JP2014006421A - Optical film, 3d image display device, and 3d image display system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an innovative optical film that contributes to improvement in the characteristics of the angle of a field of view of a 3D image display device, to provide a 3D image display device using the same, and also to provide a 3D image display system.SOLUTION: An optical film comprises: a transparent support; an orientation film; and a pattern optical anisotropic layer including a first phase difference area and a second phase difference area different from each other at least in in-plane slow axis direction or in-plane retardation and arranged alternately within the plane. The pattern optical anisotropic layer uses a composition that includes at least one type of chemical compound that reacts by the application of energy. The optical film is formed using a composition having as its main constituent a rod-like liquid crystalline compound that has a polymerizable group on a pattern orientation film formed by a rubbing process and the process of applying energy to part of an area.

Description

本発明は、高精細な配向パターンの光学異方性層を有し、かつ製造が容易で輝度低下率などの表示性能や耐光性が改善された光学フィルム、3D画像表示装置及び3D画像表示システムに関する。   The present invention relates to an optical film, a 3D image display device, and a 3D image display system, which have an optically anisotropic layer having a high-definition orientation pattern, are easy to manufacture, and have improved display performance and light resistance such as a luminance reduction rate. About.

立体画像を表示する3D画像表示装置には、右眼用画像及び左眼用画像を、例えば、互いに反対方向の円偏光画像とするための光学部材が必要である。例えば、かかる光学部材には、遅相軸やレターデーション等が互いに異なる領域が規則的に面内に配置されたパターン位相差膜が利用されている。   A 3D image display device that displays a stereoscopic image requires an optical member for making the right-eye image and the left-eye image into circularly polarized images in opposite directions, for example. For example, such an optical member uses a pattern retardation film in which regions having different slow axes and retardations are regularly arranged in a plane.

従来、液晶性化合物を利用して形成されるパターン光学補償膜等が提案されている(例えば特許文献1及び2)。これらは液晶セルの内部に配置される、いわゆるインセルタイプの光学補償膜等であり、液晶セルを正確に補償するための部材である。したがって、利用する液晶性化合物の配向形態も光学補償に適する形態であり、3D画像表示装置の上記光学部材に用いるのに適するものではない。   Conventionally, a pattern optical compensation film formed using a liquid crystal compound has been proposed (for example, Patent Documents 1 and 2). These are so-called in-cell type optical compensation films and the like disposed inside the liquid crystal cell, and are members for accurately compensating the liquid crystal cell. Therefore, the alignment form of the liquid crystal compound to be used is also a form suitable for optical compensation, and is not suitable for use in the optical member of the 3D image display device.

また、特許文献3には、パターン化位相差板を有する2D/3D切替型液晶表示装置が開示され、パターン化位相差板の材料としてUV硬化型液晶性化合物溶液を利用することが開示されている。しかし、その液晶性化合物材料の詳細については記載がなく、棒状液晶性化合物を利用することについては開示されていない。また、特許文献3では、パターン化位相差板は視差バリア手段として利用されているのであって、右眼用及び左眼用円偏光画像等を形成するための上記光学部材として用いられているのではない。また、特許文献4には、配向規制力が異なる第1及び第2配向膜を利用して形成された光学異方性層を有する液晶装置が開示されている。前記光学異方性層の形成に液晶性高分子材料を利用することについて開示されているが、その詳細については記載されておらず、棒状液晶性化合物を利用することについては開示されていない。また、特許文献5には、立体画像表示装置用の光学フィルタの光配向膜を利用する製造方法が提案されており、実施例では、配向膜としてポリシンナメートポリマーを使用し、棒状液晶性化合物を利用してパターン位相差膜を得る製造方法が開示されている。   Patent Document 3 discloses a 2D / 3D switching type liquid crystal display device having a patterned retardation plate, and discloses using a UV curable liquid crystalline compound solution as a material of the patterned retardation plate. Yes. However, details of the liquid crystal compound material are not described, and use of a rod-like liquid crystal compound is not disclosed. Further, in Patent Document 3, the patterned retardation plate is used as a parallax barrier means, and is used as the optical member for forming right-eye and left-eye circularly polarized images and the like. is not. Patent Document 4 discloses a liquid crystal device having an optically anisotropic layer formed by using first and second alignment films having different alignment regulating forces. Although the use of a liquid crystalline polymer material for the formation of the optically anisotropic layer is disclosed, the details thereof are not described, and the use of a rod-like liquid crystalline compound is not disclosed. In addition, Patent Document 5 proposes a manufacturing method using a photo-alignment film of an optical filter for a stereoscopic image display device. In the examples, a polycinnamate polymer is used as the alignment film, and a rod-like liquid crystal compound is used. A manufacturing method for obtaining a patterned retardation film by utilizing the above-described method is disclosed.

特開2006−276849号公報JP 2006-276849 A 特開2007−71952号公報JP 2007-71952 A 特開2004−302409号公報JP 2004-302409 A 特開2007−163722号公報JP 2007-163722 A WO2010/090429号A2公報WO2010 / 090429 A2 Publication

引用文献5のように、従来のパターン位相差膜を作製する方法では、光配向膜に対してパターン分割された露光マスクを介して偏光照射を複数回行う必要があり、この場合、操作が煩雑になる上、偏光板透過による露光エネルギーの減少による製造効率の低下が避けられないことが明らかとなった。また、露光マスクには、パターン化された偏光子を高精度に付与することが要求され、マスク製造コストも高くなることが明らかとなった。
本発明は、新規な光学フィルム、従来のパターン位相差膜の製造方法より簡便かつ効率的な新規な光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。
As in the cited document 5, in the conventional method for producing a pattern retardation film, it is necessary to irradiate polarized light a plurality of times through an exposure mask divided into patterns on the photo-alignment film. In this case, the operation is complicated. In addition, it has been clarified that a decrease in production efficiency due to a decrease in exposure energy due to transmission through the polarizing plate is unavoidable. Further, it has been clarified that the exposure mask is required to be provided with a patterned polarizer with high accuracy, and the mask manufacturing cost is increased.
An object of the present invention is to provide a novel optical film and a method for producing a novel optical film that is simpler and more efficient than a conventional method for producing a patterned retardation film.

前記課題の解決を目的として本発明者らが、鋭意検討を行った結果、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種含む組成物から形成された膜に、ラビング処理と、一部の領域に対するエネルギーを付与する処理を行うことにより得られたパターン配向膜を用いることにより、エネルギーを付与した領域とエネルギーを付与していない領域とで棒状液晶性化合物の配向方向及び、配向状態、及び面内レターデーションReの少なくともいずれかが異なる位相差領域が作製できることを見出した。本発明は、新規な光学フィルム、従来のパターン位相差膜の製造方法より簡便かつ効率的な新規な光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。   As a result of intensive studies by the present inventors for the purpose of solving the above-described problems, a film formed from a composition containing at least one compound that reacts by applying energy is subjected to rubbing treatment and energy for a part of the region. By using the pattern alignment film obtained by applying the treatment, the orientation direction, the orientation state, and the in-plane letter of the rod-like liquid crystalline compound in the region to which energy is applied and the region to which energy is not applied. It has been found that retardation regions having different at least one of the foundation Re can be produced. An object of the present invention is to provide a novel optical film and a method for producing a new optical film that is simpler and more efficient than a conventional method for producing a patterned retardation film.

前記課題を解決するための具体的な手段は、下記[1]の手段であり、好ましくは、下記[2]〜[20]の手段である。[1]透明支持体と、配向膜と、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、面内において交互に配置されている第1位相差領域及び第2位相差領域を含むパターン光学異方性層と、を含み、
パターン光学異方性層は、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を用い、ラビング処理と一部の領域に対しエネルギーを付与する処理により形成されたパターン配向膜上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物を用いて形成されたものである光学フィルム。
[2]エネルギーが、非偏光紫外線である、[1]の光学フィルム。
[3]重合性基を有する棒状液晶性化合物が、水平配向状態に固定されている、[1]又は[2]の光学フィルム。
[4]エネルギーの付与により反応する化合物が、光反応性化合物である、[1]〜[3]のいずれかの光学フィルム。
[5]光反応性化合物が、光酸発生剤である、[4]の光学フィルム。
[6]光反応性化合物が、ポリビニルシンナメートである、[4]の光学フィルム。
[7]偏光膜をさらに有し、第1及び第2位相差領域の面内遅相軸と、偏光膜の吸収軸とがそれぞれ±45°の角度をなす、[1]〜[6]のいずれかの光学フィルム。
[8]偏光膜の一方の面上に配置されている光学異方性層を含む全ての部材の波長550nmの面内レターデーションRe(550)の合計値が、110〜160nmである、[7]の光学フィルム。
[9]透明支持体が、紫外線吸収剤を含有する、[1]〜[8]のいずれかの光学フィルム。
[10]機能層をさらに有する、[1]〜[9]のいずれかの光学フィルム。
[11]機能層が、紫外線吸収剤を含有する、[10]の光学フィルム。
[12]画像信号に基づいて駆動される表示パネルと、表示パネルの視認側に配置される、[1]〜[11]のいずれかの光学フィルムとを少なくとも有する3D画像表示装置。
[13]表示パネルが液晶セルを有する、[12]の3D画像表示装置。
[14][12]または[13]の3D用画像表示装置と、3D用画像表示装置の視認側に配置される偏光板とを少なくとも備え、偏光板を通じて立体画像を視認させる3D画像表示システム。
[15]透明支持体と、配向膜と、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、面内において交互に配置されている第1位相差領域及び第2位相差領域を含むパターン光学異方性層と、を含む光学フィルムの製造方法であって、
1)透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種含む組成物を適用し、膜を作成する工程
2)膜を一方向にラビング処理する工程
3)膜の一部の領域にエネルギーを付与する工程
4)膜に対し、ラビング処理およびエネルギー付与を行うことで得られたパターン配向膜上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物を適用する工程
5)加熱して面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第1位相差領域及び第2位相差領域を形成する工程
6)エネルギーを付与して重合性基を有する棒状液晶性化合物を固定化する工程
を含む光学フィルムの製造方法。
[16]第1及び第2配向制御領域を含み、
第1及び第2配向制御領域は、面内において交互に配置されており、それぞれ異なる含有量でエネルギーの付与により反応する化合物を含む、パターン配向膜。
[17]第1及び第2配向制御領域がラビング処理とエネルギーを付与する処理とにより形成されている、[16]のパターン配向膜。
[18]第1及び第2配向制御領域が、面内において交互に配置されているパターン配向膜の製造方法であって、
1)透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を適用し、膜を形成する工程
2)膜を一方向にラビング処理する工程
3)膜の一部の領域に対し、エネルギーを付与する工程
を含むパターン配向膜の製造方法。
[19]エネルギーが、1回の非偏光紫外線照射である、[18]のパターン配向膜の製造方法。
[20]エネルギーを付与する工程が、膜に対して垂直に非偏光を照射する工程である、[18]及び[19]のパターン配向膜の製造方法。
Specific means for solving the above problems are the means [1] below, preferably the means [2] to [20] below. [1] A first retardation region and a second retardation region in which at least one of the transparent support, the alignment film, the in-plane slow axis direction and the in-plane retardation are different from each other and are alternately arranged in the plane A pattern optically anisotropic layer containing, and
The patterned optically anisotropic layer uses a composition containing at least one compound that reacts by applying energy, and is polymerized on the pattern alignment film formed by rubbing and applying energy to a part of the region. An optical film formed by using a composition containing, as a main component, a rod-like liquid crystalline compound having a functional group.
[2] The optical film according to [1], wherein the energy is non-polarized ultraviolet rays.
[3] The optical film of [1] or [2], wherein the rod-like liquid crystalline compound having a polymerizable group is fixed in a horizontal alignment state.
[4] The optical film of any one of [1] to [3], wherein the compound that reacts upon application of energy is a photoreactive compound.
[5] The optical film of [4], wherein the photoreactive compound is a photoacid generator.
[6] The optical film according to [4], wherein the photoreactive compound is polyvinyl cinnamate.
[7] A polarizing film is further provided, and the in-plane slow axis of the first and second retardation regions and the absorption axis of the polarizing film form an angle of ± 45 °, respectively [1] to [6] Any optical film.
[8] The total value of the in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm of all the members including the optically anisotropic layer disposed on one surface of the polarizing film is 110 to 160 nm. [7 ] Optical film.
[9] The optical film of any one of [1] to [8], wherein the transparent support contains an ultraviolet absorber.
[10] The optical film of any one of [1] to [9], further having a functional layer.
[11] The optical film according to [10], wherein the functional layer contains an ultraviolet absorber.
[12] A 3D image display device having at least a display panel driven based on an image signal and the optical film of any one of [1] to [11] disposed on the viewing side of the display panel.
[13] The 3D image display device according to [12], wherein the display panel includes a liquid crystal cell.
[14] A 3D image display system including at least the 3D image display device according to [12] or [13] and a polarizing plate disposed on a viewing side of the 3D image display device, and allowing a stereoscopic image to be visually recognized through the polarizing plate.
[15] First retardation region and second retardation region in which at least one of the in-plane slow axis direction and in-plane retardation is different from each other and is alternately arranged in the plane A method for producing an optical film comprising: a patterned optically anisotropic layer comprising:
1) Applying a composition containing at least one compound that reacts upon application of energy on a transparent support to create a film 2) Rubbing the film in one direction 3) Energizing a partial region of the film 4) Step 5) of applying a composition mainly composed of a rod-like liquid crystalline compound having a polymerizable group on the pattern alignment film obtained by rubbing and applying energy to the film. Step 6 of forming a first retardation region and a second retardation region in which at least one of in-plane slow axis direction and in-plane retardation is different from each other by heating 6) rod-like liquid crystal having a polymerizable group by applying energy The manufacturing method of an optical film including the process of fixing a compound.
[16] including first and second orientation control regions;
The first and second alignment control regions are alternately arranged in the plane, and each include a compound that reacts by applying energy at different contents, and is a pattern alignment film.
[17] The pattern alignment film according to [16], wherein the first and second alignment control regions are formed by a rubbing process and a process for applying energy.
[18] A method for producing a pattern alignment film in which the first and second alignment control regions are alternately arranged in the plane,
1) Applying a composition containing at least one compound that reacts by applying energy on the transparent support to form a film 2) Rubbing the film in one direction 3) Applying to a partial region of the film On the other hand, the manufacturing method of the pattern orientation film including the process of providing energy.
[19] The method for producing a pattern alignment film according to [18], wherein the energy is one non-polarized ultraviolet irradiation.
[20] The method for producing a pattern alignment film according to [18] and [19], wherein the step of applying energy is a step of irradiating non-polarized light perpendicular to the film.

本発明によれば、3D画像表示装置の視野角特性の改善に寄与する新規な光学フィルム、その簡便な製造法、及びそれを利用した3D画像表示装置、及び3D画像表示システムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the novel optical film which contributes to the improvement of the viewing angle characteristic of 3D image display apparatus, its simple manufacturing method, 3D image display apparatus using the same, and 3D image display system are provided. it can.

本発明の光学フィルムの一例の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of an example of the optical film of this invention. 偏光膜と光学異方性層との関係の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the relationship between a polarizing film and an optically anisotropic layer. 偏光膜と光学異方性層との関係の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the relationship between a polarizing film and an optically anisotropic layer. 本発明に係わるパターン光学異方性層の一例の上面模式図である。It is an upper surface schematic diagram of an example of the pattern optical anisotropic layer concerning this invention. 本発明の光学フィルムの他の例の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the other example of the optical film of this invention. 本発明の3D画像表示装置の構成例の一例の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of an example of the structural example of the 3D image display apparatus of this invention. 実施例で作製した光学フィルムの光学特性の評価結果を示す図である。It is a figure which shows the evaluation result of the optical characteristic of the optical film produced in the Example. 露光マスクの一例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed an example of the exposure mask.

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value. First, terms used in this specification will be described.

Re(λ)、Rth(λ)は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Re(λ)はKOBRA 21ADH、又はWR(王子計測機器(株)製)において、波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λnmの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、1軸又は2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth(λ)が算出される。
Rth(λ)は、前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADH、又はWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50°まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADH、又はWRが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式(A)、及び式(B)よりRthを算出することもできる。
Re (λ) and Rth (λ) represent in-plane retardation at wavelength λ and retardation in the thickness direction, respectively. Re (λ) is measured with KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.) by making light having a wavelength of λ nm incident in the normal direction of the film. In selecting the measurement wavelength λnm, the wavelength selection filter can be exchanged manually, or the measurement value can be converted by a program or the like. When the film to be measured is represented by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, Rth (λ) is calculated by the following method.
Rth (λ) is the film surface when Re (λ) is used and the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) is the tilt axis (rotation axis) (if there is no slow axis) Measurement is performed at a total of 6 points by injecting light of wavelength λ nm from each inclined direction in steps of 10 degrees from the normal direction to 50 ° on one side with respect to the film normal direction (with any rotation direction as the rotation axis). Then, KOBRA 21ADH or WR is calculated based on the measured retardation value, the assumed value of the average refractive index, and the input film thickness value. In the above case, in the case of a film having a direction in which the retardation value is zero at a certain tilt angle with the in-plane slow axis from the normal direction as the rotation axis, retardation at a tilt angle larger than the tilt angle. The value is calculated by KOBRA 21ADH or WR after changing its sign to negative. The retardation value is measured from two inclined directions with the slow axis as the tilt axis (rotation axis) (if there is no slow axis, the arbitrary direction in the film plane is the rotation axis). Rth can also be calculated from the following formula (A) and formula (B) based on the value, the assumed value of the average refractive index, and the input film thickness value.

Figure 2014006421
なお、上記のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式(A)におけるnxは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは、面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzは、nx及びnyに直交する方向の屈折率を表す。dは膜厚である。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d・・・・・・・・・・・式(B)
Figure 2014006421
Note that Re (θ) represents a retardation value in a direction inclined by an angle θ from the normal direction. In the formula (A), nx represents the refractive index in the slow axis direction in the plane, ny represents the refractive index in the direction orthogonal to nx in the plane, and nz is the direction orthogonal to nx and ny. Represents the refractive index. d is the film thickness.
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (Equation (B)

測定されるフィルムが、1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法により、Rth(λ)は算出される。Rth(λ)は、前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADH、又はWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として、フィルム法線方向に対して−50°から+50°まで10°ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.59)である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADH又はWRはnx、ny、nzを算出する。この算出されたnx、ny、nzよりNz=(nx−nz)/(nx−ny)が更に算出される。
また、本明細書でレターデーションの総和とは、複数層のフィルムを上記測定法にて測定した値のことを表す。
When the film to be measured is a film that cannot be expressed by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, that is, a film without a so-called optical axis, Rth (λ) is calculated by the following method. Rth (λ) is from −50 ° to the normal direction of the film, with Re (λ) being the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) as the tilt axis (rotary axis). Measured at 11 points by making light of wavelength λ nm incident in 10 ° steps up to + 50 °, and based on the measured retardation value, average refractive index assumption value and input film thickness value. KOBRA 21ADH or WR is calculated. In the above measurement, as the assumed value of the average refractive index, values in the polymer handbook (John Wiley & Sons, Inc.) and catalogs of various optical films can be used. If the average refractive index is not known, it can be measured with an Abbe refractometer. The average refractive index values of main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), Polystyrene (1.59). The KOBRA 21ADH or WR calculates nx, ny, and nz by inputting the assumed value of the average refractive index and the film thickness. Nz = (nx−nz) / (nx−ny) is further calculated from the calculated nx, ny, and nz.
Moreover, the sum total of retardation in this specification represents the value which measured the film of multiple layers with the said measuring method.

また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は550nmである。なお、本明細書では、「可視光」とは、380nm〜780nmのことをいい、紫外領域は10nm〜400nmのことをいう。
また、本明細書において、角度(例えば「90°」等の角度)、及びその関係(例えば「直交」、「平行」、「垂直」、及び「45°で交差」等)については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±10°未満の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、5°以下であることが好ましく、3°以下であることがより好ましい。
Moreover, in this specification, when there is no special mention about a measurement wavelength, a measurement wavelength is 550 nm. In this specification, “visible light” means 380 nm to 780 nm, and the ultraviolet region means 10 nm to 400 nm.
Further, in the present specification, the angle (for example, an angle such as “90 °”) and the relationship (for example, “orthogonal”, “parallel”, “vertical”, “intersect at 45 °”, etc.) The range of errors allowed in the technical field to which the For example, it means that the angle is within the range of strict angle ± 10 °, and the error from the strict angle is preferably 5 ° or less, and more preferably 3 ° or less.

1.光学フィルム
本発明の光学フィルムは、透明支持体と、配向膜と、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、面内において交互に配置されている第1位相差領域及び第2位相差領域を含むパターン光学異方性層と、を含み、パターン光学異方性層は、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を用い、ラビング処理と一部の領域に対しエネルギーを付与する処理により形成されたパターン配向膜上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物を用いて形成されたものである。
1. Optical film The optical film of the present invention is a first retardation region in which at least one of the transparent support, the alignment film, the in-plane slow axis direction and the in-plane retardation are different from each other and are alternately arranged in the plane. And a patterned optically anisotropic layer including a second retardation region, wherein the patterned optically anisotropic layer uses a composition containing at least one compound that reacts upon application of energy, and a rubbing treatment and a part of the layer It is formed using the composition which has as a main component the rod-shaped liquid crystalline compound which has a polymeric group on the pattern orientation film formed by the process which provides an area | region with energy.

本発明の光学フィルムの一例の断面模式図を図1に示す。なお、図中、各層の厚みの相対的関係は、実際の液晶表示装置の各層の厚みの相対的関係と必ずしも一致しているものではない。図1に示す光学フィルム10は、透明支持体16、配向膜14及びパターン光学異方性層12を有する。   A schematic cross-sectional view of an example of the optical film of the present invention is shown in FIG. In the drawing, the relative relationship between the thicknesses of the respective layers does not necessarily coincide with the relative relationship between the thicknesses of the respective layers of the actual liquid crystal display device. The optical film 10 shown in FIG. 1 has a transparent support 16, an alignment film 14, and a patterned optical anisotropic layer 12.

本発明者が鋭意検討した結果、透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を適用した膜をラビング処理し、エネルギーを付与する処理を行うことで、膜中に含まれるエネルギーの付与により反応する化合物が分解、あるいは反応し、ラビング処理により形成された配向処理方向に対し、棒状液晶性化合物の配向方向、配向状態、及び面内レターデーションReの少なくともいずれかが変化することを見出した。また、エネルギーを付与する処理を前記膜の一部の領域に対して行うことで、エネルギーを付与する処理を複数回行わなくても、棒状液晶性化合物の配向方向、配向状態、及び面内レターデーションReの少なくともいずれかが異なるパターン光学異方性層が作製できることを見出した。これにより、工程数を減らすことができる。   As a result of intensive studies by the present inventor, a film applied with a composition containing at least one compound that reacts by applying energy on a transparent support is subjected to a rubbing treatment, and energy is applied to the film. The compound reacting by the application of energy contained decomposes or reacts, and at least one of the orientation direction, orientation state, and in-plane retardation Re of the rod-like liquid crystalline compound with respect to the orientation treatment direction formed by rubbing treatment I found it to change. In addition, by applying energy application to a partial region of the film, the alignment direction, alignment state, and in-plane letter of the rod-like liquid crystalline compound can be obtained without performing energy application multiple times. It was found that patterned optically anisotropic layers having different at least one of the foundation Re can be produced. Thereby, the number of processes can be reduced.

(配向膜)
配向膜14は、支持体16とパターン光学異方性層12との間に配置される。
また、パターン光学異方性層を形成するための配向膜をパターン配向膜と呼ぶことがあるが、本願明細書におけるパターン配向膜とは、第1及び第2配向制御領域を含み、第1及び第2配向制御領域は、面内において交互に配置されており、それぞれ異なる含有量でエネルギーの付与により反応する化合物を含む配向膜であり、通常、1)透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を適用し、膜を形成する工程、2)前記膜を一方向にラビング処理する工程、3)前記膜の一部の領域に対し、エネルギーを付与する工程を経て製造される配向膜である。一方、本発明の光学フィルムに含まれる配向膜14は、かかるパターン配向膜であってもよいし、例えば、棒状液晶性化合物を固定化する際のエネルギーの付与により、パターンが消失した配向膜であってもよい。
(Alignment film)
The alignment film 14 is disposed between the support 16 and the patterned optically anisotropic layer 12.
In addition, the alignment film for forming the patterned optically anisotropic layer may be referred to as a pattern alignment film. The pattern alignment film in the present specification includes the first and second alignment control regions, and includes the first and second alignment control regions. The second alignment control regions are alternately arranged in the plane and are alignment films containing compounds that react by applying energy at different contents, and usually 1) react by applying energy on the transparent support. Applying a composition containing at least one compound to form a film, 2) rubbing the film in one direction, and 3) applying energy to a partial region of the film. This is an alignment film manufactured through the process. On the other hand, the alignment film 14 included in the optical film of the present invention may be such a pattern alignment film, for example, an alignment film in which the pattern has disappeared due to the application of energy when fixing the rod-like liquid crystalline compound. There may be.

ラビング処理は、一般にはポリマーを主成分とし、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」(丸善社発行、平成12年10月30日)に記載されている。
長尺状の偏光膜であって、吸収軸が長手方向の偏光膜と貼り合わせるには、長尺のポリマーフィルムからなる支持体上に膜を形成し、長手方向に対して45°の方向に連続的にラビング処理して、形成するのが好ましい。
The rubbing treatment is generally carried out by rubbing the surface of a film formed of a composition containing a polymer as a main component and containing at least one compound that reacts by applying energy with a paper or cloth in a certain direction several times. Can do. A general method of rubbing is described in, for example, “Liquid Crystal Handbook” (issued by Maruzen, October 30, 2000).
In order to bond a long polarizing film with an absorption axis in the longitudinal direction, a film is formed on a support made of a long polymer film, and the film is oriented in a direction of 45 ° with respect to the longitudinal direction. It is preferable to form by continuous rubbing treatment.

