JP2013226718A - Resin product, and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin product in which a metal thin film layer with a sufficient wear resistance and a sufficient scratch resistance is lamination-formed on a surface of a resin substrate and, thereby, suppression of transmission of visible light and infrared light and improvement of designability by means of metal decoration are more advantageously provided.SOLUTION: A resin product is configured in such a way that an undercoat layer 14, a metal vapor deposition layer 18, and a top coat layer 16 constituted of a CVD layer of silicon compound are formed in lamination in this order on a surface of a resin substrate 12 made of polycarbonate.

Description

本発明は、樹脂製品及びその製造方法とに係り、特に、樹脂ガラス（有機ガラス）として好適に使用可能な樹脂製品と、そのような樹脂製品の有利な製造方法とに関する。   The present invention relates to a resin product and a method for producing the same, and more particularly to a resin product that can be suitably used as a resin glass (organic glass) and an advantageous method for producing such a resin product.

従来から、優れた成形性と軽量性とを兼ね備えた樹脂製品が、例えば、自動車等の車両の内外装部品や、電気、電子部品、或いは建築用部品等として、広く利用されてきている。そして、そのような樹脂製品のうち、例えば、ポリカーボネート製の成形品からなる透明性の高い樹脂製品は、無機ガラスに比して、軽量性や耐衝撃性、加工性に優れているところから、無機ガラスを代替する樹脂ガラスとして、例えば、自動車等の車両のウインドウガラスや各種のディスプレイ、或いは様々な計器類のカバー等に使用されている。   Conventionally, resin products having both excellent moldability and light weight have been widely used as, for example, interior and exterior parts of vehicles such as automobiles, electrical, electronic parts, and building parts. And among such resin products, for example, highly transparent resin products made of molded products made of polycarbonate are superior in lightness, impact resistance, and workability compared to inorganic glass, As resin glass which substitutes inorganic glass, it is used for the window glass of vehicles, such as a car, various displays, or the cover of various instruments, etc., for example.

ところで、ポリカーボネート製の樹脂製品は、紫外線に曝されると、変色や強度低下を引き起こす等、耐候性において問題があり、しかも、無機ガラスと比べて耐摩傷性（耐摩耗性及び耐傷付き性）に劣るといった欠点をも有している。そのため、ポリカーボネート製の樹脂製品を、例えば、自動車のウインドウガラス等のように、屋外で使用されるものであって、表面の傷付きが重大な欠陥となるものに適用する場合には、かかる樹脂製品に対して、耐候性と耐摩傷性を高めるための対策を講じる必要がある。   By the way, polycarbonate resin products have problems in weather resistance such as discoloration and strength reduction when exposed to ultraviolet rays, and are more resistant to abrasion (abrasion resistance and scratch resistance) than inorganic glass. It also has the disadvantage of being inferior. Therefore, if the resin product made of polycarbonate is used outdoors, such as a window glass of an automobile, and the surface damage is a serious defect, such resin is used. It is necessary to take measures to improve the weather resistance and abrasion resistance of the product.

かかる状況下、例えば、特開２０１０−２５３６８３号公報（特許文献１）には、ポリカーボネート等の樹脂成形体からなる樹脂基材の表面に、耐候性に富んだアクリル樹脂層等からなるアンダーコート層を積層形成すると共に、このアンダーコート層上に、耐摩傷性に優れた珪素化合物のプラズマＣＶＤ層からなるトップコート層を、更に積層形成してなる樹脂製品（上記公報では、プラスチック積層体と称されている）が、明らかにされている。このような樹脂製品では、耐候性と耐摩傷性とにおいて、より十分な特性が発揮され得るのである。   Under such circumstances, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-253683 (Patent Document 1), an undercoat layer made of an acrylic resin layer having a high weather resistance is formed on the surface of a resin base material made of a resin molded body such as polycarbonate. A resin product (referred to as a plastic laminate in the above publication) is formed by further laminating a top coat layer made of a plasma CVD layer of a silicon compound having excellent abrasion resistance on the undercoat layer. Has been revealed). In such a resin product, more sufficient characteristics can be exhibited in weather resistance and abrasion resistance.

また、近年では、自動車に対する高級化志向の高まり等に伴って、自動車のウインドウガラスに対しても、更なる機能性の充実化が求められている。即ち、自動車のウインドウガラスには、例えば、可視光や赤外光の透過を抑制する機能を有し、それにより、車外からの車内の視認性が抑えられると共に、断熱性が確保されて、車内のプライバシー保護や夏期の冷房負荷の軽減が図られ得るようになっていることが要求されており、また、有色化による意匠性の向上等も求められている。   In recent years, further enhancement of functionality has been demanded for window glass of automobiles as the trend toward higher-grade automobiles has increased. That is, the window glass of an automobile has, for example, a function of suppressing transmission of visible light and infrared light, thereby suppressing visibility inside the vehicle from the outside of the vehicle and ensuring heat insulation. It is required to protect the privacy of the people and to reduce the cooling load in the summer, and there is also a demand for improvement in design by coloring.

それらの要求を、自動車のウインドウガラスに適用される透明な樹脂製品において満足させるには、透明な樹脂フィルムの表面に金属の薄膜層をスパッタリングにより積層形成してなる、一般にスモークフィルムと称される自動車窓ガラス用フィルムを、樹脂製品の表面に貼着して、樹脂製品の透明度を低下させると共に、樹脂製品に対して金属色や暗色の加飾を施すことが考えられる。   In order to satisfy these requirements in transparent resin products applied to automobile window glass, a thin film layer of metal is formed by sputtering on the surface of a transparent resin film, generally called a smoke film. It is conceivable to attach a film for an automobile window glass to the surface of a resin product to reduce the transparency of the resin product and to decorate the resin product with a metal color or a dark color.

しかしながら、樹脂製品の表面にスモークフィルムを貼着する場合、樹脂製品の表面の全面にスモークフィルムを完全に密着させることが容易でなく、そのため、それら樹脂製品の表面とスモークフィルムとの間に、樹脂製品の外観を低下させるエア溜まりが生ずる恐れがある。また、スモークフィルムを表面に貼着した樹脂製品では、スモークフィルムが、珪素化合物のＣＶＤ層からなるトップコート層上に配置されて、かかるスモークフィルムの金属スパッタ膜が、外部に剥き出しの状態となる。それ故、かかる樹脂製品においては、トップコート層によって、樹脂基材の耐摩傷性は十分に確保され得るものの、剥き出し状態の金属スパッタ膜の傷付きや摩耗が、何等防止され得ないのである。   However, when sticking the smoke film on the surface of the resin product, it is not easy to completely adhere the smoke film to the entire surface of the resin product, and therefore, between the surface of the resin product and the smoke film, There is a possibility that an air reservoir that deteriorates the appearance of the resin product may occur. In addition, in a resin product having a smoke film attached to the surface, the smoke film is disposed on a top coat layer made of a silicon compound CVD layer, and the metal sputtered film of the smoke film is exposed to the outside. . Therefore, in such a resin product, although the abrasion resistance of the resin substrate can be sufficiently ensured by the top coat layer, scratches and abrasion of the exposed metal sputtered film cannot be prevented at all.

なお、樹脂製品の表面にスモークフィルムを貼着する代わりに、樹脂製品のトップコート層上に、金属の薄膜層をスパッタリングによって積層形成することも、考えられる。そうすれば、スモークフィルムを樹脂製品の表面に貼着した際のエア溜まりの発生の問題が、有利に解消され得る。しかしながら、この場合にあっても、金属の薄膜層が樹脂製品の表面に剥き出しの状態で配置されるため、金属スパッタ層の傷付きや摩耗の問題が、何等解決され得ないのである。   In addition, instead of sticking a smoke film on the surface of a resin product, it is also conceivable to form a metal thin film layer on the top coat layer of the resin product by sputtering. If it does so, the problem of generation | occurrence | production of the air pool at the time of sticking a smoke film on the surface of a resin product can be eliminated advantageously. However, even in this case, since the metal thin film layer is disposed in a state of being exposed on the surface of the resin product, the problem of scratches and wear of the metal sputter layer cannot be solved at all.

特開２０１０−２５３６８３号公報JP 2010-253683 A

ここにおいて、本発明は、上述せる如き事情を背景にして為されたものであって、その解決課題とするところは、金属薄膜層が、樹脂基材の表面に十分な耐摩傷性をもって積層形成されていることにより、かかる金属薄膜層による可視光や赤外光の透過抑制と、金属薄膜層の金属加飾による意匠性の向上とが、より効果的に実現され得るように改良された樹脂製品を提供することにある。また、本発明は、そのような樹脂製品を有利に製造し得る方法を提供することも、その解決課題とするものである。   Here, the present invention has been made in the background as described above, and the problem to be solved is that the metal thin film layer is laminated and formed with sufficient abrasion resistance on the surface of the resin base material. As a result, the resin that has been improved so that the suppression of transmission of visible light and infrared light by the metal thin film layer and the improvement of the design by metal decoration of the metal thin film layer can be realized more effectively. To provide products. Another object of the present invention is to provide a method for advantageously producing such a resin product.

そして、本発明は、上記の課題の解決のために、その要旨とするところは、ポリカーボネート製の樹脂成形品からなる樹脂基材の表面上にアンダーコート層を積層形成すると共に、該アンダコート層上に、珪素化合物のＣＶＤ層からなるトップコート層を更に積層形成してなる樹脂製品において、前記アンダーコート層と前記トップコート層との間に、金属蒸着層を形成したことを特徴とする樹脂製品にある。   In order to solve the above problems, the gist of the present invention is to form an undercoat layer on the surface of a resin base material made of a polycarbonate resin molded product, and to form the undercoat layer. A resin product obtained by further laminating and forming a topcoat layer made of a silicon compound CVD layer, wherein a metal vapor deposition layer is formed between the undercoat layer and the topcoat layer In the product.

