JP2013077410A - Organic electroluminescent light-emitting device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Hiroyasu Inoue
弘康 井上
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Zeon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL light-emitting device which is improved in light extraction efficiency, has a light-emitting layer sufficiently sealed, is thin, and is hard to crack.SOLUTION: There are provided the organic EL light-emitting device and a method for manufacturing the same. The organic EL light-emitting device comprises a film base material having an uneven structure, a support substrate, a first electrode layer, a light-emitting layer, and a second electrode layer and is characterized by comprising a metal alkoxide layer between the support substrate and the film base material having the uneven structure.

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッサンス(以下、「有機EL」と略す場合がある)発光装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence (hereinafter sometimes abbreviated as “organic EL”) light-emitting device and a method for manufacturing the same.

複数層の電極間に有機発光層を設け、電気的に発光を得る有機EL素子は、液晶セルに
代わる表示素子としての利用の他に、その高発光効率、低電圧駆動、軽量、低コスト等の
特徴を生かした、平面型照明、液晶表示装置用バックライト等の発光装置としての利用
も検討されている。
An organic EL device that provides an organic light emitting layer between multiple layers of electrodes to obtain light emission is used as a display device instead of a liquid crystal cell, as well as its high luminous efficiency, low voltage drive, light weight, low cost, etc. Utilization of these features as a light emitting device such as a flat illumination and a backlight for a liquid crystal display device is also being studied.

有機EL素子を発光装置として利用する場合、有用な態様の光を有機EL素子から高効率で取り出すことが課題となる。例えば、有機EL素子の発光層自体は発光効率が高いものの、それが素子を構成する積層構造を透過して出光するまでの間に、層中における干渉等により光量が低減してしまうので、そのような光の損失を可能な限り低減することが求められる。   When using an organic EL element as a light-emitting device, it becomes a problem to extract useful light from the organic EL element with high efficiency. For example, although the light emitting layer itself of the organic EL element has high luminous efficiency, the light amount is reduced due to interference or the like in the layer before it emits light through the laminated structure constituting the element. Such light loss is required to be reduced as much as possible.

有機EL発光素子の光取出効率を向上させる方法として、光取出基板に種々の構造を設けることが知られている。例えば、出光面に、蛍光性化合物を含むプリズムを設けること(特許文献1)、微小レンズアレイを設けること(特許文献2)などが提案されている。これらの構造で良好な光量の向上を達成することができ、効率は向上する。   As a method for improving the light extraction efficiency of the organic EL light emitting device, it is known to provide various structures on the light extraction substrate. For example, it has been proposed to provide a prism containing a fluorescent compound on the light exit surface (Patent Document 1), and to provide a microlens array (Patent Document 2). With these structures, a good light quantity improvement can be achieved and the efficiency is improved.

一方、有機EL素子に使用される発光層(有機発光体)や、電子・正孔輸送材料等の有機固体は、一般的に水分や酸素に対して極めて不安定であり、外部環境からの水分や酸素の侵入を阻止すべく、発光層を封止する必要がある。そのため、ガラス基材やガスバリアフィルムを用いることは従来から検討されており、さらには、薄くて割れにくくすることを目的に、ガラス基材とフィルムを同時に用いる発光装置も検討されている(特許文献3)。   On the other hand, light emitting layers (organic light emitters) used in organic EL elements and organic solids such as electron and hole transport materials are generally extremely unstable with respect to moisture and oxygen, and moisture from the external environment In order to prevent oxygen and oxygen from entering, the light emitting layer needs to be sealed. Therefore, the use of a glass substrate and a gas barrier film has been studied from the past, and further, a light-emitting device using a glass substrate and a film at the same time is also studied for the purpose of making it thin and difficult to break (Patent Literature). 3).

特開2002−237381号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-237381 特開2003−59641号公報JP 2003-59641 A 特開2009−94050号公報JP 2009-94050 A

しかしながら、発光装置においては、光取出し効率をさらに向上させることが求められている。その上で、発光層の封止を十分にし、薄くて割れにくい有機EL発光装置も求められている。   However, the light emitting device is required to further improve the light extraction efficiency. In addition, an organic EL light-emitting device that sufficiently seals the light-emitting layer and is thin and difficult to break is also demanded.

特許文献3記載のガラス基材とフィルムを同時に用いる有機EL発光装置においては、ガラス基材とガスバリアフィルムとを接着層を介して接合しているが、接着層自体の厚みが2〜100μmの範囲である。この場合、接着層自体の屈折率の影響で、光が全反射してしまい、有機EL発光装置の光取出し効率が低下するという可能性もある。また、薄いガラスを使用した場合であっても、接着層自体の厚みから有機EL素子全体の厚くなるという弊害も予想される。その一方で単純に接着層自体を薄くすると、接合強度が不十分になる可能性もある。   In the organic EL light-emitting device using the glass substrate and the film described in Patent Document 3 at the same time, the glass substrate and the gas barrier film are bonded via an adhesive layer, but the thickness of the adhesive layer itself is in the range of 2 to 100 μm. It is. In this case, the light is totally reflected due to the influence of the refractive index of the adhesive layer itself, and the light extraction efficiency of the organic EL light-emitting device may be reduced. Even when thin glass is used, the adverse effect of increasing the thickness of the entire organic EL element from the thickness of the adhesive layer itself is also expected. On the other hand, if the adhesive layer itself is simply made thin, the bonding strength may be insufficient.

したがって、本発明の課題は、光取出し効率が高く、且つ厚さを増やすことなく耐久性を高めうる有機EL発光装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an organic EL light emitting device that has high light extraction efficiency and can enhance durability without increasing the thickness.

本発明者は前記の課題を解決するべく検討した結果、凹凸構造を有するフィルム基材を使用すると同時に、基板層とフィルム基材の接合において、シランカップリング剤を使用することによって、耐久性が高く、光取出し効率が高い有機EL発光素子を得ることができることを見出した。すなわち、本発明によれば、以下の〔1〕〜〔7〕が提供される。   As a result of studying to solve the above-mentioned problems, the present inventor uses a film substrate having a concavo-convex structure, and at the same time, by using a silane coupling agent in the bonding of the substrate layer and the film substrate, the durability is improved. It has been found that an organic EL light emitting device that is high and has high light extraction efficiency can be obtained. That is, according to the present invention, the following [1] to [7] are provided.

〔1〕凹凸構造を有するフィルム基材、支持基板、第1電極層、発光層、および第2電極層を有する有機EL発光装置であって、
支持基板と、凹凸構造を有するフィルム基材との間に金属アルコキシド層を有することを特徴とする有機EL発光装置。
〔2〕凹凸構造を有するフィルム基材、金属アルコキシド層、支持基板、第1電極層、発光層、第2電極層がこの順に配置されることを特徴とする〔1〕記載の有機EL発光装置。
〔3〕前記支持基板が、ガラス基材であることを特徴とする〔1〕または〔2〕に記載の有機EL発光装置。
〔4〕屈折率がガラス基材より大きい屈折率不連続構造層が、前記第1電極層のガラス基材側、または第2電極層の発光層のない側に配置されることを特徴とする〔3〕に記載の有機EL発光装置。
〔5〕前記ガラス基材の屈折率が1.65以上であることを特徴とする〔3〕または〔4〕に記載の有機EL発光装置。
〔6〕前記凹凸構造を有するフィルム基材の凹凸構造が、角錐形状又は角錐台形状である、請求項〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の有機EL発光装置。
〔7〕有機EL発光装置の製造方法であって、
凹凸構造を有するフィルム基材および、支持基板を表面処理する工程、
次いでシランカップリング剤で処理する工程、ならびに
凹凸構造を有するフィルム基材の表面処理した面と、支持基材の表面処理をした側を重ね合わせて、圧着する工程、
を含むことを特徴とする〔1〕〜〔6〕に記載の有機EL発光装置の製造方法。
[1] An organic EL light emitting device having a film substrate having a concavo-convex structure, a support substrate, a first electrode layer, a light emitting layer, and a second electrode layer,
An organic EL light emitting device comprising a metal alkoxide layer between a support substrate and a film substrate having a concavo-convex structure.
[2] The organic EL light-emitting device according to [1], wherein a film substrate having a concavo-convex structure, a metal alkoxide layer, a support substrate, a first electrode layer, a light-emitting layer, and a second electrode layer are arranged in this order. .
[3] The organic EL light-emitting device according to [1] or [2], wherein the support substrate is a glass substrate.
[4] The refractive index discontinuous structure layer having a refractive index larger than that of the glass substrate is disposed on the glass substrate side of the first electrode layer or on the side of the second electrode layer without the light emitting layer. [3] The organic EL light emitting device according to [3].
[5] The organic EL light-emitting device according to [3] or [4], wherein the glass substrate has a refractive index of 1.65 or more.
[6] The organic EL light-emitting device according to any one of [1] to [5], wherein the uneven structure of the film substrate having the uneven structure is a pyramid shape or a truncated pyramid shape.
[7] A method of manufacturing an organic EL light-emitting device,
A step of surface-treating a film substrate having a concavo-convex structure and a support substrate;
Next, the step of treating with the silane coupling agent, and the step of superposing and pressing the surface-treated surface of the film substrate having a concavo-convex structure and the surface-treated side of the supporting substrate,
The method for producing an organic EL light-emitting device according to any one of [1] to [6], comprising:

本発明の有機EL発光装置は、耐久性が高く、光取り出し効率が優れているだけでなく、容易に製造することができる。   The organic EL light-emitting device of the present invention has high durability and excellent light extraction efficiency, and can be easily manufactured.

図1は、本発明の第一実施形態に係る有機EL発光装置を模式的に示す斜視 図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing an organic EL light emitting device according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第一実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であっ て、図1に示す有機EL発光装置を線1a−1bを通り出光面に対して垂直な面で 切断した断面を 模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the organic EL light emitting device according to the first embodiment of the present invention, in which the organic EL light emitting device shown in FIG. 1 is cut along a plane perpendicular to the light exit surface through line 1a-1b. FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing the cross section taken. 図3は、本発明の第一実施形態に係る有機EL発光装置の出光面の一部を、 有機EL発光装置の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である 。FIG. 3 is a partial plan view schematically showing an enlarged view of a part of the light emission surface of the organic EL light emitting device according to the first embodiment of the present invention as viewed from the thickness direction of the organic EL light emitting device. 図4は、本発明の第一実施形態に係る凹凸構造層を、図3の線3aを通り出 光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional view schematically showing a cross section of the concavo-convex structure layer according to the first embodiment of the present invention cut along a plane that passes through the line 3a of FIG. 3 and is perpendicular to the light exit surface. 図5は、本発明の第二実施形態に係る有機EL発光装置を模式的に示す斜視 図である。FIG. 5 is a perspective view schematically showing an organic EL light emitting device according to the second embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第二実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であっ て、図5に示す有機EL発光装置の凹凸構造層を線5a−5bを通り出光面に対して 垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the organic EL light emitting device according to the second embodiment of the present invention. The concavo-convex structure layer of the organic EL light emitting device shown in FIG. 5 passes through lines 5a-5b and is perpendicular to the light exit surface. It is sectional drawing which shows typically the cross section cut | disconnected by the plane. 図7は、本発明の第三実施形態に係る有機EL発光装置を出光面に垂直な面 で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL light emitting device according to the third embodiment of the present invention taken along a plane perpendicular to the light exit surface. 図8は、本発明の第三実施形態に係る有機EL発光装置の凹凸構造層を出光 面に垂直な面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the concavo-convex structure layer of the organic EL light emitting device according to the third embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the light exit surface. 図9は、本発明の第四実施形態に係る有機EL発光装置を模式的に示す斜視 図である。FIG. 9 is a perspective view schematically showing an organic EL light emitting device according to the fourth embodiment of the present invention. 図10は、本発明の第四実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図で あって、図9に示す有機EL発光装置を線9a−9bを通り出光面に対して垂直な面 で切断した断面を模式的に示す断面図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the organic EL light emitting device according to the fourth embodiment of the present invention, and is cut by cutting the organic EL light emitting device shown in FIG. 9 along a line perpendicular to the light exit surface through lines 9a-9b. It is sectional drawing which shows the obtained cross section typically. 図11は、本発明の第五実施形態に係る有機EL発光装置を厚み方向から 見た様子を模式的に示す上面図である。FIG. 11 is a top view schematically showing a state in which the organic EL light emitting device according to the fifth embodiment of the present invention is viewed from the thickness direction. 図12は、本発明の第五実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図で あって 、図11に示す有機EL発光装置を、図11中の線11aを通る、出光面と 垂直な面で切断した断面を示す断面図である。FIG. 12 is a diagram for explaining an organic EL light emitting device according to a fifth embodiment of the present invention, in which the organic EL light emitting device shown in FIG. 11 is a surface that passes through a line 11a in FIG. It is sectional drawing which shows the cross section cut | disconnected by. 図13は、本発明の第六実施形態に係る有機EL発光装置を、その出光面 と垂直な面で切断した断面を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a cross section of the organic EL light emitting device according to the sixth embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the light exit surface. 図14は、本発明の第七実施形態に係る有機EL発光装置を模式的に示す 斜視図である。FIG. 14 is a perspective view schematically showing an organic EL light emitting device according to the seventh embodiment of the present invention. 図15は、本発明の第八実施形態に係る有機EL発光装置を厚み方向から 見た様子を模式的に示す上面図である。FIG. 15 is a top view schematically showing a state where the organic EL light emitting device according to the eighth embodiment of the present invention is viewed from the thickness direction. 図16は、本発明の第八実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図で あって、図15に示す有機EL発光装置を、図15中の線15aを通る、出光面と垂 直な面で切断した断面を示す断面図である。FIG. 16 is a diagram for explaining the organic EL light emitting device according to the eighth embodiment of the present invention. The organic EL light emitting device shown in FIG. 15 is perpendicular to the light emitting surface passing through the line 15a in FIG. It is sectional drawing which shows the cross section cut | disconnected by the surface. 図17は、第八実施形態に係る凹凸構造層の変形例を厚み方向から見た様 子を模式的に示す上面図である。FIG. 17 is a top view schematically showing a modification of the concavo-convex structure layer according to the eighth embodiment as viewed from the thickness direction. 図18は、本発明の第九実施形態に係る有機EL発光装置を模式的に示す 斜視図である。FIG. 18 is a perspective view schematically showing an organic EL light emitting device according to the ninth embodiment of the present invention. 図19は、第十実施形態に係る有機EL発光装置の断面を模式的に示す断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL light emitting device according to the tenth embodiment. 図20は、本発明の第十一実施形態に係る有機EL発光装置断面を 模式的に示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an organic EL light emitting device according to the eleventh embodiment of the present invention.

以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に説明する実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。特に凹凸構造層については、平坦部のない円錐形状、角錐形状、またはプリズム形状の凹凸構造体が複数並んだ構成も考えうる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples, but the present invention is not limited to the embodiments and examples described below, and the gist of the present invention and its equivalent scope. Any change can be made without departing from the scope of the invention. In particular, for the concavo-convex structure layer, a configuration in which a plurality of concavo-convex structures having a conical shape, a pyramid shape, or a prism shape without a flat portion are arranged can be considered.

〔1.第一実施形態〕
図1及び図2はいずれも本発明の第一実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であって、図1は有機EL発光装置を模式的に示す斜視図であり、図2は図1に示す有機EL発光装置を線1a−1bを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
[1. First embodiment]
1 and 2 are diagrams for explaining the organic EL light emitting device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view schematically showing the organic EL light emitting device, and FIG. It is sectional drawing which shows typically the cross section which cut | disconnected the organic EL light-emitting device shown in 1 in the surface perpendicular | vertical with respect to the light emission surface through line 1a-1b.

図1に示すように、本発明の第一実施形態に係る有機EL発光装置10は、矩形の平板状の構造を有する装置であり、有機EL素子140を備える。有機EL素子140は、少なくとも第一の電極層141、発光層142及び第二の電極層143を前記の順に備え、その表面144及び145のうち少なくとも一方の表面から発光できるようになっている。本実施形態では、第一の電極層141が透明電極となり、第二の電極層143が反射電極となっているものとする。このため、発光層142からの光は、第一の電極層141を透過するか、又は、第二の電極層143で反射されてから発光層142及び第一の電極層141を透過して、表面144から発光できるようになっている。したがって、以下の説明においては表面144を「発光面」と呼ぶ。   As shown in FIG. 1, the organic EL light emitting device 10 according to the first embodiment of the present invention is a device having a rectangular flat structure and includes an organic EL element 140. The organic EL element 140 includes at least a first electrode layer 141, a light emitting layer 142, and a second electrode layer 143 in the order described above, and can emit light from at least one of the surfaces 144 and 145. In the present embodiment, the first electrode layer 141 is a transparent electrode, and the second electrode layer 143 is a reflective electrode. For this reason, the light from the light emitting layer 142 is transmitted through the first electrode layer 141, or is reflected by the second electrode layer 143 and then transmitted through the light emitting layer 142 and the first electrode layer 141. Light can be emitted from the surface 144. Therefore, in the following description, the surface 144 is referred to as a “light emitting surface”.

有機EL素子140の発光面144側には出光面構造層100が設けられている。本実施形態では、出光面構造層100は発光面144に接するように直接に設けられているものとする。   The light emitting surface structure layer 100 is provided on the light emitting surface 144 side of the organic EL element 140. In the present embodiment, it is assumed that the light exit surface structure layer 100 is directly provided so as to be in contact with the light emitting surface 144.

さらに、本実施形態の有機EL発光装置10は上述した部材以外にも構成要素を備えていてもよい。本実施形態では、有機EL素子140の図中下側の面145に封止基材151が設けられているものとする。なお、図示を省略するが、表面145と封止基材151との間には、充填材や接着剤等の任意の物質が存在していてもよいし、空隙が存在していてもよい。空隙には、発光層142の耐久性を大きく損なう等の不都合がない限りは空気やその他の気体が存在してもよいし、空隙内を真空としてもよい。   Furthermore, the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment may include components in addition to the members described above. In the present embodiment, it is assumed that the sealing substrate 151 is provided on the lower surface 145 of the organic EL element 140 in the drawing. Although illustration is omitted, an arbitrary substance such as a filler or an adhesive may exist between the surface 145 and the sealing substrate 151, or a gap may exist. As long as there is no inconvenience such as greatly impairing the durability of the light emitting layer 142, air or other gas may be present in the space, or the space may be evacuated.

したがって、有機EL発光装置10は、封止基材151、有機EL素子140及び出光面構造層100をこの順に備え、出光面構造層100における有機EL素子140とは反対側の表面10Uから出光できるようになっている。なお、前記の表面10Uは有機EL発光装置10の最も外側に位置し、この表面10Uから有機EL発光装置10の外部へ光が出光することになるため、表面10Uを「出光面」と呼ぶ。   Therefore, the organic EL light emitting device 10 includes the sealing substrate 151, the organic EL element 140, and the light emitting surface structure layer 100 in this order, and can emit light from the surface 10U on the light emitting surface structure layer 100 opposite to the organic EL element 140. It is like that. The surface 10U is located on the outermost side of the organic EL light emitting device 10, and light is emitted from the surface 10U to the outside of the organic EL light emitting device 10. Therefore, the surface 10U is referred to as a “light emitting surface”.

〔1−1.有機EL素子〕
例えば有機EL素子140として例示するように、有機EL素子は、通常、2層以上の電極層と、これらの電極層間に設けられ、電極から電圧を印加されることにより発光する発光層と、を備える。
[1-1. Organic EL device]
For example, as exemplified by the organic EL element 140, the organic EL element usually includes two or more electrode layers and a light emitting layer that is provided between these electrode layers and emits light when a voltage is applied from the electrodes. Prepare.

有機EL素子は、基板上に有機EL素子を構成する電極、発光層等の層を形成し、さらにそれらの層を覆う封止部材を設け、基板と封止部材で発光層等の層を封止した構成とされるのが一般的である。通常、ここでいう基板側から出光する有機EL素子はボトムエミッション型と呼ばれ、封止部材側から出光する有機EL素子はトップエミッション型と呼ばれる。有機EL発光装置10に設けられる有機EL素子140は、これらのいずれであってもよい。ボトムエミッション型の場合、通常は、前記の基板と、さらに必要に応じて任意の層とを含む組み合わせが出光面構造層を構成する。他方、トップエミッション型の場合、通常は、封止部材等の出光面側の構造体と、さらに必要に応じて任意の層とを含む組み合わせが出光面構造層を構成する。   In the organic EL element, layers such as an electrode and a light emitting layer constituting the organic EL element are formed on a substrate, and a sealing member for covering those layers is provided, and the layer such as the light emitting layer is sealed with the substrate and the sealing member. It is common to have a stopped configuration. Usually, the organic EL element that emits light from the substrate side here is called a bottom emission type, and the organic EL element that emits light from the sealing member side is called a top emission type. Any of these may be sufficient as the organic EL element 140 provided in the organic EL light-emitting device 10. In the case of the bottom emission type, a combination of the above-described substrate and an optional layer as necessary constitutes the light-emitting surface structure layer. On the other hand, in the case of the top emission type, normally, a combination including a structure on the light exit surface side such as a sealing member and an optional layer as necessary constitutes the light exit surface structure layer.

発光層としては、特に限定されず既知のものを適宜選択することができる。発光層中の発光材料は1種類に限らず、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、発光層は1層に限られず、光源としての用途に適合すべく、一種の層単独又は複数種類の層の組み合わせとすることができる。これにより、白色又はそれに近い色の光を発光するものとしうる。   As a light emitting layer, it does not specifically limit but a known thing can be selected suitably. The light emitting material in the light emitting layer is not limited to one type, and two or more types may be used in combination at any ratio. In addition, the light emitting layer is not limited to one layer, and may be a single layer alone or a combination of a plurality of layers in order to be suitable for use as a light source. Thereby, light of white or a color close thereto can be emitted.

有機EL素子の電極は、特に限定されず既知のものを適宜選択することができる。第一実施形態にかかる有機EL素子140のように、出光面構造層100側の電極141を透明電極とし、反対側の電極143を反射電極とすることにより、出光面構造層100側に向けて発光面144から発光する有機EL素子とすることができる。また、両方の電極141及び143を透明電極とし、さらに出光面構造層100と反対側に反射部材または散乱部材(例えば、空気層を介して配置される白色散乱部材等)を有することにより、出光面構造層100側への発光を達成することもできる。   The electrode of the organic EL element is not particularly limited, and a known one can be appropriately selected. Like the organic EL element 140 according to the first embodiment, the electrode 141 on the light emitting surface structure layer 100 side is a transparent electrode, and the electrode 143 on the opposite side is a reflective electrode, so that the light emitting surface structure layer 100 side is directed. An organic EL element that emits light from the light emitting surface 144 can be obtained. Further, both electrodes 141 and 143 are transparent electrodes, and further have a reflecting member or a scattering member (for example, a white scattering member disposed through an air layer) on the side opposite to the light-emitting surface structure layer 100, so that Light emission to the surface structure layer 100 side can also be achieved.

有機EL素子140はさらに、電極141と電極143との間に、発光層142に加えてホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、及び電子注入層等の他の層(図示せず。)をさらに有していてもよい。また、有機EL素子140はさらに、電極141及び143に通電するための配線、発光層142の封止のための周辺構造等の任意の構成要素を備えていてもよい。   In addition to the light emitting layer 142, the organic EL element 140 further includes other layers (not shown) such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer between the electrode 141 and the electrode 143. May further be included. Further, the organic EL element 140 may further include arbitrary components such as a wiring for energizing the electrodes 141 and 143 and a peripheral structure for sealing the light emitting layer 142.

