JP2013091743A - Resin composition and cured product thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition (curable resin composition) formable of a cured product (resin cured product) having a high refractive index, and excellent in low moisture permeability, and small curing shrinkage.SOLUTION: This resin composition comprises a compound (A) expressed by formula (1); at least one compound (B) selected from the group consisting of a condensate of phenols and aldehyde, a condensate of aromatic hydrocarbon and aldehydes, petroleum resin, styrenated phenol, and rosin. In formula, Rs are each independently a reactive functional group; Rs are each independently a halogen atom, alkyl group, haloalkyl group, aryl group; a hydroxy group which may be protected by a protecting group; hydroxyalkyl group which may be protected by a protective group; an amino group which may be protected by a protective group, a carboxy group which may be protected by a protective group, a sulfo group which may be protected by a protective group, nitro group, cyano group or an acyl group which may be protected by a protective group; Rshows a single bond or a linking group; ms each independently denotes an integer of 0-4; and n denotes an integer of 0-10.

Description

本発明は、樹脂組成物及びその硬化物に関する。より具体的には、特に、高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた封止材が要求される、有機エレクトロルミネッセンス装置、発光ダイオード装置(LED装置)、ディスプレイなどの電子デバイス用途に好ましく使用される樹脂組成物及びその硬化物、上記樹脂組成物を含む封止剤及びシール剤、並びに、上記樹脂組成物の硬化物を含む有機エレクトロルミネッセンス装置、LED装置、ディスプレイに関する。   The present invention relates to a resin composition and a cured product thereof. More specifically, for electronic device applications such as organic electroluminescence devices, light-emitting diode devices (LED devices), and displays that require a sealing material having a high refractive index and excellent in low moisture permeability. The present invention relates to a resin composition and a cured product thereof preferably used, a sealing agent and a sealant containing the resin composition, and an organic electroluminescence device, an LED device, and a display containing the cured product of the resin composition.

現在、有機エレクトロルミネッセンス装置、発光ダイオード装置(LED装置)、ディスプレイ(液晶表示装置やタッチパネルなど)などの様々な電子デバイスが広く利用されている。これらの電子デバイスにおいては、デバイス内部に水分が浸入して電子素子の劣化、電気回路の短絡、電極の腐食などを生じ、製品としての信頼性が低下することを防ぐため、低透湿性の樹脂材料(封止材、シール材)による電子素子や電気回路等の封止がなされている。これらの電子デバイスの中でも、特に有機エレクトロルミネッセンス装置においては、有機エレクトロルミネッセンス素子が水分に対して脆弱であるため、特に透湿性の低い封止材やシール材の使用が求められている。   Currently, various electronic devices such as organic electroluminescence devices, light emitting diode devices (LED devices), displays (liquid crystal display devices, touch panels, etc.) are widely used. In these electronic devices, in order to prevent moisture from entering inside the device and causing deterioration of electronic elements, short circuit of electric circuits, corrosion of electrodes, etc. Electronic elements, electric circuits, and the like are sealed with materials (sealing material, sealing material). Among these electronic devices, in particular, in an organic electroluminescence device, since an organic electroluminescence element is fragile with respect to moisture, use of a sealing material or a sealing material with particularly low moisture permeability is required.

有機エレクトロルミネッセンス素子用封止材を形成するための封止剤として、脂肪族環状骨格を有するエポキシ化合物を20〜80重量部、及び、芳香族環を有するエポキシ化合物を80〜20重量部と光カチオン重合開始剤とを含有する樹脂組成物が提案されている(特許文献1参照)。具体的には、脂肪族環状骨格を有するエポキシ化合物、芳香族環を有するエポキシ化合物として、それぞれ両末端にエポキシ基を有する化合物が開示されている。しかしながら、上記樹脂組成物の硬化物は、85℃、85%RH条件下で55g/m2・24h以上の透湿度を示し、十分な低透湿性を有するものとはいえなかった。 20-80 parts by weight of an epoxy compound having an aliphatic cyclic skeleton and 80-20 parts by weight of an epoxy compound having an aromatic ring as a sealant for forming a sealing material for an organic electroluminescence element A resin composition containing a cationic polymerization initiator has been proposed (see Patent Document 1). Specifically, compounds having an epoxy group at both ends are disclosed as an epoxy compound having an aliphatic cyclic skeleton and an epoxy compound having an aromatic ring. However, the cured product of the resin composition exhibited a moisture permeability of 55 g / m 2 · 24 h or more under the conditions of 85 ° C. and 85% RH, and could not be said to have a sufficiently low moisture permeability.

また、有機エレクトロルミネッセンス装置等の素子パッケージ用接着剤として、(A)エポキシ化合物、(B)ノボラック樹脂、(C)光カチオン重合開始剤、及び(D)フィラーを含有する樹脂組成物が提案されている(特許文献2参照)。しかしながら、十分な低透湿性を得るためには、上記樹脂組成物へのフィラーの配合が必須であり、フィラーを配合しない場合の上記樹脂組成物の硬化物の透湿度は、60℃、90%RH条件下で60g/m2・24hであり、十分な低透湿性を発揮できるものではなかった。 In addition, as an adhesive for an element package such as an organic electroluminescence device, a resin composition containing (A) an epoxy compound, (B) a novolak resin, (C) a photocationic polymerization initiator, and (D) a filler is proposed. (See Patent Document 2). However, in order to obtain a sufficiently low moisture permeability, the blending of the filler into the resin composition is essential, and the moisture permeability of the cured product of the resin composition when no filler is blended is 60 ° C. and 90%. It was 60 g / m 2 · 24 h under RH conditions, and was not capable of exhibiting sufficiently low moisture permeability.

一方、上述の電子デバイス中には、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置における電極やパッシベーション膜のように、屈折率の高い部材(高屈折率部材)が多く使用されている。このため、これらの電子デバイスに使用される封止材には、上述の低透湿性に加え、上記高屈折率部材に接するように配置された場合であっても、該高屈折率部材との界面で光の反射を生じにくくするため、高い屈折率を有することが求められている。   On the other hand, in the above-mentioned electronic device, a member having a high refractive index (high refractive index member) is often used, such as an electrode or a passivation film in an organic electroluminescence device. For this reason, in addition to the above-mentioned low moisture permeability, the encapsulant used in these electronic devices has a high refractive index member even when it is disposed so as to be in contact with the high refractive index member. In order to make it difficult for light to be reflected at the interface, it is required to have a high refractive index.

例えば、低吸水性に優れ、高屈折率を有する樹脂を製造するための硬化性樹脂組成物として、硫黄原子を含む特定構造のビニルオリゴマー100〜5重量%、及び、該ビニルオリゴマーと共重合可能である化合物0〜95重量%により構成された硬化性樹脂組成物が知られている(特許文献3参照)。   For example, as a curable resin composition for producing a resin having an excellent low water absorption and a high refractive index, 100 to 5% by weight of a vinyl oligomer having a specific structure containing a sulfur atom, and copolymerizable with the vinyl oligomer A curable resin composition composed of 0 to 95% by weight of the compound is known (see Patent Document 3).

特開2007−46035号公報JP 2007-46035 A 特開2010−24364号公報JP 2010-24364 A 特開平8−183816号公報JP-A-8-183816

しかしながら、特許文献3に開示された硬化性樹脂組成物の硬化物は、比較的低い吸水性を示すものの、十分な低透湿性を有するものではなかった。特に、上記硬化物は、有機エレクトロルミネッセンス装置用の封止材に要求される低透湿性を満足することは困難であった。このように、高い屈折率を有し、なおかつ透湿性が十分に低い、特に有機エレクトロルミネッセンス装置用の封止材として好ましく使用できる材料は、未だ得られていないのが現状である。   However, although the cured product of the curable resin composition disclosed in Patent Document 3 exhibits a relatively low water absorption, it does not have a sufficiently low moisture permeability. In particular, it is difficult for the cured product to satisfy the low moisture permeability required for a sealing material for an organic electroluminescence device. Thus, the present condition has not yet obtained the material which has a high refractive index and has low moisture permeability, and can be preferably used especially as a sealing material for an organic electroluminescence device.

さらに、上記電子デバイスにおける封止材は、通常、樹脂組成物(硬化性樹脂組成物)を所定の型内に注型し、これを加熱又は光照射によって硬化させることによって形成される。このような樹脂組成物には、電子デバイスの品質向上の観点から、硬化の際の収縮(硬化収縮)が小さいことが求められている。   Furthermore, the sealing material in the electronic device is usually formed by casting a resin composition (curable resin composition) into a predetermined mold and curing it by heating or light irradiation. Such a resin composition is required to have small shrinkage during curing (curing shrinkage) from the viewpoint of improving the quality of electronic devices.

従って、本発明の目的は、高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた硬化物(樹脂硬化物)を形成でき、硬化収縮が小さい樹脂組成物(硬化性樹脂組成物)を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた硬化物を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた封止材又はシール材を形成でき、硬化収縮が小さい封止剤又はシール剤を提供することにある。
さらにまた、本発明の他の目的は、電子素子等が上記硬化物により封止され、硬化収縮や水分(湿気)による悪影響が生じにくく、上記硬化物の高い屈折率による高い品質を有する有機エレクトロルミネッセンス装置、LED装置、及びディスプレイを提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin composition (curable resin composition) having a high refractive index and capable of forming a cured product (resin cured product) excellent in low moisture permeability and having a small curing shrinkage. There is.
Another object of the present invention is to provide a cured product having a high refractive index and excellent in low moisture permeability.
Furthermore, another object of the present invention is to provide a sealant or sealant having a high refractive index and capable of forming a sealant or sealant excellent in low moisture permeability and having a small cure shrinkage. .
Furthermore, another object of the present invention is that an organic element is sealed with the cured product, and an adverse effect due to curing shrinkage or moisture (humidity) is less likely to occur. The object is to provide a luminescence device, an LED device, and a display.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、分子内に2つの反応性官能基、2以上の芳香環、及び3以上の硫黄原子を有する特定構造の化合物と、フェノール類とアルデヒドの縮合物、芳香族炭化水素とアルデヒドの縮合物、石油樹脂、スチレン化フェノール、及びロジンからなる群より選択された少なくとも1種の化合物と、重合開始剤とを含有する樹脂組成物は硬化収縮が小さく、該樹脂組成物の硬化物が高い屈折率を有し、なおかつ優れた低透湿性を有することを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a compound having a specific structure having two reactive functional groups, two or more aromatic rings, and three or more sulfur atoms in the molecule, phenols and aldehydes. A resin composition containing at least one compound selected from the group consisting of a condensate of the above, a condensate of an aromatic hydrocarbon and an aldehyde, a petroleum resin, a styrenated phenol, and a rosin, and a polymerization initiator. And the cured product of the resin composition has a high refractive index and an excellent low moisture permeability, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、下記式(1)で表される化合物(A)と、フェノール類とアルデヒドの縮合物、芳香族炭化水素とアルデヒドの縮合物、石油樹脂、スチレン化フェノール、及びロジンからなる群より選択された少なくとも1種の化合物(B)と、重合開始剤(C)とを含むことを特徴とする樹脂組成物を提供する。

Figure 2013091743
(式(1)中、Raは、それぞれ独立に、反応性官能基を示す。R1は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アリール基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシル基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシアルキル基、保護基で保護されていてもよいアミノ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、保護基で保護されていてもよいスルホ基、ニトロ基、シアノ基、又は保護基で保護されていてもよいアシル基を示す。R2は単結合又は連結基を示す。mは、それぞれ独立に、0〜4の整数を示す。nは、0〜10の整数を示す。) That is, the present invention comprises a compound (A) represented by the following formula (1), a condensate of phenols and aldehyde, a condensate of aromatic hydrocarbon and aldehyde, petroleum resin, styrenated phenol, and rosin. A resin composition comprising at least one compound (B) selected from the group and a polymerization initiator (C) is provided.
Figure 2013091743
(In Formula (1), each R a independently represents a reactive functional group. Each R 1 may be independently protected with a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, or a protecting group. A good hydroxyl group, a hydroxyalkyl group optionally protected with a protecting group, an amino group optionally protected with a protecting group, a carboxyl group optionally protected with a protecting group, and optionally protected with a protecting group A sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an acyl group which may be protected with a protecting group, R 2 represents a single bond or a linking group, and m independently represents an integer of 0 to 4. n represents an integer of 0 to 10.)

さらに、前記化合物(A)が、下記式(1’)で表される化合物である前記の樹脂組成物を提供する。

Figure 2013091743
(式(1’)中、Ra、R1、mは、前記に同じ。) Furthermore, the said resin (A) provides the said resin composition which is a compound represented by following formula (1 ').
Figure 2013091743
(In formula (1 ′), R a , R 1 and m are the same as above.)

さらに、無機フィラー(D)を含む前記の樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said resin composition containing an inorganic filler (D) is provided.

さらに、シランカップリング剤(E)を含む前記の樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said resin composition containing a silane coupling agent (E) is provided.

