JP2013149485A - 有機電界発光装置、有機電界発光装置の製造方法および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】簡易かつ安価な製造プロセスにより、素子特性の低下を抑制することが可能な有機電界発光装置を提供する。
【解決手段】本開示の表示装置は、有機材料よりなると共に、互いに色の異なる複数の発光層と、各発光層を挟んで設けられた第１電極および第２電極と、複数の発光層のうちの１または２以上の発光層の、第１電極および第２電極の少なくとも一方の側に形成されると共に、電荷輸送性材料からなる薄膜層とを備えたものである。発光層形成工程において、複数の発光層のうちの少なくとも一の発光層を形成する際に、他の発光層の第１および第２の電極側の少なくとも一方の側に電荷輸送性材料からなる薄膜層を形成する。各発光層に、他色の発光材料が付着することが抑制される。
【選択図】図１

Description

本開示は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する有機電界表示装置およびその製造方法ならびに電子機器に関する。

情報通信産業の発達が加速するにつれて、高度な性能を有する表示素子が要求されている。その中で、次世代表示素子として注目されている有機ＥＬ素子は、自発発光型表示素子として視野角が広くてコントラストが優秀なだけでなく応答時間が速いという長所がある。

有機ＥＬ素子は、発光層を含む複数の層が積層された構成を有し、これらの層は、例えば真空蒸着法によって形成される。具体的には、開口を持ったマスクを蒸着源と基板との間に挟むことによって所望の形状の層をパターニングする方法が一般的である。このような有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、大型化あるいは高精細化が進むと、マスクが撓むと共に搬送が繁雑になることなどからアライメントが難しくなり開口率が低下する。このため、素子特性が低下する。

これに対し、例えば特許文献１，２では、熱転写を用いたパターン作製法が開示されている。しかし、この手法では、熱源としてレーザを使用するため、製造装置全体で莫大なコストが必要になる。

そこで、高精細な表示装置を、安価な製造プロセスにより作製する手法として、シリコンゴムブランケット（以下、単にブランケットという）を用いた反転印刷法が提案されている（例えば、特許文献３〜５）。この反転印刷法では、ブランケット上に発光材料を含むインクを塗布した後、インク層のうちの不要領域（非印刷パターン）を、凹版を用いて選択的に除去する。このようにして印刷パターンが形成されたブランケットを用いた転写により、発光層を形成する。

また、このような反転印刷法を用いて良好なパターンを得るためには、ブランケット上に形成される膜が適度な湿度を保っていることが重要である。特許文献３，４には、ブランケット上にインクを塗布する際に、そのインクに含まれる溶媒によってブランケットを膨潤させておくことが記載されている。

特開１９９７−１６７６８４号公報 特開２００２−２１６９５７号公報 特開２００７−９５５１７号公報 特開２００７−９０６９８号公報 特開２０１０−５８３３０号公報

しかしながら、特許文献３，４に記載された手法のように、ブランケットを膨潤させると、これに起因して新たなパターン不良が生じることから、その改善が望まれる。

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡易かつ安価な製造プロセスにより、素子特性の低下を抑制することが可能な有機電界発光装置、有機電界発光装置の製造方法および電子機器を提供することにある。

本開示の有機電界発光装置は、有機材料よりなると共に、互いに色の異なる複数の発光層と、各発光層を挟んで設けられた第１電極および第２電極と、複数の発光層のうちの１または２以上の発光層の、第１電極および第２電極の少なくとも一方の側に形成されると共に、電荷輸送性材料を含む薄膜層とを備えたものである。

本開示の有機電界発光装置の製造方法は、第１電極を形成する工程と、第１電極上に、有機材料よりなると共に互いに色の異なる複数の発光層を形成する発光層形成工程と、複数の発光層上に第２電極を形成する工程とを含むものである。発光層形成工程では、複数の発光層のうちの少なくとも一の発光層を形成する際に、他の発光層の第１および第２の電極側の少なくとも一方の側に電荷輸送性材料を含む薄膜層を形成する。

本開示の有機電界発光装置およびその製造方法では、複数の発光層のうちの少なくとも一の発光層の第１および第２の電極側の少なくとも一方の側に電荷輸送性材料を含む薄膜層が形成される。これにより、各発光層に、他色の発光材料が付着することが抑制される。

本開示の電子機器は、上記有機電界発光装置を備えたものである。

本開示の有機電界発光装置およびその製造方法ならびに電子機器によれば、複数の発光層のうちの１または２以上の発光層の、第１および第２の電極側の少なくとも一方の側に、電荷輸送性材料を含む薄膜層が形成される。これにより、高精細なマスクを用いた真空蒸着プロセスや、レーザを用いた熱転写プロセスを経ることなく、各色の発光材料の混色を抑制しつつ、発光層を形成することができる。よって、簡易かつ安価な製造プロセスにより、素子特性の低下を抑制することが可能となる。

本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。 図１に示した表示装置の駆動基板の回路構成例を表す模式図である。 図１に示した表示装置の画素回路の一例を表す等価回路図である。 図１に示した駆動基板の構成例を表す断面図である。 図１に示した有機ＥＬ素子の詳細構成を表す断面模式図である。 図１に示した表示装置の製造方法を説明するための断面図である。 図６に続く工程を表す断面図である。 図７に続く工程（Ｒ，Ｇ発光層形成工程）を表す断面図である。 図７に示した工程の具体的な手順を説明するための模式図である。 図９に続く工程を表す模式図である。 図１０に続く工程を表す模式図である。 図１１に続く工程を表す模式図である。 図１２に続く工程を表す模式図である。 図１３に続く工程を表す模式図である。 （Ａ）はＧ発光層形成後の素子基板、（Ｂ）はＲ発光層形成後の素子基板の各詳細構成を表す断面模式図である。 図８に続く工程（Ｂ発光層形成工程）を表す断面図である。 図１６に続く工程を表す断面図である。 図１７に続く工程を表す断面図である。 比較例に係る有機ＥＬ素子の詳細構成を表す断面模式図である。 本開示の第２の実施の形態に係る表示装置における有機ＥＬ素子の詳細構成を表す断面図である。 図２０に示した有機ＥＬ素子の赤色発光層形成時に使用するブランケットの転写前の表面の層状態を説明するための模式図である。 変形例１に係る有機ＥＬ素子の詳細構成を表す断面図である。 変形例２に係る有機ＥＬ素子の詳細構成を表す断面図である。 図２３に示した有機ＥＬ素子の他の構成例を表す断面図である。 図２３に示した有機ＥＬ素子の他の構成例を表す断面図である。 変形例３に係る有機ＥＬ素子の詳細構成を表す断面図である。 表示装置を用いたスマートフォンの構成を表す斜視図である。 表示装置を用いたテレビジョン装置の構成を表す斜視図である。 表示装置を用いたデジタルスチルカメラの構成を表す斜視図である。 表示装置を用いたパーソナルコンピュータの外観を表す斜視図である。 表示装置を用いたビデオカメラの外観を表す斜視図である。 表示装置を用いた携帯電話機の構成を表す平面図である。

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。尚、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（緑色発光層形成時にのみ、正孔輸送性材料を含む溶液でブランケットを膨潤させる例）
２．第２の実施の形態（更に、赤色発光層形成時には、電子輸送性材料を含む溶液でブランケットを膨潤させる例）
３．変形例１（赤色発光層形成時にのみ、電子輸送性材料を含む溶液でブランケットを膨潤させる例）
４．変形例２（赤色発光層形成後に緑色発光層を形成する場合の例）
５．変形例３（黄色発光層形成時に、正孔輸送性材料を含む溶液でブランケットを膨潤させる例）
６．適用例（電子機器の例）

＜第１の実施の形態＞
［構成］
図１は本開示の第１の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成を表したものである。表示装置１は、例えば、有機電界発光カラーディスプレイなどとして用いられ、例えば、駆動基板１０上に、赤色の光を発生する有機ＥＬ素子１０Ｒ（赤画素）、緑色の光を発生する有機ＥＬ素子１０Ｇ（緑画素）、および青色の光を発生する有機ＥＬ素子１０Ｂ（青画素）が、規則的に複数配置されたものである。これらの有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、保護層１８により被覆されており、接着層１９を介して封止基板２０により封止されている。この表示装置１は、互いに隣接する有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組が一つのピクセル（pixel）を構成するものであり、封止基板２０の上面より３色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢを射出する上面発光型の表示装置である。以下、各部の構成について説明する。

