JP2012256503A - Light-emitting device and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the light extraction efficiency from lowering, in a top emission light-emitting device having a resonance structure and using a white light-emitting element of tandem structure.SOLUTION: In a red light-emitting element U1 and a green light-emitting element U2, a second luminous layer 23 provided at a position closer to a counter electrode 30 than a charge separation layer 20 is used, and a pixel electrode 13 is provided between a first luminous layer 16 provided at a position closer to a reflective layer 11 than a charge separation layer 20 and the reflective layer 11. In a blue light-emitting element U3, a first luminous portion provided at a position closer to the reflective layer 10 than the charge separation layer 20 is used, and the reflective layer 10 also serves as the pixel electrode.

Description

本発明は、各種の発光素子を利用した発光装置およびこの発光装置を備えた電子機器に関する。   The present invention relates to a light emitting device using various light emitting elements and an electronic apparatus including the light emitting device.

近年、基板上に有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子を発光素子として形成し、発光素子の発光光を基板と反対側に取り出すトップエミッション方式の発光装置が電子機器の表示装置などとして多用されている。トップエミッション方式は、発光素子を挟み、基板側に形成された一方の第1電極(例えば陽極)と基板との間に反射層を形成し、発光素子を挟む他方の第2電極(例えば陰極)側から光を取り出す方式であって、光の利用効率が高い方式である。   In recent years, a top emission type light-emitting device in which an organic EL (electroluminescence) element is formed as a light-emitting element on a substrate and light emitted from the light-emitting element is extracted on the side opposite to the substrate has been widely used as a display device for electronic devices. In the top emission method, a reflective layer is formed between one of the first electrodes (for example, an anode) formed on the substrate side and the substrate, with the light emitting element interposed therebetween, and the other second electrode (for example, a cathode) that sandwiches the light emitting element. This is a method of taking out light from the side, and is a method with high light utilization efficiency.

トップエミッション方式の発光装置において、白色の有機EL素子を用い、前記第2電極と反射層との間で所定の波長の光を共振させて、光の取り出し効率を高める技術が開示されている(例えば非特許文献1)。この技術では、共振構造におけるピーク波長をλ、反射層から前記第2電極の光学的距離をD、前記反射層での反射における位相シフトをφ、前記第2電極での反射における位相シフトをφ、整数をmとしたとき、下記の式を満たす光学構造が提案されている。
D={(2πm+φ+φ)/4π}λ・・・(1)
In a top emission type light emitting device, a technology is disclosed in which a white organic EL element is used to resonate light having a predetermined wavelength between the second electrode and the reflective layer, thereby increasing light extraction efficiency ( For example, Non-Patent Document 1). In this technique, the peak wavelength in the resonance structure is λ, the optical distance from the reflective layer to the second electrode is D, the phase shift in reflection at the reflective layer is φ L , and the phase shift in reflection at the second electrode is An optical structure that satisfies the following formula is proposed, where φ U is an integer m.
D = {(2πm + φ L + φ U ) / 4π} λ (1)

また、前記共振構造を有すると共に、赤色の有機EL素子、緑色の有機EL素子および青色の有機EL素子を中間層を介して積層することによりタンデム構造の白色発光素子とし、カラーフィルターを用いてフルカラーを実現する発光装置が提案されている。   In addition to having the above-mentioned resonance structure, a red organic EL element, a green organic EL element, and a blue organic EL element are stacked via an intermediate layer to form a white light emitting element having a tandem structure, and a full color using a color filter. A light emitting device that realizes the above has been proposed.

さらに、このようなタンデム構造の白色発光素子を有する発光装置であって、赤色の有機EL素子、緑色の有機EL素子および青色の有機EL素子のうち、2色の有機EL素子の光路長を同一にし、製造プロセスを簡略化した発光装置が提案されている(特許文献1)。   Furthermore, the light-emitting device has such a tandem white light-emitting element, and the optical path lengths of the two organic EL elements are the same among the red organic EL element, the green organic EL element, and the blue organic EL element. In addition, a light emitting device with a simplified manufacturing process has been proposed (Patent Document 1).

この発光装置は、同一の光学距離で複数のピークが現れるように、前記(1)式においてmの値が2以上となる共振構造を有している。前記タンデム構造を採用する場合には、発光素子の膜厚を薄くすると特性が低下するため、200以上の膜厚を確保した方が好ましい。また、光学距離を変えて各色ごとにピークが現れるようにすると、製造工程が増えてしまう。したがって、前記タンデム構造を採用する場合において、特性の低下を防ぎ、製造工程を簡略化するためには、上述のように、前記(1)式においてmの値が2以上となる共振構造を有することが好ましいと言える。   This light emitting device has a resonance structure in which the value of m is 2 or more in the equation (1) so that a plurality of peaks appear at the same optical distance. In the case of adopting the tandem structure, it is preferable to secure a film thickness of 200 or more because the characteristics deteriorate when the film thickness of the light emitting element is reduced. In addition, if the optical distance is changed so that a peak appears for each color, the number of manufacturing steps increases. Therefore, in the case of adopting the tandem structure, in order to prevent the deterioration of the characteristics and simplify the manufacturing process, as described above, the resonance structure in which the value of m is 2 or more in the equation (1) is provided. It can be said that it is preferable.

特開2006−30250号公報JP 2006-30250 A

しかしながら、前記(1)式においてmの値が大きくなる程、その共振構造によって得られるピーク波長の発光スペクトルは狭くなる。その結果、光エネルギーが減少するので光取り出し効率が低下してしまい、消費電力が高くなるという問題があった。   However, as the value of m in the equation (1) increases, the emission spectrum of the peak wavelength obtained by the resonance structure becomes narrower. As a result, the light energy is reduced, so that the light extraction efficiency is lowered and the power consumption is increased.

このような事情を背景として、本発明は、前記(1)式を満たす共振構造を有し、タンデム構造の白色発光素子を用いたトップエミッション方式の発光装置において、光取り出し効率の低下を防止し、消費電力が高くなることを抑制するという課題の解決を目的としている。   Against this backdrop, the present invention prevents a decrease in light extraction efficiency in a top emission type light emitting device having a resonance structure that satisfies the above formula (1) and using a tandem white light emitting element. The purpose is to solve the problem of suppressing the increase in power consumption.

以上の課題を解決するために、本発明に係る発光装置は、複数の画素が形成されたものであって、前記複数の画素の各々は、反射層と、光透過半反射層と、前記反射層と光透過半反射層との間に形成された複数の発光部と、前記複数の発光部の間に形成された少なくとも一つの電荷分離層と、対向電極とを備え、前記複数の画素のうち、前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記反射層が前記画素電極を兼ねており、前記複数の画素のうち、前記電荷分離層よりも前記光透過半反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記電荷分離層と前記反射層との間に画素電極が設けられており、前記複数の画素のうち、前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記反射層が画素電極として機能することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a light emitting device according to the present invention includes a plurality of pixels, and each of the plurality of pixels includes a reflective layer, a light transmission semi-reflective layer, and the reflective layer. A plurality of light emitting portions formed between the light transmitting and semi-reflective layer, at least one charge separation layer formed between the light emitting portions, and a counter electrode. Among these, for a pixel that extracts light emitted from the light emitting portion provided at a position closer to the reflective layer than the charge separation layer, the reflective layer also serves as the pixel electrode, and among the plurality of pixels, A pixel electrode is provided between the charge separation layer and the reflective layer for a pixel that extracts light emitted from the light emitting unit provided at a position closer to the light transmissive semi-reflective layer than the charge separation layer. And among the plurality of pixels, the charge separation layer For pixels to extract light emitted from the the remote said provided at a position closer to the reflective layer emitting portion, wherein the reflective layer is characterized in that functions as a pixel electrode.

本発明においては、前記反射層と光透過半反射層との間に形成された複数の発光部と、前記複数の発光部の間に形成された少なくとも一つの電荷分離層と、対向電極とを備えた構造を有しているため、各色の画素についてほぼ共通の構造となっており、製造プロセスの簡略化が図られる。しかも、前記電荷分離層よりも前記光透過半反射層に近い位置に設けられた発光部で発光する光を取り出す画素については、前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた発光部と、前記反射層との間に、前記画素電極が設けられている。従って、前記画素電極の層厚を調整することにより、光取り出し効率の高い光学構造が実現できる。また、前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた発光部で発光する光を取り出す画素については、前記反射層が前記画素電極を兼ねている。従って、前記画素電極を兼ねた反射層から前記反射層に近い位置に設けられた発光部までの層間距離を短くすることができ、光取り出し効率の高い光学構造が実現できる。その結果、消費電力を低減させることができる。   In the present invention, a plurality of light emitting portions formed between the reflective layer and the light transmissive semi-reflective layer, at least one charge separation layer formed between the plurality of light emitting portions, and a counter electrode are provided. Since it has the structure provided, it has a structure that is substantially common to the pixels of each color, and the manufacturing process can be simplified. In addition, with respect to a pixel that extracts light emitted from the light emitting unit provided at a position closer to the light transmission semi-reflective layer than the charge separation layer, light emission provided at a position closer to the reflection layer than the charge separation layer. The pixel electrode is provided between the portion and the reflective layer. Therefore, an optical structure with high light extraction efficiency can be realized by adjusting the layer thickness of the pixel electrode. In addition, for a pixel that extracts light emitted from a light emitting portion provided at a position closer to the reflective layer than the charge separation layer, the reflective layer also serves as the pixel electrode. Therefore, the interlayer distance from the reflective layer serving also as the pixel electrode to the light emitting portion provided at a position close to the reflective layer can be shortened, and an optical structure with high light extraction efficiency can be realized. As a result, power consumption can be reduced.