なお、本発明の有利な態様の一つによれば、前記アンダーコート層が、ＵＶ硬化型アクリル樹脂を用いて形成される。   According to one advantageous aspect of the present invention, the undercoat layer is formed using a UV curable acrylic resin.

また、本発明の好適な態様の一つによれば、前記金属蒸着層が、金属材料からなるターゲットを用いたスパッタリングを実施することによって形成される金属スパッタ層にて構成される。   Moreover, according to one of the suitable aspects of this invention, the said metal vapor deposition layer is comprised by the metal sputter layer formed by implementing sputtering using the target which consists of metal materials.

そして、本発明は、ポリカーボネート製の樹脂成形品からなる樹脂基材の表面上にアンダーコート層を積層形成すると共に、該アンダコート層上に、珪素化合物のＣＶＤ層からなるトップコート層を更に積層形成してなる樹脂製品の製造方法であって、（ａ）前記樹脂基材を準備する工程と、（ｂ）前記樹脂基材の表面に、前記アンダーコート層を積層形成する工程と、（ｃ）前記アンダーコート層上に、金属蒸着層をＰＶＤ法又はＣＶＤ法により積層形成する工程と、（ｄ）前記金属蒸着層上に、前記珪素化合物のＣＶＤ層からなるトップコート層をＣＶＤ法により積層形成する工程とを含むことを特徴とする樹脂製品の製造方法をも、また、その要旨とするものである。   In the present invention, an undercoat layer is laminated on the surface of a resin substrate made of a polycarbonate resin molded product, and a topcoat layer made of a silicon compound CVD layer is further laminated on the undercoat layer. It is a manufacturing method of the resin product formed, Comprising: (a) The process of preparing the said resin base material, (b) The process of laminating | stacking and forming the said undercoat layer on the surface of the said resin base material, (c) ) A step of laminating and forming a metal vapor deposition layer on the undercoat layer by a PVD method or a CVD method; and (d) a layer of a topcoat layer made of the silicon compound CVD layer on the metal vapor deposition layer by the CVD method. The gist of the method for producing a resin product comprising the step of forming the resin product is also provided.

すなわち、本発明に従う樹脂製品にあっては、ＰＶＤ法（物理蒸着法）やＣＶＤ法（化学蒸着法）等の蒸着法によって形成された金属蒸着層が、樹脂基材の表面上に積層されている。そのような金属蒸着層は、塗装によって形成される塗膜層等よりも十分に薄くて、均一な厚さを有している。それ故、かかる樹脂製品では、必要な透明性を十分に確保しつつ、金属蒸着層によって、可視光や赤外光の透過が効果的に抑制され得ると共に、金属色や暗色の加飾が有利に施され得る。しかも、金属蒸着層が、アンダーコート層とトップコート層との間に形成されているため、金属蒸着層が、耐摩傷性に優れたトップコート層によって保護され、以て、金属蒸着層の傷付きや摩耗が有利に防止されて、金属蒸着層の耐摩傷性の向上が、効果的に図られ得る。   That is, in the resin product according to the present invention, a metal vapor deposition layer formed by a vapor deposition method such as a PVD method (physical vapor deposition method) or a CVD method (chemical vapor deposition method) is laminated on the surface of the resin base material. Yes. Such a metal vapor deposition layer is sufficiently thinner than a coating film layer formed by coating, and has a uniform thickness. Therefore, in such a resin product, it is possible to effectively suppress the transmission of visible light and infrared light by the metal vapor deposition layer while sufficiently securing the necessary transparency, and it is advantageous to decorate the metal color or dark color. Can be applied. In addition, since the metal vapor deposition layer is formed between the undercoat layer and the top coat layer, the metal vapor deposition layer is protected by the top coat layer having excellent abrasion resistance. Adhesion and wear are advantageously prevented, and the abrasion resistance of the metal deposition layer can be effectively improved.

従って、かくの如き本発明に従う樹脂製品にあっては、薄膜状の金属蒸着層による可視光や赤外光の透過抑制により、車内のプライバシー保護や夏期の冷房負荷の軽減が効果的に図られ得ると共に、金属蒸着層の加飾による意匠性の向上が有利に実現され得る。しかも、それらの優れた特徴が、金属蒸着層の耐摩傷性の向上によって、より長期に亘って安定的に発揮され得ると同時に、樹脂製品の長期使用による品質低下が効果的に防止され得るのである。   Therefore, in the resin product according to the present invention as described above, by protecting the transmission of visible light and infrared light by the thin metal deposited layer, privacy protection in the vehicle and reduction of the cooling load in summer can be effectively achieved. In addition, an improvement in design by decorating the metal vapor deposition layer can be advantageously realized. Moreover, these excellent features can be stably exhibited over a longer period of time by improving the abrasion resistance of the metal deposition layer, and at the same time, quality deterioration due to long-term use of resin products can be effectively prevented. is there.

そして、本発明に従う樹脂製品の製造方法によれば、本発明に従う構造を備えた樹脂製品において奏される優れた作用・効果と実質的に同一の作用・効果が有効に享受され得ると共に、上記の如き優れた特徴を発揮する樹脂製品が、工業的に有利に製造され得る。   Then, according to the method for producing a resin product according to the present invention, substantially the same operation / effect as the excellent operation / effect exhibited in the resin product having the structure according to the present invention can be enjoyed effectively. Resin products exhibiting such excellent characteristics can be advantageously produced industrially.

本発明に従う樹脂製品の一実施形態を示す、部分断面説明図である。It is a partial section explanatory view showing one embodiment of a resin product according to the present invention. 図１に示された樹脂製品を製造する際に実施される一工程例を示す説明図であって、アンダーコート層上に、金属蒸着層をスパッタリングによって形成している状態を示している。It is explanatory drawing which shows the example of 1 process implemented when manufacturing the resin product shown by FIG. 1, Comprising: The state which has formed the metal vapor deposition layer on the undercoat layer by sputtering is shown. 図２に示された工程に引き続いて実施される工程例を示す説明図であって、金属蒸着層にトップコート層をプラズマＣＶＤにより形成している状態を示している。It is explanatory drawing which shows the example of a process implemented following the process shown by FIG. 2, Comprising: The state which has formed the topcoat layer in the metal vapor deposition layer by plasma CVD is shown.

以下、本発明を更に具体的に明らかにするために、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明することとする。   Hereinafter, in order to clarify the present invention more specifically, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

先ず、図１には、本発明に従う構造を有する樹脂製品の一実施形態として、自動車のリヤウインドウ用の樹脂ガラス１０が、その部分断面形態において示されている。かかる図１から明らかなように、樹脂ガラス１０は、樹脂基材１２を有し、この樹脂基材１２の表面（図１での上面）には、アンダーコート層１４が積層形成されている。また、かかるアンダーコート層１４の表面（図１での上面であって、樹脂基材１２側とは反対側の面）上には、トップコート層１６が、更に積層形成されている。なお、以下からは、便宜上、図１での上面を表面と言い、図１での下面を裏面と言うこととする。   First, FIG. 1 shows a resin glass 10 for a rear window of an automobile in a partial cross-sectional form as an embodiment of a resin product having a structure according to the present invention. As is clear from FIG. 1, the resin glass 10 has a resin base material 12, and an undercoat layer 14 is laminated on the surface (the upper surface in FIG. 1) of the resin base material 12. Further, a top coat layer 16 is further laminated on the surface of the undercoat layer 14 (the upper surface in FIG. 1 and the surface opposite to the resin substrate 12 side). In the following, for convenience, the upper surface in FIG. 1 is referred to as the front surface, and the lower surface in FIG. 1 is referred to as the back surface.

より具体的には、樹脂基材１２は、透明な平板形態を呈し、ポリカーボネートを用いて射出成形された樹脂成形品にて構成されている。なお、樹脂基材１２は、ポリカーボネート製の樹脂成形品であれば、射出成形以外の手法で成形されたものであっても良い。また、樹脂基材１２の厚さは、何等限定されるものではなく、樹脂ガラス１０の用途や要求特性等に応じて適宜に決定されるものであって、ここでは２〜７ｍｍ程度の厚さとされる。   More specifically, the resin base material 12 has a transparent flat plate shape, and is formed of a resin molded product that is injection-molded using polycarbonate. The resin base material 12 may be molded by a method other than injection molding as long as it is a polycarbonate resin molded product. Moreover, the thickness of the resin base material 12 is not limited at all, and is appropriately determined according to the use and required characteristics of the resin glass 10. Here, the thickness is about 2 to 7 mm. Is done.

アンダーコート層１４は、樹脂ガラス１０に対して、紫外線耐性等に基づいた耐候性を付与すること等を目的として、樹脂基材１２表面に積層されるもので、薄膜形態を呈している。このようなアンダーコート層１４は、一般に、液状のアクリル樹脂やポリウレタン樹脂を樹脂基材１２表面上に塗布して、塗膜を成膜した後、加熱操作や紫外線照射を行って、かかる塗膜を硬化させることにより形成される。なお、このようなアンダーコート層１４は、形成工程の簡略化や迅速化、更には形成に要する設備コストの低減等を図る上において、紫外線硬化膜にて構成されていること、つまり、ＵＶ硬化型樹脂を用いて形成されていることが、望ましい。また、アンダーコート層１４は、耐候性を有するものであれば、上記例示以外の樹脂材料や硬化手法を採用して、形成することもできる。更に、かかるアンダーコート層１４は、単層構造であっても、複数層が積層された複層構造であっても良い。   The undercoat layer 14 is laminated on the surface of the resin base material 12 for the purpose of providing the resin glass 10 with weather resistance based on ultraviolet resistance or the like, and has a thin film form. Such an undercoat layer 14 is generally formed by coating a liquid acrylic resin or polyurethane resin on the surface of the resin base material 12 to form a coating film, and then performing a heating operation or ultraviolet irradiation. It is formed by curing. The undercoat layer 14 is composed of an ultraviolet curable film in order to simplify and speed up the formation process and reduce the equipment cost required for the formation, that is, UV curing. It is desirable to form using a mold resin. The undercoat layer 14 can also be formed by employing a resin material or a curing method other than the above examples as long as it has weather resistance. Further, the undercoat layer 14 may have a single layer structure or a multilayer structure in which a plurality of layers are laminated.

