JP2013171968A - Organic electroluminescent element, lighting system, display device, and method for manufacturing organic electroluminescent element - Google Patents

Organic electroluminescent element, lighting system, display device, and method for manufacturing organic electroluminescent element Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce drive voltage to improve luminous efficiency.SOLUTION: A display device (1) includes an organic EL element as a light emitting source. The organic EL element includes an anode, a cathode and a plurality of organic layers. The organic layers are disposed between the anode and the cathode, and include at least a light emitting layer, a hole transport layer and an electron transport layer. In the organic EL element, crystalline semiconductor nanoparticles having an average particle size of less than 10 nm are contained in at least one layer of the hole transport layer or the electron transport layer.

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置および表示装置ならびに有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element, a lighting device and a display device, and a method for manufacturing an organic electroluminescence element.

有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子ともいう)は、発光する化合物を含有する発光層を陰極と陽極で挟んだ構成を有し、電界を印加することにより、陽極から注入された正孔と陰極から注入された電子が発光層内で再結合することにより励起子(エキシトン)が生成され、このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光・リン光)を利用した発光素子である。かかる有機EL素子は、電極と電極の間を厚さわずかサブミクロン程度の有機材料の膜で構成する全固体素子であり、かつ、その発光が数V〜数十V程度の電圧で発光が可能であることから、次世代の平面ディスプレイや照明への利用が期待されている。
特にリン光発光を利用する有機EL素子では、以前の蛍光発光を利用する素子に比べ原理的に約4倍の発光効率が実現可能であり期待されているものの、発光中心の位置をコントロールする方法、とりわけ発光層の内部で再結合を行い、いかに発光を安定に行わせることができるかが、有機EL素子の電力効率を捕らえる上で重要な技術的課題となっている。
An organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as an organic EL element) has a structure in which a light emitting layer containing a light emitting compound is sandwiched between a cathode and an anode, and by applying an electric field, holes injected from the anode and The light-emitting element utilizes light emission (fluorescence / phosphorescence) when electrons injected from the cathode are recombined in the light-emitting layer to generate excitons (excitons) and the excitons are deactivated. Such an organic EL element is an all-solid-state element composed of an organic material film having a thickness of only a submicron between electrodes, and can emit light at a voltage of several volts to several tens of volts. Therefore, it is expected to be used for next-generation flat display and lighting.
In particular, organic EL devices that use phosphorescence emission are expected to be capable of realizing a luminous efficiency that is approximately four times as high as that of previous devices that use fluorescence emission, but a method for controlling the position of the emission center. In particular, how to stably perform light emission by recombination inside the light emitting layer is an important technical issue in capturing the power efficiency of the organic EL element.

近年、発光層に隣接する形で、(発光層の陽極側に位置する)正孔輸送層と(発光層の陰極側に位置する)電子輸送層とを備えた多層積層型の有機EL素子が提案されている。かかる有機EL素子では、これら正孔輸送層、電子輸送層に電荷を発光層へ注入・輸送しやすくする効果、あるいはブロックすることにより電子電流と正孔電流のバランスを保持する効果や、光エネルギー励起子の拡散を抑制するなどの効果を持たせようとしている。
また一方で、有機EL素子の大面積化、低コスト化、高生産性に対する要求から、有機材料の膜の製膜方法として湿式法(ウエットプロセス等ともいう)に対する期待が大きい。湿式法は、真空プロセスでの製膜に比して低温で製膜可能であるため、下層の有機層のダメージを低減でき、さらに発光効率の改善の面からも大きな期待が寄せられている。
これらの課題に対して、具体的には電荷輸送能力および電荷注入能力の向上を目的として、湿式法による製膜が可能な金属酸化物粒子を正孔注入輸送層に含有させることが知られているが(特許文献1,2参照)、発光効率の改善の効果は限定的であり、未だ十分といえるものではない。
In recent years, a multilayer stacked organic EL device having a hole transport layer (located on the anode side of the light emitting layer) and an electron transport layer (located on the cathode side of the light emitting layer) adjacent to the light emitting layer has been developed. Proposed. In such an organic EL device, the effect of facilitating injection and transport of charges to the light emitting layer in the hole transport layer and the electron transport layer, or the effect of maintaining the balance between the electron current and the hole current by blocking, the light energy It is trying to give effects such as suppressing the diffusion of excitons.
On the other hand, due to demands for an organic EL device with a large area, low cost, and high productivity, there is a great expectation for a wet method (also referred to as a wet process) as a method for forming an organic material film. Since the wet method can be formed at a low temperature as compared with the film formation in the vacuum process, it can reduce the damage of the lower organic layer and is also highly expected from the viewpoint of improving the luminous efficiency.
In response to these problems, specifically, for the purpose of improving the charge transport ability and charge injection ability, it is known that the hole injection transport layer contains metal oxide particles that can be formed by a wet method. However (see Patent Documents 1 and 2), the effect of improving the light emission efficiency is limited, and it is still not sufficient.

特開2008−41894号公報JP 2008-41894 A 特開2010−272892号公報JP 2010-272892 A

したがって、本発明の主な目的は、駆動電圧の低減を図り発光効率を向上させることができる有機EL素子を提供することにあり、本発明の他の目的はかかる有機EL素子を用いた照明装置および表示装置や、その製造方法を提供することにある。   Accordingly, a main object of the present invention is to provide an organic EL element capable of reducing driving voltage and improving luminous efficiency, and another object of the present invention is an illumination device using such an organic EL element. Another object is to provide a display device and a manufacturing method thereof.

上記課題を解決するため、本発明によれば、
陽極、陰極および複数層の有機層を備え、前記有機層が陽極と陰極との間に配置され、少なくとも発光層、正孔輸送層および電子輸送層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記正孔輸送層または前記電子輸送層の少なくとも1層には、平均粒子径が10nm未満の結晶性半導体ナノ粒子が含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子が提供される。
In order to solve the above problems, according to the present invention,
In an organic electroluminescent device comprising an anode, a cathode and a plurality of organic layers, wherein the organic layer is disposed between the anode and the cathode, and has at least a light emitting layer, a hole transport layer and an electron transport layer,
At least one of the hole transport layer or the electron transport layer contains crystalline semiconductor nanoparticles having an average particle diameter of less than 10 nm.

本発明によれば、駆動電圧の低減を図り発光効率を向上させることができる。   According to the present invention, the drive voltage can be reduced and the light emission efficiency can be improved.

有機EL素子から構成される表示装置の一例を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed an example of the display apparatus comprised from an organic EL element. 図1の表示装置の表示部の模式図である。It is a schematic diagram of the display part of the display apparatus of FIG. 図2の表示部の画素の模式図である。It is a schematic diagram of the pixel of the display part of FIG. パッシブマトリクス方式フルカラー表示装置の模式図である。It is a schematic diagram of a passive matrix type full-color display device. 照明装置の概略図である。It is the schematic of an illuminating device. 図5の照明装置の断面図である。It is sectional drawing of the illuminating device of FIG.

以下、本発明を実施するための好ましい形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明の好ましい実施形態にかかる有機EL素子は、陽極、陰極および複数層の有機層を備え、有機層が陽極と陰極との間に配置され、少なくとも発光層、正孔輸送層および電子輸送層を有している。かかる有機EL素子では、後述する正孔輸送層または電子輸送層の少なくとも1層において、平均粒子径が10nm未満の結晶性半導体ナノ粒子が含有されている。
以下では、まずはじめに結晶性半導体ナノ粒子やその製造方法について説明し、その後に有機EL素子の層構成や各層の説明、有機EL素子の製造方法などについて説明する。
Hereinafter, although the preferable form for implementing this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.
An organic EL device according to a preferred embodiment of the present invention includes an anode, a cathode, and a plurality of organic layers, the organic layer is disposed between the anode and the cathode, and at least a light emitting layer, a hole transport layer, and an electron transport layer have. In such an organic EL element, crystalline semiconductor nanoparticles having an average particle diameter of less than 10 nm are contained in at least one of a hole transport layer or an electron transport layer described later.
Hereinafter, first, crystalline semiconductor nanoparticles and a manufacturing method thereof will be described, and then a layer configuration of the organic EL element, description of each layer, a manufacturing method of the organic EL element, and the like will be described.

《結晶性半導体ナノ粒子》
本発明に係る結晶性半導体ナノ粒子は平均粒子径が10nm未満で結晶性が高いことを主な特徴とする。半導体ナノ粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、金属酸化物からなることが最も好ましい。
金属原子としては、3〜5族の金属(スカンジウム、イットリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ)や、銅、セリウム、インジウム、スズおよびガリウム、アルミニウム、亜鉛、モリブデン、タングステン、レニウム等が挙げられる。
金属酸化物ナノ粒子材料としては、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化銅、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化レニウム等が挙げられる。
《Crystalline semiconductor nanoparticles》
The crystalline semiconductor nanoparticles according to the present invention are mainly characterized in that the average particle diameter is less than 10 nm and the crystallinity is high. The semiconductor nanoparticles are preferably made of a metal oxide, nitride, sulfide or halide, more preferably a metal oxide or metal halide, and most preferably a metal oxide.
Examples of metal atoms include group 3-5 metals (scandium, yttrium, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium), copper, cerium, indium, tin and gallium, aluminum, zinc, molybdenum, tungsten, rhenium, and the like. It is done.
Metal oxide nanoparticle materials include scandium oxide, yttrium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide, hafnium oxide, vanadium oxide, niobium oxide, copper oxide, indium oxide, tin oxide, gallium oxide, aluminum oxide, zinc oxide Examples include molybdenum oxide, tungsten oxide, and rhenium oxide.

本発明の半導体ナノ粒子は後述する有機EL素子の構成層のうち、電子輸送層か正孔輸送層の少なくとも一方に含有させることができ、特に電子輸送層に含有させることが好ましく、電子輸送層と正孔輸送層との両方に含有させることが最も好ましい。
当該粒子を電子輸送層に含有させる場合は、本発明の半導体ナノ粒子の伝導帯のエネルギー準位が電子輸送層を構成する電子輸送材料のLUMO準位と、発光層のホスト化合物のLUMO準位との間にある必要があり、この観点から酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブが好ましく、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムがさらに好ましい。
当該粒子を正孔輸送層に含有させる場合は、本発明の半導体ナノ粒子の価電子帯のエネルギー準位が正孔輸送層を構成する正孔輸送材料のHOMO準位と、発光層のホスト化合物のHOMO準位との間にある必要があり、この観点から酸化銅、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化レニウムが好ましく酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化レニウムがさらに好ましい。
The semiconductor nanoparticles of the present invention can be contained in at least one of the electron transport layer and the hole transport layer among the constituent layers of the organic EL device described later, and are particularly preferably contained in the electron transport layer. Most preferably, it is contained in both the hole transport layer and the hole transport layer.
When the particles are included in the electron transport layer, the energy level of the conduction band of the semiconductor nanoparticles of the present invention is the LUMO level of the electron transport material constituting the electron transport layer, and the LUMO level of the host compound of the light emitting layer. From this viewpoint, scandium oxide, yttrium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide, hafnium oxide, vanadium oxide, and niobium oxide are preferable, and yttrium oxide, zirconium oxide, and cerium oxide are more preferable.
When the particles are contained in the hole transport layer, the energy level of the valence band of the semiconductor nanoparticles of the present invention is the HOMO level of the hole transport material constituting the hole transport layer, and the host compound of the light emitting layer From this point of view, copper oxide, indium oxide, tin oxide, gallium oxide, aluminum oxide, zinc oxide molybdenum oxide, tungsten oxide, and rhenium oxide are preferable, and molybdenum oxide, tungsten oxide, oxide Rhenium is more preferred.

本発明の半導体ナノ粒子の粒子径(平均粒子径)は10nm未満であり、好ましい粒子径としては0.5nm〜9.9nmであり、より好ましくは1.0nm〜9.0nmであり、特に好ましくは3.0nm〜8.0nmである。粒子径が10nm以上になると均一な厚さを有する膜の形成が困難となり、薄い膜厚の部分に電荷移動が集中しその部分が早く破壊されブラックスポットなり、有機EL素子としての寿命劣化を引き起こす。
平均粒子径の測定方法としては、公知の方法を用いることができる。
例えば透過型電子顕微鏡(TEM)により半導体ナノ粒子の粒子観察を行い、そこから粒子径分布の数平均粒子径として求める方法、動的光散乱法により半導体ナノ粒子の粒子径分布を測定し、その数平均粒子径として求める方法等が挙げられる。
The particle diameter (average particle diameter) of the semiconductor nanoparticles of the present invention is less than 10 nm, and the preferable particle diameter is 0.5 nm to 9.9 nm, more preferably 1.0 nm to 9.0 nm, and particularly preferably. Is 3.0 nm to 8.0 nm. When the particle diameter is 10 nm or more, it becomes difficult to form a film having a uniform thickness, and the charge transfer concentrates on the thin film thickness part, and the part is quickly destroyed and becomes a black spot, causing deterioration of the lifetime of the organic EL element. .
As a method for measuring the average particle diameter, a known method can be used.
For example, the semiconductor nanoparticles are observed with a transmission electron microscope (TEM), and the number average particle size of the particle size distribution is determined therefrom, and the particle size distribution of the semiconductor nanoparticles is measured by a dynamic light scattering method. Examples of the method include obtaining the number average particle diameter.

本発明の半導体ナノ粒子の結晶性は粉末X線回折法(XRD)により結晶構造を同定し、結晶化度を算出して判断する。結晶性半導体ナノ粒子における「結晶性」とは、この結晶化度が50%以上であることを意味し、好ましくは結晶化度が60%以上であり、さらに好ましくは結晶化度が70%以上である。結晶化度はXRD測定結果から結晶質による回折線部分(ピーク)と非晶質による散乱光部分(ハロー)のフィッテイングを行い、各成分の積分強度を求め以下の式(A)により算出される。
X = Ic/(Ic+Ia)×100 … (A)
式(A)中、「X」は結晶化度、「Ic」はピークの積分強度、「Ia」はハローの積分強度を表す。
結晶性を向上させることで駆動電圧の低減、発光効率の向上、長寿命化の効果を得ることができる。かかるメカニズムに関しては明確ではないが以下のように考えている。すなわち、通常、結晶性が高いと半導体内部での電荷移動は良くないと考えられるが、平均粒子径を10nm未満にすることで粒子の表面積が飛躍的に増大し粒子表面上の電荷の移動が支配的になり、結晶性が高いことがむしろ粒子表面に規則的で効率的な電導パスを形成し、電荷の移動が向上したためと考えられる。
The crystallinity of the semiconductor nanoparticles of the present invention is determined by identifying the crystal structure by powder X-ray diffraction (XRD) and calculating the crystallinity. “Crystallinity” in crystalline semiconductor nanoparticles means that the crystallinity is 50% or more, preferably 60% or more, and more preferably 70% or more. It is. The degree of crystallinity is calculated from the XRD measurement results by fitting the diffraction line part (peak) due to the crystalline substance and the scattered light part (halo) due to the amorphous substance, obtaining the integrated intensity of each component, and calculating by the following formula (A). The
X = Ic / (Ic + Ia) × 100 (A)
In formula (A), “X” represents the crystallinity, “Ic” represents the integrated intensity of the peak, and “Ia” represents the integrated intensity of the halo.
By improving the crystallinity, it is possible to obtain the effect of reducing the driving voltage, improving the light emission efficiency, and extending the lifetime. This mechanism is not clear, but is considered as follows. That is, it is generally considered that charge transfer inside the semiconductor is not good when the crystallinity is high, but by making the average particle diameter less than 10 nm, the surface area of the particle is dramatically increased, and charge transfer on the particle surface is prevented. Rather, the higher crystallinity is considered to be due to the formation of a regular and efficient conduction path on the particle surface and the improved charge transfer.