本発明に係る発光装置として、前記反射層から前記光透過半反射層間の光学的距離をD、前記反射層での反射における位相シフトをφ、前記光透過半反射層での反射における位相シフトをφ、ピーク波長をλ、mを整数とするとき、いずれの色の画素についても、下記(2)式
D={(2πm+φ+φ)/4π}λ・・・(2)
において、m≧1を満たすようにしてもよい。
In the light emitting device according to the present invention, the optical distance between the reflective layer and the light transmissive semi-reflective layer is D, the phase shift in reflection at the reflective layer is φ L , and the phase shift in reflection at the light transmissive semi-reflective layer Is φ U , the peak wavelength is λ, and m 1 is an integer, the following formula (2) for any color pixel: D = {(2πm 1 + φ L + φ U ) / 4π} λ (2 )
In this case, m 1 ≧ 1 may be satisfied.

本発明によれば、前記反射層と光透過半反射層との間に形成された複数の発光部と、前記複数の発光部の間に形成された少なくとも一つの電荷分離層と、対向電極とを備えた構造を有していると共に、上記(2)式においてはm≧1を満たすので、発光スペクトルの幅が広い特性を示し、光エネルギーの増大により、光取り出し効率を高くすることができる。その結果、消費電力を低減させることができる。 According to the present invention, a plurality of light emitting portions formed between the reflective layer and the light transmissive semi-reflective layer, at least one charge separation layer formed between the plurality of light emitting portions, a counter electrode, In the above equation (2), m 1 ≧ 1 is satisfied, so that the emission spectrum has a wide width, and the light extraction efficiency can be increased by increasing the light energy. it can. As a result, power consumption can be reduced.

本発明に係る発光装置として、前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記画素電極を兼ねている前記反射層と、前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部との間の光学的距離をL、前記反射層の界面における位相シフトをφ、ピーク波長をλとするとき、下記(3)式、
2L=(φ/2π)λ・・・(3)
を満たすようにしてもよい。
As a light-emitting device according to the present invention, for a pixel that extracts light emitted from the light-emitting portion provided at a position closer to the reflective layer than the charge separation layer, the reflective layer that also serves as the pixel electrode; When the optical distance between the light emitting portion provided at a position close to the reflective layer is L, the phase shift at the interface of the reflective layer is φ, and the peak wavelength is λ, the following equation (3):
2L = (φ / 2π) λ (3)
You may make it satisfy | fill.

本発明によれば、前記反射層と光透過半反射層との間に形成された複数の発光部と、前記複数の発光部の間に形成された少なくとも一つの電荷分離層と、対向電極とを備えた構造を有していると共に、上記(3)式を満たしているので、反射層と発光部の位置関係が、光取り出し効率が高くなる位置関係にあり、光取り出し効率が高くなる。その結果、消費電力を低減させることができる。   According to the present invention, a plurality of light emitting portions formed between the reflective layer and the light transmissive semi-reflective layer, at least one charge separation layer formed between the plurality of light emitting portions, a counter electrode, In addition, since the above formula (3) is satisfied, the positional relationship between the reflective layer and the light emitting portion is a positional relationship that increases the light extraction efficiency, and the light extraction efficiency is increased. As a result, power consumption can be reduced.

本発明に係る発光装置として、前前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記画素電極を兼ねている前記反射層と、前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部との間に金属酸化物層が形成してもよい。本発明によれば、前記反射層と前記反射層に近い位置に設けられた発光部との間に金属酸化物層を形成しているので、前記反射層に画素電極としての機能を持たせることが可能となる。   As a light-emitting device according to the present invention, for a pixel that extracts light emitted from the light-emitting unit provided at a position closer to the reflective layer than the charge separation layer, the reflective layer that also serves as the pixel electrode; A metal oxide layer may be formed between the light emitting portion provided at a position close to the reflective layer. According to the present invention, since the metal oxide layer is formed between the reflective layer and the light emitting portion provided at a position close to the reflective layer, the reflective layer has a function as a pixel electrode. Is possible.

本発明に係る発光装置として、前記反射層を、Al、Ag、または、これらを主成分とする合金で形成するようにしてもよい。本発明によれば、反射層における反射率が高く、高い光取り出し効率が得られる。   In the light emitting device according to the present invention, the reflective layer may be formed of Al, Ag, or an alloy containing these as a main component. According to the present invention, the reflectance in the reflective layer is high, and high light extraction efficiency can be obtained.

本発明に係る発光装置として、前記対向電極から光が射出する側にカラーフィルターを設けることもできる。本発明に係る発光装置においては、前記電極の上層にカラーフィルターを設けた簡単な構造を実現にしつつ、光の取り出し効率を改善でき、消費電力を低減させることができる。   As the light-emitting device according to the present invention, a color filter may be provided on the side from which light is emitted from the counter electrode. In the light emitting device according to the present invention, the light extraction efficiency can be improved and the power consumption can be reduced while realizing a simple structure in which a color filter is provided on the upper layer of the electrode.

本発明に係る電子機器は、前記発光装置を備えていることを特徴とする。本発明に係る電子機器においては、前記発光装置を備えているので、消費電力を低減することができる。   An electronic apparatus according to the present invention includes the light emitting device. Since the electronic apparatus according to the present invention includes the light emitting device, power consumption can be reduced.

本発明の一実施形態に係る発光装置の概要を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the outline | summary of the light-emitting device which concerns on one Embodiment of this invention. 図1における正孔輸送層、第1発光層、電子輸送層、電荷発生層、電荷分離層、赤色用有機EL素子、緑色用有機EL素子、第2発光層、およびホールブロックに用いられた材料を示す図である。Materials used in the hole transport layer, the first light emitting layer, the electron transport layer, the charge generation layer, the charge separation layer, the red organic EL element, the green organic EL element, the second light emitting layer, and the hole block in FIG. FIG. 反射層と対向電極との間の光学的距離をD、反射層での反射における位相シフトをφ、対向電極での反射における位相シフトをφ、定在波のピーク波長をλ、整数をmとすると、光学構造をD={(2πm+φ+φ)/4π}λで表したとき、各色のピーク波長に対する、整数mと、反射層から対向電極までの膜厚との関係を示す図である。The optical distance between the reflective layer and the counter electrode is D, the phase shift in reflection at the reflective layer is φ L , the phase shift in reflection at the counter electrode is φ U , the peak wavelength of the standing wave is λ, and an integer is Assuming m, when the optical structure is represented by D = {(2πm 1 + φ L + φ U ) / 4π} λ, the relationship between the integer m 1 and the film thickness from the reflective layer to the counter electrode with respect to the peak wavelength of each color FIG. 発光位置と光取り出し効率の関係を算出するためのシミュレーションモデルを示す図である。It is a figure which shows the simulation model for calculating the relationship between a light emission position and light extraction efficiency. 反射層と対向電極の層間距離が220nmの場合の、波長と、反射層から発光層までの距離と、光取り出し効率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the wavelength, the distance from a reflective layer to a light emitting layer, and light extraction efficiency in case the interlayer distance of a reflective layer and a counter electrode is 220 nm. 反射層と対向電極との間の光学的距離をD、反射層での反射における位相シフトをφ、対向電極での反射における位相シフトをφ、定在波のピーク波長をλ、整数をmとすると、光学構造をD={(2πm+φ+φ)/4π}λで表したとき、ピーク波長を490nmとした時に、整数mの値と光取り出し効率との関係を示す図である。The optical distance between the reflective layer and the counter electrode is D, the phase shift in reflection at the reflective layer is φ L , the phase shift in reflection at the counter electrode is φ U , the peak wavelength of the standing wave is λ, and an integer is FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the value of the integer m 1 and the light extraction efficiency when the peak wavelength is 490 nm when the optical structure is represented by D = {(2πm 1 + φ L + φ U ) / 4π} λ. It is. 本実施形態のパネルシミュレーションに用いたカラーフィルターの透過率を示す図である。It is a figure which shows the transmittance | permeability of the color filter used for the panel simulation of this embodiment. 本発明の実施例1および実施例2の各層の材料と膜厚を示した図である。It is the figure which showed the material and film thickness of each layer of Example 1 and Example 2 of this invention. 比較例1と比較例2の各層の材料と膜厚を示した図である。It is the figure which showed the material and film thickness of each layer of the comparative example 1 and the comparative example 2. FIG. 比較例1、比較例2、実施例1および実施例2のカラーフィルターと各素子構造を示した図である。It is the figure which showed the color filter and each element structure of the comparative example 1, the comparative example 2, Example 1, and Example 2. FIG. 比較例1、比較例2、実施例1および実施例2の消費電力を示した図である。It is the figure which showed the power consumption of the comparative example 1, the comparative example 2, Example 1, and Example 2. FIG. 比較例1、比較例2、実施例1および実施例2のNTSC面積比を示した図である。It is the figure which showed the NTSC area ratio of the comparative example 1, the comparative example 2, Example 1, and Example 2. FIG. 比較例と実施例の赤色領域と青色領域の光取り出し効率を示す図である。It is a figure which shows the light extraction efficiency of the red area | region and blue area | region of a comparative example and an Example. 比較例と実施例の緑色領域の光取り出し効率を示す図である。It is a figure which shows the light extraction efficiency of the green area | region of a comparative example and an Example. 図1の実施形態に係る発光装置を表示装置として採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile personal computer which employ | adopted the light-emitting device which concerns on embodiment of FIG. 1 as a display apparatus. 図1の実施形態に係る発光装置を表示装置として採用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone which employ | adopted the light-emitting device which concerns on embodiment of FIG. 1 as a display apparatus. 図1の実施形態に係る発光装置を表示装置として採用した携帯情報端末の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the portable information terminal which employ | adopted the light-emitting device which concerns on embodiment of FIG. 1 as a display apparatus.