さらに、前記重合開始剤(C)が、光若しくは熱カチオン重合開始剤、又は、光若しくは熱ラジカル重合開始剤である前記の樹脂組成物を提供する。   Furthermore, it provides the resin composition, wherein the polymerization initiator (C) is a light or thermal cationic polymerization initiator or a light or thermal radical polymerization initiator.

また、本発明は、前記の樹脂組成物を硬化してなる硬化物を提供する。   Moreover, this invention provides the hardened | cured material formed by hardening | curing the said resin composition.

また、本発明は、前記の樹脂組成物を含むことを特徴とする封止剤を提供する。   Moreover, this invention provides the sealing agent characterized by including the said resin composition.

また、本発明は、前記の樹脂組成物を含むことを特徴とするシール剤を提供する。   Moreover, this invention provides the sealing agent characterized by including the said resin composition.

また、本発明は、前記の硬化物を含む有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。   Moreover, this invention provides the organic electroluminescent apparatus containing the said hardened | cured material.

また、本発明は、前記の硬化物を含むLED装置を提供する。   Moreover, this invention provides the LED device containing the said hardened | cured material.

また、本発明は、前記の硬化物を含むディスプレイを提供する。   Moreover, this invention provides the display containing the said hardened | cured material.

本発明の樹脂組成物は上記構成を有するため、硬化収縮が小さく、硬化させることにより、高い屈折率を有し、かつ低透湿性に優れた硬化物を形成することができる。このため、本発明の樹脂組成物は、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、LED装置、ディスプレイなどの電子デバイスにおける封止材又はシール材を形成するための封止剤又はシール剤として好ましく使用できる。本発明の樹脂組成物を用いて電子素子等を封止して得られた電子デバイスは、樹脂組成物の硬化収縮による悪影響や、デバイス内部への水分の浸入による悪影響が最小限に抑えられ、優れた耐久性を有する。さらに、上記電子デバイスは、本発明の樹脂組成物の硬化物(封止材)が高い屈折率を有することに起因して、例えば、封止材と高屈折率部材との界面における光の反射が抑制されるなど、高い品質を有する。   Since the resin composition of the present invention has the above-described configuration, it has a small curing shrinkage and can be cured to form a cured product having a high refractive index and excellent in low moisture permeability. For this reason, especially the resin composition of this invention can be preferably used as a sealing agent or sealing agent for forming the sealing material or sealing material in electronic devices, such as an organic electroluminescent apparatus, an LED apparatus, and a display. An electronic device obtained by sealing an electronic element or the like using the resin composition of the present invention, the adverse effect due to curing shrinkage of the resin composition and the adverse effect due to the ingress of moisture into the device are minimized, Excellent durability. Furthermore, the above-mentioned electronic device has, for example, light reflection at the interface between the sealing material and the high refractive index member because the cured product (sealing material) of the present invention has a high refractive index. High quality, such as being suppressed.

<樹脂組成物>
本発明の樹脂組成物は、下記式(1)で表される化合物(A)と、フェノール類とアルデヒドの縮合物、芳香族炭化水素とアルデヒドの縮合物、石油樹脂、スチレン化フェノール、及びロジンからなる群より選択された少なくとも1種の化合物(B)と、重合開始剤(C)とを必須成分として含む組成物(樹脂組成物)である。

Figure 2013091743
<Resin composition>
The resin composition of the present invention includes a compound (A) represented by the following formula (1), a condensate of a phenol and an aldehyde, a condensate of an aromatic hydrocarbon and an aldehyde, a petroleum resin, a styrenated phenol, and a rosin It is a composition (resin composition) which contains at least 1 type of compound (B) selected from the group which consists of, and a polymerization initiator (C) as an essential component.
Figure 2013091743

[化合物(A)]
本発明の樹脂組成物を構成する化合物(A)は、上記式(1)で表される化合物である。上記式(1)中のRa(2つのRa)は、それぞれ独立に、反応性官能基(重合性官能基)を示す。即ち、式(1)中の2つのRaは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。特に、Raとしては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、グリシジル基、オキセタニル基が好ましく、より好ましくはビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基である。
[Compound (A)]
The compound (A) constituting the resin composition of the present invention is a compound represented by the above formula (1). R a in the formula (1) (two R a) each independently represent a reactive functional group (polymerizable functional group). That is, two R a in the formula (1) may be the same or different. In particular, Ra is preferably a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an epoxy group, a glycidyl group or an oxetanyl group, more preferably a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group or a methacryloyl group.

上記式(1)中のR1(式(1)に示された複数のR1)は、それぞれ独立に(同一でもよいし、異なっていてもよい)、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アリール基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシル基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシアルキル基、保護基で保護されていてもよいアミノ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、保護基で保護されていてもよいスルホ基、ニトロ基、シアノ基、又は保護基で保護されていてもよいアシル基を示す。また、mが2〜4の整数である場合、同一の芳香環に結合した2〜4個のR1が互いに結合して、芳香環を構成する炭素原子とともに4員以上の環を形成していてもよい。なお、mが2〜4の整数である場合、同一の芳香環に結合した2〜4個のR1は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 R 1 in the above formula (1) (a plurality of R 1 shown in the formula (1)) may be independently (may be the same or different), a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, An aryl group, a hydroxyl group optionally protected with a protecting group, a hydroxyalkyl group optionally protected with a protecting group, an amino group optionally protected with a protecting group, a carboxyl optionally protected with a protecting group A sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an acyl group that may be protected with a protecting group. When m is an integer of 2 to 4, 2 to 4 R 1 bonded to the same aromatic ring are bonded to each other to form a 4-membered ring or more together with carbon atoms constituting the aromatic ring. May be. In addition, when m is an integer of 2-4, 2-4 R < 1 > couple | bonded with the same aromatic ring may respectively be the same, and may differ.

上記R1におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。上記R1におけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のC1-10アルキル基(好ましくはC1-5アルキル基)などが挙げられる。上記ハロアルキル基としては、例えば、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基等のC1-10ハロアルキル基(好ましくはC1-5ハロアルキル基)などが挙げられる。上記R1におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。なお、上記アリール基の芳香環は、例えば、フッ素原子などのハロゲン原子、メチル基などのC1-4アルキル基、トリフルオロメチル基などのC1-5ハロアルキル基、ヒドロキシル基、メトキシ基等のC1-4アルコキシ基、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基等のアシル基等の置換基を有していてもよい。 Examples of the halogen atom in R 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group in R 1 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, and nonyl group. And a C 1-10 alkyl group such as a decyl group (preferably a C 1-5 alkyl group). Examples of the haloalkyl group include C 1-10 haloalkyl groups (preferably C 1-5 haloalkyl groups) such as a chloromethyl group, a trifluoromethyl group, a trifluoroethyl group, and a pentafluoroethyl group. Examples of the aryl group for R 1 include a phenyl group and a naphthyl group. The aromatic ring of the aryl group includes, for example, a halogen atom such as a fluorine atom, a C 1-4 alkyl group such as a methyl group, a C 1-5 haloalkyl group such as a trifluoromethyl group, a hydroxyl group, and a methoxy group. A C 1-4 alkoxy group, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group, and a substituent such as an acyl group such as a nitro group, a cyano group, and an acetyl group may be included.

上記ヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基などのC1-10アルキル基が有する水素原子の少なくとも1つがヒドロキシル基で置換されたC1-10ヒドロキシアルキル基(好ましくはC1-5ヒドロキシアルキル基)などが挙げられる。上記R1におけるヒドロキシル基の保護基、ヒドロキシアルキル基の保護基としては、有機合成の分野で慣用の保護基、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、t−ブチル基などのC1-4アルキル基など);アルケニル基(例えば、アリル基など);シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基など);アリール基(例えば、2,4−ジニトロフェニル基など);アラルキル基(例えば、ベンジル基など);置換メチル基(例えば、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、ベンジルオキシメチル基、t−ブトキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基など)、置換エチル基(例えば、1−エトキシエチル基など)、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、1−ヒドロキシアルキル基(例えば、1−ヒドロキシエチル基など)などのヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール基を形成可能な基;アシル基(例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基などのC1-6脂肪族アシル基;アセトアセチル基;ベンゾイル基などの芳香族アシル基など);アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基等のC1-4アルコキシ−カルボニル基など);アラルキルオキシカルボニル基;置換又は無置換カルバモイル基;置換シリル基(例えば、トリメチルシリル基など);分子内にヒドロキシル基やヒドロキシメチル基が2以上存在するときには置換基を有していてもよい二価の炭化水素基(例えば、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、ベンジリデン基など)などが挙げられる。 Examples of the hydroxyalkyl group, e.g., C 1-10 at least one C 1-10 hydroxyalkyl group substituted with a hydroxyl group (preferably a C 1-5 hydroxyalkyl hydrogen atom of the alkyl group such as hydroxymethyl group Group). Examples of the protecting group for hydroxyl group and hydroxyalkyl group in R 1 include protecting groups commonly used in the field of organic synthesis, such as alkyl groups (for example, C 1-4 alkyl such as methyl group and t-butyl group). Alkenyl group (eg, allyl group); cycloalkyl group (eg, cyclohexyl group); aryl group (eg, 2,4-dinitrophenyl group); aralkyl group (eg, benzyl group); A substituted methyl group (eg, methoxymethyl group, methylthiomethyl group, benzyloxymethyl group, t-butoxymethyl group, 2-methoxyethoxymethyl group, etc.), substituted ethyl group (eg, 1-ethoxyethyl group, etc.), tetrahydropyrani Group, tetrahydrofuranyl group, 1-hydroxyalkyl group (for example, 1-hydroxyethyl group ) Hydroxyl groups and acetal or hemiacetal group capable of forming groups such as; acyl group (e.g., formyl group, acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, C 1-6 aliphatic acyl group such as pivaloyl group; An acetoacetyl group; an aromatic acyl group such as a benzoyl group; an alkoxycarbonyl group (eg, a C 1-4 alkoxy-carbonyl group such as a methoxycarbonyl group); an aralkyloxycarbonyl group; a substituted or unsubstituted carbamoyl group; Silyl group (for example, trimethylsilyl group); when two or more hydroxyl groups or hydroxymethyl groups are present in the molecule, a divalent hydrocarbon group (for example, methylene group, ethylidene group, isopropyl group) which may have a substituent. Ridene group, cyclopentylidene group, cyclohexylidene group, benzyl And the like).

上記R1におけるアミノ基の保護基としては、有機合成の分野で慣用の保護基、例えば、上記ヒドロキシル基の保護基として例示したアルキル基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基などが挙げられる。 Examples of the protecting group for the amino group in R 1 include a protecting group commonly used in the field of organic synthesis, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and the like exemplified as the protecting group for the hydroxyl group.

上記R1におけるカルボキシル基の保護基、スルホ基の保護基としては、有機合成の分野で慣用の保護基、例えば、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などのC1-6アルコキシ基など)、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、トリアルキルシリルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ヒドラジノ基、アルコキシカルボニルヒドラジノ基、アラルキルカルボニルヒドラジノ基などが挙げられる。 Examples of the protecting group for carboxyl group and sulfo group for R 1 include protecting groups commonly used in the field of organic synthesis, for example, alkoxy groups (for example, C 1-6 alkoxy such as methoxy group, ethoxy group, butoxy group). Group), cycloalkyloxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, trialkylsilyloxy group, optionally substituted amino group, hydrazino group, alkoxycarbonylhydrazino group, aralkylcarbonylhydrazino group, etc. Is mentioned.

上記R1におけるアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基などのC1-6脂肪族アシル基、アセトアセチル基、ベンゾイル基などの芳香族アシル基などが挙げられる。上記アシル基の保護基としては、有機合成の分野で慣用の保護基を使用できる。上記アシル基が保護された形態としては、例えば、アセタール(ヘミアセタールを含む)などが挙げられる。 Examples of the acyl group in R 1 include C 1-6 aliphatic acyl groups such as formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, and pivaloyl group, and aromatic acyl groups such as acetoacetyl group and benzoyl group. Group and the like. As the protecting group for the acyl group, a protecting group commonly used in the field of organic synthesis can be used. Examples of the form in which the acyl group is protected include acetal (including hemiacetal).

上記R1が芳香環1つあたりに2つ以上結合している場合(即ち、式(1)中のmが2〜4の場合)、これらが互いに結合して式(1)中の芳香環を構成する炭素原子と共に形成する4員以上の環としては、例えば、5員の脂環式炭素環、6員の脂環式炭素環、2以上の脂環式炭素環(単環)の縮合環などの脂環式炭素環;5員のラクトン環、6員のラクトン環などのラクトン環などが挙げられる。 When two or more R 1 are bonded per aromatic ring (that is, when m in formula (1) is 2 to 4), these are bonded to each other to form an aromatic ring in formula (1). Examples of the 4-membered or higher ring formed together with the carbon atoms constituting the ring include a 5-membered alicyclic carbocyclic ring, a 6-membered alicyclic carbocyclic ring, and a condensed alicyclic carbocyclic ring (monocyclic) Examples thereof include alicyclic carbocycles such as rings; lactone rings such as 5-membered lactone rings and 6-membered lactone rings.

