JP2014054716A - Wire for wire saw, wire saw, cutting method using wire saw - Google Patents

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Yasuo Nakajima
康雄 中島
Kazuyoshi Akitsuki
一能 秋月
Jiro Hiroishi
治郎 廣石
Shunji Yamamoto
俊司 山本
Tetsuji Kubota
哲治 久保田
Yoshinori Matsunaga
義則 松永
Naoki Tanaka
直樹 田中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide wire for a wire saw which is excellent in durability, and in which poor curing etc. of a conductive layer does not occur.SOLUTION: A conductive layer 15 is formed of ultraviolet curing resin. Here, when specific surface area of metal particles becomes larger than predetermined size (namely, as the metal particles become finer), sufficient curing by ultraviolet irradiation cannot be obtained. In order to sufficiently cure the conductive layer 15 by the ultraviolet irradiation, it is preferable that the specific surface area of the metal particles contained in the conductive layer 15 is 1.9 m/g or less. It is because ultraviolet light does not sufficiently spread over the inside of the conductive layer 15, which results in poor curing when the specific surface area of the metal particles exceeds 1.9 m/g.

Description

本発明は、シリコンインゴットなどの難削材からウェハの切り出し等を行うことが可能なワイヤソー用線材等に関するものである。   The present invention relates to a wire material for a wire saw that can cut a wafer from a difficult-to-cut material such as a silicon ingot.

従来、例えばシリコンインゴットをスライス加工してシリコンウェハを得るためには、ワイヤが用いられてきた。例えば、鋼線ワイヤを用いて、砥粒を含むスラリを供給しながら、加工対象をスライスする方法があった。   Conventionally, for example, in order to obtain a silicon wafer by slicing a silicon ingot, a wire has been used. For example, there has been a method of slicing an object to be processed while supplying a slurry containing abrasive grains using a steel wire.

しかし、このような方法では、砥粒や被加工物の切断屑を多量に含んだ研削廃液が発生する。したがって、この処理が必要になるとともに、環境負荷も大きいという問題がある。   However, in such a method, a grinding waste liquid containing a large amount of abrasive grains and workpiece cutting waste is generated. Therefore, there is a problem that this processing is necessary and the environmental load is large.

そこで、ピアノ線等の金属線の外周部に砥粒を樹脂で保持したワイヤソーを用いる方法がある(特許文献1〜3)。このような方法では多量の廃液が不要になる。一方で、芯材に石英ガラスを用いたワイヤソーを用いる方法がある(特許文献4)。   Therefore, there is a method of using a wire saw in which abrasive grains are held by a resin on the outer periphery of a metal wire such as a piano wire (Patent Documents 1 to 3). Such a method eliminates the need for a large amount of waste liquid. On the other hand, there is a method using a wire saw using quartz glass as a core material (Patent Document 4).

特許3078020号公報Japanese Patent No. 3078020 特許4266969号公報Japanese Patent No. 4266969 特許4175728号公報Japanese Patent No. 4175728 特開平10−151560号公報JP-A-10-151560

特許文献1〜3の方法で作製した、ピアノ線等の金属線を芯材にしたワイヤソーを用いた切断方法においては、通常、ワイヤに張力を付与した状態で、被加工物を切断する。このため、ワイヤの破断の問題がある。このため、耐久性を確保するためには、ワイヤ径を所定以上とする必要がある。しかしながら、ワイヤ径が大きくなると、切断代が多くなるため、歩留まりが低下するという問題がある。   In the cutting method using a wire saw having a metal wire such as a piano wire as a core material produced by the methods of Patent Documents 1 to 3, the workpiece is usually cut in a state where tension is applied to the wire. For this reason, there is a problem of wire breakage. For this reason, in order to ensure durability, it is necessary to make a wire diameter more than predetermined. However, when the wire diameter is increased, the cutting allowance is increased, so that there is a problem that the yield is lowered.

特許文献4の方法は、芯材に抗張力の高い石英ガラスを用いているため、ワイヤ径が小さいワイヤソーを作ることができる。また、芯線外周に樹脂層を形成しているため、マイクロクラックの成長を防止できる。しかしながら、砥粒をめっきで保持するためには、樹脂層の外周に導電層を形成する必要がある。   Since the method of patent document 4 uses quartz glass with high tensile strength for a core material, it can make a wire saw with a small wire diameter. Moreover, since the resin layer is formed on the outer periphery of the core wire, the growth of microcracks can be prevented. However, in order to hold the abrasive grains by plating, it is necessary to form a conductive layer on the outer periphery of the resin layer.

このような導電層は、例えば、紫外線硬化樹脂に金属粒子が配合されて形成される。しかし、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射した際に、金属粒子の存在によって十分に硬化反応が進行しない場合がある。また、ワイヤソーの使用時に、金属粒子が樹脂層側にめり込むことで、芯線を損傷する恐れがある。   Such a conductive layer is formed, for example, by blending metal particles with an ultraviolet curable resin. However, when the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays, the curing reaction may not sufficiently proceed due to the presence of metal particles. Further, when the wire saw is used, the core wire may be damaged due to the metal particles sinking into the resin layer side.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、耐久性に優れ、導電層の硬化不良等が生じることがないワイヤソー用線材等を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a wire saw wire or the like that has excellent durability and does not cause poor curing of a conductive layer.

前述した目的を達するために第1の発明は、石英ファイバからなる芯線と、前記芯線の外周に形成され、前記芯線を保護する樹脂層と、前記樹脂層の外周に形成される導電層と、を具備し、前記導電層は、紫外線硬化樹脂に金属粒子が配合されて形成され、前記金属粒子の比表面積が1.9m/g以下で、金属粒子の平均粒子径が4.9μm以下であり、さらに導電層の厚みが金属粒子の平均粒子径より大きいことを特徴とするワイヤソー用線材である。 In order to achieve the above-described object, the first invention includes a core wire made of quartz fiber, a resin layer formed on the outer periphery of the core wire to protect the core wire, a conductive layer formed on the outer periphery of the resin layer, The conductive layer is formed by blending metal particles with an ultraviolet curable resin, the metal particles have a specific surface area of 1.9 m 2 / g or less, and the metal particles have an average particle size of 4.9 μm or less. Further, the wire saw wire is characterized in that the thickness of the conductive layer is larger than the average particle diameter of the metal particles.

