JP2013120612A - Substrate for suspension, suspension, suspension with element and hard disk drive - Google Patents

Substrate for suspension, suspension, suspension with element and hard disk drive Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for suspension capable of accurately controlling the timing of writing and heating in thermally assisted recording.SOLUTION: There is provided a substrate for suspension which comprises: a metal support substrate; an insulating layer formed on the metal support substrate; and a wiring layer formed on the insulating layer, wherein the wiring layer is connected to a recording and reproducing element and has a writing wiring layer constituted from a first writing wiring layer and a second writing wiring layer, and a thermally assisted writing layer connected to a thermally assisted element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer.

Description

本発明は、熱アシスト記録に用いられるサスペンション用基板に関する。   The present invention relates to a suspension substrate used for heat-assisted recording.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed. Increasing information transmission speed is required.

HDDの大容量化(高記録密度化)のためには、記録媒体における磁性体粒子のサイズを小さくすることが有効である。しかしながら、磁性体粒子のサイズが小さすぎると、個々の磁性体粒子の磁化は熱的に不安定になり、記録した情報を長時間保持することが困難となる。これは、磁性体粒子のサイズが小さくなると、その異方性磁気エネルギーKuV(Kuは単位体積あたりの磁気異方性エネルギー、Vは磁性体粒子の体積)が小さくなり、磁化が熱揺らぎkT(kはボルツマン定数、Tは絶対温度)によってランダムに配向し、減磁が生じるためである。この限界を超常磁性限界という。   In order to increase the capacity (high recording density) of the HDD, it is effective to reduce the size of the magnetic particles in the recording medium. However, if the size of the magnetic particles is too small, the magnetization of the individual magnetic particles becomes thermally unstable, making it difficult to maintain the recorded information for a long time. This is because when the size of the magnetic particles is reduced, the anisotropic magnetic energy KuV (Ku is the magnetic anisotropy energy per unit volume and V is the volume of the magnetic particles) is reduced, and the magnetization is fluctuated by thermal fluctuation kT ( This is because k is oriented randomly according to the Boltzmann constant and T is the absolute temperature), resulting in demagnetization. This limit is called the superparamagnetic limit.

この超常磁性限界を伸ばすためには、保磁力の大きな磁性体粒子を用いることが有効である。しかしながら、保磁力の大きな磁性体粒子を用いると、磁化の極性を反転させるために必要な反転磁界強度が大きくなり、記録媒体に情報を記録することが困難になる。この問題を解決する手法として、熱アシスト記録が知られている(特許文献1〜4)。熱アシスト記録では、記録の直前に記録媒体を加熱することによって、磁性体粒子の保磁力を一時的に下げて記録を行う。そのため、保磁力の大きな磁性体粒子を用いた場合であっても、記録媒体に情報を記録することが容易となるという利点がある。   In order to extend the superparamagnetic limit, it is effective to use magnetic particles having a large coercive force. However, when magnetic particles having a large coercive force are used, the reversal magnetic field strength necessary for reversing the polarity of magnetization increases, making it difficult to record information on the recording medium. Thermally assisted recording is known as a technique for solving this problem (Patent Documents 1 to 4). In the heat-assisted recording, the recording medium is heated immediately before recording to perform recording while temporarily reducing the coercive force of the magnetic particles. Therefore, even when magnetic particles having a large coercive force are used, there is an advantage that information can be easily recorded on the recording medium.

特開2009−301597号公報JP 2009-301597 A 特開2010−40112号公報JP 2010-40112 A 特開2008−159159号公報JP 2008-159159 A 特開2008−59695号公報JP 2008-59695 A

熱アシスト記録においては、熱アシスト用素子が記録媒体を加熱するタイミングと、記録再生用素子が記録媒体に書込むタイミングとが制御されている必要がある。本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、書込みおよび加熱のタイミングを精度良く制御可能なサスペンション用基板を提供することを主目的とする。   In the heat-assisted recording, it is necessary to control the timing at which the heat assist element heats the recording medium and the timing at which the recording / reproducing element writes to the recording medium. The present invention has been made in view of the above circumstances, and a main object of the present invention is to provide a suspension substrate that can accurately control the timing of writing and heating.

上記課題を解決するために、本発明においては、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板であって、上記配線層は、記録再生用素子に接続され、第一書込用配線層および第二書込用配線層から構成される書込用配線層を有し、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention is a suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer. The wiring layer has a writing wiring layer connected to the recording / reproducing element and composed of a first writing wiring layer and a second writing wiring layer. A suspension substrate is provided in which a thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the layer and the second writing wiring layer.

本発明によれば、第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることから、書込信号(デジタル信号のオンオフ)に合わせて、加熱のオンオフが可能となる。このように書込みおよび加熱の信号を同期させることで、両者のタイミングを精度良く制御可能なサスペンション用基板とすることができる。   According to the present invention, the thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. Heating can be turned on / off in accordance with (digital signal on / off). Thus, by synchronizing the writing and heating signals, it is possible to provide a suspension substrate capable of controlling both timings with high accuracy.

上記発明においては、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層から、上記熱アシスト用配線層として、それぞれ第一熱アシスト用配線層および第二熱アシスト用配線層が分岐し、上記第一書込用配線層、上記第二書込用配線層、上記第一熱アシスト用配線層および上記第二熱アシスト用配線層が、インターリーブ構造を構成していることが好ましい。   In the above invention, the first thermal assist wiring layer and the second thermal assist wiring layer are branched from the first writing wiring layer and the second writing wiring layer as the thermal assist wiring layer, respectively. The first writing wiring layer, the second writing wiring layer, the first thermal assist wiring layer, and the second thermal assist wiring layer preferably constitute an interleaved structure.

上記発明においては、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層が、それぞれ、第一インターリーブ用配線層および第二インターリーブ用配線層を有し、上記第一書込用配線層、上記第二書込用配線層、上記第一インターリーブ用配線層および上記第二インターリーブ用配線層が、インターリーブ構造を構成していることが好ましい。   In the above invention, the first writing wiring layer and the second writing wiring layer have a first interleaving wiring layer and a second interleaving wiring layer, respectively. The layer, the second writing wiring layer, the first interleaving wiring layer, and the second interleaving wiring layer preferably form an interleaved structure.

また、本発明においては、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された第一絶縁層と、上記第一絶縁層上に形成された第一配線層と、上記第一配線層上に形成された第二絶縁層と、上記第二絶縁層上に形成された第二配線層と、を有するサスペンション用基板であって、上記第一配線層および上記第二配線層の少なくとも一方は、記録再生用素子に接続される書込用配線層を構成する第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方を有し、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In the present invention, the metal support substrate, the first insulating layer formed on the metal support substrate, the first wiring layer formed on the first insulating layer, and the first wiring layer A suspension substrate having a second insulating layer formed and a second wiring layer formed on the second insulating layer, wherein at least one of the first wiring layer and the second wiring layer is: It has at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer constituting the writing wiring layer connected to the recording / reproducing element, and the first writing wiring layer and the second writing wiring layer A suspension substrate is provided in which a thermal assist wiring layer connected to a thermal assist element is branched from at least one of the write wiring layers.

本発明によれば、第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることから、書込信号(デジタル信号のオンオフ)に合わせて、加熱のオンオフが可能となる。このように書込みおよび加熱の信号を同期させることで、両者のタイミングを精度良く制御可能なサスペンション用基板とすることができる。   According to the present invention, the thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. Heating can be turned on / off in accordance with (digital signal on / off). Thus, by synchronizing the writing and heating signals, it is possible to provide a suspension substrate capable of controlling both timings with high accuracy.

上記発明においては、上記第一配線層が上記第一書込用配線層を有し、上記第二配線層が上記第二書込用配線層を有することが好ましい。   In the above invention, it is preferable that the first wiring layer has the first writing wiring layer and the second wiring layer has the second writing wiring layer.

上記発明においては、上記第二配線層が、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層を有することが好ましい。   In the above invention, the second wiring layer preferably includes the first writing wiring layer and the second writing wiring layer.

上記発明においては、上記第一配線層が、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層を有することが好ましい。   In the above invention, it is preferable that the first wiring layer has the first writing wiring layer and the second writing wiring layer.

上記発明においては、上記書込用配線層または上記熱アシスト用配線層が、信号遅延手段を有することが好ましい。書込みおよび加熱のタイミングをさらに精度良く制御できるからである。   In the above invention, it is preferable that the write wiring layer or the heat assist wiring layer has a signal delay means. This is because the timing of writing and heating can be controlled with higher accuracy.

また、本発明においては、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention also provides a suspension comprising the above-described suspension substrate and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、書込みおよび加熱のタイミングを精度良く制御可能なサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension substrate described above, a suspension capable of controlling the timing of writing and heating with high accuracy can be obtained.

また、本発明においては、上述したサスペンションと、上記サスペンションに配置された記録再生用素子および熱アシスト用素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンションを提供する。   The present invention also provides an element-equipped suspension comprising the above-described suspension, and a recording / reproducing element and a thermal assist element disposed on the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、書込みおよび加熱のタイミングを精度良く制御可能な素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, it is possible to provide a suspension with an element capable of accurately controlling the timing of writing and heating.

また、本発明においては、上述した素子付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention also provides a hard disk drive having the above-described suspension with an element.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described suspension with an element.

