JP2013252981A - Method for producing conductive tin oxide sol - Google Patents

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Tomonari Shinshi
智成 進士
Tadayuki Isaji
忠之 伊左治
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing conductive tin oxide aqueous sol having high transparency.SOLUTION: In a method for producing conductive tin oxide aqueous sol in which tertiary alkyl amine is mixed with tin oxide aqueous sol, and the mixture is subjected to hydrothermal treatment at 100-350°C, the tertiary alkyl amine to be mixed preferably has the molar ratio of 0.05-0.10 with respect to tin atoms in the tin oxide aqueous sol. The tin oxide aqueous sol is preferably tin oxide aqueous sol produced by reacting hydrogen peroxide with metal tin in an aqueous solution of an organic acid, while keeping the molar ratio of the hydrogen peroxide/metal tin in the range of 2-3.

Description

本発明は高い透明性を有し、優れた導電性能を有する導電性酸化スズゾルの製造方法に関するものである。また、優れた導電性能を有する導電性酸化スズゾルに関するものである。   The present invention relates to a method for producing a conductive tin oxide sol having high transparency and excellent conductive performance. The present invention also relates to a conductive tin oxide sol having excellent conductive performance.

導電性を有する酸化スズとしては、アンチモンを含有する酸化スズ、即ちアンチモンドープ導電性酸化スズ(ATO)が知られている。ATOは導電性の点で優れたものであるが、最近はアンチモンの毒性が問題とされており、アンチモンを含まない酸化スズが望まれている。   As tin oxide having conductivity, antimony-containing tin oxide, that is, antimony-doped conductive tin oxide (ATO) is known. ATO is excellent in terms of conductivity, but recently, toxicity of antimony has been a problem, and tin oxide containing no antimony is desired.

また近年、透明性プラスチックの帯電防止のために、基材の透明性を損なわない高透明性の帯電防止被膜が求められている。従って、透明性の高い導電性材料が望まれている。   In recent years, there has been a demand for a highly transparent antistatic coating that does not impair the transparency of the substrate in order to prevent the static plastic from being charged. Therefore, a highly transparent conductive material is desired.

透明性の高い材料を得るためには、湿式による製造法が好ましい。製造工程中に焼成工程が含まれると、焼成時の焼結による粒子成長が原因で粗大粒子が生じやすく、材料の透明性を下げる要因となる。   In order to obtain a highly transparent material, a wet manufacturing method is preferred. If a baking step is included in the manufacturing process, coarse particles are likely to be generated due to particle growth due to sintering at the time of baking, which causes a decrease in the transparency of the material.

これまでに、湿式による導電性酸化スズゾルの製造方法が提案されている。分散安定剤としてアルキルアミンを含有し、水又は水と親水性有機溶媒との混合溶液を媒体とする無色透明酸化スズゾルの製造方法(特許文献1を参照。)が知られているが、酸化スズ粒子を解膠させるためのアルキルアミンのモル数が、酸化スズのモル数の0.15〜0.50倍と多い。アルキルアミンの添加量が多い場合、それが抵抗成分として働くため、導電性の悪化が懸念される。また、この酸化スズゾルを用いて得られた被膜のヘイズが高く、透明性が高い材料とは言いがたい。   So far, a method for producing a conductive tin oxide sol by a wet method has been proposed. A method for producing a colorless and transparent tin oxide sol containing alkylamine as a dispersion stabilizer and using water or a mixed solution of water and a hydrophilic organic solvent as a medium is known (see Patent Document 1). The number of moles of alkylamine for peptizing the particles is as large as 0.15 to 0.50 times the number of moles of tin oxide. When the amount of alkylamine added is large, it acts as a resistance component, so there is a concern about deterioration of conductivity. Further, it is difficult to say that the film obtained using this tin oxide sol has a high haze and a high transparency.

水熱処理による導電性酸化スズゾルの製造方法(特許文献2を参照。)が知られているが、この場合、ドーパントにリンを必要とし、得られた導電性酸化スズゾルを用いて作製された被膜の表面抵抗値が高い。   A method for producing a conductive tin oxide sol by hydrothermal treatment (see Patent Document 2) is known, but in this case, phosphorus is required as a dopant, and a coating made using the obtained conductive tin oxide sol is used. High surface resistance.

2価のスズの水酸化物を水溶液中で酸化させ、2価のスズの一部を2価超4価以下のスズに酸化した酸化スズゾルの製造方法(特許文献3を参照。)が知られているが、この場合ビーズによる粉砕工程が含まれるため、不純物の混入が生じ、酸化スズゾル粉体の体積抵抗が高い。   A method for producing a tin oxide sol in which a divalent tin hydroxide is oxidized in an aqueous solution and a portion of the divalent tin is oxidized to a divalent or higher tetravalent tin (see Patent Document 3) is known. However, in this case, since a pulverization step with beads is included, impurities are mixed, and the volume resistance of the tin oxide sol powder is high.

一方、酸化スズゾルを水熱処理するという観点では、変性された酸化第二スズゾルの製造方法(特許文献4を参照。)が知られており、水熱処理される酸化スズに添加されるアルカリ性物質としてアミンが挙げられているが、具体的には特定されていない。また、得られる酸化スズは五酸化アンチモン等で被覆されるため導電性は発現しない。   On the other hand, from the viewpoint of hydrothermally treating a tin oxide sol, a method for producing a modified stannic oxide sol (see Patent Document 4) is known, and an amine is added as an alkaline substance added to the hydrothermally treated tin oxide. Is not specified. In addition, since the obtained tin oxide is coated with antimony pentoxide or the like, conductivity is not exhibited.

特許第4097925号公報Japanese Patent No. 4097925 特開2008−50253号公報JP 2008-50253 A 特開2011−26172号公報JP 2011-26172 A 特開2006−176392号公報JP 2006-176392 A

本発明の課題は、上述の従来技術の問題点を解決することにあり、高い透明性を有し、優れた導電性能を有する導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法を提供することにあり、また、優れた導電性能を有する導電性酸化スズゾルを提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to provide a method for producing a conductive tin oxide aqueous sol having high transparency and excellent conductive performance. An object of the present invention is to provide a conductive tin oxide sol having excellent conductive performance.

本発明は第1観点として、酸化スズ水性ゾルに3級アルキルアミンを混合し、100〜350℃で水熱処理することを特徴とする導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法、
第2観点として、前記3級アルキルアミンは、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリsec−ブチルアミン、トリtert−ブチルアミン、トリペンチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリイソブチルアミン、トリイソペンチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルプロピルアミン、N,N−ジメチルブチルアミン、N,N−ジメチルペンタン−1−アミン、N,N−ジメチルヘキシルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、N,N−ジエチルプロピルアミン、N,N−ジエチルブチルアミン、N,N−ジエチルヘキシルアミン、N,N−ジイソプロピルメチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジイソプロピルイソブチルアミン、ブチルジイソプロピルアミン、メチルジブチルアミン及びジブチルエチルアミン、N,N−ジブチルヘキシルアミン、N,N−ジヘキシルメチルアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする第1観点に記載の導電性酸化スズゾルの製造方法、
第3観点として、混合される3級アルキルアミンは、酸化スズ水性ゾル中のスズ原子に対するモル比として0.05〜0.10であることを特徴とする第1観点又は第2観点に記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法、
第4観点として、前記酸化スズ水性ゾルは、有機酸の水溶液中において過酸化水素と金属スズとを、過酸化水素/金属スズのモル比を2〜3の範囲に保ちながら反応させて製造される酸化スズ水性ゾルであることを特徴とする第1観点〜第3観点のいずれか1つに記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法、
第5観点として、前記有機酸の水溶液中において過酸化水素と金属スズとを反応させる間、該有機酸の水溶液中の酸化スズ濃度が40質量%以下になるように保持されることを特徴とする第4観点に記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法、
第6観点として、前記有機酸は、少なくともシュウ酸を含有することを特徴とする第4観点又は第5観点に記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法、
第7観点として、空気中80℃で乾燥した後、100kgf/cm2の荷重をかけて作製した圧粉体の体積抵抗値が100〜10000Ω・cmである導電性酸化スズ水性ゾル、
第8観点として、空気中80℃で乾燥した後、100kgf/cm2の荷重をかけて作製した圧粉体の体積抵抗値が100〜10000Ω・cmである導電性酸化スズ有機溶媒ゾル、である。
As a first aspect of the present invention, a method for producing a conductive tin oxide aqueous sol comprising mixing a tertiary alkylamine with a tin oxide aqueous sol and hydrothermally treating at 100 to 350 ° C.,
As a second aspect, the tertiary alkylamine is trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, trisec-butylamine, tritert-butylamine, tripentylamine, triisopropylamine, triisobutylamine, triisopentylamine, N, N-dimethylethylamine, N, N-dimethylpropylamine, N, N-dimethylbutylamine, N, N-dimethylpentan-1-amine, N, N-dimethylhexylamine, N, N-diethylmethylamine, N , N-diethylpropylamine, N, N-diethylbutylamine, N, N-diethylhexylamine, N, N-diisopropylmethylamine, N, N-diisopropylethylamine, N, N-diisopropylisobutylamine, butyldi The conductive oxidation according to the first aspect, characterized in that it is at least one selected from the group consisting of sopropylamine, methyldibutylamine and dibutylethylamine, N, N-dibutylhexylamine, N, N-dihexylmethylamine Production method of tin sol,
As a third aspect, the tertiary alkylamine to be mixed is 0.05 to 0.10 as a molar ratio with respect to tin atoms in the tin oxide aqueous sol, as described in the first aspect or the second aspect. Method for producing conductive tin oxide aqueous sol,
As a fourth aspect, the tin oxide aqueous sol is produced by reacting hydrogen peroxide and metal tin in an aqueous solution of an organic acid while maintaining a molar ratio of hydrogen peroxide / metal tin in the range of 2-3. A method for producing a conductive tin oxide aqueous sol according to any one of the first to third aspects,
As a fifth aspect, during the reaction of hydrogen peroxide and tin metal in the aqueous solution of organic acid, the tin oxide concentration in the aqueous solution of organic acid is maintained at 40% by mass or less. A method for producing a conductive tin oxide aqueous sol according to the fourth aspect,
As a sixth aspect, the organic acid contains at least oxalic acid, and the method for producing a conductive tin oxide aqueous sol according to the fourth aspect or the fifth aspect,
As a seventh aspect, a conductive tin oxide aqueous sol having a volume resistance value of 100 to 10,000 Ω · cm of a green compact produced by applying a load of 100 kgf / cm 2 after drying in air at 80 ° C.,
As an eighth aspect, there is provided a conductive tin oxide organic solvent sol having a volume resistance value of 100 to 10,000 Ω · cm of a green compact produced by drying at 80 ° C. in air and then applying a load of 100 kgf / cm 2. .

