JP2013182629A - Test system and semiconductor device therefor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a test system capable of reducing a test time, and a semiconductor device therefor.SOLUTION: A first pad 41 receives first and second test commands CMD1 and CMD2 supplied from a test device 100. A second pad 42 receives first and second monitor voltages VMONx supplied from the test device. A voltage generation circuit 13 generates a voltage to be tested based on the first and second test commands supplied from the first pad. A comparator 61 compares the voltage to be tested from the voltage generation circuit with the first monitor voltage from the second pad and outputs a first status signal, and compares the voltage to be tested from the voltage generation circuit with the second monitor voltage from the second pad and outputs a second status signal.

Description

本発明の実施形態は、半導体装置のテストシステムとテスト回路を内蔵した半導体装置に関する。   FIELD Embodiments described herein relate generally to a semiconductor device test system and a semiconductor device incorporating a test circuit.

例えばNANDフラッシュメモリは、データの書き込み、読み出しなどを行うために、多様な内部電圧が用いられている。このNANDフラッシュメモリの製造においては、ウェハテスタにより、ウェハ上のNANDフラッシュメモリの内部電圧で発生された電圧が規定値の範囲内であるかどうかをテスタ内においてモニタしている。   For example, a NAND flash memory uses various internal voltages for writing and reading data. In the manufacture of the NAND flash memory, the wafer tester monitors whether or not the voltage generated by the internal voltage of the NAND flash memory on the wafer is within a specified value range.

しかし、ウェハ上の複数のNANDフラッシュメモリの内部電圧をモニタすることは、時間を要し、テストに長時間を要していた。   However, monitoring the internal voltages of a plurality of NAND flash memories on the wafer took time and took a long time for testing.

特開2002−318265号公報JP 2002-318265 A

本実施形態は、テスト時間を短縮することが可能なテストシステム及びその半導体装置を提供しようとするものである。   The present embodiment is intended to provide a test system capable of shortening the test time and a semiconductor device thereof.

実施形態の半導体装置は、テスト装置から供給される第1、第2のテストコマンドを受ける第1のパッドと、前記テスト装置から供給される第1、第2のモニタ電圧を受ける第2のパッドと、前記第1のパッドに供給された前記第1、第2のテストコマンドに基づき、テストすべき電圧を発生する電圧発生回路と、前記電圧発生回路から供給される前記テストすべき電圧と、前記第2のパッドから供給される前記第1のモニタ電圧とを比較して第1又は第2の論理レベルの一方の出力信号を前記第1のステータス信号として出力し、前記第2の電圧発生回路から供給される前記テストすべき電圧と、前記第2のパッドから供給される前記第2のモニタ電圧とを比較して第1、第2の論理レベルの一方の出力信号を前記第2のステータス信号として出力する比較器と、を具備することを特徴とする。   The semiconductor device according to the embodiment includes a first pad that receives first and second test commands supplied from a test apparatus, and a second pad that receives first and second monitor voltages supplied from the test apparatus. A voltage generation circuit for generating a voltage to be tested based on the first and second test commands supplied to the first pad, and a voltage to be tested supplied from the voltage generation circuit; The first monitor voltage supplied from the second pad is compared to output one output signal of the first or second logic level as the first status signal, and the second voltage generation The voltage to be tested supplied from the circuit is compared with the second monitor voltage supplied from the second pad, and one of the output signals of the first and second logic levels is compared with the second output voltage. Status signal and A comparator for outputting Te characterized by including the.

本実施形態に係る半導体装置の一例を示す構成図。1 is a configuration diagram showing an example of a semiconductor device according to an embodiment. 本実施形態に係るテスト動作を説明するために示すフローチャート。The flowchart shown in order to demonstrate the test operation | movement which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るテスト工程を示す構成図。The block diagram which shows the test process which concerns on this embodiment.

以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.

図1は、実施形態に係る半導体装置の一例を示すものであり、本実施形態をNANDフラッシュメモリに適用した場合を示している。   FIG. 1 shows an example of a semiconductor device according to the embodiment, and shows a case where the present embodiment is applied to a NAND flash memory.

図1において、半導体装置1は、NANDフラッシュメモリ2、コントローラ3、ECC(Error Checking and Correcting)部4、インターフェース部5、及びテスト回路部6を備えている。   In FIG. 1, the semiconductor device 1 includes a NAND flash memory 2, a controller 3, an ECC (Error Checking and Correcting) unit 4, an interface unit 5, and a test circuit unit 6.

<NANDフラッシュメモリ2>
NANDフラッシュメモリ2は、メモリセルアレイ10、ロウデコーダ(RDC)11、ページバッファ12、電圧発生回路13、NANDシーケンサ14、オシレータ(OSC)15,16、データ転送部17、及びトリミング回路18を備えている。
<NAND flash memory 2>
The NAND flash memory 2 includes a memory cell array 10, a row decoder (RDC) 11, a page buffer 12, a voltage generation circuit 13, a NAND sequencer 14, oscillators (OSC) 15 and 16, a data transfer unit 17, and a trimming circuit 18. Yes.

メモリセルアレイ10は、図示せぬ複数のメモリセルにより構成された複数のNANDストリングを含んでいる。これらNANDストリングを構成するメモリセルは、図示せぬ複数のワード線、選択ゲート線、及びビット線を用いて選択可能とされている。   The memory cell array 10 includes a plurality of NAND strings constituted by a plurality of memory cells (not shown). The memory cells constituting these NAND strings can be selected using a plurality of word lines, selection gate lines, and bit lines (not shown).

ロウデコーダ11は、データの書き込み、読み出し、及び消去の際に、図示せぬワード線及び選択ゲート線を選択し、所定の電圧をワード線及び選択ゲート線に印加する。   The row decoder 11 selects a word line and a selection gate line (not shown) when writing, reading, and erasing data, and applies a predetermined voltage to the word line and the selection gate line.

ページバッファ12は、メモリセルアレイ10の1ページと同じ大きさのデータを保持できるように構成されている。すなわち、ページバッファ12は、読み出し時、メモリセルアレイ10から読み出された1ページ分のデータを一時的に格納し、書き込み時、メモリセルアレイ10に書き込むべき1ページ分のデータを一時的に格納する。また、ページバッファ12は、ページデータのうちアドレスで指定された例えば64ビットのデータをデータ転送部17へ送り、64ビットのデータをデータ転送部17から受けるように構成されている。さらに、ページバッファ12は、書き込みデータをメモリセルアレイ10に書き込み、かつメモリセルアレイ10からデータを読み出す図示せぬセンスアンプを含んでいる。   The page buffer 12 is configured to hold data having the same size as one page of the memory cell array 10. That is, the page buffer 12 temporarily stores data for one page read from the memory cell array 10 at the time of reading, and temporarily stores data for one page to be written to the memory cell array 10 at the time of writing. . The page buffer 12 is configured to send, for example, 64-bit data designated by an address of the page data to the data transfer unit 17 and receive 64-bit data from the data transfer unit 17. Further, the page buffer 12 includes a sense amplifier (not shown) that writes write data to the memory cell array 10 and reads data from the memory cell array 10.