以下、添付の図面を参照しながら本発明に係る様々な実施の形態を説明する。図面においては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異ならせてある。
<A:発光装置の構造>
図1は、本発明の一実施形態に係る発光装置E1の概要を示す模式的な断面図である。発光装置E1は、複数の赤色発光素子U1、緑色発光素子U2および青色発光素子U3が第1基板の面上に配列された構成であるが、図1においては、説明の便宜上、各色の発光素子が一つずつ例示されている。
本実施形態の発光装置E1は、トップエミッション型であり、赤色発光素子U1、緑色発光素子U2および青色発光素子U3にて発生した光は第1基板とは反対側、つまり、図1の下から上に向かって進行する。図1には図示を省略するが、第1基板は、ガラスなどの光透過性を有する板材のほか、セラミックスや金属のシートなど不透明な板材を採用することができる。
また、第1基板には、赤色発光素子U1、緑色発光素子U2および青色発光素子U3に給電して発光させるための配線が配置されているが、配線の図示は省略する。また、第1基板には、赤色発光素子U1、緑色発光素子U2および青色発光素子U3に給電するための回路が配置されているが、回路の図示は省略する。
Hereinafter, various embodiments according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the ratio of dimensions of each part is appropriately changed from the actual one.
<A: Structure of light emitting device>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a light emitting device E1 according to an embodiment of the present invention. The light-emitting device E1 has a configuration in which a plurality of red light-emitting elements U1, green light-emitting elements U2, and blue light-emitting elements U3 are arranged on the surface of the first substrate. In FIG. Are illustrated one by one.
The light emitting device E1 of the present embodiment is a top emission type, and the light generated by the red light emitting element U1, the green light emitting element U2, and the blue light emitting element U3 is opposite to the first substrate, that is, from the bottom of FIG. Proceed upward. Although not shown in FIG. 1, an opaque plate material such as a ceramic or metal sheet can be used for the first substrate in addition to a light-transmitting plate material such as glass.
In addition, although wiring for supplying power to the red light emitting element U1, the green light emitting element U2, and the blue light emitting element U3 to emit light is arranged on the first substrate, illustration of the wiring is omitted. Further, although a circuit for supplying power to the red light emitting element U1, the green light emitting element U2, and the blue light emitting element U3 is disposed on the first substrate, illustration of the circuit is omitted.

赤色発光素子U1、緑色発光素子U2および青色発光素子U3は、第1基板の上に形成された反射層11または反射層兼画素電極10と、画素電極14(陽極)と、光取り出し側半透明反射層としての対向電極30(陰極)と、第1発光層16および第2発光層23とを備える。以下、詳細に説明する。   The red light emitting element U1, the green light emitting element U2, and the blue light emitting element U3 are the reflective layer 11 or the reflective layer / pixel electrode 10 formed on the first substrate, the pixel electrode 14 (anode), and the light extraction side translucent. A counter electrode 30 (cathode) as a reflective layer, a first light emitting layer 16 and a second light emitting layer 23 are provided. Details will be described below.

赤色発光素子U1および緑色発光素子U2においては、第1基板上に、図1に示すように、反射層11が形成される。反射層11は、光反射性を有する材料によって形成される。この種の材料としては、例えばAl(アルミニウム)、Ag(銀)などの単体金属、またはAl、Agを主成分とする合金などが好適に採用される。本実施形態では、赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の反射層11はAlで形成される。   In the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2, as shown in FIG. 1, the reflective layer 11 is formed on the first substrate. The reflective layer 11 is formed of a material having light reflectivity. As this type of material, for example, a single metal such as Al (aluminum) or Ag (silver), or an alloy containing Al or Ag as a main component is preferably employed. In the present embodiment, the reflective layers 11 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2 are made of Al.

一方、青色発光素子U3においては、第1基板上に、図1に示すように、反射層兼画素電極10が形成される。反射層兼画素電極10は、反射層として機能すると共に、画素電極(陽極)として機能する。反射層兼画素電極10には、MoOx(酸化モリブデン)とAl(アルミニウム)を積層した材料、または、a−ITO(アモルファスITO)とAg(銀)を積層した材料が用いられる。本実施形態では、反射層兼画素電極10がAl形成され、後述するように、この反射層兼画素電極10上に、MoOxで形成された正孔注入層14が積層される。   On the other hand, in the blue light emitting element U3, as shown in FIG. 1, the reflective layer / pixel electrode 10 is formed on the first substrate. The reflective layer / pixel electrode 10 functions as a reflective layer and also functions as a pixel electrode (anode). The reflective layer / pixel electrode 10 is made of a material in which MoOx (molybdenum oxide) and Al (aluminum) are laminated, or a material in which a-ITO (amorphous ITO) and Ag (silver) are laminated. In the present embodiment, the reflective layer / pixel electrode 10 is formed of Al, and a hole injection layer 14 made of MoOx is laminated on the reflective layer / pixel electrode 10 as will be described later.

赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の反射層11には、透明層12が形成され、この透明層12上には画素電極(陽極)13が形成される。上述したように、青色発光素子U3においては、反射層兼画素電極10が画素電極(陽極)としての機能を有しているため、青色発光素子U3には透明層12と画素電極(陽極)13は形成されない。
赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の透明層12は、SiOまたはSiNで形成され、本実施形態では、透明層12は、SiNで形成されている。
赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の透明層12上には、画素電極(陽極)13が形成される。本実施形態では、赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の画素電極13はITOの透明導電膜から形成される。
また、本実施形態では、赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の反射層11と対向電極30との距離は画素電極13の膜厚で調節している。本実施形態においては、赤色発光素子U1の画素電極13の膜厚の方が、緑色発光素子U2の画素電極13の膜厚よりも厚くなるように設定されている。詳しくは後述する。
A transparent layer 12 is formed on the reflective layer 11 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2, and a pixel electrode (anode) 13 is formed on the transparent layer 12. As described above, in the blue light emitting element U3, since the reflective layer / pixel electrode 10 has a function as a pixel electrode (anode), the blue light emitting element U3 includes the transparent layer 12 and the pixel electrode (anode) 13. Is not formed.
The transparent layer 12 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2 is formed of SiO 2 or SiN. In the present embodiment, the transparent layer 12 is formed of SiN.
A pixel electrode (anode) 13 is formed on the transparent layer 12 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2. In the present embodiment, the pixel electrodes 13 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2 are formed from an ITO transparent conductive film.
In the present embodiment, the distance between the reflective layer 11 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2 and the counter electrode 30 is adjusted by the film thickness of the pixel electrode 13. In the present embodiment, the film thickness of the pixel electrode 13 of the red light emitting element U1 is set to be larger than the film thickness of the pixel electrode 13 of the green light emitting element U2. Details will be described later.

赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の画素電極13上、および、青色発光素子U3の反射層兼画素電極10上には、正孔注入層14が形成される。本実施形態では、正孔注入層14はMoOx(酸化モリブデン)で形成されている。
特に、青色発光素子U3の反射層兼画素電極10を、反射層として機能させると共に、画素電極として機能させるために、このMoOx(酸化モリブデン)で形成された正孔注入層14を反射層兼画素電極10上に積層することが好ましい。
A hole injection layer 14 is formed on the pixel electrode 13 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2 and on the reflective layer / pixel electrode 10 of the blue light emitting element U3. In the present embodiment, the hole injection layer 14 is made of MoOx (molybdenum oxide).
In particular, the hole injection layer 14 made of MoOx (molybdenum oxide) is used as a reflective layer and pixel in order to cause the reflective layer and pixel electrode 10 of the blue light emitting element U3 to function as a reflective layer and as a pixel electrode. It is preferable to laminate on the electrode 10.

