JP2012526921A - Gas release method for coating surface inspection - Google Patents

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Abstract

PECVDによる基板表面の被覆方法を提供し、当該方法は、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質からプラズマを生成する手法からなる。当該被覆材の潤滑性、疎水性および/または遮断性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。特に、前述方法により生成される潤滑性被覆材を提供する。前述方法により被覆される容器、および非被覆容器表面の機械的および/または化学的作用から前述の被覆容器内に含有されるまたは収受される化合物または組成物を保護するためのかかる容器の使用法も提供する。  A method for coating the surface of a substrate by PECVD is provided, the method comprising a technique for generating a plasma from a gaseous reactant comprising an organosilicon precursor and optionally O2. The lubricity, hydrophobicity and / or barrier properties of the coating are determined by setting the ratio of O2 to organosilicon precursor in the gaseous reactant and / or by setting the power used for plasma generation. In particular, a lubricity coating produced by the method described above is provided. Containers coated by the above method, and the use of such containers to protect the compounds or compositions contained or received in the above coated containers from the mechanical and / or chemical action of the surface of the uncoated container Also provide.

Description

本発明は、生物学的に活性な化合物または血液を保存するための被覆容器を製造する技術分野に関する。特に本発明は、容器を被覆するための容器処理システム、容器を被覆および検査するための容器処理システム、容器処理システムのための携帯型容器ホルダー、容器内面を被覆するためのプラズマ促進化学蒸着装置、容器内面を被覆するための方法、容器を被覆および検査するための方法、容器処理の方法、容器処理システムの使用法、コンピュータに読み込み可能な媒体、およびプログラム要素に関する。               The present invention relates to the technical field of manufacturing coated containers for storing biologically active compounds or blood. In particular, the present invention relates to a container processing system for coating a container, a container processing system for coating and inspecting a container, a portable container holder for the container processing system, and a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus for coating the inner surface of the container. , Methods for coating the inner surface of a container, methods for coating and inspecting a container, methods of container processing, use of a container processing system, computer readable media, and program elements.

PECVDによる基板表面の被覆方法を提供し、当該方法は、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質からプラズマを生成する手法からなる。当該被覆材の潤滑性、疎水性および/または遮断性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。特に、前述方法により生成される潤滑性被覆材を提供する。前述方法により被覆される容器、および非被覆容器表面の機械的および/または化学的作用から前述の被覆容器内に含有されるまたは収受される化合物または組成物を保護するためのかかる容器の使用法も提供する。 A method for coating the surface of a substrate by PECVD is provided, the method comprising a technique for generating a plasma from a gaseous reactant comprising an organosilicon precursor and optionally O 2 . The lubricity, hydrophobicity and / or barrier properties of the coating are determined by setting the ratio of O 2 to organosilicon precursor in the gaseous reactant and / or by setting the power used for plasma generation. . In particular, a lubricity coating produced by the method described above is provided. Containers coated by the above method, and the use of such containers to protect the compounds or compositions contained or received in the above coated containers from the mechanical and / or chemical action of the surface of the uncoated container Also provide.

本開示はまた、例えば静脈穿刺やその他の医学的検体採集、医薬品の保管と配送、およびその他の目的に使用する複数の同一容器といった、容器処理の改良方法に関する。かかる容器はこれらの目的で多量に使用されるため、製造費用が比較的安価でありながら保管および使用における信頼性が高いことが必須である。               The present disclosure also relates to improved methods for processing containers, such as venipuncture and other medical specimen collection, drug storage and delivery, and multiple identical containers used for other purposes. Since such containers are used in large quantities for these purposes, it is essential that the manufacturing cost is relatively low while the storage and use are highly reliable.

例えば真空採血管は、医学的分析のために患者から血液を採取するために使用される。当該管は真空状態で販売される。患者の血液を管内部へと移送するには、両頭皮下注射針の一端を患者の血管に挿入し、両頭針のもう一方の端にある真空採血管の閉包部を穿孔する。真空採血管内が真空であるため血液が吸引され(より正確には、当該血液が患者の血圧により押し出され)針を通って真空採血管へと流れ、管内の圧力が増大し、したがって血液流入の誘因である圧力差が減少する。当該血液流入は一般に針が除去されるまで、または当該圧力差が小さくなり過ぎて流入を喚起できなくなるまで継続する。               For example, vacuum blood collection tubes are used to draw blood from patients for medical analysis. The tube is sold under vacuum. In order to transfer the patient's blood into the tube, one end of a double-headed hypodermic needle is inserted into the patient's blood vessel, and a vacuum tube tube closure at the other end of the double-ended needle is drilled. Since the inside of the vacuum blood collection tube is evacuated, blood is aspirated (more precisely, the blood is pushed out by the patient's blood pressure) and flows through the needle to the vacuum blood collection tube, increasing the pressure in the tube, thus Incentive pressure difference is reduced. The blood inflow generally continues until the needle is removed or until the pressure difference becomes too small to trigger the inflow.

真空採血管には、使用前の管の効率的で便宜な流通と保管を促進する目的で、実質的な保存可能期間が設けられている。例えば、1年の保存可能期間が望ましく、および場合によっては18カ月、24カ月、36カ月といった漸進的に長期な保存可能期間もまた望ましい。当該管は、欠陥管の提供はほとんど(好ましくはまったく)ないことを条件に、少なくとも分析に必要な血液を吸引するのに必須であるレベル(共通基準は、当該管が元来の吸引量の少なくとも90%を保持すること)で、本質的に完全真空状態を維持することが望ましい。               The vacuum blood collection tube is provided with a substantial storage period for the purpose of promoting efficient and convenient distribution and storage of the tube before use. For example, a shelf life of 1 year is desirable, and in some cases progressively longer shelf life such as 18 months, 24 months, 36 months is also desirable. The tube must be at least at the level required to aspirate blood necessary for analysis, provided that there is little (preferably no) defective tube provided (common criteria are that the tube is It is desirable to maintain an essentially full vacuum condition by maintaining at least 90%).

欠陥管の使用により、瀉血専門医は十分な血液を吸引できない場合がある。瀉血専門医はその後、1つ以上の追加管を入手および使用して、適切な血液検体を採取しなければならない。               Due to the use of defective tubes, phlebotomists may not be able to draw enough blood. The phlebotomist must then obtain and use one or more additional tubes to collect an appropriate blood sample.

別の例では、使用前にシリンジを薬剤で充填する手間を省く充填済みシリンジが、一般に製造・販売されている。当該シリンジは、一部の例では、食塩水、注射用染料、または薬学的に活性な製剤で充填される。               In another example, prefilled syringes are generally manufactured and sold that saves the effort of filling the syringe with the drug before use. The syringe is in some instances filled with saline, an injectable dye, or a pharmaceutically active formulation.

一般に、充填済みシリンジの遠位端は蓋で覆われており、近位端はプランジャーで塞がれている。当該充填済みシリンジは使用前に無菌パッケージ材で包装されている場合がある。当該充填済みシリンジを使用するには、当該包装および蓋を除去し、随意に皮下注射針またはその他の搬送導管をバレル遠位端に装着し、当該搬送導管またはシリンジを使用位置に移動し(皮下注射針を患者の血管に挿入する、シリンジの内容物を洗浄するための装置へと挿入する、など)、当該プランジャーをバレル内へと前進させてバレルの内容物を注入する。               Generally, the distal end of a prefilled syringe is covered with a lid and the proximal end is closed with a plunger. The filled syringe may be packaged in a sterile packaging material before use. To use the prefilled syringe, the packaging and lid are removed, and optionally a hypodermic needle or other delivery conduit is attached to the barrel distal end, and the delivery conduit or syringe is moved to the use position (subcutaneous). The needle is inserted into the patient's blood vessel, inserted into a device for washing the syringe contents, etc.), and the plunger is advanced into the barrel to inject the contents of the barrel.

充填済みシリンジの製造における重要事項の1つとして、シリンジの含有物が好ましくは実質的な保存可能期間を有することが挙げられ、当該期間中には、当該シリンジを満たす物質をそれを包含するバレル壁から分離して、充填済み含有物へのバレルの構成物質の浸出を防止すること、またはその逆が重要である。               One important aspect in the manufacture of prefilled syringes is that the contents of the syringe preferably have a substantial shelf life during which the material that fills the syringe contains a barrel containing it. It is important to separate from the wall to prevent leaching of barrel constituents into the filled contents, or vice versa.

これらの容器の多くは安価で多量に使用されるため、特定の用途については、製造費用を高額なレベルに増加させることなく信頼性ある必要保存可能期間が得られることが有用である。また特定の用途については、破損の恐れがあり製造費が高額なガラス製容器を避け、通常の使用ではめったに破損しない(破損した場合にも、ガラス製管のように容器残留物から鋭利な破片を成形しない)プラスチック製容器を用いることが好ましい。ガラス製容器は気密性に優れ、未処理プラスチックより充填済み含有物に対し不活性であるため、広く使用されてきた。また伝統的用法により、ガラスは医学的検体または医薬製剤などと接触した場合に比較的無害であることが知られている。               Because many of these containers are inexpensive and used in large quantities, it is useful for certain applications to provide a reliable required shelf life without increasing manufacturing costs to an expensive level. Also, for specific applications, avoid glass containers that can be damaged and that are expensive to manufacture, and rarely break under normal use (even if broken, sharp debris from container residues like glass tubes) It is preferable to use a plastic container. Glass containers have been widely used because of their excellent hermeticity and inertness to filled contents compared to untreated plastic. Also, by traditional usage, it is known that glass is relatively harmless when contacted with medical specimens or pharmaceutical formulations.

シリンジに関するさらなる検討事項として、プランジャーをバレルに押し込む場合に一定の速さおよび一定の力で移動可能であることを確保することが挙げられる。この目的に関しては、当該バレルおよび当該プランジャーのいずれかまたは両方に潤滑性被覆を施すことが望ましい。               Further considerations regarding the syringe include ensuring that the plunger is movable at a constant speed and a constant force when pushed into the barrel. For this purpose, it is desirable to apply a lubricious coating to either or both of the barrel and the plunger.

関連性が見込まれる特許の限定的リストには、米国特許6,068,884号および4,844,986号、および米国公開特許出願20060046006号および20040267194号が含まれる。               A limited list of patents with potential relevance includes US Patents 6,068,884 and 4,844,986, and US Published Patent Applications 20060046006 and 200040267194.

米国特許6,068,884号公報US Patent 6,068,884 米国特許4,844,986号公報US Patent No. 4,844,986 米国公開特許出願20060046006号明細書US Published Patent Application No. 20060046006 米国公開特許出願20040267194号明細書US Published Patent Application 20040267194 Specification

本発明の物体は、被覆容器の改良された製造方法を提供するものである。               The object of the present invention provides an improved method of manufacturing a coated container.

以下において、当該方法に従い製造される方法および機器について説明し、当該方法は以下で説明する容器処理システムにより実行され当該機器は本システムにより製造される。               Below, the method and apparatus manufactured according to the said method are demonstrated, the said method is performed by the container processing system demonstrated below, and the said apparatus is manufactured by this system.

本発明は、例えば容器の内面である表面を、PECVDにより有機ケイ素前駆体から生成される被覆材で被覆する方法を提供する。さらに本発明は、生成される被覆材、かかる被覆材で被覆される容器、当該被覆材(潤滑性被覆材、疎水性被覆材、または遮断性被覆材など)の使用法を提供する。さらには、本発明を実行するための装置および複数の機器を提供する。本発明はまた、当該被覆材の検査方法を提供し、特に、前述検査のために被覆表面からの揮発性種のガス放出を利用する方法を提供する。               The present invention provides a method of coating a surface, for example, the inner surface of a container, with a coating material generated from an organosilicon precursor by PECVD. The present invention further provides a coating material to be produced, a container coated with such a coating material, and a method of using the coating material (such as a lubricating coating material, a hydrophobic coating material, or a barrier coating material). Furthermore, an apparatus and a plurality of devices for carrying out the present invention are provided. The present invention also provides a method for inspecting the coating, and in particular, provides a method that utilizes outgassing of volatile species from the coating surface for such inspection.

PECVD被覆の方法
本発明は、プラズマ促進化学蒸着処理(PECVD)により被覆材を製造する方法、例えば容器の内面を被覆する方法に関する。
PECVD coating method
The present invention relates to a method for producing a coating material by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), for example, a method for coating an inner surface of a container.

表面、例えば容器の内面を用意し、また有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。               A surface, for example, the inner surface of the vessel, is prepared, and a reaction mixture consisting of an organosilicon compound gas, optionally an oxidizing gas, and optionally a hydrocarbon gas is prepared.

当該表面を当該反応混合物に接触させる。プラズマが当該反応混合物内に生成される。好ましくは前述プラズマは非ホロー陰極プラズマであり、または同一条件別式において前述プラズマは実質上一切ホロー陰極プラズマを含まない。該被覆材は、容器内壁の一部といった、表面の少なくとも一部に堆積する。               The surface is contacted with the reaction mixture. A plasma is generated in the reaction mixture. Preferably, the plasma is a non-hollow cathode plasma or, in the same conditional formula, the plasma contains substantially no hollow cathode plasma. The covering material is deposited on at least a part of the surface, such as a part of the inner wall of the container.

当該方法は以下の通り実行される。               The method is performed as follows.

前駆体を用意する。好ましくは前述前駆体は有機ケイ素化合物(以下において「有機ケイ素前駆体」とも指名される)であり、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、これら前駆体のaza類似体(線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン)、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される有機ケイ素化合物である。当該前駆体を、PECVDによる被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該前駆体はしたがって、重合、交差結合、一部または完全な酸化、またはこれらを組合わせた状態である。               Prepare a precursor. Preferably, the precursor is an organosilicon compound (hereinafter also referred to as “organosilicon precursor”), more preferably linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, alkyltrimethoxy. An organosilicon compound selected from the group consisting of silane, aza analogues of these precursors (linear silazane, monocyclic silazane, polycyclic silazane, polysilsesquiazane), and complexes of two or more of these precursors is there. The precursor is applied to the substrate under conditions effective for PECVD coating production. The precursor is thus polymerized, cross-linked, partially or fully oxidized, or a combination thereof.

本発明の一態様において、当該被覆材は潤滑性被覆材であり、すなわち非被覆基板より摩擦抵抗の低い表面を成形する。               In one embodiment of the present invention, the coating material is a lubricity coating material, that is, forms a surface having a lower frictional resistance than an uncoated substrate.

本発明の別の態様において、当該被覆材は保護膜、例えば被覆表面との接触において組成物成分の沈殿の減少をもたらす疎水性被覆材である。かかる疎水性被覆材は、非被覆素材と比較してぬれ張力が低いという特徴がある。               In another aspect of the invention, the coating is a hydrophobic coating that results in reduced precipitation of the composition components upon contact with a protective film, such as a coating surface. Such a hydrophobic coating material is characterized by a low wetting tension compared to an uncoated material.

本発明の潤滑性被覆材は保護膜である可能性があり、またその逆である可能性もある。               The lubricity coating of the present invention may be a protective film and vice versa.

本発明のさらなる態様において、当該被覆材は例えばSiOx被覆材といった遮断性被覆材である。一般に当該遮断膜はガスまたは流体を遮断し、好ましくは水蒸気、酸素および/または大気を遮断する。当該遮断膜はまた、遮断性被覆材で被覆される容器の内部(例:採血管管の内部)の真空状態を確立および/または維持するために使用される。 In a further aspect of the invention, the dressing is a barrier dressing such as a SiO x dressing. In general, the barrier membrane blocks gas or fluid and preferably blocks water vapor, oxygen and / or the atmosphere. The barrier membrane is also used to establish and / or maintain a vacuum inside a container (eg, inside a blood collection tube) that is coated with a barrier coating.

また本発明の方法は、PECVDにより有機ケイ素前駆体から生成される1種以上の追加被覆材の塗布からなる場合がある。オプションの追加手順として、本質的に酸素からなりおよび本質的に揮発性ケイ素化合物を含まない処理ガスによるSiOxの後処理が挙げられる。 The method of the present invention may also consist of application of one or more additional coatings produced from the organosilicon precursor by PECVD. An optional additional procedure includes post-treatment of SiO x with a process gas consisting essentially of oxygen and essentially free of volatile silicon compounds.

潤滑性被覆材
特定の態様において本発明は潤滑性被覆材を提供する。
Lubricious coating
In certain embodiments, the present invention provides a lubricity coating.

当該被覆材は、有利にはPECVD方法により生成され、上述の前駆体を使用する。               The dressing is preferably produced by the PECVD method and uses the precursors described above.

例えば、本発明は基板表面の被覆材の潤滑性を設定する方法を提供し、当該方法は以下の手順からなる:
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質の提供、および
(b) ガス状反応物質からのプラズマの生成、したがってプラズマ促進化学蒸着(PECVD)による基板表面上での被覆材を形成し、
当該被覆の潤滑性が、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。
For example, the present invention provides a method for setting the lubricity of a coating material on a substrate surface, which method comprises the following steps:
(a) providing a gaseous reactant near the substrate surface comprising an organosilicon precursor and optionally O2, and
(b) generating a plasma from gaseous reactants, and thus forming a coating on the substrate surface by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD);
The lubricity of the coating is determined by setting the ratio of O2 to organosilicon precursor in the gaseous reactant and / or by setting the power used to generate the plasma.

当該潤滑性被覆材のための望ましい前駆体は単環シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)である。               A desirable precursor for the lubricity coating is a monocyclic siloxane, such as octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS).

生成される被覆表面は未処理基板と比較し摩擦抵抗が低い。例えば、当該被覆表面がシリンジバレル および/またはシリンジプランジャーの内面である場合、当該潤滑性被覆材は、起動力、プランジャースライド力またはその両方を潤滑性被覆材なしの場合と比べて低下させるのに効果的である。               The resulting coated surface has a lower frictional resistance than the untreated substrate. For example, if the coated surface is the inner surface of a syringe barrel and / or syringe plunger, the lubricious coating reduces the activation force, plunger sliding force, or both compared to the case without the lubricious coating. It is effective.

当該潤滑性被覆材で被覆された物質は、潤滑性被覆材を壁上に有する容器である場合があり、好ましくは内部壁(例:シリンジバレル)上に、または容器接触面上に前述被覆材を有する容器部品または容器蓋(例:シリンジプランジャーまたは容器蓋)上に有する。               The material coated with the lubricating coating may be a container having a lubricating coating on the wall, preferably on the inner wall (eg syringe barrel) or on the container contact surface. On a container part or container lid (eg syringe plunger or container lid).

一態様における当該潤滑性被覆材は、公式SiwOxCyHzを有する場合があり、例えばwは1、xは約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9であり、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9である。 The lubricity coating in one embodiment may have the formula Si w O x C y H z , for example, w is 1, x is about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, and z is about 2 To about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is 6 to about 9.

保護(例えば疎水性)被覆材
本発明に記載の当該保護被覆材は、例えば疎水性被覆材である。
Protective (eg hydrophobic) coating
The protective coating material described in the present invention is, for example, a hydrophobic coating material.

当該保護(例えば疎水性)被覆材のための望ましい前駆体は線状シロキサン、例えばヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)である。               A desirable precursor for the protective (eg hydrophobic) coating is a linear siloxane, eg hexamethyldisiloxane (HMDSO).

本発明に記載の保護被覆材は、当該容器内に包含される化合物または組成物に対する非被覆表面の機械的および/または化学的作用を防止または削減する。例えば、当該表面に接触する化合物または組成成分の沈殿および/または凝固または血小板活性化を防止または削減し、具体的には血液凝固または血小板活性化またはインスリンの沈殿、または房水による非被覆表面湿潤を防止する。               The protective coating described in the present invention prevents or reduces the mechanical and / or chemical effects of the uncoated surface on the compound or composition contained within the container. For example, preventing or reducing precipitation and / or clotting or platelet activation of compounds or components that come into contact with the surface, specifically blood clotting or platelet activation or insulin precipitation, or uncoated surface wetting by aqueous humor To prevent.

本発明の特定の態様として、公式SiwOxCyHzを有する疎水性被覆材で被覆される表面があり、例えばwは1、xは約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9であり、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9である。 Specific embodiments of the present invention include a surface coated with a hydrophobic coating having the formula Si w O x C y H z , for example, w is 1, x is about 0.5 to about 2.4, and y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is 6 to about 9.

当該保護被覆材で被覆される物質は、被覆材を壁上に有する容器であり、好ましくは内部壁(例:管)上に、または容器接触面上に前述被覆材を有する容器部品または容器蓋(例:容器蓋)上に有する。               The substance to be coated with the protective covering material is a container having a covering material on a wall, preferably a container part or a container lid having the above-mentioned covering material on an inner wall (for example, a pipe) or on a container contact surface. (Example: Container lid).

容器の被覆
容器をPECVDを使用する前述被覆方法で被覆する場合、当該被覆方法はいくつかの手順からなる。開口端、閉口端、内面を有する容器を用意する。当該容器内に少なくとも1種のガス状反応物質を導入する。当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、当該容器内でプラズマを生成する。すなわち、当該容器の内面上に被覆材を生成する。
Container coating
When coating a container with the above-described coating method using PECVD, the coating method consists of several procedures. A container having an open end, a closed end, and an inner surface is prepared. At least one gaseous reactant is introduced into the vessel. Plasma is generated in the vessel under conditions effective to shape the reaction product of the reactant. That is, a covering material is generated on the inner surface of the container.

好ましくは、当該方法は本明細書で説明するように当該容器の開口端を容器ホルダー上に装填して実行し、当該容器ホルダーと当該容器内部の間の通過密閉を確立する。この望ましい態様においては、当該ガス状反応物質を当該容器ホルダーを通して当該容器へと導入する。本発明の特定の望ましい態様においては、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給からなるプラズマ促進化学蒸着(PECVD)装置を本発明に記載の被覆方法のために使用する。               Preferably, the method is performed with the open end of the container loaded onto the container holder as described herein to establish a pass-through seal between the container holder and the interior of the container. In this desirable embodiment, the gaseous reactant is introduced into the vessel through the vessel holder. In certain desirable embodiments of the present invention, a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) apparatus comprising a container holder, internal electrodes, external electrodes, and a power supply is used for the coating method described in the present invention.

当該容器ホルダーは、処理のために容器を装填位置に収受するためのポートを有する。当該内部電極は 容器ホルダー上に装填済みの容器内に収受されるよう位置付けられる。当該外部電極は、容器ホルダー上に装填済みの容器を収受するよう位置付けられる内部部位を有する。当該電力供給装置は内部および/または外部電極へと電流を交流させ、当該容器ホルダー上に装填済みの容器内にプラズマを生成する。一般に、内部電極が接地されている場合、当該電力供給装置は外部電極へと電流を交流させる。本実施例において、当該容器はプラズマ反応チャンバを定義する。               The container holder has a port for receiving the container in a loading position for processing. The internal electrode is positioned to be received in a container already loaded on the container holder. The external electrode has an internal portion that is positioned to receive a loaded container on a container holder. The power supply device generates a plasma in a container already loaded on the container holder by causing an electric current to be exchanged with the internal and / or external electrodes. In general, when the internal electrode is grounded, the power supply device exchanges current with the external electrode. In this example, the vessel defines a plasma reaction chamber.

本発明特定の態様において、前段落で説明した当該PECVD装置は必ずしも真空源を含まないガス排出管からなり、当該ポート上に装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。               In a particular embodiment of the present invention, the PECVD apparatus described in the previous paragraph consists of a gas exhaust pipe that does not necessarily include a vacuum source, and defines a closed chamber by transferring gas to / from the inside of a container already loaded on the port. To do.

さらなる本発明の特定の態様において、当該PECVD装置は、容器ホルダー、第1把持部、容器ホルダー上の装填部、反応物質供給装置、プラズマ生成装置、および容器解除装置からなる。               In a further specific embodiment of the present invention, the PECVD apparatus comprises a container holder, a first gripping part, a loading part on the container holder, a reactant supply apparatus, a plasma generation apparatus, and a container release apparatus.

当該容器ホルダーは、容器の開口端を装填するよう設定される。第1把持部は当該容器の閉口端を選択的に把持および解除し、および当該容器の閉口端を把持しながら当該容器を当該容器ホルダー付近へと搬送するよう設定される。当該容器ホルダーは、当該容器ホルダーと当該第1容器の内腔の間の通過密閉を確立するよう設定される装填部を有する。               The container holder is set to load the open end of the container. The first gripping unit is set to selectively grip and release the closed end of the container and to transport the container to the vicinity of the container holder while gripping the closed end of the container. The container holder has a loading portion that is set to establish a passing seal between the container holder and the lumen of the first container.

当該反応物質供給装置は、当該容器ホルダーを通して少なくとも1種のガス状反応物質を当該第1 容器へと導入するよう、動作可能に接続される。当該プラズマ生成装置は、第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、第1容器内でプラズマを生成するよう設定される。               The reactant supply device is operably connected to introduce at least one gaseous reactant into the first vessel through the vessel holder. The plasma generating apparatus is set to generate plasma in the first container under conditions effective to form a reaction product of the reactant on the inner surface of the first container.

当該容器解除装置は、第1容器を当該容器ホルダーから装填解除するよう提供される。第1把持部またはその他の把持部である把持部は、第1容器を当該容器ホルダーから軸方向に離して搬送し、その後第1容器の装填を解除するよう設定される。               The container release device is provided to unload the first container from the container holder. The gripping part which is the first gripping part or the other gripping part is set so as to transport the first container away from the container holder in the axial direction and then release the loading of the first container.

本発明の特定の態様において、当該方法は容器の制限開口部、例えば通常管状である容器の内面をPECVDにより被覆するためのものである。当該容器には、外面、内腔を定義する内面、内径を有するより大きめの開口部、内面により定義され大きめの開口部の内径より小さな内径を有する制限的開口部が含まれる。 内腔および処理容器開口部を有する処理容器を用意する。当該処理容器開口部を容器の制限的開口部に接続し、処理される容器の内腔と処理容器の内腔の間の通過性を制限的開口部経由で確立する。 処理される容器の内腔および処理容器の内腔内で、少なくとも一部を真空状態にする。PECVD反応物質が第1開口部を通り、その後処理される容器の内腔、制限的開口部、処理容器の内腔へと流入する。制限的開口部内面上にPECVD反応生成物を堆積するのに効果的な条件下で、プラズマを制限的開口部に隣接して生成する。               In a particular embodiment of the invention, the method is for coating the restricted opening of a vessel, for example the inner surface of a vessel that is generally tubular, by PECVD. The container includes an outer surface, an inner surface defining a lumen, a larger opening having an inner diameter, and a restrictive opening having an inner diameter defined by the inner surface and smaller than the inner diameter of the larger opening. A processing container having a lumen and a processing container opening is prepared. The processing vessel opening is connected to the restrictive opening of the vessel and the passage between the treated vessel lumen and the processing vessel lumen is established via the restrictive opening. At least a portion is evacuated in the lumen of the container to be processed and in the lumen of the processing container. The PECVD reactant flows through the first opening and then into the lumen of the vessel to be processed, the restrictive opening, and the lumen of the processing vessel. A plasma is generated adjacent to the limiting opening under conditions effective to deposit a PECVD reaction product on the inner surface of the limiting opening.

被覆容器および容器部品
本発明はさらに、上記で説明する方法から生成される被覆材、前述被覆材で被覆される表面、および例えば前述被覆材で被覆される容器を提供する。
Coated containers and container parts
The present invention further provides a dressing produced from the method described above, a surface coated with the aforementioned dressing, and a container coated with, for example, the aforementioned dressing.

当該被覆材で被覆される表面、例えば容器壁またはその一部はガラス製またはポリマー製であり、好ましくは熱可塑性ポリマーであり、より好ましくはポリカーボネート、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、およびポリエステルからなる群から選択されるポリマーである。例えば、環状オレフィン共重合体、テレフタル酸ポリエチレン、またはポリプロピレンである。               The surface to be coated with the coating material, such as the container wall or a part thereof, is made of glass or polymer, preferably is a thermoplastic polymer, more preferably polycarbonate, olefin polymer, cyclic olefin copolymer, and polyester. A polymer selected from the group consisting of For example, a cyclic olefin copolymer, polyethylene terephthalate, or polypropylene.

本発明の特定の態様において、当該容器壁は少なくとも1つの外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層を有する。当該ポリマーは同一のまたは別のものである可能性がある。例えば、1つのポリマー層は(例えば、水蒸気遮断性を定義する)環状オレフィン共重合体(COC)樹脂であり、別のポリマー層はポリエステル樹脂である。かかる容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される場合がある。               In certain embodiments of the invention, the container wall has an inner polymer layer encapsulated with at least one outer polymer layer. The polymers can be the same or different. For example, one polymer layer is a cyclic olefin copolymer (COC) resin (eg, defining water vapor barrier properties) and another polymer layer is a polyester resin. Such a container may be manufactured by a process including a process of introducing a COC layer and a polyester resin layer into an injection mold through a concentric injection nozzle.

本発明の当該被覆容器は、空、真空、化合物または組成物で充填済みである場合がある。               The coated container of the present invention may be prefilled with an empty, vacuum, compound or composition.

本発明の特定の態様は保護被覆材、例えば上記で定義される疎水性被覆材を有する容器である。               A particular embodiment of the present invention is a container having a protective coating, such as a hydrophobic coating as defined above.

さらなる本発明の特定の態様は、例えば上記で定義される潤滑性被覆材を有する表面である。当該表面は、潤滑性被覆材を壁上に有する容器である場合があり、好ましくは内部壁(例:シリンジバレル)上に、または容器接触面上に前述被覆材を有する容器部品または容器蓋(例:シリンジプランジャーまたは容器蓋)上に有する。               A further particular aspect of the present invention is a surface having a lubricity coating as defined above, for example. The surface may be a container having a lubricious coating on the wall, preferably a container part or container lid having said coating on the inner wall (eg syringe barrel) or on the container contact surface ( Example: syringe plunger or container lid).

本発明の特定の態様は、上記で定義されるプランジャー、シリンジバレル、および潤滑性被覆材を、1つまたは両方のシリンジ部品上に、好ましくはシリンジバレルの内壁上に含むシリンジである。当該シリンジバレルには、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルが含まれる。当該潤滑性被覆材は、シリンジバレルの内面、またはバレルに接触するプランジャーの表面、または前述表面の両方に付着する場合がある。当該潤滑性被覆材は、起動力またはバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を削減するのに効果的である。               A particular embodiment of the present invention is a syringe comprising a plunger, syringe barrel, and lubricious coating as defined above on one or both syringe parts, preferably on the inner wall of the syringe barrel. The syringe barrel includes a barrel having an inner surface that slidably receives the plunger. The lubricity coating may adhere to the inner surface of the syringe barrel, the surface of the plunger that contacts the barrel, or both of the aforementioned surfaces. The lubricious coating is effective in reducing the starting force or plunger sliding force required to move the plunger within the barrel.

さらなる本発明の特定の態様は、前段落で定義される潤滑性被覆材で被覆されるシリンジバレルである。               A further particular aspect of the present invention is a syringe barrel coated with a lubricity coating as defined in the previous paragraph.

前述被覆シリンジバレルの特定の態様において、当該シリンジバレルは、内腔を定義しプランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルからなる。当該シリンジバレルは、有利には熱可塑性素材を原料とする。プラズマ促進化学蒸着(PECVD)により、バレル内面、プランジャー、または両方に、潤滑性被覆材を塗布する。溶質保持部材を、表面処理により潤滑性被覆材上に、例えば潤滑性被覆材、熱可塑性素材、または両方の当該内腔への浸出を削減するのに効果的な量で塗布する。当該潤滑性被覆材および溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、または両方を、潤滑性被覆材および溶質保持部材なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。               In certain embodiments of the aforementioned coated syringe barrel, the syringe barrel comprises a barrel having an inner surface that defines a lumen and slidably receives a plunger. The syringe barrel is advantageously made from a thermoplastic material. Lubricant coating is applied to the barrel inner surface, the plunger, or both by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The solute retention member is applied to the lubricity coating by surface treatment in an amount effective to reduce, for example, leaching of the lubricity coating, thermoplastic material, or both into the lumen. The lubricity coating and solute retention member are configured to provide an effective amount to reduce the starting force, plunger sliding force, or both as compared to the case without the lubricity coating and solute retention member. .

本発明の別の態様は、プランジャー、シリンジバレル、内部および外部被覆材を含むシリンジある。当該バレルは、プランジャーをスライド可能に収受する内面と、外面を有する。潤滑性被覆材が当該内面にあり、追加の遮断性SiOX被覆材(xは約1.5〜約2.9)が当該バレル内面に提供される場合がある。遮断性被覆材(例:樹脂製またはさらなるSiOx被覆材製)は当該バレルの外面に提供される。 Another aspect of the present invention is a syringe that includes a plunger, a syringe barrel, and internal and external dressings. The barrel has an inner surface that slidably receives the plunger and an outer surface. There may be a lubricity coating on the inner surface and an additional barrier SiO x coating (x from about 1.5 to about 2.9) provided on the barrel inner surface. A barrier coating (eg, resin or additional SiOx coating) is provided on the outer surface of the barrel.

本発明の別の態様は、プランジャー、シリンジバレル、およびルアー取付部を含むシリンジである。当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。当該ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。当該ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として成形され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。当該ルアーテーパーの内部経路は遮断性SiOX被覆材(xは約1.5〜約2.9)を有する。 Another aspect of the invention is a syringe that includes a plunger, a syringe barrel, and a luer fitting. The syringe barrel has an inner surface that slidably receives the plunger. The luer attachment includes a luer taper having an internal path defined by the inner surface. The luer attachment portion is formed as a separate member from the syringe barrel, and is coupled to the syringe barrel by coupling. Internal routing of the luer taper is blocking SiO X dressing (x is from about 1.5 to about 2.9) having a.

本発明の別の態様は、ピストンおよびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。当該ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、および後部を有しており、当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。当該プランジャーはその側面上に、本発明に記載の潤滑性被覆材を有する。当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。 当該プランジャーもSiOx被覆材からなる場合がある。 Another aspect of the present invention is a plunger for a syringe that includes a piston and a push rod. The piston has a front surface, a side surface that is generally cylindrical, and a rear portion, the side surface being configured to be movably loaded into a syringe barrel. The plunger has the lubricity coating described in the present invention on its side surface. The push rod is set to engage the rear of the piston and push the piston forward within the syringe barrel. The plunger may also be made of a SiO x coating material.

さらなる本発明の態様は、開口部を1つのみ有する容器であり、すなわち化合物または組成物を採集または保管する容器である。かかる容器は、特定の態様においては管であり、例えば検体採取管、例えば採血管である。前述管は閉包部、例えば蓋または停止部材で閉じられている場合がある。かかる蓋または停止部材は、当該管に接触する面に本発明に記載の潤滑性被覆材を含む、および/または当該管内腔と向かい合う面に本発明に記載の保護被覆材を包含する場合がある。特定の態様において、かかる停止部材またはその部品は、エラストマー材を原料とする場合がある。               A further aspect of the present invention is a container having only one opening, ie a container for collecting or storing a compound or composition. Such a container is a tube in a particular embodiment, such as a specimen collection tube, such as a blood collection tube. The tube may be closed with a closure, such as a lid or a stop member. Such a lid or stop member may include the lubricity coating described in the present invention on the surface in contact with the tube and / or the protective coating described in the present invention on the surface facing the lumen of the tube. . In certain embodiments, such stop members or parts thereof may be made from an elastomeric material.

かかる停止部材は以下のように作成される場合がある:当該停止部材を実質上真空チャンバ内に位置付ける。有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスを含む反応混合物を用意する。当該停止部材に接触する反応混合物内にプラズマを生成させる。該被覆材が、停止部材の少なくとも一部に堆積する。               Such a stop member may be made as follows: the stop member is positioned substantially within the vacuum chamber. A reaction mixture is provided comprising an organosilicon compound gas, optionally an oxidizing gas, and optionally a hydrocarbon gas. Plasma is generated in the reaction mixture in contact with the stop member. The dressing is deposited on at least a portion of the stop member.

さらなる本発明の態様は、本発明に記載の遮断性被覆材を有する容器である。当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする場合がある。当該容器は、少なくとも一部が壁で境界される口および内腔を有する。当該壁は、当該内腔と接合する内面を有する。好適な態様において、上記で定義したSiOx製の少なくとも本質的に連続する遮断性被覆材を当該壁の内面に塗布する。当該遮断性被覆材は、少なくとも24カ月の保存可能期間中に、少なくとも最初の真空レベルの90%を、随意に最初の真空レベルの95%を容器内に維持するのに有効である。当該容器の口を覆うを閉包部を用意して、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。 A further aspect of the present invention is a container having a barrier coating according to the present invention. The container is usually tubular and may be made from a thermoplastic material. The container has a mouth and a lumen that are at least partially bounded by walls. The wall has an inner surface that joins the lumen. In a preferred embodiment, an at least essentially continuous barrier coating made of SiO x as defined above is applied to the inner surface of the wall. The barrier coating is effective to maintain at least 90% of the initial vacuum level and optionally 95% of the initial vacuum level in the container for a shelf life of at least 24 months. A closure is provided to cover the mouth of the container, and the lumen of the container is isolated from the ambient atmosphere.

本明細書で説明する、被覆材を生成するPECVDおよび有機ケイ素前駆体を使用するPECVD被覆法はまた、 カテーテルまたはキュベットを被覆して遮断性被覆材、疎水性被覆材、潤滑性被覆材、またはそれらの組合せを成形するのに有用である。キュベットは円または四角い断面を有し一端が密閉されている小型管で、ポリマー、ガラス、または溶融水晶(紫外線用)を原料として製造され、分光実験用の検体を把持するよう設計される。最良のキュベットは限りなく透明で、分光学的計測に影響を与える可能性がある不純物を含まない。試験管と同様、キュベットは外気に通じる開口部またはそれを密閉する蓋を有する場合がある。本発明のPECVD塗布被覆材は非常に薄く、透明で、光学的に平坦であり、したがって当該キュベットまたはその含有物の光学試験を阻害することはない。               PECVD coating methods using PECVD and organosilicon precursors as described herein can also be used to coat a catheter or cuvette to provide a barrier coating, hydrophobic coating, lubricity coating, or Useful for molding those combinations. A cuvette is a small tube having a circular or square cross section and sealed at one end, and is made of polymer, glass, or molten quartz (for ultraviolet rays) as a raw material, and is designed to hold a specimen for spectroscopic experiments. The best cuvettes are infinitely clear and free of impurities that can affect spectroscopic measurements. Like a test tube, a cuvette may have an opening leading to the outside air or a lid that seals it. The PECVD coating of the present invention is very thin, transparent and optically flat and therefore does not interfere with optical testing of the cuvette or its contents.

(事前)充填済み被覆容器
本発明の特定の態様は、内腔に化合物または組成物を充填したまたは充填するために使用される、上述の被覆容器である。前述化合物または組成物は以下である場合がある:
(i) 生物学的に活性な化合物または組成物、好ましくは薬剤、より好ましくはインスリンまたはインスリンからなる組成物、または
(ii) 生物学的流体、好ましくは体液、より好ましくは血液または血液分画(例:血球)、または
(iii) 当該容器内に直接包含される別の化合物または組成物と結合される化合物または組成物、例えば、クエン酸塩またはクエン酸塩包含組成物のような、採血管内での血液凝固や血小板活性化を防止するための化合物。
(Pre) filled coated container
A particular aspect of the present invention is a coated container as described above, wherein the lumen is filled or used to fill a compound or composition. Said compound or composition may be the following:
(i) a biologically active compound or composition, preferably a drug, more preferably a composition comprising insulin or insulin, or
(ii) biological fluids, preferably body fluids, more preferably blood or blood fractions (eg blood cells), or
(iii) blood coagulation or platelets in a blood collection tube, such as a compound or composition that is combined with another compound or composition directly contained within the container, such as citrate or a citrate containing composition A compound for preventing activation.

本発明の被覆容器は通常、非被覆容器基材の表面の機械的および/または化学的作用に敏感である化合物および組成物の採取および保管に特に有用であり、好ましくは容器内面と接触する化合物または組成成分の沈殿および/または凝固または血小板活性化を防止および削減するためのものである。               The coated containers of the present invention are typically particularly useful for the collection and storage of compounds and compositions that are sensitive to the mechanical and / or chemical action of the surface of an uncoated container substrate, preferably compounds that come into contact with the inner surface of the container Or to prevent and reduce precipitation and / or clotting or platelet activation of the composition components.

例えば、本発明の疎水性被覆材で被覆される壁を有し含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する細胞調製管は、採血に適しており血液凝固を防止/削減する。当該含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。               For example, a cell preparation tube having a wall coated with the hydrophobic coating of the present invention and containing a hydrous sodium citrate reagent is suitable for blood collection and prevents / reduces blood clotting. The hydrous sodium citrate reagent adheres to the lumen of the tube in an amount effective to inhibit clotting of blood introduced into the tube.

本発明の特定の態様は、血液の採取/受容のための容器または血液包含容器である。当該容器は壁を有し、当該壁は内腔を定義する内面を有する。当該壁の内面は、本発明の疎水性被覆材で少なくとも一部が被覆される。当該被覆材は単分子の層厚と同様に薄く、または最大層厚約1000nmである。当該容器に採取/保管される血液は、好ましくは被覆と接触する内腔内に充填され患者の血管系へと戻すことが可能である。当該被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。               A particular embodiment of the present invention is a container for blood collection / reception or a blood containing container. The container has a wall, and the wall has an inner surface defining a lumen. The inner surface of the wall is at least partially coated with the hydrophobic coating material of the present invention. The covering material is as thin as the monomolecular layer thickness or has a maximum layer thickness of about 1000 nm. The blood collected / stored in the container is preferably filled into a lumen that contacts the coating and can be returned to the patient's vasculature. The dressing is effective in reducing clotting or platelet activation of blood exposed to the inner surface compared to the same type of uncoated wall.

本発明の別の態様は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。当該内面は、本発明の疎水性被覆材で少なくとも一部が被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。インスリンまたははインスリンからなる組成物が、当該被覆材と接触する内腔内に付着する。随意に、当該被覆材は同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。               Another aspect of the invention is an insulin containing container including a wall having an inner surface defining a lumen. The inner surface is at least partially coated with the hydrophobic coating material of the present invention. The layer thickness of the coating material is monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. Insulin or a composition comprising insulin is deposited in the lumen that contacts the dressing. Optionally, the dressing is effective to reduce precipitate formation from insulin in contact with the inner surface compared to the same type of uncoated wall.

本発明はしたがって、被覆方法、被覆製品、前述製品の使用法に関する以下の実施例を提供する:
(1) 基板表面の被覆材の潤滑性を設定する方法であり、当該方法は以下の手順からなる:
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質の提供、および
(b) ガス状反応物質からのプラズマの生成、したがってプラズマ促進化学蒸着(PECVD)による基板表面上での被覆材を形成し、
当該被覆の潤滑性が、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。
The present invention thus provides the following examples relating to coating methods, coated products, and uses of said products:
(1) A method for setting the lubricity of the coating material on the substrate surface, and the method comprises the following steps:
(a) providing a gaseous reactant near the substrate surface comprising an organosilicon precursor and optionally O2, and
(b) generating a plasma from gaseous reactants, and thus forming a coating on the substrate surface by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD);
The lubricity of the coating is determined by setting the ratio of O2 to organosilicon precursor in the gaseous reactant and / or by setting the power used to generate the plasma.

(2) 基板上に疎水性被覆材を生成する方法であり、当該方法は以下の手順からなる:
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質の提供、および
(b) ガス状反応物質からのプラズマの生成、したがってプラズマ促進化学蒸着(PECVD)による基板表面上での被覆材を形成し、
当該被覆材の疎水性は、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。
(2) A method for producing a hydrophobic coating on a substrate, which comprises the following steps:
(a) providing a gaseous reactant near the substrate surface comprising an organosilicon precursor and optionally O2, and
(b) generating a plasma from gaseous reactants, and thus forming a coating on the substrate surface by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD);
The hydrophobicity of the coating is determined by setting the ratio of O2 to organosilicon precursor in the gaseous reactant and / or by setting the power used for plasma generation.

(3) (1) または (2) に記載の方法であり、有機ケイ素前駆体の総和公式と比較して原子比率C :Oが増加するおよび/または原子比率Si :Oが減少する総和公式により特徴付けられる被覆材を生成する方法。               (3) The method according to (1) or (2), wherein the atomic ratio C: O is increased and / or the atomic ratio Si: O is decreased as compared to the summation formula of the organosilicon precursor. A method of producing a dressing that is characterized.

(4) 当該O2のガス状反応物質に対する体積/体積比が0:1〜5:1であり、随意に0:1〜1:1であり、随意に0:1〜0.5:1であり、随意に0:1〜0.1:1であり、望ましくは少なくとも酸素が本質的にガス状反応物質内に存在しない、(1)〜(3) いずれかにに記載の方法。                (4) The volume / volume ratio of the O2 to the gaseous reactant is 0: 1 to 5: 1, optionally 0: 1 to 1: 1, optionally 0: 1 to 0.5: 1, A process according to any of (1) to (3), optionally between 0: 1 and 0.1: 1, desirably at least oxygen is essentially absent from the gaseous reactant.

(5) 当該ガス状反応物質が1 vol%未満のO2からなる、より詳細には0.5 vol%未満のO2からなる、最も望ましくはO2が一切含まれていない、(1)〜(4) のいずれかに記載の方法。                (5) The gaseous reactant consists of less than 1 vol% O2, more particularly less than 0.5 vol% O2, most preferably no O2, any of (1) to (4) The method according to any one.

(6) 当該プラズマが非ホロー陰極プラズマである、(1)〜(5) のいずれかに記載の方法。                (6) The method according to any one of (1) to (5), wherein the plasma is non-hollow cathode plasma.

(7) 当該基板が内腔を有する容器内の壁であり、当該内腔の有する空隙容量が0.5〜50mL、好ましくは1〜10mL、より好ましくは0.5〜5mL、最も好ましくは1〜3mLである、(1)〜(6) のいずれかに記載の方法。                (7) The substrate is a wall in a container having a lumen, and the void volume of the lumen is 0.5 to 50 mL, preferably 1 to 10 mL, more preferably 0.5 to 5 mL, most preferably 1 to 3 mL. The method according to any one of (1) to (6).

(8) 以下を満たす、(1)〜(7) のいずれかに記載の方法:
(i) 当該プラズマが、当該基板表面に被覆材を生成するのに十分な電力を受ける電極で生成される、好ましくは0.1〜25W、より好ましくは1〜22W、さらにより好ましくは3〜17W、さらに好ましくは5〜14W、最も好ましくは7〜11W、特に8Wの電力を受ける電極で生成される; および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が10 W/ml未満である、好ましくは5W/ml〜0.1W/ml、より好ましくは4W/ml〜0.1W/ml、最も好ましくは2W/ml〜0.2W/mlである。
(8) The method according to any one of (1) to (7), which satisfies the following:
(i) The plasma is generated with an electrode that receives sufficient power to generate a coating on the substrate surface, preferably 0.1 to 25 W, more preferably 1 to 22 W, even more preferably 3 to 17 W, More preferably 5-14 W, most preferably 7-11 W, in particular produced with electrodes receiving 8 W of power; and / or
(ii) The electrode power to plasma volume ratio is less than 10 W / ml, preferably 5 W / ml to 0.1 W / ml, more preferably 4 W / ml to 0.1 W / ml, most preferably 2 W / ml 0.2 W / ml.

(9) 基板表面上に被覆材を生成する方法であり、当該方法は以下の手順からなる:
(a)基板表面付近における、有機ケイ素前駆体と随意にO2からなるガス状反応物質の提供、および
(b) 減圧下でのガス状反応物質からの非ホロー陰極プラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着(PECVD)による基板表面上での被覆材の形成、
当該被覆材の物理的および化学的性質が、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。
(9) A method for producing a coating material on a substrate surface, which method comprises the following steps:
(a) providing a gaseous reactant near the substrate surface comprising an organosilicon precursor and optionally O2, and
(b) Generation of non-hollow cathode plasma from gaseous reactants under reduced pressure, ie formation of a coating on the substrate surface by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD),
The physical and chemical properties of the coating are determined by setting the ratio of O2 to organosilicon precursor in the gaseous reactant and / or by setting the power used for plasma generation.

(10) 基板上に遮断性被覆材を生成する方法であり、当該方法は以下の手順からなる:
(a) 基板表面付近における、有機ケイ素前駆体とO2からなるガス状反応物質の提供、および
(b) 減圧下でのガス状反応物質からの非ホロー陰極プラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着(PECVD)による基板表面上での被覆材の形成、
当該被覆の遮断性が、ガス状反応物質内のO2対有機ケイ素前駆体の比率の設定により、および/またはプラズマ生成に使用する電力の設定により決定される。
(10) A method of producing a barrier coating on a substrate, the method comprising the following steps:
(a) providing a gaseous reactant comprising an organosilicon precursor and O2 near the substrate surface; and
(b) Generation of non-hollow cathode plasma from gaseous reactants under reduced pressure, ie formation of a coating on the substrate surface by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD),
The barrier properties of the coating are determined by setting the ratio of O2 to organosilicon precursor in the gaseous reactant and / or by setting the power used for plasma generation.

(11) 以下を満たす、(10) に記載の方法。
(i) 当該プラズマが、当該基板表面に被覆材を生成するのに十分な電力を受ける電極で生成される、好ましくは8〜500W、より好ましくは20〜400W、さらにより好ましくは35〜350W、さらに好ましくは44〜300W、最も好ましくは44〜70Wの電力を受ける電極で生成される; および/または
(ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が5 W/ml以上である、好ましくは6W/ml〜150W/ml、より好ましくは7W/ml〜100W/ml、最も好ましくは7W/ml〜20W/mlである。
(11) The method according to (10), which satisfies the following.
(i) The plasma is generated with an electrode that receives sufficient power to generate a coating on the substrate surface, preferably 8-500 W, more preferably 20-400 W, even more preferably 35-350 W, More preferably produced at 44-300 W, most preferably 44-70 W of electrodes receiving power; and / or
(ii) The electrode power to plasma volume ratio is 5 W / ml or more, preferably 6 W / ml to 150 W / ml, more preferably 7 W / ml to 100 W / ml, most preferably 7 W / ml to 20 W / ml. ml.

(12) (10) または (11) に記載の方法であり、当該O2のガス状反応物質に対する体積/体積比がケイ素包含前駆体との関連で1 :1〜100 :1である、好ましくは5 :1〜30 :1である、より好ましくは10 :1〜20 :1である、さらにより好ましくは15 :1.                (12) The method according to (10) or (11), wherein the volume / volume ratio of the O2 to the gaseous reactant is from 1: 1 to 100: 1 in the context of the silicon-containing precursor, preferably 5: 1 to 30: 1, more preferably 10: 1 to 20: 1, even more preferably 15: 1.

(13) (1)〜(12)のいずれかに記載の方法であり、当該有機ケイ素前駆体が、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、アルキル・トリメトキシシロキサン、およびこれらの化合物2つ以上の複合体からなる群から選択される、
好ましくは線状または単環シロキサンである方法。
(13) The method according to any one of (1) to (12), wherein the organosilicon precursor is a linear siloxane, a monocyclic siloxane, a polycyclic siloxane, a polysilsesquioxane, a linear silazane, a single Selected from the group consisting of cyclic silazanes, polycyclic silazanes, polysilsesquiazanes, alkyl trimethoxysiloxanes, and complexes of two or more of these compounds,
A process which is preferably a linear or monocyclic siloxane.

(14) 当該有機ケイ素前駆体が単環シロキサンである、好ましくはOMCTSである、(1) または (2) に記載の方法。                (14) The method according to (1) or (2), wherein the organosilicon precursor is a monocyclic siloxane, preferably OMCTS.

(15) 当該有機ケイ素前駆体が線状シロキサンである、好ましくはHMDSOである、(2) または (10) に記載の方法。                (15) The method according to (2) or (10), wherein the organosilicon precursor is a linear siloxane, preferably HMDSO.

(16) 当該PECVDが、有機ケイ素前駆体流量6sccm以下、好ましくは2.5sccm以下、より好ましくは1.5sccm以下、最も好ましくは1.25sccm以下で実行される、(1)〜(15) のいずれかに記載の方法。                (16) The PECVD is performed at an organosilicon precursor flow rate of 6 sccm or less, preferably 2.5 sccm or less, more preferably 1.5 sccm or less, and most preferably 1.25 sccm or less, (1) to (15) The method described.

(17) 当該基板がポリカーボネート、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、およびポリエステルからなる群から選択されるポリマーである、そして好ましくは環状オレフィン共重合体、テレフタル酸ポリエチレン、またはポリプロピレンである、(1)〜(16) のいずれかに記載の方法。                (17) The substrate is a polymer selected from the group consisting of polycarbonate, olefin polymer, cyclic olefin copolymer, and polyester, and is preferably cyclic olefin copolymer, polyethylene terephthalate, or polypropylene. The method according to any one of 1) to (16).

(18) 当該基板表面が少なくとも1つの開口部と内面を有する容器内面の一部またはすべてであり、当該ガス状反応物質が当該容器の内部内腔を満たし、当該プラズマが当該容器の内部内腔の一部またはすべてにおいて生成される、(1)〜(17) のいずれかに記載の方法。                (18) The substrate surface is a part or all of the inner surface of the container having at least one opening and an inner surface, the gaseous reactant fills the inner lumen of the container, and the plasma is the inner lumen of the container The method according to any one of (1) to (17), wherein the method is produced in part or all of the above.

(19) 当該プラズマが高周波電極により生成され、その周波数が好ましくは10kHz〜300MH未満、より好ましくは1〜50MHz、さらにより好ましくは10〜15MHz、最も好ましくは13.56MHzである、(1)〜(18) のいずれかに記載の方法。                (19) The plasma is generated by a high-frequency electrode, and the frequency is preferably 10 kHz to less than 300 MHz, more preferably 1 to 50 MHz, even more preferably 10 to 15 MHz, and most preferably 13.56 MHz, (1) to ( The method according to any one of 18).

(20) 当該プラズマが減圧下で生成され、当該減圧が300mトール未満、好ましくは200mトール未満、より好ましくは100mトール未満である、(1)〜(19) のいずれかに記載の方法。                (20) The method according to any one of (1) to (19), wherein the plasma is generated under reduced pressure, and the reduced pressure is less than 300 mtorr, preferably less than 200 mtorr, more preferably less than 100 mtorr.

(21) 当該PECVD堆積時間が1〜30秒である、好ましくは2〜10秒である、より好ましくは3〜9秒である、(1)〜(20) のいずれかに記載の方法。                (21) The method according to any one of (1) to (20), wherein the PECVD deposition time is 1 to 30 seconds, preferably 2 to 10 seconds, more preferably 3 to 9 seconds.

(22) 生成される被覆材の層厚が1〜100nmである、好ましくは20〜50nmである、(1)〜(21) のいずれかに記載の方法。                (22) The method according to any one of (1) to (21), wherein the layer thickness of the resulting coating material is 1 to 100 nm, preferably 20 to 50 nm.

(23) 前記いずれかの請求項に記載の方法により得られる被覆材。                (23) A covering obtained by the method according to any one of the above claims.

(24) 潤滑性および/または疎水性被覆材である、(23) に記載の被覆材。                (24) The coating material according to (23), which is a lubricating and / or hydrophobic coating material.

(25) 炭素の対酸素原子比率が有機ケイ素前駆体と比較して増加している、および/または酸素の対ケイ素原子比率が有機ケイ素前駆体と比較して減少している、(24) に記載の被覆材。                (25) the carbon to oxygen atomic ratio is increased compared to the organosilicon precursor and / or the oxygen to silicon atomic ratio is decreased compared to the organosilicon precursor; The coating material described.

(26) 当該前駆体がオクタメチルシクロテトラシロキサンであり、当該被覆材が同一PECVD反応条件下でHMDSO製被覆材の密度より高い密度を有する、(23)〜(25) に記載の被覆材。                (26) The coating material according to any one of (23) to (25), wherein the precursor is octamethylcyclotetrasiloxane, and the coating material has a density higher than that of the coating material made of HMDSO under the same PECVD reaction conditions.

(27) 当該被覆材が以下を有する、(24)〜(26) のいずれかに記載の被覆材:
(i) 非被覆表面より低い摩擦抵抗、好ましくは非被覆表面と比較して少なくとも25%減、より好ましくは少なくとも45%減、さらに好ましくは少なくとも60%減の摩擦抵抗。
(27) The coating material according to any one of (24) to (26), wherein the coating material has the following:
(i) Friction resistance lower than uncoated surface, preferably reduced by at least 25%, more preferably reduced by at least 45%, more preferably reduced by at least 60% compared to uncoated surface.

(28) 当該被覆材が以下を有する、(24)〜(27) のいずれかに記載の被覆材:
(i) 非被覆表面より低いぬれ張力、好ましくは20〜72ダイン/cm、より好ましくは30〜60ダイン/cm、より好ましくは30〜40ダイン/cm、好ましくは34ダイン/cmのぬれ張力、および/または
(iv) 非被覆表面より高い疎水性。
(28) The coating material according to any one of (24) to (27), wherein the coating material has the following:
(i) Wetting tension lower than the uncoated surface, preferably 20-72 dynes / cm, more preferably 30-60 dynes / cm, more preferably 30-40 dynes / cm, preferably 34 dynes / cm, And / or
(iv) Higher hydrophobicity than the uncoated surface.

(29)内部表面の少なくとも一部に (23)〜(28) のいずれかに記載の被覆材が使用されている被覆容器であり、好ましくは以下の品目である:
(i) 検体採取管、特に採血管、または
(ii) バイアル、または
(iii) シリンジまたはシリンジ部品、特定のシリンジバレルまたはシリンジプランジャー、または
(iv) 導管、または
(v) キュベット。
(29) A coated container in which the coating material according to any one of (23) to (28) is used on at least a part of the inner surface, preferably the following items:
(i) Sample collection tube, especially a collection tube, or
(ii) vials, or
(iii) a syringe or syringe part, a specific syringe barrel or syringe plunger, or
(iv) a conduit, or
(v) cuvette.

(30) さらに以下を満たす少なくとも1層のSiOx膜(xは1.5〜2.9)からなる、(29) に記載の被覆容器。
(i) 当該被覆材がSiOx層と基板表面の間に位置付する、またはその逆、あるいは、
(ii) 当該被覆材が2層のSiOxの間に位置する、またはその逆、あるいは、
(iii) 当該SiOx層と被覆材がSiwOxCyHzのSiOxへの段階的組成物である、またはその逆。
(30) The coated container according to (29), further comprising at least one SiOx film (x is 1.5 to 2.9) satisfying the following.
(i) the coating is positioned between the SiOx layer and the substrate surface, or vice versa, or
(ii) the covering is located between the two layers of SiOx, or vice versa, or
(iii) The SiOx layer and coating is a graded composition of SiwOxCyHz to SiOx, or vice versa.

(31) 外面にさらに少なくとも1層、好ましくはプラスチックまたはSiOx(xは1.5〜2.9)からなるさらなる遮断層を有する、(29)〜(30) のいずれかに記載の被覆容器。                (31) The coated container according to any one of (29) to (30), further comprising at least one layer, preferably a plastic or SiOx (x is 1.5 to 2.9) on the outer surface.

(32) 内腔に化合物または組成物を含む、好ましくは生物学的に活性な化合物または組成物または生物学的流体を含む、より好ましくは、(i) クエン酸塩またはクエン酸塩を含む組成物、(ii) 特にインスリンまたはインスリン組成物である薬剤、または (iii) 血液または血球を含む、(29)〜(31) のいずれかに記載の被覆容器。                (32) containing a compound or composition in the lumen, preferably containing a biologically active compound or composition or biological fluid, more preferably (i) a composition containing citrate or citrate A coated container according to any one of (29) to (31), comprising: a product, (ii) a drug that is in particular insulin or an insulin composition, or (iii) blood or blood cells.

(33) 請求項1に記載の方法に従い製造されるシリンジバレルであり、当該前駆体がシロキサン、好ましくは単環シロキサン、より好ましくはオクタメチルシクロテトラシロキサンであり、手順 (a) において当該ガス状反応物質内に実質上O2が含まれず、当該プランジャーを前述被覆バレル内で移動させるための力が非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25 %、より好ましくは少なくとも45%、さらにより好ましくは60%減少する、(29)〜(32) のいずれかに記載の被覆容器。                (33) A syringe barrel produced according to the method of claim 1, wherein the precursor is a siloxane, preferably a monocyclic siloxane, more preferably octamethylcyclotetrasiloxane, and in step (a) the gaseous state The reactant is substantially free of O2, and the force to move the plunger within the coated barrel is at least 25%, more preferably at least 45%, even more preferably 60% compared to the uncoated syringe barrel. The coated container according to any one of (29) to (32), which decreases by%.

(34) 総和公式SiwOxCyHz(wは1、xは0.5〜2.4、yは0.6 〜3、およびzは2〜9)を有する被覆材の以下の用途での使用法。
(i) 非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑性被覆材、および/または
(ii) 非被覆表面より疎水性が高い疎水性被覆材。
(34) Use of a coating material having the summation formula SiwOxCyHz (w is 1, x is 0.5 to 2.4, y is 0.6 to 3, and z is 2 to 9) in the following applications.
(i) a lubricious coating with a lower frictional resistance than the uncoated surface, and / or
(ii) A hydrophobic coating material that is more hydrophobic than the uncoated surface.

(35) 当該被覆材が (24)〜(28) のいずれかに記載の被覆材である、(34) の使用法。                (35) The method according to (34), wherein the coating material is the coating material according to any one of (24) to (28).

(36) 当該被覆材が、当該被覆材と接触する化合物または組成成分の沈殿を防止または削減する、特に非被覆表面および/またはHMDSOを前駆体として使用する (1) の方法で被覆された表面と比較して、インスリン沈殿または血液凝固を防止または削減する、(34) または (35) の使用法。                (36) The coating material prevents or reduces precipitation of compounds or composition components that come into contact with the coating material, in particular using an uncoated surface and / or HMDSO as a precursor, a surface coated by the method of (1) Use of (34) or (35) to prevent or reduce insulin precipitation or blood clotting compared to.

(37) 非被覆容器の表面の機械的および/または化学的作用から前述の被覆容器内に含有されるまたは収受される化合物または組成物を保護するための、好ましくは容器内面と接触する化合物または組成成分の沈殿および/または凝固を防止するための、(29)〜(33) のいずれかに記載の被覆容器の使用法。                (37) a compound for protecting the compound or composition contained or received in the aforementioned coated container from the mechanical and / or chemical action of the surface of the uncoated container, preferably in contact with the inner surface of the container or Use of the coated container according to any one of (29) to (33) for preventing precipitation and / or coagulation of the composition component.

(38) 当該化合物または組成物が以下を満たす、(37) に記載の使用法。
(i) 生物学的に活性な化合物または組成物、好ましくは薬剤、より好ましくはインスリンまたはインスリン沈殿を削減/防止するインスリンからなる組成物、または
(ii) 生物学的流体、好ましくは体液、より好ましくは血液または血液凝固および/または血小板活性化を減少または防止する血液分画。
(38) The use according to (37), wherein the compound or composition satisfies the following.
(i) a biologically active compound or composition, preferably a drug, more preferably a composition comprising insulin or insulin that reduces / prevents insulin precipitation, or
(ii) A blood fraction that reduces or prevents biological fluids, preferably body fluids, more preferably blood or blood clotting and / or platelet activation.

(39) 本発明に記載の被覆容器からなる医療/診断キットであり、当該キットはさらに以下からなる:前述被覆容器に包含される薬剤または 診断薬、および/または皮下注射針、両頭針、またはその他の搬送導管、および/または使用説明書。                (39) A medical / diagnostic kit comprising a coated container according to the present invention, the kit further comprising: a drug or diagnostic agent contained in the coated container, and / or a hypodermic needle, a double-ended needle, or Other transport conduits and / or instructions for use.

さらに本発明は以下の実施例を提供する:               The present invention further provides the following examples:

I. 複数処理ステーションと複数容器ホルダーを有する容器処理システム
本発明の一態様に従い容器を被覆するための容器処理システムを提供し、当該システムは第1処理ステーション、第2処理ステーション、容器ホルダー、コンベヤー装備からなる。当該第1処理ステーションは当該容器内面の第1処理、例えば当該容器内面の検査または被覆を実行するために設定される。当該第2処理ステーションは第1処理ステーションから離れて設置され、当該容器内面の第2処理、例えば当該容器内面の検査または被覆、を実行するために設定される。当該容器ホルダーは、第1処理ステーションおよび第2処理ステーションにおいて、容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理(検査および/または被覆および/または検査)するために容器開口部を収受および装填するよう設定される容器ポートからなる。当該コンベヤー装備は、第1処理の後に第2処理ステーションで当該装填済み容器の内面の第2処理を行うたために、第1処理ステーションから第2処理ステーションへと当該容器ホルダーおよび装填済み容器を搬送するよう適合される。
I. Container processing system with multiple processing stations and multiple container holders
In accordance with one aspect of the present invention, a container processing system for coating a container is provided, the system comprising a first processing station, a second processing station, a container holder, and a conveyor equipment. The first processing station is set to perform a first process on the inner surface of the container, for example, an inspection or coating of the inner surface of the container. The second processing station is set apart from the first processing station and is set to perform a second process on the inner surface of the container, for example, inspection or coating of the inner surface of the container. The container holder is adapted to receive and load the container opening at the first processing station and the second processing station for processing (inspecting and / or coating and / or inspecting) the inner surface of the loaded container via the container port. Consists of a container port to be set. The conveyor equipment transports the container holder and the loaded container from the first processing station to the second processing station for the second processing of the inner surface of the loaded container at the second processing station after the first processing. Adapted to do.

容器は本明細書内では広く定義されており、血液、尿、その他の検体を採取/保管する検体管、 生物学的に活性な化合物または組成物を保管/搬送するシリンジ、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を保管するバイアル、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を搬送するカテーテル、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を把持するキュベットが含まれるがそれらに限定されない、あらゆる種類の容器が含まれる。               Containers are broadly defined within this specification and include sample tubes that collect / store blood, urine, and other samples, syringes that store / carry biologically active compounds or compositions, biological materials or biology Vials that store biologically active compounds or compositions, catheters that carry biological materials or biologically active compounds or compositions, and cuvettes that hold biological materials or biologically active compounds or compositions Including, but not limited to, any type of container.

以下で説明する当該容器は、すべて後述の処理システムまたは装置のいずれかにより処理される。言い換えれば、以下で説明する装置または処理システムに関する機能は、方法手順として実施可能であり、したがって処理容器に影響を与える場合がある。               The containers described below are all processed by any of the processing systems or apparatuses described below. In other words, the functions relating to the apparatus or the processing system described below can be implemented as a method procedure and thus may affect the processing vessel.

キュベットは円または四角い断面を有し一端が密閉されている小型管で、プラスチック、ガラス、または溶融水晶(紫外線用)を原料として製造され、分光実験用の検体を把持するよう設計される。最良のキュベットは限りなく透明で、分光学的計測に影響を与える可能性がある不純物を含まない。試験管と同様、キュベットは外気に通じる開口上部またはそれを密閉する蓋を有する場合がある。               A cuvette is a small tube having a circular or square cross section and sealed at one end, and is made of plastic, glass, or molten quartz (for ultraviolet rays) as a raw material and designed to hold a specimen for spectroscopic experiments. The best cuvettes are infinitely clear and free of impurities that can affect spectroscopic measurements. Like a test tube, a cuvette may have an open top that leads to outside air or a lid that seals it.

用語「容器内部」は当該容器の内側の空洞なスペースを指し、 血液または、別の模範的実施例に記載の生物学的に活性な化合物または組成物を保管するのに使用される場合がある。               The term “inside a container” refers to a hollow space inside the container and may be used to store blood or a biologically active compound or composition as described in another exemplary embodiment. .

用語「処理」は、被覆手順および/または検査手順または一連の被覆・検査手順を含む場合があり、例えば第1検査手順、その後の被覆手順、さらにその後の第2、第3、第4検査が挙げられる。当該第2、第3、および第4検査は同時に行われる場合がある。               The term “treatment” may include a coating procedure and / or an inspection procedure or a series of coating and inspection procedures, for example, a first inspection procedure, a subsequent coating procedure, followed by a second, third, fourth inspection. Can be mentioned. The second, third, and fourth inspections may be performed at the same time.

本発明の模範的実施例に従い、当該容器ホルダーは装填済み容器の内腔からガスを吸引するための真空ダクトからなり、当該容器ホルダーは装填済み容器の内部を真空に保つよう適合されているため、当該容器の処理の際に追加の真空チャンバを利用する必要がない。言い換えれば、当該容器ホルダーが装填済み容器と共に、当該容器の内腔を真空状態に保つよう適合される真空チャンバを提供する。この真空状態は、プラズマ促進化学蒸着(PECVD)またはその他の化学蒸着手順といった特定の処理手順において重要である。さらに当該容器内の真空状態は、容器壁の特定の検査、特に当該容器壁の内面の被覆の、例えば壁のガス放出率または壁の導電率の測定による検査を実行するために重要である。               According to an exemplary embodiment of the present invention, the container holder comprises a vacuum duct for drawing gas from the lumen of the loaded container, and the container holder is adapted to keep the interior of the loaded container vacuum. There is no need to use an additional vacuum chamber when processing the vessel. In other words, the container holder together with the loaded container provides a vacuum chamber adapted to keep the container lumen vacuum. This vacuum condition is important in certain processing procedures such as plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) or other chemical vapor deposition procedures. Furthermore, the vacuum state in the container is important for performing a specific inspection of the container wall, in particular an inspection of the coating on the inner surface of the container wall, for example by measuring the outgassing rate of the wall or the conductivity of the wall.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1処理は30秒以下で実施される。また、第2処理も30秒以下で実施される。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first process is performed in 30 seconds or less. The second process is also performed in 30 seconds or less.

したがって、当該容器の迅速な製造を可能にする、当該容器を被覆する容器処理システムが提供される。               Accordingly, a container processing system for coating the container is provided that allows for rapid manufacture of the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1処理および/または第2処理は、容器の内面の検査と当該内面の被覆からなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first treatment and / or the second treatment comprises an inspection of the inner surface of the container and a coating on the inner surface.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器ホルダーはガスを当該容器内部へと搬送するためのガス吸入ポートからなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container holder comprises a gas inlet port for transporting gas into the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該システムは、被覆材に欠陥が検出される場合に自動的に当該容器を再処理するよう適合される。例えば、当該容器処理システム、特に当該容器ホルダーは、例えば光学検出器、圧力プローブ、ガス検出器、電気測定のための電極など、さまざまな検出装置からなる場合がある。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the system is adapted to automatically reprocess the container when a defect is detected in the dressing. For example, the container processing system, in particular the container holder, may consist of various detection devices, such as optical detectors, pressure probes, gas detectors, electrodes for electrical measurements.

さらに、本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器処理システム、例えば1つ以上の処理ステーションは、当該容器を当該容器ホルダーへと搬送するおよび/または当該容器を当該容器ホルダーから解除する1つ以上の把持部からなる。               Furthermore, in accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container processing system, eg, one or more processing stations, transports the container to the container holder and / or releases the container from the container holder 1 It consists of two or more gripping parts.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器ホルダーはガスを当該容器内部へと搬送するためのガス吸入ポートからなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container holder comprises a gas inlet port for transporting gas into the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器処理システムは、被覆材に欠陥が検出される場合に自動的に当該容器を再処理するよう適合される。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container processing system is adapted to automatically reprocess the container if a defect is detected in the dressing.

当該容器内腔へと搬送されるガスは、当該容器内面のPECVD被覆のために使用される場合がある。               The gas delivered to the vessel lumen may be used for PECVD coating of the vessel inner surface.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1処理および/または第2処理は、当該容器の内面の被覆からなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first treatment and / or the second treatment comprises a coating on the inner surface of the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1処理ステーションおよび/または第2処理ステーションは、当該容器の内面を被覆するためのPECVD装置からなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first processing station and / or the second processing station comprises a PECVD apparatus for coating the inner surface of the vessel.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該システムはさらに、当該装填済み容器の少なくとも上部を包囲する外部電極からなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the system further comprises an external electrode surrounding at least the top of the loaded container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器ホルダーは、当該容器内に対向電極を提供する導電性プローブからなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container holder comprises a conductive probe that provides a counter electrode within the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1処理および/または第2処理は、欠陥検出のための容器内面の検査からなる。               According to another exemplary embodiment of the present invention, the first process and / or the second process consists of inspecting the inner surface of the container for defect detection.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該システムはさらに、第1処理ステーションおよび/または第2処理ステーションの容器ポート経由で当該容器へと挿入されるよう適合される、欠陥検出のための容器内面の検査のための第1検出器からなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the system is further adapted to be inserted into the container via the container port of the first processing station and / or the second processing station for detecting defects. Consists of a first detector for inner surface inspection.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器処理システムはさらに、当該容器の外側にある、欠陥検出のための容器内面の検査のための第2検出器からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container processing system further comprises a second detector for inspection of the container inner surface for defect detection outside the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1検出器および/または第2検出器は当該容器ホルダーに装備される。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first detector and / or the second detector are mounted on the container holder.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器ホルダーは、当該容器成形のためのモールドからなる。                According to another exemplary embodiment of the present invention, the container holder comprises a mold for forming the container.

本発明の別の態様に従い、血液を保存するための血液管、生物学的に活性な化合物または組成物を保存するためのシリンジ、生物学的に活性な化合物または組成物を保存するためのバイアル、生物学的に活性な化合物または組成物を搬送するためのカテーテル、または生物学的に活性な化合物または組成物をピペットするためのピペットを製造するための、上述および後述の容器処理システムの使用法を提示する。                In accordance with another aspect of the present invention, a blood tube for storing blood, a syringe for storing biologically active compound or composition, a vial for storing biologically active compound or composition Use of the container treatment system described above and below to produce a catheter for delivering a biologically active compound or composition, or a pipette for pipetting a biologically active compound or composition Present the law.

当該容器処理システムはまた容器の検査のために適合される場合があり、特に、欠陥検出のための容器の第1検査、当該容器内部への第1被覆材の塗布、欠陥検出のための当該被覆容器内面の第2検査を実行するよう適合される。さらに当該システムは、さまざまな検査中に取得されたデータを評価するよう適合され、当該第2検査および当該データ評価にかかかる時間は30秒未満である。                The container handling system may also be adapted for the inspection of containers, in particular the first inspection of containers for defect detection, the application of a first coating material inside the container, the detection of defects Adapted to perform a second inspection of the inner surface of the coated container. Furthermore, the system is adapted to evaluate data acquired during various tests, and the time taken for the second test and the data evaluation is less than 30 seconds.

本発明の別の態様に従い、容器を被覆および検査するための容器処理システムを提供し、当該システムは、欠陥検出のための容器の第1検査、当該容器内部への第1被覆材の塗布、欠陥検出のための当該被覆容器内面の第2検査、検査中に取得されたデータの評価を実行するよう設定される処理ステーション装備からなり、当該第2検査およびデータ評価にかかかる時間は30秒未満である。                In accordance with another aspect of the present invention, a container processing system for coating and inspecting a container is provided, the system comprising: a first inspection of a container for defect detection; application of a first coating material inside the container; Consists of a processing station equipped to perform a second inspection of the inner surface of the coated container for defect detection and evaluation of data acquired during the inspection, and the time required for the second inspection and data evaluation is 30 seconds. Is less than.

第1被覆材の塗布は第1処理または第2処理としても見なされ、被覆容器内面の第2検査の実行は第2処理として見なされる場合がある。                The application of the first coating material may be regarded as the first process or the second process, and the execution of the second inspection of the inner surface of the coated container may be regarded as the second process.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該処理ステーション装備は、第1検査の実行、当該装填済み容器の内面への第1被覆材の塗布、および第2検査を実行するための第1処理ステーションからなる。さらに当該処理ステーション装備は、検査ために当該容器開口部を収受し装填するよう、および第1処理ステーションにおいて容器ポート経由で当該装填済み容器の内面に第1被覆材を塗布するよう設定される、容器ポートからなる容器ホルダーからなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the processing station equipment includes a first process for performing a first test, applying a first coating to the inner surface of the loaded container, and performing a second test. It consists of a station. Further, the processing station equipment is set to receive and load the container opening for inspection and to apply the first coating material to the inner surface of the loaded container via the container port at the first processing station, Consists of a container holder consisting of a container port.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該処理ステーション装備はさらに、第1処理ステーションから離れて設置され、かつ第2検査の実行、第2被覆材の塗布、第2被覆後の第3検査の実行のために設定される第2処理ステーションからなる。さらに当該容器処理システムは、第1被覆材の塗布後に、第2処理ステーションで当該装填済み容器の内面に第2被覆材を塗布するたために、第1処理ステーションから第2処理ステーションへと、当該容器ホルダーおよび装填済み容器を搬送するためのコンベヤー装備からなる。当該容器ホルダーの当該容器ポートは、被覆のために当該容器開口部を収受し装填するよう、および第1処理ステーションおよび第2処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を検査するよう設定される。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the processing station equipment is further installed remotely from the first processing station, and the second inspection is performed, the second coating material is applied, and the third inspection after the second coating. It consists of a second processing station set up for execution. Further, the container processing system applies the second coating material to the inner surface of the loaded container at the second processing station after the application of the first coating material. Consists of a container holder and conveyor equipment for transporting loaded containers. The container port of the container holder is set to receive and load the container opening for coating, and to inspect the inner surface of the loaded container via the container port at the first and second processing stations Is done.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器ホルダーは装填済み容器内部からガスを吸引するための真空ダクトからなり、当該容器ホルダーは装填済み容器の内部を真空に保つよう適合されているため、当該容器の被覆および検査の際に追加の真空チャンバを利用する必要がない。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container holder comprises a vacuum duct for aspirating gas from within the loaded container, and the container holder is adapted to maintain a vacuum inside the loaded container. There is no need to utilize an additional vacuum chamber for coating and inspection of the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、各検査は30秒以下で実施される。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, each test is performed in 30 seconds or less.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器処理システムは、被覆材に欠陥が検出される場合に自動的に当該容器を再処理するよう適合される。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container processing system is adapted to automatically reprocess the container if a defect is detected in the dressing.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1処理ステーションおよび/または第2処理ステーションは、当該容器内面の被覆を塗布するためのPECVD装置からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first processing station and / or the second processing station comprises a PECVD apparatus for applying a coating on the inner surface of the vessel.

本発明の別の模範的実施例に従い、第1被覆材は遮断性被覆材であり、当該システムは遮断層の有無を確認するために適合されている。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first dressing is a barrier coating and the system is adapted to check for the presence of a barrier layer.

本発明の別の模範的実施例に従い、第2被覆材は潤滑性被覆材であり、当該システムは潤滑性被覆材(すなわち潤滑層)の有無を確認するために適合されている。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the second dressing is a lubricity dressing and the system is adapted to check for the presence of a lubricity dressing (ie, a lubrication layer).

本発明の別の模範的実施例に従い、第1被覆材は遮断性被覆材であり、第2被覆材は潤滑性被覆材であり、当該システムは遮断層および潤滑層の有無を確認するために適合されている。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the first coating material is a barrier coating material, the second coating material is a lubricity coating material, and the system is used to confirm the presence of the barrier layer and the lubricating layer. Have been adapted.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該システムは、潤滑層および潤滑層の有無を、少なくともシックスシグマレベルの確実性で確認するために適合されている。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the system is adapted to verify the lubrication layer and the presence or absence of the lubrication layer with at least six sigma level certainty.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該第1検査および/または当該第2検査は、当該被覆容器からのガス放出率の測定、被覆材塗布の光学モニタリングの実行、当該被覆容器内面の光学パラメータの測定、および当該被覆容器の電気性質の測定の少なくとも1つからなる。                According to another exemplary embodiment of the present invention, the first inspection and / or the second inspection are performed by measuring a gas release rate from the coating container, performing optical monitoring of coating material application, and performing optical monitoring on the inner surface of the coating container. It consists of at least one of measurement of parameters and measurement of electrical properties of the coated container.

対応する測定データはその後、プロセッサにより分析可能である。                The corresponding measurement data can then be analyzed by the processor.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該処理システムはさらに、ガス放出率を測定するための第1検出器 、および/または拡散率率を測定するための第2検出器、および/または光学パラメータを測定するための第3検出器、および/または電気パラメータを測定するための第4検出器からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the processing system further includes a first detector for measuring the outgassing rate and / or a second detector for measuring the diffusivity rate, and / or optical. It consists of a third detector for measuring parameters and / or a fourth detector for measuring electrical parameters.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該第1被覆材および/または当該第2被覆材は100nm未満の層厚である。                According to another exemplary embodiment of the present invention, the first coating material and / or the second coating material has a layer thickness of less than 100 nm.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該処理システムはさらに、検査中に取得されたデータを評価するためのプロセッサからなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the processing system further comprises a processor for evaluating the data acquired during the examination.

本発明の一態様は、第1処理ステーション、第2処理ステーション、多数の容器ホルダー、およびコンベヤーからなる、容器処理システムである。当該第1処理ステーションは、開口部および内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。当該第2処理ステーションは、当該第1処理ステーションから離れて設置され、開口部および内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。               One aspect of the present invention is a container processing system comprising a first processing station, a second processing station, a number of container holders, and a conveyor. The first processing station is configured to process a container having a wall defining an opening and an inner surface. The second processing station is set apart from the first processing station and is configured to process a container having a wall defining an opening and an inner surface.

一部の、随意にすべての当該容器ホルダーは、第1処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、当該容器開口部を収受し装填するよう設定される容器ポートを含む。当該コンベヤーは、第2処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、第1処理ステーションから第2処理ステーションへと一連の当該容器ホルダーおよび装填済み容器を搬送するよう設定される。               Some, optionally all such container holders have a container port configured to receive and load the container opening for processing the inner surface of the loaded container via the container port at the first processing station. Including. The conveyor is configured to transport a series of the container holders and loaded containers from the first processing station to the second processing station for processing the inner surface of the loaded containers via the container port at the second processing station. Is done.

II. 容器ホルダー
II.A. 密閉装備非記載の容器ホルダー
当該容器内面を被覆し欠陥がないか検査する間、および当該容器を容器処理システムの第1処理ステーションから第2処理ステーションへと搬送する間、当該器処理システムの携帯型容器ホルダーを容器を把持するよう適合させる場合があり、当該容器ホルダーは、第1処理ステーションおよび第2処理ステーションにおいて、容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために容器開口部を装填するよう設定される容器ポートからなる。
II. Container holder
II.A. Container holder without sealing equipment
While holding the inner surface of the container and inspecting it for defects, and while transporting the container from the first processing station to the second processing station of the container processing system, hold the container in the portable container holder of the container processing system. The container holder is configured to load a container opening for processing the inner surface of the loaded container via the container port at the first processing station and the second processing station. Consists of.

当該携帯型容器ホルダーはさらに、本発明の別の模範的実施例に従い、外気供給の受入または放出のための第2ポート、および容器ポート上の装填済み容器の開口部と第2ポートの間のガス通気用ダクトからなる。                The portable container holder is further in accordance with another exemplary embodiment of the present invention, a second port for receiving or discharging an outside air supply, and between the opening of the loaded container on the container port and the second port. It consists of a gas ventilation duct.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーの重量は2.25kg未満である。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the weight of the portable container holder is less than 2.25 kg.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーはさらに装填済み容器内部から真空ポート経由でガスを吸引するための真空ダクトと外部真空ポートからなり、当該容器ホルダーは装填済み容器の内部を真空に保つよう適合されているため、当該容器の処理の際に追加の真空チャンバを利用する必要がない。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the portable container holder further comprises a vacuum duct for drawing gas from the inside of the loaded container via a vacuum port and an external vacuum port, the container holder being mounted on the loaded container. Because it is adapted to keep the interior vacuum, there is no need to utilize an additional vacuum chamber when processing the vessel.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーはさらに装填済み容器内部から真空ポート経由でガスを吸引するための真空ダクトと外部真空ポートからなり、当該容器ホルダーは装填済み容器の内部を真空に保つよう適合されているため、当該容器の処理の際に追加の真空チャンバを利用する必要がない。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the portable container holder further comprises a vacuum duct for drawing gas from the inside of the loaded container via a vacuum port and an external vacuum port, the container holder being mounted on the loaded container. Because it is adapted to keep the interior vacuum, there is no need to utilize an additional vacuum chamber when processing the vessel.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該外部真空ポートはまた、装填済み容器内部へとガスを搬送するため真空ポート内に包含される、ガス吸入ポートを内蔵する。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the external vacuum port also incorporates a gas inlet port that is included within the vacuum port for transporting gas into the loaded container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器処理は、装填済み容器の内面の被覆からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container treatment consists of a coating on the inner surface of the loaded container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該容器ホルダーの原料は本質的に熱可塑性素材である。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container holder material is essentially a thermoplastic material.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーはさらに、当該容器シリンダー状の壁を収受するためのシリンダー状の内面、当該シリンダー状内面の内側および同軸方向にある第1溝付き釘溝、および装填済み容器と容器ホルダーの間の密閉部を提供する第1溝付き釘溝内に配置される第1オーリングからなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the portable container holder further includes a cylindrical inner surface for receiving the container cylindrical wall, a first groove in the inner and inner coaxial direction of the cylindrical inner surface. A nail groove and a first o-ring disposed in a first grooved nail groove that provides a seal between the loaded container and the container holder.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーはさらに、装填済み容器開口端が当接可能である丸いシリンダー状内面に隣接する、放射状に伸延する当接部からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the portable container holder further comprises a radially extending abutment adjacent to a round cylindrical inner surface against which the loaded container open end can abut.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーはさらに、当該シリンダー状内面の内側および同軸方向にあり第1溝付き釘溝から軸方向に乖離する第2溝付き釘溝からなる。さらに、当該容器ホルダーは、装填済み容器と容器ホルダーの間の密閉部を提供する、第2溝付き釘溝内に配置される第2オーリングからなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the portable container holder further comprises a second grooved nail groove that is axially spaced from the first grooved nail groove inside and coaxially with the cylindrical inner surface. . In addition, the container holder comprises a second O-ring disposed in a second grooved nail groove that provides a seal between the loaded container and the container holder.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーはさらに、容器ポート経由で容器内腔を取り調べ、装填済み容器内面の欠陥を検査するための第1検出器からなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the portable container holder further comprises a first detector for interrogating the container lumen via the container port and inspecting for defects on the inner surface of the loaded container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該携帯型容器ホルダーは、当該容器成形のためのモールドからなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the portable container holder comprises a mold for forming the container.

本発明の別の模範的実施例に従い、容器被覆のための当該容器処理システムは、前述および後述の容器ホルダーからなる。               In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the container processing system for container coating comprises the container holder described above and below.

本発明の別の態様に従い、当該携帯型容器ホルダーは、容器ポート、第2ポート、ダクト、搬送可能筺体を包含する。当該容器ポートは、相互に通過可能な状態で容器開口部を装填するよう設定される。当該第2ポートは、外気供給を受入または放出するよう設定される。当該ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器開口部と第2ポートの間で1種以上のガスを通気させるよう設定される。当該容器ポート、第2ポート、およびダクトは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着される。随意に、当該携帯型容器ホルダーの重量は5ポンド未満である。               According to another aspect of the present invention, the portable container holder includes a container port, a second port, a duct, and a transportable casing. The container ports are set to load the container openings in a state where they can pass each other. The second port is set to accept or discharge the outside air supply. The duct is set to vent one or more gases between the container opening loaded on the container port and the second port. The container port, the second port, and the duct are attached to the transportable casing in a substantially fixed state. Optionally, the portable container holder weighs less than 5 pounds.

本発明の別の態様は、容器ポート、真空ダクト、真空ポート、搬送可能筺体を包含する当該携帯型容器ホルダーである。当該容器ポートは、密閉された相互に通過可能な状態で容器開口部を収受するよう設定される。当該真空ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器内部から容器ポート経由でガスを吸引するよう設定される。当該真空ポートは、当該真空ダクトと外部真空源の間の通過が可能となるよう設定される。当該真空源は、真空ダクトより低圧のポンプまたは貯留層またはバラストタンクである場合がある。当該容器ポート、真空ダクト、および真空ポートは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着される。随意に、当該携帯型容器ホルダーの重量は5ポンド未満である。               Another aspect of the present invention is the portable container holder including a container port, a vacuum duct, a vacuum port, and a transportable casing. The container port is set to receive the container opening in a sealed and mutually passable state. The vacuum duct is set to suck gas from the inside of the container loaded on the container port via the container port. The vacuum port is set to allow passage between the vacuum duct and an external vacuum source. The vacuum source may be a pump or reservoir or ballast tank that is at a lower pressure than the vacuum duct. The container port, the vacuum duct, and the vacuum port are attached to the transportable casing in a substantially fixed state. Optionally, the portable container holder weighs less than 5 pounds.

II.B. 密閉装備を含む容器ホルダー。
さらなる本発明の別の態様は、開口端に隣接する実質上シリンダー状の壁を有する容器の開口端を収受するための容器ホルダーである。当該容器ホルダーは通常、シリンダー状の内面(例えば丸みを帯びたシリンダー状内面)、溝付き釘溝、およびオーリングを有する。本明細書内において、丸い/円形の開口部または断面を有すると定義される容器は単に模範例であると理解され、開示または請求項の範囲を制限するものではない。当該容器が非円形の開口部または断面を有する(当該容器がキュベットである場合によく見られる)場合、当該容器ホルダーの「丸い」シリンダー状の表面は非円形である場合があり、別途具体的に必要とされる場合を除き、ガスケットなどの非円形封止素子または非円形断面を密閉するよう成形される密閉部を使用して密閉可能である。また、「シリンダー状」の表現は円形断面のシリンダーを必要とするものではなく、その他の断面、例えば角の丸い角型などを包含する。
II.B. Container holder including hermetically sealed equipment.
Yet another aspect of the present invention is a container holder for receiving an open end of a container having a substantially cylindrical wall adjacent to the open end. The container holder typically has a cylindrical inner surface (eg, a rounded cylindrical inner surface), a grooved nail groove, and an O-ring. Within this document, containers defined as having round / circular openings or cross-sections are understood to be merely exemplary and are not intended to limit the scope of the disclosure or the claims. If the container has a non-circular opening or cross-section (often seen when the container is a cuvette), the “round” cylindrical surface of the container holder may be non-circular, specifically Can be sealed using a non-circular sealing element such as a gasket or a seal shaped to seal the non-circular cross section. Further, the expression “cylindrical” does not require a cylinder having a circular cross section, but includes other cross sections, such as a square shape with rounded corners.

通常シリンダー状である内面は、当該容器のシリンダー状壁を収受するサイズである。               The inner surface, usually cylindrical, is sized to receive the cylindrical wall of the container.

当該溝付き釘溝は、通常シリンダー状である内面の内側および同軸方向に付けられている。当該第1溝付き釘溝は、通常シリンダー状である内面にある開口部、および通常シリンダー状である内面から放射状に乖離する下部壁を有する。               The grooved nail groove is attached to the inside and the coaxial direction of the inner surface which is usually cylindrical. The first grooved nail groove has an opening on the inner surface that is usually cylindrical and a lower wall that is radially separated from the inner surface that is usually cylindrical.

当該オーリングは、第1溝付き釘溝に装着される。当該オーリングは、第1溝付き釘溝と関連させて、当該開口部を通って通常放射状に伸延するサイズであり、通常シリンダー状である内面により収受される容器により外側に放射状に押下される。本装備は、当該容器と第1溝付き釘溝の間に密閉部を成形する。               The O-ring is attached to the first grooved nail groove. The O-ring is sized to extend radially through the opening in relation to the first grooved nail groove and is pushed radially outward by a container received by the inner surface, which is usually cylindrical. . This equipment forms a sealed part between the container and the first grooved nail groove.

本発明の別の態様に従い、容器を被覆および検査する方法を提供し、欠陥検出のための当該容器内面の第1検査を実行した後に、当該容器内面に被覆材を塗布する。その後、欠陥検出のための当該被覆容器内面の第2検査を実行し、第1および第2検査中に取得されたデータを評価する。当該第2検査および当該データ評価にかかかる時間は30秒未満である。                According to another aspect of the present invention, a method for coating and inspecting a container is provided, and after performing a first inspection of the inner surface of the container for defect detection, a coating material is applied to the inner surface of the container. Thereafter, a second inspection is performed on the inner surface of the coating container for defect detection, and data acquired during the first and second inspections is evaluated. The time required for the second examination and the data evaluation is less than 30 seconds.

本発明の別の態様に従い、容器を処理する方法を提供し、当該容器開口部を容器ホルダーの容器ポート上に収受および装填した後に当該容器ポート経由で当該容器内面を被覆する。その後、当該容器ポート経由で被覆材の欠陥を検査する。その後、当該容器を第1処理ステーションから第2処理ステーションへと搬送し、被覆、検査、搬送の間、当該装填済み容器を当該容器ホルダーにより把持する。                In accordance with another aspect of the present invention, a method of treating a container is provided, wherein the container inner surface is coated via the container port after receiving and loading the container opening onto the container port of the container holder. Thereafter, the coating material is inspected for defects via the container port. Thereafter, the container is transported from the first processing station to the second processing station, and the loaded container is held by the container holder during coating, inspection, and transportation.

III. 容器の搬送方法 - 容器ホルダーに装填済みの容器の処理
III.A. 処理ステーションへの容器ホルダーの搬送
本発明の別の態様は、容器の処理方法である。容器処理のための第1処理ステーションおよび第1処理ステーションから離れた第2処理ステーションを用意する。開口部および内面を定義する壁を有する容器を用意する。容器ポートからなる容器ホルダーを用意する。当該容器の開口部を容器ポート上に装填する。当該装填済み容器の内面を、第1処理ステーションにおいて容器ポート経由で処理する。当該容器ホルダーおよび装填済み容器は、第1処理ステーションから第2処理ステーションへと搬送する。当該装填済み容器の内面を、その後、第2処理ステーションにおいて容器ポート経由で処理する。
III. Container Transport Method-Processing of Containers Loaded in Container Holder
III.A. Transport of container holder to processing station
Another aspect of the present invention is a method for treating a container. A first processing station for container processing and a second processing station remote from the first processing station are prepared. A container having a wall defining an opening and an inner surface is provided. Prepare a container holder consisting of container ports. The container opening is loaded onto the container port. The inner surface of the loaded container is processed via the container port at the first processing station. The container holder and loaded container are transported from the first processing station to the second processing station. The inner surface of the loaded container is then processed via the container port at the second processing station.

III.B. 容器ホルダーへの処理機器の搬送またはその逆。
本発明の別の態様は、複数部品を含む容器の処理方法である。容器処理のための第1処理機器および第2処理機器を用意する。開口部および内面を定義する壁を有する容器を用意する。容器ポートからなる容器ホルダーを用意する。当該容器の開口部を容器ポート上に装填する。
III.B. Transport of processing equipment to the container holder or vice versa.
Another aspect of the present invention is a method for treating a container including a plurality of parts. Prepare a first processing device and a second processing device for container processing. A container having a wall defining an opening and an inner surface is provided. Prepare a container holder consisting of container ports. The container opening is loaded onto the container port.

当該第1処理機器を移動させ、容器ホルダーと動作可能に係合させる、またはその逆を行う。当該装填済み容器の内面を、第1処理機器を使用して容器ポート経由で処理する。               The first processing device is moved and operatively engaged with the container holder or vice versa. The inner surface of the loaded container is processed via the container port using the first processing equipment.

当該第2処理機器を移動させ、容器ホルダーと動作可能に係合させる、またはその逆を行う。当該装填済み容器の内面を、第2処理機器を使用して容器ポート経由で処理する。               The second processing device is moved and operatively engaged with the container holder or vice versa. The inner surface of the loaded container is processed via the container port using a second processing device.

III.C. 処理ステーションへと/から管を搬送するための把持部の使用
さらなる本発明の別の態様は、複数手順を含む、第1容器のプラズマ促進化学蒸着(PECVD)法である。開口端、閉口端、内面を有する第1容器を用意する。第1把持部は少なくとも、当該第1容器の閉口端を選択的に把持および解除するよう設定する。当該第1容器の閉口端を第1把持部で把持し、第1把持部を利用しながら、第1容器開口端を装填するよう設定される容器ホルダー付近へと搬送する。その後、第1把持部を利用して第1容器を軸方向に前進させ、その開口端を容器ホルダー上に装填し、当該容器ホルダーと当該第1容器内の間の通過密閉を確立する。
III.C. Use of grips to transport tubes to / from the processing station
Yet another aspect of the present invention is a first vessel plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method comprising multiple procedures. A first container having an open end, a closed end, and an inner surface is prepared. The first gripper is set to selectively grip and release the closed end of the first container. The closed end of the first container is gripped by the first gripping part, and conveyed to the vicinity of the container holder set to be loaded with the first container opening end while using the first gripping part. Thereafter, the first container is advanced in the axial direction using the first gripping portion, the opening end thereof is loaded on the container holder, and the passage seal between the container holder and the first container is established.

当該第1容器内に少なくとも1種類のガス状反応物質を当該容器ホルダーを通して導入する。第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、プラズマを第1容器内で生成する。               At least one gaseous reactant is introduced into the first container through the container holder. Plasma is generated in the first container under conditions effective to mold a reaction product of the reactant on the inner surface of the first container.

その後容器ホルダー上の第1容器の装填を解除し、第1把持部または別の把持部を利用しながら、当該第1容器を当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させる。その後、当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させるのに使用した把持部から、第1容器を解除する。               Thereafter, the loading of the first container on the container holder is released, and the first container is moved away from the container holder in the axial direction while using the first holding part or another holding part. Thereafter, the first container is released from the grip used to move away from the container holder in the axial direction.

IV. 容器製造のためのPECVD装置
IV.A. 容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むPECVD装置
本発明の別の態様に従い、容器の内面を被覆するためのプラズマ促進化学蒸着(PECVD)装置を提供する。当該PECVD装置は容器処理システムの一部である場合があり、前述および後述のホルダーといった容器ホルダーからなり、当該容器ホルダーは、容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために第1容器開口部を収受し装填するよう設定される容器ポートからなる。さらに当該PECVD装置は、当該装填済み容器の内腔内に配置される内部電極、および当該装填済み容器を収受するための内部部位を有する外部電極からなる。さらに、当該容器内でプラズマを生成するための電力供給装置を提供し、そこで装填済み容器および容器ホルダーがプラズマ反応チャンバを定義するため適合される。
IV. PECVD equipment for container production
IV.A. PECVD equipment including vessel holder, internal electrode, and vessel as reaction chamber
In accordance with another aspect of the present invention, a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) apparatus for coating the inner surface of a container is provided. The PECVD apparatus may be part of a container processing system and consists of a container holder such as the holder described above and below, the container holder opening the first container for processing the inner surface of the loaded container via the container port It consists of a container port set to receive and load parts. Further, the PECVD apparatus includes an internal electrode disposed in the lumen of the loaded container and an external electrode having an internal part for receiving the loaded container. In addition, a power supply for generating plasma within the vessel is provided, where the loaded vessel and vessel holder are adapted to define a plasma reaction chamber.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該PECVD装置はさらに、当該容器ポートおよび当該装填済み容器が適合され真空チャンバが定義される、当該装填済み容器内腔を真空にするための真空源からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the PECVD apparatus further includes a vacuum source for evacuating the loaded container lumen, wherein the container port and the loaded container are adapted and a vacuum chamber is defined. Become.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該PECVD装置はさらに、反応性ガス源から当該容器の内腔へと反応性ガスを供給するガス供給装置からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the PECVD apparatus further comprises a gas supply device that supplies a reactive gas from a reactive gas source to the lumen of the vessel.

請求本発明の別の模範的実施例に従い、当該ガス供給装置は当該内部電極の遠位部に位置する。               In accordance with another exemplary embodiment of the claimed invention, the gas supply device is located at a distal portion of the internal electrode.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該内部電極は、装填済み容器へと同心円状に伸延するよう位置付けられる遠位部を有するプローブである。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the internal electrode is a probe having a distal portion positioned to extend concentrically into a loaded container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該外部電極はシリンダー状の部位を有し、当該装填済みへと同心円状に伸延する。                According to another exemplary embodiment of the present invention, the external electrode has a cylindrical portion and extends concentrically to the loaded state.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該PECVD装置はさらに、当該容器の閉口端を選択的に把持しおよび解除する、および当該容器の閉口端を把持しながら当該容器を当該容器ホルダー付近へと搬送する把持部からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the PECVD apparatus further selectively grips and releases the closed end of the container, and moves the container closer to the container holder while holding the closed end of the container. And a gripping section for transporting the sheet.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該PECVD装置はさらに、実質上一切ホロー陰極プラズマを含まないプラズマを当該容器内腔に生成するよう適合される。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the PECVD apparatus is further adapted to generate a plasma in the vessel lumen that is substantially free of any hollow cathode plasma.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該PECVD装置はさらに、容器ポート経由で容器内腔を取り調べ、当該容器内面の欠陥を検査するための検出器からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the PECVD apparatus further comprises a detector for interrogating the vessel lumen via the vessel port and inspecting the vessel inner surface for defects.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該PECVD装置はさらに、反応性ガスを容器内腔から処理容器へと流入させるため、制限的第2容器開口部と接続される処理容器開口部を有する処理容器からなる。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the PECVD apparatus further includes a processing vessel opening connected to the restrictive second vessel opening for allowing reactive gas to flow from the vessel lumen into the processing vessel. It consists of a processing vessel.

請求本発明の別の模範的実施例に従い、当該内部電極の遠位端は、当該装填済み容器の第1大開口部から制限的第2開口部への距離の半分未満の箇所に位置する。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the distal end of the internal electrode is located at less than half the distance from the first large opening to the restrictive second opening of the loaded container.

本発明の別の模範的実施例に従い、当該内部電極の遠位端は、当該装填済み容器の第1大開口部の外に位置する。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the distal end of the internal electrode is located outside the first large opening of the loaded container.

さらに、容器の内面を被覆す方法を提供し、装填済み容器の内面を処理するため、当該容器開口部を容器ホルダーの容器ポート上に収受および装填する。その後、当該内部電極を当該装填済み容器の内腔内に配置した後にガス供給装置を内部電極の遠位部に位置付ける。さらに、当該装填済み容器を外部電極の内部部位へと収受する。当該容器ホルダー内の当該装填済み容器を、プラズマ反応チャンバを定義するよう適合させる。                In addition, a method of coating the inner surface of the container is provided, and the container opening is received and loaded onto the container port of the container holder to treat the inner surface of the loaded container. Thereafter, the gas supply device is positioned at the distal portion of the internal electrode after the internal electrode is placed in the lumen of the loaded container. Further, the loaded container is received in the internal part of the external electrode. The loaded container in the container holder is adapted to define a plasma reaction chamber.

特に、当該容器ポートと当該装填済み容器により真空チャンバが定義される場合があり、装填済み容器の内腔からガスを吸引して被覆時の外部真空チャンバの利用必要性が除外される。               In particular, a vacuum chamber may be defined by the container port and the loaded container, eliminating the need to use an external vacuum chamber during coating by aspirating gas from the lumen of the loaded container.

さらなる手順において、当該容器内腔でプラズマが生成され、装填済み容器の内面上に被覆材が堆積される。                In a further procedure, a plasma is generated in the vessel lumen and a dressing is deposited on the inner surface of the loaded vessel.

本発明の別の模範的実施例に従い、処理容器開口部を制限的容器開口部と接続し、反応性ガスの容器内腔から処理容器への流入を可能にする。                In accordance with another exemplary embodiment of the present invention, the process vessel opening is connected to the restrictive vessel opening to allow the reactive gas to enter the process vessel from the vessel lumen.

本発明の別の態様に従い、血液を保存するための血液管、生物学的に活性な化合物または組成物を保存するためのシリンジ、生物学的に活性な化合物または組成物を保存するためのバイアル、生物学的に活性な化合物または組成物を搬送するためのカテーテル、または生物学的に活性な化合物または組成物を把持するためのキュベットを製造するための、上述および後述のPECVD装置の使用法を提示する。                In accordance with another aspect of the present invention, a blood tube for storing blood, a syringe for storing biologically active compound or composition, a vial for storing biologically active compound or composition Use of the PECVD apparatus described above and below for the manufacture of a catheter for delivering a biologically active compound or composition, or a cuvette for grasping a biologically active compound or composition Present.

本発明の別の態様は、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給装置からなるPECVD装置である。               Another aspect of the present invention is a PECVD apparatus comprising a container holder, internal electrodes, external electrodes, and a power supply device.

当該容器ホルダーは、処理のために容器を装填位置に収受するためのポートを有する。当該内部電極は 容器ホルダー上に装填済みの容器内に収受されるよう位置付けられる。当該外部電極は、容器ホルダー上に装填済みの容器を収受するよう位置付けられる内部部位を有する。当該電力供給装置は内部および外部電極へと電流を交流させ、当該容器ホルダーに装填済みの容器内にプラズマを生成する。当該容器はプラズマ反応チャンバを定義する。               The container holder has a port for receiving the container in a loading position for processing. The internal electrode is positioned to be received in a container already loaded on the container holder. The external electrode has an internal portion that is positioned to receive a loaded container on a container holder. The power supply device exchanges current with the internal and external electrodes to generate plasma in a container already loaded in the container holder. The vessel defines a plasma reaction chamber.

また本発明特定の別の態様は、前段落で説明した当該PECVD装置であり、必ずしも真空源をを含まないガス排出管を提供し、当該ポートに装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。               Another specific aspect of the present invention is the PECVD apparatus described in the previous paragraph, which provides a gas exhaust pipe that does not necessarily include a vacuum source, and transfers gas to / from the inside of a container already loaded in the port. To define a closed chamber.

IV.B. 被覆ステーションへと/から管を搬送するための把持部を使用するPECVD装置
本発明の別の態様は、開口端、閉口端、内腔を有する第1容器のPECVD処理のための装置である。当該装置は、容器ホルダー、第1把持部、容器ホルダー上の装填部、反応物質供給装置、プラズマ生成装置、および容器解除装置からなる。
IV.B. PECVD equipment using grips to transport tubes to / from the coating station
Another aspect of the present invention is an apparatus for PECVD processing of a first container having an open end, a closed end, and a lumen. The apparatus includes a container holder, a first gripping part, a loading part on the container holder, a reactant supply device, a plasma generation device, and a container releasing device.

当該容器ホルダーは、容器の開口端を装填するよう設定される。第1把持部は当該容器の閉口端を選択的に把持および解除し、および当該容器の閉口端を把持しながら当該容器を当該容器ホルダー付近へと搬送するよう設定される。当該容器ホルダーは、当該容器ホルダーと当該第1容器の内腔の間の通過密閉を確立するよう設定される装填部を有する。               The container holder is set to load the open end of the container. The first gripping unit is set to selectively grip and release the closed end of the container and to transport the container to the vicinity of the container holder while gripping the closed end of the container. The container holder has a loading portion that is set to establish a passing seal between the container holder and the lumen of the first container.

当該反応物質供給装置は、当該容器ホルダーを通して少なくとも1種のガス状反応物質を当該第1 容器へと導入するよう、動作可能に接続される。当該プラズマ生成装置は、第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、第1容器内でプラズマを生成するよう設定される。               The reactant supply device is operably connected to introduce at least one gaseous reactant into the first vessel through the vessel holder. The plasma generating apparatus is set to generate plasma in the first container under conditions effective to form a reaction product of the reactant on the inner surface of the first container.

当該容器解除装置は、第1容器を当該容器ホルダーから装填解除するよう提供される。第1把持部またはその他の把持部である把持部は、第1容器を当該容器ホルダーから軸方向に離して搬送し、その後第1容器の装填を解除するよう設定される。               The container release device is provided to unload the first container from the container holder. The gripping part which is the first gripping part or the other gripping part is set so as to transport the first container away from the container holder in the axial direction and then release the loading of the first container.

V. PECVDの方法
本発明の別の態様に従い、容器の内面を被覆する(および/または検査する)方法を提供し、装填済み容器の内面を処理するため、当該容器開口部を容器ホルダー上に収受および装填する。用語「処理」は、被覆手順または複数の被覆手順、または一連の被覆および検査手順を指す場合があることに留意されたい。
V. PECVD method
In accordance with another aspect of the present invention, a method for coating (and / or inspecting) the inner surface of a container is provided, and the container opening is received and loaded onto a container holder to treat the inner surface of the loaded container. Note that the term “treatment” may refer to a coating procedure or multiple coating procedures, or a series of coating and inspection procedures.

さらには、当該装填済み容器内面の第1処理は、第1処理ステーションにおいて当該容器ホルダーの容器ポート経由で行われる。その後、当該容器ホルダーおよび当該装填済み容器は、第1処理ステーションでの第1処理の後に第2処理ステーションへと搬送される。さらには、第2処理ステーションにおいて、当該装填済み容器内面の第2処理は、当該容器ホルダーの容器ポート経由で行われる。               Furthermore, the first processing of the inner surface of the loaded container is performed at the first processing station via the container port of the container holder. Thereafter, the container holder and the loaded container are transported to the second processing station after the first processing at the first processing station. Furthermore, in the second processing station, the second processing of the inner surface of the loaded container is performed via the container port of the container holder.

V.A. 実質上ホロー陰極プラズマを含まないプラズマを使用する、SiOx遮断性被覆材塗布のためのPECVD
本発明の別の態様は、SiOx(本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)の遮断性被覆材を容器表面、好ましくは容器内部へ塗布する方法である。当該方法はいくつかの手順からなる。
VA PECVD for coating SiO x barrier coatings using plasma that is substantially free of hollow cathode plasma
Another aspect of the invention is a method of applying a barrier coating of SiO x (formula x is from about 1.5 to about 2.9, alternatively from about 1.5 to about 2.6, alternatively about 2) to the container surface, preferably the container interior. It is. The method consists of several procedures.

表面、例えば容器の壁を用意し、またプラズマ生成ガス、例えば有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。               A surface, for example a vessel wall, is prepared, and a reaction mixture consisting of a plasma generating gas, for example an organosilicon compound gas, optionally an oxidizing gas, optionally a hydrocarbon gas.

プラズマが、実質上ホロー陰極プラズマを含まない当該反応混合物内に生成される。当該容器壁は反応混合物と接触し、当該SiOx被覆材は容器壁の少なくとも一部に堆積する。 A plasma is generated in the reaction mixture that is substantially free of hollow cathode plasma. The container wall is in contact with the reaction mixture, the SiO x coating material is deposited on at least a portion of the container wall.

V.B. 容器の制限的開口部(シリンジキャピラリー)を被覆するPECVD被覆材
本発明の別の特定の態様は、通常管状である処理対象容器の制限的開口部の内面をPECVDにより被覆する方法である。当該方法はこれらの手順からなる。
PECVD coating covering the restricted opening (syringe capillary) of the VB container
Another specific embodiment of the present invention is a method of coating the inner surface of a restricted opening of a container to be treated, which is usually tubular, by PECVD. The method consists of these procedures.

通常管状である処理対象容器を用意する。当該容器には、外面、内腔を定義する内面、内径を有するより大きめの開口部、内面により定義され大きめの開口部の内径より小さな内径を有する制限的開口部が含まれる。               A container to be processed which is usually tubular is prepared. The container includes an outer surface, an inner surface defining a lumen, a larger opening having an inner diameter, and a restrictive opening having an inner diameter defined by the inner surface and smaller than the inner diameter of the larger opening.

内腔および処理容器開口部を有する処理容器を用意する。当該処理容器開口部を容器の制限的開口部に接続し、処理される容器の内腔と処理容器の内腔の間の通過性を制限的開口部経由で確立する。               A processing container having a lumen and a processing container opening is prepared. The processing vessel opening is connected to the restrictive opening of the vessel and the passage between the treated vessel lumen and the processing vessel lumen is established via the restrictive opening.

処理される容器の内腔および処理容器の内腔内で、少なくとも一部を真空状態にする。PECVD反応物質が第1開口部を通り、その後処理される容器の内腔、制限的開口部、処理容器の内腔へと流入する。制限的開口部内面上にPECVD反応生成物を堆積するのに効果的な条件下で、プラズマを制限的開口部に隣接して生成する。               At least a portion is evacuated in the lumen of the container to be processed and in the lumen of the processing container. The PECVD reactant flows through the first opening and then into the lumen of the vessel to be processed, the restrictive opening, and the lumen of the processing vessel. A plasma is generated adjacent to the limiting opening under conditions effective to deposit a PECVD reaction product on the inner surface of the limiting opening.

V.C. 潤滑性被覆材の塗布方法
さらに本発明の別の態様は、基板上に潤滑性被覆材を塗布する方法である。当該方法は以下の通り実行される。
VC Lubricant coating method
Yet another aspect of the present invention is a method of applying a lubricity coating on a substrate. The method is performed as follows.

前駆体を用意する。当該前駆体は好ましくは有機ケイ素であり、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体である。その他の前駆体、例えば周期系の第III族および第IV族金属を含む有機金属前駆体も考えられる。当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を減少させる潤滑表面を生成する。               Prepare a precursor. The precursor is preferably organosilicon, more preferably linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, or a composite of two or more of these precursors. Other precursors, such as organometallic precursors containing Group III and Group IV metals of the periodic system are also conceivable. The precursor is applied to the substrate under conditions effective to produce a coating material. The dressing is polymerized, cross-linked, or both, and produces a lubricated surface that reduces “plunger sliding force” or “starting force” compared to an untreated substrate.

VI. 容器の検査
VI.A. 被覆前および被覆後検査を含む容器処理
本発明のさらなる別の態様は、開口部および内面を定義する壁を有するプラスチック容器を処理する、容器処理方法である。当該方法は、提供時の当該容器内面の欠陥検出のための検査、提供時の当該容器検査後の当該容器内面への被覆材の塗布、および当該被覆材の欠陥検出のための検査により、実行される。
VI. Container inspection
VI.A. Container handling including pre- and post-coating inspections
Yet another aspect of the present invention is a container processing method for processing a plastic container having a wall defining an opening and an inner surface. The method is executed by inspection for detecting defects on the inner surface of the container at the time of provision, application of a coating material on the inner surface of the container after inspection of the container at the time of provision, and inspection for detecting defects of the coating material. Is done.

本発明の別の態様は、検査後に型どおりに遮断性被覆材を当該容器に塗布する容器処理方法であり、当該容器内面は当該遮断性被覆材の塗布後に検査欠陥検出のために検査される。               Another aspect of the present invention is a container processing method in which a barrier covering material is applied to the container as inspected after inspection, and the inner surface of the container is inspected for inspection defect detection after the barrier covering material is applied. .

VI.B. 例えば遮断層を通しての容器壁ガス放出検出による容器検査
本発明の別の態様は、被覆物質がガス放出する揮発性種の測定による被覆材の検査方法である(「ガス放出法」)。前述方法は、被覆材を基板表面に塗布して被覆表面を成形する被覆処理製品の検査に利用可能である。特に当該方法は、被覆材処理のインライン処理制御法として、所定の基準に満たない被覆製品または破損した被覆材を同定し除去するために利用可能である。
VI.B. Container inspection, for example, by detecting container wall outgassing through a barrier layer
Another aspect of the present invention is a method for inspecting a coating material by measuring volatile species that the coating material outgases (“gas emission method”). The above-described method can be used for inspection of a coated product in which a coating material is applied to a substrate surface and the coated surface is formed. In particular, the method can be used as an inline processing control method for coating material processing to identify and remove coated products or damaged coating materials that do not meet a predetermined standard.

通常、当該揮発性種は試験条件においてのガスまたは蒸気であり、好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、揮発性被覆材成分、揮発性基板成分、およびそれらの複合体からなる群から選択され、より好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、またはそれらの複合体である。当該方法は1種またはいくつかの揮発性種を測定するために使用可能であるが、好ましくは多数の異なる揮発性種を手順 (c) で測定する、より好ましくは検査物質から放出された実質上すべての揮発性種を手順 (c) で測定する。               Typically, the volatile species is a gas or vapor at test conditions, preferably selected from the group consisting of air, nitrogen, oxygen, water vapor, volatile coating components, volatile substrate components, and complexes thereof, More preferred is air, nitrogen, oxygen, water vapor, or a complex thereof. The method can be used to measure one or several volatile species, but preferably a number of different volatile species are measured in step (c), more preferably the substance released from the test substance. Measure all above volatile species in step (c).

当該ガス放出法は以下の手順からなる:
(a) 検査物体としての生成物提供、
(c) 当該被覆表面に隣接する気層へと当該検査物質から放出される少なくとも1種の発性種の測定、および
(d) 同一試験条件下での少なくとも1種の参照物質の手順(c) の結果と手順 (c) の結果との比較、したがっての被覆材の有無および/または被覆材の物理的および/または化学的性質の判定。
The gas release method consists of the following procedures:
(a) Providing products as inspection objects,
(c) measurement of at least one nascent species released from the test substance into the air layer adjacent to the coated surface; and
(d) comparison of the results of procedure (c) with the results of procedure (c) for at least one reference substance under the same test conditions, and therefore the presence or absence of a coating and / or the physical and / or coating Determination of chemical properties.

前述ガス放出方法における当該被覆材の物理的および/または化学的性質は、遮断性、ぬれ張力、および組成物からなる群から選択される場合があり、好ましくは遮断性である。               The physical and / or chemical properties of the dressing in the gas release method may be selected from the group consisting of barrier properties, wetting tensions, and compositions, preferably barrier properties.

有利には手順 (c) は、被覆表面に隣接する気層内の少なくとも1種の揮発性種の質量流量率または体積流量率を測定することにより実行される。               Advantageously, step (c) is carried out by measuring the mass flow rate or the volumetric flow rate of at least one volatile species in the air layer adjacent to the coating surface.

好ましくは、当該参照物体 (i) は非被覆基板である、または (ii) は参照被覆材で被覆された基板である。これは、例えばガス放出法を被覆材の有無を判定するために使用する(当該参照物体は非被覆基板である可能性あり)か、当該被覆材の性質を例えば既知の性質を有する被覆材と比較して判定するかにより、異なる。特定の被覆材を用いて被覆材を識別する場合は、典型として参照被覆材を選択することもできる。               Preferably, the reference object (i) is an uncoated substrate, or (ii) is a substrate coated with a reference coating material. This may be done, for example, using a gas release method to determine the presence or absence of a coating (the reference object may be an uncoated substrate), or the properties of the coating may be, for example, a coating with known properties It depends on whether to make a comparison. If a particular dressing is used to identify the dressing, a reference dressing can be typically selected.

当該ガス放出法は、追加として手順 (a) と (c) の間に当該被覆表面を通して圧力差が提供される、および、圧力差なしでより高い揮発性種の質量流量率または体積流量率が実現される可能性があるといった、当該被覆表面に隣接する気層における気圧を変更する手順 (b) からなる。この場合、当該揮発性種は圧力差の低い側に向かって移動する。当該被覆物体が容器である場合、当該容器内腔と外部との圧力差を確立して、当該被覆容器壁からの揮発性種ガス放出を測定する。当該圧力差は、 例えば当該容器内の気層を少なくとも一部真空化することにより達成される場合がある。この場合、当該揮発性種は当該容器内腔へのガス放出として測定される可能性がある。               The outgassing method additionally provides a pressure difference across the coated surface between steps (a) and (c), and a higher volatile species mass flow rate or volume flow rate without pressure difference. It consists of the procedure (b) of changing the air pressure in the air layer adjacent to the coated surface, which may be realized. In this case, the volatile species move toward the lower pressure difference side. When the coated object is a container, a pressure difference between the container lumen and the outside is established, and volatile species gas emission from the coated container wall is measured. The pressure difference may be achieved, for example, by at least partially evacuating the gas layer in the container. In this case, the volatile species may be measured as outgassing into the container lumen.

圧力差を創出するために真空状態としている場合、当該基板の被覆表面と真空源の間に介在する測定函を利用して、当該測定を実行可能である。               When a vacuum state is created in order to create a pressure difference, the measurement can be performed using a measurement box interposed between the coating surface of the substrate and the vacuum source.

一態様において、当該検査物質が手順 (a) において揮発性種、好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、およびそれらの複合体からなる群から選択される揮発性種に接触する、好ましくは検査物質の材質上/内への前述揮発性種の吸収を可能とする場合がある。次に後続の、当該検査物質からの前述揮発性種の放出を手順 (c) で測定する。材質が異なれば(例えば被覆材および基板)吸収量および吸収性も異なるため、これにより被覆材の有無および特性の判定が簡素化される可能性がある。               In one embodiment, the test substance contacts in step (a) a volatile species, preferably a volatile species selected from the group consisting of air, nitrogen, oxygen, water vapor, and complexes thereof, preferably the test substance. May allow absorption of the volatile species on / in the material. The subsequent release of the volatile species from the test substance is then measured in step (c). If the materials are different (for example, the covering material and the substrate), the amount of absorption and the absorbency are also different, and this may simplify the determination of the presence and characteristics of the covering material.

当該基板はポリマー化合物である、好ましくはポリエステル、ポリオレフィン、環状オレフィン共重合体、ポリカーボネート、またはそれらの複合体である可能性がある。               The substrate may be a polymer compound, preferably a polyester, polyolefin, cyclic olefin copolymer, polycarbonate, or a composite thereof.

本発明の文脈において、ガス放出法により特徴付けられる当該被覆材は通常、PECVDにより例えば本明細書内で説明する有機ケイ素前駆体から生成される被覆材である。本発明の特定の態様において、 (i) 当該被覆材は遮断性被覆材であり、好ましくはSiOx膜(xは約1.5〜約2.9)であり、および/または (ii) 当該被覆材は潤滑性および/または被覆基板の表面張力を変更する被覆材であり、好ましくはSiwOxCyHz膜(wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9)である。 In the context of the present invention, the dressing characterized by the outgassing method is usually a dressing produced by PECVD, for example from an organosilicon precursor as described herein. In certain embodiments of the invention, (i) the coating is a barrier coating, preferably a SiO x film (x from about 1.5 to about 2.9), and / or (ii) the coating is lubricated And / or a coating material that changes the surface tension of the coated substrate, preferably a Si w O x C y H z film (w is 1, x is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9).

