JP2013191398A - Excimer light irradiation device - Google Patents
Excimer light irradiation device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013191398A JP2013191398A JP2012056637A JP2012056637A JP2013191398A JP 2013191398 A JP2013191398 A JP 2013191398A JP 2012056637 A JP2012056637 A JP 2012056637A JP 2012056637 A JP2012056637 A JP 2012056637A JP 2013191398 A JP2013191398 A JP 2013191398A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge vessel
- ultraviolet
- excimer
- discharge container
- light irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
Description
この発明は、紫外線照射処理に使用されるエキシマ光照射装置に関し、特に、紫外線反射膜が形成されたエキシマランプを用いるエキシマ光照射装置に係わるものである。 The present invention relates to an excimer light irradiation apparatus used for ultraviolet irradiation treatment, and more particularly to an excimer light irradiation apparatus using an excimer lamp in which an ultraviolet reflecting film is formed.
現在、例えば、液晶表示パネルのガラス基板を紫外線照射によって洗浄する工程等においては、波長200nm以下の真空紫外線を放射するエキシマランプを備えたエキシマ光照射装置が使用されている。
このようなエキシマ光照射装置に使用されるエキシマランプとしては、特開2010−80351号公報(特許文献1)にも記載されているように、紫外線を効率よく放射するために、放電容器内に紫外線反射膜が形成されたエキシマランプが多用されている。このようなランプにおいては、水平配置された長尺の放電容器内の光出射側と反対の内面に、シリカ粒子を主体とした紫外線反射膜が形成されている。
At present, for example, in a process of cleaning a glass substrate of a liquid crystal display panel by ultraviolet irradiation, an excimer light irradiation apparatus including an excimer lamp that emits vacuum ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm or less is used.
As an excimer lamp used in such an excimer light irradiation apparatus, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-80351 (Patent Document 1), in order to radiate ultraviolet rays efficiently, Excimer lamps with an ultraviolet reflecting film are often used. In such a lamp, an ultraviolet reflecting film mainly composed of silica particles is formed on the inner surface opposite to the light emitting side in a horizontally disposed long discharge vessel.
図4にその概略構造が示されており、断面が扁平な矩形形状をなし、長尺な放電容器31の外面には透光性の外部電極32、32が設けられ、真空紫外線は光出射壁34を経て出射されて被照射物に照射される。
光出射側とは反対側の非光出射壁35の内面にはシリカ粒子などからなる紫外線反射膜33が形成されている。
FIG. 4 shows a schematic structure thereof, which has a rectangular shape with a flat cross section. On the outer surface of the
An ultraviolet reflecting
しかしてこのような構造のエキシマランプにおいては、放電容器31内で生成された紫外線は上方の非光出射壁35内面の紫外線反射膜33に反射されて下方の光出射壁34から出射されるので、非光出射壁35のガラスには紫外線が到達せず、一方、下方の光出射壁34には直接出射光に反射光を加えた紫外線が照射・透過することになる。
このため、点灯時間が経過するに従って、下方の光出射壁34、つまり放電容器31の光出射方向側の壁を構成するガラスに、真空紫外線が照射されることに起因して生ずる紫外線歪みが経時的に蓄積される。一方で、紫外線反射膜33を形成した上方壁35には紫外線が照射されることがないので、紫外線歪みが蓄積されることがない。
その結果、この紫外線歪みの影響によって、光出射方向側のガラスが主として長手方向に収縮して、放電容器31全体が、紫外線反射膜33が形成された非光出射壁35方向に向かって凸状に反ってしまうことが確認されている。図5の模式図で示すと、点線が凸状に反る前の放電容器31であり、実線が矢印方向に凸状に反った放電容器31である。
In the excimer lamp having such a structure, the ultraviolet rays generated in the
For this reason, as the lighting time elapses, the ultraviolet light distortion caused by irradiating the vacuum light to the glass constituting the lower
As a result, the glass on the light emitting direction side contracts mainly in the longitudinal direction due to the influence of the ultraviolet distortion, and the
このように、エキシマランプ(放電容器)が上方に反ってしまうと、エキシマランプの両端部と中央部とでは、被照射物である液晶ガラス基板等のワーク面とエキシマランプ間の距離がランプの長手方向で異なってくる。ワーク面とエキシマランプ間の距離が異なると、光照射照度がワーク面上の部位によって相違してしまい、均一な紫外線処理ができなくなり、当然のことながら処理後のワークに不具合を生じることになる。
上記特許文献1には、このような不具合を解消するために、エキシマランプの中央部にエキシマランプが上方へ反らないように機械的に移動を制限する移動規制体を設ける構造が提案されている。
In this way, when the excimer lamp (discharge vessel) is warped upward, the distance between the work surface of the excimer lamp such as the liquid crystal glass substrate and the excimer lamp is the distance between the excimer lamp and the center portion. Different in the longitudinal direction. If the distance between the work surface and the excimer lamp is different, the light irradiation illuminance will differ depending on the part on the work surface, and uniform ultraviolet treatment will not be possible, naturally resulting in defects in the work after processing. .