本発明のサスペンション用基板は、熱アシスト記録において、書込みおよび加熱のタイミングを精度良く制御できるという効果を奏する。   The suspension substrate of the present invention has an effect that the timing of writing and heating can be accurately controlled in the heat-assisted recording.

第一実施態様のサスペンション用基板の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the board | substrate for suspensions of a 1st embodiment. 第一実施態様のサスペンション用基板における記録再生用素子実装領域を例示する模式図である。It is a schematic diagram which illustrates the element area | region for recording / reproducing in the board | substrate for suspensions of a 1st embodiment. 一般的な熱アシスト用素子および記録再生用素子の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the element for general heat assistance, and the element for recording / reproducing. 熱アシスト用配線層の迂回方法を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the detour method of the wiring layer for heat assistance. 第一実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a write wiring layer and a heat assist wiring layer in the first embodiment. 第一実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a write wiring layer and a heat assist wiring layer in the first embodiment. 第一実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a write wiring layer and a heat assist wiring layer in the first embodiment. 第一実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a write wiring layer and a heat assist wiring layer in the first embodiment. 第一実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a write wiring layer and a heat assist wiring layer in the first embodiment. 第一実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a write wiring layer and a heat assist wiring layer in the first embodiment. 第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of a 1st embodiment. 第二実施態様のサスペンション用基板の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the board | substrate for suspensions of a 2nd embodiment. 第二実施態様のサスペンション用基板における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略斜視図である。It is a schematic perspective view illustrating the wiring layer for writing and the wiring layer for heat assist in the suspension substrate of the second embodiment. 第二実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略斜視図である。It is a schematic perspective view which illustrates the wiring layer for writing in the 2nd embodiment, and the wiring layer for thermal assistance. 第二実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略斜視図である。It is a schematic perspective view which illustrates the wiring layer for writing in the 2nd embodiment, and the wiring layer for thermal assistance. 第二実施態様のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of a 2nd embodiment. 本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension of this invention. 本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension with an element of this invention. 本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hard disk drive of this invention.

以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション、素子付サスペンション、およびハードディスクドライブについて詳細に説明する。   The suspension substrate, suspension, suspension with element, and hard disk drive of the present invention will be described in detail below.

A.サスペンション用基板
本発明のサスペンション用基板は、2つの実施態様に大別することができる。以下、本発明のサスペンション用基板について、第一実施態様および第二実施態様に分けて説明する。
A. Suspension substrate The suspension substrate of the present invention can be roughly divided into two embodiments. Hereinafter, the suspension substrate of the present invention will be described separately for the first embodiment and the second embodiment.

1.第一実施態様
第一実施態様のサスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板であって、上記配線層は、記録再生用素子に接続され、第一書込用配線層および第二書込用配線層から構成される書込用配線層を有し、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを特徴とするものである。
1. First Embodiment A suspension substrate according to a first embodiment is a suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer. The wiring layer includes a writing wiring layer connected to the recording / reproducing element and configured by a first writing wiring layer and a second writing wiring layer. The thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the wiring layer and the second writing wiring layer.

図1は、第一実施態様のサスペンション用基板の一例を示す模式図である。図1(a)はサスペンション用基板の概略平面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A断面図である。なお、図1(a)では、便宜上、絶縁層およびカバー層の記載は省略している。図1(a)に示されるサスペンション用基板100は、一方の先端部分に形成された記録再生用素子実装領域101と、他方の先端部分に形成された外部回路基板接続領域102と、記録再生用素子実装領域101および外部回路基板接続領域102を電気的に接続する複数の配線層103a〜103dとを有するものである。配線層103aおよび配線層103bは一対の配線層であり、同様に、配線層103cおよび配線層103dも一対の配線層である。これらの2つの配線層は、一方が書込用配線層であり、他方が読取用配線層である。また、図1(b)に示すように、このサスペンション用基板は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された配線層3と、配線層3を覆うように形成されたカバー層4とを有する。   FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a suspension substrate according to the first embodiment. FIG. 1A is a schematic plan view of a suspension substrate, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. In FIG. 1A, illustration of the insulating layer and the cover layer is omitted for convenience. A suspension substrate 100 shown in FIG. 1A includes a recording / reproducing element mounting region 101 formed at one tip portion, an external circuit board connection region 102 formed at the other tip portion, and a recording / playback device. A plurality of wiring layers 103a to 103d for electrically connecting the element mounting region 101 and the external circuit board connection region 102 are provided. The wiring layer 103a and the wiring layer 103b are a pair of wiring layers. Similarly, the wiring layer 103c and the wiring layer 103d are also a pair of wiring layers. One of these two wiring layers is a writing wiring layer, and the other is a reading wiring layer. As shown in FIG. 1B, the suspension substrate includes a metal support substrate 1, an insulating layer 2 formed on the metal support substrate 1, and a wiring layer 3 formed on the insulating layer 2. And a cover layer 4 formed so as to cover the wiring layer 3.

図2は、第一実施態様のサスペンション用基板における記録再生用素子実装領域を例示する模式図である。図2(a)は記録再生用素子実装領域の概略平面図であり、図2(b)は図2(a)のA−A断面図である。なお、図2(a)では、便宜上、配線層のみ記載している。図2(a)における記録再生用素子実装領域には、第一書込用配線層Wおよび第二書込用配線層Wが一対の配線層を構成し、第一読取用配線層Rおよび第二読取用配線層Rも一対の配線層を構成しており、各配線層は端子部3aにおいて記録再生用素子と電気的に接続される。また、図2(a)における第一書込用配線層Wおよび第二書込用配線層Wから、それぞれ、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが分岐している。また、図2(b)に示すように、第二書込用配線層Wおよび第二熱アシスト用配線層Hは、絶縁層2を貫通するビア部5、および、他の金属支持基板1から電気的に絶縁されたジャンパー部1aを介して電気的に接続されている。 FIG. 2 is a schematic view illustrating the recording / reproducing element mounting region on the suspension substrate of the first embodiment. 2A is a schematic plan view of the recording / reproducing element mounting region, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 2A. In FIG. 2A, only the wiring layer is shown for convenience. The recording and reproducing element mounting region in FIG. 2 (a), the first write wiring layer W 1 and the second write wiring layer W 2 constitute a pair of wiring layers, a first read wiring layer R 1 and the second reading wiring layer R 2 also constitute a pair of wiring layers, and each wiring layer is electrically connected to the recording / reproducing element at the terminal portion 3a. Further, from the first writing wiring layer W 1 and the second writing wiring layer W 2 in FIG. 2A, the first thermal assist wiring layer H 1 and the second thermal assist wiring layer H 2, respectively. Is branched. Further, as shown in FIG. 2B, the second writing wiring layer W 2 and the second thermal assist wiring layer H 2 include a via portion 5 penetrating the insulating layer 2 and another metal supporting board. 1 is electrically connected via a jumper portion 1a which is electrically insulated from 1.

図3(a)は、一般的な熱アシスト用素子および記録再生用素子の一例を示す概略断面図である。図3(a)における熱アシスト用素子210は、半導体基板201と、第一クラッド層202と、活性層203と、第二クラッド層204と、反射ミラー205とを有する。一方、図3(a)における記録再生用素子220は、スライダ211と、磁界発生素子212と、近接場光発生素子213と、光導波路214とを有する。また、熱アシスト用素子210および記録再生用素子220は、接着層230により接合されている。ここで、活性層203からの出力光は、反射ミラー205で反射し、光導波路214を通過し、近接場光発生素子213に至る。これにより、磁界発生素子212が記録を行う直前に記録媒体を加熱することができ、磁性体粒子の保磁力を一時的に下げることができる。また、図3(b)に示すように、記録再生用素子220は、通常、サスペンション用基板100のカバー層側の表面に実装され、熱アシスト用素子210は、例えば、サスペンション用基板100およびロードビーム300の開口部に実装される。   FIG. 3A is a schematic cross-sectional view showing an example of a general thermal assist element and a recording / reproducing element. The thermal assist element 210 in FIG. 3A includes a semiconductor substrate 201, a first cladding layer 202, an active layer 203, a second cladding layer 204, and a reflection mirror 205. On the other hand, the recording / reproducing element 220 in FIG. 3A includes a slider 211, a magnetic field generating element 212, a near-field light generating element 213, and an optical waveguide 214. Further, the heat assist element 210 and the recording / reproducing element 220 are joined by an adhesive layer 230. Here, the output light from the active layer 203 is reflected by the reflection mirror 205, passes through the optical waveguide 214, and reaches the near-field light generating element 213. Thus, the recording medium can be heated immediately before the magnetic field generating element 212 performs recording, and the coercivity of the magnetic particles can be temporarily reduced. Further, as shown in FIG. 3B, the recording / reproducing element 220 is usually mounted on the surface of the suspension substrate 100 on the cover layer side, and the thermal assist element 210 includes, for example, the suspension substrate 100 and the load. Mounted in the opening of the beam 300.

