JP2013029926A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To normally operate a semiconductor device even if the semiconductor device is erroneously entered into a test mode.SOLUTION: A semiconductor device comprises a test signal generation circuit 1 in which, in response to inputting a test mode entry signal that starts a test to a test circuit 2 for testing an internal circuit, an internal latch 10 is set to output from the latch 10 to the test circuit 2 a test enable signal permitting the test circuit 2 to be driven. The test signal generation circuit 1 includes a reset signal generation circuit 30 and a delay initialization circuit 40. In the case where the latch 10 is outputting the test enable signal, the reset signal generation circuit 30 delays the test enable signal to generate a reset signal for resetting the latch 10. In the case where the latch 10 is outputting the delay initialization signal, on the basis of a toggle signal supplied from the outside, the delay initialization circuit 40 outputs a delay initialization signal for initializing an operation to generate the reset signal by the reset signal generation circuit 30.

Description

本発明は、半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device.

テストモードにエントリするためのテスト信号発生回路を備えた半導体装置が、知られている(例えば、特許文献1を参照)。このような半導体装置は、テスト信号発生回路によりテストモードにエントリし、テストモードに対応するテスト回路を動作させるテスト状態に移行する。このような半導体装置では、電源投入時において電源投入時の状態によっては、誤ってテストモードにエントリされ、テスト回路がテスト状態に移行してしまう場合がある。電源投入時において、誤ってテストモードにエントリされないようにテストモードへのエントリを制御するための回路としては、特許文献1記載のパワーオンリセット回路が知られている。   A semiconductor device including a test signal generation circuit for entering a test mode is known (see, for example, Patent Document 1). Such a semiconductor device enters the test mode by the test signal generation circuit and shifts to a test state in which the test circuit corresponding to the test mode is operated. In such a semiconductor device, when the power is turned on, depending on the state when the power is turned on, the test mode may be erroneously entered and the test circuit may shift to the test state. A power-on reset circuit described in Patent Document 1 is known as a circuit for controlling entry to the test mode so that the test mode is not entered by mistake when the power is turned on.

特開平5−233099号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-233099

ところで、上述のような半導体装置は、パワーオンリセット回路を備えている場合であっても、電源投入時の電源波形によっては、誤ってテストモードにエントリされることがある。そのため、上述のような半導体装置は、確実にテストモードを解除(リセット)するために、半導体装置の起動後にテストコマンドなどを用いてテストモードを解除(リセット)する必要がある。
しかしながら、上述のような半導体装置は、テストコマンドを使用しない通常の使用において誤ってテストモードにエントリされると、テストモードを解除できずに正常に動作できない場合がある。例えば、上述のような半導体装置が、出力端子をLow−Z(ローインピーダンス)状態にするテストモードを有しており、誤ってこのテストモードにエントリされてしまった場合を考える。この場合には、上述のような半導体装置は、ユーザーが意図しないテストモードを実行してしまい、正しくはHi−Z状態になる場合にも出力端子がLow−Z状態になるため、正常に動作できないことがある。
By the way, even if the semiconductor device as described above includes a power-on reset circuit, the semiconductor device may be erroneously entered into the test mode depending on the power supply waveform when the power is turned on. Therefore, the semiconductor device as described above needs to cancel (reset) the test mode using a test command or the like after the semiconductor device is started in order to reliably cancel (reset) the test mode.
However, if the semiconductor device as described above is erroneously entered into the test mode in normal use without using the test command, the test mode may not be released and may not operate normally. For example, consider a case where the semiconductor device as described above has a test mode in which the output terminal is in a Low-Z (low impedance) state, and is erroneously entered in this test mode. In this case, the semiconductor device as described above executes a test mode that is not intended by the user, and the output terminal is in the Low-Z state even when it is correctly in the Hi-Z state. There are things that cannot be done.

このように、上述のような半導体装置では、誤ってテストモードにエントリされると、正常に動作させることが困難になるという問題がある。   Thus, in the semiconductor device as described above, there is a problem that it is difficult to operate normally if the test mode is erroneously entered.

本発明は、内部回路をテストするテスト回路に対してテストを開始させるテストモードエントリ信号が入力されたことに応じて、内部のラッチをセットすることにより、前記テスト回路に対し、前記テスト回路の駆動を許可するテストイネーブル信号を前記ラッチから出力するテスト信号発生回路を備え、前記テスト信号発生回路が、前記ラッチが前記テストイネーブル信号を出力している場合、前記テストイネーブル信号を遅延させて、前記ラッチをリセットするリセット信号を生成するリセット信号生成回路と、前記ラッチが前記テストイネーブル信号を出力している場合に、外部から供給されるトグル信号に基づいて、前記リセット信号生成回路による前記リセット信号を生成する動作を初期化する遅延初期化信号を出力する遅延初期化回路と、を有していることを特徴とする半導体装置である。   The present invention sets the internal latch in response to the input of the test mode entry signal for starting the test to the test circuit for testing the internal circuit, thereby allowing the test circuit to A test signal generation circuit for outputting a test enable signal for permitting driving from the latch, and the test signal generation circuit delays the test enable signal when the latch outputs the test enable signal; A reset signal generation circuit for generating a reset signal for resetting the latch; and, when the latch outputs the test enable signal, the reset by the reset signal generation circuit based on a toggle signal supplied from the outside Delay initial that outputs a delay initialization signal that initializes the signal generation operation Is a semiconductor device characterized in that it comprises a circuit.

本発明によれば、半導体装置は、リセット信号生成回路が、ラッチがテストイネーブル信号を出力している場合に、テストイネーブル信号を遅延させて、ラッチをリセットするリセット信号を生成する。さらに、遅延初期化回路は、ラッチがテストイネーブル信号を出力している場合に、外部から供給されるトグル信号に基づいて、リセット信号生成回路によるリセット信号を生成する動作を初期化する遅延初期化信号を出力する。これにより、半導体装置は、誤ってテストモードにエントリされたとしても、トグル信号が供給されない期間において、テストイネーブル信号を遅延させて生成されたリセット信号がラッチをリセットする。よって、半導体装置は、誤ってテストモードにエントリされたとしても、正常に動作することができる。   According to the present invention, in the semiconductor device, when the latch outputs the test enable signal, the reset signal generation circuit delays the test enable signal and generates a reset signal for resetting the latch. Further, the delay initialization circuit initializes the operation of generating the reset signal by the reset signal generation circuit based on the toggle signal supplied from the outside when the latch outputs the test enable signal. Output a signal. Thereby, even if the semiconductor device is erroneously entered into the test mode, the reset signal generated by delaying the test enable signal resets the latch in the period when the toggle signal is not supplied. Therefore, even if the semiconductor device is erroneously entered into the test mode, it can operate normally.

本実施形態による半導体装置を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a semiconductor device according to an embodiment. 本実施形態によるテスト信号発生回路及びテスト回路2を示すブロック図である。2 is a block diagram showing a test signal generation circuit and a test circuit 2 according to the present embodiment. FIG. 本実施形態におけるDelay回路を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the Delay circuit in this embodiment. 本実施形態における半導体装置の動作の一例を示すタイムチャートである。6 is a time chart illustrating an example of the operation of the semiconductor device according to the present embodiment. 本実施形態におけるテスト信号発生回路の電源投入時の動作を示すタイムチャートである。6 is a time chart showing an operation of the test signal generation circuit in the present embodiment when the power is turned on. 本実施形態におけるテスト信号発生回路のテストモード時の動作を示すタイムチャートである。6 is a time chart showing an operation in a test mode of the test signal generation circuit in the present embodiment. 本実施形態におけるエントリ信号生成回路の動作を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows operation | movement of the entry signal generation circuit in this embodiment.

以下、本発明の一実施形態による半導体装置100について図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態による半導体装置100を示す概略ブロック図である。
半導体装置100は、例えば、外部から供給されるクロック信号に同期して動作するSDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory)である場合の一例について説明する。
Hereinafter, a semiconductor device 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram showing the semiconductor device 100 according to the present embodiment.
An example in which the semiconductor device 100 is an SDRAM (Synchronous Dynamic Random Access Memory) that operates in synchronization with a clock signal supplied from the outside will be described.

図1において、半導体装置100は、コマンド入力回路81、コマンドデコーダ82、アドレス入力回路83、アドレスラッチ回路84、モードレジスタ85、カラム系制御回路86、ロウ系制御回路87、ロウデコーダ88、カラムデコーダ89、メモリセルアレイ90、センス回路91、データアンプ92、クロック入力回路93、DLL回路94、データ入出力回路110、テスト信号発生回路1、及びテスト回路2を備えている。   In FIG. 1, a semiconductor device 100 includes a command input circuit 81, a command decoder 82, an address input circuit 83, an address latch circuit 84, a mode register 85, a column system control circuit 86, a row system control circuit 87, a row decoder 88, and a column decoder. 89, a memory cell array 90, a sense circuit 91, a data amplifier 92, a clock input circuit 93, a DLL circuit 94, a data input / output circuit 110, a test signal generation circuit 1, and a test circuit 2.

また、半導体装置100は、外部端子(半導体チップ上のパッド)として、クロック端子71a,71b、クロックイネーブル端子71c、コマンド端子72a〜72d、アドレス端子73、及びデータ入出力端子74を備えている。その他、電源端子、データストローブ端子、リセット端子なども備えられているが、これらについては図示を省略してある。   The semiconductor device 100 also includes clock terminals 71a and 71b, a clock enable terminal 71c, command terminals 72a to 72d, an address terminal 73, and a data input / output terminal 74 as external terminals (pads on the semiconductor chip). In addition, a power supply terminal, a data strobe terminal, a reset terminal, and the like are also provided, but these are not shown.

クロック端子71a,71bは、それぞれ外部クロック信号CK,CKNが供給される端子であり、供給された外部クロック信号CK,CKNは、クロック入力回路93に供給される。外部クロック信号CKNは、外部クロック信号CKの反転信号であり、外部クロック信号CK,CKNは互いに相補の信号である。
クロック入力回路93は、外部クロック信号CK,CKNに基づいて単相の内部クロック信号PreCLKを生成し、これをDLL回路94に供給する。DLL回路94は、内部クロック信号PreCLKに基づいて、位相制御された内部クロックLCLKを生成し、データ入出力回路110に供給する。
The clock terminals 71 a and 71 b are terminals to which external clock signals CK and CKN are supplied, respectively. The supplied external clock signals CK and CKN are supplied to the clock input circuit 93. The external clock signal CKN is an inverted signal of the external clock signal CK, and the external clock signals CK and CKN are complementary signals.
The clock input circuit 93 generates a single-phase internal clock signal PreCLK based on the external clock signals CK and CKN, and supplies this to the DLL circuit 94. The DLL circuit 94 generates a phase-controlled internal clock LCLK based on the internal clock signal PreCLK, and supplies it to the data input / output circuit 110.

コマンド端子72a〜72dは、それぞれチップセレクト信号CSN、ロウアドレスストローブ信号RASN、カラムアドレスストローブ信号CASN、及びライトイネーブル信号WENが供給される端子である。コマンド信号CMDは、これらのコマンド端子72a〜72dに入力される信号の組合せにより構成される。このコマンド信号CMDは、コマンド入力回路81に入力される。コマンド入力回路81は、供給されたコマンド信号CMDをコマンドデコーダ82に出力する。コマンドデコーダ82は、コマンド信号の保持、デコード及びカウントなどを行うことによって、各種内部コマンドICMDを生成する回路である。コマンドデコーダ82は、生成した内部コマンドICMDをカラム系制御回路86、ロウ系制御回路87及びモードレジスタ85に供給する。   The command terminals 72a to 72d are terminals to which a chip select signal CSN, a row address strobe signal RASN, a column address strobe signal CASN, and a write enable signal WEN are supplied, respectively. The command signal CMD is configured by a combination of signals input to these command terminals 72a to 72d. The command signal CMD is input to the command input circuit 81. The command input circuit 81 outputs the supplied command signal CMD to the command decoder 82. The command decoder 82 is a circuit that generates various internal commands ICMD by holding, decoding, and counting command signals. The command decoder 82 supplies the generated internal command ICMD to the column system control circuit 86, the row system control circuit 87, and the mode register 85.

アドレス端子73は、アドレス信号ADDが供給される端子であり、アドレス入力回路83に接続されている。アドレス入力回路83は、アドレス端子73に供給されるアドレス信号ADDをアドレスラッチ回路84に出力する。アドレスラッチ回路84は、ラッチしたアドレス信号ADDのうち、ロウアドレスをロウ系制御回路87に供給し、カラムアドレスをカラム系制御回路86に供給する。また、モードレジスタセットにエントリされている場合には、アドレスラッチ回路84は、アドレス信号ADDをモードレジスタ85に供給し、これによってモードレジスタ85の内容が更新される。
モードレジスタ85は、アドレス信号ADD及びコマンド信号CMDに基づいて生成された、例えば、後述する要求信号MRW#41及び要求信号MRW#42を出力する。
The address terminal 73 is a terminal to which an address signal ADD is supplied and is connected to the address input circuit 83. The address input circuit 83 outputs an address signal ADD supplied to the address terminal 73 to the address latch circuit 84. The address latch circuit 84 supplies the row address of the latched address signal ADD to the row system control circuit 87 and the column address to the column system control circuit 86. If the entry is made in the mode register set, the address latch circuit 84 supplies the address signal ADD to the mode register 85, whereby the contents of the mode register 85 are updated.
The mode register 85 outputs, for example, a request signal MRW # 41 and a request signal MRW # 42, which will be described later, generated based on the address signal ADD and the command signal CMD.