エネルギーを付与する処理は、透明支持体上に適用したエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜上にエネルギーを付与し、エネルギーの付与により反応する化合物が分解あるいは反応させる。
エネルギーとは、40〜200℃の熱によるエネルギー、波長が190〜1200nmの光等のエネルギー(好ましくは60〜150℃の熱によるエネルギー、波長が190〜400nmの光等のエネルギー)を含めたものであり、エネルギーとしては具体的に、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線、紫外線が挙げられ、中でも紫外線が好ましい。本発明においては、従来のような光反応性化合物が偏光に沿って配向をする光配向反応を用いないこと、また偏光を得るための偏光フィルターが光エネルギーを損失することから、非偏光紫外線であることが好ましい。
In the treatment for imparting energy, energy is imparted on a film formed from a composition containing at least one compound that reacts by imparting energy applied on the transparent support, and the compound that reacts by imparting energy is decomposed or decomposed. React.
Energy includes energy from heat of 40 to 200 ° C., energy such as light having a wavelength of 190 to 1200 nm (preferably energy from heat of 60 to 150 ° C., energy such as light having a wavelength of 190 to 400 nm). Specific examples of the energy include visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, and ultraviolet light, and ultraviolet light is particularly preferable. In the present invention, the conventional photoreactive compound does not use a photo-alignment reaction that aligns along polarized light, and the polarizing filter for obtaining polarized light loses light energy. Preferably there is.

エネルギーの付与により反応する化合物は、熱反応性化合物、光反応性化合物などが挙げられ、中でも、光反応性化合物が好ましい。光反応性化合物としては、光酸発生剤、ポリビニルシンナメートなどが挙げられる。   Examples of the compound that reacts upon application of energy include a heat-reactive compound and a photoreactive compound. Among these, a photoreactive compound is preferable. Examples of the photoreactive compound include a photoacid generator and polyvinyl cinnamate.

エネルギーを付与する処理の一例は、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜に40〜200℃の熱をかける熱処理である。具体的には、後述する棒状液晶性化合物の配向制御に影響を与える複数の作用を利用し、その後、外部刺激(熱処理等)によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、上記膜に対するラビング処理による配向制御能と、棒状液晶性化合物を含む組成物に含まれる配向制御剤の配向制御能との複合作用により、棒状液晶性化合物を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激(熱処理等)により、いずれかの作用(例えば配向制御剤による作用)を消失させて、他の配向制御作用(ラビング処理による作用)を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。例えば、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物であるオニウム塩は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコールのパターン配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基に、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度にパターン配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、垂直配向を促進する。前記ピリジニウム誘導体は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、前述した、棒状液晶性化合物との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、棒状液晶性化合物のパターン配向膜界面近傍における垂直配向を誘起する。特に、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。しかし、その効果は、ある温度を超えて加熱すると、水素結合が切断され、前記ピリジニウム化合物等のパターン配向膜表面における密度が低下し、その作用を消失する。その結果、パターン配向膜そのものの規制力により液晶性化合物が配向し、液晶性化合物は水平配向状態になる。   An example of the treatment for imparting energy is a heat treatment in which heat of 40 to 200 ° C. is applied to a film formed from a composition containing at least one compound that reacts by imparting energy. Specifically, a plurality of actions that affect the alignment control of the rod-like liquid crystalline compound described later are used, and then, by eliminating one of the actions by an external stimulus (heat treatment, etc.), the predetermined alignment control action is controlled. It is a way to do it. For example, the rod-like liquid crystalline compound is brought into a predetermined orientation state by a combined action of the orientation control ability by rubbing treatment on the film and the orientation control ability of the orientation controlling agent contained in the composition containing the rod-like liquid crystalline compound. After fixing and forming one phase difference region, any action (for example, action by the alignment control agent) is lost by external stimulation (heat treatment, etc.), and other orientation control action (action by rubbing treatment) is performed. Dominate, thereby realizing another orientation state and fixing it to form the other retardation region. For example, an onium salt that is a pyridinium compound or an imidazolium compound is unevenly distributed on the surface of the pattern alignment film of the hydrophilic polyvinyl alcohol because the pyridinium group or the imidazolium group is hydrophilic. In particular, when a pyridinium group is further substituted with an amino group that is a substituent of an acceptor of a hydrogen atom, intermolecular hydrogen bonds are generated with polyvinyl alcohol, resulting in uneven distribution on the pattern alignment film surface. At the same time, due to the effect of hydrogen bonding, the pyridinium derivative is oriented in a direction perpendicular to the main chain of the polyvinyl alcohol, thereby promoting vertical orientation. Since the pyridinium derivative has a plurality of aromatic rings in the molecule, a strong intermolecular π-π interaction occurs between the rod-like liquid crystalline compound and the pattern alignment film of the rod-like liquid crystalline compound. Induces vertical alignment near the interface. In particular, when a hydrophobic aromatic ring is connected to a hydrophilic pyridinium group, it also has an effect of inducing vertical alignment due to the hydrophobic effect. However, the effect is that when heated above a certain temperature, the hydrogen bonds are broken, the density of the pyridinium compound or the like on the surface of the pattern alignment film is lowered, and the action disappears. As a result, the liquid crystalline compound is aligned by the regulating force of the pattern alignment film itself, and the liquid crystalline compound is in a horizontal alignment state.

エネルギーを付与する処理の他の一例は、波長が190〜1200nmの光照射である。エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜にフォトマスクを用いてパターン露光し、第1及び第2配向制御領域を形成する態様である。第1及び第2配向制御領域は、第1及び第2の位相差領域の互いの短辺の長さとほぼ等しい帯状であり、かつ交互に繰り返しパターニングされていることが好ましい。   Another example of the treatment for applying energy is light irradiation with a wavelength of 190 to 1200 nm. In this embodiment, the first and second alignment control regions are formed by pattern exposure using a photomask to a film formed from a composition containing at least one compound that reacts by applying energy. It is preferable that the first and second alignment control regions have a strip shape substantially equal to the length of the short side of each of the first and second retardation regions, and are alternately and repeatedly patterned.

パターン配向膜の一態様は、エネルギーの付与により反応する化合物が光酸発生剤であり、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール等のポリマーとともに、光酸発生剤を少なくとも含有し、その表面に一方向のラビング処理による配向処理と一部の領域へのエネルギー付与による配向制御能が異なる第1及び第2配向制御領域の2つ領域が形成されている態様である。一方の領域が、光酸発生剤の含有率が他方の領域よりも多い領域であり、前記第1及び第2配向制御領域が、面内において交互に配置されているパターン配向膜である。光酸発生剤は、エネルギーの付与により分解し、そのために第1及び第2配向制御領域で含有率が異なる。光酸発生剤の分解の程度は、光酸発生剤が分解することによって生じる酸性化合物の、各配向制御領域中における含有量を定量することで知ることができる。   In one embodiment of the pattern alignment film, the compound that reacts upon application of energy is a photoacid generator, and contains at least a photoacid generator together with a polymer such as polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol, and the surface thereof is unidirectionally rubbed. In this embodiment, two regions of the first and second alignment control regions are formed which are different in the alignment treatment by the treatment and the alignment control ability by applying energy to a part of the regions. One region is a region having a higher content of the photoacid generator than the other region, and the first and second alignment control regions are pattern alignment films arranged alternately in the plane. A photo-acid generator decomposes | disassembles by provision of energy, and for this reason, a content rate differs in the 1st and 2nd orientation control area | region. The degree of decomposition of the photoacid generator can be determined by quantifying the content of the acidic compound produced by the decomposition of the photoacid generator in each orientation control region.

パターン配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。パターン配向膜は、公知の配向膜用ポリマー材料を広く採用でき、公知の配向膜ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールは、種々の鹸化度のものが存在する。本発明では、鹸化度85〜99程度のものを用いるのが好ましい。市販品を用いてもよく、例えば、「PVA103」、「PVA203」(クラレ社製)等は、上記鹸化度のPVAである。ラビング配向膜については、WO01/88574A1号公報の43頁24行〜49頁8行、特許第3907735号公報の段落番号[0071]〜[0095]に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。   The pattern alignment film generally contains a polymer as a main component. As the pattern alignment film, known alignment film polymer materials can be widely adopted. Known alignment film polymer materials are described in many documents, and many commercially available products can be obtained. The polymer material used in the present invention is preferably polyvinyl alcohol or polyimide, and derivatives thereof. In particular, modified or unmodified polyvinyl alcohol is preferred. Polyvinyl alcohols having various saponification degrees exist. In the present invention, those having a saponification degree of about 85 to 99 are preferably used. Commercial products may be used. For example, “PVA103”, “PVA203” (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and the like are PVA having the above saponification degree. Regarding the rubbing alignment film, reference can be made to the modified polyvinyl alcohol described in WO01 / 88574A1, page 43, line 24 to page 49, line 8, and paragraph Nos. [0071] to [0095] of Japanese Patent No. 3907735.

[光酸発生剤]
光酸発生剤とは、紫外線等の光照射により分解し酸性化合物を発生する化合物である。前記光酸発生剤が、光照射により分解して酸性化合物を発生すると、エネルギーの付与により反応する化合物(光酸発生剤)を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜の配向制御能に変化が生じる。ここでいう配向制御能の変化は、パターン配向膜単独の配向制御能の変化として特定されるものであっても、パターン配向膜とその上に配置される光学異方性層形成用組成物中に含まれる添加剤等とによって達成される配向制御能の変化として特定されるものであってもよいし、またこれらの組み合わせとして特定されるものであってもよい。
後述する棒状液晶性化合物は、オニウム塩を添加することで、垂直配向状態になる場合がある。分解により発生した酸と、該オニウム塩とが、アニオン交換すると、該オニウム塩のパターン配向膜界面における偏在性が低下し、垂直配向効果を低下させ、水平配向状態を形成させてもよい。また、例えば、パターン配向膜がポリビニルアルコール系配向膜である場合には、そのエステル部分が発生した酸により分解し、その結果、前記オニウム塩の配向膜界面偏在性を変化させてもよい。
[Photoacid generator]
The photoacid generator is a compound that decomposes upon irradiation with light such as ultraviolet rays to generate an acidic compound. When the photoacid generator is decomposed by light irradiation to generate an acidic compound, the compound (photoacid generator) that reacts by application of energy changes to an orientation control ability of a film formed from a composition containing at least one kind. Occurs. Even if the change in the orientation control ability here is specified as a change in the orientation control ability of the pattern orientation film alone, the change in the orientation control ability of the pattern orientation film alone is included in the composition for forming an optical anisotropic layer disposed on the pattern orientation film. It may be specified as a change in orientation control ability achieved by an additive or the like contained in or may be specified as a combination thereof.
A rod-like liquid crystal compound described later may be in a vertically aligned state by adding an onium salt. When the acid generated by the decomposition and the onium salt are anion-exchanged, the uneven distribution at the interface of the pattern alignment film of the onium salt may be reduced, the vertical alignment effect may be reduced, and a horizontal alignment state may be formed. Further, for example, when the pattern alignment film is a polyvinyl alcohol alignment film, the ester portion may be decomposed by the generated acid, and as a result, the alignment film interface uneven distribution property of the onium salt may be changed.

パターン配向膜の形成に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Prog. Polym. Sci., 23巻、1485頁(1998年)や、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる(有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187〜192ページ参照)に記載の化合物が含まれる。
具体的には、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム塩、スルホン酸を発生するスルホン化物、ハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、鉄アレン錯体を挙げることができる。
この中でも、前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩の好ましい例としては、下記の一般式で表される塩をそれぞれ挙げることができる。
A water-soluble compound is preferably used as the photoacid generator used for forming the pattern alignment film. Examples of photoacid generators that can be used include Prog. Polym. Sci. 23, p. 1485 (1998) and chemically amplified photoresists and compounds used in photocationic polymerization (Organic Materials Research Group, “Organic Materials for Imaging”, Bunshin Publishing (1993) ), See pages 187-192).
Specific examples include pyridinium salts, iodonium salts, sulfonium salts, diazonium, ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium salts, sulfonates that generate sulfonic acid, halides that generate hydrogen halide, and iron allene complexes. it can.
Among these, pyridinium salts, iodonium salts, and sulfonium salts are particularly preferably used as the photoacid generator. Preferable examples of the pyridinium salt, iodonium salt, and sulfonium salt include salts represented by the following general formulas.

Figure 2014006421
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式中、Rはそれぞれ水素原子、炭素原子数1〜6の直鎖アルキル基もしくは分岐アルキル基、炭素原子数1〜6の直鎖アルコキシ基もしくは分岐アルコキシ基、炭素原子数6〜12のアリール基、又はハロゲン原子である。Yは、炭素原子数1〜6の直鎖アルキル基もしくは分岐アルキル基、炭素原子数1〜6の直鎖アルコキシ基もしくは分岐アルコキシ基である。X―は、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩の対アニオンを表し、分解により生じる酸性化合物のアニオンになる。好ましくはPF6 -、BF4 -、又はCn2n+1SO3 -(但し、nは1〜5の整数)である。例えば、X―がBF4 -である光酸発生剤からは、分解により酸HBF4が発生し、X―がPF6 -である光酸発生剤からは、HPF6が発生し、X―がCn2n+1SO3 -である光酸発生剤からは、Cn2n+1SO3Hが発生する。 In the formula, each R is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Or a halogen atom. Y is a straight-chain alkyl group or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a straight-chain alkoxy group or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. X- represents a counter anion of a pyridinium salt, an iodonium salt or a sulfonium salt, and becomes an anion of an acidic compound generated by decomposition. PF 6 , BF 4 , or C n F 2n + 1 SO 3 (where n is an integer of 1 to 5) is preferable. For example, X- is BF 4 - from a is a photoacid generator, the acid HBF 4 is generated by the decomposition, X- is PF 6 - from a is a photoacid generator, HPF 6 occurs, X- is C n F 2n + 1 SO 3 - from a is a photoacid generator, C n F 2n + 1 SO 3 H is generated.

以下に、本発明に利用可能な光酸発生剤の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。また、以下の具体例では、アニオンが特定された塩を例示するが、当該アニオンを他のアニオンに置き換えた具体例も、使用可能な光酸発生剤の具体例として例示される。   Although the specific example of the photo-acid generator which can be utilized for this invention below is shown, it is not limited to these. In the following specific examples, a salt in which an anion is specified is illustrated, but a specific example in which the anion is replaced with another anion is also illustrated as a specific example of a usable photoacid generator.

Figure 2014006421
Figure 2014006421

Figure 2014006421
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Figure 2014006421
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上記具体例の中でも、I−16、17、34〜37が好ましく、I−35がより好ましい。これらの光酸発生剤は、一種又は二種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。   Among the above specific examples, I-16, 17, and 34 to 37 are preferable, and I-35 is more preferable. These photoacid generators can be used alone or in combination according to the desired performance.

光酸発生剤を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜における該光酸発生剤の含有量としては、該組成物に含まれる高分子化合物の全固形分の1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、2質量%以上10質量%以下であることがより好ましい。   The content of the photoacid generator in the film formed of the composition containing at least one photoacid generator is 1% by mass or more and 20% by mass or less of the total solid content of the polymer compound contained in the composition. It is preferable that it is 2 mass% or more and 10 mass% or less.

また、他の一態様は、エネルギーの付与により反応する化合物が、エネルギーの付与により反応する光反応性部位(光反応性基)を有する化合物である態様である。エネルギーの付与により反応する化合物(光反応性基を有する化合物)を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜に一方向のラビング処理及びエネルギーの付与により配向処理を行うことで第1及び第2配向制御領域を形成し、一方の領域が、光反応性部位を含む化合物の主鎖と側鎖とがラビング方向に配向した領域であり、他方の領域が、ラビング方向に配向している主鎖に対して側鎖が直交方向に配向した領域であり、前記第1及び第2配向制御領域が、面内において交互に配置されているパターン配向膜である。即ち、一方の領域の光反応性部位の残存率が他方の領域よりも多く含む領域である。   Another embodiment is an embodiment in which the compound that reacts by applying energy has a photoreactive site (photoreactive group) that reacts by applying energy. A film formed from a composition containing at least one compound (compound having a photoreactive group) that reacts by applying energy is subjected to a unidirectional rubbing process and an alignment process by applying energy to the first and second layers. An alignment control region is formed, and one region is a region in which a main chain and a side chain of a compound including a photoreactive site are aligned in the rubbing direction, and the other region is a main chain aligned in the rubbing direction. Is a pattern alignment film in which the side chains are aligned in the orthogonal direction, and the first and second alignment control regions are alternately arranged in the plane. That is, this is a region that contains more photoreactive sites in one region than in the other region.

「光反応性基」とは、光の照射によって官能基の化学構造または該官能基を有する分子の配向状態に変化が起こり、これによりパターン配向膜表面に配置された液晶性化合物の分子を所定の方向に配向させることができる官能基を意味する。具体的には、アゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体、カルコン誘導体、スチルベン類、スチリルピリジン誘導体、α-ヒドラゾノ-β-ケトエステル類、クマリン誘導体、ベンジリデンフタルイミジン類、レチノイン酸誘導体、スピロピラン類、スピロオキサジン類、アントラセン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ポリイミドなどが知られているが、好ましいのはアゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体(ポリビニルシンナメート)であり、特に好ましいのは桂皮酸誘導体である。   The “photoreactive group” means that the chemical structure of the functional group or the alignment state of the molecule having the functional group is changed by light irradiation, whereby the molecules of the liquid crystalline compound arranged on the surface of the pattern alignment film It means a functional group that can be oriented in the direction. Specifically, azobenzene derivatives, cinnamic acid derivatives, chalcone derivatives, stilbenes, styrylpyridine derivatives, α-hydrazono-β-ketoesters, coumarin derivatives, benzylidenephthalimidines, retinoic acid derivatives, spiropyrans, spirooxazines Anthracene derivatives, benzophenone derivatives, polyimides, and the like are known, and azobenzene derivatives and cinnamic acid derivatives (polyvinylcinnamate) are preferable, and cinnamic acid derivatives are particularly preferable.

[ポリビニルシンナメート]
ポリビニルシンナメートは、エネルギーの付与により二量化反応を起こす化合物であり、具体的には、光照射により光二量化反応を起こす化合物である。ポリビニルシンナメートは、光反応性基を含むことが好ましく、光照射に応じて配向する光配向素材であるのが好ましく、光反応性基を有する光配向性ポリマーであるのが好ましい。ポリビニルシンナメートは、ラビングにより主鎖(ポリビニルビニル鎖)と共同的に側鎖のメソゲン鎖(シンナメート鎖)が配向するため、これに準じ棒状液晶性化合物もラビングと平行方向に水平配向する。一方、ラビング処理した後、紫外線処理すると、側鎖部分が2+2型のシクロブタン環を形成するため、主鎖に対して直交方向にメソゲン鎖が配向し棒状液晶性化合物がラビングに対して直交方向に水平配向する。
[Polyvinyl cinnamate]
Polyvinyl cinnamate is a compound that causes a dimerization reaction by applying energy, and specifically, a compound that causes a photodimerization reaction by light irradiation. The polyvinyl cinnamate preferably contains a photoreactive group, is preferably a photoalignment material that is aligned in response to light irradiation, and is preferably a photoalignable polymer having a photoreactive group. In polyvinyl cinnamate, the main chain (polyvinyl vinyl chain) and side chain mesogen chain (cinnamate chain) are aligned together by rubbing, and accordingly, the rod-like liquid crystalline compound is also horizontally aligned in parallel to the rubbing. On the other hand, when the UV treatment is performed after the rubbing treatment, the side chain portion forms a 2 + 2 type cyclobutane ring. Align horizontally.

ポリビニルシンナメートとしては、以下の一般式(1)で表される光配向性ポリマーが特に好ましい。

Figure 2014006421
前記一般式(1)中のR1で表される置換基は、下記に例示した置換基群Aから選ばれる置換基を表す。R2は、下記に例示した置換基群Bから選ばれる置換基を表す。nは、0〜5の整数を表す。 As the polyvinyl cinnamate, a photo-alignment polymer represented by the following general formula (1) is particularly preferable.
Figure 2014006421
The substituent represented by R 1 in the general formula (1) represents a substituent selected from the substituent group A exemplified below. R 2 represents a substituent selected from the substituent group B exemplified below. n represents an integer of 0 to 5.

(置換基群A)
上記置換基群Aとしては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えば、フェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる)、置換もしくは無置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる)、
(Substituent group A)
As the substituent group A, an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, Isopropyl group, tert-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more) Preferably it is a C2-C12 alkenyl group, Most preferably, it is a C2-C8 alkenyl group, for example, a vinyl group, an aryl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group etc. are mentioned, Alkynyl group (preferably An alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, such as a propargyl group, -Pentynyl group and the like) and aryl groups (preferably aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl group, p- Methylphenyl group, naphthyl group and the like), substituted or unsubstituted amino group (preferably an amino group having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms). An unsubstituted amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, an anilino group, etc.),

アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは2〜10であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは2〜10であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる) An alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group or a butoxy group), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably having 2 to 16 carbon atoms, Particularly preferably, it is 2 to 10, for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group and the like, acyloxy group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms). For example, an acetoxy group, a benzoyloxy group, etc.), an acylamino group (preferably an acylamino group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 10 carbon atoms). Acetylamino group, benzoylamino group, etc.), alkoxycarbonylamino group ( Preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a methoxycarbonylamino group), aryloxycarbonylamino A group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as a phenyloxycarbonylamino group), a sulfonyl An amino group (preferably a sulfonylamino group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methanesulfonylamino group and a benzenesulfonylamino group. ), A sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably A sulfamoyl group having a prime number of 0 to 16, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a sulfamoyl group, a methylsulfamoyl group, a dimethylsulfamoyl group, and a phenylsulfamoyl group), a carbamoyl group ( Preferably it is C1-C20, More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is C1-C12 carbamoyl group, for example, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group Etc.)

アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる)が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
An alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylthio group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a methylthio group and an ethylthio group), an arylthio group ( Preferably it is C6-C20, More preferably, it is C6-C16, Most preferably, it is C6-C12 arylthio group, for example, a phenylthio group etc. are mentioned, A sulfonyl group (preferably C1-C1). 20, more preferably a sulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably a sulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, such as a mesyl group and a tosyl group, and a sulfinyl group (preferably having a carbon number of 1 to 20, more A sulfinyl group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms is preferable. Zensulfinyl group and the like), ureido group (preferably a ureido group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, an unsubstituted ureido group , Methylureido group, phenylureido group, etc.), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms). Yes, for example, diethyl phosphoric acid amide group, phenyl phosphoric acid amide group, etc.), hydroxy group, mercapto group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, Carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group, heterocyclic group (preferably having a carbon number of 1 to 0, more preferably a heterocyclic group of 1 to 12, for example, a heterocyclic group having a heteroatom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, such as an imidazolyl group, a pyridyl group, a quinolyl group, a furyl group , Piperidyl group, morpholino group, benzoxazolyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group and the like), silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably A silyl group having 3 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group).
These substituents may be further substituted with these substituents. Further, when two or more substituents are present, they may be the same or different. If possible, they may be bonded to each other to form a ring.

上記一般式(1)においてR1は、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素数1〜8のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基がさらに好ましい。 In the general formula (1), R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.

上記一般式(1)中、R2はそれぞれ独立に、下記に例示した置換基群Bから選ばれる置換基を表す。 In the general formula (1), each R 2 independently represents a substituent selected from the substituent group B exemplified below.

(置換基群B)
アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えば、フェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基などが挙げられる)、置換もしくは無置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる)、
(Substituent group B)
An alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like, alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, Particularly preferred are alkenyl groups having 2 to 8 carbon atoms, such as vinyl group, aryl group, 2-butenyl group and 3-pentenyl group), alkynyl groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferred). Is an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, such as propargyl group and 3-pentynyl group. An aryl group (preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as a phenyl group, a p-methylphenyl group, and a naphthyl group. Aralkyl groups (preferably 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as benzyl group, phenethyl group, 3- Phenylpropyl group and the like), a substituted or unsubstituted amino group (preferably an amino group having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, Unsubstituted amino group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, anilino group, etc.),

アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜10のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは2〜10のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは2〜10のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる)、 An alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group). An alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group), acyloxy A group (preferably an acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms such as an acetoxy group and a benzoyloxy group), an acylamino group (preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16 carbon atoms, particularly preferably 2-10 carbon atoms. A silamino group, for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, and the like, an alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 12 carbon atoms). An alkoxycarbonylamino group, for example, a methoxycarbonylamino group), an aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 7 to 12 carbon atoms). Aryloxycarbonylamino group, for example, phenyloxycarbonylamino group and the like, sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms). 12 sulfonylamino groups such as methanesulfonyl And sulfamoyl groups (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 12 carbon atoms, such as sulfamoyl group). Group, methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group and the like), carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably carbon number). 1 to 12 carbamoyl groups, for example, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group and the like),

アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる)が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。 An alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylthio group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a methylthio group and an ethylthio group), an arylthio group ( Preferably it is C6-C20, More preferably, it is C6-C16, Most preferably, it is C6-C12 arylthio group, for example, a phenylthio group etc. are mentioned, A sulfonyl group (preferably C1-C1). 20, more preferably a sulfonyl group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably a sulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, such as a mesyl group and a tosyl group, and a sulfinyl group (preferably having a carbon number of 1 to 20, more A sulfinyl group having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms is preferable. Zensulfinyl group and the like), ureido group (preferably a ureido group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, an unsubstituted ureido group , Methylureido group, phenylureido group, etc.), phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably having 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably having 1 to 12 carbon atoms). Yes, for example, diethyl phosphoric acid amide group, phenyl phosphoric acid amide group, etc.), hydroxy group, mercapto group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, Carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group, heterocyclic group (preferably having a carbon number of 1 to 0, more preferably a heterocyclic group of 1 to 12, for example, a heterocyclic group having a heteroatom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, such as an imidazolyl group, a pyridyl group, a quinolyl group, a furyl group , Piperidyl group, morpholino group, benzoxazolyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group and the like), silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably A silyl group having 3 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group). These substituents may be further substituted with these substituents. Moreover, when it has two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be bonded to each other to form a ring.

