JP2014034491A - Method for producing arsenic content-controlled glass and method for measuring arsenic content in glass - Google Patents

Method for producing arsenic content-controlled glass and method for measuring arsenic content in glass Download PDF

Info

Publication number
JP2014034491A
JP2014034491A JP2012176742A JP2012176742A JP2014034491A JP 2014034491 A JP2014034491 A JP 2014034491A JP 2012176742 A JP2012176742 A JP 2012176742A JP 2012176742 A JP2012176742 A JP 2012176742A JP 2014034491 A JP2014034491 A JP 2014034491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
arsenic
manganese dioxide
arsenic content
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2012176742A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshitaka Saijo
佳孝 西條
Yuichi Suzuki
祐一 鈴木
Ryoji Akiyama
良司 秋山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2012176742A priority Critical patent/JP2014034491A/en
Publication of JP2014034491A publication Critical patent/JP2014034491A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing arsenic content-controlled glass, in which the arsenic content in the glass is measured with high sensitivity and controlled to be 0.1 mass ppm or lower.SOLUTION: In a method for producing the glass having specific composition, the arsenic content is measured by a process comprising the following steps (1)-(4). The step (1) is a glass dissolution step of heating a mixture of a glass sample, a high boiling point acid, potassium permanganate and hydrofluoric acid so that the high boiling point acid still remains in the hot mixture to obtain a first glass solution containing manganese dioxide. The step (2) is a manganese dioxide dissolution step of adding a manganese dioxide reducing agent to the first glass solution to dissolve the manganese dioxide in the first glass solution and obtain a second glass solution. The step (3) is a pre-reduction step of adding a reductant, which reduces a pentavalent arsenic ion to a trivalent arsenic ion, to the second glass solution to obtain a glass solution for measurement. The step (4) is an arsenic content measurement step of measuring the arsenic content of the glass solution for measurement by using a hydride generation method.

Description

本発明は、ヒ素含有量が管理されたガラスの製造方法及びガラス中のヒ素含有量の測定方法に関する。より詳しくは、ガラス中の微量のヒ素含有量を感度良く測定する方法、及び、この方法を用いてガラス中のヒ素含有量が微量となるように管理されたガラスの製造方法に関する。   The present invention relates to a glass manufacturing method in which arsenic content is controlled and a method for measuring arsenic content in glass. More specifically, the present invention relates to a method for measuring a small amount of arsenic content in glass with high sensitivity, and a method for producing glass managed using this method so that the arsenic content in glass becomes a very small amount.

ガラス(ほうけい酸ガラス)中のヒ素含有量は、従来、JIS R 3105、JIS R 3101等で規定されている吸光光度法を用いて、又はASTM C 169−92で規定されている滴定法を用いて測定されている。ガラス中のヒ素含有量は、環境負荷を考慮すると、微量であることが好ましい。   Conventionally, the arsenic content in glass (borosilicate glass) is determined by using a spectrophotometric method defined in JIS R 3105, JIS R 3101, or the titration method defined in ASTM C 169-92. It is measured using. The arsenic content in the glass is preferably a very small amount in consideration of the environmental load.

JIS R 3105JIS R 3105 JIS R 3101JIS R 3101 ASTM C 169−92ASTM C 169-92

しかし、従来の吸光光度法又は滴定法によるガラス中のヒ素含有量の測定は感度が悪いため、ヒ素含有量を正確に感度良く測定するには課題がある。本発明においてはガラス中のヒ素含有量を感度良く測定する方法、および、それによりガラス中のヒ素含有量を質量割合で0.1ppm以下に管理しながらガラスを製造する方法の提供を目的とする。   However, since the measurement of the arsenic content in the glass by the conventional spectrophotometric method or titration method is insensitive, there is a problem in accurately measuring the arsenic content with high sensitivity. An object of the present invention is to provide a method for measuring the arsenic content in glass with high sensitivity and a method for producing glass while controlling the arsenic content in the glass at a mass ratio of 0.1 ppm or less. .

本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、ガラスに特定の処理を行い、かつ、水素化物発生法を用いることにより、ヒ素含有量を感度良く測定できることを見出した。またこの測定方法を用いることにより、ヒ素量を管理しながらガラスの製造ができることを見出した。すなわち、本発明は以下の通りである。
<1>ガラス中のヒ素含有量を測定する測定工程を含み、ガラス中のヒ素含有量が質量割合で0.1ppm以下に管理されたガラスを製造する方法であって、
前記測定工程が下記(1)〜(4)のステップを含み、
(1)前記ガラスをガラス試料として準備し、該ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とを、前記高沸点の酸が残る程度に加熱してガラスを溶解することにより、二酸化マンガンを含む第1のガラス溶液を得るガラス溶解ステップ;
(2)前記第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加え、第1のガラス溶液中の二酸化マンガンを溶解して、第2のガラス溶液を得る二酸化マンガン溶解ステップ;
(3)前記第2のガラス溶液にヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤を加えて、測定用ガラス溶液を得る予備還元ステップ;
(4)水素化物発生法を用いて前記測定用ガラス溶液のヒ素含有量を測定するヒ素量測定ステップ;
かつ、前記ガラスが酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを50〜75%、Alを0.1〜24%、Bを0〜12%、MgOを0〜8%、CaOを0〜14.5%、SrOを0〜24%、BaOを0〜13.5%、NaOを0〜20%、KOを0〜20%、ZrOを0〜5%、MgO+CaO+SrO+BaOを5〜29.5%、および、NaO+KOを0〜20%、を含有するガラスの製造方法。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the arsenic content can be measured with high sensitivity by performing a specific treatment on the glass and using a hydride generation method. Moreover, it discovered that glass could be manufactured using this measuring method, managing the amount of arsenic. That is, the present invention is as follows.
<1> A method for producing a glass including a measurement step of measuring an arsenic content in glass, wherein the arsenic content in the glass is controlled to 0.1 ppm or less by mass ratio,
The measurement process includes the following steps (1) to (4):
(1) Preparing the glass as a glass sample, and melting the glass by heating the glass sample, a high boiling acid, potassium permanganate, and hydrofluoric acid to such an extent that the high boiling acid remains. A glass melting step to obtain a first glass solution comprising manganese dioxide;
(2) A manganese dioxide dissolving step in which a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution to dissolve the manganese dioxide in the first glass solution to obtain a second glass solution;
(3) A pre-reduction step of adding a reducing agent that reduces arsenic (V) ions to arsenic (III) ions to the second glass solution to obtain a glass solution for measurement;
(4) Arsenic content measurement step of measuring the arsenic content of the glass solution for measurement using a hydride generation method;
And, wherein the glass by mass percentage based on oxides, SiO 2 50 to 75% of Al 2 O 3 0.1~24%, B 2 O 3 0 to 12% of MgO 0 to 8% the CaO 0 to 14.5%, the SrO 0-24%, a BaO from 0 to 13.5%, 0 to 20% of Na 2 O, 0 to 20% of K 2 O, the ZrO 2 0 to 5 %, MgO + CaO + SrO + BaO is 5 to 29.5%, and Na 2 O + K 2 O is a method for producing glass containing 0 to 20%.

<2>下記(1)〜(4)のステップを含むガラス中のヒ素含有量の測定方法。
(1)前記ガラスをガラス試料として準備し、該ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とを、前記高沸点の酸が残る程度に加熱してガラスを溶解することにより、二酸化マンガンを含む第1のガラス溶液を得るガラス溶解ステップ;
(2)前記第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加え、第1のガラス溶液中の二酸化マンガンを溶解して、第2のガラス溶液を得る二酸化マンガン溶解ステップ;
(3)前記第2のガラス溶液にヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤を加えて、測定用ガラス溶液を得る予備還元ステップ;
(4)水素化物発生法を用いて前記測定用ガラス溶液のヒ素含有量を測定するヒ素量測定ステップ。
<2> A method for measuring the arsenic content in the glass including the following steps (1) to (4).
(1) Preparing the glass as a glass sample, and melting the glass by heating the glass sample, a high boiling acid, potassium permanganate, and hydrofluoric acid to such an extent that the high boiling acid remains. A glass melting step to obtain a first glass solution comprising manganese dioxide;
(2) A manganese dioxide dissolving step in which a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution to dissolve the manganese dioxide in the first glass solution to obtain a second glass solution;
(3) A pre-reduction step of adding a reducing agent that reduces arsenic (V) ions to arsenic (III) ions to the second glass solution to obtain a glass solution for measurement;
(4) An arsenic content measurement step for measuring the arsenic content of the measurement glass solution using a hydride generation method.

本発明によれば、ガラス中のヒ素含有量を感度良く測定でき、それによりガラス中のヒ素含有量が微量となるように管理されたガラスの製造方法を提供できる。また、ガラス中のヒ素含有量を感度良く測定できる測定方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the arsenic content in glass can be measured with sufficient sensitivity, and the manufacturing method of the glass managed so that the arsenic content in glass might become trace amount by it can be provided. Moreover, the measuring method which can measure the arsenic content in glass with sufficient sensitivity can be provided.

図1は、本発明における測定工程の典型的な態様を示すフロー図である。FIG. 1 is a flowchart showing a typical aspect of the measurement process in the present invention.

<本発明のガラスの製造方法>
本発明のガラスの製造方法は、特定の測定工程を有する製造方法である点が特徴である。
本発明における測定工程は下記(1)〜(4)のステップを含む。
(1)上記ガラスをガラス試料として準備し、該ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とを、上記高沸点の酸が残る程度に加熱してガラスを溶解することにより、二酸化マンガンを含む第1のガラス溶液を得るガラス溶解ステップ;
(2)上記第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加え、第1のガラス溶液中の二酸化マンガンを溶解して、第2のガラス溶液を得る二酸化マンガン溶解ステップ;
(3)上記第2のガラス溶液にヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤を加えて、測定用ガラス溶液を得る予備還元ステップ;
(4)水素化物発生法を用いて上記測定用ガラス溶液のヒ素含有量を測定するヒ素量測定ステップ。
さらに、本発明により製造されるガラスは、酸化物基準の質量百分率表示でSiOを50〜75%、Alを0.1〜24%、Bを0〜12%、MgOを0〜8%、CaOを0〜14.5%、SrOを0〜24%、BaOを0〜13.5%、NaOを0〜20%、KOを0〜20%、ZrOを0〜5%、MgO+CaO+SrO+BaOを5〜29.5%、NaO+KOを0〜20%、を含有する。
<The manufacturing method of the glass of this invention>
The glass production method of the present invention is characterized in that it is a production method having a specific measurement step.
The measurement process in the present invention includes the following steps (1) to (4).
(1) Prepare the glass as a glass sample, and melt the glass by heating the glass sample, high boiling acid, potassium permanganate and hydrofluoric acid to such an extent that the high boiling acid remains. A glass melting step to obtain a first glass solution comprising manganese dioxide;
(2) A manganese dioxide dissolving step in which a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution to dissolve the manganese dioxide in the first glass solution to obtain a second glass solution;
(3) a pre-reduction step of adding a reducing agent that reduces arsenic (V) ions to arsenic (III) ions to the second glass solution to obtain a glass solution for measurement;
(4) Arsenic content measurement step of measuring the arsenic content of the glass solution for measurement using a hydride generation method.
Furthermore, the glass produced by the present invention, the SiO 2 50 to 75% by mass percentage based on oxides, Al 2 O 3 0.1~24%, B 2 O 3 and 0 to 12%, MgO 0-8% of CaO 0-14.5 percent, SrO 0-24% and BaO 0 to 13.5% 0 to 20% of Na 2 O, 0 to 20% of K 2 O, ZrO 2 to 0 to 5%, MgO + CaO + SrO + BaO to 5 to 29.5%, and Na 2 O + K 2 O to 0 to 20%.

