JP2013139532A - Polyarylene sulfide film - Google Patents

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Shohei Yoshida
昌平 吉田
Tetsuya Machida
哲也 町田
Takuji Higashioji
卓司 東大路
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyarylene sulfide film capable of being made as a film stably even if having a large thickness.SOLUTION: The polyarylene sulfide film is composed of a polyarylene sulfide resin composition containing: 100 pts.wt. of a polyarylene sulfide resin; and 1 to 20 pts.wt. of a siloxane-modified polyetherimide resin, wherein the melt crystallization temperature (Tmc)(°C) of the polyarylene sulfide resin composition and the melt crystallization temperature (Tmc')(°C) of the polyarylene sulfide resin before the siloxane-modified polyetherimide resin is blended have a relation of (Tmc-Tmc')≤-5(°C).

Description

本発明は、モーター、トランス、絶縁ケーブルなどの電気絶縁材料や成形材料、回路基板材料、回路・光学部材などの工程・離型フィルムや保護フィルム、リチウムイオン電池材料、燃料電池材料、スピーカー振動板などに好ましく使用することができるポリアリーレンスルフィドフィルムに関する。   The present invention relates to electric insulating materials and molding materials such as motors, transformers, and insulated cables, circuit board materials, process / release films and protective films for circuits and optical members, lithium ion battery materials, fuel cell materials, speaker diaphragms The present invention relates to a polyarylene sulfide film that can be preferably used for, for example.

ポリフェニレンスルフィドフィルム(以下、PPSフィルムと略す)に代表されるポリアリーレンスルフィドフィルムは、耐熱性、耐加水分解性、難燃性、耐薬品性、電気絶縁性などに優れることから、高い信頼性、耐久性が求められる電気・電子機器部品、機械部品、自動車部品などへと好適に使用されている。   Polyarylene sulfide films represented by polyphenylene sulfide films (hereinafter abbreviated as PPS films) are excellent in heat resistance, hydrolysis resistance, flame resistance, chemical resistance, electrical insulation, etc. It is suitably used for electrical / electronic equipment parts, machine parts, automobile parts and the like that require durability.

しかしながら、ポリアリーレンスルフィド樹脂はポリエステル樹脂などと比較して溶融状態からの冷却過程における結晶化が早いという特徴を有するため、例えば二軸延伸後の厚みが150μm以上であるような厚物の二軸延伸ポリアリーレンスルフィドフィルムを採取する場合、押出キャストの工程で厚み方向の冷却斑が発生し、その後の延伸が均一に行われず、結果として延伸時に破れが多発してしまうという問題があった。   However, since the polyarylene sulfide resin has a feature that the crystallization in the cooling process from the molten state is faster than the polyester resin or the like, for example, a thick biaxial film having a thickness after biaxial stretching of 150 μm or more. When the stretched polyarylene sulfide film is collected, cooling spots in the thickness direction are generated in the extrusion casting process, and subsequent stretching is not performed uniformly. As a result, there is a problem that tearing frequently occurs during stretching.

また、ポリアリーレンスルフィドフィルムは離型フィルムとしても好適に使用されるが、140℃を超えるような高温下で未延伸のポリアリーレンスルフィドフィルムを使用する場合、熱結晶化が急速に進行してしまい、剥離時にフィルムが容易に破断してしまうなど、使用に耐えない場合があった。   The polyarylene sulfide film is also suitably used as a release film. However, when an unstretched polyarylene sulfide film is used at a high temperature exceeding 140 ° C., thermal crystallization proceeds rapidly. In some cases, the film was not easily used when it was peeled off.

上記のように、ポリアリーレンスルフィドフィルムでは溶融状態からの冷却や、常温からの加熱に伴う結晶化が早いことが問題となっており、結晶化が抑制されたPPSフィルムの開発が強く望まれていた。ポリアリーレンスルフィドフィルムの諸物性を改変するための手法として、例えば、ポリエーテルイミド樹脂をアロイする方法(特許文献1、2)などが知られているが、結晶化挙動に着目した検討はなされておらず、前記問題の解消には到っていない。   As described above, polyarylene sulfide films have a problem of rapid crystallization due to cooling from a molten state or heating from room temperature, and development of a PPS film in which crystallization is suppressed is strongly desired. It was. As a method for modifying various physical properties of the polyarylene sulfide film, for example, a method of alloying a polyetherimide resin (Patent Documents 1 and 2) is known, but studies focusing on crystallization behavior have been made. The problem has not been solved.

特開2001−261959号公報JP 2001-261959 A 国際公開2007/129721号パンフレットInternational Publication No. 2007/129721 Pamphlet

本発明の目的は、前述した従来の課題を解決し、厚みが厚い場合であっても延伸性が良好で、また、未延伸のフィルムでも離型フィルムとしての使用に耐えるポリアリーレンスルフィドフィルムを提供することにある。   The object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and provide a polyarylene sulfide film that has good stretchability even when the thickness is large, and that can withstand use as a release film even with an unstretched film. There is to do.

本発明では、ポリアリーレンスルフィド樹脂に対してシロキサン変性されたポリエーテルイミド樹脂をアロイ化することで、PPSフィルムの結晶化を抑制できることを発見し、上記課題の解決に至ったものである。   In the present invention, it has been found that the crystallization of the PPS film can be suppressed by alloying the siloxane-modified polyetherimide resin with respect to the polyarylene sulfide resin, and thus the above-mentioned problems have been solved.

すなわち、ポリアリーレンスルフィド樹脂100重量部に対し、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂1〜20重量部を含有したポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなるポリアリーレンスルフィドフィルムであって、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の溶融結晶化温度(Tmc)(℃)と、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂含有前のポリアリーレンスルフィド樹脂の溶融結晶化温度(Tmc’)(℃)が(Tmc−Tmc’)≦−5(℃)の関係にあることを特徴とする二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムである。   That is, a polyarylene sulfide film comprising a polyarylene sulfide resin composition containing 1 to 20 parts by weight of a siloxane-modified polyetherimide resin with respect to 100 parts by weight of a polyarylene sulfide resin, wherein the polyarylene sulfide resin composition is melted The crystallization temperature (Tmc) (° C.) and the melt crystallization temperature (Tmc ′) (° C.) of the polyarylene sulfide resin before containing the siloxane-modified polyetherimide resin are (Tmc−Tmc ′) ≦ −5 (° C.) It is a biaxially oriented polyarylene sulfide film characterized by having a relationship.

