JP2013045993A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
Semiconductor integrated circuit device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013045993A JP2013045993A JP2011184362A JP2011184362A JP2013045993A JP 2013045993 A JP2013045993 A JP 2013045993A JP 2011184362 A JP2011184362 A JP 2011184362A JP 2011184362 A JP2011184362 A JP 2011184362A JP 2013045993 A JP2013045993 A JP 2013045993A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- voltage
- overvoltage
- semiconductor integrated
- integrated circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
Description
本発明は、半導体集積回路装置、さらにはそれにおける電源端子に過電圧が印加された場合に、その事実を記録するための技術に関する。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a technique for recording the fact when an overvoltage is applied to a power supply terminal in the semiconductor integrated circuit device.
特許文献1には、半導体集積回路をサージ電圧などから保護する保護回路が記載されている。 Patent Document 1 describes a protection circuit that protects a semiconductor integrated circuit from a surge voltage or the like.
特許文献2には、過電圧が外部端子に印加された場合に、その外部端子に接続された回路の他に、他の外部端子に接続された回路をも保護することのできる過電圧保護回路が記載されている。 Patent Document 2 describes an overvoltage protection circuit capable of protecting not only a circuit connected to an external terminal but also a circuit connected to another external terminal when an overvoltage is applied to the external terminal. Has been.
半導体プロセスの微細化、省電力化に伴いLSI(半導体集積回路)の使用する電力は減少している。これにより、LSIで使用する電圧値も小さくなっている。使用する電圧値が小さくなると、LSIに入力される電圧値のマージンも少なくなり、LSIが正常に動作しない場合が発生し易くなる。 With the miniaturization and power saving of semiconductor processes, the power used by LSI (semiconductor integrated circuit) is decreasing. As a result, the voltage value used in the LSI is also reduced. When the voltage value to be used is reduced, the margin of the voltage value input to the LSI is also reduced, and the case where the LSI does not operate normally tends to occur.
LSIが正常に動作しない場合の原因について本願発明者が検討したところ、内部回路の論理的な不具合の他に、上記内部回路の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧(「過電圧」という)が、人為的なミス等によりLSIの電源端子に印加された場合にも生じていることが明らかにされた。つまり、LSIの電源端子に過電圧が印加されたことに起因して内部回路(内部論理)が破壊された場合には、LSIは正常に動作しない。 The inventors of the present invention have examined the cause of the case where the LSI does not operate normally. In addition to the logical malfunction of the internal circuit, a voltage exceeding the level assumed as the power supply voltage of the internal circuit (referred to as “overvoltage”) is present. It has also been clarified that this occurs even when applied to the power supply terminal of the LSI due to human error. That is, if an internal circuit (internal logic) is destroyed due to an overvoltage applied to the power supply terminal of the LSI, the LSI does not operate normally.
しかしながら、従来技術によれば、半導体集積回路をサージ電圧などから保護することはできても、過電圧がLSIの電源端子に印加された事実を記録することができないため、過電圧がLSIの電源端子に印加されたことを確認することが困難とされている。 However, according to the prior art, even though the semiconductor integrated circuit can be protected from a surge voltage or the like, the fact that the overvoltage is applied to the power supply terminal of the LSI cannot be recorded, so the overvoltage is applied to the power supply terminal of the LSI. It is difficult to confirm that it has been applied.
本発明の目的は、過電圧がLSIの電源端子に印加されたことを確認するための技術を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a technique for confirming that an overvoltage is applied to a power supply terminal of an LSI.
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。 The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。 The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.
すなわち、半導体集積回路装置は、内部回路と、上記内部回路に電源電圧を供給するための電源端子とを含む。このとき、上記内部回路の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が上記電源端子に印加された事実を記録するための過電圧印加情報記録回路が設けられる。 That is, the semiconductor integrated circuit device includes an internal circuit and a power supply terminal for supplying a power supply voltage to the internal circuit. At this time, an overvoltage application information recording circuit is provided for recording the fact that a voltage exceeding the level assumed as the power supply voltage of the internal circuit is applied to the power supply terminal.
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである。 The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
すなわち、過電圧がLSIの電源端子に印加されたことを確認することができる。 That is, it can be confirmed that an overvoltage is applied to the power supply terminal of the LSI.
