JP2013218272A - 耐光性プラスチックシート及びその製造方法 - Google Patents

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博基 杉山
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Abstract

【課題】製造工程が簡単でコストが低く、表面積の大きくすることのできるプラスチックシートであって、光、特に青色レーザを含む波長域のレーザ光に対して高い耐性を有する耐光性プラスチックシートを提供する。
【解決手段】本発明による耐光性プラスチックシートは、少なくとも一つの面に、可視光の波長より小さなピッチaで、高さbが50ナノメータ以上の格子を設けている。
【選択図】図1

Description

本発明は、光、特に青色レーザを含む波長域のレーザ光に対して高い耐性を有する耐光性プラスチックシート及びその製造方法に関する。
プラスチックは安価で成形性に優れるので、光学素子をはじめ広い分野で使用されている。しかし、プラスチックは、青色乃至紫外域の光にさらされると、プラスチックを構成する高分子が破壊され、白濁や変形が生じる場合がある。特に、光学素子の場合には、収差の増大などの問題を生じる。そこで、たとえば、青色レーザ(波長は405ナノメータ)用の光学素子の場合には、光学素子の表面に保護膜を形成するなどの対策がとられていた(たとえば、特許文献1)。しかし、光学素子の表面に保護膜を形成するためには、製造工程が複雑となり、製造コストも上昇する。また、上記の方法は、小型の光学素子に適用することはできるが、表面積の大きなプラスチックシートに適用することはできない。
特開2012-27412号公報
したがって、製造工程が簡単でコストが低く、表面積を大きくすることのできるプラスチックシートであって、光、特に青色レーザを含む波長域のレーザ光に対して高い耐性を有する耐光性プラスチックシートに対するニーズがある。
本発明の第1の態様による耐光性プラスチックシートは、少なくとも一つの面に、可視光の波長より小さなピッチで、高さが50ナノメータ以上の格子を設けている。
本発明の第1の態様による耐光性プラスチックシートは、光、特に青色レーザを含む波長域のレーザ光に対して高い耐性を有する。また、本発明による耐光性プラスチックシートの製造工程は簡単でコストが低く、表面積を大きくすることができる。
本発明の第1の態様の第1の実施形態による耐光性プラスチックシートは、60mW/mmの照射条件で、波長405ナノメータのレーザ光を1000時間照射した前後の透過率の変化が2%以下であるようなレーザ耐性を有する。
本発明の第1の態様の第2の実施形態による耐光性プラスチックシートは、前記ピッチに対する前記高さの比が0.5以下である。
反射防止用格子や偏光制御用格子などと異なり、耐光性プラスチックシートの、格子ピッチに対する格子高さの比、すなわち、アスペクト比は、0.5以下であっても、十分な耐光性が得られる。
本発明の第1の態様の第3の実施形態による耐光性プラスチックシートは、前記格子を両面に設けている。
本実施形態によれば、格子を一方の面に設けた場合よりも耐光性がさらに向上する。
本発明の第1の態様の第4の実施形態による耐光性プラスチックシートは、少なくとも一つの面に、レンズ形状を備えている。
本実施形態による耐光性プラスチックシートは、耐光性を有するレンズとして使用することができる。
本発明の第2の態様による耐光性プラスチックシートの製造方法は、少なくとも一つの面に、可視光の波長より小さなピッチで、高さが50ナノメータ以上の格子を設けた、耐光性プラスチックシートを製造する耐光性プラスチックシートの製造方法である。本方法は、サブ波長構造パターンを製作するステップと、サブ波長構造パターンを電鋳技術により金属板の表面に転写するステップと、前記金属板をロールの表面に貼り付けるステップと、プラスチックシートを前記ロールと接触させながら移動させることによって、前記プラスチックシートの表面にサブ波長構造パターンを転写するステップと、を含む。
本態様によれば、簡単な製造工程によって表面積の大きな耐光性プラスチックシートを製造することができる。
本発明の第3の態様による光学素子は、本発明の第1の態様による耐光性プラスチックシートを少なくとも表面の一部に貼り付けた光学素子である。
本態様によれば、簡単な製造工程により耐光性の光学素子が得られる。
SWS(サブ波長構造)を説明するための図である。 実施例1、実施例2及び比較例1のプラスチックシートのレーザ照射前後の透過率変化量を示す図である。 実施例3及び比較例2のプラスチックシートのレーザ照射前後の透過率変化量を示す図である。 実施例5及び比較例3のプラスチックシートのレーザ照射前後の透過率変化量を示す図である。 本発明の耐光性プラスチックシートの製造方法の一例を示す流れ図である。 SWS(サブ波長構造)パターンの製作方法の一例を説明するための図である。
