JP2013191981A - Piezoelectric vibrating piece, method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece - Google Patents

Piezoelectric vibrating piece, method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece Download PDF

Info

Publication number
JP2013191981A
JP2013191981A JP2012055917A JP2012055917A JP2013191981A JP 2013191981 A JP2013191981 A JP 2013191981A JP 2012055917 A JP2012055917 A JP 2012055917A JP 2012055917 A JP2012055917 A JP 2012055917A JP 2013191981 A JP2013191981 A JP 2013191981A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piezoelectric
vibrating piece
groove
piezoelectric vibrating
vibrating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012055917A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taiki Irokawa
大城 色川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP2012055917A priority Critical patent/JP2013191981A/en
Publication of JP2013191981A publication Critical patent/JP2013191981A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a piezoelectric vibrating piece that has favorable vibration properties.SOLUTION: A piezoelectric vibrating piece 4 includes: a pair of vibrating arms 10 and 11 that are arranged side by side; a base to which the pair of vibrating arms 10 and 11 are connected; and a pair of excitation electrodes 13 and 14 that are formed on the vibrating arms 10 and 11 electrically independently of each other and that vibrate the vibrating arms 10 and 11. A first one of the excitation electrodes 13 and 14 is formed on side wall surfaces 5b of grooves 5 that are provided in main surfaces 4a of the vibrating arms 10 and 11. A second one of the excitation electrodes 13 and 14 is formed on side surfaces 4b of the vibrating arms 10 and 11 so as to sandwich the vibrating arms 10 and 11 with the first one of the excitation electrodes 13 and 14. A portion of each groove 5 positioned nearer to a bottom wall surface 5a relative to an opening 5c is at least partially wider than the opening 5c in a short width direction of the vibrating arms 10 and 11.

Description

この発明は、圧電振動片、圧電振動片の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計に関する。   The present invention relates to a piezoelectric vibrating piece, a method of manufacturing a piezoelectric vibrating piece, a piezoelectric vibrator, an oscillator, an electronic device, and a radio timepiece.

携帯電話や携帯情報端末機器には、時刻源や制御信号のタイミング源、リファレンス信号源等として、水晶等を利用した圧電振動子が用いられている。この種の圧電振動子は、様々なものが提供されているが、その1つとして、いわゆる音叉型の圧電振動片をパッケージに封入した圧電振動子が知られている。前記圧電振動片は、並んで配置された一対の振動腕部と、一対の振動腕部が接続された基部と、互いに電気的に独立して振動腕部に形成され、振動腕部を振動させる一対の励振電極と、を備えている。   In cellular phones and portable information terminal devices, piezoelectric vibrators using quartz or the like are used as time sources, timing sources of control signals, reference signal sources, and the like. Various types of piezoelectric vibrators of this type are provided, and one of them is a piezoelectric vibrator in which a so-called tuning fork type piezoelectric vibrating piece is enclosed in a package. The piezoelectric vibrating reed is formed on the vibrating arm portion electrically and independently of the pair of vibrating arm portions arranged side by side, the base portion to which the pair of vibrating arm portions are connected, and vibrates the vibrating arm portion. A pair of excitation electrodes.

ところで近年、搭載される機器の小型化に伴って、圧電振動片のCI値(Crystal Impedance)を低く抑えつつ、圧電振動片の更なる小型化を図ることが望まれている。そこで圧電振動片として、例えば下記特許文献1に示されるような、振動腕部の主面に溝部を設ける構成などが考えられる。
この圧電振動片では、一対の励振電極のうち、一方の励振電極は、溝部の側壁面に形成され、他方の励振電極は、振動腕部の側面に、一方の励振電極との間に振動腕部を挟むように形成されている。これにより、両励振電極を、振動腕部を間に挟んで近接させることが可能になり、CI値を低く抑えることができる。
By the way, in recent years, with the downsizing of devices to be mounted, it is desired to further reduce the size of the piezoelectric vibrating piece while keeping the CI value (Crystal Impedance) of the piezoelectric vibrating piece low. Therefore, as the piezoelectric vibrating piece, for example, a configuration in which a groove is provided on the main surface of the vibrating arm as shown in Patent Document 1 below can be considered.
In this piezoelectric vibrating piece, one excitation electrode of the pair of excitation electrodes is formed on the side wall surface of the groove, and the other excitation electrode is formed on the side surface of the vibration arm portion and between the one excitation electrode and the vibrating arm. It is formed so as to sandwich the part. Thereby, both excitation electrodes can be brought close to each other with the vibrating arm portion interposed therebetween, and the CI value can be suppressed low.

特開2008−29030号公報JP 2008-29030 A

ここで前記圧電振動片では、溝部を、振動腕部の短手幅方向に大きくすることにより、更なるCI値の低下を図ることが考えられる。しかしながらこの場合、溝部の開口部が前記短手幅方向に拡幅するため、振動腕部の主面において、溝部の開口縁と当該主面の側端縁との間に位置する領域(以下、間領域という)の前記短手幅方向に沿った大きさも小さくなる。その結果、例えば両励振電極を、間領域上に一定の間隔をあけて形成することが困難になり、両励振電極が接近しすぎてショートしたり、圧電振動片の等価回路における並列容量C0が不安定になったり等することで、圧電振動片の振動特性に影響が生じるおそれがある。   Here, in the piezoelectric vibrating piece, it is conceivable that the CI value is further reduced by enlarging the groove portion in the width direction of the vibrating arm portion. However, in this case, since the opening of the groove is widened in the short width direction, a region (hereinafter referred to as a gap) between the opening edge of the groove and the side edge of the main surface on the main surface of the vibrating arm portion. The size along the short width direction of the region) is also reduced. As a result, for example, it becomes difficult to form both excitation electrodes at a certain interval on the inter-region, and both excitation electrodes are too close to each other and short-circuit, or the parallel capacitance C0 in the equivalent circuit of the piezoelectric vibrating piece is reduced. If it becomes unstable, the vibration characteristics of the piezoelectric vibrating piece may be affected.

本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、良好な振動特性を発揮させ易くすることができる圧電振動片を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object thereof is to provide a piezoelectric vibrating piece that can easily exhibit good vibration characteristics.

前記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提案している。
本発明に係る圧電振動片は、並んで配置された一対の振動腕部と、前記一対の振動腕部が接続された基部と、互いに電気的に独立して前記振動腕部に形成され、前記振動腕部を振動させる一対の励振電極と、を備え、前記一対の励振電極のうち、一方の励振電極は、前記振動腕部の主面に設けられた溝部の側壁面に形成され、他方の励振電極は、前記振動腕部の側面に、前記一方の励振電極との間に前記振動腕部を挟むように形成された圧電振動片において、前記溝部において開口部よりも底壁面側に位置する部分の少なくとも一部は、前記開口部よりも前記振動腕部の短手幅方向に広幅になっていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
A piezoelectric vibrating piece according to the present invention is formed on the vibrating arm portion, a pair of vibrating arm portions arranged side by side, a base portion to which the pair of vibrating arm portions are connected, and electrically independent of each other, A pair of excitation electrodes that vibrate the vibration arm portion, and one of the pair of excitation electrodes is formed on a side wall surface of a groove portion provided on a main surface of the vibration arm portion, The excitation electrode is located on a side surface of the vibrating arm portion such that the vibrating arm portion is sandwiched between the excitation electrode portion and the one excitation electrode, and is located closer to the bottom wall surface than the opening portion in the groove portion. At least a part of the portion is wider in the width direction of the vibrating arm than the opening.

この発明によれば、溝部において開口部よりも底壁面側に位置する部分の少なくとも一部(以下、広幅部分という)が、溝部の開口部よりも前記短手幅方向に広幅になっているので、広幅部分の側壁面と振動腕部の側面とを前記短手幅方向に接近させ、これらの側壁面および側面に振動腕部を挟むように形成された両励振電極間の間隔を狭めることができる。これにより、溝部の開口部を前記短手幅方向に拡幅させるのを抑えつつ、CI値を低下させることが可能になり、圧電振動片に良好な振動特性を発揮させ易くすることができる。   According to the present invention, at least a part (hereinafter referred to as the wide width portion) of the groove portion located on the bottom wall surface side of the opening portion is wider in the short width direction than the opening portion of the groove portion. The side wall surface of the wide portion and the side surface of the vibrating arm portion are brought close to each other in the short width direction, and the interval between the two excitation electrodes formed so as to sandwich the vibrating arm portion between the side wall surface and the side surface is reduced. it can. Accordingly, it is possible to reduce the CI value while suppressing the opening of the groove portion from being widened in the short width direction, and it is possible to make the piezoelectric vibrating piece easily exhibit good vibration characteristics.

また、前記溝部は、開口部側から底壁面側に向かうに従い漸次、前記短手幅方向に拡幅していてもよい。   Moreover, the said groove part may be gradually widened in the said width direction as it goes to the bottom wall surface side from the opening part side.

この場合、溝部が、開口部側から底壁面側に向かうに従い漸次、前記短手幅方向に拡幅しているので、振動腕部の強度を良好に確保することも可能になり、圧電振動片に一層良好な振動特性を発揮させ易くすることができる。   In this case, since the groove portion is gradually widened in the short width direction from the opening side toward the bottom wall surface side, it is possible to ensure a good strength of the vibrating arm portion, and to the piezoelectric vibrating piece. It is possible to easily exhibit better vibration characteristics.

また、本発明に係る圧電振動片の製造方法は、前記圧電振動片を、ウエハから形成する圧電振動片の製造方法であって、前記ウエハに前記溝部を形成する溝部形成工程を有し、前記溝部形成工程は、前記ウエハに保護膜を形成した後、ドライエッチングにより前記ウエハをエッチングするドライエッチング工程を有し、前記ドライエッチング工程は、前記ウエハをエッチングするエッチングガスの供給量を異ならせて複数回実施することを特徴とする。   The method for manufacturing a piezoelectric vibrating piece according to the present invention is a method for manufacturing a piezoelectric vibrating piece in which the piezoelectric vibrating piece is formed from a wafer, and includes a groove forming step of forming the groove on the wafer, The groove forming step includes a dry etching step of etching the wafer by dry etching after forming a protective film on the wafer, and the dry etching step varies the supply amount of etching gas for etching the wafer. It is characterized by being implemented multiple times.

