JP2014013816A - Electrolyte impregnation apparatus and electrolyte injection method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電解液に浸漬させたワーク内部に電解液を注入する電解液含浸装置及び電解液注入方法に関する。 The present invention relates to an electrolytic solution impregnation apparatus and an electrolytic solution injection method for injecting an electrolytic solution into a workpiece immersed in the electrolytic solution.
電解コンデンサの製造などにおいて、真空差圧法を用いてワーク内部に電解液を注入する方法が採用されている。(例えば、特許文献1参照。)。この場合、ワークの表面に配置された電解液の注入口が電解液中になるように、ワークが電解液に浸漬される。ワークの電解液に浸漬された部分の表面には高価な電解液が付着するため、製造コストの抑制や洗浄処理の観点などから電解液に浸漬されるワークの表面積は小さいほどよい。このため、ワークの注入口の位置が電解液の液面から深くない位置にあるように、ワークを電解液に浸漬することが好ましい。 In the production of electrolytic capacitors, a method of injecting an electrolytic solution into a workpiece using a vacuum differential pressure method is employed. (For example, refer to Patent Document 1). In this case, the workpiece is immersed in the electrolytic solution so that the inlet of the electrolytic solution disposed on the surface of the workpiece is in the electrolytic solution. Since an expensive electrolytic solution adheres to the surface of the part immersed in the electrolytic solution of the workpiece, the surface area of the workpiece immersed in the electrolytic solution is preferably as small as possible from the viewpoint of suppressing the manufacturing cost and cleaning treatment. For this reason, it is preferable to immerse a workpiece | work in electrolyte solution so that the position of the injection port of a workpiece | work exists in the position which is not deep from the liquid level of electrolyte solution.
しかしながら、ワーク内部に電解液が注入されるに従って、電解液の液面が下降する。その結果、ワークの注入口が電解液の液面よりも上方になって、ワーク内部に電解液が注入されなくなるという問題が生じる。このため、ワーク内部に十分な量の電解液が注入されずに製品不良が発生する。 However, as the electrolytic solution is injected into the work, the liquid level of the electrolytic solution is lowered. As a result, there arises a problem that the work inlet becomes higher than the liquid level of the electrolytic solution and the electrolytic solution is not injected into the work. For this reason, a defective product occurs because a sufficient amount of electrolyte is not injected into the workpiece.
上記問題点に鑑み、本発明は、ワーク内部への電解液の注入時における電解液の液面の低下による電解液の注入不足を抑制可能な電解液含浸装置及び電解液注入方法を提供する。 In view of the above problems, the present invention provides an electrolytic solution impregnation apparatus and an electrolytic solution injection method capable of suppressing insufficient injection of electrolytic solution due to a decrease in the electrolytic solution level during injection of electrolytic solution into a workpiece.
本願発明の一態様によれば、表面に注入口が配置されたワークに真空差圧法によって電解液を注入する電解液含浸装置であって、(イ)チャンバーと、(ロ)チャンバー内に配置され、ワークが電解液に浸漬されるワーク接液溝及びそのワーク接液溝に連接する蓄液領域を含む凹部が上面に形成され、ワーク接液溝及び蓄液領域に電解液が収納された電解液槽と、(ハ)ワークの少なくとも一部をワーク接液溝で電解液に浸漬させ、注入口の上端が電解液の液面よりも下になる位置でチャンバー内でワークを支持する支持機構と、(ニ)チャンバー内を真空にする真空ポンプと、(ホ)電解液に注入口全体が浸された状態で、真空状態のチャンバー内にガスを導入するガス導入機構と、(ヘ)ワークに電解液が注入されることによって低下する液面の位置が注入口の上端よりも下の位置にならないように、電解液槽内の電解液の液面の位置に応じて電解液槽に電解液を供給して液面の位置を調整する液面調整装置とを備える電解液含浸装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an electrolytic solution impregnating apparatus for injecting an electrolytic solution into a workpiece having an injection port disposed on a surface by a vacuum differential pressure method, wherein the (a) chamber and (b) the chamber are disposed in the chamber. An electrolytic process in which a concave part including a work wetted groove in which the work is immersed in the electrolytic solution and a liquid storage region connected to the work wetted groove is formed on the upper surface, and the electrolytic solution is stored in the work wetted groove and the liquid storage region. A support mechanism that supports the work in the chamber at a position where the upper end of the injection port is below the liquid level of the electrolytic solution by immersing at least a part of the work in the liquid bath and (c) the work wetted groove (D) a vacuum pump that evacuates the chamber; (e) a gas introduction mechanism that introduces gas into the vacuum chamber while the entire inlet is immersed in the electrolyte; and (f) a work piece Reduced by injecting electrolyte into Adjust the position of the liquid level by supplying the electrolyte to the electrolyte tank according to the position of the electrolyte in the electrolyte tank so that the position of the liquid level does not fall below the top of the inlet. An electrolytic solution impregnation device is provided that includes a liquid level adjustment device.
