JP2014051013A - Method for manufacturing transparent shaped film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a transparent shaped film having good formativeness and exhibiting weathering performance and self-cleaning properties.SOLUTION: A method for manufacturing a transparent shaped film includes the steps of: preparing a plastic substrate 1, a shaping plate 24, and an electron beam curable resin composition 6; setting the electron beam curable resin composition 6 between the plastic substrate 1 and the shaping plate 24; forming a shaped layer 2 by irradiating the electron beam curable resin composition 6 with an electron beam; peeling off the plastic substrate 1 and the shaped layer 2 from the shaping plate 24; and forming an inorganic layer 3 having hydrophilicity on the shaped layer 2 by an ion plating method or a plasma chemical vapor phase growth method. The electron beam curable resin composition 6 contains urethane acrylate and an ultraviolet absorber. The urethane acrylate has a glass transition temperature of 17°C or higher or has no glass transition temperature, and has a viscosity at 60°C of not less than 2,000 mPa s and not more than 24,000 mPa s.

Description

本発明は、透明賦形フィルムの製造方法に関し、さらに詳しくは、良好な耐候性と自浄性を示す透明賦形フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a transparent shaped film, and more particularly, to a method for producing a transparent shaped film exhibiting good weather resistance and self-cleaning properties.

透明賦形フィルムは、光学要素としての賦形形状を有し、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、太陽電池、タッチパネル、電子ペーパー等の装置に用いられているとともに、建物や自動車の窓に貼るフィルム等に用いられている。こうした透明賦形フィルムが屋外で使用される場合は、高い耐候性が求められている。   The transparent shaped film has a shaped shape as an optical element, and is used in devices such as organic electroluminescence elements (organic EL elements), liquid crystal display elements, thin film transistors, solar cells, touch panels, electronic paper, It is used for films to be attached to windows of buildings and cars. When such a transparent shaped film is used outdoors, high weather resistance is required.

耐候性を示す透明賦形フィルムに関する技術は従来から種々提案されている。例えば特許文献1には、屋外構造体に積層体を使用する場合に、黄変せず、基材上に設ける層の割れや脱離が生じない、耐候性に優れた積層体が提案されている。具体的には、基材上に、少なくともプライマー層及び表面保護層を積層してなる積層体であって、そのプライマー層及び表面保護層のいずれか一方又は両方が白色又は透明を呈し、その表面保護層が電離放射線硬化性樹脂及びその電離放射線硬化性樹脂と反応性を有するヒンダードアミン系光安定剤又は常温で固体のヒンダードアミン系光安定剤を含有する電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化してなる積層体が提案されている。   Various techniques relating to transparent shaped films exhibiting weather resistance have been proposed. For example, Patent Document 1 proposes a laminate excellent in weather resistance that does not yellow and does not crack or detach from a layer provided on a substrate when the laminate is used for an outdoor structure. Yes. Specifically, it is a laminate formed by laminating at least a primer layer and a surface protective layer on a substrate, and either or both of the primer layer and the surface protective layer are white or transparent, and the surface A protective layer is obtained by crosslinking and curing an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin and a hindered amine light stabilizer having reactivity with the ionizing radiation curable resin or a hindered amine light stabilizer solid at room temperature. A laminate is proposed.

また、特許文献2には、熱や光や水分に対して耐候性を有する樹脂基材が提案されている。具体的には、光安定剤を含有する樹脂基材の少なくとも片面に、Si又はAlを含む酸化物、窒酸化物又は窒化物を主成分とするセラミック層を少なくとも1層有し、且つ、水蒸気透過率(JIS K7129−1992 B法、40℃,90%RH条件下)が、0.01g/m2/24時間以下である耐候性樹脂基材が提案されている。   Patent Document 2 proposes a resin base material having weather resistance against heat, light and moisture. Specifically, it has at least one ceramic layer mainly composed of an oxide, nitride oxide or nitride containing Si or Al on at least one surface of a resin substrate containing a light stabilizer, and water vapor. A weather resistant resin base material having a transmittance (JIS K7129-1992 method B, 40 ° C., 90% RH condition) of 0.01 g / m 2/24 hours or less has been proposed.

また、特許文献3には、表面が微細な凹凸状の防眩層を有する光学機能性フィルムが提案されている。具体的には、透明基材フィルム上に、直接又は他の層を介して表面が微細な凹凸状の防眩層が形成されており、さらにその上に酸化ケイ素膜が形成された光学機能性フィルムであって、その酸化ケイ素膜が、水に対する表面の接触角が40°〜180°のSiOx膜(xは1.50≦x≦4.00)からなる光学機能性フィルムが提案されている。   Patent Document 3 proposes an optical functional film having an uneven antiglare layer with a fine surface. Specifically, an optical functional property in which an uneven antiglare layer having a fine surface is formed directly or via another layer on a transparent substrate film, and a silicon oxide film is further formed thereon. There has been proposed an optical functional film in which the silicon oxide film is a SiOx film (x is 1.50 ≦ x ≦ 4.00) having a surface contact angle with water of 40 ° to 180 °. .

特開2011−207183号公報JP 2011-207183 A WO2009/150992A1WO2009 / 150992A1 特開2004−341541号公報JP 2004-341541 A

ところで、近年の透明賦形フィルムは、賦形性と透明性が良好であることはもちろん、耐候性の要求と共に自浄性も要求されている。そのため、プラスチック基材上に有機材料からなる賦形層が設けられた透明賦形フィルムには、賦形層上に親水性の無機層を積層しているものがある。そうした親水性の無機層が設けられた透明賦形フィルムは、自浄性が良好になるという利点がある。   By the way, recent transparent shaped films have not only good shapeability and transparency, but also self-cleaning properties as well as a requirement for weather resistance. Therefore, in some transparent shaped films in which a shaping layer made of an organic material is provided on a plastic substrate, a hydrophilic inorganic layer is laminated on the shaping layer. The transparent shaped film provided with such a hydrophilic inorganic layer has an advantage that the self-cleaning property is improved.

しかしながら、特許文献1で提案された積層体は、耐候性は良好であるものの、そこで使用しているポリウレタンアクリレート樹脂では賦形層を賦形性良く形成できないと考えられる。また、その樹脂材料で仮に賦形層を形成した場合であっても、その賦形層上に自浄性を付与するための無機層を成膜する際に、成膜時の熱やプラズマによって賦形層が変色してしまうおそれがある。   However, although the laminated body proposed in Patent Document 1 has good weather resistance, it is considered that the shaped layer cannot be formed with good formability with the polyurethane acrylate resin used therein. Further, even if a shaping layer is formed with the resin material, when the inorganic layer for imparting self-cleaning properties is formed on the shaping layer, it is imparted by heat or plasma during film formation. The shape layer may be discolored.

また、特許文献2で提案された樹脂基材は、紫外線吸収剤を含んでいるために耐候性は良好であるものの、そこで使用しているペンタエリスリトール多官能アクリレート樹脂では賦形層を賦形性良く形成できないと考えられる。   In addition, although the resin base material proposed in Patent Document 2 includes a UV absorber and has good weather resistance, the pentaerythritol polyfunctional acrylate resin used therein has a shaping layer. It is thought that it cannot be formed well.

また、特許文献3で提案された光学機能性フィルムは、そこで使用しているポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとを有するバインダー樹脂では賦形層を賦形性良く形成できないと考えられる。また、その樹脂材料で仮に賦形層を形成した場合であっても、その賦形層上に自浄性を付与するための無機層を成膜する際に、成膜時の熱やプラズマによって賦形層が変色して透明性が低下するおそれがある。   Moreover, it is thought that the optical functional film proposed by patent document 3 cannot form a shaping layer with sufficient shaping property with the binder resin which has the polyester acrylate and polyurethane acrylate currently used there. Further, even if a shaping layer is formed with the resin material, when the inorganic layer for imparting self-cleaning properties is formed on the shaping layer, it is imparted by heat or plasma during film formation. The shape layer may be discolored and transparency may be lowered.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、賦形性が良く、耐侯性と自浄性を示す透明賦形フィルムの製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a transparent shaped film that has good shapeability and exhibits weather resistance and self-cleaning properties.

上記課題を解決するための本発明に係る透明賦形フィルムの製造方法は、プラスチック基材と賦形版と電子線硬化性樹脂組成物とを準備する工程と、前記プラスチック基材と前記賦形版との間に前記電子線硬化性樹脂組成物を設ける工程と、前記電子線硬化性樹脂組成物に電子線を照射して賦形層を形成する工程と、前記プラスチック基材と前記賦形層とを前記賦形版から剥離する工程と、前記賦形層上にイオンプレーティング法又はプラズマ化学的気相成長法で親水性を有する無機層を形成する工程と、を有し、前記電子線硬化性樹脂組成物は、ウレタンアクリレートと紫外線吸収剤とを含有し、該ウレタンアクリレートは、ガラス転移温度が17℃以上又はガラス転移温度を示さず、60℃での粘度が2000mPa・s以上、24000mPa・s以下であることを特徴とする。   The method for producing a transparent shaped film according to the present invention for solving the above problems includes a step of preparing a plastic substrate, a shaped plate, and an electron beam curable resin composition, the plastic substrate and the shaping A step of providing the electron beam curable resin composition between the plate, a step of irradiating the electron beam curable resin composition with an electron beam to form a shaping layer, the plastic substrate and the shaping Separating the layer from the shaping plate, and forming a hydrophilic inorganic layer on the shaping layer by an ion plating method or a plasma chemical vapor deposition method, and the electron The linear curable resin composition contains a urethane acrylate and an ultraviolet absorber, and the urethane acrylate has a glass transition temperature of 17 ° C. or higher or a glass transition temperature, and a viscosity at 60 ° C. of 2000 mPa · s or higher. 2400 Characterized in that it is less than or equal to mPa · s.

本発明に係る透明賦形フィルムの製造方法において、前記電子線硬化性樹脂組成物が光安定剤を含有してもよい。   In the method for producing a transparent shaped film according to the present invention, the electron beam curable resin composition may contain a light stabilizer.

本発明に係る透明賦形フィルムの製造方法において、前記電子線硬化性樹脂組成物が離型剤を含有してもよい。   In the method for producing a transparent shaped film according to the present invention, the electron beam curable resin composition may contain a release agent.

本発明によれば、賦形性が良く、耐侯性と自浄性を示すことができ透明賦形フィルムを製造することができる。   According to the present invention, the shapeability is good, the weather resistance and self-cleaning properties can be shown, and a transparent shaped film can be produced.

本発明に係る製造方法で得られた透明賦形フィルムの一例を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows an example of the transparent shaping film obtained with the manufacturing method which concerns on this invention. 透明賦形フィルムの例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the example of a transparent shaping film. 本発明に係る透明賦形フィルムの製造方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the transparent shaping film which concerns on this invention.

以下、本発明に係る透明賦形フィルムの製造方法について詳細に説明する。本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。   Hereinafter, the manufacturing method of the transparent shaped film which concerns on this invention is demonstrated in detail. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist thereof.

[透明賦形フィルムの製造方法]
本発明に係る透明賦形フィルム10の製造方法は、図1及び図2に示すように、プラスチック基材1と、プラスチック基材1上に設けられた賦形層2と、賦形層2上に設けられた無機層3とを有する透明賦形フィルム10を製造するための方法である。
[Method for producing transparent shaped film]
As shown in FIG.1 and FIG.2, the manufacturing method of the transparent shaping film 10 which concerns on this invention is the plastic base material 1, the shaping layer 2 provided on the plastic base material 1, and the shaping layer 2 top. It is a method for manufacturing the transparent shaping film 10 which has the inorganic layer 3 provided in this.

そして、その製造方法は、図3に示すように、プラスチック基材1と賦形版24と電子線硬化性樹脂組成物6とを準備する工程(準備工程)と、プラスチック基材1と賦形版24との間に電子線硬化性樹脂組成物6を設ける工程(組成物設置工程)と、電子線硬化性樹脂組成物6に電子線を照射して賦形層2を形成する工程(賦形層形成工程)と、プラスチック基材1と賦形層2とを賦形版24から剥離する工程(剥離工程)と、賦形層2上にイオンプレーティング法又はプラズマ化学的気相成長法で親水性を有する無機層3を形成する工程(無機層形成工程)とを有している。この製造方法において、電子線硬化性樹脂組成物6は、ウレタンアクリレートと紫外線吸収剤とを含有し、ウレタンアクリレートは、ガラス転移温度が17℃以上又はガラス転移温度を示さず、60℃での粘度が2000mPa・s以上、24000mPa・s以下であることに特徴がある。   And the manufacturing method is as shown in FIG. 3, the process (preparation process) which prepares the plastic base material 1, the shaping plate 24, and the electron beam curable resin composition 6, and the plastic base material 1 and the shaping. A step of providing the electron beam curable resin composition 6 between the plate 24 (composition installing step) and a step of forming the shaping layer 2 by irradiating the electron beam curable resin composition 6 with an electron beam (imposition) Forming layer forming step), a step of peeling the plastic substrate 1 and the shaping layer 2 from the shaping plate 24 (peeling step), and an ion plating method or a plasma chemical vapor deposition method on the shaping layer 2 And the step of forming the hydrophilic inorganic layer 3 (inorganic layer forming step). In this production method, the electron beam curable resin composition 6 contains a urethane acrylate and an ultraviolet absorber, and the urethane acrylate has a glass transition temperature of 17 ° C. or higher or a glass transition temperature, and a viscosity at 60 ° C. Is 2000 mPa · s or more and 24000 mPa · s or less.

こうした透明賦形フィルム10の製造方法によれば、賦形性が良く、耐侯性と自浄性を示すことができる透明賦形フィルムを製造することができる。より詳しくは、電子線硬化性樹脂組成物6がウレタンアクリレートと紫外線吸収剤とを含有するので、その電子線硬化性樹脂組成物6で形成された賦形層2は紫外線に対して良好な耐侯性を示すことができる。また、電子線硬化性樹脂組成物6は、60℃での粘度が2000mPa・s以上、24000mPa・s以下のウレタンアクリレートを含有するので、賦形層2を形状精度良く形成することができる。また、電子線硬化性樹脂組成物6はガラス転移温度が17℃以上又はガラス転移温度を示さないウレタンアクリレートを含有するので、形成された賦形層2は耐熱性が増す。その結果、自浄性を持つ親水性を有した無機層3をイオンプレーティング法又はプラズマ化学的気相成長法で成膜する際に、例えばプラズマ放電時に生じる熱によって賦形層2が白化するのを防ぐことができる。   According to such a method for producing the transparent shaped film 10, it is possible to produce a transparent shaped film that has good shapeability and can exhibit weather resistance and self-cleaning properties. More specifically, since the electron beam curable resin composition 6 contains urethane acrylate and an ultraviolet absorber, the shaping layer 2 formed with the electron beam curable resin composition 6 has good weather resistance against ultraviolet rays. Can show gender. Moreover, since the electron beam curable resin composition 6 contains a urethane acrylate having a viscosity at 60 ° C. of 2000 mPa · s or more and 24000 mPa · s or less, the shaping layer 2 can be formed with high shape accuracy. Moreover, since the electron beam curable resin composition 6 contains urethane acrylate having a glass transition temperature of 17 ° C. or higher or no glass transition temperature, the formed shaping layer 2 has increased heat resistance. As a result, when forming the hydrophilic inorganic layer 3 having self-cleaning properties by the ion plating method or the plasma chemical vapor deposition method, the shaping layer 2 is whitened by heat generated during plasma discharge, for example. Can be prevented.

以下、本発明に係る透明賦形フィルムの製造方法の各工程について詳細に説明する。   Hereinafter, each process of the manufacturing method of the transparent shaped film which concerns on this invention is demonstrated in detail.