アンダーコート層１４の厚さは、特に限定されるものではないものの、単層構造であっても、複層構造であっても、全体の厚さが、一般には８〜１２μｍ程度とされる。何故なら、アンダーコート層１４の厚さが、８μｍよりも薄いと、余りに薄いために、樹脂ガラス１０に対して十分な耐候性を付与することが困難となる恐れがあるからであり、また、アンダーコート層１４の厚さを１２μｍよりも厚くしても、樹脂ガラス１０の耐候性を更に向上させることは難しく、却って、材料費の無駄となる可能性があるからである。   The thickness of the undercoat layer 14 is not particularly limited, but the overall thickness is generally about 8 to 12 μm regardless of whether it is a single layer structure or a multilayer structure. This is because if the thickness of the undercoat layer 14 is less than 8 μm, it is too thin and it may be difficult to impart sufficient weather resistance to the resin glass 10. This is because even if the thickness of the undercoat layer 14 is greater than 12 μm, it is difficult to further improve the weather resistance of the resin glass 10, and there is a possibility that material costs may be wasted.

トップコート層１６は、薄膜形態を呈し、珪素化合物ガスと反応ガスとをプラズマＣＶＤ法により反応させることによって形成されたＳiＯ2 やＳiＯＮ、Ｓi3Ｎ4 等の珪素化合物のプラズマＣＶＤ層からなっている。よく知られているように、珪素化合物は、高い硬度を有し、それに基づいて、優れた耐摩耗性や耐傷付き性を発揮する。従って、本実施形態の樹脂ガラス１０では、トップコート層１６が、そのような珪素化合物にて構成されていることによって、トップコート層１６、ひいては樹脂ガラス１０の表面に対して、優れた耐摩耗性や耐傷付き性が付与されているのである。 The top coat layer 16 is in the form of a thin film, and is composed of a plasma CVD layer of silicon compound such as SiO 2 , SiON, or Si 3 N 4 formed by reacting a silicon compound gas and a reactive gas by a plasma CVD method. Yes. As is well known, a silicon compound has a high hardness and exhibits excellent wear resistance and scratch resistance on the basis thereof. Therefore, in the resin glass 10 of the present embodiment, the top coat layer 16 is made of such a silicon compound, so that it has excellent wear resistance with respect to the top coat layer 16 and eventually the surface of the resin glass 10. Property and scratch resistance are imparted.

なお、かかるトップコート層１６の厚さは、特に限定されるものではないものの、単層構造であっても、複層構造であっても、全体の厚さが、好ましくは１．０〜２．０μｍ程度とされる。何故なら、トップコート層１６の厚さが、１．０μｍよりも薄いと、余りに薄いために、樹脂ガラス１０に対して耐摩耗性や耐傷付き性を十分に付与することが困難となる恐れがあるからであり、また、トップコート層１６の厚さを２．０μｍよりも厚くしても、樹脂ガラス１０の耐摩耗性や耐傷付き性の更なる向上を望むことは難しく、却って、材料費の無駄となる可能性があるからである。   Although the thickness of the top coat layer 16 is not particularly limited, the total thickness is preferably 1.0 to 2 regardless of whether it is a single layer structure or a multilayer structure. It is about 0.0 μm. This is because if the thickness of the top coat layer 16 is thinner than 1.0 μm, it is too thin, and it may be difficult to sufficiently impart abrasion resistance and scratch resistance to the resin glass 10. This is because it is difficult to further improve the abrasion resistance and scratch resistance of the resin glass 10 even if the thickness of the top coat layer 16 is greater than 2.0 μm. This is because there is a possibility of being wasted.

トップコート層１６の形成に利用されるＣＶＤ法の具体的な種類は、何等限定されるものではない。即ち、トップコート層１６の形成に際しては、例示したプラズマＣＶＤ法以外に、熱ＣＶＤ法や光ＣＶＤ法等の公知のＣＶＤ法が、何れも採用可能である。また、かかるトップコート層１６は、単層構造であっても、複数層が積層された複層構造であっても良い。   The specific type of the CVD method used for forming the top coat layer 16 is not limited at all. That is, in forming the top coat layer 16, any known CVD method such as a thermal CVD method or a photo CVD method can be employed in addition to the illustrated plasma CVD method. Further, the topcoat layer 16 may have a single layer structure or a multilayer structure in which a plurality of layers are laminated.

そして、本実施形態では、特に、アンダーコート層１４とトップコート層１６との間に、金属蒸着層１８が形成されている。この金属蒸着層１８は、ここでは、アンダーコート層１４上に、スパッタリング法によって直接に形成されたアルミニウムのスパッタ層にて構成されている。   In the present embodiment, in particular, a metal vapor deposition layer 18 is formed between the undercoat layer 14 and the topcoat layer 16. Here, the metal vapor deposition layer 18 is composed of an aluminum sputter layer formed directly on the undercoat layer 14 by a sputtering method.

そのような金属蒸着層１８は、メタリックインキを用いた塗装によって形成される塗膜よりも十分に薄く且つ均一な厚さとされる。それ故、かかる金属蒸着層１８が樹脂基材１２の表面に、アンダーコート層１４を介して積層形成された樹脂ガラス１０にあっては、必要な透明性を十分に確保した上で、金属蒸着層１８により、透明度が適度に低下させられて、可視光や赤外光の透過が効果的に抑制され得るようになると共に、ミラー調を始めとした各種の金属色や暗色の加飾が有利に施されることとなるのである。   Such a metal vapor deposition layer 18 is made sufficiently thinner and uniform in thickness than a coating film formed by painting using metallic ink. Therefore, in the case of the resin glass 10 in which the metal vapor deposition layer 18 is laminated on the surface of the resin base 12 via the undercoat layer 14, the metal vapor deposition is performed after sufficiently securing necessary transparency. The transparency of the layer 18 is moderately lowered, and transmission of visible light and infrared light can be effectively suppressed, and various metal color and dark color decorations including mirrors are advantageous. It will be given to.

なお、金属蒸着層１８を構成する金属の種類は、特に限定されるものではなく、例示したアルミニウムの他に、例えば、鉄、コバルト、金、銀、白金、銅、亜鉛、ニッケル、クロム、錫、チタン、モリブデン、ニッケル−クロム合金、ステンレス鋼等の単体や各種の金属化合物も使用され得る。そして、それらの金属の中でも、特に、アルミニウムやステンレス鋼が、金属蒸着層１８を構成する金属として有利に用いられる。それによって、樹脂ガラス１０に必要とされる透明性を十分に維持しつつ、可視光や赤外光の透過抑制が、更に一層効果的に発揮され得ることとなる。   In addition, the kind of metal which comprises the metal vapor deposition layer 18 is not specifically limited, For example, iron, cobalt, gold | metal | money, silver, platinum, copper, zinc, nickel, chromium, tin other than aluminum illustrated In addition, simple substances such as titanium, molybdenum, nickel-chromium alloy, stainless steel, and various metal compounds may be used. Among these metals, in particular, aluminum or stainless steel is advantageously used as the metal constituting the metal vapor deposition layer 18. As a result, transmission of visible light and infrared light can be further effectively suppressed while sufficiently maintaining the transparency required for the resin glass 10.

また、かかる金属蒸着層１８は、従来より公知の蒸着法の何れによっても形成可能である。即ち、金属蒸着層１８は、真空蒸着法や分子線蒸着法、イオンプレーディング法、イオンビーム蒸着法等のスパッタリング法以外のＰＶＤ法や、熱ＣＶＤ法やプラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等の各種のＣＶＤ法によって形成可能である。そして、そのような公知の蒸着法の中から、金属蒸着層１８を構成する金属の種類等に応じて選択された蒸着法によって、金属蒸着層１８が形成されるのである。つまり、例えば、金属蒸着層１８が金属の単体からなる場合には、各種のＰＶＤ法によって金属蒸着層１８が形成される。また、金属蒸着層１８が金属化合物にて構成される場合には、各種のＰＶＤ法やＣＶＤ法によって金属蒸着層１８が形成されるのである。   The metal vapor deposition layer 18 can be formed by any conventionally known vapor deposition method. That is, the metal vapor deposition layer 18 is formed by various methods such as a PVD method other than the sputtering method such as a vacuum vapor deposition method, a molecular beam vapor deposition method, an ion plating method, and an ion beam vapor deposition method, a thermal CVD method, a plasma CVD method, and a photo CVD method. It can be formed by the CVD method. And the metal vapor deposition layer 18 is formed by the vapor deposition method selected according to the kind etc. of the metal which comprises the metal vapor deposition layer 18 among such well-known vapor deposition methods. That is, for example, when the metal vapor deposition layer 18 is made of a single metal, the metal vapor deposition layer 18 is formed by various PVD methods. Moreover, when the metal vapor deposition layer 18 is comprised with a metal compound, the metal vapor deposition layer 18 is formed by various PVD methods and CVD methods.