本願発明の他の態様によれば、(イ)処理対象のワークが電解液に浸漬されるワーク接液溝及びそのワーク接液溝に連接する蓄液領域を含む凹部が上面に形成され、ワーク接液溝及び蓄液領域に電解液が収納された電解液槽を、チャンバー内に格納するステップと、(ロ)チャンバー内を真空にした後、ワークの少なくとも一部をワーク接液溝で電解液に浸漬させ、ワークの注入口の上端が電解液の液面よりも下になる位置でチャンバー内でワークを支持するステップと、(ハ)電解液に注入口全体が浸された状態で真空状態のチャンバー内にガスを導入して、ワーク内に電解液を注入するステップと、(ニ)ワーク内に電解液を注入した後の電解液槽内の電解液の液面の位置に応じて電解液槽に電解液を供給して、新たなワークに電解液が注入されることによって低下する液面の位置が注入口の上端よりも下の位置にならないように、液面の位置を調整するステップとを含む電解液注入方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, (a) a work wetted groove in which a workpiece to be treated is immersed in an electrolytic solution and a recess including a liquid storage region connected to the work wetted groove are formed on the upper surface. A step of storing the electrolytic solution tank in which the electrolytic solution is stored in the liquid contact groove and the liquid storage region in the chamber; and (b) after evacuating the chamber, at least a part of the work is electrolyzed by the work liquid contact groove. A step of supporting the workpiece in the chamber at a position where the upper end of the workpiece inlet is below the electrolyte level, and (c) a vacuum with the entire inlet immersed in the electrolyte. Injecting gas into the chamber in the state and injecting the electrolyte into the workpiece, and (d) depending on the position of the electrolyte surface in the electrolyte tank after injecting the electrolyte into the workpiece Supply the electrolyte to the electrolyte bath, and the electrolyte will be applied to the new workpiece. The position of the liquid surface to be lowered by being input in such a way not to a position below the upper end of the inlet, an electrolyte injection method comprising the step of adjusting the position of the liquid surface is provided.
本発明によれば、ワーク内部への電解液の注入時における電解液の液面の低下による電解液の注入不足を抑制可能な電解液含浸装置及び電解液注入方法を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electrolyte solution impregnation apparatus and electrolyte solution injection method which can suppress the injection | pouring insufficient of the electrolyte solution by the fall of the liquid level of the electrolyte solution at the time of injection | pouring of the electrolyte solution inside a workpiece | work can be provided.
次に、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。又、以下に示す実施形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の技術的思想は、構成部品の構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の技術的思想は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。 Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. Further, the following embodiments exemplify apparatuses and methods for embodying the technical idea of the present invention, and the technical idea of the present invention is the structure, arrangement, etc. of the component parts described below. It is not something specific. The technical idea of the present invention can be variously modified within the scope of the claims.
