JP2013160913A - Signal transmission path and optical modulator - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress unnecessary spurious in a signal transmission path.SOLUTION: A signal transmission path includes: a first mounting member; a second mounting member disposed so as to be separated from the first mounting member across a space; a dielectric substrate 28 disposed by being bridged in the space between the first mounting member and the second mounting member; a signal line 22 formed on a top surface of the dielectric substrate 28; a first conductive layer 24 which is formed on an undersurface of the dielectric substrate 28 and has reference potential; and a second conductor layer 26 which is electrically connected to the first conductive layer 24 and is formed on a side surface of the dielectric substrate 28.

Description

本発明は、信号伝送路および光変調装置に関し、例えば、信号伝送路における不要スプリアスを抑制する信号伝送路および光変調装置に関する。   The present invention relates to a signal transmission path and an optical modulation device, for example, a signal transmission path and an optical modulation device that suppress unwanted spurious in the signal transmission path.

高速光通信用の光モジュール等には、信号光を変調する光変調器が用いられる。光変調器は、電気入力信号に応じ出力する光信号を強度変調する。例えば、特許文献1には、EA(Electro-Absorption)光変調器を用いた光部品が記載されている。光変調器は入力された変調信号に基づいて、連続光を強度変調する。この変調信号は10〜40GHzあるいはそれ以上に達する。このため、変調信号の伝送には高周波伝送を考慮した設計を行う。   An optical modulator that modulates signal light is used in an optical module for high-speed optical communication. The optical modulator modulates the intensity of the optical signal output in accordance with the electrical input signal. For example, Patent Document 1 describes an optical component using an EA (Electro-Absorption) light modulator. The optical modulator intensity-modulates the continuous light based on the input modulation signal. This modulation signal reaches 10 to 40 GHz or more. For this reason, the modulation signal transmission is designed in consideration of high-frequency transmission.

特開2005−252251号公報JP-A-2005-252251

例えば、上記光部品において、変調信号は、伝送線路を介し光変調器に入力する。しかしながら、伝送線路において、不要スプリアスが発生した場合、不要スプリアスが伝送線路を介し光変調器に入力する。このため、光変調器によって変調された光信号波形が劣化する。このように、信号伝送路において、不要スプリアスを抑制することが求められる。   For example, in the above optical component, the modulation signal is input to the optical modulator via the transmission line. However, when unnecessary spurious occurs in the transmission line, the unnecessary spurious is input to the optical modulator via the transmission line. For this reason, the optical signal waveform modulated by the optical modulator deteriorates. Thus, it is required to suppress unnecessary spurious in the signal transmission path.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、信号伝送路における不要スプリアスを抑制することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to suppress unnecessary spurious in a signal transmission path.

本発明は、第1搭載部材と、空間を挟んで前記第1搭載部材と離れて配置された第2搭載部材と、前記第1搭載部材と前記第2搭載部材との間を前記空間上で橋渡しして配置された誘電体基板と、前記誘電体基体の上面に形成された信号線路と、前記誘電体基体の下面に形成され、基準電位を有する第1導電層と、前記第1導電層と電気的に接続され、前記誘電体基体の側面に形成された第2導電体層と、を具備することを特徴とする信号伝送路である。本発明によれば、信号伝送路における不要スプリアスを抑制することができる。   The present invention provides a first mounting member, a second mounting member that is spaced apart from the first mounting member across a space, and the space between the first mounting member and the second mounting member on the space. A dielectric substrate arranged in a bridge, a signal line formed on the upper surface of the dielectric substrate, a first conductive layer formed on the lower surface of the dielectric substrate and having a reference potential, and the first conductive layer And a second conductor layer formed on a side surface of the dielectric substrate, and a signal transmission path. According to the present invention, unnecessary spurious in the signal transmission path can be suppressed.

上記構成において、前記信号線路と前記第2導電体層は、前記誘電体基体の上面において平行して配置されてなり、前記誘電体基体の上面における前記信号線路と前記第2導電体層との間の距離は、前記信号線路の幅より大きい構成とすることができる。   In the above configuration, the signal line and the second conductor layer are arranged in parallel on the top surface of the dielectric substrate, and the signal line and the second conductor layer on the top surface of the dielectric substrate are The distance between them may be larger than the width of the signal line.

上記構成において、前記誘電体基体の幅は、前記誘電体基体内における伝送信号波長の1/6以下である構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: The width | variety of the said dielectric substrate can be set as the structure which is 1/6 or less of the transmission signal wavelength in the said dielectric substrate.

上記構成において、前記第1導電体層と電気的に接続されるパッドを具備する構成とすることができる。   In the above structure, a pad electrically connected to the first conductor layer can be provided.

上記構成において、前記誘電体基体を上下に貫通し、前記パッドと前記第1導電体層とを電気的に接続するビア配線を具備する構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: It can be set as the structure which comprises the via wiring which penetrates the said dielectric base | substrate vertically and electrically connects the said pad and the said 1st conductor layer.

上記構成において、前記パッドの一辺は、前記第2導電体層と接する構成とすることができる。   In the above configuration, one side of the pad may be in contact with the second conductor layer.

本発明は、誘電体基体と、前記誘電体基体の上面に形成された信号線路と、前記誘電体基体の下面に形成され、基準電位を有する第1導電層と、前記第1導電層と電気的に接続され、前記誘電体基体の側面に形成された第2導電体層と、を備える信号伝送路と、光変調器を搭載する第1搭載部材と、前記光変調器を変調する変調ドライバを搭載し、前記第1搭載部材と互いに空間をもって隔てられた第2搭載部材と、を具備し、前記信号伝送路は、前記第1搭載部材と前記第2搭載部材との間を前記空間上で橋渡しして配置され、かつ前記変調ドライバの出力端子と前記光変調器の電極との間を電気的に接続してなることを特徴とする光変調装置である。   The present invention provides a dielectric substrate, a signal line formed on the upper surface of the dielectric substrate, a first conductive layer formed on the lower surface of the dielectric substrate and having a reference potential, and the first conductive layer And a second transmission layer formed on a side surface of the dielectric substrate, a first transmission member that mounts the optical modulator, and a modulation driver that modulates the optical modulator And a second mounting member spaced apart from the first mounting member by a space, and the signal transmission path is located on the space between the first mounting member and the second mounting member. The optical modulation device is arranged by bridging and electrically connecting the output terminal of the modulation driver and the electrode of the optical modulator.

