JP2014038782A - Electro-optic device and electronic equipment - Google Patents

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章夫 深瀬
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the light emission of the light emitting function layer of an inter-element region in which no light emitting element are formed.SOLUTION: In an electro-optic device with an active driving system, a display device 2 includes a display region 10 in which pixels 11 each of which has light emitting elements 16 are arrayed in a first direction and a second direction orthogonal to the first direction, and a display signal is supplied to the selected pixel 11 such that the light emitting elements 16 are allowed to emit the rays of light. Each of those light emitting elements 16 has: a pixel electrode 34 formed for each pixel 11 to which the display signal is supplied; a band-shaped counter electrode 37 arranged so as to counter the pixel electrode 34, and to be stretched between the plurality of pixels 11 arrayed in either the first direction or the second direction; and a light emitting function layer 36 arranged so as to be sandwiched between the pixel electrode 34 and the band-shaped counter electrode 37, and to cover the display region 10. A plurality of band-shaped counter electrodes 37 are arranged in the display region 10, and the plurality of band-shaped counter electrodes 37 are electrically connected to each other in the periphery of the display region 10.

Description

本発明は、電気光学装置、及び当該電気光学装置を搭載した電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus equipped with the electro-optical device.

従来、例えば、特許文献1に記載されているように、デジタルカメラ等の電子機器に搭載可能な電子ビューファインダーが提案されている。特許文献1に記載の電子ビューファインダーは、液晶表示装置からなる非発光型表示装置であり、光源としてバックライトを備えている。   Conventionally, as described in Patent Document 1, for example, an electronic viewfinder that can be mounted on an electronic device such as a digital camera has been proposed. The electronic viewfinder described in Patent Document 1 is a non-light emitting display device including a liquid crystal display device, and includes a backlight as a light source.

電子ビューファインダーのような1インチ未満の表示領域を有するマイクロディスプレイでは、薄型化や軽量化などの性能改善が重要となっている。上述した液晶表示装置は、光源としてのバックライトが必要であるため、機器の薄型化や軽量化に限界がある。そこで、例えば、特許文献2に記載の表示装置が提案されている。特許文献2に記載の表示装置は、発光素子を有する画素がマトリックス状に配列された自発光型表示装置である。当該発光素子は、いわゆる有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子であり、画素電極、対向電極、及び発光機能層などから構成されている。自発光型表示装置は、非発光型表示装置と比べて、光源としてのバックライトが不要となるため、薄型化及び軽量化の点で有利である。   In a micro display having a display area of less than 1 inch such as an electronic viewfinder, performance improvement such as reduction in thickness and weight is important. Since the above-described liquid crystal display device requires a backlight as a light source, there is a limit to reducing the thickness and weight of the device. Thus, for example, a display device described in Patent Document 2 has been proposed. The display device described in Patent Document 2 is a self-luminous display device in which pixels having light-emitting elements are arranged in a matrix. The light emitting element is a so-called organic EL (electroluminescence) element, and includes a pixel electrode, a counter electrode, a light emitting functional layer, and the like. Since the self-luminous display device does not require a backlight as a light source as compared with a non-luminous display device, it is advantageous in terms of reduction in thickness and weight.

特開2010−96800号公報JP 2010-96800 A 特開2007−108248号公報JP 2007-108248 A

しかしながら、特許文献2に記載の表示装置を、上述したマイクロディスプレイに適用し、発光素子を発光させた場合に、発光素子が配置されていない非発光となるべき領域(素子間領域)も発光するという課題があった。   However, when the display device described in Patent Document 2 is applied to the above-described microdisplay and the light emitting element is caused to emit light, a region where no light emitting element is disposed and which should not emit light (inter-element region) also emits light. There was a problem.

詳しくは、上述したマイクロディスプレイを構成する画素サイズは概略10μm以下と小さいため、発光機能層を発光素子毎にパターニングすることが難しく、発光機能層は複数の発光素子に跨って(表示領域を覆う様に)形成されている。このため、発光素子と隣り合う発光素子との間、すなわち素子間領域にも発光機能層が形成されている。発光素子と隣り合う発光素子との間のスペースは数μm以下と小さくなっているため、当該発光素子の画素電極に供給される信号によっては、当該発光素子の画素電極と隣り合う発光素子の対向電極との間でリーク電流が流れ、設計上の非発光領域(素子間領域)の発光機能層が発光する場合があった。すなわち、画素電極に供給される信号によっては、素子間領域に形成されている発光機能層が発光し、表示コントラストの低下や色味の変化という不具合が発生するという課題があった。   Specifically, since the pixel size constituting the above-described microdisplay is as small as approximately 10 μm or less, it is difficult to pattern the light emitting functional layer for each light emitting element, and the light emitting functional layer straddles a plurality of light emitting elements (covers the display region). Is formed). For this reason, the light emitting functional layer is also formed between the light emitting elements and the adjacent light emitting elements, that is, between the elements. Since the space between the light emitting element and the adjacent light emitting element is as small as several μm or less, depending on the signal supplied to the pixel electrode of the light emitting element, the pixel electrode of the light emitting element is opposed to the adjacent light emitting element. In some cases, a leakage current flows between the electrodes and the light emitting functional layer in the designed non-light emitting region (inter-element region) emits light. That is, depending on the signal supplied to the pixel electrode, the light emitting functional layer formed in the inter-element region emits light, and there is a problem in that a problem such as a decrease in display contrast and a change in color occurs.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る電気光学装置は、発光素子を有する画素が第1の方向及び第1の方向と交差する第2の方向に配列された表示領域を有し、選択された画素に表示信号を供給し発光素子を発光させるアクティブ駆動方式の電気光学装置であって、発光素子は、画素毎に形成され表示信号が供給される画素電極と、画素電極に対向し第1の方向又は第2の方向のいずれか一方に配列された複数の画素に跨って配置された帯状の対向電極と、画素電極と帯状の対向電極とで挟まれ表示領域を覆って配置された発光機能層と、を備え、帯状の対向電極は表示領域に複数配置され、複数の帯状の対向電極は表示領域の周辺で互いに電気的に接続されていることを特徴とする。   Application Example 1 The electro-optical device according to this application example has a display area in which pixels having light emitting elements are arranged in a first direction and a second direction intersecting the first direction, and is selected. An active drive type electro-optical device that supplies a display signal to a pixel and causes a light-emitting element to emit light, wherein the light-emitting element is formed for each pixel and is supplied with a display signal. A light emitting function disposed between a plurality of pixels arranged in either the direction or the second direction and a display area sandwiched between the pixel electrode and the band-shaped counter electrode and covering the display region A plurality of strip-shaped counter electrodes are arranged in the display region, and the plurality of strip-shaped counter electrodes are electrically connected to each other around the display region.

対向電極は、複数の画素に跨って配置された帯形状(ストライプ形状)となっており、表示領域には、対向電極が形成されていない領域が存在する。表示領域の全面に対向電極を形成した場合と比べて、表示領域に対向電極が形成されていない領域を設けることによって、複数の画素のうちの1の画素の画素電極と、当該画素に隣り合う対向電極との間の距離を長くすることができる。その結果、当該画素電極と隣り合う当該対向電極との間の抵抗成分が大きくなり、当該画素電極と隣り合う当該対向電極との間でリーク電流が流れにくくなる。従って、当該画素電極と隣り合う当該対向電極との間の発光機能層、すなわち発光素子と隣り合う発光素子との間の領域(素子間領域)の発光機能層の発光を抑制することができる。   The counter electrode has a strip shape (stripe shape) arranged across a plurality of pixels, and a region where the counter electrode is not formed exists in the display region. Compared to the case where the counter electrode is formed on the entire surface of the display region, the pixel electrode of one pixel of the plurality of pixels is adjacent to the pixel by providing a region where the counter electrode is not formed in the display region. The distance between the counter electrodes can be increased. As a result, the resistance component between the pixel electrode and the adjacent counter electrode becomes large, and a leak current hardly flows between the pixel electrode and the adjacent counter electrode. Accordingly, light emission of the light emitting functional layer between the pixel electrode and the adjacent counter electrode, that is, the light emitting functional layer in the region (inter-element region) between the light emitting element and the adjacent light emitting element can be suppressed.

[適用例2]上記適用例に記載の電気光学装置は、帯状の対向電極に対向する画素電極の配列方向と直交する方向において、帯状の対向電極の巾は、画素電極の巾と同等以下であることが好ましい。   Application Example 2 In the electro-optical device according to the application example described above, the width of the strip-shaped counter electrode is equal to or less than the width of the pixel electrode in a direction orthogonal to the arrangement direction of the pixel electrodes facing the strip-shaped counter electrode. Preferably there is.

帯状の対向電極の巾は、当該対向電極に対向配置された画素電極の巾に比べて同等以下と小さくなっているので、当該対向電極に対向配置された画素電極と、当該対向電極に隣り合う帯状の対向電極との間の距離を大きくすることができる。このため、当該対向電極に対向配置された画素電極と、当該対向電極に隣り合う帯状の対向電極との間のリーク電流を、小さくすることができる。従って、当該対向電極に対向配置された画素電極と、当該対向電極に隣り合う帯状の対向電極との間の発光機能層、すなわち素子間領域の発光機能層の発光を、抑制することができる。   Since the width of the strip-shaped counter electrode is equal to or smaller than the width of the pixel electrode disposed opposite to the counter electrode, the pixel electrode disposed opposite to the counter electrode is adjacent to the counter electrode. The distance between the strip-shaped counter electrode can be increased. For this reason, the leakage current between the pixel electrode arranged to face the counter electrode and the strip-shaped counter electrode adjacent to the counter electrode can be reduced. Therefore, light emission of the light emitting functional layer between the pixel electrode disposed to face the counter electrode and the strip-shaped counter electrode adjacent to the counter electrode, that is, the light emitting functional layer in the inter-element region can be suppressed.

[適用例3]上記適用例に記載の電気光学装置は、画素電極の周縁部の少なくとも一部は絶縁膜で覆われ、帯状の対向電極は、画素電極の絶縁膜で覆われていない領域に対向配置され、帯状の対向電極に対向する画素電極の配列方向と直交する方向において、帯状の対向電極の巾は、画素電極の絶縁膜で覆われていない領域の巾と同等以下であることが好ましい。   Application Example 3 In the electro-optical device according to the application example described above, at least a part of the peripheral portion of the pixel electrode is covered with an insulating film, and the strip-shaped counter electrode is formed in a region not covered with the insulating film of the pixel electrode. The width of the strip-shaped counter electrode is equal to or less than the width of the region not covered with the insulating film of the pixel electrode in the direction perpendicular to the arrangement direction of the pixel electrodes opposed to the strip-shaped counter electrode. preferable.

帯状の対向電極の巾は、当該対向電極に対向配置された画素電極の絶縁膜で覆われていない領域の巾に比べて同等以下と小さくなっているので、当該対向電極に対向配置された絶縁膜で覆われていない領域の画素電極と、当該対向電極に隣り合う帯状の対向電極との間の距離を大きくすることができる。このため、当該対向電極に対向配置された絶縁膜で覆われていない領域の画素電極と、当該対向電極に隣り合う帯状の対向電極との間のリーク電流を、小さくすることができる。従って、当該対向電極に対向配置された絶縁膜で覆われていない領域の画素電極と、当該対向電極に隣り合う帯状の対向電極との間の発光機能層、すなわち素子間領域の発光機能層の発光を、抑制することができる。   The width of the strip-shaped counter electrode is equal to or smaller than the width of the region not covered with the insulating film of the pixel electrode disposed to face the counter electrode, so that the insulation disposed to face the counter electrode. The distance between the pixel electrode in the region not covered with the film and the strip-shaped counter electrode adjacent to the counter electrode can be increased. For this reason, it is possible to reduce the leakage current between the pixel electrode in a region not covered with the insulating film disposed to face the counter electrode and the strip-shaped counter electrode adjacent to the counter electrode. Therefore, the light emitting functional layer between the pixel electrode in the region not covered with the insulating film disposed opposite to the counter electrode and the band-shaped counter electrode adjacent to the counter electrode, that is, the light emitting functional layer in the inter-element region. Luminescence can be suppressed.

