JP2013235078A - Optical system, optical instrument with optical system, and manufacturing method for optical system - Google Patents

Optical system, optical instrument with optical system, and manufacturing method for optical system Download PDF

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Hiroshi Yamamoto
浩史 山本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical system having a satisfactory optical performance, an optical instrument with the optical system, and a manufacturing method for the optical system.SOLUTION: An optical system OS used in a camera 1 or the like includes, in order from an object side: a first lens group G1 of positive refractive power; a second lens group G2 of positive refractive power; and a third lens group G3 of positive refractive power. A reflection preventing film is provided on at least one of optical faces of the first to third lens groups. The reflection preventing film comprises at least one layer formed using a wet process. When focusing takes place, the first lens group G1 and the third lens group G3 are fixed with respect to an image face, and the second lens group G2 is moved along an optical axis.

Description

本発明は、本発明は、光学系、この光学系を有する光学機器、及び、光学系の製造方法に関する。   The present invention relates to an optical system, an optical apparatus having the optical system, and a method for manufacturing the optical system.

従来、写真用カメラ、電子スチルカメラ、ビデオカメラ等のオートフォーカスの合焦速度の短縮に適したインナーフォーカス式の光学系が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また近年、このような光学系に対しては、収差性能だけではなく、光学性能を損なう要因の一つであるゴーストやフレアに関する要求も厳しさを増しており、そのためレンズ面に施される反射防止膜にもより高い性能が要求され、要求に応えるべく多層膜設計技術や多層膜成膜技術も進歩を続けている(例えば、特許文献2参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, an inner focus type optical system suitable for shortening the autofocus speed of a photographic camera, an electronic still camera, a video camera, or the like has been proposed (for example, see Patent Document 1). In recent years, not only aberration performance but also ghost and flare requirements, which are one of the factors that impair optical performance, have become increasingly demanding for such optical systems. Higher performance is required for the prevention film, and multilayer film design technology and multilayer film formation technology continue to advance to meet the demand (see, for example, Patent Document 2).

特開平7−199066号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-199066 特開2000−356704号公報JP 2000-356704 A

しかしながら、従来の光学系は、合焦群とその他の群とのパワー配置が最適化されておらず、無限遠から至近距離まで良好な光学性能を達成できていないという課題があった。それと同時に、このような光学系における光学面からは、ゴーストやフレアとなる反射光が発生しやすいという課題もあった。   However, the conventional optical system has a problem that the power arrangement between the in-focus group and the other groups is not optimized, and good optical performance cannot be achieved from infinity to the closest distance. At the same time, the optical surface in such an optical system also has a problem that reflected light that becomes ghost or flare is easily generated.

本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、ゴーストやフレアをより低減させ、良好な光学性能を有する光学系、この光学系を有する光学機器、及び、光学系の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides an optical system that further reduces ghosts and flares and has good optical performance, an optical apparatus having the optical system, and a method for manufacturing the optical system. The purpose is to do.

前記課題を解決するために、本発明に係る光学系は、物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群と、正の屈折力を有する第2レンズ群と、正の屈折力を有する第3レンズ群と、を有し、第1レンズ群から第3レンズ群における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、この反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含んで形成され、合焦に際し、第1レンズ群及び第3レンズ群が像面に対して固定され、第2レンズ群が光軸に沿って移動し、以下の条件式を満足することを特徴とする。
0.20 < f3/f2 < 7.80
但し、
f2:第2レンズ群の焦点距離
f3:第3レンズ群の焦点距離
In order to solve the above problems, an optical system according to the present invention has, in order from the object side, a first lens group having a positive refractive power, a second lens group having a positive refractive power, and a positive refractive power. A third lens group, and an antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces of the first lens group to the third lens group, and the antireflection film is a layer formed using a wet process. At the time of focusing, the first lens group and the third lens group are fixed with respect to the image plane, and the second lens group moves along the optical axis, satisfying the following conditional expression: It is characterized by doing.
0.20 <f3 / f2 <7.80
However,
f2: focal length of the second lens group f3: focal length of the third lens group

また、このような光学系において、反射防止膜は多層膜であり、ウェットプロセスで形成された層は、多層膜を構成する層のうち最も表面側の層であることが好ましい。   In such an optical system, the antireflection film is preferably a multilayer film, and the layer formed by the wet process is preferably the most surface layer among the layers constituting the multilayer film.

また、このような光学系は、ウェットプロセスを用いて形成された層の屈折率をndとしたとき、この屈折率ndは1.30以下であることが好ましい。   Further, in such an optical system, when the refractive index of a layer formed by using a wet process is nd, the refractive index nd is preferably 1.30 or less.

また、このような光学系は、開口絞りを有し、反射防止膜が設けられた光学面は、開口絞りから見て凹形状のレンズ面であることが好ましい。   Such an optical system preferably has an aperture stop, and the optical surface provided with the antireflection film is preferably a concave lens surface when viewed from the aperture stop.

また、このような光学系において、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、第1レンズ群又は第2レンズ群内のレンズの物体側のレンズ面であることが好ましい。   In such an optical system, it is preferable that the concave lens surface as viewed from the aperture stop is an object side lens surface of the lens in the first lens group or the second lens group.

また、このような光学系において、開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、第1レンズ群又は第2レンズ群内のレンズの像面側のレンズ面であることが好ましい。   In such an optical system, the concave lens surface as viewed from the aperture stop is preferably a lens surface on the image plane side of the lens in the first lens group or the second lens group.

また、このような光学系において、反射防止膜が設けられた光学面は、像面から見て凹形状のレンズ面であることが好ましい。   In such an optical system, the optical surface provided with the antireflection film is preferably a concave lens surface as viewed from the image plane.

また、このような光学系において、反射防止膜が設けられた凹形状のレンズ面は、第3レンズ群の最も像面側のレンズのレンズ面であることが好ましい。   In such an optical system, the concave lens surface provided with the antireflection film is preferably the lens surface of the lens closest to the image plane in the third lens group.

また、このような光学系は、以下の条件式を満足することが好ましい。
0.30 < f3/f < 6.00
但し、
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
f3:第3レンズ群の焦点距離
Such an optical system preferably satisfies the following conditional expression.
0.30 <f3 / f <6.00
However,
f: focal length of the entire system when focusing on infinity f3: focal length of the third lens unit

また、このような光学系は、以下の条件式を満足することが好ましい。
0.50 < f2/f < 2.00
但し、
f2:第2レンズ群の焦点距離
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
Such an optical system preferably satisfies the following conditional expression.
0.50 <f2 / f <2.00
However,
f2: Focal length of the second lens group f: Focal length of the entire system when focusing on infinity

また、このような光学系は、以下の条件式を満足することが好ましい。
1.90 < f1/f < 50.00
但し、
f1:第1レンズ群の焦点距離
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
Such an optical system preferably satisfies the following conditional expression.
1.90 <f1 / f <50.00
However,
f1: Focal length of the first lens unit f: Focal length of the entire system when focusing on infinity

また、このような光学系は、以下の条件式を満足することが好ましい。
0.40 < f1/f3 < 20.00
但し、
f1:第1レンズ群の焦点距離
f3:第3レンズ群の焦点距離
Such an optical system preferably satisfies the following conditional expression.
0.40 <f1 / f3 <20.00
However,
f1: Focal length of the first lens group f3: Focal length of the third lens group

また、このような光学系において、第2レンズ群は、最も物体側に正レンズを有することが好ましい。   In such an optical system, it is preferable that the second lens group has a positive lens closest to the object side.

また、このような光学系は、以下の条件式を満足することが好ましい。
0.30 < r1/f2 < 15.00
但し、
r1:第2レンズ群が有する正レンズの物体側面の曲率半径
f2:第2レンズ群の焦点距離
Such an optical system preferably satisfies the following conditional expression.
0.30 <r1 / f2 <15.00
However,
r1: radius of curvature of the object side surface of the positive lens included in the second lens group f2: focal length of the second lens group

また、このような光学系において、第1レンズ群は、物体側から順に2枚の正レンズを有することが好ましい。   In such an optical system, it is preferable that the first lens group has two positive lenses in order from the object side.

また、このような光学系において、第2レンズ群の最も像側のレンズは、両凸形状であることが好ましい。   In such an optical system, it is preferable that the most image side lens of the second lens group has a biconvex shape.

また、このような光学系において、全てのレンズ面は、球面又は平面であることが好ましい。   In such an optical system, it is preferable that all lens surfaces be spherical or flat.

また、本発明に係る光学機器は、上述の光学系のいずれかを有することを特徴とする。   An optical apparatus according to the present invention includes any one of the above optical systems.

また、本発明に係る光学系の製造方法は、物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群と、正の屈折力を有する第2レンズ群と、正の屈折力を有する第3レンズ群と、を有し、前記第1レンズ群から前記第3レンズ群における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、前記反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含んで形成される光学系の製造方法であって、以下の条件式を満足する第1レンズ群、第2レンズ群及び第3レンズ群を、合焦に際し、第1レンズ群及び第3レンズ群が像面に対して固定され、第2レンズ群が光軸に沿って移動するように配置することを特徴とする。
0.20 < f3/f2 < 7.80
但し、
f2:第2レンズ群の焦点距離
f3:第3レンズ群の焦点距離
The optical system manufacturing method according to the present invention includes a first lens group having a positive refractive power, a second lens group having a positive refractive power, and a third lens having a positive refractive power in order from the object side. A lens group, and an antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces of the first lens group to the third lens group, and the antireflection film is a layer formed using a wet process. A method of manufacturing an optical system including at least one layer, wherein the first lens group, the second lens group, and the third lens group satisfying the following conditional expressions are focused on the first lens group and the first lens group. The three lens groups are fixed with respect to the image plane, and the second lens group is disposed so as to move along the optical axis.
0.20 <f3 / f2 <7.80
However,
f2: focal length of the second lens group f3: focal length of the third lens group

本発明によれば、ゴーストやフレアをより低減させ、良好な光学性能を有する光学系、この光学系を有する光学機器、及び、光学系の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a ghost and flare can be reduced more and the optical system which has favorable optical performance, the optical apparatus which has this optical system, and the manufacturing method of an optical system can be provided.

第1実施例に係る光学系のレンズ構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the lens structure of the optical system which concerns on 1st Example. 第1実施例に係る光学系の諸収差図であって、(a)は無限遠合焦状態を示し、(b)は近距離合焦状態(D0=700mm)を示す。FIG. 5A is a diagram illustrating various aberrations of the optical system according to Example 1, where (a) shows an infinite focus state and (b) shows a short distance focus state (D0 = 700 mm). 第1実施例に係る光学系のレンズ構成を示す断面図であって、入射した光線が第1番目の反射光発生面と第2番目の反射光発生面で反射する様子の一例を説明する図である。It is sectional drawing which shows the lens structure of the optical system which concerns on 1st Example, Comprising: The figure explaining an example of a mode that the incident light ray reflects in the 1st reflected light generation surface and the 2nd reflected light generation surface It is. 第2実施例に係る光学系のレンズ構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the lens structure of the optical system which concerns on 2nd Example. 第2実施例に係る光学系の諸収差図であって、(a)は無限遠合焦状態を示し、(b)は近距離合焦状態(D0=700mm)を示す。FIG. 5A is a diagram illustrating various aberrations of the optical system according to Example 2, wherein (a) shows an infinite focus state and (b) shows a short distance focus state (D0 = 700 mm). 第3実施例に係る光学系のレンズ構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the lens structure of the optical system which concerns on 3rd Example. 第3実施例に係る光学系の諸収差図であって、(a)は無限遠合焦状態を示し、(b)は近距離合焦状態(D0=700mm)を示す。FIG. 6A is a diagram illustrating various aberrations of the optical system according to Example 3, wherein (a) shows an infinitely focused state, and (b) shows a short-range focused state (D0 = 700 mm). 第4実施例に係る光学系のレンズ構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the lens structure of the optical system which concerns on 4th Example. 第4実施例に係る光学系の諸収差図であって、(a)は無限遠合焦状態を示し、(b)は近距離合焦状態(D0=700mm)を示す。FIG. 7A is a diagram illustrating various aberrations of the optical system according to Example 4, where (a) shows an infinitely focused state, and (b) shows a short-range focused state (D0 = 700 mm). 本実施形態に係る光学系を搭載するカメラの断面図を示す。1 is a cross-sectional view of a camera equipped with an optical system according to the present embodiment. 本実施形態に係る光学系の製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the optical system which concerns on this embodiment. 反射防止膜の層構造の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the layer structure of an antireflection film. 反射防止膜の分光特性を示すグラフである。It is a graph which shows the spectral characteristic of an antireflection film. 変形例に係る反射防止膜の分光特性を示すグラフである。It is a graph which shows the spectral characteristics of the antireflection film concerning a modification. 変形例に係る反射防止膜の分光特性の入射角度依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the incident angle dependence of the spectral characteristic of the antireflection film concerning a modification. 従来技術で作成した反射防止膜の分光特性を示すグラフである。It is a graph which shows the spectral characteristic of the anti-reflective film produced with the prior art. 従来技術で作成した反射防止膜の分光特性の入射角度依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the incident angle dependence of the spectral characteristic of the anti-reflective film produced with the prior art.

以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。図1に示すように、本実施形態に係る光学系OSは、物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、正の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、を有して構成される。このような構成により、鏡筒の小型化と各収差を良好に補正することができる。また、この光学系OSは、無限遠から近距離物体に合焦する際に、第1レンズ群G1及び第3レンズ群G3は像面に対して固定され、第2レンズ群G2は光軸に沿って移動する。このような構成により、鏡筒の小型化とフォーカシングの収差変動を良好に補正することができる。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the optical system OS according to this embodiment includes, in order from the object side, a first lens group G1 having a positive refractive power, a second lens group G2 having a positive refractive power, and a positive And a third lens group G3 having refractive power. With such a configuration, it is possible to satisfactorily correct the downsizing of the lens barrel and each aberration. In the optical system OS, when focusing on an object at a short distance from infinity, the first lens group G1 and the third lens group G3 are fixed with respect to the image plane, and the second lens group G2 is along the optical axis. Move. With such a configuration, it is possible to satisfactorily correct the aberration variation of the lens barrel and focusing.

また、本実施形態に係る光学系OSは、次の条件式(1)を満足することが望ましい。   Moreover, it is desirable that the optical system OS according to the present embodiment satisfies the following conditional expression (1).

0.20 < f3/f2 < 7.80 (1)
但し、
f2:第2レンズ群G2の焦点距離
f3:第3レンズ群G3の焦点距離
0.20 <f3 / f2 <7.80 (1)
However,
f2: Focal length of the second lens group G2 f3: Focal length of the third lens group G3

条件式(1)は、第3レンズ群G3の焦点距離f3と第2レンズ群G2の焦点距離f2との比を規定するものである。本光学系OSは、条件式(1)を満足することで良好な光学性能を実現することができる。   Conditional expression (1) defines the ratio between the focal length f3 of the third lens group G3 and the focal length f2 of the second lens group G2. This optical system OS can realize good optical performance by satisfying conditional expression (1).

