JP2013084987A - Manufacturing method of wiring board - Google Patents

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Ryoichi Shiraishi
亮一 白石
Toru Itabashi
板橋  徹
Takahiko Furuta
貴彦 古田
Hironori Mikami
裕基 三上
Shigenori Nishiyama
茂紀 西山
Hiroaki Nakamura
洋明 中村
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Murata Manufacturing Co Ltd
Denso Corp
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a wiring board capable of suppressing the degradation of cutoff performance by a cutoff wire provided on a board surface.SOLUTION: Etching resist, which is formed in a region other than a wiring pattern including a cutoff wire 30, a connection wire 40 on one side and a connection wire 50 on the other side, is removed to obtain a board provided with the remaining etching resist 29. The etching resist 29 having remained on the board is in such a shape that lateral edges on both sides of the etching resist 29 on a conductor layer corresponding to the connection wiring 40 on one side and the connection wiring 50 on the other side are smoothly continuous with lateral edges on both sides of the etching resist 29 on the conductor layer corresponding to the cutoff wire 30, while gradually spreading toward connection objects. The board is then dipped in an etchant.

Description

本発明は、基板上に過電流保護用の遮断配線が設けられる配線基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a wiring board in which a cut-off wiring for overcurrent protection is provided on the board.

近年、小型部品により高密度化される電子制御装置では、小型化された部品内での短絡故障時に生じる短絡電流が大電流に至らないために、電子制御装置に関する故障に対応して設けられるヒューズでの遮断までに長時間を要することとなり、特にヒューズ設置数を削減してコスト低減を目的とした複数の電子制御装置を保護する大型ヒューズでは遮断に更に長時間を要することとなる。このため、遮断時に部品の高温度化や電源配線等での長時間の電圧低下などの問題が生じる。一方、電子制御の高度化や多機能化に伴い搭載される多くの回路や部品に共用されて作動に必要な電源を供給する電源配線(例えばバッテリ経路とアース経路)等の共用配線には、通常装置作動時でも比較的大きな電流が流れることとなる。このため、共用配線経路に設けられる大型ヒューズの遮断電流は更に大きくなる傾向から、個々の回路や部品の短絡故障で十分な遮断性能が確保出来ないことが懸念される。例えば、車両用の電子制御装置の様に、環境温度が高いだけでなく搭載装置が多い装置では、上述した問題が顕著となる。   In recent years, in electronic control devices that are densified by small components, the short-circuit current that occurs at the time of a short-circuit failure in the miniaturized components does not reach a large current, so a fuse provided in response to a failure related to the electronic control device It takes a long time to shut off, and in particular, a large fuse that protects a plurality of electronic control devices for the purpose of reducing costs by reducing the number of installed fuses requires a longer time to shut off. For this reason, problems such as an increase in the temperature of parts at the time of interruption and a long-time voltage drop in the power supply wiring or the like occur. On the other hand, common wiring such as power supply wiring (for example, battery path and ground path) that is shared by many circuits and components mounted with the advancement of electronic control and multi-functionality and supplies power necessary for operation, such as A relatively large current flows even during normal operation of the apparatus. For this reason, since the breaking current of the large fuse provided in the shared wiring path tends to be further increased, there is a concern that a sufficient breaking performance cannot be ensured by a short circuit failure of individual circuits or components. For example, in the case of an apparatus having not only a high environmental temperature but also a large number of mounting apparatuses, such as an electronic control apparatus for a vehicle, the above-described problem becomes significant.

このため、下記特許文献1に開示されるプリント基板制御装置の様に、各基板上での電源配線経路に遮断配線を設けて、過電流が流れた時に遮断配線を溶断することで、短絡故障時には基板毎または装置毎に電源配線経路を遮断している。   For this reason, as in the printed circuit board control device disclosed in Patent Document 1 below, a short-circuit failure is provided by providing a cut-off wiring in the power supply wiring path on each board and fusing the cut-off wiring when an overcurrent flows. Sometimes the power supply wiring path is interrupted for each substrate or device.

特開2007−311467号公報JP 2007-31467 A

ところで、高密度化された基板面に遮断配線を含めた所定の配線パターンを形成する場合には、一般に、導体層の非エッチング面にレジストを形成した後にエッチング液に浸漬することで、レジストが形成されていない領域をエッチングして上記所定の配線パターンを形成する。   By the way, when a predetermined wiring pattern including a blocking wiring is formed on a high-density substrate surface, in general, a resist is formed by immersing in an etching solution after forming a resist on a non-etched surface of a conductor layer. The region not formed is etched to form the predetermined wiring pattern.

このとき、配線パターンの形状に起因してエッチング液が均一に流れ込みにくくなる領域が遮断配線の周囲にあるために、その領域でエッチングが進行しにくくなると、遮断配線の配線幅がばらつく場合がある。一方、上述のような領域に流れ込んだエッチング液が好適に流れ出ずに滞留するために、その領域でエッチングが必要以上に進行してしまっても、遮断配線の配線幅がばらつく場合がある。このため、遮断配線が溶断する位置や溶断タイミングがばらついて遮断性能が低下してしまうという問題がある。特に、遮断配線が他の配線に接続される接続部位では、遮断配線の配線幅を他の配線の配線幅に比べて細くする必要があるために、この問題が顕著になる。   At this time, since there is a region around the cutoff wiring in which the etching solution is difficult to flow uniformly due to the shape of the wiring pattern, the wiring width of the cutoff wiring may vary if etching does not proceed easily in that region. . On the other hand, since the etching solution that has flowed into the region as described above stays without flowing out suitably, even if etching proceeds more than necessary in that region, the wiring width of the cut-off wiring may vary. For this reason, there exists a problem that the interruption | blocking performance will fall because the position and cutting | disconnection timing at which the interruption | blocking wiring blows vary. In particular, in a connection portion where the interruption wiring is connected to other wiring, this problem becomes significant because the wiring width of the interruption wiring needs to be narrower than the wiring width of the other wiring.

本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、基板面に設けられる遮断配線による遮断性能の低下を抑制し得る配線基板の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board that can suppress a decrease in the breaking performance due to the breaking wiring provided on the board surface. It is in.

上記目的を達成するため、特許請求の範囲に記載の請求項1の配線基板の製造方法では、過電流による発熱に応じて溶断した場合に接続対象との接続を遮断する遮断配線が、接続配線を介して前記接続対象に接続されて基板上に形成される配線基板の製造方法であって、前記遮断配線および前記接続配線を構成するための導体層が設けられた基板を用意する第1工程と、前記導体層上にエッチングレジストを形成する第2工程と、前記エッチングレジストのうち、前記遮断配線および前記接続配線を含めた配線パターンと異なる領域に形成されたエッチングレジストを除去して、前記接続配線に相当する前記導体層上の前記エッチングレジストにおける側縁が前記遮断配線に相当する前記導体層上の前記エッチングレジストにおける側縁となだらかに連続し前記接続対象に向かうにつれて徐々に広がるように前記エッチングレジストを残す第3工程と、前記エッチングレジストが形成されていない前記導体層を除去するためのエッチング液に前記基板を浸漬する第4工程と、前記浸漬後の前記基板から前記エッチングレジストを除去する第5工程と、を備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, in the method for manufacturing a wiring board according to claim 1, the cut-off wiring that cuts off the connection with the connection target when fusing in response to heat generated by overcurrent is connected wiring. A method of manufacturing a wiring board formed on a substrate connected to the connection target via a first step of preparing a substrate provided with a conductor layer for constituting the blocking wiring and the connection wiring And a second step of forming an etching resist on the conductor layer, and removing the etching resist formed in a region different from the wiring pattern including the blocking wiring and the connection wiring in the etching resist, A side edge in the etching resist on the conductor layer corresponding to the connection wiring is a side edge in the etching resist on the conductor layer corresponding to the blocking wiring. The substrate is immersed in an etching solution for removing the conductive layer on which the etching resist is not formed, and a third step of leaving the etching resist so as to spread gradually and continuously toward the connection target. A fourth step and a fifth step of removing the etching resist from the substrate after the immersion.

