JP2013071084A - Pattern forming method - Google Patents

Pattern forming method Download PDF

Info

Publication number
JP2013071084A
JP2013071084A JP2011213241A JP2011213241A JP2013071084A JP 2013071084 A JP2013071084 A JP 2013071084A JP 2011213241 A JP2011213241 A JP 2011213241A JP 2011213241 A JP2011213241 A JP 2011213241A JP 2013071084 A JP2013071084 A JP 2013071084A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
droplet
droplets
pattern
curing
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011213241A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akiyo Yuguchi
昭代 湯口
Toshiaki Asakawa
寿昭 浅川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minebea Co Ltd
Original Assignee
Minebea Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minebea Co Ltd filed Critical Minebea Co Ltd
Priority to JP2011213241A priority Critical patent/JP2013071084A/en
Publication of JP2013071084A publication Critical patent/JP2013071084A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method, capable of forming a pattern with high aspect ratio by attaining miniaturization of drawing line width and increase in thickness.SOLUTION: A landed third droplet is spread in wet condition without hardening in such a manner that hardened first droplets 2 are bridged to fill up the space between the first droplets 2. According to this, a pattern forming method capable of forming a line with miniaturized drawling line width and high aspect ratio is obtained. Since each of the first droplet, second droplet, third droplet and fourth droplet is landed and disposed at the same pitch, aggregation of droplets or the like occurs in the same manner, and a pattern with uniform line width can be obtained.

Description

本発明は、インクジェット法を用いて液滴を基板上に吐出することにより、所定のパターンを形成するパターン形成方法に関し、特に高アスペクト比のパターンを可能とするパターン形成方法に関する。   The present invention relates to a pattern forming method for forming a predetermined pattern by discharging droplets onto a substrate using an inkjet method, and more particularly to a pattern forming method that enables a pattern with a high aspect ratio.

近年、インクジェット法を用いて液滴を吐出して、基板にパターンを形成するパターン形成方法が知られている。従来のリソグラフィを用いたパターン形成方法は、真空成膜工程、フォトリソグラフィ工程、エッチング工程、レジスト剥離工程といったコストのかかる工程が必要になる。
しかしながら、パターンの形成にインクジェット法を用いることにより、上記の工程を省略することができるため、安価にパターンを形成することができる。
特に、基板に配線パターンを描画するような場合には、配線抵抗を下げるために、配線パターンの断面積を大きくする必要がある。その一方で、回路の微細化に伴い、配線幅は小さいことが好まれる。それゆえ、回路基板の配線作成技術においては、高アスペクト比厚膜細線形状のパターンを形成する技術が求められている。
In recent years, a pattern forming method is known in which droplets are ejected using an ink jet method to form a pattern on a substrate. Conventional pattern formation methods using lithography require costly processes such as a vacuum film formation process, a photolithography process, an etching process, and a resist stripping process.
However, since the above-described steps can be omitted by using an inkjet method for forming the pattern, the pattern can be formed at low cost.
In particular, when drawing a wiring pattern on a substrate, it is necessary to increase the cross-sectional area of the wiring pattern in order to reduce the wiring resistance. On the other hand, with the miniaturization of the circuit, it is preferable that the wiring width is small. Therefore, a technique for forming a high-aspect-ratio thick thin-line pattern is required in the circuit board wiring creation technique.

インクジェット法を用いて基板にパターンを形成する場合、流動状のインクからなる液滴を吐出し、基板上の所定の位置に着弾させて配線を形成している。ここで、表面張力によりインク液滴同士が集まり、基板上に瘤状のインク溜まり(バルジ)からなる凝集体が形成されてしまう虞がある。着弾するインク液滴の大部分が、このバルジに集中してしまうと、形成されるパターンにおいて、パターン幅やパターン厚に極端な差異が生じてしまい、好ましくない。このため、着弾したインク液滴が拡がり過ぎる、あるいは、インク液滴が互いに分離することを極力抑え、基板上に所望するパターンを形成することのできる技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。 When a pattern is formed on a substrate using an ink jet method, a droplet made of fluid ink is ejected and landed at a predetermined position on the substrate to form a wiring. Here, there is a possibility that ink droplets gather due to the surface tension, and aggregates composed of ridged ink reservoirs (bulges) are formed on the substrate. If most of the landed ink droplets are concentrated on the bulge, an extreme difference occurs in the pattern width and pattern thickness in the formed pattern, which is not preferable. For this reason, a technique is disclosed in which a desired pattern can be formed on a substrate while preventing the landed ink droplets from spreading too much or separating the ink droplets from each other as much as possible (for example, Patent Document 1). reference).