電極及びその間に設ける層を構成する材料としては、特に限定されないが、具体例として下記のものを挙げることができる。
透明電極の材料としては、ITO(酸化インジウムスズ)等を挙げることができる。 正孔注入層の材料としては、スターバースト系芳香族ジアミン化合物等を挙げることができる。
正孔輸送層の材料としては、トリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。 黄色発光層のホスト材料としては、トリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができ、黄色発光層のドーパント材料としては、テトラセン誘導体等を挙げることができる。 緑色発光層の材料としては、ピラゾリン誘導体等を挙げることができる。
青色発光層のホスト材料としては、アントラセン誘導体等を挙げることができ、青色発光層のドーパント材料としては、ペリレン誘導体等を挙げることができる。
赤色発光層の材料としては、ユーロピウム錯体等を挙げることができる。
電子輸送層の材料としては、アルミニウムキノリン錯体(Alq)等を挙げることができる。
反射電極の材料としては、フッ化リチウムおよびアルミニウムをそれぞれ用い、これらを順次真空成膜により積層させたもの等を挙げることができる。
Although it does not specifically limit as a material which comprises an electrode and the layer provided among them, The following can be mentioned as a specific example.
Examples of the material for the transparent electrode include ITO (indium tin oxide). Examples of the material for the hole injection layer include a starburst aromatic diamine compound.
Examples of the material for the hole transport layer include a triphenyldiamine derivative. Examples of the host material for the yellow light emitting layer include triphenyldiamine derivatives, and examples of the dopant material for the yellow light emitting layer include tetracene derivatives. Examples of the material for the green light emitting layer include pyrazoline derivatives.
Examples of the host material for the blue light emitting layer include anthracene derivatives, and examples of the dopant material for the blue light emitting layer include perylene derivatives.
Examples of the material for the red light emitting layer include a europium complex.
Examples of the material for the electron transport layer include aluminum quinoline complex (Alq).
Examples of the material for the reflective electrode include lithium fluoride and aluminum, which are sequentially laminated by vacuum film formation.

上記のもの又はその他の発光層を適宜組み合わせて積層型又はタンデム型と呼ばれる、補色関係にある発光色を発生する発光層を得ることができる。補色関係の組み合わせは、黄/青、又は緑/青/赤等とすることができる。   By appropriately combining the above or other light-emitting layers, a light-emitting layer that generates a light emission color having a complementary color relationship, which is referred to as a stacked type or a tandem type, can be obtained. The combination of complementary colors can be yellow / blue, green / blue / red, or the like.

〔1−2.出光面構造層〕
出光面構造層100は、有機EL素子140の発光面144に設けられた層である。出光面10Uは、出光面構造層100における有機EL素子140とは反対側の表面である。この出光面10Uは有機EL発光装置10の最表面に露出した面であり、有機EL発光装置10としての出光面、即ち、有機EL発光装置10から装置外部に光が出光する際の出光面である。
[1-2. (Light emitting surface structure layer)
The light emitting surface structure layer 100 is a layer provided on the light emitting surface 144 of the organic EL element 140. The light exit surface 10U is the surface of the light exit surface structure layer 100 opposite to the organic EL element 140. The light emitting surface 10U is a surface exposed on the outermost surface of the organic EL light emitting device 10, and is a light emitting surface as the organic EL light emitting device 10, that is, a light emitting surface when light is emitted from the organic EL light emitting device 10 to the outside of the device. is there.

出光面10Uは、巨視的に見ると、有機EL素子140の発光面144に対して平行な面であり、有機EL発光装置10の主面に対して平行である。しかし、出光面10Uは、微視的に見ると、後述する凹凸構造を有するため、凹部又は凸部上の面は発光面144に対して非平行な角度をなしうる。そこで、以下の説明において、出光面に対して平行又は垂直であるとは、別に断らない限り、凹部又は凸部を無視して巨視的に見た出光面に対して平行又は垂直であることをいう。また、有機EL発光装置10は、別に断らない限り、かかる出光面10Uが水平方向に対して平行で且つ上向きになるよう載置した状態で説明する。
さらに、構成要素が「平行」又は「垂直」であるとは、本発明の効果を損ねない範囲、例えば±5°の範囲内で誤差を含んでいてもよい。
When viewed macroscopically, the light exit surface 10 </ b> U is a surface parallel to the light emitting surface 144 of the organic EL element 140 and parallel to the main surface of the organic EL light emitting device 10. However, when the light exit surface 10U is microscopically viewed, the light exit surface 10U has a concavo-convex structure, which will be described later. Therefore, in the following description, being parallel or perpendicular to the light exit surface means that it is parallel or perpendicular to the light exit surface viewed macroscopically ignoring the recesses or projections unless otherwise specified. Say. Further, the organic EL light emitting device 10 will be described in a state where the light emitting surface 10U is placed so as to be parallel and upward with respect to the horizontal direction unless otherwise specified.
Further, the fact that the component is “parallel” or “vertical” may include an error within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, ± 5 °.

出光面構造層100は、凹凸構造層111及び基材フィルム層112を含む凹凸構造を有するフィルム基材110と、支持基板131と、凹凸構造を有するフィルム基材110及び支持基板131を接着する金属アルコキシド層121とを備える。
凹凸構造層111は、有機EL発光装置10の上面(即ち有機EL発光装置10の出光面側の最外層)に位置する層である。この凹凸構造層111は、複数の凹部113と、凹部113の周囲に位置する平坦部114とを含む凹凸構造を有する。ここで、前記の凹部113は平坦部114に比べて相対的に窪んでいる部分であるため本発明に係る凹部に当たり、平坦部114は凹部113に比べて相対的に突出しているため本発明に係る凸部に当たる。そして、当該凹凸構造により、出光面10Uが規定される。
The light exit surface structure layer 100 is a metal that adheres the film base 110 having a concavo-convex structure including the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112, the support substrate 131, and the film base 110 and the support substrate 131 having the concavo-convex structure. And an alkoxide layer 121.
The uneven structure layer 111 is a layer located on the upper surface of the organic EL light emitting device 10 (that is, the outermost layer on the light emitting surface side of the organic EL light emitting device 10). The concavo-convex structure layer 111 has a concavo-convex structure including a plurality of concave portions 113 and flat portions 114 positioned around the concave portions 113. Here, since the concave portion 113 is a portion that is relatively depressed as compared with the flat portion 114, the concave portion 113 hits the concave portion according to the present invention, and the flat portion 114 protrudes relative to the concave portion 113, so that the present invention is applied. It hits the convex part. And the light emission surface 10U is prescribed | regulated by the said uneven structure.

なお、本明細書においては、図面は模式的な図示であるため、出光面10U上には僅かな個数の凹部113のみを示しているが、実際の有機EL発光装置においては、一枚の有機EL発光装置の出光面上に、これよりも遥かに多い数の凹部を設けることができる。   In the present specification, since the drawings are schematic, only a small number of recesses 113 are shown on the light exit surface 10U. However, in an actual organic EL light emitting device, one organic A much larger number of recesses can be provided on the light exit surface of the EL light emitting device.

(凹凸構造の説明)
以下、出光面10Uの凹凸構造について、図面を参照して詳細に説明する。
図3は、有機EL発光装置10の出光面10Uの一部を、有機EL発光装置10の厚み方向から見た様子を拡大して模式的に示す部分平面図である。また、図4は、凹凸構造層111を、図3の線3aを通り出光面10Uに対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す部分断面図である。なお、以下の説明において、特に断らない限り、「厚み方向」とは有機EL発光装置の厚み方向を表す。
(Description of uneven structure)
Hereinafter, the uneven structure of the light exit surface 10U will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 3 is a partial plan view schematically showing an enlarged view of a part of the light exit surface 10U of the organic EL light emitting device 10 as viewed from the thickness direction of the organic EL light emitting device 10. FIG. 4 is a partial cross-sectional view schematically showing a cross section of the concavo-convex structure layer 111 taken along a plane that passes through the line 3a of FIG. 3 and is perpendicular to the light exit surface 10U. In the following description, unless otherwise specified, “thickness direction” represents the thickness direction of the organic EL light emitting device.

図3に示すように、出光面構造層100は、出光面10Uに、斜面11A〜11Dを含む複数の凹部113と、凹部113の周囲に位置する平坦部114とを含む。ここで「斜面」とは、出光面10Uに対して平行でない角度をなす面である。他方、平坦部114上の面は、出光面10Uに対して平行で平坦な面となっている。   As shown in FIG. 3, the light exit surface structure layer 100 includes a plurality of recesses 113 including slopes 11 </ b> A to 11 </ b> D and a flat portion 114 positioned around the recess 113 on the light exit surface 10 </ b> U. Here, the “slope” is a surface that forms an angle that is not parallel to the light exit surface 10U. On the other hand, the surface on the flat part 114 is a flat surface parallel to the light exit surface 10U.

複数の凹部113のぞれぞれは正四角錐形状の窪みである。したがって、凹部113の斜面11A〜11Dは同一の形状であり、前記正四角錐の底辺11E〜11Hは正方形を構成する。なお、図3において線3aは、一列の凹部113の全ての頂点11Pの上を通る線であり、且つ凹部113の底辺11E及び11Gに対して平行な線である。   Each of the plurality of recesses 113 is a regular quadrangular pyramid shaped depression. Accordingly, the slopes 11A to 11D of the recess 113 have the same shape, and the bases 11E to 11H of the regular quadrangular pyramid form a square. In FIG. 3, the line 3 a is a line that passes over all the vertices 11 </ b> P of the row of recesses 113 and is parallel to the bases 11 </ b> E and 11 </ b> G of the recess 113.

各凹部113は、その底辺11F〜11Hの長さを通常1〜60μmとすることができ、好ましくは2〜50μmである。各凹部113の深さは、通常1〜50μmとすることができ、好ましくは2〜40μmである。   Each recess 113 can have a length of the bases 11F to 11H of usually 1 to 60 μm, preferably 2 to 50 μm. The depth of each recessed part 113 can be normally 1-50 micrometers, Preferably it is 2-40 micrometers.

凹部113は、一定の間隔をおいて、直交する2つの面内方向X及びYに沿って連続して配置されている。そして、前記の面内方向X及びYにおいて、隣り合う凹部113の間の隙間に当たる部分が、平坦部114を構成している。したがって、出光面構造層100は、出光面10Uに対して平行な面内方向X及びYにおいて、凹部113と平坦部114とを交互に有することになっている。ここで、かかる2つの面内方向X及びYのうち、一方の面内方向Xは底辺11E及び11Gに対して平行である。この面内方向Xにおいて、複数の凹部113は一定の間隔11Jをおいて整列している。また、2つの面内方向X及びYのうち、他方の面内方向Yは底辺11F及び11Hに対して平行である。この面内方向Yにおいて複数の凹部113は一定の間隔11Kをおいて整列している。ここで、前記隙間に相当する部分である平坦部114は、その幅寸法を通常0.1〜20μmとすることができる。   The recess 113 is continuously disposed along two orthogonal in-plane directions X and Y at a constant interval. In the in-plane directions X and Y, the portion corresponding to the gap between the adjacent recesses 113 constitutes a flat portion 114. Therefore, the light exit surface structure layer 100 has alternately the recesses 113 and the flat portions 114 in the in-plane directions X and Y parallel to the light exit surface 10U. Here, of the two in-plane directions X and Y, one in-plane direction X is parallel to the bases 11E and 11G. In the in-plane direction X, the plurality of recesses 113 are aligned at a constant interval 11J. Of the two in-plane directions X and Y, the other in-plane direction Y is parallel to the bases 11F and 11H. In the in-plane direction Y, the plurality of recesses 113 are aligned at a constant interval 11K. Here, the flat part 114 which is a part corresponding to the gap may have a width dimension of usually 0.1 to 20 μm.

図4に示すように、凹部113のそれぞれを構成する斜面11A〜11Dが平坦部114(ひいては、出光面10U)となす角11L及び11Mは、40°以上が好ましく、45°以上がより好ましく、また、70°以下が好ましく、60°以下がより好ましい。また、本実施形態のように凹部113の形状が四角錐である場合、その頂角11Nは、60°〜90°とすることが好ましい。さらに、観察角度による色味の変化を最小限にしつつ光取出効率も高めるという観点からは、斜面11A〜11Dと平坦部114とがなす角11L及び11Mは大きいほうが好ましく、具体的には例えば55°以上とすることが好ましく、60°以上とすることがさらにより好ましい。この場合、かかる角11L及び11Mの上限は、凹凸構造層111の耐久性の維持を考慮し、通常は70°である。
本実施形態では、図4に示すように、斜面11A〜11Dが平坦部114となす角11L及び11Mは60°に設定されているものとする。これにより、凹部113を構成する正四角錐の頂角、即ち頂点11Pにおいて相対向する斜面がなす角(斜面11B及び11Dがなす角については、図4に示す角11N)も60°となっている。
As shown in FIG. 4, the angles 11L and 11M formed by the inclined surfaces 11A to 11D constituting the concave portions 113 and the flat portion 114 (and thus the light exit surface 10U) are preferably 40 ° or more, more preferably 45 ° or more, Moreover, 70 degrees or less are preferable and 60 degrees or less are more preferable. Moreover, when the shape of the recessed part 113 is a quadrangular pyramid like this embodiment, it is preferable that the vertex angle 11N shall be 60 degrees-90 degrees. Furthermore, from the viewpoint of increasing the light extraction efficiency while minimizing the change in color depending on the observation angle, the angles 11L and 11M formed by the inclined surfaces 11A to 11D and the flat portion 114 are preferably large. It is preferable that the angle is not less than 60 °, and it is even more preferable that the angle be not less than 60 °. In this case, the upper limit of the corners 11L and 11M is usually 70 ° in consideration of maintaining the durability of the uneven structure layer 111.
In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the angles 11L and 11M formed by the inclined surfaces 11A to 11D with the flat portion 114 are set to 60 °. As a result, the apex angle of the regular quadrangular pyramid that forms the recess 113, that is, the angle formed by the opposing inclined surfaces at the apex 11P (the angle 11N shown in FIG. 4 for the angles formed by the inclined surfaces 11B and 11D) is also 60 °. .

さらに、本実施形態の有機EL発光装置10の出光面10Uでは、隣り合う凹部113の底と凸部の先端との、有機EL発光装置10の厚み方向における距離が、所定の範囲で不揃いになっていてもよい。
ここで、凹部113の底とは、凹部113それぞれにおいて最も窪んだ部分を指し、有機EL発光装置10の厚み方向における発光面144までの距離が最も短くなる部分を指す。本実施形態では、各凹部113の頂点11Pが凹部113の底に当たる。
また、凸部の先端とは、凸部それぞれにおいて最も突出した部分を指し、有機EL発光装置10の厚み方向における発光面144までの距離が最も長くなる部分を指す。本実施形態では平坦部114が発光面144に対して平行な平坦面となっているので、平坦部114自体が凸部の先端に当たる。
Furthermore, in the light emission surface 10U of the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment, the distances in the thickness direction of the organic EL light emitting device 10 between the bottoms of the adjacent concave portions 113 and the tips of the convex portions are uneven within a predetermined range. It may be.
Here, the bottom of the recess 113 indicates the most depressed portion in each of the recesses 113, and indicates the portion where the distance to the light emitting surface 144 in the thickness direction of the organic EL light emitting device 10 is the shortest. In the present embodiment, the apex 11P of each recess 113 hits the bottom of the recess 113.
Further, the tip of the convex portion refers to a portion that protrudes most in each convex portion, and refers to a portion that has the longest distance to the light emitting surface 144 in the thickness direction of the organic EL light emitting device 10. In the present embodiment, since the flat portion 114 is a flat surface parallel to the light emitting surface 144, the flat portion 114 itself hits the tip of the convex portion.

したがって、本実施形態の有機EL発光装置10においては、出光面10Uにおいて隣り合う凹部113と平坦部114とを対比した場合に、その隣り合う凹部113の底(即ち、凹部113の頂点11P)と凸部の先端(即ち、平坦部114)との、有機EL発光装置10の厚み方向における距離(以下、適宜、「隣り合う凹凸の高低差」という。)Hが所定の範囲で不揃いにすることもできる。この際、前記の所定の範囲とは、標準偏差(標本標準偏差)σが、通常0.05μm以上、好ましくは0.06μm以上、より好ましくは0.08μm以上となる範囲となりえる。   Therefore, in the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment, when the concave portion 113 and the flat portion 114 adjacent to each other on the light exit surface 10U are compared, the bottom of the adjacent concave portion 113 (that is, the vertex 11P of the concave portion 113) and The distance in the thickness direction of the organic EL light-emitting device 10 (hereinafter, referred to as “the difference in height between adjacent irregularities”) H with the tip of the convex portion (that is, the flat portion 114) is uneven within a predetermined range. You can also. At this time, the predetermined range may be a range in which the standard deviation (sample standard deviation) σ is usually 0.05 μm or more, preferably 0.06 μm or more, more preferably 0.08 μm or more.

隣り合う凹凸の高低差Hを、前記のように所定の範囲で不揃いにすることにより、出光面10Uからの光の取出効率を改善でき、且つ、反射光による虹ムラを抑制できる。また、隣り合う凹凸の高低差Hの標準偏差σが、出光面10Uの全体において所定の範囲に収まるように不揃いにすればよいのであるから、凹部113及び平坦部114それぞれには過度に高い寸法精度が要求されないので、量産が容易であり、製造コストを安価にできる。特に、前記の隣り合う凹凸の高低差Hの標準偏差σの範囲の下限値は、虹ムラの輝度プロファイルを50%以下にし、目視において虹ムラを認識し難くできる点で意義がある。   By making the height difference H of adjacent unevenness uneven within a predetermined range as described above, the light extraction efficiency from the light exit surface 10U can be improved, and rainbow unevenness due to reflected light can be suppressed. In addition, since the standard deviation σ of the height difference H between adjacent irregularities may be uneven so that it falls within a predetermined range in the entire light exit surface 10U, the recess 113 and the flat portion 114 have excessively high dimensions. Since accuracy is not required, mass production is easy and manufacturing costs can be reduced. Particularly, the lower limit value of the range of the standard deviation σ of the height difference H of the adjacent unevenness is significant in that the brightness profile of the rainbow unevenness is set to 50% or less and the rainbow unevenness cannot be recognized visually.

また、前記の所定の範囲の上限は、標準偏差σで、通常0.5μm以下、好ましくは0.4μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。隣り合う凹凸の高低差Hの不揃いの程度(バラツキ)を過度に大きくすると、その凹凸構造の態様にもよるが、有機EL発光装置10の生産工程においてキズが多数発生し、安定した生産が困難となるおそれがある。   The upper limit of the predetermined range is a standard deviation σ and is usually 0.5 μm or less, preferably 0.4 μm or less, more preferably 0.3 μm or less. If the unevenness level (variation) of the unevenness H of adjacent unevenness is excessively large, depending on the form of the uneven structure, many scratches are generated in the production process of the organic EL light emitting device 10 and stable production is difficult. There is a risk of becoming.

本実施形態において、凹部113の頂点11Pの高さ及び平坦部114の高さのうち一方又は両方が不揃いになっていることにより、隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていればよい。ここでは、図2及び図4に示すように、凹部113の頂点11Pの高さは一定に揃っているが、平坦部114の高さが不揃いになっていることにより、隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっているものとして説明する。なお、前記のように平坦部114の高さが不揃いになっている場合には平坦部114には段差が存在するが、前記の不揃いの程度が小さいので前記の段差も小さい。そこで、図1及び図3では、平坦部114において前記の段差は図示を省略する。   In the present embodiment, it is only necessary that one or both of the height of the apex 11 </ b> P of the recess 113 and the height of the flat portion 114 are uneven, so that the height difference H of the adjacent unevenness is uneven. Here, as shown in FIGS. 2 and 4, the heights of the vertices 11 </ b> P of the concave portion 113 are uniform, but the height of the flat portion 114 is not uniform, so that the height difference between adjacent irregularities is different. A description will be given assuming that H is uneven. In addition, when the height of the flat part 114 is uneven as described above, there is a step in the flat part 114, but since the degree of the unevenness is small, the step is also small. Therefore, in FIG. 1 and FIG. 3, illustration of the step in the flat portion 114 is omitted.

このように、隣り合う凹凸の高低差Hを、その標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いにすることにより、虹ムラを抑制できる理由は定かではないが、本発明者の検討によれば以下の理由によるものと推察される。
外部から出光面10Uに向けて光が照射された場合、出光面10Uで光が反射したり、有機EL発光装置10の内部に進入した光が内部の層界面で反射したりして、反射光が生じる。前記の反射光は、出光面10Uで反射する時、および、有機EL発光装置10の内部から外部へ出る時などに、出光面10Uにおいて回折及び屈折などを生じることがある。従来は、前記の回折及び屈折などを生じた光が干渉することにより、虹ムラを生じていたと考えられる。これに対し、本実施形態の有機EL発光装置10では、出光面10Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hを不揃いにしたことにより、干渉の強さを弱めることができるようになるので、虹ムラを解消できると考えられる。
As described above, it is not clear why the rainbow unevenness can be suppressed by making the height difference H of the adjacent unevenness uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. This is probably due to the following reasons.
When light is emitted from the outside toward the light exit surface 10U, the light is reflected by the light exit surface 10U, or the light that has entered the organic EL light emitting device 10 is reflected by the internal layer interface, and reflected light. Occurs. The reflected light may be diffracted and refracted on the light exit surface 10U when reflected on the light exit surface 10U and when going out from the inside of the organic EL light emitting device 10. Conventionally, it is considered that the rainbow unevenness is caused by the interference of the light having the diffraction and refraction described above. On the other hand, in the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment, the unevenness of the uneven height H adjacent to the light exit surface 10U can be reduced, so that the intensity of interference can be reduced. It can be solved.

出光面10Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hは、測定箇所を無作為に抽出し、レーザー顕微鏡(VK−9700:キーエンス社製)を用いて高さ(断面プロファイル)を測定し、その断面プロファイルから求めることができる。通常は、出光面10Uに対して平行な所定の測定方向に沿って、長さ100μmにわたって前記の断面プロファイルを測定すればよい。測定された断面プロファイルから、隣り合う一対の凹部及び凸部を凹凸一単位とし、この凹凸一単位における断面プロファイルの最大値(凸部の先端に対応する。)と最小値(凹部の底に対応する)との差を求め、この差を凹凸一単位において隣り合う凹凸の高低差Hとする。また、精度を高める観点から測定は複数箇所で行うことが好ましく、例えば15点で行うことが好ましい。こうして測定された隣り合う凹凸の高低差Hから、標準偏差σを測定すればよい。また、前記の測定方向は、出光面10Uにおける凹凸の配置が予め分かっている場合には前記の高低差Hが最も大きくなる方向に対して平行な方向を設定すればよい。また、凹凸の配置が不明である場合、出光面10Uに対して平行な面内方向のうち、少なくとも1方向において、前記の標準偏差が前記の要件を満たしていればよい。   The height difference H of the unevenness adjacent to the light exit surface 10U is obtained by randomly extracting measurement points and measuring the height (cross-sectional profile) using a laser microscope (VK-9700: manufactured by Keyence Corporation). Can be sought. Usually, the cross-sectional profile may be measured over a length of 100 μm along a predetermined measurement direction parallel to the light exit surface 10U. Based on the measured cross-sectional profile, a pair of adjacent concave and convex portions is defined as one unit of unevenness, and the maximum value (corresponding to the tip of the convex portion) and the minimum value (corresponding to the bottom of the concave portion) in this uneven unit. And the difference is defined as the height difference H of the concavities and convexities adjacent to each other in one unit of concavity and convexity. Further, from the viewpoint of improving accuracy, the measurement is preferably performed at a plurality of locations, for example, at 15 points. The standard deviation σ may be measured from the height difference H between the adjacent irregularities thus measured. Moreover, what is necessary is just to set the said measurement direction parallel to the direction where the said height difference H becomes the largest, when arrangement | positioning of the unevenness | corrugation in the light emission surface 10U is known beforehand. Further, when the arrangement of the unevenness is unknown, it is only necessary that the standard deviation satisfies the requirement in at least one of the in-plane directions parallel to the light exit surface 10U.

