JP2013076852A - Liquid crystal display device - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device.
17インチクラス以上の中・大型の液晶表示装置では、拭きムラおよび振動試験時に起きる配向膜の削れによる微小輝点が問題になっている。拭きムラは、液晶表示パネル表面を触ったときにTFT(Thin Film Transistor)基板とカラーフィルタ基板がずれることで部分的にギャップが変動し、それがムラとなって認識される現象である。また、中・大型の液晶表示装置では振動もしくは衝撃を受けたときに、液晶表示パネルに掛かる負荷が大きくなる。そのため、TFT基板とカラーフィルタ基板が擦れることで、配向膜の削れカスが生じ、配向を乱すため生じる不良が微小輝点である。 In medium- and large-sized liquid crystal display devices of the 17-inch class or higher, there are problems of wiping unevenness and minute bright spots due to alignment film scraping that occur during vibration tests. Wiping unevenness is a phenomenon in which when the surface of a liquid crystal display panel is touched, a gap is partially changed due to a shift between a TFT (Thin Film Transistor) substrate and a color filter substrate, which is recognized as unevenness. In addition, in medium and large liquid crystal display devices, the load applied to the liquid crystal display panel when subjected to vibration or impact increases. For this reason, the TFT substrate and the color filter substrate are rubbed to cause scraping of the alignment film, and defects caused by disturbing the alignment are minute bright spots.
拭きムラの対策として、TFT基板とカラーフィルタ基板がずれた場合でも元に戻りやすいように封止加圧を弱めている。しかし、封止加圧を弱めすぎると高温環境下において周辺のギャップが広がるため、その部分が黄色く変色し高温ギャップムラが発生する。 As a measure against uneven wiping, the sealing pressure is weakened so that the TFT substrate and the color filter substrate can be easily returned to each other even when they are displaced. However, if the sealing pressurization is too weak, the peripheral gap widens in a high temperature environment, so that the portion turns yellow and high temperature gap unevenness occurs.
特許文献1には、スペーサと対向する領域に凹部を形成し、凹部にスペーサをはめ込むことで、TFT基板とカラーフィルタ基板のずれを防止することが開示されている。したがって、スペーサの変位を小さくすることで微小輝点の発生を低減している。しかし、配向膜の削れを全く無くすことはできないので、削りカスの浮遊を防止することは難しい。 Patent Document 1 discloses that a recess is formed in a region facing the spacer, and the spacer is inserted into the recess to prevent the TFT substrate and the color filter substrate from being displaced. Therefore, the generation of minute bright spots is reduced by reducing the displacement of the spacer. However, since the alignment film cannot be completely scraped, it is difficult to prevent the shavings from floating.
本発明は、基板のずれを防止し、微小輝点の発生率を低減することを目的とする。 An object of the present invention is to prevent the substrate from shifting and to reduce the incidence of minute bright spots.
(1)本発明に係る液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板から間隔をあけて対向するように配置された第2基板と、前記第1基板に形成された第1配向膜と、前記第2基板に形成された第2配向膜と、前記第1基板と前記第1配向膜との間に形成され、前記第1基板と前記第2基板とのギャップを保持するスペーサと、前記第2基板と前記第2配向膜との間に形成され、前記第2配向膜側に窪みを有する下地層と、相互に対向する前記第1配向膜の第1面及び前記第2配向膜の第2面に挟まれた液晶層と、を有し、前記第1配向膜は、前記スペーサの形状に沿って、前記第1面が突出する第1凸部を有し、前記下地層の前記窪みの底面は、凹凸状に形成され、前記第2配向膜の前記第2面には、前記下地層の形状に対応して窪みが形成され、前記第2配向膜の前記窪みは、前記第2配向膜の前記第2面よりも低い第2凸部と、前記第2凸部よりも低い底面を有する凹部とによって凹凸状に形成され、前記第1配向膜の前記第1凸部は、前記第2配向膜の前記窪みに入って前記第2凸部に接触していることを特徴とする。本発明によれば、スペーサに対応する第1配向膜の第1凸部が第2配向膜の窪みに入ることで、第1基板及び第2基板のずれを防止することができる。さらに、第2配向膜の窪みは、第2凸部及び凹部で凹凸状になっているので、第1配向膜及び第2配向膜の削りカスが凹部に溜まるようになっている。これにより、削りカスの浮遊を防止し、微小輝点の発生率を低減することができる。 (1) A liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate with a space therebetween, and a first alignment film formed on the first substrate. And a second alignment film formed on the second substrate, a spacer formed between the first substrate and the first alignment film, and holding a gap between the first substrate and the second substrate; An underlayer formed between the second substrate and the second alignment film and having a depression on the second alignment film side, the first surface of the first alignment film and the second alignment facing each other. A liquid crystal layer sandwiched between the second surfaces of the film, and the first alignment film has a first protrusion protruding from the first surface along the shape of the spacer, and the base layer The bottom surface of the recess is formed in a concavo-convex shape, and a recess is formed on the second surface of the second alignment film corresponding to the shape of the underlayer. The depression of the second alignment film is formed in a concavo-convex shape by a second convex portion lower than the second surface of the second alignment film and a concave portion having a bottom surface lower than the second convex portion. The first convex portion of the first alignment film enters the dent of the second alignment film and is in contact with the second convex portion. According to the present invention, the first convex portion of the first alignment film corresponding to the spacer enters the recess of the second alignment film, thereby preventing the first substrate and the second substrate from being displaced. Furthermore, since the depression of the second alignment film is uneven at the second protrusion and the recess, the shavings of the first alignment film and the second alignment film accumulate in the recess. Thereby, floating of the shavings can be prevented and the generation rate of minute bright spots can be reduced.
(2)(1)に記載された液晶表示装置において、前記第1配向膜の前記第1凸部の一部は、前記第2凸部からはみ出して、前記凹部の前記底面から隙間をあけて位置することを特徴としてもよい。 (2) In the liquid crystal display device described in (1), a part of the first convex portion of the first alignment film protrudes from the second convex portion, and a gap is formed from the bottom surface of the concave portion. It may be characterized by being located.
(3)(2)に記載された液晶表示装置において、前記第1配向膜の前記第1凸部は、前記第2凸部の全体に対向し、前記第2凸部よりも大きいことを特徴としてもよい。 (3) In the liquid crystal display device described in (2), the first convex portion of the first alignment film faces the entire second convex portion and is larger than the second convex portion. It is good.
(4)(1)から(3)のいずれか1項に記載された液晶表示装置において、前記第2配向膜の前記凹部は、前記第1凸部が入らないように、前記第1凸部よりも小さいことを特徴としてもよい。 (4) In the liquid crystal display device described in any one of (1) to (3), the concave portion of the second alignment film may include the first convex portion so that the first convex portion does not enter. It may be characterized by being smaller than.
(5)(1)から(4)のいずれか1項に記載された液晶表示装置において、前記第2配向膜の前記第2凸部は、前記第2配向膜の前記窪みの内壁の一部から他の一部に延び、前記第2配向膜の前記窪みに、前記第2凸部で区画されるように複数の前記凹部が形成されていることを特徴としてもよい。 (5) In the liquid crystal display device according to any one of (1) to (4), the second convex portion of the second alignment film is a part of the inner wall of the recess of the second alignment film. A plurality of the recesses may be formed so as to be partitioned by the second protrusions in the recess of the second alignment film.
(6)(1)から(4)のいずれか1項に記載された液晶表示装置において、前記凹部は、前記第2凸部を囲むように形成されていることを特徴としてもよい。 (6) In the liquid crystal display device described in any one of (1) to (4), the concave portion may be formed so as to surround the second convex portion.
(7)(1)から(4)のいずれか1項に記載された液晶表示装置において、前記凹部は、前記第2凸部の内側及び外側に形成されていることを特徴としてもよい。 (7) In the liquid crystal display device described in any one of (1) to (4), the concave portion may be formed inside and outside the second convex portion.
