JP2013252678A - Ceramic substrate manufacturing method and ceramic base material - Google Patents

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Masaru Nomura
野村  勝
Keiichiro Watanabe
敬一郎 渡邊
Tsuneaki Ohashi
玄章 大橋
Sugio Miyazawa
杉夫 宮澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the damage of the bottom face of a ceramic base material, and to improve an yield, in the ceramic base material which has a plurality of substrate regions corresponding to a plurality of ceramic substrates, and in which the adjacent substrate regions can be divided.SOLUTION: A ceramic base material has a plurality of substrate regions corresponding to a plurality of ceramic substrates, and an R-face or a C-face is formed at an outside ridge corner 12 of the ceramic base material.

Description

本発明はセラミック母材を割断してセラミック基板を製造する方法、およびこれに適したセラミック母材に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic substrate by cleaving a ceramic base material, and a ceramic base material suitable for the method.

アルミナセラミックスは、電気絶縁性、化学的安定性といった特徴から電子部品用基板として広く使われている。こうした基板は、取り扱いを容易とするため、後の配線パターンの印刷や半導体素子の装着といった電子部品の製作効率をよくするために、多数個の基板を1枚の広い面積の母材に版地している。このような基板には、一つ一つの個片への分割を容易にするため、表面にブレーク溝(分割溝)が形成されている。こうした分割溝は、ドクターブレード等で成形された未焼成のセラミックグリーンシートの表面に、カッター刃やプレス金型を押し付けて切れ込みを入れた後、焼成することで製作される(特許文献1、2、3)。   Alumina ceramics are widely used as substrates for electronic components because of their characteristics such as electrical insulation and chemical stability. In order to facilitate the handling of these substrates, a large number of substrates are printed on a single large-area base material in order to improve the production efficiency of electronic components such as printing of wiring patterns and mounting of semiconductor elements later. doing. In such a substrate, break grooves (divided grooves) are formed on the surface in order to facilitate division into individual pieces. Such a dividing groove is manufactured by pressing a cutter blade or a press die on the surface of an unfired ceramic green sheet formed by a doctor blade or the like and then firing it (Patent Documents 1 and 2). 3).

特開2007−258228JP2007-258228A 特許第3330104号公報Japanese Patent No. 3330104 特許第3876259号公報Japanese Patent No. 3876259 特開2001−335371号公報JP 2001-335371 A

発光ダイオードの高出力型は、基板面積が拡大するため、多数個のセラミック基板を取るのに必要なセラミック母材の面積も大きくなる。セラミック母材が大型化することにより、焼成時に反りや収縮不均一による変形などが大きくなり、品質が悪化する傾向がある。また、セラミック母材のサイズが大型化するため、母材の強度が低下し、印刷等の作業中に割れやすくなるという問題もある。更に、個々の基板サイズの大型化でブレーク溝の距離が長くなるため、所望の線からずれて割れてしまい易くなる。   In the high-power type of light emitting diode, the area of the substrate is enlarged, so that the area of the ceramic base material necessary for taking a large number of ceramic substrates is also increased. Due to the increase in size of the ceramic base material, warping and deformation due to non-uniform shrinkage increase during firing, and the quality tends to deteriorate. Further, since the size of the ceramic base material is increased, there is a problem that the strength of the base material is reduced and the ceramic base material is easily broken during printing or the like. Furthermore, since the distance between the break grooves becomes longer due to the increase in the size of each substrate, the break groove tends to be displaced from the desired line.

本発明者は、上述したような様々な問題点を解決するために実際にセラミック母材を種々製造し、割断して研究を行ってきた。ところが、この過程で、従来は見過ごされていた大きな問題を発見した。すなわち、セラミック母材をセッター上に置いて焼成するが、反りや収縮不足などの変形を極力抑制するように設計しても、今度は母材の下面に傷が発生する。この傷は、導体や蛍光体等の印刷の際に、にじみや欠損など不良の原因になってしまい、また、透光性アルミナのような透光性を必要とする部材においては直線光透過率を妨げるため不良品となり、歩留りの顕著な低下が生じてきた。こうした問題点は、1辺が100mm程度のセラミック母材ではそれほど問題とされてこなかったが、1辺が120mm以上にセラミック母材のサイズを大型化することによって生じ易くなったものであり、このために従来は見過ごされてきたものと考えられる。   In order to solve the various problems as described above, the present inventor has actually manufactured various ceramic base materials, and has conducted research by cutting them. However, in this process, I discovered a major problem that was previously overlooked. In other words, the ceramic base material is placed on the setter and fired. However, even if it is designed to suppress deformation such as warping and insufficient shrinkage as much as possible, the lower surface of the base material is now damaged. The scratches cause defects such as bleeding and defects during printing of conductors and phosphors, and linear light transmittance in members that require translucency, such as translucent alumina. As a result, it has become a defective product, resulting in a significant decrease in yield. Such a problem has not been so much a problem with a ceramic base material having a side of about 100 mm, but is easily caused by increasing the size of the ceramic base material to have a side of 120 mm or more. Therefore, it is thought that it has been overlooked conventionally.

本発明の課題は、複数のセラミック基板に対応する複数の基板領域を有しており、隣接する基板領域が割断可能であるセラミック母材において、セラミック母材の底面における傷を抑制し、歩留りを向上させることである。   An object of the present invention is to provide a ceramic base material having a plurality of substrate regions corresponding to a plurality of ceramic substrates, and capable of cleaving adjacent substrate regions. It is to improve.

本発明に係るセラミック母材は、複数のセラミック基板に対応する複数の基板領域を有しており、隣接する基板領域が割断可能であるセラミック母材であって、セラミック母材の外縁角部にR面またはC面が形成されていることを特徴とする。   The ceramic base material according to the present invention has a plurality of substrate regions corresponding to a plurality of ceramic substrates, and is a ceramic base material in which adjacent substrate regions can be cleaved, at an outer edge corner portion of the ceramic base material. An R surface or a C surface is formed.

また、本発明は、複数のセラミック基板に対応する複数の基板領域を有しており、隣接する基板領域が割断可能であるセラミック母材であって、セラミック母材の外縁角部にR面またはC面が形成されているセラミック母材の成形体を得る成形工程、
成形体をセッター上に載置して焼成し、セラミック母材を得るのに際して、R面またはC面をセッター側に配置する焼成工程、および
セラミック母材を割断することによって複数の基板領域を分離し、セラミック基板を得る割断工程
を有することを特徴とする。
In addition, the present invention is a ceramic base material having a plurality of substrate regions corresponding to a plurality of ceramic substrates, and the adjacent substrate regions can be cleaved, and an R-face or A molding step for obtaining a ceramic base material formed with a C-plane;
When the molded body is placed on a setter and fired to obtain a ceramic base material, a firing process in which the R or C surface is arranged on the setter side, and a plurality of substrate regions are separated by cleaving the ceramic base material And a cleaving step for obtaining a ceramic substrate.