2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、アミド基、アシル基、−SO2NR(Rは炭素数1〜3のアルキル基)であることが好ましく、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜6のアルコキシ基、塩素原子、アミド基、アシル基、−SO2NR(Rは炭素数1〜3のアルキル基)であることが特に好ましい。 R 2 is independently hydrogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), amide group, acyl group, —SO 2 NR (R Is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a chlorine atom, an amide Are particularly preferably a group, an acyl group, or —SO 2 NR (wherein R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms).

nは、0〜5の整数を表し、0〜2が好ましく、0〜1がより好ましい。nが2以上の整数を表す場合、複数個のR2は同一であっても異なっていてもよい。 n represents the integer of 0-5, 0-2 are preferable and 0-1 are more preferable. When n represents an integer of 2 or more, the plurality of R 2 may be the same or different.

前記ポリビニルシンナメートは、前記一般式(1)で表される繰り返し単位を1種含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。また、前記ポリビニルシンナメートは、上記各繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を1種または2種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。前記光配向性ポリマーは、下記モノマー群から選ばれる1種または2種以上のモノマーから誘導される繰り返し単位を含有していてもよい。   The polyvinyl cinnamate may contain one type of repeating unit represented by the general formula (1), or may contain two or more types. Moreover, the said polyvinyl cinnamate may have 1 type (s) or 2 or more types of repeating units other than said each repeating unit. The other repeating units are not particularly limited, and preferred examples thereof include repeating units derived from ordinary radical polymerizable monomers. Hereinafter, specific examples of monomers for deriving other repeating units will be given. The photo-alignment polymer may contain a repeating unit derived from one or more monomers selected from the following monomer group.

モノマー群
(1)アルケン類
エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン、1−ヘキセン、1−ドデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど;
(2)ジエン類
1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2−エチル−1,3−ブタジエン、2−n−プロピル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、1−フェニル−1,3−ブタジエン、1−α−ナフチル−1,3−ブタジエン、1−β−ナフチル−1,3−ブタジエン、2−クロロ−1,3−ブタジエン、1−ブロモ−1,3−ブタジエン、1−クロロブタジエン、2−フルオロ−1,3−ブタジエン、2,3−ジクロロ−1,3−ブタジエン、1,1,2−トリクロロ−1,3−ブタジエン及び2−シアノ−1,3−ブタジエン、1,4−ジビニルシクロヘキサンなど;
Monomer group (1) Alkenes Ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, 1-hexene, 1-dodecene, 1-octadecene, 1-eicocene, hexafluoropropene, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, 3, 3, 3-trifluoropropylene, tetrafluoroethylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc .;
(2) Dienes 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2-ethyl-1,3-butadiene, 2-n-propyl-1,3-butadiene, 2,3-dimethyl-1,3 -Butadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene, 1-phenyl-1,3-butadiene, 1-α-naphthyl-1,3-butadiene, 1-β-naphthyl-1,3-butadiene, 2-chloro -1,3-butadiene, 1-bromo-1,3-butadiene, 1-chlorobutadiene, 2-fluoro-1,3-butadiene, 2,3-dichloro-1,3-butadiene, 1,1,2- Trichloro-1,3-butadiene and 2-cyano-1,3-butadiene, 1,4-divinylcyclohexane and the like;

(3)α,β−不飽和カルボン酸の誘導体
(3a)アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート、tert−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−クロロエチルアクリレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロブチルアクリレート、2−シアノエチルアクリレート、2−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、2−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート(ポリオキシエチレンの付加モル数:n=2ないし100のもの)、3−メトキシブチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレート、1,1−ジクロロ−2−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど);
(3) Derivatives of α, β-unsaturated carboxylic acid (3a) Alkyl acrylates Methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate, tert-butyl acrylate , Amyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, tert-octyl acrylate, dodecyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-bromoethyl acrylate, 4-chlorobutyl acrylate, 2-cyanoethyl acrylate, 2-acetoxyethyl acrylate, methoxybenzyl Chryrate, 2-chlorocyclohexyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, ω-methoxypolyethylene glycol acrylate (number of added polyoxyethylene: n = 2 to 100), 3-methoxy Butyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-butoxyethyl acrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acrylate, 1-bromo-2-methoxyethyl acrylate, 1,1-dichloro-2-ethoxyethyl acrylate, glycidyl acrylate Such);

(3b)アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート(ポリオキシエチレンの付加モル数:n=2ないし100のもの)、2−アセトキシエチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、3−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−イソシアナトエチルメタクリレートなど;
(3b) Alkyl methacrylates Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, amyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2 -Ethylhexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, stearyl methacrylate, benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, allyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, ω Methoxypolyethylene glycol methacrylate (number of added polyoxyethylene: n = 2 to 100), 2-acetoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-butoxyethyl methacrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl methacrylate Glycidyl methacrylate, 3-trimethoxysilylpropyl methacrylate, allyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl methacrylate, etc .;

(3c)不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど;
(3c) Diesters of unsaturated polycarboxylic acids Dimethyl maleate, dibutyl maleate, dimethyl itaconate, dibutyl taconate, dibutyl crotonate, dihexyl crotonate, diethyl fumarate, dimethyl fumarate, etc .;

(3d)α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N−tertブチルアクリルアミド、N−tertオクチルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、N−メチルマレイミドなど;
(3d) Amides of α, β-unsaturated carboxylic acids N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, Nn-propylacrylamide, N-tertbutylacrylamide, N-tertoctylmethacrylamide, N- Cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) acrylamide, N-benzylacrylamide, N-acryloylmorpholine, diacetone acrylamide, N-methylmaleimide and the like;

(4)不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど;
(5)スチレンおよびその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、p−tertブチルスチレン、p−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、p−メトキシスチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−アセトキシスチレンなど;
(6)ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど;
(4) Unsaturated nitriles Acrylonitrile, methacrylonitrile, etc .;
(5) Styrene and its derivatives Styrene, vinyl toluene, ethyl styrene, p-tert butyl styrene, methyl p-vinyl benzoate, α-methyl styrene, p-chloromethyl styrene, vinyl naphthalene, p-methoxy styrene, p-hydroxy Methyl styrene, p-acetoxy styrene, etc .;
(6) Vinyl esters Vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl vinyl acetate, etc .;

(7)ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエーテル、n−ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニルエーテル、n−ドデシルビニルエーテル、n−エイコシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど;および
(8)その他の重合性単量体
N−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、2−ビニルオキサゾリン、2−イソプロペニルオキサゾリンなど。
(7) Vinyl ethers Methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n-pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, n-dodecyl Vinyl ether, n-eicosyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, fluorobutyl vinyl ether, fluorobutoxyethyl vinyl ether, etc .; and (8) other polymerizable monomers N-vinyl pyrrolidone, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, Methoxyethyl vinyl ketone, 2-vinyl oxazoline, 2-isopropenyl oxazoline .

前記ポリビニルシンナメート中、一般式(1)で表される繰り返し単位の量は、該ポリマーの構成モノマー総量の50質量%以上であるのが好ましく、60質量%以上であるのがより好ましく、70質量%以上であるのが特に好ましい。   In the polyvinyl cinnamate, the amount of the repeating unit represented by the general formula (1) is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, based on the total amount of constituent monomers of the polymer. It is particularly preferable that the content is at least mass%.

前記ポリビニルシンナメート、好ましくは前記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーの質量平均分子量は1000以上1,000,000以下であるのが好ましく、1000以上500,000以下であるのがより好ましく、1000以上100,000以下であるのがさらに好ましい。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を用いて、ポリスチレン(PS)換算の値として測定可能である。   The polyvinyl cinnamate, preferably a polymer having a repeating unit represented by the general formula (1), preferably has a mass average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less, and is 1,000 or more and 500,000 or less. Is more preferably 1000 or more and 100,000 or less. The mass average molecular weight can be measured as a value in terms of polystyrene (PS) using gel permeation chromatography (GPC).

前記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーの製造方法については、特に限定されるものではなく、例えば特開2007−025203号公報の段落[0047]〜[0051]に記載の方法を利用することができる。   The method for producing the polymer having the repeating unit represented by the general formula (1) is not particularly limited. For example, the method described in paragraphs [0047] to [0051] of JP-A-2007-025203. Can be used.

以下に、前記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、MwはGPCにより測定されたPS換算の質量平均分子量である。a、bの数値は質量比を表す。式中、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Acはアセチル基を表す。   Specific examples of the polymer having the repeating unit represented by the general formula (1) are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples. Here, the numerical value in the formula is a mass percentage indicating the composition ratio of each monomer, and Mw is a mass average molecular weight in terms of PS measured by GPC. The numerical values of a and b represent mass ratios. In the formula, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and Ac represents an acetyl group.

Figure 2014006421
Figure 2014006421

パターン配向膜の厚さは、0.01〜10μmであることが好ましく、0.01〜1μmであることがさらに好ましい。   The thickness of the pattern alignment film is preferably 0.01 to 10 μm, and more preferably 0.01 to 1 μm.

(パターン配向膜の製造方法)
本発明は、パターン配向膜の製造方法にも関する。本発明のパターン配向膜の製造方法の一例は、
1)透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を適用し、膜を形成する工程
2)前記膜を一方向にラビング処理する工程
3)前記膜の一部の領域に対し、エネルギーを付与する工程
を含む。
2)工程及び3)工程は、順序を逆にしてもよい。
(Method for producing pattern alignment film)
The present invention also relates to a method for producing a pattern alignment film. An example of the method for producing the pattern alignment film of the present invention is as follows.
1) Applying a composition containing at least one compound that reacts upon application of energy on a transparent support to form a film 2) Rubbing the film in one direction 3) Part of the film A step of applying energy to the region is included.
Steps 2) and 3) may be reversed.

エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を有機溶剤に溶解させ、透明支持体上に適用する。エネルギーの付与により反応する化合物が光酸発生剤の場合、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物は、パターン配向膜用ポリマー材料を主成分とした組成物であり、エネルギーの付与により反応する化合物がポリビニルシンナメートの場合、ポリビニルシンナメートを主成分とした組成物である。   A composition containing at least one compound that reacts by application of energy is dissolved in an organic solvent and applied onto a transparent support. When the compound that reacts upon application of energy is a photoacid generator, the composition containing at least one compound that reacts upon application of energy is a composition mainly composed of a polymer material for pattern alignment film, and the application of energy. When the compound that reacts with is polyvinyl cinnamate, the composition is mainly composed of polyvinyl cinnamate.

エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を溶解させる有機溶剤としては、特に制限はないが、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
The organic solvent for dissolving the composition containing at least one compound that reacts by the application of energy is not particularly limited, and examples thereof include methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, isopropanol, and cyclohexanone.
Application methods include curtain coating, dip coating, spin coating, print coating, spray coating, slot coating, roll coating, slide coating, blade coating, gravure coating, wire bar method, etc. A well-known coating method is mentioned.

一般的に配向膜は、ラビング処理によって配向制御能を発現する。通常、一方向にラビング処理された膜上で液晶性化合物を配向させると、液晶性化合物は、ラビング方向に対して、その遅相軸を平行にして、又は直交にして配向する。いずれの配向状態になるかは、配向膜構成材料、液晶性化合物、及び配向制御剤の1以上の種類等によって決定される。   In general, the alignment film exhibits an alignment control ability by a rubbing treatment. Usually, when a liquid crystalline compound is aligned on a film that has been rubbed in one direction, the liquid crystalline compound is aligned with its slow axis parallel or orthogonal to the rubbing direction. Which alignment state is determined is determined by one or more kinds of alignment film constituent materials, liquid crystal compounds, and alignment control agents.

本発明では、さらにエネルギーをエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜に付与し、パターン状に該膜をエネルギー処理する。エネルギーの付与は1回でよい。パターン状に該膜をエネルギー処理する方法の一例は、フォトマスクを用いてパターン露光し、第1及び第2配向制御領域を形成する態様である。第1及び第2配向制御領域は、第1及び第2の位相差領域の互いの短辺の長さとほぼ等しい帯状であり、かつ交互に繰り返しパターニングされていることが好ましい。   In the present invention, a compound that reacts by applying energy is further applied to a film formed of a composition containing at least one kind, and the film is subjected to energy treatment in a pattern. Energy may be applied once. An example of a method for energy-treating the film in a pattern is an aspect in which the first and second alignment control regions are formed by pattern exposure using a photomask. It is preferable that the first and second alignment control regions have a strip shape substantially equal to the length of the short side of each of the first and second retardation regions, and are alternately and repeatedly patterned.

エネルギーの付与により反応する化合物が光酸発生剤である場合、エネルギーの付与により光酸発生剤が分解し、光照射部と光未照射部とでは、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成し、それによってパターン配向膜の配向制御能にも差を持たせる。
具体的には、光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、パターン配向膜構成材料、液晶性化合物、及び所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、棒状液晶性化合物を垂直配向させる。光酸発生剤を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング処理による配向制御能が配向状態を支配し、棒状液晶性化合物は水平配向する。パターン配向膜の形成に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。
When the compound that reacts by applying energy is a photoacid generator, the photoacid generator is decomposed by applying energy, and the photoacid generator is decomposed and the acidic compound is decomposed in the light-irradiated part and the light-unirradiated part. The generated region and the non-generated region are formed, thereby giving a difference in the alignment control ability of the pattern alignment film.
Specifically, the photoacid generator remains almost undecomposed in the non-irradiated part, and the interaction between the pattern alignment film constituent material, the liquid crystal compound, and the alignment controller added as required dominates the alignment state. Then, the rod-like liquid crystal compound is vertically aligned. When a film formed from a composition containing at least one photoacid generator is irradiated with light and an acidic compound is generated, the interaction is no longer dominant, and the orientation control ability by rubbing dominates the orientation state, The rod-like liquid crystalline compound is horizontally aligned. A water-soluble compound is preferably used as the photoacid generator used for forming the pattern alignment film.

エネルギーの付与により反応する化合物がポリビニルシンナメートである場合、エネルギーの付与により、ポリビニルシンナメートの配向状態に変化が起こり、光照射部と光未照射部との間で配向制御能にも差を持たせる。
具体的には、未照射部分では、ポリビニルシンナメートの側鎖は配向状態が変化せず、ポリビニルシンナメートの主鎖とともにラビング方向に配向するため、棒状液晶性化合物もラビング方向と平行方向に水平配向する。光照射部では、ポリビニルシンナメートの配向状態に変化が起こり、主鎖に対して直交方向に配向するため、棒状液晶性化合物がラビング方向に対して直交方向に水平配向する。
When the compound that reacts by the application of energy is polyvinyl cinnamate, the alignment state of the polyvinyl cinnamate changes due to the application of energy, and there is a difference in the alignment control ability between the light irradiated part and the light non-irradiated part. Give it.
Specifically, in the unirradiated part, the side chain of polyvinyl cinnamate does not change its orientation state, and is aligned in the rubbing direction together with the main chain of polyvinyl cinnamate, so that the rod-like liquid crystalline compound is also horizontally aligned in the direction parallel to the rubbing direction. Orient. In the light irradiation part, the alignment state of the polyvinyl cinnamate changes, and the rod-like liquid crystalline compound is horizontally aligned in the direction orthogonal to the rubbing direction because it is aligned in the direction orthogonal to the main chain.

フォトマスク下でのエネルギーの付与には、紫外線を用いるのが好ましく、非偏光紫外線を用いるのがより好ましい。照射波長としては200〜250nmにピークを有することが好ましく、UV−C光源を用いることが好ましく、その露光量は、5〜1000mJ/cm2程度であることが好ましく、5〜100mJ/cm2程度であることがさらに好ましく、5〜50mJ/cm2程度であることが特に好ましい。露光量が少なすぎるとパターンが形成できない。一方、露光量が多すぎると酸性化合物の拡散によりパターン解像度が低下する。パターン解像度を向上させるためには、室温で露光することが好ましい。
なお、光照射の条件は、パターン配向膜を構成する材料の組成等に応じて適宜設定することができ、上記条件に限定されるものではない。
For applying energy under a photomask, it is preferable to use ultraviolet rays, and it is more preferable to use non-polarized ultraviolet rays. Preferably has a peak at 200~250nm the irradiation wavelength, it is preferable to use a UV-C light source, the exposure amount is preferably 5~1000mJ / cm 2 approximately, 5 to 100 mJ / cm 2 about More preferably, it is about 5-50 mJ / cm < 2 >. If the exposure amount is too small, a pattern cannot be formed. On the other hand, when the exposure amount is too large, the pattern resolution decreases due to the diffusion of the acidic compound. In order to improve the pattern resolution, exposure at room temperature is preferable.
In addition, the conditions of light irradiation can be suitably set according to the composition of the material which comprises a pattern orientation film, etc., and are not limited to the said conditions.

2)工程及び3)工程の順序は特に制限はなく、2)工程後に3)工程を行ってもよく、3)工程後に2)工程を行ってもよい。
2)工程後に3)工程を行うと、即ちラビング処理後にエネルギーを付与すると、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜表面の分子がラビング方向に沿って並んでおり、この配向した分子にエネルギーを付与することで光異性化反応などの光反応が発生し、光照射部と未照射部で液晶性化合物に対する配向制御能を区別することができる。
3)工程後に2)工程を行うと、即ちエネルギーを付与後にラビング処理すると、光照射部は前記光反応が発生し、未照射部はエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物から形成された膜表面の分子がランダムに配向している状態となる。この状態でラビング処理を行うと、分子がラビング方向に配向するが、光照射部と未照射部との間で配向する分子の構造が異なるので光照射部と未照射部との間の配向制御能を区別することができる。
The order of 2) process and 3) process is not particularly limited, and 3) process may be performed after 2) process, or 2) process may be performed after 3) process.
2) When the step 3) is performed after the step, that is, when energy is applied after the rubbing treatment, molecules on the film surface formed from the composition containing at least one compound that reacts by applying the energy are aligned along the rubbing direction. In addition, by applying energy to the aligned molecules, a photoreaction such as a photoisomerization reaction occurs, and the alignment control ability for the liquid crystalline compound can be distinguished between the light irradiated portion and the non-irradiated portion.
3) After the step, when the step 2) is performed, that is, when the rubbing treatment is performed after applying energy, the photoirradiation part occurs in the photoirradiation part, and the non-irradiation part starts from the composition containing at least one compound that reacts by the application of energy. The formed film surface molecules are randomly oriented. When rubbing is performed in this state, the molecules are aligned in the rubbing direction, but the alignment structure between the irradiated and unirradiated parts is different because the structure of the aligned molecules is different between the irradiated and unirradiated parts. The ability to distinguish.

(光学異方性層)
光学異方性層12は、画像表示装置内に、第1及び第2位相差領域12a及び12bが、均等且つ対称に配置されたパターン光学異方性層である。一例は、第1及び第2位相差領域12a及び12bの面内レターデーションがそれぞれλ/4程度であり、互いに直交する面内遅相軸a及びbをそれぞれ有する光学異方性層である。
(Optically anisotropic layer)
The optically anisotropic layer 12 is a patterned optically anisotropic layer in which the first and second retardation regions 12a and 12b are arranged uniformly and symmetrically in the image display device. An example is an optically anisotropic layer in which the in-plane retardation of the first and second retardation regions 12a and 12b is about λ / 4, and the in-plane slow axes a and b are orthogonal to each other.

光学異方性層は単独でReがλ/4程度であってもよく、その場合はRe(550)が、110〜165nmであることが好ましく、120〜150nmであることがより好ましく、125〜145nmであることが特に好ましい。   In the optically anisotropic layer, Re may be about λ / 4 alone. In this case, Re (550) is preferably 110 to 165 nm, more preferably 120 to 150 nm, and 125 to Particularly preferred is 145 nm.

第1及び第2位相差領域12a及び12bの一方の面内レターデーションがλ/4であり、且つ他方の面内レターデーションが3λ/4である光学異方性層を利用しても同様に円偏光画像を分離することができる。また、第1及び第2位相差領域12a及び12bの一方の面内レターデーションがλ/4であり、且つ他方の面内レターデーションが3λ/4である光学異方性層を利用することで、右眼用及び左眼用の直線偏光画像を分離してもよい。   Similarly, an optically anisotropic layer in which one in-plane retardation of the first and second retardation regions 12a and 12b is λ / 4 and the other in-plane retardation is 3λ / 4 is used. Circularly polarized images can be separated. Further, by using an optically anisotropic layer in which the in-plane retardation of one of the first and second retardation regions 12a and 12b is λ / 4 and the other in-plane retardation is 3λ / 4. The right-eye and left-eye linearly polarized images may be separated.

さらに、第1及び第2位相差領域12a及び12bの一方の面内レターデーションがλ/2であり、且つ他方の面内レターデーションが0である光学異方性層を利用し、これを面内レターデーションがλ/4の支持体と各々の遅相軸を平行又は直交して積層しても同様に円偏光画像を分離することができる。
また、第1及び第2位相差領域12a及び12bの形状及び配置パターンは、図2及び3に示すストライプ状のパターンを交互に配置した態様に限定されるものではない。図4に示す様に、矩形状のパターンを格子状に配置してもよい。
Further, an optically anisotropic layer in which the in-plane retardation of one of the first and second retardation regions 12a and 12b is λ / 2 and the other in-plane retardation is 0 is used. A circularly polarized image can be similarly separated by laminating a support having an inner retardation of λ / 4 and respective slow axes parallel or orthogonal to each other.
Further, the shape and arrangement pattern of the first and second phase difference regions 12a and 12b are not limited to the mode in which the stripe patterns shown in FIGS. 2 and 3 are alternately arranged. As shown in FIG. 4, rectangular patterns may be arranged in a grid pattern.

第1及び第2位相差領域12a及び12bの面内レターデーションがそれぞれλ/4程度である態様では、面内遅相軸a及びbは、偏光膜の吸収軸とそれぞれ±45°の角度をなすことが好ましい。本明細書では、厳密に±45°であることを要求するものではなく、第1及び第2位相差領域12a及び12bのいずれか一方については、40〜50°であることが好ましく、他方は、−50〜−40°であることが好ましい。
なお、光学異方性層12のReが単独でλ/4である必要はなく、偏光膜18の一方の表面上に配置される光学異方性層12を含む全ての部材のReの総和、例えば、図6(a)の態様では、偏光膜保護フィルム、支持体、光学異方性層及び基材フィルム全てのReの総和、図6(b)の態様では、偏光膜保護フィルム、光学異方性層、及び支持体のReの総和が、図6(c)の態様では、支持体、光学異方性層及び基材フィルム全てのReの総和、図6(d)の態様では、偏光膜保護フィルム、支持体、及び光学異方性層のReの総和が、110〜160nmであるのが好ましく、120〜150nmであるのがより好ましく、125〜145nmであることが特に好ましい。
In the embodiment in which the in-plane retardation of the first and second retardation regions 12a and 12b is about λ / 4, the in-plane slow axes a and b have an angle of ± 45 ° with the absorption axis of the polarizing film, respectively. It is preferable to make it. In the present specification, it is not strictly required to be ± 45 °, and any one of the first and second retardation regions 12a and 12b is preferably 40 to 50 °, and the other is -50 to -40 °.
The Re of the optically anisotropic layer 12 does not have to be λ / 4 alone, and the sum of Re of all the members including the optically anisotropic layer 12 disposed on one surface of the polarizing film 18; For example, in the embodiment of FIG. 6 (a), the total amount of Re of the polarizing film protective film, the support, the optically anisotropic layer, and the base film is shown. In the embodiment of FIG. In the embodiment of FIG. 6C, the total Re of the isotropic layer and the support is the sum of Re of all of the support, the optically anisotropic layer, and the base film. In the embodiment of FIG. The total Re of the film protective film, the support, and the optically anisotropic layer is preferably 110 to 160 nm, more preferably 120 to 150 nm, and particularly preferably 125 to 145 nm.

光学異方性層12は、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物から形成され、棒状液晶性化合物は、水平配向、及び垂直配向の少なくとも一方に配向させるのが好ましい。なお、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶性化合物の長軸方向と層面が水平であることをいう。厳密に水平であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が20度以下の配向を意味するものとする。傾斜角は0〜5度が好ましく、0〜3度がより好ましく、0〜2度がさらに好ましく、0〜1度が特に好ましい。また、本明細書において「垂直配向」とは、棒状液晶性化合物の長軸方向と層面が垂直であることをいう。厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が70度以上の配向を意味するものとする。傾斜角は85〜90度が好ましく、87〜90度がより好ましく、88〜90度がさらに好ましく、89〜90度が特に好ましい。   The optically anisotropic layer 12 is formed from a composition mainly composed of a rod-like liquid crystal compound having a polymerizable group, and the rod-like liquid crystal compound is preferably aligned in at least one of horizontal alignment and vertical alignment. In the present specification, “horizontal alignment” means that the major axis direction and the layer surface of the rod-like liquid crystalline compound are horizontal. It is not required to be strictly horizontal, and in this specification, it means an orientation having an inclination angle of 20 degrees or less with a horizontal plane. The inclination angle is preferably 0 to 5 degrees, more preferably 0 to 3 degrees, further preferably 0 to 2 degrees, and particularly preferably 0 to 1 degree. In the present specification, “vertical alignment” means that the major axis direction of the rod-like liquid crystal compound is perpendicular to the layer surface. It is not required to be strictly perpendicular, and in this specification, it means an orientation having an inclination angle of 70 degrees or more with a horizontal plane. The inclination angle is preferably 85 to 90 degrees, more preferably 87 to 90 degrees, further preferably 88 to 90 degrees, and particularly preferably 89 to 90 degrees.