特許文献1に記載された樹脂膜形成方法は、複数の第1樹脂液の液滴が互いに接触しないように基板上に離間配置する第1樹脂液配置工程と、基板上に配置された第1樹脂液の少なくとも表面を硬化させる第1樹脂液硬化工程と、第1樹脂液の液滴の少なくとも表面が硬化した後、基板上の第1樹脂液の液滴間の略中央に第2樹脂液の液滴を配置する第2樹脂液滴配置工程と、基板上に配置された第2樹脂液の液滴を硬化させる第2液滴硬化工程と、を含むことを特徴としたものである。 The resin film forming method described in Patent Document 1 includes a first resin liquid disposing step of disposing a plurality of first resin liquid droplets on a substrate so as not to contact each other, and a first resin liquid disposing step on the substrate. A first resin liquid curing step for curing at least the surface of the resin liquid, and after at least the surface of the first resin liquid droplets are cured, the second resin liquid is provided at the approximate center between the first resin liquid droplets on the substrate. A second resin droplet arranging step of arranging the droplets, and a second droplet curing step of curing the droplets of the second resin liquid arranged on the substrate.

この樹脂膜形成方法によれば、基板上に第1樹脂液の液滴を離間配置することで第1樹脂液の液滴は互いに合一することがなく、その表面が少なくとも硬化した状態で、第1樹脂液の液滴間に第2樹脂液の液滴を配置することで、第2樹脂液の液滴は隣接する第1樹脂液の液滴間をブリッジするように濡れ広がり、第1樹脂液の液滴間の隙間を埋めることが可能となる結果、バルジ等が発生することなく、樹脂膜パターンの幅や膜厚を均一にすることを可能としている。 According to this resin film forming method, the first resin liquid droplets do not coalesce with each other by disposing the first resin liquid droplets on the substrate, and the surface is at least cured. By disposing the second resin liquid droplet between the first resin liquid droplets, the second resin liquid droplet wets and spreads so as to bridge between the adjacent first resin liquid droplets. As a result of filling the gaps between the droplets of the resin liquid, it is possible to make the width and film thickness of the resin film pattern uniform without generating bulges and the like.

特開2008−253859号公報JP 2008-253859 A

しかしながら、特許文献1に記載のパターン形成方法である樹脂膜形成方法では、インクジェット法にて描画線幅の微細化と厚膜化を図った場合、単に重ね塗りしただけでは描画線幅の微細化と高アスペクト比の線を描画することは難しいという問題がある。   However, in the resin film forming method which is a pattern forming method described in Patent Document 1, when the drawing line width is reduced and the film thickness is increased by the ink jet method, the drawing line width is reduced only by overcoating. It is difficult to draw lines with high aspect ratio.

本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、その目的は、描画線幅の微細化と厚膜化を実現して高アスペクト比のパターンを可能とするパターン形成方法を提供することにある。 The present invention has been made in consideration of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a pattern forming method that enables a high aspect ratio pattern by realizing a finer and thicker drawing line width. It is in.

上述した目的を達成するべく本発明に係るパターン形成方法は、インクジェット法で、インクを液滴として吐出して基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、少なくとも基板に着弾された液滴の直径よりも大きいピッチで液滴を吐出し、基板上に離間して複数の第1の液滴を配置する第1の液滴配置工程と、前記基板上に配置された前記第1の液滴を硬化させる第1の液滴硬化工程と、複数の第2の液滴を吐出し、前記離間した第1の液滴の中間に前記第2の液滴を着弾配置する第2の液滴配置工程と、前記第1の液滴の間に配置された前記第2の液滴を硬化させる第2の液滴硬化工程と、複数の第3の液滴を吐出し、前記第2の液滴の上に着弾配置し、硬化させずに濡れ広げる工程と、複数の第4の液滴を吐出し、前記第3の液滴と同じ位置に着弾配置する第4の液滴配置工程と、前記第4の液滴を硬化させる第の液滴硬化工程とを含むことを特徴とする。 In order to achieve the above-described object, a pattern forming method according to the present invention is a pattern forming method for forming a pattern on a substrate by ejecting ink as droplets by an inkjet method, and at least droplets landed on the substrate A first droplet disposing step of ejecting droplets at a pitch larger than the diameter of the first droplet, disposing a plurality of first droplets spaced apart on the substrate, and the first liquid disposed on the substrate A first droplet curing step for curing the droplets, and a second droplet for discharging a plurality of second droplets and landing the second droplets in the middle of the separated first droplets An arrangement step, a second droplet curing step for curing the second droplet arranged between the first droplets, a plurality of third droplets being ejected, and the second liquid A step of landing on the droplets and spreading them without curing, and discharging a plurality of fourth droplets; A fourth ink drop placement step of landing co-located with the droplets, characterized in that it comprises a first droplet curing step to cure the fourth droplet.

