JP2013062310A - Resist coating device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、レジスト塗布装置に関する。 The present invention relates to a resist coating apparatus.
この発明に関連する背景技術としては、処理液供給源から処理液滴下ノズルまでの供給経路の途中に補助容器を設け、供給経路の処理液中に混入した気泡を補助容器内で処理液の液面に浮上させて除去するようにしたレジスト塗布装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。 As a background art related to the present invention, an auxiliary container is provided in the middle of a supply path from a processing liquid supply source to a nozzle below a processing droplet, and bubbles mixed in the processing liquid in the supply path are treated in the auxiliary liquid. There is known a resist coating apparatus that floats on a surface and is removed (see, for example, Patent Document 1).
従来のレジスト塗布装置では、処理液に混入した気泡を処理液に浮上させて除去しているが、粘度の高い処理液では気泡が液中に留まり液面に浮上しにくいので、気泡の除去が難しいという問題があった。この発明はこのような事情を考慮してなされたもので、粘度の高い処理液に混入した気泡であっても、それを効率よく除去し、欠陥のないレジスト膜を形成するレジスト塗布装置を提供するものである。 In the conventional resist coating apparatus, bubbles mixed in the processing liquid are lifted and removed in the processing liquid. However, in the processing liquid having a high viscosity, the bubbles remain in the liquid and hardly rise to the liquid surface. There was a problem that it was difficult. The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a resist coating apparatus that efficiently removes even bubbles mixed in a high-viscosity processing liquid and forms a resist film having no defects. To do.
この発明は、被処理体に処理液を滴下するノズルと、前記処理液の供給源と、前記ノズルと供給源との間に設けられ前記供給源からの処理液を一旦貯留した後に前記ノズルに供給する中継容器と、中継容器を制御する制御部とを備え、前記中継容器は有底のシリンダーと、前記シリンダー内に摺動自在に設けられたピストンと、前記ピストンの駆動源と、前記シリンダーに設けた気泡排出口と、前記ピストンの位置Ｐを検出するセンサとを備え、前記中継容器は前記シリンダーとピストンとが区画する貯留空間に前記処理液が貯留されるように貯留処理液の体積に応じてピストンが移動するように構成され、前記制御部は、前記供給源から中継容器へ体積Ｖｓの処理液が吐出されたとき、前記位置Ｐに基づいて前記貯留空間の容積Ｖｐを算出し、Ｖｐ＞Ｖｓであるとシリンダー内の処理液が気泡を含むと判断し、前記駆動源により前記ピストンを駆動して気泡を含む処理液を前記気泡排出口から排出させることを特徴とするレジスト塗布装置を提供するものである。 The present invention provides a nozzle for dripping a treatment liquid onto an object to be treated, a supply source for the treatment liquid, a treatment liquid from the supply source provided between the nozzle and the supply source, and then temporarily stored in the nozzle. A relay container to be supplied; and a controller for controlling the relay container, the relay container having a bottomed cylinder, a piston slidably provided in the cylinder, a drive source of the piston, and the cylinder And a sensor for detecting the position P of the piston. The relay container has a volume of the stored processing liquid so that the processing liquid is stored in a storage space defined by the cylinder and the piston. The control unit calculates the volume Vp of the storage space based on the position P when the volume Vs of processing liquid is discharged from the supply source to the relay container. Vp> Vs, it is determined that the processing liquid in the cylinder contains bubbles, and the piston is driven by the driving source to discharge the processing liquid containing bubbles from the bubble discharge port. A device is provided.
制御部はＶｐ＞Ｖｓであると、処理液が気泡を含むと判断し、気泡を含む処理液を中継容器から強制的に排出させるので、処理液表面に浮上しない気泡が効率よく除去され、欠陥のないレジスト膜を形成することができる。 If Vp> Vs, the control unit determines that the processing liquid contains bubbles, and forcibly discharges the processing liquid containing bubbles from the relay container. Therefore, bubbles that do not float on the surface of the processing liquid are efficiently removed, and defects are generated. It is possible to form a resist film without any other material.