<準備工程>
準備工程は、プラスチック基材1と、賦形版24と、電子線硬化性樹脂組成物6とを準備する工程である。なお、電子線硬化性樹脂組成物6については、下記の組成物設置工程の説明欄で詳しく説明する。
<Preparation process>
The preparation step is a step of preparing the plastic substrate 1, the shaping plate 24, and the electron beam curable resin composition 6. In addition, about the electron beam curable resin composition 6, it explains in detail in the description column of the following composition installation process.

(プラスチック基材)
プラスチック基材1は、透明性を有し、その上に賦形層2を形成できるものであれば特に限定されない。実使用の見地からは、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィンポリマー、及びトリアセチルセルロース(TAC)等からなるプラスチック基材1を挙げることができる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、これらの共重合体、及びポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート(PCT)等を挙げることができる。ポリエステル系樹脂のうちでも、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、及びこれらの共重合体が好ましく、ポリエチレンナフタレート及びポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。シクロオレフィンポリマーとしては、ノルボルネン系ポリマー、シクロペンテン系ポリマー、シクロブテン系ポリマー等を挙げることができ、中でも、ノルボルネン系ポリマーを好ましく挙げることができる。
(Plastic substrate)
The plastic substrate 1 is not particularly limited as long as it has transparency and can form the shaping layer 2 thereon. From the standpoint of actual use, a plastic substrate 1 made of a polyester resin, a cycloolefin polymer, triacetyl cellulose (TAC), or the like can be given. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), copolymers thereof, and polycyclohexanedimethylene terephthalate (PCT). Among the polyester resins, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and copolymers thereof are preferable, and polyethylene naphthalate and polyethylene terephthalate are particularly preferable. Examples of the cycloolefin polymer include a norbornene polymer, a cyclopentene polymer, a cyclobutene polymer, and the like. Among these, a norbornene polymer can be preferably exemplified.

プラスチック基材1の材質としてポリエステル系樹脂を適用する場合、その全てがポリエステル系樹脂からなるプラスチック基材1であってもよいし、賦形層2が形成される側の面S1(図1及び図2参照)に少なくともポリエステル系樹脂層が形成されている積層型のプラスチック基材1であってもよい。この積層型のプラスチック基材1では、賦形層2が形成されるポリエステル系樹脂層以外の層は、ポリエステル系樹脂層でなくてもよい。ポリエステル系樹脂層以外の層としては、耐熱性、熱膨張及び光透過性等を考慮した各種の樹脂層を選定できる。   When a polyester resin is applied as the material of the plastic substrate 1, the plastic substrate 1 may be entirely made of a polyester resin, or the surface S1 on the side on which the shaping layer 2 is formed (see FIG. 1 and FIG. 1). A laminated plastic substrate 1 in which at least a polyester resin layer is formed may be used (see FIG. 2). In this laminated plastic substrate 1, layers other than the polyester resin layer on which the shaping layer 2 is formed may not be a polyester resin layer. As a layer other than the polyester resin layer, various resin layers can be selected in consideration of heat resistance, thermal expansion, light transmittance, and the like.

プラスチック基材1の厚さは特に限定されないが、10μm以上、500μm以下の程度であることが好ましい。プラスチック基材1は、その厚さによってフィルム状又はシート状と呼ばれることがある。また、プラスチック基材1は、全光線透過率が80%以上であることが好ましい。全光線透過率を80%以上とすることにより、透明性が要求される用途に透明賦形フィルム10を好ましく使用することができる。   Although the thickness of the plastic base material 1 is not specifically limited, It is preferable that it is a grade of 10 micrometers or more and 500 micrometers or less. The plastic substrate 1 may be called a film shape or a sheet shape depending on its thickness. The plastic substrate 1 preferably has a total light transmittance of 80% or more. By setting the total light transmittance to 80% or more, the transparent shaped film 10 can be preferably used for applications requiring transparency.

こうしたプラスチック基材1は、市販品を購入することにより準備してもよいし、自前で製造することにより準備してもよい。プラスチック基材1の製造方法としては、従来公知の製造方法を適用でき、例えば、溶液流延法、溶融押出法、カレンダー法等を挙げることができる。プラスチック基材1の表面は、必要に応じて、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、加熱処理、薬品処理、及び易接着処理等から選ばれるいずれか1又は2以上の表面処理を行ってもよい。こうした表面処理の具体的な方法は従来公知のものを適宜用いることができる。   Such a plastic substrate 1 may be prepared by purchasing a commercially available product, or may be prepared by producing it on its own. As a manufacturing method of the plastic substrate 1, a conventionally known manufacturing method can be applied, and examples thereof include a solution casting method, a melt extrusion method, and a calendar method. The surface of the plastic substrate 1 may be any one or two selected from corona treatment, flame treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, roughening treatment, heat treatment, chemical treatment, and easy adhesion treatment as necessary. The above surface treatment may be performed. As a specific method of such surface treatment, a conventionally known method can be appropriately used.

(プライマー層)
プライマー層は、賦形層2が設けられる側のプラスチック基材1上に、必要に応じて賦形層2の下地層として設けられていてもよい。プライマー層は、必須の構成ではないが、紫外線吸収剤等の耐候剤を含有させて透明賦形フィルム10の耐候性を向上させたり、プラスチック基材1と賦形層2との密着性を向上させたりするために好ましく設けられる。
(Primer layer)
The primer layer may be provided as a base layer of the shaping layer 2 on the plastic substrate 1 on the side where the shaping layer 2 is provided, if necessary. The primer layer is not an essential component, but it can improve the weather resistance of the transparent shaped film 10 by adding a weathering agent such as an ultraviolet absorber, or improve the adhesion between the plastic substrate 1 and the shaped layer 2. It is preferably provided for the purpose.

プライマー層を形成するためのプライマー層形成用樹脂組成物としては、上記した目的を達成できるプライマー層を形成できる樹脂を含むものであれば特に限定されない。中でも、賦形層2との密着性の観点から、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂を含むことが好ましい。ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂としては、後述する賦形層2の形成材料として使用される各種モノマー、オリゴマー及びプレポリマーと同様の樹脂を挙げることができ、さらに、こうしたモノマー、オリゴマー及びプレポリマーが重合したポリマーを挙げることができる。中でも、ウレタンアクリレート系樹脂は、賦形層2との密着性及び耐候性の点で好ましく用いることができる。ウレタンアクリレート系樹脂としては、例えば、ポリカーボネート系ウレタン−アクリル共重合体樹脂を好ましく挙げることができる。   The primer layer-forming resin composition for forming the primer layer is not particularly limited as long as it contains a resin that can form the primer layer that can achieve the above-described purpose. Among these, from the viewpoint of adhesion to the shaping layer 2, it is preferable to include a resin having a radical polymerizable unsaturated group. Examples of the resin having a radical polymerizable unsaturated group include resins similar to various monomers, oligomers and prepolymers used as a material for forming the shaping layer 2 described later. The polymer which the polymer polymerized can be mentioned. Among these, urethane acrylate resins can be preferably used in terms of adhesion to the shaping layer 2 and weather resistance. Preferred examples of the urethane acrylate resin include a polycarbonate urethane-acrylic copolymer resin.

プライマー層形成用樹脂組成物に含まれる樹脂の種類によっては、プライマー層形成用樹脂に硬化剤等を併せて含有させることが望ましい。例えばウレタン系の樹脂とイソシアネート系の硬化剤とを用いることにより、ウレタン結合を生じさせてプライマー層形成用樹脂組成物を硬化させることができる。一例として、例えばポリカーボネート系ウレタン−アクリル共重合体樹脂をプライマー層形成用樹脂組成物として用いる場合は、例えばヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系の硬化剤を併せて用いて硬化反応させることが好ましい。   Depending on the type of resin contained in the primer layer forming resin composition, it is desirable that the primer layer forming resin contain a curing agent or the like. For example, by using a urethane-based resin and an isocyanate-based curing agent, a urethane bond can be generated to cure the primer layer forming resin composition. As an example, when a polycarbonate urethane-acrylic copolymer resin is used as the resin composition for forming a primer layer, for example, it is preferable to cause a curing reaction using an isocyanate curing agent such as hexamethylene diisocyanate.

プライマー層形成用樹脂組成物には、賦形層2に含まれるのと同様の紫外線吸収剤が耐候剤として含まれていることが好ましい。また、反応性耐候剤や光安定剤等の他の耐候剤が必要に応じて含まれていてもよい。耐候剤が含まれているプライマー層形成用樹脂組成物で形成されたプライマー層は、透明賦形フィルム10が紫外線に曝される環境下にある場合であっても、プライマー層の光酸化劣化を抑制できる。さらに、賦形層2よりも紫外線が照射される側にプライマー層が設けられている場合には、そのプライマー層が紫外線吸収層として機能して紫外線を吸収するので、賦形層2に紫外線が到達するのを減少させることができる。その結果、紫外線によって賦形層2が光酸化劣化するのをプライマー層の存在によって抑制することができ、透明賦形フィルム10に良好な耐候性を付与することができる。これらの紫外線吸収剤、反応性耐候剤、光安定剤等の耐候剤について、さらに光酸化劣化については、後述する賦形層2の説明欄で説明するのと同様である。   The primer layer forming resin composition preferably contains the same ultraviolet absorber as that contained in the shaping layer 2 as a weathering agent. Moreover, other weathering agents, such as a reactive weathering agent and a light stabilizer, may be contained as needed. The primer layer formed of the resin composition for forming a primer layer containing a weathering agent can cause photo-oxidative degradation of the primer layer even when the transparent shaped film 10 is in an environment exposed to ultraviolet rays. Can be suppressed. Furthermore, when the primer layer is provided on the side irradiated with ultraviolet rays from the shaping layer 2, the primer layer functions as an ultraviolet absorbing layer and absorbs ultraviolet rays. Reaching can be reduced. As a result, the shaping layer 2 can be prevented from being photooxidatively deteriorated by ultraviolet rays due to the presence of the primer layer, and good weather resistance can be imparted to the transparent shaped film 10. For these weathering agents such as ultraviolet absorbers, reactive weathering agents, and light stabilizers, photooxidation deterioration is the same as that explained in the explanation section of the shaping layer 2 described later.

紫外線吸収剤としては、例えばトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤等を挙げることができ、中でもトリアジン系紫外線吸収剤を好ましく挙げることができる。また、分子内にアクリロイル基等の反応性官能基を有する紫外線吸収剤を用いることもできる。反応性官能基を有する紫外線吸収剤としては、例えば、(2−ヒドロキシ−4−(メタクリロイルオキシエトキシ)ベンゾフェノン)メタクリル酸メチル共重合体等を挙げることができる。   Examples of ultraviolet absorbers include triazine-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, salicylate-based ultraviolet absorbers, acrylonitrile-based ultraviolet absorbers, and among them, triazine-based ultraviolet absorbers are preferred. Moreover, the ultraviolet absorber which has reactive functional groups, such as an acryloyl group, in a molecule | numerator can also be used. Examples of the ultraviolet absorber having a reactive functional group include (2-hydroxy-4- (methacryloyloxyethoxy) benzophenone) methyl methacrylate copolymer.

プライマー層形成用樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤の含有量は、紫外線吸収剤の紫外線吸収能力に応じて任意に設定されるが、プライマー層形成用樹脂組成物を構成する樹脂に対して0.1質量%以上、30質量%以下であることが好ましい。プライマー層形成用樹脂組成物がこの範囲の紫外線吸収剤を含有することにより、形成されたプライマー層に紫外線がとどく環境下であっても、透明賦形フィルム10に良好な耐候性を付与することができる。紫外線吸収剤の含有量は、0.1質量%以上、15質量%以下であることがより好ましい。なお、プライマー層形成用樹脂組成物に含まれる紫外線吸収剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤を2種以上組み合わせた場合の含有量は、それらの合計の含有量である。   The content of the UV absorber contained in the primer layer forming resin composition is arbitrarily set according to the UV absorbing ability of the UV absorber, but is 0 with respect to the resin constituting the primer layer forming resin composition. It is preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less. When the primer layer-forming resin composition contains an ultraviolet absorber in this range, the transparent shaped film 10 is provided with good weather resistance even under an environment where ultraviolet rays reach the formed primer layer. Can do. The content of the ultraviolet absorber is more preferably 0.1% by mass or more and 15% by mass or less. In addition, the ultraviolet absorber contained in the resin composition for primer layer formation may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The content when two or more ultraviolet absorbers are combined is the total content thereof.

プライマー層形成用樹脂組成物には、他の耐候剤として光安定剤が含まれていてもよい。光安定剤は、例えばプライマー層形成用樹脂組成物で形成されたプライマー層に紫外線があたって発生したラジカルを捕捉するように作用するので、上記した紫外線吸収剤と併せてプライマー層形成用樹脂組成物に含有させることが好ましい。光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系光安定剤が好ましく、特に反応性官能基を有するヒンダードアミン系光安定剤が好ましく用いられる。具体的には、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート等を挙げることができる。   The primer layer forming resin composition may contain a light stabilizer as another weathering agent. Since the light stabilizer acts to trap radicals generated when the primer layer formed with the primer layer-forming resin composition, for example, is irradiated with ultraviolet rays, the resin composition for forming the primer layer is combined with the above-described ultraviolet absorber. It is preferable to make it contain. As the light stabilizer, for example, a hindered amine light stabilizer is preferable, and a hindered amine light stabilizer having a reactive functional group is particularly preferably used. Specific examples include 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl methacrylate.

プライマー層形成用樹脂組成物に含まれる光安定剤の含有量は、光安定剤のラジカル捕捉能力に応じて任意に設定されるが、プライマー層形成用樹脂組成物を構成する樹脂に対して、0.1質量%以上、20質量%以下であることが好ましい。プライマー層形成用樹脂組成物がこの範囲の光安定剤を含有することにより、その樹脂組成物で形成されたプライマー層に紫外線がとどく環境下であっても、透明賦形フィルム10に良好な耐候性を付与することができる。なお、プライマー層形成用樹脂組成物に含まれる光安定剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。光安定剤を2種以上組み合わせた場合の含有量は、それらの合計の含有量である。   The content of the light stabilizer contained in the primer layer forming resin composition is arbitrarily set according to the radical scavenging ability of the light stabilizer, but for the resin constituting the primer layer forming resin composition, It is preferable that it is 0.1 mass% or more and 20 mass% or less. When the primer layer forming resin composition contains a light stabilizer in this range, the transparent shaped film 10 has good weather resistance even under an environment where ultraviolet rays reach the primer layer formed with the resin composition. Sex can be imparted. In addition, the light stabilizer contained in the resin composition for primer layer formation may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The content when two or more light stabilizers are combined is the total content thereof.

反応性官能基を有する紫外線吸収剤や反応性官能基を有する光安定剤は、その反応性官能基がプライマー層を構成する樹脂成分に結合する。そのため、反応性官能基を有する紫外線吸収剤や光安定剤が、形成された後のプライマー層の表面にブリードアウトするのを抑制でき、ブリードアウトによりプライマー層中の紫外線吸収剤や光安定剤が経時的に減少することを防止できる。さらに、プライマー層と賦形層2との間に紫外線吸収剤や光安定剤が析出してプライマー層と賦形層2との密着性が低下するのを防ぐことができる。   In the ultraviolet absorber having a reactive functional group or the light stabilizer having a reactive functional group, the reactive functional group is bonded to a resin component constituting the primer layer. Therefore, the ultraviolet absorber or light stabilizer having a reactive functional group can be prevented from bleeding out to the surface of the primer layer after it is formed, and the ultraviolet absorber or light stabilizer in the primer layer can be prevented by bleeding out. It can be prevented from decreasing with time. Further, it is possible to prevent the adhesion between the primer layer and the shaping layer 2 due to the deposition of the ultraviolet absorber or the light stabilizer between the primer layer and the shaping layer 2.