本発明においては、半導体ナノ粒子の粒子表面を有機物により改質することにさらに好ましい結果が得られる。これは半導体ナノ粒子の製造時における塗布液中の分散安定性が向上し、ナノ粒子を均質に層中に分布させることができるためと考えられる。
改質に用いる有機物としては粒子表面と化学結合可能な基を有する化合物を用いることができ、例えば、エーテル結合、エステル結合、アミノ結合又はアミド結合を含むN原子を介した結合、S原子を介した結合、P原子を介した結合、金属-C-の結合、金属-C=の結合及び金属-(C=O)-の結合、リン酸エステル結合、亜リン酸結合、フォスフォン酸結合、亜フォスフォン酸結合、フォスフィン酸結合、亜フォスフィン酸結合などの化学結合を形成することを許容するものが挙げられる。
改質に用いる有機物の有機分子残基としては、例えば、炭化水素基などが挙げられ、置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖のアルキル基、置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖のアルケニル基、置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖のアルキニル基、置換されていてもよく且つ飽和又は不飽和の環式アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよい飽和又は不飽和の複素環式基などが挙げられる。
本発明においては有機分子残基部分が後述する電子輸送性や正孔輸送性を有する材料の構造を残基として有するものが電荷移動をスムーズに進めるために最も好ましく、具体的には例えば、ベンゼン、トリフェニルアミン、フルオレン、ビフェニル、ピレン、アントラセン、カルバゾール、アザカルバゾール、フェニルピリジン、トリチオフェン、フェニルオキサジアゾール、フェニルトリアゾール、ベンゾイミダゾール、フェニルトリアジン、ベンゾジアチアジン、フェニルキノキサリン、フェニレンビニレン、フェニルシロール、及びこれらの構造の組み合わせ等が挙げられ、そのなかでもアザカルバゾール、フェニルピリジンが好ましい。
In the present invention, a more preferable result is obtained by modifying the particle surface of the semiconductor nanoparticles with an organic substance. This is presumably because the dispersion stability in the coating liquid during the production of the semiconductor nanoparticles is improved, and the nanoparticles can be uniformly distributed in the layer.
As the organic substance used for the modification, a compound having a group capable of chemically bonding to the particle surface can be used. For example, a bond via an N atom including an ether bond, an ester bond, an amino bond or an amide bond, or an S atom. Bond, P atom bond, metal-C- bond, metal-C = bond and metal- (C = O)-bond, phosphate ester bond, phosphite bond, phosphonate bond, Those that allow chemical bonds such as phosphinic acid bonds, phosphinic acid bonds, and phosphinic acid bonds to be formed.
Examples of the organic molecular residue of the organic substance used for the modification include a hydrocarbon group, and may be a linear or branched alkyl group that may be substituted, a linear or branched chain that may be substituted. An alkenyl group, an optionally substituted linear or branched alkynyl group, an optionally substituted saturated or unsaturated cyclic alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted Examples thereof include an aralkyl group and an optionally substituted saturated or unsaturated heterocyclic group.
In the present invention, the organic molecule residue part is most preferably one having a structure of a material having an electron transport property and a hole transport property, which will be described later, as a residue in order to facilitate the charge transfer smoothly. , Triphenylamine, fluorene, biphenyl, pyrene, anthracene, carbazole, azacarbazole, phenylpyridine, trithiophene, phenyloxadiazole, phenyltriazole, benzimidazole, phenyltriazine, benzodiathiazine, phenylquinoxaline, phenylenevinylene, phenyl Examples include siloles and combinations of these structures, and among them, azacarbazole and phenylpyridine are preferable.

有機分子残基としての当該炭化水素としては、その炭素数は特に限定されず、炭素数1や2のものも使用できるが、本発明の特徴を生かす観点からは、炭素数3あるいはそれ以上の鎖を有する長鎖炭化水素であるものは好ましく、例えば、炭素数3〜20の直鎖又は分岐鎖、あるいは環状の炭化水素などが挙げられる。該炭化水素は、置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖のアルキル基、置換されていてもよい環式アルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよい飽和又は不飽和の複素環式基などが挙げられる。置換基としては、例えば、カルボキシ基、シアノ基,ニトロ基、ハロゲン、エステル基、アミド基、ケトン基、ホルミル基、エーテル基、水酸基、アミノ基、スルホニル基、−O−、−NH−、−S−などが挙げられる。
本発明の改質に用いる有機物として例えば、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸類、エステル類、アミン類、チオール類、アミド類、オキシム類、ホスゲン、エナミン類、アミノ酸類、ペプチド類、糖類、リン酸エステル、亜リン酸エステル、フォスフォン酸エステル、亜フォスフォン酸エステル、フォスフィン酸エステル、亜フォスフィン酸エステル、フォスフィン、フォスフィンオキシドなどが挙げられる。
代表的な有機物としては、例えば、ペンタノール、ペンタナール、ペンタン酸、ペンタンアミド、ペンタンチオール、ヘキサノール、ヘキサナール、ヘキサン酸、ヘキサンアミド、ヘキサンチオール、ヘプタノール、ヘプタナール、ヘプタン酸、ヘプタンアミド、ヘプタンチオール、オクタノール、オクタナール、オクタン酸、オクタンアミド、オクタンチオール、デカノール、デカナール、デカン酸、デカンアミド、デカンチオール、チオ尿素、セレノ尿素などが挙げられる。
The hydrocarbon as the organic molecular residue is not particularly limited, and those having 1 or 2 carbons can be used. From the viewpoint of taking advantage of the present invention, the number of carbons is 3 or more. Those which are long-chain hydrocarbons having a chain are preferred, and examples thereof include linear or branched chains having 3 to 20 carbon atoms or cyclic hydrocarbons. The hydrocarbon is an optionally substituted linear or branched alkyl group, an optionally substituted cyclic alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, a substituted And a saturated or unsaturated heterocyclic group which may be used. Examples of the substituent include carboxy group, cyano group, nitro group, halogen, ester group, amide group, ketone group, formyl group, ether group, hydroxyl group, amino group, sulfonyl group, -O-, -NH-,- S- etc. are mentioned.
Examples of organic substances used in the modification of the present invention include alcohols, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, amines, thiols, amides, oximes, phosgene, enamines, amino acids, peptides, and sugars. , Phosphoric acid ester, phosphorous acid ester, phosphonic acid ester, phosphonic acid ester, phosphinic acid ester, phosphinic acid ester, phosphine, phosphine oxide and the like.
Typical organic substances include, for example, pentanol, pentanal, pentanoic acid, pentanamide, pentanethiol, hexanol, hexanal, hexanoic acid, hexanamide, hexanethiol, heptanol, heptanal, heptanoic acid, heptanamide, heptanethiol, octanol , Octanal, octanoic acid, octatanamide, octanethiol, decanol, decanal, decanoic acid, decanamide, decanthiol, thiourea, selenourea and the like.

本発明の半導体ナノ粒子の添加量は、かかる粒子を添加する層の全構成物質100質量部に対して、5〜90質量%であることが好ましく、10〜70質量%であることがより好ましく、15〜50質量%であることが最も好ましい。   The addition amount of the semiconductor nanoparticles of the present invention is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, with respect to 100 parts by mass of all the constituent materials of the layer to which the particles are added. Most preferably, it is 15-50 mass%.

《結晶性半導体ナノ粒子の製造方法》
本発明の半導体ナノ粒子は、亜臨界ないし超臨界状態の水を媒体として、上記で説明した金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物を、水熱反応させて製造することができる。
「亜臨界ないし超臨界状態の水」とは、具体的には、温度350〜450℃ 、圧力20〜40MPaの範囲にある水の状態を示し、好適には、温度380〜400℃、圧力25〜30MPaである。特に、温度が、380℃ 以上にある水熱反応条件が、水の密度及び誘電率の低下にともない、水熱反応が加速される等の理由により好適である。反応媒体は、水を主要成分とするが、他の媒体、例えば、有機溶媒、極性溶媒等を含む水性の混合溶媒も適宜使用することができる。
本発明の反応で使用される反応容器としは、所定の温度、圧力に耐えるものであれば適宜の反応容器を使用することができる。
反応はバッチ式又は流通式どちらでも行えるが、反応液の混合、反応温度、時間をより正確にコントロールできる点で流通式の反応装置を用いるのが好ましく、その時の反応時間は1.0〜6 0秒の間で行うのが好ましい。
また本発明の半導体ナノ粒子の粒子表面を有機物により改質するには、半導体ナノ粒子、有機物と溶媒を混合後、加熱して改質させる方法や、上記水熱反応時に原料液に有機物を混合して半導体ナノ粒子を製造すると同時に改質する方法がある。
<< Method for producing crystalline semiconductor nanoparticles >>
The semiconductor nanoparticles of the present invention can be produced by hydrothermal reaction of the metal oxides, nitrides, sulfides or halides described above using subcritical or supercritical water as a medium.
The “subcritical or supercritical water” specifically refers to a water state at a temperature of 350 to 450 ° C. and a pressure of 20 to 40 MPa, preferably a temperature of 380 to 400 ° C. and a pressure of 25 ~ 30 MPa. In particular, the hydrothermal reaction condition at a temperature of 380 ° C. or higher is preferable because the hydrothermal reaction is accelerated as the density and dielectric constant of water decrease. The reaction medium contains water as a main component, but other media such as an aqueous mixed solvent including an organic solvent and a polar solvent can be used as appropriate.
As the reaction vessel used in the reaction of the present invention, an appropriate reaction vessel can be used as long as it can withstand a predetermined temperature and pressure.
Although the reaction can be carried out either batchwise or flow-wise, it is preferable to use a flow-type reaction device in that the mixing of the reaction liquid, reaction temperature, and time can be controlled more accurately, and the reaction time at that time is 1.0-6. It is preferably performed in 0 seconds.
In addition, in order to modify the surface of the semiconductor nanoparticles of the present invention with an organic substance, the semiconductor nanoparticles, a method in which the organic substance and a solvent are mixed and then heated are modified, or the organic substance is mixed with the raw material liquid during the hydrothermal reaction. Thus, there is a method of modifying semiconductor nanoparticles at the same time as manufacturing them.

《有機EL素子の構成層》
本発明の有機EL素子の構成層について説明する。本発明において、有機EL素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
(i)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(ii)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(iv)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(v)陽極/正孔輸送層/陽極バッファー層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
(vi)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極バッファー層/陰極
複数の発光層が含まれる場合、該発光層間に非発光性の中間層を有してもよい。また、上記層構成の内、陽極及び陰極を除く発光層を含む有機層を1つの発光ユニットとし、複数の発光ユニットを積層することが可能である。該複数の積層された発光ユニットにおいては、発光ユニット間に非発光性の中間層を有していてもよく、さらに中間層は電荷発生層を含んでいてもよい。
本発明の有機EL素子としては白色発光層であることが好ましく、これらを用いた照明装置であることが好ましい。
<< Constituent layers of organic EL elements >>
The constituent layers of the organic EL element of the present invention will be described. In this invention, although the preferable specific example of the layer structure of an organic EL element is shown below, this invention is not limited to these.
(I) Anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode (ii) Anode / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode (iii) Anode / hole transport layer / Light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode (iv) anode / anode buffer layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode ( v) Anode / hole transport layer / anode buffer layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer / cathode (vi) Anode / anode buffer layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / Cathode buffer layer / cathode When a plurality of light emitting layers are included, a non-light emitting intermediate layer may be provided between the light emitting layers. In addition, among the above layer structures, an organic layer including a light emitting layer excluding an anode and a cathode can be used as one light emitting unit, and a plurality of light emitting units can be stacked. The plurality of stacked light emitting units may have a non-light emitting intermediate layer between the light emitting units, and the intermediate layer may further include a charge generation layer.
The organic EL element of the present invention is preferably a white light emitting layer, and is preferably a lighting device using these.

本発明の有機EL素子を構成する各層について説明する。   Each layer which comprises the organic EL element of this invention is demonstrated.

《発光層》
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2nm〜500nmの範囲に調整することが好ましく、さらに好ましくは2〜200nmの範囲に調整され、特に好ましくは、5〜100nmの範囲である。
発光層の作製には、後述する発光ドーパントやホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、湿式法(ウェットプロセスともいい、例えば、スピンコート法、キャスト法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、インクジェット法、印刷法、スプレーコート法、カーテンコート法、LB法(ラングミュア・ブロジェット(Langmuir Blodgett法)等を挙げることができる。))等により製膜して形成することができる。
本発明の有機EL素子の発光層には、発光ドーパント(リン光発光性ドーパント(リン光ドーパント、リン光発光性ドーパント基ともいう)や蛍光ドーパント等)化合物と、発光ホスト化合物とが含有される。
<Light emitting layer>
The light emitting layer according to the present invention is a layer that emits light by recombination of electrons and holes injected from the electrode, the electron transport layer, or the hole transport layer, and the light emitting portion is in the layer of the light emitting layer. May be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer.
The total film thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the uniformity of the film, preventing unnecessary application of high voltage during light emission, and improving the stability of the emission color with respect to the drive current. It is preferable to adjust in the range of 2 nm to 500 nm, more preferably in the range of 2 to 200 nm, and particularly preferably in the range of 5 to 100 nm.
For the production of the light emitting layer, a light emitting dopant or host compound described later is used, for example, a vacuum deposition method, a wet method (also referred to as a wet process, for example, a spin coating method, a casting method, a die coating method, a blade coating method, a roll coating method, An ink-jet method, a printing method, a spray coating method, a curtain coating method, an LB method (a Langmuir-Blodgett method and the like can be used)) and the like can be formed.
The light emitting layer of the organic EL device of the present invention contains a light emitting dopant (phosphorescent dopant (also referred to as phosphorescent dopant, also referred to as phosphorescent dopant group) or fluorescent dopant) compound and a light emitting host compound. .

(1)発光性ドーパント化合物
発光性ドーパントとしては、蛍光ドーパント(蛍光性化合物ともいう)、リン光ドーパント(リン光発光体、リン光性化合物、リン光発光性化合物等ともいう)を用いることができる。
リン光ドーパント化合物は、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。
上記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。
溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光ドーパントは、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率(0.01以上)が達成されればよく、例えば、国際公開第00/70655号、特開2002−280178号公報、特開2001−181616号公報、特開2002−280179号公報、特開2001−181617号公報、特開2002−280180号公報、特開2001−247859号公報、特開2002−299060号公報、特開2001−313178号公報、特開2002−302671号公報、特開2001−345183号公報、特開2002−324679号公報、国際公開第02/15645号、特開2002−332291号公報、特開2002−50484号公報、特開2002−332292号公報、特開2002−83684号公報、特表2002−540572号公報、特開2002−117978号公報、特開2002−338588号公報、特開2002−170684号公報、特開2002−352960号公報、国際公開第01/93642号、特開2002−50483号公報、特開2002−100476号公報、特開2002−173674号公報、特開2002−359082号公報、特開2002−175884号公報、特開2002−363552号公報、特開2002−184582号公報、特開2003−7469号公報、特表2002−525808号公報、特開2003−7471号公報、特表2002−525833号公報、特開2003−31366号公報、特開2002−226495号公報、特開2002−234894号公報、特開2002−235076号公報、特開2002−241751号公報、特開2001−319779号公報、特開2001−319780号公報、特開2002−62824号公報、特開2002−100474号公報、特開2002−203679号公報、特開2002−343572号公報、特開2002−203678号公報等に記載されている化合物等を用いることができる。
蛍光ドーパントとしては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等や、レーザー色素に代表される蛍光量子収率が高い化合物が挙げられる。
また発光ドーパントは、複数種の化合物を併用して用いてもよく、構造の異なるリン光ドーパント同士の組み合わせや、リン光ドーパントと蛍光ドーパントを組み合わせて用いてもよい。
(1) Luminescent dopant compound As the luminescent dopant, a fluorescent dopant (also referred to as a fluorescent compound) or a phosphorescent dopant (also referred to as a phosphorescent emitter, a phosphorescent compound, a phosphorescent compound, or the like) is used. it can.
The phosphorescent dopant compound is a compound in which light emission from an excited triplet is observed. Specifically, the phosphorescent dopant compound is a compound that emits phosphorescence at room temperature (25 ° C.). Although defined as being a compound of 01 or more, a preferable phosphorescence quantum yield is 0.1 or more.
The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in Spectroscopic II, page 398 (1992 edition, Maruzen) of Experimental Chemistry Course 4 of the 4th edition.
Although the phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, the phosphorescence dopant according to the present invention achieves the phosphorescence quantum yield (0.01 or more) in any solvent. For example, WO 00/70655, JP 2002-280178, JP 2001-181616, JP 2002-280179, JP 2001-181617, JP 2002-280180. JP, JP 2001-247859, JP 2002-299060, JP 2001-313178, JP 2002-302671, JP 2001-345183, JP 2002-324679. WO 02/15645, JP 2002-332291 A, JP 2002-50 No. 84, JP-A No. 2002-332292, JP-A No. 2002-83684, JP-T No. 2002-540572, JP-A No. 2002-117978, JP-A No. 2002-338588, JP-A No. 2002-170684 JP, 2002-352960, WO 01/93642, JP 2002-50483, JP 2002-1000047, JP 2002-173684, JP 2002-359082, JP 2002-175844 A, JP 2002-363552 A, JP 2002-184582 A, JP 2003-7469 A, JP 2002-525808 A, JP 2003-7471 A, Special Table. JP 2002-525833 A, JP 2003-3136 A JP, JP 2002-226495, JP 2002-234894, JP 2002-235076, JP 2002-241751, JP 2001-319779, JP 2001-319780. JP-A 2002-62824, JP-A 2002-1000047, JP-A 2002-203679, JP-A 2002-343572, JP-A 2002-203678, and the like are used. be able to.
As fluorescent dopants, coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes, perylene dyes, stilbene dyes , Polythiophene dyes, rare earth complex phosphors, and the like, and compounds having a high fluorescence quantum yield such as laser dyes.
The light emitting dopant may be used in combination of a plurality of types of compounds, or may be a combination of phosphorescent dopants having different structures or a combination of a phosphorescent dopant and a fluorescent dopant.