この発明のレジスト塗布装置は、被処理体に処理液を滴下するノズルと、前記処理液の供給源と、前記ノズルと供給源との間に設けられ前記供給源からの処理液を一旦貯留した後に前記ノズルに供給する中継容器と、中継容器を制御する制御部とを備え、前記中継容器は有底のシリンダーと、前記シリンダー内に摺動自在に設けられたピストンと、前記ピストンの駆動源と、前記シリンダーに設けた気泡排出口と、前記ピストンの位置Ｐを検出するセンサとを備え、前記中継容器は前記シリンダーとピストンとが区画する貯留空間に前記処理液が貯留されるように貯留処理液の体積に応じてピストンが移動するように構成され、前記制御部は、前記供給源から中継容器へ体積Ｖｓの処理液が吐出されたとき、前記位置Ｐに基づいて前記貯留空間の容積Ｖｐを算出し、Ｖｐ＞Ｖｓであるとシリンダー内の処理液が気泡を含むと判断し、前記駆動源により前記ピストンを駆動して気泡を含む処理液を前記気泡排出口から排出させることを特徴とする。 The resist coating apparatus according to the present invention is provided between the nozzle for dropping the processing liquid onto the object to be processed, the supply source of the processing liquid, and the nozzle and the supply source, and temporarily stores the processing liquid from the supply source. A relay container to be supplied to the nozzle later, and a controller for controlling the relay container, the relay container having a bottomed cylinder, a piston slidably provided in the cylinder, and a drive source of the piston And a bubble discharge port provided in the cylinder and a sensor for detecting the position P of the piston, and the relay container stores the processing liquid in a storage space defined by the cylinder and the piston. The piston is configured to move in accordance with the volume of the processing liquid, and the control unit is configured to store the storage space based on the position P when the volume of the processing liquid is discharged from the supply source to the relay container. The volume Vp is calculated, and if Vp> Vs, it is determined that the processing liquid in the cylinder contains bubbles, and the piston is driven by the driving source to discharge the processing liquid containing bubbles from the bubble discharge port. It is characterized by.
前記供給源は、処理液を収容する処理液容器と、処理液容器から中継容器へ処理液を吐出する定量ポンプを備えてもよい。
前記中継容器は、シリンダーの底に前記供給源から処理液を受入れる受給孔と、前記ノズルへ処理液を排出する排出孔とを備え、前記気泡排出口はシリンダーの側壁に設けられてもよい。
The supply source may include a processing liquid container that stores the processing liquid and a metering pump that discharges the processing liquid from the processing liquid container to the relay container.
The relay container may include a receiving hole for receiving a processing liquid from the supply source at a bottom of the cylinder and a discharging hole for discharging the processing liquid to the nozzle, and the bubble discharge port may be provided on a side wall of the cylinder.
前記ピストン駆動源は、前記ピストンを前記シリンダーの底の方向に向かって押圧するための駆動アームと、前記駆動アームを前記シリンダーの底の方向に向かって移動させる駆動源からなってもよい。 The piston drive source may comprise a drive arm for pressing the piston toward the bottom of the cylinder and a drive source for moving the drive arm toward the bottom of the cylinder.
前記センサはポテンショメータ又はリニアエンコーダからなってもよい。
中継容器は供給源から吐出される処理液の圧力により前記ピストンが移動して処理液が前記シリンダー内に貯留され、前記駆動源により前記ピストンが移動して処理液が前記シリンダーから前記ノズルへ吐出されてもよい。
The sensor may comprise a potentiometer or a linear encoder.
In the relay container, the piston is moved by the pressure of the processing liquid discharged from the supply source and the processing liquid is stored in the cylinder, and the piston is moved by the driving source and the processing liquid is discharged from the cylinder to the nozzle. May be.