本発明によれば、信号伝送路における不要スプリアスを抑制することができる。   According to the present invention, unnecessary spurious in the signal transmission path can be suppressed.

図1は、実施例1に係る光部品の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of an optical component according to the first embodiment. 図2(a)は、マイクロストリップ線路の平面図、図2(b)は図2(a)のA−A断面図である。FIG. 2A is a plan view of the microstrip line, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 図3(a)は比較例に用いられるマイクロストリップ線路の斜視図、図3(b)は断面図、図3(c)は平面図である。3A is a perspective view of a microstrip line used in the comparative example, FIG. 3B is a cross-sectional view, and FIG. 3C is a plan view. 図4は、周波数に対するスペクトルの強度を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing the intensity of the spectrum with respect to the frequency. 図5は、周波数に対するλg/2を計算した結果を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a result of calculating λg / 2 with respect to the frequency. 図6は、w1/Wに対する伝送損失の測定結果を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a measurement result of transmission loss with respect to w1 / W. 図7(a)は、実施例2に用いるマイクロストリップ線路の平面図、図7(b)は図7(a)のB−B断面図である。FIG. 7A is a plan view of a microstrip line used in the second embodiment, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 7A. 図8(a)は、実施例3に用いるマイクロストリップ線路の平面図、図8(b)は図8(a)のB−B断面図である。FIG. 8A is a plan view of a microstrip line used in the third embodiment, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 8A. 図9(a)は、キャップを外した実施例3に係る光モジュールの上面図、図9(b)は、図9(a)のA−A断面図である。FIG. 9A is a top view of the optical module according to the third embodiment with the cap removed, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 9A.

以下、図面を参照し本発明の実施例について説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、実施例1に係る光部品の回路図である。図1に示すように、入力端子14は、マイクロストリップ線路20およびインダクタL1を介しノードN1に電気的に接続されている。光変調器10のアノードはノードN1に電気的に接続し、光変調器10のカソードは接地される。ノードN1は、インダクタL2、キャパシタCおよび抵抗Rを直列に介し接地される。インダクタL2、キャパシタCおよび抵抗Rは、インピーダンス整合回路16を形成する。インピーダンス整合回路16は、光変調器10の終端インピーダンスを、例えば50Ωに整合させる。この場合、例えば抵抗Rの抵抗値を終端インピーダンスと同じ50Ωとする。   FIG. 1 is a circuit diagram of an optical component according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the input terminal 14 is electrically connected to the node N1 via the microstrip line 20 and the inductor L1. The anode of the light modulator 10 is electrically connected to the node N1, and the cathode of the light modulator 10 is grounded. Node N1 is grounded through inductor L2, capacitor C, and resistor R in series. The inductor L2, the capacitor C, and the resistor R form an impedance matching circuit 16. The impedance matching circuit 16 matches the termination impedance of the optical modulator 10 to, for example, 50Ω. In this case, for example, the resistance value of the resistor R is set to 50Ω, which is the same as the termination impedance.

インダクタL1およびL2は、例えばボンディングワイヤである。キャパシタCは例えばチップコンデンサ、抵抗Rは例えばチップ抵抗である。光変調器10は、例えばEA光変調器である。入力端子14には、例えば変調駆動IC(Integrated Circuit)が出力する高周波信号が入力される。   Inductors L1 and L2 are, for example, bonding wires. The capacitor C is, for example, a chip capacitor, and the resistor R is, for example, a chip resistor. The optical modulator 10 is, for example, an EA optical modulator. For example, a high-frequency signal output from a modulation drive IC (Integrated Circuit) is input to the input terminal 14.

図2(a)は、マイクロストリップ線路の平面図、図2(b)は図2(a)のA−A断面図である。マイクロストリップ線路20は、光変調器10に入力する高周波信号を伝送する。マイクロストリップ線路20は、誘電体基体28、信号線路22、第1導電体層24および第2導電体層26を備えている。誘電体基体28は、例えば酸化アルミニウム等の誘電体から形成される。信号線路22は、誘電体基体28の上面に形成されている。例えば、信号線路22は、誘電体基体28の延伸方向に誘電体基体28の端部から端部に延伸している。第1導電体層24は、誘電体基体28の下面全体に形成されている。第2導電体層26は、誘電体基体28の側面全体に形成されている。このように、第1導電体層24および第2導電体層26が誘電体基体28の下面および側面を覆っている。   FIG. 2A is a plan view of the microstrip line, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. The microstrip line 20 transmits a high-frequency signal input to the optical modulator 10. The microstrip line 20 includes a dielectric substrate 28, a signal line 22, a first conductor layer 24, and a second conductor layer 26. The dielectric substrate 28 is made of a dielectric material such as aluminum oxide. The signal line 22 is formed on the upper surface of the dielectric substrate 28. For example, the signal line 22 extends from the end of the dielectric substrate 28 to the end in the extending direction of the dielectric substrate 28. The first conductor layer 24 is formed on the entire lower surface of the dielectric substrate 28. The second conductor layer 26 is formed on the entire side surface of the dielectric substrate 28. Thus, the first conductor layer 24 and the second conductor layer 26 cover the lower surface and side surfaces of the dielectric substrate 28.

