JP2013020215A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Masato Kasei
正人 化生
Kazuhiro Takahashi
一博 高橋
Tokiya Kishida
旬矢 岸田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device with excellent display quality.SOLUTION: A liquid crystal display device comprises: a first switching element disposed in a first color pixel; a second switching element disposed in a second color pixel; a third switching element disposed in a third color pixel; a light-blocking layer facing the first switching element, the second switching element, and the third switching element; a first color filter disposed in the first color pixel and stacked on the light-blocking layer at a position facing the first switching element; a third color filter disposed in the third color pixel and stacked on the light-blocking layer at a position facing the second switching element and the third switching element; and a second color filter disposed in the second color pixel, overlapping with the first color filter at a position facing the first switching element, and overlapping with the third color filter at a position facing the second switching element and the third switching element.

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。   Embodiments described herein relate generally to a liquid crystal display device.

液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴を生かして、パーソナルコンピュータなどのOA機器やテレビなどの表示装置として各種分野で利用されている。近年では、液晶表示装置は、携帯電話などの携帯端末機器や、カーナビゲーション装置、ゲーム機などの表示装置としても利用されている。   Liquid crystal display devices are utilized in various fields as display devices for OA equipment such as personal computers and televisions, taking advantage of features such as light weight, thinness, and low power consumption. In recent years, liquid crystal display devices are also used as mobile terminal devices such as mobile phones, display devices such as car navigation devices and game machines.

このような液晶表示装置において、対向基板がクロム(Cr)などの金属材料からなる遮光層を備えた構成では、バックライトからの光が遮光層で反射され、アレイ基板の薄膜トランジスタ(TFT)に入射することがある。薄膜トランジスタがボトムゲート型の場合、遮光層からの反射光が半導体層に入射することにより、薄膜トランジスタの光リーク電流が問題になるおそれがある。   In such a liquid crystal display device, when the counter substrate includes a light shielding layer made of a metal material such as chromium (Cr), light from the backlight is reflected by the light shielding layer and enters the thin film transistor (TFT) of the array substrate. There are things to do. In the case where the thin film transistor is a bottom gate type, the light leakage current of the thin film transistor may become a problem because the reflected light from the light shielding layer enters the semiconductor layer.

近年では、バックライトが高輝度化される傾向にあり、光リーク電流に起因した表示上の不具合(フリッカーやクロストークなど)の改善が要望されている。   In recent years, backlights tend to have higher brightness, and there is a demand for improvement in display problems (flicker, crosstalk, etc.) due to light leakage current.

特開2002−90748号公報JP 2002-90748 A

本実施形態の目的は、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することにある。   An object of the present embodiment is to provide a liquid crystal display device with good display quality.

本実施形態によれば、
第1色画素に配置された第1スイッチング素子と、第2色画素に配置された第2スイッチング素子と、第3色画素に配置された第3スイッチング素子と、を備えた第1基板と、前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子に対向する遮光層と、第1色画素に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第1カラーフィルタと、第3色画素に配置されるとともに前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第3カラーフィルタと、第2色画素に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記第1カラーフィルタに重なり且つ前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記第3カラーフィルタに重なる第2カラーフィルタと、を備えた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
According to this embodiment,
A first substrate comprising: a first switching element disposed in a first color pixel; a second switching element disposed in a second color pixel; and a third switching element disposed in a third color pixel; A light shielding layer facing the first switching element, the second switching element, and the third switching element, and a layer disposed on the first color pixel and stacked on the light shielding layer at a position facing the first switching element. A first color filter, a third color filter disposed on the third color pixel and stacked on the light shielding layer at a position facing the second switching element and the third switching element, and a second color pixel And overlapping the first color filter at a position facing the first switching element, and the second switching element and the third switching element. A second substrate provided with a second color filter overlapping the third color filter at a position facing the element, and a liquid crystal layer held between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal display device is provided.

本実施形態によれば、
第1スイッチング素子と、前記第1スイッチング素子と電気的に接続された第1画素電極と、第2スイッチング素子と、前記第2スイッチング素子と電気的に接続された第2画素電極と、第3スイッチング素子と、前記第3スイッチング素子と電気的に接続された第3画素電極と、を備えた第1基板と、a)前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子に対向して配置されるとともに前記第1画素電極に対向する第1開口部、前記第2画素電極に対向する第2開口部、及び、前記第3画素電極に対向する第3開口部を有する遮光層と、b)前記第1開口部に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第1カラーフィルタと、c)前記第3開口部に配置されるとともに前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第3カラーフィルタと、d)前記第2開口部に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記第1カラーフィルタに重なり且つ前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記第3カラーフィルタに重なる第2カラーフィルタと、e)前記第1画素電極、前記第2画素電極、及び、前記第3画素電極と対向する共通電極と、を備えた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
According to this embodiment,
A first switching element; a first pixel electrode electrically connected to the first switching element; a second switching element; a second pixel electrode electrically connected to the second switching element; A first substrate comprising a switching element and a third pixel electrode electrically connected to the third switching element; a) the first switching element, the second switching element, and the third switching A first opening facing the first pixel electrode, a second opening facing the second pixel electrode, and a third opening facing the third pixel electrode. B) a first color filter disposed in the first opening and stacked on the light shielding layer at a position facing the first switching element; and c) disposed in the third opening. And a third color filter stacked on the light shielding layer at a position facing the second switching element and the third switching element; and d) the first switching element disposed in the second opening and the first switching element. A second color filter that overlaps the first color filter at a position facing it and that overlaps the third color filter at a position facing the second switching element and the third switching element; e) the first pixel electrode; A second substrate having a second pixel electrode and a common electrode facing the third pixel electrode, and a liquid crystal layer held between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal display device is provided.

図1は、本実施形態における液晶表示装置の構成及び等価回路を概略的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration and an equivalent circuit of a liquid crystal display device according to the present embodiment. 図2は、図1に示したアレイ基板の構成を概略的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing the configuration of the array substrate shown in FIG. 図3は、図2に示したアレイ基板と組み合わせ可能な対向基板の構成を概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a configuration of a counter substrate that can be combined with the array substrate shown in FIG. 図4は、図3に示したA−A線で切断したときの液晶表示パネルの断面構造を概略的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional structure of the liquid crystal display panel when cut along line AA shown in FIG. 図5は、他の構成の対向基板を適用した液晶表示パネルの断面構造を概略的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display panel to which a counter substrate having another configuration is applied.

以下、本実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same reference numerals are given to components that exhibit the same or similar functions, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、本実施形態における液晶表示装置の構成及び等価回路を概略的に示す図である。   FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration and an equivalent circuit of a liquid crystal display device according to the present embodiment.