1.実施の形態の概要
先ず、本願において開示される発明の代表的な実施の形態について概要を説明する。代表的な実施の形態についての概要説明で括弧を付して参照する図面中の参照符号はそれが付された構成要素の概念に含まれるものを例示するに過ぎない。
1. First, an outline of a typical embodiment of the invention disclosed in the present application will be described. Reference numerals in the drawings referred to in parentheses in the outline description of the representative embodiments merely exemplify what are included in the concept of the components to which the reference numerals are attached.
〔1〕本発明の代表的な実施の形態に係る半導体集積回路装置(10)は、内部回路(11)と、上記内部回路に電源電圧を供給するための電源端子(15,16)とを含む。このとき、上記内部回路の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が上記電源端子に印加された事実を記録するための過電圧印加情報記録回路(12)が設けられる。 [1] A semiconductor integrated circuit device (10) according to a typical embodiment of the present invention includes an internal circuit (11) and power supply terminals (15, 16) for supplying a power supply voltage to the internal circuit. Including. At this time, an overvoltage application information recording circuit (12) is provided for recording the fact that a voltage exceeding the level assumed as the power supply voltage of the internal circuit is applied to the power supply terminal.
上記の構成によれば、過電圧印加情報記録回路は、上記内部回路の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が上記電源端子に印加された事実を記録する。このため、過電圧印加情報記録回路の記録内容に基づいて、過電圧がLSIの電源端子に印加されたことを確認することができる。 According to said structure, an overvoltage application information recording circuit records the fact that the voltage exceeding the level assumed as a power supply voltage of the said internal circuit was applied to the said power supply terminal. Therefore, it can be confirmed that the overvoltage is applied to the power supply terminal of the LSI based on the recorded contents of the overvoltage application information recording circuit.
〔2〕上記〔1〕において、上記過電圧印加情報記録回路に記録された情報を外部出力可能な出力端子(17)を設けることができる。 [2] In the above [1], an output terminal (17) capable of outputting the information recorded in the overvoltage application information recording circuit to the outside can be provided.
〔3〕上記〔2〕において、上記過電圧印加情報記録回路は、上記内部回路の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が上記電源端子に印加された場合に導通可能な半導体素子(14)と、上記半導体素子が導通された場合に流れる電流によって溶断可能なヒューズ(13)とを互いに直列接続して構成することができる。 [3] In the above [2], the overvoltage application information recording circuit includes a semiconductor element (14) capable of conducting when a voltage exceeding a level assumed as a power supply voltage of the internal circuit is applied to the power supply terminal. A fuse (13) that can be blown by a current flowing when the semiconductor element is conducted can be connected in series.
〔4〕上記〔2〕において、上記過電圧印加情報記録回路は、上記内部回路の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が上記電源端子に印加された場合に、その事実を保持可能な不揮発性メモリ(18)を含んで構成することができる。 [4] In the above [2], the overvoltage application information recording circuit is a nonvolatile memory capable of retaining the fact when a voltage exceeding a level assumed as a power supply voltage of the internal circuit is applied to the power supply terminal. A memory (18) can be included.
2.実施の形態の詳細
実施の形態について更に詳述する。
2. Details of Embodiments Embodiments will be further described in detail.