プライマー層の形成方法としては、プライマー層形成用樹脂組成物をプラスチック基材1上に従来公知の方法で塗布した後、塗布されたプライマー層形成用樹脂組成物を硬化させて形成できる。こうした塗布方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスロールコート法、リバースロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、フローコート法、ダイコート法、スクリーン印刷、グラビア印刷等の各種印刷法等を挙げることができる。プライマー層の厚さは、特に限定されず、通常、1μm以上、10μm以下である。   The primer layer can be formed by applying the primer layer forming resin composition onto the plastic substrate 1 by a conventionally known method and then curing the applied primer layer forming resin composition. Examples of such coating methods include roll coating, gravure roll coating, kiss roll coating, reverse roll coating, Miya bar coating, gravure coating, spin coating, dip coating, spray coating, and curtain coating. And various printing methods such as a method, a flow coating method, a die coating method, screen printing, and gravure printing. The thickness of the primer layer is not particularly limited, and is usually 1 μm or more and 10 μm or less.

(賦形版)
賦形版24は、種々の凹凸形状を有し、賦形層2に目的とする賦形形状を付与できるものであれば特に限定されない。こうした賦形版24は、通常、板状の版又は円筒状の版を挙げることができる。賦形版24に設けられる凹凸形状は特に限定されず、例えば、上記した透明賦形フィルム10の賦形形状の反転形状になっていればよい。
(Shaped version)
The shaping plate 24 is not particularly limited as long as it has various uneven shapes and can impart the intended shaping shape to the shaping layer 2. Such a shaped plate 24 can usually include a plate-shaped plate or a cylindrical plate. The uneven | corrugated shape provided in the shaping plate 24 is not specifically limited, For example, what is necessary is just to become the inversion shape of the shaping shape of the above-mentioned transparent shaping film 10. FIG.

賦形版24に設けられた形状は、例えば図2(A)〜(C)に示すように、賦形層2に形成されることになる賦形形状の光学特性を考慮して適宜設計される。賦形層2に設けられることになる賦形形状としては、例えば図2(A)に示すプリズム5A、図2(B)に示すフレネルレンズ5B、又は、図2(C)に示すレンチキュラーレンズ5C等を挙げることができる。   The shape provided on the shaping plate 24 is appropriately designed in consideration of the optical characteristics of the shaping shape to be formed on the shaping layer 2 as shown in FIGS. 2 (A) to (C), for example. The As the shaping shape to be provided in the shaping layer 2, for example, the prism 5A shown in FIG. 2 (A), the Fresnel lens 5B shown in FIG. 2 (B), or the lenticular lens 5C shown in FIG. 2 (C). Etc.

賦形層2に図2(A)に示すプリズム5Aが形成される場合、そのプリズム5Aとしては、主切断面(稜線と直交する断面)の形状が三角形又は略三角形で、頂部に稜線を有する単位プリズム4を、その稜線と直交する方向に多数平行に配列してなるものを挙げることができる。この単位プリズム4の断面形状は三角形又は略三角形に限定されず、四角形、五角形、六角形又は八角形等の多角形であってもよいし、扇形や三角形の頂点近傍に曲率を設けた形状等のように直線と曲線との組合せ形状等であってもよい。単位プリズム4の頂部の角度は特に限定されるものではなく、例えば、80°以上、110°以下の程度である。また、配列された単位プリズム4のピッチも特に限定されるものではなく、例えば、10μm以上、300μm以下の程度である。   When the prism 5A shown in FIG. 2A is formed on the shaping layer 2, the prism 5A has a main cut surface (a cross section orthogonal to the ridge line) in a triangular or substantially triangular shape and has a ridge line at the top. An example is one in which a large number of unit prisms 4 are arranged in parallel in a direction perpendicular to the ridgeline. The cross-sectional shape of the unit prism 4 is not limited to a triangle or a substantially triangular shape, and may be a polygon such as a quadrangle, a pentagon, a hexagon, or an octagon, or a shape having a curvature in the vicinity of the apex of a sector or a triangle. The combination shape of a straight line and a curve may be used. The angle at the top of the unit prism 4 is not particularly limited, and is, for example, about 80 ° to 110 °. Further, the pitch of the unit prisms 4 arranged is not particularly limited, and is, for example, about 10 μm or more and 300 μm or less.

賦形層2に図2(B)に示すフレネルレンズ5Bが形成される場合、そのフレネルレンズ5Bとしては、凸レンズを分割して平面的に配置した一般的なフレネルレンズ形状を挙げることができる。なお、フレネルレンズ5Bのフレネル中心は、透明賦形フィルム10Bの面内にあってもよいし面外にあってもよい。   When the Fresnel lens 5B shown in FIG. 2B is formed on the shaping layer 2, examples of the Fresnel lens 5B include a general Fresnel lens shape in which convex lenses are divided and arranged in a plane. The Fresnel center of the Fresnel lens 5B may be in the plane of the transparent shaped film 10B or out of the plane.

賦形層2に図2(C)に示すレンチキュラーレンズ5Cが形成される場合、そのレンチキュラーレンズ5Cとしては、半円筒形状(「かまぼこ形状」ともいう。)であってもよいし、半球レンズ形状(「蠅の目形状」又は「モスアイ形状」ともいう。)であってもよい。半円筒形状のレンチキュラーレンズ5Cは、かまぼこ形状が1次元方向に配列した1次元配列(線型配列)構造であり、半球レンズ形状のレンチキュラーレンズ5Cは、半球レンズ形状が2次元方向(縦横方向)に配列した2次元配列構造である。なお、半円筒形状の代わりに多面筒形状であってもよいし、半球レンズ形状の代わりに多面体レンズ形状であってもよい。   When the lenticular lens 5C shown in FIG. 2C is formed on the shaping layer 2, the lenticular lens 5C may have a semi-cylindrical shape (also referred to as “kamaboko shape”) or a hemispherical lens shape. (It is also referred to as “a moth-eye shape” or “moth-eye shape”). The semi-cylindrical lenticular lens 5C has a one-dimensional array (linear array) structure in which kamaboko shapes are arranged in a one-dimensional direction, and the hemispherical lens-shaped lenticular lens 5C has a two-dimensional direction (vertical and horizontal directions). It is an arrayed two-dimensional array structure. A polyhedral cylindrical shape may be used instead of the semicylindrical shape, and a polyhedral lens shape may be used instead of the hemispherical lens shape.

<組成物設置工程>
組成物設置工程は、プラスチック基材1と賦形版24との間に電子線硬化性樹脂組成物6を設ける工程である。この工程は、図3に示すように、電子線硬化性樹脂組成物6を賦形版24に直接接触させるとともに、その電子線硬化性樹脂組成物6を介してプラスチック基材1と賦形版24とを対向させる工程であり、そうした工程であれば特に限定されない。
<Composition installation process>
The composition installation step is a step of providing the electron beam curable resin composition 6 between the plastic substrate 1 and the shaping plate 24. In this step, as shown in FIG. 3, the electron beam curable resin composition 6 is brought into direct contact with the shaping plate 24 and the plastic substrate 1 and the shaping plate are interposed via the electron beam curable resin composition 6. 24, and is not particularly limited as long as it is such a step.

例えば、図3に示すように、電子線硬化性樹脂組成物6をTダイ型ノズル21から成型ドラム23の表面の賦形版24に塗布し、その後、塗布された電子線硬化性樹脂組成物6にプラスチック基材1を押し当て、押圧ロール22で押圧する。こうすることで、プラスチック基材1と賦形版24との間に電子線硬化性樹脂組成物6を設けることができる。また、図示しないが、プラスチック基材1上に電子線硬化性樹脂組成物6を塗布し、その後、塗布された電子線硬化性樹脂組成物6に賦形版24を押圧してもよいし、プラスチック基材1と賦形版24とを対向するように配置し、その間に電子線硬化性樹脂組成物6を供給してもよい。また、電子線硬化性樹脂組成物6にプラスチック基材1又は賦形版24を押圧しない手段を適用してもよい。例えば、プラスチック基材1と、賦形版24と、電子線硬化性樹脂組成物6とを、任意に積載してもよいし、積置してもよいし、貼り合わせてもよい。   For example, as shown in FIG. 3, the electron beam curable resin composition 6 is applied from the T-die nozzle 21 to the shaping plate 24 on the surface of the molding drum 23, and then applied. The plastic substrate 1 is pressed against 6 and pressed by the pressing roll 22. By doing so, the electron beam curable resin composition 6 can be provided between the plastic substrate 1 and the shaping plate 24. Although not shown, the electron beam curable resin composition 6 may be applied on the plastic substrate 1, and then the shaping plate 24 may be pressed against the applied electron beam curable resin composition 6, The plastic substrate 1 and the shaping plate 24 may be disposed so as to face each other, and the electron beam curable resin composition 6 may be supplied therebetween. Moreover, you may apply the means which does not press the plastic base material 1 or the shaping plate 24 to the electron beam curable resin composition 6. FIG. For example, the plastic base material 1, the shaping plate 24, and the electron beam curable resin composition 6 may be arbitrarily stacked, stacked, or bonded together.

電子線硬化性樹脂組成物6を賦形版24又はプラスチック基材1上に塗布する方法としては、従来公知の塗布方法を適用することができる。塗布方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスロールコート法、リバースロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、フローコート法、ダイコート法、スクリーン印刷、グラビア印刷等の各種印刷法等を挙げることができる。   As a method of applying the electron beam curable resin composition 6 onto the shaping plate 24 or the plastic substrate 1, a conventionally known application method can be applied. Examples of the coating method include a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss roll coating method, a reverse roll coating method, a Miya bar coating method, a gravure coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, and a curtain coating method. And various printing methods such as a flow coating method, a die coating method, screen printing, and gravure printing.

電子線硬化性樹脂組成物6は、賦形層2を形成するための樹脂組成物である。そして、電子線硬化性樹脂組成物6は、ウレタンアクリレートと紫外線吸収剤とを少なくとも含有する。   The electron beam curable resin composition 6 is a resin composition for forming the shaping layer 2. And the electron beam curable resin composition 6 contains at least urethane acrylate and an ultraviolet absorber.

(ウレタンアクリレート)
ウレタンアクリレートは、ガラス転移温度(Tg)が17℃以上又はガラス転移温度を示さず、且つ、60℃での粘度が2000mPa・s以上、24000mPa・s以下である。こうした特性を備えたウレタンアクリレートは、ウレタンアクリレートのモノマー、オリゴマー又はプレポリマーであり、例えば、市販品としては、UV−7000B(日本合成化学工業株式会社製)、UV−7650B(日本合成化学工業株式会社製)、UV−7600B(日本合成化学工業株式会社製)、UV−7630B(日本合成化学工業株式会社製)、UV−7630B(日本合成化学工業株式会社製)、UV−7640B(日本合成化学工業株式会社製)、EBECRYL284(ダイセル・サイテック株式会社製)、及びEBECRYL8701(ダイセル・サイテック株式会社製)等を好ましく挙げることができる。また、これらと同じ又は同様の特性を有し、同じ又は同様の作用効果を奏する他のウレタンアクリレートであってもよい。これらのウレタンアクリレートは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、ウレタンアクリレートは、その硬化物が透明性を有することが望ましく、透明賦形フィルムを構成することができる。
(Urethane acrylate)
Urethane acrylate has a glass transition temperature (Tg) of 17 ° C. or higher or no glass transition temperature, and a viscosity at 60 ° C. of 2000 mPa · s to 24000 mPa · s. Urethane acrylate having such characteristics is a monomer, oligomer or prepolymer of urethane acrylate. For example, commercially available products include UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), UV-7650B (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) Company), UV-7600B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), UV-7630B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), UV-7630B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), UV-7640B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry) Kogyo Co., Ltd.), EBECRYL284 (Daicel Cytec Co., Ltd.), EBECRYL8701 (Daicel Cytec Co., Ltd.), and the like can be preferably exemplified. Further, other urethane acrylates having the same or similar characteristics as these and exhibiting the same or similar functions and effects may be used. These urethane acrylates may be used singly or in combination of two or more. In addition, as for the urethane acrylate, it is desirable for the hardened | cured material to have transparency, and can comprise a transparent shaping film.

なお、本願において、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の「アクリレート」は、ウレタンメタクリレート、エポキシメタクリレート等のメタクリレートを含み、「アクリロイル基」はメタクリロイル基を含む。   In the present application, “acrylate” such as urethane acrylate and epoxy acrylate includes methacrylate such as urethane methacrylate and epoxy methacrylate, and “acryloyl group” includes methacryloyl group.

ウレタンアクリレートは、ガラス転移温度(Tg)が17℃以上であるか、又はガラス転移温度を示さない。ガラス転移温度が17℃以上のウレタンアクリレート又はガラス転移温度を示さないウレタンアクリレートを含む電子線硬化性樹脂組成物6で形成された賦形層2は、後述の実施例の結果からもわかるように、無機層3を成膜した後であっても白化が生じていなかった。この理由としては、ウレタンアクリレートの耐熱性が向上したためであると考えられる。より詳しくは、透明賦形フィルム10に白化が生じる現象は、無機層3をイオンプレーティング法又はプラズマ化学的気相成長法(プラズマCVD法)で成膜する際に生じるプラズマ放電時の熱により、賦形層2のウレタンアクリレートに由来する構造が流動的になり、賦形層2の表面や内部に微細な歪みや変形が生じることに原因があると考えられる。そのため、透明賦形フィルム10に照射する可視光線が、微細な歪みや変形が生じた賦形層2と無機層3との界面で光散乱したり、無機層3の表面で光散乱したりして、透明賦形フィルム10に白化が生じると考えられる。ガラス転移温度(Tg)が17℃以上であるか、又はガラス転移温度を示さないウレタンアクリレートは耐熱性が高いといえるので、こうしたウレタンアクリレートを用いることで、無機層3の成膜時のプラズマ放電等に由来して生じる熱で賦形層2に微細な歪みや変形が生じるのを防ぎ、白化が生じるのを解決できたと考えられる。その結果、賦形層2の透明性を維持できるので、白化が抑制された高い透明性を有する透明賦形フィルム10を製造できる。   Urethane acrylate has a glass transition temperature (Tg) of 17 ° C. or higher or does not exhibit a glass transition temperature. The shaping layer 2 formed of the electron beam curable resin composition 6 containing a urethane acrylate having a glass transition temperature of 17 ° C. or higher or a urethane acrylate not exhibiting a glass transition temperature can be seen from the results of Examples described later. Even after the inorganic layer 3 was formed, no whitening occurred. This is probably because the heat resistance of urethane acrylate has been improved. More specifically, the phenomenon in which whitening occurs in the transparent shaped film 10 is caused by heat at the time of plasma discharge that occurs when the inorganic layer 3 is formed by ion plating or plasma chemical vapor deposition (plasma CVD). It is considered that the structure derived from the urethane acrylate of the shaping layer 2 becomes fluid and causes fine distortion and deformation on the surface and inside of the shaping layer 2. Therefore, the visible light irradiated on the transparent shaped film 10 may be scattered at the interface between the shaped layer 2 and the inorganic layer 3 where fine distortion or deformation has occurred, or may be scattered at the surface of the inorganic layer 3. Thus, it is considered that the transparent shaped film 10 is whitened. Urethane acrylate having a glass transition temperature (Tg) of 17 ° C. or higher or not exhibiting a glass transition temperature can be said to have high heat resistance. By using such urethane acrylate, plasma discharge during film formation of the inorganic layer 3 is achieved. It is considered that fine distortion and deformation were prevented from occurring in the shaping layer 2 due to the heat generated from the above and the whitening was solved. As a result, since the transparency of the shaping layer 2 can be maintained, the transparent shaping film 10 having high transparency in which whitening is suppressed can be produced.

