JP2013207010A - Light-emitting element, manufacturing method therefor, display device and luminaire - Google Patents
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Description
本開示は、発光素子、発光素子の製造方法、表示装置および照明装置に関し、特に、有機材料のエレクトロルミネッセンス(Electroluminescence)を利用した発光素子およびその製造方法ならびにこの発光素子を用いた表示装置および照明装置に関する。 The present disclosure relates to a light-emitting element, a method for manufacturing a light-emitting element, a display device, and an illumination device, and in particular, a light-emitting element using electroluminescence of an organic material, a method for manufacturing the same, and a display device and an illumination using the light-emitting element. Relates to the device.
近年、液晶表示装置に代わる表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子を用いた有機EL表示装置が注目されている。この有機EL表示装置は、自発光型であり、消費電力が低いという特性を有しており、また、高精細度の高速ビデオ信号に対しても十分な応答性を有するものと考えられており、実用化に向けての開発および商品化が鋭意進められている。 In recent years, organic EL display devices using organic electroluminescence (EL) elements have attracted attention as display devices that can replace liquid crystal display devices. This organic EL display device is self-luminous, has low power consumption, and is considered to be sufficiently responsive to high-definition high-speed video signals. The development and commercialization for practical use are being promoted.
有機EL素子は通常、第1電極、有機発光材料からなる発光層を備えた有機層および第2電極が順次積層された構造を有する(例えば、特許文献1参照。)。 The organic EL element usually has a structure in which a first electrode, an organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material, and a second electrode are sequentially laminated (see, for example, Patent Document 1).
このような有機EL素子の実用化に当たって大きな課題となるものに、電極間の短絡が挙げられる。すなわち、本発明者の知見によれば、第1電極上にパーティクル(異物)や突起部が存在すると、第1電極上に形成される有機層のカバレッジが完全ではなくなるため、この有機層上に第2電極を形成すると、第1電極と第2電極との間で短絡が生じることがある。例えば、図19に示すように、基板201上に形成された第1電極202上に異物203が存在すると、有機層204はこの異物203の部分においてカバレッジが著しく悪くなる。このため、第2電極205を形成すると、第1電極202と異物203との接触部の近傍において第2電極205が第1電極202と接触してしまい、短絡が生じてしまう。
A short circuit between the electrodes is one of the major issues in the practical application of such an organic EL element. That is, according to the knowledge of the present inventor, if particles (foreign matter) or protrusions exist on the first electrode, the coverage of the organic layer formed on the first electrode is not perfect, When the second electrode is formed, a short circuit may occur between the first electrode and the second electrode. For example, as shown in FIG. 19, when the
上述のように第1電極と第2電極との間で短絡が生じると、アクティブマトリクス方式の有機EL表示装置においては、この短絡が生じた画素が欠陥となってしまい、有機EL表示装置の表示品質を劣化させてしまう。また、パッシブマトリクス方式の有機EL表示装置においては、この短絡が生じると欠線が生じてしまい、やはり有機EL表示装置の表示品質を劣化させてしまう。この問題は、特に大型の有機EL表示装置において顕著な問題となる。なぜならば、大型の有機EL表示装置においては、単位面積当たりの許容欠陥数が少なくなるからである。 As described above, when a short circuit occurs between the first electrode and the second electrode, in the active matrix type organic EL display device, the pixel in which the short circuit occurs is defective, and the display of the organic EL display device is performed. It will degrade the quality. Moreover, in the passive matrix type organic EL display device, when this short circuit occurs, a broken line occurs, and the display quality of the organic EL display device is deteriorated. This problem becomes a significant problem particularly in a large organic EL display device. This is because the number of allowable defects per unit area is reduced in a large organic EL display device.
これまで、上述の第1電極と第2電極との間での短絡を減少させる取り組みが種々行われてきている。例えば、特許文献2には、ボトムエミッション方式の有機EL表示装置において、アノード電極と有機層との間に高抵抗層を挿入する技術が開示されている。また、特許文献3には、トップエミッション方式の有機EL表示装置において、アノード電極を2層とし、有機層に近いアノード電極を構成する層を高抵抗にする技術が開示されている。また、特許文献4には、ボトムエミッション方式の有機EL表示装置において、カソード電極を2層とし、有機層に近いアノード電極を構成する層を高抵抗にする技術が開示されている。さらに、特許文献5には、トップエミッション方式の有機EL表示装置において、有機層と第2電極との間に高抵抗層を挿入する技術が開示されている。
So far, various efforts have been made to reduce the short circuit between the first electrode and the second electrode. For example,
しかしながら、特許文献2〜5に開示された技術により第1電極と第2電極との間の短絡を防止した場合には、有機EL表示装置の色度や輝度の視野角特性に問題が生じる場合がある。すなわち、一般に有機EL素子は、発光層から発生する光が外部へ透過する際に、有機層および電極の構造に起因して干渉や共振の影響を受ける。これらの干渉や共振の影響により、色度や輝度の視野角依存性が生じる。すなわち、視野角が大きくなるに従い、有機EL表示装置からの光のスペクトルの形状が大きく変動したり、光強度が大幅に低下するといった問題が生じる場合がある。そのため、干渉の影響はなるべく低く抑えることが望ましい。干渉の影響を小さくするには、第1電極と第2電極との間の距離を離すことで干渉のピッチを狭めることが挙げられる。しかしながら、特許文献2〜5に開示された技術では、第1電極と第2電極との間の短絡を防止するために各層の厚さや電気抵抗率が規定されてしまうため、第1電極と第2電極との間の距離を任意に離すことができない。また、高抵抗層の厚さを大きくすると抵抗が大きくなってしまうため、有機EL素子の駆動電圧の大幅な上昇が生じ、素子の特性が悪化してしまう。
However, when the short circuit between the first electrode and the second electrode is prevented by the techniques disclosed in
そこで、本開示が解決しようとする課題は、第1電極上にパーティクル(異物)や突起部が存在したとしても、第1電極と第2電極との間で短絡が生じることがなく、視野角特性が良好で駆動電圧も低い発光素子およびその製造方法を提供することである。 Therefore, the problem to be solved by the present disclosure is that even if particles (foreign matter) or protrusions exist on the first electrode, a short circuit does not occur between the first electrode and the second electrode, and the viewing angle A light-emitting element having good characteristics and low driving voltage and a method for manufacturing the light-emitting element.