第1導電体層24および第2導電体層26は、同じ定電位である。すなわち、第1導電体層24と第2導電体層26とは、電気的に接続されており、第1導電体層24は基準電位を有している。実施例1においては、接地されている。信号線路22、第1導電体層24および第2導電体層26は、例えばAuまたはCu等の金属により形成される。誘電体基体28の幅をW、誘電体基体28の高さをH、信号線路22の幅をw1、信号線路22と第2導電体層26との距離をw2とする。マイクロストリップ線路20の特性インピーダンスは、主に信号線路22と第1導電体層24とにより規定される。   The first conductor layer 24 and the second conductor layer 26 have the same constant potential. That is, the first conductor layer 24 and the second conductor layer 26 are electrically connected, and the first conductor layer 24 has a reference potential. In the first embodiment, it is grounded. The signal line 22, the first conductor layer 24, and the second conductor layer 26 are made of a metal such as Au or Cu, for example. The width of the dielectric substrate 28 is W, the height of the dielectric substrate 28 is H, the width of the signal line 22 is w1, and the distance between the signal line 22 and the second conductor layer 26 is w2. The characteristic impedance of the microstrip line 20 is mainly defined by the signal line 22 and the first conductor layer 24.

次に、実施例1と比較する比較例について説明する。図3(a)は比較例に用いられるマイクロストリップ線路の斜視図、図3(b)は断面図、図3(c)は平面図である。その他の構成は実施例1と同じであり、説明を省略する。図3(a)から図3(c)に示すように、比較例のマイクロストリップ線路20aの側面には、第2導電体層が設けられていない。マイクロストリップ線路20aは、誘電体基体28と、誘電体基体28の上面に形成された信号線路22と、誘電体基体28の下面に形成された第1導電体層24と、を備えている。   Next, the comparative example compared with Example 1 is demonstrated. 3A is a perspective view of a microstrip line used in the comparative example, FIG. 3B is a cross-sectional view, and FIG. 3C is a plan view. Other configurations are the same as those of the first embodiment, and the description thereof is omitted. As shown in FIGS. 3A to 3C, the second conductor layer is not provided on the side surface of the microstrip line 20a of the comparative example. The microstrip line 20 a includes a dielectric substrate 28, a signal line 22 formed on the upper surface of the dielectric substrate 28, and a first conductor layer 24 formed on the lower surface of the dielectric substrate 28.

図3(a)に示すように、マイクロストリップ線路20aの一端から矢印のように、例えば矩形波38である変調信号34が入力する。図3(b)に示すように、変調信号34が信号線路22を伝搬するとき、誘電体基体28内には、電界30および磁界32が生成される。図3(c)に示すように、変調信号34は、主にマイクロストリップ線路20aの延伸方向に伝送する。しかし、マイクロストリップ線路20aの延伸方向と交差する方向に伝送する不要モード36が存在する。この不要モード36に起因し不要スプリアスが生じる。これにより、光変調器10が強度変調する光信号の光波形が劣化する。   As shown in FIG. 3A, a modulation signal 34, for example, a rectangular wave 38 is input from one end of the microstrip line 20a as indicated by an arrow. As shown in FIG. 3B, when the modulation signal 34 propagates through the signal line 22, an electric field 30 and a magnetic field 32 are generated in the dielectric substrate 28. As shown in FIG. 3C, the modulation signal 34 is transmitted mainly in the extending direction of the microstrip line 20a. However, there is an unnecessary mode 36 in which transmission is performed in a direction crossing the extending direction of the microstrip line 20a. Due to the unnecessary mode 36, unnecessary spurious is generated. Thereby, the optical waveform of the optical signal whose intensity is modulated by the optical modulator 10 deteriorates.

図4は、伝送信号の周波数に対するスペクトルの強度を示す模式図である。図4に示すように、一般的に伝送線路を伝送する伝送信号は、基本波f0の奇数倍の周波数に現れる。   FIG. 4 is a schematic diagram showing the intensity of the spectrum with respect to the frequency of the transmission signal. As shown in FIG. 4, a transmission signal transmitted through a transmission line generally appears at a frequency that is an odd multiple of the fundamental wave f0.

図2(a)から図2(c)の実施例1のマイクロストリップ線路においては、誘電体基体28の側面に第2導電体層26が形成されている。このため、誘電体基体28内の波長λgが誘電体基体28の幅Wの2倍(すなわち2×W)より長い信号の不要モードは遮断される。   In the microstrip line according to the first embodiment shown in FIGS. 2A to 2C, the second conductor layer 26 is formed on the side surface of the dielectric substrate 28. For this reason, an unnecessary mode of a signal in which the wavelength λg in the dielectric substrate 28 is longer than twice the width W of the dielectric substrate 28 (that is, 2 × W) is blocked.

図4を参照し、例えば、不要モードを遮断する周波数をfcとすると、周波数fcより低い周波数の不要モードは遮断されマイクロストリップ線路20を伝送しない。図4の例では、7次の周波数内に発生する不要モードが遮断される。   Referring to FIG. 4, for example, if the frequency for cutting off the unnecessary mode is fc, the unnecessary mode having a frequency lower than the frequency fc is cut off and the microstrip line 20 is not transmitted. In the example of FIG. 4, unnecessary modes that occur within the seventh-order frequency are blocked.