着弾した第3の液滴は硬化せず、硬化した第1の液滴の間で架橋するように濡れ広がり、第1の液滴の間を埋める。これによって、高さのバラツキが小さく、描画線幅の微細化と高アスペクト比の線を形成することができるパターン形成方法が得られる。   The landed third droplet does not cure, but spreads so as to bridge between the cured first droplets and fills the space between the first droplets. As a result, there is obtained a pattern forming method in which the variation in height is small, the drawing line width is reduced, and a line having a high aspect ratio can be formed.

また、本発明に係るパターン形成方法は、前記第1の液滴、前記第2の液滴、前記第3の液滴、前記第4の液滴がいずれも同じピッチで着弾配置されてなることを特徴とする。   In the pattern forming method according to the present invention, the first droplet, the second droplet, the third droplet, and the fourth droplet are all landed and arranged at the same pitch. It is characterized by.

第1の液滴、第2の液滴、第3の液滴、第4の液滴がいずれも同じピッチで着弾配置されているので、液滴の凝集等が同じように起こり、線幅が均一なパターンが得られる。   Since the first droplet, the second droplet, the third droplet, and the fourth droplet are all landed at the same pitch, the aggregation of the droplets occurs in the same manner, and the line width is A uniform pattern is obtained.

また、本発明に係るパターン形成方法は、前記インクが光学材料からなることを特徴とする。   In the pattern forming method according to the present invention, the ink is made of an optical material.

インクを光学材料で構成して、パターンを形成した場合には、光学設計とのマッチングが良好となる結果、光学特性を向上させることができる。   When the ink is composed of an optical material and a pattern is formed, matching with the optical design becomes good, and as a result, optical characteristics can be improved.

上記のパターン形成方法によれば、パターンの厚さを増加して高アスペクト比(パターンの厚み/パターンの幅)とすることで低抵抗の微細配線が可能となる。
また、光学材料からなるインクにてプリズムパターンを形成し、その厚さを増加して高アスペクト比(パターンの厚み/パターンの幅)とすることで光学設計とのマッチングが良好となる結果、光学特性が良くなるといった効果を奏する。
According to the above pattern formation method, a fine wiring with low resistance can be achieved by increasing the pattern thickness to a high aspect ratio (pattern thickness / pattern width).
In addition, as a result of forming a prism pattern with ink made of optical material and increasing its thickness to a high aspect ratio (pattern thickness / pattern width), the matching with the optical design is good. There is an effect that the characteristics are improved.

実施形態における基板上に第1の液滴と第2の液滴を着弾配置させた状態を示す模式図。(A)は第1の液滴を着弾配置した模式図、図1(B)は第2の液滴を第1の液滴の間に着弾配置した模式図。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a state where the first droplet and the second droplet are landed on the substrate in the embodiment. FIG. 1A is a schematic diagram in which first droplets are landed and arranged, and FIG. 1B is a schematic diagram in which second droplets are landed and arranged between first droplets. 第2の液滴の硬化時間を0.9秒、1.2秒、3.5秒、5.5秒、10秒と可変したときのパターンの硬化状態を示した図。The figure which showed the hardening state of the pattern when the hardening time of a 2nd droplet was varied with 0.9 second, 1.2 second, 3.5 second, 5.5 second, and 10 second. パターン形成の例を示す図。The figure which shows the example of pattern formation.