(8)(1)から(7)のいずれか1項に記載された液晶表示装置において、前記下地層は、薄膜トランジスタを構成するための半導体層及び複数の配線と、前記液晶層に電圧を印加するための電極と、前記薄膜トランジスタと前記電極との間の絶縁層と、を含み、前記下地層の前記窪みは、前記絶縁層の穴によって形成されていることを特徴としてもよい。 (8) In the liquid crystal display device described in any one of (1) to (7), the base layer applies a voltage to the liquid crystal layer and a semiconductor layer and a plurality of wirings for forming a thin film transistor. And an insulating layer between the thin film transistor and the electrode, and the recess of the base layer is formed by a hole in the insulating layer.
(9)(8)に記載された液晶表示装置において、前記絶縁層は、前記薄膜トランジスタを覆う第1無機絶縁膜と、前記第1無機絶縁膜を覆う有機絶縁膜と、前記第1無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜を覆う第2無機絶縁膜と、を含むことを特徴としてもよい。 (9) In the liquid crystal display device described in (8), the insulating layer includes a first inorganic insulating film that covers the thin film transistor, an organic insulating film that covers the first inorganic insulating film, and the first inorganic insulating film. And a second inorganic insulating film covering the organic insulating film.
(10)(9)に記載された液晶表示装置において、前記絶縁層の前記穴は、前記第1無機絶縁膜の貫通穴及び前記有機絶縁膜の貫通穴によって形成され、前記第1無機絶縁膜の前記貫通穴は、前記有機絶縁膜の前記貫通穴よりも小さく形成され、前記有機絶縁膜の前記貫通穴の内側に位置する前記第1無機絶縁膜の一部によって、前記下地層の前記窪みの前記底面に凸部が形成され、前記第2無機絶縁膜は、前記第1無機絶縁膜の前記貫通穴及び前記有機絶縁膜の前記貫通穴並びに前記前記第1無機絶縁膜の一部からなる前記凸部を覆うように、前記第1無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜の上に凹凸状に形成されていることを特徴としてもよい。 (10) In the liquid crystal display device described in (9), the hole of the insulating layer is formed by a through hole of the first inorganic insulating film and a through hole of the organic insulating film, and the first inorganic insulating film The through hole is formed to be smaller than the through hole of the organic insulating film, and the depression of the base layer is formed by a part of the first inorganic insulating film located inside the through hole of the organic insulating film. A convex portion is formed on the bottom surface of the first inorganic insulating film, and the second inorganic insulating film includes the through hole of the first inorganic insulating film, the through hole of the organic insulating film, and a part of the first inorganic insulating film. It is good also as being formed in unevenness on the 1st inorganic insulating film and the organic insulating film so that the convex part may be covered.
