JP2013082891A - Washing method, addition polymerization method, prepolymerization method, prepolymerized catalytic component for addition polymerization, and method for producing addition polymer using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、反応器の内壁面の洗浄方法に関する。 The present invention relates to a method for cleaning an inner wall surface of a reactor.
化学反応を反応器中で行うと、反応生成物が反応器の壁面に付着するファウリング現象が起こることがある。ファウリングが発生すると、反応器壁面からの除熱が困難になるため、反応温度の制御が難しくなり、最も深刻な事態としては暴走反応を招くことがある。
また、ファウリングが発生してしまうと、運転を継続しながらファウリングを除去することは困難であるため、反応器を開放して掃除を行う必要があり、生産性の低下を招くことがある。
When the chemical reaction is performed in the reactor, a fouling phenomenon in which the reaction product adheres to the wall surface of the reactor may occur. When fouling occurs, it becomes difficult to remove heat from the reactor wall surface, so it becomes difficult to control the reaction temperature.
Also, if fouling occurs, it is difficult to remove fouling while continuing operation, so it is necessary to open the reactor and perform cleaning, which may lead to a decrease in productivity. .
ファウリングは特に重合反応で顕著な問題となる。重合反応でのファウリングを抑える方法として特許文献1の方法が知られている。 Fouling is a significant problem especially in polymerization reactions. A method of Patent Document 1 is known as a method for suppressing fouling in a polymerization reaction.
特許文献1には、オレフィン重合用触媒と、特定のアミド、アミン、エステルから選ばれる少なくとも1種の化合物との存在下、炭化水素媒体中において、オレフィンをスラリー重合する方法が記載されている。しかしながらこの方法では、ファウリングを抑制するため、特定の化合物を反応系に添加する必要があり、それらの化合物が反応生成物にも混入する可能性があり、反応生成物の品質の観点から満足できるものではなかった。本発明の目的は、反応器内のファウリングを抑制する方法、および反応器のファウリングを抑制しながら付加重合する方法を提供することである。 Patent Document 1 describes a method for slurry polymerization of an olefin in a hydrocarbon medium in the presence of an olefin polymerization catalyst and at least one compound selected from a specific amide, amine, and ester. However, in this method, it is necessary to add specific compounds to the reaction system in order to suppress fouling, and these compounds may be mixed into the reaction product, which is satisfactory from the viewpoint of the quality of the reaction product. It wasn't possible. An object of the present invention is to provide a method for suppressing fouling in a reactor and a method for addition polymerization while suppressing fouling in the reactor.
本発明の第一は、下記工程(1)および(2)と、必要に応じて工程(2)の後に工程(3)を含む反応器の内壁面を洗浄する方法にかかるものである。
工程(1):一般式[1]で表される化合物、一般式[2]で表される化合物、および一般式[9]で表される化合物から選択される少なくとも一種の化合物と炭化水素溶媒とを含む溶液を反応器に加える工程。工程(2):反応器内の前記溶液を除去する工程。工程(3):反応器内を炭化水素溶媒で洗浄する工程。
R1−O−(−R2−O−)m−Q1 [1]
R1C(=O)NR5 2 [2]
M4L3 n [9]
(上記一般式[1]および[2]において、R1は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基を表す。R2は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。Q1は水素原子、−C(=O)OM1、−R3−C(=O)OM1、−S(=O)2OM1、−R3−S(=O)2OM1、−P(=O)(OH)(OM1)、−R3−P(=O)(OH)(OM1)、−P(=O)(OR4)(OM1)、−R3−P(=O)(OR4)(OM1)、−P(=O)(OM1)2、または、−R3−P(=O)(OM1)2を表す。M1は水素原子、NH4、NH(R12OH)3または、アルカリ金属原子を表す。R12は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。R3は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。R4は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基を表す。mは1〜100の数を表す。R5は水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基を表す。
上記一般式[9]において、M4は周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子を表す。L3は水素原子、ハロゲン原子、または、ハイドロカルビル基であり、nは金属原子M4の価数である。)
The first aspect of the present invention relates to the following steps (1) and (2) and, if necessary, a method for washing the inner wall surface of the reactor including step (3) after step (2).
Step (1): at least one compound selected from the compound represented by the general formula [1], the compound represented by the general formula [2], and the compound represented by the general formula [9] and a hydrocarbon solvent Adding a solution comprising: to the reactor. Step (2): A step of removing the solution in the reactor. Step (3): A step of washing the inside of the reactor with a hydrocarbon solvent.
R 1 —O — (— R 2 —O—) m Q 1 [1]
R 1 C (═O) NR 5 2 [2]
M 4 L 3 n [9]
(In the above general formulas [1] and [2], R 1 represents an optionally substituted hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms. R 2 may have a substituent. Represents a good alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, Q 1 represents a hydrogen atom, —C (═O) OM 1 , —R 3 —C (═O) OM 1 , —S (═O) 2 OM 1 , -R 3 -S (= O) 2 OM 1, -P (= O) (OH) (OM 1), - R 3 -P (= O) (OH) (OM 1), - P (= O) (OR 4 ) (OM 1 ), —R 3 —P (═O) (OR 4 ) (OM 1 ), —P (═O) (OM 1 ) 2 , or —R 3 —P (═O) (OM 1) represents a 2 .M 1 is hydrogen atom, NH 4, NH (R 12 OH) 3 or, .R 12 good number of carbon atoms which may have a substituent represents an alkali metal atom Represents a 20 alkylene group .R 3 is .R 4 is carbon atoms which may have a substituent represents an alkylene group which may having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent 1 to 20 M represents a number of 1 to 100. R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
In the general formula [9], M 4 is a group consisting of Group 1, Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, and Group 13 of the Periodic Table. It represents a metal atom selected more. L 3 is a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbyl group, and n is the valence of the metal atom M 4 . )
本発明の第二は、付加重合方法であって、前記方法で洗浄された反応器中で、下記一般式[3]で表される遷移金属化合物またはそのμ−オキソタイプの遷移金属化合物二量体である化合物(A)と、活性化剤(B)と、必要に応じて有機アルミニウム化合物(C)とを接触して得られる触媒を用いて付加重合可能なモノマーを付加重合させる付加重合方法にかかるものである。
L1 aM2X1 b [3]
(式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。)またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。)
A second aspect of the present invention is an addition polymerization method, in which a transition metal compound represented by the following general formula [3] or a μ-oxo type transition metal compound dimer in a reactor washed by the above method is used. Addition polymerization method of addition polymerization of a monomer capable of addition polymerization using a catalyst obtained by contacting a compound (A), an activator (B), and, if necessary, an organoaluminum compound (C) It depends on.
L 1 a M 2 X 1 b [3]
(In the formula, M 2 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table. L 1 is a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L 1 are directly connected to each other. Or may be linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, wherein X 1 is a halogen atom, a hydrocarbyl group (provided that (Excluding a group having a cyclopentadiene type anion skeleton) or a hydrocarbyloxy group, a represents a number satisfying 0 <a ≦ 3, and b represents a number satisfying 0 <b ≦ 3.)
本発明の第三は、前記付加重合方法が予備重合である場合に得られる予備重合済付加重合触媒成分にかかるものである。 The third aspect of the present invention relates to a prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained when the above addition polymerization method is prepolymerization.
本発明の第四は、前記予備重合済付加重合触媒成分と、必要に応じて有機アルミニウム化合物(C)とを用いることを特徴とする、付加重合体の製造方法にかかるものである。 A fourth aspect of the present invention relates to a method for producing an addition polymer, characterized by using the prepolymerized addition polymerization catalyst component and, if necessary, an organoaluminum compound (C).
本発明の方法によれば、化学反応を反応器中で行っても反応器内のファウリングを抑制することができる。特に、重合反応を反応器内で連続的に行っても、ファウリングによる重合反応器の伝熱効率の低下を防き、安定して連続運転することが可能となる。 According to the method of the present invention, fouling in the reactor can be suppressed even when the chemical reaction is performed in the reactor. In particular, even if the polymerization reaction is carried out continuously in the reactor, it is possible to prevent a decrease in the heat transfer efficiency of the polymerization reactor due to fouling and to stably operate continuously.
以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
反応器の内壁面を洗浄する方法
本発明の反応器の内壁面を洗浄する方法は、下記工程(1)および(2)と、必要に応じて工程(2)の後に工程(3)を含む方法である。
工程(1):一般式[1]で表される化合物、一般式[2]で表される化合物、および一般式[9]で表される化合物から選択される少なくとも一種の化合物と炭化水素溶媒とを含む溶液を反応器に加える工程
工程(2):反応器内の前記溶液を除去する工程
R1−O−(−R2−O−)m−Q1 [1]
R1C(=O)NR5 2 [2]
M4L3 n [9]
(上記一般式[1]および[2]において、R1は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基を表す。R2は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。Q1は水素原子、−C(=O)OM1、−R3−C(=O)OM1、−S(=O)2OM1、−R3−S(=O)2OM1、−P(=O)(OH)(OM1)、−R3−P(=O)(OH)(OM1)、−P(=O)(OR4)(OM1)、−R3−P(=O)(OR4)(OM1)、−P(=O)(OM1)2、または、−R3−P(=O)(OM1)2を表す。M1は水素原子、NH4、NH(R12OH)3または、アルカリ金属原子を表す。R12は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。R3は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。R4は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基を表す。mは1〜100の数を表す。R5は水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基を表す。
上記一般式[9]において、M4は周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子を表す。L3は水素原子、ハロゲン原子、または、ハイドロカルビル基であり、nは金属原子M4の価数である。)
Method for Cleaning the Inner Wall Surface of the Reactor The method for cleaning the inner wall surface of the reactor of the present invention includes the following steps (1) and (2) and, if necessary, step (3) after step (2). Is the method.
Step (1): at least one compound selected from the compound represented by the general formula [1], the compound represented by the general formula [2], and the compound represented by the general formula [9] and a hydrocarbon solvent Step (2) of adding a solution containing: R 1 —O — (— R 2 —O—) m -Q 1 [1]
R 1 C (═O) NR 5 2 [2]
M 4 L 3 n [9]
(In the above general formulas [1] and [2], R 1 represents an optionally substituted hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms. R 2 may have a substituent. Represents a good alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, Q 1 represents a hydrogen atom, —C (═O) OM 1 , —R 3 —C (═O) OM 1 , —S (═O) 2 OM 1 , -R 3 -S (= O) 2 OM 1, -P (= O) (OH) (OM 1), - R 3 -P (= O) (OH) (OM 1), - P (= O) (OR 4 ) (OM 1 ), —R 3 —P (═O) (OR 4 ) (OM 1 ), —P (═O) (OM 1 ) 2 , or —R 3 —P (═O) (OM 1) represents a 2 .M 1 is hydrogen atom, NH 4, NH (R 12 OH) 3 or, .R 12 good number of carbon atoms which may have a substituent represents an alkali metal atom Represents a 20 alkylene group .R 3 is .R 4 is carbon atoms which may have a substituent represents an alkylene group which may having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent 1 to 20 M represents a number of 1 to 100. R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
In the general formula [9], M 4 is a group consisting of Group 1, Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, and Group 13 of the Periodic Table. It represents a metal atom selected more. L 3 is a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbyl group, and n is the valence of the metal atom M 4 . )
式[1]のR1の置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基としては、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数7〜30のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜30のアリール基などがあげられる。 As the hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent of R 1 in the formula [1], an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, Examples thereof include an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のアルキル基としては、炭素原子数1〜30のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基、置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基、置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基、ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基などがあげられる。 Examples of the optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms include an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a halogen atom as a substituent, and substituted silyl An alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a substituent as a substituent, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent, and 1 to 30 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent And the like.
炭素原子数1〜30のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基、n−ヘンエイコシル基、n−ドコシル基、n−トリコシル基、n−テトラコシル基、n−ペンタコシル基、n−ヘキサコシル基、n−ヘプタコシル基、n−オクタコシル基、n−ノナコシル基、n−トリアコンチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and neopentyl group. , Isopentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group, n-heneicosyl group, n-docosyl group, n-tricosyl group, n-tetracosyl group, n-pentacosyl group, n-hexacosyl group, n-heptacosyl group, n-octacosyl group, n-nonacosyl group, n-triacontyl group, etc. It is.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パーフルオロトリアコンチル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パークロロトリアコンチル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基、パーブロモトリアコンチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include, for example, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromo Methyl group, tribromomethyl group, iodomethyl group, diiodomethyl group, triiodomethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, chloroethyl group, dichloroethyl group, trichloro Ethyl group, tetrachloroethyl group, pentachloroethyl group, bromoethyl group, dibromoethyl group, tribromoethyl group, tetrabromoethyl group, pentabromoethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluorope group Tyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, perfluorododecyl group, perfluoropentadecyl group, perfluoroeicosyl group, perfluorotriacontyl group, perchloropropyl group, perchlorobutyl group, perchloropentyl Group, perchlorohexyl group, perchlorooctyl group, perchlorododecyl group, perchloropentadecyl group, perchloroeicosyl group, perchlorotriacontyl group, perbromopropyl group, perbromobutyl group, perbromopentyl group Perbromohexyl group, perbromooctyl group, perbromododecyl group, perbromopentadecyl group, perbromoeicosyl group, perbromotriacontyl group and the like.
置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基としては、例えば、トリメチルシリルメチル基、トリメチルシリルエチル基、トリメチルシリルプロピル基、トリメチルシリルブチル基、ビス(トリメチルシリル)メチル基、ビス(トリメチルシリル)エチル基、ビス(トリメチルシリル)プロピル基、ビス(トリメチルシリル)ブチル基、トリフェニルシリルメチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a substituted silyl group as a substituent include, for example, trimethylsilylmethyl group, trimethylsilylethyl group, trimethylsilylpropyl group, trimethylsilylbutyl group, bis (trimethylsilyl) methyl group, and bis (trimethylsilyl) ethyl. Group, bis (trimethylsilyl) propyl group, bis (trimethylsilyl) butyl group, triphenylsilylmethyl group and the like.
置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基としては、例えば、ジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ビス(ジメチルアミノ)メチル基、ビス(ジメチルアミノ)エチル基、ビス(ジメチルアミノ)プロピル基、ビス(ジメチルアミノ)ブチル基、フェニルアミノメチル基、ジフェニルアミノメチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent include, for example, a dimethylaminomethyl group, a dimethylaminoethyl group, a dimethylaminopropyl group, a dimethylaminobutyl group, a bis (dimethylamino) methyl group, Examples thereof include bis (dimethylamino) ethyl group, bis (dimethylamino) propyl group, bis (dimethylamino) butyl group, phenylaminomethyl group, diphenylaminomethyl group and the like.
ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、tert−ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、n−プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、n−ブトキシエチル基、sec−ブトキシエチル基、tert−ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシ−n−プロピル基、エトキシ−n−プロピル基、n−プロポキシ−n−プロピル基、イソプロポキシ−n−プロピル基、n−ブトキシ−n−プロピル基、sec−ブトキシ−n−プロピル基、tert−ブトキシ−n−プロピル基、フェノキシ−n−プロピル基、メトキシイソプロピル基、エトキシイソプロピル基、n−プロポキシイソプロピル基、イソプロポキシイソプロピル基、n−ブトキシイソプロピル基、sec−ブトキシイソプロピル基、tert−ブトキシイソプロピル基、フェノキシイソプロピル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent include, for example, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, an n-propoxymethyl group, an isopropoxymethyl group, an n-butoxymethyl group, sec -Butoxymethyl group, tert-butoxymethyl group, phenoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, n-propoxyethyl group, isopropoxyethyl group, n-butoxyethyl group, sec-butoxyethyl group, tert-butoxyethyl Group, phenoxyethyl group, methoxy-n-propyl group, ethoxy-n-propyl group, n-propoxy-n-propyl group, isopropoxy-n-propyl group, n-butoxy-n-propyl group, sec-butoxy- n-propyl group, tert-butoxy-n-propyl group Phenoxy-n-propyl group, methoxyisopropyl group, ethoxyisopropyl group, n-propoxyisopropyl group, isopropoxyisopropyl group, n-butoxyisopropyl group, sec-butoxyisopropyl group, tert-butoxyisopropyl group, phenoxyisopropyl group, etc. It is done.
置換基を有していてもよい炭素原子数7〜30のアラルキル基としては、炭素原子数7〜30のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜30のアラルキル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent include an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms and an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms having a halogen atom as a substituent. It is done.
炭素原子数7〜30のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(4,6−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ジフェニルメチル基、ジフェニルエチル基、ジフェニルプロピル基、ジフェニルブチル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms include benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, and (2,3-dimethyl). (Phenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, 4,6-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, 3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3, , 6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (Isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group , (N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-tetradecylphenyl) methyl group, naphthylmethyl group , Anthracenylmethyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, phenylbutyl group, diphth Nirumechiru group, diphenylethyl group, diphenylpropyl group, diphenylbutyl group.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜30のアラルキル基としては、例えば、2−フロオロベンジル基、3−フルオロベンジル基、4−フルオロベンジル基、2−クロロベンジル基、3−クロロベンジル基、4−クロロベンジル基、2−ブロモベンジル基、3−ブロモベンジル基、4−ブロモベンジル基、2−ヨードベンジル基、3−ヨードベンジル基、4−ヨードベンジル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include 2-fluorobenzyl group, 3-fluorobenzyl group, 4-fluorobenzyl group, 2-chlorobenzyl group, and 3-chlorobenzyl. Group, 4-chlorobenzyl group, 2-bromobenzyl group, 3-bromobenzyl group, 4-bromobenzyl group, 2-iodobenzyl group, 3-iodobenzyl group, 4-iodobenzyl group and the like.
置換基を有していてもよい炭素原子数6〜30のアリール基としては、炭素原子数6〜30のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基、置換シリル基を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基、置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基、ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基などが挙げられる。 The aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent includes an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms having a halogen atom as a substituent, and substituted silyl. An aryl group having 6 to 30 carbon atoms having a substituent as a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent, and 6 to 30 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent And aryl groups.
炭素原子数6〜30のアリール基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms include phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5- Xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6- Trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, diethylphenyl group, triethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, ec-butylphenyl group, tert-butylphenyl group, n-pentylphenyl group, neopentylphenyl group, n-hexylphenyl group, n-octylphenyl group, n-decylphenyl group, n-dodecylphenyl group, n-tetra Examples include decylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group and the like.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基としては、例えば、2−フロオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include a 2-fluorophenyl group, a 3-fluorophenyl group, a 4-fluorophenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 3-chlorophenyl group, Examples include 4-chlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4-iodophenyl group and the like.
置換シリル基を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基としては、例えば、トリメチルシリルフェニル基、ビス(トリメチルシリル)フェニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms having a substituted silyl group as a substituent include a trimethylsilylphenyl group and a bis (trimethylsilyl) phenyl group.
置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基としては、例えば、ジメチルアミノフェニル基、ビス(ジメチルアミノ)フェニル基、ジフェニルアミノフェニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent include a dimethylaminophenyl group, a bis (dimethylamino) phenyl group, and a diphenylaminophenyl group.
ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数6〜30のアリール基としては、例えば、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、n−プロポキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、n−ブトキシフェニル基、sec−ブトキシフェニル基、tert−ブトキシフェニル基、フェノキシフェニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent include, for example, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, n-propoxyphenyl group, isopropoxyphenyl group, n-butoxyphenyl group, sec -Butoxyphenyl group, tert-butoxyphenyl group, phenoxyphenyl group and the like.
前記式[1]におけるR1としては、好ましくは置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数1〜30のアルキル基である。 R 1 in the formula [1] is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
R2は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。 R 2 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基としては、炭素原子数1〜20のアルキレン基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキレン基、置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキレン基、置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキレン基、ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキレン基などがあげられる。 Examples of the optionally substituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms include alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms, alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent, and substituted silyl groups. An alkylene group having 1 to 20 carbon atoms having a substituent as a substituent, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent, and 1 to 20 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent And the like.
炭素原子数1〜20のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、エイコシレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチルメチレン基、エチルメチルメチレン基、ジエチルメチレン基、プロピレンメチレン基、メチルエチレン基、ジメチルエチレン基、トリメチルエチレン基、テトラメチルエチレン基などがあげられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms include methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, nonylene group, decylene group, undecylene group, and dodecylene group. Tridecylene group, tetradecylene group, pentadecylene group, hexadecylene group, heptadecylene group, octadecylene group, nonadecylene group, eicosylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, ethylmethylene group, ethylmethylmethylene group, diethylmethylene group, propylenemethylene group, Examples thereof include a methylethylene group, a dimethylethylene group, a trimethylethylene group, and a tetramethylethylene group.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキレン基としては、例えば、フルオロメチレン基、ジフルオロメチレン基、クロロメチレン基、ジクロロメチレン基、ブロモメチレン基、ジブロモメチレン基、ヨードメチレン基、ジヨードメチレン基、フルオロエチレン基、ジフルオロエチレン基、トリフルオロエチレン基、テトラフルオロエチレン基、クロロエチレン基、ジクロロエチレン基、トリクロロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ブロモエチレン基、ジブロモエチレン基、トリブロモエチレン基、テトラブロモエチレン基、パーフルオロプロピレン基、パーフルオロブチレン基、パーフルオロペンチレン基、パーフルオロヘキシレン基、パーフルオロオクチレン基、パーフルオロドデシレン基、パーフルオロペンタデシレン基、パーフルオロエイコシレン基、パークロロプロピレン基、パークロロブチレン基、パークロロペンチレン基、パークロロヘキシレン基、パークロロオクチレン基、パークロロドデシレン基、パークロロペンタデシレン基、パークロロエイコシレン基、パーブロモプロピレン基、パーブロモブチレン基、パーブロモペンチレン基、パーブロモヘキシレン基、パーブロモオクチレン基、パーブロモドデシレン基、パーブロモペンタデシレン基、パーブロモエイコシレン基、などがあげられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include, for example, a fluoromethylene group, a difluoromethylene group, a chloromethylene group, a dichloromethylene group, a bromomethylene group, a dibromomethylene group, an iodomethylene group, di Iodomethylene, fluoroethylene, difluoroethylene, trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, chloroethylene, dichloroethylene, trichloroethylene, tetrachloroethylene, bromoethylene, dibromoethylene, tribromoethylene, tetrabromo Ethylene group, perfluoropropylene group, perfluorobutylene group, perfluoropentylene group, perfluorohexylene group, perfluorooctylene group, perfluorododecylene group, perfluoropropylene group Tadecylene group, perfluoroeicosylene group, perchloropropylene group, perchlorobutylene group, perchloropentylene group, perchlorohexylene group, perchlorooctylene group, perchlorododecylene group, perchloropentadecylene group Perchloroeicosylene group, perbromopropylene group, perbromobutylene group, perbromopentylene group, perbromohexylene group, perbromooctylene group, perbromododecylene group, perbromopentadecylene group, And bromoeicosylene group.
置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキレン基としては、例えば、トリメチルシリルメチレン基、トリメチルシリルエチレン基、トリメチルシリルプロピレン基、トリメチルシリルブチレン基、ビス(トリメチルシリル)メチレン基、ビス(トリメチルシリル)エチレン基、ビス(トリメチルシリル)プロピレン基、ビス(トリメチルシリル)ブチレン基、トリフェニルシリルメチル基などがあげられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 30 carbon atoms having a substituted silyl group as a substituent include, for example, trimethylsilylmethylene group, trimethylsilylethylene group, trimethylsilylpropylene group, trimethylsilylbutylene group, bis (trimethylsilyl) methylene group, and bis (trimethylsilyl) ethylene. Group, bis (trimethylsilyl) propylene group, bis (trimethylsilyl) butylene group, triphenylsilylmethyl group and the like.
置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜30のアルキレン基としては、例えば、ジメチルアミノメチレン基、ジメチルアミノエチレン基、ジメチルアミノプロピレン基、ジメチルアミノブチレン基、ビス(ジメチルアミノ)メチレン基、ビス(ジメチルアミノ)エチレン基、ビス(ジメチルアミノ)プロピレン基、ビス(ジメチルアミノ)ブチレン基、フェニルアミノメチレン基、ジフェニルアミノメチレン基などがあげられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 30 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent include, for example, a dimethylaminomethylene group, a dimethylaminoethylene group, a dimethylaminopropylene group, a dimethylaminobutylene group, a bis (dimethylamino) methylene group, Examples thereof include bis (dimethylamino) ethylene group, bis (dimethylamino) propylene group, bis (dimethylamino) butylene group, phenylaminomethylene group, diphenylaminomethylene group and the like.
ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキレン基としては、例えば、メトキシメチレン基、エトキシメチレン基、n−プロポキシメチレン基、イソプロポキシメチレン基、n−ブトキシメチレン基、sec−ブトキシメチレン基、tert−ブトキシメチレン基、フェノキシメチレン基、メトキシエチレン基、エトキシエチレン基、n−プロポキシエチレン基、イソプロポキシエチレン基、n−ブトキシエチレン基、sec−ブトキシエチレン基、tert−ブトキシエチレン基、フェノキシエチレン基、メトキシ−n−プロピレン基、エトキシ−n−プロピレン基、n−プロポキシ−n−プロピレン基、イソプロポキシ−n−プロピレン基、n−ブトキシ−n−プロピレン基、sec−ブトキシ−n−プロピレン基、tert−ブトキシ−n−プロピレン基、フェノキシ−n−プロピレン基、メトキシイソプロピレン基、エトキシイソプロピレン基、n−プロポキシイソプロピレン基、イソプロポキシイソプロピレン基、n−ブトキシイソプロピレン基、sec−ブトキシイソプロピレン基、tert−ブトキシイソプロピレン基、フェノキシイソプロピレン基などがあげられる。 Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent include, for example, a methoxymethylene group, an ethoxymethylene group, an n-propoxymethylene group, an isopropoxymethylene group, an n-butoxymethylene group, sec -Butoxymethylene group, tert-butoxymethylene group, phenoxymethylene group, methoxyethylene group, ethoxyethylene group, n-propoxyethylene group, isopropoxyethylene group, n-butoxyethylene group, sec-butoxyethylene group, tert-butoxyethylene Group, phenoxyethylene group, methoxy-n-propylene group, ethoxy-n-propylene group, n-propoxy-n-propylene group, isopropoxy-n-propylene group, n-butoxy-n-propylene group, sec-butoxy- n-p Pyrene group, tert-butoxy-n-propylene group, phenoxy-n-propylene group, methoxyisopropylene group, ethoxyisopropylene group, n-propoxyisopropylene group, isopropoxyisopropylene group, n-butoxyisopropylene group, sec -Butoxy isopropylene group, tert-butoxy isopropylene group, phenoxy isopropylene group and the like can be mentioned.
前記式[1]におけるR2としては、好ましくは炭素原子数1〜20のアルキレン基であり、より好ましくはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基であり、さらに好ましくはエチレン基である。 R 2 in the formula [1] is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group or a hexylene group, and more preferably Is an ethylene group.
Q1は水素原子、−C(=O)OM1、−R3−C(=O)OM1、−S(=O)2OM1、−R3−S(=O)2OM1、−P(=O)(OH)(OM1)、−R3−P(=O)(OH)(OM1)、−P(=O)(OR4)(OM1)、−R3−P(=O)(OR4)(OM1)、−P(=O)(OM1)2、または、−R3−P(=O)(OM1)2を表し、好ましくは、水素原子、−R3−C(=O)OM1、−S(=O)2OM1、である。 Q 1 is a hydrogen atom, —C (═O) OM 1 , —R 3 —C (═O) OM 1 , —S (═O) 2 OM 1 , —R 3 —S (═O) 2 OM 1 , -P (= O) (OH) (OM 1), - R 3 -P (= O) (OH) (OM 1), - P (= O) (OR 4) (OM 1), - R 3 - P (═O) (OR 4 ) (OM 1 ), —P (═O) (OM 1 ) 2 , or —R 3 —P (═O) (OM 1 ) 2 , preferably a hydrogen atom , —R 3 —C (═O) OM 1 , —S (═O) 2 OM 1 .
上記例示において、M1は水素原子、NH4、NH(R12OH)3または、アルカリ金属原子を表す。 In the above examples, M 1 represents a hydrogen atom, NH 4 , NH (R 12 OH) 3, or an alkali metal atom.
R12は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。 R 12 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
R12の置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基としては、R2において例示したものと同様のものをあげることができる。 Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent of R 12 include the same groups as those exemplified for R 2 .
R12としては、好ましくは炭素原子数1〜20のアルキレン基であり、より好ましくはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基であり、さらに好ましくはエチレン基である。 R 12 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group or a hexylene group, and even more preferably an ethylene group.
アルカリ金属原子としては、好ましくはナトリウム原子、カリウム原子であり、より好ましくはナトリウム原子である。 As an alkali metal atom, Preferably they are a sodium atom and a potassium atom, More preferably, it is a sodium atom.
R3は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。 R 3 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
R3の置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基としては、R2において例示したものと同様のものをあげることができる。 Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent of R 3 include the same groups as those exemplified for R 2 .
R3としては、好ましくは炭素原子数1〜20のアルキレン基であり、より好ましくはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基であり、さらに好ましくはメチレン基である。 R 3 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group or a hexylene group, and further preferably a methylene group.
R4は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基を表す。 R 4 represents a hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
R4の置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基としては、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基などがあげられる。 The hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent of R 4 has an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or a substituent. Examples thereof include an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be present, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基、置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基、置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基、ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基などがあげられる。 Examples of the optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent, and substituted silyl An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a group as a substituent, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent, and 1 to 20 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent And the like.
炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and neopentyl group. , Isopentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, Examples thereof include n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group and the like.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include, for example, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromo Methyl group, tribromomethyl group, iodomethyl group, diiodomethyl group, triiodomethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, chloroethyl group, dichloroethyl group, trichloro Ethyl group, tetrachloroethyl group, pentachloroethyl group, bromoethyl group, dibromoethyl group, tribromoethyl group, tetrabromoethyl group, pentabromoethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluorope group Til group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, perfluorododecyl group, perfluoropentadecyl group, perfluoroeicosyl group, perchloropropyl group, perchlorobutyl group, perchloropentyl group, perchlorohexyl group, Perchlorooctyl group, perchlorododecyl group, perchloropentadecyl group, perchloroeicosyl group, perbromopropyl group, perbromobutyl group, perbromopentyl group, perbromohexyl group, perbromooctyl group, perbromododecyl group Group, perbromopentadecyl group, perbromoeicosyl group and the like.
置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、トリメチルシリルメチル基、トリメチルシリルエチル基、トリメチルシリルプロピル基、トリメチルシリルブチル基、ビス(トリメチルシリル)メチル基、ビス(トリメチルシリル)エチル基、ビス(トリメチルシリル)プロピル基、ビス(トリメチルシリル)ブチル基、トリフェニルシリルメチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a substituted silyl group as a substituent include, for example, trimethylsilylmethyl group, trimethylsilylethyl group, trimethylsilylpropyl group, trimethylsilylbutyl group, bis (trimethylsilyl) methyl group, and bis (trimethylsilyl) ethyl. Group, bis (trimethylsilyl) propyl group, bis (trimethylsilyl) butyl group, triphenylsilylmethyl group and the like.
置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、ジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ビス(ジメチルアミノ)メチル基、ビス(ジメチルアミノ)エチル基、ビス(ジメチルアミノ)プロピル基、ビス(ジメチルアミノ)ブチル基、フェニルアミノメチル基、ジフェニルアミノメチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent include, for example, a dimethylaminomethyl group, a dimethylaminoethyl group, a dimethylaminopropyl group, a dimethylaminobutyl group, a bis (dimethylamino) methyl group, Examples thereof include bis (dimethylamino) ethyl group, bis (dimethylamino) propyl group, bis (dimethylamino) butyl group, phenylaminomethyl group, diphenylaminomethyl group and the like.
ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、tert−ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、n−プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、n−ブトキシエチル基、sec−ブトキシエチル基、tert−ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシ−n−プロピル基、エトキシ−n−プロピル基、n−プロポキシ−n−プロピル基、イソプロポキシ−n−プロピル基、n−ブトキシ−n−プロピル基、sec−ブトキシ−n−プロピル基、tert−ブトキシ−n−プロピル基、フェノキシ−n−プロピル基、メトキシイソプロピル基、エトキシイソプロピル基、n−プロポキシイソプロピル基、イソプロポキシイソプロピル基、n−ブトキシイソプロピル基、sec−ブトキシイソプロピル基、tert−ブトキシイソプロピル基、フェノキシイソプロピル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent include, for example, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, an n-propoxymethyl group, an isopropoxymethyl group, an n-butoxymethyl group, sec -Butoxymethyl group, tert-butoxymethyl group, phenoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, n-propoxyethyl group, isopropoxyethyl group, n-butoxyethyl group, sec-butoxyethyl group, tert-butoxyethyl Group, phenoxyethyl group, methoxy-n-propyl group, ethoxy-n-propyl group, n-propoxy-n-propyl group, isopropoxy-n-propyl group, n-butoxy-n-propyl group, sec-butoxy- n-propyl group, tert-butoxy-n-propyl group Phenoxy-n-propyl group, methoxyisopropyl group, ethoxyisopropyl group, n-propoxyisopropyl group, isopropoxyisopropyl group, n-butoxyisopropyl group, sec-butoxyisopropyl group, tert-butoxyisopropyl group, phenoxyisopropyl group, etc. It is done.
置換基を有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、炭素原子数7〜20のアラルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数7〜20のアラルキル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent include an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms and an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom. .
炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(4,6−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ジフェニルメチル基、ジフェニルエチル基、ジフェニルプロピル基、ジフェニルブチル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms include benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, and (2,3-dimethyl). (Phenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, 4,6-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, 3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3, , 6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (Isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group , (N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-tetradecylphenyl) methyl group, naphthylmethyl group , Anthracenylmethyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, phenylbutyl group, diphth Nirumechiru group, diphenylethyl group, diphenylpropyl group, diphenylbutyl group.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えば、2−フロオロベンジル基、3−フルオロベンジル基、4−フルオロベンジル基、2−クロロベンジル基、3−クロロベンジル基、4−クロロベンジル基、2−ブロモベンジル基、3−ブロモベンジル基、4−ブロモベンジル基、2−ヨードベンジル基、3−ヨードベンジル基、4−ヨードベンジル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include, for example, 2-fluorobenzyl group, 3-fluorobenzyl group, 4-fluorobenzyl group, 2-chlorobenzyl group, 3-chlorobenzyl. Group, 4-chlorobenzyl group, 2-bromobenzyl group, 3-bromobenzyl group, 4-bromobenzyl group, 2-iodobenzyl group, 3-iodobenzyl group, 4-iodobenzyl group and the like.
炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、およびアントラセニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5- Xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6- Trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, sec-butylphenyl group, tert-butyl Nenyl, n-pentylphenyl, neopentylphenyl, n-hexylphenyl, n-octylphenyl, n-decylphenyl, n-dodecylphenyl, n-tetradecylphenyl, naphthyl, and anthracenyl Group.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、2−フロオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include, for example, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, Examples include 4-chlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4-iodophenyl group and the like.
R4として好ましくは、炭素原子数1〜20のアルキル基であり、より好ましくは、炭素原子数1〜5のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、である。 R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and still more preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or isopropyl. Group.
mは1〜100の数を表す。 m represents a number from 1 to 100.
mとして好ましくは、1〜50の数であり、より好ましくは、1〜30の数であり、更に好ましくは1〜12の数である。 m is preferably a number of 1 to 50, more preferably a number of 1 to 30, and still more preferably a number of 1 to 12.
式[2]のR5は水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基を表す。 R 5 in the formula [2] represents a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
R5における置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基としては、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数7〜30のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜30のアリール基が好ましく、一般式[1]におけるR1 として説明したと同様のハイドロカルビル基が用いられる。 The hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent in R 5 has an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and a substituent which may have a substituent. An aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may be optionally substituted, and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent are preferred, and the same hydro ly as described for R 1 in the general formula [1] A carbyl group is used.
化合物[1]としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸カリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸カリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸カリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸トリエタノールアミン、などがあげられる。 Compound [1] includes polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene lauryl ether acetic acid, sodium polyoxyethylene lauryl ether acetate, potassium polyoxyethylene lauryl ether acetate, ammonium polyoxyethylene lauryl ether acetate, polyoxyethylene lauryl ether acetic acid. Triethanolamine, polyoxyethylene lauryl ether sulfate, sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, potassium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, polyoxyethylene lauryl ether ammonium sulfate, polyoxyethylene lauryl ether sulfate triethanolamine, polyoxyethylene lauryl ether phosphate Acid, polyoxyethylene lauryl ether sodium phosphate, polyoxyethylene Potassium lauryl ether phosphate, ammonium polyoxyethylene lauryl ether phosphoric acid, polyoxyethylene lauryl ether phosphate triethanolamine, and the like.
化合物[1]として、好ましくは、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、であり、より好ましくは、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、である。 The compound [1] is preferably polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene lauryl ether acetic acid, polyoxyethylene lauryl ether sodium acetate, polyoxyethylene lauryl ether sulfate, polyoxyethylene lauryl ether sodium sulfate, and more preferably Is sodium polyoxyethylene lauryl ether acetate.
化合物[2]としては、カプリル酸アミド、カプリル酸ジエタノールアミド、ペラルゴン酸アミド、ペラルゴン酸ジエタノールアミド、カプリン酸アミド、カプリン酸ジエタノールアミド、ラウリン酸アミド、ラウリン酸ジエタノールアミド、ミリスチン酸アミド、ミリスチン酸ジエタノールアミド、ペンタデシル酸アミド、ペンタデシル酸ジエタノールアミド、パルチミン酸アミド、パルチミン酸ジエタノールアミド、などがあげられる。 Compound [2] includes caprylic acid amide, caprylic acid diethanolamide, pelargonic acid amide, pelargonic acid diethanolamide, capric acid amide, capric acid diethanolamide, lauric acid amide, lauric acid diethanolamide, myristic acid amide, myristic acid diethanolamide. , Pentadecylic acid amide, pentadecylic acid diethanolamide, palmitic acid amide, palmitic acid diethanolamide, and the like.
