JP2013110328A - Wavelength sweeping light source device and optical tomographic image pickup device including the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wavelength sweeping light source device in which the resonator length can be shortened, the SN ratio can be enhanced by suppressing mixture of ASE light into the output light, and a reflection film having an accurate shape can be formed by inhibiting the reflection film from being peeled off during manufacture, and to provide an optical tomographic image pickup device including the light source device.SOLUTION: In the wavelength sweeping light source device configured so that a resonator consisting of a partial reflection mirror and a scanner mirror causes laser oscillation of light having a wavelength selected by the scanner mirror, the scanner mirror is constituted of slit-like mirrors of equal width formed, at an equal interval, on a substrate of disc shape along the circumference of the disc shape. The slit-like mirrors are formed by removing the parts becoming the mirrors of a light-shielding film on a reflection film deposited on the substrate of disc shape.

Description

本発明は、波長掃引光源装置及び該光源装置を備える光断層画像撮像装置に関し、特に発振波長を掃引することが可能な波長掃引光源装置及び該光源装置を備える光断層画像撮像装置に関する。   The present invention relates to a wavelength swept light source device and an optical tomographic imaging apparatus including the light source device, and more particularly to a wavelength swept light source device capable of sweeping an oscillation wavelength and an optical tomographic image capturing apparatus including the light source device.

光源、特にレーザー光源については、発振波長を可変とするものが通信ネットワーク分野や検査装置の分野で種々利用されてきている。
通信ネットワーク分野では、高速な波長切替、また、検査装置の分野では高速で広範な波長掃引が、要望されている。
検査装置における波長可変(掃引)光源の一つ用途として、レーザー分光器、分散測定器、膜厚測定器、波長掃引型光トモグラフィー(Swept SourceOptical Coherence Tomography、以下、これをSS−OCTと記す。)装置がある。
SS−OCTは、低コヒーレンス光干渉を用いて検体の断層像を撮像するものである。ミクロンオーダーの空間分解能が得られることや無侵襲性等の理由から医用分野における研究が近年、盛んになってきている撮像技術である。
As light sources, particularly laser light sources, various types of oscillation wavelengths have been used in the fields of communication networks and inspection devices.
In the field of communication networks, high-speed wavelength switching is required, and in the field of inspection equipment, high-speed and wide-range wavelength sweeping is desired.
As one application of a wavelength tunable (sweep) light source in an inspection apparatus, a laser spectrometer, a dispersion measuring instrument, a film thickness measuring instrument, and a wavelength swept optical tomography (hereinafter referred to as SS-OCT). There is a device.
SS-OCT captures a tomographic image of a specimen using low coherence light interference. This is an imaging technique that has been actively researched in the medical field in recent years because of the micron-order spatial resolution and non-invasiveness.

現在、OCTは、深さ方向の解像度を数ミクロンとし、且つ数mmの深さまで断層像を得ることができ、眼科撮影、歯科撮影等に用いられている。
中でも、SS−OCTは、光源の発振波長(周波数)を時間的に掃引するものである。これはフーリエ領域(FD)OCTの範疇に入る。
同じくFDOCTの範疇に入るスペクトル領域(スペクトルドメイン:SD)OCTが干渉光を分光する分光器を必用とするのに対し、このSS−OCTでは分光器を用いないことから、光量のロスが少なく高SN比の像取得も期待されている。
Currently, OCT is capable of obtaining a tomographic image with a resolution in the depth direction of several microns and a depth of several mm, and is used for ophthalmic photography, dental photography, and the like.
Among these, SS-OCT sweeps the oscillation wavelength (frequency) of the light source in time. This falls into the category of Fourier domain (FD) OCT.
Similarly, the spectral region (spectrum domain: SD) OCT that falls into the category of FDOCT requires a spectroscope that separates interference light, whereas SS-OCT does not use a spectroscope, so the loss of light is small and high. Image acquisition of S / N ratio is also expected.

上記SS−OCT技術を適用した医用画像撮像装置を構成する場合には、掃引速度が速いほど画像取得時間を短縮でき、また、波長掃引幅が広いほど断層像の深さ空間解像度を高めることが可能なためこれらのパラメータは重要である。
具体的には波長掃引幅Δλ、発振波長λ0、検体の屈折率をnとするとき、深さ分解能δLは、

δL=2ln2/π×λo2/nΔλ(式1)

で表される。
したがって、深さ分解能を高めるためには波長掃引幅の拡大が必要であり、広帯域な波長掃引光源が求められている。
一方、SS−OCT装置においては検体の奥深い構造まで検出できること、すなわち長い可干渉距離を実現できることが望まれる。このため、SS−OCT装置の光源の性能としては、発振スペクトル線幅がより狭いほうが望ましい。
具体的には発振スペクトル線幅δλ、発振波長λ0、検体の屈折率をnとするとき、可干渉距離(コヒーレンス長)Lは、

L=λo2/nδλ(式2)

で表わされる。
したがって検体の奥行き方向の測定範囲を広げるためには発振スペクトル線幅の狭小化が必要であり、狭い線幅の波長掃引光源が求められている。
また、波長掃引型光干渉トモグラフィーを生体の断層画像取得に用いる場合、生体内部に照射された光はほとんどが拡散され、後方散乱光として干渉計に結合される率は−40dB〜−50dBと非常に小さい。
したがって、より深い位置での信号検出を可能とするために、高出力な波長掃引光源が求められている。
こうした中、SS−OCT装置に用いる光源として、光利得媒体と波長可変機構とを共振器の中に組み込んだ、外部共振器型の波長掃引光源が主に用いられている。このような光源の中で、波長可変機構としてスリットを移動させて波長を可変とする手法が特許文献1に開示されている。
When configuring a medical imaging apparatus to which the SS-OCT technology is applied, the image acquisition time can be shortened as the sweep speed is increased, and the depth spatial resolution of the tomographic image can be increased as the wavelength sweep width is increased. These parameters are important because they are possible.
Specifically, when the wavelength sweep width Δλ, the oscillation wavelength λ0, and the refractive index of the specimen are n, the depth resolution δL is

