JP2013036894A - Non-destructive testing apparatus - Google Patents

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Yasumoto Sato
康元 佐藤
Koji Kitayama
綱次 北山
Natsuki Ogura
夏樹 小倉
Akira Kyo
陽 巨
Atsushi Hosoi
厚志 細井
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Nagoya University NUC
Toyota Central R&D Labs Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve higher accuracy of fault detection than conventional apparatuses.SOLUTION: A non-destructive testing apparatus 10 comprises a transmitter 12 that outputs an electromagnetic wave, a receiver 14 that receives a reflected wave of the electromagnetic wave from a checked region 22, and displacing means 16 that alters an interval between the checked region 22 and the receiver 14. The apparatus further has a determining unit 44 that determines, with respect to the checked regions 22 different from each other, the presence or absence of any fault in the checked regions 22 at a plurality of intervals by using differences or ratios among the reflected waves received by the receiver 14.

Description

本発明は非破壊検査装置に関する。   The present invention relates to a nondestructive inspection apparatus.

従来から、検査対象物を破壊することなく、当該検査対象物の欠陥を検出可能な非破壊検査装置が知られている。例えば、特許文献1、2では、導電性材料の被検査部位に渦電流を生じさせるとともに、その渦電流の変化に基づいて当該被検査部位の欠陥を検出している。また、特許文献3や非特許文献1では、マイクロ波を誘電体材料の被検査部位に照射するとともに、その反射波の振幅または位相の変化に基づいて当該被検査部位の欠陥を検出している。   2. Description of the Related Art Conventionally, non-destructive inspection apparatuses that can detect defects in an inspection target without destroying the inspection target are known. For example, in Patent Documents 1 and 2, an eddy current is generated in a portion to be inspected of a conductive material, and a defect in the portion to be inspected is detected based on a change in the eddy current. Further, in Patent Document 3 and Non-Patent Document 1, microwaves are irradiated to a region to be inspected of a dielectric material, and a defect in the region to be inspected is detected based on a change in amplitude or phase of the reflected wave. .

これらの非破壊検査装置は、リフトオフの変動によって渦電流や反射波の受信感度が変動することが知られている。なお、リフトオフとは、被検査部位と反射波を受信する受信器との間隔である。受信感度の変動を抑制するため、欠陥検出を行う前にリフトオフを調整するキャリブレーションを行う場合がある。   These non-destructive inspection devices are known to vary in receiving sensitivity of eddy currents and reflected waves due to variations in lift-off. The lift-off is an interval between the part to be inspected and the receiver that receives the reflected wave. In order to suppress fluctuations in reception sensitivity, calibration for adjusting lift-off may be performed before performing defect detection.

例えば、特許文献3では、割れや剥離のない基準部位上に受信器を配置する。さらにリフトオフを変化させながら反射波を受信する。次に図11に示すようにリフトオフ毎の反射波の振幅の中から最小値を求めるとともに、当該最小値に対応するリフトオフd0を設定値とする。欠陥検出を行う際にはリフトオフを設定値d0に維持して被検査部位からの反射波を受信する。受信した反射波の振幅と、基準部位におけるリフトオフd0のときの反射波の振幅の差に基づいて当該被検査部位における欠陥の有無を判定する。   For example, in patent document 3, a receiver is arrange | positioned on the reference | standard site | part without a crack and peeling. Further, the reflected wave is received while changing the lift-off. Next, as shown in FIG. 11, the minimum value is obtained from the amplitude of the reflected wave for each lift-off, and the lift-off d0 corresponding to the minimum value is set as the set value. When performing the defect detection, the lift-off is maintained at the set value d0 and the reflected wave from the inspection site is received. Based on the difference between the amplitude of the received reflected wave and the amplitude of the reflected wave at the lift-off d0 at the reference site, the presence / absence of a defect at the site to be inspected is determined.

特開平9−274017号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-274017 特開2009−2945号公報JP 2009-2945 A 特開平11−281591号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-281590

巨 陽、外2名、「非破壊検査工学最前線」、初版、共立出版株式会社、平成21年7月25日、p. 149―218Kyoyo, two others, “Non-Destructive Inspection Engineering Front Line”, First Edition, Kyoritsu Publishing Co., Ltd., July 25, 2009, p. 149-218

ところで、実際の欠陥検出ではキャリブレーションにより求めた設定値よりも欠陥の検出精度の高いリフトオフが存在する場合がある。図12の点100は無欠陥の被検査部位からの反射波の振幅と基準部位からの反射波の振幅との差を示している。また、点102は欠陥を含む被検査部位からの反射波の振幅と基準部位からの反射波の振幅との差を示している。これらはいずれもリフトオフを設定値d0に設定した場合の反射波である。   By the way, in actual defect detection, there may be a lift-off with higher defect detection accuracy than the set value obtained by calibration. A point 100 in FIG. 12 indicates a difference between the amplitude of the reflected wave from the defect-free inspection site and the amplitude of the reflected wave from the reference site. A point 102 indicates the difference between the amplitude of the reflected wave from the inspected part including the defect and the amplitude of the reflected wave from the reference part. These are all reflected waves when lift-off is set to the set value d0.

一方、点104は点100と同一の被検査部位からの反射波の振幅と基準部位からの反射波の振幅との差を示している。また、点106は点102と同一の被検査部位からの反射波の振幅と基準部位からの反射波の振幅との差を示している。これらはいずれも設定値d0とは異なるリフトオフd1に設定した場合の反射波である。   On the other hand, the point 104 indicates the difference between the amplitude of the reflected wave from the same site to be inspected as the point 100 and the amplitude of the reflected wave from the reference site. Point 106 indicates the difference between the amplitude of the reflected wave from the same part to be inspected as point 102 and the amplitude of the reflected wave from the reference part. These are all reflected waves when the lift-off d1 is different from the set value d0.

図12に示されるように、点100と点102との差異よりも点104と点106との差異の方が大きい。つまり、後者の方が欠陥部位と無欠陥部位との差が大きく表れる。したがって、後者は前者よりも欠陥判定の際に誤判定となるおそれが低い。このように、キャリブレーションによって決定されたリフトオフよりも欠陥の検出精度の高いリフトオフが存在する場合があり、従来の非破壊検査装置には欠陥検出の精度を向上させる余地があった。   As shown in FIG. 12, the difference between the points 104 and 106 is larger than the difference between the points 100 and 102. That is, in the latter, the difference between the defective portion and the non-defective portion is larger. Therefore, the latter is less likely to be erroneously determined in the defect determination than the former. As described above, there may be a lift-off with a defect detection accuracy higher than the lift-off determined by the calibration, and the conventional nondestructive inspection apparatus has room for improving the accuracy of defect detection.