本発明のパターン形成方法は、撥液処理工程と、第1の液滴配置工程と、第1の液滴硬化工程と、第2の液滴配置工程と、第2の液滴硬化工程と、第3の液滴配置工程と、第4の液滴配置工程と、第4の液滴硬化工程とを含む。以下で、本発明のパターン形成方法を、実施形態を挙げて詳しく述べる。
図1は、実施形態における基板上に第1の液滴と第2の液滴を着弾配置させた状態を示す模式図である。(A)は第1の液滴2を着弾配置した模式図、(B)は第2の液滴3を第1の液滴2の間に着弾配置した模式図を表している。
The pattern forming method of the present invention includes a liquid repellent treatment step, a first droplet placement step, a first droplet curing step, a second droplet placement step, a second droplet curing step, A third droplet placement step, a fourth droplet placement step, and a fourth droplet curing step are included. Hereinafter, the pattern forming method of the present invention will be described in detail with reference to embodiments.
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a state in which the first droplet and the second droplet are landed on the substrate in the embodiment. (A) is a schematic diagram in which the first droplet 2 is landed and arranged, and (B) is a schematic diagram in which the second droplet 3 is landed between the first droplets 2.

まず、インクジェットヘッドから吐出された液滴の紫外線硬化までの時間について調べた。
ここでは、撥液処理工程と、第1の液滴配置工程と、第1の液滴硬化工程と、第2の液滴配置工程と、第2の液滴硬化工程とを行って液滴の紫外線硬化までの時間について調べた。
First, the time until ultraviolet curing of the droplets ejected from the inkjet head was examined.
Here, a liquid repellent treatment step, a first droplet placement step, a first droplet curing step, a second droplet placement step, and a second droplet curing step are performed to The time until UV curing was examined.

(撥液処理工程)
撥液処理工程では、アクリル基板1上に表面処理として撥液処理を施した。
まず、アクリル基板1の表面の異物除去洗浄を行い、アクリル基板1の表面から異物を除去する。次に異物除去洗浄を行なったアクリル板1の表面に公知の撥液性材料(例えば、紫外線硬化樹脂を含んだフッ素を含有するアクリル系樹脂材料)をスピンコート法により塗布した後、乾燥させ、その後、撥液性材料を紫外線硬化させた。
アクリル基板1の表面の撥液処理は、吐出したインクの液滴がアクリル基板1に着弾した際、インクに対する接触角が約25°〜約70°の範囲になるのが好ましい。
(Liquid repellent treatment process)
In the liquid repellent treatment step, a liquid repellent treatment was performed on the acrylic substrate 1 as a surface treatment.
First, foreign matter removal cleaning is performed on the surface of the acrylic substrate 1 to remove foreign matter from the surface of the acrylic substrate 1. Next, a known liquid-repellent material (for example, an acrylic resin material containing fluorine containing an ultraviolet curable resin) is applied to the surface of the acrylic plate 1 that has been subjected to foreign substance removal cleaning by spin coating, and then dried. Thereafter, the liquid repellent material was cured with ultraviolet rays.
In the liquid repellent treatment of the surface of the acrylic substrate 1, when the ejected ink droplets land on the acrylic substrate 1, the contact angle with respect to the ink is preferably in the range of about 25 ° to about 70 °.

(第1の液滴配置工程)
次に、撥液処理を施したアクリル基板1上にインクジェット法で用いるインクジェットヘッドによりインク(紫外線照射により硬化する紫外線硬化樹脂を含んだインク)を液滴化し、アクリル基板1に向けて複数の第1の液滴2を吐出し、アクリル基板1上に着弾させる。
インクジェットヘッドから吐出された第1の液滴2のピッチは141μmで、液滴の直径よりも大きくなるように設定される。そして、隣接するラインパターンのピッチが70μmとなるようにした。このため、第1の液滴2は互いに離間してアクリル基板1上に配設されている。
第1の液滴2のインクは粘度(10.4mPa・s(at25℃))、表面張力(24mN/m)で、吐出時の温度は30℃にて使用した。
(First droplet placement step)
Next, ink (ink containing an ultraviolet curable resin that is cured by ultraviolet irradiation) is formed into droplets on the acrylic substrate 1 that has been subjected to the liquid repellent treatment by an inkjet head that is used in an inkjet method, and a plurality of second inks are directed toward the acrylic substrate 1. One droplet 2 is discharged and landed on the acrylic substrate 1.
The pitch of the first droplets 2 ejected from the inkjet head is 141 μm, and is set to be larger than the diameter of the droplets. The pitch of adjacent line patterns was set to 70 μm. For this reason, the first droplets 2 are disposed on the acrylic substrate 1 so as to be separated from each other.
The ink of the first droplet 2 was used with a viscosity (10.4 mPa · s (at 25 ° C.)), a surface tension (24 mN / m), and a discharge temperature of 30 ° C.

