JP2013077751A - Wiring board for connector connection, method of manufacturing wiring board for connector connection, and connection structure of substrate and wiring board - Google Patents

Wiring board for connector connection, method of manufacturing wiring board for connector connection, and connection structure of substrate and wiring board Download PDF

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直樹 大田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for easily connecting a predetermined substrate such as a circuit board and a wiring board to each other without being contrary to demands for higher performance and downsizing of electronic equipment with circuit components and electronic components on the substrate.SOLUTION: There is provided the wiring board that includes a plurality of wiring layers arranged apart from one another and a plurality of insulating layers arranged between the wiring layers, and connects the predetermined substrate having a connector through the connector. At least one of the insulating layers has a recessed part which is opened on a side face of the wiring board and adapted to connect the connector from the side face of the wiring board toward the interior thereof, and a metal film which is electrically connected to at least one of the wiring layers is formed on an inner wall surface of the recessed part.

Description

本発明は、コネクタ接続用配線基板、コネクタ接続用配線基板の製造方法、及び基板/配線基板の接続構造に関する。   The present invention relates to a connector connection wiring board, a method for manufacturing a connector connection wiring board, and a board / wiring board connection structure.

従来、2つの基板、例えば回路基板と配線基板とを接合するに際しては、はんだや接着剤、コネクタなどを用いて行っていた。しかしながら、近年の電子機器の高性能化・小型化の流れの中、回路部品及び電子部品を高密度に配設して電子機器の機能を向上させることが求められており、基板上に回路部品及び電子部品を実装して電子機器を構成する場合においても、当該回路部品等を基板上に高密度に実装することによって、電子機器の機能を向上させることが要求されている。   Conventionally, when two substrates, for example, a circuit board and a wiring board are joined, solder, an adhesive, a connector, or the like has been used. However, with the recent trend toward higher performance and downsizing of electronic devices, there is a need to improve the function of electronic devices by arranging circuit components and electronic components at high density. Even in the case where an electronic device is configured by mounting electronic components, it is required to improve the function of the electronic device by mounting the circuit components and the like on a substrate with high density.

しかしながら、上述のようにして回路部品等を実装すると、基板同士を接合する際に、はんだや接着剤を塗布する領域及びコネクタを形成する領域が極端に狭くなる、あるいは当該領域を確保することができなくなってしまい、基板同士をはんだや接着剤、コネクタを用いて接合することが事実上不可能になってしまうという問題があった。   However, when circuit components or the like are mounted as described above, when bonding the substrates together, the area where the solder or adhesive is applied and the area where the connector is formed may become extremely narrow, or the area may be secured. There is a problem in that it becomes impossible to bond the substrates together using solder, an adhesive, or a connector.

このような問題に鑑みて、特許文献1では、リジッド基板の側面に複数の端面接点を設けるとともに、フレキシブル基板の一方の主面にも複数の端面接点を設け、フレキシブル基板を、異方性導電性フィルムを介してリジッド基板の側面に接合する技術が開示されている。   In view of such problems, in Patent Document 1, a plurality of end surface contacts are provided on the side surface of the rigid substrate, and a plurality of end surface contacts are also provided on one main surface of the flexible substrate. A technique for bonding to a side surface of a rigid substrate through a conductive film is disclosed.

しかしながら、特許文献1に記載の方法では、リジッド基板の側面に設けた端面接点とフレキシブル基板の主面に設けた端面接点との位置合わせを正確に行う必要があるため、リジッド基板及びフレキシブル基板を仮止めした後に固定するなどの煩雑な操作が要求されるため、最終的に得たリジッド基板及びフレキシブル基板の接合構造を得るために必要なコストが増大してしまうという問題があった。   However, in the method described in Patent Document 1, it is necessary to accurately align the end surface contact provided on the side surface of the rigid substrate and the end surface contact provided on the main surface of the flexible substrate. Since complicated operations such as fixing after temporary fixing are required, there is a problem that the cost required to obtain the finally obtained rigid substrate and flexible substrate bonding structure increases.

特開2008−84952号JP 2008-84952 A

本発明は、基板上に回路部品及び電子部品を実装して電子機器の高性能化及び小型化を図るという要請に反することなく、回路基板などの所定の基板と配線基板とを簡易に接続する技術を提供することを目的とする。   The present invention simply connects a predetermined board such as a circuit board and a wiring board without violating the demand for high performance and miniaturization of electronic equipment by mounting circuit parts and electronic parts on the board. The purpose is to provide technology.

上記目的を達成すべく、本発明は、
互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有し、コネクタを有する所定の基板を、前記コネクタを介して接続するための配線基板であって、
前記複数の絶縁層の少なくとも一つにおいて、前記配線基板の側面に開口し、前記配線基板の側面から内側に向けて前記コネクタを接続するための凹部が形成され、前記凹部の内壁面において、前記複数の配線層の少なくとも一つと電気的に接続された金属膜が形成されていることを特徴とする、コネクタ接続用配線基板に関する。
In order to achieve the above object, the present invention provides:
A plurality of wiring layers disposed apart from each other, and each layer includes a plurality of insulating layers disposed between the plurality of wiring layers, and a predetermined substrate having a connector is connected via the connector A wiring board for
In at least one of the plurality of insulating layers, an opening is formed on a side surface of the wiring board, and a recess for connecting the connector from the side surface of the wiring board toward the inside is formed. The present invention relates to a connector connecting wiring board, wherein a metal film electrically connected to at least one of a plurality of wiring layers is formed.

また、本発明は、
コネクタを有する所定の基板と、
互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有する配線基板とを具え、
前記基板と前記配線基板とは、前記基板の前記コネクタが、前記配線基板の側面から内側に向けて、前記複数の絶縁層の少なくとも一つにおいて形成され、内壁面に金属膜が形成された凹部と係合することによって接続されたことを特徴とする、基板/配線基板の接続構造に関する。
The present invention also provides:
A predetermined substrate having a connector;
A wiring board having a plurality of wiring layers disposed apart from each other and a plurality of insulating layers each disposed between the plurality of wiring layers;
The board and the wiring board are recesses in which the connector of the board is formed in at least one of the plurality of insulating layers from the side surface to the inside of the wiring board, and a metal film is formed on an inner wall surface. It is related with the connection structure of the board | substrate / wiring board characterized by connecting by engaging with.

本発明によれば、配線基板の側面から内側に向けて、当該配線基板を構成する複数の絶縁層の少なくとも一つにおいて、内壁面に金属膜が形成された凹部を形成し、金属膜を、配線基板を構成する複数の配線層の少なくとも一つと電気的に接続するようにしている。したがって、内壁面に金属膜が形成された上記凹部は、コネクタに対するソケットとして機能するようになる。この場合、ソケットは配線基板の側面に形成されているので、コネクタを有する所定の基板の、当該コネクタをソケットに挿入することによって、上記基板と上記配線基板とを、当該配線基板の側面で接合することができる。   According to the present invention, from the side of the wiring board toward the inside, at least one of the plurality of insulating layers constituting the wiring board, the recess having the metal film formed on the inner wall surface is formed, The wiring board is electrically connected to at least one of a plurality of wiring layers constituting the wiring board. Therefore, the recess having the metal film formed on the inner wall surface functions as a socket for the connector. In this case, since the socket is formed on the side surface of the wiring board, the board and the wiring board are joined to each other on the side surface of the wiring board by inserting the connector into the socket of the predetermined board having the connector. can do.

一般に、回路部品や電子部品は配線基板の主面に実装し、配線基板の側面に実装することはないので、上記のようなソケットは、回路部品や電子部品の実装面積を削減することなく、配線基板の側面において所望する数だけ形成することができる。また、基板と配線基板とは基板のコネクタを配線基板のソケット中に挿入し、係合させるのみで接合することができるので、仮止めなどの特殊な操作を必要としない。   In general, circuit components and electronic components are mounted on the main surface of the wiring board and not mounted on the side surface of the wiring substrate, so the socket as described above can be used without reducing the mounting area of the circuit components and electronic components. A desired number can be formed on the side surface of the wiring board. Further, since the board and the wiring board can be joined simply by inserting the connector of the board into the socket of the wiring board and engaging them, a special operation such as temporary fixing is not required.

