JP2013063384A - Method for treating exhaust gas and apparatus for treating exhaust gas - Google Patents

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啓史 川北
Susumu Sakata
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for treating exhaust gas and an apparatus for treating exhaust gas by which harmful gas-containing process exhaust gas can be detoxified with high removal efficiency at a low cost.SOLUTION: The method for treating exhaust gas which has a heating treatment step of harmful gas-containing exhaust gas by using fuel gas and a treatment step of bringing exhaust gas subjected to heat treatment into reaction with treatment liquid in a wet scrubber 3 is provided. Furthermore, the apparatus for treating exhaust gas 1 which has a combustion-type exhaust gas treating apparatus 2 constituted so as to be able to carry out the heat treatment of harmful gas-containing exhaust gas and a wet scrubber 3 where the exhaust gas subjected to heat treatment by the combustion-type exhaust gas treating apparatus 2 can be introduced is provided.

Description

本発明は、排ガス処理方法および排ガス処理装置に関する。   The present invention relates to an exhaust gas treatment method and an exhaust gas treatment apparatus.

近年、半導体、ＬＥＤ，太陽電池等の製造工場における生産規模の拡大に伴い、それらの工場で用いられる原料ガス量も増大し、除害処理対象となる未分解で有害な排ガス（以下、「プロセス排ガス」ともいう。）量も増大している。   In recent years, with the expansion of production scale in manufacturing factories of semiconductors, LEDs, solar cells, etc., the amount of raw material gas used in these factories has increased, and undecomposed and harmful exhaust gas (hereinafter referred to as “process”) The amount is also increasing.

一般に、大流量のプロセス排ガスの処理方法としては、燃焼させることが有効な手段として知られており（燃焼式排ガス処理方法）、排ガス流量に応じて燃料ガスの量を増やしたり、Ｏ２を添加したりすることで、排ガスの処理に必要な熱量や火炎温度を確保している（特許文献１）。 In general, as a method for treating a large amount of process exhaust gas, combustion is known as an effective means (combustion exhaust gas treatment method), and the amount of fuel gas is increased according to the exhaust gas flow rate, or O 2 is added. By doing so, the amount of heat and the flame temperature necessary for the treatment of the exhaust gas are secured (Patent Document 1).

このような燃焼式排ガス処理方法としては、炭化水素系燃料ガス（ＣＨ４、Ｃ３Ｈ８等）を支燃性ガス（Ｏ２や空気等）と予め混合し、火口に形成した火炎を用いて排ガスを加熱酸化分解して除害するという方法が知られている。 As such a combustion type exhaust gas treatment method, a hydrocarbon fuel gas (CH 4 , C 3 H 8, etc.) is mixed with a combustion-supporting gas (O 2 , air, etc.) in advance, and a flame formed at the crater is used. A method is known in which exhaust gas is removed by heat oxidation decomposition.

また、プロセス排ガスの処理方法としては、水洗除去し、電熱ヒーターで加熱分解する方法も提案されている（特許文献２）
他にもプロセス排ガス処理方法としては、乾式吸着方式、湿式スクラバー方式、触媒分解方式等も知られている。 As a process exhaust gas treatment method, a method of removing by washing with water and thermally decomposing with an electric heater is also proposed (Patent Document 2).
In addition, as a process exhaust gas treatment method, a dry adsorption method, a wet scrubber method, a catalyst decomposition method, and the like are also known.

特開２００１−２８０６２９号公報JP 2001-280629 A 特許第３８６６４１２号公報Japanese Patent No. 3866412 特表２００８−５４０９９０号公報Special table 2008-540990

しかしながら、従来の燃焼式排ガス処理方法では、火口に形成した火炎を用いて排ガスを燃焼して処理するので、燃料ガスとして使用できる可燃性ガスが排ガス中に含まれる場合であっても、燃料ガスを排ガスと分離して火口に導入していた。
その結果、排ガス中の燃料ガスを十分に利用することができず、燃料ガスの無駄が生じるという不都合があった。 However, in the conventional combustion type exhaust gas treatment method, the exhaust gas is burned and processed using the flame formed in the crater. Therefore, even if the combustible gas that can be used as the fuel gas is contained in the exhaust gas, the fuel gas Was separated from the exhaust gas and introduced into the crater.
As a result, there is a disadvantage that the fuel gas in the exhaust gas cannot be fully utilized and the fuel gas is wasted.

特に、ＮＨ３やＨ２を多量に使用するＭＯＣＶＤ装置等の半導体製造装置から排出される排出ガスは、その製造工程毎にガスの組成や流量が異なるが、従来の燃焼式排ガス処理方法では、一番燃焼が困難な排出ガス（ＮＨ３等）の流量と組成に合わせた燃焼条件で運転を行っていた。そのため、燃料ガスの無駄が顕著となっていた。 In particular, the exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing apparatus such as a MOCVD apparatus that uses a large amount of NH 3 or H 2 has a different gas composition and flow rate for each manufacturing process. In the conventional combustion exhaust gas treatment method, The operation was performed under combustion conditions that matched the flow rate and composition of the exhaust gas (NH 3 or the like) that was the most difficult to burn. For this reason, waste of fuel gas has become remarkable.

また、ＮＨ３の熱分解に必要な温度は７５０℃程度であり、この分解温度を確保するためには相応の熱量が必要である。したがって、排出ガス中のＮＨ３の流量が増加すると、その分大量の燃料ガスが必要となる。
その結果、燃焼式排ガス処理方法では、必要な熱量を確保するために燃焼式排ガス処理装置を大型化せざるを得なかった。 Further, the temperature required for the thermal decomposition of NH 3 is about 750 ° C., and an appropriate amount of heat is required to secure this decomposition temperature. Therefore, when the flow rate of NH 3 in the exhaust gas increases, a large amount of fuel gas is required.
As a result, in the combustion-type exhaust gas treatment method, the combustion-type exhaust gas treatment apparatus has to be enlarged in order to secure a necessary amount of heat.

また、特許文献２に示したような方法では、プロセス排ガスを先に水洗することで、廃液や薬液を多量に消費してしまうという不都合があり、その結果、コストが嵩むという問題があった。   Moreover, in the method as shown in Patent Document 2, there is a problem that a large amount of waste liquid or chemical liquid is consumed by washing the process exhaust gas first, and as a result, there is a problem that the cost increases.

また、乾式吸着方式では、吸着剤の吸着量に限界があるという不都合があり、また、吸着剤の量も限られることから、吸着剤の交換に要する労力やコストが大きいという問題があった。加えて、廃棄する際の吸着剤の処理方法も課題となっている。   In addition, the dry adsorption method has a disadvantage that there is a limit to the amount of adsorbent adsorbed, and the amount of adsorbent is also limited, so that there is a problem that labor and cost required for exchanging the adsorbent are large. In addition, a method for treating the adsorbent when discarded is also a problem.