請求項1の発明では、遮断配線および接続配線を含めた配線パターンと異なる領域に形成されたエッチングレジストを除去して、接続配線に相当する導体層上のエッチングレジストにおける側縁が遮断配線に相当する導体層上のエッチングレジストにおける側縁となだらかに連続し接続対象に向かうにつれて徐々に広がるようにエッチングレジストを残した基板を、エッチング液に浸漬する。   In the first aspect of the invention, the etching resist formed in a region different from the wiring pattern including the cutoff wiring and the connection wiring is removed, and the side edge in the etching resist on the conductor layer corresponding to the connection wiring corresponds to the cutoff wiring. The substrate on which the etching resist is left is soaked in the etching solution so as to be gradually continuous with the side edges of the etching resist on the conductor layer to be connected and gradually spread toward the connection target.

このように、遮断配線に相当する導体層上のエッチングレジストと接続配線に相当する導体層上のエッチングレジストとの側縁がなだらかに連続するため、エッチング液を用いてエッチングレジストが形成されていない導体層を除去する場合には、遮断配線の側縁と接続配線の側縁との接続部位でエッチング液が均一に流れやすくなる。これにより、上記接続部位でのエッチング液の滞留が抑制されて遮断配線の配線幅のばらつきが抑えられるので、基板面に設けられる遮断配線による遮断性能の低下を抑制することができる。   As described above, since the side edges of the etching resist on the conductor layer corresponding to the blocking wiring and the etching resist on the conductor layer corresponding to the connection wiring are continuously continuous, the etching resist is not formed using the etching solution. When the conductor layer is removed, the etching solution easily flows uniformly at the connection portion between the side edge of the cutoff wiring and the side edge of the connection wiring. Thereby, the retention of the etching solution at the connection portion is suppressed, and the variation in the wiring width of the cutoff wiring is suppressed. Therefore, it is possible to suppress a reduction in the cutoff performance due to the cutoff wiring provided on the substrate surface.

第1実施形態に係るトラクションコントロール装置を備える車両制御システムの概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram showing a schematic structure of a vehicle control system provided with a traction control device concerning a 1st embodiment. 図1のトラクションコントロール装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the traction control apparatus of FIG. 図2の3−3線相当の切断面による断面図である。It is sectional drawing by the cut surface equivalent to the 3-3 line of FIG. 図3の遮断配線近傍を拡大して示す説明図である。It is explanatory drawing which expands and shows the interruption | blocking wiring vicinity of FIG. 成形時の遮断配線および接続配線を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the interruption | blocking wiring at the time of shaping | molding, and connection wiring. 図6(A)は、図5の6A−6A線相当の切断面による断面図であり、図6(B)は、図5の6B−6B線相当の切断面による断面図である。6A is a cross-sectional view taken along the line 6A-6A in FIG. 5, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line 6B-6B in FIG. 第1実施形態の第1変形例に係るトラクションコントロール装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the traction control apparatus which concerns on the 1st modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の第2変形例に係るトラクションコントロール装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the traction control apparatus which concerns on the 2nd modification of 1st Embodiment. 第2実施形態に係るトラクションコントロール装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the traction control apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 図9のA−A線相当の切断面による断面図である。It is sectional drawing by the cut surface equivalent to the AA line of FIG. 第2実施形態の第1変形例に係るトラクションコントロール装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the traction control apparatus which concerns on the 1st modification of 2nd Embodiment. 第2実施形態の第2変形例に係るトラクションコントロール装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the traction control apparatus which concerns on the 2nd modification of 2nd Embodiment. 第3実施形態に係るトラクションコントロール装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the traction control apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第4実施形態に係る電子制御装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the electronic control apparatus which concerns on 4th Embodiment.

[第1実施形態]
以下、本発明の第1実施形態に係る電子制御装置について、図面を参照して説明する。図1は、第1実施形態に係るトラクションコントロール装置20を備える車両制御システム11の概略構成を示すブロック図である。
図1に示すように、車両制御システム11は、自動車10に車載される各種機器を制御するエンジンECUやブレーキECU,ステアリングECUをはじめボディECUやナビゲーション装置などの複数の電子制御装置12を備えて構成されている。
[First Embodiment]
Hereinafter, an electronic control device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a vehicle control system 11 including a traction control device 20 according to the first embodiment.
As shown in FIG. 1, the vehicle control system 11 includes a plurality of electronic control devices 12 such as an engine ECU, a brake ECU, a steering ECU, a body ECU, and a navigation device that control various devices mounted on the automobile 10. It is configured.

また、車両制御システム11には、上記複数の電子制御装置12に加えて、本第1実施形態に係る電子制御装置が適用されたトラクションコントロール装置20が設けられている。このトラクションコントロール装置20は、駆動輪の加速スリップを防止する加速スリップ防止機能を有する装置で、走行制御等の主要な車両制御に関して他の電子制御装置よりも比較的重要性が低い装置である。   In addition to the plurality of electronic control devices 12, the vehicle control system 11 is provided with a traction control device 20 to which the electronic control device according to the first embodiment is applied. The traction control device 20 is a device having an acceleration slip prevention function for preventing an acceleration slip of a drive wheel, and is a device that is relatively less important than other electronic control devices for main vehicle control such as travel control.

トラクションコントロール装置20を含めた複数の電子制御装置12は、過電流保護用として採用されるヒューズ14aおよびヒューズ14bのいずれかを介して直流電源(以下、バッテリ13という)に電気的に接続されている。ヒューズ14aおよびヒューズ14bとしては、多くの電子制御装置等に対して作動に必要な電力を供給する経路に設けられるために、例えば15A用や20A用の大型のヒューズが採用されている。これにより、例えば、ヒューズ14aに接続される各種電子制御装置12のうちのいずれかに不具合が生じ所定の電流値を超える過電流が発生すると、この過電流によりヒューズ14aが溶断し、当該ヒューズ14aを介した電力供給が遮断されて、他の電子制御装置12への悪影響が防止される。なお、本実施形態では、各電子制御装置12は、2つの大型ヒューズ14aおよびヒューズ14bのいずれかを介してバッテリ13にそれぞれ電気的に接続されているが、これに限らず、単一の大型ヒューズを介してバッテリ13にそれぞれ電気的に接続されてもよいし、3つ以上のヒューズのいずれかを介してバッテリ13にそれぞれ電気的に接続されてもよい。   The plurality of electronic control devices 12 including the traction control device 20 are electrically connected to a DC power source (hereinafter referred to as a battery 13) via either a fuse 14a or a fuse 14b used for overcurrent protection. Yes. As the fuse 14a and the fuse 14b, large fuses for 15A or 20A, for example, are employed because they are provided in a path for supplying electric power necessary for operation to many electronic control devices. Thereby, for example, when a malfunction occurs in any of the various electronic control devices 12 connected to the fuse 14a and an overcurrent exceeding a predetermined current value is generated, the fuse 14a is blown by the overcurrent, and the fuse 14a The electric power supply via is cut off, and adverse effects on other electronic control devices 12 are prevented. In the present embodiment, each electronic control unit 12 is electrically connected to the battery 13 via either one of the two large fuses 14a and 14b. However, the present invention is not limited to this. Each may be electrically connected to the battery 13 via a fuse, or may be electrically connected to the battery 13 via any one of three or more fuses.

次に、本第1実施形態に係るトラクションコントロール装置20の構成について、図2〜図4を用いて説明する。図2は、図1のトラクションコントロール装置20の要部を示す説明図である。図3は、図2の3−3線相当の切断面による断面図である。図4は、図3の遮断配線30近傍を拡大して示す説明図である。なお、図2および図4では、便宜上、基板面を保護する保護層であるソルダレジスト28の図示を省略している。   Next, the configuration of the traction control device 20 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is an explanatory diagram showing a main part of the traction control device 20 of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line 3-3 in FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram showing an enlarged view of the vicinity of the cutoff wiring 30 in FIG. 2 and 4, for the sake of convenience, illustration of the solder resist 28 that is a protective layer for protecting the substrate surface is omitted.