本発明における測定工程の典型的なフローを、図1に示して説明する。図1は、本発明における測定工程の典型的な態様を示すフロー図であるが、本発明は図1に示す態様に限定されない。
図1における(1)のガラス溶解ステップでは、ガラス試料に、高沸点の酸として好適に用いられるHClOと、過マンガン酸カリウムと(KMnO)、フッ化水素酸(HF)とを添加し、混合し、加熱してガラスを溶解することが示される。該ステップでは、HF、HSiF、およびHClOが発生し、かつ、ガラス試料中にIII価のヒ素イオンが存在する場合には、該ヒ素イオンをV価に酸化して、二酸化マンガン(MnO)とV価のヒ素イオンを含む第1のガラス溶液が生成する。
A typical flow of the measurement process in the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a flowchart showing a typical aspect of the measurement process in the present invention, but the present invention is not limited to the aspect shown in FIG.
In the glass melting step (1) in FIG. 1, HClO 4 , potassium permanganate, (KMnO 4 ), and hydrofluoric acid (HF), which are suitably used as high-boiling acid, are added to a glass sample. , Mixed and heated to melt the glass. In this step, when HF, H 2 SiF 6 , and HClO 4 are generated and a valence III arsenic ion is present in the glass sample, the arsenic ion is oxidized to a valence V, and manganese dioxide ( A first glass solution containing MnO 2 ) and V-valent arsenic ions is formed.

(2)の二酸化マンガン溶解ステップでは、第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加える。これにより第1のガラス溶液中の二酸化マンガンが溶解して、第2のガラス溶液を得る。
(3)の予備還元ステップでは、前記第2のガラス溶液にヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤を加えて、III価のヒ素イオンを含む測定用ガラス溶液を得る。
(4)のヒ素量測定ステップでは、(3)で得た前記測定用ガラス溶液のIII価のヒ素イオンの含有量を、水素化物発生法を用いて測定する。
In the manganese dioxide dissolution step (2), a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution. Thereby, manganese dioxide in the first glass solution is dissolved to obtain a second glass solution.
In the pre-reduction step (3), a reducing agent that reduces arsenic (V) ions to arsenic (III) ions is added to the second glass solution to obtain a glass solution for measurement containing trivalent arsenic ions.
In the arsenic content measurement step of (4), the content of the trivalent arsenic ions in the measurement glass solution obtained in (3) is measured using a hydride generation method.

本発明のガラスの製造方法は、上記(1)〜(4)のステップを含むヒ素含有量の測定工程を含み、該測定工程によって、特定のガラス中のヒ素含有量を質量割合で0.1ppm以下に管理しながらガラスを製造できる。   The manufacturing method of the glass of this invention includes the measurement process of arsenic content including the step of said (1)-(4), 0.1 ppm by mass ratio of arsenic content in specific glass by this measurement process Glass can be produced while managing the following.

本発明のガラスの製造方法は、上記ヒ素含有量の測定工程を必須とするが、該工程以外の工程は、特に限定されない。たとえば、ガラス試料を得る工程として、従来のガラスの製造方法と同様の工程である、溶解工程、清澄工程、成形工程等、の工程を含むことができる。溶解工程、清澄工程、成形工程等については、特に制限はない。   The glass production method of the present invention requires the above arsenic content measurement step, but the steps other than this step are not particularly limited. For example, the step of obtaining a glass sample can include steps such as a melting step, a refining step, and a forming step, which are the same steps as the conventional glass manufacturing method. There is no restriction | limiting in particular about a melt | dissolution process, a refining process, a formation process, etc.

さらに、本発明のガラスの製造方法においては、ヒ素含有量の測定工程の後に、ガラス中のヒ素含有量が質量割合で0.1ppmを超えるものと、質量割合で0.1ppm以下のガラスとを選別する選別工程を含むことが好ましい。該選別工程において、ヒ素含有量が質量割合で0.1ppmを超えるガラスを選別することにより、ヒ素含有量が質量割合で0.1ppm以下に管理されたガラスを得ることができる。
また、該選別工程において、ヒ素含有量が質量割合で0.1ppmを超えたガラスは、ガラスの製造の溶解工程における原料の一部として、再利用(再溶解)してもよい。
Furthermore, in the manufacturing method of the glass of this invention, after the measurement process of arsenic content, the arsenic content in glass exceeds 0.1 ppm by mass ratio, and the glass of 0.1 ppm or less by mass ratio. It is preferable to include a sorting step for sorting. In the screening step, by selecting a glass having an arsenic content exceeding 0.1 ppm by mass, a glass having an arsenic content controlled to 0.1 ppm or less by mass can be obtained.
In the screening step, glass having an arsenic content exceeding 0.1 ppm by mass may be reused (remelted) as a part of the raw material in the melting step of glass production.

(ヒ素含有量の測定工程)
(1)〜(4)のヒ素含有量の測定工程についてステップ毎に詳細に説明する。
(Measurement process of arsenic content)
The measurement process of the arsenic content of (1) to (4) will be described in detail for each step.

(1)ガラス溶解ステップ
本発明におけるガラス溶解ステップでは、ガラスをガラス試料として準備し、該ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とを、上記高沸点の酸が残る程度に加熱してガラスを溶解することにより、二酸化マンガンを含む第1のガラス溶液を得る。
ガラスの入手経路等は特に限定されない。たとえば、溶解工程、清澄工程、および成形工程等からなる一般のガラスの製造工程の途中工程のガラスであっても、該製造工程後のガラスであってもよい。さらにガラスは、他の製品に組み込まれた状態にあるガラスであっても、他の製品の製造工程の途中工程のガラスであってもよい。本発明のおいては、これらのガラスをガラス試料として準備する。なお、ガラスの組成については後述する。
(1) Glass melting step In the glass melting step of the present invention, glass is prepared as a glass sample, and the glass sample, high-boiling acid, potassium permanganate, and hydrofluoric acid are left in the high-boiling acid. The glass is melted by heating to a degree to obtain a first glass solution containing manganese dioxide.
The acquisition route of glass etc. is not specifically limited. For example, the glass may be a glass in the middle of a general glass manufacturing process including a melting process, a clarification process, and a molding process, or may be a glass after the manufacturing process. Furthermore, the glass may be a glass in a state of being incorporated in another product, or may be a glass in the middle of a manufacturing process of another product. In the present invention, these glasses are prepared as glass samples. The glass composition will be described later.

(1)ガラス溶解ステップで用いるガラス試料は、粉末状であることが好ましく、特にガラスを粉砕して得られるガラス粉末であることが好ましい。さらに、ガラス試料は、成形工程を経て得られたガラス板を粉砕したものをガラス試料として用いるのが好ましい。
ガラスの粉砕においては、ガラスを溶解させやすくするために、粉砕後の粉末の大きさは、可能な限り均一とすることが好ましい。粉末の形状は特に限定されないが、細かいほど(1)ガラス溶解ステップにおいてガラスが溶解し易いことから、250μm以下のメッシュを通過する粒子を用いるのが好ましい。しかし、ガラスの組成によっては湿度や二酸化炭素と反応して質量変化を起こす場合があり、また細かいほど質量測定の誤差が生じやすくなるため、ガラス組成を考慮して粉末の大きさを適宜変更するのが好ましい。
また、粉砕したガラス試料は吸湿を防ぐため乾燥雰囲気下にあるデシケータ等で保存し、さらに、二酸化炭素の吸着が懸念される場合はデシケータ中を窒素雰囲気にすることが好ましい。
(1)ガラス溶解ステップにおいて、ガラスを粉砕する方法は特に制限はなく、乳鉢からの汚染、粉砕のしやすさを考慮し、メノウ製乳鉢を用いることが好ましい。ただし、メノウ製乳鉢は衝撃に弱くひびが入りやすいので、ガラス板を粗粉砕する際はアルミナ製乳鉢を用い、さらに微粉砕とする際にメノウ製乳鉢を用いることが好ましい。
(1) The glass sample used in the glass melting step is preferably in the form of powder, particularly preferably glass powder obtained by pulverizing glass. Furthermore, it is preferable to use what crushed the glass plate obtained through the formation process as a glass sample.
In pulverizing the glass, it is preferable that the size of the pulverized powder is as uniform as possible in order to facilitate dissolution of the glass. Although the shape of the powder is not particularly limited, it is preferable to use particles that pass through a mesh of 250 μm or less because the finer (1) the glass is more easily dissolved in the glass melting step. However, depending on the composition of the glass, it may react with humidity and carbon dioxide, causing a mass change. Is preferred.
Further, the crushed glass sample is preferably stored in a desiccator or the like in a dry atmosphere to prevent moisture absorption, and if there is a concern about adsorption of carbon dioxide, the desiccator is preferably in a nitrogen atmosphere.
(1) In the glass melting step, the method of pulverizing the glass is not particularly limited, and it is preferable to use an agate mortar in consideration of contamination from the mortar and ease of pulverization. However, since an agate mortar is vulnerable to impact and easily cracks, it is preferable to use an alumina mortar when coarsely pulverizing a glass plate, and an agate mortar when further finely pulverizing.

(1)ガラス溶解ステップに用いるガラス試料の量に特に制限はなく、0.05〜2gが好ましい。この範囲であれば、未融解残渣が発生せず、ガラス組成成分由来の塩が生成した場合でも溶解できる。また、(4)ヒ素量測定ステップにおける測定用ガラス溶液において、定量するのに十分なヒ素濃度を得ることができる。ガラス試料の量は、より好ましくは0.1〜1gであり、さらに好ましくは0.3〜0.5gである。   (1) There is no restriction | limiting in particular in the quantity of the glass sample used for a glass melt | dissolution step, 0.05-2g is preferable. If it is this range, an unmelted residue will not generate | occur | produce and it can melt | dissolve even when the salt derived from a glass composition component produces | generates. In addition, (4) an arsenic concentration sufficient for quantification can be obtained in the glass solution for measurement in the arsenic amount measurement step. The amount of the glass sample is more preferably 0.1 to 1 g, and further preferably 0.3 to 0.5 g.

高沸点の酸は、フッ化水素酸又はフッ化水素酸と反応して揮発性の化合物を生成しうるSi、B等を十分に揮発させるために用いる。また高沸点の酸は、揮発せずに残るガラス組成成分と可溶性の塩を生成させるためにも用いる。   The high boiling acid is used for sufficiently volatilizing Si, B, etc., which can react with hydrofluoric acid or hydrofluoric acid to form a volatile compound. The high-boiling acid is also used to generate glass components and soluble salts that remain without volatilization.

高沸点の酸としては、大気圧で150℃以上の沸点を有する酸が好ましく、具体的には過塩素酸、硫酸等が特に好ましい。該酸は得られるガラスの組成により適宜変更され、目的とするガラスがSrO、BaO等を多く含有する場合には、過塩素酸を用いることが特に好ましい。   As the high-boiling acid, an acid having a boiling point of 150 ° C. or higher at atmospheric pressure is preferable, and specifically, perchloric acid, sulfuric acid and the like are particularly preferable. The acid is appropriately changed depending on the composition of the glass to be obtained, and it is particularly preferable to use perchloric acid when the target glass contains a large amount of SrO, BaO and the like.

SrO、BaO等を多く含有するとは、ガラスの組成、高沸点の酸の使用量によっても異なるが、ガラスの組成においてSrOが1質量%(以下、単に「%」と記載する)以上及び/又はBaOが0.1%以上である場合をいう。ガラスがSrO及び/又はBaOを多く含有し、かつ高沸点の酸として硫酸を用いる場合は、これらと硫酸とが反応して硫酸塩が生成し、該硫酸塩が(1)ガラス溶解ステップにおいて難溶性となる傾向がある。そのため、過塩素酸を用いることが好ましい。   Containing a large amount of SrO, BaO or the like depends on the composition of the glass and the amount of high-boiling acid used, but in the composition of the glass, SrO is 1% by mass (hereinafter simply referred to as “%”) and / or This refers to the case where BaO is 0.1% or more. If the glass contains a large amount of SrO and / or BaO and sulfuric acid is used as the high boiling acid, it reacts with sulfuric acid to form a sulfate, which is difficult in the (1) glass melting step. There is a tendency to become soluble. Therefore, it is preferable to use perchloric acid.

高沸点の酸の使用量は、ガラス試料100質量部に対して、500〜5000質量部が好ましい。該使用量の範囲であると、フッ化水素酸、又は、フッ化水素酸と反応して揮発性の化合物を生成する元素(Si、B等)を十分に揮発させることができ、高沸点の酸の揮散時間の観点からも好ましい。より好ましい酸の使用量はガラス試料100質量部に対して、1000〜3000質量部であり、さらに好ましくは1000〜2000質量部である。   As for the usage-amount of the high boiling point acid, 500-5000 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of glass samples. When the amount is within the range, hydrofluoric acid or an element that reacts with hydrofluoric acid to produce a volatile compound (Si, B, etc.) can be sufficiently volatilized. It is also preferable from the viewpoint of the volatilization time of the acid. The more preferable usage-amount of an acid is 1000-3000 mass parts with respect to 100 mass parts of glass samples, More preferably, it is 1000-2000 mass parts.