(2)発光ホスト化合物(発光ホスト等ともいう)
本発明のホスト化合物は、発光層に含有される化合物の内で、その層中での質量比が20%以上であり、かつ室温(25℃)においてリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物と定義され、好ましくはリン光量子収率が0.01未満である。また、ホスト化合物は、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が20%以上であることが好ましい。
本発明に用いることができる発光ホストとしては、特に制限はなく、従来有機EL素子で用いられる化合物を用いることができる。
代表的にはカルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するもの、または、カルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体(ここで、ジアザカルバゾール誘導体とは、カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の少なくとも1つの炭素原子が窒素原子で置換されているものを表す。)等が挙げられる。
本発明に用いることができる発光ホストとしては正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、かつ、発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。発光ホストはより好ましくはTgが100℃以上である。
発光ホストを複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。
また、本発明に用いられる発光ホストとしては、低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(重合性発光ホスト)でもよく、このような化合物を一種または複数種用いてもよい。
(2) Luminescent host compound (also referred to as luminescent host)
The host compound of the present invention has a mass ratio in the layer of 20% or more among the compounds contained in the light emitting layer, and has a phosphorescence quantum yield of phosphorescence of 0 at room temperature (25 ° C.). .1 is defined as a compound having a phosphorescence quantum yield of less than 0.01. Moreover, it is preferable that the mass ratio in the layer is 20% or more among the compounds contained in the light emitting layer.
There is no restriction | limiting in particular as a light emission host which can be used for this invention, The compound conventionally used with an organic EL element can be used.
Typically, a carbazole derivative, a triarylamine derivative, an aromatic derivative, a nitrogen-containing heterocyclic compound, a thiophene derivative, a furan derivative, an oligoarylene compound or the like having a basic skeleton, or a carboline derivative or a diazacarbazole derivative (here And the diazacarbazole derivative represents one in which at least one carbon atom of the hydrocarbon ring constituting the carboline ring of the carboline derivative is substituted with a nitrogen atom.
The light emitting host that can be used in the present invention is preferably a compound that has a hole transporting ability and an electron transporting ability, prevents the emission of light from becoming longer, and has a high Tg (glass transition temperature). The light emitting host more preferably has a Tg of 100 ° C. or higher.
By using a plurality of types of light-emitting hosts, the movement of charges can be adjusted, and the organic EL element can be made highly efficient.
In addition, the light emitting host used in the present invention may be a low molecular compound, a high molecular compound having a repeating unit, or a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (polymerizable light emitting host). Of course, one or more of such compounds may be used.

公知の発光ホストの具体例としては、以下の文献に記載の化合物が挙げられる。
特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報等。
Specific examples of the known light-emitting host include compounds described in the following documents.
JP-A-2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860, 2002-334787, 2002-15871, 2002-334788, 2002-43056, 2002-334789, 2002-75645, 2002-338579, 2002-105445 gazette, 2002-343568 gazette, 2002-141173 gazette, 2002-352957 gazette, 2002-203683 gazette, 2002-363227 gazette, 2002-231453 gazette, No. 003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060, No. 2002. -302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, and the like.

《注入層:正孔注入層(陽極バッファー層)、電子注入層(陰極バッファー層)》
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123頁〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層(陽極バッファー層)と電子注入層(陰極バッファー層)とがある。
陽極バッファー層(正孔注入層)は、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム錯体等に代表されるオルトメタル化錯体層等が挙げられる。
陰極バッファー層(電子注入層)は、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウム、フッ化ナトリウムやフッ化カリウム等に代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層(注入層)はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は0.1nm〜500nmの範囲が好ましい。
また、陽極バッファー層及び陰極バッファー層に用いられる材料は、他の材料と併用して用いることも可能であり、例えば正孔輸送層や電子輸送層中に混合して用いることも可能である。
<< Injection layer: hole injection layer (anode buffer layer), electron injection layer (cathode buffer layer) >>
The injection layer is provided as necessary, and there are an electron injection layer and a hole injection layer, and as described above, it exists between the anode and the light emitting layer or the hole transport layer and between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer. May be.
An injection layer is a layer provided between an electrode and an organic layer in order to reduce drive voltage and improve light emission luminance. “Organic EL element and its forefront of industrialization (issued by NTT Corporation on November 30, 1998) 2), Chapter 2, “Electrode Materials” (pages 123 to 166), and includes a hole injection layer (anode buffer layer) and an electron injection layer (cathode buffer layer).
The details of the anode buffer layer (hole injection layer) are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069 and the like. As a specific example, copper phthalocyanine is used. Representative phthalocyanine buffer layer, oxide buffer layer typified by vanadium oxide, amorphous carbon buffer layer, polymer buffer layer using conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene, tris (2-phenylpyridine) ) Orthometalated complex layers represented by iridium complexes and the like.
The details of the cathode buffer layer (electron injection layer) are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. Specifically, strontium, aluminum, etc. Metal buffer layer typified by, alkali metal compound buffer layer typified by lithium fluoride, sodium fluoride and potassium fluoride, alkaline earth metal compound buffer layer typified by magnesium fluoride, and aluminum oxide And an oxide buffer layer. The buffer layer (injection layer) is preferably a very thin film, and the film thickness is preferably in the range of 0.1 nm to 500 nm although it depends on the material.
In addition, the materials used for the anode buffer layer and the cathode buffer layer can be used in combination with other materials. For example, the materials can be mixed in the hole transport layer or the electron transport layer.

《正孔輸送層》
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。
正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。本発明では通常知られた正孔輸送材料を使用することができる。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。
芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、さらには米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。
さらに芳香族オリゴアミンとして以下に示すような化合物構造を利用できる。
芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物(米国特許第4,127,412号明細書、特開昭53−27033号公報、同54−58445号公報、同54−149634号公報、同54−64299号公報、同55−79450号公報、同55−144250号公報、同56−119132号公報、同61−295558号公報、同61−98353号公報、同63−295695号公報)、ピリジン誘導体(特開2003−282270号公報)、ポルフィリン化合物(特開昭63−2956965号公報等参照)、アニリン系共重合体(特開平2−282263号公報、WO08/129947号明細書等参照)、フェニレンジアミン誘導体(米国特許第3,615,404号明細書、特公昭51−10105号公報、同46−3712号公報、同47−25336号公報、特開昭54−53435号公報、同54−110536号公報、同54−119925号公報等参照)。
さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
また、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。
また、銅フタロシアニンやトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム錯体等に代表されるシクロメタル化錯体やオルトメタル化錯体等も正孔輸送材料として使用することができる。
また、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.,Applied Physics Letters,80(2002),p.139)に記載されているような、所謂p型正孔輸送材料を用いることもできる。
本発明においては、より高効率の発光素子が得られることからこれらの材料を用いることが好ましい。
《Hole transport layer》
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer.
The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.
The hole transport material has any one of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. In the present invention, a conventionally known hole transport material can be used. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples thereof include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, and conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers. It is particularly preferable to use an aromatic tertiary amine compound.
Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl; N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N ' − (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4'-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole, as well as two of those described in US Pat. No. 5,061,569 Having a condensed aromatic ring in the molecule, for example, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD), JP-A-4-308 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units described in Japanese Patent No. 88 are linked in a starburst type ( MTDATA) and the like.
Furthermore, the following compound structures can be used as aromatic oligoamines.
Aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds (US Pat. No. 4,127,412, JP-A-53-27033, 54-58445, 54-149634, 54- 64299, 55-79450, 55-144250, 56-119132, 61-295558, 61-98353, 63-295695), pyridine derivatives ( JP-A-2003-282270), porphyrin compounds (see JP-A-63-295965, etc.), aniline-based copolymers (see JP-A-2-282263, WO08 / 129947, etc.), phenylenediamine Derivatives (US Pat. No. 3,615,404, Japanese Patent Publication No. 51-10105, No. 4) -3712, JP same 47-25336, JP-Sho 54-53435, JP same 54-110536 and JP reference like JP same 54-119925).
Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.
In addition, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.
In addition, cyclometalated complexes and orthometalated complexes represented by copper phthalocyanine, tris (2-phenylpyridine) iridium complex, and the like can also be used as the hole transport material.
JP-A-11-251067, J. Org. Huang et. al. , Applied Physics Letters, 80 (2002), p. 139), so-called p-type hole transport materials can also be used.
In the present invention, these materials are preferably used because a light-emitting element with higher efficiency can be obtained.

正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法や湿式法(スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法、LB法等を含む)の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができ、好ましくは湿式法が使用される。
正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜500nm程度が好ましく、さらに好ましくは5〜200nmである。この正孔輸送層は上記材料の一種または2種以上からなる一層構造であってもよい。
また、不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報の各公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。
本発明においては、このようなp性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。
The hole transport layer is formed by thinning the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method or a wet method (including spin coating method, casting method, ink jet method, printing method, LB method). Preferably, a wet method is used.
Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of a positive hole transport layer, Usually, about 5 nm-500 nm are preferable, More preferably, it is 5-200 nm. The hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.
Alternatively, a hole transport layer having a high p property doped with impurities can be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J. Pat. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.
In the present invention, it is preferable to use a hole transport layer having such a high p property because a device with lower power consumption can be produced.

《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。
電子輸送層は単層もしくは複数層を設けることができる。
電子輸送層に用いられる電子輸送材料(正孔阻止材料、電子注入材料も含む)としては陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、電子輸送層の構成材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して、単独または組み合わせて用いることが可能である。
電子輸送層に用いられる従来公知の材料(以下、電子輸送材料という)の例としては、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、カルボリン誘導体、を含むアザカルバゾール誘導体等が挙げられる。
ここで、アザカルバゾール誘導体とは、カルバゾール環を構成する炭素原子の1つ以上が窒素原子で置き換わったものを示す。
さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引性基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も電子輸送材料として用いることができる。
これらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、GaまたはPbに置き替わった金属錯体も電子輸送材料として用いることができる。
その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも電子輸送材料として用いることができる。
また、正孔注入層、正孔輸送層と同様にn型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。
《Electron transport layer》
The electron transport layer is made of a material having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer.
The electron transport layer can be provided with a single layer or a plurality of layers.
An electron transport material (including a hole blocking material and an electron injection material) used for the electron transport layer only needs to have a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting layer. Can be selected from any conventionally known compounds and used alone or in combination.
Examples of conventionally known materials used for the electron transport layer (hereinafter referred to as electron transport materials) include heterocyclic tetracarboxylic acid anhydrides such as nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, naphthalene perylene, And azacarbazole derivatives including carbodiimide, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, carboline derivatives, and the like.
Here, the azacarbazole derivative refers to one in which one or more carbon atoms constituting the carbazole ring are replaced with nitrogen atoms.
Furthermore, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, or a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron-withdrawing group can also be used as an electron transport material.
It is also possible to use a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain.
In addition, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), and the like, and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Metal complexes replaced with Cu, Ca, Sn, Ga or Pb can also be used as the electron transport material.
In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having the terminal substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can also be used as the electron transport material.
Further, similarly to the hole injection layer and the hole transport layer, inorganic semiconductors such as n-type-Si and n-type-SiC can also be used as the electron transport material.

以下、本発明の有機EL素子の電子輸送層の形成に好ましく用いられる従来公知の化合物(電子輸送材料)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the specific example of the conventionally well-known compound (electron transport material) preferably used for formation of the electron carrying layer of the organic EL element of this invention is given, this invention is not limited to these.

Figure 2013171968
Figure 2013171968

本発明においては下記一般式(1)で表されるピリジン誘導体を用いるとさらに好ましい結果が得られる。その効果のメカニズムは不明ではあるが、ピリジン環と本発明の半導体ナノ粒子表面との相互作用が高まり電子のホッピングをより容易に行うことが可能となり、電子輸送効率を向上させたと考えられる。   In the present invention, a more preferable result can be obtained by using a pyridine derivative represented by the following general formula (1). Although the mechanism of the effect is unknown, it is thought that the interaction between the pyridine ring and the surface of the semiconductor nanoparticle of the present invention has increased, and electron hopping can be performed more easily, and the electron transport efficiency has been improved.

Figure 2013171968
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一般式(1)中、「R〜R」は水素原子または置換基を表し、置換基同士が互いに結合し環を形成してもよい。 In general formula (1), “R 1 to R 5 ” represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring.

一般式(1)で表される化合物(電子輸送材料)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of a compound (electron transport material) represented by General formula (1) is given, this invention is not limited to these.

Figure 2013171968
Figure 2013171968

Figure 2013171968
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本発明の一般式(1)で表される化合物の添加量は、当該化合物を添加する層の全構成物質100質量部に対して5〜90質量%であることが好ましく、10〜70質量%であるとより好ましく、10〜50質量%が最も好ましい。
電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5〜500nm程度、本発明の効果を最大限活用し、金属表面上のプラズモン効果の影響を抑制する観点から好ましくは80〜300nmである。この電子輸送層は上記材料の一種または二種以上からなる一層構造であってもよく、複数の層が積層した積層構造であってもよい。
また、不純物をドープしたn性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、同10−270172号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。
It is preferable that the addition amount of the compound represented by General formula (1) of this invention is 5-90 mass% with respect to 100 mass parts of all the structural substances of the layer which adds the said compound, and 10-70 mass%. Is more preferable, and 10 to 50% by mass is most preferable.
Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of an electron carrying layer, Usually, about 5-500 nm, Preferably it is 80-300 nm from a viewpoint of utilizing the effect of this invention to the maximum and suppressing the influence of the plasmon effect on a metal surface. is there. The electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials, or may have a stacked structure in which a plurality of layers are stacked.
Further, an electron transport layer having a high n property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

《阻止層:正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、上記の如く有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
また、前述の電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係わる正孔阻止層として用いることができる。
本発明の有機EL素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。
正孔阻止層には、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体(ここで、アザカルバゾール誘導体とは、カルバゾール環を構成する炭素原子の1つ以上が窒素原子で置き換わったものを示す)、ピリジン誘導体など、含窒素化合物を含有することが好ましい。
また、本発明においては、複数の発光色の異なる複数の発光層を有する場合、その発光極大波長が最も短波にある発光層が、全発光層中、最も陽極に近いことが好ましいが、このような場合、該最短波層と該層の次に陽極に近い発光層との間に正孔阻止層を追加して設けることが好ましい。
さらには、該位置に設けられる正孔阻止層に含有される化合物の50質量%以上が、前記最短波発光層のホスト化合物に対しそのイオン化ポテンシャルが0.3eV以上大きいことが好ましい。
イオン化ポテンシャルは化合物のHOMO(最高占有軌道)レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、例えば下記に示すような方法により求めることができる。
(1)米国Gaussian社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるGaussian98(Gaussian98、Revision A.11.4,M.J.Frisch,et al.,Gaussian,Inc.,Pittsburgh PA,2002)を用い、キーワードとしてB3LYP/6−31G*を用いて構造最適化を行うことにより算出した値(eV単位換算値)として求めることができる。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。
(2)イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接測定する方法により求めることもできる。例えば、理研計器社製の低エネルギー電子分光装置「Model AC−1」を用いて、あるいは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることができる。
<Blocking layer: hole blocking layer, electron blocking layer>
The blocking layer is provided as necessary in addition to the basic constituent layer of the organic compound thin film as described above. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.
The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense, and is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons and has a remarkably small ability to transport holes. The probability of recombination of electrons and holes can be improved by blocking.
Moreover, the structure of the above-mentioned electron carrying layer can be used as a hole-blocking layer concerning this invention as needed.
The hole blocking layer of the organic EL device of the present invention is preferably provided adjacent to the light emitting layer.
The hole blocking layer contains carbazole derivatives, azacarbazole derivatives (where azacarbazole derivatives are those in which one or more carbon atoms constituting the carbazole ring are replaced by nitrogen atoms), pyridine derivatives, and the like. It is preferable to contain a nitrogen compound.
In the present invention, when a plurality of light emitting layers having different light emission colors are provided, the light emitting layer having the shortest wavelength of light emission is preferably closest to the anode among all the light emitting layers. In this case, it is preferable to additionally provide a hole blocking layer between the shortest wave layer and the light emitting layer next to the anode next to the anode.
Furthermore, it is preferable that 50% by mass or more of the compound contained in the hole blocking layer provided at the position has an ionization potential of 0.3 eV or more larger than the host compound of the shortest wave emitting layer.
The ionization potential is defined by the energy required to emit electrons at the HOMO (highest occupied orbital) level of the compound to the vacuum level, and can be determined by, for example, the following method.
(1) Keyword using Gaussian 98 (Gaussian 98, Revision A.11.4, MJ Frisch, et al., Gaussian, Inc., Pittsburgh PA, 2002), which is molecular orbital calculation software manufactured by Gaussian, USA. As a value (eV unit converted value) calculated by performing structure optimization using B3LYP / 6-31G *. This calculation value is effective because the correlation between the calculation value obtained by this method and the experimental value is high.
(2) The ionization potential can also be obtained by a method of directly measuring by photoelectron spectroscopy. For example, a method known as ultraviolet photoelectron spectroscopy can be suitably used by using a low energy electron spectrometer “Model AC-1” manufactured by Riken Keiki Co., Ltd.