図5は、周波数に対するλg/2を計算した結果を示す図である。図5においては、誘電体基体28を酸化アルミニウムとした場合の高周波信号の周波数に対する誘電体基体28内の高周波信号の波長λg/2の計算結果を示している。例えば、マイクロストリップ線路20に入力される信号のビットレートが25Gb/sの場合、基本波の周波数は12.5GHzである。この場合、7次モードの周波数は87.5GHzである。よって、幅Wを0.55mm程度とすれば、周波数fcは90GHzとなり、7次の周波数内に発生する不要モードが遮断できる。   FIG. 5 is a diagram illustrating a result of calculating λg / 2 with respect to the frequency. FIG. 5 shows the calculation result of the wavelength λg / 2 of the high frequency signal in the dielectric substrate 28 with respect to the frequency of the high frequency signal when the dielectric substrate 28 is made of aluminum oxide. For example, when the bit rate of the signal input to the microstrip line 20 is 25 Gb / s, the frequency of the fundamental wave is 12.5 GHz. In this case, the frequency of the seventh mode is 87.5 GHz. Therefore, if the width W is set to about 0.55 mm, the frequency fc becomes 90 GHz, and an unnecessary mode generated in the seventh-order frequency can be cut off.

実施例1のマイクロストリップ線路20の高さHを0.15mm、長さLを2.60mm、信号線路22の幅w1を0.14mm、誘電体基体28を酸化アルミニウム、第1導電体層24および第2導電体層26を金とし、マイクロストリップ線路20を作製した。第2導電体層26を設けずに他は上記実施例1と同じ構成により比較例のマイクロストリップ線路20aも作製した。実施例1および比較例のマイクロストリップ線路20および20aの40GHzにおける特性インピーダンスを50Ωとした。   The height H of the microstrip line 20 of Example 1 is 0.15 mm, the length L is 2.60 mm, the width w1 of the signal line 22 is 0.14 mm, the dielectric substrate 28 is aluminum oxide, and the first conductor layer 24. The microstrip line 20 was fabricated using the second conductor layer 26 as gold. A microstrip line 20a of a comparative example was also produced with the same configuration as in Example 1 except that the second conductor layer 26 was not provided. The characteristic impedance at 40 GHz of the microstrip lines 20 and 20a of Example 1 and the comparative example was set to 50Ω.

例えば、マイクロストリップ線路20が伝送する高周波信号の3次モード内までの不要モードを遮断するためには、誘電体基体28の幅Wは、誘電体基体28内における伝送信号波長λgとし、λg/(2×3)=λg/6以下であればよい。また、5次モード内までの不要モードを遮断するためには、幅Wは、λg/(2×5)=λg/10以下であればよい。さらに、7次モード内までの不要モードを遮断するためには、幅Wは、λg/(2×7)=λg/14以下であればよい。なお、マイクロストリップ線路20が伝送する高周波信号がビットレートがFGb/sのデジタル信号の場合、高周波信号の周波数は、F/2GHzとすればよい。   For example, in order to block unnecessary modes up to the third mode of the high-frequency signal transmitted by the microstrip line 20, the width W of the dielectric substrate 28 is set to the transmission signal wavelength λg in the dielectric substrate 28, and λg / (2 × 3) = λg / 6 or less is sufficient. In order to block the unnecessary mode up to the fifth order mode, the width W may be λg / (2 × 5) = λg / 10 or less. Further, in order to block the unnecessary mode up to the seventh order mode, the width W may be λg / (2 × 7) = λg / 14 or less. Note that when the high-frequency signal transmitted by the microstrip line 20 is a digital signal having a bit rate of FGb / s, the frequency of the high-frequency signal may be F / 2 GHz.

図6は、w1/Wに対する伝送損失S21の測定結果を示す図である。図6において、黒丸は実施例1のマイクロストリップ線路20、白丸は比較例のマイクロストリップ線路20aを示す。直線は黒丸および白丸を結ぶ線である。伝送損失は、40GHzにおけるマイクロストリップ線路20または20aの入力端をポート1、出力端をポート2とし、S21で定義される。w1/Wは、特性インピーダンス50Ωとして、例えば、w1を0.14mm、Hを0.15mmに固定し、Wを変化させた。図6に示すように、実施例1においては、伝送損失は−0.4dB以下であり良好である。一方、比較例においては、伝送損失が大きい。さらに、w1/Wが大きくなると、比較例の伝送損失が大きくなる。これは、第2導電体層26が設けられていない状態で幅Wが小さくなると、誘電体基体28内の電界が誘電体基体28外に漏洩するためと考えられる。図6から、w1/Wは、0.31以上が好ましく、0.24以上がより好ましい。   FIG. 6 is a diagram illustrating a measurement result of the transmission loss S21 with respect to w1 / W. In FIG. 6, black circles indicate the microstrip line 20 of Example 1, and white circles indicate the microstrip line 20a of the comparative example. A straight line is a line connecting black and white circles. The transmission loss is defined by S21 with the input end of the microstrip line 20 or 20a at 40 GHz as port 1 and the output end as port 2. For w1 / W, the characteristic impedance is 50Ω. For example, w1 is fixed to 0.14 mm, H is fixed to 0.15 mm, and W is changed. As shown in FIG. 6, in the first embodiment, the transmission loss is −0.4 dB or less, which is favorable. On the other hand, the transmission loss is large in the comparative example. Furthermore, when w1 / W increases, the transmission loss of the comparative example increases. This is presumably because the electric field in the dielectric substrate 28 leaks out of the dielectric substrate 28 when the width W is reduced without the second conductor layer 26 being provided. From FIG. 6, w1 / W is preferably 0.31 or more, and more preferably 0.24 or more.

実施例1によれば、マイクロストリップ線路20が誘電体基体28の側面に第2導電体層26を有する。これにより、不要モードの伝送を遮断することができる。よって、光変調器10が強度変調する光信号の光波形が劣化することを抑制できる。   According to the first embodiment, the microstrip line 20 has the second conductor layer 26 on the side surface of the dielectric substrate 28. As a result, unnecessary mode transmission can be blocked. Therefore, it is possible to suppress deterioration of the optical waveform of the optical signal whose intensity is modulated by the optical modulator 10.