（駆動基板１０）
図２は、表示装置１の駆動基板１０に形成される回路構成を、上記有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂと共に表したものである。駆動基板１０では、基板１１０上に、例えば複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置される表示領域１１０Ａが形成され、この表示領域１１０Ａを囲うように、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が配設されている。信号線駆動回路１２０には、列方向に沿って延在する複数の信号線１２０Ａが接続されており、走査線駆動回路１３０には、行方向に沿って延在する複数の走査線１３０Ａが接続されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差部が、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれかに対応している。表示領域１１０Ａの周辺領域には、この他にも、図示しない電源線駆動回路が設けられている。

図３は、表示領域１１０Ａ内に設けられる画素回路１４０の一例を表したものである。画素回路１４０は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２（後述のＴＦＴ１１１に相当）と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）により構成され、その構成は、例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよい。このような構成により、信号線１２０Ａを介して、信号線駆動回路１２０から書き込みトランジスタＴｒ２のソース（またはドレイン）に画像信号が供給される。走査線１３０Ａを介して、走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲートに走査信号が供給される。

図４は、この駆動基板１０の詳細な断面構成（ＴＦＴ１１１の構成）を、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの概略構成と共に表したものである。駆動基板１０には、上記駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２に対応するＴＦＴ１１１が形成されている。ＴＦＴ１１１では、例えば、基板１１０上の選択的な領域にゲート電極１１０１が配設されており、このゲート電極１１０１上に、ゲート絶縁膜１１０２，１１０３を介して、半導体層１１０４が形成されている。半導体層１１０４のチャネルとなる領域（ゲート電極１１０１に対向する領域）上には、チャネル保護膜１１０５が設けられている。半導体層１１０４には、一対のソース・ドレイン電極１１０６がそれぞれ電気的に接続されている。このようなＴＦＴ１１１を覆うように、基板１１０の全面に渡って平坦化層１１２が形成されている。

基板１１０は、例えばガラス基板あるいはプラスチック基板からなる。あるいは、基板１１０は、石英、シリコン、金属などの表面が絶縁処理されたものであってもよい。また、フレキシブル性を有するものであってもよいし、リジッド性を有するものであってもよい。

ゲート電極１１０１は、ＴＦＴ１１１に印加されるゲート電圧によって半導体層１１０４中のキャリア密度を制御する役割を果たすものである。このゲート電極１１０１は、例えばＭｏ，Ａｌおよびアルミニウム合金等のうちの１種よりなる単層膜、または２種以上よりなる積層膜により構成されている。アルミニウム合金としては、例えばアルミニウム−ネオジム合金が挙げられる。

ゲート絶縁膜１１０２，１１０３は、例えばシリコン酸化膜（ＳｉＯ_X）、シリコン窒化物（ＳｉＮ_X）、シリコン窒化酸化物（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₂）等のうちの１種よりなる単層膜、またはこれらのうちの２種以上よりなる積層膜である。ここでは、ゲート絶縁膜１１０２が例えばＳｉＯ₂、ゲート絶縁膜１１０３が例えばＳｉ₃Ｎ₄によりそれぞれ構成されている。ゲート絶縁膜１１０２，１１０３の総膜厚は、例えば２００ｎｍ〜３００ｎｍである。

半導体層１１０４は、例えばインジウム（Ｉｎ），ガリウム（Ｇａ），亜鉛（Ｚｎ），スズ（Ｓｎ），Ａｌ，Ｔｉのうちの少なくとも１種の酸化物を主成分として含む酸化物半導体よりなる。この半導体層１１０４は、ゲート電圧の印加により一対のソース・ドレイン電極１１０６間にチャネルを形成するものである。この半導体層１１０４の膜厚は後述の負の電荷の影響がチャネルへ及ぶように、薄膜トランジスタのオン電流の悪化を引き起こさない程度であることが望ましく、具体的には５ｎｍ〜１００ｎｍであることが望ましい。

チャネル保護膜１１０５は、半導体層１１０４上に形成され、ソース・ドレイン電極１１０６形成時におけるチャネルの損傷を防止するものである。このチャネル保護膜１１０５は、例えばシリコン（Ｓｉ）と酸素（Ｏ₂）とフッ素（Ｆ）とを含有する絶縁膜により構成され、厚みは例えば１０〜３００ｎｍである。

ソース・ドレイン電極１１０６は、ソースまたはドレインとして機能するものであり、例えばモリブデン（Ｍｏ），アルミニウム（Ａｌ），銅（Ｃｕ），チタン，ＩＴＯおよび酸化チタン（ＴｉＯ）等のうち１種よりなる単層膜またはこれらのうちの２種以上よりなる積層膜である。例えば、Ｍｏ，Ａｌ，Ｍｏの順に、５０ｎｍ，５００ｎｍ，５０ｎｍの膜厚で積層した３層膜や、ＩＴＯおよび酸化チタン等の酸素を含む金属化合物のような酸素との結びつきの弱い金属または金属化合物を用いることが望ましい。これにより、酸化物半導体の電気特性を安定して保持することができる。

平坦化層１１２は、例えばポリイミド、ノボラック等の有機材料により構成されている。この平坦化層１１２の厚みは、例えば１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、好ましくは５０ｎｍ以下である。平坦化層１１２上には、有機ＥＬ素子１０のアノード電極１２が形成されている。

尚、平坦化膜１１２にはコンタクトホールＨが設けられており、このコンタクトホールＨを通じてソース・ドレイン電極１１０６と、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各第１電極１１とが電気的に接続されている。第１電極１１は、絶縁膜１２によって画素毎に電気的に分離されており、第１電極１１上には、後述する各色発光層を含む有機層１４および第２電極１６が積層されている。有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの詳細な構成については後述する。

保護層１８は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂへの水分の浸入を防止するためのものであり、透過性および透水性の低い材料により構成され、厚みは例えば２〜３μｍである。保護層１８は、絶縁性材料および導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン（α−Ｓｉ），アモルファス炭化シリコン（α−ＳｉＣ），アモルファス窒化シリコン（α−Ｓｉ_1-xＮ_x），アモルファスカーボン（α−Ｃ）などが挙げられる。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。

封止基板２０は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを、接着層１９と共に封止するものである。封止基板２０は、有機ＥＬ素子１０で発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。この封止基板２０には、例えば、カラーフィルタおよびブラックマトリクス（いずれも図示せず）が設けられていてもよく、この場合、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した各色光を取り出すと共に、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ内で反射された外光を吸収して、コントラストを改善することができる。

（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）
有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂはそれぞれ、例えば上面発光型（トップエミッション型）の素子構造を有している。但し、このような構成に限定されることはなく、例えば基板１１０側から光を取り出す透過型、即ち下面発光型（ボトムエミッション型）であってもよい。

有機ＥＬ素子１０Ｒは、絶縁膜１２の開口に形成され、例えば、第１電極１１上に、正孔注入層（ＨＩＬ）１３Ｂ、正孔輸送層（ＨＴＬ）１３Ａ、赤色発光層１４Ｒ、青色発光層１４Ｂ、電子輸送層（ＥＴＬ）１５Ａ、電子注入層（ＥＩＬ）１５Ｂおよび第２電極１６がこの順に積層されたものである。有機ＥＬ素子１０Ｇについても同様で、例えば有機ＥＬ素子１０Ｒの積層構造のうちの赤色発光層１４Ｒを緑色発光層１４Ｇと置き換えた積層構造を有している。有機ＥＬ素子１０Ｂは、例えば、第１電極１１上に、正孔注入層１３Ｂ、正孔輸送層１３Ａ、青色発光層１４Ｂ、電子輸送層１５Ａ、電子注入層１５Ｂおよび第２電極１６がこの順に積層されたものである。このように、本実施の形態では、赤色発光層１４Ｒおよび緑色発光層１４Ｇが画素毎に分離して形成されており、青色発光層１４Ｂは、各画素に共通して表示領域１１０Ａの全面にわたって形成されている。その他の、正孔注入層１３Ｂ、正孔輸送層１３Ａ、電子輸送層１５Ａおよび電子注入層１５Ｂについては各画素に共通して設けられている。詳細は後述するが、これらの有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、更に、発光層印刷時に形成される電荷輸送性薄膜層（正孔輸送性層１７ａ１等）を含んでいる。