この発明によれば、ドライエッチング工程を、エッチングガスの供給量を異ならせて複数回実施するので、ドライエッチング工程ごとに、ウエハの前記短手幅方向へのエッチング量を精度良く異ならせ、溝部の前記短手幅方向の幅を調整し易くすることが可能になり、溝部を高精度に形成することができる。   According to the present invention, since the dry etching process is performed a plurality of times with different supply amounts of the etching gas, the amount of etching in the width direction of the wafer is accurately varied for each dry etching process, and the groove portion It is possible to easily adjust the width in the short width direction, and the groove can be formed with high accuracy.

また、前記溝部形成工程は、前記ドライエッチング工程の前に、ウエットエッチングにより前記ウエハをエッチングするウエットエッチング工程を有していてもよい。   Moreover, the said groove part formation process may have the wet etching process of etching the said wafer by wet etching before the said dry etching process.

この場合、溝部形成工程が、前記ウエットエッチング工程を有しているので、エッチングに要する時間を短縮することが可能になり、生産性を向上させることができる。
またウエットエッチング工程を、ドライエッチング工程の前に実施するので、溝部を確実に高精度に形成することができる。すなわち、ウエットエッチング工程を、ドライエッチング工程の後に実施する場合、溝部のうち、ドライエッチング工程により形成された部分も、ウエットエッチング工程によりエッチングされてしまい、溝部を高精度に形成することが困難になるおそれがある。
In this case, since the groove forming step includes the wet etching step, the time required for etching can be shortened, and productivity can be improved.
Moreover, since the wet etching process is performed before the dry etching process, the groove can be reliably formed with high accuracy. That is, when the wet etching process is performed after the dry etching process, the portion of the groove formed by the dry etching process is also etched by the wet etching process, making it difficult to form the groove with high accuracy. There is a risk.

また、本発明に係る圧電振動子は、前記圧電振動片を備えたことを特徴とする。   The piezoelectric vibrator according to the present invention includes the piezoelectric vibrating piece.

本発明によれば、良好な振動特性を発揮させ易くすることができる圧電振動片を備えているので、高効率で消費電力の少ない圧電振動子を提供できる。   According to the present invention, since the piezoelectric vibrating piece that can easily exhibit good vibration characteristics is provided, a piezoelectric vibrator with high efficiency and low power consumption can be provided.

また、本発明の発振器は、上述した圧電振動子が、発振子として集積回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
本発明の電子機器は、上述した圧電振動子が、計時部に電気的に接続されていることを特徴とする。
本発明の電波時計は、上述した圧電振動子が、フィルタ部に電気的に接続されていることを特徴とする。
The oscillator according to the present invention is characterized in that the above-described piezoelectric vibrator is electrically connected to an integrated circuit as an oscillator.
The electronic apparatus according to the present invention is characterized in that the above-described piezoelectric vibrator is electrically connected to a time measuring unit.
The radio-controlled timepiece of the present invention is characterized in that the above-described piezoelectric vibrator is electrically connected to a filter unit.

本発明によれば、高効率で消費電力の少ない高性能な発振器、電子機器および電波時計を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a high-performance oscillator, electronic device, and radio timepiece with high efficiency and low power consumption.

本発明に係るによれば、良好な振動特性を発揮させ易くすることができる。   According to the present invention, it is possible to easily exhibit good vibration characteristics.

圧電振動片の平面図である。It is a top view of a piezoelectric vibrating piece. 図1のA−A線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the AA line of FIG. 圧電振動片の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of a piezoelectric vibrating piece. 溝部形成工程を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining a groove part formation process. 溝部形成工程を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining a groove part formation process. 溝部形成工程を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining a groove part formation process. 溝部形成工程を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining a groove part formation process. 解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows an analysis result. 圧電振動子の外観斜視図である。It is an external perspective view of a piezoelectric vibrator. 圧電振動子の内部構成図であって、リッド基板を取り外した状態の平面図である。It is an internal block diagram of a piezoelectric vibrator, and is a plan view in a state where a lid substrate is removed. 図10のC−C線における断面図である。It is sectional drawing in the CC line of FIG. 図9に示す圧電振動子の分解斜視図である。FIG. 10 is an exploded perspective view of the piezoelectric vibrator shown in FIG. 9. 発振器の一実施形態を示す構成図である。It is a block diagram which shows one Embodiment of an oscillator. 電子機器の一実施形態を示す構成図である。It is a lineblock diagram showing one embodiment of electronic equipment. 電波時計の一実施形態を示す構成図である。It is a block diagram which shows one Embodiment of a radio timepiece. 圧電振動片の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of a piezoelectric vibrating piece. 圧電振動片の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of a piezoelectric vibrating piece. 圧電振動片の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of a piezoelectric vibrating piece.

(圧電振動片)
以下に、実施形態の圧電振動片について図面を参照して説明する。
図1は圧電振動片4の平面図である。
図2は、図1のA−A線に沿った溝部5の断面図である。
なお、以下では、振動腕部10,11が並んでいる幅方向をX方向(短手幅方向)とし、X方向における中心軸をOとし、圧電振動片4の内側を−X側とし、外側を+X側として説明している。また、圧電振動片4の長手方向をY方向(長手幅方向)とし、基端側を−Y側とし、先端側を+Y側として説明している。また、圧電振動片4の厚み方向をZ方向として説明している。
(Piezoelectric vibrating piece)
Hereinafter, the piezoelectric vibrating piece of the embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view of the piezoelectric vibrating piece 4.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the groove 5 taken along the line AA in FIG.
In the following, the width direction in which the vibrating arm portions 10 and 11 are arranged is the X direction (short width direction), the central axis in the X direction is O, the inner side of the piezoelectric vibrating piece 4 is the −X side, and the outer side. Is described as the + X side. In the description, the longitudinal direction of the piezoelectric vibrating reed 4 is defined as the Y direction (longitudinal width direction), the base end side is defined as -Y side, and the distal end side is defined as + Y side. Further, the thickness direction of the piezoelectric vibrating piece 4 is described as the Z direction.

図1に示すように、圧電振動片4は、水晶やタンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電材料から形成された音叉型である。圧電振動片4は、平行に配置された一対の振動腕部10,11(第1の振動腕部10および第2の振動腕部11)と、一対の振動腕部10,11の−Y側を一体的に固定する基部12と、を有する圧電板15を備えている。圧電振動片4は、所定の電圧が印加されたときに、振動腕部10,11が近接および離間するように、X方向に振動する。   As shown in FIG. 1, the piezoelectric vibrating reed 4 is a tuning fork type formed from a piezoelectric material such as quartz, lithium tantalate, or lithium niobate. The piezoelectric vibrating reed 4 includes a pair of vibrating arm portions 10 and 11 (first vibrating arm portion 10 and second vibrating arm portion 11) arranged in parallel, and the −Y side of the pair of vibrating arm portions 10 and 11. A piezoelectric plate 15 having a base portion 12 that integrally fixes the base plate 12 is provided. The piezoelectric vibrating reed 4 vibrates in the X direction so that the vibrating arm portions 10 and 11 approach and separate from each other when a predetermined voltage is applied.

一対の振動腕部10,11は、中心軸Oに沿ってY方向に延在し、X方向に略平行に並んで形成されている。振動腕部10,11の両主面4aには、振動腕部10,11のY方向に沿って伸びる溝部5が設けられている。溝部5はいずれも同一形状となっている。
図2に示すように、溝部5において開口部5cよりも底壁面5a側に位置する部分の少なくとも一部は、溝部5の開口部5cよりもX方向に広幅になっている。本実施形態では、溝部5は、開口部5c側から底壁面5a側に向かうに従い漸次、X方向に拡幅している。溝部5は、+X側および−X側の両側に広がっている。断面視において、溝部5の側壁面5bは、開口部5c側から底壁面5a側に向かうに従い漸次、+X側または−X側に向かって直線状に延在し、X方向およびZ方向の両方向に傾斜している。溝部5の断面形状は、X方向に対称とされ、図示の例では等脚台形状となっている。なお溝部5は、Y方向の全長にわたって同形状となっている。
The pair of vibrating arm portions 10 and 11 extends in the Y direction along the central axis O, and is formed so as to be substantially parallel to the X direction. Groove portions 5 extending along the Y direction of the vibrating arm portions 10 and 11 are provided on both main surfaces 4 a of the vibrating arm portions 10 and 11. All the groove portions 5 have the same shape.
As shown in FIG. 2, at least a part of the groove portion 5 located on the bottom wall surface 5 a side with respect to the opening 5 c is wider in the X direction than the opening 5 c of the groove 5. In the present embodiment, the groove 5 is gradually widened in the X direction as it goes from the opening 5c side to the bottom wall surface 5a side. The groove 5 extends to both the + X side and the −X side. In a cross-sectional view, the side wall surface 5b of the groove portion 5 gradually extends linearly toward the + X side or the -X side from the opening 5c side toward the bottom wall surface 5a side, and extends in both the X direction and the Z direction. Inclined. The cross-sectional shape of the groove 5 is symmetric in the X direction, and is an isosceles trapezoid in the illustrated example. The groove portion 5 has the same shape over the entire length in the Y direction.