本発明により、フィルム厚みが厚くなっても、製膜安定性と均一延伸性が良好なポリアリーレンスルフィドフィルムを提供することができる。また、本発明により得られる未延伸のポリアリーレンスルフィドフィルムは、高温に加熱しても結晶化が抑制されるため、離型フィルムとして用いても結晶化による脆化が起きにくい。   According to the present invention, it is possible to provide a polyarylene sulfide film having good film forming stability and uniform stretchability even when the film thickness is increased. In addition, since the unstretched polyarylene sulfide film obtained by the present invention is suppressed in crystallization even when heated to a high temperature, embrittlement due to crystallization hardly occurs even when used as a release film.

以下、本発明について説明する。   The present invention will be described below.

ポリアリーレンスルフィド樹脂
本発明で使用するポリアリーレンスルフィド樹脂は、−(Ar−S)−の繰り返し単位を主要構成単位とする好ましくは当該繰り返し単位を80モル%以上含有するホモポリマーあるいはコポリマーである。Arは結合手が芳香環に存在する芳香環を含む基であり、下記の式(A)〜式(L)などで表される二価の繰り返し単位などが例示されるが、なかでも式(A)で表される繰り返し単位が特に好ましい。
Polyarylene sulfide resin The polyarylene sulfide resin used in the present invention is a homopolymer or copolymer having a repeating unit of-(Ar-S)-as a main constituent unit, preferably containing 80 mol% or more of the repeating unit. Ar is a group containing an aromatic ring in which a bond is present in an aromatic ring, and examples thereof include divalent repeating units represented by the following formulas (A) to (L), among which a formula ( The repeating unit represented by A) is particularly preferred.

Figure 2013139532
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(ただし、式中のR1,R2は水素、炭素数1から6のアルキル基、炭素数1から6のアルコキシ基およびハロゲン基から選ばれた置換基であり、R1とR2は同一でも異なっていてもよい。)
この繰り返し単位を主要構成単位とする限り、下記の式(M)〜式(P)などで表される少量の分岐単位または架橋単位を含むことができる。これら分岐単位または架橋単位の共重合量は、−(Ar−S)−の単位1モルに対して0〜5モル%の範囲であることが好ましく、0〜1モル%の範囲であることがより好ましい。
(In the formula, R1 and R2 are substituents selected from hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and a halogen group, and R1 and R2 are the same or different. May be good.)
As long as this repeating unit is a main structural unit, it can contain a small amount of branching units or crosslinking units represented by the following formulas (M) to (P). The amount of copolymerization of these branched units or cross-linked units is preferably in the range of 0 to 5 mol%, preferably in the range of 0 to 1 mol%, with respect to 1 mol of-(Ar-S)-units. More preferred.

Figure 2013139532
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また、本発明に用いるポリアリーレンスルフィド樹脂は上記繰り返し単位を有するランダム共重合体、ブロック共重合体およびそれらの混合物のいずれかであってもよい。   Further, the polyarylene sulfide resin used in the present invention may be any of a random copolymer having the above repeating unit, a block copolymer, and a mixture thereof.

本発明においてポリアリーレンスルフィド樹脂の溶融粘度としては特に制限は無いが、温度310℃、剪断速度1,000(1/sec)のもとで、100〜2,000Pa・sの範囲であることが好ましく、さらに好ましくは200〜1,000Pa・sの範囲である。   In the present invention, the melt viscosity of the polyarylene sulfide resin is not particularly limited, but may be in the range of 100 to 2,000 Pa · s at a temperature of 310 ° C. and a shear rate of 1,000 (1 / sec). Preferably, it is in the range of 200 to 1,000 Pa · s.

これらポリアリーレンスルフィド樹脂の代表的なものとして、ポリフェニレンスルフィド(以下、PPSと略すこともある)、ポリフェニレンスルフィドスルホン、ポリフェニレンスルフィドケトン、これらのランダム共重合体、ブロック共重合体及びそれらの混合物などが挙げられる。特に好ましいポリアリーレンスルフィド樹脂としては、ポリマーの主要構成単位として下記式(Q)で示されるp−フェニレンスルフィド単位を好ましくは80モル%以上、より好ましくは85モル%、さらに好ましくは90モル%以上含有するポリフェニレンスルフィドが挙げられる。かかるp−フェニレンスルフィド単位が80モル%未満では、ポリマーの結晶性や熱転移温度などが低く、ポリアリーレンスルフィド樹脂の特徴である耐熱性、寸法安定性、機械特性などを損なうことがある。   Typical examples of these polyarylene sulfide resins include polyphenylene sulfide (hereinafter sometimes abbreviated as PPS), polyphenylene sulfide sulfone, polyphenylene sulfide ketone, random copolymers, block copolymers, and mixtures thereof. Can be mentioned. As a particularly preferred polyarylene sulfide resin, the p-phenylene sulfide unit represented by the following formula (Q) is preferably 80 mol% or more, more preferably 85 mol%, still more preferably 90 mol% or more as the main structural unit of the polymer. Examples thereof include polyphenylene sulfide. If the p-phenylene sulfide unit is less than 80 mol%, the crystallinity and thermal transition temperature of the polymer are low, and the heat resistance, dimensional stability, mechanical properties, etc. that are characteristic of the polyarylene sulfide resin may be impaired.

Figure 2013139532
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ポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法は特に限定されないが、例えば特開平3−74433号公報や特開2002−332351号公報に開示されているように、Caなどのアルカリ土類金属を含む水溶液で処理する工程を含むことが、ポリアリーレンスルフィドの結晶化速度を低減させるために好ましい。なお、フェニレン基以外の芳香環を有する基を含むポリアリーレンスルフィド樹脂は、フェニレン基を当該フェニレン基以外の芳香環に代えたモノマーを使用すれば得ることができる。   The method for producing the polyarylene sulfide resin is not particularly limited. For example, as disclosed in JP-A-3-74433 and JP-A-2002-332351, the polyarylene sulfide resin is treated with an aqueous solution containing an alkaline earth metal such as Ca. It is preferable to include a step in order to reduce the crystallization rate of polyarylene sulfide. The polyarylene sulfide resin containing a group having an aromatic ring other than a phenylene group can be obtained by using a monomer in which the phenylene group is replaced with an aromatic ring other than the phenylene group.

本発明に用いるポリアリーレンスルフィド樹脂は、本発明の特性を阻害しない範囲であれば、空気中加熱による架橋/高分子量化、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下での熱処理、有機溶媒、熱水および酸水溶液などによる洗浄、酸無水物、アミン、イソシアネ−トおよび官能基ジスルフィド化合物などの官能基含有化合物による活性化など、種々の処理を施した上で使用することも可能である。   As long as the polyarylene sulfide resin used in the present invention is within the range not impairing the characteristics of the present invention, crosslinking / high molecular weight by heating in air, heat treatment under an inert gas atmosphere such as nitrogen or reduced pressure, an organic solvent, It can also be used after various treatments such as washing with hot water and aqueous acid solution, activation with functional group-containing compounds such as acid anhydrides, amines, isocyanates and functional disulfide compounds.

シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂
本発明に用いるシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂は、以下に示す式(R)で示される繰り返し単位を有する共重合体である。共重合の様式は特に限定されないが、交互共重合体やブロック共重合体であることが好ましい。
Siloxane-modified polyetherimide resin The siloxane-modified polyetherimide resin used in the present invention is a copolymer having a repeating unit represented by the following formula (R). The mode of copolymerization is not particularly limited, but is preferably an alternating copolymer or a block copolymer.

Figure 2013139532
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式(R)中、R3はアリーレン基または、以下に示す式(S)で示されるビス(アルキルジメチルシロキサン)基である。アリーレン基は好ましくm−フェニレン基およびp―フェニレン基からなる群から選ばれる。ただし、共重合体中の全てのR3がアリーレン基であることは無い。式(S)で示されるビス(アルキルジメチルシロキサン)基は、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂におけるシロキサン単位の繰り返し数xの平均が5〜50であることが好ましく、8〜12であるものがより好ましい。また、アルキル基の繰り返し数yが2〜10であることが好ましく、3であるものが最も好ましい。式(R)中、R3がアリーレン基である反復単位(反復単位A)と、式(R)中、R3が式(S)で示される基である反復単位(反復単位B)とのモル比は、反復単位A:反復単位B=10:90〜90:10であるのが好ましく、40:60〜60:40であるものがより好ましい。   In formula (R), R3 is an arylene group or a bis (alkyldimethylsiloxane) group represented by the following formula (S). The arylene group is preferably selected from the group consisting of an m-phenylene group and a p-phenylene group. However, not all R3 in the copolymer is an arylene group. In the bis (alkyldimethylsiloxane) group represented by the formula (S), the average number of repeating units x of siloxane units in the siloxane-modified polyetherimide resin is preferably 5 to 50, and more preferably 8 to 12. . Moreover, it is preferable that the repeating number y of an alkyl group is 2-10, and what is 3 is the most preferable. The molar ratio of the repeating unit (repeating unit A) in which R3 is an arylene group in formula (R) and the repeating unit (repeating unit B) in which R3 is a group represented by formula (S) in formula (R) Is preferably repeating unit A: repeating unit B = 10: 90 to 90:10, more preferably 40:60 to 60:40.

上記のようなシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂は、例えば、SABICイノベーティブプラスチックス社から商標シルテム(SILTEM)として数種類のグレードが市販されており、これらを好ましく用いることができる。   As the siloxane-modified polyetherimide resin as described above, for example, several grades are commercially available from SABIC Innovative Plastics under the trademark SILTEM, and these can be preferably used.

Figure 2013139532
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ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物
本発明に用いるポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂100重量部に対し、前記のシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂1〜20重量部を含有したポリアリーレンスルフィド樹脂組成物である。シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂の含有量がポリアリーレンスルフィド樹脂100重量部に対し1重量部未満では十分な結晶化抑制の効果が得られない。一方、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂の配合量がポリアリーレンスルフィド樹脂100重量部に対し20重量部を超えると、ポリアリーレンスルフィド樹脂本来の延伸性が阻害され、安定な製膜を行えない。そのためシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂の添加は、ポリアリーレンスルフィド樹脂100重量部に対し1〜20重量部の範囲で行われ、ポリアリーレンスルフィド樹脂の添加量は好ましくは3〜15重量部、さらに好ましくは5〜10重量部である。ポリアリーレンスルフィド樹脂とシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂は相溶していることが望ましい。
Polyarylene sulfide resin composition The polyarylene sulfide resin composition used in the present invention is a polyarylene sulfide resin composition containing 1 to 20 parts by weight of the siloxane-modified polyetherimide resin with respect to 100 parts by weight of the polyarylene sulfide resin. It is a thing. If the content of the siloxane-modified polyetherimide resin is less than 1 part by weight relative to 100 parts by weight of the polyarylene sulfide resin, a sufficient crystallization suppression effect cannot be obtained. On the other hand, when the blending amount of the siloxane-modified polyetherimide resin exceeds 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyarylene sulfide resin, the original stretchability of the polyarylene sulfide resin is inhibited and stable film formation cannot be performed. Therefore, the addition of the siloxane-modified polyetherimide resin is performed in the range of 1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyarylene sulfide resin, and the addition amount of the polyarylene sulfide resin is preferably 3 to 15 parts by weight, more preferably 5 to 10 parts by weight. It is desirable that the polyarylene sulfide resin and the siloxane-modified polyetherimide resin are compatible.

本発明のポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲内で、熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、脂肪酸エステルおよびワックスなどの他の成分が添加されてもよい。また、本発明の目的を阻害しなければポリアリーレンスルフィド樹脂とシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂以外樹脂が少量含まれていても差し支えない。また、製膜後のフィルム表面に易滑性や耐磨耗性や耐スクラッチ性等を付与するために、無機粒子や有機粒子などを添加することもできる。そのような添加物としては、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、湿式または乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナおよびジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン等を構成成分とする有機粒子、ポリアリーレンスルフィドの重合反応時に添加する触媒等によって析出する、いわゆる内部粒子や、界面活性剤などが挙げられる。   The polyarylene sulfide resin composition of the present invention includes a heat stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a flame retardant, a pigment, a dye, a fatty acid ester, a wax and the like within a range that does not impair the object of the present invention. Other ingredients may be added. In addition, a small amount of resin other than polyarylene sulfide resin and siloxane-modified polyetherimide resin may be contained as long as the object of the present invention is not impaired. In addition, inorganic particles, organic particles, and the like can be added to impart easy slipping, abrasion resistance, scratch resistance, and the like to the film surface after film formation. Examples of such additives include clay, mica, titanium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, wet or dry silica, colloidal silica, calcium phosphate, barium sulfate, alumina, zirconia, and other inorganic particles, acrylic acids, styrene And so-called internal particles, surfactants, and the like, which are precipitated by a catalyst added during the polymerization reaction of polyarylene sulfide.