結果として、基板上に回路部品及び電子部品を実装して電子機器の高性能化及び小型化を図るという要請に反することなく、回路基板などの所定の基板と配線基板とを簡易に接続することができるようになる。   As a result, it is possible to easily connect a predetermined board such as a circuit board and a wiring board without violating the demand for high performance and miniaturization of electronic equipment by mounting circuit parts and electronic parts on the board. Will be able to.

なお、上記凹部は配線基板の側面に開口していることが要求されるが、配線基板の主面に開口していてもよい。但し、この場合は、配線基板の実装面積が若干減少することになるので、配線基板の主面には開口していないことが好ましい。   In addition, although the said recessed part is requested | required that it opens to the side surface of a wiring board, you may open to the main surface of a wiring board. However, in this case, since the mounting area of the wiring board is slightly reduced, it is preferable that there is no opening on the main surface of the wiring board.

上述したコネクタ接続用配線基板の凹部及び金属膜からなるソケットは、配線基板内に金属膜が形成されたスルーホールを配線基板の厚さ方向に切断して開口することによって形成することができる。   The socket made of the concave portion of the connector connecting wiring board and the metal film can be formed by cutting and opening a through hole in which the metal film is formed in the wiring board in the thickness direction of the wiring board.

具体的には、上記凹部が配線基板の主面に開口している場合は、
互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有し、コネクタを有する所定の基板を、前記コネクタを介して接続するための配線基板の製造方法であって、
前記配線基板に、前記複数の配線層の少なくとも一つの先端が露出するようにしてスルーホールを形成する工程と、
前記スルーホールの内壁面に金属膜を形成する工程と、
前記配線基板及び前記スルーホールを、前記配線基板の厚さ方向に切断して、前記スルーホールを開口させる工程と、
を具えることを特徴とする、コネクタ接続用配線基板の製造方法によって形成することができる。
Specifically, when the recess is open on the main surface of the wiring board,
A plurality of wiring layers disposed apart from each other, and each layer includes a plurality of insulating layers disposed between the plurality of wiring layers, and a predetermined substrate having a connector is connected via the connector A method of manufacturing a wiring board for performing
Forming a through hole in the wiring board so that at least one tip of the plurality of wiring layers is exposed; and
Forming a metal film on the inner wall surface of the through hole;
Cutting the wiring board and the through hole in the thickness direction of the wiring board to open the through hole; and
It can be formed by the manufacturing method of the wiring board for connector connection characterized by comprising.

また、上記凹部が配線基板の主面に開口していない場合は、
互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有し、コネクタを有する所定の基板を、前記コネクタを介して接続するための配線基板の製造方法であって、
複数の第1の絶縁層それぞれによって互いに離隔された複数の第1の配線層を有する第1の配線基板に、スルーホールを形成する工程と、
前記スルーホールの内壁面に金属膜を形成する工程と、
前記スルーホールの上下開口部を非熱流動性の樹脂によって閉塞する工程と、
前記第1の配線基板の上下から、複数の第2の絶縁層によって互いに離隔された複数の第2の配線層を有する第2の配線基板、及び複数の第3の絶縁層によって互いに離隔された複数の第3の配線層を有する第3の配線基板を積層して接合する工程と、
前記第1の配線基板、前記第2の配線基板、前記第3の配線基板及び前記スルーホールを、前記第1の配線基板、前記第2の配線基板及び前記第3の配線基板の積層方向に切断して、前記スルーホールを開口させる工程と、
を具えることを特徴とする、コネクタ接続用配線基板の製造方法によって製造することができる。
In addition, when the concave portion is not opened in the main surface of the wiring board,
A plurality of wiring layers disposed apart from each other, and each layer includes a plurality of insulating layers disposed between the plurality of wiring layers, and a predetermined substrate having a connector is connected via the connector A method of manufacturing a wiring board for performing
Forming a through hole in a first wiring board having a plurality of first wiring layers separated from each other by a plurality of first insulating layers;
Forming a metal film on the inner wall surface of the through hole;
Clogging the upper and lower openings of the through hole with a non-thermal fluid resin;
A second wiring board having a plurality of second wiring layers separated from each other by a plurality of second insulating layers and a plurality of third insulating layers are separated from each other from above and below the first wiring board. Laminating and bonding a third wiring substrate having a plurality of third wiring layers;
The first wiring board, the second wiring board, the third wiring board, and the through hole are arranged in the stacking direction of the first wiring board, the second wiring board, and the third wiring board. Cutting and opening the through hole;
It can manufacture by the manufacturing method of the wiring board for connector connection characterized by comprising.

以上、本発明によれば、基板上に回路部品及び電子部品を実装して電子機器の高性能化及び小型化を図るという要請に反することなく、回路基板などの所定の基板と配線基板とを簡易に接続する技術を提供することができる。   As described above, according to the present invention, a predetermined board such as a circuit board and a wiring board can be connected to the circuit board and the electronic component on the board without violating the demand for high performance and miniaturization of the electronic device. A technology for simple connection can be provided.

第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の概略構成を示す上平面図である。It is an upper top view showing a schematic structure of a wiring board for connector connection of a 1st embodiment. 図1に示すコネクタ接続用配線基板のI-I線に沿って切った場合の断面図である。It is sectional drawing at the time of cutting along the II line | wire of the connector connection wiring board shown in FIG. 図1及び図2に示すコネクタ接続用配線基板とコネクタとの接続状態を示す図である。It is a figure which shows the connection state of the wiring board for connector connection shown in FIG.1 and FIG.2, and a connector. 第1の実施形態におけるコネクタを有する回路基板の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the circuit board which has a connector in 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板に対するコネクタの接続状態を示す図である。It is a figure which shows the connection state of the connector with respect to the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板に対するコネクタの接続状態を示す図である。It is a figure which shows the connection state of the connector with respect to the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板に対するコネクタの接続状態を示す図である。It is a figure which shows the connection state of the connector with respect to the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板に対するコネクタの接続状態を示す図である。It is a figure which shows the connection state of the connector with respect to the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第2の実施形態のコネクタ接続用配線基板の概略構成を示す上平面図である。It is an upper top view which shows schematic structure of the wiring board for connector connection of 2nd Embodiment. 図14に示すコネクタ接続用配線基板のIII-III線に沿って切った場合の断面図である。It is sectional drawing at the time of cutting along the III-III line of the connector connection wiring board shown in FIG. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の製造方法における工程図である。It is process drawing in the manufacturing method of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の製造方法における工程図である。It is process drawing in the manufacturing method of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板の製造方法における工程図である。It is process drawing in the manufacturing method of the wiring board for connector connection of 1st Embodiment. 第2の実施形態のコネクタ接続用配線基板の製造方法における工程図である。It is process drawing in the manufacturing method of the wiring board for connector connection of 2nd Embodiment. 第2の実施形態のコネクタ接続用配線基板の製造方法における工程図である。It is process drawing in the manufacturing method of the wiring board for connector connection of 2nd Embodiment. 第2の実施形態のコネクタ接続用配線基板の製造方法における工程図である。It is process drawing in the manufacturing method of the wiring board for connector connection of 2nd Embodiment. 第2の実施形態のコネクタ接続用配線基板の製造方法における工程図である。It is process drawing in the manufacturing method of the wiring board for connector connection of 2nd Embodiment.

以下、本発明のその他の特徴及び利点について、発明を実施するための形態に基づいて説明する。   Hereinafter, other features and advantages of the present invention will be described based on embodiments for carrying out the invention.

(第1の実施形態)
図1は、本実施形態のコネクタ接続用配線基板の概略構成を示す上平面図であり、図2は、図1に示すコネクタ接続用配線基板のI-I線に沿って切った場合の断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is an upper plan view showing a schematic configuration of the connector connection wiring board of the present embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II of the connector connection wiring board shown in FIG. is there.