また、ここでは、金属蒸着層１８のアンダーコート層１４側とは反対側の面の全面がトップコート層１６にて被覆された状態で、金属蒸着層１８が、アンダーコート層１４と前記トップコート層１６との間に介装されている。このため、耐摩傷性に優れたトップコート層１６が、金属蒸着層１８のアンダーコート層１４側とは反対側の面の全面を保護する保護層として機能し、以て、金属蒸着層１８が、他の物品との接触により傷付いたり、摩耗したりすることが、有利に防止され得るようになっている。   Further, here, the metal deposition layer 18 is coated with the undercoat layer 14 and the top coat in a state where the entire surface of the metal deposition layer 18 opposite to the undercoat layer 14 side is covered with the top coat layer 16. It is interposed between the layers 16. For this reason, the topcoat layer 16 excellent in abrasion resistance functions as a protective layer for protecting the entire surface of the metal vapor deposition layer 18 on the side opposite to the undercoat layer 14 side. It can be advantageously prevented from being damaged or worn by contact with other articles.

なお、そのような金属蒸着層１８の厚さは、特に限定されるものではないものの、有利には、５Å〜０．１μｍ程度とされる。何故なら、金属蒸着層１８の厚さが５Å未満であると、余りに薄過ぎるために、樹脂基材１２の表面に形成されても、樹脂ガラス１０の透明度が十分に低下せず、可視光や赤外光の透過を十分に抑制することが困難となると共に、金属蒸着層１８による金属色や暗色等の色の付き具合が薄くなって、十分な加飾効果が得られなくなる恐れがあるからであり、また、金属蒸着層１８の厚さが０．１μｍを超える厚さであると、余りに厚過ぎて、樹脂ガラスの透明性を損なう可能性があるからである。また、特に、金属蒸着層１８がスパッタリング法によって形成される場合にあっても、かかる金属蒸着層１８の厚さの上限値が０．１μｍ程度とされることが、望ましい。何故なら、スパッタ層からなる金属蒸着層１８が０．１μｍよりも厚いと、金属蒸着層１８の形成に要する時間が大幅に増大して、樹脂ガラス１０の生産性の低下を招く恐れがあるからである。   In addition, although the thickness of such a metal vapor deposition layer 18 is not specifically limited, It is about 5 to 0.1 micrometer advantageously. This is because if the thickness of the metal vapor-deposited layer 18 is less than 5 mm, the transparency of the resin glass 10 is not sufficiently lowered even if it is formed on the surface of the resin base material 12 because it is too thin. It is difficult to sufficiently suppress the transmission of infrared light, and the color of the metal vapor deposition layer 18 such as a metal color or a dark color becomes thin, and there is a possibility that a sufficient decoration effect cannot be obtained. In addition, if the thickness of the metal vapor deposition layer 18 is more than 0.1 μm, it is too thick and may impair the transparency of the resin glass. In particular, even when the metal vapor deposition layer 18 is formed by a sputtering method, it is desirable that the upper limit value of the thickness of the metal vapor deposition layer 18 be about 0.1 μm. This is because if the metal vapor-deposited layer 18 made of a sputter layer is thicker than 0.1 μm, the time required for forming the metal vapor-deposited layer 18 is greatly increased, and the productivity of the resin glass 10 may be lowered. It is.

ところで、かくの如き優れた特徴を有する樹脂ガラス１０は、例えば、以下の手順に従って製造される。   By the way, the resin glass 10 having such excellent characteristics is manufactured, for example, according to the following procedure.

すなわち、先ず、ポリカーボネート製の樹脂基材１２を射出成形等により成形して、準備する。この樹脂基材１２の成形方法は、射出成形に限定されるものではなく、公知の方法が適宜に採用可能である。   That is, first, a polycarbonate resin substrate 12 is prepared by injection molding or the like. The molding method of the resin base material 12 is not limited to injection molding, and a known method can be appropriately employed.

その後、準備された樹脂基材１２の表面に、アクリル樹脂やポリウレタン樹脂等の塗膜層を、公知のスプレー塗装やディッピング等により形成した後、かかる塗膜層を加熱したり、或いは紫外線に当てたりして硬化させる。これによって、樹脂基材１２の表面にアンダーコート層１４を積層形成して、第一の積層体２０（図２参照）を得る。   Thereafter, a coating layer such as an acrylic resin or a polyurethane resin is formed on the surface of the prepared resin substrate 12 by known spray coating or dipping, and then the coating layer is heated or exposed to ultraviolet rays. Or harden. As a result, the undercoat layer 14 is laminated on the surface of the resin base material 12 to obtain the first laminate 20 (see FIG. 2).

次いで、第一の積層体２０におけるアンダーコート層１４の表面上に、金属蒸着層１８を積層形成して、第二の積層体２２（図３参照）を得るのであるが、ここでは、かかる金属蒸着層１８の形成に際して、例えば、図２に示される如き構造を有するスパッタリング装置２４が用いられる。   Next, the metal deposition layer 18 is formed on the surface of the undercoat layer 14 in the first laminate 20 to obtain the second laminate 22 (see FIG. 3). In forming the vapor deposition layer 18, for example, a sputtering apparatus 24 having a structure as shown in FIG. 2 is used.

図２から明らかなように、ここで用いられるスパッタリング装置２４は、真空チャンバ２８を備えた、従来より公知の構造を有している。即ち、このスパッタリング装置２４の真空チャンバ２８は、周壁部２６を有し、かかる周壁部２６の内周面における周上の一箇所には、ターゲット３０が、スパッタカソード３２を介して交換可能に取り付けられている。また、真空チャンバ２８の底壁部上には、第一の積層体２０を取り外し可能に支持する支持装置３４が、立設されている。更に、この支持装置３４には、図示しないスパッタアノードが設置されている。そして、周壁部２６の内周面上に位置するスパッタカソード３２と、支持装置３４に設けられたスパッタアノードとの間に、図示しない電源装置にて電圧が印加されるようになっている。なお、かかるスパッタリング装置２４では、周壁部２６が左右に分割可能とされている。そして、周壁部２６を左右に分割して、真空チャンバ２８内を開放した状態で、支持装置３４に支持される第一の積層体２０の交換や、周壁部２６の内周面上に取り付けられるターゲット３０の交換が、行われ得るようになっている。   As apparent from FIG. 2, the sputtering apparatus 24 used here has a conventionally known structure including a vacuum chamber 28. In other words, the vacuum chamber 28 of the sputtering apparatus 24 has a peripheral wall portion 26, and a target 30 is attached to one place on the inner peripheral surface of the peripheral wall portion 26 in a replaceable manner via the sputter cathode 32. It has been. Further, a support device 34 is erected on the bottom wall portion of the vacuum chamber 28 so as to removably support the first stacked body 20. Further, the support device 34 is provided with a sputter anode (not shown). A voltage is applied between a sputter cathode 32 positioned on the inner peripheral surface of the peripheral wall portion 26 and a sputter anode provided on the support device 34 by a power supply device (not shown). In the sputtering apparatus 24, the peripheral wall portion 26 can be divided into left and right. Then, the peripheral wall portion 26 is divided into left and right, and the first laminated body 20 supported by the support device 34 is replaced or attached to the inner peripheral surface of the peripheral wall portion 26 with the inside of the vacuum chamber 28 opened. The target 30 can be exchanged.

また、真空チャンバ２８の周壁部２６の周方向の互いに異なる箇所には、ガス導入パイプ３６とガス排出パイプ３８とが、それぞれの一端部において、真空チャンバ２８内に開口した状態で接続されている。そして、ガス導入パイプ３６は、真空チャンバ２８側とは反対側の端部において、不活性ガスなどの反応ガスを供給するガス供給装置（図示せず）に接続されている。一方、ガス排出パイプ３８は、真空チャンバ２８側とは反対側の端部側において、真空ポンプ（図示せず）に接続されている。   In addition, a gas introduction pipe 36 and a gas discharge pipe 38 are connected to different locations in the circumferential direction of the peripheral wall portion 26 of the vacuum chamber 28 so as to open into the vacuum chamber 28 at respective one end portions. . The gas introduction pipe 36 is connected to a gas supply device (not shown) for supplying a reactive gas such as an inert gas at the end opposite to the vacuum chamber 28 side. On the other hand, the gas discharge pipe 38 is connected to a vacuum pump (not shown) on the end side opposite to the vacuum chamber 28 side.

そして、かくの如き構造とされたスパッタリング装置２４を用いて、第一の積層体２０のアンダーコート層１４の表面上に、金属蒸着層１８を積層形成する際には、先ず、図２に示されるように、周壁部２６の内周面上に、スパッタカソード３２を介して、ターゲット３０を取り付ける。ここでは、かかるターゲット３０として、金属蒸着層１８を構成するアルミニウム製の板状体乃至はブロック体が用いられる。   Then, when the metal deposition layer 18 is formed on the surface of the undercoat layer 14 of the first laminate 20 by using the sputtering apparatus 24 having such a structure, first, as shown in FIG. As shown, the target 30 is attached to the inner peripheral surface of the peripheral wall portion 26 via the sputter cathode 32. Here, as the target 30, an aluminum plate-like body or block body constituting the metal vapor deposition layer 18 is used.