以下、図面に示す実施形態を用いてこの発明を詳述する。
図１は、この発明のレジスト塗布装置を示す構成説明図である。
同図に示すように、塗布処理室１１は、被処理体であるウエハ８を吸着するスピンチャック１４と、スピンチャック１４を回転するスピンチャック駆動モータ１３と、スピンチャック１４の周りを覆う処理カップ１５とを備える。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a resist coating apparatus according to the present invention.
As shown in the figure, the coating processing chamber 11 includes a spin chuck 14 that adsorbs a wafer 8 that is an object to be processed, a spin chuck drive motor 13 that rotates the spin chuck 14, and a processing cup that covers the periphery of the spin chuck 14. 15.
処理カップ１５は処理液が外部へ飛散することを防止する。また、処理カップ１５は下部に排液口１７と排気口１８を備える。ウエハ８の上方には処理液つまりレジストをウエハ８に滴下する滴下ノズル１６が設けられている。 The processing cup 15 prevents the processing liquid from splashing outside. Further, the processing cup 15 includes a drainage port 17 and an exhaust port 18 at the lower part. A dropping nozzle 16 is provided above the wafer 8 to drop a processing liquid, that is, a resist onto the wafer 8.
一方、処理液供給源７は、処理液を収容する処理液容器２０と、処理液を処理液容器２０から吸引して吐出する定量ポンプ４とを備える。
また、滴下ノズル１６と処理液供給源７との間には、中継容器１０が設けられている。
On the other hand, the processing liquid supply source 7 includes a processing liquid container 20 that stores the processing liquid and a metering pump 4 that sucks and discharges the processing liquid from the processing liquid container 20.
A relay container 10 is provided between the dropping nozzle 16 and the processing liquid supply source 7.
中継容器１０は、下方に底を有し上方に開口を有するシリンダー９と、シリンダー９内に摺動自在に設けられたピストン９ａと、ピストン駆動部５と、ピストン位置検出センサ６とを備える。 The relay container 10 includes a cylinder 9 having a bottom at the bottom and an opening at the top, a piston 9 a slidably provided in the cylinder 9, a piston driving unit 5, and a piston position detection sensor 6.
シリンダー９は側壁に気泡排出孔９ｄを有し、気泡排出孔９ｄには気泡排出弁３を有する気泡排出管２３が設けられている。
また、シリンダー９の底には処理液受給孔９ｂと処理液排出孔９ｃが設けられている。
The cylinder 9 has a bubble discharge hole 9d on a side wall, and a bubble discharge pipe 23 having a bubble discharge valve 3 is provided in the bubble discharge hole 9d.
A treatment liquid receiving hole 9b and a treatment liquid discharge hole 9c are provided at the bottom of the cylinder 9.
ピストン駆動部５では、ピストン駆動モータ５ｅにより駆動される駆動ローラ５ａと、従動ローラ５ｂとの間に設けられたタイミングベルト５ｃにピストン９ａを駆動する駆動アーム５ｄの一端が固定されている。 In the piston drive unit 5, one end of a drive arm 5d for driving the piston 9a is fixed to a timing belt 5c provided between a drive roller 5a driven by a piston drive motor 5e and a driven roller 5b.
駆動アーム５ｄの他端はピストン９ａに接触可能であるが、結合されていない。つまり、駆動アーム５ｄはピストン９ａをシリンダー９の底の方向のみに移動させることができるように構成されている。ピストン駆動モータ５ｅには、ステッピングモータやエンコーダ付きサーボモータなどが用いられる。 The other end of the drive arm 5d can contact the piston 9a, but is not coupled. That is, the drive arm 5d is configured to move the piston 9a only in the direction of the bottom of the cylinder 9. As the piston drive motor 5e, a stepping motor, a servo motor with an encoder, or the like is used.
