JP2013129695A - Water-repellent film forming composition, substrate with water-repellent film, and article for transportation device - Google Patents

Water-repellent film forming composition, substrate with water-repellent film, and article for transportation device Download PDF

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Yosuke Takeda
洋介 竹田
Tomoko Kishikawa
知子 岸川
Yasuteru Hoshino
泰輝 星野
Kenji Ishizeki
健二 石関
Atsushi Ito
敦史 伊藤
Hisao Iguma
久夫 猪熊
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a water-repellent film-forming composition, capable of forming a water-repellent layer having sufficient water repellency (particularly, dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance with less environmental loads, a substrate with the water-repellent layer, which has sufficient water repellency (particularly, dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance with less environmental loads, and an article for transportation device including the substrate with the water-repellent film.SOLUTION: The water-repellent film-forming composition includes: a silane compound (A) having 1-6C perfluoroalkyl group and a group including no perfluoroalkylene group in a linking group and a compound (B) including a silane compound (b1) having 1-6C perfluoroalkyl and a group including no perfluoroalkylene group in a linking group and/or a silane compound (b2) having a perfluoroether group including 1-6C perfluoroalkyl; and/or a partial hydrolysis polycondensate of the compound (A) and the compound (B).

Description

本発明は、撥水膜形成用組成物、これを用いて形成された撥水膜を有する撥水膜付き基体、および、該撥水膜付き基体からなる輸送機器用物品に関する。   The present invention relates to a composition for forming a water-repellent film, a substrate with a water-repellent film having a water-repellent film formed using the composition, and an article for transport equipment comprising the substrate with a water-repellent film.

基材の表面に撥水性を付与する方法としては、ペルフルオロアルキル基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物および溶媒を含む撥水撥油剤組成物を基材に塗布し、乾燥することによって撥水性被膜を形成する方法が知られている。該撥水撥油剤組成物としては、例えば、自動車ガラス用撥水剤組成物等が挙げられる。自動車ガラス用撥水剤組成物から形成される撥水層には、高い動的撥水性(水滴が転がりやすい性質、水滴除去性)、耐摩耗性および耐侯性が要求される。   As a method for imparting water repellency to the surface of a substrate, a water / oil repellent composition containing a fluorine-containing compound having a perfluoroalkyl group and a hydrolyzable silyl group and a solvent is applied to the substrate and dried to repel the substrate. Methods for forming an aqueous film are known. Examples of the water / oil repellent composition include a water repellent composition for automobile glass. The water repellent layer formed from the water repellent composition for automobile glass is required to have high dynamic water repellency (property of water droplets to be easily rolled, water drop removability), abrasion resistance and weather resistance.

該要求を満たす自動車ガラス用撥水剤組成物としては、例えば、下式(I)で表される化合物および溶媒を含む組成物が提案されている(特許文献1参照)。
(RfSi(R)(NCO)4−a−b …(I)。
(ただし、Rfは、炭素数8〜16のペルフルオロアルキル基を有する有機基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜16の有機基であり、aは、1または2であり、bは、0または1である。)
As a water repellent composition for automobile glass that satisfies this requirement, for example, a composition containing a compound represented by the following formula (I) and a solvent has been proposed (see Patent Document 1).
(Rf 1 ) a Si (R) b (NCO) 4-ab (I).
(Where Rf 1 is an organic group having a perfluoroalkyl group having 8 to 16 carbon atoms, R is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 16 carbon atoms, a is 1 or 2, and b Is 0 or 1.)

ところが、炭素数8以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物は、環境負荷が高いことから、近年、法規制や自主規制の対象となってきている。そのため、炭素数6以下のペルフルオロアルキル基を有する撥水撥油剤用組成物用の含フッ素化合物が要求されている。しかし、炭素数6以下のペルフルオロアルキル基を有する含フッ素化合物、例えば、CF(CF−CHCH−SiClを含む撥水撥油剤用組成物を用いて得られる撥水層は、従来の炭素数8以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物を用いて形成された撥水層に比べ、ペルフルオロアルキル基に基づく結晶性(すなわち、分子間でパッキングする性質)が劣るため、撥水性、特に動的撥水性が低下したり、耐候性や耐摩耗性が充分でないという問題があった。 However, compounds having a perfluoroalkyl group having 8 or more carbon atoms have been subject to legal regulations and voluntary regulations in recent years due to their high environmental impact. Therefore, a fluorine-containing compound for a water / oil repellent composition having a perfluoroalkyl group having 6 or less carbon atoms is required. However, a water-repellent layer obtained by using a water- and oil-repellent composition containing a fluorine-containing compound having a perfluoroalkyl group having 6 or less carbon atoms, for example, CF 3 (CF 2 ) 5 —CH 2 CH 2 —SiCl 3. Has poor crystallinity based on the perfluoroalkyl group (that is, the property of packing between molecules) compared to the conventional water repellent layer formed using a compound having a perfluoroalkyl group having 8 or more carbon atoms. In particular, there are problems that the dynamic water repellency is lowered and the weather resistance and wear resistance are not sufficient.

特許第2800786号公報Japanese Patent No. 2800786

本発明は、充分な撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性を有する撥水層を形成でき、かつ環境負荷が少ない撥水膜形成用組成物、ならびに充分な撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない撥水層付き基体および該撥水膜付き基体からなる輸送機器用物品の提供を目的とする。   The present invention provides a water-repellent film-forming composition that can form a water-repellent layer having sufficient water repellency (particularly dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance and has a low environmental load, and sufficient water repellency ( It is an object of the present invention to provide a substrate with a water-repellent layer and a substrate for transport equipment comprising the substrate with a water-repellent film, particularly having dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance and low environmental load.

本発明は、下記化合物(A)と下記化合物(B)とを含む、および/または、下記化合物(A)と下記化合物(B)との部分加水分解共縮合物を含む、撥水膜形成用組成物を提供する。
化合物(A):下記一般式(1)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
F1−Y−SiR (3−n1) n1 …(1)
(ただし、式(1)中、RF1は、炭素数pの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
は、炭素数qの、両末端が−CH−であり、1つ以上のペルフルオロアルキレン基を含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を含まない、ポリフルオロアルキレン基であり、
pは、2〜6の整数であり、
qは、4以上の整数であり、
p+qは、10以上の整数であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n1は、1〜3の整数であって、
およびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
化合物(B):下記化合物(b1)、下記化合物(b2)およびそれらの部分加水分解共縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
化合物(b1):下記一般式(2)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
(RF2−Y−SiR (4−a−n2) n2 …(2)
(ただし、式(2)中、RF2は、炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基であり、
は、ペルフルオロアルキレン基を含まない2価の有機基であり、
aは、1または2であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n2は、1〜3の整数であり、a+n2は3または4であって、
F2−YおよびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
化合物(b2):下記一般式(3)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
F3−O−(RF4−O)−RF5−Y−SiR (3−n3) n3 …(3)
(ただし、式(3)中、RF3は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基であり、
F4およびRF5は炭素数1〜3のペルフルオロアルキレン基であり、
は、アルキレン基、または、RF5と結合する末端もしくは炭素−炭素原子間にアミド結合、ウレタン結合およびエーテル性酸素原子から選ばれる1種を有してもよいアルキレン基であり、
mは、1〜50の整数であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n3は、1〜3の整数であって、
およびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
The present invention includes the following compound (A) and the following compound (B) and / or a partially hydrolyzed cocondensate of the following compound (A) and the following compound (B) for forming a water repellent film. A composition is provided.
Compound (A): a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (1) and a partial hydrolysis-condensation product thereof.
R F1 —Y 1 —SiR 1 (3-n1) X 1 n1 (1)
(However, in Formula (1), R F1 is a linear perfluoroalkyl group having carbon number p,
Y 1 is a polyfluoroalkylene group having a carbon number q, both ends of —CH 2 —, one or more perfluoroalkylene groups, and no etheric oxygen atom between carbon-carbon atoms,
p is an integer of 2 to 6,
q is an integer of 4 or more,
p + q is an integer of 10 or more,
R 1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 1 is a hydrolyzable group;
n1 is an integer of 1 to 3,
When a plurality of R 1 and X 1 are present, these may be different from each other or the same. )
Compound (B): A fluorine-containing organosilicon compound selected from the following compound (b1), the following compound (b2), and partial hydrolysis cocondensates thereof.
Compound (b1): a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (2) and a partial hydrolysis condensate thereof.
(R F2 -Y 2 ) a -SiR 2 (4-a-n2) X 2 n2 (2)
(However, in Formula (2), R <F2> is a C1-C6 perfluoroalkyl group,
Y 2 is a divalent organic group not containing a perfluoroalkylene group,
a is 1 or 2,
R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 2 is a hydrolyzable group,
n2 is an integer of 1 to 3, a + n2 is 3 or 4,
When a plurality of R F2 —Y 2 and X 2 are present, these may be different from each other or the same. )
Compound (b2): a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (3) and a partial hydrolysis-condensation product thereof.
R F3 —O— (R F4 —O) m —R F5 —Y 3 —SiR 3 (3-n3) X 3 n3 (3)
(However, in Formula (3), R <F3 > is a C1-C6 perfluoroalkyl group,
R F4 and R F5 are perfluoroalkylene groups having 1 to 3 carbon atoms,
Y 3 is an alkylene group or an alkylene group which may have one selected from an amide bond, a urethane bond and an etheric oxygen atom between the terminal or carbon-carbon atom bonded to R F5 ,
m is an integer from 1 to 50;
R 3 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 3 is a hydrolyzable group,
n3 is an integer of 1 to 3,
When a plurality of R 3 and X 3 are present, these may be different from each other or the same. )

本発明は、基体と、前記基体の表面の少なくとも一部に撥水膜とを有する撥水膜付き基体であって、前記撥水膜は1層以上で構成され、かつ最外層に上記本発明の撥水膜形成用組成物を用いて形成された撥水膜を有する撥水膜付き基体を提供する。
本発明は、上記本発明の撥水膜付き基体を具備する輸送機器用物品を提供する。
The present invention is a substrate with a water-repellent film having a substrate and a water-repellent film on at least a part of the surface of the substrate, wherein the water-repellent film is composed of one or more layers, and the present invention is formed on the outermost layer. A substrate with a water-repellent film having a water-repellent film formed using the composition for forming a water-repellent film is provided.
The present invention provides an article for transport equipment comprising the substrate with a water-repellent film of the present invention.

本発明によれば、充分な撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性を有する撥水層を形成でき、かつ環境負荷が少ない撥水膜形成用組成物、ならびに充分な撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない撥水層付き基体および該撥水膜付き基体からなる輸送機器用物品の提供ができる。   According to the present invention, a water-repellent film-forming composition capable of forming a water-repellent layer having sufficient water repellency (particularly dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance and having a low environmental load, and sufficient water repellency. It is possible to provide a substrate with a water-repellent layer that has aqueous (particularly dynamic water repellency), abrasion resistance, and weather resistance and has a low environmental load, and an article for a transportation device comprising the substrate with the water-repellent film.

以下に本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、下記説明に限定して解釈されるものではない。
本明細書における式(1)で表される化合物を、化合物(1)という。他の化合物も同様である。また、本明細書におけるポリフルオロアルキレン基は、アルキレン基の水素原子の2個以上がフッ素原子に置換された基をいう。ペルフルオロアルキル基およびペルフルオロアルキレン基は、それぞれアルキル基およびアルキレン基の水素原子が全てフッ素原子に置換された基をいう。
Embodiments of the present invention will be described below. In addition, this invention is limited to the following description and is not interpreted.
The compound represented by Formula (1) in this specification is called compound (1). The same applies to other compounds. In addition, the polyfluoroalkylene group in the present specification refers to a group in which two or more hydrogen atoms of the alkylene group are substituted with fluorine atoms. The perfluoroalkyl group and the perfluoroalkylene group are groups in which all of the hydrogen atoms of the alkyl group and the alkylene group are substituted with fluorine atoms, respectively.

[撥水膜形成用組成物]
本発明の撥水膜形成用組成物は、上記化合物(A)と上記化合物(B)とを含む、および/または、上記化合物(A)と上記化合物(B)との部分加水分解共縮合物を含む。
本発明の撥水膜形成用組成物を用いて形成される撥水膜(本発明の撥水膜付き基体における撥水層)の有する優れた動的撥水性は、上記化合物(B)の分子構造によるものである。より具体的には、化合物(B)の有する含フッ素有機基が、上記撥水膜において、被膜表面の水滴の移動性または転落性の向上に寄与している。また、本発明の撥水膜形成用組成物に、上記化合物(A)を配合することにより、上記撥水膜の耐摩耗性や耐候性が高められる。また、化合物(A)および化合物(B)はいずれも、炭素数6以下のペルフルオロアルキル基を有する含フッ素化合物であり環境に与える負荷が少ない。
[Composition for water-repellent film formation]
The composition for forming a water-repellent film of the present invention comprises the compound (A) and the compound (B) and / or a partially hydrolyzed cocondensate of the compound (A) and the compound (B). including.
The excellent dynamic water repellency of the water repellent film (water repellent layer in the substrate with the water repellent film of the present invention) formed by using the water repellent film forming composition of the present invention is a molecule of the above compound (B). It depends on the structure. More specifically, the fluorine-containing organic group possessed by the compound (B) contributes to the improvement of the mobility or falling property of water droplets on the coating surface in the water-repellent film. Moreover, the abrasion resistance and weather resistance of the water-repellent film can be enhanced by blending the compound (A) with the water-repellent film-forming composition of the present invention. In addition, both the compound (A) and the compound (B) are fluorine-containing compounds having a perfluoroalkyl group having 6 or less carbon atoms and have a small load on the environment.

以下、本発明の撥水膜形成用組成物が含有する化合物(A)および化合物(B)について説明する。
[化合物(A)]
本発明の組成物が含有する化合物(A)は、下記一般式(1)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物である。
F1−Y−SiR (3−n1) n1 …(1)
(ただし、式(1)中、RF1は、炭素数pの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
は、炭素数qの、両末端が−CH−であり、1つ以上のペルフルオロアルキレン基を含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を含まない、ポリフルオロアルキレン基であり、
pは、2〜6の整数であり、
qは、4以上の整数であり、
p+qは、10以上の整数であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n1は、1〜3の整数であって、
およびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
Hereinafter, the compound (A) and the compound (B) contained in the composition for forming a water-repellent film of the present invention will be described.
[Compound (A)]
The compound (A) contained in the composition of the present invention is a fluorine-containing organosilicon compound selected from the compound represented by the following general formula (1) and a partial hydrolysis condensate thereof.
R F1 —Y 1 —SiR 1 (3-n1) X 1 n1 (1)
(However, in Formula (1), R F1 is a linear perfluoroalkyl group having carbon number p,
Y 1 is a polyfluoroalkylene group having a carbon number q, both ends of —CH 2 —, one or more perfluoroalkylene groups, and no etheric oxygen atom between carbon-carbon atoms,
p is an integer of 2 to 6,
q is an integer of 4 or more,
p + q is an integer of 10 or more,
R 1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 1 is a hydrolyzable group;
n1 is an integer of 1 to 3,
When a plurality of R 1 and X 1 are present, these may be different from each other or the same. )

化合物(1)は、ケイ素原子に1個のポリフルオロアルキル基(RF1−Y)と3−n1個の炭化水素基(R)と、n1(ただし、n1は1〜3の整数)個の加水分解性基(X)とが結合した含フッ素加水分解性ケイ素化合物である。
F1−Y−基におけるRF1は、炭素数p(ただし、pは2〜6の整数である。)の直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、pが2以上であれば、撥水撥油性に優れる。pが6以下であれば、含フッ素化合物の分解生成物による環境負荷が少ない。pは、原料の入手性の点から、2、4または6が好ましい。
Compound (1) includes one polyfluoroalkyl group (R F1 —Y 1 ), 3-n1 hydrocarbon group (R 1 ), and n1 (where n1 is an integer of 1 to 3) per silicon atom. It is a fluorine-containing hydrolyzable silicon compound in which one hydrolyzable group (X 1 ) is bonded.
R F1 -Y 1 - R F1 is at the base, the carbon number p (. Here, p is an integer from 2 to 6) is a linear perfluoroalkyl group, if p is 2 or more, the water repellent Excellent oil repellency. If p is 6 or less, there is little environmental load by the decomposition product of a fluorine-containing compound. p is preferably 2, 4 or 6 from the viewpoint of availability of raw materials.

は、両末端が−CH−であり、1つ以上のペルフルオロアルキレン基を含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を含まない、炭素数q(ただし、qは、4以上の整数である。)のポリフルオロアルキレン基である。Yは、直鎖状のポリフルオロアルキレン基が好ましい。qはYの炭素数を示し4以上である。ただし、qの値が大きいほど化合物(1)の融点は高くなり、取り扱いが悪くなるおそれがある。よって、qの好ましい上限値は28であり、22がより好ましく、16が特に好ましい。
F1−Y−基は、上記炭素数2〜6のRF1と炭素数4以上の連結基(Y)とからなる鎖長が長い、具体的には、p+qで示される炭素数が10以上のポリフルオロアルキル基である。p+qが該範囲であれば、RF1−Y−基による結晶性が維持され、得られる撥水層は動的撥水性を有しながら、耐候性や耐摩耗性にも優れる。p+qは、10〜30が好ましく、10〜24がより好ましく、10〜18が特に好ましい。
Y 1 is —CH 2 — at both ends, contains one or more perfluoroalkylene groups, does not contain an etheric oxygen atom between carbon-carbon atoms, and has a carbon number q (where q is 4 or more It is an integer.) Polyfluoroalkylene group. Y 1 is preferably a linear polyfluoroalkylene group. q represents the number of carbon atoms of Y 1 and is 4 or more. However, the larger the value of q, the higher the melting point of the compound (1), and the handling may be worsened. Therefore, the preferable upper limit of q is 28, 22 is more preferable, and 16 is particularly preferable.
The R F1 —Y 1 — group has a long chain length composed of R F1 having 2 to 6 carbon atoms and a linking group (Y 1 ) having 4 or more carbon atoms, specifically, the carbon number represented by p + q is 10 or more polyfluoroalkyl groups. When p + q is within this range, the crystallinity due to the R F1 —Y 1 — group is maintained, and the resulting water-repellent layer has dynamic water repellency and excellent weather resistance and wear resistance. p + q is preferably 10-30, more preferably 10-24, and particularly preferably 10-18.

におけるRF1側の末端が−CH−であることにより、分解生成物として炭素数8以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物を生成することがないため、化合物(1)は環境負荷が少ない。
におけるSi側の末端は、得られる撥水層の耐侯性および化合物(1)の合成のしやすさ等の点から、−CHCH−、−CHCHCH−、−CHCHCHCH−が挙げられ、−CHCH−が特に好ましい。
Since the terminal on the R F1 side in Y 1 is —CH 2 —, a compound having a perfluoroalkyl group having 8 or more carbon atoms is not generated as a decomposition product, so that the compound (1) has little environmental load. .
Terminus of Si side in Y 1, from the viewpoint of ease of synthesis of the weather resistance and compounds of the resulting water-repellent layer (1), -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 — may be mentioned, and —CH 2 CH 2 — is particularly preferable.