本発明において、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂をポリアリーレンスルフィド樹脂に混合する時期は特に限定されないが、溶融押出前に、ポリアリーレンスルフィド樹脂とシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を予備溶融混練(ペレタイズ)してマスターチップ化する方法や、溶融押出時に混合して溶融混練させる方法などがある。中でも、二軸押出機などのせん断応力のかかる高せん断混合機を用いて予備混練してマスターチップ化する方法などが好ましく例示される。その場合、ポリアリーレンスルフィド樹脂とシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂の重量分率が99/1〜60/40のブレンド原料を作製することが好ましい。二軸押出機で混合する場合、分散不良物を低減させる観点から、3条二軸タイプまたは2条二軸タイプのスクリューを装備したものが好ましく、混練部ではポリアリーレンスルフィド樹脂の融解温度をTmとした場合、Tm+5〜Tm+70(℃)の樹脂温度範囲とするこが、混練時の分散性を高めるために好ましい。また、原料の混合順序にも特に制限はなく、ポリアリーレンスルフィド樹脂、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂および必要に応じてその他添加剤を一括してドライブレンドした後、上述の方法などで溶融混練する方法、あるいはポリアリーレンスルフィド樹脂、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂および必要に応じてその他添加剤のうちの2者または3者をドライブレンドして溶融混練した後、これと残る1者または2者を溶融混練する方法などが挙げられる。   In the present invention, the time when the siloxane-modified polyetherimide resin is mixed with the polyarylene sulfide resin is not particularly limited. However, prior to melt extrusion, the polyarylene sulfide resin and the siloxane-modified polyetherimide resin are pre-melted and kneaded (pelletized). There are a method of forming a master chip and a method of mixing and melt-kneading during melt extrusion. Of these, a method of pre-kneading into a master chip using a high-shear mixer with high shear stress such as a twin screw extruder is preferably exemplified. In that case, it is preferable to prepare a blend raw material in which the weight fraction of the polyarylene sulfide resin and the siloxane-modified polyetherimide resin is 99/1 to 60/40. When mixing with a twin screw extruder, from the viewpoint of reducing poor dispersion, a screw equipped with a triple twin screw type or a double twin screw type is preferable. In the kneading part, the melting temperature of the polyarylene sulfide resin is Tm. In this case, a resin temperature range of Tm + 5 to Tm + 70 (° C.) is preferable in order to improve dispersibility during kneading. Also, there is no particular limitation on the mixing order of the raw materials, and a method in which the polyarylene sulfide resin, the siloxane-modified polyetherimide resin and other additives as necessary are dry-blended in a lump and then melt-kneaded by the above-described method or the like. Alternatively, two or three of the polyarylene sulfide resin, the siloxane-modified polyetherimide resin and other additives as required are dry blended and melt-kneaded, and the remaining one or two are melt-kneaded. The method of doing is mentioned.

本発明においては、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の溶融結晶化温度(Tmc)(℃)が、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を含有する前のポリアリーレンスルフィド樹脂の溶融結晶化温度(Tmc’)(℃)よりも5℃以上低いことが重要である。すなわち、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の溶融結晶化温度(Tmc)(℃)とシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を配合する前のポリアリーレンスルフィド樹脂の溶融結晶化温度(Tmc’)(℃)が、(Tmc−Tmc’)≦−5(℃)の関係にあることが好ましい。より好ましくは(Tmc−Tmc’)≦−10(℃)である。(Tmc−Tmc’)>−5(℃)となる場合、樹脂組成物の溶融結晶化温度が高いことにより押出後のキャスト冷却時にキャスト接触面と非接触面の冷却速度の差に起因する冷却斑が発生しやすくなり、延伸工程でフィルム破れが発生する場合がある。特にフィルムの厚みが厚い場合には冷却斑が発生しやすく、製膜時の破れが頻発する場合がある。なお、溶融結晶化温度は実施例の項に記載の測定方法によって測定される。   In the present invention, the melt crystallization temperature (Tmc) (° C.) of the polyarylene sulfide resin composition is the melt crystallization temperature (Tmc ′) (° C.) of the polyarylene sulfide resin before containing the siloxane-modified polyetherimide resin. It is important that it is 5 ° C. or more lower than That is, the melt crystallization temperature (Tmc) (° C.) of the polyarylene sulfide resin composition and the melt crystallization temperature (Tmc ′) (° C.) of the polyarylene sulfide resin before blending the siloxane-modified polyetherimide resin are ( Tmc−Tmc ′) ≦ −5 (° C.) is preferable. More preferably, (Tmc−Tmc ′) ≦ −10 (° C.). When (Tmc−Tmc ′)> − 5 (° C.), the cooling caused by the difference in the cooling rate between the cast contact surface and the non-contact surface during cast cooling after extrusion due to the high melt crystallization temperature of the resin composition Spots are likely to occur, and film breakage may occur in the stretching process. In particular, when the film is thick, cooling spots are likely to occur, and tearing during film formation may occur frequently. The melt crystallization temperature is measured by the measuring method described in the section of the examples.

ポリアリーレンスルフィドフィルムの製造方法
次いで、本発明のポリアリーレンスルフィドフィルムを製造する方法について、二軸延伸する場合を例示して説明するが、本発明は、下記の記載によって限定して解釈されるものではない。
Method for producing polyarylene sulfide film Next, the method for producing the polyarylene sulfide film of the present invention will be described by exemplifying the case of biaxial stretching. However, the present invention is limited and interpreted by the following description. is not.

上述の方法で得られたポリアリーレンスルフィド樹脂組成物のペレットに対し、必要に応じてポリアリーレンスルフィド樹脂を一定の割合で適宜混合して、180℃で3時間以上真空乾燥した後、溶融部の温度が280〜330℃、好ましくは290〜310℃に加熱された押出機に投入する。その後、押出機を経た溶融ポリマーをフィルター内に通過させ、その溶融ポリマーをTダイの口金を用いてシート状に吐出する。このフィルター部分や口金の設定温度は、押出機の溶融部の温度より3〜20℃高い温度にすることが好ましく、より好ましくは5〜15℃高い温度にする。このシート状物を表面温度10〜70℃の冷却ドラム上に密着させて冷却固化し、実質的に無配向状態の未延伸フィルムを得る。この未延伸フィルムの厚みは特に限定はされないが、結晶化抑制の効果がより顕著に発揮されるためには500μm以上であることが好ましく、より好ましくは600μm以上である。   The polyarylene sulfide resin composition pellets obtained by the above-mentioned method are appropriately mixed with a polyarylene sulfide resin at a certain ratio as necessary, and vacuum-dried at 180 ° C. for 3 hours or more. It puts into the extruder heated at 280-330 degreeC, Preferably it is 290-310 degreeC. Thereafter, the molten polymer passed through the extruder is passed through a filter, and the molten polymer is discharged into a sheet form using a die of a T die. The set temperature of the filter part and the die is preferably 3 to 20 ° C higher than the temperature of the melting part of the extruder, more preferably 5 to 15 ° C. This sheet-like material is closely adhered to a cooling drum having a surface temperature of 10 to 70 ° C. to be cooled and solidified to obtain a substantially unoriented film. The thickness of the unstretched film is not particularly limited, but is preferably 500 μm or more, more preferably 600 μm or more in order to exhibit the effect of suppressing crystallization more remarkably.