当該ガス放出法により検査される製品の被覆方法が、真空条件下で実行されるPECVD被覆である場合、後続のガス放出測定はPECVDに使用した真空状態を中断することなく行う場合がある。               If the coating method of the product to be inspected by the gas release method is PECVD coating performed under vacuum conditions, the subsequent gas release measurement may be performed without interrupting the vacuum state used for PECVD.

測定される揮発性種は、当該被覆材から放出される揮発性種、当該基板から放出される揮発性種、または両方の複合体である場合がある。一態様において、当該揮発性種は当該被覆材から放出される揮発性種、好ましくは揮発性被覆材成分であり、当該被覆材の有無、性質、および/または組成物を判定する検査が行われる。別の態様において、当該揮発性種は当該基板から放出される揮発性種、当該被覆材の有無および/または当該被覆材の遮断性を判定する検査が行われる。               The volatile species measured may be volatile species released from the coating, volatile species released from the substrate, or a composite of both. In one embodiment, the volatile species is a volatile species released from the dressing, preferably a volatile dressing component, and a test is performed to determine the presence, nature, and / or composition of the dressing. . In another embodiment, the volatile species are tested to determine the volatile species released from the substrate, the presence of the coating and / or the barrier of the coating.

本発明の当該ガス放出法は、特に、容器壁上の被覆材の有無および特性を判定するのに最適である。したがって、当該被覆基板は壁を有する容器であり、被覆処理中にその内面または外面の少なくとも一部が被覆される可能性がある。例えば、当該被覆材は当該容器壁の内面に付着する。               The gas release method of the present invention is particularly suitable for determining the presence and characteristics of the coating material on the container wall. Accordingly, the coated substrate is a container having a wall, and at least a part of the inner surface or the outer surface may be coated during the coating process. For example, the covering material adheres to the inner surface of the container wall.

当該被覆材の有無の判別、および/または当該被覆材の物理的および/または化学的性質の判定に有効な当該条件に、1時間未満、または1分未満、または50秒未満、または40秒未満、または30秒未満、または20秒未満、または15秒未満、または10秒未満、または8秒未満、または6秒未満、または4秒未満、または3秒未満、または2秒未満、または1秒未満の試験期間が含まれる場合がある。               Less than 1 hour, or less than 1 minute, or less than 50 seconds, or less than 40 seconds, in the conditions effective for determining the presence or absence of the dressing and / or determining the physical and / or chemical properties of the dressing , Or less than 30 seconds, or less than 20 seconds, or less than 15 seconds, or less than 10 seconds, or less than 8 seconds, or less than 6 seconds, or less than 4 seconds, or less than 3 seconds, or less than 2 seconds, or less than 1 second In some cases.

放出率および/または測定される揮発性種の種類に関して参照物質と検査物質の差異を増大させるために、当該揮発性種放出率は環境気圧および/または温度および/または湿度を変更することで変更可能である。               In order to increase the difference between the reference and test substance with respect to the emission rate and / or the type of volatile species measured, the volatile species emission rate can be changed by changing the ambient pressure and / or temperature and / or humidity Is possible.

特定の態様において、当該ガス放出はマイクロカンチレバー測定技術を使用して測定される。例えば、当該測定は以下により実行可能である:
(i) (a) ガス放出物質の存在下で移動または異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供、
(b) 当該マイクロカンチレバーを移動または異なる形状へと変化させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露、および
(c) 移動または異なる形状の検出、好ましくはマイクロカンチレバーのガス放出への曝露前および後のマイクロカンチレバーの形状変化部からのエネルギー入射光線、例えばレーザービームの照射による、およびカンチレバーから離れた点での当該照射光線の偏差結果の測定による検出、または
(ii) (a) ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供、
(b) 当該マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露、および (c) 異なる共鳴周波数の検出、例えば調和振動センサーの使用。
In certain embodiments, the outgassing is measured using a microcantilever measurement technique. For example, the measurement can be performed by:
(i) (a) providing at least one microcantilever having the property of moving or changing into a different shape in the presence of a gas releasing substance;
(b) exposure of the microcantilever to the outgassing material under conditions effective to move or change the microcantilever to a different shape; and
(c) Detection of movement or different shape, preferably at a point before and after exposure of the microcantilever to gas release, by incident energy rays from the microcantilever shape change, e.g. by laser beam irradiation and away from the cantilever Detection by measuring the deviation result of the irradiation light of
(ii) (a) providing at least one microcantilever that resonates at different frequencies in the presence of an outgassing material;
(b) exposure of the microcantilever to an outgassing material under conditions that are effective to cause the microcantilever to resonate at different frequencies, and (c) detection of different resonance frequencies, such as the use of harmonic vibration sensors.

当該ガス放出法を実行する装置、例えば上述のマイクロカンチレバーからなる装置もまた検討される。               Also contemplated are devices that perform the outgassing method, such as devices consisting of the microcantilevers described above.

本発明のガス放出法を使用して、例えば蒸気を放出する物質上の遮断層を検査可能であり、当該検査方法はいくつかの手順からなる。ガス放出するおよび少なくとも一部が遮断層である物質の検体を用意する。本発明の特定の態様において、当該遮断層において圧力差を提供して、ガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。当該遮断層を通り抜ける放出ガスを測定する。圧力差が存在する場合、当該測定は随意に当該遮断層の低圧側で行う。               The gas release method of the present invention can be used to inspect, for example, a barrier layer on a substance that emits vapor, and the inspection method consists of several procedures. Prepare a specimen of a substance that will outgas and at least partially be a barrier layer. In certain embodiments of the invention, a pressure differential is provided in the barrier layer so that at least some of the outgassing material is present on the high pressure side of the barrier layer. The emitted gas passing through the barrier layer is measured. If a pressure difference exists, the measurement is optionally performed on the low pressure side of the barrier layer.

VII. PECVD処理された容器
VII.A.1.a.i. 有機ケイ素前駆体より堆積した疎水性被覆材
VII. PECVD-treated container
VII.A.1.ai Hydrophobic coatings deposited from organosilicon precursors

本発明の別の態様は、有機ケイ素前駆体により堆積される疎水性被覆材、例えば内壁上に疎水性被覆材を有する容器である。当該被覆材は、以下の手順により生成される種類のものである。               Another aspect of the invention is a container having a hydrophobic coating deposited by an organosilicon precursor, such as a hydrophobic coating on the inner wall. The covering material is of a type generated by the following procedure.

有機金属化合物である、好ましくは有機ケイ素化合物である、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される化合物である、前駆体を用意する。あるいは、第III族または第IV族金属を包含する有機金属化合物が前駆体とみなされる場合がある。               Organometallic compound, preferably organosilicon compound, more preferably linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, alkyltrimethoxysilane, linear silazane, monocyclic silazane, polycyclic A precursor is provided that is a compound selected from the group consisting of silazane, polysilsesquiazane, or a complex of two or more of these precursors. Alternatively, organometallic compounds including Group III or Group IV metals may be considered precursors.

当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して高い接触角を有する疎水性表面を生成する。               The precursor is applied to the substrate under conditions effective to produce a coating material. The dressing is polymerized, cross-linked, or both, and produces a hydrophobic surface with a high contact angle compared to an untreated substrate.

生成される被覆材は以下の総和公式を有する場合がある:SiwOxCyHz(wは1、x約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)。 The resulting dressing may have the following summation formula: Si w O x C y H z (w is 1, x about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9.

本明細書内で使用されるw、x、y、およびzの値は、分子内の原子数の制限というよりは、経験的公式(例えば被覆材のための)における比率として理解されるべきである。例えば、分子式Si4O4C8H24を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、以下の [米国により表現を変更] 経験的公式により記述可能であり、分子式内の各w、x、y、zを4で割ることにより最大共通因数:Si1O1C2H6が求められる。w、x、y、およびzの値は、また整数に限定されるものではない。例えば、分子式Si3O2C8H24である(非環状)オクタメチルトリシロキサンは、Si1O0.67C2.67H8に約分可能である。 The values of w, x, y, and z used herein should be understood as ratios in empirical formulas (eg for coatings) rather than limiting the number of atoms in a molecule. is there. For example, octamethylcyclotetrasiloxane having the molecular formula Si 4 O 4 C 8 H 24 can be described by the following [change expression by US] empirical formula, where each w, x, y, z in the molecular formula is Dividing by 4 gives the maximum common factor: Si 1 O 1 C 2 H 6 . The values of w, x, y, and z are also not limited to integers. For example, (non-cyclic) octamethyltrisiloxane having the molecular formula Si 3 O 2 C 8 H 24 can be reduced to Si 1 O 0.67 C 2.67 H 8 .

VII.A.1.b. 有機ケイ素前駆体より堆積した疎水性被覆材で被覆される壁を有するクエン酸塩血液管
本発明の別の態様は、疎水性被覆材で被覆される壁を有し含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する細胞調製管である。
VII.A.1.b. Citrate blood tubes with walls coated with a hydrophobic coating deposited from an organosilicon precursor
Another aspect of the present invention is a cell preparation tube having a wall coated with a hydrophobic coating material and including a hydrous sodium citrate reagent.

当該壁は熱可塑性素材を原料とし、内腔を定義する内面を有する。               The wall is made of a thermoplastic material and has an inner surface that defines a lumen.

当該疎水性被覆材を、当該管の内面上に提供する。当該疎水性被覆材は、有機金属化合物、好ましくは有機ケイ素化合物、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される化合物を提供することにより、生成される。PECVDは、当該内面上に被覆材を成形するために使用可能である。生成される被覆材は以下の化学構造を有する場合がある:SiwOxCyHz(wは1、x約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)。 The hydrophobic dressing is provided on the inner surface of the tube. The hydrophobic coating material is an organometallic compound, preferably an organosilicon compound, more preferably linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, alkyltrimethoxysilane, linear silazane, monocyclic silazane. Or a polycyclic silazane, a polysilsesquiazane, or a compound selected from the group consisting of two or more of these precursors. PECVD can be used to form a coating on the inner surface. The resulting dressing may have the following chemical structure: Si w O x C y H z (w is 1, x about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9.

当該含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。               The hydrous sodium citrate reagent adheres to the lumen of the tube in an amount effective to inhibit clotting of blood introduced into the tube.

VII.A.1.c. SiOx遮断膜被覆される2層プラスチック容器 - COC、PET、SiOx
本発明の別の態様は、内腔を少なくとも一部封入する壁を有する容器である。当該壁は、外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層を有する。1つのポリマー層は、少なくとも層厚0.1 mmの、水蒸気遮断性を定義する環状オレフィン共重合体(COC)樹脂の層である。別のポリマー層は、少なくとも層厚0.1 mmの、ポリエステル樹脂の層である。
VII.A.1.c. SiO x blocking film to be coated two-layer plastic containers - COC, PET, SiO x layer
Another aspect of the invention is a container having a wall that at least partially encloses a lumen. The wall has an inner polymer layer encapsulated with an outer polymer layer. One polymer layer is a layer of cyclic olefin copolymer (COC) resin that defines water vapor barrier properties with a layer thickness of at least 0.1 mm. Another polymer layer is a layer of polyester resin with a layer thickness of at least 0.1 mm.

当該壁は、約10〜約500オングストロームの層厚を有するSiOx(本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)の酸素遮断層を含む。 The wall includes an oxygen barrier layer of SiO x with a thickness of about 10 to about 500 angstroms (the official x is from about 1.5 to about 2.9 or about 1.5 to about 2.6, or about 2).

VII.A.1.d. 2層プラスチック容器の製造方法 - COC、PET、SiOx
本発明の別の態様は、外部ポリマー層により封入される内部ポリマー層を有し1つの層がCOC製でもう1つの層がポリエステル製である壁を有する、容器の製造方法である。当該容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される。
VII.A.1.d.Method of manufacturing a two-layer plastic container-COC, PET, SiO x layer
Another aspect of the present invention is a method for manufacturing a container having an inner polymer layer encapsulated by an outer polymer layer, one wall made of COC and the other made of polyester. The said container is manufactured by the process including the process of introduce | transducing a COC layer and a polyester resin layer into an injection mold through a concentric injection nozzle.

オプションの追加手順として、内部被覆材および外部被覆材としての、または当該層の間に位置する中間層被覆材としての、非晶質炭素被覆材の当該容器へのPECVDによる塗布が挙げられる。               An optional additional procedure includes applying PECVD of the amorphous carbon coating to the vessel as an inner and outer coating or as an intermediate coating located between the layers.

オプションの追加手順として、前述通りにSiOxが定義される当該容器壁内面へのSiOx遮断層の塗布が挙げられる。別のオプションの追加手順として、本質的に酸素からなりおよび本質的に揮発性ケイ素化合物を含まない処理ガスによるSiOxの後処理が挙げられる。 As an optional additional procedure, application of a SiO x barrier layer to the inner surface of the container wall where SiO x is defined as described above can be mentioned. Another optional additional procedure includes post-treatment of SiO x with a process gas consisting essentially of oxygen and essentially free of volatile silicon compounds.

随意に、当該SiOx被覆材は、少なくとも一部においてシラザン供給ガスから成形可能である。 Optionally, the SiO x coating can be molded, at least in part, from a silazane feed gas.

VII.A.1.e. ガラス製遮断性被覆材
本発明の別の態様は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。当該容器は、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。少なくとも本質的に連続するガラス製遮断被覆材が、当該壁の内面に存在する。閉包部が当該口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.1.e. Glass barrier coating
Another aspect of the present invention is a container that includes a container, a barrier covering, and a closure. The container is generally tubular and is made from a thermoplastic material. The container has a mouth and a lumen that is at least partially bounded by a wall having an inner surface that joins the lumen. An at least essentially continuous glass barrier coating is present on the inner surface of the wall. A closure covers the mouth and isolates the lumen of the container from the ambient atmosphere.

本発明の関連する態様として、当該遮断性被覆材がソーダ石灰ガラス製またはホウケイ酸ガラス製またはその他の種類のガラスである、前段落で説明する容器が挙げられる。               A related embodiment of the present invention includes the container described in the previous paragraph, wherein the barrier coating is made of soda-lime glass, borosilicate glass, or other types of glass.

VII.A.2. 停止部材
VII.A.2.a. 潤滑性被覆材の真空チャンバ内の停止部材への塗布方法
さらに本発明の別の態様は、基板上に被覆材、例えば上記で定義される潤滑性被覆材を、エラストマー製停止部材に塗布する方法である。例えば、停止部材を実質上真空チャンバ内に位置付ける。プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスを含む反応混合物を用意する。当該停止部材に接触する反応混合物内にプラズマを生成させる。潤滑性被覆材、例えばSiwOxCyHz被覆材(wは1、x約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)を、当該停止部材の少なくとも一部上に堆積させる。
VII.A.2. Stopping member
VII.A.2.a. Applying a lubricious coating to a stop in a vacuum chamber
Yet another aspect of the present invention is a method of applying a coating, such as a lubricious coating as defined above, onto an elastomeric stop member on a substrate. For example, the stop member is positioned substantially within the vacuum chamber. A reaction mixture is prepared comprising a plasma generating gas, ie, an organosilicon compound gas, optionally an oxidizing gas, and optionally a hydrocarbon gas. Plasma is generated in the reaction mixture in contact with the stop member. Lubricant coatings such as Si w O x C y H z coatings (w is 1, x about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9) are deposited on at least a portion of the stop member.

VII.A.2.b. PECVDによる第III族または第IV族元素および炭素の被覆材の停止部材上への塗布
さらに本発明の別の態様は、炭素または1種以上の第III族または第IV族元素を含む組成物の被覆材をエラストマー製停止部材に塗布する方法である。本方法を実行するには、停止部材を堆積チャンバ内に位置付ける。
VII.A.2.b. Application of Group III or Group IV elements and carbon coating on the stop member by PECVD
Yet another aspect of the present invention is a method of applying a coating of carbon or a composition comprising one or more Group III or Group IV elements to an elastomeric stop member. To perform the method, a stop member is positioned in the deposition chamber.

第III族元素(例:Al)、第IV族元素(例:Si、Sn)、またはそれら2種以上の複合体である気体源を有するプラズマ生成ガスを含む反応混合物を、堆積チャンバに用意する。当該反応混合物は、随意に酸化ガスを包含し、随意に1種以上のC-H結合を有するガス状化合物を包含する。当該反応混合物内にプラズマが生成され、当該停止部材が当該反応混合物に接触する。第III族元素または化合物、第IV族元素または化合物、またはそれら2つ以上の複合体である被覆材を、当該停止部材の少なくとも一部に堆積させる。               A reaction mixture containing a plasma generating gas having a gas source that is a Group III element (eg, Al), a Group IV element (eg, Si, Sn), or a composite of two or more thereof is provided in a deposition chamber. . The reaction mixture optionally includes an oxidizing gas and optionally includes a gaseous compound having one or more C—H bonds. Plasma is generated in the reaction mixture, and the stop member contacts the reaction mixture. A coating material that is a Group III element or compound, a Group IV element or compound, or a composite of two or more thereof is deposited on at least a portion of the stop member.

VII.A.3. 24カ月95%の真空状態を維持する遮断性被覆材を有する停止部材付きプラスチック 容器
本発明の別の態様は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。当該容器は、少なくとも一部が壁で境界される口および内腔を有する。当該壁は、当該内腔と接合する内面を有する。少なくとも本質的に連続する遮断性被覆材を、当該壁の内面に塗布する。当該遮断性被覆材は、少なくとも24カ月の保存可能期間中に、少なくとも最初の真空レベルの90%を、随意に最初の真空レベルの95%を容器内に維持するのに有効である。当該容器の口を覆うを閉包部を用意して、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.3. Plastic container with a stop member with a barrier covering that maintains a 95% vacuum for 24 months
Another aspect of the present invention is a container that includes a container, a barrier covering, and a closure. The container is generally tubular and is made from a thermoplastic material. The container has a mouth and a lumen that are at least partially bounded by walls. The wall has an inner surface that joins the lumen. At least an essentially continuous barrier coating is applied to the inner surface of the wall. The barrier coating is effective to maintain at least 90% of the initial vacuum level and optionally 95% of the initial vacuum level in the container for a shelf life of at least 24 months. A closure is provided to cover the mouth of the container, and the lumen of the container is isolated from the ambient atmosphere.

VII.B.1.a. 有機金属前駆体により堆積される潤滑性被覆材で被覆されるバレルを有するシリンジ
さらなる本発明の別の態様は、有機ケイ素前駆体から生成される潤滑性被覆材を有する容器である。本明細書で定義するもとのは異なる有機金属前駆体も考えられる。
VII.B.1.a. Syringe with barrel coated with a lubricious coating deposited by organometallic precursor
Yet another aspect of the present invention is a container having a lubricious coating produced from an organosilicon precursor. Different organometallic precursors as defined herein are also contemplated.

当該被覆材は、以下の工程により生成される種類のものである場合がある。               The covering material may be of a type generated by the following process.

有機金属前駆体である、好ましくは有機ケイ素前駆体である、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体である、前駆体を用意する。               An organometallic precursor, preferably an organosilicon precursor, more preferably a linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, linear silazane, monocyclic silazane, polycyclic silazane, A precursor is provided which is Lucesazan, or a complex of two or more of these precursors.

当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。               The precursor is applied to the substrate under conditions effective to produce a coating material. The dressing is polymerized, cross-linked, or both, and produces a lubricated surface that reduces “plunger sliding force” or “starting force” compared to an untreated substrate.

本発明の別の態様は、プランジャー、シリンジバレル、および潤滑層を含むシリンジである。当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有する。当該潤滑層はシリンジバレル内面上に付着され、本明細書で定義する通りに有機ケイ素前駆体から生成されるSiwOxCyHz潤滑層の被覆材を含む。当該潤滑層は1000nm未満の層厚であり、起動力またはバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。 Another aspect of the invention is a syringe that includes a plunger, a syringe barrel, and a lubrication layer. The syringe barrel has an inner surface that slidably receives the plunger. The lubricating layer is deposited on the syringe barrel inner surface and includes a Si W O x C y H z lubricating layer coating formed from an organosilicon precursor as defined herein. The lubricating layer has a layer thickness of less than 1000 nm and is effective in reducing the starting force or plunger sliding force required to move the plunger within the barrel.

さらに本発明の別の態様は、シリンジバレルの内壁上の潤滑性被覆材である。当該被覆材は、以下の素材および条件を使用してPECVD処理により生成される。環状前駆体を利用し、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、またはこれら2つ以上の複合体から選択する。本処理には、少なくとも本質的に酸素を追加しない。 十分にプラズマを生成する電力入力を供給して、被覆材生成を誘導する。利用する当該素材および条件は、当該シリンジバレル内を移動するシリンジプランジャーのスライド力または起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセント減少させるのに効果的である。               Yet another aspect of the present invention is a lubricity coating on the inner wall of a syringe barrel. The dressing is produced by PECVD using the following materials and conditions. Utilizing a cyclic precursor, it is selected from linear siloxanes, monocyclic siloxanes, polycyclic siloxanes, or composites of two or more thereof. At least essentially no oxygen is added to the process. A power input that generates a sufficient plasma is supplied to induce coating generation. The material and conditions utilized are effective in reducing the sliding or activation force of the syringe plunger moving within the syringe barrel by at least 25 percent compared to an uncoated syringe barrel.

生成される被覆材は以下の公式を有する場合がある:SiwOxCyHz(wは1、x約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)。 The resulting dressing may have the following formula: Si w O x C y H z (w is 1, x about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9 W is preferably 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9.

VII.B.1.a.i. 潤滑性被覆材:SiOx遮断層、潤滑層、表面処理。
本発明の別の態様は、内腔を定義するバレルからなり、プランジャーをスライド可能に収受する内面を有するシリンジである。当該シリンジバレルは、熱可塑性基材を原料とする場合がある。PECVDにより、例えばバレル内面、プランジャー、または両方に、潤滑性被覆材を塗布する。当該潤滑性被覆材は有機ケイ素前駆体を原料とする場合があり、層厚1000nm未満である場合がある。潤滑性被覆材上での表面処理を、潤滑性被覆材、熱可塑性基材、または両方の当該内腔への浸出を低減するのに効果的な量で、すなわち溶質保持部材を表面上に成形するのに効果的な量で、実行する。当該潤滑性被覆材および溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、または両方を、潤滑性被覆材および溶質保持部材なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。
VII.B.1.ai Lubricious coating: SiO x barrier layer, lubrication layer, surface treatment.
Another aspect of the invention is a syringe having an inner surface that consists of a barrel defining a lumen and slidably receives a plunger. The syringe barrel may be made from a thermoplastic base material. A lubricious coating is applied, for example, to the barrel inner surface, the plunger, or both by PECVD. The lubricity coating material may be made of an organosilicon precursor as a raw material and may have a layer thickness of less than 1000 nm. Surface treatment on the lubricious dressing in an amount effective to reduce leaching of the lubricious dressing, thermoplastic substrate, or both into the lumen, i.e. molding the solute retention member on the surface Run in an amount effective to do. The lubricity coating and solute retention member are configured to provide an effective amount to reduce the starting force, plunger sliding force, or both as compared to the case without the lubricity coating and solute retention member. .

VII.B.1.b SiOX層被覆内部および遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジ
さらなる本発明の別の態様は、プランジャー、バレル、内部および外部遮断性被覆材を含むシリンジバレルある。当該バレルは、内腔を定義する熱可塑性基材を原料とする。当該バレルは、プランジャーをスライド可能に収受する内面と、外面を有する。SiOx遮断性被覆材(本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)をバレルの内面に提供する。樹脂製の遮断性被覆材を当該バレルの外面に提供する。
VII.B.1.b Syringe with barrel with SiO X layer coating inside and barrier layer coating outside
Yet another aspect of the present invention is a syringe barrel including a plunger, a barrel, an inner and an outer barrier coating. The barrel is made from a thermoplastic substrate that defines a lumen. The barrel has an inner surface that slidably receives the plunger and an outer surface. A SiO x barrier coating (x in this formula is about 1.5 to about 2.9, alternatively about 1.5 to about 2.6, or about 2) is provided on the inner surface of the barrel. A resin barrier coating is provided on the outer surface of the barrel.

VII.B.1.c SiOX層被覆内部および遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジの製造方法
さらなる本発明の別の態様は、プランジャー、バレル、内部および外部遮断性被覆材を含むシリンジの製造方法である。プランジャーをスライド可能に収受する内面と、外面を有するバレルを用意する。SiOx遮断性被覆材(本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)をPECVDにより当該バレルの内面に用意する。樹脂製の遮断性被覆材を当該バレルの外面に提供する。当該プランジャーおよびバレルを組立てることで、シリンジを用意する。
VII.B.1.c Method of manufacturing a syringe having a barrel with an SiO X layer coating interior and a barrier layer coating exterior
Yet another aspect of the present invention is a method of manufacturing a syringe comprising a plunger, a barrel, an inner and an outer barrier coating. A barrel having an inner surface for slidably receiving a plunger and an outer surface is provided. A SiO x barrier coating (x in this formula is about 1.5 to about 2.9, alternatively about 1.5 to about 2.6, or about 2) is prepared on the inner surface of the barrel by PECVD. A resin barrier coating is provided on the outer surface of the barrel. A syringe is prepared by assembling the plunger and barrel.

VII.B.2. プランジャー
VII.B.2.a. 遮断性被覆ピストン前面
本発明の別の態様は、ピストンおよびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。当該ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、および後部を有しており、当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。当該前面は遮断性被覆材を有する。当該プッシュロッドを当該後部と係合させ、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定する。
VII.B.2. Plunger
VII.B.2.a. Front of the shielded coated piston
Another aspect of the present invention is a plunger for a syringe that includes a piston and a push rod. The piston has a front surface, a side surface that is generally cylindrical, and a rear portion, the side surface being configured to be movably loaded into a syringe barrel. The front surface has a barrier coating. The push rod is engaged with the rear portion and set to push the piston forward in the syringe barrel.

VII.B.2.b. 側面と接合する潤滑性被覆材
さらなる本発明の別の態様は、ピストン、潤滑性被覆材、およびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。当該ピストンは前面、通常シリンダー状である側面、後部を有する。当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。当該潤滑性被覆材は当該側面と接合させる。当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。
VII.B.2.b. Lubricant coating to be joined to the side
Yet another aspect of the present invention is a plunger for a syringe that includes a piston, a lubricity coating, and a push rod. The piston has a front surface, a side surface that is generally cylindrical, and a rear portion. The side is set to be movably loaded into the syringe barrel. The lubricity coating material is bonded to the side surface. The push rod is set to engage the rear of the piston and push the piston forward within the syringe barrel.

VII.B.3. 2部構成シリンジおよびルアー取付部
本発明の別の態様は、プランジャー、シリンジバレル、およびルアー取付部を含むシリンジである。当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を含有する。当該ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。当該ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として成形され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。当該ルアーテーパーの内部経路は、SiOx遮断性被覆材(本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)を有する。
VII.B.3. Two-part syringe and luer attachment
Another aspect of the invention is a syringe that includes a plunger, a syringe barrel, and a luer fitting. The syringe barrel contains an inner surface that slidably receives the plunger. The luer attachment includes a luer taper having an internal path defined by the inner surface. The luer attachment portion is formed as a separate member from the syringe barrel, and is coupled to the syringe barrel by coupling. The internal path of the luer taper has a SiO x barrier coating (formula x is about 1.5 to about 2.9, alternatively about 1.5 to about 2.6, or about 2).

VII.B.4. 原位置重合有機ケイ素前駆体を原料とする潤滑性被覆材
VII.B.4.a. 工程別および潤滑性別の生成物
さらなる本発明の別の態様は、有機ケイ素前駆体から生成される潤滑性被覆材である。当該被覆材は、以下の工程により生成される種類のものである。
VII.B.4. Lubricating coatings made from in situ polymerized organosilicon precursors
VII.B.4.a. Products by process and lubricity
Yet another aspect of the present invention is a lubricity coating made from an organosilicon precursor. The said coating | covering material is a kind of thing produced | generated by the following processes.

有機金属前駆体から選択される、好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体から選択される前駆体を用意する。当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。               Preferably selected from organometallic precursors, linear siloxanes, monocyclic siloxanes, polycyclic siloxanes, polysilsesquioxanes, linear silazanes, monocyclic silazanes, polycyclic silazanes, polysilsesquiazanes, or precursors thereof. A precursor selected from a complex of two or more bodies is provided. The precursor is applied to the substrate under conditions effective to produce a coating material. The dressing is polymerized, cross-linked, or both, and produces a lubricated surface that reduces “plunger sliding force” or “starting force” compared to an untreated substrate.

生成される被覆材は以下の化学構造を有する場合がある:SiwOxCyHz(wは1、x約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)。 The resulting dressing may have the following chemical structure: Si w O x C y H z (w is 1, x about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9.

VII.B.4.b. 工程別および分析特性別の生成物
さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体から、好ましくは有機ケイ素前駆体から、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体からPECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。当該被覆材の密度は、X線反射率(XRR)により決定される通り、1.25〜1.65g/cm3である。
VII.B.4.b. Products by process and analytical characteristics
Yet another aspect of the present invention is from an organometallic precursor, preferably an organosilicon precursor, more preferably a linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, linear silazane, monocyclic Lubricating coatings deposited by PECVD from silazanes, polycyclic silazanes, polysilsesquiazanes, or composites of two or more of these precursors. The density of the covering material is 1.25 to 1.65 g / cm 3 as determined by X-ray reflectivity (XRR).

第III族金属(すなわちホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタンなど)、または第IV族金属、(すなわちシリコン、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、トリウムなど)、またはこれら2つ以上の複合体を包含する有機金属前駆体の使用もまた考えられる。その他の揮発性有機化合物もまた考えられる。しかしながら、本発明の実行には有機ケイ素化合物が望ましい。               Group III metals (ie boron, aluminum, gallium, indium, thallium, scandium, yttrium, lanthanum, etc.) or Group IV metals (ie silicon, germanium, tin, lead, titanium, zirconium, hafnium, thorium, etc.), Alternatively, the use of organometallic precursors including these two or more composites is also contemplated. Other volatile organic compounds are also contemplated. However, organosilicon compounds are desirable for the practice of the present invention.

さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる供給原料ガスから、好ましくは有機ケイ素前駆体から、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体から、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。第III族または第IV族金属を包含する前駆体の使用もまた考えられる。               Yet another aspect of the invention is a feed gas comprising an organometallic precursor, preferably from an organosilicon precursor, more preferably a linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, wire It is a lubricious coating deposited by PECVD from a shaped silazane, monocyclic silazane, polycyclic silazane, polysilsesquiazane, or a composite of two or more of these precursors. The use of precursors including Group III or Group IV metals is also contemplated.

当該被覆材は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復-(Me)2SiO- 部分を含む1種以上のオリゴマーを有する。随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.bのいずれかの制限を満たす。 The dressing has one or more oligomers comprising a gas releasing component, a repeating-(Me) 2 SiO- moiety, as determined by gas chromatography / mass spectrometry. Optionally, the dressing meets the limitations of either Example VII.B.4.a or VII.B.4.b.

さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる供給ガスから、好ましくは有機ケイ素前駆体からなる、より好ましくは線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、またはこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。 当該被覆材は100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した原子濃度を有し、X線光電子分光法(XPS)により判定される通り、50%未満炭素および25%を超えるケイ素原子濃度を有する。随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.bのいずれかの制限を満たす。               Yet another aspect of the present invention is a feed gas comprising an organometallic precursor, preferably comprising an organosilicon precursor, more preferably a linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, wire It is a lubricating coating material deposited by PECVD from a feed gas consisting of a cylindrical silazane, monocyclic silazane, polycyclic silazane, polysilsesquiazane, or a composite of two or more of these precursors. The dressing has atomic concentrations normalized to 100% carbon, oxygen, silicon, and has a silicon atom concentration of less than 50% carbon and greater than 25% as determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Optionally, the dressing meets the limitations of either Example VII.B.4.a or VII.B.4.b.

第III族または第IV族金属を包含する有機金属前駆体の使用もまた意図される。               The use of organometallic precursors including Group III or Group IV metals is also contemplated.

本発明の別の態様は、有機ケイ素前駆体からなる、好ましくは単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。当該被覆材は、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度を有し、X線光電子分光法(XPS)により判定される通り、当該供給ガスの原子公式における炭素の原子濃度を上回る。随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.bの制限を満たす。               Another embodiment of the present invention is deposited by PECVD from a feed gas comprising an organosilicon precursor, preferably a monocyclic siloxane, monocyclic silazane, polycyclic siloxane, polycyclic silazane, or a composite of two or more thereof. A lubricious coating material. The dressing has an atomic concentration of carbon normalized to 100% carbon, oxygen, and silicon, and the atomic concentration of carbon in the atomic formula of the feed gas as determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Exceed. Optionally, the dressing meets the limitations of Example VII.B.4.a or VII.B.4.b.

本発明の追加の態様は、有機ケイ素前駆体からなる、より好ましくは単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。当該被覆材は、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、X線光電子分光法(XPS)により判定される通り、当該供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る。随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.bの制限を満たす。               An additional aspect of the present invention is by PECVD from a feed gas consisting of an organosilicon precursor, more preferably a monocyclic siloxane, monocyclic silazane, polycyclic siloxane, polycyclic silazane, or a composite of two or more of these. It is a lubricious coating material to be deposited. The covering material has a silicon atomic concentration normalized to 100% carbon, oxygen, and silicon, and as determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), the atomic concentration of silicon in the atomic formula of the feed gas is Below. Optionally, the dressing meets the limitations of Example VII.B.4.a or VII.B.4.b.

VII.C.1. 有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有する生存血液包含容器
さらなる本発明の特定の態様は、血液包含容器である。当該容器は壁を有し、当該壁は内腔を定義する内面を有する。当該壁の内面は、少なくとも一部に上記の疎水性被覆材を有し、好ましくはSiwOxCyHz疎水性被覆材(好ましくはwは1、この公式のx約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、より好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)を有する。当該被覆材は単分子の層厚と同様に薄く、または最大層厚約1000nmである。当該容器には、SiwOxCyHz被覆と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.1. A living blood containing container with a coating deposited from an organosilicon precursor
A further particular aspect of the present invention is a blood containing container. The container has a wall, and the wall has an inner surface defining a lumen. The inner surface of the wall has at least a portion of the hydrophobic coating described above, preferably a Si w O x C y H z hydrophobic coating (preferably w is 1, the formula x is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9, more preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9. The covering material is as thin as the monomolecular layer thickness or has a maximum layer thickness of about 1000 nm. The container includes blood that can be returned to the patient's vasculature that fills the lumen in contact with the Si w O x C y H z coating.

VII.C.2. 容器壁上での凝固または血小板活性化を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材
本発明の別の態様は、壁を有する容器である。当該壁は内腔を定義する内面を有し、PECVDにより有機ケイ素前駆体から生成される保護(例:疎水性)被覆材を少なくとも一部有し、好ましくはSiwOxCyHz被覆材(好ましくはwは1、この公式のx約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、より好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)を有する。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。当該被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に曝露したクエン酸ナトリウム添加剤処理済みの血漿の血小板活性化を減少させるのに有効である。 当該被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に曝露した血液の凝固を減少させるのに有効である。
VII.C.2. Coatings deposited from organosilicon precursors that reduce clotting or platelet activation on the vessel wall
Another aspect of the present invention is a container having a wall. The wall has an inner surface defining a lumen and at least part of a protective (eg hydrophobic) coating produced from an organosilicon precursor by PECVD, preferably a Si w O x C y H z coating Material (preferably w is 1, this formula x is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9, more preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 To about 3, z has 6 to about 9). The layer thickness of the coating material is monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. The dressing is effective in reducing platelet activation of plasma treated with sodium citrate additive exposed to the inner surface compared to an uncoated wall of the same type. The dressing is effective in reducing clotting of blood exposed to the inner surface compared to the same type of uncoated wall.

VII.C.3. 第III族または第IV族金属元素の被覆材を有する生存血液包含容器
本発明の別の態様は、内腔を定義する内面を有する壁を含む血液包含容器である。当該内面は少なくとも一部が、炭素、1種以上の第III族金属、1種以上の第IV族金属、これら2種以上の複合体を含む組成物の被覆材で被覆される。当該被覆材の層厚は、両立的に、内面上で単分子〜約1000nmである。当該容器には、当該被覆材と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.3. A living blood containing vessel with a coating of a Group III or Group IV metal element
Another aspect of the invention is a blood containing container including a wall having an inner surface defining a lumen. The inner surface is at least partially coated with a coating of a composition comprising carbon, one or more Group III metals, one or more Group IV metals, or a composite of two or more of these. The layer thickness of the covering material is compatible with a single molecule to about 1000 nm on the inner surface. The container includes blood that can be returned to the patient's vasculature that fills the lumen in contact with the dressing.

VII.C.4. 容器内血液の凝固または血小板活性化を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材
随意に、前段落の容器において、第III族または第IV族元素の被覆材は、当該容器壁内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.C.4. Group III or Group IV coatings that reduce blood clotting or platelet activation
Optionally, in the container of the previous paragraph, a Group III or Group IV element coating is effective to reduce clotting or platelet activation of blood exposed to the inner wall of the container.

VII.D.1. 有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有するインスリン包含容器
本発明の別の態様は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。当該内面は、PECVDにより有機ケイ素前駆体から生成される保護被覆材を少なくとも一部有し、好ましくはSiwOxCyHz被覆材(好ましくはwは1、この公式のx約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、より好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)を有する。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。インスリンは、SiwOxCyHz被覆材と接触する内腔内に充填される。
VII.D.1. Insulin-containing container with coating deposited from organosilicon precursor
Another aspect of the invention is an insulin containing container including a wall having an inner surface defining a lumen. The inner surface has at least part of a protective coating produced from an organosilicon precursor by PECVD, preferably a Si w O x C y H z coating (preferably w is 1, the formula x about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9, more preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9. The layer thickness of the coating material is monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. Insulin is loaded into the lumen in contact with the Si w O x C y H z dressing.

VII.D.2. 容器内のインスリン沈殿を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材
随意に、前段落の容器において、当該SiwOxCyHz被覆材は同種類のSiwOxCyHz非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
VII.D.2. Coating material deposited from organosilicon precursor to reduce insulin precipitation in the container
Optionally, in the container of the previous paragraph, the Si w O x C y H z coating is a precipitate from insulin that contacts the inner surface compared to the same type of Si w O x C y H z uncoated wall. It is effective in reducing molding.

VII.D.3. 第III族または第IV族元素被覆材を有するインスリン包含容器
本発明の別の態様は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。当該内面は少なくとも一部が、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。インスリンは、当該被覆材と接触する管腔内に充填される。
VII.D.3. Insulin-containing container with Group III or Group IV element coating
Another aspect of the invention is an insulin containing container including a wall having an inner surface defining a lumen. The inner surface is at least partially coated with a coating material of a composition comprising carbon, one or more Group III elements, one or more Group IV elements, or a composite of two or more of these. The layer thickness of the coating material is monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. Insulin is filled into the lumen in contact with the dressing.

VII.D.4. 容器内インスリンの沈殿を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材
随意に、前段落の容器において、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
VII.D.4. Group III or Group IV coating that reduces the precipitation of insulin in the container
Optionally, in the container of the preceding paragraph, the coating material of the composition comprising carbon, one or more Group III elements, one or more Group IV elements, or a composite of two or more of these is the same type of uncoated Compared to the wall, it is effective in reducing precipitate formation from insulin that contacts the inner surface.

VII.E.キュベット
本明細書で説明するPECVD被覆法などはまた、キュベットを被覆して遮断性被覆材、疎水性被覆材、潤滑性被覆材、またはそれらの組合せを成形するのに有用である。キュベットは円または四角い断面を有し一端が密閉されている小型管で、プラスチック、ガラス、または溶融水晶(紫外線用)を原料として製造され、分光実験用の検体を把持するよう設計される。最良のキュベットは限りなく透明で、分光学的計測に影響を与える可能性がある不純物を含まない。試験管または検体採取管と同様、キュベットは外気に通じる開口部またはそれを密閉する蓋を有する場合がある。本発明のPECVD塗布被覆材は非常に薄く、透明で、光学的に平坦であり、したがって当該キュベットまたはその含有物の光学試験を阻害することはない。
VII.E.Cuvette
The PECVD coating methods described herein are also useful for coating cuvettes to form barrier coatings, hydrophobic coatings, lubricity coatings, or combinations thereof. A cuvette is a small tube having a circular or square cross section and sealed at one end, and is made of plastic, glass, or molten quartz (for ultraviolet rays) as a raw material and designed to hold a specimen for spectroscopic experiments. The best cuvettes are infinitely clear and free of impurities that can affect spectroscopic measurements. Like a test tube or specimen collection tube, a cuvette may have an opening that leads to outside air or a lid that seals it. The PECVD coating of the present invention is very thin, transparent and optically flat and therefore does not interfere with optical testing of the cuvette or its contents.

VII.F.バイアル
本明細書で説明するPECVD被覆法などはまた、バイアルを被覆して例えば遮断性被覆材、疎水性被覆材、またはそれらの組合せを成形するのに有用である。バイアルは小型の容器または瓶で、特に流体、粉末、凍結乾燥粉末の医薬品を保管するのに使用される。例えば、分析クロマトグラフィーの自動サンプラー装置で使用される、検体容器である場合もある。バイアルは、首部を有する管状または瓶状の形態である場合がある。底部は通常平らになっており、丸みを帯びた底を持つことが多い試験管または検体採取管とは異なる。バイアルの原料は、例えばプラスチック(ポリプロピレン、COC、COPなど)である場合がある。
VII.F.Vial
The PECVD coating methods described herein are also useful for coating vials to form, for example, barrier coatings, hydrophobic coatings, or combinations thereof. Vials are small containers or bottles that are used to store pharmaceutical products, particularly fluids, powders, and lyophilized powders. For example, it may be a sample container used in an automatic sampler apparatus for analytical chromatography. The vial may be in the form of a tube or bottle with a neck. The bottom is usually flat, unlike test tubes or specimen collection tubes, which often have a rounded bottom. The raw material of the vial may be plastic (polypropylene, COC, COP, etc.), for example.

コンピュータに読み込み可能な媒体およびプログラム要素
さらに、容器処理システムのプロセッサで実行する場合に容器の被覆および/または検査のためのコンピュータープログラムを保存する、コンピューターに読み込み可能な媒体を提供し、当該プロセッサに前述または後述の手順を実行させる:
Computer-readable media and program elements
In addition, a computer readable medium is provided that stores a computer program for container coating and / or inspection when executed on a processor of the container processing system, and causes the processor to perform the procedures described above or below:

さらに、容器処理システムのプロセッサにより実行される場合に、当該プロセッサに前述または後述の手順を実行させる、容器被覆および/または検査のためのプログラム要素を提供する。               In addition, program elements for container coating and / or inspection are provided that, when executed by a processor of the container processing system, cause the processor to perform the procedures described above or below.

本発明のその他の態様は、本開示および添付図面により明示される。
Other aspects of the invention will be apparent from the disclosure and the accompanying drawings.

本開示の実施例に記載の容器処理システムを示す概略図である。It is the schematic which shows the container processing system as described in the Example of this indication. 本開示の実施例に記載の被覆ステーションの容器ホルダーの概略断面図である。2 is a schematic cross-sectional view of a container holder of a coating station according to an embodiment of the disclosure. FIG. 図2に類似の本開示の代替実施例の図である。FIG. 3 is a diagram of an alternative embodiment of the present disclosure similar to FIG. 当該容器ホルダーの代替実施例の図解平面図である。FIG. 6 is an illustrative plan view of an alternative embodiment of the container holder. 当該容器ホルダーの別の代替実施例の図解平面図である。FIG. 7 is an illustrative plan view of another alternative embodiment of the container holder. 図2に類似の容器検査装置の図である。FIG. 3 is a view of a container inspection device similar to FIG. 図2に類似の別の容器検査装置の図である。FIG. 3 is a view of another container inspection device similar to FIG. 図2の切断線A−Aに沿った断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along a cutting line AA in FIG. 図8に示す構造の代替実施例である。FIG. 9 is an alternative embodiment of the structure shown in FIG. 図2に類似の本開示の別の実施例に記載のCCD検出器を利用する被覆ステーションの容器ホルダーである。Figure 3 is a container holder for a coating station that utilizes a CCD detector as described in another embodiment of the present disclosure similar to Figure 2; 図10に類似の図6の対応部分と比較して反転している光線源および検出器の詳細図である。FIG. 11 is a detailed view of the light source and detector inverted relative to the corresponding parts of FIG. 6 similar to FIG. 図2に類似の本開示の別の実施例に記載の、マイクロ波エネルギーを利用してプラズマを生成する被覆ステーションの容器ホルダーである。3 is a container holder for a coating station that utilizes microwave energy to generate a plasma, as described in another embodiment of the present disclosure similar to FIG. 図2に類似の本開示のまた別の実施例に記載の、当該容器を当該処理ステーションの容器ホルダー上に装填可能な被覆ステーションの容器ホルダーである。FIG. 3 is a container holder of a coating station where the container can be loaded onto the container holder of the processing station, as described in yet another embodiment of the present disclosure similar to FIG. 図2に類似の本開示のさらに別の実施例に記載の、当該電極をコイルとして設定可能である被覆ステーションの容器ホルダーである。FIG. 3 is a container holder of a coating station where the electrode can be set as a coil, as described in yet another embodiment of the present disclosure similar to FIG. 図2に類似の本開示の別の実施例に記載の、搬送管を利用して容器を被覆ステーションから/へと移動させる被覆ステーションの容器ホルダーである。FIG. 3 is a container holder for a coating station that uses a transfer tube to move a container to / from the coating station, as described in another embodiment of the present disclosure similar to FIG. 図15に示す例のように処理ステーション内で容器を把持するためのおよび位置づけするための、容器搬送システムの工程の図解図である。FIG. 16 is an illustrative view of a process of a container transport system for gripping and positioning a container in a processing station as in the example shown in FIG. 本開示の態様に記載の容器成形のためのモールドおよびモールド空洞部の図解図である。FIG. 3 is an illustrative view of a mold for molding a container and a mold cavity according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の態様に記載の容器被覆装置と共に提供される 図17のモールド空洞部の図解図である。FIG. 18 is an illustrative view of the mold cavity of FIG. 17 provided with a container coating apparatus according to an embodiment of the present disclosure. 図17に類似の本開示の態様に記載の別の容器被覆装置の図である。FIG. 18 is a view of another container coating apparatus described in an embodiment of the present disclosure similar to FIG. 充填済みシリンジとしての使用のために適合されたシリンジおよび蓋の分解縦断面図である。FIG. 3 is an exploded longitudinal section view of a syringe and lid adapted for use as a prefilled syringe. 通常図2に類似の本開示の実施例に記載の被覆ステーションの蓋付きシリンジバレルおよび容器ホルダーを示す図である。FIG. 3 shows a covered syringe barrel and container holder of a coating station as described in an embodiment of the present disclosure, typically similar to FIG. 通常図21に類似の本開示のさらに別の実施例に記載の被覆ステーションの蓋なしシリンジバレルおよび容器ホルダーを示す図である。FIG. 22 illustrates a lidless syringe barrel and container holder of a coating station as described in yet another embodiment of the present disclosure, typically similar to FIG. 本発明のまた別の実施例に記載の閉包部を有する採血管アセンブリの斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a blood collection tube assembly having a closure according to still another embodiment of the present invention. 図23の採血管および閉包部アセンブリの断片部位である。FIG. 24 is a fragmentary portion of the blood collection tube and closure assembly of FIG. 図23と24の閉包部のエラストマー製挿入部の分離断面図である。FIG. 25 is a separated sectional view of the elastomeric insertion portion of the closure portion of FIGS. 23 and 24. 図22に類似のシリンジバレルおよび別の容器を処理するための本発明の別の実施例である。FIG. 23 is another embodiment of the present invention for processing a syringe barrel and another container similar to FIG. 図26の処理容器の拡大詳細図である。FIG. 27 is an enlarged detail view of the processing container of FIG. 26. 別の処理容器の概略図である。It is the schematic of another processing container. 被覆材を通る物質のガス放出を示す概略図である。It is the schematic which shows the gas emission of the substance which passes along a coating | covering material. 容器壁から容器内部へのガス放出誘導のための試験設定、および当該容器と真空源の間に介在する測定函を利用するガス放出測定の概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a test setting for inducing gas emission from the container wall to the inside of the container and gas emission measurement using a measurement box interposed between the container and the vacuum source. 複数容器のための図30の試験設定上で測定されたガス放出質量流量率の 図である。FIG. 31 is a diagram of outgassing mass flow rate measured on the test setup of FIG. 30 for multiple containers. 図31に示すエンドポイントデータの分析を示す棒グラフである。FIG. 32 is a bar graph showing an analysis of the endpoint data shown in FIG. 31. FIG. 本発明の別の実施例に記載の結合シリンジバレルの縦断面図とガス受入量である。It is the longitudinal cross-sectional view and gas acceptance amount of the coupling syringe barrel as described in another Example of this invention. 図34に類似の電極突出し長さを含む本発明の別の実施例である。FIG. 35 is another embodiment of the present invention including an electrode overhang length similar to FIG. 図34の遠位ガス供給開口部および突出し電極を示す 図34の切断線35 - 35からの断面図である。FIG. 35 is a cross-sectional view from section line 35-35 of FIG. 34 showing the distal gas supply opening and protruding electrode of FIG. 本発明のまた別の実施例に記載の、二重壁の採血管アセンブリの斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a double wall blood collection tube assembly according to yet another embodiment of the present invention. 図22に類似の別の実施例を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing another embodiment similar to FIG. 図22に類似のまた別の実施例を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing another embodiment similar to FIG. 図22に類似のさらに別の実施例を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing still another embodiment similar to FIG. 図22に類似のまたさらに別の実施例を示す図である。FIG. 23 is a view showing still another embodiment similar to FIG. 図40の実施例の平面図。FIG. 41 is a plan view of the embodiment of FIG. 40. 容器ホルダー上に容器を装填するために、例えば図 1、2、3、6〜10、12〜16、18、19、33、および37〜41の実施例と併用可能な、代替の密閉装備の断片詳細縦断面図である。図42はまた、例えば図 2、3、6〜10、12〜22、26〜28、33〜34、および37〜41の実施例と併用可能な、シリンジバレル構造を示す。For the loading of the container on the container holder, for example of alternative sealing equipment which can be used in conjunction with the embodiments of FIGS. 1, 2, 3, 6-10, 12-16, 18, 19, 33 and 37-41. It is fragment | piece detail longitudinal cross-sectional view. FIG. 42 also illustrates a syringe barrel structure that can be used, for example, with the embodiments of FIGS. 2, 3, 6-10, 12-22, 26-28, 33-34, and 37-41. 図42に示す密閉装備の拡大詳細図である。FIG. 43 is an enlarged detail view of the sealing equipment shown in FIG. 図2に類似のガス供給管/内部電極を示す図であり、例えば図 1、2、3、8、9、12〜16、18〜19、21〜22、33、37〜43、46〜49、および52〜54の実施例と併用可能である。FIG. 4 is a view showing a gas supply pipe / internal electrode similar to FIG. 2, for example, FIG. 1, 2, 3, 8, 9, 12-16, 18-19, 21-22, 33, 37-43, 46-49. , And 52-54 examples. 例えば図1、2、3、6〜10、12〜16、18、19、21、22、26、28、33〜35、および37〜44の実施例と併用可能な容器ホルダーの別の構造である。For example, in another construction of the container holder that can be used with the embodiments of FIGS. 1, 2, 3, 6-10, 12-16, 18, 19, 21, 22, 26, 28, 33-35, and 37-44. is there. 完全な前進位置にあるガス供給管を示す、一連のガス供給管およびガス供給管を容器ホルダーへと/から挿入/除去する機構の概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a series of gas supply tubes and a mechanism for inserting / removing gas supply tubes into / out of a container holder, showing the gas supply tube in a fully advanced position. 図46に類似の中間位置にあるガス供給管を示す図である。FIG. 47 is a view showing a gas supply pipe in an intermediate position similar to FIG. 図46に類似の格納位置にあるガス供給管を示す図である。図46〜48のガス供給管の配列は、例えば図1、2、3、8、9、12〜16、18〜19、21〜22、26〜28、33〜35、37〜45、49、および52〜54の実施例と併用可能である。46〜48図の機構は、例えば図 2、3、8、9、12〜16、18〜19、21〜22、26〜28、33〜35、37〜45、49、および52〜54のガス供給管実施例と併用可能であり、また図6および7の容器検査装置のプローブとも併用可能である。FIG. 47 is a view showing a gas supply pipe in a storage position similar to FIG. The arrangement of the gas supply pipes in FIGS. 46 to 48 is, for example, FIGS. 1, 2, 3, 8, 9, 12 to 16, 18 to 19, 21 to 22, 26 to 28, 33 to 35, 37 to 45, 49, And can be used in combination with Examples 52-54. The mechanism of FIGS. 46-48 is for example the gas of FIGS. 2, 3, 8, 9, 12-16, 18-19, 21-22, 26-28, 33-35, 37-45, 49, and 52-54. It can be used in combination with the supply pipe embodiment, and can also be used in combination with the probe of the container inspection apparatus of FIGS. 図16に類似の処理対象容器と洗浄反応器をPECVD被覆材装置へと搬送する機構を示す図である。図49の機構は、例えば図1、9、15、および16の容器検査装置と併用可能である。FIG. 17 is a view showing a mechanism for transporting a container to be treated and a cleaning reactor similar to FIG. 16 to a PECVD coating material apparatus. The mechanism of FIG. 49 can be used in combination with, for example, the container inspection device of FIGS. 1, 9, 15, and 16. 2部構成シリンジバレルおよびルアーロック取付部の分解図である。当該シリンジバレルは、例えば図1〜22、26〜28、33〜35、37〜39、44、および53〜54の容器処理および検査装置と併用可能である。It is an exploded view of a two-part syringe barrel and a luer lock attachment part. The syringe barrel can be used in combination with, for example, the container processing and inspection devices of FIGS. 1 to 22, 26 to 28, 33 to 35, 37 to 39, 44, and 53 to 54. 図50の2部構成シリンジバレルおよびルアーロック取付部の組立図である。FIG. 51 is an assembly diagram of the two-part syringe barrel and luer lock attachment part of FIG. 50. 図42に類似のフランジまたは指止め440のない処理済みシリンジバレルを示す図である。当該シリンジバレルは、例えば図1〜19、27、33、35、44〜51、および53〜54の容器処理および検査装置と併用可能である。FIG. 43 shows a treated syringe barrel without a flange or finger stop 440 similar to FIG. The syringe barrel can be used in combination with, for example, the container processing and inspection apparatus of FIGS. 1 to 19, 27, 33, 35, 44 to 51, and 53 to 54. 処理容器のアセンブリの概略図である。当該アセンブリは、例えば図1〜3、8〜9、12〜16、18〜22、26〜28、33〜35、および37-49の装置と併用可能である。FIG. 3 is a schematic view of a process vessel assembly. The assembly can be used with, for example, the devices of FIGS. 1-3, 8-9, 12-16, 18-22, 26-28, 33-35, and 37-49. 図53の実施例の図解図である。FIG. 54 is an illustrative view of the embodiment of FIG. 53. 図2に類似のプラズマ遮蔽体を含む本発明の一実施例の図解図である。FIG. 3 is an illustrative view of one embodiment of the present invention including a plasma shield similar to FIG. 独立したガス供給源を有する一連のガス供給管およびガス供給管を容器ホルダーへと/から挿入/除去する機構の概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a series of gas supply pipes having independent gas supply sources and a mechanism for inserting / removing the gas supply pipes into / from the container holder. 実施例19で測定されたガス放出質量流量率のプロットである。10 is a plot of outgassing mass flow rate measured in Example 19. リニアラックを示すか、または図4に類似の図である。FIG. 5 shows a linear rack or a view similar to FIG. 本発明の模範的実施例に記載の容器処理システムの配置図である。FIG. 2 is a layout view of a container processing system according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の別の模範的実施例に記載の容器処理システムの配置図である。FIG. 6 is a layout view of a container processing system according to another exemplary embodiment of the present invention. 本発明の模範的実施例に記載の容器処理システムの処理ステーションを示す。2 shows a processing station of a container processing system according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の模範的実施例に記載の携帯型容器ホルダーを示す。2 shows a portable container holder as described in an exemplary embodiment of the invention.

好適実施例の詳細な説明
本発明について、複数の実施例を示す添付図面を参照しながら、ここからより詳細な説明を行う。しかし本発明は、多数の形態で実施可能であり、以下に挙げる実施例に制限されるものではない。むしろこれらの実施例は本発明の例であり、請求項の文面により完全な範囲が示される。類似番号は、類似または対応する要素に言及する。
Detailed Description of the Preferred Embodiment
The present invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings showing a plurality of embodiments. However, the present invention can be implemented in many forms and is not limited to the following examples. Rather, these embodiments are examples of the present invention and the full scope is indicated by the language of the claims. Similar numbers refer to similar or corresponding elements.

本発明の文脈において、以下の定義および略称を使用する:
RFは無線周波数(radio frequency)、sccmは標準立方センチメートル毎分(standard cubic centimeters per minute)を指す。
In the context of the present invention, the following definitions and abbreviations are used:
RF refers to radio frequency and sccm refers to standard cubic centimeters per minute.

本発明の文脈における用語「少なくとも」は、前述用語の後に続く整数「以上」であることを意味する。用語「からなる」はその他の要素または手順が含まれる場合があり、単数形物質は別途指定がない限り複数である場合がある。               The term “at least” in the context of the present invention means an integer “greater than or equal to” following the preceding term. The term “consisting of” may include other elements or procedures, and the singular substance may be plural unless otherwise specified.

「第1」および「第2」または類似の、例えば処理 ステーションまたは処理機器を指す用語は、存在する処理ステーションまたは機器の最低数を示すが、必ずしも処理 テーションおよび機器の順番または合計数を表すものではない。これらの用語は、処理ステーションまたは各ステーションで行われる特定の処理の数を制限するものではない。               `` First '' and `` second '' or similar terms, such as referring to processing stations or equipment, indicate the minimum number of processing stations or equipment present, but do not necessarily represent the order or total number of processing stations and equipment is not. These terms are not intended to limit the number of processing operations performed at or at each station.

本発明の目的において、「有機ケイ素前駆体」は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物である:

Figure 2012526921
当該結合は、酸素原子1つおよび有機炭素原子1つ(有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子)と結合する四価ケイ素原子である。PECVD装置内で蒸気として供給される前駆体として定義される揮発性有機ケイ素前駆体が、望ましい有機ケイ素前駆体である。好ましくは当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。 For the purposes of the present invention, an “organosilicon precursor” is a compound having at least one of the following bonds:
Figure 2012526921
The bond is a tetravalent silicon atom bonded to one oxygen atom and one organic carbon atom (an organic carbon atom is a carbon atom bonded to at least one hydrogen atom). Volatile organosilicon precursors, defined as precursors supplied as vapor in PECVD equipment, are desirable organosilicon precursors. Preferably the organosilicon precursor is a linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, alkyltrimethoxysilane, linear silazane, monocyclic silazane, polycyclic silazane, polysilsesquiazane, and These precursors are selected from the group consisting of two or more complexes.

本発明の文脈において、一部の実施例のガス状反応物質について「本質的に無酸素」または(同意語として)「実質上無酸素」の表現が追加されている。 これは、一部の残存大気中酸素が反応空間に存在する場合があり、前手順で供給され完全に排出されなかった残存酸素が反応空間に存在する場合があるという意味であり、本質的に酸素が存在しないことを定義する。特にガス状反応物質が1 vol%未満のO2からなる場合、より好ましくは0.5 vol%未満のO2からなる場合、さらにより好ましくはO2を一切含んでいない場合、酸素は当該ガス状反応物質内に事実上存在しない。また酸素が当該ガス状反応物質に一切追加されない場合、またはPECVD中に酸素の存在が一切認められない場合もまた、「実質的に無酸素」の範疇に入る。 In the context of the present invention, the expression “essentially oxygen-free” or (as synonymous) “substantially oxygen-free” is added for the gaseous reactants of some examples. This means that some residual atmospheric oxygen may be present in the reaction space, and residual oxygen that was supplied in the previous procedure and not completely exhausted may be present in the reaction space. Define the absence of oxygen. Particularly when gaseous reactants consist O 2 less than 1 vol%, if more preferably consisting of O 2 of less than 0.5 vol%, if even more preferably does not contain O 2 at all, the oxygen the gaseous reaction Virtually absent from the substance. Also, if no oxygen is added to the gaseous reactant, or if no oxygen is present during PECVD, it is also in the category of “substantially oxygen-free”.

本発明の文脈における「容器」は、少なくとも1つの開口部と内面を定義する壁を有するあらゆる種類の容器である場合がある。本発明の文脈における用語「少なくとも」は、前述用語の後に続く整数「以上」であることを意味する。したがって、本発明の文脈における容器は、1つ以上の開口部を有する。検体管の開口部(1つ)またはシリンジバレルの開口部(2つ)のように、1つまたは2つの開口部が望ましい。当該容器が2つの開口部を有する場合、それらは同一または異なるサイズである場合がある。開口部が1つ以上である場合、1つの開口部は本発明に記載のPECVD被覆法のガス吸入のために使用し、その他の開口部は蓋をするか開口状態にすることが可能である。本発明に記載の容器は、例えば血液、尿などの生物学的流体を採取/保管する検体管、 生物学的に活性な化合物または組成物(薬剤または医薬組成物)を保管/搬送するシリンジ(またはシリンジバレルなどその一部)、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を保管するバイアル、生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を搬送する導管(例えばカテーテル)、流体例えば生体物質または生物学的に活性な化合物または組成物を把持するキュベットである可能性がある。               A “container” in the context of the present invention may be any kind of container having at least one opening and a wall defining an inner surface. The term “at least” in the context of the present invention means an integer “greater than or equal to” following the preceding term. Thus, a container in the context of the present invention has one or more openings. One or two openings are desirable, such as one specimen tube opening or two syringe barrel openings. If the container has two openings, they may be the same or different sizes. If there is more than one opening, one opening can be used for gas inhalation of PECVD coating method described in the present invention, and the other opening can be capped or open . The container according to the present invention comprises a sample tube for collecting / storing biological fluids such as blood and urine, a syringe for storing / carrying a biologically active compound or composition (drug or pharmaceutical composition) ( Or a portion thereof, such as a syringe barrel), a vial that stores biological material or biologically active compound or composition, a conduit (eg, a catheter) that carries biological material or biologically active compound or composition, a fluid For example, it may be a cuvette that grips biological material or a biologically active compound or composition.

容器はあらゆる形状をとる場合があり、少なくとも1つの開口端に隣接する実質上シリンダー状の壁を有する容器が望ましい.通常、当該容器の内部壁は、例えば検体管またはシリンジバレルのようにシリンダー状の形状をしている。検体管またはシリンジまたはその一部(例えばシリンジバレル)が特に望ましい。               The container may take any shape, and is preferably a container having a substantially cylindrical wall adjacent to at least one open end, typically the inner wall of the container is cylindrical, such as a sample tube or syringe barrel. It has the shape of Sample tubes or syringes or parts thereof (eg syringe barrels) are particularly desirable.

本発明の文脈における「疎水性被覆材」は、前述被覆材で被覆される表面のぬれ張力を、非被覆表面と比較して低下させる被覆材を意味する。疎水性は、したがって、非被覆基板および被覆の両方の機能である。適切な変更を伴う同様のことが、用語 「疎水性」が使用されるその他の文脈に適用される。用語「親水性」はその反対を意味し、すなわち参照検体と比較してぬれ張力が増大することを意味する。本発明の文脈において特定の疎水性被覆材は、経験的公式または総和公式SiwOxCyHz(wは1、xは0.5〜2.4、yは0.6 〜3、およびzは2〜9)を有する被覆材である場合がある。 “Hydrophobic coating” in the context of the present invention means a coating which reduces the wetting tension of the surface coated with said coating compared to an uncoated surface. Hydrophobicity is therefore a function of both the uncoated substrate and the coating. The same with appropriate changes applies to other contexts where the term “hydrophobic” is used. The term “hydrophilic” means the opposite, ie, increased wetting tension compared to a reference analyte. Certain hydrophobic coatings in the context of the present invention are empirical or summation formulas Si w O x C y H z (w is 1, x is 0.5 to 2.4, y is 0.6 to 3, and z is 2 to 9 ).

「ぬれ張力」とは、表面の疎水性または親水性の特定の測定値である。本発明の文脈における望ましいぬれ張力の測定方法は、ASTM D 2578またはASTM D 2578内で説明される方法の改良法である。当該方法では、標準のぬれ張力溶液(ダイン溶液と呼ばれる)を使用して、当該溶液が2秒間でプラスチック膜表面の湿潤状態にどれだけ近づくかを判定する。これが当該膜のぬれ張力である。 本明細書内で使用される手順はASTM D 2578のものとは異なり、当該基板は平板プラスチック膜ではなく、「PET管を成形するためのプロトコル」に従い製造され(対照を除き)「管内部を疎水性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い被覆された管である(実施例9を参照)。               “Wet tension” is a specific measurement of the hydrophobicity or hydrophilicity of a surface. The preferred method of measuring wetting tension in the context of the present invention is an improved method described in ASTM D 2578 or ASTM D 2578. The method uses a standard wetting tension solution (called a dyne solution) to determine how close the solution is to the wet state of the plastic membrane surface in 2 seconds. This is the wetting tension of the film. The procedure used herein is different from that of ASTM D 2578, and the substrate is not a flat plastic membrane, but is manufactured according to the “Protocol for Molding PET Tubes” (except for the control) A tube coated according to the protocol for coating with a hydrophobic coating (see Example 9).

本発明に記載の「潤滑性被覆材」は、非被覆表面より摩擦抵抗が低い潤滑性被覆材を指す。言い換えれば、非被覆の参照表面と比較して被覆表面の摩擦抵抗を低下させる被覆材である。「摩擦抵抗」は、静的摩擦抵抗 および/または動的摩擦抵抗である場合がある。本発明の望ましい実施例の1つに、潤滑性被覆材で被覆されたシリンジの部品、例えばシリンジバレルまたはプランジャーが挙げられる。この望ましい実施例において、本発明の文脈における静的摩擦抵抗は本明細書で定義する起動力であり、本発明の文脈における動的摩擦抵抗は本明細書で定義するプランジャースライド力である。例えば、本明細書で定義し決定するプランジャースライド力は、当該被覆材がシリンジまたはシリンジ部品、例えばシリンジバレル内壁に塗布されるときはいつでも、本発明の文脈における潤滑性被覆材の有無および潤滑性特性を決定するのに適する。当該起動力は、充填済みシリンジに対する被覆材作用の評価に特定の関連があり、すなわち、被覆後に充填され当該シリンジを再び動かす(「起動」する)まで長期保存(数カ月または数年)されるシリンジに関する。               The “lubricating coating” described in the present invention refers to a lubricating coating having a lower frictional resistance than an uncoated surface. In other words, the coating material reduces the frictional resistance of the coated surface as compared to the uncoated reference surface. “Friction resistance” may be static friction resistance and / or dynamic friction resistance. One preferred embodiment of the present invention includes a syringe part, such as a syringe barrel or plunger, coated with a lubricity coating. In this preferred embodiment, the static frictional resistance in the context of the present invention is the starting force as defined herein, and the dynamic frictional resistance in the context of the present invention is the plunger sliding force as defined herein. For example, the plunger sliding force as defined and determined herein is the presence or absence of lubricious coating and lubrication in the context of the present invention whenever the coating is applied to a syringe or syringe part, eg, the syringe barrel inner wall. Suitable for determining sex characteristics. The activation force is of particular relevance to the evaluation of the coating effect on a filled syringe, ie a syringe that is filled after coating and stored for a long time (months or years) until the syringe is moved again ("activated"). About.

本発明の文脈における「プランジャースライド力」は、例えば吸引または投与の際にシリンジバレル内でのプランジャーの移動を維持するのに必要な力である。これは有利に、本明細書内で述べるおよび当技術分野で周知のISO 7886-1:1993試験を利用して決定される。当技術分野で使用される「プランジャースライド力」の類義語として、「プランジャー力」または「プッシュ力」が挙げられる。               The “plunger sliding force” in the context of the present invention is the force necessary to maintain the movement of the plunger within the syringe barrel, for example during aspiration or administration. This is advantageously determined utilizing the ISO 7886-1: 1993 test described herein and well known in the art. Synonyms for “plunger sliding force” as used in the art include “plunger force” or “pushing force”.

本発明の文脈における「起動力」は、シリンジ内(例えば充填済みシリンジ内)のプランジャーの移動に必要な初期動力である。               “Activation force” in the context of the present invention is the initial power required to move the plunger within the syringe (eg, within a prefilled syringe).

「プランジャー スライド力」と「起動力」およびそれらの測定方法は、後続セクションでより詳細に説明する。               “Plunger sliding force” and “starting force” and their measurement methods are described in more detail in the following sections.

「スライド可能に」とは、当該プランジャーをシリンジバレル内でスライドできる状態であることを指す。               “Slidably” means that the plunger can be slid within the syringe barrel.

本発明の文脈において、「実質上固定」とは、いかなる当該組立部品も互いに大幅に位置を変えることなしに、当該組立部品(以下でさらに説明するポート、ダクト、筺体)を1つのユニットとして移動可能であることを意味する。具体的には、ホースまたは通常の使用において当該部品同士の実質的な相対的移動を引き起こす類似部材により、接続されている部品はないということである。実質上固定状態のこれらの部品の提供により、当該容器ホルダー上の装填済み容器の位置が、当該筺体に固定されているこれらの部品の位置とほぼ同様に既知かつ正確であることが可能となる。               In the context of the present invention, “substantially fixed” means that the assembly parts (ports, ducts, housings described further below) are moved as a unit without any significant change in position of the assembly parts relative to each other. It means that it is possible. Specifically, no parts are connected by a hose or similar member that causes substantial relative movement between the parts in normal use. Providing these parts in a substantially fixed state allows the position of the loaded container on the container holder to be known and accurate in much the same way as the position of these parts fixed to the housing. .

以下において、まず本発明を実行する装置を説明し、その後当該被覆法、被覆材と被覆容器、本発明に記載の使用法について説明する。               In the following, the apparatus for carrying out the present invention will be described first, and then the coating method, the coating material and the coating container, and the usage method described in the present invention will be described.

I. 複数処理ステーションと複数容器ホルダーを有する容器処理システム
I.容器処理システムが第1処理ステーション、第2処理ステーション、多数の容器ホルダー、およびコンベヤーからなると考えられる。当該第1処理ステーションは、開口部および内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。当該第2処理ステーションは、当該第1処理ステーションから離れて設置され、開口部および内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される。
I. Container processing system with multiple processing stations and multiple container holders
I. It is considered that the container processing system consists of a first processing station, a second processing station, a number of container holders, and a conveyor. The first processing station is configured to process a container having a wall defining an opening and an inner surface. The second processing station is set apart from the first processing station and is configured to process a container having a wall defining an opening and an inner surface.

I.一部の、随意にすべての当該容器ホルダーは、第1処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、当該容器開口部を収受し装填するよう設定される容器ポートを含む。当該コンベヤーは、第2処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、第1処理ステーションから第2処理ステーションへと一連の当該容器ホルダーおよび装填済み容器を搬送するよう設定される。               I. Some, optionally all such container holders are configured to receive and load the container opening for processing the inner surface of the loaded container via the container port at the first processing station. Includes ports. The conveyor is configured to transport a series of the container holders and loaded containers from the first processing station to the second processing station for processing the inner surface of the loaded containers via the container port at the second processing station. Is done.

I.まず図1を参照にして、容器処理システム(通常20)を示す。当該容器処理システムは、より広範には処理機器と考えられる処理ステーションを含む。図示する当該実施例の容器処理システム20は、射出成形機22(処理ステーションまたは機器と見なされる場合あり)、追加の処理ステーションまたは機器24、26、28、30、32、および34、および出力36(処理ステーションまたは機器と見なされる場合あり)を含む。最低要件として、当該システム20は少なくとも第1処理ステーション(例えば ステーション28)、および第2処理ステーション(例えば30、32、または34)を有する。               I. First, referring to FIG. 1, a container processing system (usually 20) is shown. The vessel processing system includes a processing station, more broadly considered a processing equipment. The illustrated example container processing system 20 includes an injection molding machine 22 (which may be considered a processing station or equipment), additional processing stations or equipment 24, 26, 28, 30, 32, and 34, and an output 36. (May be considered a processing station or equipment). As a minimum requirement, the system 20 has at least a first processing station (eg, station 28) and a second processing station (eg, 30, 32, or 34).

I.図示する当該実施例の処理ステーション22〜36のいずれかを第1処理ステーションに、別の処理ステーションを第2処理ステーションに、と設定可能である。               I. Any one of the processing stations 22 to 36 in the illustrated embodiment can be set as the first processing station, and another processing station can be set as the second processing station.

I.図1に図示する当該実施例 は、以下の8つの処理 ステーションまたは機器を含む:22、24、、26、28、30、32、34、および36。当該模範的容器処理システム20は、射出成形機22、モールド後検査ステーション24、被覆前検査ステーション26、被覆ステーション28、被覆後検査ステーション30、被覆材層厚決定のための光学源透過ステーション32、被覆材欠陥検出のための光学源透過ステーション34、出力ステーション36を含む。               I. The embodiment illustrated in FIG. 1 includes the following eight processing stations or equipment: 22, 24, 26, 28, 30, 32, 34, and 36. The exemplary container processing system 20 includes an injection molding machine 22, a post-mold inspection station 24, a pre-coating inspection station 26, a coating station 28, a post-coating inspection station 30, an optical source transmission station 32 for coating layer thickness determination, An optical source transmission station 34 and an output station 36 for covering material defect detection are included.

I.当該システム20は、容器を当該射出成形機22から容器ホルダー38へと移動させるための搬送機構72を含む。当該搬送機構72は、例えば当該容器成形機22から当該容器80を取り出して容器ホルダー(38など)に設置するための、当該容器の位置付け、移動、把持、搬送、適合、装填、解除を行うロボットアームとして設定可能である。               I. The system 20 includes a transport mechanism 72 for moving the container from the injection molding machine 22 to the container holder 38. The transport mechanism 72 is a robot that positions, moves, grips, transports, adapts, loads, and releases the container, for example, to take out the container 80 from the container molding machine 22 and place it in a container holder (38, etc.) It can be set as an arm.

I.当該システム20はまた、処理ステーション74において、当該装填済み容器(80など)の内面を処理し、その後当該容器を1つ以上の容器ホルダー(66など)から取り出すための搬送機構を含む(図1)。当該容器80は、したがって、当該容器ホルダー66から包装、保管またはその他の適切な領域または処理手順(通常36)へと移動可能である。当該搬送機構74は、例えば当該容器成形機38などから当該容器80を取り出して当該ステーション36のその他の機器上に装填するための、当該容器の位置付け、移動、把持、搬送、適合、装填、解除を行うロボットアームとして設定可能である。               I. The system 20 also includes a transport mechanism for processing the inner surface of the loaded container (such as 80) at a processing station 74 and then removing the container from one or more container holders (such as 66) ( Figure 1). The container 80 can therefore be moved from the container holder 66 to packaging, storage or other suitable area or processing procedure (usually 36). The transport mechanism 74 is positioned, moved, gripped, transported, adapted, loaded, and released for the container 80 to be taken out from the container molding machine 38 and loaded on other equipment of the station 36, for example. It can be set as a robot arm that performs.

I.図1に示す当該処理ステーションまたは機器32、34、および36は、個々の容器80を当該容器ホルダー64などから取り出した後に、被覆および検査システム20の終盤工程で随意に1つ以上の適切な手順を実行可能である。当該ステーションまたは機器32、34、および36の機能の限定されない実施例の一部には以下が含まれる:
処理装置に向けての、当該処理済または検査済み容器80のコンベヤー上への留置、
当該容器への化学物質の添加、
当該容器への蓋の添付、
適切な処理ラックへの当該容器の留置、
当該容器の包装、および
当該包装済み容器の滅菌。
I. The processing station or equipment 32, 34, and 36 shown in FIG. 1 may optionally include one or more appropriate ones in the final stages of the coating and inspection system 20 after the individual containers 80 are removed from the container holder 64, etc. Simple steps can be performed. Some non-limiting examples of functions of the stations or equipment 32, 34, and 36 include the following:
Placement of the treated or inspected container 80 on a conveyor towards the processing equipment,
Addition of chemicals to the container,
Attaching a lid to the container,
Placing the container in a suitable processing rack,
Packaging of the container and sterilization of the packaged container.

I.図1に示す当該容器処理システム20はまた、多数の容器ホルダー(または「パック」、一部実施例内のものがホッケーパックに類似しているため)(それぞれ38〜68)および1つ以上の当該容器ホルダー38〜68、 したがって容器80などを当該処理ステーション22、24、26、28、30、32、34、および36へと/から搬送するための循環調帯70で通常表されるコンベヤーを含む。               I. The container handling system 20 shown in FIG. 1 also includes a number of container holders (or “packs”, some of which are similar to hockey packs in some embodiments) (38-68 each) and one The above container holders 38-68, and thus the container 80, etc., are typically represented by a circulation zone 70 for transporting to / from the processing stations 22, 24, 26, 28, 30, 32, 34, and 36. Includes conveyor.

I.当該処理 ステーションまたは機器22は、当該容器80を成形するための機器である場合がある。1つの考えられる機器22として、射出成形機が挙げられる。別の考えられる機器22として、ブロー成形機が挙げられる。真空モールド機、流し成形機、裁断機またはフライス盤、ガラスまたはその他の流し成形可能素材用のガラス流し機、またはその他の種類の容器成形機もまた考えられる。随意に、容器が既に成形済みである場合、当該容器成形ステーション22は省略可能である。               I. The processing station or device 22 may be a device for forming the container 80. One possible device 22 is an injection molding machine. Another possible equipment 22 is a blow molding machine. Also contemplated are vacuum molding machines, casting machines, cutting or milling machines, glass casting machines for glass or other castable materials, or other types of container forming machines. Optionally, if the container is already molded, the container forming station 22 can be omitted.

II. 容器ホルダー
II.A. 当該容器処理の間、開口部を有する容器を把持および搬送するため、当該携帯型容器ホルダー38〜68を用意する。当該容器ホルダーは、容器ポート、第2ポート、ダクト、搬送可能筺体を包含する。
II. Container holder
II.A. During the container processing, the portable container holders 38-68 are prepared for gripping and transporting the container having the opening. The container holder includes a container port, a second port, a duct, and a transportable casing.

II.A. 当該容器ポートは、相互に通過可能な状態で容器開口部を装填するよう設定される。当該第2ポートは、外気供給を受入または放出するよう設定される。当該ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器開口部と第2ポートの間で1種以上のガスを通気させるよう設定される。当該容器ポート、第2ポート、およびダクトは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着される。随意に、当該携帯型容器ホルダーの重量は5ポンド未満である。 容器ホルダーを軽量化することで、1つの処理ステーションから次の処理ステーションへとより容易に搬送可能となる。               II.A. The container ports are set to load the container openings in a mutually passable manner. The second port is set to accept or discharge the outside air supply. The duct is set to vent one or more gases between the container opening loaded on the container port and the second port. The container port, the second port, and the duct are attached to the transportable casing in a substantially fixed state. Optionally, the portable container holder weighs less than 5 pounds. By reducing the weight of the container holder, it can be more easily transferred from one processing station to the next.

II.A. 当該容器ホルダーの特定の実施例において、当該ダクトはより具体的には、真空ダクトであり、そして当該第2ポートは、より具体的にには真空ポートである。当該真空ダクトは、容器ポート上に装填済みの容器内部から容器ポート経由でガスを吸引するよう設定される。当該真空ポートは、当該真空ダクトと外部真空源の間の通過が可能となるよう設定される。当該容器ポート、真空ダクト、および真空ポートは、当該搬送可能筺体に実質上固定状態で装着可能である。               II.A. In a particular embodiment of the container holder, the duct is more specifically a vacuum duct, and the second port is more specifically a vacuum port. The vacuum duct is set to suck gas from the inside of the container loaded on the container port via the container port. The vacuum port is set to allow passage between the vacuum duct and an external vacuum source. The container port, the vacuum duct, and the vacuum port can be attached to the transportable housing in a substantially fixed state.

II.A. 実施例II.A.およびII.A.1.の当該容器ホルダーは、例えば図2に示される。当該容器ホルダー50は、当該容器80の開口部収受し装填するよう設定される容器ポート82を有する。装填済み容器80の内面を、当該容器ポート82経由で処理可能である。当該容器ホルダー50には、当該容器ポート92上に装填済みの容器80からガスを吸引するためのダクト、例えば真空ダクト94が含まれる。当該容器ホルダーには、当該真空ダクト94と外部真空源、例えば真空ポンプ98の間を通過する第2ポート、例えば真空ポート96が含まれる。当該容器ポート92および真空ポート96は封止素子、例えば オーリング隣接密閉部(それぞれ100および102)を有する、または当該容器ポート82のシリンダー状の内/外壁と当該容器80のシリンダー状の内/外壁の間の側密閉部を有する場合があり、それにより当該容器80または外部真空源98と共に密閉部を収受し成形しながら、当該ポートを通しての通過を可能とする。ガスケットまたはその他の密閉装備もまた、使用可能である。               II.A. The container holder of Examples II.A. and II.A.1. Is shown, for example, in FIG. The container holder 50 has a container port 82 set to receive and load the opening of the container 80. The inner surface of the loaded container 80 can be processed via the container port 82. The container holder 50 includes a duct for sucking gas from the container 80 loaded on the container port 92, for example, a vacuum duct 94. The container holder includes a second port, such as a vacuum port 96, that passes between the vacuum duct 94 and an external vacuum source, such as a vacuum pump 98. The container port 92 and the vacuum port 96 have sealing elements such as O-ring adjacent seals (100 and 102 respectively), or the cylindrical inner / outer wall of the container port 82 and the cylindrical inner / outer wall of the container 80 There may be side seals between the outer walls, thereby allowing passage through the port while receiving and molding the seal with the vessel 80 or external vacuum source 98. Gaskets or other sealing equipment can also be used.

II.A. 当該容器ホルダー50などはあらゆる素材、例えば熱可塑性素材および/または非導電性素材で作成可能である。または、当該容器ホルダー50などは、一部をまたは大部分を導電性素材から作成可能であり、特に当該容器ポート92、真空ダクト94、および真空ポート96より定義される当該経路において非導電素材と対面させることが可能である。当該容器ホルダー50に適切な素材の例は以下の通り:ポリアセタール(例えばデラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Companyが販売するDelrin(登録商標)アセタールl素材)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)(例えばデラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Companyが販売するTeflon(登録商標) PTFE、超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、またはその他の当技術分野で既知のまたは新開発された素材。               II.A. The container holder 50 and the like can be made of any material, for example, a thermoplastic material and / or a non-conductive material. Alternatively, the container holder 50 or the like can be made partly or mostly from a conductive material, and in particular in the path defined by the container port 92, the vacuum duct 94, and the vacuum port 96, It is possible to face each other. Examples of suitable materials for the container holder 50 are: polyacetal (eg, Delrin® acetal material sold by EI du Pont De Nemours and Company, Wilmington, Del.), Polytetrafluoroethylene (PTFE) (Eg, Teflon® PTFE, ultra high molecular weight polyethylene (UHMWPE), high density polyethylene (HDPE), or other known or new in the art sold by EI du Pont De Nemours and Company, Wilmington, Delaware Developed material.

II.A. 図2により、 当該容器ホルダー50などが、当該ポート92上に接近するまたは装填済みである当該容器80をセンタリングするための、カラー116を有する場合があることも図示される。               II.A. FIG. 2 also illustrates that the container holder 50 or the like may have a collar 116 for centering the container 80 that is approaching or loaded on the port 92.

容器ホルダーの配列
II.A. 部品を製造システム内で処理、検査、および/または移動するためのさらなる別のアプローチとして、容器ホルダーの配列を使用することが可能である。当該配列は個々のパックから、または当該機器を装填する間断ない配列からなる場合がある。配列により、1つ以上の機器、随意に多数の機器で同時に試験、搬送、処理/被覆を実行可能である。当該配列は、例えばグループ化して線状ラックを形成する一次元式、またはタブやトレーに類似の二次元式である場合がある。
Container holder arrangement
II.A. An array of container holders can be used as yet another approach to processing, inspecting, and / or moving parts within a manufacturing system. The array may consist of individual packs or an uninterrupted array of equipment loaded. The arrangement allows testing, transporting, processing / coating to be performed simultaneously on one or more devices, optionally multiple devices. The arrangement may be, for example, a one-dimensional formula that groups to form a linear rack, or a two-dimensional formula similar to a tab or tray.

II.A. 図4、5、および58は、3配列のアプローチを示す。図4は、当該機器または容器80が装填される間断ない配列120を示す。この場合、当該機器または容器80が間断ない 配列として当該製造処理内を移動し、しかしながら製造処理の間にそれらを取り出して個別の容器ホルダーへと搬送可能である。単一容器ホルダー120は、ユニットとして移動する装填済み容器80などの配列を搬送するための、複数の容器ポート122などを有する。本実施例においては、真空源98の配列を収受するために複数の個別真空ポート96などを提供可能である。または、当該容器ポート96などに接続する単一真空ポートを提供可能である。複数ガス吸入プローブ108なども配列に提供可能である。当該ガス吸入プローブまたは真空源の配列は、多数の容器80などを同時にユニットとして移動させるために装着可能である。または、当該複数容器ポート122などは、処理ステーション内で一列/複数列ごとに同時に、または個別に処理可能である。当該配列内の機器の数は、単一手順でモールドされる機器の数、または処理中に当該作業効率化のためのその他の試験または手順に関する場合がある。配列を処理/被覆する場合、当該電極は(より大きな電極へと)カップリングする場合、またはそれぞれの電力供給装置を有する個別の電極である場合がある。上述アプローチはすべて、さらに(当該電極形状、周波数などの観点から)適用可能である。               II.A. FIGS. 4, 5 and 58 show a three-sequence approach. FIG. 4 shows an uninterrupted arrangement 120 in which the device or container 80 is loaded. In this case, the device or container 80 can be moved through the manufacturing process as an uninterrupted arrangement, but can be removed and transported to individual container holders during the manufacturing process. The single container holder 120 has a plurality of container ports 122 and the like for carrying an array of loaded containers 80 and the like that move as a unit. In this embodiment, a plurality of individual vacuum ports 96, etc. can be provided to receive the array of vacuum sources 98. Alternatively, a single vacuum port connected to the container port 96 or the like can be provided. Multiple gas inlet probes 108 and the like can also be provided in the array. The array of gas suction probes or vacuum sources can be mounted to move multiple containers 80 and the like as a unit at the same time. Alternatively, the plurality of container ports 122 and the like can be processed simultaneously or individually for each row / row in the processing station. The number of devices in the array may relate to the number of devices that are molded in a single procedure, or other tests or procedures for that work efficiency during processing. When processing / coating the array, the electrodes may be coupled (to larger electrodes) or may be individual electrodes with their respective power supplies. All the above approaches are further applicable (in terms of electrode shape, frequency, etc.).

II.A. 図5において、個別のパックまたは容器ホルダー(上述)は、外部フレーム130で包囲されて一配列へとまとめられる。この装備により、所望の場合は図4の間断ない配列の利点が 提供され、また当該容器80を異なる配列でまたは個別に処理するその他の処理手順のために、当該配列を分解することも可能である。               II.A. In FIG. 5, individual packs or container holders (described above) are enclosed in an outer frame 130 and grouped together. This equipment provides the advantages of the uninterrupted arrangement of FIG. 4 if desired, and the arrangement can be disassembled for other processing procedures that treat the containers 80 in different arrangements or individually. is there.

II.A. 図58はリニアラックを示すか、または図4に類似の図である。線状ラックを使用する場合、上述手順に加えて別のオプションとして、処理ステーションにおいて当該ラックを一列縦隊で搬送し当該容器を逐次処理することが挙げられる。               II.A. FIG. 58 shows a linear rack or is similar to FIG. In the case of using a linear rack, another option in addition to the above procedure is to convey the rack in a single row in a processing station and sequentially process the containers.

II.B. オーリング装備を含む容器ホルダー
II.B. 図42および43は順に容器ホルダー450の断片詳細縦断面図および詳細図であり、当該容器ホルダーは、容器ホルダー上に容器を装填するために例えば図2、3、6、7、19、12、13、16、18、19、30、および43の容器ホルダー実施例と併用可能な、代替の密閉装備を有する。図42を参照して、当該容器ホルダー450に装填済みの容器、例えばシリンジバレル438は、通常溝付き釘(および一般に面取りをしたまたは円形の)縁452、および通常シリンダー状の側壁454により定義される、後開口部442を有する。医学的流体採集管には一般に、同類の縁452はあるがフランジ440はない。したがって、代わりに容器ホルダー450上に装填可能である。
II.B. Container holder including O-ring equipment
FIGS. 42 and 43 are, in turn, fragmentary longitudinal cross-sectional views and detailed views of the container holder 450, which can be used, for example, FIGS. 2, 3, 6, 7, for loading containers onto the container holder. It has alternative sealing equipment that can be used with the 19, 12, 13, 16, 18, 19, 30, and 43 container holder embodiments. Referring to FIG. 42, a container preloaded in the container holder 450, such as a syringe barrel 438, is defined by a generally grooved nail (and generally chamfered or circular) edge 452 and a generally cylindrical side wall 454. And a rear opening 442. Medical fluid collection tubes generally have a similar edge 452 but no flange 440. Therefore, it can be loaded on the container holder 450 instead.

II.B. 図示する本実施例の当該容器ホルダー450には通常シリンダー状の内面456が含まれ、当該内面は図示する本実施例において、当該シリンジバレル438の当該通常シリンダー状の側壁454を収受するガイド面として機能する。当該壁はさらに、当該シリンジバレル438が当該容器ホルダー450上に装填済みである場合に当該溝付き釘縁452が当接する、通常溝付き釘である当接部458により定義される。当該内面456により成形される通常溝付き釘であるポケット部または溝460は、当該封止素子、例えばオーリング462を保持するために提供される。当該ポケット部460の半径方向深さは、当該封止素子、例えばオーリング462(図42に図示)の半径方向断面未満であり、当該オーリング462の内径は当該溝付き釘縁452の外径よりやや小さいことが好ましい。               II.B. The illustrated container holder 450 of the present example includes a generally cylindrical inner surface 456 that receives the generally cylindrical side wall 454 of the syringe barrel 438 in the illustrated example. Functions as a guide surface. The wall is further defined by an abutment 458, which is usually a slotted nail, against which the grooved nail rim 452 abuts when the syringe barrel 438 is loaded on the container holder 450. A pocket or groove 460, which is usually a grooved nail formed by the inner surface 456, is provided to hold the sealing element, eg, the O-ring 462. The radial depth of the pocket 460 is less than the radial cross section of the sealing element, eg, O-ring 462 (shown in FIG. 42), and the inner diameter of the O-ring 462 is the outer diameter of the grooved nail edge 452 It is preferable to be slightly smaller.

II.B. 当該相対的寸法により、当該オーリング462の半径方向断面は図42に示すように、少なくとも当該ポケット部460の外壁464 および当該シリンジバレル438の通常シリンダー状の側壁454の間を、図42に示すように容器438などが装填済みである場合に、水平方向に圧迫する。この圧迫により、当該オーリング462の支持面が平板化され、少なくとも当該ポケット部460の外壁464および当該シリンジバレル438の通常シリンダー状の側壁454の間に密閉部が成形される。               II.B. Due to the relative dimensions, the radial section of the O-ring 462 is at least between the outer wall 464 of the pocket 460 and the generally cylindrical side wall 454 of the syringe barrel 438, as shown in FIG. As shown in FIG. 42, when the container 438 or the like is already loaded, it is compressed in the horizontal direction. By this compression, the support surface of the O-ring 462 is flattened, and a sealed portion is formed at least between the outer wall 464 of the pocket portion 460 and the normal cylindrical side wall 454 of the syringe barrel 438.

II.B. 当該ポケット部460は随意に、当該オーリング462の寸法と関連させて、当該底壁466/頂壁468と当該側壁454との間2つ以上の密閉部を、当該頂壁468と底壁466の距離を対応する当該オーリング462の半径方向断面と同等に離すことにより、成形可能である。当該オーリング462が当該外壁464と当該ポケット部460の当該通常シリンダー状の側壁454の間で圧搾される場合、図43に示すように、その復元力により上下方向への拡張が起こり、したがって、当該頂壁466および底壁464に係合しそれらに当たって平板化する。当該オーリング462は随意に、したがって垂直および水平方向に変形し、通常円形の断面が四角形になる傾向がある。また、当接部458に装填済みの当該溝付き釘縁452は、PECVD処理反応物質および、後開口部442を通して/隣接して導入されるその他のガスと素材の流量を制限する。               II.B. The pocket 460 is optionally associated with the dimensions of the O-ring 462 to provide two or more seals between the bottom wall 466 / top wall 468 and the side wall 454, and the top wall 468. Can be formed by separating the distance between the bottom wall 466 and the corresponding radial section of the O-ring 462. When the O-ring 462 is squeezed between the outer wall 464 and the normal cylindrical side wall 454 of the pocket portion 460, as shown in FIG. The top wall 466 and the bottom wall 464 are engaged with and flattened. The O-ring 462 optionally deforms accordingly in the vertical and horizontal directions, and tends to have a generally circular cross section that is square. Also, the grooved nail rim 452 loaded in the abutment 458 limits the flow rate of PECVD process reactants and other gases and materials introduced through / adjacent the back opening 442.

II.B. 本オプション構造の結果として、図43に示すように、当該オーリング462の右下角にあるギャップのみが、当該オーリングの外部にあり、したがって当該容器438の内部に導入される/で生成される処理ガス、プラズマなどに曝露する。本構造は、不要なPECVD堆積および当該プラズマ内の活性化学種から当該オーリング462および(当該側壁438の外面の)当該隣接面を保護する。また当該容器438は、当該当接部458の硬表面によりさらに確実に位置されており、その他の図内で図示する当該オーリングへの直接の当該溝付き釘縁452の当接装填により提示される当該弾性表面とは対照的である。さらには、当該容器438を拘束し多大な揺動を阻止しているため、当該オーリング462の主要周辺に対応する部位への力は一様に分配される。               II.B. As a result of this optional structure, as shown in FIG. 43, only the gap in the lower right corner of the O-ring 462 is outside the O-ring and is therefore introduced into the container 438 / Exposure to processing gas, plasma, etc. This structure protects the O-ring 462 and the adjacent surface (of the outer surface of the sidewall 438) from unwanted PECVD deposition and active chemical species in the plasma. Further, the container 438 is positioned more securely by the hard surface of the contact portion 458, and is presented by contact loading of the grooved nail rim 452 directly into the O-ring illustrated in the other figures. In contrast to the elastic surface. Furthermore, since the container 438 is restrained to prevent a large swing, the force to the portion corresponding to the main periphery of the O-ring 462 is uniformly distributed.

II.B. または、当該ポケット部460は、図43に示す当該当接部458の上に、その底壁466で成形可能である。別の実施例において、二重またはより高レベルの密閉部を提供するため、および当該容器438が当該当接部458に対して装填済みである場合に揺動に対する拘束を強化するため、1つ以上の軸方向乖離ポケット部460を提供可能である。               II.B. Alternatively, the pocket portion 460 can be formed on the abutting portion 458 shown in FIG. In another embodiment, one to provide a double or higher level seal and to enhance the restraint against rocking when the container 438 is loaded against the abutment 458. The above axial divergence pocket portion 460 can be provided.

II.B. 図45は、例えば図1、2、3、6〜10、12〜16、18、19、21、22、26、28、33〜35、および37〜44の実施例と併用可能な容器ホルダー482の別の構造である。当該容器ホルダー482は、結合部488で結合する上部484および底部486からなる。密閉部、例えばオーリング490(当該リングの右側はそれを保持する当該ポケット部を説明するよう切除されている)は、当該結合部488にある当該上部484と当該底部486の間で拘束される。図示する当該実施例において当該オーリング490は、当該上部484が当該底部486へと結合する場合に当該オーリングを位置付けるために、溝付き釘ポケット部492内に収受される。               II.B. FIG. 45 can be used in conjunction with, for example, the embodiments of FIGS. 1, 2, 3, 6-10, 12-16, 18, 19, 21, 22, 26, 28, 33-35, and 37-44. This is another structure of the container holder 482. The container holder 482 includes an upper portion 484 and a bottom portion 486 that are coupled by a coupling portion 488. A seal, such as an O-ring 490 (the right side of the ring is cut away to describe the pocket that holds it) is constrained between the top 484 and the bottom 486 at the coupling 488. . In the illustrated embodiment, the O-ring 490 is received within a slotted nail pocket 492 for positioning the O-ring when the top 484 is coupled to the bottom 486.

II.B. 本実施例において当該オーリング490は、この場合当該ネジ498および500により捕捉され、当該上部484および当該底部486が結合する場合に、当該ポケット部492の一部を定義する当該放射状に伸延する壁496および放射状に伸延する当接部表面494を支持する。当該オーリング490はしたがって、当該上部484と底部486の間に装填される。当該上部484と底部486の間に捕捉される当該オーリング490はまた、当該容器80(その他の特徴図示を明確にするため本図においては省略)を収受し、図42の当該容器後開口部442のオーリング密閉部装備に類似している、当該容器80開口部の当該容器ポート502の第1オーリング密閉部を成形する。               II.B. In this embodiment, the O-ring 490 is captured by the screws 498 and 500 in this case, and the radial defining a portion of the pocket 492 when the top 484 and the bottom 486 are joined. A wall 496 extending radially and a contact surface 494 extending radially. The O-ring 490 is therefore loaded between the top 484 and the bottom 486. The O-ring 490 captured between the top 484 and the bottom 486 also receives the container 80 (omitted in this figure for clarity of other features) and the container rear opening of FIG. A first O-ring seal of the container port 502 at the opening of the container 80, similar to the 442 O-ring seal equipped, is formed.

II.B. 本実施例において、必須ではないが、当該容器ポート502は第1オーリング490密閉部と第2軸方向乖離オーリング504密閉部の両方を有し、どちらも当該容器ポート502と容器80などの間を密閉するための容器80などの(図43の当該側壁454 に類似している )外径を収受するサイズの内径506などを有する。当該オーリング490および504の間の空間により、軸方向に乖離する2つの地点で容器80などの支持体が提供され、当該容器80などの当該オーリング490および504または当該容器ポート502による歪曲を防止する。本実施例において、必須ではないが、当該放射状に伸延する当接部表面494は、当該オーリング490および506密閉部および真空ダクト508の周囲の近位部に位置する。               II.B. In this embodiment, although not essential, the container port 502 has both a first O-ring 490 sealing portion and a second axially separated O-ring 504 sealing portion, both of which are the container port 502 and An inner diameter 506 of a size for receiving an outer diameter (similar to the side wall 454 of FIG. 43) such as a container 80 for sealing between the containers 80 and the like. The space between the O-rings 490 and 504 provides a support such as the container 80 at two points that are axially separated from each other, and the O-rings 490 and 504 such as the container 80 or the container port 502 can be distorted. To prevent. In this embodiment, although not required, the radially extending abutment surface 494 is located proximally around the O-rings 490 and 506 seals and the vacuum duct 508.

III. 容器の搬送方法 - 容器ホルダーに装填済みの容器の処理
III.A. 処理ステーションへの容器ホルダーの搬送
III.A.図1、2、および10は、容器80の処理方法を示す。当該方法は以下の通り実行可能である。
III. Container Transport Method-Processing of Containers Loaded in Container Holder
III.A. Transport of container holder to processing station
III.A. FIGS. 1, 2 and 10 show how the container 80 is treated. The method can be performed as follows.

III.A.開口部82および内面88を定義する壁86を有する容器80を用意可能である。一実施例として、当該容器80をモールド22など内で成形し、その後取除去することが可能である。随意に、当該モールドからの容器の除去後60秒以内、30秒以内、25秒以内、20秒以内、15秒以内、10秒以内、5秒以内、3秒以内、1秒以内に、または処理中に歪曲されることなし(高温で製造され漸進的に冷却されると想定)に当該容器80を除去した直後に、当該容器 開口部82を該容器ポート92上に装填可能である。当該容器80を当該モールド22から当該容器ポート92へと迅速に移動させることで、当該表面88に付着する粉塵またはその他の不純物を削減し、遮断膜またはその他の種類の被覆材90への付着を遮蔽または防止する。また、製造後すぐに当該容器80に真空を引くほど、粒子状不純物が当該内面88に付着する可能性を低下させることができる。               III.A. A container 80 having a wall 86 defining an opening 82 and an inner surface 88 can be provided. As an example, the container 80 can be formed in the mold 22 or the like and then removed. Optionally, within 60 seconds, within 30 seconds, within 25 seconds, within 20 seconds, within 15 seconds, within 10 seconds, within 5 seconds, within 3 seconds, within 1 second, or processing after removal of the container from the mold The container opening 82 can be loaded onto the container port 92 immediately after removing the container 80 without being distorted therein (assuming it is manufactured at high temperature and gradually cooled). By quickly moving the container 80 from the mold 22 to the container port 92, dust or other impurities adhering to the surface 88 can be reduced, and adhesion to the barrier film or other types of coating material 90 can be reduced. Shield or prevent. In addition, as the container 80 is evacuated immediately after production, the possibility that particulate impurities adhere to the inner surface 88 can be reduced.

III.A.容器ポート92からなる容器ホルダー50などを用意可能である。当該容器80の開口部82を容器ポート92上に装填可能である。当該容器80の開口部82を当該容器ポート92上に装填する前、最中、後に、(例えば図6内の)当該容器ホルダー40などを 搬送して1つ以上の当該支持面220〜240と係合させ、当該処理機器またはステーション24などに関して当該容器ホルダー40を位置付けることが可能である。               A container holder 50 including a container port 92 can be prepared. The opening 82 of the container 80 can be loaded on the container port 92. Before, during, and after loading the opening 82 of the container 80 onto the container port 92, the container holder 40 or the like (for example, in FIG. 6) is transported to the one or more support surfaces 220 to 240. It is possible to engage and position the container holder 40 with respect to the processing equipment or station 24 or the like.

III.A.図6に示す当該ステーション24により図示されるように、1つ、1つ以上、またはすべての当該処理ステーション24〜34などは、当該処理ステーションまたは機器24などにおいて当該装填済み容器80の内面88を処理する間に、1つ以上の容器ホルダー40などを所定の位置で支持するための支持面、例えば1つ以上の当該支持面220、222、224、226、 228、230、232、234、236、238、または240を含む。これらの支持面は、例えば当該容器ホルダー40などを容器処理中にガイドし位置付ける行路またはガイドといった、定常構造または運動性構造の一部である場合がある。例えば、当該下向き支持面222および224は当該容器ホルダー40を位置付け、反応面のように機能して、当該プローブ108が当該容器ホルダー40に挿入されている場合の当該容器ホルダー40の上方への移動を防止する。当該反応面236は当該容器ホルダーを位置付け、当該真空源98(図2)が当該真空ポート96上に装填済みである場合の当該容器ホルダー40の左側への移動を防止する。当該支持面220、226、228、232、238、および240は同様に、当該容器ホルダー40を位置付け、処理中の水平移動を防止する。当該支持面230および234は同様に、当該容器ホルダー40などを位置付け、垂直方向への位置ずれを防止する。したがって、第1支持面、第2支持面、第3支持面、またはそれ以降は、各当該処理ステーション24〜34などに提供される可能性がある。               III.A. As illustrated by the station 24 shown in FIG. 6, one, one or more, or all of the processing stations 24-34, etc. may be loaded into the loaded container 80 at the processing station or equipment 24, etc. A support surface for supporting one or more container holders 40 or the like in place while processing the inner surface 88 thereof, e.g., one or more such support surfaces 220, 222, 224, 226, 228, 230, 232 , 234, 236, 238, or 240. These support surfaces may be part of a stationary or kinetic structure, such as a path or guide that guides and positions the container holder 40 or the like during container processing, for example. For example, the downwardly supported surfaces 222 and 224 position the container holder 40 and function like a reaction surface to move upward of the container holder 40 when the probe 108 is inserted into the container holder 40. To prevent. The reaction surface 236 positions the container holder and prevents the container holder 40 from moving to the left when the vacuum source 98 (FIG. 2) is already loaded on the vacuum port 96. The support surfaces 220, 226, 228, 232, 238, and 240 similarly position the container holder 40 and prevent horizontal movement during processing. Similarly, the support surfaces 230 and 234 position the container holder 40 and the like, and prevent displacement in the vertical direction. Therefore, the first support surface, the second support surface, the third support surface, or later may be provided to each processing station 24-34 or the like.

III.A.当該装填済み容器80の内面88を第1処理ステーションにおける容器ポート92経由で処理可能であり、1つの例として、図2で示す遮断膜塗布またはその他の種類の被覆材塗布の被覆ステーションである場合がある。当該容器ホルダー50および装填済み容器80は、第1処理ステーション28から第2処理ステーション、例えば処理ステーション32へと搬送される。当該装填済み容器80の内面88を、第2処理ステーション32などにおける容器ポート92経由で処理可能である。               III.A. The inner surface 88 of the loaded container 80 can be processed via the container port 92 at the first processing station, and as one example, the coating of the barrier film application or other type of coating material shown in FIG. It may be a station. The container holder 50 and the loaded container 80 are transported from the first processing station 28 to a second processing station, for example, the processing station 32. The inner surface 88 of the loaded container 80 can be processed via the container port 92 in the second processing station 32 or the like.

III.A.上記方法のいずれも、第2処理ステーションまたは機器における当該装填済み容器80の内面88の処理の後に、当該容器ホルダー66などから当該容器80を除去する、さらなる手順を含む場合がある。               III.A. Any of the above methods may include a further step of removing the container 80 from the container holder 66 or the like after processing of the inner surface 88 of the loaded container 80 at a second processing station or instrument. .

III.A.上記方法のいずれも、当該除去手順の後に、開口部82および内面88を定義する壁86を有する第2容器80を提供する、さらなる手順を含む場合がある。当該第2容器80などの開口部82を、別の容器ホルダー38などの容器ポート92上に装填可能である。当該装填済み第2容器80の内面を、第1処理ステーションまたは機器24などにおける容器ポート92経由で処理可能である。当該容器ホルダー38などおよび装填済み第2容器80は、第1処理ステーションまたは機器24から第2処理ステーションまたは機器26などへと搬送可能である。当該装填済み第2容器80を、第2処理ステーションまたは機器26により容器ポート92経由で処理可能である。               III.A. Any of the above methods may include a further procedure that provides a second container 80 having a wall 86 defining an opening 82 and an inner surface 88 after the removal procedure. An opening 82 such as the second container 80 can be loaded onto a container port 92 such as another container holder 38. The inner surface of the loaded second container 80 can be processed via the container port 92 in the first processing station or the device 24 or the like. The container holder 38 and the like and the loaded second container 80 can be transported from the first processing station or device 24 to the second processing station or device 26 or the like. The loaded second container 80 can be processed via the container port 92 by the second processing station or instrument 26.

III.B. 容器ホルダーへの処理機器の搬送またはその逆。
III.B.または、当該処理ステーションはより広範には処理機器である可能性があり、当該容器ホルダーの当該処理機器に応じた搬送、当該処理機器の当該容器ホルダーに応じた搬送、または各装備の一部の任意システム内での提供のいずれかが可能である。また別の装備において当該容器ホルダーは、1つ以上のステーションへと搬送可能であり、1つ以上の処理機器は少なくとも1つの当該ステーションへと/に隣接して配置可能である。したがって、当該処理機器と処理ステーションの間の相関的通信は必要ない。
III.B. Transport of processing equipment to the container holder or vice versa.
III.B. or the processing station may be a processing device more broadly, transfer of the container holder according to the processing device, transfer of the processing device according to the container holder, or each equipment Any of the provisions in some optional systems is possible. In another arrangement, the container holder can be transported to one or more stations, and the one or more processing equipment can be placed adjacent to / adjacent to at least one of the stations. Accordingly, there is no need for correlated communication between the processing equipment and the processing station.

III.B.複数部品を含む容器の処理方法が考えられる。第1処理機器、例えば当該プローブ108(図2)および第2処理機器、例えば光源170(図10)を、処理容器80などのために用意する。開口部82および内面88を定義する壁86を有する容器80を用意する。容器ポート92からなる容器ホルダー50を用意する。当該容器80の開口部82を容器ポート92上に装填する。               III.B. A method for treating containers containing multiple parts is conceivable. A first processing device such as the probe 108 (FIG. 2) and a second processing device such as a light source 170 (FIG. 10) are prepared for the processing container 80 and the like. A container 80 having a wall 86 defining an opening 82 and an inner surface 88 is provided. A container holder 50 including a container port 92 is prepared. The opening 82 of the container 80 is loaded on the container port 92.

III.B.当該第1処理機器、例えばプローブ108を移動させ、容器ホルダー50と動作可能に係合させる、またはその逆を行う。当該装填済み容器80の内面88を、第1処理機器またはプローブ108を使用して容器ポート92経由で処理する。               III.B. The first processing device, eg, the probe 108 is moved and operatively engaged with the container holder 50, or vice versa. The inner surface 88 of the loaded container 80 is processed via the container port 92 using the first processing equipment or probe 108.

III.B.第2処理機器170など(図10)をその後移動させ、容器ホルダー50と動作可能に係合させる、またはその逆を行う。当該装填済み容器80の内面88を、第2処理機器、例えば光源170を使用して容器ポート92経由で処理する。               III.B. The second processing equipment 170, etc. (FIG. 10) is then moved and operatively engaged with the container holder 50, or vice versa. The inner surface 88 of the loaded container 80 is processed via the container port 92 using a second processing device, such as a light source 170.

III.B.随意に、複数の追加処理手順を提供可能である。例えば、第3処理機器34を、容器80の処理のために提供可能である。第3処理機器34を移動させ、容器ホルダー50と動作可能に係合させる、またはその逆を行う。装填済み容器80の内面を、第3処理機器34を利用して当該容器ポート92経由で処理可能である。               III.B. Optionally, multiple additional processing steps can be provided. For example, a third processing device 34 can be provided for processing the container 80. The third processing device 34 is moved and operatively engaged with the container holder 50, or vice versa. The inner surface of the loaded container 80 can be processed via the container port 92 using the third processing device 34.

III.B.容器処理の別の方法において、開口部82および内面88を定義する壁86を有する容器80を用意可能である。容器ポート92からなる容器ホルダー50などを用意可能である。当該容器80の開口部82を容器ポート92上に装填可能である。当該装填済み容器80の内面88を第1処理機器により容器ポート92経由で処理可能であり、1つの例として、図2で示す遮断膜またはその他の種類の被覆材の被覆機器28である場合がある。当該容器ホルダー50および装填済み容器80は、第1処理機器28から第2処理機器、例えば図1および10に示す処理機器34へと搬送される。当該装填済み容器80の内面88を、第2処理機器34などにより容器ポート92経由で処理可能である。               III.B. In another method of container processing, a container 80 having a wall 86 defining an opening 82 and an inner surface 88 can be provided. A container holder 50 including a container port 92 can be prepared. The opening 82 of the container 80 can be loaded on the container port 92. The inner surface 88 of the loaded container 80 can be processed by the first processing device via the container port 92, and as one example, it may be the coating device 28 of the barrier film or other type of coating material shown in FIG. is there. The container holder 50 and loaded container 80 are transported from the first processing device 28 to a second processing device, for example, the processing device 34 shown in FIGS. The inner surface 88 of the loaded container 80 can be processed via the container port 92 by the second processing device 34 or the like.

III.C. 被覆ステーションへと/から管を搬送するための把持部の使用法
III.C.さらなる別の実施例は、複数手順を含む、第1容器のプラズマ促進化学蒸着(PECVD)処理の方法である。開口端、閉口端、内面を有する第1容器を用意する。第1把持部は少なくとも、当該第1容器の閉口端を選択的に把持および解除するよう設定する。当該第1容器の閉口端を第1把持部で把持し、第1把持部を利用しながら、第1容器開口端を装填するよう設定される容器ホルダー付近へと搬送する。その後、第1把持部を利用して第1容器を軸方向に前進させ、その開口端を容器ホルダー上に装填し、当該容器ホルダーと当該第1容器内の間の通過密閉を確立する。
III.C. Use of grips to transport tubes to / from the coating station
III.C. Yet another embodiment is a method of plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) treatment of a first vessel that includes multiple procedures. A first container having an open end, a closed end, and an inner surface is prepared. The first gripper is set to selectively grip and release the closed end of the first container. The closed end of the first container is gripped by the first gripping part, and conveyed to the vicinity of the container holder set to be loaded with the first container opening end while using the first gripping part. Thereafter, the first container is advanced in the axial direction using the first gripping portion, the opening end thereof is loaded on the container holder, and the passage seal between the container holder and the first container is established.

III.C.当該第1容器内に少なくとも1種類のガス状反応物質を当該容器ホルダーを通して導入する。第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、プラズマを第1容器内で生成する。               III.C. At least one gaseous reactant is introduced into the first container through the container holder. Plasma is generated in the first container under conditions effective to mold a reaction product of the reactant on the inner surface of the first container.

III.C.その後容器ホルダー上の第1容器の装填を解除し、第1把持部または別の把持部を利用しながら、当該第1容器を当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させる。その後、当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させるのに使用した把持部から、第1容器を解除する。               III.C. Thereafter, the loading of the first container on the container holder is released, and the first container is moved away from the container holder in the axial direction while using the first holding part or another holding part. Thereafter, the first container is released from the grip used to move away from the container holder in the axial direction.

III.C.再び図16および49を参照し、本明細書内に記載の装置および処理を通して、数把持部204などを支持および搬送するために一連のコンベヤー538を使用可能である。当該把持部204を当該一連のコンベヤー538に動作可能に接続し、少なくとも2つの容器80を当該容器ホルダー48の付近へと連続的に搬送するよう、および本明細書に記載の浄化方法のその他の手順を実行するよう設定する。               III.C. Referring again to FIGS. 16 and 49, a series of conveyors 538 can be used to support and transport the number grippers 204 and the like through the apparatus and processing described herein. The gripper 204 is operatively connected to the series of conveyors 538 to continuously convey at least two containers 80 to the vicinity of the container holder 48, and other of the purification methods described herein. Set the procedure to run.

IV. 容器製造のためのPECVD装置
IV.A. 容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むPECVD装置
IV.A.別の実施例は、容器ホルダー、内部電極、外部電極、電力供給装置からなるPECVD装置である。当該容器ホルダーに装填済みの容器は、随意に真空チャンバである、プラズマ反応チャンバを定義する。随意に、真空源、反応性ガス源、ガス供給装置、またはこれら2つ以上の組合せを用意可能である。随意に、必ずしも真空源をを含まないガス排出管を提供し、当該ポートに装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する。
IV. PECVD equipment for container production
IV.A. PECVD equipment including vessel holder, internal electrode, and vessel as reaction chamber
IV.A. Another embodiment is a PECVD apparatus comprising a container holder, internal electrodes, external electrodes, and a power supply device. The container loaded in the container holder defines a plasma reaction chamber, optionally a vacuum chamber. Optionally, a vacuum source, a reactive gas source, a gas supply device, or a combination of two or more of these can be provided. Optionally, a gas exhaust tube that does not necessarily include a vacuum source is provided, and gas is transferred to / from the interior of the container already loaded into the port to define a closed chamber.

IV.A. 当該PECVD装置は外気圧PECVDのために使用可能であり、その場合、当該プラズマ反応チャンバは真空チャンバとして機能する必要はない。               IV.A. The PECVD apparatus can be used for external pressure PECVD, in which case the plasma reaction chamber need not function as a vacuum chamber.

IV.A.図2に図示する当該実施例において、当該容器ホルダー50は当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポート104からなる。当該ガス吸入ポート104は、少なくとも1つのオーリング106または一連の2つのオーリングまたは一連の3つのオーリングにより提供されるスライド式密閉部を有し、当該密閉部はシリンダー状のプローブ108が当該ガス吸入ポート104を通して挿。当該プローブ108は、ガス供給ポートの遠位端110へと伸延するガス吸入導管である場合がある。図示する当該実施例の当該遠位端110は、1つ以上のPECVD反応物質およびその他の処理ガスを提供するために、当該容器80の奥へと挿入可能である。               In the embodiment illustrated in FIG. 2, the container holder 50 comprises a gas inlet port 104 for conveying gas to a container already loaded on the container port. The gas inlet port 104 has a sliding seal provided by at least one O-ring 106 or a series of two O-rings or a series of three O-rings. Insert through gas inlet port 104. The probe 108 may be a gas inlet conduit that extends to the distal end 110 of the gas supply port. The distal end 110 of the illustrated embodiment can be inserted deep into the vessel 80 to provide one or more PECVD reactants and other process gases.

IV.A.随意に、図2に図示する当該実施例において、またはより一般に、例えば図1〜5、8、9、12〜16、18、19、21、22、26〜28、33〜35、37〜49、または52〜55の実施例といった いかなる開示実施例において、および具体的に図55で開示される通り、 プラズマ遮蔽体610は、通常当該プラズマ遮蔽体610を超える容量で当該容器80内で生成されるプラズマを収容するために提供される。当該プラズマ遮蔽体610は導電性の多孔質材であり、複数の実施例において、スチールウール、多孔質焼結金属、または導電性素材で被覆されたセラミック材であり、金属(例えば真鍮)またはその他の導電性素材を原料とする小孔性プレートまたはディスクである。実施例は、当該ガス吸入部108を通すサイズである中央部孔を有有する2つの金属ディスクであり、当該ディスクはさらに、中心間距離0.04インチ(1 mm)で乖離する半径0.02インチ(0.5mm)の孔を有し、当該孔は当該ディスクの表面積の22%に当たる開口領域を提供する。               IV.A. Optionally, in the embodiment illustrated in FIG. 2, or more generally, for example, FIGS. 1-5, 8, 9, 12-16, 18, 19, 21, 22, 26-28, 33-35. In any disclosed embodiment, such as the 37-49, or 52-55 embodiments, and specifically as disclosed in FIG. 55, the plasma shield 610 typically has a volume that exceeds the plasma shield 610 in the container 80. Provided to contain the plasma generated therein. The plasma shield 610 is a conductive porous material, which in some embodiments is steel wool, porous sintered metal, or a ceramic material coated with a conductive material, such as metal (eg, brass) or other It is a small porous plate or disk made of a conductive material. An example is two metal discs with a central hole that is sized to pass through the gas inlet 108, and the disc further has a radius of 0.02 inch (0.5 mm) with a center-to-center distance of 0.04 inch (1 mm). ), Which provides an open area corresponding to 22% of the surface area of the disc.

IV.A. 当該プラズマ遮蔽体610は、特に当該プローブ108が対向電極としても機能する実施例については、当該管の開口部82、シリンジバレル、またはその他の処理対象容器80にある/付近にある当該ガス吸入部108に対して密接な電気接触をもたらす可能性がある。あるいは、当該プラズマ遮蔽体610は接地される場合があり、好ましくは当該ガス吸入部108と共通の電位を有する。当該プラズマ遮蔽体610は、当該容器ホルダー50およびその内部経路と接続(例:真空ダクト94、ガス吸入ポート104、オーリング106付近、真空ポート96、オーリング102、およびその他当該ガス吸入108に隣接する装置)内のプラズマを低減または消滅させる。同時に、当該プラズマ遮蔽体が多孔性であるため、当該容器80から当該真空ポート96および終盤工程装置への処理ガス、大気、および類似体の流量が可能となる。               IV.A. The plasma shield 610 is in / near the tube opening 82, syringe barrel, or other processing vessel 80, particularly for embodiments where the probe 108 also functions as a counter electrode. There is a possibility that an intimate electrical contact with the gas inlet 108 may be brought about. Alternatively, the plasma shield 610 may be grounded, and preferably has a common potential with the gas suction part 108. The plasma shield 610 is connected to the container holder 50 and its internal path (eg, near the vacuum duct 94, the gas suction port 104, the O-ring 106, the vacuum port 96, the O-ring 102, and other gas suction 108). To reduce or extinguish the plasma in the device. At the same time, since the plasma shield is porous, it is possible to flow the process gas, the atmosphere, and the like from the container 80 to the vacuum port 96 and the end process equipment.