《実施の形態1》
図1には、本発明にかかる半導体集積回路装置の構成例が示される。
Embodiment 1
FIG. 1 shows a configuration example of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
図1に示される半導体集積回路装置10は、LSI内部回路11、及び過電圧印加情報記録回路12を含む。LSI内部回路11は、公知の半導体集積回路製造技術により、単結晶シリコン基板などの一つの半導体基板に形成される。LSI内部回路11の動作用電源電圧は、グランドGNDを基準とする所定レベルの電圧であり、この電圧は、半導体集積回路装置10の外部から正極側の電源端子15,16を介して印加される。尚、図1においては、グランドGNDの電位を供給するための負極側の電源端子(グランド端子)は、省略されている。
A semiconductor
過電圧印加情報記録回路12は、LSI内部回路11の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧(過電圧)が上記電源端子15,16に印加された事実を記録するために設けられている。この過電圧印加情報記録回路12は、上記LSI内部回路11の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が上記電源端子15,16に印加された場合に導通可能な半導体素子14と、この半導体素子14が導通された場合に流れる電流によって溶断可能なヒューズ13と、が互いに直列接続されて成る。上記半導体素子14として、逆向きのダイオードを適用することができる。ダイオードは、基本的に逆方向には電流が流れないが、逆方向電圧が降伏電圧を上回ると、急激に電流が流れるようになる。本例において、LSI内部回路11の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が電源端子15,16に印加された場合に、ダイオードが導通状態になるようになっている。
The overvoltage application
上記の構成において、上記電源端子15,16とグランドGNDとの間に、LSI内部回路11の電源電圧として想定されるレベルの電圧が印加されている場合には、半導体素子(ダイオード)14の逆方向電流は流れない。しかし、上記電源端子15,16とグランドGNDとの間に、LSI内部回路11の電源電圧として想定されるレベル(ダイオードの降伏電圧)を越える電圧が印加された場合には、ダイオードが導通状態となり逆方向電流が流れることで、ヒューズ13が溶断される。ヒューズ13が溶断されているか否かは、回収された半導体集積回路装置10のパッケージを開封した後のプロービングによって判別することができる。もし、ヒューズ13が溶断されている場合には、それは、上記電源端子15,16とグランドGNDとの間に、LSI内部回路11の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が印加されたことを意味する。例えば半導体集積回路装置10が出荷後に、動作不良となって回収された場合には、客先において過電圧印加が行われたという事実が過電圧印加情報記録回路12に記録されているため、客先において過電圧印加が行われたことを確認できる。
In the above configuration, when a voltage of a level assumed as the power supply voltage of the LSI
図2には、本発明にかかる半導体集積回路装置の別の構成例が示される。 FIG. 2 shows another configuration example of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
図2に示される半導体集積回路装置10が、図1に示されるのと大きく相違するのは、ヒューズ13と、半導体素子(ダイオード)14との直列接続ノードから出力端子17が引き出されている点である。出力端子17は、半導体集積回路装置10の外部端子のひとつとされる。ヒューズ13が溶断されていない状態では、電源端子15,16に印加された電圧が、そのまま出力端子17に伝達されるので、それを観測することによって、ヒューズ13が溶断されていないことを確認できる。また、ヒューズ13が溶断されている状態では、電源端子15,16に印加された電圧が、出力端子17に伝達されないことから、それによって、ヒューズ13が溶断されていることを確認できる。
The semiconductor integrated
このように図2に示される構成では、半導体集積回路装置10のパッケージを開封することなく、ヒューズ13が溶断されているか否かを確認することができる。
As described above, in the configuration shown in FIG. 2, it is possible to confirm whether or not the
《実施の形態2》
図3には、本発明にかかる半導体集積回路装置の別の構成例が示される。
<< Embodiment 2 >>
FIG. 3 shows another configuration example of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
図3に示される半導体集積回路装置10は、過電圧印加情報記録回路12として、不揮発性メモリの一例とされるフラッシュROM(リードオンリーメモリ)18が適用されている。
In the semiconductor integrated
フラッシュROM18のメモリ素子は、MOSトランジスタの一種で、フローティングゲートを有する。フラッシュROM18のコントロール・ゲートに閾値Vth以上の高電圧がかかると、ソースからドレインに電流が流れるが、ドレイン近傍で高いエネルギーを得た電子はホットエレクトロンとなって、その一部が酸化膜を通してフローティング・ゲートへ伝達される。このようにしてフローティング・ゲートが帯電している場合は、コントロール・ゲートがゼロバイアスでは電流が流れないエンハンスメント型となり、帯電していない場合は、ゼロバイアスでも電流が流れるデプレッション型になる。このような性質を利用することで、フラッシュROM18を過電圧印加情報記録回路12として機能させることができる。すなわち、電源端子15,16に過電圧が印加された場合にフラッシュROM18のコントロール・ゲートに閾値Vth以上の高電圧がかかったことになり、ドレイン近傍で高いエネルギーを得た電子がホットエレクトロンとなって、その一部が酸化膜を通してフローティング・ゲートへ伝達される。これにより、過電圧印加情報の記録が行われる。フローティング・ゲートが帯電している場合は、コントロール・ゲートがゼロバイアスでは電流が流れないエンハンスメント型となるため、読出しのために所定電圧を印加する必要がある。この所定電圧の値は、電源端子15,16に印加された過電圧と等しくなる。このため、フラッシュROM18からの情報読出しのために印加される電圧の値によって、電源端子15,16に印加された過電圧のレベルを把握することができる。