本開示が解決しようとする他の課題は、上記の優れた発光素子を用いた、視野角特性が良好な高画質の表示装置を提供することである。 Another problem to be solved by the present disclosure is to provide a high-quality display device using the above-described excellent light-emitting element and having good viewing angle characteristics.
本開示が解決しようとするさらに他の課題は、上記の優れた発光素子を用いた、角度依存性が少なく、配光特性が良好な照明装置を提供することである。 Still another problem to be solved by the present disclosure is to provide an illumination device that uses the above-described excellent light-emitting element and has less angle dependency and good light distribution characteristics.
上記課題を解決するために、本開示は、
第1電極と、
上記第1電極上の、有機発光材料からなる発光層を含む有機層と、
上記有機層上の第1抵抗層と、
上記第1抵抗層上の、上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層と、
上記第2抵抗層上の第2電極とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子である。
In order to solve the above problems, the present disclosure provides:
A first electrode;
An organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
A first resistive layer on the organic layer;
A second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the first resistance layer;
A second electrode on the second resistance layer;
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
In the light-emitting element, the total thickness of the first resistance layer and the second resistance layer is 1 μm or more.
また、本開示は、
基板上に第1電極を形成する工程と、
上記第1電極上に有機発光材料からなる発光層を含む有機層を形成する工程と、
上記有機層上に第1抵抗層および上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層を順次形成する工程と、
上記第2抵抗層上に第2電極を形成する工程とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子の製造方法である。
In addition, this disclosure
Forming a first electrode on a substrate;
Forming an organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
Sequentially forming a first resistance layer and a second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the organic layer;
Forming a second electrode on the second resistance layer,
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
In this method, the total thickness of the first resistance layer and the second resistance layer is 1 μm or more.
また、本開示は、
第1電極と、
上記第1電極上の、有機発光材料からなる発光層を含む有機層と、
上記有機層上の第1抵抗層と、
上記第1抵抗層上の、上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層と、
上記第2抵抗層上の第2電極とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子を少なくとも一つ有する表示装置である。
In addition, this disclosure
A first electrode;
An organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
A first resistive layer on the organic layer;
A second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the first resistance layer;
A second electrode on the second resistance layer;
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
The display device includes at least one light emitting element having a total thickness of 1 μm or more of the first resistance layer and the second resistance layer.
また、本開示は、
第1電極と、
上記第1電極上の、有機発光材料からなる発光層を含む有機層と、
上記有機層上の第1抵抗層と、
上記第1抵抗層上の、上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層と、
上記第2抵抗層上の第2電極とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子を少なくとも一つ有する照明装置である。
In addition, this disclosure
A first electrode;
An organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
A first resistive layer on the organic layer;
A second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the first resistance layer;
A second electrode on the second resistance layer;
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
An illumination device having at least one light emitting element having a total thickness of 1 μm or more of the first resistance layer and the second resistance layer.
本開示において、好適には、第1抵抗層を構成する材料の電気抵抗率は1×106 Ω・m以上1×1010Ω・mであり、第1抵抗層の厚さは0.1μm以上1μm以下であるが、これに限定されるものではない。また、好適には、第2抵抗層を構成する材料の電気抵抗率は1×100 Ω・m以上1×105 Ω・mであり、第2抵抗層の厚さは0.5μm以上であるが、これに限定されるものではない。第1抵抗層および第2抵抗層を構成する材料は必要に応じて選ばれるが、典型的には、酸化物半導体からなる。酸化物半導体としては、従来公知のものを一種類あるいは二種類以上混合して用いることができる。 In the present disclosure, preferably, the electrical resistivity of the material constituting the first resistance layer is 1 × 10 6 Ω · m or more and 1 × 10 10 Ω · m, and the thickness of the first resistance layer is 0.1 μm. Although it is above 1 micrometer, it is not limited to this. Preferably, the electrical resistivity of the material constituting the second resistance layer is 1 × 10 0 Ω · m or more and 1 × 10 5 Ω · m, and the thickness of the second resistance layer is 0.5 μm or more. Although there is, it is not limited to this. Although the material which comprises a 1st resistance layer and a 2nd resistance layer is chosen as needed, it typically consists of an oxide semiconductor. As the oxide semiconductor, one kind or two or more kinds of conventionally known ones can be used.
この発光素子は上面発光(トップエミッション)型に構成してもよいし、下面発光(ボトムエミッション)型に構成してもよい。上面発光型の発光素子では、基板上に形成される第1電極は発光層からの光を反射し、第1抵抗層、第2抵抗層および第2電極は発光層からの光を透過する。この基板は不透明であっても透明であってもよく、必要に応じて選ばれる。下面発光型の発光素子では、基板上に形成される第1電極、第1抵抗層および第2抵抗層、さらには基板は発光層からの光を透過し、第2電極は発光層からの光を反射する。 This light emitting element may be configured as a top emission type or a bottom emission type. In the top emission type light emitting element, the first electrode formed on the substrate reflects light from the light emitting layer, and the first resistance layer, the second resistance layer, and the second electrode transmit light from the light emitting layer. This substrate may be opaque or transparent and is selected as required. In the bottom emission type light emitting element, the first electrode, the first resistance layer, the second resistance layer, and the substrate formed on the substrate transmit light from the light emitting layer, and the second electrode transmits light from the light emitting layer. To reflect.