本発明は非破壊検査装置に関するものである。当該非破壊検査装置は、電磁波を出力する送信器と、被検査部位からの前記電磁波の反射波を受信する受信器と、被検査部位と前記受信器の間隔を変更する変位手段と、を備える。さらに、異なる被検査部位について複数の前記間隔毎に前記受信器で受信された反射波の差又は比を用いて当該被検査部位の欠陥の有無を判定する判定部を備える。   The present invention relates to a nondestructive inspection apparatus. The nondestructive inspection apparatus includes a transmitter that outputs an electromagnetic wave, a receiver that receives a reflected wave of the electromagnetic wave from a region to be inspected, and a displacement unit that changes a distance between the region to be inspected and the receiver. . Further, a determination unit is provided that determines the presence / absence of a defect in the inspected part using a difference or ratio of reflected waves received by the receiver at a plurality of intervals for different inspected parts.

また、上記発明において、前記判定部は、前記差又は前記比の最大値が所定の基準値を超過したときに欠陥が有ると判定することが好適である。   In the above invention, it is preferable that the determination unit determines that there is a defect when a maximum value of the difference or the ratio exceeds a predetermined reference value.

また、上記発明において、前記異なる被検査部位の1つは無欠陥部位であることが好適である。   In the above invention, it is preferable that one of the different parts to be inspected is a defect-free part.

また、上記発明において、前記受信器と前記被検査部位との間隔の最大値と最小値の差は前記電磁波の中心波長の0.25倍以上であることが好適である。   In the above invention, it is preferable that the difference between the maximum value and the minimum value of the distance between the receiver and the site to be inspected is 0.25 times or more the center wavelength of the electromagnetic wave.

また、上記発明において、前記受信器と前記被検査部位との間隔の最大値は前記電磁波の中心波長の2倍以下であることが好適である。   Moreover, in the said invention, it is suitable that the maximum value of the space | interval of the said receiver and the said to-be-inspected site | part is 2 times or less of the center wavelength of the said electromagnetic wave.

また、本発明は非破壊検査装置に関するものである。当該非破壊検査装置は、磁束を発生させる励磁手段と、前記磁束の印加により被検査部位に生じた渦電流を検出する検出器と、被検査部位と前記検出器の間隔を変更する変位手段と、を備える。さらに、異なる被検査部位について複数の前記間隔毎に前記検出器で検出された渦電流の差又は比を用いて当該被検査部位の欠陥の有無を判定する判定部を備える。   The present invention also relates to a nondestructive inspection apparatus. The non-destructive inspection apparatus includes an excitation unit that generates magnetic flux, a detector that detects eddy current generated in the inspection site by application of the magnetic flux, and a displacement unit that changes an interval between the inspection site and the detector. . Further, a determination unit is provided that determines the presence / absence of a defect in the inspected part using a difference or ratio of eddy currents detected by the detector at a plurality of intervals for different inspected parts.

本発明によれば、従来よりも欠陥の検出精度を向上させることが可能となる。   According to the present invention, it is possible to improve the accuracy of defect detection as compared with the prior art.

本実施形態にかかる非破壊検査装置を例示する図である。It is a figure which illustrates the nondestructive inspection device concerning this embodiment. アンテナを例示する図である。It is a figure which illustrates an antenna. 欠陥検出工程を説明する図である。It is a figure explaining a defect detection process. 欠陥検出工程を説明する図である。It is a figure explaining a defect detection process. 欠陥検出工程を説明する図である。It is a figure explaining a defect detection process. 欠陥検出工程を説明する図である。It is a figure explaining a defect detection process. 他の実施形態にかかる非破壊検査装置を例示する図である。It is a figure which illustrates the nondestructive inspection device concerning other embodiments. 他の実施形態にかかる非破壊検査装置を例示する図である。It is a figure which illustrates the nondestructive inspection device concerning other embodiments. 他の実施形態にかかる非破壊検査装置を例示する図である。It is a figure which illustrates the nondestructive inspection device concerning other embodiments. 欠陥検出工程を説明する図である。It is a figure explaining a defect detection process. 従来の欠陥検出を説明する図である。It is a figure explaining the conventional defect detection. 従来の欠陥検出を説明する図である。It is a figure explaining the conventional defect detection.

本実施の形態に係る非破壊検査装置を図1に例示する。なお、図1では紙面の左方向に延伸する軸をX軸とし、紙面の上方向に延伸する軸をZ軸とし、紙面の奥行き方向に延伸する軸をY軸とする。非破壊検査装置10は、送信器12、受信器14、三次元移動機構16、演算処理部18及び信号源20を含んで構成される。   A nondestructive inspection apparatus according to this embodiment is illustrated in FIG. In FIG. 1, an axis extending in the left direction on the paper surface is an X axis, an axis extending in the upper direction on the paper surface is a Z axis, and an axis extending in the depth direction on the paper surface is a Y axis. The nondestructive inspection apparatus 10 includes a transmitter 12, a receiver 14, a three-dimensional movement mechanism 16, an arithmetic processing unit 18, and a signal source 20.

送信器12は、検査対象物21の被検査部位22に電磁波を出力する機器である。例えば、送信器12は信号源20に接続されており、信号源20から送信器12に伝送された電磁波が送信器12から出力可能となっている。   The transmitter 12 is a device that outputs an electromagnetic wave to the inspection site 22 of the inspection object 21. For example, the transmitter 12 is connected to the signal source 20, and an electromagnetic wave transmitted from the signal source 20 to the transmitter 12 can be output from the transmitter 12.

受信器14は、被検査部位22から反射された電磁波を受信する機器である。例えば、受信器14は演算処理部18に接続されており、受信器14に受信された反射波は演算処理部18に伝送される。   The receiver 14 is a device that receives an electromagnetic wave reflected from the inspected site 22. For example, the receiver 14 is connected to the arithmetic processing unit 18, and the reflected wave received by the receiver 14 is transmitted to the arithmetic processing unit 18.

なお、送信器12と受信器14を別々の機器から構成してもよいし、一体の機器として構成してもよい。例えば図2に示すように、送信器12と受信器14とを一体化したアンテナ24として両者を構成してもよい。アンテナ24の形状は電磁波の出力及びその反射波の受信が可能な形状であればよく、例えば略円錐形状のホーンアンテナとすることができる。   The transmitter 12 and the receiver 14 may be configured as separate devices or may be configured as an integrated device. For example, as shown in FIG. 2, both may be configured as an antenna 24 in which the transmitter 12 and the receiver 14 are integrated. The antenna 24 may have any shape as long as it can output an electromagnetic wave and receive a reflected wave thereof. For example, the antenna 24 can be a substantially conical horn antenna.

