JP2014013367A - Optical laminate and picture display unit - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical laminate with extremely high stability of an antistatic performance, with a stable surface resistance value even after a durability test, capable of restraining generation of rainbow-like irregularities and a color taste change when viewed by a viewer wearing sunglasses having a polarization property.SOLUTION: An optical laminate has an antistatic layer on one surface of a light transmissive substrate having in-plane birefringence. The antistatic layer is formed using a composition for an antistatic layer including conductive fine particles, a resin component and a solvent. The resin component has no reactive functional group within molecules thereof, and also has solubility to the solvent and compatibility to the conductive fine particles. Retardation of the light transmissive substrate is 5,000 nm or larger.

Description

本発明は、光学積層体及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical laminate and an image display device.

陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、タッチパネル等の画像表示装置の最表面には、反射防止性、ハード性や透明性等の種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。
これらの機能層の基材としては、透明性や硬度性に優れるアクリル樹脂等が使用されている。しかし、このような機能層の基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。
On the outermost surface of image display devices such as cathode ray tube display (CRT), liquid crystal display (LCD), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), field emission display (FED), touch panel, An optical laminate comprising functional layers having various functions such as hardware and transparency is provided.
As the base material for these functional layers, an acrylic resin having excellent transparency and hardness is used. However, the base material of such a functional layer is easily charged due to its high insulating properties, and dirt due to adhesion of dust or the like is generated, and there are obstacles due to charging in the display manufacturing process as well as in use. There was a problem that occurred.

このような帯電を防止するために、光学積層体の一部に導電性の帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが従来から行われている(例えば、特許文献1、2参照)。
帯電防止層に添加する帯電防止剤の帯電防止機能を発現するタイプとしては、従来、電子がソリトンやポーラロンといったキャリアを介して移動する電子伝導タイプと、イオン自体が系内を移動するイオン伝導タイプの2種類に分類される。
電子伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、各種金属酸化物や導電性ポリマー等が知られており、一方、イオン伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、第4級アンモニウム塩や、リチウム塩等が知られている。
なかでも、帯電防止層に添加する帯電防止剤としては、カチオン界面活性剤である第4級アンモニウム塩が好ましく用いられていた。
In order to prevent such charging, an antistatic layer containing a conductive antistatic agent has been conventionally provided on a part of the optical laminate (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
There are two types of anti-static agents added to the anti-static layer that exhibit the anti-static function: an electron conduction type in which electrons move through carriers such as solitons and polarons, and an ion conduction type in which ions move within the system. It is classified into two types.
As the electron conduction type antistatic agent, for example, various metal oxides and conductive polymers are known. On the other hand, as the ion conduction type antistatic agent, for example, a quaternary ammonium salt or a lithium salt is used. Etc. are known.
Among these, as the antistatic agent added to the antistatic layer, a quaternary ammonium salt that is a cationic surfactant is preferably used.

しかしながら、帯電防止剤として第4級アンモニウム塩を用いてなる帯電防止層を供えた光学積層体は、帯電防止層を形成する際の塗工環境によって表面抵抗値が安定しないという問題があった。また、近年、光学積層体には極めて高度な耐久性能(耐光性能及び耐熱性能)が要求されるようになってきているが、帯電防止層を形成する際の表面抵抗値の安定性は、帯電防止層を備えた光学積層体の表面抵抗値の安定性とリンクしているため、第4級アンモニウム塩を用いてなる帯電防止層を備えた光学積層体は、耐久性試験の前後でも表面抵抗値が安定しないという問題があった。具体的には、帯電防止層を備えた光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いる場合、耐久性試験後における光学積層体の表面抵抗値が低くなり過ぎると、タッチセンサーが充分に感知できなくなる問題が生じ、耐久性試験後の光学積層体の表面抵抗値が高くなり過ぎると、タッチ部分で電荷が一時的に集中して液晶分子に影響を及ぼす結果、表示画面に白濁現象が生じることがあった。
また、帯電防止層に添加する帯電防止剤として、導電性ポリマーや導電性微粒子を用いることも従来から知られているが、このような帯電防止剤を用いてなる帯電防止層を備えた光学積層体も、耐久性試験により表面抵抗値が悪化するという問題があった。
However, an optical laminate provided with an antistatic layer using a quaternary ammonium salt as an antistatic agent has a problem that the surface resistance value is not stable depending on the coating environment when the antistatic layer is formed. In recent years, optical laminates have been required to have extremely high durability performance (light resistance performance and heat resistance performance), but the stability of the surface resistance when forming an antistatic layer is charged Since the optical layered body having an antistatic layer using a quaternary ammonium salt is linked with the stability of the surface resistance value of the optical layered body having the anti-reflection layer, the surface resistance value of the optical layered body before and after the durability test is There was a problem that the value was not stable. Specifically, when an optical laminate with an antistatic layer is used for a capacitive touch panel, if the surface resistance of the optical laminate after the durability test becomes too low, the touch sensor can sufficiently detect it. If the surface resistance value of the optical laminate after the durability test becomes too high after the endurance test, the electric charge temporarily concentrates on the touch part and affects the liquid crystal molecules, resulting in white turbidity on the display screen. was there.
In addition, it is conventionally known to use a conductive polymer or conductive fine particles as an antistatic agent to be added to the antistatic layer. However, an optical laminate provided with an antistatic layer using such an antistatic agent. The body also had a problem that the surface resistance value was deteriorated by the durability test.

また、従来、帯電防止層等は光透過性基材上に積層されて光学積層体を構成しており、この光透過性基材としては、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた。これは、セルロースエステルは、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない(面内にほとんど複屈折を有さない)ため、入射直線偏光の振動方向を変化させることが極めて少なく、液晶表示装置の表示品質への影響が少ないことや、適度な透水性を有することから、光学積層体を用いてなる偏光板を製造した時に偏光子に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、コスト的には不利な素材であり、また、耐湿、耐熱性が充分でなく、光学積層体を偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。
Conventionally, an antistatic layer or the like is laminated on a light-transmitting substrate to constitute an optical laminate, and as this light-transmitting substrate, a film made of cellulose ester typified by triacetyl cellulose is used. It was used. This is because cellulose ester is excellent in transparency and optical isotropy, and has almost no phase difference in the plane (almost no birefringence in the plane), so that the vibration direction of incident linearly polarized light can be changed. Since there is little influence on the display quality of the liquid crystal display device and it has moderate water permeability, the moisture remaining in the polarizer when the polarizing plate using the optical laminate is produced is removed from the optical laminate. It is based on the advantage that it can be dried through the body.
However, the cellulose ester film is a disadvantageous material in terms of cost, and has insufficient moisture resistance and heat resistance. If the optical laminate is used as a polarizing plate protective film in a hot and humid environment, the polarizing function and hue There is a disadvantage that the polarizing plate function is lowered.

このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、透明性、耐熱性、機械強度に優れ、かつ、セルロースエステルフィルムに比べて安価で市場において入手が容易な、あるいは簡易な方法で製造することが可能な汎用性フィルムを光学積層体の光透過性基材として用いることが望まれており、例えば、セルロースエステル代替フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを利用する試みがなされている(例えば、特許文献3参照)。 From the problems of such cellulose ester film, it is excellent in transparency, heat resistance and mechanical strength, and is cheaper than cellulose ester film and easily available in the market, or can be produced by a simple method. It is desired to use a versatile film as a light-transmitting substrate of an optical laminate. For example, attempts have been made to use a polyester film such as polyethylene terephthalate as a cellulose ester substitute film (for example, Patent Document 3). reference).

ところが、ポリエステルフィルムは、分子鎖中に分極率の大きい芳香族環を持つため固有複屈折が極めて大きく、優れた透明性、耐熱性、機械強度を付与させるための延伸処理による分子鎖の配向に伴って複屈折が発現しやすいという性質を有する。
このようなポリエステルフィルム等の面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体を画像表示装置の表面に設置した場合、該画像表示装置の表示画面を、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認すると、色の異なるムラ(以下、「ニジムラ」ともいう)が生じてしまうという問題があった。
また、このような面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体を設置した画像表示装置が、スマートフォンやタブレット端末のような場合、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認しつつ、該画像表示装置を表示画面の外周方向に回転させた場合、表示画像に色味変化が生じるという問題もあった。
However, the polyester film has an aromatic ring with a high polarizability in the molecular chain, so the intrinsic birefringence is extremely large, and the molecular chain is oriented by stretching to give excellent transparency, heat resistance, and mechanical strength. Along with this, birefringence is easily developed.
When an optical laminate using a light-transmitting substrate having a birefringence index in the plane of such a polyester film is installed on the surface of the image display device, the display screen of the image display device has polarization characteristics. When viewed with sunglasses, there is a problem that unevenness of different colors (hereinafter also referred to as “Nijimura”) occurs.
In addition, when an image display device in which an optical laminate using a light-transmitting base material having a birefringence index in such a plane is installed, such as a smartphone or a tablet terminal, a state in which sunglasses having polarization characteristics are put on When the image display device is rotated in the outer peripheral direction of the display screen while visually recognizing, there is also a problem that a change in color occurs in the display image.

特開2006−126808号公報JP 2006-126808 A 特開2005−31282号公報JP 200531282 A 特開2004−205773号公報JP 2004-205773 A

本発明は、上記現状に鑑み、帯電防止性能の安定性が極めて高く、耐久性試験前後においても表面抵抗値の変化が少なく、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認した場合であっても、ニジムラの発生及び色味変化が抑制された光学積層体、該光学積層体を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。 In view of the above situation, the present invention has a very high antistatic performance, and there is little change in the surface resistance value before and after the durability test, even when it is viewed with sunglasses having polarization characteristics. An object of the present invention is to provide an optical layered product in which the occurrence of azimuth and color change are suppressed, and an image display device using the optical layered product.

すなわち、本発明は、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体であって、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものであり、上記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、上記溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有し、上記光透過性基材は、リタデーションが5000nm以上であることを特徴とする光学積層体である。 That is, the present invention provides an optical laminate having an antistatic layer on one surface of a light-transmitting substrate having a birefringence index in the plane, the antistatic layer comprising conductive fine particles, a resin component, and the like. The resin component is formed using a composition for an antistatic layer containing a solvent, and the resin component does not have a reactive functional group in the molecule, and has solubility in the solvent and the conductive fine particles. And the optically transparent substrate is characterized in that the retardation is 5000 nm or more.

本発明の光学積層体において、上記導電性微粒子は、鎖状又は針状であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、80℃環境で500時間保持する耐久性試験(1)及びキセノンアークを300時間照射する耐久性試験(2)の前後における表面抵抗値の変化率{(試験後の表面抵抗値)/(試験前の表面抵抗値)}が、いずれも0.5〜2.0であることが好ましい。
また、上記樹脂成分は、重量平均分子量が2万〜20万であり、ガラス転移温度が80〜120℃であることが好ましい。
また、上記樹脂成分は、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びABS樹脂からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
また、上記導電性微粒子は、アンチモン錫酸化物(ATO)であり、樹脂成分は、ポリメチルメタクリレートであり、溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルであることが好ましい。
In the optical layered body of the present invention, the conductive fine particles are preferably chain-like or needle-like.
In addition, the optical laminate of the present invention has a change rate of the surface resistance value {(test) before and after the durability test (1) for 500 hours in an 80 ° C. environment and the durability test (2) for 300 hours irradiation with xenon arc. (Surface resistance value) / (Surface resistance value before test)} is preferably 0.5 to 2.0.
The resin component preferably has a weight average molecular weight of 20,000 to 200,000 and a glass transition temperature of 80 to 120 ° C.
The resin component is at least one selected from the group consisting of acrylic resins, cellulose resins, urethane resins, vinyl chloride resins, polyester resins, polyolefin resins, polycarbonate, nylon, polystyrene, and ABS resins. It is preferable that
The conductive fine particles are preferably antimony tin oxide (ATO), the resin component is polymethyl methacrylate, and the solvent is preferably propylene glycol monomethyl ether.

また、本発明の光学積層体は、上記帯電防止層の光透過性基材側と反対側の面上にハードコート層を有することが好ましい。
また、上記ハードコート層は、帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分を含有することが好ましい。
また、上記ハードコート層は、導通微粒子を含有することが好ましい。
また、上記ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
また、上記紫外線吸収剤の含有量が、3〜15質量%であることが好ましい。
Moreover, it is preferable that the optical laminated body of this invention has a hard-coat layer on the surface on the opposite side to the light transmissive base material side of the said antistatic layer.
Moreover, it is preferable that the said hard-coat layer contains the same resin component as the resin component contained in an antistatic layer.
The hard coat layer preferably contains conductive fine particles.
Moreover, it is preferable that the said hard-coat layer contains a ultraviolet absorber.
Moreover, it is preferable that content of the said ultraviolet absorber is 3-15 mass%.

また、本発明は、本発明の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
Moreover, this invention is also an image display apparatus provided with the optical laminated body of this invention.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明者らは、従来の光学積層体が、耐久性試験(耐光性試験及び耐熱性試験)を行った後に表面抵抗値が安定しないことについて、鋭意検討した結果、従来の光学積層体は、耐久性試験の前後において帯電防止層に含まれる帯電防止剤が動き、その位置が変化してしまうことに起因することを見出した。そして、このような問題を解決するため、更に検討した結果、帯電防止層を特定の材料の組み合わせによって構成することで、耐久性試験(耐光性試験及び耐熱性試験)の前後において表面抵抗値の変化が小さいことを見出した。更に、面内に複屈折率を有する光透過性基材として、所定のリタデーション値を有するものとすることで、偏光特性を有するサングラス越しに視認してもニジムラ及び色味変化の発生を好適に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of earnestly examining the fact that the conventional optical laminate is not stable in surface resistance after performing a durability test (light resistance test and heat resistance test), the conventional optical laminate is It has been found that the antistatic agent contained in the antistatic layer moves and changes its position before and after the durability test. And in order to solve such a problem, as a result of further examination, by configuring the antistatic layer with a combination of specific materials, the surface resistance value was measured before and after the durability test (light resistance test and heat resistance test). We found that the change was small. Furthermore, as a light-transmitting substrate having an in-plane birefringence index, it has a predetermined retardation value, so that it is possible to generate nitrile and color change even when viewed through sunglasses having polarization characteristics. The inventors have found that this can be prevented and have completed the present invention.

本発明は、光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体である。
本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものである。すなわち、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、層中にモノマー成分を含有するものではない。
ここで、上記モノマー成分とは、光学積層体の耐久性試験、例えば、80℃の高温試験、カーボンアークのフェードメーター、キセノンランプを用いたキセノンウェザーメーターを用いた耐久性試験を行った時に反応し、帯電防止層に硬化収縮を起こさせる成分を意味する。
本発明の光学積層体は、このようなモノマー成分を帯電防止層に含有しないため、耐久性試験後に帯電防止層に硬化収縮が起きず、耐久性試験の前後において表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
具体的には、本発明の光学積層体は、80℃環境で500時間保持する耐久性試験(1)及びキセノンアークを300時間照射する耐久性試験(2)の前後における表面抵抗値の変化率{(試験後の表面抵抗値)/(試験前の表面抵抗値)}が、いずれも0.5〜2.0であることが好ましい。
0.5未満であると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が低く、導電性が高くなるため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷が拡散してしまい、センサーが感知できずタッチセンサーが作動しないことがある。一方、2.0を超えると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が高く、導電性が低下するため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷を充分に拡散できず、一時的に高い電荷が集中してしまい、結果として、液晶分子に影響を及ぼし、表示画面が白濁する現象が発生する恐れがある。
なお、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層がモノマー成分を含有しないとは、該帯電防止層中にモノマー成分を全く含有しない場合のほか、耐久性試験後において表面抵抗値の差が上記範囲内に収まる範囲で含まれている場合も含む意味である。
更に、上記帯電防止層は、紫外線によって分解等してしまう樹脂を含有しないことが好ましい。上記紫外線によって分解等してしまう樹脂としては、例えば、分極の大きい官能基を有する樹脂や、主鎖に不飽和結合を有する樹脂等が挙げられる。
The present invention is an optical laminate having an antistatic layer on one surface of a light-transmitting substrate.
In the optical layered body of the present invention, the antistatic layer is formed using an antistatic layer composition containing conductive fine particles, a resin component, and a solvent. That is, in the optical layered body of the present invention, the antistatic layer does not contain a monomer component in the layer.
Here, the monomer component reacts when a durability test of the optical laminate, for example, a high temperature test at 80 ° C., a carbon arc fade meter, a durability test using a xenon weather meter using a xenon lamp is performed. And a component that causes curing shrinkage in the antistatic layer.
Since the optical layered body of the present invention does not contain such a monomer component in the antistatic layer, curing shrinkage does not occur in the antistatic layer after the durability test, and the surface resistance value does not change before and after the durability test. It will be a thing.
Specifically, the optical layered body of the present invention has a rate of change in surface resistance before and after a durability test (1) for 500 hours in an 80 ° C. environment and a durability test (2) for 300 hours irradiation with a xenon arc. {(Surface resistance value after test) / (Surface resistance value before test)} is preferably 0.5 to 2.0.
When it is less than 0.5, the surface resistance value of the optical laminate of the present invention after the durability test is low and the conductivity is high, so the optical laminate of the present invention is used for a capacitive touch panel The surface charge when touched with a finger diffuses and the sensor cannot be detected and the touch sensor may not operate. On the other hand, if it exceeds 2.0, the surface resistance value of the optical laminate of the present invention after the durability test is high and the conductivity decreases, so the optical laminate of the present invention was used for a capacitive touch panel. In this case, the charge on the surface when touched with a finger cannot be sufficiently diffused, and the high charge is temporarily concentrated. As a result, the liquid crystal molecules may be affected and the display screen may become cloudy. is there.
In the optical layered body of the present invention, the antistatic layer does not contain a monomer component. In addition to the case where the antistatic layer contains no monomer component, there is a difference in surface resistance after a durability test. It also includes the case where it is included within the above range.
Furthermore, the antistatic layer preferably does not contain a resin that is decomposed by ultraviolet rays. Examples of the resin that is decomposed by ultraviolet rays include, for example, a resin having a highly polarized functional group, a resin having an unsaturated bond in the main chain, and the like.