一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
また、前述の正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。
本発明に係る正孔阻止層、電子阻止層の膜厚としては、好ましくは3〜100nmであり、さらに好ましくは3〜30nmである。
On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense, and is made of a material that has a function of transporting holes and has an extremely small ability to transport electrons, and transports electrons while transporting holes. By blocking, the recombination probability of electrons and holes can be improved.
Moreover, the structure of the above-mentioned hole transport layer can be used as an electron blocking layer as needed.
The film thickness of the hole blocking layer and the electron blocking layer according to the present invention is preferably 3 to 100 nm, and more preferably 3 to 30 nm.

《陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。
また、IDIXO(In−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。
あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10〜1000nm、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。
"anode"
As the anode in the organic EL element, an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function (4 eV or more) is preferably used. Specific examples of such electrode materials include metals such as Au, and conductive transparent materials such as CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 , and ZnO.
Alternatively, an amorphous material such as IDIXO (In 2 O 3 —ZnO) capable of forming a transparent conductive film may be used. For the anode, these electrode materials may be formed into a thin film by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method, or when pattern accuracy is not so high (about 100 μm or more) A pattern may be formed through a mask having a desired shape at the time of vapor deposition or sputtering of the electrode material.
Or when using the substance which can be apply | coated like an organic electroconductivity compound, wet film-forming methods, such as a printing system and a coating system, can also be used. When light emission is extracted from the anode, it is desirable that the transmittance be greater than 10%, and the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually selected in the range of 10 to 1000 nm, preferably 10 to 200 nm.

《陰極》
一方、陰極としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。
このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。
これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10〜5μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。
なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
また、陰極に上記金属を1nm〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
"cathode"
On the other hand, as the cathode, a material having a low work function (4 eV or less) metal (referred to as an electron injecting metal), an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof as an electrode material is used.
Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like.
Among these, from the point of durability against electron injection and oxidation, etc., a mixture of an electron injecting metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function than this, for example, a magnesium / silver mixture, Magnesium / aluminum mixtures, magnesium / indium mixtures, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixtures, lithium / aluminum mixtures, aluminum and the like are preferred.
The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. Further, the sheet resistance as a cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually 10 to 5 μm, preferably 50 to 200 nm.
In order to transmit the emitted light, if either one of the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent, the light emission luminance is improved, which is convenient.
Moreover, after producing the said metal by the film thickness of 1 nm-20 nm to a cathode, the transparent or semi-transparent cathode can be produced by producing the electroconductive transparent material quoted by description of the anode on it, By applying this, an element in which both the anode and the cathode are transmissive can be manufactured.

《支持基板》
本発明の有機EL素子に用いることのできる支持基板(以下、基体、基板、基材、支持体等とも言う)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。
好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)あるいはアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が0.01g/(m・24h)以下のバリア性フィルムであることが好ましく、さらには、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が、10−3ml/(m・24h・MPa)以下、水蒸気透過度が、10−5g/(m・24h)以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。
さらに該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。
不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。
本発明の有機EL素子の発光の室温における外部取り出し効率は、1%以上であることが好ましく、より好ましくは5%以上である。
ここに、外部取り出し量子効率(%)=有機EL素子外部に発光した光子数/有機EL素子に流した電子数×100である。
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機EL素子からの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機EL素子の発光のλmaxは480nm以下が好ましい。
《Support substrate》
As a support substrate (hereinafter also referred to as a substrate, substrate, substrate, support, etc.) that can be used in the organic EL device of the present invention, there is no particular limitation on the type of glass, plastic, etc., and it is transparent. May be opaque. When extracting light from the support substrate side, the support substrate is preferably transparent.
Examples of the transparent support substrate preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film. A particularly preferable support substrate is a resin film capable of giving flexibility to the organic EL element.
Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate ( CAP), cellulose esters such as cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones Cycloolefin resins such as polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylate, Arton (trade name, manufactured by JSR) or Appel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals) Can be mentioned.
On the surface of the resin film, an inorganic film, an organic film, or a hybrid film of both may be formed. Water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C.) measured by a method according to JIS K 7129-1992. , Relative humidity (90 ± 2)% RH) is preferably 0.01 g / (m 2 · 24 h) or less, and further, oxygen measured by a method according to JIS K 7126-1987. A high barrier film having a permeability of 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · MPa) or less and a water vapor permeability of 10 −5 g / (m 2 · 24 h) or less is preferable.
As a material for forming the barrier film, any material may be used as long as it has a function of suppressing entry of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like can be used.
Further, in order to improve the brittleness of the film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and organic material layers. Although there is no restriction | limiting in particular about the lamination | stacking order of an inorganic layer and an organic layer, It is preferable to laminate | stack both alternately several times.
The method for forming the barrier film is not particularly limited. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, molecular beam epitaxy, cluster ion beam, ion plating, plasma polymerization, atmospheric pressure plasma polymerization A plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used, but an atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 is particularly preferable.
Examples of the opaque support substrate include metal plates such as aluminum and stainless steel, films, opaque resin substrates, and ceramic substrates.
The external extraction efficiency at room temperature of light emission of the organic EL device of the present invention is preferably 1% or more, more preferably 5% or more.
Here, the external extraction quantum efficiency (%) = the number of photons emitted to the outside of the organic EL element / the number of electrons sent to the organic EL element × 100.
In addition, a hue improvement filter such as a color filter may be used in combination, or a color conversion filter that converts the emission color from the organic EL element into multiple colors using a phosphor. In the case of using a color conversion filter, the λmax of light emission of the organic EL element is preferably 480 nm or less.

《有機EL素子の製造方法》
有機EL素子の製造方法の一例として、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層(電子注入層)/陰極からなる素子の製造方法について説明する。
まず、適当な基体上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10〜200nmの膜厚になるように形成させ、陽極を作製する。
<< Method for Manufacturing Organic EL Element >>
As an example of a method for producing an organic EL device, a device comprising an anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer (electron injection layer) / cathode Will be described.
First, a desired electrode material, for example, a thin film made of an anode material is formed on a suitable substrate so as to have a thickness of 1 μm or less, preferably 10 to 200 nm, and an anode is manufactured.

次に、この上に素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、陰極バッファー層等の有機化合物を含有する薄膜を順次形成する。
これら有機化合物層は蒸着法によって形成されてもよいし、湿式法によって形成されてもよい。
本実施形態では、正孔輸送層と電子輸送層の少なくとも一層に対し結晶性半導体ナノ粒子を含有させるようになっており、かかる層形成にあたっては、
(i)亜臨界ないし超臨界状態の水を媒体として水熱反応させ、結晶性半導体ナノ粒子を製造(調製)する工程と、
(ii)製造後の結晶性半導体ナノ粒子を、正孔輸送層または電子輸送層の少なくとも1層に含有させる工程と、
の各処理を実行する。
特に、(ii)の処理では、結晶性半導体ナノ粒子を有させる正孔輸送層または電子輸送層を湿式法で形成し、その層を構成する溶液または溶媒に結晶性半導体ナノ粒子を混合させ、かかる混合物を製膜するようになっている。
Next, thin films containing organic compounds such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and a cathode buffer layer, which are element materials, are sequentially formed thereon.
These organic compound layers may be formed by a vapor deposition method or a wet method.
In the present embodiment, the crystalline semiconductor nanoparticles are included in at least one layer of the hole transport layer and the electron transport layer.
(I) a step of producing (preparing) crystalline semiconductor nanoparticles by hydrothermal reaction using water in a subcritical or supercritical state as a medium;
(Ii) a step of incorporating the crystalline semiconductor nanoparticles after production into at least one layer of a hole transport layer or an electron transport layer;
Each process is executed.
In particular, in the treatment (ii), a hole transport layer or an electron transport layer having crystalline semiconductor nanoparticles is formed by a wet method, and the crystalline semiconductor nanoparticles are mixed in a solution or a solvent constituting the layer, Such a mixture is formed into a film.

湿式法としては、スピンコート法、キャスト法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、インクジェット法、印刷法、スプレーコート法、カーテンコート法、LB法等があるが、精密な薄膜が形成可能で、かつ高生産性の点から、ダイコート法、ロールコート法、インクジェット法、スプレーコート法などのロール・ツー・ロール方式適性の高い方法が好ましい。
また、層毎に異なる製膜法を適用してもよい。
本発明に係る有機EL材料を溶解または分散する液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、DMF、DMSO等の有機溶媒を用いることができる。
また、分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。
Wet methods include spin coating, casting, die coating, blade coating, roll coating, ink jet, printing, spray coating, curtain coating, and LB methods, but precise thin films can be formed. In view of high productivity, a method having high suitability for a roll-to-roll method such as a die coating method, a roll coating method, an ink jet method, and a spray coating method is preferable.
Different film forming methods may be applied for each layer.
Examples of the liquid medium for dissolving or dispersing the organic EL material according to the present invention include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, fatty acid esters such as ethyl acetate, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene, toluene, xylene, and mesitylene. Aromatic hydrocarbons such as cyclohexylbenzene, aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, decalin, and dodecane, and organic solvents such as DMF and DMSO can be used.
Moreover, as a dispersion method, it can disperse | distribute by dispersion methods, such as an ultrasonic wave, high shear force dispersion | distribution, and media dispersion | distribution.

これらの有機化合物層の形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは50〜200nmの範囲の膜厚になるように形成させ、陰極を設けることにより所望の有機EL素子が得られる。   After these organic compound layers are formed, a thin film made of a cathode material is formed on the organic compound layer so as to have a thickness of 1 μm or less, preferably in the range of 50 to 200 nm, and a cathode is provided to obtain a desired organic EL device. can get.

また、順序を逆にして、陰極、陰極バッファー層、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。
このようにして得られた多色の表示装置に、直流電圧を印加する場合には陽極を+、陰極を−の極性として電圧2V〜40V程度を印加すると発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
本発明の有機EL素子の作製は、一回の真空引きで一貫して正孔注入層から陰極まで作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる製膜法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
Further, the order can be reversed, and the cathode, cathode buffer layer, electron transport layer, hole blocking layer, light emitting layer, hole transport layer, hole injection layer, and anode can be formed in this order.
When a DC voltage is applied to the multicolor display device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 2 V to 40 V with the anode as + and the cathode as-. An alternating voltage may be applied. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.
The organic EL device of the present invention is preferably produced from the hole injection layer to the cathode consistently by a single evacuation, but may be taken out halfway and subjected to different film forming methods. At that time, it is preferable to perform the work in a dry inert gas atmosphere.

《封止》
本発明に用いられる封止手段としては、例えば、封止部材と電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
封止部材としては、有機EL素子の表示領域を覆うように配置されておればよく、凹板状でも平板状でもよい。また透明性、電気絶縁性は特に問わない。
具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。
また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。
本発明においては、素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。
さらには、ポリマーフィルムは、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10−3ml/(m・24h・MPa)以下、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が、1×10−3g/(m・24h)以下のものであることが好ましい。
封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等が使われる。
<Sealing>
As a sealing means used for this invention, the method of adhere | attaching a sealing member, an electrode, and a support substrate with an adhesive agent can be mentioned, for example.
As a sealing member, it should just be arrange | positioned so that the display area | region of an organic EL element may be covered, and concave plate shape or flat plate shape may be sufficient. Further, transparency and electrical insulation are not particularly limited.
Specific examples include a glass plate, a polymer plate / film, and a metal plate / film. Examples of the glass plate include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz.
Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone. Examples of the metal plate include those made of one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.
In the present invention, a polymer film and a metal film can be preferably used because the element can be thinned.
Furthermore, the polymer film has an oxygen permeability of 1 × 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · MPa) or less measured by a method according to JIS K 7126-1987, and a method according to JIS K 7129-1992. It is preferable that the water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C., relative humidity (90 ± 2)% RH) measured in (1) is 1 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less.
For processing the sealing member into a concave shape, sandblasting, chemical etching, or the like is used.

接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、2−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。
さらに、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。
なお、有機EL素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。
封止部分への接着剤の塗布は市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。
また、有機層を挟み支持基板と対向する側の電極の外側に該電極と有機層を被覆し、支持基板と接する形で無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。
この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。
さらに、該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。
これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができる。
Specific examples of the adhesive include photocuring and thermosetting adhesives having reactive vinyl groups such as acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, and moisture curing adhesives such as 2-cyanoacrylates. be able to. Moreover, heat | fever and chemical curing types (two-component mixing), such as an epoxy type, can be mentioned.
Furthermore, hot-melt type polyamide, polyester, and polyolefin can be mentioned. Moreover, a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive can be mentioned.
In addition, since an organic EL element may deteriorate by heat processing, what can be adhesive-hardened from room temperature to 80 degreeC is preferable. A desiccant may be dispersed in the adhesive.
Application | coating of the adhesive agent to a sealing part may use commercially available dispenser, and may print like screen printing.
In addition, it is also preferable that the electrode and the organic layer are coated on the outside of the electrode facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween, and an inorganic or organic layer is formed in contact with the support substrate to form a sealing film. .
In this case, the material for forming the film may be any material that has a function of suppressing intrusion of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like may be used. it can.
Furthermore, in order to improve the brittleness of the film, it is preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of organic materials.
The method for forming these films is not particularly limited. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, molecular beam epitaxy, cluster ion beam, ion plating, plasma polymerization, atmospheric pressure plasma A combination method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used.

封止部材と有機EL素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。
吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物(例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等)、硫酸塩(例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等)、金属ハロゲン化物(例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等)、過塩素酸類(例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等)等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好ましい。
In the gap between the sealing member and the display area of the organic EL element, an inert gas such as nitrogen or argon, or an inert liquid such as fluorinated hydrocarbon or silicon oil can be injected in the gas phase and liquid phase. preferable. A vacuum is also possible. Moreover, a hygroscopic compound can also be enclosed inside.
Examples of the hygroscopic compound include metal oxides (for example, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide) and sulfates (for example, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, cobalt sulfate). Etc.), metal halides (eg calcium chloride, magnesium chloride, cesium fluoride, tantalum fluoride, cerium bromide, magnesium bromide, barium iodide, magnesium iodide etc.), perchloric acids (eg perchloric acid) Barium, magnesium perchlorate, etc.) and the like, and sulfates, metal halides and perchloric acids are preferably anhydrous salts.

《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜、あるいは前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために保護膜、あるいは保護板を設けてもよい。特に封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。
これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。
《Protective film, protective plate》
In order to increase the mechanical strength of the element, a protective film or a protective plate may be provided on the outer side of the sealing film on the side facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween or on the sealing film. In particular, when the sealing is performed by the sealing film, the mechanical strength is not necessarily high, and thus it is preferable to provide such a protective film and a protective plate.
As a material that can be used for this, the same glass plate, polymer plate / film, metal plate / film, etc. used for the sealing can be used, but the polymer film is light and thin. Is preferably used.

《光取り出し》
有機EL素子は空気よりも屈折率の高い(屈折率が1.7〜2.1程度)層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち15%から20%程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面(透明基板と空気との界面)に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として光が素子側面方向に逃げるためである。
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法(米国特許第4,774,435号明細書)、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法(特開昭63−314795号公報)、素子の側面等に反射面を形成する方法(特開平1−220394号公報)、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法(特開昭62−172691号公報)、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法(特開2001−202827号公報)、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法(特開平11−283751号公報)等がある。
本発明においては、これらの方法を本発明の有機EL素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。
本発明はこれらの手段を組み合わせることにより、さらに高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。
《Light extraction》
The organic EL element emits light inside a layer having a refractive index higher than that of air (refractive index is about 1.7 to 2.1) and can extract only about 15% to 20% of the light generated in the light emitting layer. It is generally said. This is because light incident on the interface (interface between the transparent substrate and air) at an angle θ greater than the critical angle causes total reflection and cannot be taken out of the device, or between the transparent electrode or light emitting layer and the transparent substrate. This is because the light is totally reflected between the light and the light is guided through the transparent electrode or the light emitting layer, and as a result, the light escapes in the direction of the element side surface.
As a method for improving the light extraction efficiency, for example, a method of forming irregularities on the surface of the transparent substrate to prevent total reflection at the interface between the transparent substrate and the air (US Pat. No. 4,774,435), A method of improving efficiency by providing a light collecting property to a substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 63-314795), a method of forming a reflective surface on a side surface of an element (Japanese Patent Laid-Open No. 1-220394), and light emission from a substrate A method of forming an antireflection film by introducing a flat layer having an intermediate refractive index between the bodies (Japanese Patent Laid-Open No. 62-172691), a flat having a lower refractive index between the substrate and the light emitter than the substrate A method of introducing a layer (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-202827), a method of forming a diffraction grating between any one of a substrate, a transparent electrode layer and a light emitting layer (including between the substrate and the outside) (Japanese Patent Laid-Open No. 11-283951) Gazette).
In the present invention, these methods can be used in combination with the organic EL device of the present invention. However, a method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light emitter, or a substrate, transparent A method of forming a diffraction grating between any layers of the electrode layer and the light emitting layer (including between the substrate and the outside) can be suitably used.
In the present invention, by combining these means, it is possible to obtain an element having higher luminance or durability.