ロウ系制御回路87は、アドレスラッチ回路84から供給されたロウアドレスをロウデコーダ88に供給する。ロウデコーダ88は、メモリセルアレイ90に含まれるいずれかのワード線WLを選択する回路である。メモリセルアレイ90内においては、複数のワード線WLと複数のビット線BLが交差しており、その交点にはメモリセルMCが配置されている(図1では、1本のワード線WL、1本のビット線BL及び1個のメモリセルMCのみを示している)。ビット線BLは、センス回路91内の対応するセンスアンプSAに接続されている。   The row control circuit 87 supplies the row address supplied from the address latch circuit 84 to the row decoder 88. The row decoder 88 is a circuit that selects one of the word lines WL included in the memory cell array 90. In the memory cell array 90, a plurality of word lines WL and a plurality of bit lines BL intersect, and memory cells MC are arranged at the intersections (in FIG. 1, one word line WL, one line Only the bit line BL and one memory cell MC are shown). The bit line BL is connected to the corresponding sense amplifier SA in the sense circuit 91.

また、カラム系制御回路86は、アドレスラッチ回路84から供給されたカラムアドレスをカラムデコーダ89に供給する。カラムデコーダ89は、センス回路91に含まれるいずれかのセンスアンプSAを選択する回路である。カラムデコーダ89によって選択されたセンスアンプSAは、データアンプ92に接続される。データアンプ92は、リード動作時においてはセンスアンプSAによって増幅されたリードデータRDをさらに増幅し、リードライトバスRWBSを介して増幅したリードデータRDをデータ入出力回路110に供給する。一方、データアンプ92は、ライト動作時にリードライトバスRWBSを介してデータ入出力回路110から供給されるライトデータを増幅し、増幅したライトデータをセンスアンプSAに供給する。   The column control circuit 86 supplies the column address supplied from the address latch circuit 84 to the column decoder 89. The column decoder 89 is a circuit that selects any one of the sense amplifiers SA included in the sense circuit 91. The sense amplifier SA selected by the column decoder 89 is connected to the data amplifier 92. The data amplifier 92 further amplifies the read data RD amplified by the sense amplifier SA during the read operation, and supplies the read data RD amplified through the read / write bus RWBS to the data input / output circuit 110. On the other hand, the data amplifier 92 amplifies the write data supplied from the data input / output circuit 110 via the read / write bus RWBS during the write operation, and supplies the amplified write data to the sense amplifier SA.

データ入出力端子74は、リードデータの出力及びライトデータの入力を行うための端子であり、データ入出力回路110に接続されている。ここで、入出力信号DQは、データ入出力端子74において入出力される信号である。
なお、図1にはデータ入出力端子74を1つだけ示しているが、複数個設けても構わない。ここでは、データ入出力端子74が複数ビット幅の信号である入出力信号DQを入出力する例について説明する。
The data input / output terminal 74 is a terminal for outputting read data and inputting write data, and is connected to the data input / output circuit 110. Here, the input / output signal DQ is a signal input / output at the data input / output terminal 74.
Although only one data input / output terminal 74 is shown in FIG. 1, a plurality of data input / output terminals 74 may be provided. Here, an example in which the data input / output terminal 74 inputs / outputs an input / output signal DQ that is a signal having a plurality of bit widths will be described.

クロックイネーブル端子71cは、クロックイネーブル信号CKEが供給される端子であり、供給されたクロックイネーブル信号CKEは、テスト回路2及びデータ入出力回路110に供給される。このクロックイネーブル信号CKEは、入出力信号DQに対してクロックが有効か無効かを決定する信号である。   The clock enable terminal 71 c is a terminal to which a clock enable signal CKE is supplied, and the supplied clock enable signal CKE is supplied to the test circuit 2 and the data input / output circuit 110. The clock enable signal CKE is a signal that determines whether the clock is valid or invalid with respect to the input / output signal DQ.

データ入出力回路110は、入出力信号DQを制御する回路であり、出力回路111と入力回路112とを備えている。
出力回路111は、データアンプ92から供給されるリードデータRDをデータ入出力端子74に出力する、又はデータ入出力端子74をHi−Z状態(ハイインピーダンス状態)にする。なお、出力回路111は、CAトレーニング(CA Training)のテストモードの際に、データ入出力端子74をLow−Z(ロウインピーダンス)状態にする。CAトレーニングのテストモードについては、詳細に後述する。
また、入力回路112は、外部からデータ入出力端子74を介して、メモリセルアレイ90に書き込むライトデータを取り込む。
The data input / output circuit 110 is a circuit that controls the input / output signal DQ, and includes an output circuit 111 and an input circuit 112.
The output circuit 111 outputs the read data RD supplied from the data amplifier 92 to the data input / output terminal 74, or sets the data input / output terminal 74 to the Hi-Z state (high impedance state). The output circuit 111 puts the data input / output terminal 74 in a Low-Z (low impedance) state in the CA training test mode. The CA training test mode will be described later in detail.
The input circuit 112 takes in write data to be written to the memory cell array 90 from the outside via the data input / output terminal 74.

テスト信号発生回路1は、例えば、CAトレーニングのテストを開始する際に、モードレジスタ85から要求信号MRW#41が供給される。テスト信号発生回路1は、モードレジスタ85から供給される要求信号MRW#41に基づいて、テスト回路2の駆動を許可することを示すテストイネーブル信号TSTENをテスト回路2に出力する。
また、テスト信号発生回路1は、例えば、CAトレーニングのテストを終了する際に、モードレジスタ85から要求信号MRW#42が供給される。テスト信号発生回路1は、モードレジスタ85から供給される要求信号MRW#42に基づいて、テストイネーブル信号TSTENの出力を停止する。ここで、テストイネーブル信号TSTENは、例えば、テスト回路2の駆動を許可する場合にLレベル(ロウレベル)になり、テスト回路2の駆動を禁止する場合にHレベル(ハイレベル)になる。また、要求信号MRW#41及び要求信号MRW#42は、Hレベルになった場合に有効な状態であり、Lレベルになった場合に無効な状態である。
すなわち、テスト信号発生回路1は、例えば、要求信号MRW#41がHレベルになった場合に、テストイネーブル信号TSTENをHレベルからLレベルに遷移させる。また、テスト信号発生回路1は、例えば、要求信号MRW#42がHレベルになった場合に、テストイネーブル信号TSTENをLレベルからHレベルに遷移させる。
The test signal generation circuit 1 is supplied with the request signal MRW # 41 from the mode register 85, for example, when starting a CA training test. The test signal generation circuit 1 outputs a test enable signal TSTEN indicating that the driving of the test circuit 2 is permitted to the test circuit 2 based on the request signal MRW # 41 supplied from the mode register 85.
The test signal generation circuit 1 is supplied with the request signal MRW # 42 from the mode register 85, for example, when the CA training test is completed. The test signal generation circuit 1 stops the output of the test enable signal TSTEN based on the request signal MRW # 42 supplied from the mode register 85. Here, the test enable signal TSTEN becomes, for example, L level (low level) when the drive of the test circuit 2 is permitted, and becomes H level (high level) when the drive of the test circuit 2 is prohibited. Further, the request signal MRW # 41 and the request signal MRW # 42 are valid when they are at the H level, and are invalid when they are at the L level.
That is, for example, when the request signal MRW # 41 becomes H level, the test signal generation circuit 1 causes the test enable signal TSTEN to transition from H level to L level. For example, when the request signal MRW # 42 becomes H level, the test signal generation circuit 1 changes the test enable signal TSTEN from L level to H level.

また、テスト信号発生回路1は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルであり、且つ、外部から入力されたチップセレクト信号CSN(トグル信号)が予め設定された期間(第1の期間)トグルされない場合に、テストイネーブル信号TSTENをLレベルからHレベルに遷移させる。なお、テスト信号発生回路1の詳細については、図2を参照して後述する。   Further, the test signal generation circuit 1 determines that the test enable signal TSTEN is at the L level and the chip select signal CSN (toggle signal) input from the outside is not toggled for a preset period (first period). The test enable signal TSTEN is changed from L level to H level. The details of the test signal generation circuit 1 will be described later with reference to FIG.

テスト回路2は、CAトレーニングのテストを行うためのテスト回路である。テスト回路2は、テスト信号発生回路1から出力されるテストイネーブル信号TSTENと外部から入力されたクロックイネーブル信号CKEとに基づいて、出力回路111の出力をHi−Z状態、又はLow−Z状態にする制御を行う。すなわち、テスト回路2は、テストイネーブル信号TSTENとクロックイネーブル信号CKEとに基づいて、信号ODIS(Output Disable信号)を生成し、生成した信号ODISを出力回路111に供給する。なお、テスト信号発生回路1の詳細については、図2を参照して後述する。   The test circuit 2 is a test circuit for performing a CA training test. The test circuit 2 sets the output of the output circuit 111 to the Hi-Z state or the Low-Z state based on the test enable signal TSTEN output from the test signal generation circuit 1 and the clock enable signal CKE input from the outside. Control. That is, the test circuit 2 generates a signal ODIS (Output Disable signal) based on the test enable signal TSTEN and the clock enable signal CKE, and supplies the generated signal ODIS to the output circuit 111. The details of the test signal generation circuit 1 will be described later with reference to FIG.

次に、テスト信号発生回路1及びテスト回路2の詳細な構成について説明する。
図2は、テスト信号発生回路1及びテスト回路2を示すブロック図である。
この図において、テスト信号発生回路1は、ラッチ10、リセット信号生成回路30、遅延初期化回路40、エントリ信号生成回路50、及び解除信号生成回路60を備えている。
Next, detailed configurations of the test signal generation circuit 1 and the test circuit 2 will be described.
FIG. 2 is a block diagram showing the test signal generation circuit 1 and the test circuit 2.
In this figure, the test signal generation circuit 1 includes a latch 10, a reset signal generation circuit 30, a delay initialization circuit 40, an entry signal generation circuit 50, and a release signal generation circuit 60.

エントリ信号生成回路50は、モードレジスタ85から供給されるテストを開始させる要求信号MRW#41に基づいてパルス信号を生成し、生成したパルス信号をテストモードエントリ信号としてラッチ10に出力する。すなわち、エントリ信号生成回路50は、テストを開始させる要求信号MRW#41を予め設定された期間(第2の期間)遅延させて論理反転させた信号と、要求信号MRW#41との論理積演算によりパルス信号を生成し、生成したパルス信号をテストモードエントリ信号として出力する。エントリ信号生成回路50は、インバータ回路51〜53,55及びNAND回路(否定論理積演算回路)54を備えている。   The entry signal generation circuit 50 generates a pulse signal based on the request signal MRW # 41 that starts the test supplied from the mode register 85, and outputs the generated pulse signal to the latch 10 as a test mode entry signal. That is, the entry signal generation circuit 50 performs an AND operation on the request signal MRW # 41 and a signal obtained by logically inverting the request signal MRW # 41 for starting the test by delaying a predetermined period (second period). To generate a pulse signal and output the generated pulse signal as a test mode entry signal. The entry signal generation circuit 50 includes inverter circuits 51 to 53 and 55 and a NAND circuit (negative AND operation circuit) 54.

インバータ回路51〜53は、それぞれ入力端子に入力された信号を論理反転させた信号を出力する論理反転回路である。これらのインバータ回路51〜53は、直列に接続されている。また、インバータ回路51〜53は、それぞれ入力端子に入力された信号に対して、所定の遅延時間遅延して出力信号を出力する。ここで、インバータ回路51は、入力端子が要求信号MRW#41の信号線に接続され、インバータ回路53は、出力端子がノードN1に接続されている。インバータ回路53は、要求信号MRW#41が予め設定された期間(第2の期間)遅延されて論理反転された遅延信号を出力する。ここで、予め設定された期間の遅延は、インバータ回路51〜53による合計の遅延量に対応する。   Each of the inverter circuits 51 to 53 is a logic inverting circuit that outputs a signal obtained by logically inverting the signal input to the input terminal. These inverter circuits 51 to 53 are connected in series. Inverter circuits 51-53 each output an output signal with a predetermined delay time with respect to the signal input to the input terminal. Here, the inverter circuit 51 has an input terminal connected to the signal line of the request signal MRW # 41, and the inverter circuit 53 has an output terminal connected to the node N1. The inverter circuit 53 outputs a delayed signal obtained by logically inverting the request signal MRW # 41 after being delayed for a preset period (second period). Here, the delay of the preset period corresponds to the total delay amount by the inverter circuits 51 to 53.