(11)(9)に記載された液晶表示装置において、前記絶縁層の前記穴は、前記有機絶縁膜の貫通穴によって形成され、前記有機絶縁膜の前記貫通穴の内側であって前記第1無機絶縁膜の下に、前記半導体層と同じ材料からなる第1層と、前記複数の配線と同じ材料からなる第2層と、が凸状に積層され、前記第1無機絶縁膜は、前記第1層及び第2層を覆うことで凸部を有するように形成され、前記第2無機絶縁膜は、前記有機絶縁膜の前記貫通穴及び前記第1無機絶縁膜の前記凸部を覆うように、前記第1無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜の上に凹凸状に形成されていることを特徴としてもよい。 (11) In the liquid crystal display device according to (9), the hole of the insulating layer is formed by a through hole of the organic insulating film, and is inside the through hole of the organic insulating film, and is the first hole. Under the inorganic insulating film, a first layer made of the same material as the semiconductor layer and a second layer made of the same material as the plurality of wirings are laminated in a convex shape, and the first inorganic insulating film The first inorganic insulating film is formed to cover the first layer and the second layer, and the second inorganic insulating film covers the through hole of the organic insulating film and the convex part of the first inorganic insulating film. In addition, it may be formed in an uneven shape on the first inorganic insulating film and the organic insulating film.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[第1の実施形態]
図1は、本発明を適用した第1の実施形態に係る液晶表示装置を示す分解斜視図である。液晶表示装置は、液晶表示パネル10を有する。液晶表示パネル10には、フレキシブル配線基板12が取り付けられ、両面にそれぞれ偏光板14が貼り付けられる。液晶表示装置は、バックライト16を備えており、明るい画像の表示が可能になっている。
[First Embodiment]
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a liquid crystal display device according to a first embodiment to which the present invention is applied. The liquid crystal display device includes a liquid
図2は、液晶表示パネル10の一部断面図である。図3は、図2とは異なる位置での液晶表示パネル10の一部断面図である。液晶表示パネル10は、第1配向膜18の第1面20と第2配向膜22の第2面24に挟まれた液晶層26を有する。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view of the liquid
液晶表示パネル10は、ガラス基板などの光透過性基板からなる第1基板28を有する。第1基板28は、カラーフィルタ基板を構成するためのもので、ブラックマトリクス層30及び着色層32が積層されている。着色層32の表面の凹凸を平坦化するために、着色層32には、ブラックマトリクス層30とは反対側に、平坦化層34が形成されている。平坦化層34に第1配向膜18が形成されている。
The liquid
液晶表示パネル10は、ガラス基板などの光透過性基板からなる第2基板36を有する。第2基板36は、図3に示すように、薄膜トランジスタ38(Thin Film Transistor)が形成されており、TFT基板と呼ばれる。第2基板36は、第1基板28から間隔をあけて対向するように配置されている。第2基板36に第2配向膜22が形成されている。第2基板36と第2配向膜22との間に下地層40が形成されている。下地層40は、以下説明するように種々の層が積層されて構成されている。
The liquid
第2基板36にはゲート配線42が形成されている。ゲート配線42を覆うようにゲート絶縁膜44が形成され、ゲート配線42の上方であってゲート絶縁膜44上に半導体層46(例えばアモルファスシリコン層)が形成されている。半導体層46上には、間隔をあけて、ソース配線48及びドレイン配線50が形成されている。薄膜トランジスタ38(半導体層46並びにゲート配線42、ソース配線48及びドレイン配線50)を覆うように、第1無機絶縁膜52が形成されている。
A
第1無機絶縁膜52を覆うように、樹脂などからなる有機絶縁膜54が形成されている。第1無機絶縁膜52及び有機絶縁膜54を覆うように、第2無機絶縁膜56が形成されている。第2無機絶縁膜56には、液晶層26に電圧を印加するための電極58(例えばITO(Indium Tin Oxide)からなる透明電極)が形成されている。電極58の下には、金属からなる配線60が形成されている。なお、電極58は共通電極であり、これ以外に図示しない位置に複数の画素電極が形成される。電極58を覆うように第2配向膜22が形成されている。