ピストン位置検出センサ６は、ポテンショメータ又はリニアエンコーダ等から構成され、センサ６をピストン９ａに結合するセンサ作動アーム６ａとを備え、ピストン９ａがシリンダー９内を摺動するときにその位置Ｐを検出するようになっている。 The piston position detection sensor 6 includes a potentiometer, a linear encoder, or the like, and includes a sensor operating arm 6a that couples the sensor 6 to the piston 9a, and detects the position P when the piston 9a slides in the cylinder 9. It is like that.
そして、処理液容器２０とシリンダー９の処理液受給孔９ｂとは、処理液供給管２１で接続され、その途中には定量ポンプ４と、処理液中の固形物を除去するフィルタ１９と、処理液供給弁１とが設けられている。 The processing liquid container 20 and the processing liquid receiving hole 9b of the cylinder 9 are connected by a processing liquid supply pipe 21, and in the middle thereof, a metering pump 4, a filter 19 for removing solids in the processing liquid, and a processing A liquid supply valve 1 is provided.
また、シリンダー９の処理液排出孔９ｃと滴下ノズル１６とは、処理液排出管２２で接続され、その途中に処理液排出弁２が設けられている。なお、処理液供給弁１、処理液排出弁２および気泡排出弁３は、いずれも電磁弁である。 Further, the treatment liquid discharge hole 9c of the cylinder 9 and the dropping nozzle 16 are connected by a treatment liquid discharge pipe 22, and the treatment liquid discharge valve 2 is provided in the middle thereof. The processing liquid supply valve 1, the processing liquid discharge valve 2, and the bubble discharge valve 3 are all electromagnetic valves.
図２は図１に示すレジスト塗布装置の制御系を示すブロック図である。同図に示すように、制御部４０はピストン位置検出センサ６からの信号を受けると共に、処理液供給弁１、処理液排出弁２、気泡排出弁３、警報器３０、ピストン駆動モータ５ｅ、定量ポンプ４およびスピンチャック駆動モータ１３を制御するようになっている。 FIG. 2 is a block diagram showing a control system of the resist coating apparatus shown in FIG. As shown in the figure, the control unit 40 receives a signal from the piston position detection sensor 6, and at the same time, the processing liquid supply valve 1, the processing liquid discharge valve 2, the bubble discharge valve 3, the alarm device 30, the piston drive motor 5e, the fixed amount. The pump 4 and the spin chuck drive motor 13 are controlled.
ここで、警報器３０は中継容器１０の気泡除去処理が困難なときに使用者に警告を発するものであり、液晶表示装置やスピーカやブザーなどで構成される。また、制御部４０は、ＣＰＵ，ＲＯＭ，ＲＡＭからなるマイクロコンピュータと、ポンプやモータや電磁弁などを駆動するドライバー回路などを内蔵する。 Here, the alarm device 30 issues a warning to the user when the bubble removal processing of the relay container 10 is difficult, and includes a liquid crystal display device, a speaker, a buzzer, and the like. The control unit 40 incorporates a microcomputer composed of a CPU, a ROM, and a RAM, a driver circuit that drives a pump, a motor, an electromagnetic valve, and the like.
このような構成における動作を図３に示すフローチャートを用いて説明する。
同図に示すように、ステップＳ０において次のように初期化が行われる。まず、処理液排出弁２を開いてピストン駆動部５によってピストン９ａを下降させ、ピストン９ａをシリンダー９の底に接触させる。処理液排出弁２を閉じると共に、処理液供給弁１を開いて定量ポンプ４を駆動して若干量の処理液を吐出させ、シリンダー９に供給する。
The operation in such a configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
As shown in the figure, initialization is performed as follows in step S0. First, the treatment liquid discharge valve 2 is opened and the piston 9 a is lowered by the piston drive unit 5, and the piston 9 a is brought into contact with the bottom of the cylinder 9. The processing liquid discharge valve 2 is closed and the processing liquid supply valve 1 is opened to drive the metering pump 4 to discharge a slight amount of processing liquid and supply it to the cylinder 9.