すなわち、液晶表示装置は、アクティブマトリクスタイプの液晶表示パネルLPNを備えている。液晶表示パネルLPNは、略矩形平板状であり、第1基板であるアレイ基板ARと、アレイ基板ARに対向して配置された第2基板である対向基板CTと、これらのアレイ基板ARと対向基板CTとの間に保持された液晶層LQと、を備えている。これらのアレイ基板ARと対向基板CTとは、シール材SEによって貼り合わせられている。   That is, the liquid crystal display device includes an active matrix type liquid crystal display panel LPN. The liquid crystal display panel LPN has a substantially rectangular flat plate shape, an array substrate AR that is a first substrate, a counter substrate CT that is a second substrate disposed to face the array substrate AR, and the array substrate AR. And a liquid crystal layer LQ held between the substrate CT. The array substrate AR and the counter substrate CT are bonded together by a seal material SE.

このような液晶表示パネルLPNは、シール材SEによって囲まれた内側に、画像を表示するアクティブエリアACTを備えている。このアクティブエリアACTは、例えば四角形状(特に長方形状)に形成され、m×n個のマトリクス状に配置された複数の色画素PXによって構成されている(但し、m及びnは正の整数である)。なお、色画素PXとしては、赤色を表示する赤色画素、緑色を表示する緑色画素、青色を表示する青色画素などが含まれる。   Such a liquid crystal display panel LPN is provided with an active area ACT for displaying an image on the inner side surrounded by the seal material SE. The active area ACT is formed, for example, in a quadrangular shape (in particular, a rectangular shape) and includes a plurality of color pixels PX arranged in an m × n matrix (where m and n are positive integers). is there). Note that the color pixel PX includes a red pixel that displays red, a green pixel that displays green, a blue pixel that displays blue, and the like.

液晶表示パネルLPNは、アクティブエリアACTにおいて、複数のゲート配線G(G1〜Gn)、複数の補助容量線C(C1〜Cn)、複数のソース配線S(S1〜Sm)などを備えている。ゲート配線G及び補助容量線Cは、例えば、第1方向Xに沿って略直線的に延出している。これらのゲート配線G及び補助容量線Cは、第1方向Xに交差する第2方向Yに沿って交互に並列配置されている。ここでは、第1方向Xと第2方向Yとは互いに略直交している。ソース配線Sは、ゲート配線G及び補助容量線Cと交差している。ソース配線Sは、第2方向Yに沿って略直線的に延出ししている。なお、ゲート配線G、補助容量線C、及び、ソース配線Sは、必ずしも直線的に延出していなくても良く、それらの一部が屈曲していてもよい。   In the active area ACT, the liquid crystal display panel LPN includes a plurality of gate lines G (G1 to Gn), a plurality of auxiliary capacitance lines C (C1 to Cn), a plurality of source lines S (S1 to Sm), and the like. For example, the gate line G and the auxiliary capacitance line C extend substantially linearly along the first direction X. These gate lines G and storage capacitor lines C are alternately arranged in parallel along a second direction Y that intersects the first direction X. Here, the first direction X and the second direction Y are substantially orthogonal to each other. The source line S intersects with the gate line G and the auxiliary capacitance line C. The source line S extends substantially linearly along the second direction Y. Note that the gate wiring G, the auxiliary capacitance line C, and the source wiring S do not necessarily extend linearly, and some of them may be bent.

各ゲート配線Gは、アクティブエリアACTの外側に引き出され、ゲートドライバGDに接続されている。各ソース配線Sは、アクティブエリアACTの外側に引き出され、ソースドライバSDに接続されている。これらのゲートドライバGD及びソースドライバSDの少なくとも一部は、例えば、アレイ基板ARに形成され、コントローラを内蔵した駆動ICチップ2と接続されている。   Each gate line G is drawn outside the active area ACT and connected to the gate driver GD. Each source line S is drawn outside the active area ACT and connected to the source driver SD. At least a part of the gate driver GD and the source driver SD is formed on, for example, the array substrate AR, and is connected to the driving IC chip 2 with a built-in controller.

アクティブエリアACTの各色画素PXは、スイッチング素子SW、画素電極PE、共通電極CEなどを備えている。スイッチング素子SW及び画素電極PEは、アレイ基板ARに備えられている。共通電極CEは、アレイ基板ARに備えられていても良いし、対向基板CTに備えられていても良い。保持容量Csは、例えば、補助容量線Cと画素電極PEと同電位の電極などとの間に形成される。補助容量線Cは、補助容量電圧が印加される電圧印加部VCSと電気的に接続されている。   Each color pixel PX in the active area ACT includes a switching element SW, a pixel electrode PE, a common electrode CE, and the like. The switching element SW and the pixel electrode PE are provided on the array substrate AR. The common electrode CE may be provided on the array substrate AR, or may be provided on the counter substrate CT. The storage capacitor Cs is formed, for example, between the storage capacitor line C and the electrode having the same potential as the pixel electrode PE. The auxiliary capacitance line C is electrically connected to a voltage application unit VCS to which an auxiliary capacitance voltage is applied.

スイッチング素子SWは、ゲート配線G及びソース配線Sと電気的に接続されている。このスイッチング素子SWは、例えば、ボトムゲート型の薄膜トランジスタ(TFT)によって構成されている。このようなスイッチング素子SWの半導体層は、例えば、アモルファスシリコンによって形成されている。   The switching element SW is electrically connected to the gate line G and the source line S. The switching element SW is constituted by, for example, a bottom gate type thin film transistor (TFT). The semiconductor layer of such a switching element SW is made of amorphous silicon, for example.

スイッチング素子SWのゲート電極WGは、ゲート配線Gに電気的に接続されている(あるいは、ゲート電極WGはゲート配線Gと一体的に形成されている)。スイッチング素子SWのソース電極WSは、ソース配線Sに電気的に接続されている(あるいは、ソース電極WSはソース配線Sと一体に形成されている)。スイッチング素子SWのドレイン電極WDは、画素電極PEに電気的に接続されている。   The gate electrode WG of the switching element SW is electrically connected to the gate line G (or the gate electrode WG is formed integrally with the gate line G). The source electrode WS of the switching element SW is electrically connected to the source line S (or the source electrode WS is formed integrally with the source line S). The drain electrode WD of the switching element SW is electrically connected to the pixel electrode PE.

画素電極PEは、各色画素PXに配置され、スイッチング素子SWに電気的に接続されている。共通電極CEは、複数の色画素PXの画素電極PEに対して共通に配置されている。このような画素電極PE及び共通電極CEは、例えば、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。   The pixel electrode PE is disposed in each color pixel PX and is electrically connected to the switching element SW. The common electrode CE is disposed in common with respect to the pixel electrodes PE of the plurality of color pixels PX. The pixel electrode PE and the common electrode CE are formed of a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

アレイ基板ARは、共通電極CEに電圧(例えば、コモン電位)を印加するための給電部VSを備えている。この給電部VSは、例えば、アクティブエリアACTの外側に形成されている。共通電極CEは、アクティブエリアACTの外側に引き出され、図示しない導電部材を介して、給電部VSと電気的に接続されている。   The array substrate AR includes a power supply unit VS for applying a voltage (for example, a common potential) to the common electrode CE. For example, the power supply unit VS is formed outside the active area ACT. The common electrode CE is drawn out of the active area ACT and is electrically connected to the power supply unit VS via a conductive member (not shown).