電圧発生回路13は、データの書き込み、読み出し、及び消去に必要な電圧(VREF、VPASS、VREAD、VPGM、VERAなど)を発生し、この電圧をロウデコーダ11などに供給する。   The voltage generation circuit 13 generates voltages (VREF, VPASS, VREAD, VPGM, VERA, etc.) necessary for data writing, reading, and erasing, and supplies the voltages to the row decoder 11 and the like.

NANDシーケンサ14は、NANDフラッシュメモリ2全体の動作を司る。すなわち、NANDシーケンサ14は、コントローラ3から各種の命令を受けると、これに応答して、データの書き込み、読み出し、及び消去などのシーケンスを実行する。さらに、NANDシーケンサ14は、各種シーケンスに従って、電圧発生回路13やページバッファ12の動作を制御する。   The NAND sequencer 14 controls the operation of the entire NAND flash memory 2. That is, when receiving various commands from the controller 3, the NAND sequencer 14 executes sequences such as data writing, reading, and erasing in response to the commands. Furthermore, the NAND sequencer 14 controls operations of the voltage generation circuit 13 and the page buffer 12 according to various sequences.

オシレータ15は、内部クロックICLKを生成し、この内部クロックICLKをNANDシーケンサ14に供給する。NANDシーケンサ14は、この内部クロックICLKに同期して動作する。また、NANDシーケンサ14は、内部クロックICLKから幾つかのクロック信号を生成し、このクロックをデータ転送部17に供給する。   The oscillator 15 generates an internal clock ICLK and supplies the internal clock ICLK to the NAND sequencer 14. The NAND sequencer 14 operates in synchronization with the internal clock ICLK. The NAND sequencer 14 generates several clock signals from the internal clock ICLK and supplies the clocks to the data transfer unit 17.

オシレータ16は、内部クロックACLKを生成し、この内部クロックACLKをコントローラ3へ供給する。内部クロックACLKは、コントローラ3が動作するための基準クロックである。   The oscillator 16 generates an internal clock ACLK and supplies the internal clock ACLK to the controller 3. The internal clock ACLK is a reference clock for the controller 3 to operate.

データ転送部17は、ページバッファ12とECC部4との間のデータ転送、及びページバッファ12とインターフェース部5との間のデータ転送を制御する。この制御のため、データ転送部17は、図示せぬ複数のバスと複数のラッチ回路とを備えている。   The data transfer unit 17 controls data transfer between the page buffer 12 and the ECC unit 4 and data transfer between the page buffer 12 and the interface unit 5. For this control, the data transfer unit 17 includes a plurality of buses and a plurality of latch circuits (not shown).

トリミング回路18は、電圧発生回路13により発生される電圧を制御するものであり、発生すべき電圧に対応して予め設定されたパラメータとしての複数の数値データを保持する図示せぬレジスタを有している。トリミング回路18は、アドレス/コマンド発生回路54からコマンドが供給されると、コマンドに対応する数値データを選択し、電圧発生回路13に供給する。電圧発生回路13は、供給された数値データに基づき、電圧を発生する。   The trimming circuit 18 controls the voltage generated by the voltage generation circuit 13, and has a register (not shown) that holds a plurality of numerical data as parameters set in advance corresponding to the voltage to be generated. ing. When the command is supplied from the address / command generation circuit 54, the trimming circuit 18 selects numerical data corresponding to the command and supplies it to the voltage generation circuit 13. The voltage generation circuit 13 generates a voltage based on the supplied numerical data.

<ECC部4>
ECC部4は、NANDフラッシュメモリ2からデータを読み出すとき、読み出されたデータついてエラーの検出及び訂正を行う。また、NANDフラッシュメモリ2にデータを書き込むプログラム時、プログラムすべきデータについてパリティデータを生成する。ECC部4は、ECCバッファ21及びECCエンジン22を備えている。
<ECC part 4>
When reading data from the NAND flash memory 2, the ECC unit 4 detects and corrects errors in the read data. Further, parity data is generated for data to be programmed at the time of programming to write data to the NAND flash memory 2. The ECC unit 4 includes an ECC buffer 21 and an ECC engine 22.

ECCバッファ21は、NANDデータバスによってデータ転送部17と接続されている。ECCバッファ21は、ECC処理(データ読み出し時は誤り訂正、プログラム時はパリティデータの生成)のために一時的にデータを格納する。ECCバッファ21は、例えば32ビット幅のデータバスでデータ転送部17と接続されている。   The ECC buffer 21 is connected to the data transfer unit 17 by a NAND data bus. The ECC buffer 21 temporarily stores data for ECC processing (error correction at the time of data reading and generation of parity data at the time of programming). The ECC buffer 21 is connected to the data transfer unit 17 by, for example, a 32-bit data bus.

ECCエンジン22は、ECCバッファ21に保持されたデータを用いてECC処理を行う。具体的には、ECCエンジン22は、ECCバッファ21に入力されたデータの誤り訂正し、訂正したデータを再びECCバッファ21に出力する。   The ECC engine 22 performs ECC processing using the data held in the ECC buffer 21. Specifically, the ECC engine 22 corrects the error of the data input to the ECC buffer 21 and outputs the corrected data to the ECC buffer 21 again.

すなわち、ECC部4は、データの書き込み時、インターフェース部5からページバッファ12に転送されたデータに対してパリティデータを生成する。また、データの読み出し時、メモリセルアレイ10から読み出され、ページバッファ12に転送されたデータの誤りを検出し、誤りを訂正する。   That is, the ECC unit 4 generates parity data for the data transferred from the interface unit 5 to the page buffer 12 when data is written. Further, when reading data, an error in the data read from the memory cell array 10 and transferred to the page buffer 12 is detected and the error is corrected.

<インターフェース部5>
インターフェース部5は、例えばインターフェース(I/F)31を備えている。
<Interface unit 5>
The interface unit 5 includes an interface (I / F) 31, for example.

インターフェース31は、パッド41を介して、半導体装置1外部のホスト機器や後述するテスト装置との間で、データ、制御信号、コマンド及びアドレス等の様々な信号の受け渡しを行なう。制御信号の一例は、半導体装置1全体をイネーブルにするチップイネーブル信号/CE、アドレスをラッチさせるためのアドレスバリッド信号/AVD、バースト読み出し用のクロックCLK、書き込み動作をイネーブルにするためのライトイネーブル信号/WE、及びデータの外部への出力をイネーブルにするためのアウトプットイネーブル信号/OEなどである。また、インターフェース31は、ホスト機器からの書き込み要求及び読み出し要求などに係る制御信号をコントローラ3へ送る。   The interface 31 exchanges various signals such as data, control signals, commands, and addresses with a host device outside the semiconductor device 1 and a test device described later via the pad 41. Examples of the control signals include a chip enable signal / CE that enables the entire semiconductor device 1, an address valid signal / AVD for latching an address, a clock CLK for burst reading, and a write enable signal for enabling a write operation / WE and an output enable signal / OE for enabling output of data to the outside. Further, the interface 31 sends a control signal related to a write request and a read request from the host device to the controller 3.