図1に示すように、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10は、下から順に、第1の配線層11、第2の配線層12、第3の配線層13、第4の配線層14、第5の配線層15及び第6の配線層16が、互いに離隔するようにして積層されている。   As shown in FIG. 1, the connector connection wiring board 10 of the present embodiment includes a first wiring layer 11, a second wiring layer 12, a third wiring layer 13, and a fourth wiring layer 14 in order from the bottom. The fifth wiring layer 15 and the sixth wiring layer 16 are stacked so as to be separated from each other.

また、隣接する各配線層間には、第1の絶縁層21〜第5の絶縁層25が配設されている。具体的には、第1の配線層11及び第2の配線層12間には第1の絶縁層21が配設されており、第2の配線層12及び第3の配線層13間には第2の絶縁層22が配設されており、第3の配線層13及び第4の配線層14間には第3の絶縁層23が配設されている。また、第4の配線層14及び第5の配線層15間には第4の絶縁層24が配設されており、第5の絶縁層15及び第6の配線層16間には第5の絶縁層25が配設されている。   A first insulating layer 21 to a fifth insulating layer 25 are disposed between adjacent wiring layers. Specifically, a first insulating layer 21 is disposed between the first wiring layer 11 and the second wiring layer 12, and between the second wiring layer 12 and the third wiring layer 13. A second insulating layer 22 is disposed, and a third insulating layer 23 is disposed between the third wiring layer 13 and the fourth wiring layer 14. A fourth insulating layer 24 is disposed between the fourth wiring layer 14 and the fifth wiring layer 15, and a fifth insulating layer 15 is interposed between the fifth insulating layer 15 and the sixth wiring layer 16. An insulating layer 25 is provided.

換言すれば、第1の配線層11から第6の配線層16は、隣接する配線層間に配設された第1の絶縁層21から第5の絶縁層25によって互いに離隔するようにして積層されている。   In other words, the first wiring layer 11 to the sixth wiring layer 16 are stacked so as to be separated from each other by the first insulating layer 21 to the fifth insulating layer 25 disposed between the adjacent wiring layers. ing.

また、第1の配線層11及び第2の配線層12は第1の層間接続体31によって電気的に接続されており、第2の配線層12及び第3の配線層13は第2の層間接続体32によって電気的に接続されており、第3の配線層13及び第4の配線層14は第3の層間接続体33によって電気的に接続されている。また、第4の配線層14及び第5の配線層15は第4の層間接続体34によって電気的に接続されており、第5の配線層15及び第6の配線層16は第5の層間接続体35によって電気的に接続されている。したがって、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10は、いわゆる多層配線基板を構成する。   Further, the first wiring layer 11 and the second wiring layer 12 are electrically connected by the first interlayer connector 31, and the second wiring layer 12 and the third wiring layer 13 are the second interlayer. The third wiring layer 13 and the fourth wiring layer 14 are electrically connected by a third interlayer connector 33. The fourth wiring layer 14 and the fifth wiring layer 15 are electrically connected by the fourth interlayer connector 34, and the fifth wiring layer 15 and the sixth wiring layer 16 are the fifth interlayer. The connection body 35 is electrically connected. Therefore, the connector connection wiring board 10 of the present embodiment constitutes a so-called multilayer wiring board.

第1の配線層11から第6の配線層16は、必要に応じて所定のパターニングが施されることによる配線パターンや電極パッドとして構成されてもよいし、ベタのパターンとして構成されていてもよい。なお、本実施形態では、第6の配線層16は電極パッドして構成されている。   The first wiring layer 11 to the sixth wiring layer 16 may be configured as a wiring pattern or an electrode pad by performing predetermined patterning as necessary, or may be configured as a solid pattern. Good. In the present embodiment, the sixth wiring layer 16 is configured as an electrode pad.

また、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10は、その側面10Cから内側に向けて、コネクタを接続するための凹部41が、幅方向に複数形成されており(本実施形態では合計9個)、その内壁面には金属膜42が形成されている。また、金属膜42は、第4の配線層14と電気的に接続されている。なお、本実施形態においては、以下に説明する製造方法に起因して、凹部41はコネクタ接続用配線基板10の主面10A及び10Bに開口している。   In addition, the connector connecting wiring board 10 of the present embodiment has a plurality of concave portions 41 for connecting the connectors in the width direction from the side surface 10C to the inner side (in the present embodiment, a total of nine). A metal film 42 is formed on the inner wall surface. The metal film 42 is electrically connected to the fourth wiring layer 14. In the present embodiment, due to the manufacturing method described below, the recess 41 is opened in the main surfaces 10A and 10B of the connector connecting wiring board 10.

本実施形態では、金属膜42は第4の配線層14と電気的に接続しているが、配線基板10を構成するいずれの配線層と接続していてもよい。さらに、接続する配線層は単一であっても複数であってもよい。   In the present embodiment, the metal film 42 is electrically connected to the fourth wiring layer 14, but may be connected to any wiring layer constituting the wiring substrate 10. Furthermore, the wiring layer to be connected may be single or plural.

金属膜42は、金、銀、銅、アルミニウムなどの高い導電性を有する金属材料から構成することができる。   The metal film 42 can be made of a metal material having high conductivity such as gold, silver, copper, and aluminum.

本実施形態のコネクタ接続用配線基板10は、その側面10Cから内側に向けて凹部41が形成されており、その内壁面には金属膜42が第4の配線層14と電気的に接続するようにして形成されている。したがって、凹部41及び金属膜42は、コネクタに対するソケットとして機能するようになる。この場合、ソケットはコネクタ接続用配線基板10の側面10Cに形成されているので、コネクタを有する所定の基板の、当該コネクタをソケットに挿入することによって、上記基板とコネクタ接続用配線基板10とを、コネクタ接続用配線基板10の側面10Cで接合することができる。   The connector connection wiring board 10 of the present embodiment has a recess 41 formed inwardly from the side surface 10 </ b> C, and a metal film 42 is electrically connected to the fourth wiring layer 14 on the inner wall surface. Is formed. Accordingly, the recess 41 and the metal film 42 function as a socket for the connector. In this case, since the socket is formed on the side surface 10C of the connector connection wiring board 10, the board and the connector connection wiring board 10 are connected by inserting the connector of the predetermined board having the connector into the socket. It can be joined at the side surface 10C of the connector connecting wiring board 10.

一般に、回路部品や電子部品は配線基板の主面10A及び10Bに実装し、配線基板の側面10Cに実装することはないので、上記のようなソケットは、回路部品や電子部品の実装面積を削減することなく、コネクタ接続用配線基板10の側面において所望の数だけ形成することができる。また、基板とコネクタ接続用配線基板10とは基板のコネクタをコネクタ接続用配線基板10のソケット中に挿入し、係合させるのみで接合することができるので、仮止めなどの特殊な操作を必要としない。   Generally, circuit components and electronic components are mounted on the main surfaces 10A and 10B of the wiring board and not mounted on the side surface 10C of the wiring substrate. Therefore, the socket as described above reduces the mounting area of the circuit components and electronic components. Without being done, a desired number can be formed on the side surface of the connector connecting wiring board 10. Also, since the board and the connector connection wiring board 10 can be joined simply by inserting the connector of the board into the socket of the connector connection wiring board 10 and engaging them, a special operation such as temporary fixing is required. And not.

結果として、基板上に回路部品及び電子部品を実装して電子機器の高性能化及び小型化を図るという要請に反することなく、回路基板などの所定の基板とコネクタ接続用配線基板10とを簡易に接続することができるようになる。   As a result, a predetermined board such as a circuit board and the connector-connecting wiring board 10 can be simplified without violating the demand for mounting high-performance and downsized electronic devices by mounting circuit components and electronic components on the board. Will be able to connect to.

なお、特に図示していないが、金属膜42上にはクロムめっき層などのハードコート層を形成することができる。これによって、上述のようにソケットの一部として機能する凹部41内にコネクタを挿入して係合した場合においても、コネクタによる金属膜42の摩耗を抑制し、コネクタのソケットに対する係合を長期に亘って安定して保持することができる。   Although not particularly illustrated, a hard coat layer such as a chromium plating layer can be formed on the metal film 42. As a result, even when the connector is inserted into and engaged with the recess 41 that functions as a part of the socket as described above, the wear of the metal film 42 by the connector is suppressed, and the connector can be engaged with the socket for a long time. It can be stably held over.