図2は、図1に示したアレイ基板ARの構成を概略的に示す平面図である。   FIG. 2 is a plan view schematically showing the configuration of the array substrate AR shown in FIG.

図中のアクティブエリアACTでは、ゲート配線Gが第1方向Xに沿って延出し、ソース配線S1乃至S3がそれぞれ第2方向Yに沿って延出している。また、このアクティブエリアACTでは、第1方向Xに沿って図中の左側から右側に向かって、第1色画素PX1、第2色画素PX2、第3色画素PX3が順に並び、単位画素UPを構成している。このような単位画素UPは、第1方向Xに沿って繰り返し配置されている。つまり、図中の第1色画素PX1の左側には隣接する他の単位画素UPの第3色画素PX3が位置し、また、第3色画素PX3の右側には隣接する他の単位画素UPの第1色画素PX1が位置している。   In the active area ACT in the figure, the gate wiring G extends along the first direction X, and the source wirings S1 to S3 extend along the second direction Y, respectively. In the active area ACT, the first color pixel PX1, the second color pixel PX2, and the third color pixel PX3 are arranged in order from the left side to the right side in the drawing along the first direction X, and the unit pixel UP is displayed. It is composed. Such unit pixels UP are repeatedly arranged along the first direction X. That is, the third color pixel PX3 of the other adjacent unit pixel UP is located on the left side of the first color pixel PX1 in the drawing, and the other adjacent unit pixel UP is located on the right side of the third color pixel PX3. The first color pixel PX1 is located.

これらの第1色画素PX1、第2色画素PX2、及び、第3色画素PX3は、それぞれ異なる色を表示する色画素である。例えば、第1色画素PX1は赤色を表示する赤色画素であり、第2色画素PX2は緑色を表示する緑色画素であり、第3色画素PX3は青色を表示する青色画素であるが、この例に限られるものではない。   The first color pixel PX1, the second color pixel PX2, and the third color pixel PX3 are color pixels that display different colors. For example, the first color pixel PX1 is a red pixel that displays red, the second color pixel PX2 is a green pixel that displays green, and the third color pixel PX3 is a blue pixel that displays blue. It is not limited to.

第1色画素PX1には、ゲート配線G及びソース配線S1に電気的に接続された第1スイッチング素子SW1、及び、第1スイッチング素子SW1に電気的に接続された第1画素電極PE1が配置されている。   In the first color pixel PX1, a first switching element SW1 electrically connected to the gate line G and the source line S1, and a first pixel electrode PE1 electrically connected to the first switching element SW1 are arranged. ing.

第2色画素PX2には、ゲート配線G及びソース配線S2に電気的に接続された第2スイッチング素子SW2、及び、第2スイッチング素子SW2に電気的に接続された第2画素電極PE2が配置されている。   In the second color pixel PX2, a second switching element SW2 electrically connected to the gate line G and the source line S2 and a second pixel electrode PE2 electrically connected to the second switching element SW2 are arranged. ing.

第3色画素PX3には、ゲート配線G及びソース配線S3に電気的に接続された第3スイッチング素子SW3、及び、第3スイッチング素子SW3に電気的に接続された第3画素電極PE3が配置されている。   In the third color pixel PX3, a third switching element SW3 electrically connected to the gate line G and the source line S3 and a third pixel electrode PE3 electrically connected to the third switching element SW3 are arranged. ing.

ソース配線S1は、第1画素電極PE1と第2画素電極PE2との間に位置している。ソース配線S2は、第2画素電極PE2と第3画素電極PE3との間に位置している。   The source line S1 is located between the first pixel electrode PE1 and the second pixel electrode PE2. The source line S2 is located between the second pixel electrode PE2 and the third pixel electrode PE3.

第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3は、同一直線上に位置し、図示した例では、第1方向Xに沿ってこの順に並んでいる。但し、第1スイッチング素子SW1は、ソース配線S1に近接する側に位置している。また、第2スイッチング素子SW2は、ソース配線S1とソース配線S2との間に位置しているが、ソース配線S1よりもソース配線S2に近接する側に位置している。また、第3スイッチング素子SW3は、ソース配線S2とソース配線S3との間に位置しているが、ソース配線S2よりもソース配線S3に近接する側に位置している。   The first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3 are located on the same straight line, and are arranged in this order along the first direction X in the illustrated example. However, the first switching element SW1 is located on the side close to the source line S1. The second switching element SW2 is located between the source line S1 and the source line S2, but is located closer to the source line S2 than the source line S1. The third switching element SW3 is located between the source line S2 and the source line S3, but is located closer to the source line S3 than the source line S2.

ここで、第1スイッチング素子SW1について、より詳細に説明する。第2スイッチング素子SW2及び第3スイッチング素子SW3については、接続されているソース配線が異なるだけで、実質的に第1スイッチング素子SW1と同一構造であり、説明を省略する。   Here, the first switching element SW1 will be described in more detail. The second switching element SW2 and the third switching element SW3 have substantially the same structure as the first switching element SW1 except that the connected source wirings are different.

すなわち、第1スイッチング素子SW1において、ゲート電極WGは、ゲート配線Gの一部である。半導体層SCは、ゲート配線Gの上方に位置している。ソース電極WSは、ソース配線S1から延出しており、半導体層SCにコンタクトしている。ドレイン電極WDは、半導体層SCにコンタクトし、第1画素電極PE1に向かって延出している。第1画素電極PE1は、コンタクトホールCHを介してドレイン電極WDと電気的に接続されている。   That is, in the first switching element SW1, the gate electrode WG is a part of the gate line G. The semiconductor layer SC is located above the gate wiring G. The source electrode WS extends from the source line S1 and is in contact with the semiconductor layer SC. The drain electrode WD contacts the semiconductor layer SC and extends toward the first pixel electrode PE1. The first pixel electrode PE1 is electrically connected to the drain electrode WD via the contact hole CH.

図3は、図2に示したアレイ基板ARと組み合わせ可能な対向基板CTの構成を概略的に示す平面図である。なお、各色画素のスイッチング素子SWや画素電極PEなどのアレイ基板側の構成については破線で示している。   FIG. 3 is a plan view schematically showing the configuration of the counter substrate CT that can be combined with the array substrate AR shown in FIG. The configuration on the array substrate side such as the switching element SW and the pixel electrode PE of each color pixel is indicated by a broken line.

対向基板CTは、遮光層BM、第1カラーフィルタCF1、第2カラーフィルタCF2、第3カラーフィルタCF3、共通電極CEなどを備えている。   The counter substrate CT includes a light shielding layer BM, a first color filter CF1, a second color filter CF2, a third color filter CF3, a common electrode CE, and the like.