The memory element of the
尚、フラッシュROM18が持つ耐圧以上の電圧が入力されて、フラッシュROM18自身が壊れてしまったとしても、半導体集積回路装置10のパッケージを開封して、フラッシュROM18に過電圧が印加されたことを確認できる。
Even if a voltage exceeding the withstand voltage of the
図4には、本発明にかかる半導体集積回路装置の別の構成例が示される。 FIG. 4 shows another configuration example of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
図4に示される半導体集積回路装置10が、図3に示されるのと大きく相違するのは、過電圧印加情報記録回路12において、フラッシュROM18の前段に、抵抗R1,R2の分圧回路、電圧値測定部19、電圧値閾値判定部20が配置されている点である。電源端子15,16に印加された電圧は、抵抗R1,R2の分圧回路によって分圧されてから電圧値測定部19に伝達される。電圧値測定部19は、抵抗R1,R2の直列接続ノードの電圧に基づいて、電源端子15,16に印加された電圧を測定する。電圧値閾値判定部20は、電圧値測定部19の出力電圧と所定の閾値とを比較することによって電圧判定を行う。電圧値測定部19の出力電圧が所定の閾値を越えた場合には、電圧オーバーフラグ(例えば論理値‘1’)やその時の電圧値、またはその両方がフラッシュROM18に書き込まれる。フラッシュROM18内のオーバーフラグや電圧値は、出力端子17を介して読み出すことができる。このように構成しても、過電圧印加情報の記録が可能になる。また、電源端子15,16に印加された電圧は、抵抗R1,R2の分圧回路によって分圧されてから電圧値測定部19に伝達されるようになっているため、電源端子15,16に印加された過電圧によって、電圧値測定部19が破壊されるのが防止される。
The semiconductor integrated
尚、過電圧印加情報記録回路12は、LSI内部回路11とは別の電源電圧で動作させることができる。
The overvoltage application
図5には、本発明にかかる半導体集積回路装置の別の構成例が示される。 FIG. 5 shows another configuration example of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
図5に示される半導体集積回路装置10が、図4に示されるのと大きく相違するのは、過電圧印加情報記録回路12において、抵抗R1,R2の分圧回路に代えて、演算増幅器12による非反転増幅回路が設けられ、この非反転増幅回路によって過電圧のレベルが降下されてから電圧値測定部19に伝達されるようになっている点である。演算増幅器12の反転入力端子とグランドGNDとの間には抵抗R3が設けられ、演算増幅器12の反転入力端子と出力端子との間には抵抗R4が設けられる。そして演算増幅器12の非反転入力端子に、電源端子15,16に印加された電圧が伝達されるようになっている。演算増幅器12による非反転増幅回路が設けられているため、電源端子15,16に印加された過電圧によって、電圧値測定部19が破壊されるのが防止される。
The semiconductor integrated
尚、図4に示される場合と同様に、過電圧印加情報記録回路12は、LSI内部回路11とは別の電源電圧で動作させることができる。
As in the case shown in FIG. 4, the overvoltage application
図6には、本発明にかかる半導体集積回路装置の別の構成例が示される。 FIG. 6 shows another configuration example of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
図6に示される半導体集積回路装置10は、図2に示される構成と、図4に示される構成とを組み合わせたものである。すなわち、ヒューズ13と半導体素子14との直列接続ノードに、抵抗R5,R6の分圧回路を設け、この分圧回路の出力が、電圧値閾値判定部20に入力されるようになっている。電圧値閾値判定部20では、抵抗R5,R6の分圧回路の出力電圧を判定することにより、ヒューズが溶断されたことを認知する。抵抗R5,R6によって分圧した電圧を入力することにより、電圧値閾値判定部20が過電圧によって破壊されるのが防止される。このヒューズが溶断した時の電圧値を測定部19の出力値より判定し、ヒューズ溶断時の電圧や電圧オーバーフラグ、またはその両方をフラッシュROMに書き込む。フラッシュROM18から出力端子17Aが引き出され、電圧オーバーフラグやヒューズ溶断時の電圧を確認することができる。また、ヒューズ13と半導体素子14との直列接続ノードから出力端子17Bが引き出され、電源端子15,16に印加された電圧が、出力端子17に伝達されないことから、それによって、ヒューズ13が溶断されていることを確認できる。
The semiconductor integrated
尚、図4や図5に示される場合と同様に、過電圧印加情報記録回路12は、LSI内部回路11とは別の電源電圧で動作させることができる。
Similar to the case shown in FIGS. 4 and 5, the overvoltage application
《実施の形態3》
図7に示されるように、電源端子15,16を介して入力されたサージ電圧などからLSI内部回路11を保護するための保護回路25を半導体集積回路装置10内に設ける場合には、図8や図9に示されるように、上記保護回路25内に過電圧印加情報記録回路12を内蔵することができる。
<<
As shown in FIG. 7, when a
例えば図8に示される保護回路25には、保護回路本体22の他に過電圧印加情報記録回路12が設けられる。保護回路本体22には、ツェナーダイオードや、バリスタが適用される。過電圧印加情報記録回路12は、図3に示される場合と同様にフラッシュROM18によって形成される。図8の27は、フラッシュROM18の出力端子である。また、図9に示される保護回路25には、保護回路本体22の他に過電圧印加情報記録回路12が設けられ、この過電圧印加情報記録回路12は、図2に示される場合と同様に、ヒューズ13と、半導体素子(ダイオード)14との直列接続ノードから出力端子27が引き出されて成る。
For example, the overvoltage application
以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited thereto and can be variously modified without departing from the gist thereof.