δL = 2ln2 / π × λo 2 / nΔλ (Formula 1)

It is represented by
Therefore, in order to increase the depth resolution, it is necessary to increase the wavelength sweep width, and a broadband wavelength sweep light source is required.
On the other hand, in the SS-OCT apparatus, it is desired that a deep structure of the specimen can be detected, that is, a long coherence distance can be realized. For this reason, as the performance of the light source of the SS-OCT apparatus, it is desirable that the oscillation spectral line width is narrower.
Specifically, when the oscillation spectral line width δλ, the oscillation wavelength λ0, and the refractive index of the specimen are n, the coherence distance (coherence length) L is

L = λo 2 / nδλ (Formula 2)

It is represented by
Therefore, in order to widen the measurement range in the depth direction of the specimen, it is necessary to narrow the oscillation spectrum line width, and a wavelength swept light source having a narrow line width is required.
In addition, when the wavelength sweep type optical interference tomography is used for acquiring a tomographic image of a living body, most of the light irradiated inside the living body is diffused, and the rate of being coupled to the interferometer as backscattered light is extremely −40 dB to −50 dB. Small.
Therefore, in order to enable signal detection at a deeper position, a high-power wavelength swept light source is required.
Under these circumstances, an external resonator type wavelength swept light source in which an optical gain medium and a wavelength variable mechanism are incorporated in a resonator is mainly used as a light source used in the SS-OCT apparatus. Among such light sources, Patent Document 1 discloses a method of changing the wavelength by moving a slit as a wavelength variable mechanism.

特許文献1は、光増幅媒体と、該光増幅媒体の外部に回折格子を用いた反射器を備えた波長可変光源を開示する。図5に特許文献1に記載の光源装置を示す。図5−(a)においては、所定の波長利得幅を有する光増幅媒体201より出射された光は、コリメータレンズ202を介して平行光束になる。
この平行光束は回折格子203に入射し,回折波長分散される。回折し波長分散された光束は集光レンズ205によって,回転円盤207上に各波長毎に対応した広がりで集光する。
回転円盤207にはスリット209が放射状に配置されている。
回転円板207の回折格子と反対側には、スリットを透過した光束を反射し一対の共振器の一つとして機能する反射ミラー210が配置されている。
スリット209の一つが、先ほどの各波長毎に対応した広がりで集光する位置にくると、そこで集光光の一部が透過し、この時波長が選択される。透過した光束は反射ミラー210で反射され、再びスリット209を透過し、往路を戻って光増幅媒体201に戻り、光増幅される。
212は一対の共振器におけるもう一つの半透過の反射器であり、ここから不図示のファイバーにカップリングされOCT装置に出力される。
図5−(b)は特許文献1に記載の他の光源装置である。
図5−(b)の装置では、回転円盤207と反射ミラー210の代わりに、スリット状の反射膜232が放射状光に配置された回転円板231を配置している。スリット状の反射膜232の一つが、先ほどと同様に、各波長毎に対応した広がりで集光する位置にくると、そこで集光光を反射する。このとき波長が選択的され、往路を戻って光増幅媒体201に戻り、光増幅される。
212は一対の共振器におけるもう一つの半透過の反射器であり、ここから不図示のファイバーにカップリングされOCT装置に出力される。
Patent Document 1 discloses a wavelength tunable light source including an optical amplifying medium and a reflector using a diffraction grating outside the optical amplifying medium. FIG. 5 shows a light source device described in Patent Document 1. In FIG. 5A, the light emitted from the optical amplifying medium 201 having a predetermined wavelength gain width becomes a parallel light flux through the collimator lens 202.
This parallel light beam enters the diffraction grating 203 and is dispersed in the diffraction wavelength. The diffracted and wavelength-dispersed light beam is condensed by the condensing lens 205 on the rotating disk 207 with a spread corresponding to each wavelength.
In the rotating disk 207, slits 209 are arranged radially.
On the opposite side of the rotating disk 207 from the diffraction grating, a reflecting mirror 210 that reflects the light beam transmitted through the slit and functions as one of a pair of resonators is disposed.
When one of the slits 209 comes to a position where light is condensed with a spread corresponding to each wavelength, a part of the condensed light is transmitted there, and the wavelength is selected at this time. The transmitted light beam is reflected by the reflection mirror 210, passes through the slit 209 again, returns to the optical amplification medium 201 through the forward path, and is optically amplified.
Reference numeral 212 denotes another transflective reflector in the pair of resonators, which is coupled to a fiber (not shown) and output to the OCT apparatus.
FIG. 5B is another light source device described in Patent Document 1.
In the apparatus of FIG. 5B, a rotating disk 231 in which a slit-like reflecting film 232 is arranged in radial light is arranged instead of the rotating disk 207 and the reflecting mirror 210. When one of the slit-like reflective films 232 comes to a position where light is condensed with a spread corresponding to each wavelength, the condensed light is reflected there. At this time, the wavelength is selected, and returns to the optical amplifying medium 201 through the forward path to be optically amplified.
Reference numeral 212 denotes another transflective reflector in the pair of resonators, which is coupled to a fiber (not shown) and output to the OCT apparatus.