また、真空チャンバ２８内の支持装置３４に対して、第一の積層体２０を、アンダーコート層１４の表面が周壁部２６の内周面上のターゲット３０と対向位置するように、支持させる。なお、上記したように、周壁部２６の内周面上へのターゲット３０の取付操作と、支持装置３４に対する第一の積層体２０の取付操作は、周壁部２６を左右に分割して、真空チャンバ２８を外部に開放させた状態で実施される。そして、それらターゲット３０と第一の積層体２０の取付操作の終了後に、真空チャンバ２８が密閉されて、図２に示される如き状態とされる。   Further, the first stacked body 20 is supported by the support device 34 in the vacuum chamber 28 so that the surface of the undercoat layer 14 faces the target 30 on the inner peripheral surface of the peripheral wall portion 26. As described above, the operation of attaching the target 30 onto the inner peripheral surface of the peripheral wall portion 26 and the operation of attaching the first laminated body 20 to the support device 34 are performed by dividing the peripheral wall portion 26 into left and right parts and vacuuming. It implements in the state which opened the chamber 28 outside. And after completion | finish of attachment operation of these targets 30 and the 1st laminated body 20, the vacuum chamber 28 is sealed and it will be in the state as shown in FIG.

引き続いて、ガス排出パイプ３８に接続された真空ポンプ（図示せず）を作動して、真空チャンバ２８内を真空状態とする。このときの真空チャンバ２８内の圧力は、例えば１〜５Ｐａ程度とされる。その後、例えば、アルゴンガスなどの不活性ガスからなる反応ガスを、図示しないガス供給装置から、ガス導入パイプ３６を通じて、真空チャンバ２８内に導入する。   Subsequently, a vacuum pump (not shown) connected to the gas discharge pipe 38 is operated, and the vacuum chamber 28 is evacuated. The pressure in the vacuum chamber 28 at this time is, for example, about 1 to 5 Pa. Thereafter, for example, a reactive gas made of an inert gas such as argon gas is introduced into the vacuum chamber 28 from a gas supply device (not shown) through the gas introduction pipe 36.

そして、反応ガスが真空チャンバ２８内に充満したら、図示しない電源装置を作動させて、スパッタカソード３２とスパッタアノード（図示せず）との間に所定の電圧を印加する。これによって、真空チャンバ２８内におけるターゲット３０と第一の積層体２０との間の空間にプラズマを発生させて、ターゲット３０の放出面（第一の積層体２０との対向面）においてスパッタリング現象を惹起させ、以て、ターゲット３０の放出面からアルミニウムの原子を叩き出す。そして、このターゲット３０から叩き出されたアルミニウムの原子を、第一の積層体２０のアンダーコート層１４の表面に衝突させて、付着させる。かくして、第一の積層体２０のアンダーコート層１４の表面に対して、アルミニウムのスパッタ層からなる金属蒸着層１８（図２には明示せず）を積層形成して、第二の積層体２２（図３参照）を得るのである。   When the reaction gas is filled in the vacuum chamber 28, a power supply device (not shown) is activated to apply a predetermined voltage between the sputtering cathode 32 and the sputtering anode (not shown). As a result, plasma is generated in the space between the target 30 and the first stacked body 20 in the vacuum chamber 28, and a sputtering phenomenon is caused on the emission surface of the target 30 (the surface facing the first stacked body 20). Thus, aluminum atoms are knocked out from the emission surface of the target 30. Then, the aluminum atoms knocked out from the target 30 are caused to collide with the surface of the undercoat layer 14 of the first laminate 20 to be attached. Thus, a metal vapor deposition layer 18 (not shown in FIG. 2) made of an aluminum sputter layer is laminated on the surface of the undercoat layer 14 of the first laminate 20 to form the second laminate 22. (See FIG. 3).

なお、本工程では、電源装置の作動の開始と同時に、図示しないタイマ装置によって計時が開始され、その計測時間が予め設定された時間となったときに、電源装置の作動が停止させられる。これによって、スパッタリングによる金属蒸着層１８の積層形成操作が、予め設定された時間だけ継続され、そして、そのようなスパッタリング操作の継続時間に基づいて、金属蒸着層１８の厚さが制御されるようになっている。   In this step, time measurement is started by a timer device (not shown) simultaneously with the start of the operation of the power supply device, and the operation of the power supply device is stopped when the measurement time reaches a preset time. Accordingly, the operation for stacking the metal vapor deposition layer 18 by sputtering is continued for a preset time, and the thickness of the metal vapor deposition layer 18 is controlled based on the duration of the sputtering operation. It has become.

次に、上記のようにして第二の積層体２２を得たら、この第二の積層体２２における金属蒸着層１８の表面上に、トップコート層１６を積層形成する。その際には、例えば、図３に示される如き構造を有するプラズマＣＶＤ装置４０が、用いられる。   Next, when the second laminate 22 is obtained as described above, the topcoat layer 16 is laminated on the surface of the metal vapor deposition layer 18 in the second laminate 22. In that case, for example, a plasma CVD apparatus 40 having a structure as shown in FIG. 3 is used.

図３に示されるように、ここで用いられるプラズマＣＶＤ装置４０は、平行平板方式を採用した従来のプラズマＣＶＤ装置と同様な基本構造を備えている。より具体的には、プラズマＣＶＤ装置４０は、反応室としての真空チャンバ４２を有している。この真空チャンバ４２は、チャンバ本体４４と蓋体４６とを更に含んで構成されている。チャンバ本体４４は、筒状の筒壁部４８と、かかる筒壁部４８の下側開口部を閉塞する下側底壁部５０とを備えた有底筒状乃至は筐体状を呈している。蓋体４６は、チャンバ本体４４の上側開口部５２の全体を覆蓋可能な大きさを有する平板にて構成されている。そして、かかる蓋体４６が、チャンバ本体４４の上側開口部５２を覆蓋した状態で、図示しないロック機構にてロックされることによって、チャンバ本体４４内が気密に密閉されるようになっている。   As shown in FIG. 3, the plasma CVD apparatus 40 used here has the same basic structure as a conventional plasma CVD apparatus that employs a parallel plate method. More specifically, the plasma CVD apparatus 40 has a vacuum chamber 42 as a reaction chamber. The vacuum chamber 42 further includes a chamber main body 44 and a lid body 46. The chamber main body 44 has a bottomed cylindrical shape or a casing shape including a cylindrical cylindrical wall portion 48 and a lower bottom wall portion 50 that closes a lower opening of the cylindrical wall portion 48. . The lid 46 is configured by a flat plate having a size that can cover the entire upper opening 52 of the chamber body 44. Then, the chamber body 44 is hermetically sealed by being locked by a lock mechanism (not shown) while the lid body 46 covers the upper opening 52 of the chamber body 44.

また、蓋体４６の下面には、上側ホルダ５４，５４が、一体的に立設されている。それら上側ホルダ５４，５４には、支持突起５６，５６が一体的に突設されている。そして、チャンバ本体４４内に収容されたカソード電極５８が、かかる支持突起５６，５６にて支持されて、上側ホルダ５４，５４に保持されている。また、カソード電極５８には、給電線６０の一端が接続され、この給電線６０の他端は、真空チャンバ４２外に設置された高周波電源６２に接続されている。   Further, upper holders 54, 54 are integrally provided on the lower surface of the lid 46. Support projections 56 and 56 are integrally projected on the upper holders 54 and 54. The cathode electrode 58 accommodated in the chamber body 44 is supported by the support protrusions 56 and 56 and is held by the upper holders 54 and 54. In addition, one end of a power supply line 60 is connected to the cathode electrode 58, and the other end of the power supply line 60 is connected to a high-frequency power source 62 installed outside the vacuum chamber 42.

チャンバ本体４４の下側底壁部５０上には、下側ホルダ６４，６４が、一体的に立設されている。それら下側ホルダ６４，６４には、上側支持突起６６，６６と下側支持突起６８，６８とが、上下に離間して、それぞれ一体的に突設されている。そして、チャンバ本体４４内に収容されたアノード電極７０が、上側ホルダ５４，５４にて保持されたカソード電極５８と上下方向に所定距離を隔てて対向した状態で、下側支持突起６８，６８にて支持されて、下側ホルダ６４，６４に保持されている。このアノード電極７０は、アース接地されている。また、下側ホルダ６４，６４の上側支持突起６６，６６は、第二の積層体２２を支持可能とされている。   On the lower bottom wall portion 50 of the chamber main body 44, lower holders 64, 64 are integrally provided upright. On the lower holders 64, 64, upper support protrusions 66, 66 and lower support protrusions 68, 68 are integrally protruded apart from each other in the vertical direction. Then, the anode electrode 70 accommodated in the chamber main body 44 faces the lower support protrusions 68 and 68 in a state of facing the cathode electrode 58 held by the upper holders 54 and 54 with a predetermined distance in the vertical direction. Supported by the lower holders 64 and 64. The anode electrode 70 is grounded. Further, the upper support protrusions 66 and 66 of the lower holders 64 and 64 can support the second stacked body 22.

チャンバ本体４４の筒壁部４８の周上の一箇所には、排気パイプ７２が、チャンバ本体４４の内外を連通するように筒壁部４８を貫通して、設置されている。また、かかる排気パイプ７２上には、真空ポンプ７４が設けられている。そして、この真空ポンプ７４の作動によって、チャンバ本体４４内の気体が排気パイプ７２を通じて外部に排出されて、チャンバ本体４４が減圧されるようになっている。   An exhaust pipe 72 is installed at one location on the circumference of the cylindrical wall portion 48 of the chamber main body 44 so as to penetrate the cylindrical wall portion 48 so as to communicate with the inside and the outside of the chamber main body 44. A vacuum pump 74 is provided on the exhaust pipe 72. By the operation of the vacuum pump 74, the gas in the chamber main body 44 is discharged to the outside through the exhaust pipe 72, and the chamber main body 44 is decompressed.