第１電極１１は、例えばアノードとして機能し、表示装置１が上面発光型である場合には、例えばアルミニウム，チタン，クロム（Ｃｒ）等の高反射材料から構成されている。尚、下面発光型である場合には、例えばＩＴＯ，ＩＺＯ，ＩＧＺＯ等の透明導電膜が用いられる。

絶縁膜１２は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各素子間を電気的に絶縁すると共に、各画素の発光領域を区画するものである。絶縁膜１２には、複数の開口部が設けられており、各開口部に有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれかが形成される。この絶縁膜１２は、例えばポリイミド、ノボラック樹脂あるいはアクリル樹脂などの有機材料により構成されている。あるいは、この絶縁膜１２は、有機材料と無機材料とが積層されて構成されていてもよい。無機材料としては、例えばＳｉＯ₂，ＳｉＯ，ＳｉＣ，ＳｉＮが挙げられる。

正孔注入層１３Ｂは、各色発光層への正孔注入効率を高めると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層１３Ｂの厚みは例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは８ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔注入層１３Ｂの構成材料としては、電極などの隣接する層の材料との関係で適宜選択されればよいが、例えばポリアニリン，ポリチオフェン，ポリピロール，ポリフェニレンビニレン，ポリチエニレンビニレン，ポリキノリン，ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子，金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等），カーボンなどが挙げられる。導電性高分子の具体例としては、オリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。

正孔輸送層１３Ａは、各色発光層への正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１３Ａの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは８ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔輸送層１３Ａを構成する材料としては、有機溶媒に可溶な高分子材料、例えば、ポリビニルカルバゾール，ポリフルオレン，ポリアニリン，ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体，ポリチオフェンおよびその誘導体，ポリピロール，Ａｌｑ３、または４，４’−ビス（Ｎ−１−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル（α−ＮＰＤ）により構成されている。

赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇ，青色発光層１４Ｂはそれぞれ、電界がかかることにより電子と正孔との再結合を生じ発光するものである。これらの各色発光層の厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは２０ｎｍ〜１５０ｎｍである。

赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇ，青色発光層１４Ｂを構成する材料としては、それぞれの発光色に応じたものであればよく、高分子材料（分子量が例えば５０００以上）であってもよいし、低分子材料（分子量が例えば５０００以下）であってもよい。低分子材料の場合には、例えばホスト材料とドーパント材料の２種類以上の混合材料が用いられる。高分子材料の場合には、例えば有機溶媒に溶かしたインクの状態で使用される。また、これらの低分子材料および高分子材料の混合材料が用いられてもよい。

高分子材料としては、例えばポリフルオレン系高分子誘導体，（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体，ポリフェニレン誘導体，ポリビニルカルバゾール誘導体，ポリチオフェン誘導体，ペリレン系色素，クマリン系色素，ローダミン系色素，あるいはこれらの材料にドーパント材料を混合したものが挙げられる。ドーパント材料としては、例えばルブレン，ペリレン，９，１０−ジフェニルアントラセン，テトラフェニルブタジエン，ナイルレッド，クマリン６等が挙げられる。低分子材料としては、例えばベンジン，スチリルアミン，トリフェニルアミン，ポルフィリン，トリフェニレン，アザトリフェニレン，テトラシアノキノジメタン，トリアゾール，イミダゾール，オキサジアゾール，ポリアリールアルカン，フェニレンジアミン，アリールアミン，オキザゾール，アントラセン，フルオレノン，ヒドラゾン，スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物，ビニルカルバゾール系化合物，チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーが挙げられる。また、各色発光層は、このような材料の他にも、ゲスト材料として、発光効率が高い材料、例えば、低分子蛍光材料、燐光色素あるいは金属錯体等を含んでいてもよい。

電子輸送層１５Ａは、各色発光層への電子輸送効率を高めるためのものである。電子輸送層１５Ａの構成材料としては、優れた電子輸送性能を有する有機材料を用いることが好ましい。具体的には、例えばアリールピリジン誘導体およびベンゾイミダゾール誘導体などが挙げられる。電子輸送層１５Ａおよび電子注入層１５Ｂの総膜厚は素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１８０ｎｍである。

電子注入層１５Ｂは、各色発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子注入層１５Ｂの構成材料としては、例えばアルカリ金属，アルカリ土類金属，希土類金属およびその酸化物，複合酸化物，フッ化物，炭酸塩等が挙げられる。

第２電極１６は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、上面発光型の場合には、光透過性を有する導電膜材料、例えばＩＴＯ，ＩＺＯ，ＺｎＯ，ＩｎＳｎＺｎＯ，ＭｇＡｇ，Ａｇ等の単層膜あるいはこれらのうちの２種以上を含む積層膜からなる。下面発光型の場合には、例えばアルミニウム，ＡｌＳｉＣ，チタン，クロム等の高反射率材料が用いられる。

（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの詳細構成）
本実施の形態では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが、微視的には、上述した各種機能層の他に、以下に説明するような薄膜層（正孔輸送性薄膜層１７ａ１，赤色発光性薄膜層１７ｒ）を有している。

図５は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの積層構造を模式的に表したものである。上述のように、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのうち、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇでは、赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇが画素毎に分離して形成されている。一方、有機ＥＬ素子１０Ｒでは、青色発光層１４Ｂが有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇの形成領域まで延在して形成されている。換言すると、３色の発光層のうち、２色の発光層（赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇ）が、駆動基板１１上に所定のパターン（例えばライン状、マトリクス状のパターン）で形成されている。これらの赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇは、詳細は後述するが、ブランケットを用いた反転印刷により形成することができる。

これらの赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇ，青色発光層１４Ｂのうち、赤色発光層１４Ｒの第１電極１１側（具体的には、赤色発光層１４Ｒと正孔輸送層１３Ａとの間）には、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成されている。この正孔輸送性薄膜層１７ａ１は、有機ＥＬ素子１０Ｂにおいて、青色発光層１４Ｂの第１電極１１側（具体的には、後述の赤色発光性薄膜層１７ｒと正孔輸送層１３Ａとの間）にも形成されている。換言すると、正孔輸送性薄膜層１７ａ１は、有機ＥＬ素子１０Ｇの形成領域を除く領域（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｂの形成領域）において、各発光層下に設けられている。

正孔輸送性薄膜層１７ａ１は、正孔輸送性材料を含んで構成されており、厚みは、例えば０．１ｎｍ〜２０ｎｍである。この正孔輸送性薄膜層１７ａ１の構成材料としては、上記正孔輸送層１３Ａにおいて挙げた材料と同様のものが用いられる。正孔輸送性薄膜層１７ａ１と、正孔輸送層１３Ａとが、互いに同一の材料により構成されていてもよいし、異なる材料から構成されていてもよい。この正孔輸送性薄膜層１７ａ１は、緑色発光層１４Ｇの印刷工程において、ブランケットを正孔輸送性材料を含む溶液により膨潤させることに起因して形成される層である。

一方、緑色発光層１４Ｇの第２電極１６側（具体的には、緑色発光層１４Ｇと青色発光層１４Ｂとの間）には、赤色発光性薄膜層１７ｒが形成されている。この赤色発光性薄膜層１７ｒは、有機ＥＬ素子１０Ｂにおいて、青色発光層１４Ｂの第１電極１１側（具体的には、正孔輸送性薄膜層１７ａ１と青色発光層１４Ｂとの間）にも形成されている。換言すると、赤色発光性薄膜層１７ｒは、有機ＥＬ素子１０Ｒの形成領域を除く領域（有機ＥＬ素子１０Ｇ，１０Ｂの形成領域）に設けられ、有機ＥＬ素子１０Ｇでは、緑色発光層１４Ｇ上、有機ＥＬ素子１０Ｂにおいては、青色発光層１４Ｂ下に設けられている。