また、湿式スクラバー方式は、廃液タンクや薬液タンクの設置が必要であることから、設備が巨大化する上、目標とするガス濃度にまで除害することは容易ではないという不都合があった。加えて、廃液回収費用にかかるコストも大きいという問題もあった。   In addition, the wet scrubber system requires the installation of a waste liquid tank or a chemical liquid tank, and thus has an inconvenience that the equipment becomes enormous and it is not easy to remove the target gas concentration. In addition, there is a problem that the cost for collecting the waste liquid is large.

また、触媒分解方式では、ＮＯｘやＣＯ２が発生しないため、クリーンな除害方式と言えるが、電熱ヒーターで消費する電力量が大きいという不都合があった。加えて、触媒剤は、定期的に交換する必要があるので、コストが嵩むという問題もあった。 In addition, the catalytic decomposition method can be said to be a clean detoxification method because NOx and CO 2 are not generated, but there is a disadvantage that the amount of electric power consumed by the electric heater is large. In addition, since the catalyst agent needs to be replaced periodically, there is a problem that the cost increases.

このような背景の下、有害ガスを含有するプロセス排ガスを高い除去効率で、かつ、安価に無害化する方法が要望されていたが、有効適切なものが提供されていないのが実情であった。   Under such circumstances, there has been a demand for a method for detoxifying process exhaust gas containing harmful gases with high removal efficiency and at a low cost, but the actual situation is that an effective and appropriate one has not been provided. .

上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、有害ガスを含有する排ガスを、燃料ガスを用いて加熱処理する工程と、加熱処理された排ガスを湿式スクラバー内で処理液と反応させて処理する工程と、を有することを特徴とする排ガス処理方法である。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 includes a step of heat-treating exhaust gas containing harmful gas using fuel gas, and reacting the heat-treated exhaust gas with a treatment liquid in a wet scrubber. A process for treating the exhaust gas.

また、請求項２に係る発明は、前記排ガスにＨ２が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理方法である。 The invention according to claim 2 is the exhaust gas treatment method according to claim 1, wherein the exhaust gas contains H 2 .

また、請求項３に係る発明は、前記加熱処理する工程が、前記燃料ガスを用いて形成される点火用火炎を用いて、前記排ガスを加熱処理する工程であり、前記点火用火炎の熱量が、０．４ｋＷ以上６ｋＷ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の排ガス処理方法。   Further, in the invention according to claim 3, the heat treatment step is a step of heat-treating the exhaust gas using an ignition flame formed using the fuel gas, and the amount of heat of the ignition flame is The exhaust gas treatment method according to claim 1, wherein the exhaust gas treatment method is 0.4 kW or more and 6 kW or less.

また、請求項４に係る発明は、有害ガスを含有する排ガスを加熱処理可能に構成された燃焼式排ガス処理装置と、前記燃焼式排ガス処理装置によって加熱処理された排ガスを導入可能な湿式スクラバーと、を備えることを特徴とする排ガス処理装置である。   The invention according to claim 4 is a combustion-type exhaust gas treatment device configured to be capable of heat treatment of exhaust gas containing harmful gas, and a wet scrubber capable of introducing the exhaust gas heat-treated by the combustion-type exhaust gas treatment device; An exhaust gas treatment apparatus comprising:

本発明では、燃料ガスを用いて有害ガスを含有する排ガスを加熱処理した後に、湿式スクラバーで処理している。
この結果、後段に湿式スクラバーによる処理があることから、加熱処理する工程においては、有害ガスを完全に除去する必要がなくなり、燃料ガスの流量を過剰に供給する必要がなくなった。
また、湿式スクラバーには、既に加熱処理された排ガスが導入されるので、直接排ガスを湿式スクラバーに導入する場合と比較すると、有害ガスの含有量が少ないので、十分に目標とするガス濃度まで有害ガスを分解することができる。加えて、湿式スクラバーに導入される有害ガスの含有量が少ないので、薬液量や廃液量を低減させることができ、排ガス処理のコストを抑えることもできる。 In the present invention, the exhaust gas containing harmful gas is heated using fuel gas and then treated with a wet scrubber.
As a result, since there is a treatment with a wet scrubber in the subsequent stage, it is not necessary to completely remove the harmful gas in the heat treatment step, and it is not necessary to supply an excessive flow rate of the fuel gas.
In addition, since the exhaust gas that has already been heat-treated is introduced into the wet scrubber, the harmful gas content is low compared to the case where the exhaust gas is directly introduced into the wet scrubber. Gas can be decomposed. In addition, since the content of harmful gas introduced into the wet scrubber is small, the amount of chemical solution and the amount of waste liquid can be reduced, and the cost of exhaust gas treatment can be suppressed.

図１は、本実施形態の排ガス処理装置を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing an exhaust gas treatment apparatus of the present embodiment. 図２は、本実施形態の排ガス処理装置の燃焼式排ガス処理装置の燃焼部を拡大した斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of the combustion part of the combustion exhaust gas treatment device of the exhaust gas treatment device of the present embodiment. 図３は、本実施形態の排ガス処理装置の燃焼式排ガス処理装置を示す概念図である。FIG. 3 is a conceptual diagram showing the combustion exhaust gas treatment device of the exhaust gas treatment device of the present embodiment. 図４は、点火用火炎の熱量とＮＨ３の分解率を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing the amount of heat of the ignition flame and the decomposition rate of NH 3 .

以下、本発明の実施形態である排ガス処理方法および排ガス処理装置について、図面を参照して説明する。   Hereinafter, an exhaust gas treatment method and an exhaust gas treatment apparatus according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

＜排ガス処理装置＞
図１は、本発明の一実施形態である排ガス処理装置１の概略を示す図である。
図１に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１は、燃焼式排ガス処理装置２と湿式スクラバー３とから概略構成されている。 <Exhaust gas treatment equipment>
FIG. 1 is a diagram showing an outline of an exhaust gas treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the exhaust gas treatment device 1 of the present embodiment is schematically configured from a combustion exhaust gas treatment device 2 and a wet scrubber 3.