特開2008−98395号公報JP 2008-98395 A

波長掃引光源を用いて医用画像撮像装置を構成する場合には、掃引速度が早いほど像取得時間を短縮できることが好ましいことについては、[背景技術]のところで述べた。
深さ方向(Z)を100KHz、それと横方向(X)にサンプリング点数1000点で2次元の断層像を撮像するには0.01秒かかる。これをさらに縦方向(Y)を同じくサンプリング点数1000点とると10秒で三次元像が取得できることがわかる。
特許文献1に開示された回転円盤を波長選択フィルターとして用いる波長掃引光源は、比較的高速な波長掃引が可能な波長掃引光源であるが、つぎのような課題を有している。
すなわち、図5−(a)に示した透過型スリットを用いる装置では、スリット209と反射ミラー210を共に集光レンズ205の焦点内に配置する必要があるため、集光レンズ205の焦点距離が長くなり、共振器長をあまり短くできない。
このため、高速に波長掃引すると共振器内のラウンドトリップ数が少なくなり、コヒーレンシーが悪化して、OCT像の観察深度が浅くなる。
また、図5−(b)に示したスリット状の反射膜を用いる装置では、出力光へのASE光の混入が多く、SN比が良くなく、更にスリット状の反射膜はパターン形成プロセス途中で剥がれやすく、多数の正確な形状の反射膜を形成することが困難となる。
In the case of configuring a medical image pickup apparatus using a wavelength swept light source, it has been described in [Background Art] that it is preferable to shorten the image acquisition time as the sweep speed increases.
It takes 0.01 seconds to capture a two-dimensional tomographic image at 100 KHz in the depth direction (Z) and 1000 sampling points in the horizontal direction (X). It can be seen that a three-dimensional image can be acquired in 10 seconds if the number of sampling points is 1000 in the vertical direction (Y).
The wavelength swept light source using the rotating disk disclosed in Patent Document 1 as a wavelength selection filter is a wavelength swept light source capable of relatively high-speed wavelength sweeping, but has the following problems.
That is, in the apparatus using the transmission type slit shown in FIG. 5A, both the slit 209 and the reflection mirror 210 need to be disposed within the focal point of the condenser lens 205. It becomes longer and the resonator length cannot be shortened much.
For this reason, when the wavelength is swept at a high speed, the number of round trips in the resonator is reduced, the coherency is deteriorated, and the observation depth of the OCT image is reduced.
Further, in the apparatus using the slit-shaped reflective film shown in FIG. 5B, the ASE light is often mixed in the output light, the SN ratio is not good, and the slit-shaped reflective film is in the middle of the pattern forming process. It is easy to peel off, and it becomes difficult to form a large number of accurately shaped reflective films.

本発明は、上記課題に鑑み、共振器長を短くすることができると共に、出力光へのASE光の混入を抑制してSN比を向上させることができ、
製作時に反射膜が剥がれることを抑制して、正確な形状の反射膜の形成が可能となる波長掃引光源装置及び該光源装置を備える光断層画像撮像装置の提供を目的とする。
In view of the above problems, the present invention can shorten the resonator length and can suppress the mixing of ASE light into the output light and improve the SN ratio.
An object of the present invention is to provide a wavelength swept light source device capable of forming a reflective film having an accurate shape while suppressing the reflection film from being peeled off during manufacture, and an optical tomographic imaging apparatus including the light source device.

本発明の波長掃引光源装置は、
部分反射ミラーと、
半導体光増幅媒体と、
前記半導体光増幅媒体の出射光をコリメートするコリメートレンズと、
前記コリメートされた光束に波長よって異なる角度分散を与える回折格子と、 前記回折格子により角度分散を与えられた光束を波長により異なる位置に集光する集光レンズと、
前記集光レンズによる焦点面内を走査して一部の波長の光を反射する走査ミラーと、
を有し、前記部分反射ミラーと前記走査ミラーとによる共振器によって、前記走査ミラーで選択された波長の光がレーザー発振されるように構成された波長掃引光源装置であって、
前記走査ミラーは、円盤形状の基板上に該円盤形状の円周に沿って等間隔に形成された等幅のスリット状のミラーによって構成され、
前記スリット状のミラーは、前記円盤形状の基板上に成膜された反射膜上における遮光膜の前記ミラーとなる部分を除去することにより形成されていることを特徴とする。
また、本発明の光断層画像撮像装置は、上記した波長掃引光源装置を備える光源部と、
前記光源部からの光を検体に照射し、被検体からの反射光を伝達させる被検体測定部と、
前記光源部からの光を参照ミラーに照射し、該参照ミラーからの反射光を伝達させる参照部と、
前記被検体測定部からの反射光と前記参照部からの反射光とを干渉させる干渉部と、
前記干渉部からの干渉光を検出する光検出部と、
前記光検出部で検出された光に基づいて、前記被検体の光断層画像を取得する画像処理部と、
を有することを特徴とする。
The wavelength swept light source device of the present invention is
A partially reflective mirror,
A semiconductor optical amplification medium;
A collimating lens for collimating the light emitted from the semiconductor optical amplification medium;
A diffraction grating that gives different angular dispersion to the collimated light flux depending on the wavelength; and a condenser lens that collects the light flux given angular dispersion by the diffraction grating at different positions depending on the wavelength;
A scanning mirror that scans the focal plane of the condenser lens and reflects light of some wavelengths;
A wavelength swept light source device configured such that light of a wavelength selected by the scanning mirror is laser-oscillated by a resonator including the partial reflection mirror and the scanning mirror,
The scanning mirror is composed of slit-shaped mirrors of equal width formed on the disk-shaped substrate at equal intervals along the circumference of the disk-shaped substrate,
The slit-like mirror is formed by removing a portion of the light-shielding film that serves as the mirror on a reflective film formed on the disk-shaped substrate.
An optical tomographic imaging apparatus of the present invention includes a light source unit including the above-described wavelength swept light source device,
A subject measurement unit that irradiates the sample with light from the light source unit and transmits reflected light from the subject; and
A reference unit for irradiating a reference mirror with light from the light source unit and transmitting reflected light from the reference mirror;
An interference unit that causes reflected light from the subject measurement unit and reflected light from the reference unit to interfere with each other;
A light detection unit for detecting interference light from the interference unit;
An image processing unit that acquires an optical tomographic image of the subject based on the light detected by the light detection unit;
It is characterized by having.

本発明によれば、共振器長を短くすることができると共に、出力光へのASE光の混入を抑制してSN比を向上させることができ、
製作時に反射膜が剥がれることを抑制して、正確な形状の反射膜の形成が可能となる波長掃引光源装置及び該光源装置を備える光断層画像撮像装置を実現することができる。
According to the present invention, the resonator length can be shortened, the mixing of ASE light into the output light can be suppressed, and the SN ratio can be improved.
It is possible to realize a wavelength swept light source device and an optical tomographic imaging apparatus including the light source device that can form a reflective film with an accurate shape by suppressing the reflection film from being peeled off during manufacturing.