また、凹部41と、この凹部41内に挿入し係合させたコネクタとの接続をより強固とすべく、これらの空隙中にはんだや樹脂等を充填させることもできる。   Moreover, in order to strengthen the connection between the recess 41 and the connector inserted into and engaged with the recess 41, it is possible to fill these gaps with solder, resin, or the like.

図3は、図1及び図2に示すコネクタ接続用配線基板10とコネクタとの接続状態を示す図である。なお、図3においては、本変形例の特徴を明確にすべく、図2に示すコネクタ接続用配線基板10の第4の配線層14を含むII-II線に沿って切った場合であって、さらに1つの凹部41に着目した断面を示している。   FIG. 3 is a diagram showing a connection state between the connector connecting wiring board 10 and the connector shown in FIGS. 1 and 2. In FIG. 3, in order to clarify the features of this modification, the connector connection wiring board 10 shown in FIG. 2 is cut along the line II-II including the fourth wiring layer 14. Furthermore, the cross section which paid its attention to one recessed part 41 is shown.

図3に示すように、例えば先端部51Aが基部51Bに比較して太くなったピンコネクタ51を用いた場合においては、ピンコネクタ51の先端部51Aが凹部41の側面41C、すなわち金属膜42の表面と係合し、ピンコネクタ51が凹部41に係合して固定されるようになる。   As shown in FIG. 3, for example, when the pin connector 51 whose tip 51A is thicker than the base 51B is used, the tip 51A of the pin connector 51 is the side surface 41C of the recess 41, that is, the metal film 42. The pin connector 51 is engaged with and fixed to the recess 41 by engaging with the surface.

但し、本実施形態の凹部41は、配線基板の主面10A及び10Bに開口しているので、ピンコネクタ51は主面10A及び10Bに露出しないようにして凹部41と係合させることが好ましい。ピンコネクタ51が主面10A及び10Bに露出すると、これら主面上に実装した電子部品の配線等と電気的に接触してしまい、電子部品、すなわちコネクタ接続用配線基板10及びコネクタ51を有する基板と配線基板10との接続構造における電気的不良を引き起こし、これら配線基板10及び接続構造の誤作動を生じる場合がある。   However, since the recess 41 of the present embodiment is open to the main surfaces 10A and 10B of the wiring board, the pin connector 51 is preferably engaged with the recess 41 so as not to be exposed to the main surfaces 10A and 10B. When the pin connector 51 is exposed on the main surfaces 10A and 10B, the pin connector 51 is in electrical contact with the wiring or the like of the electronic component mounted on the main surfaces, and thus the electronic component, that is, the board having the connector connecting wiring board 10 and the connector 51. This may cause an electrical failure in the connection structure between the wiring board 10 and the wiring board 10 and cause malfunction of the wiring board 10 and the connection structure.

図4は、上述したコネクタ51を有する回路基板50の構成の一例を示すものである。図3に示すようなコネクタ51と凹部41との係合によって、図1及び図2に示すコネクタ接続用配線基板10と、図4に示す基板50とが接合し、これら両基板による接合構造を得ることができる。   FIG. 4 shows an example of the configuration of the circuit board 50 having the connector 51 described above. The connector 51 and the recess 41 as shown in FIG. 3 are engaged with each other to connect the connector connecting wiring board 10 shown in FIGS. 1 and 2 and the board 50 shown in FIG. Can be obtained.

但し、図4に示す基板構成はあくまでも例示であって、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10に接続すべくコネクタ51を有する基板は、必要に応じて任意の構成とすることができる。   However, the substrate configuration shown in FIG. 4 is merely an example, and the substrate having the connector 51 to be connected to the connector connection wiring substrate 10 of the present embodiment can be arbitrarily configured as necessary.

図5及び図6は、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10の変形例である。なお、図5及び図6においては、本変形例の特徴を明確にすべく、図3と同様に、図2に示すコネクタ接続用配線基板10の第4の配線層14を含むII-II線に沿って切った場合であって、さらに1つの凹部41に着目した断面を示している。   5 and 6 are modifications of the connector connecting wiring board 10 of the present embodiment. 5 and 6, the II-II line including the fourth wiring layer 14 of the connector connecting wiring board 10 shown in FIG. 2 is used, as in FIG. A cross section focusing on one recess 41 is shown.

図5に示すコネクタ接続用配線基板10においては、凹部41の開口部41Aが内部41Bの大きさよりも狭小化している。具体的には、内部41Bは開口部41Aに対して、凹部41の中心軸Xから一方向にその幅が拡大したような形状を呈している。一方、図6に示すコネクタ接続用配線基板10においては、凹部41の内部41Bが開口部41Aに対して、凹部41の中心軸Xから両方向にその幅が均一に拡大したような形状を呈している。   In the connector connecting wiring board 10 shown in FIG. 5, the opening 41A of the recess 41 is narrower than the size of the inside 41B. Specifically, the interior 41B has a shape in which the width of the opening 41A is increased in one direction from the central axis X of the recess 41 with respect to the opening 41A. On the other hand, in the connector connecting wiring board 10 shown in FIG. 6, the inside 41B of the recess 41 has a shape in which the width is uniformly expanded in both directions from the central axis X of the recess 41 with respect to the opening 41A. Yes.

いずれの場合においても、例えば、開口部41Aの直径(開口幅)をd1とし、内部41Bの直径(幅)をd2とした場合において、d1/d2が0.99〜0.8となるようにしている。d1/d2が0.8に近い場合はコネクタの剛性が比較的大きいと挿入する際に開口部が破壊される、または、挿入できない場合があるため、コネクタの剛性を比較的小さくするとよい。反対にd1/d2が0.99に近い場合は、コネクタを挿入する際に、コネクタ先端の変形量が比較的小さいため、コネクタの剛性が小さいと、コネクタが抜けやすくなるため、コネクタの剛性を比較的大きしコネクタが抜けにくい状態にするとよい。コネクタの剛性は、コネクタの材料によるため一概には言えないが、例えばコネクタの主材料を銅合金とした場合は、剛性を示すヤング率が110〜180GPaであり、この範囲で合金の組成やめっき組成を変更することで、適宜剛性を調整するとよい。これによって、コネクタを凹部41内に挿入して係合させた場合において、その係合状態を堅固に保持することができ、コネクタの凹部41からの抜けを効果的に防止することができる。   In any case, for example, when the diameter (opening width) of the opening 41A is d1, and the diameter (width) of the inside 41B is d2, d1 / d2 is set to 0.99 to 0.8. ing. When d1 / d2 is close to 0.8, if the rigidity of the connector is relatively large, the opening may be broken or cannot be inserted during insertion, so the rigidity of the connector may be relatively small. On the other hand, when d1 / d2 is close to 0.99, the amount of deformation at the connector tip is relatively small when the connector is inserted. It is preferable that the connector is relatively large and the connector is difficult to come off. Although the rigidity of the connector depends on the material of the connector, it cannot be generally stated. For example, when the main material of the connector is a copper alloy, the Young's modulus indicating the rigidity is 110 to 180 GPa. By changing the composition, the rigidity may be adjusted as appropriate. As a result, when the connector is inserted into the recess 41 and engaged, the engaged state can be firmly held, and the connector can be effectively prevented from coming off from the recess 41.

図5に示すコネクタ接続用配線基板10に対するコネクタの接続は、例えば図7及び図8に示すような形態で行うことができる。   The connector can be connected to the connector connection wiring board 10 shown in FIG. 5 in the form shown in FIGS. 7 and 8, for example.

図7では、コネクタ51は、先端部51Aが太くなったいわゆるピンコネクタの形状を呈しており、先端部51Aが凹部41内に挿入して係合し、金属膜42を介してコネクタ接続用配線基板10と電気的かつ機械的に接合されるようになっている。図8では、コネクタ51は、先端部51Aが板バネ状となったいわゆるバネ状のコネクタの形状を呈しており、先端部51Aが凹部41内に挿入して係合し、コネクタ接続用配線基板10と電気的かつ機械的に接合されるようになっている。   In FIG. 7, the connector 51 has a so-called pin connector shape in which the tip 51 </ b> A is thickened. The tip 51 </ b> A is inserted into and engaged with the recess 41, and the connector connection wiring via the metal film 42. The substrate 10 is electrically and mechanically joined. In FIG. 8, the connector 51 has a so-called spring-like connector shape in which the tip 51 </ b> A has a leaf spring shape, and the tip 51 </ b> A is inserted into and engaged with the recess 41. 10 and are electrically and mechanically joined.