また、筒壁部４８には、第一及び第二の２個の導入パイプ７６ａ，７６ｂが、筒壁部４８を貫通して、設置されている。そして、それら第一及び第二導入パイプ７６ａ，７６ｂにおいては、チャンバ本体４４内に突入して開口する一端側開口部が、それぞれ、第一及び第二ガス導入口７８ａ，７８ｂとされている。また、第一導入パイプ７６ａのチャンバ本体４４外への延出側の他端部には、珪素化合物ガスを、大気圧を超える圧力で収容する第一ボンベ８０ａが接続されている。第二導入パイプ７６ｂのチャンバ本体４４外への延出側の他端部には、酸素ガスを、大気圧を超える圧力で収容する第二ボンベ８０ｂが接続されている。更に、第一乃び第二ボンベ８０ａ，８０ｂの第一乃び第二導入パイプ７６ａ，７６ｂとの接続部には、開閉バルブ８２ａ，８２ｂが、それぞれ設けられている。   In addition, two first and second introduction pipes 76 a and 76 b are installed in the cylindrical wall portion 48 so as to penetrate the cylindrical wall portion 48. In the first and second introduction pipes 76a and 76b, the first and second gas introduction ports 78a and 78b are respectively formed at one end side openings that enter the chamber body 44 and open. A first cylinder 80a that stores the silicon compound gas at a pressure exceeding the atmospheric pressure is connected to the other end of the first introduction pipe 76a that extends to the outside of the chamber body 44. A second cylinder 80b that stores oxygen gas at a pressure exceeding the atmospheric pressure is connected to the other end of the second introduction pipe 76b that extends to the outside of the chamber body 44. Furthermore, opening / closing valves 82a and 82b are provided at the connection portions of the first and second cylinders 80a and 80b with the first and second introduction pipes 76a and 76b, respectively.

なお、後述するように、第一ボンベ８０ａ内に収容される珪素化合物ガスは、トップコート層１６を形成するための成膜用ガスに含まれる原料ガスとして利用されるものである。また、第二ボンベ８０ｂ内に収容される酸素ガスは、トップコート層１６を形成するための成膜用ガスに含まれる反応ガスとして利用されるものである。   As will be described later, the silicon compound gas accommodated in the first cylinder 80a is used as a source gas contained in a film forming gas for forming the topcoat layer 16. The oxygen gas stored in the second cylinder 80b is used as a reaction gas contained in the film forming gas for forming the top coat layer 16.

第一ボンベ８０ａ内に収容されて、成膜用ガスの原料ガスに利用される珪素化合物ガスを構成する珪素化合物は、特に限定されるものではなく、一般には、モノシラン（ＳiＨ4）やジシラン（Ｓi2Ｈ6 ）等の無機珪素化合物が、それぞれ単独で、或いはそれらが組み合わされて使用される。また、かかる珪素化合物として、有機珪素化合物を使用しても良い。この有機珪素化合物としては、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン等のシロキサン類や、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジメトキシジエチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、トリメトキシシラン、トリメトキシメチルシラン、トリメトキシエチルシラン、トリメトキシプロピルシラン、トリエトキシメチルシラン、トリエトキシジメチルシラン、トリエトキシエチルシラン、トリエトキシフェニルシラン、テトラメチルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等のシラン類、ヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン等のシラザン類等が、例示される。そして、それらのうちの１種のものが単独で、或いは２種類以上が組み合わされて用いられる。なお、２種類以上の珪素化合物ガスを用いる場合には、それら複数種類の珪素化合物ガスを混合した状態で、一つの第一ボンベ８０ａ内に収容しても良く、或いは複数種類の珪素化合物ガスを、第一ボンベ８０ａ内とそれとは別の幾つかのボンベ内に、それぞれ別個に収容しても良い。 The silicon compound constituting the silicon compound gas contained in the first cylinder 80a and used as the raw material gas for the film forming gas is not particularly limited, and is generally monosilane (SiH 4 ) or disilane ( Inorganic silicon compounds such as Si 2 H 6 ) are used alone or in combination. Moreover, you may use an organosilicon compound as this silicon compound. Examples of the organosilicon compound include siloxanes such as tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, hexamethylcyclotrisiloxane, methoxytrimethylsilane, ethoxytrimethylsilane, dimethoxydimethylsilane, dimethoxydiethylsilane, dimethoxydiphenylsilane, trimethoxy Silane, trimethoxymethylsilane, trimethoxyethylsilane, trimethoxypropylsilane, triethoxymethylsilane, triethoxydimethylsilane, triethoxyethylsilane, triethoxyphenylsilane, tetramethylsilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc. Illustrative are silanes, silazanes such as hexamethyldisilazane and tetramethyldisilazane. And one of them is used alone, or two or more of them are used in combination. When two or more types of silicon compound gases are used, the plurality of types of silicon compound gases may be mixed and accommodated in one first cylinder 80a, or a plurality of types of silicon compound gases may be contained. The first cylinder 80a and some other cylinders may be separately accommodated.

また、ここでは、第二ボンベ８０ｂ内に、酸素ガスが、成膜用ガスの反応ガスとして収容されているが、かかる反応ガスの種類は、トップコート層１６を構成する珪素化合物の種類等に応じて、適宜に変更可能である。例えば、トップコート層１６がＳiＯＮ やＳi3Ｎ4 等からなる場合には、反応ガスとして、酸素ガスに加えて、或いはそれに代えて、窒素ガスやアンモニアガス等が用いられる。そして、それらのガスが、第二ボンベ８０ｂ内や、第一及び第二ボンベ８０ａ，８０ｂとは別の、図示しない幾つかのボンベ内に収容されて、使用されることとなる。 Here, oxygen gas is accommodated in the second cylinder 80b as a reactive gas for the film forming gas, and the type of the reactive gas is the type of the silicon compound constituting the top coat layer 16 or the like. Accordingly, it can be appropriately changed. For example, when the topcoat layer 16 is made of SiON, Si 3 N 4 or the like, nitrogen gas, ammonia gas, or the like is used as a reaction gas in addition to or in place of oxygen gas. These gases are housed and used in the second cylinder 80b or in some cylinders (not shown) different from the first and second cylinders 80a and 80b.

そして、かくの如き構造とされたプラズマＣＶＤ装置４０を用いて、第二の積層体２２の金属蒸着層１８上に、トップコート層１６を更に積層形成する際には、先ず、図３に示されるように、第二の積層体２２を、下側ホルダ６４，６４の上側支持突起６６，６６に支持させて、下側ホルダ６４，６４に保持させる。このとき、第二の積層体２２は、金属蒸着層１８の表面を上側に向けた状態で配置される。また、必要に応じて、かかる第二の積層体２２を下側ホルダ６４，６４に保持させる前に、第二の積層体２２の裏面へのＣＶＤ層の形成を防止するカバーフィルムが、かかる裏面に対して、その全面を被覆するように、取り外し可能に装着される。   When the top coat layer 16 is further formed on the metal vapor deposition layer 18 of the second laminated body 22 by using the plasma CVD apparatus 40 having such a structure, first, as shown in FIG. As described above, the second laminated body 22 is supported by the upper support protrusions 66 and 66 of the lower holders 64 and 64 and is held by the lower holders 64 and 64. At this time, the 2nd laminated body 22 is arrange | positioned in the state which orient | assigned the surface of the metal vapor deposition layer 18 to the upper side. In addition, if necessary, a cover film for preventing the formation of a CVD layer on the back surface of the second laminated body 22 before the second laminated body 22 is held by the lower holders 64 and 64 is provided on the back surface. On the other hand, it is detachably mounted so as to cover the entire surface thereof.

次いで、上側開口部５２を蓋体４６にて覆蓋した後、図示しないロック機構にて、蓋体４６をチャンバ本体４４にロックする。これにより、真空チャンバ４２内を気密に密閉する。そして、その後、真空ポンプ７４を作動させて、真空チャンバ４２内を減圧する。この減圧操作によって、真空チャンバ４２内の圧力は、例えば１０-5〜１０-3Ｐａ程度とされる。 Next, after the upper opening 52 is covered with the lid body 46, the lid body 46 is locked to the chamber body 44 by a lock mechanism (not shown). Thereby, the inside of the vacuum chamber 42 is hermetically sealed. Thereafter, the vacuum pump 74 is operated to reduce the pressure in the vacuum chamber 42. By this depressurization operation, the pressure in the vacuum chamber 42 is set to about 10 −5 to 10 −3 Pa, for example.

そして、真空チャンバ４２内の圧力が所定の値となったら、真空ポンプ７４を作動させたままで、第一導入パイプ７６ａと第二導入パイプ７６ｂとにそれぞれ接続された第一ボンベ８０ａの第一開閉バルブ８２ａと第二ボンベ８０ｂの第二開閉バルブ８２ｂとを各々開作動する。これにより、第一ボンベ８０ａ内の珪素化合物ガスを、第一ガス導入口７８ａを通じて、真空チャンバ４２内に導入する。また、それと共に、第二ボンベ８０ｂ内の酸素ガスを、第二ガス導入口７８ｂを通じて、真空チャンバ４２内に導入する。かくして、珪素化合物ガスと酸素ガスとを真空チャンバ４２内に充満させる。   When the pressure in the vacuum chamber 42 reaches a predetermined value, the first opening and closing of the first cylinder 80a respectively connected to the first introduction pipe 76a and the second introduction pipe 76b while the vacuum pump 74 is operated. The valve 82a and the second opening / closing valve 82b of the second cylinder 80b are opened. Thereby, the silicon compound gas in the first cylinder 80a is introduced into the vacuum chamber 42 through the first gas introduction port 78a. At the same time, the oxygen gas in the second cylinder 80b is introduced into the vacuum chamber 42 through the second gas introduction port 78b. Thus, the vacuum chamber 42 is filled with silicon compound gas and oxygen gas.

