JP2014016205A - Vertical probe, manufacturing method of vertical probe, and attachment method of vertical probe - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は垂直型プローブ、垂直型プローブの製造方法及び垂直型プローブの取付方法に関し、例えば、半導体集積回路が形成された半導体ウエハの通電試験に用いるプローブカードやインターポーザ基板(以下では、これらを併せてプローブ取付体と呼ぶこともある)に適用する垂直型ブロープや、その製造方法や、プローブ取付体への取付け方法に適用し得る。 The present invention relates to a vertical probe, a method for manufacturing a vertical probe, and a method for mounting a vertical probe. For example, a probe card or an interposer substrate (hereinafter, a combination of a probe card and an interposer substrate used for a current test of a semiconductor wafer on which a semiconductor integrated circuit is formed). It can be applied to a vertical probe applied to a probe mounting body), a manufacturing method thereof, and a mounting method to a probe mounting body.
半導体ウエハに形成された多数の集積回路は、半導体ウエハから切断される前に仕様書通りの性能を有するか否かの通電試験がなされる。1つの半導体ウエハ上の多数の集積回路は、一回で同時に試験され、又は、複数回に分けて試験される。この種の通電試験に用いられるプローブカードやインターポーザ基板として、複数の垂直型プローブを並設したものがある。 A large number of integrated circuits formed on a semiconductor wafer are subjected to an energization test to determine whether or not they have performance according to specifications before being cut from the semiconductor wafer. A large number of integrated circuits on one semiconductor wafer can be tested simultaneously at one time, or can be tested in multiple times. Some probe cards and interposer substrates used in this type of current test have a plurality of vertical probes arranged in parallel.
プローブカードやインターポーザ基板などのプローブ取付体は、貫通孔などのプローブ受部を複数有する板部材を1つ以上備え(例えば、板部材を上下にそれぞれ備え、若しくは、板部材を上側だけに備える)、複数の垂直型プローブは、板部材のプローブ受部に装着されるようにして配置される。 A probe mounting body such as a probe card or an interposer substrate includes one or more plate members having a plurality of probe receiving portions such as through holes (for example, plate members are provided above and below, or a plate member is provided only on the upper side). The plurality of vertical probes are arranged so as to be attached to the probe receiving portion of the plate member.
例えば、同一行のプローブ受部に装着される複数の垂直型プローブを一体成形し、一体成形によって形成された垂直型プローブ群を同時に対応するプローブ受部に装着し(従来技術の中には装着後に一体化を解放するものもある)、装着の作業性を向上させることも提案されている(特許文献1、特許文献2参照)。
For example, a plurality of vertical probes to be mounted on the probe receivers in the same row are integrally formed, and a group of vertical probes formed by the integrated molding are simultaneously mounted on the corresponding probe receivers (some of the conventional techniques do not have Some have released the integration later), and it has also been proposed to improve the workability of mounting (see
ところで、1本1本の垂直型プローブは微細なものであっても、一体成形によって形成された垂直型プローブ群は垂直型プローブに比較すると大きな部材である。 By the way, even if each vertical probe is fine, the vertical probe group formed by integral molding is a larger member than the vertical probe.
そのため、プローブ受部が挟ピッチのプローブ取付体に一体成形によって形成された垂直型プローブ群を配置しようとする場合や、エリアアレイに対応したインターポーザ基板に一体成形によって形成された垂直型プローブ群の各垂直プローブを高精度に配置しようとした場合には、垂直型プローブ群の取扱いによっては、配置しようとする垂直型プローブを損傷する恐れがあり、また、既に配置されている垂直型プローブを損傷したり、その先端位置の精度を悪化させたりする恐れがある。 Therefore, when trying to arrange a vertical probe group formed by integral molding on a probe mounting body with a probe receiving portion having a narrow pitch, or when a vertical probe group formed by integral molding on an interposer substrate corresponding to an area array is used. When trying to place each vertical probe with high precision, depending on the handling of the vertical probe group, there is a risk of damaging the vertical probe to be placed. Or the accuracy of the tip position may be deteriorated.