前記導電層を形成する粒子が銀粒子であり、さらに導電層の厚みが1〜5μmで、さらに前記導電層の体積抵抗率(25℃)が10−3〜2×10−6の範囲とする。導電層の体積抵抗率を上記のように設定することにより、安定して導電層の外周に安定して、砥粒保持層を形成できる。前記導電層を形成する粒子がAg粒子であり、その平均直径は、1.6μm以下であることが望ましい。 The particles forming the conductive layer are silver particles, the thickness of the conductive layer is 1 to 5 μm, and the volume resistivity (25 ° C.) of the conductive layer is in the range of 10 −3 to 2 × 10 −6. . By setting the volume resistivity of the conductive layer as described above, the abrasive grain holding layer can be stably formed on the outer periphery of the conductive layer. The particles forming the conductive layer are Ag particles, and the average diameter is preferably 1.6 μm or less.

また、前記芯線を保護する樹脂層の厚さは、3〜20μmの範囲であり、弾性率が500〜5000MPaとすることが望ましく、さらに望ましくは5〜20μmである。前記芯線は、外径が60〜300μmで、抗張力が5000Mpa以上であることが望ましい。   The thickness of the resin layer that protects the core wire is in the range of 3 to 20 μm, and the elastic modulus is preferably 500 to 5000 MPa, and more preferably 5 to 20 μm. The core wire preferably has an outer diameter of 60 to 300 μm and a tensile strength of 5000 Mpa or more.

第1の発明によれば、芯線が石英ファイバで構成されるため、従来使用されてきたピアノ線に比べ大きな抗張力を有する。したがって、ワイヤの破断を防止することができ、また、ワイヤ径を細くすることができる。したがって、ワイヤの耐久性に優れ、切断時の被削材の歩留まりが高いワイヤソーを得ることができる。   According to the first invention, since the core wire is made of quartz fiber, it has a higher tensile strength than the conventionally used piano wire. Therefore, breakage of the wire can be prevented and the wire diameter can be reduced. Therefore, it is possible to obtain a wire saw that is excellent in wire durability and has a high yield of work material during cutting.

また、単に芯線を石英ファイバで構成しただけでは、芯線の曲げ変形や、切削時に砥粒が食い込むことによる芯線と砥粒の接触によって、芯線の折れが生じる恐れがある。しかし、本発明では、芯線の外周に樹脂層を形成することで、芯線の曲げ時の折損を防止することができる。   Further, if the core wire is simply composed of a quartz fiber, the core wire may be bent due to bending deformation of the core wire or contact between the core wire and the abrasive grains due to the abrasive grains biting during cutting. However, in the present invention, by forming the resin layer on the outer periphery of the core wire, breakage during bending of the core wire can be prevented.

さらに、樹脂層の外周には導電層が形成されるため、めっきが容易である。したがって、めっき層によって砥粒を保持することができる。この際、導電層は、紫外線硬化樹脂に金属粒子が配合されて形成され、金属粒子の比表面積が1.9m/g以下であるため、紫外線を照射した際に、確実に導電層を硬化することができる。さらに金属粒子の平均径が4.9μm以下であり、導電層の厚みが1〜5μmの範囲にあり、導電層の厚みが平均粒子径より大きいことが望ましい。金属粒子の平均径は、1.6μm以下であることがさらに望ましい。 Furthermore, since a conductive layer is formed on the outer periphery of the resin layer, plating is easy. Accordingly, the abrasive grains can be held by the plating layer. At this time, the conductive layer is formed by blending metal particles with an ultraviolet curable resin, and the specific surface area of the metal particles is 1.9 m 2 / g or less. Therefore, the conductive layer is reliably cured when irradiated with ultraviolet rays. can do. Furthermore, it is desirable that the average diameter of the metal particles is 4.9 μm or less, the thickness of the conductive layer is in the range of 1 to 5 μm, and the thickness of the conductive layer is larger than the average particle diameter. The average diameter of the metal particles is further desirably 1.6 μm or less.

また、金属粒子の平均粒径が所定以下の大きさであれば、ワイヤソーを使用する際に、金属粒子が樹脂層にめり込み、芯線を損傷することを防止することができる。   Moreover, when the average particle diameter of the metal particles is a predetermined size or less, the metal particles can be prevented from sinking into the resin layer and damaging the core wire when the wire saw is used.

また、金属粒子が銀粒子であれば、導電率が高いため、高い導電性を得ることができる。また、導電層の厚みを1〜5μmとすることで、ワイヤソーを過剰に太径にすることがなく、また、確実に導電性を得ることができる。   Moreover, since electrical conductivity is high if a metal particle is a silver particle, high electroconductivity can be acquired. In addition, by setting the thickness of the conductive layer to 1 to 5 μm, the wire saw is not excessively thickened, and conductivity can be reliably obtained.

第2の発明は、第1の発明にかかるワイヤソー用線材を用い、前記導電層の外周に形成される砥粒保持層と、前記砥粒保持層に保持される砥粒と、を具備し、前記砥粒保持層がめっきで形成されることを特徴とするワイヤソーである。   The second invention comprises the wire saw wire according to the first invention, comprising an abrasive grain holding layer formed on the outer periphery of the conductive layer, and abrasive grains held on the abrasive grain holding layer, A wire saw, wherein the abrasive grain holding layer is formed by plating.

第2の発明によれば、耐久性にも優れ、導電層の硬化不良等が生じることがないワイヤソーを得ることができる。   According to the second invention, it is possible to obtain a wire saw that is excellent in durability and does not cause poor curing of the conductive layer.

第3の発明は、石英ファイバからなる芯線と、前記芯線の外周に形成され、前記芯線を保護する樹脂層と、前記樹脂層の外周に形成される導電層と、前記導電層の外周に形成される砥粒保持層と、前記砥粒保持層に保持される砥粒と、を具備し、前記導電層は、紫外線硬化樹脂に金属粒子が配合されて形成され、前記金属粒子の比表面積が1.9m/g以下であり、前記金属粒子の粒子径が4.9μm以下であるワイヤソーを用い、切断対象物を切断することを特徴とするワイヤソーを用いた切断方法である。 3rd invention is formed in the outer periphery of the core wire which consists of a core wire which consists of quartz fiber, the outer periphery of the said core wire, and protects the said core wire, the conductive layer formed in the outer periphery of the said resin layer, and the said conductive layer An abrasive grain holding layer, and abrasive grains held in the abrasive grain holding layer, and the conductive layer is formed by blending metal particles in an ultraviolet curable resin, and the specific surface area of the metal particles is A cutting method using a wire saw using a wire saw having a particle diameter of 1.9 m 2 / g or less and a metal particle having a particle diameter of 4.9 μm or less.