真空チャンバ４２内に珪素化合物ガスと酸素ガスが充満して、真空チャンバ４２の内圧が所定の値となったら、高周波電源６２をＯＮ作動して、真空チャンバ４２内に配置されたカソード電極５８に対して、高周波電流を給電線６０を介して供給する（バイアス電圧を印加する）。これにより、カソード電極５８とアノード電極７０との間で放電現象を惹起させて、真空チャンバ４２内に充満した珪素化合物ガスと酸素ガスとをそれぞれプラズマ化し、珪素化合物ガスのプラズマと酸素ガスのプラズマとを、真空チャンバ４２内に、比較的に低温の状態で発生させる。   When the vacuum chamber 42 is filled with the silicon compound gas and the oxygen gas and the internal pressure of the vacuum chamber 42 reaches a predetermined value, the high frequency power supply 62 is turned on, and the cathode electrode 58 disposed in the vacuum chamber 42 is turned on. On the other hand, a high-frequency current is supplied via the feeder line 60 (a bias voltage is applied). As a result, a discharge phenomenon is caused between the cathode electrode 58 and the anode electrode 70, and the silicon compound gas and the oxygen gas filled in the vacuum chamber 42 are turned into plasma, respectively. Are generated in the vacuum chamber 42 at a relatively low temperature.

そして、真空チャンバ４２内の空間や第二の積層体２２の表面上（金属蒸着層１８の表面上）において、珪素化合物ガスのプラズマと酸素ガスのプラズマとの反応を生じさせて、それらの反応生成物たる珪素化合物（ここではＳiＯ2 ）を第二の積層体２２の全表面（金属蒸着層１８の全表面）に層状に堆積させる。 Then, in the space in the vacuum chamber 42 or on the surface of the second laminate 22 (on the surface of the metal vapor deposition layer 18), a reaction between the silicon compound gas plasma and the oxygen gas plasma is caused to occur. A silicon compound as a product (here, SiO 2 ) is deposited in a layered manner on the entire surface of the second laminate 22 (the entire surface of the metal vapor deposition layer 18).

このようなプラズマＣＶＤによる珪素化合物の生成工程を実施する際には、一般に、珪素化合物ガスと酸素ガスとを真空チャンバ４２内に導入する前に、アルゴンガスを真空チャンバ４２内に導入し、それをプラズマ化して、かかるアルゴンのプラズマガスによるアンダーコート層１４の表面処理（アルゴンプラズマ処理）が行われる。このとき、アンダーコート層１４が、ＵＶ硬化型アクリル樹脂塗膜の硬化層にて構成されていると、かかるＵＶ硬化型アクリル樹脂層塗料由来のアンダーコート層１４中の成分が、アルゴンガスのプラズマガスによってダメージを受け、その結果、アンダーコート層と、それに積層形成される珪素化合物層（トップコート層１６）との密着性が低下してしまう恐れがある。しかしながら、ここでは、アンダーコート層１４の樹脂基材１２側とは反対側の全面に、金属蒸着層１８が積層形成されているため、この金属蒸着層１８が、アンダーコート層１４の保護層として機能する。それによって、アンダーコート層１４が、アルゴンのプラズマガスによりダメージを受けることが有利に防止され、以て、アンダーコート層１４とトップコート層１６との十分な密着性が安定的に確保され得るようになっている。   When performing such a silicon compound generation process by plasma CVD, generally, before introducing the silicon compound gas and the oxygen gas into the vacuum chamber 42, argon gas is introduced into the vacuum chamber 42, And the surface treatment (argon plasma treatment) of the undercoat layer 14 with the argon plasma gas is performed. At this time, if the undercoat layer 14 is composed of a cured layer of a UV curable acrylic resin coating film, the component in the undercoat layer 14 derived from the UV curable acrylic resin layer paint is argon gas plasma. As a result, the gas may be damaged, and as a result, the adhesion between the undercoat layer and the silicon compound layer (topcoat layer 16) formed thereon may be reduced. However, since the metal vapor deposition layer 18 is laminated on the entire surface of the undercoat layer 14 opposite to the resin base material 12 side, the metal vapor deposition layer 18 serves as a protective layer for the undercoat layer 14. Function. Thereby, the undercoat layer 14 is advantageously prevented from being damaged by the plasma gas of argon, so that sufficient adhesion between the undercoat layer 14 and the topcoat layer 16 can be stably ensured. It has become.

その後、第一及び第二ボンベ８０ａ，８０ｂの第一及び第二開閉バルブ８２ａ，８２ｂの開作動から、予め設定された時間が経過したら、それら各開閉バルブ８２ａ，８２ｂを閉作動して、真空チャンバ４２内への珪素化合物ガスと酸素ガスの導入量をゼロとして、本工程を終了する。即ち、ここでは、金属蒸着層１８上に形成されるトップコート層１６の厚さが、第一及び第二ボンベ８０ａ，８０ｂの第一及び第二開閉バルブ８２ａ，８２ｂの開作動時間によって、適宜に調節されることとなる。換言すれば、第一及び第二ボンベ８０ａ，８０ｂの第一及び第二開閉バルブ８２ａ，８２ｂの一定開作動量での開作動時間は、予め設定された、トップコート層１６の厚さの設定値等に応じて、適宜に決定されるのである。   Thereafter, when a preset time has elapsed from the opening operation of the first and second opening / closing valves 82a and 82b of the first and second cylinders 80a and 80b, the opening and closing valves 82a and 82b are closed and vacuum is performed. The introduction of the silicon compound gas and oxygen gas into the chamber 42 is set to zero, and this process is terminated. That is, here, the thickness of the top coat layer 16 formed on the metal vapor deposition layer 18 is appropriately determined depending on the opening operation time of the first and second opening / closing valves 82a and 82b of the first and second cylinders 80a and 80b. Will be adjusted. In other words, the opening operation time of the first and second cylinders 80a, 80b with the constant opening operation amount of the first and second opening / closing valves 82a, 82b is set in advance as the thickness of the topcoat layer 16 It is determined appropriately according to the value and the like.

かくして、第二の積層体２２の全表面上、即ち、金属蒸着層１８の全表面上に、珪素化合物層を、比較的に低い温度下で、しかも十分に速いスピードで形成する。そして、その結果、金属蒸着層１８の全表面上に、珪素化合物のプラズマＣＶＤ層からなるトップコート層１６を積層形成する。また、第二の積層体２２の裏面にカバーフィルムが装着されている場合には、トップコート層１６の形成後に、かかるカバーフィルムを取り外す。そうして、図１に示される如き構造を備えた、目的とする樹脂ガラス１０を得るのである。   Thus, the silicon compound layer is formed on the entire surface of the second laminate 22, that is, on the entire surface of the metal deposition layer 18 at a relatively low temperature and at a sufficiently high speed. As a result, a top coat layer 16 made of a plasma CVD layer of a silicon compound is laminated on the entire surface of the metal vapor deposition layer 18. Moreover, when the cover film is attached to the back surface of the second laminated body 22, the cover film is removed after the top coat layer 16 is formed. Thus, the intended resin glass 10 having the structure shown in FIG. 1 is obtained.

以上の説明から明らかなように、本実施形態の樹脂ガラス１０にあっては、アンダーコート層１４とトップコート層１６との間に、薄膜状の金属蒸着層１８が形成されている。そして、この金属蒸着層１８によって、樹脂基材１２の透明度が適度に低下させられて、可視光や赤外光の透過が効果的に抑制され得るようになっていると共に、ミラー調を始めとした各種の金属色や暗色の加飾が有利に施されている。また、金属蒸着層１８のアンダーコート層１４側とは反対側の面の全面が、耐摩傷性に優れたトップコート層１６にて被覆されていることによって、金属蒸着層１８の他の物品との接触による傷付きや摩耗が、有利に防止され得る。   As is clear from the above description, in the resin glass 10 of the present embodiment, a thin metal deposition layer 18 is formed between the undercoat layer 14 and the topcoat layer 16. And by this metal vapor deposition layer 18, while the transparency of the resin base material 12 is reduced moderately, transmission of visible light and infrared light can be effectively suppressed, Various metal colors and dark decorations are advantageously applied. Further, the entire surface of the metal vapor deposition layer 18 opposite to the undercoat layer 14 side is covered with the topcoat layer 16 having excellent abrasion resistance, so that other articles of the metal vapor deposition layer 18 can be obtained. Scratches and wear due to contact of the slab can be advantageously prevented.

従って、かくの如き本実施形態に係る樹脂ガラス１０にあっては、金属蒸着層１８の存在により、車外からの車内の視認性が有利に抑えられると共に、断熱性が十分に確保されて、車内のプライバシー保護や夏期の冷房負荷の軽減が効果的に図られ得るのであり、また、金属蒸着層１８による金属加飾により、意匠性の向上が有利に実現され得る。しかも、それらの優れた特徴が、金属蒸着層１８の耐摩傷性の向上によって、より長期に亘って安定的に発揮され得ると同時に、樹脂ガラス１０の長期使用による品質低下が効果的に防止され得るのである。   Therefore, in the resin glass 10 according to the present embodiment as described above, the presence of the metal vapor deposition layer 18 advantageously suppresses the visibility inside the vehicle from the outside of the vehicle and sufficiently secures the heat insulation. Privacy protection and reduction of the cooling load in summer can be effectively achieved, and improvement in design can be advantageously realized by metal decoration by the metal vapor deposition layer 18. In addition, these excellent features can be stably exhibited over a longer period of time by improving the abrasion resistance of the metal vapor deposition layer 18, and at the same time, quality deterioration due to long-term use of the resin glass 10 is effectively prevented. To get.