本発明では、棒状液晶性化合物を水平配向させた状態で重合させ、その配向状態を固定化して形成することが好ましい。
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平11−513019や特開2007−279688号に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
In the present invention, the rod-like liquid crystalline compound is preferably polymerized in a horizontally aligned state, and the alignment state is preferably fixed.
As the rod-like liquid crystalline compound, for example, those described in JP-T-11-513019 and JP-A-2007-279688 can be preferably used, but are not limited thereto.

また、前記棒状液晶性化合物は、重合条件の異なる2種類以上の反応性基を有していてもよい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む光学異方性層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせがよい。前記ラジカル性の反応性基がアクリル基および/またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および/またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。   The rod-like liquid crystalline compound may have two or more types of reactive groups with different polymerization conditions. In this case, it is possible to produce an optically anisotropic layer including a polymer having an unreacted reactive group by selecting conditions and polymerizing only a part of plural types of reactive groups. . The polymerization conditions used may be the wavelength range of ionizing radiation used for polymerization immobilization, or the difference in polymerization mechanism used, but preferably a radical reaction group and a cationic reaction that can be controlled by the type of initiator used. A combination of groups is good. A combination in which the radical reactive group is an acrylic group and / or a methacryl group and the cationic group is a vinyl ether group, an oxetane group and / or an epoxy group is particularly preferable because the reactivity can be easily controlled.

通常、棒状液晶性化合物は波長が長くなるほどレターデーションが小さくなるので、波長G(550nm)におけるレターデーションがλ/4の137.5nmのものを使用する場合、波長R(600nm)に対してはそれより小さく、逆に波長B(450nm)に対してはそれよりも大きくなってしまう。この問題を解決するためには、△nd(450nm)<△nd(550nm)<△nd(650nm)を満足する、即ち、可視光域において、位相差が波長に対して逆分散特性(波長が長いほど位相差が大きくなる性質)の棒状液晶性化合物を用いることも好ましい。このような棒状液晶性化合物の例には、特開2007−279688号公報記載の一般式(I)、一般式(II)の化合物が含まれる。   In general, the longer the wavelength, the smaller the retardation of the rod-like liquid crystalline compound. Therefore, when using the one having a retardation at the wavelength G (550 nm) of 137.5 nm of λ / 4, the wavelength R (600 nm) On the contrary, it is larger than that for the wavelength B (450 nm). In order to solve this problem, Δnd (450 nm) <Δnd (550 nm) <Δnd (650 nm) is satisfied, that is, in the visible light region, the phase difference is inverse dispersion characteristic (wavelength is It is also preferable to use a rod-like liquid crystalline compound having a property that the longer the phase is, the larger the phase difference is. Examples of such rod-like liquid crystal compounds include compounds of general formula (I) and general formula (II) described in JP-A-2007-279688.

なお、前記組成物中には、棒状液晶性化合物の垂直配向を促進する添加剤を添加していてもよく、該添加剤の例には、特開2009−223001号公報の[0055]〜[0063]に記載の化合物が含まれる。   In the composition, an additive for accelerating the vertical alignment of the rod-like liquid crystal compound may be added. Examples of the additive include [0055] to [0055] in JP-A No. 2009-22001. 0063] are included.

また、本発明では、重合性基を有する棒状液晶性化合物の垂直配向を実現するために、オニウム塩を添加することが好ましい。オニウム塩は配向膜界面に偏在し、液晶分子の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる作用をする。本発明において使用できるオニウム塩としては、例えば特開2012−042530号公報の段落[0212]〜[0239]、特開2012−008170号公報の段落[0098]〜[0125]に記載のオニウム塩を使用することができる。
また、棒状液晶性化合物の空気界面における配向を制御することを目的として、フルオロ脂肪族基含有共重合体を添加してもよい。本発明において使用できるフルオロ脂肪族基含有共重合体としては、例えば特開2012−042530号公報の段落[0240]〜[0242]、特開2012−008170号公報の段落[0126]〜[0127]に記載のフルオロ脂肪族基含有共重合体を使用することができる。
この他にも、重合開始剤、増感剤などその他の添加剤を添加してもよい。その他の添加剤としては、例えば、特開2012−042530号公報の段落[0243]〜[0244]、特開2012−008170号公報の段落[0128]〜[0131]に記載の添加剤を使用することができる。
Moreover, in this invention, in order to implement | achieve the vertical alignment of the rod-shaped liquid crystalline compound which has a polymeric group, it is preferable to add onium salt. The onium salt is unevenly distributed at the alignment film interface and acts to increase the tilt angle of the liquid crystal molecules in the vicinity of the alignment film interface. Examples of onium salts that can be used in the present invention include the onium salts described in paragraphs [0212] to [0239] of JP2012-042530A and paragraphs [0098] to [0125] of JP2012008170A. Can be used.
A fluoroaliphatic group-containing copolymer may be added for the purpose of controlling the orientation of the rod-like liquid crystalline compound at the air interface. Examples of the fluoroaliphatic group-containing copolymer that can be used in the present invention include paragraphs [0240] to [0242] of JP2012-042530A and paragraphs [0126] to [0127] of JP2012008170A. The fluoroaliphatic group-containing copolymer described in 1) can be used.
In addition, other additives such as a polymerization initiator and a sensitizer may be added. As other additives, for example, the additives described in paragraphs [0243] to [0244] of JP2012-042530A and paragraphs [0128] to [0131] of JP2012008170A are used. be able to.

なお、棒状液晶性化合物の配向状態は、KOBRA−21ADH(王子計測器(株)製)や、AXOMETRIX社製のAxoScanのTip−Tiltモードにて液晶分子の傾斜角度を測定することによって確認できる。ここで、水平とは棒状液晶性化合物の長軸方向が、フィルム面に平行な方向に0°〜20°であることを表し、垂直とは70°〜90°であることを表す   The alignment state of the rod-like liquid crystalline compound can be confirmed by measuring the tilt angle of the liquid crystal molecules in KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments) or AxoScan Tip-Tilt mode manufactured by AXOMETRIX. Here, horizontal means that the major axis direction of the rod-like liquid crystal compound is 0 ° to 20 ° in a direction parallel to the film surface, and vertical means 70 ° to 90 °.

この様にして形成する光学異方性層の厚みについては特に制限されないが、0.1〜10μmであるのが好ましく、0.5〜5μmであるのがより好ましい。   The thickness of the optically anisotropic layer formed in this manner is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm.

(透明支持体)
本発明の光学フィルムは、前記光学異方性層を支持する透明支持体を有する。
透明支持体は、公知の種々の材料を特に制限なく使用することができる。透明支持体のRe(550)は、特に制限はないが、機能層が支持体を有さない場合、もしくは機能層が配置されていない場合、0〜10nmが好ましく、0〜7nmがより好ましく、0〜5nmが特に好ましい。
なお、機能層が支持体を有する場合、透明支持体16のRe(550)は、0〜10nmが好ましく、0〜7nmがより好ましく、0〜5nmが特に好ましい。
(Transparent support)
The optical film of the present invention has a transparent support that supports the optically anisotropic layer.
For the transparent support, various known materials can be used without particular limitation. Re (550) of the transparent support is not particularly limited, but when the functional layer does not have a support or when the functional layer is not disposed, 0 to 10 nm is preferable, and 0 to 7 nm is more preferable. 0 to 5 nm is particularly preferable.
When the functional layer has a support, Re (550) of the transparent support 16 is preferably 0 to 10 nm, more preferably 0 to 7 nm, and particularly preferably 0 to 5 nm.

本発明に使用可能な透明支持体を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。   Examples of the material for forming a transparent support usable in the present invention include polycarbonate polymers, polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene, acrylonitrile / styrene copolymer, and the like. Examples thereof include styrenic polymers such as coalescence (AS resin). Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyolefin polymers such as ethylene / propylene copolymers, vinyl chloride polymers, amide polymers such as nylon and aromatic polyamide, imide polymers, sulfone polymers, polyethersulfone polymers , Polyether ether ketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl alcohol polymers, vinyl butyral polymers, arylate polymers, polyoxymethylene polymers, epoxy polymers, or polymers mixed with the above polymers Take an example. The polymer film of the present invention can also be formed as a cured layer of an ultraviolet-curable or thermosetting resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone.

また、前記透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン(株)製のゼオネックス、ゼオノア、JSR(株)製のアートン等があげられる。   As a material for forming the transparent support, a thermoplastic norbornene resin can be preferably used. Examples of the thermoplastic norbornene-based resin include ZEONEX, ZEONOR manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., and ARTON manufactured by JSR Corporation.

また、前記透明支持体を形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー(以下、セルロースアシレートという)を好ましく用いることが出来る。   In addition, as a material for forming the transparent support, a cellulose polymer represented by triacetyl cellulose (hereinafter referred to as cellulose acylate), which has been conventionally used as a transparent protective film of a polarizing plate, is preferably used. I can do it.

[紫外線吸収剤]
上記セルロースアシレートフィルム等の透明支持体には、フィルム自身の耐光性向上、或いは偏光板、液晶表示装置の液晶性化合物等の画像表示部材の劣化防止のために、更に紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
[Ultraviolet absorber]
To the transparent support such as the cellulose acylate film, an ultraviolet absorber is further added in order to improve the light resistance of the film itself or to prevent deterioration of image display members such as a polarizing plate and a liquid crystal compound of a liquid crystal display device. It is preferable.

紫外線吸収剤としては、液晶の劣化防止の点より波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な画像表示性の点より波長400nm以上の可視光の吸収が可及的に少ないものを用いることが好ましい。特に、波長370nmでの透過率が、20%以下であることが望ましく、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下である。このような紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、前記のような紫外線吸収性基を含有する高分子紫外線吸収化合物等があげられるが、これらに限定されない。紫外線吸収剤は2種以上用いてもよい。   As the ultraviolet absorber, one having an excellent ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less from the viewpoint of preventing deterioration of the liquid crystal and having as little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more as possible from the viewpoint of good image display properties is used. It is preferable. In particular, the transmittance at a wavelength of 370 nm is desirably 20% or less, preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. Examples of such ultraviolet absorbers include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salts compounds, hydroxyphenyl triazine compounds, and the like Examples include, but are not limited to, polymeric ultraviolet absorbing compounds containing an ultraviolet absorbing group. Two or more kinds of ultraviolet absorbers may be used.

紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランなどの有機溶媒に溶解してから添加してもよいし、また直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶媒に溶解しないものは、有機溶媒とセルロースアシレート中にデゾルバやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。   As a method of adding the ultraviolet absorber to the dope, it may be added after being dissolved in an organic solvent such as alcohol, methylene chloride, dioxolane, or may be added directly into the dope composition. For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose acylate to disperse and then added to the dope.

本発明において紫外線吸収剤の使用量は、セルロースアシレート100質量部に対し0.1〜5.0質量部、好ましくは0.5〜2.0質量部、より好ましくは0.8〜2.0質量部である。   In this invention, the usage-amount of a ultraviolet absorber is 0.1-5.0 mass parts with respect to 100 mass parts of cellulose acylates, Preferably it is 0.5-2.0 mass parts, More preferably, it is 0.8-2. 0 parts by mass.

(偏光膜)
光学フィルムは、図5(a)〜(d)に一例を示すように、偏光膜18をさらに有していてもよい。また、偏光膜18を保護する偏光膜保護フィルム19をさらに有していてもよい。なお、図5及び図6中、配向膜は省略している。
(Polarizing film)
The optical film may further include a polarizing film 18 as shown in an example in FIGS. Moreover, you may have further the polarizing film protective film 19 which protects the polarizing film 18. FIG. In FIG. 5 and FIG. 6, the alignment film is omitted.

本発明の光学フィルムは偏光膜とともに表示パネルの視認側外側(表示パネルが視認側に偏光膜を有する場合には、表示パネルの視認側偏光膜のさらに外側)に配置され、当該光学フィルムの第1及び第2位相差領域のそれぞれを通過した偏光画像が、偏光眼鏡等を介して右眼用又は左眼用の画像として、認識される。従って、左右画像が不均一とならないように、第1及び第2位相差領域は、互いに等しい形状であるのが好ましく、またそれぞれの配置は、均等且つ対称的であるのが好ましい。   The optical film of the present invention is disposed on the viewing side outer side of the display panel together with the polarizing film (if the display panel has a polarizing film on the viewing side, further outside the viewing side polarizing film of the display panel). A polarized image that has passed through each of the first and second phase difference regions is recognized as an image for the right eye or the left eye through polarized glasses or the like. Therefore, it is preferable that the first and second phase difference regions have the same shape so that the left and right images do not become non-uniform, and that the respective arrangements are preferably uniform and symmetrical.

光学フィルムが偏光膜を有する場合、図2及び図3に示す通り、光学異方性層12を、第1及び第2位相差領域12a及び12bの面内遅相軸a及びbをそれぞれ、偏光膜の吸収軸Pと±45°にして配置する。この構成により右眼用及び左眼用の円偏光画像を分離することができる。また、λ/2板をさらに積層することで、視野角をより拡大してもよい。また、偏光膜の少なくとも一方の面には、さらに保護フィルムをさらに有していてもよい。   When the optical film has a polarizing film, as shown in FIGS. 2 and 3, the optically anisotropic layer 12 is polarized along the in-plane slow axes a and b of the first and second retardation regions 12a and 12b, respectively. It arrange | positions with the absorption axis P of a film | membrane +45 degrees. With this configuration, it is possible to separate right-eye and left-eye circularly polarized images. Further, the viewing angle may be further increased by further laminating λ / 2 plates. Further, at least one surface of the polarizing film may further have a protective film.

偏光膜は、一般的な偏光膜を用いることができる。例えば、ヨウ素や二色性色素によって染色されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子膜を用いることができる。   As the polarizing film, a general polarizing film can be used. For example, a polarizer film made of a polyvinyl alcohol film dyed with iodine or a dichroic dye can be used.

また、透明支持体14と偏光膜18との間に、偏光膜の保護フィルム19が配置されていてもよい。また、上記した通り、表示パネルが視認側表面に偏光膜を有する場合は、本発明の光学フィルムは偏光膜を有さず、表示パネルの偏光膜と組み合わされることで、円偏光画像等の分離機能を示す態様であってもよい。また、液晶セルと偏光膜との間には、光学補償膜4、又は保護フィルム19が配置されていてもよい。   A protective film 19 for the polarizing film may be disposed between the transparent support 14 and the polarizing film 18. In addition, as described above, when the display panel has a polarizing film on the surface on the viewing side, the optical film of the present invention does not have a polarizing film, and is combined with the polarizing film of the display panel to separate a circularly polarized image or the like. It may be an aspect showing a function. Moreover, the optical compensation film 4 or the protective film 19 may be disposed between the liquid crystal cell and the polarizing film.

(機能層)
光学フィルムは、図5(a)〜(d)に一例を示すように、機能層20をさらに有していてもよい。また、機能層20を支持する透明フィルム21をさらに有していてもよい。
機能層の一例は、ハードコート層、反射防止層、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、防眩層である。機能層は2層以上配置してもよい。また、機能層は、機能層の支持体として透明フィルムを有していてもよい。
(Functional layer)
The optical film may further have a functional layer 20 as shown in FIGS. 5A to 5D. Moreover, you may have further the transparent film 21 which supports the functional layer 20. FIG.
Examples of the functional layer are a hard coat layer, an antireflection layer, a low refractive index layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and an antiglare layer. Two or more functional layers may be arranged. Moreover, the functional layer may have a transparent film as a support body of a functional layer.

本発明の光学フィルムは、目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。好ましい態様としては、光学異方性層の上にハードコート層が積層された態様、光学異方性層の上に反射防止層が積層された態様、光学異方性層の上にハードコート層が積層され、その上に更に反射防止層が積層された態様、光学異方性層の上に防眩層が積層された態様等が挙げられる。該反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して設計された、少なくとも一層以上の層からなる層である。   The optical film of the present invention may be provided with a single functional layer or a plurality of functional layers depending on the purpose. Preferred embodiments include an embodiment in which a hard coat layer is laminated on an optically anisotropic layer, an embodiment in which an antireflection layer is laminated on an optically anisotropic layer, and a hardcoat layer on an optically anisotropic layer And an antireflection layer is further laminated thereon, and an antiglare layer is laminated on the optically anisotropic layer. The antireflection layer is a layer composed of at least one layer designed in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference.

反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平8−122504号公報、特開平8−110401号公報、特開平10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。   In the simplest configuration, the antireflection layer has a configuration in which only the low refractive index layer is coated on the outermost surface of the film. In order to further reduce the reflectivity, it is preferable to configure the antireflection layer by combining a high refractive index layer having a high refractive index and a low refractive index layer having a low refractive index. As a configuration example, two layers of a high refractive index layer / low refractive index layer or three layers having different refractive indexes are arranged in order from the bottom, and a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the lower layer and a high refractive index). In some cases, a layer having a lower refractive index than a layer) / a layer having a higher refractive index / a layer having a lower refractive index are stacked in this order. Among them, from the viewpoint of durability, optical characteristics, cost, productivity, etc., it is preferable to have a medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer in this order on the hard coat layer, for example, JP-A-8-122504. Examples include the configurations described in JP-A-8-110401, JP-A-10-300902, JP-A 2002-243906, JP-A 2000-11706, and the like. Other functions may be imparted to each layer, for example, an antifouling low refractive index layer, an antistatic high refractive index layer, or an antistatic hard coat layer (eg, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10). -206603 gazette, Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-243906 etc.) etc. are mentioned.

ハードコート層や反射防止層を有する本発明の光学フィルムの具体的な層構成の例を下記に示す。
支持体/パターン光学異方性層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/ハードコート層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/ハードコート層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/防眩層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/防眩層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/ハードコート層/防眩層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/ハードコート層/防眩層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/透明フィルム/ハードコート層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/ハードコート層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/ハードコート層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/防眩層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/防眩層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/ハードコート層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/ハードコート層/防眩層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/ハードコート層/防眩層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/透明フィルム/ハードコート層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/ハードコート層
パターン光学異方性層/支持体/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/ハードコート層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/防眩層
パターン光学異方性層/支持体/防眩層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/ハードコート層/防眩層
パターン光学異方性層/支持体/ハードコート層/防眩層/低屈折率層
パターン光学異方性層/支持体/ハードコート層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/ハードコート層
支持体/パターン光学異方性層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/ハードコート層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/防眩層
支持体/パターン光学異方性層/防眩層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/ハードコート層/防眩層
支持体/パターン光学異方性層/ハードコート層/防眩層/低屈折率層
支持体/パターン光学異方性層/ハードコート層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
Examples of specific layer configurations of the optical film of the present invention having a hard coat layer and an antireflection layer are shown below.
Support / Pattern Optical Anisotropic Layer Support / Pattern Optical Anisotropic Layer / Transparent Film / Hard Coat Layer Support / Pattern Optical Anisotropic Layer / Transparent Film / Low Refractive Index Layer Support / Pattern Optical Anisotropy Layer / Transparent film / Hard coat layer / Low refractive index layer Support / Pattern optical anisotropic layer / Transparent film / Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Support / Pattern optical difference Isotropic layer / transparent film / antiglare layer support / patterned optically anisotropic layer / transparent film / antiglare layer / low refractive index layer support / patterned optically anisotropic layer / transparent film / antiglare layer / medium refraction Index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Support / Pattern optical anisotropic layer / Transparent film / Hard coat layer / Anti-glare layer Support / Pattern optical anisotropic layer / Transparent film / Hard coat layer / Prevention Dazzle layer / Low refractive index layer Support / Putter Optically anisotropic layer / transparent film / hard coat layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer pattern optical anisotropic layer / support pattern optical anisotropic layer / support / Transparent film / Hard coat layer Pattern optical anisotropic layer / Support / Transparent film / Low refractive index layer Pattern optical anisotropic layer / Support / Transparent film / Hard coat layer / Low refractive index layer Pattern optical anisotropy Layer / support / transparent film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer pattern optical anisotropic layer / support / transparent film / antiglare layer pattern optical anisotropic layer / support Body / transparent film / antiglare layer / low refractive index layer patterned optical anisotropic layer / support / transparent film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer patterned optical anisotropic layer / Support / Hard coat layer Pattern optical anisotropic layer / Support Body / transparent film / hard coat layer / antiglare layer pattern optical anisotropic layer / support / transparent film / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer pattern optical anisotropic layer / support / transparent film / Hard coat layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer pattern optical anisotropic layer / support / hard coat layer pattern optical anisotropic layer / support / low refractive index layer pattern Optical anisotropic layer / support / hard coat layer / low refractive index layer pattern optical anisotropic layer / support / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer pattern optical anisotropy Layer / support / antiglare layer patterned optical anisotropic layer / support / antiglare layer / low refractive index layer patterned optical anisotropic layer / support / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / Low refractive index layer Pattern optical anisotropic layer / Support / Hard coat layer / Anti-glare layer Pattern light Anisotropic layer / support / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer Pattern optical anisotropic layer / support / hard coat layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index Index layer Support / Pattern optical anisotropic layer / Hard coat layer Support / Pattern optical anisotropic layer / Low refractive index layer Support / Pattern optical anisotropic layer / Hard coat layer / Low refractive index layer Support / Pattern optical anisotropic layer / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer support / pattern optical anisotropic layer / antiglare layer support / pattern optical anisotropic layer / antiglare Layer / low refractive index layer support / patterned optically anisotropic layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer support / patterned optically anisotropic layer / hard coat layer / antiglare Layer Support / Pattern optical anisotropy layer / Hard coat layer / Anti-glare layer / Low refractive index layer Support / Pattern optical anisotropy / Hardcoat layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer

上記の各構成において、パターン光学異方性層の上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の機能層を直接形成することが好ましい。また、パターン光学異方性層を含む光学フィルムと、別途、透明フィルム(機能層の支持体)上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の層を設けた光学フィルムとを積層して製造してもよい。低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、及び防眩層などの詳細は、特開2012−018395号公報の段落[0235]〜[0256]、特開2012−018396号公報の段落[0225]〜[0245]に記載されているものを参照することができ、使用することができる。   In each configuration described above, it is preferable to directly form a functional layer such as a hard coat layer, an antiglare layer, or an antireflection layer on the patterned optically anisotropic layer. In addition, an optical film including a patterned optically anisotropic layer and an optical film separately provided with a layer such as a hard coat layer, an antiglare layer and an antireflection layer on a transparent film (support for a functional layer) are laminated. May be manufactured. Details of the low refractive index layer, the middle refractive index layer, the high refractive index layer, the antiglare layer, and the like are described in paragraphs [0235] to [0256] of JP2012-018395A and paragraphs of JP20120188396A. Those described in [0225] to [0245] can be referred to and used.

本発明の光学フィルムの反射防止層などの層構成の好ましい態様は、特開2012−018396号公報の段落[0205]〜[0218]、特開2012−018395号公報の段落[0214]〜[0228]などの記載を参照することができる。   Preferred embodiments of the layer structure such as the antireflection layer of the optical film of the present invention include paragraphs [0205] to [0218] of JP2012-018396A, and paragraphs [0214] to [0228] of JP2012-018395A. ] And the like can be referred to.

(ハードコート層)
本発明の光学フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
(Hard coat layer)
The optical film of the present invention can be provided with a hard coat layer in order to impart the physical strength of the film. In the present invention, it is not necessary to provide a hard coat layer, but it is preferable to provide a hard coat layer because the scratch resistance surface such as a pencil scratch test becomes strong.
Preferably, a low refractive index layer is provided on the hard coat layer, and more preferably an intermediate refractive index layer and a high refractive index layer are provided between the hard coat layer and the low refractive index layer to constitute an antireflection film. The hard coat layer may be composed of two or more layers.

ハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜2.00の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.70である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも1層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。   The refractive index of the hard coat layer is preferably in the range of 1.48 to 2.00, more preferably 1.48 to 1.70, from the optical design for obtaining an antireflection film. is there. In the present invention, since there is at least one low refractive index layer on the hard coat layer, if the refractive index is too small, the antireflection property is lowered, and if it is too large, the color of the reflected light tends to be strong. is there.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは1μm〜20μm、更に好ましくは5μm〜20μmである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
The film thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 5 μm to 20 μm, from the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film.
The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in the pencil hardness test. Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。具体的には前記(重合性不飽和基を有する多官能モノマー)で挙げた化合物を好ましく用いることができる。   The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it may be formed by applying a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a transparent support and subjecting the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to a crosslinking reaction or a polymerization reaction. it can. The functional group of the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. Specifically, the compounds mentioned above (polyfunctional monomers having a polymerizable unsaturated group) can be preferably used.

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が1.0〜10.0μm、好ましくは1.5〜7.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。   The hard coat layer contains matte particles having an average particle diameter of 1.0 to 10.0 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, such as inorganic compound particles or resin particles, for the purpose of imparting internal scattering properties. May be.

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。   Various refractive index monomers, inorganic particles, or both can be added to the binder of the hard coat layer for the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer after the formation of the hard coat layer, and the inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder.

ハードコート層は、前記無機化合物の粒子など以外に紫外線吸収剤などを添加することができる。紫外線吸収剤としては、透明支持体に添加する紫外線吸収剤の例と同様であり、好ましい範囲も同様である。   The hard coat layer may contain an ultraviolet absorber in addition to the inorganic compound particles. As an ultraviolet absorber, it is the same as that of the example of the ultraviolet absorber added to a transparent support body, and its preferable range is also the same.

紫外線吸収剤の含有量は、求める紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度にもよるが、ハードコート層形成用組成物(但し塗布液として調製される場合は溶媒を除いた固形分)100質量部に対して、通常20質量部以下、好ましくは1〜20質量部である。紫外線吸収剤の含有量が20質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、ハードコート層の可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、1質量部より少ない場合には、ハードコート層の紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。   The content of the UV absorber depends on the required UV transmittance and the absorbance of the UV absorber, but the hard coat layer forming composition (however, the solid content excluding the solvent when prepared as a coating solution) is 100 parts by mass. The amount is usually 20 parts by mass or less, preferably 1 to 20 parts by mass. When there is more content of an ultraviolet absorber than 20 mass parts, while there exists a tendency for the sclerosis | hardenability by the ultraviolet-ray of a curable composition to fall, there exists a possibility that the visible light transmittance | permeability of a hard-coat layer may fall. On the other hand, when the amount is less than 1 part by mass, the hard coat layer cannot sufficiently exhibit the ultraviolet absorptivity.