燃焼式排ガス処理装置２は、半導体、ＬＥＤ、または窒化ガリウム半導体等を製造するＭＯＣＶＤ装置等の半導体製造装置４から排出されるプロセス排ガスを燃焼させて、除害処理する装置であり、半導体製造装置４と燃焼式排ガス処理装置２は、配管５を介して接続されている。
また、燃焼式排ガス処理装置２の噴出口６（図２参照）近傍は、燃焼部７となっており、燃焼部７の下流側は冷却部８となっている。 The combustion-type exhaust gas treatment apparatus 2 is an apparatus that burns process exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing apparatus 4 such as a MOCVD apparatus that manufactures semiconductors, LEDs, gallium nitride semiconductors, and the like, and performs a detoxification process. 4 and the combustion exhaust gas treatment device 2 are connected via a pipe 5.
Further, the vicinity of the jet port 6 (see FIG. 2) of the combustion type exhaust gas treatment apparatus 2 is a combustion part 7, and the downstream side of the combustion part 7 is a cooling part 8.

半導体製造装置４から排出されるプロセス排ガスは、配管５を通った後、噴出口６（火口）を介して燃焼式排ガス処理装置２内に供給されるように構成されており、噴出口６の下流側の燃焼部７において、プロセス排ガスの燃焼火炎Ｂが形成されるように構成されている。
具体的には、燃焼式排ガス処理装置２の燃焼部７は、図２に示すように、噴出口６近傍に支燃性ガス供給管９と、点火用バーナ１０とが形成されている。 Process exhaust gas discharged from the semiconductor manufacturing apparatus 4 passes through the pipe 5 and is then supplied into the combustion exhaust gas treatment apparatus 2 via the jet outlet 6 (crater). In the combustion section 7 on the downstream side, a combustion flame B of process exhaust gas is formed.
Specifically, as shown in FIG. 2, in the combustion unit 7 of the combustion exhaust gas treatment device 2, a combustion-supporting gas supply pipe 9 and an ignition burner 10 are formed in the vicinity of the jet outlet 6.

支燃性ガス供給管９は、配管５の外周を囲うように形成されており、噴出口６と略同一平面上の位置に、複数の供給孔２１を有している。したがって、噴出口６に対向する側から見ると、支燃性ガス供給管９は、内側に配管５が配置された、所定幅を有するリング状に形成されており、当該所定幅のリング状の部分に、複数の供給孔２１が設けられた形状となっている。   The combustion-supporting gas supply pipe 9 is formed so as to surround the outer periphery of the pipe 5, and has a plurality of supply holes 21 at positions substantially on the same plane as the jet nozzle 6. Therefore, when viewed from the side facing the jet port 6, the combustion-supporting gas supply pipe 9 is formed in a ring shape having a predetermined width, with the pipe 5 disposed inside, and the ring-shaped gas having the predetermined width is formed. The portion has a shape in which a plurality of supply holes 21 are provided.

支燃性ガス供給管９は、点火用火炎Ａによってプロセス排ガスを加熱酸化分解する際に必要とされる、支燃性ガスを供給する機構であり、図示略の支燃性ガス供給装置と配管２２を介して接続されており、供給孔２１を介して支燃性ガスを供給可能なように構成されている。
また、支燃性ガスとしては、例えば空気（乾燥空気）や酸素を用いることができる。 The combustion-supporting gas supply pipe 9 is a mechanism for supplying a combustion-supporting gas, which is required when the process exhaust gas is heated and oxidized and decomposed by the ignition flame A. 22, and is configured to be able to supply the combustion-supporting gas through the supply hole 21.
Further, as the combustion-supporting gas, for example, air (dry air) or oxygen can be used.

点火用バーナ１０は、噴出口６の下流側近傍に設けられており、噴出口６から供給されるプロセス排ガスを加熱酸化分解させるための点火用火炎Ａを形成させるためのバーナである。また、点火用バーナ１０は、図示略の点火用ガス供給装置と配管２３（図１参照）を介して接続することで、燃料ガスが供給可能なように構成されている。
なお、燃料ガスとしては、例えば炭化水素系燃料ガス（ＣＨ４、Ｃ３Ｈ８等）やＨ２を用いることができ、Ｈ２を用いたバーナについては、特表２００８−５４０９９０号公報に詳しく記載されている。 The ignition burner 10 is provided in the vicinity of the downstream side of the jet port 6 and is a burner for forming an ignition flame A for thermally oxidizing and decomposing process exhaust gas supplied from the jet port 6. The ignition burner 10 is configured to be able to supply fuel gas by being connected to an ignition gas supply device (not shown) via a pipe 23 (see FIG. 1).
As the fuel gas, for example, hydrocarbon fuel gas (CH 4 , C 3 H 8 or the like) or H 2 can be used, and the burner using H 2 is described in detail in JP-T-2008-540990. Have been described.

このように、支燃性ガス供給管９と、噴出口６と、点火用バーナ１０を別々に設けているので、支燃性ガスは、プロセス排ガス（および燃料ガス）と、別経路で燃焼部７に供給される。これにより、これらのガスが燃焼直前まで混合することがなく、逆火が起こる可能性が低くなり安全性が高まる。   As described above, since the combustion-supporting gas supply pipe 9, the jet nozzle 6, and the ignition burner 10 are provided separately, the combustion-supporting gas is separated from the process exhaust gas (and the fuel gas) and the combustion section in a separate path. 7 is supplied. Thereby, these gases are not mixed until immediately before combustion, the possibility of backfire is reduced, and safety is increased.

なお、支燃性ガス供給管９や点火用バーナ１０の構造、配置位置等は、上記の形態に限定される必要はなく、噴出口６から供給されるプロセス排ガスを燃焼可能であれば、どのような構成でもよい。例えば、点火用バーナ１０を用いず、プロセス排ガスに予めＨ２を混合させ、触媒（例えばＰｄ）を用いてＨ２を着火させて、支燃性ガスを供給してプロセス排ガスを燃焼させる方式を採用しても構わない。 The structure and arrangement position of the combustion-supporting gas supply pipe 9 and the ignition burner 10 do not have to be limited to the above-described forms, and any process exhaust gas supplied from the jet outlet 6 can be combusted. Such a configuration may be used. For example, without using the ignition burner 10, H 2 is mixed with process exhaust gas in advance, H 2 is ignited using a catalyst (for example, Pd), combustion supporting gas is supplied, and the process exhaust gas is burned. You may adopt.

また、燃焼式排ガス処理装置２には、図３に示すように、燃焼部７において、プロセス排ガスを予備冷却するために、冷却空気等を導入するための冷却空気導入管２４が接続されている。この冷却空気導入管２４は、図示略の冷却空気供給装置と接続されることで冷却空気を供給可能なように構成されており、冷却空気導入管２４から供給される冷却空気によって、プロセス排ガスの燃焼火炎Ｂは、冷却される。   Further, as shown in FIG. 3, the combustion exhaust gas treatment device 2 is connected with a cooling air introduction pipe 24 for introducing cooling air or the like in order to pre-cool the process exhaust gas in the combustion section 7. . The cooling air introduction pipe 24 is configured to be able to supply cooling air by being connected to a cooling air supply device (not shown). The cooling air supplied from the cooling air introduction pipe 24 allows the process exhaust gas to be supplied. The combustion flame B is cooled.