赤色発光性薄膜層１７ｒは、赤色発光層１４Ｒに含まれる赤色発光材料を含んで構成されており、厚みは、例えば３５ｎｍ〜７０ｎｍである。この赤色発光性薄膜層１７ｒは、赤色発光層１４Ｒの印刷工程において、ブランケットを赤色発光材料を含む溶液により膨潤させることに起因して形成される層である。

このように、本実施の形態では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ毎に、発光層の下面側（第１電極１１側）と、上面側（第２電極１６側）とにおいて、膜構成が異なっている。赤色発光層１４Ｒの第１電極１１側には正孔輸送性薄膜層１７ａ１、緑色発光層１４Ｒの第２電極１６側には、赤色発光性薄膜層１７ｒがそれぞれ形成されている。青画素では、青色発光層１４Ｂの第１電極１１側に、第１電極１１側から順に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１と赤色発光性薄膜層１７ｒとが積層されている。

［製造方法］
上記のような表示装置１は、例えば次のようにして製造することができる。

まず、図６（Ａ）に示したように、駆動基板１０上に第１電極１１を形成する。この際、例えば真空蒸着法あるいはスパッタリング法により、上述した電極材料を基板全面にわたって成膜した後、例えばフォトリソグラフィ法を用いたエッチングによりパターニングする。また、第１電極１１は、駆動基板１０に形成された平坦化層１１２のコンタクトホールＨを通じて、ＴＦＴ１１１（詳細にはソース・ドレイン電極１１０６）に接続させる。

続いて、図６（Ｂ）に示したように、絶縁膜１２を形成する。具体的には、駆動基板１０の全面に対して、上述した樹脂材料を、例えばスピンコート法などにより塗布した後、例えばフォトリソグラフィ法を用いて、第１電極１１に対応する部分に開口部を形成する。開口部形成後、必要に応じて絶縁膜１２をリフローしてもよい。

次いで、図７に示したように、第１電極１１および絶縁膜１２を覆うように、例えば真空蒸着法により、正孔注入層１３Ｂおよび正孔輸送層１３Ａを順に成膜する。但し、これらの正孔注入層１３Ｂおよび正孔輸送層１３Ａの成膜手法としては、真空蒸着法の他にも、スピンコート法、スリットコート法、インクジェット法などの直接塗布法を用いてもよいし、あるいはグラビアオフセット法、凸版印刷法、凹版反転印刷法などを用いてもよい。

（Ｇ，Ｒ発光層の形成工程）
次に、図８に示したように、赤画素領域１０Ｒ１に赤色発光層１４Ｒ、緑画素領域１０Ｇ１に緑色発光層１４Ｇをそれぞれ形成する。この際、以下に説明するように、ブランケットを用いた反転印刷法により、緑色発光層１４Ｇおよび赤色発光層１４Ｒをこの順にそれぞれパターン形成する。概要は以下の通りである。
１．緑色発光層１４Ｇの形成
（１）正孔輸送性材料を含む溶液を用いたブランケットの膨潤
（２）緑色発光材料を含む溶液をブランケット上に塗布
（３）凹版を用いてブランケット上に印刷パターンを形成
（４）ブランケット上の印刷パターンを駆動基板１０上へ転写
２．赤色発光層１４Ｒの形成
（１）赤色発光材料を含む溶液をブランケットに塗布／膨潤
（２）凹版を用いてブランケット上に印刷パターンを形成
（３）ブランケット上の印刷パターンを駆動基板１０上へ転写

１．緑色発光層１４Ｇの形成
（１）膨潤工程
まず、後工程において緑色発光層１４Ｇを転写する際に使用するブランケット６０を用意し、このブランケット６０の少なくとも表面を膨潤させる。具体的には、図９（Ａ），（Ｂ）に示したように、正孔輸送性材料を含む溶液Ｄ１ａを、例えばスピンコート法により、ブランケット６０上の全面にわたって形成する。これにより、図９（Ｃ）に示したように、ブランケット６０の表面側の層（表層Ｓ１）に溶液Ｄ１ａが浸透し、表層Ｓ１が溶液Ｄ１ａに含まれる溶媒によって膨潤した状態となる。これにより、ブランケット６０の表面を適度な湿度に保つことができ、後工程の転写時において良好な膜形成が可能となる。尚、ブランケット６０の膨潤量としては、例えば厚みが０．０５ｍｍ〜１ｍｍのシリコンブランケットに対して、１０％以上の体積膨潤率を生じさせる程度であることが望ましい。また、この後、必要に応じて、ブランケット６０上の余分な溶液Ｄ１ａの層（Ｓ１’）を、例えばスピンコート法等により除去する。あるいは、層Ｓ１’の乾燥が進んでいる場合には、粘着性シート等を用いて除去してもよい。

（２）発光材料塗布工程
続いて、ブランケット６０上の全面にわたって、緑色発光材料を含む溶液Ｄ２ｇを塗布形成する。具体的には、図１０（Ａ），（Ｂ）に示したように、溶液Ｄ２ｇを、例えばスピンコート法あるいはスリットコート法などの直接塗布法により、ブランケット６０上の全面にわたって形成する。これにより、図１０（Ｃ）に示したように、ブランケット６０では、正孔輸送性材料を含む溶液Ｄ１ａにより膨潤した表層Ｓ１上に、緑色発光材料を含む溶液Ｄ２ｇの層が形成される。

（３）印刷パターン形成工程
次いで、ブランケット６０上に緑色発光層１４Ｇの印刷パターン層（印刷パターン層１４ｇ１）を形成する。具体的には、まず、図１１（Ａ）に示したように、緑画素領域１０Ｇ１に対応して凹部を有する凹版６１と、ブランケット６０の溶液Ｄ２ｇの層とを向かい合わせ、図１１（Ｂ）に示したように、凹版６１にブランケット６０上の溶液Ｄ２ｇの層を押し付ける。この後、図１１（Ｃ）に示したように、ブランケット６０を凹版６１から剥離することにより、溶液Ｄ２ｇの層のうちの不要部分（Ｄ２ｇ'）は、凹版６１の凸部側に転写されて、ブランケット６０上から除去される。これにより、ブランケット６０上には、緑色画素領域に対応する緑色発光層１４Ｇの印刷パターン１４ｇ１が形成される。尚、図中ではライン状パターンで示したが、ＴＦＴ画素配列と矛盾なければパターンの形状はライン状に限定されるものでは無い。

（４）転写工程
続いて、ブランケット６０上の緑色発光層１４Ｇの印刷パターン層１４ｇ１を駆動基板１０側へ転写する。具体的には、まず、図１２（Ａ）に示したように、正孔注入層１３Ｂおよび正孔輸送層１３Ａを形成済みの駆動基板１０（以下、便宜上、駆動基板１０ａとする）と、ブランケット６０とを向かい合わせて配置する。ここで、詳細には、図１２（Ｂ）に示したように、転写前のブランケット６０の表面には、印刷パターン層１４ｇ１と共に、この印刷パターン層１４ｇ１を除く領域に、正孔輸送性材料を含む薄膜層（正孔輸送性薄膜層１７ａ１）が形成されている。この正孔輸送性薄膜層１７ａ１は、ブランケット６０の表層Ｓ１に含まれる溶液Ｄ１ａから正孔輸送性材料が析出することにより生じたものである。

この後、駆動基板１０ａと印刷パターン１４ｇ１とをアライメントし、図１２（Ｃ）に示したように、駆動基板１０ａ上に、ブランケット６０の印刷パターン層１４ｇ１の形成面を押し付ける。次いで、ブランケット６０を駆動基板１０ａから剥離することにより、駆動基板１０ａ上に緑色発光層１４Ｇがパターン形成される（図１２（Ｄ））。また、この際、図１２（Ｄ）には図示はしないが、ブランケット６０上に析出された正孔輸送性薄膜層１７ａ１も同時に駆動基板１０ａへ転写される。

２．赤色発光層１４Ｒの形成
（１）発光材料塗布／膨潤工程
まず、後工程において赤色発光層１４Ｒを転写する際に使用するブランケット６２を用意し、このブランケット６２の少なくとも表面を膨潤させる。この際、具体的には、図１３（Ａ），（Ｂ）に示したように、赤色発光材料を含む溶液Ｄ２ｒをブランケット６２の表面に、例えばスピンコート法等により塗布する。これにより、図１３（Ｃ）に示したように、ブランケット６２の表面側の層（表層Ｓ１ｒ）に溶液Ｄ２ｒが浸透し、表層Ｓ１ｒが溶液Ｄ２ｒに含まれる溶媒によって膨潤した状態となる。これにより、上記緑色発光層１４の形成時と同様、後工程の転写時において良好な膜形成が可能となる。この後、あるいはこの膨潤工程と同時に、赤色発光材料を含む溶液Ｄ２ｒの層をブランケット６２上に形成する。