[無機微粒子]
上記無機微粒子としては、金属の酸化物を含有する無機微粒子が好ましく、Ti、Zr、In、Zn、Sn、Al及びSbから選ばれた少なくとも1種の金属の酸化物を含有する無機微粒子がより好ましい。また、中屈折率層及び高屈折率層のうち少なくともいずれかが、導電性の無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子の詳細は、特開2012−018395号公報の段落[0239]〜[0244]を参照することができる。
[Inorganic fine particles]
As the inorganic fine particles, inorganic fine particles containing metal oxides are preferable, and inorganic fine particles containing at least one metal oxide selected from Ti, Zr, In, Zn, Sn, Al and Sb are more preferable. preferable. Further, at least one of the medium refractive index layer and the high refractive index layer may contain conductive inorganic fine particles.
The details of the inorganic fine particles can be referred to paragraphs [0239] to [0244] of JP2012-018395A.

[硬化性化合物]
硬化性化合物としては、重合性化合物が好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。硬化性化合物の詳細は、特開2012−018395号公報の段落[0245]を参照することができる。
[Curable compound]
As the curable compound, a polymerizable compound is preferable, and as the polymerizable compound, an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably used. The functional group in these compounds is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. The details of the curable compound can be referred to paragraph [0245] of JP2012-018395A.

[粘着剤層]
各層の貼り合わせに用いる粘着剤又は接着剤としては、粘着剤でもUV接着剤でもよく、粘着剤層や接着剤層などを介して貼り合わせてもよく、特に限定されない。本発明に使用可能な粘着剤又は接着剤としては、例えば特開2011−037140号公報の段落[0100]〜[0115]、特開2009−292870号公報の段落[0155]〜[0171]などに記載されている粘着剤を使用することができる。
[Adhesive layer]
The pressure-sensitive adhesive or adhesive used for bonding the layers may be a pressure-sensitive adhesive or a UV adhesive, and may be bonded via a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer, and is not particularly limited. Examples of the pressure-sensitive adhesive or adhesive usable in the present invention include paragraphs [0100] to [0115] of JP2011-037140A, paragraphs [0155] to [0171] of JP2009-292870A, and the like. The adhesives described can be used.

前記透明フィルム(支持体)は、パターン光学異方性層の透明支持体を兼ねていてもよい。透明フィルムとして利用可能なポリマーフィルムの例については、前記パターン光学異方性層の透明支持体の例と同様であり、好ましい範囲も同様である。   The transparent film (support) may also serve as a transparent support for the patterned optically anisotropic layer. About the example of the polymer film which can be utilized as a transparent film, it is the same as that of the example of the transparent support body of the said pattern optically anisotropic layer, and its preferable range is also the same.

粘着層:
パターン光学異方性層と偏光膜との間には、粘着層が配置されていてもよい。パターン光学異方性層と偏光膜との積層のために用いられる粘着層とは、例えば、動的粘弾性測定装置で測定したG’とG”との比(tanδ=G”/G’)が0.001〜1.5である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。粘着剤については特に制限はなく、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤を用いることができる。
Adhesive layer:
An adhesive layer may be disposed between the patterned optically anisotropic layer and the polarizing film. The adhesive layer used for laminating the patterned optically anisotropic layer and the polarizing film is, for example, the ratio of G ′ and G ″ measured with a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (tan δ = G ″ / G ′). Represents a substance having a value of 0.001 to 1.5, and includes a so-called pressure-sensitive adhesive and a substance that is easy to creep. There is no restriction | limiting in particular about an adhesive, For example, a polyvinyl alcohol-type adhesive can be used.

2.光学フィルムの製造方法:
本発明は、光学フィルムの製造方法にも関する。本発明の光学フィルムの製造方法の一例は、
1)透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種含む組成物を適用し、膜を作成する工程
2)膜を一方向にラビング処理する工程
3)膜の一部の領域にエネルギーを付与する工程
4)膜に対し、ラビング処理およびエネルギー付与を行うことで得られたパターン配向膜上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物を適用する工程
5)加熱して面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第1位相差領域及び第2位相差領域を形成する工程
6)エネルギーを付与して重合性基を有する棒状液晶性化合物を固定化する工程
を含む。
1)工程〜6)工程は、この順で含むことが好ましく、2)工程及び3)工程は、順序を逆にしてもよい。
2. Manufacturing method of optical film:
The present invention also relates to a method for producing an optical film. An example of the method for producing the optical film of the present invention is as follows:
1) Applying a composition containing at least one compound that reacts upon application of energy on a transparent support to create a film 2) Rubbing the film in one direction 3) Energizing a partial region of the film 4) Step 5) of applying a composition mainly composed of a rod-like liquid crystalline compound having a polymerizable group on the pattern alignment film obtained by rubbing and applying energy to the film. Step 6 of forming a first retardation region and a second retardation region in which at least one of in-plane slow axis direction and in-plane retardation is different from each other by heating 6) rod-like liquid crystal having a polymerizable group by applying energy Immobilizing the compound.
The steps 1) to 6) are preferably included in this order, and the order of steps 2) and 3) may be reversed.

1)〜3)工程は、パターン配向膜の製造方法と同様である。   Steps 1) to 3) are the same as the method for producing the pattern alignment film.

ラビング処理及びエネルギーの付与によりパターン配向膜を形成後、パターン配向膜上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物を塗布し、温度T1℃で加熱して第1位相差領域及び第2位相差領域を形成する。
その後、エネルギーを付与して棒状液晶性化合物を固定化する。6)工程における配向状態の固定は、温度T2℃であって、5)工程の液晶性化合物の配向温度T1℃との関係で、T1>T2を満足する温度で行う。この条件を満足すると、配向状態の乱れを抑制しつつ、配向状態の固定が可能となる。T1℃及びT2℃それぞれの好ましい温度範囲は、選択する材料等に応じて変動する。一般的には、T1℃は約50〜約150℃であり、T2℃は約20〜約120℃である。またT1とT2との差は、約10〜約100℃であるのが好ましい。
After forming a pattern alignment film by rubbing treatment and application of energy, a composition mainly composed of a rod-like liquid crystalline compound having a polymerizable group is applied on the pattern alignment film, and heated at a temperature of T1 ° C. A phase difference region and a second phase difference region are formed.
Thereafter, energy is applied to fix the rod-like liquid crystal compound. 6) The alignment state in the process is fixed at a temperature T 2 ° C., and the temperature satisfies the condition of T 1 > T 2 in relation to the alignment temperature T 1 ° C. of the liquid crystalline compound in the process 5). If this condition is satisfied, it is possible to fix the alignment state while suppressing disturbance of the alignment state. The preferable temperature ranges of T 1 ° C and T 2 ° C vary depending on the material selected. Generally, T 1 ° C is about 50 to about 150 ° C, and T 2 ° C is about 20 to about 120 ° C. The difference between T 1 and T 2 is preferably about 10 to about 100 ° C.

3.3D画像表示装置及び3D画像表示システム
本発明は、本発明の光学フィルムを有する3D画像表示装置及び3D画像表示システムにも関する。本発明の光学フィルムは、表示パネルの視認側に配置され、表示パネルが表示する画像を右眼用及び左眼用の円偏光画像又は直線偏光画像等の偏光画像に変換する機能を有する。観察者は、これらの画像を円偏光又は直線偏光眼鏡等の偏光板を介して観察し、立体画像として認識する。
3. 3D image display apparatus and 3D image display system TECHNICAL FIELD This invention relates also to the 3D image display apparatus and 3D image display system which have the optical film of this invention. The optical film of the present invention is disposed on the viewing side of the display panel and has a function of converting images displayed on the display panel into polarized images such as right-eye and left-eye circularly polarized images or linearly polarized images. An observer observes these images through a polarizing plate such as circularly polarized light or linearly polarized glasses, and recognizes them as a stereoscopic image.

本発明では、表示パネルについてはなんら制限はない。例えば、液晶層を含む液晶パネルであっても、有機EL層を含む有機EL表示パネルであっても、プラズマディスプレイパネルであってもよい。いずれの態様についても、種々の可能な構成を採用することができる。また、透過モードの液晶パネル等は、視認側表面に画像表示のための偏光膜を有する態様では、本発明の光学フィルムは、当該偏光膜との組み合わせによって、上記機能を達成してもよい。勿論、本発明の光学フィルムは、液晶パネルとは別に偏光膜を有していてもよいが、その場合は、光学フィルムの偏光膜の吸収軸と、液晶パネルの偏光膜の吸収軸とを一致させて配置する。   In the present invention, there is no limitation on the display panel. For example, it may be a liquid crystal panel including a liquid crystal layer, an organic EL display panel including an organic EL layer, or a plasma display panel. For any aspect, various possible configurations can be employed. Further, in a mode in which a liquid crystal panel or the like in a transmission mode has a polarizing film for image display on the viewing side surface, the optical film of the present invention may achieve the above function by combination with the polarizing film. Of course, the optical film of the present invention may have a polarizing film separately from the liquid crystal panel. In this case, the absorption axis of the polarizing film of the optical film coincides with the absorption axis of the polarizing film of the liquid crystal panel. Let them be arranged.

図6(a)〜(d)に示す態様では、液晶セル1の後方には、バックライトが配置され、バックライトと液晶セル1との間に偏光膜2、必要に応じて偏光膜保護フィルム3や光学補償膜4が配置された、透過モードとして構成されている。   6 (a) to 6 (d), a backlight is disposed behind the liquid crystal cell 1, a polarizing film 2 is provided between the backlight and the liquid crystal cell 1, and a polarizing film protective film as necessary. 3 and the optical compensation film 4 are arranged as a transmission mode.

液晶セルの構成については特に制限はなく、一般的な構成の液晶セルを採用することができる。液晶セルは、例えば、図示しない対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層とを含み、必要に応じて、カラーフィルタ層などを含んでいてもよい。液晶セルの駆動モードについても特に制限はなく、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等の種々のモードを利用することができる。   There is no restriction | limiting in particular about the structure of a liquid crystal cell, The liquid crystal cell of a general structure is employable. The liquid crystal cell includes, for example, a pair of substrates (not shown) opposed to each other and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, and may include a color filter layer as necessary. The driving mode of the liquid crystal cell is not particularly limited, and is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically compensated bend cell (OCB). Various modes such as can be used.

TNモードでは、一般的に、偏光膜の吸収軸は、表示面左右方向0°に対して45°又は135°に配置されるので、TNモード液晶パネルとは、図2に示す態様の光学フィルムと組み合わせるのが好ましい。TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に60〜120゜にねじれ配向している。TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。   In the TN mode, the absorption axis of the polarizing film is generally arranged at 45 ° or 135 ° with respect to 0 ° in the horizontal direction of the display surface. Therefore, the TN mode liquid crystal panel is an optical film having the mode shown in FIG. It is preferable to combine with. In a TN mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and are twisted and aligned at 60 to 120 °. The TN mode liquid crystal cell is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents.

また、VAモード及びIPSモードでは、一般的に、偏光膜の吸収軸は、表示面左右方向0°に対して0°又は90°に配置されるので、VAモード及びIPSモード液晶パネルとは、図3に示す態様の光学フィルムと組み合わせるのが好ましい。
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech.Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)及び(4)SURVIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。また、PVA(Patterned Vertical Alignment)型、光配向型(Optical Alignment)、及びPSA(Polymer-Sustained Alignment)のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開2006−215326号公報、及び特表2008−538819号公報に詳細な記載がある。
IPSモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。IPSモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平10−54982号公報、特開平11−202323号公報、特開平9−292522号公報、特開平11−133408号公報、特開平11−305217号公報、特開平10−307291号公報などに開示されている。
In the VA mode and the IPS mode, the absorption axis of the polarizing film is generally arranged at 0 ° or 90 ° with respect to 0 ° in the horizontal direction of the display surface. It is preferable to combine with the optical film of the aspect shown in FIG.
In a VA mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied. The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). 176625) (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Proceed) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (MVA mode) for widening the viewing angle. ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVIVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98). Moreover, any of PVA (Patterned Vertical Alignment) type, optical alignment type (Optical Alignment), and PSA (Polymer-Sustained Alignment) may be used. Details of these modes are described in JP-A-2006-215326 and JP-T-2008-538819.
In an IPS mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are aligned substantially parallel to the substrate, and the liquid crystal molecules respond in a planar manner when an electric field parallel to the substrate surface is applied. The IPS mode displays black when no electric field is applied, and the absorption axes of the pair of upper and lower polarizing plates are orthogonal. JP-A-10-54982, JP-A-11-202323, and JP-A-9-292522 are methods for reducing leakage light at the time of black display in an oblique direction and improving a viewing angle using an optical compensation sheet. No. 11-133408, No. 11-305217, No. 10-307291, and the like.

[3D画像表示システム用偏光板]
本発明の立体画像表示システムでは、特に3D映像とよばれる立体画像を視認者に認識させるため、偏光板を通して画像を認識する。偏光板の一態様は、偏光眼鏡である。前記位相差板によって右眼用及び左眼用の円偏光画像を形成する態様では、円偏光眼鏡が用いられ、直線偏光画像を形成する態様では、直線眼鏡が用いられる。パターン光学異方性層の前記第1及び第2の位相差領域のいずれか一方から出射された右眼用画像光が右眼鏡を透過し、且つ左眼鏡で遮光され、前記第1及び第2位相差領域の他方から出射された左眼用画像光が左眼鏡を透過し、且つ右眼鏡で遮光されるように構成されていることが好ましい。
前記偏光眼鏡は、位相差機能層と直線偏光子を含むことで偏光眼鏡を形成している。なお、直線偏光子と同等の機能を有するその他の部材を用いてもよい。
[Polarizing plate for 3D image display system]
In the stereoscopic image display system of the present invention, in order to make the viewer recognize a stereoscopic image called 3D video, the image is recognized through the polarizing plate. One aspect of the polarizing plate is polarized glasses. In the aspect in which the right-polarized and left-eye circularly polarized images are formed by the retardation plate, circularly polarized glasses are used, and in the aspect in which the linearly polarized images are formed, linear glasses are used. Right-eye image light emitted from one of the first and second retardation regions of the patterned optically anisotropic layer is transmitted through the right glasses and shielded by the left glasses, and the first and second It is preferable that the image light for the left eye emitted from the other of the phase difference regions is transmitted through the left glasses and shielded by the right glasses.
The polarizing glasses form polarizing glasses by including a retardation functional layer and a linear polarizer. In addition, you may use the other member which has a function equivalent to a linear polarizer.

偏光眼鏡を含め、本発明の3D用画像表示システムの具体的な構成について説明する。まず、位相差膜は、映像表示パネルの交互に繰り返されている複数の第一ライン上と複数の第二ライン上(例えば、ラインが水平方向であれば水平方向の奇数ライン上と偶数ライン上であり、ラインが垂直方向であれば垂直方向の奇数ライン上と偶数ライン上でもよい)に偏光変換機能が異なる前記第1位相差領域と前記第2位相差領域が設けられている。円偏光を表示に利用する場合には、上述の前記第1位相差領域と前記第2位相差領域の位相差は、ともにλ/4であることが好ましく、前記第1位相差領域と前記第2位相差領域は遅相軸が直交していることがより好ましい。   A specific configuration of the 3D image display system of the present invention including the polarizing glasses will be described. First, the retardation film is formed on a plurality of first lines and a plurality of second lines that are alternately repeated on the video display panel (for example, on odd-numbered lines and even-numbered lines in the horizontal direction if the lines are in the horizontal direction). The first phase difference region and the second phase difference region having different polarization conversion functions are provided on the odd-numbered and even-numbered lines in the vertical direction if the line is in the vertical direction. When circularly polarized light is used for display, the phase difference between the first phase difference region and the second phase difference region is preferably λ / 4, and the first phase difference region and the first phase difference region are In the two phase difference region, it is more preferable that the slow axes are orthogonal.

円偏光を利用する場合、前記第1位相差領域と前記第2位相差領域の位相差値をともにλ/4とし、映像表示パネルの奇数ラインに右眼用画像を表示し、奇数ライン位相差領域の遅相軸が45度方向であるならば、偏光眼鏡の右眼鏡と左眼鏡にともにλ/4板を配置することが好ましく、偏光眼鏡の右眼鏡のλ/4板の遅相軸は具体的には略45度に固定すればよい。また、上記の状況であれば、同様に、映像表示パネルの偶数ラインに左眼用画像を表示し、偶数ライン位相差領域の遅相軸が135度方向であるならば、偏光眼鏡の左眼鏡の遅相軸は具体的には略135度に固定すればよい。
更に、一度前記パターニング位相差膜において円偏光として画像光を出射し、偏光眼鏡により偏光状態を元に戻す観点からは、上記の例の場合の右眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平方向45度に近いほど好ましい。また、左眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平135度(又は−45度)に近いほど好ましい。
When using circularly polarized light, the phase difference values of the first phase difference region and the second phase difference region are both set to λ / 4, the right eye image is displayed on the odd lines of the video display panel, and the odd line phase difference is displayed. If the slow axis of the region is in the 45 degree direction, it is preferable to arrange λ / 4 plates on both the right and left glasses of the polarized glasses, and the slow axis of the λ / 4 plate of the right glasses of the polarized glasses is Specifically, it may be fixed at approximately 45 degrees. In the above situation, similarly, the left eye image is displayed on the even line of the video display panel, and if the slow axis of the even line phase difference region is in the direction of 135 degrees, the left eyeglass of the polarizing glasses Specifically, the slow axis may be fixed at approximately 135 degrees.
Furthermore, from the viewpoint of emitting image light as circularly polarized light once in the patterning retardation film and returning the polarization state to the original state by the polarized glasses, the angle of the slow axis fixed by the right glasses in the above example is accurate. The closer to 45 degrees in the horizontal direction, the better. Further, it is preferable that the angle of the slow axis fixed by the left spectacles is exactly close to horizontal 135 degrees (or -45 degrees).

また、例えば前記映像表示パネルが液晶表示パネルである場合、液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向が通常、水平方向であり、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸が該フロント側偏光板の吸収軸方向に直交する方向であることが好ましく、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸は鉛直方向であることがより好ましい。
また、前記液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向と、前記パターニング位相差膜の奇数ライン位相差領域と偶数ライン位相差領域の各遅相軸は、偏光変換の効率上、45度をなすことが好ましい。
なお、このような偏光眼鏡と、パターニング位相差膜及び液晶表示装置の好ましい配置については、例えば特開2004−170693号公報に開示がある。
For example, when the video display panel is a liquid crystal display panel, the absorption axis direction of the front-side polarizing plate of the liquid crystal display panel is usually a horizontal direction, and the absorption axis of the linear polarizer of the polarizing glasses is the front-side polarization The direction perpendicular to the absorption axis direction of the plate is preferable, and the absorption axis of the linear polarizer of the polarizing glasses is more preferably the vertical direction.
Further, the absorption axis direction of the front-side polarizing plate of the liquid crystal display panel and the slow axis of the odd-numbered phase retardation region and the even-numbered phase retardation region of the patterning retardation film are 45 degrees in terms of the efficiency of polarization conversion. It is preferable to make it.
A preferable arrangement of such polarizing glasses, a patterning retardation film, and a liquid crystal display device is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-170693.

偏光眼鏡の例としては、特開2004−170693号公報に記載のものや、市販品として、Zalman製、ZM−M220Wの付属品を挙げることができる。   Examples of polarized glasses include those described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-170693, and examples of commercially available products include accessories of ZM-man and ZM-M220W.

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the following examples.

(実施例1)
<透明支持体Aの作製>
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Aを調製した。
────────────────────────────────────
セルロースアシレート溶液Aの組成
────────────────────────────────────
置換度2.86のセルロースアセテート 100質量部
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部
メタノール(第2溶媒) 54質量部
1−ブタノール 11質量部
────────────────────────────────────
Example 1
<Preparation of transparent support A>
The following composition was put into a mixing tank and stirred while heating to dissolve each component to prepare a cellulose acylate solution A.
────────────────────────────────────
Composition of Cellulose Acylate Solution A────────────────────────────────────
Cellulose acetate having a substitution degree of 2.86 100 parts by weight Triphenyl phosphate (plasticizer) 7.8 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate (plasticizer) 3.9 parts by weight Methylene chloride (first solvent) 300 parts by weight Methanol (second solvent) ) 54 parts by mass 1-butanol 11 parts by mass ─────────────────────────────────────

別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Bを調製した。
────────────────────────────────────
添加剤溶液Bの組成
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下記化合物B1(Re低下剤) 40質量部
下記化合物B2(波長分散制御剤) 4質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 80質量部
メタノール(第2溶媒) 20質量部
────────────────────────────────────
The following composition was charged into another mixing tank, stirred while heating to dissolve each component, and an additive solution B was prepared.
────────────────────────────────────
Composition of additive solution B ─────────────────────────────────────
The following compound B1 (Re reducing agent) 40 parts by mass The following compound B2 (wavelength dispersion controlling agent) 4 parts by mass Methylene chloride (first solvent) 80 parts by mass Methanol (second solvent) 20 parts by mass ──────── ────────────────────────────

Figure 2014006421
Figure 2014006421

<<セルロースアセテート透明支持体の作製>>
セルロースアシレート溶液Aを477質量部に、添加剤溶液Bの40質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から0℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率70質量%の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター(特開平4−1009号の図3に記載のピンテンター)で固定し、溶媒含有率が3乃至5質量%の状態で、横方向(機械方向に垂直な方向)の延伸率が3%となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み60μmのセルロースアセテート保護フィルム(透明支持体A)を作製した。透明支持体Aは紫外線吸収剤を含有しておらず、Re(550)は0nmであり、Rth(550)は12.3nmであった。
<< Preparation of transparent cellulose acetate support >>
A dope was prepared by adding 40 parts by mass of the additive solution B to 477 parts by mass of the cellulose acylate solution A and stirring sufficiently. The dope was cast from a casting port onto a drum cooled to 0 ° C. The film is peeled off at a solvent content of 70% by mass, and both ends in the width direction of the film are fixed with a pin tenter (a pin tenter described in FIG. 3 of JP-A-4-1009), and the solvent content is 3 to 5% by mass. Then, it was dried while maintaining an interval at which the stretching ratio in the transverse direction (direction perpendicular to the machine direction) was 3%. Then, it dried further by conveying between the rolls of a heat processing apparatus, and produced the 60-micrometer-thick cellulose acetate protective film (transparent support body A). Transparent support A did not contain an ultraviolet absorber, Re (550) was 0 nm, and Rth (550) was 12.3 nm.

<<アルカリ鹸化処理>>
セルロースアセテート透明支持体Aを、温度60℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を40℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量14ml/m2で塗布し、110℃に加熱し、(株)ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、10秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を3ml/m2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返した後に、70℃の乾燥ゾーンに10秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Aを作製した。
<< Alkaline saponification treatment >>
The cellulose acetate transparent support A is passed through a dielectric heating roll having a temperature of 60 ° C., and the film surface temperature is raised to 40 ° C. Then, an alkali solution having the composition shown below is applied to one side of the film using a bar coater. The coating was applied at a coating amount of 14 ml / m 2 , heated to 110 ° C., and conveyed for 10 seconds under a steam far infrared heater manufactured by Noritake Company Limited. Subsequently, 3 ml / m 2 of pure water was applied using the same bar coater. Next, washing with a fountain coater and draining with an air knife were repeated three times, followed by transporting to a drying zone at 70 ° C. for 10 seconds and drying to prepare an alkali saponified cellulose acetate transparent support A.

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アルカリ溶液の組成(質量部)
────────────────────────────────────
水酸化カリウム 4.7質量部
水 15.8質量部
イソプロパノール 63.7質量部
界面活性剤
SF−1:C1429O(CH2CH2O)20H 1.0質量部
プロピレングリコール 14.8質量部
────────────────────────────────────
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Composition of alkaline solution (parts by mass)
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Potassium hydroxide 4.7 parts by weight Water 15.8 parts by weight Isopropanol 63.7 parts by weight Surfactant SF-1: C 14 H 29 O (CH 2 CH 2 O) 20 H 1.0 part by weight Propylene glycol 14. 8 parts by mass ────────────────────────────────────

<パターン配向膜付透明支持体Aの作製>
実施例1で作製した透明支持体Aの鹸化処理を施した面に、ポリビニルシンナメート(シグマアルドリッチ社製)10%メチルエチルケトン・メタノール混合溶液を塗布後100℃で1分間乾燥した。得られた膜の膜厚は、0.5μmであった。得られた膜に、フィルムの搬送方向に対して45度の角度で1000rpmで1往復ラビング処理を行った。次いで、ストライプマスクを、ストライプが搬送方向と平行になるように膜上に配置し、空気下にて160W/cm2の空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を照射した。このとき、透過部のストライプ幅285μm、遮蔽部のストライプ幅285μmのストライプマスクを使用し露光を行い、パターン配向膜を形成した。露光マスク面と膜の間の距離を200μmに設定した。用いる紫外線の照度はUV−A領域(波長320nm〜380nmの積算)において100mW/cm2、照射量はUV−A領域において1000mJ/cm2とした。
<Preparation of transparent support A with pattern alignment film>
A surface of the transparent support A produced in Example 1 subjected to a saponification treatment was coated with a 10% methyl ethyl ketone / methanol mixed solution of polyvinyl cinnamate (manufactured by Sigma Aldrich) and dried at 100 ° C. for 1 minute. The film thickness of the obtained film was 0.5 μm. The obtained film was subjected to one reciprocating rubbing treatment at 1000 rpm at an angle of 45 degrees with respect to the film transport direction. Next, a stripe mask was placed on the film so that the stripe was parallel to the transport direction, and irradiated with ultraviolet rays using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm 2 under air. . At this time, exposure was performed using a stripe mask having a stripe width of 285 μm at the transmission portion and a stripe width of 285 μm at the shielding portion, thereby forming a pattern alignment film. The distance between the exposure mask surface and the film was set to 200 μm. The illuminance of the ultraviolet rays used was 100 mW / cm 2 in the UV-A region (integration of wavelengths from 320 nm to 380 nm), and the irradiation amount was 1000 mJ / cm 2 in the UV-A region.