上記式(1)中のR2は、単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル基(エーテル結合)、チオエーテル基(チオエーテル結合)、エステル基(エステル結合)、カーボネート基(カーボネート結合)、アミド基(アミド結合)、又はこれらが複数個連結した基などが挙げられる。上記連結基は、水酸基、カルボキシル基などの置換基を有していてもよく、このような連結基としては、例えば、1以上の水酸基を有する二価の炭化水素基などが挙げられる。 R 2 in the above formula (1) represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether group (ether bond), a thioether group (thioether bond), an ester group (ester bond), a carbonate group (carbonate bond), and an amide group (amide). Bond), or a group in which a plurality of these are linked. The linking group may have a substituent such as a hydroxyl group or a carboxyl group, and examples of such a linking group include a divalent hydrocarbon group having one or more hydroxyl groups.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)などが挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclohexene group. And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as a silylene group, a 1,4-cyclohexylene group, and a cyclohexylidene group.

上記式(1)中の複数のm(それぞれの芳香環上の置換基R1の数)は、それぞれ独立に(同一であってもよいし、異なっていてもよい)、0〜4の整数を示す。また、n(nが付された括弧内の構造単位の繰り返し数)は、0〜10の整数を示す。 A plurality of m (the number of substituents R 1 on each aromatic ring) in the above formula (1) are each independently (may be the same or different), and an integer of 0 to 4 Indicates. N (the number of repeating structural units in parentheses to which n is attached) represents an integer of 0 to 10.

中でも、上記式(1)中のnは、樹脂組成物の粘度、性状の観点で、0〜3が好ましく、より好ましくは0である。即ち、化合物(A)としては、特に、上記式(1)中のnが0である、下記式(1’)で表される化合物が好ましい。

Figure 2013091743
(式(1’)中、Ra、R1、mは、前記に同じ。) Among these, n in the above formula (1) is preferably 0 to 3 and more preferably 0 from the viewpoint of the viscosity and properties of the resin composition. That is, as the compound (A), a compound represented by the following formula (1 ′) in which n in the formula (1) is 0 is particularly preferable.
Figure 2013091743
(In formula (1 ′), R a , R 1 and m are the same as above.)

本発明の樹脂組成物における化合物(A)(上記(1)で表される化合物)の具体例としては、例えば、下記式で示される化合物などが挙げられる。

Figure 2013091743
Specific examples of the compound (A) (the compound represented by (1) above) in the resin composition of the present invention include, for example, compounds represented by the following formula.
Figure 2013091743

Figure 2013091743
なお、上記式におけるRは、水素原子又はメチル基である。
Figure 2013091743
R in the above formula is a hydrogen atom or a methyl group.

なお、本発明の樹脂組成物において化合物(A)は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   In addition, in the resin composition of this invention, a compound (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明の樹脂組成物(100重量%)における化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、5〜95重量%が好ましく、より好ましくは20〜95重量%、さらに好ましくは40〜90重量%である。化合物(A)の含有量を上記範囲に制御することにより、樹脂組成物の塗布性が向上し、さらには、硬化物の屈折率を高くし、低透湿性を向上させやすい傾向がある。   The content (blending amount) of the compound (A) in the resin composition (100% by weight) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 5 to 95% by weight, more preferably 20 to 95% by weight, and still more preferably. 40 to 90% by weight. By controlling the content of the compound (A) within the above range, the applicability of the resin composition is improved, and further, the refractive index of the cured product tends to be increased, and the low moisture permeability tends to be improved.

化合物(A)の製造方法としては、特に限定されず、公知乃至慣用の方法を適用することができる。例えば、式(1)中のRaが水素原子である化合物(例えば、4,4’−チオビスベンゼンチオールなど)を原料とし、これにハロゲン化ビニル、ハロゲン化アリル、(メタ)アクリル酸のハロゲン化物、エピハロヒドリンなどを塩基の存在下で反応させる方法などによって、製造できる。また、式(1)中のRaがビニル基である化合物については、例えば、式(1)中のRaが水素原子である化合物(例えば、4,4’−チオビスベンゼンチオールなど)とジハロエタンとを反応させ、続いて、脱ハロゲン化水素する方法などによっても製造できる。 It does not specifically limit as a manufacturing method of a compound (A), A well-known thru | or usual method is applicable. For example, a compound in which R a in formula (1) is a hydrogen atom (for example, 4,4′-thiobisbenzenethiol, etc.) is used as a raw material, and vinyl halide, allyl halide, (meth) acrylic acid It can be produced by a method of reacting a halide, epihalohydrin or the like in the presence of a base. In addition, for the compound in which R a in the formula (1) is a vinyl group, for example, a compound in which R a in the formula (1) is a hydrogen atom (for example, 4,4′-thiobisbenzenethiol, etc.) It can also be produced by a method of reacting with dihaloethane and subsequently dehydrohalogenating.

[化合物(B)]
本発明の樹脂組成物を構成する化合物(B)は、フェノール類とアルデヒドの縮合物、芳香族炭化水素とアルデヒドの縮合物、石油樹脂、スチレン化フェノール、及びロジンからなる群より選択された少なくとも1種の化合物(樹脂)である。
[Compound (B)]
The compound (B) constituting the resin composition of the present invention is at least selected from the group consisting of a condensate of phenols and aldehyde, a condensate of aromatic hydrocarbon and aldehyde, petroleum resin, styrenated phenol, and rosin. One type of compound (resin).

化合物(B)におけるフェノール類とアルデヒドの縮合物(以下、「フェノール類−アルデヒド樹脂」と称する場合がある)は、フェノール類とアルデヒドとを縮合させることにより得られる化合物(樹脂)である。上記フェノール類としては、例えば、フェノール、置換フェノール(例えば、クレゾールなどのアルキル置換フェノール)、レゾルシノール、置換レゾルシノールなどが挙げられる。上記アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、フルフラールなどが挙げられる。上記フェノール類とアルデヒドとの縮合反応は、例えば、酸触媒又はアルカリ触媒の存在下、必要に応じて加熱することによって実施することができる。   The condensate of phenols and aldehydes in compound (B) (hereinafter sometimes referred to as “phenols-aldehyde resin”) is a compound (resin) obtained by condensing phenols and aldehydes. Examples of the phenols include phenol, substituted phenol (for example, alkyl-substituted phenol such as cresol), resorcinol, and substituted resorcinol. Examples of the aldehyde include formaldehyde, acetaldehyde, furfural and the like. The condensation reaction of the phenols with the aldehyde can be carried out, for example, by heating as necessary in the presence of an acid catalyst or an alkali catalyst.

上記フェノール類−アルデヒド樹脂としては、例えば、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂などのフェノール樹脂;ノボラック型クレゾール樹脂、レゾール型クレゾール樹脂などのクレゾール樹脂;ノボラック型ビフェニルフェノール樹脂、レゾール型ビフェニルフェノール樹脂などのビフェニル構造を有するフェノール樹脂などが挙げられる。また、上記フェノール類−アルデヒド樹脂としては、上記例示のフェノール類−アルデヒド樹脂を変性したもの(例えば、ロジン変性体、テルペン変性体、マレイン酸変性体、エチレンオキシド付加体、ポリオール変性体など)を使用することもできる。   Examples of the phenol-aldehyde resin include phenol resins such as novolak type phenol resin and resol type phenol resin; cresol resins such as novolak type cresol resin and resol type cresol resin; novolak type biphenyl phenol resin and resol type biphenyl phenol resin. And phenolic resins having a biphenyl structure. Further, as the phenols-aldehyde resins, those obtained by modifying the phenols-aldehyde resins exemplified above (for example, rosin modified products, terpene modified products, maleic acid modified products, ethylene oxide adducts, polyol modified products, etc.) are used. You can also

上記フェノール類−アルデヒド樹脂としては、上記の中でも、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂、ノボラック型ビフェニルフェノール樹脂が好ましい。   Among the above-mentioned phenols-aldehyde resins, novolak-type phenol resins, novolak-type cresol resins, and novolak-type biphenylphenol resins are preferable.

上記フェノール類−アルデヒド樹脂としては、例えば、商品名「SAP−X」(旭有機材工業(株)製;p−クレゾールノボラック樹脂)、商品名「MEH 7851−M」(明和化成(株)製;フェノール−ビフェニルホルムアルデヒド縮合物)などの市販品を使用することもできる。   Examples of the phenol-aldehyde resin include trade name “SAP-X” (Asahi Organic Materials Co., Ltd .; p-cresol novolak resin), trade name “MEH 7851-M” (Maywa Kasei Co., Ltd.). Commercial products such as phenol-biphenylformaldehyde condensate) can also be used.

上記フェノール類−アルデヒド樹脂は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、25℃以下において液状であること、又は、25〜200℃(より好ましくは25〜180℃、さらに好ましくは25〜150℃)に軟化点を有することが好ましい。なお、軟化点は、例えば、JIS K7234に記載の環球法に準拠する方法により測定できる。   Although the said phenols-aldehyde resin is not specifically limited, From a compatible viewpoint with a compound (A), it is a liquid at 25 degrees C or less, or 25-200 degreeC (preferably 25-180 degreeC, Furthermore, It preferably has a softening point at 25 to 150 ° C. The softening point can be measured by a method based on the ring and ball method described in JIS K7234, for example.

上記フェノール類−アルデヒド樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、100〜10000が好ましく、より好ましくは150〜5000、さらに好ましくは150〜2000である。なお、上記重量平均分子量は、例えば、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定される標準ポリスチレン換算の分子量より算出できる。   Although the weight average molecular weight of the said phenols-aldehyde resin is not specifically limited, 100-10000 are preferable from a compatible viewpoint with a compound (A), More preferably, it is 150-5000, More preferably, it is 150-2000. . In addition, the said weight average molecular weight can be computed from the molecular weight of standard polystyrene conversion measured by gel permeation chromatography (GPC), for example.

上記フェノール類−アルデヒド樹脂の水酸基価は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、10〜1000mgKOH/gが好ましく、より好ましくは10〜500mgKOH/g、さらに好ましくは10〜100mgKOH/gである。上記水酸基価は、例えば、JIS K0070に記載の中和滴定法に準拠して測定することができる。   Although the hydroxyl value of the said phenols-aldehyde resin is not specifically limited, From a compatible viewpoint with a compound (A), 10-1000 mgKOH / g is preferable, More preferably, it is 10-500 mgKOH / g, More preferably, it is 10- 100 mg KOH / g. The hydroxyl value can be measured, for example, according to the neutralization titration method described in JIS K0070.

本発明の樹脂組成物における化合物(B)としての芳香族炭化水素とアルデヒドの縮合物(以下、「芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂」と称する場合がある)は、芳香族炭化水素とアルデヒドとを縮合させることにより得られる化合物(樹脂)である。上記芳香族炭化水素としては、例えば、アルキル置換ベンゼン(例えば、トルエン、キシレンなど)、アルキル置換ナフタレン(例えば、メチルナフタレン、ジメチルナフタレンなど)などが挙げられる。上記アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、フルフラールなどが挙げられる。上記芳香族炭化水素とアルデヒドとの縮合反応は、例えば、酸触媒又はアルカリ触媒の存在下、必要に応じて加熱することによって実施することができる。   The condensate of aromatic hydrocarbon and aldehyde as compound (B) in the resin composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “aromatic hydrocarbon-aldehyde resin”) is an aromatic hydrocarbon and aldehyde. It is a compound (resin) obtained by condensation. Examples of the aromatic hydrocarbon include alkyl-substituted benzene (for example, toluene, xylene and the like), alkyl-substituted naphthalene (for example, methylnaphthalene and dimethylnaphthalene) and the like. Examples of the aldehyde include formaldehyde, acetaldehyde, furfural and the like. The condensation reaction between the aromatic hydrocarbon and the aldehyde can be carried out, for example, by heating as necessary in the presence of an acid catalyst or an alkali catalyst.

上記芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂としては、例えば、キシレン樹脂、トルエン樹脂、アルキルナフタレン樹脂などが挙げられる。また、上記芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂としては、上記例示の芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂を変性したもの(例えば、ロジン変性体、テルペン変性体、マレイン酸変性体、エチレンオキシド付加体、ポリオール変性体など)を使用することもできる。   Examples of the aromatic hydrocarbon-aldehyde resin include xylene resin, toluene resin, and alkylnaphthalene resin. In addition, the aromatic hydrocarbon-aldehyde resin is obtained by modifying the above-mentioned aromatic hydrocarbon-aldehyde resin (for example, rosin modified product, terpene modified product, maleic acid modified product, ethylene oxide adduct, polyol modified product). Etc.) can also be used.

上記芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂としては、上記の中でも、キシレン樹脂が好ましい。   Among the above, the aromatic hydrocarbon-aldehyde resin is preferably a xylene resin.