NAND回路54は、否定論理積演算回路であり、一方の入力端子がノードN1に、他方の入力端子が要求信号MRW#41の信号線に、それぞれ接続されている。インバータ回路55は、論理反転回路であり、出力端子がノードN2に接続されている。NAND回路54及びインバータ回路55は、NAND回路54の出力端子がインバータ回路55の入力端子に接続され、論理積演算回路として機能する。また、NAND回路54及びインバータ回路55は、インバータ回路53から出力された遅延信号と、要求信号MRW#41との論理積演算によりパルス信号を生成し、生成したパルス信号をテストモードエントリ信号として出力する。ここで、インバータ回路55は、インバータ回路51〜53によって生成された上述した予め設定された期間(第2の期間)の遅延に応じたパルス幅のパルス信号を出力する。なお、このパルス信号は、例えば、上述した予め設定された期間の遅延に応じたパルス幅の間、Hレベルにされる。   The NAND circuit 54 is a NAND operation circuit, and one input terminal is connected to the node N1, and the other input terminal is connected to the signal line of the request signal MRW # 41. The inverter circuit 55 is a logic inversion circuit, and an output terminal is connected to the node N2. In the NAND circuit 54 and the inverter circuit 55, the output terminal of the NAND circuit 54 is connected to the input terminal of the inverter circuit 55, and functions as an AND operation circuit. The NAND circuit 54 and the inverter circuit 55 generate a pulse signal by the logical product operation of the delay signal output from the inverter circuit 53 and the request signal MRW # 41, and output the generated pulse signal as a test mode entry signal. To do. Here, the inverter circuit 55 outputs a pulse signal having a pulse width corresponding to the delay of the above-described preset period (second period) generated by the inverter circuits 51 to 53. For example, the pulse signal is set to the H level during the pulse width corresponding to the delay of the preset period described above.

解除信号生成回路60は、モードレジスタ85から供給されるテストを開始させる要求信号MRW#42に基づいてパルス信号を生成し、生成したパルス信号をテストモード解除信号としてラッチ10に出力する。すなわち、解除信号生成回路60は、テストを終了させる要求信号MRW#42を予め設定された期間(第3の期間)遅延させて論理反転させた信号と、要求信号MRW#42との論理積演算によりパルス信号を生成し、生成したパルス信号をテストモード解除信号として出力する。解除信号生成回路60は、インバータ回路61〜63,65及びNAND回路64を備えている。   The cancellation signal generation circuit 60 generates a pulse signal based on the request signal MRW # 42 for starting the test supplied from the mode register 85, and outputs the generated pulse signal to the latch 10 as a test mode cancellation signal. That is, the release signal generation circuit 60 performs an AND operation on the request signal MRW # 42 and a signal obtained by logically inverting the request signal MRW # 42 for ending the test by delaying a predetermined period (third period). To generate a pulse signal and output the generated pulse signal as a test mode release signal. The release signal generation circuit 60 includes inverter circuits 61 to 63 and 65 and a NAND circuit 64.

インバータ回路61〜63は、それぞれ入力端子に入力された信号を論理反転させた信号を出力する論理反転回路である。これらのインバータ回路61〜63は、直列に接続されている。また、インバータ回路61〜63は、それぞれ入力端子に入力された信号に対して、所定の遅延時間遅延して出力信号を出力する。ここで、インバータ回路61は、入力端子が要求信号MRW#42の信号線に接続され、インバータ回路63は、出力端子がノードN3に接続されている。インバータ回路63は、要求信号MRW#42が予め設定された期間(第3の期間)遅延されて論理反転された遅延信号を出力する。ここで、予め設定された期間の遅延は、インバータ回路61〜63による合計の遅延量に対応する。   Each of the inverter circuits 61 to 63 is a logic inversion circuit that outputs a signal obtained by logically inverting the signal input to the input terminal. These inverter circuits 61 to 63 are connected in series. Further, the inverter circuits 61 to 63 each output an output signal with a predetermined delay time with respect to the signal input to the input terminal. Here, the inverter circuit 61 has an input terminal connected to the signal line of the request signal MRW # 42, and the inverter circuit 63 has an output terminal connected to the node N3. Inverter circuit 63 outputs a delayed signal obtained by logically inverting the request signal MRW # 42 after being delayed for a preset period (third period). Here, the delay of the preset period corresponds to the total delay amount by the inverter circuits 61 to 63.

NAND回路64は、否定論理積演算回路であり、一方の入力端子がノードN3に、他方の入力端子が要求信号MRW#42の信号線に、それぞれ接続されている。インバータ回路65は、論理反転回路であり、出力端子がノードN4に接続されている。NAND回路64及びインバータ回路65は、NAND回路64の出力端子がインバータ回路65の入力端子に接続され、論理積演算回路として機能する。また、NAND回路64及びインバータ回路65は、インバータ回路63から出力された遅延信号と、要求信号MRW#42との論理積演算を行い、パルス信号をテストモード解除信号として生成する。ここで、インバータ回路65は、インバータ回路61〜63によって生成された上述した予め設定された期間(第3の期間)の遅延に応じたパルス幅のパルス信号を出力する。なお、このパルス信号は、例えば、上述した予め設定された期間の遅延に応じたパルス幅の間、Hレベルにされる。   The NAND circuit 64 is a NAND operation circuit, and one input terminal is connected to the node N3 and the other input terminal is connected to the signal line of the request signal MRW # 42. The inverter circuit 65 is a logic inversion circuit, and an output terminal is connected to the node N4. In the NAND circuit 64 and the inverter circuit 65, the output terminal of the NAND circuit 64 is connected to the input terminal of the inverter circuit 65, and functions as an AND operation circuit. The NAND circuit 64 and the inverter circuit 65 perform a logical product operation of the delay signal output from the inverter circuit 63 and the request signal MRW # 42, and generate a pulse signal as a test mode release signal. Here, the inverter circuit 65 outputs a pulse signal having a pulse width corresponding to the delay of the above-described preset period (third period) generated by the inverter circuits 61 to 63. For example, the pulse signal is set to the H level during the pulse width corresponding to the delay of the preset period described above.

ラッチ10は、エントリ信号生成回路50から出力されるテストモードエントリ信号、又は、後述する遅延初期化回路40から出力される遅延初期化信号DLYINITによりセットされる。また、ラッチ10は、解除信号生成回路60から出力されるテストモード解除信号、又は、後述するリセット信号生成回路30から出力されるリセット信号によりリセット(解除)される。ここで、ラッチ10において、セットとはテストイネーブル信号TSTENをLレベルにすることであり、リセット(解除)とは、テストイネーブル信号TSTENをHレベルにすることである。
また、ラッチ10は、NOR回路(否定論理和演算回路)11,12を備えている。
The latch 10 is set by a test mode entry signal output from the entry signal generation circuit 50 or a delay initialization signal DLYINIT output from a delay initialization circuit 40 described later. The latch 10 is reset (released) by a test mode release signal output from the release signal generation circuit 60 or a reset signal output from a reset signal generation circuit 30 described later. Here, in the latch 10, “set” means that the test enable signal TSTEN is set to L level, and “reset” (release) means that the test enable signal TSTEN is set to H level.
The latch 10 includes NOR circuits (NOR operation circuits) 11 and 12.

NOR回路11,12は、例えば、3入力の否定論理和演算回路であり、それぞれの出力端子が、互いの入力端子の1つに接続されているSR(セットリセット:Set-Reset)ラッチとして機能する。また、NOR回路11は、3入力のうちの2つの入力端子が、ノードN2とノードN8とにそれぞれ接続され、出力端子がノードN5及びNOR回路12の入力端子に接続されている。NOR回路12は、3入力のうちの2つの入力端子が、ノードN4と後述するリセット信号生成回路30の出力信号線とにそれぞれ接続され、出力端子がNOR回路11の入力端子に接続されている。なお、NOR回路11は、テストイネーブル信号TSTENをテスト回路2に出力する。   The NOR circuits 11 and 12 are, for example, a three-input NAND circuit, and each output terminal functions as an SR (Set-Reset) latch connected to one of the input terminals of each other. To do. The NOR circuit 11 has two input terminals of the three inputs connected to the node N2 and the node N8, respectively, and an output terminal connected to the node N5 and the input terminal of the NOR circuit 12. In the NOR circuit 12, two of the three inputs are connected to a node N 4 and an output signal line of a reset signal generation circuit 30 described later, and an output terminal is connected to an input terminal of the NOR circuit 11. . The NOR circuit 11 outputs a test enable signal TSTEN to the test circuit 2.

リセット信号生成回路30は、ラッチ10がテストイネーブル信号TSTENを出力している場合、テストイネーブル信号TSTENを遅延させて、ラッチ10をリセットするリセット信号TRSTを生成する。すなわち、リセット信号生成回路30は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルである場合に、テストイネーブル信号TSTENを予め設定された期間(第1の期間)遅延させて論理反転させたリセット信号TRSTを生成する。リセット信号生成回路30は、生成したリセット信号TRSTをラッチ10に出力する。ここで、リセット信号TRSTは、Hレベルになった場合に、ラッチ10をリセットする。
また、リセット信号生成回路30は、後述する遅延初期化回路40から出力される遅延初期化信号DLYINITに基づいて、リセット信号TRSTを生成する動作を初期化する。リセット信号生成回路30は、例えば、遅延初期化信号DLYINITがHレベルになった場合に、リセット信号TRSTを生成する動作を初期化する。すなわち、リセット信号生成回路30は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルになった場合、且つ、予め設定された期間(第1の期間)、遅延初期化信号DLYINITがLレベルを維持した場合に、リセット信号TRSTをHレベルにする。
リセット信号生成回路30は、Delay回路31と、インバータ回路32とを備えている。
When the latch 10 outputs the test enable signal TSTEN, the reset signal generation circuit 30 delays the test enable signal TSTEN and generates a reset signal TRST that resets the latch 10. That is, when the test enable signal TSTEN is at the L level, the reset signal generation circuit 30 generates the reset signal TRST that is logically inverted by delaying the test enable signal TSTEN for a preset period (first period). . The reset signal generation circuit 30 outputs the generated reset signal TRST to the latch 10. Here, when the reset signal TRST becomes H level, the latch 10 is reset.
The reset signal generation circuit 30 initializes an operation for generating the reset signal TRST based on a delay initialization signal DLYINIT output from a delay initialization circuit 40 described later. For example, the reset signal generation circuit 30 initializes the operation of generating the reset signal TRST when the delay initialization signal DLYINIT becomes H level. That is, the reset signal generation circuit 30 is reset when the test enable signal TSTEN becomes L level and when the delay initialization signal DLYINIT is maintained at L level for a preset period (first period). Signal TRST is set to H level.
The reset signal generation circuit 30 includes a delay circuit 31 and an inverter circuit 32.

Delay回路31は、遅延初期化信号DLYINITによる遅延初期化機能を有する遅延回路である。Delay回路31は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルである場合に、テストイネーブル信号TSTENを予め設定された期間(第1の期間)遅延させた信号を出力する。なお、Delay回路31の詳細については、図3を参照して後述する。
インバータ回路32は、Delay回路31から出力された信号を論理反転し、リセット信号TRSTとして、ラッチ10のNOR回路12に出力する。
The Delay circuit 31 is a delay circuit having a delay initialization function based on the delay initialization signal DLYINIT. The delay circuit 31 outputs a signal obtained by delaying the test enable signal TSTEN for a preset period (first period) when the test enable signal TSTEN is at the L level. Details of the delay circuit 31 will be described later with reference to FIG.
The inverter circuit 32 logically inverts the signal output from the delay circuit 31 and outputs the inverted signal to the NOR circuit 12 of the latch 10 as the reset signal TRST.

遅延初期化回路40は、ラッチ10がテストイネーブル信号TSTENを出力している場合に、外部から供給されるトグル信号(チップセレクト信号CSN)に基づいて、リセット信号生成回路30によるリセット信号TRSTを生成する動作を初期化する遅延初期化信号DLYINITを出力する。すなわち、遅延初期化回路40は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルである場合に、チップセレクト信号CSNに基づいて、遅延初期化信号DLYINITをHレベルにする。遅延初期化信号DLYINITは、ノードN8を介して、リセット信号生成回路30のDelay回路31に出力される。
遅延初期化回路40は、インバータ回路42〜44,46、NAND回路45、及びNOR回路41を備えている。
When the latch 10 outputs the test enable signal TSTEN, the delay initialization circuit 40 generates the reset signal TRST by the reset signal generation circuit 30 based on the toggle signal (chip select signal CSN) supplied from the outside. A delay initialization signal DLYINIT for initializing the operation to be performed is output. That is, when the test enable signal TSTEN is at L level, the delay initialization circuit 40 sets the delay initialization signal DLYINIT to H level based on the chip select signal CSN. The delay initialization signal DLYINIT is output to the delay circuit 31 of the reset signal generation circuit 30 via the node N8.
The delay initialization circuit 40 includes inverter circuits 42 to 44, 46, a NAND circuit 45, and a NOR circuit 41.