[適用例4]上記適用例に記載の電気光学装置は、隣り合う帯状の対向電極との間に帯状の対向電極に沿う方向に配置された帯状の共通電極を有し、帯状の共通電極は表示領域に複数配置され、複数の帯状の共通電極は表示領域の周辺で互いに電気的に接続され、帯状の対向電極より大きい電圧が供給されていることが好ましい。   Application Example 4 The electro-optical device according to the application example described above includes a strip-shaped common electrode arranged in a direction along the strip-shaped counter electrode between adjacent strip-shaped counter electrodes, and the strip-shaped common electrode is It is preferable that a plurality of strip-like common electrodes are arranged in the display region, and the plurality of strip-like common electrodes are electrically connected to each other around the display region and supplied with a voltage higher than that of the strip-like counter electrode.

画素電極と隣り合う対向電極との間、すなわち素子間領域には、対向電極より大きい電圧が供給されている共通電極が形成されているので、当該画素電極から隣り合う対向電極に発光機能層を発光させるキャリア(正孔)が流れにくくなっている。従って、素子間領域における発光機能層の発光を抑制することができる。   Since a common electrode to which a voltage larger than the counter electrode is supplied is formed between the pixel electrode and the adjacent counter electrode, that is, in the inter-element region, a light emitting functional layer is provided from the pixel electrode to the adjacent counter electrode. It is difficult for carriers (holes) to emit light to flow. Therefore, light emission of the light emitting functional layer in the inter-element region can be suppressed.

[適用例5]上記適用例に記載の電気光学装置は、帯状の対向電極には表示信号より小さい電圧が供給され、帯状の共通電極には表示信号の最大電圧から発光素子が発光する最低電圧を減じた電圧より大きい電圧が供給されていることが好ましい。   Application Example 5 In the electro-optical device according to the application example described above, a voltage smaller than the display signal is supplied to the strip-shaped counter electrode, and the minimum voltage at which the light-emitting element emits light from the maximum voltage of the display signal is applied to the strip-shaped common electrode. It is preferable that a voltage larger than the voltage obtained by subtracting is supplied.

共通電極には、画素電極に供給される表示信号の最大値(最大電圧)から、発光素子(発光機能層)が発光する電圧の最低値(最小電圧)を減じた電圧より大きい電圧が供給されているので、画素電極と共通電極との間の電圧は、画素電極に最大電圧が供給された場合においても、発光機能層が発光する最低電圧よりも小さくなる。よって、画素電極に供給される表示信号に関係なく、画素電極と当該共通電極との間の電圧は、発光機能層が発光しない電圧に維持される。従って、画素電極に供給される表示信号に関係なく、発光素子が形成されていない素子間領域の発光機能層の発光を抑制することができる。   The common electrode is supplied with a voltage higher than the voltage obtained by subtracting the minimum value (minimum voltage) of the light emitting element (light emitting functional layer) from the maximum value (maximum voltage) of the display signal supplied to the pixel electrode. Therefore, the voltage between the pixel electrode and the common electrode is smaller than the lowest voltage at which the light emitting functional layer emits light even when the maximum voltage is supplied to the pixel electrode. Therefore, regardless of the display signal supplied to the pixel electrode, the voltage between the pixel electrode and the common electrode is maintained at a voltage at which the light emitting functional layer does not emit light. Therefore, light emission of the light emitting functional layer in the inter-element region where the light emitting element is not formed can be suppressed regardless of the display signal supplied to the pixel electrode.

[適用例6]上記適用例に記載の電気光学装置において、帯状の対向電極及び帯状の共通電極は、同一材料で、発光機能層に接して形成されていることが好ましい。   Application Example 6 In the electro-optical device according to the application example described above, it is preferable that the strip-shaped counter electrode and the strip-shaped common electrode are formed of the same material and in contact with the light emitting functional layer.

帯状の対向電極及び帯状の共通電極は、同一材料によって形成されているので、新たな材料を追加するという工数の増加を招くことなく、例えば同一工程で対向電極と共通電極とを形成することができる。   Since the strip-shaped counter electrode and the strip-shaped common electrode are formed of the same material, for example, the counter electrode and the common electrode can be formed in the same process without increasing the man-hour of adding a new material. it can.

[適用例7]上記適用例に記載の電気光学装置は、帯状の対向電極は、光透過性及び光反射性を有し、帯状の共通電極は、遮光性を有していることが好ましい。   Application Example 7 In the electro-optical device according to the application example described above, it is preferable that the strip-shaped counter electrode has light transmittance and light reflectivity, and the strip-shaped common electrode has light shielding properties.

帯状の対向電極と隣り合う帯状の対向電極との間には、遮光性の共通電極が形成され、当該共通電極が不要な光を遮光する遮光膜(ブラックマトリックス)として機能するので、表示コントラストを向上させることができる。   A light-shielding common electrode is formed between the belt-like counter electrode and the adjacent belt-like counter electrode, and the common electrode functions as a light-shielding film (black matrix) that shields unnecessary light. Can be improved.

[適用例8]上記適用例に記載の電気光学装置は、画素電極は光透過性を有し、帯状の対向電極は光透過性及び光反射性を有し、画素電極の帯状の対向電極と反対側には、光反射性を有する反射膜が配置され、帯状の対向電極と反射膜との間で発光機能層より発した光を共振させる光共振構造が形成されていることが好ましい。   Application Example 8 In the electro-optical device according to the application example described above, the pixel electrode has light transmittance, the strip-shaped counter electrode has light transmittance and light reflectivity, and the pixel electrode has a strip-shaped counter electrode and On the opposite side, it is preferable that a reflective film having light reflectivity is disposed, and an optical resonant structure for resonating light emitted from the light emitting functional layer is formed between the strip-shaped counter electrode and the reflective film.

帯状の対向電極と反射膜との間には、発光機能層より発した光を共振させる光共振構造が形成され、当該光共振構造において発光機能層で発した光を特定波長に共振させ、特定波長の光を効率的に取り出す(射出させる)ことができる。さらに、各画素で共振させる光の波長域を、光の3原色(赤、緑、青)に対応した波長域に設定し、各画素から赤、緑、青に対応した光を射出させることによって、フルカラー表示を提供することができる。   An optical resonant structure that resonates the light emitted from the light emitting functional layer is formed between the strip-shaped counter electrode and the reflective film, and the light emitted from the light emitting functional layer in the optical resonant structure is resonated to a specific wavelength and specified. Light with a wavelength can be efficiently extracted (emitted). Furthermore, by setting the wavelength range of light that resonates in each pixel to a wavelength range corresponding to the three primary colors of light (red, green, and blue), and emitting light corresponding to red, green, and blue from each pixel Can provide a full color display.

[適用例9]本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする。   Application Example 9 An electronic apparatus according to this application example includes the electro-optical device described in the application example.

本適用例の電子機器は、素子間領域の発光機能層が発光することによる表示コントラストの低下や色味の変化という不具合が抑制された電気光学装置(マイクロディスプレイ)を備えているので、表示品位に優れた、例えばHMD(Head Mounted Display)やデジタルカメラなどの小型・軽量の電子機器を提供することができる。さらに、本発明の電気光学装置は、上述したHMDやデジタルカメラの他に、モバイルコンピューター、車載機器、オーディオ機器、及び情報端末機器など各種電子機器の表示部に適用させることもできる。   Since the electronic device of this application example includes an electro-optical device (micro display) in which a malfunction such as a decrease in display contrast and a change in color due to light emission from the light emitting functional layer in the inter-element region is suppressed, display quality is improved. For example, a small and lightweight electronic device such as an HMD (Head Mounted Display) or a digital camera can be provided. Furthermore, the electro-optical device of the present invention can be applied to display units of various electronic devices such as mobile computers, in-vehicle devices, audio devices, and information terminal devices in addition to the above-described HMD and digital camera.

実施形態1に係る表示装置の構成を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view illustrating a configuration of a display device according to the first embodiment. 実施形態1に係る表示装置の電気的な構成を示す等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram illustrating an electrical configuration of the display device according to the first embodiment. 実施形態1に係る表示装置の画素電極に印加された電圧と発光素子に流れる電流との関係を示した図。3 is a diagram showing a relationship between a voltage applied to a pixel electrode of the display device according to Embodiment 1 and a current flowing through the light emitting element. 図1のA−A’線に沿った表示パネルの断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the display panel taken along line A-A ′ in FIG. 1. 図1の表示領域に対応した素子基板の平面図。The top view of the element substrate corresponding to the display area of FIG. 実施形態1に係る表示装置の対向電極及び共通電極の配線状態を示す等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram illustrating a wiring state of a counter electrode and a common electrode of the display device according to the first embodiment. 実施形態2に係る表示装置の断面図。Sectional drawing of the display apparatus which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る素子基板の平面図。FIG. 5 is a plan view of an element substrate according to a second embodiment. 変形例1に係る表示装置の断面図。Sectional drawing of the display apparatus which concerns on the modification 1. FIG. 変形例2に係る表示装置の断面図。Sectional drawing of the display apparatus which concerns on the modification 2. FIG. (a)は電子機器の一例としてのHMDの概要を示す概略図。(b)は電子機器の一例としてのデジタルカメラの概要を示す概略図。(A) is a schematic diagram showing an outline of HMD as an example of electronic equipment. FIG. 4B is a schematic diagram illustrating an outline of a digital camera as an example of an electronic apparatus.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の各図においては、各層や各部位を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部位の縮尺を実際とは異ならせしめてある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Such an embodiment shows one aspect of the present invention and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. In each of the following drawings, the scale of each layer or each part is made different from the actual scale so that each layer or each part can be recognized on the drawing.

(実施形態1)
「表示装置の概要」
図1は、実施形態1に係る表示装置の構成を示す斜視図である。図2は、本実施形態に係る表示装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図3は、画素電極に印加された電圧と発光素子に流れる電流との関係を示した図である。なお、図2では、表示装置1の動作を分かりやすくするために、後述する共通電極38(図4参照)の図示が省略されている。
まず、図1及び図2を参照して、表示装置1の概要を説明する。
(Embodiment 1)
"Overview of display device"
FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a display device according to the first embodiment. FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the display device according to the present embodiment. FIG. 3 is a diagram illustrating the relationship between the voltage applied to the pixel electrode and the current flowing through the light emitting element. In FIG. 2, the common electrode 38 (see FIG. 4), which will be described later, is not shown for easy understanding of the operation of the display device 1.
First, an overview of the display device 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

本実施形態に係る表示装置1は、電気光学装置の一例であり、後述する発光素子16(図2参照)を有する画素11がマトリックス状に配列された自発光型の表示装置である。なお、図1の二点鎖線で囲まれた領域は、画素11が配列された表示領域10となる。   The display device 1 according to the present embodiment is an example of an electro-optical device, and is a self-luminous display device in which pixels 11 having light-emitting elements 16 (see FIG. 2) described later are arranged in a matrix. Note that a region surrounded by a two-dot chain line in FIG. 1 is a display region 10 in which the pixels 11 are arranged.

図1に示すように、表示装置1は、表示パネル5、フレキシブル基板28などから構成されている。表示パネル5は、上述した表示領域10を備えている。図1の右上に拡大して示すように、表示領域10には、赤色(R)に発光する画素(R画素)11R、緑色(G)に発光する画素(G画素)11G、及び青色(B)に発光する画素(B画素)11Bがストライプ状に配列されている。これらR画素11R、G画素11G、及びB画素11Bに対応する3つの画素11が、表示単位12となってフルカラーの表示が提供されている。   As shown in FIG. 1, the display device 1 includes a display panel 5, a flexible substrate 28, and the like. The display panel 5 includes the display area 10 described above. As shown in the upper right of FIG. 1, the display area 10 includes a pixel (R pixel) 11R that emits red (R), a pixel (G pixel) 11G that emits green (G), and a blue (B ) Emitting pixels (B pixels) 11B are arranged in stripes. The three pixels 11 corresponding to the R pixel 11R, the G pixel 11G, and the B pixel 11B serve as a display unit 12 to provide a full color display.