本発明者は、セラミック母材に傷が生じた場合について、多数のサンプルを検討してみた結果、いずれもサンプルの底面側に傷が集中していることを発見した。この傷は、サンプルの外周縁部のコーナー部分に多く見られた。この原因について以下のように推定した。焼成時には成形体に多大の焼成収縮が生じ、平面的に見た寸法が小さくなる。このとき、サンプルのサイズが小さいときには、傷が生じにくいところから、成形体が焼成収縮するときに、まだ柔らかい状態でセッター表面に対して擦れ、これが傷の原因となっているものと考えた。   As a result of examining a large number of samples with respect to the case where the ceramic base material is flawed, the present inventor has found that all the flaws are concentrated on the bottom surface side of the sample. Many scratches were observed at the corners of the outer peripheral edge of the sample. This cause was estimated as follows. At the time of firing, a large amount of firing shrinkage occurs in the molded body, and the dimension in plan view is reduced. At this time, when the size of the sample was small, it was considered that the scratch was not easily generated, and when the compact was baked and contracted, it was still rubbed against the setter surface in a soft state.

そして、本発明者は、この仮説に基づき、セラミック母材の成形体の角部に、表面から厚さ方向に向かって、R面またはC面を形成してみた。そして、この成形体を焼結させたところ、前述した傷が抑制されることを見いだし、本発明に到達した。   Based on this hypothesis, the inventor tried to form an R-plane or a C-plane from the surface toward the thickness direction at the corner of the ceramic base material. And when this molded object was sintered, it discovered that the flaw mentioned above was suppressed and reached | attained this invention.

(a)は、セラミック母材1の全体の外観を上面1a側から見た斜視図であり、(b)は、セラミック母材1の全体の外観を底面1b側から見た斜視図である。(A) is the perspective view which looked at the whole external appearance of the ceramic base material 1 from the upper surface 1a side, (b) is the perspective view which looked at the whole external appearance of the ceramic base material 1 from the bottom face 1b side. 成形体1Aをセッター10上に設置した状態を示す模式的斜視図である。1 is a schematic perspective view showing a state where a molded body 1A is installed on a setter 10. FIG. (a)は、比較例のセラミック母材21の底面図であり、(b)は、(a)の母材21の横断面図である。(A) is a bottom view of the ceramic base material 21 of a comparative example, (b) is a cross-sectional view of the base material 21 of (a). 図3(b)のA部分の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a portion A in FIG. (a)は、本発明例のセラミック母材1の底面図であり、(b)は、(a)の母材1の横断面図である。(A) is a bottom view of the ceramic base material 1 of the example of this invention, (b) is a cross-sectional view of the base material 1 of (a). 図5(b)のB部分の拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of a portion B in FIG. 他の実施形態に係る母材1Aの角部周辺の拡大図である。It is an enlarged view of the corner | angular part periphery of 1 A of base materials which concern on other embodiment. (a)は、セラミック母材1Dの全体の外観を上面1a側から見た斜視図であり、(b)は、セラミック母材1Dの全体の外観を底面1b側から見た斜視図である。(A) is the perspective view which looked at the whole external appearance of ceramic base material 1D from the upper surface 1a side, (b) is the perspective view which looked at the whole external appearance of ceramic base material 1D from the bottom face 1b side. セラミック母材における反りの測定点を示す図である。It is a figure which shows the measurement point of the curvature in a ceramic base material.

図1(a)(b)に示すように、セラミック母材1は複数の基板領域2に分割されており、各基板領域2を包囲するように分割溝6が形成されている。母材1の上面1a側では、各基板領域2の上面2aは略平坦である。母材1の底面1b側では、各基板領域2の底面2bに開口する凹部4が形成されており、凹部4を包囲するように肉厚部5が形成されている。基板領域2は所定個数配列されている。基板領域2を包囲するように、母材の外縁部に、基板領域2として使用しない不使用部分3を備えている。不使用部分3の厚さが、基板領域2の最大厚さ以上である。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the ceramic base material 1 is divided into a plurality of substrate regions 2, and division grooves 6 are formed so as to surround each substrate region 2. On the upper surface 1a side of the base material 1, the upper surface 2a of each substrate region 2 is substantially flat. On the bottom surface 1 b side of the base material 1, a recess 4 is formed in the bottom surface 2 b of each substrate region 2, and a thick portion 5 is formed so as to surround the recess 4. A predetermined number of substrate regions 2 are arranged. An unused portion 3 that is not used as the substrate region 2 is provided on the outer edge of the base material so as to surround the substrate region 2. The thickness of the unused portion 3 is equal to or greater than the maximum thickness of the substrate region 2.

このように、基板領域2よりも肉厚の不使用部分3を、母材の外縁部に設けることによって、母材を取り扱うときの割れを抑制できる。   Thus, by providing the unused portion 3 thicker than the substrate region 2 at the outer edge of the base material, it is possible to suppress cracks when handling the base material.

この観点からは、不使用部分の厚さは、基板領域の最大厚さ以上とすることが好ましい。また、上述の観点からは、不使用部分の厚さが厚過ぎても効果が乏しいので、基板領域の最大厚さの2倍以下とすることが好ましい。   From this viewpoint, it is preferable that the thickness of the unused portion is equal to or greater than the maximum thickness of the substrate region. Further, from the above viewpoint, since the effect is poor even if the thickness of the unused portion is too thick, it is preferable to set the thickness to not more than twice the maximum thickness of the substrate region.

また、不使用部分の幅は、母材の割れの抑制という観点からは、5mm以上が好ましい。また、不使用部分の幅が大き過ぎても問題はないが、材料の無駄になるので、20mm以下が好ましい。   Further, the width of the unused portion is preferably 5 mm or more from the viewpoint of suppressing cracking of the base material. Moreover, although there is no problem if the width of the unused portion is too large, the material is wasted, so 20 mm or less is preferable.

不使用部分は、例えば図1に示すように母材の外縁部で全周にわたってつながって設けられていることが好ましく、これによって母材の割れ抑制という効果が最も顕著となる。   For example, as shown in FIG. 1, the unused portion is preferably provided so as to be connected over the entire periphery at the outer edge of the base material, whereby the effect of suppressing cracking of the base material is most remarkable.

