JP2013195529A - 撮像システム - Google Patents

Abstract

【課題】受光光量の損失を抑制しながら光源のスペクトルピーク位置を推定することが可能な撮像システムを提供すること。
【解決手段】光を電気信号に変換する撮像素子２３、前記撮像素子よりも光の入力側に配置された光学フィルタ２２と、該撮像素子の複数の単位画素が含まれる画素ブロック内の各単位画素から画像信号を取得し、予め定められた演算を行い光のピーク波長を推定する演算手段１２と、を有し、前記画素ブロック内の各単位画素の分光感度は、所定の波長帯域において単調に増加又は減少し、前記画素ブロック内の各単位画素の波長に対する分光感度の傾きが互いに異なっている、ことを特徴とする撮像システム１００を提供する。
【選択図】図４

Description

本発明は、画像を撮影する撮像システムに関し、光学フィルタを用いて分光情報を取得する撮像システムに関する。

イメージセンサを用いた画像センシング技術の開発が盛んに行われている。例えば、画像による二次元情報に加え、分光情報を取得することにより画像認識の精度向上または適用範囲の拡大が図られている。画像に分光情報が含まれる画像を分光画像という。分光情報を取得可能な撮像システムでは、イメージセンサ上にカラーフィルタを配置することにより、特定波長近傍の光を抽出する技術や、プリズムまたはグレーティング素子を走査することにより１次元的な分光情報を合成することで分光画像を取得する技術が知られている。

しかし、プリズムやグレーティング素子を走査する撮像システムにおいては、機械的な走査速度が遅いために、高速なフレームレートが必要となり、「動画像の取得ができない」、「低コスト化が困難である」という不都合がある。

また、１種類の受光素子を配列してなるイメージセンサに、複数の異なる偏光方向又は複数の異なる波長帯域を有するフィルタを配置して複数の種類の光に分解する技術がある（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１には、フィルタ部の位置精度が十分ではなくとも復元できる撮像装置を提供するため、二次元的に配列された受光素子アレイの手前に、光透過特性が異なる複数の種類の帯状の光透過部を配し、複数の種類の帯状の光透過部を幅方向に沿って交互に配列する撮像装置が開示されている。受光素子に光透過特性の異なるフィルタを配置することで、分光情報を取得することが可能である。

しかしながら、特許文献１に開示された撮像装置は、分光情報を分光フィルタの透過特性を利用して取得しているため、感度不足やスペクトル分解能が低くなる傾向があるという問題がある。すなわち、カラーフィルタをもちいた分光画像の撮像システムにおいては、ランプなどの光源に含まれる未知の輝線を認識する際、カラーフィルタを狭帯域化し、さらに波長分解能を得るために多数配置する必要がある。このため、波長分解能を上げると受光光量が低下するというトレードオフの関係をもたらし、「感度不足」や「スペクトル分解能の低下」が生じ、また、それに伴い画像認識における「物体認識率の低下」が生じやすいという問題がある。

本発明は、上記課題に鑑み、受光光量の損失を抑制しながら光源のスペクトルピーク位置を推定することが可能な撮像システムを提供することを目的とする。

本発明は、光を電気信号に変換する撮像素子と、前記撮像素子よりも光の入力側に配置された光学フィルタと、該撮像素子の隣接する単位画素から分光情報を取得し、複数の単位画素が含まれる画素ブロック内の各単位画素から画像信号を取得し、予め定められた演算を行い光のピーク波長を推定する演算手段と、を有し、前記画素ブロック内の各単位画素の分光感度は、所定の波長帯域において単調に増加又は減少し、前記画素ブロック内の各単位画素の波長に対する分光感度の傾きが互いに異なっている、ことを特徴とする撮像システムを提供する。

受光光量の損失を抑制しながら光源のスペクトルピーク位置を推定することが可能な撮像システムを提供することができる。

本実施形態の撮像システムの概略構成図の一例である。 撮像素子に対する光学フィルタの配置について説明する図の一例である。 構造領域１，２の分光感度を説明する図の一例である。 分光演算部による分光処理の妥当性を検証する計算結果について説明する図の一例である。 撮像素子に対する光学フィルタの配置について説明する図の一例である。 撮像素子に対する光学フィルタの配置について説明する図の一例である。 撮像素子に対する光学フィルタの配置について説明する図の一例である。 光学フィルタの構造を説明する図の一例である。 光学フィルタの数値シミュレーション結果の一例を示す図である。 光学フィルタの構造を別の例を説明する図の一例である。 図１０の光学フィルタの数値シミュレーション結果の一例である。