本開示の表示装置および照明装置は従来公知の構成とすることができ、それらの用途や機能などに応じて適宜構成される。表示装置は、典型的な一つの例では、表示画素毎に対応した表示信号を発光素子に供給するための能動素子(薄膜トランジスタなど)が設けられた駆動基板と、この駆動基板と対向して設けられた封止基板とを有する。発光素子は駆動基板と封止基板との間に配置される。この表示装置は白色表示装置、白黒表示装置、カラー表示装置などのいずれのものであってもよい。カラー表示装置においては、典型的には、駆動基板および封止基板のうちの発光素子の光が射出される側の電極側の基板にこの電極側から射出される光を透過するカラーフィルタが設けられる。 The display device and the illumination device of the present disclosure can have a conventionally known configuration, and are appropriately configured according to their use and function. In a typical example, a display device is provided with a drive substrate provided with an active element (such as a thin film transistor) for supplying a display signal corresponding to each display pixel to a light emitting element, and facing the drive substrate. And a sealed substrate. The light emitting element is disposed between the driving substrate and the sealing substrate. This display device may be any one of a white display device, a monochrome display device, a color display device, and the like. In a color display device, typically, a color filter that transmits light emitted from the electrode side is provided on a substrate on the electrode side on which light of a light emitting element is emitted from the driving substrate and the sealing substrate. It is done.
上述の本開示においては、有機層上に第1抵抗層およびこの第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層を形成し、これらの第1抵抗層および第2抵抗層の合計の厚さを1μm以上と十分に大きくしている。このため、第1電極上にパーティクル(異物)や突起部が存在し、その上に形成される有機層のカバレッジが悪化したとしても、第1抵抗層および第2抵抗層によりそれらのパーティクル(異物)や突起部が十分に覆われる。このため、第1電極と第2電極との間で短絡が生じるのを防止することができる。また、第1抵抗層の厚さはあまり大きくせず、第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層の厚さを大きくすることにより、第1抵抗層および第2抵抗層の合計の抵抗を低く抑えることができる。このため、発光素子の駆動電圧を低く抑えることができる。また、第1電極と第2電極との間の距離を十分に大きくすることができるため、発光層からの光の干渉による影響をほとんど無視することができるので、発光素子の視野角依存性を十分に小さくすることができ、良好な視野角特性を得ることができる。 In the present disclosure described above, the first resistance layer and the second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer are formed on the organic layer, and these first resistances are formed. The total thickness of the layer and the second resistance layer is made sufficiently large to be 1 μm or more. For this reason, even if particles (foreign matter) and projections exist on the first electrode and the coverage of the organic layer formed thereon deteriorates, the particles (foreign matter) are caused by the first resistance layer and the second resistance layer. ) And protrusions are sufficiently covered. For this reason, it is possible to prevent a short circuit from occurring between the first electrode and the second electrode. Further, the thickness of the first resistance layer is not so large, and the first resistance layer is made thicker by increasing the thickness of the second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer. The total resistance of the resistance layer and the second resistance layer can be kept low. For this reason, the drive voltage of a light emitting element can be restrained low. In addition, since the distance between the first electrode and the second electrode can be made sufficiently large, the influence of light interference from the light emitting layer can be neglected. It can be made sufficiently small, and good viewing angle characteristics can be obtained.
本開示によれば、第1電極上にパーティクル(異物)や突起部が存在したとしても、第1電極と第2電極との間で短絡が生じることがなく、視野角特性が良好で駆動電圧も低い発光素子を実現することができる。そして、この優れた発光素子を用いることにより、視野角特性が良好な高画質の表示装置および角度依存性が少ない、配光特性が良好な照明装置を実現することができる。 According to the present disclosure, even if particles (foreign matter) or protrusions exist on the first electrode, a short circuit does not occur between the first electrode and the second electrode, the viewing angle characteristics are good, and the drive voltage Low light emitting element can be realized. By using this excellent light-emitting element, a high-quality display device with favorable viewing angle characteristics and an illumination device with excellent light distribution characteristics with little angle dependency can be realized.
以下、発明を実施するための形態(以下「実施の形態」とする)について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.実施の形態1(有機EL素子およびその製造方法)
2.実施の形態2(有機EL素子およびその製造方法)
3.実施の形態3(表示装置)
4.実施の形態4(照明装置)
Hereinafter, modes for carrying out the invention (hereinafter referred to as “embodiments”) will be described. The description will be given in the following order.
1. Embodiment 1 (Organic EL device and manufacturing method thereof)
2. Embodiment 2 (Organic EL device and manufacturing method thereof)
3. Embodiment 3 (display device)
4). Embodiment 4 (lighting device)
〈1.実施の形態1〉
[有機EL素子]
図1は実施の形態1による有機EL素子を示す。この有機EL素子は上面発光型である。
<1.
[Organic EL device]
FIG. 1 shows an organic EL element according to the first embodiment. This organic EL element is a top emission type.