このような不都合を回避しようとすると、垂直型プローブを1本1本取り扱って配置することが好ましい。しかし、垂直型プローブの配置を自動化した場合でも垂直型プローブの配置を手動で行う場合でも、微細な垂直型プローブを取扱うことは容易ではなく、そのため、配置前の垂直型プローブの一端に除去可能なタブ(抓み)を設け、タブを抓んでプローブ取付体に垂直型プローブを配置し、配置後にタブを除去することも考えられる。 In order to avoid such inconvenience, it is preferable to handle and arrange the vertical probes one by one. However, it is not easy to handle a fine vertical probe, whether it is automated or manual placement, so it can be removed at one end of the vertical probe prior to placement. It is also conceivable that a vertical probe is arranged on the probe mounting body with a tab (stagnation) provided, and the tab is removed after the arrangement.
上述のような垂直型プローブ(や垂直型プローブ群)の配置動作は、位置精度を高めるため、監視カメラからの撮像信号に基づいて垂直型プローブ(や垂直型プローブ群)の先端位置を確認しながら実行される。しかしながら、垂直型プローブの一端にタブを設けた場合には、タブが撮像の邪魔になり、垂直型プローブの先端位置を正確に確認することができない。 The above vertical probe (or vertical probe group) placement operation confirms the tip position of the vertical probe (or vertical probe group) based on the imaging signal from the surveillance camera in order to improve the positional accuracy. While being executed. However, when a tab is provided at one end of the vertical probe, the tab interferes with imaging, and the tip position of the vertical probe cannot be confirmed accurately.
そのため、垂直型プローブをプローブ取付体に配置する際に、配置しようとしている垂直型プローブや既に配置されている垂直型プローブに損傷を与えずに、しかも、配置された垂直型プローブの先端位置の精度を高めることができる垂直型プローブ及び垂直型プローブの取付方法が望まれている。また、そのような垂直型プローブを製造できる垂直型プローブの製造方法が望まれている。 Therefore, when placing the vertical probe on the probe mounting body, the vertical probe to be placed or the already placed vertical probe is not damaged, and the tip position of the placed vertical probe is not affected. There is a demand for a vertical probe and a method for attaching the vertical probe that can improve accuracy. In addition, a method for manufacturing a vertical probe that can manufacture such a vertical probe is desired.
上記課題を解決するために、第1の本発明の垂直型プローブは、(1)被試験体の電極と接触する接触先端を直線状の先端部の先端に有する、プローブ取付体に取り付けられる本体である垂直型プローブ本体と、(2)上記垂直型プローブ本体に除去可能に連結された、抓みとして機能するタブとを備え、(3)上記タブが、上記先端部の直線の延長上の位置に、撮像画像を利用した位置制御や姿勢制御において上記接触先端と疑似される擬似接触先端を有することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, a vertical probe according to a first aspect of the present invention is (1) a main body attached to a probe mounting body having a contact tip in contact with an electrode of a device under test at the tip of a linear tip. A vertical probe main body, and (2) a tab that is removably connected to the vertical probe main body, and (3) the tab is on the straight extension of the tip. The position has a pseudo contact tip that is simulated as the contact tip in position control and posture control using a captured image.
第2の本発明は、被試験体の電極と接触する接触先端を直線状の先端部の先端に有する、プローブ取付体に取り付けられる本体である垂直型プローブ本体と、上記垂直型プローブ本体に除去可能に連結された、抓みとして機能するタブとを備え、上記タブが、上記先端部の直線の延長上の位置に、撮像画像を利用した位置制御や姿勢制御において上記接触先端と疑似される擬似接触先端を有する垂直型プローブを製造する垂直型プローブの製造方法であって、上記接触先端と上記疑似接触先端とを、同一の薄膜形成工程で、同時並行的に形成することを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a vertical probe main body which is a main body attached to a probe mounting body having a contact tip that makes contact with an electrode of a device under test at the tip of a linear tip, and is removed from the vertical probe main body. And a tab that functions as a stagnation, and the tab is imitated as the contact tip in position control and posture control using a captured image at a position on a straight extension of the tip. A vertical probe manufacturing method for manufacturing a vertical probe having a pseudo contact tip, wherein the contact tip and the pseudo contact tip are simultaneously formed in the same thin film forming step. .