上記導電性微粒子は、本発明の光学積層体の帯電防止性能を担保する材料である。
このような導電性微粒子としては特に限定されず、例えば、金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボンナノチューブ、コーティング微粒子等、従来公知の材料を用いることができる。なかでも、耐光性、耐熱性、環境依存性が良好なことから、金属酸化物微粒子が好適に用いられる。
The conductive fine particles are a material that ensures the antistatic performance of the optical laminate of the present invention.
Such conductive fine particles are not particularly limited, and conventionally known materials such as metal fine particles, metal oxide fine particles, carbon nanotubes, and coating fine particles can be used. Among these, metal oxide fine particles are preferably used because of good light resistance, heat resistance, and environmental dependency.

上記金属微粒子を構成する金属としては特に限定されず、例えば、Au、Ag、Cu、Al、Fe、Ni、Pd、Pt等が挙げられる。
また、上記金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫(SnO)、酸化アンチモン(Sb)、アンチモン錫酸化物(ATO)、インジウム錫酸化物(ITO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、フッ素化酸化スズ(FTO)、ZnO等が挙げられる。
ここで、本発明における「金属酸化物」とは、異種金属がドープされた金属酸化物をも含む概念である。
The metal constituting the metal fine particles is not particularly limited, and examples thereof include Au, Ag, Cu, Al, Fe, Ni, Pd, and Pt.
Further, no particular limitation is imposed on the metal oxide constituting the metal oxide fine particles, for example, tin oxide (SnO 2), antimony oxide (Sb 2 O 5), antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO), aluminum zinc oxide (AZO), fluorinated tin oxide (FTO), ZnO and the like.
Here, the “metal oxide” in the present invention is a concept including a metal oxide doped with a different metal.

また、上記コーティング微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層が形成された構成の従来公知の微粒子が挙げられる。
上記コア微粒子としては特に限定されず、例えば、シリカ微粒子、ガラス微粒子等の無機微粒子;フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー微粒子;有機質無機質複合体粒子等の微粒子が挙げられる。また、上記導電性被覆層を構成する材料としては特に限定されず、例えば、上述した金属又はこれらの合金や、上述した金属酸化物等が挙げられる。
Moreover, it does not specifically limit as said coating fine particle, For example, the conventionally well-known fine particle of the structure by which the electroconductive coating layer was formed on the surface of core fine particle is mentioned.
The core fine particles are not particularly limited, and examples thereof include inorganic fine particles such as silica fine particles and glass fine particles; polymer fine particles such as fluororesin fine particles, acrylic resin particles, and silicone resin particles; and fine particles such as organic inorganic composite particles. Moreover, it does not specifically limit as a material which comprises the said electroconductive coating layer, For example, the metal mentioned above or these alloys, the metal oxide mentioned above, etc. are mentioned.

上記導電性微粒子は、平均一次平均粒子径が6〜40nmであることが好ましい。6nm未満であると、本発明の光学積層体に充分な帯電防止性能を付与するために添加量を多くする必要があり、透明性やその他の層との間の密着性に劣ることがあり、また、導電性微粒子の抵抗が急激に大きくなるため、上記帯電防止層の導電性能が悪くなることがある。40nmを超えると、導電性微粒子自体の抵抗は低いが、導電性微粒子が帯電防止層中で点在し、良好な抵抗を得られない恐れがある。上記導電性微粒子の平均一次粒子径のより好ましい下限は7nm、より好ましい上限は20nmである。
なお、上記導電性微粒子の平均粒子径とは、上記帯電防止層を形成するための帯電防止層用組成物中においては、日機装社製のMICROTRAC粒度分析計を用いて測定した値を意味し、上記帯電防止増においては、該帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真や走査透過電子顕微鏡(STEM)写真により観察される導電性微粒子の10個の粒子径の平均値を意味する。
The conductive fine particles preferably have an average primary average particle diameter of 6 to 40 nm. If it is less than 6 nm, it is necessary to increase the amount of addition in order to impart sufficient antistatic performance to the optical laminate of the present invention, which may be inferior in transparency and adhesion between other layers, Moreover, since the resistance of the conductive fine particles increases rapidly, the conductive performance of the antistatic layer may deteriorate. If it exceeds 40 nm, the resistance of the conductive fine particles themselves is low, but the conductive fine particles are scattered in the antistatic layer, and there is a possibility that good resistance cannot be obtained. The more preferable lower limit of the average primary particle diameter of the conductive fine particles is 7 nm, and the more preferable upper limit is 20 nm.
The average particle size of the conductive fine particles means a value measured using a MICROTRAC particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. in the antistatic layer composition for forming the antistatic layer, In the above antistatic increase, it means an average value of 10 particle diameters of conductive fine particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph and a scanning transmission electron microscope (STEM) photograph of the cross section of the antistatic layer.

本発明の光学積層体において、上記導電性微粒子は、鎖状又は針状であることが好ましい。このような形状の導電性微粒子は、帯電防止層中で動き難いものであり、耐久性試験時に帯電防止層に硬化収縮が多少生じた場合であっても、光学積層体の表面抵抗値を殆ど変化させることなく安定して帯電防止層中に含有させることができる。
また、上記帯電防止層において隣接する鎖状又は針状の導電性微粒子の接触が生じやすく、少量の添加量で充分な導電性能を有する帯電防止層とすることもできる。
ここで、上記帯電防止層中の導電性微粒子が単粒子状であると、帯電防止層中で隣接する導電性微粒子同士の接触が取りづらく、充分な帯電防止性能を発揮させるためには添加量を多くする必要がある。その結果、上記帯電防止層と他の層との密着性の低下、及び、導電性の経時変化での影響を受ける確率が上がるといった問題が生じることがある。
なお、上記鎖状又は針状とは、2個以上の上記導電性微粒子が直線状又は分岐状で連結された形態を意味する。
以下、鎖状又は針状の導電性微粒子を、「鎖状導電性微粒子」と称して説明する。
In the optical layered body of the present invention, the conductive fine particles are preferably chain-like or needle-like. The conductive fine particles having such a shape are difficult to move in the antistatic layer, and even when some shrinkage of the antistatic layer is caused during the durability test, the surface resistance value of the optical laminate is hardly increased. It can be contained in the antistatic layer stably without being changed.
Further, in the antistatic layer, adjacent chain or needle-like conductive fine particles are easily contacted, and an antistatic layer having sufficient conductive performance can be obtained with a small addition amount.
Here, if the conductive fine particles in the antistatic layer are in the form of single particles, it is difficult to make contact between adjacent conductive fine particles in the antistatic layer. Need to be more. As a result, there may be a problem that the adhesion between the antistatic layer and another layer is lowered and the probability of being affected by the change in conductivity with time is increased.
The chain or needle shape means a form in which two or more conductive fine particles are connected in a linear or branched manner.
Hereinafter, the chain or needle-like conductive fine particles will be referred to as “chain conductive fine particles”.

上記鎖状導電性微粒子とは、上記導電性微粒子の一次粒子が単に粒子間引力によって凝集したものとは相違し、導電性微粒子同士が結合していることが好ましく、このような導電性微粒子は、直線状であっても折れ線上であってもよく、また湾曲状となっていてもよい。 The chain conductive fine particles are different from those in which the primary particles of the conductive fine particles are simply aggregated by the attractive force between the particles, and it is preferable that the conductive fine particles are bonded to each other. It may be linear, broken, or curved.

上記鎖状導電性微粒子は、上記導電性微粒子が2個以上の連結された形態を有していれば特に限定されないが、上記導電性微粒子が直鎖状に2〜50個連結していることが好ましい。
上記導電性微粒子の連結個数が2個未満であると、表面抵抗値を有効に低下させることができないことがあり、上記導電性微粒子の連結個数が50個を超えると、帯電防止層の光透過率が低下し、ヘイズが上昇してしまうことがある。
上記鎖状導電性微粒子を構成する導電性微粒子の連結数のより好ましい下限は3個、より好ましい上限は30個である。
The chain conductive fine particles are not particularly limited as long as the conductive fine particles have a connected form of two or more, but the conductive fine particles are connected in a straight chain with 2 to 50 conductive fine particles. Is preferred.
If the number of connected conductive fine particles is less than 2, the surface resistance value may not be reduced effectively. If the number of connected conductive fine particles exceeds 50, the light transmission of the antistatic layer may be reduced. The rate may decrease and haze may increase.
The more preferable lower limit of the number of connected conductive fine particles constituting the chain conductive fine particles is 3, and the more preferable upper limit is 30.

上記鎖状導電性微粒子の平均長さは、12〜500nmであることが好ましい。12nm未満であると、接触抵抗が増加し、上記帯電防止層の表面抵抗値を有効に低下させることができないことがあり、500nmを超えると、上記帯電防止層の透明性が得られないおそれがあるからである。上記鎖状導電性微粒子の平均長さのより好ましい下限は20nm、より好ましい上限は300nmである。
なお、「鎖状導電性微粒子の平均長さ」とは、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真や走査透過電子顕微鏡(STEM)写真により観察される鎖状導電性微粒子の10個の長さの平均値を意味する。
具体的には、例えば、導電性微粒子が2個以上連結している鎖状導電性微粒子の1個の大きさが確認できる倍率(例えば20万倍以上)で撮影した、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真等において、鎖状導電性微粒子10個選択し、選んだ鎖状導電性微粒子の最も長い部分の長さをそれぞれ測定し、その平均値を求めることにより、帯電防止層中における鎖状導電性微粒子の平均長さを求めることができる。
なお、鎖状導電性微粒子は、曲線状など多様な形状で存在しているが、その長さ測定においては、最も離れた2点間の長さを測定する。
The average length of the chain conductive fine particles is preferably 12 to 500 nm. If the thickness is less than 12 nm, the contact resistance increases, and the surface resistance value of the antistatic layer may not be effectively reduced. If the thickness exceeds 500 nm, the antistatic layer may not be transparent. Because there is. A more preferable lower limit of the average length of the chain conductive fine particles is 20 nm, and a more preferable upper limit is 300 nm.
The “average length of the chain conductive fine particles” means 10 chain conductive fine particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph or a scanning transmission electron microscope (STEM) photograph of the cross section of the antistatic layer. Means the average length of
Specifically, for example, transmission through the cross section of the antistatic layer taken at a magnification (for example, 200,000 times or more) at which one size of the chain-like conductive fine particles in which two or more conductive fine particles are connected can be confirmed. In a scanning electron microscope (TEM) photograph or the like, an antistatic layer is selected by selecting 10 chain conductive fine particles, measuring the length of the longest portion of the selected chain conductive fine particles, and determining the average value thereof. The average length of the chain-like conductive fine particles can be obtained.
The chain conductive fine particles exist in various shapes such as a curved shape. In measuring the length, the length between the two most distant points is measured.

上記鎖状導電性微粒子は、例えば、以下の方法により得ることができる。
まず、金属塩又は金属アルコキシドが0.1〜5質量%の濃度で含まれるアルコール溶液を加熱して、該金属塩又は金属アルコキシドを加水分解させ、平均一次粒子径が1〜100nmの導電性微粒子のゲル分散液を調製する。
このとき必要に応じて温水やアルカリを加えてもよい。
次いで、得られたゲル分散液を濾別、洗浄し、空気中、200〜800℃の温度で焼成して導電性微粒子(金属酸化物微粒子)を調製する。
次いで、この焼成した導電性微粒子の粉末を、酸性又はアルカリ性の水、及び、アルコール溶媒の少なくとも一方に分散させて濃度10〜50質量%の分散液とし、必要に応じて有機安定剤の存在下でこの分散液をメカニカル分散処理する。
なお、上記有機安定剤として具体的には、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン酸等の多価カルボン酸及びその塩、複素環化合物あるいはこれらの混合物等が挙げられる。
このメカニカル分散処理によって、生成ゲルが解膠し、鎖状導電性微粒子が分散したゾルが得られる。
上記メカニカル分散処理としては、例えば、サンドミル法、衝撃分散法等が挙げられ、特に、衝撃分散法が好ましく使用される。
こうして得られた鎖状導電性微粒子は、通常、遠心分離等の方法によって生成後の分散液から取り出され、必要に応じて酸等で洗浄される。
また、得られた鎖状導電性微粒子を含む分散液は、そのまま帯電防止層の形成に使用することもできる。
The chain conductive fine particles can be obtained, for example, by the following method.
First, an alcohol solution containing metal salt or metal alkoxide at a concentration of 0.1 to 5% by mass is heated to hydrolyze the metal salt or metal alkoxide, and conductive fine particles having an average primary particle diameter of 1 to 100 nm. A gel dispersion is prepared.
At this time, you may add warm water and an alkali as needed.
Next, the obtained gel dispersion is filtered, washed, and fired in air at a temperature of 200 to 800 ° C. to prepare conductive fine particles (metal oxide fine particles).
Next, the fired conductive fine particle powder is dispersed in at least one of acidic or alkaline water and an alcohol solvent to obtain a dispersion having a concentration of 10 to 50% by mass, and if necessary, in the presence of an organic stabilizer. Then, this dispersion is mechanically dispersed.
Specific examples of the organic stabilizer include gelatin, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, and citric acid. And polyvalent carboxylic acids and salts thereof, heterocyclic compounds or mixtures thereof.
By this mechanical dispersion treatment, a sol in which the generated gel is peptized and the chain conductive fine particles are dispersed is obtained.
Examples of the mechanical dispersion treatment include a sand mill method and an impact dispersion method. In particular, the impact dispersion method is preferably used.
The chain conductive fine particles obtained in this manner are usually taken out from the produced dispersion by a method such as centrifugation, and washed with an acid or the like as necessary.
Further, the obtained dispersion liquid containing chain conductive fine particles can be used as it is for the formation of the antistatic layer.

上記鎖状導電性微粒子を含む分散液の市販品としては、例えば、日揮触媒化成社製のELCOM−V3560、DP1197、DP1203、DP1204、DP1207、DP1208等が挙げられる。 Examples of commercially available dispersions containing the chain conductive fine particles include ELCOM-V3560, DP1197, DP1203, DP1204, DP1207, and DP1208 manufactured by JGC Catalysts & Chemicals.

上記帯電防止層における導電性微粒子の含有量としては、使用する導電性微粒子の種類、形状及び大きさ等に応じて適宜調整されるが、例えば、後述する樹脂成分100質量部に対して、100〜300質量部であることが好ましい。100質量部未満であると、本発明の光学積層体体の帯電防止性能が不充分となることがあり、300質量部を超えると、上記帯電防止層の他の層との密着性が劣ることがあり、また、導電性の経時変化での影響を受ける確率が上がるといった問題が生じることがある。上記導電性微粒子の含有量のより好ましい下限は150質量部、より好ましい上限は250質量部である。この範囲にあることで、安定した抵抗値を得ながら、光透過性基材への密着性を確保できる。 The content of the conductive fine particles in the antistatic layer is appropriately adjusted according to the type, shape, size, and the like of the conductive fine particles to be used. For example, the content is 100 with respect to 100 parts by mass of the resin component described later. It is preferable that it is -300 mass parts. If it is less than 100 parts by mass, the antistatic performance of the optical layered body of the present invention may be insufficient, and if it exceeds 300 parts by mass, the adhesion to other layers of the antistatic layer is poor. In addition, there is a possibility that the probability of being affected by the change in conductivity with time increases. The minimum with more preferable content of the said electroconductive fine particles is 150 mass parts, and a more preferable upper limit is 250 mass parts. By being in this range, it is possible to ensure adhesion to the light-transmitting substrate while obtaining a stable resistance value.

上記樹脂成分は、ポリマーであって、上記帯電防止層のバインダー成分としての役割を果たす材料であり、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、後述する溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有するものである。
上記帯電防止層がバインダー成分として、ポリマーである樹脂成分を含有することで、本発明の光学積層体は、耐久性試験後において帯電防止層に硬化収縮が起きず、表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
このため、上記樹脂成分としては、分子中に反応性官能基を有さないものである。上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有さないことにより、該樹脂成分の二次的な反応が無く、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層の性能を維持することができる。上記樹脂成分が分子中に反応性基を有するものである場合、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層中で、暗反応により徐々に上記樹脂成分が反応を進めてしまうことがあり、長期的に徐々に上記樹脂成分の反応が進むと、該反応により樹脂成分の結合が生じることとなり、樹脂成分が形成していた物理的距離が収縮することがある。その結果として帯電防止層中での導電性微粒子の物理的距離も縮まってしまい、導電パスを増大させ帯電防止層の導電性が向上し抵抗値が下がってしまうという問題が生じる。
また、上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有すると、耐久性試験により該反応性官能基が反応して帯電防止層に硬化収縮が生じ、表面抵抗値が変化してしまう。
なお、上記反応性官能基としては、耐久性試験において反応することがある官能基を意味し、例えば、アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する官能基、エポキシ環、オキセタン環等の環状エーテル基、ラクトン環等の開環重合基、ウレタンを形成するイソシアネート基等が挙げられる。
なお、これらの反応性官能基は、上記樹脂成分中に全く含まれないことが好ましいが、耐久性試験後において、帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度であれば含まれていてもよい。
上記帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度とは、耐久性試験後における表面抵抗率の変化率が上述した範囲にある場合を意味する。
The resin component is a polymer and a material that plays a role as a binder component of the antistatic layer, does not have a reactive functional group in the molecule, and has a solubility in a solvent described later and the conductivity. It has compatibility with fine particles.
When the antistatic layer contains a resin component that is a polymer as a binder component, the optical laminate of the present invention is stable in that the antistatic layer does not undergo curing shrinkage and the surface resistance value does not change after the durability test. Will be.
For this reason, the resin component has no reactive functional group in the molecule. Since the resin component does not have a reactive functional group in the molecule, there is no secondary reaction of the resin component, and the performance of the antistatic layer formed after applying and drying the antistatic layer composition Can be maintained. When the resin component has a reactive group in the molecule, the resin component gradually proceeds by a dark reaction in the antistatic layer formed after coating and drying the antistatic layer composition. When the reaction of the resin component proceeds gradually over a long period of time, the resin component may be bound by the reaction, and the physical distance formed by the resin component may shrink. As a result, the physical distance of the conductive fine particles in the antistatic layer is also shortened, resulting in a problem that the conductive path is increased, the conductivity of the antistatic layer is improved, and the resistance value is lowered.
Further, when the resin component has a reactive functional group in the molecule, the reactive functional group reacts by a durability test, causing curing shrinkage in the antistatic layer, and the surface resistance value changes.
The reactive functional group means a functional group that may react in the durability test, for example, a functional group having an unsaturated double bond such as an acryloyl group or a vinyl group, an epoxy ring, an oxetane ring, or the like. A cyclic ether group, a ring-opening polymerization group such as a lactone ring, an isocyanate group that forms urethane, and the like.
These reactive functional groups are preferably not contained in the resin component at all, but may be contained as long as they do not cause curing shrinkage in the antistatic layer after the durability test.
The level that does not cause curing shrinkage in the antistatic layer means that the rate of change in surface resistivity after the durability test is in the above-described range.