上記の通りRF1は直鎖状であり、Yは直鎖状であることが好ましい。RF1に加えてYが直鎖状であれば、RF1−Y−基が直鎖状となり、化合物(1)の結晶性がより高まり、得られる撥水層の動的撥水性や耐候性、耐摩耗性の向上に寄与できる。 As described above, R F1 is preferably linear and Y 1 is preferably linear. If in addition to R F1 Y 1 is straight-chain, R F1 -Y 1 - group is a linear, increasing more the crystallinity of the compound (1), the dynamic water repellency of the resulting water-repellent layer Ya It can contribute to the improvement of weather resistance and wear resistance.

は、加水分解性基である。加水分解性基とは、Si−X基の加水分解によって、Si−OHを形成し得る基である。
としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられ、化合物(1)の安定性と加水分解のし易さとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基およびハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。化合物(1)におけるXとしては、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。これらは、製造上の目的、用途等に応じて適宜選択され用いられる。化合物(1)中にXが複数個存在する場合には、Xが同じ基でも異なる基でもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。
X 1 is a hydrolyzable group. The hydrolyzable group is a group that can form Si—OH by hydrolysis of the Si—X 1 group.
Examples of X 1 include an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoxime group, an alkenyloxy group, an amino group, an aminoxy group, an amide group, an isocyanate group, and a halogen atom. The stability of the compound (1) and the ease of hydrolysis can be given. From the standpoint of balance, an alkoxy group, an isocyanate group and a halogen atom are preferable. As the halogen atom, a chlorine atom is preferable. As an alkoxy group, a C1-C4 alkoxy group is preferable and a methoxy group or an ethoxy group is more preferable. X 1 in the compound (1) is particularly preferably a chlorine atom, a methoxy group, or an ethoxy group. These are appropriately selected and used according to the purpose of manufacture, application and the like. When a plurality of X 1 are present in compound (1), X 1 may be the same group or different groups, and the same group is preferable from the viewpoint of availability.

n1は、化合物(1)中の加水分解性基(X)の個数を示し、その数は1〜3の整数である。n1が1以上であれば、得られる撥水層と基材との密着性が良好となる。n1は、得られる撥水層と基材との密着性の点から、2または3が好ましく、3が特に好ましい。 n1 represents the number of hydrolyzable groups (X 1 ) in the compound (1), and the number is an integer of 1 to 3. If n1 is 1 or more, the adhesiveness of the obtained water-repellent layer and a base material will become favorable. n1 is preferably 2 or 3, and particularly preferably 3, from the viewpoint of adhesion between the obtained water-repellent layer and the substrate.

は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、原料の入手や取り扱いが容易である点から、炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。化合物(1)中のRの個数は3−n1個である。化合物(1)中にRが複数個存在する場合には、Rが同じ基でも異なる基でもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。
本発明において、化合物(1)は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
R 1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable from the viewpoint of easy availability and handling of raw materials. The number of R 1 in the compound (1) is 3-n1. When the compound (1) R 1 in the presence plurality may be in R 1 are different even in the same group group, in terms of it is ease to obtain the same group.
In this invention, a compound (1) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

化合物(1)としては、得られる撥水層の撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性、ならびに合成のし易さの点から、下記式(1−1)で表される化合物が好ましい。
F1−CHCH−(CF−CHCH−SiR (3−n1) n1 …(1−1)
(ただし、式(1−1)中、RF1、R、X、n1の意味および好ましい態様は、上記式(1)と同様である。rは1以上の整数であり、p+r+4の意味および好ましい態様は、上記式(1)のp+qと同様である。)
The compound (1) is represented by the following formula (1-1) from the viewpoint of water repellency (particularly dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance of the resulting water repellent layer, and ease of synthesis. Are preferred.
R F1 —CH 2 CH 2 — (CF 2 ) r —CH 2 CH 2 —SiR 1 (3-n1) X 1 n1 (1-1)
(However, in formula (1-1), the meanings and preferred embodiments of R F1 , R 1 , X 1 , and n1 are the same as those in the above formula (1). R is an integer of 1 or more, meaning p + r + 4 The preferred embodiment is the same as p + q in the above formula (1).)

p+r+4を上記式(1)のp+qと同様、すなわち、好ましくは10〜30、より好ましくは10〜24、特に好ましくは10〜18とするために、rの好ましい上限値は24であり、18がより好ましく、12が特に好ましい。p+q+4が該範囲であれば、RF1−CHCH−(CF−CHCH−基によって化合物(1−1)の結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。 In order to make p + r + 4 the same as p + q in the above formula (1), that is, preferably 10-30, more preferably 10-24, particularly preferably 10-18, the preferred upper limit of r is 24, More preferably, 12 is particularly preferable. When p + q + 4 is within the above range, the crystallinity of the compound (1-1) is maintained by the R F1 —CH 2 CH 2 — (CF 2 ) r —CH 2 CH 2 — group, and the resulting water repellent layer has a dynamic structure. Water repellency is improved.

化合物(1−1)の好ましい具体例としては、下記式(1−11)〜(1−15)のいずれかで表わされる化合物が挙げられる。ただし、各式中Xの意味および好ましい態様は、上記式(1)と同様である。
CF(CF−CHCH−(CF−CHCH−SiX …(1−11)、
CFCF−CHCH−(CF−CHCH−SiX …(1−12)、
CF(CF−CHCH−(CF−CHCH−SiX …(1−13)、
CF(CF−CHCH−(CF−CHCH−SiX …(1−14)、
CF(CF−CHCH−(CF−CHCH−SiX …(1−15)。
Preferable specific examples of compound (1-1) include compounds represented by any of the following formulas (1-11) to (1-15). However, the meaning and preferred embodiment of X 1 in each formula are the same as those in the above formula (1).
CF 3 (CF 2) 3 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 6 -CH 2 CH 2 -SiX 1 3 ... (1-11),
CF 3 CF 2 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 6 -CH 2 CH 2 -SiX 1 3 ... (1-12),
CF 3 (CF 2) 5 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 6 -CH 2 CH 2 -SiX 1 3 ... (1-13),
CF 3 (CF 2) 3 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 2 -CH 2 CH 2 -SiX 1 3 ... (1-14),
CF 3 (CF 2) 3 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 4 -CH 2 CH 2 -SiX 1 3 ... (1-15).

化合物(1−11)〜(1−15)は、単独でまたは2種以上を組合せて用いることができる。本発明においては、これらのなかでも化合物(1−11)が好ましく、下記式(1−11a)で表される化合物が特に好ましい。
CF(CF−CHCH−(CF−CHCH−SiCl…(1−11a)。
Compounds (1-11) to (1-15) can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among these, the compound (1-11) is preferable, and the compound represented by the following formula (1-11a) is particularly preferable.
CF 3 (CF 2) 3 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 6 -CH 2 CH 2 -SiCl 3 ... (1-11a).

本発明に用いる上記化合物(1)を製造する方法としては、例えば、化合物(1−1)については以下の製造方法が挙げられる。
まず、ペルフルオロアルキルアイオダイド(化合物(1a))とα、ω−ジビニルペルフルオロアルカン(化合物(1b))との付加反応によって化合物(1c)を得て、次いで、化合物(1c)を還元剤(たとえば、水素化トリブチルスズ、トリス(トリメチルシリル)シラン等)によって還元して化合物(1d)を得て、次いで、化合物(1d)と化合物(1e)とのヒドロシリル化反応によって、化合物(1−1)を得る方法である。ただし、以下の各式中におけるRF1、R、X、n1、rの意味は化合物(1−1)における意味と同じ意味を示す。
Examples of the method for producing the compound (1) used in the present invention include the following production methods for the compound (1-1).
First, compound (1c) is obtained by addition reaction of perfluoroalkyl iodide (compound (1a)) with α, ω-divinylperfluoroalkane (compound (1b)), and then compound (1c) is reduced with a reducing agent (for example, , Tributyltin hydride, tris (trimethylsilyl) silane, etc.) to obtain compound (1d), and then compound (1-1) is obtained by hydrosilylation reaction between compound (1d) and compound (1e). Is the method. However, the meanings of R F1 , R 1 , X 1 , n1, and r in the following formulas are the same as those in the compound (1-1).

F1−I …(1a)、
CH=CH−(CF−CH=CH …(1b)、
F1−CHCHI−(CF−CH=CH …(1c)。
F1−CHCH−(CF−CH=CH …(1d)。
HSiR (3−n1) n1 …(1e)、
F1−CHCH−(CF−CHCH−SiR (3−n1) n1 …(1−1)。
R F1 -I (1a),
CH 2 = CH- (CF 2) r -CH = CH 2 ... (1b),
R F1 -CH 2 CHI- (CF 2 ) r -CH = CH 2 ... (1c).
R F1 -CH 2 CH 2 - ( CF 2) r -CH = CH 2 ... (1d).
HSiR 1 (3-n1) X 1 n1 (1e),
R F1 -CH 2 CH 2 - ( CF 2) r -CH 2 CH 2 -SiR 1 (3-n1) X 1 n1 ... (1-1).

上記製造方法は、Yの両末端が−CHCH−である場合の化合物(1)の製造方法である。Yが他の構造である化合物は、上記式(1b)で表される化合物の代わりに、式(1b)の−(CF−部分が異なる他の化合物を用いて同様の反応を実施することにより製造できる。 The manufacturing method described above, both ends of the Y is -CH 2 CH 2 - is a process for the preparation of a compound when it is (1). For compounds in which Y has another structure, the same reaction is performed using another compound having a different-(CF 2 ) r -moiety in formula (1b) instead of the compound represented by formula (1b). Can be manufactured.

また、例えば、化合物(1a)に、CH=CHおよび/またはCH=CFを適宜反応させ、さらに必要に応じてCF=CFを反応させて下記式(1f)で表される化合物を合成する。
F1−{(CHCH・(CHCF・(CFCF}−I …(1f)。
(RF1は上記式(1)と同様であり、xは0〜10の整数、yは0〜20の整数、zは0〜10の整数、x+yは1以上の整数、y+zは1以上の整数であって、化合物(1f)としての炭素数は8以上である。)
化合物(1f)にエチレンを付加反応させ、次に、塩基の存在下、脱ヨウ化水素させて得られた化合物と化合物(1e)とをヒドロシリル化反応させることで、化合物(1)に分類される下記式(12)に示される化合物を製造することができる。なお、式(12)中、RF1、R、X、n1は上記式(1)と同様であり、x、y、zは化合物(1f)と同様である。
F1−{(CHCH・(CHCF・(CFCF}−CHCH−R (3−n1) n1 …(12)
Further, for example, the compound (1a), by appropriately reacting the CH 2 = CH 2 and / or CH 2 = CF 2, is allowed to react with CF 2 = CF 2 and if necessary by represented by the following formula (1f) A compound is synthesized.
R F1 - {(CH 2 CH 2) x · (CH 2 CF 2) y · (CF 2 CF 2) z} -I ... (1f).
(R F1 is the same as the above formula (1), x is an integer of 0 to 10, y is an integer of 0 to 20, z is an integer of 0 to 10, x + y is an integer of 1 or more, and y + z is 1 or more. (It is an integer and the number of carbon atoms as the compound (1f) is 8 or more.)
The compound (1f) is subjected to an addition reaction with ethylene, then dehydroiodinated in the presence of a base, and the compound (1e) is subjected to a hydrosilylation reaction, whereby the compound (1f) is classified. A compound represented by the following formula (12) can be produced. In Formula (12), R F1 , R 1 , X 1 and n1 are the same as in Formula (1) above, and x, y and z are the same as in Compound (1f).
R F1 - {(CH 2 CH 2) x · (CH 2 CF 2) y · (CF 2 CF 2) z} -CH 2 CH 2 -R 1 (3-n1) X 1 n1 ... (12)

本発明の撥水膜形成用組成物中に含まれる化合物(A)は、化合物(1)の部分加水分解縮合物であってもよい。化合物(1)のような加水分解性ケイ素化合物の部分加水分解縮合物とは、溶媒中で酸触媒やアルカリ触媒などの触媒と水の存在下に該化合物が有する加水分解性基の全部または一部が加水分解し、次いで脱水縮合することによって生成するオリゴマー(多量体)をいう。ただし、この部分加水分解縮合物の縮合度(多量化度)は、生成物が溶媒に溶解する程度である必要がある。化合物(A)としては、化合物(1)であっても、化合物(1)の部分加水分解縮合物であってもよく、化合物(1)とその部分加水分解縮合物との混合物、例えば、未反応の化合物(1)が含まれる化合物(1)の部分加水分解縮合物であってもよい。   The compound (A) contained in the composition for forming a water repellent film of the present invention may be a partially hydrolyzed condensate of the compound (1). The partially hydrolyzed condensate of a hydrolyzable silicon compound such as the compound (1) is all or one of the hydrolyzable groups possessed by the compound in the presence of a catalyst such as an acid catalyst or an alkali catalyst and water in a solvent. An oligomer (multimer) produced by hydrolysis of a part followed by dehydration condensation. However, the degree of condensation (degree of multimerization) of this partially hydrolyzed condensate needs to be such that the product is dissolved in the solvent. Compound (A) may be compound (1) or a partial hydrolysis condensate of compound (1), and a mixture of compound (1) and its partial hydrolysis condensate, for example, It may be a partially hydrolyzed condensate of compound (1) containing compound (1) of the reaction.

[化合物(B)]
本発明の組成物が含有する化合物(B)は、下記化合物(b1)、下記化合物(b2)およびそれらの部分加水分解共縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物である。
[Compound (B)]
The compound (B) contained in the composition of the present invention is a fluorine-containing organosilicon compound selected from the following compound (b1), the following compound (b2), and partial hydrolysis cocondensates thereof.

化合物(b1)は、下記一般式(2)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物である。
(RF2−Y−SiR (4−a−n2) n2 …(2)
(ただし、式(2)中、RF2は、炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基であり、
は、ペルフルオロアルキレン基を含まない2価の有機基であり、
aは、1または2であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n2は、1〜3の整数であり、a+n2は3または4であって、
F2−YおよびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
The compound (b1) is a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (2) and a partial hydrolysis condensate thereof.
(R F2 -Y 2 ) a -SiR 2 (4-a-n2) X 2 n2 (2)
(However, in Formula (2), R <F2> is a C1-C6 perfluoroalkyl group,
Y 2 is a divalent organic group not containing a perfluoroalkylene group,
a is 1 or 2,
R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 2 is a hydrolyzable group,
n2 is an integer of 1 to 3, a + n2 is 3 or 4,
When a plurality of R F2 —Y 2 and X 2 are present, these may be different from each other or the same. )

化合物(2)は、ケイ素原子にa(ただし、aは1または2)個の含フッ素有機基(RF2−Y−)基と、4−a−n2(ただし、a+n2は3または4)個の炭化水素基(R)と、n2(ただし、n2は1〜3の整数)個の加水分解性基(X)とが結合した含フッ素加水分解性ケイ素化合物である。
F2−Y−基における、RF2は環構造を有していてもよい炭素数1〜6の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を含まないペルフルオロアルキル基を示す。RF2は、前記条件を満たせば、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよく、環状構造であってもよく、分岐構造および環状構造を部分的に有する構造であってもよい。これらのなかでもRF2としては、直鎖構造または分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。RF2の炭素数は3〜6が好ましい。
Compound (2) includes a (wherein a is 1 or 2) fluorine-containing organic group (R F2 —Y 2 —) group and 4-a-n2 (where a + n2 is 3 or 4) on a silicon atom. This is a fluorine-containing hydrolyzable silicon compound in which n hydrocarbon groups (R 2 ) and n 2 (where n 2 is an integer of 1 to 3) hydrolyzable groups (X 2 ) are bonded.
In group, R F2 carbon number of 1 to 6 carbon atoms which may have a ring structure - - R F2 -Y 2 shows a perfluoroalkyl group containing no etheric oxygen atom between carbon atoms. R F2 may have a straight chain structure, a branched structure, a cyclic structure, or a structure partially having a branched structure and a cyclic structure as long as the above conditions are satisfied. Good. Among these, as R F2 , a linear structure or a branched structure is preferable, and a linear structure is more preferable. R F2 preferably has 3 to 6 carbon atoms.

は、ペルフルオロアルキレン基を含まない2価の有機基である。Yの炭素数は、1〜15が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。Yは、好ましくは、−(CH(eは、1〜6の整数である)、−CONH(CH(gは、1〜5の整数である)および−CONH(CHNH(CH5−h(hは、1〜4の整数である)から選ばれる2価有機基が挙げられ、より好ましくは、−(CH、−CONH(CH、−CONH(CHNH(CH等が挙げられる。 Y 2 is a divalent organic group not containing a perfluoroalkylene group. Y number 2 carbons, preferably 1 to 15, more preferably 1 to 10, 1 to 6 is particularly preferred. Y 2 is preferably — (CH 2 ) e (e is an integer from 1 to 6), —CONH (CH 2 ) g (g is an integer from 1 to 5) and —CONH (CH 2 ) a divalent organic group selected from h NH (CH 2 ) 5-h (h is an integer of 1 to 4), more preferably — (CH 2 ) 2 , —CONH (CH 2 ) 3 , —CONH (CH 2 ) 2 NH (CH 2 ) 3 and the like.

F2−Y−基は、上記炭素数1〜6のRF2とペルフルオロアルキレン基を含まないYとからなる含フッ素有機基である。Yがペルフルオロアルキレン基を有しないことにより、分解生成物として炭素数8以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物を生成することがないため、化合物(2)は環境負荷が少ない。化合物(2)において、ケイ素原子に結合するRF2−Y−基の数はaで示される。aは1または2であり、aが2の場合、RF2−Y−基は同じでも異なってもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。本発明においてaは1が好ましい。 The R F2 —Y 2 — group is a fluorine-containing organic group composed of the above-mentioned R F2 having 1 to 6 carbon atoms and Y 2 not containing a perfluoroalkylene group. Since Y 2 does not have a perfluoroalkylene group, a compound having a perfluoroalkyl group having 8 or more carbon atoms as a decomposition product is not generated, so that the compound (2) has little environmental load. In the compound (2), the number of R F2 —Y 2 — groups bonded to the silicon atom is represented by a. a is 1 or 2, and when a is 2, the R F2- Y 2 -groups may be the same or different, and are preferably the same group from the viewpoint of availability. In the present invention, a is preferably 1.

化合物(2)における加水分解性基(X)は、化合物(1)における加水分解性基(X)と、好ましい態様を含めて同様とできる。なお、化合物(2)中にXが複数個存在する場合には、Xが同じ基でも異なる基でもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。 Compound (2) in the hydrolyzable group (X 2) it may be the same, including the hydrolyzable group in the compound (1) (X 1), the preferred embodiments. Incidentally, the compound (2) X 2 in the case where there are a plurality, may be X 2 are different even in the same group group, it is preferable in terms of ease availability of the same group.

n2は、化合物(2)中の加水分解性基(X)の個数を示し、その数は1〜3の整数である。n2が1以上であれば、得られる撥水層と基材との密着性が良好となる。n2は、得られる撥水層と基材との密着性の点から、2または3が好ましく、3が特に好ましい。 n2 represents the number of hydrolyzable groups (X 2 ) in the compound (2), and the number is an integer of 1 to 3. If n2 is 1 or more, the adhesiveness of the water-repellent layer obtained and a base material will become favorable. n2 is preferably 2 or 3, and particularly preferably 3, from the viewpoint of adhesion between the obtained water-repellent layer and the substrate.