第3の本発明は、被試験体の電極と接触する接触先端を直線状の先端部の先端に有する垂直型プローブ本体と、上記垂直型プローブ本体に除去可能に連結された、抓みとして機能するタブとを備え、上記タブが、上記先端部の直線の延長上の位置に上記接触先端と同様な擬似接触先端を有する垂直型プローブをプローブ取付体に取り付ける垂直型プローブの取付方法であって、(1)上記垂直型プローブ本体及び上記タブが連結された状態で、上方の撮像カメラからの撮像画像における上記擬似接触先端の位置に基づいて、位置制御及び又は姿勢制御を実行しながら、上記垂直型プローブ本体を上記プローブ取付体に取り付け、(2)その後、上記プローブ取付体に取り付けられた上記垂直型プローブ本体から上記タブを切り離すことを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a vertical probe body having a contact tip in contact with an electrode of a device under test at the tip of a linear tip portion, and a scab that is removably connected to the vertical probe body. A vertical probe mounting method for mounting a vertical probe having a pseudo contact tip similar to the contact tip at a position on a straight line extension of the tip portion to a probe mounting body. (1) While performing the position control and / or the posture control based on the position of the pseudo contact tip in the captured image from the upper imaging camera in a state where the vertical probe body and the tab are coupled, A vertical probe body is attached to the probe attachment body, and (2) the tab is then detached from the vertical probe body attached to the probe attachment body. To.
本発明によれば、垂直型プローブをプローブ取付体に配置する際に、配置しようとしている垂直型プローブや既に配置されている垂直型プローブに損傷を与えずに、しかも、配置された垂直型プローブの先端位置の精度を高めることができる垂直型プローブ及び垂直型プローブの取付方法を提供できる。また、他の本発明よれば、そのような垂直型プローブを製造できる垂直型プローブの製造方法を提供できる。 According to the present invention, when a vertical probe is arranged on a probe mounting body, the arranged vertical probe is not damaged without damaging the vertical probe to be arranged or the already arranged vertical probe. It is possible to provide a vertical probe and a method for attaching the vertical probe that can improve the accuracy of the tip position of the probe. According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a vertical probe that can manufacture such a vertical probe can be provided.
(A)主たる実施形態
以下、本発明に係る垂直型プローブ、垂直型プローブの製造方法及び垂直型プローブの取付方法の一実施形態を、図面を参照しながら説明する。
(A) Main Embodiments Hereinafter, an embodiment of a vertical probe, a method for manufacturing a vertical probe, and a method for attaching a vertical probe according to the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、製造された直後の実施形態の垂直型プローブ1を示している。図1(A)は、後述する製造時の基台(シリコン(Si)ウエハ)に付着したままの状態を示し、図1(B)は、後述する製造時の基台から分離された後の状態を示している。
FIG. 1 shows a