また、信号線路22と第2導電体層26とは、誘電体基体28の上面において平行して配置されており、誘電体基体28の上面における信号線路22と第2導電体層26との間の距離w2は、信号線路22の幅w1より大きい。これにより、w1/Wを大きくでき、図6のように、伝送損失を抑制できる。   Further, the signal line 22 and the second conductor layer 26 are arranged in parallel on the upper surface of the dielectric substrate 28, and the signal line 22 and the second conductor layer 26 are disposed on the upper surface of the dielectric substrate 28. Is greater than the width w1 of the signal line 22. As a result, w1 / W can be increased, and transmission loss can be suppressed as shown in FIG.

実施例2は、マイクロストリップ線路がパッドを有する例である。図7(a)は、実施例2に用いるマイクロストリップ線路の平面図、図7(b)は図7(a)のB−B断面図である。図7(a)においてビア配線42を破線で示している。図7(a)のA−A断面図は図2(b)と同じである。実施例2に係る光部品の回路図は図1と同じであり説明を省略する。   Example 2 is an example in which a microstrip line has a pad. FIG. 7A is a plan view of a microstrip line used in the second embodiment, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 7A. In FIG. 7A, the via wiring 42 is indicated by a broken line. A sectional view taken along the line AA in FIG. 7A is the same as FIG. The circuit diagram of the optical component according to the second embodiment is the same as FIG.

図7(a)および図7(b)に示すように、マイクロストリップ線路20bの端部の誘電体基体28の上面にパッド40が形成されている。パッド40は、信号線路22の両側に形成されている。パッド40と第1導電体層24とは、誘電体基体28を上下に貫通するビア配線42により電気的に接続されている。パッド40およびビア配線42は、例えばAuまたはCu等の金属により形成される。   As shown in FIGS. 7A and 7B, a pad 40 is formed on the upper surface of the dielectric substrate 28 at the end of the microstrip line 20b. The pads 40 are formed on both sides of the signal line 22. The pad 40 and the first conductor layer 24 are electrically connected by a via wiring 42 that vertically penetrates the dielectric substrate 28. The pad 40 and the via wiring 42 are formed of a metal such as Au or Cu, for example.

図7(a)に示すように、マイクロストリップ線路20bの端部横には、基板50が設けられている。基板50は、誘電体基体56、信号線路52および導電体層54を含む。信号線路52は、誘電体基体56の上面に形成されている。導電体層54は誘電体基体56の上面に形成され、信号線路52の両側に形成されている。誘電体基体56は例えば酸化アルミニウムであり、信号線路52および導電体層54は例えばAuまたはCu等の金属層である。信号線路52、導電体層54および誘電体基体56はコプレーナ線路を形成する。コプレーナ線路の特性インピーダンスは、主に、信号線路52と導電体層54とにより規定される。基板50に形成されたコプレーナ線路は、例えば、図1においてマイクロストリップ線路20とノードN1との間のインダクタL1の少なくとも一部である。   As shown in FIG. 7A, a substrate 50 is provided beside the end of the microstrip line 20b. The substrate 50 includes a dielectric substrate 56, a signal line 52, and a conductor layer 54. The signal line 52 is formed on the upper surface of the dielectric substrate 56. The conductor layer 54 is formed on the upper surface of the dielectric substrate 56 and is formed on both sides of the signal line 52. The dielectric substrate 56 is, for example, aluminum oxide, and the signal line 52 and the conductor layer 54 are, for example, a metal layer such as Au or Cu. The signal line 52, the conductor layer 54, and the dielectric substrate 56 form a coplanar line. The characteristic impedance of the coplanar line is mainly defined by the signal line 52 and the conductor layer 54. The coplanar line formed on the substrate 50 is, for example, at least a part of the inductor L1 between the microstrip line 20 and the node N1 in FIG.

パッド40の上面と導電体層54とはボンディングワイヤ58により電気的に接続される。これにより、導電体層54は、第1導電体層24と同電位となる。信号線路22と52とは、ボンディングワイヤ58により電気的に接続される。これにより、マイクロストリップ線路20bを伝送された高周波信号はコプレーナ線路に入力される。基板50に形成される伝送線路はマイクロストリップ線路でもよい。   The upper surface of the pad 40 and the conductor layer 54 are electrically connected by a bonding wire 58. As a result, the conductor layer 54 has the same potential as the first conductor layer 24. The signal lines 22 and 52 are electrically connected by a bonding wire 58. As a result, the high-frequency signal transmitted through the microstrip line 20b is input to the coplanar line. The transmission line formed on the substrate 50 may be a microstrip line.

実施例3は、マイクロストリップ線路がパッドを有する別の例である。図8(a)は、実施例3に用いるマイクロストリップ線路の平面図、図8(b)は図8(a)のB−B断面図である。図8(a)のA−A断面図は図2(b)と同じである。実施例3に係る光部品の回路図は図1と同じであり説明を省略する。   Example 3 is another example in which the microstrip line has a pad. FIG. 8A is a plan view of a microstrip line used in the third embodiment, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 8A. The AA sectional view of FIG. 8A is the same as FIG. The circuit diagram of the optical component according to Example 3 is the same as FIG.

図8(a)および図8(b)に示すように、マイクロストリップ線路20cの端部の誘電体基体28の上面にパッド40が形成されている。パッド40は、信号線路22の両側に形成されている。パッド40の一辺が第2導電体層26と接することにより、第1導電体層24と電気的に接続されている。   As shown in FIGS. 8A and 8B, a pad 40 is formed on the upper surface of the dielectric substrate 28 at the end of the microstrip line 20c. The pads 40 are formed on both sides of the signal line 22. One side of the pad 40 is in contact with the second conductor layer 26 to be electrically connected to the first conductor layer 24.

実施例2の図7(a)と同様に、パッド40の上面と導電体層54とはボンディングワイヤ58により電気的に接続される。信号線路22と52とは、ボンディングワイヤ58により電気的に接続される。   As in FIG. 7A of the second embodiment, the upper surface of the pad 40 and the conductor layer 54 are electrically connected by a bonding wire 58. The signal lines 22 and 52 are electrically connected by a bonding wire 58.

