JP2013123677A - Method for producing surface-modified molding - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a surface-modified molding, in which efficient production can be achieved.SOLUTION: The method for producing the surface-modified molding includes a step of bringing a gas containing a vaporized silane coupling agent into contact with the surface of an untreated molding comprising a resin, an inorganic material or a combination thereof. The concentration of the silane coupling agent in the gas is 20-100% of the saturated concentration. The flow velocity of the gas flowing at 5 mm height from the surface of the untreated molding and in parallel with the surface of the untreated molding is ≥10 cm/sec.

Description

本発明は、表面が改質された成形体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a molded body having a modified surface.

樹脂もしくは無機材料からなる板材は、ガスバリア性能、透明性等の特性に優れるため、ディスプレイ装置、照明装置などの光学装置において、基板として用いられている。さらに、このような板材には、シランカップリング剤による表面改質処理を施し、他の部材との接合強度を高めうることが知られている(特許文献1〜3)。   A plate material made of a resin or an inorganic material is excellent in properties such as gas barrier performance and transparency, and thus is used as a substrate in an optical device such as a display device or a lighting device. Furthermore, it is known that such a plate material can be subjected to surface modification treatment with a silane coupling agent to increase the bonding strength with other members (Patent Documents 1 to 3).

特開2008−229413号公報JP 2008-229413 A 国際公開第WO2007/119552号International Publication No. WO2007 / 119552 国際公開第WO2011/010738号International Publication No. WO2011 / 010738

特許文献1〜3において、シランカップリング剤による処理は、大気圧もしくは減圧された密閉容器をシランカップリング剤の蒸気で満たし、そこにサンプルを入れることにより行っている。しかし、このような処理は、処理完了までの時間がかかり、製造効率を向上し難いという問題がある。このような問題は、多数の材料又は寸法の大きい材料を高速で処理する製造などの、高い効率が求められる製造の工程において、特に顕著である。   In Patent Documents 1 to 3, the treatment with a silane coupling agent is performed by filling a sealed container, which has been reduced to atmospheric pressure or reduced pressure, with the vapor of the silane coupling agent and placing the sample therein. However, such a process has a problem that it takes time to complete the process and it is difficult to improve the manufacturing efficiency. Such a problem is particularly remarkable in a manufacturing process that requires high efficiency, such as manufacturing in which a large number of materials or large-sized materials are processed at high speed.

従って、本発明の目的は、効率的な製造を可能とする、表面改質成形体の製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a surface-modified molded body that enables efficient production.

本発明者は前記の課題を解決するべく検討した結果、シランカップリング剤による処理を行うガス中のシランカップリング剤濃度を所定の範囲とし、且つ、かかるガスの流速を所定以上とすることにより、かかる課題を解決しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成されたものである。
すなわち、本発明によれば、以下の〔1〕〜〔5〕が提供される。
As a result of studying to solve the above-mentioned problems, the present inventors have determined that the concentration of the silane coupling agent in the gas to be treated with the silane coupling agent is within a predetermined range, and that the flow rate of the gas is at least a predetermined level. And found that this problem can be solved. The present invention has been completed based on such findings.
That is, according to the present invention, the following [1] to [5] are provided.

〔1〕 表面改質成形体の製造方法であって、
樹脂、無機材料、又はこれらの組み合わせからなる処理前成形体の表面に、気化したシランカップリング剤を含むガスを接触させる工程を含み、
前記ガス中の前記シランカップリング剤濃度が、飽和濃度の20%以上、100%以下であり、
前記接触させる工程において、前記処理前成形体の表面から5mmの高さにおける前記ガスの流速の、前記処理前成形体の前記表面に平行な成分が10cm/sec以上である、製造方法。
〔2〕 前記接触させる工程において、前記ガスが水蒸気をさらに含む、〔1〕に記載の製造方法。
〔3〕 前記接触させる工程に先立ち、前記処理前成形体を、水蒸気に曝す工程をさらに含む、〔1〕又は〔2〕に記載の製造方法。
〔4〕 前記処理前成形体が樹脂を含み、前記樹脂が脂環式構造含有重合体を含む樹脂である、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔5〕 前記処理前成形体が無機材料を含み、前記無機材料がガラスを含む材料である、〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の表面処理方法。
[1] A method for producing a surface-modified molded article,
A step of bringing a gas containing a vaporized silane coupling agent into contact with the surface of a pre-processed molded body made of a resin, an inorganic material, or a combination thereof;
The concentration of the silane coupling agent in the gas is 20% or more and 100% or less of the saturation concentration,
The manufacturing method in which the component parallel to the surface of the pre-processed molded body of the gas flow velocity at a height of 5 mm from the surface of the pre-processed molded body is 10 cm / sec or more in the contacting step.
[2] The manufacturing method according to [1], wherein in the contacting step, the gas further contains water vapor.
[3] The production method according to [1] or [2], further including a step of exposing the molded body before treatment to water vapor prior to the contacting step.
[4] The production method according to any one of [1] to [3], wherein the molded body before treatment includes a resin, and the resin is a resin including an alicyclic structure-containing polymer.
[5] The surface treatment method according to any one of [1] to [4], wherein the molded body before treatment includes an inorganic material, and the inorganic material includes glass.

本発明の製造方法によれば、高い剥離強度を与える表面処理が施された表面改質成形体を、効率的に製造することが可能となる。   According to the production method of the present invention, it is possible to efficiently produce a surface-modified molded body that has been subjected to a surface treatment that provides high peel strength.

図1は、処理用ガスを接触させる工程における処理前成形体の側面図である。FIG. 1 is a side view of a pre-processed molded body in a process of contacting a processing gas. 図2は、処理用ガスを接触させる工程の具体的な態様の一例を示す縦断面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an example of a specific aspect of the step of bringing the processing gas into contact. 図3は、処理用ガスを接触させる工程の具体的な態様の別の一例を示す縦断面図である。FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing another example of a specific aspect of the step of bringing the processing gas into contact. 図4は、処理用ガスを接触させる工程の具体的な態様のさらに別の一例を示す側面図である。FIG. 4 is a side view showing still another example of a specific aspect of the step of bringing the processing gas into contact. 図5は、処理用ガスを接触させる工程の具体的な態様のさらに別の一例を示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing still another example of a specific mode of the step of bringing the processing gas into contact.

以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples, but the present invention is not limited to the following embodiments and examples, and the claims of the present invention and equivalents thereof. Any change can be made without departing from the scope described above.

本発明の製造方法は、表面改質成形体の製造方法である。本願において、表面改質成形体とは、成形体の表面に、改質処理を施したものである。本願においては、かかる改質処理を施す前の成形体を、「処理前成形体」と呼び、かかる改質処理を施したものを「表面改質成形体」と呼ぶ。以降において、単なる「成形体」の文言は、これらを総称する用語として用いる。   The production method of the present invention is a method for producing a surface-modified molded body. In the present application, the surface-modified molded body is obtained by modifying the surface of the molded body. In the present application, a molded body before such a modification treatment is referred to as a “pre-treatment molded body”, and a molded body subjected to such a modification treatment is referred to as a “surface modified molded body”. Hereinafter, the term “molded body” is used as a generic term for these.

(処理前成形体)
処理前成形体は、通常は平面又は曲面のおもて面及び裏面を有する板状の形状を有する。改質処理の対象となる、処理前成形体の「表面」は、成形体の外面の一部又は全部である。処理対象の表面は、通常、板状の処理前成形体のおもて面及び裏面の一方又は両方の一部又は全部の領域を含む。
(Molded before treatment)
The molded body before processing usually has a plate shape having a front surface and a back surface of a flat surface or a curved surface. The “surface” of the molded body before processing, which is the target of the modification treatment, is a part or all of the outer surface of the molded body. The surface to be treated usually includes a part or all of one or both of the front surface and the back surface of the plate-shaped pre-processed molded body.