本発明の実施形態に係る電解液含浸装置1は、図1に示すように、チャンバー10と、チャンバー10内に配置され、電解液200が収納された電解液槽20と、ワーク100の少なくとも一部を電解液200に浸漬させ、チャンバー10内でワーク100を支持する支持機構30と、ワーク100が格納されたチャンバー10内を真空にする真空ポンプ40と、真空状態のチャンバー10内にガス500を導入するガス導入機構50と、電解液槽20内の電解液200の液面201の位置に応じて電解液槽20に電解液200を供給して液面201の位置を調整する液面調整装置60とを備える。
As shown in FIG. 1, an electrolytic solution impregnation apparatus 1 according to an embodiment of the present invention includes at least one of a
ワーク100の表面に配置された注入口110はワーク100内部の空洞に接続しており、注入口110から電解液200がワーク100内部に注入される。ワーク100は、例えば電解二重層コンデンサ(EDLC)などの電解コンデンサ、或いは二次電池などの電解液収納容器である。
The
液面調整装置60は、ワーク100に電解液200が注入されることによって低下する液面201の位置がワーク100の注入口110の上端よりも下の位置にならないように、液面201の位置を調整する。液面調整装置60による液面201の位置の調整は、ワーク100への電解液200の注入が終了した後、新たなワーク100に電解液200を注入する工程の前に行われる。つまり、ワーク100交換時に、次に電解液200が注入されるワーク100の注入口110が電解液200の注入工程中に液面201よりも上方にならないように、予め液面201の位置の調整が行われる。ワーク100への電解液注入工程では、図1に示すように液面調整装置60はチャンバー10の外部に配置されている。液面調整装置60の機能の詳細は後述する。
The liquid
電解液槽20は昇降機構70によって支持される。具体的には、ワーク100に電解液200を注入する場合に、電解液槽20を上昇させてチャンバー10内に格納させる。ワーク100内に電解液200を注入した後は、電解液槽20を下降させてチャンバー10の外部に移動させる。
The
図2に電解液槽20の構造例を示す。電解液槽20の上面には、ワーク100が電解液200に浸漬されるワーク接液溝210及びワーク接液溝210に連接する蓄液領域221、222からなる凹部が上面に形成されている。そして、ワーク接液溝210及び蓄液領域221、222には電解液200が収納されている。
FIG. 2 shows an example of the structure of the
図3、図4に、ワーク100がワーク接液溝210に浸漬された状態を示す。電解液200は高価であるため、ワーク100の表面に付着する電解液200の量をできるだけ少なくすることが好ましい。例えば、注入口110はワーク100の底面の角部周辺に配置する。これにより電解液200中に浸漬されるワークの表面積を小さくできる。その結果、ワーク100を電解液200から引き出す際にワーク100の表面に付着する電解液200の量を少なくできる。
3 and 4 show a state in which the
このため、支持機構30は、ワーク100の注入口110が配置された角部周辺が最下箇所になるように傾けた姿勢でワーク100を保持する。そして、注入口110を含むワーク100の一部をワーク接液溝210で電解液200に浸漬させる。つまり、図4に示したように、電解液200の液面201に対してワーク100の底面が一定の角度をなすように、ワーク100は支持される。このとき、注入口110の上端が電解液200の液面201よりも下になる位置で、チャンバー10内でワーク100が支持される。
For this reason, the
ガス導入機構50は、電解液200にワーク100の注入口110全体が浸された状態で、真空状態のチャンバー10内に窒素ガスなどのガス500を導入する。これにより、電解液含浸装置1では、減圧を利用した真空差圧法によってワーク100の中に電解液200が注入される。なお、図5に示すように、複数のワーク100をワーク接液溝210で電解液200に浸漬させてもよい。これにより、複数のワーク100に電解液200を同時に注入することができる。
The
ここで、蓄液領域221、222を有する電解液槽20の効果について説明する。例えば、図6に示したように、蓄液領域221、222を形成せずにワーク接液溝210のみを上面に形成した電解液槽20Aの場合、電解液槽20Aに収納される電解液200の量が少ない。このため、ワーク100に電解液200が注入されるに従って、電解液200の液面201が急速に低下する。したがって、電解液200の注入工程の途中で、ワーク100の注入口110よりも液面201が下がって、電解液200の注入不足が発生するおそれがある。
Here, the effect of the
これに対し、図2に示した電解液槽20では、ワーク接液溝210だけでなく、蓄液領域221、222にも電解液200が収納されている。このため、電解液槽20に収納される電解液200の全体量が多い。したがって、ワーク100への電解液200の注入に伴う電解液200の液面201の低下が緩やかである。その結果、ワーク100内部への電解液200の注入時における液面201の低下による電解液200の注入不足が抑制される。
On the other hand, in the
なお、蓄液領域221、222などの蓄液領域の形状や位置は図2に示したものに限られず、例えば蓄液領域を丸形状以外の多角形や矩形にしてもよい。また、蓄液領域の数は2つに限定されず、例えば1つでもよい。