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、本実施形態の撮像システムの概略構成図の一例を示す。撮像システム１００は、撮像装置１１、分光演算部１２、及び、出力インタフェース部１３を有している。

撮像装置１１は、撮像装置筐体２５内に配置された、レンズ２１、光学フィルタ２２、撮像素子（イメージセンサー）２３、及び、回路基板２４を有している。

光学フィルタ２２は撮像素子上に、面同士がほぼ並行になるように、近接もしくは接触して配置されている。したがって、レンズ２１を通過した光のうち撮像素子２３に到達する光は光学フィルタ２２を通過する。なお、撮像素子２３としては、ＣＣＤやＭＯＳ、ＣＭＯＳ等を用いることができる。

光学フィルタ２２を１つの画素のサイズと同程度のパターンにより構成することにより、隣接する画素の信号出力に差異が得られる。例えば、隣接する画素（の一部）に分光特性が異なるパターン部分が接着されることで、隣接する画素の信号出力が異なったものになる。

分光演算部１２は、撮像素子２３が出力した各画素の画素出力信号を用いて、スペクトル推定処理を行う。分光演算部１２はＣＰＵ、プログラムを記憶したＲＯＭ、データを記録するＲＡＭ、ＤＳＰ及び入出力インタフェース、などを備えた、マイコンやＬＳＩとして搭載される。後述する分光演算処理は、ソフト的若しくはハード的な構成のいずれで実現してもよいし、これらを組み合わせて実現してもよい。分光演算部１２の処理結果は、出力インタフェース部１３から画像情報または特定画像領域の分光情報として出力される。

後述するように、本実施形態の撮像システム１００は、スペクトル推定の演算を行うのに適した画像信号が得られるように、光学フィルタ２２の特性および配置を設計していることが特徴的な構成の１つとなっている。

図２は、撮像素子２３に対する光学フィルタ２２の配置について説明する図の一例である。撮像素子２３の画素上に光学フィルタ２２が配置されている。光学フィルタ２２は、領域によって２つの異なる分光特性を示す。すなわち、帯状の構造領域１と構造領域２が互いに異なる分光特性を示す。

構造領域１と構造領域２は、それぞれ画素の幅とほぼ同じ幅の帯状の形状を有しており、その幅方向に交互に配置されている。また、構造領域１と構造領域２の長手方向は撮像素子２３の列方向及び行方向に対し、斜めの傾きをもって配置される。傾きは、画素の幅寸法１個分に対し、画素の縦寸法２個分である（以下、このような傾きを「１：２」で表す。）。画素が正方形であれば、傾きは２となる。

換言すると、帯状の構造領域１，２が配列される配置パターンは、斜めストライプパターンであり、構造領域１，２の長手方向は、画素の列方向及び行方向の配列のいずれとも平行でない。傾きは２であることが好適であるが、後述するように傾き２でなければ本実施形態の撮像システム１００を実現できないわけではない。

このような配置とすることで、隣接した２つの画素に対して、構造領域１と構造領域２が異なる面積で１つの画素を被覆することができる。例えば、点線で囲った２つの画素を分光情報算出単位ブロック（左側を画素１，右側を画素２とする）とすると、左側の画素１を構造領域１が被覆する面積と、右側の画素２を構造領域１が被覆する面積とが異なっている。構造領域２についても同様である。

また、このような配置とすることで、画素と光学フィルタ２２との相対的な位置関係がずれていた場合でも、構造領域１，２のそれぞれによる画素の被覆量が、画素間で同じなることがないので、光学フィルタ２２の撮像素子に対するずれの許容範囲が広がる。

分光演算部１２は、分光情報算出単位ブロックの２つの画素を用いて、スペクトル推定のための演算を行う。以下の例では、簡単のため２つの画素にのみ限定したが、ある１つの画素に隣接する全ての画素対について同様の演算を行い、平均化することにより、分光情報算出ブロックの非対称性の影響を取り除くことが可能である。