トラクションコントロール装置20は、上述した加速スリップ防止機能を実現するための複数の電子部品22を高密度化して実装した回路基板21が図略のケースに収容されて構成されている。この回路基板21は、図略のコネクタ等を介して外部の機器や他の電子制御装置12と電気的に接続されており、外部から入力される所定の信号に応じて駆動輪の加速スリップを防止するための制御を実行する。   The traction control device 20 is configured such that a circuit board 21 on which a plurality of electronic components 22 for realizing the above-described accelerated slip prevention function are mounted with a high density is housed in a case (not shown). The circuit board 21 is electrically connected to an external device or other electronic control device 12 via a connector or the like not shown in the figure, and accelerates the driving wheel according to a predetermined signal input from the outside. Perform control to prevent.

図2に示すように、回路基板21には、バッテリ13からの電力を供給する電源配線23が、各電子部品22に対してそれぞれ電気的に接続されている。このため、電源配線23は、各電子部品22により共用される共用配線として機能する。   As shown in FIG. 2, power wirings 23 for supplying power from the battery 13 are electrically connected to the electronic components 22 on the circuit board 21. For this reason, the power supply wiring 23 functions as a shared wiring shared by the electronic components 22.

図2および図3に示すように、回路基板21には、複数の電子部品22の1つとして、セラミックコンデンサ24が実装されている。このセラミックコンデンサ24は、温度特性や周波数特性を向上させ小型で大容量を実現するため、例えば、チタン酸バリウム系の高誘電率セラミック誘電体24bと内部電極24cとを層状に積み重ねて一体化して構成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a ceramic capacitor 24 is mounted on the circuit board 21 as one of the plurality of electronic components 22. In order to improve the temperature characteristic and the frequency characteristic and realize a small capacity and a large capacity, the ceramic capacitor 24 is formed by, for example, stacking and integrating a barium titanate-based high dielectric constant ceramic dielectric 24b and an internal electrode 24c in layers. It is configured.

セラミックコンデンサ24の外部電極24aがはんだ25を介して接続されるランド26と電源配線23との間には、遮断配線30が配置されている。この遮断配線30は、過電流による発熱に応じて溶断することで過電流保護機能を発揮して当該遮断配線30を介した電気的接続を遮断する配線である。これにより、その基板に応じた過電流保護を実現することができる。   Between the land 26 to which the external electrode 24 a of the ceramic capacitor 24 is connected via the solder 25 and the power supply wiring 23, a cutoff wiring 30 is disposed. The cutoff wiring 30 is a wiring that exhibits an overcurrent protection function by fusing in response to heat generated by an overcurrent, and cuts off an electrical connection through the cutoff wiring 30. Thereby, the overcurrent protection according to the board | substrate is realizable.

ここで、遮断配線30は、その配線幅(基板面上で電流の方向に直交する配線の幅)が電源配線23の配線幅に対して十分に小さくなるように設定されている。具体的には、例えば、遮断配線30の配線幅が0.2〜0.3mm程度に設定され、電源配線23の配線幅が2mm程度に設定されている。   Here, the cutoff wiring 30 is set so that the wiring width (the width of the wiring orthogonal to the current direction on the substrate surface) is sufficiently smaller than the wiring width of the power supply wiring 23. Specifically, for example, the wiring width of the cutoff wiring 30 is set to about 0.2 to 0.3 mm, and the wiring width of the power supply wiring 23 is set to about 2 mm.

遮断配線30は、その一端にて一側接続配線40を介して電源配線23に電気的に接続されており、その他端にて他側接続配線50を介してランド26に電気的に接続されている。一側接続配線40および他側接続配線50は、遮断配線30や電源配線23と同じ銅などの導電性材料により、遮断配線30よりも導体体積が大きくなるように形成されている。   The cutoff wiring 30 is electrically connected to the power supply wiring 23 through one side connection wiring 40 at one end and is electrically connected to the land 26 through the other side connection wiring 50 at the other end. Yes. The one side connection wiring 40 and the other side connection wiring 50 are formed of a conductive material such as copper, which is the same as that of the cutoff wiring 30 and the power supply wiring 23, so that the conductor volume is larger than that of the cutoff wiring 30.

具体的には、図4に示すように、一側接続配線40は、両側の側縁41,42が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しており接続対象である電源配線23に向かうにつれて円弧状に広がるように、形成されている。すなわち、一側接続配線40は、その配線幅が電源配線23側ほど広くなるように形成されることで、遮断配線30との接続部位での断面積が電源配線23との接続部位での断面積よりも小さくなるように構成されている。   Specifically, as shown in FIG. 4, the one-side connection wiring 40 has a power supply that is a connection target because the side edges 41 and 42 on both sides are smoothly continuous with the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30. It is formed so as to spread in an arc shape as it goes to the wiring 23. That is, the one-side connection wiring 40 is formed so that the wiring width becomes wider toward the power supply wiring 23 side, so that the cross-sectional area at the connection portion with the cutoff wiring 30 is cut off at the connection portion with the power supply wiring 23. It is comprised so that it may become smaller than an area.

また、他側接続配線50は、両側の側縁51,52が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しており接続対象であるランド26に向かうにつれて円弧状に広がるように、形成されている。すなわち、他側接続配線50は、その配線幅がランド26側ほど広くなるように形成されることで、遮断配線30との接続部位での断面積が接続対象であるランド26との接続部位での断面積よりも小さくなるように構成されている。   Further, the other side connection wiring 50 is such that the side edges 51 and 52 on both sides are smoothly continuous with the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30 and expands in an arc shape toward the land 26 to be connected. Is formed. That is, the other-side connection wiring 50 is formed so that the wiring width becomes wider toward the land 26 side, so that the cross-sectional area at the connection site with the cutoff wiring 30 is a connection site with the land 26 to be connected. It is comprised so that it may become smaller than the cross-sectional area of this.

このように構成される回路基板21において、遮断配線30や両接続配線40,50を含めた所定の配線パターンは、以下のようにして形成される。なお、図5は、成形時の遮断配線30および接続配線40,50を説明するための説明図である。図6(A)は、図5の6A−6A線相当の切断面による断面図であり、図6(B)は、図5の6B−6B線相当の切断面による断面図である。   In the circuit board 21 configured as described above, a predetermined wiring pattern including the cutoff wiring 30 and both connection wirings 40 and 50 is formed as follows. FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining the cutoff wiring 30 and the connection wirings 40 and 50 at the time of molding. 6A is a cross-sectional view taken along the line 6A-6A in FIG. 5, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line 6B-6B in FIG.

まず、遮断配線30や両接続配線40,50を構成するための銅箔等の導体層が設けられた基板の表面に対してエッチングレジストを形成する。次に、露光および現像処理により、配線パターンと異なる領域に形成されたエッチングレジストを除去する。そして、このように非エッチング面にエッチングレジストが形成された基板を、エッチング液に浸漬することで、エッチングレジストが形成されていない導体層を除去するエッチングが進行する。   First, an etching resist is formed on the surface of the substrate provided with a conductor layer such as a copper foil for constituting the cutoff wiring 30 and the both connection wirings 40 and 50. Next, the etching resist formed in a region different from the wiring pattern is removed by exposure and development processing. And the etching which removes the conductor layer in which the etching resist is not advanced advances by immersing the board | substrate with which the etching resist was formed in the non-etching surface in an etching liquid in this way.