第3の発明によれば、ワイヤソーの破断等を防止するとともに、高い効率で確実に切断対象物のスライス加工を行うことができる。   According to the third aspect of the present invention, it is possible to prevent the wire saw from being broken and to perform the slicing process on the cutting object with high efficiency and reliability.

本発明によれば、耐久性に優れ、導電層の硬化不良等が生じることがないワイヤソー用線材等を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the wire material for wire saws etc. which are excellent in durability and the poor hardening of a conductive layer, etc. do not arise can be provided.

切断装置1を示す図。The figure which shows the cutting device 1. FIG. ワイヤソー7の断面図。Sectional drawing of the wire saw 7. FIG. ファイバ製造装置20を示す概略図。Schematic which shows the fiber manufacturing apparatus 20. FIG. ワイヤソー製造装置40を示す概略図。Schematic which shows the wire saw manufacturing apparatus 40. FIG. ワイヤソー用線材の耐破断性の評価方法を示す図。The figure which shows the evaluation method of the fracture resistance of the wire for wire saws.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。図1は、切断装置1を示す概略図である。切断装置1は、切断対象物であるインゴット3を保持する保持部5と、ワイヤソー7を移動させるための多溝を有するローラ9と、保持部5およびローラ9を駆動するための図示を省略したモータ等から構成される。なお、切断対象物はシリコンもしくはサファイア、SiC、化合物半導体やガラス、セラミックスなどの硬脆材料である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing a cutting device 1. The cutting device 1 omits the illustration of the holding unit 5 that holds the ingot 3 that is the object to be cut, the roller 9 that has multiple grooves for moving the wire saw 7, and the driving unit 5 and the roller 9. Consists of a motor and the like. The object to be cut is a hard or brittle material such as silicon or sapphire, SiC, a compound semiconductor, glass, or ceramics.

切断装置1では、ローラ9の外周に、所定の張力が付与された状態でワイヤソー7が多数回巻回される。ワイヤソー7は一方の側から送られ(図中矢印A方向)、他方の側から巻き取られる(図中矢印B方向)。駆動モータによってローラ9を可逆回転することにより、ワイヤソー7をローラ9間で往復動させることができる。   In the cutting device 1, the wire saw 7 is wound many times around the outer periphery of the roller 9 with a predetermined tension applied. The wire saw 7 is fed from one side (in the direction of arrow A in the figure) and wound up from the other side (in the direction of arrow B in the figure). By rotating the roller 9 reversibly by the drive motor, the wire saw 7 can be reciprocated between the rollers 9.

半導体用シリコン等のインゴット3を保持部5で保持させた状態で、ワイヤソー7の移動方向に対して垂直に移動させる(図中矢印C方向)。保持部5に所定の荷重を付与し、インゴット3をワイヤソー7に接触させることで、ワイヤソー7によりインゴット3が切断される。すなわち、インゴット3を一度に多数枚の加工物にスライス切断することができる。なお、本発明の切断方法は、図示した例に限られず、本発明によるワイヤソーを用いて行う切断加工にはすべて適用可能である。   In a state where the ingot 3 such as silicon for semiconductor is held by the holding portion 5, it is moved perpendicularly to the moving direction of the wire saw 7 (in the direction of arrow C in the figure). The ingot 3 is cut by the wire saw 7 by applying a predetermined load to the holding portion 5 and bringing the ingot 3 into contact with the wire saw 7. That is, the ingot 3 can be sliced into a large number of workpieces at a time. The cutting method of the present invention is not limited to the illustrated example, and can be applied to all cutting processes performed using the wire saw according to the present invention.

次に、ワイヤソー7について説明する。図2(a)は、ワイヤソー7の断面図であり、図2(b)は、図2(a)のD部拡大図である。ワイヤソー7は、主に芯線11、樹脂層13、導電層15、めっき層17、砥粒19等から構成される。   Next, the wire saw 7 will be described. 2A is a cross-sectional view of the wire saw 7, and FIG. 2B is an enlarged view of a portion D in FIG. 2A. The wire saw 7 is mainly composed of a core wire 11, a resin layer 13, a conductive layer 15, a plating layer 17, an abrasive grain 19, and the like.

芯線11は、外径が60〜300μmの石英ファイバである。芯線11の径を細くし過ぎると、使用時におけるワイヤソー7の破断の恐れがある。また、芯線11の径を太くし過ぎると切断対象物の切断代が大きくなるため、歩留まりが低下し、多量の切粉が生じるためである。芯線11としては、5000MPa以上の抗張力を有するものが望ましい。このような芯線11としては、例えば、従来光ファイバとして使用されるガラスファイバを用いることができる。例えば、気相合成した高純度石英ファイバを用いれば、不純物を含まず、高い抗張力を有する。高純度石英ファイバの弾性係数は72000MPaである。   The core wire 11 is a quartz fiber having an outer diameter of 60 to 300 μm. If the diameter of the core wire 11 is too thin, the wire saw 7 may be broken during use. Further, if the diameter of the core wire 11 is made too large, the cutting allowance of the object to be cut increases, so that the yield decreases and a large amount of chips are generated. The core wire 11 preferably has a tensile strength of 5000 MPa or more. As such a core wire 11, for example, a glass fiber conventionally used as an optical fiber can be used. For example, if a high-purity silica fiber synthesized by vapor phase is used, it does not contain impurities and has a high tensile strength. The elastic modulus of the high purity silica fiber is 72000 MPa.

芯線11の外周には、樹脂層13が設けられる。樹脂層13は、芯線11を保護するためのものである。前述のように、石英ファイバは、極めて高い抗張力を有するが、曲げ変形に対して折損の恐れがある。このため、芯線11の周囲を樹脂層13で被覆することで、ワイヤソー7を曲げた際の応力が、ワイヤソー7の一か所に集中することを防ぎ、芯線11の折損を防止することができる。このため、ワイヤソー7をボビン等に巻き付け、また、前述した切断装置1において、ローラ9間に巻き付けても、ワイヤソー7の折損を防止することができる。   A resin layer 13 is provided on the outer periphery of the core wire 11. The resin layer 13 is for protecting the core wire 11. As described above, the quartz fiber has a very high tensile strength, but there is a risk of breakage against bending deformation. For this reason, by covering the periphery of the core wire 11 with the resin layer 13, it is possible to prevent stress when the wire saw 7 is bent from being concentrated on one place of the wire saw 7, and to prevent breakage of the core wire 11. . For this reason, even if the wire saw 7 is wound around a bobbin or the like, and the winding apparatus 1 is wound between the rollers 9, the wire saw 7 can be prevented from being broken.