処理前成形体は、樹脂、無機材料又はこれらの組み合わせからなる。
前記樹脂の例としては、脂環式構造含有重合体を含有する樹脂;ポリビニルアルコールなどのビニルアルコール樹脂;ポリエチレンおよびポリプロピレンなどの鎖状のポリオレフィン樹脂;ポリスチレンなどの芳香族ビニル重合体樹脂;ナイロンなどのポリアミド樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートおよびポリアリレートなどのポリエステル樹脂;ポリイミド樹脂;ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂;などが挙げられる。
これらの中でも、ビニルアルコール樹脂および脂環式構造含有重合体を含有する樹脂が好ましく、脂環式構造含有重合体を含有する樹脂がより好ましく、分子内に三級炭素を有する脂環式構造含有重合体を含有する樹脂が特に好ましい。
The pre-processed molded body is made of a resin, an inorganic material, or a combination thereof.
Examples of the resin include a resin containing an alicyclic structure-containing polymer; a vinyl alcohol resin such as polyvinyl alcohol; a chain polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene; an aromatic vinyl polymer resin such as polystyrene; Polyamide resin; Polyester resin such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate and polyarylate; Polyimide resin; Acrylic resin such as polymethyl methacrylate;
Among these, a resin containing a vinyl alcohol resin and an alicyclic structure-containing polymer is preferred, a resin containing an alicyclic structure-containing polymer is more preferred, and an alicyclic structure containing a tertiary carbon in the molecule A resin containing a polymer is particularly preferred.

脂環式構造含有重合体は、脂環式構造を有する繰り返し単位を含有する重合体である。脂環式構造含有重合体を含有する樹脂は、透明性に優れ、水や有機低分子などの放出分が少ないので、本発明の製造方法により得られる表面改質成形体を、光学材料、精密機器材料等の用途に用いる場合には特に好適である。   The alicyclic structure-containing polymer is a polymer containing a repeating unit having an alicyclic structure. Since the resin containing the alicyclic structure-containing polymer is excellent in transparency and emits less water and small organic molecules, the surface-modified molded product obtained by the production method of the present invention can be used as an optical material, precision It is particularly suitable for use in applications such as equipment materials.

脂環式構造含有重合体の具体例としては、ノルボルネン系重合体、単環シクロアルケンの付加重合体、ビニルシクロアルカンの重合体などが挙げられる。これらのうちの一種を単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the alicyclic structure-containing polymer include norbornene polymers, monocyclic cycloalkene addition polymers, vinylcycloalkane polymers, and the like. One of these can be used alone or in combination of two or more.

脂環式構造としては、単環、多環(縮合多環、橋架け環、これらの組み合わせ多環など)が挙げられる。脂環式構造を構成する炭素原子数は、通常、4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲である。脂環式構造の炭素数が上記範囲であると、機械的強度、耐熱性および成形性の諸特性が高度にバランスされ好適である。   Examples of the alicyclic structure include monocycles and polycycles (condensed polycycles, bridged rings, combination polycycles thereof, and the like). The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is usually in the range of 4 to 30, preferably 5 to 20, and more preferably 5 to 15. When the carbon number of the alicyclic structure is within the above range, various properties such as mechanical strength, heat resistance and moldability are highly balanced, which is preferable.

脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は通常20〜100重量%、好ましくは30〜100重量%である。脂環式構造を有する繰り返し単位の割合が過度に少ないと、耐熱性に劣る場合がある。脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。   In the alicyclic structure-containing polymer, the proportion of the repeating unit having an alicyclic structure is usually 20 to 100% by weight, preferably 30 to 100% by weight. If the proportion of the repeating unit having an alicyclic structure is too small, the heat resistance may be inferior. Repeating units other than the repeating unit having an alicyclic structure are appropriately selected according to the purpose of use.

ノルボルネン系重合体は、ノルボルネン環構造を有する単量体の付加重合体もしくは開環重合体、またはこれらの水素化物である。単環シクロアルケンの付加重合体は、単環シクロアルケン単量体もしくは脂環式共役ジエン単量体の付加重合体、またはこれらの水素化物である。ビニルシクロアルカンの重合体は、ビニルシクロアルカンもしくはビニルシクロアルケンの重合体、またはこれらの水素化物、あるいは芳香族ビニル重合体の芳香環部分の水素化物である。これらの脂環式構造含有重合体は、上記各単量体と、共重合可能な他の単量体との共重合体であってもよい。   The norbornene-based polymer is an addition polymer or ring-opening polymer of a monomer having a norbornene ring structure, or a hydride thereof. The addition polymer of a monocyclic cycloalkene is an addition polymer of a monocyclic cycloalkene monomer or an alicyclic conjugated diene monomer, or a hydride thereof. The polymer of vinylcycloalkane is a polymer of vinylcycloalkane or vinylcycloalkene, or a hydride thereof, or a hydride of an aromatic ring portion of an aromatic vinyl polymer. These alicyclic structure-containing polymers may be copolymers of the above monomers with other monomers that can be copolymerized.

脂環式構造含有重合体はさらにヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、およびカルボン酸無水物基などの極性基を有していてもよいが、極性基を有さないものが好ましい。   The alicyclic structure-containing polymer further has polar groups such as hydroxyl group, carboxyl group, alkoxyl group, epoxy group, glycidyl group, oxycarbonyl group, carbonyl group, amino group, ester group, and carboxylic anhydride group. However, those having no polar group are preferred.

これらの脂環式構造含有重合体の中でも、成形性に優れ、自己蛍光が少ないので蛍光分析などの用途にも好適に用いることができ、溶出分が少ないなどの理由から、ノルボルネン環構造を有する単量体の開環重合体およびその水素化物が好ましく、分子内に三級炭素を有する、ノルボルネン環構造を有する単量体の開環重合体およびその水素化物が、プラズマ照射を行う場合その効果がより高くなるので、特に好ましい。   Among these alicyclic structure-containing polymers, it has a norbornene ring structure because it is excellent in moldability and has less autofluorescence, so it can be suitably used for applications such as fluorescence analysis, and has a small amount of elution. Monomer ring-opening polymers and hydrides thereof are preferred, and the effects of the monomer ring-opening polymer having a norbornene ring structure and a hydride thereof having a norbornene ring structure when plasma irradiation is performed. Is particularly preferred since it becomes higher.

樹脂のガラス転移温度は,特に制限されないが、好ましくは100℃以上、より好ましくは130℃以上である。   The glass transition temperature of the resin is not particularly limited, but is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher.

脂環式構造含有重合体を得るための重合方法、および必要に応じて行われる水素化の方法は、格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。   The polymerization method for obtaining the alicyclic structure-containing polymer and the hydrogenation method performed as necessary are not particularly limited and can be performed according to a known method.

樹脂は、その主成分となる重合体に加え、各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、格別限定はなく、通常の樹脂の添加剤を用いることができる。例えば、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤;染料、顔料等の着色剤;帯電防止剤;等が挙げられる。これらの添加剤は、そのいずれか一種を単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの添加剤の添加量は、本発明の目的を損ねない範囲で適宜選択される。   The resin may contain various additives in addition to the main polymer. There is no special limitation as an additive, The additive of a normal resin can be used. For example, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, ultraviolet absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; lubricants, plasticizers and other resin modifiers; dyes, pigments and other colorants; Antistatic agents; and the like. Any one of these additives may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. The addition amount of these additives is appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention.