透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど外部への取り出し効率が高くなる。
低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。透明基板の屈折率は一般に1.5〜1.7程度であるので、低屈折率層は屈折率がおよそ1.5以下であることが好ましい。また、さらに1.35以下であることが好ましい。
また、低屈折率媒質の厚みは媒質中の波長の2倍以上となるのが望ましい。これは低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。
全反射を起こす界面もしくはいずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は回折格子が1次の回折や2次の回折といった所謂ブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中(透明基板内や透明電極内)に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。
導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を有することが望ましい。これは発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な1次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。
しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。
回折格子を導入する位置としては前述の通り、いずれかの層間もしくは媒質中(透明基板内や透明電極内)でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。
このとき、回折格子の周期は媒質中の光の波長の約1/2〜3倍程度が好ましい。
回折格子の配列は正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、二次元的に配列が繰り返されることが好ましい。
When a medium having a low refractive index is formed between the transparent electrode and the transparent substrate with a thickness longer than the wavelength of light, the light extracted from the transparent electrode has a higher extraction efficiency to the outside as the refractive index of the medium is lower.
Examples of the low refractive index layer include aerogel, porous silica, magnesium fluoride, and a fluorine-based polymer. Since the refractive index of the transparent substrate is generally about 1.5 to 1.7, the low refractive index layer preferably has a refractive index of about 1.5 or less. Further, it is preferably 1.35 or less.
The thickness of the low refractive index medium is preferably at least twice the wavelength in the medium. This is because the effect of the low refractive index layer is diminished when the thickness of the low refractive index medium is about the wavelength of light and the electromagnetic wave that has exuded by evanescent enters the substrate.
The method of introducing a diffraction grating into an interface or any medium that causes total reflection is characterized by a high effect of improving light extraction efficiency. This method uses the property that the diffraction grating can change the direction of light to a specific direction different from refraction by so-called Bragg diffraction such as first-order diffraction and second-order diffraction. Light that cannot be emitted due to total internal reflection between layers is diffracted by introducing a diffraction grating in any layer or medium (in a transparent substrate or transparent electrode), and the light is removed. I want to take it out.
The introduced diffraction grating preferably has a two-dimensional periodic refractive index. This is because light emitted from the light-emitting layer is randomly generated in all directions, so in a general one-dimensional diffraction grating having a periodic refractive index distribution only in a certain direction, only light traveling in a specific direction is diffracted. Therefore, the light extraction efficiency does not increase so much.
However, by making the refractive index distribution a two-dimensional distribution, light traveling in all directions is diffracted, and light extraction efficiency is increased.
As described above, the position where the diffraction grating is introduced may be in any of the layers or in the medium (in the transparent substrate or in the transparent electrode), but is preferably in the vicinity of the organic light emitting layer where light is generated.
At this time, the period of the diffraction grating is preferably about 1/2 to 3 times the wavelength of light in the medium.
The arrangement of the diffraction grating is preferably two-dimensionally repeated such as a square lattice, a triangular lattice, or a honeycomb lattice.

《集光シート》
本発明の有機EL素子は基板の光取り出し側に、例えば、マイクロレンズアレイ状の構造を設けるように加工したり、あるいは所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば、素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を二次元に配列する。一辺は10μm〜100μmが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。
集光シートとしては、例えば、液晶表示装置のLEDバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして、例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム(BEF)等を用いることができる。
プリズムシートの形状としては、例えば、基材に頂角90度、ピッチ50μmの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。
また、発光素子からの光放射角を制御するために、光拡散板・フィルムを集光シートと併用してもよい。例えば、(株)きもと製拡散フィルム(ライトアップ)等を用いることができる。
<Condenser sheet>
The organic EL device of the present invention is processed on the light extraction side of the substrate so as to provide, for example, a microlens array structure, or combined with a so-called condensing sheet, for example, with respect to a specific direction, for example, the device light emitting surface. By condensing in the front direction, the luminance in a specific direction can be increased.
As an example of the microlens array, quadrangular pyramids having a side of 30 μm and an apex angle of 90 degrees are arranged two-dimensionally on the light extraction side of the substrate. One side is preferably 10 μm to 100 μm. If it becomes smaller than this, the effect of diffraction will generate | occur | produce and color, and if too large, thickness will become thick and is not preferable.
As the condensing sheet, for example, a sheet that is put into practical use in an LED backlight of a liquid crystal display device can be used. As such a sheet, for example, a brightness enhancement film (BEF) manufactured by Sumitomo 3M Limited can be used.
As the shape of the prism sheet, for example, the base material may be formed by forming a △ -shaped stripe having a vertex angle of 90 degrees and a pitch of 50 μm, or the vertex angle is rounded and the pitch is changed randomly. Other shapes may be used.
Moreover, in order to control the light emission angle from a light emitting element, you may use together a light diffusing plate and a film with a condensing sheet. For example, a diffusion film (light-up) manufactured by Kimoto Co., Ltd. can be used.

《用途》
本発明の有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、照明装置(家庭用照明、車内照明)、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
本発明の有機EL素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。
本発明の有機EL素子や本発明に係る化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」(日本色彩学会編、東京大学出版会、1985)の108頁の図4.16において、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング(株)製)で測定した結果をCIE色度座標に当てはめたときの色で決定される。
また、本発明の有機EL素子が白色素子の場合には、白色とは、2度視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、1000cd/mでのCIE1931表色系における色度がX=0.33±0.07、Y=0.33±0.1の領域内にあることを言う。
<Application>
The organic EL element of the present invention can be used as a display device, a display, and various light emission sources. For example, lighting devices (home lighting, interior lighting), clock and liquid crystal backlights, billboard advertisements, traffic lights, light sources of optical storage media, light sources of electrophotographic copying machines, light sources of optical communication processors, light Although the light source of a sensor etc. are mentioned, It is not limited to this, Especially, it can use effectively for the use as a backlight of a liquid crystal display device, and a light source for illumination.
In the organic EL element of the present invention, patterning may be performed by a metal mask, an ink jet printing method, or the like as needed during film formation. In the case of patterning, only the electrode may be patterned, the electrode and the light emitting layer may be patterned, or the entire layer of the element may be patterned. In the fabrication of the element, a conventionally known method is used. Can do.
The light emission color of the organic EL device of the present invention and the compound according to the present invention is shown in FIG. 4.16 on page 108 of “New Color Science Handbook” (edited by the Japan Color Society, University of Tokyo Press, 1985). It is determined by the color when the result measured with a total CS-1000 (Konica Minolta Sensing Co., Ltd.) is applied to the CIE chromaticity coordinates.
When the organic EL element of the present invention is a white element, white means that the chromaticity in the CIE1931 color system at 1000 cd / m 2 is X when the 2 ° viewing angle front luminance is measured by the above method. = 0.33 ± 0.07 and Y = 0.33 ± 0.1.

《表示装置》
本発明の表示装置について説明する。
本発明の表示装置は、本発明の有機EL素子を具備したものである。
本発明の表示装置は単色でも多色でもよいが、ここでは多色表示装置について説明する。
多色表示装置の場合は発光層形成時のみシャドーマスクを設け、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で膜を形成できる。
発光層のみパターニングを行う場合、その方法に限定はないが、好ましくは蒸着法、インクジェット法、スピンコート法、印刷法である。
表示装置に具備される有機EL素子の構成は、必要に応じて上記の有機EL素子の構成例の中から選択される。
また、有機EL素子の製造方法は、上記の本発明の有機EL素子の製造の一態様に示したとおりである。
得られた多色表示装置に直流電圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性として電圧2V〜40V程度を印加すると発光が観測できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。さらに交流電圧を印加する場合には、陽極が+、陰極が−の状態になったときのみ発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
多色表示装置は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。表示デバイス、ディスプレイにおいて、青、赤、緑発光の3種の有機EL素子を用いることによりフルカラーの表示が可能となる。
表示デバイス、ディスプレイとしては、テレビ、パソコン、モバイル機器、AV機器、文字放送表示、自動車内の情報表示等が挙げられる。特に静止画像や動画像を再生する表示装置として使用してもよく、動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。
発光光源としては家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
<Display device>
The display device of the present invention will be described.
The display device of the present invention comprises the organic EL element of the present invention.
Although the display device of the present invention may be single color or multicolor, the multicolor display device will be described here.
In the case of a multicolor display device, a shadow mask is provided only at the time of forming a light emitting layer, and a film can be formed on one surface by vapor deposition, casting, spin coating, ink jet, printing, or the like.
In the case of patterning only the light emitting layer, the method is not limited. However, the vapor deposition method, the ink jet method, the spin coating method, and the printing method are preferable.
The configuration of the organic EL element provided in the display device is selected from the above-described configuration examples of the organic EL element as necessary.
Moreover, the manufacturing method of an organic EL element is as having shown to the one aspect | mode of manufacture of the organic EL element of said invention.
In the case of applying a DC voltage to the obtained multicolor display device, light emission can be observed by applying a voltage of about 2V to 40V with the positive polarity of the anode and the negative polarity of the cathode. Further, even when a voltage is applied with the opposite polarity, no current flows and no light emission occurs. Further, when an AC voltage is applied, light is emitted only when the anode is in the + state and the cathode is in the-state. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.
The multicolor display device can be used as a display device, a display, and various light emission sources. In a display device or display, full-color display is possible by using three types of organic EL elements of blue, red, and green light emission.
Examples of the display device and display include a television, a personal computer, a mobile device, an AV device, a character broadcast display, and an information display in an automobile. In particular, it may be used as a display device for reproducing still images and moving images, and the driving method when used as a display device for reproducing moving images may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method.
Light sources include home lighting, interior lighting, clock and liquid crystal backlights, billboard advertisements, traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copying machines, light sources for optical communication processors, light sources for optical sensors, etc. The present invention is not limited to these examples.

以下、本発明の有機EL素子を有する表示装置の一例を図面に基づいて説明する。
図1は有機EL素子から構成される表示装置の一例を示した模式図であって、有機EL素子の発光により画像情報の表示を行う、例えば、携帯電話等のディスプレイの模式図である。
ディスプレイ1は複数の画素を有する表示部A、画像情報に基づいて表示部Aの画像走査を行う制御部B等からなる。
制御部Bは表示部Aと電気的に接続され、複数の画素それぞれに外部からの画像情報に基づいて走査信号と画像データ信号を送り、走査信号により走査線毎の画素が画像データ信号に応じて順次発光して画像走査を行って画像情報を表示部Aに表示する。
図2は表示部Aの模式図である。
表示部Aは基板上に、複数の走査線5及びデータ線6を含む配線部と複数の画素3等とを有する。表示部Aの主要な部材の説明を以下に行う。
図においては、画素3の発光した光が白矢印方向(下方向)へ取り出される場合を示している。
配線部の走査線5及び複数のデータ線6はそれぞれ導電材料からなり、走査線5とデータ線6は格子状に直交して、直交する位置で画素3に接続している(詳細は図示していない)。
画素3は走査線5から走査信号が印加されると、データ線6から画像データ信号を受け取り、受け取った画像データに応じて発光する。
発光の色が赤領域の画素、緑領域の画素、青領域の画素を適宜同一基板上に並置することによって、フルカラー表示が可能となる。
Hereinafter, an example of a display device having the organic EL element of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a display device composed of organic EL elements, and is a schematic diagram of a display such as a mobile phone that displays image information by light emission of the organic EL elements.
The display 1 includes a display unit A having a plurality of pixels, a control unit B that performs image scanning of the display unit A based on image information, and the like.
The control unit B is electrically connected to the display unit A, and sends a scanning signal and an image data signal to each of a plurality of pixels based on image information from the outside, and the pixels for each scanning line respond to the image data signal by the scanning signal. The image information is sequentially emitted to scan the image and display the image information on the display unit A.
FIG. 2 is a schematic diagram of the display unit A.
The display unit A includes a wiring unit including a plurality of scanning lines 5 and data lines 6, a plurality of pixels 3 and the like on a substrate. The main members of the display unit A will be described below.
In the figure, the light emitted from the pixel 3 is extracted in the direction of the white arrow (downward).
The scanning line 5 and the plurality of data lines 6 in the wiring portion are each made of a conductive material, and the scanning lines 5 and the data lines 6 are orthogonal to each other in a grid pattern and are connected to the pixels 3 at the orthogonal positions (details are illustrated). Not)
When a scanning signal is applied from the scanning line 5, the pixel 3 receives an image data signal from the data line 6 and emits light according to the received image data.
Full-color display is possible by appropriately arranging pixels in the red region, the green region, and the blue region on the same substrate.

次に、画素の発光プロセスを説明する。
図3は画素の模式図である。
画素は有機EL素子10、スイッチングトランジスタ11、駆動トランジスタ12、コンデンサ13等を備えている。複数の画素に有機EL素子10として、赤色、緑色、青色発光の有機EL素子を用い、これらを同一基板上に並置することでフルカラー表示を行うことができる。
図3において、制御部Bからデータ線6を介してスイッチングトランジスタ11のドレインに画像データ信号が印加される。そして、制御部Bから走査線5を介してスイッチングトランジスタ11のゲートに走査信号が印加されると、スイッチングトランジスタ11の駆動がオンし、ドレインに印加された画像データ信号がコンデンサ13と駆動トランジスタ12のゲートに伝達される。
画像データ信号の伝達により、コンデンサ13が画像データ信号の電位に応じて充電されるとともに、駆動トランジスタ12の駆動がオンする。駆動トランジスタ12は、ドレインが電源ライン7に接続され、ソースが有機EL素子10の電極に接続されており、ゲートに印加された画像データ信号の電位に応じて電源ライン7から有機EL素子10に電流が供給される。
制御部Bの順次走査により走査信号が次の走査線5に移ると、スイッチングトランジスタ11の駆動がオフする。
しかし、スイッチングトランジスタ11の駆動がオフしてもコンデンサ13は充電された画像データ信号の電位を保持するので、駆動トランジスタ12の駆動はオン状態が保たれて、次の走査信号の印加が行われるまで有機EL素子10の発光が継続する。
順次走査により次に走査信号が印加されたとき、走査信号に同期した次の画像データ信号の電位に応じて駆動トランジスタ12が駆動して有機EL素子10が発光する。
即ち、有機EL素子10の発光は、複数の画素それぞれの有機EL素子10に対して、アクティブ素子であるスイッチングトランジスタ11と駆動トランジスタ12を設けて、複数の画素3それぞれの有機EL素子10の発光を行っている。このような発光方法をアクティブマトリクス方式と呼んでいる。
ここで、有機EL素子10の発光は複数の階調電位を持つ多値の画像データ信号による複数の階調の発光でもよいし、2値の画像データ信号による所定の発光量のオン、オフでもよい。また、コンデンサ13の電位の保持は次の走査信号の印加まで継続して保持してもよいし、次の走査信号が印加される直前に放電させてもよい。
Next, the light emission process of the pixel will be described.
FIG. 3 is a schematic diagram of a pixel.
The pixel includes an organic EL element 10, a switching transistor 11, a driving transistor 12, a capacitor 13, and the like. A full color display can be performed by using red, green, and blue light emitting organic EL elements as the organic EL elements 10 in a plurality of pixels, and juxtaposing them on the same substrate.
In FIG. 3, an image data signal is applied from the control unit B to the drain of the switching transistor 11 through the data line 6. When a scanning signal is applied from the control unit B to the gate of the switching transistor 11 via the scanning line 5, the driving of the switching transistor 11 is turned on, and the image data signal applied to the drain is supplied to the capacitor 13 and the driving transistor 12. Is transmitted to the gate.
By transmitting the image data signal, the capacitor 13 is charged according to the potential of the image data signal, and the drive of the drive transistor 12 is turned on. The drive transistor 12 has a drain connected to the power supply line 7 and a source connected to the electrode of the organic EL element 10, and the power supply line 7 connects to the organic EL element 10 according to the potential of the image data signal applied to the gate. Current is supplied.
When the scanning signal is moved to the next scanning line 5 by the sequential scanning of the control unit B, the driving of the switching transistor 11 is turned off.
However, even if the driving of the switching transistor 11 is turned off, the capacitor 13 maintains the potential of the charged image data signal, so that the driving of the driving transistor 12 is kept on and the next scanning signal is applied. Until then, the light emission of the organic EL element 10 continues.
When the scanning signal is next applied by sequential scanning, the driving transistor 12 is driven according to the potential of the next image data signal synchronized with the scanning signal, and the organic EL element 10 emits light.
That is, the light emission of the organic EL element 10 is performed by providing the switching transistor 11 and the drive transistor 12 which are active elements with respect to the organic EL element 10 of each of the plurality of pixels, and the light emission of the organic EL element 10 of each of the plurality of pixels 3. It is carried out. Such a light emitting method is called an active matrix method.
Here, the light emission of the organic EL element 10 may be light emission of a plurality of gradations by a multi-value image data signal having a plurality of gradation potentials, or by turning on / off a predetermined light emission amount by a binary image data signal. Good. The potential of the capacitor 13 may be held continuously until the next scanning signal is applied, or may be discharged immediately before the next scanning signal is applied.

