JP2013213740A - Acid gas detecting film and method for evaluating acid gas barrier properties - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an acid gas detecting film which has resistance to solvents and does not sublimate even at high temperature, and a method for evaluating acid gas barrier properties by using the acid gas detecting film.SOLUTION: An acid gas detecting film is used which is formed by laminating 1) a detection layer whose color is changed by reaction with acid gas and composed of an oligomer or a polymer dissolved into a specific solvent, and 2) a buffer layer formed of the oligomer or the polymer dissolved into the solvent not dissolving the detection layer, or a material comprising a combination of the oligomer or the polymer and a crosslinking agent, in this order.

Description

本発明は、酸性ガスの検知膜およびそれを用いた評価法に関する。 The present invention relates to an acid gas detection film and an evaluation method using the same.

塩化水素ガス、窒素酸化物ガス、亜硫酸ガス、硫化水素ガス、フッ化水素ガスや酢酸ガスなどの酸性ガスはデバイスの劣化を引き起こす。例えば、太陽電池モジュール中において、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)の劣化によって発生する酢酸ガスは電極や配線の腐食、ガラス中に含まれるナトリウムなどのアルカリ成分の溶出を引き起こす。 Acidic gases such as hydrogen chloride gas, nitrogen oxide gas, sulfurous acid gas, hydrogen sulfide gas, hydrogen fluoride gas and acetic acid gas cause device deterioration. For example, in a solar cell module, acetic acid gas generated due to deterioration of an ethylene vinyl acetate copolymer (EVA) causes corrosion of electrodes and wiring and elution of alkali components such as sodium contained in glass.

そのため、これら酸性ガスの拡散を防止する膜(バリア膜)が必要となる。しかし、種々のバリア膜の酸性ガスに対するバリア性を見積もることは困難である。 Therefore, a film (barrier film) that prevents the diffusion of these acidic gases is required. However, it is difficult to estimate the barrier properties of various barrier films against acid gas.

一方、酸性ガスの検知法としては、例えば下記特許文献1に、蛍光指示薬メチルカルセインを含有させた色素マトリックス複合膜を備えた検知材を作成し、該検知材の膜面を光照射下で被検ガスに曝露し、該膜面から生じる蛍光強度変化を検知して、被検ガス濃度を測定することが開示されている。 On the other hand, as a method for detecting acid gas, for example, in Patent Document 1 below, a detection material having a dye matrix composite film containing a fluorescent indicator methylcalcein is prepared, and the film surface of the detection material is covered with light. It is disclosed that the concentration of a test gas is measured by exposure to a test gas and detecting a change in fluorescence intensity generated from the film surface.

特開平8−261942号公報JP-A-8-261194

しかし上記特許文献1に記載された蛍光指示薬であるメチルカルセインは、種々の溶剤に可溶であり、また高温にて昇華してしまうため、その上にバリア膜を製膜することが困難である。 However, methylcalcein, which is a fluorescent indicator described in Patent Document 1, is soluble in various solvents and sublimates at high temperatures, so that it is difficult to form a barrier film thereon. .

本発明は、1)酸性ガスと反応して変色し、かつ特定の溶剤に溶解するオリゴマーまたはポリマーからなる検知層、及び2)前記検知層を溶解しない溶剤に溶解するオリゴマー若しくはポリマー、または該オリゴマー若しくはポリマーと架橋剤との組み合わせからなる材料から形成されたバッファー層、が順に積層された酸性ガス検知膜である。前記検知層の上にさらに硬化膜であるバッファー層が積層されているため、該検知層は溶出せず、また、該検知層が高分子量化されているため昇華することもない。そのため、種々のバリア膜のバリア性を評価することが可能となる。 The present invention includes 1) a detection layer made of an oligomer or polymer that reacts with an acid gas and changes color and dissolves in a specific solvent, and 2) an oligomer or polymer that dissolves in a solvent that does not dissolve the detection layer, or the oligomer Or it is the acidic gas detection film | membrane in which the buffer layer formed from the material which consists of a combination of a polymer and a crosslinking agent was laminated | stacked in order. Since a buffer layer, which is a cured film, is further laminated on the detection layer, the detection layer does not elute and does not sublime because the detection layer has a high molecular weight. Therefore, it becomes possible to evaluate the barrier properties of various barrier films.