隣り合う凹凸の高低差Hは、出光面10Uを様々な面内方向(出光面10Uに対して平行な面内の様々な方向)に沿って測定した中心線平均粗さの最大値(Ra(max))として、通常、1μm〜50μmの範囲内とする。
また、凹凸構造層111の厚さTに対して相対的に、隣り合う凹凸の高低差Hの好ましい範囲を定めることができる。例えば、凹凸構造層111の材料として、凹凸構造層111の耐久性の維持に有利な硬質の材料を用いた場合、凹凸構造層111の厚さTを薄くしたほうが、凹凸構造を有するフィルム基材110の可撓性が高まり、有機EL発光装置10の製造工程における凹凸構造を有するフィルム基材110の取り扱いが容易となる。具体的には、図4に示す隣り合う凹凸の高低差Hと凹凸構造層111の厚さTとの差T−Hが、0〜30μmとなるようにすることが好ましい。
The difference in height H between adjacent irregularities is the maximum value (Ra () of the center line average roughness measured on the light emitting surface 10U along various in-plane directions (various directions in a plane parallel to the light emitting surface 10U). max)) is usually in the range of 1 μm to 50 μm.
In addition, it is possible to define a preferable range of the height difference H between the adjacent unevenness relative to the thickness T of the uneven structure layer 111. For example, when a hard material advantageous for maintaining the durability of the concavo-convex structure layer 111 is used as the material of the concavo-convex structure layer 111, a film substrate having a concavo-convex structure is obtained by reducing the thickness T of the concavo-convex structure layer 111. The flexibility of 110 increases, and the handling of the film substrate 110 having a concavo-convex structure in the manufacturing process of the organic EL light emitting device 10 becomes easy. Specifically, it is preferable that the difference TH between the height difference H of adjacent unevenness shown in FIG. 4 and the thickness T of the uneven structure layer 111 is 0 to 30 μm.

凹凸構造層111を出光面10Uに垂直な方向から観察した場合における、平坦部114が占める面積と凹部113が占める面積との合計に対する、平坦部114が占める面積の割合(以下、「平坦部割合」という。)を適宜調節することにより、有機EL発光装置10の光取出効率を向上させることができる。具体的には、平坦部割合を10%〜75%とすることにより、良好な光取出効率を得ることができ、且つ出光面10Uの機械的強度を高めることができる。   When the concavo-convex structure layer 111 is observed from a direction perpendicular to the light exit surface 10U, the ratio of the area occupied by the flat portion 114 to the total area occupied by the flat portion 114 and the area occupied by the concave portion 113 (hereinafter referred to as “flat portion ratio”). The light extraction efficiency of the organic EL light emitting device 10 can be improved by appropriately adjusting “. Specifically, when the flat portion ratio is 10% to 75%, good light extraction efficiency can be obtained, and the mechanical strength of the light exit surface 10U can be increased.

(凹凸構造を有するフィルム基材の材料の説明)
出光面構造層100は、複数の層からなるものとしうるが、単一の層からなってもよい。本実施形態では、図1に示すように、出光面構造層100は、凹凸構造層111と基材フィルム層112とを組み合わせた凹凸構造を有するフィルム基材110を含むようになっているものとする。
(Description of film base material having uneven structure)
The light exit surface structure layer 100 may be composed of a plurality of layers, but may be composed of a single layer. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the light exit surface structure layer 100 includes a film substrate 110 having an uneven structure in which an uneven structure layer 111 and a base film layer 112 are combined. To do.

凹凸構造層111及び基材フィルム層112は、通常、透明樹脂を含む樹脂組成物により形成することができる。透明樹脂が「透明」であるとは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味である。本実施形態においては、出光面構造層100を構成する各層が、光学部材に用いるのに適した光線透過率を有するものとすればよく、出光面構造層100全体として80%以上の全光線透過率を有するものとすればよい。   The concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112 can usually be formed of a resin composition containing a transparent resin. That the transparent resin is “transparent” means that it has a light transmittance suitable for use in an optical member. In the present embodiment, each layer constituting the light exit surface structure layer 100 may have a light transmittance suitable for use in an optical member, and the light exit surface structure layer 100 as a whole has a total light transmittance of 80% or more. It is sufficient to have a rate.

樹脂組成物に含まれる透明樹脂は、特に限定されず、透明な層を形成することができる
各種の樹脂を用いることができる。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性
樹脂、電子線硬化性樹脂を挙げることができる。なかでも熱可塑性樹脂は熱による変形が
容易であるため、また紫外線硬化性樹脂は硬化性が高く効率が良いため、凹凸構造層11
1の効率的な形成が可能となり、それぞれ好ましい。
The transparent resin contained in the resin composition is not particularly limited, and various resins that can form a transparent layer can be used. Examples thereof include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and an electron beam curable resin. Among them, the thermoplastic resin is easily deformed by heat, and the ultraviolet curable resin is highly curable and efficient, so that the concavo-convex structure layer 11
1 can be formed efficiently and each is preferable.

熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系、ポリアクリレート系、シクロオレフィンポリマー系等の樹脂を挙げることができる。また紫外線硬化性樹脂としては、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エン/チオール系、イソシアネート系等の樹脂を挙げることができる。これらの樹脂としては、複数個の重合性官能基を有するものを好ましく用いることができる。なお、前記の樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the thermoplastic resin include polyester, polyacrylate, and cycloolefin polymer resins. Examples of the ultraviolet curable resin include epoxy resins, acrylic resins, urethane resins, ene / thiol resins, and isocyanate resins. As these resins, those having a plurality of polymerizable functional groups can be preferably used. In addition, the said resin may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

なかでも、凹凸構造を有するフィルム基材110を構成する凹凸構造層111の材料としては、出光面10Uの凹凸構造を形成しやすく且つ凹凸構造の耐擦傷性を得やすいという観点から、硬化時の硬度が高い材料が好ましい。具体的には、7μmの膜厚の樹脂層を基材上に凹凸構造が無い状態で形成した際に、鉛筆硬度でHB以上になるような材料が好ましく、H以上になる材料がさらに好ましく、2H以上になる材料がより好ましい。一方、基材フィルム層112の材料としては、凹凸構造層111の形成に際しての取り扱い、並びに、凹凸構造を有するフィルム基材110を成形した後の凹凸構造を有するフィルム基材110の取り扱いを容易とするために、ある程度の柔軟性があるものが好ましい。このような材料を組み合わせることにより、取り扱いが容易で且つ耐久性に優れる凹凸構造を有するフィルム基材110を得ることができ、その結果、高性能の有機EL発光装置10を容易に製造することができる。   Among these, as the material of the concavo-convex structure layer 111 constituting the film substrate 110 having the concavo-convex structure, from the viewpoint of easily forming the concavo-convex structure of the light exit surface 10U and easily obtaining scratch resistance of the concavo-convex structure, A material with high hardness is preferred. Specifically, when a resin layer having a film thickness of 7 μm is formed on a substrate without a concavo-convex structure, a material having a pencil hardness of HB or higher is preferable, and a material of H or higher is more preferable. The material which becomes 2H or more is more preferable. On the other hand, as the material of the base film layer 112, it is easy to handle the formation of the concavo-convex structure layer 111 and the film base 110 having the concavo-convex structure after forming the film base 110 having the concavo-convex structure. In order to do so, those having a certain degree of flexibility are preferable. By combining such materials, it is possible to obtain a film substrate 110 having a concavo-convex structure that is easy to handle and excellent in durability, and as a result, a high-performance organic EL light-emitting device 10 can be easily manufactured. it can.

このような材料の組み合わせは、それぞれの材料を構成する樹脂として、上に例示した透明樹脂を適宜選択することにより得ることができる。具体的には、凹凸構造層111の材料を構成する透明樹脂として、アクリレート等の紫外線硬化性樹脂を用い、一方、基材フィルム層112の材料を構成する透明樹脂として、脂環式オレフィンポリマー製のフィルム(後述するゼオノアフィルム等)や、ポリエステルフィルムを用いることが好ましい。   Such a combination of materials can be obtained by appropriately selecting the transparent resin exemplified above as the resin constituting each material. Specifically, an ultraviolet curable resin such as acrylate is used as the transparent resin constituting the material of the concavo-convex structure layer 111, while the transparent resin constituting the material of the base film layer 112 is made of an alicyclic olefin polymer. It is preferable to use a film (such as a ZEONOR film described later) or a polyester film.

本実施形態のように、出光面構造層100が凹凸構造層111と基材フィルム層112とを含む場合、凹凸構造層111と基材フィルム層112との屈折率はできるだけ近くする態様としてもよい。この場合、凹凸構造層111と基材フィルム層112との屈折率差は、好ましくは0.1以内、さらに好ましくは0.05以内である。   When the light-emitting surface structure layer 100 includes the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112 as in the present embodiment, the refractive index of the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112 may be as close as possible. . In this case, the refractive index difference between the uneven structure layer 111 and the base film layer 112 is preferably within 0.1, and more preferably within 0.05.

凹凸構造層111、基材フィルム層112等の出光面構造層100の構成要素となる層の材料として、光拡散性のある材料を用いてもよい。これにより、出光面構造層100を透過する光を拡散させることができるので、観察角度による色味の変化を更に低減することができる。   A light diffusive material may be used as a material of a layer that is a constituent element of the light exit surface structure layer 100 such as the uneven structure layer 111 and the base film layer 112. Thereby, since the light which permeate | transmits the light emission surface structure layer 100 can be diffused, the change of the tint by an observation angle can further be reduced.

光拡散性のある材料としては、例えば、粒子を含んだ材料、2種類以上の樹脂を混ぜ合わせて光を拡散させるアロイ樹脂、等を挙げることができる。なかでも、光拡散性を容易に調節できるという観点から、粒子を含んだ材料が好ましく、特に粒子を含んだ樹脂組成物が特に好ましい。   Examples of the light diffusing material include a material containing particles, and an alloy resin that diffuses light by mixing two or more kinds of resins. Among these, from the viewpoint that the light diffusibility can be easily adjusted, a material including particles is preferable, and a resin composition including particles is particularly preferable.

粒子は、透明であってもよく、不透明であってもよい。粒子の材料としては、例えば、金属及び金属化合物、並びに樹脂等が挙げられる。金属化合物としては、例えば、金属の酸化物及び窒化物を挙げることができる。金属及び金属化合物の具体例を挙げると、銀、アルミのような反射率が高い金属;酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化ジルコニウム、窒化珪素、錫添加酸化インジウム、酸化チタン等の金属化合物;などを挙げることができる。一方、樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。なお、粒子の材料は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The particles may be transparent or opaque. Examples of the material of the particles include metals and metal compounds, and resins. Examples of the metal compound include metal oxides and nitrides. Specific examples of metals and metal compounds include metals having high reflectivity such as silver and aluminum; metal compounds such as silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, silicon nitride, tin-added indium oxide, and titanium oxide. be able to. On the other hand, examples of the resin include methacrylic resin, polyurethane resin, and silicone resin. In addition, the particle | grain material may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

粒子の形状は、例えば、球状、円柱状、立方体状、直方体状、角錐状、円錐状、星型状等の形状とすることができる。
粒子の粒径は、好ましくは0.1μm以上であり、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下である。ここで粒径とは、体積基準の粒子量を、粒子径を横軸にして積算した積算分布における50%粒子径のことである。粒径が大きいほど、所望の効果を得るために必要な粒子の含有割合は多くなり、粒径が小さいほど、含有量は少なくてすむ。したがって、粒径が小さいほど、観察角度による色味の変化の低減、及び光取り出し効率の向上等の所望の効果を、少ない粒子で得ることができる。なお、粒径は、粒子の形状が球状以外である場合には、その同等体積の球の直径を粒径とする。
The shape of the particles can be, for example, a spherical shape, a cylindrical shape, a cubic shape, a rectangular parallelepiped shape, a pyramid shape, a conical shape, a star shape, or the like.
The particle diameter of the particles is preferably 0.1 μm or more, preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. Here, the particle diameter is a 50% particle diameter in an integrated distribution obtained by integrating the volume-based particle amount with the particle diameter as the horizontal axis. The larger the particle size, the larger the content ratio of particles necessary for obtaining the desired effect, and the smaller the particle size, the smaller the content. Therefore, as the particle size is smaller, desired effects such as a reduction in change in color depending on the observation angle and an improvement in light extraction efficiency can be obtained with fewer particles. When the particle shape is other than spherical, the diameter of the sphere having the same volume is used as the particle size.

粒子が透明な粒子であり、且つ粒子が透明樹脂中に含まれる場合において、粒子の屈折率と透明樹脂の屈折率との差が、0.05〜0.5であることが好ましく、0.07〜0.5であることがより好ましい。ここで、粒子及び透明樹脂の屈折率は、どちらがより大きくてもよい。粒子と透明樹脂の屈折率が近すぎると拡散効果が得られず色味ムラは抑制され難くなる可能性があり、逆に差が大きすぎると拡散が大きくなり色味ムラは抑制されるが光取出効果が低減する可能性がある。   In the case where the particles are transparent particles and the particles are contained in the transparent resin, the difference between the refractive index of the particles and the refractive index of the transparent resin is preferably 0.05 to 0.5. More preferably, it is 07-0.5. Here, either the particle or the refractive index of the transparent resin may be larger. If the refractive index of the particles and the transparent resin is too close, the diffusion effect cannot be obtained and the color unevenness may be difficult to be suppressed. Conversely, if the difference is too large, the diffusion becomes large and the color unevenness is suppressed, but light Extraction effect may be reduced.

粒子の含有割合は、粒子を含む層の全量中における体積割合で、1%以上が好ましく、5%以上がより好ましく、また、80%以下が好ましく、50%以下がより好ましい。粒子の含有割合をかかる下限以上とすることにより、観察角度による色味の変化の低減等の所望の効果を得ることができる。また、かかる上限以下とすることにより、粒子の凝集を防止し、粒子を安定して分散させることができる。   The content ratio of the particles is a volume ratio in the total amount of the layer containing the particles, preferably 1% or more, more preferably 5% or more, 80% or less, and more preferably 50% or less. By setting the content ratio of the particles to be equal to or higher than the lower limit, desired effects such as reduction of a change in color depending on the observation angle can be obtained. Moreover, by setting it as this upper limit or less, aggregation of particle | grains can be prevented and particle | grains can be disperse | distributed stably.

さらに、樹脂組成物は、必要に応じて任意の成分を含むことができる。当該任意の成分としては、例えば、フェノール系、アミン系等の劣化防止剤;界面活性剤系、シロキサン系等の帯電防止剤;トリアゾール系、2−ヒドロキシベンゾフェノン系等の耐光剤;などの添加剤を挙げることができる。   Furthermore, the resin composition can contain arbitrary components as needed. Examples of the optional component include additives such as phenol-based and amine-based degradation inhibitors; surfactant-based, siloxane-based antistatic agents; triazole-based, 2-hydroxybenzophenone-based light-resistant agents; Can be mentioned.

凹凸構造層111の厚さTは、特に限定されないが、1μm〜70μmであることが好ましい。本実施形態では、凹凸構造層111の厚さTとは、凹凸構造が形成されていない基材フィルム層112側の面と、凹凸構造の平坦部114との距離のことである。
また、基材フィルム層112の厚さは、20μm〜300μmであることが好ましい。
The thickness T of the uneven structure layer 111 is not particularly limited, but is preferably 1 μm to 70 μm. In this embodiment, the thickness T of the concavo-convex structure layer 111 is the distance between the surface on the base film layer 112 side where the concavo-convex structure is not formed and the flat portion 114 of the concavo-convex structure.
Moreover, it is preferable that the thickness of the base film layer 112 is 20 micrometers-300 micrometers.

(支持基板)
本実施形態の有機EL発光装置10は、有機EL素子140と凹凸構造を有するフィルム層110との間に、支持基板131を備える。支持基板131を構成する材料の例としては、例えば、ガラス、樹脂などが挙げられる。なお、支持基板131の材料は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ガラスである場合、有機EL発光装置10に、たわみを抑制する剛性を与えることができる。また、ガラス基材は、有機EL素子140を封止する性能に優れて、且つ、製造工程において有機EL素子140を構成する層をその上に順次形成することを容易に行い得る基板を備えることにより、有機EL発光装置10の耐久性を向上させ、且つ製造を容易にすることができる。
(Support substrate)
The organic EL light emitting device 10 of the present embodiment includes a support substrate 131 between the organic EL element 140 and the film layer 110 having an uneven structure. Examples of the material constituting the support substrate 131 include glass and resin. In addition, the material of the support substrate 131 may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. In the case of glass, the organic EL light emitting device 10 can be given rigidity for suppressing deflection. Further, the glass base material is provided with a substrate that is excellent in the performance of sealing the organic EL element 140 and that can easily form the layers constituting the organic EL element 140 sequentially in the manufacturing process. As a result, the durability of the organic EL light emitting device 10 can be improved and the manufacture can be facilitated.

支持基板の屈折率は、特に制限されないが、1.5〜2.1とすることが好ましい。有機EL素子や透明電極層の屈折率は高いため、界面で反射が少なくなるため、屈折率が1.65以上 2.0以下である場合、さらに好ましい。
支持基板の131の厚さは、特に限定されないが、0.05mm〜1.1mmであることが好ましい。
The refractive index of the support substrate is not particularly limited, but is preferably 1.5 to 2.1. Since the organic EL element or the transparent electrode layer has a high refractive index, reflection is reduced at the interface. Therefore, it is more preferable that the refractive index is 1.65 or more and 2.0 or less.
The thickness of the support substrate 131 is not particularly limited, but is preferably 0.05 mm to 1.1 mm.

(金属アルコキシド層)
本発明において、凹凸構造を有するフィルム基材110と支持基板131との間には、金属アルコキシド層121を有する。金属アルコキシド層は、凹凸構造を有するフィルム基材と支持基板との接合をする機能を有する。金属アルコキシド層を構成する金属アルコキシドは、一般にR−OM(Rはアルキル基、Mは任意の金属原子)の構造を分子内に有する化合物である。
金属アルコキシドは、より具体的には、金属原子に1以上の基R−O−及び任意に1以上の基R2−が結合した構造(R−O)m−M−(R2)n(R2は任意の有機基、mは1以上の数、nは0以上の数)とすることができる。ここで、基Rは、具体的には例えばメチル基、エチル基等の基とすることができる。基R2は、具体的には例えばエポキシ基、アミノ基、アリール基、アルキル基、フルオロ基、クロロ基、カルボキシル基、カーボネート基、イミノ基、チオール基、ニトロ基、ビニル基、ウレイド基、メタクリロイル基、アクリロイル基を含む有機基等の基とすることができる。基Rが1分子中に複数存在する場合、及び基R2が1分子中に複数存在する場合、これらはいずれも、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。特に、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、メタクリロイル基、アクリロイル基が好ましい。
(Metal alkoxide layer)
In the present invention, a metal alkoxide layer 121 is provided between the film substrate 110 having an uneven structure and the support substrate 131. The metal alkoxide layer has a function of bonding the film substrate having a concavo-convex structure and the support substrate. The metal alkoxide constituting the metal alkoxide layer is generally a compound having a structure of R-OM (R is an alkyl group, M is an arbitrary metal atom) in the molecule.
More specifically, the metal alkoxide has a structure (RO) m-M- (R2) n (R2 is a structure in which one or more groups R-O- and optionally one or more groups R2- are bonded to a metal atom. Any organic group, m is a number of 1 or more, and n is a number of 0 or more). Here, the group R can be specifically a group such as a methyl group or an ethyl group. The group R2 is specifically an epoxy group, amino group, aryl group, alkyl group, fluoro group, chloro group, carboxyl group, carbonate group, imino group, thiol group, nitro group, vinyl group, ureido group, methacryloyl group. And an organic group containing an acryloyl group. When a plurality of groups R are present in one molecule and a plurality of groups R2 are present in one molecule, these may be the same group or different groups. In particular, an amino group, an epoxy group, a vinyl group, a methacryloyl group, and an acryloyl group are preferable.

金属アルコキシドが含有しうる金属としては、Ti、Li、Si、Na、Mg、Ca、St、Ba、Al、Zn、Fe、Cu、Zrから選択された1種以上の金属を挙げることができる。特に、Si、Ti、Al,Zrが好ましい。   Examples of the metal that can be contained in the metal alkoxide include one or more metals selected from Ti, Li, Si, Na, Mg, Ca, St, Ba, Al, Zn, Fe, Cu, and Zr. In particular, Si, Ti, Al, and Zr are preferable.

金属アルコキシド層の形成方法は、特に限定されないが、凹凸構造を有するフィルム基材の凹凸構造を有しない側の表面又は支持基板の表面を、活性化処理した後、上記金属アルコキシドの蒸気に暴露する方法、上記金属アルコキシドをアルコールなどの溶液に溶かし、表面にコーティング、噴霧する方法等により形成することができる。特に、蒸気に暴露する方法が、形成後の金属アルコキシド層からの脱ガス成分が少ないために好ましい。蒸気に暴露する方法での処理温度は、用いる金属アルコキシドの揮発性に応じて適宜選択され、通常10〜40℃、好ましくは20〜30℃である。処理時間は、通常30〜1800秒好ましくは180〜900秒である。   The method for forming the metal alkoxide layer is not particularly limited, but the surface of the film substrate having the concavo-convex structure that does not have the concavo-convex structure or the surface of the support substrate is exposed to the metal alkoxide vapor after the activation treatment. It can be formed by a method, a method in which the metal alkoxide is dissolved in a solution such as alcohol, and the surface is coated and sprayed. In particular, the method of exposing to vapor is preferable because there are few degassing components from the formed metal alkoxide layer. The treatment temperature in the method of exposing to vapor is appropriately selected according to the volatility of the metal alkoxide used, and is usually 10 to 40 ° C, preferably 20 to 30 ° C. The treatment time is usually 30 to 1800 seconds, preferably 180 to 900 seconds.

凹凸構造を有するフィルム基材の凹凸構造を有しない側の表面又は支持基板の表面を、活性化処理する方法は、常圧プラズマ処理、真空プラズマ処理、UVオゾン処理、又はコロナ処理を採用することができる。特に常圧プラズマ処理、コロナ処理が、処理時間が短く生産性に優れる点で好ましい。   The method of activating the surface of the film substrate having a concavo-convex structure that does not have the concavo-convex structure or the surface of the support substrate employs atmospheric pressure plasma treatment, vacuum plasma treatment, UV ozone treatment, or corona treatment. Can do. In particular, atmospheric pressure plasma treatment and corona treatment are preferable in that the treatment time is short and the productivity is excellent.