ワイヤソー7に曲げ性を付与し、砥粒19の食い込みを防止するためには、樹脂層13の厚さは3〜20μmが好ましく、5〜15μmがより好ましい。樹脂層13が3μm以下であると、ワイヤソー7の曲げ性が悪化するとともに、砥粒19の食い込み防止性が不十分になる。また、樹脂層13の厚みが20μmを超えると、ワイヤソー7の外径が大きくなり歩留りが悪くなるとともに、樹脂層13を形成する際に、樹脂の硬化に時間を要する。   In order to impart bendability to the wire saw 7 and prevent the abrasive grains 19 from biting in, the thickness of the resin layer 13 is preferably 3 to 20 μm, and more preferably 5 to 15 μm. When the resin layer 13 is 3 μm or less, the bendability of the wire saw 7 is deteriorated and the prevention of biting of the abrasive grains 19 becomes insufficient. On the other hand, if the thickness of the resin layer 13 exceeds 20 μm, the outer diameter of the wire saw 7 becomes large and the yield deteriorates, and it takes time to cure the resin when the resin layer 13 is formed.

また、樹脂層13の弾性率は、500〜5000MPaであることが望ましい。樹脂層13が軟らかすぎると、使用時に砥粒19が樹脂層13に埋まり込み、砥粒19と芯線11との接触を確実に防止することができない。また、樹脂層13が硬すぎると、ワイヤソーの曲げ性が悪くなるためである。   The elastic modulus of the resin layer 13 is desirably 500 to 5000 MPa. If the resin layer 13 is too soft, the abrasive grains 19 are embedded in the resin layer 13 during use, and contact between the abrasive grains 19 and the core wire 11 cannot be reliably prevented. Moreover, it is because the bendability of a wire saw will worsen if the resin layer 13 is too hard.

なお、このような樹脂層13としては、いずれの樹脂も適用可能である。例えば、ウレタンアクリレート系やエポキシアクリレート系といったラジカル硬化型紫外線硬化樹脂、エポキシ樹脂系のカチオン硬化型紫外線硬化樹脂、ポリイミド系の熱硬化樹脂を適用することができる。なお、生産性の観点から紫外線硬化樹脂が好ましい。   In addition, as such a resin layer 13, any resin is applicable. For example, a radical curable ultraviolet curable resin such as urethane acrylate or epoxy acrylate, an epoxy resin cation curable ultraviolet curable resin, or a polyimide thermosetting resin can be applied. In addition, an ultraviolet curable resin is preferable from the viewpoint of productivity.

樹脂層13の外周には、導電層15が設けられる。導電層15は、後述するめっき層17を形成するための層である。導電層15は、樹脂層13と砥粒保持層であるめっき層17の間に形成される。このため、導電層15が変形することで、切断時の応力を吸収して、めっき層17に担持された砥粒19が樹脂層13に食い込むことを防止する緩衝層としての役割も果たす。   A conductive layer 15 is provided on the outer periphery of the resin layer 13. The conductive layer 15 is a layer for forming a plating layer 17 described later. The conductive layer 15 is formed between the resin layer 13 and the plating layer 17 that is an abrasive grain holding layer. For this reason, when the conductive layer 15 is deformed, it also serves as a buffer layer that absorbs stress during cutting and prevents the abrasive grains 19 carried on the plating layer 17 from biting into the resin layer 13.

導電層15は、紫外線硬化樹脂に銀や銅などの金属粒子16を添加したものである。導電性を考慮すると、金属粒子16は銀であることが望ましい。導電層15の体積抵抗率としては、たとえば、10−3〜2×10−6Ω・cm程度であればよいが、より低い方が好ましい。体積抵抗率が高すぎると、めっき層17の形成が困難であるためである。また、体積抵抗率を低下させるために、金属粒子16を過剰に添加すると、逆にその金属粒子が紫外線を遮断して、導電層15を構成する紫外線硬化樹脂に紫外線が全体に行き渡らず、樹脂を硬化させることが困難となるためである。すなわち、上述の体積抵抗率となるように、金属粒子16の添加量が設定される。たとえば、銀の体積抵抗率1.6×10−6Ω・cmで、銀粒子を導電層に分散させることで、導電層の体積抵抗率を前記の範囲にすることが実現できるが、望ましくは、10−4〜2×10−6Ω・cmである。 The conductive layer 15 is obtained by adding metal particles 16 such as silver or copper to an ultraviolet curable resin. In consideration of conductivity, the metal particles 16 are preferably silver. The volume resistivity of the conductive layer 15 may be, for example, about 10 −3 to 2 × 10 −6 Ω · cm, but is preferably lower. This is because if the volume resistivity is too high, it is difficult to form the plating layer 17. Further, if the metal particles 16 are added excessively in order to reduce the volume resistivity, the metal particles conversely block the ultraviolet rays so that the ultraviolet rays do not reach the entire ultraviolet curable resin constituting the conductive layer 15, and the resin It is because it becomes difficult to harden. That is, the addition amount of the metal particles 16 is set so as to have the above-described volume resistivity. For example, it is possible to achieve the volume resistivity of the conductive layer within the above range by dispersing silver particles in the conductive layer with a volume resistivity of 1.6 × 10 −6 Ω · cm. 10 −4 to 2 × 10 −6 Ω · cm.

砥粒保持層を安定的に形成するためには、導電層の体積抵抗率を前述の範囲とする必要がある。従って、金属粒子の体積抵抗率は少ない方が導電層の抵抗を低下させることができるので望ましい。また、体積抵抗率が低い金属粒子を用いれば、導電層は薄くすることができるので、導電層に用いる金属粒子の体積抵抗率は低ければ、低いほど良い。   In order to stably form the abrasive grain holding layer, the volume resistivity of the conductive layer needs to be in the above range. Therefore, it is desirable that the metal particles have a smaller volume resistivity because the resistance of the conductive layer can be lowered. Further, if metal particles having a low volume resistivity are used, the conductive layer can be made thin. Therefore, the lower the volume resistivity of the metal particles used in the conductive layer, the better.

なお、導電層15は、外表面に均一にめっき層を形成できればよく、例えば1〜5μm程度あればよい。5μmを超えると、ワイヤソー7の径が大きくなる。また、1μm未満では、使用できる金属粒子16の径が制限される。なお、金属粒子16の大きさは、導電層15の厚みと略同等以下であることが望ましい。   In addition, the conductive layer 15 should just be able to form a plating layer uniformly in an outer surface, for example, should just be about 1-5 micrometers. If it exceeds 5 μm, the diameter of the wire saw 7 becomes large. Moreover, if it is less than 1 micrometer, the diameter of the metal particle 16 which can be used is restrict | limited. The size of the metal particles 16 is preferably approximately equal to or less than the thickness of the conductive layer 15.