また、燃焼部７の下流側に位置する冷却部８には、燃焼によって高温になったプロセス排ガスを冷却するための冷却機構２５が形成されている。冷却機構２５は、図示略の冷却流体供給装置によって、配管２６（図１参照）を介して冷却流体が供給されるように構成されており、冷却機構２５から冷却流体を供給することで、プロセス排ガスを冷却する。冷却流体としては、例えば冷却空気や水などを用いることができる。   In addition, a cooling mechanism 25 for cooling the process exhaust gas that has become a high temperature due to combustion is formed in the cooling unit 8 located on the downstream side of the combustion unit 7. The cooling mechanism 25 is configured so that a cooling fluid is supplied via a pipe 26 (see FIG. 1) by a cooling fluid supply device (not shown). Cool the exhaust gas. For example, cooling air or water can be used as the cooling fluid.

燃焼式排ガス処理装置２の出口２７には配管２８が設けられており、配管２８は、湿式スクラバー３と接続されている。すなわち、冷却されたプロセス排ガスは、配管２８を通って湿式スクラバー３に導入可能なように構成されている。   A pipe 28 is provided at the outlet 27 of the combustion exhaust gas treatment device 2, and the pipe 28 is connected to the wet scrubber 3. In other words, the cooled process exhaust gas can be introduced into the wet scrubber 3 through the pipe 28.

湿式スクラバー３は、燃焼式排ガス処理装置２において加熱酸化分解されなかった、プロセス排ガスに含有される有毒ガスを除去することを目的としている装置であり、主としてＮＨ３を除去する装置である。 The wet scrubber 3 is an apparatus intended to remove toxic gas contained in the process exhaust gas that has not been thermally oxidized and decomposed in the combustion exhaust gas treatment apparatus 2, and is an apparatus that mainly removes NH 3 .

具体的には、湿式スクラバー３は、図１に示すように、本体４１と本体４１の下部に形成された処理液（薬液）が貯蔵される循環槽４２とを有している。
本体４１は、上部に配管２８が接続されており、この配管２８を介してプロセス排ガスが本体４１内に導入されるように構成されている。 Specifically, as shown in FIG. 1, the wet scrubber 3 includes a main body 41 and a circulation tank 42 in which a processing liquid (chemical solution) formed in the lower portion of the main body 41 is stored.
The main body 41 has a pipe 28 connected to the upper portion thereof, and is configured such that process exhaust gas is introduced into the main body 41 through the pipe 28.

また、本体４１内には、上側に処理液を散布可能なノズル４３が設けられている。ノズル４３は、配管４４を介して循環槽４２と接続されており、配管４４に設けられたポンプ４５によって、循環槽４２内に貯蔵されている処理液が供給されるように構成されている。   In the main body 41, a nozzle 43 capable of spraying the processing liquid is provided on the upper side. The nozzle 43 is connected to the circulation tank 42 via a pipe 44, and is configured so that a processing liquid stored in the circulation tank 42 is supplied by a pump 45 provided in the pipe 44.

また、本体４１の下側には、配管４６が設けられており、湿式スクラバー３内において処理液と反応した後のプロセス排ガスは、配管４６を介して、外部に放出される。
ここで循環槽４２に貯蔵される処理液としては、例えば硫酸を挙げることができる。 A pipe 46 is provided below the main body 41, and the process exhaust gas after reacting with the treatment liquid in the wet scrubber 3 is released to the outside through the pipe 46.
An example of the processing liquid stored in the circulation tank 42 is sulfuric acid.

なお、プロセス排ガスを加熱処理する際に、ＮＯＸが副生することがある。そこで、ＮＯＸを除去するために、湿式スクラバー３に図示略のＮＯＸ除去塔を別途設けてもよい。
本実施形態の排ガス処理装置１は、以上のような構成をしている。 Note that NO X may be produced as a by-product when the process exhaust gas is heat-treated. In order to remove NO X, it may be provided separately not shown of the NO X removal column in the wet scrubber 3.
The exhaust gas treatment apparatus 1 of the present embodiment has the above configuration.

＜排ガス処理方法＞
次に、上記した排ガス処理装置１を用いたプロセス排ガスの処理方法について説明する。
本実施形態の排ガス処理方法は、概略すると、燃焼式排ガス処理装置２内において、プロセス排ガスを加熱処理する工程と、湿式スクラバー３内において、加熱処理されたプロセス排ガスを処理液と反応させて処理する工程と、から概略構成されている。 <Exhaust gas treatment method>
Next, a process exhaust gas treatment method using the above-described exhaust gas treatment apparatus 1 will be described.
The exhaust gas treatment method of the present embodiment can be summarized as follows: a process for heat treating process exhaust gas in the combustion exhaust gas treatment device 2 and a process by reacting the heat treated process exhaust gas with a treatment liquid in the wet scrubber 3. And the process of carrying out.

＜＜燃焼式排ガス処理装置内での工程＞＞
まず、半導体製造装置４から排出されたプロセス排ガスを、配管５を介して噴出口６から燃焼式排ガス処理装置２内に供給する。このプロセス排ガスには、例えばＮＨ３等の除害対象成分や、Ｈ２等が含まれている。 << Process in combustion exhaust gas treatment device >>
First, the process exhaust gas discharged from the semiconductor manufacturing apparatus 4 is supplied into the combustion exhaust gas treatment apparatus 2 from the jet outlet 6 through the pipe 5. This process exhaust gas contains a detoxification target component such as NH 3 , H 2, and the like.

次に、燃焼式排ガス処理装置２内に導入されたプロセス排ガスを、噴出口６の近傍に設けられた点火用バーナ１０に形成された点火用火炎Ａと、支燃性ガス供給管９の供給孔２１から供給される支燃性ガスを用いて燃焼させ、燃焼火炎Ｂを形成し、加熱処理する。これにより、プロセス排ガスに含有されている有害ガスが加熱酸化分解する。   Next, the process exhaust gas introduced into the combustion exhaust gas treatment device 2 is supplied to the ignition flame A formed in the ignition burner 10 provided in the vicinity of the jet nozzle 6 and the combustion-supporting gas supply pipe 9. Combustion is performed using the combustion-supporting gas supplied from the holes 21 to form a combustion flame B, and heat treatment is performed. As a result, the harmful gas contained in the process exhaust gas is thermally oxidized and decomposed.