なお、コネクタ51の最先端部51Cが凹部41の開口部41Aの幅よりも小さければ、挿入時において、コネクタ51の先端部51Aが圧縮されるので、先端部51Aを凹部41内に挿入して係合させることができる。   If the tip 51C of the connector 51 is smaller than the width of the opening 41A of the recess 41, the tip 51A of the connector 51 is compressed at the time of insertion, so the tip 51A is inserted into the recess 41. Can be engaged.

図6に示すコネクタ接続用配線基板10に対するコネクタの接続は、例えば図9及び図10に示すような形態で行うことができる。   The connector can be connected to the connector connection wiring board 10 shown in FIG. 6 in the form shown in FIGS. 9 and 10, for example.

図9では、コネクタ51は、先端部51Aが太くなったいわゆるピンコネクタの形状を呈しており、先端部51Aが凹部41内に挿入して係合し、金属膜42を介してコネクタ接続用配線基板10と電気的かつ機械的に接合されるようになっている。図10では、コネクタ51は、先端部51Aが円錐状となったピンコネクタの形状を呈しており、先端部51Aが凹部41内に挿入して係合し、金属膜41を介してコネクタ接続用配線基板10と電気的かつ機械的に接合されるようになっている。   In FIG. 9, the connector 51 has a so-called pin connector shape with a thickened tip 51 </ b> A. The tip 51 </ b> A is inserted into and engaged with the recess 41, and the connector connection wiring is provided via the metal film 42. The substrate 10 is electrically and mechanically joined. In FIG. 10, the connector 51 has a pin connector shape in which the tip 51 </ b> A has a conical shape, and the tip 51 </ b> A is inserted into and engaged with the recess 41, for connector connection via the metal film 41. It is electrically and mechanically joined to the wiring board 10.

なお、この場合においても、コネクタ51の最先端部51Cが凹部41の開口部41Aの幅よりも小さければ、コネクタ51の先端部51Aを凹部41内に挿入して係合させることができる。   Even in this case, if the most distal portion 51C of the connector 51 is smaller than the width of the opening 41A of the recess 41, the tip 51A of the connector 51 can be inserted into the recess 41 and engaged.

また、図7〜図10に示すいずれの接続状態においても、例えばコネクタ51を有する基板は図4に示すような基板50とすることができ、これによって、配線基板10と基板50との接続構造を形成することができる。但し、図4に示す基板構成はあくまでも例示であって、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10に接続すべくコネクタ51を有する基板は、必要に応じて任意の構成とすることができる。   Further, in any of the connection states shown in FIGS. 7 to 10, for example, the board having the connector 51 can be a board 50 as shown in FIG. 4, thereby connecting the wiring board 10 and the board 50. Can be formed. However, the substrate configuration shown in FIG. 4 is merely an example, and the substrate having the connector 51 to be connected to the connector connection wiring substrate 10 of the present embodiment can be arbitrarily configured as necessary.

図11及び図12は、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10の変形例である。なお、図11及び図12においても、本変形例の特徴を明確にすべく、図3と同様に、図2に示すコネクタ接続用配線基板10の第4の配線層14を含むII-II線に沿って切った場合であって、さらに1つの凹部41に着目した断面を示している。   11 and 12 are modifications of the connector connection wiring board 10 of the present embodiment. 11 and 12, the II-II line including the fourth wiring layer 14 of the connector connecting wiring board 10 shown in FIG. 2 is also provided in the same manner as FIG. 3 in order to clarify the features of this modification. A cross section focusing on one recess 41 is shown.

図11に示すコネクタ接続用配線基板10では、その側面10Cに形成された凹部41内に図9に示すようなピンコネクタ51が挿入され係合されているが、コネクタ51の基部51Bにおいてスリット51Sが形成され、コネクタ51の基部51Bが狭小化されている。同様に、図12に示すコネクタ接続用配線基板10では、その側面10Cに形成された凹部41内に図8に示すような板バネ状のコネクタ51が挿入され係合されているが、コネクタ51の基部51Bにおいてスリット51Sが形成され、コネクタ51の基部51Bが狭小化されている。   In the connector connecting wiring board 10 shown in FIG. 11, the pin connector 51 as shown in FIG. 9 is inserted and engaged in the recess 41 formed in the side surface 10C, but the slit 51S is formed in the base 51B of the connector 51. Is formed, and the base 51B of the connector 51 is narrowed. Similarly, in the connector connecting wiring board 10 shown in FIG. 12, a plate spring-like connector 51 as shown in FIG. 8 is inserted and engaged in the recess 41 formed in the side surface 10C. A slit 51S is formed in the base portion 51B of the connector 51, and the base portion 51B of the connector 51 is narrowed.

したがって、コネクタ51を有する所定の基板(例えば図4に示すような回路基板)をコネクタ51及び凹部41を介してコネクタ接続用配線基板10に電気的及び機械的に接続した後、上記基板をコネクタ接続用配線基板10から引き抜く際において、コネクタ51が基部51Sで折れてしまい、コネクタ51の先端部51Aが凹部41内に残留するようになる。   Therefore, after a predetermined board (for example, a circuit board as shown in FIG. 4) having the connector 51 is electrically and mechanically connected to the connector connecting wiring board 10 via the connector 51 and the recess 41, the board is connected to the connector. When the connector 51 is pulled out from the connection wiring board 10, the connector 51 is broken at the base 51 </ b> S, and the tip 51 </ b> A of the connector 51 remains in the recess 41.

この結果、コネクタ接続用配線基板10の凹部41内には最早コネクタを接続させることができないので、コネクタ接続用配線基板10がICチップ等を実装している場合において、他人が別途コネクタを有する基板を、コネクタ接続用配線基板10の凹部41内に接続して、上記ICチップ等の内部に蓄積された情報を読み取ることができない。したがって、コネクタ接続用配線基板10に対するセキリュティ性を高めることができる。   As a result, since the connector can no longer be connected in the concave portion 41 of the connector connecting wiring board 10, when the connector connecting wiring board 10 is mounted with an IC chip or the like, a board in which another person has a separate connector. Cannot be read in the IC chip or the like. Therefore, the security with respect to the connector connecting wiring board 10 can be improved.

図13は、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10の変形例である。なお、図13においても、本変形例の特徴を明確にすべく、図3と同様に、図2に示すコネクタ接続用配線基板10の第4の配線層14を含むII-II線に沿って切った場合であって、さらに1つの凹部41に着目した断面を示している。   FIG. 13 is a modification of the connector connecting wiring board 10 of the present embodiment. In FIG. 13 as well, in order to clarify the characteristics of this modification, as in FIG. 3, along the II-II line including the fourth wiring layer 14 of the connector connecting wiring board 10 shown in FIG. A cross-section focusing on one of the recesses 41 is shown.

本変形例では、凹部41の開口部41Aの大きさが、外側から内側へ向けて狭小化するように、開口部41Aをテーパー状に形成している。したがって、凹部41に対するコネクタ51の係合をより簡易に行うことができる。特に、図7及び図9に示すように、先端部51Aが基部51Bに比較して太くなっているようなピンコネクタ51を凹部41内に係合する場合においては、ピンコネクタ51の凹部41内への係合をより簡易に行うことができる。   In this modification, the opening 41A is formed in a tapered shape so that the size of the opening 41A of the recess 41 narrows from the outside toward the inside. Therefore, the engagement of the connector 51 with the recess 41 can be performed more easily. In particular, as shown in FIGS. 7 and 9, when the pin connector 51 whose tip 51A is thicker than the base 51B is engaged in the recess 41, Can be more easily engaged.

