactor |
JP2010537803A (en) * | 2007-08-28 | 2010-12-09 | アルファ ラヴァル ツムバ アクチボラゲット | Centrifuge and method for purifying gas |
JP2010234335A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Honke Matsuura Shuzojo:Kk | Deodorizing apparatus |
JP2010249353A (en) * | 2009-04-13 | 2010-11-04 | Panasonic Corp | Solvent gas treatment device |
JP2011078928A (en) * | 2009-10-08 | 2011-04-21 | Kobayashi Yumiko | Exhaust gas treatment apparatus and method for concentrating volatile organic compound and the like |
JP2012152691A (en) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Rinnai Corp | Dust collector |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10040025B2 (en) | 2015-04-24 | 2018-08-07 | Panasonic Corporation | Solvent separator and heat treatment apparatus |
KR101897948B1 (en) * | 2015-04-24 | 2018-09-13 | 파나소닉 주식회사 | Solvent separating apparatus and heat treatment apparatus |
KR20170099758A (en) * | 2016-02-24 | 2017-09-01 | 파나소닉 주식회사 | Solvent separation method, solvent separation apparatus and solvent separation system |
CN107115689A (en) * | 2016-02-24 | 2017-09-01 | 松下电器产业株式会社 | Solvent fractionation method, solvent separation unit and solvent piece-rate system |
US10258995B2 (en) | 2016-02-24 | 2019-04-16 | Panasonic Corporation | Solvent separation method, solvent separation apparatus and solvent separation system |
CN107115689B (en) * | 2016-02-24 | 2019-05-14 | 松下电器产业株式会社 | Solvent fractionation method, solvent separation unit and solvent separation system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2015142898A (en) | Solvent separation method and device | |
JP2014057935A (en) | Exhaust purification method | |
CN101417264A (en) | High temperature fume purification device | |
US10040025B2 (en) | Solvent separator and heat treatment apparatus | |
CN107441896B (en) | Solvent separation method and solvent separation device | |
CN106669305B (en) | Dust collector and exhaust treatment device | |
CN102954476A (en) | Processing method of tail gas containing trace organic constituents | |
CN107115689B (en) | Solvent fractionation method, solvent separation unit and solvent separation system | |
JP2020001054A (en) | Method and device for recovering flux | |
CN210448704U (en) | Desulphurization unit that desulfurization efficiency is high | |
JP2019032996A (en) | Manufacturing method of anode | |
JP6804234B2 (en) | Particle remover | |
Zhang et al. | Study on Mechanism and Characteristics of Particle Charging In Electrostatic Precipitator | |
JP2018083956A (en) | Treatment device and treatment method for mercury-containing substance | |
CN105413417B (en) | Smoke treating method in 2 naphthols production processes | |
JP2011000496A (en) | Oil mist removing apparatus and method | |
CN201324541Y (en) | High temperature oil smoke purifying device | |
JP2017217570A (en) | Solvent separation method and apparatus | |
CN105371603A (en) | Sapphire dedusting and drying device | |
JP2012007853A (en) | Air conditioning air supply equipment | |
KR100869313B1 (en) | Apparatus and method for deoxidizing lead-wire of fluorescent lamp | |
JP2018020306A (en) | Apparatus and method for treating mercury-containing material | |
RU2549850C2 (en) | Apparatus for producing inorganic materials | |
CN109078488A (en) | A kind of method of catalytic denitration | |
CN103071377A (en) | Activation denitration method for flue |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150311 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20150312 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20150319 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160216 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160830 |