IV.A.図3に図示する被覆ステーション28において、当該容器ホルダー112は、順に(プローブ108経由で)容器ポート92に装填済みの容器80へとガスを搬送するおよび(真空源98経由で)容器ポート92に装填済みの容器からガスを引き出すための、合成ガス吸入ポートおよび真空ポート96からなり、これらは当該容器ポート92と連絡する。本実施例において、当該ガス吸入プローブ108および真空源98は、合成プローブとして提供可能である。当該2つのプローブは、所望通りにユニットとしてまたは個別に前進させることが可能である。本装備により第3密閉部106の必要性がなくなり、至るところで当接密閉部を使用できるようになる。当接密閉部により、オーリングを変形させて当該容器80および真空源98を確実に装填するための軸力の適用、例えば当該容器80内に真空を引くことが可能となる。当該オーリングは、その両側の密閉表面のむらの有無により残されるギャップを閉じようとする傾向がある。図3の実施例において、当該容器ホルダー112上の容器80および真空源98により適用される軸力は、反対に、当該容器80および当該容器ホルダー112をともに把持しそれぞれの当接密閉部を維持する傾向がある。               IV.A. In the coating station 28 shown in FIG. 3, the vessel holder 112 in turn carries gas (via the probe 108) to the vessel 80 loaded in the vessel port 92 and (via the vacuum source 98). It consists of a synthetic gas inlet port and a vacuum port 96 for drawing gas from a container already loaded in the container port 92, and these communicate with the container port 92. In this embodiment, the gas suction probe 108 and the vacuum source 98 can be provided as a synthetic probe. The two probes can be advanced as a unit or individually as desired. This equipment eliminates the need for the third sealing portion 106 and allows the contact sealing portion to be used everywhere. The contact sealing portion can apply an axial force for deforming the O-ring to reliably load the container 80 and the vacuum source 98, for example, to draw a vacuum in the container 80. The O-ring tends to close the gap left by the presence or absence of unevenness of the sealing surfaces on both sides. In the embodiment of FIG. 3, the axial force applied by the container 80 and the vacuum source 98 on the container holder 112, on the other hand, holds both the container 80 and the container holder 112 together and maintains the respective contact sealing portions. Tend to.

IV.A.図13は、図2に類似の 本開示のまた別の実施例に記載の被覆ステーション内の容器ホルダー48であり、当該容器80は当該処理ステーションの容器ホルダー48上に装填可能である。これは、容器ホルダー48などと共に移動しない容器80の処理に使用可能である。または、装填済み容器80を別の装置へと当該システム20により搬送する前に当該容器80を容器ホルダー48などに装填する、遮断膜またはその他の種類の膜の被覆ステーション28において使用可能である。               FIG. 13 is similar to FIG. 2 and is a container holder 48 in a coating station according to yet another embodiment of the present disclosure, the container 80 being loadable onto the container holder 48 of the processing station. is there. This can be used to process a container 80 that does not move with the container holder 48 or the like. Alternatively, it can be used in a barrier membrane or other type of coating station 28 where the container 80 is loaded into a container holder 48 or the like before the loaded container 80 is transported by the system 20 to another apparatus.

IV.A.図13は、図2および9のU字型電極の代替としての、50Hz〜1GHzの周波数に適したシリンダー状電極160を示す。当該容器ホルダー(または当該電極)は、当該電極を下方にまたは当該容器ホルダーを上方に動かして有効化する前に、場所を移動可能である。または、垂直面における当該容器ホルダーおよび電極の移動は、クラムシェル型(当該容器ホルダーが定位置にあり処理/被覆準備完了である場合に対向側にある2つの半シリンダーが合わさる形)で構成される電極160を作成することで回避可能である。IV.A.随意に、真空を引き当該プローブ108を通してガスを導入する一方で当該被覆ステーション28などにおいて当該管を移動させる当該処理が継続的な処理である場合、当該被覆ステーション28において当該真空源98は、当該容器ホルダーの移動中に維持可能であるパックまたは容器ホルダー50を伴う密閉部を作成する。または、当該パックまたは容器ホルダー50を静止位置へと移動させるのに定常処理を利用して、その時点で当該プローブ108を当該機器へと押し上げ、当該ポンプまたは真空源98を当該真空ポート96で結合して真空状態を創出するために活性化させることが可能である。当該プローブ108が定位置につき真空状態が創出されたら、当該パック/容器ホルダー50および当該管/その他の容器80から独立している外部固定電極160を有する当該管または容器80内でプラズマを生成可能である。               FIG. 13 shows a cylindrical electrode 160 suitable for frequencies from 50 Hz to 1 GHz, as an alternative to the U-shaped electrode of FIGS. The container holder (or the electrode) can be moved in place before the electrode is activated by moving the electrode downward or the container holder upward. Alternatively, the movement of the container holder and electrode in the vertical plane is configured as a clamshell type (the two half-cylinders on the opposite side meet when the container holder is in place and ready for treatment / coating). This can be avoided by forming the electrode 160. IV.A. Optionally, if the process of moving the tube at the coating station 28 or the like is continuous while drawing a vacuum and introducing gas through the probe 108, the vacuum source at the coating station 28 98 creates a seal with a pack or container holder 50 that can be maintained during movement of the container holder. Alternatively, a steady process is used to move the pack or container holder 50 to a stationary position, at which point the probe 108 is pushed up to the instrument and the pump or vacuum source 98 is coupled at the vacuum port 96. And can be activated to create a vacuum. Once the probe 108 is in place and a vacuum is created, plasma can be generated in the tube or container 80 with the external fixed electrode 160 independent of the pack / container holder 50 and the tube / other container 80 It is.

IV.A.図53は、被覆ステーション28の追加オプション詳細図を示し、当該ステーションは例えば図1、2、3、 6〜10、12〜16、18、19、21、22、26〜28、30、33〜35、37〜44、および52の実施例と併用可能である。当該被覆ステーション28はまた、当該圧力センサー152へと繋がる真空管路576内にメイン真空弁574を有している。手動バイパス弁578を当該バイパス管路580内に用意する。通気弁582は当該通気孔404からの流量を制御する。               Fig. 53 shows an additional option detail view of the coating station 28, for example, Fig. 1, 2, 3, 6-10, 12-16, 18, 19, 21, 22, 26-28, Can be used with 30, 33-35, 37-44, and 52 examples. The coating station 28 also has a main vacuum valve 574 in a vacuum line 576 that leads to the pressure sensor 152. A manual bypass valve 578 is prepared in the bypass pipeline 580. The vent valve 582 controls the flow rate from the vent hole 404.

IV.A.当該PECVDガス源144からの流量は、当該メイン反応物供給管路586を通して流量を調整するメイン反応性ガス弁584により制御される。当該ガス源144の一構成要素として、有機ケイ素流体貯留層588が挙げられる。当該貯留層588の内容物は、所望の流量率を提供するのに適した長さで提供される当該有機ケイ素キャピラリー線590を通して引かれる。有機ケイ素蒸気の流量は、当該有機ケイ素遮断弁592により制御される。当該流体貯留層588のヘッドスペース614に圧力を適用し、例えば 圧力管路618により当該ヘッドスペース614へと接続される圧搾空気といった圧力源616からの0〜15psi(0〜78cm.Hg)の範囲の圧力を適用して、気圧(およびその振動)に依存しない反復可能な有機ケイ素流体供給を確立する。当該貯留層588は密閉されており、当該キャピラリー接続620は当該貯留層588の底部にあり、(当該ヘッドスペース614からの加圧ガスではなく)純有機ケイ素流体のみが当該キャピラリー管590を流れるよう確保している。当該有機ケイ素流体は、随意に、温度、有機ケイ素蒸気生成のため当該有機ケイ素流体を蒸発させることが必須または望ましい場合は、気温以上に加熱可能である。質量流量制御装置598で制御され酸素遮断弁600が搭載される酸素供給管路596経由で、当該酸素タンク594から酸素を提供する。               IV.A. The flow rate from the PECVD gas source 144 is controlled by a main reactive gas valve 584 that regulates the flow rate through the main reactant supply line 586. One component of the gas source 144 is an organosilicon fluid reservoir 588. The contents of the reservoir 588 are drawn through the organosilicon capillary wire 590 provided at a length suitable to provide the desired flow rate. The flow rate of the organosilicon vapor is controlled by the organosilicon shutoff valve 592. Apply pressure to the headspace 614 of the fluid reservoir 588 and range from 0 to 15 psi (0 to 78 cm.Hg) from a pressure source 616 such as compressed air connected to the headspace 614 by a pressure line 618 Is applied to establish a repeatable organosilicon fluid supply independent of atmospheric pressure (and its vibration). The reservoir 588 is hermetically sealed and the capillary connection 620 is at the bottom of the reservoir 588 such that only pure organosilicon fluid (not the pressurized gas from the headspace 614) flows through the capillary tube 590. Secured. The organosilicon fluid can optionally be heated above ambient temperature if it is essential or desirable to evaporate the organosilicon fluid to produce temperature, organosilicon vapor. Oxygen is supplied from the oxygen tank 594 via an oxygen supply line 596 controlled by the mass flow controller 598 and equipped with an oxygen shutoff valve 600.

IV.A.図 7の実施例において、当該ステーションまたは機器26は、当該真空ポート96上に装填するよう適合される真空源98、当該プローブ108に接続のサイドチャネル134、または両方(図示)を含む場合がある。図示する当該実施例において、当該サイドチャネル134はプローブポート138と真空ポート140の間の流量を調整する遮断弁136を含む。図示する当該実施例において、当該選択弁136は少なくとも2つの状態を有する:当該ポート138および140が接続されガスが流れる2つの並行経路が提供される(したがって当該ポンプ率が上昇するか当該ポンプ作業が減少する)真空状態、および当該ポート138および140が分離される遮断状態。随意に、当該選択弁136は、例えばガス源144からPECVD反応/処理ガスを導入するPECVDガス吸入ポート142としての、第3ポートを有する。本手段により、同一の真空供給およびプローブ108の漏出/透過試験のための使用、または遮断膜またはその他の種類の被覆材塗布のための使用が可能となる。               IV.A. In the embodiment of FIG. 7, the station or instrument 26 has a vacuum source 98 adapted to load on the vacuum port 96, a side channel 134 connected to the probe 108, or both (shown). May include. In the illustrated embodiment, the side channel 134 includes a shut-off valve 136 that regulates the flow rate between the probe port 138 and the vacuum port 140. In the illustrated embodiment, the selection valve 136 has at least two states: the ports 138 and 140 are connected to provide two parallel paths through which gas flows (thus increasing the pump rate or the pumping operation). A vacuum state, and a shut-off state where the ports 138 and 140 are separated. Optionally, the selection valve 136 has a third port, for example, as a PECVD gas inlet port 142 for introducing PECVD reaction / treatment gas from a gas source 144. This means allows the same vacuum supply and probe 108 to be used for leak / permeation testing, or for the application of barrier films or other types of coatings.

IV.A.図示する当該実施例において、当該真空源98への当該真空管路146なども、遮断弁148を含む。当該遮断弁136および148は、当該プローブ108および真空源98が容器ホルダー44などに接続されていないため、当該サイドチャネル134および当該真空管路146を、1つの容器ホルダー44を別のものへと移動するときに当該容器80から離して当該弁136および148側で真空にする必要がない場合に、閉鎖可能である。当該プローブ108を当該ガス吸入ポート104から軸方向に取り外すのを促進するため、たわみ管路150を提供して、当該ポート96に関する当該真空管路146に依存しない当該プローブ108の軸方向移動を可能にしている。               IV.A. In the illustrated embodiment, the vacuum line 146 to the vacuum source 98, etc. also includes a shut-off valve 148. Since the probe 108 and the vacuum source 98 are not connected to the container holder 44 or the like, the shut-off valves 136 and 148 move the side channel 134 and the vacuum pipe line 146 from one container holder 44 to another. Can be closed when it is not necessary to evacuate the vessel 136 and 148 away from the container 80. In order to facilitate the axial removal of the probe 108 from the gas inlet port 104, a flexible conduit 150 is provided to allow axial movement of the probe 108 independent of the vacuum conduit 146 relative to the port 96. ing.

IV.A.図7はまた、いかなる実施例とも併用可能な別のオプション機能 - 弁406により制御される外気へと通じる通気孔404を示す。当該容器80の当該容器ホルダー44からの解除、当該真空ポート96の当該容器ホルダー44の当該真空源98からの解除、または随意にその両方のいずれかを行うため、当該容器80の処理後即座に当該弁406を開口して当該真空状態を解除可能である。               FIG. 7 also shows another optional feature that can be used with any embodiment—a vent 404 leading to outside air controlled by a valve 406. Immediately after processing of the container 80 to either release the container 80 from the container holder 44, release the vacuum port 96 from the vacuum source 98 of the container holder 44, or optionally both. The vacuum state can be released by opening the valve 406.

IV.A.図示する当該実施例において(ここでも図7を参照 )、当該プローブ108はまた圧力計152に接続可能であり、当該容器80の内部154と連絡可能であるため、当該容器80内の圧力を測定可能である。               IV.A. In the illustrated embodiment (again, see FIG. 7), the probe 108 is also connectable to a pressure gauge 152 and can communicate with the interior 154 of the container 80, so Can be measured.

IV.A.図1の装置において、当該容器被覆ステーション28は、さらに後に説明するように、例えば、図2に示すようにSiOx遮断膜またはその他の種類の被覆材90を容器80の内面88に堆積するのに適した条件下で動作する、PECVD装置である場合がある。 IV.A. In the apparatus of FIG. 1, the vessel coating station 28 may, for example, apply a SiO x barrier film or other type of coating 90, as shown in FIG. It may be a PECVD apparatus that operates under conditions suitable for deposition.

IV.A.特に図1および2を参照にして、当該処理ステーション28は、処理中に当該容器80内にプラズマを生成するための電界を提供するための無線周波電力供給装置162により供給を受ける、電極160を含む場合がある。この実施例において、当該プローブ108はまた導電性でありかつ接地されており、当該容器80内に対向電極を提供する。あるいはいかなる実施例においても、当該外部電極160は接地可能であり、当該プローブ108は当該電力供給装置162へと直接接続可能である。               IV.A. With particular reference to FIGS. 1 and 2, the processing station 28 is fed by a radio frequency power supply 162 for providing an electric field for generating plasma in the vessel 80 during processing. The electrode 160 may be included. In this embodiment, the probe 108 is also conductive and grounded, providing a counter electrode in the container 80. Alternatively, in any embodiment, the external electrode 160 can be grounded and the probe 108 can be directly connected to the power supply 162.

IV.A.図 2の実施例において、当該外部電極160は、図2および8に図示するように通常シリンダー状であるか、図2および9に図示するように通常U字型である 場合がある(図 8および9は、図2の切断線A−Aに沿った断面図の代替実施例である)。各図示実施例は、1つ以上の側壁164および166などを、随意に、上端部168を有し、それらすべては当該容器80に近接して付帯する。               In the embodiment of FIG. 2, the external electrode 160 may be generally cylindrical as illustrated in FIGS. 2 and 8, or may be generally U-shaped as illustrated in FIGS. (FIGS. 8 and 9 are alternative embodiments of cross-sectional views along section line AA in FIG. 2). Each illustrated embodiment optionally includes one or more sidewalls 164 and 166, etc., having an upper end 168, all of which are attached proximate to the container 80.

IV.A., IV.B.図12〜19は、前述の当該容器被覆ステーションまた機器28のその他の異型を示す。1つ以上の当該異型のいずれも、図1〜5に示す容器被覆ステーションまたは機器28に置換可能である。               IV.A., IV.B. FIGS. 12-19 show other variants of the container coating station or apparatus 28 described above. Any one or more of the variants can be substituted for the container coating station or device 28 shown in FIGS.

IV.A.図12は、1GHz以上の周波数で(同一容器ホルダーおよびガス吸入部を使用する前述方法と同様に)使用可能である代替電極システムを示す。当該周波数において、当該電力供給装置からの電気エネルギーを、当該エネルギーを吸収するまたは当該エネルギーに共鳴する空洞部に接続される1つ以上の導波管を通して当該管内部へと搬送可能である。当該エネルギーの共鳴により、当該ガスとのカップリングが可能となる。当該容器80が当該空洞部と相互に作用してその共鳴ポイントを変化させ被覆および/または処理用のプラズマを生成するため、異なる周波数および容器80などで使用するための、異なる空洞部を提供可能である。               IV.A. FIG. 12 shows an alternative electrode system that can be used at frequencies above 1 GHz (similar to the previous method using the same container holder and gas inlet). At the frequency, electrical energy from the power supply device can be conveyed into the tube through one or more waveguides connected to a cavity that absorbs the energy or resonates with the energy. The resonance with the energy enables coupling with the gas. The container 80 interacts with the cavity to change its resonance point and generate a plasma for coating and / or processing so that different cavities can be provided for use at different frequencies and containers 80, etc. It is.

IV.A.図12は、内部でプラズマを生成する対象容器80を少なくとも一部包囲するよう、導波管192経由でマイクロ波をマイクロ波空洞部194へと配向するマイクロ波電力供給装置190を、当該被覆ステーション28が含む場合があることを示す。当該マイクロ波空洞部194を当該マイクロ波の周波数、および当該部品圧力やさまざまなガスに合わせて調整して、マイクロ波を吸収し当該プラズマ生成ガスとカップリングさせることが可能である。図13において、いかなる図示する当該実施例と同様に、小ギャップ196を当該容器80と当該空洞部194(または電極、検出器または、周辺構造)の間に残して当該容器80への擦過またはその他の損傷を防止可能である。また図13において、当該マイクロ波空洞部194は平端壁198を有するため、当該ギャップ196は、特に当該端壁198の円形縁の反対側は、幅が不均一である。随意に、当該端部198は曲線状であり、実質上均一なギャップ196.IV.A.を提供する。図 44は、図2に類似の 代替ガス供給管/内部電極470を示す図であり、例えば図 1、2、3、8、9、12〜16、18〜19、21〜22、33、37〜43、46〜49、および52〜54の実施例と併用可能である。図44に示すように、当該内部電極470の遠位部472は、当該内部電極内の内部経路476を封入する伸長多孔質側壁474からなる。当該内部経路476は、当該容器80の外部に伸延する当該内部電極470の近位ポート478により、当該ガス供給装置144へと接続される。当該内部電極470の遠位端480は、随意に多孔質である場合がある。当該多孔質側壁474および当該多孔質遠位端480(存在する場合)の多孔性であるため、当該ガス供給装置144から供給を受ける当該反応性ガスの少なくとも一部が、当該経路476から横方向に逃散して反応性ガスを当該容器80の内面の隣接部へと供給する。本実施例において、当該多孔質側壁474の多孔質部が、当該容器80内の当該内部電極470の全長を伸延する。 しかしながら、当該多孔質部は広範ではなく、当該内部電極470の長さ分しか作動しない場合がある。本明細書内の別箇所で示すように、当該内部電極470は、当該容器80の長さとの関連で、図44に示すものより長いまたは短い場合があり、当該多孔質部は継続的または非継続的である場合がある。               FIG. 12 shows a microwave power supply 190 that directs microwaves to a microwave cavity 194 via a waveguide 192 so as to at least partially surround a target vessel 80 that generates plasma therein. , Indicating that the coating station 28 may include. The microwave cavity 194 can be adjusted according to the frequency of the microwave, the component pressure, and various gases to absorb the microwave and couple it with the plasma generating gas. In FIG. 13, as with any of the illustrated embodiments, a small gap 196 is left between the container 80 and the cavity 194 (or electrode, detector, or peripheral structure), or otherwise rubbed into the container 80 or otherwise. Damage can be prevented. In FIG. 13, since the microwave cavity 194 has a flat end wall 198, the gap 196 is not uniform in width, particularly on the opposite side of the circular edge of the end wall 198. Optionally, the end 198 is curvilinear and provides a substantially uniform gap 196.IV.A. FIG. 44 shows an alternative gas supply tube / internal electrode 470 similar to FIG. 2, for example, FIGS. 1, 2, 3, 8, 9, 12-16, 18-19, 21-22, 33, 37 -43, 46-49, and 52-54 can be used in combination. As shown in FIG. 44, the distal portion 472 of the internal electrode 470 comprises an elongated porous sidewall 474 that encloses an internal path 476 in the internal electrode. The internal path 476 is connected to the gas supply device 144 by a proximal port 478 of the internal electrode 470 extending outside the container 80. The distal end 480 of the internal electrode 470 may optionally be porous. Due to the porosity of the porous side wall 474 and the porous distal end 480 (if present), at least a portion of the reactive gas supplied from the gas supply device 144 is transverse from the path 476. The reactive gas is supplied to the adjacent portion of the inner surface of the container 80. In the present embodiment, the porous portion of the porous side wall 474 extends the entire length of the internal electrode 470 in the container 80. However, the porous portion is not wide and may only operate for the length of the internal electrode 470. As shown elsewhere herein, the internal electrode 470 may be longer or shorter than that shown in FIG. 44 in relation to the length of the vessel 80, and the porous portion may be continuous or non- May be continuous.

IV.A.当該内部電極470の外径は、横方向に隣接する当該容器内径の大きさの少なくとも50%、少なくとも60%、少なくとも70%、少なくとも80%、少なくとも90%、または少なくとも95%である場合がある。より大きな半径の内部電極470の利用により、当該容器80の内径に関連して、特に当該電極470が当該容器80と同心である場合には、当該内部電極470の外部と当該容器80の隣接内面88の間の距離が削減され、当該プラズマをより狭い領域へと封入してより均一化できる。また、より大きな半径の内部電極470の利用により、当該内面80に沿って当該反応性ガスおよび/または搬送ガスをより均一に配分できる。なぜなら、初期反応の位置に極めて近い当該内面88の長さに沿った近接間隔点で当該プラズマへと新鮮なガスが導入されるためであり、当該内面88に関する単一点からの流量とは対照的である。               IV.A. The outer diameter of the inner electrode 470 is at least 50%, at least 60%, at least 70%, at least 80%, at least 90%, or at least 95% of the size of the inner diameter of the container adjacent in the lateral direction. There may be. By utilizing the inner electrode 470 having a larger radius, in relation to the inner diameter of the container 80, particularly when the electrode 470 is concentric with the container 80, the outside of the inner electrode 470 and the adjacent inner surface of the container 80 are used. The distance between 88 can be reduced and the plasma can be enclosed in a narrower region and made more uniform. Further, the reactive gas and / or the carrier gas can be more uniformly distributed along the inner surface 80 by using the internal electrode 470 having a larger radius. This is because fresh gas is introduced into the plasma at closely spaced points along the length of the inner surface 88 that is very close to the position of the initial reaction, as opposed to the flow rate from a single point on the inner surface 88. It is.

IV.A.ある考えられる装備において、実線で示される、当該電力供給装置162は当該電極200への1つの電力接続を有しており、当該電力接続は当該電極200に沿ったいかなる点にもあることが可能であり、当該プローブ108は接地可能である。本設定において、当該容器80内でプラズマを生成するために、容量性負荷を利用可能である。別の考えられる装備において、仮想線で示される(および実線で示される当該接続を除外)、当該電力供給装置162のそれぞれの配線部は当該コイル200のそれぞれの端部に接続し、便宜上、再び本明細書内の「電極」として見なすことが可能である。本設定において、当該容器80内でプラズマを生成するために、誘導性負荷を利用可能である。代替実施例において、誘導性負荷および容量性負荷を組合わせて使用することも可能である。               IV.A. In one possible equipment, the power supply 162, shown in solid lines, has one power connection to the electrode 200, and the power connection is at any point along the electrode 200. It is possible that the probe 108 can be grounded. In this setting, a capacitive load can be used to generate plasma within the vessel 80. In another possible equipment, each wiring part of the power supply device 162, shown in phantom lines (and excluding the connection shown in solid lines), connects to each end of the coil 200, again for convenience. It can be considered as an “electrode” within this specification. In this setting, an inductive load can be used to generate plasma in the vessel 80. In an alternative embodiment, a combination of inductive and capacitive loads can be used.

IV.A.図46〜48は、2つ以上のガス供給管108、510および512など(図2に表示)の配列を示し、それらは内部電極でもある。当該配列は線状または円形である場合がある。円形配列により、当該電極を定期的に再利用可能である。               Figures 46-48 show an arrangement of two or more gas supply tubes 108, 510 and 512, etc. (shown in Figure 2), which are also internal electrodes. The array may be linear or circular. Due to the circular arrangement, the electrodes can be reused regularly.

IV.A.図46〜48はまた、当該ガス供給管/内部電極108、510、および512を1つ以上の容器ホルダー50または48などへと/から挿入および除去するための、内部電極伸延・格納機514を示す。当該機能は、当該ガス供給管使用のためのオプション手段である。               FIGS. 46-48 also illustrate internal electrode extensions for inserting and removing the gas supply tubes / internal electrodes 108, 510, and 512 into / from one or more container holders 50 or 48, etc. The enclosure 514 is shown. The function is an optional means for using the gas supply pipe.

IV.A.図示する当該実施例において、図46〜48および53を参照にして、当該内部電極108、510、512は、それぞれたわみホース516、518および520により共通ガス供給144へと遮断弁522、524、および526経由で接続される。(当該たわみホースは図46〜48においては当該たわみ部を省略して短縮されている)。簡潔に図56を参照して、当該たわみホース516、518、および520は代替として独立したガス源144へと接続される場合がある。内部電極108などを伸延・格納するための機構514を提供する。当該内部電極伸延機・格納機は、当該容器ホルダーについて前進位置、中間位置、格納位置の間で内部電極を移動させるよう設定する。               IV.A. In the illustrated embodiment, referring to FIGS. 46-48 and 53, the internal electrodes 108, 510, 512 are connected to a common gas supply 144 by flexible hoses 516, 518, and 520, respectively, to a shutoff valve 522. , 524, and 526. (The flexible hose is shortened by omitting the flexible portion in FIGS. 46 to 48). Referring briefly to FIG. 56, the flexible hoses 516, 518, and 520 may alternatively be connected to an independent gas source 144. A mechanism 514 for distracting and retracting the internal electrode 108 and the like is provided. The internal electrode distracter / storage device is set so that the internal electrode is moved between the advance position, the intermediate position, and the storage position with respect to the container holder.

IV.A.図46および56において、当該内部電極108は当該容器ホルダー50および容器80内の動作位置へと伸延し、その遮断弁522は開口している。また図46において、当該待機内部電極510および512は格納され、当該遮断弁524および526は閉口されている。図示する当該実施例において、1つ以上の当該待機内部電極510および512は電極浄化機器またはステーション528内に付帯する。当該ステーション528内で1つ以上の電極を浄化可能であり、その他の随意に置換可能である。当該浄化作業は、化学反応または溶媒処理を利用して堆積を除去可能であり、制限されない実施例として、物理的に堆積を除去するためのフライス加工、または堆積を本質的に焼散させるプラズマ処理などがある。               46 and 56, the internal electrode 108 extends to the operating position in the container holder 50 and container 80, and the shut-off valve 522 is open. In FIG. 46, the standby internal electrodes 510 and 512 are stored, and the shutoff valves 524 and 526 are closed. In the illustrated embodiment, one or more of the standby internal electrodes 510 and 512 are associated with an electrode purification device or station 528. One or more electrodes can be cleaned in the station 528 and other optional replacements. The cleaning operation can remove deposits using chemical reactions or solvent treatment, and as a non-limiting example, milling to physically remove the deposits, or plasma treatment that essentially burns the deposits and so on.

IV.A.図47において、当該動作内部電極108が当該容器80から格納される一方で、当該待機内部電極510および512は以前どおりその遠位端が当該容器ホルダー50に残され、その弁522は閉鎖される。本条件において、当該容器80は除去可能であり、当該容器80による当該電極108への接触の危険性なしに、当該容器ホルダー50に装填済みの新規容器を除去および置換可能である。当該容器80置換後に、当該内部電極108を図46および56の位置へと前進可能であり、当該遮断弁522を再開口して、以前と同様に当該内部電極108を使用して新規容器80の被覆を開始可能である。したがって、一連の当該容器80を当該容器ホルダー50上に装填する/から除去する装備において、当該容器80は当該内部電極108が使用される当該ステーションにおける当該容器ホルダー50に/からの設置/除去されるため、当該内部電極108は何度も伸延されかつ一部格納されることが可能である。               47. In FIG. 47, the working internal electrode 108 is retracted from the container 80, while the standby internal electrodes 510 and 512 are still left at the distal end of the container holder 50 and the valve 522 Is closed. Under this condition, the container 80 can be removed, and a new container loaded in the container holder 50 can be removed and replaced without risk of contact of the container 80 with the electrode 108. After replacement of the container 80, the internal electrode 108 can be advanced to the position of FIGS. 46 and 56, the shut-off valve 522 is reopened, and the internal electrode 108 is used as before to use the new container 80. The coating can be started. Therefore, in the equipment for loading / removing a series of the containers 80 onto / from the container holder 50, the containers 80 are installed / removed from / to the container holder 50 at the station where the internal electrode 108 is used. Therefore, the internal electrode 108 can be extended many times and partially stored.

IV.A.図48において、当該容器ホルダー50およびその容器80は新規容器ホルダー48および別の容器80に置換される。図1を参照にして、この種の実施例において、各容器80はその容器ホルダー50または48などの上に残り、内部電極108などは容器ホルダーが当該被覆ステーションに到達するにしたがい各容器へと挿入される。               48, the container holder 50 and its container 80 are replaced with a new container holder 48 and another container 80. Referring to FIG. 1, in this type of embodiment, each container 80 remains on its container holder 50 or 48, etc., and the internal electrodes 108 etc. are transferred to each container as the container holder reaches the coating station. Inserted.

IV.A.また図48において、当該内部電極108、510、および512は完全に格納され、当該内部電極108、510、および512の配列は、図47の各位置と比較して、当該容器ホルダー48および電極浄化ステーション528に対して右側へと移動されるため、当該内部電極108は定位置から外され、当該内部電極510は当該容器ホルダー48に関する位置へと移動される。               48. Also in FIG. 48, the internal electrodes 108, 510, and 512 are fully retracted, and the arrangement of the internal electrodes 108, 510, and 512 is compared to the positions in FIG. 48 and the electrode purification station 528 are moved to the right, so that the internal electrode 108 is removed from its home position and the internal electrode 510 is moved to a position relative to the container holder 48.

IV.A.当該内部電極の配列の移動は当該容器ホルダーの移動に依存しない可能性があることを理解されたい。これらの配列は共にまたは個別に移動して、新規容器ホルダーおよび/または新規内部電極へと同時にまたは個別に切替え可能である。               IV.A. It should be understood that the movement of the array of internal electrodes may not depend on the movement of the container holder. These arrangements can be moved together or individually and switched simultaneously or individually to a new container holder and / or a new internal electrode.

IV.A.図46〜48は、2つ以上のガス供給管108、510および512など(図2に表示)の配列を示し、それらは内部電極でもある。当該配列は線状または円形である場合がある。円形配列により、当該電極を定期的に再利用可能である。               Figures 46-48 show an arrangement of two or more gas supply tubes 108, 510 and 512, etc. (shown in Figure 2), which are also internal electrodes. The array may be linear or circular. Due to the circular arrangement, the electrodes can be reused regularly.

IV.A.図46〜48はまた、当該ガス供給管/内部電極108、510、および512を1つ以上の容器ホルダー50または48などへと/から挿入および除去するための、内部電極伸延・格納機514を示す。当該機能は、当該ガス供給管使用のためのオプション手段である。               FIGS. 46-48 also illustrate internal electrode extensions for inserting and removing the gas supply tubes / internal electrodes 108, 510, and 512 into / from one or more container holders 50 or 48, etc. The enclosure 514 is shown. The function is an optional means for using the gas supply pipe.

IV.A.図示する当該実施例において、図46〜48および53を参照にして、当該内部電極108、510、512は、それぞれたわみホース516、518および520により共通ガス供給144へと遮断弁522、524、および526経由で接続される。(当該たわみホースは図46〜48においては当該たわみ部を省略して短縮されている)。内部電極108などを伸延・格納するための機構514を提供する。当該内部電極伸延機・格納機は、当該容器ホルダーについて前進位置、中間位置、格納位置の間で内部電極を移動させるよう設定する。               IV.A. In the illustrated embodiment, referring to FIGS. 46-48 and 53, the internal electrodes 108, 510, 512 are connected to a common gas supply 144 by flexible hoses 516, 518, and 520, respectively, to a shutoff valve 522. , 524, and 526. (The flexible hose is shortened by omitting the flexible portion in FIGS. 46 to 48). A mechanism 514 for distracting and retracting the internal electrode 108 and the like is provided. The internal electrode distracter / storage device is set so that the internal electrode is moved between the advance position, the intermediate position, and the storage position with respect to the container holder.

IV.A.図46および56において、当該内部電極108は当該容器ホルダー50および容器80内の動作位置へと伸延し、その遮断弁522は開口している。また図46および56において、当該待機内部電極510および512は格納され、当該遮断弁524および526は閉口されている。図示する当該実施例において、当該待機内部電極510および512は電極浄化ステーション528内に付帯する。当該ステーション528内で1部の電極を浄化可能であり、その他の随意に置換可能である。当該浄化作業は、化学反応または溶媒処理を利用して堆積を除去可能であり、制限されない実施例として、物理的に堆積を除去するためのフライス加工、または堆積を本質的に焼散させるプラズマ処理などがある。               46 and 56, the internal electrode 108 extends to the operating position in the container holder 50 and container 80, and the shut-off valve 522 is open. 46 and 56, the standby internal electrodes 510 and 512 are stored, and the shutoff valves 524 and 526 are closed. In the illustrated embodiment, the standby internal electrodes 510 and 512 are associated with the electrode purification station 528. One part of the electrode can be cleaned in the station 528 and can be replaced as desired. The cleaning operation can remove deposits using chemical reactions or solvent treatment, and as a non-limiting example, milling to physically remove the deposits, or plasma treatment that essentially burns the deposits and so on.

IV.A.図47において、当該動作内部電極108が当該容器80から格納される一方で、当該待機内部電極510および512は以前どおりその遠位端が当該容器ホルダー50に残され、その弁522は閉鎖される。本条件において、当該容器80は除去可能であり、当該容器80による当該電極108への接触の危険性なしに、当該容器ホルダー50に装填済みの新規容器を除去および置換可能である。当該容器80置換後に、当該内部電極108を図46および56の位置へと前進可能であり、当該遮断弁522を再開口して、以前と同様に当該内部電極108を使用して新規容器80の被覆を開始可能である。したがって、一連の当該容器80を当該容器ホルダー50上に装填する/から除去する装備において、当該容器80は当該内部電極108が使用される当該ステーションにおける当該容器ホルダー50に/からの設置/除去されるため、当該内部電極108は何度も伸延されかつ一部格納されることが可能である。               47. In FIG. 47, the working internal electrode 108 is retracted from the container 80, while the standby internal electrodes 510 and 512 are still left at the distal end of the container holder 50 and the valve 522 Is closed. Under this condition, the container 80 can be removed, and a new container loaded in the container holder 50 can be removed and replaced without risk of contact of the container 80 with the electrode 108. After replacement of the container 80, the internal electrode 108 can be advanced to the position of FIGS. 46 and 56, the shut-off valve 522 is reopened, and the internal electrode 108 is used as before to use the new container 80. The coating can be started. Therefore, in the equipment for loading / removing a series of the containers 80 onto / from the container holder 50, the containers 80 are installed / removed from / to the container holder 50 at the station where the internal electrode 108 is used. Therefore, the internal electrode 108 can be extended many times and partially stored.

IV.A.図48において、当該容器ホルダー50およびその容器80は新規容器ホルダー48および別の容器80に置換される。図1を参照にして、この種の実施例において、各容器80はその容器ホルダー50または48などの上に残り、内部電極108などは容器ホルダーが当該被覆ステーションに到達するにしたがい各容器へと挿入される。               48, the container holder 50 and its container 80 are replaced with a new container holder 48 and another container 80. Referring to FIG. 1, in this type of embodiment, each container 80 remains on its container holder 50 or 48, etc., and the internal electrodes 108 etc. are transferred to each container as the container holder reaches the coating station. Inserted.

IV.A.また図48において、当該内部電極108、510、および512は完全に格納され、当該内部電極108、510、および512の配列は、図47の各位置と比較して、当該容器ホルダー48および電極浄化ステーション528に対して右側へと移動されるため、当該内部電極108は定位置から外され、当該内部電極510は当該容器ホルダー48に関する位置へと移動される。               48. Also in FIG. 48, the internal electrodes 108, 510, and 512 are fully retracted, and the arrangement of the internal electrodes 108, 510, and 512 is compared to the positions in FIG. 48 and the electrode purification station 528 are moved to the right, so that the internal electrode 108 is removed from its home position and the internal electrode 510 is moved to a position relative to the container holder 48.

IV.A.当該内部電極の配列の移動は当該容器ホルダーの移動に依存しない可能性があることを理解されたい。これらの配列は共にまたは個別に移動して、新規容器ホルダーおよび/または新規内部電極へと同時にまたは個別に切替え可能である。               IV.A. It should be understood that the movement of the array of internal electrodes may not depend on the movement of the container holder. These arrangements can be moved together or individually and switched simultaneously or individually to a new container holder and / or a new internal electrode.

IV.A.個別の結合ガス供給管/内部電極108、510、および512は場合によっては、一連の容器80などの被覆に使用する際に重合反応性ガスまたはその他の種類の堆積を蓄積する傾向があるため、2つ以上の内部電極108、510、および512の配列は有用である。当該堆積は、当該被覆率または被覆均一性を損なうレベルまで蓄積する場合があり、好ましくない場合がある。均一な処理を維持するには、当該内部電極を設備から定期的に取り外し、置換または浄化する、および新規または浄化済み電極を設備に取り付けることが可能である。例えば図 46から図48に進むと、当該内部電極108は新規または調整済み内部電極510で置換されており、当該容器ホルダー48および当該容器80へと伸延して当該新規容器内部被覆材を塗布する準備が整っている。               IV.A. Separate combined gas supply tubes / inner electrodes 108, 510, and 512, in some cases, tend to accumulate polymerization reactive gases or other types of deposits when used to coat a series of vessels 80, etc. As such, an array of two or more internal electrodes 108, 510, and 512 is useful. The deposition may accumulate to a level that impairs the coverage or coating uniformity and may be undesirable. To maintain uniform processing, the internal electrode can be periodically removed from the facility, replaced or cleaned, and a new or cleaned electrode attached to the facility. For example, proceeding from FIG. 46 to FIG. 48, the internal electrode 108 is replaced with a new or adjusted internal electrode 510 and extends to the container holder 48 and the container 80 to apply the new container inner covering material. Ready.

IV.A.したがって、内部電極駆動530は当該内部電極伸延機・格納機514を併用して動作可能であり、第1 内部電極108を伸延位置から格納位置へと取り外し、当該第1内部電極108の代わりに第2内部電極510を取り付け、当該第2内部電極510を伸延位置へと前進させることができる(図 46および56と類似。電極の置換を除く)。               Therefore, the internal electrode drive 530 can be operated by using the internal electrode distracter / storage device 514 in combination, and the first internal electrode 108 is removed from the distraction position to the storage position. Instead of this, a second internal electrode 510 can be attached and the second internal electrode 510 can be advanced to the extended position (similar to FIGS. 46 and 56, except for electrode replacement).

IV.A.図46〜48のガス供給管の配列および内部電極駆動530は、例えば図 1、2、3、8、9、12〜16、18〜19、21〜22、26〜28、33〜35、37〜45、49、および52〜54の実施例と併用可能である。46〜48図の当該伸延・格納機構514は、 例えば図 2、3、8、9、12〜16、18〜19、21〜22、26〜28、33〜35、37〜45、49、および52〜54のガス供給管実施例と併用可能であり、また図 6および7の容器検査装置のプローブとも併用可能である。               46. The arrangement of the gas supply pipes and the internal electrode drive 530 of FIGS. 46 to 48 are, for example, FIGS. 1, 2, 3, 8, 9, 12 to 16, 18 to 19, 21 to 22, 26 to 28, 33. -35, 37-45, 49, and 52-54 examples can be used in combination. The distraction / storage mechanism 514 in FIGS. 46 to 48 is, for example, shown in FIGS. 2, 3, 8, 9, 12 to 16, 18 to 19, 21 to 22, 26 to 28, 33 to 35, 37 to 45, 49, and It can be used together with the gas supply pipe embodiments of 52 to 54, and can also be used with the probe of the container inspection apparatus of FIGS.

IV.A 図2に示す電極160は、当該ページへの長さを有する「U」字型チャネルである場合があり、当該パックまたは容器ホルダー50は当該活性(電力)電極を通して当該処理/被覆工程中に移動可能である。外部および内部電極が使用されているため、本装置は、電力供給装置162から当該U字型チャネル電極160に対して適用される周波数50Hz〜1GHzの間で利用可能であることに、注意されたい。当該プローブ108は当該電気回路を完了させるため接地可能であり、それにより、電流が当該容器80内の低圧ガスを通るようになる。当該電流の生成するプラズマにより、当該機器の内面88の選択処理および/または被覆が可能となる。               IV.A The electrode 160 shown in FIG. 2 may be a “U” shaped channel with a length to the page, and the pack or container holder 50 passes through the active (power) electrode to the treatment / coating process. It can be moved inside. Note that since external and internal electrodes are used, the device can be used between the frequency 50Hz-1GHz applied to the U-shaped channel electrode 160 from the power supply 162. . The probe 108 can be grounded to complete the electrical circuit, thereby allowing current to flow through the low pressure gas in the vessel 80. The plasma generated by the current makes it possible to select and / or coat the inner surface 88 of the device.

IV.A 図2に示す電極は、パルス電力供給装置を動力源電力としている場合もある。パルスにより、反応性ガスの空乏、活性化前の副産物の除去、(再度の)反応性ガスの空乏が可能となる。パルス電力システムは通常、当該電界(および、したがってプラズマが)存在する時間を決定する負荷サイクルにより特徴付けられる。電力投入時間は電源遮断時間と相対関係にある。例えば10%の負荷サイクルは、当該電力が当該時間の90%の間遮断されているサイクルの10%の時間の電力に相当する場合がある。特定の実施例として、当該電力は0.1秒間投入され、1秒間遮断される場合がある。パルス電力システムは、当該遮断時間により処理時間が増加するため、任意の電力供給装置162の有効電力入力を低減する。当該システムがパルスされる場合、生成される被覆材が極めて純粋となる場合がある(副産物/汚染なし)。パルスシステムによる別の結果として、原子層堆積(ALD)の可能性が挙げられる。この場合、当該負荷サイクルを調整して、当該 電源投入時間により好ましい素材の単層堆積を生成可能である。本手法において、単一原子層が各サイクルで堆積されると考えられる。本アプローチにより、高度に純粋で高度に化学構造された被覆材を生成可能である(ただし、ポリマー表面への堆積に必要な温度については、好ましくは低温(100℃未満)に保つものとし、および低温度被覆材は非晶質である場合がある)。               IV.A The electrode shown in FIG. 2 may have a pulse power supply device as power source power. The pulse allows depletion of reactive gas, removal of by-products before activation, and (again) depletion of reactive gas. A pulsed power system is typically characterized by a duty cycle that determines the time that the electric field (and thus the plasma) is present. The power-on time is relative to the power-off time. For example, a 10% duty cycle may correspond to 10% of the time of a cycle in which the power is interrupted for 90% of the time. As a specific example, the power may be turned on for 0.1 seconds and cut off for 1 second. The pulse power system reduces the active power input of any power supply device 162 because the processing time increases due to the cutoff time. When the system is pulsed, the resulting coating can be very pure (no by-products / contamination). Another consequence of the pulse system is the possibility of atomic layer deposition (ALD). In this case, the duty cycle can be adjusted to produce a single layer deposition of the preferred material with the power-up time. In this approach, a single atomic layer is considered to be deposited at each cycle. With this approach, highly pure and highly chemically structured dressings can be produced (however, the temperature required for deposition on the polymer surface should preferably be kept low (less than 100 ° C.) and The low temperature coating material may be amorphous).

IV.A.代替被覆ステーションは図12に開示されており、外部電極の代わりにマイクロ波空洞部を利用している。適用エネルギーは、例えば2.45GHzのマイクロ波周波数である場合がある。               IV.A. An alternative coating station is disclosed in FIG. 12 and utilizes microwave cavities instead of external electrodes. The applied energy may be a microwave frequency of 2.45 GHz, for example.

IV.B. 被覆ステーションへと/から管を搬送するための把持部を使用するPECVD装置
IV.B.別の実施例は、前述の把持部を利用する容器のPECVD処理のための装置である。図15および16は、開口端82、閉口端84、表面88により定義される内腔を有する第1容器80のPECVD処理のための装置(通常202)を示す。本実施例には、容器ホルダー48、少なくとも第1把持部204(本実施例においては、例えば、吸着カップ)、当該容器ホルダー48上の当該容器ポート92により定義される装填部、反応物質供給装置144、当該電極108および160に代表されるプラズマ生成装置、通気弁534などである場合がある容器解除装置、および同一把持部204または第2把持部(事実上、随意に第2把持部204)が含まれる。
IV.B. PECVD equipment using grips to transport tubes to / from the coating station
IV.B. Another embodiment is an apparatus for PECVD processing of a container utilizing the aforementioned gripping part. 15 and 16 show an apparatus (typically 202) for PECVD processing of a first vessel 80 having a lumen defined by an open end 82, a closed end 84, and a surface 88. In the present embodiment, the container holder 48, at least the first gripping portion 204 (in this embodiment, for example, a suction cup), a loading portion defined by the container port 92 on the container holder 48, a reactant supply device 144, a plasma generation device represented by the electrodes 108 and 160, a container release device that may be a vent valve 534, and the same gripping portion 204 or the second gripping portion (effectively, optionally, the second gripping portion 204) Is included.

IV.B.第1把持部204および図示されるいかなる把持部204も、容器80の閉口端84を選択的に把持および解除するよう設定される。当該容器の閉口端84を把持しながら、当該第1把持部204は当該容器を当該容器ホルダー48付近へと搬送する場合がある。図示する当該実施例において、当該搬送機能は、当該把持部204が複数装着される一連のコンベヤー538により促進される。               IV.B. The first gripping portion 204 and any gripping portion 204 shown are set to selectively grip and release the closed end 84 of the container 80. The first gripper 204 may transport the container to the vicinity of the container holder 48 while gripping the closed end 84 of the container. In the illustrated embodiment, the transport function is facilitated by a series of conveyors 538 on which a plurality of gripping portions 204 are mounted.

IV.B.当該容器ホルダー48は別の実施例との関連において前述済みであり、容器80の開口端82を装填するよう設定される。容器ポート92により定義される装填部は別の実施例との関連において前述済みであり、当該容器ホルダー48と当該第1容器(この場合いかなる容器80)の内腔88の間の通過密閉を確立するよう設定される。当該反応物質供給装置144 は別の実施例との関連において前述済みであり、当該容器ホルダー48を通して少なくとも1種のガス状反応物質を当該第1容器80へと導入するよう、動作可能に接続される。電極108および160により定義される当該プラズマ生成装置は別の実施例との関連において前述済みであり、第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、第1容器内でプラズマを生成するよう設定される。               IV.B. The container holder 48 has been previously described in connection with another embodiment and is set to load the open end 82 of the container 80. The loading portion defined by the container port 92 has been previously described in connection with another embodiment and establishes a passing seal between the container holder 48 and the lumen 88 of the first container (any container 80 in this case). Set to do. The reactant supply device 144 has been previously described in connection with another embodiment and is operably connected to introduce at least one gaseous reactant into the first vessel 80 through the vessel holder 48. The The plasma generator defined by electrodes 108 and 160 has been previously described in connection with another embodiment, and under conditions effective to shape the reaction product of the reactant on the inner surface of the first vessel. Thus, it is set to generate plasma in the first container.

IV.B.当該容器解除装置534または別の手段、例えば反応性ガス、搬送ガス、または圧縮窒素や圧縮空気といった低廉ガスを当該装填済み容器80内へと導入する手段を使用して、当該第1容器80を当該容器ホルダー48から装填解除可能である。               IV.B. Using the container release device 534 or another means, such as reactive gas, carrier gas, or means for introducing a cheap gas such as compressed nitrogen or compressed air into the loaded container 80, the first One container 80 can be unloaded from the container holder 48.

IV.B.当該把持部204は、第1容器80を当該容器ホルダー48から軸方向に離して搬送し、その後、把持部48および容器端部84の間から吸引を解除することにより、第1容器80の装填を解除するよう設定される。               IV.B. The gripper 204 transports the first container 80 away from the container holder 48 in the axial direction, and then releases the suction from between the gripper 48 and the container end 84, thereby Set to unload container 80.

IV.B.図15および16はまた、複数手順からなる第1容器のPECVD処理の方法を示す。開口端82、閉口端84、内面88を有する第1容器80を提供する。少なくとも第1把持部204を提供し、当該第1容器80の閉口端84を選択的に把持および解除するよう設定する。当該第1容器80の閉口端84を第1把持部204で把持し、それにしたがい、第1容器開口端を装填するよう設定される容器ホルダー48付近へと搬送する。図16の実施例において、2つの容器ホルダー48を提供し、2つ同時に当該容器80を前進させ当該容器ホルダー48上に装填させることが可能となる。したがって製造効率を2倍高めることができる。次に、第1把持部204を利用して第1容器80を軸方向に前進させ、その開口端82を容器ホルダー上48に装填し、当該容器ホルダー48と当該第1容器内の間の通過密閉を確立する。次に、当該第1容器内に少なくとも1種のガス状反応物質を当該容器ホルダーを通して導入し、随意に前述実施例の通りに行う。               IV.B. FIGS. 15 and 16 also show a method of PECVD treatment of a first vessel consisting of multiple procedures. A first container 80 having an open end 82, a closed end 84, and an inner surface 88 is provided. At least the first grip 204 is provided, and the closed end 84 of the first container 80 is set to be selectively gripped and released. The closed end 84 of the first container 80 is gripped by the first gripping portion 204, and accordingly, it is transported to the vicinity of the container holder 48 set to be loaded with the first container open end. In the embodiment of FIG. 16, two container holders 48 are provided, and two containers 80 can be advanced and loaded onto the container holder 48 simultaneously. Therefore, the production efficiency can be increased by a factor of two. Next, the first container 80 is advanced in the axial direction by using the first gripping portion 204, and the opening end 82 is loaded on the container holder 48, and passes between the container holder 48 and the first container. Establish a seal. Next, at least one gaseous reactant is introduced into the first container through the container holder, optionally as in the previous embodiment.

IV.B.引き続き、第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、第1容器内にプラズマを生成し、随意に前述実施例の通りに行う。当該第1容器を当該容器ホルダーから装填解除し、随意に前述実施例の通りに行う。第1把持部またはその他の把持部を使用して、随意に前述実施例の通りに行い、第1容器を当該容器ホルダーから軸方向に離して搬送する。その後、当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させるのに使用した把持部から、第1容器を解除し、随意に前述実施例の通りに行うことが可能である。               IV.B. Subsequently, plasma is generated in the first container under conditions effective to mold the reaction product of the reactant on the inner surface of the first container, optionally as in the previous examples. Do. The first container is unloaded from the container holder and optionally performed as in the previous embodiment. Using the first gripper or other gripper, optionally as in the previous embodiment, the first container is transported away from the container holder in the axial direction. Thereafter, the first container can be released from the grip used to move away from the container holder in the axial direction, and can optionally be performed as in the previous embodiment.

IV.B.本方法に従い実行可能なさらなるオプション手順には、当該第1容器とは異なる反応容器の提供、開口端と内腔を有する当該反応容器の提供、当該容器ホルダー上への当該反応容器の当該開口端の装填、当該容器ホルダーと当該反応容器の内腔の間の通過密閉の確立が含まれる。PECVD反応物質導管を当該内腔内に提供可能である。プラズマを、PECVD反応生成物の堆積の少なくとも一部を当該反応物質導管から除去するのに効果的な条件下で、当該反応容器の内腔内で生成可能である。当該反応条件は前述実施例に関連して説明済みである。その後当該容器ホルダー上の反応容器の装填を解除し、当該容器ホルダーから離れるよう移動させることが可能である。               IV.B. Further optional procedures that can be performed according to the method include providing a reaction vessel different from the first vessel, providing the reaction vessel with an open end and a lumen, and the reaction vessel on the vessel holder Loading of the open end of the container, establishing a passage seal between the container holder and the lumen of the reaction vessel. A PECVD reactant conduit can be provided in the lumen. A plasma can be generated within the lumen of the reaction vessel under conditions effective to remove at least a portion of the PECVD reaction product deposit from the reactant conduit. The reaction conditions have been described in connection with the previous examples. Thereafter, the reaction vessel on the vessel holder can be unloaded and moved away from the vessel holder.

IV.B.本方法のいずれかの実施例に従い実行可能なさらなるオプション手順には以下が含まれる:
少なくとも1つの第2把持部の提供;
少なくとも第1および第2把持部の一連のコンベヤーへの動作可能な接続;
開口端、閉口端、内面を有する第2容器の提供;
当該第2容器の閉口端を選択的に把持および解除するよう設定される把持部の提供;
当該把持部を有する当該第2容器の閉口端の把持;
当該把持部を利用しての、第2容器開口端を装填するよう設定される容器ホルダー付近への第2容器の搬送;
当該把持部を利用しての、第2容器を軸方向への前進、その開口端の容器ホルダー上への装填、当該容器ホルダーと当該第2容器内部の間の通過密閉の確立;
当該容器ホルダーを通しての少なくとも1種のガス状反応物質の当該第2容器への導入;
第2容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下での、第2容器内でのプラズマの生成;
当該容器ホルダーからの第2容器の装填解除;および
第2把持部またはその他の把持部の使用しての、第2容器の当該容器ホルダーから軸方向に離しての搬送;および
当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させるのに使用した把持部からの第2容器の解除。
IV.B. Additional optional procedures that can be performed according to any embodiment of the method include the following:
Providing at least one second grip;
An operable connection of at least a first and a second gripper to a series of conveyors;
Providing a second container having an open end, a closed end, and an inner surface;
Providing a gripper configured to selectively grip and release the closed end of the second container;
Gripping the closed end of the second container having the gripping portion;
Transporting the second container to the vicinity of the container holder set to load the second container opening end using the gripping part;
Advancing the second container in the axial direction using the gripping portion, loading the open end onto the container holder, establishing a passage seal between the container holder and the interior of the second container;
Introduction of at least one gaseous reactant into the second container through the container holder;
Generation of plasma in the second container under conditions effective to shape a reaction product of the reactant on the inner surface of the second container;
Unloading the second container from the container holder; and transporting the second container axially away from the container holder using the second gripper or other gripper; and the shaft from the container holder Release of the second container from the grip used to move away in the direction.

IV.B.図16は、製造ライン/システム内を移動可能である(本実施例において)検体採取管の端部を把持するための、吸着カップタイプの機器を使用する実施例である。本明細書内に示す特定の実施例は、被覆/処理の可能な手順(前述および後述される多くの可能な手順)の1つである。当該管は当該被覆手順/領域へと移動可能であり、当該管は当該容器ホルダーおよび(本実施例においては)当該シリンダー状電極へと下方向に位置付け可能である。当該容器ホルダー、検体採取管、および吸着カップは、その後共に、当該電極が動力を受け当該処理/被覆が実施される次の手順へと移動可能である。上記種類の電極はいずれも、本実施例において利用可能である。               Fig. 16 is an embodiment that uses a suction cup type device to grip the end of the sample collection tube (in this embodiment) that is movable within the production line / system. The particular embodiment shown within this specification is one of the possible procedures for coating / processing (many possible procedures described above and below). The tube can be moved to the coating procedure / area, and the tube can be positioned downward to the container holder and (in this example) the cylindrical electrode. The container holder, specimen collection tube, and suction cup can then be moved to the next procedure in which the electrode is powered and the treatment / coating is performed. Any of the above types of electrodes can be used in this embodiment.

IV.B.したがって、図15および16は、 当該容器80を当該被覆ステーション28へと/から移動させる容器搬送装置(通常202)を利用する、図13に類似の被覆ステーション28における容器ホルダー48を示す。当該容器搬送装置202は把持部204と共に提供可能であり、図示する搬送装置202は吸着カップである場合がある。粘着性パッド、活性真空源(当該把持部からの空気吸込用ポンプで活発に真空状態を生成)、またはその他の手段も、当該把持部として利用可能である。当該容器搬送装置202は、例えば当該容器80を当該容器ポート92の装填済み位置へと下げて、被覆のために当該容器80を位置付けるために使用可能である。当該容器搬送装置202はまた、当該ステーション28での処理完了後に、当該容器80を当該容器ポート92から引き上げるためにも使用可能である。当該容器搬送装置202はまた、当該容器 80と容器搬送装置48をステーションへと共に前進させる前に、当該容器80を装填するためにも使用可能である。当該容器搬送装置はまた、当該容器80を当該容器ポート92上の装填部へと強制移動するためにも使用可能である。また図15は上記により当該容器80の垂直方向の移動を示すよう適合可能であるが、当該容器搬送装置202が当該容器80の下にありそれを下から支持するという反転した適合が可能である、または考えられる。               Thus, FIGS. 15 and 16 show the container holder 48 in the coating station 28 similar to FIG. 13 utilizing a container transport device (usually 202) that moves the container 80 to / from the coating station 28. Show. The container transport device 202 can be provided together with the gripper 204, and the transport device 202 shown in the figure may be a suction cup. An adhesive pad, an active vacuum source (actively creating a vacuum with an air suction pump from the gripper), or other means can be used as the gripper. The container transport device 202 can be used, for example, to lower the container 80 to the loaded position of the container port 92 and position the container 80 for coating. The container transport device 202 can also be used to lift the container 80 from the container port 92 after processing at the station 28 is complete. The container transport device 202 can also be used to load the container 80 before the container 80 and the container transport device 48 are advanced together with the station. The container transport device can also be used to forcibly move the container 80 to a loading section on the container port 92. 15 can be adapted to show the vertical movement of the container 80 by the above, but an inverted adaptation is possible in which the container transport device 202 is under the container 80 and supports it from below. Or conceivable.

IV.B.図16は、容器搬送装置202、例えば吸着カップ204により、当該容器80を水平方向に搬送しステーションから次のステーションへと移動する、および(代わりに)垂直方向に搬送しステーション28などの外側に出すおよび入れる方法の実施例を示す。当該容器80は、あらゆる方向に持ち上げおよび搬送可能である。図16は、したがって、複数手順からなる第1容器80のPECVD処理の方法を示す。               FIG. 16 shows that a container transport device 202, for example a suction cup 204, transports the container 80 in the horizontal direction and moves from one station to the next, and (alternatively) transports it vertically in the station 28. An example of the method of putting out and putting in outside is shown. The container 80 can be lifted and transported in all directions. FIG. 16 therefore shows a method of PECVD treatment of the first vessel 80 comprising a plurality of procedures.

IV.B.図13の実施例において、当該外部電極160は通常開口端を有するシリンダー状であり、定常である可能性がある。開口部82を容器ポート96上に装填するまで、当該容器80を外部電極160を通して前進させることが可能である。本実施例において、当該プローブ108は随意に、恒久的にモールドするまたはその他の方法で当該ガス吸入ポート104内に確保することが可能であり、ワイピング密閉部により当該ポート104と当該プローブ108の間の相対運動が可能であるのとは対照的である。               IV.B. In the embodiment of FIG. 13, the external electrode 160 is typically cylindrical with an open end and may be stationary. The container 80 can be advanced through the external electrode 160 until the opening 82 is loaded onto the container port 96. In this embodiment, the probe 108 can optionally be permanently molded or otherwise secured within the gas inlet port 104, and a wiping seal between the port 104 and the probe 108. In contrast to the relative movement of

IV.B.図14は、電気エネルギーを50Hz〜1GHzのプラズマへとカップリングするための追加の代替方法を示す。これは、所定位置に下げられる可能性があるコイル、または所定位置に押し上げられる可能性がある(機器を有する)当該容器ホルダーからなる場合がある。コイル電極は誘導性カップリング機器として見なされており、プラズマが生成される当該機器の内部へと磁性成分を付与可能である。               FIG. 14 shows an additional alternative method for coupling electrical energy into a 50 Hz to 1 GHz plasma. This may consist of a coil that may be lowered into place or the container holder (with the instrument) that may be pushed up into place. The coil electrode is regarded as an inductive coupling device and can impart a magnetic component to the inside of the device where plasma is generated.

IV.B.プローブ108はさらに、図2および図13で述べたように使用可能である。当該容器ホルダーまたは上述の容器ホルダー48のその他の態様は、同様のままである。               The IV.B. probe 108 can also be used as described in FIGS. Other aspects of the container holder or the container holder 48 described above remain the same.

IV.B.例えば図49が示すように、当該第1容器80とは異なる反応容器532を提供可能であり、また当該反応容器は開口端540および当該内面542により定義される内腔を有する。当該容器80と同様に、当該反応容器532は当該容器ホルダー48上に開口端540を有し、当該容器ホルダー48と当該反応容器の内腔542の間の通過密閉を確立することが可能である。               IV.B. For example, as shown in FIG. 49, a reaction vessel 532 different from the first vessel 80 can be provided, and the reaction vessel has a lumen defined by an open end 540 and the inner surface 542. Similar to the vessel 80, the reaction vessel 532 has an open end 540 on the vessel holder 48 and can establish a passing seal between the vessel holder 48 and the lumen 542 of the reaction vessel. .

IV.B.図49は、図16に類似の処理対象容器80および浄化反応器532をPECVD被覆材装置へと搬送する機構を示す図である。本実施例において、当該内部電極108は随意に、当該容器ホルダー48から取り外すことなしに浄化可能である。               FIG. 49 is a view showing a mechanism for transferring the processing target container 80 and the purification reactor 532 similar to FIG. 16 to the PECVD coating material apparatus. In this embodiment, the internal electrode 108 can optionally be purified without being removed from the container holder 48.

IV.B.図49は、前述被覆のために提供される容器80の代わりに当該反応容器が当該容器ホルダー48上に装填済みである場合、前述当該PECVD反応物質導管108が当該反応容器532の内腔542内の場所に位置していることを示す。図49は、当該導管108が外部部位および内部遠位端を有するにもかかわらず、本設定内の当該反応物質導管108を示す。当該反応物質導管108の少なくとも一部が当該容器80または532へと伸延する場合、本目的および当該請求項を満たす。               49. FIG. 49 shows that the PECVD reactant conduit 108 is connected to the reaction vessel 532 when the reaction vessel is loaded on the vessel holder 48 instead of the vessel 80 provided for the coating. It is located at a location within the lumen 542. FIG. 49 shows the reactant conduit 108 in this setting, even though the conduit 108 has an external site and an internal distal end. If at least a portion of the reactant conduit 108 extends into the container 80 or 532, this object and the claims are met.

IV.B.図49の機構は、図示の通り、例えば少なくとも、図1および15〜16の実施例と併用可能である。当該浄化反応器532はまた、代替実施例において、容器ホルダー48などの上に移動された装填済みのシンプルな容器として提供可能である。本設定において、当該浄化反応器532は、例えば少なくとも図1〜3、8、9、12-15、18、19、21、22、26〜28、33〜35、37〜48、および52〜54の装置と併用可能である。               49. The mechanism of FIG. 49 can be used in combination with, for example, at least the embodiments of FIGS. 1 and 15-16 as shown. The purification reactor 532 can also be provided as a simple loaded container that has been moved onto a container holder 48 or the like in an alternative embodiment. In this setting, the purification reactor 532 is, for example, at least FIGS. 1-3, 8, 9, 12-15, 18, 19, 21, 22, 26-28, 33-35, 37-48, and 52-54. It can be used with other devices.

IV.B.電極108および160により定義されるプラズマ生成装置は、PECVD反応生成物の堆積の少なくとも一部を当該反応物質導管108から除去するのに効果的な条件下で、当該反応容器532の内腔内でプラズマを生成するよう設定可能である。当該内部電極およびガス源108は導電性管、例えば金属管である可能性があり、当該反応容器532は適切な素材から、好ましくは熱可塑性容器より高熱に耐えるセラミック、水晶、ガラスまたはその他の素材といった耐熱素材から製造可能であることが上述で考えられている。当該反応容器532の素材もまた、当該反応生成物の堆積の除去のために当該反応容器内で使用される条件に対して、耐薬品性または耐プラズマ性であることが望ましい。随意に、当該反応容器532は導電性素材から製造される場合があり、それ自体が当該反応物質導管108から堆積を除去するための特殊用途の外部電極として機能する。さらに別の代替方法として、当該反応容器532は当該外部電極 160上に装填する蓋として設定可能であり、その場合、当該外部電極160は好ましくは当該容器ホルダー48上に装填され閉口浄化反応チャンバを定義する。               IV.B. The plasma generator defined by electrodes 108 and 160 is capable of reacting with the reactor vessel 532 under conditions effective to remove at least a portion of the PECVD reaction product deposit from the reactant conduit 108. It can be configured to generate plasma within the lumen. The internal electrode and gas source 108 may be a conductive tube, such as a metal tube, and the reaction vessel 532 is made of a suitable material, preferably a ceramic, quartz, glass or other material that will withstand higher temperatures than a thermoplastic vessel. It is considered above that it can be manufactured from such a heat-resistant material. The material of the reaction vessel 532 is also preferably chemical or plasma resistant to the conditions used in the reaction vessel for removal of the reaction product deposits. Optionally, the reaction vessel 532 may be manufactured from a conductive material, which itself serves as a special purpose external electrode for removing deposits from the reactant conduit 108. As yet another alternative, the reaction vessel 532 can be configured as a lid that is loaded onto the external electrode 160, in which case the external electrode 160 is preferably loaded onto the vessel holder 48 to provide a closed purification reaction chamber. Define.

IV.B.当該反応物質導管108からPECVD反応生成物の堆積の少なくとも一部を除去するのに効果的な反応条件には、酸素またはオゾン(どちらも個別にまたは当該プラズマ装置により生成される)といった酸化反応物質の大部分の導入、被覆材堆積に使用するレベルより高い電力、被覆材堆積に使用するレベルより長いサイクル、当該反応導管108上の不要な堆積除去方法として既知のその他の手段、が含まれると考えられる。別の実施例については、機械的フライス加工を不要な堆積を除去するために使用可能である。または、溶媒またはその他の薬剤を当該反応物質導管108を通して噴流させ、障害物を除去可能である。当該反応容器532は当該容器80の通常利用に適切である必要がないため、当該条件は被覆対照容器80の耐性よりさらに過酷である場合がある。しかしながら、随意に、容器80は当該反応容器として利用可能であり、当該堆積除去条件が過度に過酷である場合は、代替実施例において反応容器として利用した当該容器80は廃棄可能である。               IV.B. Reaction conditions effective to remove at least a portion of the PECVD reaction product deposit from the reactant conduit 108 include oxygen or ozone (both generated separately or by the plasma apparatus) The introduction of the majority of oxidation reactants, power higher than the level used for coating deposition, cycles longer than the level used for coating deposition, other means known as unwanted deposition removal methods on the reaction conduit 108, Is considered to be included. For another embodiment, mechanical milling can be used to remove unwanted deposits. Alternatively, a solvent or other agent can be jetted through the reactant conduit 108 to remove the obstruction. Since the reaction vessel 532 need not be suitable for normal use of the vessel 80, the conditions may be more severe than the resistance of the coated control vessel 80. However, optionally, the container 80 can be used as the reaction container, and the container 80 used as the reaction container in alternative embodiments can be discarded if the deposition removal conditions are excessively severe.

V. 容器製造のためのPECVD法
V.1 PECVD被覆用前駆体
本発明のPECVD被覆用前駆体材は、有機金属前駆体として広く定義されている。有機金属前駆体は、本明細書におけるすべての目的に関して、例えば炭化水素残渣、アミノカーボン残渣、オキシカーボン残渣といった有機残渣を有する、周期表の第III族および/または第IV族からの金属元素化合物と定義される。本書で定義する有機金属化合物には、ケイ素またはその他の第III族/第IV族金属原子に直接結合する、または随意に酸素または窒素原子を通して結合する、有機部分を有するあらゆる前駆体が含まれる。関連する周期表第III族元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタンであり、アルミニウムおよびホウ素であることが望ましい。関連する周期表第IV族元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、およびトリウムであり、ケイ素およびスズであることが望ましい。その他の揮発性有機化合物もまた考えられる。しかしながら、本発明の実行には有機ケイ素化合物が望ましい。
V. PECVD method for container production
V.1 Precursor for PECVD coating
The precursor material for PECVD coating of the present invention is widely defined as an organometallic precursor. The organometallic precursor is a metal element compound from group III and / or group IV of the periodic table having organic residues such as hydrocarbon residues, aminocarbon residues, oxycarbon residues, for all purposes herein. Is defined. Organometallic compounds as defined herein include any precursor having an organic moiety that is bonded directly to silicon or other Group III / Group IV metal atom, or optionally through an oxygen or nitrogen atom. Related periodic table Group III elements are boron, aluminum, gallium, indium, thallium, scandium, yttrium, lanthanum, preferably aluminum and boron. Related Periodic Table Group IV elements are silicon, germanium, tin, lead, titanium, zirconium, hafnium, and thorium, preferably silicon and tin. Other volatile organic compounds are also contemplated. However, organosilicon compounds are desirable for the practice of the present invention.

有機ケイ素前駆体が好ましく、「有機ケイ素前駆体」は以下の結合を少なくとも1つ有する化合物として本明細書において最も広く定義される:

Figure 2012526921
または
Figure 2012526921
直前の第1の化学構造は、酸素原子1つおよび有機炭素原子1つ(有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子)と結合する四価ケイ素原子である。直前の第2の化学構造は、-NH-結合1つおよび有機炭素原子1つ(有機炭素原子は少なくとも1つの水素原子と結合する炭素原子)と結合する四価ケイ素原子である。好ましくは当該有機ケイ素前駆体は、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、線状シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、およびこれらの前駆体2つ以上の複合体からなる群から選択される。また、前述の2つの公式に当てはまらないが前駆体として考えられるものに、アルキルトリメトキシシランがある。 Organosilicon precursors are preferred, and “organosilicon precursors” are most broadly defined herein as compounds having at least one of the following bonds:
Figure 2012526921
Or
Figure 2012526921
The immediately preceding first chemical structure is a tetravalent silicon atom bonded to one oxygen atom and one organic carbon atom (an organic carbon atom is a carbon atom bonded to at least one hydrogen atom). The immediately preceding second chemical structure is a tetravalent silicon atom bonded to one —NH— bond and one organic carbon atom (an organic carbon atom is a carbon atom bonded to at least one hydrogen atom). Preferably, the organosilicon precursor is a linear siloxane, monocyclic siloxane, polycyclic siloxane, polysilsesquioxane, linear silazane, monocyclic silazane, polycyclic silazane, polysilsesquiazane, and precursors thereof 2 Selected from the group consisting of one or more complexes. Another possible precursor that does not apply to the above two formulas is alkyltrimethoxysilane.

酸素を含む前駆体(例:シロキサン)を使用する場合、疎水性または潤滑性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される経験的公式は、SiwOxCyHz(wは1、本公式のxは約0.5〜約1、yは約2〜約3、zは6〜約9)である。一方、遮断性被覆材を生成する条件下のPECVDから導かれる典型として推定される経験的公式は、SiOx(本公式のxは約1.5〜約2.9)である。窒素を含む前駆体(例:シラザン)を使用する場合、推定される組成物はSiw*Nx*Cy*Hz*である。すなわち、SiwOxCyHzにおいては本発明に従い、OはNに置換され指標はNの原子価がOより高くなるよう(2ではなく3)適合される。後者の適合は通常、シロキサンにおけるw、x、y、およびzがそれに相当するaza構造の指標に対する割合に従う。本発明の特定態様において、Siw*Nx*Cy*Hz*のw*、x*、y*、およびz*は、シロキサンのものと同様に定義されるが、水素数の逸脱のオプションとして扱われる。 When using oxygen containing precursors (eg siloxane), the typical empirical formula deduced from PECVD under conditions that produce hydrophobic or lubricious coatings is Si w O x C y H z (Where w is 1, x is about 0.5 to about 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9). On the other hand, a typical empirical formula deduced from PECVD under conditions that produce a barrier coating is SiO x (where x is about 1.5 to about 2.9). If a precursor containing nitrogen (eg silazane) is used, the estimated composition is Si w * N x * C y * H z * . That is, in Si w O x C y H z , according to the present invention, O is replaced with N and the index is adapted so that the valence of N is higher than O (3 instead of 2). The latter fit usually follows the ratio of w, x, y, and z in siloxane to the corresponding aza structure index. In a particular embodiment of the present invention, w *, x *, y *, and z * of Si w * N x * C y * H z * are defined the same as that of siloxane, Treated as an option.

上記経験的公式を有する前駆体出発物質の一種に線状シロキサンがあり、例えば以下の公式を有する物質である:

Figure 2012526921
当該公式の各Rは独立して、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基から選択され、nは1、2、3、4、またはそれ以上であり、好ましくは2以上である。考えられる線状シロキサンのいくつかの例は、
ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)、
オクタメチルトリシロキサン、
デカメチルテトラシロキサン、
ドデカメチルペンタシロキサン、
またはこれら2つ以上の複合体である。上記化学構造における-NH-を酸素原子に置換した類似シラザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられる線状シラザンのいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、またはこれら2つ以上の複合体である。 One type of precursor starting material having the above empirical formula is linear siloxane, such as a material having the following formula:
Figure 2012526921
Each R in the formula is independently selected from alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, vinyl, alkyne, etc., and n is 1, 2, 3, 4, or More than that, preferably 2 or more. Some examples of possible linear siloxanes are:
Hexamethyldisiloxane (HMDSO),
Octamethyltrisiloxane,
Decamethyltetrasiloxane,
Dodecamethylpentasiloxane,
Or these two or more composites. Similar silazanes in which —NH— in the above chemical structure is substituted with oxygen atoms are also useful for the production of similar coating materials. Some examples of possible linear silazanes are octamethyltrisilazane, decamethyltetrasilazane, or a complex of two or more of these.

V.C.別の種類に前駆体出発物質に単環シロキサンがあり、例えば以下の構造公式を有する物質である:

Figure 2012526921
当該公式のRは線状化学構造のものと同様に定義され「a」は3〜約10であり、または当該類似単環シラザンである。考えられるヘテロ置換および非置換単環シロキサンおよびシラザンのいくつかの例には以下が含まれる:
1,3,5-トリメチル-1,3,5-トリス(3,3,3-トリフルオロプロピル)メチル]シクロトリシロキサン
2,4,6,8-テトラメチル-2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン、
ペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、
ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、
オクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)、
オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
デカメチルシクロペンタシロキサン、
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、
メチル(3,3,3-トリフルオロプロピル)シクロシロキサン、
以下のような環状オルガノシラザンも考えられる:
オクタメチルシクロテトラシラザン、
1,3,5,7-テトラビニル-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシラザン ヘキサメチルシクロトリシラザン、
オクタメチルシクロテトラシラザン、
デカメチルシクロペンタシラザン、
ドデカメチルシクロヘキサシラザン、または
またはこれら2つ以上の複合体。 Another type of VC is a monocyclic siloxane as a precursor starting material, for example a material having the following structural formula:
Figure 2012526921
The formula R is defined the same as that of the linear chemical structure and “a” is from 3 to about 10, or the analogous monocyclic silazane. Some examples of possible hetero-substituted and unsubstituted monocyclic siloxanes and silazanes include:
1,3,5-trimethyl-1,3,5-tris (3,3,3-trifluoropropyl) methyl] cyclotrisiloxane
2,4,6,8-tetramethyl-2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane,
Pentamethylcyclopentasiloxane,
Pentavinylpentamethylcyclopentasiloxane,
Hexamethylcyclotrisiloxane,
Hexaphenylcyclotrisiloxane,
Octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS),
Octaphenylcyclotetrasiloxane,
Decamethylcyclopentasiloxane,
Dodecamethylcyclohexasiloxane,
Methyl (3,3,3-trifluoropropyl) cyclosiloxane,
The following cyclic organosilazanes are also conceivable:
Octamethylcyclotetrasilazane,
1,3,5,7-tetravinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasilazane hexamethylcyclotrisilazane,
Octamethylcyclotetrasilazane,
Decamethylcyclopentasilazane,
Dodecamethylcyclohexasilazane, or
Or these two or more complexes.

V.C.別の種類の前駆体出発物質に多環シロキサンがあり、例えば以下の構造公式のいずれかを有する物質である:

Figure 2012526921

当該公式のYは酸素または窒素である場合があり、Eはケイ素であり、Zは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。各Yが酸素である場合、それぞれの化学構造は、左から順に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Yが窒素である場合、それぞれの化学構造はアザシラトラン、アザシルクアシラトラン、アザシルプロアトランである。 Another type of VC precursor precursor is a polycyclic siloxane, for example a material having one of the following structural formulas:
Figure 2012526921

The formula Y may be oxygen or nitrogen, E is silicon, Z is a hydrogen atom or an organic substituent, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, vinyl, Alkyl and other alkyl groups. When each Y is oxygen, the respective chemical structures are silatrane, silkacilatran, and sylproatrane in order from the left. When Y is nitrogen, the respective chemical structures are azasilatlan, azasilacilatran, and azacilproatran.

V.C.別の種類の多環シロキサン前駆体出発物質は、経験的公式RSiO1.5および当該構造公式を有するポリシルセスキオキサンである:

Figure 2012526921

当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、その他といったアルキル基である。この種の2つの市販物質は、各RがメチルであるSST-eM01ポリ(メチルシルセスキオキサン)、および当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるSST-3MH1.1ポリ(メチル-ヒドリドシルセスキオキサン)である。本物質は、例えばテトラヒドロフランの10%溶液において入手可能である。またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。 考えられる前駆体のその他の実施例には、CAS No.2288-13-3の各Yが酸素およびZがメチルであるメチルシラトラン、メチルアザシラトラン、各Rが随意にメチルであるSST-eM01ポリ(メチルシルセスキオキサン)、当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるSST-3MH1.1ポリ(メチル-ヒドリドシルセスキオキサン)、またはこれらの2つ以上の複合体がある。 Another type of polycyclic siloxane precursor starting material for VC is the empirical formula RSiO 1.5 and polysilsesquioxanes having the structural formula:
Figure 2012526921

Each R in the formula is a hydrogen atom or an organic substituent, for example, an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, vinyl, alkyne, and the like. Two commercially available materials of this type are SST-eM01 poly (methylsilsesquioxane), each R being methyl, and SST-3MH1.1 poly, wherein 90% of the R group is methyl and 10% is a hydrogen atom. (Methyl-hydridosilsesquioxane). This material is available, for example, in a 10% solution of tetrahydrofuran. Alternatively, a complex of two or more of these may be considered. Other examples of possible precursors include SST-, wherein each Y of CAS No. 2288-13-3 is methylsilatrane, methylazasilatrane, where each Y is oxygen and Z is methyl, and each R is optionally methyl. eM01 poly (methylsilsesquioxane), SST-3MH1.1 poly (methyl-hydridosilsesquioxane) in which 90% of the R groups are methyl and 10% are hydrogen atoms, or a combination of two or more of these There is a body.

V.C.上記化学構造における-NH-を酸素原子に置換した類似ポリシルセスキアザンもまた、類似被覆材の生成に有用である。考えられるポリシルセスキアザンの例は、各Rがメチルであるポリ(メチルシルセスキアザン)、および当該R群の90%がメチル、10%が水素原子であるポリ(メチル-ヒドリドシルセスキアザン)である。またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。               V.C. A similar polysilsesquiazane in which —NH— in the above chemical structure is substituted with an oxygen atom is also useful for the production of a similar coating material. Examples of possible polysilsesquiazanes are poly (methylsilsesquiazane) in which each R is methyl, and poly (methyl-hydridosilsesquiazane) in which 90% of the R groups are methyl and 10% are hydrogen atoms It is. Alternatively, a complex of two or more of these is also conceivable.

V.C.特に、本発明に記載の潤滑性被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、 例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。               V.C. In particular, one possible precursor for the lubricity coating according to the invention includes monocyclic siloxanes, such as octamethylcyclotetrasiloxane.

特に、本発明に記載の疎水性被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、単環シロキサン、 例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。               In particular, one possible precursor for the hydrophobic coating described in the present invention is a monocyclic siloxane, such as octamethylcyclotetrasiloxane.

特に、本発明に記載の遮断性被覆材のための考えられる前駆体の1つとして、線状シロキサン、 例えばHMDSOが挙げられる。               In particular, one possible precursor for the barrier coating described in the present invention is a linear siloxane, such as HMDSO.

V.C.本発明に記載のいずれかの被覆方法において、当該塗布手順は随意に、当該前駆体の気化により行われ、当該基板付近に提供される。例えばOMCTSは、当該PECVD装置への塗布前に約50℃に加熱して気化する。               V.C. In any of the coating methods described in the present invention, the coating procedure is optionally performed by vaporization of the precursor and provided near the substrate. For example, OMCTS is vaporized by heating to about 50 ° C. before application to the PECVD apparatus.

V.2 一般的PECVD法
本発明の文脈においては、以下の手順を含むPECVD法を一般的に適用する:
(a) 本明細書で定義する前駆体からなる、好ましくは基板表面付近における有機ケイ素前駆体と随意にO2からなる、ガス状反応物質の提供、および
(b) ガス状反応物質からのプラズマの生成、すなわちプラズマ促進化学蒸着(PECVD)による基板表面上での被覆材の形成。
V.2 General PECVD method
In the context of the present invention, a PECVD method is generally applied that includes the following procedure:
(a) providing a gaseous reactant comprising a precursor as defined herein, preferably consisting of an organosilicon precursor near the substrate surface and optionally O 2 ; and
(b) Generation of plasma from gaseous reactants, ie formation of a coating on the substrate surface by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD).

前述方法において、当該被覆材の特性は有利には以下の1つ以上の条件により設定される:プラズマの性質、当該プラズマにかける圧力、プラズマ生成のためにかける電力、ガス状反応物質内のO2の有無および相対量、プラズマの容量、および有機ケイ素前駆体。好ましくは、当該被覆材の特性は、ガス状反応物質内のO2有無および相対量、および/またはプラズマ生成のためにかける電力により設定される。 In the above method, the properties of the coating are advantageously set by one or more of the following conditions: the nature of the plasma, the pressure applied to the plasma, the power applied to generate the plasma, the O in the gaseous reactant. The presence and relative amount of 2, the volume of plasma, and the organosilicon precursor. Preferably, the properties of the coating are set by the presence and relative amount of O 2 in the gaseous reactant and / or the power applied for plasma generation.

本発明のすべての実施例において、望ましい態様におけるプラズマは非ホロー陰極プラズマである。               In all embodiments of the invention, the plasma in the preferred embodiment is a non-hollow cathode plasma.

さらに望ましい態様において、プラズマは(環境気圧または大気圧と比較して)減圧下で生成される。好ましくは、当該減圧は300mトール未満、より好ましくは200mトール未満、さらにより好ましくは100mトール未満である。               In further desirable embodiments, the plasma is generated under reduced pressure (compared to ambient or atmospheric pressure). Preferably, the reduced pressure is less than 300 mTorr, more preferably less than 200 mTorr, and even more preferably less than 100 mTorr.

当該PECVDは、好ましくは当該前駆体を含むガス状反応物質を、マイクロ波または無線周波、好ましくは無線周波の周波数を動力源とする電極で加圧することで実行される。本発明の実施例の実施に望ましい当該無線周波数は、「RF周波数」とも呼ばれる。本発明の実行における通常の無線周波数範囲は、10kHz〜300MH未満、より好ましくは1〜50MHz、さらにより好ましくは10〜15MHzの周波数である。13.56MHzの周波数が最も望ましく、これはPECVD作業実施に関する政府認可の周波数である。               The PECVD is preferably performed by pressurizing a gaseous reactant containing the precursor with an electrode powered by microwave or radio frequency, preferably radio frequency. The radio frequency desired for the implementation of the embodiment of the present invention is also referred to as “RF frequency”. The normal radio frequency range in the practice of the present invention is a frequency of 10 kHz to less than 300 MHz, more preferably 1 to 50 MHz, and even more preferably 10 to 15 MHz. A frequency of 13.56 MHz is most desirable, which is a government-approved frequency for carrying out PECVD work.

マイクロ波源と比べ、RF電力源を使用する場合の利点がいくつかある:RFは低電力で動作するため、当該基板/容器の加熱度が減少する。本発明の焦点はプラズマ被覆材をプラスチック基板上に被覆することであるため、当該基板の溶解/歪曲を防止するため低温の処理温度が望ましい。マイクロ波PECVD使用時は基板の過熱防止のため、当該マイクロ波PECVDをパルス電力による短時間噴出で塗布する。当該電力パルスにより、当該被覆材のサイクル時間が延び、これは本発明において好ましくない。またより高周波のマイクロ波は、当該プラスチック基板に残存水、オリゴマー、その他の物質といった揮発性物質のオフガスを引き起こす場合がある。このオフガスは、当該 PECVD被覆を阻害する恐れがある。PECVDのためのマイクロ波使用における最大の懸念は、当該被覆材の当該基板からの剥離である。剥離は、当該被覆層堆積前に当該マイクロ波が該基板表面に変化を及ぼすことが原因で発生する。剥離の可能性を低減するため、当該被覆材と当該基板の間の良好な結合を達成する、マイクロ波PECVD用の界面被覆層が開発されている。RF PECVDには剥離の恐れはないため、かかる界面被覆層は必要ない。最後に、本発明に記載の当該潤滑性被覆材および疎水性被覆材は、有利に低電力を使用して塗布される。RF電力は低電力で動作し、当該PECVD処理に対する制御において、マイクロ波電力より優れている。それにもかかわらず、マイクロ波電力は、望ましさの点では劣るが、適切な処理条件下で利用可能である。               There are several advantages of using an RF power source compared to a microwave source: RF operates at low power, which reduces the degree of heating of the substrate / container. Since the focus of the present invention is to coat a plasma coating on a plastic substrate, a low processing temperature is desirable to prevent dissolution / distortion of the substrate. When using microwave PECVD, to prevent overheating of the substrate, the microwave PECVD is applied by a short jet of pulse power. The power pulse increases the cycle time of the dressing, which is not preferred in the present invention. In addition, higher frequency microwaves may cause off-gassing of volatile substances such as residual water, oligomers, and other substances on the plastic substrate. This off-gas may interfere with the PECVD coating. The biggest concern in using microwaves for PECVD is the release of the coating from the substrate. Separation occurs because the microwaves change the surface of the substrate before the coating layer is deposited. In order to reduce the possibility of delamination, interfacial coatings for microwave PECVD have been developed that achieve a good bond between the coating and the substrate. Since RF PECVD has no fear of peeling, such an interfacial coating layer is not necessary. Finally, the lubricity and hydrophobic coatings described in the present invention are advantageously applied using low power. RF power operates at low power and is superior to microwave power in controlling the PECVD process. Nevertheless, microwave power is less desirable but is available under appropriate processing conditions.

さらには、本明細書に記載のすべてのPECVD法について、プラズマ生成に使用する電力(単位:ワット)とプラズマが生成される内腔の容量との間に、特定の相関関係が認められる。一般に前述内腔は、本発明に従い被覆される容器の内腔である。当該RF電力は、同一電極システムを利用する場合、当該容器の容量で計測するべきである。当該前駆体の対O2比率といったガス状反応物質の組成、およびその他すべてのPECVD被覆法パラメータ(電力を除く)が一旦設定されると、容器の形状が維持されその容量のみが変化する場合は一般的にそれらの変更は行われない。この場合、当該電力は当該容量に正比例する。したがって、本記載により提供される当該電力の対容量比から開始することで、同一形状かつ異サイズの容器内に同一または類似の被覆材を得るために適用するべき電力を、容易に探し出すことが可能である。当該容器形状が適用電力に与える影響を、管の実施例をシリンジバレルの実施例と比較した結果を用いて図示した。 Furthermore, for all PECVD methods described herein, a specific correlation is observed between the power used for plasma generation (unit: watts) and the volume of the lumen in which the plasma is generated. Generally, said lumen is the lumen of a container that is coated according to the present invention. The RF power should be measured by the capacity of the vessel when using the same electrode system. If the gaseous reactant composition, such as the precursor to O 2 ratio, and all other PECVD coating parameters (except power) are set once, the vessel shape is maintained and only its volume changes. In general, those changes are not made. In this case, the power is directly proportional to the capacity. Therefore, starting from the power-to-capacity ratio provided by the present description, it is possible to easily find the power to be applied to obtain the same or similar coating material in containers of the same shape and different sizes. Is possible. The effect of the container shape on applied power is illustrated using the results of a tube example compared to a syringe barrel example.

本発明のいかなる被覆材についても、当該プラズマは、当該基表面上に被覆材を生成するのに十分な電力を動力源とする電極により生成される。潤滑性被覆材または疎水性被覆材については、本発明の実施例に記載の方法において、当該プラズマは好ましくは (i) 0.1〜25W、より好ましくは1〜22W、さらにより好ましくは3〜17W、さらに好ましくは5〜14W、最も好ましくは7〜11W、例えば8Wの電力を受ける電極で生成される、および/または (ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が10 W/ml未満である、好ましくは5W/ml〜0.1W/ml、より好ましくは4W/ml〜0.1W/ml、最も好ましくは2W/ml〜0.2W/mlである。遮断性被覆材またはSiOx被覆材については、本発明の実施例に記載の方法において、当該プラズマは好ましくは (i) 8〜500W、より好ましくは20〜400W、さらにより好ましくは35〜350W、さらに好ましくは44〜300W、最も好ましくは44〜70Wの電力を受ける電極で生成される、および/または (ii) 当該電極電力の対プラズマ量比が5 W/ml以上である、好ましくは6W/ml〜150W/ml、より好ましくは7W/ml〜100W/ml、最も好ましくは7W/ml〜20W/mlである。               For any dressing of the present invention, the plasma is generated by an electrode powered by sufficient power to produce a dressing on the substrate surface. For lubricious or hydrophobic coatings, the plasma is preferably (i) 0.1 to 25 W, more preferably 1 to 22 W, even more preferably 3 to 17 W, in the method described in the examples of the present invention. More preferably 5 to 14 W, most preferably 7 to 11 W, for example generated with an electrode receiving power of 8 W, and / or (ii) the electrode power to plasma volume ratio is less than 10 W / ml, preferably Is 5 W / ml to 0.1 W / ml, more preferably 4 W / ml to 0.1 W / ml, most preferably 2 W / ml to 0.2 W / ml. For barrier coatings or SiOx coatings, in the methods described in the examples of the present invention, the plasma is preferably (i) 8 to 500 W, more preferably 20 to 400 W, even more preferably 35 to 350 W, further Preferably 44-300 W, most preferably 44-70 W, and / or (ii) the electrode power to plasma volume ratio is 5 W / ml or more, preferably 6 W / ml ˜150 W / ml, more preferably 7 W / ml to 100 W / ml, most preferably 7 W / ml to 20 W / ml.

当該容器形状はまた、当該PECVD被覆に使用するガス吸入部の選択にも影響を与える可能性がある。特定の態様において、シリンジは開口管吸入で被覆される場合があり、管は当該管へと伸延する小型孔を有するガス吸入部で被覆される場合がある。               The container shape may also affect the selection of the gas inlet used for the PECVD coating. In certain embodiments, the syringe may be coated with open tube inhalation, and the tube may be coated with a gas intake having a small hole extending into the tube.

PECVDに使用する電力(単位:ワット)はまた、当該被覆材の性質にも影響を与える。通常、当該電力が増加すると被覆材の遮断性が増加し、当該電力が減少すると被覆材の潤滑性および疎水性が増加する。例えば、容量約3mlのシリンジバレル内壁上の被覆材については、主に遮断性被覆材である被覆材に30W未満の電力が通され、主に潤滑性被覆材である被覆材に30W以上の電力が通される(実施例を参照)。               The power (in watts) used for PECVD also affects the properties of the coating. Usually, when the electric power increases, the barrier property of the covering material increases, and when the electric power decreases, the lubricity and hydrophobicity of the covering material increase. For example, for a covering material on the inner wall of a syringe barrel having a capacity of about 3 ml, a power of less than 30 W is passed through a covering material that is mainly a barrier covering material, and a power of 30 W or more is mainly passed through a covering material that is a lubricating covering material Is passed (see example).

被覆性を決定するさらなるパラメータとして、プラズマの生成に使用されるガス状反応物質内におけるO2(またはその他の酸化剤)の対前駆体(例:有機ケイ素前駆体)比率が挙げられる。通常、当該ガス状反応物質内のO2含有量が増加すると被覆材の遮断性が増加し、O2含有量が減少すると被覆材の潤滑性および疎水性が増加する。したがって、本発明のPECVD被覆法は、前述方法により作成される被覆材の潤滑性、被覆材の疎水性、被覆材の遮断性を設定するために使用可能である。 Additional parameters that determine coverage include the ratio of O 2 (or other oxidant) to precursor (eg, organosilicon precursor) in the gaseous reactant used to generate the plasma. Usually, when the O 2 content in the gaseous reactant increases, the barrier property of the coating increases, and when the O 2 content decreases, the lubricity and hydrophobicity of the coating increase. Therefore, the PECVD coating method of the present invention can be used to set the lubricity of the coating material produced by the above-described method, the hydrophobicity of the coating material, and the barrier property of the coating material.

潤滑性被覆材が所望される場合、好ましくはO2の当該ガス状反応物質に対する体積/体積比は0:1〜5:1とし、より好ましくは0:1〜1:1とし、さらにより好ましくは0:1〜0.5:1とし、最も好ましくは0:1〜0.1:1とする。最も有利には、本質的に酸素は当該ガス状反応物質内に存在しない。したがって、当該ガス状反応物質は1 vol%未満のO2からなる、より詳細には0.5 vol%未満のO2からなる、および最も望ましくはO2が一切含まれていないものとする。疎水性被覆材についても同様とする。 When a lubricious coating is desired, preferably the volume / volume ratio of O 2 to the gaseous reactant is 0: 1 to 5: 1, more preferably 0: 1 to 1: 1, even more preferably Is from 0: 1 to 0.5: 1, most preferably from 0: 1 to 0.1: 1. Most advantageously, essentially no oxygen is present in the gaseous reactant. Accordingly, the gaseous reactant consists O 2 of less than 1 vol%, consisting of O 2 of less than 0.5 vol% and more particularly, and most preferably it is assumed that O 2 is not included at all. The same applies to the hydrophobic coating material.

一方、遮断性被覆材またはSiOx被覆材が所望される場合、当該O2のガス状反応物質に対する体積/体積比は好ましくは1 :1〜100 :1である、好ましくは5 :1〜30 :1である、より好ましくは10 :1〜20 :1、さらに好ましくは
15:1 の比率とする。
On the other hand, if a barrier coating or SiO x coating is desired, the volume / volume ratio of the O 2 to gaseous reactants is preferably 1: 1 to 100: 1, preferably 5: 1 to 30. : 1, more preferably 10: 1 to 20: 1, even more preferably
The ratio is 15: 1.

V.A. 実質上ホロー陰極プラズマを含まないプラズマを使用する、SiOx遮断性被覆材塗布のためのPECVD
V.A.本発明の特定実施例は、ケイ素、酸素、および随意にその他の元素を含む被覆材として(特定の事例において別途指定される場合を除き)本明細書内で定義されるSiOx(酸素の対ケイ素原子比であるxは約1.5〜約2.9、あるいは1.5〜約2.6、あるいは約2)の遮断性被覆材の塗布方法である。xに関するこれらの代替定義は、本明細書内で使用されるすべての用語SiOxに適用される。当該遮断性被覆材は容器、例えば検体採取管、シリンジバレル、またはその他の種類の容器の内部に塗布される。当該方法はいくつかの手順からなる。
VA PECVD for coating SiO x barrier coatings using plasma that is substantially free of hollow cathode plasma
VA Specific embodiments of the present invention include SiO x (oxygen-free) as defined herein (except where otherwise specified) as a coating comprising silicon, oxygen, and optionally other elements. The ratio x to silicon is about 1.5 to about 2.9, alternatively 1.5 to about 2.6, or about 2). These alternative definitions for x apply to all terms SiO x as used herein. The barrier coating is applied to the interior of a container, such as a specimen collection tube, syringe barrel, or other type of container. The method consists of several procedures.

V.A.容器の壁を用意し、またプラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。               A V.A. vessel wall is provided, and a reaction mixture comprising a plasma generating gas, ie, an organosilicon compound gas, optionally an oxidizing gas, and optionally a hydrocarbon gas.

V.A.プラズマが、実質上ホロー陰極プラズマを含まない当該反応混合物内に生成される。当該容器壁は反応混合物と接触し、当該SiOx被覆材は容器壁の少なくとも一部に堆積する。 VA plasma is generated in the reaction mixture that is substantially free of hollow cathode plasma. The container wall is in contact with the reaction mixture, the SiO x coating material is deposited on at least a portion of the container wall.

V.A.特定の実施例においては、SiOx被覆材の生成が酸素に対するよりよい遮断性をもたらす場合もあるため、被覆する容器部分を通してプラズマが均一に生成されることが望ましい。均一なプラズマとは、ホロー陰極プラズマ(標準プラズマより高い発光強度を有し、当該標準プラズマのより均一な強度に支障を及ぼす強度の高い局部として現れる)を大量に含むことのない標準プラズマを意味する。 In certain VA embodiments, it is desirable that the plasma be generated uniformly through the portion of the container to be coated, since the generation of the SiO x coating may provide better barrier to oxygen. Uniform plasma means standard plasma that does not contain a large amount of hollow cathode plasma (which has higher emission intensity than standard plasma and appears as a high intensity local area that interferes with the more uniform intensity of the standard plasma). To do.

V.A.当該ホロー陰極作用は、共通のアノードに関して同一の負電位で対立し合う対の導電性表面により、生成される。当該空間が生成され(圧力およびガスの種類により異なる)当該空間電荷シースがオーバラップする場合、当該対立壁シースの反射電位の間で電子が振動を開始し、当該シース領域の電位勾配により当該電子が加速するにつれて複数衝突が起こる。当該電子は当該空間電荷シースオーバラップ内に収容され、非常に高電離かつ高イオン密度のプラズマが生成される。この現象が、ホロー陰極作用と称される。当技術分野の当事者は、当該電力レベルおよび当該ガスの供給率または圧力といった処理条件を変更して、全域に均一なプラズマを生成すること、またはさまざまな程度のホロー陰極プラズマを含むプラズマを生成することが可能である。               The hollow cathode action is generated by a pair of conductive surfaces opposing at the same negative potential with respect to a common anode. When the space is created (depending on pressure and gas type) and the space charge sheath overlaps, the electrons start to oscillate between the reflected potentials of the opposing wall sheath and the potential gradient of the sheath region causes the electrons to As it accelerates, multiple collisions occur. The electrons are contained in the space charge sheath overlap, and a very high ionization and high ion density plasma is generated. This phenomenon is called a hollow cathode action. Those skilled in the art can change processing conditions such as the power level and the gas supply rate or pressure to produce a uniform plasma across the entire area, or to generate a plasma containing varying degrees of hollow cathode plasma. It is possible.

V.A.代替方法において、例えば前述の図12の装置を使用して、PECVD処理においてプラズマを生成するためにマイクロ波エネルギーを使用可能である。しかしながら、熱可塑性容器へと適用されるマイクロ波エネルギーが水分子を励起する(振動する)ため、当該処理条件は異なる場合がある。少量の水が純プラスチック素材内に入っているため、当該プラスチックは当該マイクロ波より加熱される。当該プラスチックが加熱されるにつれ、当該機器外部の気圧と相対的な当該機器内部の真空により創出される大規模な駆動力により、素材が自由にまたは容易に当該内面88へと脱着し、それらは揮発性となる、または当該表面に弱く結合する。弱い結合物質はその後、(当該プラズマから堆積される)後続の被覆材の当該機器のプラスチック内面88への粘着を防止可能である界面を創出する。               In an alternative V.A. method, microwave energy can be used to generate a plasma in a PECVD process, for example using the apparatus of FIG. 12 described above. However, the processing conditions may differ because the microwave energy applied to the thermoplastic container excites (vibrates) water molecules. Since a small amount of water is contained in the pure plastic material, the plastic is heated by the microwave. As the plastic is heated, due to the large driving force created by the vacuum inside the equipment relative to the atmospheric pressure outside the equipment, the material is freely or easily detached from the inner surface 88, which Becomes volatile or weakly binds to the surface. The weak binding material then creates an interface that can prevent subsequent coating (deposited from the plasma) from sticking to the plastic inner surface 88 of the device.

V.A.この被覆防止作用を否定する方法として、被覆材を非常に低い電力(本実施例において5〜20ワット、2.45GHz)で堆積して、後続被覆材が接着できるキャッピングを生成することが可能である。これにより、2手順の被覆材処理(および2層の被覆材)となる。上記実施例において、(当該キャッピング層のための)当該初期ガス流量は、約2〜10秒間5〜20ワットの処理電力を有する、2sccm(「立方センチメートル毎分」)HMDSOおよび20sccm酸素に変更可能である。その後、上述実施例での流量へと当該ガスを調整し当該電力レベルを例えば35Wから50Wに増大することで、SiOx被覆材(本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)を堆積可能である。特定の実施例においてキャッピング層は、より高い電力でのSiOx被覆材堆積中における素材の容器内面88への移動を阻止することを除き、ほとんどまたはまったく機能しない可能性があることに注意されたい。当該機器壁内物質の容易な脱着の移動は、大部分のRF範囲といった低周波数においては通常問題とならないことにも注意されたい。なぜなら、当該低周波は分子種を励起(振動)しないからである。 VA As a way to negate this anti-coating effect, it is possible to deposit the coating at a very low power (5-20 watts, 2.45 GHz in this example) to produce a capping to which the subsequent coating can adhere. is there. This results in a two-step coating process (and a two-layer coating). In the above example, the initial gas flow (for the capping layer) can be changed to 2 sccm (“cubic centimeter per minute”) HMDSO and 20 sccm oxygen with a processing power of 5-20 watts for about 2-10 seconds. is there. Thereafter, the gas is adjusted to the flow rate in the above embodiment and the power level is increased, for example, from 35 W to 50 W, so that the SiO x coating material (x in this formula is about 1.5 to about 2.9, or about 1.5 to about 2.6, or about 2) can be deposited. Note that in certain embodiments, the capping layer may perform little or no function except to prevent migration of material to the container inner surface 88 during higher power SiO x coating deposition. . It should also be noted that easy desorption movement of material within the equipment wall is usually not a problem at low frequencies, such as most RF ranges. This is because the low frequency does not excite (vibrates) the molecular species.

V.A.前述の被覆防止作用を否定する別の方法として、マイクロ波エネルギーを適用する前に滞留水を除去するために当該容器80を乾燥させることが可能である。当該容器80の乾燥は、例えば、電熱器または強制空気加熱を利用した当該容器80の温熱性加熱により、達成可能である。当該容器80の乾燥はまた、乾燥剤への当該容器80の内部の曝露により、または当該容器80の内部のガス接触により、達成可能である。真空乾燥といったその他の容器乾燥手段も使用可能である。当該手段は、図示する1つ以上の当該ステーションまたは機器において、または個別のステーションまたは機器により実行可能である。               V.A. As another way to negate the aforementioned anti-coating action, the vessel 80 can be dried to remove stagnant water before applying microwave energy. The drying of the container 80 can be achieved by, for example, thermal heating of the container 80 using an electric heater or forced air heating. Drying of the container 80 can also be accomplished by exposure of the interior of the container 80 to a desiccant or by gas contact within the container 80. Other container drying means such as vacuum drying can also be used. The means can be implemented in one or more of the stations or equipment shown, or by individual stations or equipment.

V.A.また上述被覆防止作用は、当該容器80のモールド原料である当該樹脂を選択または処理して当該樹脂が含有する水量を最低限に抑えることで、対処可能である。               V.A. Further, the above-described anti-coating action can be dealt with by selecting or treating the resin as the mold raw material of the container 80 to minimize the amount of water contained in the resin.

V.B. 容器の制限的開口部(シリンジキャピラリー)を被覆するPECVD被覆材
V.B.図26および27は、通常管状である処理対象容器250の制限開口部294、例えばシリンジバレル250の制限前開口部294の内面292を、PECVDにより被覆する方法および装置(通常290)を示す。前述処理は、当該制限的開口部294の処理容器296への接続により、および随意にその他の修正の実行により、修正される。
PECVD coating covering the restricted opening (syringe capillary) of the VB container
VB FIGS. 26 and 27 show a method and apparatus (usually 290) for coating the inner surface 292 of the restriction opening 294 of the container 250 to be treated, which is generally tubular, for example, the pre-restriction opening 294 of the syringe barrel 250 by PECVD. The foregoing process is modified by connecting the restrictive opening 294 to the process vessel 296 and optionally performing other modifications.

V.B.通常管状である処理対象容器250には、外面298、内腔300を定義する内面254、内径を有する大開口部302、内面292により定義されかつ大開口部302の内径より小さな内径を有する制限的開口部294が含まれる。               The VB container 250, which is typically tubular, has an outer surface 298, an inner surface 254 defining a lumen 300, a large opening 302 having an inner diameter, a restriction defined by the inner surface 292 and having an inner diameter smaller than the inner diameter of the large opening 302. A static opening 294 is included.

V.B.当該処理容器296は内腔304および処理容器開口部306を有し、当該開口部は、その他の実施例において随意に処理中は閉口となる第2開口部を提供可能であるが、随意に唯一の開口部である。当該処理容器開口部306を当該容器250の制限的開口部294に接続し、処理される容器250の内腔300と処理容器の内腔の間の通過を制限的開口部294経由で確立する。               VB The processing vessel 296 has a lumen 304 and a processing vessel opening 306, which can optionally provide a second opening that is closed during processing in other embodiments, but optionally It is the only opening. The processing vessel opening 306 is connected to the restrictive opening 294 of the vessel 250, and passage between the lumen 300 of the vessel 250 to be processed and the lumen of the processing vessel is established via the restrictive opening 294.

V.B.処理される容器250の内腔300および処理容器296の内腔304 内で、少なくとも一部を真空状態にする。PECVD反応物質がガス源144(図7を参照)から第1開口部302を通り、その後処理される容器250の内腔300、制限的開口部294、処理容器296の内腔304へと流入する。               V.B. At least a portion of the lumen 300 of the container 250 to be processed and the lumen 304 of the process container 296 are evacuated. PECVD reactant flows from the gas source 144 (see FIG. 7) through the first opening 302 and then into the lumen 300 of the vessel 250 to be processed, the restrictive opening 294, and the lumen 304 of the processing vessel 296. .

V.B.内部経路310、近位端312、遠位端314、および遠位開口部316を有する通常管状である内部電極308の提供により、当該PECVD反応物質を当該容器250の大開口部302を通して導入可能である。代替実施例においては、複数の遠位開口部を当該遠位端314に隣接して提供し当該内部経路310と連絡させることが可能である。当該電極308の遠位端は、処理される容器250の大開口部302に隣接して/の内部に位置付け可能である。反応性ガスを、当該電極308の遠位開口部316を通して処理される容器250の内腔300へと供給可能である。当該PECVD反応物質導入前の初期に引かれた真空状態より高圧で当該PECVD反応物質が提供される範囲内において、当該反応物質は当該制限的開口部294を通り、その後当該内腔304へと流入する。               The PECVD reactant can be introduced through the large opening 302 of the vessel 250 by providing an internal electrode 308 that is generally tubular having a VB internal pathway 310, a proximal end 312, a distal end 314, and a distal opening 316. It is. In an alternative embodiment, a plurality of distal openings can be provided adjacent to the distal end 314 and in communication with the internal pathway 310. The distal end of the electrode 308 can be positioned adjacent to / into the large opening 302 of the container 250 to be processed. Reactive gas can be supplied to the lumen 300 of the container 250 to be processed through the distal opening 316 of the electrode 308. To the extent that the PECVD reactant is provided at a pressure higher than the vacuum initially drawn before the PECVD reactant is introduced, the reactant passes through the restrictive opening 294 and then flows into the lumen 304. To do.

V.B.制限的開口部294の内面292上にPECVD反応生成物を堆積するのに効果的な条件下で、プラズマ318を制限的開口部294に隣接して生成する。図26に示す当該実施例において、RFエネルギーを当該通常U字型外部電極160と接地する当該内部電極308とに供給して、当該プラズマを生成する。当該電極への供給および接地接続を無効にすることが可能であるが、当該プラズマ生成時に処理される容器250と当該内部電極308が当該U字型外部電極を通る場合、この無効化により複雑性が生じる可能性がある。               A plasma 318 is generated adjacent to the restrictive opening 294 under conditions effective to deposit a PECVD reaction product on the inner surface 292 of the V.B. restrictive opening 294. In the embodiment shown in FIG. 26, RF energy is supplied to the normal U-shaped external electrode 160 and the internal electrode 308 grounded to generate the plasma. It is possible to disable the supply and ground connection to the electrode, but if the vessel 250 and the internal electrode 308 that are processed during the plasma generation pass through the U-shaped external electrode, this disablement adds complexity. May occur.

V.B.処理の少なくとも一部の間に当該容器250内に生成される当該プラズマ318は、当該制限的開口部294および/または当該処理容器内腔304の内部に生成されるホロー陰極プラズマを含む。ホロー陰極 プラズマ318の生成により、当該制限的開口部294に遮断性被覆材を成功裏に塗布する能力がもたらされる。ただし本発明は、当該作業理論の正確性または適用可能性により制限されるものではない。したがって、作業の考えられる1モードにおいて、当該処理の一部を、均一プラズマを当該容器 250および当該ガス吸入全域に生成する条件下で実行可能であり、また一部を、ホロー陰極 プラズマを例えば当該制限的開口部294に隣接して生成する条件下で実行可能である。               The plasma 318 generated in the vessel 250 during at least a portion of the V.B. process includes a hollow cathode plasma generated within the restrictive opening 294 and / or the process vessel lumen 304. The generation of the hollow cathode plasma 318 provides the ability to successfully apply a barrier coating to the restrictive opening 294. However, the present invention is not limited by the accuracy or applicability of the working theory. Accordingly, in one possible mode of operation, a portion of the process can be performed under conditions that produce a uniform plasma across the vessel 250 and the entire area of the gas inlet, and a portion of the process can be performed, for example, with a hollow cathode plasma. It can be performed under conditions that generate adjacent to the restrictive opening 294.

V.B.本明細書で説明し当該図面で示すように、当該プラズマ318は当該シリンジ内腔300および当該制限的開口部294の実質上全域に伸延するため、当該処理はかかる条件下で動作されることが望ましい。当該プラズマ318もまた、当該シリンジ内腔300、当該制限的開口部294、および当該処理容器296の内腔304の実質上全域に伸延することが望ましい。これにより、容器250の内部254の均一な被覆が望ましいと仮定される。その他の実施例においては、不均一プラズマが望ましい可能性がある。               VB As described herein and shown in the drawing, the plasma 318 extends substantially across the syringe lumen 300 and the restrictive opening 294, so that the process is operated under such conditions. Is desirable. The plasma 318 also desirably extends over substantially the entire area of the syringe lumen 300, the restrictive opening 294, and the lumen 304 of the processing vessel 296. This assumes that a uniform coating of the interior 254 of the container 250 is desirable. In other embodiments, a non-uniform plasma may be desirable.

V.B.当該プラズマ318は、シリンジ内腔300および制限的開口部294が全域において実質上均一な色であること、および好ましくは、当該シリンジ内腔300、当該制限的開口部294、および当該処理容器296の内腔304の実質上全域において実質上均一な色であることが、通常望ましい。当該プラズマは、当該シリンジ内腔300および当該制限的開口部294全域において、および好ましくは当該処理容器296の内腔304全域においても、実質上不変であることが望ましい。               The VB plasma 318 has a substantially uniform color throughout the syringe lumen 300 and restrictive opening 294, and preferably the syringe lumen 300, the restrictive opening 294, and the processing vessel 296. It is usually desirable to have a substantially uniform color over substantially the entire lumen 304 of the tube. The plasma should be substantially invariant throughout the syringe lumen 300 and the restrictive opening 294, and preferably throughout the lumen 304 of the processing vessel 296.

V.B.本方法の手順順序は、重要とは見なされていない。               V.B. The sequence of steps of the method is not considered critical.

V.B.図26および27の実施例において、当該制限的開口部294は第1取付部332を有し、当該処理容器開口部306は第1取付部332に装填するよう適合される第2取付部334を有し、処理容器296の内腔304と処理される容器250の内腔300の間の通過を確立する。               In the embodiment of VB FIGS. 26 and 27, the restrictive opening 294 has a first mounting portion 332 and the processing vessel opening 306 is adapted to be loaded into the first mounting portion 332. And establish a passage between the lumen 304 of the processing vessel 296 and the lumen 300 of the vessel 250 to be processed.

V.B.図26および27の実施例において、当該第1および第2取付部は雄および雌ルアーロック取付部332および334であり、それぞれ、当該制限的開口部294および当該処理容器開口部306を定義する構造と一体となっている。当該取付部の1つ(この場合は当該雄ルアー ロック取付部332)は、ねじ式内面を有し軸方向対向の通常溝付き釘第1当接部338を定義するロックカラー336からなり、もう1つの当該取付部334は、当該取付部332および334が係合する場合に当該第1当接部338に向き合う軸方向対向の通常溝付き釘第2当接部からなる。               In the example of VB FIGS. 26 and 27, the first and second attachments are male and female luer lock attachments 332 and 334, which define the restrictive opening 294 and the processing vessel opening 306, respectively. It is integrated with the structure. One of the attachments (in this case, the male luer lock attachment 332) comprises a lock collar 336 having a threaded inner surface and defining an axially opposed normal grooved nail first abutment 338. The one attachment portion 334 includes an axially opposed normal grooved nail second contact portion that faces the first contact portion 338 when the attachment portions 332 and 334 are engaged.

V.B.図示する当該実施例において、密閉部、例えばオーリング342は、当該第1取付部332と第2取付部334の間に位置する場合がある。例えば溝付き釘密閉部は、当該第1当接部338と第2当接部340の間で係合する場合がある。当該雌ルアー取付部334はまた、当該ロックカラー336のねじ式内面と係合して当該第1取付部332と第2取付部334の間で当該オーリング342を捕捉するドッグ344も含む。随意に、制限的開口部294経由で、処理される容器250の内腔300と処理容器296の内腔304の間に確立された通過は、少なくとも実質上耐漏出性である。               V.B. In the illustrated embodiment, the sealing portion, for example, the O-ring 342, may be located between the first mounting portion 332 and the second mounting portion 334. For example, the grooved nail sealing portion may be engaged between the first contact portion 338 and the second contact portion 340. The female luer attachment 334 also includes a dog 344 that engages the threaded inner surface of the lock collar 336 to capture the O-ring 342 between the first attachment 332 and the second attachment 334. Optionally, the passage established between the lumen 300 of the container 250 being processed and the lumen 304 of the process container 296 via the restrictive opening 294 is at least substantially leak resistant.

V.B.さらなるオプションとして、当該ルアーロック取付部332および334のいずれか、または両方を、導電性素材、例えばステンレス鋼から作成することが可能である。当該制限的開口部294を成形するまたは隣接する本構成素材は、当該制限的開口部294内での当該プラズマの生成に寄与する可能性がある。               V.B. As a further option, either or both of the luer lock attachments 332 and 334 can be made from a conductive material, such as stainless steel. The constituent material forming or adjacent to the restrictive opening 294 may contribute to the generation of the plasma in the restrictive opening 294.

V.B.当該処理容器296の当該内腔304の望ましい容量は、被覆されていることが好ましい当該製品表面から当該反応物質流量をそらすことがない小容量と、当該内腔304が十分に充填され(当該制限的開口部294において当該圧力差を減少させることにより)望ましい値より低い流量率へと減少される前に当該制限的開口部294を通る寛大な反応性ガス流量率を支持する大容量との間の、トレードオフとなることが考えられる。当該内腔304の考えられる容量は、ある実施例において、処理される容器250の内腔300の容量の3倍未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量の2倍未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量未満であり、または処理される容器250の内腔300の容量の50%未満であり、またはまたは処理される容器250の内腔300の容量の25%未満である。また、それぞれの内腔の容量のその他の効果的関係も考えられる。               The desired volume of the lumen 304 of the VB processing vessel 296 is preferably a small volume that does not divert the reactant flow rate from the surface of the product that is preferably coated, and the lumen 304 is sufficiently filled (the With a large capacity to support a generous reactive gas flow rate through the restrictive opening 294 before being reduced to a flow rate lower than desired (by reducing the pressure differential at the restrictive opening 294). It may be a trade-off. The possible volume of the lumen 304 is, in some embodiments, less than three times the volume of the lumen 300 of the container 250 being processed, or less than twice the volume of the lumen 300 of the container 250 being processed. The capacity of the lumen 300 of the container 250 being processed, or less than 50% of the capacity of the lumen 300 of the container 250 being processed, or or the capacity of the lumen 300 of the container 250 being processed Less than 25%. Other effective relationships of the volume of each lumen are also conceivable.

V.B.本発明者は、前図に示される当該内部電極の位置ほど当該容器250の内腔300へ侵入しないよう当該電極308の遠位端を当該容器250と関連させて再位置付けすることにより、特定実施例における当該被覆材の均一性が向上することを発見した。例えば、特定の実施例において当該遠位開口部316は、当該制限的開口部294に隣接するように位置付けられる場合があるが、別の実施例において当該遠位開口部316は、当該反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部302から当該制限的開口部294までの距離の7/8未満、随意に3/4未満、随意に半分未満の箇所に位置付けられる場合がある。または、当該遠位開口部316は、当該反応性ガス供給時の処理される容器の大開口部から当該制限的開口部294までの距離の40%未満、30%未満、20%未満、15%未満、10%未満、8%未満、6%未満、4%未満、2%未満、1%未満の箇所に位置付けられる場合がある。               VB The inventor identified by repositioning the distal end of the electrode 308 relative to the container 250 so that it does not enter the lumen 300 of the container 250 as much as the position of the internal electrode shown in the previous figure. It has been found that the uniformity of the coating material in the examples is improved. For example, in certain embodiments, the distal opening 316 may be positioned adjacent to the restrictive opening 294, while in other embodiments the distal opening 316 may be the reactive gas. It may be located at a location less than 7/8, optionally less than 3/4, optionally less than half of the distance from the large opening 302 of the container being processed at the time of supply to the restrictive opening 294. Alternatively, the distal opening 316 is less than 40%, less than 30%, less than 20%, 15% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening 294 when the reactive gas is supplied. Less than 10%, less than 8%, less than 6%, less than 4%, less than 2%, less than 1%.

V.B.または、当該電極308の遠位端はやや内側または外側に位置付け可能であり、または、当該容器250の内部へと通過し反応性ガスを供給しながら、処理される容器250の大開口部302と共にフラッシュ可能である。処理される容器250と関連する当該遠位開口部316の位置付けは、特定の寸法およびさまざまの位置での試験によるその他の処理条件に関して最適化可能である。シリンジバレル250の処理のために考えられる当該電極308の特定の位置の1つは、当該大開口部302上部の当該容器内腔300内に約1/4インチ(約6mm)侵入する当該遠位端314と共にある位置である。               VB or the distal end of the electrode 308 can be positioned slightly inward or outward, or the large opening 302 of the container 250 being processed while passing into the interior of the container 250 and supplying reactive gas. Can be flushed with. The positioning of the distal opening 316 relative to the container 250 to be processed can be optimized for specific processing and other processing conditions by testing at various locations. One particular location of the electrode 308 that can be considered for the treatment of the syringe barrel 250 is that the distal that penetrates about 1/4 inch (about 6 mm) into the container lumen 300 above the large opening 302. A position with end 314.

V.B.本発明者は現在、少なくとも当該容器250内の当該電極308の当該遠位端314を位置付けて電極として適切に機能させることが、必ずしも必須ではないにしろ、有利であると考察している。驚くべきことに、容器250内に生成される当該プラズマ318は、当該制限的開口部294を通り処理容器内腔304へとより均一に伸延可能であり、当該電極308は以前の利用と比べて当該内腔300内部に侵入しない。閉口容器の処理といったその他の装備により、当該電極308の遠位端314は一般に、その入口よりも当該容器の閉口端に近接して位置付けられる。               V.B. The present inventor currently considers that it is advantageous, if not necessarily, to position at least the distal end 314 of the electrode 308 in the container 250 to function properly as an electrode. Surprisingly, the plasma 318 generated in the vessel 250 can extend more uniformly through the restrictive opening 294 and into the processing vessel lumen 304, and the electrode 308 can be compared to previous uses. It does not enter the lumen 300. With other equipment such as closed container processing, the distal end 314 of the electrode 308 is generally positioned closer to the closed end of the container than its inlet.

V.B.また当該電極308の遠位端314は、当該制限的開口部294に、または当該制限的開口部294を超えて、例えば図33に図示する処理容器内腔304内に、位置付けられる場合がある。例えば当該制限的開口部294を通る当該ガス流量を向上させるよう当該処理容器296を成形するといった、さまざまな手段を随意に提供可能である。               The distal end 314 of the VB or the electrode 308 may be positioned in the restrictive opening 294 or beyond the restrictive opening 294, for example, in the processing vessel lumen 304 illustrated in FIG. . Various means can optionally be provided, such as shaping the process vessel 296 to improve the gas flow rate through the restrictive opening 294, for example.

V.B.図34〜35に図示する別の代替法として、当該合成内部電極およびガス供給管398は、随意に当該大開口部302近隣に位置する遠位ガス供給開口部400などを有する場合があり、また、当該遠位ガス供給開口部400の遠位に伸延する、随意に当該制限的開口部294に隣接する遠位端に伸延する、随意に当該処理容器324へとさらに伸延する、突出し電極402を有する場合がある。この構造は、当該制限的開口部294に隣接する内面292内のプラズマ生成を促進すると考えられる。               As another alternative illustrated in VB FIGS. 34-35, the synthetic internal electrode and gas supply tube 398 may optionally have a distal gas supply opening 400 located near the large opening 302, etc. Also, a protruding electrode 402 that extends distally of the distal gas supply opening 400, optionally extends to a distal end adjacent to the restrictive opening 294, and optionally further extends to the processing vessel 324. May have. This structure is believed to promote plasma generation in the inner surface 292 adjacent to the restrictive opening 294.