遮断配線30や両接続配線40,50を構成するための導体層の周囲では、エッチング液は、例えば、図5および図6の矢印L1,L2にて例示するように流れて、所定の導体層がエッチングされる。このエッチング後に、エッチングレジスト(図6では、符号29にて示す)を除去することにより、遮断配線30や両接続配線40,50を含めた所定の配線パターンが基板面に形成される。   Around the conductor layer for constituting the cutoff wiring 30 and both connection wirings 40 and 50, the etching solution flows as exemplified by arrows L1 and L2 in FIGS. Is etched. After this etching, by removing the etching resist (indicated by reference numeral 29 in FIG. 6), a predetermined wiring pattern including the blocking wiring 30 and the both connection wirings 40 and 50 is formed on the substrate surface.

このとき、一側接続配線40における両側の側縁41,42や他側接続配線50における両側の側縁51,52が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続するように形成される。このため、遮断配線30の側縁31と一側接続配線40の側縁41との接続部位C1、遮断配線30の側縁32と一側接続配線40の側縁42との接続部位C2にて、エッチング液が均一に流れやすくなる。また、遮断配線30の側縁31と他側接続配線50の側縁51との接続部位C3、遮断配線30の側縁32と他側接続配線50の側縁52との接続部位C4にて、エッチング液が均一に流れやすくなる。これにより、上記接続部位C1〜C4でのエッチング液の滞留が抑制されて、当該上記接続部位C1〜C4における遮断配線30の配線幅のばらつきが抑えられることとなる。   At this time, the side edges 41 and 42 on both sides of the one side connection wiring 40 and the side edges 51 and 52 on both sides of the other side connection wiring 50 are formed so as to be smoothly continuous with the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30. Is done. For this reason, in the connection part C1 of the side edge 31 of the interruption | blocking wiring 30 and the side edge 41 of the one side connection wiring 40, and the connection part C2 of the side edge 32 of the interruption | blocking wiring 30 and the side edge 42 of the one side connection wiring 40 The etching solution can easily flow uniformly. Further, at the connection part C3 between the side edge 31 of the cutoff wiring 30 and the side edge 51 of the other side connection wiring 50, and at the connection part C4 between the side edge 32 of the cutoff wiring 30 and the side edge 52 of the other side connection wiring 50, The etching solution can easily flow uniformly. Thereby, the retention of the etchant at the connection parts C1 to C4 is suppressed, and the variation in the wiring width of the blocking wiring 30 at the connection parts C1 to C4 is suppressed.

このように構成されるトラクションコントロール装置20では、例えば、セラミックコンデンサ24が損傷等して短絡し過電流が遮断配線30を流れると、この遮断配線30がその過電流に応じて発熱する。そして、この発熱が所定の温度以上になると、遮断配線30が溶断し、当該遮断配線30を介した電気的接続が遮断される。これにより、電源配線23に接続される他の電子部品22が上記過電流から保護される。また、上記遮断時の電流はヒューズ14aを遮断するほど大きくならないので、当該ヒューズ14aを介して電力供給される他の電子制御装置12に対して、トラクションコントロール装置20の損傷が影響することもない。さらに、過電流の発生から遮断配線30の溶断までの時間は、数mS(ミリ秒)程度であり、上述した大型ヒューズ14a,14b等の溶断時間は通常0.02S(秒)程度であることから、処理速度の向上が図られる電子制御装置や電子部品であっても好適に過電流保護を実施することができる。   In the traction control device 20 configured as described above, for example, when the ceramic capacitor 24 is short-circuited due to damage or the like and an overcurrent flows through the cutoff wiring 30, the cutoff wiring 30 generates heat according to the overcurrent. When this heat generation exceeds a predetermined temperature, the cut-off wiring 30 is melted and the electrical connection via the cut-off wiring 30 is cut off. Thereby, the other electronic components 22 connected to the power supply wiring 23 are protected from the overcurrent. Further, since the current at the time of interruption is not so large as to cut off the fuse 14a, damage to the traction control device 20 does not affect other electronic control devices 12 that are supplied with power through the fuse 14a. . Furthermore, the time from the occurrence of overcurrent to the blowout of the interruption wiring 30 is about several mS (milliseconds), and the fusing time of the large fuses 14a, 14b, etc. is usually about 0.02S (seconds). Therefore, overcurrent protection can be suitably implemented even with an electronic control device or electronic component that can improve the processing speed.

なお、過電流により遮断配線30に生じた熱は、一側接続配線40を介して電源配線23に伝熱されることとなる。配線幅が狭い遮断配線30と配線幅が広い電源配線23とが直接接続されている場合、遮断配線30からの熱が電源配線23に伝わりやすくなり、遮断配線30の温度が低下ししかもその温度低下がばらついてしまう。また、ランド26に関しても同様の問題が発生するだけでなく、ランド26では遮断配線30との接続部近傍に熱が集中して、この熱によりランド26に塗布されたはんだ25のうち遮断配線30近傍部位が溶融すると、その溶融導体が周囲に飛散する場合がある。   Note that the heat generated in the interruption wiring 30 due to the overcurrent is transferred to the power supply wiring 23 through the one-side connection wiring 40. When the cut-off wiring 30 having a narrow wiring width and the power supply wiring 23 having a wide wiring are directly connected, heat from the cut-off wiring 30 is easily transmitted to the power supply wiring 23, and the temperature of the cut-off wiring 30 is lowered and the temperature is reduced. The decline will vary. Further, not only the same problem occurs with the land 26, but also the heat concentrates in the vicinity of the connection portion with the interruption wiring 30 in the land 26, and the interruption wiring 30 of the solder 25 applied to the land 26 by this heat. When a nearby portion melts, the molten conductor may scatter around.

本実施形態では、遮断配線30の熱は、当該遮断配線30との接続部位での断面積が電源配線23との接続部位での断面積よりも小さく形成された一側接続配線40を介して、電源配線23に伝熱される。また、遮断配線30の熱は、当該遮断配線30との接続部位での断面積がランド26との接続部位での断面積よりも小さく形成された他側接続配線50を介して、ランド26に伝熱される。このため、一側接続配線40および他側接続配線50にて熱が保持されて電源配線23やランド26への熱の拡散が抑制される。これにより、遮断配線30の熱のばらつきが抑えられるため、上述のような短時間での溶断であっても溶断までの時間のばらつきが抑制されることとなる。また、一側接続配線40および他側接続配線50は、遮断配線30よりも導体体積が大きいため、遮断配線30からの熱をそれぞれ好適に蓄熱することができる。   In the present embodiment, the heat of the interruption wiring 30 is transmitted through the one-side connection wiring 40 formed so that the cross-sectional area at the connection portion with the interruption wiring 30 is smaller than the cross-sectional area at the connection portion with the power supply wiring 23. Then, heat is transferred to the power supply wiring 23. Further, the heat of the interruption wiring 30 is transferred to the land 26 via the other-side connection wiring 50 formed so that the cross-sectional area at the connection portion with the interruption wiring 30 is smaller than the cross-sectional area at the connection portion with the land 26. Heat is transferred. For this reason, heat is held in the one-side connection wiring 40 and the other-side connection wiring 50, and diffusion of heat to the power supply wiring 23 and the land 26 is suppressed. Thereby, since the dispersion | variation in the heat | fever of the interruption | blocking wiring 30 is suppressed, even if it is the above-mentioned fusing in a short time, the dispersion | variation in the time to fusing will be suppressed. Moreover, since the one side connection wiring 40 and the other side connection wiring 50 have a larger conductor volume than the cutoff wiring 30, heat from the cutoff wiring 30 can be suitably stored.

以上説明したように、本実施形態に係るトラクションコントロール装置20では、遮断配線30は、一側接続配線40および他側接続配線50を介して電源配線23およびランド26に接続されている。一側接続配線40は、両側の側縁41,42が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しており電源配線23に向かうにつれて円弧状に広がるように、形成されている。また、他側接続配線50は、両側の側縁51,52が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しておりランド26に向かうにつれて円弧状に広がるように、形成されている。   As described above, in the traction control device 20 according to this embodiment, the cutoff wiring 30 is connected to the power supply wiring 23 and the land 26 via the one side connection wiring 40 and the other side connection wiring 50. The one-side connection wiring 40 is formed such that the side edges 41 and 42 on both sides are smoothly continuous with the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30 and expands in an arc shape toward the power supply wiring 23. . Further, the other side connection wiring 50 is formed such that the side edges 51 and 52 on both sides are smoothly continuous with the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30 and spread in an arc shape toward the land 26. Yes.