In order to solve such problems, Patent Document 1 proposes a structure in which a movement restricting body that mechanically restricts movement is provided so that the excimer lamp does not warp upward at the center of the excimer lamp. Yes.
図6にその概要が示されていて、エキシマ光照射装置1において、筺体2にはエキシマランプ3がランプホルダー4によって支持されていて、そのエキシマランプ3の放電容器31の上面側の中央部に当接するように移動規制体20が設けられている。該移動規制体20の先端には、エキシマランプの長手方向において回転可能な回転コロ21が設けられている。
もちろんこの例では、図4に示すように、エキシマランプ3の放電容器31の上方内面に紫外線反射膜が形成されており、紫外線は、ランプの下方に置かれた被照射物Wに照射されるものである。
そして、この従来技術では、上記移動規制体20によって、エキシマランプ3の放電容器31が紫外線歪みによって、図6の上方に反ることを規制しようとするものである。
The outline is shown in FIG. 6. In the excimer light irradiation apparatus 1, an
Of course, in this example, as shown in FIG. 4, an ultraviolet reflecting film is formed on the upper inner surface of the
In this prior art, the movement restricting body 20 is intended to restrict the
しかしながら、図6に示す従来のエキシマ光照射装置では、移動規制体20の先端の回転コロ21が一つであるために、点灯時間の経過による紫外線歪みの蓄積によってエキシマランプ3の上方への反り量が大きくなった場合に、該回転コロ21の規制による応力がエキシマランプ3の放電容器31の中央部分の1箇所に集中してしまうことになり、この応力集中箇所で放電容器が破損してしまうという問題が生じてきた。
However, in the conventional excimer light irradiation apparatus shown in FIG. 6, since there is only one rotating roller 21 at the tip of the movement restricting body 20, warping upward of the
この発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて、放電容器の非光出射側の内面に紫外線反射膜を備えたエキシマランプと、この紫外線反射膜側の表面に当接して、前記放電容器の紫外線反射膜側への反りを制限する回転コロを備えた移動規制体と、からなるエキシマ光照射装置において、紫外線歪みの蓄積によって紫外線反射膜側に反ろうとする放電容器の移動を規制する際に、応力集中させることなく、放電容器の破損を防止できる構造を提供することである。 In view of the above-mentioned problems of the prior art, the present invention provides an excimer lamp having an ultraviolet reflection film on the inner surface of the discharge vessel on the non-light emitting side, and a surface of the discharge vessel in contact with the excimer lamp. In an excimer light irradiation device comprising a movement restrictor provided with a rotating roller that restricts the warping toward the ultraviolet reflecting film side, when restricting the movement of the discharge vessel that tends to warp toward the ultraviolet reflecting film side due to the accumulation of ultraviolet distortion An object of the present invention is to provide a structure capable of preventing the discharge vessel from being damaged without stress concentration.