NOR回路41は、2つの入力端子がそれぞれチップセレクト信号CSNの信号線と、ノードN5とに接続され、出力端子がノードN6に接続されている。NOR回路41は、コマンド端子72aから供給されたチップセレクト信号CSNと、テストイネーブル信号TSTENとを否定論理和演算した信号を出力する。
インバータ回路42〜44,46、及びNAND回路45は、上述したエントリ信号生成回路50及び解除信号生成回路60と同様の回路である。インバータ回路42〜44は、直列に接続されており、インバータ回路42の入力端子がノードN6に接続され、インバータ回路44の出力端子がノードN7に接続されている。インバータ回路44は、NOR回路41の出力信号が予め設定された期間(第4の期間)遅延されて論理反転された遅延信号を出力する。ここで、予め設定された期間の遅延は、インバータ回路42〜44による合計の遅延量に対応する。
The NOR circuit 41 has two input terminals connected to the signal line of the chip select signal CSN and the node N5, respectively, and an output terminal connected to the node N6. The NOR circuit 41 outputs a signal obtained by performing a NOR operation on the chip select signal CSN supplied from the command terminal 72a and the test enable signal TSTEN.
The inverter circuits 42 to 44 and 46 and the NAND circuit 45 are the same circuits as the entry signal generation circuit 50 and the release signal generation circuit 60 described above. The inverter circuits 42 to 44 are connected in series, the input terminal of the inverter circuit 42 is connected to the node N6, and the output terminal of the inverter circuit 44 is connected to the node N7. The inverter circuit 44 outputs a delayed signal obtained by logically inverting the output signal of the NOR circuit 41 after being delayed for a preset period (fourth period). Here, the delay of the preset period corresponds to the total delay amount by the inverter circuits 42 to 44.

NAND回路45は、出力端子がインバータ回路46の入力端子に接続され、インバータ回路65は、出力端子がノードN8に接続されている。
NAND回路45及びインバータ回路46は、インバータ回路44から出力された信号と、NOR回路41の出力信号との論理積演算を行い、パルス信号を遅延初期化信号DLYINITとして生成する。ここで、インバータ回路46は、インバータ回路42〜44によって生成された上述した予め設定された期間(第4の期間)の遅延に応じたパルス幅のパルス信号を出力する。なお、このパルス信号は、チップセレクト信号CSN(トグル信号)のトグルによって、例えば、上述した予め設定された期間の遅延に応じたパルス幅の間、Hレベルにされる。
NAND circuit 45 has an output terminal connected to the input terminal of inverter circuit 46, and inverter circuit 65 has an output terminal connected to node N8.
The NAND circuit 45 and the inverter circuit 46 perform an AND operation on the signal output from the inverter circuit 44 and the output signal of the NOR circuit 41, and generate a pulse signal as a delay initialization signal DLYINIT. Here, the inverter circuit 46 outputs a pulse signal having a pulse width corresponding to the delay of the above-described preset period (fourth period) generated by the inverter circuits 42 to 44. Note that this pulse signal is set to the H level by, for example, the toggle of the chip select signal CSN (toggle signal) for a pulse width corresponding to the delay of the preset period described above.

すなわち、遅延初期化回路40は、チップセレクト信号CSN(トグル信号)とテストイネーブル信号TSTENとの否定論理和演算を行う。遅延初期化回路40は、この否定論理和演算により生成された信号と、否定論理和演算により生成された信号を予め設定された期間(第4の期間)遅延させて論理反転させた信号との論理積演算によりパルス信号を生成し、生成したパルス信号を遅延初期化信号として出力する。   That is, the delay initialization circuit 40 performs a negative OR operation between the chip select signal CSN (toggle signal) and the test enable signal TSTEN. The delay initialization circuit 40 includes a signal generated by the negative OR operation and a signal obtained by logically inverting the signal generated by the negative OR operation by delaying a predetermined period (fourth period). A pulse signal is generated by a logical product operation, and the generated pulse signal is output as a delay initialization signal.

このように、テスト信号発生回路1は、内部回路をテストするテスト回路2に対してテストを開始させるテストモードエントリ信号が入力されると、テストモードエントリ信号により内部のラッチ10をセットする。テスト信号発生回路1は、テスト回路2に対し、テスト回路2の駆動を許可することを示すテストイネーブル信号TSTENをラッチ10から出力する。すなわち、テスト信号発生回路1は、内部回路をテストするテスト回路2に対してテストを開始させるテストモードエントリ信号が入力されたことに応じて、内部のラッチ10をセットすることにより、テスト回路2に対し、テスト回路2の駆動を許可するテストイネーブル信号をラッチ10から出力する。   As described above, when the test mode entry signal for starting the test is input to the test circuit 2 for testing the internal circuit, the test signal generation circuit 1 sets the internal latch 10 by the test mode entry signal. The test signal generation circuit 1 outputs from the latch 10 a test enable signal TSTEN indicating that the test circuit 2 is permitted to drive the test circuit 2. In other words, the test signal generation circuit 1 sets the internal latch 10 in response to the input of the test mode entry signal for starting the test to the test circuit 2 that tests the internal circuit, whereby the test circuit 2 On the other hand, a test enable signal permitting driving of the test circuit 2 is output from the latch 10.

テスト回路2は、CAトレーニングテストを実行する際に活性化(駆動)される回路であり、テストイネーブル信号TSTENがLレベルである場合に、出力回路111の出力信号DoutをLow−Z状態に制御する。ここで、出力信号Doutは、入出力信号DQにおける出力信号である。
テスト回路2は、例えば、テストイネーブル信号TSTENがLレベルになった場合(CAトレーニングのテストモードの場合)に、信号ODISをLレベルにする。また、テスト回路2は、テストイネーブル信号TSTENがHレベルになった場合(通常動作の場合)に、クロックイネーブル信号CKEの論理レベルに応じて、信号ODISをHレベル又はLレベルにする。この場合、テスト回路2は、例えば、クロックイネーブル信号CKEがLレベルになった場合に、信号ODISをHレベルにし、クロックイネーブル信号CKEがHレベルになった場合に、信号ODISをLレベルにする。
The test circuit 2 is activated (driven) when executing the CA training test, and controls the output signal Dout of the output circuit 111 to the Low-Z state when the test enable signal TSTEN is at the L level. To do. Here, the output signal Dout is an output signal in the input / output signal DQ.
For example, when the test enable signal TSTEN becomes the L level (in the case of the CA training test mode), the test circuit 2 sets the signal ODIS to the L level. Further, the test circuit 2 sets the signal ODIS to the H level or the L level according to the logic level of the clock enable signal CKE when the test enable signal TSTEN becomes the H level (in the normal operation). In this case, for example, the test circuit 2 sets the signal ODIS to the H level when the clock enable signal CKE becomes the L level, and sets the signal ODIS to the L level when the clock enable signal CKE becomes the H level. .

なお、出力回路111は、信号ODISがHレベルになった場合に、出力信号DoutをHi−Z状態にし、信号ODISがLレベルになった場合に、出力信号DoutをLow−Z状態にする。
また、テスト回路2は、インバータ回路21,23、及びNAND回路22を備えている。
The output circuit 111 sets the output signal Dout to the Hi-Z state when the signal ODIS becomes the H level, and sets the output signal Dout to the Low-Z state when the signal ODIS becomes the L level.
The test circuit 2 includes inverter circuits 21 and 23 and a NAND circuit 22.

インバータ回路21は、入力端子がクロックイネーブル信号CKEの信号線に接続され、出力端子がNAND回路22の一方の入力端子に接続されている。
NAND回路22は、他方の入力端子がテストイネーブル信号TSTENの信号線であるノードN5に接続され、出力端子がインバータ回路23の入力端子に接続されている。NAND回路22及びインバータ回路23は、論理積演算回路として機能し、インバータ回路23の出力が信号ODISとして出力回路111に供給される。
The inverter circuit 21 has an input terminal connected to the signal line of the clock enable signal CKE and an output terminal connected to one input terminal of the NAND circuit 22.
The other input terminal of the NAND circuit 22 is connected to the node N5 which is a signal line of the test enable signal TSTEN, and the output terminal is connected to the input terminal of the inverter circuit 23. The NAND circuit 22 and the inverter circuit 23 function as an AND operation circuit, and the output of the inverter circuit 23 is supplied to the output circuit 111 as a signal ODIS.

次に、上述したDelay回路31の詳細な構成について説明する。
図3は、本実施形態におけるDelay回路31の構成の一例を示すブロック図である。
この図において、Delay回路31は、遅延回路部70、スイッチ部80、及びインバータ回路316を備えている。
Next, a detailed configuration of the above-described delay circuit 31 will be described.
FIG. 3 is a block diagram showing an example of the configuration of the delay circuit 31 in the present embodiment.
In this figure, the delay circuit 31 includes a delay circuit unit 70, a switch unit 80, and an inverter circuit 316.

遅延回路部70は、テストイネーブル信号TSTENを予め設定された期間(第1の期間)遅延させる。遅延回路部70は、例えば、テストイネーブル信号TSTENを論理反転させて、予め設定された期間(第1の期間)遅延させる。遅延回路部70は、予め設定された期間(第1の期間DLY1)をかけて初期電圧から予め定められた閾値電圧(スレッシュホールド電圧Vth)に到達するように、出力信号に出力する出力電圧を変化させる。本実施形態では、遅延回路部70は、P型チャネル金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(PMOSトランジスタ)312,313、及びN型チャネル金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(NMOSトランジスタ)314を備えている。PMOSトランジスタ312は、ソース端子がノードN9に、ゲート端子がノードN5に、ドレイン端子がノードN10にそれぞれ接続されている。PMOSトランジスタ313は、ソース端子がノードN10に、ゲート端子がノードN5に、ドレイン端子がノードN11にそれぞれ接続されている。   The delay circuit unit 70 delays the test enable signal TSTEN for a preset period (first period). For example, the delay circuit unit 70 logically inverts the test enable signal TSTEN and delays it for a preset period (first period). The delay circuit unit 70 outputs an output voltage to be output to the output signal so as to reach a predetermined threshold voltage (threshold voltage Vth) from the initial voltage over a preset period (first period DLY1). Change. In the present embodiment, the delay circuit unit 70 includes P-type channel metal oxide semiconductor field effect transistors (PMOS transistors) 312 and 313 and N-type channel metal oxide semiconductor field effect transistors (NMOS transistors) 314. The PMOS transistor 312 has a source terminal connected to the node N9, a gate terminal connected to the node N5, and a drain terminal connected to the node N10. The PMOS transistor 313 has a source terminal connected to the node N10, a gate terminal connected to the node N5, and a drain terminal connected to the node N11.

PMOSトランジスタ312及び313は、直列に接続されており、テストイネーブル信号TSTENがLレベルになった場合に、導通状態になる。また、PMOSトランジスタ312及び313は、テストイネーブル信号TSTENがHレベルになった場合に、非導通状態になる。   The PMOS transistors 312 and 313 are connected in series, and become conductive when the test enable signal TSTEN becomes L level. The PMOS transistors 312 and 313 are turned off when the test enable signal TSTEN becomes H level.

なお、PMOSトランジスタ312及び313は、テストイネーブル信号TSTEN、及び遅延初期化信号DLYINITが共にLレベルになった場合に、ノードN11に電流を供給する。ここで、PMOSトランジスタ312及び313は、ノードN11に電流を供給する場合に、上述した予め設定された期間(第1の期間)の遅延を生成するように、トランジスタ定数であるゲート長(チャネル長)L及びゲート幅(チャネル幅)Wが設定されている。すなわち、PMOSトランジスタ312及び313は、上述した予め設定された期間(第1の期間)の遅延を生成するように、通常のトランジスタに比べて、ゲート長(チャネル長)Lを広く、ゲート幅(チャネル幅)Wを狭く定められている。   The PMOS transistors 312 and 313 supply current to the node N11 when the test enable signal TSTEN and the delay initialization signal DLYINIT are both at the L level. Here, when supplying current to the node N11, the PMOS transistors 312 and 313 generate gate delay (channel length) which is a transistor constant so as to generate the delay of the preset period (first period) described above. ) L and gate width (channel width) W are set. That is, the PMOS transistors 312 and 313 have a wider gate length (channel length) L and a wider gate width (channel length) than a normal transistor so as to generate the delay of the preset period (first period) described above. The channel width (W) is set narrow.

これにより、PMOSトランジスタ312及び313は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルになった場合に、ノードN11に供給する電流を制限する。そのため、ノードN11の電圧は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルになった場合に、上述した予め設定された期間(第1の期間)かけて、インバータ回路316の閾値電圧(スレッシュホールド電圧Vth)に到達する。   Thus, the PMOS transistors 312 and 313 limit the current supplied to the node N11 when the test enable signal TSTEN becomes L level. Therefore, the voltage of the node N11 is equal to the threshold voltage (threshold voltage Vth) of the inverter circuit 316 over the preset period (first period) described above when the test enable signal TSTEN becomes L level. To reach.

また、NMOSトランジスタ314は、ソース端子がグランド電源線に、ゲート端子がノードN5に、ドレイン端子がノードN11にそれぞれ接続されている。これにより、NMOSトランジスタ314は、テストイネーブル信号TSTENがLレベルになった場合に、非導通状態になり、テストイネーブル信号TSTENがHレベルになった場合に、導通状態になる。すなわち、NMOSトランジスタ314は、テストイネーブル信号TSTENがHレベルになった場合に、ノードN11の電圧をLレベルにする。   The NMOS transistor 314 has a source terminal connected to the ground power supply line, a gate terminal connected to the node N5, and a drain terminal connected to the node N11. Thereby, the NMOS transistor 314 becomes non-conductive when the test enable signal TSTEN becomes L level, and becomes conductive when the test enable signal TSTEN becomes H level. That is, the NMOS transistor 314 sets the voltage of the node N11 to L level when the test enable signal TSTEN becomes H level.