本発明の実施形態及び実施例1における発振波長を掃引することが可能な波長掃引光源装置の構成例について説明する模式図。The schematic diagram explaining the structural example of the wavelength swept light source device which can sweep the oscillation wavelength in embodiment and Example 1 of this invention. 本発明の実施形態及び実施例1におけるスリット状ミラーの構造について説明する図。The figure explaining the structure of the slit-shaped mirror in embodiment and Example 1 of this invention. 本発明の実施例2における波長掃引光源装置の構成例を説明する図。The figure explaining the structural example of the wavelength swept light source device in Example 2 of this invention. 本発明の実施例4における光断層画像撮像装置を説明する図。The figure explaining the optical tomographic imaging apparatus in Example 4 of this invention. 従来例における波長掃引光源の一例を説明する図。The figure explaining an example of the wavelength sweep light source in a prior art example.

つぎに、本発明の実施形態における発振波長を掃引することが可能な波長掃引光源装置の構成例について、図2の模式図を用いて説明する。
図2において、光利得媒体としての光増幅器26は、レーザー発振の発振波長に利得を有しているものであって、例えば半導体光増幅媒体(Semiconductor Optical Amplifier:SOA)を用いる。
この光増幅器26の一方の端面からの出射光をコリメートレンズ25で平行光とする。この平行光を波長によって異なる角度分散を与える回折格子24に入射させ、光の波長に応じて異なる角度で回折させる。
この回折光を集光レンズ23によって集光させ、集光された光の焦点位置に、走査ミラーを構成する細長い等幅のスリット状ミラー22が円周上に多数形成された反射ホイール21を設ける。
焦点位置は波長に応じて異なるため、スリット状ミラー22の位置に応じて特定の波長のみが反射され、光増幅器26に再び入射される。
一方、光増幅器26の他方の端面からの光出力はコリメートレンズ27で平行光とする。この平行光の一部は部分反射ミラー28で反射され、光増幅器26に再び入射される。
したがって、スリット状ミラー22と部分反射ミラー28が共振器を構成し、スリット状ミラーで選択された波長の光が外部共振器型光源としてレーザー発振する。そして、部分反射ミラー28を透過した光を光出力として取り出す。
スリット状ミラー22の位置を機械的に移動させることで集光レンズによる焦点面内を走査し、反射される光の波長が変化するため、波長可変が実現できる。
Next, a configuration example of a wavelength swept light source device capable of sweeping the oscillation wavelength in the embodiment of the present invention will be described with reference to the schematic diagram of FIG.
In FIG. 2, an optical amplifier 26 as an optical gain medium has a gain at the oscillation wavelength of laser oscillation, and uses, for example, a semiconductor optical amplifier (SOA).
Light emitted from one end face of the optical amplifier 26 is converted into parallel light by the collimator lens 25. The parallel light is incident on a diffraction grating 24 that gives different angular dispersion depending on the wavelength, and is diffracted at different angles according to the wavelength of the light.
The diffracted light is condensed by a condensing lens 23, and a reflection wheel 21 in which a large number of long and narrow slit-shaped mirrors 22 constituting a scanning mirror are formed on the circumference is provided at the focal position of the condensed light. .
Since the focal position differs depending on the wavelength, only a specific wavelength is reflected according to the position of the slit mirror 22 and is incident on the optical amplifier 26 again.
On the other hand, the light output from the other end face of the optical amplifier 26 is collimated by the collimator lens 27. A part of the parallel light is reflected by the partial reflection mirror 28 and is incident on the optical amplifier 26 again.
Therefore, the slit mirror 22 and the partial reflection mirror 28 constitute a resonator, and light having a wavelength selected by the slit mirror oscillates as an external resonator light source. And the light which permeate | transmitted the partial reflection mirror 28 is taken out as an optical output.
The position of the slit mirror 22 is mechanically moved to scan the focal plane of the condensing lens, and the wavelength of reflected light changes, so that wavelength tunability can be realized.

図1は、スリット状ミラー22の構造について説明する図である。
スリット状ミラー22は、円盤形状の基板11上に、反射膜12、遮光膜13を順次形成し、遮光膜13のミラーとなる部分を除去することにより形成されている。
基板11としては、ガラス、アルミ等の金属、ポリカーボネイト等の樹脂を円盤形状に加工したもの等を用いることができる。
反射膜12は使用する波長で反射率の高い金属をスパッタや真空蒸着で成膜し形成する。
反射膜の材料は、反射率が高く、基板・遮光膜との密着性が良く、耐候性に優れた材料が適しており、Al、Au、Ag、Cu、Rhのうちのいずか一つの金属、または前記金属を主成分とする合金である金合金、銀合金、アルミ合金、銅合金、ロジウム合金等が好適である。
遮光膜13は、光を吸収する材料ならなんでも利用できるが、安定に正確な形状で形成するために、反射膜よりも4フッ化メタンによる反応性ドライエッチングでのエッチング速度が大きい材料が好ましい。特にドライエッチングが容易なシリコンやゲルマニウム等が好適である。
FIG. 1 is a diagram illustrating the structure of the slit mirror 22.
The slit-shaped mirror 22 is formed by sequentially forming a reflective film 12 and a light-shielding film 13 on a disk-shaped substrate 11 and removing a portion of the light-shielding film 13 that becomes a mirror.
As the substrate 11, a glass, a metal such as aluminum, a resin such as polycarbonate, or the like processed into a disk shape can be used.
The reflective film 12 is formed by forming a metal having a high reflectance at the wavelength to be used by sputtering or vacuum deposition.
The material of the reflective film is a material having high reflectivity, good adhesion to the substrate / light-shielding film, and excellent weather resistance, and is one of Al, Au, Ag, Cu, and Rh. A gold alloy, a silver alloy, an aluminum alloy, a copper alloy, a rhodium alloy, or the like, which is a metal or an alloy containing the metal as a main component, is preferable.
Any material that absorbs light can be used for the light shielding film 13, but a material having a higher etching rate in reactive dry etching with tetrafluoromethane than the reflective film is preferable in order to form the light shielding film 13 with a stable and accurate shape. In particular, silicon, germanium, or the like that is easy to dry-etch is suitable.

