JP2012501580A - ヒューリスティックなビューマージングによるビュー合成 - Google Patents
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Abstract
Description
様々な特定の実現は、3D映像(3DV)応用向けのヒューリスティックなビューマージングによるビュー合成に関する。
本出願は、(1)“View Synthesis with Boundary-Splatting and Heuristic View Merging for 3DV Applications”と題された2008年9月19日に提出された米国特許仮出願61/192612、及び(2)“View Synthesis with Adaptive Splatting for 3D Video(3DV) Application”と題された2008年8月29日に提出された米国特許仮出願61/092967の両者の利益を特許請求するものである。これらの米国特許仮出願の内容は、引用によりそれらの完全な形で本明細書に盛り込まれる。
ビュー合成の実行における最初のステップは、フォワードワーピングであり、これは、基準とするビューにおけるそれぞれの画素について、その対応する位置を目標とするビューにおいて発見することを含む。この3Dのイメージワープは、コンピュータグラフィックスにおいて知られている。入力ビューが補正されているかに依存して、異なる式を使用することができる。
その同次座標P=[x,y,z,l]Tにより3Dポイントを定義する場合、且つその基準とする画像平面における透視投影(すなわち2D画像位置)がpr=[ur,νr,l]Tである場合、以下の式を有する。
補正されているビューについて、(典型的に水平線に沿った)1Dの視差は、ある画素があるビューから別のビューにどのように移動されるかを示す。以下のカメラパラメータが与えられるとする。
(i)f:カメラレンズの焦点距離
(ii)l:カメラ距離としても知られるベースライン間隔
(iii)du:主点のオフセットにおける差。
合成されたビューでの画質を改善するため、基準とするビューをアップサンプルすることができ、すなわち新たなサブピクセルは半画素の位置に挿入され、4分の1画素の位置又は更に精度の細かい解像度となる。これに応じて奥行き画像をアップサンプルすることができる。基準とするビューにおけるサブピクセルは、整数の基準とする画素と同じやり方でワープされる(すなわち画素はフルピクセルの位置にワープされる)。同様に、合成されたビューにおいて、新たな目標とする画素は、サブピクセルの位置に挿入することができる。
ビューワーピングの結果は、図1A及び図1Bに例示される。ここで、目標とするビューにおける画素の値をその周囲のワープされた基準とする画素からどのように推定するかに関する問題に対処する。図7は、本発明の実施の形態に係る、ビュー合成及びマージングプロセス700を示す。プロセス700は、ワーピング後に実行され、単一のビューの合成及び新たなビューのマージングスキームのための境界レイヤのスプラッティングを含む。ステップ702で、基準とするビュー1は、プロセス700に入力される。ステップ704で、基準とするビュー2は、プロセス700に入力される。ステップ705で、(アップサンプリングにより挿入されたサブピクセルを含む)それぞれの基準とする画素がワープされる。ステップ710で、奥行き画像に基づいて境界が検出される。ステップ715で、ワープされた画素が境界に近いか否かが判定される。ワープされた画素が境界に近い場合、制御はステップ720に進む。さもなければ、制御はステップ735に進む。
先に説明されたように、ピンホールを低減するため、ワープされた画素は、複数の隣接した目標とする画素にマッピングされる。補正されたビューの場合、典型的に、その左及び右にある目標とする画素にマッピングされる。簡単にするために、補正されたビューの場合(図1B)について提案される方法を説明する。たとえば、図1Bでは、ワープされた画素W1は、目標とする画素S1及びS2にマッピングされる。しかし、この方法は、特にサブピクセルの精度が使用されるとき、画質に影響を及ぼすことが分かる(すなわち、スプラッティングのために高周波の詳細が失われる)。ピンホールが前景と後景との間の境界、すなわち大きな奥行きの不連続さをもつ境界の周辺で大部分が生じることを考慮して、境界に近い画素についてのみスプラッティングを適用することが提案される。図1Bの場合、(たとえば境界から50画素の距離よりも離れているといった)画素W1が境界に近くない場合、この画素は、その最も近い目標とする画素S1にマッピングされる。勿論、先の50画素の距離は単なる例示であって、当業者により容易に考えられるように、本発明の精神を維持しつつ、他の画素の距離が使用される場合がある。
1を超える基準とするビューが利用可能であるとき、2つのビューの場合に図7で例示されるように、合成された画像がそれぞれのビューから個別に生成されるとき、マージングプロセスが一般に必要とされる。問題は、それらのビューをどのように結合するか、すなわちp1(基準とするビューから合成された画像で配列される画素)及びp2(基準とするビュー2から合成された画像で配置される画素)から、マージされる画像における目標とする画素pの値をどのように取得するか、である。
ステップ835で、p1及びp2は、式(6)を使用して平均される。
実施の形態2では、雑音が多い奥行き画像を処理するマージングプロセスについて、Zバッファリングと共に周囲のホール分布が使用される。ここで、図9に示されるビューマージングに役立つ別の方法を提案する。図9は、本発明の実施の形態に係る、奥行き、後方合成エラー、カメラパラメータを利用したマージングプロセスを示す。ステップ902で、基準とするビュー1からの合成された画像は、プロセス900に入力される。ステップ904で、基準とするビュー2からの合成された画像は、プロセス900に入力される。ステップ903で、p1,p2(pと同じ画像の位置)は、プロセスに入力される。ステップ905で、基準とするビュー1は、後方合成され、再合成された基準とするビュー1は、入力の基準とするビュー1と比較される。ステップ910で、入力の基準とするビューとの差(エラー)D1は、プロセス900に入力される。ステップ915で、pの周りの小さな領域でD1及びD2は比較され、これらが類似しているか否かが判定される。これらが類似していると判定された場合、制御は機能ブロック930に移る。これらが類似していると判定されない場合、制御は機能ブロック935に移る。