は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示すが、これらのうちでも、原料の入手や取り扱いが容易である点から、炭素数1〜4の炭化水素基が好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
本発明において、化合物(2)は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Among these, a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms is preferable because the raw materials are easily obtained and handled. A methyl group or an ethyl group is particularly preferable.
In this invention, a compound (2) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

化合物(2)としては、得られる撥水層の撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性、ならびに合成のし易さの点から、下記式(2−1)〜(2−6)のいずれかで表わされる化合物が好ましい。
F(CF−(CH−SiX …(2−1)
F(CF−(CH−SiR …(2−2)
F(CF−CONH(CH−SiX …(2−3)
F(CF−CONH(CH−SiR …(2−4)
F(CF−CONH(CHNH(CH5−h−SiX …(2−5)
F(CF−CONH(CHNH(CH5−h−SiR …(2−6)
(ただし、式(2−1)〜(2−6)中、eは1〜6の整数であり、fは1〜6の整数であり、gは1〜5の整数であり、hは1〜4の整数であり、Xは互いに異なっていても同一であってもよい加水分解性基である。)
The compound (2) includes the following formulas (2-1) to (2) from the viewpoint of water repellency (particularly dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance of the resulting water repellent layer, and ease of synthesis. The compound represented by any one of -6) is preferable.
F (CF 2) e - ( CH 2) f -SiX 2 3 ... (2-1)
F (CF 2) e - ( CH 2) f -SiR 2 X 2 2 ... (2-2)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) g -SiX 2 3 ... (2-3)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) g -SiR 2 X 2 2 ... (2-4)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) h NH (CH 2) 5-h -SiX 2 3 ... (2-5)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) h NH (CH 2) 5-h -SiR 2 X 2 2 ... (2-6)
(In the formulas (2-1) to (2-6), e is an integer of 1 to 6, f is an integer of 1 to 6, g is an integer of 1 to 5, and h is 1. Is an integer of ˜4, and X 2 is a hydrolyzable group which may be the same or different.

化合物(2−1)〜(2−6)は、単独でまたは2種以上を組合せて用いることができる。本発明においては、これらのなかでも化合物(2−1)が好ましく、下記式(2−11)で表される化合物が特に好ましい。
F(CF(CHSiX …(2−11)
(ただし、式(2−11)中、Xは、互いに異なっていても、同一であってもよい加水分解性基である。)
化合物(2−11)としては、3個の加水分解性基が全て塩素原子である、以下の化合物が好ましい。
13CHCHSiCl …(2−11a)
本発明に用いる上記化合物(2)は、一般的な方法で製造可能である。また、化合物(A)としては市販品があるので、本発明にはこのような市販品を用いることも可能である。
Compounds (2-1) to (2-6) can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among these, the compound (2-1) is preferable, and the compound represented by the following formula (2-11) is particularly preferable.
F (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 SiX 2 3 (2-11)
(However, in Formula (2-11), X 2 is a hydrolyzable group which may be the same or different from each other.)
As the compound (2-11), the following compounds in which all three hydrolyzable groups are chlorine atoms are preferred.
C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiCl 3 ... (2-11a)
The compound (2) used in the present invention can be produced by a general method. Moreover, since there exists a commercial item as a compound (A), it is also possible to use such a commercial item for this invention.

ここで、化合物(b1)は、化合物(2)の部分加水分解縮合物であってもよい。部分加水分解縮合物とは、化合物(A)において化合物(1)の部分加水分解縮合について物説明したのと同様である。化合物(b1)としては、化合物(2)であっても、化合物(2)の部分加水分解縮合物であってもよく、化合物(2)とその部分加水分解縮合物との混合物、例えば、未反応の化合物(2)が含まれる化合物(2)の部分加水分解縮合物であってもよい。   Here, the compound (b1) may be a partial hydrolysis-condensation product of the compound (2). The partial hydrolysis-condensation product is the same as that described for the partial hydrolysis-condensation of the compound (1) in the compound (A). Compound (b1) may be compound (2) or a partial hydrolysis condensate of compound (2), and a mixture of compound (2) and its partial hydrolysis condensate, for example, It may be a partially hydrolyzed condensate of compound (2) containing compound (2) of the reaction.

化合物(b2)は、下記一般式(3)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物である。
F3−O−(RF4−O)−RF5−Y−SiR (3−n3) n3 …(3)
(ただし、式(3)中、RF3は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基であり、
F4およびRF5は炭素数1〜3のペルフルオロアルキレン基であり、
は、アルキレン基、または、RF5と結合する末端もしくは炭素−炭素原子間にアミド結合、ウレタン結合およびエーテル性酸素原子から選ばれる1種を有してもよいアルキレン基であり、
mは、1〜50の整数であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n3は、1〜3の整数であって、
およびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
The compound (b2) is a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (3) and a partial hydrolysis condensate thereof.
R F3 —O— (R F4 —O) m —R F5 —Y 3 —SiR 3 (3-n3) X 3 n3 (3)
(However, in Formula (3), R <F3 > is a C1-C6 perfluoroalkyl group,
R F4 and R F5 are perfluoroalkylene groups having 1 to 3 carbon atoms,
Y 3 is an alkylene group or an alkylene group which may have one selected from an amide bond, a urethane bond and an etheric oxygen atom between the terminal or carbon-carbon atom bonded to R F5 ,
m is an integer from 1 to 50;
R 3 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 3 is a hydrolyzable group,
n3 is an integer of 1 to 3,
When a plurality of R 3 and X 3 are present, these may be different from each other or the same. )

化合物(3)は、ケイ素原子に、ペルフルオロエーテル基(RF3−O−(RF4−O)−RF5−)と連結基(−Y−)からなる含フッ素有機基の1個と、3−n3個の炭化水素基(R)と、n1(ただし、n1は1〜3の整数)個の加水分解性基(X)とが結合した含フッ素加水分解性ケイ素化合物である。
ペルフルオロエーテル基における末端のRF3は、環構造を有していてもよい炭素数1〜6の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を含まないペルフルオロアルキル基を示す。RF3は、前記条件を満たせば、直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよく、環状構造であってもよく、分岐構造および環状構造を部分的に有する構造であってもよい。これらのなかでもRF3としては、直鎖構造または分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。RF3の炭素数は1〜3が好ましい。
Compound (3) includes, on a silicon atom, one fluorine-containing organic group composed of a perfluoroether group (R F3 —O— (R F4 —O) m —R F5 —) and a linking group (—Y 3 —). , A fluorine-containing hydrolyzable silicon compound in which 3-n3 hydrocarbon groups (R 3 ) and n1 (where n1 is an integer of 1 to 3) hydrolyzable groups (X 3 ) are bonded to each other. .
The terminal R F3 in the perfluoroether group represents a perfluoroalkyl group that does not contain an etheric oxygen atom between carbon-carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms which may have a ring structure. R F3 may have a straight chain structure, a branched structure, a cyclic structure, or a structure partially having a branched structure and a cyclic structure as long as the above conditions are satisfied. Good. Among these, as R F3 , a linear structure or a branched structure is preferable, and a linear structure is more preferable. R F3 preferably has 1 to 3 carbon atoms.

ペルフルオロエーテル基における、ペルフルオロ(オキシアルキレン)基の繰り返し単位(RF4−O)を構成するペルフルオロアルキレン基(RF4)の炭素数は1〜3であり、繰り返し単位の数を示すmは、1〜50である。mが2以上の場合、各繰り返し単位のRF4は同一であっても異なってもよい。(RF4−O)として、具体的には、(CFO)、(CFCFO)、(CFCFCFO)、(CF(CF)CFO)、(CFCFO)−(CFO)、(CF(CF)CFO)−(CFO)等が挙げられる。ただし、(RF4−O)が1種類のペルフルオロ(オキシアルキレン)基からなる場合はs、j、t、uはそれぞれ1〜50の整数である。(RF4−O)が2種類以上のペルフルオロ(オキシアルキレン)基からなる場合は、s、j、t、uの合計(s+j+t+u)が1〜50の整数である。 In perfluoroether group, the carbon number of the perfluoro perfluoroalkylene group constituting the repeating unit (oxyalkylene) group (R F4 -O) (R F4) is from 1 to 3, the m indicating the number of repeating units, 1 ~ 50. When m is 2 or more, R F4 of each repeating unit may be the same or different. Specifically, (R F4 —O) m is (CF 2 O) s , (CF 2 CF 2 O) j , (CF 2 CF 2 CF 2 O) t , (CF (CF 3 ) CF 2 O ) u, (CF 2 CF 2 O) j - (CF 2 O) s, (CF (CF 3) CF 2 O) u - include (CF 2 O) s or the like. However, when (R F4 —O) m is composed of one kind of perfluoro (oxyalkylene) group, s, j, t and u are each an integer of 1 to 50. (R F4 —O) When m is composed of two or more perfluoro (oxyalkylene) groups, the sum (s + j + t + u) of s, j, t and u is an integer of 1 to 50.

これらのうちでも、(RF4−O)としては、単位分子量当たりの酸素原子の割合が多く、柔軟性が良好となり、撥水性(特に動的撥水性)が高くなる点から、(CFCFO)(jは1〜50の整数)が特に好ましい。
ペルフルオロ(オキシアルキレン)基の繰り返し数を示すmは、好ましくは3〜18の整数であり、より好ましくは4〜12、さらに好ましくは5〜10の整数である。mの数をこの範囲とすることで、本発明の組成物から形成される撥水膜に充分な撥水性(特に動的撥水性)を付与することが可能となる。
なお、化合物(3)は、ペルフルオロ(オキシアルキレン)基の繰り返し単位の数が異なる混合物として用いられることが多い。化合物(3)がこのような混合物の場合、各繰り返し単位の数は平均値で示される。平均値で示す場合、繰り返し単位の数は必ずしも整数で示されるわけではないが、好ましい数値の範囲は上記同様である。
Among these, (R F4 -O) m, often the proportion of oxygen atoms per unit molecular weight, flexibility is improved, in terms of water repellency (particularly dynamic water repellency) is high, (CF 2 CF 2 O) j (j is an integer of 1 to 50) is particularly preferable.
M which shows the repeating number of a perfluoro (oxyalkylene) group becomes like this. Preferably it is an integer of 3-18, More preferably, it is 4-12, More preferably, it is an integer of 5-10. By setting the number of m within this range, it becomes possible to impart sufficient water repellency (particularly dynamic water repellency) to the water repellent film formed from the composition of the present invention.
In addition, the compound (3) is often used as a mixture in which the number of repeating units of the perfluoro (oxyalkylene) group is different. When compound (3) is such a mixture, the number of each repeating unit is shown by an average value. In the case of an average value, the number of repeating units is not necessarily an integer, but a preferable range of numerical values is the same as described above.

ペルフルオロエーテル基において、(RF4−O)の連結基(−Y−)側に位置するペルフルオロアルキレン基(RF5)の炭素数は1〜3である。RF5は好ましくは、−CF−である。 In the perfluoroether group, the carbon number of the perfluoroalkylene group (R F5 ) located on the linking group (—Y 3 —) side of (R F4 —O) m is 1 to 3. R F5 is preferably —CF 2 —.

化合物(3)において、ケイ素原子に、ペルフルオロエーテル基(RF3−O−(RF4−O)−RF5−)を結合する連結基(−Y−)は、アルキレン基、または、RF5と結合する末端もしくは炭素−炭素原子間にアミド結合、ウレタン結合およびエーテル性酸素原子から選ばれる1種を有してもよいアルキレン基である。 In the compound (3), a linking group (—Y 3 —) that binds a perfluoroether group (R F3 —O— (R F4 —O) m —R F5 —) to a silicon atom is an alkylene group or R It is an alkylene group which may have one kind selected from an amide bond, a urethane bond and an etheric oxygen atom between the terminal or carbon-carbon atom bonded to F5 .

の炭素数は1〜8が好ましく、2〜5がより好ましく、2〜3が特に好ましい。Yとして具体的には、CONH(CHk1、CHOCONH(CHk1、(CHk2O(CHk1、(CHk1(ただし、k1は1〜4の整数であり、k2は0〜3の整数である。)等が挙げられる。これらのうちでも、−CONHC−、−CONHC−、−C−が好ましい。
化合物(3)が有するペルフルオロエーテル基(RF3−O−(RF4−O)−RF5−)は、末端のペルフルオロアルキル基RF3の炭素数が1〜6であり、分解生成物として炭素数8以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物を生成することがないため、化合物(3)は環境負荷が少ない。
Y carbon number of 3, preferably 1 to 8, more preferably 2 to 5, particularly preferably 2 to 3. Specifically, as Y 3 , CONH (CH 2 ) k 1 , CH 2 OCONH (CH 2 ) k 1 , (CH 2 ) k 2 O (CH 2 ) k 1 , (CH 2 ) k 1 (where k1 is 1 to 4 It is an integer, and k2 is an integer of 0 to 3.). Among these, -CONHC 3 H 6 -, - CONHC 2 H 4 -, - C 2 H 4 - is preferable.
The perfluoroether group (R F3 —O— (R F4 —O) m —R F5 —) possessed by the compound (3) has 1 to 6 carbon atoms in the terminal perfluoroalkyl group R F3 as a decomposition product. Since a compound having a perfluoroalkyl group having 8 or more carbon atoms is not produced, the compound (3) has a low environmental load.

化合物(3)における加水分解性基(X)は、化合物(1)における加水分解性基(X)と、好ましい態様を含めて同様とできる。なお、化合物(3)中にXが複数個存在する場合には、Xが同じ基でも異なる基でもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。 Compound (3) in the hydrolyzable group (X 3) it may be the same, including the hydrolyzable group in the compound (1) (X 1), the preferred embodiments. Incidentally, the compound (3) X 3 in the case where there are a plurality, may be the X 3 are different even in the same group group, it is preferable in terms of ease availability of the same group.

n3は、化合物(3)中の加水分解性基(X)の個数を示し、その数は1〜3の整数である。n3が1以上であれば、得られる撥水層と基材との密着性が良好となる。n3は、得られる撥水層と基材との密着性の点から、2または3が好ましく、3が特に好ましい。 n3 represents the number of hydrolyzable groups (X 3 ) in the compound (3), and the number is an integer of 1 to 3. If n3 is 1 or more, the adhesiveness of the water-repellent layer obtained and a base material will become favorable. n3 is preferably 2 or 3, and particularly preferably 3, from the viewpoint of the adhesion between the resulting water-repellent layer and the substrate.

は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示すが、これらのうちでも、原料の入手や取り扱いが容易である点から、炭素数1〜4の炭化水素基が好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
本発明において、化合物(3)は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Among these, a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms is preferable because the raw material is easily obtained and handled. A methyl group or an ethyl group is particularly preferable.
In this invention, a compound (3) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

化合物(3)としては、得られる撥水層の撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性、ならびに合成のし易さの点から、下記式(3−1)〜(3−4)のいずれかで表わされる化合物が好ましい。
F(CF−O−(CFCFO)(CF−CONH(CHk1SiX …(3−1)
F(CF−O−(CFCFO)(CF−CHOCONH(CHk1SiX …(3−2)
F(CF−O−(CFCFO)(CF−(CHk2O(CHk1SiX …(3−3)
F(CF−O−(CFCFO)(CF−(CHk1SiX …(3−4)
(ただし、式(3−1)〜(3−4)中、iは1〜6の整数であり、jは1〜20の整数であり、lは1〜3の整数であり、k1は1〜4の整数であり、k2は0〜3の整数であり、Xは互いに異なっていても同一であってもよい加水分解性基である。)
The compound (3) includes the following formulas (3-1) to (3) from the viewpoint of water repellency (particularly dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance of the resulting water repellent layer, and ease of synthesis. -4) is preferred.
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l -CONH (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-1)
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l -CH 2 OCONH (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-2)
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l - (CH 2) k2 O (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-3)
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l - (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-4)
(In the formulas (3-1) to (3-4), i is an integer of 1 to 6, j is an integer of 1 to 20, l is an integer of 1 to 3, and k1 is 1. an to 4 integer, k2 is an integer of 0 to 3, X 3 is a good hydrolyzable groups be the same or different from one another.)

化合物(3−1)〜(3−4)の好ましい具体例としては、以下の式(3−11)〜(3−42)のいずれかで表わされる化合物が挙げられる。
CF−O−(CFCFO)j1−CF−CONHCSiX …(3−11)
CF−O−(CFCFO)j1−CF−CONHCSiX …(3−12)
CFCF−O−(CFCFO)j1−CF−CONHCSiX …(3−13)、
CFCFCF−O−(CFCFO)j1−CF−CONHCSiX …(3−14)、
CF−O−(CFCFO)j1−CF−CHOCONHCSiX …(3−21)、
CF−O−(CFCFO)j1−CF−CHOCSiX …(3−31)、
CF−O−(CFCFO)j1−(CF−OCSiX …(3−32)
CF−O−(CFCFO)j1−CF−CSiX …(3−41)
CF−O−(CFCFO)j1−CF−CSiX …(3−42)
(ただし、式(3−11)中、j1は1〜9の整数であり、Xは互いに異なっていても同一であってもよい加水分解性基である。)
化合物(3−11)〜(3−42)において、加水分解性基(X)は、メトキシ基、エトキシ基が好ましく、3個のXが同一であることが好ましい。
Preferred specific examples of the compounds (3-1) to (3-4) include compounds represented by any of the following formulas (3-11) to (3-42).
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CONHC 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-11)
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CONHC 2 H 4 SiX 3 3 ... (3-12)
CF 3 CF 2 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CONHC 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-13),
CF 3 CF 2 CF 2 -O- ( CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CONHC 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-14),
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CH 2 OCONHC 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-21),
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CH 2 OC 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-31),
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 - (CF 2) 2 -OC 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-32)
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -C 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-41)
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -C 2 H 4 SiX 3 3 ... (3-42)
(Wherein (3-11), j1 is an integer of 1 to 9, X 3 is a good hydrolyzable groups be the same or different from one another.)
In the compounds (3-11) to (3-42), the hydrolyzable group (X 3 ) is preferably a methoxy group or an ethoxy group, and preferably three X 3 are the same.

化合物(3−1)〜(3−4)は、単独でまたは2種以上を組合せて用いることができる。本発明においては、これらのなかでも化合物(3−1)が好ましく、化合物(3−11)がより好ましい。さらに、化合物(3−11)のうちでも、以下の式(3−11a)で表される化合物が特に好ましい。   Compounds (3-1) to (3-4) may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among these, the compound (3-1) is preferable, and the compound (3-11) is more preferable. Furthermore, among the compounds (3-11), a compound represented by the following formula (3-11a) is particularly preferable.