さらに、インターフェース31は、後述するテスト時、テスト装置からパッド41を介して供給されるコマンドを受けてコントローラ3へ送り、テスト回路6から出力されるステータス信号を、パッド41を介してテスト装置に送る。   Further, the interface 31 receives a command supplied from the test device via the pad 41 and sends it to the controller 3 at the time of a test described later, and sends a status signal output from the test circuit 6 to the test device via the pad 41. send.

<コントローラ3>
コントローラ3は、半導体装置1全体の動作を司る。コントローラ3は、レジスタ51、コマンドユーザインターフェース(CUI)52、ステートマシン53、アドレス/コマンド発生回路54、及びアドレス/タイミング発生回路(Add/Timing)55を備えている。
<Controller 3>
The controller 3 controls the operation of the entire semiconductor device 1. The controller 3 includes a register 51, a command user interface (CUI) 52, a state machine 53, an address / command generation circuit 54, and an address / timing generation circuit (Add / Timing) 55.

レジスタ51は、インターフェース31から供給される例えば読み出しコマンドや書き込みコマンド、及びテストコマンドを保持する。   The register 51 holds, for example, a read command, a write command, and a test command supplied from the interface 31.

コマンドユーザインターフェース52は、所定のコマンドがレジスタ51に保持されることで、半導体装置1に対してファンクション実行コマンドが与えられたことを認識し、内部コマンド信号をステートマシン53へ送る。   The command user interface 52 recognizes that a function execution command is given to the semiconductor device 1 by holding a predetermined command in the register 51, and sends an internal command signal to the state machine 53.

ステートマシン53は、コマンドユーザインターフェース52から供給される内部コマンド信号に基づいて、半導体装置1内のシーケンス動作を制御する。ステートマシン53がサポートするファンクションは、書き込み、読み出し、及び消去を含め多数ある。ステートマシン53は、これらのファンクションを実行するように、NANDフラッシュメモリ2の動作を制御する。   The state machine 53 controls the sequence operation in the semiconductor device 1 based on the internal command signal supplied from the command user interface 52. The state machine 53 supports many functions including writing, reading, and erasing. The state machine 53 controls the operation of the NAND flash memory 2 so as to execute these functions.

アドレス/コマンド発生回路54は、ステートマシン53の制御に基づいてNANDフラッシュメモリ2の動作を制御する。具体的には、アドレス/コマンド発生回路63は、オシレータ16から供給される内部クロックACLKと同期して、NANDフラッシュメモリ2の動作を制御するアドレスやコマンド(Write/Read/Load)等を生成し、これらをNANDシーケンサ14へ送る。   The address / command generation circuit 54 controls the operation of the NAND flash memory 2 based on the control of the state machine 53. Specifically, the address / command generation circuit 63 generates an address, a command (Write / Read / Load) and the like for controlling the operation of the NAND flash memory 2 in synchronization with the internal clock ACLK supplied from the oscillator 16. These are sent to the NAND sequencer 14.

さらに、アドレス/コマンド発生回路63は、電圧発生回路13により電圧を発生させるとき、コマンドCMD_UVMON、CMD_OVMONを発生し、トリミング回路18及びデータ反転回路62に供給する。トリミング回路18は、コマンドCMD_OVMONが、信号“0”であるとき、電圧発生回路13により発生される電圧を上昇させ、コマンドCMD_UVMONが、信号“0”であるとき、電圧発生回路13により発生される電圧を低下させる。   Further, the address / command generation circuit 63 generates commands CMD_UVMON and CMD_OVMON and supplies them to the trimming circuit 18 and the data inversion circuit 62 when the voltage generation circuit 13 generates a voltage. The trimming circuit 18 increases the voltage generated by the voltage generation circuit 13 when the command CMD_OVMON is the signal “0”, and generates the voltage generation circuit 13 when the command CMD_UVMON is the signal “0”. Reduce voltage.

また、後述する電圧発生回路13のテスト時において、コマンドCMD_UVMON、及びコマンドCMD_OVMONは、共に“1”に設定される。このため、トリミング回路18の動作が停止され、電圧発生回路13は、トリミングせずに、テスト時のコマンドにより選択された電圧を発生する。   In the test of the voltage generation circuit 13 described later, both the command CMD_UVMON and the command CMD_OVMON are set to “1”. For this reason, the operation of the trimming circuit 18 is stopped, and the voltage generation circuit 13 generates the voltage selected by the command at the time of the test without trimming.

アドレス/タイミング発生回路55は、ステートマシン53の制御に基づいてECCエンジン22の動作を制御する。具体的には、ECCエンジン22において必要なアドレスやコマンドを発行し、これらをECCエンジン22へ供給する。   The address / timing generation circuit 55 controls the operation of the ECC engine 22 based on the control of the state machine 53. Specifically, the ECC engine 22 issues necessary addresses and commands and supplies them to the ECC engine 22.

<テスト回路6>
テスト回路6は、半導体装置の製造工程において、電圧発生回路13により発生された電圧が規定の範囲内であるかどうかをテストし、テスト結果を出力する。テスト時、半導体装置1が形成されたウェハは、テスト装置100に装着され、テスト装置100の図示せぬプローブが半導体装置1のパッド41、42に接触される。この状態において、テスト装置100からテスト内容を示すコマンドがパッド41に供給され、パッド42にコマンドに対応した基準電圧が供給される。
<Test circuit 6>
The test circuit 6 tests whether or not the voltage generated by the voltage generation circuit 13 is within a specified range in the manufacturing process of the semiconductor device, and outputs a test result. During the test, the wafer on which the semiconductor device 1 is formed is mounted on the test device 100, and a probe (not shown) of the test device 100 is brought into contact with the pads 41 and 42 of the semiconductor device 1. In this state, a command indicating the test content is supplied from the test apparatus 100 to the pad 41, and a reference voltage corresponding to the command is supplied to the pad 42.

テスト回路6は、後述するように、コマンドに従って電圧発生回路13により発生されたテストすべき電圧とテスト装置100から供給されたモニタ電圧とを比較し、比較結果をステータス信号としてテスト装置100に出力する。   As will be described later, the test circuit 6 compares the voltage to be tested generated by the voltage generation circuit 13 according to the command with the monitor voltage supplied from the test apparatus 100, and outputs the comparison result to the test apparatus 100 as a status signal. To do.

具体的には、テスト回路6は、比較器61、データ反転回路62、ステータス保持回路63により構成されている。   Specifically, the test circuit 6 includes a comparator 61, a data inversion circuit 62, and a status holding circuit 63.

比較器61は、テストパッド42に供給された基準電圧としてのモニタ電圧VMONxと電圧発生回路13により発生されたテストすべき電圧(例えばVREF)とを比較する。このモニタ電圧VMONxは、電圧発生回路13により発生されるテストすべき電圧に応じて、テスト装置100にて変更される。   The comparator 61 compares the monitor voltage VMONx as the reference voltage supplied to the test pad 42 with the voltage to be tested (for example, VREF) generated by the voltage generation circuit 13. The monitor voltage VMONx is changed by the test apparatus 100 according to the voltage to be tested generated by the voltage generation circuit 13.