第一実施態様によれば、第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることから、書込信号(デジタル信号のオンオフ)に合わせて、加熱のオンオフが可能となる。このように書込みおよび加熱の信号を同期させることで、両者のタイミングを精度良く制御可能なサスペンション用基板とすることができる。また、配線デザインにもよるが、書込用配線層および熱アシスト用配線層を共通化することで、配線層の数を少なくすることができ、サスペンション用基板の高機能化に伴う配線層の増加に対応しやすいという利点がある。一方で、後述するように、書込用配線層および熱アシスト用配線層を共通化せず、書込用配線層および熱アシスト用配線層の間でインターリーブ構造を採用する場合には、信号伝達特性の向上(例えば低インピーダンス化)を図れるという利点もある。
以下、第一実施態様のサスペンション用基板について、サスペンション用基板の部材と、サスペンション用基板の構成とに分けて説明する。
According to the first embodiment, the thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. The heating can be turned on / off in accordance with the turn-on signal (digital signal on / off). Thus, by synchronizing the writing and heating signals, it is possible to provide a suspension substrate capable of controlling both timings with high accuracy. Although it depends on the wiring design, the number of wiring layers can be reduced by sharing the writing wiring layer and the heat assist wiring layer, and the wiring layer associated with the higher functionality of the suspension substrate can be reduced. There is an advantage that it can easily cope with the increase. On the other hand, as will be described later, when the write wiring layer and the heat assist wiring layer are not used in common and the interleave structure is adopted between the write wiring layer and the heat assist wiring layer, signal transmission is performed. There is also an advantage that characteristics can be improved (for example, low impedance).
Hereinafter, the suspension substrate according to the first embodiment will be described separately for the suspension substrate member and the suspension substrate configuration.

(1)サスペンション用基板の部材
まず、第一実施態様のサスペンション用基板の部材について説明する。第一実施態様のサスペンション用基板は、金属支持基板、絶縁層および配線層を少なくとも有する。
(1) Suspension Board Member First, the suspension board member of the first embodiment will be described. The suspension substrate of the first embodiment has at least a metal support substrate, an insulating layer, and a wiring layer.

第一実施態様における金属支持基板は、サスペンション用基板の支持体として機能するものである。金属支持基板の材料は、ばね性を有する金属であることが好ましく、具体的にはステンレス鋼等を挙げることができる。また、金属支持基板の厚さは、その材料の種類により異なるものであるが、例えば10μm〜20μmの範囲内である。   The metal support substrate in the first embodiment functions as a support for the suspension substrate. The material of the metal support substrate is preferably a metal having a spring property, and specific examples include stainless steel. Moreover, although the thickness of a metal support substrate changes with kinds of the material, it exists in the range of 10 micrometers-20 micrometers, for example.

第一実施態様における絶縁層は、金属支持基板上に形成されるものである。絶縁層の材料は、絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば樹脂を挙げることができる。上記樹脂としては、例えばポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂およびポリ塩化ビニル樹脂を挙げることができ、中でもポリイミド樹脂が好ましい。絶縁性、耐熱性および耐薬品性に優れているからである。また、絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。絶縁層の厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、5μm〜18μmの範囲内であることがより好ましく、5μm〜12μmの範囲内であることがさらに好ましい。   The insulating layer in the first embodiment is formed on the metal support substrate. The material of the insulating layer is not particularly limited as long as it has insulating properties, and examples thereof include a resin. Examples of the resin include polyimide resin, polybenzoxazole resin, polybenzimidazole resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and polyvinyl chloride resin. Of these, polyimide resin is preferred. It is because it is excellent in insulation, heat resistance and chemical resistance. In addition, the material of the insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the insulating layer is, for example, preferably in the range of 5 μm to 30 μm, more preferably in the range of 5 μm to 18 μm, and still more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.

第一実施態様における配線層は、絶縁層上に形成されるものである。配線層の材料は、導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば金属を挙げることができ、中でも銅(Cu)が好ましい。また、配線層の材料は、圧延銅であっても良く、電解銅であっても良い。配線層の厚さは、例えば5μm〜18μmの範囲内であることが好ましく、5μm〜12μmの範囲内であることがより好ましい。   The wiring layer in the first embodiment is formed on the insulating layer. The material of the wiring layer is not particularly limited as long as it has conductivity, but for example, a metal can be cited, and copper (Cu) is particularly preferable. Moreover, the material of the wiring layer may be rolled copper or electrolytic copper. The thickness of the wiring layer is preferably in the range of 5 μm to 18 μm, for example, and more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.

上記配線層は、少なくとも、書込用配線層および読取用配線層を有する。さらに、上記配線層は、必要に応じて、ノイズシールド用配線層、クロストーク防止用配線層、電源用配線層、グランド用配線層、フライトハイトコントロール用配線層、センサー用配線層、アクチュエータ素子用配線層等を有していても良い。   The wiring layer has at least a writing wiring layer and a reading wiring layer. In addition, the above wiring layers are, as necessary, a noise shielding wiring layer, a crosstalk preventing wiring layer, a power wiring layer, a ground wiring layer, a flight height control wiring layer, a sensor wiring layer, and an actuator element. A wiring layer or the like may be provided.

また、配線層の一部の表面には、保護用めっき部が形成されていることが好ましい。保護用めっき部を設けることにより、配線層の劣化(腐食等)を防止できるからである。特に、第一実施態様においては、素子や外部回路基板との接続を行う端子部に、保護用めっき部が形成されていることが好ましい。保護用めっき部の種類は特に限定されるものではないが、例えば、Auめっき、Niめっき、Agめっき、Cuめっき等を挙げることができる。中でも、配線層側からNiめっきおよびAuめっきが形成されていることが好ましい。保護用めっき部の厚さは、例えば0.1μm〜4μmの範囲内である。   Moreover, it is preferable that the protective plating part is formed in the one part surface of a wiring layer. This is because by providing the protective plating portion, it is possible to prevent deterioration (corrosion or the like) of the wiring layer. In particular, in the first embodiment, it is preferable that a protective plating portion is formed on a terminal portion that is connected to an element or an external circuit board. The type of the protective plating portion is not particularly limited, and examples thereof include Au plating, Ni plating, Ag plating, and Cu plating. Especially, it is preferable that Ni plating and Au plating are formed from the wiring layer side. The thickness of the protective plating portion is, for example, in the range of 0.1 μm to 4 μm.

第一実施態様のサスペンション用基板は、配線層を覆うカバー層を有していても良い。カバー層を設けることにより、配線層の劣化(腐食等)を防止できる。カバー層の材料としては、例えば、上述した絶縁層の材料として記載したものを挙げることができ、中でもポリイミド樹脂が好ましい。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。カバー層の厚さは、例えば2μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、2μm〜10μmの範囲内であることがより好ましい。   The suspension substrate of the first embodiment may have a cover layer that covers the wiring layer. By providing the cover layer, deterioration (corrosion etc.) of the wiring layer can be prevented. Examples of the material for the cover layer include those described above as the material for the insulating layer, and among them, a polyimide resin is preferable. The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the cover layer is preferably in the range of 2 μm to 30 μm, for example, and more preferably in the range of 2 μm to 10 μm.

また、上述した図2(b)に示すように、第一実施態様における配線層および金属支持基板1(例えばジャンパー部1a)は、絶縁層2を貫通するビア部5を有していても良い。ビア部の材料は、導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばめっきを挙げることができる。めっきの種類としては、Niめっき、Auめっき、Agめっき、Cuめっき等を挙げることができ、中でもNiめっきが好ましい。導電性および耐腐食性に優れ、かつ、安価だからである。電解Niめっき法によりビアめっき部を形成する場合、用いられる電解Niめっき浴としては、例えばワット浴およびスルファミン酸浴等を挙げることができる。また、配線層の材料と、ビア部の材料とは、同じであっても良く、異なっていても良い。   Further, as shown in FIG. 2B described above, the wiring layer and the metal supporting board 1 (for example, the jumper portion 1a) in the first embodiment may have a via portion 5 penetrating the insulating layer 2. . The material of the via portion is not particularly limited as long as it has conductivity, and examples thereof include plating. Examples of the type of plating include Ni plating, Au plating, Ag plating, Cu plating and the like, and among them, Ni plating is preferable. This is because it is excellent in conductivity and corrosion resistance and is inexpensive. When the via plating portion is formed by the electrolytic Ni plating method, examples of the electrolytic Ni plating bath used include a Watt bath and a sulfamic acid bath. Further, the material of the wiring layer and the material of the via part may be the same or different.

(2)サスペンション用基板の構成
次に、第一実施態様のサスペンション用基板の構成について説明する。第一実施態様においては、第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを大きな特徴とする。熱アシスト用配線層は、熱アシスト用素子に接続するための端子部を少なくとも有する。熱アシスト用配線層は、通常、書込用配線層から分岐した配線部と、配線部から連続的に形成された端子部とを有するものである。なお、熱アシスト用配線層は、端子部のみから構成されていても良い。すなわち、書込用配線層の一部が、熱アシスト用配線層の端子部であっても良い。この場合も、書込用配線層から、熱アシスト用配線層(端子部)が分岐したものとみなせる。
(2) Configuration of Suspension Substrate Next, the configuration of the suspension substrate of the first embodiment will be described. The first embodiment is characterized in that the thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. To do. The thermal assist wiring layer has at least a terminal portion for connection to the thermal assist element. The thermal assist wiring layer usually has a wiring portion branched from the writing wiring layer and a terminal portion formed continuously from the wiring portion. Note that the heat-assist wiring layer may be composed of only the terminal portion. That is, a part of the write wiring layer may be a terminal portion of the heat assist wiring layer. Also in this case, it can be considered that the thermal assist wiring layer (terminal portion) is branched from the writing wiring layer.