スイッチ部80は、遅延初期化回路40から出力される遅延初期化信号DLYINITに基づいて、遅延回路部70の出力を初期化する。すなわち、スイッチ部80は、遅延初期化回路40から出力される遅延初期化信号DLYINITに基づいて、遅延回路部70の出力電圧を初期電圧(グランド電源線の電位)に戻す。ここで、遅延回路部70の出力を初期化するとは、遅延回路部70の出力をグランド電源線の電位にすることである。すなわち、スイッチ部80は、遅延初期化信号DLYINITがHレベルになった場合に、ノードN11の電圧をLレベルにする。また、スイッチ部80は、遅延初期化信号DLYINITがLレベルになった場合に、遅延回路部70のPMOSトランジスタ312及び313に駆動電圧電源線から電流を供給する。
スイッチ部80は、PMOSトランジスタ311及びNMOSトランジスタ315を備えている。
The switch unit 80 initializes the output of the delay circuit unit 70 based on the delay initialization signal DLYINIT output from the delay initialization circuit 40. That is, the switch unit 80 returns the output voltage of the delay circuit unit 70 to the initial voltage (the potential of the ground power supply line) based on the delay initialization signal DLYINIT output from the delay initialization circuit 40. Here, to initialize the output of the delay circuit unit 70 is to set the output of the delay circuit unit 70 to the potential of the ground power supply line. That is, the switch unit 80 sets the voltage at the node N11 to L level when the delay initialization signal DLYINIT becomes H level. Further, the switch unit 80 supplies current from the drive voltage power supply line to the PMOS transistors 312 and 313 of the delay circuit unit 70 when the delay initialization signal DLYINIT becomes L level.
The switch unit 80 includes a PMOS transistor 311 and an NMOS transistor 315.

PMOSトランジスタ311は、ソース端子が駆動電圧電源線に、ゲート端子が遅延初期化信号DLYINITの信号線であるノードN8に、ドレイン端子がノードN9にそれぞれ接続されている。PMOSトランジスタ311は、遅延初期化信号DLYINITがLレベルになった場合に導通状態になり、遅延初期化信号DLYINITがHレベルになった場合に非導通状態になる。
NMOSトランジスタ315は、ソース端子がグランド電源線に、ゲート端子が遅延初期化信号DLYINITの信号線であるノードN8に、ドレイン端子がノードN11にそれぞれ接続されている。NMOSトランジスタ315は、遅延初期化信号DLYINITがLレベルになった場合に非導通状態になり、遅延初期化信号DLYINITがHレベルになった場合に導通状態になる。これにより、NMOSトランジスタ315は、遅延初期化信号DLYINITがHレベルになった場合に、ノードN11の電圧をLレベルにし、遅延回路部70の出力を初期化する。
The PMOS transistor 311 has a source terminal connected to the drive voltage power supply line, a gate terminal connected to the node N8 which is a signal line of the delayed initialization signal DLYINIT, and a drain terminal connected to the node N9. The PMOS transistor 311 becomes conductive when the delay initialization signal DLYINIT becomes L level, and becomes non-conductive when the delay initialization signal DLYINIT becomes H level.
The NMOS transistor 315 has a source terminal connected to the ground power supply line, a gate terminal connected to the node N8 which is a signal line of the delay initialization signal DLYINIT, and a drain terminal connected to the node N11. The NMOS transistor 315 becomes non-conductive when the delay initialization signal DLYINIT becomes L level, and becomes conductive when the delay initialization signal DLYINIT becomes H level. Thus, when the delay initialization signal DLYINIT becomes H level, the NMOS transistor 315 sets the voltage of the node N11 to L level and initializes the output of the delay circuit unit 70.

インバータ回路316は、入力端子がノードN11に接続され、出力端子がインバータ回路31の入力端子に接続されている。インバータ回路316は、上述した閾値電圧(スレッシュホールド電圧Vth)に基づいて、遅延回路部70の出力信号を論理反転した信号をインバータ回路32に出力する。   The inverter circuit 316 has an input terminal connected to the node N11 and an output terminal connected to the input terminal of the inverter circuit 31. The inverter circuit 316 outputs a signal obtained by logically inverting the output signal of the delay circuit unit 70 to the inverter circuit 32 based on the threshold voltage (threshold voltage Vth) described above.

次に、本実施形態における半導体装置100の動作について説明する。
ます、一例として、半導体装置100がCAトレーニングテストを実行する場合の動作の概要について説明する。
Next, the operation of the semiconductor device 100 in this embodiment will be described.
As an example, an outline of an operation when the semiconductor device 100 executes a CA training test will be described.

図4は、本実施形態における半導体装置100のCAトレーニングテストの動作を示すタイムチャートである。
この図において、縦軸は、上から順に、クロック信号CK、アドレス信号ADDの一部を示す信号CA、チップセレクト信号CSN、クロックイネーブル信号CKE、入出力信号DQの偶数ビット信号(EvenDQ)及び奇数ビット信号(OddDQ)を示している。また、横軸は、時間tを示している。
FIG. 4 is a time chart showing the operation of the CA training test of the semiconductor device 100 in this embodiment.
In this figure, the vertical axis indicates, in order from the top, the clock signal CK, the signal CA indicating a part of the address signal ADD, the chip select signal CSN, the clock enable signal CKE, the even bit signal (EvenDQ) of the input / output signal DQ, and the odd number. A bit signal (OddDQ) is shown. The horizontal axis indicates time t.

まず、CAトレーニングテストを実行する場合に、半導体装置100は、テストモードにエントリするコマンド信号CMDが外部から入力され、通常の動作モードからCAトレーニングのテストモードに遷移する。ここで、通常の動作モードとは、テストモードを使用しない通常の使用における動作モードのことである。   First, when the CA training test is executed, the semiconductor device 100 receives the command signal CMD for entering the test mode from the outside, and transitions from the normal operation mode to the CA training test mode. Here, the normal operation mode is an operation mode in normal use that does not use the test mode.

時刻T1において、半導体装置100は、CAトレーニングのテストモードにエントリするコマンド信号CMDが外部から入力される。ここでは、信号CAに“MRW#41”が入力され、チップセレクト信号CSNがLレベルにされる。
これにより、モードレジスタ85の“MRW#41”に対応する信号を更新され、モードレジスタ85は、CAトレーニングテストを開始させる要求信号MRW#41をテスト信号発生回路1に供給する。
テスト信号発生回路1は、要求信号MRW#41に基づいて生成されたテストモードエントリ信号により、内部のラッチがセットされ、テストイネーブル信号TSTENをテスト回路2に出力する。これにより、テスト回路2は、信号ODISをLレベルにして、出力回路111の出力である入出力信号DQをLow−Z状態に制御する。
At time T1, the semiconductor device 100 receives a command signal CMD for entering the CA training test mode from the outside. Here, “MRW # 41” is input to signal CA, and chip select signal CSN is set to L level.
As a result, the signal corresponding to “MRW # 41” in the mode register 85 is updated, and the mode register 85 supplies the test signal generation circuit 1 with the request signal MRW # 41 for starting the CA training test.
The test signal generation circuit 1 sets an internal latch by a test mode entry signal generated based on the request signal MRW # 41 and outputs a test enable signal TSTEN to the test circuit 2. Accordingly, the test circuit 2 sets the signal ODIS to the L level and controls the input / output signal DQ, which is the output of the output circuit 111, to the Low-Z state.

次に、クロックイネーブル信号CKE及びチップセレクト信号CSNがLレベルに入力され、信号CAにデータが入力されると、半導体装置100は、入力されたデータに対応したデータをLow−Z状態において、入出力信号DQ(EvenDQ,OddDQ)に出力する。これにより、半導体装置100は、CAトレーニングテストが実行される。   Next, when the clock enable signal CKE and the chip select signal CSN are input to the L level and data is input to the signal CA, the semiconductor device 100 inputs the data corresponding to the input data in the Low-Z state. Output to output signal DQ (EvenDQ, OddDQ). Thereby, the CA training test is executed on the semiconductor device 100.

例えば、時刻T2及びT3において、信号CAにデータ“CAxR”及び“CAxR#”を入力された場合には、半導体装置100は、時刻T4において、データ“CAxR”及び“CAxR#”を入出力信号EvenDQ及びOddDQに出力する。
また、例えば、時刻T5及びT6において、信号CAにデータ“CAyR”及び“CAyR#”を入力された場合には、半導体装置100は、時刻T7において、データ“CAyR”及び“CAyR#”を入出力信号EvenDQ及びOddDQに出力する。
For example, when data “CAxR” and “CAxR #” are input to the signal CA at times T2 and T3, the semiconductor device 100 outputs the data “CAxR” and “CAxR #” to the input / output signals at time T4. Output to EvenDQ and OddDQ.
For example, when data “CAyR” and “CAyR #” are input to the signal CA at times T5 and T6, the semiconductor device 100 inputs the data “CAyR” and “CAyR #” at time T7. Output to the output signals EvenDQ and OddDQ.

次に、CAトレーニングテストを終了する場合に、半導体装置100は、テストモードに解除するコマンド信号CMDが外部から入力され、CAトレーニングのテストモードから通常の動作モードに遷移する。   Next, when the CA training test is finished, the semiconductor device 100 receives a command signal CMD for canceling the test mode from the outside, and transitions from the CA training test mode to the normal operation mode.

時刻T8において、半導体装置100は、CAトレーニングのテストモードを解除するコマンド信号CMDが外部から入力される。ここでは、信号CAに“MRW#42”が入力され、チップセレクト信号CSNがLレベルにされる。
これにより、モードレジスタ85の“MRW#42”に対応する信号を更新され、モードレジスタ85は、CAトレーニングテストを終了させる要求信号MRW#42をテスト信号発生回路1に供給する。
テスト信号発生回路1は、要求信号MRW#42に基づいて生成されたテストモードエントリ信号により、内部のラッチがリセットされ、CAトレーニングのテストモードを解除する。これにより、半導体装置100は、時刻T9において、入出力信号EvenDQ及びOddDQをHi−Z状態(ここではdon't care)にする。
At time T8, semiconductor device 100 receives externally a command signal CMD for canceling the CA training test mode. Here, “MRW # 42” is input to signal CA, and chip select signal CSN is set to L level.
As a result, the signal corresponding to “MRW # 42” in the mode register 85 is updated, and the mode register 85 supplies the test signal generation circuit 1 with a request signal MRW # 42 for ending the CA training test.
The test signal generation circuit 1 resets the internal latch by the test mode entry signal generated based on the request signal MRW # 42, and cancels the CA training test mode. Thereby, the semiconductor device 100 sets the input / output signals EvenDQ and OddDQ to the Hi-Z state (here, don't care) at time T9.

次に、本実施形態におけるテスト信号発生回路1の動作について説明する。
図5は、本実施形態におけるテスト信号発生回路1の電源投入時の動作を示すタイムチャートである。ここでは、電源投入時に、CAトレーニングのテストモードに誤ってエントリされてしまった場合の一例について説明する。
この図において、縦軸は、上から順に、電源電圧Power、クロックイネーブル信号CKE、チップセレクト信号CSN、上述した信号CA、テストイネーブル信号TSTEN、遅延初期化信号DLYINIT、Delay回路31内のノードN11における信号、リセット信号TRST、信号ODIS、出力回路111の出力信号Doutを示している。また、横軸は、時間tを示している。
Next, the operation of the test signal generation circuit 1 in this embodiment will be described.
FIG. 5 is a time chart showing the operation of the test signal generation circuit 1 according to this embodiment when the power is turned on. Here, an example will be described in which, when the power is turned on, the CA training test mode is erroneously entered.
In this figure, the vertical axis indicates the power supply voltage Power, the clock enable signal CKE, the chip select signal CSN, the signal CA, the test enable signal TSTEN, the delay initialization signal DLYINIT, and the node N11 in the delay circuit 31 in order from the top. A signal, a reset signal TRST, a signal ODIS, and an output signal Dout of the output circuit 111 are shown. The horizontal axis indicates time t.

半導体装置100に電源電圧Powerが供給され、CAトレーニングのテストモードに誤ってエントリされてしまった場合、半導体装置100は、内部のテストイネーブル信号TSTENがLレベルの状態となる。すなわち、この状態(時刻T11)において、テスト信号発生回路1のラッチ10は、テストイネーブル信号TSTENにLレベルを出力している。そのため、テスト回路2は、信号ODISにLレベルを出力し、出力回路111は、出力信号DoutをLow−Z状態にする。
なお、時刻T11において、テスト信号発生回路1は、クロックイネーブル信号CKEにLレベルが、チップセレクト信号CSNにHレベルが入力されている。
When the power supply voltage Power is supplied to the semiconductor device 100 and it is erroneously entered into the CA training test mode, the internal test enable signal TSTEN of the semiconductor device 100 is in the L level state. That is, in this state (time T11), the latch 10 of the test signal generation circuit 1 outputs the L level to the test enable signal TSTEN. Therefore, the test circuit 2 outputs L level to the signal ODIS, and the output circuit 111 sets the output signal Dout to the Low-Z state.
At time T11, the test signal generation circuit 1 receives the L level as the clock enable signal CKE and the H level as the chip select signal CSN.