本発明の有機EL発光装置において、金属アルコキシド層131の厚さは、UV硬化樹脂による接着剤やアクリル系粘着剤を用いて貼り合わせる場合と異なり、80nm以下と薄い値である。80nmより大きい場合は、フィルム基材と支持基板は十分に接着しないことがある。金属アルコキシド層の厚さは、より好ましくは50nm以下、さらに好ましくは20nm以下である。金属アルコキシド層の厚さの下限は特にないが、1nm以上が好ましい。支持基板及び凹凸を有するフィルム基材の両方が金属アルコキシド層を有し、金属アルコキシド層の面同士が貼付されて有機EL発光装置が形成される場合は、これら2層の金属アルコキシド層の合計の厚さを、上記範囲内とすることが好ましい。金属アルコキシドの層の厚さを上記好ましい下限値以上とすることにより、良好な接着力を発揮することができる。また、金属アルコキシド層の厚さを上記好ましい上限値以下とすることにより、支持基板と金属アルコキシド層の全反射が発生せず、結果として光を吸収しやすい発光層や電極層に戻る光の量が少なくなり高い取り出し効率を実現できる。この効果は光の波長より、金属アルコキシド層が十分薄いため、幾何光学で現れる屈折や反射の現象が消失していく効果になる。さらに、有機EL発光装置のヘイズを低く保つことができ、金属アルコキシド層からの脱ガス成分を低減することが出来る。   In the organic EL light-emitting device of the present invention, the thickness of the metal alkoxide layer 131 is as thin as 80 nm or less, unlike the case of bonding using an adhesive or acrylic pressure sensitive adhesive made of UV curable resin. If it is larger than 80 nm, the film substrate and the support substrate may not be sufficiently bonded. The thickness of the metal alkoxide layer is more preferably 50 nm or less, and still more preferably 20 nm or less. There is no particular lower limit on the thickness of the metal alkoxide layer, but 1 nm or more is preferable. When both the support substrate and the film substrate having irregularities have a metal alkoxide layer, and the surfaces of the metal alkoxide layers are pasted together to form an organic EL light emitting device, the total of these two metal alkoxide layers The thickness is preferably within the above range. By setting the thickness of the metal alkoxide layer to be equal to or more than the above preferable lower limit value, it is possible to exhibit good adhesive force. In addition, by setting the thickness of the metal alkoxide layer to be equal to or less than the above preferable upper limit value, total reflection between the support substrate and the metal alkoxide layer does not occur, and as a result, the amount of light returning to the light emitting layer or electrode layer that easily absorbs light And the removal efficiency can be increased. This effect is such that the phenomenon of refraction and reflection appearing in geometric optics disappears because the metal alkoxide layer is sufficiently thinner than the wavelength of light. Furthermore, the haze of the organic EL light emitting device can be kept low, and the degassing component from the metal alkoxide layer can be reduced.

金属アルコキシド層として、シランカップリング剤を使用する場合、公知のシランカップリング剤を用いることができる。
具体的には、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのビニル基を有するもの;
2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランなどのエポキシ基を有するもの;
p−スチリルトリメトキシシランなどのスチリル基を有するもの;
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、3−メタクリロキシメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシトリ
エトキシシランなどのメタクリロキシ基を有するもの;
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリロキシ基を有するもの;
N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−アミノエ
チル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピル
トリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチルブチリデンプロ
ピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ビニルベン
ジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、特殊アミノ
シラン(信越化学社製、KBM−6135など)などのアミノ基を有するもの;
3−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド結合を有するもの;
3−クロロプロピルトリメトキシシランなどのハロゲン原子を含有するもの;
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシ
シランなどのメルカプト基を有するもの;
ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドなどのスルフィド結合を有するも
の;
3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのイソシアネート基を有するもの;
等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることがで
きる。
When a silane coupling agent is used as the metal alkoxide layer, a known silane coupling agent can be used.
Specifically, those having a vinyl group such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane;
Having an epoxy group such as 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane;
having a styryl group such as p-styryltrimethoxysilane;
Those having a methacryloxy group such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxymethyldiethoxysilane, 3-methacryloxytriethoxysilane;
Having an acryloxy group such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane;
N-2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane Methoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethylbutylidenepropylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2 -Those having an amino group such as aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, special aminosilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-6135, etc.);
Having a ureido bond such as 3-ureidopropyltriethoxysilane;
Containing halogen atoms such as 3-chloropropyltrimethoxysilane;
Those having a mercapto group such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane;
Having a sulfide bond such as bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide;
Having an isocyanate group such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane;
Etc. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

金属アルコキシド層としてシランカップリング剤を使用する場合である場合、支持基板側と凹凸構造を有するフィルム基材側とで異なるシランカップリング剤を使用することができる。その場合、互いに表面同士が水素結合や共有結合で結合するような組み合わせを選択することができ、さらには、支持基板側や凹凸構造を有するフィルム基材側とも水素結合や共有結合で結合するような組み合わせが好適である。具体的には、支持基板がガラス基材の場合、ガラス基材側にアミノ基を有するシランカップリング剤を使用し、凹凸構造を有するフィルム基材側にエポキシ基を有するシランカップリング剤を使用する組み合わせが例示できる。   In the case where a silane coupling agent is used as the metal alkoxide layer, different silane coupling agents can be used on the support substrate side and the film substrate side having the concavo-convex structure. In that case, it is possible to select a combination in which the surfaces are bonded to each other by hydrogen bonds or covalent bonds, and furthermore, to bond to the support substrate side or the film substrate side having an uneven structure by hydrogen bonds or covalent bonds. Such a combination is preferable. Specifically, when the support substrate is a glass substrate, a silane coupling agent having an amino group is used on the glass substrate side, and a silane coupling agent having an epoxy group is used on the film substrate side having an uneven structure. The combination to do can be illustrated.

(製造方法)
有機EL発光装置10の製造方法は、特に限定されないが、例えば、支持基板131の一方の面に有機EL素子140を構成する各層を積層し、その後又はその前に、支持基板131の他方の面に凹凸構造層111及び基材フィルム層112を有する凹凸構造を有するフィルム基材110を、金属アルコキシド層121を介して貼付することにより製造することができる。
(Production method)
Although the manufacturing method of the organic EL light emitting device 10 is not particularly limited, for example, each layer constituting the organic EL element 140 is stacked on one surface of the support substrate 131, and after or before that, the other surface of the support substrate 131 is stacked. The film base 110 having a concavo-convex structure having the concavo-convex structure layer 111 and the base film layer 112 can be produced by pasting the film base 110 through the metal alkoxide layer 121.

凹凸構造層111及び基材フィルム層112を有する凹凸構造を有するフィルム基材110の製造は、例えば、所望の形状を有する金型等の型を用意し、この型を凹凸構造層111を形成する材料の層に転写することにより行うことができる。より具体的な方法としては、
(方法1)基材フィルム層112を構成する樹脂組成物Aの層及び凹凸構造層111を構成する樹脂組成物Bの層(凹凸構造はまだ形成されていない)を有する未加工の凹凸構造を有するフィルム基材を用意し、かかる未加工の凹凸構造を有するフィルム基材の樹脂組成物B側の面上に、凹凸構造を形成する方法;及び
(方法2)基材フィルム層112の上に、液体状態の樹脂組成物Bを塗布し、塗布された樹脂組成物Bの層に型を当て、その状態で樹脂組成物Bを硬化させ、凹凸構造層111を形成する方法などを挙げることができる。
The film substrate 110 having an uneven structure including the uneven structure layer 111 and the base film layer 112 is manufactured by, for example, preparing a mold such as a mold having a desired shape, and forming the uneven structure layer 111 from this mold. This can be done by transferring to a layer of material. As a more specific method,
(Method 1) An unprocessed concavo-convex structure having a layer of the resin composition A constituting the base film layer 112 and a layer of the resin composition B constituting the concavo-convex structure layer 111 (the concavo-convex structure is not yet formed) A method of forming a concavo-convex structure on the surface of the resin composition B side of the film base having a raw concavo-convex structure;
(Method 2) On the base film layer 112, the resin composition B in a liquid state is applied, a mold is applied to the layer of the applied resin composition B, and the resin composition B is cured in that state, thereby forming irregularities. A method for forming the structural layer 111 can be given.

方法1において、未加工の凹凸構造を有するフィルム基材は、例えば樹脂組成物A及び樹脂組成物Bを共押出する押出成形により得ることができる。未加工の凹凸構造を有するフィルム基材の樹脂組成物B側の面上に、所望の表面形状を有する型を押し当てることにより、凹凸構造を形成することができる。
より具体的には、長尺の未加工の凹凸構造を有するフィルム基材を押出成形により連続的に形成し、所望の表面形状を有する転写ロールとニップロールとで未加工の凹凸構造を有するフィルム基材を加圧し、それにより、連続的な製造を効率的に行うことができる。転写ロールとニップロールとによる挟み圧力は、好ましくは数MPa〜数十MPaである。また転写時の温度は、樹脂組成物Bのガラス転移温度をTgとすると、好ましくはTg以上(Tg+100℃)以下である。未加工の凹凸構造を有するフィルム基材と転写ロールとの接触時間はフィルムの送り速度、すなわちロール回転速度によって調整でき、好ましくは5秒以上600秒以下である。
In Method 1, a film substrate having an unprocessed uneven structure can be obtained by, for example, extrusion molding in which the resin composition A and the resin composition B are coextruded. A concavo-convex structure can be formed by pressing a mold having a desired surface shape onto the surface of the film base having a raw concavo-convex structure on the resin composition B side.
More specifically, a film base having a raw concavo-convex structure is formed by continuously forming a film base having a long raw concavo-convex structure by extrusion molding, and a transfer roll having a desired surface shape and a nip roll. The material can be pressurized so that continuous production can be performed efficiently. The pinching pressure between the transfer roll and the nip roll is preferably several MPa to several tens of MPa. The temperature at the time of transfer is preferably Tg or more (Tg + 100 ° C.) or less, where Tg is the glass transition temperature of the resin composition B. The contact time between the film base material having an unprocessed concavo-convex structure and the transfer roll can be adjusted by the feed speed of the film, that is, the roll rotation speed, and is preferably from 5 seconds to 600 seconds.

方法2において、凹凸構造層111を構成する樹脂組成物Bとしては、紫外線等のエネルギー線により硬化しうる組成物を用いることが好ましい。かかる樹脂組成物Bを、基材フィルム層112上に塗布し、型を当てた状態で、塗布面の裏側(基材フィルムの、樹脂組成物Bを塗布した面とは反対側)に位置する光源から、紫外線等のエネルギー線を照射し、樹脂組成物Bを硬化させ、その後型を剥離することにより、樹脂組成物Bの塗膜を凹凸構造層111とし、凹凸構造を有するフィルム基材110を得ることができる。   In Method 2, as the resin composition B constituting the concavo-convex structure layer 111, it is preferable to use a composition that can be cured by energy rays such as ultraviolet rays. The resin composition B is applied on the base film layer 112, and in a state where the mold is applied, the resin composition B is located on the back side of the application surface (the side opposite to the surface on which the resin composition B is applied). By irradiating energy rays such as ultraviolet rays from a light source, curing the resin composition B, and then peeling off the mold, the coating film of the resin composition B is used as the concavo-convex structure layer 111, and the film substrate 110 having the concavo-convex structure. Can be obtained.

上記の凹凸構造を有するフィルム基材が、凹凸構造層111のみから構成される場合は
(方法3)凹凸構造層111を構成する樹脂組成物Bの層(凹凸構造はまだ形成されていない)を有する未加工の凹凸構造を有するフィルム基材を用意し、かかる未加工の凹凸構造を有するフィルム基材の樹脂組成物B側の面上に、凹凸構造を形成する方法
(方法4)任意の剥離用フィルム層の上に、液体状態の樹脂組成物Bを塗布し、塗布された樹脂組成物Bの層に型を当て、その状態で樹脂組成物Bを硬化させ、凹凸構造層111し、その後、剥離用フィルムを凹凸構造層から剥離する方法
によって形成することができる。
When the film substrate having the concavo-convex structure is composed only of the concavo-convex structure layer 111 (Method 3), the layer of the resin composition B constituting the concavo-convex structure layer 111 (the concavo-convex structure is not yet formed) A method of forming a concavo-convex structure on a surface of the film base having a raw concavo-convex structure having the raw concavo-convex structure and forming the concavo-convex structure on the surface of the resin composition B side of the film concavo-convex structure (Method 4) The liquid resin composition B is applied on the film layer, a mold is applied to the applied resin composition B layer, the resin composition B is cured in this state, and the concavo-convex structure layer 111 is formed. The film for peeling can be formed by a method of peeling from the concavo-convex structure layer.

(有機EL発光装置の主な利点)
本実施形態の有機EL発光装置10は上述したように構成されているので、有機EL素子140の発光面144から発せられた光は、出光面構造層100を透過して、出光面10Uから取り出される。この際、出光面10Uに、凹部113及び平坦部114を有する凹凸構造を有するので、凹凸構造を有さない場合と比較して、出光面10Uからの光の取出効率を高めることができる。さらに、支持基板と凹凸構造を有するフィルム基材との間にある金属アルコキシド層が80nm以下と非常に薄いため、屈折率差による全反射が無いため、光の取り出し効率を高めることができる。
(Main advantages of organic EL light-emitting devices)
Since the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment is configured as described above, the light emitted from the light emitting surface 144 of the organic EL element 140 passes through the light emitting surface structure layer 100 and is extracted from the light emitting surface 10U. It is. At this time, since the light exit surface 10U has an uneven structure having the recess 113 and the flat portion 114, the light extraction efficiency from the light output surface 10U can be increased as compared with the case where the uneven structure is not provided. Furthermore, since the metal alkoxide layer between the support substrate and the film base material having a concavo-convex structure is very thin with a thickness of 80 nm or less, there is no total reflection due to a difference in refractive index, so that the light extraction efficiency can be increased.

また、有機EL発光装置10は、出光面10Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hを、標準偏差σが所定の範囲となるように不揃いにした場合は、反射光による虹ムラを抑制できる。また、有機EL発光装置10を表示装置に設けた場合、多像化現象を防止することも可能である。さらに、凹部113及び平坦部114の個別の寸法精度は高くなくてもよくなるので、量産が容易となり、製造コストを安価にできる。   Further, the organic EL light emitting device 10 can suppress the rainbow unevenness due to the reflected light when the height difference H of the unevenness adjacent to the light exit surface 10U is uneven so that the standard deviation σ is within a predetermined range. Further, when the organic EL light emitting device 10 is provided in a display device, it is possible to prevent a multi-image phenomenon. Furthermore, since the individual dimensional accuracy of the recess 113 and the flat portion 114 does not have to be high, mass production becomes easy and the manufacturing cost can be reduced.

さらに、本実施形態の有機EL発光装置10では、外部衝撃により出光面10Uに欠け等が生じることを防止でき、ひいては出光面10Uの機械的強度を向上させることができる。一般に、面に凹凸構造があると、その面に衝撃が加えられた場合に当該凹凸構造の一部に力が集中し、破損を招きやすくなる傾向がある。ところが、本実施形態の有機EL発光装置10では、平坦部114は平坦な面(平坦面)となっている。また、本実施形態で、平坦部114の高さは不揃いとなっている場合でも、その不揃いの程度が小さければ、外部から出光面10Uに加えられる力又は衝撃によって凹凸構造層111の一部に力が集中することを抑制できるようになっている。このため、凹凸構造層111の破損を防止し、良好な光取り出し効率と、有機EL発光装置10の出光面10Uの高い機械的強度とを両立させることができるようになっている。   Furthermore, in the organic EL light emitting device 10 according to the present embodiment, it is possible to prevent the light exit surface 10U from being chipped due to an external impact, and to improve the mechanical strength of the light exit surface 10U. In general, when a surface has a concavo-convex structure, when an impact is applied to the surface, the force concentrates on a part of the concavo-convex structure and tends to cause breakage. However, in the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment, the flat portion 114 is a flat surface (flat surface). Further, in this embodiment, even when the height of the flat portion 114 is uneven, if the degree of the unevenness is small, it is applied to a part of the concavo-convex structure layer 111 by a force or impact applied to the light exit surface 10U from the outside. It is possible to suppress the concentration of power. For this reason, damage to the concavo-convex structure layer 111 can be prevented, and both good light extraction efficiency and high mechanical strength of the light output surface 10U of the organic EL light emitting device 10 can be achieved.

また、本実施形態の有機EL発光装置10では、観察角度による色味の変化を低減することができる。有機EL発光装置10では、出光面10Uから出射する光が凹部113により拡散される。このような光拡散により、出光面10Uから出光する光における半球状全方位での色度座標のx座標およびy座標の少なくともいずれかの変位を、出光面を一様に平坦な平面とした場合と比べて、低減させることができる。したがって、出光面10Uを観察する観察角度による色味の変化を抑えることができる。   Moreover, in the organic EL light emitting device 10 of the present embodiment, a change in color depending on the observation angle can be reduced. In the organic EL light emitting device 10, the light emitted from the light exit surface 10 </ b> U is diffused by the recess 113. When such a light diffusion causes the light exiting surface to be a uniformly flat surface with a displacement of at least one of the x and y coordinates of the chromaticity coordinates in all hemispherical directions in the light exiting from the exit surface 10U As compared with the above, it can be reduced. Therefore, it is possible to suppress a change in color depending on the observation angle at which the light exit surface 10U is observed.

なお、かかる半球状全方位での色度の変位を測定する方法として、例えば出光面10Uの法線方向(即ち出光面10Uに対して垂直な方向)上に分光放射輝度計を設置し、法線方向を0°とした時その出光面を−90〜+90°まで回転させられる機構を付与することで、各方向で測定した発光スペクトルから色度座標を算出できるため、その変位を算出できる。   As a method for measuring the displacement of chromaticity in all hemispherical directions, for example, a spectral radiance meter is installed on the normal direction of the light exit surface 10U (that is, the direction perpendicular to the light exit surface 10U). When a linear direction is set to 0 °, a mechanism for rotating the light exit surface from −90 to + 90 ° can be provided, whereby chromaticity coordinates can be calculated from an emission spectrum measured in each direction, and thus the displacement can be calculated.

〔2.第二実施形態〕
本発明の有機EL発光装置において、出光面を構成する凹部及び凸部の形状は、第一実施形態において例示した角錐形状に限られず、角錐台形状であってもよい。ここで、角錐台形状とは、角錐の頂部に平坦な部分を設け、平らに面取りした形状をいう。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[2. Second embodiment]
In the organic EL light emitting device of the present invention, the shape of the concave portion and the convex portion constituting the light emission surface is not limited to the pyramid shape exemplified in the first embodiment, and may be a truncated pyramid shape. Here, the truncated pyramid shape refers to a shape in which a flat portion is provided at the top of the pyramid and the surface is flattened. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図5及び図6はいずれも本発明の第二実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であって、図5は有機EL発光装置を模式的に示す斜視図であり、図6は図5に示す有機EL発光装置の凹凸構造層を線5a−5bを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。
図5に示す通り、第二実施形態にかかる有機EL発光装置20は、出光面構造層200を構成する凹凸構造を有するフィルム基材210において、凹凸構造層211の表面である出光面20Uに形成された凹部213の形状が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。
5 and 6 are views for explaining the organic EL light emitting device according to the second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a perspective view schematically showing the organic EL light emitting device, and FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the concavo-convex structure layer of the organic EL light emitting device shown in FIG. 5 cut along a plane that passes through a line 5a-5b and is perpendicular to the light exit surface.
As shown in FIG. 5, the organic EL light emitting device 20 according to the second embodiment is formed on the light exit surface 20 </ b> U that is the surface of the uneven structure layer 211 in the film substrate 210 having the uneven structure constituting the light output surface structure layer 200. Except for the shape of the recessed portion 213 being different, the configuration is the same as that of the first embodiment.

図6に示すように、凹凸構造層211の表面上に形成された凹部213は、正四角錐の頂部を平らに面取りした形状(角錐台形状)であり、出光面20Uにおいて、一定の間隔をおいて設けられている。隣り合う凹部213の間には隙間が設けられ、この隙間が平坦部214を構成している。さらに、凹部213が角錐台形状を有するため、凹部213は底には、出光面20Uに対して平行な平坦面として底面部21Pが存在する。   As shown in FIG. 6, the recess 213 formed on the surface of the concavo-convex structure layer 211 has a shape in which the top of a regular quadrangular pyramid is chamfered flat (pyramidal frustum shape), and has a constant interval on the light emitting surface 20U. Is provided. A gap is provided between adjacent recesses 213, and this gap constitutes a flat portion 214. Furthermore, since the concave portion 213 has a truncated pyramid shape, the concave portion 213 has a bottom surface portion 21P at the bottom as a flat surface parallel to the light output surface 20U.

さらに、本実施形態においても、出光面20Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。本実施形態では底面部21Pが凹部213の底に当たり、平坦部214が凸部の先端に当たる。したがって、有機EL発光装置20においては、隣り合う凹部213と凸部214とを対比した場合に、その底面部21Pと平坦部214との、有機EL発光装置20の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)Hが、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。なお、本実施形態では、図6に示すように、平坦部214の高さは均一に揃っているが底面部21Pの高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっている例を示す。ただし、底面部21Pの高さは均一に揃っているが平坦部214の高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよく、底面部21Pの高さ及び平坦部214の高さの両方が不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよい。   Further, also in the present embodiment, the height difference H of the unevenness adjacent to the light exit surface 20U is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, the bottom surface portion 21P hits the bottom of the concave portion 213, and the flat portion 214 hits the tip of the convex portion. Therefore, in the organic EL light emitting device 20, when the adjacent concave portion 213 and the convex portion 214 are compared, the distance between the bottom surface portion 21P and the flat portion 214 in the thickness direction of the organic EL light emitting device 20 (that is, adjacent) The height difference (H of the matching irregularities) is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the height of the flat part 214 is uniform, but the height of the bottom surface 21P is not uniform, so that the difference in height H between adjacent irregularities is not uniform. An example is shown. However, although the height of the bottom surface portion 21P is uniform, the height difference H of the adjacent unevenness may be uneven due to the unevenness of the height of the flat portion 214. The height difference H of the adjacent unevenness | corrugation may become uneven because both the heights of the flat part 214 become uneven.

このような、角錐台形状の形状を有する凹部213とその間の隙間である平坦部214を有する出光面20Uを有する場合であっても、第一実施形態と同様に、光取出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。また、仮に塵及び破片が凹部213にたまると光取出効率の低下及び輝点の発生などを生じるおそれがあるが、凹部213の底が平坦な底面部21Pになっていると、凹部213に塵及び破片等が溜まり難くなり、好ましい。さらに、本実施形態によれば、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。   Even in the case of having the light exit surface 20U having the concave portion 213 having the shape of the truncated pyramid shape and the flat portion 214 that is a gap therebetween, the light extraction efficiency is increased as in the first embodiment, and , Rainbow unevenness can be suppressed. Also, if dust and debris accumulate in the recess 213, the light extraction efficiency may decrease and bright spots may be generated. However, if the bottom of the recess 213 is a flat bottom surface portion 21P, In addition, it is preferable because fragments and the like hardly accumulate. Furthermore, according to this embodiment, the same advantage as 1st embodiment can also be acquired.