CF−O−(CFCFO)j1−CF−CONHCSi(OCH …(3−11a)
(ただし、j1=7〜8、平均値:7.3を示す。)
本発明に用いる上記化合物(3)は、公知の方法で製造可能である。例えば,上記化合物(3−1)〜(3−4)は、具体的には、WO2009−008380号公報に記載の方法で製造可能である。
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CONHC 3 H 6 Si (OCH 3) 3 ... (3-11a)
(However, j1 = 7-8, an average value: 7.3 is shown.)
The compound (3) used in the present invention can be produced by a known method. For example, the compounds (3-1) to (3-4) can be specifically produced by the method described in WO2009-008380.

ここで、化合物(b2)は、化合物(3)の部分加水分解縮合物であってもよい。部分加水分解縮合物とは、化合物(A)において化合物(1)の部分加水分解縮合について物説明したのと同様である。化合物(b2)としては、化合物(3)であっても、化合物(3)の部分加水分解縮合物であってもよく、化合物(3)とその部分加水分解縮合物との混合物、例えば、未反応の化合物(3)が含まれる化合物(3)の部分加水分解縮合物であってもよい。   Here, the compound (b2) may be a partial hydrolysis-condensation product of the compound (3). The partial hydrolysis-condensation product is the same as that described for the partial hydrolysis-condensation of the compound (1) in the compound (A). The compound (b2) may be the compound (3) or a partially hydrolyzed condensate of the compound (3), and a mixture of the compound (3) and the partially hydrolyzed condensate, for example, It may be a partial hydrolysis-condensation product of the compound (3) including the reaction compound (3).

本発明の組成物が含有する化合物(B)は、上記化合物(b1)、上記化合物(b2)およびそれらの部分加水分解共縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物である。化合物(B)は、具体的には、化合物(2)、化合物(2)の部分加水分解縮合物、化合物(3)、化合物(3)の部分加水分解縮合物、および化合物(2)と化合物(3)の部分加水分解共縮合物から選ばれる1種以上が用いられる。   The compound (B) contained in the composition of the present invention is a fluorine-containing organosilicon compound selected from the above compound (b1), the above compound (b2), and a partial hydrolysis cocondensate thereof. Specifically, compound (B) includes compound (2), partial hydrolysis condensate of compound (2), compound (3), partial hydrolysis condensate of compound (3), and compound (2) and compound. One or more selected from the partially hydrolyzed cocondensates of (3) are used.

本発明の撥水膜形成用組成物は、上記化合物(A)と上記化合物(B)とを含む、および/または、上記化合物(A)と上記化合物(B)との部分加水分解共縮合物を含む。以下、必要に応じて、本発明の撥水膜形成用組成物が含有する、化合物(A)と上記化合物(B)、および/または、上記化合物(A)と上記化合物(B)との部分加水分解共縮合物を、「含フッ素加水分解性シラン化合物成分」という。
上記化合物(A)および化合物(B)は、本発明の撥水膜形成用組成物に、上記説明した化合物をそのままの状態で含有していてもよいし、化合物(A)と化合物(B)の部分加水分解共縮合物として含有してもよい。なお、上記の通り化合物(A)および化合物(B)には、分解生成物として炭素数8以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物を生成する化合物が含まれていないことから、本発明の撥水膜形成用組成物が環境に与える負荷は低い。
The composition for forming a water-repellent film of the present invention comprises the compound (A) and the compound (B) and / or a partially hydrolyzed cocondensate of the compound (A) and the compound (B). including. Hereinafter, as necessary, the portion of the compound (A) and the compound (B) and / or the compound (A) and the compound (B) contained in the composition for forming a water-repellent film of the present invention. The hydrolysis cocondensate is referred to as “fluorine-containing hydrolyzable silane compound component”.
The compound (A) and the compound (B) may contain the above-described compound as they are in the water-repellent film forming composition of the present invention, or the compound (A) and the compound (B). It may be contained as a partially hydrolyzed cocondensate. In addition, since the compound which produces | generates the compound which has a C8 or more perfluoroalkyl group as a decomposition product is not contained in a compound (A) and a compound (B) as above-mentioned, the water-repellent film of this invention The environmental impact of the forming composition is low.

なお、上記化合物(A)と化合物(B)の部分加水分解共縮合物とは、上記と同様に、溶媒中で酸触媒やアルカリ触媒などの触媒存在下に、これらの化合物が有する加水分解性基の全部または一部が加水分解し、次いで脱水縮合することによって生成するオリゴマー(多量体)をいう。ここでは化合物(A)と化合物(B)を加水分解縮合して得られるものであることより、部分加水分解「共」縮合物と呼ぶ。この部分加水分解共縮合物の縮合度(多量化度)は、生成物が溶媒に溶解する程度である必要がある。   The partially hydrolyzed cocondensate of the compound (A) and the compound (B) is a hydrolyzable property of these compounds in the presence of a catalyst such as an acid catalyst or an alkali catalyst in a solvent, as described above. An oligomer (multimer) formed by hydrolysis of all or part of a group followed by dehydration condensation. Here, since it is obtained by hydrolytic condensation of the compound (A) and the compound (B), it is called a partially hydrolyzed “co” condensate. The degree of condensation (degree of multimerization) of this partially hydrolyzed cocondensate must be such that the product is soluble in the solvent.

上記化合物(A)と化合物(B)の部分加水分解共縮合物は、所定量の化合物(A)と化合物(B)を溶媒に溶解し、酸触媒やアルカリ触媒などの触媒と水の存在下に所定時間攪拌することによって製造できる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等を使用できる。アルカリ触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等を使用できる。これら触媒の水溶液を使用することにより、加水分解に必要な水を反応系に存在させることができる。触媒と水の存在下に加熱することにより反応を促進することもできるが、反応が進みすぎると縮合度が上がりすぎ、溶媒不溶性の生成物するおそれが生じる。適当な量の触媒が存在する限り常温で反応させることが好ましい。得られた部分加水分解共縮合物の溶液はそのまま本発明の撥水膜形成用組成物として使用することができる。   The partially hydrolyzed cocondensate of the compound (A) and the compound (B) dissolves a predetermined amount of the compound (A) and the compound (B) in a solvent, and in the presence of a catalyst such as an acid catalyst or an alkali catalyst and water. And stirring for a predetermined time. As the acid catalyst, hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like can be used. As the alkali catalyst, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia or the like can be used. By using an aqueous solution of these catalysts, water necessary for hydrolysis can be present in the reaction system. Although the reaction can be promoted by heating in the presence of a catalyst and water, if the reaction proceeds too much, the degree of condensation will increase too much, and a solvent-insoluble product may be produced. As long as an appropriate amount of catalyst is present, the reaction is preferably performed at room temperature. The obtained solution of the partially hydrolyzed cocondensate can be used as it is as the composition for forming a water-repellent film of the present invention.

上記部分加水分解共縮合物を使用することにより、より性能の高い撥水膜を形成することができる。例えば、化合物(A)と化合物(B)から形成される撥水膜の場合、撥水膜は両化合物の加水分解共縮合物からなることより、両化合物に由来する単位が均一に分布した膜であることが好ましいと考えられる。両化合物の加水分解共縮合物は比較的短時間で形成されることより、化合物(A)と化合物(B)から直に形成される膜においては両化合物に由来する単位の分布の均一性が低下するおそれがある。予め両化合物に由来する単位を含む部分加水分解共縮合物を製造しておくことにより、この均一性が向上すると考えられる。   By using the partially hydrolyzed cocondensate, a water repellent film with higher performance can be formed. For example, in the case of a water-repellent film formed from the compound (A) and the compound (B), the water-repellent film is composed of a hydrolysis cocondensate of both compounds, so that the units derived from both compounds are uniformly distributed. It is considered preferable. Since the hydrolysis cocondensate of both compounds is formed in a relatively short time, in the film formed directly from the compound (A) and the compound (B), the distribution of the units derived from both compounds is uniform. May decrease. It is considered that this uniformity is improved by preparing in advance a partially hydrolyzed cocondensate containing units derived from both compounds.

本発明の撥水膜形成用組成物における有効成分の組成割合は、使用する化合物(A)と化合物(B)の量から決めることができる。組成物が化合物(A)と化合物(B)を含む場合は、組成物を製造するために使用した両化合物の割合で組成割合を決めることができる。しかし、本発明の撥水膜形成用組成物が前記部分加水分解共縮合物を含む場合はその部分加水分解共縮合物中の単位の割合を測定することは困難である。この場合、本発明においては、部分加水分解共縮合物を製造する前の原料組成で有効成分の組成割合を決めるものとする。すなわち、部分加水分解共縮合物の原料として使用した化合物(A)と化合物(B)の量から有効成分の組成割合を決めるものとする。   The composition ratio of the active ingredient in the composition for forming a water-repellent film of the present invention can be determined from the amounts of the compound (A) and the compound (B) to be used. When a composition contains a compound (A) and a compound (B), a composition ratio can be determined by the ratio of both the compounds used in order to manufacture a composition. However, when the composition for forming a water-repellent film of the present invention contains the partially hydrolyzed cocondensate, it is difficult to measure the proportion of units in the partially hydrolyzed cocondensate. In this case, in this invention, the composition ratio of an active ingredient shall be determined with the raw material composition before manufacturing a partial hydrolysis cocondensate. That is, the composition ratio of the active ingredient is determined from the amounts of the compound (A) and the compound (B) used as raw materials for the partially hydrolyzed cocondensate.

本発明の撥水膜形成用組成物における化合物(A)の含有割合は、[化合物(A)]/[化合物(A)+化合物(B)]×100で表される化合物(A)と化合物(B)との合計モル量に対する化合物(A)の割合(ただし、組成物が部分加水分解共縮合物を含む場合は、加水分解共縮合反応物分については、加水分解共縮合反応前の化合物(A)と化合物(B)との合計モル量を用いて、計算される割合)として、10〜95モル%であることが、得られる撥水層に撥水性(特に動的撥水性)と、耐摩耗性および耐候性を充分に付与できる点から好ましく、20〜95モル%であることがより好ましく、40〜95モル%であることが特に好ましい。上記化合物(A)の含有割合は、40モル%以上であることが、得られる撥水層にさらに耐薬品性を付与できる点から好ましい。   The content ratio of the compound (A) in the composition for forming a water-repellent film of the present invention is represented by [compound (A)] / [compound (A) + compound (B)] × 100. Ratio of compound (A) to total molar amount with (B) (however, in the case where the composition contains a partially hydrolyzed cocondensate, for the hydrolyzed cocondensed product, the compound before the hydrolyzed cocondensation reaction) (A ratio calculated using the total molar amount of (A) and compound (B)) is 10 to 95 mol%, and the resulting water-repellent layer has water repellency (particularly dynamic water repellency). From the point which can fully provide abrasion resistance and weather resistance, it is more preferable that it is 20-95 mol%, and it is especially preferable that it is 40-95 mol%. The content ratio of the compound (A) is preferably 40 mol% or more from the viewpoint that chemical resistance can be further imparted to the resulting water-repellent layer.

なお、この場合、本発明の組成物における化合物(B)の含有割合は、化合物(A)と化合物(B)の合計モル量に対する化合物(B)の割合として、5〜90モル%であることが好ましく、5〜80モル%であることがより好ましく、5〜60質量%であることが特に好ましい。上記のようにここにおけるモル%とは、部分加水分解共縮合物の場合は反応前の化合物(A)と化合物(B)のモル量で計算される組成割合をいう。   In this case, the content ratio of the compound (B) in the composition of the present invention is 5 to 90 mol% as the ratio of the compound (B) to the total molar amount of the compound (A) and the compound (B). Is more preferable, it is more preferable that it is 5-80 mol%, and it is especially preferable that it is 5-60 mass%. As mentioned above, in the case of a partially hydrolyzed cocondensate, the mol% here means a composition ratio calculated by the molar amount of the compound (A) and the compound (B) before the reaction.

本発明の撥水膜形成用組成物は、上記化合物(A)と化合物(B)からなる、上記化合物(A)と化合物(B)とこれらの部分加水分解共縮合物からなる、あるいは上記化合物(A)と化合物(B)の部分加水分解共縮合物からなる必須成分のみから構成されてもよいが、経済性、作業性、得られる撥水膜の厚さ制御のしやすさ等を考慮し、通常は有機溶剤を含む。有機溶剤は、必須成分を溶解するものであれば特に制限されない。有機溶剤としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、パラフィン系炭化水素類、酢酸エステル類等が好ましく、特にフッ素原子を含む有機溶剤(例えば、フルオロアルコール、フルオロ炭化水素)が好ましい。有機溶剤は1種に限定されず、極性、蒸発速度等の異なる2種以上の溶剤を混合して使用してもよい。   The composition for forming a water-repellent film of the present invention comprises the compound (A) and the compound (B), comprises the compound (A), the compound (B) and a partial hydrolysis cocondensate thereof, or comprises the compound (A) and the compound (B) may be composed of only essential components consisting of a partially hydrolyzed cocondensate, but considering economics, workability, ease of controlling the thickness of the resulting water-repellent film, etc. Usually, it contains an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves essential components. As the organic solvent, alcohols, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons, paraffin hydrocarbons, acetate esters and the like are preferable, and organic solvents containing fluorine atoms (for example, fluoroalcohols, fluorohydrocarbons) are particularly preferable. Is preferred. The organic solvent is not limited to one kind, and two or more kinds of solvents having different polarities and evaporation rates may be mixed and used.

また、本発明の撥水膜形成用組成物は、部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を含有する場合、これらを製造するために使用した溶媒を含んでもよく、またこの溶媒と撥水膜形成用組成物の有機溶媒は同じものであってもよい。さらに撥水膜形成用組成物は、部分加水分解縮合で用いた触媒などの成分を含んでいてもよい。特に、部分加水分解共縮合物を含む撥水膜形成用組成物は、部分加水分解共縮合物の製造で得られた部分加水分解共縮合物の溶液そのものであることが好ましい。   Further, when the composition for forming a water-repellent film of the present invention contains a partially hydrolyzed condensate or a partially hydrolyzed cocondensate, it may contain a solvent used for producing these, and the solvent and the water-repellent film. The organic solvent of the composition for forming a water film may be the same. Furthermore, the composition for forming a water-repellent film may contain components such as a catalyst used in partial hydrolysis condensation. In particular, the composition for forming a water-repellent film containing the partially hydrolyzed cocondensate is preferably a solution of the partially hydrolyzed cocondensate obtained by the production of the partially hydrolyzed cocondensate.

本発明の撥水膜形成用組成物における有機溶剤の割合は、含フッ素加水分解性シラン化合物成分の合量質量の100質量部に対して、100,000質量部以下が好ましく、特に10,000質量部以下が好ましい。100,000質量部を超える量を用いると、得られる撥水層に処理ムラが発生する場合がある。   The proportion of the organic solvent in the composition for forming a water-repellent film of the present invention is preferably 100,000 parts by mass or less, particularly 10,000 parts per 100 parts by mass of the total mass of the fluorine-containing hydrolyzable silane compound component. The mass part or less is preferable. If an amount exceeding 100,000 parts by mass is used, processing unevenness may occur in the resulting water-repellent layer.

撥水膜形成用組成物に用いる有機溶剤の量は、さらに、該組成物が含有する含フッ素加水分解性シラン化合物成分の合計質量100質量部に対して、3,500質量部以下であることが好ましく、2,000質量部以下であることがより好ましい。このように撥水膜形成用組成物において、含有する固形分に対する有機溶剤の量を少なくすることで、これを用いて形成される撥水層の膜厚を容易に増大することができ、撥水膜の耐アルカリ性、耐塩水性等の向上に寄与することが可能となる。なお、撥水膜形成用組成物に用いる有機溶剤の量の下限については特に制限されないが、上記の通り、経済性、作業性、処理層の厚さ制御のしやすさ等を考慮すると、該組成物が含有する含フッ素加水分解性シラン化合物成分の合計質量100質量部に対して、500質量部程度の量を下限とすることが好ましい。   The amount of the organic solvent used in the composition for forming a water-repellent film is 3,500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total mass of the fluorine-containing hydrolyzable silane compound component contained in the composition. Is preferable, and it is more preferably 2,000 parts by mass or less. Thus, in the composition for forming a water-repellent film, by reducing the amount of the organic solvent relative to the solid content, the film thickness of the water-repellent layer formed using this can be easily increased. It becomes possible to contribute to the improvement of alkali resistance, salt water resistance and the like of the water film. The lower limit of the amount of the organic solvent used in the composition for forming a water-repellent film is not particularly limited, but as described above, in consideration of economy, workability, ease of controlling the thickness of the treatment layer, and the like, It is preferable to set the amount of about 500 parts by mass as the lower limit with respect to 100 parts by mass of the total mass of the fluorine-containing hydrolyzable silane compound component contained in the composition.

本発明の撥水膜形成用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意成分として機能性添加剤を含んでもよい。機能性添加剤としては、必須成分との反応性または相溶性等を考慮して選択するのが好ましく、片末端反応性ポリジメチルシロキサン、両末端反応性ポリジメチルシロキサン等の非フッ素系撥水性材料、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物の超微粒子、染料または顔料等の着色用材料、防汚性材料、硬化触媒、各種樹脂等が好ましく挙げられる。機能性添加剤の添加量は、撥水膜形成用組成物が含有する含フッ素加水分解性シラン化合物成分の合計質量100質量部に対して、0.01〜20質量部が好ましい。撥水膜形成用組成物への機能性添加剤の過剰な添加は、得られる撥水膜の水滴除去性等の性能の低下を招くおそれがある。   The composition for forming a water-repellent film of the present invention may contain a functional additive as an optional component depending on the purpose within a range not impairing the effects of the present invention. The functional additive is preferably selected in consideration of reactivity or compatibility with essential components, and non-fluorinated water repellent materials such as one-end reactive polydimethylsiloxane and both-end reactive polydimethylsiloxane. Preferred examples include ultrafine particles of metal oxides such as silica, alumina, zirconia, and titania, coloring materials such as dyes or pigments, antifouling materials, curing catalysts, and various resins. The addition amount of the functional additive is preferably 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of the fluorine-containing hydrolyzable silane compound component contained in the composition for forming a water repellent film. Excessive addition of a functional additive to the composition for forming a water-repellent film may lead to a decrease in performance such as water droplet removability of the resulting water-repellent film.

さらに、本発明の撥水膜形成用組成物においては、部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を含まないものであっても、化合物(A)と化合物(B)との加水分解共縮合反応を促進させるために、上記で同様の反応において使用したのと同様の酸触媒等の触媒を配合しておくことも好ましい。部分加水分解縮合物や部分加水分解共縮合物を含む場合であっても、それらの製造に使用した触媒が組成物中に残存していない場合は、触媒を配合することが好ましい。触媒としては、酸触媒が好ましい。触媒を存在させておくことにより、耐摩耗性および耐候性の良好な撥水膜を形成することができる。触媒の量としては、含フッ素加水分解性シラン化合物成分の合計質量100質量部に対して、0.01〜5質量部が好ましい。   Furthermore, in the composition for forming a water-repellent film of the present invention, even if it does not contain a partially hydrolyzed condensate or a partially hydrolyzed cocondensate, the hydrolysis co-reaction between the compound (A) and the compound (B). In order to promote the condensation reaction, it is also preferable to add a catalyst such as the same acid catalyst used in the same reaction as described above. Even when a partially hydrolyzed condensate or a partially hydrolyzed cocondensate is included, when the catalyst used for the production thereof does not remain in the composition, it is preferable to add a catalyst. As the catalyst, an acid catalyst is preferable. The presence of the catalyst makes it possible to form a water-repellent film having good wear resistance and weather resistance. As a quantity of a catalyst, 0.01-5 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total mass of a fluorine-containing hydrolysable silane compound component.