この際、点火用バーナ１０に供給する燃料ガスとしては、例えば炭化水素系燃料ガスやＨ２を用いることができる。Ｈ２は炭素源を含まないので、プロセス排ガス処理に起因して発生するＣＯ２以外は、燃焼時にＣＯ２が発生しない。したがって、燃料としてＨ２を用いた場合、炭化水素系燃料ガスを用いるよりも環境負荷を低減させることができる。 At this time, as the fuel gas supplied to the ignition burner 10, for example, hydrocarbon fuel gas or H 2 can be used. Since H 2 does not contain a carbon source, no CO 2 is generated during combustion except for CO 2 generated due to process exhaust gas treatment. Therefore, when H 2 is used as the fuel, the environmental load can be reduced as compared with the case where hydrocarbon fuel gas is used.

なお、一般にＨ２は、他のプロセス排ガス（ＮＨ３等）と比較して燃焼速度が大きく、加えて、火炎を延伸させることが知られている。
したがって、プロセス排ガスにＨ２が含まれる場合は、そのＨ２と共に燃焼させると燃焼速度が小さいガスでも、より短時間で燃焼させることができる。加えて、加熱酸化分解するために必要な高温場を大きくすることができ、プロセス排ガスの燃焼を大きく促進させることができる。 In general, H 2 is known to have a higher combustion rate than other process exhaust gases (such as NH 3 ) and, in addition, extend the flame.
Therefore, when H 2 is contained in the process exhaust gas, even when the gas is burned together with the H 2 , even a gas having a low combustion speed can be burned in a shorter time. In addition, it is possible to increase the high-temperature field required for thermal oxidative decomposition, and to greatly promote the combustion of process exhaust gas.

また、点火用バーナ１０に形成する点火用火炎Ａの熱量は、０．４ｋＷ以上であることが好ましく、０．６ｋＷ以上であることが更に好ましく、０．９ｋＷ以上であることが最も好ましい。また、点火用火炎Ａの熱量は、６ｋＷ以下であることが好ましく、４ｋＷ以下であることが更に好ましく、３ｋＷ以下であることが最も好ましい。   Further, the amount of heat of the ignition flame A formed on the ignition burner 10 is preferably 0.4 kW or more, more preferably 0.6 kW or more, and most preferably 0.9 kW or more. The amount of heat of the ignition flame A is preferably 6 kW or less, more preferably 4 kW or less, and most preferably 3 kW or less.

詳しく説明すると、例えばＮＨ３に対してＨ２を１０倍量含む排ガスを点火用火炎で加熱酸化分解した際のＮＨ３の分解率は、図４に示すグラフのようになる。この図４から明らかなように、点火用火炎Ａの熱量は、０．４ｋＷ以上６ｋＷ以下の範囲（領域Ｍ）にあることが好ましいことが認められる。
点火用火炎Ａの熱量は、少なすぎると点火できず（領域Ｌ）、多すぎると燃焼するのに過剰な熱量（領域Ｎ）となってしまう。 More specifically, for example, the decomposition rate of NH 3 when an exhaust gas containing 10 times the amount of H 2 with respect to NH 3 is subjected to thermal oxidative decomposition with an ignition flame is as shown in the graph of FIG. As is apparent from FIG. 4, it is recognized that the amount of heat of the ignition flame A is preferably in the range (region M) of 0.4 kW to 6 kW.
If the amount of heat of the ignition flame A is too small, ignition cannot be performed (region L), and if it is too large, the amount of heat becomes excessive (region N) for combustion.

なお、本実施形態の排ガス処理方法では、必ずしも、燃焼式排ガス処理装置２において、プロセス排ガスに含まれる有害ガスを全て除害する必要はなく、燃焼式排ガス処理装置２の出口２７でのＮＨ３の濃度が、許容濃度値（ＴＬＶ）以下に加熱分解されていなくても構わない。すなわち、燃料ガスによって形成される点火用火炎Ａの熱量では、十分にプロセス排ガスを加熱分解することができなくても構わない。 In the exhaust gas treatment method of the present embodiment, it is not always necessary to remove all harmful gases contained in the process exhaust gas in the combustion exhaust gas treatment device 2, and NH 3 at the outlet 27 of the combustion exhaust gas treatment device 2 is not necessarily used. It is not necessary for the concentration of the material to be thermally decomposed below the allowable concentration value (TLV). That is, the process exhaust gas may not be sufficiently decomposed by heat with the amount of heat of the ignition flame A formed by the fuel gas.

具体的に述べると、ＭＯＣＶＤ装置等の半導体製造装置４のプロセス排ガスは、その工程によって、プロセス排ガスに含まれるＨ２が少ないこともある。その場合は、ほぼ点火用火炎Ａによる熱量のみによってプロセス排ガスを燃焼させることになるため、十分にＮＨ３等を分解処理することができなくなる。 Specifically, the process exhaust gas of the semiconductor manufacturing apparatus 4 such as the MOCVD apparatus may contain a small amount of H 2 in the process exhaust gas depending on the process. In that case, since the process exhaust gas is burned almost only by the amount of heat generated by the ignition flame A, NH 3 or the like cannot be sufficiently decomposed.

逆に、プロセス排ガスに含まれるＨ２が多い場合は、点火用火炎Ａだけでなく、Ｈ２を燃焼させて生じる熱量によって、プロセス排ガスを燃焼させることになるので、十分にＮＨ３等を分解処理することができる。 Conversely, if H 2 contained in the process gas is large, not only the ignition flame A, the amount of heat generated by burning H 2, it means that the combustion of the process gas, fully decompose NH 3, etc. Can be processed.

また、本実施形態の排ガス処理方法においては、冷却空気導入管２４から冷却空気を燃焼式排ガス処理装置２内に供給することで、燃焼部７において、一定程度プロセス排ガスを予備的に冷却する。   Further, in the exhaust gas treatment method of the present embodiment, the process air is preliminarily cooled to a certain degree in the combustion unit 7 by supplying the cooling air from the cooling air introduction pipe 24 into the combustion exhaust gas treatment device 2.

その後、燃焼したプロセス排ガスを、燃焼式排ガス処理装置２の下流側に位置する冷却部８において、冷却機構２５から供給される冷却流体によって冷却する。冷却流体としては、例えば冷却空気や水を用いることができ、両方を用いても構わない。   Thereafter, the combusted process exhaust gas is cooled by the cooling fluid supplied from the cooling mechanism 25 in the cooling unit 8 located on the downstream side of the combustion exhaust gas treatment device 2. As the cooling fluid, for example, cooling air or water can be used, and both of them may be used.