(1)ガラス溶解ステップに用いる過マンガン酸カリウムは、加熱時にヒ素を酸化させ、ヒ素の価数をV価にするために加える。ヒ素はIII価の場合、加熱中に揮散しやすいことからガラス中のヒ素含有量を正確に測定するためには、本発明においては(1)ガラス溶解ステップにおけるヒ素をV価のイオンとすることが重要である。
一般的には、ヒ素を酸化させる酸化剤としてHNOが知られているが、本発明においては過マンガン酸カリウムを用いるため、(1)ガラス溶解ステップにおいてHNOは用いなくともよい。過マンガン酸カリウムは硝酸に比して十分な酸化力を有するからである。
(1) Potassium permanganate used in the glass melting step is added to oxidize arsenic during heating and to change the valence of arsenic to V. In the present invention, arsenic is easily volatile during heating. Therefore, in order to accurately measure the arsenic content in the glass, in the present invention, (1) arsenic is used as a V-valent ion in the glass melting step. is important.
In general, HNO 3 is known as an oxidizing agent that oxidizes arsenic. However, since potassium permanganate is used in the present invention, (1) it is not necessary to use HNO 3 in the glass melting step. This is because potassium permanganate has a sufficient oxidizing power as compared with nitric acid.

過マンガン酸カリウムの使用量は、ガラス試料100質量部に対して1〜50質量部が好ましい。該使用量の範囲にすると、ガラス中の全ヒ素をV価とすることができ、また加熱時に発生する二酸化マンガンの量を抑えることができる。より好ましい使用量はガラス試料100質量部に対して3〜20質量部であり、さらに好ましくは5〜10質量部である。   As for the usage-amount of potassium permanganate, 1-50 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of glass samples. When the amount is within the range, the total arsenic in the glass can be made V-valent, and the amount of manganese dioxide generated during heating can be suppressed. A more preferable usage amount is 3 to 20 parts by mass, and further preferably 5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the glass sample.

(1)ガラス溶解ステップに用いるフッ化水素酸は、ガラスの主構造であるSi−O−Si結合を切断しガラス試料を溶解するために用いる。
フッ化水素酸の使用量は、ガラス試料100質量部に対して、500〜5000質量部が好ましい。該使用料の範囲は、未融解残渣の発生を抑えることできる。また、ガラス試料を溶解しやすくなるため、フッ化水素酸の揮散時間の観点から好ましい。より好ましい使用量はガラス試料100質量部に対して、1000〜3000質量部であり、さらに好ましくは1000〜2000質量部である。
(1) Hydrofluoric acid used in the glass melting step is used for cutting a Si—O—Si bond, which is the main structure of glass, and melting a glass sample.
As for the usage-amount of hydrofluoric acid, 500-5000 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of glass samples. The range of the usage fee can suppress the generation of unmelted residues. Moreover, since it becomes easy to melt | dissolve a glass sample, it is preferable from a viewpoint of the volatilization time of hydrofluoric acid. A more preferable usage amount is 1000 to 3000 parts by mass, and more preferably 1000 to 2000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the glass sample.

本発明の各ステップにおいて用いる容器や撹拌子等は、(1)〜(4)の各ステップにおいて、ヒ素含有量の測定に影響を与えない不活性な材質のものを用いる。たとえば、(1)ガラス溶解ステップにおいては、ガラス試料と、高沸点の酸と過マンガン酸とフッ化水素酸とを加熱するため、少なくとも高沸点の酸及びフッ化水素酸の酸性条件に耐え得る特性を有する容器を用いる必要がある。また、加熱は150〜300℃で行うことが好ましいため、この温度に耐え得る耐熱性を有する容器が好ましい。容器は、好ましくは耐熱温度が200℃以上、より好ましくは300℃以上である材質からなる容器がよい。   The container, stirrer, and the like used in each step of the present invention are made of an inert material that does not affect the measurement of the arsenic content in each step (1) to (4). For example, in the (1) glass melting step, a glass sample, a high-boiling acid, permanganic acid, and hydrofluoric acid are heated, so that it can withstand at least the acidic conditions of high-boiling acid and hydrofluoric acid. It is necessary to use a container having characteristics. Moreover, since it is preferable to perform a heating at 150-300 degreeC, the container which has heat resistance which can endure this temperature is preferable. The container is preferably made of a material having a heat resistant temperature of 200 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or higher.

特に(1)ガラス溶解ステップにおいては、酸性条件及び高温条件に耐久性を有する耐酸性と耐熱性を有する容器を用いることが好ましい。容器としては、フッ素樹脂容器、セラミックス容器等が好ましい例として挙げられる。フッ素樹脂容器としては、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PFA(テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)等からなる容器が好ましく、PTFEからなる容器が特に好ましい。セラミックス容器としては、アルミナ、窒化アルミナ等からなる容器が好ましい。   In particular, in the (1) glass melting step, it is preferable to use a container having acid resistance and heat resistance having durability under acidic conditions and high temperature conditions. Preferred examples of the container include a fluororesin container and a ceramic container. As the fluororesin container, a container made of PTFE (polytetrafluoroethylene), PFA (tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer) or the like is preferable, and a container made of PTFE is particularly preferable. As the ceramic container, a container made of alumina, alumina nitride or the like is preferable.

(1)ガラス溶解ステップにおいて、ガラス試料、高沸点の酸、過マンガン酸カリウム及びフッ化水素酸を添加する順序としては、過マンガン酸カリウムをフッ化水素酸よりも前に添加するのが好ましい。また、全ての成分の全量を一度に添加して加熱してもよい。高沸点の酸及びフッ化水素酸については、分割して添加し、加熱することも可能である。高沸点の酸及びフッ化水素酸を分割して添加する場合、容器の壁面を洗うように加えると、壁面に付着したガラス試料を回収でき、ヒ素測定値の正確性が高まるため好ましい。   (1) In the glass melting step, it is preferable to add potassium permanganate before hydrofluoric acid as the order of adding the glass sample, high boiling acid, potassium permanganate and hydrofluoric acid. . Moreover, you may add and heat the whole quantity of all the components at once. About a high boiling point acid and hydrofluoric acid, it is also possible to add in portions and to heat. When adding a high boiling acid and hydrofluoric acid in a divided manner, it is preferable to wash the wall surface of the container so that the glass sample adhering to the wall surface can be recovered and the accuracy of the arsenic measurement value is increased.

(1)ガラス溶解ステップにおける加熱時には、水を添加してもよい。水を添加することで、ガラス粉末を湿らせ、水中に分散させることができ、ガラス粉末が舞うことで試料が損失するのを防ぐことができる。また、フッ化水素酸を添加したときにガラス試料との急激な反応を抑えることが可能となる。水の量は、ガラス試料に対して1〜5倍質量程度が好ましい。   (1) At the time of heating in the glass melting step, water may be added. By adding water, the glass powder can be moistened and dispersed in water, and the sample can be prevented from being lost due to the glass powder flying. Moreover, it becomes possible to suppress a rapid reaction with the glass sample when hydrofluoric acid is added. The amount of water is preferably about 1 to 5 times the mass of the glass sample.

加熱は、上記高沸点の酸が残る程度迄行う。高沸点の酸が残る程度の加熱は、高沸点の酸の添加により白煙が発生して、該酸の量が添加量の1/2以下(体積基準)であり、かつ、高沸点の酸が乾固せずに残る程度以上の量となるように行うことが好ましい。
高沸点の酸の添加による白煙の発生は、フッ化水素酸が揮発した後に、高沸点の酸がミスト状に連続的に出る状態をもって確認でき、通常は白煙の発生は目視で確認できる。
加熱後の高沸点の酸の量は、一般的な方法で確認でき、例えば、使用する容器の体積を予め測定しておき、高沸点の酸の量が所望の体積となる基準を目視判断する方法が挙げられる。
加熱条件は、用いる成分、量等によって変動するが、具体的には、常圧下で、温度を150〜300℃とするのが好ましく、時間は通常30〜120分間程度が好ましい。試料の加熱は、砂浴上で行うのが好ましい。
Heating is performed to such an extent that the high boiling acid remains. Heating to such an extent that a high-boiling acid remains, white smoke is generated by addition of the high-boiling acid, the amount of the acid is ½ or less (volume basis) of the addition amount, and the high-boiling acid It is preferable to carry out such that the amount is more than the amount remaining without being dried.
The generation of white smoke due to the addition of high boiling acid can be confirmed by the state in which the high boiling acid is continuously emitted in the form of mist after the hydrofluoric acid has volatilized. Usually, the generation of white smoke can be visually confirmed. .
The amount of the high boiling acid after heating can be confirmed by a general method. For example, the volume of the container to be used is measured in advance, and the standard for determining the desired amount of the high boiling acid is visually judged. A method is mentioned.
The heating conditions vary depending on the components, amounts, etc. used. Specifically, the temperature is preferably 150 to 300 ° C. under normal pressure, and the time is usually preferably about 30 to 120 minutes. The sample is preferably heated on a sand bath.

本発明においては、(1)ガラス溶解ステップにおいて、高沸点の酸が残る程度に加熱することにより、(1)ガラス溶解ステップ終了後に、第1のガラス溶液をそのまま次の(2)二酸化マンガン溶解ステップに用いることができる。また、(1)ガラス溶解ステップでは、高沸点の酸が残る程度に加熱を行うため、乾固してヒ素が揮散することを防ぐことができる。
(1)ガラス溶解ステップにおいては、過マンガン酸カリウムから二酸化マンガンが生成し、二酸化マンガン、ガラス、および高沸点の酸を含む第1のガラス溶液が生成する。
こうして得られた第1のガラス溶液を(2)二酸化マンガン溶解ステップに処する。
In the present invention, (1) in the glass melting step, heating is performed to such an extent that a high-boiling acid remains, so that after the (1) glass melting step is completed, the first glass solution is used as it is in the next (2) manganese dioxide dissolution. Can be used for steps. In addition, in the (1) glass melting step, heating is performed to such an extent that a high-boiling acid remains, so that arsenic can be prevented from evaporating by drying.
(1) In the glass melting step, manganese dioxide is produced from potassium permanganate, and a first glass solution containing manganese dioxide, glass, and a high-boiling acid is produced.
The first glass solution thus obtained is subjected to a (2) manganese dioxide dissolution step.

第1のガラス溶液はそのまま(2)二酸化マンガン溶解ステップに用いてもよいが、加熱後の容器の壁面に付着した第1のガラス溶液を集める処理を行ってもよい。たとえば、第1のガラス溶液を冷却後、容器内の壁面を、フッ化水素酸、高沸点の酸等により洗浄し、洗浄後に酸が残る程度に加熱する、等の後処理を行うことも好ましい。この場合は、後処理後に得られた溶液を第1のガラス溶液とする。   The first glass solution may be used as it is in the (2) manganese dioxide dissolution step, or a process of collecting the first glass solution adhering to the wall surface of the heated container may be performed. For example, after the first glass solution is cooled, it is also preferable to perform a post-treatment such as washing the wall surface in the container with hydrofluoric acid, a high-boiling acid or the like, and heating to such an extent that the acid remains after washing. . In this case, the solution obtained after the post-treatment is used as the first glass solution.

(2)二酸化マンガン溶解ステップ
本発明における二酸化マンガン溶解ステップは、第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加え、第1のガラス溶液中の二酸化マンガンを溶解して、第2のガラス溶液を得る工程である。
第1のガラス溶液中には、二酸化マンガンの固体が存在しうる。この二酸化マンガンを溶解するために二酸化マンガンに対する還元剤を加える工程である。
(2) Manganese dioxide dissolution step In the manganese dioxide dissolution step in the present invention, a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution to dissolve the manganese dioxide in the first glass solution, and the second glass solution is dissolved. It is a process to obtain.
Manganese dioxide solids may be present in the first glass solution. In this step, a reducing agent for manganese dioxide is added to dissolve the manganese dioxide.