前記無機材料の例としては、ガラス、単結晶サファイヤ、石英、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化マグネシウムを挙げることができる。ガラスとしては、より具体的には、ソーダガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、化学強化ガラスを挙げることができる。
処理前成形体は、1種類の樹脂又は無機材料からなる1層のものであってもよく、これらの2種類以上の組み合わせからなっていてもよい。例えば、複数の層を有するものであってもよい。この場合、複数の層を構成する材料(樹脂及び/又は無機材料)は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
Examples of the inorganic material include glass, single crystal sapphire, quartz, calcium fluoride, barium fluoride, and magnesium fluoride. More specifically, examples of the glass include soda glass, lead glass, borosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, and chemically strengthened glass.
The molded body before treatment may be a single layer made of one type of resin or inorganic material, or may be a combination of two or more types of these. For example, it may have a plurality of layers. In this case, the materials (resin and / or inorganic material) constituting the plurality of layers may be the same or different.

処理前成形体の処理に際し、処理前成形体は、樹脂及び無機材料以外の部材と結合された複合材料とされていてもよい。この場合、複合材料の表面の層が処理前成形体で構成されていることにより、かかる複合材料上の処理前成形体を本発明の方法に供することができる。例えば、おもて面が露出し、裏面を介して樹脂及び無機材料以外の部材に貼合されてなる、処理前成形体を含む複合部材を、シランカップリング剤による処理に供し、かかる複合部材のおもて面に処理を施し、本発明の製造方法を行うこともできる。   When processing the pre-processed molded body, the pre-processed molded body may be a composite material combined with a member other than the resin and the inorganic material. In this case, since the layer on the surface of the composite material is composed of the pre-process molded body, the pre-process molded body on the composite material can be used in the method of the present invention. For example, a composite member that includes a pre-processed molded body that is exposed to a front surface and is bonded to a member other than a resin and an inorganic material via the back surface is subjected to treatment with a silane coupling agent, and the composite member. The manufacturing method of the present invention can also be performed by processing the front surface.

(処理用ガス)
本発明の製造方法は、処理前成形体の表面に、気化したシランカップリング剤を含むガス(以下、「処理用ガス」と呼ぶ場合がある。)を接触させる工程を含む。
シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤をいずれも用いることができる。
シランカップリング剤の具体的としては、
ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのビニル基を有するもの;
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどのエポキシ基を有するもの;
p−スチリルトリメトキシシランなどのスチリル基を有するもの;
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシトリエトキシシランなどのメタクリロキシ基を有するもの;
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリロキシ基を有するもの;
N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチルブチリデンプロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、特殊アミノシラン(信越化学社製、KBM−6135など)などのアミノ基を有するもの;
3−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド結合を有するもの;
3−クロロプロピルトリメトキシシランなどのハロゲン原子を含有するもの;
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのメルカプト基を有するもの;
ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドなどのスルフィド結合を有するもの;
3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのイソシアネート基を有するもの;
等が挙げられる。これらのうちの一種を単独で用いることもでき、二種以上を組み合わせて用いることもできる。
(Processing gas)
The production method of the present invention includes a step of bringing a gas containing a vaporized silane coupling agent (hereinafter, sometimes referred to as “treatment gas”) into contact with the surface of the molded body before treatment.
Any known silane coupling agent can be used as the silane coupling agent.
As specific examples of the silane coupling agent,
Having vinyl groups such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane;
Having an epoxy group such as 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane;
having a styryl group such as p-styryltrimethoxysilane;
Those having a methacryloxy group such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxymethyldiethoxysilane, 3-methacryloxytriethoxysilane;
Having an acryloxy group such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane;
N-2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane Methoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethylbutylidenepropylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2 -Those having an amino group such as aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, special aminosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-6135, etc.);
Having a ureido bond such as 3-ureidopropyltriethoxysilane;
Containing halogen atoms such as 3-chloropropyltrimethoxysilane;
Those having a mercapto group such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane;
Having a sulfide bond such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide;
Having an isocyanate group such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane;
Etc. One of these can be used alone, or two or more can be used in combination.

処理用ガスは、シランカップリング剤に加えて、キャリアガスを含有することができる。かかるキャリアガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスを用いることができる。
処理用ガスにおけるシランカップリング剤濃度は、飽和濃度の20%以上であり、40%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく、且つ、100%以下であり、95%以下であることが好ましく、90%以下であることがより好ましい。シランカップリング剤濃度を飽和濃度の20%以上とすることにより、効率的な改質処理が可能となる。
The processing gas can contain a carrier gas in addition to the silane coupling agent. As such a carrier gas, an inert gas such as nitrogen, helium, or argon can be used.
The concentration of the silane coupling agent in the processing gas is 20% or more of the saturation concentration, preferably 40% or more, more preferably 60% or more, and 100% or less, 95% or less. It is preferable that it is 90% or less. By setting the silane coupling agent concentration to 20% or more of the saturation concentration, an efficient modification treatment can be performed.

処理用ガスは、さらに、必要に応じて、水蒸気を含むことができる。水蒸気を含むことにより、高い剥離強度を与えるシランカップリング処理を、さらに効率的に達成することができる。処理用ガスにおける水蒸気の含有割合は、飽和濃度の5%〜100%とすることができる。   The processing gas can further contain water vapor as required. By containing water vapor, a silane coupling treatment that provides high peel strength can be achieved more efficiently. The content ratio of water vapor in the processing gas can be 5% to 100% of the saturation concentration.

処理用ガスは、さらに、必要に応じて、任意の気体成分を含むことができる。かかる任意の気体成分としては、メタノール、エタノールなどを挙げることができる。処理用ガスにおける任意の気体成分の含有割合は、飽和濃度の0.1%〜10%とすることができる。   The processing gas can further contain an optional gas component as required. Examples of such optional gas components include methanol and ethanol. The content ratio of an arbitrary gas component in the processing gas can be 0.1% to 10% of the saturation concentration.

(処理用ガスの接触)
処理前成形体に処理用ガスを接触させる工程においては、処理前成形体の表面から5mmの高さにおける処理用ガスの流速の、処理前成形体の表面(処理の対象となる表面)に平行な成分は、10cm/sec以上、好ましくは100cm/sec以上、より好ましくは500cm/sec以上とする。かかる速度での接触を行うことにより、高い剥離強度を与えるシランカップリング処理を、効率的に達成することができる。一方、速度の上限は、特に限定されないが5000cm/sec以下としうる。
(Process gas contact)
In the step of bringing the processing gas into contact with the pre-processed molded body, the flow rate of the processing gas at a height of 5 mm from the surface of the pre-processed molded body is parallel to the surface of the pre-processed molded body (surface to be processed). This component is 10 cm / sec or more, preferably 100 cm / sec or more, more preferably 500 cm / sec or more. By performing contact at such a speed, a silane coupling treatment that provides high peel strength can be efficiently achieved. On the other hand, the upper limit of the speed is not particularly limited, but may be 5000 cm / sec or less.

処理用ガスの流速の、処理前成形体の表面に平行な成分を、図1を参照して説明する。図1は、処理用ガスを接触させる工程における処理前成形体の側面図である。図1において、処理前成形体11は、表面11Sを有し、この表面11Sが、処理用ガスにより処理される。この場合、表面11Sより5mmの高さ(図1においては矢印hで示される)の位置の面13(破線で示される)における、処理用ガスの速度が検討される。   A component of the flow rate of the processing gas parallel to the surface of the molded body before processing will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a side view of a pre-processed molded body in a process of contacting a processing gas. In FIG. 1, the pre-processed molded body 11 has a surface 11S, and the surface 11S is processed with a processing gas. In this case, the speed of the processing gas on the surface 13 (shown by a broken line) at a height of 5 mm from the surface 11S (shown by an arrow h in FIG. 1) is examined.