本発明の製造方法によれば、高い透明性を有する導電性酸化スズ水性ゾルを得ることができる。   According to the production method of the present invention, a conductive tin oxide aqueous sol having high transparency can be obtained.

本発明により得られる導電性酸化スズ水性ゾルは、酸化スズ水性ゾルに3級アルキルアミンを混合し、100〜350℃の水熱処理することにより電子伝導性が発現される。   The conductive tin oxide aqueous sol obtained by the present invention exhibits electron conductivity by mixing a tertiary alkylamine with the tin oxide aqueous sol and hydrothermally treating at 100 to 350 ° C.

本発明により得られる導電性酸化スズ水性ゾル又は導電性酸化スズ有機溶媒ゾルの圧粉体の体積抵抗値は100〜10000Ω・cmである。該圧粉体の体積抵抗値は次の通り測定される。導電性酸化スズ水性ゾル又は導電性酸化スズ有機溶媒ゾル10.0gを空気中80℃で10時間乾燥後、メノウ乳鉢で粉砕し、その後ナイロンメッシュの篩120M、250Mを順に通して、120M下、250M上の分級粉を作製する。この分級粉約50mgを直径5mmガラス製の円筒型成形機に投入し、分級粉の両面に同じ面積を有する測定端子を密着させ100kgf/cm2の荷重を30秒加え、圧粉体(直径5mm、厚さ0.5mm)の体積抵抗を2端子法によって測定する。測定は、気温25℃、湿度50%の恒温恒湿室で行う。 The volume resistance value of the green compact of the conductive tin oxide aqueous sol or the conductive tin oxide organic solvent sol obtained by the present invention is 100 to 10,000 Ω · cm. The volume resistance value of the green compact is measured as follows. Conductive tin oxide aqueous sol or conductive tin oxide organic solvent sol 10.0 g was dried in air at 80 ° C. for 10 hours and then pulverized in an agate mortar, and then passed through nylon mesh sieves 120M and 250M in order, A classifying powder above 250M is prepared. About 50 mg of this classified powder is put into a cylindrical molding machine made of glass with a diameter of 5 mm, measurement terminals having the same area are brought into close contact with both sides of the classified powder, a load of 100 kgf / cm 2 is applied for 30 seconds, and a green compact (diameter 5 mm) , Thickness resistance of 0.5 mm) is measured by the two-terminal method. The measurement is performed in a constant temperature and humidity chamber with an air temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%.

本発明により得られる導電性酸化スズ水性ゾルの酸化スズ粒子は非常に微細であり、透過型電子顕微鏡で観察される一次粒子径は2〜25nmである。また、本発明により得られる導電性酸化スズ水性ゾルは湿式法で製造するため透明性が高く、ヘイズメーターNDH−5000(日本電色工業社製)を用いて測定される全光線透過率は、酸化スズ濃度3.0質量%において、10mmの光路長で70〜90%である。   The tin oxide particles of the conductive tin oxide aqueous sol obtained by the present invention are very fine, and the primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm. The conductive tin oxide aqueous sol obtained by the present invention is highly transparent because it is produced by a wet method, and the total light transmittance measured using a haze meter NDH-5000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) When the tin oxide concentration is 3.0 mass%, the optical path length is 10 to 70 to 90%.

また、水熱処理後は良く分散された水性ゾルの状態を保持しているので、乾式粉砕、メディアを用いた湿式粉砕、超音波ホモジナイザー分散、圧力ホモジナイザー等の粉砕機器、分散機器を分散のために使用する必要はなく、これら機器からの不純物の混入が生じない。   In addition, since the state of a well-dispersed aqueous sol is maintained after hydrothermal treatment, pulverization equipment such as dry pulverization, wet pulverization using media, ultrasonic homogenizer dispersion, pressure homogenizer, etc. are used for dispersion. There is no need to use it, and impurities from these devices do not occur.

本発明の製造方法によって得られる導電性酸化スズ水性ゾルとバインダーとを混合して得られるコーティング組成物は、基材に塗布することにより高い透明性の導電性被膜を形成することができる。本発明の製造方法によって得られる導電性酸化スズ水性ゾルを用いて得られる導電性被膜は、膜厚3.0μmにおいて全光線透過率が80〜100%である。また、該被膜の表面抵抗値は105〜1010Ω/□であり、優れた帯電防止性能を有する。 The coating composition obtained by mixing the conductive tin oxide aqueous sol obtained by the production method of the present invention and a binder can form a highly transparent conductive film by applying it to a substrate. The conductive coating obtained using the conductive tin oxide aqueous sol obtained by the production method of the present invention has a total light transmittance of 80 to 100% at a thickness of 3.0 μm. The surface resistance value of the coating is 10 5 to 10 10 Ω / □, and has excellent antistatic performance.

本発明において原料として使用される酸化スズ水性ゾルは公知の方法、例えばイオン交換法、解膠法、加水分解法、反応法等により、約2〜50nm程度の一次粒子径を有する酸化スズコロイド粒子のゾルの形態で製造することができる。   The tin oxide aqueous sol used as a raw material in the present invention is a tin oxide colloidal particle having a primary particle size of about 2 to 50 nm by a known method such as an ion exchange method, a peptization method, a hydrolysis method, or a reaction method. It can be produced in the form of a sol.

前記イオン交換法の例としては、スズ酸ナトリウム等のスズ酸塩の水溶液を水素型陽イオン交換樹脂で処理する方法、又は塩化第二スズ、硝酸第二スズ等第二スズ塩の水溶液を水酸基型陰イオン交換樹脂で処理する方法が挙げられる。   Examples of the ion exchange method include a method of treating an aqueous solution of a stannate such as sodium stannate with a hydrogen cation exchange resin, or an aqueous solution of a stannic salt such as stannic chloride and stannic nitrate. The method of processing with a type | mold anion exchange resin is mentioned.

前記解膠法の例としては、第二スズ塩の水溶液を塩基で中和するか、又はスズ酸の水溶液を塩酸で中和させることにより得られる水酸化第二スズゲルを水洗浄した後、酸又は塩基で解膠する方法が挙げられる。   As an example of the peptization method, stannic hydroxide gel obtained by neutralizing an aqueous solution of stannic salt with a base or neutralizing an aqueous solution of stannic acid with hydrochloric acid is washed with water, and then acidified. Or the method of peptizing with a base is mentioned.

前記加水分解法の例としては、スズアルコキシドを加水分解する方法、又は塩基性塩化第二スズ塩を加水分解した後、不要の酸を除去する方法が挙げられる。   Examples of the hydrolysis method include a method of hydrolyzing tin alkoxide or a method of removing unnecessary acid after hydrolyzing a basic stannic chloride salt.

前記反応法の例としては、金属スズ粉末と酸とを反応させる方法が挙げられる。   Examples of the reaction method include a method of reacting metal tin powder with an acid.

本発明において原料として使用される酸化スズ水性ゾルは、有機酸の水溶液中において過酸化水素と金属スズとを過酸化水素/金属スズのモル比を2〜3の範囲に保ちながら反応させて製造される酸化スズ水性ゾルであることが好ましい。   The tin oxide aqueous sol used as a raw material in the present invention is produced by reacting hydrogen peroxide and metal tin in an aqueous solution of an organic acid while keeping the molar ratio of hydrogen peroxide / metal tin in the range of 2-3. The tin oxide aqueous sol is preferable.