本発明においては、上述したアクティブマトリクス方式に限らず、走査信号が走査されたときのみデータ信号に応じて有機EL素子を発光させるパッシブマトリクス方式の発光駆動でもよい。
図4はパッシブマトリクス方式による表示装置の模式図である。
図4において、複数の走査線5と複数の画像データ線6が画素3を挟んで対向して格子状に設けられている。
順次走査により走査線5の走査信号が印加されたとき、印加された走査線5に接続している画素3が画像データ信号に応じて発光する。
パッシブマトリクス方式では画素3にアクティブ素子が無く、製造コストの低減が計れる。
In the present invention, not only the active matrix method described above, but also a passive matrix light emission drive in which the organic EL element emits light according to the data signal only when the scanning signal is scanned.
FIG. 4 is a schematic diagram of a passive matrix display device.
In FIG. 4, a plurality of scanning lines 5 and a plurality of image data lines 6 are provided in a lattice shape so as to face each other with the pixel 3 interposed therebetween.
When the scanning signal of the scanning line 5 is applied by sequential scanning, the pixels 3 connected to the applied scanning line 5 emit light according to the image data signal.
In the passive matrix system, the pixel 3 has no active element, and the manufacturing cost can be reduced.

《照明装置》
本発明の照明装置について説明する。
本発明の照明装置は上記有機EL素子を有する。
本発明の有機EL素子に共振器構造を持たせた有機EL素子として用いてもよく、このような共振器構造を有した有機EL素子の使用目的としては、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、これらに限定されない。また、レーザー発振をさせることにより上記用途に使用してもよい。
また、本発明の有機EL素子は照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置(ディスプレイ)として使用してもよい。
動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。または、異なる発光色を有する本発明の有機EL素子を2種以上使用することにより、フルカラー表示装置を作製することが可能である。
また、本発明の有機EL材料は照明装置として、実質白色の発光を生じる有機EL素子に適用できる。複数の発光材料により複数の発光色を同時に発光させて混色により白色発光を得る。
複数の発光色の組み合わせとしては、青色、緑色、青色の3原色の3つの発光極大波長を含有させたものでもよいし、青色と黄色、青緑と橙色等の補色の関係を利用した2つの発光極大波長を含有したものでもよい。
また、複数の発光色を得るための発光材料の組み合わせは、複数のリン光または蛍光で発光する材料を複数組み合わせたもの、蛍光またはリン光で発光する発光材料と、発光材料からの光を励起光として発光する色素材料との組み合わせたもののいずれでもよいが、本発明に係る白色有機EL素子においては、発光ドーパントを複数組み合わせ混合するだけでよい。
発光層、正孔輸送層あるいは電子輸送層等の形成時のみマスクを設け、マスクにより塗り分ける等単純に配置するだけでよく、他層は共通であるのでマスク等のパターニングは不要であり、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で例えば電極膜を形成でき、生産性も向上する。
この方法によれば、複数色の発光素子をアレー状に並列配置した白色有機EL装置と異なり、素子自体が発光白色である。
発光層に用いる発光材料としては特に制限はなく、例えば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、CF(カラーフィルター)特性に対応した波長範囲に適合するように、本発明に係る金属錯体、また公知の発光材料の中から任意のものを選択して組み合わせて白色化すればよい。
《Lighting device》
The lighting device of the present invention will be described.
The illuminating device of this invention has the said organic EL element.
The organic EL element of the present invention may be used as an organic EL element having a resonator structure. The purpose of use of the organic EL element having such a resonator structure is as follows. The light source of a machine, the light source of an optical communication processing machine, the light source of a photosensor, etc. are mentioned, However, It is not limited to these. Moreover, you may use for the said use by making a laser oscillation.
Further, the organic EL element of the present invention may be used as a kind of lamp for illumination or exposure light source, a projection device for projecting an image, or a display for directly viewing a still image or a moving image. It may be used as a device (display).
The driving method when used as a display device for moving image reproduction may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method. Alternatively, a full-color display device can be manufactured by using two or more organic EL elements of the present invention having different emission colors.
The organic EL material of the present invention can be applied to an organic EL element that emits substantially white light as a lighting device. A plurality of light emitting colors are simultaneously emitted by a plurality of light emitting materials to obtain white light emission by color mixing.
The combination of a plurality of emission colors may include three emission maximum wavelengths of the three primary colors of blue, green, and blue, or two using the relationship of complementary colors such as blue and yellow, blue green and orange, etc. The thing containing the light emission maximum wavelength may be used.
In addition, the combination of luminescent materials for obtaining multiple luminescent colors is a combination of multiple phosphorescent or fluorescent materials that emit light, fluorescent materials or phosphorescent materials, and light from the luminescent materials. Any combination with a dye material that emits light as light may be used, but in the white organic EL device according to the present invention, it is only necessary to mix and mix a plurality of light emitting dopants.
It is only necessary to provide a mask only when forming a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, etc., and simply arrange them separately by coating with the mask. Since other layers are common, patterning of the mask or the like is not necessary. In addition, for example, an electrode film can be formed by a vapor deposition method, a cast method, a spin coating method, an ink jet method, a printing method, or the like, and productivity is also improved.
According to this method, unlike a white organic EL device in which light emitting elements of a plurality of colors are arranged in parallel in an array, the elements themselves are luminescent white.
There is no restriction | limiting in particular as a luminescent material used for a light emitting layer, For example, if it is a backlight in a liquid crystal display element, the metal complex which concerns on this invention so that it may suit the wavelength range corresponding to CF (color filter) characteristic, Any one of known luminescent materials may be selected and combined to whiten.

《本発明の照明装置の一態様》
本発明の有機EL素子を具備した、本発明の照明装置の一態様について説明する。
本発明の有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚み300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材として、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを陰極上に重ねて透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて、封止し、図5、図6に示すような照明装置を形成することができる。
図5は、照明装置の概略図を示している。
本発明の有機EL素子101はガラスカバー102で覆われている。
ガラスカバー102での封止作業は、有機EL素子101を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下)で行われるのがよい。
図6は、照明装置の断面図を示している。
図6に示すとおり、ガラス基板上に、透明電極(陽極)107、有機EL層106および陰極105がこの順に積層されている。ガラスカバー102内には窒素ガス108が充填され、捕水剤109が設けられている。
<< One Embodiment of Lighting Device of the Present Invention >>
One aspect of the lighting device of the present invention that includes the organic EL element of the present invention will be described.
The non-light emitting surface of the organic EL device of the present invention is covered with a glass case, a glass substrate having a thickness of 300 μm is used as a sealing substrate, and an epoxy-based photocurable adhesive (LUX TRACK manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is used as a sealing material. LC0629B) is applied, and this is overlaid on the cathode and brought into close contact with the transparent support substrate, irradiated with UV light from the glass substrate side, cured and sealed, and an illumination device as shown in FIGS. Can be formed.
FIG. 5 shows a schematic diagram of the illumination device.
The organic EL element 101 of the present invention is covered with a glass cover 102.
The sealing operation with the glass cover 102 is preferably performed in a glove box (in an atmosphere of high-purity nitrogen gas having a purity of 99.999% or more) in a nitrogen atmosphere without bringing the organic EL element 101 into contact with the atmosphere.
FIG. 6 shows a cross-sectional view of the lighting device.
As shown in FIG. 6, a transparent electrode (anode) 107, an organic EL layer 106, and a cathode 105 are laminated in this order on a glass substrate. The glass cover 102 is filled with nitrogen gas 108 and a water catching agent 109 is provided.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。
本実施例に用いた化合物を下記に示す。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "%" is used in a present Example, unless otherwise indicated, "mass%" is represented.
The compounds used in this example are shown below.

Figure 2013171968
Figure 2013171968

[実施例1]
〔ナノ粒子分散液の調製〕
(1)ナノ粒子分散液N−1
モリブデン酸アンモニウムを純水に添加し、Mo濃度0.1mol/lの水溶液を調製した。該水溶液200gとパルミチン酸40g、2−ジメチルアミノエタノール13gを混合して原料液を調製した。特開2005−255450号公報の図1に記載の流通式の反応装置を用い、温度380℃ 、圧力30MPaで2.0秒間反応した。粉末X線(XRD)解析により結晶化度は55%であった。電子顕微鏡(TEM)観察により平均粒子径は7.0nmであった。得られた粒子粉末0.03gを超音波分散機を用いてトルエン30gに分散させ分散液N−1を得た。
[Example 1]
(Preparation of nanoparticle dispersion)
(1) Nanoparticle dispersion N-1
Ammonium molybdate was added to pure water to prepare an aqueous solution with a Mo concentration of 0.1 mol / l. 200 g of the aqueous solution, 40 g of palmitic acid, and 13 g of 2-dimethylaminoethanol were mixed to prepare a raw material solution. The reaction was carried out for 2.0 seconds at a temperature of 380 ° C. and a pressure of 30 MPa using a flow reactor shown in FIG. 1 of JP-A-2005-255450. The crystallinity was 55% by powder X-ray (XRD) analysis. The average particle diameter was 7.0 nm as observed with an electron microscope (TEM). 0.03 g of the obtained particle powder was dispersed in 30 g of toluene using an ultrasonic disperser to obtain a dispersion N-1.

(2)ナノ粒子分散液N−2
特開2010−272892号公報の合成例1に準じてモリブデン含有ナノ粒子分散液を調製した。n−ヘキサデシルアミン0.8g、n−オクチルエーテル12.8gを量り取り、攪拌しながら減圧し、低揮発成分除去のために室温(24℃)にて1時間(hr)放置した。真空下から大気雰囲気へ変更し、モリブデンヘキサカルボニル0.8gを添加した。この混合液をアルゴンガス雰囲気とし、攪拌しながら280℃まで加熱しその温度で1時間(hr)反応させた。粉末X線(XRD)解析により結晶化度は15%であった。電子顕微鏡(TEM)観察により平均粒子径は6.0nmであった。得られた粒子粉末0.03gを超音波分散機を用いてトルエン30gに分散させ分散液N−2を得た。
(2) Nanoparticle dispersion liquid N-2
A molybdenum-containing nanoparticle dispersion was prepared in accordance with Synthesis Example 1 of JP2010-272892A. 0.8 g of n-hexadecylamine and 12.8 g of n-octyl ether were weighed, depressurized while stirring, and left at room temperature (24 ° C.) for 1 hour (hr) to remove low volatile components. The atmosphere was changed from under vacuum to atmospheric atmosphere, and 0.8 g of molybdenum hexacarbonyl was added. The mixture was placed in an argon gas atmosphere, heated to 280 ° C. with stirring, and reacted at that temperature for 1 hour (hr). The crystallinity was 15% by powder X-ray (XRD) analysis. The average particle diameter was 6.0 nm as observed with an electron microscope (TEM). 0.03 g of the obtained particle powder was dispersed in 30 g of toluene using an ultrasonic disperser to obtain a dispersion N-2.

(3)ナノ粒子分散液N−3
オキソ酢酸ジルコニウムを純水に添加し、Zr濃度0.1mol/lの水溶液を調製した。これに0.1mol/l水酸化カリウム水溶液を等量混合し原料液を調製し、N−1の製造で用いた反応装置を用い、温度400℃、圧力30MPaで1.8秒間反応した。粉末X線(XRD)解析により結晶化度は75%であった。電子顕微鏡(TEM)観察により平均粒子径は6.8nmであった。得られた粒子粉末0.03gを超音波分散機を用いてヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)30gに分散させ分散液N−3を得た。
(3) Nanoparticle dispersion N-3
Zirconium oxoacetate was added to pure water to prepare an aqueous solution with a Zr concentration of 0.1 mol / l. This was mixed with an equal volume of 0.1 mol / l potassium hydroxide aqueous solution to prepare a raw material solution, and reacted for 1.8 seconds at a temperature of 400 ° C. and a pressure of 30 MPa using the reactor used in the production of N-1. The crystallinity was 75% by powder X-ray (XRD) analysis. The average particle diameter was 6.8 nm as observed with an electron microscope (TEM). 0.03 g of the obtained particle powder was dispersed in 30 g of hexafluoroisopropanol (HFIP) using an ultrasonic disperser to obtain a dispersion N-3.

(4)ナノ粒子分散液N−4
ナノ粒子分散液N−3の製造においてオキソ酢酸ジルコニウムのかわりに硝酸イットリウムを用いる以外は同様にして分散液N−4を得た。
なお結晶化度は65%、平均粒子径は9.2nmであった。
(5)ナノ粒子分散液N−5
ナノ粒子分散液N−3の製造においてオキソ酢酸ジルコニウムのかわりに硝酸セリウムを用いる以外は同様にして分散液N−5を得た。
なお結晶化度は60%、平均粒子径は5.6nmであった。
(6)ナノ粒子分散液N−6
ナノ粒子分散液N−3の製造において原料液にさらにヘキサン酸を加える以外は同様にして分散液N−6を得た。
なお結晶化度は75%、平均粒子径は7.3nmであった。
(7)ナノ粒子分散液N−7
ナノ粒子分散液N−3の製造において原料液にさらにヘキサナールを加える以外は同様にして分散液N−7を得た。
なお結晶化度は75%、平均粒子径は7.0nmであった。
(8)ナノ粒子分散液N−8
ナノ粒子分散液N−3の製造において原料液にさらに上記化合物S−1を加える以外は同様にして分散液N−8を得た。
なお結晶化度は75%、平均粒子径は8.5nmであった。
(4) Nanoparticle dispersion N-4
Dispersion N-4 was obtained in the same manner except that yttrium nitrate was used instead of zirconium oxoacetate in the preparation of nanoparticle dispersion N-3.
The crystallinity was 65% and the average particle size was 9.2 nm.
(5) Nanoparticle dispersion liquid N-5
Dispersion N-5 was obtained in the same manner except that cerium nitrate was used instead of zirconium oxoacetate in the production of nanoparticle dispersion N-3.
The crystallinity was 60%, and the average particle size was 5.6 nm.
(6) Nanoparticle dispersion N-6
A dispersion N-6 was obtained in the same manner except that hexanoic acid was further added to the raw material liquid in the production of the nanoparticle dispersion N-3.
The crystallinity was 75% and the average particle size was 7.3 nm.
(7) Nanoparticle dispersion liquid N-7
A dispersion N-7 was obtained in the same manner except that hexanal was further added to the raw material liquid in the production of the nanoparticle dispersion N-3.
The crystallinity was 75%, and the average particle size was 7.0 nm.
(8) Nanoparticle dispersion N-8
A dispersion N-8 was obtained in the same manner except that the compound S-1 was further added to the raw material liquid in the production of the nanoparticle dispersion N-3.
The crystallinity was 75%, and the average particle size was 8.5 nm.

(9)ナノ粒子分散液N−9
オキソ酢酸ジルコニウムを純水に添加し、Zr濃度0.25mol/lの水溶液を調製した。 この水溶液30ccをオートクレーブ(テフロン(登録商標)内筒、50cc)に導入し、オーブンにより150℃で、24時間水熱処理した。
粉末X線(XRD)解析により結晶化度は10%であった。電子顕微鏡(TEM)観察により平均粒子径は3.0nmであった。得られた粒子粉末0.03gを超音波分散機を用いてHFIP30gに分散させ分散液N−9を得た。
(9) Nanoparticle dispersion liquid N-9
Zirconium oxoacetate was added to pure water to prepare an aqueous solution having a Zr concentration of 0.25 mol / l. 30 cc of this aqueous solution was introduced into an autoclave (Teflon (registered trademark) inner cylinder, 50 cc) and hydrothermally treated in an oven at 150 ° C. for 24 hours.
The crystallinity was 10% by powder X-ray (XRD) analysis. The average particle diameter was 3.0 nm as observed with an electron microscope (TEM). 0.03 g of the obtained particle powder was dispersed in 30 g of HFIP using an ultrasonic dispersing machine to obtain a dispersion N-9.

(10)ナノ粒子分散液N−10
ナノ粒子として、ペイントシェーカーに、加水分解−焼成法により製造された酸化ジルコニウム粒子粉末(結晶化度:80%)を使用した。電子顕微鏡(TEM)観察により平均粒子径は15nmであった。当該酸化ジルコニウム粒子粉末0.03gをHFIP30gと直径3mmのジルコニアビーズを混ぜて、物理的に粉砕しながら溶媒中に分散させて、酸化ジルコニウムの分散液を得た。さらにその分散液を直径0.3mmのジルコニアビーズで24時間分散させ、上澄みの分散液を0.2μmのフィルターでろ過して分散液N−10を得た。
(10) Nanoparticle dispersion N-10
As nanoparticles, zirconium oxide particle powder (crystallinity: 80%) produced by a hydrolysis-firing method was used in a paint shaker. The average particle diameter was 15 nm by electron microscope (TEM) observation. 0.03 g of the zirconium oxide particle powder was mixed with 30 g of HFIP and zirconia beads having a diameter of 3 mm, and dispersed in a solvent while physically pulverizing to obtain a zirconium oxide dispersion. Further, the dispersion was dispersed with zirconia beads having a diameter of 0.3 mm for 24 hours, and the supernatant dispersion was filtered with a 0.2 μm filter to obtain dispersion N-10.