図1に示すように、この有機EL素子においては、基板11上に、下層から順に、第1電極12、有機発光材料からなる発光層13aを含む有機層13、第1抵抗層14、第2抵抗層15および第2電極16が順次積層されている
As shown in FIG. 1, in this organic EL element, on the
基板11は、発光層13cからの光に対して透明であってもなくてもよく、フレキシブルであってもなくてもよく、各種の材料からなるものを用いることができ、必要に応じて選ばれる。基板11は、具体的には、例えば、透明または不透明のガラス基板やシリコン基板などの半導体基板などであるが、これらに限定されるものではない。
The
第1電極12は、反射層を兼ねたアノード電極として用いられ、例えば、アルミニウム(Al)、アルミニウム合金、白金(Pt)、金(Au)、クロム(Cr)、タングステン(W)などの光反射材料で構成されている。この第1電極12は、厚さが100〜300nmの範囲に設定されていることが好ましいが、これに限定されるものではない。第1電極12は、必要に応じて透明電極としてもよく、この場合は、この第1電極12と基板11との間に反射界面を形成する目的で、例えばPt、Au、Cr、Wなどの光反射材料からなる反射層を設けるのが好ましい。
The
有機層13は、必要に応じて、発光層13aに加えて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、接続層などを有する。図2に、一例として、有機層13が、下層から順に、正孔注入層13b、正孔輸送層13c、発光層13a、電子輸送層13d、電子注入層13eおよび接続層13fが順次積層された構造を有する場合を示す。
The
発光層13aの発光材料は発光色に応じて適宜選択される。緑色の発光材料としては、例えば、Alq3(トリスキノリノールアルミニウム錯体)を用いることができる。赤色の発光材料としては、例えば、ホスト材料としてのルブレンにピロメテンホウ素錯体をドーピングしたものを用いることができる。青色の発光材料としては、例えば、ADN(9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン)にジアミノクリセン誘導体をドーパント材料として相対膜厚比で5%ドーピングしたものを用いることができる。発光層13aの発光色は単色に限られず、例えば、発光色が互いに異なる複数の発光層を積層したり、発光色が互いに異なる複数の発光材料を共蒸着したりすることにより白色の発光をさせたりしてもよい。正孔注入層13bは、例えばヘキサアザトリフェニレン(HAT)などで構成される。正孔輸送層13cは、例えばα−NPD〔N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-〔1,1'-biphenyl 〕- 4,4'-diamine〕で構成される。電子輸送層13dは、例えば、BCP(2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン)などで構成される。電子注入層13eは、例えば、フッ化リチウム(LiF)などで構成される。接続層13fは、例えば、Mgを5%ドープしたAlq3、HATなどで構成される。有機層13を構成するこれらの層の厚さは、例えば、発光層13aは5nm以上50nm以下、正孔注入層13bは1nm以上20nm以下、正孔輸送層13cは15nm以上100nm以下、電子輸送層13dおよび電子注入層13eは15nm以上200nm以下の範囲に設定されることが好ましい。
The light emitting material of the
第1抵抗層14は、発光層13aからの光に対して透明に構成される。第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率は、例えば、1×106 Ω・m以上1×1010Ω・m以下(あるいは1×104 Ω・cm以上1×108 Ω・cm以下)、好適には、1×108 Ω・m以上1×109 Ω・m以下(あるいは1×106 Ω・cm以上1×107 Ω・cm以下)に選ばれるが、これに限定されるものではない。第1抵抗層14の厚さは、例えば、0.1μm以上1μm以下に選ばれるが、これに限定されるものではない。第1抵抗層14を構成する材料は適宜選ばれるが、好適には、酸化物半導体が用いられる。この酸化物半導体としては、具体的には、例えば、酸化ニオブ(Nb2 O5 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化モリブデン(MoO2 、MoO3 )、酸化タンタル(Ta2 O5 )、酸化ハフニウム(HfO)、IGZO、酸化ニオブと酸化チタンとの混合物、酸化チタンと酸化亜鉛(ZnO)との混合物、酸化ケイ素(SiO2 )と酸化スズ(SnO2 )との混合物、これらの材料の二以上を適宜組み合わせた材料などを挙げることができる。第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率および第1抵抗層14の厚さは、この有機EL素子の駆動電圧およびこの第1抵抗層14のカバレッジ性から適宜決められる。すなわち、具体的には、例えば、この有機EL素子の駆動時に、この第1抵抗層14での電圧降下の値が0.05V以上1.0V以下となるように、この第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率および第1抵抗層14の厚さが選ばれる。また、図3に示すように、第1抵抗層14の厚さは、好適には、第1電極12上に例えば異物17が存在する場合、その上に形成される第1抵抗層14が異物17を完全に覆い、最終的に形成される第2電極16が第1電極12と接触しないように選ばれる。
The
第2抵抗層15は、発光層13aからの光に対して透明に構成される。第2抵抗層15を構成する材料の電気抵抗率は、例えば、1×100 Ω・m以上1×105 Ω・m以下(あるいは1×10-2Ω・cm以上1×103 Ω・cm以下)に選ばれるが、これに限定されるものではない。第2抵抗層15の厚さは、例えば、0.5μm以上、好適には1μm以上に選ばれるが、これに限定されるものではない。第2抵抗層15の厚さの上限は特に存在しないが、第2抵抗層15の厚さは一般的には5μm以下、典型的には2μm以下である。第2抵抗層15を構成する材料は適宜選ばれるが、好適には、第1抵抗層14を構成する材料と同様に、酸化物半導体が用いられる。この酸化物半導体としては、具体的には、例えば、酸化ニオブ(Nb2 O5 )、酸化チタン(TiO2 )、酸化モリブデン(MoO2 、MoO3 )、酸化タンタル(Ta2 O5 )、酸化ハフニウム(HfO)、IGZO、酸化ニオブと酸化チタンとの混合物、酸化チタンと酸化亜鉛(ZnO)との混合物、酸化ケイ素(SiO2 )と酸化錫(SnO2 )との混合物、これらの材料の二以上を適宜組み合わせた材料などを挙げることができる。第2抵抗層15を構成する材料は、第1抵抗層14を構成する材料と同じであっても異なってもよく、必要に応じて選ばれる。第2抵抗層15を構成する材料の電気抵抗率を第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率よりも低くすることにより、有機EL素子の駆動電圧を上昇させることなく、第2抵抗層15の厚さを大きくすることができる。第2抵抗層15を構成する材料が第1抵抗層14を構成する材料と同じである場合、第2抵抗層15を構成する材料の電気抵抗率を第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率よりも低くするためには、例えば次のようにする。すなわち、第1抵抗層14および第2抵抗層15を例えばスパッタリング法で成膜する場合には、成膜に用いる雰囲気中の酸素分圧を調整することで、両者の電気抵抗率を変えることができる。具体的には、第2抵抗層15を成膜する際の雰囲気中の酸素分圧を、第1抵抗層14を成膜する際の雰囲気中の酸素分圧よりも低くすることで、第2抵抗層15を構成する材料の電気抵抗率を第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率よりも低くすることができる。第2抵抗層15の厚さを大きくすることにより、第1電極12と第2電極16との間の距離を大きくすることができ、これによって発光層12aからの光の干渉のピッチを狭め、干渉の影響を減らすことができる。
The
第2電極16は、発光層13aからの光に対して透明に構成され、カソード電極として用いられる。具体的には、第2電極16は、例えば、一般的に透明電極材料として用いられている酸化インジウムスズ(Indium Tin Oxide:ITO)やインジウムと亜鉛の酸化物などで構成される。一般に透明電極は、450nm以下の波長領域において光吸収を持つ傾向があるため、この透明電極を厚く形成すると、特に青色発光において発光層13aから出た光を吸収してしまい、結果として発光効率が下がってしまうため、できるだけ薄く、具体的には例えば200nm以下が望ましい。
The
[有機EL素子の製造方法]
この有機EL素子は例えば次のようにして製造することができる。
まず、基板11を用意する。
[Method of manufacturing organic EL element]
This organic EL element can be manufactured as follows, for example.
