JP2013045751A - Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same - Google Patents

Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2013045751A
JP2013045751A JP2011185113A JP2011185113A JP2013045751A JP 2013045751 A JP2013045751 A JP 2013045751A JP 2011185113 A JP2011185113 A JP 2011185113A JP 2011185113 A JP2011185113 A JP 2011185113A JP 2013045751 A JP2013045751 A JP 2013045751A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reflective film
conductive reflective
organic
film
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011185113A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Reiko Izumi
礼子 泉
Reiko Higano
日向野怜子
Kazuhiko Yamazaki
山崎和彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP2011185113A priority Critical patent/JP2013045751A/en
Priority to CN 201210243472 priority patent/CN102956834A/en
Publication of JP2013045751A publication Critical patent/JP2013045751A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a highly bright organic EL element suppressed in deterioration of a conductive reflection film due to heat and light during light emission thereof, suppressed in deterioration of light emission intensity due to peeling of the conductive reflection film from a luminous layer or the like, and improved in durability.SOLUTION: An organic electroluminescent element includes a base material, a transparent electrode layer, a luminous layer and a conductive reflection film, in this order. The conductive reflection film contains a metal nanoparticle sintered body and an additive.

Description

本発明は有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子という)およびその製造方法に関する。より詳しくは、基材上に形成され、有機EL発光層からの光を効率的に取り出すことができる導電性反射膜を備える有機EL素子およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as an organic EL element) and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to an organic EL element including a conductive reflective film that is formed on a substrate and can efficiently extract light from an organic EL light emitting layer, and a method for manufacturing the same.

近年、有機EL素子は、発光効率や耐久性の向上などに伴い、様々な分野に利用され始めており、特に、照明器具やディスプレイの用途への応用展開が急速に進んでいる。   2. Description of the Related Art In recent years, organic EL elements have begun to be used in various fields with improvements in luminous efficiency and durability. In particular, application development for use in lighting fixtures and displays is rapidly progressing.

図1に、有機EL素子の断面構造の一例を示す。図1のように、有機EL素子1は、基材20上に、有機物からなる発光層40を、一対の導電性反射膜10(陰極)と透明電極層30(陽極)の間にサンドイッチした多層構造で構成される。このように、有機EL素子は、光を取り出す方の電極層には透明電極層が用いられ、光を取り出す方ではない電極層には反射の機能も兼ね備えた電極層としての導電性反射膜が設けられ、発光層からの光を効率的に反射させて発光強度を増加させる構造が用いられている。   FIG. 1 shows an example of a cross-sectional structure of an organic EL element. As shown in FIG. 1, the organic EL element 1 is a multilayer in which a light emitting layer 40 made of an organic material is sandwiched between a pair of conductive reflective films 10 (cathode) and a transparent electrode layer 30 (anode) on a base material 20. Composed of structure. As described above, in the organic EL element, a transparent electrode layer is used as an electrode layer for extracting light, and a conductive reflection film as an electrode layer having a reflection function is provided for an electrode layer that does not extract light. A structure that increases the emission intensity by efficiently reflecting the light from the light emitting layer is used.

導電性反射膜は、一般に、スパッタや真空蒸着等の真空成膜法により成膜されるが、真空成膜法は、大型の真空成膜装置を維持・運転するため、多大なコストを必要とする。この真空成膜法を湿式塗工法に置き換えることで、ランニングコストの大幅な改善が期待されている。   In general, the conductive reflective film is formed by a vacuum film formation method such as sputtering or vacuum deposition. However, the vacuum film formation method requires a large cost because it maintains and operates a large vacuum film formation apparatus. To do. Replacing this vacuum film-forming method with a wet coating method is expected to greatly improve running costs.

この湿式塗工法として、平均粒子径が1〜20nmである金属粒子が分散された分散液を塗布して、有機EL素子の陰極を形成する方法が開示されている(特許文献1)。   As this wet coating method, a method of forming a cathode of an organic EL element by applying a dispersion liquid in which metal particles having an average particle diameter of 1 to 20 nm are dispersed is disclosed (Patent Document 1).

特開2010−198935号公報JP 2010-198935 A

しかしながら、上記分散液を塗布する方法で導電性反射膜を形成すると、有機EL素子の発光時の熱と光により、導電性反射膜が劣化して発光層等から剥離し、有機EL素子の発光強度が低下するという耐久性の問題がある。詳細に説明すると、導電性反射膜は、金属粒子を含む導電性反射膜用組成物を塗布した後、焼成して形成され、この焼成を低温で行うために、金属粒子として金属ナノ粒子を用いる。ここで、上記方法では、保存時における金属ナノ粒子間の焼結を避けるため、金属ナノ粒子を200℃近傍で蒸発または分解する一級アミンまたはその誘導体で被覆している。しかし、この一級アミン等を添加すると、焼結時に金属ナノ粒子が粒成長しすぎることで、多孔質になるため、導電性反射膜の密着性が低下し、導電性反射膜が発光層等から剥離したり、反射特性が下がり、有機EL素子の輝度も低下する、という問題がある。また、金属ナノ粒子の粒成長を抑制するために、一級アミン等を過剰に添加すると、金属ナノ粒子の分散安定性が低下するかもしくは得られた膜の反射特性や導電性が悪くなる、という問題がある、なお、有機EL素子は、LED等の発光体と比較して、単位体積当たりに流れる電流が多いため、有機EL素子の導電性反射膜には、他の発光体での導電性反射膜より高導電性であること、すわなち、導電性反射膜に厚さが求められるため、他の層との熱膨張係数の差から剥離し易くなる、という特徴がある。   However, when the conductive reflective film is formed by the method of applying the dispersion, the conductive reflective film deteriorates and peels off from the light emitting layer due to heat and light during light emission of the organic EL element, and the organic EL element emits light. There is a problem of durability that strength decreases. More specifically, the conductive reflective film is formed by applying a conductive reflective film composition containing metal particles and then firing, and metal nanoparticles are used as the metal particles in order to perform this firing at a low temperature. . Here, in the above method, in order to avoid sintering between the metal nanoparticles during storage, the metal nanoparticles are coated with a primary amine or a derivative thereof that evaporates or decomposes at around 200 ° C. However, when this primary amine or the like is added, the metal nanoparticles are excessively grown during sintering and become porous, so that the adhesion of the conductive reflective film is reduced, and the conductive reflective film is removed from the light emitting layer and the like. There exists a problem that it peels, a reflection characteristic falls, and the brightness | luminance of an organic EL element also falls. In addition, in order to suppress the growth of metal nanoparticles, excessive addition of primary amine or the like, the dispersion stability of the metal nanoparticles will be reduced or the resulting film will have poor reflective properties and conductivity The organic EL element has a problem. Since the current flowing per unit volume is larger than that of a light emitter such as an LED, the conductive reflective film of the organic EL element has conductivity in other light emitters. Since the conductive film has higher conductivity than the reflective film, that is, the conductive reflective film is required to have a thickness, it is easy to peel off due to the difference in thermal expansion coefficient from other layers.