なお、正孔注入層14から上の層構造および各層に用いられる材料は、赤色発光素子U1、緑色発光素子U2および青色発光素子U3において共通である。   The layer structure above the hole injection layer 14 and the materials used for each layer are common to the red light emitting element U1, the green light emitting element U2, and the blue light emitting element U3.

正孔注入層14には、正孔輸送層(HTL:Hole transport layer)15が形成される。正孔輸送層15には、図2に示すようにα−NPD((N−(1−ナフチル)−N−フェニル)ベンジジン)が用いられる。なお、図2においては正孔輸送層15を「HTL1」と示している。   A hole transport layer (HTL) 15 is formed in the hole injection layer 14. As shown in FIG. 2, α-NPD ((N- (1-naphthyl) -N-phenyl) benzidine) is used for the hole transport layer 15. In FIG. 2, the hole transport layer 15 is indicated as “HTL1”.

正孔輸送層15上には、第1発光層16が形成される。第1発光層16は、蛍光Bユニットで形成される。蛍光Bユニットは、正孔と電子が結合して発光する有機EL物質から形成されている。本実施形態では、有機EL物質は低分子材料であって、青色のホスト材料(B−Host)には、図2に示すように、10,10’−ジ(ビフェニル−2−イル)−9,9’−ビアントラセンが用いられる。また、青色のドーパント材料(B−Dopant)には、図2に示すように、4,4’−ビス[2−{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニルが用いられる。   A first light emitting layer 16 is formed on the hole transport layer 15. The first light emitting layer 16 is formed of a fluorescent B unit. The fluorescent B unit is formed of an organic EL material that emits light by combining holes and electrons. In this embodiment, the organic EL material is a low molecular material, and the blue host material (B-Host) is 10,10′-di (biphenyl-2-yl) -9 as shown in FIG. 9'-bianthracene is used. As the blue dopant material (B-Dopant), 4,4′-bis [2- {4- (N, N-diphenylamino) phenyl} vinyl] biphenyl is used as shown in FIG.

第1発光層16上には、電荷分離層(CGL:Carrier Generation Layer)20が形成される。電荷分離層20は、電子輸送層(ETL:Electron Transport Layer)17、電荷発生層18、および、正孔輸送層(HTL:Hole transport layer)19が形成される。
電子輸送層17には、図2に示すように、Alq3(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム)が用いられる。図2においては、電子輸送層17を「ETL1」と示している。
電荷発生層18には、図2に示すようにLG101(ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルポニトリル)が用いられる。
正孔輸送層19には、図2に示すようにα−NPD((N−(1−ナフチル)−N−フェニル)ベンジジン)が用いられる。図2においては、正孔輸送層19を「HTL2」と示している。
A charge separation layer (CGL: Carrier Generation Layer) 20 is formed on the first light emitting layer 16. The charge separation layer 20 includes an electron transport layer (ETL) 17, a charge generation layer 18, and a hole transport layer (HTL) 19.
As shown in FIG. 2, Alq3 (tris (8-quinolinolato) aluminum) is used for the electron transport layer 17. In FIG. 2, the electron transport layer 17 is indicated as “ETL1”.
For the charge generation layer 18, LG101 (hexaazatriphenylenehexacarbonitrile) is used as shown in FIG.
As shown in FIG. 2, α-NPD ((N- (1-naphthyl) -N-phenyl) benzidine) is used for the hole transport layer 19. In FIG. 2, the hole transport layer 19 is indicated as “HTL2”.

電荷分離層20上には、第2発光層23が形成される。本実施形態では、第2発光層として、リン光RGユニットが用いられる。リン光RGユニット23は、正孔と電子が結合して発光する有機EL物質から形成されている。本実施形態では、有機EL物質は低分子材料であって、赤色用の有機EL素子21と、緑色用の有機EL素子22とから成る。赤色用の有機EL素子21は、図2に示すように、赤色ホスト材料(TCTA:1,4,7−トリアザシクロノナン−N,N’,N”−トリアセテート)と、赤色ドーパント(Ir(MDQ)(acac):ビス(2−メチル−ジベンゾ[f.h]キノキサリン)(アセチルアセトネート)イリジウム(III))から成る。
また、緑色用の有機EL素子22は、図2に示すように、緑色ホスト材料(TPBi:1,3,5−トリス(N−フェニルベンズイミダゾール−2−イル)ベンゼン)と、緑色ドーパント材料(Ir(ppy):トリス(2−フェニルピリジナート)イリジウム(III))から成る。
A second light emitting layer 23 is formed on the charge separation layer 20. In the present embodiment, a phosphorescent RG unit is used as the second light emitting layer. The phosphorescent RG unit 23 is formed of an organic EL material that emits light by combining holes and electrons. In the present embodiment, the organic EL material is a low molecular material, and includes a red organic EL element 21 and a green organic EL element 22. As shown in FIG. 2, the red organic EL element 21 includes a red host material (TCTA: 1,4,7-triazacyclononane-N, N ′, N ″ -triacetate) and a red dopant (Ir ( MDQ) 2 (acac): consists of bis (2-methyl-dibenzo [f.h] quinoxaline) (acetylacetonate) iridium (III)).
As shown in FIG. 2, the green organic EL element 22 includes a green host material (TPBi: 1,3,5-tris (N-phenylbenzimidazol-2-yl) benzene) and a green dopant material ( Ir (ppy) 3 : Tris (2-phenylpyridinate) iridium (III)).

第2発光層23上には、ホールブロック層(HBL:lHole Block Layer)24が形成される。ホールブロック層24には、TPBi(1,3,5−トリス(N−フェニルベンズイミダゾール−2−イル)ベンゼン)が用いられる。   On the second light emitting layer 23, a hole block layer (HBL) 24 is formed. For the hole blocking layer 24, TPBi (1,3,5-tris (N-phenylbenzimidazol-2-yl) benzene) is used.

ホールブロック層24上には、電子輸送層25が形成される。電子輸送層25には、図2に示すように、Alq3(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム)が用いられる。図2には、電子輸送層25は「ETL2」として示している。   An electron transport layer 25 is formed on the hole block layer 24. As shown in FIG. 2, Alq3 (tris (8-quinolinolato) aluminum) is used for the electron transport layer 25. In FIG. 2, the electron transport layer 25 is shown as “ETL2”.

電子輸送層25上には、光取り出し側半透明反射層としての対向電極(陰極)30が形成される。本実施形態では、対向電極30は、MgAg(マグネシウム銀合金)で形成される。   On the electron transport layer 25, a counter electrode (cathode) 30 is formed as a light extraction side translucent reflective layer. In the present embodiment, the counter electrode 30 is made of MgAg (magnesium silver alloy).

対向電極30上には、封止層31が形成される。封止層31には、透明の樹脂材料、例えば、SiOまたはSiNが用いられる。本実施形態では、封止層31はSiNで形成される。また、封止層31上には、第2基板が配置される。図1には第2基板の図示を省略するが、第2基板は、ガラスなどの光透過性を有する材料で形成される。第2基板のうち第1基板との対向面には、図示しないカラーフィルターおよび遮光膜が形成される。遮光膜は、各発光素子U1、U2、U3に対向して開口が形成された遮光体の膜体である。開口内にはカラーフィルターが形成される。カラーフィルターおよび遮光膜が形成された第2基板は、封止層31を介して第1基板と貼り合わされる。 A sealing layer 31 is formed on the counter electrode 30. For the sealing layer 31, a transparent resin material, for example, SiO 2 or SiN is used. In the present embodiment, the sealing layer 31 is made of SiN. A second substrate is disposed on the sealing layer 31. Although illustration of the 2nd board | substrate is abbreviate | omitted in FIG. 1, the 2nd board | substrate is formed with the material which has light transmittances, such as glass. A color filter and a light shielding film (not shown) are formed on the surface of the second substrate facing the first substrate. The light shielding film is a film body of a light shielding body in which an opening is formed to face each light emitting element U1, U2, U3. A color filter is formed in the opening. The second substrate on which the color filter and the light shielding film are formed is bonded to the first substrate through the sealing layer 31.

本実施形態では、赤色発光素子U1に対応する開口内には赤色光を選択的に透過させる赤色用カラーフィルターが形成され、青色発光素子U2に対応する開口内には青色光を選択的に透過させる青色用カラーフィルターが形成され、緑色発光素子U3に対応する開口内には緑色光を選択的に透過させる緑色用カラーフィルターが形成される。以上が本実施形態の発光装置の構造である。   In the present embodiment, a red color filter that selectively transmits red light is formed in the opening corresponding to the red light emitting element U1, and the blue light is selectively transmitted in the opening corresponding to the blue light emitting element U2. A blue color filter is formed, and a green color filter that selectively transmits green light is formed in the opening corresponding to the green light emitting element U3. The above is the structure of the light-emitting device of this embodiment.