前述の通り、導電層15は、紫外線硬化樹脂で形成される。ここで、発明者らは、紫外線硬化樹脂に対して添加する金属粒子16の性状が、導電層15の硬化に対して影響を与えることを見出した。すなわち、前述した体積抵抗率となるように、所定量の金属粒子16を紫外線硬化樹脂に添加した場合において、金属粒子16の性状によっては、紫外線を照射した際に、導電層15に十分な硬化が見られない場合があった。   As described above, the conductive layer 15 is formed of an ultraviolet curable resin. Here, the inventors have found that the properties of the metal particles 16 added to the ultraviolet curable resin affect the curing of the conductive layer 15. That is, when a predetermined amount of the metal particles 16 is added to the ultraviolet curable resin so as to achieve the volume resistivity described above, the conductive layer 15 is sufficiently cured when irradiated with ultraviolet rays depending on the properties of the metal particles 16. May not be seen.

発明者らは、このような紫外線照射による導電層の硬化に影響を与える因子が、金属粒子16の比表面積であることを見出した。すなわち、金属粒子16の比表面積が所定以上大きくなると(すなわち、金属粒子16が細かくなればなるほど)、紫外線照射による十分な硬化が得られないことを見出した。紫外線照射により、導電層15を十分に硬化させるためには、導電層15に含まれる金属粒子16の比表面積が1.9m/g以下であることが望ましい。金属粒子16の比表面積が1.9m/gを超えると、紫外線が導電層15の内部に十分に行きわたらず、硬化不良の原因となるためである。体積抵抗率を所定範囲とするためには、銀粒子の添加量を適宜調整すればよい。たとえば、樹脂100質量部に対して金属粒子360質量部程度とすることで、所望の体積抵抗率とすることができる。 The inventors have found that the factor that affects the curing of the conductive layer by such ultraviolet irradiation is the specific surface area of the metal particles 16. That is, it has been found that when the specific surface area of the metal particles 16 is larger than a predetermined value (that is, the metal particles 16 are finer), sufficient curing by ultraviolet irradiation cannot be obtained. In order to sufficiently cure the conductive layer 15 by ultraviolet irradiation, the specific surface area of the metal particles 16 included in the conductive layer 15 is desirably 1.9 m 2 / g or less. This is because if the specific surface area of the metal particles 16 exceeds 1.9 m 2 / g, the ultraviolet rays do not sufficiently reach the inside of the conductive layer 15 and cause curing failure. In order to set the volume resistivity within a predetermined range, the amount of silver particles added may be appropriately adjusted. For example, it can be set as a desired volume resistivity by setting it as about 360 mass parts of metal particles with respect to 100 mass parts of resin.

一方、金属粒子16が大きすぎると、外力が付与された際に、内部の芯線11が金属粒子16によって損傷する恐れがある。このような金属粒子16による芯線11の損傷を防止するためには、金属粒子16の径は、4.9μm以下であることが望ましく、さらに好ましくは、1.6μm以下とすることが望ましい。   On the other hand, if the metal particles 16 are too large, the internal core wire 11 may be damaged by the metal particles 16 when an external force is applied. In order to prevent such damage to the core wire 11 due to the metal particles 16, the diameter of the metal particles 16 is desirably 4.9 μm or less, and more desirably 1.6 μm or less.

導電層15の外周にはめっき層17が設けられる。めっき層17は砥粒19の保持層として機能する。めっき層17は、砥粒19を保持できればいずれの金属でも良いが、例えばニッケルで構成される。なお、砥粒19は、切断対象物の硬度にもよるが、たとえばダイヤモンド砥粒が用いられる。   A plating layer 17 is provided on the outer periphery of the conductive layer 15. The plating layer 17 functions as a holding layer for the abrasive grains 19. The plating layer 17 may be any metal as long as it can hold the abrasive grains 19, but is made of nickel, for example. The abrasive grains 19 are, for example, diamond abrasive grains, although depending on the hardness of the object to be cut.

めっき層17は砥粒19を保持できる程度の厚みがあればよい。めっき層17の厚さとしては、砥粒19の平均粒径の1/4〜1/1であることが好ましい。例えば、砥粒19の平均径が10〜20μm程度であれば、めっき層17の厚みは、例えば5〜10μm程度とすればよい。めっき層の厚さが薄すぎると、砥粒19の保持力が不十分になり、安定した切削ができないためである。また、めっき層17が厚すぎるとワイヤソー7の外径が大きくなることから被削材の切断歩留まりが低下するとともに、めっきの形成に時間を要するためである。   The plating layer 17 only needs to be thick enough to hold the abrasive grains 19. The thickness of the plating layer 17 is preferably 1/4 to 1/1 of the average particle diameter of the abrasive grains 19. For example, if the average diameter of the abrasive grains 19 is about 10 to 20 μm, the thickness of the plating layer 17 may be about 5 to 10 μm, for example. This is because if the plating layer is too thin, the holding power of the abrasive grains 19 becomes insufficient, and stable cutting cannot be performed. Further, if the plating layer 17 is too thick, the outer diameter of the wire saw 7 is increased, so that the cutting yield of the work material is reduced and it takes time to form the plating.

次に、ワイヤソー7の製造方法について説明する。図3は、ワイヤソー用線材35を製造するためのファイバ製造装置20を示す概略図である。なお、本発明では、前述した抗張力を有する石英ファイバを製造可能であれば、その製造方法を限定するものではない。   Next, a method for manufacturing the wire saw 7 will be described. FIG. 3 is a schematic view showing the fiber manufacturing apparatus 20 for manufacturing the wire saw wire 35. In the present invention, the production method is not limited as long as the above-described quartz fiber having the tensile strength can be produced.