この例において、面13上の点14における処理用ガスの風向が、矢印A11で示される通り面13と平行(即ち表面11Sとも平行)な方向である場合、「処理用ガスの流速の、処理前成型体の表面に平行な成分」は、処理用ガスの流速に等しい。
他の一例として、面13上の点14における処理用ガスの風向が、矢印A12で示される通り面13と角θをなす場合、「処理用ガスの流速の、処理前成形体の表面に平行な成分」は、v1=vcosθ(ここで、vは処理用ガスの流速、v1は処理用ガスの流速の処理前成形体の表面に平行な成分)の式で求められる。θの範囲としては60°〜90°が好ましい。
In this example, when the wind direction of the processing gas at the point 14 on the surface 13 is parallel to the surface 13 as shown by the arrow A11 (that is, parallel to the surface 11S), “the processing gas flow velocity is processed. The “component parallel to the surface of the preform” is equal to the flow rate of the processing gas.
As another example, when the wind direction of the processing gas at the point 14 on the surface 13 forms an angle θ with the surface 13 as indicated by an arrow A12, “the flow velocity of the processing gas is parallel to the surface of the molded body before processing”. The “component” is obtained by an equation of v1 = v cos θ (where v is the flow velocity of the processing gas, and v1 is a component parallel to the surface of the pre-processed molded body at the flow velocity of the processing gas). The range of θ is preferably 60 ° to 90 °.

処理前成形体に処理用ガスを接触させる工程の、具体的な態様を、図2〜図5を参照して説明する。
図2に示す例において、容器21は、導入口22及び排出口23を有する。容器21内の内側底面に、処理前成形体11が、処理対象の表面11Sを上側にして載置される。処理用ガスは、矢印A21で示す通り、導入口22から容器21内に導入され、容器21内を流通し、排出口23から排出される。容器21内の表面11Sより5mmの高さにおける処理用ガスの流速は、風速計24によりモニターし、流速が所望の速度となるよう、導入口22から導入する処理用ガスの速度を調節することができる。これにより、処理前成形体11の表面11Sに、所望の流速で処理用ガスを接触させることができる。
A specific mode of the step of bringing the processing gas into contact with the pre-processed molded body will be described with reference to FIGS.
In the example shown in FIG. 2, the container 21 has an introduction port 22 and a discharge port 23. On the inner bottom surface in the container 21, the pre-processed molded body 11 is placed with the surface 11S to be processed facing upward. The processing gas is introduced into the container 21 from the introduction port 22 as shown by an arrow A 21, flows through the container 21, and is discharged from the discharge port 23. The flow rate of the processing gas at a height of 5 mm from the surface 11S in the container 21 is monitored by the anemometer 24, and the speed of the processing gas introduced from the inlet 22 is adjusted so that the flow rate becomes a desired speed. Can do. Thereby, the processing gas can be brought into contact with the surface 11S of the molded body 11 before processing at a desired flow rate.

図3に示す例において、容器31は、送風機33を備える。送風機33により、容器31内の気体を矢印A31に示す方向に循環することができる。容器33内に、シランカップリング剤を気化させる装置32を載置し、シランカップリング剤を気化させることにより、容器31内に処理用ガスを、所望の流速で循環させることができる。流速は、必要に応じて、処理前成形体の近傍に設置した風速計(不図示)でモニターすることができる。このような容器31内に、処理前成形体11を載置することにより、処理前成形体11の表面11Sに、所望の流速で処理用ガスを接触させることができる。   In the example shown in FIG. 3, the container 31 includes a blower 33. The blower 33 can circulate the gas in the container 31 in the direction indicated by the arrow A31. By placing the device 32 for vaporizing the silane coupling agent in the container 33 and vaporizing the silane coupling agent, the processing gas can be circulated in the container 31 at a desired flow rate. The flow rate can be monitored with an anemometer (not shown) installed in the vicinity of the pre-processed compact as necessary. By placing the pre-process molded body 11 in such a container 31, the processing gas can be brought into contact with the surface 11S of the pre-process molded body 11 at a desired flow rate.

図4に示す例においては、処理前成形体11の表面11Sに、ノズル41により処理用ガスを吹き付けており、それにより、矢印A41〜A42に示す通りガスを流している。また図5に示す例においては、処理前成形体11の表面11Sに、シャワーヘッド51により処理用ガスを吹き付けており、それにより、矢印A51〜A54に示す通りガスを流している。このような態様によっても、処理前成形体11の表面11Sに、所望の流速で処理用ガスを接触させることができる。   In the example shown in FIG. 4, the processing gas is blown by the nozzle 41 onto the surface 11S of the pre-processed molded body 11, thereby flowing the gas as indicated by arrows A <b> 41 to A <b> 42. Moreover, in the example shown in FIG. 5, the gas for a process is sprayed on the surface 11S of the molded object 11 before a process with the shower head 51, and, thereby, the gas is flowed as shown by arrow A51-A54. Also according to such an aspect, the processing gas can be brought into contact with the surface 11S of the molded body 11 before processing at a desired flow rate.

(前処理)
処理前成形体に処理用ガスを接触させる工程に先立ち、処理前成形体に、任意の前処理を行うことができる。かかる前処理の例としては、プラズマ照射、エキシマ紫外線照射、コロナ放電、及び水蒸気処理を挙げることができる。均一に表面処理を行うことが可能であることから、プラズマ照射が好ましく、常圧プラズマ照射がより好ましい。
(Preprocessing)
Prior to the step of bringing the processing gas into contact with the pre-process molded body, the pre-process molded body can be subjected to any pre-treatment. Examples of such pretreatment include plasma irradiation, excimer ultraviolet irradiation, corona discharge, and steam treatment. Since it is possible to perform surface treatment uniformly, plasma irradiation is preferable, and atmospheric pressure plasma irradiation is more preferable.

常圧プラズマ照射は、例えば、常圧プラズマ表面処理装置(製品名「AP−T03−L」、積水化学社製)を用いて行うことができる。
常圧プラズマ照射は、水素、ヘリウム、窒素、酸素、アルゴンから選択される1種以上のガス雰囲気下で行うことが好ましく、窒素と乾燥空気または酸素とを混合して用いることがより好ましい。窒素の流量は好ましくは50〜150NL/分、乾燥空気または酸素の流量は好ましくは0.1〜5NL/分である。プラズマ照射の出力は0.5〜2kWであることが好ましい。プラズマ照射の周波数は出力に対応した共振周波数であることが好ましく、具体的には10〜100KHzの範囲が好ましい。プラズマ照射の照射速度は1〜100cm/分で行うことが好ましい。プラズマ発生源と処理対象の表面との距離は1〜10mmの間が好ましい。
The atmospheric pressure plasma irradiation can be performed using, for example, an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus (product name “AP-T03-L”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.).
The atmospheric pressure plasma irradiation is preferably performed in one or more gas atmospheres selected from hydrogen, helium, nitrogen, oxygen, and argon, and more preferably mixed with nitrogen and dry air or oxygen. The flow rate of nitrogen is preferably 50 to 150 NL / min, and the flow rate of dry air or oxygen is preferably 0.1 to 5 NL / min. The output of plasma irradiation is preferably 0.5 to 2 kW. The frequency of plasma irradiation is preferably a resonance frequency corresponding to the output, and specifically, a range of 10 to 100 KHz is preferable. The irradiation rate of plasma irradiation is preferably 1 to 100 cm / min. The distance between the plasma generation source and the surface to be processed is preferably between 1 and 10 mm.