遮光層BMは、格子状に形成されている。より具体的には、遮光層BMは、第1方向Xに沿って延出し、第1方向Xに沿って並んだ第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3に対向して配置されている。つまり、第1方向Xに沿って延出した遮光層BMは、ゲート配線Gの直上に位置している。また、この遮光層BMは、第2方向Yに沿って延出し、ソース配線S1、ソース配線S2、及び、ソース配線S3の直上に位置している。   The light shielding layer BM is formed in a lattice shape. More specifically, the light shielding layer BM extends along the first direction X, and extends to the first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3 arranged along the first direction X. Opposed to each other. That is, the light shielding layer BM extending along the first direction X is located immediately above the gate line G. Further, the light shielding layer BM extends along the second direction Y, and is located immediately above the source line S1, the source line S2, and the source line S3.

このような遮光層BMは、第1画素電極PE1に対向する第1開口部AP1、第2画素電極PE2に対向する第2開口部AP2、及び、第3画素電極PE3に対向する第3開口部AP3を有している。これらの第1開口部AP1、第2開口部AP2、及び、第3開口部AP3は、例えば、第1方向Xに沿った長さよりも第2方向Yに沿った長さが長い長方形状に形成されている。   Such a light shielding layer BM includes a first opening AP1 facing the first pixel electrode PE1, a second opening AP2 facing the second pixel electrode PE2, and a third opening facing the third pixel electrode PE3. It has AP3. The first opening AP1, the second opening AP2, and the third opening AP3 are formed in, for example, a rectangular shape whose length along the second direction Y is longer than the length along the first direction X. Has been.

第1カラーフィルタCF1は、第1色画素PX1に配置されるとともに、第1スイッチング素子SW1と対向する位置で遮光層BMに積層されている。つまり、第1カラーフィルタCF1は、第1開口部AP1に配置され、第1画素電極PE1の上方に位置している。このような第1カラーフィルタCF1は、第2方向Yに沿って延びた帯状に形成されている。第1色画素PX1が赤色画素である場合、第1カラーフィルタCF1は、赤色に着色された樹脂材料によって形成された赤色カラーフィルタである。   The first color filter CF1 is disposed in the first color pixel PX1, and is stacked on the light shielding layer BM at a position facing the first switching element SW1. That is, the first color filter CF1 is disposed in the first opening AP1 and is located above the first pixel electrode PE1. Such a first color filter CF1 is formed in a strip shape extending along the second direction Y. When the first color pixel PX1 is a red pixel, the first color filter CF1 is a red color filter formed of a resin material colored in red.

第3カラーフィルタCF3は、第3色画素PX3に配置されるとともに、第2スイッチング素子SW2及び第3スイッチング素子SW3と対向する位置で遮光層BMに積層されている。つまり、第3カラーフィルタCF3は、第3開口部AP3に配置され、第3画素電極PE3の上方に位置している。このような第3カラーフィルタCF3は、概ね第2方向Yに沿って延びた帯状に形成されているが、一部は第3色画素PX3に近接するスイッチング素子、つまり、第2スイッチング素子SW2と対向するように第2色画素PX2の側に突出している。第3色画素PX3が青色画素である場合、第3カラーフィルタCF3は、青色に着色された樹脂材料によって形成された青色カラーフィルタである。   The third color filter CF3 is disposed in the third color pixel PX3, and is stacked on the light shielding layer BM at a position facing the second switching element SW2 and the third switching element SW3. That is, the third color filter CF3 is disposed in the third opening AP3 and is located above the third pixel electrode PE3. The third color filter CF3 is formed in a strip shape extending substantially along the second direction Y, but a part thereof is a switching element close to the third color pixel PX3, that is, the second switching element SW2. It protrudes toward the second color pixel PX2 so as to face each other. When the third color pixel PX3 is a blue pixel, the third color filter CF3 is a blue color filter formed of a resin material colored in blue.

第2カラーフィルタCF2は、第2色画素PX2に配置されるとともに、第1スイッチング素子SW1と対向する位置で第1カラーフィルタCF1と重なり、第2スイッチング素子SW2及び第3スイッチング素子SW3と対向する位置で第3カラーフィルタCF3と重なる。つまり、第2カラーフィルタCF2は、第2開口部AP2に配置され、第2画素電極PE2の上方に位置している。このような第2カラーフィルタCF2は、概ね第2方向Yに沿って延びた帯状に形成されているが、一部は第1スイッチング素子SW1及び第3スイッチング素子SW3と対向するように第1色画素PX1及び第3色画素PX3の側にそれぞれに突出している。図示した例では、第2カラーフィルタCF2は、第1方向Xに沿って延びた帯状に形成され、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3のそれぞれと対向する。第2色画素PX2が緑色画素である場合、第2カラーフィルタCF2は、緑色に着色された樹脂材料によって形成された緑色カラーフィルタである。   The second color filter CF2 is disposed in the second color pixel PX2, overlaps the first color filter CF1 at a position facing the first switching element SW1, and faces the second switching element SW2 and the third switching element SW3. It overlaps with the third color filter CF3 at the position. That is, the second color filter CF2 is disposed in the second opening AP2 and is located above the second pixel electrode PE2. Such a second color filter CF2 is formed in a strip shape extending substantially along the second direction Y, but the first color filter CF2 is partly opposed to the first switching element SW1 and the third switching element SW3. Projecting to the pixel PX1 side and the third color pixel PX3 side, respectively. In the illustrated example, the second color filter CF2 is formed in a strip shape extending along the first direction X, and faces each of the first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3. . When the second color pixel PX2 is a green pixel, the second color filter CF2 is a green color filter formed of a resin material colored in green.

隣り合う第1カラーフィルタCF1及び第2カラーフィルタCF2のエッジは、互いに離間し、それぞれソース配線S1の直上に位置している。また、隣り合う第2カラーフィルタCF2及び第3カラーフィルタCF3のエッジは、互いに離間し、それぞれソース配線S2の直上に位置している。   The edges of the adjacent first color filter CF1 and second color filter CF2 are separated from each other and are located immediately above the source line S1. Further, the edges of the adjacent second color filter CF2 and third color filter CF3 are separated from each other and are located immediately above the source line S2.

このように、対向基板CTにおいて、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3のそれぞれと対向する位置では、遮光層BMのみならず、2種類のカラーフィルタが積層されている。   As described above, in the counter substrate CT, not only the light shielding layer BM but also two kinds of color filters are stacked at the positions facing the first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3. Has been.

共通電極CEは、対向基板CTの略全面に亘って形成され、第1画素電極PE1、第2画素電極PE2、第3画素電極PE3とそれぞれ対向している。   The common electrode CE is formed over substantially the entire surface of the counter substrate CT, and faces the first pixel electrode PE1, the second pixel electrode PE2, and the third pixel electrode PE3.