図3、図4は比較例を示すものである。
母材21には所定個数の基板領域2が形成されており、基板領域は例えば縦横に所定間隔で配列されている。本例では、各基板領域は、細長い割断用の分割溝6によって包囲されている。隣接する基板領域2間も溝によって区切られている。各基板領域2の中央部分は薄肉となっており、底面21bへと向かって開口する凹部4が形成されている。上面21aは略平坦である。
3 and 4 show a comparative example.
A predetermined number of substrate regions 2 are formed in the base material 21, and the substrate regions are arranged at predetermined intervals, for example, vertically and horizontally. In this example, each board | substrate area | region is surrounded by the division | segmentation groove | channel 6 for elongate cleavage. Adjacent substrate regions 2 are also separated by grooves. A central portion of each substrate region 2 is thin, and a recess 4 that opens toward the bottom surface 21b is formed. The upper surface 21a is substantially flat.

本例では、各基板領域2において、凹部4の周囲を全周にわたって包囲するように、厚肉部5が形成されている。各溝6は厚肉部5に形成されており、凹部には形成されていない。各基板領域には、所定位置にスルーホール7が形成されている。焼成時には、図2に示すように成形体30の底面がセッターに接触する状態で焼成を行う。   In this example, the thick part 5 is formed in each substrate region 2 so as to surround the periphery of the recess 4 over the entire circumference. Each groove 6 is formed in the thick portion 5 and is not formed in the concave portion. Through holes 7 are formed at predetermined positions in each substrate region. At the time of firing, firing is performed with the bottom surface of the molded body 30 in contact with the setter as shown in FIG.

ここで、図4に示すように、母材21の底面21b側において、外縁角部12、溝6に面する角部13、凹部4に面する角部14には、いずれもR面、C面が設けられておらず、特に加工処理されていない。この状態で母材21をセッターに載置して焼成を行うと、底面21b側で角部近くで傷が生ずることがあった。この傷は、特に外縁角部12付近において顕著であった。   Here, as shown in FIG. 4, on the bottom surface 21 b side of the base material 21, the outer edge corner portion 12, the corner portion 13 facing the groove 6, and the corner portion 14 facing the recess 4 are all R-surface, C No surface is provided and no special processing is performed. When the base material 21 is placed on a setter in this state and fired, scratches may occur near the corners on the bottom surface 21b side. This scratch was particularly remarkable in the vicinity of the outer edge corner portion 12.

図5、図6は本発明例を示すものである。
母材1には所定個数の基板領域2が形成されており、基板領域は例えば縦横に所定間隔で配列されている。本例では、各基板領域は、細長い割断用の分割溝6によって包囲されている。隣接する基板領域2間も溝によって区切られている。各基板領域2の中央部分は薄肉となっており、底面1bへと向かって開口する凹部4が形成されている。上面1aは略平坦である。
5 and 6 show examples of the present invention.
A predetermined number of substrate regions 2 are formed in the base material 1, and the substrate regions are arranged at predetermined intervals, for example, vertically and horizontally. In this example, each board | substrate area | region is surrounded by the division | segmentation groove | channel 6 for elongate cleavage. Adjacent substrate regions 2 are also separated by grooves. The central portion of each substrate region 2 is thin, and a recess 4 is formed that opens toward the bottom surface 1b. The upper surface 1a is substantially flat.

本例では、各基板領域2において、凹部4の周囲を全周にわたって包囲するように、厚肉部5が形成されている。各溝6は厚肉部5に形成されており、凹部には形成されていない。各基板領域には、所定位置にスルーホール7が形成されている。焼成時には、図2に示すように、成形体の底面がセッター10に接触する状態で焼成を行う。   In this example, the thick part 5 is formed in each substrate region 2 so as to surround the periphery of the recess 4 over the entire circumference. Each groove 6 is formed in the thick portion 5 and is not formed in the concave portion. Through holes 7 are formed at predetermined positions in each substrate region. At the time of firing, as shown in FIG. 2, firing is performed with the bottom surface of the molded body in contact with the setter 10.

ここで、図6に示すように、母材1の底面1b側において、外縁角部12、溝6に面する角部13、凹部4に面する角部14には、いずれもR面が設けられている。なお、本例では、母材1の上面1a側においても、外縁角部にはR面が設けられている。   Here, as shown in FIG. 6, on the bottom surface 1 b side of the base material 1, the outer edge corner portion 12, the corner portion 13 facing the groove 6, and the corner portion 14 facing the recess 4 are all provided with an R surface. It has been. In this example, an R surface is provided at the outer edge corner also on the upper surface 1 a side of the base material 1.

この状態で母材1の成形体30をセッター10に載置して焼成を行うと、前述した角部付近での傷が生じにくいことを見いだした。   It was found that when the molded body 30 of the base material 1 was placed on the setter 10 and fired in this state, scratches near the corners described above were less likely to occur.

また、図7に示す例では、母材1Aの底面1b側において、外縁角部12、溝6に面する角部13、凹部4に面する角部14には、いずれもC面が設けられている。なお、本例では、母材1の上面1a側においても、外縁角部にはC面が設けられている。   In the example shown in FIG. 7, on the bottom surface 1 b side of the base material 1 </ b> A, the outer edge corner 12, the corner 13 facing the groove 6, and the corner 14 facing the recess 4 are all provided with a C-plane. ing. In this example, a C surface is provided at the outer edge corner also on the upper surface 1 a side of the base material 1.

図8に示すように、セラミック母材1Dは複数の基板領域2に分割されており、各基板領域2を包囲するように分割溝6が形成されている。母材1Dの上面1a側では、各基板領域2の上面2aは略平坦である。母材1Dの底面1b側では、各基板領域2の底面2bに開口する凹部4が形成されており、凹部4を包囲するように肉厚部5が形成されている。基板領域2は所定個数配列されている。本例では、厚肉の不使用領域は設けられていない。   As shown in FIG. 8, the ceramic base material 1 </ b> D is divided into a plurality of substrate regions 2, and division grooves 6 are formed so as to surround each substrate region 2. On the upper surface 1a side of the base material 1D, the upper surface 2a of each substrate region 2 is substantially flat. On the bottom surface 1 b side of the base material 1 </ b> D, a recess 4 is formed in the bottom surface 2 b of each substrate region 2, and a thick portion 5 is formed so as to surround the recess 4. A predetermined number of substrate regions 2 are arranged. In this example, a thick unused area is not provided.