An organic insulating
下地層40は、薄膜トランジスタ38を構成するための半導体層46及び複数の配線62(ゲート配線42、ソース配線48及びドレイン配線50)と、液晶層26に電圧を印加するための電極58と、薄膜トランジスタ38と電極58との間の絶縁層64(第1無機絶縁膜52、有機絶縁膜54及び第2無機絶縁膜56)と、を含む。
The
図2に示すように、下地層40は、第2配向膜22側に窪み66を有する。下地層40の窪み66の底面は、凹凸状に形成されている。下地層40の窪み66は、第1無機絶縁膜52、有機絶縁膜54及び第2無機絶縁膜56を含む絶縁層64の穴68によって形成されている。具体的には、図2に示す絶縁層64の穴68は、第1無機絶縁膜52の貫通穴70及び有機絶縁膜54の貫通穴72によって形成されている。
As shown in FIG. 2, the
有機絶縁膜54の貫通穴72の内側には、第1無機絶縁膜52の一部が残っている。そのため、第1無機絶縁膜52の貫通穴70は、有機絶縁膜54の貫通穴72よりも小さく形成されている。有機絶縁膜54の貫通穴72の内側に位置する第1無機絶縁膜52の一部によって、下地層40の窪み66の底面に凸部74が形成される。
A part of the first inorganic insulating
第2無機絶縁膜56は、第1無機絶縁膜52の貫通穴70及び有機絶縁膜54の貫通穴72並びに第1無機絶縁膜52の一部からなる凸部74を覆う。これにより、第2無機絶縁膜56は、貫通穴70,72及び凸部74によって凹凸状になっている。
The second inorganic insulating
図4は、第2配向膜22の窪み84を示す平面図である。第2配向膜22の第2面24には、下地層40の形状に対応して窪み84が形成されている。第2配向膜22の窪み84は、凹凸状に形成されている。詳しくは、窪み84には、第2配向膜22の第2面24よりは低い第2凸部76が形成されている。第2配向膜22の第2凸部76は、第2配向膜22の窪み84の内壁の一部から他の一部に延びている(図4参照)。窪み84には、第2凸部76よりも低い底面を有する凹部78が形成されている。第2配向膜22の窪み84に、第2凸部76で区画されるように複数の凹部78が形成されている。
FIG. 4 is a plan view showing the
図2に示すように、第1基板28と第2基板36のギャップは、樹脂などからなるスペーサ80によって保持されている。スペーサ80は、第1基板28と第1配向膜18との間に形成されている。第1配向膜18は、スペーサ80の形状に沿って、第1面20が突出する第1凸部82を有する。第1配向膜18の第1凸部82は、第2配向膜22の窪み84に入って第2凸部76に接触している。第1配向膜18の第1凸部82の一部は、第2凸部76からはみ出して、凹部78の底面から隙間をあけて位置する。第2配向膜22の凹部78は、第1凸部82が入らないように、第1凸部82よりも小さい。すなわち、凹部78の幅は、第1凸部82の幅よりも小さい。
As shown in FIG. 2, the gap between the
本実施形態によれば、スペーサ80に対応する第1配向膜18の第1凸部82が第2配向膜22の窪み84に入ることで、第1基板28及び第2基板36のずれを防止することができる。さらに、第2配向膜22の窪み84は、第2凸部76及び凹部78で凹凸状になっているので、第1配向膜18及び第2配向膜22の削りカスが凹部78に溜まるようになっている。これにより、削りカスの浮遊を防止し、微小輝点の発生率を低減することができる。
According to the present embodiment, the
[第2の実施形態]
図5は、第2の実施形態に係る液晶表示パネル10の一部断面図である。この例では、絶縁層164の穴168は、有機絶縁膜154の貫通穴172によって形成されている。第1無機絶縁膜152の下に、半導体層46(図3参照)と同じ材料からなる第1層184と、複数の配線62(図3参照)と同じ材料からなる第2層186と、が凸状に積層されている。第1層184及び第2層186は、有機絶縁膜154の貫通穴172の内側に形成されている。
[Second Embodiment]
FIG. 5 is a partial cross-sectional view of the liquid
図6は、第1層184及び第2層186の平面図であり、第1層184と第2層186とで十字を構成した例が示されている。第1層184及び第2層186が凸状をなすことで、これを覆う第1無機絶縁膜152も凸部174を有するようになっている。第2無機絶縁膜156は、有機絶縁膜154の貫通穴172及び第1無機絶縁膜152の凸部174を覆うように、第1無機絶縁膜152及び有機絶縁膜154の上に凹凸状に形成されている。その他の構成は、第1の実施形態で説明した内容が該当する。
FIG. 6 is a plan view of the
[変形例]
図7〜図13は、第2配向膜の窪み又は第2凸部の種々の形状を示す平面図である。
[Modification]
7 to 13 are plan views showing various shapes of the depressions or the second protrusions of the second alignment film.