ここで図1に示すように、圧電振動片4は、一対の振動腕部10,11に形成されて一対の振動腕部10,11を振動させる第1の励振電極13および第2の励振電極14(一対の励振電極)と、第1の励振電極13および第2の励振電極14にそれぞれに電気的に接続された第1のマウント電極16および第2のマウント電極17と、励振電極13,14とマウント電極16,17とをそれぞれ電気的に接続する引き出し電極19,20と、を有している。   Here, as shown in FIG. 1, the piezoelectric vibrating reed 4 includes a first excitation electrode 13 and a second excitation electrode that are formed on the pair of vibrating arm portions 10 and 11 and vibrate the pair of vibrating arm portions 10 and 11. 14 (a pair of excitation electrodes), a first mount electrode 16 and a second mount electrode 17 electrically connected to the first excitation electrode 13 and the second excitation electrode 14, respectively, 14 and mount electrodes 16 and 17, and lead electrodes 19 and 20 that electrically connect the mount electrodes 16 and 17, respectively.

マウント電極16,17および引き出し電極19,20は、基部12に形成されている。マウント電極16,17は、中心軸Oを挟むように形成されている。
励振電極13,14は、電圧が印加されたときに、一対の振動腕部10,11を互いに接近又は離間させるように、X方向に所定の共振周波数で振動させる。一対の励振電極13,14は、一対の振動腕部10,11の表面にそれぞれ電気的に切り離され、独立した状態でパターニングされて形成されている。
The mount electrodes 16 and 17 and the extraction electrodes 19 and 20 are formed on the base 12. The mount electrodes 16 and 17 are formed so as to sandwich the central axis O.
When a voltage is applied, the excitation electrodes 13 and 14 cause the pair of vibrating arm portions 10 and 11 to vibrate at a predetermined resonance frequency in the X direction so as to approach or separate from each other. The pair of excitation electrodes 13 and 14 are formed by being electrically separated from the surfaces of the pair of vibrating arm portions 10 and 11 and patterned in an independent state.

図1および図2に示すように、第1の励振電極13は、第2の振動腕部11の側面4bに形成されている。第1の励振電極13は、第2の振動腕部11の両側面4bに形成されている。第1の励振電極13は、第2の振動腕部11の側面4bにおいて、Y方向の位置が前記溝部5に重複する領域に形成されている。第1の励振電極13は、第2の振動腕部11の側面4bから、第2の振動腕部11の主面4aにおいて、溝部5の開口縁と当該主面4aの側端縁との間に位置する領域(以下、間領域という)8に回り込んでいる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the first excitation electrode 13 is formed on the side surface 4 b of the second vibrating arm portion 11. The first excitation electrode 13 is formed on both side surfaces 4 b of the second vibrating arm portion 11. The first excitation electrode 13 is formed in a region where the position in the Y direction overlaps the groove portion 5 on the side surface 4 b of the second vibrating arm portion 11. The first excitation electrode 13 extends from the side surface 4b of the second vibrating arm portion 11 to the main surface 4a of the second vibrating arm portion 11 between the opening edge of the groove portion 5 and the side edge of the main surface 4a. It wraps around the area 8 (hereinafter referred to as the inter-area).

また第1の励振電極13は、第1の振動腕部10の主面4aにも形成されている。第1の励振電極13は、第1の振動腕部10の両主面4aに形成されている。第1の励振電極13は、第1の振動腕部10の主面4aにおいて、前記溝部5を含む領域に形成されている。第1の励振電極13は、溝部5の側壁面5bおよび底壁面5aそれぞれの全面にわたって形成されている。第1の励振電極13は、溝部5の側壁面5bから、第1の振動腕部10の主面4aにおける間領域8に回り込んでいる。   The first excitation electrode 13 is also formed on the main surface 4 a of the first vibrating arm portion 10. The first excitation electrode 13 is formed on both main surfaces 4 a of the first vibrating arm portion 10. The first excitation electrode 13 is formed in a region including the groove portion 5 on the main surface 4 a of the first vibrating arm portion 10. The first excitation electrode 13 is formed over the entire surface of the side wall surface 5b and the bottom wall surface 5a of the groove 5. The first excitation electrode 13 extends from the side wall surface 5 b of the groove portion 5 to a region 8 in the main surface 4 a of the first vibrating arm portion 10.

第2の励振電極14は、第1の振動腕部10の側面4bに形成されている。第2の励振電極14は、第1の振動腕部10の両側面4bに形成されている。第2の励振電極14は、第1の振動腕部10の側面4bにおいて、Y方向の位置が前記溝部5に重複する領域に形成されている。第2の励振電極14は、第1の振動腕部10の側面4bから、第1の振動腕部10の主面4aにおける間領域8に回り込んでいる。   The second excitation electrode 14 is formed on the side surface 4 b of the first vibrating arm portion 10. The second excitation electrode 14 is formed on both side surfaces 4 b of the first vibrating arm portion 10. The second excitation electrode 14 is formed in a region where the position in the Y direction overlaps the groove portion 5 on the side surface 4 b of the first vibrating arm portion 10. The second excitation electrode 14 extends from the side surface 4 b of the first vibrating arm portion 10 to the intermediate region 8 in the main surface 4 a of the first vibrating arm portion 10.

また第2の励振電極14は、第2の振動腕部11の主面4aにも形成されている。第2の励振電極14は、第2の振動腕部11の両主面4aに形成されている。第2の励振電極14は、第2の振動腕部11の主面4aにおいて、前記溝部5を含む領域に形成されている。第2の励振電極14は、溝部5の側壁面5bおよび底壁面5aそれぞれの全面にわたって形成されている。第2の励振電極14は、溝部5の側壁面5bから、第2の振動腕部11の主面4aにおける間領域8に回り込んでいる。   The second excitation electrode 14 is also formed on the main surface 4 a of the second vibrating arm portion 11. The second excitation electrode 14 is formed on both main surfaces 4 a of the second vibrating arm portion 11. The second excitation electrode 14 is formed in a region including the groove portion 5 on the main surface 4 a of the second vibrating arm portion 11. The second excitation electrode 14 is formed over the entire side wall surface 5b and bottom wall surface 5a of the groove 5. The second excitation electrode 14 extends from the side wall surface 5 b of the groove portion 5 to the intermediate region 8 in the main surface 4 a of the second vibrating arm portion 11.

以上により、第1の振動腕部10において、一対の励振電極13,14のうち、第1の励振電極13は、溝部5の側壁面5bに形成され、第2の励振電極14は、振動腕部10の側面4bに、第1の励振電極13との間に振動腕部10を挟むように形成されることとなる。
また第2の振動腕部11において、一対の励振電極13,14のうち、第2の励振電極14は、溝部5の側壁面5bに形成され、第1の励振電極13は、振動腕部11の側面4bに、第2の励振電極14との間に振動腕部11を挟むように形成されることとなる。
両振動腕部10,11において、一対の励振電極13,14は、前記間領域8上で電極分割されており、これらの励振電極13,14の間隔が安定して一定の大きさに確保されている。
As described above, in the first vibrating arm portion 10, of the pair of exciting electrodes 13 and 14, the first exciting electrode 13 is formed on the side wall surface 5 b of the groove portion 5, and the second exciting electrode 14 is the vibrating arm. The vibration arm portion 10 is formed on the side surface 4 b of the portion 10 so as to sandwich the first excitation electrode 13.
In the second vibrating arm portion 11, the second exciting electrode 14 of the pair of exciting electrodes 13 and 14 is formed on the side wall surface 5 b of the groove portion 5, and the first exciting electrode 13 is formed on the vibrating arm portion 11. The vibration arm portion 11 is sandwiched between the second excitation electrode 14 and the side surface 4b.
In both vibrating arm portions 10 and 11, the pair of excitation electrodes 13 and 14 are divided on the space 8, and the distance between the excitation electrodes 13 and 14 is stably secured to a constant size. ing.

なお、上述した各電極は膜状に形成されている。ここで各電極は単層構造、または下地層と仕上げ層を有する積層構造であってもよい。例えば、各電極を、クロムと金との積層膜として、水晶と密着性の良いクロム膜を下地層として成膜した後に、表面に金の薄膜を仕上げ層として成膜することにより形成してもよい。また、クロムとニクロムを下地層として成膜した後に、表面にさらに金の薄膜を仕上げ層として成膜してもよい。さらに、マウント電極16,17が積層構造である一方で、引き出し電極19,20および励振電極13,14が、マウント電極16,17の下地層と同じ材料のクロムにより、単層膜で形成されていてもよい。さらにまた各電極を、例えば、ニッケルやアルミニウム、チタン等により成膜してもよい。   Each electrode described above is formed in a film shape. Here, each electrode may have a single layer structure or a laminated structure having an underlayer and a finishing layer. For example, each electrode may be formed as a laminated film of chromium and gold, a chromium film having good adhesion to crystal as a base layer, and then a gold thin film as a finishing layer on the surface. Good. Further, after depositing chromium and nichrome as a base layer, a gold thin film may be further deposited on the surface as a finishing layer. Further, while the mount electrodes 16 and 17 have a laminated structure, the lead-out electrodes 19 and 20 and the excitation electrodes 13 and 14 are formed of a single layer film with chromium of the same material as the base layer of the mount electrodes 16 and 17. May be. Furthermore, each electrode may be formed of, for example, nickel, aluminum, titanium, or the like.

振動腕部10,11の先端部には、所定の周波数の範囲内で振動するように調整(周波数調整)を行うための粗調膜21aおよび微調膜21bからなる重り金属膜21が形成されている。この重り金属膜21を利用して周波数調整を行うことで、一対の振動腕部10,11の周波数をデバイスの公称周波数の範囲内に収めることができる。   A weight metal film 21 composed of a coarse adjustment film 21a and a fine adjustment film 21b for adjusting (frequency adjustment) so as to vibrate within a predetermined frequency range is formed at the distal ends of the vibrating arms 10 and 11. Yes. By adjusting the frequency using the weight metal film 21, the frequency of the pair of vibrating arm portions 10 and 11 can be kept within the range of the nominal frequency of the device.