上記芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂としては、例えば、商品名「レジタックス A−2」(エスジーケミカル(株)製;モノメチルナフタレンホルムアルデヒド縮合物)、商品名「ニカノール Y−50」、「ニカノール Y−1000」、「ニカノール G」(以上、フドー(株)製;キシレン樹脂)などの市販品を使用することもできる。   Examples of the aromatic hydrocarbon-aldehyde resin include, for example, trade name “Regitax A-2” (manufactured by SGS Chemical Co., Ltd .; monomethylnaphthalene formaldehyde condensate), trade names “Nicanol Y-50”, “Nicanol Y-”. Commercial products such as “1000” and “Nikanol G” (Fudo Co., Ltd .; xylene resin) can also be used.

上記芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、25℃以下において液状であること、又は、25〜200℃(より好ましくは25〜180℃、さらに好ましくは25〜150℃)に軟化点を有することが好ましい。   Although the said aromatic hydrocarbon-aldehyde resin is not specifically limited, From a compatible viewpoint with a compound (A), it is liquid in 25 degrees C or less, or 25-200 degreeC (preferably 25-180 degreeC). More preferably, it has a softening point at 25 to 150 ° C.

上記芳香族炭化水素−アルデヒド樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、100〜10000が好ましく、より好ましくは150〜5000、さらに好ましくは150〜2000である。なお、上記重量平均分子量は、例えば、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定される標準ポリスチレン換算の分子量より算出できる。   The weight average molecular weight of the aromatic hydrocarbon-aldehyde resin is not particularly limited, but is preferably 100 to 10,000, more preferably 150 to 5000, and still more preferably 150 to 2000, from the viewpoint of compatibility with the compound (A). It is. In addition, the said weight average molecular weight can be computed from the molecular weight of standard polystyrene conversion measured by gel permeation chromatography (GPC), for example.

本発明の樹脂組成物における化合物(B)としての石油樹脂は、灯油、ナフサなどの留分を水蒸気分解する際に副生する高級不飽和炭化水素(C5留分やC9留分など)をカチオン重合して得られる化合物(樹脂)である。上記石油樹脂としては、例えば、ピペリレン(シスピペリレン、トランスピペリレン)、イソプレン、2−メチルブテンなどの不飽和脂肪族炭化水素を必須の(又は主たる)モノマー成分とする脂肪族石油樹脂;インデン、メチルインデン、スチレン、メチルスチレン、ビニルトルエン、クマロンなどの不飽和芳香族炭化水素を必須の(又は主たる)モノマー成分とする芳香族石油樹脂;上記不飽和脂肪族炭化水素と上記不飽和芳香族炭化水素の両方を必須の(又は主たる)モノマー成分とする脂肪族/芳香族混成樹脂;上述の脂肪族石油樹脂、芳香族石油樹脂、脂肪族/芳香族混成樹脂における不飽和結合及び/又は芳香環(不飽和結合及び芳香環のいずれか一方又は両方)が水素化された水素化石油樹脂(例えば、脂環族石油樹脂など)、上述の各種石油樹脂の変性体(例えば、フェノール類により変性したフェノール変性体、アルコール類により変性したアルコール変性体、ロジン変性体、テルペン変性体、マレイン酸変性体など)などが挙げられる。   The petroleum resin as the compound (B) in the resin composition of the present invention cationizes higher unsaturated hydrocarbons (such as C5 fraction and C9 fraction) produced as a by-product when steam fractions such as kerosene and naphtha are decomposed by steam. It is a compound (resin) obtained by polymerization. Examples of the petroleum resin include aliphatic petroleum resins containing unsaturated aliphatic hydrocarbons such as piperylene (cispiperylene, transpiperylene), isoprene and 2-methylbutene as essential (or main) monomer components; indene and methylindene Aromatic petroleum resins containing unsaturated aromatic hydrocarbons as essential (or main) monomer components such as styrene, methylstyrene, vinyltoluene, coumarone, etc .; of the above unsaturated aliphatic hydrocarbons and the above unsaturated aromatic hydrocarbons Aliphatic / aromatic hybrid resins having both as essential (or main) monomer components; unsaturated bonds and / or aromatic rings (non-aromatic rings) in the above-mentioned aliphatic petroleum resins, aromatic petroleum resins, aliphatic / aromatic hybrid resins. Hydrogenated petroleum resin (for example, alicyclic petroleum resin, etc.) in which saturated bonds and / or aromatic rings are hydrogenated Modified products of the above-mentioned various petroleum resins (e.g., phenol-modified products were modified by phenol, alcohol modified products were modified by an alcohol, rosin modified product, terpene-modified products, such as maleic acid modified products) and the like.

上記石油樹脂は、公知乃至慣用の方法により製造することができる。また、上記石油樹脂としては、例えば、商品名「ネオポリマー L−90」、「ネオポリマー S」(以上、JX日鉱日石エネルギー(株)製;石油樹脂)などの市販品を使用することもできる。また、上記石油樹脂の市販品としては、その他、例えば、商品名「SC−100」(エスジーケミカル(株)製;フェノール変性石油樹脂)「ネオポリマー E−100」(JX日鉱日石エネルギー(株)製;フェノール変性石油樹脂)「ネオポリマー 160」(JX日鉱日石エネルギー(株)製;無水マレイン酸変性石油樹脂)などを使用することもできる。   The petroleum resin can be produced by a known or conventional method. Moreover, as said petroleum resin, commercial items, such as brand name "Neopolymer L-90" and "Neopolymer S" (above, JX Nippon Mining & Energy Co., Ltd .; petroleum resin), may be used, for example. it can. Other commercially available petroleum resins include, for example, trade name “SC-100” (manufactured by SG Chemical Co., Ltd .; phenol-modified petroleum resin) “Neopolymer E-100” (JX Nippon Oil & Energy Corporation Phenol-modified petroleum resin) “Neopolymer 160” (manufactured by JX Nippon Mining & Energy Co., Ltd .; maleic anhydride-modified petroleum resin) can also be used.

上記石油樹脂は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、25℃以下において液状であること、又は、25〜200℃(より好ましくは25〜180℃、さらに好ましくは25〜150℃)に軟化点を有することが好ましい。   Although the said petroleum resin is not specifically limited, From a compatible viewpoint with a compound (A), it is a liquid at 25 degrees C or less, or 25-200 degreeC (preferably 25-180 degreeC, More preferably, 25 It is preferable to have a softening point at ˜150 ° C.

上記石油樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、100〜10000が好ましく、より好ましくは150〜5000、さらに好ましくは150〜2000である。なお、上記重量平均分子量は、例えば、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定される標準ポリスチレン換算の分子量より算出できる。   Although the weight average molecular weight of the said petroleum resin is not specifically limited, 100-10000 are preferable from a compatible viewpoint with a compound (A), More preferably, it is 150-5000, More preferably, it is 150-2000. In addition, the said weight average molecular weight can be computed from the molecular weight of standard polystyrene conversion measured by gel permeation chromatography (GPC), for example.

本発明の樹脂組成物における化合物(B)としてのロジンとしては、公知乃至慣用の各種ロジン類を使用することができる。具体的には、上記ロジンとしては、例えば、ウッドロジン、ガムロジン、トール油ロジンなどの未変性ロジン;上記未変性ロジンを水素化した水素化ロジン(水添ロジン)、上記未変性ロジンを不均化した不均化ロジン、上記未変性ロジンを重合した重合ロジン、上記未変性ロジンをフェノール類で変性したフェノール変性ロジン、上記未変性ロジンをマレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸,クロトン酸、アクリル酸等の不飽和カルボン酸で変性した不飽和カルボン酸変性ロジン(例えば、マレイン化ロジンやアクリル化ロジンなど)、上記未変性ロジンとアルコール類(多価アルコールなど)とを反応させたロジンエステル、上記未変性ロジンをホルマリン処理したホルミル化ロジンなどの変性ロジン(ロジン誘導体)が挙げられる。上記ロジンには、その他、分子内にロジン骨格と水酸基とを各々2個有するロジン含有ジオール(ロジンジオール)なども含まれる。   As the rosin as the compound (B) in the resin composition of the present invention, various known or conventional rosins can be used. Specifically, examples of the rosin include unmodified rosin such as wood rosin, gum rosin, tall oil rosin; hydrogenated rosin obtained by hydrogenating the unmodified rosin (hydrogenated rosin), and disproportionate the unmodified rosin. Disproportionated rosin, polymerized rosin polymerized from the above-mentioned unmodified rosin, phenol-modified rosin modified from the above-mentioned unmodified rosin with phenols, the above-mentioned unmodified rosin as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid Unsaturated carboxylic acid-modified rosin modified with unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid (for example, maleated rosin and acrylated rosin), and rosin obtained by reacting the above unmodified rosin with alcohols (polyhydric alcohol, etc.) Modified rosins (rosin derivatives) such as esters, formalinized rosin obtained by formalin treatment of the above-mentioned unmodified rosin It is. The rosin also includes rosin-containing diol (rosin diol) having two rosin skeletons and two hydroxyl groups in the molecule.

上記ロジンは、公知乃至慣用の方法により製造することができる。また、上記ロジンとしては、「KR−85」(荒川化学工業(株)製)などの市販品を使用することもできる。また、上記ロジンの市販品としては、その他、商品名「KE−100」、(荒川化学工業(株)製:ロジンエステル)「D−6011」、(荒川化学工業(株)製:ロジン含有ジオール)、「ハイペールCH」、(荒川化学工業(株)製:水素化ロジン)などを使用することもできる。   The rosin can be produced by a known or conventional method. Moreover, as said rosin, commercial items, such as "KR-85" (made by Arakawa Chemical Co., Ltd.), can also be used. Moreover, as a commercial item of the said rosin, brand name "KE-100", (Arakawa Chemical Industry Co., Ltd. product: Rosin ester) "D-6011", (Arakawa Chemical Industry Co., Ltd. product: Rosin containing diol) ), “Hyper CH”, (Arakawa Chemical Industries, Ltd .: hydrogenated rosin), and the like can also be used.

上記ロジンは、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、25℃以下において液状であること、又は、25〜200℃(より好ましくは25〜180℃、さらに好ましくは25〜150℃)に軟化点を有することが好ましい。   Although the said rosin is not specifically limited, From a compatible viewpoint with a compound (A), it is liquid at 25 degrees C or less, or 25-200 degreeC (preferably 25-180 degreeC, More preferably, 25-250 degreeC. It is preferable to have a softening point at 150 ° C.

上記ロジンの重量平均分子量は、特に限定されないが、化合物(A)との相溶性の観点で、100〜10000が好ましく、より好ましくは150〜5000、さらに好ましくは150〜2000である。なお、上記重量平均分子量は、例えば、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定される標準ポリスチレン換算の分子量より算出できる。   The weight average molecular weight of the rosin is not particularly limited, but is preferably 100 to 10,000, more preferably 150 to 5000, and still more preferably 150 to 2000, from the viewpoint of compatibility with the compound (A). In addition, the said weight average molecular weight can be computed from the molecular weight of standard polystyrene conversion measured by gel permeation chromatography (GPC), for example.

本発明の樹脂組成物における化合物(B)としてのスチレン化フェノールは、触媒の存在下、フェノールに芳香族ビニル化合物を反応させて得られる化合物(フェノールに対し芳香族ビニル化合物が付加した化合物)である。上記スチレン化フェノールとしては、フェノール1モルに対して芳香族ビニル化合物1モルが付加したモノスチレン化フェノール、フェノール1モルに対して芳香族ビニル化合物1〜2モルが付加したモノ・ジスチレン化フェノール、フェノール1モルに対して芳香族ビニル化合物2〜3モルが付加したジ・トリスチレン化フェノール、フェノール1モルに対して芳香族ビニル化合物3モルが付加したトリスチレン化フェノールなどが挙げられる。上記芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、1,3−ジメチルスチレン、ビニルナフタレンなどが挙げられる。中でも、上記芳香族ビニル化合物としては、スチレンが好ましい。上記触媒としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、硫酸、三塩化アルミニウムなどの酸触媒が挙げられる。   The styrenated phenol as the compound (B) in the resin composition of the present invention is a compound obtained by reacting an aromatic vinyl compound with phenol in the presence of a catalyst (a compound obtained by adding an aromatic vinyl compound to phenol). is there. Examples of the styrenated phenol include monostyrenated phenol in which 1 mol of an aromatic vinyl compound is added to 1 mol of phenol, mono- and distyrenated phenol in which 1 to 2 mol of an aromatic vinyl compound is added to 1 mol of phenol, Examples thereof include di-tristyrenated phenol in which 2 to 3 mol of aromatic vinyl compound is added to 1 mol of phenol, and tristyrenated phenol in which 3 mol of aromatic vinyl compound is added to 1 mol of phenol. Examples of the aromatic vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, 1,3-dimethylstyrene, vinylnaphthalene, and the like. Among them, styrene is preferable as the aromatic vinyl compound. Examples of the catalyst include acid catalysts such as paratoluenesulfonic acid, sulfuric acid, and aluminum trichloride.