本発明の撥水膜形成用組成物は、含フッ素加水分解性シラン化合物成分の加水分解共縮合反応のための水を含んでいてもよい。撥水膜形成用組成物における水の含有量は、含フッ素加水分解性シラン化合物成分の合計質量の100質量部に対して、1〜50質量部が好ましい。なお、撥水膜形成用組成物は水を含有しなくとも、以下の撥水層を形成する過程において雰囲気中の水分を利用して含フッ素加水分解性シラン化合物成分の加水分解縮合を行わせることができる。   The composition for forming a water-repellent film of the present invention may contain water for hydrolysis cocondensation reaction of the fluorine-containing hydrolyzable silane compound component. The water content in the composition for forming a water repellent film is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of the fluorine-containing hydrolyzable silane compound component. Even if the water repellent film-forming composition does not contain water, hydrofluoric decomposable silane compound components are hydrolyzed and condensed using moisture in the atmosphere in the process of forming the following water repellent layer. be able to.

本発明の撥水膜形成用組成物を用いて撥水層を形成する方法としては、含フッ素オルガノシラン化合物系の表面処理剤における公知の方法を用いることが可能である。例えば、はけ塗り、流し塗り、回転塗布、浸漬塗布、スキージ塗布、スプレー塗布、手塗り等の方法で前記組成物を基体の表面に塗布し、大気中または窒素雰囲気中において、必要に応じて乾燥した後、硬化させることで、撥水層を形成できる。硬化の条件は、用いる組成物の種類、濃度等により適宜制御されるが、好ましい条件として、温度:20〜50℃、湿度:50〜90%RHの条件が挙げられる。硬化のための時間は、用いる組成物の種類、濃度、硬化条件等によるが、概ね1〜72時間が好ましい。処理方法によっては、余剰成分が発生し外観品質を損なう場合があるが、溶剤拭きまたは空拭き等で余剰成分を除去し外観を調節すればよい。本発明の撥水膜形成用組成物から形成される撥水層の厚さは特に限定されないが、経済性を考慮すると、50nm以下の厚さが好ましく、その下限は単分子層の厚さである。   As a method for forming a water-repellent layer using the composition for forming a water-repellent film of the present invention, it is possible to use a known method for a fluorine-containing organosilane compound-based surface treatment agent. For example, the composition is applied to the surface of the substrate by a method such as brush coating, flow coating, spin coating, dip coating, squeegee coating, spray coating, or hand coating, and in air or nitrogen atmosphere, as necessary. A water-repellent layer can be formed by curing after drying. The curing conditions are appropriately controlled depending on the type and concentration of the composition to be used. Preferred conditions include a temperature of 20 to 50 ° C. and a humidity of 50 to 90% RH. The time for curing depends on the type, concentration, curing conditions and the like of the composition to be used, but is generally preferably 1 to 72 hours. Depending on the treatment method, an excessive component may be generated and the appearance quality may be impaired. The thickness of the water repellent layer formed from the composition for forming a water repellent film of the present invention is not particularly limited. However, in consideration of economy, the thickness is preferably 50 nm or less, and the lower limit is the thickness of the monomolecular layer. is there.

[撥水膜付き基体]
本発明の撥水膜付き基体は、基体と、前記基体の少なくとも一部の表面に撥水膜とを有する撥水膜付き基体であって、前記撥水膜は1層以上で構成され、かつ最外層に上記本発明の撥水膜形成用組成物を用いて形成された撥水層を有する。
[Substrate with water-repellent film]
The substrate with a water repellent film of the present invention is a substrate with a water repellent film having a substrate and a water repellent film on at least a part of the surface of the substrate, and the water repellent film is composed of one or more layers, and The outermost layer has a water-repellent layer formed by using the water-repellent film forming composition of the present invention.

本発明の撥水膜付き基体に用いる基体は、一般に撥水性の付与が求められている材質からなる基体であれば特に限定されず、金属、プラスチック、ガラス、セラミック、またはその組み合わせ(複合材料、積層材料等)からなる基体が好ましく使用される。ガラスまたはプラスチック等の透明な基体が好ましく、特にガラスが好ましい。ガラスとしては、通常のソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が挙げられ、これらのうちでもソーダライムガラスが特に好ましい。また、プラスチックとしては、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂やポリフェニレンカーボネートなどの芳香族ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)などの芳香族ポリエステル系樹脂等が挙げられ、これらのうちでもポリエチレンテレフタレート(PET)が好ましい。   The substrate used for the substrate with a water-repellent film of the present invention is not particularly limited as long as it is a substrate made of a material that is generally required to impart water repellency. Metal, plastic, glass, ceramic, or a combination thereof (composite material, A substrate made of a laminated material or the like is preferably used. A transparent substrate such as glass or plastic is preferred, and glass is particularly preferred. Examples of the glass include ordinary soda lime glass, borosilicate glass, non-alkali glass, and quartz glass. Among these, soda lime glass is particularly preferable. Examples of the plastic include acrylic resins such as polymethyl methacrylate, aromatic polycarbonate resins such as polyphenylene carbonate, and aromatic polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET). Among these, polyethylene terephthalate (PET) ) Is preferred.

基体の形状は平板でもよく、全面または一部が曲率を有していてもよい。基体の厚さは撥水膜付き基体の用途により適宜選択できるが、一般的には1〜10mmであることが好ましい。   The shape of the substrate may be a flat plate, or the entire surface or a part thereof may have a curvature. The thickness of the substrate can be appropriately selected depending on the use of the substrate with a water-repellent film, but is generally preferably 1 to 10 mm.

本発明に用いる上記基体としては、目的に応じて、その表面に酸処理(希釈したフッ酸、硫酸、塩酸等を用いた処理)、アルカリ処理(水酸化ナトリウム水溶液等を用いた処理)または放電処理(プラズマ照射、コロナ照射、電子線照射等)等が施されたものを用いてもよい。また、基体は、その表面に蒸着膜、スパッタ膜、湿式法等により形成された各種の膜が設けられたものでもよい。基体がソーダライムガラスである場合は、Naイオンの溶出を防止する膜を設けることが耐久性の点で好ましい。基体がフロート法で製造されたガラスである場合は、表面錫量の少ないトップ面に撥水膜を設けることが耐久性の点で好ましい。   The substrate used in the present invention may have an acid treatment (treatment with diluted hydrofluoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, etc.), alkali treatment (treatment with an aqueous sodium hydroxide solution) or discharge depending on the purpose. Those subjected to treatment (plasma irradiation, corona irradiation, electron beam irradiation, etc.) or the like may be used. Further, the substrate may have a surface provided with various films formed by vapor deposition film, sputtered film, wet method or the like. When the substrate is soda lime glass, it is preferable in terms of durability to provide a film that prevents elution of Na ions. In the case where the substrate is glass manufactured by a float process, it is preferable in terms of durability to provide a water-repellent film on the top surface with a small amount of surface tin.

本発明の撥水膜付き基体において、上記基体の少なくとも一部の表面に形成される撥水膜は1層以上で構成され、かつ最外層に上記本発明の撥水膜形成用組成物を用いて形成された撥水膜からなる層(撥水層)を有する。   In the substrate with a water-repellent film of the present invention, the water-repellent film formed on at least a part of the surface of the substrate is composed of one or more layers, and the composition for forming a water-repellent film of the present invention is used for the outermost layer. A layer made of a water-repellent film (water-repellent layer).

本発明における上記撥水膜は、上記撥水層のみで構成されてもよく、撥水層の他に目的に応じて撥水層以外の層を有していてもよいが、何れの場合においても、本発明の撥水膜付き基体の撥水層は、撥水膜の最外層に形成されるものである。上記撥水膜が最外層に有する撥水層については、上記本発明の撥水膜形成用組成物を用いて、上述の方法で撥水膜の最外層として上記基体上に形成することが可能である。つまり、本発明の撥水膜付き基体において、上記撥水膜が撥水層のみで構成されている場合の撥水膜付き基体の製造方法としては、基体表面に上記本発明の撥水膜形成用組成物を塗布し硬化させることで撥水層を形成する工程を有する方法が挙げられる。   The water-repellent film in the present invention may be composed of only the water-repellent layer, and may have a layer other than the water-repellent layer in addition to the water-repellent layer depending on the purpose. In addition, the water repellent layer of the substrate with a water repellent film of the present invention is formed on the outermost layer of the water repellent film. The water repellent layer that the water repellent film has as the outermost layer can be formed on the substrate as the outermost layer of the water repellent film by the above-described method using the water repellent film forming composition of the present invention. It is. That is, in the substrate with a water-repellent film of the present invention, the method for producing a substrate with a water-repellent film when the water-repellent film is composed only of a water-repellent layer is the formation of the water-repellent film of the present invention on the substrate surface. The method which has the process of forming a water repellent layer by apply | coating and hardening the composition for water is mentioned.

また、上記撥水膜が撥水層以外の層を有する場合の本発明の撥水膜付き基体の製造方法としては、基体表面に撥水層以外の全ての層を形成させた後、撥水層(最外層)の下層をなす層の表面に上記同様にして撥水膜形成用組成物を塗布し硬化させて撥水層を形成する工程を有する方法が挙げられる。すなわち、基体表面に予め形成された、撥水膜において最外層の下層となる層の表面に、撥水膜形成用組成物を塗布し硬化させて撥水層を形成する工程を有する方法である。   Further, as a method for producing a substrate with a water-repellent film of the present invention when the water-repellent film has a layer other than the water-repellent layer, after forming all the layers other than the water-repellent layer on the substrate surface, Examples of the method include a step of forming a water-repellent layer by applying the water-repellent film-forming composition onto the surface of the layer that forms the lower layer of the layer (outermost layer) in the same manner as described above. That is, it is a method having a step of forming a water-repellent layer by applying and curing a water-repellent film-forming composition on the surface of a layer that is formed in advance on the surface of the substrate and that is the lowermost layer of the water-repellent film. .

本発明の撥水膜付き基体における撥水層の厚さは、充分な撥水性(特に動的撥水性)と耐摩耗性、耐候性等の耐久性が両立できるような厚さであれば特に制限されない。このような撥水層の厚さとして、上記撥水膜が撥水層のみで構成されている場合には、1〜30nmが好ましく、1〜20nmがより好ましい。また、上記撥水膜が撥水層以外の層、例えば以下の中間層等を有する場合には、撥水層の厚さは1〜30nmが好ましく、1〜20nmがより好ましい。なお、撥水層の厚さは用いる撥水膜形成用組成物の濃度、塗布条件、加熱条件等によって適宜制御しうる。   The thickness of the water-repellent layer in the substrate with a water-repellent film of the present invention is particularly so long as sufficient water repellency (particularly dynamic water repellency) and durability such as wear resistance and weather resistance are compatible. Not limited. The thickness of the water repellent layer is preferably 1 to 30 nm and more preferably 1 to 20 nm when the water repellent film is composed of only the water repellent layer. Moreover, when the said water repellent film has layers other than a water repellent layer, for example, the following intermediate | middle layers, etc., 1-30 nm is preferable and, as for the thickness of a water repellent layer, 1-20 nm is more preferable. The thickness of the water repellent layer can be appropriately controlled depending on the concentration of the water repellent film forming composition used, coating conditions, heating conditions, and the like.

本発明の撥水膜付き基体は、前記撥水膜が、上記撥水層以外の層として、前記基体と前記撥水層との間に、シリカを主体とする中間層をさらに有することが好ましい。この中間層を設けることにより、撥水膜と基体との密着性が増し、また撥水膜全体としての緻密性が高まって、耐摩耗性、耐候性等の耐久性を向上させることが可能となる。   In the substrate with a water-repellent film of the present invention, the water-repellent film preferably further includes an intermediate layer mainly composed of silica between the substrate and the water-repellent layer as a layer other than the water-repellent layer. . By providing this intermediate layer, the adhesion between the water-repellent film and the substrate is increased, the denseness of the entire water-repellent film is increased, and durability such as wear resistance and weather resistance can be improved. Become.

上記撥水膜が有するシリカを主体とする中間層は、具体的には、下記一般式(4)で示される化合物、その部分加水分解縮合物、およびペルヒドロポリシラザンから選ばれる化合物(C)を含む中間層形成用組成物を用いて形成することができる。
Si(X …(4)
Specifically, the intermediate layer mainly composed of silica of the water repellent film includes a compound (C) selected from a compound represented by the following general formula (4), a partially hydrolyzed condensate thereof, and perhydropolysilazane. It can form using the composition for intermediate | middle layer formation containing.
Si (X 4 ) 4 (4)

上記式(4)中、Xはハロゲン原子、アルコキシ基またはイソシアネート基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらのうちでも、Xは、塩素原子、炭素数1〜4のアルコキシ基またはイソシアネート基であることが好ましく、さらに4個のXが同一であることが好ましい。 In the above formula (4), X 4 represents a halogen atom, an alkoxy group or an isocyanate group, and may be the same or different. Among these, X 4 is a chlorine atom, is preferably an alkoxy group or an isocyanate group having 1 to 4 carbon atoms, preferably further four X 4 are identical.

このような上記一般式(4)で示される化合物として、具体的には、Si(NCO)、Si(OCH、Si(OC等が好ましく用いられる。また、これらの部分加水分解縮合物は、化合物(1)〜化合物(3)の部分加水分解縮合物の製造において説明したのと同様の方法で得ることができる。また、一般式(4)で示される化合物やその部分加水分解縮合物としては市販品があり、本発明にはこのような市販品を用いることが可能である。 Specifically, Si (NCO) 4 , Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 and the like are preferably used as the compound represented by the general formula (4). Moreover, these partial hydrolysis-condensation products can be obtained by the same method as described in the production of the partial hydrolysis-condensation products of compounds (1) to (3). Moreover, there exists a commercial item as a compound shown by General formula (4), and its partial hydrolysis-condensation product, It is possible to use such a commercial item for this invention.

ペルヒドロポリシラザンは、−SiH−NH−SiH−で表される構造を有する線状や環状のオリゴマーであり、1分子あたりのケイ素原子の数は2〜500が好ましい。ペルヒドロポリシラザンとしては市販品があり、本発明にはこのような市販品を用いることが可能である。
また、上記中間層形成用組成物には、化合物(C)の1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Perhydropolysilazane is a linear or cyclic oligomer having a structure represented by —SiH 2 —NH—SiH 2 —, and the number of silicon atoms per molecule is preferably 2 to 500. There are commercially available perhydropolysilazanes, and such commercially available products can be used in the present invention.
Moreover, 1 type of a compound (C) may be used independently for the said composition for intermediate | middle layer formation, and 2 or more types may be used together.

上記中間層形成用組成物は、上記化合物(C)および/またはその部分加水分解縮合物のみからなっていてもよいが、経済性、作業性、処理層の厚さ制御のしやすさ等を考慮して、通常は有機溶剤を含有する。   The intermediate layer forming composition may consist only of the compound (C) and / or a partially hydrolyzed condensate thereof. However, the economy, workability, ease of controlling the thickness of the treatment layer, etc. are improved. In consideration, it usually contains an organic solvent.

有機溶剤としては、撥水膜形成用組成物において記載した有機溶剤が好ましく使用できる。中間層形成用組成物に用いる有機溶剤の量も、上記撥水膜形成用組成物の場合と同様とすることができる。すなわち、中間層形成用組成物に用いる有機溶剤の量は、該組成物が含有する固形分100質量部に対して、100,000質量部以下となる量が好ましく、特に10,000質量部以下となる量が好ましい。100,000質量部を超える量を用いると、得られる撥水膜に処理ムラが発生する場合がある。   As an organic solvent, the organic solvent described in the composition for water-repellent film formation can be used preferably. The amount of the organic solvent used in the intermediate layer forming composition can be the same as in the case of the water repellent film forming composition. That is, the amount of the organic solvent used in the intermediate layer forming composition is preferably 100,000 parts by mass or less, particularly 10,000 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the solid content contained in the composition. Is preferred. If an amount exceeding 100,000 parts by mass is used, processing unevenness may occur in the resulting water-repellent film.

中間層形成用組成物に用いる有機溶剤の量は、さらに、該組成物が含有する固形分の合計質量100質量部に対して、3,500質量部以下であることが好ましく、2,000質量部以下であることがより好ましい。このように中間層形成用組成物において、含有する固形分に対する有機溶剤の量を少なくすることで、これを用いて形成される中間層の膜厚を容易に増大することができ、撥水膜の耐アルカリ性、耐塩水性等の向上に寄与することが可能となる。なお、中間層形成用組成物に用いる有機溶剤の量の下限については特に制限されないが、上記の通り、経済性、作業性、処理層の厚さ制御のしやすさ等を考慮すると、該組成物が含有する固形分の合計質量100質量部に対して、500質量部程度の量を下限とすることが好ましい。   The amount of the organic solvent used in the composition for forming an intermediate layer is preferably 3,500 parts by mass or less, and 2,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of solids contained in the composition. It is more preferable that the amount is not more than parts. Thus, in the composition for forming an intermediate layer, by reducing the amount of the organic solvent relative to the solid content contained, the film thickness of the intermediate layer formed using this can be easily increased, and the water repellent film It is possible to contribute to the improvement of alkali resistance, salt water resistance and the like. The lower limit of the amount of the organic solvent used in the intermediate layer forming composition is not particularly limited, but as described above, considering the economy, workability, ease of controlling the thickness of the treatment layer, etc., the composition Preferably, the lower limit is about 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of solids contained in the product.

また、中間層形成用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて機能性添加剤を含んでもよい。機能性添加剤としては、上記撥水膜形成用組成物において記載したものが好ましく挙げられる。さらに、中間層形成用組成物は、上記撥水膜形成用組成物と同様、必要に応じて酸触媒、水等の成分を含んでいてもよい。また、中間層形成用組成物を用いて中間層を形成する方法についても、上記本発明の撥水膜形成用組成物において説明した撥水膜形成方法と同様の方法が好ましく挙げられる。   Moreover, the composition for intermediate | middle layer formation may also contain a functional additive according to the objective in the range which does not impair the effect of this invention. As the functional additive, those described in the composition for forming a water-repellent film are preferably mentioned. Furthermore, the composition for forming an intermediate layer may contain components such as an acid catalyst and water as necessary, similarly to the composition for forming a water-repellent film. Further, the method for forming the intermediate layer using the intermediate layer forming composition is preferably the same method as the water repellent film forming method described in the water repellent film forming composition of the present invention.