(2)二酸化マンガン溶解ステップにおいては、二酸化マンガンに対する還元剤を加える前に塩酸を加えることが好ましい。二酸化マンガンに対する還元剤を加える前に塩酸を加えることで、高沸点の酸の塩が生成し、該塩が溶解した安定な溶液を形成させうる。塩酸の添加量は、溶液状態で0.01〜6モル/リットル程度になる量が好ましい。   (2) In the manganese dioxide dissolving step, it is preferable to add hydrochloric acid before adding the reducing agent for manganese dioxide. By adding hydrochloric acid before adding the reducing agent for manganese dioxide, a salt of a high-boiling acid can be formed, and a stable solution in which the salt is dissolved can be formed. The amount of hydrochloric acid added is preferably such that it is about 0.01 to 6 mol / liter in solution.

(2)二酸化マンガン溶解ステップで用いる二酸化マンガンに対する還元剤としては、二酸化マンガンに対して還元剤として作用するものであって、ガラス組成成分と反応して沈殿物を生成しないものから選択することが好ましい。例えば、過酸化水素、アスコルビン酸、塩化ヒドロキシルアミン等が挙げられる。特に、酸化還元反応後に水(HO)のみを発生する還元剤である過酸化水素がより好ましい。
二酸化マンガンに対する還元剤の量は、二酸化マンガンを溶解できる量であれば特に限定されず、(1)ガラス溶解ステップで用いた過マンガン酸カリウム100質量部に対して、下限は5質量部が好ましく、上限は100質量部が好ましい。特に還元剤が過酸化水素である場合の下限は5質量部であり、上限は20質量部が好ましい。
(2) The reducing agent for manganese dioxide used in the manganese dioxide dissolving step is selected from those that act as a reducing agent for manganese dioxide and that do not react with the glass composition components to form precipitates. preferable. For example, hydrogen peroxide, ascorbic acid, hydroxylamine chloride and the like can be mentioned. In particular, hydrogen peroxide, which is a reducing agent that generates only water (H 2 O) after the oxidation-reduction reaction, is more preferable.
The amount of the reducing agent relative to manganese dioxide is not particularly limited as long as it can dissolve manganese dioxide. (1) The lower limit is preferably 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of potassium permanganate used in the glass dissolution step. The upper limit is preferably 100 parts by mass. In particular, when the reducing agent is hydrogen peroxide, the lower limit is 5 parts by mass, and the upper limit is preferably 20 parts by mass.

(2)二酸化マンガン溶解ステップの還元剤として過酸化水素を使用する場合の量は、二酸化マンガンに対して過剰量未満とすることが好ましい。過酸化水素は、(3)予備還元ステップにおけるヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤(以下、「予備還元剤」ともいう。)に対しては酸化剤として作用する。よって、過酸化水素を、過剰に添加した場合、予備還元剤の作用を阻害する可能性があるためである。(2)二酸化マンガン溶解ステップで過酸化水素を用いる場合の量は、(1)ガラス溶解ステップで用いた過マンガン酸カリウム100質量部に対して、5〜10質量部が好ましい。   (2) The amount of hydrogen peroxide used as the reducing agent in the manganese dioxide dissolution step is preferably less than the excess amount with respect to manganese dioxide. Hydrogen peroxide acts as an oxidizing agent for a reducing agent (hereinafter also referred to as “preliminary reducing agent”) that reduces arsenic (V) ions to arsenic (III) ions in the (3) preliminary reduction step. Therefore, when hydrogen peroxide is added excessively, the action of the prereducing agent may be inhibited. (2) The amount of hydrogen peroxide used in the manganese dioxide dissolution step is preferably 5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of potassium permanganate used in (1) the glass dissolution step.

(2)二酸化マンガン溶解ステップにおける二酸化マンガンの溶解は、次のように確認できる。すなわち、(1)ガラス溶解ステップにおいて、過マンガン酸カリウムのMn(VII)は酸化剤として働き、Mn2+が生成する。同時に一部褐色の二酸化マンガン(正確には水和物MnO・nHO)が生成し、二酸化マンガンは褐色の固体として沈降する。この二酸化マンガンの溶解は、第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加えると、溶液中の褐色の固体が消え、透明な溶液となることが目視で確認できる。本発明においては、該方法で確認を行うことより得られた、透明な溶液を第2のガラス溶液とするのが好ましい。
また、(2)二酸化マンガン溶解ステップで用いる還元剤が固体の場合は、還元剤をあらかじめ水溶液として加えることが、添加が簡易さ、および、上記塩酸溶液と混合し易さの点から好ましい。
(2) The dissolution of manganese dioxide in the manganese dioxide dissolution step can be confirmed as follows. That is, (1) In the glass melting step, Mn (VII) of potassium permanganate works as an oxidizing agent, and Mn 2+ is generated. At the same time, partly brown manganese dioxide (exactly hydrated MnO z · nH 2 O) is produced, and manganese dioxide precipitates as a brown solid. The dissolution of manganese dioxide can be visually confirmed when a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution, and the brown solid in the solution disappears and a transparent solution is obtained. In the present invention, it is preferable that a transparent solution obtained by performing the confirmation by this method is the second glass solution.
In addition, when the reducing agent used in the (2) manganese dioxide dissolving step is solid, it is preferable to add the reducing agent as an aqueous solution in advance from the viewpoint of easy addition and easy mixing with the hydrochloric acid solution.

(3)予備還元ステップ
(3)予備還元ステップは、上記第2のガラス溶液にヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤(以下、「予備還元剤」ともいう。)を加えて、測定用ガラス溶液を得るステップである。
(3) Prereduction step (3) In the prereduction step, a reducing agent for reducing arsenic (V) ions to arsenic (III) ions in the second glass solution (hereinafter also referred to as “preliminary reducing agent”). In addition, it is a step of obtaining a glass solution for measurement.

(3)予備還元ステップは、次ステップの工程で感度良くヒ素含有量を測定する上で重要である。(4)ヒ素量測定ステップにおける水素化物発生法においては、ヒ素をAsHとして定量する。その理由は、ヒ素(V)イオンのAsH発生効率はヒ素(III)イオンのAsH発生効率に比べて悪く、ヒ素(V)イオンとヒ素(III)イオンとが混在した状態で水素化物発生法によってヒ素を還元する場合、ヒ素(V)イオンはヒ素(III)イオンに比べて50〜80%程度の反応率である。
よって、水素化物発生法を用いたヒ素量測定ステップにおいて、ヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する(3)予備還元ステップは必須の工程である。(3)予備還元ステップでは、(4)ヒ素量測定ステップで感度良くヒ素含有量を測定するために、測定用ガラス溶液中の全ヒ素イオンは、III価としておくことが好ましい。
(3) The preliminary reduction step is important in measuring the arsenic content with high sensitivity in the next step. (4) In the hydride generation method in the arsenic amount measurement step, arsenic is quantified as AsH 3 . The reason is, AsH 3 generation efficiency of arsenic (V) ions is poor in comparison with AsH 3 generation efficiency of arsenic (III) ions, arsenic (V) ion and arsenic (III) hydride generation in a state in which the ions are mixed When arsenic is reduced by the method, arsenic (V) ions have a reaction rate of about 50 to 80% compared to arsenic (III) ions.
Therefore, in the arsenic amount measurement step using the hydride generation method, the arsenic (V) ions are reduced to arsenic (III) ions. (3) The preliminary reduction step is an essential process. In the (3) pre-reduction step, in order to measure the arsenic content with high sensitivity in the (4) arsenic content measurement step, it is preferable that all arsenic ions in the glass solution for measurement have a valence of III.

(3)予備還元ステップにおける予備還元剤としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等が好ましい。ヨウ化カリウムおよびヨウ化ナトリウムは、ヒ素(V)イオンに対して還元能があること、また水素化物発生の際、他元素(具体的には、原料中に不純物として含まれる可能性のあるCu、Ni、Fe等の遷移金属、Pt、Au、Ag等の貴金属)による干渉を抑制する効果がある。   (3) As the prereducing agent in the prereduction step, potassium iodide, sodium iodide and the like are preferable. Potassium iodide and sodium iodide are capable of reducing arsenic (V) ions, and other elements (specifically, Cu that may be contained as impurities in the raw material during hydride generation). , Transition metals such as Ni and Fe, and noble metals such as Pt, Au and Ag).

ただし、(1)ガラス溶解ステップにおいて高沸点の酸として過塩素酸を用いた場合にヨウ化カリウムを用いると、(3)予備還元ステップにおいて溶解度の低い過塩素酸カリウムが生成し、後のステップがうまく実施できないことがある。
以上のことから、高沸点の酸として過塩素酸を用いる場合の予備還元剤は、ヨウ化ナトリウムが好ましい。
However, (1) When potassium iodide is used when perchloric acid is used as the high boiling point acid in the glass melting step, (3) potassium perchlorate having low solubility is generated in the preliminary reduction step, and the subsequent step May not be implemented successfully.
From the above, sodium iodide is preferable as the prereducing agent when perchloric acid is used as the high boiling acid.

予備還元剤の量は、(1)ガラス溶解ステップで用いたガラス試料100質量部に対して20〜1000質量部が好ましい。この範囲であれば、ヒ素の還元が十分に行われ、溶液中の塩濃度が高くなることもない利点がある。予備還元剤の量は、より好ましくは、ガラス試料100質量部に対して100〜1000質量部、さらに好ましくは200〜600質量部である。
予備還元は進行に時間がかかる場合があるため、予備還元剤を加えたあと、10分間以上、好ましくは20分間以上、さらに好ましくは30分間以上の時間をおく方がよい。予備還元剤を加えたあとは、加熱してもよい。加熱は水浴上で行うのが好ましく、温度は80〜90℃程度が特に好ましい。加熱時には、撹拌を行ってもよいが、行わなくてもよい。
The amount of the prereducing agent is preferably 20 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the glass sample used in (1) the glass melting step. Within this range, there is an advantage that arsenic is sufficiently reduced and the salt concentration in the solution does not increase. The amount of the prereducing agent is more preferably 100 to 1000 parts by mass, and further preferably 200 to 600 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the glass sample.
Since the preliminary reduction may take a long time to proceed, it is better to wait for at least 10 minutes, preferably at least 20 minutes, more preferably at least 30 minutes after adding the preliminary reducing agent. After adding the pre-reducing agent, it may be heated. Heating is preferably performed in a water bath, and the temperature is particularly preferably about 80 to 90 ° C. Stirring may be performed during heating, but it may not be performed.

(4)ヒ素量測定ステップ
(4)ヒ素量測定ステップでは、水素化物発生法を用いて上記測定用ガラス溶液のヒ素含有量を測定する。
水素化物発生法としては、水素化物ICP発光分光法、水素化物原子吸光法及び水素化物ICP−MS法から選ばれるいずれかの方法を採用することが好ましい。
(4) Arsenic content measurement step (4) In the arsenic content measurement step, the arsenic content of the glass solution for measurement is measured using a hydride generation method.
As the hydride generation method, it is preferable to employ any method selected from hydride ICP emission spectroscopy, hydride atomic absorption method, and hydride ICP-MS method.

水素化物発生法によるヒ素量測定においては、通常の水素化物発生法で測定を行う場合と同様の前処理を行う。該前処理としては、測定用ガラス溶液と酸(たとえばHCl)を混合する第1段階と、発生期水素により測定用ガラス試料中のヒ素(III)イオンを還元してAsHを発生させて発生したAsHを、ICP発光分光法、原子吸光法、ICP−MS法によりにより定量する第2段階により行われるのが好ましい。また第2段階における発生期水素の生成には、NaBH(水素化ホウ素ナトリウム)を用いることが好ましい。
NaBH(水素化ホウ素ナトリウム)とHClの使用量については、通常の水素化発生法と同様の量が採用できる。
In the arsenic amount measurement by the hydride generation method, the same pretreatment as in the case of measurement by the normal hydride generation method is performed. The pretreatment includes a first stage of mixing a glass solution for measurement and an acid (for example, HCl) and generation of AsH 3 by reducing arsenic (III) ions in the glass sample for measurement with nascent hydrogen. It is preferable to carry out the second step of quantifying AsH 3 by an ICP emission spectroscopic method, an atomic absorption method, or an ICP-MS method. Moreover, it is preferable to use NaBH 4 (sodium borohydride) for generation of nascent hydrogen in the second stage.
The NaBH 4 (sodium borohydride) and the amount of HCl, the same amount as conventional hydrogenation generation method can be employed.