（２）印刷パターン形成工程
次いで、特に図示はしないが、上記緑色発光層１４Ｇの場合と同様にして、所定の凹版を用いて、ブランケット６２上に赤色発光層１４Ｒの印刷パターン層（印刷パターン層１４ｒ１）を形成する。

（３）転写工程
続いて、ブランケット６２上の赤色発光層１４ｒの印刷パターン層１４ｒ１を駆動基板１０ａ側へ転写する。具体的には、まず、図１４（Ａ）に示したように、駆動基板１０ａ（詳細には、緑色発光層１４Ｇを形成済みの駆動基板１０ａ）と、ブランケット６２とを向かい合わせて配置する。ここで、詳細には、図１４（Ｂ）に示したように、転写前のブランケット６２の表面には、印刷パターン層１４ｒ１と共に、この印刷パターン層１４ｒ１を除く領域に、赤色発光材料を含む薄膜層（赤色発光性薄膜層１７ｒ）が形成されている。この赤色発光性薄膜層１７ｒは、ブランケット６２の表層Ｓ１ｒに含まれる溶液Ｄ２ｒから赤色発光性材料が析出することにより生じたものである。

この後、駆動基板１０ａと印刷パターン１４ｒ１とをアライメントし、図１４（Ｃ）に示したように、駆動基板１０ａ上に、ブランケット６２の印刷パターン層１４ｒ１の形成面を押し付ける。次いで、ブランケット６２を駆動基板１０ａから剥離することにより、駆動基板１０ａ上に赤色発光層１４Ｒがパターン形成される（図１４（Ｄ））。また、この際、図１４（Ｄ）には、図示はしないが、ブランケット６２上に析出された赤色発光性薄膜層１７ｒも同時に駆動基板１０ａへ転写される。

上記のように、本実施の形態では、３色の発光層のうち、緑色発光層１４Ｇおよび赤色発光層１４Ｒを、ブランケットを用いた反転印刷により、画素毎に分離してパターン形成する。ここで、緑色発光層１４Ｇを形成する際には、ブランケットを、正孔輸送性材料を含む溶液によって膨潤させた状態で使用する。これにより、図１５（Ａ）に示したように、緑画素領域１０Ｇ１に、緑色発光層１４Ｇが形成される一方、それ以外の赤画素領域１０Ｒ１および青画素領域１０Ｂ１にはそれぞれ、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成される。この後、赤色発光層１４Ｒを形成する際には、赤色発光材料を含む溶液によって膨潤させたブランケットを使用する。これにより、赤色発光層１４Ｒの形成後には、図１５（Ｂ）に示したように、赤画素領域１０Ｒ１に、赤色発光層１４Ｒが形成されると共に、それ以外の緑画素領域１０Ｇ１および青画素領域１０Ｂ１にはそれぞれ、赤色発光性薄膜層１７ｒが形成される。

次に、図１６に示したように、青色発光層１４Ｂを、例えば真空蒸着法により、基板全面にわたって形成する。

続いて、図１７に示したように、電子輸送層１５Ａおよび電子注入層１５Ｂを、例えば真空蒸着法により、青色発光層１４Ｂ上に形成する。この後、図１８に示したように、第２電極１６を、例えば真空蒸着法、ＣＶＤ法またはスパッタリング法により、電子注入層１５Ｂ上に形成する。これにより、駆動基板１０上に有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが形成される。

最後に、駆動基板１０上の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを覆うように保護層１８を形成した後、接着層１９を介して封止基板２０を貼り合わせることにより、図１に示した表示装置１を完成する。

［作用、効果］
本実施の形態の表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。これにより、有機ＥＬ素子１０に駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、例えば上面発光型の場合には第２電極１６および封止基板２０を透過して、表示装置１の上方へ取り出される。

このような表示装置１では、製造プロセスにおいて、上記のように、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の発光層のうち、２色の発光層（緑色発光層１４Ｇおよび赤色発光層１４Ｒ）を、ブランケットを用いた反転印刷により、画素毎に分離形成する。これらのうち、緑色発光層１４Ｇを形成する際には、使用するブランケットを、正孔輸送性材料を含む溶液によって膨潤させた状態で使用する。

（比較例）
図１９に、本実施の形態の比較例に係る表示装置の断面構成を模式的に示す。この表示装置では、本実施の形態と同様、有機ＥＬ素子１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ毎に第１電極１０１が設けられ、正孔注入層１０２Ｂ、正孔輸送層１０２Ａ、電子輸送層１０５Ａ、電子注入層１０５Ｂおよび第２電極１６は各画素に共通して形成されている。また、赤色発光層１０４Ｒ，緑色発光層１０４Ｇは、画素毎に分離形成され、青色発光層１０４Ｂは、各画素に共通の層として形成されている。赤色発光層１０４Ｒ，緑色発光層１０４Ｇは、ブランケットを用いた反転印刷により形成される。

但し、比較例の表示装置では、赤色発光層１０４Ｒ，緑色発光層１０４Ｇを形成する際、いずれも、それぞれの発光材料を含む溶液によって膨潤させたブランケットを使用する。このため、ブランケット表面に、発光材料が析出し、所望の領域以外の領域にも、発光材料を含む薄膜層が形成されてしまう。具体的には、赤色発光層１０４Ｒと正孔輸送層１０２Ａとの間には、緑色発光材料を含む緑色発光性薄膜層１０３ｇが形成され、緑色発光層１０４Ｇと青色発光層１０４Ｂとの間には、赤色発光材料を含む赤色発光性薄膜層１０３ｒが形成される。また、青画素では、青色発光層１０４Ｂと正孔輸送層１０２Ａとの間に、緑色発光性薄膜層１０３ｇおよび赤色発光性薄膜層１０３ｒが積層されることとなる。このため、有機ＥＬ素子１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂでは、発光スペクトルが混色して所望の発光効率および色度等が得られず、素子特性が低下してしまう。

これに対し、本実施の形態では、緑色発光層１４Ｇを形成する際、ブランケットを、緑色発光材料ではなく正孔輸送性材料を含む溶液によって膨潤させた状態で使用する。このため、図５に示したように、赤色発光層１４Ｒと正孔輸送層１３Ａとの間には、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成される。また、青画素においても、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間には、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成される。この結果、赤色発光層１４Ｒおよび青色発光層１４Ｂに、緑色発光材料が付着することが抑制され（赤画素および青画素における緑色光の混色が抑制され）、発光スペクトルの混色が抑制される。

以上のように、本実施の形態の表示装置１では、赤色発光層１４Ｒおよび青色発光層１４Ｂの第１電極１１側に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１を形成するようにしたので、高精細なマスクを用いた真空蒸着プロセスや、レーザを用いた熱転写プロセスを経ることなく、各色の発光材料の混色を抑制しつつ、発光層を形成することができる。よって、簡易かつ安価な製造プロセスにより、素子特性の低下を抑制することが可能となる。

＜第２の実施の形態＞
図２０は、本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの積層構造を模式的に表したものである。本実施の形態の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂも、上記第１の実施の形態と同様、駆動基板１０上に形成されると共に、保護層１８、接着層１９および封止基板２０によって封止されることにより、表示装置を構成するものである。以下では、上記第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。

本実施の形態においても、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇは、例えば、第１電極１１上に、正孔注入層１３Ｂ、正孔輸送層１３Ａ、赤色発光層１４Ｒまたは緑色発光層１４Ｇ、青色発光層１４Ｂ、電子輸送層１５Ａ、電子注入層１５Ｂおよび第２電極１６がこの順に積層されたものである。有機ＥＬ素子１０Ｂは、例えば、第１電極１１上に、正孔注入層１３Ｂ、正孔輸送層１３Ａ、青色発光層１４Ｂ、電子輸送層１５Ａ、電子注入層１５Ｂおよび第２電極１６がこの順に積層されたものである。また、赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇについては、ブランケットを用いた反転印刷により形成され、青色発光層１４Ｂは例えば真空蒸着法などにより形成されている。有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１４Ｒと正孔輸送層１３Ａとの間に正孔輸送性薄膜層１７ａ１が介在し、有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に正孔輸送性薄膜層１７ａ１が介在している。