本発明の酸性ガス検知膜上に、目的とするバリア膜をさらに積層し、該バリア膜を酸性ガスに曝露することにより、該バリア膜の酸性ガスに対するバリア性を評価することができる。 By further laminating a target barrier film on the acid gas detection film of the present invention and exposing the barrier film to an acid gas, the barrier property of the barrier film against the acid gas can be evaluated.

本発明の酸性ガス検知膜は基板上に形成され、該基板としては、プラスチック基板、ガラス基板、石英基板など種々のものを使用することができるが、検知層の吸収領域で透明性が高いことが好ましい。また、耐熱性を考慮すると、ガラス基板及び石英基板が好ましい。 The acidic gas detection film of the present invention is formed on a substrate, and various substrates such as a plastic substrate, a glass substrate, and a quartz substrate can be used as the substrate, but the transparency is high in the absorption region of the detection layer. Is preferred. In view of heat resistance, a glass substrate and a quartz substrate are preferable.

上記検知層を形成する材料としては、酸性ガスと反応して変色すること、特定の溶剤に溶解するオリゴマーまたはポリマーであること、という要件を満たせば特に限定されないが、酸性ガスとの反応性を考慮すると特にポリアニリンを用いることが好ましい。下記式(1)で表される構造単位を有するエメラルジン塩基型のポリアニリンは、酸(H)と反応して、下記式(2)で表される構造単位を有するエメラルジン塩型となる。式(2)において、Xは陰イオンを表し、前記酸が酢酸である場合CHCOO、塩酸である場合Clである。エメラルジン塩基型は青色、エメラルジン塩型は緑色を呈するため、目視または吸光度の測定により酸との反応を確認することができる。エメラルジン塩基型のポリアニリンは、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)及びこれらの混合物に可溶であるが、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)には不溶である。そのため、塗布法により検知層を形成する時に使用する検知層形成材料の溶剤としてNMP及び/またはDMFを用い、塗布法によりバッファー層を形成する時に使用するバッファー層形成材料の溶剤としてPGMEまたはPGMEAを用いれば、ミキシングが起こらない。

Figure 2013213740
The material for forming the detection layer is not particularly limited as long as it satisfies the requirement that it changes color by reacting with an acid gas, or is an oligomer or polymer that dissolves in a specific solvent. In view of the above, it is particularly preferable to use polyaniline. The emeraldine base type polyaniline having a structural unit represented by the following formula (1) reacts with an acid (H + X ) to become an emeraldine salt type having a structural unit represented by the following formula (2). . In the formula (2), X represents an anion, CH 3 COO when the acid is acetic acid, and Cl when the acid is hydrochloric acid. Since the emeraldine base type is blue and the emeraldine salt type is green, the reaction with the acid can be confirmed visually or by measuring the absorbance. Emeraldine base type polyaniline is soluble in N-methylpyrrolidone (NMP), N, N-dimethylformamide (DMF) and mixtures thereof, but propylene glycol monomethyl ether (PGME) and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA). ) Is insoluble. Therefore, NMP and / or DMF are used as the solvent for the detection layer forming material used when forming the detection layer by the coating method, and PGME or PGMEA is used as the solvent for the buffer layer forming material used when forming the buffer layer by the coating method. If used, mixing does not occur.
Figure 2013213740

上記バッファー層形成材料としては、上記検知層を溶解しない溶剤に溶解すること、熱または光によって硬化し溶剤耐性を発現すること、という要件を満たせば特に限定されず、必要に応じて酸触媒などの硬化触媒を加えることができる。本発明の場合、上記バッファー層形成材料は、特に酸触媒なしで硬化することが好ましい。酸触媒なしで硬化する材料として、例えばヒドロキシ基含有ポリマーとブロックイソシアネート架橋剤との組み合わせが挙げられる。ヒドロキシ基含有ポリマーとして、例えば下記式(3a)乃至式(3f)で表される構造単位を有するポリマーが挙げられ、ブロックイソシアネート架橋剤として、例えば下記式(4a)乃至式(4d)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2013213740
The buffer layer forming material is not particularly limited as long as it satisfies the requirements of being dissolved in a solvent that does not dissolve the detection layer, and being cured by heat or light to express solvent resistance. The curing catalyst can be added. In the present invention, the buffer layer forming material is preferably cured without an acid catalyst. Examples of the material that is cured without an acid catalyst include a combination of a hydroxy group-containing polymer and a blocked isocyanate crosslinking agent. Examples of the hydroxy group-containing polymer include polymers having structural units represented by the following formulas (3a) to (3f). Examples of the blocked isocyanate crosslinking agent include those represented by the following formulas (4a) to (4d). Compounds.
Figure 2013213740