本実施形態のように、凹部213が角錐台形状となっている場合、底面部21Pと、当該角錐台の頂部が平坦で無く尖った角錐形状となっていた場合の頂部21Qとの高さの差21Rは、通常、当該角錐台の頂部が平坦で無く尖った角錐形状となっていた場合の角錐の高さ21Sの20%以下とすればよい。
また、凹部213の形状が角錐台形状となっている場合、底面部21Pを除く斜面212A及び213Bの角度を、斜面の角度とする。凹部213の斜面の角度をこのような角度とすることにより、光取出効率を高めることができる。ただし、斜面は、必ずしも全てが同じ角度である必要は無く、上記範囲内で、異なる角度を有する斜面が共存していてもよい。
As in the present embodiment, when the recess 213 has a truncated pyramid shape, the height of the bottom surface portion 21P and the top portion 21Q when the top portion of the truncated pyramid is not flat but a sharp pyramid shape. The difference 21R may normally be 20% or less of the height 21S of the pyramid when the top of the truncated pyramid is not flat and has a sharp pyramid shape.
Moreover, when the shape of the recessed part 213 is a truncated pyramid shape, let the angle of slopes 212A and 213B except the bottom face part 21P be an angle of a slope. The light extraction efficiency can be increased by setting the angle of the inclined surface of the recess 213 to such an angle. However, the slopes are not necessarily all at the same angle, and slopes having different angles may coexist within the above range.

〔3.第三実施形態〕
本発明の有機EL発光装置において、出光面を構成する凹部の底は、丸みを帯びていてもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[3. Third Embodiment]
In the organic EL light-emitting device of the present invention, the bottom of the recess that constitutes the light exit surface may be rounded. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図7及び図8はいずれも本発明の第三実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であって、図7は、有機EL発光装置を出光面に垂直な面で切った断面を模式的に示す断面図であり、図8は有機EL発光装置の凹凸構造層を出光面に垂直な面で切った断面を模式的に示す断面図である。
図7に示す通り、第三実施形態にかかる有機EL発光装置30は、出光面構造層300を構成する凹凸構造を有するフィルム基材310において、凹凸構造層311の表面である出光面30Uに形成された凹部313の形状が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。
7 and 8 are views for explaining the organic EL light emitting device according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 7 schematically shows a cross section of the organic EL light emitting device taken along a plane perpendicular to the light emitting surface. FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the concavo-convex structure layer of the organic EL light emitting device taken along a plane perpendicular to the light exit surface.
As shown in FIG. 7, the organic EL light emitting device 30 according to the third embodiment is formed on the light exit surface 30 </ b> U that is the surface of the uneven structure layer 311 in the film substrate 310 having the uneven structure constituting the light output surface structure layer 300. Except for the shape of the recessed portion 313 being different, the configuration is the same as that of the first embodiment.

図8に示すように、凹凸構造層311の表面上に形成された凹部313は、その底31Pが丸みを帯びた形状であり、出光面30Uにおいて、一定の間隔をおいて設けられている。隣り合う凹部313の間には隙間が設けられ、この隙間が平坦部314を構成している。   As shown in FIG. 8, the recesses 313 formed on the surface of the concavo-convex structure layer 311 have a round bottom 31P, and are provided at regular intervals on the light exit surface 30U. A gap is provided between adjacent recesses 313, and this gap constitutes a flat portion 314.

さらに、本実施形態においても、出光面30Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。本実施形態では平坦部314が凸部の先端に当たる。したがって、有機EL発光装置30においては、隣り合う凹部313と凸部314とを対比した場合に、その凹部313の底31Pと平坦部314との、有機EL発光装置30の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)Hが、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。なお、本実施形態では、図7及び図8に示すように、凹部313の底31Pの高さは均一に揃っているが平坦部314の高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっている例を示す。ただし、平坦部314の高さは均一に揃っているが凹部313の底31Pの高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよく、凹部313の底31Pの高さ及び平坦部314の高さの両方が不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよい。   Further, also in the present embodiment, the height difference H of the unevenness adjacent to the light exit surface 30U is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, the flat part 314 hits the tip of the convex part. Therefore, in the organic EL light emitting device 30, when the adjacent concave portion 313 and the convex portion 314 are compared, the distance between the bottom 31P of the concave portion 313 and the flat portion 314 in the thickness direction of the organic EL light emitting device 30 (that is, , The height difference between adjacent irregularities) H is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In this embodiment, as shown in FIGS. 7 and 8, the height of the bottom 31 </ b> P of the recess 313 is even, but the height of the flat portion 314 is not uniform, so that the height difference between adjacent recesses and protrusions is different. An example in which H is uneven is shown. However, the heights of the flat portions 314 are uniform, but the heights of the bottoms 31P of the recesses 313 may be uneven, so that the difference in height H between adjacent concavities and convexities may be uneven. The height difference H between adjacent irregularities may be uneven due to the unevenness of the height of the flat portion 314 and the height of the flat portion 314.

このような、底31Pが丸みを帯びた形状を有する凹部313とその間の隙間である平
坦部314を有する出光面30Uを有する場合であっても、第一実施形態と同様に、光取
出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。また、仮に塵及び破片が凹部31
3にたまると光取出効率の低下及び輝点の発生などを生じるおそれがあるが、凹部313
の底31Pが丸みを帯びていると、凹部313に塵及び破片等が溜まり難くなり、好まし
い。さらに、本実施形態によれば、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。
Even in the case where the bottom 31P has the light emitting surface 30U having the concave portion 313 having a rounded shape and the flat portion 314 that is a gap between the concave portion 313, the light extraction efficiency can be increased as in the first embodiment. It is possible to increase rainbow unevenness. Also, if dust and debris are recessed 31
3 may cause a decrease in light extraction efficiency and generation of bright spots.
It is preferable that the bottom 31 </ b> P is rounded because dust, debris, and the like hardly accumulate in the recess 313. Furthermore, according to this embodiment, the same advantage as 1st embodiment can also be acquired.

本実施形態のように、凹部313の底31Pが丸みを帯びた形状である場合、その底31Pと、底が丸みを帯びず尖った角錐形状となっていた場合の頂部31Qとの高さの差31Rは、通常、丸みを帯びず尖った角錐形状となっていた場合の角錐の高さ31Sの20%以下とすればよい。
また、凹部313の底が丸みを帯びた形状である場合、当該丸みを帯びた部分を除く斜面313A及び313Bの角度を、斜面の角度とする。斜面の角度をこのような角度とすることにより、光取出効率を高めることができる。ただし、斜面は、必ずしも全てが同じ角度である必要は無く、上記範囲内で、異なる角度を有する斜面が共存していてもよい。
When the bottom 31P of the recess 313 has a rounded shape as in the present embodiment, the height of the bottom 31P and the top 31Q when the bottom has a rounded and pyramidal shape. The difference 31R may be usually 20% or less of the pyramid height 31S in the case of a rounded and sharp pyramid shape.
In addition, when the bottom of the recess 313 has a rounded shape, the angles of the slopes 313A and 313B excluding the rounded portion are the slope angles. By setting the angle of the slope to such an angle, the light extraction efficiency can be increased. However, the slopes are not necessarily all at the same angle, and slopes having different angles may coexist within the above range.

〔4.第四実施形態〕
第一〜第三実施形態では出光面に凹部を設けることによって出光面に凹凸構造をもたせたが、出光面に凸部を設けることによって凹凸構造をもたせてもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[4. Fourth Embodiment]
In the first to third embodiments, a concave and convex structure is provided on the light output surface by providing a concave portion on the light output surface, but a concave and convex structure may be provided by providing a convex portion on the light output surface. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図9及び図10はいずれも本発明の第四実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であって、図9は有機EL発光装置を模式的に示す斜視図であり、図10は図9に示す有機EL発光装置を線9a−9bを通り出光面に対して垂直な面で切断した断面を模式的に示す断面図である。 図9に示す通り、第四実施形態にかかる有機EL発光装置40は、出光面構造層400を構成する凹凸構造を有するフィルム基材410において、凹凸構造層411の表面である出光面40Uに、凹部113の代わりに凸部414が設けられていることの他は、第一実施形態と同様の構成を有している。   9 and 10 are views for explaining an organic EL light emitting device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 9 is a perspective view schematically showing the organic EL light emitting device, and FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL light emitting device shown in FIG. 9 cut along a plane that passes through lines 9a-9b and is perpendicular to the light exit surface. As shown in FIG. 9, the organic EL light emitting device 40 according to the fourth embodiment includes a light emitting surface 40U that is a surface of the concavo-convex structure layer 411 in the film base 410 having the concavo-convex structure constituting the light output surface structural layer 400. The configuration is the same as that of the first embodiment except that a convex portion 414 is provided instead of the concave portion 113.

凸部414は、出光面40Uにおいて、一定の間隔をおいて設けられている。隣り合う凸部414の間には隙間が設けられ、この隙間が平坦部413を構成している。ここで、前記の凸部414は平坦部413に比べて相対的に突出している部分であるため本発明に係る凸部に当たり、平坦部413は凸部414に比べて相対的に窪んでいるため本発明に係る凹部に当たる。そして、当該凹凸構造により、出光面40Uが規定される。   The convex portions 414 are provided at regular intervals on the light exit surface 40U. A gap is provided between adjacent convex portions 414, and this gap constitutes a flat portion 413. Here, the convex portion 414 is a portion that protrudes relatively as compared with the flat portion 413, and therefore corresponds to the convex portion according to the present invention, and the flat portion 413 is relatively depressed as compared with the convex portion 414. It corresponds to the recess according to the present invention. And the light emission surface 40U is prescribed | regulated by the said uneven structure.

また、凸部414は、いずれも、正四角錐の頂部を平らに面取りした形状(角錐台形状)である。したがって、図10に示すように、凸部414は、4面の斜面414A及び414Bと、前記の斜面414A及び414Bに囲まれた上面部414Uとを含む。上面部414Uは凸部414の角錐台形状の上底面に当たり、平坦な平面となっている。また、平坦部413も平坦な平面となっており、これらの平坦部413及び上面部414Uは、いずれも、出光面40U及び発光面144に対して平行になっている。   In addition, each of the convex portions 414 has a shape (pyramidal trapezoidal shape) obtained by flat chamfering the top of a regular quadrangular pyramid. Therefore, as shown in FIG. 10, the convex portion 414 includes four inclined surfaces 414A and 414B and an upper surface portion 414U surrounded by the inclined surfaces 414A and 414B. The upper surface portion 414U hits the upper bottom surface of the truncated pyramid shape of the convex portion 414, and is a flat plane. The flat portion 413 is also a flat plane, and both the flat portion 413 and the upper surface portion 414U are parallel to the light emitting surface 40U and the light emitting surface 144.

さらに、本実施形態においても、出光面40Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。本実施形態では平坦部413が凹部の底に当たり、上面部414Uが凸部414の先端に当たる。したがって、有機EL発光装置40においては、隣り合う平坦部413と凸部414とを対比した場合に、その平坦部413と上面部414Uとの、有機EL発光装置40の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)Hが、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。なお、本実施形態では、図10に示すように、平坦部413の高さは均一に揃っているが上面部414Uの高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっている例を示す。ただし、上面部414Uの高さは均一に揃っているが平坦部413の高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよく、平坦部413の高さ及び上面部414Uの高さの両方が不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよい。   Further, also in the present embodiment, the height difference H of the unevenness adjacent to each other on the light exit surface 40U is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, the flat portion 413 hits the bottom of the concave portion, and the upper surface portion 414U hits the tip of the convex portion 414. Therefore, in the organic EL light emitting device 40, when the adjacent flat portion 413 and the convex portion 414 are compared, the distance between the flat portion 413 and the upper surface portion 414U in the thickness direction of the organic EL light emitting device 40 (that is, The height difference (H) between adjacent irregularities is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, as shown in FIG. 10, the height of the flat portion 413 is uniform, but the height of the upper surface portion 414 </ b> U is not uniform, so that the height difference H between adjacent irregularities is not uniform. An example is shown. However, although the height of the upper surface portion 414U is uniform, the height difference H of the adjacent unevenness may be uneven due to uneven height of the flat portion 413, and the height of the flat portion 413 and The height difference H between adjacent irregularities may be uneven because both the heights of the upper surface portion 414U are uneven.

このような、出光面40Uに凸部414を設けることによって凹凸構造をもたせた場合であっても、第一実施形態と同様に、光取出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。また、凸部414の先端に当たる上面部414Uが平坦な平面であるため、出光面40Uの欠け等を防止し、出光面40Uの機械的強度を向上させることができる。さらに、本実施形態によれば、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。   Even in the case where the projections 414 are provided on the light exit surface 40U to provide a concavo-convex structure, the light extraction efficiency can be increased and rainbow unevenness can be suppressed as in the first embodiment. . Moreover, since the upper surface part 414U which hits the front-end | tip of the convex part 414 is a flat plane, the chip | tip etc. of the light emission surface 40U can be prevented and the mechanical strength of the light emission surface 40U can be improved. Furthermore, according to this embodiment, the same advantage as 1st embodiment can also be acquired.

〔5.第五実施形態〕
本発明の有機EL発光装置において、出光面を構成する凹部及び凸部の形状は、上述した角錐及び角錐台以外の形状であってもよく、例えば球の一部の形状であってもよい。
また、出光面において、凹部及び凸部は、第一〜第四実施形態において例示したように直交する2つの面内方向に沿って配列する以外にも、任意の態様で配列することができる。例えば、複数の凹部を、出光面上の1方向のみ、または、3方向以上の面内方向に沿って配列してもよく、ランダムに配置してもよい。
以下、その例を、図面を用いて説明する。
[5. Fifth embodiment]
In the organic EL light emitting device of the present invention, the shape of the concave portion and the convex portion constituting the light emission surface may be a shape other than the pyramid and the truncated pyramid described above, for example, a partial shape of a sphere.
In addition, on the light exit surface, the concave portions and the convex portions can be arranged in an arbitrary manner other than being arranged along two orthogonal in-plane directions as exemplified in the first to fourth embodiments. For example, the plurality of recesses may be arranged in only one direction on the light exit surface, or in three or more in-plane directions, or may be arranged randomly.
Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図11及び図12は、いずれも本発明の第五実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であって、図11は、有機EL発光装置を厚み方向から見た様子を模式的に示す上面図であり、図12は、図11に示す有機EL発光装置を、図11中の線11aを通る、出光面50Uと垂直な面で切断した断面を示す断面図である。
図11及び図12に示す通り、第五実施形態に係る有機EL発光装置50は、出光面構造層500を構成する凹凸構造を有するフィルム基材510において、凹凸構造層511の表面である出光面50Uの形状が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。
11 and 12 are diagrams for explaining the organic EL light emitting device according to the fifth embodiment of the present invention. FIG. 11 schematically shows the organic EL light emitting device viewed from the thickness direction. 12 is a top view, and FIG. 12 is a cross-sectional view showing a cross section of the organic EL light emitting device shown in FIG. 11 cut along a plane passing through the line 11a in FIG. 11 and perpendicular to the light exit surface 50U.
As shown in FIGS. 11 and 12, the organic EL light emitting device 50 according to the fifth embodiment includes a light emitting surface that is the surface of the concavo-convex structure layer 511 in the film base 510 having the concavo-convex structure constituting the light output surface structural layer 500. The configuration is the same as that of the first embodiment except that the shape of 50U is different.

凹凸構造層511の表面上に形成された凹部513は、半球状の形状であり、出光面50U上において、一定の間隔をおいて、線11a、11b及び11cに対して平行な3つの面内方向に沿って連続して配置されている。線11a、11b及び11cは、互いに60°の角度をなしている。隣り合う凹部513の間には、線11a、11b及び11cに沿って隙間が設けられ、この隙間が平坦部514を構成している。   The concave portion 513 formed on the surface of the concavo-convex structure layer 511 has a hemispherical shape, and has three in-plane parallel to the lines 11a, 11b, and 11c at a certain interval on the light exit surface 50U. It is continuously arranged along the direction. Lines 11a, 11b and 11c are at an angle of 60 ° to each other. Between the adjacent recesses 513, gaps are provided along the lines 11a, 11b, and 11c, and the gaps constitute a flat part 514.

さらに、本実施形態においても、出光面50Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。本実施形態では平坦部514が凸部の先端に当たる。したがって、有機EL発光装置50においては、隣り合う凹部513と平坦部514とを対比した場合に、その凹部513の底513Pと平坦部514との、有機EL発光装置50の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。なお、本実施形態では、図12に示すように、平坦部514の高さは均一に揃っているが凹部513の底513Pの高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっている例を示す。ただし、凹部513の底513Pの高さは均一に揃っているが平坦部514の高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよく、凹部513の底513Pの高さ及び平坦部514の高さの両方が不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよい。   Further, also in the present embodiment, the height difference H of the unevenness adjacent to the light exit surface 50U is uneven so that the standard deviation σ is within a predetermined range. In the present embodiment, the flat part 514 hits the tip of the convex part. Therefore, in the organic EL light emitting device 50, when the adjacent concave portion 513 and the flat portion 514 are compared, the distance in the thickness direction of the organic EL light emitting device 50 between the bottom 513P of the concave portion 513 and the flat portion 514 (that is, , The height difference between adjacent unevenness) H is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, as shown in FIG. 12, the flat portions 514 are even in height, but the bottoms 513 </ b> P of the recesses 513 are uneven in height, so that the height difference H between adjacent concavities and convexities is uneven. An example is shown. However, although the height of the bottom 513P of the recess 513 is uniform, the height H of the adjacent unevenness may be uneven due to the unevenness of the flat portion 514, and the bottom 513P of the recess 513 may be uneven. The height difference H between adjacent irregularities may be uneven due to the unevenness of both the height of the flat portion 514 and the height of the flat portion 514.

このような、球状の一部の形状を有する凹部513と、その間の隙間である平坦部514を有する出光面50Uを有する場合であっても、第一実施形態と同様に、光取出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。また、凹部513が球の一部の形状であると、凹部513の底が丸みを帯びるため、凹部513に塵及び破片等が溜まり難くなり、好ましい。さらには、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。   Even in the case where the light exit surface 50U having the concave portion 513 having a part of the spherical shape and the flat portion 514 that is a gap therebetween is provided, the light extraction efficiency is increased as in the first embodiment. And rainbow nonuniformity can be suppressed. In addition, it is preferable that the concave portion 513 has a shape of a part of a sphere because the bottom of the concave portion 513 is rounded, so that dust, debris, and the like hardly accumulate in the concave portion 513. Furthermore, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained.

〔6.第六実施形態〕
本発明の有機EL発光装置において、出光面を構成する凸部の先端は、丸みを帯びていてもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[6. Sixth embodiment]
In the organic EL light emitting device of the present invention, the tip of the convex portion constituting the light exit surface may be rounded. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図13は、本発明の第六実施形態に係る有機EL発光装置を、その出光面と垂直な面で切断した断面を示す断面図である。
図13に示す通り、第六実施形態に係る有機EL発光装置60は、出光面構造層600を構成する凹凸構造を有するフィルム基材610において、凹凸構造層611の表面である出光面60Uに、半球状の凹部513の代わりに半球状の凸部614が設けられていることの他は、第五実施形態と同様の構成を有している。
FIG. 13: is sectional drawing which shows the cross section which cut | disconnected the organic electroluminescent light-emitting device concerning 6th embodiment of this invention by the surface perpendicular | vertical to the light emission surface.
As shown in FIG. 13, the organic EL light emitting device 60 according to the sixth embodiment has a light emitting surface 60 </ b> U that is the surface of the concavo-convex structure layer 611 in the film base 610 having the concavo-convex structure constituting the light output surface structural layer 600. The structure is the same as that of the fifth embodiment except that a hemispherical convex portion 614 is provided instead of the hemispherical concave portion 513.

凸部614は、出光面60Uにおいて、一定の間隔をおいて設けられている。隣り合う凸部614の間には隙間が設けられ、この隙間が平坦部613を構成している。ここで、前記の凸部614は平坦部613に比べて相対的に突出している部分であるため本発明に係る凸部に当たり、平坦部613は凸部614に比べて相対的に窪んでいるため本発明に係る凹部に当たる。そして、当該凹凸構造により、出光面60Uが規定される。   The convex portions 614 are provided at regular intervals on the light exit surface 60U. A gap is provided between adjacent convex portions 614, and this gap constitutes a flat portion 613. Here, the convex portion 614 is a portion that protrudes relatively as compared with the flat portion 613, and therefore corresponds to the convex portion according to the present invention, and the flat portion 613 is relatively depressed as compared with the convex portion 614. It corresponds to the recess according to the present invention. And the light emission surface 60U is prescribed | regulated by the said uneven structure.

さらに、本実施形態においても、出光面60Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっていてもよい。本実施形態では平坦部613が凹部の底に当たる。したがって、有機EL発光装置60においては、隣り合う平坦部613と凸部614とを対比した場合に、その平坦部613と凸部614の先端614Pとの、有機EL発光装置60の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)Hが、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。なお、本実施形態では、図13に示すように、平坦部613の高さは均一に揃っているが、凸部614の先端614Pの高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっている例を示す。ただし、凸部614の先端614Pの高さは均一に揃っているが平坦部613の高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよく、平坦部613の高さ及び凸部614の先端614Pの高さの両方が不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよい。   Further, also in the present embodiment, the height difference H of the unevenness adjacent on the light exit surface 60U may be uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, the flat portion 613 hits the bottom of the recess. Therefore, in the organic EL light emitting device 60, when the adjacent flat portion 613 and the convex portion 614 are compared, the distance between the flat portion 613 and the tip 614P of the convex portion 614 in the thickness direction of the organic EL light emitting device 60. The height difference (that is, the difference in height between adjacent irregularities) is uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, as shown in FIG. 13, the height of the flat portion 613 is uniform, but the height difference H between adjacent irregularities is caused by the uneven height of the tip 614P of the convex portion 614. Here is an example where However, although the heights of the tips 614P of the convex portions 614 are uniform, the height difference H of the adjacent irregularities may be uneven due to the unevenness of the flat portions 613. The height difference H between adjacent irregularities may be irregular because both the height and the height of the tip 614P of the convex part 614 are irregular.

このような、球状の一部の形状を有する凸部614と、その間の隙間である平坦部613とを有する出光面60Uを有する場合であっても、第一実施形態と同様に、光取出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。また、凸部614が球の一部の形状であると、凸部614の先端614Pが丸みを帯びるため、異物が凸部614に引っかかって出光面60Uが傷つくことを防止できる。さらには、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。   Even in the case of having the light exit surface 60U having such a convex portion 614 having a spherical shape and a flat portion 613 that is a gap therebetween, the light extraction efficiency is the same as in the first embodiment. And rainbow unevenness can be suppressed. Further, when the convex portion 614 has a shape of a part of a sphere, the tip 614P of the convex portion 614 is rounded, so that it is possible to prevent foreign matter from being caught by the convex portion 614 and damaging the light exit surface 60U. Furthermore, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained.

〔7.第七実施形態〕
本発明の有機EL発光装置において、出光面を構成する凹部及び凸部の形状は、溝状の形状であってもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[7. Seventh embodiment]
In the organic EL light emitting device of the present invention, the shape of the concave portion and the convex portion constituting the light emission surface may be a groove shape. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図14は、本発明の第七実施形態に係る有機EL発光装置を模式的に示す斜視図である。図14に示す通り、第七実施形態に係る有機EL発光装置70は、出光面構造層700を構成する凹凸を有するフィルム基材710において、凹凸構造層711の表面である出光面70Uの形状が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。   FIG. 14 is a perspective view schematically showing an organic EL light emitting device according to the seventh embodiment of the present invention. As shown in FIG. 14, the organic EL light emitting device 70 according to the seventh embodiment has a light emitting surface 70 </ b> U that is the surface of the concavo-convex structure layer 711 in the film base 710 having the concavo-convex that forms the light output surface structural layer 700. Other than that, the configuration is the same as that of the first embodiment.