ナノ粒子分散液N−1〜N−10の特性などを表1に示す。   The characteristics of the nanoparticle dispersions N-1 to N-10 are shown in Table 1.

Figure 2013171968
Figure 2013171968

〔有機EL素子の作製〕
(1)有機EL素子1
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥させ、UVオゾン洗浄を5分間行った。この透明支持基板上に、H.C.Starck社製PEDOT−PSS(CLEVIOS P VP AI 4083)を純水で70%に希釈した溶液をスピンコート法により成膜した後、200℃にて1時間乾燥させ、膜厚30nmの第1正孔輸送層を設けた。
次いで、窒素雰囲気のグローブボックス内に前述の第1正孔輸送層を設けたガラス基板を入れ、7mlのトルエンに20mgのα−NPDを溶解させ、更に上記で調製したナノ粒子分散液N−1を5ml加えた混合液をスピンコート法(1000rpm、30秒)により成膜し、膜厚30nmの第2正孔輸送層の形成を行った。
次いで、後述の各材料をモリブデン製またはタングステン製の蒸着用ボートに詰め、真空蒸着装置内に前述の第1正孔輸送層および第2正孔輸送層を設けたガラス基板と共にセットした。真空度が1×10−4Pa以下となったところで、上記化合物HS−2を蒸着速度0.1nm/秒で、上記化合物DP−1を蒸着速度0.02nm/秒で共蒸着を行い、膜厚30nmの発光層を設けた。
さらに、ET−2を蒸着速度0.1nm/秒で蒸着し膜厚80nmの電子輸送層を設け、その後に電子注入層として膜厚1nmのフッ化リチウムを、さらに陰極として厚さ110nmのアルミニウムを蒸着し、有機EL素子1を作製した。
[Production of organic EL elements]
(1) Organic EL element 1
A transparent substrate provided with this ITO transparent electrode after patterning was performed on a substrate (NH-Techno Glass NA-45) in which ITO (indium tin oxide) was formed to a thickness of 100 nm on a glass substrate of 100 mm × 100 mm × 1.1 mm as an anode. The support substrate was subjected to ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone cleaning was performed for 5 minutes. On this transparent support substrate, H.P. C. A solution obtained by diluting Stark's PEDOT-PSS (CLEVIOS P VP AI 4083) to 70% with pure water was formed by spin coating, and then dried at 200 ° C. for 1 hour to form a first hole having a thickness of 30 nm. A transport layer was provided.
Next, the glass substrate provided with the first hole transport layer described above was placed in a glove box in a nitrogen atmosphere, 20 mg of α-NPD was dissolved in 7 ml of toluene, and the nanoparticle dispersion N-1 prepared above was further dissolved. 5 ml of the mixed liquid was formed into a film by a spin coating method (1000 rpm, 30 seconds), and a second hole transport layer having a thickness of 30 nm was formed.
Next, each material described later was packed in a molybdenum or tungsten vapor deposition boat, and set together with the glass substrate provided with the first hole transport layer and the second hole transport layer described above in a vacuum vapor deposition apparatus. When the degree of vacuum became 1 × 10 −4 Pa or less, the compound HS-2 was co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second, and the compound DP-1 was co-deposited at a deposition rate of 0.02 nm / second. A light emitting layer having a thickness of 30 nm was provided.
Further, ET-2 was deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second to provide an electron transport layer with a thickness of 80 nm, and then lithium fluoride with a thickness of 1 nm as an electron injection layer and aluminum with a thickness of 110 nm as a cathode. It vapor-deposited and the organic EL element 1 was produced.

(2)有機EL素子2
ナノ粒子分散液N−1をナノ粒子分散液N−2に変更した以外は有機EL素子1の作製と同様にして、有機EL素子2を作製した。
(2) Organic EL element 2
An organic EL element 2 was produced in the same manner as the production of the organic EL element 1 except that the nanoparticle dispersion liquid N-1 was changed to the nanoparticle dispersion liquid N-2.

(3)有機EL素子3
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥させ、UVオゾン洗浄を5分間行った。この透明支持基板上に、H.C.Starck社製PEDOT−PSS(CLEVIOS P VP AI 4083)を純水で70%に希釈した溶液をスピンコート法により成膜した後、200℃にて1時間乾燥させ、膜厚30nmの第1正孔輸送層を設けた。
次いで、後述の各材料をモリブデン製またはタングステン製の蒸着用ボートに詰め、真空蒸着装置内に前述の第1正孔輸送層を設けたガラス基板と共にセットした。真空度が1×10−4Pa以下となったところで、α−NPDを蒸着速度0.1nm/秒で蒸着し膜厚30nmの第2正孔輸送層を設けた。さらに、上記化合物HS−2を蒸着速度0.1nm/秒で、上記化合物DP−1を蒸着速度0.02nm/秒で共蒸着を行い、膜厚30nmの発光層を設けた。
窒素雰囲気下で大気圧に戻し、窒素雰囲気のグローブボックス内に取り出し、20mgのET−2を10mlのHFIPに溶解させ、スピンコート法(1000rpm、30秒)により膜厚80nmの電子輸送層を形成した。この基板を再度、真空蒸着装置にセットし、電子注入層として膜厚1nmのフッ化リチウムを、さらに陰極として厚さ110nmのアルミニウムを蒸着し、有機EL素子3を作製した。
(3) Organic EL element 3
A transparent substrate provided with this ITO transparent electrode after patterning was performed on a substrate (NH-Techno Glass NA-45) in which ITO (indium tin oxide) was formed to a thickness of 100 nm on a glass substrate of 100 mm × 100 mm × 1.1 mm as an anode. The support substrate was subjected to ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone cleaning was performed for 5 minutes. On this transparent support substrate, H.P. C. A solution obtained by diluting Stark's PEDOT-PSS (CLEVIOS P VP AI 4083) to 70% with pure water was formed by spin coating, and then dried at 200 ° C. for 1 hour to form a first hole having a thickness of 30 nm. A transport layer was provided.
Subsequently, each material described later was packed in a molybdenum or tungsten vapor deposition boat and set together with the glass substrate provided with the first hole transport layer described above in a vacuum vapor deposition apparatus. When the degree of vacuum became 1 × 10 −4 Pa or less, α-NPD was deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second to provide a second hole transport layer having a thickness of 30 nm. Further, the compound HS-2 was co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second and the compound DP-1 was deposited at a deposition rate of 0.02 nm / second to provide a light emitting layer having a thickness of 30 nm.
Return to atmospheric pressure in a nitrogen atmosphere, take out into a glove box in a nitrogen atmosphere, dissolve 20 mg of ET-2 in 10 ml of HFIP, and form an electron transport layer with a thickness of 80 nm by spin coating (1000 rpm, 30 seconds). did. This substrate was set again in a vacuum deposition apparatus, and 1 nm thick lithium fluoride was deposited as an electron injection layer, and 110 nm thick aluminum was deposited as a cathode to produce an organic EL element 3.

(4)有機EL素子4
電子輸送層にET−2のかわりにET−4を用いる以外は有機EL素子3の作製と同様にして有機EL素子4を作製した。
(5)有機EL素子5
7mlHFIPに20mgのET−2を溶解させ、更に上記で調製したナノ粒子分散液N−9を5ml加えた混合液を調製した。そして、前述の有機EL素子3の発光層までを形成した基板上にスピンコート法(1000rpm、30秒)により膜厚80nmの電子輸送層を形成した。更に、この基板を再度、真空蒸着装置にセットし、電子注入層として膜厚1nmのフッ化リチウムを、さらに陰極として厚さ110nmのアルミニウムを蒸着し、有機EL素子5を作製した。
(4) Organic EL element 4
An organic EL element 4 was produced in the same manner as the organic EL element 3 except that ET-4 was used instead of ET-2 for the electron transport layer.
(5) Organic EL element 5
20 mg of ET-2 was dissolved in 7 ml of HFIP, and a mixed solution was prepared by adding 5 ml of the nanoparticle dispersion N-9 prepared above. Then, an electron transport layer having a film thickness of 80 nm was formed by spin coating (1000 rpm, 30 seconds) on the substrate on which the light-emitting layer of the organic EL element 3 was formed. Further, this substrate was set again in a vacuum deposition apparatus, and 1 nm-thick lithium fluoride was deposited as an electron injection layer, and 110 nm-thick aluminum was deposited as a cathode, thereby producing an organic EL element 5.

(6)有機EL素子6〜12
有機EL素子5の作製方法で用いたナノ粒子分散液N−9のかわりに、表2に示すようにナノ粒子分散液N−10、N−3〜N−8を用いた以外は全く同様にして、有機EL素子6〜12を作製した。
(7)有機EL素子13〜14
有機EL素子7の作製方法で用いたナノ粒子分散液N−3の添加量をそれぞれ30ml、80mlに変更する以外は全く同様にして、有機EL素子13、14を作製した。
(8)有機EL素子15〜18
有機EL素子7の作製方法で用いた電子輸送剤のET−2をET−4、ET−9、ET−10、ET−14に変更した以外は全く同様にして、有機EL素子15〜18を作製した。
(9)有機EL素子19
有機EL素子10の作製方法で用いた電子輸送剤のET−2をET−4に変更した以外は全く同様にして、有機EL素子19を作製した。
(6) Organic EL elements 6-12
Instead of the nanoparticle dispersion liquid N-9 used in the method for producing the organic EL element 5, as shown in Table 2, the nanoparticle dispersion liquids N-10 and N-3 to N-8 were used in exactly the same manner. Thus, organic EL elements 6 to 12 were produced.
(7) Organic EL elements 13-14
Organic EL elements 13 and 14 were produced in exactly the same manner except that the addition amount of the nanoparticle dispersion liquid N-3 used in the production method of the organic EL element 7 was changed to 30 ml and 80 ml, respectively.
(8) Organic EL elements 15-18
Except that the electron transport agent ET-2 used in the production method of the organic EL element 7 was changed to ET-4, ET-9, ET-10, and ET-14, the organic EL elements 15 to 18 were formed in exactly the same manner. Produced.
(9) Organic EL element 19
Organic EL element 19 was produced in exactly the same manner except that ET-2 of the electron transport agent used in the production method of organic EL element 10 was changed to ET-4.

(10)有機EL素子20
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥させ、UVオゾン洗浄を5分間行った。この透明支持基板上に、H.C.Starck社製PEDOT−PSS(CLEVIOS P VP AI 4083)を純水で70%に希釈した溶液をスピンコート法により成膜した後、200℃にて1時間乾燥させ、膜厚30nmの第1正孔輸送層を設けた。
次いで、窒素雰囲気のグローブボックス内に前述の第1正孔輸送層を設けたガラス基板を入れ、7mlのトルエンに20mgのα−NPDを溶解させ、更に上記で調製したナノ粒子分散液N−1を5ml加えた混合液をスピンコート法(1000rpm、30秒)により膜厚30nmの第2正孔輸送層の形成を行った。
後述の各材料をモリブデン製またはタングステン製の蒸着用ボートに詰め、真空蒸着装置内に前述の第1正孔輸送層および第2正孔輸送層を設けたガラス基板と共にセットした。真空度が1×10−4Pa以下となったところで、上記化合物HS−2を蒸着速度0.1nm/秒で、上記化合物DP−1を蒸着速度0.02nm/秒で共蒸着を行い、膜厚30nmの発光層を設けた。
窒素雰囲気下で大気圧に戻し、窒素雰囲気のグローブボックス内に取り出し、7mlHFIPに20mgのET−2を溶解させ、更に上記で調製したナノ粒子分散液N−3を5ml加えた混合液を調製し、スピンコート法(1000rpm、30秒)により膜厚80nmの電子輸送層を形成した。この基板を再度、真空蒸着装置にセットし、電子注入層として膜厚1nmのフッ化リチウムを、さらに陰極として厚さ110nmのアルミニウムを蒸着し、有機EL素子20を作製した。
(10) Organic EL element 20
A transparent substrate provided with this ITO transparent electrode after patterning was performed on a substrate (NH-Techno Glass NA-45) in which ITO (indium tin oxide) was formed to a thickness of 100 nm on a glass substrate of 100 mm × 100 mm × 1.1 mm as an anode. The support substrate was subjected to ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and UV ozone cleaning was performed for 5 minutes. On this transparent support substrate, H.P. C. A solution obtained by diluting Stark's PEDOT-PSS (CLEVIOS P VP AI 4083) to 70% with pure water was formed by spin coating, and then dried at 200 ° C. for 1 hour to form a first hole having a thickness of 30 nm. A transport layer was provided.
Next, the glass substrate provided with the first hole transport layer described above was placed in a glove box in a nitrogen atmosphere, 20 mg of α-NPD was dissolved in 7 ml of toluene, and the nanoparticle dispersion N-1 prepared above was further dissolved. A second hole transport layer having a thickness of 30 nm was formed by spin coating (1000 rpm, 30 seconds) from the mixed solution containing 5 ml of the mixture.
Each material described later was packed in a molybdenum or tungsten vapor deposition boat and set together with the glass substrate provided with the first hole transport layer and the second hole transport layer described above in a vacuum deposition apparatus. When the degree of vacuum became 1 × 10 −4 Pa or less, the compound HS-2 was co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second, and the compound DP-1 was co-deposited at a deposition rate of 0.02 nm / second. A light emitting layer having a thickness of 30 nm was provided.
Return to atmospheric pressure under a nitrogen atmosphere, take out in a glove box under a nitrogen atmosphere, dissolve 20 mg of ET-2 in 7 ml HFIP, and then prepare a mixed solution containing 5 ml of the nanoparticle dispersion N-3 prepared above. Then, an electron transport layer having a thickness of 80 nm was formed by a spin coating method (1000 rpm, 30 seconds). This substrate was set again in a vacuum deposition apparatus, and 1 nm thick lithium fluoride was deposited as an electron injection layer, and 110 nm thick aluminum was deposited as a cathode to produce an organic EL element 20.

〔有機EL素子1〜20の評価〕
得られた有機EL素子1〜20を評価するに際しては、作製後の各有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚み300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材として、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを上記陰極上に重ねて前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて封止して、図5、図6に示すような照明装置を作製して評価した。
評価項目及び評価方法は、以下の通りである。
[Evaluation of organic EL elements 1-20]
When evaluating the obtained organic EL elements 1 to 20, the non-light emitting surface of each organic EL element after production is covered with a glass case, and a glass substrate having a thickness of 300 μm is used as a sealing substrate. As an epoxy-based photo-curing adhesive (Lux Track LC0629B manufactured by Toagosei Co., Ltd.), it is placed on the cathode and brought into close contact with the transparent support substrate, and UV light is irradiated from the glass substrate side to cure. The lighting device as shown in FIGS. 5 and 6 was manufactured and evaluated.
Evaluation items and evaluation methods are as follows.

(1)駆動電圧
温度23℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で発光開始の電圧を測定した。
発光開始の電圧は、輝度50cd/m以上となったときの電圧値を測定し、有機EL素子3の駆動電圧を100とする相対値で表した。輝度の測定には分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)を用いた。結果を下記表2に示す。
(1) Driving voltage The light emission starting voltage was measured at a temperature of 23 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere.
The voltage at the start of light emission was expressed as a relative value obtained by measuring the voltage value when the luminance was 50 cd / m 2 or more and setting the driving voltage of the organic EL element 3 to 100. A spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing) was used for the measurement of luminance. The results are shown in Table 2 below.

(2)駆動電圧変化
温度23℃の乾燥窒素ガス雰囲気で2.5mA/cm定電流を印加する条件下で、輝度が初期輝度である電圧値を(DV0)と、輝度が初期輝度から30%低下した時の電圧値を(DV70)としたとき、(DV70)−(DV0)を駆動電圧変化とし、有機EL素子3の駆動電圧変化を100とする相対値で表した。結果を下記表2に示す。
(2) Drive voltage change Under the condition of applying a constant current of 2.5 mA / cm 2 in a dry nitrogen gas atmosphere at a temperature of 23 ° C., the voltage value at which the luminance is the initial luminance is (DV0), and the luminance is 30 from the initial luminance. When the voltage value at the time of decrease by% is (DV70), (DV70) − (DV0) is represented as a drive voltage change, and the drive voltage change of the organic EL element 3 is represented as a relative value of 100. The results are shown in Table 2 below.

(3)電力効率
温度23℃の乾燥窒素ガス雰囲気下で2.5mA/cm定電流を印加した時の外部取り出し量子効率(%)を測定し、有機EL素子3の電力効率を100とする相対値で表した。なお、輝度測定には分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)を用いた。表2に有機EL素子1〜20の結果を示す。
(3) Power efficiency Measure the external extraction quantum efficiency (%) when applying a 2.5 mA / cm 2 constant current in a dry nitrogen gas atmosphere at a temperature of 23 ° C., and set the power efficiency of the organic EL element 3 to 100 Expressed as a relative value. A spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing) was used for luminance measurement. Table 2 shows the results of the organic EL elements 1 to 20.