図1において、垂直型プローブ1は、大きくは、垂直型プローブ本体10とタブ20とからなり、垂直型プローブ本体10とタブ20とが一体成形されて垂直型プローブ1が形成される。
In FIG. 1, the
垂直型プローブ本体10は、プローブ取付体(図6参照)に取り付けられ、プローブとして機能する部分である。垂直型プローブ本体10は、概ね直線状の先端部11と、概ね弓形状の主体部12と、概ね直線状の取付け部13とがこの順に連続して形成されている。直線状の先端部11及び取付け部13は、垂直型プローブ本体10に外力が印加されていない状況で同一の直線上を延長しているものである。
The
先端部11は、図示しない平板状被試験体(例えば、集積回路が形成された半導体ウエハ)の電極に接触する、図2に拡大して示す接触先端11Aを有するものである。
The
主体部12は、弓形状を有することにより接触先端11Aが図示しない電極に接触した際に弾性力を発揮し、接触を確実にするものである。
The
取付け部13は、プローブ取付体の貫通孔を貫通し、プローブ取付体に取り付けられるものである。取付け部13は、取付け時に貫通孔内部に溶着するためのハンダ13Aを有している。
The
タブ20は、タブ本体21と、連結部22と、基台分離部23と、疑似接触先端部24とを有する。
The tab 20 includes a tab
タブ本体21は、概ね平板状をしている抓みとして機能する本体部分である。タブ本体21は、垂直型プローブ1の製造工程における1回目のウエットエッチング(後述する図6(G))で所望する箇所の要素が適切に除去されるようにするための複数の透孔21Aを有している。垂直型プローブ1が形成された後では、これらの透孔21Aは役目を終わったものである。
The tab
連結部22は、垂直型プローブ本体10とタブ20とを、容易に分離可能なように連結しているものである。図1に示す連結部22は、タブ本体21から下方に向かう、しかも、対向する方向に爪が延びている一対の爪片22A、22Bでなり、一対の爪片22A、22Bの爪が、垂直型プローブ本体10の先端部11の左右の側面の上部に連結されている。このような連結方法により、先端部11における接触先端11Aが一対の爪片22A、22Bで形成される空間に位置し、タブ20が分離されていない状況で、接触先端11Aが保護されるようになされている。また、連結部22は、垂直型プローブ本体10の位置変化を抑制した状態で、タブ本体21の上方に、タブ本体21の法線方向に沿った外力が印加されることにより、連結を容易に解放することができる。図3は、タブ20が分離された垂直型プローブ本体10を示している。
The connecting
分離容易化部23は、垂直型プローブ1を製造時の基台から分離させるのを容易にしている部分である。分離容易化部23は、タブ本体21のほぼ中央に設けられた円形状の透孔21B内に位置する円板状の残存部23Aと、残存部23Aを透孔21Bの周囲の側面に連絡する単一の橋部23Bと、残存部23Aの基台側に設けられて基台と残存部23Aとを連結する連結層部23C(図5(G)参照)とでなる。分離容易化部23の橋部23Bを切断することにより、垂直型プローブ1を基台から分離することができる。
The
疑似接触先端部24は、タブ付きの垂直型プローブ1をプローブ取付体に取り付ける際に、接触先端11Aに代わって位置基準を与える、図4に拡大して示す疑似接触先端24Aを備えるものである。接触先端11A及び疑似接触先端24Aを通る直線は、垂直型プローブ本体10の先端部11が延べている直線と同一である。疑似接触先端24Aは、接触先端11Aと形状、材料が同じものである。疑似接触先端部24における疑似接触先端24A以外の部分は、疑似接触先端24Aを上方から撮像した撮像画像の部分と、接触先端11Aを上方から撮像した撮像画像の部分とが同様に見えるようになる形状等になっている。
The
次に、上述した実施形態の垂直型プローブ1の製造工程(製造方法)を説明する。図5及ぶ図6は、垂直型プローブ1の製造手順を示す工程図である。なお、図5(A)〜(E)、図6(F)〜(J)は、厳密な断面図(や側面図)ではなく、各手順の段階で形成されたり除去されたりする要素を明らかにする観点から、製造手順を記述した概略的な断面図である。そのため、例えば、弓形状の主体部12も先端部11と取付け部13と同様に直線状のものとして記述されており、また例えば、タブ本体21の透孔21Aや21Bも明記されていない。
Next, a manufacturing process (manufacturing method) of the
図5(A)に示すように、基台30として表面がエッチングにより鏡面処理されたシリコン結晶基板が用意される。
As shown in FIG. 5A, a silicon crystal substrate whose surface is mirror-finished by etching is prepared as a
シリコン結晶基板30上に例えば銅(Cu)の犠牲層を成長させるに先立って、銅の成長を促進するために、例えば、クロム−パラジウム(CrPd)のような接着層31が例えばスパッタ法により形成され、この接着層31上に、銅が例えばスパッタ法により堆積され、犠牲層32が形成される。図5(B)は、接着層31及び犠牲層32が基台30上に積層された状態を示している。犠牲層32から、後述する連結層部23C及び台座部34が形成される。