(圧電振動片の製造方法)
図3は、圧電振動片の製造方法を示すフローチャートである。
図4から図7は、溝部形成工程を説明する断面図である。
次に、上述した圧電振動片の製造方法について説明する。以下では、圧電振動片4をウエハ40から形成する場合を説明する。
まず、水晶のランバート原石を所定の角度でスライスして一定の厚みのウエハ40とする。次に、ウエハ40をラッピングして粗加工した後、加工変質層をエッチングで取り除き、この後、ポリッシュなどの鏡面加工を行なって所定の厚みとする(S110)。
(Method for manufacturing piezoelectric vibrating piece)
FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the piezoelectric vibrating piece.
4 to 7 are sectional views for explaining the groove forming step.
Next, a method for manufacturing the above-described piezoelectric vibrating piece will be described. Hereinafter, a case where the piezoelectric vibrating piece 4 is formed from the wafer 40 will be described.
First, a raw quartz Lambert is sliced at a predetermined angle to obtain a wafer 40 having a constant thickness. Next, after lapping and roughing the wafer 40, the work-affected layer is removed by etching, and thereafter, mirror finishing such as polishing is performed to obtain a predetermined thickness (S110).

次に、ウエハ40に複数の圧電板15の外形形状を形成する外形形状形成工程(S120)を実行する。この工程は、例えば、まずウエハ40上における圧電板15の形成予定領域にレジストを形成した後、ウエハ40の両面からそれぞれエッチング加工を行い、レジストが形成されていない領域を選択的に除去することで実行する。   Next, an outer shape forming step (S120) for forming the outer shapes of the plurality of piezoelectric plates 15 on the wafer 40 is executed. In this step, for example, first, a resist is formed in a region where the piezoelectric plate 15 is to be formed on the wafer 40, and then etching is performed from both surfaces of the wafer 40 to selectively remove regions where the resist is not formed. Run with.

次に、振動腕部(ウエハ)10,11の両主面4aに溝部5を形成する溝部形成工程(S140)を実行する。
溝部形成工程では、まず図4に示すように、溝部5の形成予定領域を回避した領域にレジストRを形成するレジスト形成工程を実行する。
そして図5および図6に示すように、振動腕部10,11に保護膜Mを形成した後、ドライエッチングにより振動腕部10,11をエッチングするドライエッチング工程を実行する。このとき、ウエハ40をエッチング室S内に配置した状態で、例えばエッチング室S内に保護膜形成用のガスを導入する等して前記形成予定領域に保護膜Mを形成し、その後、エッチング室S内に、ウエハ40をエッチングするエッチングガスを導入して前記形成予定領域をエッチングする。
Next, a groove portion forming step (S140) for forming the groove portions 5 on both main surfaces 4a of the vibrating arm portions (wafers) 10 and 11 is executed.
In the groove forming step, first, as shown in FIG. 4, a resist forming step is performed in which a resist R is formed in a region avoiding a region where the groove 5 is to be formed.
As shown in FIGS. 5 and 6, after forming the protective film M on the vibrating arm portions 10 and 11, a dry etching process is performed in which the vibrating arm portions 10 and 11 are etched by dry etching. At this time, in a state where the wafer 40 is disposed in the etching chamber S, the protective film M is formed in the region to be formed by introducing a gas for forming the protective film into the etching chamber S, for example, and then the etching chamber. An etching gas for etching the wafer 40 is introduced into S to etch the region to be formed.

ここで本実施形態では、図7に示すように、ドライエッチング工程を、エッチングガスの供給量を異ならせて複数回実施する。エッチングガスの供給量は、例えば、エッチング室S内への単位時間当たりのエッチングガスの導入量、またはエッチング室S内へのエッチングガスの導入時間を変更すること等により、調整することができる。
ドライエッチング工程においては、エッチングガスの供給量に応じて溝部5のX方向へのエッチング量を調整できることから、本実施形態では、ドライエッチング工程を繰り返す度に、エッチングガスの供給量を増加させる。これにより、溝部5が形成されることとなる。
Here, in this embodiment, as shown in FIG. 7, the dry etching process is performed a plurality of times with different supply amounts of the etching gas. The supply amount of the etching gas can be adjusted, for example, by changing the amount of etching gas introduced into the etching chamber S per unit time or the time for introducing the etching gas into the etching chamber S.
In the dry etching process, the etching amount in the X direction of the groove portion 5 can be adjusted according to the supply amount of the etching gas. In this embodiment, the etching gas supply amount is increased each time the dry etching process is repeated. Thereby, the groove part 5 will be formed.

次に、複数の圧電板15上に、例えばスパッタリング等により電極膜をパターニングして、励振電極13,14と、マウント電極16,17と、引き出し電極19,20とをそれぞれ形成する電極形成工程(S150)を実行する。また、一対の振動腕部10,11の先端に重り金属膜21を形成する重り金属膜形成工程(S160)を実行する。
なお本実施形態では、励振電極13,14と、引き出し電極19,20と、マウント電極16,17の電極部と、重り金属膜21とを、それぞれ別工程で形成するとしたが、これに限定されず、同一工程で一括して形成してもよい。
Next, an electrode forming step (for example, patterning the electrode film on the plurality of piezoelectric plates 15 by sputtering or the like to form the excitation electrodes 13, 14, mount electrodes 16, 17, and extraction electrodes 19, 20, respectively) S150) is executed. Further, a weight metal film forming step (S160) for forming the weight metal film 21 at the tips of the pair of vibrating arm portions 10 and 11 is executed.
In the present embodiment, the excitation electrodes 13 and 14, the extraction electrodes 19 and 20, the electrode portions of the mount electrodes 16 and 17, and the weight metal film 21 are formed in separate steps, but the present invention is not limited thereto. Instead, they may be formed collectively in the same process.

次に、ウエハ40に形成された全ての振動腕部10,11に対して、周波数を粗く調整する粗調工程(S170)を実行する。このとき、例えばウエハ40に形成された全ての振動腕部10,11の周波数をまとめて測定し、測定された周波数と予め定められた目標周波数との差に応じて、トリミング量を算出する。そして、重り金属膜21の粗調膜21aにレーザ光を照射して一部を蒸発させ、トリミング量に応じて粗調膜21aを除去(トリミング)する。なお、共振周波数をより高精度に調整する微調は、例えば圧電振動片4の実装後に行なう。   Next, a coarse adjustment step (S170) for coarsely adjusting the frequency is performed on all the vibrating arm portions 10 and 11 formed on the wafer 40. At this time, for example, the frequencies of all the vibrating arm portions 10 and 11 formed on the wafer 40 are measured together, and the trimming amount is calculated according to the difference between the measured frequency and a predetermined target frequency. Then, the coarse adjustment film 21a of the weight metal film 21 is irradiated with laser light to partially evaporate, and the coarse adjustment film 21a is removed (trimmed) according to the trimming amount. Note that fine adjustment for adjusting the resonance frequency with higher accuracy is performed after the piezoelectric vibrating reed 4 is mounted, for example.

次に、ウエハ40と圧電板15とを連結している連結部を切断して、複数の圧電板15をウエハ40から切り離して個片化する切断工程(S180)を実行する。
以上より、1枚のウエハ40から、音叉型の圧電振動片4が一度に複数製造される。
Next, a cutting step (S180) is performed in which the connecting portion connecting the wafer 40 and the piezoelectric plate 15 is cut to separate the plurality of piezoelectric plates 15 from the wafer 40 into individual pieces.
As described above, a plurality of tuning-fork type piezoelectric vibrating reeds 4 are manufactured from one wafer 40 at a time.

以上説明したように、本実施形態に係る圧電振動片4によれば、溝部5において開口部5cよりも底壁面5a側に位置する部分の少なくとも一部(以下、広幅部分という)が、溝部5の開口部5cよりもX方向に広幅になっているので、広幅部分の側壁面5bと振動腕部10,11の側面4bとをX方向に接近させ、これらの側壁面5bおよび側面4bに振動腕部10,11を挟むように形成された両励振電極13,14の間隔を狭めることができる。これにより、溝部5の開口部5cをX方向に拡幅させるのを抑えつつ、CI値を低下させることが可能になり、圧電振動片4に良好な振動特性を発揮させ易くすることができる。
さらに溝部5が、開口部5c側から底壁面5a側に向かうに従い漸次、X方向に拡幅しているので、振動腕部10,11の強度を良好に確保することも可能になり、圧電振動片4に一層良好な振動特性を発揮させ易くすることができる。
As described above, according to the piezoelectric vibrating reed 4 according to the present embodiment, at least a part of the groove 5 located on the bottom wall surface 5a side with respect to the opening 5c (hereinafter referred to as the wide width portion) is the groove 5. Since the opening 5c is wider in the X direction, the side wall surface 5b of the wide portion and the side surface 4b of the vibrating arms 10 and 11 are brought closer to the X direction, and the side wall surface 5b and the side surface 4b vibrate. The interval between the two excitation electrodes 13 and 14 formed so as to sandwich the arm portions 10 and 11 can be reduced. Accordingly, it is possible to reduce the CI value while suppressing the opening 5c of the groove 5 from being widened in the X direction, and it is possible to make the piezoelectric vibrating piece 4 easily exhibit good vibration characteristics.
Further, since the groove portion 5 is gradually widened in the X direction as it goes from the opening 5c side to the bottom wall surface 5a side, the strength of the vibrating arm portions 10 and 11 can be secured well, and the piezoelectric vibrating piece 4 can be made to exhibit better vibration characteristics.

また、本実施形態に係る圧電振動片4の製造方法によれば、ドライエッチング工程を、エッチングガスの供給量を異ならせて複数回実施するので、ドライエッチング工程ごとに、振動腕部10,11のX方向へのエッチング量を精度良く異ならせ、溝部5のX方向の幅を調整し易くすることが可能になり、溝部5を高精度に形成することができる。   In addition, according to the method for manufacturing the piezoelectric vibrating reed 4 according to the present embodiment, the dry etching process is performed a plurality of times with different supply amounts of the etching gas, so that the vibrating arm portions 10 and 11 are provided for each dry etching process. Therefore, it is possible to easily adjust the width of the groove portion 5 in the X direction, so that the groove portion 5 can be formed with high accuracy.