ウレタンアクリレートのガラス転移温度は17℃以上であればよい。ガラス転移温度の測定方法又は測定装置によっては、その測定温度範囲でガラス転移温度として測定できない場合がある。本願では、ガラス転移温度が17℃以上であり且つガラス転移温度を測定できないウレタンアクリレートを、「ガラス転移温度を示さないウレタンアクリレート」という。ガラス転移温度の測定を例えば−50℃から100℃の温度範囲で行った場合、この測定温度範囲でガラス転移温度を示さないウレタンアクリレートは、ガラス転移温度が100℃以上であるということができるとともに、測定温度範囲内でガラス転移温度を示さないということができ、本発明を構成するウレタンアクリレートとして適用できる。ガラス転移温度の上限はガラス転移温度の測定方法又は測定装置に依存するので特に限定されないが、強いて言えば220℃程度を挙げることができる。なお、ガラス転移温度(Tg)は、例えば、示唆熱量分析器(DSC、株式会社島津製作所製、型番:DSC−60)等を用い、JIS K7121に準拠した測定法で求めることができる。   The glass transition temperature of urethane acrylate should just be 17 degreeC or more. Depending on the measuring method or measuring apparatus of the glass transition temperature, it may not be possible to measure the glass transition temperature within the measurement temperature range. In the present application, a urethane acrylate having a glass transition temperature of 17 ° C. or higher and a glass transition temperature that cannot be measured is referred to as “a urethane acrylate that does not exhibit a glass transition temperature”. When the glass transition temperature is measured in a temperature range of, for example, −50 ° C. to 100 ° C., urethane acrylate that does not show the glass transition temperature in this measurement temperature range can be said to have a glass transition temperature of 100 ° C. or higher. It can be said that the glass transition temperature is not shown within the measurement temperature range, and can be applied as the urethane acrylate constituting the present invention. The upper limit of the glass transition temperature is not particularly limited because it depends on the measuring method or measuring apparatus of the glass transition temperature, but for example, about 220 ° C. can be mentioned. In addition, glass transition temperature (Tg) can be calculated | required with the measuring method based on JISK7121, for example using a suggestive calorimeter (DSC, Shimadzu Corporation make, model number: DSC-60).

ウレタンアクリレートの粘度は、60℃で、2000mPa・s以上、24000mPa・s以下である。こうした粘度範囲のウレタンアクリレートを含む電子線硬化性樹脂組成物6は、賦形版24によって、目的とする賦形形状の賦形層2を精度良く形成することができる。ウレタンアクリレートの粘度は、JIS K7117−1に準拠してB型粘度計(例えば、東機産業株式会社製、商品名:VISCOMETER)等を用いて、BLアダプター及びM4ローターを使用して測定開始後30秒後から1分間測定することにより求めることができる。   The viscosity of urethane acrylate is 2000 mPa · s or more and 24000 mPa · s or less at 60 ° C. The electron beam curable resin composition 6 containing urethane acrylate having such a viscosity range can form the shaping layer 2 having a desired shaping shape with the shaping plate 24 with high accuracy. The viscosity of urethane acrylate is measured using a BL adapter and M4 rotor using a B-type viscometer (for example, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., trade name: VISCOMETER) according to JIS K7117-1. It can be determined by measuring for 1 minute after 30 seconds.

ウレタンアクリレートの60℃での粘度が2000mPa・s未満の場合は、形成された賦形層2の賦形性が悪化し、例えば、単位プリズム4の頂部の形状が丸まってしまい、賦形層2が賦形版24と同じ形状にならないことがある。この理由としては、60℃での粘度が2000mPa・s未満のウレタンアクリレートは比較的低分子であるので、後述する賦形層形成工程でウレタンアクリレートを硬化させたときのウレタンアクリレートの硬化収縮が大きくなるためであると考えられる。   When the viscosity of urethane acrylate at 60 ° C. is less than 2000 mPa · s, the shapeability of the formed shaping layer 2 deteriorates, for example, the shape of the top of the unit prism 4 is rounded, and the shaping layer 2 However, the shape may not be the same as that of the shaping plate 24. The reason for this is that urethane acrylate having a viscosity at 60 ° C. of less than 2000 mPa · s is a relatively low molecular weight, so that the urethane acrylate cure shrinkage when urethane acrylate is cured in the shaping layer forming step described later. It is thought that it is to become.

ウレタンアクリレートの60℃での粘度が24000mPa・sを超える場合は、形成された賦形層2の離型性が悪化することがある。具体的には、賦形層2と賦形版24との密着性が高くなり過ぎ、後述する剥離工程で賦形層2を賦形版24から剥離できなかったり、賦形層2を賦形版24から剥離するときに賦形層2が破断したりして、賦形層2に目的とする賦形形状を形成できないことがある。賦形層2と賦形版24との密着性が高くなり過ぎる理由としては、60℃での粘度が24000mPa・sを超えるウレタンアクリレートは比較的分子量が大きいので、ウレタンアクリレートを含む電子線硬化性樹脂組成物6で形成した賦形層2と賦形版24との密着性が高くなるためであると考えられる。   When the viscosity of urethane acrylate at 60 ° C. exceeds 24,000 mPa · s, the releasability of the formed shaping layer 2 may be deteriorated. Specifically, the adhesion between the shaping layer 2 and the shaping plate 24 becomes too high, and the shaping layer 2 cannot be peeled off from the shaping plate 24 in the peeling step described later, or the shaping layer 2 is shaped. When the shaping layer 2 is peeled off from the plate 24, the intended shaping shape may not be formed in the shaping layer 2. The reason why the adhesion between the shaping layer 2 and the shaping plate 24 becomes too high is that the urethane acrylate having a viscosity at 60 ° C. exceeding 24,000 mPa · s has a relatively large molecular weight, and therefore the electron beam curability containing the urethane acrylate. This is considered to be because the adhesion between the shaping layer 2 formed with the resin composition 6 and the shaping plate 24 is increased.

ウレタンアクリレートはアクリロイル基を持つが、そのアクリロイル基の数は特に限定されない。アクリロイル基の数は、通常、2以上、8以下である。アクリロイル基の数が8を超えると、賦形層2の硬化収縮が大きくなるおそれがあり、賦形性が悪化する可能性がある。   Urethane acrylate has an acryloyl group, but the number of acryloyl groups is not particularly limited. The number of acryloyl groups is usually 2 or more and 8 or less. When the number of acryloyl groups exceeds 8, there is a possibility that the curing shrinkage of the shaping layer 2 becomes large, and the shaping property may be deteriorated.

ウレタンアクリレートの数平均分子量も特に限定されないが、500以上、10000以下が好ましく、1000以上、5000以下がより好ましい。ウレタンアクリレートの数平均分子量が1000未満の場合は、通常、硬化後の架橋密度が高くなり易いので、後述する賦形層形成工程でウレタンアクリレートを硬化させたときのウレタンアクリレートの硬化収縮が大きくなり易く、賦形層2の賦形性が悪化するおそれがる。一方、ウレタンアクリレートの数平均分子量が10000を超えると、形成された賦形層2と賦形版24との密着性が高くなるので、離型性が悪化するおそれがある。なお、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の値を用いることができる。   The number average molecular weight of the urethane acrylate is not particularly limited, but is preferably 500 or more and 10,000 or less, and more preferably 1000 or more and 5000 or less. When the number average molecular weight of the urethane acrylate is less than 1000, the crosslinking density after curing is usually likely to be high, so that the curing shrinkage of the urethane acrylate when the urethane acrylate is cured in the shaping layer forming step described later increases. It is easy and the shaping property of the shaping layer 2 may deteriorate. On the other hand, when the number average molecular weight of the urethane acrylate exceeds 10,000, the adhesiveness between the formed shaping layer 2 and the shaping plate 24 is increased, so that the releasability may be deteriorated. In addition, the value of polystyrene conversion by gel permeation chromatography (GPC) can be used for the number average molecular weight.

こうしたウレタンアクリレートは、電子線硬化性樹脂組成物6中に50質量%以上含有することが好ましく、65質量%以上含有することがより好ましく、80質量%以上がさらに好ましい。すなわち、ウレタンアクリレートは電子線硬化性樹脂組成物6中に少なくとも半分以上含まれていれば、上記したウレタンアクリレートの作用効果を奏することができ、さらに前記のようにその含有量が多くなるほど、上記したウレタンアクリレートの作用効果をより発揮することができるので好ましい。また、ウレタンアクリレートは柔軟な骨格構造を有しているので、電子線硬化性樹脂組成物6がこうしたウレタンアクリレートを上記含有量で含むことにより、その電子線硬化性樹脂組成物6で形成された賦形層2は、脆くなり難いという利点がある。一方、本発明とは異なるが、アクリル酸樹脂で形成された賦形層は硬くて脆くなる傾向がある。なお、電子線硬化性樹脂組成物6に含まれるウレタンアクリレートは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。ウレタンアクリレートを2種以上組み合わせた場合の含有量は、それらの合計の含有量である。   Such urethane acrylate is preferably contained in the electron beam curable resin composition 6 by 50% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more. That is, if the urethane acrylate is contained in the electron beam curable resin composition 6 at least half or more, the above-described effect of the urethane acrylate can be obtained, and as the content increases as described above, This is preferable because the effect of the urethane acrylate can be exhibited more. Further, since urethane acrylate has a flexible skeleton structure, the electron beam curable resin composition 6 is formed of the electron beam curable resin composition 6 by including such urethane acrylate in the above content. The shaping layer 2 has an advantage that it is difficult to become brittle. On the other hand, although different from the present invention, a shaping layer formed of an acrylic resin tends to be hard and brittle. In addition, the urethane acrylate contained in the electron beam curable resin composition 6 may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The content when two or more urethane acrylates are combined is the total content thereof.

(紫外線吸収剤)
紫外線吸収剤は、透明賦形フィルム10の耐候性を高めるための耐候剤の一つとして電子線硬化性樹脂組成物6中に含まれる。電子線硬化性樹脂組成物6が紫外線吸収剤を含有することにより、その電子線硬化性樹脂組成物6で形成された賦形層2に外部から紫外線等が照射した場合であっても、賦形層2が着色したり脆くなったりするのを抑制することができる。賦形層2が着色したり脆くなったりする現象は「光酸化劣化」とも呼ばれている。光酸化劣化した賦形層2にさらに紫外線が当たると、光酸化劣化がさらに促進する場合があるが、本発明では、賦形層2を形成するための電子線硬化性樹脂組成物6が少なくとも紫外線吸収剤を含み、さらにヒンダードアミン系光安定剤等の他の耐候剤を必要に応じて好ましく含むので、その電子線硬化性樹脂組成物6で構成された賦形層2に紫外線が当たっても、賦形層2に含まれる紫外線吸収剤等の耐候剤が作用して光酸化劣化の進行を抑えることができる。
(UV absorber)
The ultraviolet absorber is contained in the electron beam curable resin composition 6 as one of weathering agents for enhancing the weather resistance of the transparent shaped film 10. Since the electron beam curable resin composition 6 contains an ultraviolet absorber, even if the shaping layer 2 formed of the electron beam curable resin composition 6 is irradiated with ultraviolet rays or the like from the outside, The shape layer 2 can be prevented from being colored or fragile. The phenomenon that the shaping layer 2 is colored or becomes brittle is also called “photooxidation degradation”. If the shaped layer 2 subjected to photooxidation degradation is further exposed to ultraviolet rays, photooxidation degradation may be further promoted. In the present invention, the electron beam curable resin composition 6 for forming the shaping layer 2 is at least Since it contains an ultraviolet absorber and further preferably includes other weathering agents such as a hindered amine light stabilizer as necessary, even if the shaping layer 2 composed of the electron beam curable resin composition 6 is exposed to ultraviolet rays. The weathering agent such as an ultraviolet absorber contained in the shaping layer 2 acts to suppress the progress of photo-oxidative deterioration.

紫外線吸収剤は、自然光等に含まれる紫外線を吸収するためのものである。紫外線吸収剤としては、こうした目的を達成できれば特に限定されず、従来公知のものを使用できる。例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤等を挙げることができる。   The ultraviolet absorber is for absorbing ultraviolet rays contained in natural light or the like. The ultraviolet absorber is not particularly limited as long as such an object can be achieved, and conventionally known ones can be used. For example, a triazine ultraviolet absorber, a benzophenone ultraviolet absorber, a salicylate ultraviolet absorber, an acrylonitrile ultraviolet absorber, and the like can be given.

中でもトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。トリアジン系紫外線吸収剤は、紫外線吸収能力が高く、紫外線等の高エネルギーに対しても劣化し難いという利点がある。トリアジン系紫外線吸収剤としては、具体的には、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]フェノール、1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3,5−トリ[{3,5−ビス−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル}メチル]、及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等を挙げることができる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、具体的には、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、ポリエチレングリコールの3−[3−(ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオン酸エステル等を挙げることができる。   Of these, triazine-based ultraviolet absorbers are preferred. Triazine-based ultraviolet absorbers have the advantage that they have a high ultraviolet-absorbing ability and are not easily deteriorated by high energy such as ultraviolet rays. Specific examples of the triazine ultraviolet absorber include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] phenol, 1,3,5 -Triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,3,5-tri [{3,5-bis- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl} methyl], And benzotriazole-based ultraviolet absorbers. Specific examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, Examples include 3- [3- (benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl] propionic acid ester of polyethylene glycol.

紫外線吸収剤として、分子内にアクリロイル基等の反応性官能基を有する紫外線吸収剤を用いることもできる。反応性官能基を有する紫外線吸収剤としては、例えば、(2−ヒドロキシ−4−(メタクリロイルオキシエトキシ)ベンゾフェノン)メタクリル酸メチル共重合体等を挙げることができる。   As the ultraviolet absorber, an ultraviolet absorber having a reactive functional group such as an acryloyl group in the molecule can be used. Examples of the ultraviolet absorber having a reactive functional group include (2-hydroxy-4- (methacryloyloxyethoxy) benzophenone) methyl methacrylate copolymer.

こうした紫外線吸収剤は、電子線硬化性樹脂組成物6中に耐候剤として単独で含まれていてもよいし、下記の反応性官能基を有する紫外線吸収剤や、光安定剤等の他の耐候剤とともに含まれていてもよい。電子線硬化性樹脂組成物6に含まれる紫外線吸収剤の含有量は、紫外線吸収剤の紫外線吸収能力に応じて任意に設定されるが、電子線硬化性樹脂組成物6に対して、0.1質量%以上、20質量%以下であることが好ましい。賦形層2がこの範囲の紫外線吸収剤を含有することにより、形成されれた後の賦形層2に紫外線がとどく環境下であっても、透明賦形フィルム10に良好な耐候性を付与することができる。紫外線吸収剤の含有量は、0.1質量%以上、15質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以上、10質量%であることが特に好ましい。こうした範囲の紫外線吸収剤を含む電子線硬化性樹脂組成物6を用いて賦形層2を形成することにより、より良好な耐候性を示す透明賦形フィルム10を製造できる。なお、電子線硬化性樹脂組成物6に含まれる紫外線吸収剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤を2種以上組み合わせた場合の含有量は、それらの合計の含有量である。   Such an ultraviolet absorber may be contained alone in the electron beam curable resin composition 6 as a weathering agent, or other weathering agents such as an ultraviolet absorber having the following reactive functional group and a light stabilizer. It may be included with the agent. The content of the ultraviolet absorber contained in the electron beam curable resin composition 6 is arbitrarily set according to the ultraviolet absorbing ability of the ultraviolet absorber, but is 0. It is preferable that they are 1 mass% or more and 20 mass% or less. When the shaping layer 2 contains the ultraviolet absorber within this range, the transparent shaping film 10 is provided with good weather resistance even under the environment where ultraviolet rays reach the shaping layer 2 after being formed. can do. The content of the ultraviolet absorber is more preferably 0.1% by mass or more and 15% by mass or less, and particularly preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass. By forming the shaping layer 2 using the electron beam curable resin composition 6 containing the ultraviolet absorber in such a range, the transparent shaped film 10 showing better weather resistance can be produced. In addition, the ultraviolet absorber contained in the electron beam curable resin composition 6 may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The content when two or more ultraviolet absorbers are combined is the total content thereof.