First, the
次に、この基板11上に、例えばスパッタリング法、真空蒸着法などにより上記の電極材料からなる膜を形成し、第1電極12を形成する。
Next, a film made of the above electrode material is formed on the
次に、この第1電極12上に真空蒸着法や塗布法などにより有機層13を形成する。
Next, the
次に、この有機層13上に、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法、イオンプレーティング法などにより上記の抵抗材料からなる膜を形成し、第1抵抗層14を形成する。
Next, a film made of the above resistance material is formed on the
次に、この第1抵抗層14上に、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、CVD法、イオンプレーティング法などにより上記の抵抗材料からなる膜を形成し、第2抵抗層15を形成する。この際、この第2抵抗層15と第1抵抗層14との合計の厚さが1μm以上になるようにする。こうすることで、図3に示すように、第1電極12上に例えば異物17が存在する場合においても、合計の厚さが1μm以上の厚い第2抵抗層15および第1抵抗層14により異物17が完全に覆われるため、第2抵抗層15上に形成される第2電極16が第1電極12と接触するのを防止することができる。
Next, a film made of the above-described resistance material is formed on the
次に、この第2抵抗層15上に、例えばスパッタリング法、真空蒸着法などにより上記の電極材料からなる膜を形成し、第2電極16を形成する。
Next, a film made of the above electrode material is formed on the
この後、必要に応じて、第1電極12、有機層13、第1抵抗層14、第2抵抗層15および第2電極16をエッチングなどにより所定の形状にパターニングする。
Thereafter, the
以上により、目的とする図1に示す有機EL素子が製造される。 Thus, the target organic EL element shown in FIG. 1 is manufactured.
第2抵抗層15の厚さを変化させた場合の、発光層13aからの光に対する透過スペクトルの変化を図4に、色度視野角特性の変化を図5に示す。ただし、ここでは、発光層13aの発光色を緑色、有機層13の厚さを200nm、第1抵抗層14の厚さを500nm、第2抵抗層15の厚さを0nm、500nm、1000nmの3通りとし、第2電極16として厚さ200nmの透明電極を用いた。図4より、第2抵抗層15の厚さを大きくすることにより、干渉のピッチが狭くなり、それに伴い、図5に示すように色度視野角特性が向上していることが分かる。また、第2抵抗層15の厚さを小さくして干渉の影響を減らすことにより、第2抵抗層15の厚さの分布に対して視野角変化が少なくなる効果を得ることもできる。
FIG. 4 shows the change in the transmission spectrum for the light from the
第2抵抗層15の厚さが0nmである場合の第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さがセンターの厚さに対して±10%変化したときの色度視野角特性の変化を図6に示す。また、第2抵抗層15の厚さが1000nmである場合の第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さがセンターの厚さに対して±10%変化したときの色度視野角特性の変化を図7に示す。図6および図7より、第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さが±10%変化しても、良好な視野角特性が得られていることが分かる。
Chromaticity viewing angle characteristics when the total thickness of the
視野角特性を向上させるために第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さを大きくしても、第2抵抗層15を構成する材料の電気抵抗率が第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率よりも低いので、発光素子の駆動電圧の上昇を抑えることができる。これについて説明すると次の通りである。すなわち、第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率を1×106 Ω・cm、第1抵抗層14の厚さを500nmとし、第2抵抗層15を構成する材料の電気抵抗率を1×103 Ω・cm、第2抵抗層15の厚さを1000nmとして有機EL素子(素子1)を作製した。また、第1抵抗層14を構成する材料の電気抵抗率を1×106 Ω・cm、第1抵抗層14の厚さを素子1の第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さと等しい1500nmとし、第2抵抗層15は設けない有機EL素子(素子2)を作製した。このように第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さを1500nmとした素子1は、第1抵抗層14の厚さを1500nmとし、第2抵抗層15は設けない素子2に比べて、直列抵抗が減少している。これらの素子1、2の電圧−電流密度特性を測定した結果を図8に示す。図8に示すように、素子1は、素子2に比べて、直列抵抗が減少している分だけ電圧上昇が抑えられていることが分かる。
Even if the total thickness of the
以上のように、この実施の形態1によれば、第1電極12上に異物17などが存在しても第1電極12と第2電極16との間の短絡を防止することができ、しかも視野角特性が良好で駆動電圧も低い優れた有機EL素子を実現することができる。また、第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さが変化しても視野角特性の変化を小さく抑えることができるため、第1抵抗層14および第2抵抗層15の合計の厚さに対するマージンが広がる。このため、有機EL素子の歩留まりおよび品質の向上を図ることができる。
As described above, according to the first embodiment, it is possible to prevent a short circuit between the
〈2.実施の形態2〉
[有機EL素子]
この有機EL素子は下面発光型である。この有機EL素子においては、実施の形態1による有機EL素子の基板11および第1電極12が発光層13aからの光に対して透明であり、第2電極16は発光層13aからの光を反射するものである。この有機EL素子の上記以外のことは実施の形態1による有機EL素子と同様である。
<2. Second Embodiment>
[Organic EL device]
This organic EL element is a bottom emission type. In this organic EL element, the
[有機EL素子の製造方法]
この有機EL素子の製造方法は実施の形態1による有機EL素子の製造方法と同様である。
[Method of manufacturing organic EL element]
The manufacturing method of the organic EL element is the same as the manufacturing method of the organic EL element according to the first embodiment.