この条件式(1)の上限値を上回ると、第2レンズ群G2の屈折力が強くなり、至近距離物体に合焦したときに球面収差が補正過剰で像面湾曲が補正不足となり、球面収差と像面湾曲を同時に補正することが困難になる。なお、条件式(1)の上限値を7.10とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(1)の上限値を6.40とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the upper limit value of the conditional expression (1) is exceeded, the refractive power of the second lens group G2 becomes strong, and when focusing on an object at a close distance, the spherical aberration is overcorrected and the field curvature is undercorrected. It becomes difficult to correct the curvature of field at the same time. The effect of the present application can be ensured by setting the upper limit of conditional expression (1) to 7.10. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the upper limit of conditional expression (1) to 6.40.

また、条件式(1)の下限値を下回ると、第3レンズ群G3の屈折力が強くなり、至近距離物体に合焦したときに球面収差が補正不足で像面湾曲が補正過剰となり、球面収差と像面湾曲を同時に補正することが困難になる。また、第2レンズ群G2の屈折力が弱くなり、フォーカシング移動量が増大して光学系OSの全長が大型化するため好ましくない。なお、条件式(1)の下限値を0.60とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(1)の下限値を1.00とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the lower limit of conditional expression (1) is not reached, the refractive power of the third lens group G3 becomes strong, and when focusing on an object at a close distance, the spherical aberration is insufficiently corrected and the field curvature becomes excessively corrected. It becomes difficult to correct aberration and curvature of field simultaneously. In addition, the refractive power of the second lens group G2 is weakened, and the amount of focusing movement is increased, which increases the total length of the optical system OS, which is not preferable. The effect of the present application can be ensured by setting the lower limit value of conditional expression (1) to 0.60. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the lower limit of conditional expression (1) to 1.00.

また、本実施形態に係る光学系OSは、第1レンズ群G1から第3レンズ群G3における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、この反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含んでいる。このように構成することで、本実施形態に係る光学系OSは、物体からの光が光学面で反射されて生じるゴーストやフレアをさらに低減することができ、高い結像性能を達成することができる。   In the optical system OS according to the present embodiment, an antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces in the first lens group G1 to the third lens group G3, and the antireflection film is formed using a wet process. At least one layer formed. With this configuration, the optical system OS according to the present embodiment can further reduce ghosts and flares caused by reflection of light from an object on an optical surface, and achieve high imaging performance. it can.

また、本実施形態に係る光学系OSにおいて、反射防止膜は多層膜であり、ウェットプロセスで形成された層は、多層膜を構成する層のうち最も表面の層であることが好ましい。このようにすれば、空気との屈折率差を小さくすることができるため、光の反射をより小さくすることが可能になり、ゴーストやフレアをさらに低減させることができる。   In the optical system OS according to this embodiment, the antireflection film is preferably a multilayer film, and the layer formed by the wet process is preferably the outermost layer among the layers constituting the multilayer film. In this way, since the difference in refractive index with air can be reduced, the reflection of light can be further reduced, and ghosts and flares can be further reduced.

また、本実施形態に係る光学系OSは、ウェットプロセスを用いて形成された層の屈折率をndとしたとき、この屈折率ndが1.30以下であることが好ましい。このようにすれば、空気との屈折率差を小さくすることができるため、光の反射をより小さくすることが可能になり、ゴーストやフレアをさらに低減させることができる。   In the optical system OS according to the present embodiment, when the refractive index of a layer formed using a wet process is nd, the refractive index nd is preferably 1.30 or less. In this way, since the difference in refractive index with air can be reduced, the reflection of light can be further reduced, and ghosts and flares can be further reduced.

また、本実施形態に係る光学系OSは、開口絞りSを有し、第1レンズ群G1および第2レンズ群G2における光学面のうち反射防止膜が設けられた光学面は、開口絞りSから見て凹形状のレンズ面であることが好ましい。第1レンズ群G1および第2レンズ群G2における光学面のうち開口絞りSから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することで、ゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。   In addition, the optical system OS according to the present embodiment has an aperture stop S, and an optical surface provided with an antireflection film among the optical surfaces in the first lens group G1 and the second lens group G2 is formed from the aperture stop S. A concave lens surface is preferable. Of the optical surfaces in the first lens group G1 and the second lens group G2, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop S. Therefore, an antireflection film is formed on such an optical surface. Ghosts and flares can be effectively reduced.

また、本実施形態に係る光学系OSの第1レンズ群G1および第2レンズ群G2において反射防止膜が設けられた、開口絞りSから見て凹形状のレンズ面は、物体側のレンズ面であることが好ましい。第1レンズ群G1および第2レンズ群G2における光学面のうち開口絞りSから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。   In addition, the concave lens surface viewed from the aperture stop S provided with the antireflection film in the first lens group G1 and the second lens group G2 of the optical system OS according to the present embodiment is a lens surface on the object side. Preferably there is. Of the optical surfaces in the first lens group G1 and the second lens group G2, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop S. Therefore, an antireflection film is formed on such an optical surface. Ghost and flare can be effectively reduced.

また、本実施形態に係る光学系OSの第1レンズ群G1および第2レンズ群G2において反射防止膜が設けられた、開口絞りSから見て凹形状のレンズ面は、像面側のレンズ面であることが好ましい。第1レンズ群G1および第2レンズ群G2における光学面のうち開口絞りSから見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。   In addition, the concave lens surface viewed from the aperture stop S provided with the antireflection film in the first lens group G1 and the second lens group G2 of the optical system OS according to the present embodiment is a lens surface on the image plane side. It is preferable that Of the optical surfaces in the first lens group G1 and the second lens group G2, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface as viewed from the aperture stop S. Therefore, an antireflection film is formed on such an optical surface. Ghost and flare can be effectively reduced.

また、本実施形態に係る光学系OSの第3レンズ群G3における光学面のうち反射防止膜が設けられた光学面は、像面側から見て凹形状のレンズ面であることが好ましい。このようにすれば、第3レンズ群G3における光学面のうち像面側から見て凹形状のレンズ面でゴースト光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することで、ゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。   Of the optical surfaces in the third lens group G3 of the optical system OS according to this embodiment, the optical surface provided with the antireflection film is preferably a concave lens surface when viewed from the image plane side. In this way, ghost light is likely to be generated on the concave lens surface when viewed from the image plane side among the optical surfaces in the third lens group G3. Therefore, an antireflection film is formed on such an optical surface. Ghosts and flares can be effectively reduced.

また、本実施形態に係る光学系OSの第3レンズ群G3における光学面のうち反射防止膜が設けられた、像面側から見て凹形状のレンズ面は、第3レンズ群G3の最も像面側のレンズのレンズ面であることが好ましい。第3レンズ群G3における光学面のうち物体から見て凹形状のレンズ面で反射光が発生し易いため、このような光学面に反射防止膜を形成することでゴーストやフレアを効果的に低減させることができる。   In addition, among the optical surfaces in the third lens group G3 of the optical system OS according to the present embodiment, the concave lens surface provided with the antireflection film as viewed from the image surface side is the most image of the third lens group G3. The lens surface of the surface side lens is preferable. Of the optical surfaces in the third lens group G3, reflected light is likely to be generated on a concave lens surface when viewed from the object. Therefore, ghosts and flares are effectively reduced by forming an antireflection film on such an optical surface. Can be made.

また、本実施形態に係る光学系OSにおいて、反射防止膜は、ウェットプロセスに限らず、ドライプロセス等により形成しても良い。この際、反射防止膜は屈折率が1.30以下となる層を少なくとも1層含むようにすることが好ましい。反射防止膜が、屈折率が1.30以下となる層を少なくとも1層含むようにすることで、反射防止膜をドライプロセス等で形成しても、ウェットプロセスを用いた場合と同様の効果を得ることができる。なおこのとき、屈折率が1.30以下になる層は、多層膜を構成する層のうち最も表面側の層であることが好ましい。   In the optical system OS according to the present embodiment, the antireflection film is not limited to a wet process, and may be formed by a dry process or the like. At this time, it is preferable that the antireflection film includes at least one layer having a refractive index of 1.30 or less. By making the antireflection film include at least one layer having a refractive index of 1.30 or less, even if the antireflection film is formed by a dry process or the like, the same effect as that obtained by using a wet process can be obtained. Can be obtained. At this time, the layer having a refractive index of 1.30 or less is preferably the most surface layer among the layers constituting the multilayer film.

また、本実施形態に係る光学系OSは、次の条件式(2)を満足することが望ましい。   Moreover, it is desirable that the optical system OS according to the present embodiment satisfies the following conditional expression (2).

0.30 < f3/f < 6.00 (2)
但し、
f3:第3レンズ群G3の焦点距離
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
0.30 <f3 / f <6.00 (2)
However,
f3: focal length of the third lens group G3 f: focal length of the entire system when focusing on infinity

条件式(2)は、第3レンズ群G3の焦点距離f3と無限遠合焦状態での全系の焦点距離fとの比を規定するものである。本光学系OSは、条件式(2)を満足することで無限遠から至近距離まで良好な光学性能を実現することができる。   Conditional expression (2) defines the ratio between the focal length f3 of the third lens group G3 and the focal length f of the entire system in the infinitely focused state. The present optical system OS can realize good optical performance from infinity to the closest distance by satisfying conditional expression (2).

この条件式(2)の下限値を下回ると、第3レンズ群G3の屈折力が強くなり、至近距離物体に合焦したときに球面収差が補正不足で像面湾曲が補正過剰となり、球面収差と像面湾曲を同時に補正することが困難になる。なお、条件式(2)の下限値を0.80とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(2)の下限値を1.30とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the lower limit value of the conditional expression (2) is not reached, the refractive power of the third lens group G3 becomes strong, and when focusing on an object at a close distance, the spherical aberration is insufficiently corrected and the field curvature becomes excessively corrected. It becomes difficult to correct the curvature of field at the same time. The effect of the present application can be ensured by setting the lower limit of conditional expression (2) to 0.80. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the lower limit of conditional expression (2) to 1.30.

また、条件式(2)の上限値を上回ると、第3レンズ群G3の屈折力が弱くなり、至近距離物体に合焦したときに球面収差が補正過剰で像面湾曲が補正不足となり、球面収差と像面湾曲を同時に補正することが困難になる。なお、条件式(2)の上限値を5.50とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(2)の上限値を5.00とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the upper limit value of conditional expression (2) is exceeded, the refractive power of the third lens group G3 becomes weak, and when focusing on a close object, the spherical aberration is overcorrected and the curvature of field becomes undercorrected. It becomes difficult to correct aberration and curvature of field simultaneously. In addition, the effect of this application can be ensured by making the upper limit of conditional expression (2) 5.50. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the upper limit of conditional expression (2) to 5.00.

また、本実施形態に係る光学系OSは、次の条件式(3)を満足することが望ましい。   In addition, it is desirable that the optical system OS according to the present embodiment satisfies the following conditional expression (3).

0.50 < f2/f < 2.00 (3)
但し、
f2:第2レンズ群G2の焦点距離
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
0.50 <f2 / f <2.00 (3)
However,
f2: focal length of the second lens group G2 f: focal length of the entire system when focusing on infinity

条件式(3)は、第2レンズ群G2の焦点距離f2と無限遠合焦状態での全系の焦点距離fとの比を規定するものである。本光学系OSは、条件式(3)を満足することで無限から至近距離まで良好な光学性能を実現することができる。   Conditional expression (3) defines the ratio between the focal length f2 of the second lens group G2 and the focal length f of the entire system in the infinitely focused state. This optical system OS can realize good optical performance from infinity to a close range by satisfying conditional expression (3).

この条件式(3)の下限値を下回ると、第2レンズ群G2の屈折力が強くなり、フォーカシングにおいて球面収差の変動を補正することが困難になる。なお、条件式(3)の下限値を0.60とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(3)の下限値を0.70とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the lower limit value of conditional expression (3) is not reached, the refractive power of the second lens group G2 becomes strong, and it becomes difficult to correct the variation in spherical aberration during focusing. The effect of the present application can be ensured by setting the lower limit of conditional expression (3) to 0.60. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the lower limit of conditional expression (3) to 0.70.

また、条件式(3)の上限値を上回ると、第2レンズ群G2の屈折力が弱くなり、フォーカシング移動量が増大して光学系OSの全長が大型化する。また、球面収差と像面湾曲の補正が困難になる。なお、条件式(3)の上限値を1.70とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(3)の上限値を1.50とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the upper limit of conditional expression (3) is exceeded, the refractive power of the second lens group G2 becomes weak, the amount of focusing movement increases, and the overall length of the optical system OS increases. In addition, it becomes difficult to correct spherical aberration and curvature of field. The effect of the present application can be ensured by setting the upper limit value of conditional expression (3) to 1.70. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the upper limit of conditional expression (3) to 1.50.

また、本実施形態に係る光学系OSは、次の条件式(4)を満足することが望ましい。   In addition, it is desirable that the optical system OS according to the present embodiment satisfies the following conditional expression (4).

1.90 < f1/f < 50.00 (4)
但し、
f1:第1レンズ群G1の焦点距離
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
1.90 <f1 / f <50.00 (4)
However,
f1: Focal length of the first lens group G1 f: Focal length of the entire system when focusing on infinity

条件式(4)は、第1レンズ群G1の焦点距離f1と無限遠合焦状態の全系の焦点距離fとの比を規定するものである。本光学系OSは、条件式(4)を満足することで良好な光学性能を実現することができる。   Conditional expression (4) defines the ratio between the focal length f1 of the first lens group G1 and the focal length f of the entire system in the infinitely focused state. This optical system OS can realize good optical performance by satisfying conditional expression (4).

この条件式(4)の上限値を上回ると、第1レンズ群G1の屈折力が弱くなり、球面収差と像面湾曲のフォーカシング変動の補正が困難になる。なお、条件式(4)の上限値を20.00とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(4)の上限値を10.00とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the upper limit value of the conditional expression (4) is exceeded, the refractive power of the first lens group G1 becomes weak, and it becomes difficult to correct the focusing variation of spherical aberration and field curvature. The effect of the present application can be ensured by setting the upper limit of conditional expression (4) to 20.00. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the upper limit of conditional expression (4) to 10.00.

また、条件式(4)の下限値を下回ると、第1レンズ群G1の屈折力が強くなり、球面収差の補正が困難になる。なお、条件式(4)の下限値を2.00とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(4)の下限値を2.10とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   On the other hand, if the lower limit of conditional expression (4) is not reached, the refractive power of the first lens group G1 becomes strong and it becomes difficult to correct spherical aberration. In addition, the effect of this application can be made reliable by making the lower limit of conditional expression (4) into 2.00. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the lower limit value of conditional expression (4) to 2.10.

また、本実施形態に係る光学系OSは、次の条件式(5)を満足することが望ましい。   In addition, it is desirable that the optical system OS according to the present embodiment satisfies the following conditional expression (5).