上記課題を解決するために、この発明では、前記移動規制体が、先端に回転コロを保持する2又状の脚部を備え、当該脚部の中間部で前記回転コロの回転方向に揺動可能に支持されていることを特徴とする。
また、前記脚部は絶縁性支持部材によって筺体に支持されていることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, in the present invention, the movement restricting body includes a bifurcated leg portion that holds a rotating roller at the tip, and swings in the rotation direction of the rotating roller at an intermediate portion of the leg portion. It is supported as possible.
Further, the leg portion is supported on the housing by an insulating support member.
本発明によれば、エキシマランプの放電容器に当接する移動規制体が2又状の脚部を備え、その先端の回転コロが放電容器に2箇所で当接するので、放電容器の反りを規制する際に応力集中が生じることがなく、放電容器の破損を防止できるという効果を奏するものである。
また、2又状の脚部が揺動自在に支持されているので、放電容器が反り始めてくるときに、その反りに合わせてどちらか一方の回転コロが当接し、その後、他方の回転コロも当接していくので、2つの回転コロが均等に放電容器に当接することになり、放電容器の反りを均等な力で規制し、応力が不均一にかかることもない。
According to the present invention, the movement restricting body that comes into contact with the discharge vessel of the excimer lamp includes the bifurcated leg portion, and the rotating roller at the tip thereof makes contact with the discharge vessel at two places, so that the warping of the discharge vessel is restricted. In this case, stress concentration does not occur, and the discharge vessel can be prevented from being damaged.
In addition, since the bifurcated leg portion is supported so as to be swingable, when the discharge vessel starts to warp, one of the rotating rollers comes into contact with the warping, and then the other rotating roller also Since the two rotating rollers are in contact with the discharge vessel evenly, the warpage of the discharge vessel is regulated with an equal force, and the stress is not unevenly applied.
図1に示すように、本発明のエキシマ光照射装置1では、筺体2に、ランプホルダー4によって長尺のエキシマランプ3が水平状態に支持されている。その下方には被照射物Wが配置されていて、エキシマランプ3から真空紫外線が照射される。前記エキシマランプ3の放電容器31の上下面には電極32が設けられており、また、放電容器31の上方壁、即ち、非光出射側の壁の内面には、図4に示されるような紫外線反射膜が形成されている。
そして、エキシマランプ3の放電容器31の長手方向の略中央部に位置して移動規制体5が設けられている。
図2に示すように、この移動規制体5は、絶縁性材料からなる支持部6と、2又状の脚部7(7a、7b)とからなり、該脚部7は、その中間部が回転軸8によって前記支持部6に揺動自在に支持されている。この支持部6は、図1に示すように、筺体2に支持されていて、揺動自在の脚部7の先端の回転コロ9(9a、9b)が放電容器31の上面にほぼ当接している。
As shown in FIG. 1, in the excimer light irradiation device 1 of the present invention, a
And the movement control body 5 is provided in the approximate center of the longitudinal direction of the
As shown in FIG. 2, the movement restricting body 5 includes a
ここで、ほぼ当接しているとは、ランプの使用初期にあって紫外線歪みがまだ蓄積されていない状態、即ち上方への反りがない状態にあっては、エキシマランプ3の放電容器31の上面に若干程度(例えば、1mm程度)の間隙を有する状態で配置されることである。なお、その間隙は、エキシマランプ3の長さ、被照射物Wとの距離などによって適宜に選択される。
また、脚部7の先端の回転コロ9は、エキシマランプ3の放電容器31の長手方向において回転可能に取り付けられている。