図３は、構造領域１，２の分光感度を説明する図の一例である。上記のように、光学フィルタ２２は、図２の構造領域１と構造領域２で分光透過率が異なっており、構造領域１は大きい波長を透過させやすい構造を有し、構造領域２は短い波長を透過させやすい構造を有している。すなわち、光学フィルタ２２は、構造領域１と構造領域２で波長に対し傾きが異なる分光透過率を有する。なお、図では分かりやすくするため、構造領域１と２で分光感度の傾きが正負に異なっているが、両方の傾きが正又は負でもよく、その場合、傾きが異なっていればよい。

図２に示したように、構造領域１と構造領域２がそれぞれ、隣接する画素（画素１、画素２）に対し異なる被覆面積で配置されていることにより、画素１と画素２の分光感度は図３に示すようになる。すなわち、画素１は構造領域１の被覆面積が大きいので分光感度が右上がりになり、画素２は構造領域２の被覆面積が大きいので分光感度は右下がりになる。構造領域１、２の分光透過特性（特に波長に対する傾き）は、構造領域１，２が画素１，２を被覆する面積が異なる場合、画素１，２の分光感度が正負に異なるように設計されている。

図３は、隣接する画素上に異なる構造領域を配置した例を示しており、被覆面積により配分された分光透過率に画素自身の分光感度を乗じた値が、実際に画素１，２が取得する信号の分光感度となっている。
分光感度＝分光透過率×画素自身の分光感度
なお、実際の分光感度は、必ずしも線形的に変化する必要はなく、波長に依存して単調に変動する特性をもっていればよい。従来のカラーフィルタを用いた分光では、特定波長に対するバンドパス特性を有する必要があり（特定の波長のみを通過又は遮断する）、本実施形態の光学フィルタ２２とは異なっている。本実施形態の光学フィルタ２２は、波長に対し緩やかに変化する分光透過特性を有しており、特定の波長のみを通過又は遮断するものではない。このため、感度不足が生じることを抑制できる。

図３のλ_ｃ１及びλ_ｃ２は、スペクトルを推定する波長の範囲の両端のリファレンス信号として利用する波長を示している。リファレンス信号のためのこの波長λ_ｃ１及びλ_ｃ２は、スペクトルを推定する波長範囲に応じて設定される。

〔スペクトルの演算〕
分光演算部１２の演算について説明する。簡単のために以下では２つの隣接する画素に着目した場合の演算例を示す。分光演算部１２における処理は２つの画素に限定する必要はなく、分光感度の異なる複数画素を用いると、より波長分解能の高いスペクトルの推定処理が可能である。

２つの異なる波長λ_ｃ１、λ_ｃ２をもつ単色光を同時に入射した場合、隣接する画素１および画素２で検出される信号強度は、式（１）のように表わされる。

Ｉ_１：画素１の信号強度
Ｉ_２：画素２の信号強度
Ｉ_ｃ１：単色光の重み
Ｉ_ｃ２：単色光の重み
Ｐ（λ_１）：画素１の分光感度
Ｐ（λ_２）：画素２の分光感度
式（１）の上式では入射光が波長λ_ｃ１、λ_ｃ２にピーク（無限大）を持つデルタ関数と見なして、分光感度Ｐ（λ）と共に積分している。分光感度Ｐ（λ）は画素１と画素２それぞれの分光感度 Ｐ（λ_ｃ１）、Ｐ（λ_ｃ２）を含む。

画素１の信号強度Ｉ_１は、画素１の波長λ_ｃ１に対する分光感度Ｐ（λ_ｃ１）に重みを考慮した値と、画素１の波長λ_ｃ２に対する分光感度 Ｐ（λ_ｃ２）に重みを考慮した値の合成であると考えられる。画素２についても同様に考えられる。よって、式（１）の下式が得られる。

Ｐ１（λ_ｃ１）は画素１に波長λ_ｃ１の単色光を独立に入射させ、Ｐ１（λ_ｃ２）は画素１に波長λ_ｃ２の単色光を独立に入射させ、Ｐ２（λ_ｃ１）は画素２に波長λ_ｃ１の単色光を独立に入射させ、Ｐ２（λ_ｃ２）は画素２に波長λ_ｃ２の単色光を独立に入射させることにより、予め取得しておくことができる。すなわち、リファレンス信号として波長λ_ｃ１、λ_ｃ２の画像を予め取得しておくことで、Ｐ１（λ_ｃ１）、Ｐ１（λ_ｃ２）、Ｐ２（λ_ｃ１）、及び、Ｐ２（λ_ｃ２）は既知の量となる。したがって、式（１）によれば、各単色光の重みＩ_ｃ１，Ｉ_ｃ２を、画素１および画素２による信号出力Ｉ_１、Ｉ_２から逆算することが可能であることがわかる。