また、プラズマ照射を常圧下ではなく減圧下で行うときは、0.001〜10kPa(絶対圧)の低圧ガス(アルゴンガス、酸素ガス、窒素ガス、またはこれらの混合ガスなど)を用いてプラズマ処理を行うことが好ましい。低圧ガスとしては、窒素と酸素との混合ガスを用いることが特に好ましい。窒素と酸素との混合比は体積比で10:1〜1:10であることが好ましく、混合ガスの流量は0.1〜10NL/分であることが好ましい。プラズマ照射の出力は好ましくは50〜500Wである。   When plasma irradiation is performed under reduced pressure instead of normal pressure, plasma treatment is performed using a low pressure gas (such as argon gas, oxygen gas, nitrogen gas, or a mixed gas thereof) of 0.001 to 10 kPa (absolute pressure). It is preferable to carry out. As the low-pressure gas, it is particularly preferable to use a mixed gas of nitrogen and oxygen. The mixing ratio of nitrogen and oxygen is preferably 10: 1 to 1:10 by volume, and the flow rate of the mixed gas is preferably 0.1 to 10 NL / min. The output of plasma irradiation is preferably 50 to 500W.

エキシマ紫外線照射は、窒素と乾燥空気又は酸素との混合気体を流しながらエキシマ紫外線ランプを用いてエキシマ紫外線照射することが好ましい。該混合気の酸素濃度は、通常1〜15%、好ましくは3〜5%である。混合気の流量は好ましくは3〜7リットル/分である。ランプと処理対象の表面との距離は10mm以下が好ましく、1〜5mmがより好ましい。照射の強度は、好ましくは20〜100mW、より好ましくは30〜50mWである。   Excimer ultraviolet irradiation is preferably performed using an excimer ultraviolet lamp while flowing a mixed gas of nitrogen and dry air or oxygen. The oxygen concentration of the air-fuel mixture is usually 1 to 15%, preferably 3 to 5%. The flow rate of the gas mixture is preferably 3 to 7 liters / minute. The distance between the lamp and the surface to be treated is preferably 10 mm or less, and more preferably 1 to 5 mm. The intensity of irradiation is preferably 20 to 100 mW, more preferably 30 to 50 mW.

コロナ放電は、乾燥空気雰囲気下で行うことが好ましく、乾燥空気の流量は10〜100NL/分であることが好ましい。コロナ放電の出力は好ましくは250〜1000W、放電電量は好ましくは20〜550W・分/mである。 The corona discharge is preferably performed in a dry air atmosphere, and the flow rate of the dry air is preferably 10 to 100 NL / min. The output of the corona discharge is preferably 250 to 1000 W, and the discharge electric energy is preferably 20 to 550 W · min / m 2 .

水蒸気処理とは、処理前成形体を、水蒸気に曝す処理である。かかる処理を行うことにより、処理前成形体の表面に、水分を付着させることができる。このように水分を付着させることにより、高い剥離強度を与えるシランカップリング処理を、さらに効率的に達成することができる。水蒸気処理は、超音式加湿器、スチーム式加湿器等で発生させた水蒸気に、処理前成形体を接触させることによって行うことが出来る。   The steam treatment is a treatment for exposing the molded body before treatment to water vapor. By performing such a treatment, moisture can be adhered to the surface of the pre-treated molded body. By adhering moisture in this manner, a silane coupling treatment that provides high peel strength can be achieved more efficiently. The steam treatment can be performed by bringing the pre-treatment shaped body into contact with steam generated by an ultrasonic humidifier, a steam humidifier or the like.

前処理として水蒸気処理を行う場合、かかる処理は、処理前成形体に処理用ガスを接触させる工程の直前に行うことが好ましい。それにより、有効な量の水分が表面に付着した状態で、処理前成形体を接触工程に供することができる。従って、前処理として、水蒸気処理及びそれ以外の処理(プラズマ照射、エキシマ紫外線照射、コロナ放電を含む1種以上の処理)の両方を行う場合、水蒸気処理の工程を後に行うことが好ましい。   In the case of performing steam treatment as pretreatment, such treatment is preferably performed immediately before the step of bringing the treatment gas into contact with the pre-treatment molded body. As a result, the pre-processed compact can be subjected to the contact step with an effective amount of moisture attached to the surface. Therefore, when performing both steam treatment and other treatments (plasma irradiation, excimer ultraviolet irradiation, and one or more treatments including corona discharge) as pretreatment, it is preferable to perform the steam treatment step later.

(製造物の用途)
処理前成形体に処理用ガスを接触させる工程により処理された成形体は、そのまま、又は必要に応じて加熱処理等の任意の処理を施した後、表面改質成形体として用いることができる。本発明の製造方法により得られた表面改質成形体の用途は、特に限定されないが、他の部材と貼合して積層体として用いることができる。例えば、表面改質成形体を、表面改質ガラス基板又は表面改質樹脂フィルムとして得て、このシランカップリング剤により処理された表面を、他の部材のシランカップリング処理された面と貼付して、積層体を構成することができる。貼合は、例えば、表面改質成形体と他の部材とを重ね、ラミネーターを用いて加熱圧着することにより行うことができる。加熱圧着の条件は、使用する材料等に応じて適宜選択しうるが、圧力は、0.1〜5MPaとすることができ、温度は80℃〜150℃とすることができる。
(Use of product)
The molded body processed by the step of bringing the processing gas into contact with the pre-processed molded body can be used as a surface-modified molded body as it is or after being subjected to any treatment such as heat treatment as necessary. The use of the surface-modified molded product obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, but it can be used as a laminate by being bonded to another member. For example, a surface-modified molded body is obtained as a surface-modified glass substrate or a surface-modified resin film, and the surface treated with the silane coupling agent is pasted to the surface of another member treated with silane coupling. Thus, a laminate can be configured. Bonding can be performed, for example, by stacking the surface-modified molded body and another member, and thermocompression bonding using a laminator. The conditions for thermocompression bonding can be appropriately selected according to the material used, but the pressure can be 0.1 to 5 MPa, and the temperature can be 80 to 150 ° C.

表面改質成形体を含む積層体の用途は、特に限定されないが、例えば、ディスプレイ装置、照明装置などの光学装置において、基板、光学的機能を有する層、ディスプレイ表面の保護等の機械的機能を有する層、又はこれらの機能を併せ持つ複合体として用いることができる。   The use of the laminate including the surface-modified molded body is not particularly limited. It can be used as a layer having these functions or a composite having these functions.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。さらに、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the Example shown below. In the following description of Examples, “%” and “parts” representing amounts are based on weight unless otherwise specified. Further, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified.

<実施例1>
(1−1.ガラス基板の前処理)
ガラス基板(厚さ0.7mm、コーニング社製、商品名「イーグルXG」)を50mm角の正方形に切り出した後、両面に、常圧プラズマ表面処理装置(製品名「AP−T03−L」、積水化学社製)を用いて出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行ない、前処理済みのガラス基板を得た。
<Example 1>
(1-1. Pretreatment of glass substrate)
A glass substrate (thickness 0.7 mm, manufactured by Corning, trade name “Eagle XG”) was cut into a square of 50 mm square, and then an atmospheric pressure plasma surface treatment device (product name “AP-T03-L”, Sekisui Chemical Co., Ltd.) was used to perform atmospheric pressure plasma irradiation at an output of 1.5 kW, a frequency of 25 kHz, a nitrogen gas flow rate of 50 L / min, and an irradiation rate of 30 cm / min, to obtain a pretreated glass substrate.