<B:光学構造>
次に、本実施形態の発光装置E1における光学構造について説明する。本実施形態における発光装置E1は、赤色発光素子U1および緑色発光素子U2の反射層11、および、青色発光素子U3の反射層兼画素電極10から、光取り出し側半透明反射層としての対向電極30までの光学的距離を所定値に設定することにより、反射層11および反射層兼画素電極10から対向電極30に定在波を発生させる共振構造を採用している。
<B: Optical structure>
Next, the optical structure in the light emitting device E1 of the present embodiment will be described. The light emitting device E1 in this embodiment includes a counter electrode 30 as a light extraction side translucent reflective layer from the reflective layer 11 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2 and the reflective layer / pixel electrode 10 of the blue light emitting element U3. By adopting a resonance structure in which a standing wave is generated in the counter electrode 30 from the reflective layer 11 and the reflective layer / pixel electrode 10 by setting the optical distance to a predetermined value.

具体的には、反射層11および反射層兼画素電極10と対向電極30との間の光学的距離をD、反射層11および反射層兼画素電極10での反射における位相シフトをφ、対向電極30での反射における位相シフトをφ、定在波のピーク波長をλ、整数をm1とすると、下記の式を満たす構造となっている。
D={(2πm1+φ+φ)/4π}λ・・・(4)
Specifically, the optical distance between the reflective layer 11 and the reflective layer / pixel electrode 10 and the counter electrode 30 is D, the phase shift in reflection at the reflective layer 11 and the reflective layer / pixel electrode 10 is φ L , When the phase shift in reflection at the electrode 30 is φ U , the peak wavelength of the standing wave is λ, and the integer is m 1 , the structure satisfies the following formula.
D = {(2πm 1 + φ L + φ U ) / 4π} λ (4)

上記(4)式で、Alの反射層11および反射層兼画素電極10とMgAgの対向電極30の間の層の屈折率nを1.8として、反射層11および反射層兼画素電極10から対向電極30間の光学的距離Dと、整数m1、および、赤色、緑色、青色の各色を想定してピーク波長をプロットした図が図3である。 In the above formula (4), the refractive index n of the reflective layer 11 between the Al reflective layer 11 and the reflective layer / pixel electrode 10 and the MgAg counter electrode 30 is 1.8, and the reflection layer 11 and the reflective layer / pixel electrode 10 FIG. 3 is a diagram in which the peak wavelength is plotted assuming the optical distance D between the counter electrodes 30, the integer m 1 , and the colors red, green, and blue.

図3に楕円で囲った領域に示すように、上記(4)式でm1=2の場合の赤色のピーク波長と、上記(3)式でm1=3の場合の青色のピーク波長は、同じAl〜MgAg間距離でピークが得られることがわかる。 As shown in the area surrounded by an ellipse in FIG. 3, the red peak wavelength when m 1 = 2 in the above equation (4) and the blue peak wavelength when m 1 = 3 in the above equation (3) are It can be seen that a peak is obtained at the same distance between Al and MgAg.

また、反射層11および反射層兼画素電極10と対向電極30との間には、前記(4)式で用いた整数m1に1を加えた数分の箇所で光取り出し効率が高くなる箇所が存在する。これは、反射界面から発光位置までにおける干渉効果から算出可能であり、下記式(5)で特徴付けられる。
L={(2πm2+φ)/4π}λ・・・(5)
ここで、Lは反射層から発光層までの光学的距離(但し、D>L)、φは反射層界面における位相シフト、λはピーク波長、m2は整数である。
Further, between the reflective layer 11 and the reflective layer / pixel electrode 10 and the counter electrode 30, a place where the light extraction efficiency is high at a place of several minutes obtained by adding 1 to the integer m 1 used in the equation (4). Exists. This can be calculated from the interference effect from the reflection interface to the light emission position, and is characterized by the following equation (5).
L = {(2πm 2 + φ) / 4π} λ (5)
Here, L is the optical distance from the reflective layer to the light emitting layer (where D> L), φ is the phase shift at the interface of the reflective layer, λ is the peak wavelength, and m 2 is an integer.

参考に、図4に示すようなシミュレーションモデルを用いて、発光位置と光取り出し効率との関係を計算した結果について説明する。図4に示すように、このシミュレーションモデルでは、反射層(Al)から対向電極(MgAg)までの層間間隔を220nmとし、反射層(Al)から発光層までの中間層の屈折率を1.8、また、発光層から対向電極(MgAg)までの中間層の屈折率を1.8とし、反射層(Al)から発光層までの層間間隔を変数xとして光取り出し効率を計算した。   For reference, the result of calculating the relationship between the light emission position and the light extraction efficiency using a simulation model as shown in FIG. 4 will be described. As shown in FIG. 4, in this simulation model, the interlayer distance from the reflective layer (Al) to the counter electrode (MgAg) is 220 nm, and the refractive index of the intermediate layer from the reflective layer (Al) to the light emitting layer is 1.8. In addition, the light extraction efficiency was calculated by setting the refractive index of the intermediate layer from the light emitting layer to the counter electrode (MgAg) as 1.8, and the interlayer distance from the reflective layer (Al) to the light emitting layer as a variable x.

図4のシミュレーションモデルに基づく、光取り出し効率の計算結果を図5に示す。図5に示すように、光取り出し効率が1.6〜1.8となる箇所、つまり、光取り出し効率が最も高い箇所は、2箇所存在することがわかる。つまり、上記式(5)を満足する発光位置は2箇所であることがわかる。   FIG. 5 shows a calculation result of the light extraction efficiency based on the simulation model of FIG. As shown in FIG. 5, it can be seen that there are two places where the light extraction efficiency is 1.6 to 1.8, that is, two places where the light extraction efficiency is the highest. That is, it can be seen that there are two light emitting positions satisfying the above formula (5).

反射層(Al)から対向電極(MgAg)までの層間間隔が220nmの時にピーク波長が得られるのは、図3におけるm1=1の時の青色のピーク波長(460nm)の場合に相当する。 The peak wavelength obtained when the interlayer distance from the reflective layer (Al) to the counter electrode (MgAg) is 220 nm corresponds to the blue peak wavelength (460 nm) when m 1 = 1 in FIG.

N=1.8、Alの=460nmにおける光学定数をn=0.5、消衰係数をk=4.5とすると、位相シフトは以下の式で与えられる。
φ=tan−1{2Nk/(N−n −k )}
これに光学定数を代入すると、φ≒2.4[rad]となる。これを(5)式に代入すると、Lが式(6)として与えられる。
L={(2πm2+2.4)/4π}*460
={(m2/2)+0.19}*460・・・(6)
上記(6)式においてm2=0とすると、
L =0.19*460=87.9nm
反射界面から発光点までの距離をdとすると、d=L/Nであるため、
d=87.9/1.8≒48.8nm
となって、図5に示す結果と一致していることがわかる。
When N = 1.8, the optical constant of Al = 460 nm is n 2 = 0.5, and the extinction coefficient is k 2 = 4.5, the phase shift is given by the following equation.
φ = tan −1 {2Nk 2 / (N 2 −n 2 2 −k 2 2 )}
Substituting the optical constant into this results in φ≈2.4 [rad]. Substituting this into equation (5) gives L as equation (6).
L = {(2πm 2 +2.4) / 4π} * 460
= {(M 2 /2)+0.19}*460 (6)
If m 2 = 0 in the above equation (6),
L = 0.19 * 460 = 87.9 nm
Since d = L / N, where d is the distance from the reflective interface to the light emitting point,
d = 87.9 / 1.8≈48.8 nm
Thus, it can be seen that the result agrees with the result shown in FIG.

そこで、本実施形態では、タンデム構造の発光装置E1において、青色発光素子U3の反射層兼画素電極(陰極)10に近い側の第1発光層16に蛍光Bユニットを配置し、上記(4)式においてm1=1の場合の光学構造となるように、光学的距離D等のパラメータを設定した。また、青色発光素子U3において、反射層と第1発光層16との層間距離を上述のように40nm程度とするために、反射層と画素電極(陰極)とを兼用可能な反射層兼画素電極10を用い、この反射層兼画素電極10をAlにより形成した。 Therefore, in the present embodiment, in the light emitting device E1 having the tandem structure, the fluorescent B unit is disposed in the first light emitting layer 16 on the side close to the reflective layer / pixel electrode (cathode) 10 of the blue light emitting element U3, and the above (4) In the equation, parameters such as the optical distance D were set so as to obtain an optical structure in the case of m 1 = 1. In addition, in the blue light emitting element U3, in order to set the interlayer distance between the reflective layer and the first light emitting layer 16 to about 40 nm as described above, the reflective layer / pixel electrode which can be used as the reflective layer and the pixel electrode (cathode). 10 and this reflective layer / pixel electrode 10 was formed of Al.