(第2の実施形態)
図14は、本実施形態のコネクタ接続用配線基板の概略構成を示す上平面図であり、図15は、図14に示すコネクタ接続用配線基板のIII-III線に沿って切った場合の断面図である。なお、図1及び図2に示す構成要素と類似あるいは同一の構成要素に関しては、同一の符号を用いている。
(Second Embodiment)
14 is an upper plan view showing a schematic configuration of the connector connection wiring board of the present embodiment, and FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line III-III of the connector connection wiring board shown in FIG. FIG. In addition, the same code | symbol is used about the component similar to or the same as the component shown in FIG.1 and FIG.2.

本実施形態のコネクタ接続用配線基板10−1は、その側面10−1Cから内側に向けて、コネクタを接続するための凹部41が、幅方向に複数形成されており(本実施形態では合計9個)、その内壁面には金属膜42が形成されている。また、金属膜42は、第4の配線層14と電気的に接続されている。但し、本実施形態においては、以下に説明する製造方法に起因して、凹部41は第2の絶縁層22、第3の絶縁層23及び第4の絶縁層24に形成され、コネクタ接続用配線基板10−1の主面10−1A及び10−1Bには開口していない。   The wiring board 10-1 for connector connection of this embodiment has a plurality of recesses 41 for connecting connectors in the width direction from the side surface 10-1C to the inside (in this embodiment, a total of 9 The metal film 42 is formed on the inner wall surface. The metal film 42 is electrically connected to the fourth wiring layer 14. However, in this embodiment, due to the manufacturing method described below, the recess 41 is formed in the second insulating layer 22, the third insulating layer 23, and the fourth insulating layer 24, and the connector connecting wiring There are no openings in the main surfaces 10-1A and 10-1B of the substrate 10-1.

なお、その他の構成及び特徴については、第1の実施形態におけるコネクタ接続用配線基板10と同様であるので、説明を省略する。   Other configurations and features are the same as those of the connector connection wiring board 10 in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

本実施形態のコネクタ接続用配線基板10−1は、その側面10−1Cから内側に向けて凹部41が形成されており、その内壁面には金属膜42が第4の配線層14と電気的に接続するようにして形成されている。したがって、凹部41及び金属膜42は、コネクタに対するソケットとして機能するようになる。この場合、ソケットはコネクタ接続用配線基板10−1の側面10−1Cに形成されているので、コネクタを有する所定の基板の、当該コネクタをソケットに挿入することによって、上記基板とコネクタ接続用配線基板10−1とを、コネクタ接続用配線基板10−1の側面10−1Cで接合することができる。   The connector connection wiring board 10-1 of the present embodiment has a recess 41 formed inward from the side surface 10-1C, and a metal film 42 is electrically connected to the fourth wiring layer 14 on the inner wall surface. It is formed so as to be connected to. Accordingly, the recess 41 and the metal film 42 function as a socket for the connector. In this case, since the socket is formed on the side surface 10-1C of the connector connecting wiring board 10-1, the board and the connector connecting wiring are inserted into the socket of the predetermined board having the connector. The board 10-1 can be bonded to the side face 10-1C of the connector connection wiring board 10-1.

一般に、回路部品や電子部品は配線基板の主面10−1A及び10−1Bに実装し、配線基板の側面10−1Cに実装することはないので、上記のようなソケットは、回路部品や電子部品の実装面積を削減することなく、コネクタ接続用配線基板10−1の側面10−1Cにおいて所望の数だけ形成することができる。また、基板とコネクタ接続用配線基板10−1とは、基板のコネクタをコネクタ接続用配線基板10−1のソケット中に挿入し、係合させるのみで接合することができるので、仮止めなどの特殊な操作を必要としない。   In general, circuit components and electronic components are mounted on the main surfaces 10-1A and 10-1B of the wiring board and not mounted on the side surface 10-1C of the wiring board. A desired number can be formed on the side surface 10-1C of the connector connecting wiring board 10-1 without reducing the mounting area of the components. Further, since the board and the connector connecting wiring board 10-1 can be joined by simply inserting the connector of the board into the socket of the connector connecting wiring board 10-1, and engaging with each other. No special operation is required.

結果として、基板上に回路部品及び電子部品を実装して電子機器の高性能化及び小型化を図るという要請に反することなく、回路基板などの所定の基板とコネクタ接続用配線基板10−1とを簡易に接続することができるようになる。   As a result, a predetermined board such as a circuit board and a connector connection wiring board 10-1 can be obtained without violating the demand for high performance and downsizing of electronic devices by mounting circuit components and electronic components on the board. Can be easily connected.

また、本実施形態では、凹部41はコネクタ接続用配線基板10−1の主面10−1A及び10−1Bに開口していないので、凹部41の開口部によって配線基板10−1の実装面積が減少することがない。したがって、第1の実施形態のコネクタ接続用配線基板10に比較して、実装面積を増大させることができるので、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10−1は、凹部41の開口部が存在しない分だけ、その大きさを狭小化することができ、あるいは高密度実装を可能とすることができる。   In the present embodiment, since the recess 41 is not opened on the main surfaces 10-1A and 10-1B of the connector connection wiring board 10-1, the mounting area of the wiring board 10-1 is increased by the opening of the recess 41. There is no decrease. Therefore, since the mounting area can be increased as compared with the connector connection wiring board 10 of the first embodiment, the connector connection wiring board 10-1 of the present embodiment has an opening of the recess 41. Therefore, the size can be reduced, or high-density mounting can be realized.

なお、本実施形態のコネクタ接続用配線基板10−1の凹部41の形状は、第1の実施形態における図5及び図6に示すような態様とすることができ、コネクタの接続は、図7〜図13に示すような態様とすることができる。   In addition, the shape of the recessed part 41 of the connector connection wiring board 10-1 of this embodiment can be made into the aspect as shown in FIG.5 and FIG.6 in 1st Embodiment, and the connection of a connector is FIG. It can be set as an aspect as shown in FIG.

(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態のコネクタ接続用配線基板10の製造方法について説明する。図16〜図18は、本実施形態の製造方法における工程図を示す図である。なお、これらの図面は、第1の実施形態の図2に相当する断面図として表している。
(Third embodiment)
Next, a method for manufacturing the connector connecting wiring board 10 of the third embodiment will be described. 16 to 18 are views showing process diagrams in the manufacturing method of the present embodiment. These drawings are shown as cross-sectional views corresponding to FIG. 2 of the first embodiment.

最初に、図16に示すように、例えば、Bit(ビースクエアイット)法によって、下から順に、第1の配線層11、第2の配線層12、第3の配線層13、第4の配線層14、第5の配線層15及び第6の配線層16が、互いに離隔するようにして積層され、隣接する各配線層間には、それぞれ第1の絶縁層21〜第5の絶縁層25が配設され、さらに隣接する各配線層間を、それぞれ第1の層間接続体31〜第5の層間接続体35によって電気的に接続されてなる多層配線基板10Xを作製する。 First, as shown in FIG. 16, the first wiring layer 11, the second wiring layer 12, the third wiring layer 13, the fourth wiring layer are sequentially formed from the bottom by, for example, the B 2 it (Bsquare It) method. The wiring layer 14, the fifth wiring layer 15 and the sixth wiring layer 16 are laminated so as to be separated from each other, and between the adjacent wiring layers, the first insulating layer 21 to the fifth insulating layer, respectively. 25, and the adjacent wiring layers are electrically connected by the first interlayer connection body 31 to the fifth interlayer connection body 35, respectively.

なお、第4の配線層14は、後に形成する凹部41内の金属膜42と電気的に接続するため、他の配線層よりも凹部41を形成すべき多層配線基板10Xの左端に向けて延在するようにして形成する。   Since the fourth wiring layer 14 is electrically connected to the metal film 42 in the concave portion 41 to be formed later, the fourth wiring layer 14 extends toward the left end of the multilayer wiring board 10X where the concave portion 41 is to be formed rather than the other wiring layers. It is formed as it exists.