次に、この未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向させる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法(長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行う方法などの一方向ずつの延伸を組み合わせた延伸法)、同時二軸延伸法(長手方向と幅方向を同時に延伸する方法)、またはそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ここでは、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸法を用いた例について説明する。   Next, this unstretched film is biaxially stretched and biaxially oriented. Stretching methods include sequential biaxial stretching methods (stretching methods that combine stretching in each direction, such as a method of stretching in the width direction after stretching in the longitudinal direction), and simultaneous biaxial stretching methods (in the longitudinal direction and the width direction). A method of stretching simultaneously) or a method of combining them can be used. Here, an example using a sequential biaxial stretching method in which stretching in the longitudinal direction first and then in the width direction will be described.

未延伸ポリフェニレンスルフィドフィルムを加熱ロール群で加熱した後、長手方向(MD方向)に2.5〜4.5倍、好ましくは3.0〜4.0倍に1段もしくは2段以上の多段で延伸する(MD延伸)。延伸温度は70〜130℃が好ましく、より好ましくは80〜110℃である。その後20〜50℃の冷却ロール群で冷却する。   After heating an unstretched polyphenylene sulfide film with a heated roll group, it is 2.5 to 4.5 times in the longitudinal direction (MD direction), preferably 3.0 to 4.0 times in one or more stages. Stretch (MD stretching). The stretching temperature is preferably 70 to 130 ° C, more preferably 80 to 110 ° C. Thereafter, it is cooled by a cooling roll group of 20 to 50 ° C.

MD延伸に続く幅方向(TD方向)の延伸方法としては、例えば、テンターを用いる方法が一般的である。このフィルムの両端部をクリップで把持して、テンターに導き、幅方向の延伸を行う(TD延伸)。延伸温度は70〜130℃が好ましく、より好ましくは80〜110℃である。延伸倍率は2.5〜4.5倍、好ましくは3.0〜4.0倍の範囲である。   As a stretching method in the width direction (TD direction) following MD stretching, for example, a method using a tenter is common. The both ends of this film are gripped with clips, guided to a tenter, and stretched in the width direction (TD stretching). The stretching temperature is preferably 70 to 130 ° C, more preferably 80 to 110 ° C. The draw ratio is in the range of 2.5 to 4.5 times, preferably 3.0 to 4.0 times.

次に、この二軸延伸フィルムを緊張下で熱処理する。熱処理温度は160〜280℃の範囲が好ましく、1段もしくは2段以上の多段で行う。この際、該熱処理温度でフィルム幅方向に0〜10%の範囲で弛緩処理することが熱的寸法安定性の点で好ましい。熱処理後はフィルムを室温まで冷却する。   Next, this biaxially stretched film is heat-treated under tension. The heat treatment temperature is preferably in the range of 160 to 280 ° C., and the heat treatment is performed in one or more stages. At this time, it is preferable in terms of thermal dimensional stability that the relaxation treatment is performed in the range of 0 to 10% in the film width direction at the heat treatment temperature. After the heat treatment, the film is cooled to room temperature.

物性値の測定方法ならびに効果の評価方法は次の通りである。
(1)樹脂のガラス転移温度
JIS K7121−1987に準じて測定した。示差走査熱量計セイコーインスツルメンツ社製DSC(RDC220)、データ解析装置として同社製ディスクステーション(SSC/5200)を用いて、試料5mgをアルミニウム製受皿上350℃で5分間溶融保持し、急冷固化した後、室温から昇温速度20℃/分で昇温した。なお、ガラス転移温度(Tg)は下記式により算出した。
ガラス転移温度=(補外ガラス転移開始温度+補外ガラス転移終了温度)/2
(2)樹脂の融解温度
上記(1)と同様にしてJIS K7121―1987に準じて示差走査熱量計セイコーインスツルメンツ社製DSC(RDC220)、データ解析装置として同社製ディスクステーション(SSC/5200)を用いて、試料5mgをアルミニウム製受皿上で室温から340℃まで昇温速度20℃/分で昇温し、340℃で5分間溶融保持し、急冷固化して5分間保持した後、室温から昇温速度20℃/分で昇温した。そのとき、観測される融解の吸熱ピークのピーク温度を融解温度(Tm)とした。
(3)樹脂および樹脂組成物の溶融結晶化温度
上記(2)と同様にしてJIS K7121―1987に準じて示差走査熱量計セイコーインスツルメンツ社製DSC(RDC220)、データ解析装置として同社製ディスクステーション(SSC/5200)を用いて、試料5mgをアルミニウム製受皿上で室温から340℃まで昇温速度20℃/分で昇温し、340℃で5分間溶融保持し、急冷固化して5分間保持した後、再度室温から昇温速度20℃/分で昇温し340℃で5分間溶融保持した。その後、340℃から室温まで20℃/分で冷却した際に観測される結晶化の発熱ピークのピーク温度を溶融結晶化温度とした。本手法によりシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を配合する前のポリアリーレンスルフィド樹脂の溶融結晶化温度(Tmc’)、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を配合した後のポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の溶融結晶化温度を(Tmc)をそれぞれ測定した。
The physical property value measurement method and the effect evaluation method are as follows.
(1) Glass transition temperature of resin It measured according to JIS K7121-1987. Using a differential scanning calorimeter DSC (RDC220) manufactured by Seiko Instruments Inc. and a disk station (SSC / 5200) manufactured by Seiko Instruments Inc. as a data analysis device, 5 mg of the sample was melted and held at 350 ° C. for 5 minutes on an aluminum tray, and rapidly cooled and solidified. The temperature was raised from room temperature at a heating rate of 20 ° C./min. The glass transition temperature (Tg) was calculated by the following formula.
Glass transition temperature = (extrapolated glass transition start temperature + extrapolated glass transition end temperature) / 2
(2) Melting temperature of resin In the same manner as in (1) above, a differential scanning calorimeter DSC (RDC220) manufactured by Seiko Instruments Inc. is used according to JIS K7121-1987, and a disk station (SSC / 5200) manufactured by the same company is used as a data analyzer. Then, 5 mg of the sample was heated from room temperature to 340 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min on an aluminum tray, melted and held at 340 ° C. for 5 minutes, rapidly solidified and held for 5 minutes, and then heated from room temperature. The temperature was raised at a rate of 20 ° C./min. At that time, the peak temperature of the endothermic peak of melting observed was defined as the melting temperature (Tm).
(3) Melt crystallization temperature of resin and resin composition In the same manner as in (2) above, a differential scanning calorimeter DSC (RDC220) manufactured by Seiko Instruments in accordance with JIS K7121-1987, a disk station manufactured by the same company as a data analyzer ( Using SSC / 5200), 5 mg of the sample was heated from room temperature to 340 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min on an aluminum pan, melted and held at 340 ° C. for 5 minutes, rapidly solidified and held for 5 minutes. Thereafter, the temperature was raised again from room temperature at a heating rate of 20 ° C./min, and melted and held at 340 ° C. for 5 minutes. Thereafter, the peak temperature of the crystallization exothermic peak observed when cooling from 340 ° C. to room temperature at 20 ° C./min was defined as the melt crystallization temperature. Melt crystallization temperature (Tmc ') of polyarylene sulfide resin before blending siloxane-modified polyetherimide resin by this method, melt crystallization temperature of polyarylene sulfide resin composition after blending siloxane-modified polyetherimide resin (Tmc) was measured respectively.