柱状スペーサSPは、最も透過率が低い色を表示する色画素に配置され、図示した例では、青色を表示する第3色画素PX3に配置されている。より具体的には、柱状スペーサSPは、第2カラーフィルタCF2と第3カラーフィルタCF3とが重なる領域のうち、第2スイッチング素子SW2と第3スイッチング素子SW3との間に対向する位置に配置されている。つまり、第2スイッチング素子SW2、ソース配線S2、柱状スペーサSP、及び、第3スイッチング素子SW3は、第1方向Xに沿ってこの順に並んでいる。   The columnar spacer SP is disposed in a color pixel that displays a color with the lowest transmittance. In the illustrated example, the columnar spacer SP is disposed in a third color pixel PX3 that displays blue. More specifically, the columnar spacer SP is disposed at a position facing the second switching element SW2 and the third switching element SW3 in a region where the second color filter CF2 and the third color filter CF3 overlap. ing. That is, the second switching element SW2, the source line S2, the columnar spacer SP, and the third switching element SW3 are arranged in this order along the first direction X.

図4は、図3に示したA−A線で切断したときの液晶表示パネルLPNの断面構造を概略的に示す断面図である。   4 is a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional structure of the liquid crystal display panel LPN when cut along the line AA shown in FIG.

液晶表示パネルLPNを構成するアレイ基板ARの背面側には、バックライトBLが配置されている。バックライトBLとしては、種々の形態が適用可能であり、また、光源として発光ダイオード(LED)を利用したものや冷陰極管(CCFL)を利用したものなどのいずれでも適用可能であり、詳細な構造については説明を省略する。   A backlight BL is disposed on the back side of the array substrate AR constituting the liquid crystal display panel LPN. As the backlight BL, various forms are applicable, and any of those using a light emitting diode (LED) or a cold cathode tube (CCFL) as a light source can be applied. The description of the structure is omitted.

アレイ基板ARは、光透過性を有する第1絶縁基板10を用いて形成されている。このアレイ基板ARは、ゲート配線G、ソース配線S1、ソース配線S2、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、第3スイッチング素子SW3、第1画素電極PE1、第2画素電極、第3画素電極、第1配向膜AL1などを備えている。   The array substrate AR is formed using a first insulating substrate 10 having light transparency. The array substrate AR includes a gate line G, a source line S1, a source line S2, a first switching element SW1, a second switching element SW2, a third switching element SW3, a first pixel electrode PE1, a second pixel electrode, and a third pixel. An electrode, a first alignment film AL1, and the like are provided.

ゲート配線Gは、第1絶縁基板10の対向基板CTに対向する内面10Aに配置され、第1絶縁膜11によって覆われている。このゲート配線Gは、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3のそれぞれのゲート電極WGを含んでいる。   The gate wiring G is disposed on the inner surface 10 </ b> A facing the counter substrate CT of the first insulating substrate 10, and is covered with the first insulating film 11. The gate line G includes the gate electrodes WG of the first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3.

第1スイッチング素子SW1に着目すると、半導体層SCは、第1絶縁膜11の上に形成され、ゲート配線Gの一部であるゲート電極WGの直上に位置している。ソース電極WSは、ソース配線S1の一部であり、半導体層SCにコンタクトしている。ドレイン電極WDは、搬送体層SCにコンタクトしている。第2スイッチング素子SW2及び第3スイッチング素子SW3の構造については説明を省略する。このような第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3は、第2絶縁膜12によって覆われている。   Focusing on the first switching element SW1, the semiconductor layer SC is formed on the first insulating film 11 and is located immediately above the gate electrode WG which is a part of the gate wiring G. The source electrode WS is a part of the source wiring S1 and is in contact with the semiconductor layer SC. The drain electrode WD is in contact with the carrier layer SC. The description of the structures of the second switching element SW2 and the third switching element SW3 is omitted. The first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3 are covered with the second insulating film 12.

ソース配線S1、ソース配線S2、及び、ソース配線S3は、それぞれ第1絶縁膜11の上に形成され、第2絶縁膜12によって覆われている。   The source line S1, the source line S2, and the source line S3 are each formed on the first insulating film 11 and covered with the second insulating film 12.

第1画素電極PE1は、第2絶縁膜12の上に形成されている。この第1画素電極PE1は、第2絶縁膜12に形成されたコンタクトホールCHを介して第1スイッチング素子SW1のドレイン電極WDと電気的に接続されている。第2画素電極PE2及び第3画素電極PE3は、図示を省略しているが、それぞれ第2スイッチング素子SW2のドレイン電極及び第3スイッチング素子SW3のドレイン電極と電気的に接続されている。   The first pixel electrode PE1 is formed on the second insulating film 12. The first pixel electrode PE1 is electrically connected to the drain electrode WD of the first switching element SW1 through a contact hole CH formed in the second insulating film 12. Although not shown, the second pixel electrode PE2 and the third pixel electrode PE3 are electrically connected to the drain electrode of the second switching element SW2 and the drain electrode of the third switching element SW3, respectively.

第1配向膜AL1は、アレイ基板ARの対向基板CTと対向する面に配置され、アクティブエリアACTの略全体に亘って延在している。この第1配向膜AL1は、第1画素電極PE1などを覆っており、第2絶縁膜12の上にも配置されている。   The first alignment film AL1 is disposed on the surface of the array substrate AR that faces the counter substrate CT, and extends over substantially the entire active area ACT. The first alignment film AL1 covers the first pixel electrode PE1 and the like, and is also disposed on the second insulating film 12.

対向基板CTは、光透過性を有する第2絶縁基板20を用いて形成されている。この対向基板CTは、遮光層BM、第1カラーフィルタCF1、第2カラーフィルタCF2、第3カラーフィルタCF3、共通電極CE、第2配向膜AL2などを備えている。   The counter substrate CT is formed by using a second insulating substrate 20 having optical transparency. The counter substrate CT includes a light shielding layer BM, a first color filter CF1, a second color filter CF2, a third color filter CF3, a common electrode CE, a second alignment film AL2, and the like.

遮光層BMは、ソース配線S1、ソース配線S2、ソース配線S3、ゲート配線G、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、第3スイッチング素子SW3などの配線部に対向するように配置されている。この遮光層BMは、第2絶縁基板20のアレイ基板ARに対向する内面20Aに配置されている。このような遮光層BMは、例えば、クロム(Cr)などの金属材料によって形成されている。   The light shielding layer BM is disposed so as to face wiring portions such as the source wiring S1, the source wiring S2, the source wiring S3, the gate wiring G, the first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3. Yes. The light shielding layer BM is disposed on the inner surface 20A of the second insulating substrate 20 facing the array substrate AR. Such a light shielding layer BM is made of, for example, a metal material such as chromium (Cr).

第1カラーフィルタCF1は、第1スイッチング素子SW1の直上において遮光層BMのアレイ基板ARと対向する側に積層されている。また、この第1カラーフィルタCF1は、第1画素電極PE1の直上において第2絶縁基板20の内面20Aに配置されている。   The first color filter CF1 is stacked on the side of the light shielding layer BM that faces the array substrate AR just above the first switching element SW1. The first color filter CF1 is disposed on the inner surface 20A of the second insulating substrate 20 immediately above the first pixel electrode PE1.