さらに、モニタ電圧VMONxは、電圧発生回路13によりコマンドに応じて発生される電圧の上限値と下限値の2つの電圧により構成される。電圧発生回路13により発生される電圧(例えばVREF)が、例えば12Vである場合、上限値のモニタ電圧VMONxは、例えば13Vに設定され、下限値のモニタ電圧VMONxは、例えば11Vに設定される。   Further, the monitor voltage VMONx is composed of two voltages, that is, an upper limit value and a lower limit value of the voltage generated by the voltage generation circuit 13 in response to the command. When the voltage (for example, VREF) generated by the voltage generation circuit 13 is, for example, 12V, the upper limit monitor voltage VMONx is set to, for example, 13V, and the lower limit monitor voltage VMONx is set to, for example, 11V.

比較器61は、例えば先ず、下限値のモニタ電圧VMONxと電圧発生回路13により発生される電圧VREFとを比較し、次いで、上限値のモニタ電圧VMONxと電圧発生回路13により発生される電圧VREFとを比較する。すなわち、比較器61は、電圧発生回路13により発生される電圧VREFが下限値のモニタ電圧VMONx(11V)より大きい場合、出力信号FLTRIMLとしてローレベル(“0”)を出力し、電圧発生回路13により発生される電圧VREFが上限値のモニタ電圧VMONx(13V)より小さい場合、出力信号FLTRIMLとしてハイレベル(“1”)を出力する。   For example, the comparator 61 first compares the lower limit monitor voltage VMONx with the voltage VREF generated by the voltage generation circuit 13, and then compares the upper limit monitor voltage VMONx with the voltage VREF generated by the voltage generation circuit 13. Compare That is, the comparator 61 outputs a low level (“0”) as the output signal FLTRIML when the voltage VREF generated by the voltage generation circuit 13 is larger than the lower limit monitor voltage VMONx (11 V). When the voltage VREF generated by the above is smaller than the upper limit monitor voltage VMONx (13 V), a high level (“1”) is output as the output signal FLTRIML.

VMONx(11V)<VREF =“0”
VMONx(13V)>VREF =“1”
比較器61の出力信号FLTRIMLは、トリミング回路18とデータ反転回路62に供給される。トリミング回路18は、テスト時、後述するように、アドレス/コマンド発生回路54から供給される内部コマンドCMD_UVMONがハイレベルのとき、及びCMD_OVMONがハイレベルのとき停止される。
VMONx (11V) <VREF = “0”
VMONx (13V)> VREF = “1”
The output signal FLTRIML of the comparator 61 is supplied to the trimming circuit 18 and the data inverting circuit 62. As will be described later, the trimming circuit 18 is stopped when the internal command CMD_UVMON supplied from the address / command generation circuit 54 is at a high level and when CMD_OVMON is at a high level.

内部コマンドCMD_UVMONは、上限値のモニタ電圧VMONxと電圧発生回路13により発生される電圧VREFとを比較する場合のコマンドであり、内部コマンドCMD_OVMONは、下限値のモニタ電圧VMONxと電圧発生回路13により発生される電圧VREFとを比較する場合のコマンドである。   The internal command CMD_UVMON is a command for comparing the upper limit monitor voltage VMONx with the voltage VREF generated by the voltage generation circuit 13. The internal command CMD_OVMON is generated by the lower limit monitor voltage VMONx and the voltage generation circuit 13. This is a command for comparing the applied voltage VREF.

また、データ反転回路62は、内部コマンドCMD_UVMONがハイレベルのとき、比較器61の出力信号FLTRIMLをそのまま出力し、内部コマンドCMD_OVMONがハイレベルのとき、比較器61の出力信号FLTRIMLを反転して出力する。すなわち、比較器61において、下限値のモニタ電圧VMONxと電圧発生回路13により発生される電圧VREFとが比較され、VMONx(11V)<VREFであり、比較器61の出力信号FLTRIMLが信号“0”のとき、この信号“0”が反転され、信号“1”として出力される。データ反転回路62の出力信号は、ステータス保持回路63に一旦保持され、インターフェース31、パッド41を介してテスト装置に供給される。   The data inverting circuit 62 outputs the output signal FLTRIML of the comparator 61 as it is when the internal command CMD_UVMON is at a high level, and inverts and outputs the output signal FLTRIML of the comparator 61 when the internal command CMD_OVMON is at a high level. To do. That is, the comparator 61 compares the lower limit monitor voltage VMONx with the voltage VREF generated by the voltage generation circuit 13, VMONx (11V) <VREF, and the output signal FLTRIML of the comparator 61 is the signal “0”. At this time, this signal “0” is inverted and output as a signal “1”. The output signal of the data inverting circuit 62 is temporarily held in the status holding circuit 63 and supplied to the test apparatus via the interface 31 and the pad 41.

(テスト動作)
図2は、テスト装置100の動作を示している。図2を参照して、図1に示すテスト回路6の動作について説明する。
(Test operation)
FIG. 2 shows the operation of the test apparatus 100. The operation of the test circuit 6 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG.

前述したように、半導体装置の製造工程において、半導体装置の電圧発生回路13により発生される電圧をテストする時、半導体装置が形成されたウェハは、テスト装置100に装着され、テスト装置100の図示せぬプローブが半導体装置1のパッド41、42に接触される。   As described above, when testing the voltage generated by the voltage generation circuit 13 of the semiconductor device in the manufacturing process of the semiconductor device, the wafer on which the semiconductor device is formed is mounted on the test apparatus 100 and the test apparatus 100 is shown in FIG. A probe (not shown) is brought into contact with the pads 41 and 42 of the semiconductor device 1.

この状態において、テスト装置100により、テストすべき電圧が選択される(S11)。この電圧は、前述したように、電圧VERF、VPASS、VREADなどである。ここで、VERFは基準電圧であり、VPASSはNANDフラッシュメモリの書き込み時に非選択のメモリセルをオンとさせる電圧であり、VREADは、読み出し時に非選択のメモリセルをオンとさせる電圧である。ここでは、基準電圧VREFが選択されたものと仮定する。   In this state, the test apparatus 100 selects a voltage to be tested (S11). This voltage is the voltage VERF, VPASS, VREAD, etc., as described above. Here, VERF is a reference voltage, VPASS is a voltage for turning on a non-selected memory cell when writing to the NAND flash memory, and VREAD is a voltage for turning on a non-selected memory cell during reading. Here, it is assumed that the reference voltage VREF is selected.

次に、テスト装置100は、選択された電圧VREFの下限値をテストするためのコマンドCMD1を発行する(S12)。ここで、コマンドCMD1は、テスト動作を実行するコマンドであり、テストをする対象の電圧を示す部分と、上限値のテスト又は下限値のテストであることを示す部分を含む。   Next, the test apparatus 100 issues a command CMD1 for testing the lower limit value of the selected voltage VREF (S12). Here, the command CMD1 is a command for executing a test operation, and includes a portion indicating a voltage to be tested and a portion indicating an upper limit test or a lower limit test.