すなわち、次の式（２）が得られる。

式（２）を単色光に適用するため以下のように変形する。変形の途中で式（１）を使用している。Ｉｓは単波長の信号強度を表し、式（３）の最後のＩｓは、単色光の入射時の信号強度である。

Ｉ_ｅ１およびＩ_ｅ２は、式（３）の逆行列演算により算出される計算値であるが、以下の評価指標を定義することにより、物理的な意味をもつ。

式（３）によりＩ_ｅ１およびＩ_ｅ２を計算し、式（４）によりηを算出することで、後述するように、単色光のスペクトルピーク位置を推定することができる。

以下、ηの物理的な意味について説明する。

なお、数式５の添え字ｊは、２つの画素のいずれかを示すラベルである。
また、λ_１２は式（６）の関係式が成り立つ波長である。

各画素の分光感度が緩やかに変化する場合は、γ'_１２およびγ" _１２の値は小さく、式（５）内の第二項以下は近似的に無視できる。その結果、評価指標ηは、次式のように表わされる。なお、γ_１２は分光感度Ｐ_１（λ_ｓ）又はＰ_２（λ_ｓ）をそれぞれの平均値で規格化し（すなわち明暗による差異を排除し）、それらの比を取った値である。γのダッシュ「'」とダッシュダッシュ「"」はλ_ｓによる微分を表している。物理的にはλγ'_１２が波長推定の際の感度を決める因子となっている。
又は、Ｐ（λ_ｃ２）

評価指標ηは、λ_１２を中心として波長λｓに対して線形に変化する関数であり、波長と１対１に対応する。したがって、これを分光度と呼ぶ。λ_１２は画素１、２の分光感度が線形的に変化する場合には、両端のリファレンス信号を得る波長の中間（平均）波長に対応する。

分光度ηはリファレンス信号を得る２つの波長に対して−１から＋１まで変化する量である。分光度ηを、式（３）の第１式に示す分光演算（逆行列演算）、及び、単色光の画像における隣接画素の信号強度から式（４）を用いて算出することにより、その画素におけるスペクトルピークの位置を推定することが可能となる。

式（３）が成り立つのは入射光が単色光の場合であり、実際の被写体からの光は、一般的には単色光ではないが、単一のピークを有する光源であれば、近似的に同様の定式化が成り立ち、中心波長のピーク位置の推定が可能である。

また、２つの画素をＮ個の画素に拡張した場合、式（４）で定義した分光度ηが、_ＮＣ_２個定義される。よって、分光度の集合をより複雑なスペクトル分布をもつ光源の推定に利用することも可能である。

〔分光度ηの検証〕
図４は、分光演算部１２による分光処理の妥当性を検証する計算結果について説明する図の一例である。式（４）に示した分光度ηの波長に対する線形性、すなわちスペクトルピーク推定が可能であることを検証するために具体的な数値による計算を行った。

リファレンス信号の波長をλ_ｃ１＝４５０ｎｍ、λ_ｃ２＝６５０ｎｍとし、２つの画素１，２の分光感度をＰ１（４５０ｎｍ）＝０．１、Ｐ１（６５０ｎｍ）＝０．３、Ｐ２（４５０ｎｍ）＝０．９、Ｐ２（６５０ｎｍ）＝０．７と仮定する。Ｐ１（λ）とＰ２（λ）の傾きは、一方が正、他方が負の傾きをもつ線形的な関数であることを仮定する。

入射する単色光の波長を４００ｎｍから７００ｎｍまで掃引した場合、式（３）（４）による分光度ηは図４に示すようになる。波長に対し分光度の線形的に変化することが確認できる。

図４の結果から、隣接する２つの画素による出力信号に分光演算処理を施すことにより、単色光のスペクトルピーク位置を推定できることが確認できる。

すなわち、分光演算部１２は以下の演算を行う。
(i) 単色光を分光情報算出単位ブロックに入射させ、画素１の信号強度Ｉ_１、画素２の信号強度Ｉ_２を測定する。
(ii) 式（３）によりＩ_e1, Ｉ_e２、算出する。
(iii) 式（４）によりηを算出する。
(iv) ηの値に該当する波長を特定する。この波長が推定された単色光のスペクトルピーク位置である。上記のように、単色光でなくても単一のピークを有する光源であれば、近似的に中心波長のピーク位置の推定が可能になる。