本発明の発明者は、プラスチックシートの表面に、格子ピッチが波長以下である、いわゆるサブ波長構造(Sub-Wavelength Structure、以下SWSとも呼称する)を付与すると、青色レーザを含む波長域のレーザ光に対する耐性が著しく向上するという新たな知見を得た。
SWSは、従来、たとえば、反射防止用や偏光制御用などに使用されていた。反射防止用のSWSは、光学素子の表面に射出成形によって形成されるもの(特許4206447)や、エッチングで直接形成されるもの(特開2001-272505)であった。偏光制御用のSWSは、屈折率の異なる多層の材料から形成されるもの(特開2006-330105)などであった。
しかし、SWSが、光、特に青色レーザを含む波長域のレーザ光に対する耐性を向上させるために使用されることはなかった。最初に、上記の新たな知見について説明する。
図1は、SWSを説明するための図である。格子101のピッチaは、可視光の波長よりも小さく、一例として、300ナノメータ以下である。格子101の深さ(高さ)bは、一例として50ナノメータ以上である。
ここで、格子ピッチに対する格子高さの比、すなわちアスペクト比は、後で実施例に関して説明するように、反射防止用SWSや偏光制御用SWSよりも小さくとも光に対する耐性が得られる。
厚さ2ミリメータのプラスチックシート上にSWSを形成し、その面に所定の条件でレーザ光を照射し、レーザ照射前後の透過率の変化量を観測することにより、プラスチックシートのレーザ光に対する耐性を調査するための実験を実施した。
表1は、この実験の結果を示す表である。表1において、ZEONEX350Rは、商品名であり、シクロオレフィンポリマーからなる、耐光性のプラスチック材料である。アクリペット VH001は、商品名であり、ポリメタクリル酸メチル樹脂からなる、耐光性ではないプラスチック材料である。また、表1において、微細構造は、SWSを指す。
Figure 2013218272
図2は、実施例1、実施例2及び比較例1のプラスチックシートのレーザ照射前後の透過率変化量を示す図である。実施例1、実施例2及び比較例1のプラスチックシートの材料は、ZEONEX350Rである。実施例1のプラスチックシートは、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ140ナノメータのSWSをレーザ照射側の面に形成し、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ110ナノメータのSWSを反対側の面に形成したものである。実施例2のプラスチックシートは、格子ピッチ260ナノメータ、格子高さ184ナノメータのSWSをレーザ照射側の面にのみ形成したものである。比較例1のプラスチックシートの面には、SWSを形成しなかった。実施例1、実施例2及び比較例1のプラスチックシートに対しては、75℃の恒温条件において波長405ナノメータのレーザ光を、287mW/mmのパワー密度で200時間照射した。実施例1、実施例2及び比較例1のプラスチックシートの透過率変化量は、それぞれ0.87%、1.78%及び6.89%であった。透過率変化量が小さいことは、プラスチックシートの光学特性が変化していないこと、したがって、レーザ光に対する耐性が高いことを示す。いずれの面にもSWSを形成しなかった比較例1のプラスチックシートと比較して、少なくとも一面にSWSを形成した実施例1及び2のプラスチックシートのレーザ光に対する耐性は著しく向上している。
なお、ここで実施例1のプラスチックシートの両面に付与した格子のアスペクト比は、0.5以下である。アスペクト比が0.5以下であっても、上述のように十分な耐光性が得られる点に留意すべきである。
図3は、実施例3及び比較例2のプラスチックシートのレーザ照射前後の透過率変化量を示す図である。実施例3及び比較例2のプラスチックシートの材料は、ZEONEX350Rである。実施例3のプラスチックシートは、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ140ナノメータのSWSをレーザ照射側の面に形成し、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ110ナノメータのSWSを反対側の面に形成したものである。比較例2のプラスチックシートの面には、SWSを形成しなかった。実施例3及び比較例2のプラスチックシートに対しては、75℃の恒温条件において波長405ナノメータのレーザ光を、60mW/mmのパワー密度で1000時間照射した。実施例3及び比較例2のプラスチックシートの透過率変化量は、それぞれ0.87%及び7.68%であった。いずれの面にもSWSを形成しなかった比較例2のプラスチックシートと比較して、両面にSWSを形成した実施例3のプラスチックシートのレーザ光に対する耐性は著しく向上している。