In addition, the shape and position of liquid storage area | regions, such as the liquid storage area |
図1に示した電解液含浸装置1では、ワーク100の注入口110が電解液200の液面201よりも常に低い位置にあるように、液面調整装置60が電解液槽20内の電解液200の液面201の位置を調整する。液面調整装置60の機能を以下に説明する。
In the electrolytic solution impregnating apparatus 1 shown in FIG. 1, the liquid
液面調整装置60は、図1に示したように、検出装置61と電解液供給装置62とを有する。既に述べたように、液面調整装置60による液面201の位置の調整は、ワーク100の交換時に行われる。液面201の位置調整時には、図7に示すように、検出装置61と電解液供給装置62の供給ノズル65がチャンバー10内に配置される。または、電解液槽20をチャンバー10の外に移動し、チャンバー10外において図7の位置関係で電解液槽20と検出装置61及び供給ノズル65を配置する。
As shown in FIG. 1, the liquid
検出装置61は、電解液200の液面201の位置に関わらず電解液注入工程において一定の高さに保たれる位置(以下において、「基準位置H1」という。)、及び液面201の位置(以下において、「液面位置H2」という。)を検出する。
The
基準位置H1を測定する場所は、例えば電解液槽20の上面などに設定する。具体的には、ワーク接液溝210及び蓄液領域221、222が形成された領域の残余の領域である、例えば図2に破線で示した領域(以下において、「基準位置測定領域230」という。)に設定する。液面位置H2として、例えば蓄液領域221の液面201の位置を測定する。検出装置61には、基準位置測定領域230と蓄液領域221の液面201にそれぞれ超音波を照射して基準位置H1と液面位置H2を検出する超音波センサーなどを採用可能である。
The place where the reference position H1 is measured is set, for example, on the upper surface of the
電解液供給装置62は、図8に示すように定義される基準位置H1と液面位置H2との高低差に応じて、電解液槽20に電解液200を供給する。具体的には、電解液供給装置62は、基準位置H1と液面位置H2との差が予め設定された設定値よりも大きい場合に、電解液槽20に電解液200を供給する。
The electrolytic
このとき、基準位置H1と液面位置H2との差が設定値よりも大きい場合には次のワーク100への電解液200の注入工程中に電解液200の液面201がワーク100の注入口110の上端よりも低下する可能性が高いように、設定値が決められている。例えば、ワーク100を電解液200に浸漬したことによる液面201の上昇や、新たなワーク100に所定量の電解液200を注入することによる液面201の下降などを考慮して、次の電解液注入工程が完了するまで電解液200の液面201がワーク100の注入口110の上端よりも下の位置にならないように、電解液槽20に電解液200を供給開始する基準である設定値が決定される。
At this time, when the difference between the reference position H1 and the liquid level position H2 is larger than the set value, the
基準位置H1と液面位置H2の差が設定値よりも大きい場合には、電解液供給装置62は、電解液200が貯蔵された電解液タンク63と供給ノズル65とをつなぐ送液ライン66の途中に設置された供給バルブ64に信号Sを送信する。これにより供給バルブ64が開き、電解液タンク63から送られた電解液200が、供給ノズル65から電解液槽20に供給される。供給ノズル65は、例えば蓄液領域222の上方に配置され、蓄液領域222から電解液槽20に電解液200を供給する。
When the difference between the reference position H1 and the liquid surface position H2 is larger than the set value, the electrolytic
電解液タンク63から電解液槽20に供給される電解液200の量は、基準位置H1よりも液面位置H2が一定の距離だけ下方に位置するように設定される。このとき、電解液槽20が移動することによって生じる揺れや、ワーク100をワーク接液溝210に浸漬することにより、電解液槽20から電解液200が溢れないように電解液槽20に供給される電解液200の量が設定される。例えば、基準位置H1と液面位置H2との差が0.2mm程度になるように、電解液タンク63から電解液槽20に供給される電解液200の量を設定する。
The amount of the
所定の量だけ電解液槽20に電解液200が供給された後、電解液供給装置62の制御によって供給ノズル65が閉じられ、電解液タンク63から電解液槽20への電解液200の供給が停止する。
After the
以上のようにして、液面調整装置60は、電解液注入工程において液面201の位置が注入口110の上端よりも下の位置にならないように、電解液槽20に電解液200を供給して液面201の位置を調整する。
As described above, the liquid
以下に、図1に示した電解液含浸装置1によってワーク100に電解液200を充填する方法の例を、図9を参照して説明する。
Hereinafter, an example of a method of filling the