電子線硬化性樹脂組成物6には、他の耐候剤として光安定剤が含まれていてもよい。光安定剤は、形成された後の賦形層2に紫外線があたってラジカルが生じた場合であっても、光安定剤はそのラジカルを捕捉することができる。その結果、ラジカルに起因した賦形層の劣化を抑制することができ、耐候性をより向上させることができる。光安定剤を、上記した紫外線吸収剤を併せて電子線硬化性樹脂組成物6に含有させることが好ましい。光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系光安定剤(HALS)が好ましく、形成された後の賦形層2に酸化反応を引き起こすフリーラジカルが生じた場合、そのフリーラジカルを触媒的に捕捉し、安定化させることができる。   The electron beam curable resin composition 6 may contain a light stabilizer as another weathering agent. Even if the light stabilizer is a case where radicals are generated by applying ultraviolet rays to the shaping layer 2 after being formed, the light stabilizer can capture the radicals. As a result, deterioration of the shaped layer due to radicals can be suppressed, and weather resistance can be further improved. It is preferable that the light stabilizer is contained in the electron beam curable resin composition 6 together with the ultraviolet absorber described above. As the light stabilizer, for example, a hindered amine light stabilizer (HALS) is preferable, and when a free radical that causes an oxidation reaction is generated in the shaped layer 2 after it is formed, the free radical is captured and stabilized. It can be made.

ヒンダードアミン系光安定剤としては、具体的には、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2’−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、メチル(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、2,4−ビス[N−ブチル−N−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ]−6−(2−ヒドロキシエチルアミン)−1,3,5−トリアジン)、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート等を挙げることができる。また、反応性官能基を有するヒンダードアミン系光安定剤を用いてもよく、具体的には、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of hindered amine light stabilizers include bis (1,2,2,6,2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2′-n-butylmalonate). 6-pentamethyl-4-piperidyl), bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate, methyl (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate, 2,4-bis [N-butyl-N- (1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4 -Yl) amino] -6- (2-hydroxyethylamine) -1,3,5-triazine), tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4- Butante La carboxylate, can be mentioned 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyloxy methacrylate. Further, a hindered amine light stabilizer having a reactive functional group may be used, and specific examples include 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl methacrylate.

電子線硬化性樹脂組成物6に含まれる光安定剤の含有量は、光安定剤のラジカル捕捉能力に応じて任意に設定されるが、例えばヒンダードアミン系光安定剤は、電子線硬化性樹脂組成物6に対して、0.1質量%以上、20質量%以下含有していることが好ましく、0.1質量%以上、15質量%以下含有することがより好ましく、0.1質量%以上、10質量%以下含有していることが特に好ましい。電子線硬化性樹脂組成物6がこの範囲のヒンダードアミン系光安定剤を含有することにより、形成された後の賦形層2に紫外線がとどく環境下であっても、透明賦形フィルム10に良好な耐候性を付与することができる。なお、電子線硬化性樹脂組成物6に含まれる光安定剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。光安定剤を2種以上組み合わせた場合の含有量は、それらの合計の含有量である。   The content of the light stabilizer contained in the electron beam curable resin composition 6 is arbitrarily set according to the radical scavenging ability of the light stabilizer. For example, the hindered amine light stabilizer is an electron beam curable resin composition. It is preferable to contain 0.1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more, It is particularly preferable to contain 10% by mass or less. When the electron beam curable resin composition 6 contains a hindered amine light stabilizer in this range, the transparent shaping film 10 is good even in an environment where ultraviolet rays reach the shaping layer 2 after being formed. Weather resistance can be imparted. In addition, the light stabilizer contained in the electron beam curable resin composition 6 may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The content when two or more light stabilizers are combined is the total content thereof.

反応性官能基を有する紫外線吸収剤や反応性官能基を有する光安定剤は、その反応性官能基が賦形層2を構成する樹脂成分に結合する。そのため、反応性官能基を有する紫外線吸収剤や光安定剤が、賦形層2の表面にブリードアウトするのを抑制でき、ブリードアウトにより賦形層2中の紫外線吸収剤や光安定剤が経時的に減少することを防止できるので、必要に応じて用いることが好ましい。さらに、賦形層2と無機層3との間に紫外線吸収剤や光安定剤が析出して賦形層2と無機層3との密着性が低下するのを防ぐことができる。また、プライマー層を設けた場合には、プライマー層と賦形層2との間に紫外線吸収剤や光安定剤が析出してプライマー層と賦形層2との密着性が低下するのを防ぐことができる。   In the ultraviolet absorber having a reactive functional group or the light stabilizer having a reactive functional group, the reactive functional group is bonded to the resin component constituting the shaping layer 2. Therefore, it is possible to prevent the ultraviolet absorber or light stabilizer having a reactive functional group from bleeding out on the surface of the shaping layer 2, and the ultraviolet absorber or the light stabilizer in the shaping layer 2 is deteriorated by bleed-out. Therefore, it is preferable to use it as necessary. Furthermore, it is possible to prevent the adhesion between the shaping layer 2 and the inorganic layer 3 due to precipitation of an ultraviolet absorber or a light stabilizer between the shaping layer 2 and the inorganic layer 3. Further, when the primer layer is provided, it is possible to prevent the adhesive property between the primer layer and the shaping layer 2 from being lowered due to the deposition of the ultraviolet absorber or the light stabilizer between the primer layer and the shaping layer 2. be able to.

以上のように、電子線硬化性樹脂組成物6は、紫外線吸収剤を必須の耐候剤として含み、光安定剤は紫外線吸収剤と併せて配合するのとか好ましい耐候剤として含んでいる。これ以外の耐候剤は、本発明の趣旨を損なわない範囲内で含有させてもよい。   As described above, the electron beam curable resin composition 6 includes an ultraviolet absorber as an essential weathering agent, and the light stabilizer is included as a preferable weathering agent in combination with the ultraviolet absorber. Other weathering agents may be contained within a range not impairing the gist of the present invention.

(離型剤)
離型剤は、必要に応じて電子線硬化性樹脂組成物6に含まれる。この離型剤を電子線硬化性樹脂組成物6に含有させることにより、その電子線硬化性樹脂組成物6で形成された賦形層2を賦形版24から剥がす剥離工程時の離形性を向上させることができる。その結果、賦形層2を剥がす際に起こる可能性のある割れや亀裂の発生を防ぐことができる。離型剤は、この目的が達成できれば特に限定されるものではなく、例えば、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、及びリン酸系離型剤等を挙げることができる。中でも、離型性の観点から、リン酸系離型剤を好ましく挙げることができる。リン酸系離型剤としては、リン酸系離型剤とリン酸エステル系離型剤を挙げることができる。リン酸系離型剤としては、1−フェニル−2−ホスホレン−1−オキシド、3−メチル−2−ホスホレン−1−オキシド、1−エチル−2−ホスホレン−1−オキシド、3−メチル−1−フェニル−2−ホスホレン−1−オキシド、及びこれらの3−ホスホレン異性体等のホスホレンオキシド;トリフェニルホスフィン、トリス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、臭素化テトラエチルホスフィン及び塩素化テトラエチルホスフィン等から選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。また、リン酸エステル系離型剤としては、ジ−2−エチルヘキシルハイドロゼンホスファイト、ジラウリルハイドロゼンホスファイト、ジアルキルハイドロゼンホスファイト、ジオレイルハイドロゼンホスファイト、トリイソオクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、トリアルキルホスファイト、トリオレイルホスファイト、トリステアリルホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、メチルアシッドホスフェイト及びエチルアシッドホスフェイト等から選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。
(Release agent)
A mold release agent is contained in the electron beam curable resin composition 6 as needed. By including this release agent in the electron beam curable resin composition 6, the mold release property at the time of the peeling process of peeling the shaping layer 2 formed of the electron beam curable resin composition 6 from the shaping plate 24. Can be improved. As a result, it is possible to prevent the occurrence of cracks and cracks that may occur when the shaping layer 2 is peeled off. The release agent is not particularly limited as long as this object can be achieved, and examples thereof include silicone release agents, fluorine release agents, and phosphoric acid release agents. Among these, from the viewpoint of releasability, a phosphoric acid type release agent can be preferably mentioned. Examples of the phosphoric acid release agent include a phosphoric acid release agent and a phosphate ester release agent. Examples of the phosphoric acid type release agent include 1-phenyl-2-phospholene-1-oxide, 3-methyl-2-phospholene-1-oxide, 1-ethyl-2-phospholene-1-oxide, and 3-methyl-1 -Phenyl-2-phospholene-1-oxide, and phospholene oxides such as these 3-phospholene isomers; triphenylphosphine, tris- (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, brominated tetraethylphosphine And one or more selected from chlorinated tetraethylphosphine and the like. Examples of the phosphoric acid ester release agent include di-2-ethylhexyl hydrogen phosphite, dilauryl hydrogen phosphite, dialkyl hydrogen phosphite, dioleyl hydrogen phosphite, triisooctyl phosphite, diphenyl iso phosphite. 1 selected from decyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, triisodecyl phosphite, trialkyl phosphite, trioleyl phosphite, tristearyl phosphite, trilauryl trithiophosphite, methyl acid phosphate and ethyl acid phosphate A seed | species or 2 or more types can be mentioned.

離型剤は、電子線硬化性樹脂組成物6に対して、0.01質量%以上、20質量%以下含有していることが好ましく、0.01質量%以上、10質量%以下含有していることがより好ましく、0.01質量%以上、5質量%以下含有していることが特に好ましい。電子線硬化性樹脂組成物6がこうした範囲の離型剤を含むことにより、形成された後の賦形層2の離型性をより向上させることができる。離型剤の含有量は、その離型能力に応じて適宜変更できる。なお、電子線硬化性樹脂組成物6中の耐候剤及び離型剤の定量方法としては、例えば、ガスクロマトグラフィー質量分析法で求めることができる。   The release agent is preferably contained in an amount of 0.01% by mass or more and 20% by mass or less, and preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the electron beam curable resin composition 6. The content is more preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less. When the electron beam curable resin composition 6 contains a release agent in such a range, the release property of the shaping layer 2 after being formed can be further improved. The content of the release agent can be appropriately changed according to the release ability. In addition, as a quantification method of the weathering agent and mold release agent in the electron beam curable resin composition 6, it can obtain | require by a gas chromatography mass spectrometry, for example.

(他の成分)
電子線硬化性樹脂組成物6は、上記したウレタンアクリレート以外に他の樹脂を含有していてもよい。こうした樹脂としては、電子線の照射により架橋重合が可能なラジカル重合性の化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、アクリロイル基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等のラジカル重合性不飽和基を有するモノマー(単量体)、オリゴマー及びプレポリマーから選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。こうしたオリゴマー及びプレポリマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエチレンアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、シリコーンアクリレート及びポリオールアクリレート等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Other ingredients)
The electron beam curable resin composition 6 may contain other resins in addition to the urethane acrylate. Such a resin is not particularly limited as long as it is a radically polymerizable compound that can be crosslinked by irradiation with an electron beam. For example, radically polymerizable compounds such as an acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, and an isopropenyl group. One type or two or more types selected from monomers having an unsaturated group (monomers), oligomers and prepolymers can be mentioned. Examples of such oligomers and prepolymers include pentaerythritol acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, polyethylene acrylate, polybutadiene acrylate, silicone acrylate, and polyol acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合性不飽和基を有するモノマーとしては、単官能モノマー及び多官能モノマーを挙げることができる。単官能モノマーとしては、特に限定されないが、例えばN−ビニルピロリドン、N−ビニルカブロラクトン、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、スチレン等のビニルモノマー;フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、バラクミルフェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソオクチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、オルトフェニルフェノキシエチルアクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリレート、アクリロイルモルホリン等のアクリレートモノマー;アクリルアミド誘導体;等を挙げることができる。多官能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、ペンタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールAポリエトキシジオールジアクリレート、ビスフェノールAポリプロポキシジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリルトリアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等、及びこれらのエチレンオキシド変性物、プロピレンオキシド変性物、及びカプロラクタン変性物、等を挙げることができる。こうしたモノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、そうしたモノマーが結合して生成したオリゴマーであってもよい。   Examples of the monomer having a radical polymerizable unsaturated group include monofunctional monomers and polyfunctional monomers. Although it does not specifically limit as a monofunctional monomer, For example, vinyl monomers, such as N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactone, vinyl imidazole, vinyl pyridine, styrene; Phenoxyethyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, butoxyethyl acrylate, Ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, balacyl phenoxyethyl acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, isooctyl acrylate, cyclohexyl acrylate, Benzyl Acryl , Ortho-phenyl phenoxyethyl acrylate, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylaminopropyl acrylate, acrylate monomers such as acryloyl morpholine; and the like can be given; acrylamide derivatives. Polyfunctional monomers include pentaerythritol triacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polytetramethylene glycol diacrylate, butane Diol diacrylate, hexanediol diacrylate, nonanediol diacrylate, pentanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, dimethylol-tricyclodecane diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, bisphenol A polyethoxydiol diacrylate Bisphenol A Ripropoxydiol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, glyceryl triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol hexa Examples thereof include acrylates and the like, ethylene oxide-modified products, propylene oxide-modified products, and caprolactan-modified products. These monomers may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the oligomer produced | generated by combining such a monomer may be sufficient.

また、電子線硬化性樹脂組成物6には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、必要に応じて添加剤を添加してもよい。添加剤としては、例えば、熱安定剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、色素(着色染料、着色顔料)、体質顔料、光拡散剤、カップリング剤等を挙げることができる。なお、電子線硬化性樹脂組成物6は、電子線で硬化する樹脂組成物であるので、紫外線で硬化する樹脂組成物に添加されるアセトフェノン系化合物及びアシルフォスフォンオキサイド系化合物等の光重合開始剤は含まない。   Moreover, you may add an additive to the electron beam curable resin composition 6 as needed within the range which does not inhibit the effect of this invention. Examples of the additive include a heat stabilizer, an antifoaming agent, a leveling agent, a plasticizer, a surfactant, an antistatic agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a pigment (colored dye, colored pigment), Examples include extender pigments, light diffusing agents, and coupling agents. In addition, since the electron beam curable resin composition 6 is a resin composition that is cured by an electron beam, photopolymerization initiation of an acetophenone compound, an acyl phosphooxide compound, and the like added to the resin composition that is cured by an ultraviolet ray is started. The agent is not included.

<賦形層形成工程>
賦形層形成工程は、電子線を照射して電子線硬化性樹脂組成物6を硬化させて賦形層2を形成する工程である。この工程では、例えば、図3に示すように、賦形版24とプラスチック基材1との間で、賦形版24とプラスチック基材1に接して設けられている電子線硬化性樹脂組成物6に電子線を照射する。図3の例では、電子線の線源として電子線照射装置26の電子線源27を用い、プラスチック基材1側から電子線を照射している。
<Shaping layer forming process>
The shaping layer forming step is a step of forming the shaping layer 2 by irradiating an electron beam to cure the electron beam curable resin composition 6. In this step, for example, as shown in FIG. 3, the electron beam curable resin composition provided between the shaping plate 24 and the plastic substrate 1 and in contact with the shaping plate 24 and the plastic substrate 1. 6 is irradiated with an electron beam. In the example of FIG. 3, the electron beam source 27 of the electron beam irradiation apparatus 26 is used as the electron beam source, and the electron beam is irradiated from the plastic substrate 1 side.

電子線源27は、例えば、コッククロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が用いられる。電子線とは、電子線の他、X線、γ線等の電磁波、α線等の荷電粒子線のことであり、電子線硬化性樹脂組成物6とは、電子線を照射することにより、架橋して硬化する樹脂を含む樹脂組成物のことである。   As the electron beam source 27, for example, various electron beam accelerators such as a cockcroft Walton type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulating core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type are used. The electron beam is an electron beam, an electromagnetic wave such as an X-ray or a γ-ray, a charged particle beam such as an α-ray, and the electron beam curable resin composition 6 is irradiated with an electron beam. It is a resin composition containing a resin that is cured by crosslinking.