Figure 2013171968
Figure 2013171968

(4)まとめ
表2に示すとおり、有機EL素子のサンプル1,8〜20とサンプル2〜7とを比較すると、前者のサンプルは結果が良好である。すなわち、前者のサンプルでは、駆動電圧変化に対する効果が顕著に現れ、特に駆動電圧の低減の結果大きな電力効率の利得が得られた。このことは、有機EL素子の利点である省エネルギーに対して非常に効果的な発明であることを示している。
かかる結果から、正孔輸送層または電子輸送層の少なくとも一方に対し、平均粒子径が10nm未満で結晶性の半導体ナノ粒子を含有させることが、有機EL素子の発光効率を向上させるのに有用であることがわかる。
特に、サンプル1,7とサンプル20との比較から、半導体ナノ粒子を正孔輸送層および電子輸送層の両方に含有させるのが有用である。
さらに、サンプル7〜9とサンプル10〜12との比較から、半導体ナノ粒子を改質させるのが有用であり、サンプル7とサンプル15〜18との比較やサンプル10とサンプル19との比較から、電子輸送剤としてピリジン誘導体を使用するのが有用であることもわかる。
(4) Summary As shown in Table 2, when Samples 1 to 8 and Samples 2 to 7 of the organic EL element are compared, the results of the former sample are good. That is, in the former sample, the effect with respect to the change in the driving voltage was remarkable, and a large power efficiency gain was obtained particularly as a result of the reduction in the driving voltage. This indicates that the invention is very effective for energy saving, which is an advantage of the organic EL element.
From these results, it is useful to improve the luminous efficiency of the organic EL device by incorporating crystalline semiconductor nanoparticles having an average particle diameter of less than 10 nm with respect to at least one of the hole transport layer and the electron transport layer. I know that there is.
In particular, from comparison between Samples 1 and 7 and Sample 20, it is useful to incorporate semiconductor nanoparticles in both the hole transport layer and the electron transport layer.
Furthermore, it is useful to modify the semiconductor nanoparticles from the comparison between the samples 7 to 9 and the samples 10 to 12, and from the comparison between the sample 7 and the samples 15 to 18 and the comparison between the sample 10 and the sample 19, It can also be seen that it is useful to use a pyridine derivative as the electron transport agent.

[実施例2]
本実施例では、実施例1で作製した有機EL素子を用いてフルカラー表示装置を作製し、その利用可能性を確認した。
[Example 2]
In this example, a full-color display device was produced using the organic EL element produced in Example 1, and its availability was confirmed.

(1)青色発光有機EL素子
実施例1で作製した有機EL素子7を用いた。
(2)緑色発光有機EL素子
実施例1で作製した有機EL素子7において、発光層に用いたDP−1をD−3に変更した以外は全く同様にして作製した有機EL素子7Gを製造して、これを用いた。
(3)赤色発光有機EL素子
実施例1で作製した有機EL素子7において、発光層に用いたDP−1をD−10に変更した以外は全く同様にして作製した有機EL素子7Rを製造して、これを用いた。
(1) Blue light emitting organic EL element The organic EL element 7 produced in Example 1 was used.
(2) Green light-emitting organic EL device An organic EL device 7G manufactured in exactly the same manner as the organic EL device 7 manufactured in Example 1 except that DP-1 used in the light-emitting layer was changed to D-3 was manufactured. This was used.
(3) Red light emitting organic EL element An organic EL element 7R produced in the same manner as in the organic EL element 7 produced in Example 1 except that DP-1 used for the light emitting layer was changed to D-10 was manufactured. This was used.

(4)フルカラー表示装置の作製
上記で作製した青色、緑色、赤色発光有機EL素子を同一基板上に並列配置し、図1に記載のような形態を有するアクティブマトリクス方式フルカラー表示装置を作製した。
図2には、作製した前記表示装置の表示部Aの模式図のみを示した。
図2に示すとおり、表示部Aは、同一基板上に複数の走査線5及びデータ線6を含む配線部と、並置した複数の画素3(発光色が赤領域の画素、緑領域の画素、青領域の画素等)とを有している。配線部の走査線5及び複数のデータ線6はそれぞれ導電材料から構成されている。走査線5とデータ線6は格子状に直交しており、直交する位置で画素3に接続している(詳細は図示せず)。
前記複数画素3は、それぞれの発光色に対応した有機EL素子、アクティブ素子であるスイッチングトランジスタと駆動トランジスタそれぞれが設けられたアクティブマトリクス方式で駆動される。走査線5から走査信号が印加されると、データ線6から画像データ信号を受け取り、受け取った画像データに応じて発光するようになっている。このように、赤、緑、青の画素3を適宜、並置することによって、フルカラー表示装置を作製した。
作製した有機EL素子は、各々の電極に電圧を印加することにより各々青色、緑色、赤色の発光を示し、フルカラー表示装置として利用できることが分かった。
(4) Production of Full Color Display Device The blue, green, and red light emitting organic EL elements produced above were arranged in parallel on the same substrate to produce an active matrix type full color display device having a form as shown in FIG.
In FIG. 2, only the schematic diagram of the display part A of the produced display device is shown.
As shown in FIG. 2, the display unit A includes a wiring unit including a plurality of scanning lines 5 and data lines 6 on the same substrate, and a plurality of juxtaposed pixels 3 (a light emitting color is a red region pixel, a green region pixel, Blue region pixels, etc.). Each of the scanning lines 5 and the plurality of data lines 6 in the wiring portion is made of a conductive material. The scanning lines 5 and the data lines 6 are orthogonal to each other in a grid pattern, and are connected to the pixels 3 at the orthogonal positions (details are not shown).
The plurality of pixels 3 are driven by an active matrix system in which an organic EL element corresponding to each emission color, a switching transistor as an active element, and a driving transistor are provided. When a scanning signal is applied from the scanning line 5, an image data signal is received from the data line 6, and light is emitted in accordance with the received image data. Thus, a full color display device was produced by juxtaposing the red, green, and blue pixels 3 appropriately.
It was found that the produced organic EL element exhibited blue, green, and red light emission by applying a voltage to each electrode, and could be used as a full-color display device.

[実施例3]
本実施例では、実施例1で作製した有機EL素子を用いて白色発光型の照明装置を作製し、その利用可能性を確認した。
実施例1で作製した有機EL素子7で用いたDP−1を、DP−1、D−3、D−10の三者混合体に変更した以外は同様して、白色発光有機EL素子7Wを作製した。得られた有機EL素子7Wを、非発光面をガラスケースで覆い、照明装置とした。かかる照明装置は、発光効率が高く発光寿命の長い白色光を発する薄型の照明装置として使用することができた。
[Example 3]
In this example, a white light-emitting lighting device was manufactured using the organic EL element manufactured in Example 1, and its availability was confirmed.
Similarly, except that DP-1 used in the organic EL element 7 produced in Example 1 was changed to a ternary mixture of DP-1, D-3, and D-10, a white light-emitting organic EL element 7W was obtained. Produced. The obtained organic EL element 7W was covered with a glass case on a non-light-emitting surface to obtain a lighting device. Such an illuminating device can be used as a thin illuminating device that emits white light with high luminous efficiency and long emission life.

1 ディスプレイ
3 画素
5 走査線
6 データ線
7 電源ライン
10 有機EL素子
11 スイッチングトランジスタ
12 駆動トランジスタ
13 コンデンサ
A 表示部
B 制御部
102 ガラスカバー
105 陰極
106 有機EL層
107 透明電極(陽極)
108 窒素ガス
109 捕水剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display 3 Pixel 5 Scan line 6 Data line 7 Power supply line 10 Organic EL element 11 Switching transistor 12 Drive transistor 13 Capacitor A Display part B Control part 102 Glass cover 105 Cathode 106 Organic EL layer 107 Transparent electrode (anode)
108 Nitrogen gas 109 Water catching agent

Claims (9)

陽極、陰極および複数層の有機層を備え、前記有機層が陽極と陰極との間に配置され、少なくとも発光層、正孔輸送層および電子輸送層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記正孔輸送層または前記電子輸送層の少なくとも1層には、平均粒子径が10nm未満の結晶性半導体ナノ粒子が含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
In an organic electroluminescent device comprising an anode, a cathode and a plurality of organic layers, wherein the organic layer is disposed between the anode and the cathode, and has at least a light emitting layer, a hole transport layer and an electron transport layer,
At least one layer of the hole transport layer or the electron transport layer contains crystalline semiconductor nanoparticles having an average particle diameter of less than 10 nm.
請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記結晶性半導体ナノ粒子が、前記電子輸送層に含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
The organic electroluminescent device according to claim 1,
The organic semiconductor element, wherein the crystalline semiconductor nanoparticles are contained in the electron transport layer.
請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記結晶性半導体ナノ粒子が、前記正孔輸送層および前記電子輸送層の両層に含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
The organic electroluminescent device according to claim 1,
The organic semiconductor element, wherein the crystalline semiconductor nanoparticles are contained in both the hole transport layer and the electron transport layer.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記結晶性半導体ナノ粒子は、粒子表面が有機物により改質されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
In the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-3,
The crystalline semiconductor nanoparticle is an organic electroluminescence device wherein the particle surface is modified with an organic substance.
請求項1〜4のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記電子輸送層には、一般式(1)で表わされるピリジン誘導体が含有されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
Figure 2013171968
[一般式(1)中、「R〜R」は水素原子または置換基を表し、置換基同士が互いに結合し環を形成してもよい。]
In the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-4,
An organic electroluminescence device, wherein the electron transport layer contains a pyridine derivative represented by the general formula (1).
Figure 2013171968
[In General Formula (1), “R 1 to R 5 ” represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring. ]
請求項1〜5のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
白色に発光することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
In the organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 5,
An organic electroluminescence element which emits white light.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする照明装置。   The illuminating device provided with the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-6. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする表示装置。   A display device comprising the organic electroluminescence element according to claim 1. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
亜臨界ないし超臨界状態の水を媒体として水熱反応させ、前記結晶性半導体ナノ粒子を製造する工程と、
製造後の前記結晶性半導体ナノ粒子を、前記正孔輸送層または前記電子輸送層の少なくとも1層に含有させる工程と、
を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-6,
A step of hydrothermal reaction using subcritical or supercritical water as a medium to produce the crystalline semiconductor nanoparticles;
Containing the crystalline semiconductor nanoparticles after production in at least one of the hole transport layer or the electron transport layer;
A method for producing an organic electroluminescence element, comprising:
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017022063A (en) * 2015-07-15 2017-01-26 コニカミノルタ株式会社 Manufacturing method of organic thin film laminate, and manufacturing method of organic electroluminescent element
WO2017094458A1 (en) 2015-11-30 2017-06-08 日本化学工業株式会社 Electrochemical light emitting cell, composition for forming light emitting layer of electrochemical light emitting cell, and ionic compound for light emitting layer of electrochemical light emitting cell
US9935270B2 (en) 2014-12-12 2018-04-03 Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. Electrochemical light emitting cell, composition for forming light emitting layer of electrochemical light emitting cell, and ionic compound for light emitting layer of electrochemical light emitting cell
US10547019B2 (en) 2014-10-09 2020-01-28 Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. Electrochemical luminescent cell and composition for forming luminescent layer of electrochemical luminescent cell
WO2020262418A1 (en) * 2019-06-26 2020-12-30 日産化学株式会社 Charge-transporting varnish
WO2021044493A1 (en) * 2019-09-02 2021-03-11 シャープ株式会社 Element and electronic device
CN112514537A (en) * 2018-08-03 2021-03-16 夏普株式会社 Electroluminescent element and display device
US11001588B2 (en) 2018-09-19 2021-05-11 Forma Therapeutics, Inc. Activating pyruvate kinase R and mutants thereof
US11014927B2 (en) 2017-03-20 2021-05-25 Forma Therapeutics, Inc. Pyrrolopyrrole compositions as pyruvate kinase (PKR) activators
US11071725B2 (en) 2018-09-19 2021-07-27 Forma Therapeutics, Inc. Activating pyruvate kinase R

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09148071A (en) * 1995-11-20 1997-06-06 Bayer Ag Intermediate layer of electroluminescence arrangement containing fine powder inorganic particles
JPH11106935A (en) * 1997-09-30 1999-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Production of metal oxide thin film and metal oxide thin film
JP2002521305A (en) * 1998-07-30 2002-07-16 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー Nano-sized metal oxide particles for producing transparent metal oxide colloids and ceramers
JP2008258645A (en) * 2003-09-26 2008-10-23 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Lightning device
JP2010055900A (en) * 2008-08-27 2010-03-11 Sharp Corp Electroluminescent element
JP2010268003A (en) * 2010-08-18 2010-11-25 Konica Minolta Holdings Inc Organic el element and method of manufacturing the same
JP2011243492A (en) * 2010-05-20 2011-12-01 Murata Mfg Co Ltd Esd protection device and manufacturing method therefor
JP2011252117A (en) * 2010-06-03 2011-12-15 Sharp Corp Semiconductor microparticle phosphor and wavelength conversion member using it, light-emitting device, and image display
WO2012018082A1 (en) * 2010-08-06 2012-02-09 大日本印刷株式会社 Nanoparticle containing transition metal compound and process for production thereof, ink having nanoparticles each containing transition metal compound dispersed therein and process for production thereof, and device equipped with hole-injection/transport layer and process for production thereof

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09148071A (en) * 1995-11-20 1997-06-06 Bayer Ag Intermediate layer of electroluminescence arrangement containing fine powder inorganic particles
JPH11106935A (en) * 1997-09-30 1999-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Production of metal oxide thin film and metal oxide thin film
JP2002521305A (en) * 1998-07-30 2002-07-16 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー Nano-sized metal oxide particles for producing transparent metal oxide colloids and ceramers
JP2008258645A (en) * 2003-09-26 2008-10-23 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Lightning device
JP2010055900A (en) * 2008-08-27 2010-03-11 Sharp Corp Electroluminescent element
JP2011243492A (en) * 2010-05-20 2011-12-01 Murata Mfg Co Ltd Esd protection device and manufacturing method therefor
JP2011252117A (en) * 2010-06-03 2011-12-15 Sharp Corp Semiconductor microparticle phosphor and wavelength conversion member using it, light-emitting device, and image display
WO2012018082A1 (en) * 2010-08-06 2012-02-09 大日本印刷株式会社 Nanoparticle containing transition metal compound and process for production thereof, ink having nanoparticles each containing transition metal compound dispersed therein and process for production thereof, and device equipped with hole-injection/transport layer and process for production thereof
JP2010268003A (en) * 2010-08-18 2010-11-25 Konica Minolta Holdings Inc Organic el element and method of manufacturing the same

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10547019B2 (en) 2014-10-09 2020-01-28 Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. Electrochemical luminescent cell and composition for forming luminescent layer of electrochemical luminescent cell
US9935270B2 (en) 2014-12-12 2018-04-03 Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. Electrochemical light emitting cell, composition for forming light emitting layer of electrochemical light emitting cell, and ionic compound for light emitting layer of electrochemical light emitting cell
JP2017022063A (en) * 2015-07-15 2017-01-26 コニカミノルタ株式会社 Manufacturing method of organic thin film laminate, and manufacturing method of organic electroluminescent element
WO2017094458A1 (en) 2015-11-30 2017-06-08 日本化学工業株式会社 Electrochemical light emitting cell, composition for forming light emitting layer of electrochemical light emitting cell, and ionic compound for light emitting layer of electrochemical light emitting cell
US10930872B2 (en) 2015-11-30 2021-02-23 Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. Light-emitting electrochemical cell, composition for forming light-emitting layer of light-emitting electrochemical cell, and ionic compound for light-emitting layer of light-emitting electrochemical cell
US11014927B2 (en) 2017-03-20 2021-05-25 Forma Therapeutics, Inc. Pyrrolopyrrole compositions as pyruvate kinase (PKR) activators
US11649242B2 (en) 2017-03-20 2023-05-16 Forma Therapeutics, Inc. Pyrrolopyrrole compositions as pyruvate kinase (PKR) activators
US11396513B2 (en) 2017-03-20 2022-07-26 Forma Therapeutics, Inc. Compositions for activating pyruvate kinase
CN112514537A (en) * 2018-08-03 2021-03-16 夏普株式会社 Electroluminescent element and display device
US11001588B2 (en) 2018-09-19 2021-05-11 Forma Therapeutics, Inc. Activating pyruvate kinase R and mutants thereof
US11071725B2 (en) 2018-09-19 2021-07-27 Forma Therapeutics, Inc. Activating pyruvate kinase R
US11844787B2 (en) 2018-09-19 2023-12-19 Novo Nordisk Health Care Ag Activating pyruvate kinase R
US11980611B2 (en) 2018-09-19 2024-05-14 Novo Nordisk Health Care Ag Treating sickle cell disease with a pyruvate kinase R activating compound
WO2020262418A1 (en) * 2019-06-26 2020-12-30 日産化学株式会社 Charge-transporting varnish
JP7491311B2 (en) 2019-06-26 2024-05-28 日産化学株式会社 Charge Transporting Varnish
WO2021044493A1 (en) * 2019-09-02 2021-03-11 シャープ株式会社 Element and electronic device

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