以下、フレキシブル基板28に近接した側の表示パネル5の1辺に沿った方向をX軸方向、当該1辺と交差し互いに対向する他の2辺に沿った方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する、表示パネル5の厚さ方向をZ軸方向として説明する。
表示パネル5は、フルカラーの表示を提供する表示体であり、素子基板30及び対向基板50などで構成されている。なお、素子基板30及び対向基板50は、透光性樹脂(図示省略)で接着されている。
Hereinafter, the direction along one side of the display panel 5 on the side close to the flexible substrate 28 is the X-axis direction, the direction along the other two sides crossing the one side and facing each other is the Y-axis direction, and the X-axis direction. The thickness direction of the display panel 5 that is orthogonal to the Y-axis direction will be described as the Z-axis direction.
The display panel 5 is a display body that provides a full-color display, and includes a device substrate 30 and a counter substrate 50. The element substrate 30 and the counter substrate 50 are bonded with a translucent resin (not shown).

素子基板30は、画素11がX軸方向及びY軸方向にマトリックス状に配列された表示領域10、画素11を駆動する駆動回路(走査線駆動回路24、データ線駆動回路25)などを備えている。なお、画素11が配列されたX軸方向は、第1の方向の一例であり、画素11が配列されたY軸方向は、第2の方向の一例である。走査線駆動回路24は、素子基板30のY軸方向に延びる辺と表示領域10との間に、及びデータ線駆動回路25は、素子基板30のフレキシブル基板28が貼り合わされた側の辺と表示領域10との間に配置されている。   The element substrate 30 includes a display area 10 in which the pixels 11 are arranged in a matrix in the X-axis direction and the Y-axis direction, a drive circuit (scanning line drive circuit 24, data line drive circuit 25) for driving the pixels 11, and the like. Yes. The X-axis direction in which the pixels 11 are arranged is an example of the first direction, and the Y-axis direction in which the pixels 11 are arranged is an example of the second direction. The scanning line drive circuit 24 displays between the side extending in the Y-axis direction of the element substrate 30 and the display region 10, and the data line drive circuit 25 displays the side on the side where the flexible substrate 28 of the element substrate 30 is bonded. It arrange | positions between the area | regions 10.

対向基板50は、上述した各画素11に対応する位置に着色層(カラーフィルター)が形成された、カラーフィルター基板である。   The counter substrate 50 is a color filter substrate in which a colored layer (color filter) is formed at a position corresponding to each pixel 11 described above.

素子基板30の一辺は、対向基板50から突出し、この突出した領域にフレキシブル基板28が貼り合わされている。フレキシブル基板28には、駆動用IC29が設けられ、走査線駆動回路24及びデータ線駆動回路25を駆動する信号や電源などが、素子基板30に供給されている。   One side of the element substrate 30 protrudes from the counter substrate 50, and the flexible substrate 28 is bonded to the protruding region. The flexible substrate 28 is provided with a driving IC 29, and signals and power for driving the scanning line driving circuit 24 and the data line driving circuit 25 are supplied to the element substrate 30.

図2に示すように、表示領域10には、複数の走査線21がX軸方向に延在し、複数のデータ線22及び電源供給線23がY軸方向に延在して、配置されている。走査線21は走査線駆動回路24に接続され、データ線22はデータ線駆動回路25に接続されている。走査線21及びデータ線22は互に交差し、走査線21及びデータ線22で区画された領域に画素11が形成されている。   As shown in FIG. 2, a plurality of scanning lines 21 extend in the X-axis direction, and a plurality of data lines 22 and a power supply line 23 extend in the Y-axis direction in the display area 10. Yes. The scanning line 21 is connected to the scanning line driving circuit 24, and the data line 22 is connected to the data line driving circuit 25. The scanning line 21 and the data line 22 intersect each other, and the pixel 11 is formed in an area partitioned by the scanning line 21 and the data line 22.

画素11には、スイッチング用薄膜トランジスター(以下、薄膜トランジスターをTFT(Thin Film Transistor)と称す)13、保持容量15、駆動用TFT14、及び発光素子16などが形成されている。走査線駆動回路24から走査線21を介して走査信号がスイッチング用TFT13のゲート電極に供給され、スイッチング用TFT13がオン状態になると、データ線駆動回路25からデータ線22及びスイッチング用TFT13を介して、保持容量15に信号が供給される。保持容量15に保持された信号は、駆動用TFT14のゲート電極に供給され、駆動用TFT14がオン状態になると、電源供給線23から駆動用TFT14を介して電流が画素電極34に流れ、画素電極34の電圧(電位)Vpが変化する。換言すれば、電源供給線23から駆動用TFT14を介して画素電極34に表示信号(電圧Vp)が供給されている。また、画素電極34に供給される表示信号は、保持容量に保持されるデータ線駆動回路25からの信号によって変化する。その結果、画素電極34の電圧Vpは、0V〜5Vの範囲で変化するようになっている。   In the pixel 11, a switching thin film transistor (hereinafter, the thin film transistor is referred to as a TFT (Thin Film Transistor)) 13, a storage capacitor 15, a driving TFT 14, a light emitting element 16, and the like are formed. When the scanning signal is supplied from the scanning line driving circuit 24 to the gate electrode of the switching TFT 13 via the scanning line 21 and the switching TFT 13 is turned on, the data line driving circuit 25 passes through the data line 22 and the switching TFT 13. A signal is supplied to the holding capacitor 15. The signal held in the storage capacitor 15 is supplied to the gate electrode of the driving TFT 14. When the driving TFT 14 is turned on, a current flows from the power supply line 23 to the pixel electrode 34 via the driving TFT 14, and the pixel electrode The voltage (potential) Vp of 34 changes. In other words, a display signal (voltage Vp) is supplied from the power supply line 23 to the pixel electrode 34 via the driving TFT 14. Further, the display signal supplied to the pixel electrode 34 varies depending on the signal from the data line driving circuit 25 held in the holding capacitor. As a result, the voltage Vp of the pixel electrode 34 changes in the range of 0V to 5V.

発光素子16は、画素電極34、発光機能層36、及び対向電極37で構成されている。対向電極37には、画素電極34の電圧Vpよりも小さい基準電圧(0V)が供給されている。このように、対向電極の電圧Voは0V一定電圧となっている。その結果、発光機能層36には、画素電極34と対向電極37との間で、画素電極34の電圧Vpが印加されている。   The light emitting element 16 includes a pixel electrode 34, a light emitting functional layer 36, and a counter electrode 37. A reference voltage (0 V) smaller than the voltage Vp of the pixel electrode 34 is supplied to the counter electrode 37. Thus, the voltage Vo of the counter electrode is a constant voltage of 0V. As a result, the voltage Vp of the pixel electrode 34 is applied to the light emitting functional layer 36 between the pixel electrode 34 and the counter electrode 37.

図3は、画素電極34の電圧Vp(発光機能層36に印加されている電圧)と、発光素子16に流れる電流との関係を示している。図3の横軸は、画素電極34の電圧Vpを示している。図3の縦軸は、発光素子16を流れる電流を示している。図中のVthは、発光機能層36が発光する閾値電圧(最低電圧)を示している。発光機能層36が発光する最低電圧Vthは、概略3Vである。画素電極34の電圧VpがVth(概略3V)よりも大きくなると、発光機能層36は発光する。また、画素電極34の電圧Vpが大きくなるに従って、発光素子16を流れる電流が増加し、発光機能層36で発した光の輝度が大きくなる。   FIG. 3 shows the relationship between the voltage Vp of the pixel electrode 34 (voltage applied to the light emitting functional layer 36) and the current flowing through the light emitting element 16. The horizontal axis in FIG. 3 indicates the voltage Vp of the pixel electrode 34. The vertical axis in FIG. 3 indicates the current flowing through the light emitting element 16. Vth in the figure indicates a threshold voltage (minimum voltage) at which the light emitting functional layer 36 emits light. The minimum voltage Vth at which the light emitting functional layer 36 emits light is approximately 3V. When the voltage Vp of the pixel electrode 34 becomes higher than Vth (approximately 3V), the light emitting functional layer 36 emits light. Further, as the voltage Vp of the pixel electrode 34 increases, the current flowing through the light emitting element 16 increases, and the luminance of light emitted from the light emitting functional layer 36 increases.

「表示パネルの概要」
図4は、図1の表示領域A−A’線に沿った表示パネルの断面図である。また、図4の矢印は光の射出方向を示している。
"Display Panel Overview"
FIG. 4 is a cross-sectional view of the display panel taken along line AA ′ in FIG. Moreover, the arrow of FIG. 4 has shown the emission direction of light.

図4に示すように、表示パネル5で発した光は、Z軸(+)方向に射出されている。表示パネル5のZ軸(+)方向には、素子基板30及び対向基板50が、この順に積層されている。そして、素子基板30のZ軸(+)方向には、素子基板本体31、反射膜32、絶縁膜33、画素電極34、絶縁膜35、発光機能層36、対向電極37、共通電極38、及び封止層39が、この順に積層されている。また、対向電極37と同層には共通電極38が設けられている。   As shown in FIG. 4, the light emitted from the display panel 5 is emitted in the Z-axis (+) direction. In the Z-axis (+) direction of the display panel 5, the element substrate 30 and the counter substrate 50 are stacked in this order. In the Z-axis (+) direction of the element substrate 30, the element substrate body 31, the reflective film 32, the insulating film 33, the pixel electrode 34, the insulating film 35, the light emitting functional layer 36, the counter electrode 37, the common electrode 38, The sealing layer 39 is laminated in this order. A common electrode 38 is provided in the same layer as the counter electrode 37.

素子基板本体31は、石英や無アルカリガラスなどの絶縁基板に、走査線21、データ線22、電源供給線23、走査線駆動回路24、データ線駆動回路25、スイッチング用TFT13、保持容量15、及び駆動用TFT14(図2参照)などが、公知技術によって形成されたトランジスター基板である。   The element substrate body 31 is made of an insulating substrate such as quartz or non-alkali glass, the scanning line 21, the data line 22, the power supply line 23, the scanning line driving circuit 24, the data line driving circuit 25, the switching TFT 13, the holding capacitor 15, The driving TFT 14 (see FIG. 2) is a transistor substrate formed by a known technique.

反射膜32は、発光機能層36で発した光を反射する一対の反射層の中の一方の反射層である。反射膜32は、反射率の高い材料によって形成され、画素11毎に島状に形成されている。反射膜32の形成材料としては、例えば、アルミニウム、銀、アルミニウムを主成分とする合金、及び銀を主成分とする合金などを使用することができる。   The reflective film 32 is one of the pair of reflective layers that reflects the light emitted from the light emitting functional layer 36. The reflective film 32 is made of a material having high reflectance, and is formed in an island shape for each pixel 11. As a material for forming the reflective film 32, for example, aluminum, silver, an alloy containing aluminum as a main component, an alloy containing silver as a main component, or the like can be used.

絶縁膜33は、酸化シリコン(SiO2)、窒化シリコン(SiN)などの光透過性の絶縁膜であり、素子基板本体31の略全面に形成されている。絶縁膜33には、反射膜32の凹凸の影響を軽減するために、平坦化処理が施されている。 The insulating film 33 is a light-transmitting insulating film such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiN), and is formed on substantially the entire surface of the element substrate body 31. The insulating film 33 is subjected to a planarization process in order to reduce the influence of the unevenness of the reflective film 32.