次に、タンデム構造の発光装置において、光取り出し効率を高くすることができる発光層の位置について説明する。タンデム構造の発光装置は、2つの発光層の間に電荷発生層を配置した構造を有しており、共振構造を用いる場合には、各色の画素別に、発光層を光取り出し効率の高い位置に配置することにより、消費電力を低減することができる。
フルカラーディスプレイを実現する場合には、発光層を各色の画素において同一の層厚となるように成膜し、光路長については、基板上に形成される透明層や透明導電層の層厚を調整することにより、所望のピーク波長の光を高い光取り出し効率で発光させる。
この場合、基板側の反射層に用いられる材料としては、可視光領域全てで高い反射率を有するAlやAgが用いられることが多い。
Next, the position of the light emitting layer that can increase the light extraction efficiency in the tandem light emitting device will be described. A tandem light-emitting device has a structure in which a charge generation layer is disposed between two light-emitting layers. When a resonant structure is used, the light-emitting layer is placed at a position where the light extraction efficiency is high for each color pixel. By arranging, power consumption can be reduced.
When realizing a full-color display, the light-emitting layer is formed to have the same layer thickness for each color pixel, and the optical path length is adjusted by adjusting the layer thickness of the transparent layer or transparent conductive layer formed on the substrate. By doing so, light of a desired peak wavelength is emitted with high light extraction efficiency.
In this case, as a material used for the reflective layer on the substrate side, Al or Ag having a high reflectance in the entire visible light region is often used.

反射層としてAlを用いた場合には、画素電極に用いるITOとAlの反射層を直接接触させると電蝕を起こすため、Alの反射層とITOとの間に透明層を挿入する必要が生じる。従って、透明層の層厚の分だけ、反射層から発光層までの距離が長くなってしまう。例えば、上記(4)式でm1=1の場合の光学構造によって青色のピーク波長を取り出そうとする場合には、反射層から発光層までの距離を上述したように40nm程度の短い層間距離に設定する必要があるが、反射層にAlを用い、画素電極としてITOを用いた場合には、そのような設定は困難となる。 When Al is used as the reflective layer, if the ITO used for the pixel electrode and the Al reflective layer are brought into direct contact with each other, electrocorrosion occurs, so a transparent layer needs to be inserted between the Al reflective layer and the ITO. . Therefore, the distance from the reflective layer to the light emitting layer is increased by the thickness of the transparent layer. For example, when the blue peak wavelength is to be extracted by the optical structure when m 1 = 1 in the above equation (4), the distance from the reflective layer to the light emitting layer is set to a short interlayer distance of about 40 nm as described above. However, when Al is used for the reflective layer and ITO is used for the pixel electrode, such setting is difficult.

また、反射層としてAgを用いることも考えられるが、Agはエッチングが難しい材料であり、Ag上にITOなどの透明導電膜を形成することが困難である。また、発光層を各色の画素において同一の層厚となるように成膜する場合には、基板上に形成される透明層や透明導電層の層厚を調整することにより光路長を調整す必要があるが、Ag上に透明層や透明導電膜を形成して層間距離を調整することが困難である。   Although Ag may be used as the reflective layer, Ag is a material that is difficult to etch, and it is difficult to form a transparent conductive film such as ITO on Ag. When the light emitting layer is formed to have the same layer thickness in each color pixel, it is necessary to adjust the optical path length by adjusting the layer thickness of the transparent layer or transparent conductive layer formed on the substrate. However, it is difficult to adjust the interlayer distance by forming a transparent layer or a transparent conductive film on Ag.

従来のタンデム構造の発光装置では、このような理由から、上記(4)式でm1=2以上となるような、各層の層厚が厚く、反射層から半透過反射層間の光学的距離が長くなるような光学構造を採用することが多かった。 In the conventional tandem light emitting device, for this reason, the thickness of each layer is so large that m 1 = 2 or more in the above equation (4), and the optical distance between the reflective layer and the transflective layer is small. In many cases, a long optical structure was adopted.

しかしながら、上記(4)式におけるm1の値が大きい共振構造の場合には、m1の値が小さい共振構造と比較して、光取り出し効率が低下する。ここで、上記(4)式におけるm1の値と、光取り出し効率との関係を図6に示す。図6に示すように、m1の値が変化してもピーク高さは変わらない。しかし、m1の値が大きくなると光取り出し効率が急峻になり、面積的には小さくなる。従って、光エネルギーとしては弱くなり、光取り出し効率が低下することがわかる。 However, in the case of the resonance structure having a large value of m 1 in the above formula (4), the light extraction efficiency is lowered as compared with the resonance structure having a small value of m 1 . Here, the relationship between the value of m 1 in the above equation (4) and the light extraction efficiency is shown in FIG. As shown in FIG. 6, the peak height does not change even if the value of m 1 changes. However, as the value of m 1 increases, the light extraction efficiency becomes steep and the area becomes smaller. Therefore, it can be seen that the light energy is weak and the light extraction efficiency is reduced.

そこで、本実施形態では、いずれの色の画素においても、上記(4)式におけるm1の値が1となる光学構造を有するように構成した。まず、青色発光素子U3においては、上述したように、反射層と画素電極とを兼用した反射層兼画素電極10をAlで形成し、反射層兼画素電極10から第1発光層16までの層間距離を40nm程度に設定した。
また、赤色発光素子U1と緑色発光素子U2においては、反射層11としてAlを用い、透明層12とITOの画素電極13を形成し、ITOの画素電極13の層厚を調整することにより、赤色発光素子U1と緑色発光素子U2のそれぞれにおいて、上記(4)式におけるm1の値が1となる光学構造でそれぞれ最適な光路長が得られるように構成した。
Therefore, in this embodiment, the pixels of any color are configured to have an optical structure in which the value of m 1 in the above equation (4) is 1. First, in the blue light emitting element U3, as described above, the reflective layer / pixel electrode 10 that serves as the reflective layer and the pixel electrode is formed of Al, and the interlayer from the reflective layer / pixel electrode 10 to the first light emitting layer 16 is formed. The distance was set to about 40 nm.
Further, in the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2, red is formed by using Al as the reflective layer 11, forming the transparent layer 12 and the ITO pixel electrode 13, and adjusting the layer thickness of the ITO pixel electrode 13. Each of the light emitting element U1 and the green light emitting element U2 is configured such that an optimum optical path length is obtained with an optical structure in which the value of m 1 in the above equation (4) is 1.

<C:パネルシミュレーション>
次に、本実施形態の発光装置と、比較例の装置とを用いて行ったパネルシミュレーションについて説明する。
このシミュレーションにおいては、図1に示した発光装置E1と同様の構成の実施例1および実施例2と、比較のために用意した比較例1および比較例2を用いた。比較例は、図1に示した発光装置E1とほぼ同様の構成ではあるが、各色の画素が上記(4)式においてm1=2または3となる光学構造を有している。
<C: Panel simulation>
Next, a panel simulation performed using the light emitting device of this embodiment and the device of the comparative example will be described.
In this simulation, Example 1 and Example 2 having the same configuration as the light emitting device E1 shown in FIG. 1 and Comparative Example 1 and Comparative Example 2 prepared for comparison were used. The comparative example has substantially the same configuration as the light-emitting device E1 shown in FIG. 1, but has an optical structure in which each color pixel has m 1 = 2 or 3 in the above equation (4).

また、このシミュレーションにおいては、図7に示すように、薄いカラーフィルターであるCF1と、厚いカラーフィルターであるCF2の2種類のカラーフィルターを用いた。薄いカラーフィルターであるCF1は、図7に示すように、赤色のカラーフィルターCF1−Rとして、600nm以上の光に対する透過率が95%のカラーフィルターを用いた。緑色のカラーフィルターCF1−Gとしては、520〜560nmの光に対する透過率が85〜90%のカラーフィルターを用いた。青色のカラーフィルターCF1−Bとしては、430〜470nmの光に対する透過率が80〜85%のカラーフィルターを用いた。
厚いカラーフィルターCF2は、赤色のカラーフィルターCF2−Rとして、600nm以上の光に対する透過率が90%のカラーフィルターを用いた。緑色のカラーフィルターCF2−Gとしては、520〜560nmの光に対する透過率が65〜70%のカラーフィルターを用いた。青色のカラーフィルターCF2−Bとしては、430〜470nmの光に対する透過率が60〜65%のカラーフィルターを用いた。
In this simulation, as shown in FIG. 7, two types of color filters, CF1 which is a thin color filter and CF2 which is a thick color filter, were used. As shown in FIG. 7, CF1, which is a thin color filter, used a color filter having a transmittance of 95% for light of 600 nm or more as a red color filter CF1-R. As the green color filter CF1-G, a color filter having a transmittance of 85 to 90% for light of 520 to 560 nm was used. As the blue color filter CF1-B, a color filter having a transmittance of 80 to 85% for light of 430 to 470 nm was used.
As the thick color filter CF2, a color filter having a transmittance of 90% for light of 600 nm or more is used as the red color filter CF2-R. As the green color filter CF2-G, a color filter having a transmittance of 65 to 70% for light of 520 to 560 nm was used. As the blue color filter CF2-B, a color filter having a transmittance of 60 to 65% for light of 430 to 470 nm was used.