Here, “substantially abut” means that the upper surface of the
The rotating
図3に基づいて、エキシマランプ3の点灯時間の経過に伴う紫外線歪みの蓄積による放電容器31の反りに対する移動規制体5の挙動を説明する。
図3(A)には、ランプの使用初期における放電容器31と移動規制体5との関係が示されている。上記したように、使用初期にあっては放電容器31には紫外線歪みによる反りがほとんどなく、移動規制体5の2又状の脚部7a、7bの先端の回転コロ9a、9bは放電容器31の上面に対して若干だけ離間した状態で配置されている。
Based on FIG. 3, the behavior of the movement restricting body 5 with respect to the warp of the
FIG. 3A shows the relationship between the
点灯時間の経過にともない放電容器31に紫外線歪みが蓄積されてきて、上方への反りが出てくると、図3(B)に示すように、移動規制体5の2又状脚部7のいずれかの脚部、この例では、左方の脚部7aの回転コロ9aが放電容器31の上面に当接する。
更に放電容器31の反り量が大きくなると、図3(C)に示すように、脚部7が回転軸8まわりに揺動して、2又状の脚部7a、7bの両者が放電容器31に当接する。この状態で、放電容器31のそれ以上の上方への反りを規制する。
こうして、放電容器31には回転コロ9a、9bが2箇所で当接して応力集中を回避している。
When ultraviolet distortion accumulates in the
When the warp amount of the
Thus, the
なお、エキシマ光照射装置1における筺体2は、通常、アルミニウムなどの金属部材により形成され、また、2又状の脚部7も金属部材で形成されることから、該脚部7を支持する支持部6は絶縁性材料から構成されることが好ましい。
エキシマランプ3では、被照射物Wとの関係から、通常は放電容器31の上面側に高圧電極を配置することが行われており、この高圧電極から移動規制体5を経て筺体2に短絡してしまうことを防ぐためである。
また、エキシマランプ3の放電容器31は、扁平矩形形状のものを示したが、内側管と外側管からなる二重円筒型放電容器であってもよい。
The casing 2 in the excimer light irradiation apparatus 1 is usually formed of a metal member such as aluminum, and the
In the
Moreover, although the
以上説明したように、本発明のエキシマ光照射装置では、エキシマランプの放電容器のほぼ中央部に当接して紫外線歪みによる放電容器の反りを規制するに際して、前記移動規制体が、先端に回転コロを保持する2又状の脚部を備え、当該脚部の中間部で前記回転コロの回転方向に揺動可能に支持されているようにしたことにより、放電容器の反りを2箇所で規制することにより、放電容器の反りを2箇所で規制することができ、放電容器の中央部分の1箇所にのみ応力集中を起こさせるものではなく、放電容器の破損を防止できる。
また、2又状の脚部を揺動自在としたことにより、両方の脚部の回転コロが同時に放電容器に当接するので、局所的に当接することによる応力集中も発生しない。
As described above, in the excimer light irradiation device according to the present invention, when the warpage of the discharge vessel due to ultraviolet distortion is restricted by contacting substantially the center portion of the discharge vessel of the excimer lamp, the movement restricting body has a rotating roller at the tip. 2 is provided, and the warp of the discharge vessel is regulated at two locations by being supported so as to be swingable in the rotation direction of the rotating roller at the intermediate portion of the leg portion. Thus, warping of the discharge vessel can be regulated at two locations, and stress concentration is not caused only at one central portion of the discharge vessel, and breakage of the discharge vessel can be prevented.
Further, since the bifurcated leg portions are swingable, the rotating rollers of both leg portions are simultaneously brought into contact with the discharge vessel, so that stress concentration due to local contact does not occur.