上記スチレン化フェノールは、公知乃至慣用の方法により製造することができる。また、上記スチレン化フェノールとしては、例えば、商品名「ニットレジンPH−25」(以上、日塗(株)製;スチレン化フェノール)などの市販品を使用することもできる。   The styrenated phenol can be produced by a known or conventional method. Moreover, as said styrenated phenol, commercial items, such as a brand name "Knit resin PH-25" (Nippon Co., Ltd. product; styrenated phenol), can also be used, for example.

上記の中でも、化合物(B)としては、硬化物の透湿性と屈折率の観点で、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂、ノボラック型ビフェニルフェノール樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂、フェノール変性石油樹脂、スチレン化フェノール、及びロジンからなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物が好ましい。   Among the above, as the compound (B), from the viewpoint of moisture permeability and refractive index of the cured product, a novolac type phenol resin, a novolac type cresol resin, a novolac type biphenyl phenol resin, a xylene resin, a petroleum resin, a phenol-modified petroleum resin, Preference is given to at least one compound selected from the group consisting of styrenated phenols and rosins.

化合物(B)の20℃における波長589nmの光(ナトリウムD線)に対する屈折率は、特に限定されないが、1.500〜1.900が好ましく、より好ましくは1.550〜1.850、さらに好ましくは1.580〜1.820である。なお、化合物(B)の屈折率は、例えば、JIS K0062に準拠する方法により測定することができる。   Although the refractive index with respect to the light (sodium D line | wire) of wavelength 589nm in 20 degreeC of a compound (B) is not specifically limited, 1.500-1.900 are preferable, More preferably, 1.550-1.850, More preferably Is 1.580 to 1.820. In addition, the refractive index of a compound (B) can be measured by the method based on JISK0062, for example.

なお、本発明の樹脂組成物において化合物(B)は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   In addition, in the resin composition of this invention, a compound (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

化合物(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、化合物(A)100重量部に対して、1〜120重量部が好ましく、さらに好ましくは5〜100重量部、さらに好ましくは10〜90重量部である。化合物(B)の含有量を上記範囲に制御すると、硬化物の屈折率を高い値に保持しながら、透湿性をいっそう低下させることが容易となる傾向がある。   Although content (blending amount) of a compound (B) is not specifically limited, 1-120 weight part is preferable with respect to 100 weight part of compounds (A), More preferably, it is 5-100 weight part, More preferably, it is 10 ~ 90 parts by weight. When the content of the compound (B) is controlled within the above range, the moisture permeability tends to be further reduced while maintaining the refractive index of the cured product at a high value.

本発明の樹脂組成物は、上記化合物(A)に加えて化合物(B)を必須成分として含有させることにより、該樹脂組成物の硬化物に対して高い屈折率を保持させながら、同時にその透湿性を著しく低下させることができる。さらに、化合物(B)を含有させることによって、硬化の際の硬化収縮を著しく抑制することができる。   The resin composition of the present invention contains the compound (B) as an essential component in addition to the compound (A), thereby maintaining the high refractive index of the cured product of the resin composition and simultaneously transmitting the resin composition. The wettability can be significantly reduced. Furthermore, by containing the compound (B), curing shrinkage during curing can be remarkably suppressed.

[重合開始剤(C)]
本発明の樹脂組成物を構成する重合開始剤(C)としては、特に限定されず、周知慣用の重合開始剤を使用することができる。具体的には、例えば、重合開始剤(C)として、光カチオン重合開始剤若しくは熱カチオン重合開始剤(光若しくは熱カチオン重合開始剤)、又は、光ラジカル重合開始剤若しくは熱ラジカル重合開始剤(光若しくは熱ラジカル重合開始剤)を好ましく使用できる。なお、重合開始剤(C)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Polymerization initiator (C)]
It does not specifically limit as a polymerization initiator (C) which comprises the resin composition of this invention, A well-known and usual polymerization initiator can be used. Specifically, for example, as the polymerization initiator (C), a photocationic polymerization initiator or a thermal cationic polymerization initiator (light or thermal cationic polymerization initiator), a photoradical polymerization initiator or a thermal radical polymerization initiator ( A light or thermal radical polymerization initiator) can be preferably used. In addition, a polymerization initiator (C) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(光カチオン重合開始剤)
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、サイラキュアUVI−6970、サイラキュアUVI−6974、サイラキュアUVI−6990、サイラキュアUVI−950(以上、米国ユニオンカーバイド社製、商品名)、イルガキュア250、イルガキュア261、イルガキュア264(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名)、SP−150、SP−151、SP−170、オプトマーSP−171(以上、(株)ADEKA製、商品名)、CG−24−61(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名)、DAICATII((株)ダイセル製、商品名)、UVAC1590、UVAC1591(ダイセル・サイテック(株)製、商品名)、CI−2064、CI−2639、CI−2624、CI−2481、CI−2734、CI−2855、CI−2823、CI−2758、CIT−1682(以上、日本曹達(株)製品、商品名)、PI−2074(ローディア社製、商品名、ペンタフルオロフェニルボレートトルイルクミルヨードニウム塩)、FFC509(3M社製品、商品名)、BBI−102、BBI−101、BBI−103、MPI−103、TPS−103、MDS−103、DTS−103、NAT−103、NDS−103(ミドリ化学(株)製、商品名)、CD−1010、CD−1011、CD−1012(米国、Sartomer社製、商品名)、CPI−100P、CPI−101A(サンアプロ(株)製、商品名)などの市販品に代表されるジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩、オキソニウム塩、アンモニウム塩等を使用できる。
(Photocationic polymerization initiator)
Examples of the cationic photopolymerization initiator include Cyracure UVI-6970, Cyracure UVI-6974, Cyracure UVI-6990, Cyracure UVI-950 (trade name, manufactured by Union Carbide, USA), Irgacure 250, Irgacure 261, Irgacure. H.264 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), SP-150, SP-151, SP-170, Optmer SP-171 (above, product name, manufactured by ADEKA), CG-24-61 (Ciba)・ Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name), DAICAT II (Daicel Co., Ltd., trade name), UVAC1590, UVAC1591 (Daicel Cytec Co., Ltd., trade name), CI-2064, CI-2638, CI-2624 , CI-2481, C -2734, CI-2855, CI-2823, CI-2758, CIT-1682 (above, Nippon Soda Co., Ltd., product name), PI-2074 (manufactured by Rhodia, trade name, pentafluorophenylborate toluylcumyl) Iodonium salt), FFC509 (product of 3M, trade name), BBI-102, BBI-101, BBI-103, MPI-103, TPS-103, MDS-103, DTS-103, NAT-103, NDS-103 ( Midori Kagaku Co., Ltd., trade name), CD-1010, CD-1011, CD-1012 (US, Sartomer, trade name), CPI-100P, CPI-101A (San Apro Co., trade name) Diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, Rhenium salts, oxonium salts, ammonium salts and the like can be used.

(熱カチオン重合開始剤)
上記熱カチオン重合開始剤としては、例えば、サンエイドSI−45、同左SI−47、同左SI−60、同左SI−60L、同左SI−80、同左SI−80L、同左SI−100、同左SI−100L、同左SI−110L、同左SI−145、同左SI−150、同左SI−160、同左SI−110L、同左SI−180L(以上、三新化学工業(株)製品、商品名)、CI−2921、CI−2920、CI−2946、CI−3128、CI−2624、CI−2639、CI−2064(以上、日本曹達(株)社製品、商品名)、PP−33、CP−66、CP−77((株)ADEKA製品、商品名)、FC−509、FC−520(3M社製品、商品名)などに代表されるジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩、オキソニウム塩、アンモニウム塩等を使用できる。さらに、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とトリフェニルシラノール等のシラノールとの化合物、又は、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とビスフェノールS等のフェノール類との化合物であってもよい。
(Thermal cationic polymerization initiator)
Examples of the thermal cationic polymerization initiator include Sun-Aid SI-45, Same as left SI-47, Same as left SI-60, Same as left SI-60L, Same as left SI-80L, Same as left SI-80L, Same as left SI-100, Same as left SI-100L SI-110L, left SI-145, left-SI-150, left-SI-160, left-SI-110L, left-SI-180L (above, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., product name), CI-2921, CI-2920, CI-2946, CI-3128, CI-2624, CI-2639, CI-2064 (above, Nippon Soda Co., Ltd., product name), PP-33, CP-66, CP-77 ( Diazonium salt, iodonium salt, sulfonium represented by ADEKA Co., Ltd. (trade name), FC-509, FC-520 (3M product, trade name), etc. , Phosphonium salts, selenium salts, oxonium salts, ammonium salts and the like can be used. Furthermore, a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and a acetoacetate or diketone compound and a silanol such as triphenylsilanol, or a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and acetoacetate or diketone and bisphenol S The compound with phenols, such as these, may be sufficient.

本発明の樹脂組成物(100重量%)における光カチオン重合開始剤若しくは熱カチオン重合開始剤の含有量(配合量)は、特に限定されないが、0.01〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.01〜10重量%、さらに好ましくは0.05〜5重量%、特に好ましくは0.1〜3重量%である。光若しくは熱カチオン重合性開始剤を上記範囲内で使用することにより、低透湿性に優れた硬化物を得ることができる。   The content (blending amount) of the photo cationic polymerization initiator or the thermal cationic polymerization initiator in the resin composition (100% by weight) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 15% by weight, more preferably. 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 5% by weight, particularly preferably 0.1 to 3% by weight. By using a light or thermal cationic polymerizable initiator within the above range, a cured product excellent in low moisture permeability can be obtained.

(硬化促進剤)
本発明の樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。上記硬化促進剤とは、本発明の樹脂組成物中の重合性化合物が光若しくは熱カチオン重合開始剤により硬化する際に、硬化速度を促進する機能を有する化合物である。上記硬化促進剤としては、周知慣用の硬化促進剤を使用することができ、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、及びその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩);1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)、及びその塩(例えば、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、4級アンモニウム塩、ヨードニウム塩);ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンなどの3級アミン;2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール;リン酸エステル、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p−トリル)ボレートなどのホスホニウム化合物;オクチル酸スズ、オクチル酸亜鉛などの有機金属塩;金属キレートなどが挙げられる。なお、硬化促進剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(Curing accelerator)
The resin composition of the present invention may contain a curing accelerator. The said hardening accelerator is a compound which has a function which accelerates | stimulates a cure rate, when the polymeric compound in the resin composition of this invention hardens | cures with light or a thermal cationic polymerization initiator. As the curing accelerator, known and commonly used curing accelerators can be used. For example, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), and salts thereof (for example, phenol salts, Octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate salt); 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN), and salts thereof (eg, phosphonium salts, sulfonium salts) Quaternary ammonium salts, iodonium salts); tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N, N-dimethylcyclohexylamine; 2-ethyl-4-methylimidazole, Imidazoles such as 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole; phosphate ester, triphenylphos Phosphines such as fin; tetraphenylphosphonium tetra (p- tolyl) phosphonium compounds such as borate, tin octylate, organic metal salts such as zinc octylate; metal chelate and the like. In addition, a hardening accelerator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

また、上記硬化促進剤としては、U−CAT SA 506、U−CAT SA 102、U−CAT 5003、U−CAT 18X、12XD(開発品)(以上、サンアプロ(株)製)、TPP−K、TPP−MK(以上、北興化学工業(株)製)、PX−4ET(日本化学工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。   Moreover, as said hardening accelerator, U-CAT SA506, U-CAT SA102, U-CAT5003, U-CAT18X, 12XD (development product) (above, the San Apro Co., Ltd. product), TPP-K, Commercial products such as TPP-MK (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.) and PX-4ET (made by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) can also be used.

本発明の樹脂組成物(100重量%)における硬化促進剤の含有量(配合量)は、特に限定されないが、0.05〜5重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜3重量%、さらに好ましくは0.2〜3重量%、特に好ましくは0.25〜2.5重量%である。硬化促進剤の含有量が0.05重量%未満であると、硬化促進効果が不十分となる場合がある。一方、硬化促進剤の含有量が5重量%を超えると、硬化物が着色して色相が悪化する場合がある。   The content (blending amount) of the curing accelerator in the resin composition (100% by weight) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight, More preferably, it is 0.2 to 3 weight%, Most preferably, it is 0.25 to 2.5 weight%. If the content of the curing accelerator is less than 0.05% by weight, the curing accelerating effect may be insufficient. On the other hand, when content of a hardening accelerator exceeds 5 weight%, hardened | cured material may color and a hue may deteriorate.