このように、本実施形態では、特定の波長を切り出すバンドパスフィルタを使用せずに、単位フレームの画像による信号のみを用いて、スペクトルピークの位置の推定が可能になる。したがって、受光光量を損なうことなく単色性を有する光源による任意のスペクトルピーク位置を推定することが可能な撮像システム１００を提供できる。受光光量が低下しないので物体認識率が低下することも抑制でき、複数画素の数に応じて十分なスペクトル分解能も得られる。

〔分光情報算出単位ブロックを４つとした場合〕
図５は、撮像素子２３に対する光学フィルタ２２の配置について説明する図の一例である。図５では、撮像素子２３の画素上に対する光学フィルタ２２の配置が図２と異なっている。

図５では、撮像素子２３の画素配列に対して、帯状の構造領域１、２が、「１：４」の傾きをもって配置されている。すなわち、構造領域１、２は、画素の幅寸法１個分、位置が変わるために、画素の縦寸法４個分を必要としている。したがって、構造領域１、２は、図２とは傾きの異なる斜めストライプパターンを形成している。

分光情報算出単位ブロック内の各画素は、波長に対し緩やかに変化し、かつ、隣接画素において異なる分光感度をもつ。

図５では、点線部分で示す２×２＝４画素の領域を１つの分光情報算出単位ブロックとする。分光情報算出単位ブロックでは、それぞれの４つの画素が構造領域１と構造領域２により被覆される面積が異なるため、画素ごとに異なる分光感度を示す。

以上から図５のような、光学フィルタ２２の場合も、(i)〜(iv)の分光演算処理を行うことで、スペクトルピークの位置の推定が可能である。すなわち、式（３）の行列を４×４とし、Ｉｓが４つの画素からの信号強度を有するものとすれば、計算方法は同様である。

〔構造領域が３つある光学フィルタ〕
図６は、撮像素子２３に対する光学フィルタ２２の配置について説明する図の一例である。図６では、３つの構造領域１〜３が撮像素子２３の画素に対する配置されている。図６の光学フィルタ２２は、分光透過特性の異なる３つの構造領域１、２、３が、斜めストライプパターンを形成している。

また、構造領域１〜３の傾きは撮像素子２３の画素配列に対して「１：２」である。画素が正方形であれば、傾きは２となる。

なお、構造領域３の分光透過特性は、波長に対し単調に（緩やかに）分光透過率が変化する領域を備えている。構造領域３の波長に対する傾きは正又は負のどちらでもよいが、傾きが正の場合は構造領域１の傾きと異なっており、傾きが負の場合は構造領域２の傾きと異なっている。

この場合、点線部分で示す２×２＝４画素の領域において、構造領域１、構造領域２、構造領域３が画素を被覆する面積がそれぞれの画素において異なっている。よって、この点線部分で囲まれた４つの画素が分光情報算出単位ブロックとなる。

したがって、図６の構成の場合においても、図５で説明した構成と同様のスペクトル推定が可能となり、(i)〜(iv)の演算を分光情報算出単位ブロックに用いることにより、スペクトルピークの位置の推定が可能である。

このように、分光透過特性の異なる構造領域は３つ以上でであっても構わない。ただし、構造領域の数が増えるほど、分光情報を算出する単位ブロックの画素数が大きくなり、スペクトルピーク推定における波長分解能と画像の空間分解能にトレードオフの関係がある。

〔構造領域が３つある光学フィルタ〕
図７は、撮像素子２３に対する光学フィルタ２２の配置について説明する図の一例である。図7の光学フィルタ２２は、分光透過特性の異なる３つの構造領域１、２、３が撮像素子２３の画素に対し斜めストライプパターンを形成している。

また、図7の帯状の各構造領域１〜３は、撮像素子２３の画素配列に対して「１：４」の傾きをもって配置される。画素が正方形であれば、傾きは４となる。

この結果、図７の点線部分で示す３×３＝９画素の領域が、分光情報を算出する分光情報算出単位ブロックとなる。分光情報算出単位ブロックでは、構造領域１、構造領域２、構造領域３の画素を被覆する面積がそれぞれの画素において異なっている。