また、上述した図2に示した第二熱アシスト用配線層Hのように、書込用配線層から熱アシスト用配線層が分岐する場合、配線デザイン上、他の配線層に対して熱アシスト用配線層を迂回させる必要がある場合が生じる。このような場合は、図2(b)に示すように、金属支持基板1の一部をジャンパー部1aとして用いることが好ましい。また、熱アシスト用配線層の迂回方法の他の例としては、図4(a)に示すように、ワイヤー6による接続(ワイヤーボンディングによる接続)、および、図4(b)に示すように、導電性ペースト7による接続等を挙げることができる。 Further, as the second thermal assist wiring layer H 2 shown in FIG. 2 described above, when the wiring layer for heat-assisted from the write wiring layers branches, on the wiring design, heat to other wiring layers There is a case where the assist wiring layer needs to be detoured. In such a case, it is preferable to use a part of the metal support substrate 1 as the jumper portion 1a as shown in FIG. Moreover, as another example of the detouring method of the heat assist wiring layer, as shown in FIG. 4A, as shown in FIG. 4A, as shown in FIG. The connection by the electrically conductive paste 7 can be mentioned.

図5(a)は、第一実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略平面図である。図5(a)では、第一書込用配線層Wから第一熱アシスト用配線層Hが直接分岐し、第二書込用配線層Wから第二熱アシスト用配線層Hが、ビア部5およびジャンパー部1aを介して分岐している。図5(a)を簡略に示すと、図5(b)のように表記できる。後述する図6〜図10についても、便宜上、図5(b)のように表記することとする。 FIG. 5A is a schematic plan view illustrating the write wiring layer and the heat assist wiring layer in the first embodiment. Figure 5 (a), the first write wiring layer W 1 from the first thermal assist wiring layer H 1 is branched directly, the second heat-assisted wiring layer from the second writing wiring layer W 2 H 2 However, it branches via the via part 5 and the jumper part 1a. FIG. 5A can be simply expressed as shown in FIG. 5B. 6 to 10 described later are also expressed as shown in FIG. 5B for convenience.

第一実施態様においては、熱アシスト用素子の仕様に応じて、第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していれば良い。すなわち、第一書込用配線層または第二書込用配線層から熱アシスト用配線層が分岐していても良く、第一書込用配線層および第二書込用配線層から熱アシスト用配線層が分岐していても良い。前者の具体例を図6(a)、(b)に示す。なお、後者の具体例は図5(b)に示した通りである。   In the first embodiment, according to the specification of the thermal assist element, the thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer Should be branched. That is, the thermal assist wiring layer may be branched from the first writing wiring layer or the second writing wiring layer, and the first writing wiring layer and the second writing wiring layer may be used for the thermal assist. The wiring layer may be branched. Specific examples of the former are shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b). A specific example of the latter is as shown in FIG.

後者のように、第一書込用配線層および第二書込用配線層から、熱アシスト用配線層として、それぞれ第一熱アシスト用配線層および第二熱アシスト用配線層が分岐している場合、図7に示すように、第一書込用配線層W、第二書込用配線層W、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが、インターリーブ構造を構成していることが好ましい。信号伝達特性の向上(例えば低インピーダンス化)を図れるからである。インターリーブ構造とは、第一書込用配線層Wに属する配線層(W、H)と、第二書込用配線層Wに属する配線層(W、H)とが、交互に配置された構造をいう。例えば図7に示すように、インターリーブ構造を構成している領域の長さをXとすると、Xはより大きいことが好ましい。 As in the latter, the first thermal assist wiring layer and the second thermal assist wiring layer are branched from the first writing wiring layer and the second writing wiring layer as the thermal assist wiring layer, respectively. In this case, as shown in FIG. 7, the first writing wiring layer W 1 , the second writing wiring layer W 2 , the first thermal assist wiring layer H 1, and the second thermal assist wiring layer H 2 are: It is preferable to constitute an interleave structure. This is because signal transmission characteristics can be improved (for example, low impedance). The interleave structure means that a wiring layer (W 1 , H 1 ) belonging to the first writing wiring layer W 1 and a wiring layer (W 2 , H 2 ) belonging to the second writing wiring layer W 2 are: An alternating structure. For example, as shown in FIG. 7, when the length of the region constituting the interleave structure is X, X is preferably larger.

また、第一実施態様においては、第一書込用配線層および第二書込用配線層が、それぞれ、第一インターリーブ用配線層および第二インターリーブ用配線層を有することが好ましい。信号伝達特性の向上(例えば低インピーダンス化)を図れるからである。この具体例を図8(a)〜(c)に示す。図8(a)〜(c)では、いずれも、第一書込用配線層Wおよび第二書込用配線層Wが、それぞれ、第一インターリーブ用配線層Iおよび第二インターリーブ用配線層Iを有している。なお、図8(a)〜(c)では、インターリーブ用配線層は、各書込用配線層に対して1本のみであるが、2本以上であっても良い。 In the first embodiment, the first writing wiring layer and the second writing wiring layer preferably have a first interleaving wiring layer and a second interleaving wiring layer, respectively. This is because signal transmission characteristics can be improved (for example, low impedance). Specific examples thereof are shown in FIGS. In FIG. 8 (a) ~ (c) , both the first writing wiring layer W 1 and the second write wiring layer W 2 are each, wiring layers for the first interleaving I 1 and a second interleave and a wiring layer I 2. In FIGS. 8A to 8C, only one interleaving wiring layer is provided for each writing wiring layer, but two or more interleaving wiring layers may be provided.

また、図8(a)では、インターリーブ構造の始点において、W、H、Iが単一のジャンパー部により接続されており、図8(b)では、インターリーブ構造の終点において、W、H、Iが単一のジャンパー部により接続されている。一方、図8(c)に示すように、第一実施態様においては、第一インターリーブ用配線層Iおよび第二インターリーブ用配線層Iから、それぞれ第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが分岐していても良い。これらの事項は、後述する他の種類のインターリーブ構造においても同様である。 Further, in FIG. 8 (a), the at the beginning of the interleave structure, W 2, H 2, I 2 are connected by a single jumper section, in FIG. 8 (b), at the end of the interleaved structure, W 2 , H 2 and I 2 are connected by a single jumper portion. On the other hand, as shown in FIG. 8 (c), in the first embodiment, the first interleave wiring layers I 1 and the second interleave wiring layer I 2, wiring layers H 1 and second for the first heat-assisted respectively second heat-assisted wiring layer H 2 may be branched. The same applies to other types of interleave structures described later.

また、第一実施態様においては、図9に示すように、第一書込用配線層W、第二書込用配線層W、第一インターリーブ用配線層I、第二インターリーブ用配線層I、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが、インターリーブ構造を構成していても良い。この場合、第一書込用配線層Wに属する配線層(W、I、H)と、第二書込用配線層Wに属する配線層(W、I、H)とが、交互に配置される。さらに、第一実施態様においては、第一熱アシスト用配線層および第二熱アシスト用配線層がそれぞれ分岐配線層を有し、これらの配線層がインターリーブ構造を構成していても良い。具体的には、図10に示すように、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが、それぞれ分岐配線層H11、H12を有し、これらの配線層がインターリーブ構造を構成している。なお、図10では、第一書込用配線層Wに属する配線層(W、I、H、H11)と、第二書込用配線層Wに属する配線層(W、I、H、H12)とが、交互に配置される。 In the first embodiment, as shown in FIG. 9, the first writing wiring layer W 1 , the second writing wiring layer W 2 , the first interleaving wiring layer I 1 , and the second interleaving wiring. The layer I 2 , the first heat assist wiring layer H 1, and the second heat assist wiring layer H 2 may form an interleaved structure. In this case, the wiring layer belonging to the first writing wiring layer W 1 (W 1, I 1 , H 1) and the wiring layer belonging to the second write wiring layer W 2 (W 2, I 2 , H 2 Are alternately arranged. Furthermore, in the first embodiment, the first thermal assist wiring layer and the second thermal assist wiring layer may each have a branch wiring layer, and these wiring layers may constitute an interleaved structure. Specifically, as shown in FIG. 10, the first thermal assist wiring layer H 1 and the second thermal assist wiring layer H 2 have branch wiring layers H 11 and H 12 , respectively. Constitutes an interleaved structure. In FIG 10, the wiring layer belonging to the first writing wiring layer W 1 (W 1, I 1 , H 1, H 11) and a wiring layer which belongs to the second write wiring layer W 2 (W 2 , I 2 , H 2 , H 12 ) are alternately arranged.

一方、図示しないが、熱アシスト用配線層は、熱アシスト用素子の近傍(例えば、平面視上、熱アシスト用素子から500μm以内の範囲内)で書込用配線層から分岐していても良い。書込用配線層および熱アシスト用配線層を共通化することで、配線層の数を少なくすることができ、サスペンション用基板の高機能化に伴う配線層の増加に対応しやすいという利点があるからである。   On the other hand, although not shown, the thermal assist wiring layer may be branched from the write wiring layer in the vicinity of the thermal assist element (for example, within a range of 500 μm or less from the thermal assist element in plan view). . By sharing the wiring layer for writing and the wiring layer for heat assist, there is an advantage that the number of wiring layers can be reduced and it is easy to cope with an increase in the number of wiring layers due to higher functionality of the suspension substrate. Because.