まず、ファイバ母材21を製造する。ファイバ母材21であるガラス微粒子堆積体は、例えばOVD法(Outside Vapor Deposition method)等により製造すればよい。OVD法は、珪素を含むガラス原料を可燃性ガス、助燃性ガス等の燃焼ガスとともにバーナに導入し、火炎中でガラス原料を加水分解反応又は酸化反応させることにより、ガラス微粒子体及び微粒子体の集合体を生成させ、これを回転する堆積ターゲットとなる心棒の外周に堆積させてガラス微粒子堆積体を形成する方法である。ガラス微粒子堆積体を炉で透明化することでファイバ母材21を得ることができる。   First, the fiber preform 21 is manufactured. What is necessary is just to manufacture the glass fine particle deposit body which is the fiber preform | base_material 21 by the OVD method (Outside Vapor Deposition method) etc., for example. In the OVD method, a glass material containing silicon is introduced into a burner together with a combustion gas such as a flammable gas and an auxiliary combustible gas, and the glass material is hydrolyzed or oxidized in a flame. In this method, an aggregate is generated and is deposited on the outer periphery of a mandrel serving as a rotating deposition target to form a glass particulate deposit. The fiber preform 21 can be obtained by making the glass particulate deposits transparent in a furnace.

得られたファイバ母材21をファイバ製造装置20で線引きする。ファイバ製造装置20は、ヒータ23、樹脂層被覆ダイス25、紫外線照射装置27、31、導電層被覆ダイス29、巻き取り装置37等からなる。   The obtained fiber preform 21 is drawn by the fiber manufacturing apparatus 20. The fiber manufacturing apparatus 20 includes a heater 23, a resin layer coating die 25, ultraviolet irradiation devices 27 and 31, a conductive layer coating die 29, a winding device 37, and the like.

まず、ファイバ母材21をヒータ23で加熱溶融して延伸し(図中矢印E方向)、所定の径を有するファイバ裸線33を得る。これにより、60〜300μmの芯線が得られる。次に、一定温度に加温された液状樹脂が供給された樹脂層被覆ダイス25にファイバ裸線33を通過させ、外周に液状樹脂を塗布する。ここで、樹脂層被覆ダイス25のクリアランスは、例えば、紫外線照射後の硬化収縮を考慮して、被覆厚さより大きめの被覆厚さの2倍程度に設定される。紫外線照射装置27により液状樹脂に紫外線が照射することで樹脂層13が形成される。   First, the fiber preform 21 is heated and melted by the heater 23 and drawn (in the direction of arrow E in the figure) to obtain a bare fiber 33 having a predetermined diameter. Thereby, a core wire of 60-300 micrometers is obtained. Next, the bare fiber wire 33 is passed through the resin layer coating die 25 to which the liquid resin heated to a certain temperature is supplied, and the liquid resin is applied to the outer periphery. Here, the clearance of the resin layer coating die 25 is set to about twice the coating thickness larger than the coating thickness in consideration of curing shrinkage after ultraviolet irradiation, for example. The resin layer 13 is formed by irradiating the liquid resin with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device 27.

次いで、一定温度に加温された金属粒子16を含む液状樹脂が供給された導電層被覆ダイス29に樹脂層13が形成されたファイバ裸線33を通過させ、外周に液状樹脂を塗布する。紫外線照射装置31により紫外線が照射されて液状樹脂が硬化し導電層15が形成される。得られたワイヤソー用線材35は巻き取り装置37で巻き取られる(図中矢印F方向)。   Next, the bare fiber 33 on which the resin layer 13 is formed is passed through the conductive layer coating die 29 to which the liquid resin containing the metal particles 16 heated to a certain temperature is supplied, and the liquid resin is applied to the outer periphery. The conductive layer 15 is formed by irradiating ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation device 31 and curing the liquid resin. The obtained wire saw wire 35 is wound up by a winding device 37 (in the direction of arrow F in the figure).

次に、砥粒の電着工程を説明する。図4は、ワイヤソー製造装置40を示す概略図である。まず、ワイヤソー用線材35を脱脂槽41に送る(図中矢印G方向)。脱脂槽41は、例えば水酸化ナトリウム水溶液が蓄えられた槽であり、ワイヤソー用線材35の外表面に付着している油分等の汚れが除去される。水洗槽43では、表面に付着している脱脂槽41の薬液等が洗浄される。   Next, the electrodeposition process of abrasive grains will be described. FIG. 4 is a schematic view showing the wire saw manufacturing apparatus 40. First, wire saw wire 35 is sent to degreasing tank 41 (in the direction of arrow G in the figure). The degreasing tank 41 is a tank in which, for example, an aqueous sodium hydroxide solution is stored, and dirt such as oil adhering to the outer surface of the wire saw wire 35 is removed. In the washing tank 43, the chemical solution or the like of the degreasing tank 41 attached to the surface is washed.

めっき槽45は、ワイヤソー用線材35に電解めっきを行い、ダイヤモンド砥粒を電着するための槽である。めっき槽45は、たとえばニッケルを溶解した溶液に砥粒を分散させたニッケル浴である。めっき槽45を通過するワイヤソー用線材35には、陰極49が接続される。また、めっき槽45にはニッケル陽極51が浸漬される。陰極49と陽極51は、図示を省略した電源に接続される。以上により、所望の厚さのめっき層が形成される。   The plating tank 45 is a tank for electrolytically plating the wire saw wire 35 and electrodepositing diamond abrasive grains. The plating tank 45 is, for example, a nickel bath in which abrasive grains are dispersed in a solution in which nickel is dissolved. A cathode 49 is connected to the wire saw wire 35 that passes through the plating tank 45. A nickel anode 51 is immersed in the plating tank 45. The cathode 49 and the anode 51 are connected to a power source (not shown). Thus, a plating layer having a desired thickness is formed.

なお、砥粒には、予めカチオン系界面活性剤溶液中で処理したものが用いられる。このようにすることで、砥粒にプラスの電荷をおびさせることができる。したがって、陰極49に接続されたワイヤソー用線材35にクーロン力により砥粒を吸着させることができる。   In addition, what was previously processed in the cationic surfactant solution is used for the abrasive grains. By doing in this way, a positive electric charge can be given to an abrasive grain. Accordingly, the abrasive grains can be adsorbed to the wire saw wire 35 connected to the cathode 49 by the Coulomb force.

めっき層で砥粒が保持された状態で、水洗槽47で余分な薬剤等を洗浄し、巻き取り装置53で巻き取られて(図中矢印H方向)、ワイヤソーが製造される。   In a state where the abrasive grains are held by the plating layer, excess chemicals and the like are washed in the water washing tank 47 and wound up by the winding device 53 (in the direction of arrow H in the figure), whereby a wire saw is manufactured.

本発明によれば、芯線11が石英ファイバからなるため、例えば従来のピアノ線よりも高い抗張力を有する。このため、ワイヤソーの破断を抑制するとともに、ワイヤソーの外径を細くすることができる。   According to the present invention, since the core wire 11 is made of quartz fiber, it has a higher tensile strength than, for example, a conventional piano wire. For this reason, it is possible to suppress breakage of the wire saw and to reduce the outer diameter of the wire saw.