この実施の形態2によれば、実施の形態1と同様な利点を得ることができる。 According to the second embodiment, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained.
〈3.実施の形態3〉
[表示装置]
実施の形態3による表示装置は、実施の形態1による有機EL素子を基板上に配列形成してなるアクティブマトリックス方式の表示装置である。図9にこの表示装置21の全体構成を示す。
<3.
[Display device]
The display device according to the third embodiment is an active matrix display device in which the organic EL elements according to the first embodiment are arranged on a substrate. FIG. 9 shows the overall configuration of the display device 21.
図9に示すように、この表示装置21の基板11上には、表示領域11aとその周辺領域11bとが設けられている。表示領域11aには、複数の走査線22と複数の信号線23とが縦横に配線されており、それぞれの交差部に対応して1つの画素aが設けられた画素アレイ部として構成されている。これら各画素aには有機EL素子24が設けられている。また、周辺領域11bには、走査線22を走査駆動する走査線駆動回路25と、輝度情報に応じた映像信号(すなわち入力信号)を信号線23に供給する信号線駆動回路26とが配置されている。
As shown in FIG. 9, on the
各画素aに設けられる画素回路は、例えば有機EL素子24、駆動トランジスタTr1、書き込みトランジスタ(サンプリングトランジスタ)Tr2および保持容量Csで構成されている。そして、走査線駆動回路25による駆動により、書き込みトランジスタTr2を介して信号線23から書き込まれた映像信号が保持容量Csに保持され、保持された信号量に応じた電流が有機EL素子24に供給され、この電流値に応じた輝度で有機EL素子24が発光する。なお、駆動用の薄膜トランジスタTr2と保持容量Csとは、共通の電源供給線(Vcc)27に接続されている。
The pixel circuit provided in each pixel a includes, for example, an
なお、以上のような画素回路の構成はあくまでも一例であり、必要に応じて画素回路内に容量素子を設けたり、さらに複数のトランジスタを設けて画素回路を構成してもよい。また、周辺領域11bには、画素回路の変更に応じて必要な駆動回路が追加される。
Note that the configuration of the pixel circuit as described above is merely an example, and a capacitor element may be provided in the pixel circuit as necessary, or a plurality of transistors may be provided to configure the pixel circuit. Further, a necessary drive circuit is added to the
なお、この表示装置21は、図10に示すような、封止された構成のモジュール形状のものをも含む。例えば、画素アレイ部である表示領域11aを囲むようにシーリング部29が設けられ、このシーリング部29を接着剤として、透明なガラスなどの対向部(封止基板30)に貼り付けられて形成された表示モジュールが該当する。この透明な封止基板30には、カラーフィルタ、保護膜、遮光膜などが設けられてもよい。なお、表示領域11aが形成された表示モジュールとしての基板11には、外部から表示領域11a(画素アレイ部)への信号などを入出力するためのフレキシブルプリント基板31が設けられていてもよい。
The display device 21 includes a module having a sealed configuration as shown in FIG. For example, a sealing
上記の有機EL素子24および表示装置21によれば、第1電極12上の異物17などの存在による第1電極12と第2電極16との間の短絡を防止しつつ、優れた色度視野角特性を得ることができる。
According to the
なお、有機EL素子24は、TFT基板を用いたアクティブマトリックス方式の表示装置21に用いることに限定されず、パッシブ方式の表示装置に用いる有機EL素子としても適用可能であり、同様の効果を得ることができる。パッシブ方式の表示装置である場合には、第1電極12および第2電極16のうちの一方が信号線として構成され、他方が走査線として構成される。
The
実施の形態3においては、有機EL素子24が、基板11と反対側に設けた第1電極16側から発光を取り出す上面発光型である場合について説明したが、有機EL素子24として、発光を基板11側から取り出す実施の形態2による下面発光型の有機EL素子を用いてもよい。この場合、図1を用いて説明した積層構造において、透明材料からなる基板11上の第1電極12を、例えばITOのような仕事関数が大きい透明電極材料を用いて構成する。これにより、基板11側および基板11と反対側の両方から発光光が取り出される。また、このような構成において第2電極16を反射材料で構成することにより、基板11側からのみ発光光が取り出される。この場合、第2電極16の最上層にAuGeやAu、Ptなどの封止電極を付けてもよい。
In
以上説明した表示装置は、例えば、図11〜図15に示す様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話機などの携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号もしくは電子機器内で生成した映像信号を画像もしくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。さらに、有機EL素子24は低電圧駆動が可能であり、正面への光取り出し効率を増強するものであるため、特に図16に示すデジタル一眼レフカメラにおける電子式ビューファインダーや図17に示すヘッドマウントディスプレイなど、低電圧駆動が必要とされ、ディスプレイに対する視聴角度が限定されているような応用にに対して非常に有効であり特に適している。以下に、この表示装置が適用される電子機器のいくつかの例について説明する。
The display device described above includes, for example, various electronic devices shown in FIGS. 11 to 15, such as digital cameras, notebook personal computers, mobile terminal devices such as mobile phones, and video input to electronic devices such as video cameras. The present invention can be applied to display devices for electronic devices in various fields that display signals or video signals generated in electronic devices as images or videos. Further, since the
図11は、この表示装置が適用されるテレビを示す斜視図である。本適用例に係るテレビは、フロントパネル42やフィルターガラス43などから構成される映像表示画面部41を含み、その映像表示画面部41としてこの表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 11 is a perspective view showing a television to which the display device is applied. The television according to this application example includes a video display screen unit 41 including a front panel 42, a filter glass 43, and the like, and is manufactured by using this display device as the video display screen unit 41.