凹凸構造層711の表面上に形成された複数の凹部713のそれぞれは、直線状の、溝状の形状を有し、それぞれ2つの平坦な斜面及びを有する。したがって、凹部713を、溝の延長方向に垂直な面で切断した断面は、2つの斜辺を有する三角形の形状を有する。 複数の凹部713は、出光面70U上に平行に配列される。したがって、隣り合う凹部713の間には隙間が設けられる。この隙間が、出光面70Uにおける平坦部714を構成している。すなわち、出光面70Uに対して平行な面内方向のうち、少なくとも溝の延長方向に垂直な面内方向においては、凹部713と平坦部714とが交互に存在するようになっている。   Each of the plurality of recesses 713 formed on the surface of the concavo-convex structure layer 711 has a linear, groove-like shape, and each has two flat slopes. Therefore, the cross section obtained by cutting the recess 713 along a plane perpendicular to the extending direction of the groove has a triangular shape having two hypotenuses. The plurality of recesses 713 are arranged in parallel on the light exit surface 70U. Accordingly, a gap is provided between the adjacent recesses 713. This gap constitutes a flat portion 714 in the light exit surface 70U. That is, in the in-plane direction parallel to the light exit surface 70U, at least in the in-plane direction perpendicular to the extending direction of the groove, the recesses 713 and the flat portions 714 exist alternately.

さらに、本実施形態においても、出光面70Uにおいて隣り合う凹凸の高低差Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっていてもよい。本実施形態では平坦部714が凸部の先端に当たる。したがって、有機EL発光装置70においては、少なくとも溝の延長方向に垂直な面内方向において隣り合う凹部713と平坦部714とを対比した場合に、その凹部713の底713Pと平坦部714との、有機EL発光装置70の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっている。なお、本実施形態では、図14に示すように、平坦部714の高さは均一に揃っているが、凹部713の底713Pの高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっている例を示す。ただし、凹部713の底713Pの高さは均一に揃っているが平坦部714の高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよく、凹部713の底713Pの高さ及び平坦部714の高さの両方が不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよい。   Further, also in the present embodiment, the height difference H of the unevenness adjacent to the light exit surface 70U may be uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, the flat part 714 hits the tip of the convex part. Therefore, in the organic EL light emitting device 70, when the concave portion 713 and the flat portion 714 adjacent to each other at least in the in-plane direction perpendicular to the extending direction of the groove are compared, the bottom 713P of the concave portion 713 and the flat portion 714 are The distances in the thickness direction of the organic EL light emitting device 70 (that is, the height difference between adjacent unevenness) H are uneven so that the standard deviation σ is within a predetermined range. In the present embodiment, as shown in FIG. 14, the height of the flat portion 714 is uniform, but the height difference H between adjacent concavities and convexities is due to uneven height of the bottom 713 </ b> P of the recess 713. An example of irregularity is shown. However, although the height of the bottom 713P of the recess 713 is uniform, the height difference H of the adjacent unevenness may be uneven due to the unevenness of the flat portion 714, and the bottom 713P of the recess 713 The height difference H between adjacent irregularities may be uneven due to the unevenness of both the height of the flat portion 714 and the height of the flat portion 714.

このような、溝状の形状を有する凹部713を有する出光面70Uを有する場合であっても、第一実施形態と同様に、光取出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。さらには、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。   Even in the case of having the light exit surface 70U having the recess 713 having the groove shape, the light extraction efficiency can be increased and the rainbow unevenness can be suppressed as in the first embodiment. Furthermore, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained.

ここで、凹部713の溝状の形状は、上に例示した断面が三角形のものに限られず、様々な形状をとることができる。例えば、溝の断面形状は、5角形、7角形といった他の多角形の形状、又は円の一部等、多角形以外の形状であってもよい。さらに、溝の断面の形状を、頂点が丸みを帯びた形状又は平らに面取りされた形状に変形させてもよい。   Here, the groove-like shape of the recess 713 is not limited to the triangular cross section exemplified above, and can take various shapes. For example, the cross-sectional shape of the groove may be another polygonal shape such as a pentagon or a heptagon, or a shape other than a polygon such as a part of a circle. Further, the shape of the cross section of the groove may be changed to a shape with rounded vertices or a flat chamfered shape.

〔8.第八実施形態〕
上に述べた第一〜第七実施形態のように、出光面の2方向以上の面内方向に沿って凹部又は凸部を配列した場合において、平坦部は、かかる2方向以上の面内方向のいずれにおいても隣り合う凹部又は凸部の間に隙間を設けることにより構成したが、本発明はこれに限られず、2方向以上の面内方向のうち一部の方向のみにおいて隙間を設けてもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[8. Eighth Embodiment]
As in the first to seventh embodiments described above, when the concave portions or the convex portions are arranged along two or more in-plane directions of the light exit surface, the flat portion is in two or more in-plane directions. However, the present invention is not limited to this, and the gap may be provided only in a part of two or more in-plane directions. Good. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図15及び図16は、いずれも本発明の第八実施形態に係る有機EL発光装置を説明する図であって、図15は、有機EL発光装置を厚み方向から見た様子を模式的に示す上面図であり、図16は、図15に示す有機EL発光装置を、図15中の線15aを通る、出光面80Uと垂直な面で切断した断面を示す断面図である。図15及び図16に示す通り、第八実施形態に係る有機EL発光装置80は、出光面構造層800を構成する凹凸構造を有するフィルム基材810において、凹凸構造層811の表面である出光面80Uの形状が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。   FIGS. 15 and 16 are views for explaining the organic EL light emitting device according to the eighth embodiment of the present invention, and FIG. 15 schematically shows the organic EL light emitting device viewed from the thickness direction. 16 is a top view, and FIG. 16 is a cross-sectional view showing a cross section of the organic EL light emitting device shown in FIG. 15 cut along a plane that passes through the line 15a in FIG. 15 and is perpendicular to the light exit surface 80U. As shown in FIGS. 15 and 16, the organic EL light emitting device 80 according to the eighth embodiment includes a light emitting surface that is a surface of the concavo-convex structure layer 811 in the film substrate 810 having the concavo-convex structure constituting the light output surface structural layer 800. The configuration is the same as that of the first embodiment except that the shape of 80U is different.

凹凸構造層811の表面上に形成された複数の凹部813のそれぞれは第一実施形態における凹部113と同一の四角錐形状であるが、凹部813間の隙間は、図15中の線15aに垂直な面内方向Yに隣り合う凹部813の間にのみ設けられ、その結果、線15aに対して平行な面内方向Xに延長する平坦部814が構成されている。   Each of the plurality of recesses 813 formed on the surface of the concavo-convex structure layer 811 has the same quadrangular pyramid shape as the recesses 113 in the first embodiment, but the gap between the recesses 813 is perpendicular to the line 15a in FIG. As a result, a flat portion 814 extending in the in-plane direction X parallel to the line 15a is formed.

さらに、本実施形態においても、出光面80Uにおいて、少なくとも面内方向Yでは、隣り合う凹凸の高低差Hは、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっていもよい。本実施形態では平坦部814が凸部の先端に当たる。また、面内方向Xにおいて隣り合う凹部813間の境界部分815も凸部の先端に当たる。したがって、有機EL発光装置80においては、面内方向Yにおいて隣り合う凹部813と平坦部814とを対比した場合、または、面内方向Xにおいて隣り合う凹部813と境界部分815とを対比した場合に、その凹部813の底813Pと平坦部814との、有機EL発光装置80の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)H、又は、その凹部813の底813Pと境界部分815との、有機EL発光装置80の厚み方向における距離(すなわち、隣り合う凹凸の高低差)Hが、標準偏差σが所定の範囲に収まるように不揃いになっていてもよい。なお、本実施形態では、図16に示すように、平坦部814及び境界部分815の高さは均一に揃っているが、凹部813の底813Pの高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっている例を示す。ただし、凹部813の底813Pの高さは均一に揃っているが平坦部814及び境界部分815の高さが不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよく、凹部813の底813Pの高さ、平坦部814の高さ及び境界部分815の高さが全て不揃いとなることにより隣り合う凹凸の高低差Hが不揃いとなっていてもよい。   Further, also in the present embodiment, in the light exit surface 80U, at least in the in-plane direction Y, the height difference H between the adjacent irregularities may be uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, the flat part 814 hits the tip of the convex part. Further, a boundary portion 815 between the concave portions 813 adjacent in the in-plane direction X also hits the tip of the convex portion. Therefore, in the organic EL light emitting device 80, when the concave portion 813 and the flat portion 814 adjacent in the in-plane direction Y are compared, or when the concave portion 813 and the boundary portion 815 adjacent in the in-plane direction X are compared. The distance between the bottom 813P of the recess 813 and the flat portion 814 in the thickness direction of the organic EL light-emitting device 80 (that is, the height difference between adjacent unevenness) H, or the bottom 813P of the recess 813 and the boundary portion 815 The distance in the thickness direction of the organic EL light emitting device 80 (that is, the height difference between adjacent unevenness) H may be uneven so that the standard deviation σ falls within a predetermined range. In the present embodiment, as shown in FIG. 16, the flat portion 814 and the boundary portion 815 have the same height, but the unevenness of the adjacent concave and convex portions due to the unevenness of the bottom 813 </ b> P of the concave portion 813. An example in which the height difference H is uneven is shown. However, although the height of the bottom 813P of the recess 813 is uniform, the height difference H between adjacent recesses may be uneven due to the unevenness of the flat portion 814 and the boundary portion 815. Since the height of the bottom 813P of 813, the height of the flat portion 814, and the height of the boundary portion 815 are all uneven, the height difference H between adjacent concavities and convexities may be uneven.

このような、2方向以上の面内方向のうち一部の方向のみにおいて平坦部814を有する出光面80Uを有する場合であっても、第一実施形態と同様に、光取出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。さらには、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。また、本実施形態では、第一実施形態の場合に比べて、相対的に、出光面がある方向(例えば平坦部814の延長方向に対して平行な面内方向X)に沿って擦傷を受ける場合の耐擦傷性は低下しうる一方、光取り出し効率については向上させうるので、好ましく用いうる場合もあり得る。   Even in the case of having the light exit surface 80U having the flat portion 814 in only some of the in-plane directions of two or more directions, the light extraction efficiency is increased as in the first embodiment, and , Rainbow unevenness can be suppressed. Furthermore, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained. Further, in this embodiment, as compared with the case of the first embodiment, the light emission surface is relatively scratched along a certain direction (for example, an in-plane direction X parallel to the extending direction of the flat portion 814). In some cases, the scratch resistance can be lowered, but the light extraction efficiency can be improved, so that it may be preferably used.

なお、凹部813の形状について、本実施形態では、隣り合う凹部813間の境界部分815の高さと平坦部814の高さは同じであるが、境界部分815の高さは、平坦部814の高さと異なっていてもよい。
また、ここでは凹部813の形状が四角錐のみである例を取り上げたが、それ以外の形状であってもよい。例えば、図17に示すように、寄せ棟屋根状の凹部816が複数並んだ構成とすることもできる。なお、図17に示す凹凸構造層821は第八実施形態に係る凹凸構造層811の変形例であり、凹部の形状が異なること以外は、第八実施形態に係る凹凸構造層811と同様の構成を有する。
In the present embodiment, the height of the boundary portion 815 between the adjacent concave portions 813 and the height of the flat portion 814 are the same as the shape of the concave portion 813, but the height of the boundary portion 815 is the height of the flat portion 814. May be different.
Although the example in which the shape of the recess 813 is only a quadrangular pyramid has been taken here, other shapes may be used. For example, as shown in FIG. 17, it can also be set as the structure in which the recessed part 816 of the ridged roof shape was located in a line. Note that the uneven structure layer 821 shown in FIG. 17 is a modification of the uneven structure layer 811 according to the eighth embodiment, and has the same configuration as the uneven structure layer 811 according to the eighth embodiment, except that the shape of the recess is different. Have

〔9.第九実施形態〕
上述した第一〜第八実施形態では、有機EL発光装置の片面だけが出光面となる片面発光型の有機EL発光装置を例に挙げて説明したが、本発明の有機EL発光装置は、有機EL発光装置の両面が発光面となる両面発光型の有機EL発光装置であってもよい。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[9. Ninth Embodiment]
In the first to eighth embodiments described above, the single-sided light-emitting organic EL light-emitting device in which only one surface of the organic EL light-emitting device is a light-emitting surface has been described as an example. However, the organic EL light-emitting device of the present invention is an organic EL light-emitting device. It may be a double-sided light emitting organic EL light emitting device in which both surfaces of the EL light emitting device are light emitting surfaces. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図18は、本発明の第九実施形態に係る有機EL発光装置を模式的に示す斜視図である
図18に示す通り、第九実施形態に係る有機EL発光装置90は、有機EL素子940が反射電極である第二の電極層143の代わりに透明電極である第二の電極層943を備える点、並びに、封止基板151の代わりに出光面構造層100が設けられている点の他は、第一実施形態と同様の構成を有している。なお、図中下側の出光面構造層100と、第二の電極943との間には、充填材や接着剤等の任意の物質が存在していてもよいし、空隙が存在していてもよい。空隙には、発光層142の耐久性を大きく損なう等の不都合がない限りは空気やその他の気体が存在してもよいし、空隙内を真空としてもよい。
18 is a perspective view schematically showing the organic EL light emitting device according to the ninth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 18, the organic EL light emitting device 90 according to the ninth embodiment includes an organic EL element 940. Other than the point that a second electrode layer 943 that is a transparent electrode is provided instead of the second electrode layer 143 that is a reflective electrode, and the light emitting surface structure layer 100 is provided instead of the sealing substrate 151. The configuration is the same as that of the first embodiment. Note that an arbitrary substance such as a filler or an adhesive may exist between the light emitting surface structure layer 100 on the lower side in the drawing and the second electrode 943, and there is a gap. Also good. As long as there is no inconvenience such as greatly impairing the durability of the light emitting layer 142, air or other gas may be present in the space, or the space may be evacuated.

第二の電極層943が透明電極であるため、発光層142からの光は、第一の電極層141を及び第二の電極層943を透過して、図中上側及び下側の両方の出光面10Uから出光する。したがって、有機EL素子940の図中下側の表面145も、発光面として機能する。このような、おもて面及び裏面の両方から光が出光する場合であっても、第一実施形態と同様に、光取出効率を高め、且つ、虹ムラを抑制することができる。   Since the second electrode layer 943 is a transparent electrode, light from the light-emitting layer 142 passes through the first electrode layer 141 and the second electrode layer 943, and is emitted from both the upper side and the lower side in the figure. Light exits from the surface 10U. Therefore, the lower surface 145 of the organic EL element 940 in the figure also functions as a light emitting surface. Even in the case where light is emitted from both the front surface and the back surface, light extraction efficiency can be increased and rainbow unevenness can be suppressed as in the first embodiment.

また、本実施形態の有機EL発光装置90では、通常、一方の出光面10Uに入射した光は有機EL発光装置90を透過して他方の出光面10Uから出光することになる。したがって、有機EL発光装置90を通じて反対側を肉眼で見通すことができるようになり、シースルー型の有機EL発光装置実現できるので、デザインを多様化できる。さらには、第一実施形態と同様の利点を得ることもできる。   Further, in the organic EL light emitting device 90 of the present embodiment, normally, light incident on one light emitting surface 10U is transmitted through the organic EL light emitting device 90 and emitted from the other light emitting surface 10U. Accordingly, the opposite side can be seen with the naked eye through the organic EL light emitting device 90, and a see-through type organic EL light emitting device can be realized, so that the design can be diversified. Furthermore, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained.

[10.第十実施形態〕
本有機EL発光装置において、屈折率がガラス基材より大きい屈折率不連続構造層が、第1電極層のガラス基材側、または第2電極層の発光層のない側に配置されていてもよい。図19は本発明の第十実施形態に係る有機EL発光装置1000を説明する図であって、複屈折不連続層が第一電極層のガラス基材側に配置された例を示す模式的な断面図である。図19に示す通り、第10実施形態にかかる有機EL発光装置30は、屈折率不連続構造層が第一電極層のガラス基材側に存在する点が異なる他は、第一実施形態と同様の構成を有している。屈折率不連続構造層は、前記ガラス基材上に形成された凹凸構造層あるいは凹凸構造のある樹脂フィルム層、または拡散層から構成され、このような層を設けることによって、屈折率の高いガラス基材を使用しなくても高い光効率が実現できる。屈折率不連続構造層が凹凸構造層を有する場合、平坦化層などの別の層を積層していてもよい。屈折率不連続構造層の厚さは、特に限定されないが、平均で0.3μm以上30μm以下であることが好ましい。
[10. Tenth Embodiment]
In this organic EL light emitting device, even if the refractive index discontinuous structure layer having a refractive index larger than that of the glass substrate is disposed on the glass substrate side of the first electrode layer or on the side of the second electrode layer without the light emitting layer. Good. FIG. 19 is a diagram for explaining an organic EL light emitting device 1000 according to the tenth embodiment of the present invention, and schematically shows an example in which a birefringent discontinuous layer is disposed on the glass substrate side of the first electrode layer. It is sectional drawing. As shown in FIG. 19, the organic EL light emitting device 30 according to the tenth embodiment is the same as the first embodiment except that the refractive index discontinuous structure layer is present on the glass substrate side of the first electrode layer. It has the composition of. The refractive index discontinuous structure layer is composed of a concavo-convex structure layer formed on the glass substrate, a resin film layer having a concavo-convex structure, or a diffusion layer. By providing such a layer, a glass having a high refractive index is formed. High light efficiency can be realized without using a substrate. When the refractive index discontinuous structure layer has an uneven structure layer, another layer such as a planarization layer may be laminated. The thickness of the refractive index discontinuous structure layer is not particularly limited, but is preferably 0.3 μm or more and 30 μm or less on average.

(ガラス基材上に形成された凹凸構造層)
屈折率不連続構造層がガラス基材上に形成された凹凸構造層である場合、例えば、図19に示すように凹凸構造層1021と平坦化層1022から構成される。凹凸構造は、第一態様〜第八実施態様の出光部の凹凸構造層と同様の形状を適宜採用できる。その場合の凹凸構造のサイズは0.3〜10μmであることが好ましい。凹凸構造は、通常、透明樹脂を含む樹脂組成物により形成することができる。透明樹脂が「透明」であるとは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味である。本実施形態においては、屈折率不連続構造層全体として80%以上の全光線透過率を有するものとすればよい。
(Uneven structure layer formed on glass substrate)
When the refractive index discontinuous structure layer is a concavo-convex structure layer formed on a glass substrate, for example, the concavo-convex structure layer 1021 and a planarization layer 1022 are formed as shown in FIG. As the concavo-convex structure, the same shape as that of the concavo-convex structure layer of the light output part of the first to eighth embodiments can be appropriately adopted. In this case, the size of the uneven structure is preferably 0.3 to 10 μm. The concavo-convex structure can be usually formed by a resin composition containing a transparent resin. That the transparent resin is “transparent” means that it has a light transmittance suitable for use in an optical member. In the present embodiment, the entire refractive index discontinuous structure layer may have a total light transmittance of 80% or more.

樹脂組成物に含まれる透明樹脂は、特に限定されず、透明な層を形成することができる
各種の樹脂を用いることができる。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性
樹脂、電子線硬化性樹脂を挙げることができる。なかでも熱可塑性樹脂は熱による変形が
容易であるため、また紫外線硬化性樹脂は硬化性が高く効率が良いため、凹凸構造の効率的な形成が可能となり、それぞれ好ましい。
The transparent resin contained in the resin composition is not particularly limited, and various resins that can form a transparent layer can be used. Examples thereof include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and an electron beam curable resin. Among these, thermoplastic resins are preferable because they are easily deformable by heat, and ultraviolet curable resins are highly curable and efficient, and thus can efficiently form a concavo-convex structure.

熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系、ポリアクリレート系、シクロオレフィンポリマー系等の樹脂を挙げることができる。また紫外線硬化性樹脂としては、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エン/チオール系、イソシアネート系等の樹脂を挙げることができる。これらの樹脂としては、複数個の重合性官能基を有するものを好ましく用いることができる。なお、前記の樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the thermoplastic resin include polyester, polyacrylate, and cycloolefin polymer resins. Examples of the ultraviolet curable resin include epoxy resins, acrylic resins, urethane resins, ene / thiol resins, and isocyanate resins. As these resins, those having a plurality of polymerizable functional groups can be preferably used. In addition, the said resin may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ガラス基材上に形成された凹凸構造層の製造方法は、例えば、所望の形状を有する転写型を用意し、この型を凹凸構造層1021を形成する材料の層に転写し、凹凸構造を形成後、その凹凸構造側に平坦化層を形成することにより行うことができる。平坦化層を形成する具体的な方法としては、前記凹凸構造上に粘度の小さい樹脂組成物にて塗工を行い、リフローの効果により表面を平坦化した後、記粘度の小さい樹脂組成物を硬化するなどの方法により、別の樹脂組成物を積層することができる。   The method for producing the concavo-convex structure layer formed on the glass substrate is, for example, preparing a transfer mold having a desired shape and transferring the mold to a material layer for forming the concavo-convex structure layer 1021 to form a concavo-convex structure. Thereafter, it can be performed by forming a planarization layer on the concave-convex structure side. As a specific method for forming the planarization layer, coating with a resin composition having a low viscosity on the concavo-convex structure, flattening the surface by the effect of reflow, Another resin composition can be laminated by a method such as curing.

その場合、凹凸構造層を形成する樹脂組成物は、転写型から凹凸構造を形成するのが容易であるため、UV硬化型樹脂が好ましく、平坦化層もUV硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂が好ましい。平坦化層は高屈折化のために、前記のUV硬化型樹脂あるいは熱硬化性樹脂をバインダーとして、その中に平均粒子径が0.3um以下の微小粒子が含まれていてよい。このような微小粒子としてはジルコニア、酸化チタンなどの無機粒子、あるいはダイヤモンド粒子などのバインダーより屈折率の高い粒子が挙げられる。凹凸構造層と平坦化層の屈折率差は、0.1〜0.5の範囲内であることが好ましい。   In that case, the resin composition for forming the concavo-convex structure layer is preferably a UV curable resin because the concavo-convex structure can be easily formed from the transfer mold, and the planarizing layer is also preferably a UV curable resin or a thermosetting resin. preferable. The planarization layer may contain fine particles having an average particle size of 0.3 μm or less in the UV curable resin or thermosetting resin as a binder in order to increase the refractive index. Examples of such fine particles include inorganic particles such as zirconia and titanium oxide, or particles having a higher refractive index than binders such as diamond particles. The difference in refractive index between the concavo-convex structure layer and the planarization layer is preferably in the range of 0.1 to 0.5.