本発明は、上記問題を解決することを課題とする。すなわち、輝度が高い有機EL素子であって、有機EL素子の発光時の熱と光による導電性反射膜の劣化を抑え、発光層等からの導電性反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上した有機EL素子を得ることを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above problems. That is, it is an organic EL element with high brightness, which suppresses deterioration of the conductive reflective film due to heat and light during light emission of the organic EL element, and suppresses a decrease in light emission intensity due to peeling of the conductive reflective film from the light emitting layer or the like. And it aims at obtaining the organic EL element which durability improved.

本発明は、以下に示す構成によって上記課題を解決した有機EL素子、およびその製造方法に関する。
(1)基材と、透明電極層と、発光層と、導電性反射膜と、をこの順に備える有機EL素子であって、導電性反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物とを含有することを特徴とする、有機EL素子。
(2)基材上に、透明電極層、および発光層を、この順に形成した後、発光層上に、金属ナノ粒子と添加物とを含有する導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより導電性反射膜を形成し、導電性反射膜上に、発光層、および透明電極層を形成することを特徴とする、有機EL素子の製造方法。
The present invention relates to an organic EL element that solves the above-described problems with the following configuration, and a method for manufacturing the same.
(1) An organic EL element comprising a substrate, a transparent electrode layer, a light emitting layer, and a conductive reflective film in this order, wherein the conductive reflective film comprises a metal nanoparticle sintered body and an additive. An organic EL element containing the organic EL element.
(2) A transparent electrode layer and a light emitting layer are formed on a substrate in this order, and then a conductive reflective film composition containing metal nanoparticles and additives is formed on the light emitting layer by a wet coating method. A method for producing an organic EL device, comprising: applying a conductive film; and baking the conductive reflective film to form a light emitting layer and a transparent electrode layer on the conductive reflective film.

本発明(1)によれば、導電性反射膜に含有される添加物が、焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制するため、導電性反射膜の反射特性が向上し、有機EL素子の輝度が高くなる。また、導電性反射膜に添加物が存在することにより、有機EL素子の発光時の熱と光による導電性反射膜の劣化を抑え、かつ、導電性反射膜の密着性が向上するため、発光層等からの導電性反射膜の剥離による発光強度の低下を抑制し、耐久性が向上した有機EL素子を得ることができる。本発明(2)によれば、有機EL素子の輝度が高く、耐久性が向上した有機EL素子を簡便に製造することができる。   According to the present invention (1), since the additive contained in the conductive reflective film suppresses the growth of metal nanoparticles during sintering, the reflective characteristic of the conductive reflective film is improved, and the organic EL element The brightness becomes higher. In addition, the presence of an additive in the conductive reflective film suppresses deterioration of the conductive reflective film due to heat and light during light emission of the organic EL element, and improves the adhesion of the conductive reflective film. It is possible to obtain an organic EL element with improved durability by suppressing a decrease in light emission intensity due to peeling of the conductive reflective film from the layer or the like. According to the present invention (2), it is possible to easily produce an organic EL element having high luminance and improved durability.

有機EL素子の断面構造の一例である。It is an example of the cross-sectional structure of an organic EL element.

以下、本発明を実施形態に基づいて具体的に説明する。なお、%は特に示さない限り、また数値固有の場合を除いて質量%である。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on embodiments. Unless otherwise indicated, “%” means “% by mass” unless otherwise specified.

〔有機EL素子〕
本発明の有機EL素子は、基材と、導電性反射膜と、発光層と、透明電極層と、をこの順に備える有機EL素子であって、導電性反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物とを含有することを特徴とする。図1に、基材20と、透明電極層30と、発光層40と、導電性反射膜10と、をこの順に備える有機EL素子1の断面構造の一例を示す。
[Organic EL device]
The organic EL device of the present invention is an organic EL device comprising a substrate, a conductive reflective film, a light emitting layer, and a transparent electrode layer in this order, and the conductive reflective film is a metal nanoparticle sintered body. And an additive. In FIG. 1, an example of the cross-sectional structure of the organic EL element 1 provided with the base material 20, the transparent electrode layer 30, the light emitting layer 40, and the electroconductive reflection film 10 in this order is shown.

従来、陰極には有機発光層への電子注入を容易にするため、Mg、Ca、Sn、Pb、Li、Mn、Alといった仕事関数の低い金属やそれらの合金が用いられている。本発明において、金属ナノ粒子焼結体は、導電性反射膜に、発光層から放出された光の反射性と、導電性とを付与する。導電性反射膜用組成物に使用される金属ナノ粒子としては、銀、金、白金、銅、パラジウム、ルテニウム、マグネシウム、ニッケル、スズ、インジウム、ガリウムおよび銅からなる群より選ばれる1種、または2種以上の混合組成もしくは合金組成が挙げられ、銀が、反射性、導電性の観点から好ましく、さらに仕事関数の低いマグネシウム、スズを併用することが好ましい。金属ナノ粒子の平均粒径は、10〜50nmであると好ましい。ここで、平均粒径は、堀場製作所製LB−550による動的光散乱法を用いて測定する。金属ナノ粒子の形状は、球状、板状であると、分散性、反射性の観点から好ましい。   Conventionally, metals having a low work function such as Mg, Ca, Sn, Pb, Li, Mn, and Al or alloys thereof are used for the cathode in order to facilitate electron injection into the organic light emitting layer. In the present invention, the metal nanoparticle sintered body imparts the reflectivity of light emitted from the light emitting layer and conductivity to the conductive reflective film. As a metal nanoparticle used for the composition for conductive reflective films, one kind selected from the group consisting of silver, gold, platinum, copper, palladium, ruthenium, magnesium, nickel, tin, indium, gallium and copper, or Two or more kinds of mixed compositions or alloy compositions may be mentioned, and silver is preferable from the viewpoints of reflectivity and conductivity, and it is preferable to use magnesium and tin having a low work function in combination. The average particle diameter of the metal nanoparticles is preferably 10 to 50 nm. Here, an average particle diameter is measured using the dynamic light-scattering method by Horiba LB-550. The shape of the metal nanoparticles is preferably spherical or plate-like from the viewpoints of dispersibility and reflectivity.