ステップ920で、|depth(p1) − depth(p2)|> depthThresholdであるか否かが判定される。|depth(p1) − depth(p2)|> depthThresholdであると判定された場合、制御はステップ925に移る。|depth(p1) − depth(p2)|> depthThresholdであると判定されない場合、制御はステップ915に移る。
ステップ925で、カメラに近い(p1又はp2の何れかの)画素がpについて選択される。
ステップ950で、基準とするビュー2が後方合成され、再合成された基準とするビュー2は、入力の基準とするビュー2と比較される。ステップ955で、入力の基準とするビューとの差(エラー)D2は、プロセス900に入力される。
ステップ1070で、D2がpの周囲の小さな領域で閾値よりも小さいか否かが判定される。小さいと判定された場合、制御はステップ1075に進む。小さいと判定されない場合、制御はステップ1080に進む。
この実施の形態では、ワープされた画素の品質を評価する基準として、高周波エネルギーが提案される。フォワードワーピング後の空間アクティビティにおける有意な増加は、(たとえば粗悪な奥行き情報によるような)ワーピングプロセスの間のエラーの存在を示す可能性がある。空間アクティビティが高くなると高周波におけるエネルギーが高くなるので、(たとえば、限定されるものではないがM×N画素のブロックのような)画像のパッチで計算される高周波のエネルギー情報を使用することを提案する。特定の実現では、全ての基準とするビューから、ある画素の周囲に多くのホールが存在しない場合、ある画素の周りのブロックを処理するために高周波フィルタを使用して、高周波において低いエネルギーをもつ画素を選択することが提案される。最終的に、全てが高周波で高いエネルギーを有する場合に、画素は選択されない。この実施の形態は、実施の形態3の代替又は相補となるものである。
これらのホールに対処する最も簡単なアプローチは、ホールに隣接する画素を調べて、それらの幾つかを使用してホールを充填することである。しかし、任意の既存のホールフィリング方法を適用することもできる。
多数の実現が記載された。しかし、様々な変更が行われる場合があることが理解される。たとえば、異なる実現のエレメントが結合、補充、変更、又は除去されて他の実現を生成する場合がある。さらに、当業者であれば、他の構造及び処理が開示された構造又は処理と置き換えられること、結果的に得られる実現は、少なくとも実質的に開示される実現と同じ結果を達成するため、少なくとも実質的に同じやり方で、少なくとも実質的に同じ機能を実行することを理解されるであろう。従って、これらの実現及び他の実現は、本出願により考えられ、以下の特許請求の範囲に包含されるものである。
Claims (36)
- 第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも1つに基づいて評価するステップと、前記評価は、前記第一の移動された基準のビューと前記第二の移動された基準のビューとを1つの合成されたビューにマージする処理の一部として行われ、
前記評価に基づいて、前記1つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記結果を判定するステップは、前記所与の目標となる画素の値を決定するステップを含む、
請求項1記載の方法。 - 前記結果を判定するステップは、前記所与の目標となる画素がホールであることを判定するステップを含む、
請求項1記載の方法。 - 前記ホールの分布は、前記第一の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第一のホールカウントと、前記第二の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第二のホールカウントとを含み、
前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、前記所与の目標となる画素の値として、前記第一のホールカウント及び前記第二のホールカウントのなかから最小のホールカウント値を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップを含む、
請求項2記載の方法。 - 前記所与の目標となる画素の値として、前記第一のホールカウント及び前記第二のホールカウントのなかから前記最小のホールカウント値を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップは、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントの間の差が予め決定された差の閾値よりも大きいときにのみ実行される、
請求項4記載の方法。 - 前記所与の目標となる画素の値として、前記第一のホールカウント及び前記第二のホールカウントのなかから前記最小のホールカウント値を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップは、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントの間の差が、予め決定された差の閾値よりも大きいとき、前記第一の候補となる画素の奥行きと前記第二の候補となる画素の奥行きの間の差が予め決定された奥行きの閾値よりも大きくないときにのみ実行される、
請求項4記載の方法。 - 前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントの間の差が前記予め決定された差の閾値よりも大きくないとき、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の値を平均するステップを含む、
請求項4記載の方法。 - 前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素の値を平均するステップは、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントの間の差が予め決定された差の閾値よりも大きくないときであって、前記第一の候補となる画素の奥行きと前記第二の候補となる画素の奥行きとの差が予め決定された奥行きの閾値よりも大きくないときにのみ実行される、
請求項7記載の方法。 - 前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素の値を平均するステップは、前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素のそれぞれの重み付け要素を使用するステップを含む、