(1−2.ガラス基板のシランカップリング剤処理)
気化装置(VU−550:リンテック社製)を用いて気化した3−アミノプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−903」、信越化学社製)と、窒素とを混合して、3−アミノプロピルトリメトキシシランの濃度が、飽和濃度の90%になるようにした処理用ガス1を発生させた。
この処理用ガス1を、図2に示す容器21の導入口22から導き、排出口23から排出することにより、容器21内を流通させた。この状態で、容器21の中に、工程(1−1)で得た前処理済みのガラス基板を入れ、ガラス基板の一方の面(図においては、処理前成形体11の上側の面11Sに相当)に処理用ガス1を所定時間接触させることにより、シランカップリング剤処理を行ない、表面改質ガラス基板を得た。
処理に際し、処理用ガス1の流速は、基板11の面11Sから5mmの高さにおいて風速計24(トーニック株式会社製:貼付型風速風温プローブQB−5、デジタル1CH風速計GeY−10DA)を用いてモニターし、500cm/secになるように調節した。また、処理時間は、多数のガラス基板のそれぞれにおいて異なる時間を設定した。処理時間は、3秒、5秒、10秒、15秒、20秒、30秒、及びさらにこれ以降10秒間隔で増える値を適宜設定した。
(1-2. Treatment of glass substrate with silane coupling agent)
3-aminopropyltrimethoxysilane (product name “KBM-903”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) vaporized using a vaporizer (VU-550: manufactured by Lintec Corporation) and nitrogen were mixed to produce 3-aminopropyl. A processing gas 1 was generated in which the concentration of trimethoxysilane was 90% of the saturated concentration.
The processing gas 1 was introduced from the inlet 22 of the container 21 shown in FIG. 2 and discharged from the outlet 23 to circulate the container 21. In this state, the pre-treated glass substrate obtained in the step (1-1) is put in the container 21, and one surface of the glass substrate (in the figure, on the upper surface 11S of the pre-processed molded body 11). Silane coupling agent treatment was performed by bringing the treatment gas 1 into contact for a predetermined time to obtain a surface-modified glass substrate.
At the time of processing, the flow velocity of the processing gas 1 is set at 5 mm from the surface 11S of the substrate 11 by an anemometer 24 (manufactured by Tonic Co., Ltd .: pasting type wind speed air temperature probe QB-5, digital 1CH anemometer GeY-10DA). It was used to monitor and adjusted to 500 cm / sec. Moreover, the processing time set different time in each of many glass substrates. The processing time was appropriately set to 3 seconds, 5 seconds, 10 seconds, 15 seconds, 20 seconds, 30 seconds, and further thereafter increasing at 10-second intervals.

(1−3.評価用の、表面改質樹脂フィルムの作製)
環式構造含有重合体(製品名「ゼオノア1430R」、ガラス転移温度138℃、日本ゼオン株式会社製)のペレットを、温度240℃の短軸押出機で溶融し、温度240℃のT型ダイから溶融押出しして、厚さ100μmの樹脂フィルムを得た。この樹脂フィルムを、常圧プラズマ表面処理装置(製品名「AP−T03−L」、積水化学社製)を用いて出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分)で処理し、前処理済みの脂環式構造含有重合体フィルムを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−403」、信越化学社製)を密閉容器内に少量入れ、容器内をシランカップリング剤の蒸気で飽和状態にした。ここに、上で得た前処理済みの脂環式構造含有重合体フィルムを入れ、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの液面がフィルム試料に触れないようにして、25℃で15分間保持し、ベーパー処理法による処理を行なった。これを適宜切断し、60mm角の正方形とした、多数の表面改質樹脂フィルムを得た。
(1-3. Preparation of surface-modified resin film for evaluation)
A pellet of a cyclic structure-containing polymer (product name “ZEONOR 1430R”, glass transition temperature 138 ° C., manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) is melted with a short screw extruder at a temperature of 240 ° C. The resin film having a thickness of 100 μm was obtained by melt extrusion. Using this atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus (product name “AP-T03-L”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), this resin film is output 1.5 kW, frequency 25 kHz, nitrogen gas flow rate 50 L / min, irradiation rate 30 cm / min. ) To obtain a pretreated alicyclic structure-containing polymer film.
A small amount of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (product name “KBM-403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was placed in a sealed container, and the inside of the container was saturated with the vapor of the silane coupling agent. The pre-treated alicyclic structure-containing polymer film obtained above is put here, and kept at 25 ° C. for 15 minutes so that the liquid surface of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane does not touch the film sample. Then, the treatment by the vapor treatment method was performed. This was appropriately cut to obtain a large number of surface-modified resin films having a square of 60 mm square.

(1−4.表面改質ガラス基板の評価)
工程(1−2)で得た表面改質ガラス基板の処理面と、工程(1−3)で得られた表面改質樹脂フィルムの処理面とを合わせた後、ラミネータ(株式会社MCK社製、ML−300Tを)用いて圧着貼合した。ラミネーションの条件は、圧力0.4MPa、及び温度130℃とした。
これを、温度23℃、剥離速度50mm/分、剥離角度180°の条件で剥離し、ピール強度(kg/mm)を求めた。接合強度0.1kg/mm以上の値が得られたもののうち、最も処理時間が短かったものの処理時間を、表1に示す。
(1-4. Evaluation of surface-modified glass substrate)
After matching the treated surface of the surface modified glass substrate obtained in the step (1-2) with the treated surface of the surface modified resin film obtained in the step (1-3), a laminator (manufactured by MCK Co., Ltd.) , ML-300T). The lamination conditions were a pressure of 0.4 MPa and a temperature of 130 ° C.
This was peeled off under the conditions of a temperature of 23 ° C., a peeling speed of 50 mm / min, and a peeling angle of 180 °, and the peel strength (kg / mm 2 ) was determined. Table 1 shows the processing time of the one with the shortest processing time among the values obtained with a bonding strength of 0.1 kg / mm 2 or more.

<実施例2〜5及び比較例1〜2>
工程(1−2)において、処理用ガス1中の3−アミノプロピルトリメトキシシランの濃度(飽和濃度を100%とした百分率)、又は容器21内の処理用ガス1の流速を、表1に示す通り変更した他は、実施例1と同様にして、表面改質ガラス基板を作製し評価した。結果を表1に示す。
<Examples 2-5 and Comparative Examples 1-2>
In step (1-2), the concentration of 3-aminopropyltrimethoxysilane in the processing gas 1 (percentage with a saturation concentration of 100%) or the flow rate of the processing gas 1 in the container 21 is shown in Table 1. A surface-modified glass substrate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the changes were made as shown. The results are shown in Table 1.

<実施例6>
気化装置(VU−550:リンテック社製)を用いて気化した3−アミノプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−903」、信越化学社製)と、窒素と、水蒸気とをを混合して、処理用ガス2を発生させた。この処理用ガス2において、3−アミノプロピルトリメトキシシランの濃度は飽和濃度の90%であり、水蒸気濃度は飽和濃度の80%であった。
工程(1−2)において、処理用ガスとして、処理用ガス1に代えて上で得た処理用ガス2を用いた。さらに、容器21内の処理用ガス1の流速を、100cm/secとした。以上の点の他は、実施例1と同様にして、表面改質ガラス基板を作製し評価した。結果を表1に示す。
<Example 6>
3-aminopropyltrimethoxysilane (product name “KBM-903”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) vaporized using a vaporizer (VU-550: manufactured by Lintec Corporation), nitrogen and water vapor were mixed, A processing gas 2 was generated. In this processing gas 2, the concentration of 3-aminopropyltrimethoxysilane was 90% of the saturation concentration, and the water vapor concentration was 80% of the saturation concentration.
In the step (1-2), the processing gas 2 obtained above was used as the processing gas instead of the processing gas 1. Furthermore, the flow rate of the processing gas 1 in the container 21 was set to 100 cm / sec. Except for the above points, a surface-modified glass substrate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

<実施例7>
(7−1.水蒸気処理)
実施例1の工程(1−1)で得た前処理済みのガラス基板を、スチーム式加湿器等で発生させた水蒸気に接触させることにより、水蒸気処理し、前処理及び水蒸気処理済みのガラス基板を得た。
<Example 7>
(7-1. Steam treatment)
The pretreated glass substrate obtained in the step (1-1) of Example 1 is subjected to water vapor treatment by bringing it into contact with water vapor generated by a steam humidifier or the like, and the pretreated and water vapor treated glass substrate is obtained. Got.