このように、遮断配線30および両接続配線40,50の側縁がなだらかに連続するため、これら各配線30,40,50をエッチング液を用いて形成する場合には、遮断配線30の側縁31,32と両接続配線40,50の側縁41,42,51,52との接続部位C1〜C4でエッチング液が均一に流れやすくなる。これにより、上記接続部位C1〜C4でのエッチング液の滞留が抑制されて遮断配線30の配線幅のばらつきが抑えられるので、基板面に設けられる遮断配線30による遮断性能の低下を抑制することができる。   As described above, since the side edges of the cutoff wiring 30 and the both connection wirings 40, 50 are gently continuous, when the wirings 30, 40, 50 are formed using an etching solution, the side edges of the cutoff wiring 30 are used. The etching solution can easily flow uniformly at the connection portions C1 to C4 between the side edges 41, 42, 51, and 52 of the connection wires 31 and 32 and the connection wirings 40 and 50. As a result, the retention of the etching solution at the connection portions C1 to C4 is suppressed and the variation in the wiring width of the cutoff wiring 30 is suppressed, so that it is possible to suppress the deterioration of the cutoff performance due to the cutoff wiring 30 provided on the substrate surface. it can.

また、電源配線23は、トラクションコントロール装置20と異なる他の電子制御装置12にも電力を供給するバッテリ13から電線を介して各々のコネクタに接続されており、当該トラクションコントロール装置20および他の電子制御装置12を過電流保護するための共通のヒューズ14aが、バッテリ13からの電源経路上に設けられている。これにより、遮断配線30を設けたトラクションコントロール装置20が短絡故障等する場合であっても、その遮断配線30が溶断することで、他の電子制御装置12への電源供給に関する影響をなくすことができる。   Moreover, the power supply wiring 23 is connected to each connector via the electric wire from the battery 13 that supplies electric power to another electronic control device 12 different from the traction control device 20, and the traction control device 20 and other electronic control devices 20 are connected to each other. A common fuse 14 a for overcurrent protection of the control device 12 is provided on the power supply path from the battery 13. As a result, even if the traction control device 20 provided with the cutoff wiring 30 is short-circuited or the like, the cutoff wiring 30 can be melted to eliminate the influence on the power supply to the other electronic control devices 12. it can.

図7は、第1実施形態の第1変形例に係るトラクションコントロール装置20の要部を示す説明図である。図8は、第1実施形態の第2変形例に係るトラクションコントロール装置20の要部を示す説明図である。
図7に示すように、第1実施形態の第1変形例として、一側接続配線40および他側接続配線50に代えて、一側接続配線40aおよび他側接続配線50aを採用してもよい。
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a main part of the traction control device 20 according to the first modification of the first embodiment. FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a main part of the traction control device 20 according to the second modification of the first embodiment.
As shown in FIG. 7, instead of the one-side connection wiring 40 and the other-side connection wiring 50, the one-side connection wiring 40a and the other-side connection wiring 50a may be employed as a first modification of the first embodiment. .

具体的には、一側接続配線40aは、両側の側縁41,42が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しており電源配線23に向かうにつれてテーパ状に広がるように、形成されている。また、他側接続配線50aは、両側の側縁51,52が遮断配線30の両側の側縁31,32となだらかに連続しておりランド26に向かうにつれてテーパ状に広がるように、形成されている。   Specifically, the one side connection wiring 40 a is such that the side edges 41 and 42 on both sides are smoothly continuous with the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30 and expands in a tapered shape toward the power supply wiring 23. Is formed. Further, the other-side connection wiring 50 a is formed so that the side edges 51 and 52 on both sides are continuously continuous with the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30 and expands in a tapered shape toward the land 26. Yes.

このようにしても、遮断配線30の側縁31,32と両接続配線40a,50aの側縁41,42,51,52との接続部位C1〜C4でエッチング液がより均一に流れやすくなり、上記接続部位C1〜C4でのエッチング液の滞留を好適に抑制することができる。   Even if it does in this way, it becomes easy to flow an etching solution more uniformly in connection part C1-C4 of the side edges 31 and 32 of the interruption | blocking wiring 30, and the side edges 41, 42, 51, and 52 of both connection wiring 40a, 50a, The retention of the etching solution at the connection sites C1 to C4 can be suitably suppressed.

また、図8に示すように、第1実施形態の第2変形例として、一側接続配線40および他側接続配線50に代えて、一側接続配線40bおよび他側接続配線50bを採用してもよい。具体的には、一側接続配線40bは、両側の側縁41,42のうち一方の側縁41が遮断配線30の側縁31となだらかに連続しており電源配線23に向かうにつれて徐々に広がるように形成され、他方の側縁42が遮断配線30の側縁32とともに直線状に形成されている。また、他側接続配線50bは、両側の側縁51,52のうち一方の側縁51が遮断配線30の側縁31となだらかに連続しておりランド26に向かうにつれて徐々に広がるように形成され、他方の側縁52が遮断配線30の側縁32とともに直線状に形成されている。   Further, as shown in FIG. 8, as a second modification of the first embodiment, instead of the one side connection wiring 40 and the other side connection wiring 50, the one side connection wiring 40b and the other side connection wiring 50b are adopted. Also good. Specifically, one side connection line 40 b of one side edge 41, 42 of both sides is gently continuous with the side edge 31 of the cut-off line 30 and gradually spreads toward the power supply line 23. The other side edge 42 is formed linearly together with the side edge 32 of the blocking wiring 30. The other-side connection wiring 50 b is formed so that one of the side edges 51, 52 on both sides is continuously continuous with the side edge 31 of the cutoff wiring 30 and gradually spreads toward the land 26. The other side edge 52 is formed linearly together with the side edge 32 of the blocking wiring 30.

これにより、他方の側縁42,52では、エッチング液がスムーズに流れやすくなるのでエッチング液の滞留を確実になくすことができ、一方の側縁41,51でも遮断配線30の側縁31となだらかに連続しているため、上記接続部位C1〜C4でのエッチング液の滞留を好適に抑制することができる。   Accordingly, the etchant can easily flow smoothly at the other side edges 42 and 52, so that the etchant can be reliably prevented from staying, and the one side edges 41 and 51 can be gently formed as the side edges 31 of the cutoff wiring 30. Therefore, the retention of the etching solution at the connection sites C1 to C4 can be suitably suppressed.

[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係るトラクションコントロール装置について図9および図10を用いて説明する。図9は、第2実施形態に係るトラクションコントロール装置20aの要部を示す説明図である。図10は、図9のA−A線相当の切断面による断面図である。
[Second Embodiment]
Next, a traction control device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is an explanatory diagram showing a main part of the traction control device 20a according to the second embodiment. FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

本第2実施形態では、トラクションコントロール装置20aにおいて、一側接続配線40および他側接続配線50に代えて一側接続配線40cおよび他側接続配線50cを採用するとともに、新たに一対の板状配線60,70を採用する点が主に上記第1実施形態と異なる。このため、第1実施形態と実質的に同様の構成部分には同一符号を付して説明を省略する。   In the second embodiment, in the traction control device 20a, instead of the one-side connection wiring 40 and the other-side connection wiring 50, the one-side connection wiring 40c and the other-side connection wiring 50c are adopted, and a pair of plate-like wirings are newly added. The point which employ | adopts 60 and 70 mainly differs from the said 1st Embodiment. For this reason, substantially the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図9に示すように、一側接続配線40cは、遮断配線30との接続部位での断面積が電源配線23との接続部位での断面積よりも小さくなるように構成されている。また、他側接続配線50cは、遮断配線30との接続部位での断面積がランド26との接続部位での断面積よりも小さくなるように構成されている。   As shown in FIG. 9, the one-side connection wiring 40 c is configured such that the cross-sectional area at the connection site with the cutoff wiring 30 is smaller than the cross-sectional area at the connection site with the power supply wiring 23. The other-side connection wiring 50 c is configured such that the cross-sectional area at the connection site with the cutoff wiring 30 is smaller than the cross-sectional area at the connection site with the land 26.