画素電極34は、発光機能層36に正孔を供給するための電極である。画素電極34は、光透過性を有し、ITO(Indium Tin Oxide)などの光透過性材料で形成され、反射膜32と平面的に重なって、画素11毎に配置されている。さらに、R画素11Rの画素電極(R画素電極)34R、G画素11Gの画素電極(G画素電極)34G、及びB画素11Bの画素電極(B画素電極)34Bは、それぞれ膜厚が異なっている。その結果、反射膜32と対向電極37との間の光透過性材料(絶縁膜33、画素電極34、発光機能層36)の光学的距離が、R画素11RにおいてはR光を共振させる光路長になっている。同様に、G画素11GにおいてはG光を共振させる光路長、及びB画素11GにおいてはB光を共振させる光路長になっている。   The pixel electrode 34 is an electrode for supplying holes to the light emitting functional layer 36. The pixel electrode 34 is light transmissive, is formed of a light transmissive material such as ITO (Indium Tin Oxide), and is disposed for each pixel 11 so as to overlap the reflective film 32 in a planar manner. Further, the pixel electrode (R pixel electrode) 34R of the R pixel 11R, the pixel electrode (G pixel electrode) 34G of the G pixel 11G, and the pixel electrode (B pixel electrode) 34B of the B pixel 11B have different film thicknesses. . As a result, the optical distance of the light transmissive material (insulating film 33, pixel electrode 34, light emitting functional layer 36) between the reflective film 32 and the counter electrode 37 is such that the optical path length that causes the R light to resonate in the R pixel 11R. It has become. Similarly, the G pixel 11G has an optical path length for resonating G light, and the B pixel 11G has an optical path length for resonating B light.

絶縁膜35は、酸化シリコン(SiO2)、窒化シリコン(SiN)などの光透過性の絶縁膜であり、画素電極34の周縁部を覆って形成されている。その結果、画素電極34の段差部は絶縁膜35によって覆われている。 The insulating film 35 is a light-transmitting insulating film such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiN), and is formed so as to cover the periphery of the pixel electrode 34. As a result, the step portion of the pixel electrode 34 is covered with the insulating film 35.

発光機能層36は、表示領域10を覆って形成されている。発光機能層36は、電流が流れると白色に発光し、少なくとも有機発光層を有している。有機発光層は、赤色、緑色および青色の光成分を有する光を発する。有機発光層は、単層でもよいし、複数の層(例えば、電流が流れると主に青色で発光する青色発光層と、電流が流れると赤色と緑色を含む光を発する黄色発光層)で構成されていてもよい。図示を省略するが、発光機能層36は、有機発光層のほかに、正孔輸送層、正孔注入層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層などの層を有していてもよい。   The light emitting functional layer 36 is formed so as to cover the display region 10. The light emitting functional layer 36 emits white light when a current flows, and has at least an organic light emitting layer. The organic light emitting layer emits light having red, green and blue light components. The organic light-emitting layer may be a single layer or a plurality of layers (for example, a blue light-emitting layer that emits mainly blue light when current flows and a yellow light-emitting layer that emits light including red and green when current flows). May be. Although illustration is omitted, the light emitting functional layer 36 includes layers such as a hole transport layer, a hole injection layer, an electron block layer, a hole block layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the organic light emitting layer. You may do it.

対向電極37は、発光機能層36に電子を供給するための電極である。対向電極37は、画素電極34の絶縁膜35で覆われていない領域(開口領域)に対向配置されている。対向電極37は、光反射性及び光透過性(半透明半反射性)を有し、例えばマグネシウム(Mg)と銀(Ag)との合金で構成されている。対向電極37の構成材料は、MgとAgとの合金の他に、Alなどの金属膜を使用することができる。これら金属膜を10nm以下に薄膜化することで、光反射性の機能に加えて、光透過性の機能を付与することができる。   The counter electrode 37 is an electrode for supplying electrons to the light emitting functional layer 36. The counter electrode 37 is disposed to face a region (opening region) that is not covered with the insulating film 35 of the pixel electrode 34. The counter electrode 37 has light reflectivity and light transmissivity (translucent semi-reflective property), and is made of, for example, an alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag). As a constituent material of the counter electrode 37, a metal film such as Al can be used in addition to an alloy of Mg and Ag. By reducing the thickness of these metal films to 10 nm or less, a light transmissive function can be imparted in addition to a light reflective function.

対向電極37は、発光機能層36で発した光を反射する一対の反射層の中の他方の反射層である。その結果、発光機能層36で発した光は、反射膜32と対向電極37との間で繰り返し反射される。上述したように、反射膜32と対向電極37との間の光学的距離は、画素11ごとに特定波長域の光を共振させる光路長に設定されている。その結果、当該光共振構造によって、特定波長域の光は増幅され、特定波長域以外の光は減衰されるので、R画素11RからはR光が、G画素11GからはG光が、及びB画素11BからはB光が、対向基板50に射出されることになる。   The counter electrode 37 is the other reflective layer of the pair of reflective layers that reflects the light emitted from the light emitting functional layer 36. As a result, the light emitted from the light emitting functional layer 36 is repeatedly reflected between the reflective film 32 and the counter electrode 37. As described above, the optical distance between the reflective film 32 and the counter electrode 37 is set to an optical path length that resonates light in a specific wavelength region for each pixel 11. As a result, the light in the specific wavelength range is amplified and the light outside the specific wavelength range is attenuated by the optical resonance structure, so that the R light from the R pixel 11R, the G light from the G pixel 11G, and B B light is emitted from the pixel 11 </ b> B to the counter substrate 50.

このように、素子基板30は、反射膜32と対向電極37との間で、発光機能層36で発した光を共振させる光共振構造を有している。また、本実施形態では、絶縁膜33の膜厚を一定とし、画素電極34の膜厚を変化させたが、画素電極34の膜厚を一定とし、絶縁膜33の膜厚を変化させた構成であっても良い。   Thus, the element substrate 30 has an optical resonance structure that resonates light emitted from the light emitting functional layer 36 between the reflective film 32 and the counter electrode 37. In this embodiment, the thickness of the insulating film 33 is constant and the thickness of the pixel electrode 34 is changed. However, the thickness of the pixel electrode 34 is constant and the thickness of the insulating film 33 is changed. It may be.

共通電極38は、対向電極37と隣り合う対向電極37との間に形成されている。共通電極38及び対向電極37は、同じ材料(MgとAgとの合金)によって、発光機能層36に接して(同じ層に)形成されている。すなわち、共通電極38及び対向電極37は、同じ工程で形成されている。なお、図中の網掛け領域が、共通電極38である。   The common electrode 38 is formed between the counter electrode 37 and the adjacent counter electrode 37. The common electrode 38 and the counter electrode 37 are formed in contact with the light emitting functional layer 36 (in the same layer) with the same material (alloy of Mg and Ag). That is, the common electrode 38 and the counter electrode 37 are formed in the same process. The shaded area in the figure is the common electrode 38.

封止層39は、発光機能層36や対向電極37の劣化を抑制するパッシベーション膜であり、SiNや酸窒化ケイ素(SiON)などの絶縁膜によって、表示領域10を覆って形成されている。封止層39は、酸素や水分を遮断し、発光機能層36や対向電極37の劣化を抑制している。   The sealing layer 39 is a passivation film that suppresses deterioration of the light emitting functional layer 36 and the counter electrode 37 and is formed to cover the display region 10 with an insulating film such as SiN or silicon oxynitride (SiON). The sealing layer 39 blocks oxygen and moisture and suppresses deterioration of the light emitting functional layer 36 and the counter electrode 37.

次に、対向基板50の構成を説明する。
対向基板50は、対向基板本体51、カラーフィルター52、及び遮光膜55で構成されている。
Next, the configuration of the counter substrate 50 will be described.
The counter substrate 50 includes a counter substrate body 51, a color filter 52, and a light shielding film 55.

対向基板本体51は、例えば、石英、無アルカリガラスなどの光透過性材料で構成されている。R画素11Rに対応する位置にはR光を透過するカラーフィルター(Rフィルター)52Rが、G画素11Gに対応する位置にはG光を透過するカラーフィルター(Gフィルター)52Gが、B画素11Bに対応する位置にはB光を透過するカラーフィルター(Bフィルター)52Bが形成されている。Rフィルター52R、Gフィルター52G、及びBフィルター52Bは、素子基板30から発したR光、G光、及びB光の色純度を高める役割を有している。遮光膜55は、例えばCrなどの遮光性材料で形成され、各カラーフィルター52の間隙に形成されている。遮光膜55は、いわゆる不要な光を遮光するブラックマトリックスであり、表示領域10で表示された画像の表示コントラストを高める機能を有している。
なお、本実施形態ではカラーフィルター52を対向基板50側に形成しているが、カラーフィルター52を素子基板30側に形成する構成であっても良い。
The counter substrate main body 51 is made of a light transmissive material such as quartz or non-alkali glass, for example. A color filter (R filter) 52R that transmits R light is provided at a position corresponding to the R pixel 11R, and a color filter (G filter) 52G that transmits G light is provided at a position corresponding to the G pixel 11G. A color filter (B filter) 52B that transmits B light is formed at the corresponding position. The R filter 52R, the G filter 52G, and the B filter 52B have a role of increasing the color purity of the R light, G light, and B light emitted from the element substrate 30. The light shielding film 55 is made of a light shielding material such as Cr, and is formed in the gaps between the color filters 52. The light shielding film 55 is a black matrix that shields so-called unnecessary light, and has a function of increasing the display contrast of the image displayed in the display region 10.
In the present embodiment, the color filter 52 is formed on the counter substrate 50 side, but the color filter 52 may be formed on the element substrate 30 side.

「素子基板の概要」
図5は、本実施形態に係る素子基板における、図1の右上に拡大して示された表示領域の平面図である。図5では、素子基板30の構成を分かりやすくするために、封止層39及び発光機能層36の図示が省略されている。また、図中で発光素子16が形成された領域はハッチング領域で、共通電極38は網掛け領域で図示されている。以下、図5を参照して、素子基板30の概要を説明する。
"Outline of element substrate"
FIG. 5 is a plan view of the display area enlarged and shown in the upper right of FIG. 1 in the element substrate according to the present embodiment. In FIG. 5, the sealing layer 39 and the light emitting functional layer 36 are not shown for easy understanding of the configuration of the element substrate 30. In the drawing, the region where the light emitting element 16 is formed is shown as a hatched region, and the common electrode 38 is shown as a shaded region. Hereinafter, an outline of the element substrate 30 will be described with reference to FIG.

上述したように、発光素子16は、画素電極34、発光機能層36、及び対向電極37で構成されている。画素電極34から正孔が供給され、対向電極37から電子が供給され、発光機能層36の中で正孔と電子とが再結合することで、発光機能層36が発光する。
図5に示すように、画素電極34は画素11毎に島状に形成されている。画素電極34の周縁部は絶縁膜35で覆われており、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34が、発光機能層36に正孔を供給する電極(陽極)になる。図中のW2は、絶縁膜で覆われていない領域の画素電極34の巾(X軸方向の長さ)を示している。以下、絶縁膜で覆われていない領域の画素電極34を、陽極と称する場合がある。
As described above, the light emitting element 16 includes the pixel electrode 34, the light emitting functional layer 36, and the counter electrode 37. Holes are supplied from the pixel electrode 34, electrons are supplied from the counter electrode 37, and the holes and electrons recombine in the light emitting functional layer 36, so that the light emitting functional layer 36 emits light.
As shown in FIG. 5, the pixel electrode 34 is formed in an island shape for each pixel 11. The peripheral edge of the pixel electrode 34 is covered with an insulating film 35, and the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film 35 becomes an electrode (anode) that supplies holes to the light emitting functional layer 36. W2 in the drawing indicates the width (length in the X-axis direction) of the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film. Hereinafter, the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film may be referred to as an anode.

発光機能層36は、表示領域10を覆って形成されている、すなわち隣り合う画素11に跨って形成されている(図4参照)。   The light emitting functional layer 36 is formed so as to cover the display region 10, that is, straddling the adjacent pixels 11 (see FIG. 4).