上記のように作成した反射ホイール21を用い、図2に示す波長掃引光源を構成する。
この波長掃引光源は、反射ホイールを用いているため集光レンズ23に焦点距離の短いレンズを使用することが可能となり、共振器長を短くできる。
OCTに必要な8mm以上のコヒーレンス長を得るためには、共振器を光子が往復する回数が10回程度は必要である。
そこで、例えば掃引速度100KHzで波長掃引できる波長掃引光源を実現するためには、共振器を光子が往復する回数が10回以上とするために、共振器長は150mm以下にする必要がある。
上記本発明の波長掃引光源は、共振器長150mm以下で構成することは容易である。さらに、反射ホイール21が基板上/大面積の反射膜/スリット形状に微小面積をエッチングした遮光膜という構成で作られているので、反射ホイール21製造時の歩留まりが高く、作成した反射ホイール21の耐久性も良好になる。
A wavelength-swept light source shown in FIG. 2 is configured using the reflection wheel 21 created as described above.
Since this wavelength swept light source uses a reflection wheel, it is possible to use a lens having a short focal length as the condenser lens 23, and the resonator length can be shortened.
In order to obtain a coherence length of 8 mm or more necessary for OCT, the number of times that a photon reciprocates through the resonator is about 10 times.
Therefore, for example, in order to realize a wavelength swept light source capable of performing wavelength sweeping at a sweep speed of 100 KHz, the resonator length needs to be 150 mm or less in order to make the number of times the photons reciprocate the resonator 10 times or more.
The wavelength swept light source of the present invention can be easily configured with a resonator length of 150 mm or less. Furthermore, since the reflection wheel 21 is made of a structure of a reflection wheel 21 on the substrate / a large-area reflection film / a light-shielding film in which a small area is etched into a slit shape, the yield during the production of the reflection wheel 21 is high. Durability is also good.

以上の本実施形態の波長掃引光源装置によれば、反射ミラーの上に波長選択するためのスリットを遮光膜によって一体で形成されていることから、焦点距離の短い集光レンズを使用することができる。それにより、共振器を短く構成することができ、コヒーレンス長の長い光出力が得られる。その結果、深い観察深度が得られ、且つ、製作時に反射ミラーが剥がれるといった問題を生じない波長掃引光源を実現することができる。
また、遮光膜上に反射防止膜を形成することにより、更に出力光へのASE光の混入を低減させることができ、SN比を向上させることが可能となる。
また、遮光膜を、反射膜よりも4フッ化メタンによる反応性ドライエッチングでのエッチング速度が大きい材料で形成することにより、波長選択用の円盤作成時のプロセスマージンを広くすることができる。これにより、低コストで安定に波長掃引光源を作成することが可能となる。
前記反射膜を、Al、Au、Ag、Cu、Rhのうちのいずか一つの金属、または前記金属を主成分とする合金によって形成し、遮光膜を、SiまたはGeによって形成する。これにより、波長選択用円盤で選択した波長の光の光量と、選択しなかった波長の光の光量差を大きくすることができ、出力光のSN比を更に向上させることが可能となる。
前記反射防止膜を、窒化シリコンまたは2酸化シリコンによって形成することによって、上記したエッチング速度が大きい材料で形成する場合と同様に、波長選択用の円盤作成時のプロセスマージンを広くして、低コストで安定に波長掃引光源の作成が可能となる。
According to the wavelength swept light source device of the present embodiment described above, since the slit for selecting the wavelength is integrally formed on the reflection mirror by the light shielding film, it is possible to use a condensing lens with a short focal length. it can. Thereby, the resonator can be configured to be short, and an optical output having a long coherence length can be obtained. As a result, it is possible to realize a wavelength swept light source that provides a deep observation depth and does not cause the problem that the reflecting mirror peels off during manufacturing.
Further, by forming the antireflection film on the light shielding film, the mixing of the ASE light into the output light can be further reduced, and the SN ratio can be improved.
Further, by forming the light shielding film with a material having a higher etching rate in reactive dry etching with tetrafluoromethane than the reflective film, the process margin when creating a wavelength selection disk can be widened. This makes it possible to create a wavelength swept light source stably at low cost.
The reflection film is formed of any one of Al, Au, Ag, Cu, and Rh, or an alloy containing the metal as a main component, and the light shielding film is formed of Si or Ge. As a result, the difference between the light amount of the light having the wavelength selected by the wavelength selection disk and the light amount of the light having the wavelength not selected can be increased, and the SN ratio of the output light can be further improved.
By forming the antireflection film from silicon nitride or silicon dioxide, the process margin when creating a wavelength selection disk can be increased and the cost can be reduced, as in the case of forming the material with a high etching rate. Thus, it becomes possible to create a wavelength swept light source stably.

[実施例1]
実施例1として、図1、図2に示した波長掃引光源装置の構成例について説明する。
まず、基板11として内径25.4mm、外径63.5mm、厚さ3mmのガラス円板を用い、この基板上に反射膜12として金にアルミニウムを微量添加した金合金薄膜を200nmの厚さでスパッタにより形成した。
さらに、この反射膜上に遮光膜13となるアモルファスシリコン膜を3050nmの厚さでスパッタにより形成した。
この遮光膜上に、ポジ型レジストを塗布し、レーザー露光機を用いて幅3μm、長さ1000μmのスリット形状を、半径30mmの位置に1度刻みで放射状に360本パターニングした。
これを現像してエッチング用マスクを形成し、ドライエッチングでシリコン膜をエッチングして遮光膜13を形成し、スリット状ミラー22が等間隔に360本形成された反射ホイール21を作成した。
ここで、遮光膜となるアモルファスシリコン膜の厚さは、フレネルの公式等を用いて遮光膜の反射率が小さくなる膜厚に選べばよい。
[Example 1]
As Example 1, a configuration example of the wavelength swept light source device shown in FIGS. 1 and 2 will be described.
First, a glass disk having an inner diameter of 25.4 mm, an outer diameter of 63.5 mm, and a thickness of 3 mm is used as the substrate 11, and a gold alloy thin film in which a small amount of aluminum is added to gold is formed on the substrate as a reflective film 12 with a thickness of 200 nm. It was formed by sputtering.
Further, an amorphous silicon film serving as the light-shielding film 13 was formed on the reflective film with a thickness of 3050 nm by sputtering.
On this light shielding film, a positive resist was applied, and using a laser exposure machine, 360 slits having a width of 3 μm and a length of 1000 μm were radially patterned at a radius of 30 mm in increments of 1 degree.
This was developed to form an etching mask, the silicon film was etched by dry etching to form the light-shielding film 13, and a reflective wheel 21 having 360 slit mirrors 22 formed at equal intervals was created.
Here, the thickness of the amorphous silicon film serving as the light shielding film may be selected by using the Fresnel formula or the like so as to reduce the reflectance of the light shielding film.