AsHの測定の具体的な方法は、水素化物発生法を利用した測定用ガラス溶液のヒ素量の測定として知られる方法が採用できる。例えば、JIS K 0083の排ガス中の金属分析方法、JIS K 0116の発光分光分析通則、JIS K 0232の原子吸光分析通則、JIS K 0133の高周波プラズマ質量分析通則等に準処して行うことができる。また、本発明におけるヒ素量の測定結果の妥当性は、ヒ素量が既知の標準液を加えた場合の検証用ガラス試料の測定結果と比較することにより証明できる。
本発明によれば、ヒ素含有量の測定値の上限は特に限定されず、通常は数質量%であり、下限値は0.05質量ppmである。
As a specific method for measuring AsH 3 , a method known as measurement of the amount of arsenic in a glass solution for measurement using a hydride generation method can be employed. For example, it can be carried out according to JIS K 0083 metal analysis method in exhaust gas, JIS K 0116 general rules for emission spectroscopic analysis, JIS K 0232 general rules for atomic absorption analysis, JIS K 0133 general rules for high-frequency plasma mass spectrometry, and the like. In addition, the validity of the measurement result of the arsenic amount in the present invention can be proved by comparing with the measurement result of the verification glass sample when a standard solution with a known arsenic amount is added.
According to the present invention, the upper limit of the measured value of the arsenic content is not particularly limited, and is usually several mass%, and the lower limit is 0.05 mass ppm.

(ヒ素含有量の測定工程以外の工程)
ヒ素含有量の測定工程以外の工程について説明する。
本発明の製造方法において、ガラス中のヒ素含有量を質量割合で0.1ppm以下にする方法としては、ヒ素を含有しない原料を用い、かつ、製造工程において、ヒ素が混入しないようにする方法が挙げられる。ヒ素が混入しないようにする方法としては、ヒ素を含有する成分を添加しない方法が挙げられる。
ガラスの原料は、不純物レベルのヒ素を含有することがある。そのため、事前にヒ素量を測定して、ヒ素含有量が低い、もしくは実質的に含まない原料を選択して用いることが望ましい。
例えば、ガラス母組成原料である珪砂やガラス清澄剤原料である酸化錫などにはヒ素が不純物として含まれていることがあるため、これら原料についての選択が好ましい。
本発明のガラスの製造方法は、従来のガラスの製造方法と同様に、溶解工程、清澄工程、成形工程等を含むことができ、これらの工程については特に制限はない。また、上記ヒ素含有量を測定したガラスは、つぎに所望の品質のものを選別されるのが好ましく、特にガラス中のヒ素含有量が質量割合で0.1ppm以下のガラスを選別する選別工程を含むことが好ましい。
(Processes other than the arsenic content measurement process)
Processes other than the arsenic content measurement process will be described.
In the production method of the present invention, as a method of setting the arsenic content in the glass to 0.1 ppm or less by mass ratio, there is a method of using a raw material not containing arsenic and preventing arsenic from being mixed in the production process. Can be mentioned. Examples of the method for preventing arsenic from mixing include a method in which no arsenic-containing component is added.
Glass raw materials may contain impurity levels of arsenic. Therefore, it is desirable to measure the amount of arsenic in advance and select and use a raw material having a low or substantially no arsenic content.
For example, silica sand, which is a glass mother composition raw material, tin oxide, which is a glass fining raw material, and the like may contain arsenic as an impurity, and thus these raw materials are preferably selected.
The glass production method of the present invention can include a melting step, a clarification step, a molding step, and the like, as in the conventional glass production method, and these steps are not particularly limited. In addition, the glass whose arsenic content is measured is preferably screened for a desired quality, and in particular, a screening step for screening glass having an arsenic content in the glass of 0.1 ppm or less by mass ratio. It is preferable to include.

具体的には、本発明のガラスの製造方法は、従来のガラスの製造方法と同様に、所定のガラス組成となるように原料を調製し、溶解工程、清澄工程および成形工程を実施する。
ガラス板の成形方法としてフロート法およびフュージョン法(ダウンロード法)が好ましい。特に、ガラス板の大型化に伴い、大面積のガラス板を容易に、安定して成形できるフロート法を用いることが好ましい。
さらに、本発明においては、ヒ素含有量の測定工程を実施する。該測定工程は、ガラス製造工程の最終段階で行ってもよく、ガラス製造工程の途中段階の工程で行ってもよい。すなわち、ガラス試料は、溶解工程または清澄工程における溶融ガラスや、成形工程におけるガラス板または成形後のガラス板から採取したガラスを採用できる。上記測定試料を用いて本発明におけるヒ素含有量測定を行うことにより、ガラス中のヒ素含有量が質量割合で0.1ppm以下であるガラスを製造できる。さらに、本発明においては、製造したガラスから0.1ppm以下のガラスを選別する選別工程を行うことにより、安定した品質でガラスを製造できる。
Specifically, in the glass manufacturing method of the present invention, as in the conventional glass manufacturing method, raw materials are prepared so as to have a predetermined glass composition, and a melting step, a fining step, and a forming step are performed.
As the glass plate forming method, a float method and a fusion method (download method) are preferable. In particular, it is preferable to use a float method capable of easily and stably forming a large-area glass plate as the glass plate becomes larger.
Furthermore, in the present invention, an arsenic content measurement step is performed. The measurement process may be performed at the final stage of the glass manufacturing process, or may be performed at an intermediate stage of the glass manufacturing process. That is, the glass sample can employ | adopt the glass extract | collected from the molten glass in a melting process or a refining process, the glass plate in a formation process, or the glass plate after shaping | molding. By performing the arsenic content measurement in the present invention using the measurement sample, a glass having an arsenic content in the glass of 0.1 ppm or less by mass ratio can be produced. Furthermore, in this invention, glass can be manufactured with stable quality by performing a selection process for selecting 0.1 ppm or less of glass from the manufactured glass.

(本発明におけるガラス)
本発明の製造方法で得られるガラスは、ヒ素含有量が質量割合で0.1ppm以下であり、酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを50〜75%、
Alを0.1〜24%、
を0〜12%、
MgOを0〜8%、
CaOを0〜14.5%、
SrOを0〜24%、
BaOを0〜13.5%、
NaOを0〜20%、
Oを0〜20%、
ZrOを0〜5%、
MgO+CaO+SrO+BaOを5〜29.5%、および
NaO+KOを0〜20%、を含有する組成であることを特徴とする。
(Glass in the present invention)
The glass obtained by the production method of the present invention has an arsenic content of 0.1 ppm or less in terms of mass percentage, and is expressed in mass percentage on an oxide basis.
The SiO 2 50~75%,
Al 2 O 3 0.1-24%,
0 to 12% of B 2 O 3
0-8% MgO
0 to 14.5% of CaO,
0-24% SrO,
BaO 0-13.5%,
Na 2 O 0-20%
K 2 O 0 to 20%
ZrO 2 from 0 to 5%,
It is characterized by having a composition containing 5 to 29.5% of MgO + CaO + SrO + BaO and 0 to 20% of Na 2 O + K 2 O.

本発明の製造方法で得られるガラスは、上記組成のガラスである。該ガラスの組成は、酸化物基準の含有量(単位は質量百分率)で表現できる。   The glass obtained by the production method of the present invention is a glass having the above composition. The composition of the glass can be expressed by an oxide-based content (unit: mass percentage).

SiOは、ガラスの骨格を形成する成分で、50質量%(以下、単に「%」と記載する)未満ではガラスの耐熱性および化学的耐久性が低下し、平均熱膨張係数が増大するおそれがある。SiOの含有量は好ましくは56%以上であり、より好ましくは58%以上である。SiOが75%超になると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪化する問題が生じるおそれがある。好ましくは73%以下、さらには70%以下、より好ましくは66%以下、さらに好ましくは61.5%以下である。 SiO 2 is a component that forms a glass skeleton, and if it is less than 50% by mass (hereinafter simply referred to as “%”), the heat resistance and chemical durability of the glass are lowered, and the average thermal expansion coefficient may be increased. There is. The content of SiO 2 is preferably 56% or more, more preferably 58% or more. If SiO 2 exceeds 75%, the high-temperature viscosity of the glass increases, which may cause a problem that the solubility deteriorates. Preferably it is 73% or less, Furthermore, it is 70% or less, More preferably, it is 66% or less, More preferably, it is 61.5% or less.

Alは、ガラス転移点温度を上げ、耐候性(ソラリゼーション)、耐熱性および化学的耐久性を向上させる。Alの含有量が0.1%未満では、ガラス転移点温度が低下するおそれがある。また平均熱膨張係数が増大するおそれがある。好ましくは10%以上、より好ましくは10.5%以上であり、さらに好ましくは14%以上、特に好ましくは15%以上である。Alが24%超になると、ガラスの高温粘度が上昇し、溶解性が悪くなるおそれがある。また、失透温度が上昇し、成形性が悪くなるおそれがある。好ましくは22.5%以下、より好ましくは22%以下、さらに好ましくは18%以下である。 Al 2 O 3 raises the glass transition temperature and improves weather resistance (solarization), heat resistance and chemical durability. If the content of Al 2 O 3 is less than 0.1%, the glass transition temperature may be lowered. Moreover, there exists a possibility that an average thermal expansion coefficient may increase. Preferably it is 10% or more, More preferably, it is 10.5% or more, More preferably, it is 14% or more, Most preferably, it is 15% or more. If Al 2 O 3 exceeds 24%, the high-temperature viscosity of the glass increases, and the solubility may deteriorate. Further, the devitrification temperature is increased, and the moldability may be deteriorated. Preferably it is 22.5% or less, More preferably, it is 22% or less, More preferably, it is 18% or less.

は、溶解性を向上させる等のために12%まで含有してもよい。含有量が12%を超えると、ガラス転移点温度が下がる、または平均熱膨張係数が小さくなる傾向があり、また失透温度が上昇して失透しやすくなり、ガラス板成形が難しくなる。好ましくは含有量が10%以下である。歪点を上げるためにはより好ましくは3%以下、特に好ましくは2%以下である。
の含有量は、溶解性向上の点から5%以上が好ましく、7%以上であることがより好ましい。
B 2 O 3 may be contained up to 12% in order to improve the solubility. If the content exceeds 12%, the glass transition temperature tends to decrease or the average thermal expansion coefficient tends to decrease, and the devitrification temperature rises and the glass tends to devitrify, making glass plate formation difficult. The content is preferably 10% or less. In order to increase the strain point, it is more preferably 3% or less, particularly preferably 2% or less.
The content of B 2 O 3 is preferably 5% or more, more preferably 7% or more from the viewpoint of improving solubility.

MgOは、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果がある。ガラスの高温粘度が上昇して、溶解性または化学耐久性の悪化や密度の増大を防ぐためには、MgOの含有量は2%以上であることが好ましい。MgOの含有量は、8%超では失透温度が上昇するおそれがあることから、好ましくは6.5%以下、より好ましくは5%以下である。   MgO has the effect of lowering the viscosity at the time of melting the glass and promoting the melting. In order to prevent the high temperature viscosity of the glass from increasing, thereby preventing deterioration of solubility or chemical durability and increase in density, the content of MgO is preferably 2% or more. If the content of MgO exceeds 8%, the devitrification temperature may increase, so it is preferably 6.5% or less, more preferably 5% or less.

CaOは、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果がある。CaOの含有量は、ガラスの平均熱膨張係数が増大するおそれがあるため、14.5%以下が好ましく、9%以下が特に好ましい。   CaO has the effect of lowering the viscosity at the time of melting the glass and promoting the melting. The content of CaO is preferably 14.5% or less, particularly preferably 9% or less, because the average thermal expansion coefficient of the glass may increase.

SrOは、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有させる効果がある。SrOの含有量は、3%以上が好ましいが、24%超含有すると、ガラスの平均熱膨張係数が増大、密度が増大するおそれがある。SrOの含有量は、15.5%以下が好ましく、12.5%以下であることがより好ましい。   SrO has the effect of lowering the viscosity at the time of melting the glass and promoting the melting, so that it is contained. The SrO content is preferably 3% or more, but if it exceeds 24%, the average thermal expansion coefficient of the glass may increase and the density may increase. The SrO content is preferably 15.5% or less, and more preferably 12.5% or less.