(光ラジカル重合開始剤)
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、アセトフェノンベンジル、ベンジルジメチルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジメトキシアセトフェノン、ジメトキシフェニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ジフェニルジサルファイト、オルトベンゾイル安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル(日本化薬(株)製 カヤキュアEPA等)、2,4−ジエチルチオキサンソン(日本化薬(株)製 カヤキュアDETX等)、2−メチル−1−[4−(メチル)フェニル]−2−モルホリノプロパノン−1(チバガイギ−(株)製 イルガキュア907等)、2−ジメチルアミノ−2−(4−モルホリノ)ベンゾイル−1−フェニルプロパン等の2−アミノ−2−ベンゾイル−1−フェニルアルカン化合物、テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ベンジル、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、4,4−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゼン誘導体、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾ−ル(保土谷化学(株)製 B−CIM等)等のイミダゾール化合物、2,6−ビス(トリクロロメチル)−4−(4−メトキシナフタレン−1−イル)−1,3,5−トリアジン等のハロメチル化トリアジン化合物、2−トリクロロメチル−5−(2−ベンゾフラン2−イル−エテニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチルオキサジアゾール化合物などが挙げられる。これらの光ラジカル重合開始剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。また、本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、光増感剤を加えることができる。上記光ラジカル重合開始剤としては、感度及び耐薬品性等の観点から、イミダゾール化合物とアミノベンゼン誘導体の組合せ、2−アミノ−2−ベンゾイル−1−フェニルアルカン化合物、ハロメチル化トリアジン化合物、ハロメチルオキサジアゾール化合物などが好ましい。
(Photo radical polymerization initiator)
Examples of the photo radical polymerization initiator include benzophenone, acetophenone benzyl, benzyl dimethyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, dimethoxyacetophenone, dimethoxyphenylacetophenone, diethoxyacetophenone, diphenyl disulfite, Orthobenzoyl methyl benzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (Nippon Kayaku Co., Ltd. Kayacure EPA), 2,4-diethylthioxanthone (Nippon Kayaku Co., Ltd. Kayacure DETX etc.), 2-methyl -1- [4- (methyl) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (Irgacure 907 manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.), 2-dimethylamino-2- (4-morpholino) benzoyl-1 2-amino-2-benzoyl-1-phenylalkane compounds such as phenylpropane, tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, benzyl, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 4 Aminobenzene derivatives such as 2,4-bisdiethylaminobenzophenone, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole (Hodogaya Chemical) Imidazole compounds such as B-CIM etc.), halomethylated triazine compounds such as 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (4-methoxynaphthalen-1-yl) -1,3,5-triazine, Halomethyloxy such as 2-trichloromethyl-5- (2-benzofuran-2-yl-ethenyl) -1,3,4-oxadiazole Examples include sadiazole compounds. These radical photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. Moreover, a photosensitizer can be added to the resin composition of this invention as needed. Examples of the photo radical polymerization initiator include a combination of an imidazole compound and an aminobenzene derivative, a 2-amino-2-benzoyl-1-phenylalkane compound, a halomethylated triazine compound, a halomethyl oxa compound from the viewpoints of sensitivity and chemical resistance. Diazole compounds are preferred.

(熱ラジカル重合開始剤)
上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、有機過酸化物類が挙げられる。上記有機過酸化物類としては、例えば、ジアルキルパーオキサイド、アシルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ケトンパーオキサイド、パーオキシエステル等を使用することができる。有機過酸化物の具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、2,5−ジメチルー2,5−ジ(2−エチルヘキサノイル)パーオキシヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジーt−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチルー2,5−ジブチルパーオキシヘキサン、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジーt−ブチルパーオキシジーイソプロピルベンゼン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、メチルエチルケトンパーオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートなどが挙げられる。
(Thermal radical polymerization initiator)
Examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxides. Examples of the organic peroxides that can be used include dialkyl peroxides, acyl peroxides, hydroperoxides, ketone peroxides, and peroxyesters. Specific examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) peroxyhexane, t-butyl. Peroxybenzoate, t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-dibutylperoxyhexane, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, Di-t-butylperoxydiisopropylbenzene, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, methyl ethyl ketone peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy- Examples include 2-ethylhexanoate.

さらに、上記熱ラジカル重合開始剤とともに、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸亜鉛、オクテン酸コバルト等のナフテン酸やオクテン酸のコバルト、マンガン、鉛、亜鉛、バナジウムなどの金属塩を併用することができる。同様に、ジメチルアニリン等の3級アミンも使用することができる。   Furthermore, together with the thermal radical polymerization initiator, naphthenic acid such as cobalt naphthenate, manganese naphthenate, zinc naphthenate, cobalt octenoate or the like, or metal salts such as cobalt octenoate, manganese, lead, zinc, vanadium, etc. Can do. Similarly, tertiary amines such as dimethylaniline can be used.

上述の光若しくは熱ラジカル重合開始剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を任意の割合で組み合わせて使用してもよい。その使用量は、本発明の樹脂組成物(100重量%)において、0.01〜5重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜3重量%である。   One of the above-mentioned light or thermal radical polymerization initiators may be used alone, or two or more thereof may be used in combination at any ratio. The amount used is preferably 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight in the resin composition (100% by weight) of the present invention.

[無機フィラー(D)]
本発明の樹脂組成物は、さらに、無機フィラー(D)を含んでいてもよい。無機フィラー(D)としては、特に限定されないが、シリカ(ナノシリカなど)、アルミナ、マイカ、合成マイカ、タルク、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、酸化ジルコニウム(ナノジルコニアなど)、酸化チタン(ナノチタニアなど)、チタン酸バリウム、カオリン、ベントナイト、珪藻土、窒化ホウ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化セシウム、酸化マグネシウム、ガラスビーズ、ガラス繊維、グラファイト、カーボンナノチューブ、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、セルロースなどが挙げられる。なお、無機フィラー(D)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Inorganic filler (D)]
The resin composition of the present invention may further contain an inorganic filler (D). The inorganic filler (D) is not particularly limited, but silica (such as nano silica), alumina, mica, synthetic mica, talc, calcium oxide, calcium carbonate, zirconium oxide (such as nano zirconia), titanium oxide (such as nano titania), titanium. Barium acid, kaolin, bentonite, diatomaceous earth, boron nitride, aluminum nitride, silicon carbide, zinc oxide, cerium oxide, cesium oxide, magnesium oxide, glass beads, glass fiber, graphite, carbon nanotube, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, water Examples thereof include aluminum oxide and cellulose. In addition, an inorganic filler (D) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

これらの無機フィラー(D)は、例えば国際公開第96/31572号に記載されている火炎加水分解法や、火炎熱分解法、プラズマ法等の公知の方法で製造することができる。好ましい無機フィラー(D)としては、安定化されたコロイド状無機粒子のナノ分散ゾル類等を用いることができ、市販品としては、BAYER社製のシリカゾル、Goldschmidt社製のSnO2ゾル類、MERCK社製のTiO2ゾル類、Nissan Chemicals社製のSiO2、ZrO2、Al23およびSb23ゾルまたはDEGUSSA社製のAerosil分散物類などの市販品が入手可能である。 These inorganic fillers (D) can be produced by a known method such as a flame hydrolysis method, a flame pyrolysis method, or a plasma method described in, for example, International Publication No. 96/31572. As the preferred inorganic filler (D), nano colloidal inorganic dispersion sols can be used, and commercially available products include silica sol manufactured by BAYER, SnO 2 sol manufactured by Goldschmidt, and MERCK. Commercially available products such as TiO 2 sols from the company, SiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 and Sb 2 O 3 sols from Nissan Chemicals or Aerosil dispersions from DEGUSSA are available.

無機フィラー(D)は、表面の改質によりこれらの粘度挙動を変化させることができる。無機フィラー(D)の表面改質は、公知の表面改質剤を用いて行うことができる。このような表面改質剤としては、例えば、無機フィラー(D)の表面に存在する官能基と共有結合や錯形成等の相互作用が可能な化合物や、重合体マトリックスと相互作用可能な化合物を用いることができる。このような表面改質剤としては、例えば、分子内にカルボキシル基、(第1級、第2級、第3級)アミノ基、4級アンモニウム基、カルボニル基、グリシジル基、ビニル基、(メタ)アクリロキシ基、メルカプト基等の官能基を有する化合物等を用いることができる。このような表面改質剤としては、通常、標準温度および圧力条件下で液体であり、分子内の炭素数が15以下(より好ましくは炭素数が10以下、さらに好ましくは8以下)の低分子有機化合物で構成された表面改質剤が好ましい。上記低分子有機化合物の分子量は、特に限定されないが、500以下が好ましく、より好ましくは350以下、さらに好ましくは200以下である。   The inorganic filler (D) can change these viscosity behaviors by surface modification. The surface modification of the inorganic filler (D) can be performed using a known surface modifier. As such a surface modifier, for example, a compound capable of interacting with a functional group present on the surface of the inorganic filler (D) such as a covalent bond or complex formation, or a compound capable of interacting with a polymer matrix. Can be used. Examples of such surface modifiers include carboxyl groups, (primary, secondary, and tertiary) amino groups, quaternary ammonium groups, carbonyl groups, glycidyl groups, vinyl groups, ) A compound having a functional group such as acryloxy group or mercapto group can be used. Such a surface modifier is usually a liquid under normal temperature and pressure conditions, and has a low molecular weight of 15 or less (more preferably 10 or less, more preferably 8 or less) in the molecule. Surface modifiers composed of organic compounds are preferred. The molecular weight of the low molecular weight organic compound is not particularly limited, but is preferably 500 or less, more preferably 350 or less, and still more preferably 200 or less.

上記表面改質剤としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、コハク酸、グルタル酸、シュウ酸、マレイン酸およびフマル酸などの炭素数1〜12の飽和または不飽和モノおよびポリカルボン酸類(好ましくは、モノカルボン酸類);及びこれらのエステル類(好ましくはメタクリル酸メチル等のC1〜C4アルキルエステル類);アミド類;アセチルアセトン、2,4−ヘキサンジオン、3,5−ヘプタンジオン、アセト酢酸およびC1〜C4アルキルアセト酢酸類などのβ−ジカルボニル化合物等が挙げられる。また、特に限定されないが、公知慣用のシランカップリング剤を表面改質剤として使用することもできる。 Examples of the surface modifier include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, pentanoic acid, hexanoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, citric acid, adipic acid, succinic acid, glutaric acid, oxalic acid and maleic acid. acid and saturated or unsaturated mono- and polycarboxylic acids having 1 to 12 carbon atoms such as fumaric acid (preferably monocarboxylic acids); and C 1 -C 4 alkyl esters of these esters (preferably such as methyl methacrylate Amides; β-dicarbonyl compounds such as acetylacetone, 2,4-hexanedione, 3,5-heptanedione, acetoacetic acid and C 1 -C 4 alkylacetoacetic acids. Moreover, although it does not specifically limit, a well-known and usual silane coupling agent can also be used as a surface modifier.

無機フィラー(D)の粒径は、特に限定されないが、0.01nm〜1μmが好ましく、より好ましくは0.1nm〜200nm、さらに好ましくは0.1nm〜100nmである。   Although the particle size of an inorganic filler (D) is not specifically limited, 0.01 nm-1 micrometer are preferable, More preferably, it is 0.1 nm-200 nm, More preferably, it is 0.1 nm-100 nm.

無機フィラー(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、樹脂組成物中の化合物(A)および化合物(B)の総量(合計含有量)100重量部に対して、1〜2000重量部が好ましく、より好ましくは10〜500重量部である。また、樹脂組成物全量(100重量%)に対する無機フィラー(D)の含有量は、特に限定されないが、5〜95重量%が好ましく、より好ましくは10〜80重量%である。   The content (blending amount) of the inorganic filler (D) is not particularly limited, but is 1 to 2000 with respect to 100 parts by weight of the total amount (total content) of the compound (A) and the compound (B) in the resin composition. A weight part is preferable, More preferably, it is 10-500 weight part. Moreover, the content of the inorganic filler (D) with respect to the total amount (100% by weight) of the resin composition is not particularly limited, but is preferably 5 to 95% by weight, and more preferably 10 to 80% by weight.

[シランカップリング剤(E)]
本発明の樹脂組成物は、基板等の被接着体に対する接着性を向上させるために、さらに、シランカップリング剤(E)を含んでいてもよい。シランカップリング剤(E)としては、特に限定されず、公知慣用のシランカップリング剤を使用できる。シランカップリング剤(E)としては、具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス(メトキシエトキシシラン)、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどの、水溶液中で比較的安定なものの中から適宜選択して使用することができる。
[Silane coupling agent (E)]
The resin composition of the present invention may further contain a silane coupling agent (E) in order to improve adhesion to an adherend such as a substrate. It does not specifically limit as a silane coupling agent (E), A well-known and usual silane coupling agent can be used. As the silane coupling agent (E), specifically, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, Vinyltris (methoxyethoxysilane), phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) Acryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-g Sidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N -(Β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyl Trimethoxysilane, 3-mercaptop Appropriately selected from those that are relatively stable in an aqueous solution, such as pyrtriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane. Can do.

