JP2013175812A - Image sensor and image pickup device - Google Patents

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Kiyoshige Shibazaki
清茂 芝崎
Muneki Hamashima
宗樹 浜島
Susumu Mori
晋 森
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Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem with an image pickup device that when interchangeable lenses are changed, it is often difficult to generate an image having two or more view points due to the effect of characteristics of the new lens.SOLUTION: To solve the problem, the image pickup device comprises: a plurality of two-dimensionally arranged photoelectric conversion elements for converting incident light into electrical signals; microlenses provided corresponding one to one for each of the photoelectric conversion elements; opening masks provided corresponding one to one for each of the photoelectric conversion elements; and a moving unit which moves at least one side of the microlenses and the opening masks so as to include a component orthogonal to the plane in which the photoelectric conversion elements are arranged. Openings in the respective opening masks provided corresponding one to one for at least three of n pieces of adjacent photoelectric conversion elements (n=integer equal to or greater than 3) are located at positions where incident light from mutually different partial areas in the cross sectional area of the incident light is transmitted, and photoelectric conversion element groups consisting of n pieces of photoelectric conversion elements as one set are periodically arranged.

Description

本発明は、撮像素子および撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging element and an imaging apparatus.

単一の撮影光学系を用いて、視点の異なる複数の画像を一度の撮影で生成する撮像装置が知られている。
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1]特開2009−290268号公報
2. Description of the Related Art An imaging device that generates a plurality of images with different viewpoints by one shooting using a single shooting optical system is known.
[Prior art documents]
[Patent Literature]
[Patent Document 1] JP 2009-290268 A

しかしながら、上述の撮像装置がレンズ交換式である場合に、当該撮像装置は、取り付けられたレンズの特性によっては、視点の異なる複数の画像を適切に生成することができない場合があった。   However, when the above-described imaging device is an interchangeable lens type, the imaging device may not be able to appropriately generate a plurality of images with different viewpoints depending on the characteristics of the attached lens.

本発明の第1の態様における撮像素子は、入射光を電気信号に光電変換する、二次元的に複数配列された光電変換素子と、光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられたマイクロレンズと、光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられる開口マスクと、マイクロレンズおよび開口マスクの少なくとも一方を光電変換素子が配列された平面に直交する成分を含むように移動させる移動部とを備え、隣接するn個(nは3以上の整数)の光電変換素子のうち、少なくとも3つに対応して設けられたそれぞれの開口マスクの開口が、入射光の断面領域内の互いに異なる部分領域からの入射光を通過させるように位置づけられ、n個の光電変換素子を一組とする光電変換素子群が周期的に配列されている。   The imaging device according to the first aspect of the present invention is provided in a one-to-one correspondence with each of the two-dimensionally arranged photoelectric conversion devices that photoelectrically convert incident light into electric signals and the photoelectric conversion devices. Movement that moves at least one of the microlens and the aperture mask provided in a one-to-one correspondence with each of the photoelectric conversion elements and a component orthogonal to the plane on which the photoelectric conversion elements are arranged. Each of the opening masks provided corresponding to at least three of n (n is an integer of 3 or more) photoelectric conversion elements adjacent to each other in the cross-sectional area of the incident light. The photoelectric conversion element group which is positioned so as to pass incident light from different partial regions and includes a set of n photoelectric conversion elements is periodically arranged.

本発明の第2の態様における撮像装置は、上述の撮像素子と、装着される交換レンズのレンズ情報を取得する取得部と、取得部により取得されたレンズ情報に基づいて、移動部の移動量を制御する移動制御部を備える。   The imaging device according to the second aspect of the present invention includes the above-described imaging device, an acquisition unit that acquires lens information of the interchangeable lens to be mounted, and a moving amount of the moving unit based on the lens information acquired by the acquisition unit. The movement control part which controls is provided.

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。   It should be noted that the above summary of the invention does not enumerate all the necessary features of the present invention. In addition, a sub-combination of these feature groups can also be an invention.

本実施形態に係るデジタルカメラ10の構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the digital camera 10 which concerns on this embodiment. 撮像素子100の断面を表す概略図である。1 is a schematic diagram illustrating a cross section of an image sensor 100. FIG. 撮像素子100の一部を拡大した様子を表す概略図である。2 is a schematic diagram illustrating a state in which a part of the image sensor 100 is enlarged. FIG. 視差画素と被写体の関係を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the relationship between a parallax pixel and a to-be-photographed object. 視差画像を生成する処理を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the process which produces | generates a parallax image. マイクロレンズアレイ101を考慮した場合の部分領域、開口部、および光電変換素子の位置関係を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the positional relationship of the partial area | region, opening part, and photoelectric conversion element when the microlens array 101 is considered. 交換レンズが取り替えられた場合の問題点を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a problem when an interchangeable lens is replaced. 撮影レンズ40の各部分領域Pa2〜Pf2からの主光線Ra2〜Rf2の進路を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a course of chief rays Ra2 to Rf2 from partial areas Pa2 to Pf2 of the photographing lens 40. 開口マスク103を移動させる構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure to which the opening mask 103 is moved. 繰り返しパターンの他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a repeating pattern. 二次元的な繰り返しパターンの例を示す図である。It is a figure which shows the example of a two-dimensional repeating pattern. 開口部の他の形状を説明する図である。It is a figure explaining the other shape of an opening part. ベイヤー配列を説明する図である。It is a figure explaining a Bayer arrangement. ベイヤー配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が2つである場合のバリエーションを説明する図である。It is a figure explaining the variation in case there are two kinds of parallax pixels about allocation of parallax pixels to a Bayer arrangement. バリエーションの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a variation. 他のバリエーションの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of another variation. 他のバリエーションの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of another variation. 他のバリエーションの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of another variation. ベイヤー配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が3つである場合のバリエーションを説明する図である。It is a figure explaining the variation in case the number of types of parallax pixel is three about allocation of the parallax pixel with respect to a Bayer arrangement. バリエーションの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a variation. ベイヤー配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が4つ以上である場合のバリエーションを説明する図である。It is a figure explaining the variation in case the number of types of parallax pixel is four or more about allocation of the parallax pixel with respect to a Bayer arrangement. 他のカラーフィルタ配列を説明する図である。It is a figure explaining other color filter arrangement | sequences. 他のカラーフィルタ配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が2つである場合のバリエーションを説明する図である。It is a figure explaining the variation in the case of two types of parallax pixels about allocation of the parallax pixel with respect to another color filter arrangement | sequence. 他のカラーフィルタ配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が3つである場合のバリエーションを説明する図である。It is a figure explaining the variation in the case of three types of parallax pixels about allocation of the parallax pixel with respect to another color filter arrangement | sequence. 本発明の実施形態に係る他の撮像素子の断面を表す概略図である。It is the schematic showing the cross section of the other image pick-up element which concerns on embodiment of this invention. 他のカラーフィルタ配列を説明する図である。It is a figure explaining other color filter arrangement | sequences. W画素と視差画素の配列の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the arrangement | sequence of W pixel and a parallax pixel. 視差画像と2D画像の生成過程を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the production | generation process of a parallax image and 2D image.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。   Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. In addition, not all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solving means of the invention.

本実施形態に係る撮像素子を含んで構成される撮像装置は、例えばデジタルカメラであり、1つのシーンについて複数の視点数の画像を一度の撮影により生成できるように構成されている。互いに視点の異なるそれぞれの画像を視差画像と呼ぶ。   An image pickup apparatus including the image pickup device according to the present embodiment is, for example, a digital camera, and is configured to be able to generate images with a plurality of viewpoints for one scene by one shooting. Each image having a different viewpoint is called a parallax image.

図1は、本実施形態に係るデジタルカメラ10の構成を説明する図である。デジタルカメラ10は、交換レンズ300がカメラ本体200に装着されて構成される。カメラ本体200は、カメラマウント213を備え、交換レンズ300は、レンズマウント303を備える。カメラマウント213とレンズマウント303が係合すると、カメラ本体200側の通信端子と交換レンズ300側の通信端子の接続が確立され、互いに制御信号等の通信を行うことができる。カメラ本体制御部201およびレンズシステム制御部301は、相互に通信を実行しつつ協働してカメラ本体200と交換レンズ300を制御する。   FIG. 1 is a diagram illustrating the configuration of a digital camera 10 according to the present embodiment. The digital camera 10 is configured by mounting an interchangeable lens 300 on a camera body 200. The camera body 200 includes a camera mount 213, and the interchangeable lens 300 includes a lens mount 303. When the camera mount 213 and the lens mount 303 are engaged, a connection between the communication terminal on the camera body 200 side and the communication terminal on the interchangeable lens 300 side is established, and communication such as control signals can be performed. The camera body control unit 201 and the lens system control unit 301 control the camera body 200 and the interchangeable lens 300 in cooperation with each other while performing communication.

交換レンズ300には、焦点距離等が異なる複数の種類がある。ユーザは、撮影目的に応じて任意のひとつをカメラ本体200へ装着することができる。交換レンズ300は、撮影光学系として撮影レンズ20を備え、光軸21に沿って入射する被写体光束をカメラ本体200内に配置された撮像素子100へ導く。図1に示すように、撮像素子100へ向かう光軸21に平行な方向をz軸プラス方向と定め、z軸と直交する平面において紙面奥へ向かう方向をx軸プラス方向、紙面上方向をy軸プラス方向と定める。以降のいくつかの図においては、図1の座標軸を基準として、それぞれの図の向きがわかるように座標軸を表示する。   There are a plurality of types of interchangeable lenses 300 having different focal lengths. The user can attach an arbitrary one to the camera body 200 in accordance with the shooting purpose. The interchangeable lens 300 includes a photographic lens 20 as a photographic optical system, and guides a subject light beam incident along the optical axis 21 to the image sensor 100 disposed in the camera body 200. As shown in FIG. 1, a direction parallel to the optical axis 21 toward the image sensor 100 is defined as a z-axis plus direction, a direction toward the back of the sheet on a plane orthogonal to the z-axis is defined as an x-axis plus direction, and an upward direction on the sheet is defined as y. The axis is defined as the plus direction. In the following several figures, the coordinate axes are displayed so that the orientation of each figure can be understood with reference to the coordinate axes of FIG.

交換レンズ300は、撮影レンズ20、レンズシステム制御部301、レンズ情報記憶部302、およびレンズ駆動部304を備える。撮影レンズ20は、複数の光学レンズ群から構成され、シーンからの被写体光束をその焦点面近傍に結像させる。なお、図1では撮影レンズ20を説明の都合上、瞳近傍に配置された仮想的な1枚のレンズで代表して表している。レンズシステム制御部301は、レンズ駆動部304を介して撮影レンズ20を移動させる。また、レンズシステム制御部301は、撮影レンズ20のレンズ情報を記憶しているレンズ情報記憶部302から当該レンズ情報を読み出し、カメラ本体制御部201に送信する。レンズ情報記憶部302は、撮影レンズ20のレンズ情報として瞳位置情報、焦点距離情報、開放絞り値情報、レンズ瞳径情報等を記憶している。   The interchangeable lens 300 includes a photographic lens 20, a lens system control unit 301, a lens information storage unit 302, and a lens driving unit 304. The taking lens 20 is composed of a plurality of optical lens groups, and forms an image of a subject light flux from the scene in the vicinity of its focal plane. In FIG. 1, for convenience of explanation, the photographic lens 20 is represented by a single virtual lens arranged in the vicinity of the pupil. The lens system control unit 301 moves the photographing lens 20 via the lens driving unit 304. In addition, the lens system control unit 301 reads out the lens information from the lens information storage unit 302 that stores the lens information of the photographing lens 20 and transmits the lens information to the camera body control unit 201. The lens information storage unit 302 stores pupil position information, focal length information, full aperture value information, lens pupil diameter information, and the like as lens information of the photographing lens 20.

カメラ本体200は、撮像素子100、カメラ本体制御部201、A/D変換回路202、メモリ203、駆動部204、メモリカードIF207、操作部208、表示部209、および表示制御部210を備える。   The camera body 200 includes an image sensor 100, a camera body control unit 201, an A / D conversion circuit 202, a memory 203, a drive unit 204, a memory card IF 207, an operation unit 208, a display unit 209, and a display control unit 210.

撮像素子100は、撮影レンズ20の焦点面近傍に配置されている。撮像素子100は、CCD、CMOSセンサ等のイメージセンサである。撮像素子100は、入射光を電気信号に変換する、二次元的に複数配列された光電変換素子と、光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられたマイクロレンズとを含む。ここでは、複数のマイクロレンズは、一体的にマイクロレンズアレイとして形成されている。撮像素子100は、駆動部204によりタイミング制御されて、受光面上に結像された被写体像を画像信号に変換してA/D変換回路202へ出力する。   The image sensor 100 is disposed near the focal plane of the photographic lens 20. The image sensor 100 is an image sensor such as a CCD or CMOS sensor. The image sensor 100 includes a plurality of two-dimensionally arranged photoelectric conversion elements that convert incident light into an electrical signal, and microlenses provided in one-to-one correspondence with the photoelectric conversion elements. Here, the plurality of microlenses are integrally formed as a microlens array. The image sensor 100 is controlled in timing by the drive unit 204, converts the subject image formed on the light receiving surface into an image signal, and outputs the image signal to the A / D conversion circuit 202.

A/D変換回路202は、撮像素子100が出力する画像信号をデジタル画像信号に変換してメモリ203へ出力する。カメラ本体制御部201の一部である画像処理部205は、メモリ203をワークスペースとして種々の画像処理を施し、画像データを生成する。画像処理部205は、例えば、JPEGファイル形式の画像データを生成する場合は、ホワイトバランス処理、ガンマ処理等を施した後に圧縮処理を実行する。表示制御部210は、画像処理部205によって生成された画像データを表示信号に変換し、表示部209に表示させる。また、画像処理部205によって生成された画像データは、メモリカードIF207に装着されているメモリカード220に記録される。   The A / D conversion circuit 202 converts the image signal output from the image sensor 100 into a digital image signal and outputs the digital image signal to the memory 203. An image processing unit 205 which is a part of the camera body control unit 201 performs various image processing using the memory 203 as a work space, and generates image data. For example, when generating image data in a JPEG file format, the image processing unit 205 performs compression processing after performing white balance processing, gamma processing, and the like. The display control unit 210 converts the image data generated by the image processing unit 205 into a display signal and causes the display unit 209 to display it. The image data generated by the image processing unit 205 is recorded in the memory card 220 attached to the memory card IF 207.

一連の撮影シーケンスは、操作部208がユーザの操作を受け付けて、カメラ本体制御部201へ操作信号を出力することにより開始される。撮影シーケンスに付随するAF,AE等の各種動作は、演算部206の演算結果に応じて実行される。   A series of shooting sequences is started when the operation unit 208 receives a user operation and outputs an operation signal to the camera body control unit 201. Various operations such as AF and AE accompanying the imaging sequence are executed according to the calculation result of the calculation unit 206.

デジタルカメラ10は、通常の撮影モードの他に視差画像撮影モードを備える。ユーザは、これらのいずれかのモードを、メニュー画面が表示された表示部209を視認しながら、操作部208を操作することにより選択することができる。   The digital camera 10 includes a parallax image shooting mode in addition to the normal shooting mode. The user can select one of these modes by operating the operation unit 208 while viewing the display unit 209 on which the menu screen is displayed.

カメラ本体制御部201の一部である移動制御部212は、交換レンズ300がカメラ本体200に装着されると、レンズシステム制御部301を介して撮影レンズ20のレンズ情報を取得する。移動制御部212は、撮影レンズ20のレンズ情報に応じて、後述するマイクロレンズアレイ移動部によるマイクロレンズアレイの移動量を制御する。移動制御部212による具体的な制御内容は後述する。カメラ本体制御部201の一部であるカメラメモリ214は、例えばフラッシュメモリなどの不揮発性メモリであり、デジタルカメラ10を制御するプログラム、各種パラメータなどを記憶する役割を担う。カメラメモリ214は、例えば、デジタルカメラ10に装着可能な交換レンズ毎に、焦点距離情報とマイクロレンズアレイ移動部の変位量が対応付けられたルックアップテーブルを記憶している。マイクロレンズアレイ移動部の変位量は、実験値あるいはシミュレーションデータに基づいて決定されている。   When the interchangeable lens 300 is attached to the camera main body 200, the movement control unit 212 that is a part of the camera main body control unit 201 acquires lens information of the photographing lens 20 via the lens system control unit 301. The movement control unit 212 controls the amount of movement of the microlens array by the microlens array moving unit, which will be described later, according to the lens information of the photographing lens 20. Specific control contents by the movement control unit 212 will be described later. A camera memory 214 which is a part of the camera body control unit 201 is a non-volatile memory such as a flash memory, for example, and plays a role of storing a program for controlling the digital camera 10 and various parameters. For example, the camera memory 214 stores a look-up table in which focal length information and a displacement amount of the microlens array moving unit are associated with each interchangeable lens that can be attached to the digital camera 10. The displacement amount of the micro lens array moving unit is determined based on experimental values or simulation data.

次に、撮像素子100の構成について詳細に説明する。図2は、撮像素子100の断面を表す概略図である。撮像素子100は、被写体側から順に、マイクロレンズアレイ101、マイクロレンズアレイ移動部112、カラーフィルタ102、開口マスク103、配線層105および光電変換素子アレイ115が配列されて構成されている。   Next, the configuration of the image sensor 100 will be described in detail. FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a cross section of the image sensor 100. The imaging element 100 is configured by arranging a microlens array 101, a microlens array moving unit 112, a color filter 102, an opening mask 103, a wiring layer 105, and a photoelectric conversion element array 115 in order from the subject side.