BaOは、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果がある。BaOの含有量が13.5%超であると、ガラスの平均熱膨張係数が増大し、また密度が増大するおそれがある。BaOの含有量は2.5%以下であることが環境負荷の点から好ましく、2%以下がより好ましい。   BaO has an effect of reducing the viscosity at the time of melting the glass and promoting the melting. If the content of BaO is more than 13.5%, the average thermal expansion coefficient of the glass may increase and the density may increase. The BaO content is preferably 2.5% or less from the viewpoint of environmental load, and more preferably 2% or less.

NaOは、ガラス溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすくする効果がある。NaOの含有量は、20%以下である。NaO含有量は20%を超えると、平均熱膨張係数が大きくなり、ガラス転移点温度が低下する傾向がある。または化学的耐久性が劣化する傾向がある。
NaOは、本発明におけるガラスを太陽電池用ガラス基板、特にCIGS太陽電池用ガラス基板に用いる場合は、含有することが好ましい。NaOはCIGSの太陽電池の発電効率向上に寄与するための成分であり、特にNaがガラス基板上に構成されたCIGS層中に拡散することで、発電効率を高める効果がある。
Na 2 O has the effect of lowering the viscosity at the glass melting temperature and facilitating melting. The content of Na 2 O is 20% or less. When the Na 2 O content exceeds 20%, the average thermal expansion coefficient tends to increase and the glass transition temperature tends to decrease. Or chemical durability tends to deteriorate.
Na 2 O is preferably contained when the glass according to the present invention is used for a glass substrate for a solar cell, particularly a glass substrate for a CIGS solar cell. Na 2 O is a component that contributes to improving the power generation efficiency of the CIGS solar cell, and in particular, Na diffuses into the CIGS layer formed on the glass substrate, thereby improving the power generation efficiency.

Oは、ガラス溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすくする効果がある。KOの含有量は20%以下である。20%超では、ガラス転移点温度が低下し、平均熱膨張係数が大きくなるおそれがある。または、密度が増大するおそれがある。
本発明におけるガラスを太陽電池用ガラス基板、特にCIGS太陽電池用ガラス基板に用いる場合は、KOはNaOと同様の効果を発揮する。ガラス中のKOの含有量が少ないと、ガラス基板上のCIGS層へのK拡散が不十分となり、発電効率も不十分となるおそれがある。
K 2 O has the effect of lowering the viscosity at the glass melting temperature and facilitating melting. The content of K 2 O is 20% or less. If it exceeds 20%, the glass transition temperature may be lowered, and the average thermal expansion coefficient may be increased. Or, the density may increase.
When using glass as the glass substrate for a solar cell, especially a glass substrate for a CIGS solar cell of the present invention, K 2 O exhibits the same effect as Na 2 O. If the content of K 2 O in the glass is small, K diffusion to the CIGS layer on the glass substrate may be insufficient, and power generation efficiency may be insufficient.

NaOおよびKOの合量はガラス転移点温度が下がりすぎるおそれがあるため、20%以下が好ましい。
ZrOは、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があり、また耐熱性および化学的耐久性を向上させる成分である。ZrOの含有量が、5%超であると、失透温度が上昇して失透しやすくなりガラス板成形が難しくなり、また、密度が増大するおそれがある。
The total amount of Na 2 O and K 2 O is preferably 20% or less because the glass transition temperature may be too low.
ZrO 2 is a component that lowers the viscosity at the time of melting of glass, has an effect of promoting melting, and improves heat resistance and chemical durability. If the content of ZrO 2 is more than 5%, the devitrification temperature rises and the glass tends to be devitrified, making it difficult to form a glass plate, and the density may increase.

MgO、CaO、SrOおよびBaOは、ガラスの耐候性を向上させるため、合量で5%以上とする。該合量は、8%以上、さらには9%以上が好ましく、10%以上がより好ましく、16%以上がさらに好ましい。しかし、合量が29.5%超になると、ガラスの50〜350℃における平均熱膨張係数およびコンパクション(C)増大するおそれがあるため、26%以下が好ましい。   MgO, CaO, SrO and BaO are combined in an amount of 5% or more in order to improve the weather resistance of the glass. The total amount is 8% or more, more preferably 9% or more, more preferably 10% or more, and further preferably 16% or more. However, if the total amount exceeds 29.5%, the average thermal expansion coefficient and compaction (C) of the glass at 50 to 350 ° C. may increase, so 26% or less is preferable.

本発明で得られるガラスとして具体的には、酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを50〜73%、
Alを10.5〜24%、
を0〜12%、
MgOを0〜8%、
CaOを0〜14.5%、
SrOを0〜24%、
BaOを0〜13.5%、
MgO+CaO+SrO+BaOを8〜29.5%、および、
ZrOを0〜5%、含有する組成である無アルカリガラスが好ましい。
Specifically, as the glass obtained in the present invention, in mass percentage display based on oxide,
The SiO 2 50~73%,
10.5-24% Al 2 O 3
0 to 12% of B 2 O 3
0-8% MgO
0 to 14.5% of CaO,
0-24% SrO,
BaO 0-13.5%,
8-29.5% MgO + CaO + SrO + BaO, and
An alkali-free glass having a composition containing 0 to 5% of ZrO 2 is preferable.

さらに、歪点が高く、溶解性、耐酸性、耐バッファードフッ酸性、低膨張性を考慮する場合は、本発明で得られるガラスは、酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを58〜66%、
Alを15〜22%、
を5〜12%、
MgOを0〜8%、
CaOを0〜9%、
SrOを3〜12.5%、
BaOを0〜2%、および、
MgO+CaO+SrO+BaOを9〜18%、
含有する組成である無アルカリガラスが特に好ましい。
Furthermore, when considering the high strain point, solubility, acid resistance, buffered hydrofluoric acid, and low expansibility, the glass obtained in the present invention is expressed in mass percentage on an oxide basis.
SiO 2 58-66%,
Al 2 O 3 15-22%,
5-12% B 2 O 3
0-8% MgO
0-9% CaO,
3 to 12.5% of SrO,
BaO 0-2%, and
9-18% of MgO + CaO + SrO + BaO,
An alkali-free glass having a composition to be contained is particularly preferable.

さらに、低膨張性の条件を緩和し、特に溶解性を考慮する場合は、本発明で得られるガラスは、酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを50〜61.5%、
Alを10.5〜18%、
を7〜10%、
MgOを2〜5%、
CaOを0〜14.5%、
SrOを0〜24%、
BaOを0〜13.5%、および、
MgO+CaO+SrO+BaOを16〜29.5%、
を含有する組成である無アルカリガラスがとりわけ好ましい。
Furthermore, when relaxing the low-expansion condition and considering solubility in particular, the glass obtained in the present invention is expressed in mass percentage on an oxide basis,
The SiO 2 50~61.5%,
Al 2 O 3 10.5-18%,
7-10% of B 2 O 3
2-5% MgO,
0 to 14.5% of CaO,
0-24% SrO,
BaO 0-13.5%, and
MgO + CaO + SrO + BaO is 16 to 29.5%,
Alkali-free glass having a composition containing is particularly preferred.

さらに、耐バッファードフッ酸性の条件を緩和し、特に高歪点を考慮する場合は、本発明で得られるガラスは、酸化物基準の質量百分率表示で、
SiOを56〜70%、
Alを14.5〜22.5%、
を0〜3%、
MgOを0〜6.5%、
CaOを0〜9%、
SrOを0〜15.5%、
BaOを0〜2.5%、および、
MgO+CaO+SrO+BaO:10〜26%、
を含有する組成である無アルカリガラスがさらに、好ましい。
所望の組成のガラスを得るためには適宜原料の成分量を調整すればよい。
Furthermore, when the conditions of buffered hydrofluoric acid resistance are relaxed and the high strain point is particularly taken into consideration, the glass obtained in the present invention is expressed in terms of mass percentage on an oxide basis,
The SiO 2 56~70%,
Al 2 O 3 of 14.5 to 22.5%,
0 to 3% of B 2 O 3
0 to 6.5% MgO,
0-9% CaO,
0 to 15.5% of SrO,
0 to 2.5% BaO, and
MgO + CaO + SrO + BaO: 10 to 26%,
An alkali-free glass having a composition containing is further preferred.
What is necessary is just to adjust the component amount of a raw material suitably in order to obtain glass of a desired composition.

本発明で得られるガラスには、上記以外の成分が含まれていてもよい。他の成分としては、LiO;F、Cl等のハロゲン元素;Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の遷移金属;Ce、La等の希土類元素;およびIn、Sn等の金属元素等が挙げられる。
上記の他の成分のガラス中の含有量は、微量が好ましく、特には1質量%以下が好ましい。
本発明におけるヒ素含有量の測定方法は、特にガラス試料としてSiOを主体とする特定の組成を有するガラス試料に適用することで試料を容易に溶解させさることができ、かつ、定量下限が低い水素化物発生法を組み合わせることで、正確なヒ素量の定量ができる。該方法は、汎用のガラスに適用できる、産業上有用な方法である。
The glass obtained by the present invention may contain components other than those described above. Other components include Li 2 O; halogen elements such as F and Cl; transition metals such as Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu and Zn; rare earth elements such as Ce and La; and In And metal elements such as Sn.
The content of the other components in the glass is preferably a trace amount, particularly preferably 1% by mass or less.
The method for measuring the arsenic content in the present invention can be dissolved easily by applying to a glass sample having a specific composition mainly composed of SiO as a glass sample, and has a low quantitation lower limit. By combining the compound generation method, the amount of arsenic can be accurately quantified. This method is an industrially useful method applicable to general-purpose glass.

<本発明のヒ素含有量の測定方法>
本発明のヒ素含有量の測定方法は、本発明のガラスの製造方法における上記ヒ素含有量の測定工程と同様の方法で行うことができる。
ガラス試料については、本発明のガラスの製造方法で得られる特定の組成を有するガラスであることが好ましい。
<Method for Measuring Arsenic Content of the Present Invention>
The method for measuring the arsenic content of the present invention can be carried out by the same method as the above-mentioned arsenic content measuring step in the method for producing glass of the present invention.
About a glass sample, it is preferable that it is glass which has a specific composition obtained with the manufacturing method of the glass of this invention.

以下、実施例および比較例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention still in detail, the present invention is not limited to these.

<実施例1>
表1に示すガラス組成となるように原料を調整し、溶解工程、清澄工程および成形工程(フロート法)を実施して、ガラスAを得た。ガラスAの組成を蛍光X線法により測定した結果を表1に示す。表1の数値は、酸化物基準(単位:%)の質量百分率で表示した値である。
<Example 1>
The raw material was adjusted so that it might become the glass composition shown in Table 1, and the melting process, the clarification process, and the shaping | molding process (float method) were implemented, and the glass A was obtained. Table 1 shows the results of measuring the composition of glass A by the fluorescent X-ray method. The numerical values in Table 1 are values expressed as mass percentages based on oxides (unit:%).

Figure 2014034491
Figure 2014034491

得られたガラス板Aを、アルミナ乳鉢を用いて粗粉砕した後、メノウ乳鉢を用いて100μm以下となるまで粉砕してガラス試料を得た。このガラス試料0.5gに、過マンガン酸カリウム0.003g、過塩素酸5mL(約8.4g)、フッ化水素酸10mL(約11.5g)をPTFE製容器に添加し、200℃に加熱すると白煙が発生するのが目視で確認できた。白煙を発生させたまま加熱を続けた。全液量が1/2以下になり、過塩素酸量が約2mLになるまで加熱を続けた結果、ガラスが溶解して、二酸化マンガンを含む第1のガラス溶液を得た。   The obtained glass plate A was coarsely pulverized using an alumina mortar and then pulverized using an agate mortar to 100 μm or less to obtain a glass sample. To 0.5 g of this glass sample, 0.003 g of potassium permanganate, 5 mL of perchloric acid (about 8.4 g), and 10 mL of hydrofluoric acid (about 11.5 g) are added to a PTFE container and heated to 200 ° C. Then, it was visually confirmed that white smoke was generated. Heating was continued while generating white smoke. As a result of continuing the heating until the total liquid amount became 1/2 or less and the perchloric acid amount became about 2 mL, the glass was dissolved to obtain a first glass solution containing manganese dioxide.