図12Aおよび図12Bは、この表示装置が適用されるデジタルカメラを示す斜視図であり、図12Aは表側から見た斜視図、図12Bは裏側から見た斜視図である。このデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部51、表示部52、メニュースイッチ53、シャッターボタン54などを含み、その表示部52としてこの表示装置を用いることにより作製される。 12A and 12B are perspective views showing a digital camera to which the display device is applied. FIG. 12A is a perspective view seen from the front side, and FIG. 12B is a perspective view seen from the back side. This digital camera includes a light emitting unit 51 for flash, a display unit 52, a menu switch 53, a shutter button 54, and the like, and is manufactured by using this display device as the display unit 52.
図13は、この表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。このノート型パーソナルコンピュータは、本体61に、文字などを入力するとき操作されるキーボード62、画像を表示する表示部63などを含み、その表示部63としてこの表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 13 is a perspective view showing a notebook personal computer to which the display device is applied. This notebook personal computer includes a keyboard 62 that is operated when characters and the like are input, a display unit 63 that displays an image, and the like. The display unit 63 is used as the display unit 63.
図14は、この表示装置が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。このビデオカメラは、本体部71、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ72、撮影時のスタート/ストップスイッチ73、表示部74などを含み、その表示部74としてこの表示装置を用いることにより作製される。 FIG. 14 is a perspective view showing a video camera to which the display device is applied. This video camera includes a main body 71, a lens 72 for photographing a subject on a side facing forward, a start / stop switch 73 at the time of photographing, a display 74, and the like. By using this display device as the display 74, Produced.
図15A〜図15Gは、この表示装置が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示し、図15Aは開いた状態での正面図、図15Bはその側面図、図15Cは閉じた状態での正面図、図15Dは左側面図、図15Eは右側面図、図15Fは上面図、図15Gは下面図である。この携帯電話機は、上部筐体81、下部筐体82、連結部(ここではヒンジ部)83、ディスプレイ84、ピクチャーライト86、カメラ87、サブディスプレイ89などを含み、そのディスプレイ84やサブディスプレイ89としてこの表示装置を用いることにより作製される。
15A to 15G show a mobile terminal device to which the display device is applied, for example, a mobile phone. FIG. 15A is a front view in an opened state, FIG. 15B is a side view thereof, and FIG. 15C is a closed state. 15D is a left side view, FIG. 15E is a right side view, FIG. 15F is a top view, and FIG. 15G is a bottom view. The cellular phone includes an
図16は、この表示装置が適用されるデジタル一眼レフカメラを示し、図16Aは正面図、図16Bは背面図である。このデジタル一眼レフカメラは、カメラ本体部91、撮影レンズユニット92、グリップ部93、モニタ94、電子式ビューファインダー95などを含み、その電子式ビューファインダー95としてこの表示装置を用いることにより作製される。
FIG. 16 shows a digital single-lens reflex camera to which this display device is applied, FIG. 16A is a front view, and FIG. 16B is a rear view. This digital single-lens reflex camera includes a camera
図17は、この表示装置が適用されるヘッドマウントディスプレイを示す斜視図である。このヘッドマウントディスプレイは、表示部101、耳掛け部102などを含み、その表示部101としてこの表示装置を用いることにより作製される。
FIG. 17 is a perspective view showing a head mounted display to which the display device is applied. This head mounted display includes a
〈4.実施の形態4〉
[照明装置]
図18は実施の形態4による照明装置を示す。
図18に示すように、この照明装置においては、透明な基板110上に実施の形態1による白色有機EL素子111が搭載されている。この場合、この白色有機EL素子111は第2電極16側を下にして基板110上に搭載されている。このため、第2電極16側から射出される光は基板110を透過して外部に取り出される。この白色有機EL素子111を間に挟んで基板110と対向するように封止基板112が設けられており、この封止基板112および基板110の外周部が封止材113により封止されている。この照明装置の平面形状は必要に応じて選択されるが、例えば正方形または長方形である。図18においては、一つの白色有機EL素子111だけが示されているが、必要に応じて、複数の白色有機EL素子111を基板110上に所望の配置で搭載してもよい。この照明装置の白色有機EL素子111以外の構成の詳細および上記以外の構成は従来公知の有機EL照明装置と同様である。
<4.
[Lighting device]
FIG. 18 shows an illumination apparatus according to the fourth embodiment.
As shown in FIG. 18, in this lighting device, the white organic EL element 111 according to the first embodiment is mounted on a transparent substrate 110. In this case, the white organic EL element 111 is mounted on the substrate 110 with the
この実施の形態4によれば、実施の形態1による白色有機EL素子111を用いていることにより、角度依存性が少なく、配光特性が良好で、低消費電力かつ安価な照明装置を実現することができる。 According to the fourth embodiment, the use of the white organic EL element 111 according to the first embodiment realizes an illumination device that has low angle dependency, good light distribution characteristics, low power consumption, and low cost. be able to.
以上、実施の形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、各種の変形が可能である。 Although the embodiments have been specifically described above, the present technology is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.
例えば、上述の実施の形態において挙げた数値、構造、構成、形状、材料などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれらと異なる数値、構造、構成、形状、材料などを用いてもよい。 For example, the numerical values, structures, configurations, shapes, materials, and the like given in the above-described embodiments are merely examples, and different numerical values, structures, configurations, shapes, materials, and the like may be used as necessary.