上記検知層形成材料及び上記バッファー層形成材料には、さらに界面活性剤を含有することができる。前記界面活性剤は公知のものが使用でき、その添加量としては、上記溶剤に対して例えば0.001質量%乃至5質量%、好ましくは0.005質量%乃至2質量%である。前記界面活性剤を含む場合、その添加量が少なすぎると、塗布性改善、レベリング性などの効果が期待できない。界面活性剤の添加量が多すぎると、バリア膜の製膜時にはじきが発生する要因となる。 The detection layer forming material and the buffer layer forming material may further contain a surfactant. As the surfactant, a known one can be used, and the addition amount thereof is, for example, 0.001 to 5% by mass, preferably 0.005 to 2% by mass with respect to the solvent. When the surfactant is included, if the amount added is too small, effects such as improved coating properties and leveling properties cannot be expected. If the amount of the surfactant added is too large, it becomes a factor that repellency occurs when the barrier film is formed.

上記界面活性剤の例として、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップ(登録商標)EF301、同EF303、同EF352(三菱マテリアル電子化成(株)製)、メガファック(登録商標)F171、同F173、同R−30(DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード(登録商標)AG710、サーフロン(登録商標)S−382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106(旭硝子(株)製)、FTX−100、FTX−150、FTX−501、FTX−220P、FTX−250、FTX−300、FTX−400SW((株)ネオス製)等のフッ素系界面活性剤、BYK(登録商標)−307、同−310、同−322、同−370(ビックケミー・ジャパン(株))、KP341(信越化学工業(株)製)等のシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。 Examples of the surfactant include, for example, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenol ether, polyoxyethylene Polyoxyethylene alkyl aryl ethers such as nonylphenol ether, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, sorbitan tristearate Sorbitan fatty acid esters such as rate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene Non-ionic surfactants such as polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, Ftop (registered trademark) ) EF301, EF303, EF352 (Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.), MegaFac (registered trademark) F171, F173, R-30 (DIC Corporation), Florard FC430, FC431 (Sumitomo 3M) Manufactured by Asahi Guard (registered trademark) AG710, Surflon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (Asahi Glass Co., Ltd.), FTX- 100, FT -150, FTX-501, FTX-220P, FTX-250, FTX-300, FTX-400SW (manufactured by Neos Co., Ltd.) and other fluorine-based surfactants, BYK (registered trademark) -307, the same -310, the same -322, -370 (Bic Chemie Japan Co., Ltd.), KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like.

以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

本明細書の下記合成例に示すポリマーの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略称する。)による測定結果である。使用する装置、条件等は次のとおりである。
GPC装置:HLC−8220GPC(東ソー(株)製)
GPCカラム:Shodex(登録商標)KF803L,KF802,KF801(昭和電工(株)製)
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
流量:1.0ml/分
標準試料:ポリスチレン(昭和電工(株)製)
The weight average molecular weight of the polymer shown in the following synthesis examples of the present specification is a measurement result by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC). The equipment and conditions used are as follows.
GPC device: HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation)
GPC column: Shodex (registered trademark) KF803L, KF802, KF801 (manufactured by Showa Denko KK)
Column temperature: 40 ° C
Solvent: tetrahydrofuran (THF)
Flow rate: 1.0 ml / min Standard sample: Polystyrene (manufactured by Showa Denko KK)

(合成例1)
窒素置換した反応容器に、5,5−ジエチルバルビツール酸(八代製薬(株)製)7.76g、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート(四国化成工業(株)製)11.75g、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド(東京化成工業(株)製)0.48g、PGME80.00gを加え、還流下攪拌した。24時間攪拌後、反応溶液を室温に冷却し、陽イオン交換樹脂(製品名:アンバーリスト15JWET、ローム・アンド・ハース社製)20.00g、および陰イオン交換樹脂(製品名:550A、ダウ・ケミカル社製)20.00gを加え、4時間撹拌した。得られた下記式(3)で表される構造単位を有するポリマーの重量平均分子量は、10000であった。
(Synthesis Example 1)
In a nitrogen-substituted reaction vessel, 7.76 g of 5,5-diethylbarbituric acid (manufactured by Yatsushiro Pharmaceutical Co., Ltd.), 11.75 g of monoallyl diglycidyl isocyanurate (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), benzyltriethylammonium chloride (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.48g and PGME80.00g were added, and it stirred under recirculation | reflux. After stirring for 24 hours, the reaction solution was cooled to room temperature, 20.00 g of a cation exchange resin (product name: Amberlyst 15JWET, manufactured by Rohm and Haas), and an anion exchange resin (product name: 550A, Dow 20.00 g of Chemical) was added and stirred for 4 hours. The weight average molecular weight of the polymer having the structural unit represented by the following formula (3) was 10,000.