図7に示す例では、第1配向膜の第1凸部282の平面形状は円形であり、第2配向膜の第2凸部276の平面形状は十字になっている。第1凸部282は、第2凸部276の十字形状の交差部288及び交差部288から四方に延びる部分290に対向する(載る)ように配置されている。
In the example shown in FIG. 7, the planar shape of the first
図8に示す例では、第1配向膜の第1凸部382の平面形状は円形であり、第2配向膜の第2凸部376の平面形状は、複数の帯状部392を含むようになっている。第2凸部376の複数の帯状部392の配列方向において、両端を除く帯状部392aには、幅方向の全体にわたって第1凸部382が対向する。これに対して、配列方向の両端に位置する帯状部392bの、それぞれ、相互に対向する側の側端には第1凸部382が対向するが、相互に反対側の側端には第1凸部382は対向しない。
In the example shown in FIG. 8, the planar shape of the first
図9に示す例では、第1配向膜の第1凸部482は、第2凸部476の全体に対向し、第2凸部476よりも大きい。第2配向膜の窪み484の凹部478は、第2凸部476を囲むように形成されている。なお、第1配向膜の第1凸部482の平面形状は円形であり、第2配向膜の第2凸部476の平面形状も円形である。
In the example illustrated in FIG. 9, the first
図10に示す例では、第2配向膜の第2凸部576の平面形状が矩形であり、それ以外の構成は図9の例と同じである。
In the example shown in FIG. 10, the planar shape of the second
図11に示す例では、第2配向膜の窪み684の凹部678は、第2凸部676の内側及び外側に形成されている。第2凸部676の平面形状は、リング状になっている。それ以外の構成は図9の例と同じである。図11の例によれば、第2配向膜の窪み684の凹部678は、第2凸部676の内側及び外側に形成されている。したがって、第1配向膜及び第2配向膜の削りカスは、第2凸部676の内側の凹部678に入ると、上方が第1凸部682で塞がれているため外に出ない。そのため、削りカスの浮遊を防止することができる。
In the example shown in FIG. 11, the
図12に示す例では、第1配向膜の第1凸部782の平面形状は円形であり、第2配向膜の第2凸部776の平面形状は#形状になっている。第1凸部782は、第2凸部776の#形状の4つの交差部794及び交差部794から四方に延びる部分796に対向する(載る)ように配置されている。第2配向膜の窪み784の凹部778は、第2凸部776の内側(#形状の中央領域)及び外側に形成されている。その効果は、図11に示す例について上述した内容が該当する。
In the example shown in FIG. 12, the planar shape of the first
図13は、第2配向膜の窪み884の平面形状を矩形にした例を示す図である。その他の構造は、図4に示す内容と同じである。
FIG. 13 is a diagram illustrating an example in which the planar shape of the
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施の形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。 The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications are possible. For example, the configuration described in the embodiment can be replaced with a substantially the same configuration, a configuration that exhibits the same operational effects, or a configuration that can achieve the same purpose.
10 液晶表示パネル、12 フレキシブル配線基板、14 偏光板、16 バックライト、18 第1配向膜、20 第1面、22 第2配向膜、24 第2面、26 液晶層、28 第1基板、30 ブラックマトリクス層、32 着色層、34 平坦化層、36 第2基板、38 薄膜トランジスタ、40 下地層、42 ゲート配線、44 ゲート絶縁膜、46 半導体層、48 ソース配線、50 ドレイン配線、52 第1無機絶縁膜、54 有機絶縁膜、56 第2無機絶縁膜、58 電極、60 配線、62 複数の配線、64 絶縁層、66 窪み、68 穴、70 貫通穴、72 貫通穴、74 凸部、76 第2凸部、78 凹部、80 スペーサ、82 第1凸部、84 窪み、152 第1無機絶縁膜、154 有機絶縁膜、156 第2無機絶縁膜、164 絶縁層、168 穴、172 貫通穴、174 凸部、184 第1層、186 第2層、276 第2凸部、282 第1凸部、288 交差部、290 第2凸部の部分、376 第2凸部、382 第1凸部、392 帯状部、476 第2凸部、478 凹部、482 第1凸部、484 窪み、576 第2凸部、684 第2凸部、678 凹部、682 第1凸部、784 第2凸部、778 凹部、782 第1凸部、794 交差部、796 第2凸部の部分、884 第2配向膜の窪み。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Liquid crystal display panel, 12 Flexible wiring board, 14 Polarizing plate, 16 Backlight, 18 1st alignment film, 20 1st surface, 22 2nd alignment film, 24 2nd surface, 26 Liquid crystal layer, 28 1st substrate, 30 Black matrix layer, 32 colored layer, 34 planarization layer, 36 second substrate, 38 thin film transistor, 40 underlayer, 42 gate wiring, 44 gate insulating film, 46 semiconductor layer, 48 source wiring, 50 drain wiring, 52 first inorganic Insulating film, 54 Organic insulating film, 56 Second inorganic insulating film, 58 electrode, 60 wiring, 62 multiple wirings, 64 insulating layer, 66 depression, 68 hole, 70 through hole, 72 through hole, 74 convex part, 76 first 2 convex portions, 78 concave portions, 80 spacers, 82 first convex portions, 84 depressions, 152 first inorganic insulating film, 154 organic insulating film, 156 second inorganic Insulating film, 164 insulating layer, 168 hole, 172 through-hole, 174 convex part, 184 first layer, 186 second layer, 276 second convex part, 282 first convex part, 288 crossing part, 290 second convex part Part, 376 second convex part, 382 first convex part, 392 strip-shaped part, 476 second convex part, 478 concave part, 482 first convex part, 484 hollow, 576 second convex part, 684 second convex part, 678 concave part , 682 1st convex part, 784 2nd convex part, 778 Concave part, 782 1st convex part, 794 Crossing part, 796 2nd convex part part, 884 The depression of the 2nd alignment film.