0.40 < f1/f3 < 20.00 (5)
但し、
f1:第1レンズ群G1の焦点距離
f3:第3レンズ群G3の焦点距離
0.40 <f1 / f3 <20.00 (5)
However,
f1: Focal length of the first lens group G1 f3: Focal length of the third lens group G3

条件式(5)は、第1レンズ群G1の焦点距離f1と第3レンズ群G3の焦点距離f3との比を規定するものである。本光学系OSは、条件式(5)を満足することで良好な光学性能を実現することができる。   Conditional expression (5) defines the ratio between the focal length f1 of the first lens group G1 and the focal length f3 of the third lens group G3. This optical system OS can realize good optical performance by satisfying conditional expression (5).

この条件式(5)の上限値を上回ると、第3レンズ群G3の屈折力が強くなり、至近距離物体に合焦したときに球面収差が補正不足で像面湾曲が補正過剰となり、球面収差と像面湾曲を同時に補正することが困難になる。なお、条件式(5)の上限値を12.00とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(5)の上限値を5.00とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the upper limit of conditional expression (5) is exceeded, the refractive power of the third lens group G3 becomes strong, and when focusing on an object at a close distance, the spherical aberration is insufficiently corrected and the curvature of field becomes excessively corrected. It becomes difficult to correct the curvature of field at the same time. The effect of the present application can be ensured by setting the upper limit value of conditional expression (5) to 12.00. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the upper limit of conditional expression (5) to 5.00.

また、条件式(5)の下限値を下回ると、第1レンズ群G1の屈折力が強くなり、球面収差の補正が困難になる。なお、条件式(5)の下限値を0.45とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(5)の下限値を0.50とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   On the other hand, if the lower limit of conditional expression (5) is not reached, the refractive power of the first lens group G1 becomes strong and it becomes difficult to correct spherical aberration. Note that the effect of the present application can be ensured by setting the lower limit of conditional expression (5) to 0.45. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the lower limit of conditional expression (5) to 0.50.

また、本実施形態に係る光学系OSにおいて、第2レンズ群G2は、最も物体側に正レンズを有することが望ましい(例えば、図1における正メニスカスレンズL21)。このような構成により、フォーカシングに伴う球面収差変動を良好に補正できる。   In the optical system OS according to the present embodiment, it is desirable that the second lens group G2 has a positive lens closest to the object side (for example, a positive meniscus lens L21 in FIG. 1). With such a configuration, it is possible to satisfactorily correct spherical aberration fluctuations accompanying focusing.

また、本実施形態に係る光学系OSは、次の条件式(6)を満足することが望ましい。   In addition, it is desirable that the optical system OS according to the present embodiment satisfies the following conditional expression (6).

0.30 < r1/f2 < 15.00 (6)
但し、
r1:第2レンズ群G2の最も物体側に配置された正レンズの物体側面の曲率半径
f2:第2レンズ群G2の焦点距離
0.30 <r1 / f2 <15.00 (6)
However,
r1: radius of curvature of the object side surface of the positive lens arranged closest to the object side in the second lens group G2 f2: focal length of the second lens group G2

条件式(6)は、第2レンズ群G2の最も物体側に配置された正レンズの物体側面の曲率半径r1と第2レンズ群G2の焦点距離f2との比を規定するものである。本光学系OSは、条件式(6)を満足することで良好な光学性能を実現することができる。   Conditional expression (6) defines the ratio between the radius of curvature r1 of the object side surface of the positive lens disposed closest to the object side of the second lens group G2 and the focal length f2 of the second lens group G2. This optical system OS can realize good optical performance by satisfying conditional expression (6).

この条件式(6)の上限値を上回ると、フォーカシングによる球面収差とコマ収差の変動を補正することが困難になる。なお、条件式(6)の上限値を10.00とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(6)の上限値を5.00とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the upper limit of conditional expression (6) is exceeded, it will be difficult to correct fluctuations in spherical aberration and coma due to focusing. In addition, the effect of this application can be made reliable by making upper limit of conditional expression (6) into 10.00. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the upper limit of conditional expression (6) to 5.00.

また、この条件式(6)の下限値を下回ると、フォーカシングによる球面収差とコマ収差の変動を補正することが困難になる。なお、条件式(6)の下限値を0.40とすることで本願の効果を確実なものにすることができる。さらに好ましくは、条件式(6)の下限値を0.50とすることで本願の効果をより確実なものにすることができる。   If the lower limit of conditional expression (6) is not reached, it will be difficult to correct variations in spherical aberration and coma due to focusing. The effect of the present application can be ensured by setting the lower limit value of conditional expression (6) to 0.40. More preferably, the effect of this application can be made more reliable by setting the lower limit of conditional expression (6) to 0.50.

また、本実施形態に係る光学系OSの第1レンズ群G1は、物体側から順に2枚の正レンズを有することが望ましい(例えば、図1における正メニスカスレンズL11及び正メニスカスレンズL12)。このような構成により、球面収差と像面湾曲とコマ収差を良好に補正することができる。   Further, it is desirable that the first lens group G1 of the optical system OS according to the present embodiment has two positive lenses in order from the object side (for example, a positive meniscus lens L11 and a positive meniscus lens L12 in FIG. 1). With such a configuration, it is possible to satisfactorily correct spherical aberration, field curvature, and coma.

また、本実施形態に係る光学系OSの第2レンズ群G2の最も像側のレンズは、両凸形状であることが望ましい(例えば、図1における両凸レンズL24)。このような構成により、球面収差とコマ収差を良好に補正することができる。   In addition, it is desirable that the most image side lens of the second lens group G2 of the optical system OS according to the present embodiment has a biconvex shape (for example, a biconvex lens L24 in FIG. 1). With such a configuration, spherical aberration and coma can be favorably corrected.

また、本実施形態に係る光学系OSの全てのレンズ面は、球面又は平面であることが望ましい。このような構成により、レンズ加工が容易になり、加工誤差による収差変動を軽減することができる。   In addition, it is desirable that all lens surfaces of the optical system OS according to the present embodiment be spherical or flat. With such a configuration, lens processing is facilitated, and aberration fluctuations due to processing errors can be reduced.

次に、本願の光学系OSを備えたカメラを図10に基づいて説明する。図10は、本願の光学系OSを備えたカメラの構成を示す図である。カメラ1は、図10に示すように撮影レンズ2として上述の光学系OSを備えたレンズ交換式の所謂ミラーレスカメラである。本カメラ1において、不図示の物体(被写体)からの光は、撮影レンズ2で集光されて、不図示のOLPF(Optical low pass filter:光学ローパスフィルタ)を介して撮像部3の撮像面上に被写体像を形成する。そして、撮像部3に設けられた光電変換素子により被写体像が光電変換されて被写体の画像が生成される。この画像は、カメラ1に設けられたEVF(Electronic view finder:電子ビューファインダ)4に表示される。これにより撮影者は、EVF4を介して被写体を観察することができる。   Next, a camera including the optical system OS of the present application will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration of a camera including the optical system OS of the present application. As shown in FIG. 10, the camera 1 is a so-called mirrorless camera of an interchangeable lens provided with the above-described optical system OS as a photographing lens 2. In the camera 1, light from an object (subject) (not shown) is collected by the photographing lens 2 and is on the imaging surface of the imaging unit 3 via an OLPF (Optical low pass filter) (not shown). A subject image is formed on the screen. Then, the subject image is photoelectrically converted by the photoelectric conversion element provided in the imaging unit 3 to generate an image of the subject. This image is displayed on an EVF (Electronic view finder) 4 provided in the camera 1. Thus, the photographer can observe the subject via the EVF 4.

また、撮影者によって不図示のレリーズボタンが押されると、撮像部3により光電変換された画像が不図示のメモリに記憶される。このようにして、撮影者は本カメラ1による被写体の撮影を行うことができる。なお、本実施形態では、ミラーレスカメラの例を説明したが、カメラ本体にクイックリターンミラーを有しファインダー光学系により被写体を観察する一眼レフタイプのカメラに本実施形態に係る光学系OSを搭載した場合でも、上記カメラ1と同様の効果を奏することができる。   Further, when a release button (not shown) is pressed by the photographer, an image photoelectrically converted by the imaging unit 3 is stored in a memory (not shown). In this way, the photographer can shoot the subject with the camera 1. In this embodiment, an example of a mirrorless camera has been described. However, an optical system OS according to this embodiment is mounted on a single-lens reflex camera that has a quick return mirror in the camera body and observes a subject using a finder optical system. Even in this case, the same effect as the camera 1 can be obtained.

なお、以下に記載の内容は、光学性能を損なわない範囲で適宜採用可能である。   The contents described below can be appropriately adopted as long as the optical performance is not impaired.

本実施形態では、3群構成の光学系OSを示したが、以上の構成条件等は、4群、5群等の他の群構成にも適用可能である。また、最も物体側にレンズまたはレンズ群を追加した構成や、最も像側にレンズまたはレンズ群を追加した構成でも構わない。また、レンズ群とは、合焦時に変化する空気間隔で分離された、少なくとも1枚のレンズを有する部分を示す。   In the present embodiment, the optical system OS having the three-group configuration is shown, but the above-described configuration conditions and the like can be applied to other group configurations such as the fourth group and the fifth group. Further, a configuration in which a lens or a lens group is added to the most object side, or a configuration in which a lens or a lens group is added to the most image side may be used. The lens group refers to a portion having at least one lens separated by an air interval that changes during focusing.

また、上述の合焦レンズ群である第2レンズ群G2はオートフォーカスにも適用でき、オートフォーカス用の(超音波モーター等を用いた)モーター駆動にも適している。   The second lens group G2, which is the focusing lens group described above, can also be applied to autofocus and is also suitable for driving a motor for autofocus (using an ultrasonic motor or the like).

また、レンズ群または部分レンズ群を光軸に垂直な方向の成分を持つように移動させ、または、光軸を含む面内方向に回転移動(揺動)させて、手ぶれによって生じる像ぶれを補正する防振レンズ群としても良い。特に、第2レンズ群G2の開口絞りSより像側の2枚のレンズの少なくとも一部を防振レンズ群とするのが好ましい。   Also, by moving the lens group or partial lens group so that it has a component in the direction perpendicular to the optical axis, or rotating (swinging) in the in-plane direction including the optical axis, image blur caused by camera shake is corrected. An anti-vibration lens group may be used. In particular, it is preferable that at least a part of the two lenses on the image side from the aperture stop S of the second lens group G2 is an anti-vibration lens group.

また、レンズ面は、非球面で形成されても構わない。レンズ面が非球面の場合、非球面は、研削加工による非球面、ガラスを型で非球面形状に形成したガラスモールド非球面、ガラスの表面に樹脂を非球面形状に形成した複合型非球面のいずれの非球面でも構わない。また、レンズ面は回折面としても良く、レンズを屈折率分布型レンズ(GRINレンズ)あるいはプラスチックレンズとしても良い。   The lens surface may be formed as an aspheric surface. When the lens surface is an aspheric surface, the aspheric surface is an aspheric surface by grinding, a glass mold aspheric surface made of glass with an aspheric shape, or a composite aspheric surface made of resin with an aspheric shape on the glass surface. Any aspherical surface may be used. The lens surface may be a diffractive surface, and the lens may be a gradient index lens (GRIN lens) or a plastic lens.

さらに、各レンズ面には、フレアやゴーストを軽減し高コントラストの高い光学性能を達成するために、広い波長域で高い透過率を有する反射防止膜を施しても良い。   Further, each lens surface may be provided with an antireflection film having a high transmittance in a wide wavelength region in order to reduce flare and ghost and achieve high optical performance with high contrast.

以下、本実施形態の光学系OSの製造方法の概略を、図11を参照して説明する。まず、各レンズを配置してレンズ群をそれぞれ準備する(ステップS100)。このレンズ群には、光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、この反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含む第1レンズ群から第3レンズ群のレンズを含む。本実施形態では、例えば、図1に示すように、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL11、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL12、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL13、及び、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL14を配置して第1レンズ群G1とし、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL21、両凹形状の負レンズL22、像側に凸面を向けた正メニスカスレンズL23、及び、両凸形状の正レンズL24を配置して第2レンズ群G2とし、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL31と物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL32との接合負レンズCL31、及び、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL33を配置して第3レンズ群G3とする。また、開口絞りSは、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL21と両凹形状の負レンズL22との間に配置する。このようにして準備した各レンズ群を配置して光学系OSを製造する。   Hereinafter, an outline of a method for manufacturing the optical system OS of the present embodiment will be described with reference to FIG. First, each lens is arranged and a lens group is prepared (step S100). The lens group is provided with an antireflection film on at least one of the optical surfaces, and the antireflection film includes at least one layer formed by using a wet process. Includes a lens. In this embodiment, for example, as shown in FIG. 1, in order from the object side, a positive meniscus lens L11 having a convex surface facing the object side, a positive meniscus lens L12 having a convex surface facing the object side, and a convex surface facing the object side. A positive meniscus lens L13 and a negative meniscus lens L14 having a convex surface facing the object side are arranged as a first lens group G1, and in order from the object side, a positive meniscus lens L21 having a convex surface facing the object side, a biconcave shape. A negative lens L22, a positive meniscus lens L23 having a convex surface facing the image side, and a biconvex positive lens L24 are arranged as a second lens group G2, and a positive meniscus lens L31 having a convex surface facing the object side and the object side A negative meniscus lens L31 with a negative meniscus lens L32 having a convex surface facing the lens, and a positive meniscus lens L33 with a convex surface facing the object side. That. The aperture stop S is disposed between the positive meniscus lens L21 of the second lens group G2 and the negative biconcave lens L22. The lens groups prepared in this way are arranged to manufacture the optical system OS.

このとき、合焦に際し、第1レンズ群G1及び第3レンズ群G3が像面に対して固定され、第2レンズ群G2が光軸に沿って移動するように配置する(ステップS200)。また、これらの第1レンズ群G1、第2レンズ群G2及び第3レンズ群G3が、上述の条件式(1)を満足するように配置する(ステップS300)。   At this time, in focusing, the first lens group G1 and the third lens group G3 are fixed with respect to the image plane, and the second lens group G2 is arranged to move along the optical axis (step S200). In addition, the first lens group G1, the second lens group G2, and the third lens group G3 are arranged so as to satisfy the above-described conditional expression (1) (step S300).

以下、本願の各実施例を、図面に基づいて説明する。なお、図1、図4、図6及び図8は、各実施例に係る光学系OS(OS1〜OS4)の構成及び無限遠から近距離物体への合焦状態の変化における各レンズ群の移動の様子を示す断面図である。   Hereinafter, each example of the present application will be described with reference to the drawings. 1, 4, 6, and 8 show the configuration of the optical system OS (OS1 to OS4) according to each embodiment and the movement of each lens group in the change of the in-focus state from infinity to a close object. It is sectional drawing which shows a mode.

[第1実施例]
図1は、第1実施例に係る光学系OS1のレンズ構成を示す断面図である。この光学系OS1は、物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、正の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、を有して構成されている。
[First embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a lens configuration of an optical system OS1 according to the first example. The optical system OS1 includes, in order from the object side, a first lens group G1 having a positive refractive power, a second lens group G2 having a positive refractive power, a third lens group G3 having a positive refractive power, It is comprised.