また、遮断配線30の近傍には、この遮断配線30を介して対向するように一対の板状配線60,70が設けられている。両板状配線60,70は、遮断配線30と同じ銅などの導電性材料からなり、他の配線に接続されることなく板状の配線として形成されている。   In addition, a pair of plate-like wirings 60 and 70 are provided in the vicinity of the cutoff wiring 30 so as to face each other via the cutoff wiring 30. Both plate-like wirings 60 and 70 are made of the same conductive material as copper and the like, and are formed as plate-like wirings without being connected to other wirings.

これら一対の板状配線60,70は、一方の板状配線60における遮断配線側の側縁61とこの側縁61に対向する遮断配線30の側縁31との距離X1と、他方の板状配線70における遮断配線側の側縁71とこの側縁71に対向する遮断配線30の側縁32との距離X2とが遮断配線30に沿いほぼ等しくなるように配置されている。   The pair of plate-like wirings 60 and 70 includes a distance X1 between the side edge 61 on the side of the cutoff wiring in one plate-like wiring 60 and the side edge 31 of the cutoff wiring 30 facing the side edge 61, and the other plate-like wiring. The distance X2 between the side edge 71 of the wiring 70 on the side of the interruption wiring and the side edge 32 of the interruption wiring 30 facing the side edge 71 is arranged to be substantially equal along the interruption wiring 30.

このように構成される遮断配線30では、上記第1実施形態と同様に、エッチング液に浸漬されるとき、図10の矢印L1,L2にて例示するように、エッチング液が遮断配線30の側縁31と一方の板状配線60の側縁61との間と、遮断配線30の側縁32と他方の板状配線70の側縁71との間との間に流れ込む。このとき、一対の板状配線60,70は、距離X1と距離X2とがほぼ等しくなるように配置されているので、側縁31,61間と、側縁32,71間とにおけるエッチング液の流れ込み量がほぼ等しくなる。   In the interruption wiring 30 configured as described above, when immersed in an etching solution, as in the first embodiment, the etching solution is on the side of the interruption wiring 30 as illustrated by arrows L1 and L2 in FIG. It flows between the edge 31 and the side edge 61 of one plate-like wiring 60 and between the side edge 32 of the blocking wiring 30 and the side edge 71 of the other plate-like wiring 70. At this time, since the pair of plate-like wirings 60 and 70 are arranged so that the distance X1 and the distance X2 are substantially equal to each other, the etching solution between the side edges 31 and 61 and between the side edges 32 and 71 is reduced. The flow rate is almost equal.

これにより、遮断配線30の両側の側縁31,32をそれぞれ流れるエッチング液の流れ込み量の差が小さくなり、両側縁31,32におけるエッチングの進行のばらつきが抑制される。これにより、遮断配線30の配線幅のばらつきが抑えられるので、基板面に設けられる遮断配線30による遮断性能の低下を抑制することができる。   As a result, the difference in the amount of etchant flowing through the side edges 31 and 32 on both sides of the cut-off wiring 30 is reduced, and variations in etching progress at the side edges 31 and 32 are suppressed. Thereby, since the dispersion | variation in the wiring width of the interruption | blocking wiring 30 is suppressed, the fall of the interruption | blocking performance by the interruption | blocking wiring 30 provided in a board | substrate surface can be suppressed.

なお、一対の板状配線60,70は、距離X1と距離X2とがほぼ等しくなるように配置されることに限らず、距離X1と距離X2との差が小さくなるように配置されてもよい。また、一対の板状配線60,70は、導電性材料から板状の配線として形成されることに限らず、エッチング液を用いたエッチング時に除去されない部材から構成される非除去領域として形成されてもよい。   Note that the pair of plate-like wirings 60 and 70 is not limited to be arranged such that the distance X1 and the distance X2 are substantially equal, but may be arranged so that the difference between the distance X1 and the distance X2 is small. . In addition, the pair of plate-like wirings 60 and 70 is not limited to being formed as a plate-like wiring from a conductive material, but is formed as a non-removed region composed of a member that is not removed during etching using an etchant. Also good.

図11は、第2実施形態の第1変形例に係るトラクションコントロール装置20aの要部を示す説明図である。図12は、第2実施形態の第2変形例に係るトラクションコントロール装置20aの要部を示す説明図である。
図11に示すように、第2実施形態の第1変形例として、一対の板状配線60,70のうち少なくとも一方は、回路基板21に設けられる他の配線パターンの一部であってもよい。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a main part of a traction control device 20a according to a first modification of the second embodiment. FIG. 12 is an explanatory diagram showing a main part of a traction control device 20a according to a second modification of the second embodiment.
As shown in FIG. 11, as a first modification of the second embodiment, at least one of the pair of plate-like wirings 60 and 70 may be a part of another wiring pattern provided on the circuit board 21. .

具体的には、上述した他方の板状配線70に代えて、遮断配線30の側縁32に近接して配線パターン70aが形成されており、この配線パターン70aは、他の電子部品22に接続されている。そして、一方の板状配線60は、その側縁61と遮断配線30の側縁31との距離X1が、配線パターン70aの側縁71と遮断配線30の側縁32との距離X2に、遮断配線30に沿いほぼ等しくなるように配置されている。   Specifically, instead of the other plate-like wiring 70 described above, a wiring pattern 70 a is formed in the vicinity of the side edge 32 of the blocking wiring 30, and this wiring pattern 70 a is connected to another electronic component 22. Has been. One plate-like wiring 60 is cut off at a distance X1 between the side edge 61 and the side edge 31 of the cutoff wiring 30 to a distance X2 between the side edge 71 of the wiring pattern 70a and the side edge 32 of the cutoff wiring 30. They are arranged along the wiring 30 so as to be substantially equal.

このようにしても、遮断配線30の両側の側縁31,32をそれぞれ流れるエッチング液の流れ込み量の差が小さくなり、両側縁31,32におけるエッチングの進行のばらつきを抑制することができる。特に、双方の板状配線60,70を遮断配線30に近づけて配置する場合と比較して、他方の板状配線70を別途設ける必要がないので、実装領域を小さくでき、回路基板21およびこの回路基板21を備える装置の小型化を図ることができる。   Even in this case, the difference in the amount of etching solution flowing through the side edges 31 and 32 on both sides of the cut-off wiring 30 is reduced, and variation in etching progress on the side edges 31 and 32 can be suppressed. In particular, as compared with the case where both the plate-like wirings 60 and 70 are arranged close to the cutoff wiring 30, it is not necessary to separately provide the other plate-like wiring 70. The size of the device including the circuit board 21 can be reduced.

また、図12に示すように、第2実施形態の第2変形例として、両板状配線60,70における側縁61,71にある角部62,72を丸めるように形成してもよい。これにより、遮断配線30の側縁31,32と両板状配線60,70の側縁61,71との間をエッチング液が流れやすくなり、遮断配線30の両側の側縁31,32におけるエッチングの進行のばらつきがより抑制されて、遮断配線30の配線幅のばらつきを確実に抑えることができる。   As shown in FIG. 12, as a second modification of the second embodiment, the corner portions 62 and 72 at the side edges 61 and 71 of the two plate-like wirings 60 and 70 may be rounded. As a result, the etching liquid easily flows between the side edges 31 and 32 of the cutoff wiring 30 and the side edges 61 and 71 of both plate-like wirings 60 and 70, and etching at the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30 is performed. The variation in the progress of the wiring is further suppressed, and the variation in the wiring width of the cutoff wiring 30 can be reliably suppressed.