上記のように作成した反射ホイール21を用い、図2に示す波長掃引光源を構成した。
集光レンズ23の焦点距離を5mmとし、コリメートレンズ25の焦点距離を3mm、コリメートレンズ27の焦点距離を2mmとした。
回折格子24は1200本/mmの透過型回折格子を用いた。光増幅器26として波長850nmを中心に40nmの波長幅でゲインを持つSOAを使用した。この波長掃引光源の共振器長は約50mmと非常に短くする事が出来た。共振器長が短いため、反射ホイール21を不図示のスピンドルモーターで30000rpmで回転させることで、830nmから870nmの波長掃引幅で180kHzという高速の波長掃引が可能であった。
また、反射ホイール21が基板上/大面積の反射膜/スリット形状に微小面積をエッチングした遮光膜という構成で作られているので、反射ホイール21製造時の歩留まりが高く、作成した反射ホイール21の耐久性も良好なものを得ることができた。
The wavelength sweep light source shown in FIG. 2 was configured using the reflection wheel 21 created as described above.
The focal length of the condenser lens 23 was 5 mm, the focal length of the collimating lens 25 was 3 mm, and the focal length of the collimating lens 27 was 2 mm.
As the diffraction grating 24, a transmission diffraction grating of 1200 lines / mm was used. As the optical amplifier 26, an SOA having a gain with a wavelength width of 40 nm centered on a wavelength of 850 nm was used. The resonator length of this wavelength swept light source could be as short as about 50 mm. Since the resonator length is short, a high-speed wavelength sweep of 180 kHz with a wavelength sweep width of 830 nm to 870 nm can be performed by rotating the reflection wheel 21 with a spindle motor (not shown) at 30000 rpm.
In addition, since the reflection wheel 21 is made of a structure of a reflection wheel 21 on the substrate / a large-area reflection film / a light-shielding film in which a small area is etched into a slit shape, the yield during the production of the reflection wheel 21 is high, and A product having good durability could be obtained.

[実施例2]
実施例2として、実施例1と異なる波長掃引光源装置の構成例について、図3を用いて説明する。
本実施例では、基板11として内径25.4mm、外径63.5mm、厚さ3mmのガラス円板を用い、この基板上に反射膜12として金にアルミニウムを微量添加した金合金薄膜を200nmの厚さでスパッタにより形成した。
その上に、遮光膜13となるアモルファスシリコンを2960nmの厚さでスパッタにより形成した。更に、この遮光膜上に反射防止膜31となる窒化シリコン(SiN)を120nmの厚さでスパッタにより形成した。
この上に、ポジ型レジストを塗布し、レーザー露光機を用いて幅3μm、長さ1000μmのスリット形状を、半径30mmの位置に1度刻みで放射状に360本パターニングした。
これを現像してエッチング用マスクを形成し、CF4と酸素の混合ガスでドライエッチングしてスリット状の反射ミラー22を形成した。この様にしてスリット状ミラー22が等間隔に360本形成された反射ホイール21を作成した。
上記の様に作成した反射ホイール21を用い、実施例1と同様に図2に示す波長掃引光源を構成した。
実施例2の波長掃引光源は、反射防止膜31により遮光部の反射率が1%未満に抑えられたことにより光出力のSN比が改善した。
反射防止膜として、ここではSiNを用いたが、他の材料も利用でき、2酸化シリコンも好適である。
[Example 2]
As a second embodiment, a configuration example of a wavelength swept light source device different from the first embodiment will be described with reference to FIG.
In this embodiment, a glass disk having an inner diameter of 25.4 mm, an outer diameter of 63.5 mm, and a thickness of 3 mm is used as the substrate 11, and a gold alloy thin film in which a small amount of aluminum is added to gold is used as the reflective film 12 on this substrate. The thickness was formed by sputtering.
On top of that, amorphous silicon to be the light shielding film 13 was formed by sputtering with a thickness of 2960 nm. Further, silicon nitride (SiN) to be the antireflection film 31 was formed on the light shielding film with a thickness of 120 nm by sputtering.
A positive resist was coated thereon, and 360 slits having a width of 3 μm and a length of 1000 μm were radially patterned at a radius of 30 mm using a laser exposure machine.
This was developed to form an etching mask, and dry-etched with a mixed gas of CF 4 and oxygen to form a slit-like reflecting mirror 22. In this way, a reflection wheel 21 having 360 slit mirrors 22 formed at equal intervals was produced.
Using the reflection wheel 21 created as described above, the wavelength swept light source shown in FIG.
In the wavelength swept light source of Example 2, the S / N ratio of the light output was improved by the antireflection film 31 suppressing the reflectance of the light shielding part to less than 1%.
As the antireflection film, SiN is used here, but other materials can be used, and silicon dioxide is also preferable.