(第1の液滴硬化工程)
第1の液滴2は、インクジェットヘッドから吐出し後、0.9秒後にインクジェットヘッド近傍に配設された紫外線ランプにて紫外線を照射して硬化させた。
(First droplet curing step)
The first droplet 2 was discharged from the inkjet head, and 0.9 seconds later, the first droplet 2 was cured by irradiating with an ultraviolet ray with an ultraviolet lamp disposed in the vicinity of the inkjet head.

(第2の液滴配置工程)
第2の液滴3をインクジェットヘッドから複数の液滴として吐出し、アクリル基板1上に配置された第1の液滴2の間に着弾させて配置する。このとき、第2の液滴3は第1の液滴2と当接させる。インクジェットヘッドから吐出された第2の液滴3のピッチは第1の液滴2と同様、141μmで、液滴の直径よりも大きくなるように設定される。
(Second droplet placement step)
The second droplet 3 is ejected from the inkjet head as a plurality of droplets, and is landed between the first droplets 2 disposed on the acrylic substrate 1. At this time, the second droplet 3 is brought into contact with the first droplet 2. The pitch of the second droplets 3 ejected from the inkjet head is set to 141 μm, which is larger than the diameter of the droplets, like the first droplet 2.

(第2の液滴硬化工程)
第2の液滴3は、インクジェットヘッドから吐出し後、インクジェットヘッド近傍に配設された紫外線ランプにて紫外線を照射して硬化させるが、紫外線照射による硬化までの時間を0.9秒、1.2秒、3.5秒、5.5秒、10秒と可変させてインクの硬化具合を観察した。
(Second droplet curing process)
The second droplet 3 is ejected from the ink jet head and then cured by irradiating with ultraviolet light from an ultraviolet lamp disposed in the vicinity of the ink jet head. The degree of curing of the ink was observed by varying the time from 2 seconds, 3.5 seconds, 5.5 seconds, and 10 seconds.

図2にパターンの硬化状態を示した。(A)は0.9秒後、(B)は1.2秒後、(C)は3.5秒後、(D)は5.5秒後、(E)は10秒後の結果を示している。
この結果、紫外線照射による硬化までの時間が0.9秒を除いて、第1の液滴2に引っ張られるためか、部分的にバルジが生じた。この結果から、紫外線照射による硬化までの時間は0.9秒を選択した。
ここで、紫外線ランプの照射がインクジェットヘッドに及ぶとインクジェットヘッドの吐出し口にある樹脂が硬化して吐出し動作が阻害されるため、紫外線ランプは基板側に向けておくことが肝要である。
FIG. 2 shows the cured state of the pattern. (A) 0.9 seconds later, (B) 1.2 seconds later, (C) 3.5 seconds later, (D) 5.5 seconds later, (E) 10 seconds later. Show.
As a result, a bulge was partially generated because the time until curing by ultraviolet irradiation was pulled by the first droplet 2 except for 0.9 seconds. From this result, 0.9 seconds was selected as the time to cure by ultraviolet irradiation.
Here, when the ultraviolet lamp irradiation reaches the inkjet head, the resin at the ejection port of the inkjet head is cured and the ejection operation is hindered. Therefore, it is important that the ultraviolet lamp is directed to the substrate side.

図3には、比較例Aと実施例Bにおけるパターン形成の例を示した。
(比較例A)
第1の液滴〜第4の液滴を基板上に着弾配置した後、紫外線硬化した。
撥液処理工程と、第1の液滴配置工程と、第1の液滴硬化工程と、第2の液滴配置工程と、第2の液滴硬化工程とを前述の方法で行った。
FIG. 3 shows an example of pattern formation in Comparative Example A and Example B.
(Comparative Example A)
After the first droplet to the fourth droplet landed on the substrate, they were cured with ultraviolet rays.
The liquid repellent treatment step, the first droplet placement step, the first droplet curing step, the second droplet placement step, and the second droplet curing step were performed by the method described above.