(拡散層)
屈折率不連続構造層が拡散層である場合は、拡散層は透明樹脂中に粒子を含むような樹脂組成物が好ましい。粒子は、透明であってもよく、不透明であってもよい。粒子の材料としては、例えば、金属及び金属化合物、並びに樹脂等が挙げられる。金属化合物としては、例えば、金属の酸化物及び窒化物を挙げることができる。金属及び金属化合物の具体例を挙げると、銀、アルミのような反射率が高い金属;酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化ジルコニウム、窒化珪素、錫添加酸化インジウム、酸化チタン等の金属化合物;などを挙げることができる。一方、樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。なお、粒子の材料は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
(Diffusion layer)
When the refractive index discontinuous structure layer is a diffusion layer, the diffusion layer is preferably a resin composition containing particles in a transparent resin. The particles may be transparent or opaque. Examples of the material of the particles include metals and metal compounds, and resins. Examples of the metal compound include metal oxides and nitrides. Specific examples of metals and metal compounds include metals having high reflectivity such as silver and aluminum; metal compounds such as silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, silicon nitride, tin-added indium oxide, and titanium oxide. be able to. On the other hand, examples of the resin include methacrylic resin, polyurethane resin, and silicone resin. In addition, the particle | grain material may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

粒子の形状は、例えば、球状、円柱状、立方体状、直方体状、角錐状、円錐状、星型状等の形状とすることができる。
粒子の粒径は、好ましくは0.1μm以上であり、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下である。ここで粒径とは、体積基準の粒子量を、粒子径を横軸にして積算した積算分布における50%粒子径のことである。粒径が大きいほど、所望の効果を得るために必要な粒子の含有割合は多くなり、粒径が小さいほど、含有量は少なくてすむ。したがって、粒径が小さいほど、観察角度による色味の変化の低減、及び光取り出し効率の向上等の所望の効果を、少ない粒子で得ることができる。なお、粒径は、粒子の形状が球状以外である場合には、その同等体積の球の直径を粒径とする。
The shape of the particles can be, for example, a spherical shape, a cylindrical shape, a cubic shape, a rectangular parallelepiped shape, a pyramid shape, a conical shape, a star shape, or the like.
The particle diameter of the particles is preferably 0.1 μm or more, preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. Here, the particle diameter is a 50% particle diameter in an integrated distribution obtained by integrating the volume-based particle amount with the particle diameter as the horizontal axis. The larger the particle size, the larger the content ratio of particles necessary for obtaining the desired effect, and the smaller the particle size, the smaller the content. Therefore, as the particle size is smaller, desired effects such as a reduction in change in color depending on the observation angle and an improvement in light extraction efficiency can be obtained with fewer particles. When the particle shape is other than spherical, the diameter of the sphere having the same volume is used as the particle size.

粒子が透明な粒子であり、且つ粒子が透明樹脂中に含まれる場合において、粒子の屈折率と透明樹脂の屈折率との差が、0.05〜0.5であることが好ましく、0.07〜0.5であることがより好ましい。ここで、粒子及び透明樹脂の屈折率は、どちらがより大きくてもよい。粒子と透明樹脂の屈折率が近すぎると拡散効果が得られず色味ムラは抑制され難くなる可能性があり、逆に差が大きすぎると拡散が大きくなり色味ムラは抑制されるが光取出効果が低減する可能性がある。   In the case where the particles are transparent particles and the particles are contained in the transparent resin, the difference between the refractive index of the particles and the refractive index of the transparent resin is preferably 0.05 to 0.5. More preferably, it is 07-0.5. Here, either the particle or the refractive index of the transparent resin may be larger. If the refractive index of the particles and the transparent resin is too close, the diffusion effect cannot be obtained and the color unevenness may be difficult to be suppressed. Conversely, if the difference is too large, the diffusion becomes large and the color unevenness is suppressed, but light Extraction effect may be reduced.

粒子の含有割合は、粒子を含む層の全量中における体積割合で、1%以上が好ましく、5%以上がより好ましく、また、80%以下が好ましく、50%以下がより好ましい。粒子の含有割合をかかる下限以上とすることにより、観察角度による色味の変化の低減等の所望の効果を得ることができる。また、かかる上限以下とすることにより、粒子の凝集を防止し、粒子を安定して分散させることができる。   The content ratio of the particles is a volume ratio in the total amount of the layer containing the particles, preferably 1% or more, more preferably 5% or more, 80% or less, and more preferably 50% or less. By setting the content ratio of the particles to be equal to or higher than the lower limit, desired effects such as reduction of a change in color depending on the observation angle can be obtained. Moreover, by setting it as this upper limit or less, aggregation of particle | grains can be prevented and particle | grains can be disperse | distributed stably.

〔第十一実施態様〕
第一〜第十実施態様においては、凹凸構造を有するフィルム基材、金属アルコキシド層、支持基板、第1電極層、発光層、第2電極層がこの順に配置されている有機EL発光装置を例に挙げて説明したが、本発明の有機EL発光装置は、支持基板、金属アルコキシド層、凹凸構造を有するフィルム基材、第1電極層、発光層、第2電極層がこの順に配置される有機EL発光装置であってもよい。このように支持基板を外側に設置することにより、第十実施形態のときと同様に屈折率が高い支持基材を使用しなくても高い光効率を実現できる。また支持基材がガラス基材の場合、凹凸構造を形成するのがフィルム基材上になるため、割れやすいガラス上への凹凸構造形成が不要になる。以下、その例を、図面を用いて説明する。
[Eleventh embodiment]
In the first to tenth embodiments, an organic EL light emitting device in which a film substrate having a concavo-convex structure, a metal alkoxide layer, a support substrate, a first electrode layer, a light emitting layer, and a second electrode layer are arranged in this order is taken as an example. As described above, the organic EL light-emitting device of the present invention is an organic material in which a support substrate, a metal alkoxide layer, a film substrate having a concavo-convex structure, a first electrode layer, a light-emitting layer, and a second electrode layer are arranged in this order. It may be an EL light emitting device. By installing the support substrate on the outside in this way, high light efficiency can be realized without using a support base material having a high refractive index as in the tenth embodiment. Further, when the supporting substrate is a glass substrate, it is not necessary to form a concavo-convex structure on glass that is easily broken because the concavo-convex structure is formed on the film substrate. Hereinafter, the example is demonstrated using drawing.

図20は本発明の第十一実施形態に係る有機EL発光装置を説明する断面を模式的に示す断面図である。図20に示す通り、第十一実施形態に係る有機EL発光装置1100は、支持基板131、金属アルコキシド層121、凹凸構造を有するフィルム基材(基材フィルム112、凹凸構造層1121)、平坦化層1122、第1電極層141、発光層142、第2電極層143、および封止基材151がこの順に配置されている。各構成単位は、第一実施形態、第十実施態様と同様となっている。なお、凹凸構造を有するフィルム基材は凹凸構造を形成する樹脂と基材フィルムが一体であってよい。   FIG. 20 is a cross-sectional view schematically showing a cross section for explaining the organic EL light emitting device according to the eleventh embodiment of the present invention. As shown in FIG. 20, the organic EL light emitting device 1100 according to the eleventh embodiment includes a support substrate 131, a metal alkoxide layer 121, a film base material having a concavo-convex structure (base film 112, concavo-convex structure layer 1121), planarization. The layer 1122, the first electrode layer 141, the light emitting layer 142, the second electrode layer 143, and the sealing substrate 151 are arranged in this order. Each structural unit is the same as in the first embodiment and the tenth embodiment. In addition, the film base material which has a concavo-convex structure may be integral with resin and base film which form a concavo-convex structure.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the Example shown below.

(金属アルコキシド層の厚み測定)
金属アルコキシド層を有する複合層等の試料を、集束イオンビーム加工観察装置FB−
2100(日立製作所製)のマイクロサンプリング装置にて加工し、観察用切片を作製し
た。作製した切片を透過電子顕微鏡H−7500(日立製作所製)で観察し、ランダムに
20点測定し、測定値の平均から金属アルコキシド層の厚さを求めた。
(取り出し効率の測定)
Radient社製ImagingSphereを用い、有機EL素子の発光面中央部2cmφの領域の全光束を凹凸構造を有するフィルム基材を貼合わせる前後で測定し、その比を算出した。
(Measurement of metal alkoxide layer thickness)
A sample such as a composite layer having a metal alkoxide layer is subjected to a focused ion beam processing observation apparatus FB-
It processed with the microsampling apparatus of 2100 (made by Hitachi, Ltd.), and produced the slice for observation. The prepared slice was observed with a transmission electron microscope H-7500 (manufactured by Hitachi, Ltd.), randomly measured at 20 points, and the thickness of the metal alkoxide layer was determined from the average of the measured values.
(Measurement of extraction efficiency)
Using Imaging Sphere manufactured by Radient, the total luminous flux in the region of 2 cmφ in the central portion of the light emitting surface of the organic EL element was measured before and after the film substrate having a concavo-convex structure was bonded, and the ratio was calculated.

〔実施例1〕
(1−1:凹凸構造を有するフィルム基材Aの製造)
UV(紫外線)硬化型樹脂A(ウレタンアクリレート樹脂を主成分とするバインダ60%と平均粒子径25nmのジルコニア粒子40%、屈折率n=1.67)を、一方の表面を放電量600(W・min/m)でコロナ処理した基材フィルムa(ポリエステルフィルム、厚み100μm、屈折率n=1.65)上に塗布した。その後、樹脂の塗膜上に所定の形状の金属型を圧接し、基材フィルム側から紫外線を1000mJ/cmの積算光量で照射して、基材フィルムa上に凹凸構造層b(厚み15μm)を形成した。これにより、基材フィルムa−凹凸構造層bの層構成を有する長方形のフィルムとして、凹凸構造を有するフィルム基材を得た。凹凸構造は頂角60度のピラミッド形状の構造体が2μmの間隙で複数並んだ構成であり、凹凸構造のピッチは20μmであった。この凹凸構造を有するフィルム基材の凹凸構造層側でないフィルム基材層側を、出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行って、凹凸構造を有するフィルム基材Aを得た。
[Example 1]
(1-1: Production of film substrate A having an uneven structure)
UV (ultraviolet ray) curable resin A (60% binder mainly composed of urethane acrylate resin, 40% zirconia particles having an average particle diameter of 25 nm, refractive index n = 1.67), discharge amount 600 (W Application was performed on a substrate film a (polyester film, thickness 100 μm, refractive index n = 1.65) subjected to corona treatment at min / m 2 ). Thereafter, a metal mold having a predetermined shape is pressed onto the resin coating, and ultraviolet rays are irradiated from the base film side with an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2 , so that the concavo-convex structure layer b (thickness 15 μm) is formed on the base film a. ) Was formed. Thereby, the film base material which has a concavo-convex structure was obtained as a rectangular film which has the layer composition of base film a-concavo-convex structure layer b. The concavo-convex structure has a structure in which a plurality of pyramidal structures with apex angles of 60 degrees are arranged with a gap of 2 μm, and the pitch of the concavo-convex structure is 20 μm. The film substrate layer side that is not the uneven structure layer side of the film substrate having this uneven structure is subjected to atmospheric pressure plasma irradiation at an output of 1.5 kW, a frequency of 25 kHz, a nitrogen gas flow rate of 50 L / min, and an irradiation speed of 30 cm / min. A film substrate A having an uneven structure was obtained.

(1−2:有機EL素子Bの製造)
厚さ0.3mmのガラス基板(n=1.6)の一方の主面に、透明電極層100nm、ホール輸送層10nm、黄色発光層20nm、青色発光層15nm、電子輸送層15nm、電子注入層1nm、及び反射電極層100nmを、この順に形成した。ホール輸送層から電子輸送層までは全て有機材料により形成した。なお、黄色発光層及び青色発光層はそれぞれ異なる発光スペクトルを有している。
(1-2: Production of organic EL element B)
A transparent electrode layer 100 nm, a hole transport layer 10 nm, a yellow light emitting layer 20 nm, a blue light emitting layer 15 nm, an electron transport layer 15 nm, an electron injection layer on one main surface of a glass substrate (n = 1.6) having a thickness of 0.3 mm. 1 nm and a reflective electrode layer 100 nm were formed in this order. The hole transport layer to the electron transport layer were all made of an organic material. Note that the yellow light-emitting layer and the blue light-emitting layer have different emission spectra.

透明電極層から反射電極層までの各層を形成した材料は、それぞれ下記の通りである。
・透明電極層;錫添加酸化インジウム(ITO)
・ホール輸送層;4,4’−ビス[N−(ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
(α−NPD)
・黄色発光層;ルブレン1.5重量%添加 α−NPD
・青色発光層;イリジウム錯体10重量%添加 4,4’−ジカルバゾリル−1,1’−
ビフェニル(CBP)
・電子輸送層;フェナンスロリン誘導体(BCP)
・電子注入層;フッ化リチウム(LiF)
・反射電極層;Al
The material which formed each layer from a transparent electrode layer to a reflective electrode layer is as follows, respectively.
-Transparent electrode layer; tin-added indium oxide (ITO)
Hole transport layer; 4,4′-bis [N- (naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD)
・ Yellow light emitting layer: 1.5% by weight of rubrene added α-NPD
Blue light-emitting layer: iridium complex added at 10% by weight 4,4′-dicarbazolyl-1,1′-
Biphenyl (CBP)
-Electron transport layer; phenanthroline derivative (BCP)
-Electron injection layer; lithium fluoride (LiF)
-Reflective electrode layer: Al

透明電極層の形成方法は、ITOターゲットとした反応性スパッタリング法にて行い、
表面抵抗を10Ω/□以下とした。また、ホール注入層から反射電極層までの形成は、真
空蒸着装置内に透明電極層を既に形成したガラス基板を設置し、上記のホール輸送層から
反射電極層までの材料を抵抗加熱式により順次蒸着させることにより行なった。系内圧は
5×10−3Paで、蒸発速度は0.1〜0.2nm/sで行った。
さらに、電極層に通電のための配線を取り付け、さらにホール輸送層から反射電極層ま
でを封止部材により封止し、有機EL素子を作製した。得られた有機EL素子は、ガラス
基板側から白色の光を出光しうる長方形の発光面を有していた。さらに、この有機EL素子のガラス基板の透明電極側でない側の面を常圧プラズマ表面処理装置(製品名「AP−T03−L」、積水化学社製)を用いて出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行って有機EL素子Bを得た。
The transparent electrode layer is formed by a reactive sputtering method using an ITO target,
The surface resistance was set to 10Ω / □ or less. In addition, the formation from the hole injection layer to the reflective electrode layer is carried out by placing a glass substrate on which a transparent electrode layer has already been formed in a vacuum evaporation apparatus, and successively using the resistance heating method for the materials from the hole transport layer to the reflective electrode layer. This was done by vapor deposition. The system internal pressure was 5 × 10 −3 Pa and the evaporation rate was 0.1 to 0.2 nm / s.
Further, wiring for energization was attached to the electrode layer, and the hole transport layer to the reflective electrode layer were sealed with a sealing member to produce an organic EL element. The obtained organic EL element had a rectangular light emitting surface capable of emitting white light from the glass substrate side. Furthermore, the surface of the glass substrate of the organic EL element that is not on the transparent electrode side is output with an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus (product name “AP-T03-L”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) with an output of 1.5 kW and a frequency of 25 kHz. Then, atmospheric pressure plasma irradiation was performed at a nitrogen gas flow rate of 50 L / min and an irradiation speed of 30 cm / min to obtain an organic EL element B.

(1−3.凹凸構造を有するフィルム基材A1の製造)
シランカップリング剤として、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−403」、信越化学社製)を用いた。シランカップリング剤を密閉容器内に少量入れ、容器内をシランカップリング剤の蒸気で飽和状態にした。ここに、(1−1)で得られた凹凸構造を有するフィルム基材Aを入れ、シランカップリング剤の液面がフィルム試料に触れないようにして、25℃で10分間保持し、ベーパー処理法によるシランカップリング剤処理を行った。これにより、シランカップリング剤処理面を有する凹凸構造を有するフィルム基材A1を得た。
(1-3. Production of film substrate A1 having an uneven structure)
As the silane coupling agent, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (product name “KBM-403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used. A small amount of the silane coupling agent was placed in a sealed container, and the inside of the container was saturated with the vapor of the silane coupling agent. The film substrate A having the concavo-convex structure obtained in (1-1) is put here, and the liquid surface of the silane coupling agent is kept from touching the film sample, and kept at 25 ° C. for 10 minutes. The silane coupling agent treatment by the method was performed. Thereby, film base material A1 which has an uneven structure which has a silane coupling agent processing surface was obtained.

(1−4.有機EL素子B1の製造)
シランカップリング剤として、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−903」、信越化学社製)を用いた。シランカップリング剤を密閉容器内に少量入れ、容器内をシランカップリング剤の蒸気で飽和状態にした。ここに、(1−2)で得られた有機EL素子Bを入れ、シランカップリング剤の液面がフィルム試料に触れないようにして、25℃で10分間保持し、ベーパー処理法によるシランカップリング剤処理を行った。これにより、シランカップリング剤処理面を有する有機EL素子B1を得た。
(1-4. Production of organic EL element B1)
As the silane coupling agent, 3-aminopropyltrimethoxysilane (product name “KBM-903”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used. A small amount of the silane coupling agent was placed in a sealed container, and the inside of the container was saturated with the vapor of the silane coupling agent. The organic EL element B obtained in (1-2) is put here, and the silane coupling agent is kept at 25 ° C. for 10 minutes so that the liquid surface of the silane coupling agent does not touch the film sample. Ring agent treatment was performed. This obtained organic EL element B1 which has a silane coupling agent processing surface.

(1−5.有機EL発光装置1の製造)
(1−3)で得られた一対の凹凸構造を有するフィルム基材A1と有機EL素子B1をプラズマ処理された側の面が、互いに向かい合うよう、これらを配置し、積層した。ロールラミネータ(製品名「ML−300T」、MCK社製)を用いて温度90℃、圧力0.4MPa、速度1.0m/minで加熱圧着を行い、シランカップリング剤層の厚みが20nmの有機EL発光装置1を得た。得られた有機EL発光装置1の全光束は、有機EL素子Bの全光束の1.43倍であった。すなわち取り出し効率は1.43であった。
(1-5. Production of organic EL light-emitting device 1)
The film base A1 having the concavo-convex structure obtained in (1-3) and the organic EL element B1 were arranged and laminated so that the surfaces on which the plasma treatment was performed face each other. Using a roll laminator (product name “ML-300T”, manufactured by MCK), thermocompression bonding is performed at a temperature of 90 ° C., a pressure of 0.4 MPa, and a speed of 1.0 m / min, and the thickness of the silane coupling agent layer is 20 nm. An EL light emitting device 1 was obtained. The total luminous flux of the obtained organic EL light emitting device 1 was 1.43 times the total luminous flux of the organic EL element B. That is, the extraction efficiency was 1.43.

〔実施例2〕
実施例1の(1−1)、(1−3)と同様にして、凹凸構造を有するフィルム基材A2を得た。さらに、n=1.7のガラスを使用した以外は、実施例1の(1−2)、(1−4)と同様にして、有機EL素子B2を得た。凹凸構造を有するフィルム基材A2と、有機EL素子B2とを実施例1と同様に積層して、有機EL発光装置2を得た。得られた有機EL発光装置2の全光束は、有機EL素子B2の全光束の1.49倍であり、実施例1で得られた有機EL発光装置1の全光束の1.05倍であった
[Example 2]
In the same manner as in Example 1-1 (1-1) and (1-3), a film substrate A2 having an uneven structure was obtained. Further, an organic EL element B2 was obtained in the same manner as in (1-2) and (1-4) of Example 1 except that n = 1.7 glass was used. A film substrate A2 having a concavo-convex structure and an organic EL element B2 were laminated in the same manner as in Example 1 to obtain an organic EL light emitting device 2. The total luminous flux of the obtained organic EL light emitting device 2 is 1.49 times the total luminous flux of the organic EL element B2, and 1.05 times the total luminous flux of the organic EL light emitting device 1 obtained in Example 1. The

〔実施例3〕
(3−1:凹凸構造を有するフィルム基材Cの製造)
UV(紫外線)硬化型樹脂B(ウレタンアクリレート樹脂主成分 屈折率n=1.53)を、一方の表面を放電量600(W・min/m)でコロナ処理した基材フィルムc(ゼオノアフィルム、厚み100μm、屈折率n=1.53)上に塗布した。その後、樹脂の塗膜上に所定の形状の金属型を圧接し、基材フィルム側から紫外線を1000mJ/cmの積算光量で照射して、基材フィルム上に凹凸構造層d(厚み15μm)を形成した。これにより、基材フィルムc−凹凸構造層dの層構成を有する長方形のフィルムとして、凹凸構造層を有するフィルム基材を得た。凹凸構造は頂角60度のピラミッド形状の構造体が2μmの間隙で複数並んだ構成であり、凹凸構造のピッチは20μmであった。この凹凸構造層を有するフィルム基材の凹凸構造層側でないフィルム基材層側を、出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行って、凹凸構造を有するフィルム基材Cを得た。
Example 3
(3-1: Production of film substrate C having an uneven structure)
Base film c (Zeonor film) obtained by corona-treating one surface of UV (ultraviolet ray) curable resin B (urethane acrylate resin main component, refractive index n = 1.53) with a discharge amount of 600 (W · min / m 2 ). , Thickness 100 μm, refractive index n = 1.53). Thereafter, a metal mold having a predetermined shape is pressed on the resin coating, and ultraviolet rays are irradiated from the base film side with an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2 , so that the concavo-convex structure layer d (thickness 15 μm) is formed on the base film. Formed. Thereby, the film base material which has an uneven | corrugated structure layer was obtained as a rectangular film which has the layer structure of base film c-uneven structure layer d. The concavo-convex structure has a structure in which a plurality of pyramidal structures with apex angles of 60 degrees are arranged with a gap of 2 μm, and the pitch of the concavo-convex structure is 20 μm. The film substrate layer side that is not the uneven structure layer side of the film substrate having this uneven structure layer is subjected to atmospheric pressure plasma irradiation at an output of 1.5 kW, a frequency of 25 kHz, a nitrogen gas flow rate of 50 L / min, and an irradiation speed of 30 cm / min. A film substrate C having an uneven structure was obtained.

(3−2:屈折率不連続層を有するガラス基材Dの製造
次にUV(紫外線)硬化型樹脂B(ウレタンアクリレート樹脂主成分、屈折率n=1.53)を、厚さ0.1mmのガラス基材(n=1.52)上に塗布した。その後、樹脂の塗膜上に所定の形状の金属型を圧接し、ガラス基材e側から紫外線を1000mJ/cm2の積算光量で照射して、ガラス基材e上に凹凸構造層f(厚み5μm)を形成した。これにより、ガラス基材−凹凸構造層fの層構成を有する長方形のフィルムとして、凹凸構造を有するガラス基材を得た。凹凸構造は頂角20度で高さ3μmの角錐台の構造体が1μmの間隔で複数並んだ構成であり、凹凸構造のピッチは4μmであった。次にUV(紫外線)硬化型樹脂C(ウレタンアクリレート樹脂60%と平均粒子径25nmのジルコニア粒子40%、屈折率n=1.67)からなる平坦化層gを凹凸構造層上に厚さ15μmで塗布し、ガラス基材e−凹凸構造層f−平坦化層gの層構成の屈折率不連続層を有するガラス基材を得た。さらにこの屈折率不連続層を有するガラス基材の、平坦化層g側でないガラス基材e側を出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行って、屈折率不連続層を有するガラス基材Dを得た。
(3-2: Production of Glass Substrate D Having Refractive Index Discontinuous Layer Next, UV (ultraviolet ray) curable resin B (urethane acrylate resin main component, refractive index n = 1.53) was added to a thickness of 0.1 mm. Then, a metal mold having a predetermined shape was pressed onto the resin coating film, and ultraviolet rays were irradiated from the glass substrate e side with an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2. Then, a concavo-convex structure layer f (thickness: 5 μm) was formed on the glass substrate e, whereby a glass substrate having a concavo-convex structure was formed as a rectangular film having a layer structure of glass substrate-concave structure layer f. The concavo-convex structure has a structure in which a plurality of pyramidal frustum structures having apex angles of 20 degrees and a height of 3 μm are arranged at intervals of 1 μm, and the pitch of the concavo-convex structure is 4 μm. Resin C (urethane acrylate resin 60% and average particle A flattening layer g made of 25 nm zirconia particles 40%, refractive index n = 1.67) is applied on the concavo-convex structure layer at a thickness of 15 μm, and a glass substrate e-concave-concave structure layer f-planarization layer g is formed. A glass substrate having a refractive index discontinuous layer having a constitution was obtained, and the glass substrate e side of the glass substrate having the refractive index discontinuous layer, which was not on the flattening layer g side, had an output of 1.5 kW, a frequency of 25 kHz, Atmospheric pressure plasma irradiation was performed at a nitrogen gas flow rate of 50 L / min and an irradiation speed of 30 cm / min to obtain a glass substrate D having a refractive index discontinuous layer.