なお、ここで実施例3のプラスチックシートの両面に付与した格子のアスペクト比は、0.5以下である。アスペクト比が0.5以下であっても、上述のように十分な耐光性が得られる点に留意すべきである。
なお、実施例1及び2と比較して、実施例3においては、レーザのパワー密度を287mW/mmから60mW/mmに減少させた。このとき、実施例1及び2におけるレーザの積算光量は、57400mWh/mm、実施例3におけるレーザの積算光量は、60000mWh/mmであり、ほぼ同じである。このようにレーザのパワー密度を変化させてもほぼ同様の結果が得られた。
実施例4のプラスチックシートの材料は、ZEONEX350Rである。実施例4のプラスチックシートは、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ140ナノメータのSWSをレーザ照射側の面に形成し、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ110ナノメータのSWSを反対側の面に形成したものである。実施例4のプラスチックシートに対しては、75℃の恒温条件において波長405ナノメータのレーザ光を、287mW/mmのパワー密度で400時間照射した。実施例4のラスチックシートの透過率変化量は、3.95%であった。
なお、ここで実施例4のプラスチックシートの両面に付与した格子のアスペクト比は、0.5以下である。アスペクト比が0.5以下であっても、上述のように十分な耐光性が得られる点に留意すべきである。
レーザ照射後に実施例4のプラスチックシートのSWSを顕微鏡で観察すると、格子形状が崩れていた。レーザ照射の際に、格子高さが大きいほど格子形状は崩れにくいと考えられる。このことから、格子高さをより大きくすることにより、たとえば、アスペクト比を1以上とすることで、レーザ光に対する耐性をさらに高めることができると推定される。
図4は、実施例5及び比較例3のプラスチックシートのレーザ照射前後の透過率変化量を示す図である。実施例5及び比較例3のプラスチックシートの材料は、アクリペット VH001である。実施例5のプラスチックシートは、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ267ナノメータのSWSをレーザ照射側の面に形成し、格子ピッチ300ナノメータ、格子高さ80ナノメータのSWSを反対側の面に形成したものである。比較例3のプラスチックシートの面には、SWSを形成しなかった。実施例3及び比較例2のプラスチックシートに対しては、75℃の恒温条件において波長405ナノメータのレーザ光を、287mW/mmのパワー密度で200時間照射した。実施例5及び比較例3のプラスチックシートの透過率変化量は、それぞれ22.2%及び56.1%であった。アクリペット VH001は耐光性の材料ではないので、たとえば、実施例1の場合の透過率変化量と比較して実施例5の場合の透過率変化量は大きくなっている。しかし、いずれの面にもSWSを形成しなかった比較例3のプラスチックシートと比較して、両面にSWSを形成した実施例5のプラスチックシートのレーザ光に対する耐性は著しく向上している。このように、本発明は、耐光性ではない材料から構成されるプラスチックシートに対しても有効である。
上記の実験においては波長405ナノメータの青色レーザ光を使用して本発明によるプラスチックシートの耐光性を検証した。波長405ナノメータの青色レーザ光を使用したのは、プラスチックが一般的に青色乃至紫外域の光に対して特に耐性が低いためである。本発明による耐光性プラスチックシートは、青色レーザ光に対して高い耐性を有するので、青色乃至紫外域の光を含む広い波長範囲の光に対対しても高い耐性を有すると考えられる。したがって、本発明による耐光性プラスチックシートは、青色レーザ光のみならず、広い波長範囲の光に対して耐光性に関して有利に使用することができる。
つぎに、本発明の耐光性プラスチックシートの製造方法について説明する。
図5は、本発明の耐光性プラスチックシートの製造方法の一例を示す流れ図である。
図5のステップS010において、所定の大きさのSWSパターンを製作する。
図6は、SWSパターンの製作方法の一例を説明するための図である。
図6の(a)において、たとえば、ニッケルなどの金属やシリコンなどの半金属、石英ガラスなどの非金属から形成される基板201を準備する。
図6の(b)において、基板201上にレジスト203を塗布する。
図6の(c)において、電子ビームによってレジスト203を、SWSのパターンにしたがって部分的に露光する。
図6の(d)において、SWSのパターンにしたがって露光したレジストを現像する。
図6の(e)において、エッチングを行うことにより、基板201にSWSパターンを形成する。