V.B.さらに別の考えられる実施例において、当該内部電極308は、図26に示す通り、処理中に移動可能であり、例えば、まず当該処理容器内腔304へと伸延して、その後当該処理を進めるにつれて漸進的に近位へと引き揚げることができる。本手段は、当該容器250が選択された当該処理条件の下で細長く、当該内部電極が当該内面254のより均一な処理を促進する場合に、特に考えられる。本手段を利用すると、例えばガス供給率、真空吸引率、当該外部電極160に適用する電気エネルギー、当該内部電極308の吸引率、またはその他の要素といった当該処理条件が、当該処理が進むにつれ変化し、処理される容器の異なる部分へと当該処理をカスタマイズできる。               In yet another possible embodiment, the internal electrode 308 is movable during processing, as shown in FIG. 26, for example, first distracting into the processing vessel lumen 304 and then proceeding with the processing. Can be gradually lifted proximally. This means is particularly conceivable when the vessel 250 is elongated under the selected processing conditions and the internal electrode facilitates more uniform processing of the inner surface 254. When this means is used, the processing conditions such as gas supply rate, vacuum suction rate, electrical energy applied to the external electrode 160, suction rate of the internal electrode 308, or other factors change as the processing proceeds. The process can be customized to different parts of the container to be processed.

V.B.便宜上、本明細書で説明するその他の処理にあるように、処理される容器250の大開口部302を当該容器支持体320のポート322上に装填することにより、通常管状である処理される容器250の大開口部は容器支持体320上に位置付けられる場合がある。その後、処理される容器250の内腔300内で少なくとも一部を真空状態にする前に、内部電極308を容器支持体320に装填された容器250内に位置付け可能である。               For VB convenience, as in other processes described herein, by loading the large opening 302 of the container 250 to be processed onto the port 322 of the container support 320, the process is typically tubular. The large opening of the container 250 may be positioned on the container support 320. Thereafter, the internal electrode 308 can be positioned in the container 250 loaded on the container support 320 prior to at least partially evacuating the lumen 300 of the container 250 to be processed.

V.B.図28に図示する代替実施例において、当該処理容器324は、図26に示す通り、当該容器250に固定される第1開口部306と当該容器支持体320内の真空ポート330と連絡する第2開口部328を有する導管の形状で提供可能である。本実施例において、当該PECVD処理ガスは当該容器250へと流入し、その後当該制限的開口部294経由で当該処理容器324へと流入した後に、当該真空ポート330経由で戻る。随意に、当該PECVD反応物質を塗布する前に、当該容器250は開口部294および302の両方を通して真空化可能である。               In an alternative embodiment illustrated in VB FIG. 28, the processing vessel 324 communicates with a first opening 306 secured to the vessel 250 and a vacuum port 330 in the vessel support 320 as shown in FIG. It can be provided in the form of a conduit having two openings 328. In this embodiment, the PECVD process gas flows into the vessel 250 and then flows into the process vessel 324 via the restrictive opening 294 and then returns via the vacuum port 330. Optionally, the vessel 250 can be evacuated through both openings 294 and 302 prior to applying the PECVD reactant.

V.B.または、蓋なしシリンジバレル250は、図22に示すように、バレル250の後部端256にある開口部を通して供給源144から反応物質を導入することにより、および当該バレルの前部端260にある開口部を通して真空源98を使用し真空を引くことにより、内部SiOx被覆材(本公式でのxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)、遮断性被覆材、またはその他の種類のPECVD被覆材で被覆される場合がある。例えば当該真空源98は、当該シリンジバレル250の前端部260上に装填される第2取付部266を通して接続可能である。本手段を利用すると、当該反応物質が当該バレル250を通して単一方向(図22では上方向、ただし当該方向は重要ではない)へと流動するようになり、、当該供給ガスの当該シリンジバレル250内の排出ガスからの分別を行うプローブを通して当該反応物質を搬送する必要がない。当該シリンジバレル250の前端部260および後端部256は、代替装備において、当該被覆材装置と関連させて無効とすることが可能である。当該プローブ108は単に電極として機能する場合と、本実施例における管状のまたは間断ないロッドとして機能する場合がある。前述のように、当該内面254と当該プローブ108の距離間隔は、当該シリンジバレル250の全長の少なくともほとんどにおいて均一である可能性がある。 The VB or lidless syringe barrel 250 is at the front end 260 of the barrel by introducing reactants from the source 144 through an opening at the rear end 256 of the barrel 250, as shown in FIG. By using a vacuum source 98 through the opening and pulling a vacuum, an internal SiO x coating ( x in this formula is about 1.5 to about 2.9, alternatively about 1.5 to about 2.6, or about 2), a barrier coating, Or it may be coated with other types of PECVD coatings. For example, the vacuum source 98 can be connected through a second attachment portion 266 loaded on the front end portion 260 of the syringe barrel 250. Using this means, the reactants will flow through the barrel 250 in a single direction (upward in FIG. 22, but that direction is not important), and the feed gas will flow into the syringe barrel 250. There is no need to transport the reactant through a probe that separates from the exhaust gas. The front end 260 and the rear end 256 of the syringe barrel 250 can be disabled in connection with the dressing device in alternative equipment. The probe 108 may simply function as an electrode, or may function as a tubular or continuous rod in this embodiment. As described above, the distance between the inner surface 254 and the probe 108 may be uniform over at least almost the entire length of the syringe barrel 250.

V.B.図37は、図22に類似の当該取付部266が当該プレート電極414および416から独立しておりそれらに装着されていない、別の実施例を示す図である。当該取付部266は、対応する当該シリンジバレル250の取付部を固定するよう適合されるルアーロック取付部を有する場合がある。本実施例により、当該真空導管418が当該電極416を通り越すことが可能となり、その一方で、当該容器ホルダー420および装着済み容器250は被覆手順中に当該電極414および416の間を移動する。               FIG. 37 is a diagram showing another embodiment in which the mounting portion 266 similar to FIG. 22 is independent of the plate electrodes 414 and 416 and is not attached thereto. The attachment portion 266 may have a luer lock attachment portion adapted to secure the corresponding attachment portion of the syringe barrel 250. This embodiment allows the vacuum conduit 418 to pass over the electrode 416 while the container holder 420 and mounted container 250 move between the electrodes 414 and 416 during the coating procedure.

V.B.図38は、図22に類似の当該シリンジバレル250の前端部260が開口しており、当該シリンジバレル250が当該容器ホルダー424上に装填済みの真空チャンバ422により封入されている、また別の実施例を示す図である。本実施例において、当該シリンジバレル250内および当該真空チャンバ422内の当該圧力P1はほぼ同一であり、当該真空チャンバ422内の真空状態は随意に当該シリンジバレル250の前端部260を通して引かれる。当該処理ガスが当該シリンジバレル250へと流入する場合、それらは当該シリンジバレル250内に安定した組成が提供され、当該被覆材成形のため当該電極160が加圧されるまで、当該シリンジバレル250の前端部260を通って流入する。当該シリンジバレル250と比較してより大きい当該真空チャンバ422の容量および当該シリンジバレル250内の対向電極426の位置が原因で、当該前端部260を通る当該処理ガスは当該真空チャンバ422の壁上に大幅な堆積を成形することがないと考えられる。               VB FIG. 38 is similar to FIG. 22 in that the front end 260 of the syringe barrel 250 is open and the syringe barrel 250 is enclosed by a vacuum chamber 422 loaded on the container holder 424. It is a figure which shows an Example. In this embodiment, the pressure P 1 in the syringe barrel 250 and the vacuum chamber 422 are substantially the same, and the vacuum state in the vacuum chamber 422 is optionally pulled through the front end 260 of the syringe barrel 250. When the process gas flows into the syringe barrel 250, they are provided with a stable composition in the syringe barrel 250 and until the electrode 160 is pressurized for molding the coating material, It flows through the front end 260. Due to the larger volume of the vacuum chamber 422 compared to the syringe barrel 250 and the position of the counter electrode 426 in the syringe barrel 250, the process gas passing through the front end 260 is on the wall of the vacuum chamber 422. It is believed that no significant deposits are formed.

V.B.図39は、図22に類似の 当該シリンジバレル250の後部フランジが容器ホルダー428と電極アセンブリ430の間に固定されシリンダー状の電極または対のプレート電極160および真空源98 が固定される、さらに別の実施例を示す図である。当該シリンジバレル250の外部に封入される当該容量(通常432)は、本実施例においては比較的少量であり、当該PECVD処理を行うための当該容量432および当該シリンジバレル250の内部を真空化するために必要な当該ポンプ動作を最低限に抑える。               VB FIG. 39 is similar to FIG. 22 where the rear flange of the syringe barrel 250 is secured between the container holder 428 and the electrode assembly 430 and the cylindrical electrode or pair of plate electrodes 160 and the vacuum source 98 are secured. It is a figure which shows another Example. The volume (usually 432) sealed outside the syringe barrel 250 is a relatively small amount in this embodiment, and the volume 432 for performing the PECVD process and the inside of the syringe barrel 250 are evacuated. Minimize the pump operation required for this purpose.

V.B.図40は、図22に類似の 22および図41は、図38のの代替としての、また別の実施例を示す平面図であり、 当該実施例において、圧力比例弁434を提供することによりP1/P2圧力比は望ましいレベルに維持される。P1はより低真空状態である可能性があり、すなわちPECVD処理中のP2より高圧であるため、当該廃棄処理ガスおよび副産物が当該シリンジバレル250の当該前端部260へと透過し、排出されると考えられる。また、当該真空チャンバ422へと個別に供給する真空チャンバ導管436の提供により、真空ポンプを個別に利用してより大きな封入容量432をより迅速に真空化可能である。               VB FIG. 40 is similar to FIG. 22 and FIG. 41 is a plan view of an alternative embodiment of FIG. 38, in which a pressure proportional valve 434 is provided. The P1 / P2 pressure ratio is maintained at the desired level. P1 may be in a lower vacuum state, i.e. higher pressure than P2 during PECVD processing, so that the waste processing gas and by-products permeate to the front end 260 of the syringe barrel 250 and are discharged Conceivable. In addition, by providing the vacuum chamber conduit 436 that supplies the vacuum chamber 422 individually, a larger enclosed volume 432 can be evacuated more quickly using an individual vacuum pump.

V.B.図41は、図40の実施例の平面図であり、また図40から除去された当該電極160を示す。               41 is a plan view of the embodiment of FIG. 40 and shows the electrode 160 removed from FIG.

V.C. 潤滑性被覆材の塗布方法
V.C.別の実施例は、有機ケイ素前駆体由来の潤滑性被覆材を塗布する方法である。 「潤滑性被覆材」または類似用語は通常、当該非被覆表面と比較して、当該被覆表面の摩擦抵抗を減少させる被覆材として定義される。当該被覆物体がシリンジ(またはシリンジ部品、例えばシリンジバレル)または通常プランジャーに含まれるその他の品目または当該被覆表面に接触するスライド式可動部品である場合、当該摩擦抵抗は主に2種類の態様 - 起動力およびプランジャースライド力を有する。
VC Lubricant coating method
Another example of VC is a method of applying a lubricity coating derived from an organosilicon precursor. "Lubricant coating" or similar term is usually defined as a coating that reduces the frictional resistance of the coated surface compared to the uncoated surface. When the coated object is a syringe (or syringe part, such as a syringe barrel) or other item usually contained in a plunger or a sliding movable part that contacts the coated surface, the frictional resistance is mainly divided into two types- Has starting force and plunger sliding force.

当該プランジャースライド力試験は、シリンジ内をスライドするプランジャーの摩擦の係数に特化した試験であり、通常平板表面上で測定されるスライド摩擦の係数に関連する標準的な力は、当該プランジャー/その他のスライド式構成要素と当該管/当該プランジャーのスライドするその他の容器との間の装着性を標準化することにより対応可能であるという事実を説明する。通常計測されるスライド摩擦係数に関連する当該並行力は、本明細書の記載通りに測定された当該プランジャースライド力と比較可能である。プランジャースライド力は例えば、ISO 7886-1:1993試験で規定される通りに測定可能である。               The plunger sliding force test is specific to the coefficient of friction of the plunger sliding within the syringe, and the standard force normally associated with the coefficient of sliding friction measured on a flat plate surface is the plan. Explain the fact that it can be accommodated by standardizing the fit between the jar / other sliding components and the tube / other plunger sliding containers. The parallel force associated with the normally measured slide friction coefficient can be compared to the plunger slide force measured as described herein. The plunger sliding force can be measured, for example, as specified in the ISO 7886-1: 1993 test.

当該プランジャースライド力試験はまた、例えば管内に停止部材を保持する摩擦といったその他の種類の摩擦抵抗を測定するよう、当該装置および手順に適切な変更を加えて適合可能である。ある実施例において、当該プランジャーは閉包部により置換可能であり、当該閉包部を除去または挿入するための吸引力をプランジャースライド力の対照として測定可能である。               The plunger slide force test can also be adapted with appropriate modifications to the apparatus and procedure to measure other types of frictional resistance, such as, for example, the friction holding the stop member in the tube. In one embodiment, the plunger can be replaced by a closure, and the suction force for removing or inserting the closure can be measured as a control of the plunger slide force.

また、当該プランジャースライド力の代わりに、起動力を測定可能である。当該起動力は、定常プランジャーがシリンジバレル内を移動するよう起動させるのに必要な力、または装填済みの定常閉包部の装填を解除して移動を開始するのに必要な類似の力である。当該起動力は、ゼロまた低い値から始まり当該プランジャーが動きだす時点まで増加する、当該プランジャーに適用する力により測定される。シリンジの保管期間が長いと、当該プランジャーと当該バレルとの間の潤滑剤の分解が原因である、当該充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、または当該バレルへの粘着が起こり、当該起動力が増加する傾向がある。当該起動力は、当該プランジャー とバレルの間の粘着力を指す業界用語である「sticktion(粘着摩擦力)」を打開するのに必要な力であり、これを打開して当該プランジャーを起動し移動を可能としなければなれない。               Also, the starting force can be measured instead of the plunger sliding force. The activation force is the force required to activate the stationary plunger to move within the syringe barrel or a similar force necessary to unload the loaded stationary closure and begin movement. . The activation force is measured by the force applied to the plunger starting from zero or lower and increasing until the plunger begins to move. When the storage period of the syringe is long, the interstitial lubricant is pushed away by the filled syringe plunger due to the decomposition of the lubricant between the plunger and the barrel or sticking to the barrel occurs. The starting force tends to increase. The starting force is the force necessary to overcome the “sticktion” that is the industry term for the adhesive force between the plunger and the barrel, and this plunger is used to activate the plunger. It must be possible to move.

V.C.容器全体または一部を潤滑性被覆材で被覆するための装備の一部は、例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触し、シリンジ内のピストンまたは検体管内の停止部材といったスライド式構成要素の停止部材または経路の挿入または除去を容易にする。当該容器はガラス製である場合があり、または例えばポリエステル、例えばテレフタル酸ポリエチレン(PET)、環状オレフィン共重合体(COC)、ポリプロピレンといったオレフィン、またはその他の素材である、ポリマー材製である場合がある。PECVDによる潤滑性被覆材の塗布は、PECVD処理による堆積と比較してより多量に適用されることが一般的である有機ケイ素またはその他の潤滑剤の噴霧、浸漬、別方法の塗布で該容器壁または閉包部を被覆する必要性を、回避するまたは低減する場合がある。               Some of the equipment for covering the entire or part of the VC container with a lubricity coating, for example, selectively slides on the surface while making contact with other parts, such as a piston in a syringe or a slide in a sample tube Facilitates insertion or removal of stop members or pathways of formula components. The container may be made of glass, or it may be made of a polymer material, for example, an olefin such as polyester, for example polyethylene terephthalate (PET), cyclic olefin copolymer (COC), polypropylene, or other materials. is there. Application of lubricious coatings by PECVD is generally applied in higher amounts compared to deposition by PECVD treatment. The vessel wall can be sprayed, dipped or otherwise applied with organosilicon or other lubricants. Or the need to cover the closure may be avoided or reduced.

V.C.上記実施例V.C.のいずれにおいても、プラズマ、随意に非ホロー陰極 プラズマを、随意に当該基板付近に生成可能である。               In any of the above embodiments V.C., plasma, optionally non-hollow cathode plasma, can optionally be generated near the substrate.

V.C.実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、実質上酸素が存在しない環境へと提供可能である。V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、実質上搬送ガスが存在しない環境へと提供可能である。V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、実質上窒素が存在しない環境へと提供可能である。V.C. 実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、絶対圧が1トール未満である環境へと提供可能である。               In any of the V.C. Examples V.C., the precursor can optionally be provided to an environment that is substantially free of oxygen. V.C. In any of Examples V.C., the precursor can optionally be provided to an environment substantially free of carrier gas. V.C. In any of Examples V.C., the precursor can optionally be provided to an environment that is substantially free of nitrogen. V.C. In any of Examples V.C., the precursor can optionally be provided to an environment where the absolute pressure is less than 1 Torr.

V.C.実施例V.C.のいずれにおいても、当該前駆体は随意に、プラズマ発光付近の環境へと提供可能である。               In any of the V.C. Examples V.C., the precursor can optionally be provided to an environment near the plasma emission.

V.C.実施例V.C.のいずれにおいても、当該被覆材は随意に、当該基板へと1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜200nm、または20〜100nmの層厚で塗布可能である。本被覆材またはその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法(TEM)で測定可能である。               In any of the V.C. Examples V.C., the coating can optionally be applied to the substrate in a layer thickness of 1 to 5000 nm, or 10 to 1000 nm, or 10 to 200 nm, or 20 to 100 nm. The layer thickness of this coating material or other coating materials can be measured, for example, by transmission electron microscopy (TEM).

V.C.TEMは、例えば以下の通り実行可能である。集束イオンビーム(FIB)断面法のため、2方向に検体を準備する。いずれかの検体をまず炭素の薄層(層厚50-100nm)で被覆し、その後K575X Emitech被覆システムを利用してプラチナのスパッタ層(層厚50〜100nm)で被覆可能である。または、当該検体を保護スパッタプラチナ層で直接被覆可能である。当該被覆検体を、FEI FIB200 FIBシステムに留置する。関心領域に30kVガリウムのイオンビームをラスターしながら有機金属ガスを射出することで、追加のプラチナ層をFIB堆積可能である。各検体の関心領域は、シリンジバレルの長さ半分にあたる場所で選択可能である。長さ約15μm(「マイクロメートル」)、幅2μm、奥行15μmの断面を、独自の原位置FIBリフトアウト法を利用して、成形型表面から抽出可能である。FIB堆積プラチナを使用して、当該断面を200メッシュ銅製TEMグリッドへと装着可能である。各セクションのサイズ〜8μm幅の1〜2つのウィンドウを、FEI FIBのガリウムイオンビームを使用して、電子透かしへと薄膜化可能である。               V.C.TEM can be executed, for example, as follows. Prepare specimens in two directions for focused ion beam (FIB) cross-section. Either specimen can be first coated with a thin layer of carbon (layer thickness 50-100 nm) and then coated with a platinum sputter layer (layer thickness 50-100 nm) using the K575X Emitech coating system. Alternatively, the specimen can be directly coated with a protective sputtered platinum layer. The coated specimen is placed in the FEI FIB200 FIB system. An additional platinum layer can be FIB deposited by injecting an organometallic gas while rastering a 30 kV gallium ion beam into the region of interest. The region of interest for each specimen can be selected at a location that is half the length of the syringe barrel. A cross section with a length of about 15 μm (“micrometer”), a width of 2 μm, and a depth of 15 μm can be extracted from the mold surface using the original in-situ FIB liftout method. Using FIB deposited platinum, the cross section can be attached to a 200 mesh copper TEM grid. One to two windows of each section size ~ 8 μm wide can be thinned into a watermark using a FEI FIB gallium ion beam.

V.C.準備した検体の断面画像分析を、透過電子顕微鏡(TEM)、または走査型透過電子顕微鏡(STEM)、または両方を利用して実行可能である。すべての画像データをデジタル記録可能である。STEM画像については、薄肉ホイル付きの当該グリッドをSTEM専用のHitachi HD2300へと転送可能である。転送された電子画像のスキャンは、原子数造影モード(ZC)および転送電子モード(TE)において適切な倍率で取得可能である。以下の機器設定を利用可能である。

Figure 2012526921
Cross-sectional image analysis of the VC-prepared specimen can be performed using a transmission electron microscope (TEM), a scanning transmission electron microscope (STEM), or both. All image data can be recorded digitally. For STEM images, the grid with thin foil can be transferred to Hitachi HD2300 dedicated to STEM. A scan of the transferred electronic image can be acquired at an appropriate magnification in atomic number contrast mode (ZC) and transfer electronic mode (TE). The following device settings are available:
Figure 2012526921

V.C.TEM分析については、当該検体グリッドをHitachi HF2000透過電子顕微鏡へと転送可能である。転送された電子画像は、適切な倍率で取得可能である。画像取得の際に使用する関連機器設定は以下のものである場合がある。

Figure 2012526921
For VCTEM analysis, the specimen grid can be transferred to a Hitachi HF2000 transmission electron microscope. The transferred electronic image can be acquired at an appropriate magnification. The related device settings used for image acquisition may be as follows.
Figure 2012526921

V.C.実施例V.C.のいずれにおいても、当該基板はガラスまたは、例えばポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、ポリプロピレンポリマー、ポリエステルポリマー、テレフタル酸ポリエチレンポリマー、またはこれら2種以上の複合体といったポリマーからなる場合がある。               In any of VC examples VC, the substrate is glass or a polymer such as polycarbonate polymer, olefin polymer, cyclic olefin copolymer, polypropylene polymer, polyester polymer, polyethylene terephthalate polymer, or a composite of two or more of these. May consist of

V.C.実施例V.C.のいずれにおいても、当該PECVDは随意に、上記で定義される、例えば周波数が10kHz〜300MH未満、より好ましくは1〜50MHz、さらにより好ましくは10〜15MHz、最も好ましくは13.56MHzである、RF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで実行可能である。               In any of the VC examples VC, the PECVD is optionally as defined above, for example, at a frequency of 10 kHz to less than 300 MHz, more preferably 1 to 50 MHz, even more preferably 10 to 15 MHz, and most preferably 13.56 MHz. This can be done by pressurizing a gaseous reactant including a precursor having an electrode powered by an RF frequency.

V.C.実施例V.C.のいずれにおいても、潤滑性被覆材を成形するのに十分な電力供給を受ける、電極を有する当該前駆体からなるガス状反応物質を加圧することにより、プラズマを生成可能である。随意に、当該プラズマは0.1〜25W、好ましくは1〜22W、より好ましくは3〜17W、さらにより好ましくは5〜14W、最も好ましくは7〜11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。当該電極電力の対プラズマ量比は10 W/ml未満であり、好ましくは5W/ml〜0.1W/ml、より好ましくは4W/ml〜0.1W/ml、最も好ましくは2W/ml〜0.2W/mlである場合がある。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。               In any of the V.C. Examples V.C., the plasma can be generated by pressurizing a gaseous reactant comprising the precursor with electrodes that is supplied with sufficient power to form a lubricity coating. Optionally, the plasma is a precursor having an electrode that receives a power supply of 0.1 to 25 W, preferably 1 to 22 W, more preferably 3 to 17 W, even more preferably 5 to 14 W, most preferably 7 to 11 W, especially 8 W. It is produced by pressurizing a gaseous reactant containing The electrode power to plasma volume ratio is less than 10 W / ml, preferably 5 W / ml to 0.1 W / ml, more preferably 4 W / ml to 0.1 W / ml, most preferably 2 W / ml to 0.2 W / ml. May be ml. This power level is suitable for applying a lubricious coating to syringes and specimen tubes and similarly shaped containers in which PECVD plasma is generated and has a void volume of 1 to 3 mL. For larger or smaller objects, it is believed that the applied power should be increased or decreased accordingly as the substrate size is processed.

V.C.考えられる製品の1つは、随意に、1つ以上の実施例V.C.の方法により処理されるバレルを有するシリンジである場合がある。               One possible product may optionally be a syringe with a barrel that is processed by the method of one or more of the examples V.C.

V.D. 流体塗布被覆
V.D.PECVD適用被覆材または本明細で開示するその他のPECVD処理と併用して使用可能な、適切な遮断性被覆材またはその他の種類の被覆材のもう1つの実施例は、流体遮断層、潤滑剤、界面エネルギーテーラリング、または当該容器内面に塗布されるその他の種類の被覆材90である場合があり、当該容器内面への塗布は直接、または1種以上の介在性PECVD適用SiwOxCyHz, SiOx被覆材と共に、潤滑性被覆材と共に、または両方と共に行われる。
VD fluid coating
Another example of a suitable barrier coating or other type of coating that can be used in conjunction with VDPECVD applied coatings or other PECVD processes disclosed herein includes fluid barrier layers, lubricants, Interfacial energy tailoring, or other types of coating 90 applied to the inner surface of the container, applied to the inner surface of the container directly or with one or more intervening PECVD applied Si w O x C y Performed with H z , SiO x coating, with lubricity coating, or both.

V.D.適切な流体遮断膜またはその他の種類の被覆材90はまた、随意に、例えば流体モノマーまたはその他のポリマー、または硬化材料を当該容器80の内面に塗布することにより、当該流体モノマーを硬化、ポリマー化、または交差結合させて間断ないポリマーを成形することにより、塗布可能である。適切な流体遮断またはその他の種類の被覆材90はまた、溶媒ポリマーの当該表面88への塗布および当該溶媒の除去により、提供可能である。               A suitable fluid barrier membrane or other type of dressing 90 may also optionally cure the fluid monomer, for example by applying a fluid monomer or other polymer, or a curable material, to the inner surface of the container 80. It can be applied by forming a continuous polymer by cross-linking or cross-linking. A suitable fluid barrier or other type of dressing 90 can also be provided by applying a solvent polymer to the surface 88 and removing the solvent.

V.D.上記いずれかの方法に、処理ステーションまたは機器28における当該容器ポート92経由で当該容器80の内部88上に被覆材90を成形する手順が含まれる場合がある。一実施例として、流体被覆材、例えば硬化性モノマー、プレポリマー、またはポリマー分散の当該容器80の内面88への塗布、および当該容器80の内容物を内面88から物理的に隔離する膜を成形するための硬化が挙げられる。先行技術により、ポリマー被覆技術はプラスチック製採血管の被覆に適切であると記述される。例えば、参照することにより本書に含まれる米国特許6,165,566に記載の、アクリルおよびポリ塩化ビニリデン(PVdC)被覆材および被覆方法を利用可能である。               V.D. Any of the above methods may include a procedure for forming the dressing 90 on the interior 88 of the vessel 80 via the vessel port 92 at the processing station or equipment 28. As one example, a fluid coating, such as a curable monomer, prepolymer, or polymer dispersion, is applied to the inner surface 88 of the container 80 and a film that physically isolates the contents of the container 80 from the inner surface 88 is formed. For curing. According to the prior art, polymer coating techniques are described as suitable for coating plastic blood collection tubes. For example, the acrylic and polyvinylidene chloride (PVdC) coatings and coating methods described in US Pat. No. 6,165,566, incorporated herein by reference, can be utilized.

V.D.また上記いずれかの方法に、当該容器80の外壁上に被覆材を成形する手順が含まれる場合がある。当該被覆材は、遮断性被覆材であり、随意に酸素遮断性被覆材であり、随意に水遮断性被覆材である場合がある。 適切な被覆材の実施例の1つに、水遮断性および酸素遮断性の両方の機能を有するポリ塩化ビニリデンがある。随意に、当該遮断性被覆材を水系被覆材として塗布可能である。当該被覆材は随意に、当該容器の浸漬、当該容器への噴霧、またはその他の手段により、塗布可能である。上述の外部遮断性被覆材を有する容器もまた、考えられる。               V.D. In addition, any of the above methods may include a procedure for forming a covering material on the outer wall of the container 80. The coating is a barrier coating, optionally an oxygen barrier coating, and optionally a water barrier coating. One example of a suitable dressing is polyvinylidene chloride that has both water barrier and oxygen barrier functions. Optionally, the barrier coating can be applied as a water-based coating. The dressing can optionally be applied by dipping the container, spraying the container, or other means. Containers having the aforementioned external barrier coating are also conceivable.

VI. 容器の検査
VI.図1に示すステーションまたは機器は、容器壁または容器壁のガス放出を通しての大気圧損失または質量流量率または体積流量率の測定により 、欠陥検出のため容器80の内面を検査するよう設定可能である、処理ステーションまたは機器30である。当該機器30は当該機器26と同様の動作が可能であるが、例外として、当該機器30により提供される検査に合格するには当該容器のより良いパフォーマンス(任意処理条件におけるより低い漏出度または透過度)が必要とされる場合がある。なぜなら、図示する当該実施例において、当該ステーションまたは機器30に到達する前に、遮断膜またはその他の種類の被覆材が当該ステーションまたは機器28により塗布されているからである。一実施例において、当該被覆容器80の本検査は、当該機器またはステーション26における同一容器80の検査と比較可能である。当該ステーションまたは機器30におけるより低い漏出度または透過度により、当該遮断性被覆材が少なくともある程度機能していることが示される。
VI. Container inspection
VI. The station or equipment shown in Figure 1 can be configured to inspect the inner surface of container 80 for defect detection by measuring atmospheric pressure loss or mass flow rate or volumetric flow rate through outgassing of the container wall or container wall. A processing station or device 30. The device 30 can operate in the same way as the device 26 with the exception that the better performance of the container (lower leakage or permeation under any processing conditions) to pass the inspection provided by the device 30. Degree) may be required. This is because, in the illustrated embodiment, a barrier film or other type of coating is applied by the station or device 28 before reaching the station or device 30. In one embodiment, this inspection of the coated container 80 is comparable to the inspection of the same container 80 at the device or station 26. A lower leakage or permeability at the station or device 30 indicates that the barrier coating is functioning at least to some extent.

VI.2つの異なるステーションまたは機器で測定される容器80の同一性は、個別の同定用標識、例えばバーコード、その他の記号、または無線周波数識別(RFID)機器またはマーカーを各当該容器ホルダー38〜68に貼付して、図1に示す循環コンベヤーの2つ以上の異なる地点で測定される容器の同一性を一致させることにより、確認可能である。1. 当該容器ホルダーは再利用可能であるため、新規容器80が当該容器ホルダー40上に装填される直後に、それらが図1の容器ホルダー40の位置に到達する時点で、コンピューターデータまたはその他のデータ保存構造内に登録可能である。また、当該処理の終点で/近くで、例えば図1の容器ホルダー 66の位置に到達した時点でまたは後で、当該データ登録から除去可能であり、当該処理容器80は当該搬送機構74により除去される。               VI. The identity of a container 80 measured at two different stations or instruments is determined by the identification of individual identification labels, such as barcodes, other symbols, or radio frequency identification (RFID) instruments or markers, in each container holder 38- This can be confirmed by sticking to 68 and matching the identity of the containers measured at two or more different points of the circulating conveyor shown in FIG. 1. Since the container holder is reusable, computer data or other data will be generated as soon as they reach the position of the container holder 40 in FIG. 1 immediately after the new container 80 is loaded onto the container holder 40. Can be registered in the data storage structure. Further, at or near the end point of the process, for example, when the position of the container holder 66 in FIG. 1 is reached or later, it can be removed from the data registration, and the process container 80 is removed by the transport mechanism 74. The

VI.当該処理ステーションまたは機器32は、例えば当該容器へと塗布される遮断膜またはその他の種類の被覆材の欠陥検出のために、容器を検査するよう設定可能である。図示する当該実施例において、当該ステーションまたは機器32は、当該被覆材の層厚を測定することで、当該被覆材の光学源透過を判定する。当該遮断膜またはその他の種類の被覆材は、適切に塗布される場合、表面がより均一となるため、追加の素材が塗布されていたとしても、当該容器80の透明度を高めることが可能である。               VI. The processing station or device 32 can be configured to inspect the container, for example, to detect defects in a barrier film or other type of coating applied to the container. In the illustrated embodiment, the station or device 32 determines the optical source transmission of the coating material by measuring the layer thickness of the coating material. When the barrier film or other type of coating material is properly applied, the surface becomes more uniform, so that the transparency of the container 80 can be increased even if additional materials are applied. .

VI.当該被覆材の層厚のその他の測定法として、当該被覆材90の内部(当該容器内部154内の大気との界面)で跳ね返るエネルギー波と当該容器80の内面88(当該被覆材90の外部との界面)で跳ね返るエネルギー波との間の移動距離の差異を判定するための、干渉計測の利用もまた考えられる。周知の通り、当該移動距離の差異は、それぞれの波の到達時間を高精度で測定することにより、直接的に判定可能である。または、当該試験条件と関連して、当該入射エネルギーのどの波長が強化または相殺されるかを判定することにより、間接的に判定可能である。               VI. As another method for measuring the layer thickness of the covering material, energy waves that bounce inside the covering material 90 (interface with the atmosphere inside the container 154) and the inner surface 88 of the container 80 (the covering material 90) The use of interferometry is also conceivable to determine the difference in travel distance between the energy wave that bounces off at the external interface. As is well known, the difference in the movement distance can be determined directly by measuring the arrival time of each wave with high accuracy. Alternatively, it can be determined indirectly by determining which wavelengths of the incident energy are enhanced or offset in relation to the test conditions.

VI.被覆材の完全性を確認するために実行可能な別の測定技術として、当該機器の偏光解析測定が挙げられる。この場合、偏光レーザービームを当該容器80の内側または外側から投射可能である。内側からレーザービームを投射する場合、当該レーザービームは当該表面に直交的に示され、その後透過または反射光線として測定される。光線極性における変化を測定可能である。当該機器表面上の被覆または処理は、当該レーザービームの偏光度に影響を与える(変化させる)ため、当該極性における変更が望ましい結果である場合がある。当該極性における変化は、当該表面に被覆または処理を行った直接的な結果であり、当該変化量は処理または被覆の量に関連する。               VI. Another measurement technique that can be performed to confirm the integrity of the coating is the ellipsometric measurement of the instrument. In this case, the polarized laser beam can be projected from the inside or the outside of the container 80. When projecting a laser beam from the inside, the laser beam is shown orthogonal to the surface and then measured as a transmitted or reflected beam. Changes in the light polarity can be measured. Since the coating or treatment on the instrument surface affects (changes) the degree of polarization of the laser beam, a change in the polarity may be a desirable result. The change in polarity is a direct result of coating or treating the surface, and the amount of change is related to the amount of treatment or coating.

VI.当該偏光光線が当該機器外部から投射される場合、検出器を内部に位置付けて当該光線の透過成分(および上記で判定された当該極性)を測定可能である。または検出器を、(当該機器の内面上への)処理/被覆の間の界面からの当該光線の反射点に対応できる位置である、当該機器の外部に位置付けることが可能である。当該極性変化は、その後上記詳細図の通り判定可能である。               VI. When the polarized light is projected from outside the instrument, the detector can be positioned inside to measure the transmitted component of the light (and the polarity determined above). Alternatively, the detector can be positioned outside the instrument, which is a position that can correspond to the point of reflection of the light beam from the interface between the treatment / coating (on the inner surface of the instrument). The polarity change can then be determined as shown in the detailed diagram.

VI.上述の光学性質および/または漏出率の測定に加えて、その他のプローブおよび/または機器を当該機器内部に挿入して、検出器装置により測定値を得た。本装置は、当該測定技術または方法により制限されない。機械、電気、磁性性質、またはその他の物理的、光学的、化学的性質を利用するその他の試験方法を、利用可能である。               VI. In addition to the measurement of optical properties and / or leakage rate described above, other probes and / or instruments were inserted into the instrument and measurements were taken with the detector device. The apparatus is not limited by the measurement technique or method. Other test methods that utilize mechanical, electrical, magnetic properties, or other physical, optical, chemical properties can be used.

VI.当該プラズマ処理設定の間に、光学検出システムは随意に、当該プラズマ環境特有の化学的特徴に対応する、当該プラズマ発光スペクトル(波長および強度プロフィール)を記録するために使用可能である。この特徴的な発光スペクトルにより、当該被覆材が塗布され処理されたことが確認される。当該システムはまた、リアルタイムの精密測定および処理済み各部についてのデータアーカイブツールを提供する。               VI. During the plasma processing setup, an optical detection system can optionally be used to record the plasma emission spectrum (wavelength and intensity profile) corresponding to the chemical characteristics specific to the plasma environment. This characteristic emission spectrum confirms that the coating material has been applied and processed. The system also provides real-time precision measurements and data archiving tools for each processed part.

VI.上記いずれかの方法に、処理ステーション24、26、30、32、または34において欠陥検出のため当該容器80の内部88を検査する手順が含まれる場合がある。検出プローブ172を当該容器ポート92経由で当該容器80へと挿入することにより、および当該プローブ172を使用して当該容器内面88または遮断膜またはその他の種類の被覆材90の状態を検出することにより、当該ステーション24、32、および34で検査を実行可能である。図11に示すように、当該容器壁86および容器内面88を通してエネルギーを内側に放射することにより、および当該プローブ172で当該エネルギーを検出することにより、検査を実行可能である。または、当該容器内面88からの放射を反射することにより、当該容器80内部に位置する検出器で当該エネルギーを検出することにより、 検査を実行可能である。または、容器内面上の多数の密集点における当該容器内面88の状態を検出することにより、 検査を実行可能である。               VI. Any of the above methods may include a procedure for inspecting the interior 88 of the vessel 80 for defect detection at the processing station 24, 26, 30, 32, or 34. By inserting the detection probe 172 into the container 80 via the container port 92 and using the probe 172 to detect the state of the container inner surface 88 or the barrier film or other type of coating 90 Inspections can be performed at the stations 24, 32, and 34. As shown in FIG. 11, the inspection can be performed by radiating energy inward through the container wall 86 and the container inner surface 88, and detecting the energy with the probe 172. Alternatively, the inspection can be performed by detecting the energy with a detector located inside the container 80 by reflecting the radiation from the inner surface 88 of the container. Alternatively, the inspection can be performed by detecting the state of the container inner surface 88 at a number of dense points on the container inner surface.

VI.上記いずれかの方法に、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が保存可能期間1年間の間に環境大気圧の20%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面88全域の十分な地点における検査手順の実行が含まれる場合がある。               VI. In any of the above methods, if the barrier film or other type of coating 90 is initially evacuated and its walls are exposed to the ambient atmosphere, the pressure in the container can be stored for one year. In some cases, performing an inspection procedure at a sufficient point across the container inner surface 88 to determine that it is effective to prevent an increase in excess of 20% of ambient atmospheric pressure in between.

VI.上記いずれかの方法に、容器あたり30秒以下、容器あたり25秒以下、容器あたり20秒以下、容器あたり15秒以下、容器あたり10秒以下、容器あたり5秒以下、容器あたり4秒以下、容器あたり3秒以下、容器あたり2秒以下、容器あたり1秒以下の経過時間以内の検査手順の実行が含まれる場合がある。これは、例えば当該遮断膜またはその他の種類の被覆材で覆われた容器壁の有効性を測定することにより、可能となる場合があり、図7に示すように、これには当該容器80全体の測定を伴う場合がある。または、図6、10、および11に示すまたは代用可能な検出器172として電荷結合素子を利用して、多数のまたはすべての検査対象点を並行して検査することにより、可能となる場合がある。後者手順は、当該容器内面88上の多数の密集点における当該遮断膜またはその他の種類の被覆材の条件を、非常に短い期間で検出するために使用可能である。               VI. Either of the above methods, 30 seconds or less per container, 25 seconds or less per container, 20 seconds or less per container, 15 seconds or less per container, 10 seconds or less per container, 5 seconds or less per container, 4 seconds or less per container , May include performing inspection procedures within an elapsed time of 3 seconds or less per container, 2 seconds or less per container, and 1 second or less per container. This may be possible, for example, by measuring the effectiveness of the container wall covered with the barrier film or other type of coating, as shown in FIG. May be involved. Alternatively, it may be possible by inspecting many or all test points in parallel using a charge coupled device as the detector 172 shown or substituting as shown in FIGS. . The latter procedure can be used to detect the condition of the barrier film or other type of coating at a number of dense points on the container inner surface 88 in a very short period of time.

VI.当該方法のいずれかの実施例において、希望する場合、電荷結合素子172を使用してデータを収集し、検査の済んだ当該容器80を搬出し、当該収集データをその後すぐに当該容器80が終盤工程へと進む間に処理することにより、複数地点の容器検査をさらに促進可能である。当該データ処理により後に当該容器80に欠陥が確認された場合、欠陥品である当該容器80は当該検出ステーション34など(図10)の終盤工程地点でラインから除去することが可能である。               VI. In any embodiment of the method, if desired, data is collected using the charge coupled device 172, the inspected container 80 is unloaded, and the collected data is immediately transferred to the container 80. By processing while the process proceeds to the final stage process, it is possible to further promote the container inspection at a plurality of points. When a defect is later confirmed in the container 80 by the data processing, the container 80 that is a defective product can be removed from the line at an end stage process point of the detection station 34 or the like (FIG. 10).

VI.上記いずれかの実施例において、当該容器80内の初期真空レベル(すなわち対大気の初期減圧)が、初期に真空とされその壁86が環境大気に曝露している場合に、少なくとも12カ月、または少なくとも18カ月、または少なくとも2年の保存可能期間中に20%を超えて、随意に15%を超えて、随意に10%を超えて、随意に5%を超えて、随意に2%を超えて減少することを防止するのに、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90が有効であることを判定するための、当該容器80の内面88全域の十分な地点において検査手順を実行可能である。               VI. In any of the above embodiments, the initial vacuum level in the vessel 80 (ie, the initial vacuum to atmosphere) is at least 12 months when initially evacuated and its walls 86 are exposed to ambient air. Or more than 20%, optionally more than 15%, optionally more than 10%, optionally more than 5%, optionally 2% during a shelf life of at least 18 months, or at least 2 years Perform inspection procedures at sufficient points throughout the inner surface 88 of the container 80 to determine that the barrier film or other type of coating 90 is effective in preventing reduction beyond Is possible.

VI.当該初期真空レベルは、高真空、すなわち残留気圧が10トール未満である場合があり、またはより低真空、例えば陽圧(すなわち全真空を超える過剰圧)20トール未満、50トール未満、100トール未満、150トール未満、200トール未満、250トール未満、300トール未満、350トール未満、380トール未満である場合がある。真空採血管の当該初期真空レベルは、例えば、多くの場合、当該管を使用する試験の種類により、すなわち、製造時に当該管に添加される試薬の種類および適量により決定される。当該初期真空レベルは一般に、当該管に含まれる試薬と結合させるのに適正な量の血液を引きこむよう設定される。               VI. The initial vacuum level may be high vacuum, i.e. the residual pressure may be less than 10 torr, or lower vacuum, e.g. positive pressure (i.e. overpressure above full vacuum) less than 20 torr, less than 50 torr, 100 May be less than Torr, less than 150 Torr, less than 200 Torr, less than 250 Torr, less than 300 Torr, less than 350 Torr, less than 380 Torr. The initial vacuum level of the vacuum blood collection tube is often determined, for example, by the type of test that uses the tube, i.e., the type and amount of reagent added to the tube during manufacture. The initial vacuum level is generally set to draw an appropriate amount of blood to bind to the reagent contained in the tube.

VI.上記いずれかの実施例において、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器80内の圧力が少なくとも1年間の保存可能期間中に環境大気圧の15%を超えて、または10%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面88全域の十分な地点における、遮断膜またはその他の種類の被覆材90の検査手順が実行される場合がある。               VI. In any of the above embodiments, when the barrier membrane or other type of coating 90 is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the vessel 80 is at least 1 year. At a sufficient point throughout the interior surface 88 of the vessel to determine that it is effective to prevent an increase in ambient atmospheric pressure from exceeding 15% or exceeding 10% during the shelf life. An inspection procedure for a barrier film or other type of dressing 90 may be performed.

VI.A. 被覆前および被覆後検査を含む容器処理
VI.A.さらなる別の実施例は、開口部および内面を定義する壁を有するモールドプラスチック容器を処理する、容器処理方法である。当該方法は、モールド時のまたは被覆直前の当該容器内面の欠陥検出のための検査、検査後に型どおりに当該容器内面への被覆材の塗布、および当該被覆材の欠陥検出のための検査により、実行される。
VI.A. Container handling including pre- and post-coating inspections
VI.A. Yet another embodiment is a container processing method for processing a molded plastic container having a wall defining an opening and an interior surface. The method includes an inspection for detecting a defect on the inner surface of the container at the time of molding or immediately before coating, an application of the coating material to the inner surface of the container according to a mold after the inspection, and an inspection for detecting a defect of the coating material, Executed.

VI.A.別の実施例は、検査後に型どおりに遮断性被覆材を当該容器に塗布する容器処理方法であり、当該容器内面は当該遮断性被覆材の塗布後に検査欠陥検出のために検査される。               VI.A. Another embodiment is a container processing method in which a barrier covering material is applied to a container in accordance with a mold after inspection, and the inner surface of the container is inspected for inspection defect detection after application of the barrier covering material. Is done.

VI.A.一実施例において、当該ステーションまたは機器26(被覆材塗布のためのステーションまたは機器28としても機能可能)は、以下の気圧容器検査のために使用可能である。当該弁136および148のいずれかまたは両方を開放して、当該容器80を所望のレベルに、好ましくは10トール未満といった極低圧に、随意に1トール未満に、真空化可能である。当該弁136および148のどちらが先に開口してもその後閉口可能で、当該容器80の真空内部154および当該圧力計152を、環境条件からおよび当該真空源98から隔離する。測定時間にわたる圧力変化は、当該容器壁を通るガス侵入または当該壁の素材および/または当該容器壁上の被覆材からのガス放出が原因であるかどうかに係わらず、その後感知され、当該容器ホルダー44への装着時点での当該容器80への環境ガスの侵入率の計算に使用可能である。本目的に関するガス放出は、吸収または遮蔽されたガスまたは水蒸気の、随意に少なくとも一部真空の、当該容器壁からの放出と定義される。               VI.A. In one embodiment, the station or equipment 26 (which can also function as a station or equipment 28 for coating application) can be used for the following barometric vessel inspections. Either or both of the valves 136 and 148 can be opened to evacuate the container 80 to a desired level, preferably to a very low pressure, such as less than 10 Torr, optionally to less than 1 Torr. Regardless of which of the valves 136 and 148 opens first, it can be closed thereafter, isolating the vacuum interior 154 and the pressure gauge 152 of the vessel 80 from environmental conditions and from the vacuum source 98. Any change in pressure over the measurement time is then sensed regardless of whether gas intrusion through the container wall or outgassing from the wall material and / or coating on the container wall, and the container holder It can be used to calculate the invasion rate of environmental gas into the container 80 at the time of attachment to 44. Outgassing for this purpose is defined as the release of absorbed or shielded gas or water vapor from the vessel wall, optionally at least partially in vacuum.

VI.A.別のオプション修正は、気圧より高圧の当該環境ガスの提供である場合がある。これはまた、遮断膜またはその他の種類の層を通るガス搬送率を増加させ、環境気圧が低い場合により短時間で差異を測定可能である場合がある。または、ガスをより高い環境気圧で当該容器80へと導入して、再度、当該壁86を通る当該搬送率を増加させることが可能である。               VI.A. Another option modification may be to provide the environmental gas at a pressure higher than atmospheric pressure. This also increases the gas transport rate through the barrier membrane or other types of layers and may be able to measure the difference in a shorter time when the ambient pressure is low. Alternatively, it is possible to introduce the gas into the container 80 at a higher ambient pressure and again increase the transport rate through the wall 86.

VI.A.随意に、当該ステーションにおけるまたは当該機器26による当該容器検査は、当該基板に関する前盤工程でヘリウムといった検査ガスを、当該容器80の内部または外部のいずれかに提供することにより、および当該終盤工程でそれを検出することにより、修正可能である。水素といった低分子量ガス、または酸素や窒素といった廉価/入手が容易なガスも、検査ガスとして利用可能である。               Optionally, the container inspection at the station or by the equipment 26 may be performed by providing a test gas, such as helium, either inside or outside the container 80 in the front plate process for the substrate, and It can be corrected by detecting it in the final stage process. Low molecular weight gases such as hydrogen, or inexpensive and easily available gases such as oxygen and nitrogen can also be used as inspection gases.

VI.A.ヘリウムは、大気中の窒素や酸素といったよくある環境ガスと比べて非常に迅速に、不完全な遮断膜またはその他の種類の被覆材を通り抜けるため、または漏出密閉部を通過するため、漏出/透過検出率を増加させる検出検査ガスとして考えられる。ヘリウムは、以下の特徴により多くの間断ない基板または小ギャップを通る高搬送率を有する:(1) 不活性であるため、多大に当該基板により吸収されない、(2) 容易にイオン化されないため、電子と原子核の間の引力が高く分子が非常にコンパクトである、および (3) 分子量4であるため、窒素(分子量28)や酸素(分子量32)とは対照的に、当該分子がよりコンパクトであり多孔質基板またはギャップを容易に通り抜けられる。これらの要素によりヘリウムは、任意の透過性を有する遮断膜を通って多くのその他のガスより迅速に移動する。また、大気が通常包含するヘリウムは非常に少量であるため、特に漏出・透過を測定するために当該ヘリウムを当該容器80内に導入し当該容器80外部で検出する場合、追加されたヘリウムの存在は比較的容易に検出可能である。当該ヘリウムは、当該基板上流の圧力降下により、または当該基板を通過した下流ガスの分光分析といったその他の手段により検出可能である。               VI.A. Helium passes through imperfect barriers or other types of coatings or through leaked seals very quickly compared to common environmental gases such as nitrogen and oxygen in the atmosphere. It is considered as a detection test gas that increases the leak / permeation detection rate. Helium has a high transport rate through many uninterrupted substrates or small gaps due to the following characteristics: (1) because it is inert, so it is not much absorbed by the substrate, (2) because it is not easily ionized, The molecule is very compact, and (3) the molecular weight is 4, so the molecule is more compact as opposed to nitrogen (molecular weight 28) and oxygen (molecular weight 32) It can easily pass through the porous substrate or gap. These elements allow helium to move faster than many other gases through any permeable barrier membrane. In addition, since the atmosphere normally contains a very small amount of helium, especially when helium is introduced into the vessel 80 and detected outside the vessel 80 in order to measure leakage and permeation, the presence of added helium. Can be detected relatively easily. The helium can be detected by a pressure drop upstream of the substrate or by other means such as spectroscopic analysis of downstream gas that has passed through the substrate.

VI.A.O2蛍光検出からの酸素濃度判定による気圧計容器検査の実施例は以下の通り。 VI.AO 2 An example of barometer container inspection based on oxygen concentration determination from fluorescence detection is as follows.

VI.A.励起源(Ocean Optics USB-LS-450 Pulsed Blue LED)、ファイバーアセンブリ(Ocean Optics QBIF6000-VIS-NIR)、スペクトロメータ(USB4000-FL Fluorescence Spectrometer)、酸素センサープローブ(Ocean Optics FOXY-R)、およびアダプター経由で真空源に接続される真空供給装置(lVFT-1000-VIS-275など)を使用する。真空を適用して環境大気を除去可能であり、当該容器が規定の圧力である場合には、漏出したまたは環境大気から当該容器を透過して再充填する酸素含有量を、当該検出システムを使用して判定可能である。被覆管で非被覆管を置換し、O2濃度測定を実施可能である。当該被覆管上のO2表面吸収の差異(SiOx表面、対非被覆PETまたはガラス表面)および/または表面からのO2拡散率の変動により、当該被覆管に、非被覆検体とは異なる大気中酸素含有量が再現性を伴って示される。検出時間は1秒未満である場合がある。 VI.A. Excitation source (Ocean Optics USB-LS-450 Pulsed Blue LED), fiber assembly (Ocean Optics QBIF6000-VIS-NIR), spectrometer (USB4000-FL Fluorescence Spectrometer), oxygen sensor probe (Ocean Optics FOXY-R) ), And a vacuum supply device (such as lVFT-1000-VIS-275) connected to the vacuum source via an adapter. If the ambient air can be removed by applying vacuum and the container is at the specified pressure, the detection system can be used to detect the oxygen content that leaks or refills the container from the ambient atmosphere. Can be determined. It is possible to measure the O 2 concentration by replacing the non-coated tube with a coated tube. O 2 surface absorption differences (SiO x surface versus uncoated PET or glass surface) on the cladding due to changes in O 2 diffusion rate from and / or surface, to the cladding tube, the atmosphere which is different from the uncoated specimen Medium oxygen content is shown with reproducibility. The detection time may be less than 1 second.

VI.A.当該気圧方法は、感知される特定のガス(ヘリウム検出またはその他のガスを検討可能)または特定の装置/装備に制限されると、見なされるべきではない。               VI.A. The barometric method should not be considered limited to the specific gas being sensed (helium detection or other gases can be considered) or specific equipment / equipment.

VI.A.当該処理ステーションまたは機器34もまた、遮断膜またはその他の種類の被覆材の欠陥検出のための検査を行うよう設定可能である。図1および10の実施例において、当該処理ステーションまたは機器34は別の光学検査である場合があり、今回は、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90の少なくとも一部、または当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90の実質上全体の性質を、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90上の多数の密集点においてスキャンするまたは個別に測定することを意図する。当該多数の密集点は、すべての場合においてまたは当該表面の少なくとも一部の平均として、例えば約1ミクロン間隔、または約2ミクロン間隔、または約3ミクロン間隔、または約4ミクロン間隔、または約5ミクロン間隔、または約6ミクロン間隔、または約7ミクロン間隔で離れている可能性があり、したがって、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90の一部またはすべての極小地点を個別に測定する。一実施例において、当該被覆材の各小領域の個別スキャンは、ピンホールまたはその他の欠陥を見つけるのに有用であり、またピンホール欠陥の局所的作用と、過多に薄肉または多孔質である被覆材を有するより広い領域といったより一般的な欠陥とを判別するのに有用である場合がある。               VI.A. The processing station or equipment 34 can also be configured to perform inspections for detection of defects in barrier films or other types of coatings. In the embodiment of FIGS. 1 and 10, the processing station or instrument 34 may be another optical inspection, this time at least a portion of the barrier film or other type of coating 90, or the barrier film or It is contemplated that the substantially overall properties of other types of dressings 90 are scanned or measured individually at a number of dense points on the barrier membrane or other types of dressings 90. The large number of dense spots may be, in all cases or as an average of at least a portion of the surface, for example, about 1 micron spacing, or about 2 micron spacing, or about 3 micron spacing, or about 4 micron spacing, or about 5 microns. The intervals, or about 6 micron intervals, or about 7 micron intervals may be separated, and therefore some or all local minimum points of the barrier film or other type of coating 90 are measured individually. In one embodiment, an individual scan of each small area of the dressing is useful for finding pinholes or other defects, and the local effects of pinhole defects and coatings that are too thin or porous. It may be useful to distinguish from more general defects, such as a wider area with material.

VI.A.当該ステーションまたは機器34による検査は、放射線または光源170またはその他の適切な無線周波数、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線、X線、または電子光線源を、例えば当該容器ポート92経由で当該容器80へと挿入することにより、および、当該放射線源から透過する放射線を検出器を利用して検出して、例えば当該遮断性被覆材90といった当該容器内面の条件を検出することにより、実行可能である。               VI.A. Inspection by the station or equipment 34 may be performed by radiation or light source 170 or other suitable radio frequency, microwave, infrared, visible, ultraviolet, X-ray, or electron source, for example via the container port 92. By inserting into the container 80 and detecting the radiation transmitted from the radiation source using a detector, for example, by detecting the condition of the inner surface of the container such as the blocking coating 90, It is feasible.

VI.A.また、当該上記容器ホルダーシステムを、当該機器の試験に使用可能である。例えば、ガス供給ポート110を有する図2のプローブ108は、光源170(図10)で置換可能である。当該光源170は、当該管内部で照射可能であり、その後、透過性またはその他の性質を測定して後続試験を当該管外部で完了可能である。当該光源170を当該管の内部へと伸延可能であり、方法は当該プローブ108を当該パックまたは容器ホルダー62へと押し込むやり方と同様であるが、真空および密閉部は必ずしも必要ない。当該光源170は、光ファイバー源、レーザー、点光源(LEDなど)、またはその他の放射線源である場合がある。当該源は、深紫外線(100nm)から遠赤外(100 ミクロン)までの1つ以上の周波数で、およびそれらの間のあらゆる周波数で、照射可能である。使用可能な当該源についての制限はない。               VI.A. The container holder system can also be used for testing the equipment. For example, the probe 108 of FIG. 2 having the gas supply port 110 can be replaced with a light source 170 (FIG. 10). The light source 170 can be illuminated inside the tube, and then subsequent tests can be completed outside the tube by measuring transmission or other properties. The light source 170 can be extended into the tube, and the method is similar to pushing the probe 108 into the pack or container holder 62, but vacuum and sealing are not necessary. The light source 170 may be an optical fiber source, a laser, a point light source (such as an LED), or other radiation source. The source can be irradiated at one or more frequencies from deep ultraviolet (100 nm) to far infrared (100 microns) and any frequency in between. There are no restrictions on the sources that can be used.

VI.A.特定の実施例については図10を参照のこと。図10において、当該管または容器80は当該パックまたは容器ホルダー62内に位置し、当該プローブ108の端部にある光源170は当該管内部へと挿入される。この場合の当該光源170は、当該容器80の外部を包囲する当該検出器172により受信されるのに十分な強度の青色LED源である場合がある。当該光源170は、例えば内面176上の画素174 などの配列からなる三次元電荷結合素子(CCD)である場合がある。当該画素174などは、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90および容器壁86を通して放射される照射を受信し検出する。本実施例において、当該検出器172は、図2の電極164と容器80の距離間隔より大きい当該容器80と関連する内径、および半球頂部ではなく当該閉口端84に隣接するシリンダー状の頂部を有する。当該外部検出器172は、当該容器80から半径方向に走るより小さいギャップ、および当該閉口端84に隣接する頂部におけるより均一な寸法のギャップを有する場合がある。これは例えば、当該容器80が装填済みである場合に、当該閉口端84と当該検出器172の頂部に共通の曲率中心を提供することにより、達成可能である。どちらの変動も適切であると考えられるが、この変動により、当該容器80曲線閉口端84のより均一な検査がもたらされる場合がある。               VI.A. See Figure 10 for specific examples. In FIG. 10, the tube or container 80 is located in the pack or container holder 62, and the light source 170 at the end of the probe 108 is inserted into the tube. In this case, the light source 170 may be a blue LED source with sufficient intensity to be received by the detector 172 surrounding the outside of the container 80. The light source 170 may be a three-dimensional charge coupled device (CCD) having an array of pixels 174 on the inner surface 176, for example. The pixel 174 or the like receives and detects radiation emitted through the barrier film or other type of covering 90 and the container wall 86. In this embodiment, the detector 172 has an inner diameter associated with the container 80 that is greater than the distance distance between the electrode 164 and the container 80 of FIG. 2 and a cylindrical top adjacent to the closed end 84 rather than the hemispherical top. . The external detector 172 may have a smaller gap running radially from the container 80 and a more uniformly sized gap at the top adjacent to the closed end 84. This can be achieved, for example, by providing a common center of curvature at the closed end 84 and the top of the detector 172 when the container 80 is loaded. Although both variations are considered appropriate, this variation may result in a more uniform inspection of the container 80 curved closed end 84.

VI.A.当該光源投入前に当該CCDを測定し、当該結果値をバックグラウンドとして保存する(後続測定値から引かれる場合がある)。当該光源170はその後投入され、当該CCDにより測定値を取得する。当該結果測定値はその後、光総透過率(非被覆管と比較して当該被覆層厚平均を判定する)、および欠陥密度(当該CCDの各元素の個別の光子計数を取得して閾値と比較する。当該光子計数が低い場合これは不十分な光透過に相当する)を計算するのに使用される可能性がある。光透過が低いと被覆の欠如または過度に薄い被覆につながり、つまり当該管上の被覆材の欠陥となる可能性がある。光子計数の低い隣接元素の数を測定することにより、当該欠陥のサイズを推測可能である。当該サイズおよび欠陥数を合計して、当該管の質を評価可能である。または、当該光源170からの放射線の周波数に特異である場合がある、その他の性質を判定可能である。               VI.A. Measure the CCD before turning on the light source and save the result as background (may be subtracted from subsequent measurements). The light source 170 is then turned on, and the measured value is acquired by the CCD. The resulting measured values are then compared to the total light transmittance (determining the coating layer thickness average compared to the uncoated tube) and defect density (individual photon counts for each element in the CCD) If the photon count is low, this may correspond to insufficient light transmission). Low light transmission can lead to a lack of coating or an excessively thin coating, i.e. a defect in the coating on the tube. By measuring the number of adjacent elements having a low photon count, the size of the defect can be estimated. The size and number of defects can be summed to evaluate the quality of the tube. Alternatively, other properties that may be specific to the frequency of radiation from the light source 170 can be determined.

VI.A.図10の実施例において、当該容器内面、例えば当該被覆材90および当該容器壁86を通してエネルギーを外側に照射可能であり、当該容器外部に位置する検出器172で検出可能である。さまざまな種類の検出器172を使用可能である。               In the embodiment of FIG. 10, energy can be irradiated to the outside through the inner surface of the container, for example, the covering material 90 and the container wall 86, and can be detected by a detector 172 located outside the container. Various types of detectors 172 can be used.

VI.A.当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90および容器壁80を通り透過する当該源170からの当該入射放射線は(任意点の当該容器壁80に垂直な基準線と比較して)低入射角としては大きい可能性があるため、当該容器壁86を通して法線にかかる画素174などは、近隣の画素より多くの放射線を受ける。ただし、1つ以上の画素が当該遮断膜またはその他の種類の被覆材の一任意部分を通る光の一部を受ける可能性があり、また当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90および容器壁80の1箇所以上の任意部分を通る光が特定の画素174などにより収受される。               VI.A. The incident radiation from the source 170 passing through the barrier membrane or other type of coating 90 and the container wall 80 (as compared to a reference line perpendicular to the container wall 80 at any point) Since the low incident angle may be large, the pixels 174 and the like that are normal through the container wall 86 receive more radiation than neighboring pixels. However, one or more pixels may receive part of the light that passes through any part of the blocking film or other type of covering material, and the blocking film or other type of covering material 90 and the container wall Light passing through one or more arbitrary portions of 80 is received by a specific pixel 174 or the like.

VI.A.当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90および容器壁86の特定の部位を通る放射線を検出するための当該画素174などの解像度は、当該CCDを留置して画素174などの配列を近づけ当該容器壁86の輪郭に密接に適合させることで、増加可能である。当該解像度はまた、図6に図解するように、当該容器80の内部を照射するため、より小さい光源または本質的に点光源を選択することにより、増加可能である。またより小さい画素の使用により、当該CCDにおける画素配列の解像度が向上する。               VI.A. The resolution of the pixel 174, etc., for detecting radiation passing through a specific part of the barrier film or other type of covering 90 and the container wall 86 is determined by the arrangement of the pixel 174, etc. Can be increased by closely fitting the contour of the container wall 86 closely. The resolution can also be increased by selecting a smaller or essentially point light source to illuminate the interior of the container 80, as illustrated in FIG. In addition, the use of smaller pixels improves the resolution of the pixel array in the CCD.

VI.A.図6において、点光源132(レーザーまたはLED)はロッドまたはプローブの端部に位置する。(「点光源」とは、小型LEDまたは光ファイバー放射光の拡散端部よりあらゆる方向に生成される場合がある数学的点に類似する小量源から放射される光、または、小断面光線、例えばレーザーにより透過するコヒーレント光として放射される光のいずれかを指す。)当該点光源132は、例えば該遮断膜またはその他の種類の被覆材90および容器壁80の特性の測定中に軸方向に可動できるといったように、定常性または可動性のいずれかである場合がある。可動性である場合、当該点光源132は当該機器(管)80の内部を上下移動可能である。上述と同様の方法で、当該容器80の内面88をスキャン可能であり、外部検出器装置134により後続測定値を得て被覆材の完全性を決定する。本アプローチの利点として、特定の方向性を伴う直線偏光または類似のコヒーレント光源を利用できることが挙げられる。               VI.A. In FIG. 6, a point light source 132 (laser or LED) is located at the end of the rod or probe. ("Point light source" refers to light emitted from a small quantity source similar to a mathematical point that may be generated in any direction from a diffused end of a small LED or fiber optic radiation, or a small cross-section beam, for example This refers to any of the light emitted as coherent light transmitted by the laser.) The point light source 132 is movable axially, for example, during the measurement of the properties of the barrier film or other type of coating 90 and the container wall 80 It can be either stationary or mobile, as can be done. In the case of mobility, the point light source 132 can move up and down in the device (tube) 80. In a manner similar to that described above, the inner surface 88 of the container 80 can be scanned, and subsequent measurements are obtained by the external detector device 134 to determine the integrity of the dressing. An advantage of this approach is that it can utilize linearly polarized light or a similar coherent light source with a specific orientation.

VI.A.当該点光源132の位置は画素174などの指標となる場合があり、当該検出器の照射は当該被覆材90の特定領域に関して当該検出器が直角である時に判定される。図10の実施例において、随意に容器80の閉口端84の曲線(ある場合)に一致する曲線端を有するシリンダー状検出器172を、シリンダー状容器80の特性を検出するために使用可能である。               VI.A. The position of the point light source 132 may be an indicator such as the pixel 174, and the illumination of the detector is determined when the detector is at a right angle with respect to a particular area of the covering 90. In the embodiment of FIG. 10, a cylindrical detector 172 having a curved end that optionally coincides with the curve (if any) of the closed end 84 of the container 80 can be used to detect the characteristics of the cylindrical container 80. .

VI.A.図10を参照して、当該検査ステーションまたは機器24または34は、当該光またはその他の放射線源170および検出器172の位置を反転させることにより修正可能であり、その結果、当該光を当該容器壁86を通って当該容器80の外部から内部へと照射できることが、理解される。この手段を選択する場合、一実施例において、均一な入射源またはその他の放射線を、積分球光源186の壁184を通して当該容器80をアパーチャ182へと挿入することにより、提供可能である。積分球光源は、当該容器80外部および当該積分球内部の当該源170からの光または放射線を分光させるため、当該容器80の壁86のそれぞれの点を通過する光は比較的均一となる。これは、異なる形状を有する当該壁86の部位に関連するアーチファクトにより生じる歪曲を減少させる傾向がある。               Referring to FIG. 10, the inspection station or instrument 24 or 34 can be modified by inverting the position of the light or other radiation source 170 and detector 172 so that the light Can be irradiated from the exterior to the interior of the container 80 through the container wall 86. When this means is selected, in one embodiment, a uniform incident source or other radiation can be provided by inserting the container 80 through the wall 184 of the integrating sphere light source 186 and into the aperture 182. Since the integrating sphere light source splits light or radiation from the source 170 outside the container 80 and inside the integrating sphere, the light passing through each point of the wall 86 of the container 80 becomes relatively uniform. This tends to reduce distortion caused by artifacts associated with portions of the wall 86 having different shapes.

VI.A.図11の実施例において、当該検出器172は、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90または当該容器80の内面88に密接に適合するよう表示される可能性がある。当該検出器172は、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材80である当該容器壁86の同一側にある場合があるため、この近接は当該画素174などの解像度を増加する傾向がある。しかしながら本実施例においては、当該検出器172を好ましくは当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90と相対的に正確に位置付けて、互いに擦過し合うこと、さらには当該被覆材または当該CCD配列のいずれかが損傷することを防止するものとする。当該検出器172の当該被覆材90への直接隣接した留置はまた、当該容器壁86による屈折作用を低減する可能性があり、これは図10の実施例において、当該光またはその他の放射線が当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90を通過した後に生じるため、検出される当該シグナルは当該容器80の局所的形状および当該光またはその他の放射線の入射角により異なって屈折する場合がある。               In the embodiment of FIG. 11, the detector 172 may be displayed to closely fit the barrier membrane or other type of dressing 90 or the inner surface 88 of the container 80. Since the detector 172 may be on the same side of the vessel wall 86, which is the barrier film or other type of covering 80, this proximity tends to increase the resolution of the pixel 174 and the like. However, in this embodiment, the detector 172 is preferably positioned relatively accurately with the barrier film or other type of coating 90 and rubs against each other, and further the coating or CCD array Any damage shall be prevented. The placement of the detector 172 directly adjacent to the dressing 90 may also reduce the refractive effect of the container wall 86, which in the embodiment of FIG. Because it occurs after passing through a barrier film or other type of dressing 90, the detected signal may be refracted differently depending on the local shape of the container 80 and the incident angle of the light or other radiation.

VI.A.その他の遮断膜またはその他の種類の被覆材を検査する技術および機器もまた、使用可能である。例えば、当該機器の処理/被覆を特徴付けるため、蛍光測定を利用可能である。図10および6に記述の同一装置の利用により、当該壁86のポリマー素材および/または当該壁86のポリマー素材内のドーパントと相互作用する可能性がある、光源132または170(またはその他の放射線源)を選択可能である。これを検出システムと結合させて、欠陥、層厚、およびその他のパフォーマンス要素を含む性質の範囲を特徴付けるために使用可能である。               VI.A. Techniques and equipment for testing other barrier membranes or other types of coatings can also be used. For example, fluorescence measurements can be used to characterize the treatment / coating of the instrument. Use of the same apparatus described in FIGS. 10 and 6 may cause light source 132 or 170 (or other radiation source) that may interact with the polymer material of the wall 86 and / or dopants within the polymer material of the wall 86. ) Can be selected. This can be combined with a detection system and used to characterize a range of properties including defects, layer thickness, and other performance factors.

VI.A.別の検査の実施例は、当該処理/被覆および/または当該ポリマー自体を特徴付けるためのX線の使用である。図10または6において、当該光源はX線源に置換可能であり、当該外部検出器はX線強度を測定する種類のものである場合がある。当該遮断膜またはその他の種類の被覆材の元素分析を、この技術を利用して実行可能である。               VI.A. Another inspection example is the use of X-rays to characterize the treatment / coating and / or the polymer itself. In FIG. 10 or 6, the light source can be replaced with an X-ray source, and the external detector may be of a type that measures X-ray intensity. Elemental analysis of the barrier film or other types of coatings can be performed using this technique.

VI.A.機器80をモールドした後に、当該ステーション22において、後続の処理または被覆を不完全にまたは無効に塗布する、複数の潜在的問題が生じる場合がある。これらの問題に関する被覆を行う前に当該機器を検査する場合、所望の結果を確保するよう随意に6シグマ制御で高度に最適化された処理で、当該機器を被覆可能である。               After molding the VI.A. equipment 80, there may be several potential problems at the station 22 that apply subsequent processing or coatings incompletely or ineffectively. If the device is inspected before coating for these issues, the device can be coated with a highly optimized process, optionally with 6 sigma control, to ensure the desired result.

VI.A.処理および被覆を妨害する可能性がある当該潜在的問題の一部には、以下が含まれる(生成する被覆物質の性質により異なる):
VI.A.1.大密度の粒子汚染欠陥(例えば、各最長寸法10マイクロメートル以上)、または小密度の大粒子汚染(例えば、各最長寸法10マイクロメートル以上)。
VI.A. Some of the potential problems that can interfere with processing and coating include (depending on the nature of the resulting coating material):
VI.A.1. Large density particle contamination defects (for example, each longest dimension of 10 micrometers or more), or low density large particle contamination (for example, each longest dimension of 10 micrometers or more).

VI.A.2.化学的またはその他の表面汚染(例えば、ケイ素離型剤または油)。               VI.A.2. Chemical or other surface contamination (eg silicon release agents or oils).

VI.A.3.多数の鋭利な凸部および/または凹部により特徴付けられる、高い表面粗度。これはまた、100nm未満であるべき当該平均粗度(Ra)を定量化することによっても、特徴付けられる場合がある。               VI.A.3. High surface roughness characterized by a large number of sharp protrusions and / or recesses. This may also be characterized by quantifying the average roughness (Ra), which should be less than 100 nm.

VI.A.4.真空の創出を不可能とする、例えば孔といった当該機器における欠陥。               VI.A.4. Defects in the device, such as holes, that make it impossible to create a vacuum.

VI.A.5.密閉部(例えば検体採取管の当該開口端)を創出するために使用される、当該機器の表面上の欠陥。               VI.A.5. A defect on the surface of the device used to create a seal (eg, the open end of the specimen collection tube).

VI.A.6.処理または被覆中に当該厚さを通る電力カップリングを妨害するまたは修正する可能性がある、大幅な壁の厚さの不均一性。               VI.A.6. Significant wall thickness non-uniformity that may interfere with or modify power coupling through the thickness during processing or coating.

VI.A.7.当該遮断膜またはその他の種類の被覆材を無効に塗布する、その他の欠陥。               VI.A.7. Other defects that invalidly apply the barrier or other types of coatings.

VI.A.当該処理/被覆作業におけるパラメータを使用して当該処理/被覆作業の成功を確保するため、当該機器を1つ以上の上記潜在的問題またはその他の問題について事前検査可能である。以前、機器の把持のための装置(パックまたは容器ホルダー38〜68など)を開示し、当該装置をさまざまな試験および処理/被覆作業を含む製造処理を通して移動させた。機器を処理/被覆のための適切な表面を確実に有するようにするため、複数の可能な試験を実施可能である。これらには以下が含まれる:               VI.A. In order to ensure the success of the treatment / coating operation using the parameters in the treatment / coating operation, the device can be pre-inspected for one or more of the above potential problems or other problems. Previously, devices for gripping equipment (such as packs or container holders 38-68) were disclosed, and the devices were moved through manufacturing processes including various testing and processing / coating operations. Several possible tests can be performed to ensure that the instrument has a suitable surface for treatment / coating. These include the following:

VI.A.1.光学検査、例えば放射線の当該機器の透過、当該機器内部からまたは外部からの放射線の反射、当該機器による放射線の吸収度、当該機器による放射線の妨害。               VI.A.1. Optical inspection, eg transmission of radiation through the device, reflection of radiation from inside or outside the device, absorption of radiation by the device, interference of radiation by the device.

VI.A.2.デジタル検査 - 例えば、特定の長さおよび形状(例えば参照と比較して検体採取管の開口端がいかに「円形」であるかまたは均等で正確な形状であるか)を測定可能なデジタルカメラの使用。               VI.A.2. Digital inspection-for example, measuring a specific length and shape (eg how “open” the sample collection tube is “circular” or even and accurate compared to a reference) Possible digital camera use.

VI.A.3.真空漏出確認または圧力試験。               VI.A.3. Vacuum leak check or pressure test.

VI.A.4.当該機器の音波(超音波)試験。               VI.A.4. Sonic (ultrasonic) testing of the equipment.

VI.A.5.X線分析。               VI.A.5. X-ray analysis.

VI.A.6.当該機器の電気伝導度(プラスチック管素材およびSiOxの電気抵抗は異なる - 例えば、バルク材としての水晶で約1020 Ohm-cm、およびテレフタル酸ポリエチレンで約1014 Ohm-cm)。 VI.A.6. Electrical conductivity of the equipment (the electrical resistance of plastic tube material and SiO x is different-for example, about 1020 Ohm-cm for quartz as bulk material and about 1014 Ohm-cm for polyethylene terephthalate) .

VI.A.7.当該機器の温熱伝導性(例えばバルク材としての水晶の温熱伝導性は約1.3W−°K/mであり、テレフタル酸ポリエチレンの温熱伝導性は0.24W−°K/mである)。               VI.A.7. Thermal conductivity of the device (for example, the thermal conductivity of quartz as a bulk material is about 1.3 W- ° K / m, and the thermal conductivity of polyethylene terephthalate is 0.24 W- ° K / m. Is).

VI.A.8.随意に、後述通りにガス放出ベースラインを決定するために被覆後検査の下で測定可能である、当該容器壁のガス放出。               VI.A.8. Optionally, outgassing of the vessel wall, which can be measured under post-coating inspection to determine the outgassing baseline as described below.

VI.A.上記試験は、図6に示すステーション24において実行可能である。6.本図において、当該機器(例えば検体採取管80)を所定の位置に接地可能であり、光源(またはその他の源)132を当該機器および当該機器の外部に位置する適切な検出器134に挿入して所望の結果を測定可能である。               VI.A. The above test can be performed at station 24 shown in FIG. 6. In this figure, the device (for example, the specimen collection tube 80) can be grounded at a predetermined position, and the light source (or other source) 132 is connected to the device and an appropriate detector 134 located outside the device. The desired result can be measured by insertion.

VI.A.真空漏出が検出される場合、当該容器ホルダーおよび機器を、当該管へと挿入される真空ポンプおよび測定機器へと結合可能である。当該試験はまた、当該明細書の別箇所で詳述する通りに実施可能である。               VI.A. If a vacuum leak is detected, the vessel holder and instrument can be coupled to a vacuum pump and measuring instrument inserted into the tube. The test can also be performed as detailed elsewhere in the specification.

VI.A.当該処理ステーションまたは機器24は目視検査ステーションである場合があり、1つ以上の容器内面88、その外面118、またはその表面88および118の間の容器壁86内部を、欠陥検出のために検査するよう設定可能である。当該外面118、当該内面88、または当該容器壁86の検査は、特に検査に使用する放射線および波長に対して当該容器が透明または半透明である場合に、当該容器80の外部から実行可能である。当該内面88の検査は、希望する場合、当該容器ポート92経由で当該容器80へと挿入される光ファイバープローブを提供することにより、促進可能であり、それにより、当該容器80の内部を当該容器80の外部から目視可能である。例えば、この環境において内視鏡またはボアスコープを使用可能である。               VI.A. The processing station or equipment 24 may be a visual inspection station, which detects one or more container inner surfaces 88, its outer surface 118, or the interior of the container wall 86 between its surfaces 88 and 118, for defect detection. Can be set to inspect for. Inspection of the outer surface 118, the inner surface 88, or the container wall 86 can be performed from the outside of the container 80, particularly when the container is transparent or translucent to the radiation and wavelength used for the inspection. . Inspection of the inner surface 88 can be facilitated, if desired, by providing a fiber optic probe that is inserted into the container 80 via the container port 92 so that the interior of the container 80 is moved into the container 80. Visible from the outside. For example, an endoscope or borescope can be used in this environment.

VI.A.図6に図示する別の手段は、光源132の容器80内への挿入である場合がある。当該容器壁86を透過する光、および当該光により明白となる当該容器80のアーチファクトは、装置134を測定する検出器を利用して、容器80の外部から検出可能である。本ステーションまたは機器24は、例えば当該容器ポート96に適切に装填済されていない位置ずれのある容器80、または当該壁86の目視可能な歪曲、不純物、またはその他の欠陥を有する容器80を検出・修正するためまたは除去するために、利用可能である。当該容器80の目視検査もまた、作業員の当該容器80の目視により、機械検査の代わりに/に追加して、実行可能である。               Another means illustrated in FIG. 6 may be the insertion of the light source 132 into the container 80. Light transmitted through the container wall 86 and artifacts of the container 80 that are manifested by the light can be detected from the exterior of the container 80 using a detector that measures the device 134. The station or device 24 detects and misaligns containers 80 that are not properly loaded into the container port 96, or containers 80 that have visible distortions, impurities, or other defects in the wall 86, for example. It can be used to correct or remove. Visual inspection of the container 80 can also be performed in addition to / in addition to mechanical inspection by visual inspection of the container 80 by the operator.

VI.A.図7により詳細に示す当該処理ステーションまたは機器26は、当該容器80の内面88を欠陥検出のために検査するよう、例えば当該容器壁86を通して当該ガス圧力損失を測定するよう、設定可能であり、当該検査は遮断膜またはその他の種類の被覆材の提供前に実行可能である。本試験は、当該遮断性被覆材90の両側の間の圧力差を創出することにより実行可能である。その際、当該容器80内部を加圧または真空にし、当該容器80の内部154を隔離し、当該圧力により当該密閉部からの漏出または当該容器壁からのガス透過が生じないよう一定に保ち、これらの問題で加算されるユニット時間毎に当該圧力変化を測定する。本測定は、当該容器壁86を通過するガスを明確にするばかりでなく、当該容器口82と当該オーリング/その他の密閉部100との間の密閉部漏出を検出する。当該漏出は、当該容器80の位置合わせまたは当該密閉部100の機能のいずれかに問題があることを指摘する場合がある。いずれの場合においても、当該管の装填ミスを修正しまたは当該管を当該処理ラインから除去して、適切な処理真空レベルを達成または維持するための試行、および不調の密閉部から漏れる空気による処理ガス希薄化の防止にかかる時間を節約可能である。               VI.A. The processing station or equipment 26 shown in more detail in FIG. 7 is configured to inspect the inner surface 88 of the vessel 80 for defect detection, for example, to measure the gas pressure loss through the vessel wall 86. Yes, the test can be performed before providing the barrier film or other type of dressing. This test can be performed by creating a pressure difference between both sides of the barrier coating 90. At that time, the inside of the container 80 is pressurized or vacuumed, the inside 154 of the container 80 is isolated, and kept constant so that leakage from the sealed portion or gas permeation from the container wall does not occur due to the pressure. The pressure change is measured every unit time added due to the above problem. This measurement not only clarifies the gas that passes through the vessel wall 86, but also detects a leak at the seal between the vessel port 82 and the O-ring / other seal 100. The leak may point out that there is a problem with either the alignment of the container 80 or the function of the seal 100. In any case, attempt to correct the tube misloading or remove the tube from the processing line to achieve or maintain an appropriate processing vacuum level, and treatment with air leaking from a malfunctioning seal The time required for preventing gas dilution can be saved.

VI.A.上記システムは、複数手順からなる製造および検査方法へと統合可能である。               VI.A. The above system can be integrated into a multi-procedure manufacturing and inspection method.

VI.A.図1(前述)は、可能な方法の手順の配置図を示す(ただし本発明は単一概念またはアプローチに制限されるものではない)。まず、当該容器80を当該ステーションにおいてまたは当該機器24により目視で検査する。当該検査には、当該容器80の寸法測定が含まれる場合がある。欠陥が見つかった場合、当該機器または容器80を不合格とし、当該パックまたは容器ホルダー38などを欠陥検出のため検査、再利用、または除去する。               VI.A. FIG. 1 (above) shows a layout diagram of possible method steps (although the invention is not limited to a single concept or approach). First, the container 80 is visually inspected at the station or by the device 24. The inspection may include measuring the dimensions of the container 80. If a defect is found, the device or container 80 is rejected, and the pack or container holder 38 is inspected, reused, or removed for defect detection.

VI.A.次に、その他の容器ホルダー38および装填済み容器80のアセンブリの漏出率またはその他の特性を、当該ステーション26において試験し、被覆後の比較のために保管する。当該パックまたは容器ホルダー38はその後、例えば当該被覆手順28へと移動する。当該機器または容器80を、例えば13.56 MHzの電力供給周波数で、SiOxまたはその他の遮断層またはその他の種類の被覆材で被覆する。被覆された当該容器ホルダーは、漏出率またはその他の特性について再試験を行う(これは、当該試験ステーション26または複製/類似ステーション30などにおいて第2試験として実行可能である - 複製ステーションの利用により当該システム処理量を増大可能である)。 VI.A. The leak rate or other characteristics of the other container holder 38 and loaded container 80 assembly is then tested at the station 26 and stored for post-coating comparison. The pack or container holder 38 is then moved to the coating procedure 28, for example. The device or container 80 is coated with SiO x or other barrier layer or other type of coating, for example at a power supply frequency of 13.56 MHz. The coated container holder is retested for leak rate or other characteristics (this can be done as a second test, such as at the test station 26 or the duplicate / similar station 30-by using a duplicate station System throughput can be increased).

VI.A.当該被覆測定は、非被覆測定と比較可能である。当該値の比率が事前設定された必須レベルを超える場合、被覆材のパフォーマンスが全体的に合格であることを示し、当該容器ホルダーおよび機器は次工程に進む。光学試験ステーション32は、例えば青色光源および当該管を通る光総透過を計測する外部積分球検出器に追随する。当該機器が不合格であるまたは追加被覆のため再利用される場合は、当該値は事前設定制限を超えることが必須である可能性がある。次に(不合格ではなかった機器については)、第2光学試験ステーション34を使用可能である。この場合、点光源を当該管または容器80の内部に挿入し、測定値が得られたら徐々に管状CCD検出器配列と共に当該管の外部に取り出す。当該データはその後、当該欠陥密度分布を判定するためコンピュータ分析を行う。当該測定値に基づき、当該機器は合格となり最終包装が行われるか、不合格となる。               VI.A. The coverage measurement is comparable to the uncovered measurement. If the ratio of the value exceeds the preset required level, it indicates that the overall performance of the dressing is acceptable, and the container holder and equipment proceed to the next step. The optical test station 32 follows, for example, a blue light source and an external integrating sphere detector that measures the total light transmission through the tube. If the device fails or is reused for additional coating, it may be essential that the value exceed the preset limit. The second optical test station 34 can then be used (for instruments that did not fail). In this case, a point light source is inserted into the tube or container 80, and when a measurement value is obtained, it is gradually taken out of the tube together with the tubular CCD detector array. The data is then subjected to computer analysis to determine the defect density distribution. Based on the measured value, the device is accepted and final packaging is performed or rejected.

VI.A.上記データは随意に、6シグマ品質を保つため統計的プロセス制御技術を利用して(例えば、電子的に)ログまたはプロット可能である。               VI.A. The data can optionally be logged or plotted (eg, electronically) using statistical process control techniques to maintain 6 sigma quality.

VI.B. 遮断層を通しての容器壁ガス放出検出による容器検査
VI.B.別の実施例は、蒸気をガス放出する素材上の遮断膜またはその他の種類の層を検査する方法であり、当該方法は複数手順を有する。ガス放出するおよび少なくとも一部が遮断層である物質の検体を用意する。随意に、当該遮断層において圧力差を提供して、ガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。別のオプションにおいて、当該放出ガスは圧力差の提供なしに拡散を許容する場合がある。当該放出ガスを測定する。当該遮断層において圧力差を提供する場合、当該ガス放出を当該遮断層の高圧側または低圧側で測定可能である。
VI.B. Container inspection by detecting container wall outgassing through barrier layer
VI.B. Another embodiment is a method of inspecting a barrier film or other type of layer on a material that outgases a vapor, the method having multiple steps. Prepare a specimen of a substance that will outgas and at least partially be a barrier layer. Optionally, a pressure differential is provided in the barrier layer so that at least some of the outgassing material is present on the high pressure side of the barrier layer. In another option, the emitted gas may allow diffusion without providing a pressure differential. The released gas is measured. When providing a pressure difference in the barrier layer, the outgassing can be measured on the high pressure side or the low pressure side of the barrier layer.

VI.B.また、(上記で塗布した)当該内部被覆材の有効性の測定を、(被覆前に)特定種または機器の壁に吸収された物質の拡散率を測定することにより、実行可能である。非被覆(未処理)管と比較する場合、この種の測定は、当該被覆または処理の遮断性またはその他の種類の性質、あるいは当該被覆または処理の有無の直接的測定を提供可能である。検出された被覆または処理は、遮断層に加えて/の代わりに、潤滑層、疎水層、装飾被覆材、または当該基板のガス放出を増加または低減して修正するその他の種類の層である場合がある。                VI.B. Also, the effectiveness of the inner coating (applied above) can be measured by measuring the diffusivity of the material absorbed by a particular species or equipment wall (before coating). It is. When compared to uncoated (untreated) tubing, this type of measurement can provide a direct measure of the barrier or other type of nature of the coating or treatment, or the presence or absence of the coating or treatment. The detected coating or treatment is in addition to / in lieu of a barrier layer, a lubricating layer, a hydrophobic layer, a decorative coating, or other type of layer that modifies by increasing or decreasing outgassing of the substrate There is.

VI.B.図2の容器ホルダーを使用する特定実施例として、および再び図7を参照にして、機器または容器80を当該パックまたは容器ホルダー44へと挿入可能である(当該試験はまた、被覆/処理といった別の作業から移動してくるパックまたは容器ホルダー44などに載せられている装填済み容器80上で実行可能である)。当該容器ホルダーが当該遮断性試験領域へと移動した後に、当該測定管またはプローブ108を当該内部へと挿入可能である(被覆のための当該ガス管と同様の方法で、ただし当該測定管を当該管内奥へと伸延する必要はない)。弁136および148の両方を開口可能であり、当該管内部を真空化(真空創出)可能である。               VI.B. As a specific example using the container holder of FIG. 2, and referring again to FIG. 7, an instrument or container 80 can be inserted into the pack or container holder 44 (the test is also covered This can be done on a loaded container 80, such as on a pack or container holder 44 that is moved from another task such as / processing). After the container holder has moved to the blocking test area, the measuring tube or probe 108 can be inserted into the interior (in the same way as the gas tube for coating, except that the measuring tube is There is no need to extend it deep inside the pipe). Both valves 136 and 148 can be opened, and the inside of the tube can be evacuated (vacuum creation).

VI.B.所望の測定圧力が達成されたら、当該弁136および148を閉口可能であり、当該圧力計152で当該圧力の測定を開始可能である。(当該開始圧力より高い)特定の圧力が達成される時間を測定することにより、または任意の時間経過後に達成された圧力を測定することにより、当該管、容器ホルダー、ポンプ チャネル、および当該内部容量に接続されているが弁1および2により隔離されているその他のすべての部品の上昇率(または漏出率)を測定可能である。本値をその後非被覆管と比較する場合、その2つの測定値の比率(当該被覆管の値を当該非被覆管の値で割る)により、当該管の被覆表面を通る漏出率の測定値を得ることができる。本測定技術は、当該表面からのガス透過またはガス放出の影響を最小化するため、当該容器ホルダー、ポンプチャネルおよび当該内部容量に接続されているが弁1および2により隔離されているその他のすべての部品(当該管/機器を除く)の、内部容量の最小化を必要とする場合がある。               VI.B. Once the desired measured pressure is achieved, the valves 136 and 148 can be closed and the pressure gauge 152 can begin measuring the pressure. By measuring the time at which a certain pressure (above the starting pressure) is achieved, or by measuring the pressure achieved after any time, the tube, container holder, pump channel, and the internal volume It is possible to measure the rate of rise (or leak rate) of all other components that are connected to but isolated by valves 1 and 2. When this value is subsequently compared to an uncoated tube, the ratio of the two measured values (the value of the coated tube divided by the value of the uncoated tube) gives the measured value of the leakage rate through the coated surface of the tube. Obtainable. The measurement technique minimizes the effects of gas permeation or outgassing from the surface, all other connected to the vessel holder, pump channel and the internal volume but isolated by valves 1 and 2. May need to minimize the internal capacity of other parts (excluding the pipe / device).

VI.B.本開示では、「透過」、「漏出」、および「表面拡散」または「ガス放出」を区別している。               VI.B. This disclosure distinguishes between “permeation”, “leakage”, and “surface diffusion” or “outgassing”.

ここで容器に関連して用いられる「透過」とは、図29の経路350またはその逆の経路に沿った当該容器外部から内部へまたはその逆といった、壁346またはその他の障害物を通る物質の移動を指す。               As used herein in connection with a container, “permeation” refers to a substance that passes through a wall 346 or other obstruction, such as from outside the container along the path 350 in FIG. 29 or vice versa, or vice versa. Refers to movement.

ガス放出とは、吸収または例えばガス分子354または357または359といった吸収物質の、図29の当該壁346または被覆材348の内部から外方向への、例えば当該被覆材348(存在する場合)を通るおよび当該容器358の内側(図29右側)への移動を指す。ガス放出はまた、図29に示すように、当該壁346から左側への、したがって図示する当該容器357の外部への、物質354または357などの移動を指す場合がある。ガス放出はまた、例えば当該遮断性被覆材 90の露出面からの当該ガス分子355といった、物質表面からの吸収物質の除去を指す場合がある。               Outgassing refers to absorption or absorption material, for example gas molecules 354 or 357 or 359, from the inside of the wall 346 or dressing 348 in FIG. 29, eg, through the dressing 348 (if present). And movement to the inside (right side of FIG. 29) of the container 358. Outgassing may also refer to the movement of material 354 or 357, etc., from the wall 346 to the left, and thus out of the vessel 357 shown, as shown in FIG. Outgassing may also refer to the removal of absorbing material from the material surface, such as the gas molecules 355 from the exposed surface of the barrier coating 90.

漏出とは、当該壁346および被覆材348に代表される当該障害物周辺の物質の移動であり、当該障害物の表面の通過/からの分離というよりは、閉包部で閉口される容器の閉包部と壁との間の通過などを指す。               Leakage is the movement of a substance around the obstacle represented by the wall 346 and the covering material 348. The leakage is not the separation of the obstacle from the surface of the obstacle, but the closure of the container closed at the closure part. This refers to the passage between the part and the wall.

VI.B.透過は、ギャップ/欠陥がなく漏出またはガス放出に関連しない物質を通るガス移動率の指標となる。図 遮断性被覆材348を有する容器壁またはその他の基板346を示す図29を参照に、透過は完全に当該基板346および被覆材348を通り当該経路350に沿って両方の層を通るガスの移動である。透過は熱力学的であると見なされ、したがって比較的緩やかなプロセスである。               VI.B. Permeation is a measure of gas transfer rate through materials that are free of gaps / defects and not related to leakage or outgassing. FIG. 29 shows a container wall or other substrate 346 having a barrier coating 348, and permeation passes completely through the substrate 346 and the coating 348 and through both layers along the path 350. It is. Permeation is considered thermodynamic and is therefore a relatively gradual process.

VI.B.透過の測定は、当該透過性ガスが無傷のプラスチック材の壁を完全に通り抜けなければならないため、非常に時間がかかる。真空採血管の場合、当該容器が経時的に真空を喪失する傾向の直接的指標として、壁を通るガスの透過測定が従来使用されている。しかし一般に測定に非常に時間がかかり、通常6日間の試験期間を必要とするため、ライン上の被覆材検査を支持する迅速性としては十分ではない。かかる試験は通常、ライン外での容器検体試験に使用される。               The measurement of VI.B. permeation is very time consuming because the permeate gas must pass completely through the walls of the intact plastic material. In the case of a vacuum blood collection tube, gas permeation measurements through the wall are conventionally used as a direct indicator of the tendency of the vessel to lose vacuum over time. However, the measurement is generally very time consuming and usually requires a test period of 6 days, which is not sufficient to support the inspection of the coating material on the line. Such tests are typically used for off-line container specimen testing.

VI.B.透過試験はまた、厚肉基板上の薄肉被覆の被覆材有効性の測定において感度に欠ける。すべてのガス流量が当該被覆材および当該基板の両方を通るため、厚肉基板を通る流量の変動により当該被覆材自体の遮断性有効性が原因ではない変動が生じる。               The VI.B. transmission test also lacks sensitivity in measuring the coating effectiveness of thin coatings on thick substrates. Since all gas flow rates pass through both the dressing and the substrate, variations in flow rates through the thick substrate cause variations that are not due to the barrier effectiveness of the dressing itself.

VI.B.本発明者は、被覆材の遮断性を測定するより迅速で潜在的により感度の高い方法を発見した。 具体的には、当該被覆材を通る、当該容器壁内で急速に分離する大気またはその他のガス状または揮発性成分のガス放出の測定である。当該ガス状または揮発性成分は、実際にガス放出するあらゆる物質である場合があり、検出される1つ以上の特定物質から選択可能である。当該成分には、酸素、窒素、大気、二酸化炭素、水蒸気、ヘリウム、アルコールといった揮発性有機物、ケトン、炭化水素、被覆材前駆体、基板成分、揮発性有機ケイ素といった当該被覆材調整時の副産物、当該被覆基板調整時の副産物、偶然存在するまたは当該基板のスパイキングにより生じるその他の成分、またはこれらの混合体または複合体、が含まれる可能性があるがそれらに限定されない。               VI.B. The inventor has discovered a faster and potentially more sensitive method of measuring the barrier properties of a coating. Specifically, it is a measurement of outgassing of the atmosphere or other gaseous or volatile components that rapidly separate within the vessel wall through the coating. The gaseous or volatile component may be any substance that actually outgases and can be selected from one or more specific substances to be detected. The components include volatile organic substances such as oxygen, nitrogen, air, carbon dioxide, water vapor, helium, alcohol, ketones, hydrocarbons, coating material precursors, substrate components, by-products when adjusting the coating materials such as volatile organic silicon, By-products during preparation of the coated substrate, other components that may be present by chance or caused by spiking the substrate, or mixtures or composites thereof may be included, but are not limited thereto.

表面拡散とガス放出は同義語である。各用語は、例えば容器壁といった壁346上/内に初期に吸収された流体が、壁を有する容器内で真空を引き(図29の矢印352により示される大気移動を創出)当該壁の流体を当該容器の内部へと移動させるといった、ある種の原動力により当該隣接空間へと通り抜ける事を指す。ガス放出または拡散は動的であると見なされ、比較的迅速なプロセスである。当該経路350に沿って透過するのに大幅な抵抗を有する壁346に関しては、当該壁346と当該遮断層348との間の界面356に最も近接する当該分子354が、ガス放出により迅速に除去されていると考えられる。この差分ガス放出は、当該界面356に近接しガス放出として現れる多数の分子354などにより、およびガス放出として現れない当該界面356から離れているその他の多数の分子358などにより、示唆される。               Surface diffusion and outgassing are synonymous. Each term refers to a fluid that was initially absorbed on / in a wall 346, for example a container wall, pulls a vacuum in the container with the wall (creating atmospheric movement as indicated by arrow 352 in FIG. 29) It refers to passing through the adjacent space by some kind of driving force, such as moving into the container. Outgassing or diffusion is considered dynamic and is a relatively rapid process. For a wall 346 that has significant resistance to permeate along the path 350, the molecules 354 closest to the interface 356 between the wall 346 and the barrier layer 348 are quickly removed by outgassing. It is thought that. This differential outgassing is implied by a number of molecules 354 that are proximate to the interface 356 and appear as outgassing, and a number of other molecules 358 away from the interface 356 that do not appear as outgassing.

VI.B.したがって、また別の実施例が、複数手順を含む、蒸気をガス放出する素材上の遮断膜を検査する方法として考えられる。ガス放出するおよび少なくとも一部が遮断層である物質の検体を用意する。当該遮断層において圧力差を提供して、初期にガス放出する少なくとも一部の物質が遮断層の高圧側に存在するようにする。試験中に当該遮断層の低圧側に搬送される放出ガスを測定し、当該遮断膜性が存在するかどうかまたは遮断膜としてどの程度効果的であるかといった情報を判定する。               Thus, yet another embodiment is considered as a method of inspecting a barrier film on a material that outgases a vapor, including multiple procedures. Prepare a specimen of a substance that will outgas and at least partially be a barrier layer. A pressure differential is provided in the barrier layer so that at least some of the material that initially outgases is present on the high pressure side of the barrier layer. During the test, the released gas conveyed to the low pressure side of the barrier layer is measured to determine information about whether the barrier property exists or how effective the barrier layer is.

VI.B.本方法において、ガス放出する物質は、ポリマー 化合物、熱可塑性化合物、または両方の性質を有する1つ以上の化合物を含む場合がある。当該ガス放出する物質は、ポリエステル、例えばテレフタル酸ポリエチレンを含む場合がある。当該ガス放出物質は、ポリオレフィン、2つの実施例に関してはポリプロピレン、環状オレフィン共重合体、またはこれらの複合体を含む場合がある。当該ガス放出物質は、少なくとも1つが蒸気をガス放出する2つの異なる物質の合成物である場合がある。一実施例は、ポリプロピレンおよびテレフタル酸ポリエチレンの2層構造である。別の実施例は、環状オレフィン共重合体およびテレフタル酸ポリエチレンの2層構造である。これらの物質および合成物は模範的であり、あらゆる適切な物質または物質の複合体を使用可能である。               VI.B. In the present method, the outgassing material may comprise a polymer compound, a thermoplastic compound, or one or more compounds having both properties. The outgassing material may include polyester, such as polyethylene terephthalate. The outgassing material may comprise a polyolefin, for the two examples polypropylene, a cyclic olefin copolymer, or a composite thereof. The outgassing material may be a composite of two different materials, at least one outgassing the vapor. One example is a two-layer structure of polypropylene and polyethylene terephthalate. Another example is a two-layer structure of a cyclic olefin copolymer and polyethylene terephthalate. These materials and composites are exemplary and any suitable material or complex of materials can be used.

VI.B.随意に、当該ガス放出物質を、外面および内面を有する壁を有し当該内面が内腔を封入する容器の形態で用意する。本実施例において、当該遮断層は当該容器壁に、随意に当該容器壁の内面に付着する。当該遮断層は当該容器壁に、当該容器壁の外面にも付着する可能性がある。随意に、当該ガス放出物質は、膜の形態で用意可能である。               VI.B. Optionally, the outgassing material is provided in the form of a container having a wall having an outer surface and an inner surface, the inner surface enclosing the lumen. In this embodiment, the barrier layer adheres to the container wall and optionally to the inner surface of the container wall. The barrier layer may adhere to the container wall and also to the outer surface of the container wall. Optionally, the outgassing material can be provided in the form of a membrane.

VI.B.当該遮断層は、いかなる本記述の遮断層の全体または一部被覆である場合がある。当該遮断層は、500nm未満の層厚、または300nm未満の層厚、または100nm未満の層厚、または80nm未満の層厚、または60nm未満の層厚、または50nm未満の層厚、または40nm未満の層厚、または30nm未満の層厚、または20nm未満の層厚、または10nm未満の層厚、または5nm未満の層厚である場合がある。               VI.B. The barrier layer may be the entire or partial coating of any barrier layer of this description. The blocking layer is less than 500 nm, or less than 300 nm, or less than 100 nm, or less than 80 nm, or less than 60 nm, or less than 50 nm, or less than 50 nm, or less than 40 nm. It may be a layer thickness, or a layer thickness of less than 30 nm, or a layer thickness of less than 20 nm, or a layer thickness of less than 10 nm, or a layer thickness of less than 5 nm.

VI.B.被覆壁の場合において、本発明者は拡散/ガス放出を当該被覆完全性を判定するために使用可能であることを発見した。随意に、当該容器の内腔または内部を少なくとも一部真空化することにより、当該遮断層において圧力差を提供可能である。これは、例えば当該内腔をダクト経由で真空源と接続して当該内腔の少なくとも一部を真空化することにより、実行可能である。例えば、環境大気に曝露している容器の非被覆PET壁346は、真空化後しばらくしてから、その内面から一定の酸素およびその他のガス分子354をガス放出する。同一PET壁の内部が遮断性被覆材348で被覆される場合、当該遮断性被覆材は本ガス放出を遮断、減速、または低減する。これは、プラスチック表面よりガス放出が少ないSiOx遮断性被覆材348の実施例に関して真である。被覆PET壁と非被覆PET壁との間のこの差分ガス放出を測定することにより、当該ガス放出物質に関する当該被覆材348の遮断性作用を迅速に判定可能である。 In the case of VI.B. coated walls, the inventors have discovered that diffusion / outgassing can be used to determine the coating integrity. Optionally, a pressure differential can be provided in the barrier layer by at least partially evacuating the lumen or interior of the container. This can be done, for example, by connecting the lumen to a vacuum source via a duct and evacuating at least a portion of the lumen. For example, an uncoated PET wall 346 of a container that is exposed to ambient air will release certain oxygen and other gas molecules 354 from its inner surface sometime after evacuation. When the inside of the same PET wall is covered with the barrier coating material 348, the barrier coating material blocks, slows, or reduces the gas emission. This is true for the embodiment of the SiO x barrier coating 348 that outgases less than the plastic surface. By measuring this differential outgassing between the coated PET wall and the uncoated PET wall, the barrier action of the covering material 348 with respect to the outgassing material can be quickly determined.

VI.B.既知のまたは理論上の孔、割れ目、ギャップ、または層厚/密度/組成が不十分である領域が原因で、当該遮断性被覆材348が不完全である場合、当該PET壁は、選択的に当該不完全部を通してガス放出し、したがってガス放出の総量が増加する。当該収集ガスは主に、当該物質の外側からではなく、当該被覆に隣接するプラスチック材の(下位)表面内の溶存ガスまたは気化可能成分から供給される。基礎水準を超える当該ガス放出量(例えば、不完全性が一切ない、または不完全性が最低限である、または不完全性が平均的/容認可能である標準被覆材により通過/放出される量)を、さまざまな方法で測定して当該被覆材の完全性を判定可能である。               VI.B. If the barrier coating 348 is incomplete due to known or theoretical holes, cracks, gaps, or areas with insufficient layer thickness / density / composition, the PET wall will , Selectively outgassing through the imperfections, thus increasing the total amount of outgassing. The collected gas is supplied primarily from dissolved gases or vaporizable components in the (lower) surface of the plastic material adjacent to the coating, not from outside the material. The amount of outgassing above the base level (eg, the amount passed / released by a standard dressing that has no imperfections, minimal imperfections, or average / acceptable imperfections) ) Can be measured by various methods to determine the integrity of the dressing.

VI.B.当該測定は、例えば当該内腔と当該真空源との間を通過するガス放出測定函の提供により、実行可能である。               VI.B. The measurement can be performed, for example, by providing an outgassing measurement box that passes between the lumen and the vacuum source.

VI.B.当該測定函は、さまざまな異なる測定技術を実施可能である。適切な測定技術の実施例の1つに、微小流量技術がある。例えば、ガス放出物質の質量流量率を測定可能である。当該測定は、作業の分子流モードにおいて実行可能である。模範的測定として、当該遮断層を通してガス放出するガス容量の時間間隔あたりの判定が挙げられる。               VI.B. The measurement box can implement a variety of different measurement techniques. One example of a suitable measurement technique is the microflow technique. For example, the mass flow rate of the outgassing material can be measured. The measurement can be performed in the molecular flow mode of operation. As an exemplary measurement, there is a determination per time interval of the gas volume to be released through the barrier layer.

VI.B.当該遮断層の低圧側の当該放出ガスを、当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下で測定可能である。随意に、当該遮断層の有無の判別するのに効果的な当該条件に、1分未満、または50秒未満、または40秒未満、または30秒未満、または20秒未満、または15秒未満、または10秒未満、または8秒未満、または6秒未満、または4秒未満、または3秒未満、または2秒未満、または1秒未満の試験期間が含まれる。               VI.B. The release gas on the low pressure side of the barrier layer can be measured under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer. Optionally, the conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer are less than 1 minute, or less than 50 seconds, or less than 40 seconds, or less than 30 seconds, or less than 20 seconds, or less than 15 seconds, or Test periods of less than 10 seconds, or less than 8 seconds, or less than 6 seconds, or less than 4 seconds, or less than 3 seconds, or less than 2 seconds, or less than 1 second are included.

VI.B.随意に、当該遮断層の有無の測定は、上記で同定した時間間隔のいずれかの間に、少なくともシックスシグマレベルの確実性で確認可能である。               VI.B. Optionally, the measurement of the presence or absence of the barrier layer can be confirmed with at least six sigma level certainty during any of the time intervals identified above.

VI.B.随意に、当該遮断層の低圧側の当該放出ガスを、当該遮断層の遮断改善度(BIF)を判定するのに効果的な条件下で測定し、遮断層なしの同一素材と比較する。BIFは、例えば2群に分ける同一容器を提供し、一群の容器に遮断層を追加し、遮断膜を有する容器の遮断性性質(例えばマイクログラム毎分を単位とするガス放出率または別の適切な測定)を試験し、遮断膜なしの容器について同一試験を実施し、当該容器の性質の対遮断膜なし容器比を取得することにより、判定可能である。例えば、当該遮断膜を通るガス放出率が遮断膜なしの場合のガス放出率の3分の1である場合、当該遮断膜のBIFは3である。               VI.B. Optionally, measure the release gas on the low pressure side of the barrier layer under conditions effective to determine the barrier improvement (BIF) of the barrier layer and identify the same material without the barrier layer. Compare. BIF provides the same container, for example divided into two groups, adds a barrier layer to a group of containers, and barrier properties of containers with barrier membranes (eg gas release rate in micrograms per minute or another suitable It is possible to make a determination by performing the same test on a container without a blocking film and obtaining the ratio of the container property to the container without a blocking film. For example, if the gas release rate through the barrier film is one third of the gas release rate without the barrier film, the BIF of the barrier film is 3.

VI.B.随意に、多数の異なるガスの放出を、例えば放出大気の場合における窒素と酸素といった、1種以上のガスが存在する事例において、測定可能である。随意に、実質上すべてまたはすべての当該放出ガスのガス放出を測定可能である。随意に、すべてのガスの複合質量流量といった物理的測定を利用して、実質上すべての当該放出ガスのガス放出を同時に測定可能である。               VI.B. Optionally, a number of different gas emissions can be measured in the presence of one or more gases, for example nitrogen and oxygen in the case of the released atmosphere. Optionally, the outgassing of substantially all or all of the emitted gas can be measured. Optionally, physical measurements such as the combined mass flow rate of all gases can be used to measure the gas emissions of substantially all of the emitted gases simultaneously.

VI.B.当該検体からガス放出される個別のガス種(酸素またはヘリウムなど)の数または分圧の測定は、気圧試験より迅速に実行可能であるが、当該試験速度は、当該ガス放出の一部のみが当該測定種である程度まで低下する。例えば、窒素と酸素が当該大気約4:1の比率で当該PET壁からガス放出されるが酸素のガス放出のみが測定される場合、(検出される十分な統計的品質の結果を得るための分子の数の観点において)当該容器壁からガス放出されるすべての種を測定する同等感度の試験と比較して、当該試験を5倍長く実施する必要がある可能性がある。               VI.B. Measuring the number or partial pressure of an individual gas species (such as oxygen or helium) outgassing from the specimen can be performed more quickly than the barometric test, but the test rate depends on the outgassing Only a part is reduced to some extent in the measurement species. For example, if nitrogen and oxygen are outgassed from the PET wall at a ratio of about 4: 1 to the atmosphere, but only oxygen outgassing is measured (to obtain a sufficient statistical quality result to be detected) It may be necessary to perform the test 5 times longer compared to equivalent sensitivity tests that measure all species released from the vessel wall (in terms of the number of molecules).

VI.B.任意の感度レベルについては、当該表面からガス放出されるすべての種の容量を明らかにする方法の方が、酸素原子といった特定種のガス放出を測定する試験より、望ましい信頼度をより迅速に提供するであろうと考えられる。結果として、ライン内測定において実用性があるガス放出データが生成される。かかるライン内測定は随意にすべての製造された容器について実行可能であり、したがって特異なまたは隔離する欠陥の数を減少させ、それらを(少なくとも測定時においては)潜在的に消滅させる。               VI.B. For any sensitivity level, a method that reveals the volume of all species released from the surface is more desirable than a test that measures the release of certain species, such as oxygen atoms. It will be provided more quickly. As a result, outgassing data that is practical for in-line measurements is generated. Such in-line measurements are optionally feasible for all manufactured containers, thus reducing the number of unique or sequestering defects and potentially eliminating them (at least during the measurement).

VI.B.実用測定において、ガス放出の量を明白に変化させる要素は、ガス放出試験において真空を引く時の真空レセプタクル上に装填される当該容器の密閉部といった、不完全な密閉部を通過する漏出である。漏出とは、当該物質の間断ない壁をバイパスする流体、例えば血液管とその閉包部の間、シリンジプランジャーとシリンジバレルの間、容器とその蓋の間、または当該容器口が装填済み(不完全または誤装填された密閉部が原因で)である場合の容器口と密閉部の間を、通過する流体を指す。当該用語「漏出」は通常、当該プラスチック素材の開口部を通るガスの移動を示す。               VI.B. In practical measurements, the factors that clearly change the amount of outgassing pass through imperfect seals, such as the seals of the containers that are loaded onto the vacuum receptacle when the vacuum is pulled in the outgassing test. Leaks. Leakage refers to a fluid that bypasses an uninterrupted wall of the substance, such as between a blood tube and its closure, between a syringe plunger and a syringe barrel, between a container and its lid, or filled with the container mouth (not filled). Refers to fluid passing between the container mouth and the seal when it is (due to a fully or misloaded seal). The term “leakage” usually refers to the movement of gas through the opening in the plastic material.

VI.B.漏出および(必要に応じて任意の状況で)透過はガス放出の基本レベルに組み入れることが可能であり、それにより、当該容器が当該真空レセプタクル上に適切に装填済みであり(したがってその装填済み表面が無傷で適切に成形および位置付けされている)、当該容器壁が透過の容認不可なレベルを支持しない(したがって当該容器壁が無傷で適切に成形されている)こと、および当該被覆材が十分な遮断性完全性を有していることの両方が、容認可能な試験結果により保証される。               VI.B. Leakage and permeation (in any situation if necessary) can be incorporated into the basic level of outgassing so that the container is properly loaded onto the vacuum receptacle (and therefore The loaded surface is intact and properly shaped and positioned), the container wall does not support an unacceptable level of permeation (and therefore the container wall is intact and properly shaped), and the coating Both that the material has sufficient barrier integrity is guaranteed by acceptable test results.

VI.B.ガス放出はさまざまな方法で、例えば、気圧測定(当該初期真空化後の任意の経過時間における当該容器内の圧力変化の測定)により、または当該検体から放出されるガスの分圧または流量率の測定により、測定可能である。作業の分子流モードにおける質量流量率を測定する機器を、利用可能である。市販されている微小流量技術を利用するこの種の機器の例として、インディアナ州インディアナポリスのATC, Inc.の製品が挙げられる。この既知の機器の詳細情報については、参照することにより本書に含まれる米国特許5861546番、6308556番、6584828番、およびEP1356260番を参照されたい。また、遮断膜で被覆されたテレフタル酸ポリエチレン(PET)管と非被覆管を迅速かつ確実に判別するためのガス放出測定の実施例を示す、本明細書の実施例8も参照されたい。               VI.B. Gas can be released in various ways, for example by measuring atmospheric pressure (measuring the change in pressure in the vessel at any time after the initial evacuation) or by partial pressure of the gas released from the sample. Alternatively, it can be measured by measuring the flow rate. Equipment for measuring the mass flow rate in the molecular flow mode of operation is available. An example of this type of instrument that utilizes commercially available microflow technology is the product of ATC, Inc. of Indianapolis, Indiana. For detailed information on this known instrument, see US Pat. Nos. 5,861,546, 6,308,556, 6,848,828, and EP 1,356,260, which are incorporated herein by reference. See also Example 8 herein, which shows an example of outgassing measurements to quickly and reliably distinguish between polyethylene terephthalate (PET) tubes coated with a barrier film and uncoated tubes.

VI.B.テレフタル酸ポリエチレン(PET)製の容器については、当該微小流動率は当該SiOx被覆表面対非被覆表面に関して異なる。 例えば、本明細書の実施例8において、PETの当該微小流動率は、図31に示すように、当該試験を30秒間実施した後に8 マイクログラム以上であった。この非被覆PETの率は、再び図31に示すように、当該試験を30秒間実施した後に6マイクログラム未満であった当該SiOx被覆PETの測定率よりはるかに高かった。 For containers made of polyethylene terephthalate (PET), the microfluidity is different for the SiO x coated versus uncoated surface. For example, in Example 8 of the present specification, the microfluidity of PET was 8 micrograms or more after the test was performed for 30 seconds, as shown in FIG. The rate of this uncoated PET was much higher than the measured rate of the SiO x coated PET, which was less than 6 micrograms after the test was performed for 30 seconds, as shown again in FIG.

VI.B.この流量率における差異についての可能な説明の1つとして、非被覆PETが約0.7パーセントの平衡水分を包含することが挙げられる。これは、高い微小流動率を引き起こすと考えられている高い水分含量である。SiOx被覆PETプラスチックにより、当該SiOx被覆材は、非被覆PET表面より高いレベルの表面水分を有する可能性がある。当該試験条件下では、しかしながら、当該遮断性被覆材は当該バルクPETプラスチックからの水分の追加脱着を防止し、微小流動率を低下させると考えられている。非被覆PETプラスチック対SiOx被覆PETからの酸素または窒素の微小流動率も、識別可能であることが見込まれる。 VI.B. One possible explanation for this difference in flow rate is that uncoated PET contains about 0.7 percent of equilibrium moisture. This is a high moisture content that is believed to cause a high microfluidity. Depending on the SiO x coated PET plastic, the SiO x coated material may have a higher level of surface moisture than the uncoated PET surface. Under the test conditions, however, the barrier coating is believed to prevent additional desorption of moisture from the bulk PET plastic and reduce the microfluidity. The microfluidic rate of oxygen or nitrogen from uncoated PET plastic versus SiO x coated PET is also expected to be distinguishable.

VI.B.その他の物質を使用する場合、PET管のための上記試験を変更することが適切である場合がある。例えば、ポリオレフィンプラスチックは水分含量をほとんど含まない傾向がある。水分含量が低いポリオレフィンの例として、PETよりはるかに低い平衡水分含有量(0.01 パーセント)および水分透過度を有するTOPAS(登録商標)環状オレフィン共重合体(COC)が挙げられる。COCの場合も、非被覆COCプラスチックはSiOx被覆COCプラスチックと同様の、またはさらに少ない微小流動率を有する場合がある。これは、SiOx被覆材の表面水分含量が高く、平衡バルク水分含量が低く、非被覆COCプラスチック表面の透過度が低い事が原因であると見られる。これにより、非被覆および被覆COC物質の区別がより困難となる。 When using other substances, it may be appropriate to modify the above test for PET tubes. For example, polyolefin plastics tend to contain little moisture content. An example of a low moisture content polyolefin is TOPAS® cyclic olefin copolymer (COC), which has a much lower equilibrium moisture content (0.01 percent) and moisture permeability than PET. In the case of COC, uncoated COC plastic may have the same SiO x coated COC plastic, or even less microfluidic rate. This appears to be due to the high surface moisture content of the SiO x coating, the low equilibrium bulk moisture content, and the low permeability of the uncoated COC plastic surface. This makes it more difficult to distinguish between uncoated and coated COC materials.

本発明では、試験対象のCOC物質表面を蒸気(非被覆および被覆)に曝露することで、非被覆COCプラスチックとSiOx被覆COCプラスチックとの間の微小流動の分離が向上し一定することを解明する。これは、本明細書の実施例19および図57に示す。当該水分暴露は、相対湿度に制御された部屋内での、または暖湿源(加湿器)または冷湿源(噴霧器)への直接的曝露(後者が望ましい)のいずれかにおける、35%〜100%の範囲の相対湿度への単なる曝露である場合がある。 The present invention reveals that microfluidic separation between uncoated COC plastic and SiO x coated COC plastic improves and remains constant by exposing the COC material surface under test to vapor (uncoated and coated). To do. This is illustrated in Example 19 and FIG. 57 herein. The moisture exposure can be between 35% and 100% in a room controlled to relative humidity, or either direct exposure to a warm or humid source (humidifier) or cold source (nebulizer), the latter being preferred It may be just an exposure to relative humidity in the% range.

VI.B.本発明の有効性および範囲はこの理論の正確性に従い制限されるものではないが、当該非被覆COCプラスチックを蒸気ドーピングまたはスパイキングすることによりその蒸気またはその他のガス放出量が、すでに飽和したSiOx被覆COC表面と比較して増加することが示唆される。これはまた、酸素、窒素、またはそれらの混合体(例:大気)を含むその他のガスへと当該被覆管および非被覆管を曝露することによっても、達成可能である。 VI.B. Although the effectiveness and scope of the present invention is not limited according to the accuracy of this theory, vapor or other outgassing by vapor doping or spiking the uncoated COC plastics It suggests an increase compared to the already saturated SiO x coated COC surface. This can also be accomplished by exposing the coated and uncoated tubes to other gases including oxygen, nitrogen, or mixtures thereof (eg, the atmosphere).

VI.B したがって当該放出ガスを測定する前に、当該遮断層は水分、例えば水蒸気に接触する場合がある。水蒸気は、例えば相対湿度が35%〜100%で、あるいは40%〜100%で、あるいは40%〜50%である大気と当該遮断層を接触させることにより、提供可能である。水分の代わりに/に加えて、酸素、窒素、または酸素と窒素の混合体(例:大気)と当該遮断層を接触させることも可能である。当該接触時間は、10秒〜1時間、あるいは1分〜30分、あるいは5分〜25分、あるいは10分〜20分である場合がある。               VI.B Therefore, before measuring the emitted gas, the barrier layer may come into contact with moisture, for example water vapor. For example, water vapor can be provided by bringing the barrier layer into contact with the atmosphere having a relative humidity of 35% to 100%, alternatively 40% to 100%, alternatively 40% to 50%. Instead of / in addition to moisture, the barrier layer can be contacted with oxygen, nitrogen, or a mixture of oxygen and nitrogen (eg, air). The contact time may be 10 seconds to 1 hour, alternatively 1 minute to 30 minutes, alternatively 5 minutes to 25 minutes, alternatively 10 minutes to 20 minutes.

あるいは、例えば図11の当該壁346の左側を当該壁346へと吸収する物質へと曝露させその後図29に示すように左側または右側のいずれかへと放出することで、ガス放出をする当該ガス壁346を遮断層348に対立する側からスパイクまたは補填可能である。壁またはその他の物質346などをガス吸収により左側からスパイクして、その後スパイクした物質のガス放出を右側から測定する(またはその逆)ことは、透過測定とは区別される。なぜなら、当該被覆材を通るガスが測定される時に当該壁を通る完全な経路350を移動する物質が測定されるのとは対照的に、スパイクした物質はガス放出を測定時には当該壁346内にあるからである。当該ガス吸収は、当該被覆材348の塗布前の一実施例、および当該被覆材348の塗布後およびガス放出の試験前の一実施例に示すように、長期間にわたり行われる場合がある。               Alternatively, for example, by exposing the left side of the wall 346 in FIG. 11 to a substance that absorbs the wall 346 and then releasing it to either the left side or the right side as shown in FIG. The wall 346 can be spiked or supplemented from the side opposite the barrier layer 348. Spiking a wall or other material 346 or the like from the left side by gas absorption and then measuring the outgassing of the spiked material from the right side (or vice versa) is distinct from transmission measurements. This is because, as opposed to measuring the material traveling through the complete path 350 through the wall when the gas through the coating is measured, the spiked material is within the wall 346 when measuring gas release. Because there is. The gas absorption may occur over a long period of time, as shown in one example before application of the dressing 348 and one example after application of the dressing 348 and before the gas release test.