中間層形成用組成物から形成される中間層の厚さは特に限定されないが、あまり厚すぎると損傷が目立ちやすくなるため、50nm以下が好ましい。その下限は単分子層の厚さである。中間層の厚さは中間層形成用組成物の濃度、塗布条件、加熱条件等によって適宜制御しうる。なお、撥水膜全体の厚さは、本発明における撥水膜の機能の維持、すなわち、充分な撥水性(特に動的撥水性)と耐摩耗性、耐候性等の耐久性を兼ね備えることと経済性とを考慮すると1〜100nmが好ましく、1〜20nmがより好ましい。   The thickness of the intermediate layer formed from the composition for forming an intermediate layer is not particularly limited, but if it is too thick, damage is likely to be conspicuous. The lower limit is the thickness of the monomolecular layer. The thickness of the intermediate layer can be appropriately controlled by the concentration of the intermediate layer forming composition, coating conditions, heating conditions, and the like. The total thickness of the water-repellent film is to maintain the function of the water-repellent film in the present invention, that is, to have sufficient water repellency (particularly dynamic water repellency) and durability such as wear resistance and weather resistance. Considering economy, 1 to 100 nm is preferable, and 1 to 20 nm is more preferable.

また、本発明の撥水膜付き基体において、前記撥水膜が、前記基体と前記撥水層との間に、シリカを主体とする中間層をさらに有する場合の撥水膜付き基体の製造方法としては、上記中間層形成用組成物を基体表面に塗布し硬化させてシリカを主体とする中間層を形成する工程と、前記中間層の表面に上記本発明の撥水膜形成用組成物を塗布し硬化させて撥水層を形成する工程と、を有する製造方法が挙げられる。
なお、中間層形成用組成物を基体表面に塗布し一定時間保持して塗膜を形成させ、その表面に撥水膜形成用組成物を塗布し塗膜を形成させた後に、適当な条件で硬化処理を行うことで、中間層形成のための硬化処理と撥水層形成のための硬化処理を同時に行うことも可能である。
In the substrate with a water-repellent film of the present invention, the method for producing a substrate with a water-repellent film in the case where the water-repellent film further includes an intermediate layer mainly composed of silica between the substrate and the water-repellent layer. The intermediate layer forming composition is applied to the substrate surface and cured to form an intermediate layer mainly composed of silica, and the water repellent film forming composition of the present invention is formed on the surface of the intermediate layer. And a step of forming a water repellent layer by applying and curing.
The intermediate layer forming composition is applied to the substrate surface and held for a certain period of time to form a coating film. After the water repellent film forming composition is applied to the surface and the coating film is formed, under appropriate conditions. By performing the curing process, it is possible to simultaneously perform the curing process for forming the intermediate layer and the curing process for forming the water repellent layer.

このようにして得られる本発明の撥水膜付き基体の撥水膜は、充分な撥水性(特に動的撥水性)と耐摩耗性、耐候性等の耐久性を兼ね備えるものである。   The water repellent film of the substrate with a water repellent film of the present invention thus obtained has both sufficient water repellency (particularly dynamic water repellency) and durability such as wear resistance and weather resistance.

[輸送機器用物品]
本発明の撥水膜付き基体は、これを具備する輸送機器用物品としての用途に好適に用いられる。輸送機器用物品とは、電車、自動車、船舶、航空機等におけるボディー、窓ガラス(フロントガラス、サイドガラス、リアガラス)、ミラー、バンパー等が好ましく挙げられる。
[Transportation Equipment Items]
The substrate with a water-repellent film of the present invention is suitably used for use as an article for transport equipment comprising the same. Preferred examples of the article for transportation equipment include bodies in trains, automobiles, ships, aircrafts, window glass (front glass, side glass, rear glass), mirrors, bumpers, and the like.

本発明の撥水膜付き基体またはこの基体を具備する輸送機器用物品は、その撥水膜表面が優れた撥水性(特に動的撥水性)を有するため、表面への水滴の付着が少なく、付着した水滴がすみやかにはじかれる。加えて輸送機器の運行に伴う風圧との相互作用により、付着した水滴は表面を急速に移動し、水滴として溜ることはない。このため、水分が誘発する悪影響を排除できる。また、上記撥水膜は、耐摩耗性および耐候性にも優れるため、例えば、輸送機器用物品としての屋外での使用を含む各種使用条件下での長期使用においてもこの撥水性(特に動的撥水性)を維持することができる。   The substrate with a water-repellent film of the present invention or an article for transport equipment comprising this substrate has excellent water repellency (particularly dynamic water repellency) on the surface of the water-repellent film. Adhered water droplets are repelled immediately. In addition, due to the interaction with the wind pressure associated with the operation of the transport equipment, the attached water droplets move rapidly on the surface and do not accumulate as water droplets. For this reason, the bad influence which a water induces can be excluded. In addition, the water-repellent film is excellent in wear resistance and weather resistance. For example, this water-repellent film (especially dynamic repellency) is used even in long-term use under various usage conditions including outdoor use as an article for transport equipment. Water repellency) can be maintained.

本発明の撥水膜付き基体またはこの基体を具備する輸送機器用物品は、特に、各種窓ガラス等の透視野部での用途において、水滴の飛散により視野の確保が非常に容易となり、車輌等の運行において安全性が向上できる。また、水滴が氷結するような環境下でも氷結しにくく、氷結したとしても解凍は著しく速い。さらに、水滴の付着がほとんどないため、清浄の作業回数を少なくでき、しかも清浄作業を容易に行うことができる。   The substrate with a water-repellent film of the present invention or an article for transport equipment comprising this substrate is very easy to secure a field of view by scattering of water droplets, particularly in applications in a transparent field portion such as various window glasses. Safety can be improved in operation. Further, it is difficult to freeze even in an environment where water droplets freeze, and even if it freezes, thawing is extremely fast. Furthermore, since there is almost no adhesion of water droplets, the number of cleaning operations can be reduced, and the cleaning operation can be easily performed.

以下に、本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。なお、例1〜例9、例12〜例20が実施例であり、例10、例11、例21、例22が比較例である。例23は参考例である。   Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these examples. Examples 1 to 9 and 12 to 20 are examples, and examples 10, 11, 21, and 22 are comparative examples. Example 23 is a reference example.

撥水膜形成用組成物に配合する成分として以下の各化合物を使用した。
(含フッ素有機ケイ素化合物)
化合物(1)として化合物(1−11a):CCHCH12CHCHSiCl(以下の合成例1で製造。)
化合物(2)として化合物(2−11a):C13CHCHSiCl(シンクエスト社製)
化合物(3)として化合物(3−11a):CFO(CFCFO)j1CFCONHCSi(OCH(以下の合成例2で製造。ただし、化合物(3−11a)において、j1=7〜8、平均値:7.3を示す。)
化合物(C):Si(NCO)(SI−400、商品名、マツモトファインケミカル社製)
The following compounds were used as components to be blended in the water repellent film forming composition.
(Fluorine-containing organosilicon compound)
Compound (1) as the compound (1-11a): C 4 F 9 CH 2 CH 2 C 6 F 12 CH 2 CH 2 SiCl 3 ( less prepared in Preparation Example 1.)
Compound (2-11a) as compound (2): C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiCl 3 (manufactured by Synquest)
Compound (3-11a) as compound (3): CF 3 O (CF 2 CF 2 O) j1 CF 2 CONHC 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 (produced in Synthesis Example 2 below, provided that compound (3- 11a), j1 = 7 to 8, average value: 7.3.)
Compound (C): Si (NCO) 4 (SI-400, trade name, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)

(溶媒)
AE3000:アサヒクリンAE3000(商品名、旭硝子社製、CFCHOCFCHF
AC2000:アサヒクリンAC2000(商品名、旭硝子社製、CFCFCFCFCFCHF
(solvent)
AE3000: Asahiklin AE3000 (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 )
AC2000: Asahi Clin AC2000 (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CHF 2 )

[合成例1:化合物(1−11a)の合成]
密閉式耐圧反応器(100mL、SUS製)に、化合物(1a−1)の30.0gおよび化合物(1b−1)の92.1gを投入して撹拌した。次いで、反応器を200℃の油浴に入れ、20時間撹拌した。得られた反応粗液から原料を単蒸留によって除去し、化合物(1c−1)を含む混合物の50.0gを得た。GC(ガスクロマトグラフィ)による純度は40%であり、収率は33%であった。
CF(CF−I …(1a−1)、
CH=CH−(CF−CH=CH …(1b−1)、
CF(CF−CHCHI−(CF−CH=CH …(1c−1)。
[Synthesis Example 1: Synthesis of Compound (1-11a)]
30.0 g of compound (1a-1) and 92.1 g of compound (1b-1) were added to a closed pressure-resistant reactor (100 mL, manufactured by SUS) and stirred. The reactor was then placed in a 200 ° C. oil bath and stirred for 20 hours. The raw material was removed from the obtained reaction crude liquid by simple distillation to obtain 50.0 g of a mixture containing the compound (1c-1). The purity by GC (gas chromatography) was 40%, and the yield was 33%.
CF 3 (CF 2 ) 3 -I (1a-1),
CH 2 = CH- (CF 2) 6 -CH = CH 2 ... (1b-1),
CF 3 (CF 2) 3 -CH 2 CHI- (CF 2) 6 -CH = CH 2 ... (1c-1).

撹拌機、滴下ロートを備えた反応器(内容積100mL、ガラス製)に、化合物(1c−1)を含む混合物の50.0gを投入して撹拌し、油浴にて反応器の内温が80℃になるように加熱した。次いで、反応器の内温が80〜85℃になるようにして、水素化トリブチルスズの16.6gを滴下し、さらに2時間撹拌した。得られた反応粗液を単蒸留(沸点/5hPa〜100℃/5hPa)し、さらに留出物と、活性炭の0.5gおよびトリデカフルオロヘキシルエタン(旭硝子社製、AC−6000)の20mLとを混合し、固体をろ別した。次いで、ろ液の溶媒を留去することによって、10.2gの化合物(1d−1)(無色透明液体)を得た。収率は62%であった。
CF(CF−CHCH−(CF−CH=CH …(1d−1)。
A reactor equipped with a stirrer and a dropping funnel (internal volume: 100 mL, made of glass) was charged with 50.0 g of the mixture containing the compound (1c-1) and stirred, and the internal temperature of the reactor was adjusted in an oil bath. Heated to 80 ° C. Next, 16.6 g of tributyltin hydride was added dropwise so that the internal temperature of the reactor became 80 to 85 ° C., and the mixture was further stirred for 2 hours. The obtained reaction crude liquid was subjected to simple distillation (boiling point / 5 hPa to 100 ° C./5 hPa), and further, distillate, 0.5 g of activated carbon, and 20 mL of tridecafluorohexylethane (Asahi Glass Co., Ltd., AC-6000) Were mixed and the solid was filtered off. Subsequently, the solvent of the filtrate was distilled off to obtain 10.2 g of compound (1d-1) (colorless transparent liquid). The yield was 62%.
CF 3 (CF 2) 3 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 6 -CH = CH 2 ... (1d-1).

化合物(1d−1)のH−NMR(300.4MHz、基準:TMS)および19F−NMR(282.7MHz、基準:CFCl)の測定結果を以下に示す。なお、各測定値は、測定値に続く()内に示す基に由来する測定値を意味するが、この基に[]で囲まれた部分がある場合は、測定値は[]で囲まれた部分に由来する測定値を意味するものである。以下、実施例で示すNMRの測定結果については、全て同様である。
H−NMR(溶媒:CDCl)δ(ppm):2.41(4H、m、−CFCH−)、5.81(1H、m、−CFCH=)、5.99(2H、m、=CH)。
19F−NMR(溶媒:CDCl)δ(ppm):−81.5(3F、CF−)、−114.3(2F、−CFCH=)、−115.2〜−115.5(4F、−CHCF−)、−122.1〜−124.8(10F、−CF[CF]CF−、−126.5(2F、CF[CF]−)。
The measurement results of 1 H-NMR (300.4 MHz, standard: TMS) and 19 F-NMR (282.7 MHz, standard: CFCl 3 ) of the compound (1d-1) are shown below. Each measured value means a measured value derived from the group shown in parentheses following the measured value. If there is a part surrounded by [] in this group, the measured value is surrounded by []. It means the measured value derived from the part. Hereinafter, the NMR measurement results shown in the examples are all the same.
1 H-NMR (solvent: CDCl 3 ) δ (ppm): 2.41 (4H, m, —CF 2 CH 2 —), 5.81 (1H, m, —CF 2 CH═), 5.99 ( 2H, m, = CH 2) .
19 F-NMR (solvent: CDCl 3 ) δ (ppm): −81.5 (3F, CF 3 —), −114.3 (2F, —CF 2 CH═), −115.2 to −115.5 (4F, -CH 2 CF 2 - ), - 122.1~-124.8 (10F, -CF 2 [CF 2] CF 2 -, - 126.5 (2F, CF 3 [CF 2] -).

撹拌機、ジムロートを備えた反応器(内容積50mL)に、化合物(5−1)の10.0g、化合物(1e−1)の7.09g、白金触媒(白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体)の2質量%キシレン溶液の0.11gおよび1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンの20gを投入し、撹拌した。次いで、反応器を60℃の油浴に入れ、12時間撹拌した。反応粗液を単蒸留(沸点〜110℃/5hPa)することによって10.9gの化合物(1−11a)(白色固体、融点:58℃(DSC))を得た。収率は88%であった。
HSiCl …(1e−1)、
CF(CF−CHCH−(CF−CHCH−SiCl …(1−11a)。
In a reactor equipped with a stirrer and a Dimroth (internal volume 50 mL), 10.0 g of compound (5-1), 7.09 g of compound (1e-1), platinum catalyst (platinum-1,3-divinyl-1) , 1,3,3-tetramethyldisiloxane complex) in a 2% by weight xylene solution and 20 g of 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene were added and stirred. The reactor was then placed in a 60 ° C. oil bath and stirred for 12 hours. The reaction crude liquid was subjected to simple distillation (boiling point to 110 ° C./5 hPa) to obtain 10.9 g of compound (1-11a) (white solid, melting point: 58 ° C. (DSC)). The yield was 88%.
HSiCl 3 (1e-1),
CF 3 (CF 2) 3 -CH 2 CH 2 - (CF 2) 6 -CH 2 CH 2 -SiCl 3 ... (1-11a).

化合物(1−11a)のH−NMRおよび19F−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(溶媒:CDCl)δ(ppm):1.66(2H、m、−CHSi−)、2.2〜2.5(6H、m、−CFCH−)。
19F−NMR(溶媒:CDCl)δ(ppm):−81.6(3F、CF−)、−115.3〜−116.1(6F、−CFCH−)、−122.3〜−124.9(10F、−CF[CF]CF−、−126.6(2F、CF[CF]−)。
The measurement results of 1 H-NMR and 19 F-NMR of the compound (1-11a) are shown below.
1 H-NMR (solvent: CDCl 3 ) δ (ppm): 1.66 (2H, m, —CH 2 Si—), 2.2 to 2.5 (6H, m, —CF 2 CH 2 —).
19 F-NMR (solvent: CDCl 3 ) δ (ppm): −81.6 (3F, CF 3 —), −115.3 to −116.1 (6F, —CF 2 CH 2 —), −122. 3~-124.9 (10F, -CF 2 [CF 2] CF 2 -, - 126.6 (2F, CF 3 [CF 2] -).

[合成例2:化合物(3−11a)]
合成例で使用した化合物の略号は、次の通りの化合物を示す。
R−225:ジクロロペンタフルオロプロパン
F6:−CF(CF)OCFCF(CF)OCFCFCF
R−113:CClFCClF
[Synthesis Example 2: Compound (3-11a)]
The abbreviations of the compounds used in the synthesis examples indicate the following compounds.
R-225: Dichloropentafluoropropane R F6 : —CF (CF 3 ) OCF 2 CF (CF 3 ) OCF 2 CF 2 CF 3
R-113: CCl 2 FCClF 2

フラスコ内に、CHO(CHCHO)j1CHCHOH(市販のポリオキシエチレングリコールモノメチルエーテル、j1=7〜8、平均値:7.3)の25g、R−225の20g、NaFの1.2g、およびピリジンの1.6gを入れ、内温を10℃以下に保ちながら激しく撹拌し、窒素をバブリングさせた。フラスコ内に、FC(O)−RF6の46.6gを、内温を5℃以下に保ちながら3.0時間かけて滴下した。滴下終了後、50℃にて12時間撹拌し、室温にて24時間撹拌して、粗液を回収した。粗液を減圧濾過した後、回収液を真空乾燥機(50℃、5.0torr)で12時間乾燥し、粗液を得た。 In the flask, 25 g of CH 3 O (CH 2 CH 2 O) j1 CH 2 CH 2 OH (commercially available polyoxyethylene glycol monomethyl ether, j1 = 7-8, average value: 7.3), R-225 20 g, 1.2 g of NaF, and 1.6 g of pyridine were added and stirred vigorously while keeping the internal temperature at 10 ° C. or lower, and nitrogen was bubbled. Into the flask, 46.6 g of FC (O) —R F6 was added dropwise over 3.0 hours while keeping the internal temperature at 5 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 50 ° C. for 12 hours and then stirred at room temperature for 24 hours to recover the crude liquid. After the crude liquid was filtered under reduced pressure, the recovered liquid was dried with a vacuum dryer (50 ° C., 5.0 torr) for 12 hours to obtain a crude liquid.

粗液を100mLのR−225に溶解し、1000mLの飽和重曹水で3回水洗し、有機相を回収した。有機相に硫酸マグネシウムの1.0gを加え、12時間撹拌した後、加圧濾過して硫酸マグネシウムを除去し、回収液からエバポレータにてR−225を留去し、室温で液体である化合物(CHO(CHCHO)j1CHCHOC(O)−RF6(j1=7〜8、平均値:7.3))の56.1gを得た。 The crude liquid was dissolved in 100 mL of R-225 and washed with 1000 mL of saturated aqueous sodium bicarbonate three times to recover the organic phase. After adding 1.0 g of magnesium sulfate to the organic phase and stirring for 12 hours, the magnesium sulfate is removed by filtration under pressure, and R-225 is distilled off from the recovered liquid with an evaporator. CH 3 O (CH 2 CH 2 O) j1 CH 2 CH 2 OC (O) -R F6 (j1 = 7~8, average: 7.3)) to give the 56.1g of.

3000mLのハステロイ製オートクレーブ内に、R−113の1560gを入れて撹拌し、25℃に保った。オートクレーブガス出口には、20℃に保持した冷却器、NaFペレット充填層、および−20℃に保持した冷却器を直列に設置した。また、−20℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻すための液体返送ラインを設置した。オートクレーブ内に窒素ガスを1.0時間吹き込んだ後、窒素ガスで10%に希釈したフッ素ガス(以下、10%フッ素ガスと記す。)を、流速24.8L/時間で1時間吹き込んだ。   In a 3000 mL Hastelloy autoclave, 1560 g of R-113 was placed and stirred, and kept at 25 ° C. At the autoclave gas outlet, a cooler maintained at 20 ° C., a NaF pellet packed bed, and a cooler maintained at −20 ° C. were installed in series. Moreover, the liquid return line for returning the liquid aggregated from the cooler hold | maintained at -20 degreeC to an autoclave was installed. After nitrogen gas was blown into the autoclave for 1.0 hour, fluorine gas diluted to 10% with nitrogen gas (hereinafter referred to as 10% fluorine gas) was blown for 1 hour at a flow rate of 24.8 L / hour.