したがって、図７の構成の場合においても、図６で説明した構成と同様のスペクトル推定が可能となり、(i)〜(iv)の演算を分光情報算出単位ブロックに用いることにより、スペクトルピークの位置の推定が可能である。

図６および図７に示したように、分光透過特性の異なる複数の領域と、それらの帯状構造を斜め方向に配列する角度の組み合わせにより、分光情報を算出する単位ブロックの画素数を任意に設定できる。スペクトルピーク推定における波長分解能と空間分解能を調整することが可能である。

〔光学フィルタについて〕
これまで説明した本実施形態の撮像システム１００における光学フィルタ２２は、単調に（緩やかに）分光透過率が変化する領域を備えている必要がある。このような分光透過特性を示す光学フィルタ２２の構成として、いくつかの例を上げる。

図８は、光学フィルタ２２の構造を説明する図の一例である。図８の光学フィルタ２２は、構造領域として、直方体形状の微小金属構造体３２を支持体３１上に、二次元格子状に配列した構成を有している。直方体形状の短手方向の幅が数１０ｎｍ程度まで細くなると、長手方向に振動する偏光成分が強く吸収され、また、長手方向の長さに依存して吸収ピーク位置が変化することが知られている。

本構造を透過した光は、この吸収により透過率を落とすスペクトル領域と、そのまま効率良く透過するスペクトル領域が連続的につながり、緩やかに変化する分光透過特性を示す。

微小金属構造体３２を構成する材料にはＡｌが適しており、ガラス基板などの透明な基板材料上に、ナノ構造を電子ビームリソグラフィやナノインプリントなどの加工装置を用いて、本構造を形成する。また、微小金属構造体３２を被膜媒体３３で被覆した構成が好ましい。

図９は、光学フィルタ２２の数値シミュレーション結果の一例を示す。本出願人は、図８の光学フィルタ２２に対して数値シミュレーションを実施し、所望の透過特性が得られることを確認した。数値シミュレーションには、電磁場の時間・空間応答を記述するマクスウェル方程式を時間領域、空間領域に差分化して解く、有限差分時間領域法（ＦＤＴＤ法）を用いた。

図８における直方体形状のＡｌ構造として、長手方向の長さ９６ｎｍ、幅１６ｎｍ、高さ１０８ｎｍのように設定し、１６０ｎｍ×１９２ｎｍの二次元配列周期で支持体３１（屈折率１．５１）上に配置した。さらに、本微小金属構造体３２を誘電体材料（屈折率１．３８）で被覆した構成とした。

数値シミュレーションでは、透過光スペクトルの偏光特性を得るために、微小金属構造体３２の長手方向に垂直な直線偏光（ＴＭ成分）と、平行な直線偏光（ＴＥ成分）として、時間幅の十分に短い（スペクトル幅が可視光領域に十分に広がった）平面波パルスを支持基板界面から入射し、波長以上離れた観測面において、空間平均を施した電場振幅の時間変動をフーリエ変換することにより透過光および反射光の偏光特性を算出した。Ａｌの誘電関数の波長分散特性は、金属材料の計算でよく用いられるＤｒｕｄｅモデルにより与えた。

図９の数値シミュレーション結果に示すように、本構造では、波長４５０ｎｍ近傍においてＴＥ成分に強い吸収ピークがあり、透過率がゼロに近い値を示す。この吸収ピークから長波長側に吸収スペクトルは単調に（緩やかに）増加する。

また、微小金属構造体３２の長手方向の長さを変えると透過率のディップ領域（吸収領域）がシフトすることから、この微小金属構造体３２を構造領域１と構造領域２で長さの異なるものとしておくことにより、撮像素子２３の隣接する画素において分光感度を異ならせることが可能となる。したがって、本実施形態の撮像システム１００に用いる光学フィルタ２２として上記構造が利用できることが確認できる。

図１０は、光学フィルタ２２の構造を別の例を説明する図の一例である。図１０の光学フィルタ２２は、微小金属構造体３２ではなく、金属細線構造３４により、緩やかに分光透過率が変化する領域を実現する。

図１０の構造は、ワイヤグリッド偏光子として知られる構造に類似するが、金属細線構造３４の高さを、通常のワイヤグリッド偏光しよりも低くすることにより、短波長側の偏光子としての特性を意図的に劣化させている。このような構造を用いることにより、可視波長帯域の短波長から長波長に渡って、緩やかな分光透過特性の変化が実現できる。