形成された賦形層2は、単層であっても2層以上であってもよく、いずれの場合も、電子線が照射されて形成される。電子線を照射して形成された賦形層2は、より密に架橋したものになると考えられるため、より良好な耐候性を示す透明賦形フィルム10を製造できる。   The formed shaping layer 2 may be a single layer or two or more layers, and in any case, it is formed by irradiation with an electron beam. Since the shaping layer 2 formed by irradiating the electron beam is considered to be more closely cross-linked, the transparent shaped film 10 having better weather resistance can be produced.

賦形層2の厚さは特に限定されず、単層又は2層以上に関わらず、例えば、0.01μm以上、500μm以下の範囲で任意に形成され、通常、0.1μm以上、200μm以下の程度である。なお、賦形層2の厚さとは、賦形層2の厚さが最大になる箇所の値をいう。   The thickness of the shaping layer 2 is not particularly limited, and may be arbitrarily formed within a range of 0.01 μm or more and 500 μm or less, regardless of whether it is a single layer or two or more layers, and is usually 0.1 μm or more and 200 μm or less. Degree. In addition, the thickness of the shaping layer 2 means the value of the location where the thickness of the shaping layer 2 becomes the maximum.

本発明では、上述したように、電子線硬化性樹脂組成物6に含まれるウレタンアクリレートの60℃での粘度が2000mPa・s以上であるので、形成された後の賦形層2が良好な賦形性を示すことができる。そのため、形成された賦形層2は、単位プリズム4の頂部の形状が丸まってしまったり、賦形層2が賦形版24と同じ形状にならないという問題が発生しないので、目的とする形状の賦形層2を精度良く形成できる。   In the present invention, as described above, since the viscosity of the urethane acrylate contained in the electron beam curable resin composition 6 at 60 ° C. is 2000 mPa · s or more, the shaped layer 2 after being formed has a good shape. Can show shape. Therefore, the formed shaping layer 2 does not have a problem that the shape of the top of the unit prism 4 is rounded or the shaping layer 2 does not have the same shape as the shaping plate 24. The shaping layer 2 can be formed with high accuracy.

<剥離工程>
剥離工程は、プラスチック基材1と賦形層2とを賦形版24から剥離する工程である。図3の例では、剥離ロール25によってプラスチック基材1と賦形層2とを賦形版24から剥離させている。その結果、プラスチック基材1上に賦形層2が設けられた積層体を得ることができる。
<Peeling process>
The peeling step is a step of peeling the plastic substrate 1 and the shaping layer 2 from the shaping plate 24. In the example of FIG. 3, the plastic substrate 1 and the shaping layer 2 are peeled from the shaping plate 24 by the peeling roll 25. As a result, a laminate in which the shaping layer 2 is provided on the plastic substrate 1 can be obtained.

本発明では、上述したように、電子線硬化性樹脂組成物6に含まれるウレタンアクリレートの60℃での粘度が24000mPa・s以下であるので、形成された後の賦形層2の離型性を向上することができる。そのため、形成された賦形層2は、賦形層2を賦形版24から剥離できないという問題や、賦形層2を賦形版24から剥離するときに賦形層2が破断したりして、目的とする賦形形状を形成できないという問題等が発生しないので、目的とする形状の賦形層2を精度良く形成できる。   In the present invention, as described above, since the urethane acrylate contained in the electron beam curable resin composition 6 has a viscosity at 60 ° C. of 24000 mPa · s or less, the releasability of the shaping layer 2 after it is formed. Can be improved. Therefore, the formed shaping layer 2 has a problem that the shaping layer 2 cannot be peeled off from the shaping plate 24, or the shaping layer 2 may break when the shaping layer 2 is peeled off from the shaping plate 24. Thus, the problem that the desired shaped shape cannot be formed does not occur, so that the shaped layer 2 having the desired shape can be formed with high accuracy.

<無機層形成工程>
無機層形成工程は、賦形層2上に無機層3を形成する工程である。無機層3は、透明賦形フィルム10の自浄性を高める機能層として賦形層2上に形成される。その自浄性は、無機層3が親水性を有する場合に好ましく発揮される。
<Inorganic layer forming step>
The inorganic layer forming step is a step of forming the inorganic layer 3 on the shaping layer 2. The inorganic layer 3 is formed on the shaping layer 2 as a functional layer that improves the self-cleaning property of the transparent shaping film 10. The self-cleaning property is preferably exhibited when the inorganic layer 3 has hydrophilicity.

無機層3の形成材料としては、例えば、酸化物、酸化窒化物、窒化物、酸化炭化物、及び酸化炭化窒化物等から選ばれる1又は2以上の無機化合物を挙げることができる。具体的には、珪素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウム、セリウム、及び亜鉛から選ばれる1種又は2種以上の元素を含有する無機化合物を挙げることができ、より具体的には、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化珪素亜鉛及び酸化インジウム合金等の酸化物、窒化珪素、窒化アルミニウム、及び窒化チタン等の窒化物、酸化窒化珪素等の酸化窒化物を挙げることができる。特に好ましくは、無機層3が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、及び酸化珪素亜鉛から選ばれる1種又は2種以上からなる無機化合物層である。無機層3は上記材料を単独で用いてもよいし、本発明の要旨の範囲内で上記材料を任意の割合で混合して用いてもよい。   Examples of the material for forming the inorganic layer 3 include one or more inorganic compounds selected from oxides, oxynitrides, nitrides, oxycarbides, oxycarbonitrides, and the like. Specific examples include inorganic compounds containing one or more elements selected from silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium, cerium, and zinc, and more specifically, oxidation. Examples include oxides such as silicon, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, silicon zinc oxide, and indium alloy, nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride, and oxynitrides such as silicon oxynitride. be able to. Particularly preferably, the inorganic layer 3 is an inorganic compound layer composed of one or more selected from silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, and silicon zinc oxide. The inorganic layer 3 may use the said material independently, and may mix and use the said material in arbitrary ratios within the range of the summary of this invention.

無機層3の厚さは、使用する無機化合物によっても異なるが、通常、5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、クラック等の発生を抑制する見地から、通常5000nm以下、好ましくは500nm以下、より好ましくは300nm以下である。また、無機層3は単層であってもよいし、合計厚さが上記範囲内となる2層以上の無機層3であってもよい。2層以上の無機層3の場合には、同じ材料同士を組み合わせてもよいし、異なる材料同士を組み合わせてもよい。   Although the thickness of the inorganic layer 3 varies depending on the inorganic compound to be used, it is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 5000 nm or less, preferably 500 nm or less, from the viewpoint of suppressing the occurrence of cracks and the like. More preferably, it is 300 nm or less. The inorganic layer 3 may be a single layer or two or more inorganic layers 3 having a total thickness within the above range. In the case of two or more inorganic layers 3, the same materials may be combined or different materials may be combined.

無機層3は、イオンプレーティング法又はプラズマ化学気相成長法(プラズマCVD法)で成膜される。イオンプレーティング法とプラズマCVD法は、成膜時にプラズマ放電が起こり、そのプラズマ放電時に熱が生じる成膜手段で賦形層2上に無機層3を成膜した場合には、従来の賦形層2にはその熱を原因とした白化が生じていた。しかし、本願では、ガラス転移温度が17℃以上又はガラス転移温度を示さない特徴的なウレタンアクリレートを電子線硬化性樹脂組成物6の構成材料として用いたので、プラズマ放電時に熱を生じる成膜手段であっても、そのプラズマ放電時の熱を原因として生じる白化を抑制することができた。したがって、本発明では、無機層3をイオンプレーティング法やプラズマCVD法で成膜する場合に顕著な効果を奏する。また、無機層3に、より親水性を付与するためにプラズマ放電を行った場合であっても、前記した白化を抑制することができる。なお、その他のPVD法であっても、成膜時に熱が生じる場合には、その熱を原因とした白化が生じるおそれがあるので、その場合も同様に好ましく適用できる。なお、こうした各種の形成方法での成膜条件は、得ようとする無機層3の物性及び厚さ等を考慮し、従来公知の成膜条件を適宜調整して行えばよい。   The inorganic layer 3 is formed by an ion plating method or a plasma chemical vapor deposition method (plasma CVD method). In the ion plating method and the plasma CVD method, when the inorganic layer 3 is formed on the shaping layer 2 by the film forming means in which plasma discharge occurs during film formation and heat is generated during the plasma discharge, the conventional shaping is performed. Layer 2 was whitened due to the heat. However, in the present application, since a characteristic urethane acrylate having a glass transition temperature of 17 ° C. or higher or not exhibiting a glass transition temperature is used as a constituent material of the electron beam curable resin composition 6, film forming means for generating heat during plasma discharge is used. Even so, whitening caused by heat during the plasma discharge could be suppressed. Therefore, in the present invention, there is a remarkable effect when the inorganic layer 3 is formed by an ion plating method or a plasma CVD method. Moreover, even if it is a case where plasma discharge is performed in order to impart more hydrophilicity to the inorganic layer 3, the above-described whitening can be suppressed. Even in other PVD methods, when heat is generated at the time of film formation, whitening due to the heat may occur. The film forming conditions in these various forming methods may be adjusted by appropriately adjusting conventionally known film forming conditions in consideration of the physical properties and thickness of the inorganic layer 3 to be obtained.

より具体的には、原料をプラズマガンで発生させたプラズマビームで加熱させ、基材に堆積させるイオンプレーティング法、又は、有機珪素化合物等を原料とし、酸化珪素膜を基材に堆積させるプラズマ化学気相成長法、を好ましく利用することができる。特に、無機層3を賦形層2の賦形形状の上に均一に形成する賦形形状追従性の観点からは、プラズマ化学気相成長法が好ましく適用される。   More specifically, the material is heated by a plasma beam generated by a plasma gun and deposited on a substrate, or an ion plating method in which the material is deposited on a substrate, or plasma in which a silicon oxide film is deposited on a substrate using an organosilicon compound or the like as a material. Chemical vapor deposition can be preferably used. In particular, plasma chemical vapor deposition is preferably applied from the viewpoint of the shape-following property of uniformly forming the inorganic layer 3 on the shape of the shaping layer 2.

<他の工程>
透明賦形フィルム10の製造方法には、例えば、無機層3上や賦形層2が設けられていない側の面S2上に任意の機能層を形成する工程が含まれていてもよい。任意の機能層としては、本発明の特徴を阻害しない範囲で、従来公知のマット層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等を挙げることができる。こうした機能層の形成工程は、従来公知の形成方法を適用できる。
<Other processes>
The method for producing the transparent shaped film 10 may include, for example, a step of forming an arbitrary functional layer on the inorganic layer 3 or the surface S2 on the side where the shaped layer 2 is not provided. As an optional functional layer, a conventionally known mat layer, protective layer, antistatic layer, smoothing layer, adhesion improving layer, light shielding layer, antireflection layer, hard coat layer, stress, as long as the features of the present invention are not impaired. Examples include a relaxation layer, an antifogging layer, an antifouling layer, a printing layer, and an easy adhesion layer. A conventionally well-known formation method can be applied to the formation process of such a functional layer.

こうした製造方法で製造された透明賦形フィルム10は、図1に示すように、プラスチック基材1、賦形層2、及び無機層3で少なくとも構成されている。また、透明賦形フィルム10には、上記した機能層を有していてもよい。   As shown in FIG. 1, the transparent shaped film 10 produced by such a production method includes at least a plastic substrate 1, a shaped layer 2, and an inorganic layer 3. Moreover, the transparent shaped film 10 may have the above-described functional layer.

本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the description of the following examples unless it exceeds the gist.

[実施例1]
プラスチック基材1として、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績株式会社製、商品名:コスモシャイン A4100)を用い、その片面にプライマー層が設けられたプラスチック基材1を準備した。賦形版24として、賦形形状の断面が二等辺三角形であり、その溝の深さが20μmでピッチ幅が50μmの平行線を刻んだ金型版を準備した。片面S1にプライマー層(図示しない)が設けられたプラスチック基材1は、プラスチック基材1の片面S1に下記の組成のプライマー層形成用樹脂組成物をミヤバーで塗布し、その後、60℃で30秒間乾燥させて、厚さ3μmのプライマー層を設けて作製した。上記した賦形版24に下記の組成の電子線硬化性樹脂組成物Aをアプリケータで塗工した後、塗工された電子線硬化性樹脂組成物Aと上記したプラスチック基材1のプライマー層が設けられた面S1とをローラーで貼り合せた。その後、プラスチック基材側から電子線照射機(岩崎電気株式会社製、商品名:低加速エネルギー照射機)を用い、165keV,10Mrad(100kGy)の条件で電子線を照射し、電子線硬化性樹脂組成物Aを硬化させて厚さ30μmの賦形層2を形成した。
[Example 1]
As a plastic substrate 1, a polyethylene terephthalate film (trade name: Cosmo Shine A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used, and a plastic substrate 1 provided with a primer layer on one side thereof was prepared. As the shaping plate 24, a die plate was prepared in which the cross-section of the shaping shape was an isosceles triangle, the groove depth was 20 μm, and parallel lines with a pitch width of 50 μm were carved. For the plastic substrate 1 provided with a primer layer (not shown) on one side S1, a primer layer forming resin composition having the following composition is applied to one side S1 of the plastic substrate 1 with a Miyabar, and then 30 ° C. at 30 ° C. It was dried for 2 seconds, and a primer layer having a thickness of 3 μm was provided. After the electron beam curable resin composition A having the following composition is applied to the above-mentioned shaping plate 24 with an applicator, the applied electron beam curable resin composition A and the primer layer of the plastic substrate 1 described above are applied. The surface S1 provided with was bonded with a roller. Then, using an electron beam irradiator (trade name: low acceleration energy irradiator manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) from the plastic substrate side, the electron beam is irradiated under the conditions of 165 keV, 10 Mrad (100 kGy), and an electron beam curable resin. Composition A was cured to form shaping layer 2 having a thickness of 30 μm.