基板領域に座繰り(減肉)を施し、凹部を形成する場合には、凹部下の肉薄部の厚さは、基板領域の最大厚さの90%以下が好ましい。また、基板強度の観点からは、凹部下の肉薄部の厚さは、基板領域の最大厚さの60%以上が好ましい。   In the case where the substrate region is subjected to countersink (thinning) and the recess is formed, the thickness of the thin portion under the recess is preferably 90% or less of the maximum thickness of the substrate region. Further, from the viewpoint of the substrate strength, the thickness of the thin portion under the recess is preferably 60% or more of the maximum thickness of the substrate region.

また、各基板領域において、凹部を包囲する肉厚部の幅は、基板強度の観点からは、0.5mm以上が好ましい。   In each substrate region, the width of the thick portion surrounding the recess is preferably 0.5 mm or more from the viewpoint of substrate strength.

本発明では、母材の底面側において外縁角部にR面またはC面を設けるが、分割溝に面する角部、凹部に面する角部、スルーホールに面する角部にもR面またはC面を設けることが好ましい。   In the present invention, the R surface or C surface is provided at the corner of the outer edge on the bottom surface side of the base material, but the corner facing the dividing groove, the corner facing the recess, and the corner facing the through hole also have the R surface or C surface. It is preferable to provide a C-plane.

母材の外縁角部にR面を設ける場合、R面の厚さ方向の寸法t12は、本発明の観点からは、0.1mm以上が好ましく、0.2mm以上が更に好ましい。また、R面の厚さ方向の寸法t12は、本発明の観点からは、基板厚さTの10%以上が好ましく、20%以上が更に好ましい。また、R面の厚さ方向の寸法t12は、成形し易さの観点からは、基板厚さTの50%以下が好ましい。 外縁角部のR面の曲率半径R12は、傷の抑制という観点から、0.1mm以上が好ましく、0.2mm以上が更に好ましい。また、曲率半径R12は、基板厚さの50%以下が好ましい。   When the R surface is provided at the outer edge corner of the base material, the dimension t12 in the thickness direction of the R surface is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more from the viewpoint of the present invention. Further, the dimension t12 in the thickness direction of the R plane is preferably 10% or more, more preferably 20% or more of the substrate thickness T from the viewpoint of the present invention. In addition, the dimension t12 in the thickness direction of the R surface is preferably 50% or less of the substrate thickness T from the viewpoint of ease of molding. The radius of curvature R12 of the R surface at the outer corner is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more, from the viewpoint of suppression of scratches. The curvature radius R12 is preferably 50% or less of the substrate thickness.

分割溝6の角部13にR面を設ける場合、R面の厚さ方向の寸法t13は、本発明の観点からは、0.1mm以上が好ましく、0.2mm以上が更に好ましい。また、R面の厚さ方向の寸法t13は、本発明の観点からは、溝深さD6の10%以上が好ましく、20%以上が更に好ましい。   When the R surface is provided at the corner 13 of the dividing groove 6, the dimension t13 in the thickness direction of the R surface is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more from the viewpoint of the present invention. Further, the dimension t13 in the thickness direction of the R surface is preferably 10% or more, and more preferably 20% or more of the groove depth D6 from the viewpoint of the present invention.

凹部4の角部14にR面を設ける場合、R面の厚さ方向の寸法t14は、本発明の観点からは、0.1mm以上が好ましく、0.2mm以上が更に好ましい。また、R面の厚さ方向の寸法t14は、本発明の観点からは、凹部深さD4の10%以上が好ましく、20%以上が更に好ましい。   When the R surface is provided at the corner 14 of the recess 4, the dimension t14 in the thickness direction of the R surface is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more from the viewpoint of the present invention. Further, the dimension t14 in the thickness direction of the R surface is preferably 10% or more, more preferably 20% or more, of the recess depth D4 from the viewpoint of the present invention.

母材の外縁角部にC面を設ける場合、C面の厚さ方向の寸法t12は、本発明の観点からは、0.1mm以上が好ましく、0.2mm以上が更に好ましい。また、C面の厚さ方向の寸法t12は、本発明の観点からは、基板厚さTの10%以上が好ましく、20%以上が更に好ましい。また、C面の厚さ方向の寸法t12は、成形し易さの観点からは、基板厚さTの50%以下が好ましい。   When the C surface is provided at the outer edge corner portion of the base material, the dimension t12 in the thickness direction of the C surface is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more from the viewpoint of the present invention. Further, the dimension t12 in the thickness direction of the C plane is preferably 10% or more, more preferably 20% or more of the substrate thickness T from the viewpoint of the present invention. In addition, the dimension t12 in the thickness direction of the C surface is preferably 50% or less of the substrate thickness T from the viewpoint of ease of molding.

分割溝6の角部13にC面を設ける場合、C面の厚さ方向の寸法t13は、本発明の観点からは、0.1mm以上が好ましく、0.2mm以上が更に好ましい。また、C面の厚さ方向の寸法t13は、本発明の観点からは、溝深さD6の10%以上が好ましく、20%以上が更に好ましい。   When the C surface is provided at the corner 13 of the dividing groove 6, the dimension t13 in the thickness direction of the C surface is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more from the viewpoint of the present invention. Further, the dimension t13 in the thickness direction of the C surface is preferably 10% or more, and more preferably 20% or more of the groove depth D6 from the viewpoint of the present invention.

凹部4の角部14にC面を設ける場合、C面の厚さ方向の寸法t14は、本発明の観点からは、0.1mm以上が好ましく、0.2mm以上が更に好ましい。また、C面の厚さ方向の寸法t14は、本発明の観点からは、凹部深さD4の10%以上が好ましく、20%以上が更に好ましい。   When the C surface is provided in the corner portion 14 of the recess 4, the dimension t14 in the thickness direction of the C surface is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more from the viewpoint of the present invention. In addition, from the viewpoint of the present invention, the dimension t14 in the thickness direction of the C surface is preferably 10% or more, and more preferably 20% or more of the recess depth D4.

セラミック母材の材質は、電子部品で使用されるセラミックスであれば特に限定はなく、アルミナ、マグネシア、シリカ、イットリア、窒化珪素、窒化ホウ素、窒化チタン,窒化ボロン窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、スピネル、イットリウム−アルミニウムガーネットなどを例示できる。   The material of the ceramic base material is not particularly limited as long as it is a ceramic used in an electronic component, such as alumina, magnesia, silica, yttria, silicon nitride, boron nitride, titanium nitride, boron nitride aluminum nitride, aluminum oxynitride, spinel, An example is yttrium-aluminum garnet.