特に、冷却流体として水を用い、例えばスプレー水噴霧などによって、プロセス排ガスを冷却すれば、冷却空気を用いた場合と比較して、燃焼式排ガス処理装置２の後段で処理するガスの流量が減る。その結果、湿式スクラバー３や、後段に設置する図示略の排気ダクトのサイズを小さくすることができ、コストを抑制することができる。   In particular, if water is used as the cooling fluid and the process exhaust gas is cooled, for example, by spraying with spray water, the flow rate of the gas processed in the subsequent stage of the combustion exhaust gas treatment device 2 is reduced as compared with the case where cooling air is used. . As a result, it is possible to reduce the size of the wet scrubber 3 and the exhaust duct (not shown) installed in the subsequent stage, and the cost can be suppressed.

このようにプロセス排ガスを、冷却空気等で予備冷却した後に、冷却流体で冷却することで、十分に温度を低下させることができ、後段の装置への負荷を低減することができる。
もっとも、プロセス排ガスの冷却方法は、上記態様に限定されるものではなく、プロセス排ガスの温度や、冷却機構２５の冷却能力等によっては、予備的に冷却することなく、冷却部８のみでプロセス排ガスを冷却しても構わない。 In this way, the process exhaust gas is precooled with cooling air or the like and then cooled with a cooling fluid, whereby the temperature can be sufficiently lowered and the load on the subsequent apparatus can be reduced.
However, the method for cooling the process exhaust gas is not limited to the above-described mode. Depending on the temperature of the process exhaust gas, the cooling capacity of the cooling mechanism 25, and the like, the process exhaust gas is cooled only by the cooling unit 8 without preliminary cooling. May be cooled.

＜＜湿式スクラバーでの処理工程＞＞
燃焼式排ガス処理装置２において加熱処理した後は、プロセス排ガスを、出口２７を通して、配管２８を介して湿式スクラバー３に導入する。
そして、湿式スクラバー３内において、プロセス排ガスを、本体４１内の上側に設けられたノズル４３から散布される処理液と気液接触させ、反応させることで有害成分を除害する。 << Processing with wet scrubber >>
After the heat treatment in the combustion exhaust gas treatment device 2, the process exhaust gas is introduced into the wet scrubber 3 through the outlet 27 and through the pipe 28.
Then, in the wet scrubber 3, the process exhaust gas is brought into gas-liquid contact with the treatment liquid sprayed from the nozzle 43 provided on the upper side in the main body 41, thereby causing harmful components to be removed.

なお、ノズル４３は、配管４４と接続されており、配管４４に設けられたポンプ４５によって、湿式スクラバー３の本体４１の下部に設けられた循環槽４２内に貯蔵された処理液が供給されるように構成されている。これにより、ノズル４３から散布された処理液は、プロセス排ガスと接触した後に循環槽４２に一端貯蔵され、貯蔵された処理液は、ポンプ４５によって配管４４を介して、ノズル４３に供給されて循環することとなる。
なお、処理液としては、例えば硫酸を用いることが好ましい。 The nozzle 43 is connected to a pipe 44, and a processing liquid stored in a circulation tank 42 provided in the lower part of the main body 41 of the wet scrubber 3 is supplied by a pump 45 provided in the pipe 44. It is configured as follows. As a result, the treatment liquid sprayed from the nozzle 43 is once stored in the circulation tank 42 after contacting the process exhaust gas, and the stored treatment liquid is supplied to the nozzle 43 via the pipe 44 and circulated by the pump 45. Will be.
For example, sulfuric acid is preferably used as the treatment liquid.

プロセス排ガスは、処理液と反応して、有害成分が除害され許容濃度以下になった後に、本体４１内の下側に設けられた配管４６を介して大気に放出される。
以上のようにして、プロセス排ガスを処理する。 The process exhaust gas reacts with the treatment liquid, and harmful components are detoxified to be below the allowable concentration. Then, the process exhaust gas is discharged to the atmosphere through a pipe 46 provided on the lower side in the main body 41.
The process exhaust gas is treated as described above.

本実施形態では、燃料ガスを用いて有害ガスを含有するプロセス排ガスを加熱処理した後に、湿式スクラバー３で処理している。すなわち、わずかな量の燃料ガスによる燃焼で前処理し、後段の湿式スクラバー３で残留した有害成分を処理している。
この結果、後段に湿式スクラバー３による処理があることから、燃焼式排ガス処理装置２での加熱処理においては、有害ガスを完全に除去する必要がなくなり、燃料ガスの流量を過剰に供給する必要がなくなった。
特に、プロセス排ガスにＨ２が含まれる場合、これを燃料ガスとして利用することができるが、従来はこれを利用することなく、燃料ガスだけで十分な熱量を与えるように設計してきたため、燃料ガスの無駄が生じていた。
本実施形態では、燃料ガスだけではプロセス排ガスの有害成分を除害するのに十分な熱量を与えないので、加熱処理する際に、プロセス排ガスに含まれるＨ２を燃料ガスの代替として十分に利用することができ、無駄がなくなった。 In the present embodiment, the process exhaust gas containing noxious gas is heated using the fuel gas and then treated with the wet scrubber 3. That is, pretreatment is performed by combustion with a small amount of fuel gas, and residual components remaining in the wet scrubber 3 in the subsequent stage are treated.
As a result, since there is a treatment with the wet scrubber 3 in the subsequent stage, it is not necessary to completely remove the harmful gas in the heat treatment in the combustion exhaust gas treatment device 2, and it is necessary to supply an excessive flow rate of the fuel gas. lost.
In particular, when H 2 is contained in the process exhaust gas, it can be used as the fuel gas. However, conventionally, the fuel gas has been designed so as to give a sufficient amount of heat without using the fuel gas. Wasted.
In the present embodiment, since the fuel gas alone does not give a sufficient amount of heat to remove harmful components of the process exhaust gas, H 2 contained in the process exhaust gas is sufficiently used as a substitute for the fuel gas during the heat treatment. Can be done and no waste.

また、湿式スクラバー３には、既に加熱処理された排ガスが導入されるので、直接排ガスを湿式スクラバー３に導入する場合と比較すると、有害ガスの含有量が少ないので、十分に目標とするガス濃度まで有害ガスを分解することができる。   Further, since the exhaust gas that has already been heat-treated is introduced into the wet scrubber 3, the content of harmful gas is small compared to the case where the exhaust gas is directly introduced into the wet scrubber 3. Can decompose harmful gases.

加えて、湿式スクラバー３に導入される有害ガスの含有量が少ないので、処理液量や廃液量を低減させることができ、排ガス処理のコストを抑えることもできる。更に、処理液量を減らすことができるので、従来と比較して湿式スクラバー３を小型化することもできる。   In addition, since the content of harmful gas introduced into the wet scrubber 3 is small, the amount of treatment liquid and the amount of waste liquid can be reduced, and the cost of exhaust gas treatment can be suppressed. Furthermore, since the amount of the treatment liquid can be reduced, the wet scrubber 3 can be downsized as compared with the prior art.