対向電極37は、画素電極34の絶縁膜35で覆われていない領域に対向配置され、Y軸方向に配列された複数の画素電極34に跨って形成されている。対向電極37は、Y軸(+)方向に延在する帯状の電極となっており、表示領域10に複数配置されている。図中のW1は、対向電極37の巾(X軸方向の長さ)を示している。W1(対向電極37の巾)は、W2(陽極の巾)とは略同じ寸法になっている。
なお、本明細書において、同じ寸法とは製造プロセス上生じる誤差を含む。
The counter electrode 37 is disposed so as to face the region of the pixel electrode 34 that is not covered with the insulating film 35 and extends across the plurality of pixel electrodes 34 arranged in the Y-axis direction. The counter electrode 37 is a belt-like electrode extending in the Y-axis (+) direction, and a plurality of counter electrodes 37 are arranged in the display region 10. W1 in the figure indicates the width of the counter electrode 37 (the length in the X-axis direction). W1 (width of the counter electrode 37) is substantially the same size as W2 (width of the anode).
In the present specification, the same dimension includes an error caused in the manufacturing process.

発光素子16は、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、対向電極37とが平面的に重なった領域に形成されている。図中のハッチング領域が、発光素子16が形成されている領域(以下、発光素子16と称す)となる。
発光素子16は、Y軸方向に横長となった矩形状になっている。発光素子16の短辺側の辺(X軸方向に沿った辺)と、隣り合う発光素子16の短辺側の辺との間には、画素電極34と駆動用TFT14(図2参照)とを電気的に接続するコンタクト領域17が配置されている。
The light emitting element 16 is formed in a region where the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film 35 and the counter electrode 37 overlap in a plane. The hatched region in the figure is a region where the light emitting element 16 is formed (hereinafter referred to as the light emitting element 16).
The light emitting element 16 has a rectangular shape that is horizontally long in the Y-axis direction. Between the short side of the light emitting element 16 (the side along the X-axis direction) and the short side of the adjacent light emitting element 16, the pixel electrode 34 and the driving TFT 14 (see FIG. 2) A contact region 17 for electrically connecting the two is disposed.

対向電極37と隣り合う対向電極37との間、すなわち発光素子16と隣り合う発光素子16との間の領域(以下、素子間領域と称す)には共通電極38が形成されている。仮に、画素電極34と共通電極38との間の電圧が、発光機能層36が発光する最低電圧Vth(概略3V)より大きくなると、素子間領域の発光機能層36が発光するおそれがある。また、画素電極34と共通電極38との間の電圧が、発光機能層36が発光する最低電圧Vth(概略3V)より小さくなると、素子間領域の発光機能層36の発光が抑制される。
本実施形態では、共通電極38に素子間領域の発光を抑制するために好適な電圧が供給されている。以下に、その詳細を説明する。
A common electrode 38 is formed between the counter electrode 37 and the adjacent counter electrode 37, that is, in a region between the light emitting element 16 and the adjacent light emitting element 16 (hereinafter referred to as an inter-element region). If the voltage between the pixel electrode 34 and the common electrode 38 is higher than the lowest voltage Vth (approximately 3 V) at which the light emitting functional layer 36 emits light, the light emitting functional layer 36 in the inter-element region may emit light. Further, when the voltage between the pixel electrode 34 and the common electrode 38 becomes smaller than the lowest voltage Vth (approximately 3 V) at which the light emitting functional layer 36 emits light, the light emitting functional layer 36 in the inter-element region is suppressed from emitting light.
In the present embodiment, a voltage suitable for suppressing light emission in the inter-element region is supplied to the common electrode 38. The details will be described below.

上述したように、隣り合う帯状の対向電極37の間には、帯状の対向電極37に沿う方向に(Y軸方向に延在して)帯状の共通電極38が配置されている。共通電極38には、5Vの一定電圧が供給されている。以下、共通電極38の電圧を符号Vcで示す。   As described above, the strip-shaped common electrode 38 is disposed between the adjacent strip-shaped counter electrodes 37 in a direction along the strip-shaped counter electrode 37 (extending in the Y-axis direction). A constant voltage of 5 V is supplied to the common electrode 38. Hereinafter, the voltage of the common electrode 38 is denoted by reference character Vc.

共通電極38及び対向電極37は、同一工程で、同じ材料(MgとAgとの合金)で発光機能層36の上に形成(微細加工)されている。発光機能層36は水分で劣化しやすいので、対向電極37及び共通電極38を微細加工する工程では、水の使用は好ましくない。すなわち、対向電極37及び共通電極38は、水を使用しないドライプロセスで微細加工することが好ましい。   The common electrode 38 and the counter electrode 37 are formed (microfabricated) on the light emitting functional layer 36 with the same material (alloy of Mg and Ag) in the same process. Since the light emitting functional layer 36 is easily deteriorated by moisture, it is not preferable to use water in the step of finely processing the counter electrode 37 and the common electrode 38. That is, the counter electrode 37 and the common electrode 38 are preferably finely processed by a dry process that does not use water.

例えば、対向電極37及び共通電極38を形成しない領域に細線(ワイヤーマスク)が配置された状態でMgとAgとの合金を蒸着し、その後で当該ワイヤーマスクを剥離することで、上述した帯状の対向電極37及び帯状の共通電極38を形成することができる。または、MgとAgとの合金を蒸着した後に、対向電極37及び共通電極38を形成しない領域にレーザービームを照射し、MgとAgとの合金を蒸発させる、いわゆるレーザーアブレーション法によっても、上述した帯状の対向電極37及び帯状の共通電極38を形成することができる。あるいは、上述した帯状の対向電極37及び帯状の共通電極38は、イオンビームを利用した微細加工法(膜の選択的な除去、または膜の選択的な堆積)によっても形成することができる。   For example, by depositing an alloy of Mg and Ag in a state where a thin wire (wire mask) is arranged in a region where the counter electrode 37 and the common electrode 38 are not formed, and then peeling the wire mask, A counter electrode 37 and a strip-shaped common electrode 38 can be formed. Alternatively, after vapor deposition of an alloy of Mg and Ag, the region where the counter electrode 37 and the common electrode 38 are not formed is irradiated with a laser beam to evaporate the alloy of Mg and Ag. A strip-shaped counter electrode 37 and a strip-shaped common electrode 38 can be formed. Alternatively, the band-shaped counter electrode 37 and the band-shaped common electrode 38 described above can also be formed by a fine processing method (selective removal of a film or selective deposition of a film) using an ion beam.

X軸方向において、複数配列されている画素のうちの1の画素11aの画素電極34aと、隣り合う画素11bの対向電極37bとの間には、共通電極38が形成されている。ここで、画素電極34aと隣り合う共通電極38との間の電圧をVpc、及び共通電極38と隣り合う対向電極37bとの間の電圧をVcoとする。
画素電極34aと隣り合う共通電極38との間の電圧Vpcは、以下に示す式(1)で表される(画素電極34aの電圧はVp、共通電極38の電圧はVc)。
Vpc=Vp−Vc…式(1)
また、共通電極38と隣り合う対向電極37bとの間の電圧Vcoは、以下に示す式(2)で表される(対向電極37bの電圧はVo)。
Vco=Vc−Vo…式(2)
In the X-axis direction, a common electrode 38 is formed between the pixel electrode 34a of one pixel 11a among the plurality of pixels arranged and the counter electrode 37b of the adjacent pixel 11b. Here, the voltage between the pixel electrode 34a and the adjacent common electrode 38 is Vpc, and the voltage between the common electrode 38 and the adjacent counter electrode 37b is Vco.
The voltage Vpc between the pixel electrode 34a and the adjacent common electrode 38 is expressed by the following equation (1) (the voltage of the pixel electrode 34a is Vp, and the voltage of the common electrode 38 is Vc).
Vpc = Vp−Vc (1)
Further, the voltage Vco between the common electrode 38 and the adjacent counter electrode 37b is expressed by the following equation (2) (the voltage of the counter electrode 37b is Vo).
Vco = Vc−Vo Formula (2)

本実施形態では、Vp=0〜5V、Vc=5Vであるので、Vpc=0〜−5Vとなる。画素電極34aの電圧Vpの値に関係なく、画素電極34aと隣り合う共通電極38間の電圧をVpcは、発光機能層36が発光する最低電圧Vth(概略3V)より小さくなっている。従って、画素電極34aと隣り合う共通電極38との間の発光機能層36、すなわち素子間領域の発光機能層36は、画素電極34aと共通電極38との間の電圧に起因して発光することがない。   In this embodiment, since Vp = 0 to 5V and Vc = 5V, Vpc = 0 to −5V. Regardless of the value of the voltage Vp of the pixel electrode 34a, the voltage Vpc between the common electrode 38 adjacent to the pixel electrode 34a is lower than the lowest voltage Vth (approximately 3V) at which the light emitting functional layer 36 emits light. Therefore, the light emitting functional layer 36 between the pixel electrode 34 a and the adjacent common electrode 38, that is, the light emitting functional layer 36 in the inter-element region emits light due to the voltage between the pixel electrode 34 a and the common electrode 38. There is no.

また、本実施形態では、Vc=5V、Vo=0Vであるので、Vco=5Vとなる。共通電極38と隣り合う対向電極37bとの間の電圧Vco(5V)によって、共通電極38と対向電極37bとの間でリーク電流が流れたとしても、共通電極38及び対向電極37bと接する発光機能層36の表面層に電流が流れ、発光機能層36のうちの有機発光層まで到達しないので、発光機能層36の発光は抑制される。   In this embodiment, Vc = 5V and Vo = 0V, so Vco = 5V. Even if a leakage current flows between the common electrode 38 and the counter electrode 37b due to the voltage Vco (5 V) between the common electrode 38 and the adjacent counter electrode 37b, the light emitting function that contacts the common electrode 38 and the counter electrode 37b. Since a current flows through the surface layer of the layer 36 and does not reach the organic light emitting layer in the light emitting functional layer 36, light emission of the light emitting functional layer 36 is suppressed.

画素電極34aに供給される最大電圧をVp(Max)とすると、以下に示す式(3)の関係を満足すれば、画素電極34aと隣り合う共通電極38bとの間の電圧Vpcは、画素電極34aの電圧Vpに関係なく、発光機能層36が発光する最低電圧Vthよりも小さくなり、発光機能層36の発光が抑制される。
Vpc=Vp(Max)−Vc<Vth…式(3)
式(3)より、共通電極38の電圧Vcが以下に示す式(4)を満足すれば、画素電極34aの電圧Vpに関係なく、発光機能層36の発光が抑制される。
Vp(Max)−Vth<Vc…式(4)
Assuming that the maximum voltage supplied to the pixel electrode 34a is Vp (Max), the voltage Vpc between the pixel electrode 34a and the adjacent common electrode 38b is the pixel electrode as long as the following equation (3) is satisfied. Regardless of the voltage Vp of 34a, it becomes smaller than the minimum voltage Vth at which the light emitting functional layer 36 emits light, and light emission of the light emitting functional layer 36 is suppressed.
Vpc = Vp (Max) −Vc <Vth (3)
From Expression (3), if the voltage Vc of the common electrode 38 satisfies Expression (4) shown below, light emission of the light emitting functional layer 36 is suppressed regardless of the voltage Vp of the pixel electrode 34a.
Vp (Max) −Vth <Vc (4)

このように、共通電極38の電圧Vcを、画素電極34aの最大電圧Vp(Max)から発光素子16(発光機能層36)が発光する最低電圧Vthを減じた電圧より大きくすると、画素電極34aの電圧Vpの値に関係なく、画素電極34aと共通電極38との間の発光機能層36、すなわち素子間領域の発光機能層36の発光が抑制される。
さらに、対向電極37bよりも高い電圧が印加された、画素電極34aと共通電極38とが作る電界によっても、発光機能層36を発光させるキャリア(主に正孔)が横方向に流れることが抑制される。従って、画素電極34aと共通電極38とが作る電界によっても、素子間領域における発光機能層36の発光が抑制される。
As described above, when the voltage Vc of the common electrode 38 is larger than the voltage obtained by subtracting the minimum voltage Vth at which the light emitting element 16 (light emitting functional layer 36) emits light from the maximum voltage Vp (Max) of the pixel electrode 34a, Regardless of the value of the voltage Vp, light emission of the light emitting functional layer 36 between the pixel electrode 34a and the common electrode 38, that is, the light emitting functional layer 36 in the inter-element region is suppressed.
Further, the carriers (mainly holes) that cause the light emitting functional layer 36 to emit light are prevented from flowing in the lateral direction due to the electric field generated by the pixel electrode 34a and the common electrode 38 to which a higher voltage is applied than the counter electrode 37b. Is done. Therefore, the light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region is also suppressed by the electric field generated by the pixel electrode 34a and the common electrode 38.