また、熱アシスト記録では、記録再生用素子が書込む直前に、加熱により磁性体粒子の保磁力が低下していることが好ましい。そのため、書込みの信号が記録再生用素子に伝わる前に、加熱の信号を熱アシスト用素子に伝えられるように、タイムラグを設けることが好ましい。このタイムラグを設けるために、第一実施態様においては、書込用配線層または熱アシスト用配線層が、信号遅延手段を有することが好ましい。信号遅延手段としては、例えば、分岐後の書込用配線層と、熱アシスト用配線層との長さに差を設ける手段、書込用配線層または熱アシスト用配線層配線層の配線幅をより太くする手段、書込用配線層または熱アシスト用配線層配線層の配線幅をより細くする手段、書込用配線層または熱アシスト用配線層配線層に抵抗(コンデンサー等)を設ける手段等を挙げることができる。   In the heat-assisted recording, it is preferable that the coercive force of the magnetic particles is reduced by heating immediately before the recording / reproducing element is written. Therefore, it is preferable to provide a time lag so that the heating signal can be transmitted to the heat assisting element before the writing signal is transmitted to the recording / reproducing element. In order to provide this time lag, in the first embodiment, the write wiring layer or the heat assist wiring layer preferably has a signal delay means. As the signal delay means, for example, means for providing a difference in length between the branched write wiring layer and the thermal assist wiring layer, the wiring width of the write wiring layer or the thermal assist wiring layer wiring layer Means for thickening, means for narrowing the wiring width of the wiring layer for writing or the heat assisting wiring layer, means for providing a resistance (capacitor, etc.) in the wiring layer for writing or the heat assisting wiring layer, etc. Can be mentioned.

第一実施態様における記録再生用素子は、特に限定されるものではないが、磁気発生素子を有するものが好ましい。具体的には、磁気ヘッドスライダを挙げることができる。第一実施態様における熱アシスト用素子は、記録再生用素子の記録を熱によりアシストできるものであれば特に限定されるものではない。中でも、熱アシスト用素子は、光を利用した素子であることが好ましい。光ドミナント記録方式による熱アシスト記録を行うことができるからである。光を利用した熱アシスト用素子としては、例えば半導体レーザーダイオード素子を挙げることができる。半導体レーザーダイオード素子は、pn型の素子であっても良く、pnp型またはnpn型の素子であっても良い。   The recording / reproducing element in the first embodiment is not particularly limited, but preferably has a magnetic generating element. Specifically, a magnetic head slider can be mentioned. The heat assist element in the first embodiment is not particularly limited as long as it can assist the recording of the recording / reproducing element with heat. Especially, it is preferable that the element for heat assistance is an element using light. This is because heat-assisted recording by an optical dominant recording method can be performed. Examples of the heat assist element using light include a semiconductor laser diode element. The semiconductor laser diode element may be a pn-type element, or a pnp-type or npn-type element.

次に、第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法について説明する。第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法は、上述したサスペンション用基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。図11は、第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。なお、図11は図2(b)に対応する概略断面図である。図11においては、まず、金属支持部材1A、絶縁部材2Aおよび導体部材3Aがこの順に積層された積層部材を準備する(図11(a))。次に、導体部材3Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、配線層3を形成する(図11(b))。次に、配線層3上にカバー層4を形成する(図11(c))。次に、絶縁部材2Aに対してウェットエッチングを行い、絶縁層2を形成する(図11(d))。次に、金属支持部材1Aからの給電によりビア部5を形成し、最後に、金属支持部材1Aに対してウェットエッチングを行い、金属支持基板1を形成する。これにより、サスペンション用基板が得られる(図11(e))。   Next, the manufacturing method of the suspension substrate of the first embodiment will be described. The manufacturing method of the suspension substrate of the first embodiment is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the above-described suspension substrate. FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing method of the suspension substrate of the first embodiment. FIG. 11 is a schematic cross-sectional view corresponding to FIG. In FIG. 11, first, a laminated member in which the metal supporting member 1A, the insulating member 2A, and the conductor member 3A are laminated in this order is prepared (FIG. 11A). Next, the conductive member 3A is patterned by wet etching to form the wiring layer 3 (FIG. 11B). Next, the cover layer 4 is formed on the wiring layer 3 (FIG. 11C). Next, wet etching is performed on the insulating member 2A to form the insulating layer 2 (FIG. 11D). Next, the via portion 5 is formed by feeding power from the metal support member 1 </ b> A, and finally, the metal support member 1 </ b> A is wet-etched to form the metal support substrate 1. Thereby, a suspension substrate is obtained (FIG. 11E).

2.第二実施態様
次に、本発明のサスペンション用基板の第二実施態様について説明する。第二実施態様のサスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された第一絶縁層と、上記第一絶縁層上に形成された第一配線層と、上記第一配線層上に形成された第二絶縁層と、上記第二絶縁層上に形成された第二配線層と、を有するサスペンション用基板であって、上記第一配線層および上記第二配線層の少なくとも一方は、記録再生用素子に接続される書込用配線層を構成する第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方を有し、上記第一書込用配線層および上記第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを特徴とするものである。
2. Second Embodiment Next, a second embodiment of the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate according to the second embodiment includes a metal support substrate, a first insulating layer formed on the metal support substrate, a first wiring layer formed on the first insulating layer, and the first wiring. A suspension substrate having a second insulating layer formed on the layer and a second wiring layer formed on the second insulating layer, wherein at least one of the first wiring layer and the second wiring layer One has at least one of a first writing wiring layer and a second writing wiring layer constituting a writing wiring layer connected to the recording / reproducing element, and the first writing wiring layer and The thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the second write wiring layers.

図12は、第二実施態様のサスペンション用基板の一例を示す模式図である。図12(a)はサスペンション用基板の概略平面図であり、図12(b)は図12(a)のA−A断面図である。なお、図12(a)では、便宜上、絶縁層およびカバー層の記載は省略している。図12(a)に示されるサスペンション用基板100は、一方の先端部分に形成された記録再生用素子実装領域101と、他方の先端部分に形成された外部回路基板接続領域102と、記録再生用素子実装領域101および外部回路基板接続領域102を電気的に接続する配線層103とを有するものである。また、図12(a)における配線層103は、一方が書込用配線層であり、他方が読取用配線層である。また、図12(b)に示すように、サスペンション用基板100は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された第一絶縁層2xと、第一絶縁層2x上に形成された第一配線層3xと、第一配線層3x上に形成された第二絶縁層2yと、第二絶縁層2y上に形成された第二配線層3yと、第二配線層3yを覆うように形成されたカバー層4とを有する。   FIG. 12 is a schematic view showing an example of the suspension substrate of the second embodiment. FIG. 12A is a schematic plan view of the suspension substrate, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. In FIG. 12A, illustration of the insulating layer and the cover layer is omitted for convenience. A suspension substrate 100 shown in FIG. 12A includes a recording / reproducing element mounting region 101 formed at one tip portion, an external circuit board connection region 102 formed at the other tip portion, and a recording / playback device. A wiring layer 103 that electrically connects the element mounting region 101 and the external circuit board connection region 102 is provided. In addition, one of the wiring layers 103 in FIG. 12A is a writing wiring layer, and the other is a reading wiring layer. 12B, the suspension substrate 100 is formed on the metal support substrate 1, the first insulating layer 2x formed on the metal support substrate 1, and the first insulating layer 2x. The first wiring layer 3x, the second insulating layer 2y formed on the first wiring layer 3x, the second wiring layer 3y formed on the second insulating layer 2y, and the second wiring layer 3y are covered. And a cover layer 4 formed.

図13(a)は、第二実施態様のサスペンション用基板における書込用配線層および熱アシスト用配線層を例示する概略斜視図である。図13(a)では、第一配線層3xが第一書込用配線層Wを有し、第二配線層3yが第二書込用配線層Wを有している。さらに、第一書込用配線層Wから第一熱アシスト用配線層Hが直接分岐し、第二書込用配線層Wから第二熱アシスト用配線層Hが直接分岐している。図13(a)を簡略に示すと、図13(b)のように表記できる。後述する図14、図15についても、便宜上、図13(b)のように表記することとする。 FIG. 13A is a schematic perspective view illustrating the write wiring layer and the heat assist wiring layer in the suspension substrate of the second embodiment. In FIG. 13 (a), the first wiring layer 3x has a first write wiring layer W 1, the second wiring layer 3y has a second write wiring layer W 2. Further, the first thermal assist wiring layer H 1 branches directly from the first writing wiring layer W 1, and the second thermal assist wiring layer H 2 branches directly from the second writing wiring layer W 2 . Yes. FIG. 13A can be represented simply as shown in FIG. 13B. 14 and 15 to be described later are also represented as shown in FIG. 13B for convenience.