また、上記樹脂成分は、後述する溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有する。
このような樹脂成分を含有する帯電防止層用組成物を用いてなる帯電防止層は、導電性微粒子の分散性に優れるとともに、経時での表面抵抗値の安定性に優れたものとなる。
なお、本明細書において、「溶解性を有する」とは、上記樹脂成分を後述する溶剤に溶解させた樹脂溶液において、ゲル成分を生じることがなく、かつ、当該樹脂溶液における溶剤比率の増大に応じて粘度が低下する特性を有することを意味する。
また、「相溶性を有する」とは、上記樹脂溶液と上記導電性微粒子とを混合した帯電防止層用組成物において、樹脂成分100質量部に対して、上記導電性微粒子が少なくとも100〜300質量部の範囲において任意の比率で混合しても、ゲル化物を生ずることなく均一分散しており、上記帯電防止層用組成物をムラなく塗工して塗膜を形成することができ、該塗膜を乾燥させてなる帯電防止層にヘイズの上昇等の外観悪化が生じないことを意味する。
The resin component has solubility in a solvent described later and compatibility with the conductive fine particles.
The antistatic layer using the antistatic layer composition containing such a resin component is excellent in the dispersibility of the conductive fine particles and in the stability of the surface resistance value over time.
In the present specification, “having solubility” means that a gel component is not generated in a resin solution obtained by dissolving the resin component in a solvent described later, and the solvent ratio in the resin solution is increased. It means having a characteristic that the viscosity decreases accordingly.
In addition, “compatible” means that in the antistatic layer composition obtained by mixing the resin solution and the conductive fine particles, the conductive fine particles are at least 100 to 300 masses with respect to 100 parts by mass of the resin component. Even if they are mixed at an arbitrary ratio in the range of the part, they are uniformly dispersed without forming a gelled product, and the above antistatic layer composition can be applied evenly to form a coating film. It means that appearance deterioration such as an increase in haze does not occur in the antistatic layer obtained by drying the film.

また、上記樹脂成分は、側鎖を有するものであることが好ましい。
上記側鎖を有する樹脂成分は、該側鎖が立体障害となって帯電防止層中で動き難くなり、本発明の光学積層体をより好適に表面抵抗値の安定性に優れたものとすることができる。
Moreover, it is preferable that the said resin component is what has a side chain.
The resin component having the above side chain is difficult to move in the antistatic layer due to the steric hindrance of the side chain, and the optical laminate of the present invention is more preferably excellent in stability of the surface resistance value. Can do.

上記樹脂成分は、重量平均分子量が2万〜20万であることが好ましい。2万未満であると、帯電防止層に充分な硬さが得られず、耐久性試験の前後で表面抵抗値が不安定となることがある。一方、20万を超えると、後述する帯電防止層用組成物の粘度が高くなりすぎ塗布できないことがある。上記重量平均分子量のより好ましい下限は5万、より好ましい上限は10万である。
なお、上記重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算により求めることができる。GPC移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。上記市販品カラムとしては、例えば、Shodex GPC KF−801、GPC KF−802、GPC KF−803、GPC KF−804、GPC KF−805、GPC KF−800D(いずれも、商品名、昭和電工社製)等を挙げることができる。検出器には、RI(示差屈折率)検出器及びUV検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Shodex GPC−101(昭和電工社製)等のGPCシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。
The resin component preferably has a weight average molecular weight of 20,000 to 200,000. If it is less than 20,000, sufficient hardness cannot be obtained for the antistatic layer, and the surface resistance value may become unstable before and after the durability test. On the other hand, when it exceeds 200,000, the viscosity of the composition for an antistatic layer described later may become too high to be applied. The minimum with said more preferable weight average molecular weight is 50,000, and a more preferable upper limit is 100,000.
In addition, the said weight average molecular weight can be calculated | required by polystyrene conversion by gel permeation chromatography (GPC). Tetrahydrofuran or chloroform can be used as the solvent for the GPC mobile phase. The measurement column may be used in combination with a commercially available column such as a column for tetrahydrofuran or a column for chloroform. Examples of the commercial product column include Shodex GPC KF-801, GPC KF-802, GPC KF-803, GPC KF-804, GPC KF-805, GPC KF-800D (all trade names, manufactured by Showa Denko KK). And the like. As the detector, an RI (differential refractive index) detector and a UV detector may be used. Using such a solvent, column, and detector, the weight average molecular weight can be appropriately measured by a GPC system such as Shodex GPC-101 (manufactured by Showa Denko).

また、上記樹脂成分は、ガラス転移温度が80〜120℃であることが好ましい。80℃未満であると、樹脂成分が柔らかくなり、抵抗値が不安定となることがあり、一方、120℃を超えると、樹脂成分が硬くなり、光透過性基材への密着性が低下する恐れがある。上記ガラス転移温度のより好ましい下限は90℃、より好ましい上限は110℃である。この範囲にあることで、安定した抵抗値を得ながら、光透過性基材への密着性を確保できる。 The resin component preferably has a glass transition temperature of 80 to 120 ° C. When the temperature is lower than 80 ° C., the resin component becomes soft and the resistance value may become unstable. On the other hand, when the temperature exceeds 120 ° C., the resin component becomes hard and the adhesion to the light-transmitting substrate decreases. There is a fear. A more preferable lower limit of the glass transition temperature is 90 ° C., and a more preferable upper limit is 110 ° C. By being in this range, it is possible to ensure adhesion to the light-transmitting substrate while obtaining a stable resistance value.

上記樹脂成分としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びABS樹脂からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
上記アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートブチレート(CAB)等が挙げられる。
また、上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。
また、上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
本発明の光学積層体における上記樹脂成分としては、熱可塑性樹脂であることが好ましく、なかでも、上記導電性微粒子のブリードアウトを防止しやすく、相溶性に優れることから、ポリメチルメタクリレートが好適に用いられる。
The resin component is at least one selected from the group consisting of acrylic resin, cellulose resin, urethane resin, vinyl chloride resin, polyester resin, polyolefin resin, polycarbonate, nylon, polystyrene, and ABS resin. Preferably there is.
Examples of the acrylic resin include polymethyl methacrylate.
Examples of the cellulose resin include diacetyl cellulose, cellulose acetate propionate (CAP), and cellulose acetate butyrate (CAB).
Moreover, as said urethane type resin, a urethane resin etc. are mentioned, for example.
Examples of the vinyl chloride resin include polyvinyl chloride and vinyl chloride-vinyl acetate copolymers.
Moreover, as said polyester-type resin, a polyethylene terephthalate etc. are mentioned, for example.
Moreover, as said polyolefin resin, polyethylene, a polypropylene, etc. are mentioned, for example.
The resin component in the optical layered body of the present invention is preferably a thermoplastic resin. Among them, polymethyl methacrylate is preferred because it easily prevents bleeding out of the conductive fine particles and is excellent in compatibility. Used.

上記帯電防止層は、厚みが0.1〜1.0μmであることが好ましい。0.1μm未満であると、充分な抵抗値を得ることができない恐れがあり、1.0μmを超えると、光透過性基材に対する密着性に劣り、導電性微粒子の材料によっては、全光線透過率が低下することがある。上記帯電防止層の厚みのより好ましい下限は0.2μm、より好ましい上限は0.5μmである。
なお、上記帯電防止層の厚みは、帯電防止層断面を電子顕微鏡(例えば、SEM、TEM、STEM等)を用いて観測し、測定した値である。
The antistatic layer preferably has a thickness of 0.1 to 1.0 μm. If the thickness is less than 0.1 μm, a sufficient resistance value may not be obtained. If the thickness exceeds 1.0 μm, the adhesiveness to the light-transmitting substrate is inferior. The rate may decrease. A more preferable lower limit of the thickness of the antistatic layer is 0.2 μm, and a more preferable upper limit is 0.5 μm.
The thickness of the antistatic layer is a value measured by observing a cross section of the antistatic layer using an electron microscope (for example, SEM, TEM, STEM, etc.).

上記溶剤としては、上記樹脂成分が上述した溶解性を示す有機溶剤が好適に用いられ、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、アルコール類(エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が挙げられ、これらの混合溶剤であってもよい。 As the solvent, an organic solvent in which the resin component exhibits the above-described solubility is preferably used. For example, ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), fat Aromatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, acetic acid) Ethyl, butyl acetate, etc.), alcohols (ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, propylene glycol monomethyl ether, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulfo) Sid), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) and the like, may be a mixed solvent.

ここで、上記導電性微粒子が上述した鎖状導電性微粒子である場合、該鎖状導電性微粒子は、上述したように水やアルコールを用いて調製される。このため、上記鎖状導電性微粒子を用いる場合、上記帯電防止層用組成物の溶剤としてはアルコールが最も好ましい。これは、極性基の少ない溶剤、特に水酸基を持たない溶剤を用いた場合、上記鎖状導電性微粒子を分散させる分散剤を追加する必要がある。そうすると、上記鎖状導電性微粒子の粒子間距離が遠くなる方向に向かい、結果として得られる帯電防止層の表面抵抗値が上昇することになるからである。
一方、上記樹脂成分がポリメチルメタクリレートである場合、該ポリメチルメタクリレートは、一般的にアルコールに不溶もしくは溶けにくく、水酸基が無く、極性基の少ない溶剤には溶けやすい傾向がある。具体的には、上記ポリメチルメタクリレートは、ケトン類、脂肪族、炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類に溶けやすい傾向がある。よって、これらの溶剤を選択することで、ポリメチルメタクリレート溶液を調製することができ、該溶液を用いることで、上記帯電防止層用組成物の調製を容易にすることができる。
上記帯電防止層用組成物では、上記導電性微粒子(鎖状導電性微粒子)と樹脂成分(ポリメチルメタクリレート)とを安定に存在させる必要がある。すなわち、上記溶剤として、極性基が少ない溶剤を多く加えすぎると、上記鎖状導電性微粒子が安定に存在できなくなり、凝集、ゲル化、沈降等の問題が発生する。一方で、アルコール等の極性の高い溶剤を多く加えすぎると、樹脂成分であるポリメチルメタクリレートが安定に存在できなくなり、析出、ゲル化等の問題が発生する。この結果として、上記帯電防止層用組成物として用いることができず、本発明の目的を達成することができなくなる。
このため、上記帯電防止層用組成物は、上記樹脂成分としてポリメチルメタクリレートを用いる場合、例えば、上記溶剤としてメチルイソブチルケトンを用い、上記鎖状導電性微粒子を含有するアルコール分散液と混合する際に、上記ポリメチルメタクリレートと鎖状導電性微粒子とを更に安定的に存在させるため、溶剤としてメチルイソブチルケトンとアルコールとの中間的性質を持ち、かつ、蒸発速度が遅いグリコールエステル類を追加で混合させることが好ましい。なかでも、プロピレングリコールモノメチルエーテルを追加で混合させることがより好ましい。これにより、上記帯電防止層用組成物の乾燥中であっても蒸発速度の遅いプロピレングリコールモノメチルエーテルが最後に残り、ポリメチルメタクリレートのゲル化や鎖状導電性微粒子の凝集等、乾燥中に悪影響を及ぼすことが無くなり、得られる帯電防止層が安定的に目的とする耐久性能を得ることができる。
Here, when the conductive fine particles are the chain conductive fine particles described above, the chain conductive fine particles are prepared using water or alcohol as described above. For this reason, when using the said chain | strand-shaped electroconductive fine particles, alcohol is the most preferable as a solvent of the said composition for antistatic layers. In the case of using a solvent having a small polar group, particularly a solvent having no hydroxyl group, it is necessary to add a dispersant for dispersing the chain conductive fine particles. This is because the inter-particle distance of the chain conductive fine particles increases in the direction, and the resulting surface resistance value of the antistatic layer increases.
On the other hand, when the resin component is polymethyl methacrylate, the polymethyl methacrylate is generally insoluble or hardly soluble in alcohol, tends to be easily dissolved in a solvent having no hydroxyl group and few polar groups. Specifically, the polymethyl methacrylate tends to be easily dissolved in ketones, aliphatics, hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and esters. Therefore, by selecting these solvents, a polymethyl methacrylate solution can be prepared, and the use of the solution can facilitate the preparation of the antistatic layer composition.
In the antistatic layer composition, the conductive fine particles (chain conductive fine particles) and the resin component (polymethyl methacrylate) need to be stably present. That is, if too much solvent having a small number of polar groups is added as the solvent, the chain conductive fine particles cannot be present stably, and problems such as aggregation, gelation, and sedimentation occur. On the other hand, if too much solvent having high polarity such as alcohol is added too much, polymethyl methacrylate which is a resin component cannot be stably present, and problems such as precipitation and gelation occur. As a result, the composition cannot be used as the antistatic layer composition, and the object of the present invention cannot be achieved.
For this reason, when the composition for an antistatic layer uses polymethyl methacrylate as the resin component, for example, when methyl isobutyl ketone is used as the solvent and mixed with an alcohol dispersion containing the chain conductive fine particles. In addition, in order to make the polymethyl methacrylate and chain conductive fine particles more stable, glycol esters having an intermediate property between methyl isobutyl ketone and alcohol and a slow evaporation rate are additionally mixed as a solvent. It is preferable to make it. Of these, it is more preferable to additionally mix propylene glycol monomethyl ether. As a result, propylene glycol monomethyl ether having a low evaporation rate remains at the end even during the drying of the antistatic layer composition, and adverse effects during drying such as gelation of polymethyl methacrylate and aggregation of chain conductive fine particles The antistatic layer obtained can stably achieve the intended durability performance.

このような材料を含有する帯電防止層用組成物は、上述したモノマー成分を含有しないことが好ましいが、上述したように、形成する帯電防止層が耐久性試験後において硬化収縮を起こさない範囲であれば、モノマー成分を含有していてもよい。 The antistatic layer composition containing such a material preferably does not contain the above-described monomer component. However, as described above, the antistatic layer to be formed does not cause curing shrinkage after the durability test. If present, it may contain a monomer component.

上記帯電防止層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。 The method for preparing the antistatic layer composition is not particularly limited as long as each component can be uniformly mixed. For example, the composition can be performed using a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, or a mixer.

上記帯電防止層用組成物を光透過性基材上に塗布し、塗膜を形成した後、該塗膜を乾燥させることで、上記帯電防止層を形成することができる。
上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
The antistatic layer can be formed by applying the antistatic layer composition onto a light-transmitting substrate to form a coating film and then drying the coating film.
The coating method is not particularly limited. For example, spin coating method, dip method, spray method, die coating method, bar coating method, roll coater method, meniscus coater method, flexographic printing method, screen printing method, pea coater method, etc. Can be mentioned.

本発明の光学積層体は面内に複屈折率を有する光透過性基材を有する。
上記面内に複屈折率を有する光透過性基材としては特に限定されず、例えば、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、アクリル、ポリエステル等からなる基材が挙げられるが、なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステル基材であることが好適である。なお、以下の説明では、面内に複屈折率を有する光透過性基材をポリエステル基材として説明する。
The optical layered body of the present invention has a light-transmitting substrate having a birefringence in the plane.
The light-transmitting substrate having a birefringence in the plane is not particularly limited, and examples thereof include substrates made of polycarbonate, cycloolefin polymer, acrylic, polyester, etc. Among them, cost and mechanical strength are mentioned. It is preferred that the polyester base is advantageous. In the following description, a light-transmitting substrate having a birefringence in the plane will be described as a polyester substrate.

上記ポリエステル基材は、リタデーションが5000nm以上である。5000nm未満であると、上述した画像表示装置の表示画像を、偏光特性を有するサングラス越しに視認したときに、ニジムラ及び色味変化の発生を抑制できなくなる。また、このような低リタデーションのポリエステル基材は、透明性、耐熱性及び機械強度に劣ることがある。一方、上記ポリエステル基材のリタデーションの上限としては特に限定されないが、3万nm程度であることが好ましい。3万nmを超えると、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記ポリエステル基材のリタデーションは、薄膜化の観点から、6500〜25000nmであることが好ましい。より好ましい範囲は、9000〜2万nmである。
The polyester base material has a retardation of 5000 nm or more. When it is less than 5000 nm, when the display image of the above-described image display device is viewed through sunglasses having polarization characteristics, it becomes impossible to suppress the occurrence of nitrile and color change. Further, such a low retardation polyester substrate may be inferior in transparency, heat resistance and mechanical strength. On the other hand, the upper limit of the retardation of the polyester base material is not particularly limited, but is preferably about 30,000 nm. If it exceeds 30,000 nm, the film thickness becomes considerably large, which is not preferable.
It is preferable that the retardation of the said polyester base material is 6500-25000 nm from a viewpoint of thin film formation. A more preferable range is 9000 to 20,000 nm.