また、砥粒19を保持するめっき層17を形成するために導電層15が設けられる。したがって、均一な厚みのめっき層17を容易に形成することができる。この際、導電層15に含まれる金属粒子16の比表面積を1.9m/g以下とすることで、導電層15の硬化不良の発生を防止することができる。 In addition, a conductive layer 15 is provided to form a plating layer 17 that holds the abrasive grains 19. Therefore, the plating layer 17 having a uniform thickness can be easily formed. At this time, by setting the specific surface area of the metal particles 16 included in the conductive layer 15 to 1.9 m 2 / g or less, occurrence of poor curing of the conductive layer 15 can be prevented.

また、金属粒子16の平均粒径を4.9μm以下とすることで、耐久性の高いワイヤソーを得ることができる。   Moreover, a highly durable wire saw can be obtained by making the average particle diameter of the metal particle 16 into 4.9 micrometers or less.

また、芯線11の折損を防止するため、芯線11の外周に樹脂層13が設けられる。このため、芯線11を曲げた際に、芯線11が折れることがない。さらに樹脂層13は、砥粒19と芯線11との接触を防止する緩衝層として機能する。このため、砥粒19が芯線11と接触し、芯線11に傷をつけることがなく、これにより芯線11が破断することもない。   Further, in order to prevent breakage of the core wire 11, a resin layer 13 is provided on the outer periphery of the core wire 11. For this reason, when the core wire 11 is bent, the core wire 11 is not broken. Further, the resin layer 13 functions as a buffer layer that prevents contact between the abrasive grains 19 and the core wire 11. For this reason, the abrasive grains 19 come into contact with the core wire 11 and do not damage the core wire 11, thereby preventing the core wire 11 from being broken.

以上、添付図を参照しながら、本発明の実施の形態を説明したが、本発明の技術的範囲は、前述した実施の形態に左右されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, the technical scope of this invention is not influenced by embodiment mentioned above. It is obvious for those skilled in the art that various modifications or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. It is understood that it belongs.

以下、各種の金属粒子を用いて、ワイヤソー用線材の耐破断性と紫外線硬化性について評価した。用いた金属粒子の性状と評価結果を表1に示す。   Hereinafter, the fracture resistance and ultraviolet curability of the wire saw wire were evaluated using various metal particles. Table 1 shows the properties and evaluation results of the metal particles used.

Figure 2014054716
Figure 2014054716

耐破断性は以下のようにして評価した。まず、外径80μmに線引きしたガラスファイバの外周に、厚さ10μmの樹脂層を形成し、その外周に厚さ5μmの導電層を形成した。導電層には各種性状の金属粒子を含有させた。なお、金属粒子の平均粒径は、溶媒に金属粒子を分散させ、光散乱を利用して測定を行った。また、金属粒子の比表面積は、BET法により測定を行った。表1の実施例では、何れも紫外線硬化樹脂100質量部に対して、金属粒子(実施例は銀)を360質量部添加して、表1の材料を作製した。   The fracture resistance was evaluated as follows. First, a resin layer having a thickness of 10 μm was formed on the outer periphery of a glass fiber drawn to an outer diameter of 80 μm, and a conductive layer having a thickness of 5 μm was formed on the outer periphery. The conductive layer contained metal particles having various properties. The average particle size of the metal particles was measured using light scattering by dispersing the metal particles in a solvent. The specific surface area of the metal particles was measured by the BET method. In the examples in Table 1, 360 parts by mass of metal particles (in the example, silver) were added to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin, and the materials in Table 1 were prepared.

粒子形状は、金属粒子の概ねの外径を示し、球状とは必ずしも球体に限られず、粒状のものを含むものである。また、フレークとは、麟片状などの平坦な形状のものを含むものである。また、塊状とは、球状またはフレークが一体で固結して形成されるものである。なお、塊状における粒子径は、塊を構成する個々の粒子が集まった塊の径(2次粒子の直径)である。尚、実施例15に記載の塊状の粒子とは、1次粒子径が50nmの微粒子還元銀粉が集合したものである。   The particle shape indicates the general outer diameter of the metal particles, and the spherical shape is not necessarily limited to a sphere, but includes a granular shape. The flakes include those having a flat shape such as a scissors shape. The lump shape is formed by integrally solidifying spherical or flakes. The particle diameter in the lump shape is the diameter of the lump (secondary particle diameter) in which individual particles constituting the lump are collected. In addition, the massive particles described in Example 15 are a collection of fine particle reduced silver powder having a primary particle diameter of 50 nm.

このようにして得られたワイヤソー用線材35に対して、図5(a)に示す方法で破断荷重を測定した。まず、一対の金属板55の間にワイヤソー用線材35を配置して、金属板55によってワイヤソー用線材35を挟み込むようにして荷重Iを付与した。なお、金属板55は8mm長さのものを用いた。   With respect to the wire saw wire 35 thus obtained, the breaking load was measured by the method shown in FIG. First, the wire saw wire 35 was disposed between the pair of metal plates 55, and the load I was applied so that the wire saw wire 35 was sandwiched between the metal plates 55. The metal plate 55 was 8 mm long.

図5(b)に示すように、金属板55の表面には、あらかじめ接着剤によってダイヤモンド砥粒57を固定した。すなわち、ワイヤソー用線材35は、ダイヤモンド砥粒57によって上下から押圧される。この際、金属板55に付与する荷重を1kgずつ増加していき、ワイヤソー用線材35が破断した際の荷重を計測した。すなわち、耐破断性の数値(kg)が大きいほど、耐破断性に優れ、破断しにくいワイヤソー用線材であることを示す。   As shown in FIG. 5B, diamond abrasive grains 57 were previously fixed to the surface of the metal plate 55 with an adhesive. That is, the wire saw wire 35 is pressed from above and below by the diamond abrasive grains 57. At this time, the load applied to the metal plate 55 was increased by 1 kg, and the load when the wire saw wire 35 was broken was measured. That is, it shows that it is the wire rod for wire saws which is excellent in fracture resistance and is hard to fracture, so that a numerical value (kg) of fracture resistance is large.

また、紫外線硬化性(UV硬化性)は、以下のようにして評価した。ガラス板上に金属粒子を含む紫外線硬化樹脂を膜厚10μmで塗布して、照射量100mJ/cmの紫外線を照射した。その後、指触によって、樹脂の表面がべたべたしているものを「×」とし、完全に硬化しているものを「○」とした。 Further, the ultraviolet curable property (UV curable property) was evaluated as follows. An ultraviolet curable resin containing metal particles was applied to a glass plate with a film thickness of 10 μm, and irradiated with ultraviolet rays having an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 . After that, the resin surface that was sticky by touch was designated as “X”, and the resin surface that was completely cured was designated as “◯”.