(第3の液滴配置工程)
インクジェットヘッドから第2の液滴3と同じ条件で複数の第3の液滴を吐出し、アクリル基板1上に配置された第2の液滴3と同じ箇所に着弾するように吐出した。これは第1の液滴2の間に着弾配置した第2の液滴3が第1の液滴2に引っ張られてしまい、第1の液滴2の間に着弾配置した第2の液滴3の量が減少するので、これを補充するためである。
(Third droplet placement step)
A plurality of third droplets were ejected from the inkjet head under the same conditions as the second droplet 3, and ejected so as to land on the same location as the second droplet 3 disposed on the acrylic substrate 1. This is because the second droplet 3 landed and arranged between the first droplets 2 is pulled by the first droplet 2, and the second droplet landed and arranged between the first droplets 2. Because the amount of 3 is reduced, it is for replenishment.

第3の液滴3は、インクジェットヘッドから吐出し後、第1の液滴2と同様、0.9秒後にインクジェットヘッド近傍に配設された紫外線ランプにて紫外線を照射して硬化させる。 The third droplet 3 is ejected from the inkjet head and then cured by irradiating ultraviolet rays with an ultraviolet lamp disposed in the vicinity of the inkjet head after 0.9 seconds, like the first droplet 2.

(第4の液滴配置工程)
インクジェットヘッドから第2の液滴3と同じ条件で第4の液滴を吐出し、アクリル基板1上に配置された第2の液滴3と同じ箇所に着弾配置した。
(Fourth droplet placement step)
A fourth droplet was ejected from the inkjet head under the same conditions as the second droplet 3, and landed at the same location as the second droplet 3 disposed on the acrylic substrate 1.

(第4の液滴硬化工程)
第4の液滴も第2の液滴3同様、インクジェットヘッドから吐出し後、0.9秒後にインクジェットヘッド近傍に配設された紫外線ランプにて紫外線を照射して硬化させた。
図3に示すように、このときのラインパターンの幅は約66μm、接触角は約44°、図示しないが高さが約13μm、高さのバラツキは約0.8μmであった。得られたラインパターンは隣接するラインパターン同士の間でブリッジは生じていない。このときのアスペクト比は13μm/66μm=約0.2であった。
(Fourth droplet curing process)
Similarly to the second liquid droplet 3, the fourth liquid droplet was discharged from the ink jet head, and 0.9 seconds later, it was cured by irradiating it with an ultraviolet ray lamp disposed in the vicinity of the ink jet head.
As shown in FIG. 3, the width of the line pattern at this time was about 66 μm, the contact angle was about 44 °, the height was about 13 μm, and the variation in height was about 0.8 μm although not shown. In the obtained line pattern, no bridge is generated between adjacent line patterns. The aspect ratio at this time was 13 μm / 66 μm = about 0.2.

(第5の液滴配置工程)
さらに、厚膜化するために、インクジェットヘッドから複数の第5の液滴を吐出し、アクリル基板1上に配置された第4の液滴と同じ箇所に着弾配置した。
(Fifth droplet placement step)
Furthermore, in order to increase the film thickness, a plurality of fifth droplets were ejected from the inkjet head, and landed at the same location as the fourth droplets disposed on the acrylic substrate 1.

(第5の液滴硬化工程)
第5の液滴も第4の液滴同様、インクジェットヘッドから吐出し後、0.9秒後にインクジェットヘッド近傍に配設された紫外線ランプにて紫外線を照射して硬化させた。
図3に示すように、このときのラインパターンの幅は約51μm、接触角は約54°、図示しないが高さが約15μm、高さのバラツキは約2.1μmであった。得られたラインパターンは隣接するラインパターン同士の間でブリッジは生じていない。このときのアスペクト比は15μm/51μm=約0.29である。この第5の液滴を着弾配置して得られたラインパターンはその幅も接触角も良好であるが、高さのバラツキが大きくなってしまい、良好なラインパターンを得られなかった。
(Fifth droplet curing step)
Similarly to the fourth droplet, the fifth droplet was discharged from the inkjet head, and 0.9 seconds later, the fifth droplet was cured by irradiating it with an ultraviolet lamp disposed in the vicinity of the inkjet head.
As shown in FIG. 3, the width of the line pattern at this time was about 51 μm, the contact angle was about 54 °, the height was about 15 μm although not shown, and the height variation was about 2.1 μm. In the obtained line pattern, no bridge is generated between adjacent line patterns. The aspect ratio at this time is 15 μm / 51 μm = about 0.29. The line pattern obtained by landing the fifth droplet has a good width and contact angle, but the variation in height becomes large and a good line pattern cannot be obtained.