なお、上記リタデーションとは、ポリエステル基材の面内において最も屈折率が大きい方向(遅相軸方向)の屈折率(nx)と、遅相軸方向と直交する方向(進相軸方向)の屈折率(ny)と、ポリエステル基材の厚み(d)とにより、以下の式によって表わされるものである。
リタデーション(Re)=(nx−ny)×d
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製KOBRA−WRによって測定(測定角0°、測定波長589.3nm)することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向軸方向(主軸の方向)を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率(nx,ny)を、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。フィルム厚みd(nm)は、電気マイクロメータ(アンリツ社製)を用いて測定し、単位をnmに換算する。屈折率差(nx−ny)と、フィルムの厚みd(nm)の積より、リタデーションを計算することもできる。
なお、屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することもできるし、分光光度計(島津製作所社製 UV−3100PC)を用いて、波長380〜780nmの平均反射率(R)を測定し、得られた平均反射率(R)から、以下の式を用い、屈折率(n)の値を求めてもよい。
帯電防止層を含む光学機能層の平均反射率(R)は、易接着処理のない50μmPET上にそれぞれの原料組成物を塗布し、1〜3μmの厚さの硬化膜にし、PETの塗布しなかった面(裏面)に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ(例えば、ヤマトビニールテープNO200−38−21 38mm幅)を貼ってから各硬化膜の平均反射率を測定した。ポリエステル基材の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定を行った。
R(%)=(1−n)/(1+n)
また、光学積層体となった後に光学機能層の屈折率を測定する方法としては、各層の硬化膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、JIS K7142(2008)B法(粉体又は粒状の透明材料用)に従ったベッケ法を用いることができる。なお、上記ベッケ法とは、屈折率が既知のカーギル試薬を用い、上記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線;ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法である。
ポリエステル基材の場合は、方向によって屈折率が異なるので、ベッケ法ではなく、光学機能層の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、平均反射率を測定し求めることができる。
The retardation is the refractive index (nx) in the direction having the highest refractive index (slow axis direction) in the plane of the polyester substrate, and the refraction in the direction orthogonal to the slow axis direction (fast axis direction). It is represented by the following formula by the rate (ny) and the thickness (d) of the polyester base material.
Retardation (Re) = (nx−ny) × d
The retardation can be measured, for example, by KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments (measurement angle 0 °, measurement wavelength 589.3 nm).
In addition, using two polarizing plates, the orientation axis direction (main axis direction) of the film is obtained, and the refractive indexes (nx, ny) of two axes orthogonal to the orientation axis direction are measured with an Abbe refractometer ( It is determined by Atago Co., Ltd. NAR-4T. Here, an axis showing a larger refractive index is defined as a slow axis. The film thickness d (nm) is measured using an electric micrometer (manufactured by Anritsu), and the unit is converted to nm. The retardation can also be calculated from the product of the refractive index difference (nx−ny) and the film thickness d (nm).
In addition, a refractive index can also be measured using an Abbe refractometer and an ellipsometer, or using a spectrophotometer (UV-3100PC, manufactured by Shimadzu Corporation), an average reflectance (R of 380 to 780 nm) ) And the value of the refractive index (n) may be obtained from the obtained average reflectance (R) using the following formula.
The average reflectance (R) of the optical functional layer including the antistatic layer is such that each raw material composition is applied on 50 μm PET without easy adhesion treatment to form a cured film having a thickness of 1 to 3 μm, and PET is not applied. In order to prevent back surface reflection, a black vinyl tape (for example, Yamato vinyl tape NO200-38-21 38 mm width) larger than the measurement spot area is pasted on the back surface (back surface) and then the average reflectance of each cured film Was measured. The refractive index of the polyester base material was measured after black vinyl tape was similarly applied to the surface opposite to the measurement surface.
R (%) = (1-n) 2 / (1 + n) 2
Further, as a method for measuring the refractive index of the optical functional layer after becoming an optical layered product, a cured film of each layer is scraped off with a cutter or the like to prepare a powder sample, and JIS K7142 (2008) B method (powder) Alternatively, the Becke method according to (for granular transparent materials) can be used. In the Becke method, a Cargill reagent having a known refractive index is used, the powder sample is placed on a glass slide, the reagent is dropped on the sample, and the sample is immersed in the reagent. This is observed by using a microscope, and this is a method in which the refractive index of the sample is the refractive index of the reagent in which the bright line generated in the sample outline due to the difference in refractive index between the sample and the reagent;
In the case of a polyester base material, since the refractive index varies depending on the direction, the average reflectance can be measured and determined by applying the black vinyl tape on the treated surface of the optical functional layer instead of the Becke method.

なお、本発明では、上記nx−ny(以下、Δnとも表記する)は、0.05以上であることが好ましい。上記Δnが0.05未満であると、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなるため、好ましくない。一方、上記Δnは、0.25以下であることが好ましい。0.25を超えると、ポリエステル基材として、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。
上記Δnのより好ましい下限は0.07、より好ましい上限は0.20である。Δnが0.07よりも小さいと、上述した充分なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得にくくなるためである。なお、上記Δnが0.20を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δnの更に好ましい上限は0.15である。
なお、上記(nx)としては、1.66〜1.78であることが好ましく、より好ましい下限は1.68、より好ましい上限は1.73である。また、上記(ny)としては、1.55〜1.65であることが好ましく、より好ましい下限は1.57、より好ましい上限は1.62である。
上記nx及びnyが上記範囲にあり、かつ、上述したΔnの関係を満たすことで、好適なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得ることができる。
In the present invention, the nx-ny (hereinafter also referred to as Δn) is preferably 0.05 or more. If Δn is less than 0.05, the film thickness necessary to obtain the retardation value described above is increased, which is not preferable. On the other hand, the Δn is preferably 0.25 or less. When it exceeds 0.25, the polyester base material tends to be torn and torn, and the practicality as an industrial material may be significantly reduced.
A more preferable lower limit of Δn is 0.07, and a more preferable upper limit is 0.20. This is because if Δn is smaller than 0.07, it is difficult to obtain the sufficient effect of suppressing the above-mentioned azimuth and color change. In addition, when said (DELTA) n exceeds 0.20, the durability of the polyester base material in a heat-and-moisture resistance test may be inferior. Since the durability in the heat and humidity resistance test is excellent, a more preferable upper limit of Δn is 0.15.
In addition, as said (nx), it is preferable that it is 1.66-1.78, a more preferable minimum is 1.68, and a more preferable upper limit is 1.73. Moreover, as said (ny), it is preferable that it is 1.55-1.65, a more preferable minimum is 1.57 and a more preferable upper limit is 1.62.
When the above nx and ny are in the above range and satisfy the above-described relationship of Δn, a suitable azimuth and color change suppression effect can be obtained.

なお、上記ポリエステル基材が後述するポリエチレンナフタレート(PEN)を原料とするPEN基材である場合、上記Δnの範囲としては、好ましい下限が0.05以上であり、好ましい上限が0.30である。上記Δnが0.05未満であると、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなるため、好ましくない。一方、上記Δnが0.30を超えると、PEN基材として、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。上記PEN基材である場合のΔnのより好ましい下限は0.07、より好ましい上限は0.27である。Δnが0.07よりも小さいと、上述した充分なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得にくくなるためである。なお、上記Δnが0.27を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。また、耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記PEN基材である場合のΔnの更に好ましい上限は0.25である。
なお、上記PEN基材である場合の(nx)としては、1.70〜1.90であることが好ましく、より好ましい下限は1.72、より好ましい上限は1.88である。また、上記PEN基材である場合の(ny)としては、1.55〜1.75であることが好ましく、より好ましい下限は1.57、より好ましい上限は1.73である。
上記nx及びnyが上記範囲にあり、かつ、上述したΔnの関係を満たすことで、上記PEN基材を用いて好適なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得ることができる。
In addition, when the said polyester base material is a PEN base material which uses the polyethylene naphthalate (PEN) mentioned later as a raw material, as a range of said (DELTA) n, a preferable minimum is 0.05 or more and a preferable upper limit is 0.30. is there. If Δn is less than 0.05, the film thickness necessary to obtain the retardation value described above is increased, which is not preferable. On the other hand, if the above Δn exceeds 0.30, the PEN substrate tends to be torn and torn, and the practicality as an industrial material may be significantly reduced. The more preferable lower limit of Δn in the case of the PEN substrate is 0.07, and the more preferable upper limit is 0.27. This is because if Δn is smaller than 0.07, it is difficult to obtain the sufficient effect of suppressing the above-mentioned azimuth and color change. In addition, when said (DELTA) n exceeds 0.27, durability of the polyester base material in a moist heat resistance test may be inferior. Moreover, since the durability in a heat-and-moisture resistance test is excellent, a more preferable upper limit of Δn in the case of the PEN substrate is 0.25.
In addition, as (nx) in the case of the said PEN base material, it is preferable that it is 1.70-1.90, a more preferable minimum is 1.72 and a more preferable upper limit is 1.88. Moreover, as (ny) in the case of the said PEN base material, it is preferable that it is 1.55-1.75, a more preferable minimum is 1.57 and a more preferable upper limit is 1.73.
When the above nx and ny are in the above range and satisfy the above-described relationship of Δn, a suitable effect of suppressing nitrile and color change can be obtained using the PEN base material.

ここで、上述したニジムラの発生のみを抑制する場合、上記光透過性基材のリタデーションは3000nm以上程度であればよいが、このようなリタデーションの光透過性基材では、色味変化を抑制することができない。しかしながら、本発明の光学積層体は、上記光透過性基材のリタデーションが5000nm以上であるため、ニジムラの発生と色味変化とを好適に抑制することができる。
なお、本発明の光学積層体は、画像表示装置に設置した際、偏光サングラス越しに表示画面を観察しても色味変化が抑制されるが、具体的には、以下の方法で測定した色差Δu’v’が、0.03以下であることが好ましく、より好ましい上限は0.01である。
すなわち、まず、液晶表示装置等の画像表示装置の偏光板の吸収軸に対して、本発明の光学積層体を、光透過性基材の遅相軸が45°となるように設置する。
次に、偏光サングラスの吸収軸と上記偏光板の吸収軸とのなす角度が0°(パラレルニコル)となるときと90°(クロスニコル)となるときの正面色味を、輝度計にて測定し、色差Δu’v’を算出する。
Here, in the case of suppressing only the occurrence of the above-mentioned nitrite, the retardation of the light-transmitting substrate may be about 3000 nm or more. However, in the light-transmitting substrate having such a retardation, color change is suppressed. I can't. However, in the optical layered body of the present invention, the retardation of the light-transmitting substrate is 5000 nm or more, and thus it is possible to suitably suppress the occurrence of nitrite and the color change.
When the optical laminate of the present invention is installed in an image display device, the color change is suppressed even when the display screen is observed through polarized sunglasses. Specifically, the color difference measured by the following method is used. Δu′v ′ is preferably 0.03 or less, and a more preferable upper limit is 0.01.
That is, first, the optical laminate of the present invention is installed so that the slow axis of the light-transmitting substrate is 45 ° with respect to the absorption axis of the polarizing plate of an image display device such as a liquid crystal display device.
Next, the front color when the angle between the absorption axis of polarized sunglasses and the absorption axis of the polarizing plate is 0 ° (parallel Nicol) and 90 ° (cross Nicol) is measured with a luminance meter. Then, the color difference Δu′v ′ is calculated.

上記ポリエステル基材を構成する材料としては、上述したリタデーションを充足するものであれば特に限定されないが、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレンナフタレート(ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリエチレン−1,4−ナフタレート、ポリエチレン−1,5−ナフタレート、ポリエチレン−2,7−ナフタレート、ポリエチレン−2,3−ナフタレート)を例示することができる。
また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらのポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体(例えば80モル%以上の成分)とし、少割合(例えば20モル%以下)の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはPETのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い液晶表示装置を作製することが可能な、光学積層体を得ることができる。更に、PETは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
また、本発明において、上記ポリエステル基材に用いられるポリエステルとしては、ポリエチレンナフタレート(PEN)も好適に用いられる。これは、PENは、上記PETと比較してΔnが大きな材料であるため、PENを原料としてなるポリエステル基材は、上記PETを用いてなるポリエステル基材と比較して、厚みを約半分としてもニジムラの発生を好適に防止することができる。このため、PEN基材と帯電防止層とを有する本発明の光学積層体は、近年薄膜化の進んでいるモバイル用途、特に偏光子の保護フィルムとして好適なものとなる。
The material constituting the polyester base material is not particularly limited as long as it satisfies the retardation described above, but is synthesized from an aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof. Examples include linear saturated polyester. Specific examples of such polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate), polyethylene naphthalate (polyethylene-2,6-naphthalate, polyethylene-1,4-naphthalate). , Polyethylene-1,5-naphthalate, polyethylene-2,7-naphthalate, polyethylene-2,3-naphthalate).
The polyester used for the polyester substrate may be a copolymer of these polyesters. The polyester is mainly used (for example, a component of 80 mol% or more), and a small proportion (for example, 20 mol% or less). It may be blended with these types of resins. Polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is particularly preferable as the polyester because of good balance between mechanical properties and optical properties. In particular, it is preferably made of polyethylene terephthalate (PET). This is because polyethylene terephthalate is highly versatile and easily available. In the present invention, an optical laminate that can produce a liquid crystal display device with high display quality can be obtained even with a highly versatile film such as PET. Furthermore, PET is excellent in transparency, heat or mechanical properties, can control the retardation by stretching, has a large intrinsic birefringence, and can obtain a large retardation relatively easily even when the film thickness is small.
Moreover, in this invention, polyethylene naphthalate (PEN) is also used suitably as polyester used for the said polyester base material. This is because PEN is a material having a large Δn compared to the above PET, so that the polyester base material using PEN as a raw material can be about half as thick as the polyester base material using PET. It is possible to suitably prevent the occurrence of nitrile. For this reason, the optical layered body of the present invention having a PEN base material and an antistatic layer is suitable for mobile applications where the film thickness has been reduced in recent years, particularly as a protective film for a polarizer.

上記ポリエステル基材を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記PET等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、80〜130℃が好ましく、より好ましくは90〜120℃である。また、横延伸倍率は2.5〜6.0倍が好ましく、より好ましくは3.0〜5.5倍である。上記横延伸倍率が6.0倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が2.5倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、リタデーションを5000nm以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸(以下、縦延伸ともいう)を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が2倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が2倍を超えると、Δnの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、100〜250℃が好ましく、より好ましくは180〜245℃である。
The method for obtaining the polyester base material is not particularly limited as long as the above-described retardation is satisfied. For example, the polyester, such as PET, as a material is melted and extruded into a sheet to form glass. The method of heat-processing after transverse stretching using a tenter etc. at the temperature more than transition temperature is mentioned.
The transverse stretching temperature is preferably 80 to 130 ° C, more preferably 90 to 120 ° C. Further, the transverse draw ratio is preferably 2.5 to 6.0 times, more preferably 3.0 to 5.5 times. When the transverse draw ratio exceeds 6.0 times, the transparency of the resulting polyester base material tends to be lowered, and when the transverse draw ratio is less than 2.5 times, the draw tension becomes small. In some cases, the birefringence of the substrate becomes small, and the retardation cannot be increased to 5000 nm or more.
In the present invention, the unstretched polyester is subjected to transverse stretching under the above conditions using a biaxial stretching test apparatus, and then stretched in the flow direction with respect to the transverse stretching (hereinafter also referred to as longitudinal stretching). Also good. In this case, the longitudinal stretching preferably has a stretching ratio of 2 times or less. When the draw ratio of the above-mentioned longitudinal stretching exceeds twice, the value of Δn may not be within the preferred range described above.
The treatment temperature during the heat treatment is preferably 100 to 250 ° C, more preferably 180 to 245 ° C.

上述した方法で作製したポリエステル基材のリタデーションを5000nm以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステル基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。 Examples of the method for controlling the retardation of the polyester substrate produced by the above-described method to 5000 nm or more include a method of appropriately setting the draw ratio, the drawing temperature, and the film thickness of the produced polyester substrate. Specifically, for example, the higher the stretching ratio, the lower the stretching temperature, and the thicker the film, the easier it is to obtain high retardation. The lower the stretching ratio, the higher the stretching temperature, and the film thickness. The thinner, the easier it is to obtain low retardation.

上記ポリエステル基材の厚みとしては、40〜500μmの範囲内であることが好ましい。40μm未満であると、上記ポリエステル基材のリタデーションを5000nm以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、500μmを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は50μm、より好ましい上限は400μmであり、更に好ましい上限は300μmである。
ただし、上記ポリエステル基材がポリエチレンナフタレート(PEN)基材の場合、その厚みとしては、10〜400μmの範囲内であることが好ましい。10μm未満であると、上記PEN基材のリタデーションを5000nm以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、400μmを超えると、PEN基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記PEN基材の厚さのより好ましい下限は15μm、より好ましい上限は250μmであり、更に好ましい上限は150μmである。本発明の光学積層体の薄膜化の観点から、上記PEN基材の厚みのより好ましい範囲は、20〜50μmである。
The thickness of the polyester substrate is preferably in the range of 40 to 500 μm. If the thickness is less than 40 μm, the retardation of the polyester base material cannot be increased to 5000 nm or more, the anisotropy of mechanical properties becomes remarkable, and tearing, tearing, and the like are likely to occur, and the practicality as an industrial material is significantly reduced. Sometimes. On the other hand, if it exceeds 500 μm, the polyester base material is very rigid, the flexibility specific to the polymer film is lowered, and the practicality as an industrial material is also lowered, which is not preferable. The minimum with more preferable thickness of the said polyester base material is 50 micrometers, a more preferable upper limit is 400 micrometers, and a still more preferable upper limit is 300 micrometers.
However, when the said polyester base material is a polyethylene naphthalate (PEN) base material, it is preferable that it is in the range of 10-400 micrometers as the thickness. When the thickness is less than 10 μm, the retardation of the PEN base material cannot be increased to 5000 nm or more, the anisotropy of mechanical properties becomes remarkable, and tearing, tearing, etc. easily occur, and the practicality as an industrial material is remarkably reduced. Sometimes. On the other hand, if it exceeds 400 μm, the PEN substrate is very rigid, the flexibility specific to the polymer film is lowered, and the practicality as an industrial material is also lowered, which is not preferable. The minimum with more preferable thickness of the said PEN base material is 15 micrometers, a more preferable upper limit is 250 micrometers, and a still more preferable upper limit is 150 micrometers. From the viewpoint of thinning the optical layered body of the present invention, a more preferable range of the thickness of the PEN substrate is 20 to 50 μm.