実施例2の図7(a)および実施例3の図8(a)のように、マイクロストリップ線路20bまたは20cの端部の誘電体基体28の上面に第1導電体層24と電気的に接続するパッド40が設けられている。これにより、例えば隣接する導電体層54と第1導電体層24とを電気的に接続することができる。   As shown in FIG. 7A of the second embodiment and FIG. 8A of the third embodiment, the first conductor layer 24 is electrically connected to the upper surface of the dielectric substrate 28 at the end of the microstrip line 20b or 20c. A pad 40 to be connected is provided. Thereby, for example, the adjacent conductor layer 54 and the first conductor layer 24 can be electrically connected.

パッド40を信号線路22と第2導電体層26との間に設けることにより、マイクロストリップ線路の小型化が可能となる。   By providing the pad 40 between the signal line 22 and the second conductor layer 26, the microstrip line can be miniaturized.

実施例1から実施例3において、光変調器10の例としてEA光変調器を用い説明したが、光変調器10として、例えばマッハツェンダ型光変調器、またはLN(ニオブ酸リチウム)光変調器を用いてもよい。   In the first to third embodiments, an EA optical modulator has been described as an example of the optical modulator 10. However, as the optical modulator 10, for example, a Mach-Zehnder optical modulator or an LN (lithium niobate) optical modulator is used. It may be used.

実施例4は、実施例1から実施例3に係る光部品を含む光モジュールの例である。図9(a)は、キャップを外した実施例4に係る光モジュールの上面図、図9(b)は、図9(a)のA−A断面図である。なお、レセクタプル98については断面でなく側面を図示している。図9(a)および図9(b)に示すように、光モジュール106において、筐体84内に、光変調器10、半導体レーザ12、変調駆動IC74(駆動ドライバ)等が収納されている。ここでは、光変調器10と半導体レーザ12とは1チップに集積化されている。また、半導体レーザ12に接続される配線・ワイヤなどは省略している。   The fourth embodiment is an example of an optical module including the optical component according to the first to third embodiments. FIG. 9A is a top view of the optical module according to Example 4 with the cap removed, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 9A. It should be noted that the side of the sector pull 98 is shown not on the cross section but on the side. As shown in FIGS. 9A and 9B, in the optical module 106, the optical modulator 10, the semiconductor laser 12, the modulation drive IC 74 (drive driver), and the like are housed in the housing 84. Here, the optical modulator 10 and the semiconductor laser 12 are integrated on one chip. Further, wirings and wires connected to the semiconductor laser 12 are omitted.

筐体84は、例えば金属等からなる。筐体84の底面にはTEC(Thermoelectric Cooler)68が配置されている。TEC68上に、例えば酸化アルミニウムまたはセラミック等の絶縁性からなり、かつ熱伝導率の高いキャリア70が配置されている。キャリア70上にサブキャリア71とレンズホルダ78とが配置されている。   The housing 84 is made of, for example, metal. A TEC (Thermoelectric Cooler) 68 is disposed on the bottom surface of the casing 84. On the TEC 68, a carrier 70 made of an insulating material such as aluminum oxide or ceramic and having high thermal conductivity is disposed. A subcarrier 71 and a lens holder 78 are disposed on the carrier 70.

サブキャリア71上に、誘電体基板50、光変調器10および半導体レーザ12が一体となったチップ、およびフォトディテクタ79が配置されている。レンズホルダ78にはレンズ80が保持されている。誘電体基板50の上面には信号線路52が形成されている。誘電体基板50は、例えば図7(a)および図8(a)の基板50に対応する。   On the subcarrier 71, a chip in which the dielectric substrate 50, the optical modulator 10, and the semiconductor laser 12 are integrated, and a photodetector 79 are arranged. A lens 80 is held in the lens holder 78. A signal line 52 is formed on the upper surface of the dielectric substrate 50. The dielectric substrate 50 corresponds to, for example, the substrate 50 in FIGS. 7A and 8A.

さらに、筐体84の底面には銅タングステン(CuW)または銅モリブデン(CuMo)等の金属からなるヒートシンク66が配置されている。ヒートシンク66上には、変調駆動IC74、伝送線路73を有する基板72が配置されている。ヒートシンク66の上面とサブキャリア71の上面とはほぼ同じ高さである。ヒートシンク66の上面とサブキャリア71の上面との間に橋渡しされたブリッジ76が実施例1から実施例3に用いられるマイクロストリップ線路20、20bまたは20cに対応する。   Further, a heat sink 66 made of a metal such as copper tungsten (CuW) or copper molybdenum (CuMo) is disposed on the bottom surface of the housing 84. A substrate 72 having a modulation driving IC 74 and a transmission line 73 is disposed on the heat sink 66. The upper surface of the heat sink 66 and the upper surface of the subcarrier 71 are substantially the same height. A bridge 76 bridged between the upper surface of the heat sink 66 and the upper surface of the subcarrier 71 corresponds to the microstrip line 20, 20 b or 20 c used in the first to third embodiments.

筐体84の前側壁にはレンズ82が保持されている。さらに、筐体84の前面にレセプタクル98が固定されている。筐体84の後側壁には、主に絶縁体からなるフィードスルー60が埋め込まれている。フィードスルー60内には、筐体84内の端子64と筐体84外の端子62とを電気的に接続する配線が設けられている。   A lens 82 is held on the front side wall of the housing 84. Further, a receptacle 98 is fixed to the front surface of the housing 84. A feedthrough 60 mainly made of an insulator is embedded in the rear side wall of the housing 84. In the feedthrough 60, a wiring for electrically connecting the terminal 64 in the housing 84 and the terminal 62 outside the housing 84 is provided.