(実施例B)
比較例Aにおいて、第3の液滴硬化工程を行わず、紫外線硬化させなかった。
この場合、着弾した第3の液滴は硬化せず、硬化した第1の液滴2の間で架橋するように濡れ広がり、第1の液滴2の間を埋める。
実施例Bにおいて、第4の液滴の硬化後、図3に示すように、ラインパターンの幅は約50μm、接触角は約53°、図示しないが高さは約15μm、高さのバラツキは約0.4μmであった。このときのアスペクト比は15μm/50μm=0.3である。得られたラインパターンは隣接するラインパターン同士の間でブリッジは生じておらず、良好なラインパターンが得られた。
(Example B)
In Comparative Example A, the third droplet curing step was not performed and UV curing was not performed.
In this case, the landed third droplet does not cure, but spreads so as to bridge between the cured first droplets 2 and fills the space between the first droplets 2.
In Example B, after curing the fourth droplet, as shown in FIG. 3, the width of the line pattern is about 50 μm, the contact angle is about 53 °, the height is about 15 μm, although the height variation is not shown. It was about 0.4 μm. The aspect ratio at this time is 15 μm / 50 μm = 0.3. In the obtained line pattern, no bridge was generated between adjacent line patterns, and a good line pattern was obtained.

実施例Bにおいて、第5の液滴の硬化後、図3に示すように、ラインパターンの幅は60μm以上となってしまい、隣接するラインパターン同士の間で結合が生じてしまった。このため、第5の液滴を着弾配置することは不適であることが分かった。
これによって、高さのバラツキが小さく、描画線幅の微細化と高アスペクト比の線を形成することができる。
In Example B, after the fifth droplet was cured, as shown in FIG. 3, the width of the line pattern was 60 μm or more, and bonding was generated between adjacent line patterns. For this reason, it has been found that landing the fifth droplet is not suitable.
As a result, the variation in height is small, and it is possible to reduce the drawing line width and form a line with a high aspect ratio.

比較例Aおよび実施例Bにおいて、第1〜第5の液滴は同じインク材料を用い、1つのインクジェットヘッドから吐出した。
なお、インクジェットヘッドの吐出し条件、インク条件、硬化時間等々を最適化した場合には、第2の液滴と最後の液滴の間に複数の液滴を吐出して厚膜化を図ることも可能であるが、描画線幅の微細化と高アスペクト比を得るためには、少なくとも液滴を硬化させずに濡れ広げるための工程が必要である。
また、インク材料を光学材料(例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、など)で構成して、パターンを形成した場合には、光学設計とのマッチングが良好となる結果、光学特性を向上させることができる。
また、その他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施可能である。
In Comparative Example A and Example B, the first to fifth droplets were ejected from one inkjet head using the same ink material.
When the ejection conditions, ink conditions, curing time, etc. of the inkjet head are optimized, a plurality of droplets are ejected between the second droplet and the last droplet to increase the film thickness. However, in order to reduce the drawing line width and obtain a high aspect ratio, at least a step for spreading the liquid droplets without curing them is necessary.
Further, when the ink material is composed of an optical material (for example, acrylic resin, polycarbonate resin, etc.) and a pattern is formed, the optical characteristics can be improved as a result of good matching with the optical design. .
In addition, the present invention can be variously modified and implemented without departing from the scope of the invention.

1:アクリル基板、2:第1の液滴、3:第2の液滴。   1: acrylic substrate, 2: first droplet, 3: second droplet.