また、上記ポリエステル基材は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、84%以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。 The polyester base material preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, more preferably 84% or more. In addition, the said transmittance | permeability can be measured by JISK7361-1 (The test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

また、本発明において、上記ポリエステル基材には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。 In the present invention, the polyester substrate may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment, and flame treatment without departing from the spirit of the present invention. Good.

本発明の光学積層体は、ポリエステル基材と帯電防止層との間にプライマー層を有してもよい。
上記プライマー層は、ポリエステル基材と帯電防止層の密着性向上を第一目的として設ける層である。その他の目的としては、屈折率を調整し、干渉縞を低減させることもできる。
上記プライマー層の材料としては特に限定されず、例えば、従来公知のものを適宜選択して用いてよいが、具体的には、熱硬化性又は熱可塑性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及び、これらの変性体等が挙げられる。また、上記プライマー層の屈折率を調整するために、高屈折率微粒子、キレート化合物等を添加することができる。
The optical layered body of the present invention may have a primer layer between the polyester substrate and the antistatic layer.
The primer layer is a layer provided for the first purpose to improve the adhesion between the polyester base material and the antistatic layer. For other purposes, the refractive index can be adjusted to reduce interference fringes.
The material for the primer layer is not particularly limited. For example, conventionally known materials may be appropriately selected and used. Specifically, thermosetting or thermoplastic polyester resins, urethane resins, acrylic resins, and These modified products are exemplified. Moreover, in order to adjust the refractive index of the said primer layer, high refractive index microparticles | fine-particles, a chelate compound, etc. can be added.

上記ポリエステル樹脂としては、例えば、下記の多塩基酸成分とジオール成分とから得られるポリエステルを用いることができる。
上記多価塩基成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。
As said polyester resin, the polyester obtained from the following polybasic acid component and a diol component can be used, for example.
Examples of the polyvalent base component include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyro Examples include merit acid, dimer acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid.

また、上記ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールを例示することができる。 Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,4-butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylene glycol, and dimethylolpropane. Examples thereof include poly (ethylene oxide) glycol and poly (tetramethylene oxide) glycol.

また、上記アクリル樹脂としては、例えば、以下に例示されるモノマーを共重合することで得られるものが挙げられる。
上記モノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等);2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等)等のカルボキシ基又はその塩を有するモノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N,N−ジアルキルメタクリレート(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等)、N−アルコキシアクリルアミド、N−アルコキシメタクリルアミド、N,N−ジアルコキシアクリルアミド、N,N−ジアルコキシメタクリルアミド(アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等)、アクリロイルモルホリン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー;2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−5−メチル−2−オキサゾリン等のオキサゾリン基含有モノマー;メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエンである。
Moreover, as said acrylic resin, what is obtained by copolymerizing the monomer illustrated below is mentioned, for example.
Examples of the monomer include alkyl acrylate and alkyl methacrylate (the alkyl group includes methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, Cyclohexyl groups, etc.); hydroxy-containing monomers such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate; epoxy group-containing monomers such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether; Acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, styrene sulfonic acid and its salts (sodium salt, potassium salt, ammonium salt, tertiary amine salt) ) Monomers having a carboxy group or a salt thereof; acrylamide, methacrylamide, N-alkyl acrylamide, N-alkyl methacrylamide, N, N-dialkyl acrylamide, N, N-dialkyl methacrylate (the alkyl group includes a methyl group, Ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclohexyl group, etc.), N-alkoxyacrylamide, N-alkoxymethacrylamide, N, N-di Alkoxyacrylamide, N, N-dialkoxymethacrylamide (alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, isobutoxy, etc.), acryloylmorpholine, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, -Monomers having amide groups such as phenylacrylamide and N-phenylmethacrylamide; monomers of acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride; 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2- Such as oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline, etc. Oxazoline group-containing monomer: methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, vinyl isocyanate, allyl isocyanate, styrene, α-methyl styrene, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl trialkoxysilane, alkylmer Ynoic acid monoesters, alkyl fumaric acid monoesters, alkyl itaconic acid monoester, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinylidene chloride, ethylene, propylene, vinyl chloride, vinyl acetate, butadiene.

また、上記ウレタン樹脂としては、例えば、ポリオール、ポリイソシアネート、鎖延長剤、架橋剤等で構成されるものが挙げられる。
上記ポリオールとしては、例えば、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのようなポリエーテル、ポリエチレンアジペート、ポリエチレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトン等を含むグリコールとジカルボン酸との脱水反応により製造されるポリエステル、カーボネート結合を有するポリカーボネート、アクリル系ポリオール、ひまし油等が挙げられる。
Moreover, as said urethane resin, what is comprised with a polyol, polyisocyanate, a chain extension agent, a crosslinking agent etc. is mentioned, for example.
Examples of the polyol include a dehydration reaction between a dicarboxylic acid and a glycol containing a polyether such as polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyethylene adipate, polyethylene-butylene adipate, polycaprolactone, and the like. Examples include polyesters to be produced, polycarbonates having carbonate bonds, acrylic polyols, and castor oil.

また、上記ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the polyisocyanate include tolylene diisocyanate, phenylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, and isophorone diisocyanate.

また、上記鎖延長剤あるいは架橋剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒドラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、水等が挙げられる。 Examples of the chain extender or crosslinking agent include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, trimethylolpropane, hydrazine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, and 4,4′-diamino. Examples include dicyclohexylmethane and water.

上記高屈折率微粒子としては、例えば、屈折率が1.60〜2.80の金属酸化物微粒子等が好適に用いられる。
上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン(TiO、屈折率:2.71)、酸化ジルコニウム(ZrO、屈折率:2.10)、酸化セリウム(CeO、屈折率:2.20)、酸化錫(SnO、屈折率:2.00)、アンチモン錫酸化物(ATO、屈折率:1.75〜1.95)、インジウム錫酸化物(ITO、屈折率:1.95〜2.00)、燐錫化合物(PTO、屈折率:1.75〜1.85)、酸化アンチモン(Sb、屈折率:2.04)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO、屈折率:1.90〜2.00)、ガリウム亜鉛酸化物(GZO、屈折率:1.90〜2.00)及びアンチモン酸亜鉛(ZnSb、屈折率:1.90〜2.00)等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が5〜100nmであることが好ましい。平均一次粒子径が100nmを超えると、上記プライマー層に光学散乱が発生し、透明性が悪くなることがあり、5nm未満であると微粒子同士の凝集が多くなり、二次粒子径が大きくなって光学散乱が発生し、上記プライマー層の透明性が悪くなることがある。
これらの高屈折率微粒子の屈折率は、例えば、屈折率がわかっている熱可塑性の樹脂と、質量を測定した金属酸化物とを混合した後、適当な厚さの透明なペレットに成型し、このペレットの屈折率測定を行い、上記屈折率既知の樹脂との配合比から高屈折率微粒子の屈折率を算出できる。上記屈折率測定は、例えば、JIS K7142(2008)A法に従ったベッケ法によりアッベ屈折計により求めることができ、例えば、アタゴ社製DR−M4を用いることができる。なお、屈折率を測定する波長は589nmとする。
また、上記平均1次粒子径は、TEM、STEM等の透過型電子顕微鏡観察による画像解析によって粒子20個分の粒径の平均値として求めることができる。
As the high refractive index fine particles, for example, metal oxide fine particles having a refractive index of 1.60 to 2.80 are preferably used.
Specific examples of the metal oxide fine particles include titanium oxide (TiO 2 , refractive index: 2.71), zirconium oxide (ZrO 2 , refractive index: 2.10), cerium oxide (CeO 2 , refraction). rate: 2.20), tin oxide (SnO 2, refractive index: 2.00), antimony tin oxide (ATO, refractive index: 1.75 to 1.95), indium tin oxide (ITO, the refractive index: 1.95 to 2.00), phosphorus tin compound (PTO, refractive index: 1.75 to 1.85), antimony oxide (Sb 2 O 5 , refractive index: 2.04), aluminum zinc oxide (AZO, Refractive index: 1.90 to 2.00), gallium zinc oxide (GZO, refractive index: 1.90 to 2.00) and zinc antimonate (ZnSb 2 O 6 , refractive index: 1.90 to 2.00) ) And the like.
The high refractive index fine particles preferably have an average primary particle diameter of 5 to 100 nm. When the average primary particle diameter exceeds 100 nm, optical scattering occurs in the primer layer, and the transparency may be deteriorated. When the average primary particle diameter is less than 5 nm, aggregation of fine particles increases, and the secondary particle diameter increases. Optical scattering may occur, and the transparency of the primer layer may deteriorate.
The refractive index of these high refractive index fine particles is, for example, mixed with a thermoplastic resin whose refractive index is known and a metal oxide whose mass is measured, and then molded into a transparent pellet having an appropriate thickness, The refractive index of the pellet can be measured, and the refractive index of the high refractive index fine particles can be calculated from the blending ratio with the resin having the known refractive index. The refractive index measurement can be obtained by, for example, an Abbe refractometer by the Becke method according to JIS K7142 (2008) A method, and for example, DR-M4 manufactured by Atago Co., Ltd. can be used. The wavelength for measuring the refractive index is 589 nm.
The average primary particle diameter can be determined as an average value of the particle diameters of 20 particles by image analysis by observation with a transmission electron microscope such as TEM or STEM.

また、上記キレート化合物としては、例えば、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物及び水溶性のジルコニウム化合物等が挙げられる。
上記水溶性のチタンキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナト)チタン、イソプロポキシ(2−エチル−1,3−ヘキサンジオラト)チタン、ジイソプロポキシビス(トリエタノールアミナト)チタン、ジ−n−ブトキシビス(トリエタノールアミナト)チタン、ヒドロキシビス(ラクタト)チタン、ヒドロキシビス(ラクタト)チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。
また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、例えば、オキソチタンビス(モノアンモニウムオキサレート)等が挙げられる。
また、水溶性のジルコニウム化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。
Examples of the chelate compound include a water-soluble titanium chelate compound, a water-soluble titanium acylate compound, and a water-soluble zirconium compound.
Examples of the water-soluble titanium chelate compound include diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, isopropoxy (2-ethyl-1,3-hexanediolato) titanium, diisopropoxybis (triethanolaminato). Examples thereof include titanium, di-n-butoxybis (triethanolaminato) titanium, hydroxybis (lactato) titanium, ammonium salt of hydroxybis (lactato) titanium, ammonium beloxocitrate ammonium salt, and the like.
Examples of the water-soluble titanium acylate compound include oxotitanium bis (monoammonium oxalate).
Examples of the water-soluble zirconium compound include zirconium tetraacetylacetonate and zirconium acetate.

上記プライマー層の厚さとしては、要求される性能に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、例えば、10〜1000nmとすることができる。上記プライマー層の最大厚さは、500nm以下であると本発明の光学積層体の鉛筆硬度(JIS K5600−5−4に従う)が向上できるので好ましく、特に300nm以下であると、例えば厚さ800nmのときにHであったものが2Hになるなど、鉛筆硬度が明確に向上するので更に好ましい。
なお、上記プライマー層の厚みは、例えば、上記プライマー層の断面を、電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察することにより、任意の10点を測定して得られた平均値(nm)である。非常に薄い厚みの場合は、高倍率観察したものを写真として記録し、更に拡大することで測定する。拡大した場合、層界面ラインが、境界線として明確に分かる程度に非常に細い線であったものが、太い線になる。その場合は、太い線幅を2等分した中心部分を境界線として測定する。
The thickness of the primer layer may be appropriately adjusted according to the required performance, and is not particularly limited, but may be, for example, 10 to 1000 nm. The maximum thickness of the primer layer is preferably 500 nm or less because the pencil hardness (according to JIS K5600-5-4) of the optical laminate of the present invention can be improved, and particularly 300 nm or less, for example, a thickness of 800 nm. Since the pencil hardness is clearly improved, such as sometimes H becomes 2H, it is more preferable.
In addition, the thickness of the said primer layer is the average value (nm) obtained by measuring arbitrary 10 points | pieces, for example by observing the cross section of the said primer layer with an electron microscope (SEM, TEM, STEM). is there. In the case of a very thin thickness, a high-magnification observation is recorded as a photograph and further magnified for measurement. When enlarged, a layer interface line that is very thin enough to be clearly recognized as a boundary line becomes a thick line. In that case, the center portion obtained by dividing the thick line width into two is measured as a boundary line.

上記プライマー層は、上述した材料と、必要に応じて光重合開始剤及び他の成分とを溶媒中に混合分散させて調製したプライマー層用組成物を用いて形成することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
The primer layer can be formed using a primer layer composition prepared by mixing and dispersing the above-described materials and, if necessary, a photopolymerization initiator and other components in a solvent.
The mixing and dispersing may be performed using a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader.

上記溶媒としては、水が好ましく用いられ、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。また、多少の有機溶媒を含んでもよい。
上記有機溶媒としては、例えば、アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール、PGME、エチレングリコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル)等が挙げられる。
As the solvent, water is preferably used, and is preferably used in the form of an aqueous coating liquid such as an aqueous solution, an aqueous dispersion, or an emulsion. Further, some organic solvent may be included.
Examples of the organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl). Isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, heptanone, diisobutyl ketone, diethyl ketone), aliphatic hydrocarbon (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbon (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic carbonization Hydrogen (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran) ), Ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol), esters (e.g., methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate) and the like.

上記その他の成分としては特に限定されず、例えば、レベリング剤、有機又は無機微粒子、光重合開始剤、熱重合開始剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤等が挙げられる。 The other components are not particularly limited. For example, a leveling agent, organic or inorganic fine particles, a photopolymerization initiator, a thermal polymerization initiator, a crosslinking agent, a curing agent, a polymerization accelerator, a viscosity modifier, an antistatic agent, an oxidation agent. Examples thereof include an inhibitor, an antifouling agent, a slip agent, a refractive index adjuster, and a dispersant.

上記プライマー層用組成物は、総固形分が3〜20%であることが好ましい。3%未満であると、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。20%を超えると、プライマー層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出たり、所望の膜厚が得られないおそれがある。上記固形分は、4〜10%であることがより好ましい。 The primer layer composition preferably has a total solid content of 3 to 20%. If it is less than 3%, residual solvent may remain or whitening may occur. If it exceeds 20%, the viscosity of the composition for the primer layer is increased, the coatability is lowered, unevenness and streaks appear on the surface, and the desired film thickness may not be obtained. The solid content is more preferably 4 to 10%.

上記プライマー層用組成物の上記ポリエステル基材への塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステル基材の製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステル基材に塗布することが好ましい。
ここで、結晶配向が完了する前のポリエステル基材とは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向又は横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向及び横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの(最終的に縦方向又は横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム)等を含むものである。なかでも、未延伸フィルム又は一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記プライマー層用組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸及び/又は横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
上記プライマー層用組成物をポリエステル基材に塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてポリエステル基材表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはプライマー層用組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
Application of the primer layer composition to the polyester substrate can be carried out at any stage, but it is preferably carried out during the production process of the polyester substrate, and further before the orientation crystallization is completed. It is preferable to apply to a polyester substrate.
Here, the polyester base material before the crystal orientation is completed is an unstretched film, a uniaxially oriented film in which the unstretched film is oriented in either the longitudinal direction or the transverse direction, and further in the longitudinal direction and the transverse direction. In the direction (low-stretch orientation orientation (biaxially stretched film before reorientation in the machine direction or transverse direction to complete orientation crystallization)). Especially, it is preferable to apply | coat the aqueous coating liquid of the said composition for primer layers to an unstretched film or the uniaxially stretched film orientated to one direction, and to perform longitudinal stretch and / or lateral stretch and heat setting as it is.
When the primer layer composition is applied to a polyester substrate, physical treatment such as corona surface treatment, flame treatment, plasma treatment or the like is performed on the polyester substrate surface as a pretreatment for improving the coating property, or It is preferred to use a chemically inert surfactant together with the primer layer composition.

上記プライマー層用組成物の塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えば、ロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独又は組合せて用いることができる。なお、塗膜は必要に応じポリエステル基材の片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。 As a method for applying the primer layer composition, any known coating method can be applied. For example, a roll coating method, a gravure coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, a curtain coating method and the like can be used alone or in combination. In addition, a coating film may be formed only in the single side | surface of a polyester base material as needed, and may be formed in both surfaces.

本発明の光学積層体は、上記帯電防止層の光透過性基材側と反対側の面上にハードコート層を有することが好ましい。
上記帯電防止層が上記ハードコート層と上記光透過基材との間に存在することとなり、本発明の光学積層体を、ハードコート性能に優れたものとすることができ、更に、耐久性試験後における表面抵抗値がより安定したものとすることができる。
The optical layered body of the present invention preferably has a hard coat layer on the surface of the antistatic layer opposite to the light transmissive substrate side.
The antistatic layer is present between the hard coat layer and the light transmissive substrate, and the optical laminate of the present invention can be excellent in hard coat performance, and further, a durability test. Later surface resistance can be made more stable.