(プライマー層形成用樹脂組成物の組成)
・ポリカーボネート系ウレタン−アクリル共重合体樹脂(ポリカーボネート系ウレタンウレタン成分とアクリル成分との質量比=50:50):100質量部
・ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(BASFジャパン株式会社製、商品名:チヌビン479):1.5質量部
・反応性官能基を有するヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、日本乳化剤株式会社製、商品名:サノールLS−3410):3質量部
・硬化剤(ヘキサンメチレンジイソシアネート):6質量部
(Composition of primer layer forming resin composition)
Polycarbonate urethane-acrylic copolymer resin (mass ratio of polycarbonate urethane urethane component to acrylic component = 50: 50): 100 parts by mass Hydroxyphenyltriazine ultraviolet absorber (manufactured by BASF Japan Ltd., trade name: Tinuvin 479): 1.5 parts by mass Hindered amine light stabilizer having a reactive functional group (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl methacrylate, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd., trade name: Sanol LS-3410): 3 parts by mass Curing agent (hexane methylene diisocyanate): 6 parts by mass

(電子線硬化性樹脂組成物Aの組成)
・ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:2〜3、数平均分子量:3500、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7000B):100質量部
・紫外線吸収剤(ヒドロキシフェニルトリアジン系、BASFジャパン株式会社製、商品名:チヌビン479):2質量部
・リン酸エステル系離型剤(SC有機化学株式会社製、商品名:Chelex H−18D):1質量部
(Composition of electron beam curable resin composition A)
Urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 2-3, number average molecular weight: 3500, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7000B): 100 parts by mass Ultraviolet absorber (hydroxyphenyltriazine, BASF Japan Co., Ltd., trade name: Tinuvin 479): 2 parts by mass Phosphate ester release agent (SC Organic Chemicals, trade name: Chelex H-18D): 1 part by mass

次に、無機層3を、プラズマCVD法により形成した。具体的には、賦形層2が形成されたプラスチック基材1の賦形層側を形成する向きにしてプラズマCVD装置にセットし、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン(信越化学工業株式会社製)、酸素ガス及びアルゴンガスを準備した。プラズマCVD法の条件は、成膜圧力を0.4Torrとし、成膜時間を1分間とし、放電電力を200Wとし、各ガスは、オクタメチルシクロテトラシロキサン:酸素ガス:アルゴンガス=1sccm:50sccm:5sccmとなるよう供給して、厚さ80nmの酸化珪素層を無機層3として形成した。なお、実施例1の無機層3の組成比を、X線光電子分光装置(アルバック・ファイ社製、型番:ESCA−5600)を用いてX線光電子分光法により測定した結果、Si:O:C=25:57:18(単位はモル%)であった。また、sccmとは、standard cubic centimeter per minuteの略であり、以下の実施例、比較例においても同様である。   Next, the inorganic layer 3 was formed by the plasma CVD method. Specifically, it is set in a plasma CVD apparatus in a direction to form the shaping layer side of the plastic substrate 1 on which the shaping layer 2 is formed, and hexamethyldisiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a raw material gas. Oxygen gas and argon gas were prepared. The conditions of the plasma CVD method are a film formation pressure of 0.4 Torr, a film formation time of 1 minute, a discharge power of 200 W, and each gas is octamethylcyclotetrasiloxane: oxygen gas: argon gas = 1 sccm: 50 sccm: A silicon oxide layer having a thickness of 80 nm was formed as the inorganic layer 3 by supplying 5 sccm. In addition, as a result of measuring the composition ratio of the inorganic layer 3 of Example 1 by X-ray photoelectron spectroscopy using an X-ray photoelectron spectrometer (model number: ESCA-5600, manufactured by ULVAC-PHI), Si: O: C = 25:57:18 (unit: mol%). Further, sccm is an abbreviation for standard cubic centimeter per minute, and the same applies to the following examples and comparative examples.

[実施例2]
電子線硬化性樹脂組成物Aに反応性官能基を有するヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、日本乳化剤株式会社製、商品名:サノールLS−3410)を3質量部配合したこと以外は、実施例1と同様にして実施例2の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 2]
A hindered amine light stabilizer having a reactive functional group in the electron beam curable resin composition A (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl methacrylate, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd., trade name: Sanol A transparent shaped film of Example 2 was produced in the same manner as Example 1 except that 3 parts by mass of LS-3410) was blended.

[実施例3]
下記の組成に調製した電子線硬化性樹脂組成物Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして実施例3の透明賦形フィルムを製造した。電子線硬化性樹脂組成物Bは、紫外線吸収剤の種類を増やしたこと以外は、電子線硬化性樹脂組成物Aと同様のものである。
[Example 3]
A transparent shaped film of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron beam curable resin composition B prepared in the following composition was used. The electron beam curable resin composition B is the same as the electron beam curable resin composition A except that the types of ultraviolet absorbers are increased.

(電子線硬化性樹脂組成物Bの組成)
・ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:2〜3、数平均分子量:3500、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7000B):100質量部
・ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(BASFジャパン株式会社製、商品名:チヌビン479):1質量部
・ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(BASFジャパン株式会社製、商品名:チヌビン400):1質量部
・ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(BASFジャパン株式会社製、商品名:チヌビン477):1質量部
・反応性官能基を有するヒンダードアミン系光安定剤(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルメタクリレート、日本乳化剤株式会社製、商品名:サノールLS−3410):3質量部
・リン酸エステル系離型剤(SC有機化学株式会社製、商品名:Chelex H−18D):1質量部
(Composition of electron beam curable resin composition B)
Urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 2-3, number average molecular weight: 3500, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7000B): 100 parts by mass Hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorber (BASF Made by Japan Co., Ltd., trade name: Tinuvin 479): 1 part by mass ・ Hydroxyphenyl triazine ultraviolet absorber (BASF Japan Ltd., trade name: Tinuvin 400): 1 part by mass ・ Hydroxyphenyl triazine ultraviolet absorber (BASF) Made by Japan Co., Ltd., trade name: Tinuvin 477): 1 part by mass • Hindered amine light stabilizer having a reactive functional group (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl methacrylate, Japan Emulsifier Stock Product name: Sanol LS-3410): 3 parts by mass Phosphate ester-based mold release agent (SC Organic Chemical Co., Ltd., trade name: Chelex H-18D): 1 part by weight

[実施例4]
無機層3を成膜するプラズマCVD法の条件を、成膜圧力を0.1Torrとし、成膜時間を4分間とし、放電電力を200Wとし、各ガスは、オクタメチルシクロテトラシロキサンに代えてヘキサメチルジシロキサンを用い、ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:アルゴンガス=1sccm:50sccm:3sccmとなるよう供給して、厚さ80nmの酸化珪素層を無機層3として形成した。それ以外は、実施例1と同様にして実施例4の透明賦形フィルムを製造した。なお、実施例1と同様にして無機層3の組成比を測定した結果、Si:O:C=24:62:14(単位はモル%)であった。
[Example 4]
The conditions of the plasma CVD method for forming the inorganic layer 3 are as follows: the film forming pressure is 0.1 Torr; the film forming time is 4 minutes; the discharge power is 200 W; each gas is replaced with octamethylcyclotetrasiloxane; Using methyldisiloxane, hexamethyldisiloxane: oxygen gas: argon gas = 1 sccm: 50 sccm: 3 sccm was supplied to form an 80 nm thick silicon oxide layer as the inorganic layer 3. Otherwise, the transparent shaped film of Example 4 was produced in the same manner as Example 1. In addition, as a result of measuring the composition ratio of the inorganic layer 3 in the same manner as in Example 1, it was Si: O: C = 24: 62: 14 (unit: mol%).

[実施例5]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:2、数平均分子量:1200、ダイセル・サイテック株式会社製、商品名:EBECRYL284)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例5の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 5]
Except for changing the urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 2, number average molecular weight: 1200, manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd., trade name: EBECRYL284), A transparent shaped film of Example 5 was produced in the same manner as Example 1.

[実施例6]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:3、数平均分子量:2000、ダイセル・サイテック株式会社製、商品名:EBECRYL8701)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例6の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 6]
Except for changing the urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 3, number average molecular weight: 2000, manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd., trade name: EBECRYL8701), A transparent shaped film of Example 6 was produced in the same manner as Example 1.

[実施例7]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:4〜5、数平均分子量:2300、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7650B)に変更したこと以外は、実施例2と同様にして実施例7の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 7]
The urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A is changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 4 to 5, number average molecular weight: 2300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7650B). A transparent shaped film of Example 7 was produced in the same manner as Example 2 except that.

[実施例8]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:6、数平均分子量:1400、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7600B)に変更したこと以外は、実施例2と同様にして実施例8の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 8]
The urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A was changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 6, number average molecular weight: 1400, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7600B). A transparent shaped film of Example 8 was produced in the same manner as Example 2 except for the above.

[実施例9]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:6〜7、数平均分子量:2200、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7630B)に変更したこと以外は、実施例2と同様にして実施例9の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 9]
The urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A is changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 6 to 7, number average molecular weight: 2200, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7630B). A transparent shaped film of Example 9 was produced in the same manner as Example 2 except that.

[実施例10]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:6〜7、数平均分子量:1500、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7640B)に変更したこと以外は、実施例2と同様にして実施例10の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 10]
The urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A is changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 6 to 7, number average molecular weight: 1500, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7640B). A transparent shaped film of Example 10 was produced in the same manner as Example 2 except that.

[実施例11]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:6、数平均分子量:1000)に変更したこと以外は、実施例2と同様にして実施例11の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 11]
The transparent of Example 11 is the same as Example 2 except that the urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A is changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 6, number average molecular weight: 1000). A shaped film was produced.

[実施例12]
プラスチック基材にプライマー層を設けなかったこと以外は、実施例1と同様にして実施例12の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 12]
A transparent shaped film of Example 12 was produced in the same manner as in Example 1 except that the primer layer was not provided on the plastic substrate.

[実施例13]
プラスチック基材にプライマー層を設けなかったこと以外は、実施例6と同様にして実施例13の透明賦形フィルムを製造した。
[Example 13]
A transparent shaped film of Example 13 was produced in the same manner as in Example 6 except that the primer layer was not provided on the plastic substrate.

[実施例14]
無機層3を蒸着原料として酸化珪素(SiO2)を使用したイオンプレーティング法で形成した以外は、実施例2と同様にして実施例14の透明賦形フィルムを製造した。イオンプレーティング法の条件は、プロセスガスとしてArガスを使用し、成膜圧力を1.2×10−2Pa、成膜パワーを9kWにした。なお、実施例1と同様にして無機層の組成比を測定した結果、Si:O:C=29:57:14(単位はモル%)であった。
[Example 14]
A transparent shaped film of Example 14 was produced in the same manner as in Example 2 except that the inorganic layer 3 was formed by an ion plating method using silicon oxide (SiO 2) as a deposition raw material. The ion plating method was performed using Ar gas as a process gas, a film forming pressure of 1.2 × 10 −2 Pa, and a film forming power of 9 kW. In addition, as a result of measuring the composition ratio of the inorganic layer in the same manner as in Example 1, it was Si: O: C = 29: 57: 14 (unit: mol%).

[比較例1]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:2、数平均分子量:18000、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−3000B)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例1の透明賦形フィルムを製造した。
[Comparative Example 1]
The urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A was changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 2, number average molecular weight: 18000, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-3000B). Except for the above, a transparent shaped film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1.

[比較例2]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:1、数平均分子量:236、新中村化学株式会社製、商品名:AMP−20GY)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例2の透明賦形フィルムを製造した。
[Comparative Example 2]
Other than changing the urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 1, number average molecular weight: 236, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: AMP-20GY) Produced the transparent shaped film of Comparative Example 2 in the same manner as in Example 1.

[比較例3]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:2、数平均分子量:18000、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7605B)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例3の透明賦形フィルムを製造した。
[Comparative Example 3]
The urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A was changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 2, number average molecular weight: 18000, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7605B). Except for the above, a transparent shaped film of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1.

[比較例4]
電子線硬化性樹脂組成物Aのウレタンアクリレートを、ウレタンアクリレート(1分子あたりのアクリロイル基数:3、数平均分子量:3500、日本合成化学工業株式会社製、商品名:UV−7650B)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして比較例4の透明賦形フィルムを製造した。
[Comparative Example 4]
The urethane acrylate of the electron beam curable resin composition A was changed to urethane acrylate (number of acryloyl groups per molecule: 3, number average molecular weight: 3500, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: UV-7650B). Except for the above, a transparent shaped film of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1.

[測定と評価]
実施例1〜13及び比較例1〜4のウレタンアクリレートについて、(ア)ガラス転移温度の測定、及び(イ)60℃での粘度の測定を行った。また、実施例1〜13及び比較例1〜4の賦形層2について、(ウ)賦形性の評価、及び(エ)離型性の評価を行った。また、実施例1〜13及び比較例1〜4の透明賦形フィルムについて、(オ)外観の観察、(カ)硬度の測定、(キ)製造後、常温で24時間経過したもの、曝露試験6ヶ月経過後のもの、及び耐侯性試験を250時間行ったものそれぞれの自浄性の評価、(ク)製造後常温で24時間経過したものと耐侯性試験を500時間行ったものとの色差測定、及び(ケ)耐侯性試験を500時間行ったものの形状安定性の評価を行った。
[Measurement and evaluation]
For the urethane acrylates of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 4, (a) measurement of glass transition temperature and (b) measurement of viscosity at 60 ° C were performed. Moreover, about the shaping layer 2 of Examples 1-13 and Comparative Examples 1-4, (c) evaluation of shaping property and (d) evaluation of mold release property were performed. Moreover, about the transparent shaped film of Examples 1-13 and Comparative Examples 1-4, (o) Observation of external appearance, (f) Measurement of hardness, (G) What passed 24 hours at normal temperature after manufacture, Exposure test Evaluation of self-cleaning properties after 6 months and after 250 hours of weather resistance test, (K) Color difference measurement between 24 hours at room temperature after manufacturing and 500 hours of weather resistance test And (g) The shape stability of the one subjected to the weather resistance test for 500 hours was evaluated.

ウレタンアクリレートのガラス転移温度の測定は、示唆熱量分析器(DSC、株式会社島津製作所製、型番:DSC−60)を用い、JIS K7121に準拠した測定法で、測定温度範囲を−50℃から100℃とし、昇温速度を10℃/分として測定した。   The measurement of the glass transition temperature of urethane acrylate is a measurement method based on JIS K7121, using a suggested calorimetric analyzer (DSC, manufactured by Shimadzu Corporation, model number: DSC-60). The temperature was measured at a temperature rise rate of 10 ° C./min.

ウレタンアクリレートの60℃での粘度の測定は、JIS K7117−1に準拠してB型粘度計(東機産業株式会社製、商品名:VISCOMETER)を用いて、BLアダプター及びM4ローターを使用して測定開始後30秒後から1分間測定することにより求めた。   The viscosity of urethane acrylate at 60 ° C. is measured using a BL adapter and M4 rotor using a B-type viscometer (trade name: VISCOMETER, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) in accordance with JIS K7117-1. It was determined by measuring for 1 minute 30 seconds after the start of measurement.

賦形層2の賦形性の評価は、得られたプラスチック基材1と賦形層2とを断面が観察できるように切断し、測定試料用の台座にカーボンペースト(テッド・ペラ社製、コロイド状カーボン)で貼り付け、パラジウムと白金との合金をターゲットとしたスパッタリングによって前処理を実施した後、走査型電子顕微鏡(株式会社島津製作所製、型番:S−8000)を用いて断面観察をして評価した。賦形層2の賦形形状に欠けがなく、試験片全体にわたり目的とする賦形形状が形成できていたものを「良い」とし、賦形形状の頂部が丸まっていたり、左右対称でないために賦形形状に欠陥が存在したりしたものを「悪い」とした。   The evaluation of the shapeability of the shaping layer 2 is performed by cutting the obtained plastic substrate 1 and the shaping layer 2 so that the cross section can be observed, and carbon paste (manufactured by Ted Pella, Pasted with colloidal carbon) and pretreated by sputtering using an alloy of palladium and platinum as a target, and then observed with a scanning electron microscope (manufactured by Shimadzu Corporation, model number: S-8000). And evaluated. Because the shaping shape of the shaping layer 2 is not missing and the desired shaping shape has been formed over the entire test piece is defined as “good” and the top of the shaping shape is rounded or not symmetrical A case where there was a defect in the shaped shape was regarded as “bad”.

賦形層2の離型性の評価は、剥離のし易さを定量的に測定するために、引張試験機(株式会社オリエンテック製、型番:テンシロンSTA−1150)を用い、引張速度10mm/分で15mm幅のプラスチック基材及び賦形層を賦形版から180°の角度で引っ張ることにより、引張強度を測定した。引張強度が1.0N/15mm未満であり、賦形版からの剥離が容易であったものを「良い」とし、引張強度が1.0N/15mm以上であり、賦形版からの剥離が困難であったか、賦形版から剥離できなかったものを「悪い」とした。   In order to quantitatively measure the ease of peeling, the mold release layer 2 was evaluated using a tensile tester (manufactured by Orientec Co., Ltd., model number: Tensilon STA-1150), and a tensile speed of 10 mm / Tensile strength was measured by pulling a 15 mm wide plastic substrate and shaping layer from the shaping plate at an angle of 180 °. The tensile strength is less than 1.0 N / 15 mm, and those that were easily peeled off from the shaping plate were regarded as “good”, and the tensile strength was 1.0 N / 15 mm or more, and peeling from the shaping plate was difficult Those that were or could not be peeled off from the shaped plate were regarded as “bad”.