次いで第1のガラス溶液に塩酸(濃塩酸を同体積の純水で2倍に希釈したもの)10mL(約11g)を加え塩酸溶液とした後に、過酸化水素水0.015gを加え、第2のガラス溶液を得た。
得られた第2のガラス溶液にヨウ化ナトリウム2gを加え、80〜90℃の水浴で加熱し30分間静置し、測定用ガラス溶液を得た。
Next, 10 mL (about 11 g) of hydrochloric acid (concentrated hydrochloric acid diluted twice with the same volume of pure water) was added to the first glass solution to form a hydrochloric acid solution, and then 0.015 g of hydrogen peroxide solution was added to the second glass solution. A glass solution was obtained.
2 g of sodium iodide was added to the obtained second glass solution, heated in a water bath at 80 to 90 ° C., and allowed to stand for 30 minutes to obtain a glass solution for measurement.

水素化物発生装置(エスアイアイナノテクノロジー(株)製の製品名HTG−1200)を用い、第1段階において測定用ガラス溶液と1mol/LのHClを混合した。つぎに第2段階において水素化ホウ素ナトリウム10g/Lを混合して発生期水素を生成させ、ヒ素を還元してAsHを発生させることで、ヒ素含有量をICP発光分光装置(エスアイアイナノテクノロジー(株)製の製品名SPS5520)を用いて測定した。その結果、ヒ素含有量は0.1μg/g(wtppm)以下であった。 Using a hydride generator (product name HTG-1200, manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd.), the glass solution for measurement and 1 mol / L HCl were mixed in the first stage. Next, in the second stage, sodium borohydride (10 g / L) is mixed to generate nascent hydrogen, and arsenic is reduced to generate AsH 3 , whereby the arsenic content is determined by ICP emission spectroscopy (SII Nanotechnology). It measured using the product name SPS5520 by Corporation | KK. As a result, the arsenic content was 0.1 μg / g (wtppm) or less.

つぎに、上記ガラス試料1gに対してヒ素量が1μgとなるようにヒ素の標準液を加えた検証用ガラス試料を作製し、同様にヒ素含有量値を定量した。(該定量値から前記ヒ素含有量値を除いた値)/(添加したヒ素量)=添加回収率、を求めた結果、105%であった。この結果から、前記のヒ素含有量の値が妥当であることがわかった。   Next, a verification glass sample was prepared by adding an arsenic standard solution so that the amount of arsenic was 1 μg with respect to 1 g of the glass sample, and the arsenic content value was similarly determined. As a result of obtaining (a value obtained by removing the arsenic content value from the quantitative value) / (amount of arsenic added) = addition recovery rate, it was 105%. From this result, it was found that the value of the arsenic content is appropriate.

<実施例2>
表2に示すガラス組成となるように原料を調整し、溶解工程、清澄工程および成形工程を実施して、ガラスBを得た。母組成について蛍光X線法により測定した。表2の数値は、酸化物基準の質量百分率(単位:%)で表示した値である。
<Example 2>
The raw material was adjusted so that it might become the glass composition shown in Table 2, and the melting process, the clarification process, and the shaping | molding process were implemented, and the glass B was obtained. The mother composition was measured by a fluorescent X-ray method. The numerical values in Table 2 are values expressed in terms of oxide-based mass percentage (unit:%).

Figure 2014034491
Figure 2014034491

実施例1と同様に、ガラス中のヒ素含有量を定量した結果、ヒ素含有量は0.38wtppmであった。実施例1と同様に検証用ガラス試料を作製し添加回収率を測定した結果、105%であった。この結果から、ヒ素含有量の値が妥当であることがわかった。   As in Example 1, the arsenic content in the glass was quantified. As a result, the arsenic content was 0.38 wtppm. As a result of producing a verification glass sample and measuring the addition recovery rate in the same manner as in Example 1, it was 105%. From this result, it was found that the value of arsenic content is reasonable.

<比較例1>
ガラス溶解ステップにおいて、過塩素酸を用いないで加熱したこと以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定した。その結果、ガラス溶解ステップで難溶性の塩が生成したため測定不可であった。
<Comparative Example 1>
In the glass melting step, the arsenic content in the glass was measured in the same manner as in Example 2 except that heating was performed without using perchloric acid. As a result, it was impossible to measure because a slightly soluble salt was produced in the glass melting step.

<比較例2>
ガラス溶解ステップにおいて、過マンガン酸カリウムを用いないで加熱すること以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定した。その結果、ヒ素含有量は0.26wtppmであった。実施例1と同様に検証用ガラス試料を作製し添加回収率を調べたところ65%であったことから、ヒ素含有量の値は妥当でないことがわかった。原因は、ガラス溶解時にヒ素(III)が揮散したためと考えられる。
<Comparative example 2>
In the glass melting step, the arsenic content in the glass was measured in the same manner as in Example 2 except that heating was performed without using potassium permanganate. As a result, the arsenic content was 0.26 wtppm. When a glass sample for verification was prepared and the recovery rate of addition was examined in the same manner as in Example 1, it was found to be 65%, indicating that the value of arsenic content was not valid. The cause is considered to be that arsenic (III) was volatilized during glass melting.

<比較例3>
ガラス溶解ステップにおいて、フッ化水素酸を用いないで加熱した以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定しようとしたが、ガラス試料が溶解しなかったため分析ができなかった。
<Comparative Example 3>
In the glass melting step, an attempt was made to measure the arsenic content in the glass in the same manner as in Example 2 except that heating was performed without using hydrofluoric acid, but analysis was not possible because the glass sample did not dissolve.

<参考例>
ガラス溶解ステップにおいて、PTFE製容器の代わりにPt製容器を用いて加熱した以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定した。その結果、ヒ素含有量は0.1wtppm以下であった。実施例1と同様に検証用ガラス試料を作製し添加回収率を測定した結果、0%であった。その原因は、測定用ガラス溶液にPtが微量に溶解し、水素化物発生段階において水素化物発生を干渉したと考えられる。
<Reference example>
In the glass melting step, the arsenic content in the glass was measured in the same manner as in Example 2 except that heating was performed using a Pt container instead of the PTFE container. As a result, the arsenic content was 0.1 wtppm or less. As a result of producing a verification glass sample and measuring the addition recovery rate in the same manner as in Example 1, it was 0%. The cause is considered to be that Pt was dissolved in a trace amount in the glass solution for measurement and interfered with hydride generation in the hydride generation stage.

<比較例4>
ガラス溶解ステップにおいて、高沸点の酸としての過塩素酸がなくなるまで加熱した以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定した。その結果、ヒ素含有量は0.25wtppmであった。実施例1と同様に検証用ガラス試料を作製し添加回収率を測定した結果、60%であり、ヒ素含有量が妥当でないことがわかった。原因は、ガラス試料の一部が乾固し、ヒ素が揮散したと思われる。
<Comparative Example 4>
In the glass melting step, the arsenic content in the glass was measured in the same manner as in Example 2 except that heating was performed until perchloric acid as a high-boiling point acid disappeared. As a result, the arsenic content was 0.25 wtppm. As a result of producing a verification glass sample and measuring the addition recovery rate in the same manner as in Example 1, it was found to be 60% and the arsenic content was not appropriate. The cause seems to be that part of the glass sample was dried and arsenic was volatilized.

<比較例5>
二酸化マンガン溶解ステップを行わずに、第1のガラス溶液を予備還元ステップに用いた以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定した。その結果、ヒ素含有量は0.3wtppmであり、実施例2とは異なる値になった。ヒ素の一部が二酸化マンガンに取り込まれたためと、考えられる。
<Comparative Example 5>
The arsenic content in the glass was measured in the same manner as in Example 2 except that the first glass solution was used in the preliminary reduction step without performing the manganese dioxide dissolution step. As a result, the arsenic content was 0.3 wtppm, which was a value different from Example 2. This is probably because part of arsenic was taken up by manganese dioxide.

<比較例6>
予備還元ステップを行わずに第2のガラス溶液をそのまま水素化物発生法を用いてヒ素含有量を測定した以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定した。その結果、ヒ素含有量は0.12wtppmであった。さらに、添加回収率は30%であった。原因は、V価のヒ素イオンは水素化物を形成しにくいため、ヒ素含有量測定の感度が低下したと考えられる。
<Comparative Example 6>
The arsenic content in the glass was measured in the same manner as in Example 2 except that the arsenic content of the second glass solution was directly measured using the hydride generation method without performing the preliminary reduction step. As a result, the arsenic content was 0.12 wtppm. Furthermore, the addition recovery rate was 30%. The cause is considered to be that the sensitivity of the arsenic content measurement is lowered because V-valent arsenic ions hardly form hydrides.

<比較例7>
ヒ素量測定ステップにおいて、水素化物発生法でなくJIS R 3101に準じた吸光光度法を用いて測定用ガラス溶液のヒ素含有量を測定した以外は実施例2と同様にしてガラス中のヒ素含有量を測定した。その結果、感度が悪いため測定できなかった。
<Comparative Example 7>
Arsenic content in the glass in the same manner as in Example 2 except that in the arsenic content measurement step, the arsenic content of the glass solution for measurement was measured using an absorptiometric method according to JIS R 3101 instead of the hydride generation method. Was measured. As a result, the measurement was not possible due to poor sensitivity.

上記結果から、本発明のガラスの製造方法におけるヒ素含有量を側定する測定工程およびガラス中のヒ素含有量の測定方法は、ガラス試料において、特定の測定工程を採用した結果、感度良くヒ素含有量を測定できることがわかる。また、本発明における測定工程を経てガラスを製造することにより、ヒ素量が特定の範囲にある、有用な組成のガラスを製造できる。   From the above results, the measurement process for determining the arsenic content in the method for producing the glass of the present invention and the measurement method for the arsenic content in the glass adopted a specific measurement process in the glass sample. It can be seen that the quantity can be measured. Moreover, the glass of a useful composition which has the amount of arsenic in a specific range can be manufactured by manufacturing glass through the measurement process in this invention.

本発明によれば、ガラス中のヒ素含有量を感度良く測定できる。またこの測定方法によりガラス中のヒ素含有量が微量となるように管理されたガラスの製造方法が提供できる。   According to the present invention, the arsenic content in glass can be measured with high sensitivity. Moreover, the manufacturing method of the glass managed so that arsenic content in glass might become a trace amount by this measuring method can be provided.

Claims (16)