図5のステップS020において、基板のSWSパターンを電鋳技術によって薄い金属板上に転写する。ここで、金属板の厚さは、一例として、0.2乃至0.3ミリメータである。
図5のステップS030において、薄い金属板を成形用ロール表面に貼り付ける。たとえば、ロールの直径を40ミリメータ、幅を30ミリメータとすると、ロールの幅全体を成形に使用する場合には、126mm×30mmの金属板が必要となる。この大きさの金属板を製作するのが困難な場合には、より小さな金属板をロール面に隙間なく貼り付けてもよい。また、ロールの幅の一部のみに金属板を貼り付けてもよい。
図5のステップS040において、プラスチックシートをロールと接触させながら移動させることによって、プラスチックシートの表面にSWSのパターンを転写することができる。この場合にプラスチックシートは予め加熱しておく。さらに、転写率を上げるために、ロール自体を加熱してもよい。ロールによって、プラスチックシートに連続的にSWSパターンを転写することにより、プラスチックシートの広い面にSWSを形成することができる。SWSパターンを備えた金属板を貼り付けた2個のロールの間にプラスチックシートを通すことによって、プラスチックシートの両面にSWSパターンを形成することができる。さらにこのようにして製作したプラスチックシートを張り合わせることにより、より広い面積のプラスチックシートが得られる。
上記において、ロール成形によってSWSを備えた広い面積のプラスチックシートを製造する方法を説明した。本発明によるSWSを備えたプラスチックシートは、金型を使用した射出成形やプレス成形によっても製造することができる。
本発明によるSWSを備えたプラスチックシートの厚さは、具体的に、0.2乃至1ミリメータである。ただし、本発明のプラスチックシートは、この厚さの範囲に限定されることなく、0.2ミリメートル以下のフィルム状、または1ミリメートル以上のプレート状であっても同様の耐光性が得られる。
本発明によるSWSを備えたプラスチックシートは、プラスチックからなる光学素子を光から保護するために光学素子の面に溶着などで貼り付けて使用することができる。またはインサート成形を用いてもよい。
また、本発明によるSWSを備えたプラスチックシートは、プレート状の独立した光学素子としても使用することができる。
さらに、本発明によるSWSを備えたプラスチックシートは、より一般的に、紫外光や青色レーザに対する耐性を要求される広い用途に使用することができる。たとえば、ビニールハウス用シート、ショーウィンドウ用のアクリル板、屋外紫外光に暴露される製品カバー、太陽光発電パネル用保護シート、青色光学素子用保護シートなどに使用することができる。
本発明をビニールハウスなど屋外で使うシート品に適用することで製品の長寿命化が期待できる。また本発明による耐光性プラスチックシートをアクリル板に溶着することで長時間屋外使用が可能で、より強度の高いショーウィンドウが製造可能である。また、本発明による耐光性プラスチックシートを使用することにより、屋外で使用され、意匠性や機能面から透明性が必要な製品カバーの耐光性を高めることができる。青色光学素子は長時間の光照射により透過率が下がってしまうが、本発明による耐光性プラスチックシートと一体化することでより長時間の使用が可能となる。
101…格子、201…基板、203…レジスト

Claims (7)

  1. 少なくとも一つの面に、可視光の波長より小さなピッチで、高さが50ナノメータ以上の格子を設けた、耐光性プラスチックシート。
  2. 60mW/mmの照射条件で、波長405ナノメータのレーザ光を1000時間照射した前後の透過率の変化が2%以下であるようなレーザ耐性を有する請求項1に記載の耐光性プラスチックシート。
  3. 前記ピッチに対する前記高さの比が0.5以下である請求項1または2に記載の耐光性プラスチックシート。
  4. 前記格子を両面に設けた請求項1から3のいずれかに記載の耐光性プラスチックシート。
  5. 少なくとも一つの面に、レンズ形状を備えた請求項1から4のいずれかに記載の耐光性プラスチックシート。
  6. 少なくとも一つの面に、可視光の波長より小さなピッチで、高さが50ナノメータ以上の格子を設けた、耐光性プラスチックシートを製造する耐光性プラスチックシートの製造方法であって、
    サブ波長構造パターンを製作するステップと、
    サブ波長構造パターンを電鋳技術により金属板の表面に転写するステップと、
    前記金属板をロールの表面に貼り付けるステップと、
    プラスチックシートを前記ロールと接触させながら移動させることによって、前記プラスチックシートの表面にサブ波長構造パターンを転写するステップと、
    を含む耐光性プラスチックシートの製造方法。
  7. 請求項1から5のいずれかに記載の耐光性プラスチックシートを少なくとも表面の一部に貼り付けた光学素子。
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