Prior to growing a sacrificial layer of, for example, copper (Cu) on the
次に、図5(C)に示すように、接触先端11A及び疑似接触先端24Aを形成させるための犠牲台座33A及び33Bを形成する。接触先端11A及び疑似接触先端24Aの周囲構造を同じにすべく、犠牲台座33A及び33Bも同様な構造を有する。犠牲台座33A及び33Bの形成方法は任意であるが、例えば、以下のようなフォトリソグラフィを利用した方法を適用できる。フォトレジスト材料を犠牲層32上に塗布してフォトレジスト層を形成した後、パターンマスクを用いてフォトレジスト層を選択的に露光し、さらに、現像することにより、フォトレジスト層に開口を形成し、その開口に銅を充填することで犠牲台座33A及び33Bを形成し、最後に、残ったフォトレジスト層を除去する。なお、犠牲台座33A及び33Bの上面の研磨等を施しても良い。
Next, as shown in FIG. 5C,
次に、図5(D)に示すように、犠牲台座33A及び33Bを利用して、所定形状の接触先端11A及び疑似接触先端24Aを形成する。接触先端11A及び疑似接触先端24Aの材料としては、耐摩耗性に優れた硬質の金属若しくは合金(例えば、ロジウム(Rh))を適用できる。接触先端11A及び疑似接触先端24Aの形成方法も任意であるが、例えば、フォトリソグラフィを利用した方法を適用できる。なお、接触先端11A及び疑似接触先端24Aの上面の研磨等を施しても良い。
Next, as shown in FIG. 5D, a
その後、図5(E)に示すように、垂直型プローブ本体10及びタブ20の大半となる、高靱性材(例えば、ニッケルホウ素(NiB)等のバネ性がある合金)を垂直型プローブ本体10及びタブ20の形状に合わせて選択的に積層(例えば堆積)させる。プローブ材の積層方法は任意であるが、例えば、レジストマスクを利用した電気メッキ法を適用できる。このプローブ材の積層時において、各種の透孔や、接触先端11A周囲の空間等も併せて形成される。積層されたプローブ材は、図6(F)に示すように研磨され、所定の膜厚を有するものとなる。
After that, as shown in FIG. 5E, a high-toughness material (for example, an alloy having a spring property such as nickel boron (NiB)), which is the majority of the vertical probe
次に、図6(G)に示すように、犠牲層32及び犠牲台座33A及び33Bを除去すべく、エッチング液を用いたウエットエッチング処理が施される。このウエットエッチング処理により、他とは材質(銅)が異なる犠牲層32及び犠牲台座33A及び33Bが除去される。タブ20になる部分には透孔21Aを有し、垂直型プローブ本体10となる部分は細いので、ウエットエッチング処理により犠牲層32及び犠牲台座33A及び33Bの大半が除去される。但し、径が大きな円形の分離容易化部23における残存部23Aの下側の犠牲層32の部分はウエットエッチング処理を経ても残り、連結層部23Cとなる。また、垂直型プローブ本体10における取付け部13のハンダ13Aが付着される近傍の犠牲層32の部分も、エッチング液の浸食を阻害する壁となる冶具等が利用されて残り、ハンダ13Aの付着を安定にできるようにする台座部34となる。距離をおいた連結層部23C及び台座部34の2箇所で基台30上に支持された状態で、垂直型プローブ1に熱処理を施し、垂直型プローブ1の強度を高める。なお、熱処理により垂直型プローブ1に反り返り力が生じるが、2箇所の支持により反り返りが防止できる。
Next, as shown in FIG. 6G, a wet etching process using an etchant is performed to remove the
次に、図6(H)に示すように、所定の位置に例えばスズ(Sn)からなるハンダ13Aを付着させ、その後、図6(I)に示すように、ハンダ13Aの下方の台座部34をウエットエッチング処理により除去する。この除去時を経ても、基台30側との連結を確保している連結層部23Cは残っているようにする。
Next, as shown in FIG. 6 (H),
最後に、分離容易化部23の橋部23B(図1参照)をカッターナイフのような工具を用いて切断したり、橋部23Bを折り曲げて切断することにより、図6(J)に示すように、垂直型プローブ1を基台側から分離する。
Finally, the bridge portion 23B (see FIG. 1) of the
次に、実施形態の垂直型プローブ1の取付け方法について説明する。
Next, a method for attaching the
図7は、プローブカードやインターポーザ基板などのプローブ取付体の一例を示す概略斜視図である。 FIG. 7 is a schematic perspective view showing an example of a probe attachment body such as a probe card or an interposer substrate.