また、テストイネーブル信号TSTENをLレベルにあるため、リセット信号生成回路30のDelay回路31は、テストイネーブル信号TSTENの遅延した信号の生成を開始する。その結果、Delay回路31の遅延回路部70は、ノードN11の電圧を上昇させる。   Since the test enable signal TSTEN is at the L level, the delay circuit 31 of the reset signal generation circuit 30 starts generating a delayed signal of the test enable signal TSTEN. As a result, the delay circuit unit 70 of the delay circuit 31 increases the voltage of the node N11.

次に、時刻T11から上述した予め設定された期間(第1の期間DLY1)経過した時刻T12において、ノードN11の電圧がインバータ回路316のスレッシュホールド電圧Vthに到達し、リセット信号生成回路30は、リセット信号TRSTをLレベルからHレベルに遷移させる。   Next, at time T12 when the above-described preset period (first period DLY1) has elapsed from time T11, the voltage at the node N11 reaches the threshold voltage Vth of the inverter circuit 316, and the reset signal generation circuit 30 The reset signal TRST is changed from L level to H level.

そのため、時刻T12において、ラッチ10がリセットされ、テスト信号発生回路1は、テストイネーブル信号TSTENをLレベルからHレベルに遷移させる。そのため、テスト回路2は、信号ODISにLレベルからHレベルに遷移させ(時刻T13)、出力回路111は、出力信号DoutをHi−Z状態にする(時刻T14)。   Therefore, at time T12, the latch 10 is reset, and the test signal generation circuit 1 changes the test enable signal TSTEN from the L level to the H level. Therefore, the test circuit 2 changes the signal ODIS from the L level to the H level (time T13), and the output circuit 111 sets the output signal Dout to the Hi-Z state (time T14).

このように、半導体装置100では、誤ってエントリされたCAトレーニングのテストモードが自動的に解除され、テストモードから通常の動作モードに遷移する。すなわち、時刻T13以降において、半導体装置100は、通常の動作モードにより動作する。
例えば、時刻T15において、クロックイネーブル信号CKEがLレベルからHレベルに遷移された場合、出力回路111は、通常の動作モードにおける動作として、出力信号DoutをHi−Z状態からLow−Z状態にする。
As described above, in the semiconductor device 100, the test mode of the CA training that is erroneously entered is automatically canceled, and the test mode is changed to the normal operation mode. That is, after time T13, the semiconductor device 100 operates in the normal operation mode.
For example, when the clock enable signal CKE transitions from the L level to the H level at time T15, the output circuit 111 changes the output signal Dout from the Hi-Z state to the Low-Z state as an operation in the normal operation mode. .

図6は、本実施形態におけるテスト信号発生回路1のテストモード時の動作を示すタイムチャートである。ここでは、テストモードの一例として、CAトレーニングのテストモードにエントリする場合の一例について説明する。   FIG. 6 is a time chart showing the operation of the test signal generation circuit 1 in the present embodiment in the test mode. Here, as an example of the test mode, an example in the case of entering the CA training test mode will be described.

この図において、縦軸は、上から順に、電源電圧Power、クロックイネーブル信号CKE、チップセレクト信号CSN、上述した信号CA、要求信号MRW#41、テストモードエントリ信号、テストイネーブル信号TSTEN、遅延初期化信号DLYINIT、Delay回路31内のノードN11における信号、リセット信号TRST、信号ODIS、出力回路111の出力信号Doutを示している。また、横軸は、時間tを示している。   In this figure, the vertical axis indicates the power supply voltage Power, the clock enable signal CKE, the chip select signal CSN, the signal CA, the request signal MRW # 41, the test mode entry signal, the test enable signal TSTEN, and the delay initialization in order from the top. The signal DLYINIT, the signal at the node N11 in the delay circuit 31, the reset signal TRST, the signal ODIS, and the output signal Dout of the output circuit 111 are shown. The horizontal axis indicates time t.

時刻T21において、半導体装置100は、CAトレーニングのテストモードにエントリするコマンド信号CMDが外部から入力される。なお、時刻T21において、テスト信号発生回路1は、クロックイネーブル信号CKEにHレベルが入力されている。   At time T21, the semiconductor device 100 receives the command signal CMD for entering the CA training test mode from the outside. Note that at time T21, the test signal generation circuit 1 receives the H level as the clock enable signal CKE.

ここでは、信号CAに“MRW#41”が入力され、チップセレクト信号CSNがLレベルにされる。これにより、モードレジスタ85は、要求信号MRW#41をテスト信号発生回路1に出力する。すなわち、モードレジスタ85は、要求信号MRW#41をLレベルからHレベルに遷移させる。テスト信号発生回路1のエントリ信号生成回路50は、要求信号MRW#41がLレベルからHレベルに遷移されるとパルス信号を生成し、生成したパルス信号をテストモードエントリ信号としてラッチ10に出力する。
これにより、ラッチ10がセットされ、ラッチ10は、テストイネーブル信号TSTENをHレベルからLレベルに遷移させる。テスト回路2は、テストイネーブル信号TSTENがHレベルからLレベルに遷移することにより、信号ODISをLレベルに維持し、出力回路111は、出力信号DoutをLow−Z状態に維持する。
Here, “MRW # 41” is input to signal CA, and chip select signal CSN is set to L level. Thereby, mode register 85 outputs request signal MRW # 41 to test signal generation circuit 1. That is, mode register 85 changes request signal MRW # 41 from the L level to the H level. The entry signal generation circuit 50 of the test signal generation circuit 1 generates a pulse signal when the request signal MRW # 41 transitions from L level to H level, and outputs the generated pulse signal to the latch 10 as a test mode entry signal. .
As a result, the latch 10 is set, and the latch 10 changes the test enable signal TSTEN from the H level to the L level. The test circuit 2 maintains the signal ODIS at the L level when the test enable signal TSTEN transitions from the H level to the L level, and the output circuit 111 maintains the output signal Dout in the Low-Z state.

また、テストイネーブル信号TSTENがLレベルになることにより、遅延初期化回路40は、遅延初期化信号DLYINITとしてパルス信号をノードN8に出力する。これにより、リセット信号生成回路30は、遅延動作が初期化されて遅延回路部70の出力を初期化する。すなわち、パルス信号により遅延初期化信号DLYINITがHレベルになると、Delay回路31のPMOSトランジスタ311が非導通状態になり、NMOSトランジスタ315が導通状態になる。これにより、遅延回路部70に電流の供給が停止され、NMOSトランジスタ315が、ノードN11の電荷をグランド電源線に放電し、遅延回路部70の出力を初期化する。すなわち、NMOSトランジスタ315が、ノードN11の電圧である遅延回路部70の出力電圧を初期電圧(グランド電源線の電位)に戻す。   Further, when the test enable signal TSTEN becomes L level, the delay initialization circuit 40 outputs a pulse signal to the node N8 as the delay initialization signal DLYINIT. As a result, the reset signal generation circuit 30 initializes the delay operation and initializes the output of the delay circuit unit 70. That is, when the delay initialization signal DLYINIT is set to the H level by the pulse signal, the PMOS transistor 311 of the delay circuit 31 is turned off and the NMOS transistor 315 is turned on. As a result, the supply of current to the delay circuit unit 70 is stopped, and the NMOS transistor 315 discharges the charge of the node N11 to the ground power supply line, and initializes the output of the delay circuit unit 70. That is, the NMOS transistor 315 returns the output voltage of the delay circuit unit 70, which is the voltage of the node N11, to the initial voltage (the potential of the ground power supply line).

また、パルス信号により遅延初期化信号DLYINITがLレベルになると、Delay回路31のPMOSトランジスタ311が導通状態になり、NMOSトランジスタ315が非導通状態になる。これにより、遅延回路部70に電流が供給される。ここで、テストイネーブル信号TSTENがLレベルにあるため、遅延回路部70は、PMOSトランジスタ312,313が導通状態、NMOSトランジスタ314が非導通状態である。そのため、遅延回路部70の出力であるノードN11は、PMOSトランジスタ312,313によって電荷が充電され、電圧が上昇する。   Further, when the delay initialization signal DLYINIT is set to L level by the pulse signal, the PMOS transistor 311 of the delay circuit 31 is turned on and the NMOS transistor 315 is turned off. As a result, a current is supplied to the delay circuit unit 70. Here, since the test enable signal TSTEN is at the L level, in the delay circuit unit 70, the PMOS transistors 312 and 313 are in a conductive state and the NMOS transistor 314 is in a non-conductive state. Therefore, the node N11 that is the output of the delay circuit unit 70 is charged by the PMOS transistors 312 and 313, and the voltage rises.

次に、時刻T22において、クロックイネーブル信号CKEがHレベルからLレベルに遷移される。この場合、半導体装置100は、CAトレーニングのテストモードの状態であるテストイネーブル信号TSTENがLレベルにあるため、出力回路111は、出力信号DoutをLow−Z状態に維持する。   Next, at time T22, the clock enable signal CKE transitions from the H level to the L level. In this case, since the test enable signal TSTEN in the CA training test mode is at the L level in the semiconductor device 100, the output circuit 111 maintains the output signal Dout in the Low-Z state.

次に、時刻T23において、チップセレクト信号CSNがHレベルからLレベルに遷移されると、テスト信号発生回路1の遅延初期化回路40は、遅延初期化信号DLYINITとしてパルス信号をノードN8に出力する。リセット信号生成回路30は、遅延初期化信号DLYINITにより遅延動作が初期化されて、遅延回路部70の出力を初期化する。これにより、リセット信号生成回路30は、リセット信号TRSTをLレベルに維持するため、ラッチ10は、テストイネーブル信号TSTENをLレベルに維持する。なお、遅延初期化信号DLYINITは、ラッチ10をセットする信号としてラッチ10に供給されるため、ラッチ10は、遅延初期化信号DLYINITに基づいて、再セットされ、テストイネーブル信号TSTENをLレベルに維持する。   Next, when the chip select signal CSN transitions from the H level to the L level at time T23, the delay initialization circuit 40 of the test signal generation circuit 1 outputs a pulse signal to the node N8 as the delay initialization signal DLYINIT. . The reset signal generation circuit 30 initializes the delay operation by the delay initialization signal DLYINIT, and initializes the output of the delay circuit unit 70. Thereby, the reset signal generation circuit 30 maintains the reset signal TRST at the L level, and the latch 10 maintains the test enable signal TSTEN at the L level. Since the delay initialization signal DLYINIT is supplied to the latch 10 as a signal for setting the latch 10, the latch 10 is reset based on the delay initialization signal DLYINIT, and the test enable signal TSTEN is maintained at the L level. To do.

次に、チップセレクト信号CSNがLレベルにある状態において、信号CAにデータ“CAxR”及び“CAxR#”が入力される。この場合、半導体装置100は、時刻T23から期間DLY2遅延した時刻T24において、データ“CAxR”及び“CAxR#”に対応するデータを出力回路111の出力信号Doutに出力する。なお、チップセレクト信号CSNは、信号CAにデータ“CAxR”及び“CAxR#”が入力された後に、LレベルからHレベルに遷移される。すなわち、ここでは、チップセレクト信号CSNはトグル信号である。   Next, in a state where the chip select signal CSN is at the L level, data “CAxR” and “CAxR #” are input to the signal CA. In this case, the semiconductor device 100 outputs data corresponding to the data “CAxR” and “CAxR #” to the output signal Dout of the output circuit 111 at a time T24 delayed by a period DLY2 from the time T23. The chip select signal CSN transitions from the L level to the H level after the data “CAxR” and “CAxR #” are input to the signal CA. That is, here, the chip select signal CSN is a toggle signal.

同様に、時刻T25において、チップセレクト信号CSNがHレベルからLレベルに遷移されると、遅延初期化回路40は、再び遅延初期化信号DLYINITとしてパルス信号をノードN8に出力する。リセット信号生成回路30は、遅延初期化信号DLYINITにより遅延動作が初期化されて、遅延回路部70の出力を初期化する。これにより、リセット信号生成回路30は、リセット信号TRSTをLレベルに維持するため、ラッチ10は、テストイネーブル信号TSTENをLレベルに維持する。   Similarly, when chip select signal CSN transitions from H level to L level at time T25, delay initialization circuit 40 again outputs a pulse signal to node N8 as delay initialization signal DLYINIT. The reset signal generation circuit 30 initializes the delay operation by the delay initialization signal DLYINIT, and initializes the output of the delay circuit unit 70. Thereby, the reset signal generation circuit 30 maintains the reset signal TRST at the L level, and the latch 10 maintains the test enable signal TSTEN at the L level.

次に、予め設定された期間(第1の期間DLY1)、チップセレクト信号CSNがトグルされなかった場合に、時刻T26において、ノードN11の電圧がインバータ回路316のスレッシュホールド電圧Vthに到達する。これにより、リセット信号生成回路30は、リセット信号TRSTをLレベルからHレベルに遷移させて、ラッチ10をリセットする。テスト信号発生回路1は、テストイネーブル信号TSTENをLレベルからHレベルに遷移させる。すなわち、時刻T26において、半導体装置100は、CAトレーニングのテストモードが解除される。そのため、テスト回路2は、信号ODISにHレベルを出力し、出力回路111は、出力信号DoutをHi−Z状態にする。ここで、時刻T21から時刻T26の期間P1が、CAトレーニングのテストモードの期間となる。   Next, when the chip select signal CSN is not toggled during a preset period (first period DLY1), the voltage at the node N11 reaches the threshold voltage Vth of the inverter circuit 316 at time T26. Thereby, the reset signal generation circuit 30 changes the reset signal TRST from the L level to the H level to reset the latch 10. The test signal generation circuit 1 changes the test enable signal TSTEN from L level to H level. That is, at time T26, the semiconductor device 100 is released from the CA training test mode. Therefore, the test circuit 2 outputs the H level to the signal ODIS, and the output circuit 111 sets the output signal Dout to the Hi-Z state. Here, the period P1 from the time T21 to the time T26 is a period of the CA training test mode.