なお、一般的に、プロセス排ガス中にＨ２が含まれている場合には、プロセス排ガスが配管内で爆発する危険性がある。特に、プロセス排ガス中のＨ２含有量が４〜７５％の範囲にあるときは、爆発の危険性が高い。
従来の湿式スクラバーのみでプロセス排ガスを処理する場合には、湿式スクラバーを生産設備から離れた屋外エリアに設置するケースが多いので、生産設備から排ガス処理装置までの配管距離が長くなる。その長い排気配管にリーク等があり、外気が配管内部に混入すると、プロセス排ガス中にはＨ２が含まれているので、配管内での爆発の危険性が高まる。 In general, when the process exhaust gas contains H 2 , there is a risk that the process exhaust gas explodes in the pipe. In particular, when the H 2 content in the process exhaust gas is in the range of 4 to 75%, the risk of explosion is high.
When processing process exhaust gas with only a conventional wet scrubber, the wet scrubber is often installed in an outdoor area away from the production facility, so the piping distance from the production facility to the exhaust gas treatment device becomes long. If there is a leak in the long exhaust pipe and outside air is mixed into the pipe, the process exhaust gas contains H 2 , which increases the risk of explosion in the pipe.

これに対し、本実施形態では、Ｈ２ガスが４％以上含まれているプロセス排ガスが、燃焼式排ガス処理装置２に導入されると、プロセス排ガス中のＨ２は加熱酸化分解されるので、燃焼式排ガス処理装置２の出口２７での濃度は４％以下となる。特に、プロセス排ガス中のＨ２濃度が高く、７５％以上の場合であっても、加熱酸化分解されることで、燃焼式排ガス処理装置２の出口２７での濃度は４％以下となる。
したがって、燃焼式排ガス処理装置２の出口２７以降の配管内は、Ｈ２濃度が十分薄いため、Ｈ２に起因する爆発の危険性は少ない。 On the other hand, in the present embodiment, when process exhaust gas containing 4% or more of H 2 gas is introduced into the combustion exhaust gas treatment device 2, H 2 in the process exhaust gas is thermally oxidized and decomposed. The concentration at the outlet 27 of the combustion exhaust gas treatment device 2 is 4% or less. In particular, even when the H 2 concentration in the process exhaust gas is high and 75% or more, the concentration at the outlet 27 of the combustion exhaust gas treatment device 2 becomes 4% or less by being thermally oxidized and decomposed.
Therefore, in the piping after the outlet 27 of the combustion type exhaust gas treatment device 2, the H 2 concentration is sufficiently thin, and therefore there is little risk of explosion due to H 2 .

以上、本発明を実施形態に基づき説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、プロセス排ガスにＨ２を予め混入させた上で、燃焼式排ガス処理装置２に導入させて、点火用火炎Ａによって燃焼させても構わない。
また、複数のＭＯＣＶＤ装置等の半導体製造装置を用いる場合は、半導体製造装置毎に燃焼式排ガス処理装置を設けて、当該装置からのプロセス排ガスをそれぞれ加熱処理するようにし、その加熱処理されたプロセス排ガスを排気ダクトに集約させて１台の汎用の湿式スクラバーで処理するように設計してもよい。このように設計することでコストを抑制することができる。また、半導体製造装置台数に合わせて燃焼式排ガス処理装置や湿式スクラバーを自由に増やすことが可能になるので、量産工場に好適となる。 As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment, it cannot be overemphasized that this invention can be variously changed in the range which is not limited to the said embodiment and does not deviate from the summary. For example, the process exhaust gas may be mixed with H 2 in advance and then introduced into the combustion exhaust gas treatment device 2 and burned by the ignition flame A.
In addition, when using a semiconductor manufacturing apparatus such as a plurality of MOCVD apparatuses, a combustion type exhaust gas processing apparatus is provided for each semiconductor manufacturing apparatus so that the process exhaust gas from the apparatus is heated, and the heat-processed process is performed. You may design so that exhaust gas may be collected in an exhaust duct and processed with one general-purpose wet scrubber. Cost can be suppressed by designing in this way. Moreover, since it becomes possible to increase a combustion type exhaust gas processing apparatus and a wet scrubber freely according to the number of semiconductor manufacturing apparatuses, it becomes suitable for a mass production factory.

以下、実施例により、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記実施例に何ら制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in more detail, this invention is not restrict | limited to the following Example at all.

（実施例１）
実施例１では、上記した実施形態と同様な方法で、プロセス排ガスを燃焼式排ガス処理装置で加熱処理した後に、湿式スクラバーで処理した場合の、ＣＯ２排出量と、ランニングコストについてシミュレーションを行った。なお、点火用バーナに供給する燃料ガスとしては、Ｈ２を用いた。 Example 1
In Example 1, a simulation was performed with respect to the CO 2 emission amount and running cost when the process exhaust gas was heated with the combustion exhaust gas processing apparatus and then processed with a wet scrubber in the same manner as in the above embodiment. . Note that H 2 was used as the fuel gas supplied to the ignition burner.

（実施例２）
実施例２では、実施例１とほぼ同様の条件のもと、点火用バーナに供給する燃料ガスをＨ２の代わりにＬＮＧを用いた場合について、ＣＯ２排出量とランニングコストについてシミュレーションを行った。 (Example 2)
In Example 2, simulation was performed for CO 2 emission and running cost under the same conditions as in Example 1 when LNG was used instead of H 2 as the fuel gas supplied to the ignition burner. .

（実施例３）
実施例３では、プロセス排ガスに予めＨ２を混入させておき、そのＨ２を触媒（Ｐｄ）を介して着火させ、支燃性ガスを供給してプロセス排ガスを燃焼させて加熱処理を行い、その後、加熱処理されたプロセス排ガスを湿式スクラバーで処理した場合のＣＯ２排出量と、ランニングコストについてシミュレーションを行った。 (Example 3)
In Example 3, H 2 is mixed in the process exhaust gas in advance, the H 2 is ignited through the catalyst (Pd), the combustion exhaust gas is supplied to burn the process exhaust gas, and heat treatment is performed. Thereafter, a simulation was performed with respect to CO 2 emissions and running costs when the heat-treated process exhaust gas was treated with a wet scrubber.

（比較例１）
比較例１では、乾式吸着によって、プロセス排ガスを前処理した後に、一般的な燃焼式排ガス処理装置内で加熱処理した場合のＣＯ２排出量と、ランニングコストについてシミュレーションを行った。 (Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, simulation was performed on CO 2 emission amount and running cost when the process exhaust gas was pretreated by dry adsorption and then heat-treated in a general combustion exhaust gas treatment apparatus.