本発明は、緻密質アルミナ、特に透光性アルミナに対して特に好適である。以下、透光性アルミナからなるセラミック基板について述べる。   The present invention is particularly suitable for dense alumina, particularly translucent alumina. Hereinafter, a ceramic substrate made of translucent alumina will be described.

透光性セラミック、特に透光性アルミナは、例えば発光ダイオード素子用の拡散板として使用でき、これによって発光ダイオード素子の寿命を飛躍的に延長することが可能である。   Translucent ceramics, particularly translucent alumina, can be used, for example, as a diffusing plate for a light emitting diode element, which can dramatically extend the life of the light emitting diode element.

セラミック基板の厚さは0.05mm以上、2mm以下であることが好ましい。拡散板が薄すぎると、衝撃で割れやすくなり、あるいは直線透過光の比率が高くなりすぎ、光の拡散が不足する。セラミック基板が厚すぎると、全光線透過率が低くなる。   The thickness of the ceramic substrate is preferably 0.05 mm or more and 2 mm or less. If the diffusing plate is too thin, it will be easily broken by impact, or the ratio of linearly transmitted light will be too high, resulting in insufficient light diffusion. When the ceramic substrate is too thick, the total light transmittance is lowered.

透光性セラミック基板の可視光域の直線透過率は、光の拡散のため、65%以下とすることが好ましく、10%以下とすることが更に好ましい。透光性セラミック基板の全光線透過率は、発光効率の観点から90%以上が好ましい。   The linear transmittance in the visible light region of the translucent ceramic substrate is preferably 65% or less, and more preferably 10% or less, for light diffusion. The total light transmittance of the translucent ceramic substrate is preferably 90% or more from the viewpoint of luminous efficiency.

透光性セラミック基板を構成するセラミックスの結晶粒径は特に限定されないが、適度の透光性を得るという観点からは、0.1μm以上とすることが好ましく、1μm以上とすることが更に好ましい。また、このセラミックスの結晶粒径は、100μm以下とすることが好ましく、40μm以下とすることが更に好ましい。   The crystal grain size of the ceramic constituting the translucent ceramic substrate is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining appropriate translucency, it is preferably 0.1 μm or more, and more preferably 1 μm or more. The crystal grain size of the ceramic is preferably 100 μm or less, and more preferably 40 μm or less.

また、透光性セラミック基板を構成するセラミックスの相対密度は、透光性を確保するという観点からは、98%以上とすることが好ましく、99%以上とすることが更に好ましい。セラミックス内の気孔は、入射する光を散乱させ、全光線透過率を著しく低下させる。   Further, the relative density of the ceramics constituting the translucent ceramic substrate is preferably 98% or more, and more preferably 99% or more, from the viewpoint of ensuring translucency. The pores in the ceramic scatter incident light and significantly reduce the total light transmittance.

セラミック基板の成形方法は特に限定されず、ドクターブレード法、押し出し法、ゲルキャスト法など任意の方法であってよい。特に好ましくは、セラミック基板をゲルキャスト法を用いて製造する。好適な実施形態においては、セラミック粉末、分散媒およびゲル化剤を含むスラリーを注型し、このスラリーをゲル化させることによって成形体を得、この成形体を焼結させる(特許文献4:特開2001−335371号公報)。
従来の未焼成のグリーンシートにカッター刃やプレス型を押し付けて溝を形成する方法の場合、溝底部に細かなクラックが入り、ブレーク強度が不安定になることがあるが、ゲルキャスト法を用い、成形型に形成した突起により分割溝形状を成形することで、これを回避できる。
The method for forming the ceramic substrate is not particularly limited, and may be any method such as a doctor blade method, an extrusion method, or a gel cast method. Particularly preferably, the ceramic substrate is manufactured using a gel cast method. In a preferred embodiment, a slurry containing a ceramic powder, a dispersion medium, and a gelling agent is cast, and the slurry is gelled to obtain a molded body. No. 2001-335371).
In the case of forming a groove by pressing a cutter blade or a press die on a conventional unfired green sheet, a fine crack may enter the bottom of the groove and the break strength may become unstable. This can be avoided by forming the divided groove shape by the protrusions formed on the mold.

特に好ましくは、純度99.9%以上(好ましくは99.95%以上)の高純度アルミナ粉末に対して、150〜1000ppmの助剤を添加した原料を用いる。このような高純度アルミナ粉末としては、大明化学工業株式会社製の高純度アルミナ粉体を例示できる。
前述した助剤としては、酸化マグネシウムが好ましいが、ZrO2, Y2O3,La2O3,
Sc2O3も例示できる。
Particularly preferably, a raw material in which an auxiliary of 150 to 1000 ppm is added to high-purity alumina powder having a purity of 99.9% or more (preferably 99.95% or more) is used. Examples of such high-purity alumina powder include high-purity alumina powder manufactured by Daimei Chemical Co., Ltd.
As the above-mentioned auxiliary agent, magnesium oxide is preferable, but ZrO 2 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 ,
Sc 2 O 3 can also be exemplified.

セラミック原料粉末の平均粒径は特に限定されないが、低温焼結での緻密化および透光性向上という観点からは、0.5μm以下が好ましく、0.4μm以下が更に好ましい。一層好ましくは、セラミックスの原料粉末の平均粒子径は0.3μm以下(一次粒子径)である。この平均粒径の下限は特に限定されない。原料粉末の平均粒子径は、SEM(走査型電子顕微鏡)による原料粉末の直接観察によって決定できる。
なお、ここでいう平均粒子径とはSEM写真(倍率:X30000。任意の2視野)上における2次凝集粒子を除く1次粒子の(最長軸長+最短軸長)/2の値のn=500平均値のことである。
The average particle size of the ceramic raw material powder is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or less, and more preferably 0.4 μm or less, from the viewpoints of densification during low temperature sintering and improvement of translucency. More preferably, the average particle size of the ceramic raw material powder is 0.3 μm or less (primary particle size). The lower limit of the average particle size is not particularly limited. The average particle diameter of the raw material powder can be determined by direct observation of the raw material powder by SEM (scanning electron microscope).
The average particle diameter here is n = the value of (longest axis length + shortest axis length) / 2 of primary particles excluding secondary agglomerated particles on an SEM photograph (magnification: X30000, arbitrary two fields of view). It is an average value of 500.