図示した断面において、第3カラーフィルタCF3は、第2スイッチング素子SW2及び第3スイッチング素子SW3の直上において遮光層BMのアレイ基板ARと対向する側に積層されている。この第3カラーフィルタCF3は、第1カラーフィルタCF1から離間している。   In the cross section shown in the drawing, the third color filter CF3 is stacked on the side facing the array substrate AR of the light shielding layer BM immediately above the second switching element SW2 and the third switching element SW3. The third color filter CF3 is separated from the first color filter CF1.

また、図示した断面において、第2カラーフィルタCF2は、第1スイッチング素子SW1の直上において、第1カラーフィルタCF1のアレイ基板ARと対向する側に積層されている。また、この第2カラーフィルタCF2は、第2スイッチング素子SW2及び第3スイッチング素子SW3の直上において第3カラーフィルタCF3のアレイ基板ARと対向する側に積層されている。さらに、この第2カラーフィルタCF2は、第1カラーフィルタCF1と第3カラーフィルタCF3との間から露出した遮光層BMに積層されている。このような第2カラーフィルタCF2は、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW、及び、第3スイッチング素子SW3の直上の位置を繋ぐように連続的に形成されている。   In the illustrated cross section, the second color filter CF2 is stacked on the side of the first color filter CF1 facing the array substrate AR immediately above the first switching element SW1. The second color filter CF2 is stacked on the side of the third color filter CF3 facing the array substrate AR just above the second switching element SW2 and the third switching element SW3. Further, the second color filter CF2 is stacked on the light shielding layer BM exposed from between the first color filter CF1 and the third color filter CF3. Such a second color filter CF2 is continuously formed so as to connect positions immediately above the first switching element SW1, the second switching element SW, and the third switching element SW3.

共通電極CEは、第2カラーフィルタCF2のアレイ基板ARと対向する側に形成されている。この共通電極CEは、図示した第1画素電極PE1は勿論のこと、第2画素電極及び第3画素電極と対向している。第2配向膜AL2は、対向基板CTのアレイ基板ARと対向する面に配置され、アクティブエリアACTの略全体に亘って延在している。この第2配向膜AL2は、共通電極CEなどを覆っている。   The common electrode CE is formed on the side of the second color filter CF2 that faces the array substrate AR. The common electrode CE is opposed to the second pixel electrode and the third pixel electrode as well as the illustrated first pixel electrode PE1. The second alignment film AL2 is disposed on the surface of the counter substrate CT facing the array substrate AR, and extends over substantially the entire active area ACT. The second alignment film AL2 covers the common electrode CE and the like.

上述したようなアレイ基板ARと対向基板CTとは、それぞれの第1配向膜AL1及び第2配向膜AL2が対向するように配置されている。このとき、アレイ基板ARと対向基板CTとの間には、例えば、樹脂材料によって一方の基板に一体的に形成された柱状スペーサSPが配置され、所定のセルギャップ、例えば2〜7μmのセルギャップが形成される。アレイ基板ARと対向基板CTとは、所定のセルギャップが形成された状態で貼り合わせられている。   The array substrate AR and the counter substrate CT as described above are arranged so that the first alignment film AL1 and the second alignment film AL2 face each other. At this time, between the array substrate AR and the counter substrate CT, for example, a columnar spacer SP integrally formed on one substrate by a resin material is disposed, and a predetermined cell gap, for example, a cell gap of 2 to 7 μm is disposed. Is formed. The array substrate AR and the counter substrate CT are bonded together in a state where a predetermined cell gap is formed.

図示した例では、柱状スペーサSPは、対向基板CTに備えられ、共通電極CEのアレイ基板ARと対向する側に形成され、第2配向膜AL2によって覆われている。このような柱状スペーサSPは、第2スイッチング素子SW2と第3スイッチング素子SW3との間の位置でアレイ基板ARを支持し、セルギャップを形成している。   In the illustrated example, the columnar spacer SP is provided on the counter substrate CT, is formed on the side of the common electrode CE facing the array substrate AR, and is covered with the second alignment film AL2. Such a columnar spacer SP supports the array substrate AR at a position between the second switching element SW2 and the third switching element SW3, and forms a cell gap.

液晶層LQは、アレイ基板ARと対向基板CTとの間に形成されたセルギャップに保持され、第1配向膜AL1と第2配向膜AL2との間に配置されている。   The liquid crystal layer LQ is held in a cell gap formed between the array substrate AR and the counter substrate CT, and is disposed between the first alignment film AL1 and the second alignment film AL2.

アレイ基板ARの外面、つまり、アレイ基板ARを構成する第1絶縁基板10の外面10Bには、第1偏光板PL1などを含む第1光学素子OD1が接着剤などにより貼付されている。この第1光学素子OD1は、液晶表示パネルLPNのバックライト4と対向する側に位置しており、バックライト4から液晶表示パネルLPNに入射する入射光の偏光状態を制御する。   On the outer surface of the array substrate AR, that is, the outer surface 10B of the first insulating substrate 10 constituting the array substrate AR, the first optical element OD1 including the first polarizing plate PL1 is attached with an adhesive or the like. The first optical element OD1 is located on the side facing the backlight 4 of the liquid crystal display panel LPN, and controls the polarization state of incident light incident on the liquid crystal display panel LPN from the backlight 4.

対向基板CTの外面、つまり、対向基板CTを構成する第2絶縁基板20の外面20Bには、第2偏光板PL2などを含む第2光学素子OD2が接着剤などにより貼付されている。この第2光学素子OD2は、液晶表示パネルLPNの表示面側に位置しており、液晶表示パネルLPNから出射した出射光の偏光状態を制御する。   On the outer surface of the counter substrate CT, that is, the outer surface 20B of the second insulating substrate 20 constituting the counter substrate CT, the second optical element OD2 including the second polarizing plate PL2 and the like is attached with an adhesive or the like. The second optical element OD2 is located on the display surface side of the liquid crystal display panel LPN, and controls the polarization state of the outgoing light emitted from the liquid crystal display panel LPN.

上記の構成の対向基板CTは、例えば、以下のようにして製造される。   The counter substrate CT having the above configuration is manufactured as follows, for example.

すなわち、第2絶縁基板20を用意し、内面20Aに遮光層BMを形成した後に、第1カラーフィルタCF1及び第3カラーフィルタCF3を形成し、その後、第2カラーフィルタCF2を形成し、共通電極CEを形成した後に柱状スペーサSPを形成し、第2配向膜AL2を形成する。これにより、第2カラーフィルタCF2は、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3と対向する位置において、第1カラーフィルタCF1及び第3カラーフィルタCF3と共通電極CEとの間に配置される。   That is, after the second insulating substrate 20 is prepared and the light shielding layer BM is formed on the inner surface 20A, the first color filter CF1 and the third color filter CF3 are formed, and then the second color filter CF2 is formed, and the common electrode After forming the CE, the columnar spacer SP is formed, and the second alignment film AL2 is formed. Accordingly, the second color filter CF2 is connected to the first color filter CF1, the third color filter CF3, and the common electrode CE at a position facing the first switching element SW1, the second switching element SW2, and the third switching element SW3. Between.