透明賦形フィルムの外観観察は、目視及び光学顕微鏡観察により行った。外観変化がなく、高い透明性を有していたものを「良い」とし、白化が生じて透明性が低下したものを「悪い」とした。   The appearance of the transparent shaped film was observed visually and with an optical microscope. Those that had no change in appearance and had high transparency were evaluated as “good”, and those that were whitened and reduced in transparency were evaluated as “bad”.

透明賦形フィルムの硬度の評価は、鉛筆引掻き硬度試験機(NB型、株式会社東洋精機製作所製)により、3Bから4Hまでの異なる硬度の鉛筆を用いてJIS K5400に準拠した試験法により、傷の有無を目視及び光学顕微鏡で観察して評価した。なお、鉛筆硬度は測定限界が4Hであり、鉛筆硬度試験は荷重500gを加えた状態で実施した。   The hardness of the transparent shaped film is evaluated by a pencil scratch hardness tester (NB type, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) using a pencil having a hardness of 3B to 4H and a test method based on JIS K5400. The presence or absence of was evaluated by visual observation and observation with an optical microscope. The pencil hardness has a measurement limit of 4H, and the pencil hardness test was performed with a load of 500 g applied.

耐侯性試験は、超促進耐候性試験機(岩崎電気株式会社製、商品名:アイスーパーUVテスター、型番:SUV−W23)を用いて、透明賦形フィルムに下記の(A),(B),(C)を1サイクルとし、このサイクルを繰り返すことにより行った。例えば、耐候性試験を250時間行った場合は、このサイクルを10回繰り返し、耐候性試験を500時間行った場合は、このサイクルを21回繰り返した。
(A)温度:63℃、湿度:50%RHの雰囲気下で、照度:60mW/cm2、ピーク波長:365nmの紫外線を20時間照射する。
(B)散水処理(シャワー)を30秒間行う。
(C)温度:63℃、湿度:98%RHの雰囲気下で4時間保持する(紫外線の照射は無し)。
The weather resistance test is performed using a super accelerated weathering tester (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., trade name: iSuper UV tester, model number: SUV-W23), and the following (A), (B) , (C) was taken as one cycle, and this cycle was repeated. For example, when the weather resistance test was performed for 250 hours, this cycle was repeated 10 times, and when the weather resistance test was performed for 500 hours, this cycle was repeated 21 times.
(A) Irradiation with ultraviolet rays having an illuminance of 60 mW / cm 2 and a peak wavelength of 365 nm in an atmosphere of temperature: 63 ° C. and humidity: 50% RH for 20 hours.
(B) Watering treatment (shower) is performed for 30 seconds.
(C) Hold for 4 hours in an atmosphere of temperature: 63 ° C. and humidity: 98% RH (no UV irradiation).

曝露試験は、透明賦形フィルムを屋外に6ヶ月間静置させて放置することにより行った。   The exposure test was performed by leaving the transparent shaped film to stand outdoors for 6 months.

透明賦形フィルムの自浄性の評価は、自浄性評価試験と水に対する接触角測定により評価した。自浄性評価試験は、その無機層上にオレイン酸と赤色着色料を混合した着色油を滴下し、その後、その滴下された着色油の上から水を滴下し、着色油の水中での浮き具合を目視により観察して評価した。水に対する接触角測定は、透明賦形フィルムの平坦な無機層上に水を滴下し、接触角計(協和界面科学株式会社製、型番:CA−X)により測定した。これらの結果を自浄性の指標とした。自浄性評価試験により、透明賦形フィルム上に滴下された着色油が水に浮いたものであって、接触角測定により、水との接触角が60°未満であったものを「良い」とした。また、自浄性評価試験により、透明賦形フィルム上に滴下された着色油が水に浮かないか、又は、接触角測定により、水との接触角が60°以上のものを「悪い」とした。なお、透明賦形フィルムの平坦な無機層3は、例えば、プラスチック基材1にそれぞれの実施例及び比較例の電子線硬化性樹脂組成物をアプリケータで塗工し、この電子線硬化性樹脂組成物を硬化させて平坦な有機層を形成し、この有機層上に無機層3を形成することで調製できる。   The self-cleaning property of the transparent shaped film was evaluated by a self-cleaning property evaluation test and contact angle measurement with water. In the self-cleaning evaluation test, a colored oil mixed with oleic acid and a red colorant is dropped on the inorganic layer, and then water is dropped from above the dropped colored oil. Was visually observed and evaluated. The contact angle for water was measured by dropping water on the flat inorganic layer of the transparent shaped film and measuring with a contact angle meter (model number: CA-X, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). These results were used as indicators of self-cleanliness. According to the self-cleaning evaluation test, the colored oil dropped on the transparent shaped film floats in the water, and the contact angle measurement with the water having a contact angle of less than 60 ° is “good”. did. In addition, the self-cleaning evaluation test showed that the colored oil dropped on the transparent shaped film did not float on the water, or the contact angle measurement determined that the contact angle with water was 60 ° or more as “bad”. . The flat inorganic layer 3 of the transparent shaped film is formed by, for example, applying the electron beam curable resin compositions of the examples and comparative examples to the plastic substrate 1 with an applicator. It can be prepared by curing the composition to form a flat organic layer and forming the inorganic layer 3 on the organic layer.

透明賦形フィルムの色差測定は、分光光度計(株式会社島津製作所製、型番:UV−3100PC)を用い、JIS−K7105の記載に準拠して透過法によりΔE*ab値を測定した。なお、ΔE*ab値は、CIE1976規格の(L*,a*,b*)空間表色系による色差公式:ΔE*ab={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)21/2から求められる値である。ΔE*ab値が1未満であり、外観がまったく変わらないものを「非常に良い」とし、ΔE*ab値が1以上、3未満のものを「良い」とした。ΔE*ab値が3未満のものは、良好な耐候性を示しており、ΔE*ab値が3だと、耐候性の面で実用上問題が生じる。 For the color difference measurement of the transparent shaped film, a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model number: UV-3100PC) was used, and the ΔE * ab value was measured by the transmission method according to the description of JIS-K7105. The ΔE * ab value is a color difference formula according to the CIE 1976 standard (L *, a *, b *) space color system: ΔE * ab = {(ΔL *) 2 + (Δa *) 2 + (Δb *) 2 } Value obtained from 1/2 . A case where the ΔE * ab value was less than 1 and the appearance was not changed at all was regarded as “very good”, and a case where the ΔE * ab value was 1 or more and less than 3 was regarded as “good”. A ΔE * ab value of less than 3 indicates good weather resistance, and a ΔE * ab value of 3 causes a practical problem in terms of weather resistance.

透明賦形フィルムの形状安定性の評価は、透明賦形フィルムを5cm×5cmに切断して測定試料とし、賦形形状を有する無機層が上になるように5枚載置した。この無機層に、定荷重圧縮試験機(株式会社エー・アンド・ディ製、製品名:テンシロン万能材料試験機、型番:RTG−1210)で40℃の環境下で、直径2.5mmで重さ1.27kgのステンレス鋼材により26kg/cm2の荷重を24時間印加するいわゆる「山つぶれ」試験を行い、その後、目視による外観の観察を行った。また、断面が観察できるように切断した透明賦形フィルムを測定試料用の台座にカーボンペーストで貼り付け、パラジウムと白金との合金をターゲットとしたスパッタリングによって前処理を実施した後、走査型電子顕微鏡(株式会社島津製作所製、品番:S−8000)を用いて断面観察をして評価した。賦形形状に山つぶれがなく、形状の崩れがほとんどないものを「良い」とし、賦形形状に山つぶれがあり、形状が崩れているものを「悪い」とした。 For the evaluation of the shape stability of the transparent shaped film, the transparent shaped film was cut into 5 cm × 5 cm to obtain a measurement sample, and five sheets were placed so that the inorganic layer having the shaped shape was on top. This inorganic layer was weighed with a constant load compression tester (manufactured by A & D Co., Ltd., product name: Tensilon Universal Material Tester, Model No .: RTG-1210) at a diameter of 2.5 mm under an environment of 40 ° C. A so-called “mountain collapse” test in which a load of 26 kg / cm 2 was applied for 24 hours with a 1.27 kg stainless steel material was performed, and then the appearance was visually observed. In addition, a transparent shaped film cut so that the cross section can be observed is attached to a pedestal for a measurement sample with a carbon paste, a pretreatment is performed by sputtering using an alloy of palladium and platinum as a target, and then a scanning electron microscope (Shimadzu Corporation, product number: S-8000) was used for cross-sectional observation and evaluation. A shaped shape with no crushing and almost no collapse of the shape was judged as “good”, and a shaped shape with cresting and a shape collapsed was judged as “bad”.

[結果]
実施例1〜13及び比較例1〜4のウレタンアクリレート及び賦形層の評価結果を表1に示す。また、実施例1〜13及び比較例1〜4の透明賦形フィルムの評価結果を表2に示す。なお、「−」は、ガラス転移温度(Tg)を示さなかったものであり、Tgが100℃以上のものである。「※」は、測定を行わなかったものである。
[result]
Table 1 shows the evaluation results of the urethane acrylates and shaping layers of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 4. Table 2 shows the evaluation results of the transparent shaped films of Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 4. In addition, "-" does not show a glass transition temperature (Tg), and Tg is a thing of 100 degreeC or more. “*” Indicates that no measurement was performed.

Figure 2014051013
Figure 2014051013

Figure 2014051013
Figure 2014051013

表1,2の結果から、実施例1〜13の透明賦形フィルムの賦形層は、賦形性と離型性が良好であったので、目的とする賦形形状を精度良く製造できた。また、実施例1〜13の透明賦形フィルムは、無機層を形成しても白化が生じていなかったので、良好な透明性を有していた。また、耐侯性がいずれも「非常に良い」又は「良い」であったので、良好な耐候性を有していた。また、良好な自浄性を有していた。さらに、硬度はいずれも2H以上であり、良好な形状安定性を示した。   From the results of Tables 1 and 2, since the shaping layers of the transparent shaping films of Examples 1 to 13 had good shaping properties and releasability, the desired shaping shapes could be produced with high accuracy. . Moreover, since the transparent shaped film of Examples 1-13 did not whiten even if the inorganic layer was formed, it had favorable transparency. Moreover, since all of the weather resistance were “very good” or “good”, they had good weather resistance. Moreover, it had a good self-cleaning property. Further, the hardness was 2H or more, and good shape stability was exhibited.

比較例1の透明賦形フィルムの賦形層は、離型性が悪く、目的とする賦形形状を有する透明賦形フィルムを製造できなかった。また、比較例2〜4の透明賦形フィルムの賦形層は、賦形性が悪く、目的とする賦形形状を有する透明賦形フィルムを製造できなかった。   The shaped layer of the transparent shaped film of Comparative Example 1 had poor release properties and could not produce a transparent shaped film having the intended shaped shape. Moreover, the shaping layer of the transparent shaping film of Comparative Examples 2-4 had bad shaping property, and could not manufacture the transparent shaping film which has the target shaping shape.

本発明によれば、良好な耐候性を示す透明賦形フィルムを製造できる。この透明賦形フィルムは、主として高い耐候性が要求される用途で、特に、屋外等の長期間紫外線に晒される環境下で使用される用途に適用できる。こうした用途としては、例えば、太陽電池用の集光シート、太陽電池用のバックシート、液晶ディスプレイ反射防止用のシート、電子ペーパー用のフィルム、プラズマディスプレーの電磁波遮蔽性フィルム、有機エレクトロルミネッセンス用のフィルム等の電子装置に用いられるフィルムとして好ましく用いられる。また、鉄道車両、自動車、自動販売機等の表面に貼付して用いられるマーキング用フィルムの表面保護等を目的としたオーバーレイフィルム、外装看板の表面保護用フィルム、建物の屋外の窓や自動車窓等に貼り合せられる採光、導光、熱線反射、熱線制御等を目的とした窓貼り用フィルム、住宅用の窓用部材、及び農業用ビニールハウス用フィルム等の屋外で長期間使用される透明フィルムとして好ましく用いられる。   According to the present invention, a transparent shaped film showing good weather resistance can be produced. This transparent shaped film can be applied mainly to applications that require high weather resistance, and particularly to applications that are used in environments exposed to ultraviolet rays for a long period of time such as outdoors. Examples of such applications include concentrating sheets for solar cells, backsheets for solar cells, antireflection sheets for liquid crystal displays, films for electronic paper, electromagnetic wave shielding films for plasma displays, and films for organic electroluminescence. It is preferably used as a film for use in electronic devices such as. In addition, overlay films for the purpose of surface protection of marking films used on the surfaces of railway vehicles, automobiles, vending machines, etc., surface protection films for exterior signage, outdoor windows in buildings, automobile windows, etc. As a transparent film that can be used outdoors for a long period of time, such as film for window pasting for lighting, light guiding, heat ray reflection, heat ray control, etc., housing window members, and agricultural greenhouse films. Preferably used.

1 プラスチック基材
2 賦形層
3 無機層
4 単位プリズム
5A プリズム
5B フレネルレンズ
5C レンチキュラーレンズ
6 電子線硬化性樹脂組成物
10,10A,10B,10C 透明賦形フィルム
20 賦形層形成装置
21 Tダイ型ノズル
22 押圧ロール
23 成型用ドラム
24 賦形版
25 剥離ロール
26 電子線照射装置
27 電子線源
S1 プラスチック基材の片面
S2 プラスチック基材の他の面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plastic base material 2 Shaped layer 3 Inorganic layer 4 Unit prism 5A Prism 5B Fresnel lens 5C Lenticular lens 6 Electron beam curable resin composition 10, 10A, 10B, 10C Transparent shaped film 20 Shaped layer forming device 21 T die Mold nozzle 22 Press roll 23 Molding drum 24 Shaping plate 25 Peeling roll 26 Electron beam irradiation device 27 Electron beam source S1 One side of plastic substrate S2 Other side of plastic substrate

Claims (3)

プラスチック基材と賦形版と電子線硬化性樹脂組成物とを準備する工程と、
前記プラスチック基材と前記賦形版との間に前記電子線硬化性樹脂組成物を設ける工程と、
前記電子線硬化性樹脂組成物に電子線を照射して賦形層を形成する工程と、
前記プラスチック基材と前記賦形層とを前記賦形版から剥離する工程と、
前記賦形層上にイオンプレーティング法又はプラズマ化学的気相成長法で親水性を有する無機層を形成する工程と、を有し、
前記電子線硬化性樹脂組成物は、ウレタンアクリレートと紫外線吸収剤とを含有し、該ウレタンアクリレートは、ガラス転移温度が17℃以上又はガラス転移温度を示さず、60℃での粘度が2000mPa・s以上、24000mPa・s以下であることを特徴とする透明賦形フィルムの製造方法。
Preparing a plastic substrate, a shaping plate and an electron beam curable resin composition;
Providing the electron beam curable resin composition between the plastic substrate and the shaping plate;
Irradiating the electron beam curable resin composition with an electron beam to form a shaping layer;
Peeling the plastic substrate and the shaping layer from the shaping plate;
Forming an inorganic layer having hydrophilicity by ion plating or plasma chemical vapor deposition on the shaping layer, and
The electron beam curable resin composition contains a urethane acrylate and an ultraviolet absorber, and the urethane acrylate has a glass transition temperature of 17 ° C. or higher or a glass transition temperature, and a viscosity at 60 ° C. of 2000 mPa · s. The method for producing a transparent shaped film, which is 24000 mPa · s or less.
前記電子線硬化性樹脂組成物が光安定剤を含有する、請求項1に記載の透明賦形フィルムの製造方法。   The method for producing a transparent shaped film according to claim 1, wherein the electron beam curable resin composition contains a light stabilizer. 前記電子線硬化性樹脂組成物が離型剤を含有する、請求項1又は2に記載の透明賦形フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the transparent shaped film of Claim 1 or 2 with which the said electron beam curable resin composition contains a mold release agent.
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