ゲルキャスト法は、以下の方法を例示できる。
(1) 無機物粉体とともに、ゲル化剤となるポリビニルアルコール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等のプレポリマーを、分散剤と共に分散媒中に分散してスラリーを調製し、注型後、架橋剤により三次元的に架橋してゲル化させることにより、スラリーを固化させる。
(2) 反応性官能基を有する有機分散媒とゲル化剤とを化学結合させることにより、スラリーを固化させる。
Examples of the gel casting method include the following methods.
(1) Along with inorganic powder, a prepolymer such as polyvinyl alcohol, epoxy resin, phenol resin, or the like, which becomes a gelling agent, is dispersed in a dispersion medium together with a dispersing agent to prepare a slurry. The slurry is solidified by crosslinking and gelation.
(2) The slurry is solidified by chemically bonding an organic dispersion medium having a reactive functional group and a gelling agent.

前記したC面、R面は、ゲルキャスト用の成形型の内側面に対応する形態を設けておけば、高精度で形成可能である。   The above-described C surface and R surface can be formed with high precision if a form corresponding to the inner surface of the gel casting mold is provided.

焼成に使用するセッターは、本焼時の条件に耐えられる材質によって形成する。例えば、透光性セラミックスの場合には、水素雰囲気下で1800℃以上の高温に耐えられる材質が好ましい。この観点からは、セッターは、モリブデン、タングステン、これらの合金のような高融点金属からなる。アルミナは、成形体と接着したり、焼成温度によっては粒成長してもろくなることがある。   The setter used for firing is formed of a material that can withstand the conditions during firing. For example, in the case of translucent ceramics, a material that can withstand a high temperature of 1800 ° C. or higher in a hydrogen atmosphere is preferable. From this viewpoint, the setter is made of a refractory metal such as molybdenum, tungsten, or an alloy thereof. Alumina may become brittle even if it adheres to the molded body or grows depending on the firing temperature.

(実施例1)
図1、図5、図6を参照して説明したような母材1を製造した。
具体的には、原料粉末としてアルミナ粉末100重量部、及びマグネシア0.025重量部、分散媒として多塩基酸エステル30重量部、ゲル化剤として、MDI樹脂4重量部、分散剤としてマリアリムAKM0351(商品名、日本油脂株式会社製)2重量部及び触媒としてトリエチルアミン0.2重量部を混合したものを用いた。このスラリーを、アルミニウム合金製の型に室温で注型後、室温で1時間放置し、固化してから離型した。さらに、室温、次いで90℃のそれぞれの温度にて2時間放置して、基板状の粉末成形体を得た。これを大気中1200℃で仮焼し、仮焼体を得た。次いで、水素:窒素=3:1の雰囲気中1800℃で焼成し、緻密化及び透光化させた。
Example 1
A base material 1 as described with reference to FIGS. 1, 5, and 6 was manufactured.
Specifically, 100 parts by weight of alumina powder as a raw material powder and 0.025 part by weight of magnesia, 30 parts by weight of a polybasic acid ester as a dispersion medium, 4 parts by weight of MDI resin as a gelling agent, and Marialim AKM0351 (as a dispersing agent) (Product name, manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) 2 parts by weight and a mixture of 0.2 part by weight of triethylamine as a catalyst were used. This slurry was cast in an aluminum alloy mold at room temperature, left at room temperature for 1 hour, solidified, and then released. Furthermore, it was left at room temperature and then at 90 ° C. for 2 hours to obtain a substrate-like powder compact. This was calcined at 1200 ° C. in the atmosphere to obtain a calcined body. Subsequently, it was baked at 1800 ° C. in an atmosphere of hydrogen: nitrogen = 3: 1 to make it dense and translucent.

各寸法は、以下のとおりである。
母材の寸法: 120mm×120mm
母材の厚さ:1mm
不使用部分3の幅:10mm
不使用部分3の厚さ:1mm
分割溝の深さ:0.36mm
外縁角部12のR面の厚さt12:0.1mm
外縁角部12のR面の曲率半径R12:0.1mm
凹部4と、分割溝に面する角部13のR面、C面は設けなかった。
Each dimension is as follows.
Base material dimensions: 120mm x 120mm
Base material thickness: 1mm
Unused part 3 width: 10 mm
Unused part 3 thickness: 1 mm
Divided groove depth: 0.36 mm
The thickness t12 of the R surface of the outer corner 12 is 0.1 mm.
The radius of curvature R12 of the R surface of the outer corner 12 is 0.1 mm.
The concave surface 4 and the R and C surfaces of the corner 13 facing the dividing groove were not provided.

得られた母材のサンプル10枚において、2枚に深さ0.1mm程度の傷が発生していた。また、母材の反りを測定したところ、0.1mmであった。反りの測定方法として、定盤上に基板を置き、指定された基板上の9点の高さをハイトゲージで測定した際の、最大値と最小値の差を反りの測定値とした(図9参照)。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In 10 samples of the obtained base material, scratches with a depth of about 0.1 mm were generated on 2 samples. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.1 mm. As a method for measuring warpage, a difference between the maximum value and the minimum value when a substrate is placed on a surface plate and the height of nine points on the specified substrate is measured with a height gauge is taken as a measured value of warpage (FIG. 9). reference). Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(実施例2)
実施例1と同様にして、図1、図5、図7に示す母材1Aを作製した。ただし、外縁角部12のR面の厚さt12は0,2mm、曲率半径R12は0.2mmとした。
(Example 2)
In the same manner as in Example 1, a base material 1A shown in FIGS. 1, 5, and 7 was produced. However, the thickness t12 of the R surface of the outer edge corner portion 12 was 0.2 mm, and the curvature radius R12 was 0.2 mm.

得られた母材のサンプル10枚において、1枚に深さ0.1mm程度の傷が発生していた。また、母材の反りを測定したところ、0.1mmであった。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In 10 samples of the obtained base material, scratches with a depth of about 0.1 mm were generated on one sample. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.1 mm. Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(実施例3)
実施例1と同様にして、図1、図5、図7に示す母材1Aを作製した。ただし、外縁角部12にR面を設けず、その代わりにC面を設けた。C面の傾斜角度は45°である。また、外縁部12のC面の厚さt12は0,2mmである。
(Example 3)
In the same manner as in Example 1, a base material 1A shown in FIGS. 1, 5, and 7 was produced. However, the outer edge corner portion 12 was not provided with an R surface, and a C surface was provided instead. The inclination angle of the C plane is 45 °. Further, the thickness t12 of the C surface of the outer edge portion 12 is 0.2 mm.