第1レンズ群G1は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL11、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL12、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL13、及び、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL14から構成される。   The first lens group G1, in order from the object side, includes a positive meniscus lens L11 having a convex surface directed toward the object side, a positive meniscus lens L12 having a convex surface directed toward the object side, a positive meniscus lens L13 having a convex surface directed toward the object side, and It is composed of a negative meniscus lens L14 having a convex surface facing the object side.

第2レンズ群G2は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL21、両凹形状の負レンズL22、像側に凸面を向けた正メニスカスレンズL23、及び、両凸形状の正レンズL24から構成される。   The second lens group G2, in order from the object side, includes a positive meniscus lens L21 having a convex surface facing the object side, a biconcave negative lens L22, a positive meniscus lens L23 having a convex surface facing the image side, and a biconvex shape. Consists of a positive lens L24.

第3レンズ群G3は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL31と物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL32との接合負レンズCL31、及び、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL33から構成される。   The third lens group G3 includes, in order from the object side, a cemented negative lens CL31 including a positive meniscus lens L31 having a convex surface facing the object side and a negative meniscus lens L32 having a convex surface facing the object side, and a convex surface facing the object side. And a positive meniscus lens L33.

このように、この第1実施例に係る光学系OS1において、第1レンズ群G1は、物体側から順に2枚の正レンズ(正メニスカスレンズL11及び正メニスカスレンズL12)が配置されている。また、第2レンズ群G2は、最も物体側に正レンズ(正メニスカスレンズL21)が配置され、最も像側のレンズは両凸形状である(両凸レンズL24)。また、この光学系OS1の全てのレンズ面は球面又は平面で構成されている。   Thus, in the optical system OS1 according to the first example, the first lens group G1 includes two positive lenses (a positive meniscus lens L11 and a positive meniscus lens L12) arranged in order from the object side. In the second lens group G2, the most positive lens (positive meniscus lens L21) is disposed on the object side, and the most image-side lens has a biconvex shape (biconvex lens L24). Further, all lens surfaces of the optical system OS1 are constituted by spherical surfaces or flat surfaces.

なお、開口絞りSは、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL21と両凹形状の負レンズL22との間に配置されている。また、この光学系OS1と像面Iとの間にはフィルター群FLが配置されている。   The aperture stop S is disposed between the positive meniscus lens L21 and the biconcave negative lens L22 of the second lens group G2. A filter group FL is disposed between the optical system OS1 and the image plane I.

このような構成の本第1実施例に係る光学系OS1は、無限遠から近距離物体への合焦に際して、第1レンズ群G1及び第3レンズ群G3は像面に対して固定され、第2レンズ群G2は光軸に沿って物体方向に移動する。なお、開口絞りSは、合焦に際し、第2レンズ群G2とともに移動する。   In the optical system OS1 according to the first example having such a configuration, the first lens group G1 and the third lens group G3 are fixed with respect to the image plane, and the second lens group G3 is fixed at the time of focusing from infinity to a close object. The lens group G2 moves in the object direction along the optical axis. The aperture stop S moves together with the second lens group G2 when focusing.

また、本第1実施例に係る光学系OS1は、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL23の像面側レンズ面(面番号15)と、第3レンズ群G3の正メニスカスレンズL33の物体側レンズ面(面番号21)に、後述する反射防止膜が形成されている。   The optical system OS1 according to the first example includes an image surface side lens surface (surface number 15) of the positive meniscus lens L23 of the second lens group G2 and an object side of the positive meniscus lens L33 of the third lens group G3. An antireflection film described later is formed on the lens surface (surface number 21).

以下の表1に、本第1実施例に係る光学系OS1の諸元の値を掲げる。この表1の全体諸元において、fは全系の焦点距離、FNOはFナンバー、ωは半画角、Yは像高、TLは全長、Bfはバックフォーカスを示している。なお、全長TLは、無限遠合焦時の最も物体側のレンズ面(第1面)から像面Iまでの光軸上の距離を示し、バックフォーカスは、最も像側のレンズ面(第22面)から像面Iまでの光軸上の距離を示している。また、レンズデータにおいて、第1欄mは光線の進行する方向に沿った物体側からのレンズ面の順序(面番号)を、第2欄rは各光学面の曲率半径を、第3欄dは各光学面から次の光学面までの光軸上の距離(面間隔)を、第4欄nd及び第5欄νdはd線(λ=587.6nm)に対する屈折率及びアッベ数をそれぞれ示している。なお、この表1に示す面番号1〜24は、図1に示す番号1〜24に対応している。また、物面及び像面の曲率半径「∞」、曲率半径0.0000は平面を表す。また、空気の屈折率1.00000は省略してある。また、レンズ群焦点距離は、第1〜第3レンズ群G1〜G3の各々の始面の面番号と焦点距離を示している。ここで、以下の全ての諸元値において掲載されている焦点距離、曲率半径、面間隔、その他長さの単位は一般に「mm」が使われるが、光学系は、比例拡大または比例縮小しても同等の光学性能が得られるので、これに限られるものではない。また、これらの符号の説明及び諸元表の説明は以降の実施例においても同様である。   Table 1 below lists values of specifications of the optical system OS1 according to the first example. In the overall specifications of Table 1, f is the focal length of the entire system, FNO is the F number, ω is the half field angle, Y is the image height, TL is the full length, and Bf is the back focus. Note that the total length TL indicates the distance on the optical axis from the most object side lens surface (first surface) to the image plane I when focusing on infinity, and the back focus is the most image side lens surface (22nd lens surface). The distance on the optical axis from the surface) to the image plane I is shown. In the lens data, the first column m indicates the order (surface number) of the lens surfaces from the object side along the light traveling direction, the second column r indicates the curvature radius of each optical surface, and the third column d. Indicates the distance (surface distance) on the optical axis from each optical surface to the next optical surface, and the fourth column nd and the fifth column νd indicate the refractive index and Abbe number for the d-line (λ = 587.6 nm), respectively. ing. The surface numbers 1 to 24 shown in Table 1 correspond to the numbers 1 to 24 shown in FIG. Further, the curvature radius “∞” and the curvature radius 0.0000 of the object plane and the image plane represent a plane. Further, the refractive index of air of 1.0000 is omitted. The lens group focal length indicates the surface number and focal length of the start surface of each of the first to third lens groups G1 to G3. Here, “mm” is generally used for the focal length, the radius of curvature, the surface interval, and other length units listed in all the following specifications, but the optical system is proportionally enlarged or reduced. However, the same optical performance can be obtained, and the present invention is not limited to this. The description of these symbols and the description of the specification table are the same in the following embodiments.

(表1)第1実施例
[全体諸元]
f =32.30
FNO= 1.23
ω =13.97
Y = 8.00
TL =61.93
Bf =14.10

[レンズデータ]
m r d nd νd
物面 ∞ ∞
1 58.9509 2.7624 1.81600 46.63
2 296.6226 0.1000
3 30.8042 2.7169 1.83481 42.72
4 68.4943 0.1000
5 20.8894 2.8130 1.83400 37.17
6 21.5342 2.5000
7 56.1565 1.7000 1.78472 25.68
8 16.3967 d1
9 99.9914 1.3939 1.72916 54.66
10 961.1485 1.6042
11 0.0000 3.6310 開口絞りS
12 -15.7157 1.2000 1.69895 30.13
13 40.0528 1.4252
14 -307.9409 2.5406 1.88300 40.77
15 -39.7561 0.1000
16 61.5510 4.0998 1.81600 46.63
17 -24.1299 d2
18 18.9404 3.4997 1.83481 42.72
19 78.3470 1.5000 1.74077 27.79
20 14.0997 2.2371
21 33.6753 2.2809 1.90265 35.71
22 215.9000 10.8099
23 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
24 0.0000 0.5000
像面 ∞

[レンズ群焦点距離]
レンズ群 始面 焦点距離
第1レンズ群 1 126.08
第2レンズ群 9 42.03
第3レンズ群 18 59.00
(Table 1) First Example [Overall Specifications]
f = 32.30
FNO = 1.23
ω = 13.97
Y = 8.00
TL = 61.93
Bf = 14.10

[Lens data]
m r d nd νd
Object ∞ ∞
1 58.9509 2.7624 1.81600 46.63
2 296.6226 0.1000
3 30.8042 2.7169 1.83481 42.72
4 68.4943 0.1000
5 20.8894 2.8130 1.83400 37.17
6 21.5342 2.5000
7 56.1565 1.7000 1.78472 25.68
8 16.3967 d1
9 99.9914 1.3939 1.72916 54.66
10 961.1485 1.6042
11 0.0000 3.6310 Aperture stop S
12 -15.7157 1.2000 1.69895 30.13
13 40.0528 1.4252
14 -307.9409 2.5406 1.88300 40.77
15 -39.7561 0.1000
16 61.5510 4.0998 1.81600 46.63
17 -24.1299 d2
18 18.9404 3.4997 1.83481 42.72
19 78.3470 1.5000 1.74077 27.79
20 14.0997 2.2371
21 33.6753 2.2809 1.90265 35.71
22 215.9000 10.8099
23 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
24 0.0000 0.5000
Image plane ∞

[Lens focal length]
Lens group Start surface Focal length 1st lens group 1 126.08
Second lens group 9 42.03
Third lens group 18 59.00

この第1実施例において、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との軸上空気間隔d1、及び、第2レンズ群G2と第3レンズ群G3との軸上空気間隔d2は、無限遠から近距離物体への合焦に際し変化する。次の表2に、無限遠合焦時及び近距離物体合焦時の可変間隔を示す。なお、この表2において、D0は光学系OS1の最も物体側のレンズ面(第1面)から物体までの距離を示している。この可変間隔の説明は、以降の実施例においても同様である。   In the first example, the axial air distance d1 between the first lens group G1 and the second lens group G2 and the axial air distance d2 between the second lens group G2 and the third lens group G3 are from infinity. Changes when focusing on short-range objects. Table 2 below shows variable intervals when focusing on infinity and focusing on a short-distance object. In Table 2, D0 represents the distance from the lens surface (first surface) closest to the object of the optical system OS1 to the object. The description of this variable interval is the same in the following embodiments.

(表2)
無限遠 近距離
D0 ∞ 700.0000
d1 8.5270 4.3965
d2 1.1000 5.2305
(Table 2)
Infinity Short distance D0 ∞ 700.0000
d1 8.5270 4.3965
d2 1.1000 5.2305

次の表3に、この第1実施例に係る光学系OS1の各条件対応値を示す。なお、この表3において、fは全系の焦点距離を、f1は第1レンズ群G1の焦点距離を、f2は第2レンズ群G2の焦点距離を、f3は第3レンズ群G3の焦点距離を、r1は第2レンズ群G2の最も物体側に配置された正レンズの物体側面の曲率半径を、それぞれ表している。以上の符号の説明は以降の実施例においても同様である。   Table 3 below shows values corresponding to the respective conditions of the optical system OS1 according to the first example. In Table 3, f is the focal length of the entire system, f1 is the focal length of the first lens group G1, f2 is the focal length of the second lens group G2, and f3 is the focal length of the third lens group G3. R1 represents the radius of curvature of the object side surface of the positive lens arranged closest to the object side in the second lens group G2. The description of the above symbols is the same in the following embodiments.

(表3)
(1)f3/f2=1.40
(2)f3/f =1.83
(3)f2/f =1.30
(4)f1/f =3.90
(5)f1/f3=2.14
(6)r1/f2=2.38
(Table 3)
(1) f3 / f2 = 1.40
(2) f3 / f = 1.83
(3) f2 / f = 1.30
(4) f1 / f = 3.90
(5) f1 / f3 = 2.14
(6) r1 / f2 = 2.38

なお、条件式(6)のr1は、第9面の曲率半径が対応する。このように、第1実施例に係る光学系OS1は、上記条件式(1)〜(6)を全て満足している。   Note that r1 in the conditional expression (6) corresponds to the radius of curvature of the ninth surface. Thus, the optical system OS1 according to the first example satisfies all the conditional expressions (1) to (6).

図2に、この第1実施例に係る光学系OS1の無限遠合焦状態及び近距離物体合焦状態(D0=700mm)における球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差、及び、コマ収差の諸収差図を示す。各収差図において、FNOはFナンバーを、NAは開口数を、Yは半画角に対する像高を、dはd線(λ=587.6nm)を、gはg線(λ=435.8nm)を、それぞれ示している。また、非点収差図において実線はサジタル像面を示し、破線はメリディオナル像面を示している。また、コマ収差図は、像高Yに対する収差を示している。これらの収差図の説明は、以降の実施例においても同様である。図2に示す各収差図から明らかなように、この第1実施例に係る光学系OS1では、無限遠合焦状態から近距離物体合焦状態までの各状態において諸収差が良好に補正され、優れた結像性能を有することが分かる。   FIG. 2 shows spherical aberration, astigmatism, distortion, lateral chromatic aberration, and coma aberration in the infinite focus state and the short distance object focus state (D0 = 700 mm) of the optical system OS1 according to the first embodiment. The aberration diagrams of are shown. In each aberration diagram, FNO is the F number, NA is the numerical aperture, Y is the image height with respect to the half field angle, d is the d-line (λ = 587.6 nm), and g is the g-line (λ = 435.8 nm). ) Respectively. In the astigmatism diagram, the solid line indicates the sagittal image plane, and the broken line indicates the meridional image plane. Further, the coma aberration diagram shows the aberration with respect to the image height Y. The explanation of these aberration diagrams is the same in the following examples. As apparent from the respective aberration diagrams shown in FIG. 2, in the optical system OS1 according to the first example, various aberrations are satisfactorily corrected in each state from the infinitely focused state to the short-distance object focused state, It can be seen that the imaging performance is excellent.

図3は、上記第1実施例と同様の構成の光学系であって、入射した光線が第1番目の反射面と第2番目の反射面で反射して像面Iにゴーストやフレアを形成する様子の一例を示す図である。   FIG. 3 shows an optical system having the same configuration as that of the first embodiment, and incident light rays are reflected by the first reflecting surface and the second reflecting surface to form ghosts and flares on the image plane I. It is a figure which shows an example of a mode to do.