このコマンドCMD1は、図1における半導体装置1のパッド41、インターフェース31、レジスタ51、CUI52、ステートマシン53、アドレス/コマンド発生回路54に供給される。アドレス/コマンド発生回路54は、コマンドCMD1に基づき、内部コマンドCMD_OVMON(“1”)を発生する。この内部コマンドCMD_OVMONは、トリミング回路18に供給される。トリミング回路18は、内部コマンドCMD_OVMONが“1”であるとき、トリミング動作を行わない。このため、電圧発生回路13は、信号Param_INに基づき予め設定されたパラメータに従って、11Vの電圧VREFを発生する。この発生された電圧VREFは、比較器61の一方入力端に供給される。   The command CMD1 is supplied to the pad 41, the interface 31, the register 51, the CUI 52, the state machine 53, and the address / command generation circuit 54 of the semiconductor device 1 in FIG. The address / command generation circuit 54 generates an internal command CMD_OVMON (“1”) based on the command CMD1. This internal command CMD_OVMON is supplied to the trimming circuit 18. The trimming circuit 18 does not perform the trimming operation when the internal command CMD_OVMON is “1”. Therefore, the voltage generation circuit 13 generates a voltage VREF of 11V according to a parameter set in advance based on the signal Param_IN. The generated voltage VREF is supplied to one input terminal of the comparator 61.

次に、テスト装置100は、テストすべき電圧のモニタ電圧VMONxの下限値を発生し、半導体装置1のパッド42に供給する(S13)。すなわち、この例の場合、テスト装置100は、モニタ電圧VMONxの下限値としてVREF(12V)の下限値(11V)をパッド42に供給する。このモニタ電圧VMONxの下限値は、パッド42から比較器61の他方入力端に供給される。   Next, the test apparatus 100 generates a lower limit value of the monitor voltage VMONx of the voltage to be tested and supplies it to the pad 42 of the semiconductor device 1 (S13). That is, in this example, the test apparatus 100 supplies the pad 42 with the lower limit value (11V) of VREF (12V) as the lower limit value of the monitor voltage VMONx. The lower limit value of the monitor voltage VMONx is supplied from the pad 42 to the other input terminal of the comparator 61.

比較器61は、モニタ電圧VMONxの下限値と電圧発生回路13により発生された電圧VREFを比較する。この結果、VMONx(11V)<VREF(12V)の関係を満たす場合、比較器61は出力信号FLGTRIMLとして信号“0”を出力する。この信号FLGTRIMLは、データ反転回路62に供給される。データ反転回路62は、内部コマンドCMD_OVMONが“1”であるとき、入力されたデータを反転して出力する。このため、信号FLGTRIML=“0”は反転され、データ反転回路62は、テスト結果がパスであることを示すステータス信号A=“1”を出力する。この信号A=“1”は、ステータス保持回路63に一旦保持される。   The comparator 61 compares the lower limit value of the monitor voltage VMONx with the voltage VREF generated by the voltage generation circuit 13. As a result, when the relationship of VMONx (11V) <VREF (12V) is satisfied, the comparator 61 outputs the signal “0” as the output signal FLGTRIML. This signal FLGTRIML is supplied to the data inversion circuit 62. When the internal command CMD_OVMON is “1”, the data inversion circuit 62 inverts the input data and outputs it. For this reason, the signal FLGTRIML = "0" is inverted, and the data inverting circuit 62 outputs a status signal A = "1" indicating that the test result is a pass. This signal A = “1” is temporarily held in the status holding circuit 63.

一方、比較の結果、VMONx(11V)<VREF(12V)の関係を満たさない場合、比較器61は出力信号FLGTRIMLとして信号“1”を出力する。この信号FLGTRIMLは、データ反転回路62により反転されて出力される。このため、信号FLGTRIML=“1”は反転され、データ反転回路62は、テスト結果がフェイルであることを示すステータス信号A=“0”を出力する。この信号A=“0”は、ステータス保持回路63に一旦保持される。   On the other hand, if the comparison does not satisfy the relationship of VMONx (11V) <VREF (12V), the comparator 61 outputs a signal “1” as the output signal FLGTRIML. This signal FLGTRIML is inverted by the data inversion circuit 62 and output. For this reason, the signal FLGTRIML = "1" is inverted, and the data inverting circuit 62 outputs a status signal A = "0" indicating that the test result is "fail". This signal A = “0” is temporarily held in the status holding circuit 63.

ステータス保持回路63に保持されたパス又はフェイルを示すステータス信号Aは、テスト装置100からステータスリードコマンドが発行された場合読み出され、インターフェース31、パッド41を介してテスト装置100に供給される。   A status signal A indicating a pass or a failure held in the status holding circuit 63 is read when a status read command is issued from the test apparatus 100 and is supplied to the test apparatus 100 via the interface 31 and the pad 41.

テスト装置100は、ステータス信号Aがパスかどうかを判別する(S14)。この結果、ステータス信号Aがフェイルを示す場合、その半導体装置1はリジェクトされ、テスト動作が終了される(S19)。   The test apparatus 100 determines whether the status signal A is a pass (S14). As a result, when the status signal A indicates a failure, the semiconductor device 1 is rejected and the test operation is terminated (S19).

一方、ステータス信号Aがパスを示す場合、テスト装置100は、選択された電圧の上限値をテストするためのコマンドCMD2を発行する(S15)。   On the other hand, when the status signal A indicates a path, the test apparatus 100 issues a command CMD2 for testing the upper limit value of the selected voltage (S15).

このコマンドCMD2は、図1における半導体装置1のパッド41、インターフェース31、レジスタ51、コマンドユーザインターフェース52、ステートマシン53を介してアドレス/コマンド発生回路54に供給される。このアドレス/コマンド発生回路54は、供給されたコマンドに従って、上限値をテストするためのコマンドCMD_UVMON(“1”)を発生する。この内部コマンドCMD_UVMONは、トリミング回路18に供給される。トリミング回路18は、内部コマンドCMD_UVMONが“1”であるとき、トリミングを行わない。このため、電圧発生回路13は、信号Param_INに基づき予め設定されたパラメータに従って、13Vの電圧VREFを発生する。この発生された電圧VREFは、比較器61の一方入力端に供給される。   The command CMD2 is supplied to the address / command generation circuit 54 via the pad 41, the interface 31, the register 51, the command user interface 52, and the state machine 53 of the semiconductor device 1 in FIG. The address / command generation circuit 54 generates a command CMD_UVMON (“1”) for testing the upper limit value in accordance with the supplied command. This internal command CMD_UVMON is supplied to the trimming circuit 18. The trimming circuit 18 does not perform trimming when the internal command CMD_UVMON is “1”. For this reason, the voltage generation circuit 13 generates a voltage VREF of 13V according to a parameter set in advance based on the signal Param_IN. The generated voltage VREF is supplied to one input terminal of the comparator 61.

次に、テスト装置100は、テストすべき電圧のモニタ電圧VMONxの上限値を発生し、半導体装置1のパッド42に供給する(S16)。すなわち、この例の場合、テスト装置100は、モニタ電圧VMONxの上限値としてVREF(12V)の上限値(13V)をパッド42に供給する。このモニタ電圧VMONxの上限値は、パッド42から比較器61の他方入力端に供給される。   Next, the test apparatus 100 generates an upper limit value of the monitor voltage VMONx of the voltage to be tested and supplies it to the pad 42 of the semiconductor device 1 (S16). That is, in this example, the test apparatus 100 supplies the pad 42 with the upper limit value (13V) of VREF (12V) as the upper limit value of the monitor voltage VMONx. The upper limit value of the monitor voltage VMONx is supplied from the pad 42 to the other input terminal of the comparator 61.