次に、オートクレーブ内に10%フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、CHO(CHCHO)j1CHCHOC(O)−RF6の27.5gをR−113の1350gに溶解した溶液を30時間かけて注入した。次に、オートクレーブ内に10%フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、R−113の12mLを注入した。この際、内温を40℃に変更した。続けて、ベンゼンを1質量%溶解したR−113溶液の6mLを注入した。さらに、フッ素ガスを1.0時間吹き込んだ後、窒素ガスを1.0時間吹き込んだ。反応終了後、溶媒を真空乾燥(60℃、6.0時間)にて留去し、室温で液体の化合物(CFO(CFCFO)j1CFCFOC(O)−RF6(j1=7〜8、平均値:7.3))の45.4gを得た。 Next, while blowing 10% fluorine gas into the autoclave at the same flow rate, 27.5 g of CH 3 O (CH 2 CH 2 O) j1 CH 2 CH 2 OC (O) —R F6 was changed to 1350 g of R-113. The dissolved solution was poured over 30 hours. Next, 12 mL of R-113 was injected while blowing 10% fluorine gas into the autoclave at the same flow rate. At this time, the internal temperature was changed to 40 ° C. Subsequently, 6 mL of an R-113 solution in which 1% by mass of benzene was dissolved was injected. Further, after blowing fluorine gas for 1.0 hour, nitrogen gas was blown for 1.0 hour. After completion of the reaction, the solvent was distilled off by vacuum drying (60 ° C., 6.0 hours), and the compound (CF 3 O (CF 2 CF 2 O) j1 CF 2 CF 2 OC (O) -R liquid at room temperature was removed. 45.4 g of F6 (j1 = 7-8, average value: 7.3) was obtained.

スターラーチップを投入した300mLのナスフラスコを充分に窒素置換した。ナスフラスコ内に、エタノールの40g、NaFの5.6g、およびR−225(50g)を入れた。ナスフラスコ内に、CFO(CFCFO)j1CFCFOC(O)−RF6の43.5gを滴下した後、室温にてバブリングを行いながら、激しく撹拌した。ナスフラスコ出口は窒素シールした。8時間後、冷却管に真空ポンプを設置して系内を減圧に保ち、過剰のエタノールおよび交換によって生じるCHCHOC(O)−RF6を留去した。24時間後、室温で液体の化合物(CFO(CFCFO)j1CFC(O)OCHCH(j1=7〜8、平均値:7.3))の26.8gを得た。 A 300 mL eggplant flask charged with a stirrer chip was thoroughly purged with nitrogen. In an eggplant flask, 40 g of ethanol, 5.6 g of NaF, and R-225 (50 g) were placed. After dropping 43.5 g of CF 3 O (CF 2 CF 2 O) j1 CF 2 CF 2 OC (O) —R F6 into the eggplant flask, the mixture was vigorously stirred while bubbling at room temperature. The eggplant flask outlet was sealed with nitrogen. After 8 hours, a vacuum pump was installed in the cooling pipe to keep the inside of the system under reduced pressure, and excess ethanol and CH 3 CH 2 OC (O) —R F6 produced by exchange were distilled off. After 24 hours, the compounds are liquid at room temperature (CF 3 O (CF 2 CF 2 O) j1 CF 2 C (O) OCH 2 CH 3 (j1 = 7~8, average: 7.3)) 26.8 g of Got.

100mLの丸底フラスコ内に、CFO(CFCFO)j1CFC(O)OCHCHの33.1g、NHCHCHCHSi(OCHの3.7gを入れ、室温で2時間撹拌した。反応終了後、未反応のNHCHCHCHSi(OCHおよび副生したエタノールを減圧留去し、室温で液体の化合物(3−11a)の32.3gを得た。 100mL round bottom flask, CF 3 O (CF 2 CF 2 O) j1 CF 2 C (O) OCH 2 CH 3 of 33.1g, NH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 of 3 0.7 g was added and stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, unreacted NH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 and by-produced ethanol were distilled off under reduced pressure to obtain 32.3 g of the compound (3-11a) which was liquid at room temperature.

[例1]
上記合成例1で得られた化合物(1−11a)を40質量%、AE3000を60質量%の割合で含有する混合物を化合物(A)溶液とした。AE3000を6.49g、AC2000を1.87g、化合物(A)溶液を1.62g、化合物(B)として化合物(2−11a)を0.023g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物1を得た。
[Example 1]
A mixture containing 40% by mass of the compound (1-11a) obtained in Synthesis Example 1 and 60% by mass of AE3000 was used as a compound (A) solution. 6.49 g of AE3000, 1.87 g of AC2000, 1.62 g of the compound (A) solution, 0.023 g of the compound (2-11a) as the compound (B) were added and stirred for 5 minutes to form a water-repellent film. The liquid composition 1 was obtained as a composition.

[例2]
AE3000を6.55g、AC2000を1.87g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を1.53g、化合物(B)として化合物(2−11a)を0.046g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物2を得た。
[Example 2]
6.55 g of AE3000, 1.87 g of AC2000, 1.53 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1, and 0.046 g of compound (2-11a) as compound (B) were added and stirred for 5 minutes. Thus, a liquid composition 2 was obtained as a composition for forming a water-repellent film.

[例3]
AE3000を6.79g、AC2000を1.88g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を1.19g、化合物(B)として化合物(2−11a)を0.14g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物3を得た。
[Example 3]
6.79 g of AE3000, 1.88 g of AC2000, 1.19 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1, and 0.14 g of compound (2-11a) as compound (B) were added and stirred for 5 minutes. And the liquid composition 3 was obtained as a composition for water-repellent film formation.

[例4]
AE3000を7.03g、AC2000を1.89g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を0.85g、化合物(B)として化合物(2−11a)を0.23g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物4を得た。
[Example 4]
7.03 g of AE3000, 1.89 g of AC2000, 0.85 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1 above, and 0.23 g of compound (2-11a) as compound (B) were added and stirred for 5 minutes. And the liquid composition 4 was obtained as a composition for water-repellent film formation.

[例5]
AE3000を7.27g、AC2000を1.89g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を0.51g、化合物(B)として化合物(2−11a)を0.32g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物5を得た。
[Example 5]
7.27 g of AE3000, 1.89 g of AC2000, 0.51 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1, and 0.32 g of compound (2-11a) as compound (B) were added and stirred for 5 minutes. And the liquid composition 5 was obtained as a composition for water-repellent film formation.

[例6]
AE3000を7.51g、AC2000を1.90g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を0.17g、化合物(B)として化合物(2−11a)を0.42g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物6を得た。
[Example 6]
7.51 g of AE3000, 1.90 g of AC2000, 0.17 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1 above, and 0.42 g of compound (2-11a) as compound (B) were added and stirred for 5 minutes. And the liquid composition 6 was obtained as a composition for water-repellent film formation.

[例7]
AE3000を7.42g、AC2000を0.94g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を1.53g、化合物(B)として上記合成例2で得られた化合物(3−11a)を0.11g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物7を得た。
[Example 7]
7.42 g of AE3000, 0.94 g of AC2000, 1.53 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1, and the compound (3-11a) obtained in Synthesis Example 2 as Compound (B) 0.11 g was added and stirred for 5 minutes to obtain a liquid composition 7 as a composition for forming a water-repellent film.

[例8]
AE3000を7.39g、AC2000を1.03g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を1.36g、化合物(B)として上記合成例2で得られた化合物(3−11a)を0.22g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物8を得た。
[Example 8]
7.39 g of AE3000, 1.03 g of AC2000, 1.36 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1, and Compound (3-11a) obtained in Synthesis Example 2 as Compound (B) 0.22 g was added and stirred for 5 minutes to obtain a liquid composition 8 as a composition for forming a water-repellent film.

[例9]
AE3000を7.35g、AC2000を1.12g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を1.19g、化合物(B)として上記合成例2で得られた化合物(3−11a)を0.33g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物9を得た。
[Example 9]
7.35 g of AE3000, 1.12 g of AC2000, 1.19 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1, and Compound (3-11a) obtained in Synthesis Example 2 as Compound (B) 0.33 g was added and stirred for 5 minutes to obtain a liquid composition 9 as a water-repellent film forming composition.

[例10]
AE3000を6.43g、AC2000を1.86g、上記例1と同様に調製した化合物(A)溶液を1.70g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物10を得た。
[Example 10]
6.43 g of AE3000, 1.86 g of AC2000 and 1.70 g of the compound (A) solution prepared in the same manner as in Example 1 above were added and stirred for 5 minutes to give the liquid composition 10 as a composition for forming a water-repellent film. Obtained.

[例11]
AE3000を7.63g、AC2000を1.91g、化合物(B)として化合物(2−11a)を0.46g入れ、5分間撹拌して、撥水膜形成用組成物として液状組成物11を得た。
上記例1〜11で得られた撥水膜形成用組成物としての液状組成物1〜11における各化合物の含有量および合計含有量(質量%)、ならびに化合物(A)と化合物(B)の合計モル量に対する各化合物のモル百分率(モル%)を表1に示す。
[Example 11]
7.63 g of AE3000, 1.91 g of AC2000 and 0.46 g of compound (2-11a) as compound (B) were added and stirred for 5 minutes to obtain liquid composition 11 as a composition for forming a water-repellent film. .
The content and total content (% by mass) of each compound in the liquid compositions 1 to 11 as the water repellent film-forming composition obtained in Examples 1 to 11 above, and the compounds (A) and (B) Table 1 shows the mole percentage (mol%) of each compound relative to the total molar amount.

Figure 2013129695
Figure 2013129695

[中間層形成用液状組成物の調製]
酢酸ブチル(純正化学社製)の9.50gと、SI−400の0.5gを5分間撹拌して、中間層形成用の液状組成物を得た。
[Preparation of liquid composition for intermediate layer formation]
9.50 g of butyl acetate (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) and 0.5 g of SI-400 were stirred for 5 minutes to obtain a liquid composition for forming an intermediate layer.

[例12〜21]
基体として、酸化セリウムで表面を研磨洗浄し、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板(水接触角5°、300mm×300mm×厚さ3mm)を用い、該ガラス基板の表面に、上記中間層形成用液状組成物0.5gをスキージコート法によって塗布し1分間乾燥した。その後、上記例1〜9、11で得た液状組成物1〜9、11のいずれかの0.5gをスキージコート法によって塗布し、50℃、60%RHに設定された恒温恒湿槽で48時間保持して撥水層を形成し、中間層/撥水層からなる撥水膜を有する撥水膜付き基体1〜10を得た。
[Examples 12 to 21]
As a substrate, a clean soda lime glass substrate (water contact angle 5 °, 300 mm × 300 mm × thickness 3 mm), which is polished and cleaned with cerium oxide, is used, and the intermediate layer is formed on the surface of the glass substrate. 0.5 g of the liquid composition was applied by a squeegee coating method and dried for 1 minute. Thereafter, 0.5 g of any one of the liquid compositions 1 to 9 and 11 obtained in Examples 1 to 9 and 11 was applied by a squeegee coating method, and the thermostatic and humidity chamber was set to 50 ° C. and 60% RH. A water-repellent layer was formed by holding for 48 hours to obtain substrates 1 to 10 with a water-repellent film having a water-repellent film composed of an intermediate layer / water-repellent layer.

[例22]
上記例12〜21と同様にして、基体に中間層形成用液状組成物を塗布し乾燥した後、その上にC17CHCHSiCl(シンクエスト社製)を8質量%で含有する酢酸ブチル/ヘプタン=1/1溶液(撥水膜形成用の液状組成物12)0.5gをスキージコート法によって塗布し、上記例12〜21と同様に処理して撥水層を形成し、中間層/撥水層からなる撥水膜を有する撥水膜付き基体11を得た。なお、C17CHCHSiClは、従来から撥水膜形成用として用いられている含フッ素有機ケイ素化合物である。得られる撥水層は、動的撥水性を含む撥水性、耐摩耗性および耐候性に優れることが知られているが、分解生成物として炭素数8以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物を生成するため、C17CHCHSiClは環境負荷が高い化合物である。
[Example 22]
In the same manner as in Examples 12 to 21, the intermediate layer-forming liquid composition was applied to the substrate and dried, and then C 8 F 17 CH 2 CH 2 SiCl 3 (manufactured by Shinquest Co.) was added at 8% by mass. 0.5 g of butyl acetate / heptane = 1/1 solution (liquid composition 12 for forming a water-repellent film) is applied by a squeegee coating method and treated in the same manner as in Examples 12 to 21 to form a water-repellent layer. Thus, a substrate 11 with a water repellent film having a water repellent film composed of an intermediate layer / water repellent layer was obtained. C 8 F 17 CH 2 CH 2 SiCl 3 is a fluorine-containing organosilicon compound conventionally used for forming a water-repellent film. The obtained water-repellent layer is known to be excellent in water repellency including dynamic water repellency, abrasion resistance and weather resistance, but produces a compound having a C8 or more perfluoroalkyl group as a decomposition product. Therefore, C 8 F 17 CH 2 CH 2 SiCl 3 is a compound with a high environmental load.

[評価]
上記の例12〜22で得られた撥水膜付き基体1〜11の評価を、以下のように行った。
<撥水性>
撥水性は以下の方法で測定した水接触角(CA)および水転落角(SA)の値で評価した。まず、以下の各試験を行う前に初期値を測定した。水接触角(CA)により静的撥水性が評価され、水転落角(SA)により動的撥水性が評価される。これらを併せて撥水性とし、いずれかが良好でない場合は、総合的に撥水性が良好でないと判断される。なお、初期の水接触角(CA)が105°以上かつ水転落角(SA)が15°以下であれば、実使用に充分耐える撥水性を有するといえる。
[Evaluation]
Evaluation of the bases 1 to 11 with water-repellent films obtained in Examples 12 to 22 was performed as follows.
<Water repellency>
The water repellency was evaluated by the values of water contact angle (CA) and water fall angle (SA) measured by the following methods. First, initial values were measured before each of the following tests. Static water repellency is evaluated by water contact angle (CA), and dynamic water repellency is evaluated by water falling angle (SA). If these are combined to make the water repellency and one of them is not good, it is judged that the water repellency is not good overall. If the initial water contact angle (CA) is 105 ° or more and the water falling angle (SA) is 15 ° or less, it can be said that the water repellency sufficiently withstands actual use.

(水接触角(CA))
撥水膜付き基体の撥水膜表面に置いた、直径1mmの水滴の接触角をCA−X150(協和界面科学社製)を用いて測定した。撥水膜表面における異なる5ヶ所で測定を行い、その平均値を算出した。
(水転落角(SA))
水平に保持した撥水膜付き基体の撥水膜表面に50μLの水滴を滴下した後、基体を徐々に傾け、水滴が転落しはじめた時の撥水膜付き基体と水平面との角度(転落角)をSA−11(協和界面科学社製)を用いて測定した。撥水膜表面における異なる5ヶ所で測定を行い、その平均値を算出した。転落角が小さいほど動的撥水性に優れる。
(Water contact angle (CA))
The contact angle of a water droplet having a diameter of 1 mm placed on the surface of the water-repellent film-coated substrate was measured using CA-X150 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Measurement was performed at five different locations on the surface of the water-repellent film, and the average value was calculated.
(Water drop angle (SA))
After dropping 50 μL of water droplets onto the surface of the water-repellent film substrate held horizontally, the substrate is gradually tilted, and the angle between the water-repellent film-coated substrate and the horizontal plane when the water droplet starts to fall (the falling angle) ) Was measured using SA-11 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Measurement was performed at five different locations on the surface of the water-repellent film, and the average value was calculated. The smaller the falling angle, the better the dynamic water repellency.

<耐摩耗性>
撥水膜付き基体の撥水膜表面に対し、下記試験条件にて耐布摩耗試験を行った後、上記方法により水接触角および水転落角を測定した。
(耐布摩耗性試験)
(1)ネル布摩耗試験
JIS L0849に準拠して下記試験機を用いて下記試験条件で耐布摩耗性試験を行った。
試験機:往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)
試験条件:綿布(JIS L0803に準拠)、荷重1.2kg、摩耗回数3000往復
(2)カナキン布摩耗試験
JIS L0849に準拠して下記試験機を用いて下記試験条件で耐布摩耗性試験を行った。
試験機:往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)
試験条件:カナキン布、荷重1.0kg、摩耗回数2000往復
〔撥水性の耐摩耗性評価基準〕
上記ネル布摩耗試験およびカナキン布摩耗試験について、試験後における水接触角(CA)が80°以上かつ水転落角(SA)が22°以下であれば、実使用に充分な撥水性の耐摩耗性を有するといえる。
<Abrasion resistance>
After the cloth abrasion resistance test was performed on the surface of the water-repellent film of the substrate with the water-repellent film under the following test conditions, the water contact angle and the water falling angle were measured by the above methods.
(Cloth wear resistance test)
(1) Nell cloth abrasion test A cloth abrasion resistance test was conducted under the following test conditions using the following tester in accordance with JIS L0849.
Testing machine: Reciprocating traverse testing machine (manufactured by KT Corporation)
Test conditions: Cotton cloth (according to JIS L0803), load 1.2 kg, wear frequency 3000 reciprocations (2) Kanakin cloth abrasion test A cloth abrasion resistance test is performed under the following test conditions using the following tester in accordance with JIS L0849. It was.
Testing machine: Reciprocating traverse testing machine (manufactured by KT Corporation)
Test conditions: Canakin cloth, load 1.0 kg, wear frequency 2000 reciprocations [water repellent abrasion resistance evaluation standard]
With regard to the flannel cloth abrasion test and the kanakin cloth abrasion test, if the water contact angle (CA) after the test is 80 ° or more and the water falling angle (SA) is 22 ° or less, the water repellency is sufficient for practical use. It can be said that it has sex.

<耐候性>
(屋外暴露試験)
JIS Z2381に準拠して屋外暴露試験を行った。すなわち、撥水膜付き基体を、撥水膜表面が水平に対して30度の角度で南向きになるよう屋外に設置し、試験開始から150日後、上記方法により水接触角および水転落角を測定した。なお、例18〜20で得られた撥水膜付き基体については、試験開始から100日後の評価であった。
(SWOM試験)
JIS D0205に準拠してSWOM試験を行った。すなわち、撥水膜付き基体の撥水膜表面に対し、紫外線(255±10W/cm)を2500時間照射した後、上記方法により水接触角および水転落角を測定した。なお、例18〜20で得られた撥水膜付き基体については、試験開始から1200時間照射後の評価であった。
<Weather resistance>
(Outdoor exposure test)
An outdoor exposure test was conducted in accordance with JIS Z2381. That is, the substrate with a water-repellent film was placed outdoors so that the surface of the water-repellent film faced south at an angle of 30 degrees with respect to the horizontal, and 150 days after the start of the test, It was measured. In addition, about the base | substrate with a water-repellent film obtained in Examples 18-20, it was evaluation 100 days after a test start.
(SWOM test)
A SWOM test was conducted according to JIS D0205. That is, after irradiating the water-repellent film surface of the substrate with the water-repellent film with ultraviolet rays (255 ± 10 W / cm 2 ) for 2500 hours, the water contact angle and the water falling angle were measured by the above methods. In addition, about the base | substrate with a water-repellent film obtained in Examples 18-20, it was evaluation after 1200 hours irradiation from a test start.