図3において、物体側からの光線BMが図示のように光学系に入射すると、正メニスカスレンズL33における物体側のレンズ面(第1番目の反射光の発生面でありその面番号は21)で反射し、その反射光は正メニスカスレンズL23における像面側のレンズ面(第2番目の反射光の発生面でありその面番号は15)で再度反射して像面Iに到達し、ゴーストおよびフレアを発生させてしまう。なお、第1番目の反射光の発生面21は、像面Iから見て凹形状のレンズ面、第2番目の反射光の発生面15は開口絞りSから見て凹形状のレンズ面である。このような面に、より広い波長範囲で広入射角に対応した反射防止膜を形成することで、ゴーストおよびフレアを効果的に低減させることができる。すなわち、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL23の像面側レンズ面(開口絞りSから見て像面側に凹形状のレンズ面)と、第3レンズ群G3の正メニスカスレンズL33の物体側レンズ面(最も像面側の、像面Iから見て凹形状のレンズ面)に後述する反射防止膜を形成することでゴーストやフレアの低減を達成している。なお、反射防止膜の作用、効果は、以降の実施例でも同様であり、個別の詳細な説明を省略する。   In FIG. 3, when a light beam BM from the object side enters the optical system as shown in the figure, the object side lens surface of the positive meniscus lens L33 (the first reflected light generation surface, whose surface number is 21). The reflected light is reflected again by the lens surface on the image plane side of the positive meniscus lens L23 (the second reflected light generation surface and its surface number is 15) to reach the image surface I, and the ghost and Flares will be generated. The first reflected light generation surface 21 is a concave lens surface when viewed from the image plane I, and the second reflected light generation surface 15 is a concave lens surface when viewed from the aperture stop S. . By forming an antireflection film corresponding to a wide incident angle in a wider wavelength range on such a surface, ghosts and flares can be effectively reduced. That is, the image side lens surface of the positive meniscus lens L23 in the second lens group G2 (the lens surface concave on the image plane side when viewed from the aperture stop S) and the object side of the positive meniscus lens L33 in the third lens group G3. Ghosting and flare reduction is achieved by forming an antireflection film, which will be described later, on the lens surface (lens surface that is concave when viewed from the image surface I on the most image surface side). In addition, the effect | action and effect of an anti-reflective film are the same also in a subsequent example, and a detailed description is abbreviate | omitted.

[第2実施例]
図4は、第2実施例に係る光学系OS2のレンズ構成を示す断面図である。この光学系OS2は、物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、正の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、を有して構成されている。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the lens configuration of the optical system OS2 according to the second example. The optical system OS2 includes, in order from the object side, a first lens group G1 having a positive refractive power, a second lens group G2 having a positive refractive power, a third lens group G3 having a positive refractive power, It is comprised.

第1レンズ群G1は、物体側から順に、両凸形状の正レンズL11、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL12、及び、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL13から構成される。   The first lens group G1 includes, in order from the object side, a biconvex positive lens L11, a positive meniscus lens L12 having a convex surface facing the object side, and a negative meniscus lens L13 having a convex surface facing the object side.

第2レンズ群G2は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL21、両凹形状の負レンズL22、両凹形状の負レンズL23と両凸形状の正レンズL24との接合正レンズCL21、及び、両凸形状の正レンズL25から構成される。   The second lens group G2 includes, in order from the object side, a positive meniscus lens L21 having a convex surface directed toward the object side, a biconcave negative lens L22, a biconcave negative lens L23, and a biconvex positive lens L24. The lens includes a positive lens CL21 and a biconvex positive lens L25.

第3レンズ群G3は、物体側から順に、像側に凸面を向けた正メニスカスレンズL31と両凹形状の負レンズL32との接合負レンズCL31、及び、両凸形状の正レンズL33から構成される。   The third lens group G3 is composed of, in order from the object side, a cemented negative lens CL31 of a positive meniscus lens L31 having a convex surface directed toward the image side and a biconcave negative lens L32, and a biconvex positive lens L33. The

このように、この第2実施例に係る光学系OS2において、第1レンズ群G1は、物体側から順に2枚の正レンズ(両凸形状の正レンズL11及び正メニスカスレンズL12)が配置されている。また、第2レンズ群G2は、最も物体側に正レンズ(正メニスカスレンズL21)が配置され、最も像側のレンズは両凸形状である(両凸レンズL25)。また、この光学系OS2の全てのレンズ面は球面又は平面で構成されている。   Thus, in the optical system OS2 according to the second example, the first lens group G1 includes two positive lenses (biconvex positive lens L11 and positive meniscus lens L12) arranged in order from the object side. Yes. In the second lens group G2, the positive lens (positive meniscus lens L21) is disposed closest to the object side, and the lens closest to the image side has a biconvex shape (biconvex lens L25). Further, all lens surfaces of the optical system OS2 are constituted by spherical surfaces or flat surfaces.

なお、開口絞りSは、第2レンズ群G2の両凹形状の負レンズL22と両凹形状の負レンズL23との間に配置されている。また、この光学系OS2と像面Iとの間にはフィルター群FLが配置されている。   The aperture stop S is disposed between the biconcave negative lens L22 and the biconcave negative lens L23 of the second lens group G2. A filter group FL is disposed between the optical system OS2 and the image plane I.

このような構成の本第2実施例に係る光学系OS2は、無限遠から近距離物体への合焦に際して、第1レンズ群G1及び第3レンズ群G3は像面に対して固定され、第2レンズ群G2は光軸に沿って物体方向に移動する。なお、開口絞りSは、合焦に際し、第2レンズ群G2とともに移動する。   In the optical system OS2 according to the second example having such a configuration, the first lens group G1 and the third lens group G3 are fixed with respect to the image plane when focusing from infinity to a close object, and the second The lens group G2 moves in the object direction along the optical axis. The aperture stop S moves together with the second lens group G2 when focusing.

また、本第2実施例に係る光学系OS2は、第1レンズ群G1の負メニスカスレンズL13の像面側レンズ面(面番号6)と、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL21の物体側レンズ面(面番号7)に、後述する反射防止膜が形成されている。   The optical system OS2 according to the second example includes an image side lens surface (surface number 6) of the negative meniscus lens L13 of the first lens group G1 and an object side of the positive meniscus lens L21 of the second lens group G2. An antireflection film described later is formed on the lens surface (surface number 7).

以下の表4に、本第2実施例に係る光学系OS2の諸元の値を掲げる。なお、この表4に示す面番号1〜24は、図4に示す番号1〜24に対応している。   Table 4 below lists values of specifications of the optical system OS2 according to the second example. The surface numbers 1 to 24 shown in Table 4 correspond to the numbers 1 to 24 shown in FIG.

(表4)第2実施例
[全体諸元]
f =31.50
FNO= 1.23
ω =14.33
Y = 8.00
TL =54.30
Bf =13.70

[レンズデータ]
m r d nd νd
物面 ∞ ∞
1 36.5576 4.5395 1.51680 64.10
2 -179.0694 0.1000
3 15.9667 4.5519 1.83480 42.72
4 30.4447 0.6098
5 37.6030 1.8631 1.67270 32.11
6 10.5289 d1
7 29.2292 1.6293 1.80400 46.58
8 74.2437 1.6887
9 -24.1013 1.0000 1.64768 33.80
10 23.7658 2.0921
11 0.0000 1.1570 開口絞りS
12 -173.1509 1.1997 1.67270 32.11
13 23.8072 2.9707 1.83480 42.72
14 -41.4088 0.1000
15 32.6245 3.0534 1.77249 49.61
16 -41.4025 d2
17 -55.0447 1.9311 1.90366 31.27
18 -19.3923 1.5000 1.67270 32.11
19 16.7526 1.2805
20 21.3864 3.1896 1.83480 42.72
21 -85.7704 10.4124
22 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
23 0.0000 0.5000
像面 ∞

[レンズ群焦点距離]
レンズ群 始面 焦点距離
第1レンズ群 1 69.77
第2レンズ群 7 25.22
第3レンズ群 17 135.82
(Table 4) Second Example [Overall Specifications]
f = 31.50
FNO = 1.23
ω = 14.33
Y = 8.00
TL = 54.30
Bf = 13.70

[Lens data]
m r d nd νd
Object ∞ ∞
1 36.5576 4.5395 1.51680 64.10
2 -179.0694 0.1000
3 15.9667 4.5519 1.83480 42.72
4 30.4447 0.6098
5 37.6030 1.8631 1.67270 32.11
6 10.5289 d1
7 29.2292 1.6293 1.80400 46.58
8 74.2437 1.6887
9 -24.1013 1.0000 1.64768 33.80
10 23.7658 2.0921
11 0.0000 1.1570 Aperture stop S
12 -173.1509 1.1997 1.67270 32.11
13 23.8072 2.9707 1.83480 42.72
14 -41.4088 0.1000
15 32.6245 3.0534 1.77249 49.61
16 -41.4025 d2
17 -55.0447 1.9311 1.90366 31.27
18 -19.3923 1.5000 1.67270 32.11
19 16.7526 1.2805
20 21.3864 3.1896 1.83480 42.72
21 -85.7704 10.4124
22 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
23 0.0000 0.5000
Image plane ∞

[Lens focal length]
Lens group Start surface Focal length 1st lens group 1 69.77
Second lens group 7 25.22
Third lens group 17 135.82

この第2実施例において、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との軸上空気間隔d1、及び、第2レンズ群G2と第3レンズ群G3との軸上空気間隔d2は、無限遠から近距離物体への合焦に際し変化する。次の表5に、無限遠合焦時及び近距離物体合焦時の可変間隔を示す。   In the second embodiment, the axial air distance d1 between the first lens group G1 and the second lens group G2 and the axial air distance d2 between the second lens group G2 and the third lens group G3 are from infinity. Changes when focusing on short-range objects. Table 5 below shows variable intervals when focusing on infinity and focusing on a short-distance object.

(表5)
無限遠 近距離
D0 ∞ 700.0000
d1 6.0410 4.3247
d2 0.1000 1.8162
(Table 5)
Infinity Short distance D0 ∞ 700.0000
d1 6.0410 4.3247
d2 0.1000 1.8162

次の表6に、この第2実施例に係る光学系OS2の各条件対応値を示す。   Table 6 below shows values corresponding to the respective conditions of the optical system OS2 according to the second example.

(表6)
(1)f3/f2=5.38
(2)f3/f =4.31
(3)f2/f =0.80
(4)f1/f =2.21
(5)f1/f3=0.51
(6)r1/f2=1.16
(Table 6)
(1) f3 / f2 = 5.38
(2) f3 / f = 4.31
(3) f2 / f = 0.80
(4) f1 / f = 2.21
(5) f1 / f3 = 0.51
(6) r1 / f2 = 1.16

なお、条件式(6)のr1は、第7面の曲率半径が対応する。このように、第2実施例に係る光学系OS2は、上記条件式(1)〜(6)を全て満足している。   Note that r1 in the conditional expression (6) corresponds to the radius of curvature of the seventh surface. As described above, the optical system OS2 according to the second example satisfies all the conditional expressions (1) to (6).

図5に、この第2実施例に係る光学系OS2の無限遠合焦状態及び近距離物体合焦状態(D0=700mm)における球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差、及び、コマ収差の諸収差図を示す。図5に示す各収差図から明らかなように、この第2実施例に係る光学系OS2では、無限遠合焦状態から近距離物体合焦状態までの各状態において諸収差が良好に補正され、優れた結像性能を有することが分かる。   FIG. 5 shows spherical aberration, astigmatism, distortion, lateral chromatic aberration, and coma aberration in the infinite focus state and the short distance object focus state (D0 = 700 mm) of the optical system OS2 according to the second embodiment. The aberration diagrams of are shown. As apparent from the respective aberration diagrams shown in FIG. 5, in the optical system OS2 according to the second example, various aberrations are satisfactorily corrected in each state from the infinitely focused state to the short-distance object focused state, It can be seen that the imaging performance is excellent.

[第3実施例]
図6は、第3実施例に係る光学系OS3のレンズ構成を示す断面図である。この光学系OS3は、物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、正の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、を有して構成されている。
[Third embodiment]
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the lens configuration of the optical system OS3 according to the third example. The optical system OS3 includes, in order from the object side, a first lens group G1 having a positive refractive power, a second lens group G2 having a positive refractive power, a third lens group G3 having a positive refractive power, It is comprised.

第1レンズ群G1は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL11、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL12、及び、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL13から構成される。   The first lens group G1, in order from the object side, includes a positive meniscus lens L11 having a convex surface facing the object side, a positive meniscus lens L12 having a convex surface facing the object side, and a negative meniscus lens L13 having a convex surface facing the object side. Composed.

第2レンズ群G2は、物体側から順に、両凸形状の正レンズL21、両凹形状の負レンズL22、像側に凸面を向けた正メニスカスレンズL23、及び、両凸形状の正レンズL24から構成される。   The second lens group G2, in order from the object side, includes a biconvex positive lens L21, a biconcave negative lens L22, a positive meniscus lens L23 having a convex surface facing the image side, and a biconvex positive lens L24. Composed.

第3レンズ群G3は、物体側から順に、両凸形状の正レンズL31と両凹形状の負レンズL32との接合負レンズCL31、及び、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL33から構成される。   The third lens group G3 includes, in order from the object side, a cemented negative lens CL31 of a biconvex positive lens L31 and a biconcave negative lens L32, and a positive meniscus lens L33 with a convex surface facing the object side. The

このように、この第3実施例に係る光学系OS3において、第1レンズ群G1は、物体側から順に2枚の正レンズ(正メニスカスレンズL11及び正メニスカスレンズL12)が配置されている。また、第2レンズ群G2は、最も物体側に正レンズ(両凸レンズL21)が配置され、最も像側のレンズは両凸形状である(両凸レンズL24)。また、この光学系OS3の全てのレンズ面は球面又は平面で構成されている。   Thus, in the optical system OS3 according to the third example, the first lens group G1 includes two positive lenses (a positive meniscus lens L11 and a positive meniscus lens L12) arranged in order from the object side. In the second lens group G2, a positive lens (biconvex lens L21) is disposed closest to the object side, and a lens closest to the image side has a biconvex shape (biconvex lens L24). Further, all lens surfaces of the optical system OS3 are constituted by spherical surfaces or flat surfaces.

なお、開口絞りSは、第2レンズ群G2の両凸形状の正レンズL21と両凹形状の負レンズL22との間に配置されている。また、この光学系OS3と像面Iとの間にはフィルター群FLが配置されている。   The aperture stop S is disposed between the biconvex positive lens L21 and the biconcave negative lens L22 of the second lens group G2. A filter group FL is disposed between the optical system OS3 and the image plane I.

このような構成の本第3実施例に係る光学系OS3は、無限遠から近距離物体への合焦に際して、第1レンズ群G1及び第3レンズ群G3は像面に対して固定され、第2レンズ群G2は光軸に沿って物体方向に移動する。なお、開口絞りSは、合焦に際し、第2レンズ群G2とともに移動する。   In the optical system OS3 according to the third example having such a configuration, the first lens group G1 and the third lens group G3 are fixed with respect to the image plane when focusing from infinity to a short distance object, and the second The lens group G2 moves in the object direction along the optical axis. The aperture stop S moves together with the second lens group G2 when focusing.

また、本第3実施例に係る光学系OS3は、第2レンズ群G2の両凸レンズL24の像面側レンズ面(面番号15)と、第3レンズ群G3の正メニスカスレンズL33の物体側レンズ面(面番号19)に、後述する反射防止膜が形成されている。   The optical system OS3 according to the third example includes an image surface side lens surface (surface number 15) of the biconvex lens L24 of the second lens group G2, and an object side lens of the positive meniscus lens L33 of the third lens group G3. An antireflection film described later is formed on the surface (surface number 19).