共通電極38は、発光素子16の長辺(Y軸方向に沿った辺)に沿って形成され、発光素子16の長辺に近接した側の素子間領域の発光機能層36の発光が抑制されている。なお、発光素子16の短辺(X軸方向に沿った辺)に近接した側の素子間領域には、共通電極38が形成されていないので、画素電極34aの電圧Vpによっては、発光素子16の短辺に近接した側の素子間領域の発光機能層36が発光する場合がある。但し、発光素子16の短辺側では、素子間領域の発光面積は小さくなっているので、目立ちにくく、仮に発光したとしても表示への影響は小さい。   The common electrode 38 is formed along the long side (side along the Y-axis direction) of the light emitting element 16, and light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region on the side close to the long side of the light emitting element 16 is suppressed. ing. In addition, since the common electrode 38 is not formed in the inter-element region on the side close to the short side (side along the X-axis direction) of the light-emitting element 16, depending on the voltage Vp of the pixel electrode 34a, the light-emitting element 16 In some cases, the light emitting functional layer 36 in the inter-element region on the side close to the short side emits light. However, since the light emitting area of the inter-element region is small on the short side of the light emitting element 16, it is not noticeable, and even if light is emitted, the influence on the display is small.

「対向電極及び共通電極の配線」
図6は、本実施形態に係る表示装置の対向電極及び共通電極の配線状態を示す等価回路図である。図6では、対向電極37及び共通電極38の配線状態を分かりやすくする為に、対向電極37及び共通電極38の配線に関与しない構成要素の図示が省略されている。
"Wiring of counter electrode and common electrode"
FIG. 6 is an equivalent circuit diagram illustrating a wiring state of the counter electrode and the common electrode of the display device according to the present embodiment. In FIG. 6, in order to facilitate understanding of the wiring state of the counter electrode 37 and the common electrode 38, illustration of components that are not involved in the wiring of the counter electrode 37 and the common electrode 38 is omitted.

図6に示すように、表示領域10においては、帯状の対向電極37及び帯状の共通電極38は、交互に配列されたストライプ配列になっている。そして、帯状の対向電極37及び帯状の共通電極38は、表示領域10の周辺、すなわち表示領域10と素子基板30の外縁との間で表示領域10に近接した領域まで延在している。   As shown in FIG. 6, in the display region 10, the strip-shaped counter electrodes 37 and the strip-shaped common electrodes 38 are arranged in a stripe arrangement alternately. The band-shaped counter electrode 37 and the band-shaped common electrode 38 extend to the vicinity of the display area 10, that is, between the display area 10 and the outer edge of the element substrate 30.

表示領域10の周辺には、対向電極幹配線41が配置され、複数の帯状の対向電極37が対向電極幹配線41に接続されている。すなわち、複数の帯状の対向電極37は、表示領域10の周辺で互いに電気的に接続されている。換言すれば、複数の帯状の対向電極37と対向電極幹配線41とによって、表示領域10の周辺で分岐した櫛歯状の電極が形成されている。   A counter electrode trunk wiring 41 is arranged around the display area 10, and a plurality of strip-shaped counter electrodes 37 are connected to the counter electrode trunk wiring 41. That is, the plurality of strip-like counter electrodes 37 are electrically connected to each other around the display area 10. In other words, the plurality of strip-like counter electrodes 37 and the counter electrode trunk wiring 41 form comb-like electrodes branched around the display area 10.

例えば、対向電極幹配線41は、対向電極37と同じ材料(MgとAgとの合金)であって、対向電極37と同一工程で形成しても良い。例えば、対向電極幹配線41は、反射膜32と同じ材料であって、コンタクトホールを介して帯状の対向電極37に接続する構成であっても良い。例えば、対向電極幹配線41は、素子基板本体31に形成されているTFT13,14を構成する金属膜であって、コンタクホールを介して帯状の対向電極37に接続する構成であっても良い。   For example, the counter electrode main line 41 may be formed of the same material as the counter electrode 37 (an alloy of Mg and Ag) and in the same process as the counter electrode 37. For example, the counter electrode trunk wiring 41 may be configured to be made of the same material as that of the reflective film 32 and connected to the strip-shaped counter electrode 37 through a contact hole. For example, the counter electrode main wiring 41 may be a metal film that constitutes the TFTs 13 and 14 formed on the element substrate body 31 and may be connected to the strip-shaped counter electrode 37 through a contact hole.

同様に、表示領域10の周辺には、共通電極幹配線42が配置され、複数の帯状の共通電極38が共通電極幹配線42に接続されている。すなわち、複数の帯状の共通電極38は、表示領域10の周辺で互いに電気的に接続されている。換言すれば、複数の帯状の共通電極38と共通電極幹配線42とによって、表示領域10の周辺で分岐した櫛歯状の電極が形成されている。   Similarly, a common electrode trunk line 42 is arranged around the display area 10, and a plurality of strip-like common electrodes 38 are connected to the common electrode trunk line 42. That is, the plurality of strip-shaped common electrodes 38 are electrically connected to each other around the display region 10. In other words, a comb-like electrode branched around the display area 10 is formed by the plurality of strip-like common electrodes 38 and the common electrode trunk wiring 42.

例えば、共通電極幹配線42は、共通電極38と同じ材料(MgとAgとの合金)であって、共通電極38と同一工程で形成しても良い。例えば、共通電極幹配線42は、反射膜32と同じ材料であって、コンタクトホールを介して帯状の共通電極38に接続する構成であっても良い。例えば、共通電極幹配線42は、素子基板本体31に形成されているTFT13,14を構成する金属膜であって、コンタクホールを介して帯状の共通電極38に接続する構成であっても良い。   For example, the common electrode trunk wiring 42 may be formed of the same material (Mg and Ag alloy) as the common electrode 38 and in the same process as the common electrode 38. For example, the common electrode trunk wiring 42 may be made of the same material as that of the reflective film 32 and connected to the strip-shaped common electrode 38 through a contact hole. For example, the common electrode trunk wiring 42 may be a metal film constituting the TFTs 13 and 14 formed on the element substrate body 31 and connected to the strip-shaped common electrode 38 through a contact hole.

なお、対向電極幹配線41及び共通電極幹配線42は、表示領域10の一辺に配置されているが、これに限定されず、例えば表示領域10の対向する二辺にそれぞれ配置する構成であっても良く、例えば表示領域10を囲むように配置する構成であっても良い。   The counter electrode main wiring 41 and the common electrode main wiring 42 are arranged on one side of the display area 10, but the present invention is not limited to this. For example, the counter electrode main wiring 41 and the common electrode main wiring 42 are arranged on two opposite sides of the display area 10. For example, a configuration in which the display region 10 is disposed may be employed.

以上述べたように、本実施形態に係る表示装置1によれば、以下の効果を得ることができる。
素子基板30は、反射膜32と対向電極37との間で、発光機能層36で発した光を共振させる光共振構造を有し、画素11から特定波長域の光(R光、G光、B光)が増幅され対向基板50側に射出されるようになっている。さらに、対向基板50には素子基板30から射出された光の色純度を高めるカラーフィルター52が形成されている。従って、表示装置1から発した光は、色純度に優れ、鮮やかなフルカラー表示を提供することができる。
As described above, according to the display device 1 according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
The element substrate 30 has an optical resonance structure that resonates light emitted from the light emitting functional layer 36 between the reflective film 32 and the counter electrode 37, and emits light in a specific wavelength region (R light, G light, B light) is amplified and emitted to the counter substrate 50 side. Further, the counter substrate 50 is formed with a color filter 52 that increases the color purity of the light emitted from the element substrate 30. Therefore, the light emitted from the display device 1 is excellent in color purity and can provide a vivid full color display.

帯状の対向電極37と隣り合う帯状の対向電極37との間、すなわち素子間領域には共通電極38が配置され、共通電極38と画素電極34との間の電圧が、画素電極34の電圧Vpに関係なく、発光機能層36を発光させる最低電圧Vthよりも小さくなっているので、素子間領域の発光機能層36の発光を抑制することができる。従って、素子間領域の発光機能層36の発光による表示コントラスト低下や表示色(色味)の変化などの不具合が抑制され、高品質の表示を提供することができる。   A common electrode 38 is disposed between the strip-shaped counter electrode 37 and the adjacent strip-shaped counter electrode 37, that is, in the inter-element region, and the voltage between the common electrode 38 and the pixel electrode 34 is the voltage Vp of the pixel electrode 34. Regardless of the above, since the voltage is lower than the minimum voltage Vth for causing the light emitting functional layer 36 to emit light, light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region can be suppressed. Therefore, problems such as a decrease in display contrast and a change in display color (color) due to light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region can be suppressed, and a high quality display can be provided.

本発明の表示装置1は、画素11と隣り合う画素11との間隙が極めて小さい、1インチ未満の表示サイズのマイクロディスプレイ(超小型表示装置)における表示の高品質化に好適な構成を有しているが、1インチ以上の表示サイズの表示装置に適用させても、同様の効果を得ることができる。   The display device 1 of the present invention has a configuration suitable for improving the display quality in a micro display (ultra-small display device) having a display size of less than 1 inch, in which the gap between the pixel 11 and the adjacent pixel 11 is extremely small. However, the same effect can be obtained even if it is applied to a display device having a display size of 1 inch or more.

(実施形態2)
図7は、実施形態2に係る表示装置の断面図であり、図4に対応している。図8は、素子基板の平面図であり、図5に対応している。図7では、素子基板30の構成を分かりやすくするために、封止層39及び発光機能層36の図示が省略されている。
以下、図7乃至図8を参照して、本実施形態に係る表示装置2を、実施形態1との相違点を中心に説明する。また、実施形態1と同一の構成部位については、同一の符号を附し、重複する説明を省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 7 is a cross-sectional view of the display device according to the second embodiment, and corresponds to FIG. FIG. 8 is a plan view of the element substrate and corresponds to FIG. In FIG. 7, the sealing layer 39 and the light emitting functional layer 36 are not shown for easy understanding of the configuration of the element substrate 30.
Hereinafter, with reference to FIGS. 7 to 8, the display device 2 according to the present embodiment will be described focusing on differences from the first embodiment. Moreover, about the same component as Embodiment 1, the same code | symbol is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted.

本実施形態に係る表示装置2は、表示パネル5の構成が実施形態1と異なっている。詳しくは、実施形態1の表示パネル5では、対向電極37と同層に共通電極38が形成されていたが、本実施形態の表示パネル5では、共通電極38が形成されていない。この点が実施形態1との主な相違点である。   The display device 2 according to the present embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the display panel 5. Specifically, in the display panel 5 of the first embodiment, the common electrode 38 is formed in the same layer as the counter electrode 37, but in the display panel 5 of the present embodiment, the common electrode 38 is not formed. This is the main difference from the first embodiment.

「表示パネルの概要」
図7に示すように、表示パネル5のZ軸(+)方向には、素子基板30及び対向基板50が、この順に積層されている。そして、素子基板30のZ軸(+)方向には、素子基板本体31、反射膜32、絶縁膜33、画素電極34、絶縁膜35、発光機能層36、対向電極37、及び封止層39が、この順に積層されている。
"Display Panel Overview"
As illustrated in FIG. 7, the element substrate 30 and the counter substrate 50 are stacked in this order in the Z-axis (+) direction of the display panel 5. In the Z-axis (+) direction of the element substrate 30, the element substrate body 31, the reflective film 32, the insulating film 33, the pixel electrode 34, the insulating film 35, the light emitting functional layer 36, the counter electrode 37, and the sealing layer 39. Are stacked in this order.