添加物は、焼結後にも導電性反射膜に存在し、金属ナノ粒子間に添加物が存在することにより、焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制することができ、また、金属ナノ粒子焼結体の空孔に添加物が存在することにより、導電性反射膜の反射特性が向上し、有機EL素子の輝度が高くなり、導電性反射膜の耐熱性、耐光性や耐食性も向上させる。さらに、添加剤により、導電性反射膜の密着性が向上する。したがって、有機EL素子の耐久性が高くなる。   The additive is present in the conductive reflective film after sintering, and the presence of the additive between the metal nanoparticles can suppress the particle growth of the metal nanoparticles during sintering. The presence of additives in the pores of the particle sintered body improves the reflection characteristics of the conductive reflective film, increases the brightness of the organic EL element, and improves the heat resistance, light resistance and corrosion resistance of the conductive reflective film. Let Furthermore, the adhesiveness of the conductive reflective film is improved by the additive. Therefore, the durability of the organic EL element is increased.

添加物としては、有機高分子、金属酸化物、金属水酸化物、有機金属化合物、およびシリコーンオイルが挙げられ、有機高分子が好ましく、有機高分子と、金属水酸化物または有機金属化合物と、を併用すると、より好ましい。   Examples of the additive include organic polymers, metal oxides, metal hydroxides, organometallic compounds, and silicone oils. Organic polymers are preferable, organic polymers, metal hydroxides or organometallic compounds, It is more preferable to use in combination.

添加物として使用する有機高分子としては、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリビニルピロリドンの共重合体、および水溶性セルロースからなる群より選ばれる少なくとも1種であると、導電性反射膜の反射性および導電性の観点から好ましい。ポリビニルピロリドンの共重合体としては、PVP−メタクリレート共重合体、PVP−スチレン共重合体、PVP−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、水溶性セルロースとしては、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース等のセルロースエーテルが挙げられる。PVPが、導電性反射膜の反射特性、導電性および密着性の点から、より好ましい。   The organic polymer used as the additive is at least one selected from the group consisting of polyvinyl pyrrolidone (PVP), a polyvinyl pyrrolidone copolymer, and water-soluble cellulose. From the viewpoint of sex. Examples of the polyvinylpyrrolidone copolymer include a PVP-methacrylate copolymer, a PVP-styrene copolymer, and a PVP-vinyl acetate copolymer. Examples of the water-soluble cellulose include cellulose ethers such as hydroxypropyl methylcellulose, methylcellulose, and hydroxyethylmethylcellulose. PVP is more preferable from the viewpoint of the reflection characteristics, conductivity and adhesion of the conductive reflective film.

添加物として使用する金属酸化物としては、錫、インジウム、亜鉛、およびアンチモンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む酸化物または複合酸化物が挙げられ、スズドープ酸化インジウムや酸化亜鉛が好ましい。   Examples of the metal oxide used as the additive include an oxide or composite oxide containing at least one selected from the group consisting of tin, indium, zinc, and antimony, and tin-doped indium oxide and zinc oxide are preferable.

添加物として使用する金属水酸化物としては、マグネシウム、リチウム、アルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル等の水酸化物が挙げられ、水酸化リチウムが好ましい。   Examples of the metal hydroxide used as an additive include hydroxides such as magnesium, lithium, aluminum, iron, cobalt, nickel, and lithium hydroxide is preferable.

添加物として使用する有機金属化合物としては、シリコン、チタン、ジルコニウム、亜鉛、銅、錫等の金属石鹸、金属錯体、金属アルコキシドまたは金属アルコキシドの加水分解物が挙げられる。例えば、金属石鹸としては、酢酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、酢酸銅、酢酸錫、クエン酸鉄等が挙げられ、金属錯体としては、アセチルアセトン亜鉛錯体等が挙げられ、金属アルコキシドとしては、チタニウムイソプロポキシド、メチルシリケート等が挙げられる。導電性反射膜の密着性の観点から、酢酸亜鉛、酢酸銅、クエン酸鉄、チタニウムイソプロポキシドが好ましい。   Examples of the organometallic compound used as the additive include metal soaps such as silicon, titanium, zirconium, zinc, copper, and tin, metal complexes, metal alkoxides, and hydrolysates of metal alkoxides. For example, examples of the metal soap include zinc acetate, zinc oxalate, copper acetate, tin acetate, and iron citrate, examples of the metal complex include acetylacetone zinc complex, and examples of the metal alkoxide include titanium isopropoxide. And methyl silicate. From the viewpoint of adhesion of the conductive reflective film, zinc acetate, copper acetate, iron citrate, and titanium isopropoxide are preferable.

添加物として使用するシリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルや変性シリコーンオイルが挙げられ、変性シリコーンオイルが好ましい。   Examples of the silicone oil used as an additive include straight silicone oil and modified silicone oil, and modified silicone oil is preferable.

導電性反射膜の厚さは、反射性、導電性の観点から、0.1〜3.0μmであると好ましい。   The thickness of the conductive reflective film is preferably 0.1 to 3.0 μm from the viewpoints of reflectivity and conductivity.

また、導電性反射膜の発光層側の面に存在する気孔が、平均直径が100nm以下で、平均深さが100nm以下で、数密度が30個/μmであると、波長:380〜780nmの範囲において、理論反射率の80%以上の高い拡散反射率を達成でき、好ましい。 Further, when the pores present on the light emitting layer side surface of the conductive reflective film have an average diameter of 100 nm or less, an average depth of 100 nm or less, and a number density of 30 / μm 2 , the wavelength: 380 to 780 nm In this range, a high diffuse reflectance of 80% or more of the theoretical reflectance can be achieved, which is preferable.

有機EL素子を構成する基材、発光層、および透明電極層は、当業者に公知のものでよく、特に限定されない。例えば、基材としてはガラス基板が、発光層としては、ルブレン5重量%をドープしたトリス(8−キノリノラト)アルミニウムが、透明電極層としてはITOが挙げられる。   The base material, the light emitting layer, and the transparent electrode layer constituting the organic EL element may be known to those skilled in the art and are not particularly limited. For example, a glass substrate is used as the base material, tris (8-quinolinolato) aluminum doped with 5% by weight of rubrene is used as the light emitting layer, and ITO is used as the transparent electrode layer.