以下の表7に、本第3実施例に係る光学系OS3の諸元の値を掲げる。なお、この表7に示す面番号1〜22は、図6に示す番号1〜22に対応している。   Table 7 below provides values of specifications of the optical system OS3 according to the third example. The surface numbers 1 to 22 shown in Table 7 correspond to the numbers 1 to 22 shown in FIG.

(表7)第3実施例
[全体諸元]
f =31.99
FNO= 1.23
ω =14.11
Y = 8.00
TL =64.25
Bf =14.30

[レンズデータ]
m r d nd νd
物面 ∞ ∞
1 31.5954 4.3000 1.83481 42.73
2 221.2096 0.1000
3 28.0000 3.2000 1.83400 37.18
4 39.0000 2.7000
5 182.5453 1.2000 1.75520 27.57
6 17.8832 d1
7 54.5012 2.2000 1.77250 49.62
8 -121.1911 1.4000
9 0.0000 3.5000 開口絞りS
10 -17.5587 1.2000 1.68893 31.16
11 32.6949 1.5000
12 -123.2970 2.3000 1.88300 40.66
13 -53.0000 1.7000
14 75.1287 4.8000 1.81600 46.59
15 -23.0269 d2
16 21.5035 3.9500 1.95400 33.46
17 -714.3048 1.3000 1.80518 25.45
18 14.8026 1.2000
19 24.9460 2.5000 1.88300 40.66
20 55.6297 11.0102
21 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
22 0.0000 0.5000
像面 ∞

[レンズ群焦点距離]
レンズ群 始面 焦点距離
第1レンズ群 1 210.36
第2レンズ群 7 39.09
第3レンズ群 16 68.51
(Table 7) Third Example [Overall Specifications]
f = 31.99
FNO = 1.23
ω = 14.11
Y = 8.00
TL = 64.25
Bf = 14.30

[Lens data]
m r d nd νd
Object ∞ ∞
1 31.5954 4.3000 1.83481 42.73
2 221.2096 0.1000
3 28.0000 3.2000 1.83400 37.18
4 39.0000 2.7000
5 182.5453 1.2000 1.75520 27.57
6 17.8832 d1
7 54.5012 2.2000 1.77250 49.62
8 -121.1911 1.4000
9 0.0000 3.5000 Aperture stop S
10 -17.5587 1.2000 1.68893 31.16
11 32.6949 1.5000
12 -123.2970 2.3000 1.88300 40.66
13 -53.0000 1.7000
14 75.1287 4.8000 1.81600 46.59
15 -23.0269 d2
16 21.5035 3.9500 1.95400 33.46
17 -714.3048 1.3000 1.80518 25.45
18 14.8026 1.2000
19 24.9460 2.5000 1.88300 40.66
20 55.6297 11.0102
21 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
22 0.0000 0.5000
Image plane ∞

[Lens focal length]
Lens group Start surface Focal length 1st lens group 1 210.36
Second lens group 7 39.09
Third lens group 16 68.51

この第3実施例において、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との軸上空気間隔d1、及び、第2レンズ群G2と第3レンズ群G3との軸上空気間隔d2は、無限遠から近距離物体への合焦に際し変化する。次の表8に、無限遠合焦時及び近距離物体合焦時の可変間隔を示す。   In the third example, the axial air distance d1 between the first lens group G1 and the second lens group G2 and the axial air distance d2 between the second lens group G2 and the third lens group G3 are from infinity. Changes when focusing on short-range objects. Table 8 below shows variable intervals when focusing on infinity and focusing on a short-distance object.

(表8)
無限遠 近距離
D0 ∞ 700.0000
d1 9.3000 5.7083
d2 1.6000 5.1916
(Table 8)
Infinity Short distance D0 ∞ 700.0000
d1 9.3000 5.7083
d2 1.6000 5.1916

次の表9に、この第3実施例に係る光学系OS3の各条件対応値を示す。   Table 9 below shows values corresponding to the respective conditions of the optical system OS3 according to the third example.

(表9)
(1)f3/f2=1.75
(2)f3/f =2.14
(3)f2/f =1.22
(4)f1/f =6.57
(5)f1/f3=3.07
(6)r1/f2=1.39
(Table 9)
(1) f3 / f2 = 1.75
(2) f3 / f = 2.14
(3) f2 / f = 1.22
(4) f1 / f = 6.57
(5) f1 / f3 = 3.07
(6) r1 / f2 = 1.39

なお、条件式(6)のr1は、第7面の曲率半径が対応する。このように、第3実施例に係る光学系OS3は、上記条件式(1)〜(6)を全て満足している。   Note that r1 in the conditional expression (6) corresponds to the radius of curvature of the seventh surface. Thus, the optical system OS3 according to the third example satisfies all the conditional expressions (1) to (6).

図7に、この第3実施例に係る光学系OS3の無限遠合焦状態及び近距離物体合焦状態(D0=700mm)における球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差、及び、コマ収差の諸収差図を示す。図7に示す各収差図から明らかなように、この第3実施例に係る光学系OS3では、無限遠合焦状態から近距離物体合焦状態までの各状態において諸収差が良好に補正され、優れた結像性能を有することが分かる。   FIG. 7 shows spherical aberration, astigmatism, distortion, lateral chromatic aberration, and coma aberration in the infinite focus state and the short distance object focus state (D0 = 700 mm) of the optical system OS3 according to the third embodiment. The aberration diagrams of are shown. As is apparent from the respective aberration diagrams shown in FIG. 7, in the optical system OS3 according to the third example, various aberrations are satisfactorily corrected in each state from the infinity in-focus state to the short-distance object in-focus state, It can be seen that the imaging performance is excellent.

[第4実施例]
図8は、第4実施例に係る光学系OS4のレンズ構成を示す断面図である。この光学系OS4は、物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、正の屈折力を有する第2レンズ群G2と、正の屈折力を有する第3レンズ群G3と、を有して構成されている。
[Fourth embodiment]
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the lens configuration of the optical system OS4 according to the fourth example. The optical system OS4 includes, in order from the object side, a first lens group G1 having a positive refractive power, a second lens group G2 having a positive refractive power, and a third lens group G3 having a positive refractive power, It is comprised.

第1レンズ群G1は、物体側から順に、両凸形状の正レンズL11、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL12、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL13、及び、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL14から構成される。   The first lens group G1 includes, in order from the object side, a biconvex positive lens L11, a positive meniscus lens L12 having a convex surface facing the object side, a positive meniscus lens L13 having a convex surface facing the object side, and a convex surface facing the object side Is composed of a negative meniscus lens L14.

第2レンズ群G2は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL21、両凹形状の負レンズL22、像側に凸面を向けた正メニスカスレンズL23、及び、両凸形状の正レンズL24から構成される。   The second lens group G2, in order from the object side, includes a positive meniscus lens L21 having a convex surface facing the object side, a biconcave negative lens L22, a positive meniscus lens L23 having a convex surface facing the image side, and a biconvex shape. Consists of a positive lens L24.

第3レンズ群G3は、物体側から順に、両凸形状の正レンズL31、及び、両凹形状の負レンズL32と物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL33との接合負レンズCL31から構成される。   The third lens group G3 includes, in order from the object side, a biconvex positive lens L31, and a cemented negative lens CL31 including a biconcave negative lens L32 and a positive meniscus lens L33 having a convex surface facing the object side. The

このように、この第4実施例に係る光学系OS4において、第1レンズ群G1は、物体側から順に2枚の正レンズ(両凸形状の正レンズL11及び正メニスカスレンズL12)が配置されている。また、第2レンズ群G2は、最も物体側に正レンズ(正メニスカスレンズL21)が配置され、最も像側のレンズは両凸形状である(両凸レンズL24)。また、この光学系OS4の全てのレンズ面は球面又は平面で構成されている。   Thus, in the optical system OS4 according to the fourth example, the first lens group G1 includes two positive lenses (a biconvex positive lens L11 and a positive meniscus lens L12) arranged in order from the object side. Yes. In the second lens group G2, the most positive lens (positive meniscus lens L21) is disposed on the object side, and the most image-side lens has a biconvex shape (biconvex lens L24). Further, all lens surfaces of the optical system OS4 are constituted by spherical surfaces or flat surfaces.

なお、開口絞りSは、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL21と両凹形状の負レンズL22との間に配置されている。また、この光学系OS4と像面Iとの間にはフィルター群FLが配置されている。   The aperture stop S is disposed between the positive meniscus lens L21 and the biconcave negative lens L22 of the second lens group G2. A filter group FL is disposed between the optical system OS4 and the image plane I.

このような構成の本第4実施例に係る光学系OS4は、無限遠から近距離物体への合焦に際して、第1レンズ群G1及び第3レンズ群G3は像面に対して固定され、第2レンズ群G2は光軸に沿って物体方向に移動する。なお、開口絞りSは、合焦に際し、第2レンズ群G2とともに移動する。   In the optical system OS4 according to the fourth example having such a configuration, the first lens group G1 and the third lens group G3 are fixed with respect to the image plane when focusing from infinity to a close object, and the second lens group G3 is fixed to the image plane. The lens group G2 moves in the object direction along the optical axis. The aperture stop S moves together with the second lens group G2 when focusing.

また、本第4実施例に係る光学系は、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL23の像面側レンズ面(面番号15)と、第3レンズ群G3の両凸形状の正レンズL31の物体側レンズ面(面番号18)に、後述する反射防止膜が形成されている。   The optical system according to the fourth example includes the image surface side lens surface (surface number 15) of the positive meniscus lens L23 of the second lens group G2 and the biconvex positive lens L31 of the third lens group G3. An antireflection film described later is formed on the object side lens surface (surface number 18).

以下の表10に、本第4実施例に係る光学系OS4の諸元の値を掲げる。なお、この表10に示す面番号1〜24は、図8に示す番号1〜24に対応している。   Table 10 below lists values of specifications of the optical system OS4 according to the fourth example. The surface numbers 1 to 24 shown in Table 10 correspond to the numbers 1 to 24 shown in FIG.

(表10)第4実施例
[全体諸元]
f =31.50
FNO= 1.23
ω =14.24
Y = 8.00
TL =55.00
Bf =13.70

[レンズデータ]
m r d nd νd
物面 ∞ ∞
1 57.7937 3.8669 1.60311 60.67
2 -152.7504 0.1000
3 21.6543 3.7584 1.60311 60.67
4 41.5111 0.1000
5 30.0061 2.7318 1.83480 42.72
6 49.8338 0.8669
7 127.2755 1.4984 1.67270 32.11
8 16.5082 d1
9 20.0297 1.1782 1.83480 42.72
10 20.7248 2.4693
11 0.0000 2.9702 開口絞りS
12 -14.3410 1.0000 1.64768 33.80
13 40.2723 1.4672
14 -56.8420 2.1002 1.83480 42.72
15 -23.2653 0.1000
16 42.7022 3.8131 1.77249 49.61
17 -24.2988 d2
18 59.8262 2.5837 1.83480 42.72
19 -31.8636 0.5731
20 -27.0382 1.3000 1.68893 31.07
21 20.7059 2.5815 1.83480 42.72
22 63.7424 10.4100
23 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
24 0.0000 0.5000
像面 ∞

[レンズ群焦点距離]
レンズ群 始面 焦点距離
第1レンズ群 1 70.00
第2レンズ群 9 36.83
第3レンズ群 18 100.83
(Table 10) Fourth Example [Overall Specifications]
f = 31.50
FNO = 1.23
ω = 14.24
Y = 8.00
TL = 55.00
Bf = 13.70

[Lens data]
m r d nd νd
Object ∞ ∞
1 57.7937 3.8669 1.60311 60.67
2 -152.7504 0.1000
3 21.6543 3.7584 1.60311 60.67
4 41.5111 0.1000
5 30.0061 2.7318 1.83480 42.72
6 49.8338 0.8669
7 127.2755 1.4984 1.67270 32.11
8 16.5082 d1
9 20.0297 1.1782 1.83480 42.72
10 20.7248 2.4693
11 0.0000 2.9702 Aperture stop S
12 -14.3410 1.0000 1.64768 33.80
13 40.2723 1.4672
14 -56.8420 2.1002 1.83480 42.72
15 -23.2653 0.1000
16 42.7022 3.8131 1.77249 49.61
17 -24.2988 d2
18 59.8262 2.5837 1.83480 42.72
19 -31.8636 0.5731
20 -27.0382 1.3000 1.68893 31.07
21 20.7059 2.5815 1.83480 42.72
22 63.7424 10.4100
23 0.0000 2.7900 1.51680 64.12
24 0.0000 0.5000
Image plane ∞

[Lens focal length]
Lens group Start surface Focal length First lens group 1 70.00
Second lens group 9 36.83
Third lens group 18 100.83

この第4実施例において、第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との軸上空気間隔d1、及び、第2レンズ群G2と第3レンズ群G3との軸上空気間隔d2は、無限遠から近距離物体への合焦に際し変化する。次の表11に、無限遠合焦時及び近距離物体合焦時の可変間隔を示す。   In the fourth example, the axial air distance d1 between the first lens group G1 and the second lens group G2 and the axial air distance d2 between the second lens group G2 and the third lens group G3 are from infinity. Changes when focusing on short-range objects. Table 11 below shows variable intervals when focusing on infinity and focusing on a short-distance object.

(表11)
無限遠 近距離
D0 ∞ 700.0000
d1 6.1423 3.0681
d2 0.1000 3.1741
(Table 11)
Infinity Short distance D0 ∞ 700.0000
d1 6.1423 3.0681
d2 0.1000 3.1741

次の表12に、この第4実施例に係る光学系OS4の各条件対応値を示す。   Table 12 below shows values corresponding to the respective conditions of the optical system OS4 according to the fourth example.

(表12)
(1)f3/f2=2.74
(2)f3/f =3.20
(3)f2/f =1.17
(4)f1/f =2.22
(5)f1/f3=0.75
(6)r1/f2=0.54
(Table 12)
(1) f3 / f2 = 2.74
(2) f3 / f = 3.20
(3) f2 / f = 1.17
(4) f1 / f = 2.22
(5) f1 / f3 = 0.75
(6) r1 / f2 = 0.54

なお、条件式(6)のr1は、第9面の曲率半径が対応する。このように、第4実施例に係る光学系OS4は、上記条件式(1)〜(6)を全て満足している。   Note that r1 in the conditional expression (6) corresponds to the radius of curvature of the ninth surface. As described above, the optical system OS4 according to the fourth example satisfies all the conditional expressions (1) to (6).

図9に、この第4実施例に係る光学系OS4の無限遠合焦状態及び近距離物体合焦状態(D0=700mm)における球面収差、非点収差、歪曲収差、倍率色収差、及び、コマ収差の諸収差図を示す。図9に示す各収差図から明らかなように、この第4実施例に係る光学系OS4では、無限遠合焦状態から近距離物体合焦状態までの各状態において諸収差が良好に補正され、優れた結像性能を有することが分かる。   FIG. 9 shows spherical aberration, astigmatism, distortion, lateral chromatic aberration, and coma aberration in the infinite focus state and the short distance object focus state (D0 = 700 mm) of the optical system OS4 according to the fourth example. The aberration diagrams of are shown. As is apparent from the respective aberration diagrams shown in FIG. 9, in the optical system OS4 according to the fourth example, various aberrations are satisfactorily corrected in each state from the infinitely focused state to the short-distance object focused state, It can be seen that the imaging performance is excellent.