図8に示すように、対向電極37は、画素電極34の絶縁膜35で覆われていない領域に対向配置され、Y軸方向に配列された複数の画素電極34に跨って形成されている。対向電極37の巾(X軸方向の長さ)W1は、絶縁膜で覆われていない領域の画素電極34の巾W2よりも小さくなっている。   As shown in FIG. 8, the counter electrode 37 is disposed so as to face a region of the pixel electrode 34 that is not covered with the insulating film 35, and straddles the plurality of pixel electrodes 34 arranged in the Y-axis direction. The width (length in the X-axis direction) W1 of the counter electrode 37 is smaller than the width W2 of the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film.

実施形態1ではW1=W2であったが、本実施形態ではW1<W2という関係にあり、この点も実施形態1と異なっている。W1<W2という関係にあるため、X軸方向において、対向電極37と隣り合う対向電極37との間隔(スペース)W3は、実施形態1と比べて大きくなっている。   In the first embodiment, W1 = W2, but in the present embodiment, there is a relationship of W1 <W2, which is also different from the first embodiment. Since there is a relationship of W1 <W2, in the X-axis direction, an interval (space) W3 between the counter electrode 37 and the adjacent counter electrode 37 is larger than that in the first embodiment.

発光素子16は、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、対向電極37とが平面的に重なった領域に形成されている。W1<W2という関係にあるので、X軸方向において、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34は、発光素子16からはみ出して形成されている。   The light emitting element 16 is formed in a region where the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film 35 and the counter electrode 37 overlap in a plane. Since the relationship of W1 <W2 is established, the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film 35 is formed so as to protrude from the light emitting element 16 in the X-axis direction.

絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、隣り合う発光素子16の対向電極37との間のリーク電流によって、発光素子16が形成されていない素子間領域の発光機能層36が発光する場合がある。本実施形態では、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、隣り合う発光素子16の対向電極37との間の間隔W3が長くなっている。すなわち、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、隣り合う発光素子16の対向電極37との間の抵抗成分が大きくなっているので、画素電極34と隣り合う発光素子16の対向電極37との間でリーク電流が流れにくくなっている。よって、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、隣り合う発光素子16の対向電極37との間の発光機能層36、すなわち素子間領域の発光機能層36の発光を抑制することができる。
従って、共通電極38を形成しなくても、対向電極37と隣り合う対向電極37との間の間隔W3を大きくすることで、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、隣り合う発光素子16の対向電極37との間のリーク電流が小さくなり、素子間領域の発光機能層36の発光を抑制することができる。
The light emitting functional layer 36 in the inter-element region where the light emitting element 16 is not formed emits light due to a leak current between the pixel electrode 34 in the region not covered with the insulating film 35 and the counter electrode 37 of the adjacent light emitting element 16. There is a case. In the present embodiment, the interval W3 between the pixel electrode 34 in a region not covered with the insulating film 35 and the counter electrode 37 of the adjacent light emitting element 16 is long. That is, since the resistance component between the pixel electrode 34 in the region not covered with the insulating film 35 and the counter electrode 37 of the adjacent light emitting element 16 is large, the pixel electrode 34 and the adjacent light emitting element 16 are opposed to each other. Leakage current is difficult to flow between the electrodes 37. Therefore, the light emission functional layer 36 between the pixel electrode 34 in the region not covered with the insulating film 35 and the counter electrode 37 of the adjacent light emitting element 16, that is, the light emission functional layer 36 in the inter-element region is suppressed. Can do.
Therefore, even if the common electrode 38 is not formed, by increasing the interval W3 between the counter electrode 37 and the adjacent counter electrode 37, the pixel electrode 34 in the region not covered with the insulating film 35 is adjacent. A leak current between the light emitting element 16 and the counter electrode 37 is reduced, and light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region can be suppressed.

なお、発光素子16の短辺(X軸方向に沿った辺)に近接した側の素子間領域は、対向電極37で覆われているので、画素電極34の電圧Vpによっては、発光素子16の短辺に近接した側の素子間領域の発光機能層36が発光する場合がある。但し、発光素子16の短辺に近接した側では、素子間領域の発光面積は小さくなっているので、目立ちにくく、仮に発光したとしても表示への影響は小さい。   Note that the inter-element region on the side close to the short side (side along the X-axis direction) of the light-emitting element 16 is covered with the counter electrode 37, so that depending on the voltage Vp of the pixel electrode 34, The light emitting functional layer 36 in the inter-element region on the side close to the short side may emit light. However, since the light emitting area of the inter-element region is small on the side close to the short side of the light emitting element 16, it is not noticeable, and even if it emits light, the influence on the display is small.

以上述べたように、本実施形態に係る表示装置2によれば、共振構造+カラーフィルター52によって表示装置1から発する光の色純度を高めることができるという実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と、隣り合う発光素子16の対向電極37との間の間隔W3が長くなっているので、共通電極38を形成しなくても、絶縁膜35で覆われていない領域の画素電極34と隣り合う発光機能層36の対向電極37との間の発光機能層36、すなわち素子間領域の発光機能層36の発光を抑制することができる。従って、素子間領域の発光機能層36の発光による表示コントラスト低下や表示色(色味)の変化などの不具合が抑制され、高品質の表示を提供することができる。
As described above, according to the display device 2 according to the present embodiment, in addition to the effect of the first embodiment in which the color purity of light emitted from the display device 1 can be increased by the resonance structure + color filter 52, The following effects can be obtained.
Since the interval W3 between the pixel electrode 34 in the region not covered with the insulating film 35 and the counter electrode 37 of the adjacent light emitting element 16 is long, the insulating film 35 can be formed without forming the common electrode 38. It is possible to suppress light emission of the light emitting functional layer 36 between the pixel electrode 34 in the region not covered with the electrode and the counter electrode 37 of the adjacent light emitting functional layer 36, that is, the light emitting functional layer 36 in the inter-element region. Therefore, problems such as a decrease in display contrast and a change in display color (color) due to light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region can be suppressed, and a high quality display can be provided.

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and improvements can be added to the above-described embodiment. A modification will be described below.

(変形例1)
図9は、変形例1に係る表示装置の断面図であり、図4に対応している。
本変形例に係る表示装置3は、着色層(カラーフィルター)が対向基板50に形成されていない点が実施形態1と異なり、他の構成は実施形態1と同じである。以下、図9を参照して、実施形態1との相違点を中心に、本変形例に係る表示装置3の概要を説明する。
(Modification 1)
FIG. 9 is a cross-sectional view of a display device according to Modification 1, and corresponds to FIG.
The display device 3 according to this modification is different from the first embodiment in that a colored layer (color filter) is not formed on the counter substrate 50, and the other configuration is the same as that of the first embodiment. Hereinafter, with reference to FIG. 9, an outline of the display device 3 according to the present modification will be described focusing on differences from the first embodiment.

表示装置3の構成要素である素子基板30は、反射膜32と対向電極37との間で特定波長域の光を共振させる共振構造が形成されている。詳しくは、反射膜32と対向電極37との間の光学的距離は、画素11ごとに特定波長域の光を共振させる光路長に設定され、特定波長域の光は増幅され、特定波長域以外の光は減衰されるので、R画素11RからはR光が、G画素11GからはG光が、及びB画素11BからはB光が、対向基板50側(Z軸(+)方向)に射出される。その結果、カラーフィルターを形成しなくても、R画素11RからはR光、G画素11GからはG光、及びB画素11からはB光がZ軸(+)方向に射出され、フルカラーの表示が提供される。   The element substrate 30 which is a constituent element of the display device 3 has a resonance structure that resonates light in a specific wavelength region between the reflective film 32 and the counter electrode 37. Specifically, the optical distance between the reflective film 32 and the counter electrode 37 is set to an optical path length for resonating light in a specific wavelength region for each pixel 11, and light in the specific wavelength region is amplified and other than the specific wavelength region. Therefore, the R light is emitted from the R pixel 11R, the G light is emitted from the G pixel 11G, and the B light is emitted from the B pixel 11B to the counter substrate 50 side (Z-axis (+) direction). Is done. As a result, even if no color filter is formed, R light is emitted from the R pixel 11R, G light is emitted from the G pixel 11G, and B light is emitted from the B pixel 11 in the Z-axis (+) direction. Is provided.

本変形例に係る表示装置3によれば、素子間領域の発光機能層36の発光が抑制されるという実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
画素11で発した光は、カラーフィルターを通過せずに外部に直接射出されるので、カラーフィルターにおける光の吸収が解消される。その結果、カラーフィルター52を有する実施形態1の表示装置1と比べて、より明るい表示を提供することができる。
According to the display device 3 according to this modification, in addition to the effect of the first embodiment in which the light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region is suppressed, the following effect can be obtained.
Since the light emitted from the pixel 11 is directly emitted to the outside without passing through the color filter, absorption of light in the color filter is eliminated. As a result, a brighter display can be provided as compared with the display device 1 of the first embodiment having the color filter 52.

(変形例2)
図10は、変形例2に係る表示装置の断面図であり、図9に対応している。
本変形例に係る表示装置4は、素子基板30の共通電極38が遮光性を有している点及び対向基板50に遮光膜55が形成されていない点が、上述した変形例1と異なる。
(Modification 2)
FIG. 10 is a cross-sectional view of a display device according to Modification Example 2, and corresponds to FIG.
The display device 4 according to this modification is different from Modification 1 described above in that the common electrode 38 of the element substrate 30 has light shielding properties and the light shielding film 55 is not formed on the counter substrate 50.

対向電極37及び共通電極38は、同一材料(MgとAgとの合金)で構成されている。MgとAgとの合金を10nm以下に薄膜化すると、光を反射する性質(反射性)に加えて光を透過する性質(光透過性)が付与される。また、MgとAgとの合金を数十nm以上に厚膜化すると、光を反射する性質(反射性)に加えて光を遮光する性質(遮光性)が付与される。本変形例では、対向電極37の膜厚は10nm以下、及び共通電極38の膜厚は数十nm以上となっている。その結果、共通電極38には、光透過性及び光反射性という性質が付与され、共通電極38には、光遮光性及び光反射性という性質が付与されている。   The counter electrode 37 and the common electrode 38 are made of the same material (an alloy of Mg and Ag). When an alloy of Mg and Ag is thinned to 10 nm or less, in addition to the property of reflecting light (reflectivity), the property of transmitting light (light transmittance) is imparted. Further, when the alloy of Mg and Ag is thickened to several tens of nm or more, in addition to the property of reflecting light (reflectivity), the property of shielding light (light shielding property) is imparted. In this modification, the counter electrode 37 has a thickness of 10 nm or less, and the common electrode 38 has a thickness of several tens of nm or more. As a result, the common electrode 38 is imparted with light transmitting and light reflecting properties, and the common electrode 38 is imparted with light blocking properties and light reflecting properties.

共通電極38は、発光機能層36が発光しない素子間領域に形成され、素子間領域を遮光している。その結果、対向基板50に遮光膜(ブラックマトリックス)を形成しなくても、共通電極38によって不要な光を遮光することができる。すなわち、共通電極38はブラックマトリックスとしての機能を有している。   The common electrode 38 is formed in the inter-element region where the light emitting functional layer 36 does not emit light, and shields the inter-element region. As a result, unnecessary light can be shielded by the common electrode 38 without forming a light shielding film (black matrix) on the counter substrate 50. That is, the common electrode 38 has a function as a black matrix.