得られた母材のサンプル10枚において、1枚に深さ0.1mm程度の傷が発生していた。また、母材の反りを測定したところ、0.11mmであった。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In 10 samples of the obtained base material, scratches with a depth of about 0.1 mm were generated on one sample. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.11 mm. Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(比較例1)
実施例1と同様にして、図1、図3、図4に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様であり、ただし、外縁角部12のR面、C面はもうけなかった。
(Comparative Example 1)
In the same manner as in Example 1, the base materials shown in FIGS. 1, 3, and 4 were produced. The production conditions were the same as in Example 1, except that the R and C surfaces of the outer corner 12 were not provided.

得られた母材のサンプル10枚において、5枚に深さ0.1mm程度の傷が発生していた。また、母材の反りを測定したところ、0.15mmであった。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In 10 samples of the obtained base material, scratches having a depth of about 0.1 mm were generated on 5 samples. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.15 mm. Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(実施例4)
実施例1と同様にして、図1、図5、図6に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、基板領域に凹部4を設け、凹部の厚みを0.6mmとした。凹部4に面する角部14にはR面、C面を設けなかった。
Example 4
In the same manner as in Example 1, the base materials shown in FIGS. 1, 5, and 6 were produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, the recessed part 4 was provided in the board | substrate area | region, and the thickness of the recessed part was 0.6 mm. The corner surface 14 facing the recess 4 was not provided with an R surface and a C surface.

得られた母材のサンプル10枚において、1枚に0.005mm程度の浅い傷が発生していた。また、母材の反りを測定したところ、0.06mmであった。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In 10 samples of the obtained base material, shallow scratches of about 0.005 mm were generated on one sheet. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.06 mm. Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(実施例5)
実施例4と同様にして、図1、図5、図6に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、凹部4に面する角部14にR面を設け、R面の厚さt14は0,2mm、曲率半径R14は0.2mmとした。
(Example 5)
In the same manner as in Example 4, the base materials shown in FIGS. 1, 5, and 6 were produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, an R surface is provided at the corner 14 facing the recess 4, the thickness t14 of the R surface is 0.2 mm, and the curvature radius R14 is 0.2 mm.

得られた母材のサンプル10枚において、傷の発生は見られなかった。また、母材の反りを測定したところ、0.04mmであった。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In the 10 samples of the base material obtained, no scratches were observed. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.04 mm. Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(実施例6)
実施例3と同様にして、図1、図5、図6に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、母材の外周部分の不使用部分3の厚みは2mmとした。
(Example 6)
In the same manner as in Example 3, the base materials shown in FIGS. 1, 5, and 6 were produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, the thickness of the unused part 3 of the outer peripheral part of the base material was 2 mm.

得られた母材のサンプル10枚において、1枚に傷の発生が見られた。また、母材の反りを測定したところ、0.06mmであった。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In 10 samples of the obtained base material, the generation of scratches was observed on one sheet. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.06 mm. Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(実施例7)
実施例3と同様にして、図1、図5、図6に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、分割溝に面する角部13にR面を設けて、R面の厚さt13は0,2mm、曲率半径R13は0.2mmとした。
(Example 7)
In the same manner as in Example 3, the base materials shown in FIGS. 1, 5, and 6 were produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, the R surface is provided at the corner 13 facing the dividing groove, the thickness t13 of the R surface is 0.2 mm, and the curvature radius R13 is 0.2 mm.

得られた母材のサンプル10枚において、傷の発生は見られなかった。また、母材の反りを測定したところ、0.12mmであった。更に、割断の際に分割溝から外れて割れることはなかった。   In the 10 samples of the base material obtained, no scratches were observed. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.12 mm. Furthermore, it did not come off from the dividing groove at the time of cleaving and cracked.

(実施例8)
実施例2と同様にして、図1、図5、に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、外縁角部12のR面の厚さt12は0.5mm、曲率半径R12は0.5mmとした。
(Example 8)
In the same manner as in Example 2, the base material shown in FIGS. 1 and 5 was produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, the thickness t12 of the R surface of the outer edge corner portion 12 was 0.5 mm, and the curvature radius R12 was 0.5 mm.

得られた母材のサンプル10枚において、1枚に浅い傷の発生がみられた。また、母材の反りを測定したところ、0.1mmであった。   In 10 samples of the obtained base material, generation of shallow scratches was observed on one sheet. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.1 mm.

(実施例9)
実施例2と同様にして、図1、図5、に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、ただし、外縁角部12のR面の厚さt12は0.6mm、曲率半径R12は0.6mmとした。
Example 9
In the same manner as in Example 2, the base material shown in FIGS. 1 and 5 was produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, the thickness t12 of the R surface of the outer edge corner portion 12 was 0.6 mm, and the curvature radius R12 was 0.6 mm.

得られた母材のサンプル10枚において、1枚に浅い傷の発生がみられた。また、母材の反りを測定したところ、0.1mmであった。ただし、得られた母材のサンプル2枚の外縁部の一部にカケが発生していた。   In 10 samples of the obtained base material, generation of shallow scratches was observed on one sheet. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.1 mm. However, chipping occurred in a part of the outer edge of the two samples of the obtained base material.

(比較例2)
実施例2と同様にして、図1、図5に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、母材の外周部分の不使用部分3の厚みは2.5mmとし、外縁角部12のR面、C面はもうけなかった。
(Comparative Example 2)
In the same manner as in Example 2, the base materials shown in FIGS. 1 and 5 were produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, the thickness of the unused portion 3 of the outer peripheral portion of the base material was 2.5 mm, and the R and C surfaces of the outer edge corner portion 12 were not provided.

この結果、製作中に、10枚のサンプルのうち2枚が、分割溝で破断してしまった。
得られた母材のサンプル8枚において、4枚に深さ0.1mm程度の傷が発生していた。また、母材の反りを測定したところ、0.1mmであった。
As a result, two of the ten samples were broken at the dividing groove during production.
In eight samples of the obtained base material, scratches having a depth of about 0.1 mm were generated on four sheets. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.1 mm.

(比較例3)
実施例5と同様にして、図1、図5、に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、基板領域に凹部4を設け、凹部の厚みを0.4mmとし、外縁角部12のR面、C面はもうけなかった。
(Comparative Example 3)
A base material shown in FIGS. 1 and 5 was produced in the same manner as in Example 5. The production conditions are the same as in Example 1. However, the recessed part 4 was provided in the board | substrate area | region, the thickness of the recessed part was 0.4 mm, and the R surface and C surface of the outer edge corner | angular part 12 were not provided.