用いられる有機酸としては、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、グリコール酸、酢酸、ギ酸等が挙げられる。特にシュウ酸水溶液中において、該水溶液中の酸化スズ濃度が15〜40質量%になるように、過酸化水素/金属スズのモル比が2〜3の範囲に保ちながら過酸化水素水と金属スズとを添加して反応させ、酸化スズコロイド粒子を生成させる方法により作成した酸性の酸化スズ水性ゾルがより好ましい。   Examples of the organic acid used include oxalic acid, citric acid, tartaric acid, lactic acid, malic acid, succinic acid, glycolic acid, acetic acid, formic acid and the like. In particular, in an aqueous oxalic acid solution, a hydrogen peroxide solution and metallic tin while maintaining the molar ratio of hydrogen peroxide / tin metal in the range of 2 to 3 so that the tin oxide concentration in the aqueous solution is 15 to 40% by mass. And an acidic tin oxide aqueous sol prepared by a method in which tin oxide colloidal particles are produced by adding and reacting with each other is more preferable.

前記有機酸水溶液は、少なくともシュウ酸を含有することが好ましい。該有機酸水溶液は、全有機酸の80〜100質量%がシュウ酸であり、残部はギ酸、酢酸等のシュウ酸以外の有機酸を含有することができる。   The aqueous organic acid solution preferably contains at least oxalic acid. In the organic acid aqueous solution, 80 to 100% by mass of the total organic acid is oxalic acid, and the balance can contain an organic acid other than oxalic acid such as formic acid and acetic acid.

前記有機酸水溶液は、有機酸濃度1〜30質量%、好ましくは4〜10質量%の範囲で使用することができる。この方法で得られる酸化スズ水性ゾルは酸性を呈し、pHは3以下である。この方法により得られる酸化スズコロイド粒子は透過型電子顕微鏡で観察される一次粒子径がほぼ20nm以下である。   The organic acid aqueous solution can be used in an organic acid concentration range of 1 to 30% by mass, preferably 4 to 10% by mass. The tin oxide aqueous sol obtained by this method is acidic and has a pH of 3 or less. The tin oxide colloidal particles obtained by this method have a primary particle diameter of about 20 nm or less as observed with a transmission electron microscope.

本発明の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法は、前記酸化スズ水性ゾルに3級アルキルアミンを混合し、アルカリ性酸化スズ水性ゾルにした後、100〜350℃で水熱処理して得られる。   The method for producing a conductive tin oxide aqueous sol of the present invention is obtained by mixing a tertiary alkylamine with the tin oxide aqueous sol to obtain an alkaline tin oxide aqueous sol, and then hydrothermally treating at 100 to 350 ° C.

本発明に用いられる3級アルキルアミンは、一般式(I)によって表される。
NR123 (I)
(式(I)中、R1、R2、R3は各々炭素原子数1〜6のアルキル基を表す。)
前記3級アルキルアミンの具体例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリsec−ブチルアミン、トリtert−ブチルアミン、トリペンチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリイソブチルアミン、トリイソペンチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルプロピルアミン、N,N−ジメチルブチルアミン、N,N−ジメチルペンタン−1−アミン、N,N−ジメチルヘキシルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、N,N−ジエチルプロピルアミン、N,N−ジエチルブチルアミン、N,N−ジエチルヘキシルアミン、N,N−ジイソプロピルメチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジイソプロピルイソブチルアミン、ブチルジイソプロピルアミン、メチルジブチルアミン及びジブチルエチルアミン、N,N−ジブチルヘキシルアミン、N,N−ジヘキシルメチルアミン等が挙げられる。
The tertiary alkylamine used in the present invention is represented by the general formula (I).
NR 1 R 2 R 3 (I)
(In the formula (I), R 1 , R 2 and R 3 each represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
Specific examples of the tertiary alkylamine include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, trisec-butylamine, tritert-butylamine, tripentylamine, triisopropylamine, triisobutylamine, triisopentylamine, N , N-dimethylethylamine, N, N-dimethylpropylamine, N, N-dimethylbutylamine, N, N-dimethylpentan-1-amine, N, N-dimethylhexylamine, N, N-diethylmethylamine, N, N-diethylpropylamine, N, N-diethylbutylamine, N, N-diethylhexylamine, N, N-diisopropylmethylamine, N, N-diisopropylethylamine, N, N-diisopropylisobutylamine, butyldiyl Propylamine, methyl dibutyl amine and dibutyl ethylamine, N, N-jib hexyl amine, N, N-dihexyl-methyl amine.

用いられるアミンが1級アルキルアミン又は2級アルキルアミンでは、同様の水熱処理を行っても、得られる酸化スズ水性ゾルは十分な導電性が得られない。   When the amine used is a primary alkyl amine or a secondary alkyl amine, even if the same hydrothermal treatment is performed, the obtained tin oxide aqueous sol cannot obtain sufficient conductivity.

酸化スズ水性ゾルに混合される3級アルキルアミンの量は、酸化スズ水性ゾル中のスズ原子に対するモル比として0.05〜0.10である。該モル比が0.05未満では、得られる酸化スズ水性ゾルは十分な導電性が得られない。また、該モル比が0.10を超えても得られる酸化スズ水性ゾルの導電性が増大することはなく、反対に得られる酸化スズゾルとバインダー樹脂との相溶性を悪化させる。   The amount of the tertiary alkylamine mixed in the tin oxide aqueous sol is 0.05 to 0.10 as a molar ratio with respect to tin atoms in the tin oxide aqueous sol. When the molar ratio is less than 0.05, the obtained tin oxide aqueous sol cannot obtain sufficient conductivity. Moreover, even if this molar ratio exceeds 0.10, the electroconductivity of the tin oxide aqueous sol obtained does not increase, and conversely, the compatibility between the tin oxide sol obtained and the binder resin is deteriorated.

本発明における水熱処理温度は100℃以上であり、好ましくは220℃以上であり、より好ましくは240以上である。また本発明における水熱処理温度は350℃以下であり、好ましくは320℃以下である。100℃未満で加熱処理された場合、得られる酸化スズ水性ゾルは十分な導電性が得られない。   The hydrothermal treatment temperature in the present invention is 100 ° C. or higher, preferably 220 ° C. or higher, more preferably 240 or higher. Further, the hydrothermal treatment temperature in the present invention is 350 ° C. or lower, preferably 320 ° C. or lower. When the heat treatment is performed at a temperature lower than 100 ° C., the obtained tin oxide aqueous sol cannot obtain sufficient conductivity.

本発明により得られる導電性酸化スズ水性ゾルは、必要に応じて酸及び/又は塩基を添加することによりゾルとして安定化させることができる。添加する酸としては塩酸、硝酸等の無機酸、シュウ酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、グリコール酸、ヒドロアクリル酸、α−オキシ酪酸、グリセリン酸、タルトロン酸等の脂肪族オキシ酸を用いることができる。添加する塩基としてはアンモニア、アルカリ金属水酸化物、エチルアミン、ジエチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルアミン及びベンジルアミン等のアルキルアミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン、グアニジン水酸化物、テトラメチルアンモニウム水酸化物、テトラエチルアンモニウム水酸化物等の第4級アンモニウム水酸化物、炭酸アンモニア、炭酸グアニジン等の炭酸塩の有機塩基を用いることができる。   The conductive tin oxide aqueous sol obtained by the present invention can be stabilized as a sol by adding an acid and / or a base as necessary. Examples of acids to be added include inorganic acids such as hydrochloric acid and nitric acid, oxalic acid, lactic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid, glycolic acid, hydroacrylic acid, α-oxybutyric acid, glyceric acid, and tartronic acid. Can be used. Examples of bases to be added include ammonia, alkali metal hydroxides, alkylamines such as ethylamine, diethylamine, n-propylamine, isopropylamine, diisopropylamine, dipropylamine, n-butylamine, isobutylamine, diisobutylamine, triethylamine and benzylamine. , Alkanolamines such as monoethanolamine and triethanolamine, quaternary ammonium hydroxides such as guanidine hydroxide, tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide, carbonates such as ammonium carbonate and guanidine carbonate Organic bases can be used.

本発明により得られる導電性酸化スズ水性ゾルは、酸基を有する界面活性剤、疎水性アミン化合物又は有機ケイ素化合物によって表面修飾した後、溶媒置換によって有機溶媒に分散させることができる。   The conductive tin oxide aqueous sol obtained by the present invention can be surface-modified with an acid group-containing surfactant, a hydrophobic amine compound or an organosilicon compound and then dispersed in an organic solvent by solvent substitution.

有機溶媒への分散性を高めるためにアニオン系、カチオン系若しくはノニオン系の界面活性剤、又は有機ケイ素化合物を使用することができる。   In order to enhance the dispersibility in an organic solvent, an anionic, cationic or nonionic surfactant or an organosilicon compound can be used.