(実施例1)
ポリアニリン(エメラルジン塩基,重量平均分子量:5000、シグマアルドリッチ社製)1.32gを、NMP32.68g及びDMF10.89gの混合溶媒に溶解させた。この溶液を、スピナーにより石英基板上に塗布した。その後、ホットプレート上200℃で3分間ベークし、検知層を形成した。本実施例で形成した検知層は、PGME、PGMEA、及びPGME:シクロヘキサノン=35:65(質量比)には溶解しないことを確認した。
Example 1
1.32 g of polyaniline (emeraldine base, weight average molecular weight: 5000, manufactured by Sigma-Aldrich) was dissolved in a mixed solvent of NMP 32.68 g and DMF 10.89 g. This solution was applied onto a quartz substrate by a spinner. Then, it baked on a hotplate at 200 degreeC for 3 minutes, and formed the detection layer. It was confirmed that the detection layer formed in this example did not dissolve in PGME, PGMEA, and PGME: cyclohexanone = 35: 65 (mass ratio).

(比較例1)
エポキシ樹脂(製品名:EHPE3150、(株)ダイセル製)10.00gに対し、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(東京化成工業(株)製)1.74g、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン溶液である表面調整剤(製品名:BYK−307、ビックケミー・ジャパン(株)製)0.02g、クレゾールレッド(東京化成工業(株)製)0.01g及びPGME47.09gを加え、溶液を作製した。この溶液を、スピナーにより石英基板上に塗布した。その後、ホットプレート上150℃で1分間ベークしたところ、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン及びクレゾールレッドが昇華してしまい、有用な検知層を作製することができなかった。
(Comparative Example 1)
1.74 g of 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) with respect to 10.00 g of epoxy resin (product name: EHPE3150, manufactured by Daicel Corporation), poly 0.02 g of a surface conditioner (product name: BYK-307, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), 0.01 g of Cresol Red (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 47.09 g of PGME, which are ether-modified polydimethylsiloxane solutions. In addition, a solution was made. This solution was applied onto a quartz substrate by a spinner. Then, when baked on a hot plate at 150 ° C. for 1 minute, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene and cresol red sublimate, and a useful detection layer cannot be produced. It was.

(実施例2)
合成例1で得たポリマー6.50gに対し、ブロックイソシアネート架橋剤(商品名:タケネート(登録商標)B−882N、三井化学(株)製)3.45g、PGME9.09g及びシクロヘキサノン23.71gを加え、溶液を作製した。この溶液を、スピナーにより、実施例1で形成した検知層上に塗布した。その後、ホットプレート上200℃で20分間ベークし、バッファー層を形成した。その結果、石英基板上に検知層及びバッファー層が順に積層された酸性ガス検知膜が得られた。本実施例で形成したバッファー層は、PGME、PGMEA、シクロヘキサノン、NMP及びDMFに溶解しないことを確認した。
(Example 2)
To 6.50 g of the polymer obtained in Synthesis Example 1, 3.45 g of a blocked isocyanate crosslinking agent (trade name: Takenate (registered trademark) B-882N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), PGME 9.09 g and cyclohexanone 23.71 g In addition, a solution was made. This solution was applied onto the detection layer formed in Example 1 by a spinner. Then, it baked at 200 degreeC on the hotplate for 20 minutes, and formed the buffer layer. As a result, an acidic gas detection film in which a detection layer and a buffer layer were sequentially laminated on a quartz substrate was obtained. It was confirmed that the buffer layer formed in this example did not dissolve in PGME, PGMEA, cyclohexanone, NMP and DMF.