化合物[2]として、好ましくは、ペラルゴン酸ジエタノールアミド、カプリン酸ジエタノールアミド、ラウリン酸ジエタノールアミド、ミリスチン酸ジエタノールアミド、である。 The compound [2] is preferably pelargonic acid diethanolamide, capric acid diethanolamide, lauric acid diethanolamide, myristic acid diethanolamide.
式[9]のM4の周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子として、好ましくは周期律表第1族、第2族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子であり、特に好ましくは第1族の金属原子である。 Selected from the group consisting of Group 1, Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, Group 12 and Group 13 of M 4 in formula [9] The metal atom is preferably a metal atom selected from the group consisting of Group 1, Group 2, Group 12, and Group 13 of the periodic table, and particularly preferably a metal atom of Group 1.
式[9]のL3のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を挙げることができる。 As a halogen atom of L < 3 > of Formula [9], a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom can be mentioned, for example.
式[9]のL3のハイドロカルビル基としては、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基があげられる。 Examples of the hydrocarbyl group of L 3 in the formula [9] include an optionally substituted hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms.
置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基としては、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基などがあげられる。 The hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent may have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or a substituent. Examples thereof include an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基、置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基、置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基、ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基などがあげられる。 Examples of the optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent, and substituted silyl An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a group as a substituent, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent, and 1 to 20 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent And the like.
炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and neopentyl group. , Isopentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, Examples thereof include n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group and the like.
ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a bromomethyl group, and a dibromomethyl. Group, tribromomethyl group, iodomethyl group, diiodomethyl group, triiodomethyl group, fluoroethyl group, difluoroethyl group, trifluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, chloroethyl group, dichloroethyl group, trichloroethyl Group, tetrachloroethyl group, pentachloroethyl group, bromoethyl group, dibromoethyl group, tribromoethyl group, tetrabromoethyl group, pentabromoethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluoropentyl group Perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, perfluorododecyl group, perfluoropentadecyl group, perfluoroeicosyl group, perchloropropyl group, perchlorobutyl group, perchloropentyl group, perchlorohexyl group, perchlorooctyl Group, perchlorododecyl group, perchloropentadecyl group, perchloroeicosyl group, perbromopropyl group, perbromobutyl group, perbromopentyl group, perbromohexyl group, perbromooctyl group, perbromododecyl group, perbromododecyl group Examples thereof include a bromopentadecyl group and a perbromoeicosyl group.
置換シリル基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、トリメチルシリルメチル基、トリメチルシリルエチル基、トリメチルシリルプロピル基、トリメチルシリルブチル基、ビス(トリメチルシリル)メチル基、ビス(トリメチルシリル)エチル基、ビス(トリメチルシリル)プロピル基、ビス(トリメチルシリル)ブチル基、トリフェニルシリルメチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a substituted silyl group as a substituent include, for example, trimethylsilylmethyl group, trimethylsilylethyl group, trimethylsilylpropyl group, trimethylsilylbutyl group, bis (trimethylsilyl) methyl group, and bis (trimethylsilyl) ethyl. Group, bis (trimethylsilyl) propyl group, bis (trimethylsilyl) butyl group, triphenylsilylmethyl group and the like.
置換アミノ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、ジメチルアミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ビス(ジメチルアミノ)メチル基、ビス(ジメチルアミノ)エチル基、ビス(ジメチルアミノ)プロピル基、ビス(ジメチルアミノ)ブチル基、フェニルアミノメチル基、ジフェニルアミノメチル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a substituted amino group as a substituent include, for example, a dimethylaminomethyl group, a dimethylaminoethyl group, a dimethylaminopropyl group, a dimethylaminobutyl group, a bis (dimethylamino) methyl group, Examples thereof include bis (dimethylamino) ethyl group, bis (dimethylamino) propyl group, bis (dimethylamino) butyl group, phenylaminomethyl group, diphenylaminomethyl group and the like.
ハイドロカルビルオキシ基を置換基として有する炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、tert−ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、n−プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、n−ブトキシエチル基、sec−ブトキシエチル基、tert−ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシ−n−プロピル基、エトキシ−n−プロピル基、n−プロポキシ−n−プロピル基、イソプロポキシ−n−プロピル基、n−ブトキシ−n−プロピル基、sec−ブトキシ−n−プロピル基、tert−ブトキシ−n−プロピル基、フェノキシ−n−プロピル基、メトキシイソプロピル基、エトキシイソプロピル基、n−プロポキシイソプロピル基、イソプロポキシイソプロピル基、n−ブトキシイソプロピル基、sec−ブトキシイソプロピル基、tert−ブトキシイソプロピル基、フェノキシイソプロピル基などがあげられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a hydrocarbyloxy group as a substituent include, for example, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, an n-propoxymethyl group, an isopropoxymethyl group, an n-butoxymethyl group, sec -Butoxymethyl group, tert-butoxymethyl group, phenoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, n-propoxyethyl group, isopropoxyethyl group, n-butoxyethyl group, sec-butoxyethyl group, tert-butoxyethyl Group, phenoxyethyl group, methoxy-n-propyl group, ethoxy-n-propyl group, n-propoxy-n-propyl group, isopropoxy-n-propyl group, n-butoxy-n-propyl group, sec-butoxy- n-propyl group, tert-butoxy-n-propyl group Phenoxy-n-propyl group, methoxyisopropyl group, ethoxyisopropyl group, n-propoxyisopropyl group, isopropoxyisopropyl group, n-butoxyisopropyl group, sec-butoxyisopropyl group, tert-butoxyisopropyl group, phenoxyisopropyl group, etc. It is done.
置換基を有していてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、炭素原子数7〜20のアラルキル基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜20のアラルキル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent include an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms and an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent. It is done.
炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(4,6−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ジフェニルメチル基、ジフェニルエチル基、ジフェニルプロピル基、ジフェニルブチル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms include benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, and (2,3-dimethyl). (Phenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, 4,6-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, 3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3, , 6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (Isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group , (N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-tetradecylphenyl) methyl group, naphthylmethyl group , Anthracenylmethyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, phenylbutyl group, diphth Nirumechiru group, diphenylethyl group, diphenylpropyl group, diphenylbutyl group.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えば、2−フロオロベンジル基、3−フルオロベンジル基、4−フルオロベンジル基、2−クロロベンジル基、3−クロロベンジル基、4−クロロベンジル基、2−ブロモベンジル基、3−ブロモベンジル基、4−ブロモベンジル基、2−ヨードベンジル基、3−ヨードベンジル基、4−ヨードベンジル基などがあげられる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include, for example, 2-fluorobenzyl group, 3-fluorobenzyl group, 4-fluorobenzyl group, 2-chlorobenzyl group, 3-chlorobenzyl. Group, 4-chlorobenzyl group, 2-bromobenzyl group, 3-bromobenzyl group, 4-bromobenzyl group, 2-iodobenzyl group, 3-iodobenzyl group, 4-iodobenzyl group and the like.
置換基を有していてもよい炭素原子数6〜20のアリール基としては、炭素原子数6〜20のアリール基、ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜20のアリール基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent include an aryl group having 6 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent. It is done.
炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、およびアントラセニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5- Xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6- Trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, sec-butylphenyl group, tert-butyl Nenyl, n-pentylphenyl, neopentylphenyl, n-hexylphenyl, n-octylphenyl, n-decylphenyl, n-dodecylphenyl, n-tetradecylphenyl, naphthyl, and anthracenyl Group.
ハロゲン原子を置換基として有する炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、2−フロオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基などがあげられる。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms having a halogen atom as a substituent include, for example, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, Examples include 4-chlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4-iodophenyl group and the like.
L3として好ましくは、炭素原子数1〜20のアルキル基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、である。 L 3 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group. , N-pentyl group, neopentyl group, isopentyl group, n-hexyl group.
式[9]の化合物としては、M4がリチウム原子の場合、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、n−ペンチルリチウム、ネオペンチルリチウム、イソペンチルリチウム、n−ヘキシルリチウム等のアルキルリチウム、フェニルリチウム、ナフチルリチウム、およびペンタフルオロフェニリチウム等のアリールリチウム、アリルリチウム、シクロペンタジエニルリチウムが挙げられる。M4が亜鉛原子の場合、例えば、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ−n−ブチル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ジ−n−ヘキシル亜鉛等のジアルキル亜鉛、ジフェニル亜鉛、ジナフチル亜鉛、およびビス(ペンタフルオロフェニル)亜鉛等のジアリール亜鉛、ジアリル亜鉛等のジアルケニル亜鉛、ビス(シクロペンタジエニル)亜鉛、塩化メチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、塩化プロピル亜鉛、塩化n−ブチル亜鉛、塩化イソブチル亜鉛、塩化n−ヘキシル亜鉛、臭化メチル亜鉛、臭化エチル亜鉛、臭化プロピル亜鉛、臭化n−ブチル亜鉛、臭化イソブチル亜鉛、臭化n−ヘキシル亜鉛、ヨウ化メチル亜鉛、ヨウ化エチル亜鉛、ヨウ化プロピル亜鉛、ヨウ化n−ブチル亜鉛、ヨウ化イソブチル亜鉛、およびヨウ化n−ヘキシル亜鉛等のハロゲン化アルキル亜鉛が挙げられる。M4がアルミニウム原子の場合、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−n−プロピルアルミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジ−n−プロピルアルミニウムクロライド、ジ−n−ブチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジ−n−ヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド;メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、n−プロピルアルミニウムジクロライド、n−ブチルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、n−ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジ−n−プロピルアルミニウムハイドライド、ジ−n−ブチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ−n−ヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライドが挙げられる As the compound of the formula [9], when M 4 is a lithium atom, for example, methyl lithium, ethyl lithium, n-propyl lithium, isopropyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, n- Examples include alkyllithium such as pentyllithium, neopentyllithium, isopentyllithium, and n-hexyllithium, aryllithium such as phenyllithium, naphthyllithium, and pentafluorophenyllithium, allyllithium, and cyclopentadienyllithium. When M 4 is a zinc atom, for example, dialkyl zinc such as dimethyl zinc, diethyl zinc, dipropyl zinc, di-n-butyl zinc, diisobutyl zinc, di-n-hexyl zinc, diphenyl zinc, dinaphthyl zinc, and bis (penta Diaryl zinc such as fluorophenyl) zinc, dialkenyl zinc such as diallyl zinc, bis (cyclopentadienyl) zinc, methyl zinc chloride, ethyl zinc chloride, propyl zinc chloride, n-butyl zinc chloride, isobutyl zinc chloride, n- chloride Hexyl zinc, methyl zinc bromide, ethyl zinc bromide, propyl zinc bromide, n-butyl zinc bromide, isobutyl zinc bromide, n-hexyl zinc bromide, methyl zinc iodide, ethyl zinc iodide, propyl iodide Zinc, n-butyl zinc iodide, isobutyl zinc iodide, n-hexyl zinc iodide, etc. Halogenated alkyl zinc. When M 4 is an aluminum atom, for example, trimethylaluminum, triethylaluminum, tri-n-propylaluminum, tri-n-butylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-hexylaluminum, tri-n-octylaluminum and the like Dialkylaluminum chlorides such as dimethylaluminum chloride, dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, di-n-propylaluminum chloride, di-n-butylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, di-n-hexylaluminum chloride; methylaluminum dichloride, ethylaluminum Dichloride, n-propylaluminum dichloride, n-butylaluminum dichloride, isobutyl Alkyl aluminum dichlorides such as rualuminum dichloride and n-hexylaluminum dichloride; dimethylaluminum hydride, diethylaluminum hydride, di-n-propylaluminum hydride, di-n-butylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, di-n-hexylaluminum hydride Dialkyl aluminum hydride such as
式[9]の化合物として好ましくは、アルキルリチウム、ジアルキル亜鉛、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、アルキルリチウムであり、更に好ましくは、メチルリチウム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、n−ペンチルリチウム、ネオペンチルリチウム、イソペンチルリチウム、n−ヘキシルリチウムであり、特に好ましくはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムである。 The compound of the formula [9] is preferably alkyl lithium, dialkyl zinc, or trialkyl aluminum, more preferably alkyl lithium, and still more preferably methyl lithium, ethyl lithium, n-propyl lithium, isopropyl lithium, n -Butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, n-pentyl lithium, neopentyl lithium, isopentyl lithium, n-hexyl lithium, particularly preferably n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl Lithium.
工程(1)で使用される炭化水素溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒等があげられる。炭化水素溶媒は、複数の炭化水素溶媒の混合溶媒とすることもできる。 Examples of the hydrocarbon solvent used in the step (1) include an aliphatic hydrocarbon solvent and an aromatic hydrocarbon solvent. The hydrocarbon solvent may be a mixed solvent of a plurality of hydrocarbon solvents.
脂肪族炭化水素溶媒としては、好ましくは炭素原子数4〜10の脂肪族炭化水素溶媒であり、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、2,2,4−トリメチルペンタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等があげられる。 The aliphatic hydrocarbon solvent is preferably an aliphatic hydrocarbon solvent having 4 to 10 carbon atoms, such as butane, pentane, hexane, heptane, octane, 2,2,4-trimethylpentane, cyclopentane, cyclohexane. And cycloheptane.
芳香族炭化水素溶媒としては、好ましくは炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素溶媒であり、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン等があげられる。 The aromatic hydrocarbon solvent is preferably an aromatic hydrocarbon solvent having 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, mesitylene and the like.
工程(1)としては、予め式[1]の化合物、式[2]の化合物、および式[9]の化合物から選択される少なくとも一種の化合物を反応器に投入しておき、そこに炭化水素溶媒を加えて反応器中で溶液を製造する工程、事前に別容器で式[1]の化合物、式[2]の化合物、および式[9]の化合物から選択される少なくとも一種の化合物を炭化水素溶媒に溶解させておき、反応器に投入する工程などが挙げられる。 As the step (1), at least one compound selected from the compound of the formula [1], the compound of the formula [2], and the compound of the formula [9] is put in a reactor in advance, and a hydrocarbon is added thereto. A step of producing a solution in a reactor by adding a solvent, and carbonizing at least one compound selected from a compound of formula [1], a compound of formula [2], and a compound of formula [9] in a separate container beforehand Examples include a step of dissolving in a hydrogen solvent and charging the reactor.
工程(1)で使用される式[1]の化合物、式[2]の化合物、および式[9]の化合物から選択される少なくとも一種の化合物の量は、反応器の内壁面積に対して、1〜10000mmol/m2の範囲にあることが好ましく、10〜100mmol/m2の範囲にあることがより好ましい。 The amount of at least one compound selected from the compound of formula [1], the compound of formula [2] and the compound of formula [9] used in step (1) is based on the inner wall area of the reactor. it is preferably in the range of 1~10000mmol / m 2, more preferably in the range of 10 to 100 / m 2.
工程(1)の後、溶液を反応器内で攪拌する方法が好ましい。攪拌時間に特に制限はないが、好ましくは1分以上攪拌する方法があげられる。 A method of stirring the solution in the reactor after the step (1) is preferable. Although there is no restriction | limiting in particular in stirring time, Preferably the method of stirring for 1 minute or more is mention | raise | lifted.
工程(2)としては、溶液をシリンジやチューブで抜き出す工程、溶液を反応容器の抜き出し口から反応容器外へ排出する工程などが挙げられる。工程(2)の後に、工程(3)を行う場合には、反応器内の溶液を完全に除去せず、溶液が一部残存した態様で、工程(3)を行ってもよい。 Examples of the step (2) include a step of extracting the solution with a syringe or a tube, a step of discharging the solution from the outlet of the reaction vessel to the outside of the reaction vessel, and the like. When step (3) is performed after step (2), step (3) may be performed in such a manner that the solution in the reactor is not completely removed and a part of the solution remains.
工程(3)で使用される炭化水素溶媒としては、工程(1)の炭化水素溶媒として説明したものと同様の炭化水素溶媒があげられる。 Examples of the hydrocarbon solvent used in the step (3) include the same hydrocarbon solvents as those described as the hydrocarbon solvent in the step (1).
工程(3)としては、炭化水素溶媒を洗浄済反応器に加え、該洗浄済反応器を静置または攪拌した後に、炭化水素溶媒を除去する方法が挙げられる。静置時間または攪拌時間は特に制限はないが、好ましくは1時間以上である。炭化水素溶媒を抜き出す方法としては、シリンジやチューブで抜き出す方法、炭化水素溶媒を反応容器の抜き出し口から反応容器外へ排出する方法などがあげられる。 As the step (3), there is a method in which a hydrocarbon solvent is added to a washed reactor, and after the washed reactor is left standing or stirred, the hydrocarbon solvent is removed. The standing time or stirring time is not particularly limited, but is preferably 1 hour or longer. Examples of the method for extracting the hydrocarbon solvent include a method for extracting with a syringe or tube, and a method for discharging the hydrocarbon solvent from the reaction vessel extraction port to the outside of the reaction vessel.
本発明の洗浄済済反応器は、様々の化学反応用に用いることができるが、好ましい用途としては、付加重合用である。 Although the washed reactor of the present invention can be used for various chemical reactions, it is preferably used for addition polymerization.
遷移金属化合物またはそのμ−オキソタイプの遷移金属化合物二量体である化合物(A)
本発明に用いられる遷移金属化合物またはそのμ―オキソタイプの遷移金属化合物二量体である化合物(A)としては、活性化剤(B)と合わせて用いることにより、あるいは必要に応じて有機アルミニウム化合物(C)と合わせて用いることにより付加重合活性を示す遷移金属化合物であれば特に限定されないが、通常、メタロセン錯体等の遷移金属化合物が使用される。
Compound (A) which is a transition metal compound or a μ-oxo type transition metal compound dimer thereof
The transition metal compound used in the present invention or the compound (A) which is a μ-oxo type transition metal compound dimer thereof may be used in combination with an activator (B) or, if necessary, organic aluminum Although it will not specifically limit if it is a transition metal compound which shows addition polymerization activity by using together with a compound (C), Usually, transition metal compounds, such as a metallocene complex, are used.
かかる遷移金属化合物としては、具体的には下記式[3]で表される遷移金属化合物またはそのμ−オキソタイプの遷移金属化合物の二量体が例示される。
L1 aM2X1 b [3]
(式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。)またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。)
Specific examples of the transition metal compound include a transition metal compound represented by the following formula [3] or a dimer of a μ-oxo type transition metal compound.
L 1 a M 2 X 1 b [3]
(In the formula, M 2 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table. L 1 is a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L 1 are directly connected to each other. Or may be linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, wherein X 1 is a halogen atom, a hydrocarbyl group (provided that (Excluding a group having a cyclopentadiene type anion skeleton) or a hydrocarbyloxy group, a represents a number satisfying 0 <a ≦ 3, and b represents a number satisfying 0 <b ≦ 3.)
式[3]のM2としては、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子であり、より好ましくはジルコニウム原子である。 M 2 in the formula [3] is a titanium atom, a zirconium atom, or a hafnium atom, and more preferably a zirconium atom.
式[3]のL1のシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えば、(置換)シクロペンタジエニル基、(置換)インデニル基および(置換)フルオレニル基を挙げることができる。具体的には、シクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、n−ブチルシクロペンタジエニル基、tert−ブチルシクロペンタジエニル基、1,2−ジメチルシクロペンタジエニル基、1,3−ジメチルシクロペンタジエニル基、1−メチル−2−エチルシクロペンタジエニル基、1−メチル−3−エチルシクロペンタジエニル基、1−tert−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニル基、1−tert−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル基、1−メチル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル基、1−メチル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル基、1−メチル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル基、1−メチル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル基、η5−1,2,3−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5−1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、4,5,6,7−テトラヒドロインデニル基、2−メチルインデニル基、3−メチルインデニル基、4−メチルインデニル基、5−メチルインデニル基、6−メチルインデニル基、7−メチルインデニル基、2−tert−ブチルインデニル基、3−tert−ブチルインデニル基、4−tert−ブチルインデニル基、5−tert−ブチルインデニル基、6−tert−ブチルインデニル基、7−tert−ブチルインデニル基、2,3−ジメチルインデニル基、4,7−ジメチルインデニル基、2,4,7−トリメチルインデニル基、2−メチル−4−イソプロピルインデニル基、4,5−ベンズインデニル基、2−メチル−4,5−ベンズインデニル基、4−フェニルインデニル基、2−メチル−5−フェニルインデニル基、2−メチル−4−フェニルインデニル基、2−メチル−4−ナフチルインデニル基、フルオレニル基、2,7−ジメチルフルオレニル基および2,7−ジ−tert−ブチルフルオレニル基を例示することができる。 Examples of the group having a cyclopentadiene-type anion skeleton of L 1 in the formula [3] include (substituted) cyclopentadienyl group, (substituted) indenyl group, and (substituted) fluorenyl group. Specifically, cyclopentadienyl group, methylcyclopentadienyl group, ethylcyclopentadienyl group, n-butylcyclopentadienyl group, tert-butylcyclopentadienyl group, 1,2-dimethylcyclopenta Dienyl group, 1,3-dimethylcyclopentadienyl group, 1-methyl-2-ethylcyclopentadienyl group, 1-methyl-3-ethylcyclopentadienyl group, 1-tert-butyl-2-methyl Cyclopentadienyl group, 1-tert-butyl-3-methylcyclopentadienyl group, 1-methyl-2-isopropylcyclopentadienyl group, 1-methyl-3-isopropylcyclopentadienyl group, 1-methyl -2-n-butylcyclopentadienyl group, 1-methyl -3-n-butylcyclopentadienyl group, eta 5 -1 2,3-trimethyl cyclopentadienyl group, eta 5-1,2,4-trimethyl cyclopentadienyl group, tetramethylcyclopentadienyl group, pentamethylcyclopentadienyl group, indenyl group, 4,5, 6,7-tetrahydroindenyl group, 2-methylindenyl group, 3-methylindenyl group, 4-methylindenyl group, 5-methylindenyl group, 6-methylindenyl group, 7-methylindenyl group 2-tert-butylindenyl group, 3-tert-butylindenyl group, 4-tert-butylindenyl group, 5-tert-butylindenyl group, 6-tert-butylindenyl group, 7-tert- Butyl indenyl group, 2,3-dimethyl indenyl group, 4,7-dimethyl indenyl group, 2,4,7-trimethyl indenyl group, -Methyl-4-isopropylindenyl group, 4,5-benzindenyl group, 2-methyl-4,5-benzindenyl group, 4-phenylindenyl group, 2-methyl-5-phenylindenyl group, 2-methyl- Examples thereof include 4-phenylindenyl group, 2-methyl-4-naphthylindenyl group, fluorenyl group, 2,7-dimethylfluorenyl group and 2,7-di-tert-butylfluorenyl group. .
式[3]のL1に用いられるシクロペンタジエン型アニオン骨格を有する基の多座性ηは特に限定されなく、シクロペンタジエン型アニオン骨格を有する基のとりうるいずれの値でもよい。例えば、5座、4座、3座、2座、単座が挙げられ、好ましくは5座、3座または単座であり、より好ましくは5座または3座である。 The polydentate η of the group having a cyclopentadiene type anion skeleton used for L 1 in the formula [3] is not particularly limited, and may be any value that can be taken by the group having a cyclopentadiene type anion skeleton. For example, 5 seats, 4 seats, 3 seats, 2 seats and single seats are mentioned, preferably 5 seats, 3 seats or single seats, more preferably 5 seats or 3 seats.
式[3]におけるL1のヘテロ原子を含有する基におけるヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン原子を挙げることができ、かかる基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキルホスフィノ基、アリールホスフィノ基、キレート性配位子、あるいは酸素原子、硫黄原子、窒素原子および/またはリン原子を環内に有する芳香族複素環基もしくは脂肪族複素環基が好ましい。 Examples of the hetero atom in the group containing the hetero atom of L 1 in the formula [3] include an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a phosphorus atom. Examples of such a group include an alkoxy group and an aryloxy group. , A thioalkoxy group, a thioaryloxy group, an alkylamino group, an arylamino group, an alkylphosphino group, an arylphosphino group, a chelating ligand, or a ring of oxygen, sulfur, nitrogen and / or phosphorus atoms An aromatic heterocyclic group or an aliphatic heterocyclic group is preferable.
式[3]におけるL1のヘテロ原子を含有する基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基,2,6−ジメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、2−エチルフェノキシ基、4−n−プロピルフェノキシ基、2−イソプロピルフェノキシ基、2,6−ジイソプロピルフェノキシ基、4−sec−ブチルフェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、2,6−ジ−sec−ブチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、2,6−ジメトキシフェノキシ基、3,5−ジメトキシフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−ニトロソフェノキシ基、4−ニトロフェノキシ基、2−アミノフェノキシ基、3−アミノフェノキシ基、4−アミノチオフェノキシ基、2,3,6−トリクロロフェノキシ基、2,4,6−トリフルオロフェノキシ基、チオメトキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジフェニルアミノ基、イソプロピルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、ピロリル基、ジメチルホスフィノ基、2−(2−オキシ−1−プロピル)フェノキシ基、カテコール、レゾルシノール、4−イソプロピルカテコール、3−メトキシカテコール、1,8−ジヒドロキシナフチル基、1,2−ジヒドロキシナフチル基、2,2’−ビフエニルジオール基、1,1’−ビ−2−ナフトール基、2,2’−ジヒドロキシ−6,6’−ジメチルビフェニル基、4,4’,6,6’−テトラ−tert−ブチル−2,2’メチレンジフェノキシ基、および4,4’,6,6’−テトラメチル−2,2’−イソブチリデンジフェノキシ基を挙げることができる。 Examples of the group containing a hetero atom of L 1 in the formula [3] include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 2, 4,6-trimethylphenoxy group, 2-ethylphenoxy group, 4-n-propylphenoxy group, 2-isopropylphenoxy group, 2,6-diisopropylphenoxy group, 4-sec-butylphenoxy group, 4-tert-butylphenoxy group Group, 2,6-di-sec-butylphenoxy group, 2-tert-butyl-4-methylphenoxy group, 2,6-di-tert-butylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group, 2,6-dimethoxyphenoxy group Group, 3,5-dimethoxyphenoxy group, 2-chlorophenoxy group, 4-nitrosophenoxy group 4-nitrophenoxy group, 2-aminophenoxy group, 3-aminophenoxy group, 4-aminothiophenoxy group, 2,3,6-trichlorophenoxy group, 2,4,6-trifluorophenoxy group, thiomethoxy group, Dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, diphenylamino group, isopropylamino group, tert-butylamino group, pyrrolyl group, dimethylphosphino group, 2- (2-oxy-1-propyl) phenoxy group, catechol, Resorcinol, 4-isopropylcatechol, 3-methoxycatechol, 1,8-dihydroxynaphthyl group, 1,2-dihydroxynaphthyl group, 2,2′-biphenyldiol group, 1,1′-bi-2-naphthol group, 2,2′-dihydroxy-6,6′-dimethylbiphenyl group, 4,4 ′, 6 6'-tetra -tert- butyl 2,2 'methylenedianiline phenoxy group, and 4,4', mention may be made of 6,6'-tetramethyl-2,2'-isobutenyl dust Denji phenoxy group.
また、上記ヘテロ原子を含有する基としては、例えば、下記式[7]で表される基も挙げることができる。
R8 3P=N− [7]
(式中、R8はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基を表し、複数のR8は互いに同じであっても異なっていてもよく、複数のR8のうち、任意の2つ以上が互いに結合していてもよく、環構造を形成していてもよい。)
Moreover, as group containing the said hetero atom, group represented by following formula [7] can also be mentioned, for example.
R 8 3 P = N- [7]
(In the formula, each R 8 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbyl group, and the plurality of R 8 may be the same or different from each other, and any two of the plurality of R 8 may be selected. Two or more may be bonded to each other and may form a ring structure.)
前記式[7]におけるR8の具体例としては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロへプチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、およびベンジル基を例示することができる。 Specific examples of R 8 in the formula [7] include hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert- Examples thereof include a butyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and a benzyl group.
更に前記ヘテロ原子を含有する基としては下記式[8]で表される基も例示することができる。 Further, examples of the group containing a hetero atom include a group represented by the following formula [8].
(式中、R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハイドロカルビル基、ハロゲン化ハイドロカルビル基、ハイドロカルビルオキシ基、シリル基またはアミノ基を表し、複数のR9は互いに同じであっても異なっていてもよく、複数のR9のうち、任意の2つ以上が互いに結合していてもよく、環構造を形成していてもよい。) (Wherein, R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbyl group, a halogenated hydrocarbyl group, hydrocarbyloxy group, a silyl group or an amino group, a plurality of R 9 is the same as each other Or any two or more of R 9 may be bonded to each other and may form a ring structure.)
上記式[8]におけるR9の具体例として、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、tert−ブチル基、2,6−ジメチルフェニル基、2−フルオレニル基、2−メチルフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−ピリジル基、シクロヘキシル基、2−イソプロピルフェニル基、ベンジル基、メチル基、トリエチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、1,1−ジメチルプロピル基、2−クロロフェニル基、およびペンタフルオロフェニル基を例示することができる。 Specific examples of R 9 in the above formula [8] include hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, tert-butyl group, 2,6- Dimethylphenyl group, 2-fluorenyl group, 2-methylphenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-pyridyl group, cyclohexyl group, 2-isopropylphenyl group, benzyl group, methyl group, triethyl Examples include a silyl group, a diphenylmethylsilyl group, a 1-methyl-1-phenylethyl group, a 1,1-dimethylpropyl group, a 2-chlorophenyl group, and a pentafluorophenyl group.
前記式[3]におけるL1のキレート性配位子とは、複数の配位部位を有する配位子を指し、その配位子としては、例えば、アセチルアセトナート、ジイミン、オキサゾリン、ビスオキサゾリン、テルピリジン、アシルヒドラゾン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポルフィリン、クラウンエーテル、およびクリプタートを挙げることができる。 The chelating ligand of L 1 in the formula [3] refers to a ligand having a plurality of coordination sites. Examples of the ligand include acetylacetonate, diimine, oxazoline, bisoxazoline, Mention may be made of terpyridine, acyl hydrazones, diethylenetriamine, triethylenetetramine, porphyrin, crown ether, and cryptate.
前記式[3]におけるL1の複素環基としては、例えば、ピリジル基、N−置換イミダゾリル基およびN−置換インダゾリル基を挙げることができ、なかでも、好ましくはピリジル基である。 Examples of the heterocyclic group represented by L 1 in the formula [3] include a pyridyl group, an N-substituted imidazolyl group, and an N-substituted indazolyl group, and among them, a pyridyl group is preferable.
前記式[3]において、複数のL1が、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子またはリン原子を含有する残基を介して連結されている場合(すなわち、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基同士がその残基を介して連結されている場合、ヘテロ原子を含有する基同士がその残基を介して連結されている場合、またはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基とヘテロ原子を含有する基とがその残基を介して連結されている場合)、その残基として好ましくは、2つのL1と結合する原子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子またはリン原子であって、2つのL1を結合させる最小原子数が3以下の2価の残基である。その残基として、メチレン基、エチレン基およびプロピレン基等のアルキレン基;ジメチルメチレン基(イソプロピリデン基)およびジフェニルメチレン基等の置換アルキレン基;シリレン基、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、テトラメチルジシリレン基、およびジメトキシシリレン基等の置換シリレン基;窒素原子、酸素原子、硫黄原子、およびリン原子等のヘテロ原子を例示することができる。なかでも、特に好ましくは、メチレン基、エチレン基、ジメチルメチレン基(イソプロピリデン基)、ジフェニルメチレン基、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジフェニルシリレン基またはジメトキシシリレン基である。 In the formula [3], when a plurality of L 1 are linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom (that is, a cyclopentadiene anion When a group having a skeleton is linked via its residue, a group containing a hetero atom is linked via its residue, or a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton and a hetero atom A group containing a hydrogen atom), and as the residue, preferably the two atoms bonded to L 1 are a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or It is a phosphorus atom and is a divalent residue having a minimum atomic number of 3 or less for bonding two L 1 . As the residue, alkylene groups such as methylene group, ethylene group and propylene group; substituted alkylene groups such as dimethylmethylene group (isopropylidene group) and diphenylmethylene group; silylene group, dimethylsilylene group, diethylsilylene group, diphenylsilylene group And substituted silylene groups such as tetramethyldisilene group and dimethoxysilylene group; and heteroatoms such as nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom and phosphorus atom. Among these, a methylene group, an ethylene group, a dimethylmethylene group (isopropylidene group), a diphenylmethylene group, a dimethylsilylene group, a diethylsilylene group, a diphenylsilylene group, or a dimethoxysilylene group is particularly preferable.
前記式[3]におけるX1のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を挙げることができる。X1のハイドロカルビル基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アリール基、およびアルケニル基を挙げることができ、なかでも、好ましくは、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基または炭素原子数3〜20のアルケニル基である。 Examples of the halogen atom represented by X 1 in the formula [3] include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the hydrocarbyl group represented by X 1 include an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, and an alkenyl group. Among them, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 7 carbon atoms is preferable. An aralkyl group having 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms.
炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、およびn−エイコシル基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソブチル基またはアミル基である。これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、およびパーブロモプロピル基を挙げることができる。またこれらのアルキル基は、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等を置換基として有していてもよい。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, and n-pentyl group. , Neopentyl group, amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, and n-eicosyl group, and more preferably methyl. Group, ethyl group, isopropyl group, tert-butyl group, isobutyl group or amyl group. Any of these alkyl groups may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group substituted with a halogen atom include a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a chloromethyl group, a trichloromethyl group, a fluoroethyl group, a pentafluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, and a perfluorobutyl group. Mention may be made of fluorohexyl, perfluorooctyl, perchloropropyl, perchlorobutyl and perbromopropyl groups. These alkyl groups may have an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group, an aralkyloxy group such as a benzyloxy group, and the like as a substituent.
炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、およびアントラセニルメチル基を挙げることができ、より好ましくはベンジル基である。これらのアラルキル基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等を置換基として有していてもよい。 Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms include benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, and (2,3-dimethyl). (Phenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, 3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, 3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3, , 6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (Isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group , (N-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-dodecylphenyl) methyl group, naphthylmethyl group, and anthracenylmethyl group More preferably, it is a benzyl group. These aralkyl groups include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group, and aralkyloxy groups such as benzyloxy group. As a substituent.
炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、およびアントラセニル基を挙げることができ、より好ましくはフェニル基である。これらのアリール基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等を置換基として有していてもよい。 Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5- Xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6- Trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butylphenyl group, sec-butylphenyl group, tert-butyl Enyl, n-pentylphenyl, neopentylphenyl, n-hexylphenyl, n-octylphenyl, n-decylphenyl, n-dodecylphenyl, n-tetradecylphenyl, naphthyl, and anthracenyl Group, and more preferably a phenyl group. These aryl groups include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, halogen atoms such as iodine atoms, alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups, aryloxy groups such as phenoxy groups, and aralkyloxy groups such as benzyloxy groups. You may have as a substituent.
炭素原子数3〜20のアルケニル基としては、例えば、アリル基、メタリル基、クロチル基、1,3−ジフェニル−2−プロペニル基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはアリル基またはメタリル基である。 Examples of the alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms include an allyl group, a methallyl group, a crotyl group, and a 1,3-diphenyl-2-propenyl group, and more preferably an allyl group or a methallyl group. It is.
一般式[1]におけるX1のハイドロカルビルオキシ基としては、例えば、アルコキシ基、アラルキルオキシ基およびアリールオキシ基を挙げることができ、なかでも、好ましくは、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基または炭素原子数6〜20のアリールオキシ基である。 Examples of the hydrocarbyloxy group represented by X 1 in the general formula [1] include an alkoxy group, an aralkyloxy group, and an aryloxy group. Among them, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms is preferable. , An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms or an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms.
炭素原子数1〜20のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキソキシ基、n−オクトキシ基、n−ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ基、およびn−イコソキシ基を挙げることができ、なかでも、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、またはtert−ブトキシ基である。これらのアルコキシ基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等を置換基として有していてもよい。 Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentoxy, and neopentoxy. Group, n-hexoxy group, n-octoxy group, n-dodesoxy group, n-pentadesoxy group, and n-icosoxy group, and among them, preferably methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, or tert. -Butoxy group. These alkoxy groups include fluorine atoms, chlorine atoms, halogen atoms such as bromine atoms and iodine atoms, alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups, aryloxy groups such as phenoxy groups, and aralkyloxy groups such as benzyloxy groups. You may have as a substituent.
炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2、3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2、4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2、5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2、6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、およびアントラセニルメトキシ基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはベンジルオキシ基である。これらのアラルキルオキシ基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等を置換基として有していてもよい。 Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms include benzyloxy group, (2-methylphenyl) methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3 -Dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group , (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group , (2,4,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,6-trimethylphenyl) methoxy group, (3,4,5-trimethyl) Ruphenyl) methoxy group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,4,6-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) Methoxy group, (pentamethylphenyl) methoxy group, (ethylphenyl) methoxy group, (n-propylphenyl) methoxy group, (isopropylphenyl) methoxy group, (n-butylphenyl) methoxy group, (sec-butylphenyl) methoxy Group, (tert-butylphenyl) methoxy group, (n-hexylphenyl) methoxy group, (n-octylphenyl) methoxy group, (n-decylphenyl) methoxy group, naphthylmethoxy group, and anthracenylmethoxy group Among them, a benzyloxy group is more preferable. These aralkyloxy groups include fluorine atoms, chlorine atoms, halogen atoms such as bromine atoms and iodine atoms, alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups, aryloxy groups such as phenoxy groups, and aralkyloxy groups such as benzyloxy groups. As a substituent.
炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2、3−ジメチルフェノキシ基、2、4−ジメチルフェノキシ基、2、5−ジメチルフェノキシ基、2、6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−5−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−6−メチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,4−ジメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,5−ジメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,6−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−3−メチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−4,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,4,6−トリメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−3,4−ジメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、2−tert−ブチル−3,5,6−トリメチルフェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチル−3,5−ジメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、およびアントラセノキシ基を挙げることができる。これらのアリールオキシ基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等を置換基として有していてもよい。 Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,3-dimethylphenoxy group, and 2,4-dimethylphenoxy group. Group, 2,5-dimethylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3-methylphenoxy group, 2-tert- Butyl-4-methylphenoxy group, 2-tert-butyl-5-methylphenoxy group, 2-tert-butyl-6-methylphenoxy group, 2,3,4-trimethylphenoxy group, 2,3,5-trimethylphenoxy Group, 2,3,6-trimethylphenoxy group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethyl Ruphenoxy group, 2-tert-butyl-3,4-dimethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3,5-dimethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3,6-dimethylphenoxy group, 2,6- Di-tert-butyl-3-methylphenoxy group, 2-tert-butyl-4,5-dimethylphenoxy group, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy group, 3,4,5-trimethylphenoxy group Group, 2,3,4,5-tetramethylphenoxy group, 2-tert-butyl-3,4,5-trimethylphenoxy group, 2,3,4,6-tetramethylphenoxy group, 2-tert-butyl- 3,4,6-trimethylphenoxy group, 2,6-di-tert-butyl-3,4-dimethylphenoxy group, 2,3,5,6-tetramethylphenoxy group Group, 2-tert-butyl-3,5,6-trimethylphenoxy group, 2,6-di-tert-butyl-3,5-dimethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, ethylphenoxy group, n-propylphenoxy group , Isopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, n-octylphenoxy group, n-decylphenoxy group, n-tetradecylphenoxy group, naphthoxy group And anthracenoxy group. These aryloxy groups include fluorine atoms, chlorine atoms, halogen atoms such as bromine atoms and iodine atoms, alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups, aryloxy groups such as phenoxy groups, and aralkyloxy groups such as benzyloxy groups. As a substituent.
式[3]におけるX1として、より好ましくは塩素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フェニル基、フェノキシ基、2,6−ジ−tert−ブチルフェノキシ基、3,4,5−トリフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ペンタフルオロフェニルフェノキシ基またはベンジル基である。 X 1 in the formula [3] is more preferably a chlorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n -Butoxy group, trifluoromethoxy group, phenyl group, phenoxy group, 2,6-di-tert-butylphenoxy group, 3,4,5-trifluorophenoxy group, pentafluorophenoxy group, 2,3,5,6 -Tetrafluoro-4-pentafluorophenylphenoxy group or benzyl group.
式[3]におけるaは0<a≦3を満たす数であり、bは0<b≦3を満たす数である。aおよびbはM2の価数に応じて適宜選択される。M2がチタン原子、ジルコニウム原子またはハフ
ニウム原子である場合、aは2であることが好ましく、bも2であることが好ましい。
In Formula [3], a is a number that satisfies 0 <a ≦ 3, and b is a number that satisfies 0 <b ≦ 3. a and b are appropriately selected according to the valence of M 2 . When M 2 is a titanium atom, a zirconium atom or a hafnium atom, a is preferably 2, and b is also preferably 2.
式[3]で表される、遷移金属原子がチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子である化合物としては、例えば、ビス(シクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(エチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(tert−ブチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1,2−ジメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−メチル−2−エチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−メチル−3−エチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−メチル−2−n−ブチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−メチル−3−n−ブチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−メチル−2−イソプロピルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−メチル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−tert−ブチル−2−メチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−tert−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1,2,3−トリメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(インデニル)チタンジクロライド、ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)チタンジクロライド、ビス(フルオレニル)チタンジクロライド、ビス(2−フェニルインデニル)チタンジクロライド、 Examples of the compound represented by the formula [3] in which the transition metal atom is a titanium atom, a zirconium atom or a hafnium atom include bis (cyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (methylcyclopentadienyl) titanium dichloride, Bis (ethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (n-butylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (tert-butylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1,2-dimethylcyclopentadienyl) titanium Dichloride, bis (1,3-dimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1-methyl-2-ethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1-methyl-3-ethylcyclopentadienyl) titanium dichloride , Screw (1 Methyl-2-n-butylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1-methyl-3-n-butylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1-methyl-2-isopropylcyclopentadienyl) titanium dichloride Bis (1-methyl-3-isopropylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1-tert-butyl-2-methylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1-tert-butyl-3-methylcyclopenta) Dienyl) titanium dichloride, bis (1,2,3-trimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (1,2,4-trimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (tetramethylcyclopentadienyl) titanium Dichloride, bis (pentameth Lucyclopentadienyl) titanium dichloride, bis (indenyl) titanium dichloride, bis (4,5,6,7-tetrahydroindenyl) titanium dichloride, bis (fluorenyl) titanium dichloride, bis (2-phenylindenyl) titanium dichloride ,
ビス[2−(ビス−3,5−トリフルオロメチルフェニル)インデニル]チタンジクロライド、ビス[2−(4−tert−ブチルフェニル)インデニル]チタンジクロライド、ビス[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)インデニル]チタンジクロライド、ビス[2−(4−メチルフェニル)インデニル]チタンジクロライド、ビス[2−(3,5−ジメチルフェニル)インデニル]チタンジクロライド、ビス[2−(ペンタフルオロフェニル)インデニル]チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(インデニル)チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(フルオレニル)チタンジクロライド、インデニル(フルオレニル)チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル(インデニル)チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル(フルオレニル)チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(2−フェニルインデニル)チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル(2−フェニルインデニル)チタンジクロライド、 Bis [2- (bis-3,5-trifluoromethylphenyl) indenyl] titanium dichloride, bis [2- (4-tert-butylphenyl) indenyl] titanium dichloride, bis [2- (4-trifluoromethylphenyl) Indenyl] titanium dichloride, bis [2- (4-methylphenyl) indenyl] titanium dichloride, bis [2- (3,5-dimethylphenyl) indenyl] titanium dichloride, bis [2- (pentafluorophenyl) indenyl] titanium dichloride , Cyclopentadienyl (pentamethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, cyclopentadienyl (indenyl) titanium dichloride, cyclopentadienyl (fluorenyl) titanium dichloride, indenyl (fluorenyl) titanium dichloride , Pentamethylcyclopentadienyl (indenyl) titanium dichloride, pentamethylcyclopentadienyl (fluorenyl) titanium dichloride, cyclopentadienyl (2-phenylindenyl) titanium dichloride, pentamethylcyclopentadienyl (2-phenylindene) Nil) titanium dichloride,
ジメチルシリレンビス(シクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−メチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(3−メチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−n−ブチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(3−n−ブチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,3−ジメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,4−ジメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,3−エチルメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,4−エチルメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,5−エチルメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(3,5−エチルメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,3,4−トリメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,3,5−トリメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene bis (cyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2-methylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (3-methylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2-n- Butylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (3-n-butylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (2,3-dimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (2,4 -Dimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (2,5-dimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (3,4-dimethylcyclopentadienyl) Titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2,3-ethylmethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2,4-ethylmethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2,5-ethylmethylcyclo) Pentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (3,5-ethylmethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2,3,4-trimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2, 3,5-trimethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (tetramethylcyclopentadienyl) titanium dichloride,
ジメチルシリレンビス(インデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−メチルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−tert−ブチルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,3−ジメチルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2,4,7−トリメチルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−イソプロピルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(4,5−ベンズインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4,5−ベンズインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−フェニルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(4−フェニルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−5−フェニルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−ナフチルインデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylenebis (indenyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (2-methylindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (2-tert-butylindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (2,3-dimethylindenyl) titanium Dichloride, dimethylsilylene bis (2,4,7-trimethylindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2-methyl-4-isopropylindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (4,5-benzindenyl) titanium dichloride, dimethyl Silylene bis (2-methyl-4,5-benzindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2-phenylindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (4-phenyl) Indenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2-methyl-4-phenylindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2-methyl-5-phenylindenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (2-methyl-4-naphthyl) Indenyl) titanium dichloride, dimethylsilylenebis (4,5,6,7-tetrahydroindenyl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(インデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(インデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(インデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(インデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(インデニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(フルオレニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス(フルオレニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (indenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (indenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (indenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetra Methylcyclopentadienyl) (indenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (fluorenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadiene) Enyl) (fluorenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (indenyl) titanium dichloride, dimethylsilyl (Indenyl) (fluorenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene bis (fluorenyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (tetramethylcyclopentadienyl) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (fluorenyl) ) Titanium dichloride,
シクロペンタジエニルチタントリクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロライド、シクロペンタジエニル(ジメチルアミド)チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(フェノキシ)チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(2,6−ジメチルフェニル)チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(2,6−ジイソプロピルフェニル)チタンジクロライド、シクロペンタジエニル(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル(2,6−ジメチルフェニル)チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル(2,6−ジイソプロピルフェニル)チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル(2,6−tert−ブチルフェニル)チタンジクロライド、インデニル(2,6−ジイソプロピルフェニル)チタンジクロライド、フルオレニル(2,6−ジイソプロピルフェニル)チタンジクロライド、 Cyclopentadienyl titanium trichloride, pentamethylcyclopentadienyl titanium trichloride, cyclopentadienyl (dimethylamido) titanium dichloride, cyclopentadienyl (phenoxy) titanium dichloride, cyclopentadienyl (2,6-dimethylphenyl) ) Titanium dichloride, cyclopentadienyl (2,6-diisopropylphenyl) titanium dichloride, cyclopentadienyl (2,6-di-tert-butylphenyl) titanium dichloride, pentamethylcyclopentadienyl (2,6-dimethyl) Phenyl) titanium dichloride, pentamethylcyclopentadienyl (2,6-diisopropylphenyl) titanium dichloride, pentamethylcyclopentadienyl (2,6-tert-butylphenyl) thi Njikuroraido, indenyl (2,6-diisopropylphenyl) titanium dichloride, fluorenyl (2,6-diisopropylphenyl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3,5-dimethyl -2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2) -Phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3,5-di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (5-methyl-3-phenyl-2) -Phenoxy Titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyldimethylsilyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2- Phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-chloro-) 2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3,5-diamil-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride Id, dimethylsilylene (cyclopentadienyl) (1-naphthoxy-2-yl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3 5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl- 5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3,5-di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) 5-methyl-3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3-tert-butyldimethylsilyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopenta Dienyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methyl) Cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-chloro-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (3,5-diamil-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilyl Down (methylcyclopentadienyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (methylcyclopentadienyl) (1-naphthoxy-2-yl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(n−ブチルシクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopenta) Dienyl) (3,5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopenta) Dienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (3,5-di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, Dimethylsilylene (n- Tilcyclopentadienyl) (5-methyl-3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyldimethylsilyl-5-methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5- Methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-chloro-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) ( 3,5-diamil- -Phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (n-butylcyclopentadienyl) (1-naphthoxy-2-yl) titanium Dichloride,
ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopenta) Dienyl) (3,5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopenta) Dienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3,5-di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium Chloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (5-methyl-3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyldimethylsilyl-5) -Methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3 -Tert-butyl-5-methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-chloro-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethyl Lucylylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3,5-diamil-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tert-butylcyclopentadienyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene ( tert-butylcyclopentadienyl) (1-naphthoxy-2-yl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3,5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3 -Tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3,5-di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethyl Len (tetramethylcyclopentadienyl) (5-methyl-3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyldimethylsilyl-5-methyl-2- Phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5- Methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-chloro-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadieni) ) (3,5-Diamyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (tetramethylcyclopentadienyl) (1- Naphthoxy-2-yl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3 5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl- 5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3,5-di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium Chloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (5-methyl-3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3-tert-butyldimethylsilyl-5-methyl-2) -Phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methoxy) -2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-chloro-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethyl Lucylylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3,5-diamil-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadienyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (trimethylsilylcyclopentadi) Enyl) (1-naphthoxy-2-yl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(インデニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(インデニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (indenyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3,5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethyl Silylene (indenyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3,5 -Di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (5-methyl-3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3-tert-butyl) Rudimethylsilyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3-tert-butyl-5- Methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3-tert-butyl-5-chloro-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (3,5-diamil-2-phenoxy) titanium dichloride Dimethylsilylene (indenyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (indenyl) (1-naphthoxy-2-yl) titanium dichloride,
ジメチルシリレン(フルオレニル)(2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタンジクロライド、ジメチルシリレン(フルオレニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライド、 Dimethylsilylene (fluorenyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3,5-dimethyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethyl Silylene (fluorenyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3,5 -Di-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (5-methyl-3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) ( -Tert-butyldimethylsilyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (5-methyl-3-trimethylsilyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3-tert-butyl -5-methoxy-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3-tert-butyl-5-chloro-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3,5-diamil-2-phenoxy) ) Titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (3-phenyl-2-phenoxy) titanium dichloride, dimethylsilylene (fluorenyl) (1-naphthoxy-2-yl) titanium dichloride,
(tert−ブチルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニル−1,2−エタンジイルチタンジクロライド、(メチルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニル−1,2−エタンジイルチタンジクロライド、(エチルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニル−1,2−エタンジイルチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、(ベンジルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、(フェニルフォスファイド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)インデニル−1,2−エタンジイルチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)テトラヒドロインデニル−1,2−エタンジイルチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)フルオレニル−1,2−エタンジイルチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)インデニルジメチルシランチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)テトラヒドロインデニルジメチルシランチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)フルオレニルジメチルシランチタンジクロライド、 (Tert-Butylamide) tetramethylcyclopentadienyl-1,2-ethanediyltitanium dichloride, (methylamido) tetramethylcyclopentadienyl-1,2-ethanediyltitanium dichloride, (ethylamido) tetramethylcyclopentadienyl- 1,2-ethanediyltitanium dichloride, (tert-butylamide) tetramethylcyclopentadienyldimethylsilane titanium dichloride, (benzylamido) tetramethylcyclopentadienyldimethylsilane titanium dichloride, (phenylphosphide) tetramethylcyclopentadi Enyldimethylsilane titanium dichloride, (tert-butylamido) indenyl-1,2-ethanediyl titanium dichloride, (tert-butylamido) tetrahydroyl Denenyl-1,2-ethanediyl titanium dichloride, (tert-butylamido) fluorenyl-1,2-ethanediyl titanium dichloride, (tert-butylamido) indenyldimethylsilane titanium dichloride, (tert-butylamido) tetrahydroindenyldimethylsilane titanium Dichloride, (tert-butylamido) fluorenyldimethylsilane titanium dichloride,
(ジメチルアミノメチル)テトラメチルシクロペンタジエニルチタン(III)ジクロライド、(ジメチルアミノエチル)テトラメチルシクロペンタジエニルチタン(III)ジクロライド、(ジメチルアミノプロピル)テトラメチルシクロペンタジエニルチタン(III)ジクロライド、(N−ピロリジニルエチル)テトラメチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、(B−ジメチルアミノボラベンゼン)シクロペンタジエニルチタンジクロライド、シクロペンタジエニル(9−メシチルボラアントラセニル)チタンジクロライド、 (Dimethylaminomethyl) tetramethylcyclopentadienyl titanium (III) dichloride, (dimethylaminoethyl) tetramethylcyclopentadienyl titanium (III) dichloride, (dimethylaminopropyl) tetramethylcyclopentadienyl titanium (III) dichloride (N-pyrrolidinylethyl) tetramethylcyclopentadienyl titanium dichloride, (B-dimethylaminoborabenzene) cyclopentadienyl titanium dichloride, cyclopentadienyl (9-mesitylboraanthracenyl) titanium dichloride,
2,2’−チオビス[4−メチル−6−tert−ブチルフェノキシ]チタンジクロライド、2,2’−チオビス[4−メチル−6−(1−メチルエチル)フェノキシ]チタンジクロライド、2,2’−チオビス(4,6−ジメチルフェノキシ)チタンジクロライド、2,2’−チオビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノキシ)チタンジクロライド、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノキシ)チタンジクロライド、2,2’−エチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノキシ)チタンジクロライド、2,2’−スルフィニルビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノキシ)チタンジクロライド、2,2’−(4,4’,6,6’−テトラ−tert−ブチル−1,1’ビフェノキシ)チタンジクロライド、(ジ−tert−ブチル−1,3−プロパンジアミド)チタンジクロライド、(ジシクロヘキシル−1,3−プロパンジアミド)チタンジクロライド、 2,2′-thiobis [4-methyl-6-tert-butylphenoxy] titanium dichloride, 2,2′-thiobis [4-methyl-6- (1-methylethyl) phenoxy] titanium dichloride, 2,2′- Thiobis (4,6-dimethylphenoxy) titanium dichloride, 2,2'-thiobis (4-methyl-6-tert-butylphenoxy) titanium dichloride, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenoxy) ) Titanium dichloride, 2,2'-ethylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenoxy) titanium dichloride, 2,2'-sulfinylbis (4-methyl-6-tert-butylphenoxy) titanium dichloride, 2, 2 ′-(4,4 ′, 6,6′-tetra-tert-butyl-1,1 ′ biphenol Shi) titanium dichloride, (di -tert- butyl-1,3-propane diamide) titanium dichloride, (dicyclohexyl-1,3-propane diamide) titanium dichloride,
[ビス(トリメチルシリル)−1,3−プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(tert−ブチルジメチルシリル)−1,3−プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(2,6−ジメチルフェニル)−1,3−プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)−1,3−プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−1,3−プロパンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(トリイソプロピルシリル)ナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(トリメチルシリル)ナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]チタントリクロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]チタントリクロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]チタントリクロライド、[トリス(3,5−ジメチルピラゾリル)メチル]チタントリクロライド、[トリス(3,5−ジエチルピラゾリル)メチル]チタントリクロライド、および[トリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)メチル]チタントリクロライドや、これらの化合物の「チタン」を「ジルコニウム」または「ハフニウム」に置き換えた化合物、「(2−フェノキシ)」を「(3−フェニル−2−フェノキシ)」、「(3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)」、または「(3−tert−ブチルジメチルシリル−2−フェノキシ)」に置き換えた化合物、「ジメチルシリレン」を「メチレン」、「エチレン」、「ジメチルメチレン(イソプロピリデン)」、「ジフェニルメチレン」、「ジエチルシリレン」、「ジフェニルシリレン」、または「ジメトキシシリレン」に置き換えた化合物、「ジクロライド」を「ジフルオライド」、「ジブロマイド」、「ジアイオダイド」、「ジメチル、「ジエチル」、「ジイソプロピル」、「ジフェニル」、「ジベンジル」、「ジメトキシド」、「ジエトキシド」、「ジ(n−プロポキシド)」、「ジ(イソプロポキシド)」、「ジフェノキシド」、または「ジ(ペンタフルオロフェノキシド)」に置き換えた化合物、ならびに「トリクロライド」を「トリフルオライド」、「トリブロマイド」、「トリアイオダイド」、「トリメチル」、「トリエチル」、「トリイソプロピル」、「トリフェニル」、「トリベンジル」、「トリメトキシド」、「トリエトキシド」、「トリ(n−プロポキシド)」、「トリ(イソプロポキシド)」、「トリフェノキシド」、または「トリ(ペンタフルオロフェノキシド)」に置き換えた化合物、を挙げることができる。 [Bis (trimethylsilyl) -1,3-propanediamide] titanium dichloride, [bis (tert-butyldimethylsilyl) -1,3-propanediamide] titanium dichloride, [bis (2,6-dimethylphenyl) -1,3 -Propanediamide] titanium dichloride, [bis (2,6-diisopropylphenyl) -1,3-propanediamide] titanium dichloride, [bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -1,3-propanediamide] Titanium dichloride, [bis (triisopropylsilyl) naphthalenediamide] titanium dichloride, [bis (trimethylsilyl) naphthalenediamide] titanium dichloride, [bis (tert-butyldimethylsilyl) naphthalenediamide] titanium dichloride, [hydrotris (3,5 Dimethylpyrazolyl) borate] titanium trichloride, [hydrotris (3,5-diethylpyrazolyl) borate] titanium trichloride, [hydrotris (3,5-di-tert-butylpyrazolyl) borate] titanium trichloride, [tris (3 5-dimethylpyrazolyl) methyl] titanium trichloride, [tris (3,5-diethylpyrazolyl) methyl] titanium trichloride, and [tris (3,5-di-tert-butylpyrazolyl) methyl] titanium trichloride, and these A compound in which “titanium” is replaced with “zirconium” or “hafnium”, “(2-phenoxy)” is “(3-phenyl-2-phenoxy)”, “(3-trimethylsilyl-2-phenoxy)” Or “(3-tert-butyldi Compound substituted with “methylsilyl-2-phenoxy)”, “dimethylsilylene” with “methylene”, “ethylene”, “dimethylmethylene (isopropylidene)”, “diphenylmethylene”, “diethylsilylene”, “diphenylsilylene”, or "Dimethoxysilylene" is a compound that replaces "dichloride", "difluoride", "dibromide", "diaiodide", "dimethyl," diethyl "," diisopropyl "," diphenyl "," dibenzyl "," dimethoxide "," “Diethoxide”, “di (n-propoxide)”, “di (isopropoxide)”, “diphenoxide” or “di (pentafluorophenoxide)” as well as “trichloride” as “trifluoride” ”,“ Tribromide ”,“ Tria “Iodide”, “Trimethyl”, “Triethyl”, “Triisopropyl”, “Triphenyl”, “Tribenzyl”, “Trimethoxide”, “Triethoxide”, “Tri (n-propoxide)”, “Tri (isopropoxide)” ”,“ Triphenoxide ”, or“ tri (pentafluorophenoxide) ”.
これらの遷移金属化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。 These transition metal compounds may be used alone or in combination of two or more.
以上に例示した遷移金属化合物のうち、本発明で用いる遷移金属化合物(A)として好ましくは、M2がジルコニウムである化合物や、式[3]におけるL1としてシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を少なくとも一つ有する遷移金属化合物が好ましい。
なかでも、式[3]におけるL1としてシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を2つ有し、L1が互いに炭素原子、ケイ素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されているジルコニウム化合物が特に好ましい。
Among the transition metal compounds exemplified above, the transition metal compound (A) used in the present invention is preferably a compound in which M 2 is zirconium, or a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton as L 1 in the formula [3]. A transition metal compound having at least one is preferable.
Among them, L 1 in the formula [3] has two groups having a cyclopentadiene type anion skeleton, and L 1 is bonded to each other through a residue containing a carbon atom, a silicon atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom. Particularly preferred are zirconium compounds linked together.
式[3]で表される遷移金属化合物は、特開平6−340684号公報、特開平7−258321号公報、国際特許公開第95/00562号明細書などに記載の製造方法によって製造することが可能である。 The transition metal compound represented by the formula [3] can be produced by a production method described in JP-A-6-340684, JP-A-7-258321, International Patent Publication No. 95/00562, and the like. Is possible.
活性化剤(B)
本発明に用いられる活性化剤(B)は前記の遷移金属化合物またはそのμ―オキソタイプの遷移金属化合物二量体(A)を活性化できるものであればいずれでもよい。生成する付加重合体粒子の形成を伴う重合(例えばスラリー重合、気相重合、バルク重合等)を行う場合、特定の粒子を触媒成分のひとつとして用いて、生成する付加重合体の形状を定形にすることが好ましく、下記(I)、下記(II)および下記(III)の改質された粒子を好適に用いることができる。
Activator (B)
The activator (B) used in the present invention may be any as long as it can activate the aforementioned transition metal compound or its μ-oxo type transition metal compound dimer (A). When performing polymerization with the formation of the generated addition polymer particles (eg slurry polymerization, gas phase polymerization, bulk polymerization, etc.), the specific particles are used as one of the catalyst components, and the shape of the generated addition polymer is fixed. It is preferable to use the modified particles of (I), (II) and (III) below.
(I):下記(a)、下記(b)、下記(c)および下記(d)を接触させて得られる改質された粒子
(a):下記一般式[4]で表される化合物
M3L2 2 [4]
(b):下記一般式[5]で表される化合物
R6 t-1TH [5]
(c):下記一般式[6]で表される化合物
R7 t-2TH2 [6]
(d):無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子
(上記一般式[4]〜[6]においてそれぞれ、M3 は周期律表第12族の典型金属原子を表す。L2 は水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基を表し、L2 が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R6 は電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R6 が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R7 はハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表す。Tはそれぞれ独立に周期律表の第15族または第16族の原子を表し、tはそれぞれの化合物のTの原子価を表す。)
(I): Modified particles obtained by contacting the following (a), (b), (c) and (d) below (a): a compound represented by the following general formula [4] M 3 L 2 2 [4]
(B): Compound represented by the following general formula [5] R 6 t-1 TH [5]
(C): Compound represented by the following general formula [6] R 7 t-2 TH 2 [6]
(D): Inorganic oxide particles or organic polymer particles (in the above general formulas [4] to [6], M 3 represents a typical metal atom of Group 12 of the periodic table. L 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. Or a hydrocarbyl group, and when a plurality of L 2 are present, they may be the same or different from each other, R 6 represents an electron-withdrawing group or a group containing an electron-withdrawing group, and R 6 When a plurality of 6 are present, they may be the same or different from each other, R 7 represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and each T independently represents group 15 of the periodic table. Or represents a Group 16 atom, and t represents the valence of T of each compound.)
(II):無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子(d)と、アルミノキサン(e)とを接触させて得られる改質された粒子 (II): Modified particles obtained by bringing inorganic oxide particles or organic polymer particles (d) into contact with aluminoxane (e)
(III):無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子(d)と、アルミノキサン(e)と、遷移金属化合物とを接触させて得られる改質された粒子
以下、これらにつき順次さらに説明する。
(III): Modified particles obtained by bringing inorganic oxide particles or organic polymer particles (d), aluminoxane (e), and a transition metal compound into contact with each other.
上記一般式[4]におけるM3 は、元素の周期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版1989)第12族の典型金属原子を表す。その具体例としては、亜鉛原子、カドミウム原子、水銀原子が挙げられる。M3 として特に好ましくは亜鉛原子である。 M 3 in the general formula [4] represents a typical metal atom of Group 12 of the Periodic Table of Elements (IUPAC Inorganic Chemical Nomenclature Revised Edition 1989). Specific examples thereof include a zinc atom, a cadmium atom, and a mercury atom. M 3 is particularly preferably a zinc atom.
上記一般式[4]において、L2は水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基である。L2のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。L2のハイドロカルビル基として好ましくは、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基である。 In the general formula [4], L 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbyl group. Examples of the halogen atom for L 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. The hydrocarbyl group for L 2 is preferably an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
L2のハイドロカルビル基のアルキル基として好ましくは、炭素原子数1〜20のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、およびn−エイコシル基が挙げられ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基またはイソブチル基である。 The alkyl group of the hydrocarbyl group of L 2 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl. Group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, and n -An eicosyl group is mentioned, More preferably, they are a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert- butyl group, or an isobutyl group.
これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、1H,1H−パーフルオロプロピル基、1H,1H−パーフルオロブチル基、1H,1H−パーフルオロペンチル基、1H,1H−パーフルオロヘキシル基、1H,1H−パーフルオロオクチル基、1H,1H−パーフルオロドデシル基、1H,1H−パーフルオロペンタデシル基、1H,1H−パーフルオロエイコシル基、および、これらのアルキル基の「フルオロ」を「クロロ」、「ブロモ」または「ヨード」に置き換えたアルキル基を挙げることができる。これらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基で置換されていてもよい。 Any of these alkyl groups may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a halogen atom include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a fluoroethyl group, a difluoroethyl group, a trifluoroethyl group, and a tetrafluoroethyl group. , Pentafluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, perfluorododecyl group, perfluoropentadecyl group, perfluoroeicosyl group, 1H, 1H-perfluoropropyl group, 1H, 1H-perfluorobutyl group, 1H, 1H-perfluoropentyl group, 1H, 1H-perfluorohexyl group, 1H, 1H-perfluorooctyl group, 1H, 1H-perfluorododecyl 1H, 1H-par Le Oro pentadecyl group, IH, 1H-perfluoro eicosyl group, and "chloro" to "fluoro" in these alkyl group include an alkyl group is replaced with "bromo" or "iodo". Any of these alkyl groups may be substituted with an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group, or an aralkyloxy group such as a benzyloxy group.
L2のハイドロカルビル基のアリール基として好ましくは、炭素原子数6〜20のアリール基であり、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、およびアントラセニル基が挙げられ、より好ましくはフェニル基である。これらのアリール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。 The aryl group of the hydrocarbyl group of L 2 is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, 2,3- Xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5-xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2, 3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl group 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-butyl group Enyl group, sec-butylphenyl group, tert-butylphenyl group, isobutylphenyl group, n-pentylphenyl group, neopentylphenyl group, n-hexylphenyl group, n-octylphenyl group, n-decylphenyl group, n- A dodecylphenyl group, n-tetradecylphenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group are mentioned, More preferably, it is a phenyl group. These aryl groups are all halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group or aralkyloxy groups such as benzyloxy group. It may be substituted with a group or the like.
L2のハイドロカルビル基のアラルキル基としては、炭素原子数7〜20のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(イソブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、およびアントラセニルメチル基を挙げることができ、なかでも、より好ましくはベンジル基である。これらのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等のハロゲン原子、メトキシ基およびエトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基等で置換されていてもよい。 The aralkyl group of the hydrocarbyl group of L 2 is preferably an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. For example, benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4 -Methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) methyl group , (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (3,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group, 2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3, 4,5-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,4,6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group , (Ethylphenyl) methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group , (Isobutylphenyl) methyl group, (n-pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group, (n-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl Groups, naphthylmethyl groups, and anthracenylmethyl groups, and more preferably Is a Njiru group. All of these aralkyl groups are halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group or aralkyloxy groups such as benzyloxy group. It may be substituted with a group or the like.
式[4]のL2として好ましくは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、更に好ましくは水素原子またはアルキル基であり、特に好ましくはアルキル基である。 L 2 in Formula [4] is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably an alkyl group.
上記一般式[5]または[6]におけるTはそれぞれ独立に、元素の周期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版1989)の第15族または第16族の原子を表す。一般式[5]におけるTと一般式[6]におけるTとは同じであっても異なっていてもよい。第15族原子の具体例としては、窒素原子、リン原子などが、第16族原子の具体例としては、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。Tとして好ましくは、それぞれ独立に窒素原子または酸素原子であり、特に好ましくはTは酸素原子である。
上記一般式[5]または[6]におけるtはそれぞれのTの原子価を表し、Tが第15族原子の場合はtは3であり、Tが第16族原子の場合はtは2である。
T in the general formula [5] or [6] independently represents an atom of Group 15 or Group 16 of the Periodic Table of Elements (IUPAC Inorganic Chemical Nomenclature Revised Edition 1989). T in the general formula [5] and T in the general formula [6] may be the same or different. Specific examples of the Group 15 atom include a nitrogen atom and a phosphorus atom, and specific examples of the Group 16 atom include an oxygen atom and a sulfur atom. T is preferably each independently a nitrogen atom or an oxygen atom, and particularly preferably T is an oxygen atom.
In the above general formula [5] or [6], t represents the valence of each T. When T is a Group 15 atom, t is 3, and when T is a Group 16 atom, t is 2. is there.
上記一般式[5]におけるR6 は、電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R6 が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。
電子吸引性の指標としては、ハメット則の置換基定数σ等が知られており、ハメット則の置換基定数σが正である官能基が電子吸引性基として挙げられる。
R 6 in the general formula [5] represents an electron-withdrawing group or a group containing an electron-withdrawing group, and when a plurality of R 6 are present, they may be the same or different from each other.
As an index of electron withdrawing property, the Hammett's rule substituent constant σ and the like are known, and a functional group having a positive Hammett's rule constant σ can be cited as an electron withdrawing group.
電子吸引性基の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホン基、フェニル基等が挙げられる。電子吸引性基を含有する基としてはハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、(ハロゲン化アルキル)アリール基、シアノ化アリール基、ニトロ化アリール基、エステル基(アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基やアリールオキシカルボニル基)等が挙げられる。 Specific examples of the electron withdrawing group include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a cyano group, a nitro group, a carbonyl group, a sulfone group, and a phenyl group. Examples of the group containing an electron-withdrawing group include a halogenated alkyl group, a halogenated aryl group, a (halogenated alkyl) aryl group, a cyanated aryl group, a nitrated aryl group, an ester group (an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group) and the like.
ハロゲン化アルキル基の具体例としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、ジヨードメチル基トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2,2,2−トリブロモエチル基、2,2,2−トリヨードエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタクロロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタブロモプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタヨードプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、2,2,2−トリクロロ−1−トリクロロメチルエチル基、2,2,2−トリブロモ−1−トリブロモメチルエチル基、2,2,2−トリヨード−1−トリヨードメチルエチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基 、1,1−ビス(トリクロロメチル)−2,2,2−トリクロロエチル基 、1,1−ビス(トリブロモメチル)−2,2,2−トリブロモエチル基 、1,1−ビス(トリヨードメチル)−2,2,2−トリヨードエチル基等が挙げられる。 Specific examples of the halogenated alkyl group include a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a bromomethyl group, an iodomethyl group, a difluoromethyl group, a dichloromethyl group, a dibromomethyl group, a diiodomethyl group, a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, and a tribromomethyl group. Group, triiodomethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group, 2,2,2-triiodoethyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentachloropropyl group, 2,2,3,3,3-pentabromopropyl group, 2,2,3 , 3,3-pentaiodopropyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, 2,2,2-trichloro-1-trichloromethyl Ethyl group, 2,2,2-tribromo-1-tribromomethylethyl group, 2,2,2-triiodo-1-triiodomethylethyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2, 2-trifluoroethyl group, 1,1-bis (trichloromethyl) -2,2,2-trichloroethyl group, 1,1-bis (tribromomethyl) -2,2,2-tribromoethyl group, 1 , 1-bis (triiodomethyl) -2,2,2-triiodoethyl group and the like.
ハロゲン化アリール基の具体例としては、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ−1−ナフチル基、パーフルオロ−2−ナフチル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、3,4,5−トリクロロフェニル基、2,3,5,6−テトラクロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、2,3,5,6−テトラクロロ−4−トリクロロメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラクロロ−4−ペンタクロロフェニルフェニル基、パークロロ−1−ナフチル基、パークロロ−2−ナフチル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2,4−ジブロモフェニル基、2,6−ジブロモフェニル基、3,4−ジブロモフェニル基、3,5−ジブロモフェニル基、2,4,6−トリブロモフェニル基、3,4,5−トリブロモフェニル基、2,3,5,6−テトラブロモフェニル基、ペンタブロモフェニル基、2,3,5,6−テトラブロモ−4−トリブロモメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラブロモ−4−ペンタブロモフェニルフェニル基、パーブロモ−1−ナフチル基、パーブロモ−2−ナフチル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基、2,4−ジヨードフェニル基、2,6−ジヨードフェニル基、3,4−ジヨードフェニル基、3,5−ジヨードフェニル基、2,4,6−トリヨードフェニル基、3,4,5−トリヨードフェニル基、2,3,5,6−テトラヨードフェニル基、ペンタヨードフェニル基、2,3,5,6−テトラヨード−4−トリヨードメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラヨード−4−ペンタヨードフェニルフェニル基、パーヨード−1−ナフチル基、パーヨード−2−ナフチル基等が挙げられる。 Specific examples of the halogenated aryl group include 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,4-difluorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, 3,4-difluorophenyl. Group, 3,5-difluorophenyl group, 2,4,6-trifluorophenyl group, 3,4,5-trifluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoromethylphenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-pentafluorophenylphenyl group, perfluoro-1-naphthyl group, perfluoro-2 -Naphthyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,6 Dichlorophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2,4,6-trichlorophenyl group, 3,4,5-trichlorophenyl group, 2,3,5,6-tetrachlorophenyl group, penta Chlorophenyl group, 2,3,5,6-tetrachloro-4-trichloromethylphenyl group, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pentachlorophenylphenyl group, perchloro-1-naphthyl group, perchloro-2- Naphtyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2,4-dibromophenyl group, 2,6-dibromophenyl group, 3,4-dibromophenyl group, 3,5-dibromo Phenyl group, 2,4,6-tribromophenyl group, 3,4,5-tribromophenyl group, 2,3,5,6-tetrabromide Phenyl group, pentabromophenyl group, 2,3,5,6-tetrabromo-4-tribromomethylphenyl group, 2,3,5,6-tetrabromo-4-pentabromophenylphenyl group, perbromo-1-naphthyl group Perbromo-2-naphthyl group, 2-iodophenyl group, 3-iodophenyl group, 4-iodophenyl group, 2,4-diiodophenyl group, 2,6-diiodophenyl group, 3,4-diiodo Phenyl group, 3,5-diiodophenyl group, 2,4,6-triiodophenyl group, 3,4,5-triiodophenyl group, 2,3,5,6-tetraiodophenyl group, pentaiodophenyl Group, 2,3,5,6-tetraiodo-4-triiodomethylphenyl group, 2,3,5,6-tetraiodo-4-pentaiodophenylphenyl group, A do-1-naphthyl group, a periodo-2-naphthyl group, etc. are mentioned.
(ハロゲン化アルキル)アリール基の具体例としては、2−(トリフルオロメチル)フェニル基、3−(トリフルオロメチル)フェニル基、4−(トリフルオロメチル)フェニル基、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フェニル基、3,4,5−トリス(トリフルオロメチル)フェニル基等が挙げられる。 Specific examples of the (halogenated alkyl) aryl group include 2- (trifluoromethyl) phenyl group, 3- (trifluoromethyl) phenyl group, 4- (trifluoromethyl) phenyl group, 2,6-bis (tri Fluoromethyl) phenyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2,4,6-tris (trifluoromethyl) phenyl group, 3,4,5-tris (trifluoromethyl) phenyl group, etc. Can be mentioned.
シアノ化アリール基の具体例としては、2−シアノフェニル基、3−シアノフェニル基、4−シアノフェニル基等が挙げられる。 Specific examples of the cyanated aryl group include 2-cyanophenyl group, 3-cyanophenyl group, 4-cyanophenyl group and the like.
ニトロ化アリール基の具体例としては、2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニトロフェニル基等が挙げられる。 Specific examples of the nitrated aryl group include 2-nitrophenyl group, 3-nitrophenyl group, 4-nitrophenyl group and the like.
エステル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ノルマルプロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペンタフルオロフェノキシカルボニル基等が挙げられる。 Specific examples of the ester group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, normal propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, trifluoromethoxycarbonyl group, pentafluorophenoxycarbonyl group and the like.
R6 として好ましくはハロゲン化ハイドロカルビル基であり、より好ましくはハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アリール基である。さらに好ましくは、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基 、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ−1−ナフチル基、パーフルオロ−2−ナフチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタクロロプロピル基、2,2,2−トリクロロ−1−トリクロロメチルエチル基、1,1−ビス(トリクロロメチル)−2,2,2−トリクロロエチル基 、4−クロロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、3.5−ジクロロフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、3,4,5−トリクロロフェニル基、またはペンタクロロフェニル基であり、特に好ましくは、フルオロアルキル基またはフルオロアリール基であり、最も好ましくは、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、3,5−ジフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニル基である。 R 6 is preferably a halogenated hydrocarbyl group, more preferably a halogenated alkyl group or a halogenated aryl group. More preferably, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,2-trimethyl Fluoro-1-trifluoromethylethyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,4-difluorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, 3,4-difluorophenyl group, 3,5-difluorophenyl group, 2,4,6-trifluorophenyl group, 3,4,5-tri Fluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-trifluoro Methylphenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-pentafluorophenylphenyl group, perfluoro-1-naphthyl group, perfluoro-2-naphthyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group 2,2,2-trichloroethyl group, 2,2,3,3,3-pentachloropropyl group, 2,2,2-trichloro-1-trichloromethylethyl group, 1,1-bis (trichloromethyl) -2,2,2-trichloroethyl group, 4-chlorophenyl group, 2,6-dichlorophenyl group, 3.5-dichlorophenyl group, 2,4,6-trichlorophenyl group, 3,4,5-trichlorophenyl group, Or a pentachlorophenyl group, particularly preferably a fluoroalkyl group or a fluoroaryl group, and most preferably a trialkyl group. Fluoromethyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl group, 3,5-difluorophenyl group , 3,4,5-trifluorophenyl group or pentafluorophenyl group.
上記一般式[6]におけるR7 はハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表す。R7 におけるハイドロカルビル基としては、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基が好ましく、一般式[4]におけるL2 として説明したと同様のハイドロカルビル基が用いられる。R7 におけるハロゲン化ハイドロカルビル基としては、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、(ハロゲン化アルキル)アリール基等が挙げられ、上記一般式[5]のR6 における電子吸引性基の具体例として挙げたものと同様のハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、(ハロゲン化アルキル)アリール基が用いられる。 R 7 in the general formula [6] represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group. The hydrocarbyl group in R 7 is preferably an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, and the same hydrocarbyl group as described for L 2 in the general formula [4] is used. Examples of the halogenated hydrocarbyl group in R 7 include a halogenated alkyl group, a halogenated aryl group, and a (halogenated alkyl) aryl group. Specific examples of the electron-withdrawing group in R 6 of the general formula [5] The same halogenated alkyl group, halogenated aryl group, and (halogenated alkyl) aryl group as those mentioned as examples are used.
上記一般式[6]におけるR7 として好ましくはハロゲン化ハイドロカルビル基であり、さらに好ましくはフッ素化ハイドロカルビル基である。 R 7 in the general formula [6] is preferably a halogenated hydrocarbyl group, and more preferably a fluorinated hydrocarbyl group.
改質された粒子(I)を得るために用いられる化合物(a)としては、M2が亜鉛原子の場合、例えば、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ−n−ブチル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ジ−n−ヘキシル亜鉛等のジアルキル亜鉛、ジフェニル亜鉛、ジナフチル亜鉛、およびビス(ペンタフルオロフェニル)亜鉛等のジアリール亜鉛、ジアリル亜鉛等のジアルケニル亜鉛、ビス(シクロペンタジエニル)亜鉛、塩化メチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、塩化プロピル亜鉛、塩化n−ブチル亜鉛、塩化イソブチル亜鉛、塩化n−ヘキシル亜鉛、臭化メチル亜鉛、臭化エチル亜鉛、臭化プロピル亜鉛、臭化n−ブチル亜鉛、臭化イソブチル亜鉛、臭化n−ヘキシル亜鉛、ヨウ化メチル亜鉛、ヨウ化エチル亜鉛、ヨウ化プロピル亜鉛、ヨウ化n−ブチル亜鉛、ヨウ化イソブチル亜鉛、およびヨウ化n−ヘキシル亜鉛等のハロゲン化アルキル亜鉛、フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、およびヨウ化亜鉛等のハロゲン化亜鉛が挙げられる。 As the compound (a) used for obtaining the modified particles (I), when M 2 is a zinc atom, for example, dimethyl zinc, diethyl zinc, dipropyl zinc, di-n-butyl zinc, diisobutyl zinc, Dialkyl zinc such as di-n-hexyl zinc, diphenyl zinc, dinaphthyl zinc, and diaryl zinc such as bis (pentafluorophenyl) zinc, dialkenyl zinc such as diallyl zinc, bis (cyclopentadienyl) zinc, methyl zinc chloride, Ethyl zinc chloride, propyl zinc chloride, n-butyl zinc chloride, isobutyl zinc chloride, n-hexyl chloride, methyl zinc bromide, ethyl zinc bromide, propyl zinc bromide, n-butyl zinc bromide, isobutyl zinc bromide N-hexylzinc bromide, methylzinc iodide, ethylzinc iodide, propylzinc iodide, n-iodide Examples include zinc halides such as butyl zinc, isobutyl zinc iodide, and n-hexyl zinc iodide, and zinc halides such as zinc fluoride, zinc chloride, zinc bromide, and zinc iodide.
化合物(a)として好ましくは、ジアルキル亜鉛であり、更に好ましくは、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジn−ブチル亜鉛、ジイソブチル亜鉛またはジn−ヘキシル亜鉛であり、特に好ましくはジメチル亜鉛またはジエチル亜鉛である。 The compound (a) is preferably dialkyl zinc, more preferably dimethyl zinc, diethyl zinc, dipropyl zinc, di n-butyl zinc, diisobutyl zinc or di n-hexyl zinc, particularly preferably dimethyl zinc or diethyl. Zinc.
化合物(b)を具体例に例示すると、アミン類としては、ジ(フルオロメチル)アミン、ジ(クロロメチル)アミン、ジ(ブロモメチル)アミン、ジ(ヨードメチル)アミン、ビス(ジフルオロメチル)アミン、ビス(ジクロロメチル)アミン、ビス(ジブロモメチル)アミン、ビス(ジヨードメチル)アミン、ビス(トリフルオロメチル)アミン、ビス(トリクロロメチル)アミン、ビス(トリブロモメチル)アミン、ビス(トリヨードメチル)アミン、ビス(2,2,2−トリフルオロエチル)アミン、ビス(2,2,2−トリクロロエチル)アミン、ビス(2,2,2−トリブロモエチル)アミン、ビス(2,2,2−トリヨードエチル)アミン、ビス(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル)アミン、ビス(2,2,3,3,3−ペンタクロロプロピル)アミン、ビス(2,2,3,3,3−ペンタブロモプロピル)アミン、ビス(2,2,3,3,3−ペンタヨードプロピル)アミン、ビス(2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル)アミン、ビス(2,2,2−トリクロロ−1−トリクロロメチルエチル)アミン、ビス(2,2,2−トリブロモ−1−トリブロモメチルエチル)アミン、ビス(2,2,2−トリヨード−1−トリヨードメチルエチル)アミン、ビス(1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル)アミン、ビス(1,1−ビス(トリクロロメチル)−2,2,2−トリクロロエチル)アミン、ビス(1,1−ビス(トリブロモメチル)−2,2,2−トリブロモエチル)アミン、ビス(1,1−ビス(トリヨードメチル)−2,2,2−トリヨードエチル)アミン、ビス(2−フルオロフェニル)アミン、ビス(3−フルオロフェニル)アミン、ビス(4−フルオロフェニル)アミン、ビス(2−クロロフェニル)アミン、ビス(3−クロロフェニル)アミン、ビス(4−クロロフェニル)アミン、ビス(2−ブロモフェニル)アミン、ビス(3−ブロモフェニル)アミン、ビス(4−ブロモフェニル)アミン、ビス(2−ヨードフェニル)アミン、ビス(3−ヨードフェニル)アミン、ビス(4−ヨードフェニル)アミン、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)アミン、ビス(3,5−ジフルオロフェニル)アミン、ビス(2,6−ジクロロフェニル)アミン、ビス(3,5−ジクロロフェニル)アミン、ビス(2,6−ジブロモフェニル)アミン、ビス(3,5−ジブロモフェニル)アミン、ビス(2,6−ジヨードフェニル)アミン、ビス(3,5−ジヨードフェニル)アミン、ビス(2,4,6−トリフルオロフェニル)アミン、ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)アミン、ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)アミン、ビス(2,4,6−トリヨードフェニル)アミン、ビス(3,4,5−トリフルオロフェニル)アミン、ビス(3,4,5−トリクロロフェニル)アミン、ビス(3,4,5−トリブロモフェニル)アミン、ビス(3,4,5−トリヨードフェニル)アミン、ビス(ペンタフルオロフェニル)アミン、ビス(ペンタクロロフェニル)アミン、ビス(ペンタブロモフェニル)アミン、ビス(ペンタヨードフェニル)アミン、ビス(2−(トリフルオロメチル)フェニル)アミン、ビス(3−(トリフルオロメチル)フェニル)アミン、ビス(4−(トリフルオロメチル)フェニル)アミン、ビス(2,6−ジ(トリフルオロメチル)フェニル)アミン、ビス(3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル)アミン、ビス(2,4,6−トリ(トリフルオロメチル)フェニル)アミン、ビス(3,4,5−トリ(トリフルオロメチル)フェニル)アミン、ビス(2−シアノフェニル)アミン、(3−シアノフェニル)アミン、ビス(4−シアノフェニル)アミン、ビス(2−ニトロフェニル)アミン、ビス(3−ニトロフェニル)アミン、ビス(4−ニトロフェニル)アミン等が挙げられる。また、窒素原子がリン原子に置換されたホスフィン化合物も同様に例示することができる。それらホスフィン化合物は、上述の具体例のアミンをホスフィンに書き換えることによって表される化合物等である。 Specific examples of the compound (b) include amines such as di (fluoromethyl) amine, di (chloromethyl) amine, di (bromomethyl) amine, di (iodomethyl) amine, bis (difluoromethyl) amine, bis (Dichloromethyl) amine, bis (dibromomethyl) amine, bis (diiodomethyl) amine, bis (trifluoromethyl) amine, bis (trichloromethyl) amine, bis (tribromomethyl) amine, bis (triiodomethyl) amine, Bis (2,2,2-trifluoroethyl) amine, bis (2,2,2-trichloroethyl) amine, bis (2,2,2-tribromoethyl) amine, bis (2,2,2-trimethyl) Iodoethyl) amine, bis (2,2,3,3,3-pentafluoropropyl) amine, bis (2,2,3,3) 3-pentachloropropyl) amine, bis (2,2,3,3,3-pentabromopropyl) amine, bis (2,2,3,3,3-pentaiodopropyl) amine, bis (2,2, 2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl) amine, bis (2,2,2-trichloro-1-trichloromethylethyl) amine, bis (2,2,2-tribromo-1-tribromomethylethyl) amine Bis (2,2,2-triiodo-1-triiodomethylethyl) amine, bis (1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl) amine, bis (1,1 -Bis (trichloromethyl) -2,2,2-trichloroethyl) amine, bis (1,1-bis (tribromomethyl) -2,2,2-tribromoethyl) amine, bis (1,1 Bis (triiodomethyl) -2,2,2-triiodoethyl) amine, bis (2-fluorophenyl) amine, bis (3-fluorophenyl) amine, bis (4-fluorophenyl) amine, bis (2- Chlorophenyl) amine, bis (3-chlorophenyl) amine, bis (4-chlorophenyl) amine, bis (2-bromophenyl) amine, bis (3-bromophenyl) amine, bis (4-bromophenyl) amine, bis (2 -Iodophenyl) amine, bis (3-iodophenyl) amine, bis (4-iodophenyl) amine, bis (2,6-difluorophenyl) amine, bis (3,5-difluorophenyl) amine, bis (2, 6-dichlorophenyl) amine, bis (3,5-dichlorophenyl) amine, bis (2,6-dibromophenyl) Enyl) amine, bis (3,5-dibromophenyl) amine, bis (2,6-diiodophenyl) amine, bis (3,5-diiodophenyl) amine, bis (2,4,6-trifluorophenyl) ) Amine, bis (2,4,6-trichlorophenyl) amine, bis (2,4,6-tribromophenyl) amine, bis (2,4,6-triiodophenyl) amine, bis (3,4, 5-trifluorophenyl) amine, bis (3,4,5-trichlorophenyl) amine, bis (3,4,5-tribromophenyl) amine, bis (3,4,5-triiodophenyl) amine, bis (Pentafluorophenyl) amine, bis (pentachlorophenyl) amine, bis (pentabromophenyl) amine, bis (pentaiodophenyl) amine, bis (2- ( Trifluoromethyl) phenyl) amine, bis (3- (trifluoromethyl) phenyl) amine, bis (4- (trifluoromethyl) phenyl) amine, bis (2,6-di (trifluoromethyl) phenyl) amine, Bis (3,5-di (trifluoromethyl) phenyl) amine, bis (2,4,6-tri (trifluoromethyl) phenyl) amine, bis (3,4,5-tri (trifluoromethyl) phenyl) Amine, bis (2-cyanophenyl) amine, (3-cyanophenyl) amine, bis (4-cyanophenyl) amine, bis (2-nitrophenyl) amine, bis (3-nitrophenyl) amine, bis (4- Nitrophenyl) amine and the like. Moreover, the phosphine compound by which the nitrogen atom was substituted by the phosphorus atom can be illustrated similarly. These phosphine compounds are compounds represented by rewriting the amine of the above-mentioned specific examples to phosphine.
また化合物(b)の具体例としてアルコール類としては、フルオロメタノール、クロロメタノール、ブロモメタノール、ヨードメタノール、ジフルオロメタノール、ジクロロメタノール、ジブロモメタノール、ジヨードメタノール、トリフルオロメタノール、トリクロロメタノール、トリブロモメタノール、トリヨードメタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,2−トリクロロエタノール、2,2,2−トリブロモエタノール、2,2,2−トリヨードエタノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノール、2,2,3,3,3−ペンタクロロプロパノール、2,2,3,3,3−ペンタブロモプロパノール、2,2,3,3,3−ペンタヨードプロパノール、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエタノール、2,2,2−トリクロロ−1−トリクロロメチルエタノール、2,2,2−トリブロモ−1−トリブロモメチルエタノール、2,2,2−トリヨード−1−トリヨードメチルエタノール、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエタノール、1,1−ビス(トリクロロメチル)−2,2,2−トリクロロエタノール、1,1−ビス(トリブロモメチル)−2,2,2−トリブロモエタノール、1,1−ビス(トリヨードメチル)−2,2,2−トリヨードエタノール等が挙げられる。また、酸素原子が硫黄原子に置換されたチオール化合物も同様に例示することができる。それらチオール化合物は、上述の具体例のメタノールをメタンチオールに、エタノールをエタンチオールに、プロパノールをプロパンチオールに書き換えることによって表される化合物等である。 Specific examples of the compound (b) include alcohols such as fluoromethanol, chloromethanol, bromomethanol, iodomethanol, difluoromethanol, dichloromethanol, dibromomethanol, diiodethanol, trifluoromethanol, trichloromethanol, tribromomethanol, Triiodomethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,2-trichloroethanol, 2,2,2-tribromoethanol, 2,2,2-triiodoethanol, 2,2,3,3 , 3-pentafluoropropanol, 2,2,3,3,3-pentachloropropanol, 2,2,3,3,3-pentabromopropanol, 2,2,3,3,3-pentaiodopropanol, 2, , 2,2-trifluoro-1-trifluorome Ethanol, 2,2,2-trichloro-1-trichloromethylethanol, 2,2,2-tribromo-1-tribromomethylethanol, 2,2,2-triiodo-1-triiodomethylethanol, 1,1 -Bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethanol, 1,1-bis (trichloromethyl) -2,2,2-trichloroethanol, 1,1-bis (tribromomethyl) -2, Examples include 2,2-tribromoethanol and 1,1-bis (triiodomethyl) -2,2,2-triiodoethanol. Moreover, the thiol compound by which the oxygen atom was substituted by the sulfur atom can be illustrated similarly. These thiol compounds are compounds represented by rewriting methanol in the above specific examples to methanethiol, ethanol to ethanethiol, and propanol to propanethiol.
化合物(b)の具体例としてフェノール類としては、2−フルオロフェノール、3−フルオロフェノール、4−フルオロフェノール、2,4−ジフルオロフェノール、2,6−ジフルオロフェノール、3,4−ジフルオロフェノール、3,5−ジフルオロフェノール、2,4,6−トリフルオロフェノール、3,4,5−トリフルオロフェノール、2,3,5,6−テトラフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノール、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ペンタフルオロフェニルフェノール、パーフルオロ−1−ナフトール、パーフルオロ−2−ナフトール、2−クロロフェノール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール、2,4−ジクロロフェノール、2,6−ジクロロフェノール、3,4−ジクロロフェノール、3,5−ジクロロフェノール、2,4,6−トリクロロフェノール、3,4,5−トリクロロフェノール、2,3,5,6−テトラクロロフェノール、ペンタクロロフェノール、2,3,5,6−テトラクロロ−4−トリクロロメチルフェノール、2,3,5,6−テトラクロロ−4−ペンタクロロフェニルフェノール、パークロロ−1−ナフトール、パークロロ−2−ナフトール、2−ブロモフェノール、3−ブロモフェノール、4−ブロモフェノール、2,4−ジブロモフェノール、2,6−ジブロモフェノール、3,4−ジブロモフェノール、3,5−ジブロモフェノール、2,4,6−トリブロモフェノール、3,4,5−トリブロモフェノール、2,3,5,6−テトラブロモフェノール、ペンタブロモフェノール、2,3,5,6−テトラブロモ−4−トリブロモメチルフェノール、2,3,5,6−テトラブロモ−4−ペンタブロモフェニルフェノール、パーブロモ−1−ナフトール、パーブロモ−2−ナフトール、2−ヨードフェノール、3−ヨードフェノール、4−ヨードフェノール、2,4−ジヨードフェノール、2,6−ジヨードフェノール、3,4−ジヨードフェノール、3,5−ジヨードフェノール、2,4,6−トリヨードフェノール、3,4,5−トリヨードフェノール、2,3,5,6−テトラヨードフェノール、ペンタヨードフェノール、2,3,5,6−テトラヨード−4−トリヨードメチルフェノール、2,3,5,6−テトラヨード−4−ペンタヨードフェニルフェノール、パーヨード−1−ナフトール、パーヨード−2−ナフトール、2−(トリフルオロメチル)フェノール、3−(トリフルオロメチル)フェノール、4−(トリフルオロメチル)フェノール、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェノール、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェノール、2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フェノール、3,4,5−トリス(トリフルオロメチル)フェノール、2−シアノフェノール、3−シアノフェノール、4−シアノフェノール、2−ニトロフェノール、3−ニトロフェノール、4−ニトロフェノール等が挙げられる。また、酸素原子が硫黄原子に置換されたチオフェノール化合物も同様に例示することができる。それらチオフェノール化合物は、上述の具体例のフェノールをチオフェノールに書き換えることによって表される化合物等である。 Specific examples of the compound (b) include phenols such as 2-fluorophenol, 3-fluorophenol, 4-fluorophenol, 2,4-difluorophenol, 2,6-difluorophenol, 3,4-difluorophenol, 3 , 5-difluorophenol, 2,4,6-trifluorophenol, 3,4,5-trifluorophenol, 2,3,5,6-tetrafluorophenol, pentafluorophenol, 2,3,5,6- Tetrafluoro-4-trifluoromethylphenol, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-pentafluorophenylphenol, perfluoro-1-naphthol, perfluoro-2-naphthol, 2-chlorophenol, 3-chloro Phenol, 4-chlorophenol, 2,4-dichloropheno 2,6-dichlorophenol, 3,4-dichlorophenol, 3,5-dichlorophenol, 2,4,6-trichlorophenol, 3,4,5-trichlorophenol, 2,3,5,6-tetrachloro Phenol, pentachlorophenol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-trichloromethylphenol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pentachlorophenylphenol, perchloro-1-naphthol, perchloro-2- Naphthol, 2-bromophenol, 3-bromophenol, 4-bromophenol, 2,4-dibromophenol, 2,6-dibromophenol, 3,4-dibromophenol, 3,5-dibromophenol, 2,4,6 -Tribromophenol, 3,4,5-tribromophenol, 2,3,5,6- Trabromophenol, pentabromophenol, 2,3,5,6-tetrabromo-4-tribromomethylphenol, 2,3,5,6-tetrabromo-4-pentabromophenylphenol, perbromo-1-naphthol, perbromo- 2-naphthol, 2-iodophenol, 3-iodophenol, 4-iodophenol, 2,4-diiodophenol, 2,6-diiodophenol, 3,4-diiodophenol, 3,5-diiodophenol 2,4,6-triiodophenol, 3,4,5-triiodophenol, 2,3,5,6-tetraiodophenol, pentaiodophenol, 2,3,5,6-tetraiodo-4-tri Iodomethylphenol, 2,3,5,6-tetraiodo-4-pentaiodophenylphenol , Period-1-naphthol, period-2-naphthol, 2- (trifluoromethyl) phenol, 3- (trifluoromethyl) phenol, 4- (trifluoromethyl) phenol, 2,6-bis (trifluoromethyl) Phenol, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenol, 2,4,6-tris (trifluoromethyl) phenol, 3,4,5-tris (trifluoromethyl) phenol, 2-cyanophenol, 3-cyano Phenol, 4-cyanophenol, 2-nitrophenol, 3-nitrophenol, 4-nitrophenol and the like can be mentioned. Moreover, the thiophenol compound by which the oxygen atom was substituted by the sulfur atom can be illustrated similarly. These thiophenol compounds are compounds represented by rewriting phenol of the above-mentioned specific examples with thiophenol.
化合物(b)として好ましくは、アミン類としては、ビス(トリフルオロメチル)アミン、ビス(2,2,2−トリフルオロエチル)アミン、ビス(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル)アミン、ビス(2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル)アミン、ビス(1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル)アミン、またはビス(ペンタフルオロフェニル)アミン、アルコール類としては、トリフルオロメタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエタノール、または1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエタノール、フェノール類としては、2−フルオロフェノール、3−フルオロフェノール、4−フルオロフェノール、2,6−ジフルオロフェノール、3,5−ジフルオロフェノール、2,4,6−トリフルオロフェノール、3,4,5−トリフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、2−(トリフルオロメチル)フェノール、3−(トリフルオロメチル)フェノール、4−(トリフルオロメチル)フェノール、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェノール、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェノール、2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フェノール、または3,4,5−トリス(トリフルオロメチル)フェノールである。 The compound (b) is preferably a bis (trifluoromethyl) amine, bis (2,2,2-trifluoroethyl) amine, bis (2,2,3,3,3-pentafluoropropyl) amine. ) Amine, bis (2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl) amine, bis (1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethyl) amine, or bis (Pentafluorophenyl) amine and alcohols include trifluoromethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol, 2,2,2-trifluoro-1 -Trifluoromethylethanol, or 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethanol, phenols Are 2-fluorophenol, 3-fluorophenol, 4-fluorophenol, 2,6-difluorophenol, 3,5-difluorophenol, 2,4,6-trifluorophenol, 3,4,5-trifluorophenol , Pentafluorophenol, 2- (trifluoromethyl) phenol, 3- (trifluoromethyl) phenol, 4- (trifluoromethyl) phenol, 2,6-bis (trifluoromethyl) phenol, 3,5-bis ( Trifluoromethyl) phenol, 2,4,6-tris (trifluoromethyl) phenol, or 3,4,5-tris (trifluoromethyl) phenol.
化合物(b)としてより好ましくは、ビス(トリフルオロメチル)アミン、ビス(ペンタフルオロフェニル)アミン、トリフルオロメタノール、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエタノール、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエタノール、2−フルオロフェノール、3−フルオロフェノール、4−フルオロフェノール、2,6−ジフルオロフェノール、3,5−ジフルオロフェノール、2,4,6−トリフルオロフェノール、3,4,5−トリフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、4−(トリフルオロメチル)フェノール、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェノール、または2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)フェノールであり、さらに好ましくは、3,5−ジフルオロフェノール、3,4,5−トリフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、または1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエタノールである。 More preferably, the compound (b) is bis (trifluoromethyl) amine, bis (pentafluorophenyl) amine, trifluoromethanol, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethanol, 1,1-bis. (Trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethanol, 2-fluorophenol, 3-fluorophenol, 4-fluorophenol, 2,6-difluorophenol, 3,5-difluorophenol, 2,4,6 -Trifluorophenol, 3,4,5-trifluorophenol, pentafluorophenol, 4- (trifluoromethyl) phenol, 2,6-bis (trifluoromethyl) phenol, or 2,4,6-tris (tri Fluoromethyl) phenol, more preferably 3,5- Fluoro phenol, 3,4,5-fluorophenol, pentafluorophenol or 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethanol.
化合物(c)としては、例えば、水、硫化水素、アミン、およびアニリン化合物が挙げられる。アミンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、イソブチルアミン、n−ペンチルアミン、ネオペンチルアミン、イソペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−オクチルアミン、n−デシルアミン、n−ドデシルアミン、n−ペンタデシルアミン、およびn−エイコシルアミン等のアルキルアミン、アリルアミン、シクロペンタジエニルアミン、およびベンジルアミン等のアラルキルアミン、フルオロメチルアミン、ジフルオロメチルアミン、トリフルオロメチルアミン、2,2,2−トリフルオロエチルアミン、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルアミン、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチルアミン、1,1−ビス(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチルアミン、パーフルオロプロピルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフルオロペンチルアミン、パーフルオロヘキシルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロドデシルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、パーフルオロエイコシルアミン、および、これらのアミンの「フルオロ」を「クロロ」、「ブロモ」または「ヨード」に置き換えたハロゲン化アルキルアミンが挙げられる。 Examples of the compound (c) include water, hydrogen sulfide, amine, and aniline compounds. Examples of the amine include methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, isobutylamine, n-pentylamine, neopentylamine, isopentylamine, and n-hexyl. Alkylamines such as amine, n-octylamine, n-decylamine, n-dodecylamine, n-pentadecylamine, and n-eicosylamine, aralkylamines such as allylamine, cyclopentadienylamine, and benzylamine, fluoro Methylamine, difluoromethylamine, trifluoromethylamine, 2,2,2-trifluoroethylamine, 2,2,3,3,3-pentafluoropropylamine, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoro Methylethylamine, 1,1-bis (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethylamine, perfluoropropylamine, perfluorobutylamine, perfluoropentylamine, perfluorohexylamine, perfluorooctylamine, perfluoro Dodecylamine, perfluoropentadecylamine, perfluoroeicosylamine, and halogenated alkylamines in which “fluoro” of these amines is replaced with “chloro”, “bromo”, or “iodo”.
化合物(c)のアニリン化合物としては、例えば、アニリン、ナフチルアミン、アントラセニルアミン、2−トリルアミン、3−トリルアミン、4−トリルアミン、2,3−キシリルアミン、2,4−キシリルアミン、2,5−キシリルアミン、2,6−キシリルアミン、3,4−キシリルアミン、3,5−キシリルアミン、2,3,4−トリメチルアニリン、2,3,5−トリメチルアニリン、2,3,6−トリメチルアニリン、2,4,6−トリメチルアニリン、3,4,5−トリメチルアニリン、2,3,4,5−テトラメチルアニリン、2,3,4,6−テトラメチルアニリン、2,3,5,6−テトラメチルアニリン、ペンタメチルアニリン、2−エチルアニリン、3−エチルアニリン、4−エチルアニリン、2,3−ジエチルアニリン、2,4−ジエチルアニリン、2,5−ジエチルアニリン、2,6−ジエチルアニリン、3,4−ジエチルアニリン、3,5−ジエチルアニリン、2,3,4−トリエチルアニリン、2,3,5−トリエチルアニリン、2,3,6−トリエチルアニリン、2,4,6−トリエチルアニリン、3,4,5−トリエチルアニリン、2,3,4,5−テトラエチルアニリン、2,3,4,6−テトラエチルアニリン、2,3,5,6−テトラエチルアニリン、ペンタエチルアニリン、および、これらの「エチル」を「n−プロピル」、「イソプロピル」、「n−ブチル」、「sec−ブチル」、「tert−ブチル」、「n−ペンチル」、「ネオペンチル」、「n−ヘキシル」、「n−オクチル」、「n−デシル」、「n−ドデシル」、または「n−テトラデシル」に置き換えたアルキルアニリン、2−フルオロアニリン、3−フルオロアニリン、4−フルオロアニリン、2,6−ジフルオロアニリン、3,5−ジフルオロアニリン、2,4,6−トリフルオロアニリン、3,4,5−トリフルオロアニリン、およびペンタフルオロアニリン等のハロゲン化アニリン、2−(トリフルオロメチル)アニリン、3−(トリフルオロメチル)アニリン、4−(トリフルオロメチル)アニリン、2,6−ジ(トリフルオロメチル)アニリン、3,5−ジ(トリフルオロメチル)アニリン、2,4,6−トリ(トリフルオロメチル)アニリン、および、これらの「フルオロ」を「クロロ」、「ブロモ」または「ヨード」に置き換えた(ハロゲン化アルキル)アニリンが挙げられる。 Examples of the aniline compound of compound (c) include aniline, naphthylamine, anthracenylamine, 2-tolylamine, 3-tolylamine, 4-tolylamine, 2,3-xylylamine, 2,4-xylylamine, 2,5-xylylamine, 2,6-xylylamine, 3,4-xylylamine, 3,5-xylylamine, 2,3,4-trimethylaniline, 2,3,5-trimethylaniline, 2,3,6-trimethylaniline, 2,4,6 -Trimethylaniline, 3,4,5-trimethylaniline, 2,3,4,5-tetramethylaniline, 2,3,4,6-tetramethylaniline, 2,3,5,6-tetramethylaniline, penta Methylaniline, 2-ethylaniline, 3-ethylaniline, 4-ethylaniline, 2,3-diethylaline Phosphorus, 2,4-diethylaniline, 2,5-diethylaniline, 2,6-diethylaniline, 3,4-diethylaniline, 3,5-diethylaniline, 2,3,4-triethylaniline, 2,3, 5-triethylaniline, 2,3,6-triethylaniline, 2,4,6-triethylaniline, 3,4,5-triethylaniline, 2,3,4,5-tetraethylaniline, 2,3,4,6 -Tetraethylaniline, 2,3,5,6-tetraethylaniline, pentaethylaniline, and their "ethyl" are "n-propyl", "isopropyl", "n-butyl", "sec-butyl", " tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, n-hexyl, n-octyl, n-decyl, n-dodecyl, Alkylaniline substituted with “n-tetradecyl”, 2-fluoroaniline, 3-fluoroaniline, 4-fluoroaniline, 2,6-difluoroaniline, 3,5-difluoroaniline, 2,4,6-trifluoroaniline, Halogenated anilines such as 3,4,5-trifluoroaniline and pentafluoroaniline, 2- (trifluoromethyl) aniline, 3- (trifluoromethyl) aniline, 4- (trifluoromethyl) aniline, 2,6 -Di (trifluoromethyl) aniline, 3,5-di (trifluoromethyl) aniline, 2,4,6-tri (trifluoromethyl) aniline, and their “fluoro” are “chloro”, “bromo” Or (halogenated alkyl) aniline substituted with “iodo”.
化合物(c)として好ましくは、水、硫化水素、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、イソブチルアミン、n−オクチルアミン、アニリン、2,6−キシリルアミン、2,4,6−トリメチルアニリン、ナフチルアミン、アントラセニルアミン、ベンジルアミン、トリフルオロメチルアミン、ペンタフルオロエチルアミン、パーフルオロプロピルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフルオロペンチルアミン、パーフルオロヘキシルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロドデシルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、パーフルオロエイコシルアミン、2−フルオロアニリン、3−フルオロアニリン、4−フルオロアニリン、2,6−ジフルオロアニリン、3,5−ジフルオロアニリン、2,4,6−トリフルオロアニリン、3,4,5−トリフルオロアニリン、ペンタフルオロアニリン、2−(トリフルオロメチル)アニリン、3−(トリフルオロメチル)アニリン、4−(トリフルオロメチル)アニリン、2,6−ビス(トリフルオロメチル)アニリン、3,5−ビス(トリフルオロメチル)アニリンまたは2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)アニリンであり、特に好ましくは、水、トリフルオロメチルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、2−フルオロアニリン、3−フルオロアニリン、4−フルオロアニリン、2,6−ジフルオロアニリン、3,5−ジフルオロアニリン、2,4,6−トリフルオロアニリン、3,4,5−トリフルオロアニリン、ペンタフルオロアニリン、2−(トリフルオロメチル)アニリン、3−(トリフルオロメチル)アニリン、4−(トリフルオロメチル)アニリン、2,6−ビス(トリフルオロメチル)アニリン、3,5−ビス(トリフルオロメチル)アニリン、または2,4,6−トリス(トリフルオロメチル)アニリンであり、最も好ましくは水またはペンタフルオロアニリンである。 The compound (c) is preferably water, hydrogen sulfide, methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, isobutylamine, n-octylamine, aniline, 2, 6-xylylamine, 2,4,6-trimethylaniline, naphthylamine, anthracenylamine, benzylamine, trifluoromethylamine, pentafluoroethylamine, perfluoropropylamine, perfluorobutylamine, perfluoropentylamine, perfluorohexylamine, Perfluorooctylamine, perfluorododecylamine, perfluoropentadecylamine, perfluoroeicosylamine, 2-fluoroaniline, 3-fluoroaniline, 4-fluoro Oroaniline, 2,6-difluoroaniline, 3,5-difluoroaniline, 2,4,6-trifluoroaniline, 3,4,5-trifluoroaniline, pentafluoroaniline, 2- (trifluoromethyl) aniline, 3 -(Trifluoromethyl) aniline, 4- (trifluoromethyl) aniline, 2,6-bis (trifluoromethyl) aniline, 3,5-bis (trifluoromethyl) aniline or 2,4,6-tris (tri Fluoromethyl) aniline, particularly preferably water, trifluoromethylamine, perfluorobutylamine, perfluorooctylamine, perfluoropentadecylamine, 2-fluoroaniline, 3-fluoroaniline, 4-fluoroaniline, 2, 6-difluoroaniline, 3,5-difluoroa Phosphorus, 2,4,6-trifluoroaniline, 3,4,5-trifluoroaniline, pentafluoroaniline, 2- (trifluoromethyl) aniline, 3- (trifluoromethyl) aniline, 4- (trifluoromethyl) ) Aniline, 2,6-bis (trifluoromethyl) aniline, 3,5-bis (trifluoromethyl) aniline, or 2,4,6-tris (trifluoromethyl) aniline, most preferably water or penta Fluoroaniline.
(d)としては、無機酸化物粒子や有機ポリマー粒子が挙げられるが、それらの中で、好ましくは、一般に担体として用いられている粒径の整った、多孔質の粒子である。(d)の粒径分布としては、得られる付加重合体の粒径分布の観点から、好ましくは、(d)の粒径の体積基準の幾何標準偏差が2.5以下であり、より好ましくは2.0以下であり、さらに好ましくは1.7以下である。 Examples of (d) include inorganic oxide particles and organic polymer particles. Among them, porous particles having a uniform particle size generally used as a carrier are preferable. As the particle size distribution of (d), from the viewpoint of the particle size distribution of the resulting addition polymer, the volume standard geometric standard deviation of the particle size of (d) is preferably 2.5 or less, more preferably It is 2.0 or less, More preferably, it is 1.7 or less.
(d)の無機酸化物粒子としては、どのような無機酸化物を用いてもよく、複数の無機物質を混合して用いてもよい。無機酸化物としては、例えば、SiO2、Al2O3、MgO、ZrO2、TiO2、B2O3、CaO、ZnO、BaO、およびThO2、ならびにこれらの混合物、SiO2−MgO、SiO2−Al2O3、SiO2−TiO2、SiO2−V2O5、SiO2−Cr2O3、およびSiO2−TiO2−MgOが挙げられる。これらの無機酸化物として好ましくは、SiO2および/またはAl2O3であり、特に好ましくはSiO2(即ちシリカ)である。上記無機酸化物は、少量のNa2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4、Al2(SO4)3、BaSO4、KNO3、Mg(NO3)2、Al(NO3)3、Na2O、K2O、Li2O等の炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していてもよい。 As the inorganic oxide particles (d), any inorganic oxide may be used, and a plurality of inorganic substances may be mixed and used. As the inorganic oxide, e.g., SiO 2, Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2, TiO 2, B 2 O 3, CaO, ZnO, BaO, and ThO 2, and mixtures thereof, SiO 2 -MgO, SiO 2 -Al 2 O 3, SiO 2 -TiO 2, SiO 2 -V 2 O 5, SiO 2 -Cr 2 O 3, and SiO 2 -TiO 2 -MgO and the like. These inorganic oxides are preferably SiO 2 and / or Al 2 O 3 , and particularly preferably SiO 2 (ie, silica). The inorganic oxide includes a small amount of Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , CaCO 3 , MgCO 3 , Na 2 SO 4 , Al 2 (SO 4 ) 3 , BaSO 4 , KNO 3 , Mg (NO 3 ) 2 , Carbonic acid salts such as Al (NO 3 ) 3 , Na 2 O, K 2 O, and Li 2 O, sulfates, nitrates, and oxide components may be contained.
無機酸化物は、乾燥され、実質的に水分が除去されていることが好ましく、乾燥方法として好ましくは加熱乾燥である。乾燥温度は、目視で水分を確認できない無機酸化物については、通常温度100〜1500℃であり、好ましくは100〜1000℃であり、更に好ましくは200〜800℃である。乾燥時間は特に限定されないが、好ましくは10分間〜50時間、より好ましくは1時間〜30時間である。無機酸化物を加熱乾燥する方法としては、例えば、加熱中に乾燥した不活性ガス(例えば、窒素またはアルゴン等)を一定の流速で流通させて無機酸化物を乾燥する方法、または、減圧下で無機酸化物を加熱乾燥する方法等が挙げられる。 The inorganic oxide is preferably dried to substantially remove moisture, and the drying method is preferably heat drying. The drying temperature is usually 100 to 1500 ° C., preferably 100 to 1000 ° C., more preferably 200 to 800 ° C. for inorganic oxides whose moisture cannot be visually confirmed. The drying time is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 50 hours, more preferably 1 hour to 30 hours. As a method for heating and drying the inorganic oxide, for example, a method of drying an inorganic oxide by flowing an inert gas (for example, nitrogen or argon) dried during heating at a constant flow rate, or under reduced pressure. Examples include a method of heating and drying the inorganic oxide.
無機酸化物には通常、表面にヒドロキシ基が生成し存在しているが、無機酸化物として、表面ヒドロキシ基の活性水素を種々の置換基で置換した、改質無機酸化物を使用してもよい。改質無機酸化物としては、例えば、トリメチルクロロシラン、tert−ブチルジメチルクロロシラン等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリメチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアルコシキシランおよびジメチルジメトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン等のアルキルジシラザン、テトラクロロシラン、メタノールおよびエタノール等のアルコール、フェノール、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウム、ブチルオクチルマグネシウム等のジアルキルマグネシウム、ブチルリチウム等のアルキルリチウムで接触処理された無機酸化物が挙げられる。 Inorganic oxides usually have hydroxy groups formed on the surface, but modified inorganic oxides in which active hydrogens on the surface hydroxy groups are substituted with various substituents can be used as inorganic oxides. Good. Examples of the modified inorganic oxide include trialkylchlorosilanes such as trimethylchlorosilane and tert-butyldimethylchlorosilane, triarylchlorosilanes such as triphenylchlorosilane, dialkyldichlorosilanes such as dimethyldichlorosilane, and diaryldichlorosilanes such as diphenyldichlorosilane. Alkyltrichlorosilanes such as methyltrichlorosilane, aryltrichlorosilanes such as phenyltrichlorosilane, trialkylalkoxysilanes such as trimethylmethoxysilane, triarylalkoxysilanes such as triphenylmethoxysilane, and dialkyldialkoxysilanes such as dimethyldimethoxysilane , Diaryldialkoxysilanes such as diphenyldimethoxysilane, and alkyltols such as methyltrimethoxysilane Alkoxysilane, aryltrialkoxysilane such as phenyltrimethoxysilane, tetraalkoxysilane such as tetramethoxysilane, alkyldisilazane such as 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane, tetrachlorosilane, methanol and Inorganic oxides contact-treated with alcohols such as ethanol, dialkylmagnesium such as phenol, dibutylmagnesium, butylethylmagnesium and butyloctylmagnesium, and alkyllithiums such as butyllithium.
更に、トリアルキルアルミニウムと接触させた無機酸化物を、ジエチルアミン、ジフェニルアミン等のジアルキルアミン、メタノール、エタノール等のアルコール、フェノールで接触処理した無機酸化物が挙げられる。 Furthermore, the inorganic oxide which contact-treated the inorganic oxide contacted with the trialkylaluminum with dialkylamine, such as diethylamine and diphenylamine, alcohol, such as methanol and ethanol, and phenol is mentioned.
無機酸化物はヒドロキシ基同士が水素結合することにより無機酸化物自体の強度が高まっていることがある。その場合、仮に表面ヒドロキシ基のすべての活性水素を種々の置換基で置換してしまうと、粒子強度の低下等をまねく場合がある。よって、無機酸化物の表面ヒドロキシ基の活性水素は必ずしもすべて置換する必要はなく、表面ヒドロキシ基の置換率は適宜決めればよい。表面ヒドロキシ基の置換率を変化させる方法は特に限定されない。その方法としては、例えば、接触処理に使用する化合物の使用量を変化させる方法が挙げられる。 Inorganic oxides may have increased strength due to hydrogen bonding between hydroxy groups. In that case, if all active hydrogens on the surface hydroxy group are substituted with various substituents, the particle strength may be lowered. Therefore, it is not always necessary to replace all active hydrogens on the surface hydroxy groups of the inorganic oxide, and the substitution rate of the surface hydroxy groups may be determined as appropriate. The method for changing the substitution rate of the surface hydroxy group is not particularly limited. Examples of the method include a method of changing the amount of the compound used for the contact treatment.
無機酸化物粒子の平均粒子径は特に限定されないが、通常1〜5000μmであり、好ましくは5〜1000μmであり、より好ましくは10〜500μmであり、更に好ましくは10〜100μmである。細孔容量は好ましくは、0.1ml/g以上であり、より好ましくは0.3〜10ml/gである。比表面積は好ましくは、10〜1000m2/gであり、より好ましくは100〜500m2/gである。 The average particle diameter of the inorganic oxide particles is not particularly limited, but is usually 1 to 5000 μm, preferably 5 to 1000 μm, more preferably 10 to 500 μm, and still more preferably 10 to 100 μm. The pore volume is preferably 0.1 ml / g or more, more preferably 0.3 to 10 ml / g. The specific surface area is preferably a 10 to 1000 m 2 / g, more preferably 100 to 500 m 2 / g.
(d)の有機ポリマー粒子は、どのような有機ポリマーを用いてもよく、また複数種の有機ポリマーの混合物を用いてもよい。有機ポリマーとして好ましくは、活性水素を有する官能基または非プロトン供与性のルイス塩基性官能基を有する重合体である。 Any organic polymer may be used for the organic polymer particles of (d), and a mixture of plural kinds of organic polymers may be used. The organic polymer is preferably a polymer having a functional group having active hydrogen or a non-proton-donating Lewis basic functional group.
活性水素を有する官能基としては、活性水素を有していれば特に限定されない。その官能基としては、例えば、1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオール基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピペリジル基、インダゾリル基、およびカルバゾリル基が挙げられる。好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基であり、特に好ましくは、1級アミノ基、2級アミノ基、アミド基またはヒドロキシ基である。これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。 The functional group having active hydrogen is not particularly limited as long as it has active hydrogen. Examples of the functional group include primary amino group, secondary amino group, imino group, amide group, hydrazide group, amidino group, hydroxy group, hydroperoxy group, carboxyl group, formyl group, carbamoyl group, sulfonic acid group, Examples thereof include a sulfinic acid group, a sulfenic acid group, a thiol group, a thioformyl group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, a piperidyl group, an indazolyl group, and a carbazolyl group. Preferred are primary amino group, secondary amino group, imino group, amide group, imide group, hydroxy group, formyl group, carboxyl group, sulfonic acid group or thiol group, and particularly preferred are primary amino group, 2 A primary amino group, an amide group or a hydroxy group. These groups may be substituted with a halogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms.
非プロトン供与性のルイス塩基性官能基としては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する官能基であれば特に限定されない。その官能基としては、例えば、ピリジル基、N−置換イミダゾリル基、N−置換インダゾリル基、ニトリル基、アジド基、N−置換イミノ基、N,N−置換アミノ基、N,N−置換アミノオキシ基、N,N,N−置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニトロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、N,N−置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、および置換スルホン酸基が挙げられる。好ましくは複素環基であり、更に好ましくは、酸素原子および/または窒素原子を環内に有する芳香族複素環基である。特に好ましくは、ピリジル基、N−置換イミダゾリル基、N−置換インダゾリル基であり、最も好ましくはピリジル基である。これらの基はハロゲン原子や炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基で置換されていてもよい。 The non-proton-donating Lewis basic functional group is not particularly limited as long as it is a functional group having a Lewis base portion having no active hydrogen atom. Examples of the functional group include pyridyl group, N-substituted imidazolyl group, N-substituted indazolyl group, nitrile group, azide group, N-substituted imino group, N, N-substituted amino group, and N, N-substituted aminooxy. Group, N, N, N-substituted hydrazino group, nitroso group, nitro group, nitrooxy group, furyl group, carbonyl group, thiocarbonyl group, alkoxy group, alkyloxycarbonyl group, N, N-substituted carbamoyl group, thioalkoxy group , Substituted sulfinyl group, substituted sulfonyl group, and substituted sulfonic acid group. A heterocyclic group is preferable, and an aromatic heterocyclic group having an oxygen atom and / or a nitrogen atom in the ring is more preferable. Particularly preferred are a pyridyl group, an N-substituted imidazolyl group, and an N-substituted indazolyl group, and most preferred is a pyridyl group. These groups may be substituted with a halogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms.
有機ポリマー中の活性水素を有する官能基または非プロトン供与性のルイス塩基性官能基の含有量は特に限定されない。その含有量は、好ましくは、有機ポリマーの1グラム当りの官能基のモル量として0.01〜50mmol/gであり、より好ましくは0.1〜20mmol/gである。 The content of the functional group having active hydrogen or the non-proton donating Lewis basic functional group in the organic polymer is not particularly limited. The content thereof is preferably 0.01 to 50 mmol / g, more preferably 0.1 to 20 mmol / g, as the molar amount of the functional group per gram of the organic polymer.
活性水素を有する官能基または非プロトン供与性のルイス塩基性官能基を有する有機ポリマーの製造方法としては、例えば、活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のルイス塩基性官能基と1個以上の重合性不飽和基とを有するモノマーを単独重合させる方法、またはそのモノマーと重合性不飽和基を有する他のモノマーとを共重合させる方法が挙げられる。このとき更に2個以上の重合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーをも一緒に共重合することが好ましい。 Examples of the method for producing an organic polymer having a functional group having active hydrogen or a non-proton-donating Lewis basic functional group include, for example, a functional group having active hydrogen or a non-proton-donating Lewis basic functional group and one or more. And a method of homopolymerizing a monomer having a polymerizable unsaturated group, or a method of copolymerizing the monomer with another monomer having a polymerizable unsaturated group. At this time, it is preferable to copolymerize together a crosslinkable monomer having two or more polymerizable unsaturated groups.
重合性不飽和基としては、例えば、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、エチン基等のアルキニル基が挙げられる。活性水素を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、ビニル基含有1級アミン、ビニル基含有2級アミン、ビニル基含有アミド化合物、およびビニル基含有ヒドロキシ化合物が挙げられる。そのモノマーとしては、例えば、N−(1−エテニル)アミン、N−(2−プロペニル)アミン、N−(1−エテニル)−N−メチルアミン、N−(2−プロペニル)−N−メチルアミン、1−エテニルアミド、2−プロペニルアミド、N−メチル−(1−エテニル)アミド、N−メチル−(2−プロペニル)アミド、ビニルアルコール、2−プロペン−1−オール、3−ブテン−1−オールが挙げられる。活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有する官能基と1個以上の重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、ビニルピリジン、ビニル(N−置換)イミダゾール、およびビニル(N−置換)インダゾールが挙げられる。 Examples of the polymerizable unsaturated group include alkenyl groups such as vinyl group and allyl group, and alkynyl groups such as ethyne group. Examples of monomers having a functional group having active hydrogen and one or more polymerizable unsaturated groups include vinyl group-containing primary amines, vinyl group-containing secondary amines, vinyl group-containing amide compounds, and vinyl group-containing hydroxy compounds. Is mentioned. Examples of the monomer include N- (1-ethenyl) amine, N- (2-propenyl) amine, N- (1-ethenyl) -N-methylamine, and N- (2-propenyl) -N-methylamine. 1-ethenylamide, 2-propenylamide, N-methyl- (1-ethenyl) amide, N-methyl- (2-propenyl) amide, vinyl alcohol, 2-propen-1-ol, 3-buten-1-ol Is mentioned. Examples of monomers having a functional group having a Lewis base having no active hydrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups include vinyl pyridine, vinyl (N-substituted) imidazole, and vinyl (N-substituted) indazole. Is mentioned.
重合性不飽和基を有する他のモノマーとしては、例えば、エチレン、α−オレフィン、芳香族ビニル化合物および環状オレフィン化合物を挙げることができる。そのモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、スチレン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエンが挙げられる。好ましくはエチレンまたはスチレンである。これらのモノマーは2種以上を用いてもよい。上記2個以上の重合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーとしては、例えば、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。 Examples of the other monomer having a polymerizable unsaturated group include ethylene, α-olefin, aromatic vinyl compound and cyclic olefin compound. Examples of the monomer include ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, styrene, norbornene, and dicyclopentadiene. Preferred is ethylene or styrene. Two or more of these monomers may be used. Examples of the crosslinkable polymerizable monomer having two or more polymerizable unsaturated groups include divinylbenzene.
有機ポリマー粒子の平均粒子径は特に限定されないが、通常1〜5000μmであり、好ましくは5〜1000μmであり、より好ましくは10〜500μmである。細孔容量としては特に限定されないが、好ましくは0.1ml/g以上であり、より好ましくは0.3〜10ml/gである。比表面積としては特に限定されないが、好ましくは10〜1000m2/gであり、より好ましくは50〜500m2/gである。 The average particle diameter of the organic polymer particles is not particularly limited, but is usually 1 to 5000 μm, preferably 5 to 1000 μm, and more preferably 10 to 500 μm. Although it does not specifically limit as pore volume, Preferably it is 0.1 ml / g or more, More preferably, it is 0.3-10 ml / g. Although it does not specifically limit as a specific surface area, Preferably it is 10-1000 m < 2 > / g, More preferably, it is 50-500 m < 2 > / g.
これらの有機ポリマー粒子は、乾燥され、実質的に水分が除去されていることが好ましく、加熱乾燥により乾燥されたものが好ましい。乾燥温度は通常、目視で水分を確認できない有機ポリマーについては30〜400℃であり、好ましくは50〜200℃であり、更に好ましくは70〜150℃である。加熱時間は特に限定されないが、好ましくは10分間〜50時間であり、より好ましくは1時間〜30時間である。有機ポリマー粒子を加熱乾燥する方法としては、例えば、有機ポリマーを加熱しながら乾燥した不活性ガス(例えば、窒素またはアルゴン等)を一定の流速で流通させて乾燥する方法、または、有機ポリマー粒子を減圧下で加熱乾燥する方法等が挙げられる。 These organic polymer particles are preferably dried and substantially free of moisture, and those dried by heat drying are preferred. The drying temperature is usually 30 to 400 ° C., preferably 50 to 200 ° C., more preferably 70 to 150 ° C. for an organic polymer whose moisture cannot be visually confirmed. The heating time is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 50 hours, and more preferably 1 hour to 30 hours. Examples of the method for heating and drying the organic polymer particles include a method in which an inert gas (for example, nitrogen or argon) dried while heating the organic polymer is circulated at a constant flow rate, or the organic polymer particles are dried. The method etc. which heat-dry under reduced pressure are mentioned.
本発明の改質された粒子(I)を得るために、上記の成分(a)、(b)、(c)および(d)を接触させる順序は、特に限定されることはなく、例えば、以下の順序を挙げることができる。
<1>(a)と(b)との接触物と、(c)とを接触させて得られる接触物と(d)とを接触させる。
<2>(a)と(b)との接触物と、(d)とを接触させて得られる接触物と(c)とを接触させる。
<3>(a)と(c)との接触物と、(b)とを接触させて得られる接触物と(d)とを接触させる。
<4>(a)と(c)との接触物と、(d)とを接触させて得られる接触物と(b)とを接触させる。
<5>(a)と(d)との接触物と、(b)とを接触させて得られる接触物と(c)とを接触させる。
<6>(a)と(d)との接触物と、(c)とを接触させて得られる接触物と(b)とを接触させる。
<7>(b)と(c)との接触物と、(a)とを接触させて得られる接触物と(d)とを接触させる。
<8>(b)と(c)との接触物と、(d)とを接触させて得られる接触物と(a)とを接触させる。
<9>(b)と(d)との接触物と、(a)とを接触させて得られる接触物と(c)とを接触させる。
<10>(b)と(d)との接触物と、(c)とを接触させて得られる接触物と(a)とを接触させる。
<11>(c)と(d)との接触物と、(a)とを接触させて得られる接触物と(b)とを接触させる。
<12>(c)と(d)との接触物と、(b)とを接触させて得られる接触物と(a)とを接触させる。
接触順序として、好ましくは、上記の<1>、<2>、<3>、<5>、<11>または<12>である。特に好ましくは、<2>または<5>である。
In order to obtain the modified particles (I) of the present invention, the order in which the above components (a), (b), (c) and (d) are contacted is not particularly limited. The following order can be given.
<1> A contact object obtained by contacting (a) and (b) with (c) and a contact object obtained by bringing (c) into contact with each other.
<2> A contact object obtained by bringing (a) and (b) into contact with each other and a contact object obtained by bringing (d) into contact with each other.
<3> A contact object obtained by bringing (a) and (c) a contact object into contact with (b) is brought into contact with (d).
<4> A contact object obtained by bringing (a) and (c) into contact with each other and (d) in contact with (b).
<5> A contact product obtained by contacting (b) with a contact product between (a) and (d) and (c) are brought into contact with each other.
<6> A contact object obtained by bringing (a) and (d) into contact with each other and (c) with the contact object obtained in contact with (b).
<7> A contact product obtained by contacting (b) with the contact product between (b) and (c) is brought into contact with (d).
<8> A contact product obtained by contacting (b) with the contact product between (b) and (c) and (a) are brought into contact with each other.
<9> A contact product obtained by contacting (b) with the contact product between (b) and (d) and (c) are brought into contact with each other.
<10> The contact product obtained by bringing (b) and (d) into contact with each other and (c) with the contact product are brought into contact with each other.
<11> A contact object obtained by contacting (a) with a contact object between (c) and (d) and (b) are brought into contact with each other.
<12> A contact product obtained by contacting (b) with a contact product between (c) and (d) and (a) are contacted.
The contact order is preferably <1>, <2>, <3>, <5>, <11> or <12>. Particularly preferred is <2> or <5>.
このような接触処理は不活性気体雰囲気下で行うことが好ましい。処理温度は通常−100〜300℃であり、好ましくは−80〜200℃である。処理時間は通常1分間〜200時間であり、好ましくは10分間〜100時間である。また、このような処理は溶媒を用いてもよく、または溶媒を用いることなくこれらの化合物を直接接触処理してもよい。 Such contact treatment is preferably performed in an inert gas atmosphere. The treatment temperature is usually −100 to 300 ° C., preferably −80 to 200 ° C. The treatment time is usually 1 minute to 200 hours, preferably 10 minutes to 100 hours. Such treatment may use a solvent, or may directly contact these compounds without using a solvent.
溶媒としては、上記化合物(a)、(b)、(c)、(d)、およびそれらの接触物に対して不活性な溶媒が用いられる。しかしながら、上述のように、段階的に各化合物を接触させる場合には、ある段階においてある化合物と反応する溶媒であっても、その溶媒が他の段階において各化合物と反応しない溶媒であれば、その溶媒を他の段階で用いることができる。つまり、各段階における溶媒は相互に、同じかまたは異なる。その溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒等の非極性溶媒、ハロゲン化物溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、フェノール系溶媒、カルボニル系溶媒、リン酸誘導体、ニトリル系溶媒、ニトロ化合物、アミン系溶媒、および硫黄化合物等の極性溶媒が挙げられる。例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、2,2,4−トリメチルペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン、ジフルオロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジブロモエタン、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化物溶媒、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、メチル−tert−ブチル−エーテル、アニソール、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、3−メチル−1−ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン等のアルコール系溶媒、フェノール、p−クレゾール等のフェノール系溶媒、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン、無水酢酸、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のカルボニル系溶媒、ヘキサメチルリン酸トリアミド、リン酸トリエチル等のリン酸誘導体、アセトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、ピリジン、ピペリジン、モルホリン等のアミン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物が挙げられる。 As the solvent, a solvent inert to the above-mentioned compounds (a), (b), (c), (d) and their contact products is used. However, as described above, when each compound is brought into contact in stages, even if the solvent reacts with a compound at one stage, the solvent is not a solvent that reacts with each compound at another stage. The solvent can be used at other stages. That is, the solvents in each stage are the same or different from each other. Examples of the solvent include nonpolar solvents such as aliphatic hydrocarbon solvents and aromatic hydrocarbon solvents, halide solvents, ether solvents, alcohol solvents, phenol solvents, carbonyl solvents, phosphoric acid derivatives, and nitrile solvents. Examples include solvents, nitro compounds, amine solvents, and polar solvents such as sulfur compounds. For example, aliphatic hydrocarbon solvents such as butane, pentane, hexane, heptane, octane, 2,2,4-trimethylpentane, cyclohexane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, dichloromethane, difluoromethane, chloroform, Halide solvents such as 1,2-dichloroethane, 1,2-dibromoethane, 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, tetrachloroethylene, chlorobenzene, bromobenzene, o-dichlorobenzene, dimethyl ether, Diethyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, methyl-tert-butyl-ether, anisole, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, tetrahydrofuran, tetra Ether solvents such as dropyran, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 3-methyl-1-butanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, ethylene Glycol, propylene glycol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol, triethylene glycol, alcohol solvents such as glycerin, phenol solvents such as phenol, p-cresol, acetone, ethyl methyl ketone, cyclohexanone, acetic anhydride, Carbonyl solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene carbonate, propylene carbonate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, hexamethyl Phosphoric acid derivatives such as luric acid triamide and phosphoric acid triethyl, nitrile solvents such as acetonitrile, propionitrile, succinonitrile and benzonitrile, nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, amine solvents such as pyridine, piperidine and morpholine, And sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane.
化合物(a)、(b)および(c)を接触させて得られる接触生成物(f)と、粒子(d)とを接触させる場合、つまり上記の<1>、<3>、<7>の各方法において、接触生成物(f)を製造する場合の溶媒(s1)として好ましくは、上記の脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒またはエーテル系溶媒である。 When the contact product (f) obtained by bringing the compounds (a), (b) and (c) into contact with the particles (d), that is, the above <1>, <3>, <7> In each of the methods, the solvent (s1) for producing the contact product (f) is preferably the above-mentioned aliphatic hydrocarbon solvent, aromatic hydrocarbon solvent or ether solvent.
接触生成物(f)と粒子(d)とを接触させる場合の溶媒(s2)としては極性溶媒が好ましい。溶媒の極性を表す指標としては、ET N値(C.Reichardt,“Solvents and Solvents Effects in Organic Chemistry”, 2nd ed., VCH Verlag (1988).)等が知られており、0.8≧ET N≧0.1なる範囲を満足する溶媒が特に好ましい。かかる極性溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロジフルオロメタンクロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジブロモエタン、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、o−ジクロロベンゼン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、アニソール、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、3−メチル−1−ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン、無水酢酸、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、リン酸トリエチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ベンゾニトリル、ニトロメタン、ニトロベンゼン、エチレンジアミン、ピリジン、ピペリジン、モルホリン、ジメチルスルホキシド、およびスルホランを挙げることができる。溶媒(s2)として更に好ましくは、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、アニソール、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、3−メチル−1−ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリコールであり、特に好ましくはジ−n−ブチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、3−メチル−1−ブタノールまたはシクロヘキサノールであり、最も好ましくはテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたは2−プロパノールである。 A polar solvent is preferable as the solvent (s2) when the contact product (f) and the particles (d) are brought into contact with each other. As an index representing the polarity of the solvent, E T N value (C.Reichardt, "Solvents and Solvents Effects in Organic Chemistry", 2nd ed., VCH Verlag (1988).) And the like are known, 0.8 ≧ A solvent satisfying the range of E T N ≧ 0.1 is particularly preferable. Examples of the polar solvent include dichloromethane, dichlorodifluoromethane chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,2-dibromoethane, 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, tetrachloroethylene, chlorobenzene, Bromobenzene, o-dichlorobenzene, dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, methyl-tert-butyl ether, anisole, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) Ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 3-methyl-1-butanol Cyclohexanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol, triethylene glycol, acetone, ethyl methyl ketone, cyclohexanone, acetic anhydride, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene carbonate, propylene carbonate N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, hexamethylphosphoric triamide, triethyl phosphate, acetonitrile, propionitrile, succinonitrile, benzonitrile, nitromethane, nitrobenzene, Mention may be made of ethylenediamine, pyridine, piperidine, morpholine, dimethyl sulfoxide and sulfolane. More preferably, the solvent (s2) is dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, methyl-tert-butyl ether, anisole, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl). ) Ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 3-methyl-1-butanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, Ethylene glycol, propylene glycol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol or triethylene glycol, particularly preferably di-n-butyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 3-methyl-1-butanol or cyclohexanol Most preferably, it is tetrahydrofuran, methanol, ethanol, 1-propanol or 2-propanol.
また、前記溶媒(s2)としては、これら極性溶媒と炭化水素溶媒との混合溶媒を用いることもできる。炭化水素溶媒としては上に例示した脂肪族炭化水素溶媒や芳香族炭化水素溶媒が用いられる。極性溶媒と炭化水素溶媒との混合溶媒としては、例えば、ヘキサン/メタノール混合溶媒、ヘキサン/エタノール混合溶媒、ヘキサン/1−プロパノール混合溶媒、ヘキサン/2−プロパノール混合溶媒、ヘプタン/メタノール混合溶媒、ヘプタン/エタノール混合溶媒、ヘプタン/1−プロパノール混合溶媒、ヘプタン/2−プロパノール混合溶媒、トルエン/メタノール混合溶媒、トルエン/エタノール混合溶媒、トルエン/1−プロパノール混合溶媒、トルエン/2−プロパノール混合溶媒、キシレン/メタノール混合溶媒、キシレン/エタノール混合溶媒、キシレン/1−プロパノール混合溶媒、およびキシレン/2−プロパノール混合溶媒を挙げることができる。好ましくはヘキサン/メタノール混合溶媒、ヘキサン/エタノール混合溶媒、ヘプタン/メタノール混合溶媒、ヘプタン/エタノール混合溶媒、トルエン/メタノール混合溶媒、トルエン/エタノール混合溶媒、キシレン/メタノール混合溶媒、キシレン/エタノール混合溶媒である。更に好ましくはヘキサン/メタノール混合溶媒、ヘキサン/エタノール混合溶媒、トルエン/メタノール混合溶媒またはトルエン/エタノール混合溶媒である。最も好ましくはトルエン/エタノール混合溶媒である。トルエン/エタノール混合溶媒における、エタノール分率の好ましい範囲は10〜50体積%であり、更に好ましくは15〜30体積%である。 Moreover, as said solvent (s2), the mixed solvent of these polar solvents and hydrocarbon solvents can also be used. As the hydrocarbon solvent, the aliphatic hydrocarbon solvent and aromatic hydrocarbon solvent exemplified above are used. Examples of the mixed solvent of the polar solvent and the hydrocarbon solvent include hexane / methanol mixed solvent, hexane / ethanol mixed solvent, hexane / 1-propanol mixed solvent, hexane / 2-propanol mixed solvent, heptane / methanol mixed solvent, heptane. / Ethanol mixed solvent, heptane / 1-propanol mixed solvent, heptane / 2-propanol mixed solvent, toluene / methanol mixed solvent, toluene / ethanol mixed solvent, toluene / 1-propanol mixed solvent, toluene / 2-propanol mixed solvent, xylene And xylene / ethanol mixed solvent, xylene / 1-propanol mixed solvent, and xylene / 2-propanol mixed solvent. Preferably in hexane / methanol mixed solvent, hexane / ethanol mixed solvent, heptane / methanol mixed solvent, heptane / ethanol mixed solvent, toluene / methanol mixed solvent, toluene / ethanol mixed solvent, xylene / methanol mixed solvent, xylene / ethanol mixed solvent is there. More preferred are a hexane / methanol mixed solvent, a hexane / ethanol mixed solvent, a toluene / methanol mixed solvent or a toluene / ethanol mixed solvent. Most preferred is a toluene / ethanol mixed solvent. The preferable range of the ethanol fraction in the toluene / ethanol mixed solvent is 10 to 50% by volume, more preferably 15 to 30% by volume.
化合物(a)、(b)および(c)を接触させて得られる接触生成物(f)と、(d)とを接触させる方法、つまり上記の<1>、<3>、<7>の各方法において、溶媒(s1)および溶媒(s2)として、共に炭化水素溶媒を用いることもできる。この場合は、化合物(a)、(b)および(c)を接触させた後、得られた接触生成物(f)と粒子(d)とを接触させるまでの時間は短い方が好ましい。時間として好ましくは0〜5時間であり、更に好ましくは0〜3時間であり、最も好ましくは0〜1時間である。また、接触生成物(f)と粒子(d)とを接触させる場合の温度は、通常−100℃〜40℃であり、好ましくは−20℃〜20℃であり、最も好ましくは−10℃〜10℃である。 A method of contacting the contact product (f) obtained by bringing the compounds (a), (b) and (c) into contact with (d), that is, the above-mentioned <1>, <3>, <7> In each method, a hydrocarbon solvent can be used as both the solvent (s1) and the solvent (s2). In this case, after the compounds (a), (b) and (c) are contacted, it is preferable that the time until the obtained contact product (f) and the particles (d) are contacted is short. The time is preferably 0 to 5 hours, more preferably 0 to 3 hours, and most preferably 0 to 1 hour. The temperature when the contact product (f) and the particles (d) are contacted is usually -100 ° C to 40 ° C, preferably -20 ° C to 20 ° C, and most preferably -10 ° C to 10 ° C.
上記の<2>、<5>、<6>、<8>、<9>、<10>、<11>、<12>の場合、上記の非極性溶媒、極性溶媒いずれも使用することができる。好ましくは、非極性溶媒である。なぜならば、(a)と(c)との接触生成物や、(a)と(b)との接触生成物と(c)とが接触した接触生成物は一般的に非極性溶媒に対し溶解性が低いので、これら接触物が生成する時に反応系内に(d)が存在する場合、生成した接触生成物が(d)の表面に析出し、より固定化されやすい、と考えられるからである。 In the case of <2>, <5>, <6>, <8>, <9>, <10>, <11>, <12>, any of the above nonpolar solvents and polar solvents may be used. it can. Preferably, it is a nonpolar solvent. This is because the contact product of (a) and (c) and the contact product of (a) and (b) and the contact product of (c) are generally dissolved in a nonpolar solvent. This is because it is considered that the contact product produced is deposited on the surface of (d) and is more easily immobilized when (d) is present in the reaction system when these contact products are produced. is there.
上記(a)、(b)、(c)各化合物の使用量は特に制限はないが、各化合物の使用量のモル比率を(a):(b):(c)=1:y:zのモル比率とすると、yおよびzが下記式(1)を実質的に満足することが好ましい。
|m−y−2z|<1 (1)
(上記式(1)において、mはM3の原子価を表す。)
上記式(1)におけるyとして好ましくは0.01〜1.99の数であり、より好ましくは0.10〜1.80の数であり、さらに好ましくは0.20〜1.50の数であり、最も好ましくは0.30〜1.00の数であり、また上記式(1)におけるzの同様の好ましい範囲は、m、yおよび上記式(1)によって決定される。
The amount of each compound (a), (b), (c) used is not particularly limited, but the molar ratio of the amount of each compound used is (a) :( b) :( c) = 1: y: z It is preferable that y and z substantially satisfy the following formula (1).
| My-2z | <1 (1)
(In the above formula (1), m represents the valence of M 3. )
In the above formula (1), y is preferably a number of 0.01 to 1.99, more preferably a number of 0.10 to 1.80, and still more preferably a number of 0.20 to 1.50. Yes, most preferably a number from 0.30 to 1.00, and the same preferred range of z in the above formula (1) is determined by m, y and the above formula (1).
化合物(a)および(d)の使用量は、改質された粒子(I)に含まれる化合物(a)に由来する典型金属原子が、得られる改質された粒子(I)1gに含まれる典型金属原子のモル数にして、0.05mmol以上となる量であることが好ましく、0.1〜20mmolとなる量であることがより好ましい。 The amount of the compounds (a) and (d) used is such that a typical metal atom derived from the compound (a) contained in the modified particle (I) is contained in 1 g of the resulting modified particle (I). The amount of typical metal atoms is preferably 0.05 mmol or more, and more preferably 0.1 to 20 mmol.
反応をより速く進行させるため、上記のような接触処理の後に、より高い温度での加熱工程を付加することが好ましい。加熱工程では、より高温とするために、沸点の高い溶媒を使用することが好ましく、加熱工程を行う際に、接触工程で用いた溶媒を他のより沸点の高い溶媒に置き換えてもよい。 In order to make the reaction proceed faster, it is preferable to add a heating step at a higher temperature after the contact treatment as described above. In the heating step, it is preferable to use a solvent having a high boiling point in order to obtain a higher temperature. When performing the heating step, the solvent used in the contact step may be replaced with another solvent having a higher boiling point.
改質された粒子(I)は、このような接触処理の結果、原料である化合物(a)、(b)、(c)および/または(d)が未反応物として残存していてもよい。しかし、得られた改質された粒子(I)から未反応物を除去するために、得られた改質された粒子(I)を洗浄することが好ましい。改質された粒子(I)を洗浄するときに用いる溶媒は、改質された粒子(I)を製造するときに用いる溶媒と同じでも異なっていてもよい。不活性気体雰囲気下で改質された粒子(I)を洗浄することが好ましい。洗浄温度は通常−100〜300℃であり、好ましくは−80〜200℃である。洗浄時間は通常1分間〜200時間であり、好ましくは10分間〜100時間である。 In the modified particles (I), as a result of such contact treatment, the starting compounds (a), (b), (c) and / or (d) may remain as unreacted substances. . However, it is preferred to wash the resulting modified particles (I) to remove unreacted material from the resulting modified particles (I). The solvent used when washing the modified particles (I) may be the same as or different from the solvent used when producing the modified particles (I). It is preferable to wash the modified particles (I) under an inert gas atmosphere. The washing temperature is usually −100 to 300 ° C., preferably −80 to 200 ° C. The washing time is usually 1 minute to 200 hours, preferably 10 minutes to 100 hours.
また、上記の洗浄処理の際に、溶媒中の改質された粒子(I)を沈降させ不定形や微粉粒子がスラリー上部で浮遊している状態で、上部の溶媒を除去することは粒径や形状の整った改質された粒子(I)を得るために好ましい。 In addition, during the above washing treatment, the modified particles (I) in the solvent are allowed to settle, and the amorphous solvent or fine powder particles are suspended in the upper part of the slurry. It is preferable to obtain modified particles (I) having a uniform shape.
また、このような接触処理や洗浄処理の後、生成物から溶媒を留去し、その後0℃以上の温度で減圧下1時間〜24時間乾燥を行うことが好ましい。より好ましくは0℃〜200℃の温度で1時間〜24時間であり、更に好ましくは10℃〜200℃の温度で1時間〜24時間であり、特に好ましくは10℃〜160℃の温度で2時間〜18時間であり、最も好ましくは15℃〜160℃の温度で4時間〜18時間である。 Further, after such contact treatment or washing treatment, it is preferable to distill off the solvent from the product, and then to dry under reduced pressure for 1 to 24 hours at a temperature of 0 ° C. or higher. More preferably, it is 1 hour to 24 hours at a temperature of 0 ° C. to 200 ° C., more preferably 1 hour to 24 hours at a temperature of 10 ° C. to 200 ° C., and particularly preferably 2 at a temperature of 10 ° C. to 160 ° C. Time to 18 hours, most preferably 4 to 18 hours at a temperature of 15 ° C to 160 ° C.
改質された粒子(I)の製造方法の具体例を、M3 が亜鉛原子であり、化合物(b)が3,4,5−トリフルオロフェノールであり、化合物(c)が水であり、(d)がシリカである場合についてさらに詳細に以下に示す。テトラヒドロフランを溶媒とし、そこへジエチル亜鉛のヘキサン溶液を加え、3℃に冷却し、そこへジエチル亜鉛に対して等モル量の3,4,5−トリフルオロフェノールを滴下し室温にて10分間〜24時間攪拌を行った後、さらにジエチル亜鉛に対して0.5倍モル量の水を滴下し室温にて10分間〜24時間撹袢する。その後、溶媒を留去し、120℃で減圧下8時間乾燥を行う。以上の操作によって得られた固体成分に、テトラヒドロフラン、シリカを加え、40℃で2時間攪拌する。固体成分をテトラヒドロフランで洗浄した後、120℃で減圧下8時間乾燥を行う。かくして本発明の改質された粒子(I)を製造することができる。 Specific examples of the method for producing the modified particles (I) are as follows: M 3 is a zinc atom, compound (b) is 3,4,5-trifluorophenol, and compound (c) is water, The case where (d) is silica will be described in more detail below. Tetrahydrofuran is used as a solvent, and a hexane solution of diethylzinc is added thereto, followed by cooling to 3 ° C., and an equimolar amount of 3,4,5-trifluorophenol is added dropwise thereto relative to diethylzinc for 10 minutes at room temperature. After stirring for 24 hours, 0.5 times molar amount of water is further added dropwise to diethyl zinc, and the mixture is stirred at room temperature for 10 minutes to 24 hours. Thereafter, the solvent is distilled off, followed by drying at 120 ° C. under reduced pressure for 8 hours. Tetrahydrofuran and silica are added to the solid component obtained by the above operation, and the mixture is stirred at 40 ° C. for 2 hours. The solid component is washed with tetrahydrofuran and then dried at 120 ° C. under reduced pressure for 8 hours. Thus, the modified particles (I) of the present invention can be produced.
改質された粒子(II)の調製に用いられるアルミノキサン(e)としては、一般式{−Al(E1)−O−}cで示される構造を有する環状のアルミノキサンおよび/または一般式 E2{−Al(E2)−O−}dAlE2 2で示される構造を有する線状のアルミノキサンが好ましく用いられる。
(但し、E1、およびE2は、それぞれハイドロカルビル基であり、全てのE1および全てのE2は同じであっても異なっていてもよい。cは2以上の数を、dは1以上の数を表す。)
E1、またはE2におけるハイドロカルビル基としては、炭素数1〜8のハイドロカルビル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
As the aluminoxane (e) used for the preparation of the modified particles (II), a cyclic aluminoxane having a structure represented by the general formula {—Al (E 1 ) —O—} c and / or the general formula E 2 A linear aluminoxane having a structure represented by {—Al (E 2 ) —O—} d AlE 2 2 is preferably used.
(However, E 1 and E 2 are each a hydrocarbyl group, and all E 1 and all E 2 may be the same or different. C is a number of 2 or more, d is Represents a number of 1 or more.)
As a hydrocarbyl group in E < 1 > or E < 2 >, a C1-C8 hydrocarbyl group is preferable and an alkyl group is more preferable.
上記E1、E2の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。cは2以上の数であり、dは1以上の数である。好ましくは、E1およびE2はメチル基、またはイソブチル基であり、cは2〜40、dは1〜40である。 Specific examples of E 1 and E 2 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, normal pentyl group, and neopentyl group. c is a number of 2 or more, and d is a number of 1 or more. Preferably, E 1 and E 2 are a methyl group or an isobutyl group, c is 2 to 40, and d is 1 to 40.
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム(例えば、トリメチルアルミニウムなど)を適当な有機溶剤(ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなど)に溶かした溶液を水と接触させて作ることができる。また、トリアルキルアルミニウム(例えば、トリメチルアルミニウムなど)に結晶水を含んでいる金属塩(例えば、硫酸銅水和物など)を接触させて作る方法が例示できる。このような方法で得られたアルミノキサンは通常、環状のアルミノキサンと線状のアルミノキサンとの混合物となっていると考えられる。 The above aluminoxane can be made by various methods. There is no restriction | limiting in particular about the method, What is necessary is just to make according to a well-known method. For example, a solution in which a trialkylaluminum (eg, trimethylaluminum) is dissolved in a suitable organic solvent (benzene, aliphatic hydrocarbyl, etc.) can be made by contacting with water. Moreover, the method of making the metal salt (for example, copper sulfate hydrate etc.) containing crystal water contact the trialkylaluminum (for example, trimethylaluminum etc.) can be illustrated. The aluminoxane obtained by such a method is usually considered to be a mixture of a cyclic aluminoxane and a linear aluminoxane.
改質された粒子(II)を得るために用いられる粒子(d)は、改質された粒子(I)に用いられる(d)と同様な粒子である。 The particles (d) used for obtaining the modified particles (II) are the same particles as (d) used for the modified particles (I).
アルミノキサン(e)と粒子(d)を任意の方法により接触させて、改質された粒子(II)を製造することができる。具体的には粒子(d)を溶媒中に分散させ、そこへアルミノキサン(e)を添加することにより改質された粒子(II)を製造することができる。
この場合の溶媒は、改質された粒子(I)の製造方法の説明において記載したいずれの溶媒も用いることができ、アルミノキサン(e)と反応しない溶媒が好ましく、アルミノキサン(e)を溶解させる溶媒がより好ましい。具体的にはトルエンやキシレンなどの芳香族ハイドロカルビル溶媒またはヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族ハイドロカルビル溶媒が好ましく、トルエンまたはキシレンが更に好ましい。
The modified particles (II) can be produced by contacting the aluminoxane (e) and the particles (d) by any method. Specifically, modified particles (II) can be produced by dispersing particles (d) in a solvent and adding aluminoxane (e) thereto.
As the solvent in this case, any of the solvents described in the description of the method for producing the modified particles (I) can be used, and a solvent that does not react with the aluminoxane (e) is preferable, and the solvent that dissolves the aluminoxane (e). Is more preferable. Specifically, an aromatic hydrocarbyl solvent such as toluene or xylene or an aliphatic hydrocarbyl solvent such as hexane, heptane, or octane is preferable, and toluene or xylene is more preferable.
アルミノキサン(e)と粒子(d)を接触させる温度、時間は任意に取ることが出来るが、温度は通常−100℃〜200℃、好ましくは−50℃〜150℃、更に好ましくは−20℃〜120℃である。特に反応初期は発熱を抑えるために低温でこれらを反応させることが好ましい。アルミノキサン(e)と粒子(d)とを接触させる量は、任意であるが、粒子(d)の単位グラム当たりアルミノキサン(e)をアルミニウム原子換算で通常0.01〜100mmol、好ましくは0.1〜20mmol、更に好ましくは1〜10mmolである。 The temperature and time for bringing the aluminoxane (e) into contact with the particles (d) can be arbitrarily selected, but the temperature is usually −100 ° C. to 200 ° C., preferably −50 ° C. to 150 ° C., more preferably −20 ° C. to 120 ° C. In particular, it is preferable to react these at a low temperature in order to suppress heat generation at the initial stage of the reaction. The amount of contact between the aluminoxane (e) and the particles (d) is arbitrary, but the aluminoxane (e) per unit gram of the particles (d) is usually 0.01 to 100 mmol, preferably 0.1 -20 mmol, more preferably 1-10 mmol.
改質された粒子(III)は、改質された粒子(II)の調製時にさらに遷移金属化合物を用いて得られるものである。
遷移金属化合物としては、上記一般式[3]に示した遷移金属化合物またはそのμ―オキソタイプの遷移金属化合物二量体(A)が用いられる。
アルミノキサン(e)、粒子(d)および遷移金属化合物を任意の方法で接触させて、改質された粒子(III)を得ることができる。アルミノキサン(e)、粒子(d)および遷移金属化合物を接触させるときに溶媒を使用することが好ましい。該溶媒としては上記記載のいずれの溶媒も用いることができ、アルミノキサン(e)および遷移金属化合物と反応しない溶媒が好ましく、アルミノキサン(e)および遷移金属化合物を溶解させる溶媒がより好ましい。具体的にはトルエンやキシレンなどの芳香族ハイドロカルビル溶媒またはヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族ハイドロカルビル溶媒が好ましく、トルエンまたはキシレンが更に好ましい。
The modified particles (III) are obtained using a transition metal compound during the preparation of the modified particles (II).
As the transition metal compound, the transition metal compound represented by the above general formula [3] or its μ-oxo type transition metal compound dimer (A) is used.
The modified particles (III) can be obtained by contacting the aluminoxane (e), the particles (d) and the transition metal compound by any method. It is preferable to use a solvent when contacting the aluminoxane (e), the particles (d) and the transition metal compound. Any of the solvents described above can be used as the solvent, and a solvent that does not react with the aluminoxane (e) and the transition metal compound is preferable, and a solvent that dissolves the aluminoxane (e) and the transition metal compound is more preferable. Specifically, an aromatic hydrocarbyl solvent such as toluene or xylene or an aliphatic hydrocarbyl solvent such as hexane, heptane, or octane is preferable, and toluene or xylene is more preferable.
アルミノキサン(e)、粒子(d)および遷移金属化合物を接触させる温度、時間は任意であるが、温度は通常−100℃〜200℃、好ましくは−50℃〜150℃、更に好ましくは−20℃〜120℃である。特に反応初期は発熱を抑えるために低温でこれらを反応させることが好ましい。アルミノキサン(e)、粒子(d)および遷移金属化合物を接触させる量は、任意であるが、粒子(d)の単位グラム当たりアルミノキサン(e)をアルミニウム原子換算で通常0.01〜100mmol、好ましくは0.1〜20mmol、更に好ましくは1〜10mmolである。また、粒子(d)の単位グラム当たり遷移金属化合物を遷移金属原子換算で通常0.1〜1000μmol、好ましくは1〜500μmol、更に好ましくは10〜200μmolである。 The temperature and time for contacting the aluminoxane (e), the particles (d) and the transition metal compound are arbitrary, but the temperature is usually -100 ° C to 200 ° C, preferably -50 ° C to 150 ° C, more preferably -20 ° C. ~ 120 ° C. In particular, it is preferable to react these at a low temperature in order to suppress heat generation at the initial stage of the reaction. The amount in which the aluminoxane (e), the particles (d) and the transition metal compound are brought into contact with each other is arbitrary, but the aluminoxane (e) per unit gram of the particles (d) is usually 0.01 to 100 mmol in terms of aluminum atoms, preferably It is 0.1-20 mmol, More preferably, it is 1-10 mmol. Moreover, the transition metal compound per unit gram of the particles (d) is usually 0.1 to 1000 μmol, preferably 1 to 500 μmol, more preferably 10 to 200 μmol in terms of transition metal atom.
有機アルミニウム化合物(C)
本発明に用いられる有機アルミニウム化合物(C)は、公知の有機アルミニウム化合物である。好ましくは、下記一般式[9]で示される有機アルミニウム化合物である。
R10 dAlY3-d [9]
(式中、R10 はハイドロカルビル基を表し、全てのR10 は同一であっても異なっていてもよい。Yは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、またはアリールオキシ基を表し、全てのYは同一であっても異なっていてもよい。dは0<d≦3を満足する数を表す。)
Organoaluminum compound (C)
The organoaluminum compound (C) used in the present invention is a known organoaluminum compound. An organoaluminum compound represented by the following general formula [9] is preferable.
R 10 d AlY 3-d [9]
(Wherein R 10 represents a hydrocarbyl group, and all R 10 may be the same or different. Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or an aryloxy group. And all Y may be the same or different, and d represents a number satisfying 0 <d ≦ 3.)
一般式[9]におけるR10 として好ましくは炭素原子数1〜24のハイドロカルビル基であり、より好ましくは炭素原子数1〜24のアルキル基である。具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ヘキシル基、2−メチルヘキシル基、n−オクチル基等が挙げられ、好ましくはエチル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ヘキシル基またはn−オクチル基である。 R 10 in the general formula [9] is preferably a hydrocarbyl group having 1 to 24 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Specific examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, n-hexyl group, 2-methylhexyl group, n-octyl group and the like, preferably ethyl group, n -A butyl group, an isobutyl group, an n-hexyl group or an n-octyl group.
また、Yがハロゲン原子である場合の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。
Yにおけるアルコキシ基としては炭素原子数1〜24のアルコキシ基が好ましく、具体例としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキソキシ基、n−オクトキシ基、n−ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ基、n−イコソキシ基などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基またはtert−ブトキシ基である。
Specific examples when Y is a halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, preferably a chlorine atom.
The alkoxy group in Y is preferably an alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms. Specific examples thereof include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert. -Butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group, n-hexoxy group, n-octoxy group, n-dodesoxy group, n-pentadexoxy group, n-icosoxy group, etc., preferably methoxy group, ethoxy group or tert group -Butoxy group.
Yにおけるアリールオキシ基としては炭素原子数6〜24のアリールオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばフェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などが挙げられる。 The aryloxy group in Y is preferably an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms. Specific examples thereof include phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 3-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 2,3 -Dimethylphenoxy group, 2,4-dimethylphenoxy group, 2,5-dimethylphenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, 3,4-dimethylphenoxy group, 3,5-dimethylphenoxy group, 2,3,4 -Trimethylphenoxy group, 2,3,5-trimethylphenoxy group, 2,3,6-trimethylphenoxy group, 2,4,5-trimethylphenoxy group, 2,4,6-trimethylphenoxy group, 3,4,5 -Trimethylphenoxy group, 2,3,4,5-tetramethylphenoxy group, 2,3,4,6-tetramethylphenoxy 2,3,5,6-tetramethylphenoxy group, pentamethylphenoxy group, ethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group N-hexylphenoxy group, n-octylphenoxy group, n-decylphenoxy group, n-tetradecylphenoxy group, naphthoxy group, anthracenoxy group and the like.
Yにおけるアラルキルオキシ基としては炭素原子数7〜24のアラルキルオキシ基が好ましく、具体例としては、例えばベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、(n−テトラデシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。 The aralkyloxy group in Y is preferably an aralkyloxy group having 7 to 24 carbon atoms. Specific examples include benzyloxy group, (2-methylphenyl) methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4 -Methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, 2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,6- Limethylphenyl) methoxy group, (3,4,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methoxy Group, (pentamethylphenyl) methoxy group, (ethylphenyl) methoxy group, (n-propylphenyl) methoxy group, (isopropylphenyl) methoxy group, (n-butylphenyl) methoxy group, (sec-butylphenyl) methoxy group , (Tert-butylphenyl) methoxy group, (n-hexylphenyl) methoxy group, (n-octylphenyl) methoxy group, (n-decylphenyl) methoxy group, (n-tetradecylphenyl) methoxy group, naphthylmethoxy group , Anthracenylmethoxy group and the like, preferably a benzyloxy group That.
一般式[9]で表される有機アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−n−プロピルアルミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジ−n−プロピルアルミニウムクロライド、ジ−n−ブチルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジ−n−ヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド;メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、n−プロピルアルミニウムジクロライド、n−ブチルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、n−ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジ−n−プロピルアルミニウムハイドライド、ジ−n−ブチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ−n−ヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド;メチル(ジメトキシ)アルミニウム、メチル(ジエトキシ)アルミニウム、メチル(ジ−tert−ブトキシ)アルミニウム等のアルキル(ジアルコキシ)アルミニウム;ジメチル(メトキシ)アルミニウム、ジメチル(エトキシ)アルミニウム、ジメチル(tert−ブトキシ)アルミニウム等のジアルキル(アルコキシ)アルミニウム;メチル(ジフェノキシ)アルミニウム、メチルビス(2,6−ジイソプロピルフェノキシ)アルミニウム、メチルビス(2,6−ジフェニルフェノキシ)アルミニウム等のアルキル(ジアリールオキシ)アルミニウム;ジメチル(フェノキシ)アルミニウム、ジメチル(2,6−ジイソプロピルフェノキシ)アルミニウム、ジメチル(2,6−ジフェニルフェノキシ)アルミニウム等のジアルキル(アリールオキシ)アルミニウム等を例示することができる。 Specific examples of the organoaluminum compound represented by the general formula [9] include trimethylaluminum, triethylaluminum, tri-n-propylaluminum, tri-n-butylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-hexylaluminum, tri -Trialkylaluminum such as n-octylaluminum; Dialkylaluminum such as dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, di-n-propylaluminum chloride, di-n-butylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, di-n-hexylaluminum chloride Chloride: methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, n-propylaluminum dichloride, n-butylaluminium Alkyl aluminum dichlorides such as dichloride, isobutyl aluminum dichloride, n-hexyl aluminum dichloride; dimethyl aluminum hydride, diethyl aluminum hydride, di-n-propyl aluminum hydride, di-n-butyl aluminum hydride, diisobutyl aluminum hydride, di-n-hexyl Dialkyl aluminum hydrides such as aluminum hydride; alkyl (dialkoxy) aluminum such as methyl (dimethoxy) aluminum, methyl (diethoxy) aluminum, methyl (di-tert-butoxy) aluminum; dimethyl (methoxy) aluminum, dimethyl (ethoxy) aluminum, Dials such as dimethyl (tert-butoxy) aluminum Alkyl (diaryloxy) aluminum such as methyl (diphenoxy) aluminum, methylbis (2,6-diisopropylphenoxy) aluminum, methylbis (2,6-diphenylphenoxy) aluminum; dimethyl (phenoxy) aluminum, dimethyl ( Examples include dialkyl (aryloxy) aluminum such as 2,6-diisopropylphenoxy) aluminum and dimethyl (2,6-diphenylphenoxy) aluminum.
これらの内、好ましくはトリアルキルアルミニウムであり、さらに好ましくはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウムまたはトリ−n−オクチルアルミニウムであり、特に好ましくはトリイソブチルアルミニウムまたはトリ−n−オクチルアルミニウムである。
これらの有機アルミニウム化合物は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Of these, trialkylaluminum is preferable, trimethylaluminum, triethylaluminum, tri-n-butylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-hexylaluminum or tri-n-octylaluminum is particularly preferable. Is triisobutylaluminum or tri-n-octylaluminum.
These organoaluminum compounds may be used alone or in combination of two or more.
電子供与性化合物(D)
本発明の予備重合済付加重合触媒成分を製造する際に、化合物(A)と、活性化剤(B)と、任意に有機アルミニウム化合物(C)とを接触させるときに電子供与性化合物(D)をこれらと接触させてもよい。
本発明の付加重合体を製造する際に、化合物(A)と、活性化剤(B)と、任意に有機アルミニウム化合物(C)とを接触させるときに電子供与性化合物(D)をこれらと接触させてもよい。
本発明の付加重合体を製造する際に、予備重合済付加重合触媒成分と電子供与性化合物(D)とを接触させてもよい。
電子供与性化合物(D)としては、窒素原子、リン原子、酸素原子または硫黄原子を含む化合物が好ましく、酸素含有化合物、窒素含有化合物、リン含有化合物、硫黄含有化合物が挙げられ、なかでも酸素含有化合物または窒素含有化合物が好ましい。酸素含有化合物としては、アルコキシシラン類、エーテル類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸または無機酸のエステル類、有機酸または無機酸の酸アミド類、酸無水物類などが挙げられ、なかでもアルコキシシラン類またはエーテル類が好ましい。窒素含有化合物としては、アミン類、ニトリル類、イソシアネート類等が挙げられ、アミン類が好ましい。
Electron donating compound (D)
When the prepolymerized addition polymerization catalyst component of the present invention is produced, when the compound (A), the activator (B), and optionally the organoaluminum compound (C) are contacted, an electron donating compound (D ) May be brought into contact with these.
In the production of the addition polymer of the present invention, the compound (A), the activator (B), and optionally the organoaluminum compound (C) are contacted with the electron donating compound (D). You may make it contact.
When producing the addition polymer of the present invention, the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the electron donating compound (D) may be contacted.
The electron-donating compound (D) is preferably a compound containing a nitrogen atom, a phosphorus atom, an oxygen atom or a sulfur atom, and examples thereof include an oxygen-containing compound, a nitrogen-containing compound, a phosphorus-containing compound and a sulfur-containing compound. Compounds or nitrogen-containing compounds are preferred. Examples of the oxygen-containing compound include alkoxysilanes, ethers, ketones, aldehydes, carboxylic acids, esters of organic acids or inorganic acids, acid amides of organic acids or inorganic acids, acid anhydrides, and the like. Of these, alkoxysilanes or ethers are preferred. Examples of the nitrogen-containing compound include amines, nitriles, isocyanates, and the like, and amines are preferable.
アルコキシシラン類としては、一般式 R11 rSi(OR12)4-r (式中、R11は炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基、水素原子またはヘテロ原子含有置換基を表し、R12は炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基を表し、rは0≦r<4を満足する数を表す。全てのR11および全てのR12はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。)で表されるアルコキシシラン化合物が好ましく用いられる。 The alkoxysilanes of the general formula R 11 r Si (OR 12) in 4-r (wherein, R 11 represents a hydrocarbyl group, a hydrogen atom or a hetero atom-containing substituent group having a carbon number 1 to 20, R 12 represents a hydrocarbyl group having 1 to 20 carbon atoms, and r represents a number satisfying 0 ≦ r <4, and all R 11 and all R 12 may be the same or different. The alkoxysilane compound represented by this is preferably used.
R11 やR12 がハイドロカルビル基の場合、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、tert−アミル基等の分岐鎖状アルキル基、シクロペンンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、シクロペンテニル基等のシクロアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。R11がヘテロ原子含有置換基の場合、ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子が挙げられる。具体的にはジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルn−プロピルアミノ基、ジn−プロピルアミノ基、ピロリル基、ピリジル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、パーヒドロインドリル基、パーヒドロイソインドリル基、パーヒドロキノリル基、パーヒドロイソキノリル基、パーヒドロカルバゾリル基、パーヒドロアクリジニル基、フリル基、ピラニル基、パーヒドロフリル基、チエニル基等が挙げられる。
アルコキシシラン類としては、R11 およびR12 がアルキル基であることが好ましく、更にrが4>r≧2を満足する数であることが好ましい。
When R 11 or R 12 is a hydrocarbyl group, a linear alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group or pentyl group, isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, tert- Examples thereof include branched alkyl groups such as amyl group, cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group, cycloalkenyl groups such as cyclopentenyl group, and aryl groups such as phenyl group and tolyl group. When R 11 is a heteroatom-containing substituent, examples of the heteroatom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Specifically, dimethylamino group, methylethylamino group, diethylamino group, ethyl n-propylamino group, di-n-propylamino group, pyrrolyl group, pyridyl group, pyrrolidinyl group, piperidyl group, perhydroindolyl group, perhydro Examples thereof include an isoindolyl group, a perhydroquinolyl group, a perhydroisoquinolyl group, a perhydrocarbazolyl group, a perhydroacridinyl group, a furyl group, a pyranyl group, a perhydrofuryl group, and a thienyl group.
As alkoxysilanes, R 11 and R 12 are preferably alkyl groups, and r is preferably a number satisfying 4> r ≧ 2.
前記アルコキシシラン類の具体例としては、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ノルマルプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ノルマルブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、sec−ブチルトリメトキシシラン、tert−ブチルトリメトキシシラン、ノルマルペンチルトリメトキシシラン、tert−アミルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジノルマルブチルジメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ジ−tert−ブチルジメトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルノルマルプロピルジメトキシシラン、メチルノルマルブチルジメトキシシラン、メチルイソブチルジメトキシシラン、tert−ブチルメチルジメトキシシラン、tert−ブチルエチルジメトキシシラン、tert−ブチルノルマルプロピルジメトキシシラン、tert−ブチルイソプロピルジメトキシシラン、tert−ブチルノルマルブチルジメトキシシラン、tert−ブチルイソブチルジメトキシシラン、tert−アミルメチルジメトキシシラン、tert−アミルエチルジメトキシシラン、tert−アミルノルマルプロピルジメトキシシラン、tert−アミルノルマルブチルジメトキシシラン、イソブチルイソプロピルジメトキシシラン、ジシクロブチルジメトキシシラン、シクロブチルメチルジメトキシシラン、シクロブチルエチルジメトキシシラン、シクロブチルイソプロピルジメトキシシラン、シクロブチルノルマルブチルジメトキシシラン、シクロブチルイソブチルジメトキシシラン、シクロブチル−tert−ブチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、シクロペンチルメチルジメトキシシラン、シクロペンチルノルマルプロピルジメトキシシラン、シクロペンチルイソプロピルジメトキシシラン、シクロペンチルノルマルブチルジメトキシシラン、シクロペンチルイソブチルジメトキシシラン、シクロペンチル−tert−ブチルジメトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘキシルノルマルプロピルジメトキシシラン、シクロヘキシルイソプロピルジメトキシシラン、シクロヘキシルノルマルブチルジメトキシシラン、シクロヘキシルイソブチルジメトキシシラン、シクロヘキシル−tert−ブチルジメトキシシラン、シクロヘキシルシクロペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルエチルジメトキシシラン、フェニルノルマルプロピルジメトキシシラン、フェニルイソプロピルジメトキシシラン、フェニルノルマルブチルジメトキシシラン、フェニルイソブチルジメトキシシラン、フェニル−tert−ブチルジメトキシシラン、フェニルシクロペンチルジメトキシシラン、2−ノルボルナンメチルジメトキシシラン、ビス(パーヒドロキノリノ)ジメトキシシラン、ビス(パーヒドロイソキノリノ)ジメトキシシラン、(パーヒドロキノリノ)(パーヒドロイソキノリノ)ジメトキシシラン、(パーヒドロキノリノ)メチルジメトキシシラン、(パーヒドロイソキノリノ)メチルジメトキシシラン、(パーヒドロキノリノ)エチルジメトキシシラン、(パーヒドロイソキノリノ)エチルジメトキシシラン、(パーヒドロキノリノ)(n−プロピル)ジメトキシシラン、(パーヒドロイソキノリノ)(n−プロピル)ジメトキシシラン、((パーヒドロキノリノ)(tert−ブチル)ジメトキシシラン、(パーヒドロイソキノリノ)(tert−ブチル)ジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリノルマルプロピルメトキシシラン、トリイソプロピルメトキシシラン、トリノルマルブチルメトキシシラン、トリイソブチルメトキシシラン、トリ−tert−ブチルメトキシシラン等が挙げられる。これらの化合物のメトキシをエトキシ、プロポキシ、ノルマルブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、フェノキシに置き換えた化合物も例示することができる。好ましくは、ジアルキルジアルコキシシランまたはトリアルキルモノアルコキシシランであり、より好ましくはトリアルキルモノアルコキシシランである。 Specific examples of the alkoxysilanes include tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, normalpropyltrimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, normalbutyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, sec-butyltrimethyl. Methoxysilane, tert-butyltrimethoxysilane, normal pentyltrimethoxysilane, tert-amyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diethyldimethoxysilane, dinormalbutyldimethoxysilane, diisobutyldimethoxysilane, di-tert-butyldimethoxysilane, methyl Ethyl dimethoxysilane, methyl normal propyl dimethoxy silane, methyl normal butyl dimethoxy silane, methyl isobutyl Methoxysilane, tert-butylmethyldimethoxysilane, tert-butylethyldimethoxysilane, tert-butylnormalpropyldimethoxysilane, tert-butylisopropyldimethoxysilane, tert-butylnormalbutyldimethoxysilane, tert-butylisobutyldimethoxysilane, tert-amyl Methyldimethoxysilane, tert-amylethyldimethoxysilane, tert-amylnormalpropyldimethoxysilane, tert-amylnormalbutyldimethoxysilane, isobutylisopropyldimethoxysilane, dicyclobutyldimethoxysilane, cyclobutylmethyldimethoxysilane, cyclobutylethyldimethoxysilane, Cyclobutylisopropyldimethoxysilane, cyclobutylnor Rubutyldimethoxysilane, cyclobutylisobutyldimethoxysilane, cyclobutyl-tert-butyldimethoxysilane, dicyclopentyldimethoxysilane, cyclopentylmethyldimethoxysilane, cyclopentylnormalpropyldimethoxysilane, cyclopentylisopropyldimethoxysilane, cyclopentylnormalbutyldimethoxysilane, cyclopentylisobutyldimethoxysilane , Cyclopentyl-tert-butyldimethoxysilane, dicyclohexyldimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, cyclohexylethyldimethoxysilane, cyclohexylnormalpropyldimethoxysilane, cyclohexylisopropyldimethoxysilane, cyclohexylnormalbutyldimethoxysilane, silane Cyclohexyl isobutyldimethoxysilane, cyclohexyl-tert-butyldimethoxysilane, cyclohexylcyclopentyldimethoxysilane, cyclohexylphenyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylethyldimethoxysilane, phenylnormalpropyldimethoxysilane, phenylisopropyldimethoxysilane, phenyl Normal butyldimethoxysilane, phenylisobutyldimethoxysilane, phenyl-tert-butyldimethoxysilane, phenylcyclopentyldimethoxysilane, 2-norbornanemethyldimethoxysilane, bis (perhydroquinolino) dimethoxysilane, bis (perhydroisoquinolino) dimethoxysilane, (Perhydroquinolino) Hydroisoquinolino) dimethoxysilane, (perhydroquinolino) methyldimethoxysilane, (perhydroisoquinolino) methyldimethoxysilane, (perhydroquinolino) ethyldimethoxysilane, (perhydroisoquinolino) ethyldimethoxysilane, Hydroquinolino) (n-propyl) dimethoxysilane, (perhydroisoquinolino) (n-propyl) dimethoxysilane, ((perhydroquinolino) (tert-butyl) dimethoxysilane, (perhydroisoquinolino) (tert- Butyl) dimethoxysilane, trimethylmethoxysilane, triethylmethoxysilane, trinormalpropylmethoxysilane, triisopropylmethoxysilane, trinormalbutylmethoxysilane, triisobutylmethoxysilane, tri-t rt- butyl methoxysilane, and the like. Examples thereof also include compounds in which methoxy in these compounds is replaced with ethoxy, propoxy, normal butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, or phenoxy. Dialkyl dialkoxy silane or trialkyl monoalkoxy silane is preferable, and trialkyl monoalkoxy silane is more preferable.
エーテル類の例としては、ジアルキルエーテル、アルキルアリールエーテル、ジアリールエーテル、ジエーテル化合物、環状エーテル類および環状ジエーテル類を挙げることができる。 Examples of ethers include dialkyl ethers, alkylaryl ethers, diaryl ethers, diether compounds, cyclic ethers and cyclic diethers.
具体例としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジノルマルブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ‐tert−ブチルエーテル、ジシクロヘキシルエーテル、ジフェニルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルノルマルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチルノルマルブチルエーテル、メチルイソブチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、メチルフェニルエーテル、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、オキセタン、テトラヒドロフラン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、1,2−ジイソブトキシエタン、2,2−ジメトキシプロパン、1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジイソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−イソペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ビス(シクロヘキシルメチル)−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−3,7−ジメチルオクチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジイソプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−シクロヘキシルメチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシクロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−イソブチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジイソプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジプロピル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−シクロヘキシル−1,3−ジメトキシプロパン、2−イソプロピル−2−シクロペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2,2−ジシクロペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、2−ヘプチル−2−ペンチル−1,3−ジメトキシプロパン、1,2−ジメトキシベンゼン、1.3−ジメトキシベンゼン、1,4−ジメトキシベンゼン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、等を挙げることができる。好ましくは、ジエチルエーテル、ジノルマルブチルエーテル、メチルノルマルブチルエーテル、メチルフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソランであり、更に好ましくは、ジエチルエーテル、ジノルマルブチルエーテルまたはテトラヒドロフランである。 Specific examples include dimethyl ether, diethyl ether, dinormal propyl ether, diisopropyl ether, dinormal butyl ether, diisobutyl ether, di-tert-butyl ether, dicyclohexyl ether, diphenyl ether, methyl ethyl ether, methyl normal propyl ether, methyl isopropyl ether, methyl. Normal butyl ether, methyl isobutyl ether, methyl tert-butyl ether, methyl cyclohexyl ether, methyl phenyl ether, ethylene oxide, propylene oxide, oxetane, tetrahydrofuran, 2,5-dimethyltetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,2-dimethoxyethane, 1, 2-diethoxyethane, 1,2-diisobutoxyethane, , 2-dimethoxypropane, 1,3-dimethoxypropane, 2,2-diisobutyl-1,3-dimethoxypropane, 2-isopropyl-2-isopentyl-1,3-dimethoxypropane, 2,2-bis (cyclohexylmethyl) -1,3-dimethoxypropane, 2-isopropyl-2-3,7-dimethyloctyl-1,3-dimethoxypropane, 2,2-diisopropyl-1,3-dimethoxypropane, 2-isopropyl-2-cyclohexylmethyl- 1,3-dimethoxypropane, 2,2-dicyclohexyl-1,3-dimethoxypropane, 2-isopropyl-2-isobutyl-1,3-dimethoxypropane, 2,2-diisopropyl-1,3-dimethoxypropane, 2, 2-dipropyl-1,3-dimethoxypropane, 2-isopropyl 2-cyclohexyl-1,3-dimethoxypropane, 2-isopropyl-2-cyclopentyl-1,3-dimethoxypropane, 2,2-dicyclopentyl-1,3-dimethoxypropane, 2-heptyl-2-pentyl-1 , 3-dimethoxypropane, 1,2-dimethoxybenzene, 1.3-dimethoxybenzene, 1,4-dimethoxybenzene, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, and the like. it can. Preferred are diethyl ether, dinormal butyl ether, methyl normal butyl ether, methyl phenyl ether, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, and more preferred are diethyl ether and dinormal butyl ether. Or tetrahydrofuran.
カルボン酸エステル類の具体例としては、モノおよび多価のカルボン酸エステルが挙げられ、それらの例として飽和脂肪族カルボン酸エステル、不飽和脂肪族カルボン酸エステル、脂環式カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステルを挙げることができる。具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ノルマルブチル、酢酸イソブチル、酢酸−tert−ブチル、酢酸フェニル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、吉草酸エチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ノルマルブチル、安息香酸イソブチル、安息香酸−tert−ブチル、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、アニス酸メチル、アニス酸エチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジノルマルブチル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジノルマルブチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジノルマルブチル、フタル酸モノエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸メチルエチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジノルマルプロピル、フタル酸ジイソプロピル、フタル酸ジノルマルブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジ−tert−ブチル、フタル酸ジペンチル、フタル酸ジ−n−ヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジノルマルオクチル、フタル酸ジ(2−エチルヘキシル)、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ジフェニル、イソフラル酸ジメチル、イソフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジノルマルブチル、イソフタル酸ジイソブチル、イソフタル酸ジ−tert−ブチル、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジノルマルブチル、テレフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジ−tert−ブチル等を挙げることができる。好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジノルマルブチル、フタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジメチルまたはテレフタル酸ジエチルであり、更に好ましくは、安息香酸メチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチルまたはテレフタル酸ジメチルである。 Specific examples of the carboxylic acid esters include mono- and polyvalent carboxylic acid esters, and examples thereof include saturated aliphatic carboxylic acid esters, unsaturated aliphatic carboxylic acid esters, alicyclic carboxylic acid esters, aromatics. Carboxylic acid esters can be mentioned. Specific examples include methyl acetate, ethyl acetate, normal butyl acetate, isobutyl acetate, tert-butyl acetate, phenyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, ethyl butyrate, ethyl valerate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, Methyl benzoate, ethyl benzoate, normal butyl benzoate, isobutyl benzoate, tert-butyl benzoate, methyl toluate, ethyl toluate, methyl anisate, ethyl anisate, dimethyl succinate, diethyl succinate, succinic acid Dinormal butyl, dimethyl malonate, diethyl malonate, dinormal butyl malonate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl itaconate, dinormal butyl itaconate, monoethyl phthalate, dimethyl phthalate, methyl ethyl phthalate, phthalate Diethyl phthalate, dinormal phthalate, diisopropyl phthalate, dinormal butyl phthalate, diisobutyl phthalate, di-tert-butyl phthalate, dipentyl phthalate, di-n-hexyl phthalate, diheptyl phthalate, diphthalate Normal octyl, di (2-ethylhexyl) phthalate, diisodecyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, diphenyl phthalate, dimethyl isophthalate, diethyl isophthalate, dinormal butyl isophthalate, diisobutyl isophthalate, di-tert-butyl isophthalate, Examples thereof include dimethyl terephthalate, diethyl terephthalate, di-normal butyl terephthalate, diisobutyl terephthalate, and di-tert-butyl terephthalate. Preferred are methyl acetate, ethyl acetate, methyl benzoate, ethyl benzoate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, di-normal butyl phthalate, diisobutyl phthalate, dimethyl terephthalate or diethyl terephthalate, more preferably benzoic acid Methyl, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, diisobutyl phthalate or dimethyl terephthalate.
アミン類の例示化合物としては、トリヒドロカルビルアミンが挙げられ、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリノルマルブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、トリドデシルアミン、トリフェニルアミンが挙げられる。好ましくは、トリエチルアミンまたはトリオクチルアミンである。 Examples of amines include trihydrocarbylamine, and examples include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, trinormalbutylamine, triisobutylamine, trihexylamine, trioctylamine, tridodecylamine, and triphenylamine. Triethylamine or trioctylamine is preferable.
電子供与性化合物(D)としては、アルコキシシラン類、エーテル類またはアミン類が好ましく用いられる。更にアミン類がより好ましく用いられる。これらの電子供与性化合物(D)は一種類のみを用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。 As the electron donating compound (D), alkoxysilanes, ethers or amines are preferably used. Furthermore, amines are more preferably used. These electron donating compounds (D) may be used alone or in combination of two or more.
本発明の付加重合体の製造方法は、下記の4つの方法を含む。
(1)本発明の洗浄済反応器において、触媒の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法
(2)本発明の洗浄済反応器で触媒の存在下、モノマーを予備重合することにより予備重合済付加重合触媒成分を得、前記洗浄済反応器とは別の反応器で該予備重合済付加重合触媒成分の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法
(3)本発明の洗浄済反応器とは別の反応器で触媒の存在下、モノマーを予備重合することにより予備重合済付加重合触媒成分を得、本発明の洗浄済済反応器で該予備重合済付加重合触媒成分の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法
(4)本発明の洗浄済済反応器で触媒の存在下、モノマーを予備重合することにより予備重合済付加重合触媒成分を得、本発明の洗浄済反応器で該予備重合済付加重合触媒成分の存在下、モノマーを付加重合して付加重合体を製造する方法
The method for producing an addition polymer of the present invention includes the following four methods.
(1) Method for producing an addition polymer by addition polymerization of a monomer in the presence of a catalyst in the cleaned reactor of the present invention (2) Prepolymerization of the monomer in the presence of a catalyst in the cleaned reactor of the present invention To obtain a prepolymerized addition polymerization catalyst component, and to produce an addition polymer by addition polymerization of monomers in the presence of the prepolymerized addition polymerization catalyst component in a reactor separate from the washed reactor (3) A prepolymerized addition polymerization catalyst component is obtained by prepolymerizing the monomer in the presence of a catalyst in a reactor different from the washed reactor of the present invention, and the prepolymerization is performed in the washed reactor of the present invention. (4) Prepolymerized addition polymerization by prepolymerizing a monomer in the presence of a catalyst in the washed reactor of the present invention in the presence of a spent addition polymerization catalyst component Obtaining the catalyst component, cleaning of the present invention The presence of the prepolymerized spent addition polymerization catalyst component in a reactor, a method of producing an addition polymer of a monomer addition polymerization to
触媒
本発明における触媒は、上記の化合物(A)と、活性化剤(B)と、必要に応じて有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて得られる。各成分の接触量比としては、化合物(A)の接触量は、活性化剤(B)に対して、通常0.1〜1000μmol/gであり、好ましくは1〜500μmol/gであり、より好ましくは10〜300μmol/gである。有機アルミニウム(C)の接触量は化合物(A)に対して、通常0.01〜10000mmol/gであり、好ましくは0.1〜1000mmol/gであり、より好ましくは0.5〜200mmol/gである。
Catalyst The catalyst according to the present invention is obtained by bringing the compound (A), the activator (B), and, if necessary, the organoaluminum compound (C) into contact with each other. As the contact amount ratio of each component, the contact amount of the compound (A) is usually 0.1 to 1000 μmol / g, preferably 1 to 500 μmol / g with respect to the activator (B). Preferably it is 10-300 micromol / g. The contact amount of the organoaluminum (C) is usually 0.01 to 10000 mmol / g, preferably 0.1 to 1000 mmol / g, more preferably 0.5 to 200 mmol / g with respect to the compound (A). It is.
化合物(A)、活性化剤(B)および有機アルミニウム化合物(C)を接触させる方法は、特に限定されないが、例えば、下記<1>〜<3>の方法が挙げられる。
<1>上記各成分を接触させて得られる接触物を、重合槽へ投入する方法。
<2>上記各成分を別々に重合槽に供給して、重合槽中でこれらを接触させる方法。
<3>重合槽に投入する前に、上記各成分の一部を接触させて予備接触物を得、該予備接触物と残りの成分とを重合槽中で接触させる方法。
接触方法として、好ましくは、上記の<2>である。化合物(A)を粉体または溶媒に懸濁させたスラリー状態で重合槽に投入しても構わない。
Although the method of making a compound (A), an activator (B), and an organoaluminum compound (C) contact is not specifically limited, For example, the method of following <1>-<3> is mentioned.
<1> A method in which a contact product obtained by bringing the above components into contact with each other is introduced into a polymerization tank.
<2> A method in which each of the above components is separately supplied to a polymerization tank and brought into contact with the polymerization tank.
<3> A method in which a part of each of the above components is brought into contact with each other before being introduced into the polymerization tank to obtain a preliminary contact product, and the preliminary contact product and the remaining components are contacted in the polymerization tank.
The contact method is preferably <2> described above. The compound (A) may be charged into the polymerization tank in a slurry state in which the compound (A) is suspended in a powder or solvent.
化合物(A)、活性化剤(B)および有機アルミニウム化合物(C)を接触させる順序は、特に限定されないが、例えば、下記<4>〜<9>の順序が挙げられる。
<4>化合物(A)と活性化剤(B)とを接触させて得られる接触物と、有機アルミニウム化合物(C)とを接触させる。
<5>化合物(A)と有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて得られる接触物と、活性化剤(B)とを接触させる。
<6>活性化剤(B)と有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて得られる接触物と、化合物(A)とを接触させる。
<7>化合物(A)と有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて得られる接触物と、活性化剤(B)と有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて得られる接触物と、を接触させる。
<8>化合物(A)と活性化剤(B)とを接触させて得られる接触物と、活性化剤(B)と有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて得られる接触物と、を接触させる。
<9>化合物(A)と有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて得られる接触物と、化合物(A)と活性化剤(B)とを接触させて得られる接触物と、を接触させる。
接触順序として、好ましくは、上記の<4>である。
The order in which the compound (A), the activator (B) and the organoaluminum compound (C) are brought into contact with each other is not particularly limited, and examples thereof include the following order <4> to <9>.
<4> A contact product obtained by bringing the compound (A) and the activator (B) into contact with the organoaluminum compound (C).
<5> A contact product obtained by bringing the compound (A) and the organoaluminum compound (C) into contact with the activator (B).
<6> The contact product obtained by bringing the activator (B) and the organoaluminum compound (C) into contact with the compound (A).
<7> A contact product obtained by contacting the compound (A) and the organoaluminum compound (C), and a contact product obtained by contacting the activator (B) and the organoaluminum compound (C). Make contact.
<8> A contact product obtained by contacting the compound (A) and the activator (B), and a contact product obtained by contacting the activator (B) and the organoaluminum compound (C). Make contact.
<9> A contact product obtained by bringing the compound (A) into contact with the organoaluminum compound (C) and a contact product obtained by bringing the compound (A) into contact with the activator (B) are brought into contact with each other. .
The contact order is preferably <4> described above.
また、各成分を互いに接触させるときには、溶媒を用いてもよい。溶媒を用いる方が効率よく活性点を形成することができるので好ましい。接触の際に使用する溶媒としては、生成する活性点を失活しないものであればよい。また、成分(A)が溶解する溶媒が更に好ましく、具体的には、ブタン、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒およびベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素溶媒、エーテル類、エステル類、ケトン類等の極性溶媒も使用できる。
粒子を形成する重合(例えば、スラリー重合、気相重合、バルク重合等)に用いる場合、生成する付加重合体が溶けない溶媒が好ましく、具体的には脂肪族炭化水素溶媒が好ましい。また、接触時にモノマーが存在していてもよい。
In addition, when the components are brought into contact with each other, a solvent may be used. It is preferable to use a solvent because active sites can be efficiently formed. As a solvent used in the contact, any solvent that does not deactivate the generated active sites may be used. Further, a solvent in which the component (A) is dissolved is more preferable. Specifically, an aliphatic hydrocarbon solvent such as butane, pentane, hexane, and octane, and an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, and xylene, and dichloromethane are used. Polar solvents such as halogenated hydrocarbon solvents, ethers, esters and ketones can also be used.
When used for polymerization for forming particles (for example, slurry polymerization, gas phase polymerization, bulk polymerization, etc.), a solvent in which the produced addition polymer does not dissolve is preferable, and specifically, an aliphatic hydrocarbon solvent is preferable. Moreover, the monomer may exist at the time of contact.
各成分を接触する際の温度は、任意に設定することが出来る。通常−50℃から100℃、好ましくは−30℃から80℃、更に好ましくは−10℃から60℃が好ましい。接触する時間は、任意に設定することが出来る。通常連続的に投入(実質的に0分)から24時間、好ましくは1分間から12時間、更に好ましくは3分間から10時間である。 The temperature at the time of contacting each component can be arbitrarily set. Usually, −50 ° C. to 100 ° C., preferably −30 ° C. to 80 ° C., more preferably −10 ° C. to 60 ° C. is preferable. The contact time can be arbitrarily set. Usually, it is continuously charged (substantially 0 minutes) to 24 hours, preferably 1 minute to 12 hours, more preferably 3 minutes to 10 hours.
各成分を接触する際に攪拌を行うことが好ましい。 It is preferable to perform stirring when contacting each component.
予備重合方法および予備重合済付加重合触媒成分
予備重合方法は特に限定されるものではないが、溶媒を使用する溶液重合、スラリー重合等が好ましい。触媒の存在下で予備重合する方法において使用する重合溶媒としては、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタンのような脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼンおよびトルエンのような芳香族炭化水素溶媒、およびジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素溶媒を挙げることができる。また、モノマー自体を重合溶媒に用いることも可能であり、該モノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテンおよび1−ヘキセンを挙げることができる。
The prepolymerization method and the prepolymerized addition polymerization catalyst component prepolymerization method are not particularly limited, but solution polymerization using a solvent, slurry polymerization and the like are preferable. Examples of the polymerization solvent used in the prepolymerization method in the presence of a catalyst include aliphatic hydrocarbon solvents such as butane, pentane, hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene, And halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane. In addition, the monomer itself can be used as a polymerization solvent, and examples of the monomer include ethylene, propylene, 1-butene and 1-hexene.
予備重合方法は、回分式重合、連続式重合のいずれでも可能であり、さらに重合を反応条件の異なる2段階以上に分けて行ってもよい。重合時間は、一般に、目的とするオレフィン重合体の種類、反応装置により適宜決定されるが、1分間〜20時間の範囲を取ることができる。予備重合温度は、通常―50℃から100℃、好ましくは−30℃から80℃、更に好ましくは−10℃から60℃が好ましい。また、温度を途中で変化させてもよい。また、予備重合時の圧力は、通常0.001MPaから5MPa、好ましくは0.01MPaから2MPaである。 The prepolymerization method can be either batch polymerization or continuous polymerization, and the polymerization may be performed in two or more stages with different reaction conditions. In general, the polymerization time is appropriately determined depending on the kind of the target olefin polymer and the reaction apparatus, but can be in the range of 1 minute to 20 hours. The prepolymerization temperature is usually −50 ° C. to 100 ° C., preferably −30 ° C. to 80 ° C., more preferably −10 ° C. to 60 ° C. Moreover, you may change temperature on the way. Moreover, the pressure at the time of prepolymerization is usually 0.001 MPa to 5 MPa, preferably 0.01 MPa to 2 MPa.
モノマーの投入方法も任意に選ぶことができる。予備重合に使用するモノマーは、炭素原子数2〜20からなるオレフィンのいずれをも用いることができ、同時に2種類以上のオレフィンを用いることもできる。該オレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−2−ペンテン、およびビニルシクロヘキサン等を挙げることができる。 The monomer charging method can be arbitrarily selected. As the monomer used for the prepolymerization, any olefin having 2 to 20 carbon atoms can be used, and two or more olefins can be used at the same time. Examples of the olefin include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 4-methyl-1-pentene and 4-methyl. -2-pentene, vinylcyclohexane and the like.
予備重合に同時に2種類以上のモノマーを用いて予備共重合体を形成する場合、共重合体を構成するモノマーの組み合わせとしては、例えば、エチレンとプロピレン、エチレンと1−ブテン、エチレンと1−ヘキセン、およびプロピレンと1−ブテン等の組み合わせを挙げることができる。 When a preliminary copolymer is formed by using two or more types of monomers at the same time for the preliminary polymerization, examples of combinations of monomers constituting the copolymer include ethylene and propylene, ethylene and 1-butene, and ethylene and 1-hexene. And a combination of propylene and 1-butene.
予備重合において水素等の分子量調節剤を共存させて、予備重合体の分子量を調節することもできる。 In the prepolymerization, the molecular weight of the prepolymer can be adjusted by coexisting a molecular weight regulator such as hydrogen.
予備重合によって予備重合済付加重合触媒成分を形成させた後、得られた予備重合済付加重合触媒成分をそのまま本重合に用いてもよく、または次のような処理を行ってから用いてもよい。溶媒の存在下で予備重合する方法によって予備重合済付加重合触媒成分を形成した場合、その予備重合済付加重合触媒成分を溶液またはスラリー液状態で使用してもよく、または脱モノマー、溶媒留去、ろ過、洗浄、および乾燥等の処理を行い、固体状態で本重合に用いてもよい。 After the prepolymerized addition polymerization catalyst component is formed by prepolymerization, the prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained may be used for the main polymerization as it is, or may be used after the following treatment. . When a prepolymerized addition polymerization catalyst component is formed by a method of prepolymerization in the presence of a solvent, the prepolymerized addition polymerization catalyst component may be used in a solution or slurry liquid state, or it is removed from a monomer or a solvent. , Filtration, washing, drying, etc. may be performed and used in the main polymerization in the solid state.
予備重合によって生成する重合体量(予備重合度ともいう)は、成分(B)1g当たり、通常0.1〜1000gの範囲であり、好ましくは0.5〜500gの範囲であり、特に好ましくは1〜100gの範囲となるよう予備重合は実施される。 The amount of polymer produced by prepolymerization (also referred to as prepolymerization degree) is usually in the range of 0.1 to 1000 g, preferably in the range of 0.5 to 500 g, particularly preferably, per 1 g of component (B). The prepolymerization is carried out so as to be in the range of 1 to 100 g.
付加重合方法および付加重合体
本発明において、付加重合体を製造するに際しては、触媒を用いてモノマーを付加重合する方法、および、予備重合済付加重合触媒成分を用いてモノマーを付加重合する方法(本重合)が挙げられる。
予備重合済付加重合触媒成分を用いる場合には、予備重合済付加重合触媒成分をそのまま用いてもよいし、予備重合済付加重合触媒成分と有機アルミニウム化合物(C)とを接触させて用いてもよい。重合活性において優れる観点から、後者が好ましい。後者の場合の有機アルミニウム化合物としては、前記化合物(C)として例示した有機アルミニウム化合物が用いられる。有機アルミニウム化合物をこのように使用する場合、その使用量は、成分(A)に対して、通常1〜10000mol/molであり、好ましくは10〜5000mol/molであり、より好ましくは30〜1000mmol/gである。
Addition polymerization method and addition polymer In the present invention, when an addition polymer is produced, a method of addition polymerization of a monomer using a catalyst and a method of addition polymerization of a monomer using a prepolymerized addition polymerization catalyst component ( Main polymerization).
When the prepolymerized addition polymerization catalyst component is used, the prepolymerized addition polymerization catalyst component may be used as it is, or the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the organoaluminum compound (C) may be used in contact with each other. Good. The latter is preferable from the viewpoint of excellent polymerization activity. As the organoaluminum compound in the latter case, the organoaluminum compound exemplified as the compound (C) is used. When the organoaluminum compound is used in this way, the amount used is usually 1 to 10000 mol / mol, preferably 10 to 5000 mol / mol, more preferably 30 to 1000 mmol / mol, relative to the component (A). g.
予備重合済付加重合触媒成分および有機アルミニウム化合物(C)を接触させて用いる場合、該予備重合済付加重合触媒成分および該有機アルミニウム化合物(C)は重合時に、重合反応器に任意の順序で投入することができ、またそれらを予め接触させてから重合反応器に投入して使用してもよい。 When the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the organoaluminum compound (C) are used in contact with each other, the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the organoaluminum compound (C) are charged into the polymerization reactor in any order during polymerization. Alternatively, they may be brought into contact with each other in advance before being used in the polymerization reactor.
本発明の予備重合済付加重合触媒成分および有機アルミニウム化合物(C)を触媒調製用反応器もしくは本重合の重合反応器に供給する方法は、特に限定されない。該方法としては、例えば、各成分を固体状態で供給する方法、および水分や酸素等の触媒成分を失活させる成分を十分に取り除いた炭化水素溶媒に溶解させた溶液状態、または懸濁もしくはスラリー化させた状態で供給する方法等を挙げることができる。このときの炭化水素溶媒としては、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタンのような脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼンおよびトルエンのような芳香族炭化水素溶媒、およびジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素溶媒を挙げることができ、なかでも、脂肪族炭化水素溶媒または芳香族炭化水素溶媒が好ましく、脂肪族炭化水素溶媒が更に好ましい。 The method for supplying the prepolymerized addition polymerization catalyst component of the present invention and the organoaluminum compound (C) to the catalyst preparation reactor or the polymerization reactor for the main polymerization is not particularly limited. Examples of the method include a method of supplying each component in a solid state, a solution state in which a component that deactivates a catalyst component such as moisture and oxygen is sufficiently removed, or a suspension or slurry. The method etc. which supply in the state made into the thing can be mentioned. Examples of the hydrocarbon solvent at this time include aliphatic hydrocarbon solvents such as butane, pentane, hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene, and halogenated carbonization such as dichloromethane. A hydrogen solvent can be mentioned, Among these, an aliphatic hydrocarbon solvent or an aromatic hydrocarbon solvent is preferable, and an aliphatic hydrocarbon solvent is more preferable.
付加重合方法としては、例えば、(1)ガス状のモノマー中で重合を行う気相重合法、(2)溶媒中で重合させる溶液重合法、またはスラリー重合法(懸濁重合法)、(3)モノマーを溶媒として用いるバルク重合法を挙げることができる。溶液重合またはスラリー重合に用いる重合溶媒としては、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタンのような脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼンおよびトルエンのような芳香族炭化水素溶媒、ならびにジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素溶媒を挙げることができる。本重合の方式は、回分式重合、連続式重合のいずれでも可能であり、更に本重合を反応条件の異なる2段階以上に分けて行ってもよい。本重合の重合時間は、一般に、目的とする付加重合体の種類、重合反応器により決定され、通常、1分間〜20時間である。 Examples of the addition polymerization method include (1) a gas phase polymerization method in which polymerization is performed in a gaseous monomer, (2) a solution polymerization method in which polymerization is performed in a solvent, or a slurry polymerization method (suspension polymerization method), (3 ) Bulk polymerization using monomers as solvents can be mentioned. Polymerization solvents used for solution polymerization or slurry polymerization include, for example, aliphatic hydrocarbon solvents such as butane, pentane, hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene, and dichloromethane. Mention may be made of halogenated hydrocarbon solvents. The polymerization method can be either batch polymerization or continuous polymerization, and the polymerization may be further divided into two or more stages having different reaction conditions. The polymerization time of the main polymerization is generally determined by the kind of the target addition polymer and the polymerization reactor, and is usually 1 minute to 20 hours.
本発明の予備重合済付加重合触媒成分は、スラリー重合、気相重合、およびバルク重合のように、本重合において付加重合体が粒子状に生成する重合に特に好適に適用される。
スラリー重合は、公知の方法および条件に従って行うことができる。該方法の好ましい方法は、モノマー(およびコモノマー)、稀釈剤およびその他の供給物等を必要に応じて重合反応器に連続的または間欠的に供給し、生成した付加重合体スラリーを重合反応器から連続的または間欠的に抜き出す方法である。該重合反応器としては、例えば、ループ反応器、攪拌機付反応器、および種類や重合反応条件の異なる複数の攪拌機付反応器を直列、並列またはこれらの組合せで結合した反応器を挙げることができる。
The prepolymerized addition polymerization catalyst component of the present invention is particularly suitably applied to polymerization in which an addition polymer is produced in the form of particles in the main polymerization, such as slurry polymerization, gas phase polymerization, and bulk polymerization.
Slurry polymerization can be performed according to known methods and conditions. A preferred method of this method is to continuously or intermittently supply monomers (and comonomers), diluents, and other feeds to the polymerization reactor as necessary, and the resulting addition polymer slurry from the polymerization reactor. It is a method of extracting continuously or intermittently. Examples of the polymerization reactor include a loop reactor, a reactor with a stirrer, and a reactor in which a plurality of reactors with a stirrer having different types and polymerization reaction conditions are connected in series, in parallel, or a combination thereof. .
上記稀釈剤としては、例えば、パラフィン、シクロパラフィンおよび芳香族ハイドロカルビルのような不活性稀釈剤(媒質)を挙げることができる。該媒質、ならびに重合温度および重合圧力は、触媒を懸濁状態に保持し、媒質および少なくとも一部のモノマーおよびコモノマーを液相で維持し、モノマーおよびコモノマーを接触させることができるように選択される。該重合温度は、通常約0℃〜約150℃であり、好ましくは30℃〜100℃である。該重合圧力は通常約0.1MPa〜約10MPaであり、好ましくは0.5MPa〜5MPaである。 Examples of the diluent include inert diluents (medium) such as paraffin, cycloparaffin, and aromatic hydrocarbyl. The medium, as well as the polymerization temperature and pressure, are selected so as to keep the catalyst in suspension, maintain the medium and at least some monomer and comonomer in the liquid phase, and allow the monomer and comonomer to contact. . The polymerization temperature is usually about 0 ° C to about 150 ° C, preferably 30 ° C to 100 ° C. The polymerization pressure is usually about 0.1 MPa to about 10 MPa, preferably 0.5 MPa to 5 MPa.
付加重合体の分子量の制御は、重合温度または例えば水素のような分子量調節剤によって行なうことができる。 The molecular weight of the addition polymer can be controlled by the polymerization temperature or a molecular weight regulator such as hydrogen.
各触媒成分、およびモノマー(およびコモノマー)は、公知の任意の方法によって、任意の順序で重合反応器へ供給することができる。重合反応器への供給方法としては、例えば、(1)同時に供給する方法、および(2)逐次に供給する方法、を挙げることができる。各触媒成分はモノマー(およびコモノマー)と接触させる前に、不活性雰囲気中において予備接触させてもよい。 Each catalyst component and monomer (and comonomer) can be fed to the polymerization reactor in any order by any known method. Examples of the supply method to the polymerization reactor include (1) a method of supplying simultaneously and (2) a method of supplying sequentially. Each catalyst component may be pre-contacted in an inert atmosphere prior to contact with the monomer (and comonomer).
気相重合は、公知の方法および条件に従って行うことができる。該気相重合用の反応器は流動層型反応器、好ましくは、拡大部を有する流動層型反応器である。該反応器は、反応器内に攪拌翼を設置していてもよい。
各触媒成分を反応器に供給する方法としては、例えば、通常、窒素およびアルゴンのような不活性ガス、水素、またはエチレンとともに、水分のない状態で供給する方法、または、溶媒に溶解した溶液または稀釈したスラリーで供給する方法を挙げることができる。
各触媒成分は個別に供給してもよいし、任意の成分を任意の順序にあらかじめ接触させて供給してもよい。
The gas phase polymerization can be performed according to known methods and conditions. The reactor for gas phase polymerization is a fluidized bed reactor, preferably a fluidized bed reactor having an enlarged portion. The reactor may be provided with a stirring blade in the reactor.
As a method of supplying each catalyst component to the reactor, for example, a method of supplying an inert gas such as nitrogen and argon, hydrogen, or ethylene in the absence of moisture, or a solution dissolved in a solvent or The method of supplying with the diluted slurry can be mentioned.
Each catalyst component may be supplied individually, or may be supplied by contacting arbitrary components in advance in an arbitrary order.
重合温度は、製造される付加重合体の溶融温度未満であれば特に限定されないが、好ましくは0℃〜150℃、特に好ましくは30℃〜100℃である。製造される付加重合体の溶融流動性を調節する目的で、分子量調節剤として水素を添加しても構わない。また、重合に際して、混合ガス中に不活性ガスを共存させてもよい。 The polymerization temperature is not particularly limited as long as it is lower than the melting temperature of the produced addition polymer, but is preferably 0 ° C to 150 ° C, particularly preferably 30 ° C to 100 ° C. Hydrogen may be added as a molecular weight modifier for the purpose of adjusting the melt fluidity of the produced addition polymer. In the polymerization, an inert gas may coexist in the mixed gas.
本発明の付加重合体の製造方法におけるモノマーとしては、例えば、炭素原子数2〜20のオレフィン、ジオレフィン、環状オレフィン、アルケニル芳香族ハイドロカルビル、および極性モノマーを挙げることができ、同時に2種以上のモノマーを用いることもできる。 Examples of the monomer in the method for producing an addition polymer of the present invention include olefins having 2 to 20 carbon atoms, diolefins, cyclic olefins, alkenyl aromatic hydrocarbyls, and polar monomers. The above monomers can also be used.
該モノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、5−メチル−1−ヘキセン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、およびビニルシクロヘキサンのようなオレフィン;1,5−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエン、1,4−ペンタジエン、1,7−オクタジエン、1,8−ノナジエン、1,9−デカジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、7−メチル−1,6−オクタジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、5−ビニル−2−ノルボルネン、ノルボルナジエン、5−メチレン−2−ノルボルネン、1,5−シクロオクタジエン、5,8−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ヘキサジエン、1,3−オクタジエン、1,3−シクロオクタジエン、および1,3−シクロヘキサジエンのようなジオレフィン;ノルボルネン、5−メチル−2−ノルボルネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネン、5−フェニル−2−ノルボルネン、5−ベンジル−2−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、8−メチルテトラシクロドデセン、8−エチルテトラシクロドデセン、5−アセチル−2−ノルボルネン、5−アセチルオキシ−2−ノルボルネン、5−メトキシカルボニル−2−ノルボルネン、5−エトキシカルボニル−2−ノルボルネン、5−メチル−5−メトキシカルボニル−2−ノルボルネン、5−シアノ−2−ノルボルネン、8−メトキシカルボニルテトラシクロドデセン、8−メチル−8−テトラシクロドデセン、および8−シアノテトラシクロドデセンのような環状オレフィン;スチレン、アルケニルベンゼン(例えば、2−フェニルプロピレン、2−フェニルブテン、および3−フェニルプロピレン)、アルキルスチレン(例えば、p−メチルスチレン、m−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレン、o−エチルスチレン、α−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、3−メチル−5−エチルスチレン、1,1−ジフェニルエチレン、p−第3級ブチルスチレン、およびp−第2級ブチルスチレン)、および、ビスアルケニルベンゼン(例えば、ジビニルベンゼン)、アルケニルナフタレン(例えば、1−ビニルナフタレン)のようなアルケニル芳香族ハイドロカルビル;ならびに、α,β−不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、およびビシクロ(2,2,1)−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸)、該α,β−不飽和カルボン酸の、ナトリウム、カリウム、リチウム、亜鉛、マグネシウム、およびカルシウムのような金属の金属塩、α,β−不飽和カルボン酸エステル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、およびメタクリル酸イソブチル)、不飽和ジカルボン酸(例えば、マレイン酸およびイタコン酸)、ビニルエステル(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、およびトリフルオロ酢酸ビニル)、および、不飽和カルボン酸グリシジルエステル(例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、およびイタコン酸モノグリシジルエステル)のような極性モノマー、を挙げることができる。 Examples of the monomer include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 5-methyl-1-hexene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene and 1-nonene. Olefins such as 1,5-decene and vinylcyclohexane; 1,5-hexadiene, 1,4-hexadiene, 1,4-pentadiene, 1,7-octadiene, 1,8-nonadiene, 1,9-decadiene, 4 -Methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 7-methyl-1,6-octadiene, 5-ethylidene-2-norbornene, dicyclopentadiene, 5-vinyl-2-norbornene, norbornadiene , 5-methylene-2-norbornene, 1,5-cyclooctadiene, 5,8-endomethylenehexahydride Diolefins such as naphthalene, 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-hexadiene, 1,3-octadiene, 1,3-cyclooctadiene, and 1,3-cyclohexadiene; norbornene, 5-methyl-2 -Norbornene, 5-ethyl-2-norbornene, 5-butyl-2-norbornene, 5-phenyl-2-norbornene, 5-benzyl-2-norbornene, tetracyclododecene, tricyclodecene, tricycloundecene, penta Cyclopentadecene, pentacyclohexadecene, 8-methyltetracyclododecene, 8-ethyltetracyclododecene, 5-acetyl-2-norbornene, 5-acetyloxy-2-norbornene, 5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-Ethoxycarbonyl-2-norbol , 5-methyl-5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-cyano-2-norbornene, 8-methoxycarbonyltetracyclododecene, 8-methyl-8-tetracyclododecene, and 8-cyanotetracyclodone Cyclic olefins such as decene; styrene, alkenylbenzene (eg, 2-phenylpropylene, 2-phenylbutene, and 3-phenylpropylene), alkylstyrene (eg, p-methylstyrene, m-methylstyrene, o-methylstyrene) P-ethylstyrene, m-ethylstyrene, o-ethylstyrene, α-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 3,4-dimethylstyrene, 3,5-dimethylstyrene, 3 -Methyl-5-ethylstyrene, 1,1-diphenyl ester And alkenyl aromatic hydrocals such as bisalkenylbenzene (eg divinylbenzene), alkenylnaphthalene (eg 1-vinylnaphthalene), and the like. And α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, and bicyclo (2,2,1) -5-heptene-2 , 3-dicarboxylic acid), metal salts of such α, β-unsaturated carboxylic acids, such as sodium, potassium, lithium, zinc, magnesium, and calcium, α, β-unsaturated carboxylic acid esters (eg, Methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, acrylic acid ert-butyl, 2-ethylhexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, and isobutyl methacrylate), unsaturated dicarboxylic acids (eg, maleic acid and Itaconic acid), vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl caproate, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl stearate, and vinyl trifluoroacetate), and unsaturated carboxylic acid glycidyl esters (eg, And polar monomers such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and monoglycidyl itaconate).
本発明は、これらのモノマーの単独重合または共重合に適用される。共重合体を構成するモノマーの組み合わせとしては、例えば、エチレンとプロピレン、エチレンと1−ブテン、エチレンと1−ヘキセン、エチレンと1−オクテン、プロピレンと1−ブテンを挙げることができる。 The present invention is applied to homopolymerization or copolymerization of these monomers. Examples of the combination of monomers constituting the copolymer include ethylene and propylene, ethylene and 1-butene, ethylene and 1-hexene, ethylene and 1-octene, and propylene and 1-butene.
本発明の予備重合済付加重合触媒成分は、オレフィン重合体の製造に好適に用いられる。該オレフィン重合体は、特に好ましくはエチレンとα−オレフィンとの共重合体であり、なかでも、好ましくは、ポリエチレン結晶構造を有するエチレンとα−オレフィンとの共重合体である。該α−オレフィンとしては、例えば、炭素原子数3〜8のα−オレフィンが好ましく、例えば、1−ブテン、1−ヘキセン、および1−オクテンを挙げることができる。 The prepolymerized addition polymerization catalyst component of the present invention is suitably used for the production of an olefin polymer. The olefin polymer is particularly preferably a copolymer of ethylene and an α-olefin, and particularly preferably a copolymer of ethylene and an α-olefin having a polyethylene crystal structure. The α-olefin is preferably an α-olefin having 3 to 8 carbon atoms, and examples thereof include 1-butene, 1-hexene, and 1-octene.
以下、実施例および比較例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例で用いた改質された粒子の元素分析は下記の方法により測定した。 Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention still in detail, the present invention is not limited to these. Elemental analysis of the modified particles used in the examples was measured by the following method.
(1)元素分析
Zn:試料を硫酸水溶液(1M)に投じたのち超音波をあてて金属成分を抽出した。得られた液体部分についてICP発光分析法により定量した。
F:酸素を充填させたフラスコ中で試料を燃焼させて生じた燃焼ガスを水酸化ナトリウム水溶液(10%)に吸収させ、得られた当該水溶液についてイオン電極法を用いて定量した。
(2)メルトフローレート(MFR、単位:g/10分)
JIS K7210−1995に規定された方法において、荷重21.18N、温度190℃の条件で、A法により測定した。
(1) Elemental analysis Zn: The sample was poured into a sulfuric acid aqueous solution (1M), and then ultrasonic waves were applied to extract metal components. The obtained liquid portion was quantified by ICP emission spectrometry.
F: Combustion gas generated by burning a sample in a flask filled with oxygen was absorbed in an aqueous sodium hydroxide solution (10%), and the obtained aqueous solution was quantified using an ion electrode method.
(2) Melt flow rate (MFR, unit: g / 10 minutes)
In the method defined in JIS K7210-1995, measurement was performed by the A method under the conditions of a load of 21.18 N and a temperature of 190 ° C.
(3)スウェル比(SR)
(2)のメルトフローレートの測定において、温度190℃、荷重21.18Nの条件で、オリフィスから15〜20mm程度の長さで押出したエチレン系重合体のストランドを、空気中で冷却し、固体状のストランドを得た。次に、該ストランドの押出し上流側先端から約5mmの位置でのストランドの直径D(単位:mm)を測定し、その直径Dをオリフィス径2.095mm(D0)で除した値(D/D0)を算出し、スウェル比とした。
(3) Swell ratio (SR)
In the measurement of the melt flow rate of (2), the strand of the ethylene polymer extruded at a length of about 15 to 20 mm from the orifice under the conditions of a temperature of 190 ° C. and a load of 21.18 N is cooled in air and solid A strand was obtained. Next, the diameter D (unit: mm) of the strand at a position of about 5 mm from the upstream end of extrusion of the strand was measured, and the value obtained by dividing the diameter D by the orifice diameter 2.095 mm (D 0 ) (D / D 0 ) was calculated and used as the swell ratio.
[実施例1]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 窒素で置換した500mlフラスコにカオーアキポRLM−100NV(花王株式会社製、C12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaの23.5%水溶液)を3.0g加え、水分を減圧乾燥によって除去した。次いで、ヘキサン200mlを加えて、C12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaの5mmol/l溶液を調整した。減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを360g仕込み、次いで先に調製したC12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaのヘキサン溶液を200ml(1.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) C12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaのブタン溶液をオートクレーブの抜き出し口からパージした。
工程(3) オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、室温にて15分間攪拌した。オートクレーブ内のヘキサンを、チューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
(2)改質された粒子(B)の製造
特開2009−79180号公報の実施例1(1)および(2)の成分(A)の調製と同様の方法で、本明細書中の改質された粒子(B)を製造した。元素分析の結果、Zn=11wt%、F=6.4wt%であった。
[Example 1]
(1) Cleaning the reactor for addition polymerization
Step (1) Kaoakipo RLM-100 nV in 500ml flask was substituted with nitrogen (manufactured by Kao Corporation, C 12 H 25 -O - ( - C 2 H 4 -O) 10 23.5% aqueous solution of -COONa) 3. 0 g was added and water was removed by drying under reduced pressure. Then, hexane was added to 200ml, C 12 H 25 -O - adjusting the - (C 2 H 4 -O) for 10 -COONa 5 mmol / l solution. After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 360 g of butane, and then C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 10 —COONa prepared earlier 200 ml (1.0 mmol) of hexane solution was added and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) C 12 H 25 -O - and the - (C 2 H 4 -O) for 10 -COONa butane solution was purged from withdrawal outlet of the autoclave.
Step (3) 800 ml of hexane was charged into the autoclave and stirred at room temperature for 15 minutes. The hexane in the autoclave was extracted out of the autoclave by inserting a tube into the autoclave and pumping it.
(2) Production of modified particles (B) In the same manner as the preparation of component (A) in Example 1 (1) and (2) of JP-A-2009-79180, Quality particles (B) were produced. As a result of elemental analysis, Zn = 11 wt% and F = 6.4 wt%.
(3)予備重合 1バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)182mg(342μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)6.8gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.213mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはファウリングが付着していなかった。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、128.5gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は18.9g/gであった。
(3) Prepolymerization The autoclave washed for the first batch was dried under reduced pressure and then replaced with argon, followed by evacuation, and 480 g of butane and 182 mg (342 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 6.8 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.213 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, no fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 128.5 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 18.9 g / g.
(4)予備重合 2バッチ目
上記(3)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)198mg(371μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)6.9gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.215mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、127.6gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は18.4g/gであった。
(4) Prepolymerization In the second batch above (3), after the hexane slurry was extracted, the autoclave was dried under reduced pressure, replaced with argon, and then evacuated. (371 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 6.9 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.215 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 127.6 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 18.4 g / g.
(5)予備重合 3バッチ目
上記(4)でヘキサンスラリーを抜き出し後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)207mg(387μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。
はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.222mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、117.0gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は14.9gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、11.3wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は18.7g/gであった。
(5) Prepolymerization In the third batch (4) above, the autoclave after extracting the hexane slurry under reduced pressure was dried under reduced pressure, then replaced with argon, and then evacuated. 387 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added.
First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.222 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 117.0 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 14.9 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 11.3 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 18.7 g / g.
(6)1バッチ目予備重合触媒 本重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン−1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70℃まで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.93mol%、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液 2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記実施例1(3)で得られた予備重合済付加重合触媒成分391.2mgを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス(水素0.293mol%)をフィードしながら70℃で、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体78gが得られた。改質された粒子(B)当りの重合活性は3750g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=3.54、SR=1.47であった。
(6) 1st batch prepolymerization catalyst main polymerization
After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 5 liters substituted with argon was evacuated, hydrogen was added at a partial pressure of 0.037 MPa, 154 g of hexene-1 and 1046 g of butane were charged, and the temperature was raised to 70 ° C. Thereafter, ethylene was added so that the partial pressure became 1.6 MPa, and the inside of the system was stabilized. As a result of gas chromatography analysis, the gas composition in the system was hydrogen = 1.93 mol%. To this, 2.0 ml of a hexane solution of triisobutylaluminum prepared at a concentration of 1 mmol / ml was added. Next, 1.0 ml of a toluene solution of triethylamine prepared at a concentration of 0.1 mmol / ml was added. Further, 391.2 mg of the prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained in Example 1 (3) was added.
Polymerization was carried out at 70 ° C. for 3 hours while feeding an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen 0.293 mol%) so as to keep the total pressure constant. As a result, 78 g of an olefin polymer was obtained. The polymerization activity per modified particle (B) was 3750 g / g. The obtained olefin polymer had MFR = 3.54 and SR = 1.47.
(7)2バッチ目予備重合触媒 本重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン−1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70℃まで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.91mol%、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液 2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記実施例1(4)で得られた予備重合済付加重合触媒成分375.4mgを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス(水素0.309mol%)をフィードしながら70℃で、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体115gが得られた。改質された粒子(B)当りの重合活性は5650g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=1.8、SR=1.42であった。
(7) Second batch prepolymerization catalyst Main polymerization
After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 5 liters substituted with argon was evacuated, hydrogen was added at a partial pressure of 0.037 MPa, 154 g of hexene-1 and 1046 g of butane were charged, and the temperature was raised to 70 ° C. Thereafter, ethylene was added so that the partial pressure became 1.6 MPa, and the inside of the system was stabilized. As a result of gas chromatography analysis, the gas composition in the system was hydrogen = 1.91 mol%. To this, 2.0 ml of a hexane solution of triisobutylaluminum prepared at a concentration of 1 mmol / ml was added. Next, 1.0 ml of a toluene solution of triethylamine prepared at a concentration of 0.1 mmol / ml was added. Further, 375.4 mg of the prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained in Example 1 (4) was added.
Polymerization was carried out at 70 ° C. for 3 hours while feeding an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen 0.309 mol%) so as to keep the total pressure constant. As a result, 115 g of an olefin polymer was obtained. The polymerization activity per modified particle (B) was 5650 g / g. Moreover, the obtained olefin polymer was MFR = 1.8 and SR = 1.42.
[実施例2]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 窒素で置換した500mlフラスコにケミスタット2500(三洋化成工業株式会社製、C12H25CON(C2H4OH)2)を300mg加え、次いで、ヘキサン50mlを加えて、C12H25CON(C2H4OH)2の20mmol/l溶液を調整した。減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを450g仕込み、次いで先に調整したC12H25CON(C2H4OH)2のヘキサン溶液を50ml(1.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) C12H25CON(C2H4OH)2のブタン溶液をオートクレーブの抜き出し口からパージした。
工程(3) オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、室温にて15分間攪拌した。オートクレーブ内のヘキサンを、チューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
[Example 2]
(1) Cleaning the reactor for addition polymerization
Step (1) 300 mg of Chemistat 2500 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, C 12 H 25 CON (C 2 H 4 OH) 2 ) was added to a 500 ml flask purged with nitrogen, then 50 ml of hexane was added, and C 12 H was added. A 20 mmol / l solution of 25 CON (C 2 H 4 OH) 2 was prepared. After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer having an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 450 g of butane, and then 50 ml of a hexane solution of C 12 H 25 CON (C 2 H 4 OH) 2 prepared previously ( 1.0 mmol) and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) A butane solution of C 12 H 25 CON (C 2 H 4 OH) 2 was purged from the outlet of the autoclave.
Step (3) 800 ml of hexane was charged into the autoclave and stirred at room temperature for 15 minutes. The hexane in the autoclave was extracted out of the autoclave by inserting a tube into the autoclave and pumping it.
(2)予備重合 1バッチ目
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)181mg(338μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)6.9gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.173mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、126.9gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は18.3g/gであった。
(2) Preliminary polymerization After drying under reduced pressure in the first batch, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, and 480 g of butane and 181 mg (338 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. It was. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 6.9 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml. 3.5 ml (3.5 mmol) of hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.173 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 126.9 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 18.3 g / g.
(3)予備重合 2バッチ目
上記(2)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)178mg(333μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.168mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、107.8gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は12.9gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、10.7wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は17.0g/gであった。
(3) Prepolymerization In the second batch above (2), after the hexane slurry was extracted, the autoclave was dried under reduced pressure, replaced with argon and then evacuated, and 480 g of butane and 178 mg of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A). (333 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.168 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 107.8 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 12.9 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 10.7 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 17.0 g / g.
[実施例3]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 窒素で置換した500mlフラスコにエマルゲン108(花王株式会社製、C12H25−O−(−C2H4−O)6−H)を450mg加え、次いで、ヘキサン50mlを加えて、C12H25−O−(−C2H4−O)6−Hの20mmol/l溶液を調整した。減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを450g仕込み、次いで先に調整したC12H25−O−(−C2H4−O)6−Hのヘキサン溶液を50ml(1.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) C12H25−O−(−C2H4−O)6−Hのブタン溶液をオートクレーブの抜き出し口からパージした。
工程(3) オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、室温にて15分間攪拌した。オートクレーブ内のヘキサンを、チューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
[Example 3]
(1) for addition polymerization reactor cleaning process (1) Emulgen 108 (manufactured by Kao Corporation, C 12 H 25 -O C 2 H 4 -O) 6 -H - - () in 500ml flask was substituted with nitrogen 450 mg was added, and then 50 ml of hexane was added to prepare a 20 mmol / l solution of C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 6 —H. After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 450 g of butane, and then C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 6 —H prepared previously. 50 ml (1.0 mmol) of hexane solution was added and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) A butane solution of C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 6 —H was purged from the outlet of the autoclave.
Step (3) 800 ml of hexane was charged into the autoclave and stirred at room temperature for 15 minutes. The hexane in the autoclave was extracted out of the autoclave by inserting a tube into the autoclave and pumping it.
(2)予備重合 1バッチ目
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)211mg(396μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.238mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、128.0gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は18.4g/gであった。
(2) Preliminary polymerization After drying under reduced pressure in the first batch, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, and 480 g of butane and 211 mg (396 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. It was. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the mixture was switched to an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.238 mol%), and the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes while feeding at 0.58 g / min, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 128.0 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 18.4 g / g.
(3)予備重合 2バッチ目
上記(2)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)198mg(371μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.237mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、106.2gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は22.4gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、17.4wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は18.0g/gであった。
(3) Prepolymerization In the second batch, the autoclave after extracting the hexane slurry in (2) above was dried under reduced pressure and then replaced with argon, and then vacuumed. (371 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.237 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 106.2 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 22.4 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 17.4 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 18.0 g / g.
[実施例4]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 窒素で置換した500mlフラスコにエマール270J(花王株式会社製、C12H25−O−(−C2H4−O)2−SO3Na)を540mg加え、次いで、ヘキサン50mlを加えて、C12H25−O−(−C2H4−O)2−SO3Naの20mmol/l溶液を調整した。減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを450g仕込み、次いで先に調整したC12H25−O−(−C2H4−O)2−SO3Naのヘキサン溶液を50ml(1.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) C12H25−O−(−C2H4−O)2−SO3Naのブタン溶液をオートクレーブの抜き出し口からパージした。
工程(3) オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、室温にて15分間攪拌した。オートクレーブ内のヘキサンを、チューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
[Example 4]
(1) for addition polymerization reactor cleaning process (1) Emal 270 J (manufactured by Kao Corporation in 500ml flask was replaced by nitrogen, C 12 H 25 -O - ( - C 2 H 4 -O) 2 -SO 3 Na ) was added 540 mg, then hexane was added to 50ml, C 12 H 25 -O - (- adjusting the C 2 H 4 -O) 2 -SO 3 Na in 20 mmol / l solution. After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 450 g of butane, and then C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 2 —SO prepared previously. 3 Na hexane was added 50 ml (1.0 mmol), and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) A butane solution of C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 2 —SO 3 Na was purged from the outlet of the autoclave.
Step (3) 800 ml of hexane was charged into the autoclave and stirred at room temperature for 15 minutes. The hexane in the autoclave was extracted out of the autoclave by inserting a tube into the autoclave and pumping it.
(2)予備重合 1バッチ目
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)196mg(367μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.237mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはファウリングが付着していなかった。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、127.2gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は18.2g/gであった。
(2) Preliminary polymerization After drying under reduced pressure in the first batch, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, and 480 g of butane and 196 mg (367 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. It was. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.237 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, no fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 127.2 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 18.2 g / g.
(3)予備重合 2バッチ目
上記(2)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)205mg(383μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.190mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、121.8gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は5.3gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、4.2wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は18.0g/gであった。
(3) Prepolymerization In the second batch above (2), after the hexane slurry was extracted, the autoclave was dried under reduced pressure, replaced with argon, and then evacuated. (383 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the mixture was switched to an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.190 mol%), and the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes while feeding at 0.58 g / min, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 121.8 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 5.3 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 4.2 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 18.0 g / g.
[実施例5]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 窒素で置換した500mlフラスコにカオーアキポRLM−100NV(花王株式会社製、C12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaの23.5%水溶液)を3.0g加え、水分を減圧乾燥によって除去した。次いで、ヘキサン200mlを加えて、C12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaの5mmol/l溶液を調整した。減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ヘキサンを600ml仕込み、次いで先に調製したC12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaのヘキサン溶液を200ml(1.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) C12H25−O−(−C2H4−O)10−COONaのヘキサン溶液を、チューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
[Example 5]
(1) Cleaning the reactor for addition polymerization
Step (1) Kaoakipo RLM-100 nV in 500ml flask was substituted with nitrogen (manufactured by Kao Corporation, C 12 H 25 -O - ( - C 2 H 4 -O) 10 23.5% aqueous solution of -COONa) 3. 0 g was added and water was removed by drying under reduced pressure. Then, hexane was added to 200ml, C 12 H 25 -O - adjusting the - (C 2 H 4 -O) for 10 -COONa 5 mmol / l solution. After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 600 ml of hexane, and then C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 10 —COONa prepared earlier. 200 ml (1.0 mmol) of hexane solution was added and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) A hexane solution of C 12 H 25 —O — (— C 2 H 4 —O) 10 —COONa was drawn out of the autoclave by inserting a tube into the autoclave and feeding it.
(2)予備重合 1バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)205mg(385μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.216mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、119.7gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は16.9g/gであった。
(2) Preliminary polymerization The autoclave after the first batch was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then evacuated, and 480 g of butane and 205 mg (385 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the mixture was switched to an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.216 mol%) and the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes while supplying at 0.58 g / min, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 119.7 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 16.9 g / g.
(4)予備重合 2バッチ目
上記(2)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)198mg(371μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.215mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、98.3gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は14.0g/gであった。
(4) Prepolymerization In the second batch above (2), after the hexane slurry was extracted, the autoclave was dried under reduced pressure and then replaced with argon and then vacuumed. (371 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.215 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 98.3 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 14.0 g / g.
(5)予備重合 3バッチ目
上記(3)でヘキサンスラリーを抜き出し後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)192mg(359μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)6.9gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.222mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には厚いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、93.0gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は64.5gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、40.9wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は22.7g/gであった。
(5) Prepolymerization In the third batch (3) above, the autoclave after extracting the hexane slurry under reduced pressure was dried under reduced pressure, then replaced with argon, and then vacuumed. 359 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 6.9 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml. 3.5 ml (3.5 mmol) of hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.222 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thick fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 93.0 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 64.5 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 40.9 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 22.7 g / g.
[比較例1] [Comparative Example 1]
(1)予備重合 1バッチ目
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)179mg(334μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.184mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。
ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、111.6gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は15.9g/gであった。
(1) Preliminary polymerization After drying under reduced pressure in the first batch, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, and 480 g of butane and 179 mg (334 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. It was. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.184 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered.
The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 111.6 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 15.9 g / g.
(2)予備重合 2バッチ目
上記(1)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)193mg(361μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.221mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には厚いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、64.3gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は79.9gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、55.4wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は20.4g/gであった。
(2) Prepolymerization In the second batch, the autoclave after the hexane slurry was extracted in the above (1) was dried under reduced pressure and then replaced with argon, followed by evacuation. (361 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.221 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thick fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 64.3 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 79.9 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 55.4 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 20.4 g / g.
2=C12H25CON(C2H4OH)2
3=C12H25−O−(−C2H4−O)6−H
4=C12H25−O−(−C2H4−O)2−SO3Na
2 = C 12 H 25 CON ( C 2 H 4 OH) 2
3 = C 12 H 25 -O - (- C 2 H 4 -O) 6 -H
4 = C 12 H 25 -O - (- C 2 H 4 -O) 2 -SO 3 Na
[実施例6]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを480g仕込み、次いで濃度を1.6mmol/mlに調製したn−ブチルリチウムのヘキサン溶液を3.125ml(5.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) n−ブチルリチウムのブタン溶液をオートクレーブの抜き出し口からパージた。
工程(3) オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、室温にて15分間攪拌した。オートクレーブ内のヘキサンを、チューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
(2)改質された粒子(B)の製造
特開2009−79180号公報の実施例1(1)および(2)の成分(A)の調製と同様の方法で、本明細書中の改質された粒子(B)を製造した。元素分析の結果、Zn=11wt%、F=6.4wt%であった。
[Example 6]
(1) Washing step of addition polymerization reactor (1) After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 480 g of butane, and then adjusted to a concentration of 1.6 mmol / ml 3.125 ml (5.0 mmol) of the n-butyllithium hexane solution added was added and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) A butane solution of n-butyllithium was purged from the outlet of the autoclave.
Step (3) 800 ml of hexane was charged into the autoclave and stirred at room temperature for 15 minutes. The hexane in the autoclave was extracted out of the autoclave by inserting a tube into the autoclave and pumping it.
(2) Production of modified particles (B) In the same manner as the preparation of component (A) in Example 1 (1) and (2) of JP-A-2009-79180, Quality particles (B) were produced. As a result of elemental analysis, Zn = 11 wt% and F = 6.4 wt%.
(3)予備重合 1バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)198mg(370μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.223mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはファウリング物が付着していなかった。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、129.1gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は18.2g/gであった。
(3) Preliminary polymerization The autoclave washed for the first batch was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then evacuated, and 480 g of butane and 198 mg (370 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.223 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, no fouling was adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 129.1 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 18.2 g / g.
(4)予備重合 2バッチ目
上記(3)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)208mg(389μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.189mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリング物が付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、127.6gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は18.3g/gであった。
(4) Prepolymerization In the second batch above (3), the autoclave after extracting the hexane slurry was dried under reduced pressure, then replaced with argon and then evacuated, and 480 g of butane and 208 mg of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A). (389 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Subsequently, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.189 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling was adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 127.6 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 18.3 g / g.
(5)予備重合 3バッチ目
上記(4)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)200mg(374μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)6.9gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.187mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリング物が付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、112.5gであった。
オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は14.3gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、11.3wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は18.3g/gであった。
(5) Prepolymerization Third batch The autoclave from which the hexane slurry was extracted in (4) above was dried under reduced pressure, then replaced with argon, and then vacuumed to give 480 g of butane and 200 mg of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A). (374 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 6.9 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the mixture was switched to an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.187 mol%), and the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes while feeding at 0.58 g / min, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling was adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 112.5 g.
When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 14.3 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 11.3 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 18.3 g / g.
(6)1バッチ目予備重合触媒 本重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン−1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70℃まで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.99mol%、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液 2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記実施例1(3)で得られた予備重合済付加重合触媒成分376.7mgを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス(水素0.288mol%)をフィードしながら70℃で、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体133gが得られた。改質された粒子(B)当りの重合活性は6400g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=1.82、SR=1.42であった。
(6) 1st batch prepolymerization catalyst main polymerization
After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 5 liters substituted with argon was evacuated, hydrogen was added at a partial pressure of 0.037 MPa, 154 g of hexene-1 and 1046 g of butane were charged, and the temperature was raised to 70 ° C. Thereafter, ethylene was added so that the partial pressure became 1.6 MPa, and the inside of the system was stabilized. As a result of gas chromatography analysis, the gas composition in the system was hydrogen = 1.99 mol%. To this, 2.0 ml of a hexane solution of triisobutylaluminum prepared at a concentration of 1 mmol / ml was added. Next, 1.0 ml of a toluene solution of triethylamine prepared at a concentration of 0.1 mmol / ml was added. Further, 376.7 mg of the prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained in Example 1 (3) was added.
Polymerization was carried out at 70 ° C. for 3 hours while feeding an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen 0.288 mol%) so as to keep the total pressure constant. As a result, 133 g of an olefin polymer was obtained. The polymerization activity per modified particle (B) was 6400 g / g. Moreover, the obtained olefin polymer was MFR = 1.82 and SR = 1.42.
(7)2バッチ目予備重合触媒 本重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン−1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70℃まで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.99mol%、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液 2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記実施例1(4)で得られた予備重合済付加重合触媒成分369.7mgを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス(水素0.274mol%)をフィードしながら70℃で、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体153gが得られた。改質された粒子(B)当りの重合活性は7540g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=1.44、SR=1.41であった。
(7) Second batch prepolymerization catalyst Main polymerization
After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 5 liters substituted with argon was evacuated, hydrogen was added at a partial pressure of 0.037 MPa, 154 g of hexene-1 and 1046 g of butane were charged, and the temperature was raised to 70 ° C. Thereafter, ethylene was added so that the partial pressure became 1.6 MPa, and the inside of the system was stabilized. As a result of gas chromatography analysis, the gas composition in the system was hydrogen = 1.99 mol%. To this, 2.0 ml of a hexane solution of triisobutylaluminum prepared at a concentration of 1 mmol / ml was added. Next, 1.0 ml of a toluene solution of triethylamine prepared at a concentration of 0.1 mmol / ml was added. Furthermore, 369.7 mg of the prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained in Example 1 (4) was added.
Polymerization was carried out at 70 ° C. for 3 hours while feeding an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen 0.274 mol%) so as to keep the total pressure constant. As a result, 153 g of an olefin polymer was obtained. The polymerization activity per modified particle (B) was 7540 g / g. The obtained olefin polymer had MFR = 1.44 and SR = 1.41.
(8)3バッチ目予備重合触媒 本重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン−1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70℃まで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=1.96mol%、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液 2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記実施例1(5)で得られた予備重合済付加重合触媒成分369.8mgを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス(水素0.271mol%)をフィードしながら70℃で、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体74gが得られた。改質された粒子(B)当りの重合活性は3670g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=3.76、SR=1.47であった。
(8) Pre-polymerization catalyst for the third batch
After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 5 liters substituted with argon was evacuated, hydrogen was added at a partial pressure of 0.037 MPa, 154 g of hexene-1 and 1046 g of butane were charged, and the temperature was raised to 70 ° C. Thereafter, ethylene was added so that the partial pressure became 1.6 MPa, and the inside of the system was stabilized. As a result of gas chromatography analysis, the gas composition in the system was hydrogen = 1.96 mol%. To this, 2.0 ml of a hexane solution of triisobutylaluminum prepared at a concentration of 1 mmol / ml was added. Next, 1.0 ml of a toluene solution of triethylamine prepared at a concentration of 0.1 mmol / ml was added. Further, 369.8 mg of the prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained in Example 1 (5) was added.
Polymerization was carried out at 70 ° C. for 3 hours while feeding an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen 0.271 mol%) so as to keep the total pressure constant. As a result, 74 g of an olefin polymer was obtained. The polymerization activity per modified particle (B) was 3670 g / g. Moreover, the obtained olefin polymer was MFR = 3.76 and SR = 1.47.
[実施例7]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを480g仕込み、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液を5.0ml(5.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) トリイソブチルアルミニウムのブタン溶液をオートクレーブの抜き出し口からパージした。
工程(3) オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、室温にて15分間攪拌した。オートクレーブ内のヘキサンを、チューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
[Example 7]
(1) Washing step of addition polymerization reactor (1) After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 480 g of butane, and then adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 5.0 ml (5.0 mmol) of the hexane solution of triisobutylaluminum was added and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) A butane solution of triisobutylaluminum was purged from the outlet of the autoclave.
Step (3) 800 ml of hexane was charged into the autoclave and stirred at room temperature for 15 minutes. The hexane in the autoclave was extracted out of the autoclave by inserting a tube into the autoclave and pumping it.
(2)予備重合 1バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)182mg(342μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.187mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリング物が付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、122.5gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は17.3g/gであった。
(2) Prepolymerization The autoclave washed for the first batch was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then evacuated, and 480 g of butane and 182 mg (342 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the mixture was switched to an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.187 mol%), and the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes while feeding at 0.58 g / min, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling was adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 122.5 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 17.3 g / g.
(3)予備重合 2バッチ目
上記(2)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)186mg(349μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.217mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、98.8gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は32.6gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、24.8wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は18.9g/gであった。
(3) Prepolymerization In the second batch, the autoclave after extracting the hexane slurry in (2) above was dried under reduced pressure and then replaced with argon, and then vacuumed. (349 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.217 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 98.8 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 32.6 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 24.8 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 18.9 g / g.
(4)1バッチ目予備重合触媒 本重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積5リットルの撹拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素を分圧で0.037MPa加え、ヘキセン−1を154gおよびブタンを1046g仕込み、70℃まで昇温した。その後、エチレンを、その分圧が1.6MPaになるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分析の結果、系内のガス組成は、水素=2.00mol%、であった。これに、濃度を1mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液 2.0mlを投入した。次に、濃度を0.1mmol/mlに調製したトリエチルアミンのトルエン溶液を1.0ml加えた。更に、上記実施例2(2)で得られた予備重合済付加重合触媒成分354.7mgを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン/水素混合ガス(水素0.298mol%)をフィードしながら70℃で、3時間重合を行った。その結果、オレフィン重合体110gが得られた。改質された粒子(B)当りの重合活性は5390g/gであった。また、得られたオレフィン重合体はMFR=2.16、SR=1.43であった。
(4) 1st batch prepolymerization catalyst main polymerization
After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 5 liters substituted with argon was evacuated, hydrogen was added at a partial pressure of 0.037 MPa, 154 g of hexene-1 and 1046 g of butane were charged, and the temperature was raised to 70 ° C. Thereafter, ethylene was added so that the partial pressure became 1.6 MPa, and the inside of the system was stabilized. As a result of gas chromatography analysis, the gas composition in the system was hydrogen = 2.00 mol%. To this, 2.0 ml of a hexane solution of triisobutylaluminum prepared at a concentration of 1 mmol / ml was added. Next, 1.0 ml of a toluene solution of triethylamine prepared at a concentration of 0.1 mmol / ml was added. Furthermore, 354.7 mg of the prepolymerized addition polymerization catalyst component obtained in Example 2 (2) was added.
Polymerization was carried out at 70 ° C. for 3 hours while feeding an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen 0.298 mol%) so as to keep the total pressure constant. As a result, 110 g of an olefin polymer was obtained. The polymerization activity per modified particle (B) was 5390 g / g. Further, the obtained olefin polymer had MFR = 2.16 and SR = 1.43.
[実施例8]
(1)付加重合用反応器の洗浄
上記実施例1(1)付加重合用反応器の洗浄と同様の方法にて、内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブの洗浄を行った。
[Example 8]
(1) Washing of addition polymerization reactor The autoclave with a stirrer having an internal volume of 3 liters was washed in the same manner as in Example 1 (1) Washing of the addition polymerization reactor.
(2)予備重合 1バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)203mg(381μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.212mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはファウリングが付着していなかった。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、124.2gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は17.4g/gであった。
(2) Preliminary polymerization First batch The washed autoclave was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then evacuated, and 480 g of butane and 203 mg (381 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the mixture was switched to an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.212 mol%) and the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes while supplying at 0.58 g / min, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, no fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 124.2 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 17.4 g / g.
(3)付加重合用反応器の洗浄
上記実施例1(1)付加重合用反応器の洗浄と同様の方法にて、内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブの洗浄を行った。
(3) Washing of addition polymerization reactor The autoclave with a stirrer having an internal volume of 3 liters was washed in the same manner as in Example 1 (1) Washing of the addition polymerization reactor.
(4)予備重合 2バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)159mg(298μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.173mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはファウリングが付着していなかった。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、122.7gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は17.5g/gであった。
(4) Preliminary polymerization The autoclave after the second batch was dried under reduced pressure, and then replaced with argon. Then, vacuum was applied, and 480 g of butane and 159 mg (298 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.173 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, no fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 122.7 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 17.5 g / g.
(5)付加重合用反応器の洗浄
上記実施例1(1)付加重合用反応器の洗浄と同様の方法にて、内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブの洗浄を行った。
(5) Washing of addition polymerization reactor The autoclave with a stirrer having an internal volume of 3 liters was washed in the same manner as in Example 1 (1) Washing of the addition polymerization reactor.
(6)予備重合 3バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)182mg(341μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.189mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、130.9gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は0.7gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、0.5wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は18.7g/gであった。
(6) Preliminary polymerization Third batch The washed autoclave was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then evacuated, and 480 g of butane and 182 mg (341 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in (2) above were added, and then a hexane solution of triisobutylaluminum (C) adjusted to a concentration of 1.0 mmol / ml 3 0.5 ml (3.5 mmol) was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Subsequently, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.189 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 130.9 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 0.7 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 0.5 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 18.7 g / g.
[実施例9]
(1)付加重合用反応器の洗浄
工程(1) 減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ヘキサンを800ml仕込み、次いで濃度を1.6mmol/mlに調製したn−ブチルリチウムのヘキサン溶液を3.125ml(5.0mmol)加え、室温で1時間攪拌した。
工程(2) n−ブチルリチウムのヘキサン溶液をチューブをオートクレーブ内に挿入して圧送することにより、オートクレーブの外に抜き出した。
(2)予備重合 1バッチ目
洗浄済オートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)199mg(373μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)6.9gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.230mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁にはごく薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、119.9gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は17.3g/gであった。
[Example 9]
(1) Cleaning the reactor for addition polymerization
Step (1) After drying under reduced pressure, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, charged with 800 ml of hexane, and then added with a hexane solution of n-butyllithium prepared to a concentration of 1.6 mmol / ml 125 ml (5.0 mmol) was added and stirred at room temperature for 1 hour.
Step (2) A hexane solution of n-butyllithium was extracted from the autoclave by inserting a tube into the autoclave and pumping it.
(2) Preliminary polymerization The autoclave washed for the first batch was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then evacuated, and 480 g of butane and 199 mg (373 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 6.9 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml. 3.5 ml (3.5 mmol) of hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.230 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a very thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 119.9 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 17.3 g / g.
(3)予備重合 2バッチ目
上記(2)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)197mg(368μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.233mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、93.9gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は39.8gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、29.8wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は18.9g/gであった。
(3) Prepolymerization In the second batch, the autoclave after extracting the hexane slurry in (2) above was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then evacuated, 480 g of butane and 197 mg of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A). (368 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the mixture was switched to an ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.233 mol%), and the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes while supplying at 0.58 g / min, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 93.9 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 39.8 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 29.8 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 18.9 g / g.
[比較例2] [Comparative Example 2]
(1)予備重合 1バッチ目
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積3リットルの攪拌機付きオートクレーブ内を真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)179mg(334μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.0gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.184mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には薄いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。
ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、111.6gであり、改質された粒子(B)あたりの重合度は15.9g/gであった。
(1) Preliminary polymerization After drying under reduced pressure in the first batch, the inside of an autoclave with a stirrer with an internal volume of 3 liters substituted with argon was evacuated, and 480 g of butane and 179 mg (334 μmol) of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A) were added. It was. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.0 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.184 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thin fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered.
The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 111.6 g, and the degree of polymerization per modified particle (B) was 15.9 g / g.
(2)予備重合 2バッチ目
上記(1)でヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブを減圧乾燥後、アルゴンで置換したのち真空にし、ブタンを480gおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジフェノキシド(A)193mg(361μmol)を加えた。50℃にて2時間攪拌した後、30℃まで冷却した。次いで、エチレンを1g加え、上記実施例1(2)で得られた改質された粒子(B)7.1gを加え、次いで濃度を1.0mmol/mlに調製したトリイソブチルアルミニウム(C)のヘキサン溶液 3.5ml(3.5mmol)を加えた。はじめに、0.13g/分でエチレンを供給しながら30℃で30分間予備重合を行った。次いで、エチレン/水素混合ガス(水素濃度:0.221mol%)に切り替え、0.58g/分で供給しながら、50℃へ30分間かけて昇温し、引き続き50℃で3時間予備重合を行った。モノマーおよびブタンをパージし、オートクレーブの温度を室温まで冷却した後、オートクレーブ内にヘキサンを800ml仕込み、オートクレーブ内の予備重合済付加重合触媒成分をヘキサンスラリーとして回収した。ヘキサンスラリーを抜き出した後のオートクレーブ内部を、ファイバースコープカメラによって観察したところ、オートクレーブの内壁には厚いファウリングが付着していた。回収したヘキサンスラリーはろ過した。ろ過後の予備重合済付加重合触媒成分の回収量は、64.3gであった。オートクレーブを開放し、内壁に付着したファウリングを回収したところ、ファウリングの回収量は79.9gであった。予備重合済付加重合触媒成分とファウリングの回収量の和に対する、ファウリングの回収量の割合は、55.4wt%であった。改質された粒子(B)あたりの重合度は20.4g/gであった。
(2) Pre-polymerization 2nd batch The autoclave after extracting the hexane slurry in (1) above was dried under reduced pressure and then replaced with argon, then vacuumed, 480 g of butane and 193 mg of ethylenebis (indenyl) zirconium diphenoxide (A). (361 μmol) was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was cooled to 30 ° C. Next, 1 g of ethylene was added, 7.1 g of the modified particles (B) obtained in Example 1 (2) above were added, and then the concentration of triisobutylaluminum (C) prepared to a concentration of 1.0 mmol / ml was added. A 3.5 ml (3.5 mmol) hexane solution was added. First, prepolymerization was performed at 30 ° C. for 30 minutes while supplying ethylene at 0.13 g / min. Next, the ethylene / hydrogen mixed gas (hydrogen concentration: 0.221 mol%) was switched to, while supplying at 0.58 g / min, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes, followed by prepolymerization at 50 ° C. for 3 hours. It was. After purging the monomer and butane and cooling the temperature of the autoclave to room temperature, 800 ml of hexane was charged into the autoclave, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the autoclave was recovered as a hexane slurry. When the inside of the autoclave after extracting the hexane slurry was observed with a fiberscope camera, a thick fouling adhered to the inner wall of the autoclave. The collected hexane slurry was filtered. The recovered amount of the prepolymerized addition polymerization catalyst component after filtration was 64.3 g. When the autoclave was opened and the fouling adhering to the inner wall was recovered, the recovered amount of fouling was 79.9 g. The ratio of the recovered amount of fouling to the sum of the prepolymerized addition polymerization catalyst component and the recovered amount of fouling was 55.4 wt%. The degree of polymerization per modified particle (B) was 20.4 g / g.
nBuLi=n−ブチルリチウム、TIBA=トリイソブチルアルミニウム
nBuLi = n-butyllithium, TIBA = triisobutylaluminum
Claims (12)
工程(1):一般式[1]で表される化合物、一般式[2]で表される化合物、および一般式[9]で表される化合物から選択される少なくとも一種の化合物と炭化水素溶媒とを含む溶液を反応器に加える工程
工程(2):反応器内の前記溶液を除去する工程
R1−O−(−R2−O−)m−Q1 [1]
R1C(=O)NR5 2 [2]
M4L3 n [9]
(上記一般式[1]および[2]において、R1は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基を表す。R2は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。Q1は水素原子、−C(=O)OM1、−R3−C(=O)OM1、−S(=O)2OM1、−R3−S(=O)2OM1、−P(=O)(OH)(OM1)、−R3−P(=O)(OH)(OM1)、−P(=O)(OR4)(OM1)、−R3−P(=O)(OR4)(OM1)、−P(=O)(OM1)2、または、−R3−P(=O)(OM1)2を表す。M1は水素原子、NH4、NH(R12OH)3または、アルカリ金属原子を表す。R12は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。R3は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキレン基を表す。R4は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のハイドロカルビル基を表す。mは1〜100の数を表す。R5は水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜30のハイドロカルビル基を表す。
上記一般式[9]において、M4は周期律表第1族、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、および、第13族からなる群より選ばれる金属原子を表す。L3は水素原子、ハロゲン原子、または、ハイドロカルビル基であり、nは金属原子M4の価数である。) A method of cleaning the inner wall surface of a reactor including the following steps (1) and (2).
Step (1): at least one compound selected from the compound represented by the general formula [1], the compound represented by the general formula [2], and the compound represented by the general formula [9] and a hydrocarbon solvent Step (2) of adding a solution containing: to the reactor: step of removing the solution in the reactor
R 1 —O — (— R 2 —O—) m Q 1 [1]
R 1 C (═O) NR 5 2 [2]
M 4 L 3 n [9]
(In the above general formulas [1] and [2], R 1 represents an optionally substituted hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms. R 2 may have a substituent. Represents a good alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, Q 1 represents a hydrogen atom, —C (═O) OM 1 , —R 3 —C (═O) OM 1 , —S (═O) 2 OM 1 , -R 3 -S (= O) 2 OM 1, -P (= O) (OH) (OM 1), - R 3 -P (= O) (OH) (OM 1), - P (= O) (OR 4 ) (OM 1 ), —R 3 —P (═O) (OR 4 ) (OM 1 ), —P (═O) (OM 1 ) 2 , or —R 3 —P (═O) (OM 1) represents a 2 .M 1 is hydrogen atom, NH 4, NH (R 12 OH) 3 or, .R 12 good number of carbon atoms which may have a substituent represents an alkali metal atom Represents a 20 alkylene group .R 3 is .R 4 is carbon atoms which may have a substituent represents an alkylene group which may having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent 1 to 20 M represents a number of 1 to 100. R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
In the general formula [9], M 4 is a group consisting of Group 1, Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, and Group 13 of the Periodic Table. It represents a metal atom selected more. L 3 is a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbyl group, and n is the valence of the metal atom M 4 . )
工程(3):反応器内を炭化水素溶媒で洗浄する工程 The method of Claim 1 including the following process (3) after a process (2).
Step (3): Step of washing the inside of the reactor with a hydrocarbon solvent
L1 aM2X1 b [3]
(式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。)またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。) A compound (A) which is a transition metal compound represented by the following general formula [3] or a μ-oxo type transition metal compound dimer in the reactor washed by the method according to claim 1 or 2 And an activator (B), the addition polymerization method of addition polymerization of a monomer capable of addition polymerization using a catalyst obtained by contact.
L 1 a M 2 X 1 b [3]
(In the formula, M 2 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table. L 1 is a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L 1 are directly connected to each other. Or may be linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, wherein X 1 is a halogen atom, a hydrocarbyl group (provided that (Excluding a group having a cyclopentadiene type anion skeleton) or a hydrocarbyloxy group, a represents a number satisfying 0 <a ≦ 3, and b represents a number satisfying 0 <b ≦ 3.)
L1 aM2X1 b [3]
(式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。)またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。) A compound (A) which is a transition metal compound represented by the following general formula [3] or a μ-oxo type transition metal compound dimer in the reactor washed by the method according to claim 1 or 2 And addition polymerization of a monomer capable of addition polymerization using a catalyst obtained by contacting the activator (B) with the organoaluminum compound (C).
L 1 a M 2 X 1 b [3]
(In the formula, M 2 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table. L 1 is a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L 1 are directly connected to each other. Or may be linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, wherein X 1 is a halogen atom, a hydrocarbyl group (provided that (Excluding a group having a cyclopentadiene type anion skeleton) or a hydrocarbyloxy group, a represents a number satisfying 0 <a ≦ 3, and b represents a number satisfying 0 <b ≦ 3.)
(a):下記一般式[4]で表される化合物
M3L2 2 [4]
(b):下記一般式[5]で表される化合物
R6 t-1TH [5]
(c):下記一般式[6]で表される化合物
R7 t-2TH2 [6]
(d):無機酸化物粒子または有機ポリマー粒子
(上記一般式[4]〜[6]においてそれぞれ、M3は周期律表第12族の典型金属原子を表す。L2 は水素原子、ハロゲン原子またはハイドロカルビル基を表し、L2が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R6 は電子吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、R6 が複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なっていてもよい。R7はハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表す。Tはそれぞれ独立に周期律表の第15族または第16族の原子を表し、tはそれぞれの化合物のTの原子価に相当する数を表す。) The activator (B) is a modified particle (B) obtained by bringing the following (a), (b), (c) and (d) below into contact with each other. Of addition polymerization.
(A): Compound represented by the following general formula [4] M 3 L 2 2 [4]
(B): Compound represented by the following general formula [5] R 6 t-1 TH [5]
(C): Compound represented by the following general formula [6] R 7 t-2 TH 2 [6]
(D): Inorganic oxide particles or organic polymer particles (in the above general formulas [4] to [6], M 3 represents a typical metal atom of Group 12 of the periodic table. L 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. Or a hydrocarbyl group, and when a plurality of L 2 are present, they may be the same or different from each other, R 6 represents an electron-withdrawing group or a group containing an electron-withdrawing group, and R 6 When a plurality of 6 are present, they may be the same or different from each other, R 7 represents a hydrocarbyl group or a halogenated hydrocarbyl group, and each T independently represents group 15 of the periodic table. Or represents a group 16 atom, and t represents a number corresponding to the valence of T of each compound.)
L1 aM2X1 b [3]
(式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。)またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。) A catalyst obtained by contacting a transition metal compound represented by the general formula [3] or a μ-oxo type transition metal compound dimer (A) and an activating agent (B) is used. The addition-polymerizable monomer is prepolymerized to obtain a prepolymerized addition polymerization catalyst component, and in the presence of the prepolymerized addition polymerization catalyst component in the reactor washed by the method according to claim 1 or 2, A method for producing an addition polymer, which comprises addition polymerization of a monomer capable of addition polymerization.
L 1 a M 2 X 1 b [3]
(In the formula, M 2 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table. L 1 is a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L 1 are directly connected to each other. Or may be linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, wherein X 1 is a halogen atom, a hydrocarbyl group (provided that (Excluding a group having a cyclopentadiene type anion skeleton) or a hydrocarbyloxy group, a represents a number satisfying 0 <a ≦ 3, and b represents a number satisfying 0 <b ≦ 3.)
L1 aM2X1 b [3]
(式中、M2は周期律表第4族の遷移金属原子である。L1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有する基であり、複数のL1は互いに直接連結されているか、または、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。X1はハロゲン原子、ハイドロカルビル基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。)またはハイドロカルビルオキシ基である。aは0<a≦3を満足する数を、bは0<b≦3を満足する数を表す。) A catalyst obtained by contacting a transition metal compound represented by the general formula [3] or a μ-oxo type transition metal compound dimer (A) and an activating agent (B) is used. A prepolymerized addition polymerization catalyst component is obtained by prepolymerizing a monomer capable of addition polymerization, and the prepolymerized addition polymerization catalyst component and organoaluminum in a reactor washed by the method according to claim 1 or 2. A method for producing an addition polymer in which addition-polymerizable monomers are addition-polymerized in the presence of the compound (C).
L 1 a M 2 X 1 b [3]
(In the formula, M 2 is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table. L 1 is a group having a cyclopentadiene-type anion skeleton or a group containing a hetero atom, and a plurality of L 1 are directly connected to each other. Or may be linked via a residue containing a carbon atom, a silicon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom, wherein X 1 is a halogen atom, a hydrocarbyl group (provided that (Excluding a group having a cyclopentadiene type anion skeleton) or a hydrocarbyloxy group, a represents a number satisfying 0 <a ≦ 3, and b represents a number satisfying 0 <b ≦ 3.)
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