比較器61は、モニタ電圧VMONxの上限値と電圧発生回路13により発生された電圧VREFを比較する。この結果、VMONx(13V)>VREF(12V)の関係を満たす場合、比較器61は出力信号FLGTRIMLとして信号“1”を出力する。この信号FLGTRIMLは、データ反転回路62に供給される。データ反転回路62は、内部コマンドCMD_UVMONが“1”であるとき、入力されたデータを反転せずそのまま出力する。このため、データ反転回路62は、テスト結果がパスであることを示すステータス信号A=“1”を出力する。この信号A=“1”は、ステータス保持回路63に一旦保持される。   The comparator 61 compares the upper limit value of the monitor voltage VMONx with the voltage VREF generated by the voltage generation circuit 13. As a result, when the relationship of VMONx (13V)> VREF (12V) is satisfied, the comparator 61 outputs a signal “1” as the output signal FLGTRIML. This signal FLGTRIML is supplied to the data inversion circuit 62. When the internal command CMD_UVMON is “1”, the data inverting circuit 62 outputs the input data as it is without inverting it. Therefore, the data inverting circuit 62 outputs a status signal A = “1” indicating that the test result is a pass. This signal A = “1” is temporarily held in the status holding circuit 63.

一方、比較の結果、VMONx(13V)>VREF(12V)の関係を満たさない場合、比較器61は出力信号FLGTRIMLとして信号“0”を出力する。この信号FLGTRIMLも、データ反転回路62により反転されず、そのまま出力される。このため、データ反転回路62は、テスト結果がフェイルであることを示すステータス信号A=“0”を出力する。このステータス信号A=“0”は、ステータス保持回路63に一旦保持される。   On the other hand, if the comparison does not satisfy the relationship of VMONx (13V)> VREF (12V), the comparator 61 outputs a signal “0” as the output signal FLGTRIML. This signal FLGTRIML is also output as it is without being inverted by the data inversion circuit 62. Therefore, the data inverting circuit 62 outputs a status signal A = “0” indicating that the test result is “fail”. The status signal A = “0” is temporarily held in the status holding circuit 63.

ステータス保持回路63に保持されたパス又はフェイルを示すステータス信号Aは、テスト装置100からステータスリードコマンドが発行された場合読み出され、インターフェース31、パッド41を介してテスト装置100に供給される。   A status signal A indicating a pass or a failure held in the status holding circuit 63 is read when a status read command is issued from the test apparatus 100 and is supplied to the test apparatus 100 via the interface 31 and the pad 41.

次いで、テスト装置100は、ステータス信号Aがパスかどうかを判別する(S17)。この結果、ステータス信号Aがフェイルを示す場合、その半導体装置1はリジェクトされ、テスト動作が終了される(S19)。   Next, the test apparatus 100 determines whether the status signal A is a pass (S17). As a result, when the status signal A indicates a failure, the semiconductor device 1 is rejected and the test operation is terminated (S19).

一方、ステータス信号Aがパスを示す場合、全ての電圧のテストが完了したかどうかが判別される(S18)。この結果、完了していない場合、制御がステップS11に移行され、次にテストすべき電圧が選択され、上記と同様の動作が繰り返される。   On the other hand, if the status signal A indicates a pass, it is determined whether or not all the voltage tests have been completed (S18). As a result, if it is not completed, the control proceeds to step S11, the voltage to be tested next is selected, and the same operation as described above is repeated.

また、ステップS19において、全ての電圧のテストが完了したものと判別された場合、その半導体装置1の電圧テストはパスしたものと判断される(S20)。   If it is determined in step S19 that all voltage tests have been completed, it is determined that the voltage test of the semiconductor device 1 has passed (S20).

(テスト装置)
図3は、テスト装置100と、DUT(Device Under Test)としての複数の半導体装置(半導体チップ)の関係を示している。
(Test equipment)
FIG. 3 shows the relationship between the test apparatus 100 and a plurality of semiconductor devices (semiconductor chips) as a DUT (Device Under Test).

図3に示すように、テスト装置100は、電圧発生回路101と制御部102を有している。制御部102は、ウェハ110に設けられた複数の半導体装置1に対して、前述したコマンドCMD1又はCMD2を同時に供給するとともに、電圧発生回路101により発生されたテストすべき電圧の下限値としてのモニタ電圧VMONx、又は上限値としてのモニタ電圧VMONxを、複数の半導体装置1に対して同時に供給する。各半導体装置1は、内部において、モニタ電圧VMONxと電圧発生回路13により発生された電圧とを比較器61により比較し、比較結果をステータス信号Aとしてステータス保持回路63に保持する。各半導体装置1のステータス保持回路63に保持されたステータス信号Aは、制御部102からステータスリードコマンドを発行することにより、同時にテスト装置100に取り込まれ、制御部102により、ステータス信号Aがパスであるかフェイルであるかが判別される。   As shown in FIG. 3, the test apparatus 100 includes a voltage generation circuit 101 and a control unit 102. The control unit 102 simultaneously supplies the above-described command CMD1 or CMD2 to the plurality of semiconductor devices 1 provided on the wafer 110, and monitors the lower limit value of the voltage to be tested generated by the voltage generation circuit 101. The voltage VMONx or the monitor voltage VMONx as the upper limit value is simultaneously supplied to the plurality of semiconductor devices 1. Each semiconductor device 1 internally compares the monitor voltage VMONx with the voltage generated by the voltage generation circuit 13 by the comparator 61 and holds the comparison result in the status holding circuit 63 as the status signal A. The status signal A held in the status holding circuit 63 of each semiconductor device 1 is taken into the test apparatus 100 simultaneously by issuing a status read command from the control unit 102, and the status signal A is passed by the control unit 102. It is determined whether there is a failure or not.

上記テスト装置100は、一般的なテスト装置のように、各半導体装置から出力される電圧を測定するための複数の測定回路を必要としない。このため、構成を簡単化することができる。しかも、複数の半導体装置1を同時にテストすることができるため、テスト時間を短縮することが可能である。   The test apparatus 100 does not need a plurality of measurement circuits for measuring the voltage output from each semiconductor device unlike a general test apparatus. For this reason, a structure can be simplified. In addition, since a plurality of semiconductor devices 1 can be tested simultaneously, the test time can be shortened.

上記実施形態によれば、半導体装置1の内部に比較器61を設け、半導体装置1内の電圧発生回路13により発生されたテストすべき電圧と、テスト装置100から供給されたモニタ電圧VMONxとを比較器61により比較し、この比較結果をステータス信号Aとしてテスト装置100に供給している。このため、半導体装置1は、電圧発生回路13に発生された電圧をテスト装置100に供給せず、比較結果を示すステータス信号をテスト装置100に供給し、テスト装置100は、半導体装置1から供給された電圧が規定値の範囲内であるかどうかを比較せず、半導体装置1から供給されたステータス信号がパスであるかフェイルであるかを判別している。したがって、テスト装置の構成を簡単化でき、テスト時間を短縮することが可能である。   According to the embodiment, the comparator 61 is provided inside the semiconductor device 1, and the voltage to be tested generated by the voltage generation circuit 13 in the semiconductor device 1 and the monitor voltage VMONx supplied from the test device 100 are obtained. The comparison is made by the comparator 61 and the comparison result is supplied to the test apparatus 100 as the status signal A. For this reason, the semiconductor device 1 does not supply the voltage generated by the voltage generation circuit 13 to the test device 100, but supplies a status signal indicating the comparison result to the test device 100, and the test device 100 supplies from the semiconductor device 1. It is determined whether the status signal supplied from the semiconductor device 1 is a pass or a fail without comparing whether or not the applied voltage is within the range of the specified value. Therefore, the configuration of the test apparatus can be simplified and the test time can be shortened.