<パターン光学異方性層Aの作製>
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。パターン配向膜付透明支持体A上に該塗布液を塗布、膜面温度105℃で2分間乾燥して液晶相状態とした後、75℃まで冷却して、空気下にて160W/cm2の空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン光学異方性層Aの作製を試みた。パターン光学異方性層の膜厚は、1.3μmであった。
<Preparation of patterned optical anisotropic layer A>
After preparing the following composition for optically anisotropic layers, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm and used as a coating solution. The coating solution is applied onto the transparent support A with a pattern alignment film, dried at a film surface temperature of 105 ° C. for 2 minutes to form a liquid crystal phase, cooled to 75 ° C., and 160 W / cm 2 under air. An ultraviolet ray was irradiated using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) to fix the orientation state, and an attempt was made to produce the patterned optical anisotropic layer A. The film thickness of the patterned optically anisotropic layer was 1.3 μm.

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光学異方性層用組成
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棒状液晶性化合物(LC242、BASF(株)製) 100質量部
水平配向剤A 0.3質量部
光重合開始剤 3.3質量部
(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製) 1.1質量部
メチルエチルケトン 300質量部
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Composition for optically anisotropic layers ──────────────────────────────────────
Rod-shaped liquid crystalline compound (LC242, manufactured by BASF Corporation) 100 parts by mass horizontal alignment agent A 0.3 parts by mass photopolymerization initiator 3.3 parts by mass (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Sensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.1 parts by weight Methyl ethyl ketone 300 parts by weight ───────────────────────── ─────────────

Figure 2014006421
Figure 2014006421

(パターン光学異方性層の評価)
作製したパターン光学異方性層を透明支持体Aから剥離した後、第1位相差領域又は第2位相差領域のいずれか一方の遅相軸が、直交位に組合された2枚の偏光板のいずれか一方の偏光軸と平行になるように、偏光板の間に入れ、さらに、位相差530nmの鋭敏色板を、その遅相軸が偏光板の偏光軸と45°の角度をなすように、光学異方性層の上においた。次に、光学異方性層を+45°回転させた状態を偏光顕微鏡(NIKON製 ECLIPE E600W POL)で観察した。図7に示す観察結果から明らかなように、+45°回転させた場合、第1位相差領域(未露光部)の遅相軸と鋭敏色板の遅相軸が平行になっているため、位相差は530nmよりも大きくなり、その色は青色(白黒図面では濃淡の濃い部分)に変化している。一方、第2位相差領域(露光部)の遅相軸は鋭敏色板の遅相軸と直交しているため、位相差は530nmよりも小さくなり、その色は白色(白黒図面では濃淡の淡い部分)に変化する。表1に、光学異方性層の遅相軸とパターン配向膜の露光方向の方向との関係を示す。表1に示す結果から、棒状液晶性化合物をパターン配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第1の位相差領域と第2の位相差領域を有するパターン光学異方性層が得られることが理解できる。
(Evaluation of patterned optical anisotropic layer)
After peeling off the produced patterned optically anisotropic layer from the transparent support A, two polarizing plates in which the slow axis of either the first retardation region or the second retardation region is combined in an orthogonal position Between the polarizing plates so as to be parallel to any one of the polarizing axes, and further, a sensitive color plate having a phase difference of 530 nm, so that the slow axis forms an angle of 45 ° with the polarizing axis of the polarizing plate, It was placed on the optically anisotropic layer. Next, the state in which the optically anisotropic layer was rotated by + 45 ° was observed with a polarizing microscope (NECON ECLIPIE E600W POL). As is apparent from the observation results shown in FIG. 7, when rotated by + 45 °, the slow axis of the first phase difference region (unexposed portion) and the slow axis of the sensitive color plate are parallel. The phase difference is larger than 530 nm, and the color is changed to blue (the dark and light part in the black and white drawing). On the other hand, since the slow axis of the second phase difference region (exposure portion) is orthogonal to the slow axis of the sensitive color plate, the phase difference is smaller than 530 nm, and the color is white (light and shade in the black and white drawing). Part). Table 1 shows the relationship between the slow axis of the optically anisotropic layer and the direction of the exposure direction of the pattern alignment film. From the results shown in Table 1, the first phase difference region and the second phase difference region in which the rod-like liquid crystalline compound is aligned on the pattern alignment film and exposed to be horizontally aligned and the slow axes are orthogonal to each other. It can be understood that a patterned optical anisotropic layer having the following can be obtained.

次に、KOBRA−21ADH(王子計測器(株)製)を用いて前記方法に従って、棒状液晶性化合物の配向状態、遅相軸の方向、及びRe、Rthをそれぞれ測定した。結果を表1に示す。下記表中、水平とは、棒状液晶性化合物の長軸方向が、フィルム面に平行な方向に0°〜20°であることを表す。   Next, using KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), the orientation state of the rod-like liquid crystalline compound, the direction of the slow axis, and Re and Rth were measured, respectively. The results are shown in Table 1. In the following table, “horizontal” means that the major axis direction of the rod-like liquid crystal compound is 0 ° to 20 ° in a direction parallel to the film surface.

<機能層Aの作製>
<<反射防止膜の作製>>
[ハードコート層用塗布液の調製]
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン900質量部に対して、シクロヘキサノン100質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製)750質量部、シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製)200質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)50質量部、を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
<Production of functional layer A>
<< Preparation of antireflection film >>
[Preparation of coating solution for hard coat layer]
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution.
To 900 parts by mass of methyl ethyl ketone, 100 parts by mass of cyclohexanone, 750 parts by mass of partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) 200 parts by mass and 50 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer.

[中屈折率層用塗布液Aの調製]
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(デソライトZ7404[屈折率1.72、固形分濃度:60質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、溶剤組成:メチルイソブチルケトン/メチルエチルケトン=9/1、JSR(株)製])5.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)1.5質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、メチルエチルケトン66.6質量部、メチルイソブチルケトン7.7質量部及びシクロヘキサノン19.1質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Aを調製した。
[Preparation of coating liquid A for medium refractive index layer]
Hard coating agent containing ZrO 2 fine particles (Desolite Z7404 [refractive index 1.72, solid content concentration: 60% by mass, zirconium oxide fine particle content: 70% by mass (solid content), average particle size of zirconium oxide fine particles: about 20 nm, Solvent composition: methyl isobutyl ketone / methyl ethyl ketone = 9/1, manufactured by JSR Corporation]) 5.1 parts by mass, mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 1.5 parts by mass, light A polymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.05 parts by mass, methyl ethyl ketone 66.6 parts by mass, methyl isobutyl ketone 7.7 parts by mass and cyclohexanone 19.1 parts by mass were added and stirred. did. After sufficiently stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution A for medium refractive index layer.

[中屈折率層用塗布液Bの調製]
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)4.5質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.14質量部、メチルエチルケトン66.5質量部、メチルイソブチルケトン9.5質量部及びシクロヘキサノン19.0質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Bを調製した。
[Preparation of coating liquid B for medium refractive index layer]
Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 4.5 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.14 parts by mass, methyl ethyl ketone 66.5 Part by mass, 9.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 19.0 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, it was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution B for medium refractive index layer.

屈折率1.36、膜厚90μmとなるように、中屈折率用塗布液Aと中屈折率用塗布液Bとを適量混合し、中屈折率塗布液を調製した。   A medium refractive index coating solution was prepared by mixing an appropriate amount of medium refractive index coating solution A and medium refractive index coating solution B so that the refractive index was 1.36 and the film thickness was 90 μm.

[高屈折率層用塗布液の調製]
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(デソライトZ7404[屈折率1.72、固形分濃度:60質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、光重合開始剤含有、溶剤組成:メチルイソブチルケトン/メチルエチルケトン=9/1、JSR(株)製])14.4質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)0.75質量部、メチルエチルケトン62.0質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して高屈折率層用塗布液Cを調製した。
[Preparation of coating solution for high refractive index layer]
Hard coating agent containing ZrO 2 fine particles (Desolite Z7404 [refractive index 1.72, solid content concentration: 60% by mass, zirconium oxide fine particle content: 70% by mass (solid content), average particle size of zirconium oxide fine particles: about 20 nm, Photopolymerization initiator contained, solvent composition: methyl isobutyl ketone / methyl ethyl ketone = 9/1, manufactured by JSR Corporation]) 14.4 parts by mass, mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 0 .75 parts by mass, 62.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, 3.4 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and 1.1 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution C for a high refractive index layer.

[低屈折率層用塗布液の調製]
(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)
[Preparation of coating solution for low refractive index layer]
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer (1))

Figure 2014006421
Figure 2014006421

内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は、0.53MPa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.422、質量平均分子量は50000であった。 Into an autoclave with a stirrer made of stainless steel having an internal volume of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Further, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 MPa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of perfluoroolefin copolymer (1). The obtained polymer had a refractive index of 1.422 and a mass average molecular weight of 50,000.

[中空シリカ粒子分散液Aの調製]
中空シリカ粒子微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シエル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.51質量部加え混合した後に、イオン交換水9質量部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力30Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度18.2質量%の分散液Aを得た。得られた分散液AのIPA残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5質量%以下であった。
[Preparation of Hollow Silica Particle Dispersion A]
Hollow silica particle fine particle sol (isopropyl alcohol silica sol, CS60-IPA manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20 mass%, silica particle refractive index 1.31) in 500 parts by mass, After 30 parts by mass of acryloyloxypropyltrimethoxysilane and 1.51 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were added and mixed, 9 parts by mass of ion-exchanged water was added. After making it react at 60 degreeC for 8 hours, it cooled to room temperature and added 1.8 mass parts of acetylacetone, and obtained the dispersion liquid. Then, while adding cyclohexanone so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 30 Torr, and finally a dispersion A having a solid content concentration of 18.2% by mass was obtained by adjusting the concentration. . The amount of IPA remaining in the obtained dispersion A was analyzed by gas chromatography and found to be 0.5% by mass or less.

[低屈折率層用塗布液の調製]
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度5質量%の低屈折率層用塗布液Ln6を作製した。下記各成分の質量%は、塗布液の全固形分に対する、各成分の固形分の比率である。
[Preparation of coating solution for low refractive index layer]
Each component was mixed as described below and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a coating solution Ln6 for a low refractive index layer having a solid content concentration of 5% by mass. The mass% of each component below is the ratio of the solid content of each component to the total solid content of the coating solution.

──────────────────────────────────────
・P−1:パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量%
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物(日本化薬(株)製) 7質量%
・MF1:国際公開第2003/022906号パンフレットの実施例記載の下
記含フッ素不飽和化合物(重量平均分子量1600) 5質量%
・M−1:日本化薬(株)製KAYARAD DPHA 20質量%
・分散液A:前記中空シリカ粒子分散液A(アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度18.2%)50質量%
・Irg127:光重合開始剤イルガキュア127(チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ(株)製) 3質量%
──────────────────────────────────────
──────────────────────────────────────
-P-1: Perfluoroolefin copolymer (1) 15 mass%
DPHA: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 7% by mass
MF1: 5% by mass of the following fluorine-containing unsaturated compound (weight average molecular weight 1600) described in Examples of International Publication No. 2003/022906
-M-1: Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD DPHA 20 mass%
-Dispersion A: Hollow silica particle dispersion A (hollow silica particle sol surface-modified with acryloyloxypropyltrimethoxysilane, solid concentration 18.2%) 50% by mass
・ Irg127: Photopolymerization initiator Irgacure 127 (Ciba Specialty)
Chemicals Co., Ltd.) 3% by mass
──────────────────────────────────────

Figure 2014006421
Figure 2014006421

TD80UL(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=2/40)を機能層用支持体Aとして使用し、機能層用支持体A上に、前記組成のハードコート層用塗布液Aをグラビアコーターを用いて塗布した。なお、TD80ULは、紫外線吸収剤を含んでいる。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ12μmのハードコート層Aを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液Aをグラビアコーターを用いて塗布した。中屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm2、照射量240mJ/cm2の照射量とした。
高屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm2、照射量240mJ/cm2の照射量とした。
低屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。このようにして、機能層Aを作製した。
TD80UL (Re / Rth = 2/40 at 550 nm, manufactured by FUJIFILM Corporation) is used as the functional layer support A, and the hard coat layer coating liquid A having the above composition is coated on the functional layer support A with a gravure coater. Applied. Note that TD80UL contains an ultraviolet absorber. After drying at 100 ° C., an irradiance of 400 mW / cm using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0 vol% or less. 2. The coating layer was cured by irradiating with an irradiation amount of 150 mJ / cm 2 to form a hard coat layer A having a thickness of 12 μm.
Further, a medium refractive index layer coating solution, a high refractive index layer coating solution, and a low refractive index layer coating solution A were applied using a gravure coater. The medium refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. ), And the irradiation dose was 300 mW / cm 2 and the irradiation dose was 240 mJ / cm 2 .
The drying condition of the high refractive index layer is 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition is a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. ), And the irradiation dose was 300 mW / cm 2 and the irradiation dose was 240 mJ / cm 2 .
The low refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. ), And the irradiation amount was 600 mW / cm 2 and the irradiation amount was 600 mJ / cm 2 . Thus, the functional layer A was produced.

<光学フィルムAの作製>
上記作製した機能層AのTD80UL面とパターン光学異方性層Aの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムAを作製した。
<Preparation of optical film A>
The TD80UL surface of the prepared functional layer A and the optically anisotropic layer surface of the patterned optically anisotropic layer A were bonded with an adhesive to prepare an optical film A.

<偏光板Aの作製>
TD80UL(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=2/40)を偏光板A用保護フィルムAとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。1.5規定の水酸化ナトリウム水溶液に55℃で2分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、30℃で0.1規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに100℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ80μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して5倍に延伸し、乾燥して厚さ20μmの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したTD80ULと、同様のアルカリ鹸化処理したVA用位相差フィルム(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=50/125)を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、TD80ULとVA用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Aを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が垂直になるようにした。
<Preparation of polarizing plate A>
TD80UL (Re / Rth = 2/40 at 550 nm, manufactured by FUJIFILM Corporation) was used as a protective film A for polarizing plate A, and this surface was subjected to alkali saponification treatment. It was immersed in a 1.5 N aqueous sodium hydroxide solution at 55 ° C. for 2 minutes, washed in a water bath at room temperature, and neutralized with 0.1 N sulfuric acid at 30 ° C. Again, it was washed in a water bath and further dried with hot air at 100 ° C.
Subsequently, a roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an iodine aqueous solution and dried to obtain a polarizing film having a thickness of 20 μm. Using a 3% aqueous solution of polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-117H) as an adhesive, the alkali saponified TD80UL and the same alkali saponified VA retardation film (Re / Rth = 550/550 nm, manufactured by FUJIFILM Corporation) 125) is sandwiched between the polarizing films so that the saponified surface is on the polarizing film side, and a polarizing plate A in which the TD80UL and the VA retardation film are protective films for the polarizing film is produced. did. At this time, the angle formed by the slow axis of the retardation film and the absorption axis of the polarizing film was made vertical.

<光学フィルムA付偏光板Aの作製>
上記作製した光学フィルムAの透明支持体A面と偏光板AのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムA付偏光板Aを作製した。このときパターン光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate A with optical film A>
The transparent support A surface of the optical film A prepared above and the TD80UL surface of the polarizing plate A were bonded together with an adhesive to prepare a polarizing plate A with an optical film A. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Aの作製>
ナナオ社製FlexScan S2231Wの視認側の偏光板をはがし、上記作製した
光学フィルムA付偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図6(a)の構成の立体表示装置Aを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは、図3と同様である。
<Production of stereoscopic display device A>
The polarizing plate on the viewer side of FlexScan S2231W manufactured by Nanao Co., Ltd. was peeled off, and the VA retardation film of the polarizing plate A with optical film A produced above and the LC cell were bonded together with an adhesive. Subsequently, the polarizing plate on the light source side was peeled off, and the retardation film for VA of the polarizing plate A and the LC cell were bonded together with an adhesive. With this procedure, the stereoscopic display device A having the configuration shown in FIG. The direction of the absorption axis of the polarizing film is the same as in FIG.

(実施例2)
<透明支持体B>
TD80UL(富士フイルム社製)を用意し、透明支持体Bとして使用した。また、TD80ULの膜厚は80μm、面内レターデーションRe(550)は2nm、厚み方向のレターデーションRth(550)は40nmであった。
(Example 2)
<Transparent support B>
TD80UL (manufactured by FUJIFILM Corporation) was prepared and used as the transparent support B. The film thickness of TD80UL was 80 μm, the in-plane retardation Re (550) was 2 nm, and the retardation Rth (550) in the thickness direction was 40 nm.

<パターン光学異方性層Bの作製>
透明支持体Aを上記透明支持体Bに変更した以外は実施例1と同様の操作にてパターン光学異方性層Bの作製を行った。なお、光学異方性層の膜厚は、1.3μmであった。
<Preparation of patterned optical anisotropic layer B>
A patterned optically anisotropic layer B was prepared in the same manner as in Example 1 except that the transparent support A was changed to the transparent support B. The film thickness of the optically anisotropic layer was 1.3 μm.

(光学異方性層Bの評価)
作製した光学異方性層Bを透明支持体Bから剥離した後、実施例1と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表1に、光学異方性層の遅相軸とパターン配向膜のラビング方向との関係を示す。表1に示す結果から、棒状液晶性化合物を、水平配向剤の存在下で、パターン配向膜上で配向させることによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第1位相差領域と第2位相差領域を有するパターン光学異方性層が得られることが理解できる。
(Evaluation of optically anisotropic layer B)
After peeling off the produced optically anisotropic layer B from the transparent support B, the direction of the slow axis of the optically anisotropic layer was determined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the relationship between the slow axis of the optically anisotropic layer and the rubbing direction of the pattern alignment film. From the results shown in Table 1, by aligning the rod-like liquid crystal compound on the pattern alignment film in the presence of the horizontal alignment agent, the first retardation region having the horizontal axis and the slow axis orthogonal to the first phase difference region It can be understood that a patterned optically anisotropic layer having two retardation regions can be obtained.

<光学フィルムBの作製>
パターン光学異方性層BのTD80ULの表面に、実施例1と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムBを作製した。
<Preparation of optical film B>
An antireflection film was formed on the TD80UL surface of the patterned optically anisotropic layer B by the same method as in Example 1 to produce an optical film B.

<光学フィルムB付偏光板Bの作製>
上記作製した光学フィルムBのパターン光学異方性層B面と実施例1で作製した偏光板AのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムB付偏光板Bを作製した。このときパターン光学異方性層Bの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate B with optical film B>
The patterned optically anisotropic layer B surface of the optical film B produced above and the TD80UL surface of the polarizing plate A produced in Example 1 were bonded together with an adhesive to produce a polarizing plate B with an optical film B. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer B and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Bの作製>
ナナオ社製FlexScan S2231Wの視認側の偏光板をはがし、上記作製した
光学フィルムB付偏光板BのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図6(b)の構成の立体表示装置Bを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図3と同様であった。
<Production of stereoscopic display device B>
The polarizing plate on the viewing side of FlexScan S2231W manufactured by Nanao Co., Ltd. was peeled off, and the VA retardation film and LC cell of the polarizing plate B with optical film B produced above were bonded together with an adhesive. Subsequently, the polarizing plate on the light source side was peeled off, and the retardation film for VA of the polarizing plate A and the LC cell were bonded together with an adhesive. The stereoscopic display device B having the configuration shown in FIG. The direction of the absorption axis of the polarizing film was the same as in FIG.

(実施例3)
<透明支持体C>
下記の組成でセルロースアシレート溶液(ドープ)を調整した。
(Example 3)
<Transparent support C>
A cellulose acylate solution (dope) was prepared with the following composition.

――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
メチレンクロライド 435質量部
メタノール 65質量部
セルロースアシレートベンゾエート(CBZ) 100質量部
(アセチル置換度2.45、ベンゾイル置換度0.55、質量平均分子量180000)
二酸化ケイ素微粒子(平均粒径20nm、モース硬度 約7) 0.25質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
Methylene chloride 435 parts by weight Methanol 65 parts by weight Cellulose acylate benzoate (CBZ) 100 parts by weight
(Acetyl substitution degree 2.45, benzoyl substitution degree 0.55, mass average molecular weight 180000)
Silicon dioxide fine particles (average particle size 20nm, Mohs hardness about 7) 0.25 parts by mass ――――――――――――――――――――――――――――――― ―――――――

得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で1分間乾燥後、45℃で5分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は30質量%であった。セルロースアシレートフィルムをバンドから剥離し、100℃で10分間乾燥した後、130℃で20分間乾燥し、透明支持体Cを得た。溶剤残留量は0.1質量%であった。透明支持体Cは紫外線吸収剤を含有しておらず、膜厚は45μmであり、Re(550)は0nmであり、Rth(550)は−75nmであった。   The obtained dope was cast on a film-forming band, dried at room temperature for 1 minute, and then dried at 45 ° C. for 5 minutes. The residual amount of solvent after drying was 30% by mass. The cellulose acylate film was peeled from the band, dried at 100 ° C. for 10 minutes, and then dried at 130 ° C. for 20 minutes to obtain a transparent support C. The residual solvent amount was 0.1% by mass. The transparent support C did not contain an ultraviolet absorber, the film thickness was 45 μm, Re (550) was 0 nm, and Rth (550) was −75 nm.

<パターン光学異方性層Cの作製>
透明支持体Aを上記透明支持体Cに変更し、フィルムの搬送方向に対して0度の角度で1000rpmで1往復ラビング処理を行った以外は実施例1と同様の操作にてパターン光学異方性層Cの作製を行った。なお、光学異方性層の膜厚は、1.3μmであった。
<Preparation of patterned optical anisotropic layer C>
The pattern support is anisotropic in the same manner as in Example 1 except that the transparent support A is changed to the transparent support C and a reciprocating rubbing process is performed at 1000 rpm at an angle of 0 degrees with respect to the film transport direction. The conductive layer C was produced. The film thickness of the optically anisotropic layer was 1.3 μm.

(光学異方性層Cの評価)
作製した光学異方性層Cを透明支持体Cから剥離した後、実施例1と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表1に、光学異方性層の遅相軸とパターン配向膜のラビング方向との関係を示す。表1に示す結果から、棒状液晶性化合物を、水平配向剤の存在下で、パターン配向膜上で配向させることによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第1位相差領域と第2位相差領域を有するパターン光学異方性層が得られることが理解できる。
(Evaluation of optically anisotropic layer C)
After peeling off the produced optically anisotropic layer C from the transparent support C, the direction of the slow axis of the optically anisotropic layer was determined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the relationship between the slow axis of the optically anisotropic layer and the rubbing direction of the pattern alignment film. From the results shown in Table 1, by aligning the rod-like liquid crystal compound on the pattern alignment film in the presence of the horizontal alignment agent, the first retardation region having the horizontal axis and the slow axis orthogonal to the first phase difference region It can be understood that a patterned optically anisotropic layer having two retardation regions can be obtained.

<光学フィルムCの作製>
パターン光学異方性層Cの透明支持体Cの表面に、実施例1と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムCを作製した。
<Preparation of optical film C>
An antireflection film was formed on the surface of the transparent support C of the patterned optically anisotropic layer C by the same method as in Example 1 to produce an optical film C.

<偏光板Cの作製>
TD80UL(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=2/40)を偏光板C用保護フィルムCとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。1.5規定の水酸化ナトリウム水溶液に55℃で2分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、30℃で0.1規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに100℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ80μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して5倍に延伸し、乾燥して厚さ20μmの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したTD80ULの鹸化した面と同様にアルカリ鹸化処理したWV−EA(富士フイルム社製)の支持体面とを、偏光膜の間に挟んで貼り合せ、偏光板Cを作製した。
<Preparation of polarizing plate C>
TD80UL (Re / Rth = 2/40 at 550 nm, manufactured by FUJIFILM Corporation) was used as the protective film C for the polarizing plate C, and this surface was subjected to alkali saponification treatment. It was immersed in a 1.5 N aqueous sodium hydroxide solution at 55 ° C. for 2 minutes, washed in a water bath at room temperature, and neutralized with 0.1 N sulfuric acid at 30 ° C. Again, it was washed in a water bath and further dried with hot air at 100 ° C.
Subsequently, a roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an iodine aqueous solution and dried to obtain a polarizing film having a thickness of 20 μm. Using a 3% aqueous solution of polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-117H) as an adhesive, a support surface of WV-EA (manufactured by FUJIFILM) subjected to alkali saponification in the same manner as the saponified surface of TD80UL subjected to the above alkali saponification treatment, A polarizing plate C was prepared by being sandwiched between polarizing films.

<光学フィルムC付偏光板Cの作製>
上記作製した光学フィルムCのパターン光学異方性層C面と偏光板CのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムC付偏光板Cを作製した。このときパターン光学異方性層Cの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate C with optical film C>
The patterned optically anisotropic layer C surface of the produced optical film C and the TD80UL surface of the polarizing plate C were bonded together with an adhesive to produce a polarizing plate C with an optical film C. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer C and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Cの作製>
円偏光眼鏡方式の3Dモニター(ZALMAN製、TNモード)に使用されているパターン位相差板とフロント偏光板をはがし、上記で作製した偏光板を貼合し、図6(b)の構成の立体表示装置Cを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図2と同様であった。
<Production of stereoscopic display device C>
The pattern retardation plate and the front polarizing plate used in the circular polarized glasses 3D monitor (manufactured by ZALMAN, TN mode) are peeled off, the polarizing plate prepared above is bonded, and the three-dimensional structure shown in FIG. Display device C was produced. The direction of the absorption axis of the polarizing film was the same as in FIG.