図1に戻り、信号源20は、所望の周波数の電磁波を出力する機器である。例えば、信号源20は、マイクロ波の周波数帯である300MHz以上300GHz以下の電磁波を出力可能であることが好適である。   Returning to FIG. 1, the signal source 20 is a device that outputs an electromagnetic wave having a desired frequency. For example, the signal source 20 is preferably capable of outputting an electromagnetic wave of 300 MHz to 300 GHz, which is a microwave frequency band.

三次元移動機構16は、アンテナ24と検査対象物21との相対位置を変更することの可能な変位手段である。例えば、三次元移動機構16は、ベース26、Xステージ28、Yステージ30、Zリフト32及び固定ステージ41を備えている。Xステージ28はベース26に対してX軸方向に移動可能な部材である。具体的にはXステージ28はベース26上に配置されるとともにXステージ移動用モータ34によって移動可能となっている。Yステージ30はベース26に対してY軸方向に移動可能な部材である。具体的にはYステージ30はXステージ28上に配置されるとともにYステージ移動用モータ36によって移動可能となっている。また、Zリフト32はベース26に対してZ軸方向に移動可能な部材である。具体的にはZリフト32はYステージ30から延伸するアーム38に保持されるとともにZリフト移動用モータ40によって移動可能となっている。さらに、Zリフト32の先端には保持部39が設けられている。   The three-dimensional moving mechanism 16 is a displacing means that can change the relative position between the antenna 24 and the inspection object 21. For example, the three-dimensional movement mechanism 16 includes a base 26, an X stage 28, a Y stage 30, a Z lift 32, and a fixed stage 41. The X stage 28 is a member that can move in the X-axis direction with respect to the base 26. Specifically, the X stage 28 is disposed on the base 26 and can be moved by an X stage moving motor 34. The Y stage 30 is a member that can move in the Y-axis direction with respect to the base 26. Specifically, the Y stage 30 is disposed on the X stage 28 and can be moved by a Y stage moving motor 36. The Z lift 32 is a member that can move in the Z-axis direction with respect to the base 26. Specifically, the Z lift 32 is held by an arm 38 extending from the Y stage 30 and can be moved by a Z lift moving motor 40. Further, a holding portion 39 is provided at the tip of the Z lift 32.

固定ステージ41は、保持部39の移動可能範囲内に設けられている。保持部39と固定ステージ41の一方がアンテナ24を保持し、他方が検査対象物21を保持する。検査対象物21の種類や大きさによってはその重量が保持部39の保持可能な最大重量を超過する場合もあることから、保持部39にアンテナ24を保持させることが好適である。   The fixed stage 41 is provided within a movable range of the holding unit 39. One of the holding unit 39 and the fixed stage 41 holds the antenna 24, and the other holds the inspection object 21. Depending on the type and size of the inspection object 21, the weight may exceed the maximum weight that can be held by the holding unit 39. Therefore, it is preferable that the holding unit 39 holds the antenna 24.

演算処理部18は、三次元移動機構16、アンテナ24及び信号源20に接続されている。演算処理部18は、これらの機器から送られた信号の演算処理を行ったり、これらの機器に対して制御信号を送信する機器である。演算処理部18は記憶部42と演算部44を含んで構成されている。記憶部42には、例えば、アンテナ24の移動経路や後述する基準部位における反射波のデータ等が記憶されている。記憶部42はこれらの情報を記憶可能な機器であればよく、例えばROMやRAM、EPROM、ハードディスク装置等の1つまたは複数の組み合わせから構成することができる。   The arithmetic processing unit 18 is connected to the three-dimensional movement mechanism 16, the antenna 24, and the signal source 20. The arithmetic processing unit 18 is a device that performs arithmetic processing on signals sent from these devices and transmits control signals to these devices. The calculation processing unit 18 includes a storage unit 42 and a calculation unit 44. The storage unit 42 stores, for example, the movement path of the antenna 24 and the reflected wave data at a reference portion described later. The storage unit 42 may be any device capable of storing such information, and may be configured by one or a plurality of combinations such as a ROM, a RAM, an EPROM, and a hard disk device.

演算部44は、アンテナ24の位置を制御するための制御信号を演算する機器である。例えば、アンテナ24を所望の位置に移動させるためのX軸方向、Y軸方向、Z軸方向の変位量を算出するとともに、Xステージ移動用モータ34、Yステージ移動用モータ36、Zリフト移動用モータ40に対して各変位量に応じた駆動信号を送信可能となっている。また、演算部44は、後述する被検査部位22の欠陥判定を行う判定部の機能も有する。演算部44はこれらの演算処理や判定処理が可能な機器であればよく、例えばマイクロコンピュータユニットを含んで構成されている。   The calculation unit 44 is a device that calculates a control signal for controlling the position of the antenna 24. For example, the amount of displacement in the X-axis direction, Y-axis direction, and Z-axis direction for moving the antenna 24 to a desired position is calculated, and the X-stage moving motor 34, the Y-stage moving motor 36, and the Z-lift moving A drive signal corresponding to each displacement amount can be transmitted to the motor 40. In addition, the calculation unit 44 also has a function of a determination unit that performs defect determination of the inspected part 22 described later. The calculation unit 44 may be any device that can perform these calculation processes and determination processes, and includes, for example, a microcomputer unit.

次に、本実施の形態における非破壊検査装置10の欠陥検出工程について説明する。図3〜図5に示すように、欠陥検出工程は大きく分けて、基準反射波の取得工程S100、被検査反射波の取得工程S200、及び欠陥判定工程S300の処理を含んで構成される。なお、工程S100と工程S200の順番は入れ替えてもよい。   Next, the defect detection process of the nondestructive inspection apparatus 10 in this Embodiment is demonstrated. As shown in FIGS. 3 to 5, the defect detection process is roughly divided into a reference reflected wave acquisition process S100, an inspection reflected wave acquisition process S200, and a defect determination process S300. In addition, you may replace the order of process S100 and process S200.