図8は、解析結果を示すグラフである。
図8に示すように、前記圧電振動片4において、溝部5の開口部5cにおけるX方向に沿った大きさTW1を42μmで一定にし、溝部5の底壁面5aにおけるX方向に沿った大きさTW2を互いに異ならせた構成についてCI値を解析したところ、TW2が大きいほど、CI値が線形性を持って小さくなることが確認された。
FIG. 8 is a graph showing the analysis results.
As shown in FIG. 8, in the piezoelectric vibrating piece 4, the size TW1 along the X direction in the opening 5c of the groove 5 is made constant at 42 μm, and the size TW2 along the X direction on the bottom wall surface 5a of the groove 5 is provided. As a result of analyzing the CI values for the configurations having different values, it was confirmed that the larger the TW2, the smaller the CI value with linearity.

(圧電振動子)
次に、上述した製造方法により製造された圧電振動片4を備えたパッケージ9として、圧電振動子1について説明する。
図9は、圧電振動子1の外観斜視図である。
図10は、圧電振動子1の内部構成図であって、リッド基板3を取り外した状態の平面図である。
図11は、図10のC−C線における断面図である。
図12は、図9に示す圧電振動子1の分解斜視図である。
なお図12においては、図面を見易くするために後述する励振電極13,14、引き出し電極19,20、マウント電極16,17および重り金属膜21の図示を省略している。
(Piezoelectric vibrator)
Next, the piezoelectric vibrator 1 will be described as a package 9 including the piezoelectric vibrating reed 4 manufactured by the manufacturing method described above.
FIG. 9 is an external perspective view of the piezoelectric vibrator 1.
FIG. 10 is an internal configuration diagram of the piezoelectric vibrator 1 and is a plan view showing a state in which the lid substrate 3 is removed.
11 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.
FIG. 12 is an exploded perspective view of the piezoelectric vibrator 1 shown in FIG.
In FIG. 12, the excitation electrodes 13 and 14, the extraction electrodes 19 and 20, the mount electrodes 16 and 17, and the weight metal film 21 which will be described later are omitted for easy understanding of the drawing.

図9に示すように、本実施形態の圧電振動子1は、ベース基板2およびリッド基板3が接合膜35を介して陽極接合されたパッケージ9と、パッケージ9のキャビティ3aに収納された圧電振動片4と、を備えた表面実装型である。   As shown in FIG. 9, the piezoelectric vibrator 1 according to this embodiment includes a package 9 in which a base substrate 2 and a lid substrate 3 are anodically bonded via a bonding film 35, and a piezoelectric vibration housed in a cavity 3 a of the package 9. A surface mount type provided with the piece 4.

図11に示すように、ベース基板2およびリッド基板3は、ガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる陽極接合可能な基板であり、略板状に形成されている。リッド基板3におけるベース基板2との接合面側には、圧電振動片4を収容するキャビティ3aが形成されている。   As shown in FIG. 11, the base substrate 2 and the lid substrate 3 are anodic bondable substrates made of a glass material, for example, soda-lime glass, and are formed in a substantially plate shape. A cavity 3 a for accommodating the piezoelectric vibrating reed 4 is formed on the side of the lid substrate 3 that is bonded to the base substrate 2.

リッド基板3におけるベース基板2との接合面側の全体に、陽極接合用の接合膜35(接合材)が形成されている。接合膜35は、キャビティ3aの内面全体に加えて、キャビティ3aの周囲の額縁領域に形成されている。本実施形態の接合膜35は、シリコンにより形成されているが、クロムやアルミニウム等で接合膜35を形成することも可能である。この接合膜35とベース基板2とが陽極接合され、キャビティ3aが真空封止されている。   A bonding film 35 (bonding material) for anodic bonding is formed on the entire bonding surface side of the lid substrate 3 with the base substrate 2. The bonding film 35 is formed in the frame area around the cavity 3a in addition to the entire inner surface of the cavity 3a. Although the bonding film 35 of this embodiment is formed of silicon, the bonding film 35 can be formed of chromium, aluminum, or the like. The bonding film 35 and the base substrate 2 are anodically bonded, and the cavity 3a is vacuum-sealed.

圧電振動子1は、ベース基板2を厚さ方向に貫通し、キャビティ3aの内側と圧電振動子1の外側とを導通する貫通電極32,33を備えている。そして、貫通電極32,33は、ベース基板2を貫通する貫通孔30,31内に配置され、圧電振動片4と外部とを電気的に接続する金属ピン7と、貫通孔30,31と金属ピン7との間に充填される筒体6と、により形成されている。   The piezoelectric vibrator 1 includes through electrodes 32 and 33 that penetrate the base substrate 2 in the thickness direction and conduct the inside of the cavity 3 a and the outside of the piezoelectric vibrator 1. The through electrodes 32 and 33 are disposed in the through holes 30 and 31 that penetrate the base substrate 2, and the metal pins 7 that electrically connect the piezoelectric vibrating reed 4 and the outside, the through holes 30 and 31, and the metal And a cylindrical body 6 filled between the pins 7.

貫通孔30は、ベース基板2の上面U側から下面L側にかけて、内径が次第に大きくなるように形成されており、貫通孔30の中心軸Pを含む断面形状がテーパ状となるように形成されている。
金属ピン7は、銀やニッケル合金、アルミニウム等の金属材料により形成された導電性の棒状部材であり、鍛造やプレス加工により成型される。金属ピン7は、線膨張係数がベース基板2のガラス材料と近い金属、例えば、鉄を58重量パーセント、ニッケルを42重量パーセント含有する合金(42アロイ)で形成することが望ましい。
筒体6は、ペースト状のガラスフリットが焼成されたものである。筒体6の中心には、金属ピン7が筒体6を貫通するように配されており、筒体6は、金属ピン7および貫通孔30に対して強固に固着している。
The through hole 30 is formed so that the inner diameter gradually increases from the upper surface U side to the lower surface L side of the base substrate 2, and the cross-sectional shape including the central axis P of the through hole 30 is formed in a tapered shape. ing.
The metal pin 7 is a conductive rod-shaped member formed of a metal material such as silver, nickel alloy, or aluminum, and is molded by forging or pressing. The metal pin 7 is preferably formed of a metal having a linear expansion coefficient close to that of the glass material of the base substrate 2, for example, an alloy (42 alloy) containing 58 weight percent iron and 42 weight percent nickel.
The cylinder 6 is obtained by baking paste-like glass frit. At the center of the cylinder 6, a metal pin 7 is arranged so as to penetrate the cylinder 6, and the cylinder 6 is firmly fixed to the metal pin 7 and the through hole 30.

図12に示すように、ベース基板2の上面U側には、一対の引き回し電極36,37がパターニングされている。また、これら一対の引き回し電極36,37上にそれぞれ金等からなるバンプBが形成されており、バンプBを利用して圧電振動片4の一対のマウント電極が実装されている。これにより、圧電振動片4の一方のマウント電極17が、一方の引き回し電極36を介して一方の貫通電極32に導通し、他方のマウント電極16が、他方の引き回し電極37を介して他方の貫通電極33に導通するようになっている。   As shown in FIG. 12, a pair of lead-out electrodes 36 and 37 are patterned on the upper surface U side of the base substrate 2. Further, bumps B made of gold or the like are formed on the pair of lead-out electrodes 36 and 37, respectively, and a pair of mount electrodes of the piezoelectric vibrating reed 4 are mounted using the bumps B. As a result, one mount electrode 17 of the piezoelectric vibrating reed 4 is electrically connected to one through electrode 32 via one routing electrode 36, and the other mount electrode 16 is connected to the other through the other routing electrode 37. The electrode 33 is electrically connected.

ベース基板2の下面Lには、一対の外部電極38,39が形成されている。一対の外部電極38,39は、ベース基板2の長手方向の両端部に形成され、一対の貫通電極32,33に対してそれぞれ電気的に接続されている。   A pair of external electrodes 38 and 39 are formed on the lower surface L of the base substrate 2. The pair of external electrodes 38 and 39 are formed at both ends in the longitudinal direction of the base substrate 2, and are electrically connected to the pair of through electrodes 32 and 33, respectively.

このように構成された圧電振動子1を作動させる場合には、ベース基板2に形成された外部電極38,39に対して、所定の駆動電圧を印加する。これにより、圧電振動片4の第1の励振電極13および第2の励振電極14に電圧を印加できるので、一対の振動腕部10,11を接近および離間させるように、X方向に所定の周波数で振動させることができる。そして、この一対の振動腕部10,11の振動を利用して、時刻源や制御信号のタイミング源、リファレンス信号源等として利用できる。   When the piezoelectric vibrator 1 configured in this way is operated, a predetermined drive voltage is applied to the external electrodes 38 and 39 formed on the base substrate 2. As a result, a voltage can be applied to the first excitation electrode 13 and the second excitation electrode 14 of the piezoelectric vibrating reed 4, so that a predetermined frequency is applied in the X direction so that the pair of vibrating arm portions 10 and 11 approach and separate from each other. It can be vibrated with. The vibration of the pair of vibrating arm portions 10 and 11 can be used as a time source, a timing source for control signals, a reference signal source, and the like.

本実施形態によれば、CI値の上昇や振動漏れを抑制できる圧電振動片4を備えているので、高性能な圧電振動子1を提供できる。   According to this embodiment, since the piezoelectric vibrating reed 4 that can suppress an increase in CI value and vibration leakage is provided, a high-performance piezoelectric vibrator 1 can be provided.