請求項7記載の方法。 - 前記重み付け要素は、前記第一の移動された基準のビューと前記1つの合成されたビューとの間の距離及び前記第二の移動された基準のビューと前記1つの合成されたビューとの間の距離のうちの少なくとも1つに基づいて決定される、
請求項9記載の方法。 - 前記重み付け要素は、前記第一のホールカウント及び前記第二のホールカウントに基づいて決定される、
請求項8記載の方法。 - 前記重み付け要素は、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの位置に基づいて決定される、
請求項8記載の方法。 - 前記ホール分布は、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの位置に基づいており、
前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、前記所与の目標となる画素の値として、前記第一の候補となる画素又は前記第二の候補となる画素の所与の側に多く位置されるホールを有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップ、又は、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかに高い重み付け要素を割り当てるステップを含む、
請求項11記載の方法。 - 前記ホール分布は、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの位置を更に含み、
前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、前記所与の目標となる画素の値として、前記第一の候補となる画素又は前記第二の候補となる画素の所与の側に多く位置されるホールを有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップ、又は、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかに高い重み付け要素を割り当てるステップを含む、
請求項2記載の方法。 - 前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の両者は、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントの両者が予め決定されたホールカウントの閾値を超えるときに、前記所与の目標となる画素の値の決定における使用から除かれる、
請求項4記載の方法。 - 前記後方合成プロセスは、
前記第一の基準のビューと前記第二の基準のビューを再合成して、再合成された第一の移動された基準のビュー及び再合成された第二の移動された基準のビューをそれぞれ供給するステップと、
前記再合成された第一の基準のビューと、前記第一の移動された基準のビューが取得された第一の基準のビューとの間の第一の差を計算するステップと、
前記再合成された第二の基準のビューと、前記第二の移動された基準のビューが取得された第二の基準のビューとの間の第二の差を計算するステップと、
前記第一の候補となる画素の周囲の領域に適用される前記第一の差に関する第一の合計を計算するステップと、
前記第二の候補となる画素の周囲の領域に適用される前記第二の差に関する第二の合計を計算するステップと、
当該方法は、前記第一の合計と前記第二の合計の少なくとも1つに基づいて前記所与の目標となる画素の値を決定するステップを更に含む、
請求項2記載の方法。 - 前記第一の合計と前記第二の合計の少なくとも1つに基づいて前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、
前記所与の目標となる画素の値として、前記第一の合計が前記第二の合計未満であって、前記第一の合計と前記第二の合計の間の差が予め決定された差の閾値よりも大きいときに前記第一の候補となる画素を選択し、前記第二の合計が前記第一の合計未満であって、前記第一の合計と前記第二の合計の間の差が予め決定された差の閾値よりも大きいときに前記第二の候補となる画素を選択し、前記第一の合計と前記第二の合計の間の差が予め決定された差の閾値よりも大きくないとき、前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素の値を平均するステップを含む、
請求項16記載の方法。 - 前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素の値を平均するステップは、前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素のそれぞれについて重み付け要素を使用するステップを含む、
請求項17記載の方法。 - 前記第一の合計と前記第二の合計の少なくとも1つが予め決定された合計の閾値よりも大きいとき、前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素の少なくとも1つを除くステップを更に含む、
請求項16記載の方法。 - 前記第一の合計及び前記第二の合計が前記予め決定された合計の閾値よりも大きいとき、前記所与の目標となる画素をホールとして記録するステップを更に含む、
請求項19記載の方法。 - 前記ホール分布は、前記第一の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第一のホールカウントと前記第二の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第二のホールカウントとを含み、
前記1つの合成されたビューにおける前記所与の目標となる画素について、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素を選択するステップは、前記第一のホールカウントと前記第二のホールカウントが所与のホールカウントの閾値以下であるとき、エネルギー量について低い値を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを選択するステップを含む、
請求項2記載の方法。 - 所与の閾値を超えるエネルギー量を有する前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の何れかを除くステップを更に含む、
請求項2記載の方法。 - 前記1つの合成されたビューにおける前記所与の目標となる画素の値を決定するステップは、
前記第一の候補となる画素の周囲のエネルギー量を決定して第一の量を取得するステップと、
前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギー量を決定して第二の量を取得するステップと、