図3に示すように、演算部44は、工程S100において基準部位から反射した基準反射波を取得する。ここで、基準部位とは、表面や内部における欠陥の有無が他の非破壊検査手段や破壊を伴う検査手段等により予め分かっている部位である。例えば、基準部位は、表面や内部に欠陥のない(無欠陥の)標準試料等の部位とする。演算部44は、基準部位に対するリフトオフを変更させてリフトオフ毎に基準反射波を取得する。ここで、リフトオフとは電磁波が反射する反射部位とアンテナ24との間隔を指している。基準反射波の取得は非破壊検査装置10で行ってもよく、アンテナ24と基準部位とのリフトオフの変更が可能な他の装置やシミュレーション等によって求めてもよい。   As shown in FIG. 3, the calculating part 44 acquires the reference | standard reflected wave reflected from the reference | standard site | part in process S100. Here, the reference site is a site in which the presence or absence of defects on the surface or inside is known in advance by other non-destructive inspection means, inspection means with destruction, or the like. For example, the reference part is a part of a standard sample or the like having no defects on the surface or inside (no defect). The calculation unit 44 changes the lift-off with respect to the reference part and acquires the reference reflected wave for each lift-off. Here, the lift-off refers to the distance between the antenna 24 and the reflection part where the electromagnetic wave is reflected. The reference reflected wave may be acquired by the nondestructive inspection apparatus 10 or may be obtained by another apparatus or simulation that can change the lift-off between the antenna 24 and the reference portion.

まず、演算部44は、リフトオフが予め定めた初期値DIとなるように基準部位に対するアンテナ24の位置を定める(S102)。例えば、基準部位にアンテナ24を接触させ(リフトオフ=0)、その後、Zリフト移動用モータ40を駆動させる。このとき、Zリフト移動用モータ40の回転数からリフトオフを算出することでリフトオフを初期値DIに設定する。例えば、リフトオフの初期値は0.5mmとする。その後、アンテナ24から電磁波を照射する。このとき、基準部位からの反射波(基準反射波)がアンテナ24に受信される(S104)。 First, the arithmetic unit 44 determines the position of the antenna 24 with respect to the reference site such that the initial value D I lift-off is predetermined (S102). For example, the antenna 24 is brought into contact with the reference portion (lift-off = 0), and then the Z lift movement motor 40 is driven. In this case, to set the liftoff to the initial value D I by calculating the lift-off from the rotational speed of the Z lift moving motor 40. For example, the initial value of lift-off is 0.5 mm. Thereafter, electromagnetic waves are irradiated from the antenna 24. At this time, the reflected wave from the reference part (reference reflected wave) is received by the antenna 24 (S104).

さらに、演算部44は、リフトオフが予め定めた最大リフトオフに到達したか否かを判定する(S106)。最大リフトオフに到達していない場合は、リフトオフを予め定めたピッチ分だけ増加させて、基準部位からアンテナ24を離間させる(S108)。例えばZリフト移動用モータ40を所定の回転数だけ駆動させてリフトオフを増加させる。リフトオフ増加後にステップS104に戻り、増加後のリフトオフにおける基準反射波を受信する。このようにして最大リフトオフに到達するまで基準反射波を受信する。受信された反射波はリフトオフ毎に記憶部42に記憶される。   Further, the calculation unit 44 determines whether or not the lift-off has reached a predetermined maximum lift-off (S106). If the maximum lift-off has not been reached, the lift-off is increased by a predetermined pitch, and the antenna 24 is separated from the reference portion (S108). For example, the lift-off is increased by driving the Z lift movement motor 40 by a predetermined number of revolutions. After the lift-off increases, the process returns to step S104, and the reference reflected wave in the lift-off after the increase is received. In this way, the reference reflected wave is received until the maximum lift-off is reached. The received reflected wave is stored in the storage unit 42 every lift-off.

次に、図4に示すように、演算部44は、工程S200において被検査部位22から反射した被検査反射波を取得する。次に、作業者等によりアンテナ24のX軸方向及びY軸方向の移動範囲が演算処理部18に入力される(S202)。さらに、この移動範囲に基づいてアンテナ24のX−Y平面上の移動に関する始点、終点及び移動経路が決定される。   Next, as shown in FIG. 4, the calculation unit 44 acquires the reflected wave to be inspected reflected from the inspected site 22 in step S <b> 200. Next, the movement range of the antenna 24 in the X-axis direction and the Y-axis direction is input to the arithmetic processing unit 18 by an operator or the like (S202). Furthermore, the start point, end point, and movement path for the movement of the antenna 24 on the XY plane are determined based on this movement range.

次に、演算部44は、X座標及びY座標の始点にアンテナ24を移動させる(S204)。続いて、演算部44は、被検査部位22に対するアンテナ24のリフトオフを初期値DIに設定する(S206)。その後、アンテナ24から電磁波が照射されるとともに被検査部位22からの反射波(被検査反射波)がアンテナ24に受信される(S208)。 Next, the calculation unit 44 moves the antenna 24 to the start point of the X coordinate and the Y coordinate (S204). Subsequently, the arithmetic unit 44 sets the lift-off of the antenna 24 with respect to the test region 22 to the initial value D I (S206). Thereafter, an electromagnetic wave is irradiated from the antenna 24 and a reflected wave (inspected reflected wave) from the inspection site 22 is received by the antenna 24 (S208).

さらに、演算部44は、リフトオフが予め定めた最大リフトオフに到達したか否かを判定する(S210)。到達していない場合は、演算部44はZリフト移動用モータ40を駆動させて、基準反射波を取得したときと同一のピッチ分だけリフトオフを増加させ、被検査部位22からアンテナ24を離間させる(S212)。ここで、同一とは完全な同一のみに限られず、機械的な誤差も含むものとする。例えば所定のピッチに対して10%以下の誤差を含むものとする。リフトオフを増加させた後、ステップS208に戻る。   Further, the calculation unit 44 determines whether or not the lift-off has reached a predetermined maximum lift-off (S210). If not reached, the calculation unit 44 drives the Z lift movement motor 40 to increase the lift-off by the same pitch as when the reference reflected wave is acquired, thereby separating the antenna 24 from the site 22 to be examined. (S212). Here, it is assumed that the same is not limited to completely the same, but includes a mechanical error. For example, it is assumed that an error of 10% or less with respect to a predetermined pitch is included. After increasing the lift-off, the process returns to step S208.

また、ステップS210においてリフトオフが最大リフトオフに到達した場合はアンテナ24を次の被検査部位に移動させる。すなわち、演算部44は、アンテナ24がX軸座標及びY軸座標の終点座標に到達しているか否かを判定する(S214)。到達していない場合は、演算部44は予め定めたピッチ分アンテナ24をX軸方向及びY軸方向の少なくとも一方向に移動させる(S216)。さらに、移動後の被検査部位においてステップS206−S214を繰り返す。このようにしてすべての被検査部位に亘って反射波を取得する。受信された被検査反射波は、X座標、Y座標及びリフトオフ別に記憶部42に記憶される。   If the lift-off reaches the maximum lift-off in step S210, the antenna 24 is moved to the next site to be examined. That is, the calculation unit 44 determines whether or not the antenna 24 has reached the end point coordinates of the X axis coordinate and the Y axis coordinate (S214). If not reached, the calculation unit 44 moves the antenna 24 by a predetermined pitch in at least one direction of the X-axis direction and the Y-axis direction (S216). Further, steps S206 to S214 are repeated in the inspected site after the movement. In this way, the reflected wave is acquired over all the parts to be inspected. The received reflected wave to be inspected is stored in the storage unit 42 for each X coordinate, Y coordinate, and lift-off.