[第3実施形態]
次に、本発明の第3実施形態に係るトラクションコントロール装置について図13を用いて説明する。図13は、第3実施形態に係るトラクションコントロール装置20bの要部を示す説明図である。
[Third Embodiment]
Next, a traction control device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 13 is an explanatory diagram showing a main part of the traction control device 20b according to the third embodiment.

本第3実施形態では、トラクションコントロール装置20bにおいて、上記第1実施形態の構成に対して上記第2実施形態にて述べた一対の板状配線60,70を新たに採用する点が主に上記第1実施形態と異なる。このため、第1実施形態と実質的に同様の構成部分には同一符号を付して説明を省略する。   In the third embodiment, in the traction control device 20b, the pair of plate-like wirings 60 and 70 described in the second embodiment is newly adopted with respect to the configuration of the first embodiment. Different from the first embodiment. For this reason, substantially the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図13に示すように、遮断配線30は、その一端にて上述した一側接続配線40を介して電源配線23に電気的に接続されており、その他端にて上述した他側接続配線50を介してランド26に電気的に接続されている。そして、遮断配線30の近傍には、この遮断配線30を介して対向するように一対の板状配線60,70が設けられており、これら一対の板状配線60,70は、側縁31,61間の距離X1と、側縁32,71間の距離X2とが遮断配線30に沿いほぼ等しくなるように配置されている。   As shown in FIG. 13, the cut-off wiring 30 is electrically connected to the power supply wiring 23 at one end via the one-side connection wiring 40 described above, and the other-side connection wiring 50 described above is connected to the other end. Via the land 26. A pair of plate-like wirings 60, 70 are provided in the vicinity of the interruption wiring 30 so as to face each other via the interruption wiring 30. The pair of plate-like wirings 60, 70 are connected to the side edges 31, The distance X <b> 1 between 61 and the distance X <b> 2 between the side edges 32 and 71 are arranged to be substantially equal along the cutoff wiring 30.

このように、遮断配線30および両接続配線40,50の側縁がなだらかに連続するため、これら各配線30,40,50をエッチング液を用いて形成する場合には、遮断配線30の側縁31,32と両接続配線40,50の側縁41,42,51,52との接続部位C1〜C4でエッチング液が均一に流れやすくなる。これにより、上記接続部位C1〜C4でのエッチング液の滞留が抑制されて遮断配線30の配線幅のばらつきが抑えることができる。さらに、一対の板状配線60,70により、遮断配線30の両側の側縁31,32をそれぞれ流れるエッチング液の流れ込み量の差が小さくなり、両側縁31,32におけるエッチングの進行のばらつきを抑制することができる。   As described above, since the side edges of the cutoff wiring 30 and the both connection wirings 40, 50 are gently continuous, when the wirings 30, 40, 50 are formed using an etching solution, the side edges of the cutoff wiring 30 are used. The etching solution can easily flow uniformly at the connection portions C1 to C4 between the side edges 41, 42, 51, and 52 of the connection wires 31 and 32 and the connection wirings 40 and 50. Thereby, the retention of the etching liquid in the connection parts C1 to C4 is suppressed, and the variation in the wiring width of the blocking wiring 30 can be suppressed. In addition, the pair of plate-like wirings 60 and 70 reduces the difference in the amount of etchant flowing through the side edges 31 and 32 on both sides of the cutoff wiring 30 and suppresses variations in etching progress on the side edges 31 and 32. can do.

これにより、遮断配線30の側縁31,32と両接続配線40,50の側縁41,42,51,52との接続部位C1〜C4だけでなく遮断配線30の両側の側縁31,32でもエッチングに関するばらつきが抑制されて遮断配線30の配線幅のばらつきが抑えられるので、基板面に設けられる遮断配線30による遮断性能の低下を確実に抑制することができる。   As a result, not only the connection portions C1 to C4 between the side edges 31, 32 of the cutoff wiring 30 and the side edges 41, 42, 51, 52 of the both connection wirings 40, 50, but also the side edges 31, 32 on both sides of the cutoff wiring 30. However, since variations related to etching are suppressed and variations in the wiring width of the blocking wiring 30 are suppressed, it is possible to reliably suppress a decrease in blocking performance due to the blocking wiring 30 provided on the substrate surface.

[第4実施形態]
次に、本発明の第4実施形態に係る電子制御装置について図14を用いて説明する。図14は、第4実施形態に係る電子制御装置110の要部を示す説明図である。
本第4実施形態に係る電子制御装置110では、同一の基板120上に、上記第1実施形態に係るトラクションコントロール装置20の機能を回路ブロック化した回路ブロック130と、さらに他の機能を回路ブロック化した回路ブロック140,150とを配置して構成されている。なお、他の機能としては、回路ブロック130の機能よりも重要性が高い機能であって、例えば、エンジンECUに対応する機能やブレーキECUに対応する機能であり、回路ブロック140は、エンジンECUに対応する機能を回路ブロック化して構成され、回路ブロック150は、ブレーキECUに対応する機能を回路ブロック化して構成されている。
[Fourth Embodiment]
Next, an electronic control unit according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 14 is an explanatory diagram illustrating a main part of the electronic control device 110 according to the fourth embodiment.
In the electronic control device 110 according to the fourth embodiment, a circuit block 130 in which the functions of the traction control device 20 according to the first embodiment are formed into circuit blocks on the same substrate 120, and further functions are circuit blocks. The circuit blocks 140 and 150 are arranged. The other function is a function that is more important than the function of the circuit block 130, for example, a function corresponding to the engine ECU or a function corresponding to the brake ECU. The circuit block 140 is connected to the engine ECU. Corresponding functions are configured as circuit blocks, and the circuit block 150 is configured by converting functions corresponding to the brake ECU into circuit blocks.

図14に示すように、各回路ブロック130,140,150には、コネクタ121を介してバッテリ13からの電力を供給する電源配線23が、それぞれ分岐配線131,141,151を介して電気的に接続されている。そして、上述した遮断配線30が回路ブロック130の分岐配線131上に当該回路ブロック130に対して過電流保護として機能するように配置されている。そして、電源配線23上に、当該基板120に対して過電流保護として機能する遮断配線122が設けられている。すなわち、基板120上には、全ての回路ブロック130〜150を含めた基板120を保護する遮断配線122と、回路ブロック130を保護する遮断配線30との2つの遮断配線が設けられている。   As shown in FIG. 14, the power supply wiring 23 that supplies power from the battery 13 via the connector 121 is electrically connected to the circuit blocks 130, 140, and 150 via the branch wirings 131, 141, and 151, respectively. It is connected. The interruption wiring 30 described above is arranged on the branch wiring 131 of the circuit block 130 so as to function as overcurrent protection for the circuit block 130. On the power supply wiring 23, a cutoff wiring 122 that functions as overcurrent protection for the substrate 120 is provided. That is, on the substrate 120, two blocking wires are provided, that is, a blocking wire 122 that protects the substrate 120 including all the circuit blocks 130 to 150 and a blocking wire 30 that protects the circuit block 130.

これにより、遮断配線30が設けられる回路ブロック130において短絡故障等により過電流が生じることから当該遮断配線30が溶断する場合でも、他の回路ブロック140,150では、分岐配線141,151を介した電源配線23との接続が維持されるので、溶断した遮断配線30を有する回路ブロック130のみ機能を停止して、他の回路ブロック140,150での機能を継続することができる。特に、回路ブロック130の機能は、他の回路ブロック140,150よりも重要性が低いので、重要性が低い回路ブロック130の機能停止が、重要性が高い回路ブロック140,150の機能に影響を及ぼすことを抑制することができる。また、遮断配線30が設けられない回路ブロック140,150において短絡故障等により過電流が生じる場合でも、その過電流が電源配線23を流れることで遮断配線122が溶断して各回路ブロック130,140,150での機能が停止するので、発生した過電流が他の回路ブロックへ流れることを抑制することができる。   As a result, an overcurrent occurs due to a short circuit failure or the like in the circuit block 130 in which the interruption wiring 30 is provided. Even when the interruption wiring 30 is melted, the other circuit blocks 140 and 150 are connected via the branch wirings 141 and 151. Since the connection with the power supply wiring 23 is maintained, the function of only the circuit block 130 having the blown cut-off wiring 30 can be stopped, and the functions of the other circuit blocks 140 and 150 can be continued. In particular, since the function of the circuit block 130 is less important than the other circuit blocks 140 and 150, the function stop of the less important circuit block 130 affects the functions of the circuit blocks 140 and 150 having higher importance. Can be suppressed. Even if an overcurrent occurs due to a short circuit failure or the like in the circuit blocks 140 and 150 where the interruption wiring 30 is not provided, the interruption wiring 122 is melted by the overcurrent flowing through the power supply wiring 23, and the circuit blocks 130 and 140. , 150 stops, it is possible to suppress the generated overcurrent from flowing to other circuit blocks.