すなわち、本実施形態によれば、テスト時に、半導体装置1は、テスト装置100からテストすべき電圧とその下限値を示すコマンドCMD1、又はテストすべき電圧とその上限値を示すコマンドCMD2を受けるとともに、テスト装置100からテストすべき電圧の下限値を示す電圧VMONx、又は上限値を示す電圧VMONxを受け、電圧発生回路13から出力される電圧と下限値又は上限値を示す電圧VMONxとを比較器61により比較し、この比較結果をステータス信号としてテスト装置に供給している。このため、一般的なテスト装置のように、複数の半導体装置1からテストすべき電圧を受け、テスト装置において、電圧が規定の上限値と下限値の範囲内であるかを判断するテスト回路を有する必要がない。したがって、テスト装置の構成を簡単化することが可能である。   That is, according to the present embodiment, during the test, the semiconductor device 1 receives the command CMD1 indicating the voltage to be tested and the lower limit value from the test device 100, or the command CMD2 indicating the voltage to be tested and the upper limit value. The voltage VMONx indicating the lower limit value of the voltage to be tested or the voltage VMONx indicating the upper limit value is received from the test apparatus 100, and the voltage output from the voltage generation circuit 13 and the voltage VMONx indicating the lower limit value or the upper limit value are compared. The comparison result is supplied to the test apparatus as a status signal. For this reason, a test circuit that receives a voltage to be tested from a plurality of semiconductor devices 1 and determines whether the voltage is within a specified upper limit value and lower limit value in the test device, as in a general test device. There is no need to have. Therefore, it is possible to simplify the configuration of the test apparatus.

また、一般的なテスト装置の場合、テスト回路の数は、ウェハ上の半導体チップの数より少ない。このため、テスト装置内において、各半導体装置から供給される電圧をテストする場合、テスト装置は、ウェハに含まれる複数の半導体装置から供給される電圧を順次テストする必要がある。したがって、テストに長時間を必要とする。   In the case of a general test apparatus, the number of test circuits is smaller than the number of semiconductor chips on the wafer. For this reason, when testing the voltage supplied from each semiconductor device in the test apparatus, the test apparatus needs to sequentially test the voltages supplied from a plurality of semiconductor devices included in the wafer. Therefore, a long time is required for the test.

これに対して、本実施形態の場合、半導体装置1内にテスト回路6を有し、図3に示すように、テスト装置71から各半導体装置72にコマンドと電圧を同時に供給し、各半導体装置72から出力されるステータス信号Aを同時にテスト装置71内に取り込むことが可能である。このため、テスト時間を大幅に短縮することが可能である。   On the other hand, in the case of this embodiment, the semiconductor device 1 has the test circuit 6 and, as shown in FIG. 3, the command and voltage are simultaneously supplied from the test device 71 to each semiconductor device 72. The status signal A output from 72 can be taken into the test apparatus 71 at the same time. For this reason, it is possible to greatly reduce the test time.

また、テスト装置100から出力されるモニタ電圧VMONxは、テスト装置によるばらつきが少ない。このため、複数のテスト装置を用いて複数のウェハを同時にテストする場合において、各テスト装置から出力される正確な電圧を用いて、各半導体装置をテストすることができるため、正確なテストを行うことが可能である。   Further, the monitor voltage VMONx output from the test apparatus 100 has little variation depending on the test apparatus. For this reason, when testing a plurality of wafers simultaneously using a plurality of test devices, each semiconductor device can be tested using an accurate voltage output from each test device, so an accurate test is performed. It is possible.

しかも、半導体装置1のデータ反転回路62は、比較器61による電圧発生回路13から出力される電圧と下限値のモニタ電圧VMONxとの比較結果(信号FLGTRIML)を反転してステータス保持回路63に供給し、比較器61による電圧発生回路13から出力される電圧と上限値のモニタ電圧VMONxとの比較結果(信号FLGTRIML)は反転せずにステータス保持回路63に供給している。このため、ステータス保持回路63は、テスト対象の電圧の下限値及び上限値のテスト結果を共にステータス信号A=“1”として保持することができる。したがって、テスト装置は、上限値、及び下限値のテストのパス結果をステータ信号A=“1”として扱うことができるため、パス又はフェイルの判別を高速に行うことが可能である。   In addition, the data inversion circuit 62 of the semiconductor device 1 inverts the comparison result (signal FLGTRIML) between the voltage output from the voltage generation circuit 13 by the comparator 61 and the lower limit monitor voltage VMONx and supplies the result to the status holding circuit 63. The comparison result (signal FLGTRIML) between the voltage output from the voltage generation circuit 13 by the comparator 61 and the upper limit monitor voltage VMONx is supplied to the status holding circuit 63 without being inverted. Therefore, the status holding circuit 63 can hold both the lower limit value and the upper limit value test result of the test target voltage as the status signal A = “1”. Therefore, the test apparatus can handle the pass result of the test of the upper limit value and the lower limit value as the stator signal A = “1”, so that the pass or fail can be determined at high speed.

尚、上記実施形態は、NANDフラッシュメモリに本実施形態を適用した場合について説明したが、これに限定されるものではなく、内部において、種々の電圧を発生する半導体装置に適用可能なことは言うまでもない。   In the above embodiment, the case where the present embodiment is applied to the NAND flash memory has been described. However, the present embodiment is not limited to this, and it is needless to say that the embodiment can be applied to a semiconductor device that generates various voltages inside. Yes.

その他、本発明は上記各実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記各実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiments as they are, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Moreover, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above embodiments. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

1…半導体装置、2…NANDフラッシュメモリ、6…テスト回路、13…電圧発生回路、41、42…パッド、61…比較器、62…データ反転回路、63…ステータス回路、100…テスト装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 2 ... NAND flash memory, 6 ... Test circuit, 13 ... Voltage generation circuit, 41, 42 ... Pad, 61 ... Comparator, 62 ... Data inversion circuit, 63 ... Status circuit, 100 ... Test apparatus.