基準反射波及び被検査反射波の取得が完了すると、演算部44は欠陥判定工程S300(図5)を実行する。演算部44は、X座標及びY座標の始点における被検査部位22のリフトオフ毎の被検査反射波データを記憶部42から呼び出す(S302)。さらに、演算部44は、リフトオフ毎の基準反射波データを記憶部42から呼び出す(S304)。次に、演算部44は、同一のリフトオフ別に基準反射波と被検査反射波の差を求める(S306)。例えば、両反射波の振幅の差を求める。   When the acquisition of the reference reflected wave and the reflected wave to be inspected is completed, the calculation unit 44 executes the defect determination step S300 (FIG. 5). The calculation unit 44 calls the inspection reflected wave data for each lift-off of the region to be inspected 22 at the start point of the X coordinate and the Y coordinate from the storage unit 42 (S302). Furthermore, the calculating part 44 calls the reference | standard reflected wave data for every lift-off from the memory | storage part 42 (S304). Next, the calculation unit 44 obtains the difference between the reference reflected wave and the reflected wave to be inspected for the same lift-off (S306). For example, the difference between the amplitudes of both reflected waves is obtained.

図6に、基準反射波と被検査反射波の振幅の差分値をプロットしたグラフを示す。なお、グラフの横軸はリフトオフであり、縦軸は振幅の差分値である。図6では、予め無欠陥と判明している被検査部位22からの被検査反射波と基準反射波の振幅の差分値がリフトオフ毎に塗りつぶし四角プロット(■)で示されている。また、欠陥を含む被検査部位22からの被検査反射波と基準反射波の振幅の差分値がリフトオフ毎に白抜き丸プロット(○)で示されている。図6に示されるように、無欠陥の被検査部位22からの被検査反射波と基準反射波の振幅の差分に比べて、欠陥を含む被検査部位22からの被検査反射波と基準反射波の振幅の差分は大きく変動する傾向を示す。   FIG. 6 shows a graph in which the difference value between the amplitudes of the reference reflected wave and the reflected wave to be inspected is plotted. The horizontal axis of the graph is lift-off, and the vertical axis is the amplitude difference value. In FIG. 6, the difference value between the amplitudes of the reflected wave to be inspected and the reference reflected wave from the inspected site 22 that has been known to be defect-free in advance is shown as a filled square plot (■) for each lift-off. Further, the difference value between the amplitudes of the reflected wave to be inspected and the reference reflected wave from the inspected site 22 including the defect is indicated by a white circle plot (◯) for each lift-off. As shown in FIG. 6, compared to the difference in amplitude between the reflected wave to be inspected from the defect-free inspected part 22 and the reference reflected wave, the reflected wave to be inspected and the reference reflected wave from the inspected part 22 including the defect. The difference in amplitudes of these tends to vary greatly.

演算部44は、この差分値の変動傾向を利用して被検査部位22の欠陥の有無を判定する(図5のS308)。例えば、演算部44は、無欠陥の被検査部位22からの被検査反射波の振幅S1と基準反射波の振幅S0の差分値ΔS01をリフトオフ毎に求める。さらに。差分値ΔS01の最大値ΔS01#MAXを基準値ΔSTh0として設定する。続いて、演算部44は、欠陥検出対象の被検査部位22からの被検査反射波の振幅S2と基準反射波の振幅S0の差分値ΔS02をリフトオフ毎に求める。さらに、差分値ΔS02のいずれかの値(例えば最大値ΔS02#MAX)が基準値ΔSTh0を超えた場合に、当該被検査部位22は欠陥を含むものと判定する(図5のS310、S312)。なお、図6に示すように、基準値ΔSTh0は最大値ΔS01#MAXより大きい値としてもよい。例えば、基準値ΔSTh0は、最大値ΔS01#MAXの1.2倍の値としてもよい。 The computing unit 44 determines the presence / absence of a defect in the inspected part 22 using the variation tendency of the difference value (S308 in FIG. 5). For example, the calculation unit 44 obtains a difference value ΔS 01 between the amplitude S 1 of the reflected wave to be inspected from the defect-free inspection site 22 and the amplitude S 0 of the reference reflected wave for each lift-off. further. The maximum value ΔS 01 # MAX of the difference value ΔS 01 is set as the reference value ΔS Th0 . Subsequently, the calculation unit 44 obtains a difference value ΔS 02 between the amplitude S 2 of the reflected wave to be inspected from the inspection target part 22 to be detected and the amplitude S 0 of the reference reflected wave for each lift-off. Further, when any value of the difference value ΔS 02 (for example, the maximum value ΔS 02 # MAX ) exceeds the reference value ΔS Th0 , it is determined that the inspected site 22 includes a defect (S310, FIG. 5). S312). As shown in FIG. 6, the reference value ΔS Th0 may be larger than the maximum value ΔS 01 # MAX . For example, the reference value ΔS Th0 may be a value that is 1.2 times the maximum value ΔS 01 # MAX .

または、差分値ΔS01の最大値と最小値の差を基準値ΔSTh1として設定してもよい。この場合は、差分値ΔS02の最大値と最小値の差が基準値ΔSTh1を超えた場合に、被検査部位22は欠陥を含むものと判定する。 Alternatively, the difference between the maximum value and the minimum value of the difference value ΔS 01 may be set as the reference value ΔS Th1 . In this case, when the difference between the maximum value and the minimum value of the difference value ΔS 02 exceeds the reference value ΔS Th1 , the inspected part 22 is determined to include a defect.