表1より明らかなように、比表面積が1.9m/g以下であるNo.1〜13は、UV硬化性が「○」となった。すなわち、比表面積が1.9m/g以下であれば、導電層が硬化不良となることがない。 As is apparent from Table 1, No. 1 having a specific surface area of 1.9 m 2 / g or less. In Nos. 1 to 13, the UV curability was “◯”. That is, if the specific surface area is 1.9 m 2 / g or less, the conductive layer will not be poorly cured.

また、粒子径が4.9μm以下であれば、耐破断性5kg以上を確保することができた。さらに、粒子径が1.6μm以下であれば、耐破断性6kg以上を確保することができた。すなわち、粒子径が小さいほど、砥粒による圧縮に対する耐破断性を向上することができる。   Further, when the particle diameter was 4.9 μm or less, the fracture resistance of 5 kg or more could be secured. Furthermore, when the particle diameter was 1.6 μm or less, the fracture resistance of 6 kg or more could be secured. That is, the smaller the particle diameter, the better the rupture resistance against compression by abrasive grains.

1………切断装置
3………インゴット
5………保持部
7………ワイヤソー
9………ローラ
11………芯線
13………樹脂層
15………導電層
16………金属粒子
17………めっき層
19………砥粒
20………ファイバ製造装置
21………ファイバ母材
23………ヒータ
25………樹脂層被覆ダイス
27………紫外線照射装置
29………導電層被覆ダイス
31………紫外線照射装置
33………ファイバ裸線
35………ワイヤソー用線材
37………巻き取り装置
40………ワイヤソー製造装置
41………脱脂槽
43………水洗槽
45………めっき槽
47………水洗槽
49………陰極
51………陽極
53………巻き取り装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ......... Cutting device 3 ......... Ingot 5 ......... Holding part 7 ......... Wire saw 9 ......... Roller 11 ......... Core wire 13 ......... Resin layer 15 ...... Conductive layer 16 ...... Metal particles 17 ......... Plating layer 19 ...... Abrasive grain 20 ...... Fiber manufacturing device 21 ......... Fiber base material 23 ...... Heater 25 ...... Resin layer coating die 27 ...... UV irradiation device 29 ......... Conductive layer coating die 31... UV irradiation device 33... Bare wire 35... Wire saw wire 37. Tank 45 ......... Plating tank 47 ......... Washing tank 49 ......... Cathode 51 ......... Anode 53 ......... Winding device

Claims (6)

石英ファイバからなる芯線と、
前記芯線の外周に形成され、前記芯線を保護する樹脂層と、
前記樹脂層の外周に形成される導電層と、
を具備し、
前記導電層は、紫外線硬化樹脂に金属粒子が配合されて形成され、前記金属粒子の比表面積が1.9m/g以下で、金属粒子の平均粒子径が4.9μm以下であり、導電層の厚みが平均粒子径より大きいことを特徴とするワイヤソー用線材。
A core wire made of quartz fiber;
A resin layer formed on an outer periphery of the core wire and protecting the core wire;
A conductive layer formed on the outer periphery of the resin layer;
Comprising
The conductive layer is formed by blending metal particles in an ultraviolet curable resin, the metal particles have a specific surface area of 1.9 m 2 / g or less, and the average particle diameter of the metal particles is 4.9 μm or less. A wire rod for a wire saw, wherein the thickness of the wire is larger than the average particle diameter.
前記導電層を形成する微粒子が銀粒子であり、前記導電層の厚さが1〜5μmで、さらに導電層の体積抵抗率が10−3〜2×10−6の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載のワイヤソー用線材。 The fine particles forming the conductive layer are silver particles, the thickness of the conductive layer is 1 to 5 μm, and the volume resistivity of the conductive layer is in the range of 10 −3 to 2 × 10 −6. The wire material for wire saws according to claim 1. 前記芯線を保護する樹脂層の厚さは、3〜20μmの範囲であり、弾性率が500〜5000MPaであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のワイヤソー用線材。   The wire rod for a wire saw according to claim 1 or 2, wherein the resin layer protecting the core wire has a thickness in a range of 3 to 20 µm and an elastic modulus of 500 to 5000 MPa. 前記芯線は、外径が60〜300μmで、抗張力が5000Mpa以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のワイヤソー用線材。   The wire rod for a wire saw according to any one of claims 1 to 3, wherein the core wire has an outer diameter of 60 to 300 µm and a tensile strength of 5000 Mpa or more. 請求項1から請求項4のいずれかに記載のワイヤソー用線材を用い、
前記導電層の外周に形成される砥粒保持層と、
前記砥粒保持層に保持される砥粒と、
を具備し、
前記砥粒保持層がめっきで形成されることを特徴とするワイヤソー。
Using the wire material for a wire saw according to any one of claims 1 to 4,
An abrasive-holding layer formed on the outer periphery of the conductive layer;
Abrasive grains held in the abrasive grain holding layer;
Comprising
The wire saw, wherein the abrasive grain holding layer is formed by plating.
石英ファイバからなる芯線と、
前記芯線の外周に形成され、前記芯線を保護する樹脂層と、
前記樹脂層の外周に形成される導電層と、
前記導電層の外周に形成される砥粒保持層と、
前記砥粒保持層に保持される砥粒と、
を具備し、
前記導電層は、紫外線硬化樹脂に金属粒子が配合されて形成され、前記金属粒子の比表面積が1.9m/g以下であり、
前記金属粒子の粒子径が4.9μm以下であるワイヤソーを用い、切断対象物を切断することを特徴とするワイヤソーを用いた切断方法。
A core wire made of quartz fiber;
A resin layer formed on an outer periphery of the core wire and protecting the core wire;
A conductive layer formed on the outer periphery of the resin layer;
An abrasive-holding layer formed on the outer periphery of the conductive layer;
Abrasive grains held in the abrasive grain holding layer;
Comprising
The conductive layer is formed by blending metal particles into an ultraviolet curable resin, and the specific surface area of the metal particles is 1.9 m 2 / g or less,
A cutting method using a wire saw, wherein a cutting object is cut using a wire saw in which the metal particles have a particle diameter of 4.9 μm or less.
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JP2014113668A (en) * 2012-12-11 2014-06-26 Noritake Co Ltd Wire tool and wire tool manufacturing method

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