VI.B.非被覆プラスチックとSiOx被覆プラスチックとの間の微小流動反応の分離を増加させるもう1つの可能な方法として、測定圧力および/または温度の修正が挙げられる。ガス放出測定時の当該圧力の増加または当該温度の減少により、SiOx被覆COC内の水分子が非被覆COC内のものより多く相対結合する場合がある。 したがって当該放出ガスは、0.1トール〜100トール、あるいは0.2トール〜50トール、あるいは0.5トール〜40トール、あるいは1トール〜30トール、あるいは5トール〜100トール、あるいは10トール〜80トール、あるいは15トール〜50トールの圧力で測定可能である。当該放出ガスは、0℃〜50℃、あるいは0℃〜21℃、あるいは5℃〜20℃の温度で測定可能である。 VI.B. Another possible way to increase the separation of the microfluidic reaction between uncoated plastic and SiO x coated plastic is to modify the measurement pressure and / or temperature. The reduction of the increase or the temperature of the pressure during outgassing measurement, there are cases where water molecules in the SiO x coating COC is more relative binding than that of the uncoated COC. Thus, the emitted gas may be from 0.1 torr to 100 torr, alternatively from 0.2 torr to 50 torr, alternatively from 0.5 torr to 40 torr, alternatively from 1 torr to 30 torr, alternatively from 5 torr to 100 torr, alternatively from 10 torr to 80 torr, alternatively from 15 torr. It can be measured at a pressure of ~ 50 Torr. The released gas can be measured at a temperature of 0 ° C to 50 ° C, alternatively 0 ° C to 21 ° C, alternatively 5 ° C to 20 ° C.

VI.B.本開示のあらゆる実施例における、ガス放出測定のための考えられる別の方法として、マイクロカンチレバー測定技術が挙げられる。かかる技術は、潜在的に10-12g(ピコグラム)〜10-15g(フェムトグラム)といった、より微小なガス放出の質量差を測定可能であると考えられている。このより微小な質量検出により、被覆表面と非被覆表面の区別および被覆材の種類の判別が、1秒未未満で、随意に0.1秒未満で、随意にマイクロ秒の単位で可能となる。 VI.B. Another possible method for outgassing measurement in any embodiment of the present disclosure is the microcantilever measurement technique. Such techniques are believed to potentially be able to measure smaller gas release mass differences, such as 10 -12 g (picogram) to 10 -15 g (femtogram). This finer mass detection allows discrimination between the coated and uncoated surfaces and the type of coating material in less than 1 second, optionally in less than 0.1 seconds, and optionally in microseconds.

VI.B.マイクロカンチレバー(MCL)センサーは場合によっては、当該分子吸収度に起因する屈伸または移動や形状の変化により、ガス放出されたまたは別方法で提供された物質の有無に、対応可能である。マイクロカンチレバー(MCL)センサーは場合によっては、共鳴周波数シフトにより対応可能である。その他の場合、当該MCLセンサーはこれらの両方の方法またはその他の方法で変更される場合がある。これらは、ガス状環境、流体、または真空といった異なる環境において、動作可能である。ガス内において、マイクロカンチレバーセンサーは人工鼻のように動作可能であり、それにより、8つのポリマー被覆ケイ素カンチレバーの微細加工配列の屈曲パターンが、溶媒、香味料、飲料からの異なる蒸気の特徴を示す。あらゆる技術によるその他の種類の電子鼻の利用もまた、考えられる。               VI.B. Microcantilever (MCL) sensors can in some cases respond to the presence or absence of substances that have been outgassed or otherwise provided due to bending, stretching, or movement or shape change due to the molecular absorption. is there. Microcantilever (MCL) sensors can be accommodated by resonant frequency shift in some cases. In other cases, the MCL sensor may be modified in both of these ways or in other ways. They can operate in different environments, such as gaseous environments, fluids, or vacuums. Within the gas, the microcantilever sensor can operate like an artificial nose, so that the bending pattern of the microfabricated array of eight polymer-coated silicon cantilevers exhibits different vapor characteristics from solvents, flavors, and beverages . The use of other types of electronic noses by any technology is also conceivable.

化学物質に曝露された当該MCLの移動、形状の変更、または周波数の変更の測定を行うために、ピエゾ抵抗、圧電性、容量性アプローチを含む複数のMCL電子デザインが適用され、考慮される。               Multiple MCL electronic designs, including piezoresistive, piezoelectric, and capacitive approaches, are applied and considered to make measurements of movement, shape change, or frequency change of the MCL exposed to chemicals.

VI.B.ガス放出測定の一特定実施例を以下の通り実行可能である。ガス放出物質の存在下で移動または異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも1つのマイクロカンチレバーを用意する。当該マイクロカンチレバーを移動または異なる形状へと変化させるのに有効である条件下で、当該マイクロカンチレバーをガス放出材質へと曝露する。当該移動または異なる形状が、その後検出される。               VI.B. One particular embodiment of the outgassing measurement can be performed as follows. At least one microcantilever having the property of moving or changing to a different shape in the presence of a gas releasing material is provided. The microcantilever is exposed to a gas releasing material under conditions effective to move or change the microcantilever to a different shape. This movement or a different shape is then detected.

VI.B.一例として、マイクロカンチレバーのガス放出への曝露前および後のマイクロカンチレバーの移動または形状変化部からのエネルギー入射光線の照射により、およびカンチレバーから離れた点での当該照射光線の偏差結果の測定により、移動または異なる形状を検出可能である。任意条件下の当該光線のふれ幅が当該光線の反射点から測定点まで距離に比例するため、当該形状は当該カンチレバーから離れた点で測定するのが好ましい。               VI.B. As an example, the result of the deviation of the irradiated light at a point away from the cantilever by the movement of the microcantilever before or after exposure to the gas release of the microcantilever or by irradiation of an energy incident light from the shape change part It is possible to detect moving or different shapes by measuring Since the deflection width of the light beam under arbitrary conditions is proportional to the distance from the reflection point of the light beam to the measurement point, the shape is preferably measured at a point away from the cantilever.

VI.B.エネルギー入光線のいくつかの適切な実施例として、光子光線、電子光線、またはこれら2種以上の複合体が挙げられる。 あるいは、MCLヵらの2種以上の異なる光線を異なる入射 および/または反射経路に沿って反射させて、1つ以上の視点から移動または形状変化を判定可能である。具体的に考えられる種類のエネルギー入射光線の1つに、レーザービームといったコヒーレント光子光線がある。本明細書で述べる「光子」は、波エネルギーおよび粒子または光子エネルギー自体を含むよう、両立的に定義される。               VI.B. Some suitable examples of energy incident light include photon light, electron light, or a composite of two or more of these. Alternatively, two or more different rays from the MCL can be reflected along different incidence and / or reflection paths to determine movement or shape change from one or more viewpoints. One specific type of incident energy beam is a coherent photon beam such as a laser beam. As used herein, “photons” are defined interchangeably to include wave energy and particle or photon energy itself.

VI.B.測定の代替実施例は、共鳴周波数変更を達成するのに効果的な量の環境物質に接触すると共鳴周波数を変更する、特定MCLの性質を利用している。この種の測定は以下の通り実行可能である。ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも1つのマイクロカンチレバーを用意する。当該マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下で、当該マイクロカンチレバーをガス放出材質へと曝露可能である。当該異なる共鳴周波数は、その後適切な手段で検出する。               An alternative embodiment of VI.B. measurement utilizes the property of certain MCLs that change the resonant frequency when contacted with an amount of environmental material effective to achieve the resonant frequency change. This type of measurement can be performed as follows. At least one microcantilever is provided that resonates at different frequencies in the presence of the outgassing material. The microcantilever can be exposed to an outgassing material under conditions that are effective to resonate the microcantilever at different frequencies. The different resonance frequencies are then detected by appropriate means.

VI.B.一実施例として、当該異なる共鳴周波数は、エネルギーを当該マイクロカンチレバーへと入力して当該マイクロカンチレバーをガス放出へと曝露する前および後にその共鳴を誘導することで、検出可能である。ガス放出への曝露前および後の当該MCLの共鳴周波数の差異を、判定する。あるいは、共鳴周波数の差異を判定する代わりに、十分な濃度または量のガス放出物質が存在する場合に特定の共鳴周波数を有することで知られる、MCLを提供可能である。異なる共鳴周波数または十分な量の当該ガス放出物質の存在を示す当該共鳴周波数は、調和振動センサーを使用して検出する。               VI.B. As an example, the different resonance frequencies can be detected by inputting energy into the microcantilever and inducing the resonance before and after exposing the microcantilever to outgassing. . The difference in resonance frequency of the MCL before and after exposure to outgassing is determined. Alternatively, instead of determining the difference in resonance frequency, an MCL can be provided that is known to have a particular resonance frequency when a sufficient concentration or amount of outgassing material is present. The resonance frequency, which indicates the presence of a different resonance frequency or a sufficient amount of the outgassing material, is detected using a harmonic vibration sensor.

ガス放出測定のためのMCL技術を利用する実施例の1つとして、MCL機器を容器および真空ポンプに接続される水晶真空管に搭載可能である。市販のピエゾ抵抗カンチレバーを使用する調和振動センサー、ホイートストンブリッジ回路、正フィードバック制御装置、励起ピエゾアクチュエータおよび位相ロックループ(PLL)復調器を、構成可能である。例えば、
Hayato Sone、Yoshinori FujinumaおよびSumio Hosakaによる「Picogram Mass Sensor Using Resonance Frequency Shift of Cantilever」Jpn.J. Appl.Phys.43(2004)3648、
Hayato Sone、Ayumi Ikeuchi、Takashi Izumi1、Haruki Okano2およびSumio Hosakaによる「Femtogram Mass Biosensor Using Self-Sensing Cantilever for Allergy Check」Jpn.43(2006)2301を参照されたい。
MCLの検出準備のため、マイクロカンチレバーの片面にゼラチンを塗布できる。例えば、Hans Peter Lang、Christoph Gerber、STM and AFM Studies on (Bio)molecular Systems: Unravelling the Nanoworld, Topics in Current Chemistry, Volume 285/2008を参照されたい。当該真空被覆容器表面からの水蒸気脱着がゼラチンと結合し、当該カンチレバーの屈曲とその共鳴周波数の変動が生じて当該カンチレバー表面からのレーザー偏差により測定される。非被覆容器と被覆容器の質量の変化は、わずか数秒で解決可能であり、再現性が高いと考えられる。カンチレバー技術に関連する上記物質は、当該ガス放出される種の検出および定量化に使用可能である特定のMCLおよび機器装備の開示として、参照することにより本書に組み込まれる。
As one example utilizing MCL technology for outgassing measurements, the MCL instrument can be mounted on a quartz tube connected to a vessel and a vacuum pump. Harmonic vibration sensors, Wheatstone bridge circuits, positive feedback controllers, excitation piezo actuators and phase locked loop (PLL) demodulators using commercially available piezoresistive cantilevers can be configured. For example,
"Picogram Mass Sensor Using Resonance Frequency Shift of Cantilever" by Hayato Sone, Yoshinori Fujinuma and Sumio Hosaka, Jpn.J. Appl.Phys.43 (2004) 3648,
See “Femtogram Mass Biosensor Using Self-Sensing Cantilever for Allergy Check” Jpn. 43 (2006) 2301 by Hayato Sone, Ayumi Ikeuchi, Takashi Izumi1, Haruki Okano2 and Sumio Hosaka.
Gelatin can be applied to one side of the microcantilever to prepare for detection of MCL. See, for example, Hans Peter Lang, Christoph Gerber, STM and AFM Studies on (Bio) molecular Systems: Unravelling the Nanoworld, Topics in Current Chemistry, Volume 285/2008. Water vapor desorption from the surface of the vacuum coating container is combined with gelatin, and the bending of the cantilever and the fluctuation of its resonance frequency occur, which are measured by the laser deviation from the surface of the cantilever. The change in mass between the uncoated container and the coated container can be solved in just a few seconds and is considered highly reproducible. The above materials related to cantilever technology are hereby incorporated by reference as disclosure of specific MCLs and instrumentation that can be used to detect and quantify the outgassing species.

蒸気検出(リン酸)または酸素検出のための代替被覆材を、上述ゼラチン被覆材の代わりに/に加えてMCLへと塗布可能である。               Alternative coatings for vapor detection (phosphoric acid) or oxygen detection can be applied to the MCL in addition to / in place of the gelatin coating described above.

VI.B.さらには、現在考えられるガス放出試験設定をSiOx被覆ステーションと複合可能であることも考えられる。かかる装備において、当該測定函362を、PECVDのための当該メイン真空チャネルを当該バイパス386として使用して、上記図示通りにすることも可能である。一実施例において、図30の測定函(通常362)は容器ホルダー50などに搭載可能であり、その場合、当該バイパスチャネル386は当該メイン真空ダクト94として設定され当該測定函362はサイドチャネルである。 VI.B. Furthermore, it is possible that the currently conceivable outgassing test setup can be combined with the SiO x coating station. In such equipment, the measurement box 362 can be configured as shown above using the main vacuum channel for PECVD as the bypass 386. In one embodiment, the measurement box (usually 362) of FIG. 30 can be mounted on the container holder 50 or the like, in which case the bypass channel 386 is set as the main vacuum duct 94 and the measurement box 362 is a side channel. .

VI.B.当該測定函362と当該容器ホルダー50の組合せは、随意にPECVDのために使用される真空の中断なしに当該ガス放出測定の実行を可能とする。随意に、PECVDのための当該真空ポンプを短時間、好ましくは標準化された一定時間動作して、当該被覆手順後に残った一部のまたはすべての残存反応性ガスを排出可能である(1トール未満のポンプダウン、少量の大気、窒素、酸素、またはその他のガスを入れてのポンプダウン前の当該処理ガスのフラッシュまたは希薄化を伴う)。これにより、当該容器の被覆と遮断性レベルの有無に関する被覆材の試験の複合処理を、促進可能である。               VI.B. The combination of the measurement box 362 and the container holder 50 allows the outgassing measurement to be performed without interruption of the vacuum optionally used for PECVD. Optionally, the vacuum pump for PECVD can be operated for a short time, preferably a standardized period of time, to discharge some or all residual reactive gas remaining after the coating procedure (less than 1 torr) Pumping down, or flushing or diluting the process gas before pumping down with a small amount of air, nitrogen, oxygen, or other gas). As a result, it is possible to accelerate the combined processing of the coating material test concerning the presence or absence of the coating and the barrier level of the container.

VI.B.ガス放出測定値およびその他記述済みのすべての遮断膜測定技術は遮断層の有効性の判定以外にも/に加えて多くの目的のために使用可能であるという事実は、本明細書の審議後に、当技術分野の当事者により高く評価されるであろう。例えば当該試験は、当該容器壁のガス放出の度合いを判定するために非被覆容器または被覆容器に使用可能である。本試験は例えば、非被覆ポリマーが指定量未満のガス放出を行うことが必須である場合に使用可能である。               VI.B. The fact that outgassing measurements and all other described barrier measurement techniques can be used for many purposes besides / in addition to determining barrier effectiveness It will be highly appreciated by those skilled in the art after review of the document. For example, the test can be used on uncoated or coated containers to determine the degree of outgassing of the container wall. This test can be used, for example, when it is essential for the uncoated polymer to release less than a specified amount of gas.

VI.B.別の実施例に関しては、当該ガス放出測定値およびその他記述済みのすべての遮断膜測定技術を、膜が当該測定函を越える時のガス放出の変動を測定するために静的試験またはライン上試験として、遮断性被覆膜または非被覆膜に使用可能である。当該試験は、アルミニウム被覆材またはEVOH遮断性被覆材または包装フィルムの層といった、その他の種類の被覆材の連続性および遮断性有効性を判定するために、使用可能である。               VI.B. For another embodiment, the gas emission measurements and all other described barrier membrane measurement techniques are used in a static test to measure gas emission fluctuations as the membrane crosses the measurement chamber. Or as an on-line test, it can be used for barrier coated or uncoated films. The test can be used to determine the continuity and barrier effectiveness of other types of coatings, such as aluminum coatings or EVOH barrier coatings or layers of packaging films.

VI.B.当該ガス放出測定値およびその他記述済みのすべての遮断膜測定技術を使用して、例えば容器壁の外部に塗布し当該容器壁の内部へとガス放出するよう調査する遮断層といった、容器壁の側面、膜、または当該測定函に対立する同種のものに塗布した遮断層の有効性を判定可能である。この事例において、当該流量差分は当該遮断性被覆材を通る透過、その後基板膜または壁を通る透過に関するものである場合がある。本測定は、例えば極めて薄いまたは多孔性の膜または壁といった、当該基板膜または壁が完全に透過性である事例において、特に有用である場合がある。               VI.B. Using the gas release measurement and all other described barrier film measurement techniques, for example, a barrier layer that is applied to the exterior of the container wall and investigated to release gas into the container wall. It is possible to determine the effectiveness of the barrier layer applied to the side wall of the container wall, the membrane, or the like opposite to the measuring box. In this case, the flow rate difference may be related to permeation through the barrier coating and then permeation through the substrate membrane or wall. This measurement may be particularly useful in cases where the substrate membrane or wall is fully permeable, for example, a very thin or porous membrane or wall.

VI.B.当該ガス放出測定値およびその他記述済みのすべての遮断膜測定技術を使用して、当該測定函により、当該測定函およびガス放出に隣接する層を通る、当該遮断層を通る、当該遮断層のまたは当該遮断層と比較して当該測定函からより遠隔の層のガス放出が検出される可能性がある、容器壁、膜、または同種のものの内部層である遮断層の有効性を判定可能である。               VI.B. Using the gas release measurement and all other described barrier membrane measurement techniques, the measurement box passes the measurement box and the layer adjacent to the gas release, passes the barrier layer, the The effectiveness of the barrier layer, which is the inner layer of the vessel wall, membrane, or the like, that may detect outgassing of the barrier layer or a more remote layer from the measurement box compared to the barrier layer. Judgment is possible.

VI.B.当該ガス放出測定値およびその他記述済みのすべての遮断膜測定技術を使用して、ガス放出する物質上の遮断性素材のパターンの被覆率を判定可能である。具体的には、当該物質のいかなる一部にも遮断膜が存在しない場合に予測されるガス放出量の比率として、一部遮断被覆された物質のガス放出の度合いを判定する。               VI.B. Using the gas release measurements and all other described barrier film measurement techniques, the coverage of the pattern of barrier material on the outgassing material can be determined. Specifically, the degree of gas emission of a substance partially covered with a barrier is determined as a ratio of the amount of gas release predicted when no barrier film is present on any part of the substance.

VI.B.当該明細書におけるいかなるガス放出試験実施例とも併用可能である、容器のガス放出試験の率を増加させるために使用可能である試験技術は、プランジャーまたは閉包部を当該容器内に挿入することにより、当該容器の空隙容量を減少させるためのものである。当該空隙容量の減少により、当該容器は任意の真空レベルへとより迅速にポンプダウンし、したがって当該試験間隔が減少する。               VI.B. A test technique that can be used in conjunction with any of the gas release test examples in the specification and that can be used to increase the rate of the gas release test of a container, includes a plunger or closure within the container. By inserting, the void volume of the container is reduced. Due to the reduction of the void volume, the container is pumped down more quickly to any vacuum level, thus reducing the test interval.

VI.B.現在記述するガス放出測定値およびその他記述済みのすべての遮断膜測定技術に関するその他多くの用途は、本明細書の審議後に、当技術分野の当事者により明白となるだろう。               VI.B. Many other uses for the currently described outgassing measurements and all other described barrier film measurement techniques will be apparent to those skilled in the art after review of this specification.

VII. PECVD処理された容器
VII.容器は(例えば図2に示す)遮断性被覆材90を有すると考えられ、当該被覆材は少なくとも2nm、少なくとも4nm、少なくとも7nm、少なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも30nm、少なくとも40nm、少なくとも50nm、少なくとも100nm、少なくとも150nm、少なくとも200nm、少なくとも300nm、少なくとも400nm、少なくとも 500nm、少なくとも600nm、少なくとも700nm、少なくとも800nm、少なくとも900nmの層厚に塗布されるSiOx被覆材である場合がある。当該被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか1つ、および上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。 SiOxまたはその他の被覆材の層厚は、例えば透過電子顕微鏡法(TEM)で測定可能であり、その組成物はX線光電子分光法(XPS)により測定可能である。
VII. PECVD-treated container
VII. The container is believed to have a barrier coating 90 (eg, as shown in FIG. 2) that is at least 2 nm, at least 4 nm, at least 7 nm, at least 10 nm, at least 20 nm, at least 30 nm, at least 40 nm, at least 50 nm, It may be a SiO x coating applied to a layer thickness of at least 100 nm, at least 150 nm, at least 200 nm, at least 300 nm, at least 400 nm, at least 500 nm, at least 600 nm, at least 700 nm, at least 800 nm, at least 900 nm. The coating material is up to 1000 nm, up to 900 nm, up to 800 nm, up to 700 nm, up to 600 nm, up to 500 nm, up to 400 nm, up to 300 nm, up to 200 nm, up to 100 nm, up to 90 nm, up to 80 nm, up to 70 nm, up to 60 nm, up to 50 nm, The layer thickness may be up to 40 nm, up to 30 nm, up to 20 nm, up to 10 nm, and up to 5 nm. A specific range of layer thickness is explicitly contemplated, consisting of any one of the minimum layer thicknesses and any one or more of the maximum layer thicknesses. The layer thickness of SiO x or other coating materials can be measured, for example, by transmission electron microscopy (TEM), and the composition can be measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).

VII.当該被覆材の透過を妨げる素材の選択および適用するSiOx被覆材の性質によっては、その遮断性に影響が出る可能性が考えられる。例えば、一般に除外を意図する2つの物質の例は、酸素および水/水蒸気である。物質は一般に、片方に対してよりもう一方に対する遮断性の方が優れている。これは少なくとも一部はそう信じられており、なぜなら、酸素は水の透過とは異なる機構で当該被覆材を透過するからである。 VII. Depending on the selection of the material that impedes permeation of the coating material and the nature of the applied SiO x coating material, the barrier properties may be affected. For example, two examples of substances that are generally intended to be excluded are oxygen and water / water vapor. Substances generally have better barrier properties to one than to one. This is believed, at least in part, because oxygen permeates the dressing through a mechanism different from water permeation.

VII.酸素の透過は、当該被覆材の層厚、割れの有無、その他の当該被覆材の物理的詳細といった、物理的特徴により影響を受ける。その一方で水の透過は、一般に、物理的要素より化学的要素(当該被覆材の原料など)により影響を受けると考えられる。本発明者はまた、少なくとも1つの当該化学的要素は当該被覆材のOH部分の高濃度であり、それにより当該遮断膜を通る水の透過率がより高められると確信している。SiOx被覆材は多くの場合OH部分を包含し、したがってOH部分を多く含む物理的に堅固な被覆材は水に対してより酸素に対しての遮断性の方が優れている。非晶質炭素またはダイヤモンド状炭素(DLC)といった、物理的に堅固な炭素系遮断膜は一般に、SiOx被覆材より水に対する遮断性に優れる。なぜなら、当該炭素系遮断膜は一般に低濃度のOH部分を有するからである。 VII. Permeation of oxygen is affected by physical characteristics such as layer thickness of the coating, the presence or absence of cracks, and other physical details of the coating. On the other hand, the permeation of water is generally considered to be influenced by chemical elements (such as the raw material of the coating material) rather than physical elements. The inventor also believes that at least one of the chemical elements is a high concentration of the OH portion of the dressing, thereby increasing the permeability of water through the barrier membrane. SiO x coatings often contain OH moieties, and thus physically hard coatings that are rich in OH moieties are better at blocking oxygen than water. A physically hard carbon-based barrier film, such as amorphous carbon or diamond-like carbon (DLC), generally has a better barrier to water than a SiO x coating. This is because the carbon-based barrier film generally has a low concentration of OH part.

VII.しかしながら、その酸素遮断性およびガラスや水晶との化学的類似性といったその他の要素により、SiOx被覆材の優先傾向が導き出される。ガラスおよび水晶(容器の原材料として使用される場合)は、酸素および水に対する高い遮断性を示し、また容器内に一般に含まれる多くの物質を実質的に不活性にすると長く知られてきた2つの物質である。したがって、水分透過遮断層として機能する異なるまたは追加の種類の被覆材を選択するより、SiOx被覆材の水蒸気透過速度(WVTR)といった水分遮断性を最適化することが、一般に望ましい。 VII. However, other factors such as its oxygen barrier and chemical similarity to glass and quartz lead to a preference for SiO x coatings. Glass and quartz (when used as container raw materials) show two barriers to oxygen and water that have long been known to substantially inactivate many substances commonly contained in containers. It is a substance. Therefore, it is generally desirable to optimize moisture barrier properties, such as the water vapor transmission rate (WVTR) of the SiO x coating material, rather than selecting a different or additional type of coating material that functions as a moisture permeation barrier layer.

VII.SiOx被覆材の水蒸気透過速度向上のために検討可能な方法を、以下に示す。 VII. Methods that can be studied to improve the water vapor transmission rate of the SiO x coating material are shown below.

VII.当該堆積被覆材における有機部分(炭素および水素化合物)の対OH部分濃度比を、増加可能である。これは例えば、当該供給ガスにおける酸素の比率を増加させる(酸素供給率を増加させるまたは1つ以上のその他成分の供給率を減少させる)ことにより、実行可能である。当該OH部分低発現率は、当該酸素供給が当該ケイ素源の当該水素と反応する度合いが増加し、当該 PECVD排出内により多くの揮発性水が生成され低濃度のOH部分が当該被覆材に捕捉された/組込まれた結果であると、信じられている。               VII. The concentration ratio of organic moieties (carbon and hydrogen compounds) to OH moieties in the deposited coating can be increased. This can be done, for example, by increasing the proportion of oxygen in the feed gas (increasing the oxygen feed rate or decreasing the feed rate of one or more other components). The low expression rate of the OH part increases the degree to which the oxygen supply reacts with the hydrogen of the silicon source, generates more volatile water in the PECVD discharge, and traps the low concentration OH part in the coating material. It is believed to be a result that has been done / embedded.

VII.当該PECVD処理において、当該プラズマ生成電力レベルを上昇させるか、当該電力をより長い期間適用するか、またはその両方により、高エネルギーを適用可能である。当該適用エネルギーの上昇は、当該管が当該プラズマ生成電力を吸収する程度まで当該処理対象容器を歪曲する可能性があるため、プラスチック管またはその他の機器の被覆に使用する場合は注意を払って用いることが必須である。用途の文脈においてRF電力が望ましいのは、このためである。当該医学機器の歪曲は、間に冷却期間を挟む2つ以上の一連のパルスでの当該エネルギーの利用、エネルギー適用中の当該容器の冷却、短時間の当該被覆材の塗布(一般に層厚は薄くなる)、被覆用に選択した当該基材への吸収が最低限である当該被覆材塗布周波数の選択、および/またはそれぞれのエネルギー塗布手順の合間の1つ以上の被覆材の塗布により、低減または消失させることが可能である。例えば、当該処理ガスを継続的に供給しながら、負荷サイクルを1ミリ秒オン、99ミリ秒オフにして、高電力パルスを使用可能である。当該処理ガスは、パルスの合間で流れを保持しながらその後冷却剤となる。別の代替方法は、プラズマを収容するための磁気を追加して有効電力適用(加熱または不要な被覆材に繋がる無駄な電力とは対照的に、実際被覆材の漸増に繋がる当該電力)を増加させることにより、当該電力適用装置を再設定することである。この手段により、適用エネルギーの総ワット数につき、より多くの被覆成形エネルギーを塗布可能となる。例えば米国特許5,904,952番を参照のこと。               VII. In the PECVD process, high energy can be applied by increasing the plasma generation power level, applying the power for a longer period, or both. The increase in applied energy can distort the container to be treated to the extent that the tube absorbs the plasma generation power, so use with caution when coating plastic tubes or other equipment. It is essential. This is why RF power is desirable in the context of applications. The medical device is distorted by using the energy in a series of two or more pulses with a cooling period between them, cooling the container during application of energy, and applying the coating material for a short time (generally a thin layer). Reduced) by selection of the coating application frequency with minimal absorption on the substrate selected for coating and / or the application of one or more coatings between each energy application procedure It can be lost. For example, a high power pulse can be used with a duty cycle of 1 ms on and 99 ms off while continuously supplying the process gas. The process gas then becomes a coolant while maintaining flow between pulses. Another alternative is to add more magnetism to contain the plasma to increase the effective power application (in contrast to the wasted power that leads to heating or unwanted coatings, the power that actually leads to the gradual increase in coatings) By doing so, the power application apparatus is reset. By this means, more coating molding energy can be applied per total wattage of applied energy. See, for example, US Pat. No. 5,904,952.

VII.当該被覆材の酸素後処理を、以前堆積された被覆材からOH部分を除去するために適用可能である。本処理としては、残存揮発性有機ケイ素化合物またはケイ素の除去または追加SiOx成形のための被覆材の酸化も考えられる。 VII. Oxygen post-treatment of the dressing can be applied to remove OH moieties from previously deposited dressings. The treatment may also be removal of residual volatile organosilicon compounds or silicon or oxidation of the coating material for additional SiO x molding.

VII.当該プラスチック基材管は予熱可能である。               VII. The plastic substrate tube can be preheated.

VII.ケイ素の異なる揮発性源、例えばヘキサメチルジシラザン(HMDZ)を一部のまたはすべてのケイ素供給源として使用可能である。HMDZへの供給ガスを変更することで当該問題に対処可能であると考えられる。なぜなら、本化合物は供給時点で酸素部分を一切有しないからである。当該HMDSO源被覆材におけるOH部分の供給源の1つは、未反応HMDSO内に存在する少なくとも一部の酸素原子の水素化であると考えられる。               VII. Different volatile sources of silicon, such as hexamethyldisilazane (HMDZ) can be used as some or all silicon sources. It is considered that this problem can be addressed by changing the gas supplied to HMDZ. This is because the compound does not have any oxygen moiety at the time of supply. One source of OH moiety in the HMDSO source coating is considered to be hydrogenation of at least some oxygen atoms present in unreacted HMDSO.

VII.SiOxと結合させた炭素系被覆材といった、合成被覆材を使用可能である。これは例えば、当該反応条件を変更することにより、またはアルカン、アルケン、またはアルキンといった置換または非置換炭化水素を当該供給ガスおよび有機ケイ素化合物に追加することにより、実行可能である。例えば米国特許5,904,952番を参照のこと 番は関連部分において以下のように述べている:「例えばプロピルといった低炭化水素を含有することで炭素部分を提供し、当該堆積膜のほとんどの性質(光透過を除く)を改善できる。また結合分析により、当該膜が本来は二酸化ケイ素であることが示される。しかし、メタン、メタノール、アセチレンの使用により、本来はケイ素である膜が生成される。当該ガス流に少量のガス状窒素を含有させることにより、当該堆積膜内に窒素部分を提供し、当該堆積率を増大させ、ガラスの透過および反射光学性質を改善し、さまざまな量のN2に対する反応における屈折率を変化させることができる。亜酸化窒素を当該ガス流に追加することにより、当該堆積率が増大し、当該光学性質が改善するが、当該膜硬度は低下する傾向がある。 VII. Synthetic coatings such as carbon-based coatings combined with SiO x can be used. This can be done, for example, by changing the reaction conditions or by adding a substituted or unsubstituted hydrocarbon such as an alkane, alkene, or alkyne to the feed gas and organosilicon compound. See, for example, US Pat. No. 5,904,952 in the relevant part: “Contains a low hydrocarbon content such as propyl to provide a carbon part, and most properties of the deposited film (light transmission). The binding analysis shows that the film is essentially silicon dioxide, but the use of methane, methanol, and acetylene produces a film that is essentially silicon. Inclusion of a small amount of gaseous nitrogen in the flow provides a nitrogen portion in the deposited film, increases the deposition rate, improves the transmission and reflection optical properties of the glass, and reacts to various amounts of N 2 The addition of nitrous oxide to the gas stream increases the deposition rate and improves the optical properties, but the film Hardness tends to decrease.

VII.ダイヤモンド状炭素(DLC)被覆材は、主要のまたは唯一の堆積被覆材として成形可能である。これは例えば、当該反応条件を変更することにより、またはメタン、水素、ヘリウムをPECVD処理へと供給することにより、実行可能である。当該反応供給は酸素を含まないため、OH部分が成形される可能性はない。例えば、SiOx被覆材は管内部またはシリンジバレル内部に塗布可能であり、外部DLC被覆材は管外面またはシリンジバレル外面に塗布可能である。または、SiOxおよびDLC被覆材はどちらも、内部管またはシリンジバレルの単層または複数層被覆材として、塗布可能である。 VII. Diamond-like carbon (DLC) coatings can be formed as the primary or sole deposition coating. This can be done, for example, by changing the reaction conditions or by supplying methane, hydrogen, helium to the PECVD process. Since the reaction feed does not contain oxygen, there is no possibility of forming an OH moiety. For example, the SiO x coating can be applied to the inside of the tube or the syringe barrel, and the external DLC coating can be applied to the outer surface of the tube or the outer surface of the syringe barrel. Alternatively, both SiO x and DLC coatings can be applied as single layer or multiple layer coatings on inner tubes or syringe barrels.

VII.図2を参照して、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90は、当該容器88へのその内面88を通る大気ガスの透過を低減させる。または、当該遮断膜またはその他の種類の被覆材90は、当該容器88の内容物のその内面88への接触を減少させる。当該遮断層またはその他の種類の被覆材は、例えば、SiOx、非晶質(例えばダイヤモンド状)炭素、またはこれらの複合体からなる場合がある。 VII. Referring to FIG. 2, the barrier membrane or other type of dressing 90 reduces the permeation of atmospheric gas through the inner surface 88 to the vessel 88. Alternatively, the barrier film or other type of dressing 90 reduces the contact of the contents of the container 88 with its inner surface 88. The barrier layer or other type of coating may be composed of, for example, SiO x , amorphous (eg, diamond-like) carbon, or a composite thereof.

VII.本明細書に記載のいかなる被覆材も、例えばプラスチック表面といった、表面の被覆に使用可能である。さらには、例えば当該遮断膜はガスまたは流体を遮断し、好ましくは水蒸気、酸素および/または大気を遮断する遮断膜といった、遮断層として使用可能である。また、当該表面が非被覆である場合に当該被覆表面化合物または組成物上に及ぼす可能性がある、機械的および/または化学的作用を防止または低減させるために使用可能である。例えばインスリン沈殿または血液凝固または血小板活性化といった、化合物または組成の沈殿を防止または低減可能である。               VII. Any coating described herein can be used to coat a surface, eg, a plastic surface. Further, for example, the barrier film can be used as a barrier layer, such as a barrier film that blocks gas or fluid, and preferably blocks water vapor, oxygen and / or the atmosphere. It can also be used to prevent or reduce mechanical and / or chemical effects that can be exerted on the coated surface compound or composition when the surface is uncoated. Precipitation of the compound or composition can be prevented or reduced, eg, insulin precipitation or blood clotting or platelet activation.

VII.A. 真空採血容器
VII.A.1. 管
VII.A.I.図2を参照して、容器80などをさらに詳細に示す。当該図示容器80は通常管状である可能性があり、当該容器の一端に開口部82を、反対側に閉口端84を有する。当該容器80はまた、内面88を定義する壁86を有する。当該容器80の一実施例は、例えば、医学研究で使用する患者血液の静脈穿刺検体を収受するために一般に瀉血専門医により使用される、真空採血管といった医学検体管である。
VII.A. Vacuum blood collection container
VII.A.1.Tube
VII.AI With reference to FIG. 2, the container 80 and the like are shown in more detail. The illustrated container 80 may be generally tubular and has an opening 82 at one end of the container and a closed end 84 on the opposite side. The container 80 also has a wall 86 that defines an inner surface 88. One example of such a container 80 is a medical sample tube, such as a vacuum blood collection tube, typically used by a phlebotomy specialist to receive a venipuncture sample of patient blood for use in medical research, for example.

VII.A.1.当該容器ホルダー80は、例えば熱可塑性素材を原料とする場合がある。適切な熱可塑性素材の実施例の一部として、例えばポリプロピレンまたは環状ポリオレフィン共重合体といった、テレフタル酸ポリエチレンまたはポリオレフィンが挙げられる。               VII.A.1. The container holder 80 may be made of, for example, a thermoplastic material. Some examples of suitable thermoplastic materials include polyethylene terephthalate or polyolefins, such as polypropylene or cyclic polyolefin copolymers.

VII.A.1.当該容器80は、射出成形、ブロー成形、機械加工、管ストックからの製造、またはその他の適切な手段といった、あらゆる適切な方法により製造可能である。PECVDは、SiOxの内面上に被覆材を成形するために使用可能である。 VII.A.1. The container 80 can be manufactured by any suitable method such as injection molding, blow molding, machining, manufacturing from tube stock, or other suitable means. PECVD can be used to shape the dressing on the inner surface of the SiO x.

VII.A.1.真空採血管としての利用を意図する場合、当該容器80は、760トールの外圧または気圧およびその他の被覆材処理条件に曝露しても実質上変形しない実質上全内部真空に耐える強度を有することが望ましい。本性質は熱可塑性容器80において、例えば直径および素材に関して十分な壁厚を有するシリンダー状の壁86といった、適切な寸法および当該被覆材処理の温度より高いガラス遷移温度を有する適切な素材で製造された容器80を提供することにより、提供可能である。               VII.A.1. When intended for use as a vacuum blood collection tube, the vessel 80 is subjected to a substantially total internal vacuum that does not substantially deform upon exposure to an external or atmospheric pressure of 760 Torr and other coating processing conditions. It is desirable to have strength to withstand. This property is produced in a thermoplastic container 80 with a suitable material having suitable dimensions and a glass transition temperature higher than the temperature of the coating treatment, such as a cylindrical wall 86 having a sufficient wall thickness with respect to diameter and material. Can be provided by providing a container 80.

VII.A.1.検体採取管およびシリンジといった医療用容器/コンテナは比較的小型であり、当該環境大気圧により圧潰されることなく真空化可能である比較的厚肉の壁で射出成形される。したがって、炭酸ソフトドリンクボトルまたはその他のより大きいより薄壁のプラスチック容器とより、堅固である。真空容器として利用するために設計される検体採取管は通常、保管期間中に全真空に耐えるよう構成されており、真空チャンバとして使用可能である。               VII.A.1. Medical containers / containers such as specimen collection tubes and syringes are relatively small and are injection molded with relatively thick walls that can be evacuated without being crushed by the ambient atmospheric pressure. . Therefore, it is more robust with carbonated soft drink bottles or other larger thinner walled plastic containers. A specimen collection tube designed for use as a vacuum vessel is typically configured to withstand full vacuum during storage and can be used as a vacuum chamber.

VII.A.1.かかる容器をそれ自体の真空チャンバへと適合させることで、通常極めて低圧で実行される当該容器のPECVD処理用真空チャンバ内への留置の必要性がなくなる可能性がある。容器をそれ自体の真空チャンバとして利用することにより、処理時間が迅速となり(個別の真空チャンバからの部品の搭載・非搭載が必要ないため)、装置設定の簡略化が可能となる。さらに特定の実施例については、当該機器を(ガス管やその他の装置へと位置合わせするため)把持し、当該機器を(当該容器ホルダーを真空ポンプへと装着して当該真空を創出可能とするため)密閉し、およびモールドと後続処理手順との間で当該機器を移動する、容器ホルダーが考えられる。               VII.A.1. Adapting such a container to its own vacuum chamber may eliminate the need to place the container in a PECVD processing vacuum chamber, which is usually performed at very low pressures. By using the container as its own vacuum chamber, the processing time is quick (because it is not necessary to mount / unload components from individual vacuum chambers), and the apparatus setting can be simplified. Further, for specific embodiments, the device can be gripped (to align with a gas pipe or other device) and the device can be created (with the vessel holder attached to a vacuum pump). For this purpose, a container holder is conceivable which seals and moves the device between the mold and the subsequent processing procedure.

VII.A.1.真空採血管として使用する容器80は、意図する塗布のために有用な減圧へと内部が真空化されている一方で、保存可能期間中に大気またはその他の大気中ガスが大幅に当該管(当該閉包部をバイパスすることにより)へと漏出するまたは当該壁86を通して透過することなしに、外部気圧に耐えるよう設計されているべきである。モールドされた時点での容器80がこの要件に満たない場合、遮断膜またはその他の種類の被覆材90で当該内面88を被覆することで処理可能である。これらの機器(検体採取管やシリンジバレルなど)の内面を処理および/または被覆して、既存のポリマー機器を超える利点を提供するおよび/または既存のガラス製品を模倣するさまざまな性質を付与することが望ましい。処理または被覆の前および/または後に、当該機器のさまざまな性質を測定することが望ましい。               VII.A.1. Container 80, used as a vacuum blood collection tube, is evacuated to a useful vacuum for the intended application, while atmospheric or other atmospheric gases remain It should be designed to withstand external atmospheric pressure without significantly leaking into the tube (by bypassing the closure) or penetrating through the wall 86. If the container 80 at the time of molding does not meet this requirement, it can be treated by coating the inner surface 88 with a barrier film or other type of coating material 90. Treat and / or coat the inner surface of these devices (such as specimen collection tubes and syringe barrels) to provide various properties that provide advantages over and / or mimic existing glassware over existing polymer devices Is desirable. It is desirable to measure various properties of the device before and / or after treatment or coating.

VII.A.1.a. 原位置重合有機ケイ素前駆体を原料とする有機ケイ素前駆体から堆積される被覆材
VII.A.1.a.例えば当該シリンジのバレル内部といった基板に潤滑性被覆材を塗布する処理が考えられる。当該処理は、当該記述済み前駆体の1〜5000nm、随意に10〜1000nm、随意に10〜200nm、随意に20〜100nmの層厚での基板上/付近への塗布、および潤滑表面を提供するための当該被覆材の、随意にPECVD処理における交差結合またはポリマー化(または両方)からなる。本処理により塗布される当該被覆材はまた、新規であると考えられる。
VII.A.1.a. Coating materials deposited from organosilicon precursors using in situ polymerized organosilicon precursors
VII.A.1.a. For example, a treatment in which a lubricating coating material is applied to a substrate such as the inside of the barrel of the syringe can be considered. The treatment provides application to / near the substrate with a layer thickness of 1-5000 nm, optionally 10-1000 nm, optionally 10-200 nm, optionally 20-100 nm, and lubricated surface of the described precursor. Optionally comprising cross-linking or polymerisation (or both) in a PECVD process. The dressing applied by this process is also considered novel.

VII.A.1.a.PECVDにより塗布されるSiwOxCyHz被覆材(wは1、本公式のxは約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)は、さらに疎水性被覆材としての実用性を有する。この種の被覆材は疎水性であると考えられ、潤滑性被覆材として機能するかどうかに依存しない。当該表面のぬれ張力を対応する非被覆表面または未処理表面と比較して低下させる場合に、被覆または処理は「疎水性」であると定義される。疎水性は、したがって、非処理基板および処理の両方の機能である。 VII.A.1.a.Si w O x C y H z coating material applied by PECVD (w is 1, x in this formula is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to 2 About 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9) have further utility as a hydrophobic coating material. This type of dressing is considered hydrophobic and does not depend on functioning as a lubricious dressing. A coating or treatment is defined as “hydrophobic” if it reduces the wetting tension of the surface relative to the corresponding uncoated or untreated surface. Hydrophobicity is therefore a function of both the untreated substrate and the process.

被覆材の疎水性の度合いは、その組成、性質、または堆積方法により異なる。例えば、炭化水素をほとんどまたはまったく含有しないSiOx被覆材は、本明細書で定義する置換基の値を有するSiwOxCyHz被覆材より親水性である。一般に、当該被覆材のC-Hx部分(例:CH、CH2、またはCH3)含有量が多いほど、そのケイ素含有量と比較して、重量、容量、またはモル濃度比で、当該被覆材の疎水性が高くなる。 The degree of hydrophobicity of the coating varies depending on its composition, properties, or deposition method. For example, SiOx dressing is a hydrocarbon little free at all are hydrophilic than Si w O x C y H z coating material having a value of substituents as defined herein. In general, the higher the CH x content (eg, CH, CH 2 , or CH 3 ) content of the dressing, the weight, volume, or molar ratio of the dressing compared to its silicon content Increased hydrophobicity.

疎水性被覆材は極めて薄肉であり、少なくとも4nm、または少なくとも7nm、または少なくとも10nm、または少なくとも20nm、または少なくとも30nm、または少なくとも40nm、または少なくとも50nm、または少なくとも100nm、または少なくとも150nm、または少なくとも200nm、または少なくとも300nm、または少なくとも400nm、または少なくとも500nm、または少なくとも600nm、または少なくとも700nm、または少なくとも800nm、または少なくとも900nmの層厚を有する場合がある。当該被覆材は、最大1000nm、最大900nm、最大800nm、最大700nm、最大600nm、最大500nm、最大400nm、最大300nm、最大200nm、最大100nm、最大90nm、最大80nm、最大70nm、最大60nm、最大50nm、最大40nm、最大30nm、最大20nm、最大10nm、最大5nmの層厚である場合がある。上記最小層厚のいずれか1つ、および上記最大層厚のいずれか1つ以上からなる、特定の層厚範囲が明示的に考えられる。               The hydrophobic coating is very thin and is at least 4 nm, or at least 7 nm, or at least 10 nm, or at least 20 nm, or at least 30 nm, or at least 40 nm, or at least 50 nm, or at least 100 nm, or at least 150 nm, or at least 200 nm, or It may have a layer thickness of at least 300 nm, or at least 400 nm, or at least 500 nm, or at least 600 nm, or at least 700 nm, or at least 800 nm, or at least 900 nm. The coating material is up to 1000 nm, up to 900 nm, up to 800 nm, up to 700 nm, up to 600 nm, up to 500 nm, up to 400 nm, up to 300 nm, up to 200 nm, up to 100 nm, up to 90 nm, up to 80 nm, up to 70 nm, up to 60 nm, up to 50 nm, The layer thickness may be up to 40 nm, up to 30 nm, up to 20 nm, up to 10 nm, and up to 5 nm. A specific range of layer thickness is explicitly contemplated, consisting of any one of the minimum layer thicknesses and any one or more of the maximum layer thicknesses.

VII.A.1.a.かかる疎水性被覆材の実用性の1つとして、例えばテレフタル酸ポリエチレン(PET)製の熱可塑性管壁を当該管内の採集血液から隔離することが挙げられる。当該疎水性被覆材は、当該管内面の親水性SiOx被覆材の上に塗布可能である。当該SiOx被覆材は熱可塑性管の遮断性を増加させ、当該疎水性被覆材は管壁を伴う血液接触面の界面エネルギーを変化させる。 当該疎水性被覆材は、本明細書で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。例えば、当該疎水性被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)またはオクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)からなる場合がある。 VII.A.1.a. One practical use of such a hydrophobic coating is to isolate a thermoplastic tube wall made of, for example, polyethylene terephthalate (PET) from the collected blood in the tube. The hydrophobic coating material can be applied on the hydrophilic SiO x coating material on the inner surface of the tube. The SiO x coating increases the barrier properties of the thermoplastic tube, and the hydrophobic coating changes the interfacial energy of the blood contact surface with the tube wall. The hydrophobic dressing can be produced by providing a precursor selected from those identified herein. For example, the hydrophobic coating precursor may be composed of hexamethyldisiloxane (HMDSO) or octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS).

VII.A.1.a.疎水性被覆材の別の使用法として、ガラス製細胞調製管の作成が挙げられる。当該管は内腔を定義する壁、および当該ガラス壁の内面の疎水性被覆材を有し、クエン酸塩試薬を包含する。当該疎水性被覆材は、本明細書別箇所で同定されるものから選択される前駆体を提供することにより、生成可能である。別の例として、当該疎水性被覆材前駆体はヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)またはオクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)からなる場合がある。疎水性被覆材の別の原材料として、以下公式のアルキルトリメトキシシランが挙げられる:
R-Si(OCH3)3
当該公式の各Rは水素原子または有機置換基であり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、ビニル、アルキン、エポキシド、その他といったアルキル基である。またはこれら2つ以上の複合体も考えられる。
VII.A.1.a. Another use of hydrophobic coatings is the creation of glass cell preparation tubes. The tube has a wall defining a lumen and a hydrophobic coating on the inner surface of the glass wall and contains a citrate reagent. The hydrophobic dressing can be generated by providing a precursor selected from those identified elsewhere herein. As another example, the hydrophobic coating precursor may comprise hexamethyldisiloxane (HMDSO) or octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS). Another raw material for hydrophobic coatings includes the following formula alkyltrimethoxysilane:
R-Si (OCH 3 ) 3
Each R in the formula is a hydrogen atom or an organic substituent, for example, an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, vinyl, alkyne, epoxide, and the like. Alternatively, a complex of two or more of these may be considered.

VII.A.1.a.上述のアルキルトリメトキシシラン前駆体を使用して、酸または塩基触媒作用と加熱を組合わせることにより、当該前駆体を凝結(ROH副産物を除去)させて、交差結合ポリマーを成形可能である。これは随意に、代替方法経由でさらに交差結合可能である。特定実施例の1つとして、Shimojima et. al. J. Mater. Chem., 2007, 17, 658 - 663が挙げられる。               VII.A.1.a. Using the alkyltrimethoxysilane precursors described above, the precursors are condensed (removing ROH by-products) and combined by combining acid or base catalysis and heating. Polymer can be molded. This can optionally be further cross-coupled via alternative methods. One specific example is Shimojima et. Al. J. Mater. Chem., 2007, 17, 658-663.

VII.A.1.a.SiwOxCyHz被覆材は、SiOx遮断性被覆材を容器80の内面88に塗布した後の後続被覆材として塗布し、特に当該表面が流体オルガノシロキサン化合物である場合に当該被覆材処理の最後に潤滑性表面を提供可能である。 VII.A.1.a.Si w O x C y H z coating is applied as a subsequent coating after the SiO x barrier coating is applied to the inner surface 88 of the container 80, especially when the surface is a fluid organo In the case of a siloxane compound, a lubricious surface can be provided at the end of the coating treatment.

VII.A.1.a.随意に、SiwOxCyHz被覆材の塗布後に、PECVD処理後の後硬化が可能である。紫外線開始型(フリーラジカルまたはカチオン系)、電子光線(E光線)および「Development Of Novel Cycloaliphatic Siloxanes For Thermal And UV-Curable Applications」(Ruby Chakraborty Dissertation, can 2008)で記述される温熱性を含む、放射線硬化アプローチを利用可能である。 VII.A.1.a. Optionally, post-curing after PECVD treatment is possible after application of the Si w O x C y H z coating. Radiation, including UV-initiated (free radical or cationic), electron beam (E-beam) and thermal properties described in “Development Of Novel Cycloaliphatic Siloxanes For Thermal And UV-Curable Applications” (Ruby Chakraborty Dissertation, can 2008) A curing approach is available.

VII.A.1.a.潤滑性被覆材を提供する別のアプローチとして、潤滑被覆する当該熱可塑性容器を射出成形する場合のケイ素離型剤の使用が挙げられる。例えば、当該モールド処理中に原位置温熱性潤滑性被覆材の形成を生じさせる、あらゆる当該離型剤および潜在的モノマーを使用可能であると考えられる。または、上述モノマーを伝統的な離型剤にドープして、同一結果を達成可能である。               VII.A.1.a. Another approach to providing a lubricious coating is the use of a silicon release agent in the injection molding of the thermoplastic container to be lubricated. For example, it is contemplated that any such release agent and potential monomer that results in the formation of an in-situ thermal lubricity coating during the molding process can be used. Alternatively, the same results can be achieved by doping the above-described monomers into a traditional release agent.

VII.A.1.a.潤滑性表面は特に、以下でさらに述べるように、当該シリンジバレルの内面のために考えられる。シリンジバレルの潤滑性内面により、シリンジ操作中にバレル内のプランジャーを前進させるのに必要なプランジャースライド力、または、例えば当該プランジャーと当該バレルとの間の潤滑剤の分解が原因で起こる当該充填済みシリンジプランジャーによる介在潤滑剤の押しのけ、または当該バレルへの粘着の発生後に、プランジャーの移動を開始させるための起動力を、減少させることができる。本明細書内別箇所で説明する通り、SiwOxCyHz被覆材(wは1、本公式のxは約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9)も、当該容器80の内面88に塗布して後続SiOx被覆材の付着力を改善可能である。 VII.A.1.a. Lubricious surfaces are particularly contemplated for the inner surface of the syringe barrel, as further described below. The lubricious inner surface of the syringe barrel is caused by the plunger sliding force required to advance the plunger in the barrel during syringe operation, or for example, the degradation of the lubricant between the plunger and the barrel After the interstitial lubricant is pushed away by the filled syringe plunger or the sticking to the barrel is generated, the starting force for starting the movement of the plunger can be reduced. As described elsewhere herein, the Si w O x C y H z coating (where w is 1, x is about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9) can also be applied to the inner surface 88 of the container 80 to improve the adhesion of the subsequent SiO x coating material.

VII.A.1.a.したがって、当該被覆材90は、SiOx層およびSiwOxCyHz層(wは1、本公式のxは約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)からなる。SiwOxCyHz層は、SiOx層と容器内面との間に堆積可能である。または、SiOx層は、SiwOxCyHz層と容器内面との間に堆積可能である。または、これら2種の被覆材組成の間で交互に切換わるまたは累遷する3種以上の層を、使用可能である。または、SiOx層は、少なくとも1つの別素材の介在層と共に、SiwOxCyHz層に隣接させて、または遠隔で堆積可能である。または、SiOx層は、当該容器内面に隣接させて堆積可能である。または、SiwOxCyHz層は、当該容器内面に隣接させて堆積可能である。 VII.A.1.a. Therefore, the covering 90 is composed of a SiO x layer and a Si w O x C y H z layer (w is 1, x in the formula is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is 6 to about 9. The Si w O x C y H z layer can be deposited between the SiO x layer and the container inner surface. Alternatively, the SiO x layer can be deposited between the Si w O x C y H z layer and the container inner surface. Alternatively, three or more layers that alternate or transition between these two coating compositions can be used. Alternatively, the SiO x layer can be deposited adjacent to the Si w O x C y H z layer with at least one other intervening layer or remotely. Alternatively, the SiO x layer can be deposited adjacent to the inner surface of the container. Alternatively, the Si w O x C y H z layer can be deposited adjacent to the inner surface of the container.

VII.A.1.a.本書における、隣接するSiOx層およびSiwOxCyHz層として考えられる別の手段は、SiwOxCyHz(wは1、本公式のxは約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)のSiOxに対する段階的合成物である。段階的組成物は、SiwOxCyHzとSiOxの間の中間組成の遷移または界面を伴うそれらの分離層であるか、SiwOxCyHzとSiOxの間の中間組成物の中間特異層を伴うそれらのの分離層であるか、当該被覆が通常方向に進むにつれSiwOxCyHz の組成からよりSiOxのものへと継続的にまたは段階的に変化す単層である可能性がある。 VII.A.1.a. In this document, another means considered as adjacent SiO x layer and Si w O x C y H z layer is Si w O x C y H z (w is 1, x is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is about 6 to about 9. Is a stepwise compound for SiO x . The graded compositions are those separated layers with intermediate composition transitions or interfaces between Si w O x C y H z and SiO x or between Si w O x C y H z and SiO x Those separated layers with an intermediate singular layer of intermediate composition, or continuously or stepwise from the composition of Si w O x C y H z to that of SiO x as the coating proceeds in the normal direction It may be a single layer that changes to

VII.A.1.a.当該段階的合成物の段階は、どちらの方向にも進む場合がある。例えば、当該組成物SiwOxCyHzは当該基板へと直接塗布可能であり、SiOx表面から離れている組成物へと累遷可能である。 または、当該組成物SiOxは当該基板へと直接塗布可能であり、SiwOxCyHz表面から離れている組成物へと累遷可能である。累遷被覆材は特に、ある組成の被覆材がその他のものより当該基板への付着性に優れる場合に考えられ、その場合、当該付着性に優れる組成は例えば当該基板に直接塗布される場合がある。当該段階的被覆材のより離れた部分は、当該段階的被覆材の隣接部と比べて当該基板との相性に劣ると考えられている。なぜなら当該被覆材のあらゆる点において性質は徐々に変化するからであり、その結果、当該被覆材とほとんど同一の深さにある隣接部はほとんど同一の組成を有し、実質上異なる深さにあり物理的により離れている部分はより多様な性質を有する場合がある。また、当該基板への/から物質搬送に対してより良い遮断性を成形する被覆部は、当該基板上に直接塗布して、機能に劣る遮断膜を成形するより遠隔にある被覆部が当該遮断膜が除外または妨害しようとする物質により汚染されるのを防止可能である、と考えられる。 VII.A.1.a. The stage of the staged composite may proceed in either direction. For example, the composition Si w O x C y H z can be applied directly to the substrate and can transition to a composition that is remote from the SiO x surface. Alternatively, the composition SiO x can be applied directly to the substrate and can be transitioned to a composition that is remote from the Si w O x C y H z surface. A transitional coating material is considered especially when a coating material with a certain composition has better adhesion to the substrate than others, in which case the composition with excellent adhesion may be applied directly to the substrate, for example. is there. It is believed that the more distant portions of the graded dressing are less compatible with the substrate than the adjacent portions of the graded dressing. This is because the properties change gradually at every point of the dressing, so that adjacent parts that are almost the same depth as the dressing have almost the same composition and are at substantially different depths. Parts that are physically separated may have more diverse properties. In addition, the coating part that forms a better barrier against material transfer to / from the substrate is applied directly on the substrate, and the remote coating part forms a blocking film with poor function. It is believed that the membrane can be prevented from being contaminated by substances that are to be excluded or disturbed.

VII.A.1.a.当該被覆材は段階的である代わりに、随意に組成の実質的勾配なしにある層から別の層へと急激に遷移する可能性がある。かかる被覆材は例えば、当該ガスを提供して非プラズマ状態で定常流動である層を生成し、その後プラズマ放電で短時間加圧して当該基板上に被覆材を成形することにより、生成可能である。後続被覆材を塗布する場合、最初の被覆材のためのガスを除去してから次の被覆材のためのガスを当該プラズマを加圧する前に定常方法で塗布して、再度、当該界面におけるほとんど段階的遷移なしに当該基板表面の離れた層またはその最外部の最初の被覆材を成形する。               VII.A.1.a. Instead of being gradual, the dressing can optionally transition abruptly from one layer to another without a substantial gradient in composition. Such a covering material can be generated, for example, by providing the gas to generate a layer that is in a steady flow in a non-plasma state, and then pressurizing for a short time with plasma discharge to form the covering material on the substrate. . When applying a subsequent coating, remove the gas for the first coating, then apply the gas for the next coating in a steady manner before pressurizing the plasma and again, almost again at the interface. Form a separate layer on the surface of the substrate or the outermost first coating without step transitions.

VII.A.1.b. 有機ケイ素前駆体より堆積した疎水性被覆材で被覆される壁を有するクエン酸塩血液管
VII.A.1.b.別の実施例は、疎水性被覆材で被覆される壁をその内面に有し、含水ソジウムクエン酸塩試薬を包含する細胞調製管である。当該疎水性被覆材は、当該管内面の親水性SiOx被覆材の上に塗布することも可能である。当該SiOx被覆材は熱可塑性管の遮断性を増加させ、当該疎水性被覆材は管壁を伴う血液接触面の界面エネルギーを変化させる。
VII.A.1.b. Citrate blood tubes with walls coated with a hydrophobic coating deposited from an organosilicon precursor
VII.A.1.b. Another example is a cell preparation tube having a wall coated with a hydrophobic coating on its inner surface and containing a hydrous sodium citrate reagent. The hydrophobic coating material can be applied onto the hydrophilic SiO x coating material on the inner surface of the tube. The SiO x coating increases the barrier properties of the thermoplastic tube, and the hydrophobic coating changes the interfacial energy of the blood contact surface with the tube wall.

VII.A.1.b.当該壁は熱可塑性素材を原料とし、内腔を定義する内面を有する。               VII.A.1.b. The wall is made of a thermoplastic material and has an inner surface that defines a lumen.

VII.A.1.b.実施例VII.A.1.bに記載の採血管は、本明細書での説明の通りに適用される当該管内面上の第1SiOx層を有し、酸素遮断層として機能して熱可塑性素材製真空採血管の保存可能期間を延長することが可能である。第2SiwOxCyHz層(wは1、本公式のxは約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは約2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)を当該管内面の遮断性層上に塗布して、疎水性表面を提供可能である。 当該被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に曝露したクエン酸ナトリウム添加剤処理済みの血漿の血小板活性化を減少させるのに有効である。 VII.A.1.b. The blood collection tube described in Example VII.A.1.b has a first SiO x layer on the tube inner surface applied as described herein, and oxygen It can function as a blocking layer and extend the storage period of a vacuum blood collection tube made of a thermoplastic material. Second Si w O x C y H z layer (where w is 1, x is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is 6 to about 9) can be applied on the barrier layer of the tube inner surface to provide a hydrophobic surface. The dressing is effective in reducing platelet activation of plasma treated with sodium citrate additive exposed to the inner surface compared to an uncoated wall of the same type.

VII.A.1.b.PECVDは、当該内面上に以下の構造を有する被覆材を成形するために使用可能である:SiwOxCyHz。従来のクエン酸塩採血管とは異なり、疎水性SiwOxCyHz層を有する当該採血管は、管の疎水性表面を生成するのに通常用いられる、容器壁のケイ素上で焼成する被覆材を必要としない。 VII.A.1.b. PECVD can be used to mold a dressing having the following structure on the inner surface: Si w O x C y H z . Unlike traditional citrate blood collection tubes, these blood collection tubes with a hydrophobic Si w O x C y H z layer are fired on the silicon on the vessel wall, which is commonly used to produce the hydrophobic surface of the tube Does not require a covering material to be used.

VII.A.1.b.両方の層を、例えばHMDSOまたはOMCTSといった同一前駆体、および異なるPECVD反応条件を使用して塗布可能である。               VII.A.1.b. Both layers can be applied using the same precursor, eg, HMDSO or OMCTS, and different PECVD reaction conditions.

VII.A.1.b.クエン酸ナトリウム抗凝固剤をその後当該管内に入れ、閉包部を用いて真空化および密閉化して真空採血管を生成する。当該剤の成分および公式は、当技術分野の当事者にとって既知である。当該含水ソジウムクエン酸塩試薬は、管内に導入される血液の凝固を阻害するのに有効な量で、管内腔に付着する。               VII.A.1.b. Sodium citrate anticoagulant is then placed in the tube and evacuated and sealed using the closure to create a vacuum blood collection tube. The ingredients and formulas of the agent are known to those skilled in the art. The hydrous sodium citrate reagent adheres to the lumen of the tube in an amount effective to inhibit clotting of blood introduced into the tube.

VII.A.1.c. SiOx遮断膜被覆される2層壁プラスチック容器 - COC、PET、SiOx
VII.A.1.c. 別の実施例は、内腔を少なくとも一部封入する壁を有する容器である。当該壁は、外部ポリマー層で封入された内部ポリマー層を有する。1つのポリマー層は、少なくとも層厚0.1 mmの、水蒸気遮断性を定義する環状オレフィン共重合体(COC)樹脂の層である。別のポリマー層は、少なくとも層厚0.1 mmの、ポリエステル樹脂の層である。
VII.A.1.c. SiO x barrier film coated two-layer plastic container-COC, PET, SiO x layer
VII.A.1.c. Another example is a container having a wall that at least partially encloses a lumen. The wall has an inner polymer layer encapsulated with an outer polymer layer. One polymer layer is a layer of cyclic olefin copolymer (COC) resin that defines water vapor barrier properties with a layer thickness of at least 0.1 mm. Another polymer layer is a layer of polyester resin with a layer thickness of at least 0.1 mm.

VII.A.1.c. 当該壁には、約10〜500オングストロームの層厚を有するSiOx酸素遮断層が含まれる。 The VII.A.1.c. the walls include SiO x oxygen barrier layer having a thickness of about 10 to 500 Angstroms.

VII.A.1.c.図36に図示する代替実施例において、当該容器80は内壁408および外壁410を有する二重壁容器である場合があり、それぞれ同一のまたは異なる物質を原料とする場合がある。この種の特定実施例の1つは、環状オレフィン共重合体(COC)からモールドされた壁およびテレフタル酸ポリエチレン(PET)といったポリエステルからモールドされたその他の壁で構成され、当該内面412上に前述のSiOx被覆材を有する場合がある。必要に応じて、連結被覆材または連結層を当該内壁と外壁との間に挿入して、それらの間の付着力を促進可能である。この壁構造の利点として、異なる性質を有する壁を組合わせて各壁のそれぞれの性質を有する合成物を成形可能であることが挙げられる。 VII.A.1.c. In the alternative embodiment illustrated in FIG. 36, the container 80 may be a double-walled container having an inner wall 408 and an outer wall 410, each using the same or different material as a raw material. There is. One particular example of this type consists of a wall molded from a cyclic olefin copolymer (COC) and other walls molded from a polyester such as polyethylene terephthalate (PET), on the inner surface 412 as described above. May have a SiO x coating material. If necessary, a connecting covering or connecting layer can be inserted between the inner and outer walls to promote adhesion between them. An advantage of this wall structure is that it is possible to form a composite having the respective properties of each wall by combining walls having different properties.

VII.A.1.c.一実施例として、当該内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のPET被覆から生成可能であり、当該外壁410はCOCから生成可能である。本明細書内別箇所で示す通り、SiOxを有するPET被覆は優良な酸素遮断層であり、一方COCは優良な水蒸気遮断層であり、それにより水蒸気遷移速度(WVTR)が低下する。本合成容器は、酸素および水蒸気の両方について優良な遮断性を有する場合がある。本構造は、例えば製造時に水性試薬を包含しかつ実質的な保存可能期間を有する真空化された医療用検体採取管のために考えられており、保存可能期間に合成壁を通る水蒸気の外方向への搬送または酸素またはその他のガスの内方向への搬送を防止するための遮断性を有するものとする。 VII.A.1.c. As an example, the inner wall 408 can be generated from a PET coating on the inner surface 412 having a SiO x barrier layer, and the outer wall 410 can be generated from COC. As shown elsewhere in this specification, a PET coating with SiO x is a good oxygen barrier layer, while COC is a good water vapor barrier layer, which reduces the water vapor transition rate (WVTR). The synthesis container may have good barrier properties for both oxygen and water vapor. This structure is contemplated, for example, for vacuumed medical specimen collection tubes that contain aqueous reagents at manufacture and have a substantial shelf life, and the outward direction of water vapor through the synthetic wall during the shelf life It has a blocking property to prevent the transfer to the inside or the inward transfer of oxygen or other gas.

VII.A.1.c.別の実施例として、当該内壁408はSiOx遮断層を有する内面412上のCOC被覆から生成可能であり、当該外壁410はPETから生成可能である。本構造は、例えば製造時に水性無菌液を包含する充填済みシリンジのために考えられている。当該SiOx遮断層は、酸素がその壁を通りシリンジに侵入するのを防止する。当該COC内壁は、例えば水といったその他の物質の侵入または放出を防止し、したがって当該水性無菌液内の水が当該壁素材から当該シリンジへと浸出するのを防止する。当該COC内壁はまた、水性無菌液由来の水が当該シリンジから透過する(したがって当該水性無菌液が望ましくなく濃縮される)ことを防止するために考えられており、非無菌液または当該シリンジ外部のその他の流体が当該シリンジ壁を通って侵入し当該含有物が非無菌液となることを、防止する。また当該COC内壁は、当該シリンジの内壁に対する当該プランジャーの破断力または摩擦を減少させるのに有用であると考えられる。 VII.A.1.c. As another example, the inner wall 408 can be generated from a COC coating on an inner surface 412 having a SiO x barrier layer, and the outer wall 410 can be generated from PET. This structure is contemplated for prefilled syringes that contain, for example, an aqueous sterile solution at the time of manufacture. The SiO x barrier layer prevents oxygen from entering the syringe through the wall. The COC inner wall prevents intrusion or release of other substances, for example water, and thus prevents water in the aqueous sterile liquid from leaching out of the wall material into the syringe. The inner wall of the COC is also conceived to prevent water from the aqueous sterile solution from permeating through the syringe (and thus the aqueous sterile solution is undesirably concentrated). Prevents other fluids from entering through the syringe wall and making the contents non-sterile. It is also believed that the COC inner wall is useful for reducing the plunger breaking force or friction against the inner wall of the syringe.

VII.A.1.d. 2層壁プラスチック容器の製造方法 - COC、PET、SiOx
VII.A.1.d.別の実施例は、 外部ポリマー層により封入される内部ポリマー層を有し1つの層がCOC製でもう1つの層がポリエステル製である壁を有する、容器の製造方法である。当該容器は、COC層とポリエステル樹脂層を同心射出ノズルを通して射出成形モールドへ導入する過程を含む処理により製造される。
VII.A.1.d.Method of manufacturing a two-layer plastic container-COC, PET, SiO x layer
VII.A.1.d. Another embodiment is the manufacture of a container having an inner polymer layer encapsulated by an outer polymer layer and one wall made of COC and the other made of polyester. Is the method. The said container is manufactured by the process including the process of introduce | transducing a COC layer and a polyester resin layer into an injection mold through a concentric injection nozzle.

VII.A.1.d.オプションの追加手順として、内部被覆材、外部被覆材、または当該層の間に位置する中間層被覆材としての、非晶質炭素被覆材の当該容器へのPECVDによる塗布が挙げられる。               VII.A.1.d. As an optional additional step, PECVD of the amorphous carbon coating to the vessel as an inner coating, outer coating, or intermediate coating located between the layers Application may be mentioned.

VII.A.1.d.オプションの追加手順として、前述通りにSiOxが定義される当該容器壁内面へのSiOx遮断層の塗布が挙げられる。別のオプションの追加手順として、本質的に酸素からなりおよび本質的に揮発性ケイ素化合物を含まない処理ガスによるSiOxの後処理が挙げられる。 VII.A.1.d. An optional additional procedure is the application of a SiO x barrier layer to the inner surface of the vessel wall where SiO x is defined as described above. Another optional additional procedure includes post-treatment of SiO x with a process gas consisting essentially of oxygen and essentially free of volatile silicon compounds.

VII.A.1.d.随意に、当該SiOx被覆材は、少なくとも一部においてシラザン供給ガスから成形可能である。 VII.A.1.d. Optionally, the SiO x coating can be formed, at least in part, from a silazane feed gas.

VII.A.1.d.図36に示す容器80は、一例として、第1モールド空洞部に当該内壁を射出成形して、その後当該核およびモールドされた内壁を第1モールド空洞部からより大きい第2モールド空洞部へと取り出し、その後当該第2モールド空洞部において当該内壁に対して当該外壁を射出成形することにより、内から外へ成形可能である。随意に、当該外壁を当該連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた内壁の外面へと連結層を提供可能である。               36, as an example, the container 80 shown in FIG. 36 is formed by injection molding the inner wall into the first mold cavity, and then the core and the molded inner wall are larger than the first mold cavity. It is possible to mold from the inside to the outside by taking out the second wall to the second mold cavity and then injection molding the outer wall to the inner wall in the second mold cavity. Optionally, a tie layer can be provided to the outer surface of the molded inner wall prior to overmolding the outer wall to the tie layer.

VII.A.1.d.または図36に示す容器80は、一例として、当該モールド空洞部内に第1核を挿入し、当該モールド空洞部内で当該外壁を射出成形し、その後当該第1核をモールドした第1壁から取り出しより小さい第2核を挿入し、その後当該モールド空洞部にそのまま内在している当該外壁に対して該内壁を射出成形することにより、外から中へ成形可能である。随意に、当該内壁を当該連結層へとオーバーモールドする前に、モールドされた外壁の内面へと連結層を提供可能である。               VII.A.1.d. or the container 80 shown in FIG. 36, as an example, the first nucleus is inserted into the mold cavity, the outer wall is injection-molded in the mold cavity, and then the first nucleus is It is possible to mold from the outside to the inside by inserting a second nucleus smaller than the molded first wall and then inserting the second wall into the mold cavity and then subjecting the inner wall to injection molding. Optionally, a tie layer can be provided to the inner surface of the molded outer wall prior to overmolding the inner wall to the tie layer.

VII.A.1.d.または図36に示す容器80は、2段成形で製造される場合がある。これは、一例として、当該内壁用の部材を内部ノズルからおよび当該外壁用の部材を同心の外部ノズルから射出成形することにより、実行可能である。随意に、当該内部ノズルと外部ノズルの間に付帯する第3同心ノズルから、連結層を提供可能である。当該複数ノズルにより、それぞれの壁材料を同時に供給可能である。有用な手段の1つとして、当該内部ノズルを通して当該内壁材料を供給する少し前に、当該外部ノズルを通して当該外壁材料を供給し始めることが挙げられる。中間同心ノズルが存在する場合、工程順は当該外部ノズルから始まり、順に当該中間ノズルから、そして当該内部ノズルからと続く。または、供給開始順は当該内部ノズルから始まり、前述のものとは反対に外方向へと進めることが可能である。               The container 80 shown in VII.A.1.d. or FIG. 36 may be manufactured by two-stage molding. As an example, this can be performed by injection molding the member for the inner wall from the inner nozzle and the member for the outer wall from the concentric outer nozzle. Optionally, a tie layer can be provided from a third concentric nozzle attached between the inner nozzle and the outer nozzle. Each of the wall materials can be simultaneously supplied by the plurality of nozzles. One useful means is to begin feeding the outer wall material through the outer nozzle shortly before feeding the inner wall material through the inner nozzle. If an intermediate concentric nozzle is present, the process sequence begins with the outer nozzle, and then continues with the intermediate nozzle and then with the inner nozzle. Alternatively, the supply start order starts from the internal nozzle and can proceed outward as opposed to the above.

VII.A.1.e. ガラス製遮断性被覆材
VII.A.1.e.別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。当該容器は、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。少なくとも本質的に連続するガラス製遮断被覆材が、当該壁の内面に存在する。閉包部が当該口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.1.e. Glass barrier coating
VII.A.1.e. Another example is a container that includes a container, a barrier covering, and a closure. The container is generally tubular and is made from a thermoplastic material. The container has a mouth and a lumen that is at least partially bounded by a wall having an inner surface that joins the lumen. An at least essentially continuous glass barrier coating is present on the inner surface of the wall. A closure covers the mouth and isolates the lumen of the container from the ambient atmosphere.

VII.A.1.e.当該容器80は例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、またはその他のガラス処方といった、医療または研究に使用されるいかなる種類のガラスを原料とすることが可能である。いかなる材料から製造されるいかなる形状またはサイズを有するその他の容器もまた、当該システム20での使用のために考えられる。ガラス容器の被覆の機能の1つとして、当該ガラスから当該容器の含有物(真空採血管内の試薬または血液など)への、意図的または不純物(ナトリウム、カルシウム、その他)としてのイオンのガラス内への侵入を低減させることが挙げられる。例えば選択的に表面においてスライドしながら他の部品と接触するといった、ガラス容器全体または一部を被覆することの別の機能は、例えばシリンジ内のピストンといったスライド式構成要素の停止部材または経路の挿入または除去を容易にするために、当該被覆材に潤滑性を提供することである。ガラス容器を被覆するさらに別の理由として、当該容器内の試薬または意図する検体(血液など)の当該容器壁への付着、または当該容器壁に接触する血液の凝固率増加を防止することが挙げられる。               VII.A.1.e. The container 80 can be made from any type of glass used for medical or research purposes, such as, for example, soda lime glass, borosilicate glass, or other glass formulations. Other containers having any shape or size manufactured from any material are also contemplated for use with the system 20. One of the functions of the coating of the glass container is from the glass to the contents of the container (such as reagent or blood in the vacuum blood collection tube), into the glass of ions as intentional or impurities (sodium, calcium, etc.) Reducing the intrusion of. Another function of covering the whole or part of the glass container, for example selectively contacting the other part while sliding on the surface, is the insertion of a stop member or path of a sliding component, for example a piston in a syringe. Or to provide lubricity to the dressing for ease of removal. Yet another reason for coating the glass container is to prevent the reagent in the container or the intended specimen (blood, etc.) from adhering to the container wall or increasing the coagulation rate of blood in contact with the container wall. It is done.

VII.A.1.e.i.関連する実施例として、当該遮断性被覆材がソーダ石灰ガラス製またはホウケイ酸ガラス製またはその他の種類のガラスである、前段落で説明する容器が挙げられる。               VII.A.1.e.i. A related example is the container described in the previous paragraph, wherein the barrier coating is made of soda-lime glass or borosilicate glass or other type of glass.

VII.A.2. 停止部材
VII.A.2. 図23〜25は、周囲環境から当該内腔274を隔離する閉包部270を有する真空採血管である場合がある、容器268を図示する。当該閉包部270は、当該容器268の内腔274に曝露する内部表面272および当該容器壁280の内面278に接触する接触内面276からなる。図示する当該実施例において、当該閉包部270は停止部材282および遮蔽体284のアセンブリである。
VII.A.2. Stopping member
VII.A.2. FIGS. 23-25 illustrate a container 268, which may be a vacuum blood collection tube having a closure 270 that isolates the lumen 274 from the surrounding environment. The closure 270 includes an inner surface 272 that is exposed to the lumen 274 of the container 268 and a contact inner surface 276 that contacts the inner surface 278 of the container wall 280. In the illustrated embodiment, the closure 270 is an assembly of a stop member 282 and a shield 284.

VII.A.2.a. 潤滑性被覆材の真空チャンバ内への塗布方法
VII.A.2.a. 別の実施例として、エラストマー製停止部材282などの上に被覆材を塗布する方法が挙げられる。当該停止部材282を当該容器268から離して、実質上真空チャンバ内に留置する。プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスを含む反応混合物を用意する。当該停止部材に接触する反応混合物内にプラズマを生成させる。SiwOxCyHz被覆材(wは1、本公式のxは約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)を、当該停止部材の少なくとも一部上に堆積させる。
VII.A.2.a. Method of applying the lubricity coating in the vacuum chamber
VII.A.2.a. Another embodiment is a method of applying a coating material on an elastomeric stop member 282 or the like. The stop member 282 is separated from the container 268 and is substantially left in the vacuum chamber. A reaction mixture is prepared comprising a plasma generating gas, ie, an organosilicon compound gas, optionally an oxidizing gas, and optionally a hydrocarbon gas. Plasma is generated in the reaction mixture in contact with the stop member. Si w O x C y H z coating (where w is 1, x is about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is about 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is 6 to about 9) are deposited on at least a portion of the stop member.

VII.A.2.a.図示する当該実施例において、当該閉包部270の壁接触内面276を潤滑性被覆材286で被覆する。               VII.A.2.a. In the illustrated embodiment, the wall contact inner surface 276 of the closure 270 is coated with a lubricious coating 286.

VII.A.2.a.一部の実施例において、当該SiwOxCyHz被覆材は、当該停止部材の1つ以上の構成要素(停止部材または容器壁の金属イオン構成要素など)の容器腔への透過性を減少させる効果がある。停止部材282の製作に有用な種類の特定のエラストマー組成には、微量の1種以上の金属イオンが含まれる。当該イオンは、特に当該検体容器268が微量金属分析の検体採集に使用される場合、当該内腔274へと移行するべきではない、または当該容器含有物に多量に接触するべきではない場合がある。例えば、比較的有機含有物をほとんど含まない(すなわちyおよびzが低量またはゼロである)被覆材は、本用途において金属イオン遮断膜として特に有用であることが考えられる。金属イオン遮断膜としてのケイ石粉については、例えば、参照することにより本書に組み込まれる、Anupama Mallikarjunan、Jasbir Juneja、Guangrong Yang、Shyam P. Murarka、およびToh-Ming Luによる「The Effect of Interfacial Chemistry on Metal Ion Penetration into Polymeric Films」Mat. Res. Soc. Symp. Proc., Vol. 734, pp. B9.60.1 to B9.60.6 (Materials Research Society, 2003)、米国EP0697378 A2を参照されたい。しかしながら一部の有機含有物は、より弾性の被覆材を提供し、当該被覆材を当該停止部材282のエラストマー表面に付着させるのに、有用である可能性がある VII.A.2.a. In some embodiments, the Si w O x C y H z coating includes one or more components of the stop member (such as a stop member or a metal ion component of a container wall) ) Has an effect of reducing the permeability to the container cavity. A particular type of elastomeric composition useful in making stop member 282 includes a trace amount of one or more metal ions. The ions should not migrate into the lumen 274 or contact the container contents in large amounts, especially when the sample container 268 is used for sample collection for trace metal analysis. . For example, coatings that are relatively free of organic inclusions (ie, y and z are low or zero) are considered particularly useful as metal ion blocking films in this application. For silica stone powder as a metal ion blocking membrane, see, for example, `` The Effect of Interfacial Chemistry on Metal by Anupama Mallikarjunan, Jasbir Juneja, Guangrong Yang, Shyam P. Murarka, and Toh-Ming Lu, incorporated herein by reference. See Ion Penetration into Polymeric Films "Mat. Res. Soc. Symp. Proc., Vol. 734, pp. B9.60.1 to B9.60.6 (Materials Research Society, 2003), US EP0697378 A2. However, some organic inclusions may be useful in providing a more elastic dressing and attaching the dressing to the elastomeric surface of the stop member 282.

VII.A.2.a.一部の実施例において、当該SiwOxCyHz被覆材は、第1/内部層288がエラストマー製停止部材282と結合する第1層および第2層を有する材質の合成物である可能性があり、当該停止部材282の1種以上の構成要素の容器腔への透過性を減少させる効果がある。当該第2層286は当該容器の内壁280と接合可能であり、当該停止部材282が当該容器268上/内に装填済である場合に、当該停止部材282と当該容器の内壁280との間の摩擦を減少させるのに効果的である。かかる合成物については、本明細書内の別箇所において、シリンジ被覆材に関連して記述する。 VII.A.2.a. In some embodiments, the Si w O x C y H z coating includes a first layer and a second layer in which the first / inner layer 288 is bonded to the elastomeric stop member 282. This has the effect of reducing the permeability of one or more components of the stop member 282 to the container cavity. The second layer 286 can be joined to the inner wall 280 of the container, and when the stop member 282 is loaded on / in the container 268, the second layer 286 is interposed between the stop member 282 and the inner wall 280 of the container. It is effective in reducing friction. Such composites are described elsewhere in this specification in connection with syringe dressings.

VII.A.2.a.または、当該第1層288および第2層286は累遷性被覆材により定義され、その場合、当該第1層におけるyおよびzの値は当該第2層のものより大きくなる。               VII.A.2.a. Alternatively, the first layer 288 and the second layer 286 are defined by a transitional coating, in which case the y and z values in the first layer are those of the second layer. Become bigger.

VII.A.2.a.当該SiwOxCyHz被覆材は、例えば、前述の通り実質上PECVDにより塗布可能である。当該SiwOxCyHz被覆材は、例えば層厚0.5〜5000nm(5〜50,000オングストローム)、または層厚1〜5000nm、または層厚5〜5000nm、または層厚10〜5000nm、または層厚20〜5000nm、または層厚50〜5000nm、または層厚100〜5000nm、または層厚200〜5000nm、または層厚500〜5000nm、または層厚1000〜5000nm、または層厚2000〜5000nm、または層厚3000〜5000nm、または層厚4000〜10,000nmである可能性がある。 VII.A.2.a. The Si w O x C y H z coating material can be applied substantially by PECVD as described above, for example. The Si w O x C y H z coating material is, for example, a layer thickness of 0.5 to 5000 nm (5 to 50,000 angstroms), or a layer thickness of 1 to 5000 nm, or a layer thickness of 5 to 5000 nm, or a layer thickness of 10 to 5000 nm, or a layer thickness 20-5000 nm, or layer thickness 50-5000 nm, or layer thickness 100-5000 nm, or layer thickness 200-5000 nm, or layer thickness 500-5000 nm, or layer thickness 1000-5000 nm, or layer thickness 2000-5000 nm, or layer thickness 3000 May be ~ 5000nm or layer thickness 4000 ~ 10,000nm.

VII.A.2.a.プラズマ被覆潤滑層に関して、より厚い(1ミクロン以上)従来の噴霧塗布式ケイ素潤滑剤より優れる、特定の利点が考えられる。プラズマ被覆材は血液への遊走性が噴霧またはミクロンケイ素と比べてはるかに低い。なぜなら、プラズマ被覆物質が非常に低量であり、当該被覆表面へのより密接な塗布および所定の位置におけるより良い結合である可能性があるからである。               VII.A.2.a. There are certain advantages associated with plasma-coated lubrication layers that are superior to thicker (> 1 micron) conventional spray-coated silicon lubricants. Plasma coatings are much less migratory to blood compared to nebulized or micron silicon. This is because the plasma coating material is very low in quantity and may be a closer application to the coating surface and a better bond in place.

VII.A.2.a.当該プラズマ被覆材はより平滑な表面を提供する傾向があるため、隣接面のスライドまたは隣接流体の流量のミクロ被覆材より低い抵抗を提供するための、PECVDによる塗布としてのナノ被覆が考えられる。               VII.A.2.a. PECVD coating to provide a lower resistance than adjacent surface slide or adjacent fluid flow micro-coating because the plasma coating tends to provide a smoother surface Nano-coating can be considered.

VII.A.2.a.また別の実施例として、エラストマー製停止部材上にSiwOxCyHz被覆材を塗布する方法が挙げられる。当該停止部材は、例えば前述容器を閉口するために使用可能である。当該方法はいくつかの部分からなる。停止部材を実質上真空チャンバ内に留置する。プラズマ生成ガス、すなわち有機ケイ素化合物ガス、随意に酸化ガス、随意に炭化水素ガスからなる反応混合物を用意する。プラズマが当該反応混合物内に生成される。当該停止部材は反応混合物と接触し、当該停止部材の少なくとも一部上にSiwOxCyHz被覆材が堆積される。 VII.A.2.a. Another example is to apply a Si w O x C y H z coating on an elastomeric stop member. The stop member can be used, for example, to close the container. The method consists of several parts. The stop member is substantially placed in the vacuum chamber. A reaction mixture is prepared comprising a plasma generating gas, ie, an organosilicon compound gas, optionally an oxidizing gas, and optionally a hydrocarbon gas. A plasma is generated in the reaction mixture. The stop member contacts the reaction mixture, and a Si w O x C y H z coating is deposited on at least a portion of the stop member.

VII.A.2.a.本方法の実践において、より高いyまたはzの値を得るため、さらに上述および後述するように、当該反応混合物は炭化水素ガスからなる場合があると考えられる。随意に、yおよびzの値が低いまたはxの値が高いと考えられる場合、当該反応混合物は酸素を含む場合がある。または、特に酸化を低減させyおよびzの値を増加させるため、当該反応混合物は本質的に酸化ガスを含まない可能性がある。               VII.A.2.a. In order to obtain higher y or z values in the practice of the process, it is believed that the reaction mixture may consist of hydrocarbon gas, as described above and further below. Optionally, the reaction mixture may contain oxygen if y and z values are considered low or x values are considered high. Alternatively, the reaction mixture may be essentially free of oxidizing gas, particularly to reduce oxidation and increase the values of y and z.

VII.A.2.a.本方法の実践において、例えば当該停止部材282といった当該停止部材の特定の実施例を被覆するため、当該反応混合物を当該停止部材凹面に投射することは不要であると考えられる。例えば、当該停止部材282の壁に接触する表面276および内部に対向する表面272は、本質的に凸面であり、したがってバッチ処理により簡単に処理できる。その場合、多数の停止部材82などは実質上真空である単一反応チャンバ内に位置し処理される可能性がある。さらに一部の実施例において、当該被覆材286および288は酸素または水に対して、当該容器268の内面280上の遮断性被覆材ほど強力な遮断膜として示される必要がないと考えられる。 なぜなら、当該停止部材282の材質がこの機能の大半を担うからである。               VII.A.2.a. In the practice of this method, it is not necessary to project the reaction mixture onto the concave surface of the stop member to cover a particular embodiment of the stop member, such as the stop member 282, for example. Conceivable. For example, the surface 276 that contacts the wall of the stop member 282 and the inwardly facing surface 272 are essentially convex and can therefore be easily processed by batch processing. In that case, multiple stop members 82 and the like may be located and processed in a single reaction chamber that is substantially vacuum. Further, in some embodiments, the dressings 286 and 288 may not need to be shown as stronger barrier films than oxygen or water on the inner surface 280 of the vessel 268. This is because the material of the stop member 282 is responsible for most of this function.

VII.A.2.a.当該停止部材および当該停止部材の被覆処理の多くの変型が考えられる.当該停止部材282は当該プラズマに接触可能である。または当該プラズマは、プラズマ生成物を生成する当該停止部材282の上流に成形可能であり、当該プラズマ生成物は当該停止部材282に接触可能である。当該プラズマは、電磁エネルギーおよび/またはマイクロ波エネルギーを用いて当該 反応混合物を励起させることにより、生成可能である。               VII.A.2.a. Many variations of the stop member and coating of the stop member are possible. The stop member 282 can contact the plasma. Alternatively, the plasma can be shaped upstream of the stop member 282 that produces a plasma product, and the plasma product can contact the stop member 282. The plasma can be generated by exciting the reaction mixture with electromagnetic energy and / or microwave energy.

VII.A.2.a.当該反応混合物の変型が考えられる。当該プラズマ生成ガスは不活性ガスを含む場合がある。当該不活性ガスは、例えばアルゴン、ヘリウム、または本開示に記述するその他のガスである場合がある。当該有機ケイ素化合物ガスは、HMDSO、OMCTS、本開示で述べるその他の有機ケイ素化合物、またはこれら2種以上の複合体である/を含む場合がある。当該酸化ガスは、酸素、本開示で述べるその他のガス、またはこれら2種以上の複合体である場合がある。当該炭化水素ガスは、例えばメタン、メタノール、エタン、エチレン、エタノール、プロパン、プロピレン、プロパノール、アセチレン、またはこれら2種以上の複合体である場合がある。               VII.A.2.a. Variations of the reaction mixture are conceivable. The plasma generating gas may contain an inert gas. The inert gas may be, for example, argon, helium, or other gases described in this disclosure. The organosilicon compound gas may include / are HMDSO, OMCTS, other organosilicon compounds described in this disclosure, or a composite of two or more of these. The oxidizing gas may be oxygen, other gases described in this disclosure, or a composite of two or more of these. The hydrocarbon gas may be, for example, methane, methanol, ethane, ethylene, ethanol, propane, propylene, propanol, acetylene, or a composite of two or more of these.

VII.A.2.b. PECVDによる第III族または第IV族元素および炭素の被覆材の停止部材上への塗布
VII.A.2.b.別の実施例は、炭素または1種以上の第III族または第IV族元素を含む組成物の被覆材をエラストマー製停止部材に塗布する方法である。本方法を実行するには、停止部材を堆積チャンバ内に位置付ける。
VII.A.2.b. Application of Group III or Group IV elements and carbon coating on the stop member by PECVD
VII.A.2.b. Another embodiment is a method of applying a coating of carbon or a composition comprising one or more Group III or Group IV elements to an elastomeric stop member. To perform the method, a stop member is positioned in the deposition chamber.

VII.A.2.b.第III族元素、第IV族元素、またはそれら2つ以上の複合体である気体源を有するプラズマ生成ガスを含む反応混合物を、堆積チャンバに用意する。当該反応混合物は、随意に酸化ガスを包含し、随意に1種以上のC-H結合を有するガス状化合物を包含する。当該反応混合物内にプラズマが生成され、当該停止部材が当該反応混合物に接触する。第III族元素または化合物、第IV族元素または化合物、またはそれら2つ以上の複合体である被覆材を、当該停止部材の少なくとも一部に堆積させる。               VII.A.2.b. A reaction mixture comprising a plasma generating gas having a gas source that is a Group III element, a Group IV element, or a combination of two or more thereof is provided in a deposition chamber. The reaction mixture optionally includes an oxidizing gas and optionally includes a gaseous compound having one or more C—H bonds. Plasma is generated in the reaction mixture, and the stop member contacts the reaction mixture. A coating material that is a Group III element or compound, a Group IV element or compound, or a composite of two or more thereof is deposited on at least a portion of the stop member.

VII.A.3. 24カ月95%の真空状態を維持する遮断性被覆材を有する停止部材付きプラスチック 容器
VII.A.3.別の実施例は、容器、遮断性被覆材、および閉包部を含む容器である。当該容器は通常管状であり、熱可塑性素材を原料とする。当該容器は、少なくとも一部が壁で境界される口および内腔を有する。当該壁は、当該内腔と接合する内面を有する。少なくとも本質的に連続する遮断性被覆材を、当該壁の内面に塗布する。当該遮断性被覆材は、実質的保存可能期間の提供に効果的である。当該容器の口を覆うを閉包部を用意して、当該容器の内腔を環境大気から隔絶させる。
VII.A.3. Plastic container with a stop member with a barrier covering that maintains a 95% vacuum for 24 months
VII.A.3. Another example is a container that includes a container, a barrier covering, and a closure. The container is generally tubular and is made from a thermoplastic material. The container has a mouth and a lumen that are at least partially bounded by walls. The wall has an inner surface that joins the lumen. At least an essentially continuous barrier coating is applied to the inner surface of the wall. The barrier coating is effective in providing a substantial shelf life. A closure is provided to cover the mouth of the container, and the lumen of the container is isolated from the ambient atmosphere.

VII.A.3.図23〜25を参照に、例えば真空採血管またはその他の容器といった、容器268を示す。               VII.A.3. Referring to FIGS. 23-25, a container 268, such as a vacuum blood collection tube or other container, is shown.

VII.A.3.当該容器は、本実施例において、少なくとも本質的に継続的な遮断性被覆材および閉包部を有する、通常管状の容器である。当該容器は熱可塑性素材を原料とし、当該内腔と接合する内面を有する壁で少なくとも一部が境界される、口および内腔を有する。当該遮断性被覆材は当該壁内面に堆積され、少なくとも24カ月、随意に少なくとも30カ月、随意に少なくとも36カ月の保存可能期間中に、当該容器の最初の真空レベルの少なくとも95%を、または少なくとも90%を維持するのに有効である。閉包部が当該容器の口を覆い、当該容器の内腔を環境大気から隔離する。               VII.A.3. The container in this example is a generally tubular container having at least an essentially continuous barrier covering and a closure. The container is made of a thermoplastic material and has a mouth and a lumen that are at least partially bounded by a wall having an inner surface that joins the lumen. The barrier coating is deposited on the wall inner surface and at least 95% of the initial vacuum level of the container, or at least during a shelf life of at least 24 months, optionally at least 30 months, optionally at least 36 months. Effective to maintain 90%. A closure covers the mouth of the container and isolates the lumen of the container from the ambient atmosphere.

VII.A.3.当該閉包部、例えば図内に図示する当該閉包部270またはその他の種類の閉包部は、一部真空を維持するため、および/または検体を包含するため、およびその酸素への曝露または汚染を制限/防止するために提供される。図23-25は、米国特許6,602,206番に含まれる図に基づいているが、本発見はこれまたはその他のいかなる特定の種類の閉包部にも制限されない。               VII.A.3. The closure, such as the closure 270 or other type of closure shown in the figure, is partly to maintain a vacuum and / or contain the specimen and to its oxygen Provided to limit / prevent exposure or contamination. FIGS. 23-25 are based on the figures contained in US Pat. No. 6,602,206, but the discovery is not limited to this or any other particular type of closure.

VII.A.3.当該閉包部270は、当該容器268の内腔274に曝露する内部表面272および当該容器壁280の内面278に接触する接触内面276からなる。図示する当該実施例において、当該閉包部270は停止部材282および遮蔽体284のアセンブリである。               VII.A.3. The closure 270 comprises an inner surface 272 that is exposed to the lumen 274 of the container 268 and a contact inner surface 276 that contacts the inner surface 278 of the container wall 280. In the illustrated embodiment, the closure 270 is an assembly of a stop member 282 and a shield 284.

VII.A.3.図示する当該実施例において、当該停止部材 282は当該壁接触内面276および当該内面278を定義し、その一方で当該遮蔽体は大部分または全体が当停止された容器268の外部にあり、当該停止部材282の把持を保持および提供し、例えば当該容器268が開口され当該圧力差を均等化するため大気が急に増減する場合の当該容器268の内部と外部の圧力差が原因で当該容器268から放出される含有物に当該閉包部270を除去する人物が曝露しないよう遮蔽する。               VII.A.3. In the illustrated embodiment, the stop member 282 defines the wall contact inner surface 276 and the inner surface 278, while the shield is largely or entirely of the container 268 that has been stopped. There is an external pressure difference between the inside and outside of the container 268 when the container 268 is opened and the atmosphere suddenly increases or decreases to equalize the pressure difference. For this reason, the person who removes the closure part 270 is shielded from being exposed to the contents released from the container 268.

VII.A.3.さらには、当該容器壁280上の当該被覆材および当該停止部材の当該壁接触表面276を整合させることが可能であると考えられる。当該停止部材は潤滑性ケイ素層で被覆可能であり、例えばPET製またはガラス製である当該容器壁280はより硬質なSiOx層または下層のSiOx層および潤滑性保護膜で被覆可能である。 VII.A.3. Further, it is believed that the dressing on the container wall 280 and the wall contact surface 276 of the stop member can be aligned. The stop member can be coated with a lubricious silicon layer, for example, the container wall 280 made of PET or glass can be coated with a harder SiO x layer or a lower SiO x layer and a lubricious protective film.

VII.B. シリンジ
VII.B.以上の記述は主に、例えば採血管またはより一般的には検体収受管80といった1つの恒久的閉口端を有する管への遮断性被覆材の塗布に言及している。当該装置はかかる機器に制限されない。
VII.B.Syringe
VII.B. The above description primarily refers to the application of a barrier coating to a tube having one permanent closed end, such as a blood collection tube or more generally a specimen collection tube 80, for example. The apparatus is not limited to such equipment.

VII.B.図20〜22に示す、適切な容器の別の実施例は医療用シリンジ252のためのシリンジバレルである。かかるシリンジ252は、医療技術で使用される食塩水、医薬品、または同種のもので充填済みである場合がある。事前充填済みシリンジ252も、例えば保存中のシリンジバレル250のように、事前充填済みシリンジ252の内容物がシリンジのプラスチックに接触しないよう維持できる、内面254上のSiOx遮断層またはその他の種類の被覆材から、利益を得られると考えられる。当該遮断膜またはその他の種類の被覆材は、当該プラスチック成分が当該内面254を通して当該バレルの含有物へと浸出するのを防止するために使用可能である。 VII.B. Another example of a suitable container, shown in FIGS. 20-22, is a syringe barrel for a medical syringe 252. Such a syringe 252 may be prefilled with saline, pharmaceuticals, or the like used in medical technology. The pre-filled syringe 252 can also be a SiO x barrier layer or other type of inner surface 254 that can keep the contents of the pre-filled syringe 252 out of contact with the syringe plastic, such as a syringe barrel 250 during storage. It is thought that profit can be obtained from the covering material. The barrier film or other type of dressing can be used to prevent the plastic component from leaching through the inner surface 254 into the contents of the barrel.

VII.B.シリンジバレル250はモールド時には一般に、 プランジャー258を収受する後端部256と、当該シリンジ252の含有物を投与するための/物質を当該シリンジ252へと収受するための皮下注射針、ノズル、またはタブを収受する前端部260の両方が開口している場合がある。しかし当該充填済みシリンジ252が使用される前に、当該前端部260には随意に蓋が付けられ、当該プランジャー258は随意に所定の位置に装着され、当該バレル250の両端は閉口される場合がある。蓋262を設置する目的は、当該シリンジバレル250または組立てられたシリンジを処理するため、または当該蓋262を除去し(随意に)皮下注射針または当該シリンジ252の使用準備のためその他の搬送導管を当該前端部260に装着する時まで当該充填済みシリンジ252を保管期間中の所定位置に維持するため、のいずれかである場合がある。               VII.B. When a syringe barrel 250 is molded, generally, a rear end portion 256 for receiving the plunger 258 and a hypodermic needle for receiving the substance / material for administering the contents of the syringe 252 into the syringe 252 The front end 260 that receives the nozzle or tab may be open. However, before the prefilled syringe 252 is used, the front end 260 is optionally capped, the plunger 258 is optionally mounted in place, and both ends of the barrel 250 are closed There is. The purpose of installing the lid 262 is to handle the syringe barrel 250 or assembled syringe, or remove the lid 262 (optionally) a hypodermic needle or other transport conduit to prepare the syringe 252 for use. In some cases, the pre-filled syringe 252 is maintained at a predetermined position during the storage period until the front end 260 is mounted.

VII.B.1. アセンブリ
VII.B.1.図42はまた、例えば図21、26、28、30、および34の実施例と併用可能な、かつ当該図の容器ホルダー450との使用のために適合されている、シリンジバレル構造を示す。
VII.B.1. Assembly
VII.B.1. FIG. 42 is also a syringe that can be used in conjunction with, for example, the embodiments of FIGS. 21, 26, 28, 30, and 34 and is adapted for use with the container holder 450 of the drawings. The barrel structure is shown.

VII.B.1.図50はシリンジの分解図であり、図51はシリンジの組立図である。当該シリンジバレルは、例えば図1〜22、26〜28、33〜35、37〜39、44、および53〜54の容器処理および検査装置と共に処理可能である。               VII.B.1. FIG. 50 is an exploded view of the syringe, and FIG. 51 is an assembly view of the syringe. The syringe barrel can be processed, for example, with the container processing and inspection devices of FIGS. 1-22, 26-28, 33-35, 37-39, 44, and 53-54.

VII.B.1.蓋262の設置により当該バレル250は、先に設置された装置における内面254上のSiOx遮断層またはその他の種類の被覆材と共に供与可能である閉口容器となり、また随意に、蓋内部264上で被覆材を提供し蓋内部264およびバレル前部端260の間の界面をブリッジングする。本使用に適合する適切な装置を、図21に示す。当該図は、例えば、図2 VII.Bの当該容器80の蓋付きシリンジバレル250の置換を除き図2に類似する。VII.B. VII.B.1. Installation of the lid 262 makes the barrel 250 a closed container that can be dispensed with the SiO x barrier layer or other type of coating on the inner surface 254 of the previously installed device, and optionally Providing a dressing on the lid interior 264 and bridging the interface between the lid interior 264 and the barrel front end 260. A suitable device suitable for this use is shown in FIG. The figure is similar to FIG. 2 except for replacement of the syringe barrel 250 with lid of the container 80 of FIG. 2 VII.B, for example. VII.B.

VII.B.1 図52は、図42に類似の、しかしフランジまたは指止め440のない処理済みシリンジバレルを示す図である。当該シリンジバレルは、例えば図1〜19、27、33、35、44〜51、および53〜54の容器処理および検査装置と併用可能である。               VII.B.1 FIG. 52 shows a treated syringe barrel similar to FIG. 42 but without the flange or finger clamp 440. FIG. The syringe barrel can be used in combination with, for example, the container processing and inspection apparatus of FIGS. 1 to 19, 27, 33, 35, 44 to 51, and 53 to 54.

VII.B.1.a. 有機ケイ素前駆体により堆積される潤滑性被覆材で被覆されるバレルを有するシリンジ
VII.B.1.a. 別の実施例として、以下の処理により生成された種類の、潤滑性SiwOxCyHz被覆材を有する容器が挙げられる。
VII.B.1.a. Syringe having a barrel coated with a lubricity coating deposited by an organosilicon precursor
VII.B.1.a. Another example is a container having a lubricious Si w O x C y H z coating of the type produced by the following process.

VII.B.1.a. 上記で定義される前駆体を用意する。               VII.B.1.a. Prepare a precursor as defined above.

VII.B.1.a. 当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。               VII.B.1.a. The precursor is applied to the substrate under conditions effective to produce a coating. The dressing is polymerized, cross-linked, or both, and produces a lubricated surface that reduces “plunger sliding force” or “starting force” compared to an untreated substrate.

VII.B.1.a. 実施例VIIおよび下位部分に関して、当該塗布手順は随意に、当該前駆体の気化により行われ、当該基板付近に提供される。               VII.B.1.a. For Example VII and subparts, the coating procedure is optionally performed by vaporization of the precursor and provided near the substrate.

VII.B.1.a. 実施例VII.A.1.a.iに関して、随意にプラズマ、随意に非ホロー陰極 プラズマを、当該基板付近に生成する。随意に、当該前駆体を実質上酸素が存在しない環境へと提供する。随意に、当該前駆体を実質上搬送ガスが存在しない環境へと提供する。随意に、当該前駆体を実質上窒素が存在しない環境へと提供する。随意に、当該前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。随意に、当該前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。随意に、当該前駆体およびその反応生成物を当該基板へと1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜200nm、または20〜100nmの層厚で塗布する。随意に、当該基板はガラスからなる。随意に当該基板は、ポリマーから、随意にポリカーボネートポリマーから、随意にオレフィン重合体から、随意に環状オレフィン共重合体から、随意にポリプロピレンポリマーから、随意にポリエステルポリマーから、随意にテレフタル酸ポリエチレンポリマーからなる。               VII.B.1.a. For Example VII.A.1.a.i, an optional plasma, optionally a non-hollow cathode plasma, is generated near the substrate. Optionally, the precursor is provided to an environment that is substantially free of oxygen. Optionally, the precursor is provided to an environment that is substantially free of carrier gas. Optionally, the precursor is provided to an environment that is substantially free of nitrogen. Optionally, the precursor is provided to an environment where the absolute pressure is less than 1 Torr. Optionally, the precursor is provided to an environment near the plasma emission. Optionally, the precursor and its reaction product are applied to the substrate with a layer thickness of 1 to 5000 nm, or 10 to 1000 nm, or 10 to 200 nm, or 20 to 100 nm. Optionally, the substrate is made of glass. Optionally the substrate is from a polymer, optionally from a polycarbonate polymer, optionally from an olefin polymer, optionally from a cyclic olefin copolymer, optionally from a polypropylene polymer, optionally from a polyester polymer, optionally from a polyethylene terephthalate polymer. Become.

随意に当該プラズマを、上記で定義される、例えば周波数が10kHz〜300MH未満、より好ましくは1〜50MHz、さらにより好ましくは10〜15MHz、最も好ましくは13.56MHzである、RF周波数を動力源とする電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することで生成する。               Optionally, the plasma is powered by an RF frequency as defined above, for example having a frequency of 10 kHz to less than 300 MHz, more preferably 1 to 50 MHz, even more preferably 10 to 15 MHz, most preferably 13.56 MHz. It is produced by pressurizing a gaseous reactant including a precursor having an electrode.

随意に、当該プラズマは0.1〜25W、好ましくは1〜22W、より好ましくは3〜17W、さらにより好ましくは5〜14W、最も好ましくは7〜11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。当該電極電力の対プラズマ量比は10 W/ml未満であり、好ましくは5W/ml〜0.1W/ml、より好ましくは4W/ml〜0.1W/ml、最も好ましくは2W/ml〜0.2W/mlである場合がある。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。               Optionally, the plasma is a precursor having an electrode that receives a power supply of 0.1 to 25 W, preferably 1 to 22 W, more preferably 3 to 17 W, even more preferably 5 to 14 W, most preferably 7 to 11 W, especially 8 W. It is produced by pressurizing a gaseous reactant containing The electrode power to plasma volume ratio is less than 10 W / ml, preferably 5 W / ml to 0.1 W / ml, more preferably 4 W / ml to 0.1 W / ml, most preferably 2 W / ml to 0.2 W / ml. May be ml. This power level is suitable for applying a lubricious coating to syringes and specimen tubes and similarly shaped containers in which PECVD plasma is generated and has a void volume of 1 to 3 mL. For larger or smaller objects, it is believed that the applied power should be increased or decreased accordingly as the substrate size is processed.

VII.B.1.a 別の実施例は、シリンジバレルの内壁上の潤滑性被覆材である。当該被覆材は、以下の素材および条件を使用してPECVD処理により生成される。好ましくは環状前駆体を利用し、本明細書内別箇所で潤滑性被覆材に関して定義する、線状シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、またはこれら2つ以上の複合体から選択する。適切な環状前駆体の一実施例は、随意に、その他の前駆体原料といかなる割合で混合された、オクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)からなる。随意に当該環状前駆体は、本質的にオクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)からなり、すなわちその他の前駆体は生成された潤滑性被覆材の基本的および新しい性質を変化させる(例:当該被覆表面のプランジャースライド力または起動力を減少させる)ことのない量で示される可能性がある。               VII.B.1.a Another example is a lubricity coating on the inner wall of the syringe barrel. The dressing is produced by PECVD using the following materials and conditions. Preferably, cyclic precursors are utilized and selected from linear siloxanes, monocyclic siloxanes, polycyclic siloxanes, or composites of two or more thereof as defined elsewhere herein for lubricity coatings. One example of a suitable cyclic precursor consists of octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS), optionally mixed in any proportion with other precursor raw materials. Optionally, the cyclic precursor consists essentially of octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS), ie other precursors change the basic and new properties of the resulting lubricity coating (eg, the coated surface) The amount of the plunger sliding force or starting force is not reduced).

VII.B.1.a 本処理には、少なくとも本質的に酸素を追加しない。 一部の残存大気中酸素が当該シリンジバレルに存在する場合があり、また前手順で供給され完全に排出されなかった残存酸素が当該シリンジバレルに存在する場合があり、したがって本質的に酸素が存在しないことを定義する。本処理に酸素を追加しない場合、これはまた「実質上無酸素」の範疇内に入る。               VII.B.1.a At least essentially no oxygen is added to the process. Some residual atmospheric oxygen may be present in the syringe barrel, and there may be residual oxygen in the syringe barrel that was supplied in the previous procedure and not completely exhausted, so there is essentially oxygen present. Define what not to do. If oxygen is not added to the process, this also falls within the category of “substantially oxygen-free”.

VII.B.1.a 十分にプラズマを生成する電力入力、例えば本明細書の1つ以上の実施例において成功裏に使用されるまたは本明細書に記述されるいかなる電力レベルを供給して、被覆材生成を誘導する。               VII.B.1.a Power input that generates a sufficient plasma, for example, any power level used successfully or described herein in one or more embodiments herein, Induces coating production.

VII.B.1.a 利用する当該素材および条件は、当該シリンジバレル内を移動するシリンジプランジャーのスライド力または起動力を、非被覆シリンジバレルと比較して少なくとも25パーセント、あるいは少なくとも45パーセント、あるいは少なくとも60パーセント、あるいは60パーセント以上減少させるのに効果的である。プランジャースライド力または起動力を20〜95パーセント、あるいは30〜80パーセント、あるいは40〜75パーセント、あるいは60〜70パーセント減少させる範囲が、考えられる。               VII.B.1.a The material and conditions utilized are at least 25 percent, or at least 45 percent, of the sliding or activation force of the syringe plunger moving within the syringe barrel as compared to the uncoated syringe barrel, Or it is effective to reduce at least 60 percent, or more than 60 percent. A range that reduces the plunger sliding force or activation force by 20-95 percent, alternatively 30-80 percent, alternatively 40-75 percent, alternatively 60-70 percent is contemplated.

VII.B.1.a. 別の実施例は、以下の化学構造を有する内壁上に疎水性被覆材を有する容器である:SiwOxCyHz(w、x、y、およびzは事前定義済み)。当該被覆材は、類似組成の潤滑被覆材に関する説明通りに、しかし未処理基板と比較して高い接触角を有する疎水性表面を生成するのに効果的な条件下で、生成される。 VII.B.1.a. Another example is a container having a hydrophobic coating on the inner wall having the following chemical structure: Si w O x C y H z (w, x, y, and z) Is predefined). The coating is produced as described for a lubricating coating of similar composition, but under conditions effective to produce a hydrophobic surface with a high contact angle compared to an untreated substrate.

VII.B.1.a. 実施例VII.A.1.a.iiに関して、当該基板はガラスまたはポリマーからなる。当該ガラスは、随意にホウケイ酸ガラスである。当該ポリマーは、随意にポリカーボネートポリマー、随意にオレフィン重合体、随意に環状オレフィン共重合体、随意にポリプロピレンポリマー、随意にポリエステルポリマー、随意にテレフタル酸ポリエチレンポリマーである。               VII.B.1.a. For Example VII.A.1.a.ii, the substrate consists of glass or polymer. The glass is optionally a borosilicate glass. The polymer is optionally a polycarbonate polymer, optionally an olefin polymer, optionally a cyclic olefin copolymer, optionally a polypropylene polymer, optionally a polyester polymer, optionally a polyethylene terephthalate polymer.

VII.B.1.a.別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、および潤滑層を含むシリンジである。当該シリンジバレルは、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を含有する。当該潤滑層は当該シリンジバレル内面上に付着され、SiwOxCyHz潤滑層の被覆材を含む。当該潤滑層は1000nm未満の層厚であり、起動力またはバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。 当該プランジャースライド力の減少は、あるいは当該バレル内での当該プランジャーのスライド摩擦係数の減少または当該プランジャー力の減少(これらの用語は本明細書内において同義であると見なす)として表現される。 VII.B.1.a. Another example is a syringe that includes a plunger, a syringe barrel, and a lubrication layer. The syringe barrel contains an inner surface that slidably receives the plunger. The lubricating layer is deposited on the syringe barrel inner surface and includes a Si w O x C y H z lubricating layer coating. The lubricating layer has a layer thickness of less than 1000 nm and is effective in reducing the starting force or plunger sliding force required to move the plunger within the barrel. The decrease in the plunger sliding force is expressed as a decrease in the sliding friction coefficient of the plunger within the barrel or a decrease in the plunger force (these terms are considered to be synonymous herein). The

VII.B.1.a.図50〜51の当該シリンジ544は、プランジャー546およびシリンジバレル548からなる。当該シリンジバレル548は、当該プランジャー546をスライド可能に収受する内面552を有する。さらに当該シリンジバレル548の内面552は、SiwOxCyHzの潤滑性被覆材554からなる。当該潤滑層は1000nm未満、随意に500nm未満、随意に200nm未満、随意に100nm未満、随意に50nm未満の層厚であり、保管後のプランジャーの付着状態を打開するのに必要な起動力、または起動後にバレル内でプランジャーを移動させるのに必要なプランジャースライド力を減少させるのに効果的である。当該潤滑性被覆材は、当該非被覆表面より低いプランジャースライド力または起動力を有することにより、特徴付けられる。 VII.B.1.a. The syringe 544 of FIGS. 50-51 consists of a plunger 546 and a syringe barrel 548. The syringe barrel 548 has an inner surface 552 that slidably receives the plunger 546. Further, the inner surface 552 of the syringe barrel 548 is made of a lubricating coating material 554 of Si w O x C y H z . The lubricating layer has a layer thickness of less than 1000 nm, optionally less than 500 nm, optionally less than 200 nm, optionally less than 100 nm, optionally less than 50 nm, and the starting force necessary to overcome the adhesion state of the plunger after storage, Or it is effective in reducing the plunger sliding force required to move the plunger within the barrel after activation. The lubricity coating is characterized by having a lower plunger sliding force or activation force than the uncoated surface.

VII.B.1.a.上記いずれかの前駆体を単体で、または2種以上の複合体で使用して潤滑性被覆材を提供可能である。               VII.B.1.a. Any of the above precursors can be used alone or in a composite of two or more to provide a lubricity coating.

VII.B.1.a.真空処理の利用に加えて、低温度大気(非真空)プラズマ処理も利用して、好ましくはヘリウムまたはアルゴンなど非酸化大気において、前駆体モノマー蒸気供給を通しての分子イオン化および堆積を誘導可能である。個別に、温熱性CVDを閃光熱分解堆積経由で検討可能である。               VII.B.1.a. In addition to using vacuum processing, low temperature atmospheric (non-vacuum) plasma processing is also used, preferably in a non-oxidizing atmosphere such as helium or argon, through molecular ionization through a precursor monomer vapor supply And can induce deposition. Individually, thermal CVD can be studied via flash pyrolysis deposition.

VII.B.1.a.上記アプローチは、当該表面被覆および交差結合機構が同時に生じる可能性がある真空PECVDに類似する。               VII.B.1.a. The above approach is similar to vacuum PECVD where the surface coating and cross-linking mechanism can occur simultaneously.

VII.B.1.a.いかなる被覆材または本明細書に記載の被覆材に関するまた別の考えられる手段として、容器の内部88全体に不均一に塗布される被覆材が挙げられる。例えば、異なるまたは追加の被覆材を、選択的に当該容器内部のシリンダー状部分へと塗布し、当該容器内部の閉口端84にある半球状部分と比較する、またはその逆が可能である。本手段は特に、以下に記述するシリンジバレルまたは検体採取管に関して考えられる。当該シリンジバレルにおいて、当該プランジャーまたはピストンまたは閉包部がスライドするが別箇所はスライドしない当該バレルのシリンダー状部分の一部または全部に、潤滑性表面を提供可能である。               VII.B.1.a. Another possible means for any dressing or dressing described herein includes a dressing that is applied non-uniformly throughout the interior 88 of the container. For example, different or additional dressings can be selectively applied to the cylindrical part inside the container and compared to the hemispherical part at the closed end 84 inside the container, or vice versa. This means is particularly conceivable for the syringe barrel or specimen collection tube described below. In the syringe barrel, a lubricious surface can be provided on part or all of the cylindrical portion of the barrel in which the plunger or piston or closure closes but does not slide elsewhere.

VII.B.1.a.随意に当該前駆体は、酸素の存在下、実質的非存在下、または非存在下で、またはの窒素の存在下、実質的非存在下、または非存在下で、または搬送ガスの存在下、実質的非存在下、または非存在下で、提供可能である。考えられる一実施例において、当該前駆体単体を当該基板へと搬送し、PECVDを施し被覆材を塗布・硬化する               VII.B.1.a. Optionally, the precursor is in the presence, substantial absence, or absence of oxygen, or in the presence, substantial absence, or absence of nitrogen. Or in the presence, substantial absence, or absence of a carrier gas. In one possible embodiment, the precursor alone is transferred to the substrate, PECVD is applied, and the coating is applied and cured.

VII.B.1.a.随意に、当該前駆体を絶対圧が1トール未満である環境へと提供する。               VII.B.1.a. Optionally, the precursor is provided to an environment where the absolute pressure is less than 1 Torr.

VII.B.1.a.随意に、当該前駆体をプラズマ発光付近の環境へと提供する。               VII.B.1.a. Optionally, the precursor is provided to the environment near the plasma emission.

VII.B.1.a.随意に、当該前駆体およびその反応生成物を当該基板へと1〜5000nm、または10〜1000nm、または10〜200nm、または20〜100nmの層厚で塗布する。               VII.B.1.a. Optionally, the precursor and its reaction product are applied to the substrate with a layer thickness of 1 to 5000 nm, or 10 to 1000 nm, or 10 to 200 nm, or 20 to 100 nm.

VII.B.1.a.上記実施例のいずれにおいても、当該基板はガラスまたは、例えば1種以上のポリカーボネートポリマー、オレフィン重合体(例えば環状オレフィン共重合体またはポリプロピレンポリマー)、ポリエステルポリマー(例えばテレフタル酸ポリエチレンポリマー)といったポリマーからなる場合がある。               VII.B.1.a. In any of the above embodiments, the substrate can be glass or, for example, one or more polycarbonate polymers, olefin polymers (eg, cyclic olefin copolymers or polypropylene polymers), polyester polymers (eg, terephthalate). It may be made of a polymer such as (acid polyethylene polymer).

VII.B.1.a.上記実施例のいずれにおいても、本記述で定義するRF周波数を動力源とする電極を有する当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより、当該プラズマを生成する。               VII.B.1.a. In any of the above examples, the plasma is produced by pressurizing the gaseous reactant comprising the precursor having an electrode powered by an RF frequency as defined herein. Is generated.

VII.B.1.a.上記実施例のいずれにおいても、潤滑性被覆材の生成に十分な電力の供給を受ける電極を有する当該前駆体を包含する当該ガス状反応物を加圧することにより、当該プラズマを生成する。随意に、当該プラズマは0.1〜25W、好ましくは1〜22W、より好ましくは3〜17W、さらにより好ましくは5〜14W、最も好ましくは7〜11W、特に8Wの電力供給を受ける電極を有する前駆体を包含するガス状反応物質を加圧することにより、生成する。当該電極電力の対プラズマ量比は10 W/ml未満であり、好ましくは5W/ml〜0.1W/ml、より好ましくは4W/ml〜0.1W/ml、最も好ましくは2W/ml〜0.2W/mlである場合がある。当該電力レベルは、シリンジや検体管、およびその内部でPECVDプラズマが生成され1〜3mLの空隙容量を有する類似形状容器への、潤滑性被覆材の塗布に適している。より大きいまたはより小さい物体については、当該基板サイズの処理に従い、適用電力を適宜に増加または減少させるべきであると考えられる。               VII.B.1.a.In any of the above examples, by pressurizing the gaseous reactant comprising the precursor having an electrode that is supplied with sufficient power to produce a lubricious coating, The plasma is generated. Optionally, the plasma is a precursor having an electrode that receives a power supply of 0.1 to 25 W, preferably 1 to 22 W, more preferably 3 to 17 W, even more preferably 5 to 14 W, most preferably 7 to 11 W, especially 8 W. It is produced by pressurizing a gaseous reactant containing The electrode power to plasma volume ratio is less than 10 W / ml, preferably 5 W / ml to 0.1 W / ml, more preferably 4 W / ml to 0.1 W / ml, most preferably 2 W / ml to 0.2 W / ml. May be ml. This power level is suitable for applying a lubricious coating to syringes and specimen tubes and similarly shaped containers in which PECVD plasma is generated and has a void volume of 1 to 3 mL. For larger or smaller objects, it is believed that the applied power should be increased or decreased accordingly as the substrate size is processed.