ここで、本願の実施形態に係る光学系に用いられる反射防止膜(多層広帯域反射防止膜とも言う)について説明する。図12は、反射防止膜の膜構成の一例を示す図である。この反射防止膜101は7層からなり、レンズ等の光学部材102の光学面に形成される。第1層101aは真空蒸着法で蒸着された酸化アルミニウムで形成されている。また、この第1層101aの上に更に真空蒸着法で蒸着された酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物からなる第2層101bが形成される。さらに、この第2層101bの上に真空蒸着法で蒸着された酸化アルミニウムからなる第3層101cが形成され、この第3層101cの上に真空蒸着法で蒸着された酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物からなる第4層101dが形成される。またさらに、この第4層101dの上に真空蒸着法で蒸着された酸化アルミニウムからなる第5層101eが形成され、この第5層101eの上に真空蒸着法で蒸着された酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物からなる第6層101fが形成される。   Here, an antireflection film (also referred to as a multilayer broadband antireflection film) used in the optical system according to the embodiment of the present application will be described. FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a film configuration of the antireflection film. The antireflection film 101 is composed of seven layers and is formed on the optical surface of the optical member 102 such as a lens. The first layer 101a is formed of aluminum oxide deposited by a vacuum deposition method. Further, a second layer 101b made of a mixture of titanium oxide and zirconium oxide deposited by a vacuum deposition method is further formed on the first layer 101a. Further, a third layer 101c made of aluminum oxide deposited by a vacuum deposition method is formed on the second layer 101b, and titanium oxide and zirconium oxide deposited by a vacuum deposition method are formed on the third layer 101c. A fourth layer 101d made of the mixture is formed. Furthermore, a fifth layer 101e made of aluminum oxide deposited by vacuum deposition is formed on the fourth layer 101d, and titanium oxide and zirconium oxide deposited by vacuum deposition on the fifth layer 101e. A sixth layer 101f made of the mixture is formed.

そして、このようにして形成された第6層101fの上に、ウェットプロセスによりフッ化マグネシウムとシリカの混合物からなる第7層101gが形成されて本実施形態の反射防止膜101が形成される。第7層101gの形成には、ウェットプロセスの一種であるゾル−ゲル法を用いている。ゾル−ゲル法とは、原料を混合することにより得られたゾルを、加水分解・重縮合反応などにより流動性のないゲルとし、このゲルを加熱・分解して生成物を得る方法であり、光学薄膜の作製においては、光学部材の光学面上に光学薄膜材料ゾルを塗布し、乾燥固化によりゲル膜とすることで膜を生成することができる。なお、ウェットプロセスとして、ゾル−ゲル法に限らず、ゲル状態を経ないで固体膜を得る方法を用いるようにしてもよい。   Then, a seventh layer 101g made of a mixture of magnesium fluoride and silica is formed on the sixth layer 101f formed in this way by a wet process, and the antireflection film 101 of this embodiment is formed. For the formation of the seventh layer 101g, a sol-gel method which is a kind of wet process is used. The sol-gel method is a method in which a sol obtained by mixing raw materials is made into a non-flowable gel by hydrolysis / polycondensation reaction, etc., and this gel is heated and decomposed to obtain a product, In the production of an optical thin film, a film can be formed by applying an optical thin film material sol on the optical surface of an optical member and forming a gel film by drying and solidifying. The wet process is not limited to the sol-gel method, and a method of obtaining a solid film without going through a gel state may be used.

このように、この反射防止膜101の第1層101a〜第6層101fまではドライプロセスである電子ビーム蒸着により形成され、最上層である第7層101gは、フッ酸/酢酸マグネシウム法で調製したゾル液を用いるウェットプロセスにより以下の手順で形成されている。まず、予めレンズ成膜面(上述の光学部材102の光学面)に真空蒸着装置を用いて第1層101aとなる酸化アルミニウム層、第2層101bとなる酸化チタン−酸化ジルコニウム混合層、第3層101cとなる酸化アルミニウム層、第4層101dとなる酸化チタン−酸化ジルコニウム混合層、第5層101eとなる酸化アルミニウム層、第6層101fとなる酸化チタン−酸化ジルコニウム混合層を順に形成する。そして、蒸着装置より光学部材102を取り出した後、フッ酸/酢酸マグネシウム法により調製したゾル液にシリコンアルコキシドを加えたものをスピンコート法により塗布することにより、第7層101gとなるフッ化マグネシウムとシリカの混合物からなる層を形成する。フッ酸/酢酸マグネシウム法によって調製される際の反応式を以下の式(a)に示す。   Thus, the first layer 101a to the sixth layer 101f of the antireflection film 101 are formed by electron beam evaporation which is a dry process, and the seventh layer 101g which is the uppermost layer is prepared by a hydrofluoric acid / magnesium acetate method. It is formed by the following procedure by a wet process using the prepared sol solution. First, an aluminum oxide layer to be the first layer 101a, a titanium oxide-zirconium oxide mixed layer to be the second layer 101b, a third layer on the lens film formation surface (the optical surface of the optical member 102 described above) in advance using a vacuum deposition apparatus, An aluminum oxide layer to be the layer 101c, a titanium oxide-zirconium oxide mixed layer to be the fourth layer 101d, an aluminum oxide layer to be the fifth layer 101e, and a titanium oxide-zirconium oxide mixed layer to be the sixth layer 101f are formed in this order. And after taking out the optical member 102 from a vapor deposition apparatus, the thing which added the silicon alkoxide to the sol liquid prepared by the hydrofluoric acid / magnesium acetate method is apply | coated by the spin coat method, The magnesium fluoride used as the 7th layer 101g A layer made of a mixture of silica and silica is formed. The reaction formula when prepared by the hydrofluoric acid / magnesium acetate method is shown in the following formula (a).

2HF+Mg(CH3COO)2→MgF2+2CH3COOH (a) 2HF + Mg (CH3COO) 2 → MgF2 + 2 + CH3COOH (a)

この成膜に用いたゾル液は、原料混合後、オートクレーブで140℃、24時間高温加圧熟成処理を施した後、成膜に用いられる。この光学部材102は、第7層101gの成膜終了後、大気中で160℃、1時間加熱処理して完成される。このようなゾル−ゲル法を用いることにより、大きさが数nmから数十nmの粒子が空隙を残して堆積することにより第7層101gが形成される。   The sol solution used for the film formation is used for film formation after mixing raw materials and subjecting to an autoclave at 140 ° C. for 24 hours at a high temperature and pressure. The optical member 102 is completed by heat treatment at 160 ° C. for 1 hour in the air after the seventh layer 101g is formed. By using such a sol-gel method, the seventh layer 101g is formed by depositing particles having a size of several nm to several tens of nm leaving a void.

このようにして形成された反射防止膜101を有する光学部材の光学的性能について図13に示す分光特性を用いて説明する。   The optical performance of the optical member having the antireflection film 101 formed in this way will be described using the spectral characteristics shown in FIG.

本実施形態に係る反射防止膜を有する光学部材(レンズ)は、以下の表13に示す条件で形成されている。ここで表13は、基準波長をλとし、基板(光学部材)の屈折率が1.62、1.74及び1.85について反射防止膜101の各層101a(第1層)〜101g(第7層)の光学膜厚をそれぞれ求めたものである。なお、表13では、酸化アルミニウムをAl2O3、酸化チタンと酸化ジルコニウム混合物をZrO2+TiO2、フッ化マグネシウムとシリカの混合物をMgF2+SiO2とそれぞれ表している。   The optical member (lens) having the antireflection film according to this embodiment is formed under the conditions shown in Table 13 below. Here, in Table 13, the reference wavelength is λ, and the layers 101a (first layer) to 101g (seventh layer) of the antireflection film 101 with respect to the refractive index of the substrate (optical member) of 1.62, 1.74, and 1.85. The optical film thickness of each layer is determined. In Table 13, aluminum oxide is represented by Al2O3, a mixture of titanium oxide and zirconium oxide is represented by ZrO2 + TiO2, and a mixture of magnesium fluoride and silica is represented by MgF2 + SiO2.

(表13)
物質 屈折率 光学膜厚 光学膜厚 光学膜厚
媒質 空気 1.00
第7層 MgF2+SiO2 1.26 0.268λ 0.271λ 0.269λ
第6層 ZrO2+TiO2 2.12 0.057λ 0.054λ 0.059λ
第5層 Al2O3 1.65 0.171λ 0.178λ 0.162λ
第4層 ZrO2+TiO2 2.12 0.127λ 0.13λ 0.158λ
第3層 Al2O3 1.65 0.122λ 0.107λ 0.08λ
第2層 ZrO2+TiO2 2.12 0.059λ 0.075λ 0.105λ
第1層 Al2O3 1.65 0.257λ 0.03λ 0.03λ
基板の屈折率 1.62 1.74 1.85
(Table 13)
Material Refractive index Optical film thickness Optical film thickness Optical film thickness Medium Air 1.00
7th layer MgF2 + SiO2 1.26 0.268λ 0.271λ 0.269λ
6th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.057λ 0.054λ 0.059λ
5th layer Al2O3 1.65 0.171λ 0.178λ 0.162λ
4th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.127λ 0.13λ 0.158λ
3rd layer Al2O3 1.65 0.122λ 0.107λ 0.08λ
Second layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.059λ 0.075λ 0.105λ
1st layer Al2O3 1.65 0.257λ 0.03λ 0.03λ
Refractive index of substrate 1.62 1.74 1.85

図13は、表13において基準波長λを550nmとして反射防止膜101の各層の光学膜厚を設計した光学部材に光線が垂直入射する時の分光特性を表している。   FIG. 13 shows the spectral characteristics when light rays are perpendicularly incident on an optical member in which the reference wavelength λ is 550 nm and the optical film thickness of each layer of the antireflection film 101 is designed in Table 13.

図13から、基準波長λを550nmで設計した反射防止膜101を有する光学部材は、光線の波長が420nm〜720nmの全域で反射率を0.2%以下に抑えられることが判る。また、表13において基準波長λをd線(波長587.6nm)として各光学膜厚を設計した反射防止膜101を有する光学部材でも、その分光特性にはほとんど影響せず、図13に示す基準波長λが550nmの場合とほぼ同等の分光特性を有する。   From FIG. 13, it can be seen that the optical member having the antireflection film 101 designed with the reference wavelength λ of 550 nm can suppress the reflectance to 0.2% or less over the entire wavelength range of 420 nm to 720 nm. Further, even in the optical member having the antireflection film 101 in which each optical film thickness is designed with the reference wavelength λ as d line (wavelength 587.6 nm) in Table 13, the spectral characteristics are hardly affected, and the reference shown in FIG. Spectral characteristics substantially equivalent to those when the wavelength λ is 550 nm.

次に、本反射防止膜の変形例について説明する。この反射防止膜は5層からなり、表13と同様、以下の表14で示される条件で基準波長λに対する各層の光学膜厚が設計される。本変形例では、第5層の形成に前述のゾル−ゲル法を用いている。   Next, a modified example of the antireflection film will be described. This antireflection film consists of five layers, and similarly to Table 13, the optical film thickness of each layer with respect to the reference wavelength λ is designed under the conditions shown in Table 14 below. In this modification, the above-described sol-gel method is used for forming the fifth layer.

(表14)
物質 屈折率 光学膜厚 光学膜厚
媒質 空気 1.00
第5層 MgF2+SiO2 1.26 0.275λ 0.269λ
第4層 ZrO2+TiO2 2.12 0.045λ 0.043λ
第3層 Al2O3 1.65 0.212λ 0.217λ
第2層 ZrO2+TiO2 2.12 0.077λ 0.066λ
第1層 Al2O3 1.65 0.288λ 0.290λ
基板の屈折率 1.46 1.52
(Table 14)
Material Refractive index Optical film thickness Optical film thickness Medium Air 1.00
5th layer MgF2 + SiO2 1.26 0.275λ 0.269λ
4th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.045λ 0.043λ
3rd layer Al2O3 1.65 0.212λ 0.217λ
Second layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.077λ 0.066λ
1st layer Al2O3 1.65 0.288λ 0.290λ
Refractive index of substrate 1.46 1.52

図14は、表14において、基板の屈折率が1.52及び基準波長λを550nmとして各光学膜厚を設計した反射防止膜を有する光学部材に光線が垂直入射する時の分光特性を示している。図14から本変形例の反射防止膜は、光線の波長が420nm〜720nmの全域で反射率が0.2%以下に抑えられることがわかる。なお、表14において基準波長λをd線(波長587.6nm)として各光学膜厚を設計した反射防止膜を有する光学部材でも、その分光特性にはほとんど影響せず、図14に示す分光特性とほぼ同等の特性を有する。   FIG. 14 shows spectral characteristics when light rays are vertically incident on an optical member having an antireflection film in which the optical film thickness is designed with the refractive index of the substrate being 1.52 and the reference wavelength λ being 550 nm in Table 14. Yes. From FIG. 14, it can be seen that the antireflection film of this modification has a reflectivity of 0.2% or less over the entire wavelength range of 420 nm to 720 nm. In Table 14, even an optical member having an antireflection film whose optical film thickness is designed with the reference wavelength λ as the d-line (wavelength 587.6 nm) hardly affects the spectral characteristics, and the spectral characteristics shown in FIG. Has almost the same characteristics.

図15は、図14に示す分光特性を有する光学部材への光線の入射角が30度、45度、60度の場合の分光特性をそれぞれ示す。なお、図14、図15には表14に示す基板の屈折率が1.46の反射防止膜を有する光学部材の分光特性が図示されていないが、基板の屈折率が1.52とほぼ同等の分光特性を有していることは言うまでもない。   FIG. 15 shows the spectral characteristics when the incident angles of the light rays to the optical member having the spectral characteristics shown in FIG. 14 are 30, 45, and 60 degrees, respectively. 14 and 15 do not show the spectral characteristics of the optical member having the antireflection film with the refractive index of 1.46 shown in Table 14, but the refractive index of the substrate is almost equal to 1.52. Needless to say, it has the following spectral characteristics.

また比較のため、図16に、従来の真空蒸着法などのドライプロセスのみで成膜した反射防止膜の一例を示す。図16は、表14と同じ基板の屈折率1.52に以下の表15で示される条件で構成される反射防止膜を設計した光学部材に光線が垂直入射する時の分光特性を示す。また、図17は、図16に示す分光特性を有する光学部材への光線の入射角が30度、45度、60度の場合の分光特性をそれぞれ示す。   For comparison, FIG. 16 shows an example of an antireflection film formed only by a dry process such as a conventional vacuum deposition method. FIG. 16 shows the spectral characteristics when a light beam is perpendicularly incident on an optical member designed with an antireflection film configured under the conditions shown in Table 15 below with a refractive index of 1.52 of the same substrate as Table 14. FIG. 17 shows the spectral characteristics when the incident angles of the light rays to the optical member having the spectral characteristics shown in FIG. 16 are 30, 45, and 60 degrees, respectively.