Claims (7)

半導体装置のテストすべき電圧の下限値の電圧をモニタするための第1のモニタ電圧、及び上限値の電圧をモニタするための第2のモニタ電圧を発生する第1の電圧発生回路と、
前記下限値の電圧をテストするための第1のテストコマンド、前記上限値の電圧をテストするための第2のテストコマンドを発行する制御部と、を具備し、
前記制御部は、前記下限値の電圧をテストするための前記第1のテストコマンド、及び前記第1のモニタ電圧を前記半導体装置に供給し、
前記半導体装置から供給される第1のステータス信号がパス又はフェイルかを判別し、パスである場合、前記第2のテストコマンド、及び前記第2のモニタ電圧を前記半導体装置に供給し、
前記半導体装置から供給される第2のステータス信号がパス又はフェイルかを判別するテスト装置と、
前記テスト装置から供給される第1、第2のテストコマンドを受ける第1のパッドと、
前記テスト装置から供給される第1、第2のモニタ電圧を受ける第2のパッドと、
前記第1のパッドに供給された前記第1、第2のテストコマンドに基づき、前記テストすべき電圧を発生する第2の電圧発生回路と、
前記第2の電圧発生回路から供給される前記テストすべき電圧と、前記第2のパッドから供給される前記第1のモニタ電圧とを比較して第1又は第2の論理レベルの一方の出力信号を前記第1のステータス信号として出力し、前記第2の電圧発生回路から供給される前記テストすべき電圧と、前記第2のパッドから供給される前記第2のモニタ電圧とを比較して第1、第2の論理レベルの一方の出力信号を前記第2のステータス信号として出力する比較器と、
を具備することを特徴とするテストシステム。
A first voltage generation circuit for generating a first monitor voltage for monitoring a lower limit voltage of the voltage to be tested in the semiconductor device and a second monitor voltage for monitoring the upper limit voltage;
A control unit that issues a first test command for testing the lower limit voltage and a second test command for testing the upper limit voltage;
The control unit supplies the first test command for testing the voltage of the lower limit value, and the first monitor voltage to the semiconductor device,
It is determined whether the first status signal supplied from the semiconductor device is pass or fail, and if it is pass, the second test command and the second monitor voltage are supplied to the semiconductor device,
A test device for determining whether the second status signal supplied from the semiconductor device is pass or fail;
A first pad for receiving first and second test commands supplied from the test apparatus;
A second pad for receiving first and second monitor voltages supplied from the test apparatus;
A second voltage generation circuit for generating the voltage to be tested based on the first and second test commands supplied to the first pad;
One voltage of the first or second logic level is compared by comparing the voltage to be tested supplied from the second voltage generating circuit with the first monitor voltage supplied from the second pad. A signal is output as the first status signal, and the voltage to be tested supplied from the second voltage generation circuit is compared with the second monitor voltage supplied from the second pad. A comparator that outputs one of the output signals of the first and second logic levels as the second status signal;
A test system comprising:
前記第1のテストコマンドに基づき、前記比較器の出力信号を反転して前記第1のパッドに供給し、前記第2のテストコマンドに基づき、前記比較器の出力信号を反転せずに出力するデータ反転部をさらに具備することを特徴とする請求項1記載のテストシステム。   Based on the first test command, the output signal of the comparator is inverted and supplied to the first pad, and based on the second test command, the output signal of the comparator is output without being inverted. The test system according to claim 1, further comprising a data inverting unit. 前記データ反転部から出力される第1又は第2のステータス信号を保持する保持部をさらに具備し、
前記保持部に保持された第1又は第2のステータス信号は、前記テスト装置から供給されるコマンドにより読み出され、前記テスト装置に供給されることを特徴とする請求項2記載のテストシステム。
A holding unit that holds the first or second status signal output from the data inverting unit;
3. The test system according to claim 2, wherein the first or second status signal held in the holding unit is read by a command supplied from the test apparatus and is supplied to the test apparatus.
半導体装置のテストすべき電圧の下限値の電圧をモニタするための第1のモニタ電圧、及び上限値の電圧をモニタするための第2のモニタ電圧を発生する電圧発生回路と、
前記下限値の電圧をテストするための第1のテストコマンド、前記上限値の電圧をテストするための第2のテストコマンドを発行する制御部と、を具備し、
前記制御部は、前記下限値の電圧をテストするための前記第1のテストコマンド、及び前記第1のモニタ電圧を前記半導体装置に供給し、
前記半導体装置から供給される第1のステータス信号がパス又はフェイルかを判別し、パスである場合、前記第2のテストコマンド、及び前記第2のモニタ電圧を前記半導体装置に供給し、
前記半導体装置から供給される第2のステータス信号がパス又はフェイルかを判別することを特徴とするテスト装置。
A voltage generation circuit for generating a first monitor voltage for monitoring a lower limit voltage of the voltage to be tested of the semiconductor device and a second monitor voltage for monitoring the upper limit voltage;
A control unit that issues a first test command for testing the lower limit voltage and a second test command for testing the upper limit voltage;
The control unit supplies the first test command for testing the voltage of the lower limit value, and the first monitor voltage to the semiconductor device,
It is determined whether the first status signal supplied from the semiconductor device is pass or fail, and if it is pass, the second test command and the second monitor voltage are supplied to the semiconductor device,
A test apparatus for determining whether the second status signal supplied from the semiconductor device is pass or fail.
テスト装置から供給される第1、第2のテストコマンドを受ける第1のパッドと、
前記テスト装置から供給される第1、第2のモニタ電圧を受ける第2のパッドと、
前記第1のパッドに供給された前記第1、第2のテストコマンドに基づき、テストすべき電圧を発生する電圧発生回路と、
前記電圧発生回路から供給される前記テストすべき電圧と、前記第2のパッドから供給される前記第1のモニタ電圧とを比較して第1又は第2の論理レベルの一方の出力信号を前記第1のステータス信号として出力し、前記電圧発生回路から供給される前記テストすべき電圧と、前記第2のパッドから供給される前記第2のモニタ電圧とを比較して第1、第2の論理レベルの一方の出力信号を前記第2のステータス信号として出力する比較器と、
を具備することを特徴とする半導体装置。
A first pad for receiving first and second test commands supplied from a test apparatus;
A second pad for receiving first and second monitor voltages supplied from the test apparatus;
A voltage generation circuit for generating a voltage to be tested based on the first and second test commands supplied to the first pad;
The voltage to be tested supplied from the voltage generation circuit is compared with the first monitor voltage supplied from the second pad, and one output signal of the first or second logic level is set as the output signal. The first status signal is output as a first status signal, and the voltage to be tested supplied from the voltage generation circuit is compared with the second monitor voltage supplied from the second pad to compare the first and second voltages. A comparator that outputs one output signal of logic level as the second status signal;
A semiconductor device comprising:
前記第1のテストコマンドに基づき、前記比較器の出力信号を反転して前記第1のパッドに供給し、前記第2のテストコマンドに基づき、前記比較器の出力信号を反転せずに出力するデータ反転部をさらに具備することを特徴とする請求項5記載の半導体装置。   Based on the first test command, the output signal of the comparator is inverted and supplied to the first pad, and based on the second test command, the output signal of the comparator is output without being inverted. 6. The semiconductor device according to claim 5, further comprising a data inverting unit. 前記データ反転部から出力される第1又は第2のステータス信号を保持する保持部をさらに具備し、
前記保持部に保持された第1又は第2のステータス信号は、前記テスト装置から供給されるコマンドにより読み出され、前記テスト装置に供給されることを特徴とする請求項6記載の半導体装置。
A holding unit that holds the first or second status signal output from the data inverting unit;
7. The semiconductor device according to claim 6, wherein the first or second status signal held in the holding unit is read by a command supplied from the test apparatus and is supplied to the test apparatus.
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