但し、本実施の形態では、有機ＥＬ素子１０Ｇにおいて、緑色発光層１４Ｇと青色発光層１４Ｂとの間に電子輸送性材料を含む電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成されている。また、有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に、正孔輸送層１３Ａ側から順に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１と電子輸送性薄膜層１７ａ２とが積層されている。

この場合、上記第１の実施の形態において説明した赤色発光層１４Ｒの形成工程において、赤色発光材料に代えて電子輸送性材料を溶解させた溶液を用いて、ブランケット６２を膨潤させる。電子輸送性材料としては、上述した電子輸送層１５Ａと同等の材料を用いることができる。この後、赤色発光材料を含む溶液を、ブランケット６２上へ塗布し、印刷パターン層１４ｒ１を形成する。これにより、図２１に示したように、転写前のブランケット６２の表面には、印刷パターン層１４ｒ１と共に、この印刷パターン層１４ｒ１を除く領域に、電子輸送性材料が析出する（電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成される）。このようなブランケット６２を用いた転写を行うことにより、赤画素領域では、赤色発光層１４Ｒが形成される一方、緑画素領域では、緑色発光層１４Ｇ上に電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成される。また、青画素領域では、正孔輸送性薄膜層１７ａ１上に電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成される。

このように、本実施の形態では、緑色発光層１４Ｇを形成する際には、ブランケットを正孔輸送性材料を含む溶液によって膨潤させた状態、赤色発光層１４Ｒを形成する際には、ブランケットを電子輸送性材料を含む溶液により膨潤させた状態でそれぞれ使用する。このため、赤色発光層１４Ｒと正孔輸送層１３Ａとの間には、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成され、緑色発光層１４と青色発光層１４Ｂとの間には、電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成される。また、青画素においては、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１および電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成される。このため、上記第１の実施の形態と、ほぼ同等の効果を得ることができると共に、緑色発光層１４Ｇ上に赤色発光材料が付着することを抑制できるため、より効果的に発光スペクトルの混色を抑制できる。

尚、本実施の形態では、上記第１の実施の形態と異なり、青画素において、青色発光層１４Ｂと第１電極１１との間に、電子輸送性薄膜層１７ａ２が介在することとなる。これは、青画素における発光効率の低下につながることもあるため、赤画素および緑画素との素子特性とのバランスを考慮して、適用を判断すればよい。

次に、上記第１，２の実施の形態の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの変形例（１，２）について説明する。以下では、上記第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。

＜変形例１＞
図２２は、変形例１に係る有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの積層構造を模式的に表したものである。本変形例においても、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇは、例えば、第１電極１１上に、正孔注入層１３Ｂ、正孔輸送層１３Ａ、赤色発光層１４Ｒまたは緑色発光層１４Ｇ、青色発光層１４Ｂ、電子輸送層１５Ａ、電子注入層１５Ｂおよび第２電極１６がこの順に積層されたものである。有機ＥＬ素子１０Ｂは、例えば、第１電極１１上に、正孔注入層１３Ｂ、正孔輸送層１３Ａ、青色発光層１４Ｂ、電子輸送層１５Ａ、電子注入層１５Ｂおよび第２電極１６がこの順に積層されたものである。また、赤色発光層１４Ｒ，緑色発光層１４Ｇについては、ブランケットを用いた反転印刷により形成され、青色発光層１４Ｂは例えば真空蒸着法などにより形成されている。

但し、本変形例では、上記第１の実施の形態と異なり、有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１４Ｒと正孔輸送層１３Ａとの間に緑色発光性薄膜層１７ｇが介在し、有機ＥＬ素子１０Ｇでは、緑色発光層１４Ｇと青色発光層１４Ｂとの間に、電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成されている。有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に、正孔輸送層１３Ａ側から順に、緑色発光性薄膜層１７ｇおよび電子輸送性薄膜層１７ａ２が積層されている。

この場合、緑色発光層１４Ｇの形成工程では、緑色発光材料を含む溶液を用いて、ブランケットを膨潤させ、赤色発光層１４Ｒの形成工程において、上記第２の実施の形態と同様にして、電子輸送性材料を含む溶液を用いてブランケットを膨潤させればよい。これにより、緑色発光層１４Ｇの形成工程において、赤画素領域および青画素領域には、緑色発光性薄膜層１７ｇが形成される。また、赤色発光層１４Ｒの形成工程では、緑画素領域および青画素領域に、電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成される。

本変形例のように、緑色発光層１４Ｇを形成工程ではなく、赤色発光層１４Ｒの形成工程においてのみ、ブランケットを電子輸送性材料を含む溶液によって膨潤させてもよい。これにより、緑色発光層１４Ｇおよび青色発光層１４Ｂへの赤色発光材料の付着を抑制して、上記第１の実施の形態と、ほぼ同等の効果を得ることができる。

＜変形例２＞
図２３〜図２５は、変形例２に係る有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの積層構造を模式的に表したものである。上記第１，第２の実施の形態および変形例１ではいずれも、緑色発光層１４Ｇを形成した後、赤色発光層１４Ｒを形成する場合について説明したが、ブランケットを用いて印刷形成する発光層の形成順序はこれに限定されない。本変形例のように赤色発光層１４Ｒの形成後、緑色発光層１４Ｇを形成してもよい。また、この場合も、上述したように、１色目および２色目の発光層のうちの一方または両方の発光層を形成する際に、正孔輸送性材料または電子輸送性材料を含む溶液によりブランケットを膨潤させればよい。

例えば、上記第１の実施の形態と同様、１色目の発光層（赤色発光層１４Ｒ）の形成工程において、正孔輸送性材料を含む溶液により膨潤させたブランケットを用い、２色目の発光層（緑色発光層１４Ｇ）の形成工程では、緑色発光材料を含む溶液によりブランケットを膨潤させる。これにより、図２３に示したように、有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１４Ｒと青色発光層１４Ｂとの間に緑色発光性薄膜層１７ｇが形成され、有機ＥＬ素子１０Ｇでは、正孔輸送層１３Ａと緑色発光層１４Ｇとの間に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成される。有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に、正孔輸送層１３Ａ側から順に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１および緑色発光性薄膜層１７ｇが積層される。

あるいは、上記第２の実施の形態と同様、１色目の発光層（赤色発光層１４Ｒ）の形成工程では、正孔輸送性材料を含む溶液により膨潤させたブランケットを用い、２色目の発光層（緑色発光層１４Ｇ）の形成工程では、電子輸送性材料を含む溶液により膨潤させたブランケットを用いてもよい。これにより、図２４に示したように、有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１４Ｒと青色発光層１４Ｂとの間に電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成され、有機ＥＬ素子１０Ｇでは、正孔輸送層１３Ａと緑色発光層１４Ｇとの間に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成される。有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に、正孔輸送層１３Ａ側から順に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１および電子輸送性薄膜層１７ａ２が積層される。

あるいは、上記変形例１と同様、１色目の発光層（赤色発光層１４Ｒ）の形成工程では、赤色発光材料を含む溶液により膨潤させたブランケットを用い、２色目の発光層（緑色発光層１４Ｇ）の形成工程では、電子輸送性材料を含む溶液により膨潤させたブランケットを用いてもよい。これにより、図２５に示したように、有機ＥＬ素子１０Ｒでは、赤色発光層１４Ｒと青色発光層１４Ｂとの間に電子輸送性薄膜層１７ａ２が形成され、有機ＥＬ素子１０Ｇでは、正孔輸送層１３Ａと緑色発光層１４Ｇとの間に、赤色発光性薄膜層１７ｒが形成される。有機ＥＬ素子１０Ｂでは、青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に、正孔輸送層１３Ａ側から順に、赤色発光性薄膜層１７ｒおよび電子輸送性薄膜層１７ａ２が積層される。