前記酸基を有する界面活性剤としては、カルボン酸基、スルホン酸基及びリン酸基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する界面活性剤が用いられる。   As the surfactant having an acid group, a surfactant having at least one functional group selected from the group consisting of a carboxylic acid group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group is used.

カルボン酸基を有する界面活性剤としては、例えば、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸カリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオキシプロピレンラウリルエーテル酢酸、ポリオキシプロピレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレントリデシルエーテル酢酸、ヤシ油脂肪酸サルコシントリエタノールアミン、ラウロイルサルコシンアンモニウム等が挙げられる。   Examples of the surfactant having a carboxylic acid group include potassium laurate, potassium myristate, polyoxyethylene lauryl ether acetic acid, polyoxyethylene lauryl ether sodium acetate, polyoxyethyleneoxypropylene lauryl ether acetic acid, and polyoxypropylene lauryl ether. Examples include sodium acetate, polyoxyethylene tridecyl ether acetic acid, coconut oil fatty acid sarcosine triethanolamine, and lauroyl sarcosine ammonium.

スルホン酸基を有する界面活性剤としては、例えば、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンオキシプロピレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシプロピレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンオキシプロピレントリスチリルフェニルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシプロピレントリスチリルフェニルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンオキシプロピレンヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド硫酸アンモニウム、ポリオキシプロピレンヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド硫酸アンモニウム、ジオクチルスルホコハク酸ポリオキシエチレンスルホコハク酸ラウリル二アンモニウム、ジオクチルスルホコハク酸ポリオキシエチレンオキシプロピレンスルホコハク酸ラウリル二アンモニウム、ジオクチルスルホコハク酸ポリオキシプロピレンスルホコハク酸ラウリル二アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルスルホコハク酸ニナトリウム、ポリオキシエチレントリデシルスルホコハク酸ニナトリウム、ポリオキシエチレンミリスチルスルホコハク酸ニナトリウム、ポリオキシエチレンオキシプロピレンスルホコハク酸ラウリル二アンモニウム、ポリオキシプロピレンスルホコハク酸ラウリル二アンモニウム、ヤシ油脂肪酸メチルタウリン酸アンモニウム、モノイソプロピルナフタレンスルホン酸アンモニウム、ジイソプロピルナフタレンスルホン酸アンモニウム、n−ブチルナフタレンスルホン、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸アンモニウム、リグニンスルホン酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the surfactant having a sulfonic acid group include ammonium lauryl sulfate, polyoxyethylene lauryl ether ammonium sulfate, polyoxyethyleneoxypropylene lauryl ether ammonium sulfate, polyoxypropylene lauryl ether ammonium sulfate, polyoxyethylene nonylphenyl ether ammonium sulfate, and polyoxyethylene. Tristyryl phenyl ether ammonium sulfate, polyoxyethyleneoxypropylene tristyryl phenyl ether ammonium sulfate, polyoxypropylene tristyryl phenyl ether ammonium sulfate, polyoxyethylene coconut oil fatty acid monoethanolamide ammonium sulfate, polyoxyethyleneoxypropylene coconut oil fatty acid monoethanolamide ammonium sulfate Polyoxypropylene coconut oil fatty acid monoethanolamide ammonium sulfate, dioxyl sulfosuccinate polyoxyethylene sulfosuccinate lauryl diammonium, dioctyl sulfosuccinate polyoxyethylene oxypropylene sulfosuccinate lauryl diammonium, dioctyl sulfosuccinate polyoxypropylene sulfosuccinate lauryl diammonium Disodium oxyethylene lauryl sulfosuccinate, disodium polyoxyethylene tridecyl sulfosuccinate, disodium polyoxyethylene myristyl sulfosuccinate, diammonium lauryl polyoxyethylene oxypropylene sulfosuccinate, diammonium lauryl polyoxypropylene sulfosuccinate, coconut oil fatty acid Ammonium methyl taurate Ammonium monoisopropyl naphthalenesulfonic acid, ammonium diisopropylnaphthalene sulfonic acid, n- butyl naphthalene sulfonate, ammonium dodecyl diphenyl ether disulfonic acid, ammonium lignin sulfonate, and the like.

リン酸基を有する界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレン基又はフェニル基を有するものが好ましい。例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸、例えばジポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸アンモニウム、ジポリオキシエチレンオキシプロピレンラウリルエーテルリン酸アンモニウム、ジポリオキシプロピレンラウリルエーテルリン酸アンモニウム、ジポリオキシエチレンオレイルエーテルリン酸、ジポリオキシエチレンオキシプロピレンラウリルエーテルリン酸、ジポリオキシプロピレンオレイルエーテルリン酸、ラウリルリン酸アンモニウム、オクチルエ− テルリン酸アンモニウム、セチルエーテルリン酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンオキシプロピレンラウリルエーテルリン酸、ポリオキシプロピレンラウリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテルリン酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオキシプロピレントリスチリルフェニルエーテルリン酸トリエタノールアミン、ポリオキシプロピレントリスチリルフェニルエーテルリン酸トリエタノールアミンが挙げられる。   As the surfactant having a phosphoric acid group, for example, those having a polyoxyethylene group or a phenyl group are preferable. For example, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, such as dipolyoxyethylene lauryl ether ammonium phosphate, dipolyoxyethylene oxypropylene lauryl ether ammonium phosphate, dipolyoxypropylene lauryl ether phosphate Ammonium, dipolyoxyethylene oleyl ether phosphate, dipolyoxyethyleneoxypropylene lauryl ether phosphate, dipolyoxypropylene oleyl ether phosphate, ammonium lauryl phosphate, octyl-ammonium terphosphate, ammonium cetyl ether phosphate, polyoxy Ethylene lauryl ether phosphate, polyoxyethyleneoxypropylene lauryl ether phosphate, polyoxypropylene lauric Examples include ruether phosphoric acid, polyoxyethylene tristyryl phenyl ether triethanolamine, polyoxyethyleneoxypropylene tristyryl phenyl ether triethanolamine, and polyoxypropylene tristyryl phenyl ether triethanolamine.

前記酸基を有する界面活性剤としては、特にリン酸基を有する界面活性剤が好ましく用いられる。リン酸基を有する界面活性剤としては、フォスファノール(登録商標)PE−510、PE−610、LB−400、EC−6103、RE−410、RS−410、RS−610、RS−710等(いずれも東邦化学工業(株)製)、Disperbyk(登録商標)−102、Disperbyk−110、Disperbyk−111、Disperbyk−116、Disperbyk−140、Disperbyk−161、Disperbyk−163、Disperbyk−164、Disperbyk−180等(いずれもビックケミー・ジャパン社製)等の市販されているものを使用できるが、これらに限定されるものではない。   As the surfactant having an acid group, a surfactant having a phosphate group is particularly preferably used. Examples of the surfactant having a phosphate group include Phosphanol (registered trademark) PE-510, PE-610, LB-400, EC-6103, RE-410, RS-410, RS-610, RS-710, and the like. (Both manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.), Disperbyk (registered trademark) -102, Disperbyk-110, Disperbyk-111, Disperbyk-116, Disperbyk-140, Disperbyk-161, Disperbyk-163, Disperbyk-164D, Commercially available products such as 180 etc. (all manufactured by Big Chemie Japan) can be used, but are not limited thereto.

前記疎水性アミン化合物としては、沸点又は分解温度が200℃以上の脂肪族アミン、芳香族アミン若しくはアラルキルアミンが挙げられ、又はエチレンオキサイドの平均付加モル数が1〜60のアミン系界面活性剤が挙げられる。沸点又は分解温度が200℃以上の脂肪族アミン又は芳香族アミンとしては、例えばドデシルアミン、テトラデシルアミン、オクタデシルアミン等の炭素原子数9以上の脂肪族アミン、ジフェニルアミン、ナフチルアミン等が挙げられる。沸点又は分解温度が200℃以上のアラルキルアミンとしては、ジベンジルアミン、トリベンジルアミン、フェニルエチルアミン等が挙げられる。   Examples of the hydrophobic amine compound include aliphatic amines, aromatic amines or aralkyl amines having a boiling point or decomposition temperature of 200 ° C. or higher, or amine surfactants having an average addition mole number of ethylene oxide of 1 to 60. Can be mentioned. Examples of the aliphatic amine or aromatic amine having a boiling point or decomposition temperature of 200 ° C. or higher include aliphatic amines having 9 or more carbon atoms such as dodecylamine, tetradecylamine, and octadecylamine, diphenylamine, and naphthylamine. Examples of the aralkylamine having a boiling point or decomposition temperature of 200 ° C. or higher include dibenzylamine, tribenzylamine, and phenylethylamine.