〔有機EL素子の製造方法〕
本発明の有機EL素子の製造方法は、基材上に、透明電極層、および発光層を、この順に形成した後、発光層上に、金属ナノ粒子と添加物とを含有する導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより導電性反射膜を形成することを特徴とする。
[Method for producing organic EL element]
In the method for producing an organic EL device of the present invention, a transparent electrode layer and a light emitting layer are formed on a substrate in this order, and then a conductive reflective film containing metal nanoparticles and an additive on the light emitting layer. The composition is applied by a wet coating method and then baked to form a conductive reflective film.

《透明電極層および発光層の形成》
基板上に、透明電極層および発光層を形成する方法は、特に限定されず、真空成膜法等の当業者に公知の方法でよいが、透明電極層は、例えば、透光性バインダーと透明導電材料を含む組成物を用いて、湿式塗工法により成膜を行う方がより好ましい。
<< Formation of transparent electrode layer and light emitting layer >>
The method for forming the transparent electrode layer and the light emitting layer on the substrate is not particularly limited, and may be a method known to those skilled in the art, such as a vacuum film forming method. The transparent electrode layer is, for example, a transparent binder and a transparent material. It is more preferable to form a film by a wet coating method using a composition containing a conductive material.

《導電性反射膜用組成物》
導電性反射膜用組成物に含有される金属ナノ粒子および添加物は、上述のとおりである。
<< Composition for conductive reflective film >>
The metal nanoparticles and additives contained in the composition for conductive reflective film are as described above.

また、導電性反射膜用組成物は、分散媒を含み、分散媒は、全ての分散媒100質量%に対して、1質量%以上の水と、2質量%以上の水と相溶する溶剤、例えば、アルコール類とを含有することが好適である。例えば、分散媒が水およびアルコール類のみからなる場合、水を2質量%含有するときはアルコール類を98質量%含有し、アルコール類を2質量%含有するときは水を98質量%含有する。水の含有量が1質量%未満、またはアルコール類の含有量が2質量%未満では、導電性反射膜用組成物を湿式塗工法により塗工して得られた膜を低温で焼結し難くなり、また、焼成後の導電性反射膜の導電性と反射率が低下してしまうからである。アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、エリトリトール等が挙げられ、これらを混合して用いてもよい。   Moreover, the composition for electroconductive reflective film contains a dispersion medium, and the dispersion medium is a solvent compatible with 1% by mass or more of water and 2% by mass or more of water with respect to 100% by mass of all the dispersion media. For example, it is preferable to contain alcohols. For example, when the dispersion medium is composed of only water and alcohols, it contains 98% by mass of alcohol when it contains 2% by mass of water, and 98% by mass of water when it contains 2% by mass of alcohol. When the water content is less than 1% by mass or the alcohol content is less than 2% by mass, it is difficult to sinter the film obtained by applying the conductive reflective film composition by a wet coating method at a low temperature. Moreover, it is because the electroconductivity and reflectivity of the electroconductive reflective film after firing are reduced. Examples of alcohols include methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, glycerol, erythritol, and the like.

さらに、分散媒は、金属ナノ粒子表面を化学修飾する水酸基(−OH)又はカルボニル基(−C=O)のいずれか一方又は双方を含有する保護剤を含むと、導電性反射膜用組成物の分散安定性に優れ、塗膜の低温焼結にも効果的な作用があるため、好適である。保護剤としては、クエン酸ナトリウム、リンゴ酸ナトリウム等が挙げられる。   Furthermore, when the dispersion medium contains a protective agent containing either one or both of a hydroxyl group (—OH) and a carbonyl group (—C═O) that chemically modify the surface of the metal nanoparticles, the composition for a conductive reflective film It is suitable because it has excellent dispersion stability and has an effective action for low-temperature sintering of the coating film. Examples of the protective agent include sodium citrate and sodium malate.

導電性反射膜用組成物は、本発明の本発明の目的を損なわない範囲で、さらに必要に応じ、低抵抗化剤、水溶性セルロース誘導体、酸化防止剤、レベリング剤、揺変剤、フィラー、応力緩和剤、その他の添加剤等を配合することができる。   The composition for conductive reflective film is a range that does not impair the object of the present invention, and further, if necessary, a low resistance agent, a water-soluble cellulose derivative, an antioxidant, a leveling agent, a thixotropic agent, a filler, A stress relaxation agent, other additives, etc. can be mix | blended.

金属ナノ粒子は、分散媒を除く導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、75質量部以上であると、反射性、導電性の観点から好ましい。また、99.9質量部以下であると、導電性反射膜の密着性の観点から好ましい。   From the viewpoint of reflectivity and conductivity, the metal nanoparticles are preferably 75 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the composition for conductive reflective film excluding the dispersion medium. Moreover, it is preferable from the viewpoint of the adhesiveness of a conductive reflective film that it is 99.9 mass parts or less.

添加物の含有割合は、分散媒を除く導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、0.1〜25質量部であると好ましい。0.1質量部以上であれば、基材と接着力が良好であり、25質量部以下であると成膜時の膜ムラが生じにくい。   The content of the additive is preferably 0.1 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive reflective film composition excluding the dispersion medium. If it is 0.1 part by mass or more, the base material and the adhesive force are good, and if it is 25 parts by mass or less, film unevenness during film formation hardly occurs.

分散媒は、導電性反射膜用組成物:100質量部に対して、50〜99質量部であると、塗工性の観点から好ましい。   The dispersion medium is preferably 50 to 99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive reflective film composition from the viewpoint of coatability.

導電性反射膜用組成物は、所望の成分を、常法により、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミル、セントリミル、三本ロール等によって混合し、透光性バインダー、場合により透明導電性粒子等を分散させ、作製することができる。無論、通常の攪拌操作によって作製することもできる。なお、金属ナノ粒子を除く成分を混合した後、別途予め分散させた金属ナノ粒子を含む分散媒と混合すると、均質な導電性反射膜用組成物を得やすい観点から好ましい。   The conductive reflective film composition is prepared by mixing desired components by a paint shaker, a ball mill, a sand mill, a centrimill, a three roll, etc., in a conventional manner, and dispersing a translucent binder, and optionally transparent conductive particles. Can be produced. Of course, it can also be produced by a normal stirring operation. In addition, after mixing the component except a metal nanoparticle, when it mixes with the dispersion medium containing the metal nanoparticle separately disperse | distributed previously beforehand, it is preferable from a viewpoint of obtaining the homogeneous composition for electroconductive reflective films easily.