図7において、プローブ取付体40は、配線基板41と、配線基板41の下側に配置されたプローブ基板42と、プローブ基板42から下方へ延びる状態にプローブ基板42に取り付けられた複数の垂直型プローブ本体10とを有する。垂直型プローブ本体10は、上述した実施形態の垂直型プローブ1のタブ20を除外した部分である。
In FIG. 7, a
配線基板41は、下面に設けられた導電性の複数の接合部43と、一端部において接合部43に電気的に接続された多数の内部配線44と、上面に設けられた多数の接続部45とを備える。
The
プローブ基板42は、セラミックのような電気絶縁材料により、例えば、矩形の平面形状に製作されており、図8(A)及び(B)に示すように、上面及び下面に開口する複数の貫通孔46を中央領域に有すると共に、貫通孔47を4隅に有する。各貫通孔46は、垂直型プローブ本体10の取付け部13を受け入れる、例えば、断面円形のものである。各貫通孔47は、配線基板41及びプローブ基板42を位置決めしながら取り付ける位置決めピンを通すことができるものである。
The
例えば、配線基板41に結合されていないプローブ基板42に対して、全ての垂直型プローブ本体10を取付け、その後、配線基板41とプローブ基板42とが結合されて、プローブ取付体が完成される。以下では、プローブ基板42に垂直型プローブ本体10を取り付ける方法を簡単に説明する。なお、プローブ基板42に対する垂直型プローブ本体10の取付けは、自動化されていても良く作業者のピンセット等を利用した手作業による方法であっても良く、基本的には、1本1本の垂直型プローブ本体10の取付けが繰返し実行される。
For example, all the
垂直型プローブ本体10の取付け時には、プローブ基板42は、図示しない基準テーブルに図1の上下方向とは逆に載置され、上方から、垂直型プローブ本体10(の取付け部13)の取付けが実行される。
When the
垂直型プローブ本体10とタブ20とが連結されたままの取付け対象の垂直型プローブ1におけるタブ20が、図示しない把持具によって横方向から把持される。このときには、タブ20の上部に位置している疑似接触先端24Aは、上方から視認できるようになっている。逆に言えば、垂直型プローブ本体10をプローブ基板42に取り付ける際に上方の撮像カメラで撮像すると、疑似接触先端24Aが撮像画像に含まれるように、把持具によってタブ20が把持される。
The tab 20 in the
上述したように、接触先端11A及び疑似接触先端24Aは、垂直型プローブ本体10の先端部11や取付け部13が延べている直線上に位置しているので、上方から撮像した疑似接触先端24Aの位置は、接触先端11Aの左右方向及び前後方向の位置は同じである(但し、上下方向の位置は異なるが、撮像画像では上下方向が投影された画像となっているので問題となることはほとんどない)。疑似接触先端24Aは、接触先端11Aと同一の材質で同様な形状を有するので、この点からも、疑似接触先端24Aの撮像画像部分を、接触先端11Aの撮像画像部分と見なして処理することが可能となっている(例えば、既存の画像処理プログラムをそのまま、若しくは、ごく僅かに修正して用いることも可能である)。
As described above, the
撮像画像における疑似接触先端24Aの左右方向及び前後方向の位置を確認しながら、垂直型プローブ本体10の取付け部13を貫通させるべき貫通孔46に対向させ、取付け部13を貫通孔46に貫通させる。貫通後に、把持具の把持を解放し、この解放時の垂直型プローブ1の姿勢を上方からの撮像画像で確認する。このときも、疑似接触先端24Aの左右方向及び前後方向の位置が適切であるかが確認される。さらに、疑似接触先端24Aが設けられているタブ20の上辺の直線性等が確認される。把持具がタブ20を把持し、タブ20を移動、回動しながら姿勢を矯正し、その状態で、取付け部13に設けられているハンダ13Aを溶融、固化させて、貫通孔46内の取付け部13の取付けを確実なものとする。
While confirming the positions of the
その後、垂直型プローブ本体10の先端部11を図示しない把持具で把持して動かないようにした状態で、他の把持具で把持したタブ20を爪片22A、22Bの爪近傍を中心として回動させることにより、タブ20を垂直型プローブ本体10から切断させて除去する。このときには、接触先端11Aが撮像カメラで撮像可能となり、撮像画像に基づいて、最終的な接触先端11Aの位置の確認や修正がなされる。
Thereafter, with the
取り付けられた複数の垂直型プローブ本体10は、例えば、その弓形の主体部13の膨出方向が揃うように整列される。
The plurality of attached