また、かかる樹脂ガラス１０では、トップコート層１６の形成前に実施されるアルゴンのプラズマガスを用いたアンダーコート層１４の表面処理に際して、アンダーコート層１４がアルゴンのプラズマガスによりダメージを受けて、アンダーコート層１４とトップコート層１６との密着性が低下するようなことが、金属蒸着層１８によって有利に防止され得る。このため、アンダーコート層１４による耐候性の向上効果とトップコート層１６による耐摩傷性の向上効果とが、より確実に且つ安定的に発揮され得るのである。   Further, in the resin glass 10, when the surface treatment of the undercoat layer 14 using the argon plasma gas performed before the top coat layer 16 is formed, the undercoat layer 14 is damaged by the argon plasma gas, It can be advantageously prevented by the metal vapor deposition layer 18 that the adhesion between the undercoat layer 14 and the topcoat layer 16 is lowered. For this reason, the improvement effect of the weather resistance by the undercoat layer 14 and the improvement effect of the abrasion resistance by the topcoat layer 16 can be more reliably and stably exhibited.

そして、本実施形態の樹脂ガラス１０が、上記の如き手法により、迅速且つ容易に製造可能となっているのである。   And the resin glass 10 of this embodiment can be manufactured rapidly and easily by the above methods.

以上、本発明の具体的な構成について詳述してきたが、これはあくまでも例示に過ぎないのであって、本発明は、上記の記載によって、何等の制約をも受けるものではない。   The specific configuration of the present invention has been described in detail above. However, this is merely an example, and the present invention is not limited by the above description.

例えば、トップコート層１６の形成に用いられるプラズマＣＶＤ装置は、例示された構造を有するもの以外にも、公知の構造を有するものが、適宜に採用可能である。即ち、並行平板方式以外の、例えば、誘導結合方式やアークを発生するプラズマガンを用いた方式の構造を採用することもできる。勿論、トップコート層１６が熱ＣＶＤ法や光ＣＶＤ法によって形成される場合には、実施されるＣＶＤ法に応じたＣＶＤ装置が使用される。   For example, as the plasma CVD apparatus used for forming the top coat layer 16, a device having a known structure can be used as appropriate in addition to the illustrated structure. That is, other than the parallel plate method, for example, an inductive coupling method or a structure using a plasma gun that generates an arc can be employed. Of course, when the topcoat layer 16 is formed by a thermal CVD method or a photo CVD method, a CVD apparatus corresponding to the CVD method to be performed is used.

また、樹脂ガラス１０の両面に、アンダーコート層１４と金属蒸着層１８とトップコート層１６とを、その順番で、それぞれ積層形成しても良い。   Further, the undercoat layer 14, the metal vapor deposition layer 18, and the topcoat layer 16 may be laminated on the both sides of the resin glass 10 in that order.

さらに、金属蒸着層１８を、例示したスパッタリング法に代えて、ＣＶＤ法によって形成する場合には、トップコート層１６の形成に用いられるＣＶＤ装置を利用して、金属蒸着層１８を形成することもできる。その際には、金属蒸着層１８を構成する金属化合物を形成するための成膜用ガスが、幾つかのボンベ内に収容されて、用いられることとなる。このように、金属蒸着層１８をＣＶＤ法によって形成する場合には、一つのＣＶＤ装置で、金属蒸着層１８とトップコート層１６とを形成することが可能となり、それによって、樹脂ガラス１０の生産性の向上と生産コストの低減とが有利に図られ得る。   Furthermore, when the metal vapor deposition layer 18 is formed by a CVD method instead of the exemplified sputtering method, the metal vapor deposition layer 18 may be formed by using a CVD apparatus used for forming the topcoat layer 16. it can. In that case, the film-forming gas for forming the metal compound which comprises the metal vapor deposition layer 18 is accommodated in several cylinders, and is used. Thus, when forming the metal vapor deposition layer 18 by CVD method, it becomes possible to form the metal vapor deposition layer 18 and the topcoat layer 16 with one CVD apparatus, thereby producing the resin glass 10. The improvement in performance and the reduction in production cost can be advantageously achieved.

また、金属蒸着層１８をスパッタリング法によって形成する場合にあっても、１個の真空チャンバに対して、スパッタリングターゲットとプラズマを発生させるための装置とを設置可能であれば、そのような１個の真空チャンバ内で、スパッタリングによる金属蒸着層１８の形成操作と、プラズマＣＶＤ法によるトップコート層１６の形成操作とを連続的に実施しても良い。   Further, even when the metal vapor deposition layer 18 is formed by the sputtering method, if one sputtering target and a device for generating plasma can be installed in one vacuum chamber, such one In this vacuum chamber, the formation operation of the metal vapor deposition layer 18 by sputtering and the formation operation of the topcoat layer 16 by the plasma CVD method may be performed continuously.

また、前記実施形態では、樹脂ガラス１０全体の透明性を維持するために、金属蒸着層１８全体が一定の薄い厚さとされていたが、金属蒸着層１８の厚さを部分的に異ならせても良い。例えば、樹脂ガラス１０の所定の部分（例えば、中心部分）では透明性が維持されるように、かかる所定部分に形成される金属蒸着層１８を薄くする一方、樹脂ガラス１０の所定部分以外の部分（例えば、外周部分）は略不透明となるように、かかる所定部分以外の部分に形成される金属蒸着層１８の厚さを厚くするように為すことも可能である。   Moreover, in the said embodiment, in order to maintain the transparency of the resin glass 10 whole, the metal vapor deposition layer 18 whole was made into the fixed thin thickness, However, The thickness of the metal vapor deposition layer 18 is partially varied. Also good. For example, the metal vapor deposition layer 18 formed in the predetermined portion is thinned so that transparency is maintained in a predetermined portion (for example, the central portion) of the resin glass 10, while the portions other than the predetermined portion of the resin glass 10. It is also possible to increase the thickness of the metal vapor deposition layer 18 formed in a portion other than the predetermined portion so that (for example, the outer peripheral portion) is substantially opaque.

加えて、前記実施形態では、本発明を、自動車のリヤウインドウ用の樹脂ガラスに適用したものの具体例を示したが、本発明は、ポリカーボネート製の樹脂成形品からなる樹脂基材の表面上に、アンダーコート層と、珪素化合物層からなるトップコート層とが、その順に積層形成されてなる樹脂製品の何れに対しても、有利に適用され得るものであることは、勿論である。   In addition, in the said embodiment, although the specific example of what applied this invention to the resin glass for the rear windows of a motor vehicle was shown, this invention is on the surface of the resin base material which consists of a polycarbonate resin molded product. Of course, the present invention can be advantageously applied to any resin product in which the undercoat layer and the topcoat layer made of the silicon compound layer are laminated in that order.

その他、一々列挙はしないが、本発明は、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正、改良等を加えた態様において実施され得るものであり、また、そのような実施態様が、本発明の趣旨を逸脱しない限り、何れも、本発明の範囲内に含まれるものであることは、言うまでもないところである。   In addition, although not enumerated one by one, the present invention can be carried out in a mode to which various changes, modifications, improvements, etc. are added based on the knowledge of those skilled in the art. It goes without saying that all are included in the scope of the present invention without departing from the spirit of the present invention.

１０ 樹脂ガラス １２ 樹脂基材
１４ アンダーコート層 １６ トップコート層
１８ 金属蒸着層 ２４ スパッタリング装置
４０ プラズマＣＶＤ装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Resin glass 12 Resin base material 14 Undercoat layer 16 Topcoat layer 18 Metal vapor deposition layer 24 Sputtering apparatus 40 Plasma CVD apparatus

Claims (2)

ポリカーボネート製の樹脂成形品からなる樹脂基材の表面上にアンダーコート層を積層形成すると共に、該アンダコート層上に、珪素化合物のＣＶＤ層からなるトップコート層を更に積層形成してなる樹脂製品において、
前記アンダーコート層と前記トップコート層との間に、金属蒸着層を形成したことを特徴とする樹脂製品。 A resin product obtained by laminating and forming an undercoat layer on the surface of a resin substrate made of a polycarbonate resin molded product, and further laminating a topcoat layer made of a silicon compound CVD layer on the undercoat layer In
A resin product, wherein a metal vapor deposition layer is formed between the undercoat layer and the topcoat layer. ポリカーボネート製の樹脂成形品からなる樹脂基材の表面上にアンダーコート層を積層形成すると共に、該アンダコート層上に、珪素化合物のＣＶＤ層からなるトップコート層を更に積層形成してなる樹脂製品の製造方法であって、
前記樹脂基材を準備する工程と、
前記樹脂基材の表面に、前記アンダーコート層を積層形成する工程と、
前記アンダーコート層上に、金属蒸着層をＰＶＤ法又はＣＶＤ法により積層形成する工程と、
前記金属蒸着層上に、前記珪素化合物のＣＶＤ層からなるトップコート層をＣＶＤ法により積層形成する工程と、
を含むことを特徴とする樹脂製品の製造方法。
A resin product obtained by laminating and forming an undercoat layer on the surface of a resin substrate made of a polycarbonate resin molded product, and further laminating a topcoat layer made of a silicon compound CVD layer on the undercoat layer A manufacturing method of
Preparing the resin substrate;
A step of laminating and forming the undercoat layer on the surface of the resin substrate;
A step of laminating a metal vapor deposition layer on the undercoat layer by a PVD method or a CVD method;
A step of forming a top coat layer made of a CVD layer of the silicon compound on the metal vapor deposition layer by a CVD method;
The manufacturing method of the resin product characterized by including.
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