先ず、ステップS11において、ワーク接液溝210及び蓄液領域221、222に電解液200が収納された電解液槽20をチャンバー10内に格納する。また、ワーク100もチャンバー10内に格納する。このとき、昇降機構70により電解液槽20が上昇した配置においてワーク100の注入口110の上端が電解液200の液面201よりも下になるように、支持機構30がワーク100を支持する。
First, in step S <b> 11, the
次いで、ステップS12において、真空ポンプ40による排気によってチャンバー10内を真空状態にする。チャンバー10内の圧力は例えば数パスカル程度である。その後、昇降機構70により電解液槽20が上昇し、ワーク100が注入口110上部まで浸漬する。その後、ステップS13において、電解液200に注入口110が浸された状態で、ガス導入機構50によって真空状態のチャンバー10内にガス500を導入する。導入されるガス500は窒素ガスなどである。例えば、チャンバー10内の圧力が大気圧又は大気圧以上になるように導入されるガス500の流量が調整される。その結果、注入口110を介してワーク100内に電解液200が注入される。
Next, in step S <b> 12, the inside of the
その後、ステップS15以降において、電解液槽20内の電解液200の液面201の位置に応じて電解液槽20に電解液200を供給して、新たなワーク100に電解液200が注入されることによって低下する液面201の位置が注入口110の上端よりも下の位置にならないように、液面201の位置が調整される。この液面調整工程においては、既に説明した方法によって、液面調整装置60が電解液槽20内の電解液200の液面201の位置を調整する。
Thereafter, in step S15 and subsequent steps, the
即ち、ステップS15において、検出装置61が、基準位置H1と液面位置H2を検出する。そして、ステップS16において、電解液供給装置62が、基準位置H1と液面位置H2との差が予め設定された設定値よりも大きいか否かを判定する。基準位置H1と液面位置H2との差が設定値よりも大きい場合には、ステップS17に処理が進み、電解液槽20に電解液200が供給される。その後、処理はステップS18に進む。
That is, in step S15, the
一方、基準位置H1と液面位置H2との差が設定値以下である場合には、ステップS18に進み、電解液200が注入されていない新たなワーク100がチャンバー10内に格納される。ステップS18の後、処理はステップS12に戻り、新たなワーク100に電解液200が注入される。
On the other hand, when the difference between the reference position H1 and the liquid level position H2 is equal to or smaller than the set value, the process proceeds to step S18, and a
なお、ワーク100内に注入される電解液200の量と注入時間との関係を予め調査しておくことにより、ワーク100内への電解液200の注入量を注入時間によって制御することができる。つまり、電解液注入を開始してからの時間経過によって、ワーク100内に十分な量の電解液200が注入されたか否かを判断できる。
In addition, by investigating the relationship between the amount of
以上に説明したように、本発明の実施形態に係る電解液含浸装置1では、ワーク100内に電解液200が注入されるに従って低下する電解液槽20内の電解液200の液面201の位置が、常にワーク100の注入口110の上端よりも下にあるように、電解液槽20内の電解液200の量が調整される。このため、ワーク100内が電解液200で充填された状態になるまで、注入口110が電解液200に浸っている。その結果、電解液含浸装置1によれば、ワーク100内部への電解液200の注入時における電解液200の液面201の低下による電解液200の注入不足が抑制される。
As described above, in the electrolytic solution impregnation apparatus 1 according to the embodiment of the present invention, the position of the
更に、電解液含浸装置1によれば、注入口110が電解液200にぎりぎりに浸るように電解液200の液面201の位置を調整することができる。このため、ワーク100の表面に付着する電解液200の量が少なく、ワーク100に付着した電解液200を拭き取る工程の所要時間が短縮される。また、拭き取る電解液200の量を少なくすることにより、高価な電解液200の消費量を抑制できる。
Furthermore, according to the electrolytic solution impregnation apparatus 1, the position of the
(その他の実施形態)
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
As mentioned above, although this invention was described by embodiment, it should not be understood that the description and drawing which form a part of this indication limit this invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.