第二実施態様によれば、第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることから、書込信号(デジタル信号のオンオフ)に合わせて、加熱のオンオフが可能となる。このように書込みおよび加熱の信号を同期させることで、両者のタイミングを精度良く制御可能なサスペンション用基板とすることができる。また、配線デザインにもよるが、書込用配線層および熱アシスト用配線層を共通化することで、配線層の数を少なくすることができ、サスペンション用基板の高機能化に伴う配線層の増加に対応しやすいという利点がある。一方で、後述するように、書込用配線層および熱アシスト用配線層を共通化せず、書込用配線層および熱アシスト用配線層の間でインターリーブ構造を採用する場合には、信号伝達特性が良好になるという利点もある。さらに、第二実施態様のサスペンション用基板は、第二絶縁層を介して第一配線層および第二配線層を配置できるため、上述した第一実施態様のサスペンション用基板と比べて、配線層の増加に対応しやすいという利点がある。   According to the second embodiment, the thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. The heating can be turned on / off in accordance with the turn-on signal (digital signal on / off). Thus, by synchronizing the writing and heating signals, it is possible to provide a suspension substrate capable of controlling both timings with high accuracy. Although it depends on the wiring design, the number of wiring layers can be reduced by sharing the writing wiring layer and the heat assist wiring layer, and the wiring layer associated with the higher functionality of the suspension substrate can be reduced. There is an advantage that it can easily cope with the increase. On the other hand, as will be described later, when the write wiring layer and the heat assist wiring layer are not used in common and the interleave structure is adopted between the write wiring layer and the heat assist wiring layer, signal transmission is performed. There is also an advantage that the characteristics are improved. Furthermore, since the suspension board of the second embodiment can arrange the first wiring layer and the second wiring layer via the second insulating layer, the suspension board of the first embodiment described above can be compared with the suspension board of the first embodiment. There is an advantage that it can easily cope with the increase.

(1)サスペンション用基板の部材
第二実施態様のサスペンション用基板は、金属支持基板、第一絶縁層、第一配線層、第二絶縁層および第二配線層を少なくとも有する。第二実施態様における金属支持基板、第一絶縁層および第一配線層については、それぞれ、第一実施態様における金属支持基板、絶縁層および配線層に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。なお、カバー層およびビア層についても、第一実施態様に記載した内容と同様である。
(1) Suspension Substrate Member The suspension substrate of the second embodiment includes at least a metal support substrate, a first insulating layer, a first wiring layer, a second insulating layer, and a second wiring layer. The metal support substrate, the first insulating layer, and the first wiring layer in the second embodiment are the same as the contents described in the metal support substrate, the insulating layer, and the wiring layer in the first embodiment, respectively. Description is omitted. The cover layer and via layer are the same as those described in the first embodiment.

第二実施態様における第二絶縁層は、第一配線層上に形成されるものである。第二絶縁層の材料は、絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、第一実施態様における絶縁層の材料として記載したものを用いることができる。中でも、第二絶縁層の材料は、ポリイミド樹脂であることが好ましい。また、第二絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。第一配線層および第二配線層の間の第二絶縁層の厚さ(配線間厚さ)は、特に限定されるものではないが、例えば5μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、5μm〜18μmの範囲内であることがより好ましく、5μm〜12μmの範囲内であることがさらに好ましい。   The second insulating layer in the second embodiment is formed on the first wiring layer. The material for the second insulating layer is not particularly limited as long as it has insulating properties. For example, those described as the material for the insulating layer in the first embodiment can be used. Especially, it is preferable that the material of a 2nd insulating layer is a polyimide resin. The material of the second insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the second insulating layer (inter-wiring thickness) between the first wiring layer and the second wiring layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 μm to 30 μm, for example, 5 μm. It is more preferably in the range of ˜18 μm, and still more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.

第二実施態様における第二配線層は、第二絶縁層上に形成されるものである。第二配線層の材料は、導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、第一実施態様における配線層の材料として記載したものを用いることができる。中でも、第二配線層の材料は、銅(Cu)であることが好ましい。また、第二配線層の寸法の好ましい範囲は、上述した第一実施態様における配線層の寸法の好ましい範囲と同様であるので、ここでの記載は省略する。   The second wiring layer in the second embodiment is formed on the second insulating layer. The material of the second wiring layer is not particularly limited as long as it has conductivity. For example, the material described as the material of the wiring layer in the first embodiment can be used. Especially, it is preferable that the material of a 2nd wiring layer is copper (Cu). Moreover, since the preferable range of the dimension of a 2nd wiring layer is the same as the preferable range of the dimension of the wiring layer in the 1st embodiment mentioned above, description here is abbreviate | omitted.

(2)サスペンション用基板の構成
次に、第二実施態様のサスペンション用基板の構成について説明する。第二実施態様においては、第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを大きな特徴とする。なお、熱アシスト用配線層については、上述した第一実施態様に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
(2) Configuration of Suspension Substrate Next, the configuration of the suspension substrate of the second embodiment will be described. The second embodiment is characterized in that the thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. To do. In addition, since it is the same as that of the content described in the 1st embodiment mentioned above about the wiring layer for heat assistance, description here is abbreviate | omitted.

また、第二実施態様においては、第一配線層および第二配線層の少なくとも一方が、記録再生用素子に接続され、第一書込用配線層および第二書込用配線層から構成される書込用配線層を有する。この組み合わせについて場合を分けて説明する。   In the second embodiment, at least one of the first wiring layer and the second wiring layer is connected to the recording / reproducing element, and includes the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. A write wiring layer is included. This combination will be described separately for each case.

第一の形態として、第一配線層が第一書込用配線層を有し、第二配線層が第二書込用配線層を有する形態を挙げることができる。例えば図13(b)では、第一配線層3xとして第一書込用配線層Wが形成され、第二配線層3yとして第二書込用配線層Wが形成されている。また、図13(b)では、第一熱アシスト用配線層Hが第一配線層3xとして形成され、第二熱アシスト用配線層Hが第二配線層3yとして形成されているが、例えば絶縁層を貫通するビア部を用いることで、熱アシスト用端子部に至るまでに、熱アシスト用配線層を第一配線層3xとして配置することも第二配線層3yとして配置することも可能である。その組み合わせは、熱アシスト用素子の構成に応じて任意に採用できる。 As a first form, a form in which the first wiring layer has a first writing wiring layer and the second wiring layer has a second writing wiring layer can be mentioned. For example, in FIG. 13 (b), the first write wiring layer W 1 is formed as a first wiring layer 3x, second write wiring layer W 2 is formed as a second wiring layer 3y. Further, in FIG. 13 (b), the first heat-assisted wiring layer H 1 is formed as a first wiring layer 3x, but the second heat-assisted wiring layer H 2 is formed as a second wiring layer 3y, For example, by using a via portion penetrating the insulating layer, the thermal assist wiring layer can be disposed as the first wiring layer 3x or the second wiring layer 3y before reaching the thermal assist terminal portion. It is. The combination can be arbitrarily adopted depending on the configuration of the thermal assist element.

第二の形態として、第二配線層が、第一書込用配線層および第二書込用配線層を有する形態を挙げることができる。例えば図14(a)では、第二配線層3yとして第一書込用配線層Wおよび第二書込用配線層Wが形成されている。また、図14(a)では、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが第一配線層3xとして形成されているが、図14(b)に示すように、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが第二配線層3yとして形成されていても良い。また、例えば図14(a)、(b)に示すように、絶縁層を貫通するビア部5を用いることで、熱アシスト用端子部に至るまでに、熱アシスト用配線層を第一配線層3xとして配置することも第二配線層3yとして配置することも可能である。その組み合わせは、熱アシスト用素子の構成に応じて任意に採用できる。 As a second form, a form in which the second wiring layer has a first writing wiring layer and a second writing wiring layer can be mentioned. In example FIG. 14 (a), the first write wiring layer W 1 and the second write wiring layer W 2 is formed as a second wiring layer 3y. Further, in FIG. 14 (a), the but first thermal assist wiring layer H 1 and the second thermal assist wiring layer H 2 is formed as a first wiring layer 3x, as shown in FIG. 14 (b) the first heat-assisted wiring layers H 1 and the second thermal assist wiring layer H 2 may be formed as a second wiring layer 3y. Further, for example, as shown in FIGS. 14A and 14B, by using the via portion 5 penetrating the insulating layer, the thermal assist wiring layer is changed to the first wiring layer before reaching the thermal assist terminal portion. It is possible to arrange as 3x or as the second wiring layer 3y. The combination can be arbitrarily adopted depending on the configuration of the thermal assist element.

第三の形態として、第一配線層が、第一書込用配線層および第二書込用配線層を有する形態を挙げることができる。例えば図15(a)では、第一配線層3xとして第一書込用配線層Wおよび第二書込用配線層Wが形成されている。また、図15(a)では、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが第二配線層3yとして形成されているが、図15(b)に示すように、第一熱アシスト用配線層Hおよび第二熱アシスト用配線層Hが第一配線層3xとして形成されていても良い。また、例えば図15(a)、(b)に示すように、絶縁層を貫通するビア部5を用いることで、熱アシスト用端子部に至るまでに、熱アシスト用配線層を第一配線層3xとして配置することも第二配線層3yとして配置することも可能である。その組み合わせは、熱アシスト用素子の構成に応じて任意に採用できる。なお、図13〜図15では、書込用配線層および熱アシスト用配線層のみを記載しているが、第一配線層および第二配線層は、他の機能を有する配線層をさらに有していても良い。 As a third mode, a mode in which the first wiring layer has a first writing wiring layer and a second writing wiring layer can be mentioned. For example, in FIG. 15 (a), the first write wiring layer W 1 and the second write wiring layer W 2 is formed as a first wiring layer 3x. Further, in FIG. 15 (a), the but first thermal assist wiring layer H 1 and the second thermal assist wiring layer H 2 is formed as a second wiring layer 3y, as shown in FIG. 15 (b) the first heat-assisted wiring layers H 1 and the second thermal assist wiring layer H 2 may be formed as a first wiring layer 3x. Further, for example, as shown in FIGS. 15A and 15B, by using the via portion 5 penetrating the insulating layer, the thermal assist wiring layer is changed to the first wiring layer before reaching the thermal assist terminal portion. It is possible to arrange as 3x or as the second wiring layer 3y. The combination can be arbitrarily adopted depending on the configuration of the thermal assist element. 13 to 15 show only the write wiring layer and the heat assist wiring layer, the first wiring layer and the second wiring layer further include wiring layers having other functions. May be.