光電変換素子アレイ115は、複数の光電変換素子108が基板109の表面に二次元的に配列されてなる。光電変換素子108は、入射する光を電気信号に変換するフォトダイオードにより構成される。   The photoelectric conversion element array 115 includes a plurality of photoelectric conversion elements 108 two-dimensionally arranged on the surface of the substrate 109. The photoelectric conversion element 108 is configured by a photodiode that converts incident light into an electrical signal.

光電変換素子108により変換された画像信号、光電変換素子108を制御する制御信号等は、配線層105に設けられた配線106を介して送受信される。また、各光電変換素子108に一対一に対応して設けられた、開口部104を有する開口マスク103が、配線層105に接して設けられている。ここでは、複数の開口マスク103は、一体的に開口マスクアレイ114として形成されている。開口部104は、後述するように、対応する光電変換素子108ごとにシフトさせて、相対的な位置が厳密に定められている。詳しくは後述するが、この開口部104を備える開口マスク103の作用により、光電変換素子108が受光する被写体光束に視差が生じる。   An image signal converted by the photoelectric conversion element 108, a control signal for controlling the photoelectric conversion element 108, and the like are transmitted and received through the wiring 106 provided in the wiring layer 105. In addition, an opening mask 103 having an opening 104 provided in one-to-one correspondence with each photoelectric conversion element 108 is provided in contact with the wiring layer 105. Here, the plurality of opening masks 103 are integrally formed as an opening mask array 114. As will be described later, the opening 104 is shifted for each corresponding photoelectric conversion element 108 so that the relative position is precisely determined. As will be described in detail later, parallax occurs in the subject light beam received by the photoelectric conversion element 108 by the action of the opening mask 103 including the opening 104.

一方、視差を生じさせない光電変換素子108上には、開口マスク103が存在しない。別言すれば、対応する光電変換素子108に対して入射する被写体光束を制限しない、つまり有効光束の全体を通過させる開口部104を有する開口マスク103が設けられているとも言える。したがって、開口マスクアレイ114は、視差を生じさせる開口部104と視差を生じさせない開口部104を含んで構成される。開口マスクアレイ114は、視差を生じさせる開口部104だけで構成されてもよい。   On the other hand, the aperture mask 103 does not exist on the photoelectric conversion element 108 that does not generate parallax. In other words, it can be said that the aperture mask 103 having the aperture 104 that does not limit the subject luminous flux incident on the corresponding photoelectric conversion element 108, that is, allows the entire effective luminous flux to pass therethrough is provided. Therefore, the opening mask array 114 includes the opening 104 that generates parallax and the opening 104 that does not generate parallax. The aperture mask array 114 may be configured only by the apertures 104 that generate parallax.

また、視差を生じさせることはないが、実質的には配線106によって形成される開口107が入射する被写体光束を規定するので、配線106を、視差を生じさせない有効光束の全体を通過させる開口マスクと捉えることもできる。開口マスク103は、各光電変換素子108に対応して別個独立に配列しても良いし、カラーフィルタ102の製造プロセスと同様に複数の光電変換素子108に対して一括して形成しても良い。   In addition, although no parallax is generated, the aperture 107 formed by the wiring 106 substantially defines the subject light flux that is incident thereon. Therefore, the aperture mask that allows the entire effective light flux that does not cause parallax to pass through the wiring 106. It can also be taken as. The opening mask 103 may be arranged separately and independently corresponding to each photoelectric conversion element 108, or may be formed collectively for a plurality of photoelectric conversion elements 108 in the same manner as the manufacturing process of the color filter 102. .

カラーフィルタ102は、開口マスクアレイ114上に設けられている。カラーフィルタ102は、各光電変換素子108に対して特定の波長帯域を透過させるように着色された、光電変換素子108のそれぞれに一対一に対応して設けられるフィルタである。カラー画像を出力するには、互いに異なる少なくとも2種類のカラーフィルタが配列されれば良いが、より高画質のカラー画像を取得するには3種類以上のカラーフィルタを配列すると良い。例えば赤色波長帯を透過させる赤フィルタ、緑色波長帯を透過させる緑フィルタ、および青色波長帯を透過させる青フィルタを格子状に配列すると良い。具体的な配列については後述する。   The color filter 102 is provided on the aperture mask array 114. The color filter 102 is a filter provided in a one-to-one correspondence with each photoelectric conversion element 108, which is colored so as to transmit a specific wavelength band to each photoelectric conversion element 108. In order to output a color image, it is only necessary to arrange at least two types of color filters that are different from each other. However, in order to obtain a higher quality color image, it is preferable to arrange three or more types of color filters. For example, a red filter that transmits a red wavelength band, a green filter that transmits a green wavelength band, and a blue filter that transmits a blue wavelength band may be arranged in a lattice pattern. A specific arrangement will be described later.

マイクロレンズアレイ移動部112は、例えば圧電素子としてのピエゾ素子である。マイクロレンズアレイ移動部112は、光電変換素子108が配列された平面に直交する成分を含むようにマイクロレンズアレイ101を移動させる。ここでは、マイクロレンズアレイ移動部112は、一端がカラーフィルタ102に、他端がマイクロレンズアレイ101に接した状態で配置され、移動制御部212から入力される駆動電圧に応じて伸縮することによってマイクロレンズアレイ101をz軸方向に移動させる。   The microlens array moving unit 112 is, for example, a piezo element as a piezoelectric element. The microlens array moving unit 112 moves the microlens array 101 so as to include a component orthogonal to the plane on which the photoelectric conversion elements 108 are arranged. Here, the microlens array moving unit 112 is arranged in a state where one end is in contact with the color filter 102 and the other end is in contact with the microlens array 101, and is expanded and contracted according to the drive voltage input from the movement control unit 212. The microlens array 101 is moved in the z-axis direction.

マイクロレンズアレイ101は、例えば樹脂材料からなる。マイクロレンズアレイ101は、マイクロレンズアレイ移動部112を介してカラーフィルタ102上に設けられている。マイクロレンズアレイ101は、光電変換素子108の各々に一対一に対応して設けられたマイクロレンズ111からなる。マイクロレンズ111は、入射する被写体光束のより多くを光電変換素子108へ導くための集光レンズである。マイクロレンズ111は、撮影レンズ20の瞳中心と光電変換素子108の相対的な位置関係を考慮して、より多くの被写体光束が光電変換素子108に導かれるようにその光軸がシフトされていることが好ましい。さらには、開口マスク103の開口部104の位置と共に、後述の特定の被写体光束がより多く入射するように配置位置が調整されても良い。   The microlens array 101 is made of, for example, a resin material. The microlens array 101 is provided on the color filter 102 via the microlens array moving unit 112. The microlens array 101 is composed of microlenses 111 provided in one-to-one correspondence with each of the photoelectric conversion elements 108. The micro lens 111 is a condensing lens for guiding more incident subject light flux to the photoelectric conversion element 108. In consideration of the relative positional relationship between the pupil center of the photographing lens 20 and the photoelectric conversion element 108, the optical axis of the microlens 111 is shifted so that more subject light flux is guided to the photoelectric conversion element 108. It is preferable. Furthermore, the arrangement position may be adjusted so that more specific subject light beam, which will be described later, is incident along with the position of the opening 104 of the opening mask 103.

このように、各々の光電変換素子108に対応して一対一に設けられる開口マスク103、カラーフィルタ102およびマイクロレンズ111の一単位を画素と呼ぶ。特に、視差を生じさせる開口マスク103が設けられた画素を視差画素、視差を生じさせる開口マスク103が設けられていない画素を視差なし画素と呼ぶ。例えば、撮像素子100の有効画素領域が24mm×16mm程度の場合、画素数は1200万程度に及ぶ。   As described above, one unit of the aperture mask 103, the color filter 102, and the microlens 111 provided on a one-to-one basis corresponding to each photoelectric conversion element 108 is referred to as a pixel. In particular, a pixel provided with the opening mask 103 that generates parallax is referred to as a parallax pixel, and a pixel that is not provided with the opening mask 103 that generates parallax is referred to as a non-parallax pixel. For example, when the effective pixel area of the image sensor 100 is about 24 mm × 16 mm, the number of pixels reaches about 12 million.

なお、白黒画像信号を出力すれば良い場合にはカラーフィルタ102は設けない。また、裏面照射型イメージセンサの場合は、配線層105が光電変換素子108とは反対側に設けられる。また、開口マスク103の開口部104に色成分を持たせれば、カラーフィルタ102と開口マスク103を一体的に形成することもできる。   Note that the color filter 102 is not provided when a monochrome image signal should be output. In the case of a back-illuminated image sensor, the wiring layer 105 is provided on the side opposite to the photoelectric conversion element 108. Further, if the opening 104 of the opening mask 103 has a color component, the color filter 102 and the opening mask 103 can be formed integrally.

次に、開口マスク103の開口部104と、生じる視差の関係について説明する。図3は、撮像素子100の一部を拡大した様子を表す概略図である。ここでは、説明を簡単にすべく、カラーフィルタ102の配色については後に言及を再開するまで考慮しない。撮像素子100がカラーフィルタ102を備えない場合は、モノクロイメージセンサとしてモノクロの視差画像を生成することができる。また、カラーフィルタ102の配色に言及しない以下の説明においては、同色のカラーフィルタ102を有する視差画素のみを寄せ集めたイメージセンサであると捉えることができる。したがって、以下に説明する繰り返しパターンは、同色のカラーフィルタ102における隣接画素として考えても良い。   Next, the relationship between the opening 104 of the opening mask 103 and the generated parallax will be described. FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a state in which a part of the image sensor 100 is enlarged. Here, in order to simplify the explanation, the color arrangement of the color filter 102 is not considered until the reference is resumed later. When the image sensor 100 does not include the color filter 102, a monochrome parallax image can be generated as a monochrome image sensor. Further, in the following description that does not refer to the color arrangement of the color filter 102, it can be considered that the image sensor is a collection of only parallax pixels having the color filter 102 of the same color. Therefore, the repetitive pattern described below may be considered as an adjacent pixel in the color filter 102 of the same color.

図3に示すように、開口マスク103の開口部104は、それぞれの画素に対して相対的にシフトして設けられている。そして、隣接する画素同士においても、それぞれの開口部104は互いに変位した位置に設けられている。   As shown in FIG. 3, the opening 104 of the opening mask 103 is provided so as to be relatively shifted with respect to each pixel. In the adjacent pixels, the openings 104 are provided at positions displaced from each other.

図の例においては、それぞれの画素に対する開口部104の位置として、互いに左右方向にシフトした6種類の開口マスク103が用意されている。そして、撮像素子100の全体は、紙面左側から右側へ徐々にシフトする開口マスク103をそれぞれ有する6つの視差画素を一組とする光電変換素子群が、二次元的かつ周期的に配列されている。つまり、撮像素子100は、一組の光電変換素子群を含む繰り返しパターン110が、周期的かつ連続的に敷き詰められて構成されていると言える。   In the example shown in the drawing, six types of opening masks 103 that are shifted in the left-right direction are prepared as the positions of the openings 104 for the respective pixels. The entire image sensor 100 has a two-dimensional and periodic array of photoelectric conversion element groups each including a set of six parallax pixels each having an aperture mask 103 that gradually shifts from the left side to the right side of the drawing. . That is, it can be said that the image sensor 100 is configured by periodically and continuously laying a repeating pattern 110 including a set of photoelectric conversion element groups.

しかしながら、繰り返しパターン110は、2次元方向の少なくとも一方向に連続的に敷き詰められていればよく、他方向に非連続であってもよい。また、撮像素子100は、実質的に視差画像を生成できる範囲内において、一部に繰り返しパターン110が省かれた部分を有してもよい。実質的に視差画像を生成できる範囲とは、例えば、像としての齟齬が生じないよう補間できる範囲である。また、繰り返しパターン110が省かれた部分が、視覚的に影響を与えない周辺領域である場合も、実質的に視差画像を生成できる。   However, the repetitive pattern 110 only needs to be continuously spread in at least one direction of the two-dimensional direction, and may be discontinuous in the other direction. In addition, the image sensor 100 may have a portion in which the repeated pattern 110 is omitted in a range where a parallax image can be substantially generated. The range in which a parallax image can be substantially generated is, for example, a range in which interpolation can be performed so as not to cause wrinkles as an image. In addition, a parallax image can be substantially generated even when a portion from which the repeated pattern 110 is omitted is a peripheral region that does not affect visually.

図4は、視差画素と被写体の関係を説明する概念図である。特に図4(a)は撮像素子100のうち撮影光軸21と直交する中心に配列されている繰り返しパターン110tの光電変換素子群を示し、図4(b)は周辺部分に配列されている繰り返しパターン110uの光電変換素子群を模式的に示している。図4(a)、(b)における被写体30は、撮影レンズ20に対して合焦位置に存在する。図4(c)は、図4(a)に対応して、撮影レンズ20に対して非合焦位置に存在する被写体31を捉えた場合の関係を模式的に示している。なお、ここでは、説明を簡単にすべく、マイクロレンズアレイ101については後に言及を再開するまで考慮しない。   FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating the relationship between the parallax pixels and the subject. In particular, FIG. 4A shows a photoelectric conversion element group of a repetitive pattern 110t arranged in the center orthogonal to the photographing optical axis 21 in the image pickup element 100, and FIG. 4B shows a repetitive arrangement arranged in the peripheral portion. The photoelectric conversion element group of the pattern 110u is typically shown. The subject 30 in FIGS. 4A and 4B is in the in-focus position with respect to the photographic lens 20. FIG. 4C schematically shows a relationship when the subject 31 existing at the out-of-focus position with respect to the photographing lens 20 is captured corresponding to FIG. Here, in order to simplify the explanation, the microlens array 101 is not considered until the reference is resumed later.

まず、撮影レンズ20が合焦状態に存在する被写体30を捉えている場合の、視差画素と被写体の関係を説明する。被写体光束は、撮影レンズ20の瞳を通過して撮像素子100へ導かれるが、被写体光束が通過する全体の断面領域に対して、6つの部分領域Pa〜Pfが規定されている。そして、例えば繰り返しパターン110t、110uを構成する光電変換素子群の紙面左端の画素は、拡大図からもわかるように、部分領域Pfから射出された被写体光束のみが光電変換素子108へ到達するように、開口マスク103の開口部104fの位置が定められている。同様に、右端の画素に向かって、部分領域Peに対応して開口部104eの位置が、部分領域Pdに対応して開口部104dの位置が、部分領域Pcに対応して開口部104cの位置が、部分領域Pbに対応して開口部104bの位置が、部分領域Paに対応して開口部104aの位置がそれぞれ定められている。   First, the relationship between the parallax pixels and the subject when the photographing lens 20 captures the subject 30 that is in focus will be described. The subject luminous flux passes through the pupil of the photographic lens 20 and is guided to the image sensor 100. Six partial areas Pa to Pf are defined for the entire cross-sectional area through which the subject luminous flux passes. For example, in the pixel at the left end of the sheet of the photoelectric conversion element group constituting the repetitive patterns 110t and 110u, only the subject luminous flux emitted from the partial region Pf reaches the photoelectric conversion element 108 as can be seen from the enlarged view. The position of the opening 104f of the opening mask 103 is determined. Similarly, toward the rightmost pixel, the position of the opening 104e corresponding to the partial area Pe, the position of the opening 104d corresponding to the partial area Pd, and the position of the opening 104c corresponding to the partial area Pc. However, the position of the opening 104b is determined corresponding to the partial area Pb, and the position of the opening 104a is determined corresponding to the partial area Pa.

別言すれば、例えば部分領域Pfと左端画素の相対的な位置関係によって定義される、部分領域Pfから射出される被写体光束の主光線Rfの傾きにより、開口部104fの位置が定められていると言っても良い。そして、合焦位置に存在する被写体30からの被写体光束を、開口部104fを介して光電変換素子108が受光する場合、その被写体光束は、点線で図示するように、光電変換素子108上で結像する。同様に、右端の画素に向かって、主光線Reの傾きにより開口部104eの位置が、主光線Rdの傾きにより開口部104dの位置が、主光線Rcの傾きにより開口部104cの位置が、主光線Rbの傾きにより開口部104bの位置が、主光線Raの傾きにより開口部104aの位置がそれぞれ定められていると言える。   In other words, the position of the opening 104f is determined by the inclination of the principal ray Rf of the subject light beam emitted from the partial region Pf, which is defined by the relative positional relationship between the partial region Pf and the leftmost pixel, for example. You can say. Then, when the photoelectric conversion element 108 receives the subject luminous flux from the subject 30 existing at the in-focus position via the opening 104f, the subject luminous flux is coupled on the photoelectric conversion element 108 as shown by the dotted line. Image. Similarly, toward the rightmost pixel, the position of the opening 104e is determined by the inclination of the principal ray Re, the position of the opening 104d is determined by the inclination of the principal ray Rd, and the position of the opening 104c is determined by the inclination of the principal ray Rc. It can be said that the position of the opening 104b is determined by the inclination of the light ray Rb, and the position of the opening 104a is determined by the inclination of the principal ray Ra.