(実施例4)
<パターン配向膜付ピュアエース支持体の作製>
Re(550)が138nm、Rth(550)が69nmの帝人化成社製ピュアエースフィルムを使用した。下記パターン配向膜用組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、パターン配向膜用塗布液を作製した。該塗布液をピュアエースの表面に、14番バーで塗布を行い、100℃で1分間乾燥させた。次いで、ストライプマスクを、ストライプが搬送方向と平行に、且、ピュアエースの遅相軸と45°になるように膜上に配置し、空気下にて365nmにおける照度50mW/cm2の空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を2秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第1の位相差領域用配向層を形成した。このとき、透過部のストライプ幅285μm、遮蔽部のストライプ幅285μmのストライプマスクを使用し露光を行った。露光マスク面とパターン配向膜の間の距離は200μmに設定した。マスク露光した後、フィルムの搬送方向に対して45度、及び、ピュアエースの遅相軸と90°になる角度で1000rpmで1往復ラビング処理を行った。なお、パターン配向膜の膜厚は、0.5μmであった。
Example 4
<Preparation of pure ace support with pattern alignment film>
A pure ace film manufactured by Teijin Chemicals Ltd. having Re (550) of 138 nm and Rth (550) of 69 nm was used. After preparing the following pattern alignment film composition, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a pattern alignment film coating solution. The coating solution was applied to the surface of Pure Ace with a No. 14 bar and dried at 100 ° C. for 1 minute. Next, an air-cooled metal halide lamp having an illuminance of 50 mW / cm 2 at 365 nm under air is provided by placing a stripe mask on the film so that the stripe is parallel to the transport direction and 45 ° to the slow axis of Pure Ace. The first retardation layer alignment layer was formed by irradiating ultraviolet rays for 2 seconds using (Igraphics Co., Ltd.) to decompose the photoacid generator and generate an acidic compound. At this time, exposure was performed using a stripe mask having a stripe width of 285 μm at the transmission portion and a stripe width of 285 μm at the shielding portion. The distance between the exposure mask surface and the pattern alignment film was set to 200 μm. After the mask exposure, a reciprocating rubbing process was performed at 1000 rpm at 45 ° with respect to the film transport direction and at an angle of 90 ° with the pure ace slow axis. The film thickness of the pattern alignment film was 0.5 μm.

<パターン配向膜用組成物>
ポリマー材料 2.4質量部
(PVA103、クラレ(株)製ポリビニルアルコール)
光酸発生剤(S−5) 0.11質量部
メタノール 16.7質量部
イソプロパノール 7.4質量部
水 73.4質量部
<Composition for pattern alignment film>
2.4 parts by mass of polymer material (PVA103, Kuraray Co., Ltd. polyvinyl alcohol)
Photoacid generator (S-5) 0.11 parts by weight Methanol 16.7 parts by weight Isopropanol 7.4 parts by weight Water 73.4 parts by weight

Figure 2014006421
Figure 2014006421

<パターン光学異方性層Dの作製>
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。パターン配向膜付透明支持体D上に該塗布液を塗布、膜面温度105℃で2分間乾燥して液晶相状態とした後、75℃まで冷却して、空気下にて160W/cm2の空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン光学異方性層Dの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、2.8μmであった。
<Preparation of patterned optical anisotropic layer D>
After preparing the following composition for optically anisotropic layers, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm and used as a coating solution. The coating solution is applied onto the transparent support D with a pattern alignment film, dried at a film surface temperature of 105 ° C. for 2 minutes to form a liquid crystal phase, cooled to 75 ° C., and 160 W / cm 2 under air. An ultraviolet ray was irradiated using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) to fix the orientation state, and an attempt was made to produce the patterned optical anisotropic layer D. The film thickness of the optically anisotropic layer was 2.8 μm.

──────────────────────────────────────
光学異方性層用組成
──────────────────────────────────────
前記棒状液晶性化合物(LC242、BASF(株)製) 100質量部
垂直配向剤A 0.5質量部
光重合開始剤 3.3質量部
(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製) 1.1質量部
メチルエチルケトン 300質量部
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──────────────────────────────────────
Composition for optically anisotropic layers ──────────────────────────────────────
The rod-like liquid crystalline compound (LC242, manufactured by BASF Corporation) 100 parts by mass vertical alignment agent A 0.5 parts by mass photopolymerization initiator 3.3 parts by mass (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Sensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.1 parts by weight Methyl ethyl ketone 300 parts by weight ───────────────────────── ─────────────

Figure 2014006421
Figure 2014006421

形成されたパターン光学異方性層Dの第1位相差領域(露光部)及び第2位相差領域(未露光部)をそれぞれTOF-SIMS(飛行時間型二次イオン質量分析法、ION−TOF社製TOF−SIMS V)により分析したところ、第1位相差領域と第2位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤S−5の存在比が10対90であり、第1位相差領域ではS−5がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層Dにおいては、第1位相差領域の配向膜界面に垂直配向剤Aのカチオン及びアニオンがほとんど観測されず、第2位相差領域の配向膜界面には、これらのイオンが観測され、未露光部では垂直配向剤Aが配向膜界面近傍に存在していることがわかった。このことから、第2位相差領域(未露光部)では、垂直配向剤Aは配向膜界面に偏在しているが、第1位相差領域(露光部)では偏在性が減少し拡散していること、及び第1位相差領域(露光部)においては、発生した酸CF3SO3Hと垂直配向剤がアニオン交換することによって垂直配向剤Aのカチオンの拡散が促進されていることが理解できる。 The first retardation region (exposed portion) and the second retardation region (unexposed portion) of the formed patterned optically anisotropic layer D were each subjected to TOF-SIMS (time of flight secondary ion mass spectrometry, ION-TOF). When analyzed by TOF-SIMS V), the ratio of the photoacid generator S-5 in the corresponding alignment layer is 10:90 in the first retardation region and the second retardation region, It was found that S-5 was almost decomposed in the phase difference region. In the optically anisotropic layer D, the cations and anions of the vertical alignment agent A are hardly observed at the alignment film interface in the first retardation region, and these ions are present in the alignment film interface in the second retardation region. Was observed, and it was found that the vertical alignment agent A was present in the vicinity of the alignment film interface in the unexposed area. From this, in the second retardation region (unexposed portion), the vertical alignment agent A is unevenly distributed at the alignment film interface, but in the first retardation region (exposed portion), the uneven distribution is reduced and diffused. In addition, in the first retardation region (exposed portion), it can be understood that diffusion of cations of the vertical alignment agent A is promoted by anion exchange between the generated acid CF 3 SO 3 H and the vertical alignment agent. .

(光学異方性層の評価)
次に、KOBRA−21ADH(王子計測器(株)製)を用いて前記方法に従って、棒状液晶性化合物の配向状態、遅相軸の方向、及びRe、Rthをそれぞれ測定した。結果を表1に示す。下記表中、水平とは、棒状液晶性化合物の長軸方向が、フィルム面に平行な方向に0°〜20°であることを表し、垂直とは70°〜90°であることを表す。
(Evaluation of optically anisotropic layer)
Next, using KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), the orientation state of the rod-like liquid crystalline compound, the direction of the slow axis, and Re and Rth were measured, respectively. The results are shown in Table 1. In the following table, horizontal means that the major axis direction of the rod-like liquid crystalline compound is 0 ° to 20 ° in a direction parallel to the film surface, and vertical means 70 ° to 90 °.

表1に示す結果から、棒状液晶性化合物を、垂直配向剤の存在下でパターン配向膜上で配向させることによって、第1位相差領域(露光部)では棒状液晶性化合物が水平配向し第2位相差領域(未露光部)では棒状液晶性化合物が垂直配向したパターン光学異方性層が得られることが理解できる。   From the results shown in Table 1, by aligning the rod-like liquid crystalline compound on the pattern alignment film in the presence of the vertical alignment agent, the rod-like liquid crystalline compound is horizontally aligned in the first retardation region (exposed portion). It can be understood that a patterned optically anisotropic layer in which rod-like liquid crystalline compounds are vertically aligned is obtained in the retardation region (unexposed portion).

<機能層Dの作製>
実施例3で作製した透明支持体Cを機能層用支持体Dとして使用し、機能層用支持体D上に、実施例1と同様な方法にて機能層Dを作製した。
<Production of functional layer D>
The transparent support C produced in Example 3 was used as the functional layer support D, and the functional layer D was produced on the functional layer support D in the same manner as in Example 1.

<光学フィルムDの作製>
上記作製した機能層Dの透明支持体Dとパターン光学異方性層Dの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムDを作製した。
<Preparation of optical film D>
The transparent support D of the produced functional layer D and the optically anisotropic layer surface of the patterned optically anisotropic layer D were bonded with an adhesive to produce an optical film D.

<偏光板Dの作製>
TD80UL(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=2/40)を偏光板D用保護フィルムDとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。1.5規定の水酸化ナトリウム水溶液に55℃で2分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、30℃で0.1規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに100℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ80μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して5倍に延伸し、乾燥して厚さ20μmの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したTD80ULと、同様のアルカリ鹸化処理したVA用位相差フィルム(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=50/125)を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、TD80ULとVA用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Dを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が垂直になるようにした。
<Preparation of polarizing plate D>
TD80UL (Re / Rth = 2/40 at 550 nm, manufactured by FUJIFILM Corporation) was used as the protective film D for the polarizing plate D, and this surface was subjected to alkali saponification treatment. It was immersed in a 1.5 N aqueous sodium hydroxide solution at 55 ° C. for 2 minutes, washed in a water bath at room temperature, and neutralized with 0.1 N sulfuric acid at 30 ° C. Again, it was washed in a water bath and further dried with hot air at 100 ° C.
Subsequently, a roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an iodine aqueous solution and dried to obtain a polarizing film having a thickness of 20 μm. Using a 3% aqueous solution of polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-117H) as an adhesive, the above alkali saponified TD80UL and the same alkali saponified VA retardation film (Re / Rth = 550/550 nm, manufactured by FUJIFILM Corporation) 125) is sandwiched between the polarizing films so that these saponified surfaces are on the polarizing film side, and a polarizing plate D in which the TD80UL and the VA retardation film serve as a protective film for the polarizing film is produced. did. At this time, the angle formed by the slow axis of the retardation film and the absorption axis of the polarizing film was made vertical.

<光学フィルムD付偏光板Dの作製>
上記作製した光学フィルムDのピュアエース支持体面と偏光板DのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムD付偏光板Dを作製した。このときパターン光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate D with optical film D>
The pure ace support surface of the produced optical film D and the TD80UL surface of the polarizing plate D were bonded together with an adhesive to produce a polarizing plate D with an optical film D. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Dの作製>
ナナオ社製FlexScan S2231Wの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムD付偏光板DのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板DのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図6(a)の構成の立体表示装置Dを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは、図3と同様である。
<Production of stereoscopic display device D>
The polarizing plate on the viewer side of FlexScan S2231W manufactured by Nanao Co., Ltd. was peeled off, and the VA retardation film of the polarizing plate D with optical film D produced above and the LC cell were bonded together with an adhesive. Subsequently, the polarizing plate on the light source side was peeled off, and the VA retardation film of the polarizing plate D and the LC cell were bonded together with an adhesive. The stereoscopic display device D having the configuration shown in FIG. The direction of the absorption axis of the polarizing film is the same as in FIG.

(実施例5)
<ハードコート層用塗布液Eの調製>
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液Eとした。
メチルエチルケトン900質量部に対して、シクロヘキサノン100質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製)750質量部、シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製)200質量部、光重合開始剤(イルガキュア819、チバ・ジャパン(株)製)50質量部、下記のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(TINUVIN 384−2、チバ・ジャパン(株)製)100質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液Eを調製した。
(Example 5)
<Preparation of coating liquid E for hard coat layer>
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution E.
To 900 parts by mass of methyl ethyl ketone, 100 parts by mass of cyclohexanone, 750 parts by mass of partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), silica sol (MIBK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) 200 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 819, manufactured by Ciba Japan), 100 parts by mass of the following benzotriazole ultraviolet absorber (TINUVIN 384-2, manufactured by Ciba Japan) Was added and stirred. A coating solution E for hard coat layer was prepared by filtering through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm.

Figure 2014006421
Figure 2014006421

<低屈折率層用塗布液Eの調製>
各成分を下記のように混合し、MEK(メチルエチルケトン)に溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液を作製した。
低屈折率層塗布液Eの組成
下記のパーフルオロオレフィン共重合体 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 7質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製)
5質量部
下記の含フッ素重合性化合物 20質量部
中空シリカ粒子分散液A(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・ジャパン(株)製) 3質量部
<Preparation of coating liquid E for low refractive index layer>
Each component was mixed as follows and dissolved in MEK (methyl ethyl ketone) to prepare a low refractive index layer coating solution having a solid content of 5% by mass.
Composition of low refractive index layer coating solution E 15 parts by mass of the following perfluoroolefin copolymer DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 7 parts by mass Defensa MCF- 323 (Fluorosurfactant, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
5 parts by mass The following fluorine-containing polymerizable compound 20 parts by mass Hollow silica particle dispersion A (solid content concentration 18.2% by mass) 50 parts by mass Irgacure 127 (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 3 parts by mass Part

Figure 2014006421
Figure 2014006421

Figure 2014006421
Figure 2014006421

<ハードコート層Eの形成>
上記実施例2で作製した光学異方性層Bの光学異方性層面の上に、上記ハードコート層用塗布液Eをグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ12μmのハードコート層Eを形成した。
<Formation of hard coat layer E>
On the optically anisotropic layer surface of the optically anisotropic layer B prepared in Example 2, the hard coat layer coating solution E was applied using a gravure coater. After drying at 100 ° C., an irradiance of 400 mW / cm using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 1.0 vol% or less. 2. The coating layer was cured by irradiating with an ultraviolet ray having an irradiation amount of 150 mJ / cm 2 to form a hard coat layer E having a thickness of 12 μm.

<低屈折率層Eの形成>
ハードコート層Eの上に、上記の低屈折率層用塗布液Eをグラビアコーターを用いて塗布した。乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。低屈折率層の屈折率は1.36、膜厚は90nmであった。
以上のようにして、光学異方性層Bの上にハードコート層E及び低屈折率層Eを積層した光学フィルムEを作製した。
<Formation of low refractive index layer E>
On the hard coat layer E, the coating solution E for low refractive index layer was applied using a gravure coater. Drying conditions are 90 ° C., 30 seconds, and UV curing conditions are 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 0.1 vol% or less. The irradiance was 600 mW / cm 2 and the irradiation amount was 600 mJ / cm 2 . The low refractive index layer had a refractive index of 1.36 and a film thickness of 90 nm.
As described above, an optical film E in which the hard coat layer E and the low refractive index layer E were laminated on the optical anisotropic layer B was produced.

<光学フィルムE付偏光板Eの作製>
上記作製した光学フィルムEの透明支持体Bと実施例1で作製した偏光板AのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムE付偏光板Eを作製した。このときパターン光学異方性層Eの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate E with optical film E>
The transparent support B of the produced optical film E and the TD80UL surface of the polarizing plate A produced in Example 1 were bonded together with an adhesive to produce a polarizing plate E with an optical film E. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer E and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Eの作製>
ナナオ社製FlexScan S2231Wの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムE付偏光板EのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図6(d)の構成の立体表示装置Eを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図3と同様であった。
<Production of stereoscopic display device E>
The polarizing plate on the viewing side of FlexScan S2231W manufactured by Nanao Co., Ltd. was peeled off, and the VA retardation film and LC cell of the polarizing plate E with optical film E produced above were bonded together with an adhesive. Subsequently, the polarizing plate on the light source side was peeled off, and the retardation film for VA of the polarizing plate A and the LC cell were bonded together with an adhesive. The stereoscopic display device E having the configuration shown in FIG. The direction of the absorption axis of the polarizing film was the same as in FIG.

(実施例6)
<機能層の作製>
(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3質量部を加え混合したのち、イオン交換水30質量部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Example 6)
<Production of functional layer>
(Preparation of sol solution a)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts by mass of methyl ethyl ketone, 100 parts by mass of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate After adding and mixing, 30 parts by mass of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(防眩層用塗布液Fの調製)
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(PET−30、日本化薬(株)製)31gをメチルイソブチルケトン38gで希釈した。更に、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を1.5g添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤(FP−148)0.04g、シランカップリング剤(KBM−5103、信越化学工業(株)製)を6.2gを加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.520であった。最後に、この溶液にポリトロン分散機にて10000rpmで20分間分散した平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.540)の30%シクロヘキサノン分散液を39.0g加え、完成液とした。前記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Fを調製した。
(Preparation of coating solution F for antiglare layer)
31 g of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (PET-30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was diluted with 38 g of methyl isobutyl ketone. Furthermore, 1.5 g of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added and mixed and stirred. Subsequently, 0.04 g of a fluorine-based surface modifier (FP-148) and 6.2 g of a silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were added. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.520. Finally, 30 of crosslinked poly (acryl-styrene) particles having an average particle diameter of 3.5 μm (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.540) dispersed in this solution for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron disperser. 39.0 g of% cyclohexanone dispersion was added to obtain a finished solution. The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution F for an antiglare layer.

Figure 2014006421
Figure 2014006421

(低屈折率層用塗布液Fの調製)
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)13g、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)1.3g、前記ゾル液a 0.6g、およびメチルエチルケトン5g、シクロヘキサノン0.6gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Fを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
(Preparation of coating solution F for low refractive index layer)
Thermally crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.44 containing polysiloxane and hydroxyl group (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation) 13 g, colloidal silica dispersion MEK-ST-L (trade name, average) Particle size 45 nm, solid content concentration 30%, Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.3 g, the sol solution a 0.6 g, methyl ethyl ketone 5 g and cyclohexanone 0.6 g were added, and after stirring, a polypropylene filter having a pore size of 1 μm And a low refractive index layer coating solution F was prepared. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.45.

(1)防眩層の塗設
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フイルム(株)製、Re/Rth=2/40)をロール形態で巻き出して、特開2007−41495号公報の[0172]に記載の装置構成および塗布条件で示されるダイコート法によって防眩層用塗布液Fを塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性を有する防眩層を形成した。
(1) Coating of anti-glare layer An 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by FUJIFILM Corporation, Re / Rth = 2/40) is unwound in a roll form, and The coating solution F for the antiglare layer is applied by the die coating method shown in the apparatus configuration and application conditions described in [0172] of Japanese Patent No. 41495, dried at 30 ° C. for 15 seconds and 90 ° C. for 20 seconds, and further purged with nitrogen Using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer is cured by irradiating with an ultraviolet ray with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 , and has an antiglare property having a thickness of 6 μm. A glare layer was formed.

(2)低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液Fを塗布して防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Fを特開2007−41495号公報の[0172]に記載の基本条件で塗布し、120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度0.1体積%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量900mJ/cm2の紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、機能層を得た。
(2) Coating of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer coating liquid F and coated with the antiglare layer is unwound again to obtain the low refractive index layer coating liquid F. The coating was applied under the basic conditions described in [2007] of JP 2007-41495, dried at 120 ° C. for 150 seconds, further dried at 140 ° C. for 8 minutes, and then purged with nitrogen to create an oxygen concentration 0.1 volume% atmosphere Using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), an ultraviolet ray with an irradiation amount of 900 mJ / cm 2 is irradiated to form a low refractive index layer with a thickness of 100 nm to obtain a functional layer. It was.

上記実施例1で作製した光学異方性層の表面(パターン光学異方性層が形成されている側の面)と、上記で作製した機能層の裏面(防眩層及び低屈折率層が形成されていない側の面)とを、光学的に等方性の粘着剤(綜研化学株式会社製SK−2057)により貼合した。以上のようにして、光学異方性層Aの上に粘着剤、支持体、防眩層及び低屈折率層を積層した光学フィルムFを作製した。   The surface of the optically anisotropic layer prepared in Example 1 (the surface on which the patterned optically anisotropic layer is formed) and the back surface of the functional layer prepared above (the antiglare layer and the low refractive index layer are The surface not formed) was bonded with an optically isotropic pressure-sensitive adhesive (SK-2057 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.). As described above, an optical film F in which an adhesive, a support, an antiglare layer and a low refractive index layer were laminated on the optically anisotropic layer A was produced.

<偏光板Fの作製>
厚さ80μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して5倍に延伸し、乾燥して厚さ20μmの偏光膜を得た。実施例1と同様の方法にてアルカリ鹸化処理したVA用位相差フィルム(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=50/125)及び光学フィルムFの透明支持体A面を、偏光膜の間に挟んで接着剤で貼り合せ、VA用位相差フィルムと光学フィルムFの透明支持体Aが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Fを作製した。このとき位相差膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate F>
A roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an aqueous iodine solution and dried to obtain a polarizing film having a thickness of 20 μm. A VA retardation film (Re / Rth = 550/125 at 550 nm, manufactured by Fuji Film) and a transparent support A surface of the optical film F subjected to alkali saponification treatment in the same manner as in Example 1 were placed between the polarizing films. A polarizing plate F was produced in which the VA phase difference film and the transparent support A of the optical film F were a protective film for the polarizing film. At this time, the angle formed by the slow axis of the retardation film and the absorption axis of the polarizing film was set to 45 degrees.

<立体表示装置Fの作製>
ナナオ社製FlexScan S2231Wの視認側の偏光板をはがし、上記作製した偏光板FのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板FのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図6(c)の構成の立体表示装置Fを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図3と同様であった。
<Production of stereoscopic display device F>
The polarizing plate on the viewing side of FlexScan S2231W manufactured by Nanao Co., Ltd. was peeled off, and the VA retardation film of the polarizing plate F produced above and the LC cell were bonded together with an adhesive. Subsequently, the polarizing plate on the light source side was peeled off, and the VA retardation film of the polarizing plate F and the LC cell were bonded together with an adhesive. With such a procedure, the stereoscopic display device F having the configuration shown in FIG. The direction of the absorption axis of the polarizing film was the same as in FIG.

(実施例7)
<防眩層付光学異方性層の形成>
上記実施例6の防眩層用塗布液Fを、上記実施例2で作製した光学異方性層Bの透明支持体Bの上に、グラビアコーターを用いて塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性を有する光学異方性層を作製した。
(Example 7)
<Formation of optically anisotropic layer with antiglare layer>
The antiglare layer coating solution F of Example 6 above was applied onto the transparent support B of the optically anisotropic layer B prepared in Example 2 above using a gravure coater, at 30 ° C. for 15 seconds, After drying at 90 ° C. for 20 seconds, the coating layer is cured by irradiating with an ultraviolet ray with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen purge. Thus, an optically anisotropic layer having an antiglare property having a thickness of 6 μm was produced.

<低屈折率層の形成>
上記防眩層付光学異方性層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Fをグラビアコーターを用いて塗布した。乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。低屈折率層の屈折率は1.36、膜厚は90nmであった。
以上のようにして、光学異方性層Bの透明支持体上に防眩層及び低屈折率層を積層した光学フィルムGを作製した。
<Formation of low refractive index layer>
On the optically anisotropic layer with an antiglare layer, the above-mentioned coating liquid F for a low refractive index layer was applied using a gravure coater. Drying conditions are 90 ° C., 30 seconds, and UV curing conditions are 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 0.1 vol% or less. The irradiance was 600 mW / cm 2 and the irradiation amount was 600 mJ / cm 2 . The low refractive index layer had a refractive index of 1.36 and a film thickness of 90 nm.
As described above, an optical film G in which the antiglare layer and the low refractive index layer were laminated on the transparent support of the optically anisotropic layer B was produced.

<光学フィルムG付偏光板Gの作製>
上記作製した光学フィルムGのパターン光学異方性層Bと実施例1で作製した偏光板AのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムG付偏光板Gを作製した。このときパターン光学異方性層Bの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate G with optical film G>
The patterned optically anisotropic layer B of the optical film G produced above and the TD80UL surface of the polarizing plate A produced in Example 1 were bonded together with an adhesive to produce a polarizing plate G with an optical film G. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer B and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Gの作製>
ナナオ社製FlexScan S2231Wの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムG付偏光板GのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図6(b)の構成の立体表示装置Gを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図3と同様であった。
<Production of stereoscopic display device G>
The polarizing plate on the viewing side of FlexScan S2231W manufactured by Nanao Co., Ltd. was peeled off, and the VA retardation film and LC cell of the produced polarizing plate G with optical film G were bonded together with an adhesive. Subsequently, the polarizing plate on the light source side was peeled off, and the retardation film for VA of the polarizing plate A and the LC cell were bonded together with an adhesive. The stereoscopic display device G having the configuration shown in FIG. The direction of the absorption axis of the polarizing film was the same as in FIG.

(比較例1)
<光配向膜付透明支持体Bの作製>
国際公開2010/090429号パンフレットに記載の棒状液晶性化合物及び配向膜を使用して立体表示装置Hを作製した。
実施例2で使用した透明支持体Bの鹸化処理を施した面に、下記構造の光配向材料E−1 1%水溶液を塗布し、100℃で1分間乾燥した。得られた塗布膜に、空気下にて160W/cm2の空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を図8(a)に示すように、方向1にセットして、さらにマスクA(透過部の横ストライプ幅285μm、遮蔽部の横ストライプ幅285μmのストライプマスク)を通して、露光を行った。その後、図8(b)に示すように、ワイヤーグリッド偏光子を方向2にセットして、さらにマスクB(透過部の横ストライプ幅285μm、遮蔽部の横ストライプ幅285μmのストライプマスク)を通して、露光を行った。露光マスク面と光配向膜の間の距離を200μmに設定した。この際用いる紫外線の照度はUV−A領域(波長380nm〜320nmの積算)において100mW/cm2、照射量はUV−A領域において1000mJ/cm2とした。
(Comparative Example 1)
<Preparation of transparent support B with photo-alignment film>
A stereoscopic display device H was produced using the rod-like liquid crystalline compound and alignment film described in International Publication No. 2010/090429 pamphlet.
A 1% aqueous solution of photoalignment material E-1 having the following structure was applied to the surface subjected to saponification treatment of the transparent support B used in Example 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm 2 under air. At this time, as shown in FIG. 8A, a wire grid polarizer (Moxtek, ProFlux PPL02) is set in direction 1, and mask A (transmission part horizontal stripe width 285 μm, shielding part horizontal stripe). Exposure was performed through a stripe mask having a width of 285 μm. Thereafter, as shown in FIG. 8B, a wire grid polarizer is set in direction 2, and exposure is further performed through a mask B (a stripe mask having a lateral stripe width of 285 μm at the transmission portion and a lateral stripe width of 285 μm at the shielding portion). Went. The distance between the exposure mask surface and the photo-alignment film was set to 200 μm. The illuminance of ultraviolet rays used at this time was 100 mW / cm 2 in the UV-A region (integration of wavelengths 380 nm to 320 nm), and the irradiation amount was 1000 mJ / cm 2 in the UV-A region.