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
(1)第1電極と、上記第1電極上の、有機発光材料からなる発光層を含む有機層と、上記有機層上の第1抵抗層と、上記第1抵抗層上の、上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層と、上記第2抵抗層上の第2電極とを有し、上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子。
(2)上記第1抵抗層を構成する材料の電気抵抗率は1×106 Ω・m以上1×1010Ω・mであり、上記第1抵抗層の厚さは0.1μm以上1μm以下である前記(1)に記載の発光素子。
(3)上記第2抵抗層を構成する材料の電気抵抗率は1×100 Ω・m以上1×105 Ω・mであり、上記第2抵抗層の厚さは0.5μm以上である前記(1)または(2)に記載の発光素子。
(4)上記第1抵抗層および上記第2抵抗層は酸化物半導体からなる前記(1)から(3)のいずれかに記載の発光素子。
(5)上記第1電極は基板上に設けられている前記(1)から(4)のいずれかに記載の発光素子。
(6)上記第1電極は上記発光層からの光を反射し、上記第1抵抗層、上記第2抵抗層および上記第2電極は上記発光層からの光を透過する前記(5)に記載の発光素子。
(7)上記第1電極、上記第1抵抗層および上記第2抵抗層は上記発光層からの光を透過し、上記第2電極は上記発光層からの光を反射する前記(5)に記載の発光素子。
In addition, this technique can also take the following structures.
(1) a first electrode, an organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode, a first resistance layer on the organic layer, and the first resistance layer on the first resistance layer. A second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the resistance layer; and a second electrode on the second resistance layer, wherein the first electrode and the second electrode One of the first and second electrodes reflects the light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits the light from the light emitting layer. A light emitting device having a total thickness of 1 μm or more.
(2) The electric resistivity of the material constituting the first resistance layer is 1 × 10 6 Ω · m to 1 × 10 10 Ω · m, and the thickness of the first resistance layer is 0.1 μm to 1 μm. The light emitting device according to (1), wherein
(3) The electric resistivity of the material constituting the second resistance layer is 1 × 10 0 Ω · m or more and 1 × 10 5 Ω · m, and the thickness of the second resistance layer is 0.5 μm or more. The light emitting device according to (1) or (2).
(4) The light emitting element according to any one of (1) to (3), wherein the first resistance layer and the second resistance layer are made of an oxide semiconductor.
(5) The light emitting element according to any one of (1) to (4), wherein the first electrode is provided on a substrate.
(6) The first electrode reflects light from the light emitting layer, and the first resistance layer, the second resistance layer, and the second electrode transmit light from the light emitting layer. Light emitting element.
(7) The first electrode, the first resistance layer, and the second resistance layer transmit light from the light emitting layer, and the second electrode reflects light from the light emitting layer. Light emitting element.
11…基板、12…第1電極、13…有機層、13a…発光層、13b…正孔注入層、13c…正孔輸送層、13d…電子輸送層、13e…電子注入層、13f…接続層、14…第1抵抗層、15…第2抵抗層、16…第2電極、24…有機EL素子、110…基板、111…白色有機EL素子、112…封止基板、113…封止材
DESCRIPTION OF
Claims (12)
上記第1電極上の、有機発光材料からなる発光層を含む有機層と、
上記有機層上の第1抵抗層と、
上記第1抵抗層上の、上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層と、
上記第2抵抗層上の第2電極とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子。 A first electrode;
An organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
A first resistive layer on the organic layer;
A second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the first resistance layer;
A second electrode on the second resistance layer;
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
The light emitting element whose total thickness of the said 1st resistance layer and the said 2nd resistance layer is 1 micrometer or more.
上記第1電極上に有機発光材料からなる発光層を含む有機層を形成する工程と、
上記有機層上に第1抵抗層および上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層を順次形成する工程と、
上記第2抵抗層上に第2電極を形成する工程とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子の製造方法。 Forming a first electrode on a substrate;
Forming an organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
Sequentially forming a first resistance layer and a second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the organic layer;
Forming a second electrode on the second resistance layer,
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
A method for manufacturing a light emitting device, wherein the total thickness of the first resistance layer and the second resistance layer is 1 μm or more.
上記第1電極上の、有機発光材料からなる発光層を含む有機層と、
上記有機層上の第1抵抗層と、
上記第1抵抗層上の、上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層と、
上記第2抵抗層上の第2電極とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子を少なくとも一つ有する表示装置。 A first electrode;
An organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
A first resistive layer on the organic layer;
A second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the first resistance layer;
A second electrode on the second resistance layer;
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
A display device comprising at least one light emitting element having a total thickness of 1 μm or more of the first resistance layer and the second resistance layer.
上記第1電極上の、有機発光材料からなる発光層を含む有機層と、
上記有機層上の第1抵抗層と、
上記第1抵抗層上の、上記第1抵抗層を構成する材料よりも電気抵抗率が低い材料により構成された第2抵抗層と、
上記第2抵抗層上の第2電極とを有し、
上記第1電極および上記第2電極のうちの一方は上記発光層からの光を反射するとともに、上記第1電極および上記第2電極のうちの他方は上記発光層からの光を透過し、
上記第1抵抗層および上記第2抵抗層の合計の厚さが1μm以上である発光素子を少なくとも一つ有する照明装置。 A first electrode;
An organic layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material on the first electrode;
A first resistive layer on the organic layer;
A second resistance layer made of a material having a lower electrical resistivity than the material constituting the first resistance layer on the first resistance layer;
A second electrode on the second resistance layer;
One of the first electrode and the second electrode reflects light from the light emitting layer, and the other of the first electrode and the second electrode transmits light from the light emitting layer,
A lighting device having at least one light emitting element having a total thickness of 1 μm or more of the first resistance layer and the second resistance layer.
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