上記ハードコート層としては、導通微粒子、モノマー成分、樹脂成分及び紫外線吸収剤を含有するハードコート層形成用組成物を用いて形成されたものであり、上記樹脂成分としては、上述した帯電防止層に含有される樹脂成分が挙げられるが、上記ハードコート層用組成物に含まれる樹脂成分は、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種であることが好ましい。上記帯電防止層と同種の樹脂成分を含有することで、帯電防止層とハードコート層との密着性が優れたものとなる。
なお、上記ハードコート層用組成物は、上記樹脂成分として、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種のものと、異なる種類の樹脂成分とを含有していてもよい。ただし、この場合、上記ハードコート層用組成物における樹脂成分の主成分(すなわち、全樹脂成分における50質量%以上)が、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分であることが好ましい。
The hard coat layer is formed by using a hard coat layer forming composition containing conductive fine particles, a monomer component, a resin component, and an ultraviolet absorber, and the resin component includes the antistatic layer described above. The resin component contained in the hard coat layer composition is preferably the same as the resin component contained in the antistatic layer. By containing the same kind of resin component as the antistatic layer, the adhesion between the antistatic layer and the hard coat layer is excellent.
In addition, the said composition for hard-coat layers may contain the same kind of resin component contained in the said antistatic layer as a resin component, and a different kind of resin component. However, in this case, the main component of the resin component in the hard coat layer composition (that is, 50% by mass or more of all resin components) is the same type of resin component as the resin component contained in the antistatic layer. Is preferred.

上記モノマー成分としては、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と(メタ)アクリレート等の反応生成物(例えば多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)等を挙げることができる。
なお、本明細書において、モノマー成分とは、硬化性樹脂の前駆体を含むものであり、いわゆるオリゴマーも含む。
Examples of the monomer component include compounds having one or more unsaturated bonds, such as compounds having an acrylate functional group. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( Polyfunctional compounds such as (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, or the above polyfunctional compound and (meth) acrylate And the like (for example, poly (meth) acrylate esters of polyhydric alcohols).
In the present specification, the monomer component includes a precursor of a curable resin, and includes a so-called oligomer.

上記ハードコート層用組成物は、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記樹脂成分として使用することができる。 In addition to the above compounds, the hard coat layer composition is a relatively low molecular weight polyester resin having an unsaturated double bond, a polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, an alkyd resin, a spiroacetal resin, Polybutadiene resin, polythiol polyene resin, and the like can also be used as the resin component.

上記導通微粒子は、本発明の光学積層体の帯電防止性能を担保するための微粒子であり、上記ハードコート層の表面と帯電防止層との間の導通を取る役割を果たす。
このような導通微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング微粒子が好適に用いられる。
上記コーティング微粒子を構成する材料としては、例えば、上述した帯電防止層における導電性微粒子において説明したものと同様の材料が挙げられる。
The conductive fine particles are fine particles for ensuring the antistatic performance of the optical layered body of the present invention, and play a role of establishing conduction between the surface of the hard coat layer and the antistatic layer.
Such conductive fine particles are not particularly limited, and for example, coated fine particles in which a conductive coating layer is formed on the surface of the core fine particles are preferably used.
Examples of the material constituting the coating fine particles include the same materials as those described for the conductive fine particles in the antistatic layer described above.

上記導通微粒子の平均粒子径としては、3〜10μmであることが好ましい。3μm未満であると、形成するハードコート層の厚みが薄くなり過ぎて、ハードコート性能が不充分となることがあり、一方、10μmを超えると、ハードコート層が厚くなり過ぎて透明性に劣ったり、導通微粒子が脱落したりする問題が生じることがある。上記導通微粒子の平均粒子径のより好ましい下限は4μm、より好ましい上限は7μmである。
なお、上記導通微粒子は、ハードコート層の厚みと同等か、超える大きさであることが好ましい。すなわち、上記導通微粒子は、ハードコート層の表面付近に存在しているか、該表面から突出していることが好ましい。上記導通微粒子がハードコート層の厚みに対して小さすぎる場合、本発明の光学積層体の表面抵抗値が高くなり、帯電防止性能が劣ることとなることがある。具体的には、上記導通微粒子の平均粒子径は、ハードコート層の厚みに対して、0.8〜1.5倍であることが好ましい。0.8倍未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、1.5倍を超えると、上記導通微粒子がハードコート層から脱落することがある。
The average particle diameter of the conductive fine particles is preferably 3 to 10 μm. If it is less than 3 μm, the thickness of the hard coat layer to be formed becomes too thin and the hard coat performance may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 10 μm, the hard coat layer becomes too thick and the transparency is poor. Or the conductive fine particles may fall off. The more preferable lower limit of the average particle diameter of the conductive fine particles is 4 μm, and the more preferable upper limit is 7 μm.
The conductive fine particles preferably have a size equal to or exceeding the thickness of the hard coat layer. That is, the conductive fine particles are preferably present near the surface of the hard coat layer or protrude from the surface. When the conductive fine particles are too small with respect to the thickness of the hard coat layer, the surface resistance value of the optical layered body of the present invention is increased, and the antistatic performance may be deteriorated. Specifically, the average particle diameter of the conductive fine particles is preferably 0.8 to 1.5 times the thickness of the hard coat layer. If it is less than 0.8 times, the antistatic performance of the optical layered body of the present invention may be insufficient, and if it exceeds 1.5 times, the conductive fine particles may fall off the hard coat layer.

上記導通微粒子の含有量としては、上記ハードコート層における樹脂成分100質量部に対して、0.5〜2.0質量部であることが好ましい。0.5質量部未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、2.0質量部を超えると、形成するハードコート層がヘイジーに(濁度が高く)なり、光学的特性に劣るといった問題が生じることがあり、また、ハードコート層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出るおそれがあり、更に、ハードコート層のハードコート性能に劣ることがある。上記導通微粒子の含有量のより好ましい上限は1.5質量部である。 The content of the conductive fine particles is preferably 0.5 to 2.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component in the hard coat layer. If it is less than 0.5 parts by mass, the antistatic performance of the optical laminate of the present invention may be insufficient. If it exceeds 2.0 parts by mass, the hard coat layer to be formed becomes hazy (turbidity is low). May cause problems such as inferior optical properties, and the viscosity of the hard coat layer composition may be increased, resulting in reduced coatability and unevenness and streaks on the surface. The hard coat performance of the hard coat layer may be inferior. A more preferable upper limit of the content of the conductive fine particles is 1.5 parts by mass.

上記紫外線吸収剤は、本発明の光学積層体の耐光性を担保する役割を果たす材料である。すなわち、上記紫外線吸収剤を含有することで、本発明の光学積層体は、耐久性試験後においても表面抵抗値の変化を抑制することができる。
すなわち、上記ハードコート層中の紫外線吸収剤が、上記耐久性試験時に照射される紫外線を吸収することで、上記帯電防止層を構成する樹脂成分の紫外線による分解等の劣化反応を抑制し、帯電防止層中に含まれる導電性微粒子間の距離を維持することができ、その結果、本発明の光学積層体の耐久性が向上する。
なお、このような効果を奏するために、上記紫外線吸収剤は、上記ハードコート層の帯電防止層を保護できる位置に含有される。
The said ultraviolet absorber is a material which plays the role which ensures the light resistance of the optical laminated body of this invention. That is, by containing the ultraviolet absorber, the optical layered body of the present invention can suppress a change in the surface resistance value even after the durability test.
That is, the ultraviolet absorber in the hard coat layer absorbs the ultraviolet rays irradiated during the durability test, thereby suppressing degradation reactions such as decomposition of the resin components constituting the antistatic layer by ultraviolet rays, and charging The distance between the conductive fine particles contained in the prevention layer can be maintained, and as a result, the durability of the optical laminate of the present invention is improved.
In order to achieve such an effect, the ultraviolet absorber is contained at a position where the antistatic layer of the hard coat layer can be protected.

上記紫外線吸収剤としては特に限定されず、有機系又は無機系の紫外線吸収剤を用いることができる。なかでも、透明性に優れる有機系の紫外線吸収剤が好適に用いられる。
このような紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−アミル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−プロピルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等の2’−ヒドロキシフェニル−5−クロロベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等の2’−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等の2,2’−ジヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン等の2−ヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サルチル酸フェニル、4−t−ブチル−フェニル−サリシレート等のサリチル酸エステル系紫外線吸収剤が挙げられる。なかでも、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。
その他に、ベンゾトリアゾール骨格にアクリロイル基又はメタクリロイル基を導入した反応型紫外線吸収剤等も用いられる。或いは、高い透明度を要求されない場合は、無機系紫外線吸収剤を添加することもできる。無機系紫外線吸収剤としては、粒径0.2μm以下の酸化チタン、酸化セリウム、酸化鉄等が用いられる。
The ultraviolet absorber is not particularly limited, and an organic or inorganic ultraviolet absorber can be used. Among these, an organic ultraviolet absorber having excellent transparency is preferably used.
Examples of such an ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-). tert-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-amyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2 ′ 2 'such as -hydroxy-3'-isobutyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-propylphenyl) -5-chlorobenzotriazole -Hydroxyphenyl-5-chlorobenzotriazole UV absorbers, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazol Benzotriazole-based UV absorbers such as 2'-hydroxyphenylbenzotriazole-based UV absorbers such as 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2'-dihydroxy-4- 2,2′-dihydroxybenzophenone-based ultraviolet absorbers such as methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2- Benzophenone UV absorbers such as 2-hydroxybenzophenone UV absorbers such as hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,4-dihydroxybenzophenone, salicylic acid esters such as phenyl salicylate and 4-t-butyl-phenyl-salicylate An ultraviolet absorber is mentioned. Of these, hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorbers are preferred.
In addition, a reactive ultraviolet absorber in which an acryloyl group or a methacryloyl group is introduced into the benzotriazole skeleton is also used. Or when high transparency is not requested | required, an inorganic type ultraviolet absorber can also be added. As the inorganic ultraviolet absorber, titanium oxide, cerium oxide, iron oxide or the like having a particle size of 0.2 μm or less is used.

上記紫外線吸収剤は、紫外線透過率が380nmの透過率で2〜40%であることが好ましい。2%未満であると、上記ハードコート層の硬化性が不充分となりハードコート性能に劣ることがあり、40%を超えると、本発明の光学積層体の耐光性の経時変化が大きくなることがあり、また、本発明の光学積層体における各層の密着性が劣ることがある。なお、上記紫外線透過率は、光透過性基材、帯電防止層及びハードコート層を含む本発明の光学積層体を用いて、分光器により波長380nmの紫外線の透過率を測定したことにより測定された値である。 The ultraviolet absorber preferably has an ultraviolet transmittance of 2 to 40% at a transmittance of 380 nm. If it is less than 2%, the curability of the hard coat layer may be insufficient and the hard coat performance may be inferior. If it exceeds 40%, the temporal change in light resistance of the optical laminate of the present invention may increase. In addition, the adhesion of each layer in the optical laminate of the present invention may be inferior. The ultraviolet transmittance is measured by measuring the transmittance of ultraviolet light having a wavelength of 380 nm with a spectroscope using the optical laminate of the present invention including a light-transmitting substrate, an antistatic layer and a hard coat layer. Value.

また、上記紫外線吸収剤の含有量としては、使用する紫外線吸収剤の紫外線吸収能により上記紫外線透過率の範囲になるよう適宜決定されるが、例えば、上記紫外線吸収剤としてヒドロキシフェニルトリアジンを用いる場合、好ましくは、上記ハードコート層中3〜15質量%である。 The content of the ultraviolet absorber is appropriately determined so as to fall within the range of the ultraviolet transmittance depending on the ultraviolet absorbing ability of the ultraviolet absorber to be used. For example, when hydroxyphenyltriazine is used as the ultraviolet absorber. Preferably, it is 3 to 15% by mass in the hard coat layer.

上記ハードコート層用組成物は、上記樹脂成分として熱硬化性樹脂を含有していてもよい。上記熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。 The hard coat layer composition may contain a thermosetting resin as the resin component. Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin. And polysiloxane resin.

上記ハードコート層用組成物は、更に、光重合開始剤を含有することが好ましい。
上記光重合開始剤としては、公知のものであれば特に限定されず、例えば、アセトフェノン類(例えば、商品名イルガキュア184、BASF社製の1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア907、BASF社製の2−メチル−1〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モリフォリノプロパン−1−オン)、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。なかでも、アセトフェノン類であることが好ましい。
The hard coat layer composition preferably further contains a photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a known one. For example, acetophenones (for example, trade name Irgacure 184, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone manufactured by BASF, trade name Irgacure 907, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one), benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether, aromatic diazonium salt, aromatic sulfonium manufactured by BASF Examples thereof include salts, aromatic iodonium salts, metathelon compounds, and benzoin sulfonic acid esters. Of these, acetophenones are preferable.

上記光重合開始剤の含有量は、ハードコート層用組成物中のモノマー成分100質量部に対して、1〜7質量部であることが好ましい。1質量部未満であると、光重合開始剤の量が不足し、硬化不足となるおそれがある。7質量部を超えると、光重合開始剤が過剰となり、過剰であることによる光重合反応の違いが生じ、かえって硬度不足を引き起こす、溶け残りによる欠点が生じる、といったおそれがある。
上記光重合開始剤の含有量は、上記モノマー成分100質量部に対して2〜5質量部であることがより好ましい。
It is preferable that content of the said photoinitiator is 1-7 mass parts with respect to 100 mass parts of monomer components in the composition for hard-coat layers. If the amount is less than 1 part by mass, the amount of the photopolymerization initiator may be insufficient, resulting in insufficient curing. When the amount exceeds 7 parts by mass, the photopolymerization initiator becomes excessive, and a difference in the photopolymerization reaction due to the excess is caused.
As for content of the said photoinitiator, it is more preferable that it is 2-5 mass parts with respect to 100 mass parts of said monomer components.

上記ハードコート層用組成物は、上述した成分以外に、必要に応じて他の成分を更に含んでいてもよい。
上記他の成分としては、熱重合開始剤、光安定化剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤、拡散剤、賦型剤及び防眩剤等を挙げることができる。これらは公知のものを使用することができる。
The composition for hard coat layers may further contain other components as necessary in addition to the components described above.
Examples of the other components include a thermal polymerization initiator, a light stabilizer, a crosslinking agent, a curing agent, a polymerization accelerator, a viscosity modifier, an antioxidant, an antifouling agent, a slip agent, a refractive index modifier, a dispersant, A diffusing agent, a shaping agent, an antiglare agent, etc. can be mentioned. These can use a well-known thing.

上記ハードコート層用組成物は、総固形分が20〜45%であることが好ましい。20%より低いと、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。45%を超えると、ハードコート層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出るおそれがある。上記固形分は、20〜30%であることがより好ましい。 The hard coat layer composition preferably has a total solid content of 20 to 45%. If it is lower than 20%, residual solvent may remain or whitening may occur. If it exceeds 45%, the viscosity of the composition for hard coat layer becomes high, and the coating property is lowered, and there is a possibility that unevenness and streaks appear on the surface. The solid content is more preferably 20 to 30%.

上記ハードコート層用組成物は、上述の導通微粒子、モノマー成分、樹脂成分及び紫外線吸収剤、並びに、光重合開始剤等他の成分を溶媒中に混合分散させて調製することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
The hard coat layer composition can be prepared by mixing and dispersing the above-described conductive fine particles, monomer component, resin component and ultraviolet absorber, and other components such as a photopolymerization initiator in a solvent.
The mixing and dispersing may be performed using a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader.

上記溶媒としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール、PGME、エチレングリコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)等を挙げることができる。なかでも、帯電防止層への影響が少なく、モノマー、熱可塑性樹脂に対する溶解性が高いことから、メチルイソブチルケトンが好ましい。また、理由は不明であるが、ハードコート層表面にムラ等の塗工不良がでにくいことから、イソプロパノールを含有することが好ましい。 Examples of the solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl). Ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, heptanone, diisobutyl ketone, diethyl ketone), aliphatic hydrocarbon (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbon (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbon (Eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether Ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol) and the like. Of these, methyl isobutyl ketone is preferred because it has little influence on the antistatic layer and has high solubility in monomers and thermoplastic resins. Further, although the reason is unknown, it is preferable to contain isopropanol because coating defects such as unevenness are difficult to occur on the surface of the hard coat layer.

上記ハードコート層用組成物を、上記帯電防止層上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記塗膜を硬化させることでハードコート層を形成することができる。 The hard coat layer composition can be applied on the antistatic layer to form a coating film, dried as necessary, and then cured to form a hard coat layer. .

上記ハードコート層用組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、例えば、スリットリバース法、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。 Examples of a method for forming the coating film by applying the hard coat layer composition include, for example, a slit reverse method, a spin coating method, a dip method, a spray method, a die coating method, a bar coating method, a roll coater method, and a meniscus coater method. And various known methods such as flexographic printing, screen printing, and bead coater.

また、塗布量は、3〜15g/mであることが好ましい。3g/m未満であると、所望の硬度のハードコート層が得られないおそれがある。15g/mを超えると、カールやダメージの防止が不充分となるおそれがある。上記塗布量は、4〜10g/mであることがより好ましい。 The coating amount is preferably 3 to 15 g / m 2 . If it is less than 3 g / m 2 , a hard coat layer having a desired hardness may not be obtained. If it exceeds 15 g / m 2 , curling and damage may be insufficiently prevented. The coating amount is more preferably 4 to 10 g / m 2 .

上記乾燥の方法としては特に限定されないが、一般的に乾燥温度30〜100℃で、乾燥時間3〜120秒で行うとよい。上記乾燥温度が30℃未満であると、本発明の光学積層体の製造に長時間を要し、また、製造コストが高くなることがある。一方、上記乾燥温度が100℃を超えると、光透過性基材の平面性やハードコート層表面の均一性が劣化する問題がある。上記乾燥温度のより好ましい上限は70℃である。
また、上記乾燥時間が3秒未満であると、形成するハードコート層と帯電防止層との密着性が劣ることがある。一方、上記乾燥時間が120秒を超えると、上記塗膜の乾燥に長時間を要し、製造コストが高くなることがある。
Although it does not specifically limit as said drying method, Generally, it is good to carry out at drying temperature 30-100 degreeC, and drying time 3 to 120 second. When the drying temperature is less than 30 ° C., it takes a long time to produce the optical laminate of the present invention, and the production cost may increase. On the other hand, when the said drying temperature exceeds 100 degreeC, there exists a problem which the planarity of a light-transmitting base material and the uniformity of the hard-coat layer surface deteriorate. A more preferable upper limit of the drying temperature is 70 ° C.
If the drying time is less than 3 seconds, the adhesion between the hard coat layer to be formed and the antistatic layer may be inferior. On the other hand, when the drying time exceeds 120 seconds, it takes a long time to dry the coating film, which may increase the production cost.