本発明の樹脂組成物(100重量%)におけるシランカップリング剤(E)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、0.1〜20重量%が好ましく、より好ましくは0.3〜8重量%、さらに好ましくは0.5〜5重量%である。シランカップリング剤(E)の含有量が0.1重量%未満であると、シランカップリング剤(E)による樹脂の架橋効果が乏しく、したがって緻密な膜が得られにくい場合がある。また、金属基材へのカップリング効果が乏しく、密着性が劣り、望ましい耐アルカリ性と防錆力が得られにくい場合がある。シランカップリング剤(E)の含有量が20重量%を超えると、加水分解による耐水、耐アルカリ性等諸性能の低下が著しく、造膜性に問題が生じ、また経済性の点でも不利となる場合がある。   The content (blending amount) of the silane coupling agent (E) in the resin composition (100 wt%) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 wt%, more preferably 0.3 to It is 8% by weight, more preferably 0.5 to 5% by weight. When the content of the silane coupling agent (E) is less than 0.1% by weight, the cross-linking effect of the resin by the silane coupling agent (E) is poor, and therefore a dense film may be difficult to obtain. Moreover, the coupling effect to a metal base material is poor, adhesiveness is inferior, and desirable alkali resistance and rust prevention power may be difficult to obtain. When the content of the silane coupling agent (E) exceeds 20% by weight, various performances such as water resistance and alkali resistance due to hydrolysis are remarkably deteriorated, resulting in problems in film forming properties and disadvantageous in terms of economy. There is a case.

[他の添加剤]
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、レベリング剤、消泡剤、顔料、有機溶剤、紫外線吸収剤、イオン吸着体、顔料、蛍光体、離型剤などの慣用の添加剤を含有していてもよい。
[Other additives]
If necessary, the resin composition of the present invention may be, for example, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a light stabilizer, a plasticizer, a leveling agent, an antifoaming agent, a pigment, an organic solvent, an ultraviolet absorber, an ion adsorbent, Conventional additives such as pigments, phosphors, and release agents may be contained.

<樹脂組成物の製造方法>
本発明の樹脂組成物は、上述の成分(A)、成分(B)、成分(C)、及び必要に応じて、成分(D)、成分(E)、その他の成分(添加剤など)を、均一に混合することにより得ることができる。本発明の樹脂組成物を得るにあたっては、各成分を自公転式攪拌脱泡装置、ホモジナイザー、プラネタリーミキサー、3本ロールミル、ビーズミル等の一般的に知られる混合用機器を使用してなるべく均一になるように、攪拌、溶解、混合、分散等を行うことが望ましい。なお、各成分は、同時に混合してもよいし、逐次混合してもよい。
<Method for producing resin composition>
The resin composition of the present invention comprises the above component (A), component (B), component (C), and, if necessary, component (D), component (E), and other components (additives, etc.). It can be obtained by mixing uniformly. In obtaining the resin composition of the present invention, each component is made as uniform as possible by using generally known mixing equipment such as a revolving type stirring deaerator, a homogenizer, a planetary mixer, a three-roll mill, a bead mill and the like. It is desirable to perform stirring, dissolution, mixing, dispersion, and the like. Each component may be mixed simultaneously or sequentially.

<硬化物>
本発明の樹脂組成物を光若しくは熱により硬化させることにより、硬化物(樹脂硬化物)を得ることができる。本発明の樹脂組成物を光(光照射)により硬化させる場合には、例えば、上記樹脂組成物に対して、水銀ランプ等で1000mJ/cm2以上の光を照射することで硬化させることができる。また、本発明の樹脂組成物を熱(加熱)により硬化させる場合には、例えば、上記樹脂組成物を、温度50〜200℃(より好ましくは50〜190℃、さらに好ましくは50〜180℃)で、10〜600分間(より好ましくは10〜480分間、さらに好ましくは15〜360分間)加熱することで硬化させることができる。加熱する温度(硬化温度)と時間(硬化時間)が上記範囲の下限値より低い場合は、樹脂組成物の硬化が不十分となることがあり、好ましくない場合がある。一方、硬化温度と硬化時間が上記範囲の上限値より高い場合、樹脂成分の分解が起きることがあり、好ましくない場合がある。本発明の樹脂組成物の硬化条件は、種々の条件に依存するが、硬化温度が高い場合は硬化時間を短く、硬化温度が低い場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。本発明の樹脂組成物を硬化させることにより、屈折率が高く、なおかつ低透湿性に優れた硬化物を得ることができる。
<Hardened product>
A cured product (resin cured product) can be obtained by curing the resin composition of the present invention with light or heat. When the resin composition of the present invention is cured by light (light irradiation), for example, the resin composition can be cured by irradiating light of 1000 mJ / cm 2 or more with a mercury lamp or the like. . When the resin composition of the present invention is cured by heat (heating), for example, the resin composition is heated at a temperature of 50 to 200 ° C. (more preferably 50 to 190 ° C., more preferably 50 to 180 ° C.). Then, it can be cured by heating for 10 to 600 minutes (more preferably for 10 to 480 minutes, still more preferably for 15 to 360 minutes). When the heating temperature (curing temperature) and time (curing time) are lower than the lower limit of the above range, the resin composition may be insufficiently cured, which may be undesirable. On the other hand, when the curing temperature and the curing time are higher than the upper limit value in the above range, decomposition of the resin component may occur, which may not be preferable. The curing conditions of the resin composition of the present invention depend on various conditions, but can be appropriately adjusted by shortening the curing time when the curing temperature is high and increasing the curing time when the curing temperature is low. . By curing the resin composition of the present invention, a cured product having a high refractive index and excellent low moisture permeability can be obtained.

本発明の樹脂組成物を硬化してなる硬化物は、透湿性が低いため、防湿性に優れている。上記硬化物の透湿度は、JIS L1099およびJIS Z0208に準じて、厚み100μmの硬化物の透湿量を、60℃、90%RHの条件下で測定することにより算出することができる。本発明の硬化物は、特に限定されないが、上記の方法で測定した透湿度が、50g/m2・atm・day以下(例えば、0〜50g/m2・atm・day)であることが好ましく、より好ましくは30g/m2・atm・day以下(例えば、0〜30g/m2・atm・day)、さらに好ましくは25g/m2・atm・day以下(例えば、0〜25g/m2・atm・day)である。また、本発明の樹脂組成物に無機フィラー(D)を配合することにより、硬化物の透湿度を、例えば、20g/m2・atm・day以下(例えば、0〜20g/m2・atm・day)、特に好ましくは15g/m2・atm・day以下(例えば、0〜15g/m2・atm・day)と、さらに低減することができる。 Since the cured product obtained by curing the resin composition of the present invention has low moisture permeability, it is excellent in moisture resistance. The moisture permeability of the cured product can be calculated by measuring the moisture permeability of a cured product having a thickness of 100 μm under the conditions of 60 ° C. and 90% RH according to JIS L1099 and JIS Z0208. The cured product of the present invention is not particularly limited, moisture permeability was measured by the above methods, 50g / m 2 · atm · day or less (e.g., 0~50g / m 2 · atm · day) is preferably , more preferably 30g / m 2 · atm · day or less (e.g., 0~30g / m 2 · atm · day), more preferably 25g / m 2 · atm · day or less (e.g., 0~25g / m 2 · atm · day). Further, by blending the inorganic filler (D) with the resin composition of the present invention, the moisture permeability of the cured product is, for example, 20 g / m 2 · atm · day or less (for example, 0 to 20 g / m 2 · atm · day), particularly preferably 15 g / m 2 · atm · day or less (for example, 0 to 15 g / m 2 · atm · day).

また、上記硬化物の20℃における波長589nmの光(ナトリウムD線)に対する屈折率は、特に限定されないが、1.550〜1.900が好ましく、より好ましくは1.600〜1.850、さらに好ましくは1.650〜1.820である。なお、硬化物の屈折率は、例えば、JIS K7142に準拠する方法や、プリズムカプラを用いる方法により測定することができる。   Moreover, the refractive index with respect to the light (sodium D line | wire) of wavelength 589nm in 20 degreeC of the said hardened | cured material is although it does not specifically limit, 1.550-1.900 are preferable, More preferably, 1.600-1.850, Preferably it is 1.650-1.820. In addition, the refractive index of hardened | cured material can be measured by the method based on JISK7142, or the method using a prism coupler, for example.

<封止剤、シール剤>
本発明の樹脂組成物は硬化収縮が小さく、該樹脂組成物の硬化物は、高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れる。このため、本発明の樹脂組成物は、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、LED装置、ディスプレイ(例えば、タッチパネルなど)などの電子デバイスにおける封止材又はシール材を形成するための封止剤又はシール剤として好ましく使用できる。より具体的には、本発明の樹脂組成物を必須成分として含む封止剤又はシール剤を、特に高い屈折率と低透湿性の封止材又はシール材が求められる電子デバイス用の封止剤又はシール剤として使用できる。なお、上記封止剤又はシール剤を硬化させる際の条件としては、上述の硬化物を得る際と同様の条件を採用できる。また、本発明の樹脂組成物は、上記用途への使用に限定されず、例えば、接着剤としても使用できる。
<Sealing agent, sealing agent>
The resin composition of the present invention has a small cure shrinkage, and the cured product of the resin composition has a high refractive index and is excellent in low moisture permeability. For this reason, the resin composition of the present invention is particularly a sealant or sealant for forming a sealant or sealant in an electronic device such as an organic electroluminescence device, an LED device, and a display (for example, a touch panel). Can be preferably used. More specifically, a sealing agent or sealing agent containing the resin composition of the present invention as an essential component, especially a sealing agent for electronic devices that requires a high refractive index and low moisture permeability sealing material or sealing material. Or it can be used as a sealing agent. In addition, as conditions when hardening the said sealing agent or sealing agent, the conditions similar to the time of obtaining the above-mentioned hardened | cured material are employable. Moreover, the resin composition of this invention is not limited to the use for the said use, For example, it can be used also as an adhesive agent.

<有機エレクトロルミネッセンス装置、LED装置、ディスプレイなどの電子デバイス>
本発明の樹脂組成物を電子デバイスにおける封止剤やシール剤などとして使用することにより、硬化収縮や水分(湿度)による悪影響が最小限に抑えられ、なおかつ硬化物の高い屈折率に起因する高い品質が付与された電子デバイス(本発明の樹脂組成物の硬化物を含む電子デバイス)を得ることができる。上記電子デバイスとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置、発光ダイオード装置(LED装置)、タッチパネルなどのディスプレイなどが挙げられる。特に、本発明の樹脂組成物を、特に高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた封止材の使用が要求される有機エレクトロルミネッセンス装置に対して使用した場合には、より耐久性かつ品質の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を得ることができる。
<Electronic devices such as organic electroluminescence devices, LED devices, displays>
By using the resin composition of the present invention as a sealing agent or a sealing agent in an electronic device, adverse effects due to curing shrinkage and moisture (humidity) can be minimized, and high due to the high refractive index of the cured product. An electronic device to which quality is imparted (an electronic device including a cured product of the resin composition of the present invention) can be obtained. Examples of the electronic device include displays such as an organic electroluminescence device, a light emitting diode device (LED device), and a touch panel. In particular, when the resin composition of the present invention is used for an organic electroluminescence device that requires use of a sealing material having a particularly high refractive index and excellent in low moisture permeability, it is more durable. In addition, a high-quality organic electroluminescence device can be obtained.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

製造例1
[ビス[4−(2−クロロエチル)チオフェニル]スルフィドの製造]
冷却管、攪拌器、温度計を備え付けた1Lの4口フラスコに、4,4’−チオビスベンゼンチオール50.6g(202.1mmol)、テトラブチルアンモニウムブロマイド[nBu4NBr]1.71g(5.30mmol)、及び1,2−ジクロロエタン410.3g(4146mmol)を入れ、ここに、室温で30wt%水酸化カリウム水溶液87.3g(466.8mmol)を滴下した。滴下終了後、反応液を2時間攪拌し、その後、水を加え、ブフナロートを用いて白色固体をろ別した。ろ別した白色固体を水で洗浄し、その後減圧乾燥して、下記式で表されるビス[4−(2−クロロエチル)チオフェニル]スルフィドを白色固体として得た(74.9g、収率99%)。

Figure 2013091743
Production Example 1
[Production of bis [4- (2-chloroethyl) thiophenyl] sulfide]
To a 1 L four-necked flask equipped with a condenser, a stirrer, and a thermometer, 50.6 g (202.1 mmol) of 4,4′-thiobisbenzenethiol, 1.71 g of tetrabutylammonium bromide [nBu 4 NBr] (5 .30 mmol) and 410.3 g (4146 mmol) of 1,2-dichloroethane were added, and 87.3 g (466.8 mmol) of 30 wt% aqueous potassium hydroxide solution was added dropwise thereto at room temperature. After completion of the dropwise addition, the reaction solution was stirred for 2 hours, after which water was added and a white solid was filtered off using a buchner funnel. The filtered white solid was washed with water and then dried under reduced pressure to obtain bis [4- (2-chloroethyl) thiophenyl] sulfide represented by the following formula as a white solid (74.9 g, yield 99%). ).
Figure 2013091743