Claims (3)

インクジェット法で、インクを液滴として吐出して基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、少なくとも
基板に着弾された液滴の直径よりも大きいピッチで液滴を吐出し、基板上に離間して複数の第1の液滴を配置する第1の液滴配置工程と、
前記基板上に配置された前記第1の液滴を硬化させる第1の液滴硬化工程と、
複数の第2の液滴を吐出し、前記離間した第1の液滴の中間に前記第2の液滴を着弾配置する第2の液滴配置工程と、
前記第1の液滴の間に配置された前記第2の液滴を硬化させる第2の液滴硬化工程と、
複数の第3の液滴を吐出し、前記第2の液滴の上に着弾配置し、硬化させずに濡れ広げる工程と、
複数の第4の液滴を吐出し、前記第3の液滴と同じ位置に着弾配置する第4の液滴配置工程と、
前記第4の液滴を硬化させる第の液滴硬化工程とを含む
ことを特徴とするパターン形成方法。
A pattern forming method for forming a pattern on a substrate by ejecting ink as droplets by an inkjet method, wherein the droplets are ejected at a pitch larger than the diameter of the droplets landed on the substrate, A first droplet disposing step of disposing a plurality of first droplets apart from each other;
A first droplet curing step for curing the first droplet disposed on the substrate;
A second droplet disposing step of ejecting a plurality of second droplets and landing the second droplet in the middle of the spaced apart first droplets;
A second droplet curing step for curing the second droplet disposed between the first droplets;
Discharging a plurality of third droplets, placing and landing on the second droplets, and spreading out without curing;
A fourth droplet placement step of discharging a plurality of fourth droplets and landing at the same position as the third droplet;
And a fourth droplet curing step for curing the fourth droplet.
請求項1に記載のパターン形成方法において、
前記第1の液滴、前記第2の液滴、前記第3の液滴、前記第4の液滴がいずれも同じピッチで着弾配置されてなる
ことを特徴とするパターン形成方法。
In the pattern formation method of Claim 1,
The pattern forming method, wherein the first droplet, the second droplet, the third droplet, and the fourth droplet are all landed and arranged at the same pitch.
請求項1または請求項2に記載のパターン形成方法において、
前記インクが光学材料からなる
ことを特徴とするパターン形成方法。
In the pattern formation method of Claim 1 or Claim 2,
A pattern forming method, wherein the ink is made of an optical material.
JP2011213241A 2011-09-28 2011-09-28 Pattern forming method Withdrawn JP2013071084A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011213241A JP2013071084A (en) 2011-09-28 2011-09-28 Pattern forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011213241A JP2013071084A (en) 2011-09-28 2011-09-28 Pattern forming method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013071084A true JP2013071084A (en) 2013-04-22

Family

ID=48476017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011213241A Withdrawn JP2013071084A (en) 2011-09-28 2011-09-28 Pattern forming method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013071084A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1191167C (en) Manufacture process of single ink jet head
JP2010137460A (en) Method for manufacturing inkjet recording head
KR101844412B1 (en) method of forming conductive pattern on a substrate using inkjet printing technique
KR101597671B1 (en) Substrate manufacturing method
JP2008030271A (en) Inkjet recording head, and its manufacturing method
KR20080096427A (en) Coating method, pattern forming method, and storage medium
US20140138345A1 (en) Methods of forming conductive patterns using inkjet printing methods
US9044944B2 (en) Liquid discharge head and method of making the same
JP2013071084A (en) Pattern forming method
JP5498328B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
JP2019217669A (en) Printing method and printer
JP2010054777A (en) Forming method of thin film and color filter
JP2013071085A (en) Pattern forming method
JP4211842B2 (en) Method for manufacturing electronic substrate and method for manufacturing multilayer wiring substrate
US20090087548A1 (en) Method of forming circuit pattern
JP6259863B2 (en) Manufacturing method of electronic parts
KR101912606B1 (en) Nozzle Plate for Processing Droplet Formation and Coating Method of Nozzle Plate for Processing Droplet Formation
JP2008030272A (en) Inkjet recording head, and its manufacturing method
KR101093496B1 (en) patterning method using of hydrophobic liquid injection
KR20130050134A (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
KR102268603B1 (en) Substrate, display panel and substrate manufacturing method
JP2013107033A (en) Method for forming pattern
JP6082516B2 (en) Manufacturing method of electronic parts
KR20140066492A (en) Method of forming conductive pattern using inkjet printing technique
JP2006173436A (en) Film pattern formation

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20141202