上記塗膜を硬化させる方法としては、上記ハードコート層用組成物の内容等に応じて公知の方法を適宜選択すればよいが、例えば、上記塗膜に紫外線を照射することにより硬化させる方法が挙げられる。
上記紫外線を照射する場合は、紫外線照射量が30mJ/cm以上であることが好ましく、50mJ/cm以上であることがより好ましく、80mJ/cm以上であることが更に好ましい。
As a method for curing the coating film, a known method may be appropriately selected according to the content of the composition for the hard coat layer and the like. For example, a method of curing the coating film by irradiating with ultraviolet rays may be used. Can be mentioned.
When irradiating the ultraviolet light is preferably ultraviolet irradiation amount is 30 mJ / cm 2 or more, more preferably 50 mJ / cm 2 or more, more preferably 80 mJ / cm 2 or more.

上記ハードコート層は、層厚みが3〜15μmであることが好ましい。
上記膜厚が3μm未満であると、上記ハードコート層の硬度が不充分となるおそれがある。一方、上記膜厚が15μmを超えると、上記ハードコート層に残留溶剤が残ったり、上記塗膜の密着性が低下したり、カールやダメージの防止性が不充分となるおそれがある。上記ハードコート層の層厚みは、下限が3〜10μmであることがより好ましい。
上記層厚みは、ハードコート層の断面を、電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察することにより測定して得られた値である。
The hard coat layer preferably has a layer thickness of 3 to 15 μm.
If the film thickness is less than 3 μm, the hardness of the hard coat layer may be insufficient. On the other hand, if the film thickness exceeds 15 μm, residual solvent may remain in the hard coat layer, adhesion of the coating film may be lowered, and curling and damage prevention properties may be insufficient. The lower limit of the thickness of the hard coat layer is more preferably 3 to 10 μm.
The layer thickness is a value obtained by measuring the cross section of the hard coat layer with an electron microscope (SEM, TEM, STEM).

上記ハードコート層は、硬度が、JIS K5600−5−4(1999)による鉛筆硬度試験(荷重4.9N)において、2B以上であることが好ましく、B以上であることがより好ましい。 The hard coat layer preferably has a hardness of 2B or more, more preferably B or more, in a pencil hardness test (load 4.9N) according to JIS K5600-5-4 (1999).

本発明の光学積層体は、全光線透過率が85%以上であることが好ましい。85%未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、88%以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K7361に準拠した方法により測定することができる。
The optical layered body of the present invention preferably has a total light transmittance of 85% or more. If it is less than 85%, color reproducibility and visibility may be impaired when mounted on the display surface, and a desired contrast may not be obtained. The total light transmittance is more preferably 88% or more.
The total light transmittance can be measured by a method based on JIS K7361 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).

また、本発明の光学積層体は、ヘイズが2%以下であることが好ましい。2%を超えると、所望の光学特性が得られず、本発明の光学積層体を画像表示表面に設置した際の視認性が低下する。
上記ヘイズは、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所社製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K7136に準拠した方法により測定することができる。
本発明の光学積層体は、また、本発明の効果が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層(防眩層、他の帯電防止層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等)の1層又は2層以上を適宜形成することができる。なかでも、防眩層、帯電防止層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
The optical layered body of the present invention preferably has a haze of 2% or less. If it exceeds 2%, desired optical characteristics cannot be obtained, and the visibility when the optical laminate of the present invention is placed on the image display surface is lowered.
The haze can be measured by a method based on JIS K7136 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).
The optical layered body of the present invention can also have other layers (antiglare layer, other antistatic layer, low refractive index layer, antifouling layer, adhesive layer) as necessary within the range where the effects of the present invention are not impaired One layer or two or more layers of an agent layer, other hard coat layers, etc.) can be appropriately formed. Among these, it is preferable to have at least one of an antiglare layer, an antistatic layer, a low refractive index layer, and an antifouling layer. These layers may be the same as those of a known antireflection laminate.

本発明の光学積層体は、画像表示装置に用いることができ、このような本発明の光学積層体を用いてなる画像表示装置もまた、本発明の1つである。
上記画像表示装置としては、例えば、LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等が挙げられる。
The optical laminate of the present invention can be used in an image display device, and an image display device using such an optical laminate of the present invention is also one aspect of the present invention.
Examples of the image display device include LCD, PDP, FED, ELD (organic EL, inorganic EL), CRT, touch panel, electronic paper, tablet PC, and the like.

上記LCDは、バックライト光源と、液晶セルと、液晶セルの視認側に配した偏光板とを少なくとも有するものである。本発明の画像表示装置がLCDである場合、上記偏光板の視認側に本発明の光学積層体が形成されてなるものである。
上記バックライト光源としては特に限定されないが、白色発光ダイオード(白色LED)であることが好ましい。
上記白色LEDとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明室コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色LEDを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
The LCD has at least a backlight light source, a liquid crystal cell, and a polarizing plate disposed on the viewing side of the liquid crystal cell. When the image display device of the present invention is an LCD, the optical laminate of the present invention is formed on the viewing side of the polarizing plate.
Although it does not specifically limit as said backlight light source, It is preferable that it is a white light emitting diode (white LED).
The white LED is an element that emits white by combining a phosphor with a phosphor system, that is, a light emitting diode that emits blue light or ultraviolet light using a compound semiconductor. In particular, white light-emitting diodes, which consist of light-emitting elements that combine blue light-emitting diodes using compound semiconductors with yttrium, aluminum, and garnet yellow phosphors, have a continuous and broad emission spectrum, so they have anti-reflection performance. In addition, it is effective for improving the bright room contrast and is excellent in luminous efficiency, and is therefore suitable as the backlight light source in the present invention. Further, since white LEDs with low power consumption can be widely used, it is possible to achieve an energy saving effect.

本発明が上記光学積層体を有するLCDの場合、光源装置の光源は光学積層体の下側(基材側)から照射される。なお、TNモード、VAモード、IPSモードの液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。 In the case where the present invention is an LCD having the optical laminate, the light source of the light source device is irradiated from the lower side (base material side) of the optical laminate. Note that a phase difference plate may be inserted between a liquid crystal display element and a polarizing plate in a TN mode, VA mode, or IPS mode liquid crystal display device. An adhesive layer may be provided between the layers of the liquid crystal display device as necessary.

上記PDPは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又は、その前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上述した光学積層体を備えるものでもある。 The PDP includes a front glass substrate and a rear glass substrate disposed with a discharge gas sealed between the front glass substrate and the front glass substrate. In the case where the image display device of the present invention is a PDP, the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate) is provided with the optical laminate described above.

その他の画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRT等の画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。 Other image display devices are ELD devices that emit light when zinc is applied, such as zinc sulfide or diamine substances, deposited on a glass substrate, and display the voltage by controlling the voltage applied to the substrate. It may be an image display device such as a CRT that generates an image visible to the human eye. In this case, the optical laminated body described above is provided on the outermost surface of each display device as described above or the surface of the front plate.

本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、液晶パネル、PDP、ELD、タッチパネル、電子ペーパー等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。 In any case, the optical laminate of the present invention can be used for display display of a television, a computer or the like. In particular, it can be suitably used for the surface of a high-definition image display such as a liquid crystal panel, PDP, ELD, touch panel, and electronic paper.

本発明の光学積層体は、帯電防止層が導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものである。このため、耐久性試験後における表面抵抗値の安定性が優れたものとなる。また、上記帯電防止層上に導通微粒子、モノマー成分、帯電防止層と同種の樹脂成分及び紫外線吸収剤を含有する組成物を用いてなるハードコート層を有することで、本発明の光学積層体にハードコート性能を付与することができるとともに、構成する各層間の密着性が優れたものとなり、耐久性試験前後における表面抵抗値の変化が少ないものとなる。
このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等に好適に使用することができる。
In the optical layered body of the present invention, the antistatic layer is formed by using an antistatic layer composition containing conductive fine particles, a resin component, and a solvent. For this reason, the stability of the surface resistance value after the durability test is excellent. In addition, the optical laminate of the present invention has a hard coat layer made of a composition containing conductive fine particles, a monomer component, the same resin component as the antistatic layer, and an ultraviolet absorber on the antistatic layer. Hard coat performance can be imparted, adhesion between the constituent layers is excellent, and the change in surface resistance before and after the durability test is small.
Therefore, the optical laminate of the present invention includes a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a field emission display (FED), a touch panel, electronic paper, It can be suitably used for a tablet PC or the like.

実施例等で使用した液晶モニターのバックライト光源の発光スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the emission spectrum of the backlight light source of the liquid crystal monitor used in the Example etc.

以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「%」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples and comparative examples.
In the text, “part” or “%” is based on mass unless otherwise specified.

(実施例1)
(帯電防止層の形成)
ポリエチレンテレフタレート材料を290℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、120℃にて1分間予熱した後、120℃にて、延伸倍率4.5倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体を固形分で28.0質量部と水72.0質量部とからなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを95℃で乾燥し、先の延伸方向とは90度の方向に延伸倍率1.5倍にて延伸を行い、リタデーション=10000nm、膜厚=100μm、Δn=0.10の光透過性基材を作製した。
次いで、HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、固形分25%、MIBK溶液、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)をプロピレングリコールモノメチルエーテル中に溶解させ、V3560(ATO分散液:平均粒子径8nm、日揮触媒化成社製)を添加して攪拌し、最終固形分8%、熱可塑性樹脂:ATOの比率が100:200(質量比)となるよう調整し、帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を作製した光透過性基材の一方の面上に、スリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが0.3μmとなるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を70℃で1分間乾燥させ帯電防止層を形成した。
Example 1
(Formation of antistatic layer)
The polyethylene terephthalate material was melted at 290 ° C., extruded through a film-forming die, into a sheet form, closely adhered onto a water-cooled and cooled rotating quenching drum, and cooled to produce an unstretched film.
This unstretched film was preheated at 120 ° C. for 1 minute using a biaxial stretching test apparatus, and then stretched at 120 ° C. to a stretch ratio of 4.5 times. Then, an aqueous dispersion of a polyester resin was solidified on one side. The primer layer resin composition consisting of 28.0 parts by mass and 72.0 parts by mass of water was uniformly applied using a roll coater.
Next, this coated film was dried at 95 ° C., and stretched at a stretch ratio of 1.5 times in the direction of 90 ° with respect to the previous stretching direction. Retardation = 10000 nm, film thickness = 100 μm, Δn = 0.10 A light transmissive substrate was produced.
Next, HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, polymethyl methacrylate resin, solid content 25%, MIBK solution, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical Co., Ltd.) in propylene glycol monomethyl ether Dissolve and add V3560 (ATO dispersion: average particle size 8 nm, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) and stir to give a final solid content of 8% and a thermoplastic resin: ATO ratio of 100: 200 (mass ratio). Thus, an antistatic layer composition was obtained.
On one surface of the light-transmitting substrate from which the composition for antistatic layer was produced, a coating film was formed by slit reverse coating so that the dry coating thickness was 0.3 μm. The obtained coating film was dried at 70 ° C. for 1 minute to form an antistatic layer.

(ハードコート層の形成)
イルガキュア184(光重合開始剤、BASFジャパン社製)4質量部を、メチルイソブチルケトン(MIBK)/イソプロパノール(IPA)の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が25質量%の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)とHRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂:DNPファインケミカル社製)を樹脂成分の質量比率で70:30となるよう添加し、レベリング剤として10−301(TL)(大日精化工業社製)を樹脂成分100質量部に対して0.2質量部となるよう添加し攪拌した。この溶液にブライト分散液(導電性微粒子分散液、DNPファインケミカル社製、平均粒子径4.6μm、固形分25%)を最終組成物であるハードコート層用組成物12kgに対して100g添加して攪拌を行い、最後に紫外線吸収剤(TINUVI477:BASFジャパン社製)を樹脂100質量部に対して6質量部となるよう添加して攪拌し、総固形分25%のハードコート層用組成物を得た。
このハードコート層用組成物を先に形成した帯電防止層の上にスリットリバースコートにより、乾燥塗布量6g/mとなるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を70℃で1分間乾燥させた後、紫外線照射量80mJ/cmで紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み5μmのハードコート層を形成し光学積層体を得た。
(Formation of hard coat layer)
4 parts by mass of Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by BASF Japan) was added to a mixed solvent of methyl isobutyl ketone (MIBK) / isopropanol (IPA) and dissolved by stirring to obtain a final solid content of 25% by mass. A solution of was prepared. To this solution, pentaerythritol triacrylate (PETA) and HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin: manufactured by DNP Fine Chemical Co., Ltd.) are added as resin components so that the mass ratio of the resin components is 70:30, and a leveling agent is added. 10-301 (TL) (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred so as to be 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. To this solution, 100 g of bright dispersion (conductive fine particle dispersion, manufactured by DNP Fine Chemical Co., Ltd., average particle diameter 4.6 μm, solid content 25%) was added to 12 kg of the hard coat layer composition as the final composition. Stirring is performed, and finally an ultraviolet absorber (TINUVI477: manufactured by BASF Japan Ltd.) is added to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin and stirred to obtain a composition for a hard coat layer having a total solid content of 25%. Obtained.
This hard coat layer composition was applied on the antistatic layer previously formed by slit reverse coating to form a dry coating amount of 6 g / m 2 to form a coating film. After drying the obtained coating film at 70 ° C. for 1 minute, the coating film was cured by irradiating ultraviolet rays at an ultraviolet irradiation amount of 80 mJ / cm 2 to form a 5 μm thick hard coat layer to obtain an optical laminate. .

(実施例2)
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を3質量部とした以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
(Example 2)
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ultraviolet absorber in the hard coat layer composition was 3 parts by mass.

(実施例3)
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を10質量部とした以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
(Example 3)
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ultraviolet absorber in the hard coat layer composition was 10 parts by mass.

(実施例4)
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を15質量部とした以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
Example 4
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ultraviolet absorber in the hard coat layer composition was 15 parts by mass.

(実施例5)
HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)に代えて、重量平均分子量5万、ガラス転移温度100℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 5)
Instead of HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical Co.), a thermoplastic resin having a weight average molecular weight 50,000 and glass transition temperature 100 ° C. was used. An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except for the above. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(実施例6)
HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)に代えて、重量平均分子量10万、ガラス転移温度100℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 6)
Instead of HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical), a thermoplastic resin having a weight average molecular weight 100,000 and glass transition temperature 100 ° C. was used. An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except for the above. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(実施例7)
HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)に代えて、重量平均分子量7万、ガラス転移温度80℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 7)
Instead of HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical), a thermoplastic resin having a weight average molecular weight 70,000 and glass transition temperature 80 ° C. was used. An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except for the above. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(実施例8)
HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)に代えて、重量平均分子量7万、ガラス転移温度110℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分26%とした以外は実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 8)
Instead of HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical Co.), a thermoplastic resin having a weight average molecular weight 70,000 and glass transition temperature 110 ° C. was used. An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except for the above. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the total solid content was 26% to obtain an optical laminate.

(実施例9)
熱可塑性樹脂:ATOの比率が100:150(質量比)となるよう調整した以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分26%とした以外は実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
Example 9
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the ratio of thermoplastic resin: ATO was adjusted to 100: 150 (mass ratio). Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the total solid content was 26% to obtain an optical laminate.

(実施例10)
熱可塑性樹脂:ATOの比率が100:250(質量比)となるよう調整した以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分26%とした以外は実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 10)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the ratio of thermoplastic resin: ATO was adjusted to 100: 250 (mass ratio). Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the total solid content was 26% to obtain an optical laminate.

(実施例11)
厚みを0.2μmとした以外は、実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 11)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 0.2 μm, and then a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(実施例12)
厚みを0.5μmとした以外は、実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 12)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 0.5 μm, and then a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(実施例13)
実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを4μmとした以外は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 13)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1, and then a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to 4 μm to obtain an optical laminate.

(実施例14)
実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを7μmとした以外は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Example 14)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1, and thereafter a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to 7 μm to obtain an optical laminate.

(実施例15)
実施例1と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション=7200nm、膜厚=80μm、Δn=0.09の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Example 15)
The stretch ratio of the unstretched film obtained in the same manner as in Example 1 was adjusted to obtain a light-transmitting substrate having retardation = 7200 nm, film thickness = 80 μm, and Δn = 0.09. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained light-transmitting substrate was used.

(実施例16)
実施例1と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション=5400nm、膜厚=60μm、Δn=0.09の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Example 16)
The stretch ratio of the unstretched film obtained in the same manner as in Example 1 was adjusted to obtain a light-transmitting substrate having retardation = 5400 nm, film thickness = 60 μm, and Δn = 0.09. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained light-transmitting substrate was used.

(実施例17)
光透過性基材の材料として、ポリエチレンナフタレート材料を用いた以外は、実施例1と同様にして、未延伸フィルムを作製した。得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション=10100nm、膜厚=48μm、Δn=0.21の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Example 17)
An unstretched film was produced in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene naphthalate material was used as the material for the light transmissive substrate. The draw ratio of the obtained unstretched film was adjusted to obtain a light-transmitting substrate having retardation = 10100 nm, film thickness = 48 μm, and Δn = 0.21. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained light-transmitting substrate was used.

(実施例18)
光透過性基材の材料として、ポリエチレンナフタレート材料を用いた以外は、実施例1と同様にして、未延伸フィルムを作製した。得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション=5500nm、膜厚=26μm、Δn=0.21の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例1と同様の方法で光学積層体を得た。
(Example 18)
An unstretched film was produced in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene naphthalate material was used as the material for the light transmissive substrate. The stretch ratio of the obtained unstretched film was adjusted to obtain a light-transmitting substrate having retardation = 5500 nm, film thickness = 26 μm, and Δn = 0.21. An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained light-transmitting substrate was used.