製造例2
[ビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド(MPV)の製造]
冷却管、攪拌器、温度計を備え付けた1Lの4口フラスコに、ビス[4−(2−クロロエチル)チオフェニル]スルフィド100.1g(266.8mmol)、テトラブチルアンモニウムブロマイド[nBu4NBr]4.51g(14.0mmol)、及びn−ヘプタン239.5gを入れ、ここに、85℃で50wt%水酸化ナトリウム水溶液107.0g(882.0mmol)を滴下した。滴下終了後、反応液を5時間攪拌し、その後、水を加え、分液ロートに移して分液を行った。さらに、有機層を2回水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水した後、溶媒を留去して液状の粗生成物を得た。上記粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=40/1)で精製し、その後、1.0mg/mlの2,6−ジ−tert−ブチルハイドロキシトルエンのヘキサン溶液11.0gを加え、減圧乾燥し、下記式で表されるビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド(MPV)を無色透明液体として得た(23.0g、収率28%)。

Figure 2013091743
1H−NMR(CDCl3,500MHz):δ5.39−5.40(m,4H)、6.52(dd,J=16.4、9.6Hz,2H)、7.27−7.30(m,8H) Production Example 2
[Production of bis (4-vinylthiophenyl) sulfide (MPV)]
Into a 1 L four-necked flask equipped with a condenser, a stirrer, and a thermometer, 100.1 g (266.8 mmol) of bis [4- (2-chloroethyl) thiophenyl] sulfide, tetrabutylammonium bromide [nBu 4 NBr] 4. 51 g (14.0 mmol) and 239.5 g of n-heptane were added, and 107.0 g (882.0 mmol) of a 50 wt% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise thereto at 85 ° C. After completion of the dropwise addition, the reaction solution was stirred for 5 hours, and then water was added, followed by separation into a separatory funnel. Further, the organic layer was washed twice with water and dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain a liquid crude product. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 40/1), and then 11.0 g of 1.0 mg / ml 2,6-di-tert-butylhydroxytoluene in hexane was added. After drying under reduced pressure, bis (4-vinylthiophenyl) sulfide (MPV) represented by the following formula was obtained as a colorless transparent liquid (23.0 g, yield 28%).
Figure 2013091743
1 H-NMR (CDCl 3 , 500 MHz): δ 5.39-5.40 (m, 4H), 6.52 (dd, J = 16.4, 9.6 Hz, 2H), 7.27-7.30 (M, 8H)

実施例1
製造例2で得たビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド70重量部、SC−100(エスジーケミカル(株)製)30重量部、及び熱カチオン重合開始剤(サンエイドSI−B3(三新化学工業(株)製))1重量部を、自公転式攪拌脱泡装置(型式:AR−250((株)シンキー製))内に投入し、攪拌、溶解、混合、分散を行い、樹脂組成物を調液した。得られた樹脂組成物を、厚み100μmのテフロン(登録商標)製のスペーサを用いた型に注型し、100℃の定温送風オーブンにて1時間加熱し、硬化させて硬化物を得た。
Example 1
70 parts by weight of bis (4-vinylthiophenyl) sulfide obtained in Production Example 2, 30 parts by weight of SC-100 (manufactured by SG Chemical Co., Ltd.), and a thermal cationic polymerization initiator (Sun Aid SI-B3 (Sanshin Chemical Industry) 1 part by weight is put into a self-revolving agitation deaerator (model: AR-250 (manufactured by Sinky Corp.)), and stirred, dissolved, mixed and dispersed to obtain a resin composition. Was prepared. The obtained resin composition was cast into a mold using a Teflon (registered trademark) spacer having a thickness of 100 μm, heated in a constant temperature air oven at 100 ° C. for 1 hour, and cured to obtain a cured product.

実施例2〜19
表1〜3に示すように、化合物(A)、化合物(B)、重合開始剤(C)の種類及び配合量を変更したこと以外は、実施例1と同様にして樹脂組成物及び硬化物を作製した。
なお、実施例6におけるアミルフェノールジサルファイド重合物は、サンセラーAP(三新化学工業(株)製、シリカ配合物)からアセトンにて抽出、乾燥することにより得た。
Examples 2-19
As shown in Tables 1 to 3, the resin composition and the cured product were the same as in Example 1 except that the types and blending amounts of the compound (A), the compound (B), and the polymerization initiator (C) were changed. Was made.
In addition, the amylphenol disulfide polymer in Example 6 was obtained by extracting and drying with acetone from Sunceller AP (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., silica compound).

比較例1
ビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド99重量部、及び熱カチオン重合開始剤(サンエイドSI−B3(三新化学工業(株)製))1重量部を、自公転式攪拌脱泡装置(型式:AR−250(シンキー(株)製))内に投入し、攪拌、溶解、混合、分散を行い、樹脂組成物を調液した。得られた樹脂組成物を、厚み100μmのテフロン(登録商標)製のスペーサを用いた型に注型し、100℃の定温送風オーブンにて1時間加熱し、硬化させて硬化物を得た。
Comparative Example 1
99 parts by weight of bis (4-vinylthiophenyl) sulfide and 1 part by weight of a thermal cationic polymerization initiator (Sun-Aid SI-B3 (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)) AR-250 (manufactured by Shinky Co., Ltd.)), and the mixture was stirred, dissolved, mixed and dispersed to prepare a resin composition. The obtained resin composition was cast into a mold using a Teflon (registered trademark) spacer having a thickness of 100 μm, heated in a constant temperature air oven at 100 ° C. for 1 hour, and cured to obtain a cured product.

比較例2、3
表3に示すように、化合物(A)、重合開始剤(C)の種類及び配合量を変更したこと以外は、比較例1と同様にして樹脂組成物及び硬化物を作製した。
Comparative Examples 2 and 3
As shown in Table 3, a resin composition and a cured product were prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the types and blending amounts of the compound (A) and the polymerization initiator (C) were changed.

<水蒸気透過率(透湿度)の測定>
実施例及び比較例で得られた100μm厚みの硬化物を透湿カップに取り付け、JIS L1099に従って、60℃、90%RHの条件にて、上記硬化物の水蒸気透過率を測定した。結果を表1〜3に示す。
<Measurement of water vapor transmission rate (moisture permeability)>
The cured product having a thickness of 100 μm obtained in Examples and Comparative Examples was attached to a moisture permeable cup, and the water vapor permeability of the cured product was measured under the conditions of 60 ° C. and 90% RH in accordance with JIS L1099. The results are shown in Tables 1-3.

<屈折率の測定>
実施例及び比較例で得られた100μm厚みの硬化物について、Model 2010プリズムカプラ(メトリコン社製)を使用して、589nmの光の屈折率を測定した。結果を表1〜3に示す。
<Measurement of refractive index>
The cured product having a thickness of 100 μm obtained in Examples and Comparative Examples was measured for the refractive index of light at 589 nm using a Model 2010 prism coupler (manufactured by Metricon). The results are shown in Tables 1-3.

<硬化収縮率の測定>
樹脂組成物を硬化させて硬化物を形成した際の硬化収縮率を、比重法により算出した。結果を表1〜3に示す。
<Measurement of cure shrinkage>
The cure shrinkage when the resin composition was cured to form a cured product was calculated by the specific gravity method. The results are shown in Tables 1-3.

Figure 2013091743
Figure 2013091743

Figure 2013091743
Figure 2013091743

Figure 2013091743
Figure 2013091743

表1〜3に示すように、本発明の樹脂組成物(実施例)は、硬化時の硬化収縮が小さく、さらに、その硬化物は高い屈折率を有し、かつ低透湿性に優れており、これらの特性をバランス良く備えるものであった。一方、本発明の規定を満たさない樹脂組成物(比較例)は、特に、硬化物の透湿性が高く、上述の特性をバランス良く備えるものではなかった。   As shown in Tables 1 to 3, the resin compositions (Examples) of the present invention have small cure shrinkage upon curing, and the cured product has a high refractive index and is excellent in low moisture permeability. These characteristics were provided in a well-balanced manner. On the other hand, the resin composition (comparative example) that does not satisfy the provisions of the present invention has a particularly high moisture permeability of the cured product and does not have the above-mentioned characteristics in a well-balanced manner.

実施例及び比較例で用いた化合物は、以下の通りである。
[化合物(A)]
MPV:ビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド
MPSMA(東京化成工業(株)製):ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド
[化合物(B)]
SC−100(エスジーケミカル(株)製):フェノール変性石油樹脂
レジタックスA−2(エスジーケミカル(株)製):モノメチルナフタレンホルムアルデヒド縮合物
SAP−X(旭有機材工業(株)製):p−クレゾールノボラック樹脂
MEH 7851−M(明和化成(株)製):フェノール−ビフェニルホルムアルデヒド縮合物
ニットレジンPH−25(日塗化学(株)製):スチレン化フェノール
ネオポリマーL−90、ネオポリマーS(JX日鉱日石エネルギー(株)製):石油樹脂
ニカノールY−50、ニカノールY−1000、ニカノールG(フドー(株)製):キシレン樹脂
KE−100(荒川化学工業(株)製):ロジンエステル
[化合物(C)]
SI−B3(三新化学工業(株)製):4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
パーブチルO(日油(株)製):t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート
The compounds used in Examples and Comparative Examples are as follows.
[Compound (A)]
MPV: bis (4-vinylthiophenyl) sulfide MPSMA (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide [compound (B)]
SC-100 (manufactured by SG Chemical Co., Ltd.): phenol-modified petroleum resin RETAX A-2 (manufactured by SG Chemical Co., Ltd.): monomethylnaphthalene formaldehyde condensate SAP-X (manufactured by Asahi Organic Materials Co., Ltd.) -Cresol novolac resin MEH 7851-M (Maywa Kasei Co., Ltd.): Phenol-biphenyl formaldehyde condensate Knit resin PH-25 (Nikko Chemical Co., Ltd.): Styrenated phenol Neopolymer L-90, Neopolymer S (Manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation): Petroleum resin Nikanol Y-50, Nikanol Y-1000, Nikanol G (Fudo Co., Ltd.): Xylene resin KE-100 (Arakawa Chemical Industries, Ltd.): Rosin Ester [Compound (C)]
SI-B3 (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.): 4-hydroxyphenylbenzylmethylsulfonium = tetrakis (pentafluorophenyl) borate perbutyl O (manufactured by NOF Corporation): t-butylperoxy-2-ethylhexa Noate

Claims (11)

下記式(1)で表される化合物(A)と、フェノール類とアルデヒドの縮合物、芳香族炭化水素とアルデヒドの縮合物、石油樹脂、スチレン化フェノール、及びロジンからなる群より選択された少なくとも1種の化合物(B)と、重合開始剤(C)とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
Figure 2013091743
(式(1)中、Raは、それぞれ独立に、反応性官能基を示す。R1は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アリール基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシル基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシアルキル基、保護基で保護されていてもよいアミノ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、保護基で保護されていてもよいスルホ基、ニトロ基、シアノ基、又は保護基で保護されていてもよいアシル基を示す。R2は単結合又は連結基を示す。mは、それぞれ独立に、0〜4の整数を示す。nは、0〜10の整数を示す。)
At least selected from the group consisting of a compound (A) represented by the following formula (1) and a condensate of phenols and aldehyde, a condensate of aromatic hydrocarbon and aldehyde, petroleum resin, styrenated phenol, and rosin. A resin composition comprising one compound (B) and a polymerization initiator (C).
Figure 2013091743
(In Formula (1), each R a independently represents a reactive functional group. Each R 1 may be independently protected with a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, or a protecting group. A good hydroxyl group, a hydroxyalkyl group optionally protected with a protecting group, an amino group optionally protected with a protecting group, a carboxyl group optionally protected with a protecting group, and optionally protected with a protecting group A sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an acyl group which may be protected with a protecting group, R 2 represents a single bond or a linking group, and m independently represents an integer of 0 to 4. n represents an integer of 0 to 10.)
前記化合物(A)が、下記式(1’)で表される化合物である請求項1に記載の樹脂組成物。
Figure 2013091743
(式(1’)中、Ra、R1、mは、前記に同じ。)
The resin composition according to claim 1, wherein the compound (A) is a compound represented by the following formula (1 ′).
Figure 2013091743
(In formula (1 ′), R a , R 1 and m are the same as above.)
さらに、無機フィラー(D)を含む請求項1又は2に記載の樹脂組成物。   Furthermore, the resin composition of Claim 1 or 2 containing an inorganic filler (D). さらに、シランカップリング剤(E)を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   Furthermore, the resin composition of any one of Claims 1-3 containing a silane coupling agent (E). 前記重合開始剤(C)が、光若しくは熱カチオン重合開始剤、又は、光若しくは熱ラジカル重合開始剤である請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the polymerization initiator (C) is a light or thermal cationic polymerization initiator or a light or thermal radical polymerization initiator. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物を硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the resin composition of any one of Claims 1-5. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含むことを特徴とする封止剤。   The sealing agent characterized by including the resin composition of any one of Claims 1-5. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含むことを特徴とするシール剤。   The sealing agent characterized by including the resin composition of any one of Claims 1-5. 請求項6に記載の硬化物を含む有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescent apparatus containing the hardened | cured material of Claim 6. 請求項6に記載の硬化物を含むLED装置。   The LED device containing the hardened | cured material of Claim 6. 請求項6に記載の硬化物を含むディスプレイ。   A display comprising the cured product according to claim 6.
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