図4(a)で示すように、合焦位置に存在する被写体30のうち、光軸21と交差する被写体30上の微小領域Otから放射される光束は、撮影レンズ20の瞳を通過して、繰り返しパターン110tを構成する光電変換素子群の各画素に到達する。すなわち、繰り返しパターン110tを構成する光電変換素子群の各画素は、それぞれ6つの部分領域Pa〜Pfを介して、一つの微小領域Otから放射される光束を受光している。微小領域Otは、繰り返しパターン110tを構成する光電変換素子群の各画素の位置ずれに対応する分だけの広がりを有するが、実質的には、ほぼ同一の物点と近似することができる。同様に、図4(b)で示すように、合焦位置に存在する被写体30のうち、光軸21から離間した被写体30上の微小領域Ouから放射される光束は、撮影レンズ20の瞳を通過して、繰り返しパターン110uを構成する光電変換素子群の各画素に到達する。すなわち、繰り返しパターン110uを構成する光電変換素子群の各画素は、それぞれ6つの部分領域Pa〜Pfを介して、一つの微小領域Ouから放射される光束を受光している。微小領域Ouも、微小領域Otと同様に、繰り返しパターン110uを構成する光電変換素子群の各画素の位置ずれに対応する分だけの広がりを有するが、実質的には、ほぼ同一の物点と近似することができる。   As shown in FIG. 4A, the light beam emitted from the minute region Ot on the subject 30 that intersects the optical axis 21 among the subject 30 existing at the in-focus position passes through the pupil of the photographing lens 20. Then, each pixel of the photoelectric conversion element group constituting the repetitive pattern 110t is reached. That is, each pixel of the photoelectric conversion element group constituting the repetitive pattern 110t receives a light beam emitted from one minute region Ot through each of the six partial regions Pa to Pf. Although the minute region Ot has an extent corresponding to the positional deviation of each pixel of the photoelectric conversion element group constituting the repetitive pattern 110t, it can be approximated to substantially the same object point. Similarly, as shown in FIG. 4B, the light beam emitted from the minute region Ou on the subject 30 that is separated from the optical axis 21 among the subject 30 that exists at the in-focus position passes through the pupil of the photographing lens 20. It passes through and reaches each pixel of the photoelectric conversion element group constituting the repetitive pattern 110u. That is, each pixel of the photoelectric conversion element group constituting the repetitive pattern 110u receives a light beam emitted from one minute region Ou through each of the six partial regions Pa to Pf. Similarly to the micro area Ot, the micro area Ou has an extent corresponding to the positional deviation of each pixel of the photoelectric conversion element group constituting the repetitive pattern 110u, but substantially the same object point. Can be approximated.

つまり、被写体30が合焦位置に存在する限りは、撮像素子100上における繰り返しパターン110の位置に応じて、光電変換素子群が捉える微小領域が異なり、かつ、光電変換素子群を構成する各画素は互いに異なる部分領域を介して同一の微小領域を捉えている。そして、それぞれの繰り返しパターン110において、対応する画素同士は同じ部分領域からの被写体光束を受光している。つまり、図においては、例えば繰り返しパターン110t、110uのそれぞれの左端の画素は、同じ部分領域Pfからの被写体光束を受光している。   In other words, as long as the subject 30 exists at the in-focus position, the minute area captured by the photoelectric conversion element group differs according to the position of the repetitive pattern 110 on the image sensor 100, and each pixel constituting the photoelectric conversion element group Captures the same minute region through different partial regions. In each repetitive pattern 110, corresponding pixels receive the subject luminous flux from the same partial area. That is, in the figure, for example, the leftmost pixel of each of the repeated patterns 110t and 110u receives the subject light flux from the same partial region Pf.

撮影光軸21と直交する中心に配列されている繰り返しパターン110tにおいて左端画素が部分領域Pfからの被写体光束を受光する開口部104fの位置と、周辺部分に配列されている繰り返しパターン110uにおいて左端画素が部分領域Pfからの被写体光束を受光する開口部104fの位置は厳密には異なる。しかしながら、機能的な観点からは、部分領域Pfからの被写体光束を受光するための開口マスクという点で、これらを同一種類の開口マスクとして扱うことができる。したがって、図4の例では、撮像素子100上に配列される視差画素のそれぞれは、6種類の開口マスクの一つを備えると言える。   In the repetitive pattern 110t arranged in the center orthogonal to the photographing optical axis 21, the left end pixel in the repetitive pattern 110u arranged in the peripheral portion and the position of the opening 104f where the left end pixel receives the subject light beam from the partial region Pf. However, the position of the opening 104f that receives the subject luminous flux from the partial region Pf is strictly different. However, from a functional point of view, these can be treated as the same type of aperture mask in terms of an aperture mask for receiving the subject light flux from the partial region Pf. Therefore, in the example of FIG. 4, it can be said that each of the parallax pixels arranged on the image sensor 100 includes one of six types of aperture masks.

次に、撮影レンズ20が非合焦状態に存在する被写体31を捉えている場合の、視差画素と被写体の関係を説明する。この場合も、非合焦位置に存在する被写体31からの被写体光束は、撮影レンズ20の瞳の6つの部分領域Pa〜Pfを通過して、撮像素子100へ到達する。ただし、非合焦位置に存在する被写体31からの被写体光束は、光電変換素子108上ではなく他の位置で結像する。例えば、図4(c)に示すように、被写体31が被写体30よりも撮像素子100に対して遠い位置に存在すると、被写体光束は、光電変換素子108よりも被写体31側で結像する。逆に、被写体31が被写体30よりも撮像素子100に対して近い位置に存在すると、被写体光束は、光電変換素子108よりも被写体31とは反対側で結像する。   Next, the relationship between the parallax pixels and the subject when the photographing lens 20 captures the subject 31 existing in the out-of-focus state will be described. Also in this case, the subject luminous flux from the subject 31 present at the out-of-focus position passes through the six partial areas Pa to Pf of the pupil of the photographing lens 20 and reaches the image sensor 100. However, the subject light flux from the subject 31 existing at the out-of-focus position forms an image at another position, not on the photoelectric conversion element 108. For example, as illustrated in FIG. 4C, when the subject 31 exists at a position farther from the imaging element 100 than the subject 30, the subject light flux forms an image on the subject 31 side with respect to the photoelectric conversion element 108. Conversely, when the subject 31 is present at a position closer to the image sensor 100 than the subject 30, the subject luminous flux forms an image on the opposite side of the subject 31 from the photoelectric conversion element 108.

したがって、非合焦位置に存在する被写体31のうち、微小領域Ot'から放射される被写体光束は、6つの部分領域Pa〜Pfのいずれを通過するかにより、異なる組の繰り返しパターン110における対応画素に到達する。例えば、部分領域Pdを通過した被写体光束は、図4(c)の拡大図に示すように、主光線Rd'として、繰り返しパターン110t'に含まれる、開口部104dを有する光電変換素子108へ入射する。そして、微小領域Ot'から放射された被写体光束であっても、他の部分領域を通過した被写体光束は、繰り返しパターン110t'に含まれる光電変換素子108へは入射せず、他の繰り返しパターンにおける対応する開口部を有する光電変換素子108へ入射する。換言すると、繰り返しパターン110t'を構成する各光電変換素子108へ到達する被写体光束は、被写体31の互いに異なる微小領域から放射された被写体光束である。すなわち、開口部104dに対応する108へは主光線をRd'とする被写体光束が入射し、他の開口部に対応する光電変換素子108へは主光線をRa、Rb、Rc、Re、Rfとする被写体光束が入射するが、これらの被写体光束は、被写体31の互いに異なる微小領域から放射された被写体光束である。このような関係は、図4(b)における周辺部分に配列されている繰り返しパターン110uにおいても同様である。 Therefore, the subject luminous flux emitted from the minute region Ot ′ among the subjects 31 existing at the out-of-focus position depends on which of the six partial regions Pa to Pf, the corresponding pixels in the different sets of repetitive patterns 110. To reach. For example, as shown in the enlarged view of FIG. 4C, the subject luminous flux that has passed through the partial region Pd is incident on the photoelectric conversion element 108 having the opening 104d included in the repeated pattern 110t ′ as the principal ray Rd ′. To do. Even if the subject light beam is emitted from the minute region Ot ′, the subject light beam that has passed through another partial region does not enter the photoelectric conversion element 108 included in the repetitive pattern 110t ′, and the repetitive pattern in the other repetitive pattern. The light enters the photoelectric conversion element 108 having a corresponding opening. In other words, the subject luminous flux reaching each photoelectric conversion element 108 constituting the repetitive pattern 110t ′ is a subject luminous flux radiated from different minute areas of the subject 31. That is, a subject luminous flux having a principal ray as Rd ′ is incident on 108 corresponding to the opening 104d, and the principal rays are incident on Ra + , Rb + , Rc + , Re to the photoelectric conversion elements 108 corresponding to the other openings. +, although subject light flux to Rf + is incident, these object light is a subject light flux emitted from different micro region of the object 31. Such a relationship is the same in the repeated pattern 110u arranged in the peripheral portion in FIG.

すると、撮像素子100の全体で見た場合、例えば、開口部104aに対応する光電変換素子108で捉えた被写体像Aと、開口部104dに対応する光電変換素子108で捉えた被写体像Dは、合焦位置に存在する被写体に対する像であれば互いにずれが無く、非合焦位置に存在する被写体に対する像であればずれが生じることになる。そして、そのずれは、非合焦位置に存在する被写体が合焦位置に対してどちら側にどれだけずれているかにより、また、部分領域Paと部分領域Pdの距離により、方向と量が定まる。つまり、被写体像Aと被写体像Dは、互いに視差像となる。この関係は、他の開口部に対しても同様であるので、開口部104aから104fに対応して、6つの視差像が形成されることになる。   Then, when viewed as a whole of the imaging element 100, for example, the subject image A captured by the photoelectric conversion element 108 corresponding to the opening 104a and the subject image D captured by the photoelectric conversion element 108 corresponding to the opening 104d are: If the image is for the subject present at the in-focus position, there is no shift, and if the image is for the subject present at the out-of-focus position, there is a shift. Then, the direction and amount of the shift are determined by how much the subject existing at the out-of-focus position is shifted from the focus position and by the distance between the partial area Pa and the partial area Pd. That is, the subject image A and the subject image D are parallax images. Since this relationship is the same for the other openings, six parallax images are formed corresponding to the openings 104a to 104f.

したがって、このように構成されたそれぞれの繰り返しパターン110において、互いに対応する画素の出力を寄せ集めると、視差画像が得られる。つまり、6つの部分領域Pa〜Pfうちの特定の部分領域から射出された被写体光束を受光した画素の出力は、視差画像を形成する。   Therefore, when the outputs of the pixels corresponding to each other in each of the repetitive patterns 110 configured in this way are collected, a parallax image is obtained. That is, the output of the pixel that has received the subject light beam emitted from a specific partial area among the six partial areas Pa to Pf forms a parallax image.

図5は、視差画像を生成する処理を説明する概念図である。図5は、左列から順に、開口部104fに対応する視差画素の出力を集めて生成される視差画像データIm_fの生成の様子、開口部104eの出力による視差画像データIm_eの生成の様子、開口部104dの出力による視差画像データIm_dの生成の様子、開口部104cの出力による視差画像データIm_cの生成の様子、開口部104bの出力による視差画像データIm_bの生成の様子、開口部104aの出力による視差画像データIm_aの生成の様子を表す。まず開口部104fの出力による視差画像データIm_fの生成の様子について説明する。   FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating processing for generating a parallax image. FIG. 5 illustrates the generation of the parallax image data Im_f generated by collecting the outputs of the parallax pixels corresponding to the opening 104f in order from the left column, the generation of the parallax image data Im_e based on the output of the opening 104e, and the opening. The generation of the parallax image data Im_d by the output of the section 104d, the generation of the parallax image data Im_c by the output of the opening 104c, the generation of the parallax image data Im_b by the output of the opening 104b, and the output of the opening 104a This represents how the parallax image data Im_a is generated. First, how the parallax image data Im_f is generated by the output of the opening 104f will be described.

6つの視差画素を一組とする光電変換素子群から成る繰り返しパターン110は、横一列に配列されている。したがって、開口部104fを有する視差画素は、撮像素子100上において、左右方向に6画素おき、かつ、上下方向に連続して存在する。これら各画素は、上述のようにそれぞれ異なる微小領域からの被写体光束を受光している。したがって、これらの視差画素の出力を寄せ集めて配列すると、視差画像が得られる。   A repeating pattern 110 composed of a group of photoelectric conversion elements each including six parallax pixels is arranged in a horizontal row. Accordingly, the parallax pixels having the opening 104f exist every six pixels in the left-right direction and continuously in the vertical direction on the image sensor 100. Each of these pixels receives the subject luminous flux from different microregions as described above. Therefore, when the outputs of these parallax pixels are collected and arranged, a parallax image is obtained.

しかし、本実施形態における撮像素子100の各画素は正方画素であるので、単に寄せ集めただけでは、横方向の画素数が1/6に間引かれた結果となり、縦長の画像データが生成されてしまう。そこで、補間処理を施して横方向に6倍の画素数とすることにより、本来のアスペクト比の画像として視差画像データIm_fを生成する。ただし、そもそも補間処理前の視差画像データが横方向に1/6に間引かれた画像であるので、横方向の解像度は、縦方向の解像度よりも低下している。つまり、生成される視差画像データの数と、解像度の向上は相反関係にあると言える。   However, since each pixel of the image sensor 100 according to the present embodiment is a square pixel, simply gathering results in the result that the number of pixels in the horizontal direction is reduced to 1/6, and vertically long image data is generated. End up. Therefore, by performing an interpolation process to obtain the number of pixels 6 times in the horizontal direction, the parallax image data Im_f is generated as an image with an original aspect ratio. However, since the parallax image data before the interpolation processing is an image that is thinned by 1/6 in the horizontal direction, the resolution in the horizontal direction is lower than the resolution in the vertical direction. That is, it can be said that the number of generated parallax image data and the improvement in resolution are in a conflicting relationship.

同様にして、視差画像データIm_e〜視差画像データIm_aが得られる。すなわち、デジタルカメラ10は、横方向に視差を有する6視点の視差画像を生成することができる。   Similarly, parallax image data Im_e to parallax image data Im_a are obtained. That is, the digital camera 10 can generate a six-view parallax image having parallax in the horizontal direction.

続いて、図6は、マイクロレンズアレイ101を考慮した場合の部分領域、開口部、および光電変換素子の位置関係を説明する概念図である。図6(a)は、撮影レンズ20の各部分領域Pa1〜Pf1からの光束が、繰り返しパターン110に含まれる、対応する光電変換素子108a〜108fにどのようにして到達するかを説明するための図である。図6(b)は、図6(a)に対応する繰り返しパターン110を示す図である。図6(b)は、図3で説明した繰り返しパターン110と同一であるので、説明を省略する。   Next, FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating the positional relationship between the partial region, the opening, and the photoelectric conversion element when the microlens array 101 is considered. 6A illustrates how light beams from the partial areas Pa1 to Pf1 of the photographing lens 20 reach the corresponding photoelectric conversion elements 108a to 108f included in the repeated pattern 110. FIG. FIG. FIG. 6B is a diagram showing a repetitive pattern 110 corresponding to FIG. FIG. 6B is the same as the repeated pattern 110 described in FIG.

マイクロレンズアレイ101を考慮した場合であっても、部分領域Pa1〜Pf1、開口部104a〜104f、および光電変換素子108a〜108fの位置関係の考え方の骨子は、図4を用いて説明した内容と変わらない。つまり、部分領域Pa1、開口部104a、光電変換素子108aの位置関係について例示すると、部分領域Pa1から射出された被写体光束のみが光電変換素子108aへ到達するように、開口マスク103aの開口部104aの位置が定められる。   Even when the microlens array 101 is considered, the basic concept of the positional relationship among the partial areas Pa1 to Pf1, the openings 104a to 104f, and the photoelectric conversion elements 108a to 108f is the same as the contents described with reference to FIG. does not change. In other words, the positional relationship among the partial region Pa1, the opening 104a, and the photoelectric conversion element 108a is illustrated. Only the subject light beam emitted from the partial region Pa1 reaches the photoelectric conversion element 108a so that the opening 104a of the opening mask 103a can reach the photoelectric conversion element 108a. A position is defined.

ただし、部分領域Pa1から射出された被写体光束の主光線Ra1は、マイクロレンズ111aに対し入射角θで入射すると、マイクロレンズ111aから屈折角θで主光線Ra1'として射出される。したがって、開口部104aの位置は、主光線Ra1がマイクロレンズ111aに入射角θで入射した場合に、屈折角θで射出される主光線Ra1'が対応する光電変換素子108aに到達するように定められている。つまり、マイクロレンズ111aを考慮する場合には、マイクロレンズ111aから射出される主光線Ra1'の傾きにより開口部104aの位置が定められていると言える。ここで、マイクロレンズ111aを構成する樹脂材料は、空気よりも屈折率が大きいので、入射角θ>屈折角θとなる。また、図中の破線31は、主光線Ra1が入射する点における法線を示す。 However, the principal ray Ra1 of the subject light flux emitted from the partial area Pa1 is incident at the incident angle theta 1 with respect to the micro lens 111a, and is emitted as the principal ray Ra1 'in refraction angle theta 2 from the microlens 111a. Accordingly, the position of the opening portion 104a, when the principal ray Ra1 is incident at the incident angle theta 1 to the microlens 111a, so that the principal rays Ra1 'emitted by the refraction angle theta 2 reaches a corresponding photoelectric conversion element 108a It is stipulated in. That is, when the micro lens 111a is considered, it can be said that the position of the opening 104a is determined by the inclination of the principal ray Ra1 ′ emitted from the micro lens 111a. Here, since the resin material constituting the microlens 111a has a refractive index larger than that of air, the incident angle θ 1 > the refraction angle θ 2 is satisfied. Moreover, the broken line 31 in the figure indicates the normal line at the point where the principal ray Ra1 is incident.

同様に、開口部104b〜104fの位置は、マイクロレンズの曲率を考慮した上で、部分領域Pb1〜Pf1から射出された主光線Rb1〜Rf1のそれぞれが、対応する光電変換素子108b〜108fに到達するよう定められている。   Similarly, the positions of the openings 104b to 104f are determined in consideration of the curvature of the microlens, and the principal rays Rb1 to Rf1 emitted from the partial regions Pb1 to Pf1 reach the corresponding photoelectric conversion elements 108b to 108f. It is stipulated to do.