[実施例3]
実施例3として、上記各実施例と異なる形態の構成例について説明する。
本実施例では、実施例2と同様の基板を用い、この基板上に反射膜12としてアルミニウムにシリコンを微量添加したアルミニウム合金を100nmの厚さでスパッタにより形成した。
その上に、遮光膜13となるゲルマニウムを1180nmの厚さでスパッタにより形成した。更に、反射防止膜31としてSiNを125nmの厚さでスパッタにより形成した。
これを実施例2と同様に加工して反射ホイール21を作成した。この反射ホイール21を用い、図2に示す波長掃引光源を構成した。
集光レンズ23の焦点距離を9mmとし、コリメートレンズ25の焦点距離を4mm、コリメートレンズ27の焦点距離を3mmとした。回折格子24は600本/mmの透過型回折格子を用いた。
光増幅器26として波長1050nmを中心に80nmの波長幅でゲインを持つSOAを使用した。
この波長掃引光源の共振器長は約70mmとなった。
反射ホイール21を不図示のスピンドルモーターで30000rpmで回転させることで、1010nmから1090nmの波長掃引幅で180kHzという高速の波長掃引が可能であった。
また、遮光膜としてゲルマニウム薄膜を用いることで、反射ホイール21の生産性を損なわずに1μm帯の高速波長掃引光源が実現できた。
[Example 3]
As a third embodiment, a configuration example different from the above embodiments will be described.
In this example, the same substrate as in Example 2 was used, and an aluminum alloy in which a slight amount of silicon was added to aluminum was formed as a reflective film 12 on this substrate by sputtering to a thickness of 100 nm.
On top of that, germanium serving as the light shielding film 13 was formed by sputtering with a thickness of 1180 nm. Further, SiN was formed as the antireflection film 31 with a thickness of 125 nm by sputtering.
This was processed in the same manner as in Example 2 to create a reflective wheel 21. A wavelength swept light source shown in FIG. 2 was configured using this reflection wheel 21.
The focal length of the condenser lens 23 was 9 mm, the focal length of the collimating lens 25 was 4 mm, and the focal length of the collimating lens 27 was 3 mm. As the diffraction grating 24, a 600 / mm transmission diffraction grating was used.
As the optical amplifier 26, an SOA having a gain with a wavelength width of 80 nm centered on a wavelength of 1050 nm was used.
The resonator length of this wavelength swept light source was about 70 mm.
By rotating the reflection wheel 21 with a spindle motor (not shown) at 30000 rpm, a high-speed wavelength sweep of 180 kHz with a wavelength sweep width of 1010 nm to 1090 nm was possible.
Further, by using a germanium thin film as the light shielding film, a high-speed wavelength swept light source in the 1 μm band can be realized without impairing the productivity of the reflection wheel 21.

[実施例4]
実施例4として、光源部に本発明の波長掃引光源装置を備えた光断層画像撮像装置(OCT)について、図4を用いて説明する。
光断層画像撮像装置(OCT)の原理は,トワイマン・グリーン型の干渉計の構成で説明できる。
一方の腕である厚み(光軸)方向に複数の界面からなる被検面からの反射光と,他方の腕である参照面からの光束との光束を干渉させ,光源の波長を掃引することにより得られる変調干渉信号をフーリエ変換して得られるものである。
このOCTの被検面の深さ方向の分解能と検出幅は光源スペクトルの波長掃引幅とスペクトル幅によることは[背景技術]で述べた。
(1)式のδLが深さ分解能であり、(2)式のLが深さ方向の検出幅となる。
[Example 4]
As Example 4, an optical tomographic imaging apparatus (OCT) provided with a wavelength-swept light source device of the present invention in a light source unit will be described with reference to FIG.
The principle of an optical tomographic imaging apparatus (OCT) can be explained by the configuration of a Twiman-Green interferometer.
Sweeps the wavelength of the light source by causing the reflected light from the test surface consisting of multiple interfaces in the thickness (optical axis) direction of one arm to interfere with the light beam from the reference surface that is the other arm Obtained by Fourier transforming the modulated interference signal obtained by the above.
It was described in [Background Art] that the resolution and detection width in the depth direction of the test surface of OCT depend on the wavelength sweep width and spectrum width of the light source spectrum.
ΔL in equation (1) is the depth resolution, and L in equation (2) is the detection width in the depth direction.

図4において102は本発明による波長掃引光源装置、106は被検体である眼底を示す。
110は眼底を一次元走査するためのミラーである。
108は参照反射面、104は被検体からの光束と参照面からの光束を合波干渉させるファイバーカプラー、115は変調干渉信号を光電変換するディテクターである。
116は電気的に検出した信号をデジタル化し、フーリエ変換などの計算をして断層画像を計算するコンピュータ、117はその断層像を可視化するディスプレイである。
In FIG. 4, reference numeral 102 denotes a wavelength-swept light source device according to the present invention, and 106 denotes a fundus that is a subject.
Reference numeral 110 denotes a mirror for one-dimensional scanning of the fundus.
Reference numeral 108 is a reference reflecting surface, 104 is a fiber coupler for combining and interfering the light beam from the subject and the light beam from the reference surface, and 115 is a detector for photoelectrically converting the modulated interference signal.
A computer 116 digitizes the electrically detected signal, calculates a tomographic image by performing a Fourier transform or the like, and a display 117 visualizes the tomographic image.

光源装置102からの光束はファイバー103をとおり、カップラー104で2方向に分岐する。その一方の腕は、ファイバー105をとおり、被検体である眼底の網膜を照射する。
そして、反射光が同様にファイバー105を再びとおりファイバーカップラー104に戻る。
他方の腕に分岐した光束は、ファイバー107をとおり参照ミラー108を照射する。この参照ミラー108からの反射光がファイバー107を再びとおりファイバーカップラー104にもどる。
このように、被検体測定部から伝達された反射光と、参照部から伝達された反射光とがファイバーカップラー104(干渉部)で干渉し、この干渉光がファイバー114をとおって光検出部を構成する光電変換ディテクター115に入る。
このとき光源装置102からの波長を変化させると、断層構造に応じた変調干渉信号がえられる。
この信号をデジタル化し画像処理部を構成するコンピュータ118でフーリエ変換することにより断層信号を取得することができる。これはポイントの断層信号なので、ミラー110を傾け走査して一次元方向の断層像を測定し、ディスプレイ117により可視化することにより光断層像が検出できる。
以上による光源装置によって挿引速度が100KHz以上のため高速に光断層画像が検出でき、また検出深さ幅が広く深さ方向の検出分解能が高いOCT装置を提供できる。
The light beam from the light source device 102 passes through the fiber 103 and is branched in two directions by the coupler 104. One arm irradiates the retina of the fundus that is the subject through the fiber 105.
Then, the reflected light again passes through the fiber 105 and returns to the fiber coupler 104.
The light beam branched to the other arm passes through the fiber 107 and irradiates the reference mirror 108. The reflected light from the reference mirror 108 passes again through the fiber 107 and returns to the fiber coupler 104.
Thus, the reflected light transmitted from the subject measurement unit and the reflected light transmitted from the reference unit interfere with each other by the fiber coupler 104 (interference unit), and this interference light passes through the fiber 114 and passes through the light detection unit. The photoelectric conversion detector 115 to be configured is entered.
At this time, if the wavelength from the light source device 102 is changed, a modulated interference signal corresponding to the tomographic structure is obtained.
The tomographic signal can be obtained by digitizing this signal and Fourier transforming it by the computer 118 constituting the image processing unit. Since this is a tomographic signal of a point, an optical tomographic image can be detected by measuring a one-dimensional tomographic image by tilting and scanning the mirror 110 and visualizing it on the display 117.
Since the insertion speed is 100 KHz or higher with the light source device described above, an optical tomographic image can be detected at a high speed, and an OCT device having a wide detection depth width and a high detection resolution in the depth direction can be provided.