VII.B.1.a.被覆材の重合、交差結合またはまたはその両方により当該被覆材を硬化して、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減させる潤滑表面を生成可能である。硬化は、例えばPECVDといった当該塗布処理の間に起こる可能性があり、または別処理により実行されるまたは少なくとも完了される場合がある。               VII.B.1.a. Lubrication that cures the coating by polymerization, cross-linking or both, reducing the “plunger sliding force” or “starting force” compared to the untreated substrate. A surface can be generated. Curing can occur during the coating process, eg, PECVD, or can be performed or at least completed by a separate process.

VII.B.1.a.当該被覆材の特性を明示するため本書ではプラズマ堆積を使用しているが、当該出発物質の化学的組成を維持し当該底部基板に付着する間断ない膜を堆積することが可能である限り、別の堆積方法を使用可能である。               VII.B.1.a. This document uses plasma deposition to demonstrate the properties of the coating, but deposits a continuous film that maintains the chemical composition of the starting material and adheres to the bottom substrate. Alternative deposition methods can be used as long as it is possible.

VII.B.1.a.例えば、当該被覆材の噴霧または当該基板の当該被覆材への浸漬により、当該被覆材原料を(流体状態から)当該シリンジバレル上に塗布可能であり、その場合、当該被覆材は当該純前駆体または溶媒希釈前駆体(より薄い被覆材の機械的堆積を可能とする)のいずれかである。当該被覆材は随意に、温熱性エネルギー、UVエネルギー、電子光線エネルギー、プラズマエネルギー、またはこれらの複合体を利用して交差結合可能である。               VII.B.1.a. For example, the coating material can be applied (from the fluid state) onto the syringe barrel by spraying the coating material or immersing the substrate in the coating material, The dressing is either the pure precursor or a solvent diluted precursor (allowing mechanical deposition of thinner dressings). The coating can optionally be cross-linked using thermal energy, UV energy, electron beam energy, plasma energy, or a composite thereof.

VII.B.1.a.上述のケイ素前駆体の表面への塗布とその後の個別の硬化手順もまた、考えられる。塗布および硬化の当該条件は、商標TriboGlide(登録商標)の下で実践される処理である、被覆前ポリフルオロアルキルエーテルの当該大気プラズマ硬化に使用されているものと、類似している場合がある。本処理の詳細については、http://www.triboglide.com/process.htmを参照されたい。               VII.B.1.a. Application of the above silicon precursor to the surface and subsequent individual curing procedures are also conceivable. The conditions of application and curing may be similar to those used for the atmospheric plasma curing of pre-coated polyfluoroalkyl ethers, a process practiced under the trademark TriboGlide®. . For details of this process, refer to http://www.triboglide.com/process.htm.

VII.B.1.a.かかる処理において、被覆対象部位の領域を随意に大気プラズマで前処理可能である。本前処理により当該表面がが浄化および活性化されるため、次手順で噴霧される当該潤滑剤を受容可能となる。               VII.B.1.a. In such a process, the area of the area to be coated can optionally be pretreated with atmospheric plasma. Since the surface is cleaned and activated by this pretreatment, the lubricant sprayed in the following procedure can be received.

VII.B.1.a.当該潤滑性流体、この場合前述前駆体または重合前駆体の1つを、その後処理対象表面に噴霧する。例えば、IVEK精密分配技術を使用して、当該流体を正確に霧化し均一な被覆材を創出可能である。               VII.B.1.a. The lubricating fluid, in this case one of the aforementioned precursors or polymerization precursors, is then sprayed onto the surface to be treated. For example, IVEK precision dispensing technology can be used to accurately atomize the fluid to create a uniform coating.

VII.B.1.a.その後当該被覆材を、再度大気中プラズマ場を利用して、当該部分へと結合または交差結合する。これにより、当該被覆材を固定し当該潤滑剤のパフォーマンスを改善できる。               VII.B.1.a. The coating is then bonded or cross-bonded to the part again using the atmospheric plasma field. Thereby, the said coating | covering material can be fixed and the performance of the said lubricant can be improved.

VII.B.1.a. 随意に、当該大気プラズマを当該容器内の環境大気から生成可能であり、その場合、ガス供給装置および真空化装置は不要である。しかしながら当該容器は好ましくは、当該電力要件を最小限とし当該プラズマの当該容器外部の表面・素材への接触を防止するため、少なくともプラズマ生成中は実質上閉口である。                 VII.B.1.a. Optionally, the atmospheric plasma can be generated from the ambient atmosphere in the vessel, in which case the gas supply and vacuuming devices are not required. However, the vessel is preferably substantially closed, at least during plasma generation, to minimize the power requirements and prevent the plasma from contacting the surface / material outside the vessel.

VII.B.1.a.i. 潤滑性被覆材:SiOx遮断層、潤滑層、表面処理
表面処理
VII.B.1.a.i.別の実施例は、内腔を定義するバレルからなり、プランジャーをスライド可能に収受する、すなわち当該内面へのスライド接触のためのプランジャーを収受する、内面を有するシリンジである。
VII.B.1.ai Lubricious coating: SiO x barrier layer, lubrication layer, surface treatment surface treatment
VII.B.1.ai Another embodiment comprises a barrel defining a lumen and having an inner surface that slidably receives a plunger, i.e., receives a plunger for sliding contact with the inner surface. Syringe.

VII.B.1.a.i.当該シリンジバレルは、熱可塑性基材を原料とする。               VII.B.1.a.i. The syringe barrel is made from a thermoplastic base material.

VII.B.1.a.i.随意に、本明細書内別箇所で説明する通り、当該バレル内面をSiOx遮断層で被覆する。 VII.B.1.ai Optionally, the inner surface of the barrel is coated with a SiO x barrier layer as described elsewhere herein.

VII.B.1.a.i.潤滑性被覆材を、バレル内面、プランジャー、または両方、または先に塗布されたSiOx遮断層に塗布する。当該潤滑層を、実施例 VII.B.1.aまたは本明細書内別箇所で定義するとおりに提供、塗布または硬化可能である。 Apply the VII.B.1.ai lubricity coating to the barrel inner surface, the plunger, or both, or the previously applied SiO x barrier layer. The lubricating layer can be provided, applied or cured as defined in Example VII.B.1.a or elsewhere herein.

VII.B.1.a.i.例えば当該潤滑性被覆材は、あらゆる実施例において、PECVDにより塗布される場合がある。当該潤滑性被覆材は有機ケイ素前駆体を原料として堆積され、層厚1000nm未満である。               VII.B.1.a.i. For example, the lubricity coating may be applied by PECVD in any embodiment. The lubricity coating material is deposited using an organosilicon precursor as a raw material and has a layer thickness of less than 1000 nm.

VII.B.1.a.i.潤滑性被覆材上での表面処理を、潤滑性被覆材、熱可塑性基材、または両方の浸出または抽出物を低減させるのに効果的な量で、実行する。当該処理表面は、したがって溶質保持部材として機能する。本表面処理は結果としてスキン塗となる、例えば1nm以上の層厚、100nm未満の層厚、または50nm未満の層厚、または40nm未満の層厚、または30nm未満の層厚、または20nm未満の層厚、または10nm未満の層厚、または5nm未満の層厚、または3nm未満の層厚、または2nm未満の層厚、または1nm未満の層厚、または0.5nm未満の層厚のスキン塗となる可能性がある。               VII.B.1.a.i. Surface treatment on the lubricity coating is performed in an amount effective to reduce leaching or extract of the lubricity coating, thermoplastic substrate, or both. The treated surface thus functions as a solute retaining member. This surface treatment results in a skin coating, e.g. a layer thickness of 1 nm or more, a layer thickness of less than 100 nm, or a layer thickness of less than 50 nm, or a layer thickness of less than 40 nm, or a layer thickness of less than 30 nm, or a layer of less than 20 nm Can be a skin coating with a thickness of less than 10 nm, or less than 5 nm, or less than 3 nm, or less than 2 nm, or less than 1 nm, or less than 0.5 nm There is sex.

本書で使用される「浸出」とは、例えば容器壁といった基板から例えばシリンジといった容器の含有物への、物質の搬送を指す。一般に浸出物は、意図する含有物で充填された当該容器を保管し、その後当該含有物を分析して当該容器壁から意図する含有物へと浸出した物質を判定することにより、測定する。「抽出」とは、当該容器の意図する含有物の他に溶媒または分散媒質を導入して当該試験条件下で当該基板から抽出媒質へと除去可能な物質を判定することによる、基板からの物質の除去を指す。               As used herein, “leaching” refers to the transfer of a substance from a substrate, such as a container wall, to the contents of a container, such as a syringe. In general, leachables are measured by storing the container filled with the intended inclusions and then analyzing the inclusions to determine the substances that have leached from the container walls into the intended inclusions. “Extraction” refers to a substance from a substrate by introducing a solvent or dispersion medium in addition to the intended contents of the container and determining the substance that can be removed from the substrate to the extraction medium under the test conditions. Refers to the removal.

VII.B.1.a.i.随意に溶質保持部材をもたらす表面処理は、各々本明細書で既に定義済みであるSiOxまたはSiwOxCyHz覆材である可能性がある。一実施例において、当該表面処理はSiOxまたはSiwOxCyHzのPECVD堆積により塗布可能である。随意に、当該潤滑層の生成で使用するものより高い電力、より強い酸化条件、または両方を使用して、当該表面処理を塗布可能であり、したがってより硬質、薄肉、継続的な溶質保持部材539を提供可能である。 表面処理は、当該潤滑性被覆材の深部100nm未満、随意に50nm未満、随意に40nm未満、随意に30nm未満、随意に20nm未満、随意に10nm未満、随意に5nm未満、随意に3nm未満、随意に1nm未満、随意に0.5nm未満、随意に0.1〜50nmである場合がある。 Surface treatment to VII.B.1.ai optionally bring solute retention member is SiO x or Si w O x C y be a H z covering material is already defined respectively herein. In one embodiment, the surface treatment can be applied by PECVD deposition of SiO x or Si w O x C y H z . Optionally, the surface treatment can be applied using higher power, stronger oxidation conditions, or both than those used in generating the lubrication layer, and thus a harder, thinner, continuous solute retention member 539. Can be provided. Surface treatment is less than 100 nm deep, optionally less than 50 nm, optionally less than 40 nm, optionally less than 30 nm, optionally less than 20 nm, optionally less than 20 nm, optionally less than 10 nm, optionally less than 5 nm, optionally less than 3 nm, optionally May be less than 1 nm, optionally less than 0.5 nm, optionally 0.1 to 50 nm.

VII.B.1.a.i.当該溶質保持部材は、当該下層潤滑性および必要に応じて当該基板を含むその他の層に対して、低い溶質浸出性を提供すると考えられる。 本保持部材は、ガス(O2/N2/CO2/水蒸気)遮断層ではなく、溶質大分子およびオリゴマー(例えば、HMDSO、OMCTSといったシロキサンモノマー、それらの断片および潤滑剤由来の移動性オリゴマー、例えば「浸出物保持部材」)に対する溶質保持部材であることのみが求められる。溶質保持部材は、しかしながら、ガス遮断膜(例えば本発明に記載のSiOx被覆材)である可能性もある。真空または大気中PECVD処理により、ガス遮断性を伴わない良好な浸出物保持部材を創出可能である。当該「浸出物遮断膜」が十分に薄肉であることが望ましく、シリンジプランジャーの移動については、当該プランジャーがスライド式プランジャー突起を直下の潤滑層に曝露しながら「溶質保持部材」へ容易に侵入し、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低下させる潤滑表面を生成する。 VII.B.1.ai It is believed that the solute retention member provides low solute leaching properties for the lower layer lubricity and, if necessary, other layers including the substrate. This holding member is not a gas (O 2 / N 2 / CO 2 / water vapor) barrier layer, but a solute large molecule and an oligomer (for example, siloxane monomers such as HMDSO, OMCTS, fragments thereof and a mobile oligomer derived from a lubricant, For example, it is only required to be a solute holding member for “exudate holding member”). However, the solute holding member may be a gas barrier film (for example, the SiOx coating material described in the present invention). A good exudate-holding member without gas barrier properties can be created by vacuum or atmospheric PECVD treatment. It is desirable that the “exudate blocking film” is sufficiently thin, and the syringe plunger can be easily moved to the “solute holding member” while exposing the sliding plunger protrusion to the lubricating layer directly below. To create a lubricated surface that reduces the “plunger sliding force” or “starting force” compared to an untreated substrate.

VII.B.1.a.i.別の実施例において、プラズマ環境における当該表面の酸素への曝露のように、以前塗布した潤滑層の表面の酸化により実施可能である。本明細書で説明する当該プラズマ環境を使用して、SiOx被覆材を成形可能である。または、酸素環境において大気プラズマ条件を利用可能である。 VII.B.1.ai In another embodiment, this can be done by oxidation of the surface of the previously applied lubricant layer, such as exposure of the surface to oxygen in a plasma environment. The plasma environment described herein can be used to form a SiO x coating. Alternatively, atmospheric plasma conditions can be utilized in an oxygen environment.

VII.B.1.a.i.当該潤滑層および溶質保持部材は、しかしながら成形され、随意に、同時に硬化可能である。別の実施例において、当該潤滑層は少なくとも一部を硬化可能であり、随意に全体を硬化可能であり、その後、当該表面処理を提供・塗布可能および当該溶質保持部材を硬化可能である。               VII.B.1.a.i. The lubrication layer and the solute retention member are, however, shaped and optionally curable simultaneously. In another embodiment, the lubrication layer can be at least partially curable, optionally curable entirely, after which the surface treatment can be provided and applied and the solute retention member can be cured.

VII.B.1.a.i.当該潤滑性被覆材および溶質保持部材は、起動力、プランジャースライド力、または両方を、潤滑性被覆材および表面処理なしの場合と比べて低下させるよう構成し、効果的な量で提供する。 言い換えれば、当該溶質保持部材の層厚および組成は、当該潤滑層からの物質の当該シリンジ含有物への浸出を低下させ、当該下層潤滑性被覆材で当該プランジャーを潤滑化するためのものである。当該溶質保持部材は容易に剥離し、当該潤滑層は当該プランジャーの移動を潤滑化する機能を果たすのに十分な薄さであることが、考えられる。               VII.B.1.ai The lubricity coating and solute retaining member are configured to reduce the starting force, plunger sliding force, or both compared to the case without lubrication coating and surface treatment, and the effect In reasonable quantities. In other words, the layer thickness and composition of the solute retention member are intended to reduce leaching of the substance from the lubrication layer into the syringe-containing material and lubricate the plunger with the lower lubricity coating. is there. It is conceivable that the solute retaining member peels off easily and the lubricating layer is thin enough to fulfill the function of lubricating the movement of the plunger.

VII.B.1.a.i.考えられる一実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該バレル内面に塗布可能である。考えられる別の実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該プランジャーに塗布可能である。考えられるまた別の実施例において、当該潤滑性処理および表面処理は、当該バレル内面とプランジャーの両方に塗布可能である。当該実施例のいずれかにおいて、当該シリンジバレル内部のオプションSiOx遮断層は存在または非存在である可能性がある。 VII.B.1.ai In one possible embodiment, the lubricity treatment and surface treatment can be applied to the inner surface of the barrel. In another contemplated embodiment, the lubricity treatment and surface treatment can be applied to the plunger. In yet another possible embodiment, the lubricity treatment and surface treatment can be applied to both the barrel inner surface and the plunger. In any of the examples, the optional SiO x barrier layer inside the syringe barrel may be present or absent.

VII.B.1.a.i.考えられる一実施例は、当該シリンジバレルの内面に塗布する複数層(例えば3層)設定である。層1は、酸化性大気内でMDSO、OMCTSまたは両方のPECVDにより生成されるSiOxガス遮断膜である場合がある。かかる大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのHMDSOおよび酸素ガスの供給により、提供可能である。層2は、非酸化性大気内で塗布するOMCTSを使用する潤滑層である場合がある。かかる非酸化性大気は例えば、本明細書に記載のPECVD被覆装置へのOMCTSの供給により、随意に実質上または完全な酸素非存在下で、提供可能である。二次溶質保持部材を、SiOxまたはSiwOxCyHzの表面薄層を生成する処理により、OMCTSおよび/またはHMDSOを使用してより高い電力と酸素を使用する溶質保持部材として、成形可能である。 VII.B.1.ai One possible embodiment is a multi-layer (eg, three-layer) setting that is applied to the inner surface of the syringe barrel. Layer 1 may be a SiO x gas barrier film produced by MDSO, OMCTS or both PECVD in an oxidizing atmosphere. Such air can be provided, for example, by supplying HMDSO and oxygen gas to the PECVD coating apparatus described herein. Layer 2 may be a lubricating layer using OMCTS applied in a non-oxidizing atmosphere. Such a non-oxidizing atmosphere can be provided, for example, by supplying OMCTS to the PECVD coating apparatus described herein, optionally in the substantial or complete absence of oxygen. As a solute holding member that uses higher power and oxygen using OMCTS and / or HMDSO by processing the secondary solute holding member to produce a thin layer of SiO x or Si w O x C y H z , It can be molded.

VII.B.1.a.i.特定の当該複数層被覆材は、少なくともある程度、以下の1つ以上のオプション利点を有していると考えられる。当該溶質保持部材は当該内部ケイ素を収容し当該シリンジの含有物または別箇所へと移動するのを防止する可能性があるため、それらにより報告されているケイ素取扱い困難性に対処できる可能性がある。その結果、当該可能な当該シリンジの含有物内のケイ素粒子が減少し、当該潤滑性被覆材と当該シリンジの含有物との間の相互作用の機会が低下する。また、当該潤滑層が潤滑点から離れて移動する問題に対処して、当該シリンジバレルと当該プランジャーの間の界面の潤滑性を改善できる可能性がある。例えば、当該打破力が低下し、当該移動プランジャー上の抗力が低下し、随意に両方が低下する場合がある。               VII.B.1.a.i. Certain such multi-layer coatings are believed to have at least some of the following one or more optional advantages. Since the solute holding member may contain the internal silicon and prevent it from moving to the contents of the syringe or to another location, it may be able to cope with the silicon handling difficulties reported by them. . As a result, the silicon particles in the possible syringe contents are reduced, reducing the opportunity for interaction between the lubricity coating and the syringe contents. Moreover, the lubricity of the interface between the syringe barrel and the plunger may be improved by addressing the problem of the lubrication layer moving away from the lubrication point. For example, the breaking force may be reduced, the drag on the moving plunger may be reduced, and both may optionally be reduced.

VII.B.1.a.i.当該溶質保持部材が破損している場合、当該溶質保持部材は該潤滑性被覆材および当該シリンジバレルへと付着し続け、いかなる粒子の当該シリンジの搬送可能含有物内への取り込みを阻害する可能性がある、と考えられる。               VII.B.1.ai If the solute retention member is damaged, the solute retention member continues to adhere to the lubricity coating and the syringe barrel, and any particles into the syringe transportable contents It is thought that there is a possibility of inhibiting the uptake of.

VII.B.1.a.i.また、特定の当該被覆材は製造上の利点を、特に当該遮断性被覆材、潤滑性被覆材、および表面処理が当該同一装置、例えば当該図示するPECVD装置において塗布される場合に、提供する。随意に、当該SiOx遮断性被覆、潤滑性被覆、および表面処理はすべて1つのPECVD装置において適用可能であり、したがって取扱い要件が大幅に削減される。 VII.B.1.ai Certain such coatings also have manufacturing advantages, in particular the barrier coatings, lubricity coatings, and surface treatments applied in the same equipment, eg the PECVD equipment shown. To provide. Optionally, the SiO x barrier coating, lubricity coating, and surface treatment are all applicable in one PECVD apparatus, thus greatly reducing handling requirements.

当該遮断性被覆材、潤滑性被覆材、および溶質保持部材を当該同一前駆体を使用して生成することにより、および当該処理を修正することにより、さらなる利点を取得可能である。例えば、SiOxガス遮断層は高電力/高O2の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、そして潤滑層は低電力および/または実質上または完全な無酸素の条件下でlOMCTS前駆体を使用して塗布可能となり、最後に表面処理は中間電力および酸素の条件下でOMCTS前駆体を使用して塗布可能となる。 Further advantages can be obtained by producing the barrier coating, lubricity coating, and solute retention member using the same precursor and by modifying the process. For example, the SiO x gas barrier layer can be applied using OMCTS precursors under high power / high O 2 conditions and the lubrication layer can be lOMCTS under low power and / or substantially or completely oxygen-free conditions. The precursor can be applied using a precursor, and finally the surface treatment can be applied using an OMCTS precursor under conditions of intermediate power and oxygen.

VII.B.1.b SiOX層被覆内部および遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジ
VII.B.1.b.図50に図示するさらなる別の実施例は、プランジャー546、バレル548、内部および外部遮断性被覆材554および602を含むシリンジ544である。当該バレル548は、内腔604を定義する熱可塑性基材を原料とする場合がある。当該バレル548は、プランジャー546をスライド可能に収受する内面552と、外面606を有する場合がある。SiOx製(xは約1.5〜約2.9)の遮断性被覆材554が当該バレル548の内面552に提供される場合がある。樹脂製の遮断性被覆材602を当該バレル548の外面606に提供する場合がある。
VII.B.1.b Syringe with barrel with SiO X layer coating inside and barrier layer coating outside
VII.B.1.b. Yet another embodiment illustrated in FIG. 50 is a syringe 544 that includes a plunger 546, a barrel 548, and inner and outer barrier coverings 554 and 602. The barrel 548 may be made from a thermoplastic base material that defines the lumen 604. The barrel 548 may have an inner surface 552 that slidably receives the plunger 546 and an outer surface 606. A barrier coating 554 made of SiO x (x being about 1.5 to about 2.9) may be provided on the inner surface 552 of the barrel 548. In some cases, a resin barrier covering material 602 is provided on the outer surface 606 of the barrel 548.

VII.B.1.b.あらゆる実施例において、当該熱可塑性基材は随意に、ポリプロピレンまたは環状オレフィン共重合体(例:商標TOPAS(登録商標)の下で販売される素材)といったポリオレフィン、テレフタル酸ポリエチレンやポリカーボネート(例:ビスフェノールA ポリカーボネート熱可塑性素材またはその他の素材)といったポリエステルを含む場合がある。いずれか1つの素材を外層として、同一または異なる素材を内層として有する、合成シリンジバレルが考えられる。本明細書内別箇所で記述する当該合成シリンジバレルまたは検体管の素材の組合せも、使用可能である。               VII.B.1.b. In all embodiments, the thermoplastic substrate is optionally a polyolefin such as polypropylene or a cyclic olefin copolymer (eg, a material sold under the trademark TOPAS®), terephthalate May include polyesters such as acid polyethylene and polycarbonate (eg, bisphenol A polycarbonate thermoplastic or other materials). A synthetic syringe barrel having any one material as an outer layer and the same or different material as an inner layer is conceivable. Combinations of the synthetic syringe barrel or sample tube materials described elsewhere herein may also be used.

VII.B.1.b.あらゆる実施例において、当該樹脂は随意に、単独重合体または共重合体の形態のポリ塩化ビニリデンを含む場合がある。例えば、参照することにより本書に組み込まれる米国特許6,165,566番に記載の、PvDC単独重合体(慣用名:サラン)または共重合体を利用可能である。当該樹脂を随意に、ラテックスまたはその他の分散形態で、当該バレルの外面に塗布する場合がある。               VII.B.1.b. In any embodiment, the resin may optionally comprise polyvinylidene chloride in the form of a homopolymer or copolymer. For example, a PvDC homopolymer (common name: Saran) or a copolymer described in US Pat. No. 6,165,566, which is incorporated herein by reference, can be used. The resin may optionally be applied to the outer surface of the barrel in latex or other dispersed form.

VII.B.1.b.あらゆる実施例において、当該シリンジバレル548には随意に、プランジャーおよび遮断性SiOx被覆材の間に配置される潤滑性被覆材が含まれる場合がある。適切な潤滑性被覆材を本明細書内別箇所で記述している。 VII.B.1.b. In any embodiment, the syringe barrel 548 may optionally include a lubricity coating disposed between the plunger and the barrier SiO x coating. Suitable lubricity coatings are described elsewhere in this specification.

VII.B.1.b.あらゆる実施例において、当該潤滑性被覆材は随意にPECVDにより塗布される場合があり、 随意に組成SiwOxCyHzを有する材質を含む場合がある。 VII.B.1.b. In any embodiment, the lubricity coating may optionally be applied by PECVD and may optionally include a material having the composition Si w O x C y H z .

VII.B.1.b.あらゆる実施例において、当該シリンジバレル548は随意に、潤滑性被覆材を覆う表面処理を、潤滑性被覆材、熱可塑性基材、または両方の浸出を低減させるのに効果的な量で、含む場合がある。               VII.B.1.b. In any embodiment, the syringe barrel 548 optionally includes a surface treatment covering the lubricity coating to reduce leaching of the lubricity coating, the thermoplastic substrate, or both. Effective amount, may contain.

VII.B.1.c SiOX層被覆内部および遮断層被覆外部を伴うバレルを有するシリンジの製造方法
VII.B.1.c.さらなる本発明の別の態様は、プランジャー、バレル、内部および外部遮断性被覆材を含む、VII.B.1.b部のいかなる実施例に記載のシリンジの製造方法ある。プランジャーをスライド可能に収受する内面と、外面を有するバレルを用意する。SiOx遮断性被覆材は、PECVDにより当該バレルの外面に提供される。樹脂製の遮断性被覆材を当該バレルの外面に提供する。当該プランジャーおよびバレルを組立てることで、シリンジを用意する。
VII.B.1.c Method of manufacturing a syringe having a barrel with an SiO X layer coating interior and a barrier layer coating exterior
VII.B.1.c. Further another aspect of the present invention is the manufacture of a syringe according to any embodiment of VII.B.1.b, comprising a plunger, barrel, internal and external barrier coatings There is a way. A barrel having an inner surface for slidably receiving a plunger and an outer surface is provided. The SiO x barrier coating is provided on the outer surface of the barrel by PECVD. A resin barrier coating is provided on the outer surface of the barrel. A syringe is prepared by assembling the plunger and barrel.

VII.B.1.c.当該水性ラテックスを用いるプラスチック材の効果的な(均一湿潤)被覆として、当該ラテックスの表面張力を当該プラスチック基板へと一致させることがが有用であると考えられる。これは、例えば(界面活性剤または溶媒を用いる)当該ラテックスの表面張力の低減、および/または当該プラスチック材のコロナ前処理、および/または当該プラスチック材の化学プライミングといった、複数のアプローチを個別にまたは組合わせて達成可能である。               VII.B.1.c. As an effective (uniform wetting) coating of plastic materials using the aqueous latex, it would be useful to match the surface tension of the latex to the plastic substrate. This may involve multiple approaches such as reducing the surface tension of the latex (using a surfactant or solvent) and / or corona pretreatment of the plastic material and / or chemical priming of the plastic material individually or Can be achieved in combination.

VII.B.1.c.当該樹脂を随意に、当該バレルの外面への当該ラテックスの浸漬被覆、当該バレルの外面への当該ラテックスの噴霧被覆、または両方により塗布し、改善されたガス・蒸気遮断力をもたらすプラスチック材を提供可能である。当該非積層プラスチック材と比較して大いに優れたガス遮断力を提供する、ポリ塩化ビニリデンプラスチック積層材を生成可能である。               VII.B.1.c. An improved gas / vapor is optionally applied by dip-coating the latex on the outer surface of the barrel, spray-coating the latex on the outer surface of the barrel, or both. It is possible to provide a plastic material that provides a blocking force. It is possible to produce a polyvinylidene chloride plastic laminate that provides a much better gas barrier than the non-laminate plastic material.

VII.B.1.c.あらゆる実施例において、当該樹脂は随意に熱硬化可能である。当該樹脂は随意に 水分を除去することにより熱硬化可能である。当該樹脂の熱硬化、当該樹脂の一部真空または低湿度環境への曝露、当該樹脂の触媒的硬化、またはその他の手段により、水分を除去可能である。               VII.B.1.c. In any embodiment, the resin is optionally heat curable. The resin can be thermoset by optionally removing moisture. Moisture can be removed by thermal curing of the resin, partial exposure of the resin to a vacuum or low humidity environment, catalytic curing of the resin, or other means.

VII.B.1.c.効果的な温熱硬化スケジュールとして、最後に乾燥させてPvDC結晶化を可能とし遮断力を提供することが考えられる。一次硬化を、例えば180〜310°F(82〜154℃)の高温で実行する場合があり、もちろん当該熱可塑性基材の耐熱性により異なる。一次硬化の後の遮断力は随意に、最終硬化の後に達成される約85%の極限的遮断力である場合がある。               VII.B.1.c. As an effective thermosetting schedule, it may be possible to dry at the end to allow PvDC crystallization and provide a blocking force. The primary curing may be performed at a high temperature of, for example, 180 to 310 ° F. (82 to 154 ° C.), and of course depends on the heat resistance of the thermoplastic substrate. The blocking force after primary curing can optionally be about 85% of the ultimate blocking force achieved after final curing.

VII.B.1.c.最終硬化は、65〜75°F(18〜24℃)といった周囲温度での長期間(2週間など)から、122°F(50℃)といった高温での短期間(4時間など)までの範囲で、実行可能である。               VII.B.1.c. Final cure is from long periods at ambient temperatures such as 65-75 ° F (18-24 ° C) (eg 2 weeks) to short periods at high temperatures like 122 ° F (50 ° C) (Up to 4 hours) can be executed.

VII.B.1.c.当該PvDCプラスチック積層材は、優れた遮断力に加え、随意に無色透明、良好な光沢、耐摩耗性、印刷適性、機械的歪抵抗といった1種以上の好ましい性質を提供すると考えられる。               VII.B.1.c.In addition to excellent barrier power, the PvDC plastic laminates optionally have one or more desirable properties such as colorless and transparent, good gloss, abrasion resistance, printability, and mechanical strain resistance. It is considered to be provided.

VII.B.2. プランジャー
VII.B.2.a. 遮断性被覆ピストン前面
VII.B.2.a.別の実施例は、ピストンおよびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。当該ピストンは、前面、通常シリンダー状である側面、および後部を有しており、当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定される。当該前面は遮断性被覆材を有する。当該プッシュロッドを当該後部と係合させ、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定する。
VII.B.2. Plunger
VII.B.2.a. Front of the shielded coated piston
VII.B.2.a. Another example is a plunger for a syringe that includes a piston and a push rod. The piston has a front surface, a side surface that is generally cylindrical, and a rear portion, the side surface being configured to be movably loaded into a syringe barrel. The front surface has a barrier coating. The push rod is engaged with the rear portion and set to push the piston forward in the syringe barrel.

VII.B.2.b. 側面と接合する潤滑性被覆材
VII.B.2.b.また別の実施例は、ピストン、潤滑性被覆材、およびプッシュロッドを含むシリンジ用のプランジャーである。当該ピストンは前面、通常シリンダー状である側面、後部を有する。当該側面はシリンジバレル内に移動可能に装填するよう設定する。当該潤滑性被覆材は当該側面と接合させる。当該プッシュロッドは当該ピストン後部と係合し、シリンジバレル内で当該ピストンを押し進めるよう設定される。
VII.B.2.b. Lubricant coating to be joined to the side
VII.B.2.b. Another example is a plunger for a syringe that includes a piston, a lubricity coating, and a push rod. The piston has a front surface, a side surface that is generally cylindrical, and a rear portion. The side is set to be movably loaded into the syringe barrel. The lubricity coating material is bonded to the side surface. The push rod is set to engage the rear of the piston and push the piston forward within the syringe barrel.

VII.B.3. 2部構成シリンジおよびルアー取付部
VII.B.3.別の実施例は、プランジャー、シリンジバレル、およびルアー取付部を含むシリンジである。当該シリンジには、当該プランジャーをスライド可能に収受する内面を有するバレルが含まれる。当該ルアー取付部には、内面により定義される内部経路を有するルアーテーパーが含まれる。当該ルアー取付部はシリンジバレルとは個別の部材として成形され、カップリングによりシリンジバレルと結合する。当該ルアーテーパーの内部経路は遮断性SiOx被覆材を有する。
VII.B.3. Two-part syringe and luer attachment
VII.B.3. Another example is a syringe that includes a plunger, a syringe barrel, and a luer fitting. The syringe includes a barrel having an inner surface that slidably receives the plunger. The luer attachment includes a luer taper having an internal path defined by the inner surface. The luer attachment portion is formed as a separate member from the syringe barrel, and is coupled to the syringe barrel by coupling. The inner path of the luer taper has a barrier SiO x coating.

VII.B.3.図50〜51を参照に、当該シリンジ544は随意に、予備ルアーテーパー(非表示、従来型)上に装着されたカニューレを収受するルアーテーパー558からなるルアー取付部556を含む場合がある。当該ルアーテーパー558は、内面562により定義される内部経路560を有する。当該ルアー取付部556は随意に、シリンジバレル548とは個別の部材として成形され、カップリング564によりシリンジバレル548と結合する。図50および51に図示するとおり、本事例の当該カップリング564は、当該ルアー取付部が当該バレル548に対して少なくとも実質上耐漏出性となるよう互いに係合して固定する雄部566および雌部568を有する。当該ルアーテーパーの内面562は、SiOx遮断性被覆材570を含む場合がある。当該遮断性被覆材は層厚100 nmであり、当該ルアー取付部の内部経路への酸素の侵入を低減させるのに効果的である場合がある。当該ルアー取付部を当該シリンジバレルに係合さる前に、当該遮断性被覆材を塗布可能である。図50〜51のシリンジはまた、内部がねじ式でありカニューレの当該予備ルアーテーパーを当該テーパー558の所定の位置にロックする、オプションのロックカラー572を有する。 VII.B.3. Referring to FIGS. 50-51, the syringe 544 optionally includes a luer attachment 556 comprising a luer taper 558 for receiving a cannula mounted on a spare luer taper (not shown, conventional). May include. The luer taper 558 has an internal path 560 defined by the inner surface 562. The luer attachment 556 is optionally formed as a separate member from the syringe barrel 548 and is coupled to the syringe barrel 548 by a coupling 564. As shown in FIGS. 50 and 51, the coupling 564 of the present example includes a male portion 566 and a female portion that engage and fix each other so that the luer attachment portion is at least substantially leak resistant to the barrel 548. Part 568. The inner surface 562 of the luer taper may include a SiO x barrier coating 570. The barrier coating has a layer thickness of 100 nm and may be effective in reducing oxygen intrusion into the internal path of the luer attachment. The barrier covering material can be applied before the luer attachment portion is engaged with the syringe barrel. The syringe of FIGS. 50-51 also has an optional locking collar 572 that is internally threaded and locks the pre-luer taper of the cannula in place of the taper 558.

VII.B.4. 潤滑剤組成 - 原位置重合有機ケイ素前駆体を原料とする有機ケイ素前駆体から堆積される潤滑性被覆材
VII.B.4.a. 工程別および潤滑性別の生成物
VII.B.4.a.また別の実施例は、潤滑性被覆材である。本被覆材は、以下の工程により生成される種類のものである場合がある。
VII.B.4. Lubricant composition-Lubricant coatings deposited from organosilicon precursors based on in situ polymerized organosilicon precursors
VII.B.4.a. Products by process and lubricity
VII.B.4.a. Another example is a lubricity coating. The coating material may be of a type generated by the following process.

VII.B.4.a.本明細書内別箇所で述べるあらゆる当該前駆体を、単体でまたは複合体で使用可能である。当該前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。               VII.B.4.a. Any such precursor described elsewhere herein may be used alone or in a complex. The precursor is applied to the substrate under conditions effective to produce a coating material. The dressing is polymerized, cross-linked, or both, and produces a lubricated surface that reduces “plunger sliding force” or “starting force” compared to an untreated substrate.

VII.B.4.a.別の実施例は、潤滑性被覆材を塗布する方法である。有機ケイ素前駆体を、被覆材生成に効果的な条件下で基板へと塗布する。当該被覆材は、重合、交差結合、またはその両方の状態であり、未処理基板と比較して「プランジャースライド力」または「起動力」を低減する潤滑表面を生成する。               VII.B.4.a. Another embodiment is a method of applying a lubricity coating. The organosilicon precursor is applied to the substrate under conditions effective to produce a coating material. The dressing is polymerized, cross-linked, or both, and produces a lubricated surface that reduces “plunger sliding force” or “starting force” compared to an untreated substrate.

VII.B.4.b. 工程別および分析特性別の生成物
VII.B.4.b.さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、好ましくは有機ケイ素前駆体からなる、好ましくは線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。当該被覆材の密度は、X線反射率(XRR)により決定される通り、1.25〜1.65g/cm3、随意に1.35〜1.55g/cm3、随意に1.4〜1.5g/cm3、随意に1.44〜1.48g/cm3である。
VII.B.4.b. Products by process and analytical characteristics
VII.B.4.b. Further another aspect of the present invention is that it comprises an organometallic precursor, preferably an organosilicon precursor, preferably linear siloxane, linear silazane, monocyclic siloxane, monocyclic silazane. A lubricious coating deposited by PECVD from a feed gas consisting of polycyclic siloxane, polycyclic silazane, or a composite of two or more of these. Density of the coating material, as determined by X-ray reflectivity (XRR), 1.25~1.65g / cm 3 , optionally 1.35~1.55g / cm 3, optionally 1.4~1.5g / cm 3, optionally 1.44 to 1.48 g / cm 3 .

VII.B.4.b.さらなる本発明の別の態様は、有機金属前駆体からなる、好ましくは有機ケイ素前駆体からなる、好ましくは線状シロキサン、線状シラザン、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。当該被覆材は、ガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、ガス放出成分、反復-(Me)2SiO- 部分を含む1種以上のオリゴマーを有する。随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.bのいずれかの制限を満たす。随意に、当該被覆材ガス放出成分は、ガス クロマトグラフィー/質量分析法により判定される通り、実質上トリメチルシラノールを含まない。 VII.B.4.b. Further another aspect of the present invention is that it comprises an organometallic precursor, preferably an organosilicon precursor, preferably linear siloxane, linear silazane, monocyclic siloxane, monocyclic silazane. A lubricious coating deposited by PECVD from a feed gas consisting of polycyclic siloxane, polycyclic silazane, or a composite of two or more of these. The dressing has one or more oligomers comprising a gas releasing component, a repeating-(Me) 2 SiO- moiety, as determined by gas chromatography / mass spectrometry. Optionally, the dressing meets the limitations of either Example VII.B.4.a or VII.B.4.b. Optionally, the dressing outgassing component is substantially free of trimethylsilanol as determined by gas chromatography / mass spectrometry.

VII.B.4.b.随意に、当該被覆ガス放出成分は、以下の試験条件を使用するガスクロマトグラフィー/質量分析法により判定されるとおり、反復-(Me)2SiO-部分を含む少なくとも試験あたり10ngのオリゴマーを有する。
GCカラム: 30m X 0.25mm DB-5MS(J&W Scientific)、
0.25μm膜層厚
流量: 1.0 ml/min、定流量モード
検出器: 質量選択検出器(MSD)
射出モード: 分割射出(分割率10:1)
ガス放出条件: 1 1/2インチ(37mm)チャンバ、3時間、85℃、
60 ml/分の流量でパージ
炉温度: 40℃(5分)から始め10℃/分で300℃まで加熱、
300℃を5分間保持。
VII.B.4.b.Optionally, the coated gas releasing component comprises at least a repeat- (Me) 2 SiO- moiety as determined by gas chromatography / mass spectrometry using the following test conditions: Has 10 ng oligomer per test.
GC column: 30m X 0.25mm DB-5MS (J & W Scientific),
0.25μm membrane thickness Flow rate: 1.0 ml / min, constant flow mode Detector: Mass selective detector (MSD)
Injection mode: Split injection (split ratio 10: 1)
Outgassing conditions: 1 1/2 inch (37mm) chamber, 3 hours, 85 ° C,
Purge at a flow rate of 60 ml / min. Furnace temperature: Start at 40 ° C (5 minutes) and heat to 300 ° C at 10 ° C / min.
Hold at 300 ° C for 5 minutes.

VII.B.4.b.随意に、当該ガス放出成分は、反復-(Me)2SiO-部分を含む少なくとも試験あたり20ngのオリゴマーを含む場合がある。 VII.B.4.b. Optionally, the outgassing component may comprise at least 20 ng of oligomer per test with a repeat- (Me) 2 SiO— moiety.

VII.B.4.b.随意に当該供給ガスは、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体、(例:オクタメチルシクロテトラシロキサン)からなる。               VII.B.4.b. Optionally, the feed gas is from monocyclic siloxane, monocyclic silazane, polycyclic siloxane, polycyclic silazane, or a composite of two or more thereof (eg, octamethylcyclotetrasiloxane). Become.

VII.B.4.b.あらゆる実施例の当該潤滑性被覆材は、透過電子顕微鏡法(TEM)により測定される1〜500nmの、随意に20〜200nmの、随意に20〜100nmの、随意に30〜100nmの層厚を有する。               VII.B.4.b. The lubricity coatings of all examples are optionally 1-500 nm, optionally 20-200 nm, optionally 20-100 nm, optionally measured by transmission electron microscopy (TEM). Has a layer thickness of 30-100 nm.

VII.B.4.b.本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。当該被覆材は、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化した炭素の原子濃度を有し、X線光電子分光法(XPS)により判定される通り、当該供給ガスの原子公式における炭素の原子濃度を上回る。随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.bの制限を満たす。               VII.B.4.b. Another embodiment of the present invention is deposited by PECVD from a feed gas consisting of monocyclic siloxane, monocyclic silazane, polycyclic siloxane, polycyclic silazane, or a composite of two or more thereof. Lubricant coating material. The dressing has an atomic concentration of carbon normalized to 100% carbon, oxygen, and silicon, and the atomic concentration of carbon in the atomic formula of the feed gas as determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Exceed. Optionally, the dressing meets the limitations of Example VII.B.4.a or VII.B.4.b.

VII.B.4.b.随意に、当該炭素の原子濃度は1〜80原子パーセント(実施例15のXPS条件に基づき計算)、あるいは from 10〜70原子パーセント、あるいは20〜60原子パーセント、あるいは30〜50原子パーセント、あるいは35〜45原子パーセント、あるいは37〜41原子パーセント増加する。               VII.B.4.b. Optionally, the atomic concentration of the carbon is 1-80 atomic percent (calculated based on the XPS conditions of Example 15), or from 10-70 atomic percent, alternatively 20-60 atomic percent, or Increase by 30-50 atomic percent, alternatively 35-45 atomic percent, alternatively 37-41 atomic percent.

VII.B.4.b.本発明の別の態様は、単環シロキサン、単環シラザン、多環シロキサン、多環シラザン、またはこれら2つ以上の複合体からなる供給ガスから、PECVDにより堆積される潤滑性被覆材である。当該被覆材は、100%炭素、酸素、ケイ素に正規化したケイ素の原子濃度を有し、X線光電子分光法(XPS)により判定される通り、当該供給ガスの原子公式におけるケイ素の原子濃度を下回る。随意に、当該被覆材は実施例VII.B.4.aまたはVII.B.4.bの制限を満たす。               VII.B.4.b. Another embodiment of the present invention is deposited by PECVD from a feed gas consisting of monocyclic siloxane, monocyclic silazane, polycyclic siloxane, polycyclic silazane, or a composite of two or more thereof. Lubricant coating material. The covering material has a silicon atomic concentration normalized to 100% carbon, oxygen, and silicon, and as determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), the atomic concentration of silicon in the atomic formula of the feed gas is Below. Optionally, the dressing meets the limitations of Example VII.B.4.a or VII.B.4.b.

VII.B.4.b.随意に、当該ケイ素の原子濃度は1〜80原子パーセント(実施例15のXPS条件に基づき計算)、あるいは from 10〜70原子パーセント、あるいは20〜60原子パーセント、あるいは30〜55原子パーセント、あるいは40〜50原子パーセント、あるいは42〜46原子パーセント減少する。               VII.B.4.b. Optionally, the atomic concentration of silicon is 1 to 80 atomic percent (calculated based on the XPS conditions of Example 15), or from 10 to 70 atomic percent, alternatively 20 to 60 atomic percent, or Decrease by 30-55 atomic percent, alternatively 40-50 atomic percent, alternatively 42-46 atomic percent.

VII.B.4.b.断面図VII.B.4に列挙される2つ以上の性質の複合体を有する潤滑性被覆材質もまた、明示的に考えられる。               VII.B.4.b. Cross-sectional view Lubricant coating materials having a composite of two or more properties listed in VII.B.4 are also explicitly contemplated.

VII.C. 一般的容器
VII.C.本明細書に記載のおよび/または本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器または容器は、化合物または組成物の収受および/または保管および/または供給のために使用可能である。当該化合物または組成物は、例えば大気感受性、酸素感受性、湿度感受性および/または機械的作用感受性といった感度が高い場合がある。生物学的に活性な化合物または組成物、例えばインスリンまたはインスリンからなる組成物といった薬剤である場合がある。別の態様において、生物学的流体、好ましくは血液または血液分画といった体液である場合がある。本発明の特定の態様において、当該化合物または組成物は、それらを必要としている被検者に投与される生成物、例えば血液(供血者から受血者への輸血または患者から採取した血液の当該患者への再導入)またはインスリンといった注入生成物である。
VII.C. General container
VII.C. Coated containers or containers described herein and / or made in accordance with the methods described herein can be used for receipt and / or storage and / or supply of compounds or compositions. is there. The compound or composition may be sensitive, for example, atmospheric sensitivity, oxygen sensitivity, humidity sensitivity and / or mechanical action sensitivity. It may be a drug such as a biologically active compound or composition, for example insulin or a composition comprising insulin. In another embodiment, it may be a biological fluid, preferably a body fluid such as blood or a blood fraction. In certain embodiments of the invention, the compound or composition is a product administered to a subject in need thereof, such as blood (transfusion from a donor to a recipient or blood collected from a patient). Reintroduction to the patient) or infusion products such as insulin.

VII.C.本明細書に記載のおよび/または本明細書に記載の方法に従い作成される被覆容器または容器はさらに、内腔に含まれる化合物または組成物の非被覆容器素材表面の機械的および/または化学的作用からの保護のために使用可能である。例えばインスリン沈殿または血液凝固または血小板活性化といった、前述化合物または組成物成分の沈殿および/または凝固または血小板活性化を防止または低減させるのに使用可能である。               VII.C. Coated containers or containers made in accordance with the methods described herein and / or described herein may further include mechanical and surface of the uncoated container material surface of the compound or composition contained in the lumen. Can be used for protection from chemical action. It can be used to prevent or reduce precipitation and / or clotting or platelet activation of said compound or composition component, eg insulin precipitation or blood clotting or platelet activation.

VII.C.さらには、例えば当該容器周辺の環境からの1つ以上の化合物の当該容器内腔への侵入を防止または低減させることで、内部に包含する化合物または組成物を当該容器外部の環境から保護するために使用可能である。かかる環境化合物はガスまたは流体、例えば酸素、大気、および/または水蒸気を包含する大気中ガスまたは流体である場合がある。               VII.C. Furthermore, for example, by preventing or reducing the entry of one or more compounds from the environment around the container into the container lumen, the compound or composition contained therein can be removed from the environment outside the container. Can be used to protect against. Such environmental compounds may be gases or fluids, such as atmospheric gases or fluids including oxygen, air, and / or water vapor.

VII.C.本明細書に記載の被覆容器はまた、真空であり真空状態で保管される場合がある。例えば当該被覆材は、対応する非被覆容器と比べて、当該真空状態をより良好に維持可能である。本実施例の一態様において、当該被覆容器は採血管である。前述管は、例えばEDTAまたはヘパリンといった、血液凝固または血小板活性化を防止するための薬剤を包含する場合がある。               VII.C. The coated containers described herein are also vacuum and may be stored under vacuum. For example, the covering material can maintain the vacuum state better than the corresponding uncoated container. In one aspect of this embodiment, the coated container is a blood collection tube. The tube may contain an agent for preventing blood clotting or platelet activation, such as EDTA or heparin.

VII.C.あらゆる上述実施例は、例えば当該容器として長さ約1cm〜約200cm、随意に約1cm〜約150cm、随意に約1cm〜約120cm、随意に約1cm〜約100cm、随意に約1cm〜約80cm、随意に約1cm〜約60cm、随意に約1cm〜約40cm、随意に約1cm〜約30cmの管を提供し、後述の通りプローブ電極と共に処理することにより、実行可能である。特に上述範囲における長さが長いほど、被覆材成形中の当該プローブと当該容器との間の相対運動が有用である可能性があると考えられる。これは例えば、当該プローブに対して当該容器を移動する、または当該容器に対して当該プローブを移動することにより、実行可能である。               VII.C. Any of the above embodiments can be, for example, about 1 cm to about 200 cm in length, optionally about 1 cm to about 150 cm, optionally about 1 cm to about 120 cm, optionally about 1 cm to about 100 cm, optionally about 1 cm as the container. It is feasible by providing a tube of about 80 cm, optionally about 1 cm to about 60 cm, optionally about 1 cm to about 40 cm, optionally about 1 cm to about 30 cm, and processed with a probe electrode as described below. In particular, it is considered that the longer the length in the above range, the more useful the relative motion between the probe and the container during molding of the covering material is. This can be done, for example, by moving the container relative to the probe or moving the probe relative to the container.

VII.C.これらの実施例において、当該被覆材は薄肉である、または遮断性被覆材として望ましいものと比較して完全性に劣る場合があると考えられる。なぜなら、一部実施例における当該容器は真空採血管の高い遮断性完全性を必要としないからである。               VII.C. In these examples, it is believed that the dressing may be thin, or less complete than desirable as a barrier coating. This is because the container in some embodiments does not require high barrier integrity of the vacuum blood collection tube.

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は中心軸を有する。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, the container has a central axis.

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該容器の外径の100倍を超えない大きさの当該中心軸での曲げ半径に対して少なくとも実質的に直線である範囲において、温度20℃で壁を破損することなく少なくとも1回屈曲するのに十分なたわみを、当該容器壁は有する。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, a temperature of 20 ° C. in a range that is at least substantially linear with respect to the bending radius at the central axis that does not exceed 100 times the outer diameter of the container. The container wall has sufficient deflection to bend at least once without damaging the wall.

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該 中心軸での曲げ半径は当該容器外径の90倍を超えない、または80倍を超えない、または70倍を超えない、または60倍を超えない、または50倍を超えない、または40倍を超えない、または30倍を超えない、または20倍を超えない、または10倍を超えない、または9倍を超えない、または8倍を超えない、または7倍を超えない、または6倍を超えない、または5倍を超えない、または4倍を超えない、または3倍を超えない、または2倍または1倍を超えない大きさである。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, the bend radius at the central axis should not exceed 90 times, not more than 80 times, not more than 70 times, or not more than 60 times the outer diameter of the vessel. No more than 50 times or no more than 40 times or no more than 30 times or no more than 20 times or no more than 10 times or no more than 9 times or no more than 8 times No, no more than 7 times, no more than 6 times, no more than 5 times, no more than 4 times, no more than 3 times, no more than 2 times or 1 size .

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該容器壁は可撓性素材を原料とする流体接触表面である場合がある。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, the container wall may be a fluid contact surface made of a flexible material.

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該容器内腔はポンプの流体流路である場合がある。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, the container lumen may be the fluid flow path of the pump.

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は血液を医療用途の場合の良好な条件に保持するよう適合される血液バッグである場合がある。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, the container may be a blood bag adapted to hold blood in good condition for medical use.

VII.C., VII.D.当該前述実施例のオプション機能として、ポリマー素材は、2例として、シリコンエラストマーまたは熱可塑性ポリウレタンである、または血液またはインスリンと接触するのに適したあらゆる素材である場合がある。               VII.C., VII.D. As an optional feature of the previous embodiment, the polymer material is, by way of example, a silicone elastomer or a thermoplastic polyurethane, or any material suitable for contact with blood or insulin. There is a case.

VII.C., VII.D.オプション実施例において、当該容器は少なくとも2mm、または少なくとも4mmの内径を有する。               VII.C., VII.D. In an optional embodiment, the container has an inner diameter of at least 2 mm, or at least 4 mm.

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該容器は管である。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, the container is a tube.

VII.C.当該前述実施例のオプション機能として、当該内腔は少なくとも2つの開口端を有する。               VII.C. As an optional feature of the previous embodiment, the lumen has at least two open ends.

VII.C.1. 有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有する生存血液包含容器
VII.C.1.さらなる別の実施例は、血液包含容器である。かかる容器の非限定的例の一部として、輸血バッグ、検体を採集するための血液検体採集容器、人工心肺の管、可撓性壁の採血バッグ、手術中に患者血液を採集し当該血液を当該患者の血管系へと再導入する管などが挙げられる。当該容器が血液を送り出すポンプである場合、特に適切なポンプは遠心式ポンプまたは蠕動式ポンプである。当該容器は壁を有し、当該壁は内腔を定義する内面を有する。当該壁の内面は、SiwOxCyHz被覆材(wは1、本公式のx約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)で少なくとも一部が被覆される。当該被覆材は単分子の層厚と同様に薄く、または最大層厚約1000nmである。当該容器には、SiwOxCyHz被覆と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.1. A living blood containing container with a coating deposited from an organosilicon precursor
VII.C.1. Yet another example is a blood containing container. As a non-limiting example of such a container, a blood transfusion bag, a blood sample collection container for collecting a sample, a heart-lung machine tube, a flexible wall blood collection bag, collecting patient blood during surgery and collecting the blood And a tube that is reintroduced into the vasculature of the patient. If the container is a pump that pumps blood, a particularly suitable pump is a centrifugal pump or a peristaltic pump. The container has a wall, and the wall has an inner surface defining a lumen. The inner surface of the wall is coated with Si w O x C y H z (w is 1, x of the formula is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9, preferably w is 1 , X from about 0.5 to 1, y from about 2 to about 3, and z from 6 to about 9). The covering material is as thin as the monomolecular layer thickness or has a maximum layer thickness of about 1000 nm. The container includes blood that can be returned to the patient's vasculature that fills the lumen in contact with the Si w O x C y H z coating.

VII.C.1.一実施例は、壁を包含し内腔を定義する内面を有する、血液包含容器である。当該内面はSiwOxCyHzで少なくとも一部が被覆される。当該被覆材はSiOx(xは本明細書で定義)からなる、または本質的にSiOxからなる可能性がある。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの範囲内である。当該容器には、SiwOxCyHz被覆と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。 VII.C.1. One example is a blood containing container having an inner surface that includes a wall and defines a lumen. The inner surface is at least partially covered with Si w O x C y H z . The dressing may consist of SiO x (x is defined herein) or consist essentially of SiO x. The layer thickness of the coating is in the range of monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. The container includes blood that can be returned to the patient's vasculature that fills the lumen in contact with the Si w O x C y H z coating.

VII.C.2. 容器内血液の凝固または血小板活性化を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材
VII.C.2.別の実施例は、壁を有する容器である。当該壁は内腔を定義する内面を有し、当該壁は、SiwOxCyHz被覆材(好ましくはw、x、y、およびzは事前定義通り:wは1、x約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)での少なくとも一部の被覆を有する。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。当該被覆材は、SiwOxCyHzで被覆されていない同種類の壁と比較して、当該内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.C.2. Coating materials deposited from organosilicon precursors that reduce blood coagulation or platelet activation in the container
VII.C.2. Another embodiment is a container with walls. The wall has an inner surface defining a lumen, the wall comprising a Si w O x C y H z coating (preferably w, x, y, and z are as defined: w is 1, x about 0.5 To about 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to about 9, preferably w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, z is about 6 to about 9) Has some coating. The layer thickness of the coating material is monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. The dressing is effective in reducing clotting or platelet activation of blood exposed to the inner surface as compared to the same type of wall not coated with Si w O x C y H z .

VII.C.2.SiwOxCyHz被覆材の組込みにより、未処理のポリマーまたはSiOx表面に接触する血液の性質と比較して、血液の付着力または凝塊成形性質が減少すると考えられる。本性質は、心臓手術中に人工心肺を使用する場合に、当該患者からの血液除去とその後の当該患者への再導入を必要とする種類の手術を受ける患者において必要なヘパリンの血液濃度を低減させることにより、血液のヘパリン処理の必要性を低減させる/潜在的になくすと考えられる。ヘパリンの使用に起因する出血性合併症を低減させることにより、かかる容器を通る血液経路に関する手術の合併症が減少すると考えられる。 VII.C.2. Incorporation of Si w O x C y H z coating reduces blood adhesion or clot-forming properties compared to the properties of blood in contact with untreated polymer or SiO x surfaces I think that. This property reduces the blood concentration of heparin required in patients undergoing a type of surgery that requires blood removal from the patient and subsequent reintroduction to the patient when using heart-lung machines during cardiac surgery. This would reduce / potentially eliminate the need for blood heparinization. By reducing the bleeding complications resulting from the use of heparin, it is believed that surgical complications related to the blood path through such containers are reduced.

VII.C.2.別の実施例は、壁を包含し内腔を定義する内面を有する容器である。当該内面はSiwOxCyHzで少なくとも一部が被覆されており、当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの厚さである。当該被覆材は、当該内面に曝露する血液の凝固または血小板活性化を低減させるのに効果的である。 VII.C.2. Another example is a container having an inner surface that includes a wall and defines a lumen. The inner surface is at least partially coated with Si w O x C y H z , and the layer thickness of the coating material is a single molecule to a thickness of about 1000 nm on the inner surface. The dressing is effective in reducing blood clotting or platelet activation exposed to the inner surface.

VII.C.3. 第III族または第IV族元素の被覆材を有する生存血液包含容器
VII.C.3.別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含む血液包含容器である。当該内面は少なくとも一部が、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。当該被覆材の層厚は、両立的に、内面上で単分子〜約1000nmである。当該容器には、当該被覆材と接触する内腔内に充填される、患者の血管系へと戻すことが可能な血液が包含される。
VII.C.3. A living blood containing container with a coating of a group III or group IV element
VII.C.3. Another example is a blood containing container that includes a wall having an inner surface defining a lumen. The inner surface is at least partially coated with a coating material of a composition comprising one or more Group III elements, one or more Group IV elements, and a composite of two or more of these. The layer thickness of the covering material is compatible with a single molecule to about 1000 nm on the inner surface. The container includes blood that can be returned to the patient's vasculature that fills the lumen in contact with the dressing.

VII.C.4. 容器内血液の凝固または血小板活性化を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材
VII.C.4.随意に、前段落の容器において、第III族または第IV族元素の被覆材は、当該容器壁内面に曝露した血液の凝固または血小板活性化を減少させるのに有効である。
VII.C.4. Group III or Group IV coatings that reduce blood clotting or platelet activation
VII.C.4. Optionally, in the container of the previous paragraph, a Group III or Group IV element coating is effective to reduce blood clotting or platelet activation exposed to the inner wall of the container. .

VII.D. 医薬品供給容器
VII.D.本書に記載の被覆容器または容器は、前述容器に含まれる化合物または組成物の当該容器周辺の環境への漏出を防止または低減させるために使用可能である。
VII.D. Drug supply container
VII.D. The coated container or container described herein can be used to prevent or reduce leakage of the compound or composition contained in the container to the environment surrounding the container.

また、本明細書に記載の当該被覆材および容器のさらなる利用は、当該部の記述および請求項から明らかであると考えられる。               Further use of the dressing and container described herein will be apparent from the description of the part and the claims.

VII.D.1. 有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材を有するインスリン包含容器
VII.D.1.別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。当該内面は、SiwOxCyHz(w、x、y、およびzは事前定義済み:wは1、x約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜9、好ましくはwは1、xは約0.5〜1、yは約2〜約3、zは6〜約9)で少なくとも一部が被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。インスリンは、SiwOxCyHz被覆材と接触する内腔内に充填される。
VII.D.1. Insulin-containing container with coating deposited from organosilicon precursor
VII.D.1. Another example is an insulin containing container that includes a wall having an inner surface defining a lumen. The inner surface is Si w O x C y H z (w, x, y, and z are predefined: w is 1, x is about 0.5 to 2.4, y is about 0.6 to about 3, z is 2 to 9, Preferably, w is 1, x is about 0.5 to 1, y is about 2 to about 3, and z is 6 to about 9). The layer thickness of the coating material is monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. Insulin is loaded into the lumen in contact with the Si w O x C y H z dressing.

VII.D.1.また別の実施例は、壁を包含し、かつ内腔を定義する内面を有するインスリン包含容器である。当該内面はSiwOxCyHzで少なくとも一部が被覆されており、当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの厚さである。インスリン(例えばヒトへの使用についてFDA認可済みの薬剤インスリン)を、SiwOxCyHz被覆材と接触する内腔内に充填する。 VII.D.1. Yet another embodiment is an insulin containing container that includes a wall and has an inner surface that defines a lumen. The inner surface is at least partially coated with Si w O x C y H z , and the layer thickness of the coating material is a single molecule to a thickness of about 1000 nm on the inner surface. Insulin (eg, FDA approved drug insulin for human use) is loaded into the lumen in contact with the Si w O x C y H z dressing.

VII.D.1.SiwOxCyHz被覆材の組込みにより、未処理のポリマー表面に接触するインスリンの性質と比較して、インスリンポンプの供給管内インスリンの付着力または沈殿成形性質が減少すると考えられる。本性質は、当該供給管を通るインスリンをフィルタリングして固体沈殿物を除去する必要性を低減させる/潜在的に消失させると考えられる。 VII.D.1. Incorporation of the Si w O x C y H z coating reduces the adhesiveness or precipitation molding properties of the insulin in the supply tube of the insulin pump compared to the properties of insulin contacting the untreated polymer surface. It is thought to decrease. This property is believed to reduce / potentially eliminate the need to filter insulin through the supply tube to remove solid precipitate.

VII.D.2. 容器内のインスリン沈殿を減少させる有機ケイ素前駆体より堆積した被覆材
VII.D.2.随意に、前段落の容器において、当該SiwOxCyHz被覆材は同種類のSiwOxCyHz非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
VII.D.2. Coating material deposited from organosilicon precursor to reduce insulin precipitation in the container
VII.D.2. Optionally, in the container of the previous paragraph, the Si w O x C y H z coating is in contact with the inner surface compared to the same type of Si w O x C y H z uncoated wall. Effective in reducing precipitate formation from insulin.

VII.D.2.さらに別の実施例は、再び、壁を包含しかつ内腔を定義する内面を有する容器である。当該内面はSiwOxCyHzで少なくとも一部が被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmの範囲内である。当該被覆材は、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を低減させるのに有効である。 VII.D.2. Yet another embodiment is again a container having an inner surface that includes a wall and defines a lumen. The inner surface is at least partially covered with Si w O x C y H z . The layer thickness of the coating is in the range of monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. The dressing is effective to reduce precipitate formation from insulin that contacts the inner surface.

VII.D.3. 第III族または第IV族元素被覆材を有するインスリン包含容器
VII.D.3.別の実施例は、内腔を定義する内面を有する壁を含むインスリン包含容器である。当該内面は少なくとも一部が、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材で被覆される。当該被覆材の層厚は内面上で単分子〜約1000nmである。インスリンは、当該被覆材と接触する管腔内に充填される。
VII.D.3. Insulin-containing container with Group III or Group IV element coating
VII.D.3. Another example is an insulin containing container including a wall having an inner surface defining a lumen. The inner surface is at least partially coated with a coating material of a composition comprising carbon, one or more Group III elements, one or more Group IV elements, or a composite of two or more of these. The layer thickness of the coating material is monomolecular to about 1000 nm on the inner surface. Insulin is filled into the lumen in contact with the dressing.

VII.D.4. 容器内インスリンの沈殿を減少させる第III族または第IV族元素の被覆材
VII.D.4.随意に、前段落の容器において、炭素、1種以上の第III族元素、1種以上の第IV族元素、これら2種以上の複合体からなる組成物の被覆材は、同種類の非被覆壁と比較して、当該内面に接触するインスリンからの沈殿物成形を減少させるのに有効である。
VII.D.4. Group III or Group IV coating that reduces the precipitation of insulin in the container
VII.D.4. Optionally, in the container of the preceding paragraph, a coating of a composition comprising carbon, one or more Group III elements, one or more Group IV elements, or a composite of two or more of these, It is effective in reducing the formation of precipitate from insulin in contact with the inner surface as compared to the same type of uncoated wall.

実施例0:管およびシリンジバレルを成形・被覆するための基本プロトコル
後続実施例において試験された容器は、個別の実施例において別途表示がない限り、以下の模範的プロトコルに従って成形および被覆された。以下の基本プロトコル内で与えられる特定のパラメータ値(例えば当該電力、処理ガス流量、など)は一般値である。当該一般値と比較してパラメータ値が変更された場合はいつでも、当該後続実施例内において表示する。当該処理ガスの種類および組成についても同様とする。
Example 0: Basic protocol for forming and coating tubes and syringe barrels
Containers tested in subsequent examples were molded and coated according to the following exemplary protocol, unless otherwise indicated in individual examples. Certain parameter values (eg, power, process gas flow rate, etc.) given in the basic protocol below are general values. Whenever a parameter value is changed compared to the general value, it is displayed in the subsequent example. The same applies to the type and composition of the processing gas.

COC管を成形するためのプロトコル(実施例1、19などで使用)
一般に真空採血管(「COC管」)として使用される形状およびサイズの環状オレフィン共重合体(COC)管は、ドイツ、フランクフルトのHoechst AGが市販するTopas(登録商標) 8007-04環状オレフィン共重合体(COC)樹脂を原料に以下の寸法で射出成形した:長さ75mm、外径13mm、および壁の厚さ0.85mm、各容量は約7.25cm3で丸みを帯びた閉口端を有する。
Protocol for forming COC tubes (used in Examples 1, 19 etc.)
Cyclic olefin copolymer (COC) tubes of the shape and size commonly used as vacuum blood collection tubes (“COC tubes”) are Topas® 8007-04 cyclic olefin copolymers, sold by Hoechst AG, Frankfurt, Germany Coin (COC) resin was injection molded from the following dimensions: 75 mm long, 13 mm outer diameter, and 0.85 mm wall thickness, each volume approximately 7.25 cm 3 with a rounded closed end.

PET管を成形するためのプロトコル(実施例2、4、8、9、10などで使用)
一般的に真空採血管(「PET管」)として使用されるテレフタル酸ポリエチレン(PET)管は、「COC管を成形するためのプロトコル」を使用する同一モールド内で射出成形される。寸法は以下の通り:長さ75mm、外径13mm、および壁の厚さ0.85mm、各容量は約7.25cm3で丸みを帯びた閉口端を有する。
Protocol for molding PET tubes (used in Examples 2, 4, 8, 9, 10, etc.)
Polyethylene terephthalate (PET) tubes, commonly used as vacuum blood collection tubes (“PET tubes”), are injection molded in the same mold using the “Protocol for forming COC tubes”. The dimensions are as follows: length 75 mm, outer diameter 13 mm, wall thickness 0.85 mm, each volume is about 7.25 cm 3 and has a rounded closed end.

管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル(実施例1、2、4、8、9、10、18、19などで使用)
特定の考えられる実施例である、図45の封止機構を有する図2で示す装置を使用した。当該容器ホルダー50は、米国デラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Co.が市販するDelrin(登録商標)アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ(44mm)および高さ1.75インチ(44mm)で作成した。当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極(160)への出入りを可能とするDelrin(登録商標)構造内に格納した。
Protocol for coating the inside of the tube with SiO x (used in Examples 1, 2, 4, 8, 9, 10, 18, 19, etc.)
A particular possible embodiment, the apparatus shown in FIG. 2 with the sealing mechanism of FIG. 45, was used. The container holder 50 is made of Delrin (registered trademark) acetal resin marketed by EI du Pont De Nemours and Co. in Wilmington, Delaware, USA, and has an outer diameter of 1.75 inches (44 mm) and a height of 1.75 inches (44 mm). Created. The container holder 50 was stored in a Delrin (registered trademark) structure that allows the device to enter and exit the electrode (160).

当該電極160は、銅およびDelrin(登録商標)遮蔽体から作成した。当該Delrin(登録商標)遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させた。当該電極160の寸法は、(内部)高さ約3インチ(76mm)であり、幅は約0.75インチ(19mm)であった。               The electrode 160 was made from copper and Delrin® shield. The Delrin (registered trademark) shield was conformed to the outer periphery of the copper electrode 160. The dimensions of the electrode 160 were about 3 inches (76 mm) in height and about 0.75 inches (19 mm) in width.

当該容器80として使用した当該管を当該容器ホルダー50底部へと挿入して、Viton(登録商標)オーリング490、504(Viton(登録商標)は米国デラウェア州ウィルミントンのDupont Performance Elastomers LLCの商標である)で当該管(図45)の外部周辺を密閉した。当該管80を、伸延された(定常の)1/8インチ(3mm)径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。               The tube used as the container 80 is inserted into the bottom of the container holder 50 and Viton® O-rings 490, 504 (Viton® is a trademark of Dupont Performance Elastomers LLC of Wilmington, Delaware, USA The outer periphery of the tube (Fig. 45) was sealed. The tube 80 was carefully moved to a sealed position above the elongated (steady) 1/8 inch (3 mm) diameter brass probe or counter electrode 108 and pressed against the copper plasma shield.

当該銅プラズマ遮蔽体610は、当該管の外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材(米国イリノイ州、シカゴのK&S Engineering、部品番号:LXMUW5 copper mesh)で、当該管挿入(図45を参照)の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定した。当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。               The copper plasma shield 610 is a perforated copper foil material (K & S Engineering, Chicago, Illinois, USA, part number: LXMUW5 copper mesh) cut to fit the outer diameter of the tube, and the tube is inserted (FIG. 45). And fixed in place by a radially extending abutment surface 494 that functions as a stop. The two copper meshes were fitted tightly around the brass probe or counter electrode 108 to ensure good electrical contact.

当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該管内部へと約70mm伸延し、80番ワイヤ(直径 = 0.0135インチまたは0.343mm)を配列した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok(登録商標)取付部(米国オハイオ州ソロンのSwagelok Co.が市販)を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地した。               The brass probe or counter electrode 108 was extended to the inside of the tube by about 70 mm, and the 80th wire (diameter = 0.0135 inch or 0.343 mm) was arranged. The brass probe or counter electrode 108 was extended through a Swagelok® attachment (available from Swagelok Co., Solon, Ohio, USA) at the bottom of the container holder 50 and through the bottom structure of the container holder 50. The brass probe or counter electrode 108 was grounded to the casing of the RF matching network.

当該ガス供給ポート110は、当該管(4側面上の3つが互いに90度に配向される)の長さに沿った当該プローブまたは対向電極108における12の孔、および当該ガス供給ポート110の端部に差し込まれる当該アルミニウム蓋における2つの孔であった。当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok(登録商標)取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該処理ガス、酸素およびヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)が当該ガス供給ポート110(処理圧力下で)を通り当該管内部に流入するようにした。               The gas supply port 110 has twelve holes in the probe or counter electrode 108 along the length of the tube (three on the four sides are oriented 90 degrees relative to each other) and the end of the gas supply port 110 There were two holes in the aluminum lid that were inserted into. The gas supply port 110 was connected to a stainless steel assembly consisting of a Swagelok® fitting that contained a manual vent ball valve, thermocouple pressure gauge and bypass valve connected to the vacuum pump line. Further, the gas system is connected to the gas supply port 110 so that the processing gas, oxygen and hexamethyldisiloxane (HMDSO) flow into the pipe through the gas supply port 110 (under processing pressure). I made it.

当該ガスシステムは、Aalborg(登録商標) GFC17質量流量計(部品番号:EW-32661-34、米国イリノイ州バーリントンのCole-Parmer Instrument Co.製)からなり、当該流量計は、酸素を90sccm(または特定実施例で報告された特定流量)で当該処理および長さ49.5インチ(1.26m)のポリエーテルエーテルケトン(「PEEK」)キャピラリー(外径1/16インチ(1.5mm)、内径0.004インチ(0.1mm))に制御可能に流入させるためのものであった。当該PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサン(「HMDSO」、Alfa Aesar(登録商標) 部品番号L16970、NMR、Grade、ロンドンのJohnson Matthey PLC製)へと挿入した。当該流体HMDSOを、処理中の当該管内の低圧力により、当該キャピラリーを通して吸引した。当該HMDSOはその後、当該低圧力領域に到達した時点で当該キャピラリー終端で蒸気となった。               The gas system consists of an Aalborg® GFC17 mass flow meter (part number: EW-32661-34, manufactured by Cole-Parmer Instrument Co., Burlington, Ill., USA), which contains 90 sccm of oxygen (or The treatment and the 49.5 inch (1.26 m) length polyetheretherketone ("PEEK") capillary (1/16 inch (1.5 mm) outer diameter, 0.004 inch inner diameter (0.1 mm), with the specific flow reported in the specific example) mm)) for controllable inflow. The PEEK capillary end was inserted into a fluid hexamethyldisiloxane (“HMDSO”, Alfa Aesar® part number L16970, NMR, Grade, Johnson Matthey PLC, London). The fluid HMDSO was aspirated through the capillary due to the low pressure in the tube during processing. The HMDSO then became vapor at the end of the capillary when it reached the low pressure region.

この点を超えた当該流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok(登録商標)3方弁経由での処理のため当該管内部へと流入しない当該ガス流(酸素を含む)を、当該ポンプラインへと迂回させた。当該管設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該管内部へと開口した。               In order to prevent condensation of the fluid HMDSO beyond this point, the gas flow (including oxygen) that does not flow into the pipe for treatment via the Swagelok (registered trademark) three-way valve is sent to the pump line. And detoured. After the tube was installed, the vacuum pump valve was opened to the container holder 50 and the inside of the tube.

Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。当該ポンプシステムは、当該処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該管内部を200mトール未満の圧力に低減することを可能とした。               The vacuum pump system was composed of an Alcatel rotary blade vacuum pump and a blower. The pump system made it possible to reduce the inside of the pipe to a pressure of less than 200 mTorr while flowing the processing gas at the display rate.

当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。当該ガス流(酸素およびHMDSO蒸気)を、当該真鍮ガス供給ポート110(当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整)に流入させた。当該管内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ(MKS)により測定される通り、約300mトールであった。当該管圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定した。本圧力は通常、8トール未満であった。               After achieving the bottom vacuum level, the container holder 50 assembly was moved into the electrode 160 assembly. The gas stream (oxygen and HMDSO vapor) was flowed into the brass gas supply port 110 (the three-way valve was adjusted from the pump line to the gas supply port 110). The pressure in the tube was about 300 mTorr as measured by a capacitance manometer (MKS) installed on the pump line close to the valve controlling the vacuum. In addition to the tube pressure, the pressure in the gas supply port 110 and the gas system was also measured with the thermocouple vacuum gauge connected to the gas system. This pressure was usually less than 8 Torr.

当該ガスを当該管内部に流入させた後に、当該 RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。ENI ACG-6 600ワットのRF電力供給装置を、調整された約50ワットの電力レベルにおいて(13.56MHzで)使用した。当該出力電力については、この/後述のすべてのプロトコルおよび実施例において、当該被覆装置の作業中に当該電力供給装置のRF出力に接続されたBird Corporationモデル43のRF電力計を使用して、キャリブレートした。当該電力供給装置上のダイヤル設定と当該出力電力との間に以下の関係が見られた:RF電力出力 = 55 x ダイヤル設定。先行塗布の対現行塗布比において係数100を使用したが、それは誤りであった。当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス(当該管において創出するため)を50オームの当該ENI ACG-6 RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDEL CPMX1000自動整合装置に接続した。順方向電力は50ワット(または特定実施例で報告された特定値)および反射電力は0ワットであったため、適用電力は管内部に送達された。当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は5秒(または特定実施例で報告された特定の期間)に設定した。 当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該管内部に定着させた。当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを完全に5秒間保持した。当該プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材(または特定実施例で報告された特定の層厚)を当該管表面内部に生成した。               After flowing the gas into the pipe, the RF power supply device was turned on to adjust its power level. An ENI ACG-6 600 watt RF power supply was used (at 13.56 MHz) at a regulated power level of about 50 watts. The output power is calibrated using a Bird Corporation model 43 RF wattmeter connected to the RF output of the power supply during the operation of the coating equipment in all protocols and examples described below. did. The following relationship was found between the dial setting on the power supply and the output power: RF power output = 55 x dial setting. A factor of 100 was used in the previous application to current application ratio, which was incorrect. The RF power supply was connected to a COMDEL CPMX1000 auto-matching device that matched the complex impedance of the plasma (to create in the tube) with the output impedance of the ENI ACG-6 RF power supply of 50 ohms. The applied power was delivered inside the tube because the forward power was 50 watts (or the specific value reported in the specific example) and the reflected power was 0 watts. The RF power supply was controlled by a laboratory timer, and the time to turn on the power was set to 5 seconds (or a specific period reported in a specific example). The RF power was started and the uniform plasma was fixed inside the tube. The plasma was held completely for 5 seconds until the RF power was interrupted by the timer. The plasma produced a silicon oxide coating with a layer thickness of about 20 nm (or the specific layer thickness reported in specific examples) inside the tube surface.

被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口した。当該通気弁をその後開口し、当該管内部を環境大気圧(約760トール)に戻した。当該管をその後、当該容器ホルダー50アセンブリから(当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に)慎重に除去した。               After coating, the gas flow was returned to the vacuum line and the vacuum valve was closed. The vent valve was then opened and the interior of the tube was returned to ambient atmospheric pressure (about 760 Torr). The tube was then carefully removed from the container holder 50 assembly (after the container holder 50 assembly was removed from the electrode 160 assembly).

管内部を疎水性被覆材で被覆するためのプロトコル(実施例9などで使用)
特定の考えられる実施例である、図45の封止機構を有する図2で示す装置を使用した。当該容器ホルダー50は、米国デラウェア州ウィルミントンのE. I. du Pont De Nemours and Co.が市販するDelrin(登録商標)アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ(44mm)および高さ1.75インチ(44mm)で作成した。当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極(160)への出入りを可能とするDelrin(登録商標)構造内に格納した。
Protocol for coating the inside of a tube with a hydrophobic coating (used in Example 9)
A particular possible embodiment, the apparatus shown in FIG. 2 with the sealing mechanism of FIG. 45, was used. The container holder 50 is made of Delrin (registered trademark) acetal resin marketed by EI du Pont De Nemours and Co. in Wilmington, Delaware, USA, and has an outer diameter of 1.75 inches (44 mm) and a height of 1.75 inches (44 mm). Created. The container holder 50 was stored in a Delrin (registered trademark) structure that allows the device to enter and exit the electrode (160).

当該電極160は、銅およびDelrin(登録商標)遮蔽体から作成した。当該Delrin(登録商標)遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させた。当該電極160の寸法は、(内部)高さ約3インチ(76mm)であり、幅は約0.75インチ(19mm)であった。               The electrode 160 was made from copper and Delrin® shield. The Delrin (registered trademark) shield was conformed to the outer periphery of the copper electrode 160. The dimensions of the electrode 160 were about 3 inches (76 mm) in height and about 0.75 inches (19 mm) in width.

当該容器80として使用した当該管を当該容器ホルダー50底部へと挿入して、Viton(登録商標)オーリング490、504(Viton(登録商標)は米国デラウェア州ウィルミントンのDupont Performance Elastomers LLCの商標である)で当該管(図45)の外部周辺を密閉した。当該管80を、伸延された(定常の)1/8インチ(3mm)径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。               The tube used as the container 80 is inserted into the bottom of the container holder 50 and Viton® O-rings 490, 504 (Viton® is a trademark of Dupont Performance Elastomers LLC of Wilmington, Delaware, USA The outer periphery of the tube (Fig. 45) was sealed. The tube 80 was carefully moved to a sealed position above the elongated (steady) 1/8 inch (3 mm) diameter brass probe or counter electrode 108 and pressed against the copper plasma shield.

当該銅プラズマ遮蔽体610は、当該管の外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材(米国イリノイ州、シカゴのK&S Engineering、部品番号:LXMUW5 copper mesh)で、当該管挿入(図45を参照)の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定した。当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。               The copper plasma shield 610 is a perforated copper foil material (K & S Engineering, Chicago, Illinois, USA, part number: LXMUW5 copper mesh) cut to fit the outer diameter of the tube, and the tube is inserted (FIG. 45). And fixed in place by a radially extending abutment surface 494 that functions as a stop. The two copper meshes were fitted tightly around the brass probe or counter electrode 108 to ensure good electrical contact.

当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該管内部へと約70mm伸延し、80番ワイヤ(直径 = 0.0135インチまたは0.343mm)を配列した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok(登録商標)取付部(米国オハイオ州ソロンのSwagelok Co.が市販)を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地した。               The brass probe or counter electrode 108 was extended to the inside of the tube by about 70 mm, and the 80th wire (diameter = 0.0135 inch or 0.343 mm) was arranged. The brass probe or counter electrode 108 was extended through a Swagelok® attachment (available from Swagelok Co., Solon, Ohio, USA) at the bottom of the container holder 50 and through the bottom structure of the container holder 50. The brass probe or counter electrode 108 was grounded to the casing of the RF matching network.

当該ガス供給ポート110は、当該管(4側面上の3つが互いに90度に配向される)の長さに沿った当該プローブまたは対向電極108における12の孔、および当該ガス供給ポート110の端部に差し込まれる当該アルミニウム蓋における2つの孔であった。当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok(登録商標)取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該処理ガス、酸素およびヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)が当該ガス供給ポート110(処理圧力下で)を通り当該管内部に流入するようにした。               The gas supply port 110 has twelve holes in the probe or counter electrode 108 along the length of the tube (three on the four sides are oriented 90 degrees relative to each other) and the end of the gas supply port 110 There were two holes in the aluminum lid that were inserted into. The gas supply port 110 was connected to a stainless steel assembly consisting of a Swagelok® fitting that contained a manual vent ball valve, thermocouple pressure gauge and bypass valve connected to the vacuum pump line. Further, the gas system is connected to the gas supply port 110 so that the processing gas, oxygen and hexamethyldisiloxane (HMDSO) flow into the pipe through the gas supply port 110 (under processing pressure). I made it.

当該ガスシステムは、Aalborg(登録商標) GFC17質量流量計(部品番号:EW-32661-34、米国イリノイ州バーリントンのCole-Parmer Instrument Co.製)からなり、当該流量計は、酸素を60sccm(または特定実施例で報告された特定流量)で当該処理および長さ49.5インチ(1.26m)のポリエーテルエーテルケトン(「PEEK」)キャピラリー(外径1/16インチ(1.5mm)、内径0.004インチ(0.1mm))に制御可能に流入させるためのものであった。当該PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサン(「HMDSO」、Alfa Aesar(登録商標) 部品番号L16970、NMR、Grade、ロンドンのJohnson Matthey PLC製)へと挿入した。当該流体HMDSOを、処理中の当該管内の低圧力により、当該キャピラリーを通して吸引した。当該HMDSOはその後、当該低圧力領域に到達した時点で当該キャピラリー終端で蒸気となった。               The gas system consists of an Aalborg® GFC17 mass flow meter (part number: EW-32661-34, manufactured by Cole-Parmer Instrument Co., Burlington, Ill., USA), which contains 60 sccm of oxygen (or The treatment and the 49.5 inch (1.26 m) length polyetheretherketone ("PEEK") capillary (1/16 inch (1.5 mm) outer diameter, 0.004 inch inner diameter (0.1 mm), with the specific flow reported in the specific example) mm)) for controllable inflow. The PEEK capillary end was inserted into a fluid hexamethyldisiloxane (“HMDSO”, Alfa Aesar® part number L16970, NMR, Grade, Johnson Matthey PLC, London). The fluid HMDSO was aspirated through the capillary due to the low pressure in the tube during processing. The HMDSO then became vapor at the end of the capillary when it reached the low pressure region.

この点を超えた当該流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok(登録商標)3方弁経由での処理のため当該管内部へと流入しない当該ガス流(酸素を含む)を、当該ポンプラインへと迂回させた。当該管設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該管内部へと開口した。               In order to prevent condensation of the fluid HMDSO beyond this point, the gas flow (including oxygen) that does not flow into the pipe for treatment via the Swagelok (registered trademark) three-way valve is sent to the pump line. And detoured. After the tube was installed, the vacuum pump valve was opened to the container holder 50 and the inside of the tube.

Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。当該ポンプシステムは、当該処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該管内部を200mトール未満の圧力に低減することを可能とした。               The vacuum pump system was composed of an Alcatel rotary blade vacuum pump and a blower. The pump system made it possible to reduce the inside of the pipe to a pressure of less than 200 mTorr while flowing the processing gas at the display rate.

当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。当該ガス流(酸素およびHMDSO蒸気)を、当該真鍮ガス供給ポート110(当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整)に流入させた。当該管内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ(MKS)により測定される通り、約270mトールであった。当該管圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定した。本圧力は通常、8トール未満であった。               After achieving the bottom vacuum level, the container holder 50 assembly was moved into the electrode 160 assembly. The gas stream (oxygen and HMDSO vapor) was flowed into the brass gas supply port 110 (the three-way valve was adjusted from the pump line to the gas supply port 110). The pressure in the tube was about 270 mTorr as measured by a capacitance manometer (MKS) installed on the pump line in proximity to the valve controlling the vacuum. In addition to the tube pressure, the pressure in the gas supply port 110 and the gas system was also measured with the thermocouple vacuum gauge connected to the gas system. This pressure was usually less than 8 Torr.

当該ガスを当該管内部に流入させた後に、当該 RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。ENI ACG-6 600ワットのRF電力供給装置を、調整された約39ワットの電力レベルにおいて(13.56MHzで)使用した。当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス(当該管において創出するため)を50オームの当該ENI ACG-6 RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDEL CPMX1000自動整合装置に接続した。順方向電力は39ワット(または特定実施例で報告された特定値)および反射電力は0ワットであったため、適用電力は管内部に送達された。当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は7秒(または特定実施例で報告された特定の期間)に設定した。当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該管内部に定着させた。当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを完全に7秒間保持した。当該プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材(または特定実施例で報告された特定の層厚)を当該管表面内部に生成した。               After flowing the gas into the pipe, the RF power supply device was turned on to adjust its power level. An ENI ACG-6 600 watt RF power supply was used (at 13.56 MHz) at a regulated power level of about 39 watts. The RF power supply was connected to a COMDEL CPMX1000 auto-matching device that matched the complex impedance of the plasma (to create in the tube) with the output impedance of the ENI ACG-6 RF power supply of 50 ohms. Since the forward power was 39 watts (or the specific value reported in the specific example) and the reflected power was 0 watts, the applied power was delivered inside the tube. The RF power supply was controlled by a laboratory timer, and the time to turn on the power was set to 7 seconds (or a specific period reported in a specific example). The RF power was started and the uniform plasma was fixed inside the tube. The plasma was held completely for 7 seconds until the RF power was interrupted by the timer. The plasma produced a silicon oxide coating with a layer thickness of about 20 nm (or the specific layer thickness reported in specific examples) inside the tube surface.

被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口した。当該通気弁をその後開口し、当該管内部を環境大気圧(約760トール)に戻した。当該管をその後、当該容器ホルダー50アセンブリから(当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に)慎重に除去した。               After coating, the gas flow was returned to the vacuum line and the vacuum valve was closed. The vent valve was then opened and the interior of the tube was returned to ambient atmospheric pressure (about 760 Torr). The tube was then carefully removed from the container holder 50 assembly (after the container holder 50 assembly was removed from the electrode 160 assembly).

COCシリンジバレルを形成するためのプロトコル(実施例3、5、11〜18、20などで使用)
それぞれ総容積2.8mL(当該ルアー取付部を除く)および名目的出し容積1mLを有するシリンジバレル(「COC シリンジバレル」)、CV把持部品11447、またはプランジャー変位、ルアー適合種類を、ドイツ、フランクフルトのHoechstが市販するTopas(登録商標) 8007-04環状オレフィン共重合体(COC)樹脂を原料として以下のを寸法で射出成形した:前長約51mm、シリンジバレル内径8.6mm、当該シリンダー状部分の壁の厚さ1.27mm、合わせて長さ9.5mmの1つの端部にモールドされた針キャピラリールアーアダプタおよびもう1方の端部近隣にモールドされた2つのフィンガーフランジ。
Protocol for forming a COC syringe barrel (used in Examples 3, 5, 11-18, 20, etc.)
Syringe barrels ("COC syringe barrels"), CV gripping parts 11447, or plunger displacements, each with a total volume of 2.8mL (excluding the luer fitting) and nominal volume of 1mL, respectively. The following dimensions were injection-molded using Topas (registered trademark) 8007-04 cyclic olefin copolymer (COC) resin commercially available from Hoechst as the raw material: front length approximately 51mm, syringe barrel inner diameter 8.6mm, wall of the cylindrical part A needle capillary luer adapter molded at one end of 1.27mm in thickness and combined length of 9.5mm and two finger flanges molded near the other end.

COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル(実施例3、5、18などで使用)
射出成形COCシリンジバレルの内部をSiOxで被覆した。特定の考えられる実施例である、図45の封止機構を有する図2で示す装置を使用した。図45の封止機構を有する図2で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正した。また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する(図26に図示)ポリプロピレン蓋から作成し、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることを可能とした。
Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with SiO x (used in Examples 3, 5, 18 etc.)
The interior of the injection molded COC syringe barrel is coated with SiO x. A particular possible embodiment, the apparatus shown in FIG. 2 with the sealing mechanism of FIG. 45, was used. The apparatus shown in FIG. 2 having the sealing mechanism of FIG. 45 was modified so as to hold the COC syringe barrel at the contact portion that seals at the bottom of the COC syringe barrel. The lid was made from a polypropylene lid that seals the stainless steel luer attachment and the end of the COC syringe barrel (shown in FIG. 26), allowing the inside of the COC syringe barrel to be evacuated.

当該容器ホルダー50は、Delrin(登録商標)アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ(44mm)および高さ1.75インチ(44mm)で作成した。当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極160への出入りを可能とするDelrin(登録商標)構造内に格納した。               The container holder 50 is made of Delrin (registered trademark) acetal resin as a raw material and has an outer diameter of 1.75 inches (44 mm) and a height of 1.75 inches (44 mm). The container holder 50 was stored in a Delrin (registered trademark) structure that allows the device to enter and exit the electrode 160.

当該電極160は、銅およびDelrin(登録商標)遮蔽体から作成した。当該Delrin(登録商標)遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させた。当該電極160の寸法は、(内部)高さ約3インチ(76mm)であり、幅は約0.75インチ(19mm)であった。 当該COCシリンジバレルを当該容器ホルダー50に挿入し、底部をViton(登録商標)オーリングで密閉した。               The electrode 160 was made from copper and Delrin® shield. The Delrin (registered trademark) shield was conformed to the outer periphery of the copper electrode 160. The dimensions of the electrode 160 were about 3 inches (76 mm) in height and about 0.75 inches (19 mm) in width. The COC syringe barrel was inserted into the container holder 50, and the bottom was sealed with Viton (registered trademark) O-ring.

COCシリンジバレルを、当該伸延された(定常の)1/8インチ(3mm)径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。当該銅プラズマ遮蔽体は、当該COCシリンジバレルの外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材(K&S Engineering、部品番号:LXMUW5 Copper mesh)で、当該COCシリンジバレル挿入(図45を参照)の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定した。当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。               The COC syringe barrel was carefully moved to a closed position above the extended (steady) 1/8 inch (3 mm) diameter brass probe or counter electrode 108 and pressed against the copper plasma shield. The copper plasma shield is a perforated copper foil material (K & S Engineering, part number: LXMUW5 Copper mesh) cut to fit the outer diameter of the COC syringe barrel and inserted into the COC syringe barrel (see Figure 45) It was fixed at a predetermined position by a radially extending contact part surface 494 functioning as a stop part. The two copper meshes were fitted tightly around the brass probe or counter electrode 108 to ensure good electrical contact.

当該プローブまたは対向電極108を当該COCシリンジバレル内部へと約20mm伸延し、その端部を開口した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok(登録商標)取付部を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地した。               The probe or counter electrode 108 was extended about 20 mm into the COC syringe barrel, and its end was opened. The brass probe or counter electrode 108 was extended through the Swagelok® attachment at the bottom of the container holder 50 and extended through the bottom structure of the container holder 50. The brass probe or counter electrode 108 was grounded to the casing of the RF matching network.

当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok(登録商標)取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該処理ガス、酸素およびヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)が当該ガス供給ポート110(処理圧力下で)を通り当該COCシリンジバレル内部に流入するようにした。               The gas supply port 110 was connected to a stainless steel assembly consisting of a Swagelok® fitting that contained a manual vent ball valve, thermocouple pressure gauge and bypass valve connected to the vacuum pump line. In addition, the gas system is connected to the gas supply port 110 and the process gas, oxygen and hexamethyldisiloxane (HMDSO) flow into the COC syringe barrel through the gas supply port 110 (under process pressure). I tried to do it.

当該ガスシステムは、Aalborg(登録商標) GFC17質量流量計(Cole Parmer部品番号:EW-32661-34)からなり、当該流量計は、酸素を90sccm(または特定実施例で報告された特定流量)で当該処理および長さ49.5インチ(1.26m)のPEEKキャピラリー(外径1/16インチ(3mm)、内径0.004インチ(0.1mm))に制御可能に流入させるためのものであった。当該PEEKキャピラリー端部を、流体ヘキサメチルジシロキサン(Alfa Aesar(登録商標) 部品番号L16970、NMR、Grade)へと挿入した。当該流体HMDSOを、処理中の当該COCシリンジバレル管内の低圧力により、当該キャピラリーを通して吸引した。当該HMDSOはその後、当該低圧力領域に到達した時点で当該キャピラリー終端で蒸気となった。               The gas system consists of an Aalborg (R) GFC17 mass flow meter (Cole Parmer part number: EW-32661-34), which flows oxygen at 90 sccm (or the specific flow reported in the specific example). This treatment was for controllable flow into a PEEK capillary (outer diameter 1/16 inch (3 mm), inner diameter 0.004 inch (0.1 mm)) 49.5 inches (1.26 m) in length. The PEEK capillary end was inserted into fluid hexamethyldisiloxane (Alfa Aesar® part number L16970, NMR, Grade). The fluid HMDSO was aspirated through the capillary due to the low pressure in the COC syringe barrel tube being processed. The HMDSO then became vapor at the end of the capillary when it reached the low pressure region.

この点を超えた当該流体HMDSOの結露を防止するため、Swagelok(登録商標)3方弁経由での処理のため当該COCシリンジバレル内部へと流入しない当該ガス流(酸素を含む)を、当該ポンプラインへと迂回させた。               To prevent condensation of the fluid HMDSO beyond this point, the gas flow (including oxygen) that does not flow into the COC syringe barrel for treatment via the Swagelok (registered trademark) three-way valve Detoured to the line.

当該COCシリンジバレル設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該COCシリンジバレル内部へと開口した。Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。当該ポンプシステムは、当該処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該COCシリンジバレル内部を150mトール未満の圧力に低減することを可能とした。当該管とは対照的に、当該COCシリンジバレルを用いて低いポンプ圧力を達成可能であった。なぜなら、当該COCシリンジバレルはより少量の内容量を有するからである。               After the installation of the COC syringe barrel, the vacuum pump valve was opened into the container holder 50 and the COC syringe barrel. The vacuum pump system was composed of an Alcatel rotary blade vacuum pump and a blower. The pump system made it possible to reduce the inside of the COC syringe barrel to a pressure of less than 150 mTorr while flowing the processing gas at the display rate. In contrast to the tube, a low pump pressure could be achieved using the COC syringe barrel. This is because the COC syringe barrel has a smaller content.

当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。当該ガス流(酸素およびHMDSO蒸気)を、当該真鍮ガス供給ポート110(当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整)に流入させた。当該COCシリンジバレル内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ(MKS)により測定される通り、約200mトールであった。当該COCシリンジバレル圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定した。本圧力は通常、8トール未満であった。               After achieving the bottom vacuum level, the container holder 50 assembly was moved into the electrode 160 assembly. The gas stream (oxygen and HMDSO vapor) was flowed into the brass gas supply port 110 (the three-way valve was adjusted from the pump line to the gas supply port 110). The pressure in the COC syringe barrel was about 200 mTorr as measured by a capacitance manometer (MKS) installed on the pump line close to the valve controlling the vacuum. In addition to the COC syringe barrel pressure, the pressure in the gas supply port 110 and gas system was also measured with the thermocouple gauge connected to the gas system. This pressure was usually less than 8 Torr.

当該ガスを当該COCシリンジバレル内部に流入させた後に、当該RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。ENI ACG-6 600ワットのRF電力供給装置を、調整された約30ワットの電力レベルにおいて(13.56MHzで)使用した。当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス(当該COCシリンジバレルにおいて創出するため)を50オームの当該ENI ACG-6 RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDEL CPMX1000自動整合装置に接続した。順方向電力は30ワット(または実施例で報告されているいかなる値)および反射電力は0ワットであったため、電力はCOCシリンジバレル内部に送達された。当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は5秒(または特定実施例で報告された特定の期間)に設定した。               After flowing the gas into the COC syringe barrel, the RF power supply device was turned on to adjust its power level. An ENI ACG-6 600 watt RF power supply was used (at 13.56 MHz) at a regulated power level of about 30 watts. The RF power supply was connected to a COMDEL CPMX1000 auto-matching device that matched the complex impedance of the plasma (to create in the COC syringe barrel) with the output impedance of the 50 ohm ENI ACG-6 RF power supply. . Because the forward power was 30 watts (or whatever value reported in the examples) and the reflected power was 0 watts, power was delivered inside the COC syringe barrel. The RF power supply was controlled by a laboratory timer, and the time to turn on the power was set to 5 seconds (or a specific period reported in a specific example).

当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該COCシリンジバレル内部に定着させた。当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを完全に5秒間(または特定実施例において指示されたその他の被覆時間)保持した。当該プラズマにより、層厚約20nmの酸化ケイ素被覆材(または特定実施例で報告された層厚)を当該COCシリンジバレル表面内部に生成した。               The RF power was started and the uniform plasma was fixed inside the COC syringe barrel. The plasma was held completely for 5 seconds (or other coating time indicated in the specific example) until the RF power was shut off by the timer. The plasma produced a silicon oxide coating with a layer thickness of about 20 nm (or the layer thickness reported in the specific example) inside the COC syringe barrel surface.

被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口した。当該通気弁をその後開口し、当該COCシリンジバレル内部を環境大気圧(約760トール)に戻した。当該COCシリンジバレルをその後、当該容器ホルダー50アセンブリから(当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に)慎重に除去した。               After coating, the gas flow was returned to the vacuum line and the vacuum valve was closed. The vent valve was then opened, and the inside of the COC syringe barrel was returned to ambient atmospheric pressure (about 760 Torr). The COC syringe barrel was then carefully removed from the container holder 50 assembly (after the container holder 50 assembly was removed from the electrode 160 assembly).

COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル(実施例11、12、15〜18、20などで使用)
先に同定したCOCシリンジバレルを、潤滑性被覆材で内部被覆した。特定の考えられる実施例である、図45の封止機構を有する図2で示す装置を使用した。図45の封止機構を有する図2で示す装置を、当該COCシリンジバレル底部で密閉を行う当接部でCOCシリンジバレルを把持するよう修正した。また蓋を、ステンレス鋼ルアー取付部および当該COCシリンジバレル端部を密閉する(図26に図示)ポリプロピレン蓋から作成し、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることを可能とした。ブナNオーリングを当該ルアー取付部に設置することで、気密な密閉が可能となり、当該COCシリンジバレル内部を真空にすることが可能となった。
Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with OMCTS lubricity coating (used in Examples 11, 12, 15-18, 20, etc.)
The previously identified COC syringe barrel was internally coated with a lubricious coating. A particular possible embodiment, the apparatus shown in FIG. 2 with the sealing mechanism of FIG. 45, was used. The apparatus shown in FIG. 2 having the sealing mechanism of FIG. 45 was modified so as to hold the COC syringe barrel at the contact portion that seals at the bottom of the COC syringe barrel. The lid was made from a polypropylene lid that seals the stainless steel luer attachment and the end of the COC syringe barrel (shown in FIG. 26), allowing the inside of the COC syringe barrel to be evacuated. By installing the beech N O-ring at the luer attachment part, it became possible to hermetically seal, and the inside of the COC syringe barrel could be evacuated.

当該容器ホルダー50は、Delrin(登録商標)アセタール樹脂を原料として、外径1.75インチ(44mm)および高さ1.75インチ(44mm)で作成した。当該容器ホルダー50は、当該機器の当該電極160への出入りを可能とするDelrin(登録商標)構造内に格納した。               The container holder 50 is made of Delrin (registered trademark) acetal resin as a raw material and has an outer diameter of 1.75 inches (44 mm) and a height of 1.75 inches (44 mm). The container holder 50 was stored in a Delrin (registered trademark) structure that allows the device to enter and exit the electrode 160.

当該電極160は、銅およびDelrin(登録商標)遮蔽体から作成した。当該Delrin(登録商標)遮蔽体は、当該銅電極160の外部周辺に共形させた。当該電極160の寸法は、(内部)高さ約3インチ(76mm)であり、幅は約0.75インチ(19mm)であった。 当該COCシリンジバレルを当該容器ホルダー50に挿入し、当該フィンガーフランジの底部および当該COCシリンジバレルの縁をViton(登録商標)オーリングで密閉した。               The electrode 160 was made from copper and Delrin® shield. The Delrin (registered trademark) shield was conformed to the outer periphery of the copper electrode 160. The dimensions of the electrode 160 were about 3 inches (76 mm) in height and about 0.75 inches (19 mm) in width. The COC syringe barrel was inserted into the container holder 50, and the bottom of the finger flange and the edge of the COC syringe barrel were sealed with Viton (registered trademark) O-ring.

COCシリンジバレルを、当該伸延された(定常の)1/8インチ(3mm)径真鍮プローブまたは対向電極108の上の密閉位置へと慎重に移動し、銅プラズマ遮蔽体へと押し付けた。当該銅プラズマ遮蔽体は、当該COCシリンジバレルの外径を装着するよう切断された有孔銅ホイル材(K&S Engineering、部品番号:LXMUW5 Copper mesh)で、当該COCシリンジバレル挿入(図45を参照)の停止部として機能する放射状に伸延する当接部表面494により所定の位置に固定した。当該銅メッシュ2枚を当該真鍮プローブまたは対向電極108の周囲にぴったりと装着し、良好な電気接触を確保した。               The COC syringe barrel was carefully moved to a closed position above the extended (steady) 1/8 inch (3 mm) diameter brass probe or counter electrode 108 and pressed against the copper plasma shield. The copper plasma shield is a perforated copper foil material (K & S Engineering, part number: LXMUW5 Copper mesh) cut to fit the outer diameter of the COC syringe barrel and inserted into the COC syringe barrel (see Figure 45) It was fixed at a predetermined position by a radially extending contact part surface 494 functioning as a stop part. The two copper meshes were fitted tightly around the brass probe or counter electrode 108 to ensure good electrical contact.

当該プローブまたは対向電極108を当該COCシリンジバレル内部へと(別途指示がない限り)約20mm伸延し、その端部を開口した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を当該容器ホルダー50下部にあるSwagelok(登録商標)取付部を通して伸延し、当該容器ホルダー50底部構造を通して伸延した。当該真鍮プローブまたは対向電極108を、当該RF一致ネットワークのケーシングへと接地した。               The probe or counter electrode 108 was extended about 20 mm into the COC syringe barrel (unless otherwise indicated), and its end was opened. The brass probe or counter electrode 108 was extended through the Swagelok® attachment at the bottom of the container holder 50 and extended through the bottom structure of the container holder 50. The brass probe or counter electrode 108 was grounded to the casing of the RF matching network.

当該ガス供給ポート110を、当該真空ポンプラインに接続される手動の通気用ボール弁、熱電対圧力計およびバイパス弁を内蔵するSwagelok(登録商標)取付部からなるステンレス鋼アセンブリに接続した。 さらに、当該ガスシステムを当該ガス供給ポート110に接続して、当該処理ガスおよびオクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)(または特定実施例で報告された特定の処理ガス)が当該ガス供給ポート110(処理圧力下で)を通り当該COCシリンジバレル内部に流入するようにした。               The gas supply port 110 was connected to a stainless steel assembly consisting of a Swagelok® fitting that contained a manual vent ball valve, thermocouple pressure gauge and bypass valve connected to the vacuum pump line. In addition, the gas system is connected to the gas supply port 110 so that the process gas and octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS) (or the specific process gas reported in a specific embodiment) are connected to the gas supply port 110 (process (Under pressure) and into the COC syringe barrel.

当該ガスシステムを、当該OMCTSを約100℃にまで高温化する市販のHoriba VC1310/SEF8240 OMCTS 10SC 4CR熱質量流量気化システムで構成した。当該Horibaシステムを、内径1/16インチ(1.5mm)である外径1/8インチ(3mm)のPFA管を通して、流体オクタメチルシクロテトラシロキサン(Alfa Aesar(登録商標)、部品番号:A12540、98%)へと接続した。当該OMCTS流量は1.25sccm(また特定実施例で報告された特定の有機ケイ素前駆体の流量)に設定した。この点を超えた当該気化OMCTSの結露を防止するため、Swagelok(登録商標)3方弁経由での処理のため当該COCシリンジバレル内部へと流入しない当該ガス流を、当該ポンプラインへと迂回させた。               The gas system consisted of a commercially available Horiba VC1310 / SEF8240 OMCTS 10SC 4CR thermal mass flow vaporization system that heats the OMCTS to about 100 ° C. The Horiba system was passed through a 1/8 inch (3 mm) outside diameter 1/8 inch (3 mm) PFA tube with a fluid octamethylcyclotetrasiloxane (Alfa Aesar®, part number: A12540, 98 %). The OMCTS flow rate was set at 1.25 sccm (and the specific organosilicon precursor flow rate reported in the specific examples). In order to prevent condensation of the vaporized OMCTS beyond this point, the gas flow that does not flow into the COC syringe barrel for processing via the Swagelok (registered trademark) 3-way valve is diverted to the pump line. It was.

当該COCシリンジバレル設置後に、当該真空ポンプ弁を当該容器ホルダー50および当該COCシリンジバレル内部へと開口した。Alcatel回転翼真空ポンプおよびブロワーで、当該真空ポンプシステムを構成した。当該ポンプシステムにより、当該処理ガスを当該表示率で流入しながら、当該COCシリンジバレル内部を100mトール未満の圧力に低減することが可能となった。本事例において、前述の管およびCOCシリンジバレルの実施例と比較してより低い圧力を実現できた。なぜなら本事例における処理ガス流量は全般的に低いからである。               After the installation of the COC syringe barrel, the vacuum pump valve was opened into the container holder 50 and the COC syringe barrel. The vacuum pump system was composed of an Alcatel rotary blade vacuum pump and a blower. With the pump system, the inside of the COC syringe barrel can be reduced to a pressure of less than 100 mTorr while the process gas flows at the display rate. In this case, a lower pressure was achieved compared to the tube and COC syringe barrel examples described above. This is because the processing gas flow rate in this case is generally low.

当該底部真空レベル達成後に、当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリ内に移動した。当該ガス流(OMCTS蒸気)を、当該真鍮ガス供給ポート110(当該3方弁を当該ポンプラインから当該ガス供給ポート110へと調整)に流入させた。当該COCシリンジバレル内の圧力は、当該真空を制御する弁に近接する当該ポンプライン上に設置されるキャパシタンスマノメータ(MKS)により測定される通り、約140mトールであった。当該COCシリンジバレル圧力に加えて、当該ガス供給ポート110およびガスシステム内の圧力もまた、当該ガスシステムに接続される当該熱電対真空計で測定した。本圧力は通常、6トール未満であった。               After achieving the bottom vacuum level, the container holder 50 assembly was moved into the electrode 160 assembly. The gas flow (OMCTS steam) was flowed into the brass gas supply port 110 (the three-way valve was adjusted from the pump line to the gas supply port 110). The pressure in the COC syringe barrel was about 140 mTorr as measured by a capacitance manometer (MKS) installed on the pump line close to the valve controlling the vacuum. In addition to the COC syringe barrel pressure, the pressure in the gas supply port 110 and gas system was also measured with the thermocouple gauge connected to the gas system. This pressure was usually less than 6 Torr.

当該ガスを当該COCシリンジバレル内部に流入させた後に、当該 RF電力供給装置をオンにしてその電力レベルを調整した。ENI ACG-6 600ワットのRF電力供給装置を、調整された約7.5ワット(また特定実施例で指示されるその他の電力レベル)の電力レベルにおいて(13.56MHzで)使用した。当該RF電力供給装置を、当該プラズマの複素インピーダンス(当該COCシリンジバレルにおいて創出するため)を50オームの当該ENI ACG-6 RF電力供給装置の出力インピーダンスと整合させる、COMDEL CPMX1000自動整合装置に接続した。順方向電力は7.5ワットおよび反射電力は0ワットであったため、7.5ワットの電力(または任意実施例で搬送される異なる電力レベル)は当該COCシリンジバレル内部に送達された。当該RF電力供給装置は研究所のタイマーにより制御され、当該電力をオンにする時間は10秒(または任意実施例で述べられた異なる期間)に設定した。               After the gas flowed into the COC syringe barrel, the RF power supply device was turned on to adjust the power level. An ENI ACG-6 600 watt RF power supply was used (at 13.56 MHz) at a regulated power level of approximately 7.5 watts (and other power levels indicated in specific examples). The RF power supply was connected to a COMDEL CPMX1000 auto-matching device that matched the complex impedance of the plasma (to create in the COC syringe barrel) with the output impedance of the 50 ohm ENI ACG-6 RF power supply. . Since forward power was 7.5 watts and reflected power was 0 watts, 7.5 watts of power (or different power levels carried in any example) was delivered inside the COC syringe barrel. The RF power supply was controlled by a laboratory timer, and the time to turn on the power was set to 10 seconds (or a different period as described in any of the examples).

当該RF電力を開始し、均一プラズマを当該COCシリンジバレル内部に定着させた。当該RF電力が当該タイマーにより遮断されるまで、当該プラズマを全被覆時間の間保持した。当該プラズマにより、潤滑性被覆材を当該COCシリンジバレル表面内部に生成した。               The RF power was started and the uniform plasma was fixed inside the COC syringe barrel. The plasma was held for the entire coating time until the RF power was shut off by the timer. The plasma produced a lubricious coating inside the COC syringe barrel surface.

被覆後に、当該ガス流入を当該真空管路へと戻し、当該真空弁を閉口した。当該通気弁をその後開口し、当該COCシリンジバレル内部を環境大気圧(約760トール)に戻した。当該COCシリンジバレルをその後、当該容器ホルダー50アセンブリから(当該容器ホルダー50アセンブリを当該電極160アセンブリから除去した後に)慎重に除去した。               After coating, the gas flow was returned to the vacuum line and the vacuum valve was closed. The vent valve was then opened, and the inside of the COC syringe barrel was returned to ambient atmospheric pressure (about 760 Torr). The COC syringe barrel was then carefully removed from the container holder 50 assembly (after the container holder 50 assembly was removed from the electrode 160 assembly).

COCシリンジバレル内部をHMDSO被覆材で被覆するためのプロトコル(実施例12、15、16、17などで使用)
また、HMDSOをOMCTSで置換する場合を除き、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」を使用して、HMDSO被覆材を塗布した。
Protocol for coating the inside of the COC syringe barrel with HMDSO coating (used in Examples 12, 15, 16, 17, etc.)
Further, except when replacing HMDSO with OMCTS, the HMDSO coating material was applied using the “Protocol for coating the inside of the COC syringe barrel with the OMCTS lubricity coating material”.

実施例1:
V.以下の試験において、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)を図2のPECVD装置へと供給する当該有機ケイ素(「O-Si」)として使用して、COC管を成形するためのプロトコルで記述されている通り、SiOx被覆材を環状オレフィン共重合体(COC)管の内面に塗布した。当該堆積条件は、管内部をSiOxで被覆するためのプロトコルおよび表1に要約されている。当該対照は、遮断性被覆材未塗布の同種の管であった。その後当該被覆管および非被覆管について、当該酸素透過率(OTR)および水蒸気透過速度(WVTR)の試験を行った。
Example 1:
V. In the following tests, described in the protocol for forming COC tubes using hexamethyldisiloxane (HMDSO) as the organosilicon ("O-Si") that feeds the PECVD equipment in Figure 2 As shown, the SiO x coating was applied to the inner surface of the cyclic olefin copolymer (COC) tube. The deposition conditions are summarized in the protocol for coating the interior of the tube with SiO x and Table 1. The control was a similar tube with no barrier coating applied. Subsequently, the oxygen transmission rate (OTR) and the water vapor transmission rate (WVTR) were tested on the coated tube and the uncoated tube.

V.表1を参照にして、当該非被覆COC管は0.215cc/管のOTRを有した。PECVDを14秒間施した管AおよびBは、平均0.0235cc/管のOTRを有した。これらの結果により、SiOx被覆材が対非被覆管比で9:1の酸素透過BIFを提供したことが示される。言い換えれば、当該SiOx遮断性被覆材は管を透過する酸素量を非被覆管の値の9分の1未満に減少させたということである。 V. Referring to Table 1, the uncoated COC tube had an OTR of 0.215 cc / tube. Tubes A and B subjected to PECVD for 14 seconds had an average OTR of 0.0235 cc / tube. These results indicate that the SiO x coating provided 9: 1 oxygen permeable BIF in the ratio of uncoated tube. In other words, the SiO x barrier coating material has reduced the amount of oxygen permeating the tube to less than 1/9 of the value of the uncoated tube.

V.PECVDを7秒間施した管Cは、平均0.026のOTRを有した。この結果により、SiOx被覆材が対非被覆管比で8:3のOTR BIFを提供したことが示される。言い換えれば、7秒で塗布した当該SiOx遮断性被覆材は管を透過する酸素量を非被覆管の値の8分の1未満に減少させたということである。 Tube C subjected to V.PECVD for 7 seconds had an average OTR of 0.026. This result indicates that the SiO x coating provided an 8: 3 OTR BIF in the uncoated tube ratio. In other words, the SiO x barrier coating applied in 7 seconds reduced the amount of oxygen permeating the tube to less than one-eighth of the value of the uncoated tube.

V.COC管上の同一遮断性被覆材の関連水蒸気透過速度を測定した。当該非被覆COC管は 0.27mg/管/日のWVTRを有した。PECVDを14秒間施した管AおよびBは、平均0.10mg/管/日以下のWVTRを有した。PECVDを7秒間施した管Cは、0.10mg/管/日のWVTRを有した。この結果により、SiOx被覆の水蒸気透過速度の遮断改善度(WVTR BIF)が非被覆管を約2.7上回ったことが示される。これは驚くべき結果である。なぜなら、当該非被覆COC管は既に非常に低い水蒸気透過速度を有しているからである。 V. The related water vapor transmission rate of the same barrier coating on COC tube was measured. The uncoated COC tube had a WVTR of 0.27 mg / tube / day. Tubes A and B subjected to PECVD for 14 seconds had an average WVTR of 0.10 mg / tube / day or less. Tube C subjected to PECVD for 7 seconds had a WVTR of 0.10 mg / tube / day. This result indicates that the improvement in blocking the water vapor transmission rate of the SiO x coating (WVTR BIF) was about 2.7 above the uncoated tube. This is a surprising result. This is because the uncoated COC tube already has a very low water vapor transmission rate.

実施例2:
V.「PET管を成形するためのプロトコル」に従い製造された一連のPET管を、表2で報告された条件下で「管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従いSiOxで被覆した。対照を、PET管を成形するためのプロトコルに従って作成し、非被覆のままとした。OTRおよび当該管の水蒸気透過速度検体を、各管のアルミニウムアダプタへの開口端をエポキシ封止することにより、用意した。
Example 2:
V. A series of PET tubes manufactured according to “Protocols for molding PET tubes” were coated with SiO x according to “Protocols for coating tube interior with SiO x ” under the conditions reported in Table 2. . Controls were made according to the protocol for molding PET tubes and were left uncoated. OTR and the water vapor transmission rate specimen of the tube were prepared by epoxy sealing the open end of each tube to the aluminum adapter.

別試験において、同類の被覆PET管を使用して、当該内部被覆材を通る鋼針によりさまざまな長さの機械的擦過を誘発させ、当該OTR BIFを試験した。対照は非被覆のままか、誘発擦過のない同類被覆管であった。当該OTR BIFは減少したが、それでも非被覆管(表2A)を上回った。               In a separate test, the OTR BIF was tested using similar coated PET tubes, with various lengths of mechanical abrasion induced by steel needles passing through the inner coating. Controls were uncoated or similar coated tubes with no induced scratching. The OTR BIF decreased but still exceeded the uncoated tubes (Table 2A).

V.OTRについて試験を行った管は以下の通りである。各検体/アダプタアセンブリを、MOCON(登録商標) Oxtran 2/21酸素透過率測定装置に装着した。以下の試験条件下で、検体を透過率 定常状態(1〜3日)へと平衡化可能である:
試験ガス:酸素
試験ガス濃度:100%
試験ガス湿度:0%相対湿度
試験ガス圧力:760mmHg
試験温度:23.0℃(73.4°F)
搬送ガス:98%窒素、2%水素
搬送ガス湿度:0%相対湿度
The tubes tested for V.OTR are: Each specimen / adapter assembly was attached to a MOCON® Oxtran 2/21 oxygen permeability measurement device. The specimen can be equilibrated to permeability steady state (1-3 days) under the following test conditions:
Test gas: Oxygen Test gas concentration: 100%
Test gas humidity: 0% relative humidity Test gas pressure: 760mmHg
Test temperature: 23.0 ° C (73.4 ° F)
Carrier gas: 98% nitrogen, 2% hydrogen Carrier gas humidity: 0% relative humidity

V.OTRについては、2つの判定の平均として表2で報告する。               V.OTR is reported in Table 2 as the average of the two decisions.

V.WVTRについて試験を行った管は以下の通りである。検体/アダプタアセンブリを、MOCON(登録商標) Permatran- W 3/31水蒸気素透過率測定装置に装着した。以下の試験条件下で、検体を透過率 定常状態(1〜3日)へと平衡化可能である:
試験ガス:水蒸気
試験ガス濃度:該当なし
試験ガス湿度:100%相対湿度
試験ガス温度:37.8(oC) 100.0(oF)
搬送ガス:乾燥窒素
搬送ガス湿度:0%相対湿度
The tubes tested for V.WVTR are as follows. The specimen / adapter assembly was mounted on a MOCON® Permatran-W 3/31 water vapor permeability measurement device. The specimen can be equilibrated to permeability steady state (1-3 days) under the following test conditions:
Test gas: Water vapor Test gas concentration: Not applicable Test gas humidity: 100% relative humidity Test gas temperature: 37.8 ( o C) 100.0 ( o F)
Carrier gas: Dry nitrogen Carrier gas humidity: 0% relative humidity

WVTRについては、2つの判定の平均として表2で報告する。               WVTR is reported in Table 2 as the average of the two determinations.

実施例3:
COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従って、一連のシリンジバレルを作成した。当該シリンジバレルはSiOxで遮断性被覆されたか、表3で示す通りに修正済みの「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」で報告された条件に従っていなかった。
Example 3:
A series of syringe barrels were made according to the protocol for molding the COC syringe barrel. The syringe barrel was barrier coated with SiO x or did not comply with the conditions reported in the modified “Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with SiO x ” as shown in Table 3.

当該シリンジバレルのOTRおよびWVTR検体を、各シリンジバレルのアルミニウムアダプタへの開口端をエポキシ封止することにより、用意した。さらに、当該シリンジバレルキャピラリー端部をエポキシで封止した。当該シリンジアセンブリを当該PET管検体と同様の方法でOTRまたはWVTRについて試験し、ここでもMOCON(登録商標) Oxtran 2/21酸素透過率測定装置およびMOCON(登録商標) Permatran- W 3/31水蒸気透過率測定装置を利用した。当該結果は表3で報告する。               The syringe barrel OTR and WVTR specimens were prepared by epoxy sealing the open ends of each syringe barrel to the aluminum adapter. Furthermore, the syringe barrel capillary end was sealed with epoxy. The syringe assembly was tested for OTR or WVTR in the same manner as the PET tube specimen, again with the MOCON® Oxtran 2/21 Oxygen Permeability Analyzer and MOCON® Permatran- W 3/31 water vapor transmission A rate measuring device was used. The results are reported in Table 3.

実施例4 :
X線光電子分光法(XPS)/化学分析電子分光法(ESCA)表面分析を利用したプラズマ被覆材の組成測定
V.A.「PET管を成形するためのプロトコル」に従い製造され「管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い被覆されたPET管を、半分に切断して管内面を曝露し、X線光電子分光法(XPS)を利用して分析した。
Example 4:
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) / chemical analysis electron spectroscopy (ESCA) surface composition analysis using plasma analysis
A PET tube manufactured according to VA “Protocol for molding PET tube” and coated according to “Protocol for coating tube inside with SiO x ” is cut in half to expose the inner surface of the tube, and X-ray photoelectron spectroscopy Analysis using the method (XPS).