ところで、上述のように、ユーザは、撮影目的に応じて任意の交換レンズをカメラ本体200へ装着することができる。そうすると、カメラ本体200に装着された交換レンズによっては、当該交換レンズ内の撮影レンズの各部分領域から射出された被写体光束が、対応する光電変換素子へ到達しない場合が考えられる。   By the way, as described above, the user can attach an arbitrary interchangeable lens to the camera body 200 according to the photographing purpose. Then, depending on the interchangeable lens attached to the camera body 200, the subject luminous flux emitted from each partial area of the photographing lens in the interchangeable lens may not reach the corresponding photoelectric conversion element.

図7は、交換レンズが取り替えられた場合の問題点を説明するための図である。図7(a)は、交換レンズ300内の撮影レンズ20、交換レンズ400内の撮影レンズ40、および撮像素子100の位置関係を示す図である。ここでは、ユーザによって交換レンズ300から交換レンズ400に取り替えられることによって、各部分領域が光軸方向に平行移動する場合を想定している。また、図7は、撮像素子100のうち撮影光軸21と直交する中心に配列されている繰り返しパターン110tの光電変換素子群を示し、被写体30は、撮影レンズ20に対して合焦位置に存在する。撮影レンズ20の焦点距離をf1、撮影レンズ20の焦点距離をf2、撮影レンズ20および撮影レンズ40のレンズ瞳径をDとする。図7(a)に示すように、交換レンズ300から交換レンズ400に取り替えられることによって、焦点距離がf1からf2に変わる。ここで、f2>f1である。   FIG. 7 is a diagram for explaining a problem when the interchangeable lens is replaced. FIG. 7A is a diagram illustrating a positional relationship between the photographing lens 20 in the interchangeable lens 300, the photographing lens 40 in the interchangeable lens 400, and the image sensor 100. Here, it is assumed that each partial region is translated in the optical axis direction when the user replaces the interchangeable lens 300 with the interchangeable lens 400. FIG. 7 shows a photoelectric conversion element group of a repeating pattern 110t arranged at the center orthogonal to the photographing optical axis 21 in the image pickup element 100, and the subject 30 exists at a focus position with respect to the photographing lens 20. To do. The focal length of the taking lens 20 is f1, the focal length of the taking lens 20 is f2, and the lens pupil diameters of the taking lens 20 and the taking lens 40 are D. As shown in FIG. 7A, the focal length is changed from f1 to f2 by replacing the interchangeable lens 300 with the interchangeable lens 400. Here, f2> f1.

図7(b)は、撮像面近傍の拡大図である。図7(b)は、マイクロレンズアレイ移動部112が変位していない状態を示している。マイクロレンズアレイ移動部112が変位していない状態を基準状態という。マイクロレンズアレイ移動部112は、例えば非通電時に基準状態となる。基準状態でのマイクロレンズアレイ移動部112の厚みを基準値hとする。なお、図7(a)、図7(b)において、撮影レンズ20の各部分領域Pa1〜Pf1からの光束を実線で、撮影レンズ40の各部分領域Pa2〜Pf2からの光束を破線で示す。図7(c)は、図7(b)に対応する繰り返しパターン110を示す図である。 FIG. 7B is an enlarged view of the vicinity of the imaging surface. FIG. 7B shows a state where the microlens array moving unit 112 is not displaced. A state in which the microlens array moving unit 112 is not displaced is referred to as a reference state. For example, the microlens array moving unit 112 is in a reference state when not energized. The thickness of the microlens array moving section 112 in the reference state as the reference value h 0. In FIG. 7A and FIG. 7B, the light beams from the partial areas Pa1 to Pf1 of the photographing lens 20 are indicated by solid lines, and the light beams from the partial areas Pa2 to Pf2 of the photographing lens 40 are indicated by broken lines. FIG. 7C shows a repetitive pattern 110 corresponding to FIG.

図7(b)に示すように、撮影レンズ20の各部分領域Pa1〜Pf1から射出された被写体光束の主光線Ra1〜Rf1は、対応する開口部104a〜104fを通過してそれぞれ光電変換素子108a〜108fに到達する。一方、撮影レンズ40の各部分領域Pa2〜Pf2から射出された被写体光束の主光線Ra2〜Rf2の少なくとも一部は、対応する光電変換素子108a〜108fに到達しない。例えば、主光線Ra2は、マイクロレンズ111aに対し入射角θで入射し、マイクロレンズ111aから屈折角θで主光線Ra2'として射出されるが、主光線Ra2'は、光電変換素子108aに到達しない。主光線Ra2が光電変換素子108aに到達しない理由は、次の通りである。 As shown in FIG. 7B, the principal rays Ra1 to Rf1 of the subject luminous flux emitted from the partial areas Pa1 to Pf1 of the photographing lens 20 pass through the corresponding openings 104a to 104f, respectively, and the photoelectric conversion elements 108a. ~ 108f is reached. On the other hand, at least some of the principal rays Ra2 to Rf2 of the subject light beam emitted from the partial areas Pa2 to Pf2 of the photographing lens 40 do not reach the corresponding photoelectric conversion elements 108a to 108f. For example, the principal ray Ra2 is incident at an incident angle theta 3 to microlenses 111a, 'but is emitted as the principal ray Ra2' principal ray Ra2 refraction angle theta 4 from the microlens 111a is a photoelectric conversion element 108a Not reach. The reason why the principal ray Ra2 does not reach the photoelectric conversion element 108a is as follows.

光電変換素子108aと開口部104aの位置関係は、交換レンズ300が装着された場合を前提にして、撮影レンズ20の部分領域Pa1に対応して定められている。したがって、図7(a)に示すように、交換レンズ400が装着されることによって焦点距離が変化すると、光軸21と交差する被写体30上の微小領域Otから放射される光束は、部分領域Pa2に、交換レンズ300における対応する部分領域Pa1に対する角度と異なる角度で入射する。そうすると、各部分領域Pa1、Pa2で屈折した光束の主光線Ra1、Ra2は、それぞれ異なる角度で撮像素子100に向かうことになる。その結果、主光線Ra2は、交換レンズ300の部分領域Pa1に対して定められた開口部104aからずれた位置に到達してしまう。ここでは、主光線Ra2は、対応するマイクロレンズ111aに入射するものの、マイクロレンズ111aから射出される光束の主光線Ra2'の傾きは、主光線Ra1'とは異なっている。つまり、光電変換素子108aと開口部104aの位置関係が固定された状態は変わらずに、主光線Ra2のマイクロレンズ111aへの入射角が変わり、その結果、マイクロレンズ111aから射出される光束の主光線Ra2'の傾きも、主光線Ra1'とは異なっている。   The positional relationship between the photoelectric conversion element 108a and the opening 104a is determined corresponding to the partial area Pa1 of the photographing lens 20 on the assumption that the interchangeable lens 300 is attached. Therefore, as shown in FIG. 7A, when the focal length is changed by mounting the interchangeable lens 400, the light beam emitted from the minute region Ot on the subject 30 intersecting the optical axis 21 is changed to the partial region Pa2. Are incident on the interchangeable lens 300 at an angle different from the angle with respect to the corresponding partial region Pa1. Then, the principal rays Ra1 and Ra2 of the light beams refracted in the partial areas Pa1 and Pa2 are directed to the image sensor 100 at different angles. As a result, the principal ray Ra2 reaches a position shifted from the opening 104a defined for the partial area Pa1 of the interchangeable lens 300. Here, the principal ray Ra2 is incident on the corresponding microlens 111a, but the inclination of the principal ray Ra2 ′ of the light beam emitted from the microlens 111a is different from that of the principal ray Ra1 ′. That is, the state in which the positional relationship between the photoelectric conversion element 108a and the opening 104a is fixed is not changed, and the incident angle of the principal ray Ra2 to the microlens 111a is changed. As a result, the main light flux emitted from the microlens 111a is changed. The inclination of the light ray Ra2 ′ is also different from that of the principal ray Ra1 ′.

上述のように、マイクロレンズ111aから射出される主光線Ra1'の傾きにより開口部104aの位置が定められているので、主光線Ra1'の傾きとは異なる主光線Ra2'は、対応する光電変換素子108aに到達しないのである。同様の理由によって、主光線Rb2、Re2、Rf2は、対応する光電変換素子108b、108e、108fに到達しない。なお、ここでは、主光線Rc2、Rd2は、マイクロレンズへの入射角が主光線Rc1、Rd1の場合と変わっていないので、対応する光電変換素子108c、108dに到達している。   As described above, since the position of the opening 104a is determined by the inclination of the principal ray Ra1 ′ emitted from the microlens 111a, the principal ray Ra2 ′ different from the inclination of the principal ray Ra1 ′ has a corresponding photoelectric conversion. The element 108a is not reached. For the same reason, the principal rays Rb2, Re2, and Rf2 do not reach the corresponding photoelectric conversion elements 108b, 108e, and 108f. Here, the principal rays Rc2 and Rd2 reach the corresponding photoelectric conversion elements 108c and 108d because the incident angles to the microlenses are not different from those of the principal rays Rc1 and Rd1.

本実施形態では、交換レンズ300が交換レンズ400に取り替えられた場合に、移動制御部212は、交換レンズ400内の撮影レンズ40のレンズ情報に応じて、マイクロレンズアレイ移動部112を制御してマイクロレンズアレイ101を光軸方向に移動させる。マイクロレンズアレイ101が移動することによって、撮影レンズ40の各部分領域Pa2〜Pf2からの主光線Ra2〜Rf2の、マイクロレンズへの入射角が変化する。主光線Ra2〜Rf2の、マイクロレンズへの入射角が変化することによって、マイクロレンズから射出される主光線の屈折角が変化する。したがって、撮影レンズ40のレンズ情報に応じてマイクロレンズアレイ101が移動されることによって、各主光線Ra2〜Rf2を対応する光電変換部108a〜108fに導くことができる。よって、本実施形態のデジタルカメラ10は、光電変換素子108a〜108fと開口部104a〜104fの位置関係が固定された状態において、装着されるレンズに関わらず、適切な視差画像を生成することができる。交換レンズが取り替えられた場合の移動制御部212の制御内容について、図8を用いて詳細に説明する。   In this embodiment, when the interchangeable lens 300 is replaced with the interchangeable lens 400, the movement control unit 212 controls the microlens array moving unit 112 according to the lens information of the photographing lens 40 in the interchangeable lens 400. The microlens array 101 is moved in the optical axis direction. As the microlens array 101 moves, the incident angles on the microlenses of the principal rays Ra2 to Rf2 from the partial areas Pa2 to Pf2 of the photographing lens 40 change. When the incident angles of the principal rays Ra2 to Rf2 to the microlens change, the refraction angle of the principal ray emitted from the microlens changes. Therefore, by moving the microlens array 101 according to the lens information of the photographing lens 40, the principal rays Ra2 to Rf2 can be guided to the corresponding photoelectric conversion units 108a to 108f. Therefore, the digital camera 10 according to the present embodiment can generate an appropriate parallax image regardless of the attached lens in a state where the positional relationship between the photoelectric conversion elements 108a to 108f and the openings 104a to 104f is fixed. it can. The control contents of the movement control unit 212 when the interchangeable lens is replaced will be described in detail with reference to FIG.

図8は、撮影レンズ40の各部分領域Pa2〜Pf2からの主光線Ra2〜Rf2の進路を説明するための図である。図8(a)は、マイクロレンズアレイ移動部112が基準状態にある状態、すなわちマイクロレンズアレイ101が移動される前の状態を示す図である。図8(c)は、マイクロレンズアレイ101が移動された後の状態を示す図である。図8(a)は、図7(b)と同一であるので説明を省略する。図8(b)、図8(d)は、図8(a)、図8(c)に対応する繰り返しパターン110を示す図である。   FIG. 8 is a diagram for explaining the paths of the principal rays Ra2 to Rf2 from the partial areas Pa2 to Pf2 of the photographing lens 40. FIG. FIG. 8A is a diagram illustrating a state in which the microlens array moving unit 112 is in a reference state, that is, a state before the microlens array 101 is moved. FIG. 8C is a diagram showing a state after the microlens array 101 is moved. Since FIG. 8A is the same as FIG. 7B, the description thereof is omitted. FIGS. 8B and 8D are diagrams showing a repetitive pattern 110 corresponding to FIGS. 8A and 8C.

図8(c)に示すように、マイクロレンズアレイ101は、マイクロレンズアレイ移動部112によって、変位量hだけz軸のマイナス方向へ移動している。その結果、例えば主光線Ra2は、マイクロレンズ111aに入射角θで入射し、マイクロレンズ111aから屈折角θで主光線Ra2''として射出される。なお、図中の破線32は、主光線Ra2が入射する点における法線を示す。 As shown in FIG. 8C, the microlens array 101 is moved in the minus direction of the z axis by the displacement amount h by the microlens array moving unit 112. As a result, for example, the principal ray Ra2 is incident at an incident angle theta 5 the microlens 111a, and is emitted as the principal ray Ra2 '' in refraction angle theta 6 from the microlens 111a. In addition, the broken line 32 in a figure shows the normal line in the point which principal ray Ra2 injects.

ここで、主光線Ra2''と光軸に平行な線22がなす角θ56は、図8(a)に示す、主光線Ra1'と光軸に平行な線22がなす角θ12と同一の角度である。上述のように、開口部104aは、主光線Ra1がマイクロレンズ111aに入射角θで入射した場合に、屈折角θで射出される主光線Ra1'が対応する光電変換素子108aに到達するように定められている。主光線Ra1'と光軸に平行な線22とのなす角θ12、すなわち光電変換素子108aに入射可能な主光線の角度は、光電変換素子108aと開口マスク103aにおける開口部104aの位置関係によって一意に定まる。つまり、マイクロレンズ111aから射出される主光線と光軸に平行な線22とのなす角が、開口部104aの位置に対して一意に定められた角度になれば、当該主光線は、対応する光電変換素子108aに到達することになる。 Same Here, the principal ray Ra2 '' and the angle is a line parallel 22 to the optical axis theta 56 is shown in FIG. 8 (a), the principal ray Ra1 'and the angle theta 12 line 22 parallel to the optical axis Is the angle. As described above, the opening 104a is the principal ray Ra1 is when incident at an incident angle theta 1 to the microlens 111a, the main ray Ra1 'emitted by the refraction angle theta 2 reaches a corresponding photoelectric conversion element 108a It is prescribed as follows. The angle θ 12 formed between the principal ray Ra1 ′ and the line 22 parallel to the optical axis, that is, the angle of the principal ray that can enter the photoelectric conversion element 108a depends on the positional relationship between the photoelectric conversion element 108a and the opening 104a in the opening mask 103a. Determined uniquely. That is, if the angle formed between the principal ray emitted from the microlens 111a and the line 22 parallel to the optical axis is an angle that is uniquely determined with respect to the position of the opening 104a, the principal ray corresponds. The light reaches the photoelectric conversion element 108a.

そこで、移動制御部212は、マイクロレンズ111aから射出される主光線が、角度θ12に一致するよう、部分領域Pa2から射出される主光線の、マイクロレンズ111aへの入射角を、マイクロレンズアレイ101を移動させることによって調整する。別言すると、マイクロレンズ111aから角度θ12で射出される主光線が、部分領域Pa2から射出される主光線となるようマイクロレンズアレイ101を移動させる。交換レンズ400が装着されてからマイクロレンズアレイ101が移動されるまでの移動制御部212の詳細な処理は、次の通りである。 Therefore, the movement control unit 212, the principal ray emitted from the microlens 111a is, to match the angle theta 12, the principal rays emitted from the partial area Pa2, the incident angle of the microlens 111a, the microlens array Adjustment is performed by moving 101. With other words, the chief ray emitted at an angle theta 12 from the microlens 111a moves the microlens array 101 so that the principal ray emitted from the partial area Pa2. Detailed processing of the movement control unit 212 from when the interchangeable lens 400 is mounted to when the microlens array 101 is moved is as follows.

移動制御部212は、交換レンズ400が装着されたことを検知すると、交換レンズ400のレンズシステム制御部を介して、撮影レンズ40のレンズ情報を取得する。移動制御部212は、例えば、カメラ本体制御部201とレンズシステム制御部301の通信の接続が確立されたことを検知することによって、交換レンズが装着されたことを検知することができる。   When the movement control unit 212 detects that the interchangeable lens 400 is attached, the movement control unit 212 acquires lens information of the photographing lens 40 via the lens system control unit of the interchangeable lens 400. For example, the movement control unit 212 can detect that the interchangeable lens is mounted by detecting that communication connection between the camera body control unit 201 and the lens system control unit 301 is established.

交換レンズ400内のメモリには、撮影レンズ40のレンズ情報として瞳位置情報、焦点距離情報、開放絞り値情報、レンズ瞳径情報等が記憶されている。ここでは、各部分領域が平行移動する場合を想定しているので、移動制御部212は、交換レンズ400のレンズシステム制御部を介して焦点距離情報を取得する。そして、移動制御部212は、カメラメモリ214に記憶されたルックアップテーブルを参照し、取得した焦点距離情報に対応する変位量hを決定する。移動制御部212は、変位量hに応じた駆動電圧をマイクロレンズアレイ移動部112に与えることによって、マイクロレンズアレイ101を移動させる。以上、説明したように、移動制御部212は、マイクロレンズアレイ101を移動させることによって、各部分領域Pa2〜Pf2からの主光線を対応する光電変換素子108a〜108fに導くことができる。   The memory in the interchangeable lens 400 stores pupil position information, focal length information, full aperture value information, lens pupil diameter information, and the like as lens information of the photographing lens 40. Here, since it is assumed that each partial region moves in parallel, the movement control unit 212 acquires focal length information via the lens system control unit of the interchangeable lens 400. Then, the movement control unit 212 refers to the look-up table stored in the camera memory 214 and determines the displacement amount h corresponding to the acquired focal length information. The movement control unit 212 moves the microlens array 101 by giving the microlens array moving unit 112 a drive voltage corresponding to the displacement amount h. As described above, the movement control unit 212 can guide chief rays from the partial regions Pa2 to Pf2 to the corresponding photoelectric conversion elements 108a to 108f by moving the microlens array 101.