金属細線構造３４を構成する材料にはＡｌが適しており、ガラス基板などの透明な基板材料上に、ナノ構造を、光リソグラフィ、電子ビームリソグラフィ、ナノインプリントなどの加工装置を用いて形成する。また、金属細線構造３４を被膜媒体３３で被覆した構成が好ましい。

図１１は、図１０の光学フィルタ２２の数値シミュレーション結果の一例を示す。本出願人は、図１０の光学フィルタ２２に対して数値シミュレーションを実施し、所望の透過特性が得られることを確認した。

数値シミュレーションは、図９と同様のＦＤＴＤ法を用いた。金属細線構造３４は、幅６０ｎｍ、高さ６０ｎｍに設定し、ピッチ１２８ｎｍの周期で支持体３１（屈折率１．５１）上に配置した。本シミュレーションでは、金属細線構造３４は空気と接している。

図１１の数値シミュレーション結果に示すように、図１０の光学フィルタ２２の構造では、ＴＭ成分の透過率が短波長側で低く、可視波長全帯域に渡って単調（緩やか）に透過率が変化する。金属細線構造３４の高さ、ピッチ又は線幅の少なくとも１つを構造領域１と構造領域２で異なるものとしておくことにより、撮像素子２３の隣接する画素において分光感度を異ならせることが可能となる。また、金属材料や被膜材料（透明誘電体）により変化させることも可能である。

したがって、図１０のような分光透過特性を有する光学フィルタ２２を用いても、本実施形態の撮像システム１００を実現することが可能である。

１１ 撮像装置
１２ 分光演算部
１３ 出力インタフェース部
２１ レンズ
２２ 光学フィルタ
２３ 撮像素子
２４ 回路基板
２５ 撮像装置筐体
１００ 撮像システム

特開２０１１−０１３６３０号公報

Claims (7)

1. 光を電気信号に変換する撮像素子と、
   前記撮像素子よりも光の入力側に配置された光学フィルタと、
   前記撮像素子の画素ブロックの各単位画素から画像信号を取得し、予め定められた演算を行い光のピーク波長を推定する演算手段と、を有し、
   前記画素ブロック内の各単位画素の分光感度は、所定の波長帯域において単調に増加又は減少し、前記画素ブロック内の各単位画素の波長に対する分光感度の傾きが互いに異なっている、
   ことを特徴とする撮像システム。
2. 前記光学フィルタは、分光透過率が前記波長帯域において単調に増加する増加領域と単調に減少する減少領域を備え、単位画素が前記増加領域又は前記減少領域に被覆される面積は、前記画素ブロック内の単位画素毎に異なっている、
   ことを特徴とする請求項１記載の撮像システム。
3. 前記増加領域と前記減少領域はそれぞれ帯状に交互に配列され、前記増加領域と前記減少領域の長手方向は、前記単位画素の配列の行方向及び列方向のいずれに対しても平行でない、
   ことを特徴とする請求項２記載の撮像システム。
4. 前記光学フィルタは、前記増加領域と前記減少領域の合計が３つ以上の構造領域が、それぞれ帯状に交互に配列され、３つの前記構造領域の長手方向は、前記単位画素の配列の行方向及び列方向のいずれに対しても平行でなく、
   １つの単位画素を２つの前記構造領域が被覆する面積は、前記画素ブロック内の単位画素毎に異なっている、
   ことを特徴とする請求項３記載の撮像システム。
5. 前記光学フィルタは、支持体上に、直方体形状の微小金属構造体を二次元平面に周期的に配列した構成を有する、ことを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の撮像システム。
6. 前記光学フィルタは、支持体上に、金属細線構造を周期的に配列した構成を有する、ことを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の撮像システム。
7. 単色の第一の光が前記第一の単位画素と前記第二の単位画素に入射した場合の分光感度、及び、単色の第二の光が前記第一の単位画素と前記第二の単位画素に入射した場合の分光感度、並びに、前記第一の単位画素の画像信号と前記第二の単位画素の画像信号から前記第一の単位画素と前記第二の単位画素の単色光の重みをそれぞれ算出する関数と、
   前記関数の出力値と光のピーク波長を対応づけたテーブルとを有し、
   前記演算手段は、前記第一の単位画素と前記第二の単位画素の画像信号を前記関数に入力して、前記テーブルを参照することで光のピーク波長を推定する、
   ことを特徴とする請求項１記載の撮像システム。

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