なお本実施形態では、ベース基板2およびリッド基板3がガラス材料からなる、表面実装型のガラスパッケージを用いる構成を例示したが、ベース基板2をセラミックからなるものとし、リッド基板3を金属またはガラス材料等からなるものとしたセラミックパッケージとすることも可能である。
さらに本実施形態では、引き回し電極36,37上にAu等からなるバンプBが形成され、このバンプBを利用して圧電振動片4が実装された構成を例示したが、Au等からなるバンプBに代えて、導電性接着剤により、引き回し電極36,37に圧電振動片4を実装する構成としても良い。
また本実施形態では、表面実装型の圧電振動子1に本発明の圧電振動片4を採用しているが、これに限らず、例えばシリンダーパッケージタイプの圧電振動子に本発明の圧電振動片4を採用しても構わない。
In the present embodiment, the configuration using the surface mount type glass package in which the base substrate 2 and the lid substrate 3 are made of a glass material is exemplified. However, the base substrate 2 is made of ceramic and the lid substrate 3 is made of metal or glass. A ceramic package made of a material or the like is also possible.
Further, in the present embodiment, the bump B made of Au or the like is formed on the lead-out electrodes 36 and 37, and the piezoelectric vibration piece 4 is mounted using the bump B. However, the bump B made of Au or the like is exemplified. Instead of this, the piezoelectric vibrating reed 4 may be mounted on the lead-out electrodes 36 and 37 with a conductive adhesive.
In the present embodiment, the piezoelectric vibrating reed 4 of the present invention is adopted for the surface-mount type piezoelectric vibrator 1. However, the present invention is not limited thereto, and for example, the piezoelectric vibrating reed 4 of the present invention is applied to a cylinder package type piezoelectric vibrator. May be adopted.

(発振器)
次に、本発明に係る発振器の一実施形態について、図13を参照しながら説明する。
本実施形態の発振器110は、図13に示すように、圧電振動子1を、集積回路111に電気的に接続された発振子として構成したものである。この発振器110は、コンデンサ等の電子素子部品112が実装された基板113を備えている。基板113には、発振器用の集積回路111が実装されており、この集積回路111の近傍に、圧電振動子1が実装されている。これら電子素子部品112、集積回路111および圧電振動子1は、図示しない配線パターンによってそれぞれ電気的に接続されている。なお、各構成部品は、図示しない樹脂によりモールドされている。
(Oscillator)
Next, an embodiment of an oscillator according to the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 13, the oscillator 110 according to the present embodiment is configured by configuring the piezoelectric vibrator 1 as an oscillator electrically connected to the integrated circuit 111. The oscillator 110 includes a substrate 113 on which an electronic element component 112 such as a capacitor is mounted. An integrated circuit 111 for an oscillator is mounted on the substrate 113, and the piezoelectric vibrator 1 is mounted in the vicinity of the integrated circuit 111. The electronic element component 112, the integrated circuit 111, and the piezoelectric vibrator 1 are electrically connected by a wiring pattern (not shown). Each component is molded with a resin (not shown).

このように構成された発振器110において、圧電振動子1に電圧を印加すると、圧電振動子1内の圧電振動片が振動する。この振動は、圧電振動片が有する圧電特性により電気信号に変換されて、集積回路111に電気信号として入力される。入力された電気信号は、集積回路111によって各種処理がなされ、周波数信号として出力される。これにより、圧電振動子1が発振子として機能する。
また、集積回路111の構成を、例えば、RTC(リアルタイムクロック)モジュール等を要求に応じて選択的に設定することで、時計用単機能発振器等の他、当該機器や外部機器の動作日や時刻を制御したり、時刻やカレンダー等を提供したりする機能を付加できる。
In the oscillator 110 configured as described above, when a voltage is applied to the piezoelectric vibrator 1, the piezoelectric vibrating piece in the piezoelectric vibrator 1 vibrates. This vibration is converted into an electric signal by the piezoelectric characteristics of the piezoelectric vibrating piece and input to the integrated circuit 111 as an electric signal. The input electrical signal is subjected to various processes by the integrated circuit 111 and output as a frequency signal. Thereby, the piezoelectric vibrator 1 functions as an oscillator.
In addition, by selectively setting the configuration of the integrated circuit 111, for example, an RTC (real-time clock) module or the like as required, the operation date and time of the device or external device in addition to a single-function oscillator for a clock, etc. Functions such as controlling time and providing time and calendar can be added.

本実施形態によれば、高性能な発振器110を提供できる。   According to this embodiment, a high-performance oscillator 110 can be provided.

(電子機器)
次に、本発明に係る電子機器の一実施形態について、図14を参照して説明する。なお電子機器として、前述した圧電振動子1を有する携帯情報機器120を例にして説明する。
始めに本実施形態の携帯情報機器120は、例えば、携帯電話に代表されるものであり、従来技術における腕時計を発展、改良したものである。外観は腕時計に類似し、文字盤に相当する部分に液晶ディスプレイを配し、この画面上に現在の時刻等を表示させることができるものである。また、通信機として利用する場合には、手首から外し、バンドの内側部分に内蔵されたスピーカおよびマイクロフォンによって、従来技術の携帯電話と同様の通信を行うことが可能である。しかしながら、従来の携帯電話と比較して、格段に小型化および軽量化されている。
(Electronics)
Next, an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. Note that a portable information device 120 having the above-described piezoelectric vibrator 1 will be described as an example of the electronic device.
First, the portable information device 120 of this embodiment is represented by, for example, a mobile phone, and is a development and improvement of a wrist watch in the prior art. The appearance is similar to that of a wristwatch, and a liquid crystal display is arranged in a portion corresponding to a dial so that the current time and the like can be displayed on this screen. Further, when used as a communication device, it is possible to perform communication similar to that of a conventional mobile phone by using a speaker and a microphone that are removed from the wrist and incorporated in the inner portion of the band. However, it is much smaller and lighter than conventional mobile phones.

次に、本実施形態の携帯情報機器120の構成について説明する。この携帯情報機器120は、図14に示すように、圧電振動子1と、電力を供給するための電源部121とを備えている。電源部121は、例えば、リチウム二次電池からなっている。この電源部121には、各種制御を行う制御部122と、時刻等のカウントを行う計時部123と、外部との通信を行う通信部124と、各種情報を表示する表示部125と、それぞれの機能部の電圧を検出する電圧検出部126とが並列に接続されている。そして、電源部121によって、各機能部に電力が供給されるようになっている。   Next, the configuration of the portable information device 120 of this embodiment will be described. As shown in FIG. 14, the portable information device 120 includes the piezoelectric vibrator 1 and a power supply unit 121 for supplying power. The power supply unit 121 is made of, for example, a lithium secondary battery. The power supply unit 121 includes a control unit 122 that performs various controls, a clock unit 123 that counts time, a communication unit 124 that communicates with the outside, a display unit 125 that displays various information, and the like. A voltage detection unit 126 that detects the voltage of the functional unit is connected in parallel. Power is supplied to each functional unit by the power supply unit 121.

制御部122は、各機能部を制御して音声データの送信や受信、現在時刻の計測、表示等、システム全体の動作制御を行う。また、制御部122は、予めプログラムが書き込まれたROMと、該ROMに書き込まれたプログラムを読み出して実行するCPUと、該CPUのワークエリアとして使用されるRAM等とを備えている。   The control unit 122 controls each function unit to control operation of the entire system such as transmission and reception of audio data, measurement and display of the current time, and the like. The control unit 122 includes a ROM in which a program is written in advance, a CPU that reads and executes the program written in the ROM, and a RAM that is used as a work area for the CPU.

計時部123は、発振回路やレジスタ回路、カウンタ回路、インターフェース回路等を内蔵する集積回路と、圧電振動子1とを備えている。圧電振動子1に電圧を印加すると圧電振動片が振動し、該振動が水晶の有する圧電特性により電気信号に変換されて、発振回路に電気信号として入力される。発振回路の出力は二値化され、レジスタ回路とカウンタ回路とにより計数される。そして、インターフェース回路を介して、制御部122と信号の送受信が行われ、表示部125に、現在時刻や現在日付或いはカレンダー情報等が表示される。   The timer unit 123 includes an integrated circuit including an oscillation circuit, a register circuit, a counter circuit, an interface circuit, and the like, and the piezoelectric vibrator 1. When a voltage is applied to the piezoelectric vibrator 1, the piezoelectric vibrating piece vibrates, and the vibration is converted into an electric signal by the piezoelectric characteristics of the crystal, and is input to the oscillation circuit as an electric signal. The output of the oscillation circuit is binarized and counted by a register circuit and a counter circuit. Then, signals are transmitted to and received from the control unit 122 through the interface circuit, and the current time, current date, calendar information, and the like are displayed on the display unit 125.

通信部124は、従来の携帯電話と同様の機能を有し、無線部127、音声処理部128、切替部129、増幅部130、音声入出力部131、電話番号入力部132、着信音発生部133および呼制御メモリ部134を備えている。
無線部127は、音声データ等の各種データを、アンテナ135を介して基地局と送受信のやりとりを行う。音声処理部128は、無線部127又は増幅部130から入力された音声信号を符号化および複号化する。増幅部130は、音声処理部128又は音声入出力部131から入力された信号を、所定のレベルまで増幅する。音声入出力部131は、スピーカやマイクロフォン等からなり、着信音や受話音声を拡声したり、音声を集音したりする。
The communication unit 124 has functions similar to those of a conventional mobile phone, and includes a radio unit 127, a voice processing unit 128, a switching unit 129, an amplification unit 130, a voice input / output unit 131, a telephone number input unit 132, a ring tone generation unit. 133 and a call control memory unit 134.
The radio unit 127 exchanges various data such as audio data with the base station via the antenna 135. The audio processing unit 128 encodes and decodes the audio signal input from the radio unit 127 or the amplification unit 130. The amplifying unit 130 amplifies the signal input from the audio processing unit 128 or the audio input / output unit 131 to a predetermined level. The voice input / output unit 131 includes a speaker, a microphone, and the like, and amplifies a ringtone and a received voice or collects a voice.