《導電性反射膜の形成》
まず、基材上に、導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布する。ここでの塗布は、焼成後の導電性反射膜の厚さが、好ましくは0.1〜3.0μmとなるようにする。続いて、この導電性反射塗膜を、好ましくは、120〜350℃の温度で、5〜60分間、乾燥する。このようにして塗膜を形成する。
<Formation of conductive reflective film>
First, the conductive reflective film composition is applied onto a substrate by a wet coating method. The application here is performed so that the thickness of the conductive reflective film after firing is preferably 0.1 to 3.0 μm. Subsequently, the conductive reflective coating film is preferably dried at a temperature of 120 to 350 ° C. for 5 to 60 minutes. In this way, a coating film is formed.

湿式塗工法は、スプレーコーティング法、ディスペンサーコーティング法、スピンコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、またはダイコーティング法のいずれかであることが好ましいが、これに限られるものではなく、あらゆる方法を利用できる。   The wet coating method is preferably a spray coating method, a dispenser coating method, a spin coating method, a knife coating method, a slit coating method, an inkjet coating method, a screen printing method, an offset printing method, or a die coating method. However, the present invention is not limited to this, and any method can be used.

次に、導電性反射塗膜を有する基材を、大気中または窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気中で、好ましくは、130〜250℃の温度で、5〜60分間保持して焼成する。   Next, the base material having the conductive reflective coating film is fired in the air or in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, preferably at a temperature of 130 to 250 ° C. for 5 to 60 minutes.

塗膜を有する基材の焼成温度を130〜250℃の範囲が好ましいのは、130℃未満では、導電性反射膜において、硬化不足の不具合が生じるからである。また、250℃を越えると、低温プロセスという生産上のメリットを生かせない、すなわち、製造コストが増大し、生産性が低下してしまう。さらに、樹脂フィルムのようなフレキシブル基板を用いる場合は、200℃未満の焼成温度が好ましい。すなわち、湿式塗工後の焼成温度が低ければ、有機EL素子の基材として、ガラス基板以外にも樹脂フィルムのようなフレキシブル基板も用いることができるため、応用範囲が広がる。   The reason why the firing temperature of the substrate having the coating film is preferably in the range of 130 to 250 ° C. is that if it is less than 130 ° C., the conductive reflective film has a problem of insufficient curing. On the other hand, if it exceeds 250 ° C., the production merit of the low temperature process cannot be utilized, that is, the manufacturing cost increases and the productivity decreases. Furthermore, when using a flexible substrate such as a resin film, a firing temperature of less than 200 ° C. is preferred. That is, if the baking temperature after wet coating is low, a flexible substrate such as a resin film can be used as the base material of the organic EL element, in addition to the glass substrate, and thus the application range is expanded.

塗膜を有する基材の焼成時間を5〜60分間の範囲が好ましいのは、焼成時間が5分未満では、導電性反射膜において、焼成が十分でない不具合が生じるからである。焼成時間が60分を越えると、必要以上に製造コストが増大して生産性が低下してしまう不具合を生じるためである。   The reason why the firing time of the substrate having the coating film is preferably in the range of 5 to 60 minutes is that if the firing time is less than 5 minutes, there is a problem that firing is not sufficient in the conductive reflective film. This is because if the firing time exceeds 60 minutes, the manufacturing cost increases more than necessary and the productivity is lowered.

以上により、本発明の製造方法は、湿式塗工法を使用することにより、スパッタや真空蒸着等の真空成膜法を可能な限り排除できるため、より安価に導電性反射膜を製造でき、本発明の耐久性が向上した有機EL素子を、簡便に低コストで製造することができる。   As described above, the manufacturing method of the present invention can eliminate a vacuum film forming method such as sputtering or vacuum deposition as much as possible by using a wet coating method, and therefore can manufacture a conductive reflective film at a lower cost. The organic EL element with improved durability can be easily produced at low cost.

以下に、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

〔実施例1〕
《導電性反射膜用組成物の作製》
まず、導電性反射膜用組成物を作製した。以下に、作製手順を示す。
[Example 1]
<< Preparation of composition for conductive reflective film >>
First, a composition for conductive reflective film was prepared. The production procedure is shown below.

硝酸銀を脱イオン水に溶解して、金属塩水溶液を調製した。また、クエン酸ナトリウムを脱イオン水に溶解して、濃度が26質量%のクエン酸ナトリウム水溶液を調製した。このクエン酸ナトリウム水溶液に、35℃に保持された窒素ガス気流中で、粒状の硫酸第1鉄を直接加えて溶解させ、クエン酸イオンと第1鉄イオンを3:2のモル比で含有する還元剤水溶液を調製した。   Silver nitrate was dissolved in deionized water to prepare an aqueous metal salt solution. In addition, sodium citrate was dissolved in deionized water to prepare a sodium citrate aqueous solution having a concentration of 26% by mass. In this sodium citrate aqueous solution, granular ferrous sulfate is directly added and dissolved in a nitrogen gas stream maintained at 35 ° C., and citrate ions and ferrous ions are contained in a molar ratio of 3: 2. A reducing agent aqueous solution was prepared.