(表15)
物質 屈折率 光学膜厚
媒質 空気 1.00
第7層 MgF2 1.39 0.243λ
第6層 ZrO2+TiO2 2.12 0.119λ
第5層 Al2O3 1.65 0.057λ
第4層 ZrO2+TiO2 2.12 0.220λ
第3層 Al2O3 1.65 0.064λ
第2層 ZrO2+TiO2 2.12 0.057λ
第1層 Al2O3 1.65 0.193λ
基板の屈折率 1.52
(Table 15)
Material Refractive index Optical film thickness Medium Air 1.00
7th layer MgF2 1.39 0.243λ
6th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.119λ
5th layer Al2O3 1.65 0.057λ
4th layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.220λ
3rd layer Al2O3 1.65 0.064λ
Second layer ZrO2 + TiO2 2.12 0.057λ
1st layer Al2O3 1.65 0.193λ
Refractive index of substrate 1.52

図13〜図15で示される本実施形態に係る反射防止膜を有する光学部材の分光特性を、図16および図17で示される従来例の分光特性と比較すると、本実施形態に係る反射防止膜はいずれの入射角においてもより低い反射率を有し、しかもより広い帯域で低い反射率を有することが良くわかる。   When the spectral characteristics of the optical member having the antireflection film according to this embodiment shown in FIGS. 13 to 15 are compared with the spectral characteristics of the conventional example shown in FIGS. 16 and 17, the antireflection film according to this embodiment is compared. It can be seen that has a lower reflectivity at any angle of incidence and a lower reflectivity over a wider band.

なお、本反射防止膜は、平行平面の光学面に設けて光学素子として利用することも可能であるし、曲面状に形成されたレンズの光学面に設けて利用することも可能である。   The antireflection film can be provided on a parallel plane optical surface and used as an optical element, or can be provided on an optical surface of a lens formed in a curved surface.

次に、本願の第1実施例から第4実施例に、上記表13および表14に示す反射防止膜を適用した例について説明する。   Next, an example in which the antireflection film shown in Table 13 and Table 14 is applied to the first to fourth embodiments of the present application will be described.

本第1実施例の光学系OS1において、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL23の屈折率は、表1に示すように、nd=1.88300であり、第3レンズ群G3の正メニスカスレンズL33の屈折率は、nd=1.90265であるため、正メニスカスレンズL23における像面側のレンズ面に基板の屈折率が1.85に対応する反射防止膜101(表13参照)を用い、正メニスカスレンズL33における物体側のレンズ面に、基板の屈折率が1.85に対応する反射防止膜101(表13参照)を用いることで各レンズ面からの反射光を少なくでき、ゴーストやフレアを低減することができる。   In the optical system OS1 of the first example, the refractive index of the positive meniscus lens L23 in the second lens group G2 is nd = 1.88300 as shown in Table 1, and the positive meniscus lens in the third lens group G3. Since the refractive index of L33 is nd = 1.90265, an antireflection film 101 (see Table 13) having a refractive index of the substrate corresponding to 1.85 is used for the image side lens surface of the positive meniscus lens L23. By using an antireflection film 101 (see Table 13) whose refractive index of the substrate corresponds to 1.85 on the object-side lens surface of the positive meniscus lens L33, reflected light from each lens surface can be reduced, and ghost and flare Can be reduced.

本第2実施例の光学系OS2において、第1レンズ群G1の負メニスカスレンズL13の屈折率は、表4に示すように、nd=1.67270であり、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL21の屈折率は、nd=1.80400であるため、負メニスカスレンズL13における像面側のレンズ面に基板の屈折率が1.62に対応する反射防止膜101(表13参照)を用い、正メニスカスレンズL21における物体側のレンズ面に、基板の屈折率が1.85に対応する反射防止膜101(表13参照)を用いることで各レンズ面からの反射光を少なくでき、ゴーストやフレアを低減することができる。   In the optical system OS2 of the second example, the refractive index of the negative meniscus lens L13 in the first lens group G1 is nd = 1.67270 as shown in Table 4, and the positive meniscus lens in the second lens group G2. Since the refractive index of L21 is nd = 1.80400, an antireflection film 101 (see Table 13) having a refractive index of the substrate corresponding to 1.62 is used for the lens surface on the image plane side of the negative meniscus lens L13. By using an antireflection film 101 (see Table 13) having a refractive index of the substrate corresponding to 1.85 on the object side lens surface of the positive meniscus lens L21, reflected light from each lens surface can be reduced, and ghost and flare Can be reduced.

本第3実施例の光学系OS3において、第2レンズ群G2の両凸形状の正レンズL24の屈折率は、表7に示すように、nd=1.81600であり、第3レンズ群G3の正メニスカスレンズL33の屈折率は、nd=1.88300であるため、両凸形状の正レンズL24における像面側のレンズ面に基板の屈折率が1.85に対応する反射防止膜101(表13参照)を用い、正メニスカスレンズL33における物体側のレンズ面に、基板の屈折率が1.85に対応する反射防止膜101(表13参照)を用いることで各レンズ面からの反射光を少なくでき、ゴーストやフレアを低減することができる。   In the optical system OS3 of the third example, the refractive index of the biconvex positive lens L24 of the second lens group G2 is nd = 1.81600 as shown in Table 7, and the refractive index of the third lens group G3 Since the refractive index of the positive meniscus lens L33 is nd = 1.88300, the antireflective film 101 corresponding to the refractive index of the substrate corresponding to 1.85 on the image surface side lens surface of the biconvex positive lens L24 (table) 13) and the antireflection film 101 (see Table 13) having a refractive index of the substrate corresponding to 1.85 is used on the object-side lens surface of the positive meniscus lens L33, so that the reflected light from each lens surface is reflected. It can be reduced, and ghost and flare can be reduced.

本第4実施例の光学系OS4において、第2レンズ群G2の正メニスカスレンズL23の屈折率は、表10に示すように、nd=1.83480であり、第3レンズ群G3の両凸形状の正レンズL31の屈折率は、nd=1.83480であるため、正メニスカスレンズL23における像面側のレンズ面に基板の屈折率が1.85に対応する反射防止膜101(表13参照)を用い、両凸形状の正レンズL31における物体側のレンズ面に、基板の屈折率が1.85に対応する反射防止膜101(表13参照)を用いることで各レンズ面からの反射光を少なくでき、ゴーストやフレアを低減することができる。   In the optical system OS4 of the fourth example, the refractive index of the positive meniscus lens L23 of the second lens group G2 is nd = 1.83480 as shown in Table 10, and the biconvex shape of the third lens group G3. Since the refractive index of the positive lens L31 is nd = 1.83480, the antireflective film 101 corresponding to the refractive index of the substrate of 1.85 on the image side lens surface of the positive meniscus lens L23 (see Table 13). , And the antireflection film 101 (see Table 13) having a refractive index of the substrate corresponding to 1.85 is used on the object-side lens surface of the biconvex positive lens L31, so that the reflected light from each lens surface is reflected. It can be reduced, and ghost and flare can be reduced.

OS(OS1〜OS4) 光学系
G1 第1レンズ群 G2 第2レンズ群 G3 第3レンズ群
S 開口絞り 1 カメラ(光学機器) 2 撮像レンズ
3 撮像部 4 EVF I 像面 101 反射防止膜
101a 第1層 101b 第2層 101c 第3層
101d 第4層 101e 第5層 101f 第6層
101g 第7層 102 光学部材
OS (OS1 to OS4) Optical system G1 First lens group G2 Second lens group G3 Third lens group S Aperture stop 1 Camera (optical device) 2 Imaging lens 3 Imaging unit 4 EVF I Image surface 101 Antireflection film 101a First Layer 101b second layer 101c third layer 101d fourth layer 101e fifth layer 101f sixth layer 101g seventh layer 102 optical member

Claims (19)

物体側から順に、
正の屈折力を有する第1レンズ群と、
正の屈折力を有する第2レンズ群と、
正の屈折力を有する第3レンズ群と、を有し、
前記第1レンズ群から前記第3レンズ群における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、前記反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含んで形成され、
合焦に際し、前記第1レンズ群及び前記第3レンズ群が像面に対して固定され、前記第2レンズ群が光軸に沿って移動し、
以下の条件式を満足することを特徴とする光学系。
0.20 < f3/f2 < 7.80
但し、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離
f3:前記第3レンズ群の焦点距離
From the object side,
A first lens group having a positive refractive power;
A second lens group having a positive refractive power;
A third lens group having a positive refractive power,
An antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces of the first lens group to the third lens group, and the antireflection film includes at least one layer formed by using a wet process,
Upon focusing, the first lens group and the third lens group are fixed with respect to the image plane, and the second lens group moves along the optical axis,
An optical system satisfying the following conditional expression:
0.20 <f3 / f2 <7.80
However,
f2: Focal length of the second lens group f3: Focal length of the third lens group
前記反射防止膜は多層膜であり、
前記ウェットプロセスで形成された層は、前記多層膜を構成する層のうち最も表面側の層であることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
The antireflection film is a multilayer film,
The optical system according to claim 1, wherein the layer formed by the wet process is a layer on a most surface side among layers constituting the multilayer film.
前記ウェットプロセスを用いて形成された層の屈折率をndとしたとき、前記屈折率ndは1.30以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学系。   The optical system according to claim 1, wherein the refractive index nd is 1.30 or less, where nd is a refractive index of a layer formed using the wet process. 開口絞りを有し、
前記反射防止膜が設けられた前記光学面は、前記開口絞りから見て凹形状のレンズ面であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学系。
Having an aperture stop,
The optical system according to claim 1, wherein the optical surface provided with the antireflection film is a concave lens surface when viewed from the aperture stop.
前記開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、前記第1レンズ群又は前記第2レンズ群内のレンズの物体側のレンズ面であることを特徴とする請求項4に記載の光学系。   5. The optical system according to claim 4, wherein the concave lens surface when viewed from the aperture stop is an object-side lens surface of the lens in the first lens group or the second lens group. 前記開口絞りから見て凹形状のレンズ面は、前記第1レンズ群又は前記第2レンズ群内のレンズの像面側のレンズ面であることを特徴とする請求項4に記載の光学系。   5. The optical system according to claim 4, wherein the lens surface having a concave shape when viewed from the aperture stop is a lens surface on an image surface side of a lens in the first lens group or the second lens group. 前記反射防止膜が設けられた前記光学面は、像面から見て凹形状のレンズ面であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学系。   The optical system according to claim 1, wherein the optical surface provided with the antireflection film is a concave lens surface when viewed from the image plane. 前記反射防止膜が設けられた前記凹形状のレンズ面は、前記第3レンズ群の最も像面側のレンズのレンズ面であることを特徴とする請求項7に記載の光学系。   The optical system according to claim 7, wherein the concave lens surface provided with the antireflection film is a lens surface of a lens closest to the image plane of the third lens group. 以下の条件式を満足することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の光学系。
0.30 < f3/f < 6.00
但し、
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
f3:前記第3レンズ群の焦点距離
The optical system according to claim 1, wherein the following conditional expression is satisfied.
0.30 <f3 / f <6.00
However,
f: Focal length of the entire system when focusing on infinity f3: Focal length of the third lens group
以下の条件式を満足することを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の光学系。
0.50 < f2/f < 2.00
但し、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
The optical system according to claim 1, wherein the following conditional expression is satisfied.
0.50 <f2 / f <2.00
However,
f2: Focal length of the second lens group f: Focal length of the entire system when focusing on infinity
以下の条件式を満足することを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の光学系。
1.90 < f1/f < 50.00
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離
f:無限遠合焦時の全系の焦点距離
The optical system according to claim 1, wherein the following conditional expression is satisfied.
1.90 <f1 / f <50.00
However,
f1: Focal length of the first lens group f: Focal length of the entire system when focusing on infinity
以下の条件式を満足することを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の光学系。
0.40 < f1/f3 < 20.00
但し、
f1:前記第1レンズ群の焦点距離
f3:前記第3レンズ群の焦点距離
The optical system according to claim 1, wherein the following conditional expression is satisfied.
0.40 <f1 / f3 <20.00
However,
f1: Focal length of the first lens group f3: Focal length of the third lens group
前記第2レンズ群は、最も物体側に正レンズを有することを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の光学系。   The optical system according to claim 1, wherein the second lens group includes a positive lens closest to the object side. 以下の条件式を満足することを特徴とする請求項13に記載の光学系。
0.30 < r1/f2 < 15.00
但し、
r1:前記第2レンズ群が有する前記正レンズの物体側面の曲率半径
f2:前記第2レンズ群の焦点距離
The optical system according to claim 13, wherein the following conditional expression is satisfied:
0.30 <r1 / f2 <15.00
However,
r1: radius of curvature of the object side surface of the positive lens included in the second lens group f2: focal length of the second lens group
前記第1レンズ群は、物体側から順に2枚の正レンズを有することを特徴とする請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学系。   The optical system according to claim 1, wherein the first lens group includes two positive lenses in order from the object side. 前記第2レンズ群の最も像側のレンズは、両凸形状であることを特徴とする請求項1〜15のいずれか一項に記載の光学系。   The optical system according to any one of claims 1 to 15, wherein the most image-side lens of the second lens group has a biconvex shape. 全てのレンズ面は、球面又は平面であることを特徴とする請求項1〜16のいずれか一項に記載の光学系。   The optical system according to claim 1, wherein all lens surfaces are spherical surfaces or flat surfaces. 請求項1〜17のいずれか一項に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。   An optical apparatus comprising the optical system according to claim 1. 物体側から順に、正の屈折力を有する第1レンズ群と、正の屈折力を有する第2レンズ群と、正の屈折力を有する第3レンズ群と、を有し、
前記第1レンズ群から前記第3レンズ群における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、前記反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含んで形成される光学系の製造方法であって、
以下の条件式を満足する前記第1レンズ群、前記第2レンズ群及び前記第3レンズ群を、合焦に際し、前記第1レンズ群及び前記第3レンズ群が像面に対して固定され、前記第2レンズ群が光軸に沿って移動するように配置することを特徴とする光学系の製造方法。
0.20 < f3/f2 < 7.80
但し、
f2:前記第2レンズ群の焦点距離
f3:前記第3レンズ群の焦点距離
In order from the object side, a first lens group having a positive refractive power, a second lens group having a positive refractive power, and a third lens group having a positive refractive power,
An antireflection film is provided on at least one of the optical surfaces of the first lens group to the third lens group, and the antireflection film includes at least one layer formed by a wet process. An optical system manufacturing method comprising:
When focusing the first lens group, the second lens group, and the third lens group that satisfy the following conditional expression, the first lens group and the third lens group are fixed with respect to the image plane, A method of manufacturing an optical system, wherein the second lens group is arranged so as to move along an optical axis.
0.20 <f3 / f2 <7.80
However,
f2: Focal length of the second lens group f3: Focal length of the third lens group
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