また、着信音発生部133は、基地局からの呼び出しに応じて着信音を生成する。切替部129は、着信時に限って、音声処理部128に接続されている増幅部130を着信音発生部133に切り替えることによって、着信音発生部133において生成された着信音が増幅部130を介して音声入出力部131に出力される。
なお、呼制御メモリ部134は、通信の発着呼制御に係るプログラムを格納する。また、電話番号入力部132は、例えば、0から9の番号キーおよびその他のキーを備えており、これら番号キー等を押下することにより、通話先の電話番号等が入力される。
In addition, the ring tone generator 133 generates a ring tone in response to a call from the base station. The switching unit 129 switches the amplifying unit 130 connected to the voice processing unit 128 to the ringing tone generating unit 133 only when an incoming call is received, so that the ringing tone generated by the ringing tone generating unit 133 passes through the amplifying unit 130. To the audio input / output unit 131.
Note that the call control memory unit 134 stores a program related to incoming / outgoing call control of communication. The telephone number input unit 132 includes, for example, number keys from 0 to 9 and other keys. By pressing these number keys and the like, a telephone number of a call destination is input.

電圧検出部126は、電源部121によって制御部122等の各機能部に対して加えられている電圧が、所定の値を下回った場合に、その電圧降下を検出して制御部122に通知する。このときの所定の電圧値は、通信部124を安定して動作させるために必要な最低限の電圧として予め設定されている値であり、例えば、3V程度となる。電圧検出部126から電圧降下の通知を受けた制御部122は、無線部127、音声処理部128、切替部129および着信音発生部133の動作を禁止する。特に、消費電力の大きな無線部127の動作停止は、必須となる。更に、表示部125に、通信部124が電池残量の不足により使用不能になった旨が表示される。   The voltage detection unit 126 detects the voltage drop and notifies the control unit 122 when the voltage applied to each functional unit such as the control unit 122 by the power supply unit 121 falls below a predetermined value. . The predetermined voltage value at this time is a value set in advance as a minimum voltage necessary to stably operate the communication unit 124, and is, for example, about 3V. Upon receiving the voltage drop notification from the voltage detection unit 126, the control unit 122 prohibits the operations of the radio unit 127, the voice processing unit 128, the switching unit 129, and the ring tone generation unit 133. In particular, it is essential to stop the operation of the wireless unit 127 with high power consumption. Further, the display unit 125 displays that the communication unit 124 has become unusable due to insufficient battery power.

すなわち、電圧検出部126と制御部122とによって、通信部124の動作を禁止し、その旨を表示部125に表示できる。この表示は、文字メッセージであっても良いが、より直感的な表示として、表示部125の表示面の上部に表示された電話アイコンに、×(バツ)印を付けるようにしても良い。
なお、通信部124の機能に係る部分の電源を、選択的に遮断できる電源遮断部136を備えることで、通信部124の機能をより確実に停止できる。
That is, the operation of the communication unit 124 can be prohibited by the voltage detection unit 126 and the control unit 122, and that effect can be displayed on the display unit 125. This display may be a text message, but as a more intuitive display, a x (X) mark may be attached to the telephone icon displayed at the top of the display surface of the display unit 125.
In addition, the function of the communication part 124 can be stopped more reliably by providing the power cutoff part 136 that can selectively cut off the power supply of the part related to the function of the communication part 124.

本実施形態によれば、高性能な携帯情報機器120を提供できる。   According to the present embodiment, a high-performance portable information device 120 can be provided.

(電波時計)
次に、本発明に係る電波時計の一実施形態について、図15を参照して説明する。
本実施形態の電波時計140は、図15に示すように、フィルタ部141に電気的に接続された圧電振動子1を備えたものであり、時計情報を含む標準の電波を受信して、正確な時刻に自動修正して表示する機能を備えた時計である。
日本国内には、福島県(40kHz)と佐賀県(60kHz)とに、標準の電波を送信する送信所(送信局)があり、それぞれ標準電波を送信している。40kHz若しくは60kHzのような長波は、地表を伝播する性質と、電離層と地表とを反射しながら伝播する性質とを併せもつため、伝播範囲が広く、前述した2つの送信所で日本国内を全て網羅している。
(Radio watch)
Next, an embodiment of a radio timepiece according to the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 15, the radio-controlled timepiece 140 of the present embodiment includes the piezoelectric vibrator 1 that is electrically connected to the filter unit 141. The radio-controlled timepiece 140 receives a standard radio wave including timepiece information and is accurate. It is a clock with a function of automatically correcting and displaying the correct time.
In Japan, there are transmitting stations (transmitting stations) that transmit standard radio waves in Fukushima Prefecture (40 kHz) and Saga Prefecture (60 kHz), each transmitting standard radio waves. Long waves such as 40 kHz or 60 kHz have the property of propagating the surface of the earth and the property of propagating while reflecting the ionosphere and the surface of the earth. doing.

以下、電波時計140の機能的構成について詳細に説明する。
アンテナ142は、40kHz若しくは60kHzの長波の標準電波を受信する。長波の標準電波は、タイムコードと呼ばれる時刻情報を、40kHz若しくは60kHzの搬送波にAM変調をかけたものである。受信された長波の標準電波は、アンプ143によって増幅され、複数の圧電振動子1を有するフィルタ部141によって濾波、同調される。
本実施形態における圧電振動子1は、前記搬送周波数と同一の40kHzおよび60kHzの共振周波数を有する水晶振動子部148、149をそれぞれ備えている。
Hereinafter, the functional configuration of the radio timepiece 140 will be described in detail.
The antenna 142 receives a long standard wave of 40 kHz or 60 kHz. The long-wave standard radio wave is obtained by subjecting time information called a time code to AM modulation on a 40 kHz or 60 kHz carrier wave. The received long standard wave is amplified by the amplifier 143 and filtered and tuned by the filter unit 141 having the plurality of piezoelectric vibrators 1.
The piezoelectric vibrator 1 according to this embodiment includes crystal vibrator portions 148 and 149 having resonance frequencies of 40 kHz and 60 kHz that are the same as the carrier frequency.

更に、濾波された所定周波数の信号は、検波、整流回路144により検波復調される。
続いて、波形整形回路145を介してタイムコードが取り出され、CPU146でカウントされる。CPU146では、現在の年や積算日、曜日、時刻等の情報を読み取る。読み取られた情報は、RTC147に反映され、正確な時刻情報が表示される。
搬送波は、40kHz若しくは60kHzであるから、水晶振動子部148、149は、前述した音叉型の構造を持つ振動子が好適である。
Further, the filtered signal having a predetermined frequency is detected and demodulated by the detection and rectification circuit 144.
Subsequently, the time code is taken out via the waveform shaping circuit 145 and counted by the CPU 146. The CPU 146 reads information such as the current year, accumulated date, day of the week, and time. The read information is reflected in the RTC 147, and accurate time information is displayed.
Since the carrier wave is 40 kHz or 60 kHz, the crystal vibrator portions 148 and 149 are preferably vibrators having the tuning fork type structure described above.

なお、前述の説明は、日本国内の例で示したが、長波の標準電波の周波数は、海外では異なっている。例えば、ドイツでは77.5KHzの標準電波が用いられている。従って、海外でも対応可能な電波時計140を携帯機器に組み込む場合には、さらに日本の場合とは異なる周波数の圧電振動子1を必要とする。   In addition, although the above-mentioned description was shown in the example in Japan, the frequency of the long standard wave is different overseas. For example, in Germany, a standard radio wave of 77.5 KHz is used. Therefore, when the radio timepiece 140 that can be used overseas is incorporated in a portable device, the piezoelectric vibrator 1 having a frequency different from that in Japan is required.

本実施形態によれば、高性能な電波時計140を提供できる。   According to this embodiment, a high-performance radio timepiece 140 can be provided.

なお、本発明の技術的範囲は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

図16から図18は、圧電振動片41、42、43の変形例を示す断面図である。
例えば、溝部5の形状は前記実施形態に示すものに限られず、溝部5において開口部5cよりも底壁面5a側に位置する部分の少なくとも一部が、開口部5cよりもY方向に広幅になっている図16および図17に示すような形状であってもよい。
図16に示す圧電振動片41では、溝部5は、開口部5c側から底壁面5a側に向かうに従い漸次、X方向に縮幅した後、拡幅している。溝部5のうち、Z方向に沿った底壁面5a側の端部が、溝部5の開口部5cよりもX方向に広幅になっている。
図17に示す圧電振動片42では、溝部5は、Z方向の中央よりも開口部5c側では、X方向の幅が同等とされている。溝部5は、前記中央から底壁面5a側に向かうに従い漸次、X方向に拡幅している。溝部5のうち、前記中央よりも底壁面5a側に位置する部分が、溝部5の開口部5cよりもX方向に広幅になっている。
さらに図18に示す圧電振動片43のように、振動腕部10,11の片側の主面4aにのみ溝部5が形成されていてもよい。
16 to 18 are cross-sectional views showing modifications of the piezoelectric vibrating reeds 41, 42, and 43.
For example, the shape of the groove 5 is not limited to that shown in the above embodiment, and at least a part of the groove 5 located on the bottom wall 5a side of the opening 5c is wider in the Y direction than the opening 5c. 16 and FIG. 17 may be used.
In the piezoelectric vibrating piece 41 shown in FIG. 16, the groove portion 5 is gradually reduced in the X direction and then widened from the opening 5c side toward the bottom wall surface 5a side. Of the groove 5, the end on the bottom wall surface 5 a side along the Z direction is wider in the X direction than the opening 5 c of the groove 5.
In the piezoelectric vibrating piece 42 shown in FIG. 17, the groove 5 has the same width in the X direction on the opening 5 c side from the center in the Z direction. The groove portion 5 gradually widens in the X direction from the center toward the bottom wall surface 5a side. A portion of the groove portion 5 that is located closer to the bottom wall surface 5 a than the center is wider in the X direction than the opening 5 c of the groove portion 5.
Further, as in the piezoelectric vibrating piece 43 shown in FIG. 18, the groove portion 5 may be formed only on the main surface 4 a on one side of the vibrating arm portions 10 and 11.