次に、上記窒素ガス気流を35℃に保持しながら、還元剤水溶液中に、マグネチックスターラーの攪拌子を入れ、攪拌子の回転速度:100rpmで攪拌しながら、この還元剤水溶液に、上記金属塩水溶液を滴下して、混合した。ここで、還元剤水溶液への金属塩水溶液の添加量は、還元剤水溶液の量の1/10以下になるように、各溶液の濃度を調整して、室温の金属塩水溶液を滴下しても反応温度が40℃に保持されるようにした。また、還元剤水溶液と金属塩水溶液との混合比は、金属塩水溶液中の金属イオンの総原子価数に対する、還元剤水溶液のクエン酸イオンと第1鉄イオンとのモル比が、いずれも3倍モルとなるようにした。還元剤水溶液への金属塩水溶液の滴下が終了した後、さらに、混合液の攪拌を15分間続けることにより、混合液内部に銀ナノ粒子を生じさせ、銀ナノ粒子が分散した銀ナノ粒子分散液を得た。銀ナノ粒子分散液のpHは5.5であり、分散液中の銀ナノ粒子の化学量論的生成量は5g/リットルであった。   Next, a magnetic stirrer stirrer is placed in the reducing agent aqueous solution while maintaining the nitrogen gas flow at 35 ° C., and the reducing agent aqueous solution is stirred at a rotating speed of the stirrer: 100 rpm. An aqueous salt solution was added dropwise and mixed. Here, the concentration of each solution is adjusted so that the amount of the metal salt aqueous solution added to the reducing agent aqueous solution is 1/10 or less of the amount of the reducing agent aqueous solution. The reaction temperature was kept at 40 ° C. The mixing ratio of the reducing agent aqueous solution and the metal salt aqueous solution is such that the molar ratio of citrate ions and ferrous ions in the reducing agent aqueous solution to the total valence of metal ions in the metal salt aqueous solution is 3 The moles were doubled. After the addition of the aqueous metal salt solution to the reducing agent aqueous solution is completed, the mixture is further stirred for 15 minutes to generate silver nanoparticles inside the mixture, and the silver nanoparticle dispersion in which the silver nanoparticles are dispersed Got. The pH of the silver nanoparticle dispersion was 5.5, and the stoichiometric amount of silver nanoparticles in the dispersion was 5 g / liter.

得られた銀ナノ粒子分散液を、室温で放置することにより、分散液中の銀ナノ粒子を沈降させ、沈降した銀ナノ粒子の凝集物をデカンテーションにより分離した。分離した銀ナノ粒子凝集物に、脱イオン水を加えて分散体とし、限外濾過により脱塩処理した後、さらにメタノールで置換洗浄して、金属(銀)の含有量を50質量%にした。その後、遠心分離機を用い、この遠心分離機の遠心力を調整して、粒径が100nmを越える比較的大きな銀粒子を分離し、銀ナノ粒子分散液を得た。銀ナノ粒子の平均粒径を、堀場製作所製LB−550による動的光散乱法を用いて測定した結果、平均粒径は、35nmであった。得られた銀ナノ粒子は、クエン酸ナトリウムの保護剤が化学修飾されていた。   The obtained silver nanoparticle dispersion was allowed to stand at room temperature, so that the silver nanoparticles in the dispersion were allowed to settle, and aggregates of the precipitated silver nanoparticles were separated by decantation. Deionized water was added to the separated silver nanoparticle aggregates to form a dispersion, and after desalting by ultrafiltration, the metal (silver) content was adjusted to 50% by mass by washing with methanol. . Thereafter, using a centrifuge, the centrifugal force of the centrifuge was adjusted to separate relatively large silver particles having a particle size exceeding 100 nm, thereby obtaining a silver nanoparticle dispersion. As a result of measuring the average particle diameter of the silver nanoparticles using a dynamic light scattering method using LB-550 manufactured by Horiba, the average particle diameter was 35 nm. The obtained silver nanoparticles were chemically modified with a protective agent for sodium citrate.

次に、得られた金属ナノ粒子:10質量部を水、エタノール及びメタノールを含む混合溶液90質量部に添加混合することにより分散させ、この分散液に、ポリビニルピロリドン(PVP、分子量:360,000)、を金属ナノ粒子:96質量部、PVP:4質量部の割合となるように加えて、導電性反射膜用組成物を作製した。   Next, 10 parts by mass of the obtained metal nanoparticles were dispersed by adding and mixing in 90 parts by mass of a mixed solution containing water, ethanol and methanol, and polyvinyl pyrrolidone (PVP, molecular weight: 360,000) was dispersed in this dispersion. ) Was added so that the ratio of metal nanoparticles: 96 parts by mass and PVP: 4 parts by mass was prepared.

《有機EL素子の製造》
ガラス基板に、ITOインクを塗布し、175℃で30分焼成して透明電極層(陽極、厚さ:150nm)を形成した。その上に正孔輸送層(N,N’−ジフェニルーN,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン、厚さ:30nm)、発光層(ルブレン5重量%をドープしたトリス(8−キノリノラト)アルミニウム、厚さ:30nm)、電子輸送層(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム、厚さ:30nm)を順次形成した後、導電性反射膜用組成物を、スピンコートにより1000rpm×60秒で数回成膜を行い、その後、180℃にて60分焼成を行うことで、膜厚が約300nmの導電性反射膜(陰極)を形成し、有機EL素子を得た。ここで、膜厚の測定は、日立ハイテクノロジーズ製走査型電子顕微鏡(SEM、装置名:S−4300、SU−8000)による断面観察により測定した。他の実施例、比較例においても、膜厚を同様に測定した。
<< Manufacture of organic EL elements >>
An ITO ink was applied to a glass substrate and baked at 175 ° C. for 30 minutes to form a transparent electrode layer (anode, thickness: 150 nm). On top of that, a hole transport layer (N, N′-diphenyl-N, N′-di (m-tolyl) benzidine, thickness: 30 nm), a light emitting layer (tris (8-quinolinolato) aluminum doped with 5% by weight of rubrene) , Thickness: 30 nm), and an electron transport layer (tris (8-quinolinolato) aluminum, thickness: 30 nm) were sequentially formed, and then the conductive reflective film composition was formed several times by spin coating at 1000 rpm × 60 seconds. The film was formed, and then baked at 180 ° C. for 60 minutes to form a conductive reflective film (cathode) having a film thickness of about 300 nm, thereby obtaining an organic EL element. Here, the film thickness was measured by cross-sectional observation using a scanning electron microscope (SEM, device names: S-4300, SU-8000) manufactured by Hitachi High-Technologies. In other examples and comparative examples, the film thickness was measured in the same manner.

得られた有機EL素子の輝度、密着性、耐久性について評価を行った。輝度は、輝度計(トプコン社製、型番:BM−9)で測定した。密着性は、テープ剥離試験(JIS K−5600−5−6)に準ずる方法により行い、剥がれがない場合を「○」、剥がれがある場合を「×」にした。耐久性は、輝度が500cd/cm以下になるまでの時間を測定した。 The obtained organic EL device was evaluated for luminance, adhesion, and durability. The luminance was measured with a luminance meter (model number: BM-9, manufactured by Topcon Corporation). Adhesion was performed by a method according to a tape peel test (JIS K-5600-5-6). The case where there was no peeling was “◯”, and the case where there was peeling was “x”. For durability, the time until the luminance became 500 cd / cm 2 or less was measured.