このような対向電極37及び共通電極38は、MgとAgとの合金を複数回に分けて蒸着することで形成することができる。最初に、第1層のMgとAgとの合金を蒸着し、共通電極38以外の領域にレーザービームを照射し、共通電極38以外の領域のMgとAgとの合金を蒸発させる。次に、対向電極37の膜厚条件で、第2層のMgとAgとの合金を蒸着し、対向電極37及び共通電極38以外の領域にレーザービームを照射し、対向電極37及び共通電極38以外の領域のMgとAgとの合金を蒸発させる。その結果、対向電極37は第2層のMgとAgとの合金によって形成され、共通電極38は第1層のMgとAgとの合金及び第2層のMgとAgとの合金の積層膜によって形成することができる。
なお、対向電極37及び共通電極38は、同じ材料で構成しても良いし、異なる材料で構成しても良い。
The counter electrode 37 and the common electrode 38 can be formed by depositing an alloy of Mg and Ag in a plurality of times. First, an alloy of Mg and Ag in the first layer is vapor-deposited, a region other than the common electrode 38 is irradiated with a laser beam, and the alloy of Mg and Ag in the region other than the common electrode 38 is evaporated. Next, an alloy of Mg and Ag of the second layer is vapor-deposited under the film thickness condition of the counter electrode 37, and a region other than the counter electrode 37 and the common electrode 38 is irradiated with a laser beam, so that the counter electrode 37 and the common electrode 38 are irradiated. The alloy of Mg and Ag in the other region is evaporated. As a result, the counter electrode 37 is formed by an alloy of Mg and Ag in the second layer, and the common electrode 38 is formed by a laminated film of an alloy of Mg and Ag in the first layer and an alloy of Mg and Ag in the second layer. Can be formed.
The counter electrode 37 and the common electrode 38 may be made of the same material or different materials.

本変形例に係る表示装置4によれば、変形例1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
共通電極38は遮光膜(ブラックマトリックス)として機能しているので、対向基板50に遮光膜を形成しなくても不要な光を遮光し、表示コントラストを向上させることができる。
According to the display device 4 according to this modification, in addition to the effects of Modification 1, the following effects can be obtained.
Since the common electrode 38 functions as a light shielding film (black matrix), unnecessary light can be shielded and display contrast can be improved without forming a light shielding film on the counter substrate 50.

<電子機器>
次に、本実施形態に係る電子機器について、図11を参照して説明する。図11(a)はヘッドマウントディスプレイ(HMD)を示す斜視図であり、図11(b)はデジタルカメラを示す概略平面図である。
<Electronic equipment>
Next, an electronic apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 11A is a perspective view showing a head mounted display (HMD), and FIG. 11B is a schematic plan view showing a digital camera.

図11(a)に示すように、電子機器としてのHMD100は、観測者の頭部に装着するための環状の支持部101と、観測者の左右の眼に対して画像を表示する表示部102とを有している。表示部102には、上記実施形態または変形例に係る表示装置1〜表示装置4のいずれかが搭載されている。   As shown in FIG. 11A, an HMD 100 as an electronic device includes an annular support unit 101 for mounting on an observer's head and a display unit 102 that displays an image on the left and right eyes of the observer. And have. Any one of the display device 1 to the display device 4 according to the embodiment or the modification is mounted on the display unit 102.

図11(b)に示すように、本実施形態の他の電子機器としてのデジタルカメラ200は、撮像素子などの光学系を有する本体201を有している。本体201には、撮像した画像などを表示するモニター202と、被写体を視認するための電子ビューファインダー203とが設けられている。電子ビューファインダー203には、上記実施形態または変形例に係る表示装置1乃至表示装置4のいずれかが搭載されている。
表示部102及び電子ビューファインダー203は、いずれも同程度の画素密度を有するマイクロディスプレイであり、微細な画素が配置されている。表示部102及び電子ビューファインダー203には、本実施形態または本変形例に係る表示装置1〜表示装置4が適用されているので、素子間領域の発光機能層36の発光による表示コントラスト低下や表示色(色味)の変化などの不具合が抑制され、高品質の表示が提供される。
As shown in FIG. 11B, a digital camera 200 as another electronic device of the present embodiment includes a main body 201 having an optical system such as an image sensor. The main body 201 is provided with a monitor 202 for displaying captured images and an electronic viewfinder 203 for visually recognizing a subject. The electronic viewfinder 203 is equipped with any one of the display devices 1 to 4 according to the embodiment or the modification.
The display unit 102 and the electronic viewfinder 203 are both microdisplays having the same pixel density, and fine pixels are arranged. Since the display device 1 to the display device 4 according to the present embodiment or the modification are applied to the display unit 102 and the electronic viewfinder 203, display contrast reduction and display due to light emission of the light emitting functional layer 36 in the inter-element region. Problems such as changes in color (color) are suppressed, and a high-quality display is provided.

さらに、本発明の表示装置は、上述したHMDまたはデジタルカメラの他に、モバイルコンピューター、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器、及び情報端末機器など各種電子機器の表示部に適用させることもできる。   Furthermore, in addition to the above-described HMD or digital camera, the display device of the present invention can also be applied to display units of various electronic devices such as mobile computers, digital video cameras, in-vehicle devices, audio devices, and information terminal devices.

1,2,3,4…表示装置、5…表示パネル、10…表示領域、11…画素、12…表示単位、13…スイッチング用TFT、14…駆動用TFT、15…保持容量、16…発光素子、17…コンタクト領域、21…走査線、22…データ線、23…電源供給線、24…走査線駆動回路、25…データ線駆動回路、28…フレキシブル基板、29…駆動用IC、30…素子基板、31…素子基板本体、32…反射膜、33…絶縁膜、34…画素電極、35…絶縁膜、36…発光機能層、37…対向電極、38…共通電極、39…封止層、41…対向電極幹配線、42…共通電極幹配線、50…対向基板、51…対向基板本体、52…カラーフィルター、55…遮光膜、100…HMD、101…支持部、102…表示部、200…デジタルカメラ、201…本体、202…モニター、203…電子ビューファインダー。   1, 2, 3, 4 ... display device, 5 ... display panel, 10 ... display area, 11 ... pixel, 12 ... display unit, 13 ... switching TFT, 14 ... driving TFT, 15 ... holding capacitor, 16 ... light emission Element 17 ... Contact region 21 ... Scanning line 22 ... Data line 23 ... Power supply line 24 ... Scanning line drive circuit 25 ... Data line drive circuit 28 ... Flexible substrate 29 ... Drive IC 30 ... Element substrate 31... Element substrate body 32. Reflective film 33. Insulating film 34. Pixel electrode 35. Insulating film 36. Light emitting functional layer 37. Counter electrode 38. Common electrode 39. 41 ... Counter electrode trunk wiring, 42 ... Common electrode trunk wiring, 50 ... Counter substrate, 51 ... Counter substrate main body, 52 ... Color filter, 55 ... Light shielding film, 100 ... HMD, 101 ... Support part, 102 ... Display part, 200: Digital camera La, 201 ... body, 202 ... monitor, 203 ... an electronic view finder.

Claims (9)

発光素子を有する画素が、第1の方向、及び前記第1の方向と交差する第2の方向に配列された表示領域を有し、選択された前記画素に表示信号を供給し、前記発光素子を発光させるアクティブ駆動方式の電気光学装置であって、
前記発光素子は、
前記画素毎に形成され、前記表示信号が供給される画素電極と、
前記画素電極に対向し、前記第1の方向又は前記第2の方向のいずれか一方に配列された複数の前記画素に跨って配置された帯状の対向電極と、
前記画素電極と前記帯状の対向電極とで挟まれ、前記表示領域を覆って配置された発光機能層と、を備え、
前記帯状の対向電極は前記表示領域に複数配置され、複数の前記帯状の対向電極は前記表示領域の周辺で互いに電気的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。
A pixel having a light emitting element has a display region arranged in a first direction and a second direction intersecting the first direction, and supplies a display signal to the selected pixel, and the light emitting element An electro-optical device of an active drive system that emits light,
The light emitting element is
A pixel electrode formed for each pixel and supplied with the display signal;
A strip-shaped counter electrode disposed across a plurality of the pixels opposed to the pixel electrode and arranged in either the first direction or the second direction;
A light emitting functional layer sandwiched between the pixel electrode and the strip-shaped counter electrode and disposed to cover the display region,
An electro-optical device, wherein a plurality of the strip-shaped counter electrodes are arranged in the display region, and the plurality of the strip-shaped counter electrodes are electrically connected to each other around the display region.
前記帯状の対向電極に対向する前記画素電極の配列方向と直交する方向において、前記帯状の対向電極の巾は、前記画素電極の巾と同等以下であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The width of the strip-shaped counter electrode is equal to or less than the width of the pixel electrode in a direction orthogonal to the arrangement direction of the pixel electrodes facing the strip-shaped counter electrode. Electro-optic device. 前記画素電極の周縁部の少なくとも一部は絶縁膜で覆われ、
前記帯状の対向電極は、前記画素電極の前記絶縁膜で覆われていない領域に対向配置され、
前記帯状の対向電極に対向する前記画素電極の配列方向と直交する方向において、前記帯状の対向電極の巾は、前記画素電極の前記絶縁膜で覆われていない領域の巾と同等以下であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
At least a part of the peripheral edge of the pixel electrode is covered with an insulating film;
The strip-shaped counter electrode is disposed to face a region of the pixel electrode that is not covered with the insulating film,
In the direction orthogonal to the arrangement direction of the pixel electrodes facing the strip-shaped counter electrode, the width of the strip-shaped counter electrode is equal to or less than the width of the region of the pixel electrode not covered with the insulating film. The electro-optical device according to claim 1.
隣り合う前記帯状の対向電極との間に、前記帯状の対向電極に沿う方向に配置された帯状の共通電極を有し、
前記帯状の共通電極は前記表示領域に複数配置され、複数の前記帯状の共通電極は前記表示領域の周辺で互いに電気的に接続され、前記帯状の対向電極より大きい電圧が供給されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電気光学装置。
Between the adjacent strip-shaped counter electrode adjacent to each other, a strip-shaped common electrode disposed in a direction along the strip-shaped counter electrode,
A plurality of the strip-shaped common electrodes are arranged in the display region, the plurality of the strip-shaped common electrodes are electrically connected to each other around the display region, and a voltage higher than the strip-shaped counter electrode is supplied. The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical device is any one of claims 1 to 3.
前記帯状の対向電極には、前記表示信号より小さい電圧が供給され、
前記帯状の共通電極には、前記表示信号の最大電圧から前記発光素子が発光する最低電圧を減じた電圧より大きい電圧が供給されていることを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置。
A voltage smaller than the display signal is supplied to the strip-shaped counter electrode,
5. The electro-optical device according to claim 4, wherein a voltage larger than a voltage obtained by subtracting a minimum voltage at which the light emitting element emits light from a maximum voltage of the display signal is supplied to the strip-shaped common electrode.
前記帯状の対向電極及び前記帯状の共通電極は、同一材料で、前記発光機能層に接して形成されていることを特徴とする請求項4又は5に記載の電気光学装置。   6. The electro-optical device according to claim 4, wherein the strip-shaped counter electrode and the strip-shaped common electrode are made of the same material and are in contact with the light emitting functional layer. 前記帯状の対向電極は、光透過性及び光反射性を有し、
前記帯状の共通電極は、遮光性を有していることを特徴とする請求項4又は5に記載の電気光学装置。
The strip-shaped counter electrode has light transmittance and light reflectivity,
The electro-optical device according to claim 4, wherein the strip-shaped common electrode has a light shielding property.
前記画素電極は、光透過性を有し、
前記帯状の対向電極は、光透過性及び光反射性を有し、
前記画素電極の前記帯状の対向電極と反対側には、光反射性を有する反射膜が配置され、前記帯状の対向電極と前記反射膜との間で前記発光機能層より発した光を共振させる光共振構造が形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の電気光学装置。
The pixel electrode has optical transparency,
The strip-shaped counter electrode has light transmittance and light reflectivity,
A reflective film having light reflectivity is disposed on the opposite side of the pixel electrode from the strip-shaped counter electrode, and resonates light emitted from the light emitting functional layer between the strip-shaped counter electrode and the reflective film. 8. The electro-optical device according to claim 1, wherein an optical resonance structure is formed.
請求項1乃至8のいずれか1項に記載の電気光学装置を有していることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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