前記エチレンオキサイドの平均付加モル数が1〜60のアミン系界面活性剤としては、オキシエチレンドデシルアミン、ポリオキシエチレンドデシルアミン、ポリオキシエチレンオクタデシルアミン、ポリオキシエチレン牛脂アルキルアミン、ポリオキシエチレン牛脂アルキルアミン、ポリオキシエチレン牛脂プロピレンジアミン等のアルキルアミン酸化エチレン誘導体等が挙げられる。   Examples of the amine surfactant having an average addition mole number of ethylene oxide of 1 to 60 include oxyethylene dodecylamine, polyoxyethylene dodecylamine, polyoxyethylene octadecylamine, polyoxyethylene beef tallow alkylamine, polyoxyethylene tallow alkyl Examples include amines and alkylamine ethylene oxide derivatives such as polyoxyethylene beef tallow propylene diamine.

前記有機ケイ素化合物としては、例えば以下のA成分及び/又はB成分を含むケイ素化合物が挙げられる。
A成分:一般式(II)
(R4a(R5bSi(OR64-(a+b) (II)
(式(II)中、R4、R5はそれぞれ炭素原子数1〜9のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、ハロゲン基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル基、メルカプト基、メタクリルオキシ基及びシアノ基からなる群より選ばれる有機基を示し、R6は炭素原子数1〜8のアルキル基、アルコキシ基、アシル基及びフェニル基からなる群より選ばれる有機基を示し、a及びbは0又は1の整数である。)で表される有機ケイ素化合物又はその加水分解物。
B成分:一般式(III)
{(OX)3-aSi(R7)}2Y (III)
(式(III)中、R7は炭素原子数1〜5の有機基を示し、Xは炭素原子数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアシル基を示し、Yは炭素原子数2〜20の有機基を示し、aは0又は1の整数である。)で表される有機ケイ素化合物又はその加水分解物。
As said organosilicon compound, the silicon compound containing the following A component and / or B component is mentioned, for example.
Component A: General formula (II)
(R 4 ) a (R 5 ) b Si (OR 6 ) 4- (a + b) (II)
(In the formula (II), R 4 and R 5 are each an alkyl group, alkenyl group, aryl group, acyl group, halogen group, glycidoxy group, epoxy group, amino group, phenyl group, mercapto group having 1 to 9 carbon atoms. An organic group selected from the group consisting of a methacryloxy group and a cyano group, R 6 represents an organic group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group, an acyl group and a phenyl group; a and b are integers of 0 or 1.) or a hydrolyzate thereof.
Component B: General formula (III)
{(OX) 3-a Si (R 7)} 2 Y (III)
(In the formula (III), R 7 represents an organic group having 1 to 5 carbon atoms, X represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Y represents the number of carbon atoms. An organic silicon compound represented by the formula: a represents an organic group of 2 to 20, and a is an integer of 0 or 1.

前記A成分は、上述した一般式(II)で示され、その具体的な有機ケイ素化合物の例は次の通りである:メチルシリケート、エチルシリケート、n−プロピルシリケート、iso−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、テトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセチキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グルシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、αーグリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシトリエチキシシラン、β−グリシドキシトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフェノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β―グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β―グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、α―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β―グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルフェニルメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルフェニルエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ―クロロプロピルトリメトキシシラン、γ―クロロプロピルトリエトキシシラン、γ―クロロプロピルトリアセトキシシラン、3、3、3―トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ―メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β―シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、N―(β―アミノエチル)γ―アミノプロピルトリメトキシシラン、N―(β―アミノエチル)γ―アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ―アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、N―(β―アミノエチル)γ―アミノプロピルトリエトキシシラン、N―(β―アミノエチル)γ―アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ―クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ―クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ―メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ―メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メルカプトメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン等。   The component A is represented by the aforementioned general formula (II), and specific examples of the organosilicon compound are as follows: methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, iso-propyl silicate, n- Butyl silicate, tetraacetoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriamyloxysilane, methyltriphenoxysilane, methyltribenzyloxysilane, Methyltriphenethyloxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxytriethyoxysilane, β-glycidoxytrimethoxy Silane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxy Silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltriphenoxy Silane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxy Silane, δ-glycidoxy Butyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltripropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltributoxysilane , Β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriphenoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltriethoxysilane, δ- (3 , 4-epoxycyclo Xyl) butyltrimethoxysilane, δ- (3,4-epoxycyclohexyl) butyltriethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α -Glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylethyldimethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane , Β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxypropylethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxyp Pyrmethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyl vinylmethoxysilane, γ-glycidoxypropyl vinylethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinylphenylmethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinylphenylethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxy Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltri Methoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ -Mercaptopropyltriethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, Methyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane Γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptomethyldiethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, and the like.

前記B成分は、上述した一般式(III)で示され、その具体的な有機ケイ素化合物の例は次の通りである:メチレンビスメチルジメトキシシラン、エチレンビスエチルジメトキシシラン、プロピレンビスエチルジエトキシシラン、ブチレンビスメチルジエトキシシラン等。   The component B is represented by the above general formula (III), and specific examples of the organosilicon compound are as follows: methylenebismethyldimethoxysilane, ethylenebisethyldimethoxysilane, propylenebisethyldiethoxysilane Butylene bismethyldiethoxysilane and the like.

A成分及び/又はB成分の有機ケイ素化合物は、A成分若しくはB成分を単独で、又はA成分及びB成分を混合して用いることができる。また、A成分を2種類以上用いること、又はB成分を2種類以上用いることも可能である。   The A component and / or the B component organosilicon compound can be used alone or in combination with the A component or the B component. It is also possible to use two or more types of component A or two or more types of component B.

A成分及び/又はB成分の有機ケイ素化合物の加水分解は、A成分及び/又はB成分の有機ケイ素化合物中に、塩酸水溶液、硫酸水溶液、酢酸水溶液等の酸性水溶液を添加し、撹拌することにより行われる。   Hydrolysis of the organosilicon compound of component A and / or component B is carried out by adding an acidic aqueous solution such as an aqueous hydrochloric acid solution, an aqueous sulfuric acid solution or an aqueous acetic acid solution to the organosilicon compound of component A and / or B and stirring. Done.

本発明により得られる導電性酸化スズ水性ゾルは、分散媒である水を有機溶媒に置換することにより、有機溶媒ゾルとすることができる。有機溶媒に置換する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば蒸留置換法、限外濾過法等が挙げられる。   The conductive tin oxide aqueous sol obtained by the present invention can be made into an organic solvent sol by substituting water as a dispersion medium with an organic solvent. As a method for substitution with an organic solvent, known methods can be used, and examples thereof include a distillation substitution method and an ultrafiltration method.

分散媒として用いられる有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、1−プロピルアルコール、2−プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソペンチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル等のエステル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテルエステル類、キシレン、トルエン、ベンゼン等の炭化水素類が挙げられる。   Examples of the organic solvent used as the dispersion medium include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, 1-propyl alcohol, 2-propyl alcohol, and butyl alcohol, ethers such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, and ethers such as propylene glycol monomethyl ether. Alcohols, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isobutyl acetate, isopropyl acetate, isopentyl acetate, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, pentyl acetate, ether esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate, xylene , Hydrocarbons such as toluene and benzene.