(比較例1)
イルガキュア184(光重合開始剤、BASFジャパン社製)4質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が25質量%の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)を添加し攪拌した。この溶液に硬化後のPETA:ATOが100:200となるようにATOを添加して攪拌し、総固形分25%の帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を実施例1と同様にして作製した光透過性基材にスリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが0.3μmとなるように塗布した。得られた塗膜を70℃で1分間乾燥させた後、紫外線照射量80mJ/cmで紫外線を照射して塗膜を硬化させて帯電防止層を形成した。
その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Comparative Example 1)
4 parts by mass of Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by BASF Japan) was added to propylene glycol monomethyl ether (PGME) and dissolved by stirring to prepare a solution having a final solid content of 25% by mass. To this solution, pentaerythritol triacrylate (PETA) was added as a resin component and stirred. ATO was added to this solution and stirred so that the PETA: ATO after curing was 100: 200, and an antistatic layer composition having a total solid content of 25% was obtained.
This antistatic layer composition was applied to a light transmissive substrate produced in the same manner as in Example 1 by slit reverse coating so that the dry coating thickness was 0.3 μm. The obtained coating film was dried at 70 ° C. for 1 minute and then irradiated with ultraviolet rays at an ultraviolet irradiation amount of 80 mJ / cm 2 to cure the coating film to form an antistatic layer.
Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(比較例2)
PETAに代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)を用いた以外は比較例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Comparative Example 2)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Comparative Example 1 except that dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) was used instead of PETA. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(比較例3)
PETAに代えて、1,6−ヘキサンジオール(HDDA)を用いた以外は比較例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Comparative Example 3)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Comparative Example 1 except that 1,6-hexanediol (HDDA) was used instead of PETA. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(比較例4)
HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)に代えて、ウレタンアクリレート(BS577、荒川化学社製)を用いた以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Comparative Example 4)
Example 1 except that urethane acrylate (BS577, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) was used instead of HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical Co., Ltd.) In the same manner, an antistatic layer was formed. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(比較例5)
PETAに代えて、HRAGアクリル(25)MIBKとPETAとを樹脂比率1:1(質量比)で混合した樹脂を用いた以外は比較例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Comparative Example 5)
Instead of PETA, an antistatic layer was formed in the same manner as in Comparative Example 1 except that a resin in which HRAG acrylic (25) MIBK and PETA were mixed at a resin ratio of 1: 1 (mass ratio) was used. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(比較例6)
実施例1と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション=4000nm、膜厚=40μm、Δn=0.10の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例1と同様の方法で光学積層体を作製した。
(Comparative Example 6)
The stretch ratio of the unstretched film obtained in the same manner as in Example 1 was adjusted to obtain a light-transmitting substrate having retardation = 4000 nm, film thickness = 40 μm, and Δn = 0.10. An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained light-transmitting substrate was used.

(比較例7)
実施例1と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション=2700nm、膜厚=30μm、Δn=0.09の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例1と同様の方法で光学積層体を作製した。
(Comparative Example 7)
The stretch ratio of the unstretched film obtained in the same manner as in Example 1 was adjusted to obtain a light-transmitting substrate having retardation = 2700 nm, film thickness = 30 μm, and Δn = 0.09. An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the obtained light-transmitting substrate was used.

(参考例1)
実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤を添加しなかった以外は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 1)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that no ultraviolet absorber was added, thereby obtaining an optical laminate.

(参考例2)
実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤の配合量を16質量部とした以外は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 2)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the ultraviolet absorber was 16 parts by mass to obtain an optical laminate.

(参考例3)
HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)に代えて、重量平均分子量1万、ガラス転移温度110℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 3)
Instead of HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical), a thermoplastic resin having a weight average molecular weight 10,000 and glass transition temperature 110 ° C. was used. An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except for the above. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(参考例4)
HRAGアクリル(25)MIBK(熱可塑性樹脂、重量平均分子量7万、ガラス転移温度100℃:DNPファインケミカル社製)に代えて、重量平均分子量7万、ガラス転移温度70℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 4)
Instead of HRAG acrylic (25) MIBK (thermoplastic resin, weight average molecular weight 70,000, glass transition temperature 100 ° C .: manufactured by DNP Fine Chemical Co.), a thermoplastic resin having a weight average molecular weight 70,000 and glass transition temperature 70 ° C. was used. An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except for the above. Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(参考例5)
熱可塑性樹脂:ATOの比率が100:50(質量比)となるよう調整した以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分26%とした以外は実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 5)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the ratio of thermoplastic resin: ATO was adjusted to 100: 50 (mass ratio). Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the total solid content was 26% to obtain an optical laminate.

(参考例6)
熱可塑性樹脂:ATOの比率が100:350(質量比)となるよう調整した以外は実施例1と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分26%とした以外は実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 6)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the ratio of thermoplastic resin: ATO was adjusted to 100: 350 (mass ratio). Thereafter, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the total solid content was 26% to obtain an optical laminate.

(参考例7)
厚みを0.09μmとした以外は、実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 7)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to 0.09 μm, and then a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(参考例8)
厚みを1.2μmとした以外は、実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 8)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 1.2 μm, and then a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain an optical laminate.

(参考例9)
実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを2μmとした以外は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 9)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1, and then a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to 2 μm to obtain an optical laminate.

(参考例10)
実施例1と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを12μmとした以外は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
(Reference Example 10)
An antistatic layer was formed in the same manner as in Example 1, and then a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to 12 μm to obtain an optical laminate.

実施例、比較例及び参考例で得られた光学積層体について、以下の評価を行った。
各評価は、光学積層体の製造直後(初期性能)、耐久性試験(1)(80℃環境で500時間保持)後、及び、耐久性試験(2)(キセノンアーク300時間照射)後にそれぞれ行った。なお、耐久性試験(1)及び(2)後の光学積層体の抵抗値については、製造直後(初期性能)に対する変化率(試験後の表面抵抗値)/(試験前の表面抵抗値)を算出した。実施例に係る結果を表1に示し、比較例及び参考例に係る結果を表2に示した。
The following evaluation was performed about the optical laminated body obtained by the Example, the comparative example, and the reference example.
Each evaluation is performed immediately after manufacturing the optical laminate (initial performance), after the durability test (1) (held at 80 ° C. for 500 hours), and after the durability test (2) (300 hours of xenon arc irradiation). It was. In addition, about the resistance value of the optical laminated body after a durability test (1) and (2), change rate (surface resistance value after a test) / (surface resistance value before a test) with respect to immediately after manufacture (initial performance). Calculated. The results according to the examples are shown in Table 1, and the results according to the comparative example and the reference example are shown in Table 2.

(全光線透過率、ヘイズ)
各光学積層体の透過率(全光線透過率)及びヘイズを、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所社製、製品番号:HM−150)を用いてJIS K7361(全光線透過率)に準拠した方法により測定した。
(Total light transmittance, haze)
A method in accordance with JIS K7361 (total light transmittance) using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150) for the transmittance (total light transmittance) and haze of each optical laminate. It was measured by.

(抵抗値)
各光学積層体の表面抵抗値を、ハイレスタUP MCP−HT450(三菱化学社製:Rプローブ、印加電圧500V)を用いて測定した(単位Ω/□)。
(Resistance value)
The surface resistance value of each optical laminate was measured using Hiresta UP MCP-HT450 (Mitsubishi Chemical Corporation: R probe, applied voltage 500 V) (unit: Ω / □).

(密着性)
各光学積層体にクロスカット碁盤目試験を行い、元のカット部数(100)に対するテープを剥がした後に基材上に残存したカット部数の比について、下記の基準にて評価した。
○:90/100〜100/100
△:50/100〜89/100
×:0/100〜49/100
(Adhesion)
A cross cut cross cut test was performed on each optical laminate, and the ratio of the number of cut parts remaining on the substrate after peeling the tape with respect to the original number of cut parts (100) was evaluated according to the following criteria.
○: 90/100 to 100/100
Δ: 50/100 to 89/100
X: 0/100 to 49/100

(鉛筆硬度)
各光学積層体を、温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS S6006に規定する試験用鉛筆(硬度2B〜3H)を用いて、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度評価方法に従い、4.9Nの荷重にて、ハードコート層が形成された表面の鉛筆硬度を測定した。
(Pencil hardness)
Each optical laminate was conditioned for 2 hours under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then using JIS K5600-5-4 (1999) using a test pencil (hardness 2B to 3H) specified in JIS S6006. The pencil hardness of the surface on which the hard coat layer was formed was measured under a load of 4.9 N according to the pencil hardness evaluation method specified in (1).

また、実施例、比較例及び参考例で得られた光学積層体について、更に、以下の評価を行った。
(ニジムラ評価)
各光学積層体を、液晶モニター(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan社製))の観察者側の偏光板上に粘着をかいして配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が45°となるように配置した。
そして、暗所及び明所(液晶モニター周辺照度400ルクス)にて、正面及び斜め方向(約50度)から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。偏光サングラス越しの観察は、目視よりも非常に厳しい評価法である。観察は10人で行い、最多数の評価を観察結果としている。
図1に、使用した液晶モニターのバックライト光源の発光スペクトルを示す。
◎:ニジムラが観測されない
○:ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
×:ニジムラが強く観測される
Moreover, the following evaluation was performed about the optical laminated body obtained by the Example, the comparative example, and the reference example.
(Nijimura evaluation)
Each optical layered body was disposed on the polarizing plate on the viewer side of a liquid crystal monitor (FLATRON IPS 226V (manufactured by LG Electronics Japan)) to prepare a liquid crystal display device. In addition, it arrange | positioned so that the angle which the slow axis of a polyester base material and the absorption axis of the polarizing plate by the side of the observer of a liquid crystal monitor may make would be 45 degrees.
In the dark and bright places (illuminance around the LCD monitor 400 lux), the display image is observed visually and through polarized sunglasses from the front and diagonal directions (about 50 degrees), and the presence or absence of nidimra is evaluated according to the following criteria. did. Observation through polarized sunglasses is a much stricter evaluation method than visual observation. The observation is performed by 10 people, and the largest number of evaluations are the observation results.
FIG. 1 shows the emission spectrum of the backlight source of the liquid crystal monitor used.
◎: Nizimura is not observed ○: Nizimura is observed, but there is no problem in practical use ×: Nizimura is observed strongly

(色味変化評価)
各光学積層体を、液晶モニター(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan社製))の観察者側の偏光板上に粘着を介して配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が45°となるように配置した。
そして、暗所にて、液晶モニターを白表示とし、偏光サングラス吸収軸と液晶モニターの観測者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が0度(パラレルニコル)となる時と、90度(クロスニコル)となる時の正面色味を、輝度計BM−5(トプコン社製)にて測定し、色差Δu’v’を算出した。同時に、10人で観察を行い、下記の基準に従い、評価した。最多数の評価を観察結果としている。
◎:パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がない。
色差Δu’v ’<0.01
○:パラレルニコル時とクロスニコル時の色差が少しあるが、実使用上問題ない。
0.01≦色差Δu’v ’≦0.03
×:パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がある。
色差Δu’v ’>0.03
(Evaluation of color change)
Each optical laminated body was arrange | positioned through the adhesion | attachment on the polarizing plate by the side of the observer of the liquid crystal monitor (FLATRON IPS226V (made by LG Electronics Japan)), and the liquid crystal display device was produced. In addition, it arrange | positioned so that the angle which the slow axis of a polyester base material and the absorption axis of the polarizing plate by the side of the observer of a liquid crystal monitor may make would be 45 degrees.
In a dark place, the liquid crystal monitor is displayed in white, and when the angle between the polarizing sunglasses absorption axis and the absorption axis of the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor is 0 degree (parallel Nicol), 90 degrees ( The front color at the time of “cross nicols” was measured with a luminance meter BM-5 (manufactured by Topcon Corporation), and the color difference Δu′v ′ was calculated. At the same time, observation was carried out by 10 people and evaluated according to the following criteria. The most numerous evaluations are the observation results.
A: There is no color difference between parallel and crossed Nicols.
Color difference Δu′v ′ <0.01
○: There is a slight color difference between parallel Nicol and cross Nicol, but there is no problem in actual use.
0.01 ≦ color difference Δu′v ′ ≦ 0.03
X: There is a color difference between parallel Nicol and cross Nicol.
Color difference Δu′v ′> 0.03

Figure 2014013367
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Figure 2014013367
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表1に示したように、実施例に係る光学積層体は、耐久性試験の前後で表面抵抗値の変化率は小さく、帯電防止性能の安定性が極めて高いものであった。また、ヘイズ、全光線透過率、密着性及び鉛筆硬度の各評価にも優れるものであった。更に、ニジムラ及び色味変化の評価にも優れるものであった。
これに対し、表2に示したように、比較例に係る光学積層体は、耐久性試験(2)の前後で表面抵抗値の変化率が大きく、帯電防止性能の安定性に劣るものであった。また、比較例6、7に係る光学積層体は、ニジムラ及び色味変化の評価に劣るものであった。
また、帯電防止層における導電性微粒子の配合量の少なかった参考例5に係る光学積層体、帯電防止層の厚みが薄すぎた参考例7に係る光学積層体、及び、ハードコート層の厚みが厚すぎた参考例10に係る光学積層体は、表面抵抗値が高すぎて帯電防止性が不充分であった。また、その他の参考例に係る光学積層体は、耐久性試験の前後で表面抵抗値の変化率が小さく、帯電防止性能の安定性が極めて高いものの、ヘイズ、全光線透過率、密着性及び鉛筆硬度の各評価のいずれもが優れるものはなかった。
As shown in Table 1, the optical laminate according to the example had a small rate of change in surface resistance value before and after the durability test, and extremely high antistatic performance. Moreover, it was excellent also in each evaluation of haze, a total light transmittance, adhesiveness, and pencil hardness. Furthermore, it was excellent in the evaluation of Nijimura and color change.
On the other hand, as shown in Table 2, the optical laminate according to the comparative example has a large rate of change of the surface resistance value before and after the durability test (2), and is inferior in stability of the antistatic performance. It was. Moreover, the optical laminated body which concerns on the comparative examples 6 and 7 was inferior to the evaluation of a nidimra and a tint change.
Further, the optical laminate according to Reference Example 5 in which the blending amount of the conductive fine particles in the antistatic layer was small, the optical laminate according to Reference Example 7 in which the thickness of the antistatic layer was too thin, and the thickness of the hard coat layer were The optical laminate according to Reference Example 10, which was too thick, had a surface resistance value that was too high and was insufficient in antistatic properties. In addition, the optical laminate according to another reference example has a small change rate of the surface resistance value before and after the durability test and an extremely high antistatic performance, but the haze, the total light transmittance, the adhesion, and the pencil. None of the hardness evaluations were excellent.

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットPC等に好適に使用することができる。 The optical laminate of the present invention includes a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a field emission display (FED), a touch panel, electronic paper, a tablet PC, and the like. Can be suitably used.

Claims (12)

面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体であって、
前記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものであり、
前記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、前記溶剤に対する溶解性と前記導電性微粒子に対する相溶性とを有し、
前記光透過性基材は、リタデーションが5000nm以上である
ことを特徴とする光学積層体。
An optical laminate having an antistatic layer on one surface of a light-transmitting substrate having a birefringence in the plane,
The antistatic layer is formed using a composition for an antistatic layer containing conductive fine particles, a resin component, and a solvent,
The resin component does not have a reactive functional group in the molecule, and has solubility in the solvent and compatibility with the conductive fine particles,
The optically transparent substrate is characterized in that the light transmissive substrate has a retardation of 5000 nm or more.
導電性微粒子は、鎖状又は針状である請求項1記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the conductive fine particles are chain-like or needle-like. 80℃環境で500時間保持する耐久性試験(1)及びキセノンアークを300時間照射する耐久性試験(2)の前後における表面抵抗値の変化率{(試験後の表面抵抗値)/(試験前の表面抵抗値)}が、いずれも0.5〜2.0である請求項1又は2記載の光学積層体。 Change rate of surface resistance value before and after durability test (1) for 500 hours in 80 ° C. environment and durability test (2) for 300 hours irradiation with xenon arc {(surface resistance value after test) / (before test) The surface laminate value)} is 0.5 to 2.0 in any case. 3. The optical laminate according to claim 1 or 2. 樹脂成分は、重量平均分子量が2万〜20万であり、ガラス転移温度が80〜120℃である請求項1、2又は3記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, 2 or 3, wherein the resin component has a weight average molecular weight of 20,000 to 200,000 and a glass transition temperature of 80 to 120 ° C. 樹脂成分は、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びABS樹脂からなる群より選択される少なくとも1種である請求項1、2、3又は4記載の光学積層体。 The resin component is at least one selected from the group consisting of acrylic resins, cellulose resins, urethane resins, vinyl chloride resins, polyester resins, polyolefin resins, polycarbonate, nylon, polystyrene, and ABS resins. Item 5. The optical laminate according to Item 1, 2, 3 or 4. 導電性微粒子は、アンチモン錫酸化物(ATO)であり、樹脂成分は、ポリメチルメタクリレートであり、溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルである請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, 2, 3, 4, or 5, wherein the conductive fine particles are antimony tin oxide (ATO), the resin component is polymethyl methacrylate, and the solvent is propylene glycol monomethyl ether. . 帯電防止層の光透過性基材側と反対側の面上にハードコート層を有する請求項1、2、3、4、5又は6記載の光学積層体。 The optical laminated body according to claim 1, 2, 3, 4, 5 or 6, further comprising a hard coat layer on the surface of the antistatic layer opposite to the light transmissive substrate side. ハードコート層は、帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分を含有する請求項7記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 7, wherein the hard coat layer contains the same resin component as the resin component contained in the antistatic layer. ハードコート層は、導通微粒子を含有する請求項7又は8記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 7 or 8, wherein the hard coat layer contains conductive fine particles. ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有する請求項7、8又は9記載の光学積層体。 The optical layered body according to claim 7, wherein the hard coat layer contains an ultraviolet absorber. 紫外線吸収剤の含有量が、3〜15質量%である請求項10記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 10, wherein the content of the ultraviolet absorber is 3 to 15% by mass. 請求項1、2、3、4、5、6、7、8、9、10又は11記載の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。 An image display device comprising the optical laminate according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, or 11.
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