本実施形態によれば、スイッチング素子SWと対向する位置で遮光層BMのアレイ基板ARと対向する側に少なくとも2種類のカラーフィルタCFが積層されている。このため、バックライト光の遮光層BMでの反射を抑制することが可能となり、遮光層BMからスイッチング素子SWに向かう反射光を低減することが可能となる。このため、スイッチング素子SWがボトムゲート型の薄膜トランジスタで構成された場合であっても、光リーク電流を低減することが可能となる。したがって、光リーク電流に起因した表示上の不具合(フリッカーやクロストークなど)を改善することが可能となり、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することが可能となる。   According to the present embodiment, at least two types of color filters CF are stacked on the side of the light shielding layer BM facing the array substrate AR at a position facing the switching element SW. For this reason, it becomes possible to suppress the reflection of the backlight light at the light shielding layer BM, and it is possible to reduce the reflected light from the light shielding layer BM toward the switching element SW. For this reason, even when the switching element SW is formed of a bottom-gate thin film transistor, the light leakage current can be reduced. Therefore, display defects (flicker, crosstalk, etc.) due to light leakage current can be improved, and a liquid crystal display device with good display quality can be provided.

また、遮光層BMが金属材料によって形成されている場合、樹脂材料によって形成した場合と比較して、薄い膜厚で高い光学濃度を得ることが可能であり、遮光層BMの段差を低減することが可能となる。一方で、金属材料によって形成された遮光層BMは、樹脂材料によって形成された遮光層よりも反射率が高くなる場合がある。このため、遮光層BMでのバックライト光の反射対策として、上記の複数種類のカラーフィルタCFを積層する構成は極めて有効である。   Further, when the light shielding layer BM is formed of a metal material, it is possible to obtain a high optical density with a thin film thickness as compared with the case where the light shielding layer BM is formed of a resin material, and to reduce the level difference of the light shielding layer BM. Is possible. On the other hand, the light shielding layer BM formed of a metal material may have a higher reflectance than the light shielding layer formed of a resin material. For this reason, as a countermeasure against the reflection of the backlight light at the light shielding layer BM, a configuration in which the above-described plural types of color filters CF are stacked is extremely effective.

また、本実施形態によれば、アレイ基板ARと対向基板CTとの間にセルギャップを形成するための柱状スペーサSPは、2種類のカラーフィルタが積層されている領域のうち、同一直線上に並んだ2つのスイッチング素子の間に対向する位置に配置されている。このため、柱状スペーサSPは、ほとんど段差のない平坦な面上に配置することが可能となる。したがって、柱状スペーサSPのトップ(アレイ基板ARを支持する面)の位置を揃えることが可能となり、均一なセルギャップを形成することが可能となる。これにより、セルギャップの不均一に起因した表示の不具合を改善することが可能となる。   In addition, according to the present embodiment, the columnar spacer SP for forming a cell gap between the array substrate AR and the counter substrate CT is on the same straight line in the region where two types of color filters are stacked. It arrange | positions in the position which opposes between the two switching elements located in a line. For this reason, the columnar spacer SP can be disposed on a flat surface having almost no step. Therefore, the top positions of the columnar spacers SP (surfaces supporting the array substrate AR) can be aligned, and a uniform cell gap can be formed. As a result, it is possible to improve display defects caused by nonuniform cell gaps.

なお、柱状スペーサSPは、アレイ基板ARの第2絶縁膜12の上に形成しても良く、この場合、例えば第2スイッチング素子SW2と第3スイッチング素子SW3との間に位置し、第2カラーフィルタCF2と第3カラーフィルタCF3とが重なる領域の直下で対向基板CTを支持する。このような場合であっても、柱状スペーサSPによって支持される対向基板CT側の面が平坦化されているため、均一なセルギャップを形成することが可能となる。   Note that the columnar spacer SP may be formed on the second insulating film 12 of the array substrate AR. In this case, for example, the columnar spacer SP is located between the second switching element SW2 and the third switching element SW3, and the second collar The counter substrate CT is supported immediately below the region where the filter CF2 and the third color filter CF3 overlap. Even in such a case, since the surface on the counter substrate CT side supported by the columnar spacers SP is flattened, a uniform cell gap can be formed.

また、本実施形態によれば、柱状スペーサSPは、最も透過率が低い色を表示する色画素(例えば、青色を表示する色画素)に配置されている。このため、配向膜に配向処理を施した際に、柱状スペーサSPの影響を受けて配向処理の不具合が生じたとしても、表示の際に視認されにくく、表示品位の低下を抑制することが可能となる。   In addition, according to the present embodiment, the columnar spacers SP are arranged in color pixels that display the color with the lowest transmittance (for example, color pixels that display blue). For this reason, when alignment processing is performed on the alignment film, even if a defect in the alignment processing occurs due to the influence of the columnar spacers SP, it is difficult to be visually recognized during display, and deterioration of display quality can be suppressed. It becomes.

次に、本実施形態の他の構成例について説明する。なお、上記の例で説明した構成と同一の構成については、同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。   Next, another configuration example of this embodiment will be described. In addition, about the same structure as the structure demonstrated in said example, the same referential mark is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

図5は、他の構成の対向基板CTを適用した液晶表示パネルLPNの断面構造を概略的に示す断面図である。   FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional structure of a liquid crystal display panel LPN to which a counter substrate CT having another configuration is applied.

ここに示した構成は、図4に示した構成と比較して、第2カラーフィルタCF2が、第1スイッチング素子SW1、第2スイッチング素子SW2、及び、第3スイッチング素子SW3と対向する位置において、遮光層BMと第1カラーフィルタCF1及び第3カラーフィルタCF3との間に配置された点で相違している。   Compared to the configuration shown in FIG. 4, the configuration shown here is such that the second color filter CF2 is opposed to the first switching device SW1, the second switching device SW2, and the third switching device SW3. The difference is that the light shielding layer BM is disposed between the first color filter CF1 and the third color filter CF3.

上記の構成の対向基板CTは、例えば、以下のようにして製造される。   The counter substrate CT having the above configuration is manufactured as follows, for example.

すなわち、第2絶縁基板20を用意し、内面20Aに遮光層BMを形成した後に、第2カラーフィルタCF2を形成し、その後、第1カラーフィルタCF1及び第3カラーフィルタCF3を形成し、共通電極CEを形成した後に柱状スペーサSPを形成し、第2配向膜AL2を形成する。   That is, the second insulating substrate 20 is prepared, the light shielding layer BM is formed on the inner surface 20A, the second color filter CF2 is formed, and then the first color filter CF1 and the third color filter CF3 are formed. After forming the CE, the columnar spacer SP is formed, and the second alignment film AL2 is formed.