<C−1:実施例1の構造>
実施例1の発光装置は、図1に示した発光装置E1とほぼ同じ構造で、赤色発光素子U1と緑色発光素子U2において、正孔注入層14が設けられていないところが図1に示した発光装置E1と異なる。各層の膜厚は図8に示した。赤色発光素子U1と緑色発光素子U2の反射層11にはAlを用い、膜厚は100nmとした。赤色発光素子U1と緑色発光素子U2は、共に反射層11上に透明層12と画素電極14を有しており、透明層12はSiNで形成し、画素電極14はITOで形成した。透明層12の層厚は、赤色発光素子U1と緑色発光素子U2ともに25nmであり、赤色発光素子U1の画素電極14は20nmに、緑色発光素子U2の画素電極14は70nmに設定されている。
青色発光素子U3については、反射層兼画素電極10をAlで形成し、膜厚は100nmとした。反射層兼画素電極10上には、正孔注入層14をMoOで形成し、膜厚は2nmとした。反射層兼画素電極10から第1発光層16までの層間距離は42nmにせっていした。
カラーフィルターには、厚いカラーフィルターCF2−R、CF2−G、CF2−Bを用いた。
<C−2:実施例2の構造>
実施例2の発光装置は、各層の厚さは実施例1の発光装置と同じであり、カラーフィルターとして薄いカラーフィルターCF1−R、CF1−G、CF1−Bを用いたところが実施例1と異なっている。
<C−3:比較例1の構造>
比較例1の発光装置は、実施例1の発光装置とほぼ同じ構造であるが、全ての画素に画素電極としてのITOと、透明層とを備えているところが実施例1および実施例2と異なっている。また、比較例1の発光装置は、赤色発光素子と緑色発光素子が上記(4)式におけるmの値が2の場合の光学構造を有し、青色発光素子が上記(4)式におけるmの値が3の場合の光学構造を有しているところが実施例1および実施例2と異なっている。
各層の構成と膜厚を図9に示す。図9に示すように、赤色発光素子と青色発光素子の反射層はAlで形成し、層厚を150nmとした。緑色発光素子については反射層をAlで形成して、層厚を100nmとした。透明層については、いずれの発光素子においても50nmとした。
ITOの画素電極は、赤色発光素子と青色発光素子については200nmとし、緑色発光素子について140nmとした。
カラーフィルターには、厚いカラーフィルターCF2−R、CF2−G、CF2−Bを用いた。
<C−4:比較例2の構造>
比較例2の発光装置は、各層の厚さは比較例1の発光装置と同じであり、カラーフィルターとして薄いカラーフィルターCF1−R、CF1−G、CF1−Bを用いたところが比較例1と異なっている。
各例のカラーフィルターおよび各素子構造を図10に示す。
<C-1: Structure of Example 1>
The light-emitting device of Example 1 has substantially the same structure as the light-emitting device E1 shown in FIG. 1, and the light-emitting device shown in FIG. Different from the device E1. The film thickness of each layer is shown in FIG. Al was used for the reflective layer 11 of the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2, and the film thickness was 100 nm. Both the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2 have a transparent layer 12 and a pixel electrode 14 on the reflective layer 11, and the transparent layer 12 is made of SiN, and the pixel electrode 14 is made of ITO. The layer thickness of the transparent layer 12 is 25 nm for both the red light emitting element U1 and the green light emitting element U2, the pixel electrode 14 of the red light emitting element U1 is set to 20 nm, and the pixel electrode 14 of the green light emitting element U2 is set to 70 nm.
For the blue light emitting element U3, the reflective layer / pixel electrode 10 was made of Al, and the film thickness was 100 nm. A hole injection layer 14 was formed of MoO 3 on the reflective layer / pixel electrode 10 and the film thickness was 2 nm. The interlayer distance from the reflective layer / pixel electrode 10 to the first light emitting layer 16 was set to 42 nm.
Thick color filters CF2-R, CF2-G, and CF2-B were used as the color filters.
<C-2: Structure of Example 2>
The light emitting device of Example 2 is the same as the light emitting device of Example 1 in the thickness of each layer, and is different from Example 1 in that thin color filters CF1-R, CF1-G, and CF1-B are used as color filters. ing.
<C-3: Structure of Comparative Example 1>
The light emitting device of Comparative Example 1 has substantially the same structure as the light emitting device of Example 1, but differs from Example 1 and Example 2 in that all the pixels include ITO as a pixel electrode and a transparent layer. ing. The light-emitting device of Comparative Example 1 has an optical structure in which the red light-emitting element and the green light-emitting element have an optical structure in which the value of m 1 in the above formula (4) is 2, and the blue light-emitting element has The optical structure in the case where the value of 1 is 3 is different from those of Example 1 and Example 2.
The structure and film thickness of each layer are shown in FIG. As shown in FIG. 9, the reflective layers of the red light emitting element and the blue light emitting element were made of Al, and the layer thickness was 150 nm. For the green light emitting element, the reflective layer was made of Al and the layer thickness was 100 nm. The transparent layer was 50 nm in any light emitting element.
ITO pixel electrodes were 200 nm for red and blue light emitting elements and 140 nm for green light emitting elements.
Thick color filters CF2-R, CF2-G, and CF2-B were used as the color filters.
<C-4: Structure of Comparative Example 2>
The light emitting device of Comparative Example 2 has the same thickness as each of the light emitting devices of Comparative Example 1, and differs from Comparative Example 1 in that thin color filters CF1-R, CF1-G, and CF1-B are used as color filters. ing.
FIG. 10 shows the color filter and each element structure in each example.

<C−5:パネルシミュレーションの結果>
図11に示すように、比較例1の消費電力を1.00として規格化すると、実施例1の消費電力は0.71であり、消費電力を3割程度低減することができた。また、比較例2の消費電力が0.61であるのに対して、実施例2の消費電力は0.45であり、消費電力を2割程度低減することができた。
<C-5: Results of panel simulation>
As shown in FIG. 11, when the power consumption of Comparative Example 1 was normalized to 1.00, the power consumption of Example 1 was 0.71, and the power consumption could be reduced by about 30%. The power consumption of Comparative Example 2 was 0.61, while the power consumption of Example 2 was 0.45, and the power consumption could be reduced by about 20%.

また、図12に示すように、色域(NTSC面積比)は、比較例1が103.9%であるのに対して、実施例1が101.9%であった。また、比較例2が92.51%であるのに対して、実施例2が92.7%であった。このように、厚いカラーフィルターを用いた実施例1は、同じカラーフィルターを用いた比較例1に比べて、色域が若干低下するものの、ほぼ同程度であった。また、薄いカラーフィルターを用いた実施例2は、同じカラーフィルターを用いた比較例2とほぼ同程度であった。
このように、色域については、実施例1および実施例2ともに、比較例とほぼ同程度であった。
Also, as shown in FIG. 12, the color gamut (NTSC area ratio) was 103.9% in Comparative Example 1 and 101.9% in Comparative Example 1. Further, Comparative Example 2 was 92.51%, while Example 2 was 92.7%. Thus, Example 1 using a thick color filter was almost the same as Comparative Example 1 using the same color filter, although the color gamut was slightly reduced. In addition, Example 2 using a thin color filter was almost the same as Comparative Example 2 using the same color filter.
Thus, the color gamut was almost the same as that of the comparative example in both Example 1 and Example 2.

さらに、図13および図14に光取り出し効率を示す。図13に示すように、青色発光素子については、比較例と実施例のピーク高さがほぼ同じであるが、実施例の方が発光スペクトルがブロードであることがわかる。従って、面積としては大きくなり、光エネルギーは実施例の方が大きく、光取り出し効率が高いことがわかる。   Further, FIG. 13 and FIG. 14 show the light extraction efficiency. As shown in FIG. 13, for the blue light emitting device, the peak heights of the comparative example and the example are almost the same, but the emission spectrum of the example is broader. Therefore, it can be seen that the area is large, the light energy is larger in the example, and the light extraction efficiency is higher.

また、図13に示すように、赤色発光素子については、比較例と実施例のピーク高さがほほ同じであるが、実施例の方が発光スペクトルがブロードであることがわかる。従って、面積としては大きくなり、光エネルギーは実施例の方が大きく、光取り出し効率が高いことがわかる。   Further, as shown in FIG. 13, for the red light emitting element, the peak heights of the comparative example and the example are almost the same, but the emission spectrum of the example is broader. Therefore, it can be seen that the area is large, the light energy is larger in the example, and the light extraction efficiency is higher.

また、図14に示すように、緑色発光素子については、比較例と実施例は、ピーク高さ、光取り出し効率ともにほぼ同じであった。   Further, as shown in FIG. 14, for the green light emitting element, the comparative example and the example had almost the same peak height and light extraction efficiency.