端子64と基板72の伝送線路73とはボンディングワイヤ90により電気的に接続されている。伝送線路73と変調駆動IC74とは、ボンディングワイヤ92により電気的に接続されている。変調駆動IC74とブリッジ76内の信号線路22とは、ボンディングワイヤ94により電気的に接続されている。ブリッジ76内の信号線路22と基板50上の信号線路52とは、ボンディングワイヤ96により電気的に接続されている。   The terminal 64 and the transmission line 73 of the substrate 72 are electrically connected by a bonding wire 90. The transmission line 73 and the modulation drive IC 74 are electrically connected by a bonding wire 92. The modulation drive IC 74 and the signal line 22 in the bridge 76 are electrically connected by a bonding wire 94. The signal line 22 in the bridge 76 and the signal line 52 on the substrate 50 are electrically connected by a bonding wire 96.

高周波信号である入力信号は、端子62からフィードスルー60内の配線、端子64、ボンディングワイヤ90、伝送線路73およびボンディングワイヤ92を介し、変調駆動IC74に入力する。変調駆動IC74は入力信号を増幅し変調電気信号として出力する。出力された変調信号は、変調駆動IC74の出力端子を介し、ボンディングワイヤ94、ブリッジ76内の信号線路22およびボンディングワイヤ96を介し信号線路52に入力する。信号線路52は光変調器10の電極とボンディングワイヤを介し電気的に接続されている。これにより、変調信号は、光変調器10の電極に入力する。光変調器10は、半導体レーザ12の出力光を強度変調し出射する。このように、変調駆動IC74の出力端子と光変調器の電極とはブリッジ76により電気的に接続しており、変調駆動IC74は光変調器を変調する。光変調器10とレセプタクル98中に挿入されるファイバ(図示せず)とは、レンズ80および82により光結合されている。これにより、光変調器10から出射された光はファイバ内の導入される。フォトディテクタ79は、半導体レーザ12の裏面から出射された光の強度を検出する。図示していない制御回路が、フォトディテクタ79の出力に応じ、半導体レーザ12に印加する電流をフィードバック制御する。TEC68は、半導体レーザ12および光変調器10の温度を一定に保持する。これにより、光変調器10から出射される光の波長をロックすることができる。半導体レーザ12を安定に動作させることができる。   An input signal, which is a high-frequency signal, is input to the modulation drive IC 74 from the terminal 62 via the wiring in the feedthrough 60, the terminal 64, the bonding wire 90, the transmission line 73, and the bonding wire 92. The modulation driver IC 74 amplifies the input signal and outputs it as a modulated electric signal. The output modulation signal is input to the signal line 52 via the bonding wire 94, the signal line 22 in the bridge 76, and the bonding wire 96 via the output terminal of the modulation driver IC 74. The signal line 52 is electrically connected to the electrode of the optical modulator 10 via a bonding wire. As a result, the modulation signal is input to the electrode of the optical modulator 10. The optical modulator 10 modulates the intensity of the output light of the semiconductor laser 12 and emits it. As described above, the output terminal of the modulation drive IC 74 and the electrode of the optical modulator are electrically connected by the bridge 76, and the modulation drive IC 74 modulates the optical modulator. The optical modulator 10 and a fiber (not shown) inserted into the receptacle 98 are optically coupled by lenses 80 and 82. Thereby, the light emitted from the optical modulator 10 is introduced into the fiber. The photodetector 79 detects the intensity of light emitted from the back surface of the semiconductor laser 12. A control circuit (not shown) feedback-controls the current applied to the semiconductor laser 12 according to the output of the photodetector 79. The TEC 68 keeps the temperatures of the semiconductor laser 12 and the optical modulator 10 constant. Thereby, the wavelength of the light emitted from the optical modulator 10 can be locked. The semiconductor laser 12 can be operated stably.

実施例4のように、第1搭載部材としてサブキャリア71が光変調器10を搭載する。第2搭載部材としてヒートシンク66が変調駆動IC74を搭載する。変調駆動IC74は、マイクロストリップ線路20、20bまたは20cに高周波信号を出力するアンプとして機能する。マイクロストリップ線路20、20bまたは20cは、サブキャリア71の上面にある接続部(第1の接続部)とヒートシンク66の上面にある接続部(第2の接続部)とで機械的に接続しており、サブキャリア71とヒートシンク66とを橋渡すように設けられている。このため、マイクロストリップ線路20、20bまたは20cの下面には、空間が存在している。このように、第1搭載部材(サブキャリア71)と第2搭載部材(ヒートシンク66)とが空間を挟んで離れて配置されており、ブリッジ76の誘電体基体が第1搭載部材(サブキャリア71)と第2搭載部材(ヒートシンク66)との間を空間上で橋渡しして配置されている。光変調器10と変調駆動IC74とが離間した搭載部材(サブキャリア71とヒートシンク66)にそれぞれ搭載された場合、変調駆動IC74と光変調器10との距離が長くなる。このため、搭載部材を橋渡しする伝送線路を介して不要モードが発生しやすい。そこで、この伝送線路にマイクロストリップ線路20、20bまたは20cを用いることにより、不要スプリアスを抑制できる。よって、光変調器が強度変調する光信号の光波形の劣化を抑制できる。   As in the fourth embodiment, the subcarrier 71 mounts the optical modulator 10 as the first mounting member. The heat sink 66 mounts the modulation driving IC 74 as the second mounting member. The modulation driver IC 74 functions as an amplifier that outputs a high-frequency signal to the microstrip line 20, 20b, or 20c. The microstrip line 20, 20 b, or 20 c is mechanically connected by a connection portion (first connection portion) on the upper surface of the subcarrier 71 and a connection portion (second connection portion) on the upper surface of the heat sink 66. It is provided so as to bridge the subcarrier 71 and the heat sink 66. For this reason, a space exists on the lower surface of the microstrip line 20, 20b or 20c. As described above, the first mounting member (subcarrier 71) and the second mounting member (heat sink 66) are arranged apart from each other with the space therebetween, and the dielectric base of the bridge 76 is the first mounting member (subcarrier 71). ) And the second mounting member (heat sink 66). When the optical modulator 10 and the modulation drive IC 74 are mounted on separate mounting members (subcarrier 71 and heat sink 66), the distance between the modulation drive IC 74 and the optical modulator 10 becomes long. For this reason, an unnecessary mode is likely to occur via a transmission line that bridges the mounting member. Therefore, unnecessary spurious can be suppressed by using the microstrip line 20, 20b or 20c for the transmission line. Therefore, it is possible to suppress deterioration of the optical waveform of the optical signal whose intensity is modulated by the optical modulator.