このような対向基板CTを適用した場合であっても、図4に示した対向基板CTを適用した場合と同様の効果が得られる。   Even when such a counter substrate CT is applied, the same effect as that obtained when the counter substrate CT shown in FIG. 4 is applied can be obtained.

以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することができる。   As described above, according to this embodiment, it is possible to provide a liquid crystal display device with good display quality.

なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment itself, In the stage of implementation, it can change and implement a component within the range which does not deviate from the summary. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

1…液晶表示装置
LPN…液晶表示パネル AR…アレイ基板 CT…対向基板 LQ…液晶層
PE…画素電極 CE…共通電極
SW1…第1スイッチング素子 SW2…第2スイッチング素子 SW3…第3スイッチング素子
CF1…第1カラーフィルタ CF2…第2カラーフィルタ CF3…第3カラーフィルタ
SP…柱状スペーサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display device LPN ... Liquid crystal display panel AR ... Array substrate CT ... Opposite substrate LQ ... Liquid crystal layer PE ... Pixel electrode CE ... Common electrode SW1 ... First switching element SW2 ... Second switching element SW3 ... Third switching element CF1 ... 1st color filter CF2 ... 2nd color filter CF3 ... 3rd color filter SP ... Columnar spacer

Claims (10)

第1色画素に配置された第1スイッチング素子と、第2色画素に配置された第2スイッチング素子と、第3色画素に配置された第3スイッチング素子と、を備えた第1基板と、
前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子に対向する遮光層と、第1色画素に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第1カラーフィルタと、第3色画素に配置されるとともに前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第3カラーフィルタと、第2色画素に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記第1カラーフィルタに重なり且つ前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記第3カラーフィルタに重なる第2カラーフィルタと、を備えた第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate comprising: a first switching element disposed in a first color pixel; a second switching element disposed in a second color pixel; and a third switching element disposed in a third color pixel;
A light shielding layer facing the first switching element, the second switching element, and the third switching element, and a layer disposed on the first color pixel and stacked on the light shielding layer at a position facing the first switching element. A first color filter, a third color filter disposed on the third color pixel and stacked on the light shielding layer at a position facing the second switching element and the third switching element, and a second color pixel And a second color filter that overlaps the first color filter at a position facing the first switching element and that overlaps the third color filter at a position facing the second switching element and the third switching element. A second substrate comprising:
A liquid crystal layer held between the first substrate and the second substrate;
A liquid crystal display device comprising:
前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子は、同一直線上に位置し、
前記第2カラーフィルタは、前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子のそれぞれと対向する帯状に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
The first switching element, the second switching element, and the third switching element are located on the same straight line,
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second color filter is formed in a strip shape facing each of the first switching element, the second switching element, and the third switching element. .
前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子は、ボトムゲート型の薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first switching element, the second switching element, and the third switching element are bottom-gate thin film transistors. さらに、前記第2基板は、前記第1基板との間にセルギャップを形成する柱状スペーサを備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。   4. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a columnar spacer that forms a cell gap between the second substrate and the first substrate. 5. 前記柱状スペーサは、第1色画素、第2色画素、及び、第3色画素のうち、最も透過率が低い色を表示する色画素に配置されたことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。   5. The columnar spacer according to claim 4, wherein the columnar spacer is disposed in a color pixel that displays a color having the lowest transmittance among the first color pixel, the second color pixel, and the third color pixel. Liquid crystal display device. 前記柱状スペーサは、前記第2カラーフィルタと前記第3カラーフィルタとが重なる領域のうち、前記第2スイッチング素子と前記第3スイッチング素子との間に対向する位置に配置されたことを特徴とする請求項4または5に記載の液晶表示装置。   The columnar spacer is disposed at a position facing the second switching element and the third switching element in a region where the second color filter and the third color filter overlap each other. The liquid crystal display device according to claim 4 or 5. 前記遮光層は、金属材料によって形成されたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the light shielding layer is made of a metal material. 第1スイッチング素子と、前記第1スイッチング素子と電気的に接続された第1画素電極と、第2スイッチング素子と、前記第2スイッチング素子と電気的に接続された第2画素電極と、第3スイッチング素子と、前記第3スイッチング素子と電気的に接続された第3画素電極と、を備えた第1基板と、
a)前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子に対向して配置されるとともに前記第1画素電極に対向する第1開口部、前記第2画素電極に対向する第2開口部、及び、前記第3画素電極に対向する第3開口部を有する遮光層と、b)前記第1開口部に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第1カラーフィルタと、c)前記第3開口部に配置されるとともに前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第3カラーフィルタと、d)前記第2開口部に配置されるとともに前記第1スイッチング素子と対向する位置で前記第1カラーフィルタに重なり且つ前記第2スイッチング素子及び前記第3スイッチング素子と対向する位置で前記第3カラーフィルタに重なる第2カラーフィルタと、e)前記第1画素電極、前記第2画素電極、及び、前記第3画素電極と対向する共通電極と、を備えた第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
A first switching element; a first pixel electrode electrically connected to the first switching element; a second switching element; a second pixel electrode electrically connected to the second switching element; A first substrate comprising a switching element and a third pixel electrode electrically connected to the third switching element;
a) A first opening disposed opposite to the first switching element, the second switching element, and the third switching element, and opposed to the first pixel electrode, and opposed to the second pixel electrode. A light shielding layer having a second opening and a third opening facing the third pixel electrode; and b) the light shielding layer disposed in the first opening and facing the first switching element. C) a third color filter disposed in the third opening and disposed on the light shielding layer at a position facing the second switching element and the third switching element. D) is disposed in the second opening and overlaps the first color filter at a position facing the first switching element, and the second switching element and the second switching element, A second color filter that overlaps the third color filter at a position facing the three switching elements; and e) the first pixel electrode, the second pixel electrode, and a common electrode facing the third pixel electrode. A second substrate provided;
A liquid crystal layer held between the first substrate and the second substrate;
A liquid crystal display device comprising:
前記第2カラーフィルタは、前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子と対向する位置において、前記第1カラーフィルタ及び前記第3カラーフィルタと前記共通電極との間に配置されたことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。   The second color filter is located between the first color filter, the third color filter, and the common electrode at a position facing the first switching element, the second switching element, and the third switching element. 9. A liquid crystal display device according to claim 8, wherein 前記第2カラーフィルタは、前記第1スイッチング素子、前記第2スイッチング素子、及び、前記第3スイッチング素子と対向する位置において、前記遮光層と前記第1カラーフィルタ及び前記第3カラーフィルタとの間に配置されたことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。   The second color filter is located between the light shielding layer, the first color filter, and the third color filter at a position facing the first switching element, the second switching element, and the third switching element. 9. A liquid crystal display device according to claim 8, wherein
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