以上のように、本実施形態においては、タンデム構造の白色発光素子を用いたトップエミッション方式の発光装置において、いずれの色の画素についても前記(4)式においてmの値が1となる共振構造を有するように構成したので、タンデム構造を採用して製造プロセスを簡略化しつつ、光取り出し効率を高めることができた。   As described above, in the present embodiment, in the top emission type light emitting device using the white light emitting element of the tandem structure, the resonance structure in which the value of m is 1 in the equation (4) for any color pixel. Therefore, the light extraction efficiency could be increased while adopting a tandem structure to simplify the manufacturing process.

<D:応用例>
次に、本発明に係る発光装置を利用した電子機器について説明する。図15は、上述の実施形態に係る発光装置E1を表示装置として採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ2000は、表示装置としての発光装置E1と本体部2010とを備える。本体部2010には、電源スイッチ2001およびキーボード2002が設けられている。この発光装置E1は有機EL素子を使用しているので、視野角が広く見易い画面を表示できる。
<D: Application example>
Next, an electronic apparatus using the light emitting device according to the present invention will be described. FIG. 15 is a perspective view showing a configuration of a mobile personal computer adopting the light emitting device E1 according to the above-described embodiment as a display device. The personal computer 2000 includes a light emitting device E1 as a display device and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002. Since the light emitting device E1 uses an organic EL element, it is possible to display an easy-to-see screen with a wide viewing angle.

図16に、上述の実施形態に係る発光装置E1を適用した携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001およびスクロールボタン3002、ならびに表示装置としての発光装置E1を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、発光装置E1に表示される画面がスクロールされる。   FIG. 16 shows a configuration of a mobile phone to which the light emitting device E1 according to the above-described embodiment is applied. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and a light emitting device E1 as a display device. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the light emitting device E1 is scrolled.

図17に、上述の実施形態に係る発光装置E1を適用した携帯情報端末(PDA:Personal Digital Assistant)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001および電源スイッチ4002、ならびに表示装置としての発光装置E1を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が発光装置E1に表示される。   FIG. 17 shows a configuration of a portable information terminal (PDA: Personal Digital Assistant) to which the light emitting device E1 according to the above-described embodiment is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and a light emitting device E1 as a display device. When the power switch 4002 is operated, various kinds of information such as an address book and a schedule book are displayed on the light emitting device E1.

なお、本発明に係る発光装置が適用される電子機器としては、図15から図17に示したもののほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、プリンター、スキャナー、複写機、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。   Electronic devices to which the light-emitting device according to the present invention is applied include those shown in FIGS. 15 to 17, digital still cameras, televisions, video cameras, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, electronic papers, calculators. , Word processors, workstations, videophones, POS terminals, printers, scanners, copiers, video players, devices equipped with touch panels, and the like.

なお、上述した実施形態においては、前記(4)式において、いずれの色の画素も、整数mが1となる場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、整数mが2以上となる場合にも適用可能である。 In the above-described embodiment, the case where the integer m 1 is 1 in all the color pixels in the formula (4) has been described, but the present invention is not limited to this, and the integer m The present invention is also applicable when 1 is 2 or more.

さらに、上述した実施形態においては、反射層および反射層兼画素電極の例として、Alを用いた例について説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、Agの単体金属、あるいは、Al、Agのうち少なくとも一つを主成分とする合金でもよい。   Furthermore, in the embodiment described above, an example using Al as an example of the reflective layer and the reflective layer / pixel electrode has been described. However, the present invention is not limited to this, and a single metal of Ag, or An alloy mainly containing at least one of Al and Ag may be used.

また、上述した実施形態においては、緑色発光素子と青色発光素子の反射層を同じ材料で形成し、赤色発光素子の反射層を異なる材料で形成する例について説明したが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。例えば、赤色発光素子と緑色発光素子の反射層を同じ材料で形成し、青色発光素子の反射層を異なる材料で形成するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the example in which the reflective layer of the green light emitting element and the blue light emitting element are formed of the same material and the reflective layer of the red light emitting element is formed of different materials has been described. The configuration is not limited. For example, the reflective layer of the red light emitting element and the green light emitting element may be formed of the same material, and the reflective layer of the blue light emitting element may be formed of different materials.

10……反射層兼画素電極、11……反射層、12……透明層、13……画素電極、14……正孔注入層、15……正孔輸送層、16……第1発光層、17……電子輸送層、18……電荷発生層、19……正孔輸送層、20……電荷分離層、21…赤色用有機EL素子、22…緑色用有機EL素子、23…第2発光層、24…ホールブロック層、25…電子輸送層、30…対向電極、31……封止層、E1……発光装置、U1…赤色発光素子、U2…緑色発光素子、U3…青色発光素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Reflective layer and pixel electrode, 11 ... Reflective layer, 12 ... Transparent layer, 13 ... Pixel electrode, 14 ... Hole injection layer, 15 ... Hole transport layer, 16 ... 1st light emitting layer , 17... Electron transport layer, 18... Charge generation layer, 19... Hole transport layer, 20... Charge separation layer, 21. Light emitting layer, 24 ... hole block layer, 25 ... electron transport layer, 30 ... counter electrode, 31 ... sealing layer, E1 ... light emitting device, U1 ... red light emitting element, U2 ... green light emitting element, U3 ... blue light emitting element

Claims (7)

複数の画素が形成された発光装置であって、
前記複数の画素の各々は、
反射層と、
光透過半反射層と、
前記反射層と光透過半反射層との間に形成された複数の発光部と、
前記複数の発光部の間に形成された少なくとも一つの電荷分離層と、
対向電極とを備え、
前記複数の画素のうち、前記電荷分離層よりも前記光透過半反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記電荷分離層と前記反射層との間に画素電極が設けられており、
前記複数の画素のうち、前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記反射層が画素電極として機能する、
ことを特徴とする発光装置。
A light emitting device in which a plurality of pixels are formed,
Each of the plurality of pixels is
A reflective layer;
A light transmissive semi-reflective layer;
A plurality of light emitting portions formed between the reflective layer and the light transmissive semi-reflective layer;
At least one charge separation layer formed between the plurality of light emitting units;
A counter electrode,
Among the plurality of pixels, a pixel for extracting light emitted from the light emitting unit provided at a position closer to the light transmission semi-reflective layer than the charge separation layer is provided between the charge separation layer and the reflection layer. Is provided with a pixel electrode,
Of the plurality of pixels, for a pixel that extracts light emitted from the light emitting unit provided closer to the reflective layer than the charge separation layer, the reflective layer functions as a pixel electrode.
A light emitting device characterized by that.
前記反射層から前記光透過半反射層間の光学的距離をD、前記反射層での反射における位相シフトをφ、前記光透過半反射層での反射における位相シフトをφ、ピーク波長をλ、mを整数とするとき、前記複数の画素の各々について、
D={(2πm+φ+φ)/4π}λ
という式において、m≧1を満たすことを特徴とする請求項1記載の発光装置。
The optical distance between the reflection layer and the light transmission semi-reflection layer is D, the phase shift in reflection at the reflection layer is φ L , the phase shift in reflection at the light transmission semi-reflection layer is φ U , and the peak wavelength is λ , M 1 is an integer, for each of the plurality of pixels,
D = {(2πm 1 + φ L + φ U ) / 4π} λ
The light emitting device according to claim 1, wherein m 1 ≧ 1 is satisfied.
前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記画素電極を兼ねている前記反射層と、前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部との間の光学的距離をL、前記反射層の界面における位相シフトをφ、ピーク波長をλとするとき、
2L=(φ/2π)λ
という式を満たすことを特徴とする請求項1または請求項2記載の発光装置。
The pixel for extracting light emitted from the light emitting unit provided at a position closer to the reflective layer than the charge separation layer is provided at the reflective layer that also serves as the pixel electrode and at a position close to the reflective layer. Further, when the optical distance between the light emitting part is L, the phase shift at the interface of the reflective layer is φ, and the peak wavelength is λ,
2L = (φ / 2π) λ
The light-emitting device according to claim 1, wherein:
前記電荷分離層よりも前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部で発光する光を取り出す画素については、前記画素電極を兼ねている前記反射層と、前記反射層に近い位置に設けられた前記発光部との間に金属酸化物層が形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れか一記載の発光装置。   The pixel for extracting light emitted from the light emitting unit provided at a position closer to the reflective layer than the charge separation layer is provided at the reflective layer that also serves as the pixel electrode and at a position close to the reflective layer. 4. The light emitting device according to claim 1, wherein a metal oxide layer is formed between the light emitting portion and the light emitting portion. 前記反射層は、Al、Ag、または、これらを主成分とする合金で形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一記載の発光装置。   5. The light emitting device according to claim 1, wherein the reflective layer is made of Al, Ag, or an alloy containing these as a main component. 前記対向電極から光が射出する側にカラーフィルターを形成したことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一記載の発光装置。   The light-emitting device according to claim 1, wherein a color filter is formed on a side from which light is emitted from the counter electrode. 請求項1ないし請求項6のいずれか一記載の発光装置を備えたことを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the light emitting device according to claim 1.
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