上記実施形態によれば、プローブ基板に対して垂直型プローブを1本ずつ取り付ける方法を適用しているので、複数本を一体化した部材を取り付ける方法に比較し、取り付ける垂直型プローブや既に取り付けられている垂直型プローブを損傷させるようなことを格段的に少なくすることができる。 According to the above embodiment, since the method of attaching one vertical probe to the probe substrate is applied, compared to the method of attaching a member in which a plurality of members are integrated, a vertical probe to be attached or an already attached probe is attached. It is possible to significantly reduce the damage to the vertical probe.
プローブ基板に対して垂直型プローブを1本ずつ取り付ける方法を適用しているが、垂直型プローブ本体に連結されているタブを利用して取り付けるので、取付け作業等を容易なものとすることができる。 Although a method of attaching one vertical probe to the probe substrate is applied, it is attached using a tab connected to the vertical probe main body, so that attachment work and the like can be facilitated. .
タブに、被試験体の電極に接触する接触先端と所定の位置関係にある接触先端と同様な形状等を有する疑似接触先端を設けて、タブが付与されている状態でも、撮像画像における疑似接触先端の位置等に応じて、垂直型プローブ本体の取付け位置や姿勢を制御可能としたので、接触先端の位置が高精度になるように垂直型プローブ本体を取付けることができる。 Even if the tab is provided with a pseudo contact tip having the same shape as the contact tip in contact with the contact tip that contacts the electrode of the device under test, the pseudo contact in the captured image Since the mounting position and orientation of the vertical probe body can be controlled according to the position of the tip, etc., the vertical probe body can be mounted so that the position of the contact tip is highly accurate.
(B)他の実施形態
上記実施形態では、疑似接触先端部24が図4に示す形状のものを示したが、撮像用の照明の影響をより排除することを考慮した形状を有するものであっても良い。図9(A)〜(C)はそれぞれ、このような疑似接触先端部24の変形例を示している。図9(A)に示す変形例は、疑似接触先端24Aが設けられている凹部を規定する左右の壁面と上面とがなす角度が、図4のものとは異なり、鈍角になっている。図9(B)に示す変形例は、疑似接触先端24Aが設けられている凹部の幅を図4のものより拡げると共に、疑似接触先端24Aが設けられている部分も、垂直形プローブ本体10の先端部11と同様に棒状にしたものである。図9(C)に示す変形例は、疑似接触先端24Aが設けられている凹部の幅を図4のものより拡げると共に、疑似接触先端24Aが凹部内に設けられた山形の頂点に位置するようにしたものである。
(B) Other Embodiments In the above-described embodiment, the
上記実施形態では、疑似接触先端24Aがタブ20の上面より低い位置に設けられたものを示したが、疑似接触先端24Aがタブ20の上面より突出するように形成されても良い。
In the above embodiment, the
上記実施形態では、タブ20の外形形状が矩形のものを示したが、円形、楕円形、三角形など、他の形状であっても良い。 In the above embodiment, the tab 20 has a rectangular outer shape, but may have other shapes such as a circle, an ellipse, and a triangle.