なお、繰り返しパターン110における右端の視差画素について、部分領域Pa2からの主光線が対応する光電変換素子108aに入射するよう調整してもよい。繰り返しパターン110の端部の視差画素は、部分領域から射出される主光線のズレ量がもっとも大きいので、当該視差画素について部分領域Pa2からの主光線が対応する光電変換素子108aに入射するよう調整されれば、繰り返しパターン110の他の視差画素に対しても同様の結果が期待される。   Note that the rightmost parallax pixel in the repetitive pattern 110 may be adjusted so that the chief ray from the partial region Pa2 enters the corresponding photoelectric conversion element 108a. The parallax pixels at the end of the repetitive pattern 110 have the largest amount of shift of the principal ray emitted from the partial area, and therefore the principal ray from the partial area Pa2 is adjusted so that the parallax pixel enters the corresponding photoelectric conversion element 108a. Then, the same result is expected for other parallax pixels of the repetitive pattern 110.

以上、本実施形態のデジタルカメラ10によれば、装着される交換レンズに応じて、撮影レンズの各部分領域から射出される主光線の入射角が調整される。したがって、デジタルカメラ10は、装着される交換レンズに依存することなく、視差画像を生成することができる。   As described above, according to the digital camera 10 of the present embodiment, the incident angle of the principal ray emitted from each partial region of the photographing lens is adjusted according to the interchangeable lens to be mounted. Therefore, the digital camera 10 can generate a parallax image without depending on the interchangeable lens to be mounted.

次に、デジタルカメラ10におけるマイクロレンズアレイ101を移動させる構成を、開口マスク103を移動させる構成に替えた一変形例について説明する。図9は、開口マスク103を移動させる構成を説明するための図である。図9(a)は、開口マスク103が移動される前の状態を示す図である。図9(a)では、撮影レンズ20、撮影レンズ40の図示を省略しているが、図7(a)と同様、主光線Ra1〜Rf1および主光線Ra2〜Rf2はそれぞれ、撮影レンズ20の部分領域Pa1〜Pf1、撮影レンズ40の部分領域Pa2〜Pf2から射出される。また、ユーザによって交換レンズ300から交換レンズ400に取り替えられることによって、各部分領域が光軸方向に平行移動するものとする。図9(c)は、開口マスク103が移動された後の状態を示す図である。図9(b)、図9(d)は、図9(a)、図9(c)に対応する繰り返しパターン110を示す図である。ここでは、繰り返しパターン110は、紙面の右側に向かって、紙面右側から左側へ徐々にシフトする開口マスク103をそれぞれ有する6つの視差画素を一組とする光電変換素子群である。   Next, a modification in which the configuration for moving the microlens array 101 in the digital camera 10 is replaced with the configuration for moving the aperture mask 103 will be described. FIG. 9 is a diagram for explaining a configuration for moving the opening mask 103. FIG. 9A is a diagram showing a state before the aperture mask 103 is moved. In FIG. 9A, the photographic lens 20 and the photographic lens 40 are not shown. However, as in FIG. 7A, the principal rays Ra1 to Rf1 and the principal rays Ra2 to Rf2 are portions of the photographic lens 20, respectively. The light is emitted from the areas Pa1 to Pf1 and the partial areas Pa2 to Pf2 of the photographing lens 40. In addition, it is assumed that each partial region is translated in the optical axis direction when the user replaces the interchangeable lens 300 with the interchangeable lens 400. FIG. 9C shows a state after the opening mask 103 has been moved. FIGS. 9B and 9D are diagrams showing the repetitive pattern 110 corresponding to FIGS. 9A and 9C. Here, the repetitive pattern 110 is a photoelectric conversion element group that includes a set of six parallax pixels each having an opening mask 103 that gradually shifts from the right side to the left side toward the right side of the page.

図9(a)、図9(b)に示すように、本変形例に係る撮像素子100では、被写体側から順に、開口マスクアレイ114、開口マスクアレイ移動部113、マイクロレンズアレイ101、光電変換素子アレイ115が配置されている。開口マスクアレイ移動部113は、マイクロレンズアレイ移動部112と同様、例えば圧電素子である。開口マスクアレイ移動部113は、光電変換素子108が配列された平面に直交する成分を含むように開口マスクアレイ114を移動させる。ここでは、開口マスクアレイ移動部113は、開口マスクアレイ114の裏面に配置され、移動制御部212から入力される駆動電圧に応じて伸縮することによって開口マスクアレイ114をz軸方向に移動させる。   As shown in FIGS. 9A and 9B, in the imaging device 100 according to this modification, the aperture mask array 114, the aperture mask array moving unit 113, the microlens array 101, and the photoelectric conversion are sequentially performed from the subject side. An element array 115 is arranged. The aperture mask array moving unit 113 is, for example, a piezoelectric element, like the microlens array moving unit 112. The aperture mask array moving unit 113 moves the aperture mask array 114 so as to include a component orthogonal to the plane on which the photoelectric conversion elements 108 are arranged. Here, the aperture mask array moving unit 113 is disposed on the back surface of the aperture mask array 114, and moves the aperture mask array 114 in the z-axis direction by expanding and contracting according to the drive voltage input from the movement control unit 212.

図9(a)に示すように、主光線Ra1〜Rf1がそれぞれ対応する光電変換素子108a〜108fに入射するのに対し、主光線Ra2〜Rf2の少なくとも一部は、対応する光電変換素子108a〜108fに入射しない。光電変換素子108aと開口部104aを例に挙げて説明すると、光電変換素子108aと開口マスク103aにおける開口部104aの位置関係によって定まる、入射可能な光線角は、撮影レンズ20に対して定められているからである。他の光電変換素子108b〜108fと開口部104b〜104fについても同様のことが言える。   As shown in FIG. 9A, the principal rays Ra1 to Rf1 are incident on the corresponding photoelectric conversion elements 108a to 108f, respectively, whereas at least a part of the principal rays Ra2 to Rf2 is associated with the corresponding photoelectric conversion elements 108a to 108f. No incident on 108f. The photoelectric conversion element 108a and the opening 104a will be described as an example. The incident light angle determined by the positional relationship between the photoelectric conversion element 108a and the opening 104a in the opening mask 103a is determined with respect to the photographing lens 20. Because. The same applies to the other photoelectric conversion elements 108b to 108f and the openings 104b to 104f.

本変形例では、移動制御部212が開口マスクアレイ移動部113を制御して開口マスクアレイ114を光軸方向に移動させることによって、光電変換素子に入射可能な光線角を、撮影レンズ40のレンズ情報に応じて調節する。本変形例では、カメラメモリ214は、開口マスク103aの開口部104aの位置を示す位置情報を記憶している。移動制御部212は、撮影レンズ40のレンズ情報としての焦点距離情報と位置情報を取得し、焦点距離情報と位置情報に応じて、部分領域Pa2から射出された主光線が開口部104aを通過するよう、開口マスクアレイ114の変位量hを算出する。そして、開口マスクアレイ114が開口マスクアレイ移動部113によって変位量hだけ移動されることによって、図9(c)に示すように、例えば主光線Ra2は、開口部104aを通過し、マイクロレンズ111aを透過して光電変換素子108aに到達することができる。   In this modification, the movement control unit 212 controls the aperture mask array moving unit 113 to move the aperture mask array 114 in the optical axis direction, thereby changing the light beam angle that can be incident on the photoelectric conversion element to the lens of the photographing lens 40. Adjust according to the information. In this modification, the camera memory 214 stores position information indicating the position of the opening 104a of the opening mask 103a. The movement control unit 212 acquires focal length information and position information as lens information of the photographic lens 40, and the principal ray emitted from the partial region Pa2 passes through the opening 104a according to the focal length information and the position information. Thus, the displacement amount h of the aperture mask array 114 is calculated. Then, when the aperture mask array 114 is moved by the displacement amount h by the aperture mask array moving unit 113, as shown in FIG. 9C, for example, the principal ray Ra2 passes through the aperture 104a and the microlens 111a. And can reach the photoelectric conversion element 108a.

なお、ここでは、繰り返しパターン110における右端の視差画素のみに言及したが、上述のように、各部分領域Pa2〜Pf2から射出される主光線Ra2〜Rf2の、対応する開口部からのズレ量は、繰り返しパターン110の両端部の視差画素で最も大きくなる。したがって、開口マスクアレイ114を移動させることにより、他の視差画素についても同様のことが起こる。つまり、撮影レンズ40の各部分領域Pb2〜Pf2からの主光線Rb2〜Rf2の、対応する開口部への入射角を変化させることによって、各主光線Rb2〜Rf2を対応する光電変換部108b〜108fに導くことができる。   Here, only the parallax pixel at the right end in the repetitive pattern 110 is mentioned, but as described above, the amount of deviation from the corresponding opening of the principal rays Ra2 to Rf2 emitted from the partial regions Pa2 to Pf2 is as follows. The parallax pixels at both ends of the repeated pattern 110 are the largest. Therefore, by moving the aperture mask array 114, the same thing occurs for other parallax pixels. That is, by changing the incident angles of the principal rays Rb2 to Rf2 from the partial regions Pb2 to Pf2 of the photographing lens 40 to the corresponding apertures, the photoelectric conversion portions 108b to 108f corresponding to the principal rays Rb2 to Rf2 are changed. Can lead to.

なお、本変形例では、開口マスクアレイ114がマイクロレンズアレイ101の上方に形成されたが、開口マスクアレイ114は、マイクロレンズアレイ101と光電変換素子アレイ115の間に配置されてもよい。この場合、マイクロレンズアレイ101と開口マスクアレイ114の間には、空間が存在することになる。   In this modification, the aperture mask array 114 is formed above the microlens array 101, but the aperture mask array 114 may be disposed between the microlens array 101 and the photoelectric conversion element array 115. In this case, a space exists between the microlens array 101 and the aperture mask array 114.

以上の説明においては、横一列を繰り返しパターン110として周期的に配列される例を説明したが、繰り返しパターン110はこれに限らない。図10は、繰り返しパターン110の他の例を示す図である。   In the above description, an example in which a horizontal row is periodically arranged as a repeating pattern 110 has been described, but the repeating pattern 110 is not limited to this. FIG. 10 is a diagram illustrating another example of the repetitive pattern 110.

図10(a)は、縦6画素を繰り返しパターン110とした例である。ただし、それぞれの開口部104は、紙面上端の視差画素から下に向かって、紙面左側から右側へ徐々にシフトするように位置が定められている。このように配列された繰り返しパターン110によっても、横方向に視差を与える6視点の視差画像を生成することができる。この場合は、図3の繰り返しパターン110に比較すると、縦方向の解像度を犠牲にする代わりに横方向の解像度を維持する繰り返しパターンであると言える。   FIG. 10A shows an example in which a vertical pattern of 6 pixels is used as a repeating pattern 110. However, the positions of the respective openings 104 are determined so as to gradually shift from the left side to the right side of the drawing from the parallax pixel at the top of the drawing to the bottom. Also with the repeated pattern 110 arranged in this way, it is possible to generate a six-view parallax image that gives parallax in the horizontal direction. In this case, compared to the repetitive pattern 110 in FIG. 3, it can be said that the repetitive pattern maintains the horizontal resolution instead of sacrificing the vertical resolution.

図10(b)は、斜め方向に隣接する6画素を繰り返しパターン110とした例である。それぞれの開口部104は、紙面左上端の視差画素から右下に向かって、紙面左側から右側へ徐々にシフトするように位置が定められている。このように配列された繰り返しパターン110によっても、横方向に視差を与える6視点の視差画像を生成することができる。この場合は、図3の繰り返しパターン110に比較すると、縦方向の解像度および横方向の解像度をある程度維持しつつ、視差画像の数を増やす繰り返しパターンであると言える。   FIG. 10B is an example in which six pixels adjacent in the oblique direction are used as the repeated pattern 110. The positions of the openings 104 are determined so as to gradually shift from the left side to the right side of the drawing from the parallax pixel at the upper left corner of the drawing toward the lower right. Also with the repeated pattern 110 arranged in this way, it is possible to generate a six-view parallax image that gives parallax in the horizontal direction. In this case, compared to the repetitive pattern 110 in FIG. 3, it can be said that the repetitive pattern increases the number of parallax images while maintaining the vertical resolution and the horizontal resolution to some extent.

図3の繰り返しパターン110、および図10(a)(b)の繰り返しパターン110をそれぞれ比較すると、いずれも6視点の視差画像を生成する場合において、視差画像でない全体から一枚の画像を出力する場合の解像度に対し、縦方向、横方向のいずれの方向の解像度を犠牲にするかの違いであると言える。図3の繰り返しパターン110の場合は、横方向の解像度を1/6とする構成である。図10(a)の繰り返しパターン110の場合は、縦方向の解像度を1/6とする構成である。また、図10(b)の繰り返しパターン110の場合は、縦方向を1/3、横方向を1/2とする構成である。いずれの場合も、一つのパターン内には、各画素に対応して開口部104a〜104fが一つずつ設けられており、それぞれが対応する部分領域Pa〜Pfのいずれかから被写体光束を受光するように構成されている。したがって、いずれの繰り返しパターン110であっても視差量は同等である。   When the repeating pattern 110 in FIG. 3 and the repeating pattern 110 in FIGS. 10A and 10B are respectively compared, when generating parallax images with six viewpoints, one image is output from the whole that is not a parallax image. It can be said that this is the difference between sacrificing the resolution in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the resolution in the case. In the case of the repetitive pattern 110 in FIG. 3, the horizontal resolution is set to 1/6. In the case of the repetitive pattern 110 in FIG. 10A, the vertical resolution is 1/6. In the case of the repetitive pattern 110 in FIG. 10B, the vertical direction is 1/3 and the horizontal direction is 1/2. In any case, one opening 104a to 104f is provided corresponding to each pixel in one pattern, and the subject luminous flux is received from one of the corresponding partial areas Pa to Pf. It is configured as follows. Accordingly, the parallax amount is the same for any of the repeated patterns 110.

また、デジタルカメラ10は、左右方向に視差を与える視差画像を生成するだけではなく、上下方向に視差を与える視差画像を生成することもできるし、上下左右の二次元方向に視差を与える視差画像を生成することもできる。図11は、二次元的な繰り返しパターン110の例を示す図である。   Further, the digital camera 10 can generate not only a parallax image that gives a parallax in the left-right direction, but also a parallax image that gives a parallax in the vertical direction, and a parallax image that gives a parallax in the two-dimensional direction in the vertical and horizontal directions Can also be generated. FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a two-dimensional repetitive pattern 110.

図11の例によれば、縦6画素横6画素の36画素を一組の光電変換素子群として繰り返しパターン110を形成する。それぞれの画素に対する開口部104の位置として、互いに上下左右方向にシフトした36種類の開口マスク103が用意されている。具体的には、各開口部104は、繰り返しパターン110の上端画素から下端画素に向かって、上側から下側へ徐々にシフトすると同時に、左端画素から右端画素に向かって、左側から右側へ徐々にシフトするように位置決めされている。   According to the example of FIG. 11, the repetitive pattern 110 is formed using 36 pixels of 6 pixels in the vertical direction and 6 pixels in the horizontal direction as a set of photoelectric conversion element groups. As the position of the opening 104 for each pixel, 36 types of opening masks 103 that are shifted in the vertical and horizontal directions are prepared. Specifically, each opening 104 gradually shifts from the upper side to the lower side from the upper end pixel to the lower end pixel of the repetitive pattern 110, and at the same time, gradually from the left end pixel to the right end pixel, from the left side to the right side. Positioned to shift.

このような繰り返しパターン110を有する撮像素子100は、上下方向および左右方向に視差を与える、36視点の視差画像を出力することができる。もちろん図11の例に限らず、さまざまな視点数の視差画像を出力するように繰り返しパターン110を定めることができる。   The image sensor 100 having such a repeating pattern 110 can output a parallax image of 36 viewpoints that gives parallax in the vertical direction and the horizontal direction. Of course, the pattern 110 is not limited to the example in FIG.

以上の説明においては、開口部104の形状として矩形を採用した。特に、横方向に視差を与える配列においては、シフトさせる方向である左右方向の幅よりも、シフトさせない上下方向の幅を広くすることにより、光電変換素子108へ導く光量を確保している。しかし、開口部104の形状は矩形に限定されない。   In the above description, a rectangle is adopted as the shape of the opening 104. In particular, in an array that gives parallax in the horizontal direction, the amount of light guided to the photoelectric conversion element 108 is ensured by making the width in the vertical direction that is not shifted wider than the width in the horizontal direction that is the shift direction. However, the shape of the opening 104 is not limited to a rectangle.

図12は、開口部104の他の形状を説明する図である。図12においては、開口部104の形状を円形とした。円形とした場合、半球形状であるマイクロレンズ111との相対的な関係から、予定外の被写体光束が迷光となって光電変換素子108へ入射することを防ぐことができる。   FIG. 12 is a diagram for explaining another shape of the opening 104. In FIG. 12, the shape of the opening 104 is circular. In the case of a circular shape, it is possible to prevent unscheduled subject light flux from entering the photoelectric conversion element 108 as stray light because of the relative relationship with the microlens 111 having a hemispherical shape.