特に、遮断配線30を、遮断配線122に対して遮断時の電流値が小さくなるようにその配線幅を小さく形成することで、遮断配線30が設けられる回路ブロック130において短絡故障等により過電流が生じる場合には、遮断配線30が遮断配線122よりも確実に早く溶断する。これにより、他の回路ブロック140,150への影響を確実に抑制することができる。
なお、本実施形態における1つの基板上に2つの遮断配線を設ける構成は、他の実施形態や変形例に採用されてもよい。
In particular, by forming the cut-off wiring 30 so that the current value at the time of cut-off with respect to the cut-off wiring 122 is reduced, an overcurrent is caused in the circuit block 130 provided with the cut-off wiring 30 due to a short circuit failure or the like. When this occurs, the interruption wiring 30 is surely fused faster than the interruption wiring 122. Thereby, the influence on the other circuit blocks 140 and 150 can be reliably suppressed.
In addition, the structure which provides two interruption | blocking wiring on one board | substrate in this embodiment may be employ | adopted for other embodiment and a modification.

なお、本発明は上記各実施形態およびその変形例に限定されるものではなく、以下のように具体化してもよい。
(1)上述のように形成される一側接続配線40,40a,40bは、電源配線23に代えて、過電流保護の対象である各電子部品22にて共用される共用配線に電気的に接続されてもよい。
In addition, this invention is not limited to said each embodiment and its modification, You may actualize as follows.
(1) The one-side connection wirings 40, 40a, 40b formed as described above are electrically connected to the common wiring shared by each electronic component 22 that is the target of overcurrent protection, instead of the power supply wiring 23. It may be connected.

(2)上述のように形成される他側接続配線50,50a,50bは、ランド26に電気的に接続されることに限らず、例えば、表層に露出しない内層側の配線など、電子部品を搭載するための部品搭載配線に電気的に接続されてもよい。 (2) The other side connection wirings 50, 50a, 50b formed as described above are not limited to being electrically connected to the land 26. For example, the other side connection wirings 50, 50a, 50b are not limited to electronic components such as inner layer side wiring that is not exposed to the surface layer. You may electrically connect to the component mounting wiring for mounting.

(3)上述した遮断配線30および接続配線40,50は、上述したエンジンECUやブレーキECU,ステアリングECUをはじめボディECUやナビゲーション装置などの複数の電子制御装置12の過電流保護用として基板ごとに採用されてもよい。 (3) The interruption wiring 30 and the connection wirings 40 and 50 described above are provided for each substrate for overcurrent protection of the plurality of electronic control devices 12 such as the body ECU and navigation device including the engine ECU, brake ECU, and steering ECU described above. It may be adopted.

(4)上述した遮断配線30および一対の板状配線60,70は、上述したエンジンECUやブレーキECU,ステアリングECUをはじめボディECUやナビゲーション装置などの複数の電子制御装置12の過電流保護用として基板ごとに採用されてもよい。 (4) The cut-off wiring 30 and the pair of plate-like wirings 60 and 70 described above are used for overcurrent protection of a plurality of electronic control devices 12 such as the engine ECU, brake ECU, steering ECU, body ECU, and navigation device. You may employ | adopt for every board | substrate.

(5)遮断配線30は、その一部または全部が電源配線23やランド26よりも熱伝導率の低い材料、例えばアルミニウム等により形成してもよい。これにより、過電流により遮断配線30に生じた熱が電源配線23やランド26に伝わりにくくなるので、遮断配線30における温度上昇のばらつきが抑制されて、遮断配線30による遮断性能の低下を確実に抑制することができる。 (5) A part or all of the interruption wiring 30 may be formed of a material having a lower thermal conductivity than the power supply wiring 23 and the land 26, such as aluminum. As a result, the heat generated in the interruption wiring 30 due to the overcurrent is less likely to be transmitted to the power supply wiring 23 and the land 26, so that variations in temperature rise in the interruption wiring 30 are suppressed, and the interruption performance due to the interruption wiring 30 is reliably reduced. Can be suppressed.

10…自動車
11…車両制御システム
12…電子制御装置
13…バッテリ
14a,14b…ヒューズ
20,20a,20b…トラクションコントロール装置(電子制御装置)
21…回路基板
22…電子部品
23…電源配線(接続対象)
24,24d…セラミックコンデンサ
26…ランド(接続対象)
30…遮断配線
31,32…側縁
40,40a…一側接続配線
50,50a…他側接続配線
60,70…板状配線(非除去領域)
61,71…側縁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Automobile 11 ... Vehicle control system 12 ... Electronic control device 13 ... Battery 14a, 14b ... Fuse 20, 20a, 20b ... Traction control device (electronic control device)
21 ... Circuit board 22 ... Electronic component 23 ... Power supply wiring (object to be connected)
24, 24d ... Ceramic capacitor 26 ... Land (target for connection)
30 ... Cut-off wiring 31, 32 ... Side edge 40, 40a ... One side connection wiring 50, 50a ... Other side connection wiring 60, 70 ... Plate-like wiring (non-removal region)
61, 71 ... side edges

Claims (1)

過電流による発熱に応じて溶断した場合に接続対象との接続を遮断する遮断配線が、接続配線を介して前記接続対象に接続されて基板上に形成される配線基板の製造方法であって、
前記遮断配線および前記接続配線を構成するための導体層が設けられた基板を用意する第1工程と、
前記導体層上にエッチングレジストを形成する第2工程と、
前記エッチングレジストのうち、前記遮断配線および前記接続配線を含めた配線パターンと異なる領域に形成されたエッチングレジストを除去して、前記接続配線に相当する前記導体層上の前記エッチングレジストにおける側縁が前記遮断配線に相当する前記導体層上の前記エッチングレジストにおける側縁となだらかに連続し前記接続対象に向かうにつれて徐々に広がるように前記エッチングレジストを残す第3工程と、
前記エッチングレジストが形成されていない前記導体層を除去するためのエッチング液に前記基板を浸漬する第4工程と、
前記浸漬後の前記基板から前記エッチングレジストを除去する第5工程と、
を備えることを特徴とする配線基板の製造方法。
A cut-off wiring that cuts off a connection with a connection target when fusing in response to heat generation due to overcurrent is a method for manufacturing a wiring board that is connected to the connection target via a connection wiring and formed on the substrate,
A first step of preparing a substrate provided with a conductor layer for constituting the blocking wiring and the connection wiring;
A second step of forming an etching resist on the conductor layer;
Of the etching resist, the etching resist formed in a region different from the wiring pattern including the blocking wiring and the connection wiring is removed, and a side edge of the etching resist on the conductor layer corresponding to the connection wiring is A third step of leaving the etching resist so as to gradually spread toward a side of the connection target and continuously with a side edge of the etching resist on the conductor layer corresponding to the blocking wiring;
A fourth step of immersing the substrate in an etching solution for removing the conductor layer on which the etching resist is not formed;
A fifth step of removing the etching resist from the substrate after the immersion;
A method for manufacturing a wiring board, comprising:
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