それによってピストン９ａが若干上昇する。処理液供給弁１を閉じて処理液排出弁２を開き、ピストン９ａをピストン駆動部５によってシリンダー９の底まで下降させて滴下ノズル１６から処理液を滴下させた後、処理液排出弁２を閉じ、駆動アーム５ｄを最も高い位置（ホームポジション）まで上昇させる。 As a result, the piston 9a slightly rises. After the processing liquid supply valve 1 is closed and the processing liquid discharge valve 2 is opened, the piston 9a is lowered to the bottom of the cylinder 9 by the piston drive unit 5 to drop the processing liquid from the dropping nozzle 16, and then the processing liquid discharge valve 2 is opened. Close and raise the drive arm 5d to the highest position (home position).
これによって、処理液供給管２１と処理液排出管２３とが処理液で満たされ、シリンダー９には処理液が存在せずピストン９ａがシリンダー９の底に接している状態になる。ここでは、この状態にすることを「初期化」という。 As a result, the processing liquid supply pipe 21 and the processing liquid discharge pipe 23 are filled with the processing liquid, and there is no processing liquid in the cylinder 9 and the piston 9 a is in contact with the bottom of the cylinder 9. Here, this state is called “initialization”.
ステップＳ０において、初期化が行われると、処理液供給弁１が開かれ定量ポンプ４が駆動され（ステップＳ１）、定量ポンプ４の吐出量Ｖｐが所定体積Ｖｓに達すると（ステップＳ２）、定量ポンプ４が停止されると共に、処理液供給弁１が閉じられる（ステップＳ３）。この時、シリンダー９では処理液の供給をうけてピストン９ａが上昇している。 When initialization is performed in step S0, the processing liquid supply valve 1 is opened and the metering pump 4 is driven (step S1). When the discharge amount Vp of the metering pump 4 reaches a predetermined volume Vs (step S2), the metering is performed. The pump 4 is stopped and the processing liquid supply valve 1 is closed (step S3). At this time, in the cylinder 9, the piston 9a is raised by the supply of the processing liquid.
次に、ピストン位置検出センサ６によりピストン９ａの位置Ｐが検出され、位置Ｐに対応する中継容器１０、つまりシリンダー９内の処理液貯留体積Ｖｃが算出される（ステップＳ４）。そして、ＶｃとＶｓとが比較され（ステップＳ５）、Ｖｃ≦Ｖｓであれば、シリンダー９内に貯留された処理液の体積Ｖｃが定量ポンプ４から吐出された処理液の体積Ｖｓ以下であるので、シリンダー９内の処理液には気泡が存在しないと判断される。 Next, the position P of the piston 9a is detected by the piston position detection sensor 6, and the processing liquid storage volume Vc in the relay container 10, that is, the cylinder 9 corresponding to the position P is calculated (step S4). Then, Vc and Vs are compared (step S5), and if Vc ≦ Vs, the volume Vc of the processing liquid stored in the cylinder 9 is less than or equal to the volume Vs of the processing liquid discharged from the metering pump 4. It is determined that no bubbles exist in the processing liquid in the cylinder 9.
そこで、ウエハ８がスピンチャック１４に搭載され（ステップＳ６）、処理液排出弁２が開かれ、ピストン駆動部５によってピストン９ａが下降し、滴下ノズル１６から処理液が滴下する（ステップＳ７〜Ｓ９）。 Therefore, the wafer 8 is mounted on the spin chuck 14 (step S6), the processing liquid discharge valve 2 is opened, the piston 9a is lowered by the piston drive unit 5, and the processing liquid is dropped from the dropping nozzle 16 (steps S7 to S9). ).