〔実施例2〜7〕
表1に記載した組成になるようにしたこと以外は、導電性反射膜を実施例1と同様にして形成し、有機EL素子を得た。
[Examples 2 to 7]
A conductive reflective film was formed in the same manner as in Example 1 except that the composition described in Table 1 was used, and an organic EL element was obtained.

〔比較例1〕
添加物を添加しない銀ナノ粒子分散液を用いて導電性反射膜用組成物を作製し、導電性反射膜を形成したこと以外は、実施例1と同様に有機EL素子を得た。
[Comparative Example 1]
An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that a composition for conductive reflective film was prepared using a silver nanoparticle dispersion liquid to which no additive was added, and a conductive reflective film was formed.

〔比較例2〕
導電性反射膜として、スパッタで銀電極を形成させたこと以外は、実施例1と同様に有機EL素子を得た。
[Comparative Example 2]
An organic EL element was obtained in the same manner as in Example 1 except that a silver electrode was formed by sputtering as the conductive reflective film.

表1から明らかなように、実施例1〜7は、導電性反射膜にスパッタ成膜を用いた比較例2と同様に、導電性反射膜の反射特性が高いため、有機EL素子の輝度が高く、導電性反射膜の密着性が良好であり、かつ有機EL素子の耐久性については比較例2を上回るものであった。特に、仕事関数が低いMgを金属材料の一部に用い、かつ添加剤として密着性が良好な金属アルコキシドまたは酢酸亜鉛を用いた実施例3と7は、有機EL素子の輝度および耐久性が高かった。これに対して、添加物なしの金属ナノ粒子分散液を塗布して導電性反射膜を作製した比較例1は、導電性反射膜の反射特性が悪いため、有機EL素子の初期の輝度が低く、導電性反射膜の密着性が悪く、また有機EL素子の耐久性も非常に低いという結果であった。   As is clear from Table 1, Examples 1 to 7 have a high reflective property of the conductive reflective film as in Comparative Example 2 in which the conductive reflective film is formed by sputtering. The adhesiveness of the conductive reflective film was high, and the durability of the organic EL element was higher than that of Comparative Example 2. In particular, Examples 3 and 7 using Mg having a low work function as a part of a metal material and using metal alkoxide or zinc acetate having good adhesion as an additive have high luminance and durability of the organic EL device. It was. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the conductive reflective film was prepared by applying the metal nanoparticle dispersion without additives, the initial luminance of the organic EL element was low because the reflective characteristics of the conductive reflective film were poor. As a result, the adhesion of the conductive reflective film was poor, and the durability of the organic EL element was very low.

本発明の有機EL素子は、金属ナノ粒子焼結体と添加物とを含む導電性反射膜を備えることにより、耐久性を高くすることができ、有機EL素子から発生する熱や環境による導電性反射膜の劣化が抑制することができ、非常に有用である。この導電性反射膜は、湿式塗工法で作製可能であるので、製造工程を簡便にし、低コストにすることができる。   The organic EL device of the present invention can have high durability by including a conductive reflective film including a metal nanoparticle sintered body and an additive, and can be electrically conductive by heat generated from the organic EL device or by the environment. Deterioration of the reflective film can be suppressed, which is very useful. Since this conductive reflective film can be produced by a wet coating method, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.

1 有機EL素子
10 導電性反射膜
20 基材
30 透明電極層
40 発光層
50 封止材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL element 10 Conductive reflective film 20 Base material 30 Transparent electrode layer 40 Light emitting layer 50 Sealing material

従来、陰極には有機発光層への電子注入を容易にするため、Mg、Ca、Sn、Pb、Li、Mn、Alといった仕事関数の低い金属やそれらの合金が用いられている。本発明において、金属ナノ粒子焼結体は、導電性反射膜に、発光層から放出された光の反射性と、導電性とを付与する。導電性反射膜用組成物に使用される金属ナノ粒子としては、銀、金、白金、パラジウム、ルテニウム、マグネシウム、ニッケル、スズ、インジウム、ガリウムおよび銅からなる群より選ばれる1種、または2種以上の混合組成もしくは合金組成が挙げられ、銀が、反射性、導電性の観点から好ましく、さらに仕事関数の低いマグネシウム、スズを併用することが好ましい。金属ナノ粒子の平均粒径は、10〜50nmであると好ましい。ここで、平均粒径は、堀場製作所製LB−550による動的光散乱法を用いて測定する。金属ナノ粒子の形状は、球状、板状であると、分散性、反射性の観点から好ましい。 Conventionally, metals having a low work function such as Mg, Ca, Sn, Pb, Li, Mn, and Al or alloys thereof are used for the cathode in order to facilitate electron injection into the organic light emitting layer. In the present invention, the metal nanoparticle sintered body imparts the reflectivity of light emitted from the light emitting layer and conductivity to the conductive reflective film. The metal nanoparticles used in the electrically conductive reflective film composition, silver, gold, platinum, palladium, ruthenium, magnesium, nickel, tin, indium, one selected from the group consisting of gallium and copper or 2, A mixed composition or alloy composition of more than one species can be mentioned, and silver is preferable from the viewpoints of reflectivity and conductivity, and further, magnesium and tin having a low work function are preferably used in combination. The average particle diameter of the metal nanoparticles is preferably 10 to 50 nm. Here, an average particle diameter is measured using the dynamic light-scattering method by Horiba LB-550. The shape of the metal nanoparticles is preferably spherical or plate-like from the viewpoints of dispersibility and reflectivity.

添加物は、焼結後にも導電性反射膜に存在し、金属ナノ粒子間に添加物が存在することにより、焼結時の金属ナノ粒子の粒成長を抑制することができ、また、金属ナノ粒子焼結体の空孔に添加物が存在することにより、導電性反射膜の反射特性が向上し、有機EL素子の輝度が高くなり、導電性反射膜の耐熱性、耐光性や耐食性も向上させる。さらに、添加により、導電性反射膜の密着性が向上する。したがって、有機EL素子の耐久性が高くなる。 The additive is present in the conductive reflective film after sintering, and the presence of the additive between the metal nanoparticles can suppress the particle growth of the metal nanoparticles during sintering. The presence of additives in the pores of the particle sintered body improves the reflection characteristics of the conductive reflective film, increases the brightness of the organic EL element, and improves the heat resistance, light resistance and corrosion resistance of the conductive reflective film. Let Further, the additives, adhesion of the conductive reflective film is improved. Therefore, the durability of the organic EL element is increased.