(製造例1)
シュウ酸((COOH)2・2H2O)37.5kgを純水383kgに溶解し、これを500Lベッセルにとり、攪拌下で70℃まで加熱し、35質量%過酸化水素水150kgと金属スズ(山石金属社製商品名:AT−SNNO200N)75kgを添加した。過酸化水素水と金属スズの添加は交互に行った。初めに35質量%過酸化水素水10kgを、次いで金属スズ5kgを添加した。反応が終了するのを待って(この間5〜10分)、この操作を繰り返した。過酸化水素水及び金属スズの全量を添加した後、更に35質量%過酸化水素水10kgを追加した。過酸化水素水及び金属スズの添加に要した時間は2.5時間であり、添加終了後、更に95℃で1時間加熱し、反応を終了させた。過酸化水素水と金属スズとのモル比はH22/Snとして2.61であった。得られた酸化スズ水性ゾルは非常に透明性が良好であった。この酸化スズ水性ゾルの収量は630kgで、比重1.154、pH1.51、SnO2として14.7質量%であった。得られたゾルを透過型電子顕微鏡で観察したところ、一次粒子径10〜15nmの球状で、よく分散されたコロイド粒子であった。このゾルは放置によりやや粘度上昇を示したが、室温6ヶ月放置ではゲル化は認められず安定であった。得られたゾル629kgに35質量%過酸化水素水231kg、純水52kgを添加し、SnO2として10質量%、仕込み時のシュウ酸に対してH22/(COOH)2モル比が8.0になるように調整した後、95℃に加熱して5時間熟成を行った。この操作により、含有するシュウ酸を過酸化水素との反応により炭酸ガスと水に分解させた。この操作により得られた酸化スズスラリーを約40℃まで冷却後、白金系触媒(ズードケミー触媒社製商品名:N−220)を約15L充填した触媒塔に通液し、循環して、過剰な過酸化水素の分解処理を行った。通液速度は約30L/min.で行い、5時間循環を行った。更に陰イオン交換樹脂(アンバーライト(登録商標)IRA−410:オルガノ社製)を充填したカラムに通液し、酸性の酸化スズ水性ゾル1545kgを得た。得られた酸性酸化スズ水性ゾルは、SnO2濃度11.4質量%、pH3.97、電導度55μS/cmであった。
(実施例1)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度5.0質量%となるように純水で調整したゾル200gにトリエチルアミン0.33g(スズ原子に対するトリエチルアミンのモル比0.05)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分間撹拌を続けて、3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH10.44、電導度150μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを240℃で5時間、オートクレーブを用いて水熱処理して導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH7.68、電導度715μS/cm、SnO25.0質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法(Malvern社製Zetasizer Nano ZSにて測定)による平均粒子径は21nmであった。また、SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率(ヘイズメーターNDH−5000(日本電色工業社製)を用いて測定)は90.0%であった。また、このゾル10.0gを空気中80℃で10時間乾燥後、メノウ乳鉢で粉砕し、その後ナイロンメッシュの篩120M、250Mを順に通して、120M下、250M上の分級粉を作製した。この分級粉約50mgを直径5mmガラス製の円筒型成形機に投入し、分級粉の両面に同じ面積を有する測定端子を密着させ100kgf/cm2の荷重を30秒加え、圧粉体(直径5mm、厚さ0.5mm)の体積抵抗を2端子法によって測定した。測定は、気温25℃、湿度50%の恒温恒湿室で行った。該圧粉体の体積抵抗値は2900Ω・cmであった。またX線回折分析においてはスズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(実施例2)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度5.0質量%となるように純水で調整したゾル200gにトリプロピルアミン0.48g(スズ原子に対するトリプロピルアミンのモル比0.05)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH10.71、電導度260μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを240℃で5時間、オートクレーブを用いて水熱処理して導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH7.67、電導度675μS/cm、SnO25.0質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次散粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は27nmであった。また、SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は89.0%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は3600Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(実施例3)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度5.0質量%となるように純水で調整したゾル200gにトリブチルアミン0.61g(スズ原子に対するトリブチルアミンのモル比0.05)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH9.26、電導度131μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを240℃で5時間、オートクレーブを用いて水熱処理して導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH7.28、電導度498μS/cm、SnO2として5.0質量%であり、透過型電子顕微鏡で観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は29nmであった。また、SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は87.6%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は3100Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(実施例4)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度8.5質量%となるように純水で調整したゾル10.0kgにトリエチルアミン28.5g(スズ原子に対するトリエチルアミンのモル比0.05)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH11.02、電導度648μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを処理温度310℃、処理圧力20MPa(メガパスカル)で7分間水熱処理することで導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH10.35、電導度454μS/cm、SnO23.0質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は13nmであった。SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は90.2%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は5000Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(実施例5)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度8.5質量%となるように純水で調整したゾル10.0kgにトリエチルアミン42.8g(スズ原子に対するトリエチルアミンのモル比0.075)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH11.29、電導度790μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを処理温度310℃、処理圧力20MPaで7分間水熱処理することで導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH10.91、電導度681μS/cm、SnO23.3質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は14nmであった。SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は90.3%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は1500Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(実施例6)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度8.5質量%となるように純水で調整したゾル10.0kgにトリエチルアミン57.1g(スズ原子に対するトリエチルアミンのモル比0.10)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH11.46、電導度1009μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを処理温度310℃、処理圧力20MPaで7分間水熱処理することで導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH11.10、電導度774μS/cm、SnO23.3質量%、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は13nm、SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は90.3%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は1700Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(実施例7)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度8.5質量%となるように純水で調整したゾル10.0kgにジイソプロピルエチルアミン36.5g(スズ原子に対するジイソプロピルエチルアミンのモル比0.10)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH11.52、電導度1140μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを処理温度310℃、処理圧力20MPaで7分間水熱処理することで導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH10.63、電導度672μS/cm、SnO23.7質量%、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は30nm、SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は87.5%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は6800Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(実施例8)
実施例7で得られたSnO23.7質量%の導電性酸化スズ水性ゾル1891.9g中の水をロータリーエバポレーターを用いて減圧下でメタノールに置換することにより導電性酸化スズメタノールゾル225gを得た。この導電性酸化スズメタノールゾルは、pH(メタノールゾルと水との質量比1:1に混合したものを測定)8.28、電導度42μS/cm、SnO231.2質量%、動的光散乱法による平均粒子径は34nm、SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は87.3%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は6800Ω・cmであった。
(実施例9)
実施例5で得られた導電性酸化スズ水性ゾルをエバポレータを用いてSnO230.5質量%に濃縮したゾル6.6gに、熱硬化性樹脂WB−650−25(センショウ化成(株)製)8.0g、水1.4gを混合し、導電性酸化スズを含む熱硬化性樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物の分散状態は良好であった。これをPETフィルム(125μm)の上面に、No.12(27.4μm)のワイヤーバーを用いて塗布した後、ホットプレートで乾燥し、導電性被膜を有するPETフィルムを得た。この導電性被膜の膜厚は3.0μmであった。ヘイズメーターNDH−5000(日本電色工業社製)を用いて測定される導電性被膜付きPETフィルムの全光透過率(Tt)は98.3%、ヘイズ値は0.0であった。また、表面抵抗率測定装置ハイレスターUP(三菱化学社製)を用いて測定されるこのフィルムの表面抵抗値は温度25℃、湿度50%の条件で6×107Ω/□であった。
(比較例1)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度5.0質量%となるように純水で調整したゾル200gにブチルアミン0.24g(スズ原子に対するブチルアミンのモル比0.05)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け1級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH7.77、電導度149μS/cmであった。この1級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを240℃で5時間、オートクレーブを用いて水熱処理して導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH8.00、電導度356μS/cm、SnO25.0質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は24nmであった。SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は90.3%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は240000Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(比較例2)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度5.0質量%となるように純水で調整したゾル200gにジブチルアミン0.43g(スズ原子に対するジブチルアミンのモル比0.05)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け2級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH10.68、電導度266μS/cmであった。この2級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを240℃で5時間、オートクレーブを用いて水熱処理して導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH9.76、電導度578μS/cm、SnO25.0質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は24nmであった。SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は90.2%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は49000Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(比較例3)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度5.0質量%となるように純水で調整したゾル200gにトリエチルアミン0.27g(スズ原子に対するトリエチルアミンのモル比0.04)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH10.64、電導度214μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを240℃で5時間、オートクレーブを用いて水熱処理して導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH7.38、電導度597μS/cm、SnO25.0質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は22nmであった。SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は90.3%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は36000Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(比較例4)
製造例1で得られた酸性酸化スズ水性ゾルをSnO2濃度5.0質量%となるように純水で調整したゾル200gにトリエチルアミン0.33g(スズ原子に対するトリエチルアミンのモル比0.05)を撹拌下で徐々に添加し、添加終了後30分撹拌を続け3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを調製した。該水性ゾルはpH10.44、電導度150μS/cmであった。この3級アルキルアミン混合アルカリ性酸化スズ水性ゾルを90℃で5時間、オートクレーブを用いて加熱処理して導電性酸化スズ水性ゾルを得た。この導電性酸化スズ水性ゾルは、pH10.52、電導度328μS/cm、SnO25.0質量%であり、透過型電子顕微鏡により観察される一次粒子径は2〜25nm、動的光散乱法による平均粒子径は19nmであった。SnO2濃度3.0質量%において、10mmの光路長による全光線透過率は90.2%であった。また、このゾルの空気中80℃乾燥物の圧粉体の体積抵抗値(実施例1と同様にして測定)は3600000Ω・cmであった。またX線回折分析においては、スズ石(Cussiterite)のピークを示した。
(Production Example 1)
37.5 kg of oxalic acid ((COOH) 2 .2H 2 O) was dissolved in 383 kg of pure water, taken in a 500 L vessel, heated to 70 ° C. with stirring, 150 kg of 35% by mass hydrogen peroxide and metal tin ( 75 kg of Yamaishi Metal Co., Ltd. trade name: AT-SNNO200N) was added. Hydrogen peroxide solution and metallic tin were added alternately. First, 10 kg of 35 mass% hydrogen peroxide water was added, and then 5 kg of metallic tin. This operation was repeated after the reaction was completed (5-10 minutes during this time). After the total amount of hydrogen peroxide solution and metal tin was added, 10 kg of 35 mass% hydrogen peroxide solution was further added. The time required for the addition of the hydrogen peroxide solution and metal tin was 2.5 hours. After the addition was completed, the reaction was completed by further heating at 95 ° C. for 1 hour. The molar ratio of the hydrogen peroxide solution to metallic tin was 2.61 as H 2 O 2 / Sn. The obtained tin oxide aqueous sol had very good transparency. The yield of the tin oxide aqueous sol was 630 kg, the specific gravity was 1.154, the pH was 1.51, and the SnO 2 content was 14.7% by mass. When the obtained sol was observed with a transmission electron microscope, it was a spherical, well-dispersed colloidal particle having a primary particle diameter of 10 to 15 nm. This sol showed a slight increase in viscosity when left standing, but was not stable when left at room temperature for 6 months. To the obtained sol (629 kg), 35 mass% hydrogen peroxide water (231 kg) and pure water (52 kg) were added, SnO 2 was 10 mass%, and the molar ratio of H 2 O 2 / (COOH) 2 to oxalic acid was 8 After adjusting to 0.0, the mixture was heated to 95 ° C. and aged for 5 hours. By this operation, the contained oxalic acid was decomposed into carbon dioxide gas and water by reaction with hydrogen peroxide. After the tin oxide slurry obtained by this operation is cooled to about 40 ° C., it is passed through a catalyst tower packed with about 15 L of a platinum-based catalyst (trade name: N-220, manufactured by Zude Chemie Catalysts Co., Ltd.). Hydrogen oxide was decomposed. The flow rate is about 30 L / min. And circulated for 5 hours. Further, the solution was passed through a column packed with an anion exchange resin (Amberlite (registered trademark) IRA-410: manufactured by Organo Corporation) to obtain 1545 kg of an acidic tin oxide aqueous sol. The obtained acidic tin oxide aqueous sol had a SnO 2 concentration of 11.4% by mass, a pH of 3.97, and an electrical conductivity of 55 μS / cm.
Example 1
0.33 g of triethylamine (molar ratio of triethylamine to tin atom of 0.05) was added to 200 g of the sol prepared with pure water so that the SnO 2 concentration was 5.0% by mass from the acidic tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1. The mixture was gradually added under stirring, and stirring was continued for 30 minutes after completion of the addition to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 10.44 and an electric conductivity of 150 μS / cm. This tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at 240 ° C. for 5 hours using an autoclave to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 7.68, an electric conductivity of 715 μS / cm, and SnO 2 of 5.0% by mass. The primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and the dynamic light scattering method. The average particle size (measured with a Zetasizer Nano ZS manufactured by Malvern) was 21 nm. Further, the SnO 2 concentration of 3.0 mass%, (measured using a haze meter NDH-5000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.)) total light transmittance due to optical path length of 10mm was 90.0%. Further, 10.0 g of this sol was dried in air at 80 ° C. for 10 hours, and then pulverized in an agate mortar, and then passed through nylon mesh sieves 120M and 250M in this order to prepare classified powder on 120M and 250M. About 50 mg of this classified powder is put into a cylindrical molding machine made of glass with a diameter of 5 mm, measurement terminals having the same area are brought into close contact with both sides of the classified powder, a load of 100 kgf / cm 2 is applied for 30 seconds, and a green compact (diameter 5 mm) , Thickness 0.5 mm) was measured by the two-terminal method. The measurement was performed in a constant temperature and humidity chamber with an air temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%. The volume resistance value of the green compact was 2900 Ω · cm. Further, X-ray diffraction analysis showed a peak of cassiterite.
(Example 2)