また、ポリアリーレンスルフィド樹脂に対してシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を含有することによる溶融結晶化温度の変化をTmc−Tmc’の値で表し、その値の符号が正の場合はシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂の配合によりTmcが上昇することを示し、符号が負の場合はシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂の含有によりTmcが低下することを示す。
(4)製膜安定性
二軸延伸製膜時の製膜安定性は、得られたポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を用いて合計時間24時間にわたり連続製膜を行い、下記基準に基づいて判定した。
Further, the change in the melt crystallization temperature due to the inclusion of the siloxane-modified polyetherimide resin with respect to the polyarylene sulfide resin is represented by a value of Tmc-Tmc ′, and when the sign of the value is positive, the siloxane-modified polyetherimide It shows that Tmc increases due to the blending of the resin. When the sign is negative, it indicates that Tmc decreases due to the inclusion of the siloxane-modified polyetherimide resin.
(4) Film-forming stability Film-forming stability at the time of biaxial stretching film formation was determined based on the following criteria by performing continuous film formation over a total time of 24 hours using the obtained polyarylene sulfide resin composition. .

○:フィルム破れ0回
△:フィルム破れ1〜5回
×:フィルム破れ6回以上
(5)均一延伸性
製膜途中で、未延伸フィルムの全面にインクで直径1cmの円形のスタンプを敷き詰めるように押し、延伸後のフィルムから任意の200個のスタンプ跡を選択した。この際、幅50cm,長さ5mの範囲から偏り無く選択するようにした。選択した200個のスタンプ跡のそれぞれについて、幅方向に最も長い部分の径の長さをノギスで測定し、200個のデータの標準偏差を求めた。フィルムの均一延伸性は下記基準に基づいて判定した。
○: No film break
Δ: Film tear 1 to 5 times ×: Film tear 6 times or more (5) Uniform stretchability In the middle of film formation, press the film so that a circular stamp with a diameter of 1 cm is spread over the entire surface of the unstretched film, and then stretched film An arbitrary 200 stamp traces were selected. At this time, selection was made without deviation from a range of 50 cm in width and 5 m in length. For each of the selected 200 stamp marks, the diameter of the longest portion in the width direction was measured with a caliper, and the standard deviation of the 200 data was obtained. The uniform stretchability of the film was determined based on the following criteria.

○:標準偏差が0.2未満
△:標準偏差が0.2〜0.5
×:標準偏差が0.5を超える。
○: Standard deviation is less than 0.2 Δ: Standard deviation is 0.2 to 0.5
X: The standard deviation exceeds 0.5.

(参考例1)
ポリフェニレンスルフィド樹脂(PPS−1)の作製
オートクレーブに、47%水硫化ナトリウム9.44kg(80モル)、96%水酸化ナトリウム3.43kg(82.4モル)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)13.0kg(131モル)、酢酸ナトリウム2.86kg(34.9モル)、及びイオン交換水12kgを仕込み、常圧で窒素を通じながら235℃まで約3時間かけて徐々に加熱し、水17.0kgおよびNMP0.3kg(3.23モル)を留出したのち、反応容器を160℃に冷却した。硫化水素の飛散量は2モルであった。
次に、主要モノマーとしてp−ジクロロベンゼン(p−DCB)11.5kg(78.4モル)、副成分モノマーとして1,2,4−トリクロロベンゼン 0.007kg(0.04モル)、を加え、NMP22.2kg(223モル)を追添加して反応容器を窒素ガス下に密封し、400rpmで撹拌しながら、200℃から270℃まで0.6℃/分の速度で昇温した。270℃で30分経過後、水1.11kg(61.6モル)を10分かけて系内に注入し、270℃で更に反応を100分間継続した。その後、水1.60kg(88.8モル)を系内に再度注入し、240℃まで冷却した後、210℃まで 0.4℃/分の速度で冷却し、その後室温近傍まで急冷した。内容物を取り出し、32リットルのNMPで希釈後、溶剤と固形物をふるい(80mesh)で濾別した。得られた粒子を再度38リットルのNMPにより85℃で洗浄した。その後67リットルの温水で5回洗浄、濾別し、0.05重量%酢酸カルシウム水溶液70,000gで5回洗浄、濾別し、PPSポリマー粒子を得た。これを、60℃で熱風乾燥し、120℃で20時間減圧乾燥することによって白色のポリフェニレンスルフィド粉末を得た。得られたポリフェニレンスルフィド樹脂は、ガラス転移温度が91℃、融点が280℃、溶融結晶化温度が188℃であった。
(Reference Example 1)
Preparation of polyphenylene sulfide resin (PPS-1) In an autoclave, 9.44 kg (80 mol) of 47% sodium hydrosulfide, 3.43 kg (82.4 mol) of 96% sodium hydroxide, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) ) 13.0 kg (131 mol), 2.86 kg (34.9 mol) of sodium acetate, and 12 kg of ion-exchanged water, gradually heated to 235 ° C. over about 3 hours while passing nitrogen at normal pressure, After distilling 0.0 kg and 0.3 kg (3.23 mol) of NMP, the reaction vessel was cooled to 160 ° C. The amount of hydrogen sulfide scattered was 2 mol.
Next, 11.5 kg (78.4 mol) of p-dichlorobenzene (p-DCB) as a main monomer and 0.007 kg (0.04 mol) of 1,2,4-trichlorobenzene as a secondary component monomer were added, 22.2 kg (223 mol) of NMP was additionally added, the reaction vessel was sealed under nitrogen gas, and the temperature was increased from 200 ° C. to 270 ° C. at a rate of 0.6 ° C./min while stirring at 400 rpm. After 30 minutes at 270 ° C., 1.11 kg (61.6 mol) of water was injected into the system over 10 minutes, and the reaction was further continued at 270 ° C. for 100 minutes. Thereafter, 1.60 kg (88.8 mol) of water was again injected into the system, cooled to 240 ° C., then cooled to 210 ° C. at a rate of 0.4 ° C./min, and then rapidly cooled to near room temperature. The contents were taken out, diluted with 32 liters of NMP, and the solvent and solid matter were filtered off with a sieve (80 mesh). The resulting particles were washed again at 85 ° C. with 38 liters of NMP. Thereafter, it was washed 5 times with 67 liters of warm water and filtered, washed 5 times with 70,000 g of 0.05 wt% aqueous calcium acetate solution and filtered to obtain PPS polymer particles. This was dried in hot air at 60 ° C. and dried under reduced pressure at 120 ° C. for 20 hours to obtain white polyphenylene sulfide powder. The obtained polyphenylene sulfide resin had a glass transition temperature of 91 ° C., a melting point of 280 ° C., and a melt crystallization temperature of 188 ° C.