1 エキシマランプ光照射装置
2 筺体
3 エキシマランプ
31 放電容器
32 電極
33 紫外線反射膜
4 ランプホルダー
5 移動規制体
6 支持部
7 脚部
8 回転軸
9 回転コロ
W 被照射物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Excimer lamp light irradiation apparatus 2
Claims (2)
該筐体内に保持され、放電容器の外面に電極が配設され、当該放電容器の非光出射側の内面に紫外線反射膜を備えたエキシマランプと、
前記放電容器の紫外線反射膜側の表面に当接して、前記放電容器の紫外線反射膜側への反りを制限する、前記放電容器の長手方向において回転可能な回転コロを備えた移動規制体と、
からなるエキシマ光照射装置において、
前記移動規制体は、先端に回転コロを保持する2又状の脚部を備え、当該脚部の中間部で前記回転コロの回転方向に揺動可能に支持されている
ことを特徴とするエキシマ光照射装置。 A housing,
An excimer lamp, which is held in the housing, has electrodes disposed on the outer surface of the discharge vessel, and has an ultraviolet reflecting film on the inner surface of the discharge vessel on the non-light emitting side;
A movement restricting body provided with a rotating roller rotatable in the longitudinal direction of the discharge vessel, which is in contact with the surface of the discharge vessel on the side of the ultraviolet reflection film and limits the warpage of the discharge vessel toward the ultraviolet ray reflection film,
In the excimer light irradiation apparatus consisting of
The movement restricting body includes a bifurcated leg portion that holds a rotating roller at the tip, and is supported by an intermediate portion of the leg portion so as to be swingable in the rotating direction of the rotating roller. Light irradiation device.
The excimer light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the leg portion is supported by the housing by an insulating support member.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012056637A JP5861987B2 (en) | 2012-03-14 | 2012-03-14 | Excimer light irradiation equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012056637A JP5861987B2 (en) | 2012-03-14 | 2012-03-14 | Excimer light irradiation equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013191398A true JP2013191398A (en) | 2013-09-26 |
JP5861987B2 JP5861987B2 (en) | 2016-02-16 |
Family
ID=49391446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012056637A Expired - Fee Related JP5861987B2 (en) | 2012-03-14 | 2012-03-14 | Excimer light irradiation equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5861987B2 (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02118099U (en) * | 1989-03-08 | 1990-09-21 | ||
JP2010080351A (en) * | 2008-09-27 | 2010-04-08 | Ushio Inc | Excimer lamp apparatus |
-
2012
- 2012-03-14 JP JP2012056637A patent/JP5861987B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02118099U (en) * | 1989-03-08 | 1990-09-21 | ||
JP2010080351A (en) * | 2008-09-27 | 2010-04-08 | Ushio Inc | Excimer lamp apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5861987B2 (en) | 2016-02-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6119035B2 (en) | Exposure equipment | |
TW201207515A (en) | Polarized light irradiation device | |
TWI553355B (en) | Polarization light irradiation apparatus for light alignment | |
JP5233551B2 (en) | Excimer lamp device | |
JP5861987B2 (en) | Excimer light irradiation equipment | |
JP2008224478A (en) | Light quantity monitor and light source apparatus using the same | |
TWI606287B (en) | Ultraviolet illumination device | |
JP2010251122A (en) | Backlight, and liquid crystal display device | |
JP5601546B2 (en) | Excimer light irradiation equipment | |
JP2005108635A (en) | Plane light-emitting device and liquid crystal display | |
JP2004103458A (en) | Ultraviolet irradiating device | |
TWI483286B (en) | Excimer lamp and excimer light irradiation device | |
JP2016004711A (en) | Excimer light irradiation device | |
JP6086227B2 (en) | Excimer light irradiation equipment | |
JP2008071680A (en) | Ultraviolet radiation device | |
JP2011203669A (en) | Polarizing exposure apparatus | |
JP5616006B2 (en) | Heat treatment equipment | |
WO2017158925A1 (en) | Mask holding mechanism and patterning device provided with same | |
JP2007163770A (en) | Alignment method and system | |
JP7459673B2 (en) | UV irradiation device | |
JP5440342B2 (en) | Light irradiator | |
JP5708857B2 (en) | UV lamp and UV irradiation device | |
JP5597951B2 (en) | UV irradiation equipment | |
KR102014933B1 (en) | Reflector for cleaning light | |
KR101316904B1 (en) | Supporting apparatus for substrate and Substrate inspection apparatus using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150626 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151213 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5861987 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |