JP2013082829A - Production method of alkali-soluble photosensitive resin, alkali-soluble photosensitive resin, and surface-mount type led - Google Patents

Production method of alkali-soluble photosensitive resin, alkali-soluble photosensitive resin, and surface-mount type led Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a white reflecting film having high reflectance and having stable reflectance with the lapse of time, and to provide an LED light source having the white reflecting film.SOLUTION: There is disclosed the production method of an alkali-soluble photosensitive resin which is used for the LED light source which has a white reflecting film and an LED chip or an LED package on a board having a wiring pattern formed thereon, wherein the white reflecting film is formed of a white reflecting film-forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin and a white pigment. In the method, an alkali-soluble photosensitive resin comprising a (meth)acrylic polymer (D) having a (meth)acryloyl group in a side chain is produced by esterification of a (meth)acrylic polymer (A) having a carboxy group (a1) and a hydroxy group (a2) with a compound (B) having a glycidyl group (b1) and a (meth)acrylic group (b2) in the presence of a quaternary phosphonium salt (C).

Description

本発明は、白色反射膜とLED(発光ダイオード)チップ又はLEDパッケージとを有する表面実装型LEDの白色反射膜に有用なアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法に関し、更に詳しくは、反射効率が高く、反射率の経時安定性に優れたアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an alkali-soluble photosensitive resin useful for a white reflective film of a surface-mounted LED having a white reflective film and an LED (light emitting diode) chip or an LED package. The present invention also relates to a method for producing an alkali-soluble photosensitive resin having excellent reflectance stability over time.

回路基板上にLEDチップをマウントし、白色反射膜を設けた面実装型LEDランプ(特許文献1参照)からなる表面実装型LEDや、回路基板上にLEDパッケージを実装し、白色反射膜を設けた表面実装型LED(特許文献2参照)が知られている。   A surface mount type LED lamp (see Patent Document 1) mounted with an LED chip mounted on a circuit board and provided with a white reflective film, or an LED package mounted on a circuit board and provided with a white reflective film Further, a surface-mounted LED (see Patent Document 2) is known.

この白色反射膜は、配線パターンが形成された基板表面上であって、LEDチップ又はLEDパッケージの実装位置及びその接続パッドを除く部分に形成されるのが一般的である。そのように白色反射膜を設ける方法としては、一般的に、塗料化した白色膜形成材料を基板上に樹脂組成物を塗布し、続いて加熱乾燥を行って塗膜を形成させた後、この塗膜にパターン形成用フィルムを装着し、露光して、現像するフォトリソグラフ法が知られている。この現像液には有機物を揮発しない弱アルカリ水溶液を使用するアルカリ現像型が主流になっている。   This white reflective film is generally formed on the surface of the substrate on which the wiring pattern is formed, except for the LED chip or LED package mounting position and its connection pads. As a method for providing such a white reflective film, generally, a resin-coated white film-forming material is applied on a substrate, followed by heating and drying to form a coating film. A photolithographic method is known in which a film for forming a pattern is attached to a coating film, exposed, and developed. As this developing solution, an alkali developing type using a weak alkaline aqueous solution that does not volatilize organic substances is mainly used.

前記フォトリソグラフ法に用いられる白色膜形成材料には、光反応性が必要とされ、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合体からなるアルカリ可溶感光性樹脂が一般に用いられている。側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合体の調製方法としては、種々の方法が提案されている。例えば、ノボラック型エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基酸無水物を付加させた反応生成物が広く用いられている(特許文献3参照)。また、カルボキシル基を有する重合体と、グリシジル基及び(メタ)アクリル基を有する化合物とを、エステル化触媒の存在下に反応させて製造する方法も知られている。当該反応に用いられるエステル化触媒としては、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリ−n−オクチルアミンの如き3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイドの如き4級アンモニウム塩、テトラメチル尿素の如きアルキル尿素、テトラメチルグアニジンの如きアルキルグアニジン、ナフテン酸コバルトの如き金属化合物、有機金属錯体、トリフェニルホスフィンの如きホスフィン系等が用いられている。(特許文献4及び5参照)   Photoreactivity is required for the white film forming material used in the photolithographic method, and an alkali-soluble photosensitive resin made of a polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain is generally used. Various methods have been proposed for preparing a polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain. For example, a reaction product obtained by reacting a novolak epoxy resin with an unsaturated monocarboxylic acid and further adding a polybasic acid anhydride is widely used (see Patent Document 3). Also known is a method for producing a polymer having a carboxyl group by reacting a compound having a glycidyl group and a (meth) acryl group in the presence of an esterification catalyst. Examples of the esterification catalyst used in the reaction include tertiary amines such as dimethylbenzylamine, triethylamine, tetramethylethylenediamine and tri-n-octylamine, 4 such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide. Secondary ammonium salts, alkylureas such as tetramethylurea, alkylguanidines such as tetramethylguanidine, metal compounds such as cobalt naphthenate, organometallic complexes, and phosphines such as triphenylphosphine are used. (See Patent Documents 4 and 5)

特開2003−23183JP2003-23183 特開2009−194222JP 2009-194222 A 特開昭61−243869号公報JP-A 61-243869 特開平11−249300号公報JP 11-249300 A 特開2003−119228JP 2003-119228 A

しかしながら、前記特許文献3に記載の方法で得られた側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合体はベンゼン環骨格を有しているために耐光性に課題があった。また、前記特許文献4及び5に記載の方法で得られた側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合体を表面実装型LEDの白色反射膜形成材料のアルカリ可溶感光性樹脂として用いた場合、白色反射膜の反射率が低く、しかも、経時的に反射率が低下する、という問題点があった。   However, the polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain obtained by the method described in Patent Document 3 has a problem in light resistance because it has a benzene ring skeleton. Further, when a polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain obtained by the methods described in Patent Documents 4 and 5 is used as an alkali-soluble photosensitive resin for a white reflective film forming material of a surface-mounted LED In addition, there is a problem that the reflectance of the white reflective film is low and the reflectance decreases with time.

本発明が解決しようとする課題は、反射率が高く、しかも経時的に安定な反射率を有する白色反射膜を提供すると共に、そのような白色反射膜を有する表面実装型LEDを提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a white reflective film having a high reflectance and a stable reflectance over time, and to provide a surface-mounted LED having such a white reflective film. is there.

本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意、検討した結果、カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)と、グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)とを、特定のエステル化触媒の存在下に反応させて得られるアルカリ可溶感光性樹脂を含有する白色反射膜形成材料からなる白色反射膜を有するLED光源が、白色反射膜の反射率が高く、その結果、LEDの輝度向上に貢献すること、また、経時的にも、白色反射膜の変色が少なく、これらの性能が劣化しないことを見出し、本発明を完成するに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors diligently studied and as a result, (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2), and a glycidyl group (b1). And a white reflective film-forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin obtained by reacting a compound (B) having a (meth) acrylic group (b2) in the presence of a specific esterification catalyst. The LED light source having a film has a high reflectance of the white reflective film, and as a result, contributes to improving the brightness of the LED, and the white reflective film is less discolored over time, so that these performances do not deteriorate. As a result, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は上記課題を解決するために、(1)配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とLEDチップ又はLEDパッケージとを有する表面実装型LEDに用いられるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法であって、カルボキシル基(a1)及び水酸基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)と、グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)とを、四級ホスホニウム塩(C)の存在下にエステル化反応させることを特徴とする側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体(D)からなるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法を提供する。   That is, in order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides (1) a white reflective film and a LED made of a white reflective film forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin and a white pigment on a substrate on which a wiring pattern is formed. A method for producing an alkali-soluble photosensitive resin used in a surface-mounted LED having a chip or an LED package, the (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2); A side chain characterized by esterifying the compound (B) having a glycidyl group (b1) and a (meth) acrylic group (b2) in the presence of a quaternary phosphonium salt (C). Provided is a method for producing an alkali-soluble photosensitive resin comprising a (meth) acrylic polymer (D) having an acryloyl group.

また、本発明は上記課題を解決するために、(2)配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜と又はLEDパッケージとを有する表面実装型LEDに用いられるアルカリ可溶感光性樹脂であって、前記(1)に記載の製造方法で得られるアルカリ可溶感光性樹脂を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides (2) a white reflective film made of a white reflective film-forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin and a white pigment on a substrate on which a wiring pattern is formed, or An alkali-soluble photosensitive resin used for a surface-mount type LED having an LED package, which is obtained by the production method described in (1) above.

さらに、本発明は上記課題を解決するために、(3)配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とLEDチップ又はLEDパッケージとを有する表面実装型LEDにおいて、アルカリ可溶感光性樹脂が前記(1)に記載の製造方法で得られるアルカリ可溶感光性樹脂であることを特徴とする表面実装型LEDを提供する。   Furthermore, in order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides (3) a white reflective film and an LED made of a white reflective film-forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin and a white pigment on a substrate on which a wiring pattern is formed. A surface-mounted LED having a chip or an LED package, wherein the alkali-soluble photosensitive resin is an alkali-soluble photosensitive resin obtained by the production method described in (1) above. provide.

本発明のアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法及び本発明のアルカリ可溶感光性樹脂によれば、反射率が高く、変色が小さく、しかも経時的に安定な反射率を有する白色反射膜を提供することができるので、輝度特性に優れ、経時的にも、これらの性能が劣化しない表面実装型LEDを提供することができる。   According to the method for producing an alkali-soluble photosensitive resin of the present invention and the alkali-soluble photosensitive resin of the present invention, a white reflective film having high reflectance, small discoloration, and stable reflectance over time is provided. Therefore, it is possible to provide a surface-mounted LED that has excellent luminance characteristics and does not deteriorate in performance over time.

本発明で使用するカルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)は、(メタ)アクリル酸エステルと、カルボキシル基(a1)を有する単量体と、ヒドロキシル基(a2)を有する単量体とを含む単量体成分とを含有する単量体組成物を重合することによって製造することができる。   The (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2) used in the present invention is a (meth) acrylic acid ester, a monomer having a carboxyl group (a1), It can manufacture by polymerizing the monomer composition containing the monomer component containing the monomer which has a hydroxyl group (a2).

(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレートの如き(メタ)アクリル酸アルキルエステル;シクロヘキシル(メタ)アクリレートの如き(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの(メタ)アクリル酸エステルは、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。   Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and t-butyl (meth) ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid alkyl esters such as lauryl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid cycloalkyl esters such as cyclohexyl (meth) acrylate, and the like. It is not limited. Only one kind of these (meth) acrylic acid esters may be used, or two or more kinds may be used in combination.

これらの(メタ)アクリル酸エステルの中でも、メチルメタクリレート、及び、メチルメタクリレートを主成分とする(メタ)アクリル酸エステルが特に好ましい。メチルメタクリレートを主成分とする単量体組成物を重合して得られる硬化物は、耐候性、透明性、表面の光沢等の各種物性や、外観、安全性等をより一層向上させることができる。   Among these (meth) acrylic acid esters, methyl methacrylate and (meth) acrylic acid esters mainly composed of methyl methacrylate are particularly preferable. A cured product obtained by polymerizing a monomer composition containing methyl methacrylate as a main component can further improve various physical properties such as weather resistance, transparency, surface gloss, appearance, safety, and the like. .

カルボキシル基(a1)を有する単量体は、重合可能な二重結合と、カルボキシル基とを分子内に有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。該カルボキシル基(a1)を有する単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ビニル安息香酸の如き不飽和モノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸の如き不飽和ジカルボン酸;これらの不飽和ジカルボン酸のモノエステル、などが挙げられる。これらのカルボキシル基を有する単量体は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。   The monomer having a carboxyl group (a1) is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable double bond and a carboxyl group in the molecule. Examples of the monomer having a carboxyl group (a1) include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, and vinyl benzoic acid; non-monovalent acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and citraconic acid. Saturated dicarboxylic acids; monoesters of these unsaturated dicarboxylic acids, and the like. These monomers having a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more.

カルボキシル基を有する単量体の使用量は、特に限定されるものではないが、単量体組成物を100質量%として、10〜80質量%が好ましく、15〜70質量%が特に好ましく、20〜65質量%がさらに好ましい。カルボキシル基を有する単量体の使用量が0.5質量%未満である場合には、アルカリ水溶液への溶解性が著しく劣り、現像性が低下する傾向にあり、またカルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体にグリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)を反応させることによって導入できる重合性二重結合の数が制限され、光による架橋が不十分となり感度、解像度の低下、得られる硬化物の熱時強度等の諸物性が低下する傾向にあるので、好ましくない。カルボキシル基を有する単量体の使用量が80質量%を越える場合には、得られる硬化物の電気特性、耐候性及び耐水性が低下する傾向にあるので、好ましくない。   Although the usage-amount of the monomer which has a carboxyl group is not specifically limited, 10-80 mass% is preferable and a monomer composition is 100 mass%, 15-70 mass% is especially preferable, 20 -65 mass% is further more preferable. When the amount of the monomer having a carboxyl group is less than 0.5% by mass, the solubility in an alkaline aqueous solution is remarkably inferior, and the developability tends to be lowered. Also, the carboxyl group (a1) and hydroxyl group The number of polymerizable double bonds that can be introduced by reacting the (meth) acrylic polymer having the group (a2) with the compound (B) having the glycidyl group (b1) and the (meth) acrylic group (b2) is limited. However, it is not preferable because crosslinking due to light becomes insufficient and various physical properties such as sensitivity, resolution, and strength of the obtained cured product tend to decrease. When the amount of the monomer having a carboxyl group is more than 80% by mass, it is not preferable because electric properties, weather resistance and water resistance of the resulting cured product tend to be lowered.

ヒドロキシル基(a2)を有する単量体は、重合可能な二重結合と、ヒドロキシル基とを分子内に有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。該ヒドロキシル基(a2)を有する単量体としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレートの如きヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;アリルアルコール、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノアリルエーテルの如きアリル化合物のほか、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらのヒドロキシル基(a2)を有する単量体は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。   The monomer having a hydroxyl group (a2) is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable double bond and a hydroxyl group in the molecule. Examples of the monomer having a hydroxyl group (a2) include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate; In addition to allyl compounds such as ethylene glycol monoallyl ether and propylene glycol monoallyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, and the like. Only one type of these monomers having a hydroxyl group (a2) may be used, or two or more types may be used in combination.

ヒドロキシル基(a2)を有する単量体の使用量は、特に限定されるものではないが、単量体組成物を100質量%として、**〜##質量%が好ましく、***〜###質量%が特に好ましく、****〜####質量%がさらに好ましい。ヒドロキシル基(a2)を有する単量体の使用量が**質量%未満である場合には、・・・・性が著しく劣り、・・・・性が低下する傾向にあり、またカルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体にグリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)を反応させることによって導入できる重合性二重結合の数が制限され、光による架橋が不十分となり感度、解像度の低下、得られる硬化物の熱時強度等の諸物性が低下する傾向にあるので、好ましくない。ヒドロキシル基(a2)を有する単量体の使用量が##質量%を越える場合には、得られる硬化物の・・・性、・・性及び・・性が低下する傾向にあるので、好ましくない。   Although the usage-amount of the monomer which has a hydroxyl group (a2) is not specifically limited, **-## mass% is preferable, ***-## mass%, considering a monomer composition as 100 mass%. ## mass% is particularly preferable, and *** to #### mass% is more preferable. When the amount of the monomer having a hydroxyl group (a2) is less than **% by mass, the property is remarkably inferior, the property tends to be lowered, and the carboxyl group ( a polymerizable double bond which can be introduced by reacting a compound (B) having a glycidyl group (b1) and a (meth) acrylic group (b2) with a (meth) acrylic polymer having a1) and a hydroxyl group (a2) This is not preferable because the number of the above compounds is limited, and crosslinking due to light becomes insufficient, and various physical properties such as sensitivity, resolution, and hot strength of the resulting cured product tend to decrease. When the amount of the monomer having a hydroxyl group (a2) exceeds ## mass%, the cured product obtained tends to deteriorate in properties,. Absent.

前記単量体組成物には、(メタ)アクリル酸エステル、カルボキシル基(a1)を有する単量体及びヒドロキシル基(a2)を有する単量体の他に、カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を含有しないビニル化合物(モノマー)を必要に応じて含めることができる。そのようなビニル化合物は、重合可能な二重結合を有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。そのようなビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレンの如きスチレン系単量体;酢酸ビニルの如きビニルエステル;(メタ)アクリルアミド;(メタ)アクリロニトリル;N−メトキシメチルアクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミドの如きN−アルコキシ置換(メタ)アクリルアミド;不飽和塩基性単量体;N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−イソプロピルマレイミドの如きマレイミド系単量体、などが挙げられる。これらビニル化合物は、必要に応じて、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。前記単量体組成物にビニル化合物を混合する場合のビニル化合物の含有量は、ビニル化合物の種類や(メタ)アクリル酸エステルとの組み合わせ等にもよるが、50質量%以下が好ましい。   In addition to the (meth) acrylic acid ester, the monomer having a carboxyl group (a1) and the monomer having a hydroxyl group (a2), the monomer composition includes a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group ( A vinyl compound (monomer) not containing a2) can be included as necessary. Such a vinyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable double bond. Examples of such vinyl compounds include styrene monomers such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, and chlorostyrene; vinyl esters such as vinyl acetate; (meth) acrylamide; (meth) acrylonitrile; N-methoxy. N-alkoxy substituted (meth) acrylamides such as methyl acrylamide and N-ethoxymethyl acrylamide; unsaturated basic monomers; maleimide monomers such as N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-isopropylmaleimide, etc. Is mentioned. Only one kind of these vinyl compounds may be used as required, or two or more kinds may be used in combination. When the vinyl compound is mixed with the monomer composition, the content of the vinyl compound is preferably 50% by mass or less, although it depends on the type of vinyl compound and the combination with the (meth) acrylic acid ester.

前記単量体組成物を重合させる際には、重合開始剤を使用することが望ましい。重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンヒドロパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネートの如き有機過酸化物;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2−フェニルアゾ−2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリルの如きアゾ化合物、などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの重合開始剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。単量体組成物に対する重合開始剤の添加量は、特に限定されるものではないが、単量体組成物に対して1〜10質量%の範囲が好ましく、2〜8質量%の範囲が特に好ましい。   When polymerizing the monomer composition, it is desirable to use a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, t-butyl peroxy-2-ethyl hexanoate, t-butyl peroxy octoate, t-butyl peroxy benzoate, cumene hydro Organic peroxides such as peroxide, cyclohexanone peroxide, dicumyl peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2-phenylazo-2, Examples include, but are not limited to, azo compounds such as 4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The addition amount of the polymerization initiator with respect to the monomer composition is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 10% by mass, particularly in the range of 2 to 8% by mass with respect to the monomer composition. preferable.

また、前記単量体組成物を重合させる際には、得られる重合体の平均分子量等を調節するために、連鎖移動剤を添加しても良い。連鎖移動剤としては、特に限定されるものではないが、重合反応を極めて容易に制御できる点から、チオール化合物が特に好ましい。連鎖移動剤として用いるチオール化合物としては、例えば、t−ブチルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン等のアルキルメルカプタン;チオフェノール、チオナフトールの如き芳香族メルカプタン;チオグリコール酸;チオグリコール酸オクチル、エチレングリコールジチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス−(チオグリコレート)、ペンタエリスリトールテトラキス−(チオグリコレート)の如きチオグリコール酸アルキルエステル;β−メルカプトプロピオン酸;β−メルカプトプロピオン酸オクチル、1,4−ブタンジオールジ(β−チオプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス−(β−チオプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス−(β−チオプロピオネート)の如きβ−メルカプトプロピオン酸アルキルエステル、などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの連鎖移動剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。   Moreover, when polymerizing the monomer composition, a chain transfer agent may be added in order to adjust the average molecular weight and the like of the obtained polymer. Although it does not specifically limit as a chain transfer agent, The thiol compound is especially preferable from the point which can control a polymerization reaction very easily. Examples of the thiol compound used as a chain transfer agent include alkyl mercaptans such as t-butyl mercaptan, n-octyl mercaptan and n-dodecyl mercaptan; aromatic mercaptans such as thiophenol and thionaphthol; thioglycolic acid; octyl thioglycolate Thioglycolic acid alkyl esters such as ethylene glycol dithioglycolate, trimethylolpropane tris- (thioglycolate), pentaerythritol tetrakis- (thioglycolate); β-mercaptopropionic acid; octyl β-mercaptopropionic acid, 1, 4-butanediol di (β-thiopropionate), trimethylolpropane tris- (β-thiopropionate), pentaerythritol tetrakis- (β-thiopropionate) Examples of such β-mercaptopropionic acid alkyl esters include, but are not limited to. Only one kind of these chain transfer agents may be used, or two or more kinds may be used in combination.

連鎖移動剤の使用量は、該連鎖移動剤の種類や、重合性組成物中の単量体との組み合わせ等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではないが、単量体組成物に対して0.1〜15質量%の範囲が好ましい。   The amount of the chain transfer agent used may be appropriately set according to the type of the chain transfer agent and the combination with the monomer in the polymerizable composition, and is not particularly limited. The range of 0.1-15 mass% with respect to a composition is preferable.

上記重合性組成物の重合方法としては、例えば、塊状重合(バルク重合)、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等の公知の重合方法が挙げられるが、溶液重合が特に好ましい。なお、懸濁重合を採用する場合には、ポリビニルアルコール等の分散安定剤を用いて、単量体成分を水等の分散媒中に懸濁させる方法を採用することができる。重合反応温度や重合反応時間等の重合反応条件は、特に限定されるものではなく、例えば、公知の重合反応条件を採用することができる。なお、上記の重合反応は、窒素ガスの如き不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。   Examples of the polymerization method of the polymerizable composition include known polymerization methods such as bulk polymerization (bulk polymerization), solution polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization, and solution polymerization is particularly preferable. In addition, when employ | adopting suspension polymerization, the method of suspending a monomer component in dispersion media, such as water, can be employ | adopted using dispersion stabilizers, such as polyvinyl alcohol. Polymerization reaction conditions such as polymerization reaction temperature and polymerization reaction time are not particularly limited, and for example, known polymerization reaction conditions can be employed. The above polymerization reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas.

以上の方法によって得られるカルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)の質量平均分子量(Mw)は、5,000〜180,000の範囲が好ましく、5,000〜150,000の範囲が特に好ましい。カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)の重量平均分子量(Mw)が5,000よりも小さい場合、樹脂配合組成物を塗布、乾燥した後の指触乾燥性に劣る傾向にあり、また、カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)の重量平均分子量(Mw)が180,000よりも大きい場合、現像性及び貯蔵安定性に劣る傾向にあるので,好ましくない。   The mass average molecular weight (Mw) of the (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2) obtained by the above method is preferably in the range of 5,000 to 180,000. A range of 5,000 to 150,000 is particularly preferred. When the weight average molecular weight (Mw) of the (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2) is smaller than 5,000, the resin blend composition is applied and dried. When the weight average molecular weight (Mw) of the (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2) is larger than 180,000 , Because it tends to be inferior in developability and storage stability.

本発明で使用するグリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)は、カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)が有するカルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)と反応可能なグリシジル基(b1)と、(メタ)アクリル基(b2)とを有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。そのようなグリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)としては、大きく分けて、脂肪族炭化水素基にグリシジル基(b1)が結合した構造を有する化合物(B−1)と脂環構造上にエポキシ基が形成された構造を有する化合物(B−2)とが挙げられる。   The compound (B) having a glycidyl group (b1) and a (meth) acrylic group (b2) used in the present invention is a (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2). There is no particular limitation as long as it is a compound having a glycidyl group (b1) capable of reacting with the carboxyl group (a1) and hydroxyl group (a2) and (meth) acrylic group (b2). The compound (B) having such a glycidyl group (b1) and (meth) acrylic group (b2) is roughly classified into a compound (B) having a structure in which a glycidyl group (b1) is bonded to an aliphatic hydrocarbon group. -1) and a compound (B-2) having a structure in which an epoxy group is formed on the alicyclic structure.

前者の脂肪族炭化水素基にグリシジル基(b1)が結合した構造を有する化合物(B−1)としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、2−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、などが挙げられる。   Examples of the compound (B-1) having a structure in which a glycidyl group (b1) is bonded to the former aliphatic hydrocarbon group include glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate glycidyl ether, 2-hydroxy Propyl (meth) acrylate glycidyl ether, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate glycidyl ether, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, 2-hydroxypentyl (meth) acrylate glycidyl And ether, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate glycidyl ether, and the like.

後者の脂環構造上にエポキシ基が形成された構造を有する化合物(B−2)としては、例えば、下記一般式(3−1)〜(3−15)で表わされる化合物の如き脂環式エポキシ基及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物などが挙げられる。   Examples of the compound (B-2) having a structure in which an epoxy group is formed on the latter alicyclic structure include alicyclic compounds such as compounds represented by the following general formulas (3-1) to (3-15). Examples include compounds having an epoxy group and a (meth) acryl group (b2).

一般式(3−1) Formula (3-1)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−2) Formula (3-2)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−3) General formula (3-3)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−4) Formula (3-4)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−5) Formula (3-5)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−6) Formula (3-6)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−7) Formula (3-7)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−8) General formula (3-8)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−9) Formula (3-9)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−10) Formula (3-10)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−11) Formula (3-11)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−12) Formula (3-12)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−13) Formula (3-13)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−14) Formula (3-14)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

一般式(3−15) Formula (3-15)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

(上記一般式(3−1)〜(3−15)中、Rは水素原子又はメチル基を表わし、Rは炭素原子数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表わし、Rは炭素原子数1〜10の2価の炭素水素基を表わし、Iは0〜10の整数を表わす。) (In the above general formulas (3-1) to (3-15), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 3 represents a divalent carbon hydrogen group having 1 to 10 carbon atoms, and I represents an integer of 0 to 10).

これらのグリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)の中でも、グリシジル(メタ)アクリレートが特に好ましい。グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。   Of these compounds (B) having the glycidyl group (b1) and the (meth) acryl group (b2), glycidyl (meth) acrylate is particularly preferable. As the compound (B) having the glycidyl group (b1) and the (meth) acrylic group (b2), only one type may be used, or two or more types may be used in combination.

上記グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)の使用量は、当該化合物の種類や、反応させるカルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)の種類に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではないが、カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)のカルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)と、グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)のグリシジル基(b1)との割合が、当量比(((a1)+(a2))/(b))で、1.1〜4.6の範囲が好ましく、1.2〜3.0の範囲が特に好ましい。   The amount of the compound (B) having the glycidyl group (b1) and (meth) acryl group (b2) is the kind of the compound, the carboxyl group (a1) to be reacted, and the hydroxyl group (a2) (meth). What is necessary is just to set suitably according to the kind of acrylic polymer (A), Although it does not specifically limit, (meth) acrylic polymer (A) which has a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2) The ratio of the carboxyl group (a1) and the hydroxyl group (a2) of the glycidyl group (b1) of the compound (B) having the glycidyl group (b1) and the (meth) acrylic group (b2) is equivalent ratio ((( a1) + (a2)) / (b)), a range of 1.1 to 4.6 is preferred, and a range of 1.2 to 3.0 is particularly preferred.

カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)と、グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)とのエステル化反応には、触媒として、四級ホスホニウム塩(C)を用いる。触媒として用いる四級ホスホニウム塩(C)としては、一般式(1)   Esterification reaction of (meth) acrylic polymer (A) having carboxyl group (a1) and hydroxyl group (a2) with compound (B) having glycidyl group (b1) and (meth) acrylic group (b2) In this case, a quaternary phosphonium salt (C) is used as a catalyst. As the quaternary phosphonium salt (C) used as a catalyst, the general formula (1)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

(式中、R、R、R及びRは、おのおの独立的に、炭素原子数1〜5のアルキル基又はアルコキシメチル基、フェニル基、ベンジル基、を表わし、XはOH、Br、Cl、OCOCH (Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxymethyl group, a phenyl group or a benzyl group, and X represents OH −. , Br , Cl , OCOCH 3 ,

Figure 2013082829
Figure 2013082829

を表わす。)
で表わされる化合物が挙げられる。これらの化合物の中でも、テトラフェニルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、メチルトリブチルホスホニウムホスフェート、ブチルトリフェニルホスホニウムクロライド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド、テトラフェニルホスホニウムテトラp−トリルボレート、テトラブチルホスホニウムジエチルホスホジチオネートが好ましく、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド、メチルトリブチルホスホニウムホスフェート、テトラフェニルホスホニウムテトラp−トリルボレートが特に好ましい。これらの化合物は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。
Represents. )
The compound represented by these is mentioned. Among these compounds, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, methyltributylphosphonium phosphate, butyltriphenylphosphonium chloride, butyltriphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyl Triphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium hydroxide, tetraphenylphosphonium tetra p-tolylborate, tetrabutylphosphonium diethylphosphodithionate are preferred, tetrabutylphosphonium hydroxide, methyltributylphosphonium phosphate, tetraphenylphosphonium tetra p-tolylborate It is particularly preferred. Only one kind of these compounds may be used, or two or more kinds may be used in combination.

触媒の使用量は、その種類や、カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)と、グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)との組み合わせ等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではないが、カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)100質量部に対して、0.005〜5質量部の範囲が好ましく、0.05〜4質量部の範囲が特に好ましく、0.1〜3質量部の範囲が更に好ましい。   The amount of the catalyst used is the type, the (meth) acrylic polymer (A) having the carboxyl group (a1) and the hydroxyl group (a2), the glycidyl group (b1) and the (meth) acrylic group (b2). What is necessary is just to set suitably according to the combination with the compound (B) which has, etc., Although it does not specifically limit, The (meth) acrylic-type polymer (A) which has a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2) The range of 0.005-5 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts, the range of 0.05-4 mass parts is especially preferable, and the range of 0.1-3 mass parts is still more preferable.

エステル化反応を行う際には、必要に応じて、重合禁止剤を共存させることが望ましい。そのような重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、t−ブチルハイドロキノン、p−メトキシフェノール、などのフェノール類が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   When performing the esterification reaction, it is desirable to allow a polymerization inhibitor to coexist if necessary. Examples of such polymerization inhibitors include, but are not limited to, phenols such as hydroquinone, methylhydroquinone, t-butylhydroquinone, and p-methoxyphenol.

さらに、本発明の白色反射膜形成材料には、必要に応じて、酸化防止剤を使用することができる。このような酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール類、ヒンダードアミン類などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの酸化防止剤は、エステル化反応を行う際に共存させても、反応後に添加してもよい。   Furthermore, an antioxidant can be used in the white reflective film forming material of the present invention as necessary. Examples of such antioxidants include, but are not limited to, hindered phenols and hindered amines. These antioxidants may be present together during the esterification reaction or may be added after the reaction.

また、上記のエステル化反応を行う際には、必要に応じて、溶媒を用いることができる。エステル化反応に用いる溶媒は、沸点が120〜300℃に範囲にある高沸点アルコール系溶媒(E)が好ましい。そのような高沸点アルコール系溶媒(E)としては、例えば、一般式(2)   Moreover, when performing said esterification reaction, a solvent can be used as needed. The solvent used for the esterification reaction is preferably a high-boiling alcohol solvent (E) having a boiling point in the range of 120 to 300 ° C. As such a high boiling alcohol solvent (E), for example, the general formula (2)

Figure 2013082829
Figure 2013082829

(式中、Rは、水素原子、メチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基又はヘキシル基を表わし、Rは、エタン−1,2−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基又はブタン−1,2−ジイル基、3−メチルブタン−1,3−ジイル基を表わし、nは1〜3を表わす。)
で表わされる溶媒が好ましい。そのような溶媒の中でも、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノールが特に好ましい。これらの溶媒は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用することもできる。また、高沸点アルコール系溶媒(E)には、アルコール系以外の溶剤を併用することもできる。
(In the formula, R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, or a hexyl group, and R 6 represents an ethane-1,2-diyl group, propane-1,2- A diyl group or a butane-1,2-diyl group, a 3-methylbutane-1,3-diyl group, and n represents 1-3.)
The solvent represented by these is preferable. Among such solvents, dipropylene glycol methyl ether, diethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, and 3-methoxy-3-methyl-1-butanol are particularly preferable. Only one kind of these solvents may be used, or two or more kinds may be used in combination. Moreover, a solvent other than an alcohol solvent can be used in combination with the high boiling alcohol solvent (E).

以上のようにして得られる反応生成物である側鎖に(メタ)アクリル基を有する(メタ)アクリル系重合体の二重結合当量は、250〜1,000の範囲が好ましく、330〜430の範囲が特に好ましい。なお、上記の二重結合当量は、なお、本発明において、二重結合当量とは、(メタ)アクリル基1モルあたりの重合体の質量を表わし、その単位はg/モルである。具体的には、[グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)の二重結合当量]/[重合体1g中のグリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)の仕込み質量](但し、[グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)の二重結合当量]=[グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)の式量]/[グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)1分子中の(メタ)アクリル基(b2)の数])で求めることができる。二重結合当量の数値が小さいほど、重合体中の(メタ)アクリル基濃度が高くなる。本発明において二重結合当量は、原料の仕込み量から計算した理論値である。当該二重結合当量が250未満であると、エステル化反応中にゲル化しやすいので、好ましくない。一方、上記二重結合当量が1,000を超えると、光による架橋が不十分となり感度、解像度が低下するので、好ましくない。   The double bond equivalent of the (meth) acrylic polymer having a (meth) acrylic group in the side chain which is the reaction product obtained as described above is preferably in the range of 250 to 1,000, 330 to 430. A range is particularly preferred. In addition, in the present invention, the above-mentioned double bond equivalent represents the mass of the polymer per mole of (meth) acryl group, and the unit thereof is g / mol. Specifically, [double bond equivalent of compound (B) having glycidyl group (b1) and (meth) acrylic group (b2)] / [glycidyl group (b1) and (meth) acrylic group in 1 g of polymer Charged mass of compound (B) having (b2)] (however, [double bond equivalent of compound (B) having glycidyl group (b1) and (meth) acrylic group (b2)]) = [glycidyl group (b1) And (formula weight of compound (B) having (meth) acrylic group (b2)] / [compound having glycidyl group (b1) and (meth) acrylic group (b2) (B) (meth) acrylic group in one molecule The number of (b2)]). The smaller the double bond equivalent value, the higher the (meth) acryl group concentration in the polymer. In the present invention, the double bond equivalent is a theoretical value calculated from the amount of raw material charged. If the double bond equivalent is less than 250, gelation tends to occur during the esterification reaction, which is not preferable. On the other hand, when the double bond equivalent exceeds 1,000, crosslinking by light becomes insufficient and sensitivity and resolution are lowered, which is not preferable.

以上のようにして得られる反応生成物である側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体の酸価は、50〜200mgKOH/gの範囲が好ましく、70〜150mgKOH/gの範囲が特に好ましい。当該酸価が50mgKOH/g未満の場合、アルカリ現像液での除去が難しくなる傾向にあるので好ましくない。また、当該酸価が200mgKOH/gを超えると、ソルダーレジストの耐水性、電気特性が劣る傾向にあるので好ましくない。   The acid value of the (meth) acrylic polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain, which is the reaction product obtained as described above, is preferably in the range of 50 to 200 mgKOH / g, and 70 to 150 mgKOH / g. A range is particularly preferred. When the acid value is less than 50 mgKOH / g, it tends to be difficult to remove with an alkaline developer, which is not preferable. Moreover, when the said acid value exceeds 200 mgKOH / g, since it exists in the tendency for the water resistance of a solder resist and an electrical property to be inferior, it is unpreferable.

本発明で使用する白色顔料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、塩基性炭酸塩、塩基性硫酸鉛、硫酸鉛、硫化亜鉛、酸化アンチモン、窒化チタン、フッ化セリウム、酸化セリウム等が挙げられるが、隠ぺい力と無毒性という点から酸化チタンが好ましい。   Examples of the white pigment used in the present invention include titanium oxide, zinc oxide, basic carbonate, basic lead sulfate, lead sulfate, zinc sulfide, antimony oxide, titanium nitride, cerium fluoride, and cerium oxide. Titanium oxide is preferable in terms of hiding power and nontoxicity.

白色反射膜形成材料中の側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体と、白色顔料との混合割合は、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体100質量部に対して、50〜300質量部の範囲が好ましく、60〜260質量部の範囲が特に好ましい。白色顔料の配合量が300質量部を超えると、光硬化性が低下し、硬化深度が低くなる傾向にあるので好ましくない。一方、白色顔料の配合量が50質量部未満であると、隠ぺい力が小さく、高反射率の白色反射膜を得にくくなる傾向にあるので好ましくない。   The mixing ratio of the (meth) acrylic polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain in the white reflective film forming material and the white pigment is the same as the (meth) acrylic weight having the (meth) acryloyl group in the side chain. The range of 50 to 300 parts by mass is preferable with respect to 100 parts by mass of the coalescence, and the range of 60 to 260 parts by mass is particularly preferable. If the amount of the white pigment exceeds 300 parts by mass, the photocurability is lowered and the curing depth tends to be lowered, which is not preferable. On the other hand, if the amount of the white pigment is less than 50 parts by mass, the hiding power is small, and it tends to be difficult to obtain a white reflective film having a high reflectance.

白色反射膜形成材料には、さらに、光重合開始剤、光増感剤、エポキシ化合物、希釈剤を併用することもできる。   In the white reflective film forming material, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, an epoxy compound, and a diluent can be used in combination.

白色反射膜形成材料に用いる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルの如きベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノンの如きアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタノンの如きアミノアルキルフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリーブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノンの如きアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントンの如きチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールの如きケタール類;ベンゾフェノンの如きベンゾフェノン類;キサントン類;(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネイトの如きフォスフィンオキサイド類;各種パーオキサイド類、チタノセン系開始剤などが挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the photopolymerization initiator used for the white reflective film forming material include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone , 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, acetophenones such as 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2 -Morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholine L) Aminoalkylphenones such as phenyl] -1-butanone; 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, anthraquinones such as 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2, Thioxanthones such as 4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyldimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone; xanthones; (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldipheny Phosphine oxide, such as phosphine oxides ethyl-2,4,6-trimethyl benzoyl phenyl phosphinothricin Nate; various peroxides, and the like titanocene initiators. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

また、これらの光重合開始剤は、光増感剤と併用することができる。そのような光増感剤としては、例えば、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミンの如き三級アミン類などが挙げられる。   These photopolymerization initiators can be used in combination with a photosensitizer. Examples of such a photosensitizer include N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, and triethanolamine. Secondary amines and the like.

光重合開始剤の使用量は、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体100質量部に対し、1〜30質量部の範囲が好ましい。また、光増感剤を併用する場合の使用量は、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体100質量部に対し、0.1〜20質量部の範囲が好ましい。   The amount of the photopolymerization initiator used is preferably in the range of 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain. Moreover, the usage-amount in the case of using a photosensitizer together has the preferable range of 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of (meth) acrylic-type polymers which have a (meth) acryloyl group in a side chain.

白色反射膜形成材料に用いるエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールSノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン・クレゾール共縮合ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、ジフェニルジグリシジルエーテル、テトラメチルジフェニルジグリシジルエーテル、オキサゾリドン環を含有するエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン等の不飽和脂環式化合物とフェノール類との重付加反応物のポリグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ化合物を併用する場合の使用量は、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体100質量部に対し、5〜70質量部の範囲が好ましい。   Examples of the epoxy compound used for the white reflective film forming material include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol F novolak type epoxy resin, and bisphenol S novolak type. Epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, resorcin / cresol co-condensation novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, rubber modified epoxy resin, tris (2,3-epoxy Propyl) isocyanurate, diphenyl diglycidyl ether, tetramethyl diphenyl diglycidyl ether, epoxy resin containing oxazolidone ring, dicyclopen Polyglycidyl ethers of the polyaddition reaction product of an unsaturated alicyclic compound and a phenol diene, and the like. When the epoxy compound is used in combination, the amount used is preferably in the range of 5 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain.

白色反射膜形成材料に用いる希釈剤としては、光重合性モノマー及び/又は有機溶剤が挙げられる。光重合性モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレートの如きヒドロキシアルキルアクリレート類;エチレングリコール、メトキシテトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコールの如きグリコールのモノ又はジアクリレート類;N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミドの如きアクリルアミド類;N,N−ジメチルアミノエチルアクリレートの如きアミノアルキルアクリレート類;ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレートの如き多価アルコール又はこれらのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイド付加物の多価アクリレート類;フェノキシアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート及び、これらのフェノール類のエチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイド付加物の如きアクリレート類;グルセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルの如きグリシジルエーテルのアクリレート類;メラミンアクリレート;及び/又は上記アクリレート類に対応するメタクリレート類等を挙げられる。希釈剤として光重合性モノマーを併用する場合の使用量は、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体100質量部に対し、20〜300質量部の範囲が好ましい。   Examples of the diluent used for the white reflective film forming material include a photopolymerizable monomer and / or an organic solvent. Examples of the photopolymerizable monomer include hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxybutyl acrylate; mono- or diacrylates of glycols such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol, and propylene glycol; Acrylamides such as N, N-dimethylacrylamide and N-methylolacrylamide; aminoalkyl acrylates such as N, N-dimethylaminoethyl acrylate; hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tris-hydroxyethylisocyanate Polyhydric alcohols such as nurate or polyacrylic acids of these ethylene oxide or propylene oxide adducts Acrylates such as phenoxy acrylate, bisphenol A diacrylate, and ethylene oxide or propylene oxide adducts of these phenols; glycidyl ether acrylates such as glycerin diglycidyl ether and trimethylolpropane triglycidyl ether; Melamine acrylate; and / or methacrylates corresponding to the above acrylates. The amount of the photopolymerizable monomer used as a diluent is preferably in the range of 20 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain.

白色反射膜形成材料に用いる有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレンの如き芳香族炭化水素;メタノール、イソプロピルアルコールの如きアルコール類;酢酸エチル、酢酸ブチルの如きエステル類;1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランの如きエーテル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの如きケトン類;セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトールや、その他アルキレングリコール、プロピレングルコールの如きアルキレンポリオール、これらアルキレンポリオールのアルキルエステルやアルキルエーテルのエーテル、エステル類の如きグリコール誘導体;シクロヘキサノン、シクロヘキサノールの如き脂環式炭化水素及び石油エーテル、石油ナフサの如き石油系溶剤などが挙げられる。これらの有機溶剤は単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。希釈剤として有機溶媒を併用する場合の使用量は、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体100質量部に対し、4〜500質量部の範囲が好ましい。   Examples of the organic solvent used for the white reflective film forming material include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as methanol and isopropyl alcohol; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; 1,4-dioxane and tetrahydrofuran. Ethers such as: methyl ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, and other alkylene polyols such as alkylene glycol and propylene glycol, of these alkylene polyols Glycol esters such as alkyl esters and ethers of alkyl ethers, esters; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexanone and cyclohexanol, and petroleum ethers; Such as such as petroleum solvent oil naphtha. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount of organic solvent used as a diluent is preferably in the range of 4 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain.

白色反射膜は、前記のようにして調製された白色反射膜形成材料を配線パターンが形成された基板表面上に塗布し、必要に応じて有機溶剤を乾燥させた後、加熱・硬化させること、あるいは光硬化させることにより形成される。スクリーンコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等の方法により塗布し、例えば、70〜90℃の温度で組成物中に含まれる有機溶剤を揮発乾燥させることにより、タックフリーの均一な塗膜を形成できる。その後、フォトマスクを通して選択的に活性エネルギー線により露光し、未露光部を希アルカリ水溶液により現像してレジストパターンを形成することにより、本発明の白色反射膜を得ることができる。ここで用いられる希アルカリ水溶液としては、0.5〜5質量%の炭酸ナトリウム水溶液が一般的であるが、他のアルカリ使用液を使用することも可能である。他の希アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類等のアルカリ水溶液を挙げることができる。   The white reflective film is prepared by applying the white reflective film forming material prepared as described above onto the substrate surface on which the wiring pattern is formed, drying the organic solvent as necessary, and then heating and curing. Alternatively, it is formed by photocuring. It is applied by methods such as screen coating, curtain coating, spray coating, roll coating, and the like, and is tack-free and uniform by evaporating and drying the organic solvent contained in the composition at a temperature of 70 to 90 ° C., for example. Can be formed. Then, the white reflective film of this invention can be obtained by exposing with an active energy ray selectively through a photomask, and developing an unexposed part with dilute alkaline aqueous solution, and forming a resist pattern. The dilute alkaline aqueous solution used here is generally 0.5 to 5% by mass of sodium carbonate aqueous solution, but other alkaline use liquids can also be used. Examples of other dilute alkaline aqueous solutions include alkaline aqueous solutions of potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines, and the like.

また、露光するための照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプなどを用いることができる。その他、レーザー光線なども活性光線として利用できる。このようにして得られた白色反射膜の耐熱性を向上させるために、100〜200℃の熱、紫外線又は遠赤外線により、白色反射膜を二次硬化させることが望ましい。   As an irradiation light source for exposure, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like can be used. In addition, a laser beam can also be used as an actinic beam. In order to improve the heat resistance of the white reflective film thus obtained, it is desirable to secondarily cure the white reflective film with heat of 100 to 200 ° C., ultraviolet rays or far infrared rays.

本発明の表面実装型LEDは、例えば、以下の方法によって製造することができる。即ち、基板の表面側に、LEDチップ又はLEDパッケージがマウントされる部分、及び、前記LEDチップ又はLEDパッケージに配線を行うためのワイヤが取付けられる部分を除いて上記方法に従って白色反射膜を設けた後、前記基板の背面側に、回路基板に面実装が行えるように端子を設け、前記回路パターンと前記端子は、基板のスルーホールを通して電気的に接続した後、前記マウント部分に前記LEDチップ又はLEDパッケージをマウントし、さらに必要に応じて、基板の表面側に透明樹脂から成るカバーケースを設ける方法である。本発明の白色反射膜は、このような方法で製造される表面実装型LEDに限定して適用されるものではなく、本発明の白色反射膜の効果が期待できる表面実装型LEDであれば、特に制限なく、適用することができる。   The surface-mount type LED of the present invention can be manufactured, for example, by the following method. That is, the white reflective film is provided on the surface side of the substrate according to the above method except for the portion where the LED chip or LED package is mounted and the portion where the wire for wiring the LED chip or LED package is attached. Thereafter, a terminal is provided on the back side of the substrate so that the circuit board can be surface-mounted, and the circuit pattern and the terminal are electrically connected through a through-hole of the substrate, and then the LED chip or In this method, an LED package is mounted and, if necessary, a cover case made of a transparent resin is provided on the surface side of the substrate. The white reflective film of the present invention is not limited to the surface-mounted LED manufactured by such a method. If the surface-mounted LED can be expected to have the effect of the white reflective film of the present invention, It can be applied without particular limitation.

次に、実施例、比較例を用いて本発明を具体的に説明する。例中「部」とあるのは、特
に断りがない限り質量部を表すものとする。また、得られる(メタ)アクリル系重合体の分子量、分子量分布は下記GPCによる分析により決定した。
Next, the present invention will be specifically described using examples and comparative examples. In the examples, “parts” means parts by mass unless otherwise specified. Further, the molecular weight and molecular weight distribution of the (meth) acrylic polymer obtained were determined by the following GPC analysis.

測定装置 ;東ソー株式会社製 HLC−8120GPC
カラム ;東ソー株式会社製 TSK−GUARDCOLUMN HXL−H
+東ソー株式会社製 TSK−GEL G5000HXL
+東ソー株式会社製 TSK−GEL G4000HXL
+東ソー株式会社製 TSK−GEL G3000HXL
+東ソー株式会社製 TSK−GEL G2000HXL
検出器 ;RI(示差屈折計)
データ処理;東ソー株式会社製 マルチステーションGPC−8020modelII
測定条件 ;カラム温度 40℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 ;単分散ポリスチレン
試料 ;樹脂固形分換算で0.5質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(100μl)
Measuring device: HLC-8120GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: TSK-GUARDCOLUMN HXL-H manufactured by Tosoh Corporation
+ Tosoh Corporation TSK-GEL G5000HXL
+ Tosoh Corporation TSK-GEL G4000HXL
+ Tosoh Corporation TSK-GEL G3000HXL
+ Tosoh Corporation TSK-GEL G2000HXL
Detector: RI (differential refractometer)
Data processing: Multi-station GPC-8020 model II manufactured by Tosoh Corporation
Measurement conditions: Column temperature 40 ° C
Solvent tetrahydrofuran
Flow rate 1.0 ml / min Standard: Monodispersed polystyrene Sample: 0.5 mass% tetrahydrofuran solution filtered in terms of resin solids, filtered through a microfilter (100 μl)

[合成例1]
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたフラスコに、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ダウケミカル製の「ダワノールDPM」)900部を導入し、110℃に昇温させた後、メタクリル酸278部、メチルメタクリレート161部、2−ヒドロキシエチルアクリレート47部及びt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(日本油脂社製の「パーブチルO」)17部を共に3時間かけて滴下した。滴下終了後、4時間熟成させてカルボキル基およびアルコール性水酸基を有する重合体を得た。このようにして得た重合体のGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量(Mw)は7,600であった。
[Synthesis Example 1]
After introducing 900 parts of diethylene glycol dimethyl ether (“Dawanol DPM” manufactured by Dow Chemical) into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen introducing tube, and raising the temperature to 110 ° C., methacrylic acid 278 parts, 161 parts of methyl methacrylate, 47 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 17 parts of t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate (“Perbutyl O” manufactured by NOF Corporation) were added dropwise over 3 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was aged for 4 hours to obtain a polymer having a carboxy group and an alcoholic hydroxyl group. The weight average molecular weight (Mw) measured using GPC (gel permeation chromatography) of the polymer thus obtained was 7,600.

次いで、上記重合体に、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.4部、酸化防止剤としてジブチルヒドロキシトルエン2.2部を添加し、さらにグリシジルメタクリレート288部、触媒としてテトラブチルホスホニウムヒドロキシド2.0部を添加した後、110℃ で4時間かけてエステル化反応を行い、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するメタクリル系重合体(D−1)を得た。   Next, 0.4 parts of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor and 2.2 parts of dibutylhydroxytoluene as an antioxidant are added to the above polymer, 288 parts of glycidyl methacrylate, and tetrabutylphosphonium hydroxide as a catalyst. After adding 0 part, esterification reaction was performed at 110 degreeC over 4 hours, and the methacrylic polymer (D-1) which has a (meth) acryloyl group in a side chain was obtained.

このようにして得たメタクリル系重合体(D−1)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量(Mw)は80,500であり、分子量分布(Mw/Mn)が46であり、二重結合当量が359g/モルであり、固形分が46質量%であり、酸価が52mgKOH/gであった。   The methacrylic polymer (D-1) thus obtained had a weight average molecular weight (Mw) of 80,500 measured using GPC (gel permeation chromatography) and a molecular weight distribution (Mw / Mn). Was 46, the double bond equivalent was 359 g / mol, the solid content was 46 mass%, and the acid value was 52 mgKOH / g.

[合成例2]
実施例1において、テトラブチルホスホニウムヒドロキシドに代えて、メチルトリブチルホスホニウムクロライド2.0部を用いた以外は、実施例1と同様にして、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するメタクリル系重合体(D−2)を得た。
[Synthesis Example 2]
In Example 1, a methacrylic polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain in the same manner as in Example 1 except that 2.0 parts of methyltributylphosphonium chloride was used instead of tetrabutylphosphonium hydroxide. (D-2) was obtained.

このようにして得たメタクリル系重合体(D−2)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量(Mw)は71,400であり、分子量分布(Mw/Mn)が44であり、二重結合当量が359g/モルであり、固形分が46質量%であり、酸価が54mgKOH/gであった。   The methacrylic polymer (D-2) thus obtained had a weight average molecular weight (Mw) of 71,400 measured using GPC (gel permeation chromatography) and a molecular weight distribution (Mw / Mn). Was 44, the double bond equivalent was 359 g / mol, the solid content was 46% by mass, and the acid value was 54 mgKOH / g.

[合成例3]
実施例1において、ジエチレングリコールジメチルエーテルに代えて、メトキシプロピルアセテート900部を用いた以外は、実施例1と同様にして、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するメタクリル系重合体(D−3)を得た。
[Synthesis Example 3]
In Example 1, a methacrylic polymer (D-3) having a (meth) acryloyl group in the side chain was obtained in the same manner as in Example 1 except that 900 parts of methoxypropyl acetate was used instead of diethylene glycol dimethyl ether. Obtained.

このようにして得たメタクリル系重合体(D−3)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量(Mw)は79,000であり、分子量分布(Mw/Mn)が49であり、二重結合当量が359g/モルであり、固形分が46質量%であり、酸価が51mgKOH/gであった。   The methacrylic polymer (D-3) thus obtained had a weight average molecular weight (Mw) of 79,000 measured using GPC (gel permeation chromatography) and a molecular weight distribution (Mw / Mn). Was 49, the double bond equivalent was 359 g / mol, the solid content was 46% by mass, and the acid value was 51 mgKOH / g.

[合成例4]
実施例1において、2−ヒドロキシエチルアクリレートに代えて、ラクトン変性2 − ヒドロキシエチルメタクリレート(ダイセル化学工業(株)製プラクセルFM1)99部を用いた以外は、実施例1と同様にして、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するメタクリル系重合体(D−4)を得た。
[Synthesis Example 4]
In Example 1, instead of 2-hydroxyethyl acrylate, side chains were used in the same manner as in Example 1 except that 99 parts of lactone-modified 2-hydroxyethyl methacrylate (Plexel FM1 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was used. A methacrylic polymer (D-4) having a (meth) acryloyl group was obtained.

このようにして得たメタクリル系重合体(D−4)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量(Mw)は68,000であり、分子量分布(Mw/Mn)が45であり、二重結合当量が408g/モルであり、固形分が48質量%であり、酸価が48mgKOH/gであった。   The methacrylic polymer (D-4) thus obtained had a weight average molecular weight (Mw) of 68,000 measured using GPC (gel permeation chromatography) and a molecular weight distribution (Mw / Mn). Was 45, the double bond equivalent was 408 g / mol, the solid content was 48 mass%, and the acid value was 48 mgKOH / g.

[比較合成例1]
実施例1において、テトラブチルホスホニウムヒドロキシドに代えて、トリフェニルホスフィン4.0部を用い、110℃で8時間エステル化反応を行なった以外は、実施例1と同様にして、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するメタクリル系重合体(D’−1)を得た。
[Comparative Synthesis Example 1]
In Example 1, instead of tetrabutylphosphonium hydroxide, 4.0 parts of triphenylphosphine was used, and the esterification reaction was performed at 110 ° C. for 8 hours. A methacrylic polymer (D′-1) having a (meth) acryloyl group was obtained.

このようにして得たメタクリル系重合体(D’−1)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量(Mw)は25,900であり、分子量分布(Mw/Mn)が16であり、二重結合当量が359g/モルであり、固形分が46質量%であり、酸価が56mgKOH/gであった。   The methacrylic polymer (D′-1) thus obtained had a weight average molecular weight (Mw) of 25,900 measured using GPC (gel permeation chromatography) and a molecular weight distribution (Mw / Mn). ) Was 16, the double bond equivalent was 359 g / mol, the solid content was 46% by mass, and the acid value was 56 mgKOH / g.

[比較合成例2]
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた2リットルフラスコに、ジエチレングリコールジメチルエーテル900部を導入し、110 ℃ に昇温後、メタクリル酸204部、メチルメタクリレート281部およびt−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日本油脂社製の「パーブチルO」)17部を滴下した。滴下後熟成してカルボキル基を有する重合体を得た。このようにして得た重合体のGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量は8,500であった。
[Comparative Synthesis Example 2]
Into a 2 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping funnel and nitrogen inlet tube, 900 parts of diethylene glycol dimethyl ether was introduced, and after raising the temperature to 110 ° C., 204 parts of methacrylic acid, 281 parts of methyl methacrylate and t- 17 parts of butyl peroxy 2-ethylhexanoate (“Perbutyl O” manufactured by NOF Corporation) was added dropwise. After the dropwise addition, aging was performed to obtain a polymer having a carboxy group. The weight average molecular weight measured using GPC (gel permeation chromatography) of the polymer thus obtained was 8,500.

次いで、上記重合体に、重合禁止剤としてp−メトキシフェノール0.4部、酸価防止剤としてジブチルヒドロキシトルエン2.2部を添加した後、グリシジルメタクリレートを292部、触媒としてテトラブチルホスホニウムヒドロキシド2.0部添加し、1 1 0 ℃ で4時間かけてエステル化反応を行い、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するメタクリル系重合体(D’−2)を得た。   Next, 0.4 parts of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor and 2.2 parts of dibutylhydroxytoluene as an acid value inhibitor were added to the above polymer, followed by 292 parts of glycidyl methacrylate and tetrabutylphosphonium hydroxide as a catalyst. 2.0 parts was added and esterification was performed at 110 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic polymer (D′-2) having a (meth) acryloyl group in the side chain.

このようにして得たメタクリル系重合体(D’−2)は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定した重量平均分子量(Mw)は56,000であり、分子量分布(Mw/Mn)が37であり、二重結合当量が378g/モルであり、固形分が46質量%であり、酸価が47mgKOH/gであった。   The methacrylic polymer (D′-2) thus obtained had a weight average molecular weight (Mw) of 56,000 measured using GPC (gel permeation chromatography) and a molecular weight distribution (Mw / Mn). ) Was 37, the double bond equivalent was 378 g / mol, the solid content was 46% by mass, and the acid value was 47 mgKOH / g.

[実施例1〜4、比較例1〜2]
表1に示した各成分を自転・公転ミキサーにて混合し、ソルダーレジスト組成物とした。表中の数字は、質量部を示す。
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-2]
Each component shown in Table 1 was mixed with a rotating / revolving mixer to obtain a solder resist composition. The numbers in the table indicate parts by mass.

Figure 2013082829
Figure 2013082829

R−820:石原産業社製の酸化チタン
エピクロン850S:DIC社製のビスフェノールA型エポキシ樹脂
イルガキュア907:チバスペシャルティケミカルズ社製の光重合開始剤「イルガキュア907」
ルシリンTPO:BASF社製の光重合開始剤「ルシリンTPO」
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
2E4MZ:四国化成社製のイミダゾール硬化促進剤
R-820: Titanium oxide epiclone 850S manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd .: Bisphenol A type epoxy resin Irgacure 907 manufactured by DIC Co., Ltd. Photopolymerization initiator “Irgacure 907” manufactured by Ciba Specialty Chemicals
Lucillin TPO: Photopolymerization initiator “Lucirin TPO” manufactured by BASF
DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate 2E4MZ: imidazole curing accelerator manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.

[評価]
・指触乾燥性
各実施例及び各比較例で得た組成物を、アプリケータを用いてガラス板上に膜厚50μmとなるように全面塗布した後、熱風循環式乾燥炉にて80℃で30分間乾燥させた直後の塗膜について指触時の乾燥性(タック)性を下記の基準で評価し、その結果を表2に示した。
[Evaluation]
-Touch drying property After applying the composition obtained in each example and each comparative example on a glass plate to a film thickness of 50 μm using an applicator, it was heated at 80 ° C. in a hot air circulating drying oven. The coating immediately after drying for 30 minutes was evaluated for dryness (tack) at the time of touching according to the following criteria, and the results are shown in Table 2.

○ : タックなし
△ : タック若干あり
× : タック性あり
○: No tack △: There is some tack ×: There is tack

・乾燥管理幅
各実施例及び各比較例で得た組成物を、アプリケータを用いてガラス板上に膜厚50μmとなるように全面塗布し、80℃で30分間、40分間、50分間、60分間熱風循環式乾燥炉で乾燥させた後、1%の炭酸ナトリウム水溶液を現像液として、30℃で180秒間振とう機にて現像し、基板上に残存する度合いを下記の基準で評価し、その結果を表2に示した。
-Drying control width The composition obtained in each example and each comparative example was applied to the entire surface of the glass plate with an applicator so as to have a film thickness of 50 μm, and at 80 ° C. for 30 minutes, 40 minutes, 50 minutes, After drying in a hot air circulation drying oven for 60 minutes, 1% sodium carbonate aqueous solution was used as a developer and developed with a shaker for 180 seconds at 30 ° C., and the degree of remaining on the substrate was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 2.

○ : 基板上の塗膜が全く残っていない。(塗膜残存率:0%)
△ : 基板上の塗膜が一部残存する。(塗膜残存率:1〜10%)
× : 基板上の塗膜が溶解せず、ほとんど残存する。(塗膜残存率:11〜100%)
○: No coating film is left on the substrate. (Coating film residual rate: 0%)
Δ: A part of the coating film on the substrate remains. (Coating film residual ratio: 1 to 10%)
X: The coating film on the substrate is not dissolved and almost remains. (Coating film residual ratio: 11 to 100%)

・感度
各実施例及び各比較例で得た組成物を、アプリケータを用いてガラス板上に膜厚50μmとなるように全面塗布した。その後、80℃で30分間、熱風循環式乾燥炉で乾燥させた塗膜上にステップタブレットNo.2(コダック株式会社製)を乗せ、露光機(アイグラフィックス株式会社製のUS02−03001)を用いて800mJ/cmの積算光量で紫外線露光した後、1%の炭酸ナトリウム水溶液を現像液として、30℃で180秒間振とう機にて現像し、ステップタブレット法で評価を行ない、その結果を表2に示した。表中の数字はステップタブレットの段数を示し、数字が大きい程、硬化性(感度) が優れていることを示す。
-Sensitivity The composition obtained in each Example and each Comparative Example was applied to the entire surface of the glass plate with an applicator so as to have a film thickness of 50 μm. Thereafter, Step Tablet No. 2 (manufactured by Kodak Co., Ltd.) was placed on the coating film dried at 80 ° C. for 30 minutes in a hot air circulation drying oven, and an exposure machine (US02-03001 manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was placed. Using a 1% sodium carbonate aqueous solution as a developer, developing it with a shaker for 180 seconds at a temperature of 180 mJ / cm 2 , and evaluating with the step tablet method. It is shown in Table 2. The numbers in the table indicate the number of steps of the step tablet. The larger the number, the better the curability (sensitivity).

Figure 2013082829
Figure 2013082829

各実施例及び各比較例で得た組成物を、アプリケータを用いてガラス板上に膜厚50μmとなるように全面塗布した後、80℃で30分間、熱風循環式乾燥炉で乾燥させ、試験片を得た。この試験片に、露光機(アイグラフィックス株式会社製のUS02−03001)を用いて800mJ/cmの積算光量で全面紫外線露光した後、1%の炭酸ナトリウム水溶液を現像液として、30℃で180秒間振とう機にて現像し、続いて、熱風循環式乾燥炉中、150℃で60分間熱硬化を行ない、硬化試験片を作製した。得られた硬化試験片の色差を日本電色工業株式会社製のZE2000を用いて測定した。その結果を表3に示した。 The composition obtained in each example and each comparative example was applied on the entire surface of the glass plate to a film thickness of 50 μm using an applicator, and then dried at 80 ° C. for 30 minutes in a hot air circulation drying oven. A specimen was obtained. This test piece was exposed to UV light with an integrated light amount of 800 mJ / cm 2 using an exposure machine (US02-03001 manufactured by iGraphics Co., Ltd.), and then 1% sodium carbonate aqueous solution as a developer at 30 ° C. Development was carried out on a shaker for 180 seconds, followed by heat curing at 150 ° C. for 60 minutes in a hot-air circulating drying oven to prepare a cured test piece. The color difference of the obtained cured test piece was measured using ZE2000 made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. The results are shown in Table 3.

・耐熱性
得られた硬化試験片を、熱風循環式乾燥炉中で200℃に加熱して、加速劣化させ、30分後、60分後及び90分後に硬化試験片を取り出して、同様に色差を測定した。その結果を表4〜6に示した。
-Heat resistance The obtained cured test piece is heated to 200 ° C in a hot-air circulating drying oven to accelerate deterioration, and the cured test piece is taken out after 30 minutes, 60 minutes and 90 minutes, and the color difference is similarly obtained. Was measured. The results are shown in Tables 4-6.

・耐光性
得られた硬化試験片に、UV露光装置(出力100mW/cm メタルハライドランプ)で60J/cm、90J/cm及び120J/cmのUV光を照射して加速劣化させ、同様に色差を測定した。その結果を表7〜9に示した。
· Light resistance obtained cured specimen was accelerated deterioration by irradiation with UV light of 60J / cm 2, 90J / cm 2 and 120 J / cm 2 in UV exposure apparatus (output 100 mW / cm 2 metal halide lamps), similar The color difference was measured. The results are shown in Tables 7-9.

Figure 2013082829
Figure 2013082829

Figure 2013082829
Figure 2013082829

Figure 2013082829
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Figure 2013082829
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Figure 2013082829

Figure 2013082829
Figure 2013082829

Figure 2013082829
Figure 2013082829

表3〜9において、YはXYZ表色系の反射率を表わし、L*は、L*a*b*表色系の明度を表わす。a*は赤方向、−a*は緑方向、b*は黄方向、−b*は青方向を示し、ゼロに近いほど彩度がないことを示す。△Eは、色の変化を示す。この値が小さいほど色の変化が小さいことを示す。   In Tables 3 to 9, Y represents the reflectance of the XYZ color system, and L * represents the lightness of the L * a * b * color system. a * indicates the red direction, -a * indicates the green direction, b * indicates the yellow direction, and -b * indicates the blue direction. The closer to zero, the lower the saturation. ΔE indicates a change in color. A smaller value indicates a smaller color change.

表4〜9に示した結果から、本発明の組成物を用いた実施例1〜4においては、加速劣化後も、反射率は低下せず、色の変化である△Eの値が小さいことがわかる。   From the results shown in Tables 4 to 9, in Examples 1 to 4 using the composition of the present invention, the reflectance does not decrease even after accelerated deterioration, and the value of ΔE which is a color change is small. I understand.

Claims (9)

配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とLEDチップ又はLEDパッケージとを有する表面実装型LEDに用いられるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法であって、
カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)と、グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)とを、四級ホスホニウム塩(C)の存在下にエステル化反応させることを特徴とする側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系重合体(D)からなるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。
Alkaline acceptable for use in a surface-mounted LED having a white reflective film made of a white reflective film-forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin and a white pigment and an LED chip or LED package on a substrate on which a wiring pattern is formed. A method for producing a soluble photosensitive resin, comprising:
A (meth) acrylic polymer (A) having a carboxyl group (a1) and a hydroxyl group (a2) and a compound (B) having a glycidyl group (b1) and a (meth) acrylic group (b2) are quaternized. A method for producing an alkali-soluble photosensitive resin comprising a (meth) acrylic polymer (D) having a (meth) acryloyl group in a side chain, wherein the esterification reaction is carried out in the presence of a phosphonium salt (C).
四級ホスホニウム塩(C)が、一般式(1)
Figure 2013082829
(式中、R、R、R及びRは、おのおの独立的に、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシメチル基、フェニル基又はベンジル基を表わし、Xは、OH、Br、Cl、OCOCH
Figure 2013082829
を表わす。)
で表わされる化合物である請求項1記載のアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。
The quaternary phosphonium salt (C) has the general formula (1)
Figure 2013082829
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxymethyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a benzyl group. , X represents OH , Br , Cl , OCOCH 3 ,
Figure 2013082829
Represents. )
The method for producing an alkali-soluble photosensitive resin according to claim 1, wherein the compound is represented by the formula:
四級ホスホニウム塩(C)が、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド、メチルトリブチルホスホニウムホスフェート及びテトラフェニルホスホニウムテトラp−トリルボレートからなる群から選ばれる請求項1記載のアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。   The method for producing an alkali-soluble photosensitive resin according to claim 1, wherein the quaternary phosphonium salt (C) is selected from the group consisting of tetrabutylphosphonium hydroxide, methyltributylphosphonium phosphate and tetraphenylphosphonium tetra p-tolylborate. 前記カルボキシル基(a1)及びヒドロキシル基(a2)を有する(メタ)アクリル系重合体(A)が、重量平均分子量が5000〜180000の範囲にある重合体である請求項1記載のアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。   2. The alkali-soluble photosensitivity according to claim 1, wherein the (meth) acrylic polymer (A) having the carboxyl group (a1) and the hydroxyl group (a2) is a polymer having a weight average molecular weight in the range of 5000 to 180000. For producing a functional resin. 二重結合当量が250〜1000の範囲にある請求項1記載のアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。   The method for producing an alkali-soluble photosensitive resin according to claim 1, wherein the double bond equivalent is in the range of 250 to 1,000. 固形酸価が50〜200mgKOH/gの範囲にある請求項1記載のアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。   The method for producing an alkali-soluble photosensitive resin according to claim 1, wherein the solid acid value is in the range of 50 to 200 mgKOH / g. 前記グリシジル基(b1)及び(メタ)アクリル基(b2)を有する化合物(B)がグリシジル(メタ)アクリレートである請求項1記載のアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。   The method for producing an alkali-soluble photosensitive resin according to claim 1, wherein the compound (B) having the glycidyl group (b1) and the (meth) acrylic group (b2) is glycidyl (meth) acrylate. 配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とLEDチップ又はLEDパッケージとを有する表面実装型LEDに用いられるアルカリ可溶感光性樹脂であって、
請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法で得られるアルカリ可溶感光性樹脂。
Alkaline acceptable for use in a surface-mounted LED having a white reflective film made of a white reflective film-forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin and a white pigment and an LED chip or LED package on a substrate on which a wiring pattern is formed. A melt-sensitive resin,
An alkali-soluble photosensitive resin obtained by the production method according to claim 1.
配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とLEDチップ又はLEDパッケージとを有する表面実装型LEDにおいて、
前記アルカリ可溶感光性樹脂が請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法で得られるアルカリ可溶感光性樹脂であることを特徴とする表面実装型LED。
In a surface-mount type LED having a white reflective film made of a white reflective film forming material containing an alkali-soluble photosensitive resin and a white pigment and an LED chip or an LED package on a substrate on which a wiring pattern is formed,
The surface-mount type LED, wherein the alkali-soluble photosensitive resin is an alkali-soluble photosensitive resin obtained by the production method according to any one of claims 1 to 7.
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