なお、基準反射波と被検査反射波の振幅の差を用いて欠陥判定を行う代わりに、基準反射波とその入射波の位相差と、被検査反射波とその入射波の位相差との差分を用いて欠陥判定を用いてもよい。例えば、無欠陥の被検査部位22からの被検査反射波とその入射波との位相差φ1と、基準反射波とその入射波との位相差φ0の差分Δφ01をリフトオフ毎に求める。さらに、差分Δφ01の最大値または最大値より大きい値を基準値ΔφTh0として設定する。または、差分Δφ01の最大値と最小値の差を基準値ΔφTh1として設定する。この場合において、演算部44は、欠陥検出対象の被検査部位22からの被検査反射波とその入射波の位相差φ2と、基準反射波とその入射波の位相差φ0の差分Δφ02をリフトオフ毎に求める。さらに差分Δφ02のいずれかの値が基準値ΔφTh0を超えた場合に、当該被検査部位22が欠陥を含むものと判定する。または、差分Δφ02の最大値と最小値の差が基準値ΔφTh1を超えた場合に、当該被検査部位22は欠陥を含むものと判定する。 Instead of performing defect determination using the difference in amplitude between the reference reflected wave and the reflected wave to be inspected, the difference between the phase difference between the reference reflected wave and the incident wave, and the phase difference between the reflected wave to be inspected and the incident wave. Defect determination may be used using For example, the inspection reflected waves from the examination site 22 of defect-free and the phase difference phi 1 between the incident wave, obtains a difference [Delta] [phi 01 of the phase difference phi 0 reference reflected wave and the incident wave for each lift. Further, the maximum value of the difference Δφ 01 or a value larger than the maximum value is set as the reference value Δφ Th0 . Alternatively, the difference between the maximum value and the minimum value of the difference Δφ 01 is set as the reference value Δφ Th1 . In this case, the calculation unit 44 determines the difference Δφ 02 between the phase difference φ 2 between the reflected wave to be inspected from the inspection target part 22 to be detected and the incident wave, and the phase difference φ 0 between the reference reflected wave and the incident wave. For each lift-off. Further, when any value of the difference Δφ 02 exceeds the reference value Δφ Th0 , it is determined that the inspected part 22 includes a defect. Or, if the difference between the maximum value and the minimum value of the difference [Delta] [phi 02 exceeds the reference value [Delta] [phi Th1, the examination site 22 determines that contain defects.

さらに、被検査反射波と基準反射波の差を用いる代わりに、被検査反射波と基準反射波の比を用いてもよい。例えば、無欠陥の被検査部位22からの被検査反射波の振幅S1と基準反射波の振幅S0の比S1/S0をリフトオフ毎に求める。さらに比S1/S0の最大値または最大値より大きい値を基準値STh0として設定する。または、比S1/S0の最大値と最小値の差を基準値STh1として設定する。この場合において、演算部44は、欠陥検出対象の被検査部位22からの被検査反射波の振幅S2と基準反射波の振幅S0の比S2/S0をリフトオフ毎に求める。さらに比S2/S0のいずれかの値が基準値STh0を超えた場合に、当該被検査部位22が欠陥を含むものと判定する。または、比S2/S0の最大値と最小値の差が当該基準値STh1を超えた場合に、当該被検査部位は欠陥を含むものと判定する。 Furthermore, instead of using the difference between the reflected wave to be inspected and the reference reflected wave, the ratio of the reflected wave to be inspected and the reference reflected wave may be used. For example, the ratio S 1 / S 0 of the amplitude S 1 of the reflected wave to be inspected from the defect-free inspected site 22 and the amplitude S 0 of the reference reflected wave is obtained for each lift-off. Further, the maximum value of the ratio S 1 / S 0 or a value larger than the maximum value is set as the reference value S Th0 . Alternatively, the difference between the maximum value and the minimum value of the ratio S 1 / S 0 is set as the reference value S Th1 . In this case, the calculation unit 44 obtains the ratio S 2 / S 0 between the amplitude S 2 of the reflected wave to be inspected and the amplitude S 0 of the reference reflected wave from the inspection target part 22 to be detected for each lift-off. Further, when any value of the ratio S 2 / S 0 exceeds the reference value S Th0 , it is determined that the inspected part 22 includes a defect. Alternatively , when the difference between the maximum value and the minimum value of the ratio S 2 / S 0 exceeds the reference value S Th1 , it is determined that the inspected part includes a defect.

また、被検査反射波とその入射波の位相差と基準反射波とその入射波の位相差の比を用いてもよい。例えば、無欠陥の被検査部位22からの被検査反射波とその入射波の位相差φ1と、基準反射波とその入射波の位相差φ0の比φ1/φ0をリフトオフ毎に求める。さらに、比φ1/φ0の最大値または最大値より大きい値を基準値STh0として設定する。または、比φ1/φ0の最大値と最小値の差を基準値STh1として設定する。この場合において、演算部44は、欠陥検出対象の被検査部位22からの被検査反射波とその入射波の位相差φ2と、基準反射波とその入射波の位相差φ0の比φ2/φ0をリフトオフ毎に求める。さらに、比φ2/φ0のいずれかの値が基準値STh0を超えた場合に、当該被検査部位22が欠陥を含むものと判定する。または、比φ2/φ0の最大値と最小値の差が基準値STh1を超えた場合に、当該被検査部位は欠陥を含むものと判定する。 Further, the phase difference between the reflected wave to be inspected and its incident wave and the ratio of the phase difference between the reference reflected wave and its incident wave may be used. For example, the phase difference φ 1 between the reflected wave to be inspected from the defect-free inspection site 22 and its incident wave, and the ratio φ 1 / φ 0 between the reference reflected wave and the phase difference φ 0 of the incident wave are obtained for each lift-off. . Further, the maximum value of the ratio φ 1 / φ 0 or a value larger than the maximum value is set as the reference value S Th0 . Alternatively, the difference between the maximum value and the minimum value of the ratio φ 1 / φ 0 is set as the reference value S Th1 . In this case, the calculation unit 44 has a ratio φ 2 of the phase difference φ 2 between the reflected wave to be inspected and the incident wave from the inspection target part 22 to be detected, and the phase difference φ 0 between the reference reflected wave and the incident wave. / Φ 0 is obtained for each lift-off. Further, when any value of the ratio φ 2 / φ 0 exceeds the reference value S Th0 , it is determined that the inspected site 22 includes a defect. Alternatively , when the difference between the maximum value and the minimum value of the ratio φ 2 / φ 0 exceeds the reference value S Th1 , it is determined that the inspection site includes a defect.

さらに、演算部44は判定結果をX座標及びY座標別に記憶部42に記憶する(図5のS314)。さらに演算部44は被検査反射波のX座標及びY軸座標が終点座標に到達しているか否かを判定する(S316)。到達していない場合は、演算部44は、X座標及びY軸座標の少なくとも一方を変更する(S318)。変更後、つまり他の被検査部位についてステップS306〜S316を繰り返す。このようにして被検査部位全体に亘って欠陥の有無が判定される。   Furthermore, the calculating part 44 memorize | stores the determination result in the memory | storage part 42 according to X coordinate and Y coordinate (S314 of FIG. 5). Further, the calculation unit 44 determines whether or not the X coordinate and Y axis coordinate of the reflected wave to be inspected have reached the end point coordinate (S316). If not, the calculation unit 44 changes at least one of the X coordinate and the Y axis coordinate (S318). After the change, that is, steps S306 to S316 are repeated for other parts to be examined. In this way, the presence or absence of a defect is determined over the entire inspection site.