この結果、製作中に、10枚のサンプルのうち2枚が、分割溝で破断してしまった。
得られた母材のサンプル8枚において、4枚に深さ0.1mm程度の傷が発生していた。また、母材の反りを測定したところ、0.04mmであった。
As a result, two of the ten samples were broken at the dividing groove during production.
In eight samples of the obtained base material, scratches having a depth of about 0.1 mm were generated on four sheets. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.04 mm.

(比較例4)
実施例2と同様にして、図1、図5、に示す母材を作製した。作製条件は実施例1と同様である。ただし、母材の外周部分に不使用部は設けなかった(図8参照)。また、外縁角部12のR面、C面はもうけなかった。
(Comparative Example 4)
In the same manner as in Example 2, the base material shown in FIGS. 1 and 5 was produced. The production conditions are the same as in Example 1. However, the unused part was not provided in the outer peripheral part of the base material (see FIG. 8). Further, the R and C surfaces of the outer edge corner portion 12 were not provided.

この結果、製作中に、10枚のサンプルのうち3枚が、分割溝で破断してしまった。
得られた母材のサンプル7枚において、3枚に深さ0.1mm程度の傷の発生がみられた。また、母材の反りを測定したところ、0.1mmであった。
As a result, three of the ten samples were broken at the dividing groove during production.
In seven samples of the obtained base material, scratches having a depth of about 0.1 mm were observed in three samples. Moreover, when the curvature of the base material was measured, it was 0.1 mm.

実施例、比較例の内訳並びに評価を後述する表1、表2に示す。   The breakdown and evaluation of Examples and Comparative Examples are shown in Tables 1 and 2 described later.

Figure 2013252678
Figure 2013252678

Figure 2013252678
Figure 2013252678

Claims (14)

複数のセラミック基板に対応する複数の基板領域を有しており、前記基板領域が割断可能であるセラミック母材であって、前記セラミック母材の外縁角部にR面またはC面が形成されていることを特徴とする、セラミック母材。   A ceramic base material having a plurality of substrate regions corresponding to a plurality of ceramic substrates, wherein the substrate region is cleaved, and an R surface or a C surface is formed at an outer edge corner portion of the ceramic base material. A ceramic base material characterized in that 前記R面または前記C面の厚さが0.1mm以上であり、前記セラミック母材の厚さの50%以下であることを特徴とする、請求項1記載のセラミック母材。   2. The ceramic base material according to claim 1, wherein a thickness of the R surface or the C surface is 0.1 mm or more and 50% or less of a thickness of the ceramic base material. 前記各セラミック基板領域に凹部が形成されていることを特徴とする、請求項1または2記載のセラミック母材。   The ceramic base material according to claim 1, wherein a concave portion is formed in each ceramic substrate region. 前記凹部の周りの角部にR面またはC面が形成されていることを特徴とする、請求項3記載のセラミック母材。   The ceramic base material according to claim 3, wherein an R surface or a C surface is formed at corners around the recess. 前記セラミック母材の外縁部に、前記セラミック基板領域として使用しない不使用部分を備えており、この不使用部分の厚さが前記セラミック基板領域の最大厚さ以上であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一つの請求項に記載のセラミック母材。   The outer edge portion of the ceramic base material is provided with an unused portion that is not used as the ceramic substrate region, and the thickness of the unused portion is equal to or greater than the maximum thickness of the ceramic substrate region. The ceramic base material according to any one of claims 1 to 4. 前記複数の基板領域が分割溝によって区分されていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つの請求項に記載のセラミック母材。   The ceramic base material according to any one of claims 1 to 5, wherein the plurality of substrate regions are divided by dividing grooves. 前記分割溝の角部にR面またはC面が形成されていることを特徴とする、請求項6記載のセラミック母材。   The ceramic base material according to claim 6, wherein an R surface or a C surface is formed at a corner of the dividing groove. 透光性アルミナからなることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つの請求項に記載のセラミック母材。   The ceramic base material according to any one of claims 1 to 7, wherein the ceramic base material is made of translucent alumina. 複数のセラミック基板に対応する複数の基板領域を有しており、前記基板領域が割断可能であるセラミック母材であって、前記セラミック母材の外縁角部にR面またはC面が形成されているセラミック母材の成形体を得る成形工程、
前記成形体をセッター上に載置して焼成し、前記セラミック母材を得るのに際して、前記R面またはC面を前記セッター側に配置する焼成工程、および
前記セラミック母材を割断することによって前記複数の基板領域を分離し、セラミック基板を得る割断工程
を有することを特徴とする、セラミック基板の製造方法。
A ceramic base material having a plurality of substrate regions corresponding to a plurality of ceramic substrates, wherein the substrate region is cleaved, and an R surface or a C surface is formed at an outer edge corner portion of the ceramic base material. A molding process for obtaining a molded body of a ceramic base material,
When the molded body is placed on a setter and fired to obtain the ceramic base material, the firing step of placing the R surface or C surface on the setter side, and cleaving the ceramic base material A method for producing a ceramic substrate, comprising a cleaving step of separating a plurality of substrate regions to obtain a ceramic substrate.
前記成形工程において、前記成形体を、ゲルキャスト法によって、前記R面またはC面に対応する成形面を有する成形型を用いて成形することを特徴とする、請求項9記載の方法。   The method according to claim 9, wherein in the molding step, the molded body is molded by a gel casting method using a molding die having a molding surface corresponding to the R surface or the C surface. 前記各セラミック基板領域に凹部が形成されていることを特徴とする、請求項9または10記載の方法。   The method according to claim 9 or 10, wherein a concave portion is formed in each ceramic substrate region. 前記セラミック母材の外縁部に、前記セラミック基板領域として使用しない不使用部分を備えており、この不使用部分の厚さが前記セラミック基板領域の最大厚さ以上であることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか一つの請求項に記載の方法。   The outer edge portion of the ceramic base material is provided with an unused portion that is not used as the ceramic substrate region, and the thickness of the unused portion is equal to or greater than the maximum thickness of the ceramic substrate region. Item 12. The method according to any one of items 9 to 11. 前記複数の基板領域が分割溝によって区分されており、前記割断工程において前記分割溝に沿って前記セラミック母材を割断することを特徴とする、請求項9〜12のいずれか一つの請求項に記載の方法。   The plurality of substrate regions are divided by dividing grooves, and the ceramic base material is cleaved along the dividing grooves in the cleaving step, according to any one of claims 9 to 12. The method described. 前記セラミック母材が透光性アルミナからなることを特徴とする、請求項9〜13のいずれか一つの請求項に記載の方法。   The method according to claim 9, wherein the ceramic matrix is made of translucent alumina.
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