0.48 g of tripropylamine (molar ratio of tripropylamine to tin atom 0) was added to 200 g of the sol prepared by preparing the acidic tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 with pure water so that the SnO 2 concentration was 5.0% by mass. .05) was gradually added under stirring, and stirring was continued for 30 minutes after completion of the addition to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 10.71 and an electric conductivity of 260 μS / cm. This tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at 240 ° C. for 5 hours using an autoclave to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 7.67, an electric conductivity of 675 μS / cm, and SnO 2 of 5.0% by mass. The primary scattered particle diameter observed by a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and dynamic light scattering. The average particle size according to the method was 27 nm. In addition, when the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance at an optical path length of 10 mm was 89.0%. The volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of the sol dried at 80 ° C. in air was 3600 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Example 3)
The acidic tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 was adjusted to 0.61 g of tributylamine (molar ratio of tributylamine to tin atom of 0.05) with 200 g of sol prepared with pure water so that the SnO 2 concentration was 5.0% by mass. ) Was gradually added with stirring, and stirring was continued for 30 minutes after the addition was completed to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 9.26 and an electric conductivity of 131 μS / cm. This tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at 240 ° C. for 5 hours using an autoclave to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 7.28, an electric conductivity of 498 μS / cm, and SnO 2 of 5.0% by mass. The primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, dynamic light scattering. The average particle size according to the method was 29 nm. Further, the SnO 2 concentration of 3.0 mass%, a total light transmittance due to optical path length of 10mm was 87.6%. The volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of 80 ° C. dried product in the air of this sol was 3100 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
Example 4
The acid tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 was adjusted with pure water so that the SnO 2 concentration was 8.5% by mass to 10.0 kg of triethylamine 28.5 g (molar ratio of triethylamine to tin atom 0.05 ) Was gradually added with stirring, and stirring was continued for 30 minutes after the addition was completed to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 11.02 and an electric conductivity of 648 μS / cm. This tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated for 7 minutes at a processing temperature of 310 ° C. and a processing pressure of 20 MPa (megapascal) to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 10.35, an electrical conductivity of 454 μS / cm, and SnO 2 of 3.0% by mass. The primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and the dynamic light scattering method. The average particle diameter was 13 nm. When the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 90.2%. The volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of 80 ° C. dried product in the air of this sol was 5000 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Example 5)
The acid tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 was adjusted with pure water so that the SnO 2 concentration was 8.5% by mass with 10.0 kg of sol, and 42.8 g of triethylamine (molar ratio of triethylamine to tin atoms was 0.075). ) Was gradually added with stirring, and stirring was continued for 30 minutes after the addition was completed to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 11.29 and an electric conductivity of 790 μS / cm. The tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at a treatment temperature of 310 ° C. and a treatment pressure of 20 MPa for 7 minutes to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 10.91, an electric conductivity of 681 μS / cm, and SnO 2 of 3.3% by mass. The primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and the dynamic light scattering method. The average particle diameter was 14 nm. When the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 90.3%. The volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of 80 ° C. dried product in the air of this sol was 1500 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Example 6)
The acid tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 was adjusted with pure water so that the SnO 2 concentration was 8.5% by mass, and 10.0 kg of triethylamine (molar ratio of triethylamine to tin atoms was 0.10). ) Was gradually added with stirring, and stirring was continued for 30 minutes after the addition was completed to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 11.46 and an electric conductivity of 1009 μS / cm. The tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at a treatment temperature of 310 ° C. and a treatment pressure of 20 MPa for 7 minutes to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 11.10, an electric conductivity of 774 μS / cm, SnO 2 of 3.3% by mass, a primary particle diameter observed by a transmission electron microscope of 2 to 25 nm, and an average by a dynamic light scattering method. When the particle diameter was 13 nm and the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 90.3%. Further, the volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of the sol dried at 80 ° C. in air was 1700 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Example 7)
The acid tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 was adjusted with pure water so that the SnO 2 concentration was 8.5% by mass, and 10.0 kg of diisopropylethylamine (molar ratio of diisopropylethylamine to tin atom was 0). 10) was gradually added under stirring, and stirring was continued for 30 minutes after completion of the addition to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 11.52 and an electric conductivity of 1140 μS / cm. The tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at a treatment temperature of 310 ° C. and a treatment pressure of 20 MPa for 7 minutes to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 10.63, an electric conductivity of 672 μS / cm, SnO 2 of 3.7% by mass, a primary particle diameter observed by a transmission electron microscope of 2 to 25 nm, and an average by a dynamic light scattering method. When the particle diameter was 30 nm and the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 87.5%. The volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of the sol dried at 80 ° C. in air was 6800 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Example 8)
225 g of conductive tin oxide methanol sol was obtained by substituting water in 1891.9 g of SnO 2 3.7 mass% conductive tin oxide aqueous sol obtained in Example 7 with methanol using a rotary evaporator under reduced pressure. Obtained. This conductive tin oxide methanol sol has a pH of 8.28 (measured at a 1: 1 mass ratio of methanol sol and water), conductivity 42 μS / cm, SnO 2 31.2 mass%, dynamic light The average particle diameter by a scattering method was 34 nm, the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, and the total light transmittance at an optical path length of 10 mm was 87.3%. The volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of the sol dried at 80 ° C. in air was 6800 Ω · cm.
Example 9
A thermosetting resin WB-650-25 (manufactured by Sensho Kasei Co., Ltd.) was added to 6.6 g of sol obtained by concentrating the conductive tin oxide aqueous sol obtained in Example 5 to 30.5% by mass of SnO 2 using an evaporator. ) 8.0 g and water 1.4 g were mixed to obtain a thermosetting resin composition containing conductive tin oxide. The dispersion state of the obtained resin composition was good. On the upper surface of the PET film (125 μm), No. After applying using a 12 (27.4 μm) wire bar, it was dried on a hot plate to obtain a PET film having a conductive coating. The film thickness of this conductive film was 3.0 μm. The total light transmittance (Tt) of the PET film with a conductive film measured using a haze meter NDH-5000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) was 98.3%, and the haze value was 0.0. Moreover, the surface resistance value of this film measured using a surface resistivity measuring apparatus Hiresta UP (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was 6 × 10 7 Ω / □ under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%.
(Comparative Example 1)
0.24 g of butylamine (molar ratio of butylamine to tin atom of 0.05) was added to 200 g of the sol prepared by preparing the acidic tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 with pure water so that the SnO 2 concentration was 5.0% by mass. The mixture was gradually added under stirring, and stirring was continued for 30 minutes after completion of the addition to prepare a primary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 7.77 and an electric conductivity of 149 μS / cm. This primary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at 240 ° C. for 5 hours using an autoclave to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 8.00, an electrical conductivity of 356 μS / cm, and SnO 2 of 5.0% by mass. The primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and the dynamic light scattering method. The average particle size by was 24 nm. When the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 90.3%. The volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the compact of 80 ° C. dried product in the air of this sol was 240000 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Comparative Example 2)
Dibutylamine 0.43 g (molar ratio of dibutylamine to tin atom 0.05) was added to 200 g of the sol prepared by preparing the acidic tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 with pure water so that the SnO 2 concentration was 5.0% by mass. ) Was gradually added with stirring, and stirring was continued for 30 minutes after the addition was completed to prepare a secondary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 10.68 and an electric conductivity of 266 μS / cm. This secondary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at 240 ° C. for 5 hours using an autoclave to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 9.76, an electrical conductivity of 578 μS / cm, and SnO 2 of 5.0% by mass. The primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and the dynamic light scattering method. The average particle size by was 24 nm. When the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 90.2%. Further, the volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of 80 ° C. dried product in the air of this sol was 49000 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Comparative Example 3)
0.27 g of triethylamine (0.04 mole ratio of triethylamine to tin atom) was added to 200 g of the sol prepared by preparing the acidic tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1 with pure water so that the SnO 2 concentration was 5.0% by mass. The mixture was gradually added under stirring, and stirring was continued for 30 minutes after completion of the addition to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 10.64 and an electric conductivity of 214 μS / cm. This tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was hydrothermally treated at 240 ° C. for 5 hours using an autoclave to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 7.38, an electric conductivity of 597 μS / cm, and SnO 2 of 5.0% by mass. The primary particle diameter observed with a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and the dynamic light scattering method. The average particle diameter was 22 nm. When the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 90.3%. Further, the volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the green compact of 80 ° C. dried product in the air of this sol was 36000 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.
(Comparative Example 4)
0.33 g of triethylamine (molar ratio of triethylamine to tin atom of 0.05) was added to 200 g of the sol prepared with pure water so that the SnO 2 concentration was 5.0% by mass from the acidic tin oxide aqueous sol obtained in Production Example 1. The mixture was gradually added under stirring, and stirring was continued for 30 minutes after completion of the addition to prepare a tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol. The aqueous sol had a pH of 10.44 and an electric conductivity of 150 μS / cm. This tertiary alkylamine mixed alkaline tin oxide aqueous sol was heated at 90 ° C. for 5 hours using an autoclave to obtain a conductive tin oxide aqueous sol. This conductive tin oxide aqueous sol has a pH of 10.52, an electric conductivity of 328 μS / cm, and SnO 2 of 5.0% by mass. The primary particle diameter observed by a transmission electron microscope is 2 to 25 nm, and the dynamic light scattering method. The average particle diameter was 19 nm. When the SnO 2 concentration was 3.0% by mass, the total light transmittance with an optical path length of 10 mm was 90.2%. Further, the volume resistance value (measured in the same manner as in Example 1) of the compact of 80 ° C. dry product in the air of this sol was 3600000 Ω · cm. In the X-ray diffraction analysis, a peak of cassiterite was shown.