〔撥水性の耐候性評価基準〕
上記SWOM試験および屋外暴露試験について、試験後における水接触角(CA)が80°以上かつ水転落角(SA)が22°以下であれば、実使用に充分な撥水性の耐久性を有するといえる。
(Water-repellent weather resistance evaluation criteria)
For the SWOM test and outdoor exposure test, if the water contact angle (CA) after the test is 80 ° or more and the water falling angle (SA) is 22 ° or less, the water repellent durability is sufficient for actual use. I can say that.

<耐薬品性>
(耐アルカリ性試験)
撥水膜付き基体を0.1規定NaOH水溶液(pH:13)に3時間浸漬した後、水洗、風乾し、上記方法により水接触角を測定した。
(塩水噴霧試験(SST))
JIS H8502に準拠して塩水噴霧試験を行った。すなわち、撥水膜付き基体の撥水膜表面を、塩水噴霧試験機(スガ試験機社製)内で300時間塩水雰囲気に暴露した後、上記方法により水接触角を測定した。
〔撥水性の耐薬品性評価基準〕
上記耐アルカリ性試験および塩水噴霧試験について、試験後における水接触角(CA)が80°以上であれば、実使用に充分な撥水性の耐薬品性を有するといえる。
以上の評価結果を表2に示す。
<Chemical resistance>
(Alkali resistance test)
The substrate with a water-repellent film was immersed in a 0.1 N NaOH aqueous solution (pH: 13) for 3 hours, then washed with water and air-dried, and the water contact angle was measured by the above method.
(Salt spray test (SST))
A salt spray test was conducted in accordance with JIS H8502. That is, the surface of the water-repellent film of the substrate with a water-repellent film was exposed to a salt water atmosphere in a salt spray tester (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) for 300 hours, and then the water contact angle was measured by the above method.
[Water-repellent chemical resistance evaluation criteria]
Regarding the alkali resistance test and the salt spray test, if the water contact angle (CA) after the test is 80 ° or more, it can be said that the water-repellent chemical resistance is sufficient for actual use.
The above evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2013129695
Figure 2013129695

表2の結果から、例12〜20で得られた実施例の撥水膜付き基体1〜9については、いずれも初期および耐摩耗性試験後、耐候性試験後においても撥水性に優れることがわかる。さらに、例12〜15、例18〜20で得られた実施例の撥水膜付き基体1〜4、7〜9については、用いた撥水膜形成用の液状組成物1〜4、7〜9における上記化合物(A)の含有割合が、化合物(A)と化合物(B)の合計モル量の40モル%以上であることから耐薬品性にも優れている。
一方、例21で得られた比較例の撥水膜付き基体10については、初期の撥水性、特に動的撥水性は充分であるが、耐摩耗性、耐候性、耐薬品性が充分でないことが分かる。
また、例22で得られた参考例の撥水膜付き基体11については、例12〜20と初期の撥水性、および耐摩耗性試験後、耐候性試験後における撥水性にも優れるが耐薬品性は充分でないことがわかる。
本発明の撥水膜形成用組成物を用いれば、従来の撥水膜形成用組成物と同等に優れた撥水性(特に動的撥水性)を基体に付与することが可能であり、さらにその耐摩耗性および耐候性も充分でありながら、環境に与える負荷は低いといえる。
From the results shown in Table 2, the water-repellent film-coated substrates 1 to 9 of Examples obtained in Examples 12 to 20 are all excellent in water repellency even after the initial and wear resistance tests and after the weather resistance test. Recognize. Furthermore, about the water-repellent film-coated substrates 1 to 4 and 7 to 9 of Examples 12 to 15 and Examples 18 to 20, the liquid compositions 1 to 4 and 7 to 7 for forming the water-repellent film used were used. Since the content ratio of the compound (A) in 9 is 40 mol% or more of the total molar amount of the compound (A) and the compound (B), the chemical resistance is also excellent.
On the other hand, the substrate 10 with a water-repellent film of Comparative Example obtained in Example 21 has sufficient initial water repellency, particularly dynamic water repellency, but has insufficient wear resistance, weather resistance, and chemical resistance. I understand.
The substrate 11 with a water-repellent film of Reference Example obtained in Example 22 is excellent in water repellency after Examples 12 to 20 and the initial water repellency and abrasion resistance test, and after the weather resistance test. It turns out that sex is not enough.
If the composition for forming a water-repellent film of the present invention is used, it is possible to impart a water repellency (particularly dynamic water repellency) equivalent to that of a conventional composition for forming a water-repellent film to a substrate. Although the wear resistance and weather resistance are sufficient, it can be said that the load on the environment is low.

本発明の撥水膜形成用組成物を用いて基体上に形成される撥水層は充分な撥水性(特に動的撥水性)、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない。本発明の撥水膜付き基体は該撥水層を撥水膜の最外層に有するものであって、電車、自動車、船舶、航空機等の輸送機器におけるボディー、窓ガラス(フロントガラス、サイドガラス、リアガラス)、ミラー、バンパー等の物品としての用途に好適に用いられる   The water repellent layer formed on the substrate using the water repellent film forming composition of the present invention has sufficient water repellency (particularly dynamic water repellency), abrasion resistance and weather resistance, and has a low environmental load. . The substrate with a water-repellent film of the present invention has the water-repellent layer as the outermost layer of the water-repellent film, and is a body, window glass (front glass, side glass, rear glass) in transportation equipment such as trains, automobiles, ships and aircraft. ), Suitable for use as articles such as mirrors and bumpers

Claims (14)

下記化合物(A)と下記化合物(B)とを含む、および/または、下記化合物(A)と下記化合物(B)との部分加水分解共縮合物を含む、撥水膜形成用組成物。
化合物(A):下記一般式(1)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
F1−Y−SiR (3−n1) n1 …(1)
(ただし、式(1)中、RF1は、炭素数pの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
は、炭素数qの、両末端が−CH−であり、1つ以上のペルフルオロアルキレン基を含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を含まない、ポリフルオロアルキレン基であり、
pは、2〜6の整数であり、
qは、4以上の整数であり、
p+qは、10以上の整数であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n1は、1〜3の整数であって、
およびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
化合物(B):下記化合物(b1)、下記化合物(b2)およびそれらの部分加水分解共縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
化合物(b1):下記一般式(2)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
(RF2−Y−SiR (4−a−n2) n2 …(2)
(ただし、式(2)中、RF2は、炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基であり、
は、ペルフルオロアルキレン基を含まない2価の有機基であり、
aは、1または2であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n2は、1〜3の整数であり、a+n2は3または4であって、
F2−YおよびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
化合物(b2):下記一般式(3)で表される化合物およびその部分加水分解縮合物から選ばれる含フッ素有機ケイ素化合物。
F3−O−(RF4−O)−RF5−Y−SiR (3−n3) n3 …(3)
(ただし、式(3)中、RF3は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基であり、
F4およびRF5は炭素数1〜3のペルフルオロアルキレン基であり、
は、アルキレン基、または、RF5と結合する末端もしくは炭素−炭素原子間にアミド結合、ウレタン結合およびエーテル性酸素原子から選ばれる1種を有してもよいアルキレン基であり、
mは、1〜50の整数であり、
は、水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、
は、加水分解性基であり、
n3は、1〜3の整数であって、
およびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても、同一であってもよい。)
The composition for water-repellent film formation containing the following compound (A) and the following compound (B) and / or containing the partial hydrolysis cocondensate of the following compound (A) and the following compound (B).
Compound (A): a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (1) and a partial hydrolysis-condensation product thereof.
R F1 —Y 1 —SiR 1 (3-n1) X 1 n1 (1)
(However, in Formula (1), R F1 is a linear perfluoroalkyl group having carbon number p,
Y 1 is a polyfluoroalkylene group having a carbon number q, both ends of —CH 2 —, one or more perfluoroalkylene groups, and no etheric oxygen atom between carbon-carbon atoms,
p is an integer of 2 to 6,
q is an integer of 4 or more,
p + q is an integer of 10 or more,
R 1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 1 is a hydrolyzable group;
n1 is an integer of 1 to 3,
When a plurality of R 1 and X 1 are present, these may be different from each other or the same. )
Compound (B): A fluorine-containing organosilicon compound selected from the following compound (b1), the following compound (b2), and partial hydrolysis cocondensates thereof.
Compound (b1): a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (2) and a partial hydrolysis condensate thereof.
(R F2 -Y 2 ) a -SiR 2 (4-a-n2) X 2 n2 (2)
(However, in Formula (2), R <F2> is a C1-C6 perfluoroalkyl group,
Y 2 is a divalent organic group not containing a perfluoroalkylene group,
a is 1 or 2,
R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 2 is a hydrolyzable group,
n2 is an integer of 1 to 3, a + n2 is 3 or 4,
When a plurality of R F2 —Y 2 and X 2 are present, these may be different from each other or the same. )
Compound (b2): a fluorine-containing organosilicon compound selected from a compound represented by the following general formula (3) and a partial hydrolysis-condensation product thereof.
R F3 —O— (R F4 —O) m —R F5 —Y 3 —SiR 3 (3-n3) X 3 n3 (3)
(However, in Formula (3), R <F3 > is a C1-C6 perfluoroalkyl group,
R F4 and R F5 are perfluoroalkylene groups having 1 to 3 carbon atoms,
Y 3 is an alkylene group or an alkylene group which may have one selected from an amide bond, a urethane bond and an etheric oxygen atom between the terminal or carbon-carbon atom bonded to R F5 ,
m is an integer from 1 to 50;
R 3 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
X 3 is a hydrolyzable group,
n3 is an integer of 1 to 3,
When a plurality of R 3 and X 3 are present, these may be different from each other or the same. )
前記組成物における[化合物(A)]/[化合物(A)+化合物(B)]×100で表される化合物(A)と化合物(B)との合計モル量に対する化合物(A)の割合(ただし、組成物が部分加水分解共縮合物を含む場合は、加水分解共縮合反応物分については、加水分解共縮合反応前の化合物(A)と化合物(B)との合計モル量を用いて、計算される割合)が10〜95モル%である、請求項1に記載の撥水膜形成用組成物。   Ratio of compound (A) to total molar amount of compound (A) and compound (B) represented by [compound (A)] / [compound (A) + compound (B)] × 100 in the composition ( However, when the composition contains a partially hydrolyzed cocondensate, for the hydrolyzed cocondensate product, the total molar amount of the compound (A) and the compound (B) before the hydrolyzed cocondensation reaction is used. The composition for water-repellent film formation according to claim 1, wherein the calculated ratio is 10 to 95 mol%. 前記組成物における前記化合物(A)と化合物(B)との合計モル量に対する化合物(A)の割合が40〜95モル%である、請求項1または2に記載の撥水膜形成用組成物。   The composition for water-repellent film formation according to claim 1 or 2, wherein the ratio of the compound (A) to the total molar amount of the compound (A) and the compound (B) in the composition is 40 to 95 mol%. . 前記一般式(1)で表される化合物が、下記式(1−1)で表わされる化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の撥水膜形成用組成物。
F1−CHCH−(CF−CHCH−SiR (3−n1) n1 …(1−1)
(ただし、式(1−1)中、RF1は炭素数pの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、pは2〜6の整数であり、rは1以上の整数であり、p+r+4は10以上の整数であり、Rは水素原子または炭素数1〜6の1価の炭化水素基であり、Xは加水分解性基であり、n1は1〜3の整数であって、RおよびXが複数個存在する場合は、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。)
The composition for water-repellent film formation according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following formula (1-1).
R F1 —CH 2 CH 2 — (CF 2 ) r —CH 2 CH 2 —SiR 1 (3-n1) X 1 n1 (1-1)
(In the formula (1-1), R F1 is a linear perfluoroalkyl group having carbon number p, p is an integer of 2 to 6, r is an integer of 1 or more, and p + r + 4 is 10) And R 1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X 1 is a hydrolyzable group, n1 is an integer of 1 to 3, and R 1 And when there are a plurality of X 1 s , these may be different or the same.)
前記一般式(2)で表わされる化合物が、下記式(2−1)〜(2−6)のいずれかで表わされる化合物から選ばれる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の撥水膜形成用組成物。
F(CF−(CH−SiX …(2−1)
F(CF−(CH−SiR …(2−2)
F(CF−CONH(CH−SiX …(2−3)
F(CF−CONH(CH−SiR …(2−4)
F(CF−CONH(CHNH(CH5−h−SiX …(2−5)
F(CF−CONH(CHNH(CH5−h−SiR …(2−6)
(ただし、式(2−1)〜(2−6)中、eは1〜6の整数であり、fは1〜6の整数であり、gは1〜5の整数であり、hは1〜4の整数であり、Xは互いに異なっていても同一であってもよい加水分解性基である。)
The compound represented by the general formula (2) is selected from compounds represented by any one of the following formulas (2-1) to (2-6). A composition for forming a water film.
F (CF 2) e - ( CH 2) f -SiX 2 3 ... (2-1)
F (CF 2) e - ( CH 2) f -SiR 2 X 2 2 ... (2-2)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) g -SiX 2 3 ... (2-3)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) g -SiR 2 X 2 2 ... (2-4)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) h NH (CH 2) 5-h -SiX 2 3 ... (2-5)
F (CF 2) e -CONH ( CH 2) h NH (CH 2) 5-h -SiR 2 X 2 2 ... (2-6)
(In the formulas (2-1) to (2-6), e is an integer of 1 to 6, f is an integer of 1 to 6, g is an integer of 1 to 5, and h is 1. -4 is an integer, and X 2 is a hydrolyzable group which may be the same or different from each other.
前記一般式(3)で表わされる化合物が、下記式(3−1)〜(3−4)のいずれかで表わされる化合物から選ばれる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の撥水膜形成用組成物。
F(CF−O−(CFCFO)(CF−CONH(CHk1SiX …(3−1)
F(CF−O−(CFCFO)(CF−CHOCONH(CHk1SiX …(3−2)
F(CF−O−(CFCFO)(CF−(CHk2O(CHk1SiX …(3−3)
F(CF−O−(CFCFO)(CF−(CHk1SiX …(3−4)
(ただし、式(3−1)〜(3−4)中、iは1〜6の整数であり、jは1〜20の整数であり、lは1〜3の整数であり、k1は1〜4の整数であり、k2は0〜3の整数であり、Xは互いに異なっていても同一であってもよい加水分解性基である。)
The compound represented by the general formula (3) is selected from the compounds represented by any one of the following formulas (3-1) to (3-4). A composition for forming a water film.
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l -CONH (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-1)
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l -CH 2 OCONH (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-2)
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l - (CH 2) k2 O (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-3)
F (CF 2) i -O- ( CF 2 CF 2 O) j (CF 2) l - (CH 2) k1 SiX 3 3 ... (3-4)
(In the formulas (3-1) to (3-4), i is an integer of 1 to 6, j is an integer of 1 to 20, l is an integer of 1 to 3, and k1 is 1. an to 4 integer, k2 is an integer of 0 to 3, X 3 is a good hydrolyzable groups be the same or different from one another.)
前記一般式(1)で表される化合物が、下記式(1−11)で表わされる化合物である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の撥水膜形成用組成物。
CF(CF−CHCH−(CF−CHCH−SiX …(1−11)
(ただし、式(1−11)中、Xは、互いに異なっていても、同一であってもよい加水分解性基である。)
The composition for water-repellent film formation according to any one of claims 1 to 6, wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following formula (1-11).
CF 3 (CF 2 ) 3 —CH 2 CH 2 — (CF 2 ) 6 —CH 2 CH 2 —SiX 1 3 (1-11)
(However, in Formula (1-11), X 1 is a hydrolyzable group which may be the same or different from each other.)
前記一般式(2)で表される化合物が、下記式(2−11)で表わされる化合物である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の撥水膜形成用組成物。
F(CF(CHSiX …(2−11)
(ただし、式(2−11)中、Xは、互いに異なっていても、同一であってもよい加水分解性基である。)
The composition for water-repellent film formation according to any one of claims 1 to 7, wherein the compound represented by the general formula (2) is a compound represented by the following formula (2-11).
F (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 SiX 2 3 (2-11)
(However, in Formula (2-11), X 2 is a hydrolyzable group which may be the same or different from each other.)
前記一般式(3)で表わされる化合物が、下記式(3−11)で表わされる化合物である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の撥水膜形成用組成物。
CF−O−(CFCFO)j1−CF−CONHCSiX …(3−11)
(ただし、式(3−11)中、j1は1〜9の整数であり、Xは互いに異なっていても同一であってもよい加水分解性基である。)
The composition for water-repellent film formation according to any one of claims 1 to 8, wherein the compound represented by the general formula (3) is a compound represented by the following formula (3-11).
CF 3 -O- (CF 2 CF 2 O) j1 -CF 2 -CONHC 3 H 6 SiX 3 3 ... (3-11)
(Wherein (3-11), j1 is an integer of 1 to 9, X 3 is a good hydrolyzable groups be the same or different from one another.)
基体と、前記基体の表面の少なくとも一部に撥水膜とを有する撥水膜付き基体であって、前記撥水膜は1層以上で構成され、かつ最外層に請求項1〜9のいずれか1項に記載の撥水膜形成用組成物を用いて形成された撥水膜を有する撥水膜付き基体。   A substrate with a water-repellent film having a substrate and a water-repellent film on at least a part of the surface of the substrate, wherein the water-repellent film is composed of one or more layers, and the outermost layer has any one of claims 1 to 9 A substrate with a water-repellent film comprising a water-repellent film formed using the composition for forming a water-repellent film according to claim 1. 前記撥水膜付き基体が、前記基体と前記撥水膜との間に、シリカを主体とする中間層をさらに有することを特徴とする、請求項10に記載の撥水膜付き基体。 The substrate with water-repellent film according to claim 10, wherein the substrate with water-repellent film further includes an intermediate layer mainly composed of silica between the substrate and the water-repellent film. 前記中間層が、下記一般式(4)で示される化合物、その部分加水分解縮合物、およびベルヒドロポリシラザンから選ばれる少なくとも1種である化合物(C)を含む中間層形成用組成物を用いて形成された層である、請求項11に記載の撥水膜付き基体。
Si(X …(4)
(ただし、式(4)中、Xはそれぞれ独立して、ハロゲン原子、アルコキシ基またはイソシアネート基を表す。)
Using the intermediate layer-forming composition, wherein the intermediate layer contains a compound represented by the following general formula (4), a partially hydrolyzed condensate thereof, and a compound (C) that is at least one selected from bellhydropolysilazane. The substrate with a water-repellent film according to claim 11, which is a formed layer.
Si (X 4 ) 4 (4)
(However, in formula (4), X 4 each independently represents a halogen atom, an alkoxy group or an isocyanate group.)
前記基体がガラスである、請求項10〜12のいずれか1項に記載の撥水膜付き基体。   The substrate with a water-repellent film according to claim 10, wherein the substrate is glass. 請求項10〜13のいずれか1項に記載の撥水膜付き基体を具備する輸送機器用物品。   An article for transportation equipment comprising the substrate with a water-repellent film according to any one of claims 10 to 13.
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