次に、カラーフィルタ102と視差画像について説明する。図13は、ベイヤー配列を説明する図である。図示するように、ベイヤー配列は、緑フィルタが左上と右下の2画素に、赤フィルタが左下の1画素に、青フィルタが右上の1画素に割り当てられる配列である。ここでは、緑フィルタが割り当てられた左上の画素をGb画素と、同じく緑色フィルタが割り当てられた右下の画素をGr画素とする。また、赤色フィルタが割り当てられた画素をR画素と、青色が割り当てられた画素をB画素とする。そして、Gb画素およびB画素が並ぶ横方向をGb行とし、R画素およびGr画素が並ぶ横方向をGr行とする。また、Gb画素およびR画素が並ぶ縦方向をGb列とし、B画素およびGr画素が並ぶ縦方向をGr列とする。   Next, the color filter 102 and the parallax image will be described. FIG. 13 is a diagram illustrating the Bayer arrangement. As shown in the figure, the Bayer array is an array in which the green filter is assigned to the upper left and lower right pixels, the red filter is assigned to the lower left pixel, and the blue filter is assigned to the upper right pixel. Here, the upper left pixel to which the green filter is assigned is the Gb pixel, and the lower right pixel to which the green filter is assigned is the Gr pixel. In addition, a pixel to which a red filter is assigned is an R pixel, and a pixel to which blue is assigned is a B pixel. A horizontal direction in which Gb pixels and B pixels are arranged is defined as Gb row, and a horizontal direction in which R pixels and Gr pixels are arranged is defined as Gr row. A vertical direction in which Gb pixels and R pixels are arranged is a Gb column, and a vertical direction in which B pixels and Gr pixels are arranged is a Gr column.

このようなカラーフィルタ102の配列に対して、視差画素と視差なし画素を、何色の画素にどのような周期で割り振っていくかにより、膨大な数の繰り返しパターン110が設定され得る。視差なし画素の出力を集めれば、通常の撮影画像と同じく視差のない撮影画像データを生成することができる。したがって、相対的に視差なし画素の割合を増やせば、解像度の高い2D画像を出力させることができる。この場合、視差画素は相対的に少ない割合となるので、複数の視差画像からなる3D画像としては画質が低下する。逆に、視差画素の割合を増やせば、3D画像としては画質が向上するが、視差なし画素は相対的に減少するので、解像度の低い2D画像が出力される。   With respect to such an arrangement of the color filters 102, an enormous number of repetitive patterns 110 can be set depending on what color pixels the parallax pixels and non-parallax pixels are allocated to. If the outputs of pixels without parallax are collected, photographic image data having no parallax can be generated in the same way as normal photographic images. Therefore, if the ratio of pixels without parallax is relatively increased, a 2D image with high resolution can be output. In this case, since the number of parallax pixels is relatively small, the image quality is degraded as a 3D image including a plurality of parallax images. Conversely, if the ratio of the parallax pixels is increased, the image quality is improved as a 3D image, but the non-parallax pixels are relatively reduced, so that a 2D image with low resolution is output.

このようなトレードオフの関係において、何れの画素を視差画素とするか、あるいは視差なし画素とするかにより、様々な特徴を有する繰り返しパターン110が設定される。図14は、ベイヤー配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が2つである場合のバリエーションを説明する図である。この場合の視差画素は、開口部104が中心よりも左側に偏心した視差L画素と、同じく右側に偏心した視差R画素を想定している。つまり、このような視差画素から出力される2視点の視差画像は、いわゆる立体視を実現する。   In such a trade-off relationship, a repetitive pattern 110 having various characteristics is set depending on which pixel is a parallax pixel or a non-parallax pixel. FIG. 14 is a diagram illustrating a variation in the case where there are two types of parallax pixels with respect to the allocation of parallax pixels to the Bayer array. In this case, the parallax pixels are assumed to be a parallax L pixel whose opening 104 is decentered to the left of the center and a parallax R pixel decentered to the right. That is, the two viewpoint parallax images output from such parallax pixels realize so-called stereoscopic vision.

それぞれの繰り返しパターンに対する特徴の説明は図に示す通りである。例えば、視差なし画素が多く割り振られていれば高解像度の2D画像データとなり、RGBのいずれの画素に対しても均等に割り振られていれば、色ずれの少ない高画質の2D画像データとなる。視差画素の出力も利用して2D画像データを生成する場合、ずれた被写体像を周辺画素の出力を参照して補正する。したがって、例えば全部のR画素が視差画素であったとしても2D画像を生成することはできるものの、その画質は自ずと低下する。   The description of the features for each repetitive pattern is as shown in the figure. For example, if many non-parallax pixels are allocated, high-resolution 2D image data is obtained, and if all pixels of RGB are equally allocated, high-quality 2D image data with little color shift is obtained. When 2D image data is generated using the output of the parallax pixels, the shifted subject image is corrected with reference to the output of the peripheral pixels. Therefore, for example, even if all R pixels are parallax pixels, a 2D image can be generated, but the image quality is naturally lowered.

一方、視差画素が多く割り振られていれば高解像度の3D画像データとなり、RGBのいずれの画素に対しても均等に割り振られていれば、3D画像でありながら、色再現性の良い高品質のカラー画像データとなる。視差なし画素の出力も利用して3D画像データを生成する場合、視差のない被写体像から周辺の視差画素の出力を参照してずれた被写体像を生成する。したがって、例えば全部のR画素が視差なし画素であったとしてもカラーの3D画像を生成することはできるものの、やはりその品質は低下する。   On the other hand, if a large number of parallax pixels are allocated, high-resolution 3D image data is obtained, and if all the RGB pixels are allocated equally, a high-quality image with good color reproducibility can be obtained while being a 3D image. Color image data. When 3D image data is generated using the output of pixels without parallax, a subject image shifted from a subject image without parallax is generated with reference to the output of peripheral parallax pixels. Therefore, for example, even if all the R pixels are non-parallax pixels, a color 3D image can be generated, but the quality is still deteriorated.

以下にいくつかのバリエーションについて説明する。図15は、バリエーションの一例を示す図である。図15のバリエーションは、図14における繰り返しパターン分類A−1に相当する。   Some variations are described below. FIG. 15 is a diagram illustrating an example of a variation. The variation in FIG. 15 corresponds to the repeated pattern classification A-1 in FIG.

図の例においては、ベイヤー配列と同じ4画素を繰り返しパターン110とする。R画素とG画素は視差なし画素であり、Gb画素を視差L画素に、Gr画素を視差R画素に割り当てる。この場合、同一の繰り返しパターン110に含まれる視差L画素と視差R画素が、被写体が合焦位置に存在するときに、同じ微小領域から放射される光束を受光するように開口部104を定めることもできるし、異なる微小領域から放射される光束を受光するように開口部104を定めることもできる。異なる微小領域から放射される光束を受光するように開口部104を定めた場合、位相ずらし配列として、例えば、左右に隣接する2つの繰り返しパターン110において、左側の繰り返しパターン110のGb画素に割り当てられた視差L画素と、右側の繰り返しパターン110のGr画素に割り当てられた視差R画素とが、同一の微小領域から放射される光束を受光するように構成することができる。   In the example of the figure, the same four pixels as the Bayer array are used as the repeated pattern 110. The R pixel and the G pixel are non-parallax pixels, and the Gb pixel is assigned to the parallax L pixel and the Gr pixel is assigned to the parallax R pixel. In this case, the opening 104 is determined so that the parallax L pixel and the parallax R pixel included in the same repetitive pattern 110 receive the light beam emitted from the same minute region when the subject is at the in-focus position. Alternatively, the opening 104 can be defined so as to receive light beams emitted from different minute regions. When the opening 104 is determined so as to receive light beams emitted from different minute regions, for example, in the two repetitive patterns 110 adjacent to the left and right, it is assigned to the Gb pixel of the left repetitive pattern 110 as a phase-shifted arrangement. The parallax L pixel and the parallax R pixel assigned to the Gr pixel of the right repeating pattern 110 can be configured to receive a light beam emitted from the same minute region.

図の例においては、視感度の高い緑画素であるGb画素およびGr画素を視差画素として用いるので、コントラストの高い視差画像を得ることが期待できる。また、同じ緑色画素であるGb画素およびGr画素を視差画素として用いるので、これら2つの出力から視差のない出力に変換演算がし易く、視差なし画素であるR画素およびB画素の出力と共に、高画質の2D画像データを生成できる。   In the example of the figure, Gb pixels and Gr pixels, which are green pixels with high visibility, are used as parallax pixels, so that it is expected to obtain a parallax image with high contrast. In addition, since the Gb pixel and the Gr pixel which are the same green pixels are used as the parallax pixels, it is easy to perform a conversion operation from these two outputs to an output having no parallax, and the output of the R pixel and the B pixel which are non-parallax pixels is high. High-quality 2D image data can be generated.

図16は、他のバリエーションの一例を示す図である。図16のバリエーションは、図14における繰り返しパターン分類B−1に相当する。   FIG. 16 is a diagram illustrating an example of another variation. The variation in FIG. 16 corresponds to the repeated pattern classification B-1 in FIG.

図の例においては、ベイヤー配列の4画素が左右に2組続く8画素を繰り返しパターン110とする。8画素のうち、左側のGb画素に視差L画素を、右側のGb画素に視差R画素を割り当てる。このような配列においては、Gr画素を視差なし画素としたことにより、図14の例よりも、更に2D画像の高画質化が望める。   In the example shown in the figure, the repeated pattern 110 is 8 pixels in which 4 pixels in the Bayer array are two sets on the left and right. Among the eight pixels, the parallax L pixel is assigned to the left Gb pixel, and the parallax R pixel is assigned to the right Gb pixel. In such an arrangement, the Gr pixel is a non-parallax pixel, so that higher image quality of the 2D image can be expected than in the example of FIG.

図17は、更に他のバリエーションの一例を示す図である。図17のバリエーションは、図14における繰り返しパターン分類C−1に相当する。   FIG. 17 is a diagram illustrating an example of still another variation. The variation in FIG. 17 corresponds to the repeated pattern classification C-1 in FIG.

図の例においては、ベイヤー配列の4画素が左右に2組続く8画素を繰り返しパターン110とする。8画素のうち、左側のGb画素に視差L画素を、右側のGb画素に視差R画素を割り当てる。さらに、左側のGr画素にも視差L画素を、右側のGr画素にも視差R画素を割り当てる。2つのGb画素に割り当てられた視差L画素と視差R画素は、被写体が合焦位置に存在するときに、一つの微小領域から放射される光束を受光し、2つのGr画素に割り当てられた視差L画素と視差R画素は、Gb画素のそれとは異なる一つの微小領域から放射される光束を受光する。したがって、図16の例に比較して、3D画像としての解像度が縦方向に2倍となる。   In the example shown in the figure, the repeated pattern 110 is 8 pixels in which 4 pixels in the Bayer array are two sets on the left and right. Among the eight pixels, the parallax L pixel is assigned to the left Gb pixel, and the parallax R pixel is assigned to the right Gb pixel. Further, the parallax L pixel is assigned to the left Gr pixel, and the parallax R pixel is also assigned to the right Gr pixel. The parallax L pixel and the parallax R pixel assigned to the two Gb pixels receive the light beam emitted from one minute area when the subject is at the in-focus position, and the parallax assigned to the two Gr pixels. The L pixel and the parallax R pixel receive a light beam emitted from one minute area different from that of the Gb pixel. Therefore, compared with the example of FIG. 16, the resolution as a 3D image is doubled in the vertical direction.

図18は、更に他のバリエーションの一例を示す図である。図18のバリエーションは、図14における繰り返しパターン分類D−1に相当する。   FIG. 18 is a diagram illustrating an example of still another variation. The variation in FIG. 18 corresponds to the repeated pattern classification D-1 in FIG.

図の例においては、ベイヤー配列の4画素が左右に2組続く8画素を繰り返しパターン110とする。8画素のうち、左側のGb画素に視差L画素を、右側のGb画素に視差R画素を割り当てる。さらに、左側のR画素に視差L画素を、右側のR画素に視差R画素を割り当てる。さらに、左側のB画素に視差L画素を、右側のB画素に視差R画素を割り当てる。2つのGr画素には視差なし画素を割り当てる。   In the example shown in the figure, the repeated pattern 110 is 8 pixels in which 4 pixels in the Bayer array are two sets on the left and right. Among the eight pixels, the parallax L pixel is assigned to the left Gb pixel, and the parallax R pixel is assigned to the right Gb pixel. Further, the parallax L pixel is assigned to the left R pixel, and the parallax R pixel is assigned to the right R pixel. Further, a parallax L pixel is assigned to the left B pixel, and a parallax R pixel is assigned to the right B pixel. Non-parallax pixels are assigned to the two Gr pixels.

2つのGb画素に割り当てられた視差L画素と視差R画素は、被写体が合焦位置に存在するときに、一つの微小領域から放射される光束を受光する。また、2つのR画素に割り当てられた視差L画素と視差R画素は、Gb画素のそれとは異なる一つの微小領域から放射される光束を受光し、2つのB画素に割り当てられた視差L画素と視差R画素は、Gb画素およびR画素のそれとは異なる一つの微小領域から放射される光束を受光する。したがって、図16の例に比較して、3D画像としての解像度が縦方向に3倍となる。しかも、RGBの3色の出力が得られるので、カラー画像としての3D画像として高品質である。   The parallax L pixel and the parallax R pixel assigned to the two Gb pixels receive the light beam emitted from one minute region when the subject is in the in-focus position. In addition, the parallax L pixel and the parallax R pixel assigned to the two R pixels receive a light beam emitted from one minute region different from that of the Gb pixel, and the parallax L pixel assigned to the two B pixels The parallax R pixel receives a light beam emitted from one minute region different from that of the Gb pixel and the R pixel. Therefore, compared with the example of FIG. 16, the resolution as a 3D image is tripled in the vertical direction. Moreover, since RGB three-color output can be obtained, it is a high-quality 3D image as a color image.

図19は、ベイヤー配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が3つである場合のバリエーションを説明する図である。この場合の視差画素は、開口部104が中心よりも左側に偏心した視差L画素、偏心のない視差C画素および右側に偏心した視差R画素を想定している。偏心のない視差C画素は、瞳の中心部分を部分領域とする被写体光束のみを光電変換素子108へ導く点で視差画像を出力する視差画素であり、光電変換素子108に対して入射する被写体光束を制限しない視差なし画素とは異なる。したがって、これら3種類の視差画素により、3視点の視差画像が出力される。   FIG. 19 is a diagram illustrating a variation in the case where there are three types of parallax pixels with respect to the allocation of parallax pixels to the Bayer array. The parallax pixels in this case are assumed to be a parallax L pixel decentered to the left of the opening 104, a parallax C pixel without decentering, and a parallax R pixel decentered to the right. The parallax C pixel without eccentricity is a parallax pixel that outputs a parallax image at a point that guides only a subject light beam having a central portion of the pupil as a partial region to the photoelectric conversion element 108, and a subject light beam incident on the photoelectric conversion element 108. This is different from a non-parallax pixel that does not limit. Therefore, a parallax image of three viewpoints is output by these three types of parallax pixels.

それぞれの繰り返しパターンに対する特徴の説明は図に示す通りである。2視点における2D画像と3D画像のトレードオフの関係は、3視点においても同様である。   The description of the features for each repetitive pattern is as shown in the figure. The trade-off relationship between 2D images and 3D images at two viewpoints is the same at three viewpoints.

3視点におけるバリエーションの一例を説明する。図20は、バリエーションの一例として、図19における繰り返しパターン分類Bt−2に相当する図である。   An example of variations in three viewpoints will be described. FIG. 20 is a diagram corresponding to the repeated pattern classification Bt-2 in FIG. 19 as an example of a variation.

図の例においては、ベイヤー配列の4画素が左右方向に3組続く12画素を繰り返しパターン110とする。12画素のうち、3つのGb画素にそれぞれ左右方向に対応させて視差L画素、視差C画素および視差R画素を割り当てる。他の画素には、全て視差なし画素を割り当てる。   In the example shown in the figure, the repeating pattern 110 is 12 pixels in which 3 sets of 4 pixels in the Bayer array are continued in the left-right direction. Among the 12 pixels, the parallax L pixel, the parallax C pixel, and the parallax R pixel are assigned to the three Gb pixels in the left-right direction. All other pixels are assigned non-parallax pixels.

このような繰り返しパターン110によれば、2D画像としての解像度、カラー品質を高いレベルで維持しつつ、3視点の視差画像も同時に取得することができる。   According to such a repeating pattern 110, a parallax image of three viewpoints can be simultaneously acquired while maintaining the resolution and color quality as a 2D image at a high level.

図21は、ベイヤー配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が4つ以上である場合のバリエーションの一例を説明する図である。このように、視点数が増えていっても、さまざまな繰り返しパターン110を形成することができる。したがって、仕様、目的等に応じた繰り返しパターン110を選択することができる。   FIG. 21 is a diagram illustrating an example of a variation in the case where there are four or more types of parallax pixels with respect to the allocation of parallax pixels to the Bayer array. Thus, even if the number of viewpoints is increased, various repetitive patterns 110 can be formed. Therefore, it is possible to select the repetitive pattern 110 according to the specification, purpose, and the like.