(7−2.表面改質ガラス基板の作製及び評価)
工程(1−1)で得た前処理済のガラス基板に代えて、工程(7−1)で得た前処理及び水蒸気処理済みのガラス基板を、水蒸気処理後直ちに用いた。さらに、容器21内の処理用ガス1の流速を、100cm/secとした。以上の点の他は、実施例1の工程(1−2)〜(1−4)と同様にして、表面改質ガラス基板を作製し評価した。結果を表1に示す。
(7-2. Production and evaluation of surface modified glass substrate)
Instead of the pretreated glass substrate obtained in the step (1-1), the pretreated and water vapor treated glass substrate obtained in the step (7-1) was used immediately after the water vapor treatment. Furthermore, the flow rate of the processing gas 1 in the container 21 was set to 100 cm / sec. Other than the above points, a surface-modified glass substrate was produced and evaluated in the same manner as in Steps (1-2) to (1-4) of Example 1. The results are shown in Table 1.

<実施例8>
ガラス基板に代えて、単結晶サファイヤ基板(厚さ1.0mm、京セラ製)を用いた。さらに、容器21内の処理用ガス1の流速を、100cm/secとした。以上の点の他は、実施例1と同様にして、表面改質ガラス基板を作製し評価した。結果を表1に示す。
<Example 8>
Instead of the glass substrate, a single crystal sapphire substrate (thickness 1.0 mm, manufactured by Kyocera) was used. Furthermore, the flow rate of the processing gas 1 in the container 21 was set to 100 cm / sec. Except for the above points, a surface-modified glass substrate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

<実施例9>
(9−1.樹脂フィルムの作製及び前処理)
脂環式構造含有重合体(製品名「ゼオノア1430R」、ガラス転移温度138℃、日本ゼオン株式会社製)のペレットを、温度240℃の短軸押出機で溶融し、温度240℃のT型ダイから溶融押出しして、厚さ100μmの樹脂フィルムを得た。
この樹脂フィルムを60mm角の正方形に切り出した後、その一方の面に、常圧プラズマ表面処理装置(製品名「AP−T03−L」、積水化学社製)を用いて出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行ない、前処理済みの樹脂フィルムを得た。
<Example 9>
(9-1. Production and pretreatment of resin film)
A pellet of an alicyclic structure-containing polymer (product name “ZEONOR 1430R”, glass transition temperature 138 ° C., manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) is melted with a short-screw extruder at a temperature of 240 ° C., and a T-die having a temperature of 240 ° C. Was melt extruded to obtain a resin film having a thickness of 100 μm.
After cutting this resin film into a 60 mm square, on one side, using an atmospheric pressure plasma surface treatment device (product name “AP-T03-L”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), an output of 1.5 kW, a frequency Atmospheric pressure plasma irradiation was performed at 25 kHz, a nitrogen gas flow rate of 50 L / min, and an irradiation speed of 30 cm / min to obtain a pretreated resin film.

(9−2.樹脂フィルムのシランカップリング剤処理)
気化装置(VU−550:リンテック社製)を用いて気化した3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−403」、信越化学社製)と、窒素とを混合して、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの濃度が、飽和濃度の90%になるようにした処理用ガス3を発生させた。
この処理用ガス3を、図2に示す容器21の導入口22から導き、排出口23から排出することにより、容器21内を流通させた。この状態で、容器21の中に、工程(9−1)で得た前処理済みの樹脂フィルムを入れ、樹脂フィルムの一方の面(図においては、処理前成形体11の上側の面11Sに相当)に処理用ガス3を所定時間接触させることにより、シランカップリング剤処理を行ない、表面改質樹脂フィルムを得た。
処理に際し、処理用ガス3の流速は、基板11の面11Sから5mmの高さにおいて風速計24(トーニック株式会社製:貼付型風速風温プローブQB−5、デジタル1CH風速計GeY−10DA)を用いてモニターし、100cm/secになるように調節した。また、処理時間は、多数の樹脂フィルムのそれぞれにおいて異なる時間を設定した。処理時間は、3秒、5秒、10秒、15秒、20秒、30秒、及びさらにこれ以降10秒間隔で増える値を適宜設定した。
(9-2. Treatment of resin film with silane coupling agent)
3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (product name “KBM-403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) vaporized using a vaporizer (VU-550: manufactured by Lintec Corporation) and nitrogen were mixed, A processing gas 3 was generated in which the concentration of glycidoxypropyltrimethoxysilane was 90% of the saturation concentration.
The processing gas 3 was introduced from the inlet 22 of the container 21 shown in FIG. 2 and discharged from the outlet 23 to circulate the container 21. In this state, the pretreated resin film obtained in the step (9-1) is put in the container 21, and one side of the resin film (in the figure, on the upper surface 11S of the pre-processed molded body 11). Silane coupling agent treatment was performed by bringing the treatment gas 3 into contact for a predetermined time to obtain a surface-modified resin film.
At the time of processing, the flow velocity of the processing gas 3 is an anemometer 24 (manufactured by Tonic Co., Ltd .: pasted wind speed / air temperature probe QB-5, digital 1CH anemometer GeY-10DA) at a height of 5 mm from the surface 11S of the substrate 11. It was used to monitor and adjusted to 100 cm / sec. Moreover, the processing time set different time in each of many resin films. The processing time was appropriately set to 3 seconds, 5 seconds, 10 seconds, 15 seconds, 20 seconds, 30 seconds, and further thereafter increasing at 10-second intervals.

(9−3.評価用の、表面改質ガラス基板の作製)
ガラス基板(厚さ0.7mm、コーニング社製、商品名「イーグルXG」)を50mm角の正方形に切り出した後、両面に、常圧プラズマ表面処理装置(製品名「AP−T03−L」、積水化学社製)を用いて出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行ない、前処理済みのガラス基板を得た。
3−アミノプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−903」、信越化学社製)を密閉容器内に少量入れ、容器内をシランカップリング剤の蒸気で飽和状態にした。ここに、上で得た前処理済みのガラス基板を入れ、3−アミノプロピルトリメトキシシランの液面がガラス基板に触れないようにして、25℃で15分間保持し、ベーパー処理法による処理を行ない、多数の表面改質ガラス基板を得た。
(9-3. Production of surface-modified glass substrate for evaluation)
A glass substrate (thickness 0.7 mm, manufactured by Corning, trade name “Eagle XG”) was cut into a square of 50 mm square, and then an atmospheric pressure plasma surface treatment device (product name “AP-T03-L”, Sekisui Chemical Co., Ltd.) was used to perform atmospheric pressure plasma irradiation at an output of 1.5 kW, a frequency of 25 kHz, a nitrogen gas flow rate of 50 L / min, and an irradiation rate of 30 cm / min, to obtain a pretreated glass substrate.
A small amount of 3-aminopropyltrimethoxysilane (product name “KBM-903”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was placed in a sealed container, and the inside of the container was saturated with the vapor of the silane coupling agent. The pretreated glass substrate obtained above is put here, and the liquid surface of 3-aminopropyltrimethoxysilane is kept from touching the glass substrate, and kept at 25 ° C. for 15 minutes. A number of surface-modified glass substrates were obtained.

(9−4.表面改質ガラス基板の評価)
工程(9−2)で得た表面改質樹脂フィルムの処理面と、工程(9−3)で得られた表面改質ガラス基板の処理面とを合わせた後、ラミネータ(株式会社MCK社製、ML−300Tを)用いて圧着貼合した。ラミネーションの条件は、圧力0.4MPa、及び温度130℃とした。
これを、温度23℃、剥離速度50mm/分、剥離角度180°の条件で剥離し、ピール強度(kg/mm)を求めた。接合強度0.1kg/mm以上の値が得られたもののうち、最も処理時間が短かったものの処理時間を、表1に示す。
(9-4. Evaluation of surface-modified glass substrate)
After combining the treated surface of the surface modified resin film obtained in the step (9-2) and the treated surface of the surface modified glass substrate obtained in the step (9-3), a laminator (manufactured by MCK Co., Ltd.) , ML-300T). The lamination conditions were a pressure of 0.4 MPa and a temperature of 130 ° C.
This was peeled off under the conditions of a temperature of 23 ° C., a peeling speed of 50 mm / min, and a peeling angle of 180 °, and the peel strength (kg / mm 2 ) was determined. Table 1 shows the processing time of the one with the shortest processing time among the values obtained with a bonding strength of 0.1 kg / mm 2 or more.