同時にスピンチャック１４が回転し、処理液（レジスト）がウエハ８に塗布される（ステップＳ１１）。処理液の滴下量Ｖｄが一枚のウエハの塗布に必要な所定量Ｖｍに達すると（ステップＳ１２）、処理液排出弁２が閉じられ、ピストン９ａの下降が停止し、スピンチャック１４の回転が停止してウエハ８が搬出される（ステップＳ１３〜Ｓ１６）。 At the same time, the spin chuck 14 rotates to apply the processing liquid (resist) to the wafer 8 (step S11). When the dripping amount Vd of the processing liquid reaches a predetermined amount Vm necessary for coating one wafer (step S12), the processing liquid discharge valve 2 is closed, the piston 9a stops descending, and the spin chuck 14 rotates. Stop and the wafer 8 is unloaded (steps S13 to S16).
ステップＳ１７において、シリンダー９内に残留する処理液の体積Ｖｃがピストン位置検出センサ６によって検出され、Ｖｃが前記所定量Ｖｍ以上であると、ルーチンはステップＳ６へ戻り、次のウエハ８への処理液の塗布工程が行われる。 In step S17, the volume Vc of the processing liquid remaining in the cylinder 9 is detected by the piston position detection sensor 6, and when Vc is equal to or greater than the predetermined amount Vm, the routine returns to step S6 and processing for the next wafer 8 is performed. A liquid coating process is performed.
ステップＳ１７において、Ｖｃ＜Ｖｍ、つまりシリンダー９に残留する処理液の体積が一枚のウエハに必要な塗布量を下回るときには、ルーチンはステップＳ０に戻り、初期化が行われる。 In step S17, when Vc <Vm, that is, when the volume of the processing liquid remaining in the cylinder 9 is less than the coating amount required for one wafer, the routine returns to step S0 and initialization is performed.
一方、ステップＳ５においてＶｃ＞Ｖｓであれば、シリンダー９内に貯留された処理液の体積Ｖｃが定量ポンプの吐出量Ｖｓより大きいので、シリンダー９内の処理液に気泡が混入していると判断される（ステップＳ１８）。そこで、気泡排出弁３が開かれ、ピストン駆動部５によってピストン９ａを下降させ、ピストン位置検出センサ６によって検出されるシリンダー９内の貯留処理液体積ＶｃをＶ1まで低下させ、気泡を含む処理液を気泡排出管から排出させる（ステップＳ１９、Ｓ２０）。 On the other hand, if Vc> Vs in step S5, since the volume Vc of the processing liquid stored in the cylinder 9 is larger than the discharge amount Vs of the metering pump, it is determined that bubbles are mixed in the processing liquid in the cylinder 9. (Step S18). Therefore, the bubble discharge valve 3 is opened, the piston 9a is lowered by the piston driving section 5 decreases the stored process liquid volume Vc of the cylinder 9 that is detected by the piston position detecting sensor 6 to V 1, the process comprising the gas bubbles The liquid is discharged from the bubble discharge pipe (steps S19 and S20).
それによって、気泡が排出されると（ステップＳ２１）、ピストン９ａの下降を停止させ気泡排出弁３を閉じる（ステップＳ２２）。そして、処理液供給弁１を開き、駆動アーム５ｄをホームポジションに戻し、定量ポンプ４を駆動し（ステップＳ２３）、定量ポンプ４の吐出量ＶｐがＶｐ＝Ｖｓ−Ｖ1に達すると（ステップＳ２４）、処理液供給弁１を閉じると共に定量ポンプ４を停止する（ステップＳ２５）。 Accordingly, when the bubbles are discharged (step S21), the lowering of the piston 9a is stopped and the bubble discharge valve 3 is closed (step S22). Then, open the process liquid supply valve 1, return the driving arm 5d to the home position, to drive the metering pump 4 (step S23), the discharge amount Vp of metering pumps 4 and reaches Vp = Vs-V 1 (step S24 ) Closes the processing liquid supply valve 1 and stops the metering pump 4 (step S25).