なお、図6に示されるように、被検査部位22からの被検査反射波と基準反射波の振幅の差分値の変動には周期性がある。変動周期は、アンテナ24から照射される電磁波の中心波長の半波長とほぼ一致する。このことから、リフトオフの最小値(初期値)と最大値の差は少なくとも電磁波の中心波長の1/4波長以上なければ1周期中の極大値と極小値を得ることは困難となる。したがって、リフトオフの最小値と最大値との差はアンテナ24から照射される電磁波の中心波長の0.25倍以上とすることが好適である。   Note that, as shown in FIG. 6, fluctuations in the difference value of the amplitudes of the reflected wave to be inspected and the reference reflected wave from the region to be inspected 22 have periodicity. The fluctuation period substantially coincides with the half wavelength of the central wavelength of the electromagnetic wave emitted from the antenna 24. From this, it is difficult to obtain a local maximum value and a local minimum value in one cycle unless the difference between the minimum value (initial value) and the maximum value of lift-off is at least a quarter wavelength or more of the center wavelength of the electromagnetic wave. Therefore, the difference between the minimum value and the maximum value of lift-off is preferably 0.25 times or more the center wavelength of the electromagnetic wave emitted from the antenna 24.

また、図6に示されているように、リフトオフが大きくなるに従って差分値の振幅が減衰し、リフトオフの最大値では欠陥を含む場合の差分値(■)と欠陥を含まない場合の差分値(○)の差異が小さくなる。このことから、両者の差異が判別可能な範囲でリフトオフの最大値を定めることが好適である。図6ではリフトオフの最大値を電磁波の中心波長の2倍の値に設定しており、その最大値周辺においては欠陥を含む場合の差分値と無欠陥の差分値との差異が相対的に小さくなっている。このことから、アンテナ24から照射される電磁波の中心波長の2倍以下となるようにリフトオフの最大値を設定することが好適である。   Further, as shown in FIG. 6, the amplitude of the difference value is attenuated as the lift-off increases, and the difference value (■) when the defect is included and the difference value (when the defect is not included) at the maximum value of the lift-off ( The difference in ○) becomes smaller. For this reason, it is preferable to determine the maximum value of lift-off within a range in which the difference between the two can be discriminated. In FIG. 6, the maximum value of lift-off is set to a value twice the center wavelength of the electromagnetic wave, and the difference between the difference value when there is a defect and the difference value without defect is relatively small around the maximum value. It has become. For this reason, it is preferable to set the maximum value of the lift-off so that the center wavelength of the electromagnetic wave irradiated from the antenna 24 is twice or less.

なお、上述の実施の形態においては、基準反射波と被検査反射波とを個別に取得していたが、同時に取得するようにしてもよい。例えば、図7に示すようにアンテナ24a、24b、Zリフト32a、32b及びZリフト駆動用モータ40a、40bを設けて同時に2つの被検査部位22a、22bを検査可能としてもよい。この場合、いずれか一方の反射波を基準反射波として、他方を被検査反射波としてもよい。   In the above-described embodiment, the reference reflected wave and the reflected wave to be inspected are acquired separately, but may be acquired simultaneously. For example, as shown in FIG. 7, antennas 24a and 24b, Z lifts 32a and 32b, and Z lift drive motors 40a and 40b may be provided so that two inspected parts 22a and 22b can be inspected simultaneously. In this case, any one of the reflected waves may be a reference reflected wave, and the other may be a reflected wave to be inspected.

また、上述した実施の形態では被検査部位22に電磁波を照射して反射波を取得することで被検査部位22の欠陥を検出していたが、この形態に限られない。例えば図8に示すように渦電流を用いて欠陥検出を行ってもよい。   Moreover, in embodiment mentioned above, although the defect of the to-be-inspected part 22 was detected by irradiating the to-be-inspected part 22 with an electromagnetic wave and acquiring a reflected wave, it is not restricted to this form. For example, defect detection may be performed using eddy current as shown in FIG.

非破壊検査装置10は、コイル60、検出回路62及び電源64を含んで構成されている。コイル60は、被検査部位22に磁束を印加する励磁手段である。コイル60は電源64に接続されており、電源64から所定の周波数の交流電流が送られる。検出回路62は、被検査部位22の渦電流の変化を検出可能な回路である。検出回路62は、例えば、図9に示すように、コイル60、インピーダンスZ1〜Z3及び増幅回路66を含んだブリッジ回路から構成される。   The nondestructive inspection apparatus 10 includes a coil 60, a detection circuit 62, and a power source 64. The coil 60 is an excitation unit that applies a magnetic flux to the part 22 to be inspected. The coil 60 is connected to a power source 64, and an alternating current having a predetermined frequency is sent from the power source 64. The detection circuit 62 is a circuit that can detect a change in eddy current at the site 22 to be inspected. For example, as shown in FIG. 9, the detection circuit 62 includes a bridge circuit including a coil 60, impedances Z <b> 1 to Z <b> 3, and an amplifier circuit 66.

渦電流を用いた欠陥検出について説明する。電源64から交流電流がコイル60に送られると、コイル60に変動磁界が発生する。この状態でコイル60を被検査部位22に近づけると、コイル60に生じた変動磁界を受けて被検査部位22の表面に渦電流が発生する。その結果、コイル60を流れる電流が変化する。無欠陥の被検査部位22と欠陥を含む被検査部位22とでは渦電流の流れが異なり、コイル60の電流変化も異なるものとなる。この電流変化を検出回路62で検出するとともに検出された電流変化に基づいて欠陥の有無を判定する。   Defect detection using eddy current will be described. When an alternating current is sent from the power supply 64 to the coil 60, a variable magnetic field is generated in the coil 60. When the coil 60 is brought close to the part to be inspected 22 in this state, an eddy current is generated on the surface of the part to be inspected 22 due to the varying magnetic field generated in the coil 60. As a result, the current flowing through the coil 60 changes. The eddy current flows differently between the defect-free inspection region 22 and the inspection region 22 including the defect, and the current change of the coil 60 is also different. The current change is detected by the detection circuit 62, and the presence or absence of a defect is determined based on the detected current change.