導電性反射膜用組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、さらに必要に応じ、低抵抗化剤、水溶性セルロース誘導体、酸化防止剤、レベリング剤、揺変剤、フィラー、応力緩和剤、その他の添加剤等を配合することができる。 Conductive reflective film composition, within a range not to impair the purpose of the present invention, if necessary, a low-resistance agent, a water-soluble cellulose derivatives, antioxidants, leveling agents, thixotropic, filler, stress relaxation Agents, other additives, etc. can be blended.

《導電性反射膜の形成》
まず、発光層上に、導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布する。ここでの塗布は、焼成後の導電性反射膜の厚さが、好ましくは0.1〜3.0μmとなるようにする。続いて、この導電性反射塗膜を、好ましくは、120〜350℃の温度で、5〜60分間、乾燥する。このようにして塗膜を形成する。
<Formation of conductive reflective film>
First, the conductive reflective film composition is applied onto the light emitting layer by a wet coating method. The application here is performed so that the thickness of the conductive reflective film after firing is preferably 0.1 to 3.0 μm. Subsequently, the conductive reflective coating film is preferably dried at a temperature of 120 to 350 ° C. for 5 to 60 minutes. In this way, a coating film is formed.

塗膜を有する基材の焼成温度130〜250℃の範囲好ましいのは、130℃未満では、導電性反射膜において、硬化不足の不具合が生じるからである。また、250℃を越えると、低温プロセスという生産上のメリットを生かせない、すなわち、製造コストが増大し、生産性が低下してしまう。さらに、樹脂フィルムのようなフレキシブル基板を用いる場合は、200℃未満の焼成温度が好ましい。すなわち、湿式塗工後の焼成温度が低ければ、有機EL素子の基材として、ガラス基板以外にも樹脂フィルムのようなフレキシブル基板も用いることができるため、応用範囲が広がる。 The reason why the firing temperature of the substrate having the coating film is preferably in the range of 130 to 250 ° C. is that if it is less than 130 ° C., the conductive reflective film has a problem of insufficient curing. On the other hand, if it exceeds 250 ° C., the production merit of the low temperature process cannot be utilized, that is, the manufacturing cost increases and the productivity decreases. Furthermore, when using a flexible substrate such as a resin film, a firing temperature of less than 200 ° C. is preferred. That is, if the baking temperature after wet coating is low, a flexible substrate such as a resin film can be used as the base material of the organic EL element, in addition to the glass substrate, and thus the application range is expanded.

塗膜を有する基材の焼成時間5〜60分間の範囲好ましいのは、焼成時間が5分未満では、導電性反射膜において、焼成が十分でない不具合が生じるからである。焼成時間が60分を越えると、必要以上に製造コストが増大して生産性が低下してしまう不具合を生じるためである。 The reason why the firing time of the substrate having the coating film is preferably in the range of 5 to 60 minutes is that when the firing time is less than 5 minutes, the conductive reflective film has a problem of insufficient firing. This is because if the firing time exceeds 60 minutes, the manufacturing cost increases more than necessary and the productivity is lowered.

Claims (2)

基材と、透明電極層と、発光層と、導電性反射膜と、をこの順に備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、導電性反射膜が、金属ナノ粒子焼結体と添加物とを含有することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。   An organic electroluminescence device comprising a base material, a transparent electrode layer, a light emitting layer, and a conductive reflective film in this order, wherein the conductive reflective film contains a metal nanoparticle sintered body and an additive. An organic electroluminescence device characterized by that. 基材上に、透明電極層、および発光層を、この順に形成した後、発光層上に、金属ナノ粒子と添加物とを含有する導電性反射膜用組成物を、湿式塗工法により塗布した後、焼成することにより導電性反射膜を形成することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
After forming the transparent electrode layer and the light emitting layer in this order on the substrate, the conductive reflective film composition containing the metal nanoparticles and the additive was applied on the light emitting layer by a wet coating method. Then, a conductive reflective film is formed by baking, and the manufacturing method of an organic electroluminescent element characterized by the above-mentioned.
JP2011185113A 2011-08-26 2011-08-26 Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same Withdrawn JP2013045751A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011185113A JP2013045751A (en) 2011-08-26 2011-08-26 Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same
CN 201210243472 CN102956834A (en) 2011-08-26 2012-07-13 Organic electroluminescence component and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011185113A JP2013045751A (en) 2011-08-26 2011-08-26 Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013045751A true JP2013045751A (en) 2013-03-04

Family

ID=47765342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011185113A Withdrawn JP2013045751A (en) 2011-08-26 2011-08-26 Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2013045751A (en)
CN (1) CN102956834A (en)

Also Published As

Publication number Publication date
CN102956834A (en) 2013-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013045750A (en) Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same
JP5810553B2 (en) Laminate for bonding and bonded body
TWI597160B (en) Laminated body for solder joint and jointed body
JP5309440B2 (en) Composition for forming electrode of solar cell, method for forming the electrode, and method for producing solar cell using the electrode obtained by the forming method
JP6845015B2 (en) Rollerball pens formed on the substrate and conductive ink for conductive tracing
KR20090063265A (en) Composition for electrode formation and method for forming electrode by using the composition
CN103180980B (en) Light-emitting element using reflective film composition and manufacturing method thereof
TW201503983A (en) Composition for bonding metals
JP2013045752A (en) Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same
TWI737643B (en) Bonding composition and electronic component assembly
JP2010199196A (en) Composition for forming electrode for solar cell, method of forming electrode, and solar cell using electrode obtained by method
TW201615785A (en) Bonding composition
JP2013045751A (en) Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same
JP2013045749A (en) Organic electroluminescent element and method for manufacturing the same
JP5760913B2 (en) Organic electroluminescence device and method for producing the same
JP5760912B2 (en) Organic electroluminescence device and method for producing the same
JP2013077415A (en) Conductive reflection film composition and manufacturing method of conductive reflection film
TWI682827B (en) Bonding composition and electronic component assembly
JP5948936B2 (en) Method for manufacturing conductive reflective film
JP2013149910A (en) Light emitter and manufacturing method of the same
KR20000038023A (en) Metal powder coated fluorescent material and preparation method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20141104