上述の例では、カラーフィルタ配列としてベイヤー配列を採用した場合について説明したが、もちろん他のカラーフィルタ配列であっても差し支えない。図3等を用いて説明したように、カラーフィルタ配列を構成するある1色に着目して寄せ集めた場合に、隣接する複数の画素を一組の光電変換素子群とする繰り返しパターンを形成し、視差画像を出力するように視差画素が割り当てられていれば良い。このとき、一組の光電変換素子群を構成する視差画素のそれぞれは、互いに異なる部分領域を向く開口部104を有する開口マスク103を備えると良い。   In the above-described example, the case where the Bayer array is adopted as the color filter array has been described. Of course, other color filter arrays may be used. As described with reference to FIG. 3 and the like, a repetitive pattern in which a plurality of adjacent pixels are set as a set of photoelectric conversion elements is formed when focusing on one color constituting the color filter array. The parallax pixels need only be assigned so as to output a parallax image. At this time, each of the parallax pixels constituting the set of photoelectric conversion element groups may include an opening mask 103 having opening portions 104 facing different partial regions.

図22は、他のカラーフィルタ配列を説明する図である。図示するように、他のカラーフィルタ配列は、緑フィルタが左上および右上の2画素に、赤フィルタが左下の1画素に、青フィルタが右下の1画素に割り当てられる配列である。ここでは、緑フィルタが割り当てられた左上の画素をGr画素と、同じく緑色フィルタが割り当てられた右上の画素をGb画素とする。また、赤色フィルタが割り当てられた画素をR画素と、青色が割り当てられた画素をB画素とする。そして、Gr画素およびGb画素が並ぶ横方向をG行とし、R画素およびB画素が並ぶ横方向をRB行とする。また、Gr画素およびR画素が並ぶ縦方向をGr列とし、Gb画素およびB画素が並ぶ縦方向をGb列とする。   FIG. 22 is a diagram for explaining another color filter arrangement. As shown in the drawing, the other color filter array is an array in which the green filter is assigned to the upper left and upper right two pixels, the red filter is assigned to the lower left pixel, and the blue filter is assigned to the lower right pixel. Here, the upper left pixel to which the green filter is assigned is the Gr pixel, and the upper right pixel to which the green filter is assigned is the Gb pixel. In addition, a pixel to which a red filter is assigned is an R pixel, and a pixel to which blue is assigned is a B pixel. The horizontal direction in which Gr pixels and Gb pixels are arranged is defined as G row, and the horizontal direction in which R pixels and B pixels are aligned is defined as RB row. The vertical direction in which Gr pixels and R pixels are arranged is referred to as Gr column, and the vertical direction in which Gb pixels and B pixels are arranged is referred to as Gb column.

ベイヤー配列の場合と同じく、このような他のカラーフィルタ配列の場合であっても、視差画素と視差なし画素を、何色の画素にどのような周期で割り振っていくかにより、膨大な数の繰り返しパターン110が設定され得る。また、相対的に視差なし画素の割合を増やせば、解像度の高い2D画像を出力させることができ、視差画素の割合を増やせば、3D画像の画質を向上させることができる関係も同様である。   As in the case of the Bayer array, even in the case of such other color filter arrays, an enormous number of pixels may be used depending on how many colors of pixels the disparity pixels and non-parallax pixels are allocated. A repeating pattern 110 can be set. Further, if the ratio of pixels without parallax is relatively increased, a high-resolution 2D image can be output. If the ratio of parallax pixels is increased, the image quality of a 3D image can be improved.

図23は、他のカラーフィルタ配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が2つである場合のバリエーションを説明する図である。それぞれの繰り返しパターンに対する特徴の説明は図に示す通りである。例えば、視差なし画素が多く割り振られていれば高解像度の2D画像データとなり、RGBのいずれの画素に対しても均等に割り振られていれば、色ずれの少ない高画質の2D画像データとなる。視差画素の出力も利用して2D画像データを生成する場合、ずれた被写体像を周辺画素の出力を参照して補正する。したがって、例えば全部のR画素が視差画素であったとしても2D画像を生成することはできるものの、その画質は自ずと低下する。   FIG. 23 is a diagram illustrating a variation in the case where there are two types of parallax pixels with respect to allocation of parallax pixels to other color filter arrays. The description of the features for each repetitive pattern is as shown in the figure. For example, if many non-parallax pixels are allocated, high-resolution 2D image data is obtained, and if all pixels of RGB are equally allocated, high-quality 2D image data with little color shift is obtained. When 2D image data is generated using the output of the parallax pixels, the shifted subject image is corrected with reference to the output of the peripheral pixels. Therefore, for example, even if all R pixels are parallax pixels, a 2D image can be generated, but the image quality is naturally lowered.

一方、視差画素が多く割り振られていれば高解像度の3D画像データとなり、RGBのいずれの画素に対しても均等に割り振られていれば、3D画像でありながら、色再現性の良い高品質のカラー画像データとなる。視差なし画素の出力も利用して3D画像データを生成する場合、視差のない被写体像から周辺の視差画素の出力を参照してずれた被写体像を生成する。したがって、例えば全部のR画素が視差なし画素であったとしてもカラーの3D画像を生成することはできるものの、やはりその品質は低下する。   On the other hand, if a large number of parallax pixels are allocated, high-resolution 3D image data is obtained, and if all the RGB pixels are allocated equally, a high-quality image with good color reproducibility can be obtained while being a 3D image. Color image data. When 3D image data is generated using the output of pixels without parallax, a subject image shifted from a subject image without parallax is generated with reference to the output of peripheral parallax pixels. Therefore, for example, even if all the R pixels are non-parallax pixels, a color 3D image can be generated, but the quality is still deteriorated.

図24は、他のカラーフィルタ配列に対する視差画素の割り振りについて、視差画素の種類が3つである場合のバリエーションを説明する図である。この場合の視差画素は、開口部104が中心よりも左側に偏心した視差L画素、偏心のない視差C画素および右側に偏心した視差R画素を想定している。   FIG. 24 is a diagram illustrating a variation in the case where there are three types of parallax pixels with respect to allocation of parallax pixels to other color filter arrays. The parallax pixels in this case are assumed to be a parallax L pixel decentered to the left of the opening 104, a parallax C pixel without decentering, and a parallax R pixel decentered to the right.

それぞれの繰り返しパターンに対する特徴の説明は図に示す通りである。2視点における2D画像と3D画像のトレードオフの関係は、3視点においても同様である。   The description of the features for each repetitive pattern is as shown in the figure. The trade-off relationship between 2D images and 3D images at two viewpoints is the same at three viewpoints.

図示は省くが、視差画素の種類が4つ以上であっても、さまざまな繰り返しパターン110を形成することができる。したがって、仕様、目的等に応じた繰り返しパターン110を選択することができる。   Although illustration is omitted, various repetitive patterns 110 can be formed even if there are four or more types of parallax pixels. Therefore, it is possible to select the repetitive pattern 110 according to the specification, purpose, and the like.

図25は、本発明の実施形態に係る他の撮像素子の断面を表す概略図である。図2では、カラーフィルタ102と開口マスク103が別体で構成される撮像素子100の断面概略図を示したが、図25では、撮像素子100の変形例として、カラーフィルタ部122と開口マスク部123が一体的に構成されたスクリーンフィルタ121を備える撮像素子120の断面外略図を示す。   FIG. 25 is a schematic diagram illustrating a cross section of another image sensor according to the embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of the image sensor 100 in which the color filter 102 and the aperture mask 103 are separately provided. In FIG. 25, as a modification of the image sensor 100, a color filter unit 122 and an aperture mask unit. The cross-sectional schematic diagram of the image pick-up element 120 provided with the screen filter 121 with which 123 is comprised integrally is shown.

輝度情報を取得する画素を視差画素とする場合、つまり、視差画像をモノクロ画像として出力するのであれば、図25で示す撮像素子120の構成を採用し得る。すなわち、カラーフィルタとして機能するカラーフィルタ部122と、開口部104を有する開口マスク部123とが一体的に構成されたスクリーンフィルタ121を、マイクロレンズ111と配線層105の間に配設することができる。   When the pixel for obtaining the luminance information is a parallax pixel, that is, when the parallax image is output as a monochrome image, the configuration of the image sensor 120 shown in FIG. 25 can be adopted. That is, the screen filter 121 in which the color filter part 122 that functions as a color filter and the opening mask part 123 having the opening 104 are integrally formed may be disposed between the microlens 111 and the wiring layer 105. it can.

スクリーンフィルタ121は、カラーフィルタ部122において例えば青緑赤の着色が施され、開口マスク部123において開口部104以外のマスク部分が黒の着色が施されて形成される。スクリーンフィルタ121を採用する撮像素子120は、撮像素子100に比較して、マイクロレンズ111から光電変換素子108までの距離が短いので、被写体光束の集光効率が高い。   The screen filter 121 is formed by, for example, blue-green-red coloring in the color filter portion 122 and black in the opening mask portion 123 other than the opening portion 104. Since the image sensor 120 that employs the screen filter 121 has a shorter distance from the microlens 111 to the photoelectric conversion element 108 than the image sensor 100, the light collection efficiency of the subject luminous flux is high.

図26は、他のカラーフィルタ配列を説明する図である。図示するように、他のカラーフィルタ配列は、図12で示したベイヤー配列のGr画素を緑フィルタが割り当てられるG画素として維持する一方、Gb画素をカラーフィルタが割り当てられないW画素に変更した配列である。なお、W画素は、上述のように、可視光のおよそ全ての波長帯域を透過させるように、着色を施さない透明フィルタが配列されていても良い。   FIG. 26 is a diagram for explaining another color filter arrangement. As shown in the figure, the other color filter array maintains the Gr pixels in the Bayer array shown in FIG. 12 as G pixels to which the green filter is assigned, while changing the Gb pixels to W pixels to which no color filter is assigned. It is. Note that, as described above, the W pixel may be arranged with a transparent filter that is not colored so as to transmit substantially all the wavelength band of visible light.

このようなW画素を含むカラーフィルタ配列を採用すれば、撮像素子が出力するカラー情報の精度は若干低下するものの、W画素が受光する光量はカラーフィルタが設けられている場合に比較して多いので、精度の高い輝度情報を取得できる。W画素の出力を寄せ集めれば、モノクロ画像を形成することもできる。   If such a color filter array including W pixels is adopted, the accuracy of the color information output from the image sensor is slightly reduced, but the amount of light received by the W pixels is larger than that when a color filter is provided. Therefore, highly accurate luminance information can be acquired. A monochrome image can also be formed by gathering the outputs of W pixels.

W画素を含むカラーフィルタ配列の場合、視差画素と視差なし画素の繰り返しパターン110は、さらなるバリエーションが存在する。例えば、比較的暗い環境下で撮影された画像であっても、カラー画素から出力された画像に比較してW画素から出力された画像であれば、被写体像のコントラストが高い。そこで、W画素に視差画素を割り振れば、複数の視差画像間で行うマッチング処理において、精度の高い演算結果が期待できる。マッチング処理は、画像データに写り込む被写体像の距離情報を取得する処理の一環として実行される。したがって、2D画像の解像度および視差画像の画質への影響に加え、抽出される他の情報への利害得失も考慮して、視差画素と視差なし画素の繰り返しパターン110が設定される。   In the case of a color filter array including W pixels, there are further variations in the repeating pattern 110 of parallax pixels and non-parallax pixels. For example, even if the image is captured in a relatively dark environment, the contrast of the subject image is higher if the image is output from the W pixel as compared to the image output from the color pixel. Therefore, if a parallax pixel is assigned to a W pixel, a highly accurate calculation result can be expected in a matching process performed between a plurality of parallax images. The matching process is executed as part of the process for acquiring the distance information of the subject image reflected in the image data. Therefore, in addition to the influence on the resolution of the 2D image and the image quality of the parallax image, the repetitive pattern 110 of the parallax pixels and the non-parallax pixels is set in consideration of the interest in other extracted information.

図27は、図26の他のカラーフィルタ配列を採用する場合の、W画素と視差画素の配列の一例を示す図である。図27のバリエーションは、ベイヤー配列における図16の繰り返しパターン分類B−1に類似するので、ここではB'−1とする。図の例においては、他のカラーフィルタ配列の4画素が左右に2組続く8画素を繰り返しパターン110とする。8画素のうち、左側のW画素に視差L画素を、右側のW画素に視差R画素を割り当てる。このような配列において撮像素子100は、視差画像をモノクロ画像として出力し、2D画像をカラー画像として出力する。   FIG. 27 is a diagram illustrating an example of an array of W pixels and parallax pixels when another color filter array of FIG. 26 is employed. The variation in FIG. 27 is similar to the repeated pattern classification B-1 in FIG. In the example shown in the figure, the repeated pattern 110 is an eight pixel in which two sets of four pixels in other color filter arrays continue to the left and right. Among the eight pixels, the parallax L pixel is assigned to the left W pixel, and the parallax R pixel is assigned to the right W pixel. In such an arrangement, the image sensor 100 outputs a parallax image as a monochrome image and outputs a 2D image as a color image.

この場合、撮像素子100は、入射光を電気信号に光電変換する、二次元的に配列された光電変換素子108と、光電変換素子108の少なくとも一部のそれぞれに一対一に対応して設けられた開口マスク103と、光電変換素子108の少なくとも一部のそれぞれに一対一に対応して設けられたカラーフィルタ102とを有し、隣接するn個(nは4以上の整数)の光電変換素子108のうち、少なくとも2つに対応して設けられたそれぞれの開口マスク103の開口部104は、互いに異なる波長帯域を透過させる少なくとも2種類のカラーフィルタ102から構成されるカラーフィルタパターンの一パターン内には含まれず、かつ、入射光の断面領域内の互いに異なる部分領域からの光束をそれぞれ通過させるように位置づけられ、n個の光電変換素子108を一組とする光電変換素子群が周期的に配列されていれば良い。   In this case, the image sensor 100 is provided in a one-to-one correspondence with each of the two-dimensionally arranged photoelectric conversion elements 108 that photoelectrically convert incident light into electric signals and at least a part of the photoelectric conversion elements 108. And n adjacent n (n is an integer of 4 or more) photoelectric conversion elements each having an opening mask 103 and a color filter 102 provided in a one-to-one correspondence with each of at least a part of the photoelectric conversion element 108. The apertures 104 of the respective aperture masks 103 provided corresponding to at least two of 108 are within one pattern of a color filter pattern composed of at least two types of color filters 102 that transmit different wavelength bands. Is included, and is positioned so as to pass light beams from different partial areas in the cross-sectional area of the incident light, and n The photoelectric conversion element group for the photoelectric conversion element 108 and one set is only to be periodically arranged.

ここで、モノクロ画像としての視差画像の生成と、カラー画像としての2D画像の生成について説明する。   Here, generation of a parallax image as a monochrome image and generation of a 2D image as a color image will be described.

図28は、視差画像と2D画像の生成過程を示す概念図である。図示するように、視差L画素の出力が、撮像素子100上の相対的な位置関係を維持しながら寄せ集められて、L画像データが生成される。一つの繰り返しパターン110に含まれる視差L画素は一つであるので、L画像データを形成する各視差L画素は、それぞれ異なる繰り返しパターン110から寄せ集められていると言える。すなわち、寄せ集められたそれぞれの視差L画素の出力は、被写体の互いに異なる微小領域から放射された光が光電変換された結果であるので、L画像データは、特定の視点(L視点)から被写体を捉えた一つの視差画像データとなる。そして、視差L画素は、W画素に割り振られているので、L画像データは、カラー情報を持たず、モノクロ画像として生成される。   FIG. 28 is a conceptual diagram illustrating a process of generating a parallax image and a 2D image. As shown in the figure, the outputs of the parallax L pixels are gathered together while maintaining the relative positional relationship on the image sensor 100, and L image data is generated. Since one parallax L pixel is included in one repetitive pattern 110, it can be said that the parallax L pixels forming the L image data are collected from different repetitive patterns 110. That is, since the output of each parallax L pixel collected is a result of photoelectric conversion of light emitted from different minute areas of the subject, the L image data is obtained from a specific viewpoint (L viewpoint). Is one piece of parallax image data. Since the parallax L pixel is allocated to the W pixel, the L image data does not have color information and is generated as a monochrome image.

同様に、視差R画素の出力が、撮像素子100上の相対的な位置関係を維持しながら寄せ集められて、R画像データが生成される。寄せ集められたそれぞれの視差R画素の出力は、被写体の互いに異なる微小領域から放射された光が光電変換された結果であるので、R画像データは、特定の視点(R視点)から被写体を捉えた一つの視差画像データとなる。そして、視差R画素は、W画素に割り振られているので、R画像データは、カラー情報を持たず、モノクロ画像として生成される。   Similarly, the outputs of the parallax R pixels are gathered together while maintaining the relative positional relationship on the image sensor 100, and R image data is generated. Since the output of each of the collected parallax R pixels is a result of photoelectric conversion of light emitted from different minute areas of the subject, the R image data captures the subject from a specific viewpoint (R viewpoint). Only one parallax image data is obtained. Since the parallax R pixel is assigned to the W pixel, the R image data does not have color information and is generated as a monochrome image.

被写体が合焦位置に存在するときに、一つの繰り返しパターン110において、L画素とR画素は、被写体の同一の微小領域から放射される光束を受光する。また、被写体が非合焦位置に存在するときに、一つの繰り返しパターン110において、L画素とR画素は、被写体の互いにずれた微小領域から放射される光束を受光する。そのずれは、被写体位置の合焦位置に対する相対関係と瞳の部分領域の関係とから、方向と量が定まる。したがって、L画像データとR画像データのそれぞれにおいて、視差L画素と視差R画素が撮像素子100上の相対的な位置関係を維持しながら寄せ集められていれば、それぞれが視差画像を形成する。   When the subject exists at the in-focus position, in one repetitive pattern 110, the L pixel and the R pixel receive a light beam emitted from the same minute area of the subject. Further, when the subject is present at the out-of-focus position, in one repetitive pattern 110, the L pixel and the R pixel receive a light beam emitted from a minute region of the subject that is shifted from each other. The direction and amount of the shift are determined from the relative relationship of the subject position to the in-focus position and the relationship between the partial areas of the pupil. Accordingly, in each of the L image data and the R image data, if the parallax L pixel and the parallax R pixel are gathered together while maintaining the relative positional relationship on the image sensor 100, each forms a parallax image.