ピストン位置検出センサ６の出力からシリンダー９内の処理液の貯留体積Ｖｃを算出し（ステップＳ２６）、ＶｃとＶｓが比較される（ステップＳ２７）。Ｖｃ≦Ｖｓであれば気泡は混入していないと判断され、ルーチンはステップＳ６へ戻り、ウエハ８への処理液塗布工程が実施される。 The storage volume Vc of the processing liquid in the cylinder 9 is calculated from the output of the piston position detection sensor 6 (step S26), and Vc and Vs are compared (step S27). If Vc ≦ Vs, it is determined that bubbles are not mixed, the routine returns to step S6, and the process liquid coating step on the wafer 8 is performed.
Ｖｃ＞Ｖｓであれば、シリンダー９内の処理液に気泡が混入していると判断され（ステップＳ２８）、今までに気泡混入と判断された回数ｎがｎｓ（例えば３回）と比較される（ステップＳ２９）。 If Vc> Vs, it is determined that bubbles are mixed in the processing liquid in the cylinder 9 (step S28), and the number of times n determined to be bubble mixing so far is compared with ns (for example, three times). (Step S29).
ｎ≦ｎｓであれば、ルーチンはステップＳ１９へ戻り、気泡排出工程が実行される。しかし、ｎ＞ｎｓであると、装置の保守・点検が必要であると判断し、全ての動作を停止して警報器３０（図２）から警報を発する。
このようにして、この発明のレジスト塗布装置は、気泡の混入しない処理液（レジスト）を被処理体（ウエハ）に滴下して欠陥のないレジスト膜を効率よく形成することができる。
If n ≦ ns, the routine returns to step S19, and the bubble discharging step is executed. However, if n> ns, it is determined that maintenance / inspection of the apparatus is necessary, all operations are stopped, and an alarm is issued from the alarm device 30 (FIG. 2).
In this manner, the resist coating apparatus of the present invention can efficiently form a resist film having no defects by dropping a processing liquid (resist) in which bubbles are not mixed onto a target object (wafer).
１ 処理液供給弁
２ 処理液排出弁
３ 気泡排出弁
４ 定量ポンプ
５ ピストン駆動部
５ａ 駆動ローラ
５ｂ 従動ローラ
５ｃ タイミングベルト
５ｅ ピストン駆動モータ
５ｄ 駆動アーム
６ ピストン位置検出センサ
６ａ センサ作動アーム
７ 処理液供給源
８ ウエハ
９ シリンダー
９ａ ピストン
９ｂ 処理液受給孔
９ｃ 処理液排出孔
９ｄ 気泡排出孔
１０ 中継容器
１１ 塗布処理室
１３ スピンチャック駆動モータ
１４ スピンチャック
１５ 処理カップ
１６ 滴下ノズル
１７ 排液口
１８ 排気口
１９ フィルタ
２０ 処理液容器
２１ 処理液供給管
２２ 処理液排出管
２３ 気泡排出管
３０ 警報器
４０ 制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Process liquid supply valve 2 Process liquid discharge valve 3 Bubble discharge valve 4 Metering pump 5 Piston drive part 5a Drive roller 5b Driven roller 5c Timing belt 5e Piston drive motor 5d Drive arm 6 Piston position detection sensor 6a Sensor operation arm 7 Process liquid supply Source 8 Wafer 9 Cylinder 9a Piston 9b Processing liquid receiving hole 9c Processing liquid discharging hole 9d Bubble discharging hole 10 Relay container 11 Application processing chamber 13 Spin chuck drive motor 14 Spin chuck 15 Processing cup 16 Dropping nozzle 17 Draining port 18 Exhaust port 19 Filter 20 Treatment liquid container 21 Treatment liquid supply pipe 22 Treatment liquid discharge pipe 23 Bubble discharge pipe 30 Alarm device 40 Control unit
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20141202 |