上記実施形態では、垂直型プローブ本体が図3に示す形状であるものを示したが、垂直型プローブ本体の形状はこれに限定されるものではない。例えば、先端部11、主体部12、取付け部13との上下方向の長さの比が、図3のものと異なっていても良い。また、先端部11及び取付け部13が同一の直線上にあるのではなく、異なる2つの平行な直線上にあるものであっても良い。接触圧の印加に寄与する主体部12は、弓形のものに限定されるものでない。
In the above embodiment, the vertical probe body has the shape shown in FIG. 3, but the shape of the vertical probe body is not limited to this. For example, the ratio of the length in the vertical direction of the
1…垂直型プローブ、
10…垂直型プローブ本体、11…先端部、11A…接触先端、12…主体部、13…取付け部、
20…タブ、21…タブ本体、22…連結部、23…基台分離部、24…疑似接触先端部、24A…疑似接触先端、
40…プローブ取付体、41…配線基板、42…プローブ基板。
1 ... vertical probe,
DESCRIPTION OF
20 ... Tab, 21 ... Tab body, 22 ... Connecting portion, 23 ... Base separation portion, 24 ... Pseudo contact tip, 24A ... Pseudo contact tip,
40 ... probe mounting body, 41 ... wiring board, 42 ... probe board.
Claims (3)
上記垂直型プローブ本体に除去可能に連結された、抓みとして機能するタブとを備え、
上記タブは、上記先端部の直線の延長上の位置に、撮像画像を利用した位置制御や姿勢制御において上記接触先端と疑似される擬似接触先端を有する
ことを特徴とする垂直型プローブ。 A vertical probe main body which is a main body attached to the probe mounting body, having a contact tip that contacts the electrode of the device under test at the tip of the linear tip portion;
A tab functioning as a stubborn removably connected to the vertical probe body;
The vertical probe according to claim 1, wherein the tab has a pseudo-contact tip that is simulated as the contact tip in position control or posture control using a captured image at a position on a straight line extension of the tip.
上記接触先端と上記疑似接触先端とを、同一の薄膜形成工程で、同時並行的に形成することを特徴とする垂直型プローブの製造方法。 A vertical probe body, which is a main body attached to the probe mounting body, having a contact tip that makes contact with the electrode of the device under test at the tip of the linear tip, and a removably connected to the vertical probe body. A vertical type that has a pseudo-contact tip that is simulated as the contact tip in position control and posture control using a captured image at a position on a straight line extension of the tip portion. A method of manufacturing a vertical probe for manufacturing a probe,
A method of manufacturing a vertical probe, wherein the contact tip and the pseudo contact tip are formed simultaneously in the same thin film forming step.
上記垂直型プローブ本体及び上記タブが連結された状態で、上方の撮像カメラからの撮像画像における上記擬似接触先端の位置に基づいて、位置制御及び又は姿勢制御を実行しながら、上記垂直型プローブ本体を上記プローブ取付体に取り付け、
その後、上記プローブ取付体に取り付けられた上記垂直型プローブ本体から上記タブを切り離す
ことを特徴とする垂直型プローブの取付方法。 A vertical probe body having a contact tip in contact with the electrode of the device under test at the tip of the linear tip portion, and a tab functioning as a stub that is removably connected to the vertical probe body, and A vertical probe mounting method for mounting a vertical probe having a pseudo contact tip similar to the contact tip at a position on a linear extension of the tip portion to a probe mounting body,
While the vertical probe body and the tab are connected, the vertical probe body is controlled while performing position control and / or posture control based on the position of the pseudo contact tip in the captured image from the upper imaging camera. Is attached to the probe mounting body,
Thereafter, the tab is detached from the vertical probe main body attached to the probe attachment body.
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