V.A.当該XPSデータを、関連する感度要素および均一層と推測されるモデルを使用して定量化した。当該分析容量は、当該分析範囲(スポットサイズまたはアパーチャサイズ)の生成物および当該情報深さである。光電子が当該X線侵入深さ(一般にミクロン単位)内に生成されるが、光電子脱出深さ上位3つに入る光電子のみが検出される。脱出深さは約5〜35 Åであり、分析深さを50〜100 Å以下であるようにする。一般に、信号の95%はこの深さに源を発する。               V.A. The XPS data was quantified using the associated sensitivity factor and a model assumed to be a uniform layer. The analysis volume is the product of the analysis range (spot size or aperture size) and the information depth. Photoelectrons are generated within the X-ray penetration depth (typically in microns), but only the photoelectrons that fall within the top three photoemission escape depths are detected. The escape depth is about 5 to 35 mm and the analysis depth is 50 to 100 mm or less. In general, 95% of the signal originates at this depth.

V.A.表5は、当該検出元素の原子比率を示す。XPSに使用した当該分析パラメータは以下の通りである:

Figure 2012526921
VA Table 5 shows the atomic ratio of the detected element. The analysis parameters used for XPS are as follows:
Figure 2012526921

V.A.XPSは水素またはヘリウムを検出しない。所定の値は、当該検出元素を使用する実験番号(最後列)についてはSi = 1に、当該非被覆テレフタル酸ポリエチレン算出および実施例についてはO = 1に正規化される。検出限界は、約0.05〜1.0原子パーセントである。 所定の値は、あるいは100%のSi + O + C原子へと正規化される。               V.A.XPS does not detect hydrogen or helium. The predetermined value is normalized to Si = 1 for the experiment number (last row) using the detection element, and O = 1 for the uncoated polyethylene terephthalate calculation and examples. The detection limit is about 0.05 to 1.0 atomic percent. The predetermined value is normalized to 100% Si + O + C atoms.

V.A.当該発明検体のSi/O比は2:4であり、当該被覆材の不十分な酸化からの残存炭素が見られるSiOx組成物であることが示される。本分析により、SiOx遮断層の組成物が本発明に記載のテレフタル酸ポリエチレン管に適用することが明示される。 VA The inventive sample has a Si / O ratio of 2: 4, indicating an SiO x composition with residual carbon from insufficient oxidation of the coating. This analysis demonstrates that the composition of the SiO x barrier layer applies to the polyethylene terephthalate tube according to the invention.

V.A. 表4に、以下の方法に記載のTEMを使用して判定したSiOx検体の層厚を表示した。K575X Emitech被覆システムを使用してプラチナ(層厚50〜100nm)のスパッタ層で当該検体を被覆することにより、集束イオンビーム(FIB)断面観察用の検体を準備した。当該被覆検体を、FEI FIB200 FIBシステムに留置した。関心領域に30kVガリウムのイオンビームをラスターしながら有機金属ガスを射出することで、追加のプラチナ層をFIB堆積した。各検体の関心領域は、管の長さ半分にあたる場所を選択した。長さ約15μm(「マイクロメートル」)、幅2μm、奥行15μmの薄肉断面を、独自の原位置FIBリフトアウト法を利用して、成形型表面から抽出した。FIB堆積プラチナを使用して、当該断面を200メッシュ銅製TEMグリッドへと装着した。各セクションのサイズ約8μm幅の1〜2つのウィンドウを、FEI FIBのガリウムイオンビームを使用して、電子透かしへと薄膜化した。 VA Table 4 shows the layer thickness of the SiO x specimen determined using the TEM described in the following method. A specimen for focused ion beam (FIB) cross-section observation was prepared by coating the specimen with a sputter layer of platinum (layer thickness 50-100 nm) using the K575X Emitech coating system. The coated specimen was placed in the FEI FIB200 FIB system. An additional platinum layer was FIB deposited by injecting an organometallic gas while rastering a 30 kV gallium ion beam into the region of interest. The area of interest for each specimen was chosen to be half the length of the tube. A thin section with a length of about 15 μm (“micrometer”), a width of 2 μm, and a depth of 15 μm was extracted from the mold surface using the original in-situ FIB liftout method. The cross section was attached to a 200 mesh copper TEM grid using FIB deposited platinum. One to two windows of each section size approximately 8 μm wide were thinned into a watermark using a FEI FIB gallium ion beam.

V.C.準備した検体の断面画像分析を、透過電子顕微鏡(TEM)を利用して実行した。当該画像データをデジタル記録した。               V.C. Cross-sectional image analysis of the prepared specimens was performed using a transmission electron microscope (TEM). The image data was digitally recorded.

当該検体グリッドをHitachi HF2000透過電子顕微鏡へと転送した。転送された電子画像は、適切な倍率で取得した。画像取得の際に使用する関連機器設定は以下の通りである。

Figure 2012526921
The specimen grid was transferred to a Hitachi HF2000 transmission electron microscope. The transferred electronic image was acquired at an appropriate magnification. The related equipment settings used for image acquisition are as follows.
Figure 2012526921

実施例5 :
プラズマ均一性
V.A.「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い製造されたCOCシリンジバレルは、以下の変更を伴う「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」 を使用して処理した。プラズマ生成の3つの異なるモードを、シリンジバレル(例えば250)のSiOx膜での被覆に関して試験した。V.A.モード1において、当該ガス吸入部310、制限領域292、および処理容器内腔304内にホロー陰極プラズマ点火を生成し、通常の/非ホロー陰極プラズマを当該容器内腔300の残余部分に生成した。
Example 5:
Plasma uniformity
A COC syringe barrel manufactured according to VA “Protocol for Molding a COC Syringe Barrel” was processed using a “Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with SiO x ” with the following modifications. Three different modes of plasma generation were tested for coating a syringe barrel (eg 250) with a SiO x film. In VA mode 1, a hollow cathode plasma ignition was generated in the gas inlet 310, the restriction region 292, and the processing vessel lumen 304, and normal / non-hollow cathode plasma was generated in the remaining portion of the vessel lumen 300. .

V.A.モード2において、制限領域292および処理容器内腔304内にホロー陰極プラズマ点火を生成し、通常の/非ホロー陰極プラズマを当該容器内腔300およびガス吸入部310の残余部分に生成した。               In V.A. mode 2, hollow cathode plasma ignition was generated in restricted region 292 and process vessel lumen 304, and normal / non-hollow cathode plasma was generated in the vessel lumen 300 and the remainder of gas inlet 310.

V.A.モード3において、通常の/非ホロー陰極プラズマを当該容器内腔300およびガス吸入部310の全体に生成した。これは電力を徐々に高めてホロー陰極点火をクエンチすることにより、達成した。これらのモードを達成するのに使用した条件を、表6に示す。               In V.A. mode 3, normal / non-hollow cathode plasma was generated throughout the vessel lumen 300 and the gas inlet 310. This was achieved by gradually increasing the power to quench the hollow cathode ignition. The conditions used to achieve these modes are shown in Table 6.

V.A.その後、当該シリンジバレル250を酸化ルテニウム染色法に曝露した。当該染色は、次亜塩素酸ナトリウム漂白剤および塩化ルテニウム(III)水和物から生成した。0.2gの塩化ルテニウム(III)水和物をバイアルに入れた。10mlの漂白剤を添加し、当該塩化ルテニウム(III)水和物が溶解するまで十分に混合した。 After VA, the syringe barrel 250 was exposed to ruthenium oxide staining. The dyeing was produced from sodium hypochlorite bleach and ruthenium (III) chloride hydrate. 0.2 g of ruthenium (III) chloride hydrate was placed in a vial. 10 ml of bleach was added and mixed well until the ruthenium (III) chloride hydrate was dissolved.

V.A.各シリンジバレルをプラスチック ルアー密閉部で封止し、各シリンジバレルに当該染色混合体を3滴添加した。当該シリンジバレルをアルミニウムテープで密閉し、30〜40分間放置した。一連の試験対象シリンジバレルごとに、少なくとも1つの非被覆シリンジバレルを染色した。当該制限領域292を上向きにして、当該シリンジバレルを保管した。               Each syringe barrel was sealed with a plastic luer seal, and three drops of the staining mixture were added to each syringe barrel. The syringe barrel was sealed with aluminum tape and left for 30-40 minutes. For each series of syringe barrels to be tested, at least one uncoated syringe barrel was stained. The syringe barrel was stored with the restricted area 292 facing upward.

V.A.当該染色法に基づき、以下の結論が導かれる:
V.A.1. 曝露開始0.25時間以内に、当該染色は当該非被覆(または被覆不十分)領域に付着し始めた。
Based on the VA staining method, the following conclusions can be drawn:
VA1. Within 0.25 hours of exposure, the staining began to adhere to the uncoated (or undercoated) areas.

V.A.2. 制限領域292において点火することで、制限領域292をSiOxで被覆した。 VA2. The restricted area 292 was covered with SiO x by igniting in the restricted area 292.

V.A.3. 当該ガス吸入部310または当該制限領域292のいずれかにおいてホロー陰極プラズマ点火なしで行った試験により、最良のシリンジバレルが作成された。おそらく当該染色の漏出が原因で、当該制限的開口部294のみが染色された。               V.A.3. Tests conducted without hollow cathode plasma ignition in either the gas inlet 310 or the restricted area 292 produced the best syringe barrel. Only the restrictive opening 294 was stained, probably due to leakage of the staining.

V.A.4.染色法は、均一作業を誘導するための優良な定性的ツールである。               V.A.4. Staining is a good qualitative tool for guiding uniform work.

V.A.上記すべてに基づき、以下のように結論付けた:
V.A.1. 当該試験条件下で、当該ガス吸入部310または当該制限領域292のいずれかにおけるホロー陰極プラズマが当該被覆材の均一性を阻害する。
Based on all the above VA, we concluded that:
VA1. Under the test conditions, hollow cathode plasma in either the gas inlet 310 or the restricted region 292 inhibits the uniformity of the coating.

V.A.2. 当該ガス吸入部310または当該制限領域292のいずれかにおいてホロー陰極プラズマ点火なしで行う場合に、最良の均一性が得られた。               V.A.2. Best uniformity was obtained when performed without hollow cathode plasma ignition in either the gas inlet 310 or the restricted region 292.

実施例6:
反射測定値からの干渉縞 - 机上の実施例
VI.A.紫外可視源(Ocean Optics DH2000-BAL Deuterium Tungsten 200〜1000nm)、光ファイバー反射プローブ(約3mmのプローブ範囲を有するエミッタ/コレクタ複合体Ocean Optics QR400-7 SR/BX)、小型検出器(Ocean Optics HR4000CG UV-NIRスペクトロメータ)、および当該スペクトロメータ信号をラップトップコンピューター上で透過グラフへと変換するソフトウェアを使用して、非被覆PET管Becton Dickinson(米国ニュージャージー州フランクリンレイクス)製品番号366703 13x75mm(追加なし)を、干渉縞が観察されない、当該プローブを用いて当該管の内周周辺および当該管内壁に沿った縦方向に(当該管中心線から放射状に、したがって当該被覆表面に対して垂直に光を放射し収集する当該プローブで)スキャンする。その後、Becton Dickinson製品番号366703 13x75mm(追加なし)SiOxプラズマBD 366703管を、管内部をSiOxで被覆するためのプロトコルに記述のSiO2被覆材で層厚20nmに被覆する。 この管を、当該非被覆管と同様の方法でスキャンする。当該被覆管に明らかな干渉縞が観察され、周期パターンにおいて特定の波長が強化されその他は取消されていたことから、当該PET管上の被覆材の存在が示された。
Example 6:
Interference fringes from reflection measurements-desk top example
VI.A. UV-visible source (Ocean Optics DH2000-BAL Deuterium Tungsten 200-1000nm), fiber optic reflection probe (emitter / collector complex Ocean Optics QR400-7 SR / BX with probe range of about 3mm), small detector ( Ocean Optics HR4000CG UV-NIR spectrometer) and software that converts the spectrometer signal into a transmission graph on a laptop computer, using a non-coated PET tube Becton Dickinson (Franklin Lakes, NJ, USA), product number 366703 13x75mm (No addition), with no interference fringes observed, using the probe in the longitudinal direction along the inner circumference of the tube and along the inner wall of the tube (radially from the tube centerline and thus perpendicular to the coated surface) Scan with a probe that emits and collects light. The Becton Dickinson product number 366703 13x75 mm (no additional) SiO x plasma BD 366703 tube is then coated to a layer thickness of 20 nm with the SiO 2 coating described in the protocol for coating the inside of the tube with SiO x . The tube is scanned in the same manner as the uncoated tube. Obvious interference fringes were observed in the cladding, and certain wavelengths were enhanced in the periodic pattern and others were canceled, indicating the presence of coating on the PET.

実施例7:
積分球検出統合による光透過率の強化
VI.A.使用した装置は、Xenon光源(Ocean Optics HL-2000-HP-FHSA - 20W出力ハロゲンランプ源(185〜2000nm))、PET管を内部に収納するよう機械加工した積分球検出器(Ocean Optics ISP-80-8-I)、および光透過源および光レシーバ光ファイバー源(QP600-2-UV-VIS - 600um Premium Optical FIBER、UV/VIS、2m)付きのHR2000+ES感度強化UV.VISスペクトロメータ、および信号変換ソフトウェア(SPECTRASUITE - Cross-platform Spectroscopy Operating SOFTWARE)であった。PET管を成形するためのプロトコルに従って製作した非被覆PET管を、TEFZEL管把持部(パック)に挿入し、当該積分球に挿入した。吸収モードにおける当該Spectrasuiteソフトウェアを用いて、当該吸収度(615nm)をゼロに設定した。「PET管を成形するためのプロトコル」に従い製造され「管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い被覆されたSiOx被覆管(表6で変更された場合を除く)をパック上に装着して積分球へと挿入し、その吸収度を615nm波長で記録した。当該データは表16に表示する。
Example 7:
Enhanced light transmission by integrating integrating sphere detection
VI.A. The equipment used was an Xenon light source (Ocean Optics HL-2000-HP-FHSA-20W halogen lamp source (185-2000nm)), integrating sphere detector machined to house the PET tube inside ( Ocean Optics ISP-80-8-I), and HR2000 + ES sensitivity-enhanced UV.VIS with optical transmission source and optical receiver optical fiber source (QP600-2-UV-VIS-600um Premium Optical FIBER, UV / VIS, 2m) Spectrometer and signal conversion software (SPECTRASUITE-Cross-platform Spectroscopy Operating SOFTWARE). An uncoated PET tube produced according to the protocol for molding a PET tube was inserted into a TEFZEL tube grip (pack) and inserted into the integrating sphere. The absorbance (615 nm) was set to zero using the Spectrasuite software in absorption mode. A SiO x coated tube manufactured according to the “Protocol for molding PET tube” and coated according to the “Protocol for coating the inside of a tube with SiO x ” (except when modified in Table 6) is mounted on the pack. And inserted into an integrating sphere, and the absorbance was recorded at a wavelength of 615 nm. The data is displayed in Table 16.

当該SiOx被覆管については、非被覆物質と比較して吸収度の増加が観察され、被覆の回数を増加させると吸収度も増加する結果となった。検出時間は1秒未満であった。 With respect to the SiO x- coated tube, an increase in the absorbance was observed compared to the uncoated material, and the absorbance increased as the number of coatings was increased. The detection time was less than 1 second.

VI.A.当該分光法は、採集モード(例えば、反射・透過・吸収度)、適用する放射線の周波数または種類、またはその他のパラメータにより、制限されると見なされるべきではない。                VI.A. The spectroscopy should not be considered limited by the collection mode (eg reflection, transmission, absorption), the frequency or type of radiation applied, or other parameters.

実施例8:
PET上のガス放出測定
VI.B.米国特許6,584,828の図15を適合させた本図30は、微小流量技術測定函(通常362)の上流端部に密閉部360を用いて装填済みの「PET管を成形するためのプロトコル」に従って作成したPET管358の壁346の内部上に、「管内部をSiOxで被覆すためのプロトコル」に従って塗布したSiOx遮断性被覆材348を通る、ガス放出を測定する実施例で使用した試験設定の概略図である。
Example 8:
Gas emission measurement on PET
This FIG. 30, adapted from FIG. 15 of US Pat. No. 6,584,828, is used to form a “PET tube that has been pre-filled using a sealing portion 360 at the upstream end of a micro flow technology measuring box (usually 362). In an example of measuring outgassing through the inside of a wall 346 of a PET tube 358 made according to the `` Protocol '' through a SiO x barrier coating 348 applied according to the `` Protocol for coating the inside of a tube with SiO x '' FIG. 4 is a schematic diagram of the test setup used.

VI.B.真空ポンプ364を市販の測定函362(漏出試験機器モデルME2搭載型Intelligent Gas Leak System、第2世代IMFSセンサー(全範囲10μ/分)付き、絶対圧センサー範囲:0〜10トール、流量測定不確実性:測定値の+/- 5%、キャリブレートする範囲において、(PCによる)自動データ取得および時間比漏出流量の痕跡/プロットのためのLeak-Tekプログラムを利用。本装置はATC Incが提供。)の当該下流端部に接続した。また、その壁から当該容器358へと放出される蒸気の質量流量率を判定するため、当該PET容器358の内部から矢印の方向に当該測定函362を通ってガスを吸入するよう設定した。               VI.B. Vacuum pump 364 with commercially available measuring box 362 (leakage test equipment model ME2 mounted Intelligent Gas Leak System, 2nd generation IMFS sensor (all range 10μ / min), absolute pressure sensor range: 0 to 10 Torr, Flow measurement uncertainty: +/- 5% of measured value, Leak-Tek program for automatic data acquisition (with PC) and trace / plot of time-specific leakage flow in the range to be calibrated. (Provided by Inc.)). Further, in order to determine the mass flow rate of the vapor released from the wall into the container 358, the gas was sucked from the inside of the PET container 358 through the measurement box 362 in the direction of the arrow.

VI.B.本書で概略的に示し記述する測定函362は、実質上以下のように動作すると解釈した。ただし本情報は、実際に使用した装置の動作からある程度逸脱する可能性がある。当該函362は、ガス放出が流れる方向に走る円錐経路368を有する。当該圧力を、当該経路368に沿って縦方向に配置される2つの横向内径370および372において適用し、順に当該チャンバ374および376(一部当該隔膜378および380により成形される)へと供給した。各チャンバ374および376に蓄積された圧力は、各隔膜378および380を偏向させる。当該偏向は適切な方法で測定され、例えば当該隔膜378および380の導電性表面と近接する導電性表面382および384などとの間のキャパシタンスにおける変動を測定する。バイパス386を随意に提供して、当該試験実施における所望の真空レベルが達成されるまで当該測定函362をバイパスすることにより、当該初期ポンプダウンを高速化可能である。               VI.B. It was interpreted that the measurement box 362 schematically shown and described herein operates as follows. However, this information may deviate to some extent from the actual operation of the device. The box 362 has a conical path 368 that runs in the direction in which gas discharge flows. The pressure was applied at two transverse inner diameters 370 and 372 arranged longitudinally along the path 368 and fed in turn to the chambers 374 and 376 (partially shaped by the diaphragms 378 and 380). . The pressure accumulated in each chamber 374 and 376 deflects each diaphragm 378 and 380. The deflection is measured in an appropriate manner, such as measuring the variation in capacitance between the conductive surfaces of the diaphragms 378 and 380 and the adjacent conductive surfaces 382 and 384, and the like. By optionally providing a bypass 386 to bypass the measurement box 362 until the desired vacuum level in the test run is achieved, the initial pump down can be accelerated.

VI.B.本試験で使用した当該容器のPET壁350の厚さは約1 mmで、当該被覆材348の層厚は約20nm(ナノメートル)であった。したがって、当該壁350の対被覆材348厚さ比は約50,000:1であった。               VI.B. The PET wall 350 of the container used in this test had a thickness of about 1 mm, and the coating material 348 had a layer thickness of about 20 nm (nanometers). Therefore, the thickness ratio of the wall 350 to the covering material 348 was about 50,000: 1.

VI.B.当該容器密閉部360を含む当該測定函362を通す当該流量を判定するため、実質上容器358と同一サイズ・同一構造である15のガラス容器を連続的に当該容器密部360上に装填し、1トールの内部圧力へとポンプダウンし、その後、当該測定函362に関してキャパシタンスデータを収集して「ガス放出」流量へと変換した。当該試験を、各容器について2回実施した。第1実行の後に、当該真空を窒素を用いて解除し、第2実行に進む前に当該容器に平衡となるための回復時間を与えた。ガラス容器はほとんどガス放出せず本質的にその壁は不浸透性であると考えられているため、本測定の少なくともほとんどは、当該容器の漏出量および当該測定函362との関連の目安であるといえる。また、正確なガス放出または透過(ある場合)はほとんど反映されない。当該結果は表7に示す。               VI.B. In order to determine the flow rate through the measuring box 362 including the container sealing part 360, 15 glass containers having substantially the same size and structure as the container 358 are continuously placed on the container sealing part 360. And pumped down to an internal pressure of 1 Torr, after which capacitance data was collected for the measurement box 362 and converted to a “gas out” flow rate. The test was performed twice for each container. After the first run, the vacuum was released with nitrogen and the vessel was given a recovery time to equilibrate before proceeding to the second run. At least most of this measurement is a measure of the leakage of the container and its relationship with the measuring box 362, as glass containers emit little gas and are considered essentially impermeable to their walls. It can be said. Also, accurate outgassing or permeation (if any) is hardly reflected. The results are shown in Table 7.

VI.B.図31の当該プロット390の系統群は、前述表7の第2実行データに相当する個別の管の「ガス放出」流量を示す(単位はマイクログラム/分でもある)。当該プロットの流量率は経時的に実質上増加せずその他の流量率より大幅に低いため、当該流量は漏出に起因する。               The line group of the plot 390 in FIG. 31 shows the “gas release” flow rate of individual tubes corresponding to the second execution data in Table 7 (the unit is also microgram / minute). The flow rate is due to leakage because the flow rate in the plot does not increase substantially over time and is significantly lower than other flow rates.

VI.B.表8および図31のプロット392の系統群は、PET管を成形するためのプロトコルに従って作成した非被覆管に関する類似データを示す。               The lineage of VI.B. Table 8 and plot 392 in Figure 31 shows similar data for uncoated tubes made according to the protocol for forming PET tubes.

VI.B.本データは、非被覆管に関してより増加した流量率を示す。当該増加は、当該容器壁の内部に拘束されるガスの放出流量に起因する。当該複数容器同士の間にはある程度差異があり、それにより当該容器間のわずかな差異および/または当該試験装置に装填する方法に対する試験の感度が示される。               VI.B. This data shows an increased flow rate for uncoated tubes. The increase is due to the discharge flow rate of the gas confined inside the container wall. There are some differences between the containers, indicating a slight difference between the containers and / or the sensitivity of the test to the method of loading the test apparatus.

VI.B.表9および図31のプロットの系統群394および396は、「PET管を成形するためのプロトコル」に従って作成したPET管の当該壁346の内部上に「PET管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従って被覆したSiOx遮断性被覆材348についての類似データを示す。 Lines 394 and 396 in the plots of Table 9 and Fig. 31 show that the interior of the PET tube is made of SiO x on the inside of the wall 346 of the PET tube made according to the protocol for molding a PET tube. Similar data is shown for the SiO x barrier coating 348 coated according to the “Protocol for Coating”.

VI.B.非被覆PET管と比較して本試験における流量率が一貫して低いため、当該SiOx被覆材はPET容器壁からのガス放出を制限する遮断層として機能することが、本実施例のSiOx被覆射出成形PET管の曲線族394により示される。(当該SiOx被覆材自体はほとんどガス放出しないと確証される。) 各容器に対応する示す曲線394間の分離により、さまざまな管上のSiOx被覆材の微妙に異なる遮断性を区別するに十分な精度を本試験が有していることが示される。当該族394の広がりは主にSiOx被覆材内の気密性の差異に起因しており、(より詰まった曲線の族392を示す)PET容器壁内のガス放出の差異または装填完全性の差異とは対照的である。検体2と検体4に対応する2つ曲線396は、以下に明示するように外座層であり、その他のデータとの格差はこれらの管のSiOx被覆材が不良であったことを示していると考えらる。これは、異なって処理された/破損した検体を本試験により非常に明確に抽出できることを示す。 Since the flow rate in this test is consistently lower compared to VI.B. uncoated PET tubes, the SiO x coating material functions as a barrier layer that limits gas release from the PET container wall. An example SiO x coated injection molded PET tube is shown by curve family 394. (It is confirmed that the SiO x coating itself hardly emits gas.) The separation between the curves 394 shown corresponding to each container distinguishes the slightly different barrier properties of the SiO x coating on various tubes. It is shown that this test has sufficient accuracy. The spread of the family 394 is mainly due to the gas tightness differences in the SiO x coating, and the difference in gas release or loading integrity in the PET container wall (representing the tighter curve family 392) In contrast to Two curves 396 corresponding to Specimen 2 and Specimen 4 are the outer layer, as shown below, and the disparity from the other data indicates that the SiO x coating of these tubes was poor. I think. This shows that different treatment / damaged specimens can be extracted very clearly by this test.

VI.B.前述の表8と9および図32を参照して、当該データを統計的に分析して、平均および当該平均を超える・下回る第1および第3標準偏差の値を得た。当該値は図32にプロットしている。               VI.B. Referring to Tables 8 and 9 above and FIG. 32, the data were statistically analyzed to obtain the average and first and third standard deviation values above and below the average. The values are plotted in FIG.

VI.B.この統計分析はまず、被覆PET管を示す表9の検体2および4が明らかな外座層であり、当該平均から+3標準偏差以上も離れていることを示す。しかし当該外座層は、それらの流量率が今だ当該非被覆PET管の流量率から離れている(より低い)ため、ある程度の遮断性有効性があることが示される。               VI.B. This statistical analysis first shows that specimens 2 and 4 in Table 9 representing coated PET tubes are clear outer layers, which are more than +3 standard deviations away from the average. However, the outer layers are shown to have some blocking effectiveness because their flow rate is still far (lower) from the flow rate of the uncoated PET tube.

VI.B.本統計分析はまた、ナノ単位の層厚の遮断性被覆材の遮断性有効性を迅速かつ正確に分析するため、および被覆管と非被覆管を区別するため(本被覆層厚を人間の知覚を利用して区別することはできないと信じられている)のガス放出測定電力を示す。図32によると、平均値を超えて3つの標準偏差をガス放出するレベルの被覆PET容器(バーの最上群に表示)は、平均値を下回って3つの標準偏差をガス放出するレベルの非被覆PET容器(バーの最下群に表示)より ガス放出が少ない。本データでは、6σ(シックスシグマ)を超える確実性レベルに達するデータの重複は見られない。               VI.B. This statistical analysis is also used to quickly and accurately analyze the barrier effectiveness of nanometer layer thickness barrier coatings, and to distinguish between coated and uncoated tubes (this coating layer thickness). It is believed that it cannot be distinguished using human perception). According to Figure 32, a coated PET container (shown in the top group of bars) that outgases three standard deviations above the mean is uncoated at a level that outgasses three standard deviations below the mean. Outgassing is less than PET containers (indicated at the bottom group of bars) In this data, there is no duplication of data reaching a certainty level exceeding 6σ (six sigma).

VI.B.本試験の成功に基づき、これらのPET容器上のSiOx被覆材の有無は、本実施例と比較して、特に多数の検体から統計が生成されていることから、かなり短時間の試験で検出可能であることが考えられる。これは、例えば容器15個の検体に関してT = 12秒である平滑かつ明確に分割されたプロットの系統群から明らかであり、当該オリジン約T = 11秒に続く試験期間が約1秒であることを示す。 VI.B. Based on the success of this test, the presence or absence of the SiO x coating material on these PET containers is considerably shorter than that of this example, especially because statistics are generated from a large number of specimens. It is conceivable that it can be detected by this test. This is evident, for example, from a lineage of smooth and well-divided plots where T = 12 seconds for a sample of 15 containers, and the test period following the origin about T = 11 seconds is about 1 second. Indicates.

VI.B.また本データに基づき、ガラスの遮断性有効性に接近するまたは同等であるSiOx被覆PET容器の遮断性有効性を、当該SiOx被覆材を最適化することで実現可能である。 VI.B. Based on this data, the barrier effectiveness of a SiO x- coated PET container that is close to or equivalent to that of glass can be achieved by optimizing the SiO x coating material. .

実施例9:
ぬれ張力 - プラズマ被覆PET管実施例
VII.A.1.a.ii.当該ぬれ張力の測定方法は、ASTM D 2578内で説明される方法の改良法である。ぬれ張力とは、表面の疎水性または親水性の特定の測定値である。当該方法では、標準のぬれ張力溶液(ダイン溶液と呼ばれる)を使用して、当該溶液が2秒間でプラスチック膜表面の湿潤状態にどれだけ近づくかを判定する。これが当該膜のぬれ張力である。
Example 9:
Wetting tension-plasma coated PET tube example
VII.A.1.a.ii. The wet tension measurement method is an improvement of the method described in ASTM D 2578. Wetting tension is a specific measurement of surface hydrophobicity or hydrophilicity. The method uses a standard wetting tension solution (called a dyne solution) to determine how close the solution is to the wet state of the plastic membrane surface in 2 seconds. This is the wetting tension of the film.

VII.A.1.a.ii.使用した手順はASTM D 2578のものとは異なり、当該基板は平板プラスチック膜ではなく、「PET管を成形するためのプロトコル」に従い製造され(対照を除き)「管内部を疎水性で被覆するためのプロトコル」に従い被覆された管である。ケイ素被覆ガラスシリンジ(Becton Dickinson Hypak(登録商標) PRTCガラス製、ルアー端部付き事前充填可能シリンジ)(1mL)もまた、試験した。本試験の結果は表10に記載する。               VII.A.1.a.ii. The procedure used is different from that of ASTM D 2578, the substrate is not a flat plastic membrane, but is manufactured according to the “Protocol for Molding PET Tubes” (except for controls) It is a tube coated according to the “Protocol for coating the inside of a tube with hydrophobicity”. A silicon-coated glass syringe (Becton Dickinson Hypak® PRTC glass, prefillable syringe with luer end) (1 mL) was also tested. The results of this test are listed in Table 10.

驚くべきことに、非被覆PET管のプラズマ被覆材(40 ダイン)は、当該プラズマ処理条件を変更することにより、同一ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)供給ガスを使用して、より高い(より親水性の)またはより低い(より疎水性の)エネルギー表面を達成可能である。管内部をSiOxで被覆するためのプロトコルに従って作成した薄膜(約20〜40ナノメートル)SiOx被覆材(当該表にはデータ非表示)は、親水性バルクガラス基板と同様の湿潤性をもたらす。管内部を疎水性被覆材で被覆するためのプロトコルに従って作成した薄膜(約100ナノメートル未満)疎水性被覆材は、疎水性ケイ素流体と同様の非湿潤性をもたらす(当該表にはデータ非表示)。 Surprisingly, the plasma coating of uncoated PET tubes (40 dynes) is higher (more hydrophilic) using the same hexamethyldisiloxane (HMDSO) feed gas by changing the plasma treatment conditions. Of) or lower (more hydrophobic) energy surfaces. A thin film (approximately 20-40 nanometers) SiO x coating (not shown in the table) made according to the protocol for coating the interior of the tube with SiO x provides wettability similar to a hydrophilic bulk glass substrate . Thin film (less than about 100 nanometers) hydrophobic coating made according to the protocol for coating tube interior with hydrophobic coating provides non-wetting properties similar to hydrophobic silicon fluids (data not shown in the table) ).

実施例10:
促進経年劣化経由の管の真空維持研究
VII.A.3 促進経年劣化により、長期保存期間を有する製品の迅速な評価が可能である。真空維持に関する血液管の促進経年劣化は、米国特許5,792,940、1列、11〜49行に記述されている。
Example 10:
Vacuum maintenance study of tubes via accelerated aging
VII.A.3 Accelerated aging allows rapid evaluation of products with long shelf life. The accelerated aging of blood tubes with respect to vacuum maintenance is described in US Pat. No. 5,792,940, column 1, lines 11-49.

VII.A.3 以下の3種類のテレフタル酸ポリエチレン(PET)13x75mm(壁厚さ0.85mm)モールド管を試験した:
Hemogard(登録商標)システム赤色停止部材および無色ガードで閉口したBecton Dickinson製品番号366703 13x75mm(追加なし)管(保存可能期間545日または18カ月)[市販品対照]、PET管を成形するためのプロトコルに従って作成し、同類のHemogard(登録商標)システム赤色停止部材および無色ガードで閉口したPET管[内部対照]、およびPET管を成形するためのプロトコルに従って作成し、管内部をSiOx
で被覆するためのプロトコルに従って被覆し、同類のHemogard(登録商標)システム赤色停止部材および無色ガードで閉口した射出成形PET 13x75mm管[発明検体]。
VII.A.3 Three types of polyethylene terephthalate (PET) 13x75mm (wall thickness 0.85mm) mold tubes were tested:
Hemogard (R) system Becton Dickinson product number 366703 13x75mm (no additional) tube closed with a colorless guard and colorless guard (shelf life 545 days or 18 months) [commercial product control], protocol for molding PET tubes PET tube closed with similar Hemogard® system red stop and colorless guard [internal control], and according to the protocol for molding the PET tube
Injection molded PET 13x75mm tube [invention specimen] coated according to the protocol for coating with, and closed with a similar Hemogard® system red stop and colorless guard.

VII.A.3 当該BD市販品対照は、納品時のまま使用した。当該内部対照および発明検体については、真空化し当該停止部材システムで蓋をして、密閉後に当該管内の所望の分圧(真空)を提供した。すべての検体を3ガロン(3.8 L)304 SS広口圧力容器(Sterlitech番号740340)に留置した。当該圧力容器を48psi(3.3atm、2482mm.Hg)へと加圧した。水容量吸引変動判定を、(a)漸増する時間間隔で3〜5の検体を除去、(b)20ゲージ採血アダプタを通しての1リットルプラスチック瓶貯留層から当該真空管への水の吸引の許可、および(c)水吸引前および後の当該質量変動の測定、により実行した。               VII.A.3 The BD commercial product control was used as delivered. The internal controls and invention samples were evacuated and capped with the stop member system to provide the desired partial pressure (vacuum) in the tube after sealing. All specimens were placed in a 3 gallon (3.8 L) 304 SS wide-mouth pressure vessel (Sterlitech # 740340). The pressure vessel was pressurized to 48 psi (3.3 atm, 2482 mm.Hg). Water volume aspiration fluctuation determination: (a) remove 3-5 specimens at increasing time intervals, (b) permit the suction of water from the 1 liter plastic bottle reservoir through the 20 gauge blood collection adapter, and (C) Measurement was performed by measuring the mass fluctuation before and after water suction.

VII.A.3 結果は表11に示す。               VII.A.3 The results are shown in Table 11.

VII.A.3 正規化平均崩壊率を、質量における変動を加圧日数と初期質量吸引で割ることにより[質量変動/(日数 x 初期質量)] 計算する。10%損失までの促進時間(月)も計算する。両データは表12に記載する。               VII.A.3 Calculate the normalized mean decay rate by dividing the variation in mass by the number of days of pressurization and the initial mass suction [mass variation / (days x initial mass)]. Calculate the promotion time (month) to 10% loss. Both data are listed in Table 12.

VII.A.3 本データにより、市販品対照および非被覆内部対照の両方が同一の真空損失率を有することが示される。また驚くべきことに、当該PET内部壁上にSiOx被覆材を組込むことで2.1の要素による真空維持が改善される。 VII.A.3 The data shows that both the commercial control and the uncoated internal control have the same vacuum loss rate. Surprisingly, incorporating the SiO x coating on the PET inner wall improves the vacuum maintenance due to the 2.1 factor.

実施例11:
潤滑性被覆材
VII.B.1.a.以下の部材を本試験で使用した:
市販の(BD Hypak(登録商標) PRTC)ガラス製事前充填可能シリンジ、Luer-lok(登録商標)端部付き(ca 1mL)
COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従って作成した、COC シリンジバレル;
Becton Dickinson製品番号306507から採取した市販のプラスチックシリンジプランジャー、エラストマー端部付き(生理食塩水事前充填シリンジとして取得);
生理食塩水(Becton-Dickinson製品番号306507事前充填シリンジから採取);
Advanced Forceゲージ(モデルAFG-50N)付きDillon試験台
シリンジ把持部材および排出管ジグ(当該Dillon試験台に装着するよう組立て)
Example 11:
Lubricious coating
VII.B.1.a. The following components were used in this study:
Commercially available (BD Hypak (R) PRTC) glass prefillable syringe with Luer-lok (R) end (ca 1 mL)
A COC syringe barrel made according to the protocol for molding the COC syringe barrel;
Commercial plastic syringe plunger taken from Becton Dickinson product number 306507, with elastomeric end (obtained as a saline prefilled syringe);
Saline (taken from pre-filled syringe with Becton-Dickinson product number 306507);
Dillon test stand with Advanced Force gauge (model AFG-50N) Syringe gripping member and discharge pipe jig (assembled to attach to the Dillon test stand)

VII.B.1.a.以下の手順を本試験で使用した:               VII.B.1.a. The following procedure was used in this study:

VII.B.1.a.当該ジグを当該Dillon試験台に設置した。当該プラットフォームプローブの移動を6インチ/分(2.5mm/秒)に調整し、上部および下部の停止位置を設定した。当該停止位置を、空のシリンジバレルを利用して確認した。当該市販生理食塩水充填シリンジをラベル付けし、当該プランジャーを取り外し、当該食塩水を当該シリンジバレルの開口端経由で排出した(再利用するため)。当該COCおよびガラスバレルで使用するための、予備のプランジャーを同一方法で取得した。               VII.B.1.a. The jig was placed on the Dillon test bench. The movement of the platform probe was adjusted to 6 inches / minute (2.5 mm / second), and upper and lower stop positions were set. The stop position was confirmed using an empty syringe barrel. The commercially available saline-filled syringe was labeled, the plunger was removed, and the saline was drained through the open end of the syringe barrel (for reuse). Spare plungers were obtained in the same way for use with the COC and glass barrel.

VII.B.1.a.シリンジプランジャーを当該COCシリンジバレルに挿入し、各プランジャーの当該第2水平モールド点を当該シリンジバレル縁(当該端部から約10mm)と均等にする。別のシリンジと針アセンブリを使用して、当該キャピラリー端部経由で食塩水2〜3mlを当該試験シリンジに充填した。その際、当該キャピラリー端部を最上に位置付けた。当該シリンジ側部を軽く叩いて当該プランジャー/流体界面および当該壁に沿って付いた大きめの気泡を除去し、当該プランジャーをその垂直配向に維持しながら当該気泡を当該シリンジから慎重に排出させた。               VII.B.1.a. Insert syringe plungers into the COC syringe barrel and equalize the second horizontal mold point of each plunger with the syringe barrel edge (about 10 mm from the end). A separate syringe and needle assembly was used to fill the test syringe with 2-3 ml of saline via the capillary end. At that time, the end of the capillary was positioned at the top. Tap the side of the syringe to remove the larger bubbles along the plunger / fluid interface and the wall, and carefully expel the bubbles from the syringe while maintaining the plunger in its vertical orientation. It was.

VII.B.1.a.各充填済みシリンジバレル/プランジャーアセンブリを当該シリンジジグに設置した。当該試験台のダウンスイッチを押下して当該試験を開始し、移動式金槌を当該プランジャーの方へと前進させた。当該移動式金槌が当該プランジャー上部に接触する5mm以内となったら、Dillonモジュール上のデータボタンを繰り返し押して、当該シリンジプランジャーとの初期接触前から当該プランジャーが当該シリンジバレル前壁と接触して停止するまでの、各データボタンを押下した期間の当該力を記録した。               VII.B.1.a. Each filled syringe barrel / plunger assembly was placed in the syringe jig. The test was started by pressing the down switch on the test stand, and the movable hammer was advanced toward the plunger. When the movable hammer is within 5mm of contact with the top of the plunger, press the data button on the Dillon module repeatedly until the plunger comes into contact with the syringe barrel front wall before the initial contact with the syringe plunger. The force during the period of pressing each data button until it stopped was recorded.

VII.B.1.a.すべてのベンチマークおよび被覆シリンジバレルについて、5回反復して行った(毎回新しいプランジャーおよびバレルを使用)。               VII.B.1.a. All benchmarks and coated syringe barrels were repeated 5 times (using a new plunger and barrel each time).

VII.B.1.a.「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成したCOCシリンジバレルを、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従いOMCTS潤滑性被覆材で被覆し、組立後生理食塩水で充填し、潤滑性被覆に関して本実施例で上述した通りに試験した。「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い使用した当該ポリプロピレンチャンバは、当該OMCTS蒸気(および追加される場合は酸素 - 表13を参照)の当該シリンジバレルを通しておよび当該シリンジキャピラリーを通しての当該ポリプロピレンチャンバへの流入を可能にした(ただし潤滑性被覆材は、本事例の当該シリンジの当該キャピラリー部には不必要な場合がある)。前述表13に示す通り、複数の異なる被覆条件を試験した。すべての堆積を、同一製造バッチからのCOCシリンジバレル上に行った。               VII.B.1.a. COC syringe barrel made according to “Protocol for molding COC syringe barrel” and OMCTS lubrication coating according to “Protocol for coating the inside of COC syringe barrel with OMCTS lubricity coating” Coated with material, filled with physiological saline after assembly, and tested as described above in this example for a lubricious coating. The polypropylene chamber used in accordance with the “Protocol for Coating COC Syringe Barrel Interior with OMCTS Lubricant Coating” passes through the syringe barrel of the OMCTS vapor (and oxygen, if added-see Table 13) and the Inflow into the polypropylene chamber through the syringe capillary was made possible (however, a lubricious coating may not be necessary for the capillary portion of the syringe in this case). Several different coating conditions were tested as shown in Table 13 above. All depositions were performed on COC syringe barrels from the same production batch.

その後当該被覆検体を、本実施例のプロトコルに従うプランジャースライド力試験を使用して試験し、英国式およびメートル法の力単位で表13の結果を得た。当該データにより、低電力および無酸素の場合にCOCおよび被覆されたCOCシリンジのプランジャースライド力が最も低くなることが、明確に示される。低電力(6W)(低電力が好ましい条件である)の場合に酸素を添加すると、当該プランジャースライド力は1.09ポンド、0.49Kg(電力 = 11W)から2.27ポンド、1.03Kgに増加したことに注目されたい。これは、最も低いプランジャースライド力を達成するには酸素の添加は好ましくない可能性があることを示す。               The coated specimen was then tested using the plunger slide force test according to the protocol of this example, and the results in Table 13 were obtained in British and metric force units. The data clearly shows that the plunger sliding force of COC and coated COC syringe is lowest when low power and anoxic. Note that when oxygen is added at low power (6W) (low power is the preferred condition), the plunger slide force increased from 1.09 pounds, 0.49 kg (power = 11 W) to 2.27 pounds, 1.03 kg I want to be. This indicates that the addition of oxygen may not be desirable to achieve the lowest plunger sliding force.

VII.B.1.a.また、最良のプランジャースライド力 (電力 = 11W、プランジャースライド力 = 1.09ポンド、0.49Kg)はケイ素被覆ガラスの電流業界標準(プランジャースライド力 = 0.58ポンド、0.26Kg)に非常に近く、同時に破損の可能性やより高額な製造過程といったガラスシリンジの問題を回避することにも、注目されたい。追加の最適化を利用して、ケイ素の性能を有する現在のガラスと同等の/より優れた値の達成が期待される。               VII.B.1.a. Also, the best plunger sliding force (power = 11W, plunger sliding force = 1.09 pounds, 0.49Kg) is the current industry standard for silicon coated glass (plunger sliding force = 0.58 pounds, 0.26 Note also that it is very close to Kg) and at the same time avoids the problems of glass syringes such as possible breakage and more expensive manufacturing processes. Utilizing additional optimization, it is expected to achieve values equivalent / better than current glasses with silicon performance.

VII.B.1.a.当該検体は、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従いCOCシリンジバレル被覆することにより、創出した。本書記載の当該技術の代替実施例は、例えば「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い被覆した、SiOxといった別の薄膜被覆上に当該潤滑層を塗布する場合がある。 VII.B.1.a. The specimen was created by coating the COC syringe barrel according to the “Protocol for coating the inside of the COC syringe barrel with OMCTS lubricity coating material”. An alternative embodiment of the technology described herein may apply the lubrication layer onto another thin film coating, such as SiO x , for example, coated according to the “Protocol for Coating the Inside of a COC Syringe Barrel with SiO x ”.

実施例12:
改善型シリンジバレル潤滑性被覆材
VII.B.1.a.プラスチックプランジャーを使用してキャピラリー開口部を通してシリンジから0.9パーセントの生理食塩水ペイロードを放出するのに必要な力を、内壁を被覆したシリンジに関して判定した。
Example 12:
Improved syringe barrel lubricity coating
VII.B.1.a. The force required to release 0.9 percent saline payload from the syringe through the capillary opening using a plastic plunger was determined for the syringe coated on the inner wall.

VII.B.1.a.「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い製造された3種類のCOCシリンジバレルを試験した: 1種類は内部被覆材なし [非被覆対照]、別の種類は「COCシリンジバレル内部をHMDSOで被覆するためのプロトコル」に従い被覆されたヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)系プラズマ被覆内壁被覆材を有し [HMDSO対照]、および第3の種類は「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い塗布されたオクタメチルシクロテトラシロキサン系プラズマ被覆内壁被覆材を有する [OMCTS-発明検体]。BD Product Becton-Dickinson製品番号306507から採取した、新しいエラストマー端部付きプラスチックプランジャーを、すべての実施例に使用した。また、製品番号306507からの生理食塩水も使用した。               VII.B.1.a. Three types of COC syringe barrels manufactured according to the “Protocol for Molding COC Syringe Barrels” were tested: one with no inner coating [uncoated control] and another with It has a hexamethyldisiloxane (HMDSO) -based plasma coating inner wall coating coated according to “Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with HMDSO” [HMDSO control], and the third type is “COC syringe barrel inside” Having an octamethylcyclotetrasiloxane-based plasma coating inner wall coating applied according to the “Protocol for Coating with OMCTS Lubricating Coating” [OMCTS-Invention Sample]. A new plastic plunger with an elastomeric end, taken from BD Product Becton-Dickinson product number 306507, was used in all examples. Saline from product number 306507 was also used.

VII.B.1.a.当該プラズマ被覆方法および当該シリンジバレル内壁の被覆装置を、本応用の別の実験セクションで記述する。HMDSO系およびOMCTS系被覆材に関する特定被覆パラメータを、「COCシリンジバレル内部をHMDSO被覆材で被覆するためのプロトコル」、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」、および表14に記載する。               VII.B.1.a. The plasma coating method and the syringe barrel inner wall coating apparatus are described in another experimental section of this application. Specific coating parameters for HMDSO-based and OMCTS-based coatings include: "Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with HMDSO coating", "Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with OMCTS lubricious coating", and It is described in Table 14.

VII.B.1.a.当該プランジャーを当該シリンジバレルへと約10mm挿入し、その後、個別の生理食塩水シリンジ/針システムを有する開口シリンジキャピラリーを通して当該実験シリンジを垂直方向に充填した。当該実験シリンジを当該キャピラリー開口部へと充填したら、当該シリンジを軽く叩いて当該内壁に付着する気泡を取り除き当該キャピラリー開口部を通して上方に排出されるようにする。               VII.B.1.a. The plunger was inserted approximately 10 mm into the syringe barrel, after which the experimental syringe was filled vertically through an open syringe capillary with a separate saline syringe / needle system. When the experimental syringe is filled into the capillary opening, the syringe is tapped lightly to remove bubbles adhering to the inner wall and discharged upward through the capillary opening.

VII.B.1.a.当該充填済み実験シリンジバレル/プランジャーアセンブリを、自作の空洞金属ジグ内に垂直方向に設置し、当該シリンジアセンブリをフィンガーフランジ部において当該ジグで支持する。当該ジグは底部に排出管を有し、Advanced Forceゲージ(モデルAFG-50N)付きDillon試験台上に搭載される。当該試験台は、毎分6インチ(152mm)の速度で垂直下方向に移動する金槌を有する。当該金槌は伸延したプランジャーに接触して、当該キャピラリーから食塩水を排出させる。一度当該プランジャーが当該シリンジバレル/キャピラリー界面に接触すると、当該実験は停止となる。               VII.B.1.a. Place the pre-filled experimental syringe barrel / plunger assembly vertically in a self-made hollow metal jig and support the syringe assembly with the jig at the finger flange. The jig has a discharge tube at the bottom and is mounted on a Dillon test bench with an Advanced Force gauge (model AFG-50N). The test bench has a hammer that moves vertically downward at a speed of 6 inches (152 mm) per minute. The hammer comes into contact with the extended plunger and drains the saline solution from the capillary. Once the plunger contacts the syringe barrel / capillary interface, the experiment is stopped.

VII.B.1.a.当該金槌/伸延プランジャーの下方向への移動中に、当該金槌に付与された抵抗力が当該力ゲージ上で測定される通り電子スプレッドシートに記録される。当該スプレッドシートデータから、各実験の最大力が同定される。               VII.B.1.a. During the downward movement of the hammer / distraction plunger, the resistance applied to the hammer is recorded in an electronic spreadsheet as measured on the force gauge. From the spreadsheet data, the maximum force for each experiment is identified.

VII.B.1.a.表14には、各実施例に関して、反復被覆COCシリンジバレルからの最大力の平均、および被覆シリンジバレルの最大力平均を非被覆シリンジバレルの最大力平均で割って判定する正規化した最大力を記載する。               VII.B.1.a.Table 14 shows, for each example, the average maximum force from the repeatedly coated COC syringe barrel and the maximum force average of the coated syringe barrel divided by the maximum force average of the uncoated syringe barrel. Describe the normalized maximum force to judge.

VII.B.1.a.すべてのOMCTS系内壁プラズマ被覆COCシリンジバレル(発明検体C、E、F、G、H)は、非被覆COCシリンジバレル(非被覆対照検体AおよびD)よりはるかに低いプランジャースライド力を示し 、また驚くべきことに、HMDSO系内壁プラズマ被覆COCシリンジバレル(HMDSO対照検体B)よりはるかに低いプランジャー スライド力も示したことが、当該データにより認められる。さらに驚くべきことには、酸化ケイ素膜(SiOx)ガス遮断性被覆材上のOMCTS系被覆材により、プランジャースライド力が非常に低く抑えられる(発明検体F)。 最良のプランジャースライド力は、実施例C(電力 = 8、プランジャースライド力 = 1.1ポンド、0.5Kg)であった。これは、ケイ素被覆ガラスの電流業界標準(プランジャースライド力 = 0.58ポンド、0.26Kg)に非常に近く、同時に破損の可能性やより高額な製造過程といったガラスシリンジの問題をも回避した。追加の最適化を利用して、ケイ素の性能を有する現在のガラスと同等の/より優れた値の達成が期待される。 VII.B.1.a. All OMCTS inner wall plasma coated COC syringe barrels (Inventive Samples C, E, F, G, H) are much more than uncoated COC syringe barrels (Uncoated Control Samples A and D) The data shows that it showed low plunger sliding force and, surprisingly, also showed much lower plunger sliding force than the HMDSO-based inner wall plasma coated COC syringe barrel (HMDSO control specimen B). Further surprisingly, the plunger sliding force is kept very low by the OMCTS-based coating material on the silicon oxide film (SiO x ) gas barrier coating material (Invention Sample F). The best plunger sliding force was Example C (power = 8, plunger sliding force = 1.1 pounds, 0.5 kg). This is very close to the current industry standard for silicon-coated glass (plunger sliding force = 0.58 pounds, 0.26 kg), while avoiding glass syringe problems such as possible breakage and more expensive manufacturing processes. Utilizing additional optimization, it is expected to achieve values equivalent / better than current glasses with silicon performance.

実施例13:
外部被覆材を有するCOCシリンジバレルの製造 - 机上の実施例
VII.B.1.c.COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従って作成したCOCシリンジバレルを、廃棄可能な閉包部を有する両端部で密閉する。当該蓋付きCOCシリンジバレルを、Daran(登録商標) 8100サランラテックス(Owensboro特殊プラスチック)の溶液槽に浸漬する。本ラテックスは5パーセントのイソプロピルアルコールを包含し、当該組成物の表面張力を32ダイン/cmに低減させる。当該ラテックス組成物は、当該COCシリンジバレルの外部を完全に湿潤させる。30秒間排出させた後に、当該被覆COCシリンジバレルを、各強制空気炉内において275°F(135℃)で25秒(ラテックス合体)および122°F(50℃)で4時間(仕上げ硬化)からなる、加熱スケジュールで曝露する。生成されたPvDC膜は、層厚1/10mil(2.5 ミクロン)である。当該COCシリンジバレルおよびPvDC-COC積層COCシリンジバレルを、順にMOCONブランドのOxtran 2/21酸素透過率測定装置およびPermatran- W 3/31水蒸気透過率測定装置を使用して、OTRおよびWVTRについて測定する。
Example 13:
Manufacture of COC syringe barrels with external coating-a desktop example
VII.B.1.c. A COC syringe barrel made according to the protocol for molding a COC syringe barrel is sealed at both ends with a disposable closure. The lidded COC syringe barrel is immersed in a solution bath of Daran® 8100 Saran latex (Owensboro specialty plastic). The latex contains 5 percent isopropyl alcohol, reducing the surface tension of the composition to 32 dynes / cm. The latex composition completely wets the outside of the COC syringe barrel. After draining for 30 seconds, the coated COC syringe barrel is placed in each forced air oven at 275 ° F (135 ° C) for 25 seconds (latex coalescence) and 122 ° F (50 ° C) for 4 hours (finish cure). Be exposed on a heating schedule. The resulting PvDC film has a layer thickness of 1/10 mil (2.5 microns). Measure the COC syringe barrel and the PvDC-COC laminated COC syringe barrel for OTR and WVTR using MOCON brand Oxtran 2/21 oxygen permeability measuring device and Permatran- W 3/31 water vapor permeability measuring device in order. .

VII.B.1.c.推定OTR値およびWVTR値は表15に記載し、当該積層に関して期待される遮断改善度(BIF)は順に4.3(OTR-BIF)および3.0(WVTR-BIF)である可能性がある。               VII.B.1.c. Estimated OTR and WVTR values are listed in Table 15, and the expected improvement in blockage (BIF) for the laminate is 4.3 (OTR-BIF) and 3.0 (WVTR-BIF), respectively. there is a possibility.

実施例15:
PECVD塗布のOMCTSおよびHMDSO被覆材の原子組成
VII.B.4.「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い製造され、(「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い)OMCTSで被覆された、または「COCシリンジバレル内部をHMDSO被覆材で被覆するためのプロトコル」に従いHMDSOで被覆された、COCシリンジバレル検体を用意する。 OMCTSまたはHMDSO由来の当該被覆材の原子組成は、X線光電子分光法(XPS)を利用して特徴付けした。
Example 15:
Atomic composition of PECVD-coated OMCTS and HMDSO coatings
VII.B.4. Manufactured according to “Protocol for Molding COC Syringe Barrel” and coated with OMCTS (according to “Protocol for Coating COC Syringe Barrel Interior with OMCTS Lubricant Coating”) or “ Prepare a COC syringe barrel specimen coated with HMDSO according to “Protocol for coating the inside of COC syringe barrel with HMDSO coating material”. The atomic composition of the coating from OMCTS or HMDSO was characterized using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).

VII.B.4.当該XPSデータを、関連する感度要素および均一層と推測されるモデルを使用して定量化する。当該分析容量は、当該分析範囲(スポットサイズまたはアパーチャサイズ)の生成物および当該情報深さである。光電子が当該X線侵入深さ(一般にミクロン単位)内に生成されるが、光電子脱出深さ上位3つに入る光電子のみが検出される。脱出深さは約5〜35 Åであり、分析深さを50〜100 Å以下であるようにする。一般に、信号の95%はこの深さに源を発する。               VII.B.4. Quantify the XPS data using the associated sensitivity factor and a model that is assumed to be a uniform layer. The analysis volume is the product of the analysis range (spot size or aperture size) and the information depth. Photoelectrons are generated within the X-ray penetration depth (typically in microns), but only the photoelectrons that fall within the top three photoemission escape depths are detected. The escape depth is about 5 to 35 mm and the analysis depth is 50 to 100 mm or less. In general, 95% of the signal originates at this depth.

VII.B.4.以下の分析パラメータを使用した:
装置: PHI Quantum 2000
X線源: 単色レンズ使用Alkα 1486.6eV
受光角 +23°
射出角 45°
分析範囲 600μm
電荷補正 C1s 284.8 eV
イオン銃条件 Ar+、1 keV、2 x 2mmラスター
スパッタ率 15.6 Å/min (SiO2相当)
VII.B.4. The following analytical parameters were used:
Equipment: PHI Quantum 2000
X-ray source: Monochromatic lens Alkα 1486.6eV
Detection angle + 23 °
Injection angle 45 °
Analysis range 600μm
Charge compensation C1s 284.8 eV
Ion gun conditions Ar +, 1 keV, 2 x 2 mm raster Sputtering rate 15.6 Å / min (equivalent to SiO 2 )

VII.B.4.表17は、当該検出元素の原子濃度を示す。XPSは水素またはヘリウムを検出しない。任意の値を、当該検出元素を使用して100パーセントに正規化する。検出限界は、約0.05〜1.0原子パーセントである。               VII.B.4. Table 17 shows the atomic concentrations of the detected elements. XPS does not detect hydrogen or helium. Arbitrary values are normalized to 100 percent using the detection element. The detection limit is about 0.05 to 1.0 atomic percent.

VII.B.4.b.表17の被覆材組成の結果および計算された開始時のモノマー前駆体元素パーセントから、当該HMDSO系被覆材の炭素原子パーセントは開始時のHMDSOモノマー炭素原子パーセントと比較して(54.1%から44.4%まで)減少する一方で、驚くべきことに当該OMCTS系被覆材炭素原子パーセントは当該OMCTSモノマー炭素原子パーセントと比較して(34.8%から48.4%まで)増加し、増加分39原子%は以下のように計算した:
100% [(48.4/34.8) - 1] = 39 at.%。
VII.B.4.b. From the results of the coating composition in Table 17 and the calculated monomer precursor element percentage at the beginning, the carbon atom percentage of the HMDSO-based coating is compared with the HMDSO monomer carbon atom percentage at the beginning. Surprisingly, the OMCTS-based coating carbon atom percent increased (from 34.8% to 48.4%) and increased compared to the OMCTS monomer carbon atom percent, while decreasing (from 54.1% to 44.4%) Min 39 atomic% was calculated as follows:
100% [(48.4 / 34.8)-1] = 39 at.%.

また、当該HMDSO系被覆材のケイ素原子パーセントは開始時のHMDSOモノマーケイ素原子パーセントと比較してほとんど変更がない(21.8%から22.2%)一方で、驚くべきことに、当該OMCTS系被覆材ケイ素原子パーセントは当該OMCTSモノマーケイ素原子パーセントと比較して(42.0%から23.6%へと)有意に減少し、減少分は44原子%であった。 炭素およびケイ素の変動の両方に関して、当該 OMCTSモノマーの被覆作用は一般的前駆体モノマー(例えばHMDSO)で観察されるものとは、傾向が異なる。例えば、Hans J. Griesser、Ronald C. Chatelier、Chris Martin、Zoran R. Vasic、Thomas R. Gengenbach、George Jessup J. Biomed. Mater.(Appl Biomater)53:235-243, 2000を参照のこと。                 In addition, the silicon atom percentage of the HMDSO-based coating material is almost unchanged (21.8% to 22.2%) compared to the HMDSO monomer silicon atom percentage at the start, while surprisingly, the OMCTS-based coating silicon atom The percent was significantly reduced (from 42.0% to 23.6%) compared to the OMCTS monomer silicon atomic percent, with a decrease of 44 atomic percent. For both carbon and silicon variations, the coating action of the OMCTS monomer has a different trend than that observed with common precursor monomers (eg HMDSO). See, for example, Hans J. Griesser, Ronald C. Chatelier, Chris Martin, Zoran R. Vasic, Thomas R. Gengenbach, George Jessup J. Biomed. Mater. (Appl Biomater) 53: 235-243, 2000.

実施例16:
プラズマ被覆材からの揮発性成分(「ガス放出」)
VII.B.4.「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成され、(「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い)OMCTSで被覆された、または「COCシリンジバレル内部をHMDSO被覆材で被覆するためのプロトコル」に従いHMDSOで被覆された、COCシリンジバレル検体を用意する。 ガス放出ガスクロマトグラフィー/質量分光測定(GC/MS)分析を使用して、OMCTSまたはHMDSO被覆材から放出される当該揮発性成分を測定した。
Example 16:
Volatile components from plasma coatings (“gas release”)
VII.B.4. Created according to “Protocol for Molding a COC Syringe Barrel” and coated with OMCTS (according to “Protocol for Coating the Inside of a COC Syringe Barrel with OMCTS Lubricant Coating”) or “ Prepare a COC syringe barrel specimen coated with HMDSO according to “Protocol for coating the inside of COC syringe barrel with HMDSO coating material”. Gas emission gas chromatography / mass spectrometry (GC / MS) analysis was used to measure the volatile components released from OMCTS or HMDSO coatings.

VII.B.4.当該シリンジバレル検体(縦方向に半分に切断した4つのCOCシリンジバレル)を、動的ヘッドスペースサンプリングシステム(CDS 8400自動サンプラー)の1 1/2インチ(37mm)径チャンバの1つに設置した。検体分析の前に、システムのブランクを分析した。当該検体を、以下のパラメータを使用して、Agilent 7890Aガスクロマトグラフ/Agilent 5975質量スペクトロメータで分析し、表18に記載のデータを得た:
GCカラム: 30m X 0.25mm DB-5MS(J&W Scientific)、
0.25μm膜層厚
流量率: 1.0 ml/分、定流量モード
検出器: 質量選択検出器(MSD)
射出モード: 分割射出(分割率10:1)
ガス放出条件: 1 1/2インチ(37mm)チャンバ、3時間、85℃、
60 ml/分の流量でパージ
炉温度: 40℃(5分)から始め10℃/分で300℃まで加熱
300℃を5分間保持。
VII.B.4. The syringe barrel specimen (four COC syringe barrels cut in half vertically) is placed in the 1 1/2 inch (37 mm) diameter chamber of the dynamic headspace sampling system (CDS 8400 automatic sampler). Installed in one. Prior to specimen analysis, the system blank was analyzed. The specimen was analyzed on an Agilent 7890A gas chromatograph / Agilent 5975 mass spectrometer using the following parameters to obtain the data listed in Table 18:
GC column: 30m X 0.25mm DB-5MS (J & W Scientific),
0.25μm membrane thickness Flow rate: 1.0 ml / min, constant flow mode Detector: Mass selective detector (MSD)
Injection mode: Split injection (split ratio 10: 1)
Outgassing conditions: 1 1/2 inch (37mm) chamber, 3 hours, 85 ° C,
Purge at a flow rate of 60 ml / min. Furnace temperature: Start at 40 ° C (5 minutes) and heat to 300 ° C at 10 ° C / min.
Hold at 300 ° C for 5 minutes.

表18からの当該ガス放出結果により、試験対象のHMDSO系潤滑性被覆材とOMCTS系潤滑性被覆材との間の組成上の区別が、明確に示された。HMDSO系組成物はトリメチルシラノール [(Me)3SiOH] をガス放出したが、反復-(Me)2SiO-部分を包含する高分子オリゴマーのガス放出は測定されなかった。一方OMCTS系組成物については、トリメチルシラノール [(Me)3SiOH] のガス放出は測定されなかったが、反復-(Me)2SiO-部分を包含する高分子オリゴマーがガス放出された。本試験は、HMDSO系被覆材と OMCTS系被覆材を識別するのに役立つ可能性があると考えられる。 The outgassing results from Table 18 clearly showed a compositional distinction between the HMDSO-based and OMCTS-based lubricity coatings tested. The HMDSO-based composition outgassed trimethylsilanol [(Me) 3 SiOH], but no outgassing of polymeric oligomers containing repetitive-(Me) 2 SiO- moieties was measured. On the other hand, for the OMCTS-based composition, outgassing of trimethylsilanol [(Me) 3 SiOH] was not measured, but polymer oligomers containing repetitive-(Me) 2 SiO- moieties were outgassed. This test may help to distinguish between HMDSO and OMCTS coatings.

以下の理論の範囲/正確性に従い本発明を制限することなしに、本結果は、各ケイ素原子が3つのメチル基と結合するHMDSOの非環状化学構造に対して、2つのメチル基のみが各ケイ素原子に結合するOMCTSの環状化学構造を考慮に入れることで、説明可能であると考えられる。OMCTSはリング開口部に反応して、既にオリゴマーであり凝結して高分子オリゴマーを成形する可能性がある反復-(Me)2SiO-部分を有するジラジカルを成形していると考えられる。一方HMDSOはあるO-Si結合部の開裂に反応して、(Me)3SiOHとして再凝結した単一O-Si結合部を含む断片および [(Me)3Si]2として再凝結したO-Si結合部を含まないその他の断片を残していると考えられる。 Without limiting the invention according to the scope / accuracy of the following theory, this result shows that for each acyclic chemical structure of HMDSO in which each silicon atom is bonded to three methyl groups, only two methyl groups are This can be explained by taking into account the cyclic chemical structure of OMCTS bonded to the silicon atom. OMCTS is believed to react with the ring opening to form diradicals with repetitive-(Me) 2 SiO- moieties that are already oligomeric and congealable to form polymeric oligomers. On the other hand, HMDSO reacts to the cleavage of a certain O-Si bond, and a fragment containing a single O-Si bond re-condensed as (Me) 3 SiOH and O-re-coagulated as [(Me) 3 Si] 2 It is thought that other fragments that do not contain the Si bond are left.

当該OMCTSの環状性は、より高分子のMWオリゴマー(26ng/試験)のガス放出による環開口および当該環開口部分の凝結をもたらすと考えられている。対照的に、HMDSOからの断片が比較的低分子量であることに基づき、HMDSO系覆材は一切高分子オリゴマーをもたらさないと考えられている。               The cyclic nature of the OMCTS is believed to result in ring opening and condensation of the ring opening portion due to outgassing of higher molecular weight MW oligomers (26 ng / test). In contrast, based on the relatively low molecular weight of the fragments from HMDSO, it is believed that HMDSO-based coverings do not yield any polymeric oligomers.

実施例17:
X線反射率(XRR)を使用するプラズマ被覆材の密度判定
サファイヤ証示検体(0.5 x 0.5 x 0.1cm)を、PET管を成形するためのプロトコルに従い作成した、個別のPET管内壁に接着した。当該サファイヤ証示を含むPET管を、OMCTSまたはHMDSOで被覆した(どちらも「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従い、すべてに2倍の電力を用いる点で逸脱)。当該被覆サファイヤ検体をその後除去し、パラボラ多層入射光線単色光分光器および平行板回折光線コリメータを搭載するPANalytical X’Pert回折計で、X線反射率(XRR)データを取得した。2層のSiwOxCyHzモデルを利用して、臨界角測定結果から被覆材密度を判定した。本モデルは、真のSiwOxCyHz被覆材を単離する最良のアプローチを提供すると考えられる。当該結果は表19に示す。
Example 17:
Density determination of plasma coating materials using X-ray reflectivity (XRR)
Sapphire demonstration specimens (0.5 x 0.5 x 0.1 cm) were adhered to individual PET tube inner walls made according to the protocol for molding PET tubes. The PET tube containing the sapphire indication was coated with OMCTS or HMDSO (both in accordance with the “Procedure for Coating the Inside of a COC Syringe Barrel with an OMCTS Lubricant Coating”, all using twice as much power) ). The coated sapphire specimen was then removed and X-ray reflectivity (XRR) data was acquired with a PANalytical X'Pert diffractometer equipped with a parabolic multilayer incident beam monochromatic spectrometer and a parallel plate diffracted beam collimator. The coating density was determined from the critical angle measurement result using a two-layer Si w O x C y H z model. This model is believed to provide the best approach to isolating true Si w O x C y H z coatings. The results are shown in Table 19.

実施例15の結果を示す表17から、HMDSOと比較してOMCTSの組成は酸素(28%)がより低く炭素(48.4%)がより高いことから、両方の原子質量の評価および価数(酸素 = 2、炭素 = 4)が原因で、OMCTSはより低い密度を有するはずであることが示唆される。驚くべきことに、当該XRR密度結果は、OMCTS密度がHMDSO密度より高いという、反対の観察所見を示す。               From Table 17 showing the results of Example 15, the composition of OMCTS is lower in oxygen (28%) and higher in carbon (48.4%) compared to HMDSO, so both atomic mass ratings and valences (oxygen) = 2, carbon = 4) suggests that OMCTS should have a lower density. Surprisingly, the XRR density results show the opposite observation that the OMCTS density is higher than the HMDSO density.

以下の理論の範囲/正確性に従い本発明を制限することなしに、HMDSO系とOMCTS系被覆材それぞれの組成における反応機構に基本的な差異が存在すると考えられる。HMDSO断片は、高密度のナノ粒子を成形するために容易に核となるまたは反応し、その後当該表面に堆積し当該表面でさらに反応する可能性があある。それに対してOMCTSは、高密度の気相ナノ粒子を成形する可能性は極めて低い。OMCTS反応種は、元のOMCTS モノマーに非常によく似た形態で当該表面上で凝結する可能性が非常に高く、全体的に密度の低い被覆材を生成する。               Without limiting the present invention according to the scope / accuracy of the following theory, it is believed that there are fundamental differences in the reaction mechanisms in the composition of each of the HMDSO and OMCTS coatings. HMDSO fragments can easily nucleate or react to form dense nanoparticles, and then deposit on the surface and react further on the surface. In contrast, OMCTS has a very low possibility of forming high-density vapor phase nanoparticles. OMCTS reactive species are very likely to condense on the surface in a form very similar to the original OMCTS monomer, producing an overall low density coating.

実施例18:
PECVD塗布被覆材の層厚均一性
「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い製造され、それぞれ「COCシリンジバレル内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従うSiOxでまたは「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従うOMCTS系潤滑性被覆材で被覆された、複数のCOCシリンジバレルの検体を用意した。また、「PET管を成形するためのプロトコル」に従い製造され、それぞれ「管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従い、SiOxで被覆したまたは被覆しなかった複数のPET管の検体も用意し、亢進経年劣化試験を施した。 透過電子顕微鏡法(TEM)を使用して、当該検体のPECVD塗布被覆材の層厚を測定した。前述の実施例4のTEM手順を使用した。本実施例で使用したSiOxおよび潤滑性を被覆するためのプロトコルにより記述される方法および装置は、表20に示すとおり均一な被覆を提示した。
Example 18:
Layer thickness uniformity of PECVD coating
Manufactured according to the “Protocol for Molding the COC Syringe Barrel” and coated with SiO x according to the “Protocol for Coating the COC Syringe Barrel Interior with SiO x ” or “OMCTS Lubricating Coating Inside the COC Syringe Barrel” Samples of multiple COC syringe barrels coated with an OMCTS-based lubricity coating according to "Protocol for" were prepared. Also prepared according to the “Protocol for Molding PET Tubes”, and according to the “Protocol for coating the inside of a tube with SiO x ”, specimens of multiple PET tubes coated or not coated with SiO x are also prepared. Then, an accelerated aging test was conducted. Using transmission electron microscopy (TEM), the layer thickness of the PECVD coating material of the specimen was measured. The TEM procedure of Example 4 above was used. The method and apparatus described by the protocol for coating SiOx and lubricity used in this example provided a uniform coating as shown in Table 20.

実施例19 :
COC上のガス放出測定
VI.B.COC管を成形するためのプロトコルに従って、COC管を作成した。当該管の一部は、「管内部をSiOxで被覆するためのプロトコル」に従うSiOx内部遮断性被覆材で被覆し、その他のCOC管は被覆しなかった。また、類似寸法を有する市販のガラス採血Becton Dickinson 13 x 75 mm管も上記どおりに用意した。当該管を、相対湿度45%および温度70°F(21℃)の環境大気を含む室内に約15分間保管し、同一環境相対湿度で以下の試験を行った。当該管をガス放出について試験し、その後ATC微小流動測定手順および実施例8の装置について試験した(漏出試験機器モデルME2搭載型Intelligent Gas Leak System、第2世代IMFSセンサー(全範囲10μ/分)付き、絶対圧センサー範囲:0〜10トール、流量測定不確実性:測定値の+/- 5%、キャリブレートする範囲において、(PCによる)自動データ取得および時間比漏出流量の痕跡/プロットのためのLeak-Tekプログラムを利用)。この場合においては、各管に圧力1mm Hgで22秒間のバルク蒸気脱気手順を施し、窒素ガスで2秒間(to 760mm Hgまで)加圧し、その後当該窒素ガスをポンプダウンし圧力1mm Hgで約1分間当該微小流動測定手順を実行した。
Example 19
Gas emission measurement on COC
The COC tube was made according to the protocol for forming the VI.B.COC tube. A portion of the tube was coated with a SiOx internal barrier coating according to the “Protocol for Coating Tube Interior with SiO x ” and other COC tubes were not coated. A commercial glass blood collection Becton Dickinson 13 x 75 mm tube with similar dimensions was also prepared as described above. The tube was stored for about 15 minutes in a room containing ambient air with a relative humidity of 45% and a temperature of 70 ° F. (21 ° C.), and the following tests were conducted at the same ambient relative humidity. The tube was tested for gas release and then tested for ATC microfluidic measurement procedure and the device of Example 8 (leakage test instrument model ME2 onboard Intelligent Gas Leak System, 2nd generation IMFS sensor (full range 10μ / min)) , Absolute pressure sensor range: 0 to 0 Torr, flow measurement uncertainty: +/- 5% of measured value, for automatic data acquisition (by PC) and trace / plot of time specific leakage flow rate in the range to be calibrated Leak-Tek program). In this case, each tube is subjected to a bulk vapor degassing procedure at a pressure of 1 mm Hg for 22 seconds, pressurized with nitrogen gas for 2 seconds (to 760 mm Hg), and then the nitrogen gas is pumped down to a pressure of about 1 mm Hg. The microfluidic measurement procedure was performed for 1 minute.

VI.B.当該結果は、実施例8で生成した図31に類似する、図57に示す。図57において、当該非被覆COC管のプロットは630にあり、当該SiOx被覆COC管のプロットは632にあり、対照として使用する当該ガラス管のプロットは634にある。また、当該ガス放出測定は約4秒間で開始し、数秒後に当該非被覆COC管のプロット630と当該SiOx被覆COC管のプロット632がはっきりと分化し、再び遮断性被覆管と非被覆管の即時の区別が示された。非被覆COCの一定の距離間隔(60秒に2マイクログラムを超える)とそれに対するSiOx被覆COCの距離間隔(60秒に1.6マイクログラム未満)が実現された。 The results are shown in FIG. 57, which is similar to FIG. 31 generated in Example 8. In FIG. 57, the plot for the uncoated COC tube is at 630, the plot for the SiOx coated COC tube is at 632, and the plot for the glass tube used as a control is at 634. In addition, the gas release measurement starts in about 4 seconds, and after several seconds, the plot 630 of the uncoated COC tube and the plot 632 of the SiOx-coated COC tube are clearly differentiated, and again, the immediate insulation of the blocking and uncoated tubes again. The distinction was shown. A constant distance interval of uncoated COC (greater than 2 micrograms in 60 seconds) and a corresponding distance interval of SiO x coated COC (less than 1.6 micrograms in 60 seconds) was achieved.

実施例20:
潤滑性被覆材
VII.B.1.a.「COCシリンジバレルを成形するためのプロトコル」に従い作成したCOCシリンジバレルを、「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従いOMCTS潤滑性被覆材で被覆した。当該結果は表21に示す。当該結果により当該電力レベルの増加傾向が示され、無酸素で8〜14ワットの場合に当該被覆材の潤滑性が向上した。電力および流量率に関するさらなる実験により、潤滑性がさらに強化される可能性がある。
Example 20:
Lubricious coating
VII.B.1.a. COC syringe barrel made according to “Protocol for molding COC syringe barrel” and OMCTS lubrication coating according to “Protocol for coating the inside of COC syringe barrel with OMCTS lubricity coating” Covered with material. The results are shown in Table 21. The result showed an increasing tendency of the power level, and the lubricity of the coating material was improved when oxygen was 8-14 watts. Further experiments on power and flow rate may further enhance lubricity.

実施例21 :
潤滑性被覆材 - 仮説に基づく実施例
射出成形した環状オレフィン共重合体(COC)プラスチックシリンジバレルを、COCシリンジバレルを成形するためのプロトコルに従って作成する。一部は被覆せず(「対照」)、その他は「COCシリンジバレル内部をOMCTS潤滑性被覆材で被覆するためのプロトコル」に従いPECVD潤滑膜で被覆する(「潤滑シリンジ」)。当該潤滑シリンジと対照を試験して、当該プランジャーの当該バレル内での移動を開始するための力(起動力)および当該プランジャーの当該バレル内での移動を維持するための力(プランジャースライド力)を、Genesis Packaging自動シリンジ力試験器、モデルASTを使用して測定する。
Example 21:
Lubricating dressings-hypothetical examples
An injection molded cyclic olefin copolymer (COC) plastic syringe barrel is made according to the protocol for molding the COC syringe barrel. Some are not coated (“control”), others are coated with a PECVD lubricating film (“lubricated syringe”) according to the “Protocol for coating the inside of a COC syringe barrel with an OMCTS lubricious coating”. The lubrication syringe and control are tested to force the plunger to begin moving within the barrel (starting force) and to maintain the plunger moving within the barrel (plunger Slide force) is measured using a Genesis Packaging automatic syringe force tester, model AST.

当該試験 は、ISO 7886-1:1993試験の修正バージョンである。各試験について以下の手順を使用する。Becton Dickinson製品番号306507(生理食塩水事前充填シリンジとして取得)から採取した、エラストマー端部付き市販のプラスチックシリンジプランジャーをシリンジアセンブリから取り外す。当該エラストマー端部を、清潔で乾燥した圧縮空気で乾燥させる。その後、当該エラストマー端部およびプラスチックプランジャーを試験対象のCOCプラスチックシリンジバレルに挿入して、当該プランジャーを位置付け、さらには当該シリンジバレルの底部を利用する。必要に応じて、試験対象状態を達成するため、当該充填済みシリンジを調整する。例えば、当該試験物体が3カ月保管された後の当該シリンジの起動力に関する潤滑剤被覆材の作用を検出するためのものである場合、所望の状態を達成するため当該シリンジを3カ月保管する。               This test is a modified version of the ISO 7886-1: 1993 test. The following procedure is used for each test. Remove from the syringe assembly a commercially available plastic syringe plunger with an elastomeric end, taken from Becton Dickinson product number 306507 (obtained as a saline prefilled syringe). The elastomer end is dried with clean, dry compressed air. The elastomer end and plastic plunger are then inserted into the COC plastic syringe barrel to be tested to position the plunger and further utilize the bottom of the syringe barrel. If necessary, the filled syringe is adjusted to achieve the test target state. For example, when the test object is for detecting the action of the lubricant coating material on the starting force of the syringe after being stored for 3 months, the syringe is stored for 3 months to achieve a desired state.

当該シリンジを、Genesis Packaging自動シリンジ力試験器に設置する。当該試験は、メーカー仕様書に従い試験開始時からキャリブレートする。当該試験器の入力変数は、速度 = 100mm/分、範囲 = 10,000である。当該試験器のスタートボタンを押下する。試験完了時に、(当該プランジャーの当該バレル内での移動を開始するための)起動力および(移動を維持するための)プランジャースライド力を測定し、対照シリンジと比較して潤滑シリンジでの力が実質的に低いことが認められた。               The syringe is installed in the Genesis Packaging automatic syringe force tester. The test is calibrated from the beginning of the test according to the manufacturer's specifications. The input variables of the tester are speed = 100 mm / min, range = 10,000. Press the start button of the tester. At the completion of the test, the starting force (to initiate movement of the plunger within the barrel) and the plunger sliding force (to maintain movement) are measured and compared with the control syringe. The force was found to be substantially low.

図59は、本発明の模範的実施例に記載の容器処理システム20を示す。当該容器処理システム20は、とりわけ、第1処理ステーション5501および第2処理ステーション5502からなる。かかる処理ステーションの実施例は、例えば、図1の参照数表示24、26、28、30、32および34で描写される。               FIG. 59 shows a container processing system 20 according to an exemplary embodiment of the present invention. The container processing system 20 comprises a first processing station 5501 and a second processing station 5502, among others. Examples of such processing stations are depicted, for example, in reference number displays 24, 26, 28, 30, 32 and 34 in FIG.

当該第1容器処理システム5501は、装填済み容器80を把持する容器ホルダー38を含む。図59に血液管80が描写されているが、当該容器はシリンジ本体、バイアル、カテーテル、または例えばピペットである場合がある。当該容器は、例えばガラス製またはプラスチック製である場合がある。プラスチック容器の場合、当該第1処理ステーションはまた当該プラスチック容器をモールドするためのモールドからなる場合がある。               The first container processing system 5501 includes a container holder 38 that holds a loaded container 80. Although a blood tube 80 is depicted in FIG. 59, the container may be a syringe body, a vial, a catheter, or a pipette, for example. The container may be made of glass or plastic, for example. In the case of a plastic container, the first processing station may also comprise a mold for molding the plastic container.

当該第1処理ステーションでの第1処理(当該処理は、当該容器のモールド、当該容器の欠陥検出のための第1検査、当該容器内面の被覆、および当該容器、特に当該内部被覆材の欠陥検出のための第2検査からなる)の後に、当該容器ホルダー38を当該容器82と共に第2容器処理ステーション5502に搬送する。この搬送は、コンベヤー装備70、72、74により実行される。例えば、当該容器/ホルダー複合体を次の処理ステーション5502に移動させるため、当該容器ホルダー38および/または当該容器80を把持する1つの把持部または複数の把持部を用意する場合がある。あるいは、当該把持部なしで当該容器を移動する場合がある。しかし、当該把持部を適合すると当該コンベヤー装備による搬送が可能となるため、当該把持部と当該容器を共に移動することは有利である場合がある。               First processing at the first processing station (the processing includes mold of the container, first inspection for detecting defects of the container, coating of the inner surface of the container, and defect detection of the container, particularly the inner coating material) The container holder 38 is transported to the second container processing station 5502 together with the container 82. This transfer is performed by the conveyor equipment 70, 72, 74. For example, in order to move the container / holder complex to the next processing station 5502, one gripping part or a plurality of gripping parts for gripping the container holder 38 and / or the container 80 may be prepared. Alternatively, the container may be moved without the grip portion. However, if the gripping part is adapted, it can be transported by the conveyor equipment, so it may be advantageous to move the gripping part and the container together.

図60は、本発明の別の模範的実施例に記載の容器処理システム20を示す。ここでも、2つの容器処理ステーション5501、5502を用意する。さらに、追加の容器処理ステーション5503、5504を連続して配備し、当該容器を処理、すなわち検査および/または被覆できるようにする。               FIG. 60 shows a container processing system 20 according to another exemplary embodiment of the present invention. Again, two container processing stations 5501 and 5502 are provided. In addition, additional container processing stations 5503, 5504 are deployed in succession to allow the containers to be processed, ie inspected and / or coated.

容器は、ストックから左側の処理ステーション5504へと移動可能である。あるいは当該容器は、第1処理ステーション5504でモールド可能である。どちらの場合も、モールド、検査および/または被覆(次に第2検査を行う場合がある)といった第1容器処理は、当該処理ステーション5504で実行する。その後、当該容器を次の処理ステーション5501に当該コンベヤー装備70、72、74経由で移動する。一般に、当該容器は当該容器ホルダーと共に移動する。第2処理を当該第2処理ステーション5501で実施し、その後、当該容器と把持部を第3処理を実施する次の処理ステーション5502へと移動する。当該容器をその後(再び当該把持部と共に)、第4処理のために当該第4処理ステーション5503に移動し、その後保管するために搬送する。               The container can be moved from stock to the processing station 5504 on the left. Alternatively, the container can be molded at the first processing station 5504. In either case, a first container process such as molding, inspection and / or coating (which may then be followed by a second inspection) is performed at the processing station 5504. The container is then moved to the next processing station 5501 via the conveyor equipment 70, 72, 74. Generally, the container moves with the container holder. The second process is performed at the second process station 5501, and then the container and the gripper are moved to the next process station 5502 for performing the third process. The container is then (again with the gripper) moved to the fourth processing station 5503 for the fourth processing and then transported for storage.

当該容器を処理する各被覆手順またはモールド手順またはその他の手順の前および後に、当該容器全体の、当該容器の一部の、および特に当該容器の内面の検査を実施する場合がある。各検査の結果を、中央処理装置5505にデータバス5507経由で送信する。各処理ステーションを当該データバス5507と接続する。当該プロセッサ5505(中央制御調整装置の形態に適合される場合がある)は当該検査データを処理し、当該データを分析し、最後の処理手順が成功であったかどうかを判定する。               Before and after each coating procedure or mold procedure or other procedure that treats the container, an inspection of the entire container, a portion of the container, and particularly the inner surface of the container may be performed. The result of each inspection is transmitted to the central processing unit 5505 via the data bus 5507. Each processing station is connected to the data bus 5507. The processor 5505 (which may be adapted to the central control coordinator configuration) processes the test data, analyzes the data, and determines whether the last processing procedure was successful.

例えば当該被覆材に孔があるため、または当該被覆材の表面が標準でありまたは十分に平滑でないため、最後の処理手順が不成功であったと判定される場合、当該容器は次の処理ステーションに進むことなく当該製造工程(コンベヤーセクション7001、7002、7003、7004)から除去されるか、再処理するために返送される。               If it is determined that the last processing procedure was unsuccessful, for example, because the dressing has holes, or the dressing surface is standard or not smooth enough, the container is placed in the next processing station. Removed from the manufacturing process (conveyor sections 7001, 7002, 7003, 7004) without progress or returned for reprocessing.

当該プロセッサ5505は、制御/調整パラメータを入力するためのユーザーインターフェース5506に接続する。               The processor 5505 connects to a user interface 5506 for entering control / adjustment parameters.

図61は、本発明の模範的実施例に記載の容器処理ステーション5501を示す。当該ステーションは、当該容器内面を被覆するためのPECVD装置5701からなる。さらに、容器検査用の複数の検出器5702〜5707を用意する。かかる検出器は、例えば電気計測を実施する電極、光学検出器、CCDカメラ類、ガス検出器、または圧力検出器である場合がある。               FIG. 61 shows a container processing station 5501 according to an exemplary embodiment of the present invention. The station includes a PECVD apparatus 5701 for coating the inner surface of the container. Further, a plurality of detectors 5702 to 5707 for container inspection are prepared. Such detectors may be, for example, electrodes that perform electrical measurements, optical detectors, CCD cameras, gas detectors, or pressure detectors.

図62は、本発明の模範的実施例に記載の容器ホルダー38と共に、複数の検出器5702、5703、5704およびガス吸入ポート108、110を有する電極を示す。               FIG. 62 shows an electrode having a plurality of detectors 5702, 5703, 5704 and gas inlet ports 108, 110 along with a container holder 38 as described in an exemplary embodiment of the invention.

当該電極と当該検出器5702は、当該容器が当該把持部38に装填済みである場合、当該容器80の内腔に移動するよう適合される場合がある。               The electrode and the detector 5702 may be adapted to move into the lumen of the container 80 when the container is loaded in the gripping portion 38.

例えば当該装填済み容器80の外部に配置される光学検出器5703、5704 を利用して、またはさらには当該容器80の内腔内に配置される光学検出器5705を利用して、特に被覆手順中に、当該光学検査を実施する場合がある。               For example, using an optical detector 5703, 5704 placed outside the loaded container 80, or even using an optical detector 5705 placed in the lumen of the container 80, particularly during the coating procedure. In addition, the optical inspection may be performed.

当該検出器はカラーフィルターからなる場合があり、異なる波長を当該被覆処理中に検出可能である。当該処理装置5505は当該光学データを分析し、当該被覆が成功であったか所定の確実性レベルに達していないかどうかを判定する。当該被覆材がおそらく不成功であったと判定される場合、それぞれの容器を当該処理システムから隔離する、または再処理する。               The detector may consist of a color filter, and different wavelengths can be detected during the coating process. The processor 5505 analyzes the optical data to determine whether the coating was successful or has not reached a predetermined certainty level. If it is determined that the dressing was probably unsuccessful, each container is isolated from the processing system or reprocessed.

本発明を当該図面および以上の記述において詳細に図示および説明してきたが、かかる図解および説明は実例的または模範的と見なされるべきであり、制限的と見なされるべきではない。本発明は当該開示実施例に制限されるものではない。当該開示実施例のその他の変型が、当該図面、当該開示、および当該添付請求項を研究することから、当技術分野の当事者によりおよび当該請求発明の実行により、理解されもたらされる可能性がある。当該請求項において、用語「からなる」はその他の要素または手順が含まれる場合があり、単数形物質は複数である場合がある。相互に異なり依存する請求項に特定の測定値が列挙されるという単なる事実は、これらの測定の組合せを利益を得るために使用不可であることを示すものではない。当該請求項の引用符号は、当該範囲を制限すると解釈されるべきではない。               While the invention has been illustrated and described in detail in the drawings and foregoing description, such illustration and description are to be considered illustrative or exemplary and not restrictive. The present invention is not limited to the disclosed embodiments. Other variations of the disclosed embodiments may be understood and brought about by those skilled in the art and practice of the claimed invention from studying the drawings, the disclosure, and the appended claims. In the claims, the term “consisting of” can include other elements or procedures, and the singular substance can be plural. The mere fact that certain measurements are recited in mutually different dependent claims does not indicate that a combination of these measurements cannot be used to benefit. Any reference signs in the claims should not be construed as limiting the scope.

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以下の一覧において、例えば図59〜62を参照して、本発明の模範的実施例を記述する。後述一覧では用語「請求項」が使用されているが、当該後述一覧は請求項ではなく模範的実施例について言及していることに注意されたい。               In the following list, exemplary embodiments of the present invention are described, for example, with reference to FIGS. It should be noted that although the term “claims” is used in the list below, the list below refers to exemplary embodiments, not claims.

I. 複数処理ステーションと複数容器ホルダーを有する容器処理システム
1. 容器処理システム20は以下からなる:
開口部および内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される、当該第1処理ステーション5501、24、26、28、30;
当該第1処理ステーションから離れて設置され、開口部および内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される、当該第2処理ステーション5502、24、26、28、30;
第1処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、当該容器開口部を収受し装填するよう設定される容器ポート92が各ホルダーに含まれる、多数の容器ホルダー38;および
第2処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、第1処理ステーションから第2処理ステーションへと一連の当該容器ホルダーおよび装填済み容器を搬送する、コンベヤー70、72、74。
I. Container processing system with multiple processing stations and multiple container holders
1. Container handling system 20 consists of:
The first processing station 5501, 24, 26, 28, 30 configured to process a container having a wall defining an opening and an inner surface;
The second processing station 5502, 24, 26, 28, 30 set apart from the first processing station and configured to process a container having a wall defining an opening and an inner surface;
A number of container holders 38 each including a container port 92 configured to receive and load the container opening for processing the inner surface of the loaded container via the container port at a first processing station; and
Conveyors 70, 72, carrying a series of the container holders and loaded containers from the first processing station to the second processing station for processing the inner surface of the loaded containers via the container port at the second processing station. 74.

2. さらに、当該第1処理ステーションおよび第2処理ステーションから離れて設置され、開口部および内面を定義する壁を有する容器を処理するよう設定される、第3処理ステーション5503からなる、請求項1の発明(実施例図60を参照)。       2. Further comprising a third processing station 5503 that is set apart from the first processing station and the second processing station and configured to process a container having a wall defining an opening and an inner surface. (See FIG. 60 for the embodiment).

3. 当該コンベヤーが、第3処理ステーションにおいて当該容器ポート経由で装填済み容器の内面を処理するために、第2処理ステーションから第3処理ステーションへと一連の当該容器ホルダーおよび装填済み容器を搬送するよう設定される、請求項2の発明。       3. The conveyor transports a series of the container holders and loaded containers from the second processing station to the third processing station for processing the inner surface of the loaded containers via the container port at the third processing station. The invention of claim 2, set as follows.

4. 1つ以上の容器ホルダーがさらに、1つ以上の容器ポート上に装填済みの容器からガスを吸引するための真空ダクトからなる、請求項1〜3のいずれかの発明。       4. The invention of any one of claims 1 to 3, wherein the one or more container holders further comprise a vacuum duct for aspirating gas from a container already loaded on the one or more container ports.

5. 1つ以上の容器ホルダーがさらに、当該真空ダクトと外部真空源との間を通過する真空ポートからなる、請求項1〜4のいずれかの発明。       5. The invention of any one of claims 1-4, wherein the one or more container holders further comprise a vacuum port passing between the vacuum duct and an external vacuum source.

6. 1つ以上の真空ポートがさらに、外部真空源に対する密閉部を収受し成形するためのオーリングを有する、請求項1〜5のいずれかの発明。       6. The invention of any of claims 1-5, wherein the one or more vacuum ports further comprise an O-ring for receiving and forming a seal against an external vacuum source.

7. 1つ以上の容器ホルダーがさらに、1つ以上の容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポートからなる、請求項1〜6のいずれかの発明。       7. The invention of any of claims 1-6, wherein the one or more container holders further comprise a gas inlet port for transporting gas to a container preloaded on the one or more container ports.

8. 1つ以上の容器ホルダーがさらに、1つ以上の容器ポートへと通じ、それぞれ1つ以上の容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送する/からガスを吸引するための、合成ガス吸入ポートおよび真空ポートからなる、請求項1〜7のいずれかの発明。       8. Synthesizing one or more container holders further to one or more container ports, each carrying gas to / from gas to a container already loaded on one or more container ports The invention according to any one of claims 1 to 7, comprising a gas suction port and a vacuum port.

9. 1つ以上の容器ホルダーの原料が熱可塑性素材である、請求項1〜8のいずれかの発明。       9. The invention of any one of claims 1 to 8, wherein the material of the one or more container holders is a thermoplastic material.

10. 1つ以上の容器ポートがさらに、当該容器開口部に対する密閉部を収受し成形するための封止素子を有する、請求項1〜9のいずれかの発明。       10. The invention of any one of claims 1 to 9, wherein the one or more container ports further comprise a sealing element for receiving and molding a seal against the container opening.

10a. 当該封止素子がオーリングである、請求項10の発明。       10a. The invention of claim 10, wherein the sealing element is an O-ring.

11. 処理ステーションが、欠陥検出のため容器内面を検査するよう設定される、請求項1〜10aのいずれかの発明。       11. The invention of any of claims 1-10a, wherein the processing station is configured to inspect the inner surface of the container for defect detection.

12. 処理ステーションが、容器内面に被覆材を塗布するよう設定される、請求項1〜11のいずれかの発明。       12. The invention of any one of claims 1 to 11, wherein the processing station is set to apply a coating on the inner surface of the container.

13. 処理ステーションが、欠陥検出のため被覆材を検査するよう設定される、請求項1〜12のいずれかの発明。       13. The invention of any one of claims 1 to 12, wherein the processing station is configured to inspect the dressing for defect detection.

14. 処理ステーションが、容器壁を通しての大気圧損失を測定するよう設定される、請求項176〜13のいずれかの発明。       14. The invention of any of claims 176-13, wherein the processing station is configured to measure atmospheric pressure loss through the vessel wall.

15. 処理ステーションが、1つ以上の容器ホルダーを所定の位置で支持し当該処理ステーションにおいて当該装填済み容器内面を処理する支持面からなる、請求項1〜14のいずれかの発明。       15. The invention of any of claims 1-14, wherein the processing station comprises a support surface for supporting one or more container holders in place and processing the inner surface of the loaded container at the processing station.

16. 別の処理ステーションが、1つ以上の容器ホルダーを所定の位置で支持し別の当該処理ステーションにおいて当該装填済み容器内面を処理する第2支持面からなる、請求項1〜15のいずれかの発明。       16. One of the preceding claims, wherein another processing station comprises a second support surface for supporting one or more container holders in place and processing the loaded container inner surface at the other processing station. Invention.

17. 別の処理ステーションが、1つ以上の容器ホルダーを所定の位置で支持し別の当該処理ステーションにおいて1つ以上の容器ポート経由で当該装填済み容器内面を処理する第3支持面からなる、請求項1〜16のいずれかの発明。       17. Another processing station comprises a third support surface that supports one or more container holders in place and processes the loaded container inner surface via one or more container ports at the other processing station; The invention according to any one of claims 1 to 16.

18. さらに、当該第1および第2処理ステーションから離れて設置される容器処理のための第3処理ステーションからなる、請求項1〜17のいずれかの発明。       18. The invention according to any one of claims 1 to 17, further comprising a third processing station for container processing that is installed apart from the first and second processing stations.

19. さらに、当該第1、第2および第3処理ステーションから離れて設置される容器処理のための第4処理ステーションからなる、請求項18のの発明。       19. The invention of claim 18 further comprising a fourth processing station for container processing located remotely from the first, second and third processing stations.

20. さらに、当該第1、第2、第3および第4処理ステーションから離れて設置される容器処理のための第5処理ステーションからなる、請求項19の発明。       20. The invention of claim 19, further comprising a fifth processing station for container processing located remotely from said first, second, third and fourth processing stations.

21. さらに、当該第1、第2、第3、第4および第5処理ステーションから離れて設置される容器処理のための第6処理ステーションからなる、請求項20の発明。       21. The invention of claim 20, further comprising a sixth processing station for container processing disposed remotely from the first, second, third, fourth and fifth processing stations.

22. さらに、1つ以上の容器ホルダーおよび装填済み容器を第2処理ステーションから第3処理ステーションへ搬送するためのコンベヤーからなる、請求項1〜21のいずれかの発明。       22. The invention of any of claims 1-21, further comprising a conveyor for transporting the one or more container holders and loaded containers from the second processing station to the third processing station.

23. さらに、1つ以上の容器ホルダーおよび装填済み容器を第3処理ステーションから第4処理ステーションへ搬送するためのコンベヤーからなる、請求項22の発明。       23. The invention of claim 22, further comprising a conveyor for transporting the one or more container holders and loaded containers from the third processing station to the fourth processing station.

24. さらに、1つ以上の容器ホルダーおよび装填済み容器を第4処理ステーションから第5処理ステーションへ搬送するためのコンベヤーからなる、請求項23の発明。       24. The invention of claim 23, further comprising a conveyor for transporting the one or more container holders and loaded containers from the fourth processing station to the fifth processing station.

25. さらに、1つ以上の容器ホルダーおよび装填済み容器を第5処理ステーションから第6処理ステーションへ搬送するためのコンベヤーからなる、請求項24の発明。       25. The invention of claim 24, further comprising a conveyor for transporting the one or more container holders and loaded containers from the fifth processing station to the sixth processing station.

26. さらに、処理ステーションにおいて1つ以上の容器ポート経由で容器内部に被覆材を成形する塗布装置からなる、請求項1〜25のいずれかの発明。       26. The invention according to any one of claims 1 to 25, further comprising a coating device for forming a coating material inside the container via one or more container ports at the processing station.

27. 処理ステーションがPECVD装置からなる、請求項1〜26のいずれかの発明。       27. The invention of any of claims 1-26, wherein the processing station comprises a PECVD apparatus.

28. 当該PECVD装置が以下からなる、請求項27に記載の発明:
容器ホルダー上に装填済みの容器内部との流体通過部内に収受されるよう位置付けされる、内部電極;
容器ホルダー上に装填済みの容器を収受するよう位置付けられる内部部位を有する、外部電極;
内部および外部電極へと電流を交流させ、当該容器ホルダーに装填済みの容器内にプラズマを生成する、電力供給装置;
当該真空チャンバを定義する、容器の内部を真空にするための真空源;
反応性ガス源;および
反応性ガス源から当該容器ホルダーに装填済みの容器へと反応性ガスを供給するガス供給装置。
28. The invention of claim 27, wherein the PECVD apparatus comprises:
An internal electrode positioned to be received in a fluid passage with the interior of the container loaded on the container holder;
An external electrode having an internal portion positioned to receive a loaded container on a container holder;
A power supply device for generating a plasma in a container already loaded in the container holder by causing an electric current to be exchanged with the internal and external electrodes;
A vacuum source for evacuating the interior of the container defining the vacuum chamber;
A reactive gas source; and
A gas supply device for supplying reactive gas from a reactive gas source to a container already loaded in the container holder.

29. 当該内部電極が当該容器内へ伸延する、請求項28の発明。       29. The invention of claim 28, wherein the internal electrode extends into the container.

30. 当該内部電極が当該容器外部に位置する、請求項28の発明。       30. The invention of claim 28, wherein the internal electrode is located outside the container.

31. 当該内部電極が当該容器内部に位置する、請求項28または30の発明。       31. The invention of claim 28 or 30, wherein the internal electrode is located inside the container.

32. 当該内部電極が、当該容器ホルダーに装填済みの容器内へと通常同心円状に伸延するよう位置付けされる遠位部を有するプローブである、請求項28の発明。       32. The invention of claim 28, wherein the internal electrode is a probe having a distal portion positioned to extend normally concentrically into a container loaded in the container holder.

33. 当該ガス供給装置が当該内部電極の遠位部に位置する、請求項28または32の発明。       33. The invention of claim 28 or 32, wherein the gas supply device is located at a distal portion of the internal electrode.

34. さらに、当該反応性ガスを反応性ガス源から当該内部電極の遠位部へと搬送するための、当該内部電極内の反応性ガス源および経路からなる、請求項28、32または33に記載の発明。       34. The method of claim 28, 32 or 33, further comprising a reactive gas source and path in the internal electrode for conveying the reactive gas from the reactive gas source to a distal portion of the internal electrode. The described invention.

35. さらに、当該内部電極の遠位部が、少なくとも一部の反応性ガスを経路から横方向に放出するための当該経路を当該内部電極内に封入する伸長多孔質側壁からなる、請求項34の発明。       35. Further, the distal portion of the internal electrode comprises an elongated porous sidewall that encloses the pathway within the internal electrode for releasing at least a portion of the reactive gas laterally from the pathway. Invention.

36. 当該内部電極の外径が、横方向に隣接する当該容器の内径の少なくとも50%の大きさである、請求項35の発明。       36. The invention of claim 35, wherein the outer diameter of the inner electrode is at least 50% of the inner diameter of the container adjacent in the lateral direction.

37. 当該内部電極の外径が、横方向に隣接する当該容器の内径の少なくとも60%の大きさである、請求項35の発明。       37. The invention of claim 35, wherein the outer diameter of the inner electrode is at least 60% of the inner diameter of the container adjacent in the lateral direction.

38. 当該内部電極の外径が、横方向に隣接する当該容器の内径の少なくとも70%の大きさである、請求項35の発明。       38. The invention of claim 35, wherein the outer diameter of the inner electrode is at least 70% of the inner diameter of the container adjacent in the lateral direction.

39. 当該内部電極の外径が、横方向に隣接する当該容器の内径の少なくとも80%の大きさである、請求項35の発明。       39. The invention of claim 35, wherein the outer diameter of the inner electrode is at least 80% of the inner diameter of the container adjacent in the lateral direction.

40. 当該内部電極の外径が、横方向に隣接する当該容器の内径の少なくとも90%の大きさである、請求項35の発明。       40. The invention of claim 35, wherein the outer diameter of the inner electrode is at least 90% of the inner diameter of the container adjacent in the lateral direction.

41. 当該内部電極の外径が、横方向に隣接する当該容器の内径の少なくとも95%の大きさである、請求項35の発明。       41. The invention of claim 35, wherein the outer diameter of the inner electrode is at least 95% of the inner diameter of the container adjacent in the lateral direction.

42. さらに、当該搬送ガスを搬送ガス源から当該内部電極の遠位部へと搬送するための、当該内部電極内の搬送ガス源および経路からなる、請求項28〜34のいずれかの発明。       42. The invention of any one of claims 28 to 34, further comprising a carrier gas source and a path in the internal electrode for conveying the carrier gas from the carrier gas source to a distal portion of the internal electrode.

43. さらに、当該内部電極を当該容器ホルダーに/から挿入および除去するための内部電極伸延機および格納機からなる、請求項28〜42のいずれかの発明。       43. The invention of any one of claims 28 to 42, further comprising an internal electrode distracter and storage for inserting and removing the internal electrode into / from the container holder.

44. さらに少なくとも2つの内部電極の配列からなり、当該内部電極伸延機および格納機が内部電極の配列を容器ホルダーに挿入/から除去するよう設定される、請求項28〜43のいずれかの発明。       44. The invention of any of claims 28-43, further comprising an array of at least two internal electrodes, wherein the internal electrode distracter and storage are configured to insert / remove the internal electrode array into / from the container holder. .

45. 当該内部電極伸延機および格納機が、当該容器ホルダーについて前進位置、中間位置、格納位置の間で内部電極を移動させるよう設定される、請求項44の発明。       45. The invention of claim 44, wherein the internal electrode distracter and storage are configured to move the internal electrode between an advanced position, an intermediate position, and a stored position for the container holder.

46. さらに当該内部電極伸延機および格納機を併用して動作可能な内部電極駆動からなり、第1内部電極を伸延位置から格納位置へと取り外し、当該第2内部電極の代わりに第1内部電極を取り付け、当該第2内部電極を伸延位置へと前進させることができる、請求項44または45の発明。       46. Further, the internal electrode drive is operable by using both the internal electrode distracter and the storage device. The first internal electrode is removed from the extended position to the storage position, and the first internal electrode is used instead of the second internal electrode. 46. The invention of claim 44 or 45, wherein the second internal electrode can be advanced to a distraction position.

47. 当該外部電極が通常シリンダー状であり、当該容器ホルダーに装填済みの容器周辺に通常同心円状に伸延するよう位置付られる、請求項28、32、33、34、または42の発明。       47. The invention of claim 28, 32, 33, 34, or 42, wherein the external electrode is generally cylindrical and is positioned to extend generally concentrically around a container loaded in the container holder.

48. 当該外部電極が端部蓋からなる、請求項28〜47のいずれかの発明。       48. The invention of any one of claims 28 to 47, wherein the external electrode comprises an end cover.

49. 当該端部蓋と当該容器ホルダーに装填済みの容器の遠位端との間で定義されるギャップが、本質的に均一である、請求項48の発明。       49. The invention of claim 48, wherein the gap defined between the end cap and the distal end of the container loaded in the container holder is essentially uniform.

50. 当該外部電極と当該容器ホルダーに装填済みの容器との間で定義されるギャップが、本質的に均一である、請求項28〜49のいずれかの発明。       50. The invention of any of claims 28-49, wherein the gap defined between the external electrode and the container loaded in the container holder is essentially uniform.

51. さらに、当該容器内面の条件を検出するための処理ステーションにおいて1つ以上の容器ポート経由で当該容器へと挿入されるよう設定される検出器からなる、請求項1〜50のいずれかの発明。       51. The device of any of claims 1-50, further comprising a detector configured to be inserted into the vessel via one or more vessel ports at a processing station for detecting conditions on the inner surface of the vessel. invention.

52. さらに、当該容器外部の処理ステーションに位置する検出器からなる、請求項1〜51のいずれかの発明。       52. The invention of any one of claims 1 to 51, further comprising a detector located at a processing station outside the vessel.

53. さらに、検出器による検出のために当該容器壁および当該容器内面を通してエネルギーを内側に配向する、処理ステーションに位置するエネルギー源からなる、請求項1〜52のいずれかの発明。       53. The invention of any of claims 1-52, further comprising an energy source located at the processing station that directs energy inwardly through the vessel wall and the vessel inner surface for detection by a detector.

54. さらに、当該容器壁に対してエネルギーを配向し、当該壁表面上の少なくとも1つの被覆材および当該壁表面からエネルギーを反射させる、処理ステーションに位置するエネルギー源からなる、請求項1〜53のいずれかの発明。       54. Further comprising an energy source located at a processing station that directs energy relative to the container wall, reflects the energy from at least one coating on the wall surface and the wall surface. Any of the inventions.

55. さらに、検出器による検出のために当該容器壁および当該容器内面を通してエネルギーを外側に配向する、処理ステーションに位置するエネルギー源からなる、請求項1〜54のいずれかの発明。       55. The invention of any of claims 1-54, further comprising an energy source located at a processing station that directs energy outwardly through the vessel wall and the vessel inner surface for detection by a detector.

56. 容器開口部経由で容器へと挿入されるよう設定されるエネルギー源からなる、請求項1〜55のいずれかの発明。       56. The invention of any one of claims 1 to 55, comprising an energy source configured to be inserted into the container via the container opening.

57. 当該検出器が、当該容器内面上の多数の密集点における当該容器内面の状態を検出するよう設定される、請求項51〜56のいずれかの発明。       57. The invention of any one of claims 51 to 56, wherein the detector is configured to detect the condition of the container inner surface at a number of dense points on the container inner surface.

58. 当該検出器がエネルギー源からのエネルギーを受信するよう位置付けられる、請求項51〜57のいずれかの発明。       58. The invention of any of claims 51-57, wherein the detector is positioned to receive energy from an energy source.

59. 第2処理ステーションでの装填済み容器内面処理の後に1つ以上の容器ホルダーから当該容器を除去するための、処理ステーションに位置する除去装置からなる、請求項1〜58のいずれかの発明。       59. The invention of any one of claims 1 to 58, comprising a removal device located at the processing station for removing the container from one or more container holders after treatment of the inner surface of the loaded container at the second processing station. .

II. 容器ホルダー
II.A.
60. 当該容器処理の間、開口部を有する容器を把持および搬送するための携帯型容器ホルダーであり、当該容器ホルダーは以下からなる:
相互に通過可能な状態で容器開口部を装填するよう設定される、容器ポート;
外気供給を受入または排出するよう設定される、第2ポート;
容器ポート上に装填済みの容器開口部と第2ポートの間で1種以上のガスを通気させる、ダクト;
当該容器ポート、第2ポート、およびダクトが、実質上固定状態で装着される、搬送可能筺体;
重量が5ポンド未満である、携帯型容器ホルダー。
II. Container holder
II.A.
60. A portable container holder for gripping and transporting a container having an opening during the container processing, the container holder comprising:
A container port configured to load container openings in a mutually passable manner;
A second port configured to accept or discharge outside air supply;
A duct for venting one or more gases between a container opening loaded on the container port and the second port;
A transportable housing in which the container port, the second port, and the duct are mounted in a substantially fixed state;
A portable container holder that weighs less than 5 pounds.

II.B.
61. 当該容器処理の間、開口部を有する容器を把持および搬送するための携帯型容器ホルダーであり、当該容器ホルダーは以下からなる:
密閉された相互に通過可能な状態で容器開口部を収受するよう設定される、容器ポート;
容器ポート上に装填済みの容器内部から容器ポート経由でガスを吸引する、真空ダクト;
当該真空ダクトと外部真空源の間の通過が可能となるよう設定される、当該真空ポート;
当該容器ポート、真空ダクト、および真空ポートが実質上固定状態で装着される、搬送可能筺体;
重量が5ポンド未満である、携帯型容器ホルダー。
II.B.
61. A portable container holder for gripping and transporting a container having an opening during the container processing, the container holder comprising:
A container port configured to receive the container opening in a sealed and mutually passable manner;
A vacuum duct that draws gas from inside the container already loaded onto the container port via the container port;
The vacuum port set to allow passage between the vacuum duct and an external vacuum source;
A transportable housing in which the vessel port, vacuum duct, and vacuum port are mounted in a substantially fixed state;
A portable container holder that weighs less than 5 pounds.

62. 当該容器ポートが、容器開口部に対する密閉部を収受し成形するための封止素子を有する、請求項61の発明。       62. The invention of claim 61, wherein the container port comprises a sealing element for receiving and molding a seal against the container opening.

62a. 当該封止素子がオーリングである、請求項61の発明。       62a. The invention of claim 61, wherein the sealing element is an O-ring.

63. 当該真空ポートが、外部真空源に対する密閉部を収受し成形するためのオーリングを有する、請求項61〜62aのいずれかの発明。       63. The invention of any of claims 61-62a, wherein the vacuum port has an O-ring for receiving and molding a seal against an external vacuum source.

64. 当該ガス吸入ポートが、ガス吸入部に対する密閉部を収受し成形するためのオーリングを有する、請求項61〜63のいずれかの発明。       64. The invention according to any one of claims 61 to 63, wherein the gas suction port has an O-ring for receiving and molding a sealing portion with respect to the gas suction portion.

65. 当該真空ポートがさらに、当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するために、当該容器ポートへと通じるガス吸入ポートとして機能するよう設定される、請求項61〜64のいずれかの発明。       65. Any of claims 61-64, wherein the vacuum port is further configured to function as a gas inlet port leading to the container port for conveying gas to a container loaded on the container port. The invention.

66. 当該筺体の原料が熱可塑性素材である、請求項61〜65のいずれかの発明。       66. The invention of any one of claims 61 to 65, wherein the raw material of the casing is a thermoplastic material.

67. さらに、当該搬送可能筺体に実質上固定装着され、当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するよ設定される、ガス吸入ポートからなる、請求項61〜66のいずれかの発明。       67. The gas intake port according to any one of claims 61 to 66, further comprising a gas suction port that is substantially fixedly attached to the transportable housing and configured to transport gas to a container already loaded on the container port. invention.

II.C. 密閉装備を含む容器ホルダー。
68. 開口端に隣接する実質上シリンダー状の壁を有する容器の開口端を収受するための容器ホルダーであり、以下からなる:
当該容器のシリンダー状壁を収受するサイズである、通常シリンダー状である内面;
通常シリンダー状の内面の内側および同軸方向にある第1溝付き釘溝、および、通常シリンダー状である内面にある開口部および通常シリンダー状である内面から放射状に乖離する下部壁を有する、第1溝付き釘溝;および
第1溝付き釘溝と関連させて、当該開口部を通って通常放射状に伸延するサイズであり、通常シリンダー状である内面により収受される容器により外側に放射状に押下されて当該容器と第1溝付き釘溝の底壁との間に密閉部を成形する、第1溝付き釘溝に付帯する第1封止素子。
II.C. Container holder including hermetically sealed equipment.
68. A container holder for receiving the open end of a container having a substantially cylindrical wall adjacent to the open end, comprising:
An inner surface, usually cylindrical, that is sized to receive the cylindrical wall of the container;
A first grooved nail groove inside and generally coaxially with the inner surface of the cylindrical shape, and an opening on the inner surface that is usually cylindrical and a lower wall that radially diverges from the inner surface that is usually cylindrical. Grooved nail grooves; and
Associated with the first grooved nail groove is a size that normally extends radially through the opening and is pressed radially outward by a container received by the inner surface, which is typically cylindrical, and the first A first sealing element attached to the first grooved nail groove, forming a sealing portion between the grooved nail groove bottom wall.

68a. 当該封止素子がオーリングである、請求項68の容器ホルダー。       68a. The container holder of claim 68, wherein said sealing element is an O-ring.

69. さらに、当該容器開口端が当接可能である、当該通常シリンダー状の内面に隣接する、放射状に伸延する当接部からなる、請求項68の容器ホルダー。       69. The container holder of claim 68, further comprising a radially extending abutting portion adjacent to the generally cylindrical inner surface to which the container open end can abut.

70. さらに、当該開口部と当該第1溝付き釘溝の底壁の間に付帯する、第1上部および下部側壁からなり、当該第1オーリングが容器により放射状に外方向へ押下される場合に当該第1側壁が当該第1オーリングに当接するよう位置付けられている、請求項68または69の容器ホルダー。       70. Further, when the first O-ring is pushed radially outward by the container, comprising the first upper and lower side walls attached between the opening and the bottom wall of the first grooved nail groove 70. The container holder of claim 68 or 69, wherein the first side wall is positioned to abut against the first O-ring.

71. 当該第1オーリングの無強勢時の断面直径が、当該第1通常溝付き釘溝の半径方向深さより大きい、請求項68〜70のいずれかの容器ホルダー。       71. The container holder according to any of claims 68 to 70, wherein a cross-sectional diameter of the first O-ring when not stressed is larger than a radial depth of the first normal grooved nail groove.

72. さらに以下からなる、請求項68〜71のいずれかの容器ホルダー:
通常シリンダー状の内面の内側および同軸方向にあり、第1第溝付き釘溝から軸方向に乖離する2溝付き釘溝、および、通常シリンダー状である内面にある開口部および通常シリンダー状である内面から放射状に乖離する底壁を有する、第2溝付き釘溝;および
第2溝付き釘溝と関連させて、当該開口部を通って通常放射状に伸延するサイズであり、通常シリンダー状である内面により収受される容器により外側に放射状に押下されて当該容器と溝付き釘溝の底壁との間に密閉部を成形する、第2溝付き釘溝に付帯する第2オーリング。
72. The container holder of any of claims 68-71, further comprising:
Inside the cylindrical inner surface and in the coaxial direction, it is a two-grooved nail groove that is axially separated from the first grooved nail groove, and an opening on the inner surface that is usually cylindrical and a normal cylinder shape A second grooved nail groove having a bottom wall radially deviating from the inner surface; and
Associated with the second grooved nail groove, is a size that normally extends radially through the opening, and is pressed radially outward by a container received by the inner surface, usually cylindrical, and grooved with the container A second O-ring attached to the second grooved nail groove, forming a sealing part between the bottom wall of the nail groove.

73. さらに、当該開口部と当該第2溝付き釘溝の底壁の間に付帯する、第1上部および下部側壁からなり、当該第2オーリングが容器により放射状に外方向へ押下される場合に当該第2側壁が当該第2オーリングに当接するよう位置付けられている、請求項72の容器ホルダー。       73. Further, when the second O-ring is pushed radially outward by the container, comprising the first upper and lower side walls attached between the opening and the bottom wall of the second grooved nail groove 75. The container holder of claim 72, wherein the second side wall is positioned to abut against the second O-ring.

74. 当該第2オーリングの無強勢時の断面直径が、当該第1通常溝付き釘溝の半径方向深さより大きい、請求項72〜73のいずれかの容器ホルダー。       74. The container holder according to any of claims 72 to 73, wherein a cross-sectional diameter of the second O-ring when not stressed is larger than a radial depth of the first normal grooved nail groove.

75. さらに、当該当接部に対向する開口部を有する当該容器ホルダー上に装填済みの容器内で、真空を引くために位置付けられる当接部内にある真空源からなる、請求項69〜74のいずれかの容器ホルダー:       75. The method of claims 69-74, further comprising a vacuum source in the abutment positioned to draw a vacuum in a container loaded on the container holder having an opening opposite the abutment. Any container holder:

76. さらに、当該当接部に対向する開口部を有する当該容器ホルダー上に装填済みの容器の内部へと通じるよう位置付けられる当接部内にある処理ガス源からなる、請求項69〜75のいずれかの容器ホルダー。       76. The method of any one of claims 69-75, further comprising a process gas source located in the abutment positioned to communicate with the interior of the container loaded on the container holder having an opening opposite the abutment. A container holder.

III. 容器の搬送方法 - 容器ホルダーに装填済みの容器の処理
III.A. 処理ステーションへの容器ホルダーの搬送
77. 容器を処理する方法であり、当該方法は以下からなる:
容器処理のための第1処理ステーションの提供;
容器処理のための第1処理ステーションから離れた第2処理ステーションの提供;
開口部および内面を定義する壁を有する容器の提供;
容器ポートからなる容器ホルダーの提供;
当該容器開口部の容器ポート上への装填;
第1処理ステーションにおける容器ポート経由での当該装填済み容器内面の処理;
第1処理ステーションから第2処理ステーションへの当該容器ホルダーおよび装填済み容器の搬送;および
第2処理ステーションにおける容器ポート経由での当該装填済み容器内面の処理。
III. Container Transport Method-Processing of Containers Loaded in Container Holder
III.A. Transport of container holder to processing station
77. A method of treating a container, the method comprising:
Providing a first processing station for container processing;
Providing a second processing station away from the first processing station for container processing;
Providing a container having a wall defining an opening and an inner surface;
Providing a container holder comprising a container port;
Loading the container opening onto the container port;
Treatment of the inner surface of the loaded container via the container port at the first treatment station;
Transport of the container holder and loaded container from the first processing station to the second processing station; and
Treatment of the inner surface of the loaded container via the container port at the second processing station.

78. 当該容器が通常管状である、請求項77の発明。       78. The invention of claim 77, wherein the container is generally tubular.

79. 当該開口部が当該容器の端部の1つに位置する、請求項77または78の発明。       79. The invention of claim 77 or 78, wherein the opening is located at one of the ends of the container.

80. 当該容器の原料が熱可塑性素材である、請求項77〜79のいずれかの発明。       80. The invention of any one of claims 77 to 79, wherein the material of the container is a thermoplastic material.

81. 当該容器の原料がテレフタル酸ポリエチレンである、請求項77〜80のいずれかの発明。       81. The invention of any one of claims 77-80, wherein the material of the container is polyethylene terephthalate.

82. 当該容器の原料がポリオレフィンである、請求項77〜80のいずれかの発明。       82. The invention of any one of claims 77-80, wherein the material of the container is a polyolefin.

83. 当該容器の原料がポリプロピレンである、請求項77〜80のいずれかの発明。       83. The invention of any one of claims 77-80, wherein the material of the container is polypropylene.

84. 当該容器の原料がガラスである、請求項77〜83のいずれかの発明。       84. The invention of any one of claims 77 to 83, wherein the material of the container is glass.

85. 当該容器の原料がホウケイ酸ガラスである、請求項77〜84のいずれかの発明。       85. The invention of any one of claims 77 to 84, wherein the material of the container is borosilicate glass.