このように、赤色発光層１１Ｒと緑色発光層１１Ｇとの形成順序を入れ替えた場合であっても、混色が抑制され、上記実施の形態等とほぼ同等の効果を得ることができる。但し、緑画素では、緑色発光層１４Ｇの正孔輸送層１３Ａ側に、赤色発光性の層が介在すると、エネルギー的に赤色発光による影響が大きくなる（混色が生じ易くなる）。従って、このような観点においては、本変形例のような順序で各色発光層を形成し、かつ赤色発光層１４ｒの形成工程では、正孔輸送性材料を用いてブランケットを膨潤させることが望ましい。

＜変形例３＞
図２６は、変形例３に係る有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの積層構造を模式的に表したものである。上記第１の実施の形態等では、ブランケットを用いた反転印刷によりパターン形成する発光層として、赤色発光層および緑色発光層を例に挙げたが、他色の発光層を用いてもよい。例えば、本変形例のように、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇの２画素にわたって、黄色発光層１４Ｙを形成し、この黄色発光層１４Ｙを覆って青色発光層１４Ｂが形成された構成であってもよい。この場合、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇでは、黄色と青色との混色により白色光が生成されるため、封止基板２０側にはカラーフィルタ層２１が設けられ、このカラーフィルタ層２１を用いて赤色光および緑色光をそれぞれ取り出すようになっている。カラーフィルタ層２１は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれに対向して、赤色フィルタ２１Ｒ，緑色フィルタ２１Ｇ，青色フィルタ２１Ｂを有している。赤色フィルタ２１Ｒは赤色光、緑色フィルタ２１Ｇは緑色光、青色フィルタ２１Ｂは青色光をそれぞれ選択的に透過させる。このような構成において、本変形例では、青画素における青色発光層１４Ｂと正孔輸送層１３Ａとの間に、正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成されている。

本変形例では、正孔輸送層１３Ａ上の赤画素および緑画素の２画素に対応する領域に、黄色発光層１４Ｙを、ブランケットを用いた反転印刷により形成する。この際、正孔輸送性材料を含む溶液により膨潤させたブランケットを使用することにより、赤画素および緑画素の２画素に対応する領域には黄色発光層１４Ｙが形成され、青画素領域には正孔輸送性薄膜層１７ａ１が形成される。よって、有機ＥＬ素子１０Ｂにおいて、青色発光層１４Ｂに黄色発光材料が付着することが抑制され、それらの混色が抑制される。

＜適用例＞
上記第１，２の実施の形態および変形例１〜３において説明した有機ＥＬ素子１０ｒ，１０ｇ，１０Ｂを含む表示装置は、例えば次に示したような、画像（あるいは映像）表示を行う、あらゆる分野の電子機器に搭載することができる。

図２７は、スマートフォンの外観を表している。このスマートフォンは、例えば、表示部１１０（表示装置１）および非表示部（筐体）１２０と、操作部１３０とを備えている。操作部１３０は、（Ａ）に示したように非表示部１２０の前面に設けられていてもよいし、（Ｂ）に示したように上面に設けられていてもよい。

図２８は、テレビジョン装置の外観構成を表している。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル２１０およびフィルターガラス２２０を含む映像表示画面部２００（表示装置１）を備えている。

図２９は、デジタルスチルカメラの外観構成を表しており、（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ前面および後面を示している。このデジタルスチルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部３１０と、表示部３２０（表示装置１）と、メニュースイッチ３３０と、シャッターボタン３４０とを備えている。

図３０は、ノート型のパーソナルコンピュータの外観構成を表している。このパーソナルコンピュータは、例えば、本体４１０と、文字等の入力操作用のキーボード４２０と、画像を表示する表示部４３０（表示装置１）とを備えている。

図３１は、ビデオカメラの外観構成を表している。このビデオカメラは、例えば、本体部５１０と、その本体部５１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ５２０と、撮影時のスタート／ストップスイッチ５３０と、表示部５４０（表示装置１）とを備えている。

図３２は、携帯電話機の外観構成を表している。（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ携帯電話機を開いた状態の正面および側面を示している。（Ｃ）〜（Ｇ）は、それぞれ携帯電話機を閉じた状態の正面、左側面、右側面、上面および下面を示している。この携帯電話機は、例えば、上側筐体６１０と下側筐体６２０とが連結部（ヒンジ部）６３０により連結されたものであり、ディスプレイ６４０（表示装置１）と、サブディスプレイ６５０と、ピクチャーライト６６０と、カメラ６７０とを備えている。

以上、実施の形態を挙げて説明したが、本開示内容は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、赤、緑、青の３色の発光層のうち、ブランケットを用いた反転印刷により形成する発光層として、赤および緑の２色の発光層を例に挙げたが、ブランケットを用いて印刷形成する発光層は、これらの色の組み合わせに限定されない。例えば、青色発光層についてもブランケットを用いた印刷によりパターン形成してもよい（即ち、赤、緑、青の全てを印刷により塗り分けてもよい）。また、青色発光層の形成工程において、ブランケットを電子輸送性材料を含む溶液などにより膨潤させてもよい。この場合、例えば図５に示した例において、赤色発光層１４Ｒ上に電子輸送性の薄膜層が形成されると共に、緑色発光層１４上には、赤色発光性薄膜層１７ｒと電子輸送性の薄膜層とが積層されることとなる。

また、本開示の電荷輸送性材料としては、発光層の形成順や、各画素における素子特性に応じて、適切な正孔輸送性材料または電子輸送性材料を選択すればよい。

また、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。

なお、本開示は以下のような構成であってもよい。
（１）
有機材料よりなると共に、互いに色の異なる複数の発光層と、
各発光層を挟んで設けられた第１電極および第２電極と、
前記複数の発光層のうちの１または２以上の発光層の、前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方の側に形成されると共に、電荷輸送性材料を含む薄膜層と
を備えた有機電界発光装置。
（２）
前記複数の発光層は、画素毎に分離形成される少なくとも２つの第１および第２の発光層を含み、
前記第１および第２の発光層のうちの前記第２の発光層の前記第１電極側に、前記薄膜層としての第１の薄膜層が形成されている
上記（１）に記載の有機電界発光装置。
（３）
赤画素、緑画素および青画素を含み、
前記緑画素では、前記第１の発光層としての緑色発光層、前記赤画素では、前記第２の発光層としての赤色発光層がそれぞれ設けられている
上記（２）に記載の有機電界発光装置。
（４）
前記青画素は、前記赤色発光層上および前記緑色発光層上の領域まで延在形成された青色発光層を有し、
前記第１の薄膜層は、前記青画素における前記青色発光層の前記第１電極側にも設けられている
上記（３）に記載の有機電界発光装置。
（５）
前記緑色発光層の前記第２電極側に、前記薄膜層としての第２の薄膜層が形成され、
前記青画素では、前記青色発光層の前記第１電極側に、前記第１および第２の薄膜層が積層されている
上記（４）に記載の有機電界発光装置。
（６）
赤画素、緑画素および青画素を含み、
前記赤画素では、前記第１の発光層としての赤色発光層、前記緑画素では、前記第２の発光層としての緑色発光層がそれぞれ設けられている
上記（２）に記載の有機電界発光装置。
（７）
前記複数の発光層は、画素毎に分離形成される少なくとも２つの第１および第２の発光層を含み、
前記第１および第２の発光層のうちの前記第１の発光層の前記第２電極側に、前記薄膜層が形成されている
上記（１）に記載の有機電界発光装置。
（８）
赤画素、緑画素および青画素を含み、
前記赤画素および前記緑画素では黄色発光層が設けられ、
前記青画素では、前記青色発光層は前記黄色発光層上の領域まで延在形成された青色発光層が設けられ、
前記薄膜層は、前記青画素における前記青色発光層の前記第１電極側にも設けられている
上記（１）に記載の有機電界発光装置。
（９）
第１電極を形成する工程と、
前記第１電極上に、有機材料よりなると共に互いに色の異なる複数の発光層を形成する発光層形成工程と、
前記複数の発光層上に第２電極を形成する工程とを含み、
前記発光層形成工程では、
前記複数の発光層のうちの少なくとも一の発光層を形成する際に、他の発光層の前記第１および第２の電極側の少なくとも一方の側に電荷輸送性材料を含む薄膜層を形成する
有機電界発光装置の製造方法。
（１０）
前記発光層形成工程では、
第１および第２の発光層を、この順に、ブランケットを用いた印刷により形成し、
前記第１の発光層を形成する際、
前記ブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記第１の発光層の印刷を行うことにより、前記第１の発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層としての第１の薄膜層を形成する
上記（９）に記載の有機電界発光装置の製造方法。
（１１）
緑画素領域に前記第１の発光層としての緑色発光層、赤画素領域に前記第２の発光層としての赤色発光層をそれぞれ形成する
上記（１０）に記載の有機電界発光装置の製造方法。
（１２）
前記緑色発光層および前記赤色発光層を形成した後、
前記赤色発光層上および前記緑色発光層上の領域から青画素領域にまでわたって青色発光層を形成する
上記（１１）に記載の有機電界発光装置の製造方法。
（１３）
前記第２の発光層を形成する際、
他のブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記第２の発光層の印刷を行うことにより、前記第２の発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層としての第２の薄膜層を形成する
上記（１２）に記載の有機電界発光装置の製造方法。
（１４）
赤画素領域に前記第１の発光層としての赤色発光層、緑画素領域に前記第２の発光層としての緑色発光層をそれぞれ形成する
上記（１０）に記載の有機電界発光装置の製造方法。
（１５）
前記発光層形成工程では、
第１および第２の発光層を、この順に、ブランケットを用いた印刷により画素毎に分離形成し、
前記第２の発光層を形成する際、
前記ブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記第２の発光層の印刷を行うことにより、前記第２の発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層を形成する
上記（９）に記載の有機電界発光装置の製造方法。
（１６）
前記発光層形成工程では、
赤画素領域および緑画素領域にわたって黄色発光層を、ブランケットを用いた印刷により形成し、
前記黄色発光層上の領域から青画素領域にまでわたって青色発光層を形成し、かつ
前記黄色発光層を形成する際、
前記ブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記黄色発光層の印刷を行うことにより、前記黄色発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層を形成する
上記（９）に記載の有機電界発光装置の製造方法。
（１７）
有機材料よりなると共に、互いに色の異なる複数の発光層と、
各発光層を挟んで設けられた第１電極および第２電極と、
前記複数の発光層のうちの１または２以上の発光層の、前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方の側に形成されると共に、電荷輸送性材料を含む薄膜層と
を備えた有機電界発光装置を有する電子機器。