次いで、図17に示すように、多層配線基板10Xの上方からドリル加工、または、レーザ光線の照射によって、多層配線基板10Xを貫通するようにしてスルーホール10Oを形成する。なお、ドリル径又はレーザ光線のビーム径に比してスルーホール10Oの開口部面積は十分に大きいので、通常は、多層配線基板10Xに対してドリル加工やレーザ光線の照射を複数回行い、照射毎に形成される比較的小さい複数のスルーホールを合体させることによって上記スルーホール10Oを形成する。   Next, as shown in FIG. 17, a through hole 10O is formed so as to penetrate through the multilayer wiring board 10X by drilling or irradiating with a laser beam from above the multilayer wiring board 10X. Since the opening area of the through hole 10O is sufficiently larger than the drill diameter or the laser beam diameter, the multilayer wiring board 10X is usually subjected to drilling or laser beam irradiation a plurality of times for irradiation. The through hole 10O is formed by combining a plurality of relatively small through holes formed every time.

次いで、スルーホール10Oの内壁面に、例えばめっき法によって金属膜42Xを形成する。   Next, a metal film 42X is formed on the inner wall surface of the through hole 10O by, for example, a plating method.

次いで、図18に示すように、多層配線基板10X及びスルーホール10Oを多層配線基板10Xの厚さ方向に切断し、スルーホール10Oの側端面(本実施形態では左側端面)を開放する。これによって、開放されたスルーホール10Oは、多層配線基板10Xに側面に開口した凹部41として機能し、金属膜42Xは凹部41の内壁面に形成された金属膜42として機能し、結果として図1及び図2に示すようなコネクタ接続用配線基板10を得ることができる。   Next, as shown in FIG. 18, the multilayer wiring board 10X and the through hole 10O are cut in the thickness direction of the multilayer wiring board 10X, and the side end face (left end face in the present embodiment) of the through hole 10O is opened. As a result, the opened through hole 10O functions as a recess 41 opened on the side surface of the multilayer wiring board 10X, and the metal film 42X functions as a metal film 42 formed on the inner wall surface of the recess 41, resulting in FIG. And the wiring board 10 for connector connection as shown in FIG. 2 can be obtained.

なお、金属膜42Xは、後に金属膜42として機能するので、金属膜42と同じ金、銀、銅、アルミニウムなどの高い導電性を有する金属材料から構成する。   Since the metal film 42X functions as the metal film 42 later, the metal film 42X is made of the same metal material as the metal film 42, such as gold, silver, copper, and aluminum.

(第4の実施形態)
次に、第2の実施形態のコネクタ接続用配線基板10−1の製造方法について説明する。図19〜図22は、本実施形態の製造方法における工程図を示す図である。なお、これらの図面は、第1の実施形態の図2に相当する断面図として表している。なお、図16〜図18に示す構成要素と類似あるいは同一の構成要素に関しては、同じ符号を用いている。
(Fourth embodiment)
Next, a manufacturing method of the connector connecting wiring board 10-1 of the second embodiment will be described. 19-22 is a figure which shows the process drawing in the manufacturing method of this embodiment. These drawings are shown as cross-sectional views corresponding to FIG. 2 of the first embodiment. In addition, the same code | symbol is used about the component similar to or the same as the component shown in FIGS.

最初に、第3の実施形態における図16及び図17に示す工程にしたがって、下から順に、第2の配線層12、第3の配線層13、第4の配線層14、及び第5の配線層15が、互いに離隔するようにして積層され、隣接する各配線層間には、それぞれ第2の絶縁層22〜第4の絶縁層24が配設され、さらに隣接する各配線層間を、それぞれ第2の層間接続体32〜第4の層間接続体34によって電気的に接続されてなり、内壁面に金属膜42Pを有するスルーホール10Oが形成された多層配線基板10P(第1の配線基板)を作製する(図19)。   First, in accordance with the steps shown in FIGS. 16 and 17 in the third embodiment, the second wiring layer 12, the third wiring layer 13, the fourth wiring layer 14, and the fifth wiring are sequentially arranged from the bottom. The layers 15 are stacked so as to be separated from each other, and second to fourth insulating layers 24 to 24 are disposed between the adjacent wiring layers, and further, the adjacent wiring layers are respectively connected to the first wiring layer. A multilayer wiring board 10P (first wiring board) that is electrically connected by the second interlayer connection body 32 to the fourth interlayer connection body 34 and has a through hole 10O having a metal film 42P on the inner wall surface is formed. Prepared (FIG. 19).

次いで、図20に示すように、例えば高粘度のエポキシ樹脂やNCFフィルム等の、後に示す加熱工程において流動化しないような非熱流動性の樹脂21X及び25Xによって、スルーホール10Oの上下の開口部を閉塞する。また、銀バンプあるいは銅バンプ31Qが貫通し、裏面上に第1の配線層11が形成されたプリプレグ21Qを含む第2の配線基板10Qを形成するとともに、銀バンプあるいは銅バンプ35Rが貫通し、裏面上に第6の配線層16が形成されたプリプレグ25Rを含む第3の配線基板10Rを形成する。   Next, as shown in FIG. 20, the upper and lower openings of the through hole 10O are formed by non-thermal fluid resins 21X and 25X, such as high viscosity epoxy resin and NCF film, which are not fluidized in the heating process described later. Occlude. Further, the second wiring substrate 10Q including the prepreg 21Q in which the silver bump or the copper bump 31Q penetrates and the first wiring layer 11 is formed on the back surface is formed, and the silver bump or the copper bump 35R penetrates, A third wiring substrate 10R including the prepreg 25R having the sixth wiring layer 16 formed on the back surface is formed.

次いで、第2の配線基板10Q、第1の配線基板10P及び第3の配線基板10Rをこの順に積層し、加圧下加熱することにより、第2の配線基板10Qのプリプレグ21Qを第1の配線基板10Pに対して融着させるとともに、第3の配線基板10Rのプリプレグ25Rを第1の配線基板10Pに対して融着させ、図21に示すような多層配線基板10Xを作製する。すなわち、下から順に、第1の配線層11、第2の配線層12、第3の配線層13、第4の配線層14、第5の配線層15及び第6の配線層16が、互いに離隔するようにして積層され、隣接する各配線層間には、それぞれ第1の絶縁層21〜第5の絶縁層25が配設され、さらに隣接する各配線層間を、それぞれ第1の層間接続体31〜第5の層間接続体35によって電気的に接続されてなる多層配線基板10Xを作製する。   Next, the second wiring board 10Q, the first wiring board 10P, and the third wiring board 10R are laminated in this order, and heated under pressure, so that the prepreg 21Q of the second wiring board 10Q is made to the first wiring board. While being fused to 10P, the prepreg 25R of the third wiring board 10R is fused to the first wiring board 10P to produce a multilayer wiring board 10X as shown in FIG. That is, in order from the bottom, the first wiring layer 11, the second wiring layer 12, the third wiring layer 13, the fourth wiring layer 14, the fifth wiring layer 15, and the sixth wiring layer 16 are mutually connected. The first insulating layer 21 to the fifth insulating layer 25 are disposed between the adjacent wiring layers which are stacked so as to be separated from each other, and each of the adjacent wiring layers is further connected to the first interlayer connection body. A multilayer wiring board 10X that is electrically connected by the 31st to 5th interlayer connectors 35 is produced.

なお、上述した加熱工程により、スルーホール10Oを閉塞していた樹脂21X及び25Xは、それぞれ第1の絶縁層21及び第5の絶縁層25と一体化し、見かけ上識別が困難となる。   It should be noted that the resins 21X and 25X closing the through hole 10O by the heating process described above are integrated with the first insulating layer 21 and the fifth insulating layer 25, respectively, and are apparently difficult to identify.

次いで、図22に示すように、多層配線基板10X(すなわち第1の配線基板10P,第2の配線基板10Q、及び第3の配線基板10R)及びスルーホール10Oを多層配線基板10Xの厚さ方向(すなわち第1の配線基板10P,第2の配線基板10Q、及び第3の配線基板10Rの積層方向)に切断し、スルーホール10Oの側端面(本実施形態では左側端面)を開放する。これによって、開放されたスルーホール10Oは、多層配線基板10Xに側面に開口した凹部41として機能し、金属膜42Pは凹部41の内壁面に形成された金属膜42として機能し、結果として図14及び図15に示すようなコネクタ接続用配線基板10−1を得ることができる。   Next, as shown in FIG. 22, the multilayer wiring board 10X (that is, the first wiring board 10P, the second wiring board 10Q, and the third wiring board 10R) and the through hole 10O are arranged in the thickness direction of the multilayer wiring board 10X. That is, it is cut into (that is, the stacking direction of the first wiring board 10P, the second wiring board 10Q, and the third wiring board 10R) to open the side end face (the left end face in the present embodiment) of the through hole 10O. As a result, the opened through hole 10O functions as a recess 41 opened on the side surface of the multilayer wiring board 10X, and the metal film 42P functions as a metal film 42 formed on the inner wall surface of the recess 41. As a result, FIG. And the connector connection wiring board 10-1 as shown in FIG. 15 can be obtained.