(3−3.凹凸構造を有するフィルム基C1の製造)
(1-3)と同様にしてフィルム基材Cにシランカップリング剤処理を行い、シランカップリング剤処理面を有する凹凸構造を有するフィルム基材C1を得た。
(3-3. Production of film base C1 having an uneven structure)
The film substrate C was treated with a silane coupling agent in the same manner as (1-3) to obtain a film substrate C1 having a concavo-convex structure having a silane coupling agent-treated surface.

(3−4.ガラス基材D1の製造)
(1-4)と同様にして屈折率不連続層を有するガラス基材Dにシランカップリング剤処理を行い、シランカップリング剤処理面と屈折率不連続層を有するガラス基材D1を得た。
(3-4. Production of glass substrate D1)
The glass substrate D having a refractive index discontinuous layer was treated with a silane coupling agent in the same manner as in (1-4) to obtain a glass substrate D1 having a silane coupling agent treated surface and a refractive index discontinuous layer. .

(3−5.ガラス基材D2の製造)
(3−3)で得られた一対の凹凸構造を有するフィルム基材C1と屈折率不連続層を有するガラス基材D1をプラズマ処理された側の面が、互いに向かい合うよう、これらを配置し、積層した。ロールラミネータ(製品名「ML−300T」、MCK社製)を用いて温度90℃、圧力0.4MPa、速度1.0m/minで加熱圧着を行い、シランカップリング剤層の厚みが20nmのフィルム基材C1-ガラス基材D1の構成を持つガラス基材D2を得た。
(3−6:有機EL素子Eの製造)
前記ガラス基材D2の屈折率不連続層を形成した面に、透明電極層100nm、ホール輸送層10nm、黄色発光層20nm、青色発光層15nm、電子輸送層15nm、電子注入層1nm、及び反射電極層100nmを、この順に形成した。ホール輸送層から電子輸送層までは全て有機材料により形成した。なお、黄色発光層及び青色発光層はそれぞれ異なる発光スペクトルを有している。
透明電極層から反射電極層までの各層を形成した材料は、(1−2)と同様である。
透明電極層の形成方法は、ITOターゲットとした反応性スパッタリング法にて行い、表面抵抗を10Ω/□以下とした。また、ホール注入層から反射電極層までの形成は、真空蒸着装置内に透明電極層を既に形成したガラス基板を設置し、上記のホール輸送層から反射電極層までの材料を抵抗加熱式により順次蒸着させることにより行なった。系内圧は5×10−3Paで、蒸発速度は0.1〜0.2nm/sで行った。
さらに、電極層に通電のための配線を取り付け、さらにホール輸送層から反射電極層ま
でを封止部材により封止し、有機EL発光装置3を作製した。得られた有機EL発光装置3の全光束は、有機EL発光装置2と同等であった。
(3-5. Production of glass substrate D2)
The film substrate C1 having a pair of concavo-convex structure obtained in (3-3) and the glass substrate D1 having a refractive index discontinuous layer are arranged such that the surfaces on the plasma-treated side face each other, Laminated. A film having a thickness of 20 nm for the silane coupling agent layer by thermocompression bonding using a roll laminator (product name “ML-300T”, manufactured by MCK) at a temperature of 90 ° C., a pressure of 0.4 MPa, and a speed of 1.0 m / min. A glass substrate D2 having a configuration of substrate C1-glass substrate D1 was obtained.
(3-6: Production of organic EL element E)
A transparent electrode layer 100 nm, a hole transport layer 10 nm, a yellow light emitting layer 20 nm, a blue light emitting layer 15 nm, an electron transport layer 15 nm, an electron injection layer 1 nm, and a reflective electrode are formed on the surface of the glass substrate D2 on which the refractive index discontinuous layer is formed. A layer of 100 nm was formed in this order. The hole transport layer to the electron transport layer were all made of an organic material. Note that the yellow light-emitting layer and the blue light-emitting layer have different emission spectra.
The material forming each layer from the transparent electrode layer to the reflective electrode layer is the same as (1-2).
The transparent electrode layer was formed by a reactive sputtering method using an ITO target, and the surface resistance was 10Ω / □ or less. In addition, the formation from the hole injection layer to the reflective electrode layer is carried out by placing a glass substrate on which a transparent electrode layer has already been formed in a vacuum evaporation apparatus, and successively using the resistance heating method for the materials from the hole transport layer to the reflective electrode layer. This was done by vapor deposition. The system internal pressure was 5 × 10 −3 Pa and the evaporation rate was 0.1 to 0.2 nm / s.
Furthermore, wiring for energization was attached to the electrode layer, and further, the hole transport layer to the reflective electrode layer were sealed with a sealing member, and the organic EL light emitting device 3 was produced. The total luminous flux of the obtained organic EL light emitting device 3 was equivalent to that of the organic EL light emitting device 2.

〔実施例4〕
(4−1:屈折率不連続層を有するフィルム基材Fの製造)
UV(紫外線)硬化型樹脂B(ウレタンアクリレート樹脂主成分、屈折率n=1.53)を、一方の表面を放電量600(W・min/m)でコロナ処理した厚み5μmの基材フィルムh(ゼオノアフィルム n=1.53)上に塗布した。その後、樹脂の塗膜上に所定の形状の金属型を圧接し、基材フィルム側から紫外線を1000mJ/cmの積算光量で照射して、基材フィルム上に凹凸構造層i(厚み5μm)を形成した。これにより、基材フイルムh−凹凸構造層iの層構成を有する長方形のフィルムとして、凹凸構造を有するフィルム基材を得た。凹凸構造は頂角20度で高さ3μmの角錐台の構造体が1μmの間隔で複数並んだ構成であり、凹凸構造のピッチは4μmであった。次にUV(紫外線)硬化型樹脂C(ウレタンアクリレート樹脂60%と平均粒子径25nmのジルコニア粒子40%、屈折率n=1.67)からなる平坦化層jを凹凸構造層上に厚さ15μmで塗布し、基材フィルムh−凹凸構造層i−平坦化層jの層構成の屈折率不連続層を有するフィルム基材を得た。さらにこの屈折率不連続層を有するフィルム基材の基材フィルムh側を出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行って、屈折率不連続層を有するフィルム基材Fを得た。
Example 4
(4-1: Production of film base material F having a refractive index discontinuous layer)
5 μm thick base film obtained by corona-treating one surface of UV (ultraviolet ray) curable resin B (urethane acrylate resin main component, refractive index n = 1.53) with a discharge amount of 600 (W · min / m 2 ). h (Zeonor film n = 1.53). Thereafter, a metal mold having a predetermined shape is pressed onto the resin coating, and ultraviolet rays are irradiated from the base film side with an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2 , so that the concavo-convex structure layer i (thickness 5 μm) is formed on the base film. Formed. This obtained the film base material which has an uneven | corrugated structure as a rectangular film which has the layer structure of the base film h-uneven structure layer i. The concavo-convex structure has a configuration in which a plurality of pyramidal pyramid structures with apex angles of 20 degrees and a height of 3 μm are arranged at intervals of 1 μm, and the pitch of the concavo-convex structure is 4 μm. Next, a planarizing layer j made of UV (ultraviolet) curable resin C (urethane acrylate resin 60%, zirconia particles 40% in average particle diameter of 40 nm, refractive index n = 1.67) is formed on the concavo-convex structure layer with a thickness of 15 μm. The film base material which has the refractive index discontinuous layer of the layer constitution of base film h-uneven structure layer i-flattened layer j was obtained. Further, the substrate film h side of the film substrate having the refractive index discontinuous layer is subjected to atmospheric pressure plasma irradiation at an output of 1.5 kw, a frequency of 25 kHz, a nitrogen gas flow rate of 50 L / min, and an irradiation speed of 30 cm / min. A film substrate F having a discontinuous layer was obtained.

(4−2.屈折率不連続層を有するフィルム基F1の製造)
(1-3)と同様にして屈折率不連続層を有するフィルム基材Fにシランカップリング剤処理を行い、シランカップリング剤処理面を有し、屈折率不連続層を有するフィルム基材F1を得た。
(4-2. Production of film base F1 having a refractive index discontinuous layer)
In the same manner as in (1-3), the film base F having a refractive index discontinuous layer is treated with a silane coupling agent, the film base F1 having a silane coupling agent-treated surface and having a refractive index discontinuous layer. Got.

(4−3.ガラス基材G1の製造)
主面を出力1.5kw、周波数25kHz、窒素ガス流量50L/分、照射速度30cm/分で大気圧プラズマ照射を行ったガラス基材G(厚さ0.3mm、n=1.6)に(1-4)と同様にしてシランカップリング剤処理を行い、シランカップリング剤処理面を有するガラス基材G1を得た。
(4-3. Production of glass substrate G1)
A glass substrate G (thickness 0.3 mm, n = 1.6) subjected to atmospheric pressure plasma irradiation with an output of 1.5 kW, a frequency of 25 kHz, a nitrogen gas flow rate of 50 L / min, and an irradiation speed of 30 cm / min on the main surface ( In the same manner as in 1-4), a silane coupling agent treatment was performed to obtain a glass substrate G1 having a silane coupling agent treated surface.

(4−4.ガラス基材G2の製造)
(4−1)で得られた屈折率不連続層を有するフィルム基材F1とガラス基材G1をプラズマ処理された側の面が、互いに向かい合うよう、これらを配置し、積層した。ロールラミネータ(製品名「ML−300T」、MCK社製)を用いて温度90℃、圧力0.4MPa、速度1.0m/minで加熱圧着を行い、シランカップリング剤層の厚みが20nmのフィルム基材F1−ガラス基材G1の構成を持つガラス基材G2を得た。
(3−6:有機EL素子Hの製造)
ガラス基材G2の屈折率不連続層を形成した面に、透明電極層100nm、ホール輸送層10nm、黄色発光層20nm、青色発光層15nm、電子輸送層15nm、電子注入層1nm、及び反射電極層100nmを、この順に形成した。ホール輸送層から電子輸送層までは全て有機材料により形成した。なお、黄色発光層及び青色発光層はそれぞれ異なる発光スペクトルを有している。
透明電極層から反射電極層までの各層を形成した材料は、(1−2)と同様である。
透明電極層の形成方法は、ITOターゲットとした反応性スパッタリング法にて行い、表面抵抗を10Ω/□以下とした。また、ホール注入層から反射電極層までの形成は、真空蒸着装置内に透明電極層を既に形成したガラス基板を設置し、上記のホール輸送層から反射電極層までの材料を抵抗加熱式により順次蒸着させることにより行なった。系内圧は5×10−3Paで、蒸発速度は0.1〜0.2nm/sで行った。
さらに、電極層に通電のための配線を取り付け、さらにホール輸送層から反射電極層ま
でを封止部材により封止し、有機EL発光装置4を作製した。
(4-4. Production of glass substrate G2)
The film base F1 having the refractive index discontinuous layer obtained in (4-1) and the glass base G1 were arranged and laminated so that the surfaces on which the plasma treatment was performed face each other. A film having a thickness of 20 nm for the silane coupling agent layer by thermocompression bonding using a roll laminator (product name “ML-300T”, manufactured by MCK) at a temperature of 90 ° C., a pressure of 0.4 MPa, and a speed of 1.0 m / min. A glass substrate G2 having a configuration of the substrate F1 and the glass substrate G1 was obtained.
(3-6: Production of organic EL element H)
A transparent electrode layer 100 nm, a hole transport layer 10 nm, a yellow light emitting layer 20 nm, a blue light emitting layer 15 nm, an electron transport layer 15 nm, an electron injection layer 1 nm, and a reflective electrode layer are formed on the surface of the glass substrate G2 on which the refractive index discontinuous layer is formed. 100 nm was formed in this order. The hole transport layer to the electron transport layer were all made of an organic material. Note that the yellow light-emitting layer and the blue light-emitting layer have different emission spectra.
The material forming each layer from the transparent electrode layer to the reflective electrode layer is the same as (1-2).
The transparent electrode layer was formed by a reactive sputtering method using an ITO target, and the surface resistance was 10Ω / □ or less. In addition, the formation from the hole injection layer to the reflective electrode layer is carried out by placing a glass substrate on which a transparent electrode layer has already been formed in a vacuum evaporation apparatus, and successively using the resistance heating method for the materials from the hole transport layer to the reflective electrode layer. This was done by vapor deposition. The system internal pressure was 5 × 10 −3 Pa and the evaporation rate was 0.1 to 0.2 nm / s.
Furthermore, wiring for energization was attached to the electrode layer, and further, the hole transport layer to the reflective electrode layer were sealed with a sealing member, and the organic EL light emitting device 4 was produced.

〔比較例1〕
凹凸構造を有するフィルム基材Aと有機EL素子Bをアクリル系粘着剤(厚さ25μm、屈折率1.47)で貼り合わせる以外は、実施例1と同じにして有機EL発光装置5を得た。そうして凹凸構造を有するフィルム基材Aを合わせる前後での全光束を測定したところ1.3倍であった。すなわち取り出し効率は1.35であり実施例1で得られた有機EL発光装置1の0.94倍であった。また実施例1に比べて厚さが粘着剤分厚くなった。
[Comparative Example 1]
An organic EL light-emitting device 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film substrate A having an uneven structure and the organic EL element B were bonded together with an acrylic pressure-sensitive adhesive (thickness 25 μm, refractive index 1.47). . Thus, the total luminous flux before and after combining the film base A having the concavo-convex structure was measured and found to be 1.3 times. That is, the extraction efficiency was 1.35, 0.94 times that of the organic EL light-emitting device 1 obtained in Example 1. Also, the thickness was thicker than that of Example 1.

〔比較例2〕
凹凸構造を有するフィルム基材Cとガラス基材Dをアクリル系粘着剤(厚さ15μm、屈折率1.47)で貼り合わせる以外は、実施例3と同じにして有機EL発光装置6を得た。全光束は有機EL発光装置3に対して0.98倍であった。また実施例3に比べてアウトガスが多く各種真空プロセスの排気時間に時間を要した。
[Comparative Example 2]
An organic EL light-emitting device 6 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the film substrate C having an uneven structure and the glass substrate D were bonded together with an acrylic pressure-sensitive adhesive (thickness 15 μm, refractive index 1.47). . The total luminous flux was 0.98 times that of the organic EL light emitting device 3. Further, the amount of outgas was larger than in Example 3, and it took time to exhaust the various vacuum processes.

〔比較例3〕
フィルム基材Fとガラス基材Gをアクリル系粘着剤(厚さ15μm、屈折率1.47)で貼り合わせる以外は、実施例4と同じにして有機EL発光装置7を得た。全光束は有機EL発光装置4に対して0.98倍であった。また実施例4に比べてアウトガスが多く各種真空プロセスの排気時間に時間を要した。

[Comparative Example 3]
An organic EL light emitting device 7 was obtained in the same manner as in Example 4 except that the film base F and the glass base G were bonded together with an acrylic pressure-sensitive adhesive (thickness 15 μm, refractive index 1.47). The total luminous flux was 0.98 times that of the organic EL light emitting device 4. Further, the amount of outgas was larger than that in Example 4, and it took time to exhaust the various vacuum processes.

10 有機EL発光装置
11A〜11D 斜面
11E〜11H 凹部の四角錐形状の底辺
11J、11K 凹部の間隔
11L、11M 凹部の斜面と平坦部とがなす角
11N 凹部の四角錐形状の頂角
11P 凹部の四角錐形状の頂点
10U 出光面
100 出光面構造層
110 凹凸構造を有するフィルム基材
111 凹凸構造層
112 基材フィルム層
113 凹部
114 平坦部
121 金属アルコキシド層
131 支持基板
140 有機EL素子
141 第一の電極層
142 発光層
143 第二の電極層
144 有機EL素子の表面(発光面)
145 有機EL素子の表面
151 封止基材
20 有機EL発光装置
20U 出光面
21P 底面部
200 出光面構造層
210 凹凸構造を有するフィルム基材
211 凹凸構造層
213 凹部
213A、212B 斜面
214 平坦部
30 有機EL発光装置
30U 出光面
31P 底
300 出光面構造層
310 凹凸構造を有するフィルム基材
311 凹凸構造層
313 凹部
313A、313B 斜面
314 平坦部
40 有機EL発光装置
40U 出光面
400 出光面構造層
410 凹凸構造を有するフィルム基材
411 凹凸構造層
413 平坦部
413A、413B 斜面
414 凸部
414U 上面部
50 有機EL発光装置
50U 出光面
500 出光面構造層
510 凹凸構造を有するフィルム基材
511 凹凸構造層
513 凹部
514 平坦部
60 有機EL発光装置
60U 出光面
600 出光面構造層
610 凹凸構造を有するフィルム基材
611 凹凸構造層
613 平坦部
614 凸部
614P 凸部の先端
70 有機EL発光装置
70U 出光面
700 出光面構造層
710 凹凸構造を有するフィルム基材
711 凹凸構造層
713 凹部
714 平坦部
80 有機EL発光装置
80U 出光面
800 出光面構造層
810 凹凸構造を有するフィルム基材
811 凹凸構造層
813 凹部
813P 凹部の底
814 平坦部
815 凹部間の境界部分
816 凹部
821 凹凸構造層
90 有機EL発光装置
940 有機EL素子
943 第二の電極
1000 有機EL発光装置
1020 屈折率不連続構造層
1021 凹凸構造層
1022 平坦化層
1100 有機EL発光装置
1110 出光面構造層
1120 凹凸構造を有するフィルム基材
1121 凹凸構造層
1122 平坦化層

T 凹凸構造層の厚さ
H 隣り合う凹凸の高低差
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Organic EL light-emitting device 11A-11D Inclination 11E-11H Bottom of pyramid shape of a recessed part 11J, 11K Space | interval of a recessed part 11L, 11M Angle formed by the inclined surface of a recessed part and a flat part 11N Top angle 11P of recessed part Apex of quadrangular pyramid shape 10U Light exit surface 100 Light exit surface structure layer 110 Film base material having uneven structure 111 Concavity and convexity structure layer 112 Base material film layer 113 Concave portion 114 Flat portion 121 Metal alkoxide layer 131 Support substrate 140 Organic EL element 141 First Electrode layer 142 Light emitting layer 143 Second electrode layer 144 Surface of organic EL element (light emitting surface)
145 Surface of organic EL element 151 Sealing substrate 20 Organic EL light emitting device 20U Light exit surface 21P Bottom surface portion 200 Light exit surface structure layer 210 Film substrate having uneven structure 211 Uneven structure layer 213 Recess 213A, 212B Slope 214 Flat portion 30 Organic EL light emitting device 30U light emitting surface 31P bottom 300 light emitting surface structure layer 310 film substrate having uneven structure 311 uneven structure layer 313 recessed portion 313A, 313B slope 314 flat portion 40 organic EL light emitting device 40U light emitting surface 400 light emitting surface structure layer 410 uneven structure 411 Uneven structure layer 413 Flat portion 413A, 413B Slope 414 Convex portion 414U Upper surface portion 50 Organic EL light emitting device 50U Light emitting surface 500 Light emitting surface structure layer 510 Film substrate having uneven structure 511 Uneven structure layer 513 Recessed portion 514 Flat part 60 Organic EL light emitting device 60U Light emitting surface 600 Light emitting surface structure layer 610 Film substrate having uneven structure 611 Uneven structure layer 613 Flat part 614 Convex part 614P Tip of convex part 70 Organic EL light emitting apparatus 70U Light emitting surface 700 Light emitting surface structure Layer 710 film substrate having concavo-convex structure 711 concavo-convex structure layer 713 recess 714 flat portion 80 organic EL light emitting device 80U light exit surface 800 light exit surface structure layer 810 film substrate having concavo-convex structure 811 concavo-convex structure layer 813 recess 813P bottom of recess 814 Flat part 815 Boundary part between concave parts 816 Concave part 821 Concavity and convexity structure layer 90 Organic EL light emitting device 940 Organic EL element 943 Second electrode 1000 Organic EL light emitting device 1020 Refractive index discontinuous structure layer 1021 Concavity and convexity structure layer 1022 Flattening layer 1100 Organic EL light emitting device 11 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light emission surface structure layer 1120 Film base material which has uneven structure 1121 Uneven structure layer 1122 Flattening layer

T Thickness of uneven structure layer H Height difference of adjacent unevenness

Claims (7)

凹凸構造を有するフィルム基材、支持基板、第1電極層、発光層、および第2電極層を有する有機EL発光装置であって、
支持基板と、凹凸構造を有するフィルム基材との間に金属アルコキシド層を有することを特徴とする有機EL発光装置。
An organic EL light emitting device having a film substrate having a concavo-convex structure, a support substrate, a first electrode layer, a light emitting layer, and a second electrode layer,
An organic EL light emitting device comprising a metal alkoxide layer between a support substrate and a film substrate having a concavo-convex structure.
凹凸構造を有するフィルム基材、金属アルコキシド層、支持基板、第1電極層、発光層、第2電極層がこの順に配置されることを特徴とする請求項1記載の有機EL発光装置。 The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein a film substrate having a concavo-convex structure, a metal alkoxide layer, a support substrate, a first electrode layer, a light-emitting layer, and a second electrode layer are arranged in this order. 前記支持基板が、ガラス基材であることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL発光装置。 The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein the support substrate is a glass base material. 屈折率がガラス基材より大きい屈折率不連続構造層が、前記第1電極層のガラス基材側、または第2電極層の発光層のない側に配置されることを特徴とする請求項3に記載の有機EL発光装置。 The refractive index discontinuous structure layer having a refractive index larger than that of the glass substrate is disposed on the glass substrate side of the first electrode layer or on the side of the second electrode layer without the light emitting layer. The organic EL light-emitting device described in 1. 前記ガラス基材の屈折率が1.65以上であることを特徴とする請求項3または4に記載の有機EL発光装置。 The organic EL light-emitting device according to claim 3 or 4, wherein the glass substrate has a refractive index of 1.65 or more. 前記凹凸構造を有するフィルム基材の凹凸構造が、角錐形状又は角錐台形状である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機EL発光装置。 The organic EL light-emitting device according to claim 1, wherein the uneven structure of the film substrate having the uneven structure is a pyramid shape or a truncated pyramid shape. 有機EL発光装置の製造方法であって、
凹凸構造を有するフィルム基材および、支持基板を表面処理する工程、
次いでシランカップリング剤で処理する工程、ならびに
凹凸構造を有するフィルム基材の表面処理した面と、支持基材の表面処理をした側を重ね合わせて、圧着する工程、
を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機EL発光装置の製造方法。
A method of manufacturing an organic EL light emitting device,
A step of surface-treating a film substrate having a concavo-convex structure and a support substrate;
Next, the step of treating with the silane coupling agent, and the step of superposing and pressing the surface-treated surface of the film substrate having a concavo-convex structure and the surface-treated side of the supporting substrate,
The manufacturing method of the organic electroluminescent light-emitting device of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned.
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