Figure 2014006421
Figure 2014006421

<パターン光学異方性層Hの作製>
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。光配向膜付透明支持体A上に該塗布液を塗布、膜面温度105℃で2分間乾燥して液晶相状態とした後、75℃まで冷却して、空気下にて160W/cm2の空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン光学異方性層Gの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、1.3μmであった。
<Preparation of patterned optical anisotropic layer H>
After preparing the following composition for optically anisotropic layers, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm and used as a coating solution. The coating solution is applied onto the transparent support A with a photo-alignment film, dried at a film surface temperature of 105 ° C. for 2 minutes to form a liquid crystal phase, cooled to 75 ° C., and 160 W / cm 2 under air. An attempt was made to fabricate the patterned optically anisotropic layer G by irradiating ultraviolet rays using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) to fix the orientation state. The film thickness of the optically anisotropic layer was 1.3 μm.

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光学異方性層用組成
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棒状液晶性化合物(LC242、BASF(株)製) 100質量部
水平配向剤A 0.3質量部
光重合開始剤 3.3質量部
(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製) 1.1質量部
メチルエチルケトン 300質量部
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Composition for optically anisotropic layers ──────────────────────────────────────
Rod-shaped liquid crystalline compound (LC242, manufactured by BASF Corporation) 100 parts by mass horizontal alignment agent A 0.3 parts by mass photopolymerization initiator 3.3 parts by mass (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
Sensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.1 parts by weight Methyl ethyl ketone 300 parts by weight ───────────────────────── ─────────────

(光学異方性層の評価)
作製した光学異方性層を透明支持体Bから剥離した後、実施例1と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表1に、光学異方性層の遅相軸と配向膜の露光方向の方向との関係を示す。表1に示す結果から、棒状液晶性化合物を光配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第1の位相差領域と第2の位相差領域を有するパターン光学異方性層が得られることが理解できる。
(Evaluation of optically anisotropic layer)
After peeling off the produced optically anisotropic layer from the transparent support B, the direction of the slow axis of the optically anisotropic layer was determined in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the relationship between the slow axis of the optically anisotropic layer and the direction of the exposure direction of the alignment film. From the results shown in Table 1, by aligning and exposing the rod-like liquid crystalline compound on the photo-alignment film, the first retardation region and the second retardation region which are horizontal alignment and whose slow axes are orthogonal to each other are exposed. It can be understood that a patterned optically anisotropic layer having the following can be obtained.

<光学フィルムHの作製>
パターン光学異方性層Hの透明支持体Bの表面に、実施例1で作製した機能層AのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムHを作製した。
<Preparation of optical film H>
The optical film H was produced by bonding the TD80UL surface of the functional layer A produced in Example 1 to the surface of the transparent support B of the patterned optically anisotropic layer H with an adhesive.

<光学フィルムH付偏光板Aの作製>
上記作製した光学フィルムHのパターン光学異方性層H面と実施例1で作製した偏光板AのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムH付偏光板Aを作製した。このときパターン光学異方性層Hの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of polarizing plate A with optical film H>
The patterned optically anisotropic layer H surface of the optical film H produced above and the TD80UL surface of the polarizing plate A produced in Example 1 were bonded together with an adhesive to produce a polarizing plate A with an optical film H. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer H and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Hの作製>
ナナオ社製FlexScan S2231Wの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムH付偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図6(b)の構成の立体表示装置Hを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図3と同様であった。
<Production of stereoscopic display device H>
The polarizing plate on the viewing side of FlexScan S2231W manufactured by Nanao Co., Ltd. was peeled off, and the VA retardation film of the polarizing plate A with optical film H and the LC cell produced above were bonded together with an adhesive. Subsequently, the polarizing plate on the light source side was peeled off, and the retardation film for VA of the polarizing plate A and the LC cell were bonded together with an adhesive. A 3D display device H having the configuration shown in FIG. The direction of the absorption axis of the polarizing film was the same as in FIG.

(比較例2)
<光配向膜付透明支持体Bの作製>
透明支持体Bの、鹸化処理を施した面に、比較例1と同様の方法にて光配向膜付透明支持体Bを作製した。
(Comparative Example 2)
<Preparation of transparent support B with photo-alignment film>
A transparent support B with a photo-alignment film was produced on the surface of the transparent support B subjected to the saponification treatment by the same method as in Comparative Example 1.

<パターン光学異方性層Iの作製>
比較例1と同様の方法にて、透明支持体B上にパターン光学異方性層Iの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、1.3μmであった。
<Preparation of patterned optical anisotropic layer I>
In the same manner as in Comparative Example 1, an attempt was made to produce the patterned optically anisotropic layer I on the transparent support B. The film thickness of the optically anisotropic layer was 1.3 μm.

<光学フィルムIの作製>
実施例1で作製した機能層AのTD80UL面とパターン光学異方性層Iの透明支持体Bを接着剤で貼り合せ、光学フィルムIを作製した。
<Preparation of optical film I>
The TD80UL surface of the functional layer A produced in Example 1 and the transparent support B of the patterned optically anisotropic layer I were bonded with an adhesive to produce an optical film I.

<偏光板Iの作製>
TD80UL(富士フイルム社製 550nmにおけるRe/Rth=2/40)とWV‐EA(富士フイルム社製)を偏光板I用保護フィルムIとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。1.5規定の水酸化ナトリウム水溶液に55℃で2分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、30℃で0.1規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに100℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ80μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して5倍に延伸し、乾燥して厚さ20μmの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したTD80ULと支持体面に前記のアルカリ鹸化処理を施したWV‐EAとを、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、TD80ULとWV‐EAが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Iを作製した。
<Preparation of Polarizing Plate I>
TD80UL (manufactured by FUJIFILM Corporation, Re / Rth at 550 nm = 2/40) and WV-EA (manufactured by FUJIFILM Corporation) were used as the protective film I for polarizing plate I, and the surface was subjected to alkali saponification treatment. It was immersed in a 1.5 N aqueous sodium hydroxide solution at 55 ° C. for 2 minutes, washed in a water bath at room temperature, and neutralized with 0.1 N sulfuric acid at 30 ° C. Again, it was washed in a water bath and further dried with hot air at 100 ° C.
Subsequently, a roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an iodine aqueous solution and dried to obtain a polarizing film having a thickness of 20 μm. Using a 3% aqueous solution of polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-117H) as an adhesive, the alkali saponified TD80UL and the support surface WV-EA subjected to the alkali saponification treatment, these saponified surfaces are polarizing films. The polarizing plate I in which TD80UL and WV-EA are protective films for the polarizing film was prepared by sandwiching them between the polarizing films.

<光学フィルムI付偏光板Iの作製>
上記作製した光学フィルムIのパターン光学異方性層I面と実施例1で作製した偏光板AのTD80UL面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムI付偏光板Iを作製した。このときパターン光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±45度になるようにした。
<Preparation of Polarizing Film I with Optical Film I>
The patterned optically anisotropic layer I surface of the optical film I produced above and the TD80UL surface of the polarizing plate A produced in Example 1 were bonded with an adhesive to produce a polarizing plate I with an optical film I. At this time, the angle formed by the slow axis of the patterned optically anisotropic layer and the absorption axis of the polarizing film was set to ± 45 degrees.

<立体表示装置Iの作製>
円偏光眼鏡方式の3Dモニター(ZALMAN製、TNモード)に使用されているパターン位相差板とフロント偏光板をはがし、上記で作製した偏光板Iを貼合し、図6(a)の構成の立体表示装置Iを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図2と同様であった。
<Production of stereoscopic display device I>
The pattern phase difference plate and front polarizing plate used in the circular polarizing glasses type 3D monitor (manufactured by ZALMAN, TN mode) are peeled off, the polarizing plate I prepared above is bonded, and the structure shown in FIG. A stereoscopic display device I was produced. The direction of the absorption axis of the polarizing film was the same as in FIG.

(実施例8)
実施例1において、棒状液晶(LC242)を例示化合物I−1に変更した以外は実施例1と同様にして光学異方層A1−1を作製し、立体表示装置Jを作製した。また、実施例1と同様にKOBRA−21ADH(王子計測器(株)製)を用いて前記方法に従って、棒状液晶性化合物の配向状態、遅相軸の方向、及びRe、Rthをそれぞれ測定した。結果を表1に示す。
(Example 8)
An optical anisotropic layer A1-1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the rod-like liquid crystal (LC242) was changed to Exemplified Compound I-1 in Example 1, and a stereoscopic display device J was produced. Further, in the same manner as in Example 1, using KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), the orientation state of the rod-like liquid crystalline compound, the direction of the slow axis, and Re and Rth were measured, respectively. The results are shown in Table 1.

(実施例9)
実施例1において、棒状液晶性化合物(LC242)を例示化合物I−8に変更した以外は実施例1と同様にして光学異方層A1−2を作製し、立体表示装置Kを作製した。また、実施例1と同様にKOBRA−21ADH(王子計測器(株)製)を用いて前記方法に従って、棒状液晶性化合物の配向状態、遅相軸の方向、及びRe、Rthをそれぞれ測定した。結果を表1に示す。
Example 9
An optical anisotropic layer A1-2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the rod-like liquid crystal compound (LC242) was changed to Exemplified Compound I-8 in Example 1, and a stereoscopic display device K was produced. Further, in the same manner as in Example 1, using KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), the orientation state of the rod-like liquid crystalline compound, the direction of the slow axis, and Re and Rth were measured, respectively. The results are shown in Table 1.

(実施例10)
実施例1において、ポリビニルシンナメート(シグマアルドリッチ社製)10%メチルエチルケトン・メタノール混合溶液を例示化合物a−3の10%メチルエチルケトン・メタノール混合溶液に変更した以外は実施例1と同様にして光学異方層A1−3を作製し、立体表示装置Lを作製した。また、実施例1と同様にKOBRA−21ADH(王子計測器(株)製)を用いて前記方法に従って、棒状液晶性化合物の配向状態、遅相軸の方向、及びRe、Rthをそれぞれ測定した。結果を表1に示す。下記表中、水平とは、棒状液晶性化合物の長軸方向が、フィルム面に平行な方向に0°〜20°であることを表す。
(Example 10)
In Example 1, optically anisotropic as in Example 1 except that polyvinyl cinnamate (manufactured by Sigma Aldrich) 10% methyl ethyl ketone / methanol mixed solution was changed to 10% methyl ethyl ketone / methanol mixed solution of Exemplified Compound a-3. The layer A1-3 was produced and the stereoscopic display device L was produced. Further, in the same manner as in Example 1, using KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), the orientation state of the rod-like liquid crystalline compound, the direction of the slow axis, and Re and Rth were measured, respectively. The results are shown in Table 1. In the following table, “horizontal” means that the major axis direction of the rod-like liquid crystal compound is 0 ° to 20 ° in a direction parallel to the film surface.

(実施例11)
実施例1において、ポリビニルシンナメート(シグマアルドリッチ社製)10%メチルエチルケトン・メタノール混合溶液を例示化合物a−6の10%メチルエチルケトン・メタノール混合溶液に変更した以外は実施例1と同様にして光学異方層A1−4を作製し、立体表示装置Lを作製した。また、実施例1と同様にKOBRA−21ADH(王子計測器(株)製)を用いて前記方法に従って、棒状液晶性化合物の配向状態、遅相軸の方向、及びRe、Rthをそれぞれ測定した。結果を表1に示す。
(Example 11)
In Example 1, optically anisotropic as in Example 1 except that polyvinyl cinnamate (manufactured by Sigma Aldrich) 10% methyl ethyl ketone / methanol mixed solution was changed to 10% methyl ethyl ketone / methanol mixed solution of Exemplified Compound a-6. Layer A1-4 was produced and the stereoscopic display device L was produced. Further, in the same manner as in Example 1, using KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), the orientation state of the rod-like liquid crystalline compound, the direction of the slow axis, and Re and Rth were measured, respectively. The results are shown in Table 1.

表1に実施例1〜11及び比較例1〜2の光学異方性層の物性値、表2に偏光膜よりも視認側に配置された部材のレターデーションをまとめた。   Table 1 summarizes the physical property values of the optically anisotropic layers of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2, and Table 2 summarizes the retardation of the members arranged on the viewer side of the polarizing film.

Figure 2014006421
Figure 2014006421

Figure 2014006421
Figure 2014006421

(評価)
<立体表示装置の評価>
作製した各立体表示装置について、W220S(Hyundai製)に付属の3Dメガネを用いて以下の評価を行った。なお、基準形態については、VA型液晶表示装置では比較例1の立体表示装置Hとし、TN型液晶表示装置では比較例2の立体表示装置Iとした。結果を表3に示す。
(Evaluation)
<Evaluation of stereoscopic display device>
About each produced stereoscopic display apparatus, the following evaluation was performed using 3D glasses attached to W220S (product made from Hyundai). As for the reference form, the VA liquid crystal display device is the stereoscopic display device H of Comparative Example 1, and the TN liquid crystal display device is the stereoscopic display device I of Comparative Example 2. The results are shown in Table 3.

(1)正面輝度比および正面平均輝度比の測定
上下方向に白と黒が交互に並んだストライプ画像を表示した液晶表示装置の正面に3Dメガネと測定器(BM−5A トプコン製)を配置し、白のストライプが視認できる方のメガネを通した位置に測定器をおいて白表示における正面輝度Aを測定した。続いて、白と黒の位置を入れ替えたストライプ画像を表示し、同様に白のストライプが視認できる方のメガネを通した位置に測定器をおいて正面輝度Bを測定し、正面輝度Aと正面輝度Bの平均値を立体表示装置の正面輝度とした。
(1−a)正面輝度比
正面輝度比は3Dメガネと地面が平行の場合の正面輝度の相対値であり、次の式で算出した。
各立体表示装置の正面輝度比(%)=各立体表示装置の正面輝度/基準形態の正面輝度(1−b)正面平均輝度比
正面平均輝度比は3Dメガネを回転させたときの正面輝度平均値の相対値であり、次の式で算出した。
各立体表示装置の正面平均輝度比(%)
=各立体表示装置の正面輝度平均値/基準形態の正面輝度平均値
(1) Measurement of frontal luminance ratio and frontal average luminance ratio 3D glasses and measuring instrument (made by BM-5A Topcon) are placed in front of a liquid crystal display device displaying a stripe image in which white and black are alternately arranged in the vertical direction. The front luminance A in white display was measured by placing a measuring instrument at a position through the glasses on which the white stripe was visible. Subsequently, a stripe image in which the positions of white and black are exchanged is displayed. Similarly, the front luminance B is measured by placing a measuring device at a position through the glasses through which the white stripe can be visually recognized. The average value of the luminance B was used as the front luminance of the stereoscopic display device.
(1-a) Front luminance ratio The front luminance ratio is a relative value of front luminance when 3D glasses and the ground are parallel, and was calculated by the following equation.
Front luminance ratio (%) of each stereoscopic display device = Front luminance of each stereoscopic display device / Front luminance of reference form (1-b) Front average luminance ratio The front average luminance ratio is the average of the front luminance when the 3D glasses are rotated. It is a relative value of the value, and was calculated by the following formula.
Front average brightness ratio of each 3D display device (%)
= Front brightness average value of each 3D display device / Front brightness average value of reference form

(2)耐光性
耐光性試験装置(スーパーキセノンウェザーメーターSX120型(ロングライフキセノンランプ)、スガ試験機(株)製)を用い、放射照度100±25W/m2(波長310nm〜400nm)、試験槽内温度35±5℃、ブラックパネル温度50±5℃、相対湿度65±15%の条件で、JIS K 5600−7−5に準じて耐光性試験25hrを実施した前後に、位相差膜のRe(550)の変化を調べた。変化率が10%以内である場合をA、それより大きい場合をBとした。
(2) Light resistance Light resistance test equipment (super xenon weather meter SX120 type (long life xenon lamp), manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), irradiance 100 ± 25 W / m 2 (wavelength 310 nm to 400 nm), test tank Before and after the light resistance test 25 hr was performed in accordance with JIS K 5600-7-5 under the conditions of an internal temperature of 35 ± 5 ° C., a black panel temperature of 50 ± 5 ° C., and a relative humidity of 65 ± 15%, Re of the retardation film The change of (550) was investigated. The case where the rate of change was within 10% was designated as A, and the case where it was greater than that was designated as B.

Figure 2014006421
Figure 2014006421

上記表から、棒状液晶性化合物を使用した比較例1及び比較例2はフィルタを入れて直線偏光とした紫外線を2度露光する必要があることが分かる。一方、本発明では非偏光の紫外線を一度露光することで、所望のパターン位相差膜が作製することが出来ることは明らかである。このことから本発明はパターン位相差膜作製において、従来の技術に比べ、少ない工程数で同等以上のものが作製できることは明らかである。   From the said table | surface, it turns out that the comparative example 1 and the comparative example 2 which use a rod-shaped liquid crystalline compound need to expose twice the ultraviolet-ray which put the filter and made it linearly polarized light. On the other hand, in the present invention, it is clear that a desired pattern retardation film can be produced by once exposing non-polarized ultraviolet rays. From this, it is apparent that the present invention can produce a pattern retardation film having the same or higher number of steps as compared with the prior art.

10 光学フィルム
12 パターン光学異方性層
14 配向膜
16 透明支持体
18 偏光膜
19 偏光膜保護フィルム
20 機能層
21 透明フィルム
1 液晶セル
2 偏光膜(バックライト側)
3 偏光膜保護フィルム(バックライト側)
4 光学補償膜
12a 第1位相差領域
12b 第2位相差領域
p 吸収軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical film 12 Pattern optical anisotropic layer 14 Orientation film 16 Transparent support 18 Polarizing film 19 Polarizing film protective film 20 Functional layer 21 Transparent film 1 Liquid crystal cell 2 Polarizing film (backlight side)
3 Polarizing film protective film (backlight side)
4 Optical compensation film 12a First retardation region 12b Second retardation region p Absorption axis

Claims (20)

透明支持体と、配向膜と、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、面内において交互に配置されている第1位相差領域及び第2位相差領域を含むパターン光学異方性層と、を含み、
パターン光学異方性層は、エネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を用い、ラビング処理と一部の領域に対しエネルギーを付与する処理により形成されたパターン配向膜上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物を用いて形成されたものである光学フィルム。
A pattern comprising a transparent support, an alignment film, and at least one of in-plane slow axis direction and in-plane retardation that are different from each other and are alternately arranged in the plane. An optically anisotropic layer,
The patterned optically anisotropic layer uses a composition containing at least one compound that reacts by applying energy, and is polymerized on the pattern alignment film formed by rubbing and applying energy to a part of the region. An optical film formed by using a composition containing, as a main component, a rod-like liquid crystalline compound having a functional group.
エネルギーが、非偏光紫外線である、請求項1の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the energy is non-polarized ultraviolet rays. 重合性基を有する棒状液晶性化合物が、水平配向状態に固定されている、請求項1又は2の光学フィルム。 The optical film according to claim 1 or 2, wherein the rod-like liquid crystalline compound having a polymerizable group is fixed in a horizontal alignment state. エネルギーの付与により反応する化合物が、光反応性化合物である、請求項1〜3のいずれか1項の光学フィルム。 The optical film of any one of Claims 1-3 whose compound which reacts by provision of energy is a photoreactive compound. 光反応性化合物が、光酸発生剤である、請求項4の光学フィルム。 The optical film according to claim 4, wherein the photoreactive compound is a photoacid generator. 光反応性化合物が、ポリビニルシンナメートである、請求項4の光学フィルム。 The optical film according to claim 4, wherein the photoreactive compound is polyvinyl cinnamate. 偏光膜をさらに有し、第1及び第2位相差領域の面内遅相軸と、偏光膜の吸収軸とがそれぞれ±45°の角度をなす、請求項1〜6のいずれか1項の光学フィルム。 The polarizing film according to claim 1, further comprising a polarizing film, wherein the in-plane slow axis of the first and second retardation regions and the absorption axis of the polarizing film form an angle of ± 45 °, respectively. Optical film. 偏光膜の一方の面上に配置されている光学異方性層を含む全ての部材の波長550nmの面内レターデーションRe(550)の合計値が、110〜160nmである、請求項7の光学フィルム。 The optical value according to claim 7, wherein the total value of in-plane retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm of all members including the optically anisotropic layer disposed on one surface of the polarizing film is 110 to 160 nm. the film. 透明支持体が、紫外線吸収剤を含有する、請求項1〜8のいずれか1項の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the transparent support contains an ultraviolet absorber. 機能層をさらに有する、請求項1〜9のいずれか1項の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, further comprising a functional layer. 機能層が、紫外線吸収剤を含有する、請求項10の光学フィルム。 The optical film of Claim 10 in which a functional layer contains a ultraviolet absorber. 画像信号に基づいて駆動される表示パネルと、表示パネルの視認側に配置される、請求項1〜11のいずれか1項の光学フィルムとを少なくとも有する3D画像表示装置。 The 3D image display apparatus which has at least the display panel driven based on an image signal, and the optical film of any one of Claims 1-11 arrange | positioned at the visual recognition side of a display panel. 表示パネルが液晶セルを有する、請求項12の3D画像表示装置。 The 3D image display device according to claim 12, wherein the display panel includes a liquid crystal cell. 請求項12または13の3D用画像表示装置と、3D用画像表示装置の視認側に配置される偏光板とを少なくとも備え、偏光板を通じて立体画像を視認させる3D画像表示システム。 A 3D image display system comprising at least the 3D image display device according to claim 12 or 13 and a polarizing plate disposed on a viewing side of the 3D image display device, wherein a stereoscopic image is visually recognized through the polarizing plate. 透明支持体と、配向膜と、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なり、面内において交互に配置されている第1位相差領域及び第2位相差領域を含むパターン光学異方性層と、を含む光学フィルムの製造方法であって、
1)透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種含む組成物を適用し、膜を作成する工程
2)膜を一方向にラビング処理する工程
3)膜の一部の領域にエネルギーを付与する工程
4)膜に対し、ラビング処理およびエネルギー付与を行うことで得られたパターン配向膜上に、重合性基を有する棒状液晶性化合物を主成分とする組成物を適用する工程
5)加熱して面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第1位相差領域及び第2位相差領域を形成する工程
6)エネルギーを付与して重合性基を有する棒状液晶性化合物を固定化する工程
を含む光学フィルムの製造方法。
A pattern comprising a transparent support, an alignment film, and at least one of in-plane slow axis direction and in-plane retardation that are different from each other and are alternately arranged in the plane. An optically anisotropic layer, and a method for producing an optical film comprising:
1) Applying a composition containing at least one compound that reacts upon application of energy on a transparent support to create a film 2) Rubbing the film in one direction 3) Energizing a partial region of the film 4) Step 5) of applying a composition mainly composed of a rod-like liquid crystalline compound having a polymerizable group on the pattern alignment film obtained by rubbing and applying energy to the film. Step 6 of forming a first retardation region and a second retardation region in which at least one of in-plane slow axis direction and in-plane retardation is different from each other by heating 6) rod-like liquid crystal having a polymerizable group by applying energy The manufacturing method of an optical film including the process of fixing a compound.
第1及び第2配向制御領域を含み、
第1及び第2配向制御領域は、面内において交互に配置されており、それぞれ異なる含有量でエネルギーの付与により反応する化合物を含む、パターン配向膜。
Including first and second orientation control regions;
The first and second alignment control regions are alternately arranged in the plane, and each include a compound that reacts by applying energy at different contents, and is a pattern alignment film.
第1及び第2配向制御領域がラビング処理とエネルギーを付与する処理とにより形成されている、請求項16のパターン配向膜。 The pattern alignment film according to claim 16, wherein the first and second alignment control regions are formed by a rubbing process and a process of applying energy. 第1及び第2配向制御領域が、面内において交互に配置されているパターン配向膜の製造方法であって、
1)透明支持体上にエネルギーの付与により反応する化合物を少なくとも一種を含む組成物を適用し、膜を形成する工程
2)膜を一方向にラビング処理する工程
3)膜の一部の領域に対し、エネルギーを付与する工程
を含むパターン配向膜の製造方法。
The first and second alignment control regions are a method of manufacturing a pattern alignment film in which the first and second alignment control regions are alternately arranged in the plane,
1) Applying a composition containing at least one compound that reacts by applying energy on the transparent support to form a film 2) Rubbing the film in one direction 3) Applying to a partial region of the film On the other hand, the manufacturing method of the pattern orientation film including the process of providing energy.
エネルギーが、1回の非偏光紫外線照射である、請求項18のパターン配向膜の製造方法。 The method for producing a pattern alignment film according to claim 18, wherein the energy is one non-polarized ultraviolet irradiation. エネルギーを付与する工程が、膜に対して垂直に非偏光を照射する工程である、請求項18及び19のパターン配向膜の製造方法。 The method for producing a patterned alignment film according to claim 18 or 19, wherein the step of applying energy is a step of irradiating non-polarized light perpendicular to the film.
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