本発明の製造法による酸化スズゾルは高い透明性と導電性を有し、バインダーを混合して得られるコーティング組成物は、基材に塗布することにより高い透明性の導電性被膜を形成することができる。基材が透明性基材の場合、その基材の透明性を損なわずに導電性又は帯電防止性の被膜を有する部材を作製することができる。   The tin oxide sol produced by the production method of the present invention has high transparency and conductivity, and a coating composition obtained by mixing a binder can form a highly transparent conductive film by applying it to a substrate. it can. When the substrate is a transparent substrate, a member having a conductive or antistatic coating can be produced without impairing the transparency of the substrate.

Claims (8)

酸化スズ水性ゾルに3級アルキルアミンを混合し、100〜350℃で水熱処理することを特徴とする導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法。   A method for producing a conductive tin oxide aqueous sol, wherein a tertiary alkylamine is mixed in an aqueous tin oxide sol and hydrothermally treated at 100 to 350 ° C. 前記3級アルキルアミンは、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリsec−ブチルアミン、トリtert−ブチルアミン、トリペンチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリイソブチルアミン、トリイソペンチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルプロピルアミン、N,N−ジメチルブチルアミン、N,N−ジメチルペンタン−1−アミン、N,N−ジメチルヘキシルアミン、N,N−ジエチルメチルアミン、N,N−ジエチルプロピルアミン、N,N−ジエチルブチルアミン、N,N−ジエチルヘキシルアミン、N,N−ジイソプロピルメチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジイソプロピルイソブチルアミン、ブチルジイソプロピルアミン、メチルジブチルアミン及びジブチルエチルアミン、N,N−ジブチルヘキシルアミン、N,N−ジヘキシルメチルアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載の導電性酸化スズゾルの製造方法。   The tertiary alkylamine is trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, trisec-butylamine, tritert-butylamine, tripentylamine, triisopropylamine, triisobutylamine, triisopentylamine, N, N-dimethyl. Ethylamine, N, N-dimethylpropylamine, N, N-dimethylbutylamine, N, N-dimethylpentan-1-amine, N, N-dimethylhexylamine, N, N-diethylmethylamine, N, N-diethylpropyl Amine, N, N-diethylbutylamine, N, N-diethylhexylamine, N, N-diisopropylmethylamine, N, N-diisopropylethylamine, N, N-diisopropylisobutylamine, butyldiisopropylamino 2. The production of a conductive tin oxide sol according to claim 1, wherein the conductive tin oxide sol is at least one member selected from the group consisting of methyldibutylamine and dibutylethylamine, N, N-dibutylhexylamine, and N, N-dihexylmethylamine. Method. 混合される3級アルキルアミンは、酸化スズ水性ゾル中のスズ原子に対するモル比として0.05〜0.10であることを特徴とする請求項1又は2に記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法。   The electrically conductive tin oxide aqueous sol according to claim 1 or 2, wherein the tertiary alkylamine to be mixed is 0.05 to 0.10 as a molar ratio with respect to tin atoms in the tin oxide aqueous sol. Production method. 前記酸化スズ水性ゾルは、有機酸の水溶液中において過酸化水素と金属スズとを、過酸化水素/金属スズのモル比を2〜3の範囲に保ちながら反応させて製造される酸化スズ水性ゾルであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法。   The tin oxide aqueous sol is produced by reacting hydrogen peroxide and metal tin in an aqueous solution of an organic acid while maintaining a hydrogen peroxide / metal tin molar ratio in the range of 2 to 3. The method for producing a conductive tin oxide aqueous sol according to any one of claims 1 to 3, wherein: 前記有機酸の水溶液中において過酸化水素と金属スズとを反応させる間、該有機酸の水溶液中の酸化スズ濃度が40質量%以下になるように保持されることを特徴とする請求項4に記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法。   5. The tin oxide concentration in the organic acid aqueous solution is maintained at 40% by mass or less during the reaction of hydrogen peroxide and tin metal in the organic acid aqueous solution. The manufacturing method of electroconductive tin oxide aqueous sol of description. 前記有機酸は、少なくともシュウ酸を含有することを特徴とする請求項4又は5に記載の導電性酸化スズ水性ゾルの製造方法。   The method for producing a conductive tin oxide aqueous sol according to claim 4 or 5, wherein the organic acid contains at least oxalic acid. 空気中80℃で乾燥した後、100kgf/cm2の荷重をかけて作製した圧粉体の体積抵抗値が100〜10000Ω・cmである導電性酸化スズ水性ゾル。 A conductive tin oxide aqueous sol having a volume resistance of 100 to 10000 Ω · cm of a green compact produced by applying a load of 100 kgf / cm 2 after drying at 80 ° C. in air. 空気中80℃で乾燥した後、100kgf/cm2の荷重をかけて作製した圧粉体の体積抵抗値が100〜10000Ω・cmである導電性酸化スズ有機溶媒ゾル。 A conductive tin oxide organic solvent sol having a volume resistance value of 100 to 10,000 Ω · cm of a green compact produced by applying a load of 100 kgf / cm 2 after drying at 80 ° C. in air.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104445376A (en) * 2014-11-05 2015-03-25 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 Olivary porous stannic oxide sensitive to hydrogen sulfide as well as preparation and application

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