次に、エントリ信号生成回路50が、テストモードエントリ信号として、パルス信号を生成する動作について説明する。
図7は、本実施形態におけるエントリ信号生成回路50の動作を示すタイムチャートである。
この図において、縦軸は、上から順に、要求信号MRW#41、ノードN1における信号、ノードN2における信号(テストモードエントリ信号)を示している。また、横軸は、時間tを示している。
Next, an operation in which the entry signal generation circuit 50 generates a pulse signal as a test mode entry signal will be described.
FIG. 7 is a time chart showing the operation of the entry signal generation circuit 50 in the present embodiment.
In this figure, the vertical axis indicates, in order from the top, the request signal MRW # 41, the signal at the node N1, and the signal at the node N2 (test mode entry signal). The horizontal axis indicates time t.

時刻T31において、要求信号MRW#41がLレベルからHレベルに遷移されると、エントリ信号生成回路50のNAND回路54及びインバータ回路55は、要求信号MRW#41とノードN1における信号とを論理積演算する。ここでは、インバータ回路55は、ノードN2における信号であるテストモードエントリ信号をLレベルからHレベルに遷移させる。   When the request signal MRW # 41 transits from the L level to the H level at time T31, the NAND circuit 54 and the inverter circuit 55 of the entry signal generation circuit 50 AND the request signal MRW # 41 and the signal at the node N1. Calculate. Here, inverter circuit 55 changes the test mode entry signal, which is a signal at node N2, from L level to H level.

インバータ回路51〜53は、それぞれ入力端子に入力された信号に対して、所定の遅延時間遅延して出力信号を出力するため、時刻T32において、インバータ回路53は、要求信号MRW#41を予め設定された期間(第2の期間DLY3)遅延されている論理反転された遅延信号を出力する。すなわち、インバータ回路53は、時刻T32において、ノードN1における信号をHレベルからLレベルに遷移させる。これにより、NAND回路54の出力が論理反転し、インバータ回路55は、ノードN2における信号であるテストモードエントリ信号をHレベルからLレベルに遷移させる。
このように、エントリ信号生成回路50は、要求信号MRW#41がLレベルからHレベルに遷移した場合に、予め設定された期間(第2の期間DLY3)のパルス幅を有するパルス信号を生成して、ノードN2にテストモードエントリ信号として出力する。
Since the inverter circuits 51 to 53 output the output signal with a predetermined delay time delayed with respect to the signals input to the input terminals, the inverter circuit 53 sets the request signal MRW # 41 in advance at time T32. A delayed signal that is logically inverted and delayed for a predetermined period (second period DLY3). That is, inverter circuit 53 causes the signal at node N1 to transition from the H level to the L level at time T32. As a result, the output of NAND circuit 54 is logically inverted, and inverter circuit 55 causes the test mode entry signal, which is a signal at node N2, to transition from the H level to the L level.
In this way, the entry signal generation circuit 50 generates a pulse signal having a pulse width of a preset period (second period DLY3) when the request signal MRW # 41 transitions from the L level to the H level. And output as a test mode entry signal to the node N2.

なお、解除信号生成回路60及び遅延初期化回路40のインバータ回路42〜44,46、及びNAND回路45は、エントリ信号生成回路50と同様の回路構成であり、エントリ信号生成回路50と同様の動作により、パルス信号を生成する。   The release signal generation circuit 60, the inverter circuits 42 to 44 and 46 of the delay initialization circuit 40, and the NAND circuit 45 have the same circuit configuration as the entry signal generation circuit 50, and the same operation as the entry signal generation circuit 50. Thus, a pulse signal is generated.

以上、説明したように、本実施形態における半導体装置100は、テスト信号発生回路1が、内部回路をテストするテスト回路2に対してテストを開始させるテストモードエントリ信号が入力されると、テストモードエントリ信号により内部のラッチ10をセットする。テスト信号発生回路1は、テスト回路2に対し、テスト回路2の駆動を許可するテストイネーブル信号TSTENをラッチ10から出力する。また、テスト信号発生回路1は、リセット信号生成回路30と、遅延初期化回路40とを有している。リセット信号生成回路30は、ラッチ10がテストイネーブル信号TSTENを出力している場合、テストイネーブル信号TSTENを遅延させて、ラッチ10をリセットするリセット信号TRSTを生成する。遅延初期化回路40は、ラッチ10がテストイネーブル信号TSTENを出力している場合に、外部から供給されるトグル信号(チップセレクト信号CSN)に基づいて、リセット信号生成回路30によるリセット信号TRSTを生成する動作を初期化する遅延初期化信号DLYINITを出力する。   As described above, in the semiconductor device 100 according to the present embodiment, when the test signal generation circuit 1 receives the test mode entry signal that starts the test for the test circuit 2 that tests the internal circuit, The internal latch 10 is set by the entry signal. The test signal generation circuit 1 outputs from the latch 10 a test enable signal TSTEN that allows the test circuit 2 to drive the test circuit 2. The test signal generation circuit 1 includes a reset signal generation circuit 30 and a delay initialization circuit 40. When the latch 10 outputs the test enable signal TSTEN, the reset signal generation circuit 30 delays the test enable signal TSTEN and generates a reset signal TRST that resets the latch 10. When the latch 10 outputs the test enable signal TSTEN, the delay initialization circuit 40 generates the reset signal TRST by the reset signal generation circuit 30 based on the toggle signal (chip select signal CSN) supplied from the outside. A delay initialization signal DLYINIT for initializing the operation to be performed is output.

これにより、半導体装置100は、誤ってテストモードにエントリされたとしても、トグル信号が供給されない期間において、リセット信号生成回路30によってテストイネーブル信号TSTENを遅延させて生成されたリセット信号TRSTがラッチ10をリセット(解除)する。よって、半導体装置100は、誤ってテストモードにエントリされたとしても、テストモードが自動的にリセット(解除)されるので、正常に動作することができる。
また、テストモードにおける動作では、予め設定された期間(第1の期間DLY1)以内に、チップセレクト信号CSNをトグルさせることにより、遅延初期化回路40が、リセット信号生成回路30によるリセット信号TRSTを生成する動作を初期化する。そのため、半導体装置100は、テストモードが自動的にリセット(解除)されるのを防止して、正常にテストモードの動作を実行することができる。
Thus, even if the semiconductor device 100 is erroneously entered into the test mode, the reset signal TRST generated by delaying the test enable signal TSTEN by the reset signal generation circuit 30 is latched in the period when the toggle signal is not supplied. Reset (cancel). Therefore, even if the semiconductor device 100 is erroneously entered into the test mode, the test mode is automatically reset (released), and thus can operate normally.
In the operation in the test mode, the delay initialization circuit 40 generates the reset signal TRST by the reset signal generation circuit 30 by toggling the chip select signal CSN within a preset period (first period DLY1). Initialize the operation to be generated. Therefore, the semiconductor device 100 can prevent the test mode from being automatically reset (released), and can normally execute the test mode operation.

また、本実施形態では、リセット信号生成回路30は、遅延回路部70と、スイッチ部80とを備えている。遅延回路部70は、テストイネーブル信号TSTENを予め設定された期間(第1の期間DLY1)遅延させ、スイッチ部80は、遅延初期化回路40から出力される遅延初期化信号DLYINITに基づいて、遅延回路部70の出力を初期化する。例えば、遅延回路部70は、予め設定された期間(第1の期間DLY1)をかけて初期電圧から予め定められた閾値電圧(スレッシュホールド電圧Vth)に到達するように、出力信号に出力する出力電圧を変化させる。スイッチ部80は、遅延初期化回路40から出力される遅延初期化信号DLYINITに基づいて、遅延回路部70の出力電圧を初期電圧に戻す。
これにより、例えば、リセット信号生成回路30は、チップセレクト信号CSNが予め設定された期間(第1の期間DLY1)トグルされない場合に、テストモードを自動的にリセット(解除)する処理を適切に実行する。また、リセット信号生成回路30は、チップセレクト信号CSNが第1の期間DLY1以内にトグルされた場合に、テストモードを継続する処理を適切に実行する。すなわち、半導体装置100は、通常の動作においてテストモードを自動的にリセット(解除)する処理と、テストを実行するテスト動作において、テストモードを継続する処理を、簡易な構成により適切に実行することができる。
In the present embodiment, the reset signal generation circuit 30 includes a delay circuit unit 70 and a switch unit 80. The delay circuit unit 70 delays the test enable signal TSTEN for a preset period (first period DLY1), and the switch unit 80 delays based on the delay initialization signal DLYINIT output from the delay initialization circuit 40. The output of the circuit unit 70 is initialized. For example, the delay circuit unit 70 outputs the output signal so as to reach a predetermined threshold voltage (threshold voltage Vth) from the initial voltage over a preset period (first period DLY1). Change the voltage. The switch unit 80 returns the output voltage of the delay circuit unit 70 to the initial voltage based on the delay initialization signal DLYINIT output from the delay initialization circuit 40.
Thereby, for example, the reset signal generation circuit 30 appropriately executes a process of automatically resetting (releasing) the test mode when the chip select signal CSN is not toggled for a preset period (first period DLY1). To do. Further, the reset signal generation circuit 30 appropriately executes the process of continuing the test mode when the chip select signal CSN is toggled within the first period DLY1. That is, the semiconductor device 100 appropriately executes a process for automatically resetting (releasing) the test mode in a normal operation and a process for continuing the test mode in a test operation for executing a test with a simple configuration. Can do.

また、本実施形態では、遅延初期化回路40は、チップセレクト信号CSN(トグル信号)とテストイネーブル信号TSTENとに基づいて生成したパルス信号を前記遅延初期化信号として出力する。すなわち、遅延初期化回路40は、チップセレクト信号CSN(トグル信号)とテストイネーブル信号TSTENとの否定論理和演算を行う。遅延初期化回路40は、この否定論理和演算により生成された信号と、否定論理和演算により生成された信号を予め設定された期間(第4の期間)遅延させて論理反転させた信号との論理積演算によりパルス信号を生成し、生成したパルス信号を遅延初期化信号DLYINITとして出力する。
これにより、遅延初期化回路40は、テストイネーブル信号TSTENが出力されている場合(Lレベルになった場合)に、遅延初期化信号DLYINITを生成し、テストイネーブル信号TSTENが出力されていない場合(Hレベルになった場合)に遅延初期化信号DLYINITを生成しない。すなわち、半導体装置100は、テストモードにおいて遅延初期化回路40を活性化し、通常の動作において遅延初期化回路40を非活性化する。
よって、半導体装置100は、通常の動作において必要のない遅延初期化回路40を非活性化することにより、消費電力を低減することができる。
In this embodiment, the delay initialization circuit 40 outputs a pulse signal generated based on the chip select signal CSN (toggle signal) and the test enable signal TSTEN as the delay initialization signal. That is, the delay initialization circuit 40 performs a negative OR operation between the chip select signal CSN (toggle signal) and the test enable signal TSTEN. The delay initialization circuit 40 includes a signal generated by the negative OR operation and a signal obtained by logically inverting the signal generated by the negative OR operation by delaying a predetermined period (fourth period). A pulse signal is generated by a logical product operation, and the generated pulse signal is output as a delay initialization signal DLYINIT.
As a result, the delay initialization circuit 40 generates the delay initialization signal DLYINIT when the test enable signal TSTEN is output (when it becomes L level), and the test enable signal TSTEN is not output ( The delay initialization signal DLYINIT is not generated when the signal becomes H level. That is, the semiconductor device 100 activates the delay initialization circuit 40 in the test mode and deactivates the delay initialization circuit 40 in the normal operation.
Therefore, the semiconductor device 100 can reduce power consumption by deactivating the delay initialization circuit 40 that is not necessary in normal operation.

なお、本実施形態では、遅延初期化信号DLYINITが、ラッチ10をセットする信号として使用されている。この場合、半導体装置100は、通常の動作において遅延初期化回路40を非活性化することにより、誤ってテストモードにエントリされてしまう可能性を低減することができる。
また、遅延初期化回路40は、遅延信号を利用することにより、簡易な構成によりパルス信号を生成することができる。
In the present embodiment, the delay initialization signal DLYINIT is used as a signal for setting the latch 10. In this case, the semiconductor device 100 can reduce the possibility of being erroneously entered into the test mode by deactivating the delay initialization circuit 40 in a normal operation.
Further, the delay initialization circuit 40 can generate a pulse signal with a simple configuration by using the delay signal.