また、視差なし画素の出力が、撮像素子100上の相対的な位置関係を維持しながら寄せ集められて、2D画像データが生成される。このとき、W画素は視差画素であるので、視差なし画素のみで構成されるベイヤー配列からの出力に対して、Gb画素の出力に相当する出力が欠落する。そこで、例えば、この欠落した出力の値として、G画素の出力値を代入する。つまり、G画素の出力で補間処理を行う。このように、補間処理を施せば、ベイヤー配列の出力に対する画像処理を採用して2D画像データを生成することができる。   Further, the outputs of pixels without parallax are gathered together while maintaining the relative positional relationship on the image sensor 100, and 2D image data is generated. At this time, since the W pixel is a parallax pixel, an output corresponding to the output of the Gb pixel is lost with respect to the output from the Bayer array including only the non-parallax pixels. Therefore, for example, the output value of the G pixel is substituted as the missing output value. That is, interpolation processing is performed with the output of the G pixel. As described above, if the interpolation process is performed, 2D image data can be generated by employing the image process for the output of the Bayer array.

なお、以上の画像処理は、画像処理部205によって実行される。画像処理部205は、カメラ本体制御部201を介して撮像素子100から出力される画像信号を受け取り、上述のようにそれぞれの画素の出力ごとに分配してL画像データ、R画像データおよび2D画像データを生成する。   Note that the above image processing is executed by the image processing unit 205. The image processing unit 205 receives the image signal output from the image sensor 100 via the camera body control unit 201 and distributes the image signal for each pixel output as described above, so that the L image data, the R image data, and the 2D image are distributed. Generate data.

以上の説明においては、開口マスクを設けることにより被写体光束に視差を生じさせたが、配線層に設けられた配線を開口マスクと同形状に形成することで、配線を実質的に開口マスクとして機能させることができる。配線層に配線が多層設けられている場合には、被写体光束の入射方向から複数の層を投影した形状が、開口マスクと同形状になるよう各層を形成することで、複数の層を全体として開口マスクとして機能させることもできる。また、多層配線のうちの一層によって開口マスクの機能を実現する場合、多層配線のうち最下層の配線、つまり、光電変換素子に最も近い位置に形成された配線を開口マスクと同形状に形成することが好ましい。この場合、最下層の配線と光電変換素子とを近接させるのが好ましい。   In the above description, the opening mask is provided to cause parallax in the subject light beam. However, by forming the wiring provided in the wiring layer in the same shape as the opening mask, the wiring substantially functions as the opening mask. Can be made. When wiring is provided in multiple layers in the wiring layer, each layer is formed as a whole by forming each layer so that the projected shape of the plurality of layers from the incident direction of the subject luminous flux is the same shape as the aperture mask. It can also function as an opening mask. When the function of the opening mask is realized by one layer of the multilayer wiring, the lowermost wiring among the multilayer wirings, that is, the wiring formed at the position closest to the photoelectric conversion element is formed in the same shape as the opening mask. It is preferable. In this case, it is preferable that the lowermost layer wiring and the photoelectric conversion element are brought close to each other.

以上の説明においては、マイクロレンズアレイ101が備える各マイクロレンズは、共通の厚みであったが、繰り返しパターン110を構成する各光電変換素子に対応する開口部104の位置に応じて厚みをかえてもよい。例えば、繰り返しパターン110における端部の光電変換素子に対応する開口部104のズレ量が大きい場合、当該光電変換素子に対応するマイクロレンズの厚みを、中央の光電変換素子に対応するマイクロレンズの厚みより厚くしてもよい。こうすることで、繰り返しパターン110における、端部の光電変換素子と中央の光電変換素子の受光量の均一化を図ることができる。   In the above description, each microlens included in the microlens array 101 has a common thickness, but the thickness is changed according to the position of the opening 104 corresponding to each photoelectric conversion element constituting the repetitive pattern 110. Also good. For example, when the shift amount of the opening 104 corresponding to the photoelectric conversion element at the end in the repeated pattern 110 is large, the thickness of the microlens corresponding to the photoelectric conversion element is set to the thickness of the microlens corresponding to the central photoelectric conversion element. It may be thicker. By doing so, it is possible to equalize the light receiving amounts of the photoelectric conversion element at the end and the photoelectric conversion element at the center in the repetitive pattern 110.

以上の説明においては、交換レンズが取り替えられた場合について説明したが、ズームによって焦点距離が変更される場合がある。この場合においても、移動制御部212は、ズーム後の焦点距離に応じてマイクロレンズアレイ101及び開口マスクアレイ114の一方を移動させることによって各部分領域から射出される主光線の入射角を調整することができる。   In the above description, the case where the interchangeable lens is replaced has been described, but the focal length may be changed by zooming. Even in this case, the movement control unit 212 adjusts the incident angle of the principal ray emitted from each partial region by moving one of the microlens array 101 and the aperture mask array 114 in accordance with the focal length after zooming. be able to.

以上の説明においては、マイクロレンズアレイ移動部112は、マイクロレンズアレイ101を全体として移動させたが、個々のマイクロレンズ111を個別に移動させてもよい。この場合、マイクロレンズを移動させる移動部としてマイクロレンズ毎にMEMSアクチュエータが配置されてもよい。マイクロレンズ単位で移動させることによって、各部分領域からの入射光をより精確に対応する光電変換素子108に導くことができる。   In the above description, the microlens array moving unit 112 has moved the microlens array 101 as a whole, but the individual microlenses 111 may be moved individually. In this case, a MEMS actuator may be disposed for each microlens as a moving unit that moves the microlens. By moving the micro lens unit, incident light from each partial region can be guided to the corresponding photoelectric conversion element 108 more accurately.

以上の説明においては、移動制御部212は、レンズ交換後の焦点距離情報に応じてマイクロレンズアレイ101及び開口マスクアレイ114の一方の移動量を制御したが、瞳位置情報に応じて移動量を制御してもよい。この場合、レンズシステム制御部301は、現在の状況に応じた瞳位置を算出し、移動制御部212に送信する。具体的には、レンズシステム制御部301は、現在の撮影レンズの焦点距離、現在のフォーカスレンズ位置、現在のズームレンズ位置等から瞳位置を算出する。移動制御部212は、瞳位置情報と変位量とが対応付けられたルックアップテーブルを参照し、取得した瞳位置情報に対応する変位量を決定する。そして、移動制御部212は、決定した変位量に応じた駆動電圧をマイクロレンズアレイ移動部112または開口マスクアレイ移動部113に与えることによって移動量を制御する。   In the above description, the movement control unit 212 controls the movement amount of one of the microlens array 101 and the aperture mask array 114 according to the focal length information after the lens replacement, but the movement amount is changed according to the pupil position information. You may control. In this case, the lens system control unit 301 calculates a pupil position corresponding to the current situation and transmits it to the movement control unit 212. Specifically, the lens system control unit 301 calculates the pupil position from the current focal length of the photographing lens, the current focus lens position, the current zoom lens position, and the like. The movement control unit 212 refers to the lookup table in which the pupil position information and the displacement amount are associated, and determines the displacement amount corresponding to the acquired pupil position information. Then, the movement control unit 212 controls the movement amount by applying a driving voltage corresponding to the determined displacement amount to the microlens array moving unit 112 or the aperture mask array moving unit 113.

また、以上の説明においては、移動制御部212は、ルックアップテーブルを参照してマイクロレンズアレイ移動部の変位量hを決定した。上述のように、マイクロレンズアレイ移動部の変位量hは、実験値あるいはシミュレーションデータに基づいて決定されている。ところで、マイクロレンズアレイ101を移動させたとしても、移動の前後において焦点の光軸方向のずれの影響が大きくない場合がある。この場合、焦点は、焦点深度内にあると考えられる。したがって、マイクロレンズアレイ移動部の変位量hは、以下の近似式(1)を用いて算出されてもよい。
h=p(f1+Zi)/D−h ・・・(1)
In the above description, the movement control unit 212 determines the displacement amount h of the microlens array moving unit with reference to the lookup table. As described above, the displacement amount h of the microlens array moving unit is determined based on experimental values or simulation data. By the way, even if the microlens array 101 is moved, the influence of the shift of the focal point in the optical axis direction may not be large before and after the movement. In this case, the focal point is considered to be within the depth of focus. Therefore, the displacement amount h of the microlens array moving unit may be calculated using the following approximate expression (1).
h = p (f1 + Zi) / D−h 0 (1)

ただし、pは、繰り返しパターンの左端の画素における開口部の、当該画素の中心からのズレ量と、右端の画素における開口部の、当該画素の中心からのズレ量の和である。f1は、撮影レンズ20の焦点距離である。Ziは、焦点距離の変異量であり、図7で説明したf2−f1に相当する。Dは、図7で説明したように、レンズ瞳径であり、hは、基準状態でのマイクロレンズアレイ移動部112の厚みである。 However, p is the sum of the amount of deviation from the center of the pixel at the leftmost pixel of the repetitive pattern and the amount of deviation from the center of the pixel at the rightmost pixel. f1 is the focal length of the taking lens 20; Zi is the amount of variation in focal length, and corresponds to f2-f1 described in FIG. As described in FIG. 7, D is the lens pupil diameter, and h 0 is the thickness of the microlens array moving unit 112 in the reference state.

また、ルックアップテーブルとして焦点距離情報とマイクロレンズアレイ移動部の変位量を保持しておくのではなく、移動制御部212がレンズ交換後の焦点距離情報に応じた変位量hを、上記(1)式を用いて直接算出してもよい。なお、開口マスクアレイ移動部の変位量についても同様に、上記(1)式を用いて算出できる。   In addition, the focal length information and the displacement amount of the micro lens array moving unit are not held as a look-up table, but the movement control unit 212 uses the displacement amount h corresponding to the focal length information after lens replacement as described in (1). ) May be directly calculated using the formula. The displacement amount of the aperture mask array moving part can be similarly calculated using the above equation (1).

また、設定される開放絞り値によっては、レンズ瞳径が両端の部分領域間の距離よりも短くなることがあり得る。そこで、カメラ本体制御部201は、レンズシステム制御部301からレンズ情報として開放絞り値情報を取得してもよい。これにより、カメラ本体制御部201は、移動量を制御する処理を行うかを判断することができる。   Further, depending on the set open aperture value, the lens pupil diameter may be shorter than the distance between the partial regions at both ends. Therefore, the camera main body control unit 201 may acquire open aperture value information as lens information from the lens system control unit 301. Thereby, the camera body control unit 201 can determine whether to perform a process of controlling the movement amount.

以上の説明においては、マイクロレンズアレイ101および開口マスクアレイ114の一方を移動させたが、両方を移動させてもよい。例えば、開口マスクアレイ114上にマイクロレンズアレイ101が配置されている場合には、これらを一体的に移動させることができる。もちろんマイクロレンズアレイ101と開口マスクアレイ114を個別に移動させてもよい。この場合には、マイクロレンズアレイ101と開口マスクアレイ114のそれぞれの移動量を適宜調整することによって、各部分領域からの入射光をより精確に対応する光電変換素子108に導くことができる。   In the above description, one of the microlens array 101 and the aperture mask array 114 is moved, but both may be moved. For example, when the microlens array 101 is disposed on the aperture mask array 114, these can be moved together. Of course, the microlens array 101 and the aperture mask array 114 may be moved individually. In this case, by appropriately adjusting the movement amounts of the microlens array 101 and the aperture mask array 114, incident light from each partial region can be guided to the corresponding photoelectric conversion element 108 more accurately.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above-described embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

10 デジタルカメラ、200 カメラ本体、100 撮像素子、101 マイクロレンズアレイ、102 カラーフィルタ、103 開口マスク、104 開口部、105 配線層、106 配線、107 開口、108 光電変換素子、109 基板、110 繰り返しパターン、111 マイクロレンズ、112 マイクロレンズアレイ移動部、113 開口マスクアレイ移動部、114 開口マスクアレイ、115 光電変換素子アレイ、201 カメラ本体制御部、202 A/D変換回路、203 メモリ、204 駆動部、207 メモリカードIF、208 操作部、209 表示部、210 表示制御部、212 移動制御部、213 カメラマウント、214 カメラメモリ、220 メモリカード、300 交換レンズ、20 撮影レンズ、301 レンズシステム制御部、302 レンズ情報記憶部、303 レンズマウント、304 レンズ駆動部、400 交換レンズ、40 撮影レンズ、120 撮像素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Digital camera, 200 Camera body, 100 Image sensor, 101 Micro lens array, 102 Color filter, 103 Aperture mask, 104 Aperture, 105 Wiring layer, 106 Wiring, 107 aperture, 108 Photoelectric conversion element, 109 Substrate, 110 Repeat pattern 111 microlens, 112 microlens array moving unit, 113 aperture mask array moving unit, 114 aperture mask array, 115 photoelectric conversion element array, 201 camera body control unit, 202 A / D conversion circuit, 203 memory, 204 drive unit, 207 Memory card IF, 208 Operation unit, 209 Display unit, 210 Display control unit, 212 Movement control unit, 213 Camera mount, 214 Camera memory, 220 Memory card, 300 Interchangeable lens, 20 Shooting lens, DESCRIPTION OF SYMBOLS 301 Lens system control part, 302 Lens information storage part, 303 Lens mount, 304 Lens drive part, 400 Interchangeable lens, 40 Shooting lens, 120 Image sensor

Claims (10)

入射光を電気信号に光電変換する、二次元的に複数配列された光電変換素子と、
前記光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられたマイクロレンズと、
前記光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられる開口マスクと、
前記マイクロレンズおよび前記開口マスクの少なくとも一方を前記光電変換素子が配列された平面に直交する成分を含むように移動させる移動部とを備え、
隣接するn個(nは3以上の整数)の前記光電変換素子のうち、少なくとも3つに対応して設けられたそれぞれの前記開口マスクの開口が、前記入射光の断面領域内の互いに異なる部分領域からの前記入射光を通過させるように位置づけられ、前記n個の前記光電変換素子を一組とする光電変換素子群が周期的に配列された撮像素子。
Two-dimensionally arranged photoelectric conversion elements that photoelectrically convert incident light into electrical signals;
A microlens provided in one-to-one correspondence with each of the photoelectric conversion elements;
An opening mask provided in one-to-one correspondence with each of the photoelectric conversion elements;
A moving unit that moves at least one of the microlens and the aperture mask so as to include a component orthogonal to a plane in which the photoelectric conversion elements are arranged;
Of the adjacent n (n is an integer of 3 or more) photoelectric conversion elements, the openings of the respective opening masks provided corresponding to at least three are different portions in the cross-sectional area of the incident light. An imaging device that is positioned so as to pass the incident light from a region and in which photoelectric conversion element groups each including the n photoelectric conversion elements are periodically arranged.
複数の前記マイクロレンズは、一体的にマイクロレンズアレイとして形成され、
複数の前記開口マスクは、一体的に開口マスクアレイとして形成され、
前記移動部は、前記マイクロレンズアレイおよび前記開口マスクアレイの少なくとも一方を移動させる請求項1に記載の撮像素子。
The plurality of microlenses are integrally formed as a microlens array,
The plurality of aperture masks are integrally formed as an aperture mask array,
The imaging device according to claim 1, wherein the moving unit moves at least one of the microlens array and the aperture mask array.
前記移動部は、圧電素子を含む請求項2に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 2, wherein the moving unit includes a piezoelectric element. 前記入射光が入射する側から、前記マイクロレンズアレイ、前記開口マスクアレイ、前記光電変換素子の順に配置され、
前記圧電素子は、前記マイクロレンズアレイを移動させる請求項3に記載の撮像素子。
From the side on which the incident light enters, the microlens array, the aperture mask array, and the photoelectric conversion element are arranged in this order.
The imaging element according to claim 3, wherein the piezoelectric element moves the microlens array.
前記入射光が入射する側から、前記マイクロレンズアレイ、前記開口マスクアレイ、前記光電変換素子の順に配置され、
前記圧電素子は、前記開口マスクアレイを移動させる請求項3に記載の撮像素子。
From the side on which the incident light enters, the microlens array, the aperture mask array, and the photoelectric conversion element are arranged in this order.
The imaging element according to claim 3, wherein the piezoelectric element moves the aperture mask array.
前記入射光が入射する側から、前記開口マスクアレイ、前記マイクロレンズアレイ、前記光電変換素子の順に配置され、
前記圧電素子は、前記開口マスクアレイを移動させる請求項3に記載の撮像素子。
From the side on which the incident light enters, the aperture mask array, the microlens array, and the photoelectric conversion element are arranged in this order.
The imaging element according to claim 3, wherein the piezoelectric element moves the aperture mask array.
請求項1から6の何れか1項に記載の撮像素子と、
装着される交換レンズのレンズ情報に基づいて、前記移動部の移動量を制御する移動制御部と
を備える撮像装置。
The imaging device according to any one of claims 1 to 6,
An imaging apparatus comprising: a movement control unit that controls a movement amount of the moving unit based on lens information of an attached interchangeable lens.
前記レンズ情報は、瞳位置情報を含む請求項7に記載の撮像装置。   The imaging device according to claim 7, wherein the lens information includes pupil position information. 前記レンズ情報は、焦点距離情報を含む請求項7または8に記載の撮像装置。   The imaging device according to claim 7, wherein the lens information includes focal length information. 前記レンズ情報は、開放絞り値情報を含む請求項7から9の何れか1項に記載の撮像装置。   The imaging device according to claim 7, wherein the lens information includes open aperture value information.
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