86. 当該容器の原料がソーダ石灰ガラスである、請求項77〜85のいずれかの発明。       86. The invention of any one of claims 77 to 85, wherein the material of the container is soda lime glass.

87. 当該容器の原料が水晶ガラスである、請求項77〜86のいずれかの発明。       87. The invention of any one of claims 77 to 86, wherein the material of the container is quartz glass.

88. 当該容器が、760トールの外圧に曝露しても実質上変形しない実質的全内部新真空に耐える強度を有する、請求項77〜87のいずれかの発明。       88. The invention of any one of claims 77-87, wherein the container has a strength to withstand substantially all internal new vacuum that does not substantially deform upon exposure to an external pressure of 760 Torr.

89. 当該容器が射出成形により作成される、請求項77〜88のいずれかの発明。       89. The invention of any one of claims 77-88, wherein the container is made by injection molding.

90. 当該容器がブロー成形により作成される、請求項77〜88のいずれかの発明。       90. The invention of any one of claims 77-88, wherein the container is made by blow molding.

91. 当該容器が管端部閉口により作成される、請求項77〜90のいずれかの発明。       91. The invention of any one of claims 77-90, wherein the container is created by a tube end closure.

92. 当該容器ホルダーがさらに、当該容器ポート上に装填済みの容器からガスを吸引するための真空ダクトからなる、請求項77〜91のいずれかの発明。       92. The invention of any one of claims 77 to 91, wherein the container holder further comprises a vacuum duct for aspirating gas from a container already loaded onto the container port.

93. 当該容器ホルダーがさらに、当該真空ダクトと外部真空源との間を通過する真空ポートからなる、請求項92の発明。       93. The invention of claim 92, wherein the container holder further comprises a vacuum port passing between the vacuum duct and an external vacuum source.

94. 当該真空ポートが、外部真空源に対する密閉部を収受し成形するためのオーリングを有する、請求項93の発明。       94. The invention of claim 93, wherein said vacuum port has an O-ring for receiving and molding a seal against an external vacuum source.

95. 当該容器ホルダーがさらに、当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポートからなる、請求項77〜94のいずれかの発明。       95. The invention of any one of claims 77-94, wherein the container holder further comprises a gas inlet port for conveying gas to a container preloaded on the container port.

96. 当該容器ホルダーが、当該容器ポートと通じ、それぞれ当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送する/からガスを吸引するための、合成ガス吸入ポートおよび真空ポートからなる、請求項77〜95のいずれかの発明。       96. The container holder comprises a synthetic gas inlet port and a vacuum port for communicating with and / or sucking gas into and out of the container loaded on the container port, respectively. Any invention of 77-95.

97. 当該容器ホルダーの原料が熱可塑性素材である、請求項77〜96のいずれかの発明。       97. The invention of any one of claims 77 to 96, wherein the material of the container holder is a thermoplastic material.

98. 当該容器ホルダーが、接合部で共に接合する上部および底部からなる、請求項77〜97のいずれかの発明。       98. The invention of any one of claims 77-97, wherein the container holder comprises a top and a bottom joined together at a joint.

99. さらに、当該接合部を封止するため、当該接合部の上部と底部との間で拘束されるオーリングからなる、請求項98の発明。       99. The invention of claim 98, further comprising an O-ring constrained between the top and bottom of the joint to seal the joint.

100. 当該上部と底部との間で拘束される当該オーリングがまた、当該容器も収受して当該容器開口部周辺に密閉部を成形する、請求項77〜99のいずれかの発明。       100. The invention of any one of claims 77-99, wherein the O-ring constrained between the top and bottom also receives the container and forms a seal around the container opening.

101. 当該容器ポートが第1および第2軸方向乖離オーリングを有し、それぞれが容器外径を収受するサイズの内径を有し当該容器ポートと容器との間を封止する、請求項77〜100のいずれかの発明。       101. The container port has first and second axially offset o-rings, each having an inner diameter sized to receive the container outer diameter, sealing between the container port and the container. Any invention of ~ 100.

102. 当該容器ポートが、当該オーリング近位かつ当該真空ダクト周辺に位置する、放射状に伸延する当接部表面を有する、請求項77〜101のいずれかの発明。       102. The invention of any one of claims 77-101, wherein the container port has a radially extending abutment surface located proximal to the O-ring and around the vacuum duct.

103. 処理ステーションが、欠陥検出のため容器内面を検査するよう設定される、請求項77〜102のいずれかの発明。       103. The invention of any one of claims 77-102, wherein the processing station is configured to inspect the inner surface of the container for defect detection.

104. 処理ステーションが、容器内面に被覆材を塗布するよう設定される、請求項77〜103のいずれかの発明。       104. The invention of any of claims 77-103, wherein the processing station is set to apply a coating to the interior surface of the container.

105. 処理ステーションが、容器内面に遮断膜またはその他の種類の被覆材を塗布するよう設定される、請求項77〜104のいずれかの発明。       105. The invention of any of claims 77-104, wherein the processing station is configured to apply a barrier film or other type of coating to the interior surface of the container.

106. 処理ステーションが、欠陥検出のため被覆材を検査するよう設定される、請求項77〜105のいずれかの発明。       106. The invention of any one of claims 77-105, wherein the processing station is configured to inspect the dressing for defect detection.

107. 処理ステーションが、欠陥検出のため遮断性被覆材を検査するよう設定される、請求項77〜106のいずれかの発明。       107. The invention of any of claims 77-106, wherein the processing station is configured to inspect the barrier coating for defect detection.

108. 処理ステーションが、容器壁を通しての大気圧損失を測定するよう設定される、請求項77〜107のいずれかの発明。       108. The invention of any of claims 77-107, wherein the processing station is configured to measure atmospheric pressure loss through the vessel wall.

109. 処理ステーションが、当該容器ホルダーを所定の位置で支持し当該処理ステーションにおいて当該装填済み容器内面を処理する支持面からなる、請求項77〜108のいずれかの発明。       109. The invention of any one of claims 77-108, wherein the processing station comprises a support surface for supporting the container holder in place and processing the inner surface of the loaded container at the processing station.

110. 当該容器開口部の容器ポート上への装填後に、当該容器ホルダーを搬送して当該支持面と係合させる、請求項109の発明。       110. The invention of claim 109, wherein the container holder is transported and engaged with the support surface after the container opening is loaded onto the container port.

111. 別の処理ステーションが、当該容器ホルダーを所定の位置で支持し別の処理ステーションにおいて当該装填済み容器内面を処理する第2支持面からなる、請求項77〜110のいずれかの発明。       111. The invention of any one of claims 77-110, wherein another processing station comprises a second support surface for supporting the container holder in place and processing the inner surface of the loaded container at another processing station.

112. 当該容器開口部の容器ポート上への装填後に、当該容器ホルダーを搬送して第2支持面と係合させる、請求項110の発明。       112. The invention of claim 110, wherein after the container opening is loaded onto the container port, the container holder is transported and engaged with the second support surface.

113. 別の処理ステーションが、当該容器ホルダーを所定の位置で支持し別の処理ステーションにおいて容器ポート経由で当該装填済み容器内面を処理する第3支持面からなる、請求項77〜112のいずれかの発明。       113. Any of claims 77-112, wherein another processing station comprises a third support surface that supports the container holder in place and processes the inner surface of the loaded container via a container port at another processing station. Invention.

114. 当該容器開口部の容器ポート上への装填後に、当該容器ホルダーを搬送して第3支持面と係合させる、請求項113の発明。       114. The invention of claim 113, wherein after the container opening is loaded onto the container port, the container holder is transported and engaged with the third support surface.

115. さらに以下からなる、請求項77〜114のいずれかの発明:
当該第1および第2処理ステーションから離れて設置される容器処理のための第3処理ステーションの提供;
第2処理ステーションから第3処理ステーションへの当該容器ホルダーおよび装填済み容器の搬送;および
第3処理ステーションにおける容器ポート経由での当該装填済み容器内面の処理。
115. The invention of any one of claims 77-114, further comprising:
Providing a third processing station for processing containers disposed remotely from the first and second processing stations;
Transport of the container holder and loaded containers from the second processing station to the third processing station; and
Processing of the inner surface of the loaded container via the container port at the third processing station.

116. さらに、処理ステーションにおける当該容器開口部の当該容器ポート上への装填からなる、請求項77〜115のいずれかの発明:       116. The invention of any one of claims 77-115, further comprising loading the container opening onto the container port at a processing station:

117. さらに、処理ステーションにおける当該容器ポート経由での容器内面の被覆材の成形からなる、請求項77〜116のいずれかの発明。       117. The invention of any one of claims 77 to 116, further comprising forming a coating on the inner surface of the container via the container port at the processing station.

118. 処理ステーションにおける処理が、欠陥検出のため容器内面の検査からなる、請求項77〜117のいずれかの発明。       118. The invention of any one of claims 77 to 117, wherein the processing at the processing station comprises an inspection of the inner surface of the container for defect detection.

119. 検出プローブを当該容器ポート経由で当該容器へと挿入することにより、および当該プローブを使用して当該容器内面の状態を検出することにより、検査を実行する、請求項118の発明。       119. The invention of claim 118, wherein the inspection is performed by inserting a detection probe into the container via the container port and detecting the condition of the inner surface of the container using the probe.

120. さらに、当該容器壁および当該容器内面を通しての内側へのエネルギーの放射、および当該プローブによる当該エネルギーの検出からなる、請求項119の発明。       120. The invention of claim 119, further comprising radiation of energy inwardly through the container wall and the inner surface of the container, and detection of the energy by the probe.

121. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該容器内面の状態の検出からなる、請求項119または120の発明。       121. The invention of claim 119 or 120, further comprising detecting the condition of the inner surface of the container at a number of dense points on the inner surface of the container.

122. 放射線源を当該容器ポート経由で当該容器へと挿入することにより、および検出器を使用して放射線源から放射線を検出して当該容器内面の状態を検出することにより、検査を実行する、請求項118〜121のいずれかの発明。       122. Perform an inspection by inserting the radiation source into the container via the container port and detecting the radiation from the radiation source using a detector to detect the condition of the inner surface of the container; The invention according to any one of claims 118 to 121.

123. さらに、当該容器壁および当該容器内面を通しての外側へのエネルギーの放射、および当該容器外部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項118〜122のいずれかの発明。       123. The invention according to any one of claims 118 to 122, further comprising radiation of energy to the outside through the container wall and the container inner surface, and detection of the energy by a detector located outside the container.

124. さらに、当該容器内面からの当該放射線の反射、および当該容器内部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項120〜123のいずれかの発明。       124. The invention of any one of claims 120 to 123, further comprising reflection of the radiation from the inner surface of the container and detection of the energy by a detector located inside the container.

125. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該容器内面の状態の検出からなる、請求項118〜124のいずれかの発明。       125. The invention of any one of claims 118 to 124, further comprising detecting the state of the inner surface of the container at a number of dense points on the inner surface of the container.

126. 処理ステーションにおける処理が、容器内面への被覆材の塗布からなる、請求項77〜125のいずれかの発明。       126. The invention of any one of claims 77-125, wherein the treatment at the treatment station comprises applying a coating to the inner surface of the container.

127. 処理ステーションにおける処理が、容器内面への遮断性被覆材の塗布からなる、請求項77〜126のいずれかの発明。       127. The invention of any one of claims 77 to 126, wherein the treatment at the treatment station comprises applying a barrier coating to the inner surface of the container.

128. 処理ステーションにおける処理が、容器内面への流体遮断性被覆材の塗布からなる、請求項77〜127のいずれかの発明。       128. The invention of any one of claims 77-127, wherein the treatment at the treatment station comprises applying a fluid barrier coating to the inner surface of the container.

129. 処理ステーションにおける処理が、容器内面上の被覆材の欠陥検出検査からなる、請求項77〜128のいずれかの発明。       129. The invention of any one of claims 77 to 128, wherein the processing at the processing station comprises a defect detection inspection of the coating material on the inner surface of the container.

130. 処理ステーションにおける処理が、容器内面上の遮断性被覆材の欠陥検出検査からなる、請求項77〜129のいずれかの発明。       130. The invention of any one of claims 77-129, wherein the processing at the processing station comprises a defect detection inspection of the barrier coating on the inner surface of the container.

131. 処理ステーションにおける処理が、容器内面上に流体として塗布された被覆材の欠陥検出検査からなる、請求項77〜130のいずれかの発明。       131. The invention according to any one of claims 77 to 130, wherein the processing at the processing station comprises defect detection inspection of a coating material applied as a fluid on the inner surface of the container.

132. 当該容器ポート経由での当該容器への検出プローブの挿入、および当該プローブを使用しの当該被覆材の状態の検出からなる、請求項126〜131のいずれかの発明。       132. The invention of any one of claims 126 to 131, comprising insertion of a detection probe into the container via the container port, and detection of the state of the covering material using the probe.

133. さらに、当該容器壁を通しての内側へのエネルギーの放射、および当該プローブによる当該エネルギーの検出からなる、請求項127〜132のいずれかの発明。       133. The invention of any one of claims 127 to 132, further comprising radiation of energy inward through the vessel wall and detection of the energy by the probe.

134. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該被覆材の状態の検出からなる、請求項127〜133のいずれかの発明。       134. The invention according to any one of claims 127 to 133, further comprising detecting the state of the covering material at a number of dense points on the inner surface of the container.

135. 当該被覆材が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が保存可能期間1年間の間に環境大気圧の20%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検査手順の実行からなる、請求項129〜134のいずれかの発明。       135. If the dressing is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the container will increase by more than 20% of ambient atmospheric pressure during the shelf life of one year. 135. The invention of any of claims 129 to 134, comprising performing an inspection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent.

136. 当該検査手順を容器あたり30秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       136. The invention of any of claims 129-135, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 30 seconds or less per container.

137. 当該検査手順を容器あたり25秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       137. The invention of any of claims 129-135, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 25 seconds or less per container.

138. 当該検査手順を容器あたり20秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       138. The invention of any one of claims 129-135, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 20 seconds or less per container.

139. 当該検査手順を容器あたり15秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       139. The invention of any of claims 129-135, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 15 seconds or less per container.

140. 当該検査手順を容器あたり10秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       140. The invention of any of claims 129-135, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 10 seconds or less per container.

141. 当該被覆および検査手順を容器あたり5秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       141. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 5 seconds or less per container.

142. 当該被覆および検査手順を容器あたり3秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       142. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 3 seconds or less per container.

143. 当該被覆および検査手順を容器あたり2秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       143. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 2 seconds or less per container.

144. 当該被覆および検査手順を容器あたり1秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       144. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 1 second or less per container.

145. 当該被覆および検査手順を容器あたり30秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       145. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 30 seconds or less per container.

146. 当該被覆および検査手順を容器あたり25秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       146. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 25 seconds or less per container.

147. 当該被覆および検査手順を容器あたり20秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       147. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 20 seconds or less per container.

148. 当該被覆および検査手順を容器あたり15秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       148. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 15 seconds or less per container.

149. 当該被覆および検査手順を容器あたり10秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       149. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 10 seconds or less per container.

150. 当該被覆および検査手順を容器あたり8秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       150. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 8 seconds or less per container.

151. 当該被覆および検査手順を容器あたり7秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       151. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 7 seconds or less per container.

152. 当該被覆および検査手順を容器あたり6秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       152. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 6 seconds or less per container.

153. 当該被覆および検査手順を容器あたり5秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       153. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 5 seconds or less per container.

154. 当該被覆および検査手順を容器あたり4秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       154. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 4 seconds or less per container.

155. 当該被覆および検査手順を容器あたり3秒以下の経過時間内で実施する、請求項129〜135のいずれかの発明。       155. The invention of any of claims 129-135, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 3 seconds or less per container.

156. 当該容器が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が少なくとも18カ月の保存可能期間の間に環境大気圧の20%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項129〜135のいずれかの発明。       156. When the container is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the container increases by more than 20% of ambient atmospheric pressure during a shelf life of at least 18 months. 135. The invention of any one of claims 129 to 135, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent the occurrence.

157. 当該容器が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が少なくとも2年間の保存可能期間の間に環境大気圧の20%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項129〜135のいずれかの発明。       157. When the container is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the container increases by more than 20% of ambient atmospheric pressure during a shelf life of at least 2 years. 135. The invention of any one of claims 129 to 135, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent the occurrence.

158. 当該容器が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が1年間の保存可能期間の間に環境大気圧の15%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項129〜135のいずれかの発明。       158. If the vessel is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the vessel will increase by more than 15% of ambient atmospheric pressure during the 1-year shelf life. 135. The invention of any of claims 129-135, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent.

159. 当該容器が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が1年間の保存可能期間の間に環境大気圧の10%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項129〜135のいずれかの発明。       159. If the vessel is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the vessel will increase by more than 10% of ambient atmospheric pressure during the 1-year shelf life. 135. The invention of any of claims 129-135, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent.

160. 放射線源を当該容器ポート経由で当該容器へと挿入することにより、および検出器を使用して放射線源から放射線を検出して当該被覆材の状態を検出することにより、検査を実行する、請求項129〜159のいずれかの発明。       160. Perform an inspection by inserting the radiation source into the container via the container port, and detecting the radiation from the radiation source using a detector to detect the condition of the dressing; The invention according to any one of claims 129 to 159.

161. さらに、当該被覆材および容器壁を通しての外側へのエネルギーの放射、および当該容器外部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項129〜160のいずれかの発明。       161. The invention of any one of claims 129-160, further comprising the outward emission of energy through the covering and the container wall and the detection of the energy by a detector located outside the container.

162. さらに、当該被覆材および容器壁からの当該放射線の反射、および当該容器内部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項129〜161のいずれかの発明。       162. The invention of any one of claims 129 to 161, further comprising reflection of the radiation from the covering and the container wall and detection of the energy by a detector located inside the container.

163. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該被覆材の状態の検出からなる、請求項129〜162のいずれかの発明。       163. The invention according to any one of claims 129 to 162, further comprising detecting the state of the covering material at a number of dense points on the inner surface of the container.

164. 当該容器内面上の被覆材の欠陥検出検査が、当該遮断膜被覆容器壁の気圧遮断性有効性の測定により実施される、請求項129〜163のいずれかの発明。       164. The invention according to any one of claims 129 to 163, wherein the defect detection inspection of the covering material on the inner surface of the container is performed by measuring the air pressure blocking effectiveness of the barrier film-coated container wall.

165. さらに、当該容器内面を通る大気中ガスの当該容器への透過が当該被覆材より低減される、請求項117〜164のいずれかの発明。       165. Further, the invention according to any one of claims 117 to 164, wherein permeation of atmospheric gas through the inner surface of the container into the container is reduced compared to the coating material.

166. さらに、当該容器の内容物の当該内面への接触が当該被覆材より低減される、請求項117〜165のいずれかの発明。       166. The invention of any one of claims 117 to 165, further wherein contact of the contents of the container with the inner surface is reduced from the dressing.

167. 当該被覆材が、SiOx(本公式のxは約1.5〜約1.5、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)、元素状炭素、またはこれらの複合体からなる、請求項117〜166のいずれかの発明。       167. The coating of claims 117-166, wherein the dressing comprises SiOx (x in the formula is about 1.5 to about 1.5, alternatively about 1.5 to about 2.6, alternatively about 2), elemental carbon, or a composite thereof. Any invention.

168. さらに、第2処理ステーションでの装填済み容器内面処理後の当該容器ホルダーからの当該容器の除去からなる、請求項77〜167のいずれかの発明。       168. The invention of any one of claims 77-167, further comprising removal of the container from the container holder after treatment of the inner surface of the loaded container at the second processing station.

169. さらに以下からなる、請求項168の発明:       169. The invention of claim 168, further comprising:

除去手順後の、開口部および内面を定義する壁を有する第2容器の提供;
当該第2容器開口部の容器ポート上への装填。
Providing a second container having a wall defining an opening and an inner surface after the removal procedure;
Loading the second container opening onto the container port.

170. さらに、第1処理ステーションにおける容器ポート経由での当該装填済み第2容器内面の処理からなる、請求項168〜169のいずれかの発明。       170. The invention of any one of claims 168-169, further comprising processing the inner surface of the loaded second container via the container port at the first processing station.

171. さらに、第1処理ステーションから第2処理ステーションへの当該容器ホルダーおよび装填済み第2容器の搬送からなる、請求項168〜170のいずれかの発明。       171. The invention of any one of claims 168-170, further comprising transporting the container holder and the loaded second container from the first processing station to the second processing station.

172. さらに、第2処理ステーションにおける容器ポート経由での当該装填済み第2容器の処理からなる、請求項168〜171のいずれかの発明。       172. The invention of any of claims 168-171, further comprising processing of the loaded second container via a container port at the second processing station.

173. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後60秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜172のいずれかの発明。       173. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 60 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 77-172.

174. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後30秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜173のいずれかの発明。       174. Further comprising forming the container in a mold, removing the container from the mold, and loading the container opening into the container port within 30 seconds after removal of the container from the mold, The invention of any one of claims 77-173.

175. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後25秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜174のいずれかの発明。       175. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 25 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 77-174.

176. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後20秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜175のいずれかの発明。       176. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 20 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 77-175.

177. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後15秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜176のいずれかの発明。       177. Further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 15 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 77-176.

178. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後10秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜177のいずれかの発明。       178. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 10 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 77-177.

179. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後5秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜178のいずれかの発明。       179. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 5 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 77-178.

180. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後3秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜179のいずれかの発明。       180. Further comprising: molding the container in the mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 3 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 77-179.

181. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後1秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項77〜180のいずれかの発明。       181. further comprising forming the container in a mold, removing the container from the mold, and loading the container opening into the container port within 1 second after removal of the container from the mold, The invention of any one of claims 77-180.

III.B. 容器ホルダーへの処理機器の搬送またはその逆。
182. 容器を処理する方法であり、当該方法は以下からなる:
容器処理のための第1処理機器の提供;
容器処理のための第2処理機器の提供;
開口部および内面を定義する壁を有する容器の提供;
容器ポートからなる容器ホルダーの提供;
当該容器開口部の容器ポート上への装填;
容器ホルダーと動作可能に係合させるための当該第1処理機器の移動、またはその逆;
第1処理機器を使用する容器ポート経由での当該装填済み容器の内面の処理;
容器ホルダーと動作可能に係合させるための当該第2処理機器の移動、またはその逆;
第2処理機器を使用する容器ポート経由での当該装填済み容器の内面の処理;
III.B. Transport of processing equipment to the container holder or vice versa.
182. A method of treating a container, the method comprising:
Providing first processing equipment for container processing;
Providing second processing equipment for container processing;
Providing a container having a wall defining an opening and an inner surface;
Providing a container holder comprising a container port;
Loading the container opening onto the container port;
Movement of the first processing device for operative engagement with the container holder, or vice versa;
Treatment of the inner surface of the loaded container via the container port using the first processing equipment;
Movement of the second processing device for operative engagement with the container holder, or vice versa;
Treatment of the inner surface of the loaded container via the container port using the second processing equipment;

183. さらに以下からなる、請求項182の発明:
容器処理のための第3処理機器の提供;
容器ホルダーと動作可能に係合させるための当該第3処理機器の移動、またはその逆;
第3処理機器を使用する容器ポート経由での当該装填済み容器の内面の処理;
183. The invention of claim 182, further comprising:
Provision of third processing equipment for container processing;
Movement of the third processing device for operative engagement with the container holder, or vice versa;
Treatment of the inner surface of the loaded container via the container port using the third processing equipment;

184. 当該容器が通常管状である、請求項182または183の発明。       184. The invention of claim 182 or 183, wherein the container is generally tubular.

185. 当該開口部が当該容器の端部の1つに位置する、請求項182〜184のいずれかの発明。       185. The invention of any one of claims 182-184, wherein the opening is located at one of the ends of the container.

186. 当該容器の原料が熱可塑性素材である、請求項182〜185のいずれかの発明。       186. The invention of any one of claims 182-185, wherein the material of the container is a thermoplastic material.

187. 当該容器の原料がテレフタル酸ポリエチレンである、請求項182〜186のいずれかの発明。       187. The invention of any one of claims 182-186, wherein the material of the container is polyethylene terephthalate.

188. 当該容器の原料がポリオレフィンである、請求項182〜187のいずれかの発明。       188. The invention of any one of claims 182-187, wherein the material of the container is a polyolefin.

189. 当該容器の原料がポリプロピレンである、請求項182〜186のいずれかの発明。       189. The invention of any one of claims 182-186, wherein the material of the container is polypropylene.

190. 当該容器は、760トールの外圧に曝露しても実質上変形しない実質的全内部新真空に耐える強度を有する、請求項182〜189のいずれかの発明。       190. The invention of any of claims 182-189, wherein the container is strong enough to withstand substantially all internal new vacuum that does not substantially deform upon exposure to an external pressure of 760 Torr.

191. 当該容器が射出成形により作成される、請求項182〜190のいずれかの発明。       191. The invention of any one of claims 182-190, wherein the container is made by injection molding.

192. 当該容器がブロー成形により作成される、請求項182〜191のいずれかの発明。       192. The invention of any one of claims 182-191, wherein the container is made by blow molding.

193. 当該容器ホルダーがさらに、当該容器ポート上に装填済みの容器からガスを吸引するための真空ダクトからなる、請求項182〜192のいずれかの発明。       193. The invention of any one of claims 182 to 192, wherein the container holder further comprises a vacuum duct for aspirating gas from a container preloaded on the container port.

194. 当該容器ホルダーがさらに、当該真空ダクトと外部真空源との間を通過する真空ポートからなる、請求項193の発明。       194. The invention of claim 193, wherein the vessel holder further comprises a vacuum port passing between the vacuum duct and an external vacuum source.

195. 当該真空ポートが、外部真空源に対する密閉部を収受し成形するためのオーリングを有する、請求項194の発明。       195. The invention of claim 194, wherein said vacuum port has an O-ring for receiving and molding a seal against an external vacuum source.

196. 当該容器ホルダーがさらに、当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送するためのガス吸入ポートからなる、請求項182〜195のいずれかの発明。       196. The invention of any one of claims 182-195, wherein the container holder further comprises a gas inlet port for transporting gas to a container preloaded on the container port.

197. 当該容器ホルダーが、当該容器ポートと通じ、それぞれ当該容器ポート上に装填済みの容器へとガスを搬送する/からガスを吸引するための、合成ガス吸入ポートおよび真空ポートからなる、請求項182〜196のいずれかの発明。       197. The container holder comprises a synthetic gas inlet port and a vacuum port for communicating with and / or sucking gas into and out of the container loaded on the container port, respectively. The invention of any one of 182 to 196.

198. 当該容器ホルダーの原料が熱可塑性素材である、請求項182〜197のいずれかの発明。       198. The invention of any one of claims 182-197, wherein the container holder material is a thermoplastic material.

199. 当該容器ポートが、容器開口部に対する密閉部を収受し成形するためのオーリングを有する、請求項182〜198のいずれかの発明。       199. The invention of any one of claims 182 to 198, wherein the container port has an O-ring for receiving and molding a seal against the container opening.

200. 処理機器が、欠陥検出のため容器内面を検査するよう設定される、請求項182〜199のいずれかの発明。       200. The invention of any one of claims 182-199, wherein the processing equipment is configured to inspect the inner surface of the container for defect detection.

201. 処理機器が、容器内面に被覆材を塗布するよう設定される、請求項182〜200のいずれかの発明。       201. The invention of any one of claims 182 to 200, wherein the processing equipment is configured to apply a coating to the inner surface of the container.

202. 処理機器が、欠陥検出のため被覆材を検査するよう設定される、請求項182〜201のいずれかの発明。       202. The invention of any of claims 181-201, wherein the processing equipment is configured to inspect the dressing for defect detection.

203. 処理機器が、容器壁を通しての大気圧損失を測定するよう設定される、請求項182〜202のいずれかの発明。       203. The invention of any one of claims 182-202, wherein the processing equipment is configured to measure atmospheric pressure loss through the vessel wall.

204. 処理機器が、当該容器ホルダーを所定の位置で支持し当該処理機器により当該装填済み容器内面を処理する支持面からなる、請求項182〜203のいずれかの発明。       204. The invention according to any one of claims 182 to 203, wherein the processing device comprises a support surface for supporting the container holder in a predetermined position and processing the inner surface of the loaded container by the processing device.

205. 当該容器開口部の容器ポート上への装填後に、当該容器ホルダーを搬送して当該支持面と係合させる、請求項204の発明。       205. The invention of claim 204, wherein after the container opening is loaded onto the container port, the container holder is transported and engaged with the support surface.

206. 別の処理機器が、当該容器ホルダーを所定の位置で支持し当該別の処理機器により当該装填済み容器内面を処理する第2支持面からなる、請求項182〜205のいずれかの発明。       206. The invention of any one of claims 182 to 205, wherein another processing device comprises a second support surface that supports the container holder in place and processes the inner surface of the loaded container with the other processing device.

207. 当該容器開口部の容器ポート上への装填後に、当該容器ホルダーを搬送して第2支持面と係合させる、請求項206の発明。       207. The invention of claim 206, wherein after loading the container opening onto the container port, the container holder is transported and engaged with the second support surface.

208. 別の処理機器が、当該容器ホルダーを所定の位置で支持し別の処理機器により容器ポート経由で当該装填済み容器内面を処理する第3支持面からなる、請求項182〜207のいずれかの発明。       208. Any one of claims 182 to 207, wherein another processing device comprises a third support surface that supports the container holder in place and processes the inner surface of the loaded container via the container port by another processing device. Invention.

209. 当該容器開口部の容器ポート上への装填後に、当該容器ホルダーを搬送して第3支持面と係合させる、請求項208の発明。       209. The invention of claim 208, wherein after loading the container opening onto the container port, the container holder is transported and engaged with a third support surface.

210. さらに以下からなる、請求項182〜209のいずれかの発明:
当該第1および第2処理機器から離れて設置される容器処理のための第3処理機器の提供;
第2処理機器から第3処理機器への当該容器ホルダーおよび装填済み容器の搬送;および
第3処理機器による容器ポート経由での当該装填済み容器の内面の処理;
210. The invention of any one of claims 182-109, further comprising:
Providing a third processing device for processing a container installed away from the first and second processing devices;
Transport of the container holder and loaded container from the second processing device to the third processing device; and
Treatment of the inner surface of the loaded container via the container port by a third processing device;

211. さらに、処理機器における当該容器開口部の当該容器ポート上への装填からなる、請求項182〜210のいずれかの発明:       211. The invention of any one of claims 182 to 210, further comprising loading the container opening on the container port in a processing device:

212. さらに、処理機器における当該容器ポート経由での容器内面の被覆材の成形からなる、請求項182〜211のいずれかの発明。       212. The invention of any one of claims 181-211, further comprising molding of a coating material on the inner surface of the container via the container port of the processing equipment.

213. 処理機器における処理が、欠陥検出のための容器内面の検査からなる、請求項182〜212のいずれかの発明。       213. The invention of any one of claims 182 to 212, wherein the processing in the processing equipment comprises inspection of the inner surface of the container for defect detection.

214. 検出プローブを当該容器ポート経由で当該容器へと挿入することにより、および当該プローブを使用して当該容器内面の状態を検出することにより、検査を実行する、請求項213の発明。       214. The invention of claim 213, wherein the inspection is performed by inserting a detection probe into the container via the container port and detecting the condition of the inner surface of the container using the probe.

215. さらに、当該容器壁および当該容器内面を通しての内側へのエネルギーの放射、および当該プローブによる当該エネルギーの検出からなる、請求項214の発明。       215. The invention of claim 214, further comprising radiation of energy inward through the container wall and the inner surface of the container, and detection of the energy by the probe.

216. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該容器内面の状態の検出からなる、請求項214または215の発明。       216. The invention of claim 214 or 215, further comprising detecting the condition of the container inner surface at a number of dense points on the container inner surface.

217. 放射線源を当該容器ポート経由で当該容器へと挿入することにより、および検出器を使用して放射線源から放射線を検出して当該容器内面の状態を検出することにより、検査を実行する、請求項213〜216のいずれかの発明。       217. Perform inspection by inserting the radiation source into the container via the container port and detecting the radiation from the radiation source using a detector to detect the condition of the inner surface of the container; The invention according to any one of claims 213 to 216.

218. さらに、当該容器壁および当該容器内面を通しての外側へのエネルギーの放射、および当該容器外部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項213〜217のいずれかの発明。       218. The invention of any one of claims 213 to 217, further comprising radiation of energy outward through the container wall and the container inner surface and detection of the energy by a detector located outside the container.

219. さらに、当該容器内面からの当該放射線の反射、および当該容器内部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項215〜216のいずれかの発明。       219. The invention of any one of claims 215 to 216, further comprising reflection of the radiation from the inner surface of the container and detection of the energy by a detector located within the container.

220. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該容器内面の状態の検出からなる、請求項213〜219のいずれかの発明。       220. The invention of any one of claims 213 to 219, further comprising detecting the state of the inner surface of the container at a number of dense points on the inner surface of the container.

221. 処理機器における処理が、容器内面への被覆材の塗布からなる、請求項182〜220のいずれかの発明。       221. The invention according to any one of claims 182-120, wherein the treatment in the treatment equipment comprises applying a coating material to the inner surface of the container.

222. 処理機器における処理が、容器内面への流体として塗布される被覆材の塗布からなる、請求項182〜221のいずれかの発明。       222. The invention according to any one of claims 182 to 221, wherein the treatment in the treatment equipment comprises application of a coating material applied as a fluid to the inner surface of the container.

223. 処理機器における処理が、容器内面上の被覆材の欠陥検出検査からなる、請求項182〜222のいずれかの発明。       223. The invention according to any one of claims 182 to 222, wherein the processing in the processing equipment comprises a defect detection inspection of the coating material on the inner surface of the container.

224. 当該容器ポート経由での当該容器への検出プローブの挿入、および当該プローブを使用しの当該被覆材の状態の検出からなる、請求項221〜223のいずれかの発明。       224. The invention of any one of claims 221 to 223, comprising insertion of a detection probe into the container via the container port, and detection of the state of the covering material using the probe.

225. さらに、当該容器壁を通しての内側へのエネルギーの放射、および当該プローブによる当該エネルギーの検出からなる、請求項221〜224のいずれかの発明。       225. The invention of any one of claims 221-224, further comprising radiation of energy inward through the vessel wall and detection of the energy by the probe.

226. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該被覆材の状態の検出からなる、請求項221〜225のいずれかの発明。       226. The invention of any one of claims 221 to 225, further comprising detecting the state of the covering material at a number of dense points on the inner surface of the container.

227. 当該容器が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が1年間の保存可能期間の間に環境大気圧の20%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検査手順の実行からなる、請求項223〜131のいずれかの発明。       227. If the vessel is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the vessel will increase by more than 20% of ambient atmospheric pressure during the 1-year shelf life. 132. The invention of any one of claims 223-131, comprising performing an inspection procedure at a sufficient point across the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent.

228. 当該検査手順を容器あたり30秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       228. The invention of any one of claims 223-227, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 30 seconds or less per container.

229. 当該検査手順を容器あたり25秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       229. The invention of any one of claims 223-227, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 25 seconds or less per container.

230. 当該検査手順を容器あたり20秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       230. The invention of any one of claims 223-227, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 20 seconds or less per container.

231. 当該検査手順を容器あたり15秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       231. The invention of any one of claims 223-227, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 15 seconds or less per container.

232. 当該検査手順を容器あたり10秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       232. The invention of any one of claims 223-227, wherein the inspection procedure is performed within an elapsed time of 10 seconds or less per container.

233. 当該被覆および検査手順を容器あたり30秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       233. The invention of any one of claims 223-227, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 30 seconds or less per container.

234. 当該被覆および検査手順を容器あたり25秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       234. The invention of any of claims 223-227, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 25 seconds or less per container.

235. 当該被覆および検査手順を容器あたり20秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       235. The invention of any of claims 223-227, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 20 seconds or less per container.

236. 当該被覆および検査手順を容器あたり15秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       236. The invention of any one of claims 223-227, wherein the coating and inspection procedure is performed within an elapsed time of 15 seconds or less per container.

237. 当該被覆および検査手順を容器あたり10秒以下の経過時間内で実施する、請求項223〜227のいずれかの発明。       237. The invention of any one of claims 223-227, wherein the coating and inspection procedures are performed within an elapsed time of 10 seconds or less per container.

238. 当該容器が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が少なくとも18カ月の保存可能期間の間に環境大気圧の20%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項223〜227のいずれかの発明。       238. When the container is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the container increases by more than 20% of ambient atmospheric pressure during a shelf life of at least 18 months. 227. The invention of any one of claims 223 to 227, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent the occurrence of the problem.

239. 当該遮断性被覆材が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が少なくとも2年間の保存可能期間の間に環境大気圧の20%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項223〜227のいずれかの発明。       239. If the barrier coating is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the container will exceed 20% of ambient atmospheric pressure for a shelf life of at least 2 years. 224. The invention of any one of claims 223-227, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent an increase.

240. 当該遮断性被覆材が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が1年間の保存可能期間の間に環境大気圧の15%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項223〜227のいずれかの発明。       240. When the barrier coating is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the container increases by more than 15% of ambient atmospheric pressure during the 1-year shelf life 227. The invention of any one of claims 223-227, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent it from occurring.

241. 当該遮断性被覆材が初期真空化されその壁が環境大気に曝露している場合に、当該容器内の圧力が1年間の保存可能期間の間に環境大気圧の10%を超えて増加することを防止するのに有効であることを判定するための、当該容器内面全域の十分な地点における検出手順の実行からなる、請求項223〜227のいずれかの発明。       241. When the barrier coating is initially evacuated and its walls are exposed to ambient air, the pressure in the container increases by more than 10% of ambient atmospheric pressure during the 1-year shelf life 227. The invention of any one of claims 223-227, comprising performing a detection procedure at a sufficient point throughout the inner surface of the container to determine that it is effective to prevent it from occurring.

242. 放射線源を当該容器ポート経由で当該容器へと挿入することにより、および検出器を使用して放射線源から放射線を検出して当該被覆材の状態を検出することにより、検査を実行する、請求項223〜241のいずれかの発明。       242. Perform an inspection by inserting the radiation source into the container via the container port, and detecting the radiation from the radiation source using a detector to detect the condition of the dressing; The invention of any one of claims 223-241.

243. さらに、当該被覆材および容器壁を通しての外側へのエネルギーの放射、および当該容器外部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項223〜242のいずれかの発明。       243. The invention of any one of claims 223 to 242, further comprising radiating energy outward through the dressing and the container wall and detecting the energy by a detector located outside the container.

244. さらに、当該被覆材および容器壁からの当該放射線の反射、および当該容器内部に位置する検出器による当該エネルギーの検出からなる、請求項223〜243のいずれかの発明。       244. The invention according to any one of claims 223 to 243, further comprising reflection of the radiation from the covering and the container wall, and detection of the energy by a detector located inside the container.

245. さらに、当該容器内面上の多数の密集点における当該被覆材の状態の検出からなる、請求項223〜244のいずれかの発明。       245. The invention of any one of claims 223 to 244, further comprising detecting the state of the covering material at a number of dense points on the inner surface of the container.

246. 当該容器内面上の被覆材の欠陥検出検査が、当該被覆容器壁の気圧遮断性有効性の測定により実施される、請求項223〜245のいずれかの発明。       246. The invention according to any one of claims 223 to 245, wherein the defect detection inspection of the covering material on the inner surface of the container is performed by measuring the effectiveness of blocking air pressure of the wall of the covering container.

247. さらに、当該容器内面を通る大気中ガスの当該容器への透過が当該被覆材より低減される、請求項212〜246のいずれかの発明。       247. The invention according to any one of claims 212 to 246, wherein permeation of atmospheric gas through the inner surface of the container into the container is reduced as compared with the coating material.

248. さらに、当該容器の内容物の当該内面への接触が当該被覆材より低減される、請求項212〜247のいずれかの発明。       248. The invention of any one of claims 212 to 247, further wherein contact of the contents of the container with the inner surface is reduced over the dressing.

249. 当該被覆材が、SiOx(本公式のxは約1.5〜約2.9、あるいは約1.5〜約2.6、あるいは約2)、元素状炭素、 フッ素系物質、SiwOxCyHz(wは1、x約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9)、またはこれらの複合体からなる、請求項212〜248のいずれかの発明。       249. The coating material is SiOx (x in this formula is about 1.5 to about 2.9, or about 1.5 to about 2.6, or about 2), elemental carbon, fluorine-based material, SiwOxCyHz (w is 1, x about 0.5 to about 249. The invention of any of claims 212-248, comprising 2.4, y from about 0.6 to about 3, z from 2 to about 9), or a complex thereof.

250. さらに、第2処理機器による装填済み容器内面処理後の当該容器ホルダーからの当該容器の除去からなる、請求項182〜249のいずれかの発明。       250. The invention of any one of claims 182-149, further comprising removal of the container from the container holder after the inner surface treatment of the loaded container by the second processing equipment.

251. さらに以下からなる、請求項250の発明:
除去手順後の、開口部および内面を定義する壁を有する第2容器の提供;
当該第2容器開口部の容器ポート上への装填。
251. The invention of claim 250, further comprising:
Providing a second container having a wall defining an opening and an inner surface after the removal procedure;
Loading the second container opening onto the container port.

252. さらに、第1処理機器による容器ポート経由での当該装填済み第2容器内面の処理からなる、請求項250〜251のいずれかの発明。       252. The invention of any one of claims 250-251, further comprising processing the inner surface of the loaded second container via the container port by the first processing device.

253. さらに、第1処理機器から第2処理機器への当該容器ホルダーおよび装填済み第2容器の搬送からなる、請求項250〜252のいずれかの発明。       253. The invention of any one of claims 250 to 252, further comprising transporting the container holder and the loaded second container from the first processing device to the second processing device.

254. さらに、第2処理機器による容器ポート経由での当該装填済み第2容器の処理からなる、請求項250〜253のいずれかの発明。       254. The invention of any one of claims 250 to 253, further comprising processing of the loaded second container via a container port by a second processing device.

255. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後60秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜254のいずれかの発明。       255. Further comprising: molding the container in the mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 60 seconds after removal of the container from the mold. The invention according to any one of claims 182 to 254.

256. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後30秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜255のいずれかの発明。       256. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 30 seconds after removal of the container from the mold. The invention according to any one of claims 182 to 255.

257. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後25秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜256のいずれかの発明。       257. Further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 25 seconds after removal of the container from the mold. The invention according to any one of claims 182 to 256.

258. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後20秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜257のいずれかの発明。       258. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 20 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 182-157.

259. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後15秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜258のいずれかの発明。       259. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 15 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 182-158.

260. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後10秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜259のいずれかの発明。       260. Further comprising: molding the container in the mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 10 seconds after removal of the container from the mold. The invention of any one of claims 182-159.

261. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後5秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜260のいずれかの発明。       261. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 5 seconds after removal of the container from the mold. The invention according to any one of claims 182 to 260.

262. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後3秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜261のいずれかの発明。       262. Further comprising molding the container in the mold, removing the container from the mold, and loading the container opening into the container port within 3 seconds after removal of the container from the mold, The invention according to any one of claims 182 to 261.

263. さらに、当該容器のモールド内での成形、当該容器の当該モールドからの除去、および当該容器の当該モールドからの除去後1秒以内の当該容器開口部の当該容器ポートへの装填からなる、請求項182〜262のいずれかの発明。       263. further comprising: molding the container in a mold; removing the container from the mold; and loading the container opening into the container port within 1 second after removal of the container from the mold. The invention according to any one of claims 182 to 262.

III.C. 被覆ステーションへと/から管を搬送するための把持部の使用法
264. 第1容器のPECVD処理の方法であり、以下からなる:
開口端、閉口端、内面を有する第1容器の提供;
当該第1容器の閉口端を選択的に把持および解除するよう設定される、少なくとも1つの第1把持部;
当該第1把持部を有する当該第1容器の閉口端の把持;
第1把持部を利用しての、第1容器開口端を装填するよう設定される容器ホルダー付近への第1容器の搬送;
第1把持部を利用しての、第1容器を軸方向への前進、その開口端の容器ホルダー上への装填、当該容器ホルダーと当該第1容器内部の間の通過密閉の確立;
当該容器ホルダーを通しての少なくとも1種のガス状反応物質の当該第1容器への導入;
第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下での、プラズマの第1容器内での生成;
当該容器ホルダーからの第1容器の装填解除;および
第1把持部またはその他の把持部の使用しての、第1容器の当該容器ホルダーから軸方向に離しての搬送;および
当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させるのに使用した把持部からの第1容器の解除。
III.C. Use of grips to transport tubes to / from the coating station
264. Method of PECVD treatment of the first vessel, which consists of:
Providing a first container having an open end, a closed end, and an inner surface;
At least one first gripper configured to selectively grip and release the closed end of the first container;
Gripping the closed end of the first container having the first gripping portion;
Transport of the first container to the vicinity of the container holder set to load the first container opening end using the first gripping portion;
Advancement of the first container in the axial direction using the first gripping part, loading of the open end onto the container holder, establishment of a passing seal between the container holder and the interior of the first container;
Introduction of at least one gaseous reactant into the first container through the container holder;
Generation of plasma in the first container under conditions effective to shape a reaction product of the reactant on the inner surface of the first container;
Unloading the first container from the container holder; and
Transporting the first container axially away from the container holder using the first gripping part or other gripping part; and
Release of the first container from the grip used to move away from the container holder in the axial direction.

265. さらに以下からなる、請求項264の発明:
第1容器とは異なる反応容器、開口端および内腔を有する反応容器の提供;
当該反応容器の開口端の当該容器ホルダー上への装填、当該容器ホルダーと当該反応容器の内腔の間の通過密閉の確立;
PECVD反応物質導管の当該内腔内への提供;
PECVD反応生成物の堆積の少なくとも一部を当該反応物質導管から除去するのに効果的な条件下での、プラズマの当該反応容器内腔内での生成;
当該容器ホルダーからの反応容器の装填解除;および
当該容器ホルダーから離しての反応容器の搬送。
265. The invention of claim 264, further comprising:
Providing a reaction vessel having a different reaction vessel than the first vessel, an open end and a lumen;
Loading the open end of the reaction vessel onto the vessel holder, establishing a passage seal between the vessel holder and the lumen of the reaction vessel;
Providing a PECVD reactant conduit within the lumen;
Generation of plasma within the reaction vessel lumen under conditions effective to remove at least a portion of the deposition of the PECVD reaction product from the reactant conduit;
Unloading the reaction vessel from the vessel holder; and
Transport the reaction vessel away from the vessel holder.

266. さらに以下からなる、請求項264または265の発明:
少なくとも1つの第2把持部の提供;
少なくとも第1および第2把持部の一連のコンベヤーへの動作可能な接続;
開口端、閉口端、内面を有する第2容器の提供;
当該第2容器の閉口端を選択的に把持および解除するよう設定される把持部の提供;
当該把持部を有する当該第2容器の閉口端の把持;
当該把持部を利用しての、第2容器開口端を装填するよう設定される容器ホルダー付近への第2容器の搬送;
当該把持部を利用しての、第2容器を軸方向への前進、その開口端の容器ホルダー上への装填、当該容器ホルダーと当該第2容器内部の間の通過密閉の確立;
当該容器ホルダーを通しての少なくとも1種のガス状反応物質の当該第2容器への導入;
第2容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下での、第2容器内でのプラズマの生成;
当該容器ホルダーからの第2容器の装填解除;および
第2把持部またはその他の把持部の使用しての、第2容器の当該容器ホルダーから軸方向に離しての搬送;および
当該容器ホルダーから軸方向に離れるよう移動させるのに使用した把持部からの第2容器の解除。
266. The invention of claim 264 or 265, further comprising:
Providing at least one second grip;
An operable connection of at least a first and a second gripper to a series of conveyors;
Providing a second container having an open end, a closed end, and an inner surface;
Providing a gripper configured to selectively grip and release the closed end of the second container;
Gripping the closed end of the second container having the gripping portion;
Transporting the second container to the vicinity of the container holder set to load the second container opening end using the gripping part;
Advancing the second container in the axial direction using the gripping portion, loading the open end onto the container holder, establishing a passage seal between the container holder and the interior of the second container;
Introduction of at least one gaseous reactant into the second container through the container holder;
Generation of plasma in the second container under conditions effective to shape a reaction product of the reactant on the inner surface of the second container;
Unloading the second container from the container holder; and
Transport of the second container in the axial direction away from the container holder using the second gripping part or other gripping part; and
Release of the second container from the grip used to move it axially away from the container holder.

IV. 容器製造のためのPECVD装置
IV.A. 容器ホルダー、内部電極、反応チャンバとしての容器を含むPECVD装置
267. 以下からなるPECVD装置:
処理のために容器を装填位置に収受するためのポートを有する容器ホルダー;
容器ホルダー上に装填済みの容器内に収受されるよう位置付けられる内部電極;
容器ホルダー上に装填済みの容器を収受するよう位置付けられる内部部位を有する、外部電極;および
少なくとも1つの内部および外部電極へと電流を交流させ、プラズマ反応チャンバを定義する当該容器である、当該容器ホルダーに装填済みの容器内にプラズマを生成する、電力供給装置;
IV. PECVD equipment for container production
IV.A. PECVD equipment including vessel holder, internal electrode, and vessel as reaction chamber
267. PECVD equipment consisting of:
A container holder having a port for receiving the container in a loading position for processing;
An internal electrode positioned to be received in a container loaded on the container holder;
An external electrode having an internal portion positioned to receive the loaded container on the container holder; and
A power supply device for generating a plasma in a vessel preloaded in the vessel holder, which is the vessel defining the plasma reaction chamber, with alternating current to at least one internal and external electrode;

268. 当該内部電極が、当該容器ホルダーに装填済みの容器内へと通常同心円状に伸延するよう位置付けされる遠位部を有するプローブである、請求項267の発明。       268. The invention of claim 267, wherein the internal electrode is a probe having a distal portion positioned to extend normally concentrically into a container loaded in the container holder.

268a.さらに、反応性ガス源、および当該反応性ガス源から当該容器ホルダーに装填済みの容器へと反応性ガスを供給するガス供給装置からなる、請求項267または268の発明。       268a. The invention of claim 267 or 268, further comprising a reactive gas source and a gas supply device for supplying the reactive gas from the reactive gas source to a container loaded in the container holder.

269. 当該ガス供給装置が当該内部電極の遠位部に位置する、請求項268aの発明。       269. The invention of claim 268a, wherein the gas supply device is located distal to the internal electrode.

270. さらに、当該反応性ガスを反応性ガス源から当該内部電極の遠位部へと搬送するための、当該内部電極内の経路からなる、請求項268aまたは269の発明。       270. The invention of claim 268a or 269, further comprising a path in the internal electrode for conveying the reactive gas from a reactive gas source to a distal portion of the internal electrode.

271. さらに、搬送ガスを搬送ガス源から当該内部電極の遠位部へと搬送するための、当該内部電極内の搬送ガス源および経路からなる、請求項267〜270のいずれかの発明。       271. The invention of any one of claims 267 to 270, further comprising a carrier gas source and path within the internal electrode for delivering carrier gas from the carrier gas source to a distal portion of the internal electrode.

272. 当該外部電極が通常シリンダー状であり、当該容器ホルダーに装填済みの容器周辺に通常同心円状に伸延するよう位置付られる、請求項267〜271のいずれかの発明。       272. The invention of any one of claims 267 to 271 wherein the external electrode is generally cylindrical and is positioned to extend generally concentrically around a container already loaded in the container holder.

273. 当該外部電極が端部蓋からなる、請求項267〜272のいずれかの発明。       273. The invention of any one of claims 267 to 272, wherein the external electrode comprises an end lid.

274. 当該端部蓋と当該容器ホルダーに装填済みの容器の遠位端との間で定義されるギャップが、本質的に均一である、請求項273の発明。       274. The invention of claim 273, wherein the gap defined between the end cap and the distal end of the container loaded in the container holder is essentially uniform.

275. 当該外部電極と当該容器ホルダーに装填済みの容器との間で定義されるギャップが、本質的に均一である、請求項267〜274のいずれかの発明。       275. The invention of any of claims 267-274, wherein the gap defined between the external electrode and the container loaded in the container holder is essentially uniform.

276. 当該被覆材が、SiOx層およびSiwOxCyHz層(wは1、本公式のx約0.5〜約2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9)からなる、請求項117〜167または212〜168のいずれかの発明。       276. The coatings of claim 117-167, comprising a SiOx layer and a SiwOxCyHz layer (where w is 1, x is about 0.5 to about 2.4, y is about 0.6 to about 3, and z is about 2 to about 9). Or any invention of 212-168.

278. 当該SiwOxCyHz層が、当該容器内面上に堆積されるSiOx層の上に堆積される、請求項276または277の発明。       278. The invention of claim 276 or 277, wherein the SiwOxCyHz layer is deposited on a SiOx layer deposited on the inner surface of the vessel.

279. 当該SiOx層が、当該SiwOxCyHz層と当該容器内面との間に堆積される、請求項276または277の発明。       279. The invention of claim 276 or 277, wherein the SiOx layer is deposited between the SiwOxCyHz layer and the vessel inner surface.

280. 当該SiOx層が、当該SiwOxCyHz層に隣接して堆積される、請求項276〜279のいずれかの発明。       280. The invention of any of claims 276-279, wherein the SiOx layer is deposited adjacent to the SiwOxCyHz layer.

281. 当該SiOx層が、当該容器内面に隣接して堆積される、請求項276〜280のいずれかの発明。       281. The invention of any of claims 276-280, wherein the SiOx layer is deposited adjacent to the inner surface of the vessel.

282. 当該SiwOxCyHz層が、当該容器内面に隣接して堆積される、請求項276〜280のいずれかの発明。       282. The invention of any of claims 276-280, wherein the SiwOxCyHz layer is deposited adjacent to the inner surface of the vessel.

283. 当該SiOx層およびSiwOxCyHz層が、SiwOxCyHzのSiOxへの段階的合成物である、請求項280〜282のいずれかの発明。       283. The invention of any one of claims 280-282, wherein the SiOx layer and the SiwOxCyHz layer are stepwise composites of SiwOxCyHz to SiOx.

284. 当該容器がさらに閉包部からなる、請求項267〜283のいずれかの発明。       284. The invention of any one of claims 267 to 283, wherein the container further comprises a closure.

285. 当該閉包部が、当該容器内腔に曝露する内部対向表面からなる、請求項284の発明。       285. The invention of claim 284, wherein the closure comprises an interior facing surface exposed to the container lumen.

286. 当該閉包部が、当該容器壁内面に接触する壁接触表面からなる、請求項284または285の発明。       286. The invention of claim 284 or 285, wherein the closure comprises a wall contacting surface that contacts the inner surface of the container wall.

287. 当該閉包部が停止部材からなる、請求項284〜286のいずれかの発明。       287. The invention of any one of claims 284-286, wherein the closure portion comprises a stop member.

288. 当該閉包部が、停止部材を保持する遮蔽体からなる、請求項287の発明。       288. The invention of claim 287, wherein the closure is a shield that holds a stop member.

289. 当該停止部材が、当該容器壁内面に接触する壁接触表面からなる、請求項287または288の発明。       289. The invention of claim 287 or 288, wherein the stop member comprises a wall contacting surface that contacts the inner surface of the container wall.

290. 当該停止部材が、当該容器内腔に曝露する内部対向表面からなる、請求項284〜289のいずれかの発明。       290. The invention of any of claims 284-289, wherein the stop member comprises an internally facing surface that is exposed to the container lumen.

290a.さらに、真空チャンバを定義する装填済み容器である、当該容器ホルダー上の装填済み容器から、ガスを除去するための真空源からなる、請求項267〜290のいずれかの発明。       290a. The invention of any of claims 267-290, further comprising a vacuum source for removing gas from a loaded container on the container holder, which is a loaded container defining a vacuum chamber.

291. 当該閉包部の壁接触表面に接触する当該容器壁の一部が、SiwOxCyHz潤滑性被覆材で被覆されている、請求項284〜290aのいずれかの発明。       291. The invention of any one of claims 284-290a, wherein a portion of the container wall that contacts the wall contacting surface of the closure is coated with a SiwOxCyHz lubricious coating.

301. 当該SiwOxCyHz被覆材がPECVDにより塗布される、請求項284〜300のいずれかの発明。       301. The invention of any of claims 284-300, wherein the SiwOxCyHz coating is applied by PECVD.

302. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が0.5〜5000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       302. The invention of any one of claims 291 to 301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 0.5 to 5000 nm.

303. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が100〜5000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       303. The invention of any one of claims 291 to 301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 100 to 5000 nm.

304. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が200〜5000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       304. The invention of any one of claims 291 to 301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 200 to 5000 nm.

305. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が500〜5000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       305. The invention of any one of claims 291 to 301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 500 to 5000 nm.

306. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が1000〜5000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       306. The invention of any one of claims 291 to 301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 1000 to 5000 nm.

307. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が2000〜5000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       307. The invention of any one of claims 291 to 301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 2000 to 5000 nm.

308. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が3000〜5000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       308. The invention of any one of claims 291 to 301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 3000 to 5000 nm.

309. 当該SiwOxCyHz被覆材の層厚が4000〜10000nmである、請求項291〜301のいずれかの発明。       309. The invention of any one of claims 291-301, wherein the SiwOxCyHz coating material has a layer thickness of 4000-10000 nm.

310. 以下からなるPECVD装置:
処理のために容器を装填位置に収受するためのポートを有する容器ホルダー;
容器ホルダー上に装填済みの容器内に収受されるよう位置付けられる内部電極;
容器ホルダー上に装填済みの容器を収受するよう位置付けられる内部部位を有する、外部電極;
内部および外部電極へと電流を交流させ、当該容器ホルダーに装填済みの容器内にプラズマを生成する、電力供給装置;
当該ポートに装填済みの容器内部から/へとガスを移送して閉口チャンバを定義する、ガス排出管;
反応性ガス源;および
反応性ガス源から当該容器ホルダーに装填済みの容器へと反応性ガスを供給するガス供給装置。
310. PECVD equipment consisting of:
A container holder having a port for receiving the container in a loading position for processing;
An internal electrode positioned to be received in a container loaded on the container holder;
An external electrode having an internal portion positioned to receive a loaded container on a container holder;
A power supply device for generating a plasma in a container already loaded in the container holder by causing an electric current to be exchanged with the internal and external electrodes;
A gas exhaust line that defines a closed chamber by transferring gas into and out of the container already loaded into the port;
A reactive gas source; and
A gas supply device for supplying reactive gas from a reactive gas source to a container already loaded in the container holder.

IV.B. 被覆ステーションへと/から管を搬送するための把持部を使用するPECVD装置
311. 開口端、閉口端、内腔を有する第1容器のPECVD処理のための装置であり、以下からなる:
容器の開口端を装填するよう設定される、容器ホルダー;
当該容器の閉口端を選択的に把持および解除し、および当該容器の閉口端を把持しながら当該容器を当該容器ホルダー付近へと搬送するよう設定される、第1把持部;
当該容器ホルダー上の装填部、当該容器ホルダーと当該第1容器の内腔の間の通過密閉を確立するよう設定される当該装填部;
当該容器ホルダーを通して少なくとも1種のガス状反応物質を当該第1容器へと導入するよう、動作可能に接続される、反応物質供給装置;
第1容器の内面上に当該反応物質の反応生成物を成形するのに効果的な条件下で、第1容器内でプラズマを生成するよう設定された、プラズマ生成装置;
当該容器ホルダーから第1容器を装填解除するための容器解除機;および
第1容器を当該容器ホルダーから軸方向に離して搬送し、その後第1容器の装填を解除するよう設定される、第1把持部またはその他の把持部である把持部。
IV.B. PECVD equipment using grips to transport tubes to / from the coating station
311. An apparatus for PECVD processing of a first container having an open end, a closed end, and a lumen, comprising:
A container holder set to load the open end of the container;
A first gripper configured to selectively grip and release the closed end of the container and transport the container to the vicinity of the container holder while gripping the closed end of the container;
A loading section on the container holder, the loading section set to establish a passing seal between the container holder and the lumen of the first container;
A reactant supply device operably connected to introduce at least one gaseous reactant through the vessel holder into the first vessel;
A plasma generator configured to generate a plasma in the first container under conditions effective to form a reaction product of the reactant on the inner surface of the first container;
A container release machine for unloading the first container from the container holder; and
A gripping part, which is a first gripping part or other gripping part, configured to transport the first container away from the container holder in the axial direction and then release the loading of the first container.

312. さらに以下からなる、請求項311の発明:
当該第1容器とは異なる反応容器、開口端と内腔を有し容器ホルダー上に開口端を装填するよう設定される当該反応容器、および当該容器ホルダーと当該反応容器の内腔との間の通過密閉の確立;および
当該反応容器が当該容器ホルダー上に装填済みである場合に、当該反応容器の内腔内の場所へ位置付けられる、PECVD反応物質導管;
当該プラズマ生成装置は、PECVD反応生成物の堆積の少なくとも一部を当該反応物質導管から除去するのに効果的な条件下で、プラズマを当該反応容器内腔内で生成するよう設定される。
312. The invention of claim 311 further comprising:
A reaction vessel different from the first vessel, the reaction vessel having an open end and a lumen and set to load the open end on the vessel holder, and between the vessel holder and the lumen of the reaction vessel Establishing a passage seal; and
A PECVD reactant conduit positioned at a location within the reaction vessel lumen when the reaction vessel is preloaded on the vessel holder;
The plasma generator is configured to generate a plasma within the reaction vessel lumen under conditions effective to remove at least a portion of the PECVD reaction product deposit from the reactant conduit.

313. さらに以下からなる、請求項311または312の発明:
複数把持部を搬送するよう設定される、一連のコンベヤー;
当該容器の閉口端を選択的に把持および解除し、および当該容器の閉口端を把持しながら当該容器を当該容器ホルダー付近へと搬送するよう設定される、第2把持部;
当該一連のコンベヤーに動作可能に接続され、一連の少なくとも2つの容器をへ当該容器ホルダー付近と連続的に搬送し、当該容器ホルダー上に当該容器開口端を装填し、当該容器ホルダーと当該第2容器内部の間の通過密閉を確立し、当該容器を当該容器ホルダーから離して軸方向に搬送し、当該容器を当該把持部から解除するよう設定される、第1および第2把持部。
313. The invention of claim 311 or 312 further comprising:
A series of conveyors set up to transport multiple grips;
A second gripper configured to selectively grip and release the closed end of the container and transport the container to the vicinity of the container holder while gripping the closed end of the container;
Operably connected to the series of conveyors, continuously conveying a series of at least two containers to the vicinity of the container holder, loading the container open end on the container holder, the container holder and the second First and second gripping portions that are set to establish a passing seal between the interior of the container, transport the container in the axial direction away from the container holder, and release the container from the gripping portion.

V.B. 容器の制限的開口部(シリンジキャピラリー)を被覆するPECVD被覆材
316. 通常管状である処理対象容器の制限開口部の内面をPECVDにより被覆する方法であり、当該方法は以下からなる:
外面、内腔を定義する内面、内径を有する大開口部、内面により定義され大開口部の内径より小さな内径を有する制限的開口部を含む、通常管状である処理される容器の提供;
内腔および処理容器開口部を有する処理容器の提供;
処理される容器の内腔と処理容器の内腔の間の通過を制限的開口部経由で確立するための、当該処理容器開口部の処理される容器の制限的開口部への接続;
処理される容器の内腔および処理容器の内腔内での、少なくとも一部の真空吸引;
第1開口部を通り、その後処理される容器の内腔、制限的開口部、処理容器の内腔へと通る、PECVD反応物質の流入;
制限的開口部内面上にPECVD反応生成物を堆積するのに効果的な条件下での、制限的開口部に隣接してのプラズマの生成。
PECVD coating covering the restricted opening (syringe capillary) of the VB container
316. A method of coating the inner surface of a restricted opening of a container to be treated, which is usually tubular, with PECVD, the method comprising:
Providing a treated container that is generally tubular, including an outer surface, an inner surface defining a lumen, a large opening having an inner diameter, and a restrictive opening defined by the inner surface and having an inner diameter that is smaller than the inner diameter of the large opening;
Providing a processing vessel having a lumen and a processing vessel opening;
Connection of the treatment vessel opening to the restrictive opening of the treated vessel to establish a passage between the treatment vessel lumen and the treatment vessel lumen via the restrictive opening;
A vacuum of at least a portion of the lumen of the container to be processed and the lumen of the processing container;
The inflow of PECVD reactant through the first opening and then into the lumen of the vessel to be processed, the restrictive opening, the lumen of the processing vessel;
Plasma generation adjacent to the limiting opening under conditions effective to deposit a PECVD reaction product on the inner surface of the limiting opening.

317. 当該処理される容器がシリンジバレルである、請求項316の方法。       317. The method of claim 316, wherein said container to be treated is a syringe barrel.

318. 当該制限的開口部が第1取付部を有し、当該処理容器開口部が第1取付部に装填するよう適合される第2取付部を有し、処理容器の内腔と処理される容器の内腔との間の通過を確立する、請求項316または317の方法。       318. The restrictive opening has a first mounting portion, and the processing vessel opening has a second mounting portion adapted to be loaded into the first mounting portion, and is treated with the lumen of the processing vessel 321. The method of claim 316 or 317, establishing passage between the lumen of the container.

319. 第1および第2取付部がルアーロック取付部である、請求項318の方法。       319. The method of claim 318, wherein the first and second attachment portions are luer lock attachment portions.

320. 少なくとも1つの第1および第2取付部の原料が導電性素材である、請求項319の方法。       320. The method of claim 319, wherein the raw material of the at least one first and second attachment portion is a conductive material.

321. 少なくとも1つの第1および第2取付部の原料が導電性素材である、請求項299、319、または320の方法。       321. The method of claim 299, 319, or 320, wherein the raw material of the at least one first and second attachment portion is a conductive material.

322. 少なくとも1つの第1および第2取付部の原料がステンレス鋼である、請求項299、319、320、または299a2の方法。       322. The method of claim 299, 319, 320, or 299a2, wherein the raw material of the at least one first and second attachment portion is stainless steel.

323. 第1および第2ルアーロック取付部がそれぞれ雄部および雌部である、請求項319の方法。       323. The method of claim 319, wherein the first and second luer lock attachment portions are a male portion and a female portion, respectively.

324. さらに第1および第2取付部の間に位置する密閉部からなる、請求項299、319、または323の方法。       324. The method of claim 299, 319, or 323, further comprising a sealing portion located between the first and second attachment portions.

325. 当該密閉部がオーリングからなる、請求項324の方法。       325. The method of claim 324, wherein the seal comprises an O-ring.

326. 当該取付部の1つが、ねじ山を有し軸方向対向の通常溝付き釘第1当接部を定義するロックカラーからなり、もう1つの当該取付部が、当該取付部が係合する場合に当該第1当接部に向き合う軸方向対向の通常溝付き釘第2当接部からなる、請求項319、323、324、または325の方法。       326. One of the attachments consists of a locking collar defining a first abutment with a normal grooved nail that has a thread and is axially opposed, and the other attachment is engaged by the attachment 321. The method of claim 319, 323, 324, or 325, comprising an axially opposed normal grooved nail second abutment portion facing the first abutment portion.

327. さらに第1および第2当接部の間で係合する溝付き密閉部からなる、請求項326の方法。       327. The method of claim 326, further comprising a grooved seal engaging between the first and second abutments.

328. 制限的開口部経由で、処理される容器の内腔と処理容器の内腔の間に確立された通過は、少なくとも実質上耐漏出性である、請求項316〜318のいずれかの方法。       328. The method of any of claims 316-318, wherein the passage established between the lumen of the container being processed and the lumen of the process container via the restrictive opening is at least substantially leak resistant. .

329. 処理される容器の大開口部を通るPECV反応物質の流入が以下により実施される、請求項316〜328のいずれかの方法。
内部経路、近位端、遠位端、および当該遠位端に隣接し当該内部経路へと通じる遠位開口部を有する、通常管状である内部電極の提供;
処理される容器の大開口部に隣接して/の内部への、当該電極の遠位端の挿入;および
処理される容器の内腔への当該電極の遠位開口部を通しての、反応性ガスの供給。
329. The method of any of claims 316-328, wherein inflow of the PECV reactant through the large opening of the vessel to be treated is performed by:
Providing an internal electrode, usually tubular, having an internal pathway, a proximal end, a distal end, and a distal opening adjacent to and leading to the internal pathway;
Insertion of the distal end of the electrode adjacent to / into the large opening of the container to be treated; and
Reactive gas supply through the distal opening of the electrode to the lumen of the container to be treated.

330. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の半分未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       330. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than half the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied.

331. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の40%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       331. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 40% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

332. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の30%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       332. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 30% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

333. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の20%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       333. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 20% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

334. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の15%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       334. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 15% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

335. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の10%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       335. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 10% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

336. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の8%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       336. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 8% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

337. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の6%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       337. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 6% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

338. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の4%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       338. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 4% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

339. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の2%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       339. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 2% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

340. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部から当該制限的開口部までの距離の1%未満の箇所に位置する、請求項329の方法。       340. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located at less than 1% of the distance from the large opening of the container to be treated to the restrictive opening when the reactive gas is supplied. .

341. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部の内部に位置する、請求項329の方法。       341. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located within the large opening of the container to be treated upon supply of the reactive gas.

342. 当該電極の遠位端が、当該反応性ガス供給時に、当該処理される容器の大開口部の外部に位置する、請求項329の方法。       342. The method of claim 329, wherein the distal end of the electrode is located outside the large opening of the container to be treated when the reactive gas is supplied.

343. 当該電極の遠位端が、当該制限的開口部の遠位に位置する、請求項329〜342のいずれかの方法。       343. The method of any of claims 329-342, wherein the distal end of the electrode is located distal to the restrictive opening.

344. PECVD反応生成物の堆積中に、当該電極が軸方向に移動する、請求項329〜343のいずれかの方法。       344. The method of any of claims 329-343, wherein the electrode moves axially during deposition of the PECVD reaction product.

345. 当該プラズマが、当該シリンジ内腔および当該制限的開口部の実質上全域に伸延する、請求項316〜344のいずれかの方法。       345. The method of any of claims 316-344, wherein the plasma extends substantially across the syringe lumen and the restrictive opening.

346. 当該プラズマが、当該シリンジ内腔、当該制限的開口部、および当該処理容器内腔の実質上全域に伸延する、請求項316〜345のいずれかの方法。       346. The method of any of claims 316-345, wherein the plasma extends across substantially the entire lumen of the syringe, the restrictive opening, and the processing vessel lumen.

347. 当該プラズマが、当該シリンジ内腔および当該制限的開口部の全域において実質上均一色を有する、請求項316〜346のいずれかの方法。       347. The method of any of claims 316-346, wherein the plasma has a substantially uniform color across the syringe lumen and the restrictive opening.

348. 当該プラズマが、当該シリンジ内腔、当該制限的開口部、および当該処理容器内腔の全域において実質上均一色を有する、請求項316〜347のいずれかの方法。       348. The method of any of claims 316-347, wherein the plasma has a substantially uniform color across the syringe lumen, the restrictive opening, and the processing vessel lumen.

349. 当該プラズマが、当該シリンジ内腔および当該制限的開口部の全域において実質上不変である、請求項316〜348のいずれかの方法。       349. The method of any of claims 316-348, wherein the plasma is substantially unchanged throughout the syringe lumen and the restrictive opening.

350. 当該プラズマが、当該シリンジ内腔、当該制限的開口部、および当該処理容器内腔の全域において実質上不変である、請求項316〜349のいずれかの方法。       350. The method of any of claims 316-349, wherein the plasma is substantially unchanged throughout the syringe lumen, the restrictive opening, and the processing vessel lumen.

351. 当該処理容器の容器開口部が、唯一の開口部である、請求項316〜350のいずれかの方法。       351. The method of any of claims 316-350, wherein the vessel opening of the processing vessel is the only opening.

352. 当該処理容器内腔の容量が、当該処理される容器250の内腔300の容量の3倍未満である、請求項316〜351のいずれかの方法。       352. The method of any of claims 316-351, wherein the volume of the processing vessel lumen is less than three times the volume of the lumen 300 of the vessel 250 to be processed.

353. 当該処理容器内腔の容量が、当該処理される容器の内腔の容量の2倍未満である、請求項316〜352のいずれかの方法。       353. The method of any of claims 316-352, wherein the volume of the processing vessel lumen is less than twice the volume of the vessel lumen to be processed.

354. 当該処理容器内腔の容量が、当該処理される容器の内腔の容量未満である、請求項316〜353のいずれかの方法。       354. The method of any of claims 316-353, wherein the volume of the processing vessel lumen is less than the volume of the vessel lumen to be processed.

355. 当該処理容器内腔の容量が、当該処理される容器の内腔の容量の50%未満である、請求項316〜354のいずれかの方法。       355. The method of any of claims 316-354, wherein the volume of the processing vessel lumen is less than 50% of the volume of the vessel lumen to be processed.

356. 当該処理容器内腔の容量が、当該処理される容器の内腔の容量の25%未満である、請求項316〜355のいずれかの方法。       356. The method of any of claims 316-355, wherein the volume of the processing vessel lumen is less than 25% of the volume of the vessel lumen to be processed.

357. さらに、当該処理される容器250の内腔300内を少なくとも一部真空化する前の、容器支持体上への当該管状容器の処理される容器の大開口部の装填からなる、請求項316〜356のいずれかの方法。       357. The method further comprises loading the treated container large opening of the tubular container onto a container support prior to at least partially evacuating the lumen 300 of the treated container 250. Any method of 316-356.

358. さらに、当該容器支持体のポート上への当該処理される容器の大開口部の装填からなる、請求項357の方法。       358. The method of claim 357, further comprising loading a large opening of the treated container onto a port of the container support.

359. さらに、当該容器支持体上に装填済みの当該処理される容器内への、内部電極の位置付けからなる、請求項357または358の方法。       359. The method of claim 357 or 358, further comprising positioning an internal electrode into the treated container loaded on the container support.

360. さらに、当該容器支持体に装填中の当該処理される容器を収受するよう位置付けられる内部部位を有する外部電極に関しての、当該処理される容器の位置付けからなる、請求項357、358、または359の方法。       360. 357, 358, or 359 further comprising positioning of the treated container with respect to an external electrode having an internal portion positioned to receive the treated container being loaded on the container support. the method of.

361. さらに、当該容器支持体上に装填済みの当該処理される容器内でプラズマ生成するために当該外部電極へと電流を交流させる、電力供給装置の加圧からなる、請求項357、358、359、または330の方法。       361. 357, 358, further comprising pressurization of a power supply that causes alternating current to flow to the external electrode for plasma generation in the treated container loaded on the container support 359, or 330 ways.

362. さらに当該内部電極の接地からなる、請求項361の発明。       362. The invention of claim 361, further comprising grounding of the internal electrode.

363. さらに、当該真空チャンバを定義する、処理される容器の内部を真空にするための真空源からなる、請求項357、358、359、360、または361の方法。       363. The method of claim 357, 358, 359, 360, or 361, further comprising a vacuum source defining a vacuum chamber for evacuating the interior of the vessel to be processed.

364. さらに、当該処理される容器を包囲する第2真空チャンバの提供からなる、請求項363の発明。       364. The invention of claim 363, further comprising providing a second vacuum chamber surrounding the container to be processed.

365. 当該容器内部が当該第2真空チャンバより低い真空レベルに維持される、請求項364の方法。       365. The method of claim 364, wherein the interior of the container is maintained at a lower vacuum level than the second vacuum chamber.

366. 当該処理容器が、当該容器支持体内の真空ポートへと通じる導管である、請求項363の方法。       366. The method of claim 363, wherein the processing vessel is a conduit leading to a vacuum port in the vessel support.

367. さらに、反応性ガス源、および当該反応性ガス源から当該容器支持体に装填済みの当該処理される容器へと反応性ガスを供給するガス供給装置からなる、請求項357〜366のいずれかの発明。       367. The method of any one of claims 357 to 366, further comprising a reactive gas source and a gas supply device that supplies the reactive gas from the reactive gas source to the vessel to be processed that is loaded on the vessel support. The invention.

VI. 容器の検査
VI.A. 被覆前および被覆後検査を含む容器処理
399. 開口部および内面を定義する壁を有するモールドプラスチック容器を処理する、容器処理方法であり、当該方法は以下からなる:
当該容器内面への被覆材のモールド時の欠陥検出のための検査;
モールド時の当該容器検査の後の当該容器内面への被覆材の塗布;
当該被覆材の欠陥検出のための検査。
VI. Container inspection
VI.A. Container handling including pre- and post-coating inspections
399. A container processing method for processing a molded plastic container having a wall defining an opening and an inner surface, the method comprising:
Inspection for detecting defects when molding the coating on the inner surface of the container;
Application of coating material to the inner surface of the container after the container inspection at the time of molding;
Inspection for detecting defects in the covering material.

400. 開口部および内面を定義する壁を有するモールドプラスチック容器を処理する、容器処理方法であり、当該方法は以下からなる:
当該容器内面への被覆材のモールド時の欠陥検出のための検査;
モールド時の当該容器検査の後の当該容器への遮断性被覆材の塗布;および
当該遮断性被覆材の塗布後の当該容器内面の欠陥検出のための検査;
400. A container processing method for processing a molded plastic container having a wall defining an opening and an inner surface, the method comprising:
Inspection for detecting defects when molding the coating on the inner surface of the container;
Applying a barrier coating to the container after inspection of the container at the time of molding; and
Inspection for detecting defects on the inner surface of the container after application of the barrier coating;

401. モールド時の当該容器内面が、当該容器内面上の多数の密集点において検査される、請求項400の発明。       401. The invention of claim 400, wherein the inner surface of the container during molding is inspected at a number of dense points on the inner surface of the container.

402. 当該遮断性被覆材の塗布後の当該容器内面が、当該容器内面上の多数の密集点において検査される、請求項400または401の発明。       402. The invention of claim 400 or 401, wherein the inner surface of the container after application of the barrier coating is inspected at a number of dense points on the inner surface of the container.

403. 当該容器内面上の多数の密集点が、当該モールド時の容器上に位置し/で検査され、当該遮断性被覆材で被覆され、当該遮断性被覆材の塗布後に再検査される、請求項400、401、または402の発明。       403. A number of dense points on the inner surface of the container are inspected at / on the container at the time of molding, coated with the barrier coating, and re-inspected after application of the barrier coating. Invention of Item 400, 401, or 402.

VI.B. 遮断層を通しての容器壁ガス放出検出による容器検査
404. 蒸気をガス放出する素材上の遮断膜を検査する方法であり、以下からなる:
ガス放出するおよび少なくとも一部が遮断層である物質の検体の提供;および
当該放出ガスの測定。
VI.B. Container inspection by detecting container wall outgassing through barrier layer
404. A method for inspecting a barrier film on a material that outgases a vapor and consists of:
Providing an analyte outgassing and at least a portion of a substance that is a barrier layer; and
Measurement of the released gas.

405. 当該ガス放出物質がポリマー化合物からなる、請求項404の方法。       405. The method of claim 404, wherein the outgassing material comprises a polymeric compound.

406. 当該ガス放出物質が熱可塑性化合物からなる、請求項404または405の方法。       406. The method of claim 404 or 405, wherein the outgassing material comprises a thermoplastic compound.

407. 当該ガス放出物質がポリエステルからなる、請求項404〜406のいずれかの方法。       407. The method of any of claims 404-406, wherein the outgassing material comprises polyester.

408. 当該ガス放出物質がテレフタル酸ポリエチレンからなる、請求項404〜407のいずれかの方法。       408. The method of any of claims 404-407, wherein the gas releasing material comprises polyethylene terephthalate.

409. 当該ガス放出物質がポリオレフィンからなる、請求項404〜408のいずれかの方法。       409. The method of any of claims 404-408, wherein the outgassing material comprises a polyolefin.

410. 当該ガス放出物質がポリプロピレンからなる、請求項404〜409のいずれかの方法。       410. The method of any of claims 404-409, wherein the outgassing material comprises polypropylene.

411. 当該ガス放出物質が環状オレフィン共重合体からなる、請求項404〜410のいずれかの方法。       411. The method of any of claims 404-410, wherein the gas releasing material comprises a cyclic olefin copolymer.

411a.さらに、当該放出ガスを測定する前の当該遮断層の水への接触からなる、請求項404〜411のいずれかの方法。       411a. The method of any of claims 404-411, further comprising contacting the barrier layer with water prior to measuring the emitted gas.

411b.さらに、当該放出ガスを測定する前の当該遮断層の水蒸気への接触からなる、請求項404〜411のいずれかの方法。       411b. The method of any of claims 404-411, further comprising contacting the barrier layer with water vapor prior to measuring the emitted gas.

411c.さらに、当該放出ガスを測定する前の当該遮断層の相対湿度35%〜100%である大気への接触からなる、請求項404〜411のいずれかの方法。       411c. The method of any of claims 404-411, further comprising contacting the atmosphere with a relative humidity of 35% to 100% of the barrier layer prior to measuring the emitted gas.

411d.さらに、当該放出ガスを測定する前の当該遮断層の相対湿度40%〜100%である大気への接触からなる、請求項404〜411のいずれかの方法。       411d. The method of any of claims 404-411, further comprising contacting the atmosphere with a relative humidity of 40% to 100% of the barrier layer prior to measuring the emitted gas.

411e.さらに、当該放出ガスを測定する前の当該遮断層の相対湿度40%〜50%である大気への接触からなる、請求項404〜411のいずれかの方法。       411e. The method of any of claims 404-411, further comprising contacting the atmosphere with a relative humidity of 40% to 50% of the barrier layer prior to measuring the emitted gas.

411f.さらに、当該放出ガスを測定する前の当該遮断層の酸素への接触からなる、請求項404〜411のいずれかの方法。       411f. The method of any of claims 404-411, further comprising contacting the barrier layer with oxygen prior to measuring the emitted gas.

411g.さらに、当該放出ガスを測定する前の当該遮断層の窒素への接触からなる、請求項404〜411のいずれかの方法。       411g. The method of any of claims 404-411, further comprising contacting the barrier layer with nitrogen prior to measuring the emitted gas.

411h.当該接触時間が10秒〜1時間である、請求項411a〜411gのいずれかの方法。       411h. The method of any of claims 411a-411g, wherein the contact time is from 10 seconds to 1 hour.

411i.当該接触時間が1分〜30分である、請求項411a〜411gのいずれかの方法。       411i. The method of any of claims 411a-411g, wherein the contact time is from 1 minute to 30 minutes.

411j.当該接触時間が5分〜25分である、請求項411a〜411gのいずれかの方法。       411j. The method of any of claims 411a-411g, wherein the contact time is from 5 minutes to 25 minutes.

411k.当該接触時間が10分〜20分である、請求項411a〜411gのいずれかの方法。       411k. The method of any of claims 411a-411g, wherein the contact time is from 10 minutes to 20 minutes.

411l.当該放出ガスの圧力測定値が0.1トール〜100トールである、請求項404〜411kのいずれかの方法。       411l. The method of any of claims 404-411k, wherein the pressure measurement of the released gas is from 0.1 Torr to 100 Torr.

411m.当該放出ガスの圧力測定値が0.2トール〜50トールである、請求項404〜411kのいずれかの方法。       411m. The method of any of claims 404-411k, wherein the pressure measurement of the released gas is from 0.2 Torr to 50 Torr.

411n.当該放出ガスの圧力測定値が0.5トール〜40トールである、請求項404〜411kのいずれかの方法。       411n. The method of any of claims 404-411k, wherein the pressure measurement of the released gas is from 0.5 Torr to 40 Torr.

411o.当該放出ガスの圧力測定値が1トール〜30トールである、請求項404〜411kのいずれかの方法。       411o. The method of any of claims 404-411k, wherein the pressure measurement of the released gas is 1 to 30 torr.

411p.当該放出ガスの圧力測定値が5トール〜100トールである、請求項404〜411kのいずれかの方法。       411p. The method of any of claims 404-411k, wherein the pressure measurement of the released gas is 5 to 100 torr.

411q.当該放出ガスの圧力測定値が10トール〜80トールである、請求項404〜411kのいずれかの方法。       411q. The method of any of claims 404-411k, wherein the pressure measurement of the released gas is from 10 Torr to 80 Torr.

411r.当該放出ガスの圧力測定値が15トール〜50トールである、請求項404〜411kのいずれかの方法。       411r. The method of any of claims 404-411k, wherein the pressure measurement of the released gas is 15 to 50 torr.

411s.当該放出ガスの温度測定値が0℃〜50℃である、請求項404〜411rのいずれかの方法。       411s. The method of any of claims 404-411r, wherein the temperature measurement of the released gas is from 0C to 50C.

411t.当該放出ガスの温度測定値が0℃〜21℃である、請求項404〜411rのいずれかの方法。       411t. The method of any of claims 404-411r, wherein the measured temperature of the released gas is between 0 ° C and 21 ° C.

411u.当該放出ガスの温度測定値が5℃〜20℃である、請求項404〜411rのいずれかの方法。       411u. The method of any of claims 404-411r, wherein the temperature measurement of the emitted gas is 5 ° C to 20 ° C.

412. 当該ガス放出物質を、外面および内面を有する壁を有し当該内面が内腔を封入する容器の形態で提供する、請求項404〜411uのいずれかの方法。       412. The method of any of claims 404-411u, wherein the outgassing material is provided in the form of a container having a wall having an outer surface and an inner surface, the inner surface enclosing a lumen.

413. 当該遮断層が当該容器壁の内面に付着する、請求項412の方法。       413. The method of claim 412, wherein the barrier layer adheres to an inner surface of the container wall.

414. 当該内腔を少なくとも一部真空化することにより、当該遮断層において圧力差を提供する、請求項412または413の方法。       414. The method of claim 412 or 413, wherein the pressure differential is provided in the barrier layer by at least partially evacuating the lumen.

415. さらに、当該内腔の少なくとも一部を真空化するための、当該内腔のダクト経由での真空源との接続からなる、請求項412〜414のいずれかの方法。       415. The method of any of claims 412-414, further comprising a connection with a vacuum source via a duct in the lumen to evacuate at least a portion of the lumen.

416. さらに、当該内腔と当該真空源との間を通過するガス放出測定函の提供からなる、請求項415の方法。       416. The method of claim 415, further comprising providing an outgassing measurement box that passes between the lumen and the vacuum source.

417. 時間間隔ごとに当該遮断層を通してガス放出されるガス放出物質の容量を判定することで、測定を実施する、請求項404〜416のいずれかの方法。       417. The method of any of claims 404-416, wherein the measurement is performed by determining the volume of outgassing material outgassing through the barrier layer at each time interval.

418. 微小流量技術を用いて測定を実施する、請求項404〜417のいずれかの方法。       418. The method of any of claims 404-417, wherein the measurement is performed using a micro flow technique.

419. ガス放出物質の質量流量率を測定することにより、測定を実施する、請求項404〜418のいずれかの方法。       419. The method of any of claims 404-418, wherein the measurement is performed by measuring the mass flow rate of the outgassing material.

420. 作業の分子流モードにおいて、測定を実施する、請求項404〜419のいずれかの方法。       420. The method of any of claims 404-419, wherein the measurement is performed in a molecular flow mode of operation.

420a. 以下により測定を実施する、請求項404〜420のいずれかの方法。       420a. The method of any of claims 404-420, wherein the measurement is performed as follows.

ガス放出物質の存在下で移動または異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供;
当該マイクロカンチレバーを移動または異なる形状へと変化させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露;および
当該移動または異なる形状の検出。
Providing at least one microcantilever having the property of moving or changing into a different shape in the presence of an outgassing material;
Exposure of the microcantilever to an outgassing material under conditions effective to move or change the microcantilever to a different shape; and
Detection of this movement or different shape.

420b. マイクロカンチレバーのガス放出への曝露前および後のマイクロカンチレバーの形状変化部からのエネルギー入射光線の照射により、およびカンチレバーから離れた点での当該照射光線の偏差結果の測定により、移動または異なる形状を検出する、請求項420aの方法。       420b. Moving or different depending on the irradiation of the incident energy beam from the microcantilever shape change before and after exposure to the gas release of the microcantilever, and by measuring the deviation of the irradiated beam at a point away from the cantilever The method of claim 420a, wherein a shape is detected.

420c.当該エネルギー入光線を、光子光線、電子光線、またはこれら2種以上の複合体から選択する、請求項420bの方法。       420c. The method of claim 420b, wherein the energy incident light is selected from photon rays, electron rays, or a combination of two or more thereof.

420d.当該エネルギー入光線が光子光線である、請求項420bの方法。       420d. The method of claim 420b, wherein the energy incident light is a photon light.

420e.当該エネルギー入光線がレーザービームである、請求項420bの方法。       420e. The method of claim 420b, wherein the energy-incident beam is a laser beam.

420f. 以下により測定を実施する、請求項404〜420のいずれかの方法。
ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供;
当該マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出材質への曝露;および
異なる共鳴周波数の検出。
420f. The method of any of claims 404-420, wherein the measurement is performed as follows.
Providing at least one microcantilever that resonates at different frequencies in the presence of an outgassing material;
Exposure of the microcantilever to an outgassing material under conditions effective to resonate the microcantilever at different frequencies; and
Detection of different resonance frequencies.

420g.当該マイクロカンチレバーをガス放出へと曝露する前および後にエネルギーを当該マイクロカンチレバーへと入力してその共鳴を誘導することにより、および当該マイクロカンチレバーをガス放出へと曝露する前および後に共鳴周波数の間の差異を判定することにより、当該異なる共鳴周波数を検出する、請求項420fの方法。       420 g. Before and after exposing the microcantilever to outgassing by inputting energy into the microcantilever to induce its resonance and before and after exposing the microcantilever to outgassing. 442. The method of claim 420f, wherein the different resonance frequencies are detected by determining a difference between.

420h.当該異なる共鳴周波数を調和振動センサーを使用して検出する、請求項420gの方法。       420h. The method of claim 420g, wherein said different resonant frequencies are detected using a harmonic vibration sensor.

421. 当該ガス放出物質が膜の形態で提供される、請求項404の方法。       421. The method of claim 404, wherein the outgassing material is provided in the form of a membrane.

422. 当該遮断層が、ガス放出物質の表面の全部または一部を被覆する、請求項404〜421のいずれかの方法。       422. The method of any of claims 404-421, wherein the barrier layer covers all or part of the surface of the outgassing material.

425. 当該遮断層がSiOx(xは約1.5〜約2.9)からなる、請求項404〜424のいずれかの方法。       425. The method of any of claims 404-424, wherein the barrier layer comprises SiOx (x is from about 1.5 to about 2.9).

426. 当該遮断層が本質的にSiOx(xは約1.5〜約2.9)からなる、請求項404〜425のいずれかの方法。       426. The method of any of claims 404-425, wherein the barrier layer consists essentially of SiOx, where x is from about 1.5 to about 2.9.

427. 当該遮断層の層厚が500nm未満である、請求項404〜426のいずれかの方法。       427. The method of any of claims 404-426, wherein the barrier layer has a thickness of less than 500 nm.

428. 当該遮断層の層厚が300nm未満である、請求項404〜427のいずれかの方法。       428. The method of any of claims 404-427, wherein the barrier layer has a thickness of less than 300 nm.

429. 当該遮断層の層厚が100nm未満である、請求項404〜428のいずれかの方法。       429. The method of any of claims 404-428, wherein the barrier layer has a layer thickness of less than 100 nm.

430. 当該遮断層の層厚が80nm未満である、請求項404〜429のいずれかの方法。       430. The method of any of claims 404-429, wherein the barrier layer has a layer thickness of less than 80 nm.

431. 当該遮断層の層厚が60nm未満である、請求項404〜430のいずれかの方法。       431. The method of any of claims 404-430, wherein the barrier layer has a layer thickness of less than 60 nm.

432. 当該遮断層の層厚が50nm未満である、請求項404〜431のいずれかの方法。       432. The method of any of claims 404-431, wherein the barrier layer has a thickness of less than 50 nm.

433. 当該遮断層の層厚が40nm未満である、請求項404〜432のいずれかの方法。       433. The method of any of claims 404-432, wherein the barrier layer has a thickness of less than 40 nm.

434. 当該遮断層の層厚が30nm未満である、請求項404〜433のいずれかの方法。       434. The method of any of claims 404-433, wherein the barrier layer has a thickness of less than 30 nm.

435. 当該遮断層の層厚が20nm未満である、請求項404〜434のいずれかの方法。       435. The method of any of claims 404-434, wherein the barrier layer has a thickness of less than 20 nm.

436. 当該遮断層の層厚が10nm未満である、請求項404〜435のいずれかの方法。       436. The method of any of claims 404-435, wherein the barrier layer has a thickness of less than 10 nm.

437. 当該遮断層の層厚が5nm未満である、請求項404〜436のいずれかの方法。       437. The method of any of claims 404-436, wherein the barrier layer has a layer thickness of less than 5 nm.

438. 当該放出ガスの測定を、当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下で実施する、請求項404〜437のいずれかの方法。       438. The method of any of claims 404-437, wherein the measurement of the emitted gas is performed under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

439. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、1分未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       439. The method of claim 438, wherein the test time less than 1 minute is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

440. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、50秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       440. The method of claim 438, wherein the test time less than 50 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

441. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、40秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       441. The method of claim 438, wherein the test time less than 40 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

442. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、30秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       442. The method of claim 438, wherein the test time less than 30 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

443. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、20秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       443. The method of claim 438, wherein the test time less than 20 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

444. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、15秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       444. The method of claim 438, wherein the test time less than 15 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

445. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、10秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       445. The method of claim 438, wherein the test time less than 10 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

446. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、8秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       446. The method of claim 438, wherein a test time less than 8 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

447. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、6秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       447. The method of claim 438, wherein a test time of less than 6 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

448. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、4秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       448. The method of claim 438, wherein the test time less than 4 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

449. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、3秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       449. The method of claim 438, wherein a test time of less than 3 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

450. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、2秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       450. The method of claim 438, wherein the test time less than 2 seconds is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

451. 当該遮断層の有無を判別するのに効果的な条件下に、1秒未満の試験時間が含まれる、請求項438の方法。       451. The method of claim 438, wherein the test time less than 1 second is included under conditions effective to determine the presence or absence of the barrier layer.

452. 当該遮断層の有無の測定を、少なくともシックスシグマレベルの確実性で確認する、請求項438〜451のいずれかの方法。       452. The method according to any one of claims 438 to 451, wherein the measurement of the presence or absence of the barrier layer is confirmed with a certainty of at least a six sigma level.

453. 当該測定が少なくともシックスシグマレベルの確実性を有する、請求項438〜452のいずれかの方法。       453. The method of any of claims 438-452, wherein the measurement has at least a Six Sigma level certainty.

454. 当該遮断層の低圧側の当該放出ガスの測定を、当該遮断層の遮断改善度(BIF)を判定するのに効果的な条件下で実施し、遮断層なしの同一素材と比較する、請求項404〜453のいずれかの方法。       454. The measurement of the released gas on the low pressure side of the barrier layer is carried out under conditions effective to determine the barrier improvement (BIF) of the barrier layer and compared with the same material without the barrier layer, The method of any of claims 404-453.

455. 多くの異なるガスのガス放出を測定する、請求項404〜454のいずれかの方法。       455. The method of any of claims 404-454, wherein outgassing of a number of different gases is measured.

456. 実質上すべての放出ガスのガス放出を測定する、請求項404〜455のいずれかの方法。       456. The method of any of claims 404-455, wherein the outgassing of substantially all of the outgassing is measured.

457. 実質上すべての放出ガスのガス放出を同時に測定する、請求項404〜456のいずれかの方法。       457. The method of any of claims 404-456, wherein the outgassing of substantially all of the outgassing is measured simultaneously.

458. 実質上すべての放出ガスのガス放出を同時に測定する、請求項404〜457のいずれかの方法。       458. The method of any of claims 404-457, wherein outgassing of substantially all of the outgassing is measured simultaneously.

以下の参照符号を図面内で使用する: The following reference signs are used in the drawings:

20 容器処理システム
22 射出成形機
24 目視検査ステーション
26 検査ステーション(被覆前)
28 検査ステーション
30 検査ステーション(被覆後)
32 光学供給源透過ステーション(層厚)
34 光学供給源透過ステーション(欠陥)
36 出力
38 容器ホルダー
40 容器ホルダー
42 容器ホルダー
44 容器ホルダー
46 容器ホルダー
48 容器ホルダー
50 容器ホルダー
52 容器ホルダー
54 容器ホルダー
56 容器ホルダー
58 容器ホルダー
60 容器ホルダー
62 容器ホルダー
64 容器ホルダー
66 容器ホルダー
68 容器ホルダー
70 コンベヤー
72 搬送機構 (オン)
74 搬送機構 (オフ)
80 容器
82 開口部
84 閉口端
86 壁
88 内面
90 遮断性被覆材
92 容器ポート
94 真空ダクト
96 真空ポート
98 真空源
100 (92の) オーリング
102 (96の) オーリング
104 ガス吸入ポート
106 (100の) オーリング
108 プローブ (対向電極)
110 (108の) ガス供給ポート
112 容器ホルダー (図3)
114 (50または112の) 筺体
116 カラー
118 (80の) 外面
120 容器ホルダー (配列)
122 容器ポート (図4、58)
130 フレーム(図5)
132 光源
134 サイドチャネル
136 遮断弁
138 プローブポート
140 真空ポート
142 PECVDガス吸入ポート
144 PECVDガス源
146 (98の) 真空管路
148 遮断弁
150 (134の) たわみ管路
152 圧力計
154 容器80の内部
160 電極
162 電力供給装置
164 (160の) 側壁
166 (160の) 側壁
168 (160の) 閉口端
170 光源 (図10)
172 検出器
174 (172の) 画素
176 (172の) 内面
182 (186の) アパーチャ
184 (186の) 壁
186 積分球
190 マイクロ波電力供給装置
192 導波管
194 マイクロ波空洞部
196 ギャップ
198 (194の) 上端部
200 電極
202 管搬送
204 吸着カップ
208 モールド核
210 モールド空洞部
212 モールド空洞部ライナー
220 支持面 (図2)
222 支持面 (図2)
224 支持面 (図2)
226 支持面 (図2)
228 支持面 (図2)
230 支持面 (図2)
232 支持面 (図2)
234 支持面 (図2)
236 支持面 (図2)
238 支持面 (図2)
240 支持面 (図2)
250 シリンジバレル
252 シリンジ
254 (250の) 内面
256 (250の) 後端部
258 (252の) プランジャー
260 (250の) 前端部
262 蓋
264 (262の) 内面
266 取付部
268 容器
270 閉包部
272 表面向き内面
274 内腔
276 壁接触内面
278 (280の) 内面
280 容器壁
282 停止部材
284 遮蔽体
286 潤滑層
288 遮断層
290 被覆装置、例えば、250
292 (294の) 内面
294 (250の) 制限的開口部
296 処理容器
298 (250の) 外面
300 (250の) 内腔
302 (250の) 大開口部
304 処理容器内腔
306 処理容器開口部
308 内部電極
310 (308の) 内部経路
312 (308の) 近位端
314 (308の) 遠位端
316 (308の) 遠位開口部
318 プラズマ
320 容器支持体
322 (320の) ポート
324 処理容器 (導管タイプ)
326 (324の) 容器開口部
328 (324の) 第2開口部
330 (328を収受する) 真空ポート
332 第1取付部 (雄ルアーテーパー)
334 第2取付部 (雌ルアーテーパー)
336 (332の) ロックカラー
338 (332の) 第1当接部
340 (332の) 第2当接部
342 オーリング
344 ドッグ
346 壁
348 (346上の) 被覆材
350 透過経路
352 真空
354 ガス分子
355 ガス分子
356 (346と348の間の) 界面
357 ガス分子
358 PET容器
359 ガス分子
360 密閉部
362 測定函
364 真空ポンプ
366 矢線
368 円錐経路
370 穿孔機
372 穿孔機
374 チャンバ
376 チャンバ
378 隔膜
380 隔膜
382 導電表面
384 導電表面
386 バイパス
390 プロット (ガラス管)
392 プロット (PET非被覆)
394 メインプロット (SiO2被覆)
396 外座層 (SiO2被覆)
398 内部電極およびガス供給管
400 遠位開口部
402 突出し対向電極
404 通気孔 (図7)
406 弁
408 内壁 (図36)
410 外壁 (図36)
412 内面 (図36)
414 平板電極 (図37)
416 平板電極 (図37)
418 真空導管
420 容器ホルダー
422 真空チャンバ
424 容器ホルダー
426 対向電極
428 容器ホルダー (図39)
430 電極アセンブリ
432 430のより封入される容量
434 圧力比例弁
436 真空チャンバ導管
438 シリンジバレル (図42)
440 (438の) フランジ
442 (438の) 後開口部
444 (438の) バレル壁
450 容器ホルダー (図42)
452 溝付き釘縁
454 (438の) 通常シリンダー状の側壁
456 (450の) 通常シリンダー状の内面
458 支台
460 ポケット部
462 オーリング
464 (460の) 外壁
466 (460の) 底壁
468 (460の) 頂壁
470 内部電極 (図44)
472 (470の) 遠位部
474 (472の) 多孔性側壁
476 (472の) 内部経路
478 (470の) 近位部
480 (470の) 遠位端
482 容器ホルダー本体
484 (482の) 上部
486 (482の) 基底部
488 (484と486の間の) 結合部
490 オーリング
492 溝付き釘ポケット部
494 放射状に伸延する当接部表面
496 放射状に伸延する壁
498 ネジ
500 ネジ
502 容器ポート
504 第2オーリング
506 (490の) 内径
508 (482の) 真空ダクト
510 内部電極
512 内部電極
514 挿入および除去機構
516 たわみホース
518 たわみホース
520 たわみホース
522 弁
524 弁
526 弁
528 電極浄化ステーション
530 内部電極駆動
532 浄化反応器
534 通気弁
536 第2把持部
538 コンベヤー
539 溶質保持部材
540 (532の) 開口端
542 (532の) 内腔
544 シリンジ
546 プランジャー
548 本体
550 バレル
552 (550の) 内面
554 被覆材
556 ルアー取付部
558 ルアーテーパー
560 (558の) 内部経路
562 内面
564 カップリング
566 (564の) 雄部
568 (564の) 雌部
570 遮断性被覆材
572 ロックカラー
574 メイン真空弁
576 真空管路
578 手動バイパス弁
580 バイパス管路
582 通気弁
584 メイン反応性ガス弁
586 メイン反応物供給管路
588 有機ケイ素流体貯留層
590 有機ケイ素供給管路 (キャピラリー)
592 有機ケイ素遮断弁
594 酸素タンク
596 酸素供給管路
598 質量流量制御装置
600 酸素遮断弁
602 シリンジ外部遮断性被覆材
604 内腔
606 バレル外面
610 プラズマ遮蔽体
612 プラズマ遮蔽体空洞部
614 ヘッドスペース
616 圧力源
618 圧力管路
620 キャピラリー接続
630 非被覆COC用プロット
632 SiOx被覆COC用プロット
634 ガラス用プロット
5501 第1処理ステーション
5502 第2処理ステーション
5503 第3処理 ステーション
5504 第4処理 ステーション
5505 プロセッサ
5506 ユーザーインターフェース
5507 バス
5701 PECVD装置
5702 第1検出器
5703 第2検出器
5704 検出器
5705 検出器
5706 検出器
5707 検出器
7001 コンベヤー退出分岐部
7002 コンベヤー退出分岐部
7003 コンベヤー退出分岐部
7004 コンベヤー退出分岐部
20 Container handling system
22 Injection molding machine
24 visual inspection station
26 Inspection station (before coating)
28 Inspection station
30 Inspection station (after coating)
32 Optical source transmission station (layer thickness)
34 Optical source transmission station (defect)
36 outputs
38 Container holder
40 Container holder
42 Container holder
44 Container holder
46 Container holder
48 Container holder
50 container holder
52 Container holder
54 Container holder
56 Container holder
58 Container holder
60 Container holder
62 Container holder
64 container holder
66 Container holder
68 Container holder
70 conveyor
72 Transport mechanism (ON)
74 Transport mechanism (off)
80 containers
82 opening
84 Closed end
86 walls
88 Inside
90 Barrier coating
92 Container port
94 Vacuum duct
96 Vacuum port
98 Vacuum source
100 (92) O-ring
102 (96) O-ring
104 Gas inlet port
106 (100) O-ring
108 Probe (counter electrode)
110 (108) gas supply ports
112 Container holder (Figure 3)
114 (50 or 112) enclosure
116 colors
118 (80's) exterior
120 Container holder (array)
122 Container port (Fig. 4, 58)
130 frames (Figure 5)
132 Light source
134 Side channel
136 Shut-off valve
138 Probe port
140 Vacuum port
142 PECVD gas inlet port
144 PECVD gas source
146 (98) vacuum lines
148 Shut-off valve
150 (134) flexure lines
152 Pressure gauge
154 Inside of container 80
160 electrodes
162 Power supply device
164 (160) sidewalls
166 (160) sidewalls
168 (160) closed end
170 Light source (Figure 10)
172 Detector
174 (172) pixels
176 (172) inner surface
182 (186) apertures
184 (186) walls
186 integrating sphere
190 Microwave power supply
192 Waveguide
194 Microwave cavity
196 gap
198 (194's) top edge
200 electrodes
202 pipe transfer
204 Suction cup
208 Mold core
210 Mold cavity
212 Mold cavity liner
220 Support surface (Fig. 2)
222 Support surface (Fig. 2)
224 Support surface (Fig. 2)
226 Support surface (Fig. 2)
228 Support surface (Fig. 2)
230 Support surface (Fig. 2)
232 Support surface (Fig. 2)
234 Support surface (Fig. 2)
236 Support surface (Fig. 2)
238 Support surface (Fig. 2)
240 Support surface (Fig. 2)
250 syringe barrel
252 syringe
254 (250) inside
256 (250) rear end
258 (252) Plunger
260 (250) front end
262 lid
264 (262) inside
266 Mounting part
268 containers
270 Closure
272 Internal surface
274 Lumen
276 Wall contact inner surface
278 (280) inside
280 container wall
282 Stopping member
284 Shield
286 Lubrication layer
288 Barrier layer
290 coating equipment, e.g. 250
292 (294) inside
294 (250) restrictive openings
296 Processing container
298 (250) exterior
300 (250) lumens
302 (250) large opening
304 Processing vessel lumen
306 Processing container opening
308 Internal electrode
310 (308) internal pathway
312 (308) proximal end
314 (308) distal end
316 (308) distal opening
318 Plasma
320 Container support
322 (320) ports
324 Processing vessel (conduit type)
326 (324) container opening
328 (324) second opening
330 (Accept 328) Vacuum port
332 1st mounting part (Male luer taper)
334 2nd mounting part (Female luer taper)
336 (332) lock collar
338 (332) first contact part
340 (332) second contact
342 O-ring
344 dog
346 walls
348 (on 346) dressing
350 transmission path
352 vacuum
354 gas molecules
355 gas molecules
356 interface (between 346 and 348)
357 gas molecules
358 PET container
359 gas molecules
360 Sealing part
362 measuring box
364 vacuum pump
366 Arrow Line
368 Conical Path
370 drilling machine
372 drilling machine
374 chamber
376 chamber
378 diaphragm
380 diaphragm
382 Conductive surface
384 conductive surface
386 Bypass
390 plot (glass tube)
392 plot (uncoated PET)
394 Main plot (SiO2 coating)
396 Outer layer (SiO2 coating)
398 Internal electrode and gas supply pipe
400 Distal opening
402 Protruding counter electrode
404 Vent (Figure 7)
406 valve
408 Inner wall (Fig. 36)
410 Exterior wall (Fig. 36)
412 Inside (Fig. 36)
414 Plate electrode (Fig. 37)
416 Plate electrode (Fig.37)
418 vacuum conduit
420 Container holder
422 Vacuum chamber
424 Container holder
426 Counter electrode
428 Container holder (Fig. 39)
430 electrode assembly
432 430 more enclosed capacity
434 Pressure proportional valve
436 Vacuum chamber conduit
438 Syringe barrel (Figure 42)
440 (438) flange
442 (438) rear opening
444 (438) barrel walls
450 Container holder (Figure 42)
452 Grooved nail rim
454 (438) regular cylindrical side walls
456 (450) normal cylindrical inner surface
458 abutment
460 Pocket
462 O-ring
464 (460) exterior walls
466 (460) bottom wall
468 (460) top wall
470 Internal electrode (Fig. 44)
472 (470) distal part
474 (472) porous sidewall
476 (472) internal pathways
478 (470) proximal
480 (470) distal end
482 Container holder body
484 (482) top
486 (482) base
488 (between 484 and 486) joint
490 O-ring
492 Slotted nail pocket
494 Surface of contact part extending radially
496 Radially extending walls
498 screw
500 screws
502 container port
504 2nd O-ring
506 (490) ID
508 (482) vacuum duct
510 Internal electrode
512 Internal electrode
514 Insertion and removal mechanism
516 Deflection hose
518 Deflection hose
520 deflection hose
522 valve
524 valves
526 valve
528 electrode purification station
530 Internal electrode drive
532 Purification reactor
534 Ventilation valve
536 Second grip
538 conveyor
539 Solute Holding Member
540 (532) open end
542 (532) lumen
544 syringe
546 Plunger
548 body
550 barrels
552 (550) inner surface
554 Coating material
556 Luer mount
558 Lure Taper
560 (558) internal pathways
562 Inside
564 coupling
566 (564) male part
568 (564) female part
570 barrier coating
572 lock collar
574 Main vacuum valve
576 vacuum line
578 Manual bypass valve
580 Bypass pipeline
582 Ventilation valve
584 Main reactive gas valve
586 Main reactant supply line
588 Organosilicon fluid reservoir
590 Organosilicon supply line (capillary)
592 Organosilicon shut-off valve
594 oxygen tank
596 Oxygen supply line
598 Mass flow controller
600 oxygen shut-off valve
602 Syringe external barrier coating
604 Lumen
606 barrel exterior
610 plasma shield
612 Plasma shield cavity
614 headspace
616 Pressure source
618 pressure line
620 Capillary connection
630 Uncoated COC plot
632 plot for SiOx coated COC
634 Plot for glass
5501 1st processing station
5502 Second processing station
5503 3rd treatment station
5504 4th treatment station
5505 processor
5506 user interface
5507 bus
5701 PECVD equipment
5702 First detector
5703 Second detector
5704 detector
5705 detector
5706 detector
5707 Detector
7001 Conveyor exit branch
7002 Conveyor exit branch
7003 Conveyor exit branch
7004 Conveyor exit branch

Claims (24)

被覆材を基体表面に塗布して被覆表面を成形する被覆処理製品の検査方法を提供し、当該方法は以下の手順からなる:
(a) 検査物体としての製品提供、
(c) 前記被覆表面に隣接する気層へと当該検査物体から放出される少なくとも1の揮発性種の測定、および
(d) 同一試験条件下での少なくとも1の参照物体を使用しての手順 (c) の結果と、前記(c)の結果との比較、したがっての被覆材の有無および/または被覆材の物理的および/または化学的性質の判定。
A method for inspecting a coated product in which a coating material is applied to a substrate surface to form the coated surface is provided, which method comprises the following steps:
(a) Providing products as inspection objects,
(c) measuring at least one volatile species released from the test object into the air layer adjacent to the coated surface; and
(d) Comparison of the result of procedure (c) with at least one reference object under the same test conditions with the result of (c) above, and therefore the presence or absence of a coating and / or the physical properties of the coating Determination of chemical and / or chemical properties.
前記被覆材の物理的および/または化学的性質が、遮断性、ぬれ張力、および組成物からなる群から選択されて決定され、および好ましくは遮断性である、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the physical and / or chemical properties of the dressing are determined and selected from the group consisting of barrier properties, wetting tensions, and compositions, and are preferably barrier properties. 被覆表面に隣接する気層内の少なくとも1の揮発性種の質量流量または体積流量を測定することにより手順 (c) が実行される、請求項1または2に記載の方法。   The method according to claim 1 or 2, wherein step (c) is carried out by measuring the mass flow or volume flow of at least one volatile species in the gas layer adjacent to the coated surface. 以下を満たす、請求項1〜3いずれか1項に記載の方法:
(i) 前記参照物体が非被覆基体である、または
(ii) 前記参照物体が、参照被覆材で被覆された基体である。
The method according to any one of claims 1 to 3, which satisfies the following:
(i) the reference object is an uncoated substrate, or
(ii) The reference object is a substrate coated with a reference coating material.
手順 (a) と (c) の間の追加手順として以下の手順を含む、請求項1〜4いずれか1項に記載の方法:
(b) 前記被覆表面を通して圧力差が提供され、圧力差なしにおけるより高い揮発性種の質量流量または体積流量が実現され得るような前記被覆表面に隣接する気層における気圧の変更。
The method according to any one of claims 1 to 4, comprising the following steps as an additional step between steps (a) and (c):
(b) A change in air pressure in the gas layer adjacent to the coated surface such that a pressure difference is provided through the coated surface and a higher volatile species mass flow or volume flow without pressure differential can be achieved.
基体の被覆表面と真空源との間に介在させた測定セルを利用して圧力を測定する、請求項5に記載の方法。   6. The method according to claim 5, wherein the pressure is measured using a measurement cell interposed between the coated surface of the substrate and a vacuum source. 揮発性種が試験条件においてガスまたは蒸気であり、好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、揮発性被覆材成分、揮発性基体成分、およびそれらの複合体からなる群から選択され、より好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、またはそれらの複合体である、請求項1〜6いずれか1項に記載の方法。   The volatile species is a gas or vapor at the test conditions, preferably selected from the group consisting of air, nitrogen, oxygen, water vapor, volatile coating components, volatile substrate components, and complexes thereof, more preferably air. The method of any one of Claims 1-6 which is nitrogen, oxygen, water vapor | steam, or those composites. 検査物体が手順 (a) において揮発性種、好ましくは大気、窒素、酸素、水蒸気、およびそれらの複合体からなる群から選択される揮発性種に接触し、かくして、好ましくは検査物体の素材上/内への前記揮発性種の吸収を可能とされ、その後の検査物質からの前記揮発性種の放出が手順 (c) において測定される、請求項1〜7いずれか1項に記載の方法。   The test object contacts in step (a) a volatile species, preferably a volatile species selected from the group consisting of air, nitrogen, oxygen, water vapor, and complexes thereof, and thus preferably on the material of the test object. 8. The method according to any one of claims 1 to 7, wherein absorption of the volatile species into / in is allowed and subsequent release of the volatile species from the test substance is measured in step (c). . 多数の異なる揮発性種を手順 (c) で測定し、好ましくは検査物質から放出された実質上すべての揮発性種を手順 (c) で測定する、請求項1〜8いずれか1項に記載の方法。   9. A number of different volatile species are measured in step (c), preferably substantially all volatile species released from the test substance are measured in step (c). the method of. 基体がポリマー化合物であり、好ましくはポリエステル、ポリオレフィン、環状オレフィン共重合体、ポリカーボネート、またはそれらの複合体である、請求項1〜9いずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 9, wherein the substrate is a polymer compound, preferably polyester, polyolefin, cyclic olefin copolymer, polycarbonate, or a composite thereof. 当該被覆材が、有機ケイ素前駆体からPECVDにより調製された被覆材である、請求項1〜10いずれか1項に記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the coating material is a coating material prepared by PECVD from an organosilicon precursor. 以下を満たす、請求項1〜11いずれか1項に記載の方法:
(i) 被覆材がバリア被覆材であり、好ましくはSiOx層(xは約1.5〜約2.9)であり、および/または
(ii) 前記被覆材が被覆された基体の潤滑性および/または表面張力を変更する被覆であり、好ましくはSiwxyz層(wは1、xは約0.5〜2.4、yは約0.6〜約3、zは2〜約9)である。
The method according to any one of claims 1 to 11, which satisfies the following:
(i) the coating is a barrier coating, preferably a SiO x layer (x is about 1.5 to about 2.9), and / or
(ii) A coating that changes the lubricity and / or surface tension of the substrate coated with the coating material, preferably a Si w O x C y H z layer (w is 1, x is about 0.5 to 2). .4, y is about 0.6 to about 3, and z is 2 to about 9).
揮発性種が当該被覆材から放出される揮発性種、好ましくは揮発性被覆材成分であり、当該被覆材の存在、性質、および/または組成を判定する検査を行なう、請求項1〜12いずれか1項に記載の方法。   A volatile species is a volatile species released from the dressing, preferably a volatile dressing component, and performs a test to determine the presence, nature, and / or composition of the dressing. The method according to claim 1. 揮発性種が基体から放出される揮発性種であり、被覆材の有無および/または当該被覆材のバリア効果を判定する検査を行なう、請求項1〜13いずれか1項に記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the volatile species are volatile species released from the substrate, and an inspection is performed to determine the presence or absence of a coating material and / or the barrier effect of the coating material. 基体は壁を有する容器であり、被覆処理中に前記壁の内面または外面の少なくとも一部が被覆され、好ましくは当該被覆材が当該容器壁の内面に付着される、請求項1〜14いずれか1項に記載の方法。   The substrate is a container having a wall, and at least a part of the inner surface or the outer surface of the wall is coated during the coating process, and preferably the coating material is attached to the inner surface of the container wall. 2. The method according to item 1. 容器の内外に圧力差を確立して、被覆された容器壁からの揮発性種ガス放出を測定する、請求項15に記載の方法。   16. The method of claim 15, wherein a pressure differential is established inside and outside the container to measure volatile species gas emissions from the coated container wall. 前記容器内を少なくとも部分真空化することにより前記圧力差を提供する、請求項15または16に記載の方法。   17. A method according to claim 15 or 16, wherein the pressure difference is provided by at least partial evacuation within the vessel. 被覆材の有無の判別、および/または当該被覆材の物理的および/または化学的性質の判定に有効な条件には、1時間未満、または1分未満、または50秒未満、または40秒未満、または30秒未満、または20秒未満、または15秒未満、または10秒未満、または8秒未満、または6秒未満、または4秒未満、または3秒未満、または2秒未満、または1秒未満の試験期間が含まれる、請求項1〜17いずれか1項に記載の方法。   Effective conditions for determining the presence or absence of a coating and / or determining the physical and / or chemical properties of the coating are less than 1 hour, or less than 1 minute, or less than 50 seconds, or less than 40 seconds, Or less than 30 seconds, or less than 20 seconds, or less than 15 seconds, or less than 10 seconds, or less than 8 seconds, or less than 6 seconds, or less than 4 seconds, or less than 3 seconds, or less than 2 seconds, or less than 1 second The method according to claim 1, wherein a test period is included. 大気圧および/または温度および/または湿度を変更することで、揮発性種の放出量を変更し、かくして、前記放出量および/または測定される揮発性種の種類に関する参照物体と検査物体との間の差異を増大させる、請求項1〜18いずれか1項に記載の方法。   By changing the atmospheric pressure and / or temperature and / or humidity, the emission amount of the volatile species is changed, thus the reference object and the inspection object with respect to the emission amount and / or the type of volatile species to be measured. 19. A method according to any one of claims 1-18, wherein the difference between them is increased. 所定の基準に満たない被覆製品または破損した被覆材を同定し除去するための、被覆材処理のインライン処理制御法として利用される、請求項1〜19いずれか1項に記載の方法。   20. A method according to any one of the preceding claims, used as an in-line process control method for coating treatment to identify and remove coating products or damaged coatings that do not meet predetermined criteria. 被覆が真空条件下に実行されるPECVD被覆であり、引続くガス放出測定がPECVD被覆で使用した真空を破らずに実施する、請求項1〜20いずれか1項に記載の方法。   21. A method according to any one of claims 1 to 20, wherein the coating is a PECVD coating performed under vacuum conditions and subsequent outgassing measurements are performed without breaking the vacuum used in the PECVD coating. 測定をマイクロカンチレバー測定技術を用いて行う、請求項1〜21いずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 21, wherein the measurement is performed using a microcantilever measurement technique. 以下により測定を行う、請求項22に記載の方法:
(i) (a) ガス放出物質の存在下で移動または異なる形状へと変化する性質を有する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供、
(b) 当該マイクロカンチレバーを移動または異なる形状へと変化させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出物質への曝露、および
(c) 好ましくはマイクロカンチレバーのガス放出物質への曝露前および後のマイクロカンチレバーの形状変化部からのエネルギー入射ビーム、例えばレーザービーム入射の反射による前記マイクロカンチレバーの移動または異なる形状の検出、および、カンチレバーから離れた点での、当該反射ビームの偏差結果の測定、または
(ii) (a) ガス放出物質の存在下で異なる周波数に共鳴する少なくとも1つのマイクロカンチレバーの提供、
(b) 当該マイクロカンチレバーを異なる周波数で共鳴させるのに有効である条件下でのマイクロカンチレバーのガス放出物質への曝露、および
(c) 例えば調和振動センサーを使用しての異なる共鳴周波数の検出。
The method according to claim 22, wherein the measurement is carried out by:
(i) (a) providing at least one microcantilever having the property of moving or changing into a different shape in the presence of a gas releasing material;
(b) exposure of the microcantilever to an outgassing material under conditions effective to move or change the microcantilever to a different shape; and
(c) preferably the movement of the microcantilever or the detection of a different shape by reflection of the incident energy beam from the shape change part of the microcantilever, e.g. before and after exposure of the microcantilever to the gas releasing material; and Measuring the deviation of the reflected beam at a point away from the cantilever, or
(ii) (a) providing at least one microcantilever that resonates at different frequencies in the presence of an outgassing material;
(b) exposure of the microcantilever to an outgassing material under conditions effective to resonate the microcantilever at different frequencies; and
(c) Detection of different resonance frequencies, for example using harmonic vibration sensors.
請求項20〜23のいずれかに記載の方法を実行するための装置。   24. An apparatus for performing the method of any of claims 20-23.
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