また、本実施形態では、ラッチ10は、テストモードエントリ信号、又は遅延初期化信号DLYINITによりセットされ、テスト回路2に対してテストを終了させるテストモード解除信号、又はリセット信号TRSTによりリセットされる。
遅延初期化信号DLYINITによりラッチ10がセットされるので、半導体装置100は、予め設定された期間(第1の期間DLY1)以内に、チップセレクト信号CSNをトグルさせることにより、確実にテストモードを維持することができる。また、テストモード解除信号によりラッチ10がリセットされるので、半導体装置100は、例えば、外部からのコマンド処理により、テストモードを解除することができる。
Further, in the present embodiment, the latch 10 is set by the test mode entry signal or the delay initialization signal DLYINIT, and is reset by the test mode cancel signal for resetting the test circuit 2 or the reset signal TRST.
Since the latch 10 is set by the delay initialization signal DLYINIT, the semiconductor device 100 reliably maintains the test mode by toggling the chip select signal CSN within a preset period (first period DLY1). can do. Further, since the latch 10 is reset by the test mode release signal, the semiconductor device 100 can release the test mode by, for example, an external command process.

また、本実施形態では、テスト信号発生回路1は、エントリ信号生成回路50と、解除信号生成回路60とを備えている。エントリ信号生成回路50は、テストを開始させる要求信号MRW#41を予め設定された期間(第2の期間)遅延させて論理反転させた信号と、テストを開始させる要求信号MRW#41との論理積演算を行う。そして、エントリ信号生成回路50は、この論理積演算により生成したパルス信号をテストモードエントリ信号として出力する。また、解除信号生成回路60は、テストを終了させる要求信号MRW#42を予め設定された期間(第3の期間)遅延させて論理反転させた信号と、テストを終了させる要求信号MRW#42との論理積演算を行う。そして、解除信号生成回路60は、この論理積演算により生成したパルス信号をテストモード解除信号として出力する。
これにより、テスト信号発生回路1は、テストモードエントリ信号及びテストモード解除信号としてパルス信号を簡易な構成により生成することができる。
In the present embodiment, the test signal generation circuit 1 includes an entry signal generation circuit 50 and a release signal generation circuit 60. The entry signal generation circuit 50 calculates the logic of a signal obtained by logically inverting the request signal MRW # 41 for starting the test by delaying a predetermined period (second period) and the request signal MRW # 41 for starting the test. Perform product operation. Then, the entry signal generation circuit 50 outputs the pulse signal generated by the logical product operation as a test mode entry signal. Further, the release signal generation circuit 60 delays the request signal MRW # 42 for ending the test by a predetermined period (third period) and logically inverts the request signal MRW # 42 for ending the test. Perform the logical AND operation. Then, the release signal generation circuit 60 outputs the pulse signal generated by the logical product operation as a test mode release signal.
Thereby, the test signal generation circuit 1 can generate a pulse signal as a test mode entry signal and a test mode release signal with a simple configuration.

なお、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更可能である。
上記の実施形態において、テスト信号発生回路1は、CAトレーニングのテストモードにエントリする形態を説明したが、他のテストモードにエントリする形態でもよい。また、半導体装置100は、テストモードの数に応じて複数のテスト信号発生回路1を備える形態でもよい。
また、上記の実施形態において、遅延初期化回路40、エントリ信号生成回路50、及び解除信号生成回路60は、3段の直列接続されたインバータ回路の遅延により、パルス信号を生成している形態を説明したが、これに限定されるものではない。ラッチ10のセット又はリセットに必要なパルス幅やインバータ回路の遅延量に応じて、直列接続するインバータ回路の段数を変更してもよい。
In addition, this invention is not limited to said embodiment, It can change in the range which does not deviate from the meaning of this invention.
In the above embodiment, the test signal generation circuit 1 has been described as entering the test mode of CA training. However, the test signal generating circuit 1 may enter other test modes. Further, the semiconductor device 100 may include a plurality of test signal generation circuits 1 according to the number of test modes.
Further, in the above embodiment, the delay initialization circuit 40, the entry signal generation circuit 50, and the release signal generation circuit 60 generate a pulse signal by the delay of three inverter circuits connected in series. Although described, the present invention is not limited to this. The number of inverter circuits connected in series may be changed according to the pulse width necessary for setting or resetting the latch 10 and the delay amount of the inverter circuit.

また、上記の実施形態において、半導体装置100がSDRAMである形態について説明したが、他の半導体装置に適用する形態でもよい。
例えば、CPU(Central Processing Unit)、MCU(Micro Control Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、ASSP(Application Specific Standard Product)、メモリ(Memory)等の半導体装置全般に、テスト信号発生回路1を適用することができる。このような本発明が適用された半導体装置の製品形態としては、例えば、SOC(システムオンチップ)、MCP(マルチチップパッケージ)やPOP(パッケージオンパッケージ)などが挙げられる。これらの任意の製品形態、パッケージ形態を有する半導体装置に対して本発明を適用することができる。
In the above embodiment, the semiconductor device 100 is an SDRAM. However, the semiconductor device 100 may be applied to other semiconductor devices.
For example, in general semiconductor devices such as CPU (Central Processing Unit), MCU (Micro Control Unit), DSP (Digital Signal Processor), ASIC (Application Specific Integrated Circuit), ASSP (Application Specific Standard Product), and memory (Memory), The test signal generation circuit 1 can be applied. Examples of the product form of the semiconductor device to which the present invention is applied include SOC (system on chip), MCP (multichip package), POP (package on package), and the like. The present invention can be applied to a semiconductor device having any of these product forms and package forms.

また、上記の実施形態において、トランジスタは、電界効果トランジスタ(Field Effect Transistor;FET)であればよく、MOS(Metal Oxide Semiconductor)以外にもMIS(Metal-Insulator Semiconductor)、TFT(Thin Film Transistor)等の様々なFETに適用できる。更に、装置内に一部のバイポーラ型トランジスタを有してもよい。
更に、NMOSトランジスタは、第1導電型のトランジスタ、PMOSトランジスタは、第2導電型のトランジスタの代表例である。
In the above-described embodiment, the transistor may be a field effect transistor (FET), and in addition to a MOS (Metal Oxide Semiconductor), an MIS (Metal-Insulator Semiconductor), a TFT (Thin Film Transistor), and the like. It can be applied to various FETs. Furthermore, some bipolar transistors may be included in the device.
Further, the NMOS transistor is a typical example of a first conductivity type transistor, and the PMOS transistor is a typical example of a second conductivity type transistor.

1…テスト信号発生回路、2…テスト回路。10…ラッチ、11,12,41…NOR回路、21,23,32,42,43,44,46,51,52,53,55,61,62,63,65,316…インバータ回路、22,45,54,64…NAND回路、30…リセット信号生成回路、31…Delay回路、40…遅延初期化回路、50…エントリ信号生成回路、60…解除信号生成回路、70…遅延回路部、80…スイッチ部、71a,71b…クロック端子、71c…クロックイネーブル端子、72a,72b,72c,72d…コマンド端子、73…アドレス端子、74…データ入出力端子、81…コマンド入力回路、82…コマンドでコーダ、83…アドレス入力回路、84…アドレスラッチ回路、85…モードレジスタ、86…カラム系制御回路、87…ロウ系制御回路、88…ロウデコーダ、89…カラムデコーダ、90…メモリセルアレイ、91…センス回路、92…データアンプ、93…クロック入力回路、94…DLL回路、100…半導体装置、110…入出力回路、111…出力回路、112…入力回路、311,312,313…PMOSトランジスタ、314,315…NMOSトランジスタ   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Test signal generation circuit, 2 ... Test circuit. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Latch, 11, 12, 41 ... NOR circuit 21, 23, 32, 42, 43, 44, 46, 51, 52, 53, 55, 61, 62, 63, 65, 316 ... Inverter circuit, 22, 45, 54, 64 ... NAND circuit, 30 ... reset signal generation circuit, 31 ... Delay circuit, 40 ... delay initialization circuit, 50 ... entry signal generation circuit, 60 ... release signal generation circuit, 70 ... delay circuit unit, 80 ... Switch unit, 71a, 71b ... clock terminal, 71c ... clock enable terminal, 72a, 72b, 72c, 72d ... command terminal, 73 ... address terminal, 74 ... data input / output terminal, 81 ... command input circuit, 82 ... coder with command 83 ... Address input circuit, 84 ... Address latch circuit, 85 ... Mode register, 86 ... Column system control circuit, 87 ... Row system control Circuit: 88 ... Row decoder, 89 ... Column decoder, 90 ... Memory cell array, 91 ... Sense circuit, 92 ... Data amplifier, 93 ... Clock input circuit, 94 ... DLL circuit, 100 ... Semiconductor device, 110 ... I / O circuit, 111 ... Output circuit, 112 ... Input circuit, 311, 312, 313 ... PMOS transistor, 314, 315 ... NMOS transistor

Claims (7)

内部回路をテストするテスト回路に対してテストを開始させるテストモードエントリ信号が入力されたことに応じて、内部のラッチをセットすることにより、前記テスト回路に対し、前記テスト回路の駆動を許可するテストイネーブル信号を前記ラッチから出力するテスト信号発生回路を備え、
前記テスト信号発生回路が、
前記ラッチが前記テストイネーブル信号を出力している場合、前記テストイネーブル信号を遅延させて、前記ラッチをリセットするリセット信号を生成するリセット信号生成回路と、
前記ラッチが前記テストイネーブル信号を出力している場合に、外部から供給されるトグル信号に基づいて、前記リセット信号生成回路による前記リセット信号を生成する動作を初期化する遅延初期化信号を出力する遅延初期化回路と、
を有していることを特徴とする半導体装置。
The test circuit is allowed to drive the test circuit by setting an internal latch in response to the input of the test mode entry signal for starting the test to the test circuit for testing the internal circuit. A test signal generation circuit for outputting a test enable signal from the latch;
The test signal generation circuit includes:
A reset signal generating circuit for generating a reset signal for delaying the test enable signal and resetting the latch when the latch outputs the test enable signal;
When the latch outputs the test enable signal, a delay initialization signal for initializing an operation of generating the reset signal by the reset signal generation circuit is output based on a toggle signal supplied from the outside. A delay initialization circuit;
A semiconductor device comprising:
前記リセット信号生成回路は、
前記テストイネーブル信号を予め設定された期間遅延させる遅延回路部と、
前記遅延初期化回路から出力される前記遅延初期化信号に基づいて、前記遅延回路部の出力を初期化するスイッチ部と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
The reset signal generation circuit includes:
A delay circuit unit for delaying the test enable signal for a preset period;
A switch unit that initializes the output of the delay circuit unit based on the delay initialization signal output from the delay initialization circuit;
The semiconductor device according to claim 1, comprising:
前記遅延回路部は、前記予め設定された期間をかけて初期電圧から予め定められた閾値電圧に到達するように、出力信号に出力する出力電圧を変化させ、
前記スイッチ部は、前記遅延初期化回路から出力される前記遅延初期化信号に基づいて、前記出力電圧を前記初期電圧に戻す
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
The delay circuit unit changes an output voltage to be output to an output signal so as to reach a predetermined threshold voltage from an initial voltage over the preset period,
The semiconductor device according to claim 2, wherein the switch unit returns the output voltage to the initial voltage based on the delay initialization signal output from the delay initialization circuit.
前記遅延初期化回路は、
前記トグル信号と前記テストイネーブル信号とに基づいて生成したパルス信号を前記遅延初期化信号として出力する
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
The delay initialization circuit includes:
The semiconductor device according to claim 3, wherein a pulse signal generated based on the toggle signal and the test enable signal is output as the delay initialization signal.
前記遅延初期化回路は、
前記トグル信号と前記テストイネーブル信号との否定論理和演算により生成された信号と、当該否定論理和演算により生成された信号を予め設定された期間遅延させて論理反転させた信号との論理積演算によりパルス信号を生成し、生成した当該パルス信号を前記遅延初期化信号として出力する
ことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
The delay initialization circuit includes:
Logical AND operation of a signal generated by a negative OR operation of the toggle signal and the test enable signal and a signal obtained by logically inverting the signal generated by the negative OR operation by delaying a preset period. 5. The semiconductor device according to claim 4, wherein a pulse signal is generated according to claim 1 and the generated pulse signal is output as the delay initialization signal.
前記ラッチは、
前記テストモードエントリ信号、又は前記遅延初期化信号によりセットされ、前記テスト回路に対してテストを終了させるテストモード解除信号、又は前記リセット信号によりリセットされる
ことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。
The latch is
6. The test mode entry signal or the delay initialization signal is set, and the test circuit is reset by a test mode release signal or the reset signal for ending the test. Semiconductor device.
前記テスト信号発生回路は、
テストを開始させる要求信号を予め設定された期間遅延させて論理反転させた信号と、前記テストを開始させる要求信号との論理積演算により生成したパルス信号を前記テストモードエントリ信号として出力するエントリ信号生成回路と、
テストを終了させる要求信号を予め設定された期間遅延させて論理反転させた信号と、前記テストを終了させる要求信号との論理積演算により生成したパルス信号を前記テストモード解除信号として出力する解除信号生成回路と、
を備えることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
The test signal generation circuit includes:
Entry signal for outputting a pulse signal generated by a logical product operation of a signal obtained by logically inverting a request signal for starting a test by delaying a predetermined period and the request signal for starting the test as the test mode entry signal A generation circuit;
A release signal for outputting a pulse signal generated by a logical product operation of a signal obtained by logically inverting the request signal for ending the test for a predetermined period and a request signal for ending the test as the test mode release signal A generation circuit;
The semiconductor device according to claim 6, comprising:
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