Claims (11)
前記第1基板から間隔をあけて対向するように配置された第2基板と、
前記第1基板に形成された第1配向膜と、
前記第2基板に形成された第2配向膜と、
前記第1基板と前記第1配向膜との間に形成され、前記第1基板と前記第2基板とのギャップを保持するスペーサと、
前記第2基板と前記第2配向膜との間に形成され、前記第2配向膜側に窪みを有する下地層と、
相互に対向する前記第1配向膜の第1面及び前記第2配向膜の第2面に挟まれた液晶層と、
を有し、
前記第1配向膜は、前記スペーサの形状に沿って、前記第1面が突出する第1凸部を有し、
前記下地層の前記窪みの底面は、凹凸状に形成され、
前記第2配向膜の前記第2面には、前記下地層の形状に対応して窪みが形成され、
前記第2配向膜の前記窪みは、前記第2配向膜の前記第2面よりも低い第2凸部と、前記第2凸部よりも低い底面を有する凹部とによって凹凸状に形成され、
前記第1配向膜の前記第1凸部は、前記第2配向膜の前記窪みに入って前記第2凸部に接触していることを特徴とする液晶表示装置。 A first substrate;
A second substrate disposed to face the first substrate with a space therebetween;
A first alignment film formed on the first substrate;
A second alignment film formed on the second substrate;
A spacer formed between the first substrate and the first alignment film, and holding a gap between the first substrate and the second substrate;
An underlayer formed between the second substrate and the second alignment film, and having a depression on the second alignment film side;
A liquid crystal layer sandwiched between a first surface of the first alignment film and a second surface of the second alignment film facing each other;
Have
The first alignment film has a first convex part from which the first surface protrudes along the shape of the spacer,
The bottom surface of the recess of the base layer is formed in an uneven shape,
A depression is formed on the second surface of the second alignment film corresponding to the shape of the underlayer,
The recess of the second alignment film is formed in a concavo-convex shape by a second convex portion lower than the second surface of the second alignment film and a concave portion having a bottom surface lower than the second convex portion,
The liquid crystal display device, wherein the first convex portion of the first alignment film enters the depression of the second alignment film and is in contact with the second convex portion.
前記第1配向膜の前記第1凸部の一部は、前記第2凸部からはみ出して、前記凹部の前記底面から隙間をあけて位置することを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1,
A part of the first convex portion of the first alignment film protrudes from the second convex portion and is located with a gap from the bottom surface of the concave portion.
前記第1配向膜の前記第1凸部は、前記第2凸部の全体に対向し、前記第2凸部よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 2,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first convex portion of the first alignment film faces the entire second convex portion and is larger than the second convex portion.
前記第2配向膜の前記凹部は、前記第1凸部が入らないように、前記第1凸部よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。 In the liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 3,
The liquid crystal display device, wherein the concave portion of the second alignment film is smaller than the first convex portion so that the first convex portion does not enter.
前記第2配向膜の前記第2凸部は、前記第2配向膜の前記窪みの内壁の一部から他の一部に延び、
前記第2配向膜の前記窪みに、前記第2凸部で区画されるように複数の前記凹部が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4,
The second convex portion of the second alignment film extends from a part of the inner wall of the recess of the second alignment film to another part,
A plurality of the concave portions are formed in the depression of the second alignment film so as to be partitioned by the second convex portions.