11:基板
12:反射膜
13:遮光膜
21:反射ホイール
22:スリット状ミラー
23:集光レンズ
24:回折格子
25:コリメートレンズ
26:光増幅器
27:コリメートレンズ
28:部分反射ミラー
31:反射防止膜
11: Substrate 12: Reflective film 13: Light shielding film 21: Reflective wheel 22: Slit mirror 23: Condensing lens 24: Diffraction grating 25: Collimating lens 26: Optical amplifier 27: Collimating lens 28: Partial reflection mirror 31: Antireflection film

Claims (6)

部分反射ミラーと、
半導体光増幅媒体と、
前記半導体光増幅媒体の出射光をコリメートするコリメートレンズと、
前記コリメートされた光束に波長よって異なる角度分散を与える回折格子と、
前記回折格子により角度分散を与えられた光束を波長により異なる位置に集光する集光レンズと、
前記集光レンズによる焦点面内を走査して一部の波長の光を反射する走査ミラーと、
を有し、前記部分反射ミラーと前記走査ミラーとによる共振器によって、前記走査ミラーで選択された波長の光がレーザー発振されるように構成された波長掃引光源装置であって、
前記走査ミラーは、円盤形状の基板上に該円盤形状の円周に沿って等間隔に形成された等幅のスリット状のミラーによって構成され、
前記スリット状のミラーは、前記円盤形状の基板上に成膜された反射膜上における遮光膜の前記ミラーとなる部分を除去することにより形成されていることを特徴とする波長掃引光源装置。
A partially reflective mirror,
A semiconductor optical amplification medium;
A collimating lens for collimating the light emitted from the semiconductor optical amplification medium;
A diffraction grating that gives the collimated beam a different angular dispersion depending on the wavelength;
A condensing lens that condenses the light flux given angular dispersion by the diffraction grating at different positions depending on the wavelength;
A scanning mirror that scans the focal plane of the condenser lens and reflects light of some wavelengths;
A wavelength swept light source device configured such that light of a wavelength selected by the scanning mirror is laser-oscillated by a resonator including the partial reflection mirror and the scanning mirror,
The scanning mirror is composed of slit-shaped mirrors of equal width formed on the disk-shaped substrate at equal intervals along the circumference of the disk-shaped substrate,
The wavelength-sweeping light source device, wherein the slit-shaped mirror is formed by removing a portion of the light-shielding film on the reflective film formed on the disk-shaped substrate.
前記ミラーとなる部分を除した遮光膜上には、反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の波長掃引光源装置。   The wavelength-swept light source device according to claim 1, wherein an antireflection film is formed on the light shielding film excluding the portion to be the mirror. 前記反射防止膜は、窒化シリコンまたは2酸化シリコンによって形成されていることを特徴とする請求項2に記載の波長掃引光源装置。   The swept light source device according to claim 2, wherein the antireflection film is formed of silicon nitride or silicon dioxide. 前記遮光膜は、反射膜よりも4フッ化メタンによる反応性ドライエッチングでのエッチング速度が大きい材料で形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置。   4. The wavelength sweep according to claim 1, wherein the light shielding film is formed of a material having a higher etching rate in reactive dry etching with tetrafluoromethane than the reflective film. Light source device. 前記反射膜は、Al、Au、Ag、Cu、Rhのうちのいずれか一つの金属、または前記金属を主成分とする合金によって形成され、
前記遮光膜は、SiまたはGeによって形成されていることを特徴とする請求項4に記載の波長掃引光源装置。
The reflective film is formed of any one metal of Al, Au, Ag, Cu, Rh, or an alloy containing the metal as a main component,
The wavelength-swept light source device according to claim 4, wherein the light-shielding film is made of Si or Ge.
請求項1から5のいずれか1項に記載の波長掃引光源装置を備える光源部と、
前記光源部からの光を被検体に照射し、該被検体からの反射光を伝達させる被検体測定部と、
前記光源部からの光を参照ミラーに照射し、該参照ミラーからの反射光を伝達させる参照部と、
前記被検体測定部からの反射光と前記参照部からの反射光とを干渉させる干渉部と、
前記干渉部からの干渉光を検出する光検出部と、
前記光検出部で検出された光に基づいて、前記被検体の光断層画像を取得する画像処理部と、
を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。
A light source unit comprising the wavelength swept light source device according to any one of claims 1 to 5,
A subject measurement unit that irradiates the subject with light from the light source unit and transmits reflected light from the subject; and
A reference unit for irradiating a reference mirror with light from the light source unit and transmitting reflected light from the reference mirror;
An interference unit that causes reflected light from the subject measurement unit and reflected light from the reference unit to interfere with each other;
A light detection unit for detecting interference light from the interference unit;
An image processing unit that acquires an optical tomographic image of the subject based on the light detected by the light detection unit;
An optical tomographic imaging apparatus characterized by comprising:
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