また、第二実施態様における書込用配線層および熱アシスト用配線層は、各々あるいは互いにインターリーブ構造を構成していても良い。インターリーブの組み合わせについては、例えば第一実施態様に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の事項についても、基本的には第一実施態様に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。   Further, the writing wiring layer and the heat assisting wiring layer in the second embodiment may each constitute an interleaved structure. About the combination of interleaving, since it is the same as that of the content described in the first embodiment, description here is abbreviate | omitted. In addition, other matters are basically the same as the contents described in the first embodiment, and therefore description thereof is omitted here.

次に、第二実施態様のサスペンション用基板の製造方法について説明する。第二実施態様のサスペンション用基板の製造方法は、上述したサスペンション用基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。図16は、第二実施態様のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。図16においては、まず、金属支持部材1A、絶縁部材2Aおよび導体部材3Aがこの順に積層された積層部材を準備する(図16(a))。次に、導体部材3Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、第一配線層3xを形成する(図16(b))。次に、第一配線層3x上に第二絶縁層2yを形成する(図16(c))。次に、第二絶縁層2yの表面に、スパッタリングによりシード層(図示せず)を形成し、そのシード層の上に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出するシード層の表面に第二配線層3yを形成する(図16(d))。次に、第二配線層3y上にカバー層4を形成する(図16(e))。次に、絶縁部材2Aに対してウェットエッチングを行い、第一絶縁層2xを形成する(図16(f))。次に、図示しないが、必要に応じて金属支持部材1Aからの給電によりビア部5を形成する。最後に、金属支持部材1Aに対してウェットエッチングを行い、金属支持基板1を形成する。これにより、サスペンション用基板が得られる(図16(g))。   Next, a method for manufacturing the suspension substrate according to the second embodiment will be described. The manufacturing method of the suspension substrate of the second embodiment is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the above-described suspension substrate. FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing an example of a manufacturing method of the suspension substrate of the second embodiment. In FIG. 16, first, a laminated member in which the metal supporting member 1A, the insulating member 2A, and the conductor member 3A are laminated in this order is prepared (FIG. 16 (a)). Next, the conductive member 3A is patterned by wet etching to form the first wiring layer 3x (FIG. 16B). Next, the second insulating layer 2y is formed on the first wiring layer 3x (FIG. 16C). Next, a seed layer (not shown) is formed on the surface of the second insulating layer 2y by sputtering, a predetermined resist pattern is formed on the seed layer, and a surface of the seed layer exposed from the resist pattern is formed. A second wiring layer 3y is formed (FIG. 16D). Next, the cover layer 4 is formed on the second wiring layer 3y (FIG. 16E). Next, wet etching is performed on the insulating member 2A to form the first insulating layer 2x (FIG. 16F). Next, although not shown, the via portion 5 is formed by power feeding from the metal support member 1A as necessary. Finally, wet etching is performed on the metal support member 1 </ b> A to form the metal support substrate 1. As a result, a suspension substrate is obtained (FIG. 16G).

B.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするものである。
B. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension according to the present invention includes the suspension substrate described above and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

図17は、本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。図17に示されるサスペンション400は、上述したサスペンション用基板100と、サスペンション用基板100の金属支持基板側の表面に設けられたロードビーム300とを有するものである。   FIG. 17 is a schematic plan view showing an example of the suspension of the present invention. A suspension 400 shown in FIG. 17 includes the suspension substrate 100 described above and a load beam 300 provided on the surface of the suspension substrate 100 on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、書込みおよび加熱のタイミングを精度良く制御可能なサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension substrate described above, a suspension capable of controlling the timing of writing and heating with high accuracy can be obtained.

本発明のサスペンションは、少なくともサスペンション用基板およびロードビームを有する。本発明におけるサスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。一方、本発明におけるロードビームは、サスペンション用基板の金属支持基板側の表面に設けられるものである。ロードビームの材料は、特に限定されるものではないが、例えば金属を挙げることができ、ステンレス鋼であることが好ましい。   The suspension of the present invention has at least a suspension substrate and a load beam. The suspension substrate in the present invention is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore description thereof is omitted here. On the other hand, the load beam in the present invention is provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side. Although the material of the load beam is not particularly limited, for example, a metal can be used, and stainless steel is preferable.

C.素子付サスペンション
次に、本発明の素子付サスペンションについて説明する。本発明の素子付サスペンションは、上述したサスペンションと、上記サスペンションに配置された記録再生用素子および熱アシスト用素子と、を有することを特徴とするものである。
C. Next, the suspension with an element of the present invention will be described. A suspension with an element of the present invention includes the above-described suspension, and a recording / reproducing element and a thermal assist element disposed on the suspension.

図18は、本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図18に示される素子付サスペンション500は、上述したサスペンション400と、サスペンション400(サスペンション用基板100の記録再生用素子実装領域101)に実装された記録再生用素子401および熱アシスト用素子(図示せず)とを有するものである。   FIG. 18 is a schematic plan view showing an example of the suspension with an element of the present invention. 18 includes a suspension 400 described above, a recording / reproducing element 401 and a thermal assist element (not shown) mounted on the suspension 400 (recording / reproducing element mounting region 101 of the suspension substrate 100). Z)).

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、書込みおよび加熱のタイミングを精度良く制御可能な素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, it is possible to provide a suspension with an element capable of accurately controlling the timing of writing and heating.

本発明の素子付サスペンションは、少なくともサスペンション、記録再生用素子および熱アシスト用素子を有する。本発明におけるサスペンションについては、上記「B.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、本発明における記録再生用素子および熱アシスト用素子については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、本発明の素子付サスペンションは、アクチュエータ素子を有していても良い。   The element-mounted suspension of the present invention includes at least a suspension, a recording / reproducing element, and a thermal assist element. The suspension according to the present invention is the same as the content described in “B. Suspension” above, and thus the description thereof is omitted here. In addition, the recording / reproducing element and the heat assist element in the present invention are the same as the contents described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore the description thereof is omitted here. Moreover, the suspension with an element of the present invention may have an actuator element.

D.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述した素子付サスペンションを有することを特徴とするものである。
D. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention has the above-described suspension with an element.

図19は、本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。図19に示されるハードディスクドライブ600は、上述した素子付サスペンション500と、素子付サスペンション500がデータの書き込みおよび読み込みを行うディスク501と、ディスク501を回転させるスピンドルモータ502と、素子付サスペンション500の素子を移動させるアーム503およびボイスコイルモータ504と、上記の部材を密閉するケース505とを有するものである。   FIG. 19 is a schematic plan view showing an example of the hard disk drive of the present invention. A hard disk drive 600 shown in FIG. 19 includes the above-described suspension 500 with an element, a disk 501 on which the suspension 500 with an element writes and reads data, a spindle motor 502 that rotates the disk 501, and elements of the suspension 500 with an element. Arm 503 and voice coil motor 504, and a case 505 for sealing the above members.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described suspension with an element.

本発明のハードディスクドライブは、少なくとも素子付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。素子付サスペンションについては、上記「C.素子付サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a suspension with an element, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. Since the suspension with an element is the same as the content described in “C. Suspension with an element”, description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

[実施例1]
まず、厚さ18μmのSUS304(金属支持部材)、厚さ10μmのポリイミド樹脂層(絶縁部材)、厚さ9μmの電解銅層(導体部材)を有する積層部材を準備した(図11(a))。次に、ドライフィルムレジストを積層部材の両面にラミネートし、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄液を用いてエッチングし、エッチング後レジスト剥膜を行った。これにより、導体部材から配線層を形成し(図11(b))、金属支持部材に治具孔を形成した。
[Example 1]
First, a laminated member having SUS304 (metal support member) having a thickness of 18 μm, a polyimide resin layer (insulating member) having a thickness of 10 μm, and an electrolytic copper layer (conductor member) having a thickness of 9 μm was prepared (FIG. 11A). . Next, a dry film resist was laminated on both surfaces of the laminated member to form a resist pattern. Next, etching was performed using a ferric chloride solution, and a resist film was removed after the etching. Thereby, a wiring layer was formed from the conductor member (FIG. 11B), and a jig hole was formed in the metal support member.