本実施の形態では、基準部位とコイル60とのリフトオフを変更させて検出回路62を流れる基準電流値をリフトオフ毎に検出する。さらに、被検査部位22とコイル60とのリフトオフを変更させて検出回路62を流れる被検査電流値をリフトオフ毎に検出する。さらに同一のリフトオフ毎に基準電流値と被検査電流値の差または比を算出する。   In the present embodiment, the reference current value flowing through the detection circuit 62 is detected for each lift-off by changing the lift-off between the reference region and the coil 60. Furthermore, the current value to be inspected flowing through the detection circuit 62 is detected for each lift-off by changing the lift-off between the part 22 to be inspected and the coil 60. Further, the difference or ratio between the reference current value and the current value to be inspected is calculated for each same lift-off.

図10には、無欠陥の被検査部位22における被検査電流値と基準電流値との差分値70と、欠陥を含む被検査部位22における被検査電流値と基準電流値との差分値72をリフトオフ別に示したグラフが示されている。この図に示されているように、後者の差分値は前者の差分値と比較して大きく変動する傾向を示す。演算部44はこの変動傾向を利用して被検査部位22の欠陥の有無を判定する。例えば上述した実施形態と同様にして、リフトオフ毎に求めた基準電流値と被検査電流値の差分値(または比)の最大値に対して基準値を設定してもよい。または当該差分値または比の最大値と最小値の差に対して基準値を設定してもよい。この場合、欠陥検出対象の被検査部位22から生じた被検査電流値と基準電流値のリフトオフ毎の差分値(または比)の最大値、または最大値と最小値の差が当該基準値を超過した場合に、当該被検査部位22は欠陥を含むものと判定する。   FIG. 10 shows a difference value 70 between the current value to be inspected and the reference current value in the inspected part 22 having no defect, and a difference value 72 between the current value to be inspected in the inspected part 22 including the defect and the reference current value. A graph is shown for each lift-off. As shown in this figure, the latter difference value tends to vary greatly compared to the former difference value. The computing unit 44 determines the presence / absence of a defect in the inspected site 22 using this variation tendency. For example, as in the above-described embodiment, the reference value may be set with respect to the maximum value of the difference value (or ratio) between the reference current value obtained every lift-off and the current value to be inspected. Alternatively, a reference value may be set for a difference between the maximum value and the minimum value of the difference value or ratio. In this case, the maximum value or difference between the maximum value and the minimum value of the difference value (or ratio) for each lift-off between the current value to be inspected and the reference current value generated from the inspection target part 22 to be detected exceeds the reference value. In this case, it is determined that the inspection site 22 includes a defect.

10 非破壊検査装置、12 送信器、14 受信器、16 三次元移動機構、18 演算処理部、20 信号源、21 検査対象物、22 被検査部位、24 アンテナ、26 ベース、28 Xステージ、30 Yステージ、32 Zリフト、34 Xステージ移動用モータ、36 Yステージ移動用モータ、38 アーム、39 保持部、40 Zリフト移動用モータ、41 固定ステージ、42 記憶部、44 演算部、60 コイル、62 検出回路、64 電源、66 増幅回路。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Nondestructive inspection apparatus, 12 Transmitter, 14 Receiver, 16 Three-dimensional movement mechanism, 18 Computation processing part, 20 Signal source, 21 Inspection object, 22 Inspected part, 24 Antenna, 26 Base, 28 X stage, 30 Y stage, 32 Z lift, 34 X stage moving motor, 36 Y stage moving motor, 38 arm, 39 holding unit, 40 Z lift moving motor, 41 fixed stage, 42 storage unit, 44 computing unit, 60 coil, 62 detection circuit, 64 power supply, 66 amplification circuit.

Claims (6)

電磁波を出力する送信器と、
被検査部位からの前記電磁波の反射波を受信する受信器と、
被検査部位と前記受信器の間隔を変更する変位手段と、
異なる被検査部位について複数の前記間隔毎に前記受信器で受信された反射波の差又は比を用いて当該被検査部位の欠陥の有無を判定する判定部と、
を備えることを特徴とする非破壊検査装置。
A transmitter that outputs electromagnetic waves;
A receiver for receiving the reflected wave of the electromagnetic wave from the site to be examined;
Displacement means for changing the distance between the inspected part and the receiver;
A determination unit that determines the presence or absence of a defect in the inspected part using a difference or ratio of reflected waves received by the receiver at a plurality of intervals for different inspected parts,
A nondestructive inspection apparatus comprising:
請求項1記載の非破壊検査装置であって、
前記判定部は、前記差又は前記比の最大値が所定の基準値を超過したときに欠陥が有ると判定することを特徴とする非破壊検査装置。
The nondestructive inspection apparatus according to claim 1,
The nondestructive inspection apparatus, wherein the determination unit determines that there is a defect when a maximum value of the difference or the ratio exceeds a predetermined reference value.
請求項1又は2記載の非破壊検査装置であって、
前記異なる被検査部位の1つは無欠陥部位であることを特徴とする非破壊検査装置。
The nondestructive inspection device according to claim 1 or 2,
One of the different parts to be inspected is a non-destructive part.
請求項1〜3のいずれか1項記載の非破壊検査装置であって、
前記受信器と前記被検査部位との間隔の最大値と最小値の差は前記電磁波の中心波長の0.25倍以上であることを特徴とする非破壊検査装置。
It is a nondestructive inspection device given in any 1 paragraph of Claims 1-3,
A non-destructive inspection apparatus, wherein a difference between a maximum value and a minimum value of a distance between the receiver and the site to be inspected is 0.25 times or more a center wavelength of the electromagnetic wave.
請求項1〜4のいずれか1項記載の非破壊検査装置であって、
前記受信器と前記被検査部位との間隔の最大値は前記電磁波の中心波長の2倍以下であることを特徴とする非破壊検査装置。
The nondestructive inspection device according to any one of claims 1 to 4,
The nondestructive inspection apparatus, wherein the maximum value of the distance between the receiver and the part to be inspected is not more than twice the center wavelength of the electromagnetic wave.
磁束を発生させる励磁手段と、
前記磁束の印加により被検査部位に生じた渦電流を検出する検出器と、
被検査部位と前記検出器の間隔を変更する変位手段と、
異なる被検査部位について複数の前記間隔毎に前記検出器で検出された渦電流の差又は比を用いて当該被検査部位の欠陥の有無を判定する判定部と、
を備えることを特徴とする非破壊検査装置。
Excitation means for generating magnetic flux;
A detector for detecting an eddy current generated in a site to be inspected by application of the magnetic flux;
Displacement means for changing the distance between the region to be examined and the detector;
A determination unit that determines the presence or absence of a defect in the inspection site using a difference or ratio of eddy currents detected by the detector at a plurality of intervals for different inspection sites;
A nondestructive inspection apparatus comprising:
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