(比較例2)
合成例1で得たポリマー5.00gに対し、CYMEL(登録商標)303(ヘキサメトキシメチルメラミン)0.27g、PGME6.99g及びシクロヘキサノン20.63gを加え、溶液を作製した。この溶液を、スピナーにより検知層上に塗布した。その後、ホットプレート上200℃で20分間ベークしたが、形成された膜はPGME、PGMEA、シクロヘキサノン、NMP及びDMFに溶解することを確認した。
(Comparative Example 2)
CYMEL (registered trademark) 303 (hexamethoxymethylmelamine) 0.27 g, PGME 6.99 g and cyclohexanone 20.63 g were added to the polymer 5.00 g obtained in Synthesis Example 1 to prepare a solution. This solution was applied onto the detection layer by a spinner. Thereafter, the substrate was baked on a hot plate at 200 ° C. for 20 minutes, and it was confirmed that the formed film was dissolved in PGME, PGMEA, cyclohexanone, NMP and DMF.

(実施例3)
ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)(重量平均分子量:20000,シグマアルドリッチ社製)10.00gにPGME70.00gを加え、溶液を作製した。この溶液を、スピナーにより、実施例2で形成したバッファー層上に塗布した。その後、ホットプレート上150℃で1分間ベークし、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)からなるバリア膜を形成した。
(Example 3)
70.00 g of PGME was added to 10.00 g of poly (2-hydroxyethyl methacrylate) (weight average molecular weight: 20000, manufactured by Sigma-Aldrich) to prepare a solution. This solution was applied onto the buffer layer formed in Example 2 by a spinner. Then, it baked at 150 degreeC on the hotplate for 1 minute, and formed the barrier film which consists of poly (2-hydroxyethyl methacrylate).

実施例2で得た酸性ガス検知膜を有する第一の評価基板、及び実施例3で得たバリア膜をさらに有する第二の評価基板を、酢酸ガスで充満させた容器に入れ、24時間曝露した。その結果、両評価基板とも色の変化が観察され、第一の評価基板と第二の評価基板とでは第二の評価基板の方が色の変化が小さいことを確認した。
The first evaluation substrate having the acidic gas detection film obtained in Example 2 and the second evaluation substrate further having the barrier film obtained in Example 3 are placed in a container filled with acetic acid gas and exposed for 24 hours. did. As a result, a change in color was observed on both evaluation boards, and it was confirmed that the second evaluation board had a smaller color change between the first evaluation board and the second evaluation board.

Claims (6)

1)酸性ガスと反応して変色し、かつ特定の溶剤に溶解するオリゴマーまたはポリマーからなる検知層、及び2)前記検知層を溶解しない溶剤に溶解するオリゴマー若しくはポリマー、または該オリゴマー若しくはポリマーと架橋剤との組み合わせからなる材料から形成されたバッファー層、が順に積層された酸性ガス検知膜。 1) a detection layer made of an oligomer or polymer that reacts with an acid gas and changes color and dissolves in a specific solvent; and 2) an oligomer or polymer that dissolves in a solvent that does not dissolve the detection layer, or crosslinks with the oligomer or polymer. An acid gas detection film in which a buffer layer formed of a material composed of a combination with an agent is sequentially laminated. 前記検知層がエメラルジン塩基型ポリアニリンからなる請求項1に記載の酸性ガス検知膜。 The acidic gas detection film according to claim 1, wherein the detection layer is made of emeraldine base type polyaniline. 前記特定の溶剤は、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミドまたはこれらの混合物である請求項2に記載の酸性ガス検知膜。 The acidic gas detection film according to claim 2, wherein the specific solvent is N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, or a mixture thereof. 前記検知層を溶解しない溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである請求項2または請求項3に記載の酸性ガス検知膜。 The acid gas detection film according to claim 2 or 3, wherein the solvent that does not dissolve the detection layer is propylene glycol monomethyl ether or propylene glycol monomethyl ether acetate. 前記バッファー層がヒドロキシ基含有ポリマーとブロックイソシアネート架橋剤との組み合わせからなる材料から形成されたものである請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の酸性ガス検知膜。 The acidic gas detection film according to any one of claims 1 to 4, wherein the buffer layer is formed of a material made of a combination of a hydroxy group-containing polymer and a blocked isocyanate crosslinking agent. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の酸性ガス検知膜上にバリア膜を積層し、該バリア膜を酸性ガスに曝露することによる、酸性ガスバリア性の評価方法。
A method for evaluating acid gas barrier properties, comprising: laminating a barrier film on the acid gas detection film according to any one of claims 1 to 5; and exposing the barrier film to an acid gas.
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