１…表示装置、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機ＥＬ素子、１１…第１電極、１２…絶縁膜、１３Ａ…正孔輸送層、１３Ｂ…正孔注入層、１４Ｒ…赤色発光層、１４Ｇ…緑色発光層、１４Ｂ…青色発光層、１５Ａ…電子輸送層、１５Ｂ…電子注入層、１６…第２電極、１７ａ１…正孔輸送性薄膜層、１７ａ２…電子輸送性薄膜層、１８…保護層、１９…接着層、２０…封止基板。

Claims (17)

1. 有機材料よりなると共に、互いに色の異なる複数の発光層と、
   各発光層を挟んで設けられた第１電極および第２電極と、
   前記複数の発光層のうちの１または２以上の発光層の、前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方の側に形成されると共に、電荷輸送性材料を含む薄膜層と
   を備えた有機電界発光装置。
2. 前記複数の発光層は、画素毎に分離形成される少なくとも２つの第１および第２の発光層を含み、
   前記第１および第２の発光層のうちの前記第２の発光層の前記第１電極側に、前記薄膜層としての第１の薄膜層が形成されている
   請求項１に記載の有機電界発光装置。
3. 赤画素、緑画素および青画素を含み、
   前記緑画素では、前記第１の発光層としての緑色発光層、前記赤画素では、前記第２の発光層としての赤色発光層がそれぞれ設けられている
   請求項２に記載の有機電界発光装置。
4. 前記青画素は、前記赤色発光層上および前記緑色発光層上の領域まで延在形成された青色発光層を有し、
   前記第１の薄膜層は、前記青画素における前記青色発光層の前記第１電極側にも設けられている
   請求項３に記載の有機電界発光装置。
5. 前記緑色発光層の前記第２電極側に、前記薄膜層としての第２の薄膜層が形成され、
   前記青画素では、前記青色発光層の前記第１電極側に、前記第１および第２の薄膜層が積層されている
   請求項４に記載の有機電界発光装置。
6. 赤画素、緑画素および青画素を含み、
   前記赤画素では、前記第１の発光層としての赤色発光層、前記緑画素では、前記第２の発光層としての緑色発光層がそれぞれ設けられている
   請求項２に記載の有機電界発光装置。
7. 前記複数の発光層は、画素毎に分離形成される少なくとも２つの第１および第２の発光層を含み、
   前記第１および第２の発光層のうちの前記第１の発光層の前記第２電極側に、前記薄膜層が形成されている
   請求項１に記載の有機電界発光装置。
8. 赤画素、緑画素および青画素を含み、
   前記赤画素および前記緑画素では黄色発光層が設けられ、
   前記青画素では、前記青色発光層は前記黄色発光層上の領域まで延在形成された青色発光層が設けられ、
   前記薄膜層は、前記青画素における前記青色発光層の前記第１電極側にも設けられている
   請求項１に記載の有機電界発光装置。
9. 第１電極を形成する工程と、
   前記第１電極上に、有機材料よりなると共に互いに色の異なる複数の発光層を形成する発光層形成工程と、
   前記複数の発光層上に第２電極を形成する工程とを含み、
   前記発光層形成工程では、
   前記複数の発光層のうちの少なくとも一の発光層を形成する際に、他の発光層の前記第１および第２の電極側の少なくとも一方の側に電荷輸送性材料を含む薄膜層を形成する
   有機電界発光装置の製造方法。
10. 前記発光層形成工程では、
    第１および第２の発光層を、この順に、ブランケットを用いた印刷により形成し、
    前記第１の発光層を形成する際、
    前記ブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記第１の発光層の印刷を行うことにより、前記第１の発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層としての第１の薄膜層を形成する
    請求項９に記載の有機電界発光装置の製造方法。
11. 緑画素領域に前記第１の発光層としての緑色発光層、赤画素領域に前記第２の発光層としての赤色発光層をそれぞれ形成する
    請求項１０に記載の有機電界発光装置の製造方法。
12. 前記緑色発光層および前記赤色発光層を形成した後、
    前記赤色発光層上および前記緑色発光層上の領域から青画素領域にまでわたって青色発光層を形成する
    請求項１１に記載の有機電界発光装置の製造方法。
13. 前記第２の発光層を形成する際、
    他のブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記第２の発光層の印刷を行うことにより、前記第２の発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層としての第２の薄膜層を形成する
    請求項１２に記載の有機電界発光装置の製造方法。
14. 赤画素領域に前記第１の発光層としての赤色発光層、緑画素領域に前記第２の発光層としての緑色発光層をそれぞれ形成する
    請求項１０に記載の有機電界発光装置の製造方法。
15. 前記発光層形成工程では、
    第１および第２の発光層を、この順に、ブランケットを用いた印刷により画素毎に分離形成し、
    前記第２の発光層を形成する際、
    前記ブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記第２の発光層の印刷を行うことにより、前記第２の発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層を形成する
    請求項９に記載の有機電界発光装置の製造方法。
16. 前記発光層形成工程では、
    赤画素領域および緑画素領域にわたって黄色発光層を、ブランケットを用いた印刷により形成し、
    前記黄色発光層上の領域から青画素領域にまでわたって青色発光層を形成し、かつ
    前記黄色発光層を形成する際、
    前記ブランケットを、前記電荷輸送性材料を含む溶液を用いて膨潤させた後、当該ブランケットを用いて前記黄色発光層の印刷を行うことにより、前記黄色発光層形成領域を除く領域に、前記薄膜層を形成する
    請求項９に記載の有機電界発光装置の製造方法。
17. 有機材料よりなると共に、互いに色の異なる複数の発光層と、
    各発光層を挟んで設けられた第１電極および第２電極と、
    前記複数の発光層のうちの１または２以上の発光層の、前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方の側に形成されると共に、電荷輸送性材料を含む薄膜層と
    を備えた有機電界発光装置を有する電子機器。

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