<比較例5及び6>
工程(9−2)において、処理用ガス3中の3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの濃度(飽和濃度を100%とした百分率)、又は容器21内の処理用ガス3の流速を、表1に示す通り変更した他は、実施例9と同様にして、表面改質樹脂フィルムを作製し評価した。結果を表1に示す。
<Comparative Examples 5 and 6>
In step (9-2), the concentration of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane in the processing gas 3 (percentage with a saturation concentration of 100%) or the flow rate of the processing gas 3 in the container 21 is expressed as follows. A surface-modified resin film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 9 except that the change was made as shown in 1. The results are shown in Table 1.

<実施例10>
樹脂フィルムとして、脂環式構造含有重合体のフィルムに代えて、ポリカーボネートフィルム(恵和株式会社製、商品名「オプコン」、厚さ110μm)を用いた他は、実施例9と同様にして、表面改質樹脂フィルムを作製し評価した。結果を表1に示す。
<Example 10>
As a resin film, in place of the alicyclic structure-containing polymer film, a polycarbonate film (trade name “Opcon”, manufactured by Keiwa Co., Ltd., thickness 110 μm) was used in the same manner as in Example 9, A surface-modified resin film was prepared and evaluated. The results are shown in Table 1.

<比較例7及び8>
樹脂フィルムとして、脂環式構造含有重合体のフィルムに代えて、ポリカーボネートフィルム(恵和株式会社製、商品名「オプコン」、厚さ110μm)を用いた。さらに、工程(9−2)において、処理用ガス3中の3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの濃度(飽和濃度を100%とした百分率)、又は容器21内の処理用ガス3の流速を、表1に示す通り変更した。以上の点の他は、実施例9と同様にして、表面改質樹脂フィルムを作製し評価した。結果を表1に示す。
<Comparative Examples 7 and 8>
Instead of the alicyclic structure-containing polymer film, a polycarbonate film (manufactured by Keiwa Co., Ltd., trade name “OPCON”, thickness 110 μm) was used as the resin film. Furthermore, in the step (9-2), the concentration of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane in the processing gas 3 (percentage with a saturation concentration of 100%) or the flow rate of the processing gas 3 in the container 21 is set. The changes were made as shown in Table 1. Except for the above points, a surface-modified resin film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 9. The results are shown in Table 1.

<実施例11〜13>
工程(1−2)において処理用ガス1に加えるシランカップリング剤として、3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(実施例11、製品名「KBM−803」、信越化学社製)、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン(実施例12、製品名「KBE−9007」、信越化学社製)、又はビニルトリメトキシシラン(実施例13、製品名「KBM−803」、信越化学社製)を用いた。さらに、容器21内の処理用ガス1の流速を、100cm/secとした。以上の点の他は、実施例1と同様にして、表面改質ガラス基板を作製し評価した。結果を表1に示す。
<Examples 11 to 13>
As a silane coupling agent added to the processing gas 1 in the step (1-2), instead of 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (Example 11, product name “KBM-803”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-isocyanatopropyltriethoxysilane (Example 12, product name “KBE-9007”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), or vinyltrimethoxysilane (Example 13, product name “KBM-803”), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used. Furthermore, the flow rate of the processing gas 1 in the container 21 was set to 100 cm / sec. Except for the above points, a surface-modified glass substrate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2013123677
Figure 2013123677

表中の略号は、それぞれ以下のものを示す。
COP:脂環式構造含有重合体(製品名「ゼオノア1430R」)
PC:ポリカーボネートフィルム(商品名「オプコン」)
*1:処理用ガスが、シランカップリング剤に加えて、水蒸気を含む。
*2:シランカップリング剤処理に先立ち、水蒸気処理を施した。
The abbreviations in the table indicate the following.
COP: Polymer containing alicyclic structure (product name “Zeonor 1430R”)
PC: Polycarbonate film (trade name “OPCON”)
* 1: The processing gas contains water vapor in addition to the silane coupling agent.
* 2: Steam treatment was performed prior to the silane coupling agent treatment.

表1に示す通り、処理用ガス中のシランカップリング剤濃度及び処理用ガスの流速が本発明の規定の範囲内である実施例では、対応する比較例に比べて、短時間で必要な密着力が得られるという顕著な効果が得られる。特に、処理用ガスに水蒸気を加えた実施例6及びガラス基板に水蒸気処理を施した実施例7においては、流速をあまり高めなくても、より流速の高い実施例1と同程度に短い時間で必要な密着力を得ることができた。   As shown in Table 1, in the examples in which the concentration of the silane coupling agent in the processing gas and the flow rate of the processing gas are within the specified range of the present invention, the adhesion required in a short time compared to the corresponding comparative example. The remarkable effect that power is acquired is acquired. In particular, in Example 6 in which water vapor was added to the processing gas and Example 7 in which water vapor treatment was performed on the glass substrate, the flow rate was not so high, but in a time as short as Example 1 having a higher flow rate. Necessary adhesion was obtained.

11:処理前成形体
11S:表面
21:容器
22:導入口
23:排出口
24:風速計
31:容器
32:シランカップリング剤を気化させる装置
33:送風機
41:ノズル
51:シャワーヘッド
11: Molded body 11S: Surface 21: Container 22: Inlet 23: Discharge port 24: Anemometer 31: Container 32: Apparatus for vaporizing silane coupling agent 33: Blower 41: Nozzle 51: Shower head

Claims (5)

表面改質成形体の製造方法であって、
樹脂、無機材料、又はこれらの組み合わせからなる処理前成形体の表面に、気化したシランカップリング剤を含むガスを接触させる工程を含み、
前記ガス中の前記シランカップリング剤濃度が、飽和濃度の20%以上、100%以下であり、
前記接触させる工程において、前記処理前成形体の表面から5mmの高さにおける前記ガスの流速の、前記処理前成形体の前記表面に平行な成分が10cm/sec以上である、製造方法。
A method for producing a surface-modified molded article,
A step of bringing a gas containing a vaporized silane coupling agent into contact with the surface of a pre-processed molded body made of a resin, an inorganic material, or a combination thereof;
The concentration of the silane coupling agent in the gas is 20% or more and 100% or less of the saturation concentration,
The manufacturing method in which the component parallel to the surface of the pre-processed molded body of the gas flow velocity at a height of 5 mm from the surface of the pre-processed molded body is 10 cm / sec or more in the contacting step.
前記接触させる工程において、前記ガスが水蒸気をさらに含む、請求項1に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein in the contacting step, the gas further contains water vapor. 前記接触させる工程に先立ち、前記処理前成形体を、水蒸気に曝す工程をさらに含む、請求項1又は2に記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 1 or 2 which further includes the process of exposing the said molded object before a process to water vapor | steam prior to the said process to contact. 前記処理前成形体が樹脂を含み、前記樹脂が脂環式構造含有重合体を含む樹脂である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method of any one of Claims 1-3 whose said molded object before a process contains resin and whose said resin is resin containing an alicyclic structure containing polymer. 前記処理前成形体が無機材料を含み、前記無機材料がガラスを含む材料である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面処理方法。   The surface treatment method according to any one of claims 1 to 4, wherein the molded body before treatment includes an inorganic material, and the inorganic material is a material including glass.
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