(参考例2)
メタフェニレンスルフィド共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂(PPS−2)の作製
主要モノマーとして70.6モルのp−ジクロベンゼン、副成分モノマーとして7.8モルのm−ジクロロベンゼン、および0.04モルの1,2,4−トリクロルベンゼンを用いたこと以外は、上記参考例1と同様にしてポリフェニレンスルフィド樹脂を作製した。得られたポリフェニレンスルフィド樹脂は、ガラス転移温度が85℃、融点が251℃、溶融結晶化温度が150℃であった。
(Reference Example 2)
Preparation of Metaphenylene Sulfide Copolymer Polyphenylene Sulfide Resin (PPS-2) 70.6 mol of p-dichlorobenzene as the main monomer, 7.8 mol of m-dichlorobenzene as the accessory monomer, and 0.04 mol of 1, A polyphenylene sulfide resin was produced in the same manner as in Reference Example 1 except that 2,4-trichlorobenzene was used. The obtained polyphenylene sulfide resin had a glass transition temperature of 85 ° C., a melting point of 251 ° C., and a melt crystallization temperature of 150 ° C.

(実施例1)
参考例1で得られたポリフェニレンスルフィド樹脂70重量部と、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂(SABICイノベーティブプラスチックス社製 シルテム1700)30重量部を配合し、180℃で3時間減圧乾燥したのち、ニーディングパドル混練部を3箇所設けた真空ベント付き同方向回転式二軸混練押出機(日本製鋼所製、スクリュー直径30mm、スクリュー長さ/スクリュー直径=45.5)に投入し、滞留時間90秒、スクリュー回転数300回転/分、330℃で溶融押出してストランド状に吐出し、温度25℃の水で冷却した後、直ちにカッティングしてブレンドチップを作製した。
(Example 1)
70 parts by weight of the polyphenylene sulfide resin obtained in Reference Example 1 and 30 parts by weight of a siloxane-modified polyetherimide resin (Siltem 1700 manufactured by SABIC Innovative Plastics) were blended, dried at 180 ° C. under reduced pressure for 3 hours, and then kneaded. It is put into a co-rotating twin-screw kneading extruder with a vacuum vent provided with three paddle kneading parts (manufactured by Nippon Steel Works, screw diameter 30 mm, screw length / screw diameter = 45.5), and the residence time is 90 seconds. The melt was extruded at 330 ° C. at a screw rotation speed of 300 rpm and discharged into a strand shape, cooled with water at a temperature of 25 ° C., and then immediately cut to produce a blend chip.

得られたポリフェニレンスルフィド/シロキサン変性ポリエーテルイミド(70/30重量部)ブレンドチップと参考例1で作製したポリフェニレンスルフィド樹脂とを配合比16:84で配合し、180℃で3時間減圧乾燥したのち、溶融部が320℃に加熱されたフルフライトの単軸押出機に供給し、温度330℃に設定したフィルターで濾過した後、温度320℃に設定したTダイの口金から溶融押出して表面温度25℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、未延伸フィルムを作製した。得られたフィルムは、ガラス転移温度が91℃、融点が280℃、溶融結晶化温度が167℃であった。   The resulting polyphenylene sulfide / siloxane-modified polyetherimide (70/30 parts by weight) blend chip and the polyphenylene sulfide resin prepared in Reference Example 1 were blended at a blending ratio of 16:84 and dried under reduced pressure at 180 ° C. for 3 hours. The melted portion was supplied to a full flight single screw extruder heated to 320 ° C., filtered through a filter set at a temperature of 330 ° C., melt-extruded from a T die die set at a temperature of 320 ° C., and surface temperature 25 While applying an electrostatic charge to a cast drum at 0 ° C., it was closely cooled and solidified to produce an unstretched film. The obtained film had a glass transition temperature of 91 ° C., a melting point of 280 ° C., and a melt crystallization temperature of 167 ° C.

この未延伸フィルムを、加熱された複数のロール群からなる縦延伸機を用い、予熱後、ロールの周速差を利用して、104℃のフィルム温度でフィルムの縦方向に3.3倍の倍率で延伸した。その後、このフィルムの両端部をクリップで把持して、テンターに導き、延伸温度100℃、延伸倍率3.5倍でフィルムの幅方向に延伸を行い、引き続いて温度280℃で10秒間熱処理を行った。熱処理の間、フィルム幅方向に5%の弛緩処理を施した。フィルムを室温まで冷却した後、フィルムエッジを除去し、厚み200μmの二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを作製した。   This unstretched film is 3.3 times in the longitudinal direction of the film at a film temperature of 104 ° C. using a difference in peripheral speed of the roll after preheating using a longitudinal stretching machine composed of a plurality of heated roll groups. Stretched at a magnification. Thereafter, both ends of the film are gripped with a clip, guided to a tenter, stretched in the width direction of the film at a stretching temperature of 100 ° C. and a stretching ratio of 3.5 times, and subsequently heat treated at a temperature of 280 ° C. for 10 seconds. It was. During the heat treatment, a relaxation treatment of 5% was performed in the film width direction. After the film was cooled to room temperature, the film edge was removed to prepare a biaxially oriented polyphenylene sulfide film having a thickness of 200 μm.

得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの構成や特性についての測定、評価結果は、表1に示したとおりであり、この二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムは製膜時のフィルム破れがほとんど無く、安定に製膜することができた。   The measurement and evaluation results for the configuration and properties of the obtained biaxially oriented polyphenylene sulfide film are as shown in Table 1. This biaxially oriented polyphenylene sulfide film has almost no film breakage during film formation, and is stable. A film could be formed.