既に述べた実施形態の説明においては、基準位置H1と液面位置H2を検出し、これらの差を用いて電解液槽20に電解液200を注入するか否かを判定する例を示した。しかし、例えば基準位置H1が常に一定である場合には、液面位置H2のみを検出して電解液槽20に電解液200を注入するか否かを判定してもよい。
In the description of the embodiment described above, an example in which the reference position H1 and the liquid level position H2 are detected and whether or not the
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。 As described above, the present invention naturally includes various embodiments not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.
1…電解液含浸装置
10…チャンバー
20…電解液槽
30…支持機構
40…真空ポンプ
50…ガス導入機構
60…液面調整装置
61…検出装置
62…電解液供給装置
63…電解液タンク
64…供給バルブ
65…供給ノズル
66…送液ライン
70…昇降機構
100…ワーク
110…注入口
200…電解液
201…液面
210…ワーク接液溝
221、222…蓄液領域
230…基準位置測定領域
500…ガス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
Claims (7)
チャンバーと、
前記チャンバー内に配置され、前記ワークが電解液に浸漬されるワーク接液溝及び該ワーク接液溝に連接する蓄液領域を含む凹部が上面に形成され、前記ワーク接液溝及び前記蓄液領域に前記電解液が収納された電解液槽と、
前記ワークの少なくとも一部を前記ワーク接液溝で前記電解液に浸漬させ、前記注入口の上端が前記電解液の液面よりも下になる位置で前記チャンバー内で前記ワークを支持する支持機構と、
前記チャンバー内を真空にする真空ポンプと、
前記電解液に前記注入口全体が浸された状態で、真空状態の前記チャンバー内にガスを導入するガス導入機構と、
前記ワークに前記電解液が注入されることによって低下する前記液面の位置が前記注入口の上端よりも下の位置にならないように、前記電解液槽内の前記電解液の液面の位置に応じて前記電解液槽に前記電解液を供給して前記液面の位置を調整する液面調整装置と
を備えることを特徴とする電解液含浸装置。 An electrolyte impregnation apparatus for injecting an electrolyte into a workpiece having an injection port on the surface by a vacuum differential pressure method,
A chamber;
A concave portion including a work wetted groove in which the work is immersed in an electrolyte and a liquid storage region connected to the work wetted groove is formed on the upper surface, and the work wetted groove and the liquid stored An electrolytic solution tank in which the electrolytic solution is stored in a region;
A support mechanism for immersing at least a part of the workpiece in the electrolytic solution in the workpiece wet groove and supporting the workpiece in the chamber at a position where an upper end of the injection port is lower than a liquid level of the electrolytic solution When,
A vacuum pump for evacuating the chamber;
A gas introduction mechanism for introducing a gas into the chamber in a vacuum state in a state where the entire injection port is immersed in the electrolyte solution;
The position of the liquid level, which is lowered when the electrolytic solution is injected into the workpiece, is not lower than the upper end of the injection port. In response, an electrolytic solution impregnation apparatus comprising: a liquid level adjustment device that adjusts the position of the liquid level by supplying the electrolytic solution to the electrolytic solution tank.