前記第一の量及び前記第二の量の少なくとも1つに基づいて、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの1つを選択するステップ、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの1つを削除するステップ、又は前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素とを結合するステップと、
を含む請求項2記載の方法。 - 前記ホール分布は、前記第一の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第一のホールカウントと前記第二の候補となる画素の周囲のホールの数を示す第二のホールカウントとを含み、
前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの1つを選択する前記ステップ、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの1つを削除する前記ステップ、又は前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素とを結合する前記ステップは、前記第一のホールカウント及び前記第二のホールカウントの少なくとも1つに更に基づく、
請求項23記載の方法。 - 前記ホール分布は、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの位置に基づいており、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの1つを選択する前記ステップ、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素のうちの1つを除く前記ステップ、又は前記第一の候補となる画素と前記第二の候補となる画素とを結合する前記ステップは、前記第一の候補となる画素の周囲のホールの位置及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの位置の少なくとも1つに更に基づく、
請求項24記載の方法。 - 第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも1つに基づいて評価する手段と、前記評価は、前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを1つの合成されたビューにマージする処理の一部として行われ、
前記評価に基づいて、前記1つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - プロセッサに、
第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも1つに基づいて評価するステップと、前記評価は、前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを1つの合成されたビューにマージする処理の一部として行われ、
前記評価に基づいて、前記1つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定するステップと、
を実行させる命令を記憶したプロセッサ読み取り可能な記録媒体。 - 第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも1つに基づいて評価するステップと、前記評価は、前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを1つの合成されたビューにマージする処理の一部として行われ、
前記評価に基づいて、前記1つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定するステップと、
を実行させる命令を記憶したプロセッサ読み取り可能な記録媒体。 - 第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも1つに基づいて評価し、前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを1つの合成されたビューにマージする処理の一部として前記評価を行う手段と、
前記評価に基づいて、前記1つの合成されたビューにおける所与の目標となる画素について結果を判定する手段と、
を有するビューマージ手段を備える装置。 - 当該装置は、エンコーダを含む、
請求項29記載の装置。 - 前記当該装置は、デコーダを含む、
請求項29記載の装置。 - 前記ビューマージ手段は、前記所与の目標となる画素をホールとして記録するホールマーカを有する、
請求項29記載の装置。 - 第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも1つに基づいて評価し、前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを1つの合成されたビューにマージする処理の一部として前記評価を行ない、前記評価に基づいて、前記1つの合成されたビューにおける所与の目標とする画素について結果を判定するビューマージ手段と、
前記1つの合成されたビューを含む信号を変調する変調手段と、
を備える装置。 - 当該装置は、エンコーダを含む、
請求項33記載の装置。 - 当該装置は、デコーダを含む、
請求項33記載の装置。 - 第一の移動された基準のビューと第二の移動された基準のビューとを含む信号を復調する復調手段と、
第一の移動された基準のビューからの第一の候補となる画素と、第二の移動された基準のビューからの第二の候補となる画素とを、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の品質を評価する後方合成プロセス、前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のホールの分布及び指定された周波数を超える前記第一の候補となる画素及び前記第二の候補となる画素の周囲のエネルギーの量の少なくとも1つに基づいて評価し、前記第一の移動された基準のビュー及び前記第二の移動された基準のビューを1つの合成されたビューにマージする処理の一部として前記評価を行い、前記評価に基づいて、前記1つの合成されたビューにおける所与の目標とする画素について結果を判定するビューマージ手段と、
を備える装置。
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