以上、本発明を上記具体例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記具体例に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいて、あらゆる変形や変更が可能である。   The present invention has been described in detail based on the above specific examples. However, the present invention is not limited to the above specific examples, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、上記実施形態では、配線層の数が6個の多層配線基板としてコネクタ接続用配線基板を構成しているが、配線層の数は必要に応じて任意の数とすることができる。   For example, in the above-described embodiment, the connector connection wiring board is configured as a multilayer wiring board having six wiring layers, but the number of wiring layers may be any number as necessary.

10、10−1 コネクタ接続用配線基板
11 第1の配線層
12 第2の配線層
13 第3の配線層
14 第4の配線層
15 第5の配線層
16 第6の配線層
21 第1の絶縁層
22 第2の絶縁層
23 第3の絶縁層
24 第4の絶縁層
25 第5の絶縁層
31 第1の層間接続体
32 第2の層間接続体
33 第3の層間接続体
34 第4の層間接続体
35 第5の層間接続体
41 凹部
42 金属膜
50 回路基板
51 (回路基板の)コネクタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10-1 Connector connection wiring board 11 1st wiring layer 12 2nd wiring layer 13 3rd wiring layer 14 4th wiring layer 15 5th wiring layer 16 6th wiring layer 21 1st Insulating layer 22 2nd insulating layer 23 3rd insulating layer 24 4th insulating layer 25 5th insulating layer 31 1st interlayer connection body 32 2nd interlayer connection body 33 3rd interlayer connection body 34 4th Interlayer connection body 35 Fifth interlayer connection body 41 Recess 42 Metal film 50 Circuit board 51 (circuit board) connector

Claims (8)

互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有し、コネクタを有する所定の基板を、前記コネクタを介して接続するための配線基板であって、
前記複数の絶縁層の少なくとも一つにおいて、前記配線基板の側面に開口し、前記配線基板の側面から内側に向けて前記コネクタを接続するための凹部が形成され、前記凹部の内壁面において、前記複数の配線層の少なくとも一つと電気的に接続された金属膜が形成されていることを特徴とする、コネクタ接続用配線基板。
A plurality of wiring layers disposed apart from each other, and each layer includes a plurality of insulating layers disposed between the plurality of wiring layers, and a predetermined substrate having a connector is connected via the connector A wiring board for
In at least one of the plurality of insulating layers, an opening is formed on a side surface of the wiring board, and a recess for connecting the connector from the side surface of the wiring board toward the inside is formed. A connector connecting wiring board, wherein a metal film electrically connected to at least one of a plurality of wiring layers is formed.
前記凹部の開口部の大きさが、前記凹部の内部の大きさよりも狭小化していることを特徴とする、請求項1に記載のコネクタ接続用配線基板。   2. The connector connection wiring board according to claim 1, wherein the size of the opening of the recess is narrower than the size of the inside of the recess. 前記凹部の開口部の大きさが、外側から内側へ向けて狭小化するように、前記開口部をテーパー状に形成したことを特徴とする、請求項2に記載のコネクタ接続用配線基板。   The connector connection wiring board according to claim 2, wherein the opening is formed in a tapered shape so that the size of the opening of the recess narrows from the outside toward the inside. 前記凹部は、前記配線基板の内部に形成され、前記配線基板の主面に開口していないことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一に記載のコネクタ接続用配線基板。   4. The connector-connecting wiring board according to claim 1, wherein the concave portion is formed inside the wiring board and is not opened in a main surface of the wiring board. 5. 互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有し、コネクタを有する所定の基板を、前記コネクタを介して接続するための配線基板の製造方法であって、
前記配線基板に、前記複数の配線層の少なくとも一つの先端が露出するようにしてスルーホールを形成する工程と、
前記スルーホールの内壁面に金属膜を形成する工程と、
前記配線基板及び前記スルーホールを、前記配線基板の厚さ方向に切断して、前記スルーホールを開口させる工程と、
を具えることを特徴とする、コネクタ接続用配線基板の製造方法。
A plurality of wiring layers disposed apart from each other, and each layer includes a plurality of insulating layers disposed between the plurality of wiring layers, and a predetermined substrate having a connector is connected via the connector A method of manufacturing a wiring board for performing
Forming a through hole in the wiring board so that at least one tip of the plurality of wiring layers is exposed; and
Forming a metal film on the inner wall surface of the through hole;
Cutting the wiring board and the through hole in the thickness direction of the wiring board to open the through hole; and
A method of manufacturing a connector-connecting wiring board, comprising:
互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有し、コネクタを有する所定の基板を、前記コネクタを介して接続するための配線基板の製造方法であって、
複数の第1の絶縁層それぞれによって互いに離隔された複数の第1の配線層を有する第1の配線基板に、スルーホールを形成する工程と、
前記スルーホールの内壁面に金属膜を形成する工程と、
前記スルーホールの上下開口部を非熱流動性の樹脂によって閉塞する工程と、
前記第1の配線基板の上下から、複数の第2の絶縁層によって互いに離隔された複数の第2の配線層を有する第2の配線基板、及び複数の第3の絶縁層によって互いに離隔された複数の第3の配線層を有する第3の配線基板を積層して接合する工程と、
前記第1の配線基板、前記第2の配線基板、前記第3の配線基板及び前記スルーホールを、前記第1の配線基板、前記第2の配線基板及び前記第3の配線基板の積層方向に切断して、前記スルーホールを開口させる工程と、
を具えることを特徴とする、コネクタ接続用配線基板の製造方法。
A plurality of wiring layers disposed apart from each other, and each layer includes a plurality of insulating layers disposed between the plurality of wiring layers, and a predetermined substrate having a connector is connected via the connector A method of manufacturing a wiring board for performing
Forming a through hole in a first wiring board having a plurality of first wiring layers separated from each other by a plurality of first insulating layers;
Forming a metal film on the inner wall surface of the through hole;
Clogging the upper and lower openings of the through hole with a non-thermal fluid resin;
A second wiring board having a plurality of second wiring layers separated from each other by a plurality of second insulating layers and a plurality of third insulating layers are separated from each other from above and below the first wiring board. Laminating and bonding a third wiring substrate having a plurality of third wiring layers;
The first wiring board, the second wiring board, the third wiring board, and the through hole are arranged in the stacking direction of the first wiring board, the second wiring board, and the third wiring board. Cutting and opening the through hole;
A method of manufacturing a connector-connecting wiring board, comprising:
コネクタを有する所定の基板と、
互いに離隔して配設された複数の配線層と、各層が、前記複数の配線層間に配設された複数の絶縁層とを有する配線基板とを具え、
前記基板と前記配線基板とは、前記基板の前記コネクタが、前記配線基板の側面から内側に向けて、前記複数の絶縁層の少なくとも一つにおいて形成され、内壁面に金属膜が形成された凹部と係合することによって接続されたことを特徴とする、基板/配線基板の接続構造。
A predetermined substrate having a connector;
A wiring board having a plurality of wiring layers disposed apart from each other and a plurality of insulating layers each disposed between the plurality of wiring layers;
The board and the wiring board are recesses in which the connector of the board is formed in at least one of the plurality of insulating layers from the side surface to the inside of the wiring board, and a metal film is formed on an inner wall surface. A board / wiring board connection structure, wherein the board / wiring board is connected by engaging with the board.
前記コネクタの基部においてスリットが形成されたことを特徴とする、請求項6に記載の基板/配線基板の接続構造。   The board / wiring board connection structure according to claim 6, wherein a slit is formed at a base of the connector.
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