前記凹部は、前記第2凸部を囲むように形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4,
The liquid crystal display device, wherein the concave portion is formed so as to surround the second convex portion.
前記凹部は、前記第2凸部の内側及び外側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4,
The liquid crystal display device, wherein the concave portion is formed inside and outside the second convex portion.
前記下地層は、薄膜トランジスタを構成するための半導体層及び複数の配線と、前記液晶層に電圧を印加するための電極と、前記薄膜トランジスタと前記電極との間の絶縁層と、を含み、
前記下地層の前記窪みは、前記絶縁層の穴によって形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 7,
The underlayer includes a semiconductor layer and a plurality of wirings for forming a thin film transistor, an electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer, and an insulating layer between the thin film transistor and the electrode,
The liquid crystal display device, wherein the recess of the base layer is formed by a hole in the insulating layer.
前記絶縁層は、前記薄膜トランジスタを覆う第1無機絶縁膜と、前記第1無機絶縁膜を覆う有機絶縁膜と、前記第1無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜を覆う第2無機絶縁膜と、を含むことを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 8, wherein
The insulating layer includes a first inorganic insulating film that covers the thin film transistor, an organic insulating film that covers the first inorganic insulating film, and a second inorganic insulating film that covers the first inorganic insulating film and the organic insulating film. A liquid crystal display device comprising:
前記絶縁層の前記穴は、前記第1無機絶縁膜の貫通穴及び前記有機絶縁膜の貫通穴によって形成され、
前記第1無機絶縁膜の前記貫通穴は、前記有機絶縁膜の前記貫通穴よりも小さく形成され、
前記有機絶縁膜の前記貫通穴の内側に位置する前記第1無機絶縁膜の一部によって、前記下地層の前記窪みの前記底面に凸部が形成され、
前記第2無機絶縁膜は、前記第1無機絶縁膜の前記貫通穴及び前記有機絶縁膜の前記貫通穴並びに前記前記第1無機絶縁膜の一部からなる前記凸部を覆うように、前記第1無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜の上に凹凸状に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 9,
The hole of the insulating layer is formed by a through hole of the first inorganic insulating film and a through hole of the organic insulating film,
The through hole of the first inorganic insulating film is formed smaller than the through hole of the organic insulating film;
A convex portion is formed on the bottom surface of the recess of the base layer by a part of the first inorganic insulating film located inside the through hole of the organic insulating film,
The second inorganic insulating film covers the through hole of the first inorganic insulating film, the through hole of the organic insulating film, and the convex portion formed of a part of the first inorganic insulating film. 1. A liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is formed in an uneven shape on an inorganic insulating film and the organic insulating film.
前記絶縁層の前記穴は、前記有機絶縁膜の貫通穴によって形成され、
前記有機絶縁膜の前記貫通穴の内側であって前記第1無機絶縁膜の下に、前記半導体層と同じ材料からなる第1層と、前記複数の配線と同じ材料からなる第2層と、が凸状に積層され、
前記第1無機絶縁膜は、前記第1層及び第2層を覆うことで凸部を有するように形成され、
前記第2無機絶縁膜は、前記有機絶縁膜の前記貫通穴及び前記第1無機絶縁膜の前記凸部を覆うように、前記第1無機絶縁膜及び前記有機絶縁膜の上に凹凸状に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 9,
The hole of the insulating layer is formed by a through hole of the organic insulating film,
A first layer made of the same material as the semiconductor layer, and a second layer made of the same material as the plurality of wirings, inside the through hole of the organic insulating film and below the first inorganic insulating film; Are stacked in a convex shape,
The first inorganic insulating film is formed to have a convex portion by covering the first layer and the second layer,
The second inorganic insulating film is formed in an uneven shape on the first inorganic insulating film and the organic insulating film so as to cover the through hole of the organic insulating film and the convex portion of the first inorganic insulating film. A liquid crystal display device.
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JP2011216749A JP2013076852A (en) | 2011-09-30 | 2011-09-30 | Liquid crystal display device |
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JP2016014777A (en) * | 2014-07-02 | 2016-01-28 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Liquid crystal display device |
-
2011
- 2011-09-30 JP JP2011216749A patent/JP2013076852A/en not_active Withdrawn
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