例えば正極側の電源端子は、1個の場合や、3個以上の場合もあり得る。 For example, the number of power supply terminals on the positive electrode side may be one or three or more.
10 半導体集積回路装置
11 LSI内部回路
12 過電圧印加情報記録回路
13 ヒューズ
14 半導体素子
15,16 電源端子
17 出力端子
18 フラッシュROM
19 電圧値測定部
20 電圧値閾値判定部
DESCRIPTION OF
19 Voltage
Claims (4)
上記内部回路の電源電圧として想定されるレベルを越える電圧が上記電源端子に印加された事実を記録するための過電圧印加情報記録回路を含むことを特徴とする半導体集積回路装置。 A semiconductor integrated circuit device including an internal circuit and a power supply terminal for supplying a power supply voltage to the internal circuit,
A semiconductor integrated circuit device comprising an overvoltage application information recording circuit for recording a fact that a voltage exceeding a level assumed as a power supply voltage of the internal circuit is applied to the power supply terminal.
上記半導体素子が導通された場合に流れる電流によって溶断可能なヒューズと、が互いに直列接続されて成る請求項2記載の半導体集積回路装置。 The overvoltage application information recording circuit includes a semiconductor element capable of conducting when a voltage exceeding a level assumed as a power supply voltage of the internal circuit is applied to the power supply terminal;
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein a fuse that can be blown by a current that flows when the semiconductor element is conducted is connected in series with each other.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011184362A JP2013045993A (en) | 2011-08-26 | 2011-08-26 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011184362A JP2013045993A (en) | 2011-08-26 | 2011-08-26 | Semiconductor integrated circuit device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013045993A true JP2013045993A (en) | 2013-03-04 |
Family
ID=48009641
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011184362A Withdrawn JP2013045993A (en) | 2011-08-26 | 2011-08-26 | Semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013045993A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018152391A (en) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | Semiconductor device |
-
2011
- 2011-08-26 JP JP2011184362A patent/JP2013045993A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018152391A (en) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | Semiconductor device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7884617B2 (en) | ESD detection circuit and related method thereof | |
TWI570884B (en) | Electrostatic Damage (ESD) Protection Circuit for Semiconductor Integrated Circuits | |
TWI405325B (en) | Esd protection circuit | |
TWI662682B (en) | Integrated circuits and electrostatic discharge protection circuits | |
TW201607197A (en) | Semiconductor device including electrostatic discharge circuit and operation method thereof | |
JP2020035804A (en) | Semiconductor device, electronic circuit, and method for inspecting semiconductor device | |
JP4670972B2 (en) | Integrated circuit device and electronic device | |
EP3249417B1 (en) | Sensing and detection of esd and other transient overstress events | |
JP2007073928A (en) | Esd (electrostatic discharge) protection device for programmable device | |
TW440986B (en) | Electrostatic discharge event detector | |
US20140098447A1 (en) | Electrostatic discharge protection for class d power amplifiers | |
KR20080076411A (en) | Electrostatic discharge protection circuit | |
US20070081282A1 (en) | Electrostatic discharge (esd) protection apparatus for programmable device | |
JP3844915B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2013045993A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JP2010266254A (en) | Open test circuit of semiconductor device, and semiconductor chip and semiconductor device equipped with open test circuit | |
TWI500230B (en) | ESD protection circuit | |
TWI631785B (en) | Output circuit with esd protection | |
US6271692B1 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP6234729B2 (en) | Sensor device | |
JP2014022560A (en) | Protection element, semiconductor device and electronic apparatus | |
US7295039B2 (en) | Buffer circuit | |
KR20230029658A (en) | Circuit Techniques for Enhanced ELECTROSTATIC DISCHARGE (ESD) Robustness | |
TW202110030A (en) | Voltage-current conversion circuit and charge-discharge control device | |
JP2006261233A (en) | Input protecting circuit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20141104 |