前記液面の位置に関わらず一定の高さに保たれる基準位置、及び前記液面の液面位置を検出する検出装置と、
前記基準位置と前記液面位置との高低差が予め設定された設定値よりも大きい場合に、前記電解液容器に前記電解液を供給する電解液供給装置と
を備えることを特徴とする請求項1に記載の電解液含浸装置。 The liquid level adjustment device,
A reference position that is maintained at a constant height regardless of the position of the liquid level, and a detection device that detects the liquid level position of the liquid level;
An electrolyte supply device that supplies the electrolyte solution to the electrolyte container when a difference in height between the reference position and the liquid level position is larger than a preset value. 2. The electrolytic solution impregnation apparatus according to 1.
前記チャンバー内を真空にした後、前記ワークの少なくとも一部を前記ワーク接液溝で前記電解液に浸漬させ、前記ワークの注入口の上端が前記電解液の液面よりも下になる位置で前記チャンバー内で前記ワークを支持するステップと、
前記電解液に前記注入口全体が浸された状態で真空状態の前記チャンバー内にガスを導入して、前記ワーク内に前記電解液を注入するステップと、
前記ワーク内に前記電解液を注入した後の前記電解液槽内の前記電解液の前記液面の位置に応じて前記電解液槽に前記電解液を供給して、新たな前記ワークに前記電解液が注入されることによって低下する前記液面の位置が前記注入口の上端よりも下の位置にならないように、前記液面の位置を調整するステップと
を含むことを特徴とする電解液注入方法。 A work wetted groove in which a workpiece to be treated is immersed in an electrolytic solution and a recess including a liquid storage region connected to the work wetted groove are formed on the upper surface, and the electrolytic solution is formed in the work wetted groove and the liquid storage region. Storing the electrolytic solution tank in which is stored in the chamber;
After evacuating the chamber, at least a part of the workpiece is immersed in the electrolyte in the workpiece wet groove, and the upper end of the workpiece inlet is below the electrolyte level. Supporting the workpiece in the chamber;
Injecting the electrolyte into the workpiece by introducing a gas into the chamber in a vacuum state with the entire injection port immersed in the electrolyte; and
The electrolytic solution is supplied to the electrolytic solution tank according to the position of the liquid level of the electrolytic solution in the electrolytic solution tank after the electrolytic solution is injected into the workpiece, and the electrolytic solution is applied to the new workpiece. Adjusting the position of the liquid level so that the position of the liquid level that is lowered by the liquid injection does not fall below the upper end of the injection port. Method.
前記液面の位置に関わらず一定の高さに保たれる基準位置、及び前記液面の液面位置を検出するステップと、
検出された前記基準位置と前記液面位置との高低差が予め設定された設定値よりも大きい場合に、前記電解液容器に前記電解液を供給するステップと
を含むことを特徴とする請求項5に記載の電解液注入方法。 Adjusting the position of the liquid level comprises:
Detecting a reference position maintained at a constant height regardless of the position of the liquid level, and a liquid level position of the liquid level;
Supplying the electrolytic solution to the electrolytic solution container when a difference in height between the detected reference position and the liquid level position is larger than a preset set value. 5. The electrolyte solution injection method according to 5.
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CN115377626A (en) * | 2022-08-24 | 2022-11-22 | 上海地铁维护保障有限公司 | Supplementary liquid feeding device of subway train battery |
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JP2018106816A (en) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | トヨタ自動車株式会社 | Method for manufacturing battery |
CN115377626A (en) * | 2022-08-24 | 2022-11-22 | 上海地铁维护保障有限公司 | Supplementary liquid feeding device of subway train battery |
CN115377626B (en) * | 2022-08-24 | 2024-03-15 | 上海地铁维护保障有限公司 | Auxiliary liquid adding device for storage battery of subway train |
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