（比較例２）
比較例２では、乾式吸着によって、プロセス排ガスを前処理した後に、一般的な触媒酸化式の処理を行った場合のＣＯ２排出量と、ランニングコストについてシミュレーションを行った。 (Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, a simulation was performed on the CO 2 emission amount and running cost when a general catalytic oxidation type treatment was performed after pretreatment of the process exhaust gas by dry adsorption.

実施例および比較例の結果を表１に示す。なお、比較例１によって放出されたＣＯ２排出量、ランニングコストを基準として、各実施例、比較例の値を表１に示した。 The results of Examples and Comparative Examples are shown in Table 1. The values of each example and comparative example are shown in Table 1 on the basis of the CO 2 emission amount and the running cost released by Comparative Example 1.

Figure 2013063384
Figure 2013063384

表１から明らかなように、比較例１では、プロセス排ガス中に含まれるＨ２を燃料ガスの代替として考慮していないため、過剰に燃料ガスが消費されている。また、過剰に炭化水素系ガスを消費するため、ＣＯ２排出量も多い。更に、吸着剤の交換費用もかかるため、ランニングコストが高い。 As is clear from Table 1, in Comparative Example 1, H 2 contained in the process exhaust gas is not considered as an alternative to the fuel gas, so that the fuel gas is excessively consumed. Further, in order to consume the excess hydrocarbon gas, CO 2 emissions is large. Furthermore, since the replacement | exchange cost of adsorption agent also costs, a running cost is high.

また、比較例２では、電熱ヒーターにかかる消費電力が大きいことと、吸着剤や触媒剤の交換費用がかかることから、ランニングコストが高い。また、消費電力量が多いため、ＣＯ２排出量が大きくなっている。 In Comparative Example 2, the running cost is high because the power consumption of the electric heater is large and the replacement cost of the adsorbent and the catalyst agent is high. Further, since many power consumption, CO 2 emissions is large.

これに対し、実施例１，２では、いずれもプロセス排ガスに含まれているＨ２を燃料ガスとして利用しており、点火用火炎に供給される燃料ガスが無駄に消費されることがなく、ランニングコストを低減させることができる。
また、Ｈ２は炭素源を含まないので、プロセス排ガス処理に起因して発生するＣＯ２以外は、燃焼時にＣＯ２が発生しない。したがって、燃料としてＨ２を用いた場合、ＣＯ２の排出量が少ない。ＬＮＧを用いた場合（実施例２）であっても、燃料ガスが過剰に消費されることがないので、ＣＯ２排出量を抑制することができる。
更に、プロセス排ガスを燃焼式排ガス処理装置内において加熱処理した後に、湿式スクラバーに導入しているので、湿式スクラバーにおいて処理するＮＨ３量が減少しており、少ない処理液（薬液）を用いるだけでよいことから、ランニングコストは従来よりも低減する。 On the other hand, in Examples 1 and 2, H 2 contained in the process exhaust gas is used as the fuel gas, and the fuel gas supplied to the ignition flame is not wasted, Running cost can be reduced.
Further, since H 2 does not contain a carbon source, no CO 2 is generated during combustion except for CO 2 generated due to the process exhaust gas treatment. Therefore, when H 2 is used as the fuel, the amount of CO 2 emission is small. Even in the case of using LNG (Example 2), the fuel gas is not consumed excessively, so that CO 2 emission can be suppressed.
Furthermore, since the process exhaust gas is heated in the combustion exhaust gas treatment device and then introduced into the wet scrubber, the amount of NH 3 to be processed in the wet scrubber is reduced, and only a small treatment liquid (chemical solution) is used. For this reason, the running cost is lower than before.

また、実施例３では、炭化水素系燃料ガスを用いていないことから、ＣＯ２排出量は低減されている。もっとも、Ｈ２を多量に用いることから、実施例１、２と比較するとややランニングコストが高い。 In Example 3, since it does not use a hydrocarbon-based fuel gas, CO 2 emissions are reduced. However, since a large amount of H 2 is used, the running cost is slightly higher than in Examples 1 and 2.

１・・・排ガス処理装置、２・・・燃焼式排ガス処理装置、３・・・湿式スクラバー、４・・・半導体製造装置、５，２２，２３，２６，２８，４４，４６・・・配管、６・・・噴出口、７・・・燃焼部、８・・・冷却部、９・・・支燃性ガス供給管、１０・・・点火用バーナ、２１・・・供給孔、２４・・・冷却空気導入管、２５・・・冷却機構、２７・・・燃焼式排ガス処理装置の出口、４１・・・本体、４２・・・循環槽、４３・・・ノズル、４５・・・ポンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Exhaust gas processing apparatus, 2 ... Combustion type exhaust gas processing apparatus, 3 ... Wet scrubber, 4 ... Semiconductor manufacturing apparatus, 5, 22, 23, 26, 28, 44, 46 ... Piping , 6 ... jet port, 7 ... combustion part, 8 ... cooling part, 9 ... combustion-supporting gas supply pipe, 10 ... ignition burner, 21 ... supply hole, 24. ..Cooling air introduction pipe, 25 ... cooling mechanism, 27 ... exit of combustion exhaust gas treatment device, 41 ... main body, 42 ... circulation tank, 43 ... nozzle, 45 ... pump

Claims (4)

有害ガスを含有する排ガスを、燃料ガスを用いて加熱処理する工程と、
加熱処理された排ガスを湿式スクラバー内で処理液と反応させて処理する工程と、
を有することを特徴とする排ガス処理方法。 A process of heat-treating exhaust gas containing harmful gas using fuel gas;
A process of reacting the heat-treated exhaust gas with a treatment liquid in a wet scrubber;
An exhaust gas treatment method characterized by comprising: 前記排ガスにＨ２が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理方法。 The exhaust gas treatment method according to claim 1, wherein the exhaust gas contains H 2 . 前記加熱処理する工程が、前記燃料ガスを用いて形成される点火用火炎を用いて、前記排ガスを加熱処理する工程であり、
前記点火用火炎の熱量が、０．４ｋＷ以上６ｋＷ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の排ガス処理方法。 The step of heat-treating is a step of heat-treating the exhaust gas using an ignition flame formed using the fuel gas;
3. The exhaust gas treatment method according to claim 1, wherein the ignition flame has a heat quantity of 0.4 kW to 6 kW. 有害ガスを含有する排ガスを加熱処理可能に構成された燃焼式排ガス処理装置と、
前記燃焼式排ガス処理装置によって加熱処理された排ガスを導入可能な湿式スクラバーと、
を備えることを特徴とする排ガス処理装置。 A combustion exhaust gas treatment device configured to be capable of heat treatment of exhaust gas containing harmful gas,
A wet scrubber capable of introducing the exhaust gas heated by the combustion-type exhaust gas treatment device;
An exhaust gas treatment apparatus comprising:
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