ガラス中のヒ素含有量を測定する測定工程を含み、ガラス中のヒ素含有量が質量割合で0.1ppm以下に管理されたガラスを製造する方法であって、
前記測定工程が下記(1)〜(4)のステップを含み、
(1)前記ガラスをガラス試料として準備し、該ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とを、前記高沸点の酸が残る程度に加熱してガラスを溶解することにより、二酸化マンガンを含む第1のガラス溶液を得るガラス溶解ステップ;
(2)前記第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加え、第1のガラス溶液中の二酸化マンガンを溶解して、第2のガラス溶液を得る二酸化マンガン溶解ステップ;
(3)前記第2のガラス溶液にヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤を加えて、測定用ガラス溶液を得る予備還元ステップ;
(4)水素化物発生法を用いて前記測定用ガラス溶液のヒ素含有量を測定するヒ素量測定ステップ;
かつ、酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを50〜75%、Alを0.1〜24%、Bを0〜12%、MgOを0〜8%、CaOを0〜14.5%、SrOを0〜24%、BaOを0〜13.5%、NaOを0〜20%、KOを0〜20%、ZrOを0〜5%、MgO+CaO+SrO+BaOを5〜29.5%、および、NaO+KOを0〜20%、を含有するガラスの製造方法。
A method for producing a glass comprising a measurement step of measuring an arsenic content in a glass, wherein the arsenic content in the glass is controlled to 0.1 ppm or less by mass,
The measurement process includes the following steps (1) to (4):
(1) Preparing the glass as a glass sample, and melting the glass by heating the glass sample, a high boiling acid, potassium permanganate, and hydrofluoric acid to such an extent that the high boiling acid remains. A glass melting step to obtain a first glass solution comprising manganese dioxide;
(2) A manganese dioxide dissolving step in which a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution to dissolve the manganese dioxide in the first glass solution to obtain a second glass solution;
(3) A pre-reduction step of adding a reducing agent that reduces arsenic (V) ions to arsenic (III) ions to the second glass solution to obtain a glass solution for measurement;
(4) Arsenic content measurement step of measuring the arsenic content of the glass solution for measurement using a hydride generation method;
And, in terms of oxide based mass percentage, SiO 2 is 50 to 75%, Al 2 O 3 is 0.1 to 24%, B 2 O 3 is 0 to 12%, MgO is 0 to 8%, CaO is 0 to 14.5%, the SrO 0-24% and BaO 0-13.5% 0 to 20% of Na 2 O, 0 to 20% of K 2 O, the ZrO 2 0~5%, MgO + CaO + SrO + BaO Of 5 to 29.5% and Na 2 O + K 2 O containing 0 to 20%.
前記ガラス溶解ステップにおいて、ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とをフッ素樹脂容器又はセラミックス容器に添加して加熱する請求項1に記載のガラスの製造方法。   The glass manufacturing method according to claim 1, wherein in the glass melting step, a glass sample, a high-boiling acid, potassium permanganate, and hydrofluoric acid are added to a fluororesin container or a ceramic container and heated. 前記(1)のガラス溶解ステップにおける高沸点の酸が、過塩素酸及び硫酸から選ばれる少なくとも1種である請求項1又は2に記載のガラスの製造方法。   The method for producing glass according to claim 1 or 2, wherein the high-boiling acid in the glass melting step (1) is at least one selected from perchloric acid and sulfuric acid. 前記(2)の二酸化マンガン溶解ステップにおける二酸化マンガンに対する還元剤が、過酸化水素、アスコルビン酸及び塩化ヒドロキシルアミンから選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。   The reducing agent for manganese dioxide in the manganese dioxide dissolving step (2) is at least one selected from hydrogen peroxide, ascorbic acid and hydroxylamine chloride. Production method. 前記(3)の予備還元ステップにおけるヒ素(V)に対する還元剤が、ヨウ化カリウム及びヨウ化ナトリウムから選ばれる少なくとも1種である請求項1〜4のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。   The method for producing glass according to any one of claims 1 to 4, wherein the reducing agent for arsenic (V) in the preliminary reduction step (3) is at least one selected from potassium iodide and sodium iodide. . 前記(4)のヒ素量測定ステップにおける水素化物発生法が、水素化物発生ICP発光分光法、水素化物原子吸光法及び水素化物ICP−MS法から選ばれるいずれかの方法である請求項1〜5のいずれかに記載のガラスの製造方法。   The hydride generation method in the arsenic content measurement step of (4) is any method selected from hydride generation ICP emission spectroscopy, hydride atomic absorption method, and hydride ICP-MS method. The manufacturing method of the glass in any one of. 前記ガラスが、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを50〜73%、Alを10.5〜24%、Bを0〜12%、MgOを0〜8%、CaOを0〜14.5%、SrOを0〜24%、BaOを0〜13.5%、MgO+CaO+SrO+BaOを8〜29.5%、および、ZrOを0〜5%、を含有する無アルカリガラスである請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。 The glass contains, by mass percentage based on the following oxides, the SiO 2 fifty to seventy-three% of Al 2 O 3 10.5~24%, B 2 O 3 0 to 12% of MgO 0 to 8% Alkaline containing 0-14.5% CaO, 0-24% SrO, 0-13.5% BaO, 8-29.5% MgO + CaO + SrO + BaO, and 0-5% ZrO 2 It is glass, The manufacturing method of the glass as described in any one of Claims 1-6. 前記ガラスが、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを58〜66%、Alを15〜22%、Bを5〜12%、MgOを0〜8%、CaOを0〜9%、SrOを3〜12.5%、BaOを0〜2%、および、MgO+CaO+SrO+BaOを9〜18%、を含有する無アルカリガラスである請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。 The glass contains, by mass percentage based on the following oxides, the SiO 2 58 to 66% of Al 2 O 3 15~22%, B 2 O 3 5-12% 0-8% a MgO, CaO 7 to 9%, SrO 3 to 12.5%, BaO 0 to 2%, and MgO + CaO + SrO + BaO 9 to 18%. The manufacturing method of the glass of description. 前記ガラスが、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを50〜61.5%、Alを10.5〜18%、Bを7〜10%、MgOを2〜5%、CaOを0〜14.5%、SrOを0〜24%、BaOを0〜13.5%、および、MgO+CaO+SrO+BaOを16〜29.5%、を含有する無アルカリガラスである請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。 2 wherein the glass contains, by mass percentage based on the following oxides, the SiO 2 50-61.5% of Al 2 O 3 10.5~18%, B 2 O 3 7-10% of MgO 2. An alkali-free glass containing 5%, 0 to 14.5% of CaO, 0 to 24% of SrO, 0 to 13.5% of BaO, and 16 to 29.5% of MgO + CaO + SrO + BaO. The manufacturing method of the glass as described in any one of -6. 前記ガラスが、下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiOを56〜70%、Alを14.5〜22.5%、Bを0〜3%、MgOを0〜6.5%、CaOを0〜9%、SrOを0〜15.5%、BaOを0〜2.5%、および、MgO+CaO+SrO+BaO:10〜26%、を含有する無アルカリガラスである請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラスの製造方法。 The glass contains, by mass percentage based on the following oxides, the SiO 2 56 to 70% of Al 2 O 3 14.5~22.5%, B 2 O 3 0-3% the MgO 0 to 2. An alkali-free glass containing 6.5%, CaO 0 to 9%, SrO 0 to 15.5%, BaO 0 to 2.5%, and MgO + CaO + SrO + BaO: 10 to 26%. The manufacturing method of the glass as described in any one of -6. 下記(1)〜(4)のステップを含むガラス中のヒ素含有量の測定方法。
(1)前記ガラスをガラス試料として準備し、該ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とを、前記高沸点の酸が残る程度に加熱してガラスを溶解することにより、二酸化マンガンを含む第1のガラス溶液を得るガラス溶解ステップ;
(2)前記第1のガラス溶液に二酸化マンガンに対する還元剤を加え、第1のガラス溶液中の二酸化マンガンを溶解して、第2のガラス溶液を得る二酸化マンガン溶解ステップ;
(3)前記第2のガラス溶液にヒ素(V)イオンをヒ素(III)イオンに還元する還元剤を加えて、測定用ガラス溶液を得る予備還元ステップ;
(4)水素化物発生法を用いて前記測定用ガラス溶液のヒ素含有量を測定するヒ素量測定ステップ。
The measuring method of arsenic content in glass including the step of following (1)-(4).
(1) Preparing the glass as a glass sample, and melting the glass by heating the glass sample, a high boiling acid, potassium permanganate, and hydrofluoric acid to such an extent that the high boiling acid remains. A glass melting step to obtain a first glass solution comprising manganese dioxide;
(2) A manganese dioxide dissolving step in which a reducing agent for manganese dioxide is added to the first glass solution to dissolve the manganese dioxide in the first glass solution to obtain a second glass solution;
(3) A pre-reduction step of adding a reducing agent that reduces arsenic (V) ions to arsenic (III) ions to the second glass solution to obtain a glass solution for measurement;
(4) An arsenic content measurement step for measuring the arsenic content of the measurement glass solution using a hydride generation method.
前記(1)のガラス溶解ステップにおいて、ガラス試料と高沸点の酸と過マンガン酸カリウムとフッ化水素酸とをフッ素樹脂容器又はセラミックス容器に添加して加熱する請求項11に記載の測定方法。   The measurement method according to claim 11, wherein in the glass melting step (1), a glass sample, a high boiling acid, potassium permanganate, and hydrofluoric acid are added to a fluororesin container or a ceramic container and heated. 前記(1)のガラス溶解ステップにおける高沸点の酸が、過塩素酸及び硫酸から選ばれる少なくとも1種である請求項11又は12に記載の測定方法。   The measuring method according to claim 11 or 12, wherein the high boiling acid in the glass melting step (1) is at least one selected from perchloric acid and sulfuric acid. 前記(2)の二酸化マンガン溶解ステップにおける二酸化マンガンに対する還元剤が、過酸化水素、アスコルビン酸及び塩化ヒドロキシルアミンから選ばれる少なくとも1種である請求項11〜13のいずれか一項に記載の測定方法。   The measuring method according to any one of claims 11 to 13, wherein the reducing agent for manganese dioxide in the manganese dioxide dissolving step (2) is at least one selected from hydrogen peroxide, ascorbic acid and hydroxylamine chloride. . 前記(3)の予備還元ステップにおけるヒ素(V)に対する還元剤が、ヨウ化カリウム及びヨウ化ナトリウムから選ばれる1種である請求項11〜14のいずれか一項に記載の測定方法。   The measuring method according to any one of claims 11 to 14, wherein the reducing agent for arsenic (V) in the preliminary reduction step (3) is one selected from potassium iodide and sodium iodide. 前記(4)のヒ素量測定ステップにおける水素化物発生法が、水素化物発生ICP発光分光法、水素化物原子吸光法及び水素化物ICP−MS法から選ばれるいずれかの方法である請求項11〜15のいずれか一項に記載の測定方法。   The hydride generation method in the arsenic content measurement step of (4) is any one selected from hydride generation ICP emission spectroscopy, hydride atomic absorption method and hydride ICP-MS method. The measuring method as described in any one of these.
JP2012176742A 2012-08-09 2012-08-09 Method for producing arsenic content-controlled glass and method for measuring arsenic content in glass Withdrawn JP2014034491A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012176742A JP2014034491A (en) 2012-08-09 2012-08-09 Method for producing arsenic content-controlled glass and method for measuring arsenic content in glass

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012176742A JP2014034491A (en) 2012-08-09 2012-08-09 Method for producing arsenic content-controlled glass and method for measuring arsenic content in glass

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014034491A true JP2014034491A (en) 2014-02-24

Family

ID=50283700

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012176742A Withdrawn JP2014034491A (en) 2012-08-09 2012-08-09 Method for producing arsenic content-controlled glass and method for measuring arsenic content in glass

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014034491A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014522866A (en) * 2011-07-29 2014-09-08 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド Indicator for oxygen production
CN111959243A (en) * 2020-06-23 2020-11-20 江苏铁锚玻璃股份有限公司 Automobile glass with adhesion scratch-proof function

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014522866A (en) * 2011-07-29 2014-09-08 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド Indicator for oxygen production
CN111959243A (en) * 2020-06-23 2020-11-20 江苏铁锚玻璃股份有限公司 Automobile glass with adhesion scratch-proof function
CN111959243B (en) * 2020-06-23 2023-07-11 江苏铁锚玻璃股份有限公司 Automobile glass with adhesive scratch-proof function

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Oguri et al. Quantitative determination of gold and the platinum-group elements in geological samples using improved NiS fire-assay and tellurium coprecipitation with inductively coupled plasma-mass spectrometry (ICP-MS)
CN101839828B (en) Digestion method and detection method for iron ore
JP5354445B2 (en) Glass for metal coating and semiconductor sealing material
CN102252880B (en) Digestion method and detection method of iron ore
CN101426744A (en) Component of quartz glass for use in semiconductor manufacture and method for producing the same
US20140196772A1 (en) Process for making silver powder particles with small size crystallites
KR101674233B1 (en) Paste composition for solar cell electrode
US20050096209A1 (en) Glass and method for producing glass
JP2011032162A (en) Highly ultraviolet-transmitting borosilicate glass with reduced boron content
JP2014034491A (en) Method for producing arsenic content-controlled glass and method for measuring arsenic content in glass
Li et al. Influence of rare earth addition on the thermal and structural stability of CaOFe2O3P2O5 glasses
JP5106518B2 (en) Method for analyzing precious metals using laser ablation ICP analysis
JP5862952B2 (en) Method for producing borosilicate glass
Haslbeck et al. Formation of gold nanoparticles in gold ruby glass: The influence of tin
Rahnama et al. Ligand-less rapidly synergistic cloud point extraction as an efficient method for the separation and preconcentration of trace amounts of lead from food and water samples
JP6917028B2 (en) Silver-coated lead tellurium glass powder and its manufacturing method, and conductive paste
Stephenson Improved flux-fusion technique for x-ray emission analysis
Brendebach et al. Sulfur incorporation in high level nuclear waste glass: AS K-edge XAFS investigation
JP2012123016A (en) Analysis method of noble metal using laser ablation icp analysis method
JP5757209B2 (en) Method for producing borosilicate glass
TW200401757A (en) Glass and method for production of glass
TWI680298B (en) Analytical method for analyzing silicon/silicon carbide mixed ingot
Saijo et al. Determination of sulfur in soda-lime silicate glass by inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy following separation using an alumina column
TW567105B (en) Method for making potassium-doped tungsten powder
Andreev et al. The Influence of the Chemical Composition on the Color of Lead-Silicate Glass Caused by Gold Nanoparticles

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150304

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20150710