(実施例2)
実施例1でポリフェニレンスルフィド/シロキサン変性ポリエーテルイミド(70/30重量部)のブレンドチップとポリフェニレンスルフィド樹脂の配合比を3:97とした以外は、実施例1と同様にして二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを作製した。得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの構成や特性についての測定、評価結果は、表1に示したとおりであり、この二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムは、製膜安定性に優れたものであった。
(Example 2)
Biaxially oriented polyphenylene sulfide in the same manner as in Example 1 except that the blend ratio of polyphenylene sulfide / siloxane modified polyetherimide (70/30 parts by weight) and polyphenylene sulfide resin was 3:97 in Example 1. A film was prepared. The measurement and evaluation results on the configuration and properties of the obtained biaxially oriented polyphenylene sulfide film are as shown in Table 1. This biaxially oriented polyphenylene sulfide film was excellent in film formation stability. .

(実施例3)
実施例1でシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂としてSABICイノベーティブプラスチックス社製のシルテム1600を用いた以外は、実施例1と同様にして二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを作製した。得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの構成や特性についての測定、評価結果は、表1に示したとおりであり、この二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムは、製膜安定性に優れたものであった。
(Example 3)
A biaxially oriented polyphenylene sulfide film was prepared in the same manner as in Example 1 except that Siltem 1600 manufactured by SABIC Innovative Plastics was used as the siloxane-modified polyetherimide resin in Example 1. The measurement and evaluation results on the configuration and properties of the obtained biaxially oriented polyphenylene sulfide film are as shown in Table 1. This biaxially oriented polyphenylene sulfide film was excellent in film formation stability. .

(実施例4)
実施例1でポリフェニレンスルフィド樹脂として参考例2で作製したメタ共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂(PPS−2)を用いた以外は、実施例1と同様にして二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを作製した。得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの構成や特性についての測定、評価結果は、表1に示したとおりであり、この二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムは、製膜安定性に優れたものであった。
Example 4
A biaxially oriented polyphenylene sulfide film was produced in the same manner as in Example 1 except that the metacopolymerized polyphenylene sulfide resin (PPS-2) produced in Reference Example 2 was used as the polyphenylene sulfide resin in Example 1. The measurement and evaluation results on the configuration and properties of the obtained biaxially oriented polyphenylene sulfide film are as shown in Table 1. This biaxially oriented polyphenylene sulfide film was excellent in film formation stability. .

(比較例1)
実施例1でポリフェニレンスルフィド樹脂にシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を配合せずに使用した以外は、実施例1と同様にして二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを作製した。得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの構成や特性についての測定、評価結果は、表1に示したとおりであり、この二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムは、製膜中に破れが頻発し、安定的に連続製膜することができなかった。
(Comparative Example 1)
A biaxially oriented polyphenylene sulfide film was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyphenylene sulfide resin was used without blending the siloxane-modified polyetherimide resin in Example 1. The measurement and evaluation results for the configuration and properties of the obtained biaxially oriented polyphenylene sulfide film are as shown in Table 1. This biaxially oriented polyphenylene sulfide film is frequently broken and stable during film formation. The film could not be continuously formed.

(比較例2)
実施例1でシロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂の代わりにシロキサン変性されていないポリエーテルイミド樹脂(SABICイノベーティブプラスチックス社製 ウルテム1010A)を配合した以外は、実施例1と同様にして二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを作製した。得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの構成や特性についての測定、評価結果は、表1に示したとおりであり、この二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムは、製膜中に破れが頻発し、安定的に連続製膜することができなかった。
(Comparative Example 2)
A biaxially oriented polyphenylene sulfide was prepared in the same manner as in Example 1 except that a siloxane-modified polyetherimide resin (Ultem 1010A manufactured by SABIC Innovative Plastics) was used instead of the siloxane-modified polyetherimide resin in Example 1. A film was prepared. The measurement and evaluation results for the configuration and properties of the obtained biaxially oriented polyphenylene sulfide film are as shown in Table 1. This biaxially oriented polyphenylene sulfide film is frequently broken and stable during film formation. The film could not be continuously formed.

Figure 2013139532
Figure 2013139532

本発明のポリアリーレンスルフィドフィルムは、厚物であっても延伸斑が少なく、モーター、トランス、絶縁ケーブルなどの電気絶縁材料、成形材料、回路基板材料、回路・光学部材などの工程・離型材料、リチウムイオン電池材料、燃料電池材料、スピーカー振動板などの各種工業材料用途において、好適に使用することができる。   The polyarylene sulfide film of the present invention has few stretch spots even if it is a thick material, and is an electrical insulating material such as a motor, a transformer, an insulated cable, a molding material, a circuit board material, a process / release material such as a circuit / optical member, etc. In various industrial material applications such as lithium ion battery materials, fuel cell materials, speaker diaphragms, etc., they can be suitably used.

Claims (2)

ポリアリーレンスルフィド樹脂100重量部に対し、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂1〜20重量部を含有したポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなるポリアリーレンスルフィドフィルムであって、該ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の溶融結晶化温度(Tmc)(℃)と、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂含有前のポリアリーレンスルフィド樹脂の溶融結晶化温度(Tmc’)(℃)が(Tmc−Tmc’)≦−5(℃)の関係にあることを特徴とするポリアリーレンスルフィドフィルム。 A polyarylene sulfide film comprising a polyarylene sulfide resin composition containing 1 to 20 parts by weight of a siloxane-modified polyetherimide resin with respect to 100 parts by weight of a polyarylene sulfide resin, the molten crystal of the polyarylene sulfide resin composition Relationship between the crystallization temperature (Tmc) (° C.) and the melt crystallization temperature (Tmc ′) (° C.) of the polyarylene sulfide resin before containing the siloxane-modified polyetherimide resin is (Tmc−Tmc ′) ≦ −5 (° C.) A polyarylene sulfide film characterized by the above. 前記ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の溶融結晶化温度(Tmc)(℃)と、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂を配合する前のポリアリーレンスルフィド樹脂の溶融結晶化温度(Tmc’)(℃)が(Tmc−Tmc’)≦−10(℃)の関係にあることを特徴とする請求項1に記載のポリアリーレンスルフィドフィルム。 The melt crystallization temperature (Tmc) (° C.) of the polyarylene sulfide resin composition and the melt crystallization temperature (Tmc ′) (° C.) of the polyarylene sulfide resin before blending the siloxane-modified polyetherimide resin are (Tmc). The polyarylene sulfide film according to claim 1, wherein the relationship is −Tmc ′) ≦ −10 (° C.).
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