その後、パターニングされた配線層上に、ポリイミド前駆体溶液をダイコーターでコーティングし、所定のパターニングによりカバー層を形成した(図11(c))。次に、絶縁部材をパターニングするために、レジスト製版し、露出する部位のポリイミド樹脂をウェットエッチングで除去し、絶縁層を形成した(図11(d))。次に、金属支持部材からの給電により、金属支持部材および配線層を電気的に接続するビア部(電解Niめっき)を形成した(図11(e))。次に、配線層の端子部に、電解Auめっきにより保護用めっき部を形成した。最後に、金属支持基板の外形加工を行った。これにより、サスペンション用基板を得た。   Thereafter, a polyimide precursor solution was coated on the patterned wiring layer with a die coater, and a cover layer was formed by predetermined patterning (FIG. 11C). Next, in order to pattern the insulating member, resist plate-making was performed, and the exposed polyimide resin was removed by wet etching to form an insulating layer (FIG. 11D). Next, a via portion (electrolytic Ni plating) for electrically connecting the metal support member and the wiring layer was formed by power feeding from the metal support member (FIG. 11E). Next, a protective plating portion was formed on the terminal portion of the wiring layer by electrolytic Au plating. Finally, the outer shape of the metal support substrate was processed. As a result, a suspension substrate was obtained.

[実施例2]
まず、厚さ18μmのSUS304(金属支持部材)、厚さ10μmのポリイミド樹脂層(絶縁部材)、厚さ9μmの電解銅層(導体部材)を有する積層部材を準備した(図16(a))。次に、ドライフィルムレジストを積層部材の両面にラミネートし、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄液を用いてエッチングし、エッチング後レジスト剥膜を行った。これにより、導体部材から第一配線層を形成し(図16(b))、金属支持部材に治具孔を形成した。
[Example 2]
First, a laminated member having SUS304 (metal support member) having a thickness of 18 μm, a polyimide resin layer (insulating member) having a thickness of 10 μm, and an electrolytic copper layer (conductor member) having a thickness of 9 μm was prepared (FIG. 16A). . Next, a dry film resist was laminated on both surfaces of the laminated member to form a resist pattern. Next, etching was performed using a ferric chloride solution, and a resist film was removed after the etching. Thereby, the first wiring layer was formed from the conductor member (FIG. 16B), and the jig hole was formed in the metal support member.

その後、パターニングされた第一配線層上に、ポリイミド前駆体溶液をダイコーターでコーティングし、所定のパターニングにより第二絶縁層を形成した(図16(c))。次に、第二絶縁層側の表面に、スパッタリング法によりCrからなるシード層を形成した。次に、シード層上に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する部分に、電解銅めっき法により、第二配線層を形成した(図16(d))。   Thereafter, a polyimide precursor solution was coated on the patterned first wiring layer with a die coater, and a second insulating layer was formed by a predetermined patterning (FIG. 16C). Next, a seed layer made of Cr was formed on the surface on the second insulating layer side by a sputtering method. Next, a predetermined resist pattern was formed on the seed layer, and a second wiring layer was formed on the portion exposed from the resist pattern by electrolytic copper plating (FIG. 16D).

シード層の除去後、パターニングされた第二配線層上に、ポリイミド前駆体溶液をダイコーターでコーティングし、所定のパターニングによりカバー層を形成した(図16(e))。次に、絶縁部材をパターニングするために、レジスト製版し、露出する部位のポリイミド樹脂をウェットエッチングで除去し、第一絶縁層を形成した(図16(f))。次に、金属支持部材からの給電により、金属支持部材および配線層を電気的に接続するビア部(電解Niめっき)を形成した。次に、配線層の端子部に、電解Auめっきにより保護用めっき部を形成した。最後に、金属支持基板の外形加工を行った。これにより、サスペンション用基板を得た。   After removing the seed layer, a polyimide precursor solution was coated on the patterned second wiring layer with a die coater, and a cover layer was formed by predetermined patterning (FIG. 16 (e)). Next, in order to pattern the insulating member, resist plate-making was performed, and the exposed polyimide resin was removed by wet etching to form a first insulating layer (FIG. 16F). Next, via portions (electrolytic Ni plating) for electrically connecting the metal support member and the wiring layer were formed by power feeding from the metal support member. Next, a protective plating portion was formed on the terminal portion of the wiring layer by electrolytic Au plating. Finally, the outer shape of the metal support substrate was processed. As a result, a suspension substrate was obtained.

1…金属支持基板、 1a…ジャンパー部、 2…絶縁層、 2x…第一絶縁層、 2y…第二絶縁層、 3…配線層、 3a…端子部、 3x…第一配線層、 3y…第二配線層、 4…カバー層、 5…ビア部、 100…サスペンション用基板、 101…記録再生用素子実装領域、 102…外部回路基板接続領域、 103…配線層、 210…熱アシスト用素子、 220…記録再生用素子   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal support substrate, 1a ... Jumper part, 2 ... Insulating layer, 2x ... First insulating layer, 2y ... Second insulating layer, 3 ... Wiring layer, 3a ... Terminal part, 3x ... First wiring layer, 3y ... First Two wiring layers, 4 ... Cover layer, 5 ... Via part, 100 ... Suspension substrate, 101 ... Recording / reproducing element mounting area, 102 ... External circuit board connection area, 103 ... Wiring layer, 210 ... Thermal assist element, 220 ... Recording / reproducing elements

Claims (11)

金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された配線層と、を有するサスペンション用基板であって、
前記配線層は、記録再生用素子に接続され、第一書込用配線層および第二書込用配線層から構成される書込用配線層を有し、
前記第一書込用配線層および前記第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを特徴とするサスペンション用基板。
A suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer,
The wiring layer is connected to a recording / reproducing element and has a writing wiring layer composed of a first writing wiring layer and a second writing wiring layer;
A suspension substrate, wherein a thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer.
前記第一書込用配線層および前記第二書込用配線層から、前記熱アシスト用配線層として、それぞれ第一熱アシスト用配線層および第二熱アシスト用配線層が分岐し、
前記第一書込用配線層、前記第二書込用配線層、前記第一熱アシスト用配線層および前記第二熱アシスト用配線層が、インターリーブ構造を構成していることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。
From the first writing wiring layer and the second writing wiring layer, the first thermal assistance wiring layer and the second thermal assistance wiring layer are branched as the thermal assistance wiring layer, respectively.
The first write wiring layer, the second write wiring layer, the first thermal assist wiring layer, and the second thermal assist wiring layer form an interleaved structure. Item 2. The suspension substrate according to Item 1.
前記第一書込用配線層および前記第二書込用配線層が、それぞれ、第一インターリーブ用配線層および第二インターリーブ用配線層を有し、
前記第一書込用配線層、前記第二書込用配線層、前記第一インターリーブ用配線層および前記第二インターリーブ用配線層が、インターリーブ構造を構成していることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。
The first writing wiring layer and the second writing wiring layer have a first interleaving wiring layer and a second interleaving wiring layer, respectively.
2. The first writing wiring layer, the second writing wiring layer, the first interleaving wiring layer, and the second interleaving wiring layer constitute an interleaved structure. The suspension substrate as described in 1.
金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された第一絶縁層と、前記第一絶縁層上に形成された第一配線層と、前記第一配線層上に形成された第二絶縁層と、前記第二絶縁層上に形成された第二配線層と、を有するサスペンション用基板であって、
前記第一配線層および前記第二配線層の少なくとも一方は、記録再生用素子に接続される書込用配線層を構成する第一書込用配線層および第二書込用配線層の少なくとも一方を有し、
前記第一書込用配線層および前記第二書込用配線層の少なくとも一方から、熱アシスト用素子に接続される熱アシスト用配線層が分岐していることを特徴とするサスペンション用基板。
A metal support substrate, a first insulating layer formed on the metal support substrate, a first wiring layer formed on the first insulating layer, and a second insulating layer formed on the first wiring layer A suspension substrate having a second wiring layer formed on the second insulating layer,
At least one of the first wiring layer and the second wiring layer is at least one of a first writing wiring layer and a second writing wiring layer constituting a writing wiring layer connected to the recording / reproducing element. Have
A suspension substrate, wherein a thermal assist wiring layer connected to the thermal assist element is branched from at least one of the first writing wiring layer and the second writing wiring layer.
前記第一配線層が前記第一書込用配線層を有し、前記第二配線層が前記第二書込用配線層を有することを特徴とする請求項4に記載のサスペンション用基板。   5. The suspension substrate according to claim 4, wherein the first wiring layer has the first writing wiring layer, and the second wiring layer has the second writing wiring layer. 前記第二配線層が、前記第一書込用配線層および前記第二書込用配線層を有することを特徴とする請求項4に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 4, wherein the second wiring layer includes the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. 前記第一配線層が、前記第一書込用配線層および前記第二書込用配線層を有することを特徴とする請求項4に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 4, wherein the first wiring layer includes the first writing wiring layer and the second writing wiring layer. 前記書込用配線層または前記熱アシスト用配線層が、信号遅延手段を有することを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein the write wiring layer or the heat assist wiring layer includes a signal delay unit. 請求項1から請求項8までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板と、前記サスペンション用基板の前記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンション。   A suspension board comprising: the suspension board according to any one of claims 1 to 8; and a load beam provided on a surface of the suspension board on the metal support board side. . 請求項9に記載のサスペンションと、前記サスペンションに配置された記録再生用素子および熱アシスト用素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンション。   A suspension with an element, comprising: the suspension according to claim 9; and a recording / reproducing element and a thermal assist element disposed on the suspension. 請求項10に記載の素子付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with an element according to claim 10.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015141730A (en) * 2014-01-30 2015-08-03 大日本印刷株式会社 Suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive

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