実施例4においては、第1搭載部材と、第2搭載部材と、実施例1から実施例3の伝送線路を含むブリッジ76と、を備える信号伝送路を、光モジュール106に用いる例を説明した。実施例4の信号伝送路は、光変調装置以外の装置に用いてもよい。   In the fourth embodiment, the example in which the signal transmission path including the first mounting member, the second mounting member, and the bridge 76 including the transmission line of the first to third embodiments is used for the optical module 106 has been described. . The signal transmission path according to the fourth embodiment may be used for devices other than the light modulation device.

以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such specific embodiments, and various modifications and changes can be made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. It can be changed.

10 光変調器
20 マイクロストリップ線路
22 信号線路
24 第1導電体層
26 第2導電体層
28 誘電体基体
40 パッド
42 ビア配線
66 ヒートシンク
71 サブキャリア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical modulator 20 Microstrip line 22 Signal line 24 1st conductor layer 26 2nd conductor layer 28 Dielectric base | substrate 40 Pad 42 Via wiring 66 Heat sink 71 Subcarrier

Claims (7)

第1搭載部材と、
空間を挟んで前記第1搭載部材と離れて配置された第2搭載部材と、
前記第1搭載部材と前記第2搭載部材との間を前記空間上で橋渡しして配置された誘電体基板と、
前記誘電体基体の上面に形成された信号線路と、
前記誘電体基体の下面に形成され、基準電位を有する第1導電層と、
前記第1導電層と電気的に接続され、前記誘電体基体の側面に形成された第2導電体層と、
を具備することを特徴とする信号伝送路。
A first mounting member;
A second mounting member disposed away from the first mounting member across a space;
A dielectric substrate disposed between the first mounting member and the second mounting member so as to bridge the space;
A signal line formed on the upper surface of the dielectric substrate;
A first conductive layer formed on a lower surface of the dielectric substrate and having a reference potential;
A second conductive layer electrically connected to the first conductive layer and formed on a side surface of the dielectric substrate;
A signal transmission path comprising:
前記信号線路と前記第2導電体層は、前記誘電体基体の上面において平行して配置されてなり、前記誘電体基体の上面における前記信号線路と前記第2導電体層との間の距離は、前記信号線路の幅より大きいことを特徴とする請求項1記載の信号伝送路。   The signal line and the second conductor layer are arranged in parallel on the upper surface of the dielectric substrate, and the distance between the signal line and the second conductor layer on the upper surface of the dielectric substrate is 2. The signal transmission line according to claim 1, wherein the signal transmission line is larger than a width of the signal line. 前記誘電体基体の幅は、前記誘電体基体内における伝送信号波長の1/6以下であることを特徴とする請求項1または2記載の信号伝送路。   3. The signal transmission path according to claim 1, wherein the width of the dielectric substrate is 1/6 or less of a transmission signal wavelength in the dielectric substrate. 前記第1導電体層と電気的に接続されるパッドを具備することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載の信号伝送路。   4. The signal transmission path according to claim 1, further comprising a pad electrically connected to the first conductor layer. 5. 前記誘電体基体を上下に貫通し、前記パッドと前記第1導電体層とを電気的に接続するビア配線を具備することを特徴とする請求項4記載の信号伝送路。   5. The signal transmission path according to claim 4, further comprising a via wiring penetrating up and down the dielectric substrate and electrically connecting the pad and the first conductor layer. 前記パッドの一辺は、前記第2導電体層と接することを特徴とする請求項4記載の信号伝送路。   The signal transmission path according to claim 4, wherein one side of the pad is in contact with the second conductor layer. 誘電体基体と、前記誘電体基体の上面に形成された信号線路と、前記誘電体基体の下面に形成され、基準電位を有する第1導電層と、前記第1導電層と電気的に接続され、前記誘電体基体の側面に形成された第2導電体層と、を備える信号伝送路と、
光変調器を搭載する第1搭載部材と、
前記光変調器を変調する変調ドライバを搭載し、前記第1搭載部材と互いに空間をもって隔てられた第2搭載部材と、
を具備し、
前記信号伝送路は、前記第1搭載部材と前記第2搭載部材との間を前記空間上で橋渡しして配置され、かつ前記変調ドライバの出力端子と前記光変調器の電極との間を電気的に接続してなることを特徴とする光変調装置。
A dielectric substrate, a signal line formed on the upper surface of the dielectric substrate, a first conductive layer formed on the lower surface of the dielectric substrate and having a reference potential, and electrically connected to the first conductive layer A signal transmission line comprising: a second conductor layer formed on a side surface of the dielectric substrate;
A first mounting member on which the optical modulator is mounted;
A second mounting member mounted with a modulation driver for modulating the optical modulator, and spaced apart from the first mounting member by a space;
Comprising
The signal transmission path is arranged by bridging the space between the first mounting member and the second mounting member on the space, and between the output terminal of the modulation driver and the electrode of the optical modulator. An optical modulation device characterized by being connected to each other.
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