また溝部形成工程が、前記ドライエッチング工程の前に、ウエットエッチングによりウエハをエッチングするウエットエッチング工程を有していてもよい。ウエットエッチング工程は、例えばウエハをエッチング液に浸漬することで実施することができる。
この場合、溝部形成工程が、前記ウエットエッチング工程を有しているので、エッチングに要する時間を短縮することが可能になり、生産性を向上させることができる。
またウエットエッチング工程を、ドライエッチング工程の前に実施するので、溝部を確実に高精度に形成することができる。すなわち、ウエットエッチング工程を、ドライエッチング工程の後に実施する場合、溝部のうち、ドライエッチング工程により形成された部分も、ウエットエッチング工程によりエッチングされてしまい、溝部を高精度に形成することが困難になるおそれがある。
Further, the groove forming step may include a wet etching step of etching the wafer by wet etching before the dry etching step. The wet etching step can be performed, for example, by immersing the wafer in an etching solution.
In this case, since the groove forming step includes the wet etching step, the time required for etching can be shortened, and productivity can be improved.
Moreover, since the wet etching process is performed before the dry etching process, the groove can be reliably formed with high accuracy. That is, when the wet etching process is performed after the dry etching process, the portion of the groove formed by the dry etching process is also etched by the wet etching process, making it difficult to form the groove with high accuracy. There is a risk.

その他、本発明の趣旨に逸脱しない範囲で、前記実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、前記した変形例を適宜組み合わせてもよい。   In addition, it is possible to appropriately replace the constituent elements in the embodiment with known constituent elements without departing from the spirit of the present invention, and the above-described modified examples may be appropriately combined.

1 圧電振動子
4,41,42,43 圧電振動片
4a 主面
4b 側面
5 溝部
5a 底壁面
5b 側壁面
5c 開口部
10,11 振動腕部
12 基部
13,14 励振電極
40 ウエハ
110 発振器
120 携帯情報機器(電子機器)
140 電波時計
M 保護膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Piezoelectric vibrator 4,41,42,43 Piezoelectric vibration piece 4a Main surface 4b Side surface 5 Groove part 5a Bottom wall surface 5b Side wall surface 5c Opening part 10,11 Vibration arm part 12 Base part 13,14 Excitation electrode 40 Wafer 110 Oscillator 120 Portable information Equipment (electronic equipment)
140 radio clock M protective film

Claims (8)

並んで配置された一対の振動腕部と、
前記一対の振動腕部が接続された基部と、
互いに電気的に独立して前記振動腕部に形成され、前記振動腕部を振動させる一対の励振電極と、を備え、
前記一対の励振電極のうち、一方の励振電極は、前記振動腕部の主面に設けられた溝部の側壁面に形成され、他方の励振電極は、前記振動腕部の側面に、前記一方の励振電極との間に前記振動腕部を挟むように形成された圧電振動片において、
前記溝部において開口部よりも底壁面側に位置する部分の少なくとも一部は、前記開口部よりも前記振動腕部の短手幅方向に広幅になっていることを特徴とする圧電振動片。
A pair of vibrating arms arranged side by side;
A base to which the pair of vibrating arms are connected;
A pair of excitation electrodes formed on the vibrating arm portion electrically independent from each other and vibrating the vibrating arm portion,
Of the pair of excitation electrodes, one excitation electrode is formed on a side wall surface of a groove portion provided on a main surface of the vibrating arm portion, and the other excitation electrode is formed on a side surface of the vibrating arm portion. In the piezoelectric vibrating piece formed so as to sandwich the vibrating arm portion between the excitation electrode,
A piezoelectric vibrating piece, wherein at least a part of a portion of the groove located on the bottom wall surface side with respect to the opening is wider than the opening in the width direction of the vibrating arm.
請求項1記載の圧電振動片であって、
前記溝部は、開口部側から底壁面側に向かうに従い漸次、前記短手幅方向に拡幅していることを特徴とする圧電振動片。
The piezoelectric vibrating piece according to claim 1,
The piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein the groove portion is gradually widened in the lateral width direction from the opening side toward the bottom wall surface side.
請求項1記載の圧電振動片を、ウエハから形成する圧電振動片の製造方法であって、
前記ウエハに前記溝部を形成する溝部形成工程を有し、
前記溝部形成工程は、前記ウエハに保護膜を形成した後、ドライエッチングにより前記ウエハをエッチングするドライエッチング工程を有し、
前記ドライエッチング工程は、前記ウエハをエッチングするエッチングガスの供給量を異ならせて複数回実施することを特徴とする圧電振動片の製造方法。
A method of manufacturing a piezoelectric vibrating piece, wherein the piezoelectric vibrating piece according to claim 1 is formed from a wafer,
A groove forming step of forming the groove on the wafer;
The groove part forming step includes a dry etching step of etching the wafer by dry etching after forming a protective film on the wafer,
The method of manufacturing a piezoelectric vibrating piece, wherein the dry etching step is performed a plurality of times with different supply amounts of an etching gas for etching the wafer.
請求項3記載の圧電振動片の製造方法であって、
前記溝部形成工程は、前記ドライエッチング工程の前に、ウエットエッチングにより前記ウエハをエッチングするウエットエッチング工程を有していることを特徴とする圧電振動片の製造方法。
A method of manufacturing a piezoelectric vibrating piece according to claim 3,
The groove forming step includes a wet etching step of etching the wafer by wet etching before the dry etching step.
請求項1に記載の圧電振動片を備えたことを特徴とする圧電振動子。   A piezoelectric vibrator comprising the piezoelectric vibrating piece according to claim 1. 請求項5に記載の圧電振動子が、発振子として集積回路に電気的に接続されていることを特徴とする発振器。   An oscillator, wherein the piezoelectric vibrator according to claim 5 is electrically connected to an integrated circuit as an oscillator. 請求項5に記載の圧電振動子が、計時部に電気的に接続されていることを特徴とする電子機器。   6. An electronic apparatus, wherein the piezoelectric vibrator according to claim 5 is electrically connected to a timer unit. 請求項5に記載の圧電振動子が、フィルタ部に電気的に接続されていることを特徴とする電波時計。   6. A radio timepiece wherein the piezoelectric vibrator according to claim 5 is electrically connected to a filter portion.
JP2012055917A 2012-03-13 2012-03-13 Piezoelectric vibrating piece, method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece Pending JP2013191981A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012055917A JP2013191981A (en) 2012-03-13 2012-03-13 Piezoelectric vibrating piece, method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012055917A JP2013191981A (en) 2012-03-13 2012-03-13 Piezoelectric vibrating piece, method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013191981A true JP2013191981A (en) 2013-09-26

Family

ID=49391841

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012055917A Pending JP2013191981A (en) 2012-03-13 2012-03-13 Piezoelectric vibrating piece, method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013191981A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016178590A (en) * 2015-03-23 2016-10-06 セイコーエプソン株式会社 Vibration piece, method for manufacturing vibration piece, vibrator, oscillator, electronic apparatus, and mobile body
US10418968B2 (en) 2015-10-28 2019-09-17 Seiko Epson Corporation Electronic component manufacturing method, vibrator device, electronic apparatus, and vehicle

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016178590A (en) * 2015-03-23 2016-10-06 セイコーエプソン株式会社 Vibration piece, method for manufacturing vibration piece, vibrator, oscillator, electronic apparatus, and mobile body
US10418968B2 (en) 2015-10-28 2019-09-17 Seiko Epson Corporation Electronic component manufacturing method, vibrator device, electronic apparatus, and vehicle

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6080449B2 (en) Piezoelectric vibrating piece, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic device and radio clock
JP5592812B2 (en) Piezoelectric vibrating piece, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic device, and radio clock
JP5185650B2 (en) Method for manufacturing piezoelectric vibrating piece and wafer
JP5226073B2 (en) Piezoelectric vibrators, oscillators, electronic equipment and radio clocks
JP5479931B2 (en) Piezoelectric vibrators, oscillators, electronic equipment and radio clocks
JP5819151B2 (en) Piezoelectric vibrator, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic device and radio clock
JPWO2010023733A1 (en) Piezoelectric vibrator, oscillator, electronic device, radio timepiece, and method of manufacturing piezoelectric vibrator
JP2011190509A (en) Masking material, piezoelectric vibrator, method for manufacturing piezoelectric vibrator, oscillator, electronic equipment and radio wave clock
JP2012039509A (en) Piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece
JP2012169865A (en) Piezoelectric vibrating reed, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic equipment, and radio clock
JP2013165455A (en) Piezoelectric vibration piece, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus, and atomic clock
JP2012199735A (en) Manufacturing method of piezoelectric vibrator, piezoelectric vibrator, oscillator having piezoelectric vibrator, electronic apparatus and electric wave clock
JP5128669B2 (en) Method for manufacturing piezoelectric vibrator
JP5128671B2 (en) Piezoelectric vibrator, oscillator, electronic device, radio timepiece, and method for manufacturing piezoelectric vibrator
WO2010097901A1 (en) Anodic bonding method, package manufacturing method, piezoelectric vibrator manufacturing method, oscillator, electronic apparatus and radio-controlled clock
JP2011029715A (en) Piezoelectric vibrating reed, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus, radio-controlled clock, and method for manufacturing piezoelectric vibrating reed
JP2011211441A (en) Manufacturing method of piezoelectric oscillator, piezoelectric oscillator, oscillator, electronic device, and electric wave clock
JP2013165396A (en) Piezoelectric vibration piece, piezoelectric vibrator manufacturing method, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic equipment, and radio clock
JP2013191981A (en) Piezoelectric vibrating piece, method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric resonator, oscillator, electronic device, and radio-controlled timepiece
WO2010082329A1 (en) Method for manufacturing package, wafer bonded body, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus and radio-controlled clock
WO2010097900A1 (en) Method for producing package, method for manufacturing piezoelectric transducer, oscillator, electronic device and radio-controlled timepiece
JP2013157908A (en) Piezoelectric vibration piece, method of manufacturing piezoelectric vibration piece, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus and radio clock
JP2013187639A (en) Method for manufacturing piezoelectric vibration piece
JP5912051B2 (en) Piezoelectric vibrator, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic device and radio clock
JP5762608B2 (en) Piezoelectric vibrating piece, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic device, and radio clock

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20130627

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130809